JP6500386B2 - 表示体、並びにこれを備えた転写箔及び物品 - Google Patents

Description

本発明は、偽造防止効果、装飾効果、及び／又は美的効果を有する表示体に関する。特に、紙幣、ＩＤ、ＢＰ用セキュリティデバイスに応用することが可能な、偽造防止効果を有する表示体に関する。

有価証券、証明書、ブランド品、電子機器及び個人認証媒体などの物品には、偽造が困難であることが望まれる。そのため、このような物品には、偽造防止効果に優れた表示体を支持させることがある。

このような表示体の多くは、回折格子、ホログラム及びレンズアレイ等の微細構造を含んでいる。これらの微細構造は、例えば観察角度の変化に応じて、色の変化を生じる。また、これらの微細構造は、解析及び偽造することが困難である。それゆえ、このような表示体は、比較的高い偽造防止効果を有する。

しかしながら、現在ではホログラム作製技術が普及したことによって、上記した表示体の偽造防止効果が小さくなりつつある。

このため、より高い偽造防止効果を実現するために、例えば、特許文献１には、表示体の主面の法線と交差する斜め方向からの観察により画像を表示させる機能に加えて、透過光による観察により画像を表示させる機能を備えた表示体が開示されている。

国際公開第２０１３／０８４９６０号パンフレット

しかしながら、当該表示体を、その主面の法線と交差する斜め方向からの観察する場合に、透過光による観察時に表示されるべき画像が浮き出てしまうことがある。

このため、従来の表示体をさらに改善する余地がある。

本発明の目的は、表示体を斜め方向から観察する条件で、透過光による観察時に表示される画像が浮き出にくい優れた偽造防止効果、装飾効果、及び／又は美的効果を有する表示体、並びにこれを備えた転写箔及び物品を提供することである。

本発明は、複数の画素を具備する表示体であって、当該複数の画素の少なくとも１つは、レリーフ構造形成層と、第１層と、第２層とをこの順で積層した積層構造を含むとともに、ホログラム画像領域及び透かし画像領域を有し、当該透かし画像領域はさらに、第１領域及び第２領域を有し、当該レリーフ構造形成層は、その一方の面に複数の凹部及び／又は凸部を備え、ここで、当該ホログラム画像領域では、当該表示体の主面の法線と交差する斜め方向から当該表示体を観察する条件で所定の色を表示するように当該複数の凹部及び／又は凸部が設けられており、当該第１領域では、当該第１領域の拡散反射率と、当該表示体を取り付ける基材の拡散反射率が等しくなるように当該複数の凹部及び／又は凸部が設けられており、当該第２領域では、当該ホログラム画像領域及び当該第１領域とは異なる当該複数の凹部及び／又は凸部が設けられており、当該第１層は、当該レリーフ構造形成層の材料とは屈折率が異なる第１材料から形成され、当該レリーフ構造形成層の凹部及び／又は凸部に対応する形状で当該ホログラム画像領域及び第１領域に設けられており、当該第２層は、当該第１材料とは異なる第２材料から形成され、当該第１層上に設けられており、当該表示体は、当該斜め方向から当該表示体を観察する条件において当該ホログラム画像領域の分布に基づいた画像を表示すると共に、当該表示体を透過光によって観察する条件において当該第２領域の分布に基づいた画像を表示する表示体に関する。

また本発明は、上記表示体と、当該表示体を剥離可能に支持した支持体層とを具備した転写箔に関する。

さらに本発明は、上記表示体と、これを支持した物品とを具備した表示体付き物品を包含する。

本発明の表示体は、表示体を斜め方向から観察する条件で、透過光による観察時に表示される画像が浮き出にくい。このため当該表示体、並びにこれを備えた転写箔及び物品は、優れた偽造防止効果、装飾効果、及び／又は美的効果を有する。

本発明に係る表示体の一部を拡大して示す平面図である。 本発明に係る表示体の画像を構成する画素を概略的に示す平面図である。 本発明に係る表示体の画像を構成する画素の一例を示す平面図である。 本発明に係る表示体の画像を構成する画素の一例を示す平面図である。 図３に示す画素のＡ−Ａ線に沿った断面図である。 図５に示す表示体の製造方法の一例を示す工程図である。 第２領域Ｒ２に設けられる複数の凹部及び／又は凸部構造として採用可能な構造を拡大して示す斜視図である。 本発明に係る表示体の画像を構成する画素の一例を示す平面図である。 光散乱領域の一例を概略的に示す平面図である。 本発明に係る表示体の一例を示した概略図である。 図１０に示す表示体が回折光による画像を表示しているところを示した概略図である。 図１０に示す表示体が透過光による画像を表示しているところを示した概略図である。 本発明に係る転写箔の一例を拡大して示す断面図である。

以下に、本発明の実施の形態について詳細に説明する。以下の説明において適宜図面を参照するが、図面に記載された態様は本発明の例示であり、本発明はこれらの図面に記載された態様に制限されない。なお、各図において、同様又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。

＜表示体＞
本発明の表示体は、画素を複数具備する。すなわち、本発明の表示体に表示される画像は、複数の画素から構成されている。

図１は、本発明に係る表示体の一部を拡大して示す平面図である。図１では、表示体１００の主面に平行であり且つ互いに直交する軸をＸ軸及びＹ軸とし、表示体１００の主面に垂直な軸をＺ軸としている。

図１に示す例では、表示体１００の画像を構成する複数の画素ＰＥが、Ｘ軸及びＹ軸に沿って正方格子状に配列しているが、このような配列様式に限られない。例えば、これら複数の画素ＰＥは、三角格子状、矩形格子状、又は六角格子状に配列することができる。

図２は、本発明に係る表示体の画像を構成する画素を概略的に示す平面図である。

図２に示すとおり、本発明の表示体の画像を構成する複数の画素の少なくとも１つ（以下、単に「画素」とも称する）は、ホログラム画像領域Ｈ及び透かし画像領域Ｗを有し、透かし画像領域Ｗはさらに、第１領域Ｒ１及び第２領域Ｒ２を有する。

本明細書において、「ホログラム画像領域」は、表示体の主面（画像表示面）の法線と交差する斜め方向から表示体を観察する条件（以下、単に「斜め方向から観察する条件」とも称する）において、所定の色を表示する画像を作り出すための画素中の領域をいい、「透かし画像領域」は、表示体の画像表示面とは反対の裏面側からの透過光によって表示体を観察する条件（以下、単に「透過光によって観察する条件」とも称する）において、所定の画像を作り出すための画素中の領域をいう。

ホログラム画像領域Ｈ及び透かし画像領域Ｗの配置は、特に限定されず、例えば、横並び又は縦並びにすることができる。図２では、ホログラム画像領域Ｈと透かし画像領域Ｗが横並びに配置されている。

画素における、ホログラム画像領域Ｈと透かし画像領域Ｗの面積比は、特に限定されるものではないが、５：９５〜９５：５が好ましく、５０：５０〜８０：２０がより好ましい。

透かし画像領域Ｗを構成する第１領域Ｒ１及び第２領域Ｒ２の配置は、特に限定されず、例えば、横並び、縦並び、或いは第２領域Ｒ２が第１領域Ｒ１に囲まれるようにすることができる。図２では、第１領域Ｒ１と第２領域Ｒ２が縦並びに配置されている。

第１領域Ｒ１と第２領域Ｒ２の面積比は、所望の画像を表示するために、任意に設定することができる。

以下に、ホログラム画像領域Ｈに所定の中心間距離で規則的に配列した複数の凸部又は凹部からなる回折構造を有する画素を備えた表示体について説明する。

図３及び４はそれぞれ、本発明に係る表示体の画像を構成する画素の一例を示す平面図である。図３では、ホログラム画像領域Ｈと透かし画像領域Ｗが横並びに配置され、図４では、ホログラム画像領域Ｈと透かし画像領域Ｗが縦並びに配置されている。

