JP6503924B2 - Electrode sheet and sensor using the same - Google Patents

Electrode sheet and sensor using the same

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Description

本発明は、日常生活の場面での近接センサー、生体センサーに使用することができる電極シートおよびそれらを使用したセンサーに関する。   The present invention relates to a proximity sensor in a daily life scene, an electrode sheet that can be used for a biological sensor, and a sensor using the same.

近年、消費者の健康に対する意識の高まりから、日常的な健康情報として心拍、体動などの生体情報のセンシングが盛んになっている(特許文献1)。また高齢者社会が進むに伴い、独居高齢者の安否確認が社会問題となっているが、そのための生体情報や、物・エリアとの近接を検知するセンシングシステムが提唱され始めている。
また、測定機器の小型軽量化技術の進化により、身に着けることが可能なウェアラブル機器をはじめとした、持ち運びが可能で容易、簡便に使用することができる端末の開発が盛んになっている。
これらの、生体情報を検知するセンサー部分には一般的には導電性のある電極が用いられる。例えばこれらの電極をウェアラブルな携帯端末に用いるとき、カード、カバン、腕時計、衣服、靴のような、人体の身の回りのものに備わっていることが理想的であり、電極そのものに柔軟性やフレキシブル性が備わっていることが好ましい。
しかしながら、このような事例にこれまで用いられてきた電極は、銅箔やメッシュ状に編み込まれた導電布、銅板等の剛直な電極であり、柔軟性やフレキシブル性に乏しく、折り曲げたり、引っ張ったりすることで、容易に電極が破損したり、人が長時間使用する際に強い違和感を覚えるため、ウェアラブル用途には適していなかった(特許文献1、特許文献2)。
また生活環境において、近接センサーの一例として静電容量式のタッチスクリーンパネルがあげられるが、本様式に用いられる電極は基本的には強直で板状の電極であるため、静電容量式タッチセンサーのような近接センサーの電極を、三次元曲面状や複雑な形状の対象に応用する場合、対象物の形状に沿って設置するのに困難であり、折り曲げによる耐久性がない。
2. Description of the Related Art In recent years, sensing of biological information such as heart rate and body movement has become popular as daily health information, as consumers have become more aware of their health. In addition, with the advancement of the elderly society, confirmation of the safety of the elderly living alone has become a social problem, but a sensing system for detecting biological information for that purpose and proximity to objects and areas has begun to be advocated.
In addition, with advances in the technology for reducing the size and weight of measurement instruments, development of terminals that can be carried easily, easily and easily, including wearable instruments that can be worn, has become active.
A conductive electrode is generally used for the sensor part that detects biological information. For example, when using these electrodes in a wearable portable terminal, it is ideal to be provided in the surroundings of the human body such as cards, bags, watches, clothes, shoes, etc., and flexibility and flexibility of the electrodes themselves Is preferred.
However, the electrodes used so far in such cases are rigid electrodes such as copper foil, meshed conductive cloth, copper plate, etc., which lack flexibility and flexibility and can be bent or pulled. By doing this, the electrode is easily damaged or a person feels a strong sense of discomfort when used for a long time, and therefore, it was not suitable for wearable applications (Patent Document 1, Patent Document 2).
In living environments, a capacitive touch screen panel may be mentioned as an example of a proximity sensor, but since the electrode used in this mode is basically a rigid and plate-like electrode, a capacitive touch sensor When applying the electrode of a proximity sensor like this to the object of a three-dimensional curved surface shape and a complicated shape, it is difficult to install along the shape of an object, and there is no durability by bending.

生体センサーとして、特許文献1には、静電容量型電極を用いた筋電の計測装置および計測方法の文献がある。   As a living body sensor, patent document 1 has a literature of a measuring device and a measuring method of myoelectricity using a capacitance type electrode.

ウェアラブル端末での電極の事例として、特許文献2があげられる。   Patent document 2 is mentioned as an example of the electrode in a wearable terminal.

特開2009−261735号公報JP, 2009-261735, A 特許第4653200号公報Patent No. 4653200 gazette

本発明は従来のセンサー用電極の問題点を克服し、軽量で延伸性、折り曲げ性などの高い接着性、耐久性を発現しながらも、導電性、静電容量などの電気特性に優れた電極シートと、その電極シートを用いた生体センサー、近接センサー、生体インピーダンス測定機の提供を目的とする。   The present invention overcomes the problems of the conventional sensor electrode and is light in weight and has high adhesiveness such as stretchability and bendability and durability while exhibiting excellent electric properties such as conductivity and capacitance. It aims at provision of a sheet, a living body sensor using the electrode sheet, a proximity sensor, and a bioimpedance measuring machine.

本発明は、カルボキシル基を有する熱硬化性樹脂(A)(ただし、エポキシ樹脂(B)、反応性官能基を有するエラストマー(C)である場合を除く。)、エポキシ樹脂(B)、反応性官能基を有するエラストマー(C)、導電性フィラー(D)および硬化剤(E)を含むことを特徴とするセンサー用導電層形成材料に関する。   In the present invention, thermosetting resin (A) having a carboxyl group (however, epoxy resin (B), except in the case of an elastomer (C) having a reactive functional group), epoxy resin (B), reactivity The present invention relates to a conductive layer-forming material for a sensor comprising an elastomer (C) having a functional group, a conductive filler (D) and a curing agent (E).

また、本発明は、導電層(X)を具備する電極シートであって、導電層(X)が、上記センサー用導電層形成材料を硬化してなることを特徴とするセンサー用電極シートに関する。   The present invention also relates to an electrode sheet having a conductive layer (X), wherein the conductive layer (X) is formed by curing the above-described conductive layer forming material for a sensor.

また、本発明は、さらに、導電層(X)の少なくとも片面に、絶縁層(Y)を設けて成ることを特徴とする上記センサー用電極シートに関する。   The present invention further relates to the above-mentioned electrode sheet for a sensor characterized in that an insulating layer (Y) is provided on at least one surface of the conductive layer (X).

また、本発明は、導電層(X1)/誘電層(Z)/導電層(X2)の順に積層されてなる構成を有する電極シートであって、導電層(X1)および導電層(X2)のうち少なくとも一方が、上記導電層形成材料を硬化してなることを特徴とするセンサー用電極シートに関する。   Further, the present invention is an electrode sheet having a configuration in which a conductive layer (X1) / a dielectric layer (Z) / a conductive layer (X2) is laminated in the order, and the conductive sheet (X1) and the conductive layer (X2) The present invention relates to an electrode sheet for a sensor, wherein at least one of them is formed by curing the conductive layer-forming material.

また、本発明は、さらに、導電層(X1)および導電層(X2)の少なくとも一方の導電層の外側に絶縁層(Y1)を設けてなる上記センサー用電極シートに関する。   Furthermore, the present invention relates to the above-mentioned electrode sheet for a sensor, which further comprises an insulating layer (Y1) provided on the outside of at least one of the conductive layer (X1) and the conductive layer (X2).

また、本発明は、導電層(X3)/誘電層(Z1)/導電層(X4)/絶縁層(Y2)/導電層(X5)/誘電層(Z2)/導電層(X6)の順に積層されてなる構成の電極シートであって、導電層(X3)、導電層(X4)、導電層(X5)および導電層(X6)の少なくとも1つが、上記導電層形成材料を硬化してなることを特徴とするセンサー用電極シートに関する。   In the present invention, the conductive layer (X3) / dielectric layer (Z1) / conductive layer (X4) / insulating layer (Y2) / conductive layer (X5) / dielectric layer (Z2) / conductive layer (X6) are stacked in this order. The conductive layer (X3), the conductive layer (X4), the conductive layer (X5), and the conductive layer (X6) are formed by curing the conductive layer-forming material. The present invention relates to a sensor electrode sheet characterized by

また、本発明は、さらに、導電層(X3)および導電層(X6)の少なくとも一方の導電層の外側に絶縁層(Y3)を設けてなる上記センサー用電極シートに関する。   The present invention also relates to the above-mentioned electrode sheet for a sensor, which further comprises an insulating layer (Y3) provided on the outside of at least one of the conductive layer (X3) and the conductive layer (X6).

また、本発明は、上記センサー用電極シートを用いた、静電容量型近接センサーに関する。   Further, the present invention relates to a capacitance type proximity sensor using the above-mentioned electrode sheet for sensor.

また、本発明は、上記センサー用電極シートを用いた、静電容量型生体センサーに関する。   The present invention also relates to a capacitance type biosensor using the sensor electrode sheet.

また、本発明は、上記センサー用電極シートを用いた、生体インピーダンス測定機に関する。   The present invention also relates to a bioimpedance measuring device using the above-described electrode sheet for a sensor.

本発明による、センサー用導電層形成材料を硬化して成る導電層(X)は、高い導電性と接着性、耐久性およびフレキシブル性を発現することが可能となった。   The conductive layer (X) formed by curing the conductive layer forming material for a sensor according to the present invention can exhibit high conductivity, adhesiveness, durability and flexibility.

本発明により、優れた延伸性、折り曲げ性を発現し高い耐久性を有し、他部材と積層した場合の層間接着力に優れた電極シート、およびそれを用いた静電容量型の生体センサー、近接センサー、生体インピーダンス測定機を提供する。   According to the present invention, an electrode sheet exhibiting excellent stretchability, bendability and high durability, and excellent interlayer adhesion when laminated with other members, and a capacitive biosensor using the same Providing a proximity sensor and a bioimpedance measuring machine.

本発明のセンサー用電極シートの各種態様の断面を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the cross section of the various aspects of the electrode sheet for sensors of this invention. 本発明のセンサー用電極シートの別の態様の断面を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the cross section of another aspect of the electrode sheet for sensors of this invention. 本発明のセンサー用電極シートの別の態様の断面を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the cross section of another aspect of the electrode sheet for sensors of this invention. 本発明のセンサー用電極シートの別の態様を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows another aspect of the electrode sheet for sensors of this invention. 本発明のセンサー用電極シートの別の態様を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows another aspect of the electrode sheet for sensors of this invention.

本発明の導電層(X)は、カルボキシル基を有する熱硬化性樹脂(A)(以下、熱硬化性樹脂(A)、エポキシ樹脂(B)、反応性官能基を有するエラストマー(C)、導電性フィラー(D)および硬化剤(E)を含むセンサー用導電層形成材料より形成される。
本発明の電極シートは、当該センサー用導電層形材料を硬化せしめて成る、導電層(X)自体を電極シートとして使用することができる。また他の使用方法として、導電層(X)、絶縁層(Y)、誘電層(Z)を目的に応じて適宜積層することにより、静電容量型近接センサー、静電容量型生体センサー、生体インピーダンス測定機用の電極シートとして使用することができる。
The conductive layer (X) of the present invention is a thermosetting resin (A) having a carboxyl group (hereinafter, a thermosetting resin (A), an epoxy resin (B), an elastomer having a reactive functional group (C), conductivity And the curing agent (E).
In the electrode sheet of the present invention, the conductive layer (X) itself obtained by curing the conductive layer type material for a sensor can be used as an electrode sheet. In addition, as another method of use, by appropriately laminating the conductive layer (X), the insulating layer (Y), and the dielectric layer (Z) according to the purpose, a capacitive proximity sensor, a capacitive biosensor, a living body It can be used as an electrode sheet for impedance measuring machines.

前記電極シートは導電層形成材料を硬化されてなるが、硬化形態として、シート形成の際に導電層形成材料中の硬化剤(E)が反応することで硬化する。硬化剤をどの程度の速さで反応させるかで硬化方法は変わる。例えば、仮硬化工程で導電層をいわゆる半硬化状態とし、その後の本硬化工程で、エポキシ樹脂(B)が反応することで耐久性が得られる硬化方法、または、本硬化工程で硬化剤(E)とエポキシ樹脂(B)、熱硬化性樹脂(A)やエラストマー(C)と硬化反応する硬化方法が挙げられるが、他の硬化方法を任意に採用できることはいうまでもない   The electrode sheet is formed by curing the conductive layer-forming material, but as a cured form, the curing agent (E) in the conductive layer-forming material reacts at the time of sheet formation to cure. The curing method changes depending on how fast the curing agent is reacted. For example, the conductive layer is brought into a so-called semi-cured state in the temporary curing step, and a curing method in which durability is obtained by reacting the epoxy resin (B) in the subsequent main curing step, or a curing agent (E And epoxy resin (B), a thermosetting resin (A), and a curing method that causes a curing reaction with the elastomer (C), but it is needless to say that other curing methods can be arbitrarily adopted.

<熱硬化性樹脂(A)>
本発明において熱硬化性樹脂(A)は、電極シートで使用可能な耐熱性、フレキシブル性、耐久性を発現できる熱硬化性樹脂である。そのため反応性官能基としてカルボキシル基を含むことが必要である。具体的には、ウレタン樹脂、ウレタンウレア樹脂、エポキシエステル樹脂、アクリル樹脂およびフェノール樹脂等が好ましい。これらの中でも耐熱性と加工性の面でウレタンウレア樹脂、エポキシエステル樹脂、およびアクリル樹脂がより好ましい。
<Thermosetting resin (A)>
In the present invention, the thermosetting resin (A) is a thermosetting resin which can exhibit heat resistance, flexibility and durability which can be used in the electrode sheet. Therefore, it is necessary to include a carboxyl group as a reactive functional group. Specifically, urethane resin, urethane urea resin, epoxy ester resin, acrylic resin and phenol resin are preferable. Among these, urethane urea resins, epoxy ester resins and acrylic resins are more preferable in terms of heat resistance and processability.

熱硬化性樹脂(A)の酸価は、3〜25mgKOH/gが好ましく、7〜20mgKOH/gがより好ましい。酸価が3mgKOH/g以上になるとエポキシ樹脂(B)との架橋が向上し、耐熱性がより向上する。また、酸価が25mgKOH/g以下になると電極シートを構成する他の層との接着強度がより向上する。   3-25 mgKOH / g is preferable and, as for the acid value of a thermosetting resin (A), 7-20 mgKOH / g is more preferable. When the acid value is 3 mgKOH / g or more, crosslinking with the epoxy resin (B) is improved, and heat resistance is further improved. In addition, when the acid value is 25 mg KOH / g or less, the adhesion strength with other layers constituting the electrode sheet is further improved.

熱硬化性樹脂(A)の重量平均分子量は、5000〜300000が好ましい。重量平均分子量が5000以上になると耐熱性がより向上する。また、300000以下になると粘度が低下し、取り扱いがより容易になる。   The weight average molecular weight of the thermosetting resin (A) is preferably 5,000 to 300,000. When the weight average molecular weight is 5000 or more, the heat resistance is further improved. Moreover, when it becomes 300000 or less, a viscosity will fall and handling will become easier.

以下、熱硬化性樹脂(A)の1例としてポリウレタンウレア樹脂の合成方法を説明するが、熱硬化性樹脂(A)がポリウレタンウレア樹脂に限定して解釈されないことはいうまでもない。   Hereinafter, although the synthesis | combining method of a polyurethane urea resin is demonstrated as one example of a thermosetting resin (A), it can not be overemphasized that a thermosetting resin (A) is limited and interpreted as polyurethane urea resin.

ポリウレタンウレア樹脂は、カルボキシル基を有するポリウレタンウレア樹脂で有ればよい。ポリウレタンウレア樹脂(a)を得る方法の例を次に示す。まず、カルボキシル基を有するジオール化合物(b1)、カルボキシル基を有しないポリオール化合物(b2)および有機ジイソシアネート(b3)を反応させてイソシアネート基を有するウレタンプレポリマー(b4)を得る第一の工程。次に得られたイソシアネート基を有するウレタンプレポリマー(b4)とポリアミノ化合物(b5)を反応させる第二の工程で得ることができる。前記第二の工程では、必要に応じて反応停止剤を使用できる。   The polyurethaneurea resin may be a polyurethaneurea resin having a carboxyl group. An example of the method for obtaining the polyurethaneurea resin (a) is shown below. First, a first step of reacting a diol compound (b1) having a carboxyl group, a polyol compound (b2) having no carboxyl group and an organic diisocyanate (b3) to obtain a urethane prepolymer (b4) having an isocyanate group. Next, it can be obtained in the second step of reacting the obtained urethane prepolymer (b4) having an isocyanate group with the polyamino compound (b5). In the second step, a reaction terminator can be used as needed.

カルボキシル基を有するジオール化合物(b1)は、例えばジメチロール酢酸、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸、ジメチロールペンタン酸等のジメチロールアルカン酸、ジヒドロキシコハク酸、およびジヒドロキシ安息香酸等が挙げられる。これらの中でもジメチロールプロピオン酸およびジメチロールブタン酸は、反応性、溶解性が向上するため好ましい。
Examples of the diol compound (b1) having a carboxyl group include dimethylolalkanoic acid such as dimethylolacetic acid, dimethylol propionic acid, dimethylol butanoic acid, and dimethylol pentanoic acid, dihydroxysuccinic acid, and dihydroxybenzoic acid. Among these, dimethylol propionic acid and dimethylol butanoic acid are preferable because they improve the reactivity and solubility.

カルボキシル基を有しないポリオール化合物(b2)は、一般にポリウレタン樹脂を構成するポリオール成分として知られている、例えばポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、およびポリブタジエングリコール等が挙げられる。これらは単独または2種以上併用できる。   The polyol compound (b2) having no carboxyl group is generally known as a polyol component constituting a polyurethane resin, and examples thereof include polyether polyol, polyester polyol, polycarbonate polyol, and polybutadiene glycol. These can be used alone or in combination of two or more.

前記ポリエーテルポリオールは、例えば酸化エチレン、酸化プロピレン、およびテトラヒドロフラン等の単独重合体または共重合体などが挙げられる。   Examples of the polyether polyol include homopolymers or copolymers of ethylene oxide, propylene oxide, and tetrahydrofuran.

前記ポリエステルポリオールは、例えばエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ペンタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、ヘキサンジオール、オクタンジオール、1,4−ブチレンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ダイマージオール等の飽和および不飽和の低分子ジオール類と、アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマル酸、コハク酸、シュウ酸、マロン酸、グルタル酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、およびセバシン酸等のジカルボン酸類ならびにこれらの無水物とを脱水縮合して得られるポリエステルポリオール、および環状エステル化合物を開環重合して得られるポリエステルポリオール等が挙げられる。   Examples of the polyester polyol include ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, pentanediol, 3-methyl-1, Saturated and unsaturated low molecular weight diols such as 5-pentanediol, hexanediol, octanediol, 1,4-butylenediol, diethylene glycol, triethylene glycol, dipropylene glycol, dimer diol, etc., adipic acid, phthalic acid, isophthalic acid Acid, terephthalic acid, maleic acid, fumaric acid, succinic acid, oxalic acid, malonic acid, glutaric acid, glomerular acid, suberic acid, suberic acid, azelaic acid, dicarboxylic acids such as sebacic acid, and their anhydrides by dehydration condensation Obtained police Le polyol and cyclic ester compound to ring opening polymerization in polyester polyols obtained can be mentioned.

前記ポリカーボネートポリオールは、1)ジオールまたはビスフェノールと炭酸エステルとの反応生成物、および、2)ジオールまたはビスフェノールにアルカリの存在下でホスゲンを作用させて得られる反応生成物が使用できる。炭酸エステルは、例えばジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジフェニルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等が挙げられる。また、ジオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ブチレングリコール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、3,3’−ジメチロールヘプタン、ポリオキシエチレングリコール、ポリオキシプロピレングリコール、プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、オクタンジオール、ブチルエチルペンタンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、シクロヘキサンジオール、3,9−ビス(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチル、2,2,8,10−テトラオキソスピロ〔5.5〕ウンデカン等が挙げられる。また、ビスフェノールとしては、ビ
スフェノールAやビスフェノールF、ビスフェノール類にエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド等のアルキレンオキサイドを付加させたビスフェノール類等が挙げられる。
これらの中でもポリエステルポリオールが好ましく、ポリエステルジオールがより好ましい。
As the polycarbonate polyol, 1) a reaction product of a diol or bisphenol and a carbonic ester, and 2) a reaction product obtained by reacting phosgene on the diol or bisphenol in the presence of an alkali can be used. Examples of the carbonate include dimethyl carbonate, diethyl carbonate, diphenyl carbonate, ethylene carbonate, propylene carbonate and the like. Further, as the diol, ethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, butylene glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 3,3 '-Dimethylolheptane, polyoxyethylene glycol, polyoxypropylene glycol, propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,9 Nonanediol, neopentyl glycol, octanediol, butylethylpentanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, cyclohexanediol, 3,9-bis (1,1-dimethyl-2-hydroxyethyl, 2,2 , 8, Examples of the bisphenol include bisphenol A and bisphenol F, and bisphenols obtained by adding an alkylene oxide such as ethylene oxide or propylene oxide to bisphenols. .
Among these, polyester polyols are preferable, and polyester diols are more preferable.

カルボキシル基を有しないポリオール化合物(b2)の数平均分子量(Mn)は、通常は500〜8000が好ましく、1000〜5000がより好ましい。Mnが500以上になることでポリウレタンポリウレア樹脂(a)に適度なウレタン結合を導入できることで接着強度が得易くなる。またまたMnが8000以下になることでウレタン結合間距離が適切になりやすく耐熱性が得易くなる。   Usually, 500-8000 are preferable and, as for the number average molecular weight (Mn) of the polyol compound (b2) which does not have a carboxyl group, 1000-5000 are more preferable. When the Mn is 500 or more, an appropriate urethane bond can be introduced into the polyurethane polyurea resin (a), which makes it easy to obtain adhesive strength. In addition, when the Mn is 8000 or less, the distance between urethane bonds is likely to be appropriate and the heat resistance is easily obtained.

有機ジイソシアネート(b3)は、芳香族ジイソシアネート、および脂肪族ジイソシアネート、脂環族イソシアネート等が好ましい。
前記芳香族ジイソシアネートは、例えば1,5−ナフチレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、4,4’−ベンジルイソシアネート、ジアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、テトラアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、1,3−フェニレンジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等が挙げられる。
The organic diisocyanate (b3) is preferably an aromatic diisocyanate, an aliphatic diisocyanate, an alicyclic isocyanate or the like.
Examples of the aromatic diisocyanate include 1,5-naphthyl diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 4,4'-diphenyldimethylmethane diisocyanate, 4,4'-benzylisocyanate, dialkyldiphenylmethane diisocyanate, tetraalkyldiphenylmethane diisocyanate, 1,3-phenylene diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate and the like can be mentioned.

前記脂肪族ジイシシアネートは、例えばブタン−1,4−ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート等が挙げられる。   Examples of the aliphatic diisocyanates include butane-1,4-diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, and lysine diisocyanate.

前記脂環族ジイソシアネートは、例えばシクロヘキサン−1,4−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアナートメチル、ビス(4−イソシアネートシクロヘキシル)メタン、1,3−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンジイソシアネート等が挙げられる。   Examples of the alicyclic diisocyanates include cyclohexane-1,4-diisocyanate, isophorone diisocyanate, norbornane diisocyanate methyl, bis (4-isocyanatocyclohexyl) methane, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, methylcyclohexane diisocyanate and the like. It can be mentioned.

これらの中でもイソホロンジイソシアネートが好ましい。これらは単独または2種以上併用できる   Among these, isophorone diisocyanate is preferable. These can be used alone or in combination of two or more

前記第一の工程の反応条件は、イソシアネート基を過剰にする他にとくに限定はないが、イソシアネート基/水酸基の当量比が1.05/1〜3/1であることが好ましく、1.2/1〜2/1がより好ましい。また、反応温度は20〜150℃で適宜選択することが好ましく、60〜120℃がより好ましい。   The reaction conditions in the first step are not particularly limited except that the isocyanate group is made excessive, but the equivalent ratio of isocyanate group / hydroxyl group is preferably 1.05 / 1 to 3/1, and 1.2 / 1-2 / 1 is more preferable. Moreover, it is preferable to select reaction temperature 20 ~ 150 degreeC suitably, and 60 ~ 120 degreeC is more preferable.

前記第二の工程で使用するポリアミノ化合物(b5)は、鎖延長剤として使用する。具体的には、例えばエチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、イソホロンジアミン、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジアミン、ノルボルナンジアミン、2−(2−アミノエチルアミノ)エタノール、2−ヒドロキシエチルエチレンジアミン、2−ヒドロキシエチルプロピレンジアミン、ジ−2−ヒドロキシエチルエチレンジアミン、およびジ−2−ヒドロキシプロピルエチレンジアミン等が挙げられる。これらの中でもイソホロンジアミンが好ましい。   The polyamino compound (b5) used in the second step is used as a chain extender. Specifically, for example, ethylene diamine, propylene diamine, hexamethylene diamine, diethylene triamine, triethylene tetramine, isophorone diamine, dicyclohexylmethane-4,4'-diamine, norbornane diamine, 2- (2-aminoethylamino) ethanol, 2- Hydroxyethyl ethylenediamine, 2-hydroxyethyl propylene diamine, di-2-hydroxyethyl ethylene diamine, and di-2-hydroxy propyl ethylene diamine etc. are mentioned. Among these, isophorone diamine is preferable.

前記第二の工程で使用できる反応停止剤は、例えばジ−n−ブチルアミン等のジアルキルアミン類、およびジエタノールアミン等のジアルカノールアミン、エタノール、およびイソプロピルアルコール等のアルコールが挙げられる。   Examples of the reaction terminator that can be used in the second step include dialkylamines such as di-n-butylamine, and dialkanolamines such as diethanolamine, ethanol, and alcohols such as isopropyl alcohol.

前記第二の工程の反応条件は、ウレタンプレポリマーの両末端に有する遊離のイソシアネート基を1当量とした場合、ポリアミノ化合物(b5)および反応停止剤(を使用する
場合は)中のアミノ基の合計当量が0.5〜1.3であることが好ましく、0.8〜1.
05がより好ましい。アミノ基の合計当量が0.5以上になるとポリウレタンウレア樹脂(a)をより高分子量にできる。また1.3以上になると導電層形成材料の保存安定性が低下する恐れがある。
The reaction conditions for the second step are as follows: 1 equivalent of free isocyanate groups at both ends of the urethane prepolymer, the amino groups in the polyamino compound (b5) and the reaction terminator (when used) The total equivalent is preferably 0.5 to 1.3, and 0.8 to 1.
05 is more preferable. When the total equivalent weight of amino groups is 0.5 or more, polyurethaneurea resin (a) can be made to have a higher molecular weight. If it is 1.3 or more, the storage stability of the conductive layer forming material may be reduced.

ポリウレタンウレア樹脂の重量平均分子量は、5000〜200000が好ましい。重量平均分子量が5000以上になると耐熱性がより向上する。また、200000以下になるとセンサー用導電層形成材料の粘度が低下し、取り扱いがより容易になる。   The weight average molecular weight of the polyurethane urea resin is preferably 5,000 to 200,000. When the weight average molecular weight is 5000 or more, the heat resistance is further improved. Moreover, when it becomes 200,000 or less, the viscosity of the conductive layer forming material for sensors will fall, and handling will become easier.

ポリウレタンウレア樹脂の合成は、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、脂肪族系溶剤、芳香族系溶剤、アルコール系溶剤、カーボネート系溶剤、水等から適宜選択した溶剤を単独または2種以上使用できる。   The polyurethane urea resin may be synthesized by using one or two solvents appropriately selected from ester solvents, ketone solvents, glycol ether solvents, aliphatic solvents, aromatic solvents, alcohol solvents, carbonate solvents, water and the like. It can be used above.

前記エステル系溶剤は、例えば酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸アミル、乳酸エチル等が挙げられる。   Examples of the ester solvents include ethyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl acetate, ethyl lactate and the like.

前記ケトン系溶剤は、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、イソホロン、シクロヘキサンノン等が挙げられる。   Examples of the ketone-based solvent include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, diacetone alcohol, isophorone, cyclohexanenone and the like.

前記グリコールエーテル系溶剤は、例えばエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、およびこれらモノエーテル類の酢酸エステル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、およびこれらモノエーテル類の酢酸エステル等が挙げられる。   Examples of the glycol ether solvents include ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, acetates of these monoethers, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, Propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, and acetic acid esters of these monoethers can be mentioned.

前記脂肪族系溶剤は、例えばn−ヘプタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等が挙げられる。   Examples of the aliphatic solvents include n-heptane, n-hexane, cyclohexane, methylcyclohexane and ethylcyclohexane.

前記芳香族系溶剤は、例えばトルエン、キシレン等が挙げられる。   Examples of the aromatic solvent include toluene and xylene.

前記アルコール系溶剤は、例えばメタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、シクロヘキサノール等が挙げられる。   Examples of the alcohol solvent include methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, cyclohexanol and the like.

前記カーボネート系溶剤は、例えばジメチルカーボネート、エチルメチルカーボネート、ジ−n−ブチルカーボネート等が挙げられる。   Examples of the carbonate-based solvent include dimethyl carbonate, ethyl methyl carbonate, di-n-butyl carbonate and the like.

<エポキシ(B)>
本発明においてエポキシ樹脂(B)は、1分子に2個以上のエポキシ基を有する化合物である。その性状は、液状および固形状を問わない。
エポキシ樹脂(B)は、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、環状脂肪族(脂環型)エポキシ樹脂等が好ましい。
<Epoxy (B)>
In the present invention, the epoxy resin (B) is a compound having two or more epoxy groups in one molecule. Its property may be liquid or solid.
The epoxy resin (B) is preferably a glycidyl ether type epoxy resin, a glycidyl amine type epoxy resin, a glycidyl ester type epoxy resin, a cyclic aliphatic (alicyclic type) epoxy resin, or the like.

グリシジルエーテル型エポキシ樹脂は、例えばビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、α−ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型ノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、テトラブロムビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、トリス(グリシジルオキシフェニル)メタン、およびテトラキス(グリシジルオキシフェニル)エタン等が挙げられる。   The glycidyl ether type epoxy resin is, for example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, α-naphthol novolac type epoxy resin Resin, bisphenol A novolac epoxy resin, dicyclopentadiene epoxy resin, tetrabromo bisphenol A epoxy resin, brominated phenol novolac epoxy resin, tris (glycidyloxyphenyl) methane, tetrakis (glycidyloxyphenyl) ethane, etc. Can be mentioned.

