JP6499042B2 - Imaging device mounting substrate and imaging apparatus - Google Patents
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Description
本発明は、例えばCCD(Charge Coupled Device)型またはCMOS(Complementary
Metal Oxide Semiconductor)型等の撮像素子が搭載される撮像素子実装用基板および撮像装置に関するものである。
The present invention is, for example, a CCD (Charge Coupled Device) type or CMOS (Complementary).
The present invention relates to an imaging device mounting substrate and an imaging device on which an imaging device such as a metal oxide semiconductor) type is mounted.
従来より、基板とフレキシブル基板とを接合する技術が知られている。基板の上面に形成された電極とフレキシブル基板の下面とを接続し、基板の上面の露出した電極上に、その電極を保護するために樹脂等からなる保護材が覆っている。 Conventionally, a technique for joining a substrate and a flexible substrate is known. An electrode formed on the upper surface of the substrate is connected to the lower surface of the flexible substrate, and a protective material made of resin or the like is covered on the exposed electrode on the upper surface of the substrate to protect the electrode.
しかしながら、従来技術では樹脂等から成る保護材を硬化させるための加熱を行う工程を付加する必要がある。また、一般的に基板とフレキシブル配線基板は熱膨張率が異なる。これらのことから、保護材を硬化させるための加熱を行う工程を付加することで、熱負荷が接合箇所に大きくかかってしまい、各部材同士の剥がれ、または変形が懸念されていた。特に、近年小型化の要求が求められる撮像素子が搭載される撮像素子実装用基板および撮像装置では接合領域が確保するのが困難になってきており、フレキシブル基板の剥がれの抑制がより必要とされてきている。 However, in the prior art, it is necessary to add a heating process for curing the protective material made of resin or the like. In general, the substrate and the flexible wiring substrate have different coefficients of thermal expansion. From these facts, by adding a heating process for curing the protective material, the heat load is greatly applied to the joining portion, and there has been a concern about peeling or deformation of the members. In particular, it has become difficult to secure a bonding area in an image sensor mounting substrate and an image pickup apparatus on which an image sensor that is required to be downsized in recent years is mounted, and it is necessary to suppress peeling of the flexible substrate. It is coming.
本発明の目的は、枠体とフレキシブル基板の間またはフレキシブル基板と平板との間における剥がれ、あるいはこれらの変形を抑制することが可能となる撮像素子実装用基板と、撮像素子実装用基板を用いた撮像装置を提供することにある。 An object of the present invention is to use an image pickup device mounting substrate and an image pickup device mounting substrate that can suppress peeling between the frame body and the flexible substrate or between the flexible substrate and the flat plate, or deformation thereof. It is to provide an image pickup apparatus.
本発明の1つの態様に係る撮像素子実装用基板は、上面のうち中央領域に撮像素子実装部を有する平板と、前記平板上であって前記中央領域を取り囲む周縁領域に接続され、一部が外方に向かって延在するとともに、内部に導電層と、上面には前記中央領域側が切り欠かれ前記導電層が位置する切欠き部とを有するフレキシブル基板と、前記フレキシブル基板の切欠き部上から前記周縁領域に沿って連続して設けられた、前記撮像素子実装部を取り囲む枠体とを備え、前記枠体と前記フレキシブル基板は、異方性導電膜を介して接続され、前記異方性導電膜は前記切欠き部に位置する前記導電層の表面を全て覆っている。 An image pickup device mounting substrate according to one aspect of the present invention is connected to a flat plate having an image pickup device mounting portion in a central region of an upper surface and a peripheral region on the flat plate surrounding the central region, and a part thereof A flexible substrate extending outward and having a conductive layer inside, a cutout portion in which the central region side is cut out on the upper surface and the conductive layer is located; and on the cutout portion of the flexible substrate A frame body that surrounds the imaging element mounting portion and is provided continuously along the peripheral region, and the frame body and the flexible substrate are connected via an anisotropic conductive film, and the anisotropic The conductive film covers the entire surface of the conductive layer located at the notch.