本発明に係る表示体は、図３及び図４に示すように、画素が、ホログラム画像領域Ｈにおいて、サブ画素として赤色表示用画素ＰＥＲと、緑色表示用画素ＰＥＧと、青色表示用画素ＰＥＢとを備えていてもよい。これら画素ＰＥＲ、ＰＥＧ及びＰＥＢは、典型的には、面積が互いに等しい。

赤色表示用画素ＰＥＲは、赤色領域Ｒと、平坦領域Ｆとを備えていてもよい。赤色領域Ｒは、斜め方向から観察する条件において、赤色に対応した波長の回折光を射出する複数の凹部又は凸部からなる回折構造を備えている。

緑色表示用画素ＰＥＧは、緑色領域Ｇと、平坦領域Ｆとを備えていてもよい。緑色領域Ｇは、斜め方向から観察する条件において、緑色に対応した波長の回折光を射出する複数の凹部又は凸部からなる回折構造を備えている。

青色表示用画素ＰＥＢは、青色領域Ｂと、平坦領域Ｆとを備えていてもよい。青色領域Ｂは、斜め方向から観察する条件において、青色に対応した波長の回折光を射出する複数の凹部又は凸部からなる回折構造を備えている。

図５は、図３に示す画素のＡ−Ａ線に沿った断面図である。画素は、図５に示すように、レリーフ構造形成層１１０と、第１層１２０’と、第２層１３０’とをこの順で積層した積層構造を含む。

レリーフ構造形成層１１０には、その一方の面に複数の凹部又は凸部が設けられている。第１層１２０’は、レリーフ構造形成層１１０の凹部又は凸部に対応する形状でホログラム画像領域Ｈ及び透かし画像領域Ｗの第１領域Ｒ１に設けられており、第２層１３０’は、第１層１２０’上に設けられている。なお、この画素ＰＥの構造等については、以下に詳しく説明する。

次に、図６を参照しながら、表示体１００（を構成している画素ＰＥ）の製造方法について説明する。

図６は、図５に示す表示体の製造方法の一例を示す工程図である。

まず、図６（ａ）に示すように、ホログラム画像領域Ｈの赤色領域Ｒ、緑色領域Ｇ、及び青色領域Ｂ、並びに透かし画像領域Ｗの第１領域Ｒ１及び第２領域Ｒ２に、所定の凹構造及び／又は凸構造を有し、ホログラム画像領域Ｈの平坦領域Ｆに平坦構造を有するレリーフ構造形成層１１０を準備する。

赤色領域Ｒ、緑色領域Ｇ、及び青色領域Ｂの複数の凹部又は凸部は、例えばストライプ状に配置されていてもよい。これら凹部又は凸部の長さ方向に垂直な断面の形状は、例えば、Ｖ字形状及びＵ字形状等の先細り形状とするか又は矩形状とすることができる。図６（ａ）には、一例として、上記の断面形状がＶ字形状である場合を描いている。

赤色領域Ｒ、緑色領域Ｇ、及び青色領域Ｂの凹部又は凸部の中心間距離は、所望の回折光の色に応じて、５００〜１０００ｎｍの範囲内で適宜設定することができる。

具体的には例えば、赤色領域Ｒに設ける複数の凹部又は凸部の中心間距離は、８６０ｎｍ〜８８０ｎｍとすることができる。緑色領域Ｇに設ける複数の凹部又は凸部の中心間距離は、７５５ｎｍ〜７７５ｎｍとすることができる。青色領域Ｂに設ける複数の凹部又は凸部の中心間距離は、７３５ｎｍ〜７５５ｎｍとすることができる。

また、これら複数の凹部又は凸部の中心間距離に対する深さ又は高さの比の平均値は、例えば０．５以下とし、典型的には０．０５〜０．３の範囲内とすることができる。

なお、本明細書において、「中心間距離」とは、隣り合った凹部間の距離、又は、隣り合った凸部間の距離を意味している。

透かし画像領域Ｗを構成する第１領域Ｒ１には、第１領域Ｒ１の拡散反射率と、表示体を取り付ける基材の拡散反射率が等しくなるように複数の凹部及び／又は凸部が設けられている。

ここで、「表示体を取り付ける基材」とは、例えば、表示体を物品に取り付ける場合に、当該物品に用いられている基材を指す。

表示体を取り付ける基材の拡散反射率は、拡散反射率計により測定することができ、次いで、当該測定値に基づいて、第１領域Ｒ１の拡散反射率が表示体を取り付ける基材の拡散反射率と等しくなるように、第１領域Ｒ１における凹部及び／又は凸部の形状及び配置を決定することができる。なお、第１領域Ｒ１における凹部及び／又は凸部の形状及び配置は、基材の拡散反射率と等しくなるようなものであれば特に制限されない。

透かし画像領域Ｗを構成する第２領域Ｒ２には、ホログラム画像領域Ｈ及び第１領域Ｒ１とは異なる凹構造及び／又は凸構造が設けられている。これら凹構造及び凸構造は、それぞれ、複数の凹部及び複数の凸部からなる。これら複数の凹部又は凸部は、例えば、二次元的に配置されると共に各々が順テーパ形状を有する複数の凹部又は凸部を備えていてもよい。

図７は、第２領域Ｒ２に設けられる複数の凹部及び／又は凸部構造として採用可能な構造を拡大して示す斜視図である。図７には、第２領域Ｒ２に設けられる構造として円錐形状からなる複数の凸部を備えている場合を描いているが、第２領域Ｒ２に設けられる複数の凹部及び／又は凸部の構造は、これには限られない。

例えば、第２領域Ｒ２に設けられる複数の凹部及び／又は凸部は、四角錐形状又は三角錐形状を有していてもよい。また、これら複数の凹部又は凸部は、切頭錐形状を有していてもよい。或いは、これら複数の凹部又は凸部は、底面積が異なる複数の四角柱をその底面積が大きなものから順に積み重ねた構造を有していてもよい。なお、四角柱の代わりに、円柱や三角柱などの四角柱以外の柱状体を積み重ねてもよい。

また、図７には、複数の凸部が正方格子状に配列している場合を描いているが、複数の凹部又は凸部の配列様式は、これには限られない。例えば、これら複数の凹部又は凸部は、矩形格子状、三角格子状、又は六角格子状に配列することができる。

第２領域Ｒ２は、ホログラム画像領域Ｈ及び第１領域Ｒ１のそれぞれと比較して、見かけ上の面積に対する表面積の比がより大きいことが好ましい。

なお、本明細書において、領域の「見かけ上の面積」とは、当該領域に平行な平面への当該領域の正射影の面積、即ち、凹構造及び凸構造を無視した当該領域の面積を意味することとする。また、領域の「表面積」とは、凹構造及び凸構造を考慮した当該領域の面積を意味することとする。

第２領域Ｒ２の複数の凹部又は凸部は、典型的には、ホログラム画像領域Ｈ及び第１領域Ｒ１のそれぞれの複数の凹部又は凸部と比較して、凹部又は凸部の中心間距離に対する深さ又は高さの比の平均値がより大きいことが好ましい。図６（ａ）に示す例では、第２領域Ｒ２に設けられた複数の凹部又は凸部は、赤色領域Ｒ、緑色領域Ｇ、青色領域Ｂ及び第１領域Ｒ１に設けられた複数の凹部又は凸部と比較して、中心間距離に対する深さ又は高さの比がより大きいことが好ましい。

第２領域Ｒ２に設ける凹部又は凸部の中心間距離は、５００ｎｍ以下が好ましく、１００〜５００ｎｍとすることがより好ましい。

第２領域Ｒ２に設ける複数の凹部又は凸部の中心間距離に対する深さ又は高さの比の平均値は、０．８〜２．０の範囲が好ましく、０．８〜１．２の範囲がより好ましい。この値が過度に大きいと、レリーフ構造形成層１１０の生産性が低下する場合がある。