前記グリシジルアミン型エポキシ樹脂は、例えばテトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルパラアミノフェノール、トリグリシジルメタアミノフェノール、およびテトラグリシジルメタキシリレンジアミン等が挙げられる。   Examples of the glycidyl amine type epoxy resin include tetraglycidyldiaminodiphenylmethane, triglycidyl paraaminophenol, triglycidyl metaaminophenol, and tetraglycidyl metaxylylene diamine.

前記グリシジルエステル型エポキシ樹脂は、例えばジグリシジルフタレート、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート等が挙げられる。   Examples of the glycidyl ester type epoxy resin include diglycidyl phthalate, diglycidyl hexahydrophthalate and diglycidyl tetrahydrophthalate.

前記環状脂肪族(脂環型)エポキシ樹脂は、例えばエポキシシクロヘキシルメチル−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(エポキシシクロヘキシル)アジペートなどが挙げられる。
これらの中でもビスフェノールA型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、トリス(グリシジルオキシフェニル)メタン、およびテトラキス(グリシジルオキシフェニル)エタンは、接着強度および耐熱性がより向上するため好ましい。
Examples of the cycloaliphatic (alicyclic) epoxy resin include epoxycyclohexylmethyl-epoxycyclohexanecarboxylate, bis (epoxycyclohexyl) adipate and the like.
Among these, bisphenol A epoxy resin, cresol novolac epoxy resin, phenol novolac epoxy resin, tris (glycidyloxyphenyl) methane, and tetrakis (glycidyloxyphenyl) ethane are preferable because they further improve adhesion strength and heat resistance. .

エポキシ樹脂(B)は、熱硬化性樹脂(A)100重量部に対して3〜200重量部を配合することが好ましく、5〜100重量部がより好ましい。3〜200重量部を配合すること、より高い耐熱性およびより高い接着強度が得られる。なお前記配合量は、5〜40重量%が好ましい。   It is preferable to mix | blend 3-200 weight parts with respect to 100 weight parts of thermosetting resin (A), and, as for an epoxy resin (B), 5-100 weight parts is more preferable. Blending 3 to 200 parts by weight, higher heat resistance and higher adhesive strength can be obtained. In addition, 5 to 40 weight% is preferable for the said compounding quantity.

<エラストマー(C)>
本発明においてエラストマー(C)は、反応性官能基を有するエラストマーである。ここでエラストマーは、弾性体でありブロック共重合体が好ましく、スチレン系エラストマー、エチレン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、ポリアミド系エラストマーおよびスチレンアクリル系エラストマー等が好ましい。前記反応性官能基は、エポキシ樹脂(B)または硬化剤(E)の少なくとも一方と反応可能な官能基であれば良い。具体的には、カルボキシル基、アミノ基、水酸基等が好ましい。
<Elastomer (C)>
In the present invention, the elastomer (C) is an elastomer having a reactive functional group. Here, the elastomer is an elastic body and a block copolymer is preferable, and a styrene-based elastomer, an ethylene-based elastomer, a urethane-based elastomer, a polyamide-based elastomer, a styrene acrylic elastomer and the like are preferable. The reactive functional group may be a functional group capable of reacting with at least one of the epoxy resin (B) and the curing agent (E). Specifically, carboxyl group, amino group, hydroxyl group and the like are preferable.

前記スチレン系エラストマーは、例えばスチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合物、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合物、スチレン−ブタジエン−イソプレン−スチレンブロック共重合物、およびスチレン−ブタジエン−イソプレン−スチレンブロック共重合物ならびにこれらの水素添加物が挙げられる。
前記エチレン系エラストマーは、例えばエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−メタクリル酸エステル共重合体)、エチレン−アクリル酸エステル共重合体、および無定形ポリアルファオレフィン共重合物等が挙げられる。
これらのエラストマーはカルボキシ変性により、カルボキシル基を有することができる。
前記ウレタン系エラストマーは、例えばウレタン−ウレアブロック共重合体、ウレタン−エステルブロック共重合体、ウレタン−アミドブロック共重合体等が挙げられる。
前記ポリアミド系エラストマーは、例えば、ポリエーテルエステル−アミドブロック共重合体、およびポリエステル−アミドブロック共重合体が挙げられる。
前記スチレンアクリル系エラストマーは、例えば、スチレンアクリロ二トリル共重合体、スチレンメタクリル酸等が挙げられる。
The styrene-based elastomer is, for example, styrene-butadiene-styrene block copolymer, styrene-isoprene-styrene block copolymer, styrene-butadiene-isoprene-styrene block copolymer, and styrene-butadiene-isoprene-styrene block copolymer As well as these hydrogenates.
Examples of the ethylene-based elastomer include ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-methacrylic acid ester copolymer), ethylene-acrylic acid ester copolymer, and amorphous polyalphaolefin copolymer.
These elastomers can have carboxyl groups by carboxy modification.
Examples of the urethane elastomer include a urethane-urea block copolymer, a urethane-ester block copolymer, and a urethane-amide block copolymer.
Examples of the polyamide elastomer include polyether ester-amide block copolymer, and polyester-amide block copolymer.
Examples of the styrene acrylic elastomer include styrene acrylonitrile copolymer and styrene methacrylic acid.

エラストマー(C)は、そのデュロメーターD硬さが25〜40であることが好ましい。この範囲であることで仮貼り適性および打ち抜き加工性をより向上できる。なおデュロメーターD硬さは、JIS K 7155:1999に準拠した試験方法で測定できる。     The elastomer (C) preferably has a durometer D hardness of 25 to 40. The temporary sticking aptitude and the punching processability can be further improved by being in this range. The durometer D hardness can be measured by a test method in accordance with JIS K 7155: 1999.

また、エラストマー(C)は、25℃における貯蔵弾性率が5MPa〜55MPaであることも好ましい。貯蔵弾性率が前記範囲にあれば仮貼り適性および耐熱性がより向上する。なお、エラストマー(C)の貯蔵弾性率は、10MPa〜50MPaがより好ましい。   In addition, the elastomer (C) preferably has a storage elastic modulus at 25 ° C. of 5 MPa to 55 MPa. If the storage elastic modulus is in the above range, the temporary bonding suitability and the heat resistance are further improved. The storage elastic modulus of the elastomer (C) is more preferably 10 MPa to 50 MPa.

エラストマー(C)が酸価を有する場合は、3〜8mgKOH/gが好ましい。     When an elastomer (C) has an acid value, 3-8 mgKOH / g is preferable.

エラストマー(C)は、ポリウレタンウレア樹脂(A)100重量部に対して3〜200重量部を配合することが好ましく、5〜100重量部がより好ましい。3〜200重量部を配合することで、仮貼り適正をより向上できる。   It is preferable to mix | blend 3-200 weight parts with respect to 100 weight parts of polyurethane urea resin (A), and, as for an elastomer (C), 5-100 weight parts is more preferable. By blending 3 to 200 parts by weight, it is possible to further improve the temporary sticking appropriateness.

エラストマー(C)は、ガラス転移温度(以下、Tgという)−70〜0℃が好ましい。Tgが−70℃以上になることで耐熱性がより向上する。また、Tgが0℃以下になること仮貼り適正がより向上する。なおエラストマー(C)のTgは−65℃〜−5℃がより好ましく、−60℃〜−10℃がさらに好ましい。   The elastomer (C) preferably has a glass transition temperature (hereinafter referred to as Tg) of -70 to 0 ° C. Heat resistance improves more because Tg becomes -70 degreeC or more. In addition, when the Tg is 0 ° C. or less, the temporary sticking appropriateness is further improved. As for Tg of an elastomer (C), -65 ° C--5 ° C are more preferred, and -60 ° C--10 ° C are still more preferred.

エラストマー(C)の反応性官能基は2〜5g/Eqが好ましい。前記範囲であることで耐熱性を維持し易くなる。   The reactive functional group of the elastomer (C) is preferably 2 to 5 g / Eq. It becomes easy to maintain heat resistance because it is the said range.

エラストマー(C)は、ポリアミド系エラストマーがより好ましい。また、耐熱性を損なわない範囲であれば、反応性官能基を有さないエラストマーも併用できる。     The elastomer (C) is more preferably a polyamide-based elastomer. Moreover, if it is a range which does not impair heat resistance, the elastomer which does not have a reactive functional group can also be used together.

<導電性フィラー(D)>
本発明において導電性フィラー(D)は、導電層(X)に導電性を付与する。具体的には、例えば、金、銀、銅、白金、錫、パラジウム、アルミニウム、鉛、亜鉛、鉄およびニッケル等の金属ならびにその合金からなる導電性金属粒子、前記導電性金属の複合粒子、ITO、ATO、FTO等の金属酸化物粒子、ならびにカーボンブラック、カーボンナノチューブ、グラフェン、カーボンファイバーなどの炭素材料等が挙げられる。前記複合粒子は、銀コート銅粒子、銀コートニッケル粒子、金コート銅粒子、および金コートニッケル粒子等が挙げられる。
<Conductive filler (D)>
In the present invention, the conductive filler (D) imparts conductivity to the conductive layer (X). Specifically, for example, conductive metal particles made of metals such as gold, silver, copper, platinum, tin, palladium, aluminum, lead, zinc, iron and nickel, and alloys thereof, composite particles of the conductive metal, ITO And metal oxide particles such as ATO and FTO, and carbon materials such as carbon black, carbon nanotubes, graphene, and carbon fibers. Examples of the composite particles include silver-coated copper particles, silver-coated nickel particles, gold-coated copper particles, and gold-coated nickel particles.

導電性フィラー(D)の形状は、例えば、球状、フレーク状、円状、樹枝状、針状、不定形状等が好ましい。導電性フィラー(D)の平均粒子径は、1〜50μmが好ましい。なお平均粒子径は、走査型電子顕微鏡の拡大画像(例えば千倍〜一万倍)から約10〜20個程度を平均した数値である。また、導電性フィラー(D)が長さ方向と横方向で長さが大きく異なる場合は、長さ方向で平均粒子径を算出する。   The shape of the conductive filler (D) is preferably, for example, a spherical shape, a flake shape, a circular shape, a dendritic shape, a needle shape, or an irregular shape. The average particle diameter of the conductive filler (D) is preferably 1 to 50 μm. The average particle size is a value obtained by averaging about 10 to 20 particles from a magnified image (for example, 1,000 times to 10,000 times) of a scanning electron microscope. In addition, when the conductive filler (D) is significantly different in length in the longitudinal direction and in the lateral direction, the average particle diameter is calculated in the longitudinal direction.

導電性フィラー(D)は、熱硬化性樹脂(A)100重量部に対して200〜1000重量部を配合することが好ましく、300〜600重量部がより好ましい。200〜1000重量部を配合することで、導電性がより向上する。     It is preferable to mix | blend 200-1000 weight part with respect to 100 weight part of thermosetting resin (A), and, as for a conductive filler (D), 300-600 weight part is more preferable. By blending 200 to 1000 parts by weight, the conductivity is further improved.

<硬化剤(E)>
本発明において硬化剤(E)は、架橋反応によりセンサー用電極シートを形成した際に導電層(X)を半硬化状態にするために機能できるが、シート形成の際に反応せず本硬化の際に反応するような硬化剤も適宜選択できる。硬化剤(E)は、イソシアネート系硬化剤、アミン系硬化剤、アジリジン系硬化剤、イミダゾール系硬化剤等が好ましい。
<Hardener (E)>
In the present invention, the curing agent (E) can function to bring the conductive layer (X) into a semi-cured state when the sensor electrode sheet is formed by a crosslinking reaction, but does not react at the time of sheet formation, A curing agent that reacts during the reaction can also be selected appropriately. The curing agent (E) is preferably an isocyanate curing agent, an amine curing agent, an aziridine curing agent, an imidazole curing agent or the like.

イソシアネート系硬化剤は、例えばトリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジシクロへキシルメタンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。   Examples of isocyanate curing agents include tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, tetramethyl xylylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate and the like. It can be mentioned.

アミン系硬化剤は、例えばジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、メチレンビス(2−クロロアニリン)、メチレンビス(2−メチル−6−メチルアニリン)、1,5−ナフタレンジイソシアネート、n−ブチルベンジルフタル酸等が挙げられる。   Examples of the amine-based curing agent include diethylenetriamine, triethylenetetramine, methylenebis (2-chloroaniline), methylenebis (2-methyl-6-methylaniline), 1,5-naphthalenediisocyanate, n-butylbenzylphthalic acid and the like. .

アジリジン系硬化剤は、例えばトリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、テトラメチロールメタン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、N,N‘−ジフェニルメタン−4,4’−ビス(1−アジリジンカルボキシアミド)、N,N‘−ヘキサメチレン−1,6−ビス(1−アジリジンカルボキシアミド)等が挙げられる。   Aziridine-based curing agents include, for example, trimethylolpropane-tri-β-aziridinyl propionate, tetramethylolmethane-tri-β-aziridinyl propionate, N, N'-diphenylmethane-4,4'-bis (1-aziridine carboxamide), N, N'-hexamethylene-1,6-bis (1-aziridine carboxamide), etc. may be mentioned.

イミダゾール系硬化剤は、例えば2−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミ
ダゾリウムトリメリテイトなどが挙げられる。
Examples of the imidazole-based curing agent include 2-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate and the like.

硬化剤(E)は、熱硬化性樹脂(A)100重量部に対して0.3〜20重量部を配合することが好ましく、1〜15重量部がより好ましい。0.3〜20重量部を配合することで、半硬化後にセンサー用導電層形成材料を流動しにくくできるためブロッキングが抑制しやすくなる。   It is preferable to mix | blend 0.3-20 weight part with respect to 100 weight part of thermosetting resin (A), and, as for a hardening agent (E), 1-15 weight part is more preferable. By blending 0.3 to 20 parts by weight, the material for forming a conductive layer for a sensor can be difficult to flow after semi-curing, and thus blocking can be easily suppressed.

本発明のセンサー用導電層形成材料は、さらに無機フィラー(F)を含むことが好ましい。無機フィラー(F)を含むことで電極シートの耐熱性がより向上する。
無機フィラー(F)は、例えばシリカ、アルミナ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、三酸化アンチモン、酸化マグネシウム、タルク、モンモロリナイト、カオリン、ベントナイト等の無機化合物が挙げられる。これらの中でも、の点から、シリカ、アルミナ、および水酸化アルミニウムは分散性が優れているため好ましい。さらにシリカ表面のシラノール基とハロゲン化シランを反応させた疎水性シリカは、センサー用導電層形成材料の含水率を低減できるためより好ましい。なお本発明において無機フィラー(F)は、導電性フィラー(D)を含まない。
The conductive layer forming material for a sensor of the present invention preferably further contains an inorganic filler (F). By including the inorganic filler (F), the heat resistance of the electrode sheet is further improved.
The inorganic filler (F) is, for example, silica, alumina, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, barium sulfate, calcium carbonate, titanium oxide, zinc oxide, antimony trioxide, magnesium oxide, talc, montmorillonite, kaolin, bentonite, etc. Inorganic compounds are mentioned. Among these, silica, alumina, and aluminum hydroxide are preferable from the viewpoint of their excellent dispersibility. Furthermore, hydrophobic silica obtained by reacting a silanol group on the silica surface with a halogenated silane is more preferable because the moisture content of the conductive layer forming material for a sensor can be reduced. In the present invention, the inorganic filler (F) does not contain the conductive filler (D).

無機フィラー(F)は、熱硬化性樹脂(A)100重量部に対して7〜50重量部を配合することが好ましく、15〜40重量部がより好ましい。7〜50重量部を配合することで、導電層(A)のS(Stress)−S(Strain)曲線による伸び率を適切な範囲にできるため加工性をより向上できる。S−S曲線の伸び率下限は、80%以上が好ましく、100%以上がより好ましい。80%以上になることで加工性がより向上する。また同上限は300%以下が好ましく、250%以下がより好ましい。   It is preferable to mix | blend 7-50 weight parts with respect to 100 weight parts of thermosetting resin (A), and, as for an inorganic filler (F), 15-40 weight parts is more preferable. By blending 7 to 50 parts by weight, the elongation percentage of the conductive layer (A) according to the S (Stress) -S (Strain) curve can be made in an appropriate range, so that the processability can be further improved. 80% or more is preferable and 100% or more of the elongation rate lower limit of a SS curve is more preferable. Processability improves more by being 80% or more. The upper limit is preferably 300% or less, more preferably 250% or less.

本発明のセンサー用導電層形成材料は、さらにシランカップリング剤(G)を含むことが好ましい。シランカップリング剤(G)のアルコキシシリル基が反応することで高温の加工温度でも導電層(X)に発泡等が発生し難くなるなど耐熱性をさらに向上できる。
シランカップリング剤(G)は、ビニル系シランカップリング剤、エポキシ系シランカップリング剤、アミノ系シランカップリング剤、イソシアネート系シランカップリング剤等が好ましい。
The conductive layer forming material for a sensor of the present invention preferably further comprises a silane coupling agent (G). By reacting the alkoxysilyl group of the silane coupling agent (G), the heat resistance can be further improved, for example, the conductive layer (X) is less likely to generate foaming or the like even at a high processing temperature.
The silane coupling agent (G) is preferably a vinyl based silane coupling agent, an epoxy based silane coupling agent, an amino based silane coupling agent, an isocyanate based silane coupling agent or the like.

ビニル系シランカップリング剤は、例えばビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等が挙げられる。   Examples of the vinyl-based silane coupling agent include vinyltrimethoxysilane and vinyltriethoxysilane.

エポキシ系シランカップリング剤は、例えば2−(3,4−エポキシシクロへキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。   Epoxy-based silane coupling agents are, for example, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycid Examples include xypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane and the like.

アミノ系シランカップリング剤は、例えばN−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。   The amino type silane coupling agent is, for example, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane and the like.

イソシアネート系シランカップリング剤は、例えば3−イソシアネートプロピルトリエトキシシランが挙げられる。   As an isocyanate type silane coupling agent, 3-isocyanate propyl triethoxysilane is mentioned, for example.

シランカップリング剤(G)は、熱硬化性樹脂(A)100重量部に対して0.5〜25重量部を配合することが好ましく、0.75〜15重量部がより好ましい。0.5〜25重量部を配合することで、耐熱性がさらに向上する。   It is preferable to mix | blend 0.5-25 weight part with respect to 100 weight part of thermosetting resin (A), and, as for a silane coupling agent (G), 0.75-15 weight part is more preferable. By blending 0.5 to 25 parts by weight, the heat resistance is further improved.

本発明のセンサー用導電層形成材料は、他の任意成分として耐熱安定剤、顔料、染料、粘着付与樹脂、可塑剤、紫外線吸収剤、消泡剤、レベリング調整剤等を配合することができる。
例えば耐熱安定剤を配合すると樹脂の分解を抑制できるため耐熱性をより向上できる。具体的には、ヒンダートフェノール系化合物、リン系化合物、ラクトン系化合物、ヒドロキシルアミン系化合物、イオウ系化合物等が好ましく、ヒンダートフェノール系化合物がより好ましい。
In the conductive layer forming material for a sensor of the present invention, a heat resistant stabilizer, a pigment, a dye, a tackifier resin, a plasticizer, an ultraviolet absorber, an antifoaming agent, a leveling regulator and the like can be blended as other optional components.
For example, when a heat resistant stabilizer is blended, decomposition of the resin can be suppressed, and heat resistance can be further improved. Specifically, hindered phenol compounds, phosphorus compounds, lactone compounds, hydroxylamine compounds, sulfur compounds and the like are preferable, and hindered phenol compounds are more preferable.

本発明のセンサー用導電層形成材料は、前記(A)〜(E)の合計100重量%中、(A)が3〜50重量%、(B)が3〜50重量%、(C)が0.5〜30重量%、(D)が40〜80重量%および(E)が0.02〜5重量%であることが好ましい。   The conductive layer forming material for a sensor of the present invention comprises 3 to 50% by weight of (A), 3 to 50% by weight of (B) and (C) in 100% by weight of the total of (A) to (E). It is preferable that 0.5 to 30% by weight, (D) be 40 to 80% by weight, and (E) be 0.02 to 5% by weight.

本発明のセンサー用電極シートは、例えば剥離性シートにセンサー用導電層形成材料を塗工して得た半硬化状態のセンサー用導電層形成材料を硬化してなるシートである。前記のように、センサー用導電層形成材料を単独で硬化してセンサー用電極シートとして使用する場合以外は、後述の絶縁層、誘電層とセンサー用導電層形成材料とを積層したのちに、本硬化させても良い。
他層と仮貼りした後に高温加熱により本硬化することで高い接着強度および耐熱性が得られる。半硬化状態のセンサー用導電層形成材料のゲル分率は、60〜95%が好ましい。ゲル分率がこの範囲にあることで凝集力が向上し、仮貼り適正および打ち抜き加工性がより向上する。なおゲル分率は65〜90%がより好ましい。また、本発明でシートは、フィルム、テープと同義語である。また、半硬化状態とは、エポキシ樹脂が未反応状態であることを意味するためゲル分率0%を排除する意図はない。
The sensor electrode sheet of the present invention is, for example, a sheet obtained by curing a semi-cured conductive layer forming material for a sensor obtained by applying the conductive layer forming material for a sensor to a peelable sheet. As described above, except in the case where the conductive layer forming material for sensor is cured alone and used as an electrode sheet for sensor, after laminating the insulating layer and the dielectric layer to be described later and the conductive layer forming material for sensor, It may be cured.
High adhesion strength and heat resistance can be obtained by performing main curing by high temperature heating after temporarily attaching to another layer. The gel fraction of the semi-cured conductive layer forming material for sensor is preferably 60 to 95%. When the gel fraction is in this range, the cohesion is improved, and the temporary sticking appropriateness and the punching processability are further improved. The gel fraction is more preferably 65 to 90%. In the present invention, sheet is synonymous with film and tape. Moreover, since a semi-hardened state means that an epoxy resin is in an unreacted state, there is no intention of excluding gel fraction 0%.

前記塗工は、剥離性シートの剥離面に、例えばナイフコート、ダイコート、リップコート、ロールコート、カーテンコート、バーコート、グラビアコート、フレキソコート、ディップコート、スプレーコート、シルクスクリーン、インクジェット、およびスピンコート等の方法でセンサー用導電層形成材料を塗工し、通常40〜150℃の温度に加熱することで導電層(X)を形成できる。
導電層(X)の厚さは、5μm〜500μmが好ましく、10μm〜100μmがより好ましい。
The coating is performed on the release surface of the release sheet, for example, knife coating, die coating, lip coating, roll coating, curtain coating, bar coating, gravure coating, flexo coating, dip coating, spray coating, silk screen, inkjet, and spin A conductive layer (X) can be formed by coating the conductive layer forming material for a sensor by a method such as coating and heating to a temperature of usually 40 to 150 ° C.
The thickness of the conductive layer (X) is preferably 5 μm to 500 μm, and more preferably 10 μm to 100 μm.

<絶縁層(Y)>
絶縁層(Y)は、センサー用絶縁層形成材料から形成されてなり、フレキシブル性で柔軟性に富む。絶縁層(Y)は、導電層(X)と電気的に外界と絶縁させ、導電層(X)を物理的に保護する
センサー用絶縁層形成材料が、フィルム・シート状である場合は、その材料をそのまま、若しくは必要に応じて接着剤を介して貼りあわせて用いることができる。
センサー用絶縁層形成材料が、液状である場合は、塗工したのちに乾燥、必要に応じて硬化させて形成した樹脂塗膜などを使用することができる。
<Insulating layer (Y)>
The insulating layer (Y) is formed of an insulating layer forming material for a sensor, and is flexible and flexible. The insulating layer (Y) electrically insulates the outside from the conductive layer (X) and physically protects the conductive layer (X). If the material for forming the insulating layer for a sensor is a film or sheet, The materials can be used as they are or, if necessary, pasted together via an adhesive.
When the insulating layer forming material for a sensor is liquid, it is possible to use a resin coating film or the like which is formed by coating and drying, if necessary, and curing.

センサー用絶縁層形成材料は、具体的には、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエステルウレタンやポリエーテルウレタン、ポリカーボネートウレタンのようなウレタン樹脂、ポリエステルウレタンウレアやポリカーボネートウレタンウレアのようなウレタンウレア樹脂、ポリエステルウレアやポリエーテルウレア、ポリカーボネートウレアのようなウレア樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂のようなオレフィン系樹脂、ポリビニルアルコールやポリビニルブチラールのようなポリアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂、ポリフェノール樹脂、ナイロン樹脂、ビニロン樹脂、アラミド樹脂、セルロース樹脂などの合成樹脂を主成分とし、必要に応じてこれら樹脂を架橋させるための硬化剤やその促進のための触媒、その他塗工性、安定性、耐久性等を付与するための種々の添加剤を含む樹脂組成物、またはそれらを用いた不織布、木綿、絹、麻、ウールなどの天然繊維、ガラス繊維等が挙げられる。   Specifically, the insulating layer forming material for the sensor is, for example, fluorine resin, acrylic resin, polyester resin, polyester urethane, polyether urethane, urethane resin such as polycarbonate urethane, or urethane such as polyester urethane urea or polycarbonate urethane urea. Urea resin, polyester urea or polyether urea, urea resin such as polycarbonate urea, polyethylene, polypropylene, olefin resin such as acrylonitrile-butadiene-styrene resin, polyacetal resin such as polyvinyl alcohol or polyvinyl butyral, polyamide resin Polyimide resin, epoxy resin, phenoxy resin, polyphenol resin, nylon resin, vinylon resin, aramid resin, cellulose resin, etc. It contains a synthetic resin as the main component, and if necessary, contains a curing agent for crosslinking these resins, a catalyst for its acceleration, and various additives for imparting coatability, stability, durability, etc. Examples thereof include resin compositions or non-woven fabrics using them, natural fibers such as cotton, silk, hemp, wool and the like, glass fibers and the like.

絶縁層(Y)は、導電層(X)と電気的に外界と絶縁させ、導電層(X)を物理的に保護するための実用上最適な膜厚で良いが、薄すぎると導電層(X)の物理的保護や、外界との絶縁性確保が困難となる。また厚すぎるとフレキシブル性が損なわれるため、5μm以上、100000μm未満であることが好ましい。   The insulating layer (Y) may have a practically optimal thickness for electrically insulating the conductive layer (X) from the external world and physically protecting the conductive layer (X). It becomes difficult to ensure physical protection of X) and insulation from the outside world. Moreover, since flexibility will be impaired if too thick, it is preferable that they are 5 micrometers or more and less than 100000 micrometers.

以下にセンサー用絶縁層形成材料の一例として、カルボキシル基含有変性エステル樹脂を含むセンサー用絶縁層形成材料について詳細に説明する。
センサー用絶縁層形成材料は、カルボキシル基含有変性エステル樹脂(A3)、エポキシ基含有化合物、イソシアネート基含有化合物、およびブロック化イソシアネート基含有化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種である化合物(B3)、および熱硬化助剤(C3)を含むものであり、これを硬化せしめて絶縁層(Y)となる。
カルボキシル基含有変性エステル樹脂は、ポリオール化合物(a3)と、脂環式多塩基酸無水物および芳香族多塩基酸無水物から選ばれる少なくとも1種である酸無水物基含有化合物(b3)とを反応させてカルボキシル基含有エステル樹脂(c3)を生成し、前記カルボキシル基含有エステル樹脂(c3)と1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物(d3)とを反応させて、側鎖ヒドロキシル基含有変性エステル樹脂(e3)を生成し、さらに、側鎖ヒドロキシル基含有変性エステル樹脂(e3)に脂環式多塩基酸無水物および芳香族多塩基酸無水物から選ばれる少なくとも1種である酸無水物基含有化合物(b3)を反応させることにより得ることができる。
The insulating layer forming material for sensor containing a carboxyl group-containing modified ester resin as an example of the insulating layer forming material for sensor will be described in detail below.
The insulating layer-forming material for sensor is a compound (B3) which is at least one selected from the group consisting of carboxyl group-containing modified ester resin (A3), epoxy group-containing compound, isocyanate group-containing compound, and blocked isocyanate group-containing compound And a thermosetting coagent (C3), which is cured to form an insulating layer (Y).
The carboxyl group-containing modified ester resin comprises a polyol compound (a3) and an acid anhydride group-containing compound (b3) which is at least one selected from an alicyclic polybasic acid anhydride and an aromatic polybasic acid anhydride The reaction is carried out to produce a carboxyl group-containing ester resin (c3), and the carboxyl group-containing ester resin (c3) is reacted with an epoxy compound (d3) having at least two epoxy groups in one molecule to form a side chain. A hydroxyl group-containing modified ester resin (e3) is formed, and further, at least one selected from an alicyclic polybasic acid anhydride and an aromatic polybasic acid anhydride as a side chain hydroxyl group-containing modified ester resin (e3) It can be obtained by reacting a certain acid anhydride group-containing compound (b3).

本発明で用いるポリオール化合物(a3)は、2個以上の水酸基を有し、さらにその構造中に重合度2以上の繰り返し単位を有するものである。また、ポリオール化合物(a3)としては水酸基を2個含有する化合物が好ましく用いられ、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(以下、「GPC」ともいう)測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量が、好ましくは500〜50000の化合物である。ポリオール化合物(a3)としては、ポリエステルポリオール類、ポリカーボネートポリオール類、ポリエーテルポリオール類、ポリブタジエンポリオール類、およびポリシロキサンポリオール類などが挙げられる。なお、本願において、特に断らない限り、重量平均分子量は、GPC測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量を意味する。   The polyol compound (a3) used in the present invention has two or more hydroxyl groups, and further has a repeating unit having a polymerization degree of 2 or more in its structure. In addition, a compound containing two hydroxyl groups is preferably used as the polyol compound (a3), and the weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (hereinafter also referred to as “GPC”) is preferably 500 to 50000. Is a compound of Examples of the polyol compound (a3) include polyester polyols, polycarbonate polyols, polyether polyols, polybutadiene polyols, and polysiloxane polyols. In the present application, unless otherwise specified, the weight average molecular weight means a polystyrene-equivalent weight average molecular weight by GPC measurement.

