JP6499042B2 - Imaging device mounting substrate and imaging apparatus - Google Patents

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Description

本発明は、例えばCCD(Charge Coupled Device)型またはCMOS(Complementary
Metal Oxide Semiconductor)型等の撮像素子が搭載される撮像素子実装用基板および撮像装置に関するものである。
The present invention is, for example, a CCD (Charge Coupled Device) type or CMOS (Complementary).
The present invention relates to an imaging device mounting substrate and an imaging device on which an imaging device such as a metal oxide semiconductor) type is mounted.

従来より、基板とフレキシブル基板とを接合する技術が知られている。基板の上面に形成された電極とフレキシブル基板の下面とを接続し、基板の上面の露出した電極上に、その電極を保護するために樹脂等からなる保護材が覆っている。   Conventionally, a technique for joining a substrate and a flexible substrate is known. An electrode formed on the upper surface of the substrate is connected to the lower surface of the flexible substrate, and a protective material made of resin or the like is covered on the exposed electrode on the upper surface of the substrate to protect the electrode.

特開2000−294891号公報JP 2000-294891 A

しかしながら、従来技術では樹脂等から成る保護材を硬化させるための加熱を行う工程を付加する必要がある。また、一般的に基板とフレキシブル配線基板は熱膨張率が異なる。これらのことから、保護材を硬化させるための加熱を行う工程を付加することで、熱負荷が接合箇所に大きくかかってしまい、各部材同士の剥がれ、または変形が懸念されていた。特に、近年小型化の要求が求められる撮像素子が搭載される撮像素子実装用基板および撮像装置では接合領域が確保するのが困難になってきており、フレキシブル基板の剥がれの抑制がより必要とされてきている。   However, in the prior art, it is necessary to add a heating process for curing the protective material made of resin or the like. In general, the substrate and the flexible wiring substrate have different coefficients of thermal expansion. From these facts, by adding a heating process for curing the protective material, the heat load is greatly applied to the joining portion, and there has been a concern about peeling or deformation of the members. In particular, it has become difficult to secure a bonding area in an image sensor mounting substrate and an image pickup apparatus on which an image sensor that is required to be downsized in recent years is mounted, and it is necessary to suppress peeling of the flexible substrate. It is coming.

本発明の目的は、枠体とフレキシブル基板の間またはフレキシブル基板と平板との間における剥がれ、あるいはこれらの変形を抑制することが可能となる撮像素子実装用基板と、撮像素子実装用基板を用いた撮像装置を提供することにある。   An object of the present invention is to use an image pickup device mounting substrate and an image pickup device mounting substrate that can suppress peeling between the frame body and the flexible substrate or between the flexible substrate and the flat plate, or deformation thereof. It is to provide an image pickup apparatus.

本発明の1つの態様に係る撮像素子実装用基板は、上面のうち中央領域に撮像素子実装部を有する平板と、前記平板上であって前記中央領域を取り囲む周縁領域に接続され、一部が外方に向かって延在するとともに、内部に導電層と、上面には前記中央領域側が切り欠かれ前記導電層が位置する切欠き部とを有するフレキシブル基板と、前記フレキシブル基板の切欠き部上から前記周縁領域に沿って連続して設けられた、前記撮像素子実装部を取り囲む枠体とを備え、前記枠体と前記フレキシブル基板は、異方性導電膜を介して接続され、前記異方性導電膜は前記切欠き部に位置する前記導電層の表面を全て覆っている。   An image pickup device mounting substrate according to one aspect of the present invention is connected to a flat plate having an image pickup device mounting portion in a central region of an upper surface and a peripheral region on the flat plate surrounding the central region, and a part thereof A flexible substrate extending outward and having a conductive layer inside, a cutout portion in which the central region side is cut out on the upper surface and the conductive layer is located; and on the cutout portion of the flexible substrate A frame body that surrounds the imaging element mounting portion and is provided continuously along the peripheral region, and the frame body and the flexible substrate are connected via an anisotropic conductive film, and the anisotropic The conductive film covers the entire surface of the conductive layer located at the notch.

本発明の1つの態様に係る撮像素子実装用基板は、上面のうち中央領域に撮像素子実装
部を有する平板と、前記平板上であって前記中央領域を取り囲む周縁領域に接続され、一部が外方に向かって延在するとともに、内部に複数の導電層と、上面には前記中央領域側が切り欠かれ前記複数の導電層のうち最上層の導電層が位置する第1切欠き部と、下面には前記中央領域側に切り欠かれ前記複数の導電層のうち最下層の導電層が位置する第2切欠き部とを有するフレキシブル基板と、前記フレキシブル基板の第1切欠き部上から前記周縁領域に沿って連続して設けられた、前記撮像素子実装部を取り囲む枠体とを備え、前記枠体と前記フレキシブル基板は、第1異方性導電膜を介して接続され、前記第1異方性導電膜は前記第1切欠き部に位置する前記最上層の導電層の表面を全て覆い、前記フレキシブル基板と前記平板は、第2異方性導電膜を介して接続され、前記第2異方性導電膜は
前記第2切欠き部に位置する前記最下層の導電層の表面を全て覆っている。
An imaging device mounting substrate according to one aspect of the present invention is connected to a flat plate having an imaging device mounting portion in a central region of an upper surface, and a peripheral region on the flat plate surrounding the central region, and a part thereof A plurality of conductive layers inside and a first cutout portion in which the central region side is cut out on the upper surface and the uppermost conductive layer is located among the plurality of conductive layers; A flexible board having a second cutout portion on the lower surface, the second cutout portion being cut out on the side of the central region and in which the lowermost conductive layer of the plurality of conductive layers is located, and the first cutout portion of the flexible board from above A frame body continuously surrounding the peripheral region and surrounding the imaging element mounting portion, the frame body and the flexible substrate being connected via a first anisotropic conductive film, The anisotropic conductive film is located in the first notch Covering the entire surface of the uppermost conductive layer, the flexible substrate and the flat plate are connected via a second anisotropic conductive film, and the second anisotropic conductive film is connected to the second notch. The entire surface of the lowermost conductive layer located is covered.

本発明の1つの態様に係る撮像装置は、上記のいずれかに記載の撮像素子実装用基板と
、撮像素子実装用基板の上面に実装された撮像素子とを備え、前記撮像素子は前記撮像素子実装部と重なる位置に実装されている。
An imaging device according to an aspect of the present invention includes the imaging device mounting substrate according to any one of the above, and an imaging device mounted on an upper surface of the imaging device mounting substrate, wherein the imaging device is the imaging device. It is mounted at a position that overlaps the mounting part.

本発明の1つの態様に係る撮像素子実装用基板は、上面のうち中央領域に撮像素子実装
部を有する平板と、前記平板上であって前記中央領域を取り囲む周縁領域に接続され、一部が外方に向かって延在するとともに、内部に導電層と、上面には前記中央領域側が切り欠かれ前記導電層が位置する切欠き部とを有するフレキシブル基板と、前記フレキシブル基板の切欠き部上から、前記周縁領域に沿って連続して設けられた、前記撮像素子実装部を取り囲む枠体とを備え、前記枠体と前記フレキシブル基板は、異方性導電膜を介して接続され、前記異方性導電膜は前記切欠き部に位置する前記導電層の表面を全て覆っている。
An imaging device mounting substrate according to one aspect of the present invention is connected to a flat plate having an imaging device mounting portion in a central region of an upper surface, and a peripheral region on the flat plate surrounding the central region, and a part thereof A flexible substrate extending outward and having a conductive layer inside, a cutout portion in which the central region side is cut out on the upper surface and the conductive layer is located; and on the cutout portion of the flexible substrate The frame body and the flexible substrate are connected to each other through an anisotropic conductive film, and are provided continuously along the peripheral region. The isotropic conductive film covers the entire surface of the conductive layer located at the notch.

これにより、枠体とフレキシブル基板の間またはフレキシブル基板と平板との間における剥がれ、あるいはこれらの変形を低減させることが可能となる撮像素子実装用基板を提供することができる。   Accordingly, it is possible to provide an imaging element mounting substrate that can reduce peeling between the frame body and the flexible substrate or between the flexible substrate and the flat plate, or deformation thereof.

また、本発明の1つの態様に係る撮像素子実装用基板は、上面のうち中央領域に撮像素
子実装部を有する平板と、前記平板上であって前記中央領域を取り囲む周縁領域に接続され、一部が外方に向かって延在するとともに、内部に複数の導電層と、上面には前記中央領域側が切り欠かれ前記複数の導電層のうち最上層の導電層が位置する第1切欠き部と、下面には前記中央領域側に切り欠かれ前記複数の導電層のうち最下層の導電層が位置する第2切欠き部とを有するフレキシブル基板と、前記フレキシブル基板の第1切欠き部上から、前記周縁領域に沿って連続して設けられた、前記撮像素子実装部を取り囲む枠体とを備え、前記枠体と前記フレキシブル基板は、第1異方性導電膜を介して接続され、前記第1異方性導電膜は前記第1切欠き部に位置する前記最上層の導電層の表面を全て覆い、前記フレキシブル基板と前記平板は、第2異方性導電膜を介して接続され、前記第2異方性導電膜は前記第2切欠き部に位置する前記最下層の導電層の表面を全て覆っている。
In addition, an imaging element mounting substrate according to one aspect of the present invention is connected to a flat plate having an imaging element mounting portion in a central region of an upper surface and a peripheral region on the flat plate surrounding the central region. A first cutout portion having a plurality of conductive layers inside and a top surface of the plurality of conductive layers, wherein the uppermost conductive layer is located. And a flexible printed circuit board having a second notch on the lower surface, the second notch being located on the lower side of the plurality of conductive layers, and a first notch on the flexible board. A frame body that is provided continuously along the peripheral region and surrounds the imaging element mounting portion, and the frame body and the flexible substrate are connected via a first anisotropic conductive film, The first anisotropic conductive film has the first notch. Covering the entire surface of the uppermost conductive layer located in the section, the flexible substrate and the flat plate are connected via a second anisotropic conductive film, and the second anisotropic conductive film is connected to the second cut All the surfaces of the lowermost conductive layer located in the notch are covered.

これにより、枠体とフレキシブル基板の間またはフレキシブル基板と平板との間の剥がれ、あるいはこれらの変形を低減させることが可能となる撮像素子実装用基板を提供することができる。   Accordingly, it is possible to provide an image sensor mounting substrate that can reduce peeling between the frame and the flexible substrate or between the flexible substrate and the flat plate, or deformation thereof.

(a)は本発明の第1の実施形態に係る撮像素子実装用基板および撮像装置の外観を示す上面図であり、(b)は(a)のA−A線に対応する縦断面図である。(A) is a top view which shows the external appearance of the image pick-up element mounting board | substrate and imaging device which concern on the 1st Embodiment of this invention, (b) is a longitudinal cross-sectional view corresponding to the AA line of (a). is there. (a)は本発明の第2の実施形態に係る撮像素子実装用基板および撮像装置の外観を示す上面図であり、(b)は(a)のA−A線に対応する縦断面図である。(A) is a top view which shows the external appearance of the image pick-up element mounting board | substrate and imaging device which concern on the 2nd Embodiment of this invention, (b) is a longitudinal cross-sectional view corresponding to the AA line of (a). is there. (a)は本発明の第3の実施形態に係る撮像素子実装用基板および撮像装置の外観を示す上面図であり、(b)は(a)のA−A線に対応する縦断面図である。(A) is a top view which shows the external appearance of the image pick-up element mounting board | substrate and imaging device which concern on the 3rd Embodiment of this invention, (b) is a longitudinal cross-sectional view corresponding to the AA line of (a). is there. (a)は本発明の第4の実施形態に係る撮像素子実装用基板および撮像装置の外観を示す上面図であり、(b)は(a)のA−A線に対応する縦断面図である。(A) is a top view which shows the external appearance of the image pick-up element mounting board | substrate and imaging device which concern on the 4th Embodiment of this invention, (b) is a longitudinal cross-sectional view corresponding to the AA line of (a). is there. (a)は本発明の第5の実施形態に係る撮像素子実装用基板および撮像装置の外観を示す上面図であり、(b)は(a)のA−A線に対応する縦断面図である。(A) is a top view which shows the external appearance of the image pick-up element mounting board | substrate and imaging device which concern on the 5th Embodiment of this invention, (b) is a longitudinal cross-sectional view corresponding to the AA line of (a). is there.