本発明の1つの態様に係る撮像素子実装用基板は、上面のうち中央領域に撮像素子実装
部を有する平板と、前記平板上であって前記中央領域を取り囲む周縁領域に接続され、一部が外方に向かって延在するとともに、内部に複数の導電層と、上面には前記中央領域側が切り欠かれ前記複数の導電層のうち最上層の導電層が位置する第1切欠き部と、下面には前記中央領域側に切り欠かれ前記複数の導電層のうち最下層の導電層が位置する第2切欠き部とを有するフレキシブル基板と、前記フレキシブル基板の第1切欠き部上から前記周縁領域に沿って連続して設けられた、前記撮像素子実装部を取り囲む枠体とを備え、前記枠体と前記フレキシブル基板は、第1異方性導電膜を介して接続され、前記第1異方性導電膜は前記第1切欠き部に位置する前記最上層の導電層の表面を全て覆い、前記フレキシブル基板と前記平板は、第2異方性導電膜を介して接続され、前記第2異方性導電膜は
前記第2切欠き部に位置する前記最下層の導電層の表面を全て覆っている。
An imaging device mounting substrate according to one aspect of the present invention is connected to a flat plate having an imaging device mounting portion in a central region of an upper surface, and a peripheral region on the flat plate surrounding the central region, and a part thereof A plurality of conductive layers inside and a first cutout portion in which the central region side is cut out on the upper surface and the uppermost conductive layer is located among the plurality of conductive layers; A flexible board having a second cutout portion on the lower surface, the second cutout portion being cut out on the side of the central region and in which the lowermost conductive layer of the plurality of conductive layers is located, and the first cutout portion of the flexible board from above A frame body continuously surrounding the peripheral region and surrounding the imaging element mounting portion, the frame body and the flexible substrate being connected via a first anisotropic conductive film, The anisotropic conductive film is located in the first notch Covering the entire surface of the uppermost conductive layer, the flexible substrate and the flat plate are connected via a second anisotropic conductive film, and the second anisotropic conductive film is connected to the second notch. The entire surface of the lowermost conductive layer located is covered.
本発明の1つの態様に係る撮像装置は、上記のいずれかに記載の撮像素子実装用基板と
、撮像素子実装用基板の上面に実装された撮像素子とを備え、前記撮像素子は前記撮像素子実装部と重なる位置に実装されている。
An imaging device according to an aspect of the present invention includes the imaging device mounting substrate according to any one of the above, and an imaging device mounted on an upper surface of the imaging device mounting substrate, wherein the imaging device is the imaging device. It is mounted at a position that overlaps the mounting part.
本発明の1つの態様に係る撮像素子実装用基板は、上面のうち中央領域に撮像素子実装
部を有する平板と、前記平板上であって前記中央領域を取り囲む周縁領域に接続され、一部が外方に向かって延在するとともに、内部に導電層と、上面には前記中央領域側が切り欠かれ前記導電層が位置する切欠き部とを有するフレキシブル基板と、前記フレキシブル基板の切欠き部上から、前記周縁領域に沿って連続して設けられた、前記撮像素子実装部を取り囲む枠体とを備え、前記枠体と前記フレキシブル基板は、異方性導電膜を介して接続され、前記異方性導電膜は前記切欠き部に位置する前記導電層の表面を全て覆っている。
An imaging device mounting substrate according to one aspect of the present invention is connected to a flat plate having an imaging device mounting portion in a central region of an upper surface, and a peripheral region on the flat plate surrounding the central region, and a part thereof A flexible substrate extending outward and having a conductive layer inside, a cutout portion in which the central region side is cut out on the upper surface and the conductive layer is located; and on the cutout portion of the flexible substrate The frame body and the flexible substrate are connected to each other through an anisotropic conductive film, and are provided continuously along the peripheral region. The isotropic conductive film covers the entire surface of the conductive layer located at the notch.
これにより、枠体とフレキシブル基板の間またはフレキシブル基板と平板との間における剥がれ、あるいはこれらの変形を低減させることが可能となる撮像素子実装用基板を提供することができる。 Accordingly, it is possible to provide an imaging element mounting substrate that can reduce peeling between the frame body and the flexible substrate or between the flexible substrate and the flat plate, or deformation thereof.