本発明に用いるポリエステルポリオール類としては、例えば、多官能アルコール成分と二塩基酸成分とが縮合反応したポリエステルポリオールがある。多官能アルコール成分のうちジオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ブチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、3,3’−ジメチロールヘプタン、ポリオキシエチレングリコール、ポリオキシプロピレングリコール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、オクタンジオール、ブチルエチルペンタンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、シクロヘキサンジオール、ビスフェノールAなどが挙げられ、3個以上の水酸基を有する多官能アルコール成分としては、トリメチロールエタン、ポリトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ポリトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ポリペンタエリスリトール、ソルビトール、マンニトール、アラビトール、キシリトール、ガラクチトール、グリセリン等が挙げられる。   Examples of polyester polyols used in the present invention include polyester polyols in which a polyfunctional alcohol component and a dibasic acid component are subjected to a condensation reaction. Among the polyfunctional alcohol components, as a diol, ethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, butylene glycol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 3,3 '-Dimethylolheptane, polyoxyethylene glycol, polyoxypropylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, octanediol, butylethyl pentanediol, 2-ethyl-1,3-butadiene Hexanediol, cyclohexanediol, bisphenol A and the like can be mentioned, and as the polyfunctional alcohol component having three or more hydroxyl groups, trimethylolethane, polytrimethylolethane, trimethylolup Bread, poly trimethylol propane, pentaerythritol, poly pentaerythritol, sorbitol, mannitol, arabitol, xylitol, galactitol, glycerol and the like.

二塩基酸成分としては、テレフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバチン酸、無水フタル酸、イソフタル酸、トリメリット酸等の脂肪族あるいは芳香族二塩基酸ないしはそれらの無水物が挙げられる。   Examples of the dibasic acid component include aliphatic or aromatic dibasic acids or their anhydrides such as terephthalic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, phthalic anhydride, isophthalic acid and trimellitic acid.

また、β−ブチロラクトン、β−プロピオラクトン、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン、γ−カプロラクトン、γ−ヘプタノラクトン、α−メチル−β−プロピオラクトン等のラクトン類等の環状エステル化合物の開環重合により得られるポリエステルポリオールも使用できる。   Also, β-butyrolactone, β-propiolactone, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, δ-valerolactone, ε-caprolactone, γ-caprolactone, γ-heptanolactone, α-methyl-β-propiolactone, etc. And polyester polyols obtained by ring-opening polymerization of cyclic ester compounds such as lactones of

リン原子を有するポリエステルポリオールも使用することができ、具体的には、2−(9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−イル)メチルコハク酸あるいはその酸無水物と、エチレングリコールとの重縮合物、または2−(9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−オキサイド−10−ホスファフェナントレン−10−イル)メチルコハク酸−ビス−(2−ヒドロキシエチル)−エステル、あるいはその重縮合によって得られるポリエステルポリオールが挙げられる。   Polyester polyols having a phosphorus atom can also be used, specifically, 2- (9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-yl) methylsuccinic acid or an acid anhydride thereof; Polycondensates with ethylene glycol, or 2- (9,10-dihydro-9-oxa-10-oxide-10-phosphaphenanthrene-10-yl) methylsuccinic acid bis- (2-hydroxyethyl) -ester, Or the polyester polyol obtained by the polycondensation is mentioned.

ポリエステルポリオールにおいて具体的には、クラレ株式会社のクラレポリオールPシリーズを用いることができる。そのなかでもP−1041、P−2041、P−2010、P−2020、P−1030、P−2030は絶縁信頼性と耐熱性があるため好ましい。   Specifically, Kuraray polyol P series manufactured by Kuraray Co., Ltd. can be used as the polyester polyol. Among them, P-1041, P-2041, P-2010, P-2020, P-1030 and P-2030 are preferable because they have insulation reliability and heat resistance.

本発明に用いられるポリカーボネートポリオール類とは、下記一般式(1)で示される構造を、その分子中に有するものである。   The polycarbonate polyols used in the present invention are those having a structure represented by the following general formula (1) in the molecule.

一般式(1)
−[−R8−O−CO−]m−
(式中、R8は、2価の有機残基、mは、1以上の整数を表す。)
General formula (1)
-[-R8-O-CO-] m-
(Wherein R 8 represents a divalent organic residue, and m represents an integer of 1 or more).

ポリカーボネートポリオールは、例えば、(1)グリコールまたはビスフェノールと炭酸エステルとの反応、(2)グリコールまたはビスフェノールにアルカリの存在下でホスゲンを作用させる反応などで得られる。   Polycarbonate polyols can be obtained, for example, by (1) reaction of glycol or bisphenol with carbonate ester, (2) reaction of reacting glycol or bisphenol with phosgene in the presence of alkali, and the like.

(1)の製法で用いられる炭酸エステルとして具体的には、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジフェニルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなどが挙げられる。   Specific examples of the carbonate used in the production method of (1) include dimethyl carbonate, diethyl carbonate, diphenyl carbonate, ethylene carbonate, propylene carbonate and the like.

(1)および(2)の製法で用いられるグリコールまたはビスフェノールとして具体的には、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ブチレングリコール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、3,3’−ジメチロールヘプタン、ポリオキシエチレングリコール、ポリオキシプロピレングリコール、プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、オクタンジオール、ブチルエチルペンタンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、シクロヘキサンジオール、あるいはビスフェノールAやビスフェノールF等のビスフェノール類、前記ビスフェノール類にエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド等のアルキレンオキサイドを付加させたビスフェノール類等も用いることができる。これらの化合物は1種または2種以上の混合物として使用することができる。   Specifically as ethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, butylene glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol as glycol or bisphenol used in the production method of (1) and (2) , 2-methyl-1,8-octanediol, 3,3'-dimethylolheptane, polyoxyethylene glycol, polyoxypropylene glycol, propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1, 5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,9-nonanediol, neopentyl glycol, octanediol, butylethyl pentanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, cyclohexanediol, It can be used bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F, ethylene oxide to the bisphenols, also bisphenols obtained by adding an alkylene oxide such as propylene oxide. These compounds can be used as one or a mixture of two or more.

ポリカーボネートポリオールにおいて具体的には、クラレ株式会社のクラレポリオールCシリーズを用いることができる。そのなかでもPMHC−1050、PMHC−2050、C−1090、C−2090、C−1065N、C−2065N、C−1015N、C−2015Nは柔軟性があるため好ましい。また、宇部興産株式会社のエタナコールUC−100、UM−90(1/3)、UM−90(1/1)、UM−90(3/1)は耐熱性に優れるため好ましい。   Specifically, Kuraray polyol C series manufactured by Kuraray Co., Ltd. can be used as the polycarbonate polyol. Among them, PMHC-1050, PMHC-2050, C-1090, C-2090, C-1065N, C-2065N, C-1015N and C-2015N are preferable because of their flexibility. In addition, Etanacol UC-100, UM-90 (1/3), UM-90 (1/1), and UM-90 (3/1) manufactured by Ube Industries, Ltd. are preferable because they are excellent in heat resistance.

本発明に用いるポリエーテルポリオール類としては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等のアルキレンオキサイドの重合体、共重合体、およびグラフト共重合体;
ヘキサンジオール、メチルヘキサンジオール、ヘプタンジオール、オクタンジオール若しくはこれらの混合物の縮合により得られるポリエーテルポリオール類;
ビスフェノールAやビスフェノールF等にエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド等のアルキレンオキサイドを付加させてなるビスフェノール類等の芳香族ジオール類;
トリメチロールエタン、ポリトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ポリトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ポリペンタエリスリトール、ソルビトール、マンニトール、アラビトール、キシリトール、ガラクチトール、グリセリン等の多価アルコールを原料の一部として用いて合成されたポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、エチレンオキサイド/プロピレンオキサイドのブロック共重合体またはランダム共重合体、ポリテトラメチレングリコール、テトラメチレングリコールとネオペンチルグリコールとのブロック共重合体またはランダム共重合体等のポリエーテルポリオール類;
などの水酸基が2個以上のものを用いることができる。
The polyether polyols used in the present invention include, for example, polymers, copolymers and graft copolymers of alkylene oxides such as tetrahydrofuran, ethylene oxide, propylene oxide and butylene oxide;
Polyether polyols obtained by condensation of hexanediol, methylhexanediol, heptanediol, octanediol or mixtures thereof;
Aromatic diols such as bisphenols formed by adding an alkylene oxide such as ethylene oxide or propylene oxide to bisphenol A or bisphenol F;
Polyhydric alcohols such as trimethylolethane, polytrimethylolethane, trimethylolpropane, polytrimethylolpropane, pentaerythritol, polypentaerythritol, sorbitol, mannitol, arabitol, xylitol, galactitol, glycerin etc. are used as part of the raw material The synthesized polyethylene oxide, polypropylene oxide, block copolymer or random copolymer of ethylene oxide / propylene oxide, polytetramethylene glycol, block copolymer or random copolymer of tetramethylene glycol and neopentyl glycol, etc. Polyether polyols;
Those having two or more hydroxyl groups such as can be used.

本発明に用いるポリブタジエンポリオール類としては、例えば、その分子内の不飽和結合を水添したものも含み、ポリエチレン系ポリオール、ポリプロピレン系ポリオール、ポリブタジエン系ポリオール、水素添加ポリブタジエンポリオール、ポリイソプレンポリオール、水素添加ポリイソプレンポリオール等が挙げられる。   The polybutadiene polyols used in the present invention include, for example, those obtained by hydrogenating the unsaturated bond in the molecule, including polyethylene-based polyols, polypropylene-based polyols, polybutadiene-based polyols, hydrogenated polybutadiene polyols, polyisoprene polyols, hydrogenation Polyisoprene polyol etc. are mentioned.

ポリブタジエンポリオールの市販品としては、日本曹達株式会社のNISSSO PB(Gシリーズ)、出光石油化学株式会社のPoly−Pd等の両末端に水酸基を有する液状ポリブタジエン;日本曹達株式会社のNISSSO PB(GIシリーズ)、三菱化学株式会社のポリテールH、ポリテールHA等の両末端に水酸基を有する水素添加ポリブタジエン;出光石油化学株式会社製のPoly−iP等の両末端に水酸基を有する液状C5系重合体;出光石油化学株式会社製のエポール、クラレ株式会社製のTH−1、TH−2、TH−3等の両末端に水酸基を有する水素添加ポリイソプレンなどが挙げられるが、これに限定されるものではない。   As commercial products of polybutadiene polyols, liquid polybutadiene having hydroxyl groups at both ends such as NISSSO PB (G series) of Nippon Soda Co., Ltd., Poly-Pd of Idemitsu Petrochemical Co., Ltd .; NISSSO PB (GI series of Nippon Soda Co., Ltd. ), Hydrogenated polybutadiene having hydroxyl groups at both ends such as Polytail H and Polytail HA of Mitsubishi Chemical Corporation; liquid C5 polymers having hydroxyl groups at both ends such as Poly-iP manufactured by Idemitsu Petrochemical Co., Ltd .; Examples thereof include hydrogenated polyisoprene having a hydroxyl group at both terminals of Epol manufactured by Kagaku Co., Ltd. and TH-1, TH-2, TH-3 manufactured by Kuraray Co., Ltd., etc., but it is not limited thereto.

本発明に用いられるポリシロキサンポリオール類としては、一般式(2)および(3)で表される化合物が挙げられる。   Examples of polysiloxane polyols used in the present invention include compounds represented by the general formulas (2) and (3).

一般式(2)

Figure 0006503924
General formula (2)
Figure 0006503924

(Xは、水酸基を表し、R1、R2はそれぞれ炭素数1〜6のアルキレン基を表し、nは、5以上の整数を表す。) (X represents a hydroxyl group, R 1 and R 2 each represent an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and n represents an integer of 5 or more.)

一般式(3)

Figure 0006503924
General formula (3)
Figure 0006503924

(Yは、水酸基を表し、R3は炭素数1〜6のアルキル基、R4、R5、R6は、それぞれ炭素数1〜6のアルキレン基、R7は水素原子または炭素数1〜6のアルキル基を表し、n
は、5以上の整数を表す。)
(Y represents a hydroxyl group, R 3 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, R 4 , R 5 , R 6 each is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, R 7 is a hydrogen atom or 1 to 1 carbon atom Represents an alkyl group of 6 and n
Represents an integer of 5 or more. )

これらポリオール化合物(a3)の中でも、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸と3−メチル−1,5−ペンタンジオールからなるポリエステルジオール、1,6−ヘキサンジオールのみをグリコールとして使用してなるポリカーボネートポリオールや、1,6−ヘキサンジオールと3−メチル−1,5−ペンタンジオールとをグリコールとして使用してなるポリカーボネートジオール、1,9−ノナンジオールと2−メチル−1,8−オクタンジオールとをグリコールとして使用してなるポリカーボネートジオール、ポリテトラメチレングリコール、ポリプロピレングリコール、もしくはテトラメチレングリコールとネオペンチルグリコールとの共重合ポリエーテルポリオール、ポリブタジエンポリオール、水添ポリブタジエンポリオール、ポリシロキサンポリオール等は、骨格の柔軟性、耐熱性、耐加水分解性に優れることから、本発明のカルボキシル基含有変性エステル樹脂としての電気絶縁性、屈曲性、耐熱性、耐湿性等に優れ、特に好ましい。   Among these polyol compounds (a3), polyester diol consisting of 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid and 3-methyl-1,5-pentanediol, polycarbonate polyol using only 1,6-hexanediol as glycol, Polycarbonate diol consisting of 1,6-hexanediol and 3-methyl-1,5-pentanediol as glycol, 1,9-nonanediol and 2-methyl-1,8-octanediol as glycol Polycarbonate diol, polytetramethylene glycol, polypropylene glycol, or copolymer polyetherpolyol of tetramethylene glycol and neopentyl glycol, polybutadiene polyol, hydrogenated polybutadiene polyau And polysiloxane polyols are excellent in the electrical insulation, flexibility, heat resistance, moisture resistance, etc. as the carboxyl group-containing modified ester resin of the present invention because they are excellent in flexibility, heat resistance and hydrolysis resistance of the skeleton. , Particularly preferred.

本発明において、これらポリオール化合物(a3)は、単独で使用しても良いし、複数を併用しても良い。   In the present invention, these polyol compounds (a3) may be used alone or in combination of two or more.

本発明は、前記ポリオール化合物(a3)と脂環式多塩基酸無水物および芳香族多塩基酸無水物から選ばれる少なくとも1種である酸無水物基含有化合物(b3)とを反応させて得られるカルボキシル基含有エステル樹脂(c3)中のエステル結合基が、嵩高い置換基で保護されていることを最大の特徴とする。   The present invention is obtained by reacting the above-mentioned polyol compound (a3) with an acid anhydride group-containing compound (b3) which is at least one selected from an alicyclic polybasic acid anhydride and an aromatic polybasic acid anhydride. The most important feature is that the ester bond group in the carboxyl group-containing ester resin (c3) to be treated is protected by a bulky substituent.

本発明で用いる脂環式多塩基酸無水物および芳香族多塩基酸無水物から選ばれる少なくとも1種である酸無水物基含有化合物(b3)としては、例えば、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水ナジック酸、メチル無水ナジック酸、水素化メチル無水ナジック酸、スチルエンドスチレンテトラヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸等の脂環式二塩基酸無水物;水添トリメリット酸無水物、水添ピロメリット酸無水物等の三塩基酸以上の脂環式多塩基酸無水物;無水フタル酸、テトラブロモ無水フタル酸、無水トリメリット酸等の芳香族二塩基酸無水物;無水ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等の三塩基酸以上の芳香族多塩基酸無水物を挙げることができる。   Examples of the acid anhydride group-containing compound (b3) which is at least one selected from alicyclic polybasic acid anhydride and aromatic polybasic acid anhydride used in the present invention include, for example, methyltetrahydrophthalic anhydride, tetrahydroanhydride Phthalic acid, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, nadic anhydride, methyl nadic anhydride, methyl hydride nadic anhydride, stilendostyrene tetrahydrophthalic anhydride, 3,6-endo methylene tetrahydrophthalic anhydride, Alicyclic dibasic acid anhydrides such as methyl end methylene tetrahydrophthalic anhydride and trialkyltetrahydrophthalic anhydride; and alicyclics of tribasic acid or more such as hydrogenated trimellitic anhydride and hydrogenated pyromellitic anhydride Polybasic acid anhydride; phthalic anhydride, tetrabromophthalic anhydride, trimellitic anhydride Aromatic dibasic acid anhydrides such as acids; Biphenyltetracarboxylic acid dianhydrides, diphenylethertetracarboxylic acid dianhydrides, pyromellitic anhydride, tribasic acid dianhydrides such as benzophenone tetracarboxylic acid dianhydrides Basic acid anhydrides can be mentioned.

これら酸無水物基含有化合物(b3)の中でも、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水ナジック酸、メチル無水ナジック酸、水素化メチル無水ナジック酸等は、ポリオール化合物(a3)との反応によってカルボキシル基含有エステル樹脂(c3)を生成する際に、絶縁信頼性に劣るとされているエステル結合基を嵩高い置換基で保護し、この嵩高い置換基で保護されたエステル結合基によって主鎖が構成されるため、従来のポリエステル骨格を主鎖として用いた樹脂に比べ、高い接着性を保持したまま、絶縁信頼性、耐熱性等を著しく向上できることから特に好ましい。また、無水トリメリット酸や無水ピロメリット酸等は、ポリオール化合物(a3)との反応によってカルボキシル基含有エステル樹脂(c3)の末端カルボキシル基の数を増加させることができ、続く1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物(d3)との反応において、高分子量化できるという点で本発明では好ましい。高分子量化により樹脂の凝集力が増大するため、フレキシブル性を保持したまま、塗膜形成後もより耐性に優れる強靭な塗膜を形成することができるという点で好ましい。   Among these acid anhydride group-containing compounds (b3), methyltetrahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, nadic anhydride, methyl nadic anhydride, methyl anhydride nadic anhydride When producing a carboxyl group-containing ester resin (c3) by reaction with a polyol compound (a3), an acid or the like protects the ester bond group, which is considered to be inferior in insulation reliability, with a bulky substituent, and this bulk Since the main chain is constituted by an ester bond group protected by a high substituent, the insulation reliability, heat resistance, etc. are remarkably maintained while maintaining high adhesiveness as compared with a resin using a conventional polyester skeleton as the main chain. It is particularly preferable because it can be improved. Moreover, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can increase the number of terminal carboxyl groups of the carboxyl group-containing ester resin (c3) by reaction with the polyol compound (a3), The reaction with the epoxy compound (d3) having two epoxy groups is preferred in the present invention from the viewpoint of achieving high molecular weight. Since the cohesion of the resin is increased by the high molecular weight formation, it is preferable in that a tough coating film which is more excellent in resistance after forming a coating film can be formed while maintaining the flexibility.

本発明で任意に用いるヒドロキシル基含有化合物(a3−1)は、ヒドロキシル基を1個以上有する化合物であるが、前記「ポリオール化合物(a3)」に属する化合物を除く化合物であり、その代表例としては、例えば、分子中に1個のヒドロキシル基を有するモノアルコール化合物(a3−1−1)、分子中に2個のヒドロキシル基を有するジオール化合物(a3−1−2)、分子中に3個以上のヒドロキシル基を有する化合物(a3−1−3)を挙げることができる。これらは、分子中に、ヒドロキシル基と、ヒドロキシル基以外の官能基を併有していてもよい。また、単独で使用してもよいし、複数を併用して用いてもよい。   The hydroxyl group-containing compound (a3-1) optionally used in the present invention is a compound having one or more hydroxyl groups but is a compound excluding the compound belonging to the above-mentioned "polyol compound (a3)", and as a representative example thereof Are, for example, a monoalcohol compound (a3-1-1) having one hydroxyl group in the molecule, a diol compound (a3-1-2) having two hydroxyl groups in the molecule, three in the molecule The compound (a3-1-3) which has the above hydroxyl group can be mentioned. These may have a hydroxyl group and a functional group other than a hydroxyl group in the molecule. Moreover, you may use individually and may be used in combination of multiple.

分子中に1個のヒドロキシル基を有するモノアルコール化合物(a3−1−1)としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、ターシャリーブタノール、ラウリルアルコール、ステアリルアルコールなどの脂肪族モノアルコール;
シクロヘキサノール等の脂環族モノアルコール;
ベンジルアルコール、フルオレノール、等の芳香族モノアルコール;
フェノール、メトキノン等のフェノール類;
ヒドロキシル基以外の官能基を併有するモノアルコール化合物として、12−ヒドロキシステアリン酸等のヒドロキシル基含有カルボン酸化合物、グリシドールなどのヒドロキシル基含有エポキシ化合物、オキセタンアルコールなどのヒドロキシル基含有オキセタン化合物が挙げられる。その他、片末端メトキシ化ポリエチレングリコール、片末端メトキシ化ポリプロピレングリコール、モノアルコールを開始剤としたカプロラクトン付加重合物、などのオリゴマー型モノアルコールが挙げられる。
Examples of monoalcohol compounds (a3-1-1) having one hydroxyl group in the molecule include methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, tertiary butanol, lauryl alcohol and stearyl Aliphatic monoalcohols such as alcohol;
Alicyclic monoalcohols such as cyclohexanol;
Aromatic monoalcohols such as benzyl alcohol, fluorenol, etc .;
Phenols such as phenol and methoquinone;
Examples of monoalcohol compounds having a functional group other than a hydroxyl group include hydroxyl group-containing carboxylic acid compounds such as 12-hydroxystearic acid, hydroxyl group-containing epoxy compounds such as glycidol, and hydroxyl group-containing oxetane compounds such as oxetane alcohol. Other examples include oligomeric monoalcohols such as one-end methoxylated polyethylene glycol, one-end methoxylated polypropylene glycol, and a caprolactone adduct polymer initiated with a monoalcohol.

本発明において、これら分子中に1個のヒドロキシル基を有するモノアルコール化合物(a3−1−1)を用いる場合、得られるカルボキシル基含有エステル樹脂(c3)の末端を封止することができるため、意図的に低分子量のカルボキシル基含有変性エステル樹脂を合成する際など、分子量の調整が必要な時に、好適に用いることができる。また、ヒドロキシル基以外の官能基を併有するヒドロキシル基含有化合物を使用した場合、カルボキシル基含有エステル樹脂(c3)の末端にカルボキシル基以外の官能基を導入することができるため、カルボキシル基含有変性エステル樹脂の末端変性が必要な時に、好適に用いることができる。本発明において、ヒドロキシル基の反応性や重合制御を考慮すると、ラウリルアルコール、ステアリルアルコール、シクロヘキサノール、12−ヒドロキシステアリン酸、グリシドール、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等を用いることが好ましい。   In the present invention, when using a monoalcohol compound (a3-1-1) having one hydroxyl group in these molecules, the end of the obtained carboxyl group-containing ester resin (c3) can be sealed, It can be suitably used when molecular weight adjustment is required, such as when intentionally synthesizing a low molecular weight carboxyl group-containing modified ester resin. In addition, when a hydroxyl group-containing compound having a functional group other than a hydroxyl group is used, a functional group other than a carboxyl group can be introduced to the end of the carboxyl group-containing ester resin (c3). When terminal modification of resin is required, it can be used conveniently. In the present invention, considering the reactivity of hydroxyl group and polymerization control, lauryl alcohol, stearyl alcohol, cyclohexanol, 12-hydroxystearic acid, glycidol, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate It is preferable to use

また、分子中に2個のヒドロキシル基を有するジオール化合物(a3−1−2)としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、2−ブチル−2−メチル−1,3−プロパンジオール、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、1,3,5−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、3,3’−ジメチロールヘプタン、プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、オクタンジオール、3−ブチル−3−エチル−1,5−ペンタンジオール、2−エチル−1,6−ヘキサンジオール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール,トリシクロデカンジメタノール、シクロペンタジエンジメタノール、ダイマージオール、水素添加ビスフェノールA、スピログリコール等の脂肪族あるいは脂環族ジオール類;
1,3−ビス(2−ヒドロキシエトキシ)ベンゼン、1,2−ビス(2−ヒドロキシエトキシ)ベンゼン、1,4−ビス(2−ヒドロキシエトキシ)ベンゼン、4,4’−メチレンジフェノール、4,4’−(2−ノルボルニリデン)ジフェノール、4,4’−ジヒドロキシビフェノール、o−,m−,およびp−ジヒドロキシベンゼン、4,4’−イソプロピリデンフェノール、1,2−インダンジオール、1,3−ナフタレンジオール、1,5−ナフタレンジオール、1,7−ナフタレンジオール、9,9’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9’−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン等の芳香族ジオール類等を挙げることができる。その他、リン原子含有ジオール、硫黄原子含有ジオール、臭素原子含有ジオールなどが挙げられる。
Also, as a diol compound (a3-1-2) having two hydroxyl groups in the molecule, for example, ethylene glycol, propylene glycol, 2-methyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-ethyl 1,3-propanediol, 2,2-diethyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2-butyl-2-methyl-1,3-propanediol , 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol 1,3,5-trimethyl-1,3-pentanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 3,3'-dimethylolheptane, propanedio , 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,9-nonanediol, neopentyl glycol, octanediol, 3-butyl-3 -Ethyl-1,5-pentanediol, 2-ethyl-1,6-hexanediol, cyclohexanediol, cyclohexanedimethanol, tricyclodecanedimethanol, cyclopentadiene dimethanol, dimer diol, hydrogenated bisphenol A, spiro glycol, etc. Aliphatic or alicyclic diols;
1,3-bis (2-hydroxyethoxy) benzene, 1,2-bis (2-hydroxyethoxy) benzene, 1,4-bis (2-hydroxyethoxy) benzene, 4,4'-methylenediphenol, 4,4, 4 '-(2-norbornylidene) diphenol, 4,4'-dihydroxybiphenol, o-, m-, and p-dihydroxybenzene, 4,4'-isopropylidenephenol, 1,2-indanediol, 1,3 -Naphthalenediol, 1,5-naphthalenediol, 1,7-naphthalenediol, 9,9'-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9'-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) fluorene and the like And aromatic diols of the following. In addition, phosphorus atom containing diol, sulfur atom containing diol, bromine atom containing diol etc. are mentioned.

また、ヒドロキシル基以外の官能基を有する化合物も挙げられる。ヒドロキシル基以外に、例えば、3級アミノ基を含有する化合物としては、N,N−ビス(2−ヒドロキシプロピル)アニリン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)アニリン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)メチルアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)プロピルアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)ブチルアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)ヘキシルアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)オクチルアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)ベンジルアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)シクロヘキシルアミンなどの3級アミノ基含有ジオール化合物が挙げられ、また、カルボキシル基を含有する化合物としては、例えば、ジメチロールブタン酸、ジメチロールプロピオン酸、3−ヒドロキシサリチル酸、4−ヒドロキシサリチル酸、5−ヒドロキシサリチル酸、2−カルボキシ−1,4−シクロヘキサンジメタノールなどが挙げられる。   Moreover, the compound which has functional groups other than a hydroxyl group is also mentioned. Examples of compounds containing a tertiary amino group other than a hydroxyl group include N, N-bis (2-hydroxypropyl) aniline, N, N-bis (2-hydroxyethyl) aniline, N, N-bis ( 2-hydroxyethyl) methylamine, N, N-bis (2-hydroxyethyl) propylamine, N, N-bis (2-hydroxyethyl) butylamine, N, N-bis (2-hydroxyethyl) hexylamine, N Tertiary amino group-containing diol compounds such as N, N-bis (2-hydroxyethyl) octylamine, N, N-bis (2-hydroxyethyl) benzylamine, N, N-bis (2-hydroxyethyl) cyclohexylamine Further, examples of the compound containing a carboxyl group include dimethylol butanoic acid and dimethylol pro. Propionic acid, 3-hydroxy salicylic acid, 4-hydroxy salicylic acid, 5-hydroxy acid, such as 2-carboxy-1,4-cyclohexanedimethanol.

中でも、ジメチロールブタン酸、ジメチロールプロピオン酸は、脂環式多塩基酸無水物および芳香族多塩基酸無水物から選ばれる少なくとも1種である酸無水物基含有化合物(b3)と反応させて得られる、カルボキシル基含有エステル樹脂(c3)の末端カルボキシル基の数を増加させることができ、続く1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物(d3)との反応において、高分子量化できるという点で本発明では好ましい。また、N,N−ビス(2−ヒドロキシプロピル)アニリン等の3級アミノ基含有ジオール化合物を使用する場合、最終的に得られる塗膜の凝集力が増大し、可撓性を保持したまま、より耐性に優れる強靭な塗膜を形成することができるという点で好ましい。   Among them, dimethylol butanoic acid and dimethylol propionic acid are reacted with an acid anhydride group-containing compound (b3) which is at least one selected from alicyclic polybasic acid anhydride and aromatic polybasic acid anhydride. It is possible to increase the number of terminal carboxyl groups of the resulting carboxyl group-containing ester resin (c3), and to polymerize in subsequent reaction with an epoxy compound (d3) having at least two epoxy groups in one molecule. It is preferable in the present invention in that it can be When a tertiary amino group-containing diol compound such as N, N-bis (2-hydroxypropyl) aniline is used, the cohesion of the finally obtained coating film is increased, and the flexibility is maintained, It is preferable at the point that the tough coating film which is more excellent in tolerance can be formed.

また、分子中に3個以上のヒドロキシル基を有する化合物(a3−1−3)としては、例えば、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、マンニトール、アラビトール、キシリトール、ガラクチトール、グリセリン等の多価アルコール化合物が挙げられる。   Moreover, as a compound (a3-1-3) having three or more hydroxyl groups in the molecule, for example, trimethylolethane, trimethylolpropane, pentaerythritol, sorbitol, mannitol, arabitol, xylitol, galactitol, glycerin and the like And polyhydric alcohol compounds.