以下、本発明のいくつかの例示的な実施形態について図面を参照して説明する。なお、
以下の説明では、撮像素子実装用基板に撮像素子が実装され、撮像素子実装用基板の上面に蓋体が接合された構成を撮像装置とする。撮像素子実装用基板および撮像装置は、いずれの方向が上方若しくは下方とされてもよいが、便宜的に、直交座標系xyzを定義するとともに、z方向の正側を上方とする。
Hereinafter, some exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition,
In the following description, a configuration in which an imaging element is mounted on an imaging element mounting substrate and a lid is bonded to the upper surface of the imaging element mounting substrate is referred to as an imaging device. The imaging element mounting substrate and the imaging device may be either upward or downward. For convenience, the orthogonal coordinate system xyz is defined and the positive side in the z direction is upward.

(第1の実施形態)
図1を参照して本発明の第1の実施形態における撮像装置21、および撮像素子実装用基板1について説明する。本実施形態における撮像装置21は、撮像素子実装用基板1と撮像素子10とを備えている。
(First embodiment)
With reference to FIG. 1, the imaging device 21 and the imaging element mounting substrate 1 according to the first embodiment of the present invention will be described. The imaging device 21 in this embodiment includes an imaging element mounting substrate 1 and an imaging element 10.

撮像素子実装用基板1は、平板4とフレキシブル基板5および枠体2を備えている。平板4は、上面のうち中央領域に撮像素子実装部11を有する。フレキシブル基板5は、平板4上であって中央領域を取り囲む周縁領域に接続され、一部が外方に向かって延在するとともに、内部に導電層7と、上面には中央領域側が切り欠かれ導電層7が位置する切欠き部6とを有している。枠体2は、フレキシブル基板5の切欠き部6上から周縁領域に沿って連続して設けられ、撮像素子実装部11を取り囲んでいる。枠体2とフレキシブル基板5は、異方性導電膜23を介して接続され、異方性導電膜23は切欠き部6に位置する導電層7の表面を全て覆っている。   The imaging element mounting substrate 1 includes a flat plate 4, a flexible substrate 5, and a frame 2. The flat plate 4 has an image sensor mounting portion 11 in the central region of the upper surface. The flexible substrate 5 is connected to a peripheral region on the flat plate 4 and surrounding the central region, and a part of the flexible substrate 5 extends outward, and the conductive layer 7 is formed inside, and the central region side is cut out on the upper surface. It has a notch 6 in which the conductive layer 7 is located. The frame body 2 is provided continuously along the peripheral region from above the cutout portion 6 of the flexible substrate 5 and surrounds the imaging element mounting portion 11. The frame 2 and the flexible substrate 5 are connected via an anisotropic conductive film 23, and the anisotropic conductive film 23 covers the entire surface of the conductive layer 7 located in the notch 6.

撮像素子実装用基板1は上面のうち中央領域に撮像素子実装部11を有する平板4を有する。平板4は、上面の中央領域に撮像素子実装部11を有している。   The image pickup device mounting substrate 1 has a flat plate 4 having an image pickup device mounting portion 11 in the central region of the upper surface. The flat plate 4 has an image sensor mounting portion 11 in the central region of the upper surface.

平板4を構成する材料は例えば、高い熱伝導率を有する材料が使用される。平板4を形成する材料として例えば、窒化アルミニウム質焼結体、窒化珪素質焼結体またはシリコン(Si)等が挙げられる。なお、平板4を形成する材料として、例えば窒化アルミニウム質結晶体または窒化ケイ素室結晶体等である場合、平板4は複数の絶縁層から成る積層体であっても良い。   For example, a material having high thermal conductivity is used as the material constituting the flat plate 4. Examples of the material for forming the flat plate 4 include an aluminum nitride sintered body, a silicon nitride sintered body, or silicon (Si). When the material for forming the flat plate 4 is, for example, an aluminum nitride crystal or a silicon nitride chamber crystal, the flat plate 4 may be a laminate composed of a plurality of insulating layers.

また、平板4の材料としては金属材料も使用され、金属材料として例えば、ステンレス(SUS)、Fe−Ni−Co合金、42アロイ、銅(Cu)、コバールまたは銅合金等が挙げられる。例えば、枠体2が約5×10−6/℃〜10×10−6/℃の熱膨張率を有する酸化アルミニウム質焼結体である場合、平板4は約10×10−6/℃の熱膨張率を有するステンレス(SUS410)を用いることができる。この場合には、枠体2と平板4との熱収縮差・熱膨張差が小さくなるので、撮像素子実装部11の変形を低減することができる。その結果、撮像素子10とレンズとの光軸ズレを抑制することができ、画像の鮮明度を良好に維持することができる。また、平板4が金属材料から成るとき、その材料が非磁性体であることで、レンズ駆動等の外部機器の働きを平板4が妨げることを低減させることが可能となる。 Moreover, a metal material is also used as the material of the flat plate 4, and examples of the metal material include stainless steel (SUS), Fe—Ni—Co alloy, 42 alloy, copper (Cu), Kovar, or copper alloy. For example, when the frame 2 is an aluminum oxide sintered body having a thermal expansion coefficient of about 5 × 10 −6 / ° C. to 10 × 10 −6 / ° C., the flat plate 4 is about 10 × 10 −6 / ° C. Stainless steel (SUS410) having a coefficient of thermal expansion can be used. In this case, since the thermal contraction difference and the thermal expansion difference between the frame 2 and the flat plate 4 are reduced, the deformation of the image sensor mounting portion 11 can be reduced. As a result, the optical axis shift between the image sensor 10 and the lens can be suppressed, and the sharpness of the image can be maintained satisfactorily. Further, when the flat plate 4 is made of a metal material, it is possible to reduce the obstruction of the flat plate 4 from the function of an external device such as a lens drive because the material is a non-magnetic material.

撮像素子実装用基板1は、平板4上であって中央領域を取り囲む周縁領域に接続され、一部が外方に向かって延在するとともに、内部に導電層7と、上面には中央領域側が切り欠かれ導電層7が位置する切欠き部6とを有するフレキシブル基板5を有している。なお、図1では、切欠き部6は、フレキシブル基板5の1ヵ所にしか存在しないが、例えば周縁領域を取り囲む4辺の全てに設けられても良い。   The imaging device mounting substrate 1 is connected to a peripheral region on the flat plate 4 and surrounding the central region, and part of the substrate 1 extends outward, and the conductive layer 7 is formed inside, and the central region side is disposed on the upper surface. It has a flexible substrate 5 that has a notch 6 that is notched and in which the conductive layer 7 is located. In FIG. 1, the notch 6 exists only at one location of the flexible substrate 5, but may be provided on all four sides surrounding the peripheral region, for example.

フレキシブル基板5はベースフィルム5bを有している。
ベースフィルム5bを形成する材料として例えばポリイミドフィルム等の樹脂から成る絶縁体が用いられる。
The flexible substrate 5 has a base film 5b.
As a material for forming the base film 5b, an insulator made of a resin such as a polyimide film is used.

フレキシブル基板5は、ベースフィルム5bの上面に導電層7を有している。導電層7
は、銅、アルミニウム、金、ニッケルまたはこれらから選ばれる少なくとも1種類以上の金属材料を含有する合金からなる。
The flexible substrate 5 has a conductive layer 7 on the upper surface of the base film 5b. Conductive layer 7
Is made of copper, aluminum, gold, nickel or an alloy containing at least one metal material selected from these.

また、導電層7の露出表面に、めっき層が設けられてもよい。この構成によれば、導電層7の露出表面を保護して酸化を抑制できる。また、この構成によれば、後述する枠体2と導電層7との異方性導電膜23を介した電気的接続の電気的接続を良好にできる。めっき層は、例えば、厚さ0.5〜10μmのNiめっき層を被着させるか、またはこのNiめっき層および厚さ0.5〜3μmの金(Au)めっき層を順次被着させてもよい。さらにはめっき層上にSnメッキが施されていてもよい。   In addition, a plating layer may be provided on the exposed surface of the conductive layer 7. According to this configuration, the exposed surface of the conductive layer 7 can be protected and oxidation can be suppressed. Moreover, according to this structure, the electrical connection of the electrical connection through the anisotropic conductive film 23 of the frame 2 mentioned later and the conductive layer 7 can be made favorable. As the plating layer, for example, a Ni plating layer having a thickness of 0.5 to 10 μm may be deposited, or even if this Ni plating layer and a gold (Au) plating layer having a thickness of 0.5 to 3 μm are sequentially deposited. Good. Furthermore, Sn plating may be performed on the plating layer.

フレキシブル基板5は、導電層7の上面に設けられたカバーフィルム5cを有している。カバーフィルム5cは導電層7の表面保護用のフィルムであり、ポリイミドフィルム等の樹脂材料からなるフィルムの片面に接着剤を塗布し、導電層7の表面に設けられている。   The flexible substrate 5 has a cover film 5 c provided on the upper surface of the conductive layer 7. The cover film 5 c is a film for protecting the surface of the conductive layer 7, and is provided on the surface of the conductive layer 7 by applying an adhesive to one side of a film made of a resin material such as a polyimide film.

フレキシブル基板5と平板4とを接合する接合材は、撮像素子10の実装工程において加えられる熱によって変性しにくい材料からなる。このような接合材としては、ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂またはポリイミド樹脂等である。この場合には、撮像素子10の実装工程においてフレキシブル基板5と平板4とが剥離することを良好に抑制することができる。   The bonding material for bonding the flexible substrate 5 and the flat plate 4 is made of a material that is not easily denatured by heat applied in the mounting process of the image sensor 10. Such a bonding material is bisphenol A type liquid epoxy resin or polyimide resin. In this case, peeling of the flexible substrate 5 and the flat plate 4 in the mounting process of the image sensor 10 can be satisfactorily suppressed.

撮像素子実装用基板1は、フレキシブル基板5の切欠き部6上から、切欠き部6を除いたフレキシブル基板5の上面にかけて周縁領域に沿って連続して設けられた、撮像素子実装部11を取り囲む枠体2を有している。   The image pickup device mounting substrate 1 includes an image pickup device mounting portion 11 provided continuously along the peripheral region from the cutout portion 6 of the flexible substrate 5 to the upper surface of the flexible substrate 5 excluding the cutout portion 6. It has a surrounding frame 2.