レリーフ構造形成層１１０は、例えば、微細な凸部を設けた金型を樹脂に押し付けることにより形成することができる。この際、これら凸部の形状は、ホログラム画像領域Ｈ及び透かし画像領域Ｗの双方に設ける凹部の形状に対応した形状とする。

レリーフ構造形成層１１０は、例えば、基材上に熱可塑性樹脂を塗布し、これに上記の凸部が設けられた原版を、熱を加えながら押し当てる方法により形成してもよい。この場合、上記の熱可塑性樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂、これらの混合物、又は、これらの共重合物を使用することができる。

或いは、レリーフ構造形成層１１０は、基材上に熱硬化性樹脂層を塗布し、これに上記の凸部が設けられた原版を押し当てながら熱を加え、その後、原版を取り除く方法により形成してもよい。この場合、熱硬化性樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ樹脂、フェノール系樹脂、これらの混合物、又は、これらの共重合物を使用することができる。なお、このウレタン樹脂は、例えば、反応性水酸基を有したアクリルポリオール及びポリエステルポリオール等に、架橋剤としてポリイソシアネートを添加して、これらを架橋させることにより得ることができる。

或いは、レリーフ構造形成層１１０は、基材上に放射線硬化樹脂を塗布し、これに原版を押し当てながら紫外線等の放射線を照射して上記材料を硬化させ、その後、原版を取り除く方法により形成してもよい。或いは、レリーフ構造形成層１１０は、基材と原版との間に上記組成物を流し込み、放射線を照射して上記材料を硬化させ、その後、原版を取り除く方法により形成してもよい。

放射線硬化樹脂は、典型的には、重合性化合物と開始剤とを含んでいる。

重合性化合物としては、例えば、光ラジカル重合が可能な化合物を使用することができる。光ラジカル重合が可能な化合物としては、例えば、エチレン性不飽和結合又はエチレン性不飽和基を有したモノマー、オリゴマー又はポリマーを使用することができる。或いは、光ラジカル重合が可能な化合物として、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールペンタアクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のモノマー、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート及びポリエステルアクリレート等のオリゴマー、又は、ウレタン変性アクリル樹脂及びエポキシ変性アクリル樹脂等のポリマーを使用してもよい。

重合性化合物として光ラジカル重合が可能な化合物を使用する場合、開始剤としては、光ラジカル重合開始剤を使用することができる。この光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル及びベンゾインエチルエーテル等のベンゾイン系化合物、アントラキノン及びメチルアントラキノン等のアントラキノン系化合物、アセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−アミノアセトフェノン及び２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン等のフェニルケトン系化合物、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン、アシルホスフィンオキサイド、又は、ミヒラーズケトンを使用することができる。

或いは、重合化合物として、光カチオン重合が可能な化合物を使用してもよい。光カチオン重合が可能な化合物としては、例えば、エポキシ基を備えたモノマー、オリゴマー若しくはポリマー、オキセタン骨格含有化合物、又は、ビニルエーテル類を使用することができる。

重合性化合物として光カチオン重合が可能な化合物を使用する場合、開始剤としては、光カチオン重合開始剤を使用してもよい。この光カチオン重合開始剤としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ホスホニウム塩又は混合配位子金属塩を使用することができる。

或いは、重合性化合物として、光ラジカル重合が可能な化合物と光カチオン重合が可能な化合物との混合物を使用してもよい。この場合、開始剤としては、例えば、光ラジカル重合開始剤と光カチオン重合開始剤との混合物を使用することができる。或いは、この場合、光ラジカル重合及び光カチオン重合の双方の開始剤として機能し得る重合開始剤を使用してもよい。このような開始剤としては、例えば、芳香族ヨードニウム塩又は芳香族スルホニウム塩を使用することができる。

なお、放射線硬化樹脂に占める開始剤の割合は、例えば、０．１〜１５質量％とすることが好ましい。

放射線硬化樹脂は、増感色素、染料、顔料、重合禁止剤、レベリング剤、消泡剤、タレ止め剤、付着向上剤、塗面改質剤、可塑剤、含窒素化合物、エポキシ樹脂等の架橋剤、離型剤又はこれらの組み合わせを更に含んでいてもよい。また、放射線硬化樹脂には、その成形性を向上させるべく、非反応性の樹脂を更に含有させてもよい。この非反応性の樹脂としては、例えば、上記の熱可塑性樹脂及び／又は熱硬化性樹脂を使用することができる。

レリーフ構造形成層１１０の形成に用いる上記の原版は、例えば、電子線描画装置又はナノインプリント装置を用いて製造することで、上述した複数の凹部又は凸部を高い精度で形成することができる。なお、原版の凹凸構造を転写して反転版を製造し、この反転版の凹凸構造を転写して複製版を製造してもよい。そして、必要に応じ、複製版を原版として用いて反転版を製造し、この反転版の凹凸構造を転写して複製版を更に製造することができる。実際の製造では、通常、このようにして得られる複製版を使用することが多い。

レリーフ構造形成層１１０は、基材と、その上に形成された樹脂層とを含んでいてもよい。この基材としては、典型的には、フィルム基材を使用することができる。このフィルム基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム及びポリプロピレン（ＰＰ）フィルム等のプラスチックフィルムを使用することができる。或いは、基材として、紙、合成紙、プラスチック複層紙又は樹脂含浸紙を使用してもよい。なお、基材は、省略してもよい。

樹脂層は、例えば、上述した方法により形成される。樹脂層の厚みは、例えば０．１μｍ〜１０μｍとすることが好ましい。この厚みが過度に大きいと、加工時の加圧等による樹脂のはみ出し及び／又は皺の形成が生じ易くなる。この厚みが過度に小さいと、所望の凹構造及び／又は凸構造の形成が困難となる場合がある。また、樹脂層の厚みは、その主面に設けるべき凹部又は凸部の深さ又は高さと等しくするか又はそれより大きくすることができる。この厚みは、例えば、凹部又は凸部の深さ又は高さの１〜１０倍、好ましくは、３〜５倍とすることができる。

なお、レリーフ構造形成層１１０の形成は、例えば、特許第４１９４０７３号公報に開示されている「プレス法」、実用新案登録第２５２４０９２号公報に開示されている「キャスティング法」、又は、特開２００７−１１８５６３号公報に開示されている「フォトポリマー法」を用いて行ってもよい。

次に、図６（ｂ）に示すように、レリーフ構造形成層１１０の材料とは屈折率が異なる第１材料を、ホログラム画像領域Ｈ及び透かし画像領域Ｗの全体に対して気相堆積させる。これにより、レリーフ構造形成層１１０の赤色領域Ｒ、緑色領域Ｇ、青色領域Ｂ、及び平坦領域Ｆ並びに第１領域Ｒ１及び第２領域Ｒ２を含んだ主面上に、反射材料層１２０を形成する。

この第１材料としては、例えば、レリーフ構造形成層１１０の材料と屈折率が異なる材料を用いる。具体的にはレリーフ構造形成層１１０との界面において光を反射することができるものであればよく、金属材料を使用することができる。また屈折率の実数部分の差が０．２以上である材料を使用することが好ましい。この差が小さいと、レリーフ構造形成層１１０と後述する第１層１２０’との界面における反射が生じ難くなる場合がある。

第１材料としては典型的には、Ａｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ及びこれらの合金からなる群より選択される少なくとも１つの金属材料を使用することができる。

或いは、透明性が比較的高い第１材料として、以下に列挙するセラミック材料又は有機ポリマー材料を使用してもよい。なお、以下に示す化学式又は化合物名の後に記載した括弧内の数値は、各材料の代表的な屈折率の値を意味している。