本発明において、これら分子中に3個以上のヒドロキシル基を有する化合物(a3−1−3)を用いる場合、得られるカルボキシル基含有エステル樹脂(c3)の末端カルボキシル基の数を増加させることができるため、最終生成物の高分子量化が可能となり、硬化塗膜の耐性を向上することができる。従って本発明において硬化塗膜の耐性をさらに向上する目的で、必要に応じて使用すればよい。これら分子中に3個以上のヒドロキシル基を有する化合物(a3−1−3)の中でも、反応制御の面でトリメチロールプロパンやペンタエリスリトールを使用することが好ましい。   In the present invention, when the compound (a3-1-3) having three or more hydroxyl groups in these molecules is used, the number of terminal carboxyl groups of the obtained carboxyl group-containing ester resin (c3) can be increased. Therefore, the molecular weight of the final product can be increased, and the resistance of the cured coating can be improved. Therefore, in order to further improve the resistance of the cured coating film in the present invention, it may be used as needed. Among the compounds (a3-1-3) having three or more hydroxyl groups in these molecules, trimethylolpropane and pentaerythritol are preferably used in terms of reaction control.

ここで、ポリオール化合物(a3)と、ヒドロキシル基含有化合物(a3−1)は本発明で目的に応じて任意の割合で用いることができ、ポリオール化合物(a3)中のヒドロキシル基1.0モルに対し、ヒドロキシル基含有化合物(a3−1)中のヒドロキシル基を0.01モル〜1.00モル、好ましくは0.05モル〜0.50モルの割合で用いる。ポリオール化合物(a3)中のヒドロキシル基1.0モルに対し、ヒドロキシル基含有化合物(a3−1)中のヒドロキシル基を0.01モル未満の割合で使用する場合(すなわちポリオール化合物(a3)単独で使用する場合)、ポリオール化合物(a3)だけでも十分な絶縁信頼性、耐熱性、接着強度を発現することができるが、より高い耐熱性を付与しにくくなる。また、1.00モルより多い場合、最終的に得られる塗膜の凝集力が増大しすぎてしまい、接着強度が低下する傾向にある。   Here, the polyol compound (a3) and the hydroxyl group-containing compound (a3-1) can be used in any proportion according to the purpose in the present invention, and 1.0 mol of hydroxyl groups in the polyol compound (a3) can be used. The hydroxyl group in the hydroxyl group-containing compound (a3-1) is used in a proportion of 0.01 mol to 1.00 mol, preferably 0.05 mol to 0.50 mol. When less than 0.01 mol of hydroxyl group in hydroxyl group-containing compound (a3-1) is used relative to 1.0 mol of hydroxyl group in polyol compound (a3) (ie, only polyol compound (a3)) In the case of use), even with the polyol compound (a3) alone, sufficient insulation reliability, heat resistance and adhesive strength can be developed, but it becomes difficult to impart higher heat resistance. On the other hand, if it is more than 1.00 mol, the cohesion of the finally obtained coating film tends to increase too much and the adhesive strength tends to decrease.

また、カルボキシル基含有エステル樹脂(c3)を合成する際に、その出発材料を反応させる割合は、ポリオール化合物(a3)、および場合により添加するヒドロキシル基含有化合物(a3−1)について、これらに含まれるヒドロキシル基の合計を1モルとした場合に、脂環式多塩基酸無水物および芳香族多塩基酸無水物から選ばれる少なくとも1種である酸無水物基含有化合物(b3)に含まれる酸無水物基の合計が、0.70モル〜1.30モルの割合で反応させることが好ましく、0.90モル〜1.10モルの割合で反応させることがより好ましい。酸無水物基の合計が0.70モル未満の場合、得られるカルボキシル基含有エステル樹脂(c3)のカルボキシル基の量が少なくなり、次の1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物(d3)との反応工程で、充分
な反応が起こりにくくなり、最終的に得られるカルボキシル基含有変性エステル樹脂(A3)の重量平均分子量が十分に大きくならない場合がある。また、酸無水物基の合計が1.30モルより多い場合、次の1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ
化合物(d3)と反応させる際に副反応が多く起こり、反応途中でゲル化を引き起こす場合がある。
Moreover, when synthesize | combining a carboxyl group-containing ester resin (c3), the ratio with which the starting material is made to react is contained in these about the polyol compound (a3) and the hydroxyl group containing compound (a3-1) to be added optionally. Acid contained in the acid anhydride group-containing compound (b3), which is at least one selected from alicyclic polybasic acid anhydride and aromatic polybasic acid anhydride, when the total amount of hydroxyl groups to be contained is 1 mole The total of anhydride groups is preferably reacted in the proportion of 0.70 mol to 1.30 mol, and more preferably in the proportion of 0.90 mol to 1.10 mol. When the total amount of acid anhydride groups is less than 0.70 mol, the amount of carboxyl groups in the obtained carboxyl group-containing ester resin (c3) decreases, and an epoxy compound having at least two epoxy groups in one molecule In the reaction step with (d3), a sufficient reaction hardly occurs, and the weight average molecular weight of the finally obtained carboxyl group-containing modified ester resin (A3) may not be sufficiently large. In addition, when the total of acid anhydride groups is more than 1.30 moles, many side reactions occur when reacting with an epoxy compound (d3) having at least two epoxy groups in one molecule in the following, and during the reaction May cause gelation.

また、0.90モル〜1.10モルの範囲内において、1.00モルに近い割合で反応させる場合、次の1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物(d3
)との反応工程の途中で上記のような問題が発生しにくくなるため、最終的に得られるカルボキシル基含有変性エステル樹脂(A3)の重量平均分子量を十分に大きくすることができ、硬化塗膜の耐熱性や屈曲性、密着性を向上することができる。
In addition, when the reaction is performed at a ratio close to 1.00 mol in the range of 0.90 mol to 1.10 mol, an epoxy compound (d3 having at least two epoxy groups in one molecule)
Since the problems as described above are unlikely to occur in the course of the reaction step with (ii), the weight average molecular weight of the finally obtained carboxyl group-containing modified ester resin (A3) can be made sufficiently large. Heat resistance, flexibility, and adhesion can be improved.

本発明において、カルボキシル基含有エステル樹脂(c3)の合成条件は特に限定されるものではなく、公知の条件で行うことができる。例えば、フラスコにポリオール化合物(a3)および溶剤[ならびに場合によりヒドロキシル基含有化合物(a3−1)]を仕込み、窒素気流下、20〜120℃で加熱・攪拌することで均一に溶解した後、脂環式多塩基酸無水物および芳香族多塩基酸無水物から選ばれる少なくとも1種である酸無水物基含有化合物(b3)を投入し、攪拌しながら50〜150℃で加熱することでカルボキシル基含有エステル樹脂(c3)を得ることができる。   In the present invention, the synthesis conditions of the carboxyl group-containing ester resin (c3) are not particularly limited, and can be performed under known conditions. For example, a polyol compound (a3) and a solvent [and optionally a hydroxyl group-containing compound (a3-1)] are charged into a flask and uniformly dissolved by heating and stirring at 20 to 120 ° C. in a nitrogen stream, An acid anhydride group-containing compound (b3) which is at least one selected from cyclic polybasic acid anhydride and aromatic polybasic acid anhydride is charged, and heated at 50 to 150 ° C. with stirring to give a carboxyl group Containing ester resin (c3) can be obtained.

反応に際しては、必要に応じて3級アミノ基含有化合物等を使用してもよい。また、脂環式多塩基酸無水物および芳香族多塩基酸無水物から選ばれる少なくとも1種である酸無水物基含有化合物(b3)を投入する前に、予めフラスコに仕込んだポリオール化合物(a3)および溶剤を100℃以上で加熱・攪拌し、溶剤の一部を脱溶剤してもよい。この操作は、通常、系内の水分を除去(脱水処理)するために行い、この操作によって、脂環式多塩基酸無水物および芳香族多塩基酸無水物から選ばれる少なくとも1種である酸無水物基含有化合物(b3)を反応させる際に、水による酸無水物基の開環反応を抑制することができる。   At the time of the reaction, if necessary, a tertiary amino group-containing compound may be used. In addition, a polyol compound (a3) charged in advance in a flask before charging the acid anhydride group-containing compound (b3), which is at least one selected from an alicyclic polybasic acid anhydride and an aromatic polybasic acid anhydride And the solvent may be heated and stirred at 100 ° C. or higher to partially remove the solvent. This operation is usually performed to remove the water in the system (dehydration treatment), and this operation is an acid which is at least one selected from alicyclic polybasic acid anhydride and aromatic polybasic acid anhydride. In the reaction of the anhydride group-containing compound (b3), the ring-opening reaction of the acid anhydride group with water can be suppressed.

次に、本発明の1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物(d3
)について説明する。本発明で用いる1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエ
ポキシ化合物(d3)は、好ましくはエポキシ基を分子内に2個含有する化合物であればよく、特に限定されるものではない。具体的には、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオー
ルジグリシジルエーテル、ビスフェノールA・エピクロロヒドリン型エポキシ樹脂、ビス
フェノールF・エピクロロヒドリン型エポキシ樹脂、ビフェノール・エピクロロヒドリン型エポキシ樹脂、グリセリン・エピクロロヒドリン付加物のポリグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、ポリブタジエンジグリシジルエーテル、ヒドロキノンジグリシジルエーテル、ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、水添ビスフェノールA型ジグリシジルエーテル、ジヒドロキシアントラセン型エポキシ樹脂、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ジフェニルスルホンジグリシジルエーテル、ジヒドロキシベンゾフェノンジグリシジルエーテル、ビフェノールジグリシジルエーテル、ジフェニルメタンジグリシジルエーテル、ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテル、ビスクレゾールフルオレンジグリシジルエーテル、ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N−ジグリシジルアニリン、N,N−ジグリシジルトルイジン、特開2004−156024号公報、特開2004−315595号公報、特開2004−323777号公報に開示されている柔軟性に優れたエポキシ化合物や、下記式(1)−(3)で表される構造のエポキシ化合物等が挙げられる。
Next, an epoxy compound (d3 having at least two epoxy groups in one molecule of the present invention)
Will be described. The epoxy compound (d3) having at least two epoxy groups in one molecule used in the present invention is preferably a compound containing two epoxy groups in one molecule, and is not particularly limited. Specifically, for example, ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, bisphenol A epichlorohydrin type epoxy resin, bisphenol F epichlorohydrin type epoxy resin Biphenol / epichlorohydrin type epoxy resin, polyglycidyl ether of glycerin / epichlorohydrin adduct, resorcinol diglycidyl ether, polybutadiene diglycidyl ether, hydroquinone diglycidyl ether, dibromo neopentyl glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol Diglycidyl ether, hexahydrophthalic acid diglycidyl ester, hydrogenated bisphenol A type diglycidyl ether, dihydroxy ane Latex type epoxy resin, polypropylene glycol diglycidyl ether, diphenyl sulfone diglycidyl ether, dihydroxy benzophenone diglycidyl ether, biphenol diglycidyl ether, diphenylmethane diglycidyl ether, bisphenol fluoro orange glycidyl ether, bis cresol fluoro orange glycidyl ether, bis phenoxy ethanol fluoro orange Glycidyl ether, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, N, N-diglycidyl aniline, N, N-diglycidyl toluidine, JP 2004-156024 A, JP 2004-315595 A Patent Document 1: JP-A-2004-323777 discloses an epoxy compound excellent in flexibility and the following formula (1)-( The epoxy compound of the structure represented by 3) etc. are mentioned.

式(1)

Figure 0006503924
Formula (1)
Figure 0006503924

式(2)

Figure 0006503924
Formula (2)
Figure 0006503924

式(3)

Figure 0006503924
Formula (3)
Figure 0006503924

中でも、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテルは、最終的に得られるカルボキシル基含有変性エステル樹脂(A3)に柔軟性を付与させる場合に好ましく、ビスフェノールA・エピクロロヒドリン型エポキシ樹脂は、最終的に得られるカルボキシル基含有変性エステル樹脂(A3)に耐熱性を付与させる場合に好ましい。このように本発明において、1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物(d3)は目的に応じて選択することが可能であり、これらは単独で使用しても良いし、複数を併用することも好ましい。   Among them, 1,6-hexanediol diglycidyl ether is preferable when giving flexibility to the carboxyl group-containing modified ester resin (A3) finally obtained, and the bisphenol A epichlorohydrin type epoxy resin is the final one. It is preferable when heat resistance is imparted to the carboxyl group-containing modified ester resin (A3) obtained by Thus, in the present invention, the epoxy compound (d3) having at least two epoxy groups in one molecule can be selected according to the purpose, and these may be used alone or a plurality of them. It is also preferred to use in combination.

ここで、カルボキシル基含有エステル樹脂(c3)と1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物(d3)を反応させる割合は、カルボキシル基含有エステル樹脂(c3)のカルボキシル基を1.0モルとした場合に、1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物(d3)中のエポキシ基を0.50モル〜1.50モルの割合で反応させることが好ましく、0.70モル〜1.30モルの割合で反応させることがより好ましい。カルボキシル基含有エステル樹脂(c3)のカルボキシル基1.0モルに対し、1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物(d3)中のエポキシ基の割合が0.50モル未満の場合、最終的に得られるカルボキシル基含有変性エステル樹脂(A3)の分子量が低くなり、所望の塗膜耐性や成膜性が得られにくくなる。また、カルボキシル基含有エステル樹脂(c3)のカルボキシル基1.0モルに対し、1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物(d3)中のエポキシ基の割合が1.50モルより多い場合、末端エポキシ基の量が多くなり、最終の合成段階で脂環式多塩基酸無水物および芳香族多塩基酸無水物から選ばれる少なくとも1種である酸無水物基含有化合物(b3)を反応させる際に副反応が多く起こり、反応途中でゲル化を引き起こす場合がある。   Here, the ratio for reacting the carboxyl group-containing ester resin (c3) and the epoxy compound (d3) having at least two epoxy groups in one molecule is 1.0 of the carboxyl group of the carboxyl group-containing ester resin (c3) In the case of mole, it is preferable to react the epoxy group in the epoxy compound (d3) having at least two epoxy groups in one molecule in a ratio of 0.50 mole to 1.50 mole, 0.70 mole It is more preferable to make it react by the ratio of -1.30 mol. When the ratio of the epoxy group in the epoxy compound (d3) having at least two epoxy groups in one molecule is less than 0.50 mol with respect to 1.0 mol of the carboxyl group of the carboxyl group-containing ester resin (c3), The molecular weight of the carboxyl group-containing modified ester resin (A3) finally obtained decreases, and it becomes difficult to obtain desired coating film resistance and film forming property. Moreover, the ratio of the epoxy group in the epoxy compound (d3) which has at least 2 pieces of epoxy groups in 1 molecule with respect to 1.0 mol of carboxyl groups of carboxyl group-containing ester resin (c3) is more than 1.50 mol In this case, an acid anhydride group-containing compound (b3), in which the amount of the terminal epoxy group is increased, and which is at least one selected from alicyclic polybasic acid anhydride and aromatic polybasic acid anhydride in the final synthesis step During the reaction, many side reactions occur, which may cause gelation during the reaction.

本発明において、側鎖ヒドロキシル基含有変性エステル樹脂(e3)の合成条件は特に限定されるものではなく、公知の条件で行うことができる。例えば、フラスコにカルボキシル基含有エステル樹脂(c3)及び1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物(d3)、溶剤を仕込み、攪拌しながら100〜150℃で加熱することで側鎖ヒドロキシル基含有変性エステル樹脂(e3)を得ることができる。この際、必要に応じてトリフェニルホスフィンや、3級アミノ基含有化合物等の触媒を使用してもよい。   In the present invention, the synthesis conditions of the side chain hydroxyl group-containing modified ester resin (e3) are not particularly limited, and can be performed under known conditions. For example, a flask is charged with a carboxyl group-containing ester resin (c3) and an epoxy compound (d3) having at least two epoxy groups in one molecule, and a solvent, and heated at 100 to 150 ° C. with stirring to produce side chain hydroxyl A group-containing modified ester resin (e3) can be obtained. At this time, if necessary, a catalyst such as triphenylphosphine or a tertiary amino group-containing compound may be used.

次に、本発明のカルボキシル基含有変性エステル樹脂(A3)について説明する。本発明のカルボキシル基含有変性エステル樹脂(A3)は、側鎖ヒドロキシル基含有変性エステル樹脂(e3)と、脂環式多塩基酸無水物および芳香族多塩基酸無水物から選ばれる少なくとも1種である酸無水物基含有化合物(b3)とを反応させることで得ることができる。   Next, the carboxyl group-containing modified ester resin (A3) of the present invention will be described. The carboxyl group-containing modified ester resin (A3) of the present invention is at least one selected from a side chain hydroxyl group-containing modified ester resin (e3), and an alicyclic polybasic acid anhydride and an aromatic polybasic acid anhydride. It can be obtained by reacting with a certain acid anhydride group-containing compound (b3).

ここで、カルボキシル基含有変性エステル樹脂(A3)を合成する際に、脂環式多塩基酸無水物および芳香族多塩基酸無水物から選ばれる少なくとも1種である酸無水物基含有化合物(b3)を反応させる割合は、側鎖ヒドロキシル基含有変性エステル樹脂(e3)中のヒドロキシル基を1.0モルとした場合に、脂環式多塩基酸無水物および芳香族多塩基酸無水物から選ばれる少なくとも1種である酸無水物基含有化合物(b3)中の酸無水物基を0.05モル〜1.0モルの割合で反応させることが好ましく、0.10モル〜0.90モルの割合で反応させることがより好ましい。側鎖ヒドロキシル基含有変性エステル樹脂(e3)中のヒドロキシル基1.0モルに対し、脂環式多塩基酸無水物および芳香族多塩基酸無水物から選ばれる少なくとも1種である酸無水物基含有化合物(b3)中の酸無水物基の割合が0.05モル未満の場合、変性の割合が少なくなりすぎて主鎖への架橋性官能基導入の効果が得られにくい。また、1.0モルより多い場合、余剰の酸無水物基含有化合物が残存し最終塗膜のフレキシブル性や耐熱性、絶縁信頼性が低下する傾向にある。   Here, when synthesizing the carboxyl group-containing modified ester resin (A3), an acid anhydride group-containing compound (b3) which is at least one selected from an alicyclic polybasic acid anhydride and an aromatic polybasic acid anhydride The ratio of reacting (a) is selected from alicyclic polybasic acid anhydrides and aromatic polybasic acid anhydrides when the hydroxyl group in the side chain hydroxyl group-containing modified ester resin (e3) is 1.0 mol. Preferably, the acid anhydride group in the acid anhydride group-containing compound (b3), which is at least one kind of component, is reacted in a proportion of 0.05 mol to 1.0 mol, preferably 0.10 mol to 0.90 mol It is more preferred to react in proportions. An acid anhydride group which is at least one selected from alicyclic polybasic acid anhydride and aromatic polybasic acid anhydride with respect to 1.0 mol of hydroxyl group in the side chain hydroxyl group-containing modified ester resin (e3) When the ratio of the acid anhydride group in the contained compound (b3) is less than 0.05 mol, the ratio of modification is too small to obtain the effect of introducing the crosslinkable functional group into the main chain. If the amount is more than 1.0 mol, the excess acid anhydride group-containing compound tends to remain and the flexibility, heat resistance and insulation reliability of the final coating film tend to be lowered.

本発明において、カルボキシル基含有変性エステル樹脂(A3)の合成条件は特に限定されるものではなく、公知の条件で行うことができる。例えば、フラスコに側鎖ヒドロキシル基含有変性エステル樹脂(e3)及び、脂環式多塩基酸無水物および芳香族多塩基酸無水物から選ばれる少なくとも1種である酸無水物基含有化合物(b3)、溶剤を仕込み、攪拌しながら50〜100℃で加熱することでカルボキシル基含有変性エステル樹脂(A3)を得ることができる。この反応は無触媒下でも進行するが、必要に応じてや、3級アミノ基含有化合物等の触媒を使用してもよい。   In the present invention, the synthesis conditions of the carboxyl group-containing modified ester resin (A3) are not particularly limited, and may be carried out under known conditions. For example, an acid anhydride group-containing compound (b3) which is at least one selected from a side chain hydroxyl group-containing modified ester resin (e3) and an alicyclic polybasic acid anhydride and an aromatic polybasic acid anhydride in a flask A carboxyl group-containing modified ester resin (A3) can be obtained by charging a solvent and heating at 50 to 100 ° C. while stirring. This reaction proceeds even without a catalyst, but if necessary, a catalyst such as a tertiary amino group-containing compound may be used.

本発明のカルボキシル基含有変性エステル樹脂(A3)の酸価は、1〜100mgKOH/gであることが好ましく、より好ましくは5〜90mgKOH/gである。酸価が1mgKOH/g未満では硬化性基として機能するカルボキシル基が少なく、硬化後の塗膜に充分な耐性を付与することができない場合がある。また、酸価が100mgKOH/gを超えると塗膜の硬度が高くなり、充分な接着強度が得られない場合がある。また、酸価が1〜100mgKOH/gの範囲内において、1mgKOH/gに近い範囲で設計する場合、得られる塗膜の屈曲性や密着性が向上し、一方、100mgKOH/gに近い範囲で設計する場合、架橋点が多くなることから、最終的に得られる塗膜の耐熱性が向上する。このように、本発明においてカルボキシル基含有変性エステル樹脂(A3)の酸価は、1〜100mgKOH/gの範囲内で目的に応じて調整することが可能である。   The acid value of the carboxyl group-containing modified ester resin (A3) of the present invention is preferably 1 to 100 mg KOH / g, more preferably 5 to 90 mg KOH / g. If the acid value is less than 1 mg KOH / g, there are few carboxyl groups that function as a curable group, and it may not be possible to impart sufficient resistance to the coating after curing. On the other hand, when the acid value exceeds 100 mg KOH / g, the hardness of the coating film may be high, and sufficient adhesive strength may not be obtained. In addition, when the acid value is designed in a range close to 1 mg KOH / g in the range of 1 to 100 mg KOH / g, the flexibility and adhesion of the obtained coating film are improved, while the design is made in a range near 100 mg KOH / g In such a case, since the number of crosslinking points is increased, the heat resistance of the finally obtained coating film is improved. Thus, in the present invention, the acid value of the carboxyl group-containing modified ester resin (A3) can be adjusted according to the purpose within the range of 1 to 100 mg KOH / g.

本発明のカルボキシル基含有変性エステル樹脂(A3)の重量平均分子量は、5000〜500000であることが好ましく、より好ましくは、10000〜300000である。重量平均分子量が5000未満では、充分な耐熱性及び可撓性が得られない場合がある。また、重量平均分子量が500000を超えると、塗工時の粘度やハンドリングが課題となる場合がある。また、重量平均分子量が5000〜500000の範囲内において、5000に近い値で設計する場合、得られる樹脂の末端(すなわちカルボキシル基)が多いことから、架橋性に富む樹脂が得られ、最終的に得られる塗膜の耐熱性を向上することができ、一方、500000に近い値で設計する場合、最終的に得られる塗膜は、密着性や屈曲性に優れる。このように、本発明においてカルボキシル基含有変性エステル樹脂(A3)の重量平均分子量は、5000〜500000の範囲内で目的に応じて調整することが可能である。   The weight average molecular weight of the carboxyl group-containing modified ester resin (A3) of the present invention is preferably 5,000 to 500,000, more preferably 10,000 to 300,000. If the weight average molecular weight is less than 5,000, sufficient heat resistance and flexibility may not be obtained. Moreover, when a weight average molecular weight exceeds 500000, the viscosity and handling at the time of coating may become a subject. In addition, when the weight average molecular weight is designed at a value close to 5000 in the range of 5000 to 500,000, a resin rich in crosslinkability can be obtained since the obtained resin has many terminals (that is, carboxyl groups). The heat resistance of the resulting coating film can be improved, and on the other hand, when designing with a value close to 500000, the finally obtained coating film is excellent in adhesion and flexibility. Thus, in the present invention, the weight average molecular weight of the carboxyl group-containing modified ester resin (A3) can be adjusted according to the purpose within the range of 5000 to 500,000.

本発明のセンサー用絶縁層形成材料は、前記カルボキシル基含有変性エステル樹脂(A3)とエポキシ基含有化合物、イソシアネート基含有化合物、およびブロック化イソシアネート基含有化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種である化合物(B3)と熱硬化助剤(C3)とを含んでなる。ここで、エポキシ基含有化合物、イソシアネート基含有化合物、およびブロック化イソシアネート基含有化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種である化合物(B3)〔以下、単に「化合物(B3)」とも表記する。〕について説明する。本発明のセンサー用絶縁層形成材料は、上述したカルボキシル基含有変性エステル樹脂(A3)の硬化剤として化合物(B3)を使用することを特徴とする。   The insulating layer forming material for a sensor of the present invention is a compound which is at least one selected from the group consisting of the carboxyl group-containing modified ester resin (A3), an epoxy group containing compound, an isocyanate group containing compound, and a blocked isocyanate group containing compound. And (B3) and a thermosetting coagent (C3). Here, a compound (B3) which is at least one selected from the group consisting of an epoxy group-containing compound, an isocyanate group-containing compound, and a blocked isocyanate group-containing compound [hereinafter, also simply referred to as “compound (B3)”. ] Will be described. The insulating layer forming material for a sensor of the present invention is characterized in that the compound (B3) is used as a curing agent for the carboxyl group-containing modified ester resin (A3) described above.

本発明におけるエポキシ基含有化合物としては、分子内にエポキシ基を含有する化合物であればよく、特に限定されるものではない。例えば、分子内にエポキシ基を1個有する化合物としては、N−グリシジルフタルイミド、グリシドール、グリシジル(メタ)アクリレート等の化合物が挙げられる。これらは、次に例示する分子内にエポキシ基を2個以上有する化合物と、必要に応じて併用することで、硬化物の架橋密度を制御する目的で好適に用いることができる。また、エポキシ基を分子内に2個以上含有する化合物としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ビスフェノールA・エピクロロヒドリン型エポキシ樹脂、ビスフェノールF・エピクロロヒドリン型エポキシ樹脂、ビスフェノールS・エピクロロヒドリン型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD・エピクロロヒドリン型エポキシ樹脂、ビフェノール・エピクロロヒドリン型エポキシ樹脂、ビスフェノールAのエチレンオキシド付加体もしくはプロピレンオキシド付加体のエピクロロヒドリン型エポキシ樹脂、グリセリン・エピクロロヒドリン付加物のポリグリシジルエーテル、ナフタレンジオールジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、ポリブタジエンジグリシジルエーテル、ヒドロキノンジグリシジルエーテル、ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、水添ビスフェノールA型ジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ジフェニルスルホンジグリシジルエーテル、ジヒドロキシベンゾフェノンジグリシジルエーテル、ビフェノールジグリシジルエーテル、ジフェニルメタンジグリシジルエーテル、ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテル、ビスクレゾールフルオレンジグリシジルエーテル、ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N−ジグリシジルアニリン、N,N−ジグリシジルトルイジン、特開2004−156024号公報、特開2004−315595号公報、特開2004−323777号公報に開示されている柔軟性に優れたエポキシ化合物や、下記式(4)〜(6)で表される構造のエポキシ化合物等が挙げられる。   The epoxy group-containing compound in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound containing an epoxy group in the molecule. For example, as a compound which has one epoxy group in a molecule | numerator, compounds, such as N- glycidyl phthalimide, glycidol, glycidyl (meth) acrylate, are mentioned. These can be suitably used in order to control the crosslink density of the cured product by using together with a compound having two or more epoxy groups in the molecule exemplified below, if necessary. Further, as a compound containing two or more epoxy groups in the molecule, ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, bisphenol A • epichlorohydrin type epoxy resin, Bisphenol F · epichlorohydrin type epoxy resin, bisphenol S · epichlorohydrin type epoxy resin, bisphenol AD · epichlorohydrin type epoxy resin, biphenol · epichlorohydrin type epoxy resin, ethylene oxide adduct of bisphenol A or bisphenol A Epichlorohydrin type epoxy resin of propylene oxide adduct, polyglycidyl ether of glycerin and epichlorohydrin adduct, naphthalenediol diglycidyl ether, resorcino Diglycidyl ether, polybutadiene diglycidyl ether, hydroquinone diglycidyl ether, dibromo neopentyl glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, hexahydrophthalic acid diglycidyl ester, hydrogenated bisphenol A type diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl Ether, diphenyl sulfone diglycidyl ether, dihydroxy benzophenone diglycidyl ether, biphenol diglycidyl ether, diphenylmethane diglycidyl ether, bisphenol fluoro orange glycidyl ether, bis cresol fluoro orange glycidyl ether, bis phenoxy ethanol fluoro orange glycidyl ether, 1,3- bis ( N, N-diglycidyl Minomethyl) cyclohexane, N, N-diglycidyl aniline, N, N-diglycidyl toluidine, the flexibility disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2004-156024, 2004-315595, and 2004-323777 And epoxy compounds having a structure represented by the following formulas (4) to (6).

式(4)

Figure 0006503924
Formula (4)
Figure 0006503924

式(5)

Figure 0006503924
Formula (5)
Figure 0006503924

式(6)

Figure 0006503924
Formula (6)
Figure 0006503924

さらに、トリスヒドロキシエチルイソシアヌレートトリグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート、三菱化学株式会社製「エピコート1031S」、「エピコート1032H60」、「エピコート604」、「エピコート630」の他、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、特開2001-2406
54号公報に開示されているジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、エチレングリコール・エピクロルヒドリン付加物のポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン、等が挙げられる。また、エポキシ基以外の他の熱硬化性基を併有する化合物も使用できる。例えば、特開2001−59011号公報や、2003−48953号公報に開示されているシラン変性エポキシ樹脂が挙げられる。
Furthermore, tris hydroxyethyl isocyanurate triglycidyl ether, triglycidyl isocyanurate, "epicoat 1031S", "epicoat 1032H60", "epicoat 604", "epicoat 630" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, phenol novolac epoxy resin, cresol Novolak type epoxy resin, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-2406
Dicyclopentadiene type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, polyglycidyl ether of ethylene glycol / epichlorohydrin adduct, pentaerythritol polyglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, N, N, N 'disclosed in JP 54 , N′-tetraglycidyl-m-xylene diamine, and the like. Moreover, the compound which has other thermosetting groups other than an epoxy group can also be used. For example, the silane modified epoxy resin currently disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-59011 and 2003-48953 is mentioned.