枠体2は、絶縁層から成り、第1貫通孔2aを有する。絶縁層からなる枠体2は上面に撮像素子接続用パッド3が設けられている。また、図示していないが、枠体2の下面にはフレキシブル基板5と接続される外部回路接続用電極を複数設けても良い。枠体2を構成する絶縁層の材料は例えば、電気絶縁性セラミックスまたは樹脂(プラスティックス)等が使用される。   The frame 2 is made of an insulating layer and has a first through hole 2a. An image sensor connection pad 3 is provided on the upper surface of the frame 2 made of an insulating layer. Although not shown, a plurality of external circuit connection electrodes connected to the flexible substrate 5 may be provided on the lower surface of the frame 2. As the material of the insulating layer constituting the frame body 2, for example, electrically insulating ceramics or resin (plastics) is used.

枠体2を形成する絶縁層の材料として使用される電気絶縁性セラミックスとしては例えば、酸化アルミニウム質焼結体、ムライト質焼結体、炭化珪素質焼結体、窒化アルミニウム質焼結体、窒化珪素質焼結体またはガラスセラミック焼結体等が挙げられる。   Examples of the electrically insulating ceramic used as the material of the insulating layer forming the frame 2 include, for example, an aluminum oxide sintered body, a mullite sintered body, a silicon carbide sintered body, an aluminum nitride sintered body, and a nitrided body. Examples thereof include a silicon-based sintered body and a glass ceramic sintered body.

枠体2を形成する絶縁層の材料として使用される樹脂としては例えば、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂またはフッ素系樹脂等が挙げられる。フッ素系樹脂としては例えば、ポリエステル樹脂または四フッ化エチレン樹脂が挙げられる。   Examples of the resin used as a material for the insulating layer forming the frame 2 include an epoxy resin, a polyimide resin, an acrylic resin, a phenol resin, and a fluorine resin. Examples of the fluorine-based resin include a polyester resin and a tetrafluoroethylene resin.

枠体2を形成する絶縁層は、前述した材料から成る絶縁層を複数上下に積層して形成されている。枠体2を形成する絶縁層は、図1に示すように2層の絶縁層から形成されていても良いし、単層または3層以上の絶縁層から形成されていても良い。また、図示しないが、枠体2を形成する絶縁層の開口部の大きさを異ならせ上面に段差部を形成し、段差部に複数の撮像素子接続用パッド3が設けられていてもよい。   The insulating layer forming the frame 2 is formed by laminating a plurality of insulating layers made of the above-described materials. The insulating layer forming the frame 2 may be formed of two insulating layers as shown in FIG. 1, or may be formed of a single layer or three or more insulating layers. Although not shown, the size of the opening of the insulating layer forming the frame 2 may be varied to form a stepped portion on the upper surface, and a plurality of image sensor connection pads 3 may be provided on the stepped portion.

また、枠体2の上面、側面または下面に、外部回路接続用電極が設けられている。外部回路接続用電極は、枠体2とフレキシブル基板5、あるいは撮像素子実装用基板1と外部回路基板、あるいは撮像素子実装用基板と外部装置等を電気的に接続するものである。   In addition, external circuit connection electrodes are provided on the upper surface, side surfaces, or lower surface of the frame 2. The external circuit connection electrode is for electrically connecting the frame 2 and the flexible substrate 5, or the imaging element mounting substrate 1 and the external circuit board, or the imaging element mounting substrate and the external device.

枠体2の内部には、絶縁層間に形成される内部配線、内部配線同士を上下に接続する貫通導体が設けられる。これら内部配線または貫通導体は、枠体2の表面に露出していても良い。この内部配線または貫通導体によって、外部回路接続用電極および撮像素子接続用パッド3が電気的に接続されていても良い。   Inside the frame body 2 are provided internal wirings formed between insulating layers, and through conductors that connect the internal wirings up and down. These internal wirings or through conductors may be exposed on the surface of the frame 2. The external circuit connection electrode and the image sensor connection pad 3 may be electrically connected by the internal wiring or the through conductor.

撮像素子接続用パッド3、外部回路接続用電極、内部配線および貫通導体は、枠体2が電気絶縁性セラミックスから成る場合には、タングステン(W)、モリブデン(Mo)、マンガン(Mn)、銀(Ag)若しくは銅(Cu)またはこれらから選ばれる少なくとも1種以上の金属材料を含有する合金等から成る。また、撮像素子接続用パッド3、外部回路接続用電極、内部配線および貫通導体は、枠体2が樹脂から成る場合には、銅(Cu)、金(Au)、アルミニウム(Al)、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、モリブデン(Mo)若しくはチタン(Ti)またはこれらから選ばれる少なくとも1種以上の金属材料を含有する合金等から成る。   The imaging device connection pad 3, external circuit connection electrode, internal wiring, and through conductor are tungsten (W), molybdenum (Mo), manganese (Mn), silver when the frame 2 is made of electrically insulating ceramics. (Ag) or copper (Cu) or an alloy containing at least one metal material selected from these. In addition, when the frame 2 is made of resin, the imaging device connection pad 3, the external circuit connection electrode, the internal wiring, and the through conductor are copper (Cu), gold (Au), aluminum (Al), nickel ( Ni), chromium (Cr), molybdenum (Mo), titanium (Ti), or an alloy containing at least one metal material selected from these.

撮像素子接続用パッド3、外部回路接続用電極、内部配線および貫通導体の露出表面に、めっき層が設けられてもよい。この構成によれば、撮像素子接続用パッド3、外部回路接続用電極、内部配線および貫通導体の露出表面を保護して酸化を抑制できる。また、この構成によれば、撮像素子接続用パッド3と撮像素子10とをワイヤボンディング等の接続部材13を介して良好に電気的接続することができる。めっき層は、例えば、厚さ0.5〜10μmのNiめっき層を被着させるか、またはこのNiめっき層および厚さ0.5〜3μmの金(Au)めっき層を順次被着させてもよい。   A plating layer may be provided on the exposed surface of the imaging element connection pad 3, the external circuit connection electrode, the internal wiring, and the through conductor. According to this configuration, the imaging element connection pad 3, the external circuit connection electrode, the internal wiring, and the exposed surface of the through conductor can be protected to suppress oxidation. Moreover, according to this structure, the image pick-up element connection pad 3 and the image pick-up element 10 can be favorably electrically connected via the connecting member 13 such as wire bonding. As the plating layer, for example, a Ni plating layer having a thickness of 0.5 to 10 μm may be deposited, or even if this Ni plating layer and a gold (Au) plating layer having a thickness of 0.5 to 3 μm are sequentially deposited. Good.

枠体2とフレキシブル基板5とは、異方性導電膜23を介して接続されている。異方性導電膜23は、例えば異方性導電性樹脂(ACF)または異方性導電性フィルム(ACP)等の熱硬化性接着剤に、導電性粒子を均一に分散したものである。異方性導電膜23は、力が加えられる厚み方向に導電性を有するが、それ以外は導電性を発現しない接合剤である。   The frame 2 and the flexible substrate 5 are connected via an anisotropic conductive film 23. The anisotropic conductive film 23 is obtained by uniformly dispersing conductive particles in a thermosetting adhesive such as an anisotropic conductive resin (ACF) or an anisotropic conductive film (ACP). The anisotropic conductive film 23 is a bonding agent that has conductivity in the thickness direction to which force is applied, but does not exhibit conductivity in other cases.

フレキシブル基板5と枠体2とを接合する方法として例えば、フレキシブル基板5の上面に切欠き部6を設け、導電層7を露出させて異方性導電膜23を介して枠体2と接合する方法が知られている。   As a method for joining the flexible substrate 5 and the frame body 2, for example, the cutout portion 6 is provided on the upper surface of the flexible substrate 5, the conductive layer 7 is exposed, and the frame body 2 is joined via the anisotropic conductive film 23. The method is known.

一般的に、フレキシブル基板5に設けられる切欠き部6は製造誤差を考慮し枠体2と
の接合箇所よりも大きく設けられる。このような場合、切欠き部6と枠体2とが重なっていない部分の導電層7を保護するために樹脂等からなる保護材で覆い、樹脂等から成る保護材を硬化させるための加熱を行う工程を付加することがある。また、一般的に従来技術にある枠体、平板および外部回路基板は熱膨張率がそれぞれ異なる。これらのことから、保護材を硬化させるための加熱を行う工程を付加することで、熱負荷が接合箇所に大きくかかってしまう可能性があり、各部材同士の剥がれまたは変形が懸念されていた。特に、近年小型化の要求が求められる撮像素子が搭載される撮像素子実装用基板1および撮像装置21では接合領域が確保するのが困難になってきており、フレキシブル基板5の剥がれがより懸念されている。
In general, the notch portion 6 provided in the flexible substrate 5 is provided larger than the joint portion with the frame body 2 in consideration of manufacturing errors. In such a case, the conductive layer 7 where the notch 6 and the frame 2 do not overlap is covered with a protective material made of resin or the like, and heating to cure the protective material made of resin or the like is performed. Additional steps may be added. In general, the frame, the flat plate, and the external circuit board in the prior art have different coefficients of thermal expansion. From these facts, there is a possibility that the heat load is greatly applied to the joining portion by adding a heating process for curing the protective material, and there is a concern about peeling or deformation of each member. In particular, in the imaging device mounting substrate 1 and the imaging device 21 on which an imaging device that is required to be downsized in recent years is mounted, it is difficult to secure a bonding region, and there is a greater concern about peeling of the flexible substrate 5. ing.

これに対して図1に示す本実施形態の例では、撮像素子実装用基板1の異方性導電膜23は切欠き部6に位置する導電層7の表面を全て覆っている。これにより、樹脂等からなる保護材を設けることなくフレキシブル基板5の露出した導電層7を保護することが可能となる。よって、保護材を硬化させるための加熱を行う工程を削減することが可能となり、撮像素子実装用基板1にかかる熱応力を低減させることが可能となる。よって、熱負荷が接合箇所に大きくかかることによる、各部材同士の剥がれまたは変形を低減させることが可能となる。また、これにより、撮像素子実装用基板1の各部材同士の接合領域を確保
しつつ撮像素子実装用基板1および撮像装置21の小型化が可能となる。なお、ここで各部材同士とは枠体2とフレキシブル基板5またはフレキシブル基板5と平板4のことである。
On the other hand, in the example of the present embodiment shown in FIG. 1, the anisotropic conductive film 23 of the imaging element mounting substrate 1 covers the entire surface of the conductive layer 7 located in the notch portion 6. This makes it possible to protect the exposed conductive layer 7 of the flexible substrate 5 without providing a protective material made of resin or the like. Therefore, it is possible to reduce the process of heating for curing the protective material, and it is possible to reduce the thermal stress applied to the imaging element mounting substrate 1. Therefore, it becomes possible to reduce peeling or deformation of the members due to a large thermal load applied to the joining portion. In addition, this makes it possible to reduce the size of the imaging element mounting substrate 1 and the imaging device 21 while securing a bonding region between the members of the imaging element mounting substrate 1. Here, the members are the frame 2 and the flexible substrate 5 or the flexible substrate 5 and the flat plate 4.