また、本発明の1つの態様に係る撮像素子実装用基板は、上面のうち中央領域に撮像素
子実装部を有する平板と、前記平板上であって前記中央領域を取り囲む周縁領域に接続され、一部が外方に向かって延在するとともに、内部に複数の導電層と、上面には前記中央領域側が切り欠かれ前記複数の導電層のうち最上層の導電層が位置する第1切欠き部と、下面には前記中央領域側に切り欠かれ前記複数の導電層のうち最下層の導電層が位置する第2切欠き部とを有するフレキシブル基板と、前記フレキシブル基板の第1切欠き部上から、前記周縁領域に沿って連続して設けられた、前記撮像素子実装部を取り囲む枠体とを備え、前記枠体と前記フレキシブル基板は、第1異方性導電膜を介して接続され、前記第1異方性導電膜は前記第1切欠き部に位置する前記最上層の導電層の表面を全て覆い、前記フレキシブル基板と前記平板は、第2異方性導電膜を介して接続され、前記第2異方性導電膜は前記第2切欠き部に位置する前記最下層の導電層の表面を全て覆っている。
In addition, an imaging element mounting substrate according to one aspect of the present invention is connected to a flat plate having an imaging element mounting portion in a central region of an upper surface and a peripheral region on the flat plate surrounding the central region. A first cutout portion having a plurality of conductive layers inside and a top surface of the plurality of conductive layers, wherein the uppermost conductive layer is located. And a flexible printed circuit board having a second notch on the lower surface, the second notch being located on the lower side of the plurality of conductive layers, and a first notch on the flexible board. A frame body that is provided continuously along the peripheral region and surrounds the imaging element mounting portion, and the frame body and the flexible substrate are connected via a first anisotropic conductive film, The first anisotropic conductive film has the first notch. Covering the entire surface of the uppermost conductive layer located in the section, the flexible substrate and the flat plate are connected via a second anisotropic conductive film, and the second anisotropic conductive film is connected to the second cut All the surfaces of the lowermost conductive layer located in the notch are covered.
これにより、枠体とフレキシブル基板の間またはフレキシブル基板と平板との間の剥がれ、あるいはこれらの変形を低減させることが可能となる撮像素子実装用基板を提供することができる。 Accordingly, it is possible to provide an image sensor mounting substrate that can reduce peeling between the frame and the flexible substrate or between the flexible substrate and the flat plate, or deformation thereof.
以下、本発明のいくつかの例示的な実施形態について図面を参照して説明する。なお、
以下の説明では、撮像素子実装用基板に撮像素子が実装され、撮像素子実装用基板の上面に蓋体が接合された構成を撮像装置とする。撮像素子実装用基板および撮像装置は、いずれの方向が上方若しくは下方とされてもよいが、便宜的に、直交座標系xyzを定義するとともに、z方向の正側を上方とする。
Hereinafter, some exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition,
In the following description, a configuration in which an imaging element is mounted on an imaging element mounting substrate and a lid is bonded to the upper surface of the imaging element mounting substrate is referred to as an imaging device. The imaging element mounting substrate and the imaging device may be either upward or downward. For convenience, the orthogonal coordinate system xyz is defined and the positive side in the z direction is upward.
(第1の実施形態)
図1を参照して本発明の第1の実施形態における撮像装置21、および撮像素子実装用基板1について説明する。本実施形態における撮像装置21は、撮像素子実装用基板1と撮像素子10とを備えている。
(First embodiment)
With reference to FIG. 1, the
撮像素子実装用基板1は、平板4とフレキシブル基板5および枠体2を備えている。平板4は、上面のうち中央領域に撮像素子実装部11を有する。フレキシブル基板5は、平板4上であって中央領域を取り囲む周縁領域に接続され、一部が外方に向かって延在するとともに、内部に導電層7と、上面には中央領域側が切り欠かれ導電層7が位置する切欠き部6とを有している。枠体2は、フレキシブル基板5の切欠き部6上から周縁領域に沿って連続して設けられ、撮像素子実装部11を取り囲んでいる。枠体2とフレキシブル基板5は、異方性導電膜23を介して接続され、異方性導電膜23は切欠き部6に位置する導電層7の表面を全て覆っている。
The imaging
撮像素子実装用基板1は上面のうち中央領域に撮像素子実装部11を有する平板4を有する。平板4は、上面の中央領域に撮像素子実装部11を有している。
The image pickup
平板4を構成する材料は例えば、高い熱伝導率を有する材料が使用される。平板4を形成する材料として例えば、窒化アルミニウム質焼結体、窒化珪素質焼結体またはシリコン(Si)等が挙げられる。なお、平板4を形成する材料として、例えば窒化アルミニウム質結晶体または窒化ケイ素室結晶体等である場合、平板4は複数の絶縁層から成る積層体であっても良い。 For example, a material having high thermal conductivity is used as the material constituting the flat plate 4. Examples of the material for forming the flat plate 4 include an aluminum nitride sintered body, a silicon nitride sintered body, or silicon (Si). When the material for forming the flat plate 4 is, for example, an aluminum nitride crystal or a silicon nitride chamber crystal, the flat plate 4 may be a laminate composed of a plurality of insulating layers.