特に、トリスヒドロキシエチルイソシアヌレートトリグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート等のイソシアヌレート環含有エポキシ化合物は、本発明に使用した場合、ポリイミドや銅に対して接着強度が向上する傾向があり、好ましい。また、三菱化学株式会社製「エピコート1031S」、「エピコート1032H60」、「エピコート604」、「エピコート630」は、多官能であり、かつ、耐熱性に優れるため、本発明において非常に好ましく、また、脂肪族系のエポキシ化合物や、特開2004−156024号公報、特開2004−315595号公報、特開2004−323777号公報記載のエポキシ化合物は、硬化塗膜の柔軟性に優れるため、好ましい。また、特開2001−240654号公報記載のジシクロペンタジエン型エポキシ化合物や、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェノール・エピクロロヒドリン型エポキシ樹脂、などは、本発明において、熱硬化性および吸湿性や耐熱性をはじめとする硬化塗膜の耐久性の面で優れており好ましい。   In particular, isocyanurate ring-containing epoxy compounds such as trishydroxyethyl isocyanurate triglycidyl ether and triglycidyl isocyanurate tend to improve adhesion strength to polyimide and copper when used in the present invention, and are thus preferable. In addition, “epicoat 1031S”, “epicoat 1032H60”, “epicoat 604”, and “epicoat 630” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation are highly preferable in the present invention, because they are multifunctional and excellent in heat resistance. Aliphatic epoxy compounds and epoxy compounds described in JP-A-2004-156024, JP-A-2004-315595, and JP-A-2004-323777 are preferable because they are excellent in the flexibility of a cured coating film. Further, the dicyclopentadiene type epoxy compound described in JP-A-2001-240654, a phenol novolac type epoxy resin, a cresol novolac type epoxy resin, a biphenol / epichlorohydrin type epoxy resin, etc. are thermally cured in the present invention. It is excellent in the surface of durability of a cured coating film including moisture resistance and hygroscopicity and heat resistance, and is preferable.

イソシアネート基含有化合物としては、イソシアネート基を分子内に有する化合物であればよく、特に限定されるものではない。具体的には、ジイソシアネート化合物としては、例えば、炭素数4〜50の芳香族ジイソシアネート、脂肪族ジイソシアネート、芳香脂肪族ジイソシアネート、脂環族ジイソシアネート等を挙げることができる。   The isocyanate group-containing compound is not particularly limited as long as it is a compound having an isocyanate group in the molecule. Specifically, examples of the diisocyanate compound include aromatic diisocyanates having 4 to 50 carbon atoms, aliphatic diisocyanates, aromatic aliphatic diisocyanates, and alicyclic diisocyanates.

芳香族ジイソシアネートとしては、例えば、1,3−フェニレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、4,4’−トルイジンジイソシアネート、2,4,6−トリイソシアネートトルエン、1,3,5−トリイソシアネートベンゼン、ジアニシジンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルエーテルジイソシアネート、4,4’,4”−トリフェニルメタントリイソシアネート等を挙げることができる。   As aromatic diisocyanate, for example, 1,3-phenylene diisocyanate, 4,4′-diphenyl diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6- Tolylene diisocyanate, 4,4'-toluidine diisocyanate, 2,4,6-triisocyanate toluene, 1,3,5-triisocyanatobenzene, dianisidine diisocyanate, 4,4'-diphenylether diisocyanate, 4,4 ', 4 "-Triphenylmethane triisocyanate etc. can be mentioned.

脂肪族ジイソシアネートとしては、例えば、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、1,2−プロピレンジイソシアネート、2,3−ブチレンジイソシアネート、1,3−ブチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等を挙げることができる。   Examples of aliphatic diisocyanates include trimethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, 1,2-propylene diisocyanate, 2,3-butylene diisocyanate, 1,3-butylene diisocyanate, dodecamethylene diisocyanate, 2 , 4, 4- trimethylhexamethylene diisocyanate, etc. can be mentioned.

芳香脂肪族ジイソシアネートとしては、例えばω,ω’−ジイソシアネート−1,3−ジメチルベンゼン、ω,ω’−ジイソシアネート−1,4−ジメチルベンゼン、ω,ω’−ジイソシアネート−1,4−ジエチルベンゼン、1,4−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、1,3−テトラメチルキシリレンジイソシアネート等を挙げることができる。   As aromatic aliphatic diisocyanates, for example, ω, ω′-diisocyanate-1,3-dimethylbenzene, ω, ω′-diisocyanate-1,4-dimethylbenzene, ω, ω′-diisocyanate-1,4-diethylbenzene, 1 2,4- tetramethyl xylylene diisocyanate, 1,3- tetramethyl xylylene diisocyanate, etc. can be mentioned.

脂環族ジイソシアネートとしては、例えば3−イソシアネートメチル−3,5,5−トリメチルシクロヘキシルイソシアネート[別名:イソホロンジイソシアネート]、1,3−シクロペンタンジイソシアネート、1,3−シクロヘキサンジイソシアネート、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、メチル−2,4−シクロヘキサンジイソシアネート、メチル−2,6−シクロヘキサンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、1,3−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン等を挙げることができる。   As alicyclic diisocyanate, for example, 3-isocyanate methyl-3,5,5-trimethylcyclohexyl isocyanate [alias: isophorone diisocyanate], 1,3-cyclopentadiisocyanate, 1,3-cyclohexane diisocyanate, 1,4-cyclohexane diisocyanate Methyl-2,4-cyclohexanediisocyanate, methyl-2,6-cyclohexanediisocyanate, 4,4'-methylenebis (cyclohexylisocyanate), 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (isocyanatemethyl) Cyclohexane etc. can be mentioned.

分子中にイソシアネート基を1個または3個以上有するイソシアネート基含有化合物としては、具体的には、1分子中に1個のイソシアネート基を有する単官能イソシアネートとして、(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、1,1−ビス[(メタ)アクリロイルオキシメチル]エチルイソシアネート、ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、(メタ)アクリロイルイソシアネート、イソプロペニル−α,α−ジメチルベンジルイソシアネート等が挙げられる。また、1,6−ジイソシアナトヘキサン、ジイソシアン酸イソホロン、ジイソシアン酸4,4’−ジフェニルメタン、ポリメリックジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、2,4−ジイソシアン酸トリレン、ジイソシアン酸トルエン、2,4−ジイソシアン酸トルエン、ジイソシアン酸ヘキサメチレン、ジイソシアン酸4−メチル−m−フェニレン、ナフチレンジイソシアネート、パラフェニレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、シクロヘキシルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、m−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、p−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等のジイソシアン酸エステル化合物と水酸基、カルボキシル基、アミド基含有ビニルモノマーとを等モルで反応せしめた化合物もイソシアン酸エステル化合物として使用することができる。   Specific examples of the isocyanate group-containing compound having one or three or more isocyanate groups in the molecule include (meth) acryloyloxyethyl isocyanate as a monofunctional isocyanate having one isocyanate group in one molecule, 1,1-bis [(meth) acryloyloxymethyl] ethyl isocyanate, vinyl isocyanate, allyl isocyanate, (meth) acryloyl isocyanate, isopropenyl-α, α-dimethylbenzyl isocyanate and the like. Also, 1,6-diisocyanatohexane, isophorone diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, polymeric diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, tolylene 2,4-diisocyanate, toluene diisocyanate, 2,4-diisocyanate Toluene, hexamethylene diisocyanate, 4-methyl-m-phenylene diisocyanate, naphthylene diisocyanate, paraphenylene diisocyanate, tetramethyl xylylene diisocyanate, cyclohexylmethane diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, cyclohexyl diisocyanate, tolidine diisocyanate, 2,2 , 4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate Compounds obtained by reacting equimolar amounts of diisocyanate compounds such as m-tetramethyl xylylene diisocyanate, p-tetramethyl xylylene diisocyanate, and dimer acid diisocyanate with hydroxyl group, carboxyl group, and amide group-containing vinyl monomers are also isocyanates It can be used as an ester compound.

また、1分子中に3個以上のイソシアネート基を有する多官能イソシアネートとしては、例えば、芳香族ポリイソシアネート、リジントリイソシアネートなどの脂肪族ポリイソシアネート、芳香脂肪族ポリイソシアネート、脂環族ポリイソシアネート等が挙げられ、前述したジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、水と反応したビュウレット体、イソシアヌレート環を有する3量体が挙げられる。   Further, as polyfunctional isocyanates having three or more isocyanate groups in one molecule, for example, aromatic polyisocyanates, aliphatic polyisocyanates such as lysine triisocyanate, araliphatic polyisocyanates, alicyclic polyisocyanates, etc. Examples thereof include trimethylolpropane adducts of diisocyanates mentioned above, a biuret reacted with water, and a trimer having an isocyanurate ring.

ブロック化イソシアネート基含有化合物としては、イソシアネート基がε−カプロラクタムやMEKオキシム等で保護されたイソシアネート基含有化合物であればよく、特に限定されるものではない。具体的には、上記イソシアネート基含有化合物のイソシアネート基を、ε−カプロラクタム、MEKオキシム、シクロヘキサノンオキシム、ピラゾール、フェノール等でブロックしたものなどが挙げられる。   The blocked isocyanate group-containing compound is not particularly limited as long as it is an isocyanate group-containing compound in which the isocyanate group is protected by ε-caprolactam, MEK oxime or the like. Specifically, what blocked the isocyanate group of the said isocyanate group containing compound by (epsilon) -caprolactam, MEK oxime, cyclohexanone oxime, a pyrazole, a phenol etc. is mentioned.

本発明において、化合物(B3)は、一種のみを単独で用いてもよいし、複数を併用しても良い。化合物(B3)の使用量は、本発明の硬化性樹脂組成物の用途等を考慮して決定すればよく、特に限定されるものではないが、カルボキシル基含有変性エステル樹脂(A3)100重量部に対して、0.5重量部〜100重量部の割合で加えることが好ましく、1重量部〜80重量部の割合で加えることがより好ましい。化合物(B3)を使用することにより、本発明の硬化性樹脂組成物の架橋密度を適度な値に調節することができるので、硬化後の塗膜の各種物性をより一層向上させることができる。化合物(B3)の使用量が0.5重量部よりも少ないと、加熱硬化後の塗膜の架橋密度が低くなり過ぎ、所望の接着強度や耐熱性が不充分となる場合がある。また、該使用量が100重量部よりも多いと、加熱硬化後の架橋密度が高くなり過ぎ、その結果、塗膜の屈曲性、可撓性が低下し、接着強度をも著しく悪化させる場合がある。   In the present invention, the compound (B3) may be used alone or in combination of two or more. The amount of the compound (B3) used may be determined in consideration of the application of the curable resin composition of the present invention, etc., and is not particularly limited, but 100 parts by weight of carboxyl group-containing modified ester resin (A3) It is preferable to add in the ratio of 0.5 parts by weight to 100 parts by weight, and more preferably in the ratio of 1 part by weight to 80 parts by weight. By using the compound (B3), the crosslinking density of the curable resin composition of the present invention can be adjusted to an appropriate value, and thus various physical properties of the coating after curing can be further improved. If the amount of compound (B3) used is less than 0.5 parts by weight, the crosslink density of the coating after heat curing may be too low, and the desired adhesive strength and heat resistance may be insufficient. When the amount used is more than 100 parts by weight, the crosslink density after heat curing becomes too high, and as a result, the flexibility and the flexibility of the coating film may be reduced, and the adhesive strength may be significantly deteriorated. is there.

次に、本発明の、熱硬化助剤(C3)について説明する。本発明の熱硬化助剤(C3)とは、上記化合物(B3)とカルボキシル基含有変性エステル樹脂(A3)とを硬化反応させる際に、硬化反応に直接寄与する化合物、あるいは触媒的に寄与する化合物である。   Next, the heat curing auxiliary (C3) of the present invention will be described. The thermosetting coagent (C3) of the present invention is a compound that directly contributes to the curing reaction or contributes catalytically when the above compound (B3) and the carboxyl group-containing modified ester resin (A3) undergo a curing reaction. It is a compound.

熱硬化助剤(C3)として硬化反応に直接寄与する化合物とは、熱により単独で、または水酸基、アミノ基、エポキシ基、カルボキシル基などと反応しうる官能基を有する化合物を表し、上記化合物(B3)に属するものは除いたものであり、本発明の熱硬化性樹脂組成物において好ましく用いられる。具体的には、例えば、シアネートエステル化合物、アジリジン化合物、酸無水物基含有化合物、カルボキシル基含有化合物、カルボジイミド基含有化合物、オキセタン基含有化合物、ベンゾオキサジン化合物、マレイミド化合物、シトラコンイミド化合物、ナジイミド化合物、アリルナジイミド化合物、ビニルエーテル化合物、ビニルベンジルエーテル樹脂、チオール化合物、メラミン化合物、グアナミン化合物、アミノ樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、キシレン樹脂、フラン樹脂、ケトン樹脂、トリアリルシアヌレート樹脂、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌラートを含有する樹脂、トリアリルトリメリタートを含有する樹脂、ジシクロペンタジエン樹脂、芳香族ジシアナミドの三量化による熱硬化性樹脂などが挙げられる。   The compound which directly contributes to the curing reaction as a thermosetting auxiliary agent (C3) refers to a compound having a functional group which can react with a hydroxyl group, an amino group, an epoxy group, a carboxyl group or the like alone or with heat. Those which belong to B3) are excluded and are preferably used in the thermosetting resin composition of the present invention. Specifically, for example, cyanate ester compounds, aziridine compounds, acid anhydride group-containing compounds, carboxyl group-containing compounds, carbodiimide group-containing compounds, oxetane group-containing compounds, benzoxazine compounds, maleimide compounds, citraconimide compounds, nadiimide compounds, Allyl nadiimide compound, vinyl ether compound, vinyl benzyl ether resin, thiol compound, melamine compound, guanamine compound, amino resin, phenol resin, alkyd resin, acrylic resin, unsaturated polyester resin, diallyl phthalate resin, silicone resin, xylene resin, furan Resin, ketone resin, triallyl cyanurate resin, resin containing tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, resin containing triallyl trimellitate, di-sic Pentadiene resins, such as thermosetting resin by trimerization of aromatic dicyanamide and the like.

シアネートエステル化合物としては、ビス(4−シアナトフェニル)エタン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−シアナトフェニル)メタン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、α,α’−ビス(4−シアナトフェニル)−m−ジイソプロピルベンゼン、フェノール付加ジシクロペンタジエン重合体のシアネートエステル化合物等が挙げられ、そのプレポリマーなどが単独もしくは混合して用いられる。その中でも、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパンおよび2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−シアナトフェニル)等が硬化物の誘電特性が特に良好であるため好ましい。シアネートエステル化合物を使用する場合には、必要に応じて金属系反応触媒類が用いられ、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛等の金属触媒類が用いられる。具体的には、2−エチルヘキサン酸塩やナフテン酸塩等の有機金属塩化合物およびアセチルアセトン錯体などの有機金属錯体として用いられる。金属系反応触媒の配合量は、シアネートエステル化合物に対して1〜3000ppmとすることが好ましく、1〜1000ppmとすることがより好ましく、2〜300ppmとすることがさらに好ましい。金属系反応触媒の配合量が1ppm未満では添加の効果が得られ難く、3000ppmを超えると反応の制御が難しくなり、硬化が速くなりすぎる傾向があるが制限するものではない。   As a cyanate ester compound, bis (4-cyanatophenyl) ethane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane, 2,2-bis (3,5-dimethyl-4-cyanatophenyl) methane, 2,2-Bis (4-cyanatophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, α, α'-bis (4-cyanatophenyl) -m-diisopropylbenzene, phenol addition The cyanate ester compound etc. of a dicyclopentadiene polymer are mentioned, The prepolymer etc. are used individually or in mixture. Among them, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane and 2,2-bis (3,5-dimethyl-4-cyanatophenyl) are preferable because the dielectric properties of the cured product are particularly good. When a cyanate ester compound is used, metal-based reaction catalysts are used as necessary, and metal catalysts such as manganese, iron, cobalt, nickel, copper, zinc and the like are used. Specifically, they are used as organic metal salt compounds such as 2-ethylhexanoate and naphthenate and organic metal complexes such as acetylacetone complex. The compounding amount of the metal-based reaction catalyst is preferably 1 to 3000 ppm, more preferably 1 to 1000 ppm, and still more preferably 2 to 300 ppm based on the cyanate ester compound. If the compounding amount of the metal-based reaction catalyst is less than 1 ppm, the effect of addition is difficult to obtain, and if it exceeds 3000 ppm, control of the reaction becomes difficult and curing tends to be too fast but it is not limited.

アジリジン化合物としては、例えば、N,N’−ジフェニルメタン−4,4’−ビス(1−アジリジンカルボキサイト)、N,N’−トルエン−2,4−ビス(1−アジリジンカルボキサイト)、ビスイソフタロイル−1−(2−メチルアジリジン)、トリ−1−アジリジニルホスフィンオキサイド、N,N’−ヘキサメチレン−1,6−ビス(1−アジリジンカルボキサイト)、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、テトラメチロールメタン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、トリス−2,4,6−(1−アジリジニル)−1、3、5−トリアジン、トリメチロールプロパントリス[3−(1−アジリジニル)プロピオネート]、トリメチロールプロパントリス[3−(1−アジリジニル)ブチレート]、トリメチロールプロパントリス[3−(1−(2−メチル)アジリジニル)プロピオネート]、トリメチロールプロパントリス[3−(1−アジリジニル)−2−メチルプロピオネート]、2,2’−ビスヒドロキシメチルブタノールトリス[3−(1−アジリジニル)プロピオネート]、ペンタエリスリトールテトラ[3−(1−アジリジニル)プロピオネート]、ジフェニルメタン−4,4−ビス−N,N’−エチレンウレア、1,6−ヘキサメチレンビス−N,N’−エチレンウレア、2,4,6−(トリエチレンイミノ)−Syn−トリアジン、ビス[1−(2−エチル)アジリジニル]ベンゼン−1,3−カルボン酸アミド等が挙げられる。   As an aziridine compound, for example, N, N′-diphenylmethane-4,4′-bis (1-aziridinecarboxite), N, N′-toluene-2,4-bis (1-aziridinecarboxite), bisiso Phthaloyl-1- (2-methylaziridine), tri-1-aziridinyl phosphine oxide, N, N′-hexamethylene-1,6-bis (1-aziridinecarboxylate), trimethylolpropane-tri-β -Aziridinyl propionate, tetramethylolmethane-tri-β-aziridinyl propionate, tris-2,4,6- (1-aziridinyl) -1,3,5-triazine, trimethylolpropane tris [ 3- (1-Aziridinyl) propionate], trimethylolpropane tris [3- (1-aziridinyl) butyrate ], Trimethylolpropane tris [3- (1- (2-methyl) aziridinyl) propionate], trimethylolpropane tris [3- (1-aziridinyl) -2-methyl propionate], 2,2'-bishydroxy Methyl butanol tris [3- (1-aziridinyl) propionate], pentaerythritol tetra [3- (1-aziridinyl) propionate], diphenylmethane-4, 4-bis-N, N'-ethylene urea, 1, 6-hexamethylene Bis-N, N'-ethyleneurea, 2,4,6- (triethyleneimino) -Syn-triazine, bis [1- (2-ethyl) aziridinyl] benzene-1,3-carboxamide, etc. may be mentioned. .

酸無水物基含有化合物としては、酸無水物基含有化合物(b3)をはじめとして分子内に酸無水物基を含有する化合物であればよく、特に限定されるものではない。酸無水物基含有化合物(b3)以外の酸無水物基含有化合物としては、具体的には、ジカルボン酸無水物、ヘキサカルボン酸三無水物、ヘキサカルボン酸二無水物、無水マレイン酸共重合樹脂などの多価カルボン酸無水物類等が挙げられる。酸無水物基含有化合物をさらに詳しく例示すると、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸などの他、無水マレイン酸共重合樹脂としては、サートマー社製SMAレジンシリーズ、株式会社岐阜セラック製造所製G,SMシリーズなどのスチレン−無水マレイン酸共重合樹脂、p−フェニルスチレン−無水マレイン酸共重合樹脂、ポリエチレン−無水マレイン酸などのα−オレフィン−無水マレイン酸共重合樹脂、ダイセル化学工業株式会社製「VEMA」(メチルビニルエ−テルと無水マレイン酸の共重合体)、無水マレイン酸アクリル変性ポリオレフィン(「アウローレンシリーズ」:日本製紙ケミカル株式会社製)、無水マレイン酸共重合アクリル樹脂などが挙げられる。   The acid anhydride group-containing compound is not particularly limited as long as it is a compound containing an acid anhydride group in the molecule including the acid anhydride group containing compound (b3). Specifically, examples of acid anhydride group-containing compounds other than the acid anhydride group-containing compound (b3) include dicarboxylic acid anhydride, hexacarboxylic acid trianhydride, hexacarboxylic acid dianhydride, and maleic anhydride copolymer resin And polyvalent carboxylic acid anhydrides, and the like. More specifically illustrating the acid anhydride group-containing compound, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride and the like, and as maleic anhydride copolymer resin, SMA resin series manufactured by Sartmar, G, SM manufactured by Gifu Shellac Co., Ltd. Series, styrene-maleic anhydride copolymer resin, p-phenylstyrene-maleic anhydride copolymer resin, polyethylene-maleic anhydride α-olefin-maleic anhydride copolymer resin, Daicel Chemical Industries, Ltd. "VEMA" (Copolymer of methyl vinyl ether and maleic anhydride), maleic anhydride acrylic-modified polyolefin ("Auroren series" manufactured by Nippon Paper Chemicals Co., Ltd.), maleic anhydride copolymer acrylic resin, and the like.

カルボキシル基含有化合物としては、例えば、o−フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、1,4−ジメチルテレフタル酸、1,3−ジメチルイソフタル酸、5−スルホ−1,3−ジメチルイソフタル酸、4,4−ビフェニルジカルボン酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、ノルボルネンジカルボン酸、ジフェニルメタン−4,4’−ジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸類;
ヘキサヒドロテレフタル酸、ヘキサヒドロイソフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸等の脂環族ジカルボン酸類;
シュウ酸、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、セバチン酸、アゼライン酸、スベリン酸、マレイン酸、クロロマレイン酸、フマル酸、ドデカン二酸、ピメリン酸、シトラコン酸、グルタル酸、イタコン酸等の脂肪族ジカルボン酸類等が挙げられる。
Examples of the carboxyl group-containing compound include o-phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 1,4-dimethylterephthalic acid, 1,3-dimethylisophthalic acid, 5-sulfo-1,3-dimethylisophthalic acid, Aromatic dicarboxylic acids such as 4-biphenyl dicarboxylic acid, 1,4-naphthalene dicarboxylic acid, 2,6-naphthalene dicarboxylic acid, norbornene dicarboxylic acid, diphenylmethane-4,4'-dicarboxylic acid, phenylindane dicarboxylic acid;
Alicyclic dicarboxylic acids such as hexahydroterephthalic acid, hexahydroisophthalic acid, hexahydrophthalic acid and tetrahydrophthalic acid;
Aliphatic acids such as oxalic acid, malonic acid, succinic acid, adipic acid, sebacic acid, azelaic acid, suberic acid, maleic acid, chloromaleic acid, fumaric acid, dodecanedioic acid, pimelic acid, citraconic acid, glutaric acid, itaconic acid, etc. And dicarboxylic acids.

カルボジイミド基含有化合物としては、日清紡績株式会社のカルボジライトシリーズが挙げられる。その中でもカルボジライトV−01、03、05、07、09は有機溶剤との相溶性に優れており好ましい。   Examples of the carbodiimide group-containing compound include the Carbodilite series of Nisshinbo Co., Ltd. Among these, carbodilite V-01, 03, 05, 07, 09 is preferable because it is excellent in compatibility with organic solvents.

オキセタン基含有化合物としては、例えば、1,4−ビス{[(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ]メチル}ベンゼン[東亜合成社製、商品名;アロンオキセタンOXT−121等]、3−エチル−3−{[(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ]メチル}オキセタン[東亜合成社製、商品名;アロンオキセタンOXT−221等]、1,3−ビス[(3−エチルオキセタン−3−イル)メトキシ]ベンゼン、4,4’−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ビフェニル、(2−エチル−2−オキセタニル)エタノールとテレフタル酸とのエステル化物、(2−エチル−2−オキセタニル)エタノールとフェノールノボラック樹脂とのエーテル化物、(2−エチル−2−オキセタニル)エタノールと多価カルボン酸化合物とのエステル化物等が挙げられる。ベンゾオキサジン化合物としては、Macromolecules,36,6010(2003)記載の「P−a」、「P−alp」、「P−ala」、「B−ala」、Macromolecules,34,7257(2001)記載の「P−appe」、「B−appe」、四国化成株式会社製「B−a型ベンゾオキサジン」、「F−a型ベンゾオキサジン」、「B−m型ベンゾオキサジン」などが挙げられる。   Examples of the oxetane group-containing compound include 1,4-bis {[(3-ethyloxetan-3-yl) methoxy] methyl} benzene (manufactured by Toagosei Co., Ltd., trade name; Aron oxetane OXT-121, etc.), 3- Ethyl 3-{[(3-ethyloxetan-3-yl) methoxy] methyl} oxetane [made by Toagosei Co., Ltd., trade name; Aron oxetane OXT-221 etc.], 1,3-bis [(3-ethyl oxetane- 3-yl) methoxy] benzene, 4,4'-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] biphenyl, (2-ethyl-2-oxetanyl) esterified product of ethanol and terephthalic acid, (2- Ethers of ethyl 2-oxetanyl) ethanol and phenol novolac resin, (2-ethyl-2-oxetanyl) ethanol Esterified products of valence carboxylic acid compounds. Examples of the benzoxazine compounds include “Pa”, “P-alp”, “P-ala”, “B-ala” and Macromolecules, 34, 7257 (2001) described in Macromolecules, 36, 6010 (2003). “P-appe”, “B-appe”, “B-a type benzoxazine” manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd., “F-a type benzoxazine”, “B-m type benzoxazine” and the like can be mentioned.

ビニルベンジルエーテル樹脂としては、V−1000X(昭和高分子株式会社製)、米国特許第4116936号公報、米国特許第4170711号公報、米国特許第4278708号公報、特開平9−31006号公報、特開2001−181383号公報、特開2001−253992号公報、特開2003−277440号公報、特開2003−283076号公報、国際公開第02/083610号パンフレット記載のビニルベンジルエーテル樹脂等が挙げられる。   As a vinyl benzyl ether resin, V-1000X (made by Showa Polymer Co., Ltd.), U.S. Pat. No. 4,116,936, U.S. Pat. No. 4,170,711, U.S. Pat. No. 4,278,708, JP-A 9-31006, JP-A The vinyl benzyl ether resin etc. of 2001-181383, Unexamined-Japanese-Patent 2001-253992, Unexamined-Japanese-Patent 2003-277440, Unexamined-Japanese-Patent 2003-283076, international publication 02/083610 pamphlet are mentioned.

マレイミド化合物としては、分子中にマレイミド基を少なくとも1個有しているもので、例えば、フェニルマレイミド、1−メチル−2,4−ビスマレイミドベンゼン、N,N’−m−フェニレンビスマレイミド、N,N’−p−フェニレンビスマレイミド、N,N’−4,4−ビフェニレンビスマレイミド、N,N’−4,4−(3,3−ジメチルビフェニレン)ビスマレイミド、N,N’−4,4−(3,3−ジメチルジフェニルメタン)ビスマレイミド、N,N’−4,4−(3,3−ジエチルジフェニルメタン)ビスマレイミド、N,N’−4,4−ジフェニルメタンビスマレイミド、N,N’−4,4−ジフェニルプロパンビスマレイミド、N,N’−4,4−ジフェニルエーテルビスマレイミド、N,N’−4,4−ジフェニルスルフォンビスマレイミド、2,2−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[3−s−ブチル−3,4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、1,1−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]デカン、4,4’−シクロヘキシリデン−ビス[1−(4−マレイミドフェノキシ)フェノキシ]−2−シクロヘキシルベンゼン、2,2−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパンなどがあり、単独でも2種類以上を混合して使用しても良い。   The maleimide compound is a compound having at least one maleimide group in the molecule, and examples thereof include phenyl maleimide, 1-methyl-2,4-bismaleimide benzene, N, N'-m-phenylene bismaleimide, N , N′-p-phenylenebismaleimide, N, N′-4,4-biphenylenebismaleimide, N, N′-4,4- (3,3-dimethylbiphenylene) bismaleimide, N, N′-4, 4- (3,3-dimethyldiphenylmethane) bismaleimide, N, N'-4,4- (3,3-diethyldiphenylmethane) bismaleimide, N, N'-4,4-diphenylmethane bismaleimide, N, N ' -4,4-Diphenylpropane bismaleimide, N, N'-4,4-diphenylether bismaleimide, N, N'-4,4-diphenyl Rufone bismaleimide, 2,2-bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [3-s-butyl-3,4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] propane, 1, 1-bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] decane, 4,4'-cyclohexylidene-bis [1- (4-maleimidophenoxy) phenoxy] -2-cyclohexylbenzene, 2,2-bis [4 There are-(4-maleimidophenoxy) phenyl] hexafluoropropane and the like, which may be used alone or in combination of two or more.