また、樹脂等から成る保護材は加熱の工程中に液状となり、枠体2の側面を這い上がる可能性がある。このとき、近年の薄型化の要求により、枠体2が薄くされていると、この保護材が枠体2の側面を這い上がることで枠体2の上面まで達し枠体2の上面の実装エリアに到達する懸念があった。これに対し、本構成による異方性導電膜23は加熱の工程にあっても液状化し難いため、枠体2の側面を這い上がる可能性を低減させることが可能となる。よって、枠体2の上面の実装エリアを確保できるため、より撮像素子実装用基板1の小型化が可能となる。   Further, the protective material made of resin or the like becomes liquid during the heating process, and may scoop up the side surface of the frame 2. At this time, if the frame 2 is thinned due to a recent demand for thinning, the protective material crawls up the side surface of the frame 2 to reach the upper surface of the frame 2 and the mounting area on the upper surface of the frame 2 There was a concern to reach. On the other hand, since the anisotropic conductive film 23 according to the present configuration is difficult to be liquefied even in the heating process, the possibility of scooping up the side surface of the frame body 2 can be reduced. Therefore, since the mounting area on the upper surface of the frame 2 can be secured, the image sensor mounting substrate 1 can be further downsized.

また、本実施形態のように、平板4の外縁が上面視で枠体2の外縁よりも外側に位置していてもよい。近年、撮像装置21の薄型化の要求により、枠体2の厚みも薄型化が要求されている。このとき、撮像装置21が組み込まれた機器または撮像装置21および撮像素子実装用基板1の状態で、外部から落下等意図しないストレスがかかった場合に、枠体2に割れ・クラック等が発生し撮像装置21が誤作動することが懸念されていた。   Moreover, the outer edge of the flat plate 4 may be located outside the outer edge of the frame body 2 in a top view as in the present embodiment. In recent years, the thickness of the frame body 2 is also required to be reduced due to the demand for reducing the thickness of the imaging device 21. At this time, when an unintentional stress such as dropping from the outside is applied in the state of the device in which the imaging device 21 is incorporated or the imaging device 21 and the imaging element mounting substrate 1, the frame 2 is cracked. There has been a concern that the imaging device 21 malfunctions.

平板4の外縁が上面視で枠体2の外縁よりも外側に位置していることで、落下などの衝撃を平板4で受け止め、枠体2に衝撃がかかることを低減させることが可能となり、ひいては枠体2の割れ等を低減させることが可能となる。また、平板4の外周縁が枠体2の外周縁よりも外側に位置する場合、平板4は、枠体2の外側に位置する外側領域に貫通孔または切り欠きを有していても良い。この場合、貫通孔または切り欠きは、例えば、撮像装置21と外部装置とを固定する際のマーカーとしても用いることができる。   Since the outer edge of the flat plate 4 is located outside the outer edge of the frame body 2 in a top view, it is possible to receive impact such as dropping by the flat plate 4 and reduce the impact on the frame body 2. As a result, it becomes possible to reduce the crack of the frame 2, etc. Further, when the outer peripheral edge of the flat plate 4 is positioned outside the outer peripheral edge of the frame body 2, the flat plate 4 may have a through hole or a notch in an outer region positioned outside the frame body 2. In this case, the through hole or the notch can be used as a marker for fixing the imaging device 21 and the external device, for example.

また、本実施形態のように、異方性導電膜23の内側の端部は、上面視で枠体2の第1貫通孔2aと重なる位置に設けられていても良い。また、異方性導電膜23は、枠体2の第1貫通孔2aよりも外側、即ち、枠体2と上面視で重なる位置に設けられていても良い。異方性導電膜23の端部が上面視で枠体2の第1貫通孔2aと重なる位置に設けられていることで、枠体2とフレキシブル基板5との接合面積を大きくすることが可能となり、接合強度をより向上させることが可能となる。また、異方性導電膜23の端部が枠体2の第1貫通孔2aよりも外側に位置することで、枠体2とフレキシブル基板5とを接合する為の加圧工程において、異方性導電膜23が第1貫通孔2a側へ突出し、撮像素子実装部11のエリアが小さくなることを低減させることが可能となる。   Further, as in the present embodiment, the inner end of the anisotropic conductive film 23 may be provided at a position overlapping the first through hole 2a of the frame body 2 in a top view. The anisotropic conductive film 23 may be provided outside the first through hole 2 a of the frame body 2, that is, at a position overlapping the frame body 2 in a top view. Since the end portion of the anisotropic conductive film 23 is provided at a position overlapping the first through hole 2a of the frame body 2 in a top view, the bonding area between the frame body 2 and the flexible substrate 5 can be increased. Thus, the bonding strength can be further improved. Further, since the end portion of the anisotropic conductive film 23 is located outside the first through hole 2a of the frame body 2, an anisotropic process is performed in the pressurizing process for joining the frame body 2 and the flexible substrate 5. It is possible to reduce the fact that the conductive film 23 protrudes toward the first through hole 2a and the area of the image sensor mounting portion 11 becomes small.

また、枠体2の第1貫通孔2aが矩形状であるとき、異方性導電膜23は上面視において開口部の角部を避けるように設けることで、枠体2とフレキシブル基板5とを接合するための加圧工程において、異方性導電膜23が第1貫通孔2aの角部に溜まることで、その箇所に水分または粉塵等が付着するのを低減させることができる。   In addition, when the first through hole 2a of the frame 2 is rectangular, the anisotropic conductive film 23 is provided so as to avoid the corners of the opening in the top view, so that the frame 2 and the flexible substrate 5 are provided. In the pressurizing step for bonding, the anisotropic conductive film 23 accumulates at the corners of the first through holes 2a, so that it is possible to reduce the adhesion of moisture or dust to the portions.

また、異方性導電膜23は、枠体2の第1貫通孔2aの側面またはフレキシブル基板5の第2貫通孔5aの側面を覆っていても良い。このことで、バリ等からダストが発生しても、異方性導電膜23によって撮像素子10の受光面にダストが付着することを低減させることができる。   The anisotropic conductive film 23 may cover the side surface of the first through hole 2 a of the frame body 2 or the side surface of the second through hole 5 a of the flexible substrate 5. Thus, even when dust is generated from burrs or the like, it is possible to reduce the dust from adhering to the light receiving surface of the image sensor 10 by the anisotropic conductive film 23.

また、異方性導電膜23は黒色である。このことで、フレキシブル基板5の導電層7の表面で反射した光が撮像素子10の受光面側に到達することをより低減することが可能となる。よって、撮像装置21が取得する画像にノイズ等の発生を低減させることが可能となる。   The anisotropic conductive film 23 is black. Thus, it is possible to further reduce the light reflected by the surface of the conductive layer 7 of the flexible substrate 5 from reaching the light receiving surface side of the image sensor 10. Therefore, it is possible to reduce the occurrence of noise or the like in the image acquired by the imaging device 21.

次に、図1を用いて、撮像装置21について説明する。撮像装置21は、撮像素子実装用基板1と、平板4の撮像素子実装部11に実装された撮像素子10とを有している。また、撮像装置21は撮像素子実装用基板1の上面に接合された蓋体12を有している。撮像素子10が撮像素子実装部11に実装されており、この撮像素子10は、枠体2、フレキシブル基板5および平板4とで形成される凹部に収納されている。   Next, the imaging device 21 will be described with reference to FIG. The imaging device 21 includes an imaging element mounting substrate 1 and an imaging element 10 mounted on the imaging element mounting portion 11 of the flat plate 4. Further, the imaging device 21 has a lid body 12 bonded to the upper surface of the imaging element mounting substrate 1. The image sensor 10 is mounted on the image sensor mounting portion 11, and the image sensor 10 is housed in a recess formed by the frame 2, the flexible substrate 5, and the flat plate 4.

撮像素子10は、例えば、CCD型またはCMOS型等の撮像素子が用いられる。撮像素子10の各電極は、接続部材13(ボンディングワイヤ)によって撮像素子接続用パッド3に電気的に接続されている。   As the image sensor 10, for example, an image sensor such as a CCD type or a CMOS type is used. Each electrode of the imaging device 10 is electrically connected to the imaging device connection pad 3 by a connecting member 13 (bonding wire).

また、撮像素子10は、接着剤を介して、平板4の上面に配置されていてもよい。この接着剤は、例えば、銀エポキシまたは熱硬化性樹脂等が使用される。   Moreover, the image pick-up element 10 may be arrange | positioned on the upper surface of the flat plate 4 through the adhesive agent. As this adhesive, for example, silver epoxy or thermosetting resin is used.

蓋体12は、例えば、平板形状である。また、蓋体12は、ガラス材料等の透明度の高い部材が用いられる。蓋体12は、例えば、熱硬化性樹脂または低融点ガラス等の接合部材14により、枠体2の上面に接合される。   The lid body 12 has, for example, a flat plate shape. The lid 12 is made of a highly transparent member such as a glass material. The lid 12 is joined to the upper surface of the frame 2 by a joining member 14 such as a thermosetting resin or low-melting glass.

本実施形態の撮像装置21は、枠体とフレキシブル基板の間またはフレキシブル基板と平板との間における剥がれ、あるいはこれらの変形を低減させることが可能となる信頼性の高い撮像素子実装用基板1を用いた撮像装置21を提供することができる。   The imaging device 21 of the present embodiment includes a highly reliable imaging element mounting substrate 1 that can reduce peeling between a frame and a flexible substrate or between a flexible substrate and a flat plate, or deformation thereof. The used imaging device 21 can be provided.

次に、本実施形態の撮像素子実装用基板1の製造方法の一例について説明する。なお、下記で示す製造方法の一例は、多数個取り配線基板を用いた製造方法である。   Next, an example of a method for manufacturing the imaging element mounting substrate 1 of the present embodiment will be described. In addition, an example of the manufacturing method shown below is a manufacturing method using a multi-piece wiring board.

(1)まず、枠体2を構成するセラミックグリーンシートを形成する。例えば、酸化アルミニウム(Al)質焼結体である枠体2を得る場合には、Alの粉末に焼結助材としてシリカ(SiO)、マグネシア(MgO)またはカルシア(CaO)等の粉末を添加し、さらに適当なバインダー、溶剤および可塑剤を添加し、次にこれらの混合物を混錬してスラリー状となす。その後、従来周知のドクターブレード法またはカレンダーロール法等の成形方法によって多数個取り用のセラミックグリーンシートを得る。 (1) First, a ceramic green sheet constituting the frame 2 is formed. For example, when obtaining the frame 2 which is an aluminum oxide (Al 2 O 3 ) -based sintered body, silica (SiO 2 ), magnesia (MgO) or calcia (as a sintering aid) is added to the Al 2 O 3 powder. A powder such as CaO) is added, an appropriate binder, a solvent and a plasticizer are added, and then the mixture is kneaded to form a slurry. Thereafter, a ceramic green sheet for multi-piece production is obtained by a conventionally known forming method such as a doctor blade method or a calender roll method.

なお、枠体2が、例えば樹脂から成る場合は、所定の形状に成形できるような金型を用いて、トランスファーモールド法またはインジェクションモールド法等で成形することによって枠体2を形成することができる。   When the frame 2 is made of, for example, a resin, the frame 2 can be formed by molding by a transfer molding method or an injection molding method using a mold that can be molded into a predetermined shape. .

また、枠体2は、例えばガラスエポキシ樹脂のように、ガラス繊維から成る基材に樹脂を含浸させたものであってもよい。この場合には、ガラス繊維から成る基材にエポキシ樹脂の前駆体を含浸させ、このエポキシ樹脂前駆体を所定の温度で熱硬化させることによって枠体2を形成できる。   Moreover, the frame 2 may be obtained by impregnating a base material made of glass fiber with a resin, for example, glass epoxy resin. In this case, the frame body 2 can be formed by impregnating a base material made of glass fiber with an epoxy resin precursor and thermosetting the epoxy resin precursor at a predetermined temperature.