また、平板4の材料としては金属材料も使用され、金属材料として例えば、ステンレス(SUS)、Fe−Ni−Co合金、42アロイ、銅(Cu)、コバールまたは銅合金等が挙げられる。例えば、枠体2が約5×10−6/℃〜10×10−6/℃の熱膨張率を有する酸化アルミニウム質焼結体である場合、平板4は約10×10−6/℃の熱膨張率を有するステンレス(SUS410)を用いることができる。この場合には、枠体2と平板4との熱収縮差・熱膨張差が小さくなるので、撮像素子実装部11の変形を低減することができる。その結果、撮像素子10とレンズとの光軸ズレを抑制することができ、画像の鮮明度を良好に維持することができる。また、平板4が金属材料から成るとき、その材料が非磁性体であることで、レンズ駆動等の外部機器の働きを平板4が妨げることを低減させることが可能となる。
Moreover, a metal material is also used as the material of the flat plate 4, and examples of the metal material include stainless steel (SUS), Fe—Ni—Co alloy, 42 alloy, copper (Cu), Kovar, or copper alloy. For example, when the
撮像素子実装用基板1は、平板4上であって中央領域を取り囲む周縁領域に接続され、一部が外方に向かって延在するとともに、内部に導電層7と、上面には中央領域側が切り欠かれ導電層7が位置する切欠き部6とを有するフレキシブル基板5を有している。なお、図1では、切欠き部6は、フレキシブル基板5の1ヵ所にしか存在しないが、例えば周縁領域を取り囲む4辺の全てに設けられても良い。
The imaging
フレキシブル基板5はベースフィルム5bを有している。
ベースフィルム5bを形成する材料として例えばポリイミドフィルム等の樹脂から成る絶縁体が用いられる。
The
As a material for forming the
フレキシブル基板5は、ベースフィルム5bの上面に導電層7を有している。導電層7
は、銅、アルミニウム、金、ニッケルまたはこれらから選ばれる少なくとも1種類以上の金属材料を含有する合金からなる。
The
Is made of copper, aluminum, gold, nickel or an alloy containing at least one metal material selected from these.
また、導電層7の露出表面に、めっき層が設けられてもよい。この構成によれば、導電層7の露出表面を保護して酸化を抑制できる。また、この構成によれば、後述する枠体2と導電層7との異方性導電膜23を介した電気的接続の電気的接続を良好にできる。めっき層は、例えば、厚さ0.5〜10μmのNiめっき層を被着させるか、またはこのNiめっき層および厚さ0.5〜3μmの金(Au)めっき層を順次被着させてもよい。さらにはめっき層上にSnメッキが施されていてもよい。
In addition, a plating layer may be provided on the exposed surface of the
フレキシブル基板5は、導電層7の上面に設けられたカバーフィルム5cを有している。カバーフィルム5cは導電層7の表面保護用のフィルムであり、ポリイミドフィルム等の樹脂材料からなるフィルムの片面に接着剤を塗布し、導電層7の表面に設けられている。
The
フレキシブル基板5と平板4とを接合する接合材は、撮像素子10の実装工程において加えられる熱によって変性しにくい材料からなる。このような接合材としては、ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂またはポリイミド樹脂等である。この場合には、撮像素子10の実装工程においてフレキシブル基板5と平板4とが剥離することを良好に抑制することができる。
The bonding material for bonding the
撮像素子実装用基板1は、フレキシブル基板5の切欠き部6上から、切欠き部6を除いたフレキシブル基板5の上面にかけて周縁領域に沿って連続して設けられた、撮像素子実装部11を取り囲む枠体2を有している。
The image pickup
枠体2は、絶縁層から成り、第1貫通孔2aを有する。絶縁層からなる枠体2は上面に撮像素子接続用パッド3が設けられている。また、図示していないが、枠体2の下面にはフレキシブル基板5と接続される外部回路接続用電極を複数設けても良い。枠体2を構成する絶縁層の材料は例えば、電気絶縁性セラミックスまたは樹脂(プラスティックス)等が使用される。
The
枠体2を形成する絶縁層の材料として使用される電気絶縁性セラミックスとしては例えば、酸化アルミニウム質焼結体、ムライト質焼結体、炭化珪素質焼結体、窒化アルミニウム質焼結体、窒化珪素質焼結体またはガラスセラミック焼結体等が挙げられる。