シトラコンイミド化合物としては、分子中にシトラコンイミド基を少なくとも1個有している化合物またはその重合体であり、例えば、フェニルシトラコンイミド、1−メチル−2,4−ビスシトラコンイミドベンゼン、N,N’−m−フェニレンビスシトラコンイミド、N,N’−p−フェニレンビスシトラコンイミド、N,N’−4,4−ビフェニレンビスシトラコンイミド、N,N’−4,4−(3,3−ジメチルビフェニレン)ビスシトラコンイミド、N,N’−4,4−(3,3−ジメチルジフェニルメタン)ビスシトラコンイミド、N,N’−4,4−(3,3−ジエチルジフェニルメタン)ビスシトラコンイミド、N,N’−4,4−ジフェニルメタンビスシトラコンイミド、N,N’−4,4−ジフェニルプロパンビスシトラコンイミド、N,N’−4,4−ジフェニルエーテルビスシトラコンイミド、N,N’−4,4−ジフェニルスルフォンビスシトラコンイミド、2,2−ビス[4−(4−シトラコンイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[3−s−ブチル−3,4−(4−シトラコンイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、1,1−ビス[4−(4−シトラコンイミドフェノキシ)フェニル]デカン、4,4’−シクロヘキシリデン−ビス[1−(4−シトラコンイミドフェノキシ)フェノキシ]−2−シクロヘキシルベンゼン、2,2−ビス[4−(4−シトラコンイミドフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパンなどがあり、単独でも2種類以上を混合して使用しても良い。   The citraconic imide compound is a compound having at least one citraconic imide group in the molecule or a polymer thereof, and examples thereof include phenylcitraconimide, 1-methyl-2,4-biscitraconimidobenzene, N, N '-M-phenylenebiscitraconimide, N, N'-p-phenylenebiscitraconimide, N, N'-4,4-biphenylene biscitraconimide, N, N'-4,4- (3,3-dimethyl Biphenylene) biscitraconimide, N, N'-4,4- (3,3-dimethyldiphenylmethane) biscitraconimide, N, N'-4,4- (3,3-diethyldiphenylmethane) biscitraconimide, N, N'-4,4-Diphenylmethane biscitraconimide, N, N'-4,4-diphenylpropane bisit Conimide, N, N'-4,4-diphenylether biscitraconimide, N, N'-4,4-diphenylsulfone biscitraconimide, 2,2-bis [4- (4-citraconimidophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [3-s-butyl-3,4- (4-citraconimidophenoxy) phenyl] propane, 1,1-bis [4- (4-citraconimidophenoxy) phenyl] decane, 4,4 ' -Cyclohexylidene-bis [1- (4-citraconimidophenoxy) phenoxy] -2-cyclohexylbenzene, 2,2-bis [4- (4-citraconimidophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, etc. Two or more types may be mixed and used.

ナジイミド化合物としては、分子中にナジイミド基を少なくとも1個有している化合物あるいはこれの重合体であって、例えば、フェニルナジイミド、1−メチル−2,4−ビスナジイミドベンゼン、N,N’−m−フェニレンビスナジイミド、N,N’−p−フェニレンビスナジイミド、N,N’−4,4−ビフェニレンビスナジイミド、N,N’−4,4−(3,3−ジメチルビフェニレン)ビスナジイミド、N,N’−4,4−(3,3−ジメチルジフェニルメタン)ビスナジイミド、N,N’−4,4−ジフェニルメタンビスナジイミド、N,N’−4,4−ジフェニルプロパンビスナジイミド、N,N’−4,4−ジフェニルエーテルビスナジイミド、N,N’−4,4−ジフェニルスルホンビスナジイミド、2,2−ビス[4−(4−ナジイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[3−s−ブチル−3,4−(4−ナジイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、1,1−ビス[4−(4−ナジイミドフェノキシ)フェニル]デカン、4,4’−シクロヘキシリデン−ビス[1−(4−ナジイミドフェノキシ)フェノキシ]−2−シクロヘキシルベンゼン、2,2−ビス[4−(4−ナジイミドフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパンなどがあり、単独でも2種類以上を混合して使用しても良い。   The nadimide compound is a compound having at least one nadimide group in the molecule or a polymer thereof, and examples thereof include phenyl nadiimide, 1-methyl-2,4-bisnadiimide benzene, N, N ′. -M-phenylenebisnadiimide, N, N'-p-phenylenebisnadiimide, N, N'-4,4-biphenylene bisnadiimide, N, N'-4,4- (3,3-dimethylbiphenylene) bisnadiimide N, N'-4,4- (3,3-dimethyldiphenylmethane) bisnadiimide, N, N'-4,4-diphenylmethane bisnadiimide, N, N'-4,4-diphenylpropane bisnadiimide, N, N ' -4,4-Diphenylether bisnadiimide, N, N'-4,4-diphenylsulfone bisnadiimide, 2,2-bis [4- 4-Nadiimidophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [3-s-butyl-3,4- (4-nadiimidophenoxy) phenyl] propane, 1,1-bis [4- (4-nadiimide) Phenoxy) phenyl] decane, 4,4'-cyclohexylidene-bis [1- (4-nadiimidophenoxy) phenoxy] -2-cyclohexylbenzene, 2,2-bis [4- (4-nadiimidophenoxy) phenyl Hexafluoropropane may be used alone or in combination of two or more.

アリルナジイミド化合物としては、ビス{4−(アリルビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド)フェニル}メタン、1,6−ヘキサン−ビス−アリルナジイミド、メタキシリレン−ビス−アリルナジイミドなどがあり、単独でも2種類以上を混合して使用しても良い。   Examples of allyl nadiimide compounds include bis {4- (allylbicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximido) phenyl} methane, 1,6-hexane-bis-allylnadiimide And metaxylylene-bis-allyl nadiimide, etc., which may be used alone or in combination of two or more.

ビニルエーテル化合物としては、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンメタノールビニルエーテル、エチルシクロヘキサノールビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシプロピルビニルエーテル、ヒドロキシペンチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、トリシクロデカンエポキシビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、トリプロピレングリコールジビニルエーテル、ネオペンチルグリコールジビニルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジビニルエーテル、グリセリンジビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、1,4−ジヒドロキシルシクロヘキサンジビニルエーテル、1,4−ジヒドロキシメチルシクロヘキサンジビニルエーテル、ハイドロキノンジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ハイドロキノンジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性レゾルシンジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ビスフェノールSジビニルエーテル、グリセリントリビニルエーテル、ソルビトールテトラビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、ジペンタエリスリトールポリビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンポリビニルエーテルなどがあり、単独でも2種類以上を混合して使用しても良い。   As vinyl ether compounds, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, cyclohexane dimethanol divinyl ether, cyclohexane dimethanol mono vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, cyclohexane methanol vinyl ether, ethylcyclohexanol vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxy Ethyl vinyl ether, hydroxypropyl vinyl ether, hydroxypentyl vinyl ether, diethylaminoethyl vinyl ether, tricyclodecane epoxy vinyl ether, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, tetra Tyrene glycol divinyl ether, pentaerythritol divinyl ether, propylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol divinyl ether, tripropylene glycol divinyl ether, neopentyl glycol divinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether, 1,6-hexanediol divinyl ether Glycerin divinyl ether, trimethylolpropane divinyl ether, 1,4-dihydroxyl cyclohexane divinyl ether, 1,4-dihydroxymethyl cyclohexane divinyl ether, hydroquinone divinyl ether, ethylene oxide modified hydroquinone divinyl ether, ethylene oxide modified resorcine divinyl ether, ethylene Oxide modified bisphenol A divinyl ether, ethylene oxide modified bisphenol S divinyl ether, glycerin trivinyl ether, sorbitol tetravinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, pentaerythritol trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, dipentaerythritol hexavinyl ether, dipentaerythritol polyvinyl ether, ditrimethylol Propane tetravinyl ether, ditrimethylol propane polyvinyl ether, etc. may be used alone or in combination of two or more.

チオール化合物としては、2,4,6−トリメルカプト−s−トリアゾール、2−ジブチルアミノ−4,6−ジメルカプト−s−トリアジン、2−アニリノ−4,6−ジメルカプト−S−トリアジン、テトラエチレングリコールビス−3−メルカプトプロピオネート、トリメチロールプロパントリス−3−メルカプトプロピオネート、トリス−(エチル−3−メルカプトプロピオネート)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラキス−3−メルカプトプロピオネート、ジペンタエリスリトールヘキサ−3−メルカプトプロピオネートなどがあり、単独でも2種類以上を混合して使用しても良い。   As thiol compounds, 2,4,6-trimercapto-s-triazole, 2-dibutylamino-4,6-dimercapto-s-triazine, 2-anilino-4,6-dimercapto-S-triazine, tetraethylene glycol Bis-3-mercaptopropionate, trimethylolpropane tris-3-mercaptopropionate, tris- (ethyl-3-mercaptopropionate) isocyanurate, pentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate, dipentaerythritol Hexa-3-mercaptopropionate and the like may be used alone or in combination of two or more.

アミノ樹脂としては、尿素、メラミン、ベンゾグアナミン、およびアセトグアナミンなどとホルムアルデヒドとの付加化合物、またはその部分縮合物が挙げられる。また、フェノール樹脂としては、フェノール、クレゾール類、およびビスフェノール類等の化合物とホルムアルデヒドとの付加化合物、またはその部分縮合物が挙げられる。具体的には、フェノール樹脂、クレゾール樹脂、t−ブチルフェノール樹脂、ジシクロペンタジエンクレゾール樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール樹脂、キシリレン変性フェノール樹脂、テトラキスフェノール樹脂、ビスフェノールA樹脂、ポリ−p−ビニルフェノール樹脂のレゾール型樹脂やノボラック型樹脂が挙げられる。その他、ナフトール系化合物、トリスフェノール系化合物、フェノールアラルキル樹脂等が挙げられる。中でも、フェノール樹脂のレゾール型樹脂は、耐熱性および硬化性の面で非常に優れており、本発明において好適に用いることができる。   The amino resin may, for example, be an addition compound of urea, melamine, benzoguanamine, acetoguanamine or the like with formaldehyde, or a partial condensate thereof. Moreover, as a phenol resin, the addition compound of compounds, such as phenol, cresols, and bisphenols, and formaldehyde, or its partial condensation product is mentioned. Specifically, resol of phenol resin, cresol resin, t-butyl phenol resin, dicyclopentadiene cresol resin, dicyclopentadiene phenol resin, xylylene modified phenol resin, tetrakis phenol resin, bisphenol A resin, poly-p-vinyl phenol resin Mold resin and novolak resin. In addition, naphthol compounds, trisphenol compounds, phenol aralkyl resins and the like can be mentioned. Among them, resol type resins of phenol resin are very excellent in heat resistance and curability, and can be suitably used in the present invention.

熱硬化助剤(C3)として硬化反応に触媒的に寄与する化合物としては、3級アミンおよびその塩類、ジシアンジアミド、カルボン酸ヒドラジド、イミダゾール類、ジアザビシクロ化合物類、ホスフィン類、ホスホニウム塩類を挙げることができ、これらを使用すると、より効率的に熱硬化反応が進行し、塗膜の耐性が優れるため好ましい。   As a compound which contributes catalytically to the curing reaction as a heat curing auxiliary (C3), tertiary amines and salts thereof, dicyandiamide, carboxylic acid hydrazide, imidazoles, diazabicyclo compounds, phosphines and phosphonium salts can be mentioned. Use of these is preferable because the thermosetting reaction proceeds more efficiently and the coating film has excellent resistance.

具体的には、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ベンジルジメチルアミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、N−メチルピペラジン等の3級アミン類、およびその塩類;
2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、2,4−ジシアノ−6−[2−メチルイミダゾリル−1]−エチル−S−トリアジン、2−エチル−4−メチルイミダゾールテトラフェニルボレート、等のイミダゾール類、およびその塩類;
1,5−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデカン、1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]−5−ノネン、1,4−ジアビシクロ[2,2,2,]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7−テトラフェニルボレート等のジアザビシクロ化合物類;
トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス(ジメトキシフェニル)ホスフィン、トリス(ヒドロキシプロピル)ホスフィン、トリス(シアノエチル)ホスフィン等のホスフィン類;
テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリシアノエチルホスホニウムテトラフェニルボレート等のホスホニウム塩類;
その他、触媒的かつ自らも直接硬化反応に寄与する化合物として、ジシアンジアミド、カルボン酸ヒドラジド等が挙げられる。カルボン酸ヒドラジドとしては、コハク酸ヒドラジド、アジピン酸ヒドラジド等が挙げられる。
Specifically, tertiary amines such as triethylamine, tributylamine, benzyldimethylamine, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, N-methylpiperazine, and salts thereof;
2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 2,4-dicyano-6- [2-methylimidazolyl-1] Imidazoles such as -ethyl-S-triazine, 2-ethyl-4-methylimidazole tetraphenylborate, and salts thereof;
1,5-diazabicyclo [5,4,0] -7-undecane, 1,5-diazabicyclo [4,3,0] -5-nonene, 1,4-diabicyclo [2,2,2,] octane, 1 , Diazabicyclo compounds such as 8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7-tetraphenylborate;
Phosphines such as tributyl phosphine, triphenyl phosphine, tris (dimethoxyphenyl) phosphine, tris (hydroxypropyl) phosphine, tris (cyanoethyl) phosphine and the like;
Phosphonium salts such as tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, methyltributylphosphonium tetraphenylborate, methyltricyanoethylphosphonium tetraphenylborate and the like;
In addition, dicyandiamide, carboxylic acid hydrazide and the like can be mentioned as a compound which is catalytic and which itself directly contributes to the curing reaction. As the carboxylic acid hydrazide, succinic acid hydrazide, adipic acid hydrazide and the like can be mentioned.

これら熱硬化助剤(C3)は、一種類のみを用いてもよく、また、二種類以上を併用してもよい。熱硬化助剤(C3)の使用量は、硬化性樹脂組成物の硬化物性を考慮して決定すればよく、特に限定されるものではないが、本発明のカルボキシル基含有変性エステル樹脂(A3)100重量部に対して、0.05重量部〜20重量部の範囲内が好ましく、0.1重量部〜10重量部の範囲内がより好ましい。これにより、本発明の熱硬化性樹脂組成物の架橋速度や架橋密度、凝集力を調節することが可能であり、各種物性をより一層向上させることができる。熱硬化助剤(C3)の使用量が0.05重量部よりも少ないと、その添加効果は得られ難く、また、該使用量が20重量部よりも多いと、余剰の熱硬化助剤(C3)が電気絶縁性や接着強度、半田耐熱性を低下させる原因となりやすい。   Only one type of these heat curing assistants (C3) may be used, or two or more types may be used in combination. The use amount of the thermosetting auxiliary agent (C3) may be determined in consideration of the curing physical properties of the curable resin composition, and is not particularly limited, but the carboxyl group-containing modified ester resin (A3) of the present invention The range of 0.05 parts by weight to 20 parts by weight is preferable with respect to 100 parts by weight, and the range of 0.1 parts by weight to 10 parts by weight is more preferable. Thereby, it is possible to control the crosslinking speed, the crosslinking density, and the cohesive force of the thermosetting resin composition of the present invention, and various physical properties can be further improved. When the use amount of the heat curing auxiliary (C3) is less than 0.05 parts by weight, the addition effect thereof is difficult to be obtained, and when the use amount is more than 20 parts by weight, an excess heat cure aid (C3) C3) tends to be a cause of lowering the electrical insulation property, adhesive strength and solder heat resistance.

この他、本発明のセンサー用絶縁層形成材料には目的を損なわない範囲で任意成分とて更に溶剤、染料、顔料、難燃剤、酸化防止剤、重合禁止剤、消泡剤、レベリング剤、イオン捕集剤、保湿剤、粘度調整剤、防腐剤、抗菌剤、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、電磁波シールド剤、フィラー等を添加することができる。特に電子材料用途で回路に直接接するような絶縁部材(例えば回路保護膜、カバーレイ層、層間絶縁材料など)や、回路周辺の高熱となりうる部材(プリント配線板接着剤、支持基板など)に使用する場合は、難燃剤を併用するのが好ましい。   In addition to the above, the insulating layer-forming material for a sensor according to the present invention may further contain a solvent, a dye, a pigment, a flame retardant, an antioxidant, a polymerization inhibitor, an antifoamer, a leveling agent, an ion A scavenger, a moisturizer, a viscosity modifier, an antiseptic, an antibacterial agent, an antistatic agent, an antiblocking agent, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an electromagnetic wave shielding agent, a filler and the like can be added. In particular, it is used for insulation members (for example, circuit protective film, cover lay layer, interlayer insulation material, etc.) directly in contact with the circuit in electronic material applications, and members (printed wiring board adhesive, support substrate, etc.) When using, it is preferable to use a flame retardant in combination.

難燃剤としては、例えば、リン酸メラミン、ポリリン酸メラミン、リン酸グアニジン、ポリリン酸グアニジン、リン酸アンモニウム、ポリリン酸アンモニウム、リン酸アミドアンモニウム、ポリリン酸アミドアンモニウム、リン酸カルバメート、ポリリン酸カルバメートなどのリン酸塩系化合物やポリリン酸塩系化合物、赤リン、有機リン酸エステル化合物、ホスファゼン化合物、ホスホン酸化合物、ジエチルホスフィン酸アルミニウム、メチルエチルホスフィン酸アルミニウム、ジフェニルホスフィン酸アルミニウム、エチルブチルホスフィン酸アルミニウム、メチルブチルホスフィン酸アルミニウム、ポリエチレンホスフィン酸アルミニウムなどのホスフィン酸化合物、ホスフィンオキシド化合物、ホスホラン化合物、ホスホルアミド化合物などのリン系難燃剤、メラミン、メラム、メレム、メロン、メラミンシアヌレートなどのトリアジン系化合物、シアヌル酸化合物、イソシアヌル酸化合物、トリアゾール系化合物、テトラゾール化合物、ジアゾ化合物、尿素などの窒素系難燃剤、シリコーン化合物やシラン化合物などのケイ素系難燃剤、ハロゲン化ビスフェノールA、ハロゲン化エポキシ化合物、ハロゲン化フェノキシ化合物などの低分子ハロゲン含有化合物、ハロゲン化されたオリゴマーやポリマーなどのハロゲン系難燃剤、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化ジルコニウム、水酸化バリウム、水酸化カルシウムなどの金属水酸化物、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化モリブデン、酸化アンチモン、酸化ニッケル、炭酸亜鉛、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、ホウ酸亜鉛、水和ガラスなどの無機系難燃剤などが挙げられる。本発明において、近年取り沙汰されている、環境への影響を配慮すると、リン系難燃剤や窒素系難燃剤等のノンハロゲン系難燃剤を使用することが望ましく、中でも本発明の熱硬化性樹脂組成物との併用によって、難燃性により効果のあるホスファゼン化合物、ホスフィン化合物、ポリリン酸メラミン、ポリリン酸アンモニウム、メラミンシアヌレート等を用いることが好ましい。本発明において、これら難燃剤は、単独又は複数を併用して用いることができる。   As the flame retardant, for example, melamine phosphate, melamine polyphosphate, guanidine phosphate, guanidine polyphosphate, ammonium phosphate, ammonium polyphosphate, ammonium ammonium phosphate, ammonium polyphosphate ammonium, phosphate carbamate, polyphosphate carbamate, etc. Phosphate compounds and polyphosphate compounds, red phosphorus, organic phosphoric acid ester compounds, phosphazene compounds, phosphonic acid compounds, aluminum diethylphosphinate, aluminum methylethylphosphinate, aluminum diphenylphosphinate, aluminum ethylbutylphosphinate, Phosphinic acid compounds such as aluminum methylbutylphosphinate, aluminum polyethylenephosphinate, phosphine oxide compounds, phosphorane compounds, phosphoramidation Phosphorus flame retardants, triazine compounds such as melamine, melam, melem, melon, melamine cyanurate, cyanuric acid compounds, isocyanuric acid compounds, triazole compounds, tetrazole compounds, diazo compounds, nitrogen flame retardants such as urea Silicon-based flame retardants such as silicone compounds and silane compounds, low molecular weight halogen-containing compounds such as halogenated bisphenol A, halogenated epoxy compounds and halogenated phenoxy compounds, halogenated flame retardants such as halogenated oligomers and polymers, water Metal oxides such as aluminum oxide, magnesium hydroxide, zirconium hydroxide, barium hydroxide and calcium hydroxide, tin oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, molybdenum oxide, antimony oxide, Nickel, zinc carbonate, magnesium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, zinc borate, and inorganic flame retardants such as hydrated glass. In the present invention, it is desirable to use a non-halogen based flame retardant such as a phosphorus based flame retardant or a nitrogen based flame retardant, considering the influence on the environment, which has been discussed in recent years, and above all, the thermosetting resin composition of the present invention It is preferable to use a phosphazene compound, a phosphine compound, a melamine polyphosphate, an ammonium polyphosphate, melamine cyanurate and the like which are more effective in flame retardancy, in combination with the above. In the present invention, these flame retardants can be used alone or in combination of two or more.

消泡剤、レベリング剤としては、シリコーン系、炭化水素系、アクリル樹脂系の化合物などが挙げられる。   As an antifoamer and a leveling agent, a silicone type, hydrocarbon type, an acrylic resin type compound etc. are mentioned.

イオン捕集剤としては、無機あるいは有機のイオン交換体が好適に用いられる。詳しくは東亜合成株式会社の無機イオン交換体イグゼや三菱化学株式会社のイオン交換樹脂ダイアイオンが用いられるが、イオン捕集能を有するものであればこれらに限定されない。   As the ion collecting agent, an inorganic or organic ion exchanger is suitably used. In detail, although the inorganic ion exchanger ige of Toa Synthetic Co., Ltd. and the ion exchange resin diaion of Mitsubishi Chemical Co., Ltd. are used, it is not limited thereto as long as it has an ion collecting ability.

本発明により、接着強度、電気絶縁性、耐熱性、屈曲性、加工性、に優れ、特に、保存安定性と加工安定性とを同時に満足し、更に高い接着強度を保持したまま高度な耐熱性を示し、更には、接着強度と電気絶縁性、耐熱性と屈曲性とを両立し得る、センサー用絶縁層形成材料が得られた。これらを硬化して、絶縁層(Y)に好適に用いることができる。   According to the present invention, the adhesive strength, electrical insulation, heat resistance, flexibility, and processability are excellent, and in particular, storage stability and processing stability are simultaneously satisfied, and high heat resistance is achieved while maintaining higher adhesion strength. Further, a material for forming an insulating layer for a sensor, which is compatible in adhesive strength and electrical insulation, heat resistance and flexibility, was obtained. These can be cured and suitably used for the insulating layer (Y).

<誘電層(Z)>
誘電層(Z)は、2つの導電層(X)に挟まれる位置に使用され、誘電体として働くことにより、キャパシタ構造のセンサー用電極シートを好適に形成できる。
誘電層(Z)は、フィルム・シート状の樹脂をそのまま、若しくは必要に応じて接着剤を介して貼りあわせたもの、樹脂を含むコーティング剤を塗工したのちに乾燥、必要に応じて硬化させて形成した樹脂塗膜などを使用することができる。
本発明の電極シートは、フレキシブル性及び柔軟性が必要であるため、誘電層(Z)においてもフレキシブルで柔軟性に富むことが要求される。具体的には、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエステルウレタンやポリエーテルウレタン、ポリカーボネートウレタンのようなウレタン樹脂、ポリエステルウレタンウレアやポリカーボネートウレタンウレアのようなウレタンウレア樹脂、ポリエステルウレアやポリエーテルウレア、ポリカーボネートウレアのようなウレア樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂のようなオレフィン系樹脂、ポリビニルアルコールやポリビニルブチラールのようなポリアセタール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂、ポリフェノール樹脂、ナイロン樹脂、ビニロン樹脂、アラミド樹脂、セルロース樹脂などを主成分として、必要に応じてこれら樹脂を架橋させるための硬化剤やその促進のための触媒、その他塗工性、安定性、耐久性等を付与するための種々の添加剤を含む樹脂組成物などが挙げられ、必要に応じてこれらの材料を二つ以上混ぜて用いても良い。
その中でも、柔軟性や誘電率を考慮すると、ハロゲンを有しないアクリル系またはオレフィン系のゴム、ポリエステル樹脂、ウレタン系樹脂、ウレタンウレア系樹脂、ウレア樹脂、エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂を主成分とすることが好ましい。
<Dielectric layer (Z)>
The dielectric layer (Z) is used at a position sandwiched between the two conductive layers (X), and by acting as a dielectric, a sensor electrode sheet of a capacitor structure can be suitably formed.
The dielectric layer (Z) is formed by applying a film / sheet-like resin as it is or through an adhesive if necessary, a coating agent containing a resin, and then drying and curing as required. The resin coating film etc. which were formed can be used.
The electrode sheet of the present invention is required to be flexible and flexible also in the dielectric layer (Z) because it needs flexibility and flexibility. Specifically, fluorine resin, acrylic resin, polyester resin, urethane resin such as polyester urethane or polyether urethane, polycarbonate urethane, urethane urethane resin such as polyester urethane urea or polycarbonate urethane urea, polyester urea or polyether Urea, Urea resin such as polycarbonate Urea, polyethylene, polypropylene, olefin resin such as acrylonitrile-butadiene-styrene resin, polyacetal resin such as polyvinyl alcohol and polyvinyl butyral, polyamide resin, polyimide resin, epoxy resin , Phenoxy resin, polyphenol resin, nylon resin, vinylon resin, aramid resin, cellulose resin, etc. as a main component, if necessary These include curing agents for crosslinking these resins, catalysts for promoting the same, and other resin compositions containing various additives for imparting coating properties, stability, durability, etc. Depending on the requirements, two or more of these materials may be mixed and used.
Among them, in consideration of flexibility and dielectric constant, the main components are halogen-free acrylic or olefin rubber, polyester resin, urethane resin, urethane urea resin, urea resin, epoxy resin and phenoxy resin. It is preferable to do.

また、誘電層(Z)の膜厚は、0.1μm以上、100000μm 未満であることが好ましく、更には3μm以上、50000μm未満であることが好ましい。0.1μm未満であると、外部からの少しの衝撃で誘電層(Z)が破断しやすくなり、導電層同士がショートするなどして電気特性の安定性確保が困難となり、100000μm以上であると、電界を安定に誘起することが困難となる。   Further, the film thickness of the dielectric layer (Z) is preferably 0.1 μm or more and less than 100000 μm, and more preferably 3 μm or more and less than 50000 μm. If the thickness is less than 0.1 μm, the dielectric layer (Z) is easily broken by a small impact from the outside, and the conductive layers are short-circuited to make it difficult to ensure the stability of the electrical characteristics. It becomes difficult to stably induce an electric field.

誘電層(Z)の面積や膜厚については、使用用途によってあらかじめ決められていることも多い為、電気特性を向上するためには、比誘電率(εr)の値を可能な限り小さくすることで、静電容量を小さくすることが重要となる。誘電層(Z)の比誘電率(εr)の値は、使用用途にもよるが、5未満であることが好ましく、3未満であることが好ましい。5以上であると、静電容量(C)の値が大きすぎて、電界を安定に検出することが困難となる。   The area and thickness of the dielectric layer (Z) are often determined in advance depending on the application, so to improve the electrical characteristics, the value of the relative dielectric constant (εr) should be as small as possible. Therefore, it is important to reduce the capacitance. The value of the relative dielectric constant (εr) of the dielectric layer (Z) is preferably less than 5, and preferably less than 3, depending on the use application. If it is 5 or more, the value of the electrostatic capacitance (C) is too large, and it becomes difficult to stably detect the electric field.

また、誘電層(Z)が空気を含むことが好ましい。誘電層(Z)が空気を含むことによって、誘電層(Z)の比誘電率を下げることが可能となり、更に弾力性を付与することもできる。材料としては、誘電層(Z)の主成分に空気を含ませたものが好ましく、これらを用いた発泡塗工シート、ウレタンフォームや発泡スチロールなどが挙げられる。空気を含ませるために、絶縁層にレーザーや荷重によって物理的に穴をあける方法や、延伸法や相分離法等で空孔を作る方法、液状に溶融させて気泡を含ませた状態で塗布し、冷却により気泡を固定させる方法や、発泡材料を含ませる方法などがある。   Preferably, the dielectric layer (Z) contains air. The inclusion of air in the dielectric layer (Z) makes it possible to lower the relative dielectric constant of the dielectric layer (Z) and also to impart elasticity. As a material, what contained air in the main component of a dielectric layer (Z) is preferable, and a foam coated sheet using these, a urethane foam, a polystyrene foam, etc. are mentioned. In order to include air, a method of physically making a hole in the insulating layer by a laser or a load, a method of forming a hole by a drawing method, a phase separation method, etc., a liquid is melted and applied in a state containing bubbles. There are a method of fixing the air bubbles by cooling, a method of including a foam material, and the like.

本発明の電極シートは、本硬化の後に打ち抜き加工により所望の形状に加工する場合もある。この場合、半硬化状態の導電層(X)は、所定の伸び率範囲であることでさらに良好な打ち抜き加工性が得られる。具体的には、25℃におけるS−S曲線(応力−ひずみ曲線)から算出される伸び率が50%〜300%であることが好ましい。伸び率が50%以上になることで本硬化後の導電層(X)が破断し難くなる。また300%以下になることで打ち抜き不良が生じにくくなる。   The electrode sheet of the present invention may be processed into a desired shape by punching after main curing. In this case, in the semi-hardened conductive layer (X), better punching processability can be obtained by being in a predetermined elongation range. Specifically, it is preferable that the elongation rate calculated from the SS curve (stress-strain curve) at 25 ° C. be 50% to 300%. When the elongation percentage is 50% or more, the conductive layer (X) after main curing hardly breaks. Moreover, it becomes difficult to produce a punching defect because it becomes 300% or less.

本発明の電極シートは、導電層(X)を使用して、例えば、絶縁層(Y)や誘電層(Z)とを仮貼りしたのち高温で加熱することで半硬化状態の導電層(X)を本硬化することができる。本硬化により優れた接着強度および耐熱性が得られる。
本硬化の加熱温度は、130〜210℃が好ましく、140〜200℃がより好ましい。加熱の際に加圧することができるが、その圧力は、0.2〜12MPaが好ましく、0.3〜10MPaがより好ましい。
The electrode sheet of the present invention uses the conductive layer (X), for example, temporarily bonds the insulating layer (Y) and the dielectric layer (Z), and then heating at a high temperature to obtain a semi-cured conductive layer (X ) Can be cured. The main curing provides excellent adhesive strength and heat resistance.
130-210 degreeC is preferable and, as for the heating temperature of this hardening, 140-200 degreeC is more preferable. Although it can pressurize in the case of heating, 0.2-12 Mpa is preferable and 0.3-10 Mpa is more preferable.