(2)次に、スクリーン印刷法等によって、上記(1)の工程で得られたセラミックグリーンシートに撮像素子接続用パッド3、外部回路接続用電極、内部配線および貫通導体となる部分に、金属ペーストを塗布または充填する。   (2) Next, by a screen printing method or the like, the ceramic green sheet obtained in the above step (1) is coated with metal on the portions to be the imaging device connection pad 3, the external circuit connection electrode, the internal wiring, and the through conductor. Apply or fill with paste.

この金属ペーストは、前述した金属材料から成る金属粉末に適当な溶剤およびバインダーを加えて混練することによって、適度な粘度に調整して作製される。なお、金属ペーストは、枠体2との接合強度を高めるために、ガラスまたはセラミックスを含んでいても構わない。   This metal paste is prepared by adjusting an appropriate viscosity by adding an appropriate solvent and binder to the metal powder made of the above-described metal material and kneading. The metal paste may contain glass or ceramics in order to increase the bonding strength with the frame 2.

(3)次に、前述のグリーンシートを金型等によって加工する。枠体2となるグリーン
シートの中央部に、第1貫通孔2aを形成する。
(3) Next, the above-described green sheet is processed with a mold or the like. A first through hole 2 a is formed in the center of the green sheet that will be the frame 2.

(4)次に、各絶縁層となるセラミックグリーンシートを積層して加圧することにより枠体2となるセラミックグリーンシート積層体を作製する。また、本工程では、例えば、それぞれの層となるグリーンシートに貫通孔を設け、両者を積層して加圧することにより、枠体2となるグリーンシート積層体を作製しても良い。   (4) Next, the ceramic green sheet laminated body used as the frame 2 is produced by laminating | stacking and pressing the ceramic green sheet used as each insulating layer. In this step, for example, a green sheet laminated body to be the frame body 2 may be manufactured by providing through holes in the green sheets to be the respective layers, and laminating and pressing both.

(5)次に、このセラミックグリーンシート積層体を約1500〜1800℃の温度で焼成して、枠体2が複数配列された多数個取り配線基板を得る。なお、この工程によって、前述した金属ペーストは、枠体2となるセラミックグリーンシートと同時に焼成され、撮像素子接続用パッド3、外部回路接続用電極、内部配線および貫通導体となる。   (5) Next, this ceramic green sheet laminate is fired at a temperature of about 1500 to 1800 ° C. to obtain a multi-piece wiring board in which a plurality of frames 2 are arranged. In this step, the above-described metal paste is fired simultaneously with the ceramic green sheet to be the frame 2, and becomes the image sensor connection pad 3, the external circuit connection electrode, the internal wiring, and the through conductor.

(6)次に、焼成して得られた多数個取り配線基板を複数の枠体2に分断する。この分断においては、枠体2の外縁となる箇所に沿って多数個取り配線基板に分割溝を形成しておき、この分割溝に沿って破断させて分割する方法またはスライシング法等により枠体2の外縁となる箇所に沿って切断する方法等を用いることができる。なお、分割溝は、焼成後にスライシング装置により多数個取り配線基板の厚みより小さく切り込むことによって形成することができるが、多数個取り配線基板用のセラミックグリーンシート積層体にカッター刃を押し当てたり、スライシング装置によりセラミックグリーンシート積層体の厚みより小さく切り込んだりすることによって形成してもよい。   (6) Next, the multi-cavity wiring board obtained by firing is divided into a plurality of frames 2. In this division, a dividing groove is formed in a multi-piece wiring board along a portion serving as the outer edge of the frame body 2, and the frame body 2 is divided by a method of breaking along the dividing groove and dividing the frame body 2 or a slicing method. The method etc. which cut | disconnect along the location used as the outer edge of can be used. In addition, the dividing groove can be formed by cutting less than the thickness of the multi-piece wiring board with a slicing device after firing, but the cutter blade is pressed against the ceramic green sheet laminate for the multi-piece wiring board, You may form by cutting smaller than the thickness of a ceramic green sheet laminated body with a slicing apparatus.

(7)次に、枠体2の下面に接合されるフレキシブル基板5を用意する。まず、ポリイミドから成るベースフィルム5bを用意する。ベースフィルム5bの上にフォトレジスト層を形成する工程およびDES(Development Etching Stripping)工程またはスクリー
ン印刷法等で基板上に導電層7を形成する。その後、導電層7の上面にポリイミドフィルム等からなるカバーフィルム5cを接着する工程を経ることで、フレキシブル基板5を作製することができる。なお、このとき第1カバーフィルムに第2貫通孔5aよりも大きい孔を設け、導電層7を露出させることで、切欠き部6を設けることができる。その後、所定の場所にエッチング方法または金型で形状を形成する方法等を用いて、第2貫通孔5aを設けることで、フレキシブル基板5を作製することができる。
(7) Next, the flexible substrate 5 to be bonded to the lower surface of the frame body 2 is prepared. First, a base film 5b made of polyimide is prepared. The conductive layer 7 is formed on the substrate by a step of forming a photoresist layer on the base film 5b, a DES (Development Etching Stripping) step, a screen printing method, or the like. Then, the flexible substrate 5 can be produced by passing the process of adhere | attaching the cover film 5c which consists of a polyimide film etc. on the upper surface of the conductive layer 7. FIG. At this time, the notch 6 can be provided by providing a hole larger than the second through hole 5a in the first cover film and exposing the conductive layer 7. Thereafter, the flexible substrate 5 can be manufactured by providing the second through hole 5a by using an etching method or a method of forming a shape with a mold in a predetermined place.

(8)次に、フレキシブル基板5の下面に接合される平板4を用意する。平板4は、金属材料からなる場合は、金属材料から成る板材に、従来周知のスタンピング金型を用いた打ち抜き加工またはエッチング加工等によって作製される。また、他の材料から成る場合も同様にそれぞれの材質にあった打ち抜き加工等によって作製することが可能となる。また、平板4が金属材料であるFe−Ni−Co合金、42アロイ、Cuまたは銅合金等の金属から成る場合には、その表面にニッケルめっき層および金めっき層を被着してもよい。これにより、平板4の表面の酸化腐食を有効に抑制することができる。   (8) Next, the flat plate 4 to be bonded to the lower surface of the flexible substrate 5 is prepared. When the flat plate 4 is made of a metal material, the plate 4 is made of a plate material made of a metal material by punching or etching using a conventionally known stamping mold. In addition, even when made of other materials, it can be similarly produced by punching or the like suitable for each material. When the flat plate 4 is made of a metal material such as Fe-Ni-Co alloy, 42 alloy, Cu, or copper alloy, a nickel plating layer and a gold plating layer may be deposited on the surface. Thereby, the oxidative corrosion of the surface of the flat plate 4 can be effectively suppressed.

また、平板4が電気絶縁性セラミック等からなり、表面に導体パターンをプリントしている場合も同様にその表面にニッケルめっき層および金めっき層を被着してもよい。これにより、平板4の表面の酸化腐食を有効に抑制することができる。   Further, when the flat plate 4 is made of an electrically insulating ceramic or the like and a conductor pattern is printed on the surface, a nickel plating layer and a gold plating layer may be similarly applied to the surface. Thereby, the oxidative corrosion of the surface of the flat plate 4 can be effectively suppressed.

(9)次に、接合材15を介して、フレキシブル基板5と平板4とを接合する。接合材15は、ペースト状の熱硬化性樹脂(接着部材)をスクリーン印刷法またはディスペンス法等で、フレキシブル基板5または平板4のいずれか一方の接合面に塗布する。そして、熱硬化性樹脂を乾燥させた後、フレキシブル基板5と平板4とを重ねた状態で、トンネル式の雰囲気炉またはオーブン等に通炉させ、加圧し加熱することで接合材15を熱硬化させ、フレキシブル基板5と平板4とを強固に接着させる。   (9) Next, the flexible substrate 5 and the flat plate 4 are bonded via the bonding material 15. As the bonding material 15, a paste-like thermosetting resin (adhesive member) is applied to one of the bonding surfaces of the flexible substrate 5 or the flat plate 4 by a screen printing method or a dispensing method. Then, after drying the thermosetting resin, the flexible substrate 5 and the flat plate 4 are overlapped, and then passed through a tunnel-type atmosphere furnace or oven, and heated and pressurized to heat the bonding material 15. The flexible substrate 5 and the flat plate 4 are firmly bonded.

接合材15は、例えばビスフェノールA型液状エポキシ樹脂、ビスフェノールF型液状エポキシ樹脂、フェノールノボラック型液状樹脂等からなる主剤に、球状の酸化珪素等から成る充填材、テトラヒドロメチル無水フタル酸等の酸無水物などを主とする硬化剤および着色剤としてカーボン紛末等を添加し遠心攪拌機等を用いて混合または混練してペースト状とすることによって得られる。   The bonding material 15 is made of, for example, a main agent made of bisphenol A type liquid epoxy resin, bisphenol F type liquid epoxy resin, phenol novolac type liquid resin, etc., a filler made of spherical silicon oxide or the like, and an acid anhydride such as tetrahydromethyl phthalic anhydride. It can be obtained by adding a carbon powder or the like as a curing agent mainly composed of a product or the like, and mixing or kneading with a centrifugal stirrer or the like to obtain a paste.

また、接合材15としては、この他にも例えばビスフェノールA型エポキシ樹脂やビスフェノールA変性エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、特殊ノボラック型エポキシ樹脂、フェノール誘導体エポキシ樹脂、ビスフェノール骨格型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂にイミダゾール系、アミン系、リン系、ヒドラジン系、イミダゾールアダクト系、アミンアダクト系、カチオン重合系またはジシアンジアミド系等の硬化剤を添加したもの等を使用することができる。   In addition, as the bonding material 15, for example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol A modified epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, special novolac type epoxy resin, phenol Derivative epoxy resin, epoxy resin such as bisphenol skeleton type epoxy resin, etc. with addition of curing agent such as imidazole, amine, phosphorus, hydrazine, imidazole adduct, amine adduct, cationic polymerization or dicyandiamide Can be used.

また、接合材15は異方性導電膜23と同じ部材であっても良く、接合材15が異方性導電膜23と同じ部材であると、枠体2とフレキシブル基板5とを接合する工程と合わせて1回の工程で接合することが可能となる。   Further, the bonding material 15 may be the same member as the anisotropic conductive film 23, and when the bonding material 15 is the same member as the anisotropic conductive film 23, the step of bonding the frame 2 and the flexible substrate 5. It becomes possible to join together in one process.

(10)次に、異方性導電膜23を介して、枠体2の下面に設けられた外部回路接続用電極と、フレキシブル基板5の切欠き部6に露出した導電層7とを接合する。このとき、例えば枠体2またはフレキシブル基板5の所定の位置に異方性導電膜23を塗布し、押圧し加熱をすることで、枠体2とフレキシブル基板5とを接合し、電気的に導通させることができる。   (10) Next, the external circuit connection electrode provided on the lower surface of the frame 2 and the conductive layer 7 exposed at the notch portion 6 of the flexible substrate 5 are joined via the anisotropic conductive film 23. . At this time, for example, the anisotropic conductive film 23 is applied to a predetermined position of the frame body 2 or the flexible substrate 5, pressed and heated, thereby joining the frame body 2 and the flexible substrate 5 to be electrically conductive. Can be made.