Examples of the electrically insulating ceramic used as the material of the insulating layer forming the
枠体2を形成する絶縁層の材料として使用される樹脂としては例えば、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂またはフッ素系樹脂等が挙げられる。フッ素系樹脂としては例えば、ポリエステル樹脂または四フッ化エチレン樹脂が挙げられる。
Examples of the resin used as a material for the insulating layer forming the
枠体2を形成する絶縁層は、前述した材料から成る絶縁層を複数上下に積層して形成されている。枠体2を形成する絶縁層は、図1に示すように2層の絶縁層から形成されていても良いし、単層または3層以上の絶縁層から形成されていても良い。また、図示しないが、枠体2を形成する絶縁層の開口部の大きさを異ならせ上面に段差部を形成し、段差部に複数の撮像素子接続用パッド3が設けられていてもよい。
The insulating layer forming the
また、枠体2の上面、側面または下面に、外部回路接続用電極が設けられている。外部回路接続用電極は、枠体2とフレキシブル基板5、あるいは撮像素子実装用基板1と外部回路基板、あるいは撮像素子実装用基板と外部装置等を電気的に接続するものである。
In addition, external circuit connection electrodes are provided on the upper surface, side surfaces, or lower surface of the
枠体2の内部には、絶縁層間に形成される内部配線、内部配線同士を上下に接続する貫通導体が設けられる。これら内部配線または貫通導体は、枠体2の表面に露出していても良い。この内部配線または貫通導体によって、外部回路接続用電極および撮像素子接続用パッド3が電気的に接続されていても良い。
Inside the
撮像素子接続用パッド3、外部回路接続用電極、内部配線および貫通導体は、枠体2が電気絶縁性セラミックスから成る場合には、タングステン(W)、モリブデン(Mo)、マンガン(Mn)、銀(Ag)若しくは銅(Cu)またはこれらから選ばれる少なくとも1種以上の金属材料を含有する合金等から成る。また、撮像素子接続用パッド3、外部回路接続用電極、内部配線および貫通導体は、枠体2が樹脂から成る場合には、銅(Cu)、金(Au)、アルミニウム(Al)、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、モリブデン(Mo)若しくはチタン(Ti)またはこれらから選ばれる少なくとも1種以上の金属材料を含有する合金等から成る。
The imaging
撮像素子接続用パッド3、外部回路接続用電極、内部配線および貫通導体の露出表面に、めっき層が設けられてもよい。この構成によれば、撮像素子接続用パッド3、外部回路接続用電極、内部配線および貫通導体の露出表面を保護して酸化を抑制できる。また、この構成によれば、撮像素子接続用パッド3と撮像素子10とをワイヤボンディング等の接続部材13を介して良好に電気的接続することができる。めっき層は、例えば、厚さ0.5〜10μmのNiめっき層を被着させるか、またはこのNiめっき層および厚さ0.5〜3μmの金(Au)めっき層を順次被着させてもよい。
A plating layer may be provided on the exposed surface of the imaging
枠体2とフレキシブル基板5とは、異方性導電膜23を介して接続されている。異方性導電膜23は、例えば異方性導電性樹脂(ACF)または異方性導電性フィルム(ACP)等の熱硬化性接着剤に、導電性粒子を均一に分散したものである。異方性導電膜23は、力が加えられる厚み方向に導電性を有するが、それ以外は導電性を発現しない接合剤である。
The
フレキシブル基板5と枠体2とを接合する方法として例えば、フレキシブル基板5の上面に切欠き部6を設け、導電層7を露出させて異方性導電膜23を介して枠体2と接合する方法が知られている。
As a method for joining the
一般的に、フレキシブル基板5に設けられる切欠き部6は製造誤差を考慮し枠体2と