本発明の導電層(X)および電極シートは、次に示すような静電容量型の生体センサー、近接センサー、生体インピーダンスを測定機のセンサー電極部分に使用することができる。但し、ここに示す構成例や使用例に限られたものではない。   The conductive layer (X) and the electrode sheet of the present invention can be used for a capacitance type bio-sensor, a proximity sensor, and a bio-impedance sensor electrode portion of a measuring machine as shown below. However, the present invention is not limited to the configuration examples and usage examples shown here.

静電容量型生体センサーの構成例を以下に示す。

Figure 0006503924
An exemplary configuration of a capacitive biosensor is shown below.
Figure 0006503924

静電容量型近接センサーの構成例を以下に示す。

Figure 0006503924
An exemplary configuration of a capacitive proximity sensor is shown below.
Figure 0006503924

生体インピーダンス測定機の構成例を以下に示す。

Figure 0006503924
An example of the configuration of a bioelectrical impedance measuring instrument is shown below.
Figure 0006503924

図に基づいて、本発明のセンサー用電極シートの種々の態様について説明する。
図1(1)は導電層(X)のみからなるセンサー用電極シートである。
図1(2)は導電層(X)と絶縁層(Y)とからなるセンサー用電極シートであり、請求項3に係るセンサー用電極シートの態様の一例を示す。図1(3)は導電層(X)と誘電層(Z)とからなるセンサー用電極シートであり、請求項2に係るセンサー用電極シートの態様の一例を示す。
図1(4)は絶縁層(Y)と導電層(X)と誘電層(Z)とをこの順序で具備するセンサー用電極シートであり、請求項3に係るセンサー用電極シートの態様の一例を示す。図1(5)は2つの導電層(X)間に誘電層(Z)を具備するものであり、請求項4に係るセンサー用電極シートの態様の一例を示す。なお、請求項4では2つの導電層(X)を(X1)、(X2)として区別したが、図1(5)では(X)として省略する。
図1(6)は2つの導電層(X)間に絶縁層(Y)を具備するものであり、請求項3に係るセンサー用電極シートの態様の一例を示す。
Various aspects of the sensor electrode sheet of the present invention will be described based on the drawings.
FIG. 1 (1) is an electrode sheet for sensors which consists only of a conductive layer (X).
FIG. 1 (2) is a sensor electrode sheet comprising a conductive layer (X) and an insulating layer (Y), and shows an example of the aspect of the sensor electrode sheet according to claim 3. FIG. 1 (3) is an electrode sheet for sensors which consists of a conductive layer (X) and a dielectric layer (Z), and shows an example of a mode of an electrode sheet for sensors concerning Claim 2. FIG.
FIG. 1 (4) is a sensor electrode sheet including an insulating layer (Y), a conductive layer (X), and a dielectric layer (Z) in this order, and an example of the embodiment of the sensor electrode sheet according to claim 3. Indicates FIG. 1 (5) comprises a dielectric layer (Z) between two conductive layers (X), and shows an example of the aspect of a sensor electrode sheet according to claim 4. Although the two conductive layers (X) are distinguished as (X1) and (X2) in claim 4, they are omitted as (X) in FIG. 1 (5).
FIG. 1 (6) comprises an insulating layer (Y) between two conductive layers (X), and shows an example of an embodiment of a sensor electrode sheet according to claim 3.

図1(7)は、2つの導電層(X)間に誘電層(Z)を具備するセンサー用電極シートの片方の導電層(X)の他面、すなわち誘電層(Z)が接していない面に絶縁層(Y)を設けたものであり、
図1(8)は、2つの導電層(X)間に誘電層(Z)を具備するセンサー用電極シートの両方の導電層(X)の他面に2つの絶縁層(Y)を設けたものであり、いずれも請求項5に係るセンサー用電極シートの態様の一例を示す。なお、請求項5では2つの導電層(X)を(X1)、(X2)として区別したが、図1(7)、(8)では(X)として省略する。
導電層(X)と絶縁層(Y)という単位に着目すれば、図1(7)〜(10)は、請求項3に係るセンサー用電極シートの他の態様と言うことができる。
In FIG. 1 (7), the other side of one conductive layer (X) of the sensor electrode sheet having a dielectric layer (Z) between two conductive layers (X), that is, the dielectric layer (Z) is not in contact An insulating layer (Y) is provided on the surface,
In FIG. 1 (8), two insulating layers (Y) are provided on the other surface of both conductive layers (X) of a sensor electrode sheet having a dielectric layer (Z) between two conductive layers (X). All show an example of the aspect of the electrode sheet for sensors which concerns on Claim 5, respectively. Although the two conductive layers (X) are distinguished as (X1) and (X2) in claim 5, they are omitted as (X) in FIGS. 1 (7) and (8).
If attention is paid to the units of the conductive layer (X) and the insulating layer (Y), FIGS. 1 (7) to (10) can be said to be other embodiments of the sensor electrode sheet according to claim 3.

図2(11)は3つの導電層(X)と2つの誘電層(Z)を具備し、2の導電層(X)の間に誘電層(Z)を具備するものであり、請求項4に係るセンサー用電極シートの態様の一例を示す。なお、図2(1)では3つの導電層(X)、2つの誘電層(Z)の記号上の区別は省略する。
導電層(X)と絶縁層(Y)という単位に着目すれば、図2(12)〜(17)は、請求項3に係るセンサー用電極シートの他の態様と言うことができる。また、絶縁層(Y)と導電層(X)と誘電層(Z)という単位に着目すれば、図2(12)〜(17)は、請求項4に係るセンサー用電極シートの他の態様と言うこともできる。
FIG. 2 (11) comprises three conductive layers (X) and two dielectric layers (Z), and comprises a dielectric layer (Z) between two conductive layers (X), An example of the aspect of the electrode sheet for sensors which concerns on FIG. In FIG. 2 (1), the symbol distinction of the three conductive layers (X) and the two dielectric layers (Z) is omitted.
If attention is paid to the units of the conductive layer (X) and the insulating layer (Y), FIGS. 2 (12) to 2 (17) can be said to be another aspect of the sensor electrode sheet according to claim 3. Moreover, focusing on the units of the insulating layer (Y), the conductive layer (X) and the dielectric layer (Z), FIGS. 2 (12) to 2 (17) are other embodiments of the sensor electrode sheet according to claim 4. It can also be said.

図3(18)は、絶縁層(Y)の両サイドに、導電層(X)と誘電層(Z)と導電層(X)とをそれぞれ対称に設けたセンサー用電極シートであり、請求項6に係るセンサー用電極シートの態様の一例を示す。請求項6では4つの導電層(X)を(X3)〜(X6)とし、また2つの誘電層(Z)を(Z1)、(Z2)として区別したが、図3(18)では(X)、(Z)として省略する。
導電層(X)と絶縁層(Y)という単位に着目すれば、図3(18)は、請求項3に係るセンサー用電極シートの他の態様と言うことができる。また、絶縁層(Y)と導電層(X)と誘電層(Z)という単位に着目すれば、図3(18)は、請求項4に係るセンサー用電極シートの他の態様と言うこともできる。
FIG. 3 (18) is a sensor electrode sheet in which a conductive layer (X), a dielectric layer (Z) and a conductive layer (X) are provided symmetrically on both sides of the insulating layer (Y), respectively. An example of the aspect of the electrode sheet for sensors which concerns on 6 is shown. In the sixth embodiment, four conductive layers (X) are (X3) to (X6), and two dielectric layers (Z) are distinguished as (Z1) and (Z2), but in FIG. ), Omitted as (Z).
Focusing on the units of the conductive layer (X) and the insulating layer (Y), FIG. 3 (18) can be said to be another aspect of the sensor electrode sheet according to claim 3. Moreover, focusing on the units of the insulating layer (Y), the conductive layer (X), and the dielectric layer (Z), FIG. 3 (18) also refers to another aspect of the sensor electrode sheet according to claim 4. it can.

図3(19)は、図3(18)に示すセンサー用電極シートにおける一方の表面層である導電層(X)上にさらに絶縁層(Y)を設けたものであり、
図3(20)は、図3(18)に示すセンサー用電極シートにおける両方の表面層である導電層(X)上にさらに絶縁層(Y)を設けたものであり、いずれも請求項7に係るセンサー用電極シートの態様の一例を示す。
記号の省略は図3(18)の場合と同様であり、導電層(X)と絶縁層(Y)という単位に着目すれば、請求項3に係るセンサー用電極シートの他の態様と言うことができ、絶縁層(Y)と導電層(X)と誘電層(Z)という単位に着目すれば、請求項4に係るセンサー用電極シートの他の態様と言うこともできる点も、図3(18)の場合と同様である。
FIG. 3 (19) is obtained by further providing an insulating layer (Y) on the conductive layer (X) which is one surface layer of the sensor electrode sheet shown in FIG. 3 (18).
FIG. 3 (20) is obtained by further providing an insulating layer (Y) on the conductive layer (X) which is both surface layers in the sensor electrode sheet shown in FIG. 3 (18). An example of the aspect of the electrode sheet for sensors which concerns on FIG.
The omission of the symbols is the same as in FIG. 3 (18), and focusing on the units of the conductive layer (X) and the insulating layer (Y), another aspect of the sensor electrode sheet according to claim 3 And focusing on the units of the insulating layer (Y), the conductive layer (X), and the dielectric layer (Z), another aspect of the sensor electrode sheet according to the fourth aspect can be said as well. It is similar to the case of (18).

図1〜図3に示す各種態様のセンサー用電極シートは、打ち抜き加工、カッター、はさみ、裁断機などで、所望の種々の大きさ・形状に加工してから、使用することができる。
あるいは、
図1(2)〜図3に示す各種態様のセンサー用電極シートは、硬化前の導電層に対し、絶縁層(Y)や誘電層(Z)を仮積層した後に、打ち抜き加工やカッター、はさみ、裁断機などで、所望の種々の大きさ・形状に加工してから、導電層形成材料を硬化し、導電層(X)を形成し、することができる。
The sensor electrode sheet of various aspects shown in FIGS. 1 to 3 can be used after being processed into desired various sizes and shapes by punching, a cutter, scissors, a cutting machine or the like.
Or
The electrode sheets for sensors of various embodiments shown in FIGS. 1 (2) to 3 are obtained by temporarily laminating an insulating layer (Y) and a dielectric layer (Z) on the conductive layer before curing, and then punching, cutting, cutting or pinching it. After processing into a desired various size and shape with a cutter or the like, the conductive layer forming material can be cured to form the conductive layer (X).

さらに図4に示す別の態様のセンサー用電極シートについて説明する。
図4(1)は、誘電層(Z)の一方の面に導電層(X)と絶縁層(Y)との帯状の積層部を複数設け、誘電層(Z)の他方の面には導電層(X)と絶縁層(Y)との帯状の積層部を複数設けたものである。
図4(2)は図4(1)のA−A‘で切った場合の断面図、図4(3)は図4(1)のB−B‘で切った場合の断面図、図4(4)は図4(1)を上面側から見た図、図4(5)は図4(1)を下面側から見た図であり、これら図4(2)〜(5)に示すように各面における複数の帯状の積層部は、ほぼ直行するように設けられている。
図4(2)におけるC−C‘で切った場合の断面図は、図1(8)となる。
図4に示す帯状の積層部を複数設けたセンサー用電極シートはそのまま使用することもできるし、帯状部と帯状部との間で切り離し、各小片をセンサー用電極シートして用いることもできる。
Furthermore, the sensor electrode sheet of another aspect shown in FIG. 4 is demonstrated.
In FIG. 4 (1), a plurality of strip-shaped stacked portions of a conductive layer (X) and an insulating layer (Y) are provided on one surface of the dielectric layer (Z), and the other surface of the dielectric layer (Z) is conductive A plurality of strip-shaped stacked portions of the layer (X) and the insulating layer (Y) are provided.
4 (2) is a cross-sectional view taken along the line A-A 'of FIG. 4 (1), FIG. 4 (3) is a cross-sectional view taken along the line B-B' of FIG. 4 (1), FIG. FIG. 4 (4) is a view of FIG. 4 (1) viewed from the top side, and FIG. 4 (5) is a view of FIG. 4 (1) viewed from the bottom side. As such, the plurality of strip-shaped stacked portions in each surface are provided to be substantially orthogonal.
The cross-sectional view in the case of cutting along the line CC 'in FIG. 4 (2) is as shown in FIG. 1 (8).
The sensor electrode sheet provided with a plurality of strip-like laminated portions shown in FIG. 4 can be used as it is, or can be separated between the strip-like portions and the strip-like portions, and each small piece can be used as a sensor electrode sheet.

図5は、誘電層(Z)上に設ける導電層(X)と絶縁層(Y)との積層部が帯状ではなく、断片(切片)となっている点が図4の場合と異なる。
図5の場合も、図4の場合と同様、大きいままセンサー用電極シートして用いることもできるし、各断片(切片)を切り離し、各小片をそれぞれセンサー用電極シートして用いることもできる。
なお、図示はしないが、誘電層(Z)の一方の面に設ける積層部を帯状とし、他方の面に設ける積層部を断片(切片)とすることも可能である。
FIG. 5 is different from the case of FIG. 4 in that the laminated portion of the conductive layer (X) and the insulating layer (Y) provided on the dielectric layer (Z) is not a strip but a fragment.
Also in the case of FIG. 5, as in the case of FIG. 4, it can be used as a sensor electrode sheet as it is large, or each piece (section) can be cut off and each piece can be used as a sensor electrode sheet.
Although not shown in the drawings, it is also possible to make the laminated portion provided on one surface of the dielectric layer (Z) into a band shape and to make the laminated portion provided on the other surface a segment.

次に、実施例を示して本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
なお、例中、「部」は「重量部」を、「%」は「重量%」を表すものとする。また、「Mn」は数平均分子量を、「Mw」は重量平均分子量を表す。
EXAMPLES The present invention will next be described in more detail by way of examples, which should not be construed as limiting the invention thereto.
In the examples, "part" represents "part by weight" and "%" represents "% by weight". Moreover, "Mn" represents a number average molecular weight and "Mw" represents a weight average molecular weight.

<重量平均分子量の測定方法>
重量平均分子量は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)測定で求めたポリスチレン換算の数値である。測定条件は以下のとおりである。
装置:Shodex GPC System−21(昭和電工社製)
カラム:Shodex KF−802、KF−803L、KF−805L(昭和電工社製
)の合計3本を連結して使用。
溶媒:テトラヒドロフラン
流速:1.0ml/min
温度:40℃
試料濃度:0.2重量%
試料注入量:100μl
<Method of measuring weight average molecular weight>
The weight average molecular weight is a value in terms of polystyrene calculated by GPC (gel permeation chromatography) measurement. The measurement conditions are as follows.
Device: Shodex GPC System-21 (made by Showa Denko)
Column: A total of three columns of Shodex KF-802, KF-803L, and KF-805L (manufactured by Showa Denko) are used in connection.
Solvent: tetrahydrofuran flow rate: 1.0 ml / min
Temperature: 40 ° C
Sample concentration: 0.2% by weight
Sample injection volume: 100 μl

[合成例1]
攪拌機、温度計、還流冷却器、滴下装置、窒素導入管を備えた反応容器に、ポリオキシテトラメチレングリコール(「PTG−2000SN」、Mn=2029 保土ヶ谷化学工業社製)195.0部、ジメチロールブタン酸6.70部、イソホロンジイソシアネート40.8部、トルエン70.0部を仕込み、窒素雰囲気下90℃4時間反応させ、これにトルエン250部を加えて、Mw=22,000のイソシアネート基を有するウレタンプレポリマー溶液を得た。
次に、イソホロンジアミン6.11部、ジ−n−ブチルアミン0.59部、2−プロパノール112.5部、トルエン184.5部を混合したものに、得られたイソシアネート基を含むウレタンプレポリマー溶液506.3部を添加し、85℃4時間反応させ、Mw=105,000、酸価=10.2mgKOH/g、不揮発分25%であるポリウレタンウレア樹脂A−1の溶液を得た。
Synthesis Example 1
A reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping device, and a nitrogen introducing pipe, 195.0 parts of polyoxytetramethylene glycol ("PTG-2000SN", Mn = 2029, Hodogaya Chemical Industry Co., Ltd.), dimethylol 6.70 parts of butanoic acid, 40.8 parts of isophorone diisocyanate and 70.0 parts of toluene are charged, reacted at 90 ° C. for 4 hours under a nitrogen atmosphere, 250 parts of toluene are added thereto, and isocyanate group of Mw = 22,000 is obtained The obtained urethane prepolymer solution was obtained.
Next, the obtained urethane prepolymer solution containing an isocyanate group in a mixture of 6.11 parts of isophorone diamine, 0.59 parts of di-n-butylamine, 112.5 parts of 2-propanol and 184.5 parts of toluene. 506.3 parts were added and reacted at 85 ° C. for 4 hours to obtain a solution of polyurethane urea resin A-1 having Mw = 105,000, acid value = 10.2 mg KOH / g, nonvolatile content 25%.

[合成例2]
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、多塩基酸化合物としてプリオール1009(CRODA社製 水添蒸留ダイマー酸)を173.5g、ポリアミン化合物としてプリアミン1074(CRODA社製 ダイマージアミン)を157.9g仕込み、発熱の温度が一定になるまで撹拌した。温度が安定したことを確認後110℃まで加熱し、脱水反応の開始を確認してから、30分間かけて温度を120℃まで加熱した。その後、温度が30分間で10℃高くなる速度で加熱を行った。温度が230℃に到達した後は、温度を維持して3時間反応を継続した。その後、約2kPaの真空下まで減圧した状態を1時間保持した後、冷却した。次いで、酸化防止剤を添加し、重量平均分子量124000、酸価4mgKOH/g、ガラス転移温度−58℃のポリアミド樹脂エラストマーC−1を得た。
Synthesis Example 2
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, nitrogen inlet tube, inlet tube, thermometer, 173.5 g of Priol 1009 (hydrodistillation dimer acid manufactured by CRODA) as a polybasic acid compound, and priamine as a polyamine compound 157.9 g of 1074 (dimer diamine manufactured by CRODA) was charged and stirred until the temperature of heat generation became constant. After confirming that the temperature was stable, it was heated to 110 ° C., and after confirming the start of the dehydration reaction, the temperature was heated to 120 ° C. over 30 minutes. Thereafter, heating was carried out at a rate at which the temperature was raised by 10 ° C. for 30 minutes. After the temperature reached 230 ° C., the temperature was maintained and the reaction was continued for 3 hours. Then, after holding the state decompressed to the vacuum of about 2 kPa for 1 hour, it cooled. Then, an antioxidant was added to obtain a polyamide resin elastomer C-1 having a weight average molecular weight of 124000, an acid value of 4 mg KOH / g, and a glass transition temperature of -58 ° C.

[合成例3]
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた4口フラスコに、ポリカーボネートジオール(クラレポリオール C−2090:株式会社クラレ製:3−メチル−1,5−ペンタンジオール/1,6−ヘキサンジオール=9/1(モル比)共重合ポリカーボネートジオール:水酸基価=56mgKOH/g、Mw=2000)292.1部、テトラヒドロ無水フタル酸(リカシッドTH:新日本理化株式会社製)44.9部、溶剤としてトルエン350部を仕込み、窒素気流下、攪拌しながら60℃まで昇温し、均一に溶解させた。続いてこのフラスコを110℃に昇温し、3時間反応させた。その後、40℃に冷却後、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(YD−8125:東都化成株式会社製:エポキシ当量=175g/eq)62.9部、触媒としてトリフェニルホスフィン4部を添加して110℃に昇温し、8時間反応させた。室温まで冷却後、テトラヒドロ無水フタル酸11.8部を添加し、110℃で3時間反応させた。室温まで冷却後、トルエンで固形分が35%になるよう調整し、本発明のカルボキシル基含有変性エステル樹脂(A)溶液を得た。本製造例によって得たカルボキシル基含有変性エステル樹脂(A)の重量平均分子量は12600、実測による樹脂固形分の酸価は15.3mgKOH/gであった。
Synthesis Example 3
Polycarbonate diol (Kuraray polyol C-2090: manufactured by Kuraray Co., Ltd .: 3-methyl-1,5-pentanediol / 1) in a 4-neck flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a nitrogen inlet, an inlet, and a thermometer. , 6-hexanediol = 9/1 (molar ratio) copolymerized polycarbonate diol: hydroxyl value = 56 mg KOH / g, Mw = 2000 292.1 parts, tetrahydrophthalic anhydride (Rikasid TH: manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.) 44 .9 parts and 350 parts of toluene as a solvent were charged, and the temperature was raised to 60 ° C while stirring under a nitrogen stream to dissolve uniformly. Subsequently, the flask was heated to 110 ° C. and allowed to react for 3 hours. Then, after cooling to 40 ° C., 62.9 parts of bisphenol A type epoxy resin (YD-8125: manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd .: epoxy equivalent = 175 g / eq) and 4 parts of triphenylphosphine as a catalyst are added to 110 ° C. The temperature was raised and reacted for 8 hours. After cooling to room temperature, 11.8 parts of tetrahydrophthalic anhydride was added and allowed to react at 110 ° C. for 3 hours. After cooling to room temperature, the solid content was adjusted to 35% with toluene to obtain a carboxyl group-containing modified ester resin (A) solution of the present invention. The weight average molecular weight of the carboxyl group-containing modified ester resin (A) obtained by this production example was 12600, and the acid value of the resin solid content by measurement was 15.3 mg KOH / g.

[製造例1:センサー用導電層形成材料1の製造例]
ポリウレタンウレア樹脂A−1の溶液400部、ビスフェノールAタイプエポキシ60部(「アデカレジンEP−4100」、エポキシ当量=190g/Eq ADEKA社製)、エラストマーとしてポリアミド樹脂C−1(ガラス転移温度−58℃、25℃における貯蔵弾性率45MPA、酸価4、引張弾性率11MPA)75部、導電性フィラーとして格体に銅、被覆層に銀を使用した樹枝粒子(D50=11μm、福田金属箔粉工業社製)300部、硬化剤として、2−メチルイミダゾール3部、無機フィラーとしてシリカ(「NipsilSS−50F」 東ソーシリカ社製)25部、シランカップリング剤としてn−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシランを混合し、導電層形成材料を得た。
このセンサー用導電層形成材料を剥離性シートに塗工して100℃で2分間乾燥させ、厚さ40μmのセンサー用導電層形成材料を得た。センサー用導電層形成材料のゲル分率を後述する方法に従って求めたところ80%であった。
[Production Example 1: Production Example of Conductive Layer Forming Material 1 for Sensor]
400 parts of a solution of polyurethane urea resin A-1, 60 parts of bisphenol A type epoxy ("ADECA RESIN EP-4100", epoxy equivalent = 190 g / Eq manufactured by ADEKA), polyamide resin C-1 as an elastomer (glass transition temperature-58 ° C Storage modulus at 25 ° C., 45 MPA, acid number 4, tensile modulus 11 MPA, 75 parts, conductive particles such as copper in the case body, silver in the coating layer (D 50 = 11 μm, Fukuda metal foil powder industry) 300 parts as a curing agent, 3 parts of 2-methylimidazole, 25 parts of silica ("Nipsil SS-50F" manufactured by Tosoh Silica Corporation) as an inorganic filler, n-2- (aminoethyl) -3 as a silane coupling agent -Aminopropylmethyl dimethoxysilane was mixed to obtain a conductive layer forming material.
The conductive layer forming material for a sensor was coated on a peelable sheet and dried at 100 ° C. for 2 minutes to obtain a conductive layer forming material for a sensor with a thickness of 40 μm. It was 80% when the gel fraction of the conductive layer forming material for sensors was calculated | required according to the method mentioned later.

<ゲル分率>
100メッシュのステンレス金網を幅30mm・長さ100mmに準備し、重量(W1)を測定した。続いて、センサー用導電層形成材料を幅10mm・長さ80mmの大きさに準備し、前記ステンレス金網でセンサー用導電層形成材料が見えないように包み試験片とし、重量(W2)を測定した。作製した試験片を室温(25℃)でメチルエチルケトン(MEK)中に浸漬し、1時間放置した。次いで試験片をMEKから取り出し、150℃で10分間乾燥した後、重量(W3)を測定した。そして下算式(1)を用いてゲル分率を算出した。
(W3−W1)/(W2−W1)×100[%] 数式(1)
<Gel fraction>
A stainless steel wire mesh of 100 mesh was prepared to have a width of 30 mm and a length of 100 mm, and the weight (W1) was measured. Subsequently, a conductive layer forming material for a sensor was prepared to a size of 10 mm wide and 80 mm long, and the stainless steel wire mesh was used as a test specimen wrapped so that the conductive layer forming material for a sensor was not visible, and the weight (W2) was measured. . The produced test piece was immersed in methyl ethyl ketone (MEK) at room temperature (25 ° C.) and left for 1 hour. The test pieces were then removed from MEK and dried at 150 ° C. for 10 minutes, and then the weight (W3) was measured. Then, the gel fraction was calculated using the lower equation (1).
(W3-W1) / (W2-W1) × 100 [%] Formula (1)

[製造例2:センサー用絶縁層形成材料1の製造例]
ポリウレタンウレア樹脂A−1の溶液400部、ビスフェノールAタイプエポキシ60部(「アデカレジンEP−4100」、エポキシ当量=190g/Eq ADEKA社製)、エラストマーとしてポリアミド樹脂C−1(ガラス転移温度−58℃、25℃における貯蔵弾性率45MPA、酸価4、引張弾性率11MPA)75部、硬化剤として、2−メチルイミダゾール3部、無機フィラーとしてシリカ(「NipsilSS−50F」 東ソーシリカ社製)25部、シランカップリング剤としてn−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシランを混合し、センサー用絶縁層形成材料を得た。
このセンサー用絶縁層形成材料を剥離性シートに塗工して100℃で2分間乾燥させ、厚さ40μmのセンサー用絶縁層形成材料を得た。
[Production Example 2: Production Example of Insulating Layer Forming Material 1 for Sensor]
400 parts of a solution of polyurethane urea resin A-1, 60 parts of bisphenol A type epoxy ("ADECA RESIN EP-4100", epoxy equivalent = 190 g / Eq manufactured by ADEKA), polyamide resin C-1 as an elastomer (glass transition temperature-58 ° C Storage modulus at 25 ° C., 45 MPA, acid number 4, tensile modulus 11 MPA, 75 parts, curing agent, 3 parts of 2-methylimidazole, inorganic filler, silica ("Nipsil SS-50F" manufactured by Tosoh Silica Corporation), 25 parts N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane was mixed as a silane coupling agent to obtain a sensor insulating layer forming material.
This insulating layer forming material for a sensor was coated on a peelable sheet and dried at 100 ° C. for 2 minutes to obtain a 40 μm thick insulating layer forming material for a sensor.

[製造例3:センサー用絶縁層形成材料2の製造例]
合成例2で得られたカルボキシル基含有変性エステル樹脂(A)溶液の固形分100部に対して、多官能グリシジルエーテル型エポキシ樹脂(三菱化学社製「エピコート1031S」)20部、および、熱硬化助剤としてケミタイトPZ(株式会社日本触媒製、多官能アジリジン化合物)1部を混合し、センサー用絶縁層形成材料2を得た。これを剥離性シート上に、乾燥後の膜厚が30μmとなるように均一に塗工して乾燥させ、センサー用絶縁層形成材料2を得た。
[Production Example 3: Production Example of Insulating Layer Forming Material 2 for Sensor]
20 parts of polyfunctional glycidyl ether type epoxy resin ("Epicoat 1031S" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) per 100 parts of solid content of the carboxyl group-containing modified ester resin (A) solution obtained in Synthesis Example 2 and thermosetting 1 part of Chemitite PZ (multifunctional aziridine compound, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) was mixed as an auxiliary agent to obtain a sensor insulating layer forming material 2. This was uniformly coated on the peelable sheet so that the film thickness after drying was 30 μm and dried to obtain a sensor insulating layer forming material 2.

実施例1:電極シート製造例1
製造例1で得られた、寸法10cm×10cmの導電層形成材料1に、絶縁層(Y)として寸法10cm×10cm、厚さ100μm、のポリイミドフィルム(デュポン(株)製、カプトン400H)を積層し、170℃、2MPa、5分の条件で圧着処理をした後、160℃の電気オーブンで60分加熱をして、寸法10cm×10cmの絶縁層/導電層の電極シートを得た。なお積層の際に10mm×30mmの新日鐵株式会社製ポリイミド銅貼り積層板「エスパネックスM」の銅箔面側の端部を導電層側に正方形の対辺に1つず
つ設置し、抵抗測定、静電容量を測定する際の取り出し電極とした。
Example 1: Electrode sheet production example 1
A 10 cm × 10 cm, 100 μm thick polyimide film (manufactured by DuPont Co., Ltd., Kapton 400H) is laminated as an insulating layer (Y) on the conductive layer forming material 1 of 10 cm × 10 cm obtained in Production Example 1 The resultant was crimped under conditions of 170 ° C., 2 MPa, and 5 minutes, and then heated for 60 minutes in an electric oven at 160 ° C. to obtain an electrode sheet of an insulating layer / conductive layer having a size of 10 cm × 10 cm. During lamination, place one end of the copper foil side of the 10 mm x 30 mm polyimide copper-clad laminate "Spanex M" by Nippon Steel Corp. on the conductive layer side on the opposite side of the square, and measure the resistance. , It was taken out electrode at the time of measuring electrostatic capacity.