即ち、セラミック材料としては、例えば、Ｓｂ２Ｏ３（３．０）、Ｆｅ２Ｏ３（２．７）、ＴｉＯ２（２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ２（２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ２（２．３）、ＣｄＯ（２．２）、ＷＯ３（２．２）、ＳｉＯ２（１．４５）、Ｓｉ２Ｏ３（２．５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．０）、ＰｂＯ（２．６）、Ｔａ２Ｏ３（２．４）、ＺｎＯ（２．１）、ＺｒＯ２（２．４）、ＭｇＯ（１．７２）、ＭｇＦ２（１．３７）、又はＡｌ２Ｏ３（１．６〜１．８）等を使用することができる。

有機ポリマー材料としては、例えば、ポリエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフルオロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）又はポリスチレン（１．６０）を使用することができる。

第１材料の気相堆積は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法又は化学蒸着法（ＣＶＤ法）により行うことができる。

この気相堆積は、レリーフ構造形成層１１０の主面に平行な面内方向について均一な密度で行う。具体的には、この気相堆積は、ホログラム画像領域Ｈの見かけ上の面積に対するホログラム画像領域Ｈの位置における第１材料の量の比と、透かし画像領域Ｗの見かけ上の面積に対する透かし画像領域Ｗの位置における第１材料の量の比とが、互いに等しくなるようにして行う。

また、この気相堆積では、典型的には、レリーフ構造形成層１１０の主面が平坦面のみからなると仮定した場合の膜厚（以下、設定膜厚という）を、以下のように定める。即ち、この設定膜厚は、反射材料層１２０が以下の要件を満足するようにして定める。

第１に、反射材料層１２０は、ホログラム画像領域Ｈに対応した部分が、レリーフ構造形成層１１０の当該領域における表面形状に対応した表面形状を有するようにする。図６（ｂ）に示す例では、反射材料層１２０は、レリーフ構造形成層１１０の赤色領域Ｒ、緑色領域Ｇ、及び青色領域Ｂに設けられた複数の凹部又は凸部に対応した表面形状並びにレリーフ構造形成層１１０の平坦領域Ｆに対応した表面形状を有している。

第２に、反射材料層１２０は、透かし画像領域Ｗの第１領域Ｒ１に対応した部分が、レリーフ構造形成層１１０の当該領域における表面形状に対応した表面形状を有するようにする。図６（ｂ）に示す例では、反射材料層１２０は、レリーフ構造形成層１１０の第１領域Ｒ１に設けられた複数の凹部又は凸部に対応した表面形状を有している。

第３に、反射材料層１２０は、透かし画像領域Ｗの第２領域Ｒ２に対応した部分が、当該領域におけるレリーフ構造形成層１１０の表面形状に対応した表面形状を有するか、又は、第２領域Ｒ２に設けられた複数の凹部又は凸部の配置に対応して部分的に開口しているようにすることができる。図６（ｂ）に示す例では、反射材料層１２０は、レリーフ構造形成層１１０の第２領域Ｒ２に設けられた複数の凹部又は凸部に対応した表面形状を有している。

なお、上述したように、第２領域Ｒ２は、ホログラム画像領域Ｈ及び第１領域Ｒ１と比較して、見かけ上の面積に対する表面積の比がより大きいことが好ましい。従って、反射材料層１２０がホログラム画像領域Ｈ、第１領域Ｒ１、及び第２領域Ｒ２の表面形状に対応した表面形状を有するように上記の設定膜厚を定めた場合、反射材料層１２０のうち第２領域Ｒ２に対応した部分は、ホログラム画像領域Ｈ及び第１領域Ｒ１に対応した部分と比較して、平均膜厚がより小さいことが好ましい。

なお、本明細書において、層の「平均膜厚」とは、当該層の一方の面上の各点と当該層の他方の面に下ろした垂線の足との間の距離の平均値を意味する。

また、上記の設定膜厚を更に小さな値に定めることにより、ホログラム画像領域Ｈ及び第１領域Ｒ１に対応した部分では、ホログラム画像領域Ｈ及び第１領域Ｒ１の表面形状にそれぞれ対応した表面形状を有しており且つ第２領域Ｒ２に対応した部分では複数の凹部又は凸部の配置に対応して部分的に開口した反射材料層１２０を形成することができる。

反射材料層１２０の設定膜厚は、典型的には、第２領域Ｒ２に設けられた複数の凹部又は凸部の深さ又は高さと比較してより小さいことが好ましい。

具体的には、反射材料層１２０の設定膜厚は、例えば５ｎｍ〜５００ｎｍ、好ましくは、３０ｎｍ〜３００ｎｍである。この設定膜厚が過度に小さいと、レリーフ構造形成層１１０と後述する第１層１２０’との界面における反射が生じ難くなる場合がある。この設定膜厚が過度に大きいと、反射材料層１２０を上記の要件を満足するように形成することが困難となる場合がある。

反射材料層１２０の平均膜厚は、例えば５ｎｍ〜５００ｎｍ、好ましくは３０ｎｍ〜３００ｎｍである。この平均膜厚が過度に小さいと、レリーフ構造形成層１１０と後述する第１層１２０’との界面における反射が生じ難くなる場合がある。この平均膜厚が過度に大きいと、表示体１００の生産性が低下する場合がある。

次いで、図６（ｃ）に示すように、反射材料層１２０の材料とは異なる第２材料を、反射材料層１２０に対して気相堆積させる。これにより、反射材料層１２０を間に挟んでレリーフ構造形成層１１０と向き合ったマスク層１３０を形成する。

この第２材料としては、典型的には、無機物を使用することができる。この無機物としては、例えば、ＭｇＦ２、Ｓｎ、Ｃｒ、ＺｎＳ、ＺｎＯ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ、ＴｉＯ２、ＭｇＯ、ＳｉＯ２及びＡｌ２Ｏ３が挙げられる。特に、第２材料としてＭｇＦ２を使用した場合、基材の曲げや衝撃に対する第２層１３０’（マスク層１３０）の追従性及び耐擦傷性を更に向上させることができる。

或いは、この第２材料として、有機物を使用してもよい。この有機物としては、例えば、重量平均分子量が１５００以下の有機物を使用することができる。このような有機物としては、例えば、アクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等の重合性化合物と開始剤とを混合し、放射線硬化樹脂と気相堆積した後に、放射線照射によって重合させたものを使用してもよい。

或いは、第２材料として、金属アルコキシドを使用してもよい。或いは、第２材料として、金属アルコキシドを気相堆積した後、これを重合させたものを使用してもよい。この際、気相堆積の後、重合させる前に、乾燥処理を行ってもよい。

第２材料の気相堆積は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法又はＣＶＤ法により行ってもよい。

この気相堆積は、レリーフ構造形成層１１０の主面に平行な面内方向について均一な密度で行うことができる。具体的には、この気相堆積は、ホログラム画像領域Ｈの見かけ上の面積に対するホログラム画像領域Ｈの位置における第２材料の量の比と、透かし画像領域Ｗ（第１領域Ｒ１及び第２領域Ｒ２）の見かけ上の面積に対する透かし画像領域Ｗの位置における第２材料の量の比とが、互いに等しくなるようにして行う。

また、この気相堆積では、マスク層１３０の設定膜厚を、以下のように定める。即ち、この設定膜厚は、マスク層１３０が以下の要件を満足するようにして定める。

第１に、マスク層１３０は、ホログラム画像領域Ｈに対応した部分が、反射材料層の当該領域における表面形状に対応した表面形状を有するようにする。図６（ｃ）に示す例では、マスク層１３０は、反射材料層の赤色領域Ｒ、緑色領域Ｇ及び青色領域Ｂに設けられた複数の凹部又は凸部に対応した表面形状並びに反射材料層１２０の平坦領域Ｆに対応した表面形状を有している。