以上のようにして枠体2とフレキシブル基板5とを電気的に接合することで、撮像素子実装用基板1を作製することができる。上記(1)〜(10)の工程によって、撮像素子実装用基板1が得られる。なお、上記(1)〜(10)の工程順番は指定されない。例えば、枠体2とフレキシブル基板5とを接合した後、平板4を接合してもよい。   The imaging element mounting substrate 1 can be manufactured by electrically joining the frame body 2 and the flexible substrate 5 as described above. Through the steps (1) to (10), the image sensor mounting substrate 1 is obtained. In addition, the process order of said (1)-(10) is not designated. For example, after joining the frame 2 and the flexible substrate 5, the flat plate 4 may be joined.

このようにして形成された撮像素子実装用基板1の撮像素子実装部11に撮像素子10を実装し、蓋体12を実装することで撮像装置21を作製することができる。   The imaging device 21 can be manufactured by mounting the imaging device 10 on the imaging device mounting portion 11 of the imaging device mounting substrate 1 formed as described above and mounting the lid 12.

(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態による撮像素子実装用基板1および撮像装置21について、図2を参照しつつ説明する。
(Second Embodiment)
Next, an imaging element mounting substrate 1 and an imaging device 21 according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

本実施形態における撮像装置21において、第1の実施形態の撮像装置21と異なる点は、断面視において異方性導電膜23の外側端部がフレキシブル基板5の切欠き部6よりも外側に位置している点、断面視における異方性導電膜23の外側が膨らんでいる点である。   The imaging device 21 in the present embodiment is different from the imaging device 21 in the first embodiment in that the outer end portion of the anisotropic conductive film 23 is located outside the notch portion 6 of the flexible substrate 5 in a cross-sectional view. In other words, the outside of the anisotropic conductive film 23 in a sectional view is swollen.

本実施形態では、異方性導電膜23の外縁は、切欠き部6を除いたフレキシブル基板5の上面に位置している。カバーフィルム5cの端面と異方性導電膜23の端面とが接続されていると、撮像素子実装用基板1に引っ張り応力がかかったとき、または熱履歴で熱膨張が起きたとき、異方性導電膜23とカバーフィルム5cの端部との接合面に応力がかかる。このとき、異方性導電膜23の端部に引きはがしの応力がかかり、異方性導電膜23の端部の一部が剥がれる可能性がある。この異方性導電膜23の剥がれにより、枠体2とフレキシブル基板5との間の気密性の悪化、導電層7の保護性の悪化などが懸念される。このように、異方性導電膜23がカバーフィルム5cと上面視で重なることで、異方性導電膜23またはカバーフィルム5cの端部にかかる引きはがしの応力を低減させることが
可能となる。
In the present embodiment, the outer edge of the anisotropic conductive film 23 is located on the upper surface of the flexible substrate 5 excluding the notch 6. When the end face of the cover film 5c and the end face of the anisotropic conductive film 23 are connected, anisotropy occurs when a tensile stress is applied to the image pickup device mounting substrate 1 or when thermal expansion occurs due to thermal history. Stress is applied to the joint surface between the conductive film 23 and the end of the cover film 5c. At this time, peeling stress is applied to the end portion of the anisotropic conductive film 23, and a part of the end portion of the anisotropic conductive film 23 may be peeled off. Due to the peeling of the anisotropic conductive film 23, there is a concern that the airtightness between the frame 2 and the flexible substrate 5 is deteriorated, the protective property of the conductive layer 7 is deteriorated, and the like. As described above, the anisotropic conductive film 23 overlaps the cover film 5c in a top view, so that it is possible to reduce the peeling stress applied to the ends of the anisotropic conductive film 23 or the cover film 5c.

また、本実施形態のように異方性導電膜23がカバーフィルム5cと上面視で重なるように設けることで、工程誤差があっても、異方性導電膜23で導電層7を覆うことが可能となる。このことで、導電層7の保護性をより向上させることが可能となる。また、カバーフィルム5cと異方性導電膜23との間にわずかでも隙間があると、水分または粉塵等がカバーフィルム5cとベースフィルム5bまたはカバーフィルム5cと導電層7との間に入り込み、カバーフィルム5cの剥がれが生じる可能性がある。このとき、異方性導電膜23がカバーフィルム5cと上面視で重なるように設けることで、カバーフィルム5cの端部を覆うことが可能となり、カバーフィルム5cの剥がれを低減することが可能となる。   Further, by providing the anisotropic conductive film 23 so as to overlap with the cover film 5c in a top view as in the present embodiment, the conductive layer 7 can be covered with the anisotropic conductive film 23 even if there is a process error. It becomes possible. As a result, the protection of the conductive layer 7 can be further improved. Further, if there is even a slight gap between the cover film 5c and the anisotropic conductive film 23, moisture or dust or the like enters between the cover film 5c and the base film 5b or between the cover film 5c and the conductive layer 7, and the cover The film 5c may be peeled off. At this time, by providing the anisotropic conductive film 23 so as to overlap with the cover film 5c in a top view, it is possible to cover the end portion of the cover film 5c, and to reduce peeling of the cover film 5c. .

また、本実施形態のように、フレキシブル基板5の外縁は上面視で枠体2よりも外側に位置していても良い。一般的に近年、撮像装置21の薄型化の要求により、枠体2の厚みも薄型化が要求されている。このとき、撮像装置21が組み込まれた機器または撮像装置21および撮像素子実装用基板1の状態で、外部から落下等意図しなしストレスがかかった場合に、枠体2に割れ、クラック等が発生し撮像装置21の誤作動が懸念される。フレキシブル基板5の外縁が上面視で枠体2の外縁よりも外側に位置していることで、落下などの衝撃をフレキシブル基板5が緩和剤のような役割で受け止めることが可能となる。よって、枠体2に衝撃がかかることを低減させることが可能となり、枠体2の割れ等を低減させることが可能となる。   Further, as in the present embodiment, the outer edge of the flexible substrate 5 may be located outside the frame body 2 in a top view. In general, in recent years, the thickness of the frame body 2 is also required to be reduced due to the demand for reducing the thickness of the imaging device 21. At this time, in the state of the device incorporating the image pickup device 21 or the image pickup device 21 and the image pickup device mounting substrate 1, when unintentional stress such as dropping from the outside is applied, the frame 2 is cracked, cracked, etc. There is a concern that the imaging device 21 malfunctions. Since the outer edge of the flexible substrate 5 is positioned outside the outer edge of the frame body 2 in a top view, the flexible substrate 5 can receive an impact such as a drop in a role as a relaxation agent. Therefore, it is possible to reduce the impact on the frame body 2, and it is possible to reduce the cracks of the frame body 2.

また、フレキシブル基板5の内側の端部は、上面視で枠体2の第1貫通孔2aよりも外側、即ち、枠体2と上面視で重なる位置に設けられていても良いし、枠体2の第1貫通孔2aと重なる位置に設けられていても良い。フレキシブル基板5の端部が枠体2の第1貫通孔2aよりも外側に位置することで、工程誤差等において、フレキシブル基板5の第2貫通孔5aの内側側面が第1貫通孔2a側へ突出し、撮像素子実装部11のエリアが小さくなることを低減させることが可能となる。また、フレキシブル基板5の端部が上面視で枠体2の第1貫通孔2aと重なる位置に設けられていることで、枠体2とフレキシブル基板5との接合面積を最大とすることが可能となり、接合強度をより向上させることが可能となる。   Moreover, the inner edge part of the flexible substrate 5 may be provided outside the first through hole 2a of the frame body 2 when viewed from above, that is, at a position overlapping the frame body 2 when viewed from above. It may be provided at a position overlapping the second first through hole 2a. Since the end portion of the flexible substrate 5 is located outside the first through hole 2a of the frame body 2, the inner side surface of the second through hole 5a of the flexible substrate 5 is directed to the first through hole 2a side in the process error or the like. Protruding and reducing the area of the image sensor mounting portion 11 can be reduced. In addition, since the end portion of the flexible substrate 5 is provided at a position overlapping the first through hole 2a of the frame body 2 in a top view, the bonding area between the frame body 2 and the flexible substrate 5 can be maximized. Thus, the bonding strength can be further improved.

このような撮像素子実装用基板1を作製する方法として、例えばフレキシブル基板5に異方性導電膜23を通常より多めにかつカバーフィルム5cに至るまで塗布し、また大きな圧力をかけながら接合することで作製することができる。   As a method for producing such an image pickup device mounting substrate 1, for example, an anisotropic conductive film 23 is applied to the flexible substrate 5 more than usual and reaches the cover film 5c, and is bonded while applying a large pressure. Can be produced.

(第3の実施形態)
次に、本発明の第3の実施形態による撮像素子実装用基板1および撮像装置21について、図3を参照しつつ説明する。
(Third embodiment)
Next, an imaging element mounting substrate 1 and an imaging apparatus 21 according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

本実施形態における撮像装置21において、第2の実施形態の撮像装置21と異なる点は、断面視において異方性導電膜23の外側の形状が異なっている点である。   The imaging device 21 in the present embodiment is different from the imaging device 21 in the second embodiment in that the outer shape of the anisotropic conductive film 23 is different in a cross-sectional view.

図3に示す本実施形態では異方性導電膜23の外縁は、切欠き部6を除いたフレキシブル基板5の上面に位置しており、枠体2と上面視で重ならない部分の異方性導電膜23の上面は水平になっている。このように、枠体2と重ならない部分の異方性導電膜23の上面が水平になっていることで、異方性導電膜23にダストまたは水分がトラップされることを低減させることが可能となる。よって、異方性導電膜23の良好な表面状態を維持することが可能となり、撮像素子実装用基板1の長期信頼性の向上を図ることが可能となる。   In the present embodiment shown in FIG. 3, the outer edge of the anisotropic conductive film 23 is located on the upper surface of the flexible substrate 5 excluding the notch 6, and the anisotropy of the portion that does not overlap with the frame 2 in top view. The upper surface of the conductive film 23 is horizontal. As described above, since the upper surface of the anisotropic conductive film 23 that does not overlap the frame 2 is horizontal, the trapping of dust or moisture in the anisotropic conductive film 23 can be reduced. It becomes. Therefore, it is possible to maintain a good surface state of the anisotropic conductive film 23, and it is possible to improve the long-term reliability of the imaging element mounting substrate 1.

また、枠体2と重ならない部分の異方性導電膜23の上面が水平となっていることで、導電層7に対する寄生容量等の設計がより容易となる。よって、撮像素子実装用基板1の電気特性を向上させることが可能となる。   In addition, since the upper surface of the anisotropic conductive film 23 that does not overlap the frame 2 is horizontal, the design of parasitic capacitance and the like for the conductive layer 7 becomes easier. Therefore, it is possible to improve the electrical characteristics of the imaging element mounting substrate 1.

また、フレキシブル基板5の外縁は上面視で枠体2よりも内側に位置していても良い。これにより、工程誤差等によりフレキシブル基板5の外縁が上面視で枠体2よりも外側に位置することを低減することができ、撮像装置21および撮像装置21の実装エリアをより小型化することが可能となる。   Moreover, the outer edge of the flexible substrate 5 may be located inside the frame body 2 in a top view. Thereby, it can reduce that the outer edge of the flexible substrate 5 is located outside the frame body 2 in a top view due to a process error or the like, and the mounting area of the imaging device 21 and the imaging device 21 can be further downsized. It becomes possible.