実施例2:電極シート製造例1−2
製造例1で得られた寸法10cm×10cmのセンサー用導電層形成材料1に、製造例2で得られた寸法10cm×10cmのセンサー用絶縁層形成材料1を積層し、170℃、2MPa、5分の条件で圧着処理をした後、160℃の電気オーブンで60分加熱をして、寸法10cm×10cmの絶縁層/導電層の電極シートを得た。なお積層の際に10mm×30mmの新日鐵株式会社製ポリイミド銅貼り積層板「エスパネックスM」の銅箔面側の端部を導電層側に正方形の対辺に1つずつ設置し、抵抗測定、静電容量を測定する
際の取り出し電極とした。
Example 2: Example of electrode sheet production 1-2
The insulating layer forming material 1 for sensor having a size of 10 cm × 10 cm obtained in Production Example 2 is stacked on the conductive layer forming material for a sensor having a size of 10 cm × 10 cm obtained in Manufacturing Example 1 at 170 ° C., 2 MPa, 5 After pressure-bonding treatment under conditions of minutes, heating was performed in an electric oven at 160 ° C. for 60 minutes to obtain an electrode sheet of an insulating layer / conductive layer having a size of 10 cm × 10 cm. During lamination, place one end of the copper foil side of the 10 mm x 30 mm polyimide copper-clad laminate "Spanex M" by Nippon Steel Corp. on the conductive layer side on the opposite side of the square, and measure the resistance. , It was taken out electrode at the time of measuring electrostatic capacity.

実施例3:電極シート製造例1−3
製造例1で得られた寸法10cm×10cmのセンサー用導電層形成材料1に、製造例3で得られた寸法10cm×10cmのセンサー用絶縁層形成材料2を積層し、170℃、2MPa、5分の条件で圧着処理をした後、160℃の電気オーブンで60分加熱をして、寸法10cm×10cmの絶縁層/導電層の電極シートを得た。なお積層の際に10mm×30mmの新日鐵株式会社製ポリイミド銅貼り積層板「エスパネックスM」の銅箔面側の端部を導電層側に正方形の対辺に1つずつ設置し、抵抗測定、静電容量を測定する
際の取り出し電極とした。
Example 3: Production Example of Electrode Sheet 1-3
The insulating layer forming material 2 for sensor having a size of 10 cm × 10 cm obtained in Production Example 3 is stacked on the conductive layer forming material for a sensor having a size of 10 cm × 10 cm obtained in Manufacturing Example 1 and 170 ° C., 2 MPa, 5 After pressure-bonding treatment under conditions of minutes, heating was performed in an electric oven at 160 ° C. for 60 minutes to obtain an electrode sheet of an insulating layer / conductive layer having a size of 10 cm × 10 cm. During lamination, place one end of the copper foil side of the 10 mm x 30 mm polyimide copper-clad laminate "Spanex M" by Nippon Steel Corp. on the conductive layer side on the opposite side of the square, and measure the resistance. , It was taken out electrode at the time of measuring electrostatic capacity.

実施例4:電極シート製造例2
製造例1で得られた寸法10cm×10cmの導電層形成材料1に、絶縁層(Y)として寸法10cm×10cmの厚さ100μmのポリイミドフィルム(デュポン(株)製、カプトン400H)、誘電層(Z)として、寸法10cm×10cmの厚さ700μmの発泡ホットメルト樹脂(東洋アドレ社製)を用い、絶縁層/導電層形成材料/誘電層/導電層形成材料/絶縁層の順に積層し、170℃、2MPa、5分の条件で圧着処理をした後、160℃の電気オーブンで60分加熱をして、寸法10cm×10cmの絶縁層/導電層/誘電層/導電層/絶縁層の電極シートを得た。なお積層の際に10mm×30mmの新日鐵株式会社製ポリイミド銅貼り積層板「エスパネックスM」の銅箔面側の端部を導電層側に正方形の対辺に1つずつ設置し、抵抗測定、静電容量を測定する際の取り出し電極とした。
Example 4: Example of electrode sheet production 2
A 10 cm × 10 cm conductive layer-forming material 1 obtained in Production Example 1 was used as an insulating layer (Y), a polyimide film (Dupont Co., Ltd., Kapton 400H) having a dimension of 10 cm × 10 cm, a dielectric layer As Z), using a foamed hot melt resin (made by Toyo Admiral Co., Ltd.) having a size of 10 cm × 10 cm and a thickness of 700 μm, laminating in the order of insulating layer / conductive layer forming material / dielectric layer / conductive layer forming material / insulating layer, 170 After pressure bonding under conditions of 2 ° C, 2MPa, 5 minutes, it is heated in an electric oven at 160 ° C for 60 minutes, and an electrode sheet of insulating layer / conductive layer / dielectric layer / conductive layer / insulating layer of dimensions 10 cm × 10 cm I got During lamination, place one end of the copper foil side of the 10 mm x 30 mm polyimide copper-clad laminate "Spanex M" by Nippon Steel Corp. on the conductive layer side on the opposite side of the square, and measure the resistance. , It was taken out electrode at the time of measuring electrostatic capacity.

実施例5:電極シート製造例2−1
製造例1で得られた寸法10cm×10cmのセンサー用導電層形成材料1に、製造例2で得られた寸法10cm×10cmのセンサー用絶縁層形成材料1を積層して、センサー用絶縁層形成材料/センサー用導電層形成材料を得た。
誘電層(Z)として、寸法10cm×10cmの厚さ700μmの発泡ホットメルト樹脂(東洋アドレ社製)を用い、センサー用絶縁層形成材料/センサー用導電層形成材料/誘電層/センサー用導電層形成材料/センサー用絶縁層形成材料となるように順に積層し、170℃、2MPa、5分の条件で圧着処理をした後、160℃の電気オーブンで60分加熱をして、寸法10cm×10cmの絶縁層/導電層/誘電層/導電層/絶縁層の電極シートを得た。なお積層の際に10mm×30mmの新日鐵株式会社製ポリイミド銅貼り積層板「エスパネックスM」の銅箔面側の端部を導電層側に正方形の対辺に1つずつ設
置し、抵抗測定、静電容量を測定する際の取り出し電極とした。
Example 5: Electrode sheet production example 2-1
Insulating layer forming material 1 for a sensor having a size of 10 cm × 10 cm obtained in Production Example 2 is laminated on the conductive layer forming material for a sensor having a size of 10 cm × 10 cm obtained in Production Example 1 to form an insulating layer for a sensor Material / Conductive layer forming material for sensor was obtained.
Insulating layer forming material for sensor / conductive layer forming material for sensor / dielectric layer / conductive layer for sensor, using a foam hot melt resin (made by Toyo Addressee Co., Ltd.) having a dimension of 10 cm × 10 cm as a dielectric layer (Z) Forming material / insulating layer forming material for sensor It laminates in order so as to become a forming material, and after performing pressure bonding processing under conditions of 170 ° C, 2MPa, 5 minutes, it is heated for 60 minutes in an electric oven at 160 ° C, size 10cm × 10cm An electrode sheet of insulating layer / conductive layer / dielectric layer / conductive layer / insulating layer was obtained. During lamination, place one end of the copper foil side of the 10 mm x 30 mm polyimide copper-clad laminate "Spanex M" by Nippon Steel Corp. on the conductive layer side on the opposite side of the square, and measure the resistance. , It was taken out electrode at the time of measuring electrostatic capacity.

実施例6 電極シート製造例2−2
実施例5において、センサー用絶縁層形成材料1をセンサー用絶縁層形成材料2に変えた以外は同様にして、寸法10cm×10cmの絶縁層/導電層/誘電層/導電層/絶縁層の電極シートを得た。なお積層の際に10mm×30mmの新日鐵株式会社製ポリイミド銅貼り積層板「エスパネックスM」の銅箔面側の端部を導電層側に正方形の対辺に1つずつ設置し、抵抗測定、静電容量を測定する際の取り出し電極とした。
Example 6 Production Example of Electrode Sheet 2-2
In Example 5, an electrode of insulating layer / conductive layer / dielectric layer / conductive layer / insulating layer having a dimension of 10 cm × 10 cm is similarly manufactured except that the sensor insulating layer forming material 1 is changed to the sensor insulating layer forming material 2. I got a sheet. During lamination, place one end of the copper foil side of the 10 mm x 30 mm polyimide copper-clad laminate "Spanex M" by Nippon Steel Corp. on the conductive layer side on the opposite side of the square, and measure the resistance. , It was taken out electrode at the time of measuring electrostatic capacity.

実施例7 電極シート製造例3
製造例1で得られた導電層形成材料1に、絶縁層(Y)として寸法10cm×10cmの厚さ100μmのポリイミドフィルム(デュポン(株)製、カプトン400H)、誘電層(Z)として、寸法10cm×10cmの厚さ700の発泡ホットメルト樹脂(東洋アドレ社製)を用い、絶縁層/導電層形成材料/誘電層/導電層形成材料/絶縁層/導電層形成材料/誘電層/導電層形成材料/絶縁層の順に積層し、170℃、2MPa、5分の条件で圧着処理をした後、160℃の電気オーブンで60分加熱をして、寸法10cm×10cmの絶縁層/導電層/誘電層/導電層/絶縁層/導電層/誘電層/導電層/絶縁層の電極シートを得た。なお積層の際に10mm×30mmの新日鐵株式会社製ポリイミド銅貼り積層板「エスパネックスM」の銅箔面側の端部を導電層側に正方形の対辺に1つずつ設置し、抵抗測定、静電容量を測定する際の取り出し電極とした。
Example 7 Electrode Sheet Production Example 3
In the conductive layer-forming material 1 obtained in Production Example 1, a polyimide film having a dimension of 10 cm × 10 cm and a thickness of 100 μm (manufactured by DuPont Co., Ltd., Kapton 400H) as an insulating layer (Y), and a dimension as a dielectric layer (Z) Insulating layer / conductive layer forming material / dielectric layer / conductive layer forming material / insulating layer / conductive layer forming material / dielectric layer / conductive layer using a foamed hot melt resin (made by TOYO ADDRESS Co., Ltd.) having a thickness of 10 cm × 10 cm. After laminating in order of forming material / insulation layer and performing pressure bonding treatment under conditions of 170 ° C., 2 MPa and 5 minutes, heating is performed in an electric oven at 160 ° C. for 60 minutes, and insulating layer / conductive layer / size 10 cm × 10 cm An electrode sheet of dielectric layer / conductive layer / insulating layer / conductive layer / dielectric layer / conductive layer / insulating layer was obtained. During lamination, place one end of the copper foil side of the 10 mm x 30 mm polyimide copper-clad laminate "Spanex M" by Nippon Steel Corp. on the conductive layer side on the opposite side of the square, and measure the resistance. , It was taken out electrode at the time of measuring electrostatic capacity.

実施例8 電極シート製造例3−1
製造例1で得られた寸法10cm×10cmのセンサー用導電層形成材料1、製造例2で得られた寸法10cm×10cmのセンサー用絶縁層形成材料1、誘電層(Z)として、寸法10cm×10cmの厚さ700μmの発泡ホットメルト樹脂(東洋アドレ社製)を用い、センサー用絶縁層形成材料1/センサー用導電層形成材料1/誘電層/センサー用導電層形成材料1/センサー用絶縁層形成材料1/センサー用導電層形成材料1/誘電層/センサー用導電層形成材料1/センサー用絶縁層形成材料1の順に積層し、170℃、2MPa、5分の条件で圧着処理をした後、160℃の電気オーブンで60分加熱をして、寸法10cm×10cmの絶縁層/導電層/誘電層/導電層/絶縁層/導電層/誘電層/導電層/絶縁層の電極シートを得た。なお積層の際に10mm×30mmの新日鐵株式会社製ポリイミド銅貼り積層板「エスパネックスM」の銅箔面側の端部を導電層側に正方形の対辺に1つずつ設置し、抵抗測定、静電容量を測定する際の取り出し電極とした。
Example 8 Production Example of Electrode Sheet 3-1
10 cm × 10 cm conductive layer forming material for sensor obtained in Production Example 1, 10 cm × 10 cm insulating layer forming material for sensor obtained in Production Example 2, dielectric layer (Z), 10 cm ×× Insulating layer forming material for sensor 1 / Conductive layer forming material for sensor 1 / Dielectric layer / Conductive layer forming material for sensor 1 / Insulating layer for sensor using foaming hot melt resin (made by Toyo Address) of 10 cm thickness 700 μm Forming material 1 / Conductive layer forming material for sensor 1 / Dielectric layer / Conductive layer forming material 1 / Insulating layer forming material 1 for sensor in this order and press-bonded under conditions of 170 ° C., 2 MPa, 5 minutes After heating for 60 minutes in an electric oven at 160 ° C., an electrode sheet of insulating layer / conductive layer / dielectric layer / conductive layer / conductive layer / conductive layer / dielectric layer / conductive layer / insulating layer of dimensions 10 cm × 10 cm Obtained. During lamination, place one end of the copper foil side of the 10 mm x 30 mm polyimide copper-clad laminate "Spanex M" by Nippon Steel Corp. on the conductive layer side on the opposite side of the square, and measure the resistance. , It was taken out electrode at the time of measuring electrostatic capacity.

実施例9 電極シート製造例3−2
実施例8において、センサー用絶縁層形成材料1に変えてセンサー用絶縁層形成材料2を用いた以外は同様にして、寸法10cm×10cmの絶縁層/導電層/誘電層/導電層/絶縁層/導電層/誘電層/導電層/絶縁層の電極シートを得た。なお積層の際に10mm×30mmの新日鐵株式会社製ポリイミド銅貼り積層板「エスパネックスM」の銅箔面側の端部を導電層側に正方形の対辺に1つずつ設置し、抵抗測定、静電容量を測定する際
の取り出し電極とした。
Example 9 Production Example of Electrode Sheet 3-2
In Example 8, the insulating layer / conductive layer / dielectric layer / conductive layer / insulating layer having a size of 10 cm × 10 cm is similarly processed except that the sensor insulating layer forming material 2 is used instead of the sensor insulating layer forming material 1. An electrode sheet of / conductive layer / dielectric layer / conductive layer / insulating layer was obtained. During lamination, place one end of the copper foil side of the 10 mm x 30 mm polyimide copper-clad laminate "Spanex M" by Nippon Steel Corp. on the conductive layer side on the opposite side of the square, and measure the resistance. , It was taken out electrode at the time of measuring electrostatic capacity.

比較例1 電極シート製造例4
電極シート製造例1において、絶縁層/導電層の代わりに、新日鐵株式会社製ポリイミド銅貼り積層板「エスパネックスM」を用いて、寸法10cm×10cmの絶縁層/導電層の電極シートとした。なお銅貼り積層板「エスパネックスM」は加工して、正方形の対辺に一つずつ、10mm×30mmの抵抗測定、静電容量を測定する際の取り出し電極を設けた。
Comparative Example 1 Electrode Sheet Production Example 4
In the electrode sheet production example 1, instead of the insulating layer / conductive layer, an electrode sheet of insulating layer / conductive layer with a size of 10 cm × 10 cm is used using a polyimide copper-clad laminate “Spanex M” manufactured by Nippon Steel Corporation. did. The copper-clad laminate "Spanex M" was processed to provide a lead-out electrode for measuring a resistance of 10 mm x 30 mm and measuring an electrostatic capacitance one by one on the opposite side of the square.

比較例2 電極シート製造例5
電極シート製造例2において、絶縁層/導電層形成材料の代わりに、新日鐵株式会社製ポリイミド銅貼り積層板「エスパネックスM」を用い、誘電層(Z)として、寸法10cm×10cmの厚さ700μmの発泡ホットメルト樹脂(東洋アドレ社製)を用い、絶縁層(エスパネックスMのポリイミド面)/導電層(エスパネックスMの銅面)/誘電層(Z)/導電層(エスパネックスMの銅面/絶縁層(エスパネックスのポリイミド面)の順に積層し、170℃、2MPa、5分の条件で圧着処理をして、寸法10cm×10cmの絶縁層/導電層/誘電層/導電層/絶縁層の電極シートを得た。なお銅貼り積層板「エスパネックスM」は加工して、正方形の対辺に一つずつ、10mm×30mmの抵抗測定、静電容量を測定する際の取り出し電極を設けた。
Comparative Example 2 Electrode Sheet Production Example 5
In the electrode sheet production example 2, instead of the insulating layer / conductive layer forming material, a polyimide copper-clad laminate “Spanex M” manufactured by Nippon Steel Corporation is used, and a thickness of 10 cm × 10 cm as a dielectric layer (Z) Insulating layer (polyimide surface of Espanex M) / conductive layer (copper surface of Espanex M) / dielectric layer (Z) / conductive layer (Spanex M) using a foamed hot melt resin (made by Toyo Address) having a thickness of 700 μm. Copper layer / insulation layer (polyamide surface of Espanex) in this order, crimped at 170 ° C., 2 MPa, 5 minutes, and insulating layer / conductive layer / dielectric layer / conductive layer of 10 cm × 10 cm in size The copper-clad laminate sheet “Espanex M” was processed to obtain an electrode sheet of 10 mm × 30 mm, one on each side of the square, and the one for measuring the capacitance. Provided electrodes.

比較例3 電極シート製造例6
絶縁層/導電層形成材料として、新日鐵株式会社製ポリイミド銅貼り積層板「エスパネックスM」、絶縁層形成材料として、製造例2で得られた寸法10cm×10cmのセンサー用絶縁層形成材料1、誘電層(Z)として、寸法10cm×10cmの厚さ700μmの発泡ホットメルト樹脂(東洋アドレ社製)を用い、絶縁層(エスパネックスMのポリイミド面)/導電層(エスパネックスMの銅面)/誘電層(Z)/導電層(エスパネックスMの銅面/絶縁層(エスパネックスのポリイミド面)/センサー用絶縁層形成材料1/絶縁層(エスパネックスMのポリイミド面)/導電層(エスパネックスMの銅面)/誘電層(Z)/導電層(エスパネックスMの銅面/絶縁層(エスパネックスのポリイミド面)の順に積層し、170℃、2MPa、5分の条件で圧着処理をして、寸法10cm×10cmの、絶縁層/導電層/誘電層/導電層/絶縁層/導電層/誘電層/導電層/絶縁層の電極シートを得た。。なお銅貼り積層板「エスパネックスM」は加工して、正方形の対辺に一つずつ、10mm×30mmの抵抗測定、静電容量を測定する際の取り出し電極を設けた。
Comparative Example 3 Electrode Sheet Production Example 6
As a material for forming an insulating layer / conductive layer, a polyimide copper-clad laminate "Spanex M" manufactured by Nippon Steel Corporation, as a material for forming an insulating layer, a material for forming an insulating layer for a sensor having a size of 10 cm × 10 cm obtained in Production Example 2 1. As a dielectric layer (Z), using a foamed hot melt resin (made by Toyo Addressee Co., Ltd.) having a dimension of 10 cm × 10 cm and a thickness of 700 μm, insulating layer (polyimide surface of Espanex M) / conductive layer (copper of Espanex M Surface) / dielectric layer (Z) / conductive layer (copper surface of Espanex M / insulating layer (polyimide surface of Espanex) / insulating layer forming material for sensor 1 / insulating layer (polyimide surface of Espanex M) / conductive layer (Copper surface of Espanex M) / Dielectric layer (Z) / Conductive layer (Copper surface of Espanex M / Insulation layer (polyimide surface of Espanex)) laminated in the order of 170 ° C., 2 MP And pressure treatment for 5 minutes to obtain an electrode sheet of insulating layer / conductive layer / dielectric layer / conductive layer / conductive layer / conductive layer / dielectric layer / conductive layer / insulating layer with dimensions of 10 cm × 10 cm Note that the copper-clad laminate "Spanex M" was processed, and one by one on the opposite side of the square, a 10 mm x 30 mm resistance measurement and an extraction electrode for measuring the capacitance were provided.

得られた電極シートについて、下記評価について物性評価した。     The physical properties of the obtained electrode sheet were evaluated as follows.

<導電層(X)の静電容量測定方法>
アジレント・テクノロジー株式会社製デジタルマルチメーター「34410A」を用い、プローブを実施例1〜9、比較例1〜3の電極シートの導電層の一つの取り出し電極と接続し、静電容量を測定した。実施例1で得られた電極シート(後述の折曲げ試験は実施しないで用いた)の導電層側を対極電極として、測定する電極シートの絶縁層側とを対向させて測定した。電極間には誘電体として、寸法10cm×10cm厚み100μのポリエステルフィルム(東レ(株)製、テトロンS10)を用いた。
<Method of measuring capacitance of conductive layer (X)>
The probe was connected to one extraction electrode of the conductive layer of the electrode sheet of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 using a digital multimeter "34410A" manufactured by Agilent Technologies, Inc., and the capacitance was measured. The conductive layer side of the electrode sheet obtained in Example 1 (which was used without performing the bending test described later) was used as a counter electrode, and the measurement was performed with the insulating layer side of the electrode sheet to be measured facing. A polyester film (Tetron S10 manufactured by Toray Industries, Inc.) having a size of 10 cm × 10 cm and a thickness of 100 μm was used as a dielectric between the electrodes.

<導電層(X)の抵抗値測定方法>
アジレント・テクノロジー株式会社製デジタルマルチメーター「34410A」を用い、プローブを実施例1〜9、比較例1〜3の電極シートの導電層の正方形の対辺に位置する二つの取り出し電極と接続し、抵抗を測定した。
<Method of measuring resistance of conductive layer (X)>
The probe is connected to two lead electrodes located on the opposite side of the square of the conductive layer of the electrode sheets of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 using a digital multimeter "34410A" manufactured by Agilent Technologies, Inc. Was measured.

<折り曲げ試験>
実施例1〜9、比較例1〜3で得られた電極シートをJISK7113に準拠し、寸法10cm×10cmの真ん中で、1)180度に折り曲げ、折り曲げ部に1kgの錘を5秒間載せた。2)次に、折り曲げ部を元のフラットの状態に戻し、同じ位置に1kgの錘を5秒間載せた。この1)〜2)の作業を、1つのサンプルに対して10回、30回、50回行った。
抵抗値および静電容量測定を行い、それぞれの変化率が、次のときにそれぞれ◎〜×の判定とした。
ただし、ここで言う変化率とは、元の値をaとし、処理後の値をbとした場合、変化率G=(b−a)/a×100[%]
を表す。
静電容量の変化率
0%以上〜30%未満:◎
30%以上〜60%未満:○
60%以上〜100%未満:△
100%以上:×

抵抗値の変化率
0%以上〜30%未満:◎
30%以上〜60%未満:○
60%以上〜100%未満:△
100%以上:×
<Bending test>
The electrode sheets obtained in Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 were bent at 1) 180 degrees in the middle of dimensions 10 cm x 10 cm according to JIS K 7113, and a 1 kg weight was placed on the bent portion for 5 seconds. 2) Next, the bent portion was returned to the original flat state, and a 1 kg weight was placed on the same position for 5 seconds. The operations 1) to 2) were performed 10 times, 30 times, and 50 times on one sample.
The resistance value and the capacitance were measured, and the respective change rates were determined as ◎ to × when the following were made.
However, the rate of change referred to here is the rate of change G = (b−a) / a × 100 [%], where the original value is a and the value after processing is b.
Represents
Change rate of capacitance 0% or more and less than 30%: ◎
30% or more and less than 60%: ○
60% or more and less than 100%: △
100% or more: x

Change rate of resistance value 0% or more and less than 30%: ◎
30% or more and less than 60%: ○
60% or more and less than 100%: △
100% or more: x

各構成における抵抗値および静電容量測定部位
[実施例1〜3、比較例1]
絶縁層/導電層(抵抗値測定部位1、静電容量測定部位1)
[実施例4〜6、比較例2]
絶縁層/導電層(抵抗値測定部位1、静電容量測定部位1)/誘電層/導電層(抵抗値測定部位2、静電容量測定部位2)/絶縁層
[実施例7〜9、比較例3]
絶縁層/導電層(抵抗値測定部位1、静電容量測定部位1)/誘電層/導電層/絶縁層/導電層/誘電層/導電層(抵抗値測定部位2、静電容量測定部位2)/絶縁層
Resistance Value and Capacitance Measurement Site in Each Configuration [Examples 1 to 3, Comparative Example 1]
Insulating layer / conductive layer (resistance measurement site 1, capacitance measurement site 1)
[Examples 4 to 6, Comparative Example 2]
Insulating layer / conductive layer (resistance value measurement site 1, capacitance measurement site 1) / dielectric layer / conductive layer (resistance value measurement site 2, capacitance measurement site 2) / insulating layer [Examples 7 to 9, comparison Example 3]
Insulating layer / conductive layer (resistance value measurement site 1, capacitance measurement site 1) / dielectric layer / conductive layer / insulating layer / conductive layer / dielectric layer / conductive layer (resistance value measurement site 2, capacitance measurement site 2) ) / Insulating layer

表に示すように、実施例1〜9は、フレキシブルで柔軟性に富む導電層を有しているために、折り曲げに対して強く耐久性を有し、静電容量変化率、抵抗値変化率が少なく、ウェアラブル用途や、曲面への電極の設置が必要なセンサー、生体情報を検知するセンサーなどのセンサー電極として極めて優れている。一方、比較例1〜3では、導電層がフレキシブル性、耐久性に劣り、折曲げ試験により導電層が破壊されるため、静電容量の変化率が大きく、また電極の劣化により抵抗値が大きく上昇し、ウェアラブル用途や、曲面への電極の設置が必要なセンサー、生体情報を検知するセンサーなどのセンサー電極としては機能が不十分であり、使用に堪えない。   As shown in the table, Examples 1 to 9 have a flexible and flexible conductive layer, so they are strong against bending and have a capacitance change rate and a resistance value change rate. It is extremely excellent as a sensor electrode such as a wearable application, a sensor requiring installation of an electrode on a curved surface, and a sensor detecting biological information. On the other hand, in Comparative Examples 1 to 3, the conductive layer is inferior in flexibility and durability, and the conductive layer is broken in the bending test, so the rate of change in capacitance is large, and the resistance is large due to the deterioration of the electrode. As a sensor electrode such as a wearable application, a sensor that requires installation of an electrode on a curved surface, a sensor that detects biological information, etc., the function is insufficient and can not be used.

Figure 0006503924
Figure 0006503924

(X):導電層
(Y):絶縁層
(Z):誘電層
(X): conductive layer (Y): insulating layer (Z): dielectric layer

Claims (10)

カルボキシル基を有する熱硬化性樹脂(A)(ただし、エポキシ樹脂(B)、反応性官能基を有するエラストマー(C)である場合を除く。)、エポキシ樹脂(B)、反応性官能基を有するエラストマー(C)、導電性フィラー(D)および硬化剤(E)を含むことを特徴とするセンサー用導電層形成材料。   Thermosetting resin (A) having a carboxyl group (however, epoxy resin (B), except in the case of an elastomer (C) having a reactive functional group), epoxy resin (B), having a reactive functional group A conductive layer forming material for a sensor comprising an elastomer (C), a conductive filler (D) and a curing agent (E). 導電層(X)を具備する電極シートであって、導電層(X)が、請求項1記載のセンサー用導電層形成材料を硬化してなることを特徴とするセンサー用電極シート。   It is an electrode sheet which comprises a conductive layer (X), and a conductive layer (X) hardens the conductive layer formation material for sensors of Claim 1, The electrode sheet for sensors characterized by the above-mentioned. さらに、導電層(X)の少なくとも片面に、絶縁層(Y)を設けて成ることを特徴とする請求項2記載のセンサー用電極シート。 The sensor electrode sheet according to claim 2, further comprising an insulating layer (Y) provided on at least one side of the conductive layer (X). 導電層(X1)/誘電層(Z)/導電層(X2)の順に積層されてなる構成を有する電極シートであって、導電層(X1)および導電層(X2)のうち少なくとも一方が、請求項1記載の導電層形成材料を硬化してなることを特徴とするセンサー用電極シート。 An electrode sheet having a configuration in which a conductive layer (X1) / a dielectric layer (Z) / a conductive layer (X2) is laminated in this order, wherein at least one of the conductive layer (X1) and the conductive layer (X2) An electrode sheet for a sensor, which is obtained by curing the conductive layer-forming material according to Item 1. さらに、導電層(X1)および導電層(X2)の少なくとも一方の導電層の外側に絶縁層(Y1)を設けてなる請求項4記載のセンサー用電極シート。 The sensor electrode sheet according to claim 4, further comprising an insulating layer (Y1) provided on the outside of at least one of the conductive layer (X1) and the conductive layer (X2). 導電層(X3)/誘電層(Z1)/導電層(X4)/絶縁層(Y2)/導電層(X5)/誘電層(Z2)/導電層(X6)の順に積層されてなる構成の電極シートであって、導電層(X3)、導電層(X4)、導電層(X5)および導電層(X6)の少なくとも1つが、請求項1記載の導電層形成材料を硬化してなることを特徴とするセンサー用電極シート。 An electrode having a configuration in which a conductive layer (X3) / dielectric layer (Z1) / conductive layer (X4) / insulating layer (Y2) / conductive layer (X5) / dielectric layer (Z2) / conductive layer (X6) is laminated in this order It is a sheet, and at least one of the conductive layer (X3), the conductive layer (X4), the conductive layer (X5) and the conductive layer (X6) is characterized in that the material for forming a conductive layer according to claim 1 is cured. Sensor electrode sheet to be used. さらに、導電層(X3)および導電層(X6)の少なくとも一方の導電層の外側に絶縁層(Y3)を設けてなる請求項6記載のセンサー用電極シート。 The sensor electrode sheet according to claim 6, further comprising an insulating layer (Y3) provided on the outside of at least one of the conductive layer (X3) and the conductive layer (X6). 請求項2乃至7いずれか記載のセンサー用電極シートを用いた、静電容量型近接センサー。 An electrostatic capacitance type proximity sensor using the sensor electrode sheet according to any one of claims 2 to 7. 請求項2乃至7いずれか記載のセンサー用電極シートを用いた、静電容量型生体センサー。 A capacitive biosensor comprising the sensor electrode sheet according to any one of claims 2 to 7. 請求項2乃至7いずれか記載のセンサー用電極シートを用いた、生体インピーダンス測定機。 A bioimpedance measuring device using the sensor electrode sheet according to any one of claims 2 to 7.
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