第２に、マスク層１３０は、透かし画像領域Ｗの第１領域Ｒ１に対応した部分が、反射材料層の当該領域における表面形状に対応した表面形状を有するようにする。図６（ｃ）に示す例では、マスク層１３０は、反射材料層の第１領域Ｒ１に設けられた複数の凹部又は凸部に対応した表面形状を有している。

第３に、マスク層１３０は、透かし画像領域Ｗの第２領域Ｒ２に対応した部分が、当該領域における反射材料層の表面形状に対応した表面形状を有するか、又は、第２領域Ｒ２に設けられた複数の凹部又は凸部の配置に対応して部分的に開口しているようにする。図６（ｃ）に示す例では、マスク層１３０は、反射材料層１２０上で第２領域Ｒ２に設けられた複数の凹部又は凸部の配置に対応して部分的に開口した不連続膜を形成している。

なお、上述したように、第２領域Ｒ２は、ホログラム画像領域Ｈ及び第１領域Ｒ１と比較して、見かけ上の面積に対する表面積の比がより大きいことが好ましい。従って、マスク層１３０がホログラム画像領域Ｈ、第１領域Ｒ１、及び第２領域Ｒ２の表面形状に対応した表面形状を有するように上記の設定膜厚を定めた場合、マスク層１３０のうち第２領域Ｒ２に対応した部分は、ホログラム画像領域Ｈ及び第１領域Ｒ１に対応した部分と比較して、平均膜厚がより小さいことが好ましい。

また、上記の設定膜厚を更に小さな値に定めることにより、ホログラム画像領域Ｈ及び第１領域Ｒ１に対応した部分では、ホログラム画像領域Ｈ及び第１領域Ｒ１の表面形状にそれぞれ対応した表面形状を有しており且つ第２領域Ｒ２に対応した部分では複数の凹部又は凸部の配置に対応して部分的に開口したマスク層１３０を形成することができる。

マスク層１３０の設定膜厚は、典型的には、第２領域Ｒ２に設けられた複数の凹部又は凸部の深さ又は高さと比較してより小さいことが好ましい。また、マスク層１３０の設定膜厚は、典型的には、反射材料層１２０の設定膜厚と比較してより小さいことが好ましい。

具体的には、マスク層１３０の設定膜厚は、例えば０．３ｎｍ〜２００ｎｍ、好ましくは３ｎｍ〜８０ｎｍである。この設定膜厚が過度に小さいと、マスク層１３０のうちホログラム画像領域Ｈ及び第１領域Ｒ１のそれぞれに対応する部分の平均膜厚が過度に小さくなり、反射材料層１２０のうちホログラム画像領域Ｈ及び第１領域Ｒ１のそれぞれに対応する部分のマスク層１３０による保護が不十分となる場合がある。この設定膜厚が過度に大きいと、反射材料層１２０のうち第２領域Ｒ２に対応した部分のマスク層１３０による保護が過剰となる場合がある。

マスク層１３０のうちホログラム画像領域Ｈ及び第１領域Ｒ１のそれぞれに対応する部分の平均膜厚は、典型的には、反射材料層１２０のうちホログラム画像領域Ｈ及び第１領域Ｒ１のそれぞれに対応する部分の平均膜厚と比較してより小さいことが好ましい。

マスク層１３０のうちホログラム画像領域Ｈ及び第１領域Ｒ１に対応した部分の平均膜厚は、例えば０．３ｎｍ〜２００ｎｍ、好ましくは３ｎｍ〜８０ｎｍである。

続いて、マスク層１３０を、反射材料層１２０の材料との反応を生じ得る反応性ガス又は液に曝す。そして、少なくとも第２領域Ｒ２の位置で、反射材料層１２０の材料との上記反応を生じさせる。

ここでは、反応性ガス又は液として、反射材料層１２０の材料を溶解可能なエッチング液を使用する場合について説明する。このエッチング液としては、典型的には、水酸化ナトリウム溶液、炭酸ナトリウム溶液及び水酸化カリウム溶液等のアルカリ性溶液を使用することができる。或いは、エッチング液として、塩酸、硝酸、硫酸及び酢酸等の酸性溶液を使用してもよい。

図６（ｃ）に示すように、マスク層１３０のうちホログラム画像領域Ｈ及び第１領域Ｒ１に対応した部分は連続膜を形成しているのに対し、第２領域Ｒ２に対応した部分は、部分的に開口した不連続膜を形成していてもよい。反射材料層１２０のうちマスク層１３０によって被覆されていない部分は、反射材料層１２０のうちマスク層１３０によって被覆された部分と比較して、反応性ガス又は液と接触しやすい。従って、前者は、後者と比較してよりエッチングされ易い。

また、反射材料層１２０のうちマスク層１３０によって被覆されていない部分が除去されると、反射材料層１２０には、マスク層１３０の開口に対応した開口が生じる。エッチングを更に続けると、反射材料層１２０のエッチングは、各開口の位置で面内方向に進行する。その結果、第２領域Ｒ２では、反射材料層１２０のうちマスク層１３０を支持している部分が、その上のマスク層１３０と共に除去される。

従って、エッチング液の濃度及び温度並びにエッチングの処理時間等を調整することにより、図６（ｄ）に示すように、反射材料層１２０のうち第２領域Ｒ２に対応した部分のみを除去することができる。これにより、ホログラム画像領域Ｈ及び第１領域Ｒ１のみを被覆した第１層１２０’が得られる。

なお、反射材料層１２０とマスク層１３０との双方がホログラム画像領域Ｈ及び透かし画像領域Ｗ（第１領域Ｒ１及び第２領域Ｒ２）の表面形状に対応した表面形状を有した構成を採用する場合、或いは反射材料層１２０とマスク層１３０との双方が、ホログラム画像領域Ｈ及び透かし画像領域Ｗの第１領域Ｒ１では、ホログラム画像領域Ｈ及び第１領域Ｒ１の表面形状にそれぞれ対応した表面形状を有しているが、第２領域Ｒ２では、第２領域Ｒ２に設けられた複数の凹部又は凸部の配置に対応して部分的に開口している構成を採用した場合においても、エッチング液の濃度及び温度並びにエッチングの処理時間等を調整することにより、本発明に係る表示体１００を製造することが可能である。

また、上掲では、反射材料層１２０及びマスク層１３０のうち第２領域Ｒ２に対応した部分を完全に除去する場合について説明したが、これら部分の一部が残存するようにしてもよい。

また、上掲では、反応性ガス又は液としてエッチング液を使用する場合について説明したが、反応性ガス又は液はこれには限られない。例えば、反応性ガス又は液として、反射材料層１２０の材料を気化させ得るエッチングガスを使用してもよい。

或いは、反応性ガス又は液として、第１材料との反応により、反射材料層１２０の一部を第１材料とは異なる材料からなる層に変化させ得るガス又は液を使用してもよい。この場合、例えば、反射材料層１２０のうち第２領域Ｒ２に対応した部分を除去する代わりに、当該部分を第１材料とは異なる材料からなる層に変化させることが可能となる。

このような反応性ガス又は液としては、例えば、第１材料を酸化させ得る酸化剤を使用することができる。この酸化剤としては、例えば、酸素、オゾン、若しくはハロゲン、又は、二酸化塩素、次亜ハロゲン酸、亜ハロゲン酸、次ハロゲン酸、過ハロゲン酸、及びその塩などのハロゲン化物、過酸化水素、過硫酸塩類、ペルオキソ炭酸塩類、ペルオキソ硫酸塩類、及びペルオキソリン酸塩類などの無機過酸化物、過酸化ベンゾイル、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ジイソプロピルベンゼンヒドロペルオキシド、過蟻酸、過酢酸、及び過安息香酸などの有機過酸化物、セリウム塩、Ｍｎ（ＩＩＩ）、Ｍｎ（ＩＶ）及びＭｎ（ＶＩ）塩、銀塩、銅塩、クロム塩、コバルト塩、重クロム酸塩、クロム酸塩、過マンガン酸塩、過フタル酸マグネシウム、塩化第二鉄、及び塩化第二銅などの金属又は金属化合物、又は、硝酸、硝酸塩、臭素酸塩、過ヨウ素酸塩、及びヨウ素酸塩などの無機酸若しくは無機酸塩を使用することができる。