の接合箇所よりも大きく設けられる。このような場合、切欠き部6と枠体2とが重なっていない部分の導電層7を保護するために樹脂等からなる保護材で覆い、樹脂等から成る保護材を硬化させるための加熱を行う工程を付加することがある。また、一般的に従来技術にある枠体、平板および外部回路基板は熱膨張率がそれぞれ異なる。これらのことから、保護材を硬化させるための加熱を行う工程を付加することで、熱負荷が接合箇所に大きくかかってしまう可能性があり、各部材同士の剥がれまたは変形が懸念されていた。特に、近年小型化の要求が求められる撮像素子が搭載される撮像素子実装用基板1および撮像装置21では接合領域が確保するのが困難になってきており、フレキシブル基板5の剥がれがより懸念されている。
In general, the notch portion 6 provided in the
これに対して図1に示す本実施形態の例では、撮像素子実装用基板1の異方性導電膜23は切欠き部6に位置する導電層7の表面を全て覆っている。これにより、樹脂等からなる保護材を設けることなくフレキシブル基板5の露出した導電層7を保護することが可能となる。よって、保護材を硬化させるための加熱を行う工程を削減することが可能となり、撮像素子実装用基板1にかかる熱応力を低減させることが可能となる。よって、熱負荷が接合箇所に大きくかかることによる、各部材同士の剥がれまたは変形を低減させることが可能となる。また、これにより、撮像素子実装用基板1の各部材同士の接合領域を確保
しつつ撮像素子実装用基板1および撮像装置21の小型化が可能となる。なお、ここで各部材同士とは枠体2とフレキシブル基板5またはフレキシブル基板5と平板4のことである。
On the other hand, in the example of the present embodiment shown in FIG. 1, the anisotropic
また、樹脂等から成る保護材は加熱の工程中に液状となり、枠体2の側面を這い上がる可能性がある。このとき、近年の薄型化の要求により、枠体2が薄くされていると、この保護材が枠体2の側面を這い上がることで枠体2の上面まで達し枠体2の上面の実装エリアに到達する懸念があった。これに対し、本構成による異方性導電膜23は加熱の工程にあっても液状化し難いため、枠体2の側面を這い上がる可能性を低減させることが可能となる。よって、枠体2の上面の実装エリアを確保できるため、より撮像素子実装用基板1の小型化が可能となる。
Further, the protective material made of resin or the like becomes liquid during the heating process, and may scoop up the side surface of the
また、本実施形態のように、平板4の外縁が上面視で枠体2の外縁よりも外側に位置していてもよい。近年、撮像装置21の薄型化の要求により、枠体2の厚みも薄型化が要求されている。このとき、撮像装置21が組み込まれた機器または撮像装置21および撮像素子実装用基板1の状態で、外部から落下等意図しないストレスがかかった場合に、枠体2に割れ・クラック等が発生し撮像装置21が誤作動することが懸念されていた。
Moreover, the outer edge of the flat plate 4 may be located outside the outer edge of the
平板4の外縁が上面視で枠体2の外縁よりも外側に位置していることで、落下などの衝撃を平板4で受け止め、枠体2に衝撃がかかることを低減させることが可能となり、ひいては枠体2の割れ等を低減させることが可能となる。また、平板4の外周縁が枠体2の外周縁よりも外側に位置する場合、平板4は、枠体2の外側に位置する外側領域に貫通孔または切り欠きを有していても良い。この場合、貫通孔または切り欠きは、例えば、撮像装置21と外部装置とを固定する際のマーカーとしても用いることができる。
Since the outer edge of the flat plate 4 is located outside the outer edge of the
また、本実施形態のように、異方性導電膜23の内側の端部は、上面視で枠体2の第1貫通孔2aと重なる位置に設けられていても良い。また、異方性導電膜23は、枠体2の第1貫通孔2aよりも外側、即ち、枠体2と上面視で重なる位置に設けられていても良い。異方性導電膜23の端部が上面視で枠体2の第1貫通孔2aと重なる位置に設けられていることで、枠体2とフレキシブル基板5との接合面積を大きくすることが可能となり、接合強度をより向上させることが可能となる。また、異方性導電膜23の端部が枠体2の第1貫通孔2aよりも外側に位置することで、枠体2とフレキシブル基板5とを接合する為の加圧工程において、異方性導電膜23が第1貫通孔2a側へ突出し、撮像素子実装部11のエリアが小さくなることを低減させることが可能となる。
Further, as in the present embodiment, the inner end of the anisotropic