(第4の実施形態)
次に、本発明の第4の実施形態による撮像素子実装用基板1および撮像装置21について、図4を参照しつつ説明する。
(Fourth embodiment)
Next, an imaging element mounting substrate 1 and an imaging device 21 according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

本実施形態における撮像装置21において、第2の実施形態の撮像装置21と異なる点は、フレキシブル基板5は第1切欠き部6aと第2切欠き部6bとを有しており、フレキシブル基板5と枠体2およびフレキシブル基板5と平板4とがそれぞれ異方性導電膜23で接合されている点である。   The imaging device 21 in the present embodiment is different from the imaging device 21 in the second embodiment in that the flexible substrate 5 has a first cutout portion 6a and a second cutout portion 6b. The frame body 2, the flexible substrate 5, and the flat plate 4 are joined together by an anisotropic conductive film 23.

図4に示す本実施形態では、 平板4は、上面のうち中央領域に撮像素子実装部11を
有している。フレキシブル基板5は、平板4上であって中央領域を取り囲む周縁領域に接続され、一部が外方に向かって延在するとともに、内部に複数の導電層7と、上面には中央領域側が切り欠かれ複数の導電層7のうち最上層の導電層7aが位置する第1切欠き部6aと、下面には中央領域側に切り欠かれ複数の導電層7のうち最下層の導電層7bが位置する第2切欠き部6bとを有している。枠体2は、フレキシブル基板5の第1切欠き部6a上から、周縁領域に沿って連続して設けられ、撮像素子実装部11を取り囲んでいる。枠体2とフレキシブル基板5は、第1異方性導電膜23aを介して接続され、第1異方性導電膜23aは第1切欠き部6aに位置する最上層の導電層7aの表面を全て覆い、フレキシブル基板5と平板4は、第2異方性導電膜23bを介して接続され、第2異方性導電膜23bは第2切欠き部6bに位置する最下層の導電層7bの表面を全て覆っている。
In the present embodiment shown in FIG. 4, the flat plate 4 has an image sensor mounting portion 11 in the central region of the upper surface. The flexible substrate 5 is connected to a peripheral region on the flat plate 4 and surrounding the central region. A part of the flexible substrate 5 extends outward, and a plurality of conductive layers 7 are formed inside, and the central region side is cut on the upper surface. A first cutout portion 6a where the uppermost conductive layer 7a of the plurality of conductive layers 7 is located, and a lowermost conductive layer 7b of the plurality of conductive layers 7 cut out toward the central region on the lower surface. It has the 2nd notch part 6b located. The frame body 2 is continuously provided along the peripheral region from the first cutout portion 6 a of the flexible substrate 5, and surrounds the imaging element mounting portion 11. The frame 2 and the flexible substrate 5 are connected via a first anisotropic conductive film 23a, and the first anisotropic conductive film 23a covers the surface of the uppermost conductive layer 7a located in the first notch 6a. The flexible substrate 5 and the flat plate 4 are all connected to each other through the second anisotropic conductive film 23b, and the second anisotropic conductive film 23b is formed on the lowermost conductive layer 7b located in the second notch 6b. Covers the entire surface.

平板4が金属材料から成るときまたは表面に導体層を有するとき、平板4とフレキシブル基板5とはノイズ対策等により電気的に接続させることがある。このとき、撮像素子実装用基板1のフレキシブル基板5が上面と下面に枠体2および平板4をそれぞれを異方性導電膜23で接合することでフレキシブル基板5に対する異方性導電膜23からの引っ張り応力を均一としやすくなる。よって、フレキシブル基板5にかかる引っ張り応力のバランスがよくなり、フレキシブル基板5に接合材の引っ張り応力の差に応じた変形が生じることを低減させることが可能となる。   When the flat plate 4 is made of a metal material or has a conductor layer on the surface, the flat plate 4 and the flexible substrate 5 may be electrically connected by noise countermeasures or the like. At this time, the flexible substrate 5 of the imaging element mounting substrate 1 is bonded to the upper surface and the lower surface of the frame body 2 and the flat plate 4 by the anisotropic conductive film 23, so It becomes easy to make the tensile stress uniform. Therefore, the balance of the tensile stress applied to the flexible substrate 5 is improved, and it is possible to reduce the occurrence of deformation in the flexible substrate 5 according to the difference in tensile stress of the bonding material.

また、第1異方性導電膜23aおよび第2異方性導電膜23bとを、それぞれ最上層の導電層7aと最下層の導電層7bを全て覆うことで樹脂等からなる保護材を設けることなくフレキシブル基板5の露出した最上層の導電層7aおよび最下層の導電層7bを保護することが可能となる。これらにより、保護材を硬化させるための加熱を行う工程を削減することが可能となる。撮像素子実装用基板1にかかる熱応力を低減させることが可能で、かつフレキシブル基板5にかかる接合材の引っ張り応力の差に応じた変形が生じることを低減させることが可能となる。よって、熱負荷および接合材による引っ張り応力が接合箇所に大きくかかることによる、各部材同士の剥がれ、または変形をより低減させることが可能となる。   Further, the first anisotropic conductive film 23a and the second anisotropic conductive film 23b are respectively covered with the uppermost conductive layer 7a and the lowermost conductive layer 7b, thereby providing a protective material made of resin or the like. Thus, the exposed uppermost conductive layer 7a and lowermost conductive layer 7b of the flexible substrate 5 can be protected. Accordingly, it is possible to reduce the step of performing heating for curing the protective material. It is possible to reduce the thermal stress applied to the imaging element mounting substrate 1 and to reduce the occurrence of deformation according to the difference in the tensile stress of the bonding material applied to the flexible substrate 5. Therefore, it becomes possible to further reduce the peeling or deformation of the members due to the fact that the tensile stress due to the thermal load and the bonding material is greatly applied to the bonded portion.

本実施形態における平板4は金属材料または電気絶縁性セラミックス等からなる基材の
表面に導体が印刷されたものが用いられる。なお、平板4が電気絶縁性セラミックス等から成るときは内部に導体層を有していても良く、表面に設けられた導体層と内部に設けられた導体層とが接続していても構わない。
As the flat plate 4 in the present embodiment, a plate in which a conductor is printed on the surface of a base material made of a metal material or an electrically insulating ceramic is used. When the flat plate 4 is made of electrically insulating ceramic or the like, it may have a conductor layer inside, and the conductor layer provided on the surface may be connected to the conductor layer provided inside. .

本実施形態におけるフレキシブル基板5の製造方法および構成材料は、下面に第2切欠き部6bを設ける点以外は、基本的に第1実施形態の記載のフレキシブル基板5と同じである。またフレキシブル基板5は複数の導電層7を有しており、フレキシブル基板5の内部には、内部の複数の導電層7と、複数の導電層7同士を上下に接続する貫通導体とが設けられていてもよい。またこれらを介して最上層の導電層7aと最下層の導電層7bとが電気的に接続されていても良い。また、最上層の導電層7aと最下層の導電層7bの露出した表面はめっき層が設けられていても良い。また、フレキシブル基板5の最上層の導電層7aの第1切欠き部6aと重なる部分以外は第1カバーフィルム5dで覆われており、最下層の導電層7bの第2切欠き部6bと重なる部分以外は第2カバーフィルム5eで覆われている。   The manufacturing method and constituent materials of the flexible substrate 5 in the present embodiment are basically the same as those of the flexible substrate 5 described in the first embodiment except that the second notch 6b is provided on the lower surface. The flexible substrate 5 has a plurality of conductive layers 7, and the flexible substrate 5 is provided with a plurality of conductive layers 7 inside and through conductors that connect the plurality of conductive layers 7 up and down. It may be. Further, the uppermost conductive layer 7a and the lowermost conductive layer 7b may be electrically connected via these. The exposed surfaces of the uppermost conductive layer 7a and the lowermost conductive layer 7b may be provided with a plating layer. The flexible substrate 5 is covered with the first cover film 5d except for the portion that overlaps the first cutout portion 6a of the uppermost conductive layer 7a, and overlaps the second cutout portion 6b of the lowermost conductive layer 7b. The portions other than the portion are covered with the second cover film 5e.

また、第1異方性導電膜23aおよび第2異方性導電膜23bは黒色とすることで、フレキシブル基板5の最上層の導電層7aおよび最下層の導電層7bの表面で反射した光が接合箇所の隙間で乱反射し、撮像素子10の受光面側に到達することを効果的に低減することが可能となる。よって、撮像装置21が取得する画像をより良好とさせることが可能となる。   The first anisotropic conductive film 23a and the second anisotropic conductive film 23b are black so that the light reflected on the surfaces of the uppermost conductive layer 7a and the lowermost conductive layer 7b of the flexible substrate 5 can be reflected. It is possible to effectively reduce irregular reflection at the gap between the joints and reaching the light receiving surface side of the image sensor 10. Therefore, the image acquired by the imaging device 21 can be made better.

また、フレキシブル基板5が第1カバーフィルム5dと第2カバーフィルム5eを有するとき、第1カバーフィルム5dの内側端部と第2カバーフィルム5eの端部は上面視で重ならない位置に設けていてもよい。このことで、フレキシブル基板5の剛性を確保しやすくなる。よって、フレキシブル基板5が屈曲しすぎることによる応力が第1異方性導電膜23aおよび第2異方性導電膜23bにかかり剥がれなどが発生することを低減させることが可能となる。   Further, when the flexible substrate 5 includes the first cover film 5d and the second cover film 5e, the inner end portion of the first cover film 5d and the end portion of the second cover film 5e are provided at positions where they do not overlap with each other when viewed from above. Also good. This makes it easy to ensure the rigidity of the flexible substrate 5. Therefore, it is possible to reduce the occurrence of peeling due to the stress caused by the flexible substrate 5 being bent excessively on the first anisotropic conductive film 23a and the second anisotropic conductive film 23b.

(第5の実施形態)
次に、本発明の第5の実施形態による撮像素子実装用基板1および撮像装置21について、図5を参照しつつ説明する。
(Fifth embodiment)
Next, an imaging element mounting substrate 1 and an imaging apparatus 21 according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

本実施形態における撮像装置21において、第4の実施形態の撮像装置21と異なる点は、断面視において第1異方性導電膜23aおよび第2異方性導電膜23bの外側端部がフレキシブル基板5の第1切欠き部6aまたは第2切欠き部6bよりも外側に位置している点である。   The imaging device 21 in the present embodiment is different from the imaging device 21 in the fourth embodiment in that the outer end portions of the first anisotropic conductive film 23a and the second anisotropic conductive film 23b are flexible substrates in a cross-sectional view. 5 is located outside the first notch 6a or the second notch 6b.

図5に示す本実施形態では、第1異方性導電膜23aの外縁は、第1切欠き部6aを除いたフレキシブル基板5の上面に位置しており、第2異方性導電膜23bの外縁は、第2切欠き部6bを除いたフレキシブル基板5の表面上に位置している。第1カバーフィルム5dまたは第2カバーフィルム5eの端面と第1異方性導電膜23aまたは第2異方性導電膜23bの端面とが接続されている場合にかかる可能性のある引きはがしの応力がかかることを低減させることが可能となる。よって、第1異方性導電膜23aおよび第2異方性導電膜23bの接合強度を向上させることが可能となる。   In the present embodiment shown in FIG. 5, the outer edge of the first anisotropic conductive film 23a is located on the upper surface of the flexible substrate 5 excluding the first notch 6a, and the second anisotropic conductive film 23b The outer edge is located on the surface of the flexible substrate 5 excluding the second notch 6b. Peeling stress that may be applied when the end face of the first cover film 5d or the second cover film 5e is connected to the end face of the first anisotropic conductive film 23a or the second anisotropic conductive film 23b Can be reduced. Therefore, the bonding strength between the first anisotropic conductive film 23a and the second anisotropic conductive film 23b can be improved.