例えば、反射材料層１２０の材料としてＣｕを使用した場合、反射材料層１２０のうち少なくとも第２領域Ｒ２に対応した部分を酸化剤と反応させることにより、当該部分をＣｕ酸化物からなる層に変化させることができる。或いは、反射材料層１２０の材料としてＡｌを使用した場合、反射材料層１２０のうち少なくとも第２領域Ｒ２に対応した部分を酸化剤と反応させることにより、当該部分をベーマイト等のＡｌ酸化物からなる層に変化させることができる。

或いは、上記の反応性ガス又は液として、反射材料層１２０の材料を還元させ得る還元剤を使用してもよい。この還元剤としては、例えば、硫化水素、二酸化硫黄、フッ化水素、アルコール、カルボン酸、水素ガス、水素プラズマ、遠隔水素プラズマ、ジエチルシラン、エチルシラン、ジメチルシラン、フェニルシラン、シラン、ジシラン、アミノシラン、ボラン、ジボラン、アラン、ゲルマン、ヒドラジン、アンモニア、ヒドラジン、メチルヒドラジン、１，１−ジメチルヒドラジン、１，２−ジメチルヒドラジン、ｔ−ブチルヒドラジン、ベンジルヒドラジン、２−ヒドラジノエタノール、１−ｎ−ブチル−１−フェニルヒドラジン、フェニルヒドラジン、１−ナフチルヒドラジン、４−クロロフェニルヒドラジン、１，１−ジフェニルヒドラジン、ｐ−ヒドラジノベンゼンスルホン酸、１，２−ジフェニルヒドラジン、ｐ−ヒドラジノベンゼンスルホン酸、１，２−ジフェニルヒドラジン、アセチルヒドラジン又はベンゾイルヒドラジンを使用することができる。

なお、図６を参照しながら説明した方法において、エッチング処理等によって第１層１２０’を形成した後、第２層１３０’を除去してもよい。この第２層１３０’の除去は、例えば、第１材料と第２材料とのイオン化傾向の差異に基づいた第１材料のイオン化が懸念される場合に有効である。

以上のようにして、本発明に係る表示体１００を得ることができる。

本発明の表示体は、所望の画像を表示するために、ホログラム画像領域Ｈにおける赤色領域、緑色領域、及び青色領域の占める割合、並びに透かし画像領域Ｗにおける第２領域Ｒ２の占める割合を種々変化させることができる。

図８に示すように、赤色表示用画素ＰＥＲ、緑色表示用画素ＰＥＧ、青色表示用画素ＰＥＢに、それぞれ赤色領域Ｒ、緑色領域Ｇ、及び青色領域Ｂが略等しい面積で略全面に設けられ、透かし表示用画素ＰＥＷの略全面に第２領域Ｒ２が設けられる場合には、この画素では斜め方向から観察する条件において最大輝度の白色回折光を表示すると共に、比較的多くの光を透過するものとなる。

なお、上述した本発明の実施形態では、画素中のホログラム画像領域Ｈに、赤色領域Ｒ、緑色領域Ｇ、及び青色領域Ｂを備える場合を説明したが、本発明に係る表示体は、赤色領域Ｒ、緑色領域Ｇ、及び青色領域Ｂのうちいずれかを備えていなくてもよく、或いは、他の公知の回折構造を備えていてもよい。

また、本発明の表示体は、画素中のホログラム画像領域Ｈにおいて、回折構造と一緒に又は回折構造に代えて光散乱構造を備えていてもよい。その例を以下に説明する。

本発明の表示体は、画素中のホログラム画像領域Ｈが、方向の揃った複数の直線状の凸部及び／又は凹部を備える、当該方向が互いに異なる複数の領域（以下、「光散乱領域」とも称する）を含む光散乱構造を有していてもよい。この複数の領域を法線方向から照明した場合、この領域は、直線状の凸部及び／又は凹部の長手方向に垂直な面内には最も広い射出範囲で散乱光を射出し、直線状の凸部及び／又は凹部の長手方向に平行であり且つ先の領域の主面に垂直な面内には最も狭い射出各範囲で散乱光を射出する。

ここで、図９を参照して、複数の光散乱領域で得られる視覚効果について説明する。図９は、光散乱領域の一例を概略的に示す平面図である。図９に示す光散乱領域２００は、複数の凸部及び／又は凹部２１０を含んでいる。凸部及び／又は凹部２１０は、各々が直線状であり、各光散乱領域２００内で方向が揃っている。すなわち、各光散乱領域２００において、凸部及び／又は凹部２１０はほぼ平行に配列している。

なお、各光散乱領域２００において、凸部及び／又は凹部２１０は完全に平行に配列していなくてもよい。光散乱領域２００が十分な光散乱能異方性を有している限り、その光散乱領域２００において、例えば、一部の凸部及び／又は凹部２１０の長手方向と他の一部の凸部及び／又は凹部２１０の長手方向とが交差していても良い。以下、光散乱領域２００の主面に平行な方向のうち、光散乱領域２００が最小の光散乱能を示す方向を「配向方向」と呼び、光散乱領域２００が最大の光散乱能を示す方向を「光散乱軸」と呼ぶ。

図９に示す光散乱領域２００では、矢印２２０で示す方向は配向方向であり、矢印２３０で示す方向は光散乱軸である。例えば配向方向２２０に垂直な斜め方向から光散乱領域２００に光を当て、光散乱領域２００を正面から観察すると、光散乱領域２００は、その高い光散乱能に起因して、比較的明るく見える。一方、光散乱軸２３０に垂直な斜め方向から光散乱領域２００に光を当て、光散乱領域２００を正面から観察すると、光散乱領域２００は、その低い光散乱能に起因して、比較的暗く見える。

これから明らかなように、例えば、光散乱領域２００を斜め方向から照明して、これを正面から観察した場合、光散乱領域２００をその法線方向の周りで回転させると、その明るさが変化する。それゆえ、例えば、上記した複数の光散乱領域（例えば、２つの光散乱領域）に同一の構造を採用し、それらの領域間で光散乱軸２３０の方向のみを異ならしめた場合、一方の領域が最も明るく見えるときには他方の領域は比較的暗く見え、当該一方の領域が最も暗く見えるときには当該他方の領域は比較的明るく見える。

すなわち、２つの光散乱領域で光散乱軸２３０を異ならしめることにより、それらの間に明るさの差を生じさせることができる。したがって、これにより、像を表示することができる。特に、２つの光散乱領域２００の光散乱軸２３０の角度差を十分とする（例えば、３０°以上）、あるいはそれぞれの光散乱異方性を十分大きくすることにより、それぞれの領域で表示された像をそれぞれ別の観察条件で観察することができる。

なお、ここでは簡単に説明したが、上記した光散乱構造としては特開２００８−１０７４７２号公報に公開されているものを用いることができる。

更に、本発明の表示体は、画素中のホログラム画像領域Ｈにおいて、上面が基材面と略平行である複数の凸部、又は底面が基材面と略平行である複数の凹部と、基材面と略平行な平坦部が配置されている構造を有していてもよい。当該構造によれば、照明光の入射に応じて複数の波長の光から構成される色を表示可能である。つまり、レリーフ型の回折構造のように照明の位置や観察者の位置の変化に応じて虹色に色変化することがなく、当該回折構造を利用した偽造防止媒体とは異なる視覚効果を実現できる。

なお、ここでは簡単に説明したが、上記した光散乱構造としては特開２０１１−２１８６４８号公報に公開されているものを用いることができる。

本発明の表示体は、複数の複数の画素の少なくとも１つが、ホログラム画像領域Ｈ及び透かし画像領域Ｗを有しているが、その他の画素として、ホログラム画像領域Ｈ及び透かし画像領域Ｗの一方を備えない画素を備えていてもよい。

図１０は、本発明に係る表示体の一例を示した概略図であり、図１１は、図１０に示す表示体が回折光による画像を表示しているところを示した概略図であり、図１２は、図１０に示す表示体が透過光による画像を表示しているところを示した概略図である。

本発明に係る表示体は、画素がホログラム画像領域Ｈと透かし画像領域Ｗとに区分けされているため、図１１に示す回折光による画像と図１２に示す透過光による画像をそれぞれ表示することができる。

回折光による画像（フルカラーポジ画像）は、画素のホログラム画像領域Ｈに設けた複数の凹部及び／又は凸部の回折構造に起因して作り出され、透過光による画像（モノクロネガ画像）は、光を透過しない第１層１２０’を有する部分と、光を透過する第１層１２０’が除去された部分、すなわち第２領域Ｒ２とにより作り出される。

従来の表示体においては、透かし画像領域Ｗの第１領域Ｒ１が平坦な構造（鏡面構造）で形成されていた。このため、当該表示体を物品の基材に取り付けて、その主面の法線と交差する斜め方向から表示体を観察する場合に、第２領域Ｒ２から視認される基材の色と第１領域Ｒ１の鏡面色とのコントラストが大きく、透過光による観察時に表示されるべき画像が浮き出てしまうことがあった。

これに対し、本発明の表示体は、第１領域Ｒ１において、第１領域Ｒ１の拡散反射率と、表示体を取り付ける基材の拡散反射率が等しくなるように複数の凹部及び／又は凸部が設けられているため、第２領域Ｒ２から視認される基材の色と第１領域Ｒ１の鏡面色とのコントラストがほとんどなく、上記の問題は生じない。このため、本発明の表示体は斜め方向から表示体を観察する条件及び透過光により表示体を観察する条件の両方で明瞭な画像を表示することができる。

＜転写箔＞
以上において説明した表示体１００は、例えば、（粘着）ステッカ、転写箔、ラミネートフィルム又はスレッドの一部として使用してもよい。或いは、この表示体１００は、ティアテープの一部として使用してもよい。

図１３は、本発明に係る転写箔の一例を拡大して示す断面図である。図１３に示す転写箔３００は、先に説明した表示体１００として、レリーフ構造形成層１１０、第１層１２０’、及び第２層１３０’をこの順で積層した積層構造体と、当該積層構造体のレリーフ構造形成層１１０側に、剥離層５２と、表示体１００を剥離可能に支持した支持体層５０とをこの順に備え、上記積層構造体の第２層１３０’側に接着層５４を備えている。

支持体層５０としては、例えば、樹脂からなるフィルム又はシートを用いることができる。支持体層５０の材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、又は塩化ビニル樹脂を使用することができる。

剥離層５２は、転写箔２００を被転写体に転写する際の支持体層５０の剥離を容易にする役割を担っている。剥離層５２の材料としては、例えば、樹脂を使用することができる。剥離層５２は、パラフィンワックス、カルナバワックス、ポリエチレンワックス及びシリコーンなどの添加剤を更に含んでいてもよい。なお、剥離層５２の厚みは、例えば０．５μｍ〜５μｍの範囲とすることができる。

接着層５４の材料としては、例えば、反応硬化型接着剤、溶剤揮散型接着剤、ホットメルト型接着剤、電子線硬化型接着剤及び感熱接着剤などの接着剤を使用することができる。

反応硬化性接着剤としては、例えば、ポリエステルウレタン、ポリエーテルウレタン及びアクリルウレタンなどのポリウレタン系樹脂、又は、エポキシ樹脂を使用することができる。

溶剤揮散型接着剤としては、例えば、酢酸ビニル樹脂、アクリル酸エステル共重合樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、アイオノマー樹脂及びウレタン樹脂などを含んだ水性エマルジョン型接着剤、天然ゴム、スチレン−ブタジエン共重合樹脂及びアクリロニトリル−ブタジエン共重合樹脂などを含んだラテックス型接着剤を使用することができる。

ホットメルト型接着剤としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン−エチルアクリレート共重合樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルエーテル樹脂及びポリウレタン樹脂などをベース樹脂として含んだものを使用することができる。

電子線硬化型接着剤としては、例えば、アクリロイル基、アリル基及びビニル基などのビニル系官能基を１個又は複数個有したオリゴマーを主成分として含んだものを使用することができる。例えば、電子線硬化型接着剤として、ポリエステルアクリレート、ポリエステルメタクリレート、エポキシアクリレート、エポキシメタクリレート、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、ポリエーテルアクリレート又はポリエーテルメタクリレートと、接着付与剤との混合物を使用することができる。この接着付与剤としては、例えば、リンを含んだアクリレート若しくはその誘導体、又は、カルボキシ基を含んだアクリレート若しくはその誘導体を使用することができる。

感熱接着剤としては、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ゴム系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂又は塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂を使用することができる。

接着層５４は、例えば、上述した樹脂を、グラビアコータ、マイクログラビアコータ及びロールコータなどのコータを用いて表示体１００の背面上に塗付することにより得ることができる。

この転写箔３００は、例えば、ロール転写機又はホットスタンプによって、被転写体に転写することができる。この際、剥離層５２において剥離を生じると共に、表示体１００が、被転写体に、接着層５４を介して貼付される。

＜表示体付き物品＞
本発明に係る表示体１００は、表示体１００を物品に取り付けた表示体付き物品として用いることができる。例えば、表示体を取り付ける物品としては、磁気カード、ＩＣ（integrated circuit）カード、無線カード及びＩＤ（identification）カードなどのカード、商品券及び株券などの有価証券などが挙げられる。或いは、真正品であることが確認されるべき物品に取り付けられるべきタグ、ラベルであってもよい。或いは、真正品であることが確認されるべき物品を収容する包装体又はその一部であってもよい。

表示体付き物品は、物品の基材に、接着層を介して表示体を固定したものであってもよい。例えば、表示体を粘着ステッカとして又は転写箔として準備しておき、これを基材に固定したものであってもよい。

物品がその基材上に例えば印刷層を備えている場合には、基材の印刷層上に表示体が固定されたものであってもよい。この表示体付き物品は、表示体の光学効果を印刷層のそれと比較することにより、表示体の光学効果を際立たせることができる。

表示体を基材に固定する場合、例えば、基材として紙を使用ときには、表示体を紙に漉き込み、表示体に対応した位置で紙を開口させてもよい。また、物品の内部に表示体を埋め込んでもよい。