また、第1異方性導電膜23aまたは第2異方性導電膜23bが第1カバーフィルム5dまたは第2カバーフィルム5eと上面視で重なるように設けることで、工程誤差により第1異方性導電膜23aまたは第2異方性導電膜23bが最上層の導電層7aまたは最下層の導電層7bを覆い切れないことを低減させることが可能となる。このことで、最上層の導電層7aまたは最下層の導電層7bの保護性をより向上させることが可能となる。   Further, by providing the first anisotropic conductive film 23a or the second anisotropic conductive film 23b so as to overlap the first cover film 5d or the second cover film 5e in a top view, the first anisotropic conductive film 23a or the second anisotropic conductive film 23b is caused by a process error. It can be reduced that the conductive film 23a or the second anisotropic conductive film 23b does not cover the uppermost conductive layer 7a or the lowermost conductive layer 7b. This makes it possible to further improve the protection of the uppermost conductive layer 7a or the lowermost conductive layer 7b.

また、第1カバーフィルム5dまたは第2カバーフィルム5eと第1異方性導電膜23aまたは第2異方性導電膜23bとの間にわずかでも隙間があると、水分、または粉塵等が第1カバーフィルム5dまたは第2カバーフィルム5eとベースフィルム5b、もしくは第1カバーフィルム5dまたは第2カバーフィルム5eと最上層の導電層7aまたは最下層の導電層7bとの間に入り込み、第1カバーフィルム5dまたは第2カバーフィルム5eの剥がれが生じる可能性がある。このとき、第1カバーフィルム5dまたは第2カバーフィルム5eと第1異方性導電膜23aまたは第2異方性導電膜23bとが上面視で重なるように設けることで、第1カバーフィルム5dまたは第2カバーフィルム5eの端部を覆うことが可能となり、第1カバーフィルム5dまたは第2カバーフィルム5eの接合強度を向上させることが可能となる。   In addition, if there is even a slight gap between the first cover film 5d or the second cover film 5e and the first anisotropic conductive film 23a or the second anisotropic conductive film 23b, moisture, dust or the like is first. The cover film 5d or the second cover film 5e and the base film 5b, or the first cover film 5d or the second cover film 5e and the uppermost conductive layer 7a or the lowermost conductive layer 7b enter the first cover film. There is a possibility that peeling of 5d or the second cover film 5e occurs. At this time, the first cover film 5d or the second cover film 5e and the first anisotropic conductive film 23a or the second anisotropic conductive film 23b are provided so as to overlap with each other in a top view. The end portion of the second cover film 5e can be covered, and the bonding strength of the first cover film 5d or the second cover film 5e can be improved.

また、フレキシブル基板5が第1カバーフィルム5dと第2カバーフィルム5eを有するとき、第1カバーフィルム5dの内側端部と第2カバーフィルム5eの端部は上面視で重なる位置に設けていてもよい。このことで、第1異方性導電膜23aと第2異方性導電膜23bとの熱膨張等における変形または引っ張り応力をフレキシブル基板5の上面と下面とで均一としやすくなる。よって、フレキシブル基板5にかかる引っ張り応力のバランスがよくなり、フレキシブル基板5に接合材の引っ張り応力の差に応じた変形が生じることを低減させることが可能となる。   Further, when the flexible substrate 5 includes the first cover film 5d and the second cover film 5e, the inner end portion of the first cover film 5d and the end portion of the second cover film 5e may be provided at a position where they overlap each other in a top view. Good. As a result, the deformation or tensile stress in the thermal expansion or the like between the first anisotropic conductive film 23 a and the second anisotropic conductive film 23 b can be easily made uniform between the upper surface and the lower surface of the flexible substrate 5. Therefore, the balance of the tensile stress applied to the flexible substrate 5 is improved, and it is possible to reduce the occurrence of deformation in the flexible substrate 5 according to the difference in tensile stress of the bonding material.

なお、本発明は上述の実施形態の例に限定されるものではなく、数値などの種々の変形が可能である。   In addition, this invention is not limited to the example of the above-mentioned embodiment, Various modifications, such as a numerical value, are possible.

また、例えば、図1〜図5に示す本実施形態の例では、撮像素子接続用パッド3、もしくは第1貫通孔2aまたは第2貫通孔5aの形状は矩形状であるが、円形状やその他の多角形状であってもかまわない。また、本実施形態における撮像素子接続用パッド3の配置、数、形状などは指定されない。また、本実施形態における特徴部の種々の組み合わせは上述の実施形態の例に限定されるものではない。   Further, for example, in the example of the present embodiment shown in FIGS. 1 to 5, the shape of the imaging element connection pad 3, or the first through hole 2 a or the second through hole 5 a is a rectangular shape, but a circular shape or the like It may be a polygonal shape. In addition, the arrangement, number, shape, and the like of the image sensor connection pad 3 in the present embodiment are not specified. Further, various combinations of the characteristic portions in the present embodiment are not limited to the above-described embodiments.

1・・・・撮像素子実装用基板
2・・・・枠体
2a・・・第1貫通孔
3・・・・撮像素子接続用パッド
4・・・・平板
5・・・・フレキシブル基板
5a・・・第2貫通孔
5b・・・ベースフィルム
5c・・・カバーフィルム
5d・・・第1カバーフィルム
5e・・・第2カバーフィルム
6・・・・切欠き部
6a・・・第1切欠き部
6b・・・第2切欠き部
7・・・・導電層
7a・・・最上層の導電層
7b・・・最下層の導電層
10・・・撮像素子
11・・・撮像素子実装部
12・・・蓋体
13・・・接続部材
14・・・接合部材
15・・・接合材
21・・・撮像装置
23・・・異方性導電膜
23a・・第1異方性導電膜
23b・・第2異方性導電膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ...... Image sensor mounting substrate 2 ... Frame body 2a ... 1st through-hole 3 ... Image sensor connection pad 4 ... Flat plate 5 ... Flexible substrate 5a .... Second through hole 5b ... Base film 5c ... Cover film 5d ... First cover film 5e ... Second cover film 6 ... Notch 6a ... First notch Part 6b ... second cutout part 7 ... conductive layer 7a ... uppermost conductive layer 7b ... lowermost conductive layer 10 ... imaging element 11 ... imaging element mounting part 12 ... Lid 13 ... Connection member 14 ... Joining member 15 ... Joining material 21 ... Imaging device 23 ... Anisotropic conductive film 23a ... First anisotropic conductive film 23b ...・ Second anisotropic conductive film

Claims (7)

上面のうち中央領域に撮像素子実装部を有する平板と、
前記平板上であって前記中央領域を取り囲む周縁領域に接続され、一部が外方に向かって延在するとともに、内部に導電層と、上面には前記中央領域側が切り欠かれ前記導電層が位置する切欠き部とを有するフレキシブル基板と、
前記フレキシブル基板の切欠き部上から前記周縁領域に沿って連続して設けられた、前記撮像素子実装部を取り囲む枠体とを備え、
前記枠体と前記フレキシブル基板は、異方性導電膜を介して接続され、前記異方性導電膜は前記切欠き部に位置する前記導電層の表面を全て覆っていることを特徴とする撮像素子実装用基板。
A flat plate having an image sensor mounting portion in the central region of the upper surface;
Connected to a peripheral region on the flat plate and surrounding the central region, a part of the conductive layer extends outward, and a conductive layer is formed inside, and the central region side is cut out on the upper surface to form the conductive layer. A flexible substrate having a notch located;
A frame body that is provided continuously from the cutout portion of the flexible substrate along the peripheral region, and surrounds the imaging element mounting portion;
The frame body and the flexible substrate are connected via an anisotropic conductive film, and the anisotropic conductive film covers the entire surface of the conductive layer located in the notch. Device mounting board.
前記異方性導電膜の外縁は、前記切欠き部を除いた前記フレキシブル基板の上面に位置していることを特徴とする請求項1に記載の撮像素子実装用基板。   The imaging element mounting substrate according to claim 1, wherein an outer edge of the anisotropic conductive film is located on an upper surface of the flexible substrate excluding the notch. 前記異方性導電膜は黒色であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の撮像素子実装用基板。   The imaging element mounting substrate according to claim 1, wherein the anisotropic conductive film is black. 上面のうち中央領域に撮像素子実装部を有する平板と、
前記平板上であって前記中央領域を取り囲む周縁領域に接続され、一部が外方に向かって延在するとともに、内部に複数の導電層と、上面には前記中央領域側が切り欠かれ前記複数の導電層のうち最上層の導電層が位置する第1切欠き部と、下面には前記中央領域側に切り欠かれ前記複数の導電層のうち最下層の導電層が位置する第2切欠き部とを有するフレキシブル基板と、
前記フレキシブル基板の第1切欠き部上から前記周縁領域に沿って連続して設けられた、前記撮像素子実装部を取り囲む枠体とを備え、
前記枠体と前記フレキシブル基板は、第1異方性導電膜を介して接続され、前記第1異方性導電膜は前記第1切欠き部に位置する前記最上層の導電層の表面を全て覆い、
前記フレキシブル基板と前記平板は、第2異方性導電膜を介して接続され、前記第2異方性導電膜は前記第2切欠き部に位置する前記最下層の導電層の表面を全て覆っていることを特徴とする撮像素子実装用基板。
A flat plate having an image sensor mounting portion in the central region of the upper surface;
Connected to a peripheral region on the flat plate and surrounding the central region, a part thereof extends outward, a plurality of conductive layers are formed therein, and the central region side is cut out on the upper surface. A first notch where the uppermost conductive layer is located, and a second notch where the lowermost conductive layer of the plurality of conductive layers is located on the lower surface. A flexible substrate having a portion;
A frame body that is continuously provided along the peripheral region from the first cutout portion of the flexible substrate, and surrounds the imaging element mounting portion;
The frame and the flexible substrate are connected via a first anisotropic conductive film, and the first anisotropic conductive film covers the entire surface of the uppermost conductive layer located in the first notch. Covering,
The flexible substrate and the flat plate are connected via a second anisotropic conductive film, and the second anisotropic conductive film covers the entire surface of the lowermost conductive layer located at the second notch. A substrate for mounting an image pickup element,
前記第1異方性導電膜の外縁は、前記第1切欠き部を除いた前記フレキシブル基板の上面に位置しているとともに、
前記第2異方性導電膜の外縁は、前記第2切欠き部を除いた前記フレキシブル基板の下面に位置していることを特徴とする請求項4に記載の撮像素子実装用基板。
The outer edge of the first anisotropic conductive film is located on the upper surface of the flexible substrate excluding the first notch,
The imaging element mounting substrate according to claim 4, wherein an outer edge of the second anisotropic conductive film is located on a lower surface of the flexible substrate excluding the second notch portion.
前記第1異方性導電膜および前記第2異方性導電膜は黒色であることを特徴とする請求項4または請求項5に記載の撮像素子実装用基板。   The imaging element mounting substrate according to claim 4, wherein the first anisotropic conductive film and the second anisotropic conductive film are black. 請求項1ないし請求項6のいずれかに記載の撮像素子実装用基板と、
前記撮像素子実装用基板の前記平板の前記撮像素子実装部に実装された撮像素子とを備えていることを特徴とする撮像装置。
The imaging device mounting substrate according to any one of claims 1 to 6,
An imaging device comprising: an imaging device mounted on the imaging device mounting portion of the flat plate of the imaging device mounting substrate.
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