表示体１００は、偽造防止以外の目的で使用してもよい。例えば、表示体１００は、玩具、学習教材、及び装飾品などとしても利用することができる。

以下、実施例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は、下記実施例に制限されるものではない。

＜表示体、転写箔及び表示体付き物品の作製＞
（版の作製）
まず、斜め方向から観察する条件及び透過光によって観察する条件の各々において、表示体に所望の像を表示可能とする描画データを作成した。なお、ホログラム画像領域Ｈについては、赤色領域Ｒ、緑色領域Ｇ、及び青色領域Ｂと、これらの領域をそれぞれ囲むように配置された平坦領域Ｆとを設け、赤色領域Ｒ、緑色領域Ｇ、及び青色領域Ｂのそれぞれが所定の回折構造を有するように描画データを作成した。透かし画像領域Ｗの第１領域Ｒ１については、作製した表示体を取り付ける基材（用紙）の拡散反射率をあらかじめ拡散反射率計により測定し、次いで、この測定値から、１μｍを平均とする０．３から２．０μｍのランダムな径を有する円形の凸部もしくは凹部を０から６２，５００個／ｍｍ２の密度でランダムに位置配置することを決定し、これを描画データとした。透かし画像領域Ｗの第２領域Ｒ２については２０００本／ｍｍのクロスグレーティングで描画データを作成した。そして、電子線レジスト上に、上記データに対応した形状を、電子線を用いて描画した。このレジストを現像し、所望の凹部又は凸部を形成した。その後、気相堆積法により導電層を成膜し、ニッケルスパッタで各凹部又は凸部の表面に導通をとり、ニッケル電鋳により金型を作製した。このようにして、版を作製した。

（複製）
次に、＃１９のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材上に、グラビアコーティング法により、アクリル樹脂からなる剥離層、ＵＶ硬化型樹脂からなる層をこの順に形成した。層の厚みはそれぞれ、１μｍであった。このようにして、原反を作製した。

続いて、上記原反の樹脂からなる層側の面に、１００℃の熱及び１ＭＰａの圧力で上記版を押し付けた。このようにして、原反の一方の主面に複数の凹部又は凸部を備えたレリーフ構造形成層１１０を得た。

なお、赤色領域Ｒに対応した部分では、複数の凹部又は凸部の中心間距離が８７０ｎｍ、緑色領域Ｇに対応した部分では、複数の凹部又は凸部の中心間距離が７６５ｎｍ、青色領域Ｂに対応した部分では、複数の凹部又は凸部の中心間距離が７４５ｎｍであった。そして、第２領域Ｒ２に対応した部分では、複数の凹部又は凸部の中心間距離を２５０ｎｍとした。

次いで、レリーフ構造形成層１１０の上に、アルミニウムを蒸着させた。このようにして、反射材料層１２０を得た。反射材料層１２０の厚みは、５０ｎｍであった。

続いて、反射材料層１２０の上に、ＭｇＦ２を蒸着させた。マスク層１３０の厚みは、２０ｎｍであった。

このようにして、レリーフ構造形成層１１０、反射材料層１２０、マスク層１３０をこの順で積層した積層体を得た。

次に、当該積層体をＮａＯＨ（５％、５０℃）溶液中に浸漬して、エッチングを行い、第１層１２０’及び第２層１３０’を形成し、表示体を得た。

その後、表示体の第２層１３０’側の面にアクリル系樹脂をグラビアコーティング法で２μｍの厚さで塗付して、接着層５４を形成した。以上のようにして、転写箔を得た。

（転写）
次いで、転写箔を光透過性のある被転写用紙に１５０℃の温度及び１０ＭＰａの圧力で転写した。このようにして、表示体付き物品として、表示体付きの用紙を得た。

この用紙を表示体の主面の法線と交差する斜め方向から観察すると、赤色領域Ｒ、緑色領域Ｇ及び青色領域Ｂからの回折光により、写真画質のフルカラーホログラム画像を観察することができた。この際、透過光による観察時に表示される画像は浮き出てこなかった。また、透過光による観察を行うと、第２領域Ｒ２の分布に基づいた透かし画像を観察することができた。

このように本発明の表示体は、斜め方向から観察する条件において、透過光による観察時に表示される画像が浮き出にくく、所望のフルカラーホログラム画像を明瞭に表示することができる。このため、このため当該表示体、並びにこれを備えた転写箔及び物品は、優れた偽造防止効果、装飾効果、及び／又は美的効果を有する。

５０ 支持体層
５２ 剥離層
５４ 接着層
１００ 表示体
１１０ レリーフ構造形成層
１２０ 反射材料層
１２０’ 第１層
１３０ マスク層
１３０’ 第２層
３００ 転写箔
ＰＥ 画素
Ｈ ホログラム画像領域
Ｗ 透かし画像領域
Ｒ１ 第１領域
Ｒ２ 第２領域

Claims (9)

1. 複数の画素を具備する表示体であって、
   前記複数の画素の少なくとも１つは、レリーフ構造形成層と、第１層と、第２層とをこの順で積層した積層構造を含むとともに、ホログラム画像領域及び透かし画像領域を有し、前記透かし画像領域はさらに、第１領域及び第２領域を有し、
   前記レリーフ構造形成層は、その一方の面に複数の凹部及び／又は凸部を備え、ここで、前記ホログラム画像領域では、前記表示体の主面の法線と交差する斜め方向から前記表示体を観察する条件で所定の色を表示するように前記複数の凹部及び／又は凸部が設けられており、前記第１領域では、前記第１領域の拡散反射率と、前記表示体を取り付ける基材の拡散反射率が等しくなるように前記複数の凹部及び／又は凸部が設けられており、前記第２領域では、前記ホログラム画像領域及び前記第１領域とは異なる前記複数の凹部及び／又は凸部が設けられており、
   前記第１層は、前記レリーフ構造形成層の材料とは屈折率が異なる第１材料から形成され、前記レリーフ構造形成層の凹部及び／又は凸部に対応する形状で前記ホログラム画像領域及び第１領域に設けられており、
   前記第２層は、前記第１材料とは異なる第２材料から形成され、前記第１層上に設けられており、
   前記表示体は、前記斜め方向から前記表示体を観察する条件において前記ホログラム画像領域の分布に基づいた画像を表示すると共に、前記表示体を透過光によって観察する条件において前記第２領域の分布に基づいた画像を表示することを特徴とする、表示体。
2. 前記レリーフ構造形成層に設けられた前記複数の凹部及び／又は凸部が、前記ホログラム画像領域において、回折構造及び／又は光散乱構造を形成していることを特徴とする、請求項１に記載の表示体。
3. 前記第２領域は、当該第２領域における見かけ上の面積に対する表面積の比が、前記ホログラム画像領域及び第１領域のそれぞれにおける見かけ上の面積に対する表面積の比と比較して、より大きいことを特徴とし、前記見かけ上の面積は、当該領域に平行な平面への当該領域の正射影の面積、即ち、凹構造及び／又は凸構造を無視した当該領域の面積を意味し、前記表面積とは、凹構造及び／又は凸構造を考慮した当該領域の面積を意味する、請求項１又は２に記載の表示体。
4. 前記レリーフ構造形成層に設けられた前記複数の凹部及び／又は凸部は、前記第２領域において、５００ｎｍ以下の中心間距離で二次元的に配置されていると共に各々が順テーパ形状を有していることを特徴とする、請求項１から３のいずれかに記載の表示体。
5. 前記レリーフ構造形成層に設けられた前記複数の凹部及び／又は凸部が、前記ホログラム画像領域において、５００ｎｍ〜１０００ｎｍの中心間距離で設けられていることを特徴とする、請求項１から４のいずれかに記載の表示体。
6. 前記ホログラム画像領域は、前記斜め方向から前記表示体を観察する条件において、赤色を表示するように構成された赤色領域と、緑色を表示するように構成された緑色領域と、青色を表示するように構成された青色領域とを含むことを特徴とする、請求項１から５のいずれかに記載の表示体。
7. 前記ホログラム画像領域は、前記赤色領域、前記緑色領域、及び前記青色領域と、当該３つの領域のそれぞれを囲むように配置された平坦領域とを備え、
   前記透かし画像領域は、第１領域と、当該第１領域に囲まれるように配置された前記第２領域とを備えることを特徴とする、請求項６に記載の表示体。
8. 請求項１から７のいずれか１項に記載の表示体と、前記表示体を剥離可能に支持した支持体層とを具備した転写箔。
9. 請求項１から７のいずれか１項に記載の表示体と、これを支持した物品とを具備した表示体付き物品。