また、枠体2の第1貫通孔2aが矩形状であるとき、異方性導電膜23は上面視において開口部の角部を避けるように設けることで、枠体2とフレキシブル基板5とを接合するための加圧工程において、異方性導電膜23が第1貫通孔2aの角部に溜まることで、その箇所に水分または粉塵等が付着するのを低減させることができる。
In addition, when the first through
また、異方性導電膜23は、枠体2の第1貫通孔2aの側面またはフレキシブル基板5の第2貫通孔5aの側面を覆っていても良い。このことで、バリ等からダストが発生しても、異方性導電膜23によって撮像素子10の受光面にダストが付着することを低減させることができる。
The anisotropic
また、異方性導電膜23は黒色である。このことで、フレキシブル基板5の導電層7の表面で反射した光が撮像素子10の受光面側に到達することをより低減することが可能となる。よって、撮像装置21が取得する画像にノイズ等の発生を低減させることが可能となる。
The anisotropic
次に、図1を用いて、撮像装置21について説明する。撮像装置21は、撮像素子実装用基板1と、平板4の撮像素子実装部11に実装された撮像素子10とを有している。また、撮像装置21は撮像素子実装用基板1の上面に接合された蓋体12を有している。撮像素子10が撮像素子実装部11に実装されており、この撮像素子10は、枠体2、フレキシブル基板5および平板4とで形成される凹部に収納されている。
Next, the
撮像素子10は、例えば、CCD型またはCMOS型等の撮像素子が用いられる。撮像素子10の各電極は、接続部材13(ボンディングワイヤ)によって撮像素子接続用パッド3に電気的に接続されている。
As the
また、撮像素子10は、接着剤を介して、平板4の上面に配置されていてもよい。この接着剤は、例えば、銀エポキシまたは熱硬化性樹脂等が使用される。
Moreover, the image pick-up
蓋体12は、例えば、平板形状である。また、蓋体12は、ガラス材料等の透明度の高い部材が用いられる。蓋体12は、例えば、熱硬化性樹脂または低融点ガラス等の接合部材14により、枠体2の上面に接合される。
The
本実施形態の撮像装置21は、枠体とフレキシブル基板の間またはフレキシブル基板と平板との間における剥がれ、あるいはこれらの変形を低減させることが可能となる信頼性の高い撮像素子実装用基板1を用いた撮像装置21を提供することができる。
The
次に、本実施形態の撮像素子実装用基板1の製造方法の一例について説明する。なお、下記で示す製造方法の一例は、多数個取り配線基板を用いた製造方法である。
Next, an example of a method for manufacturing the imaging
(1)まず、枠体2を構成するセラミックグリーンシートを形成する。例えば、酸化アルミニウム(Al2O3)質焼結体である枠体2を得る場合には、Al2O3の粉末に焼結助材としてシリカ(SiO2)、マグネシア(MgO)またはカルシア(CaO)等の粉末を添加し、さらに適当なバインダー、溶剤および可塑剤を添加し、次にこれらの混合物を混錬してスラリー状となす。その後、従来周知のドクターブレード法またはカレンダーロール法等の成形方法によって多数個取り用のセラミックグリーンシートを得る。
(1) First, a ceramic green sheet constituting the
なお、枠体2が、例えば樹脂から成る場合は、所定の形状に成形できるような金型を用いて、トランスファーモールド法またはインジェクションモールド法等で成形することによって枠体2を形成することができる。
When the
また、枠体2は、例えばガラスエポキシ樹脂のように、ガラス繊維から成る基材に樹脂を含浸させたものであってもよい。この場合には、ガラス繊維から成る基材にエポキシ樹脂の前駆体を含浸させ、このエポキシ樹脂前駆体を所定の温度で熱硬化させることによって枠体2を形成できる。
Moreover, the
(2)次に、スクリーン印刷法等によって、上記(1)の工程で得られたセラミックグリーンシートに撮像素子接続用パッド3、外部回路接続用電極、内部配線および貫通導体となる部分に、金属ペーストを塗布または充填する。
(2) Next, by a screen printing method or the like, the ceramic green sheet obtained in the above step (1) is coated with metal on the portions to be the imaging
この金属ペーストは、前述した金属材料から成る金属粉末に適当な溶剤およびバインダーを加えて混練することによって、適度な粘度に調整して作製される。なお、金属ペーストは、枠体2との接合強度を高めるために、ガラスまたはセラミックスを含んでいても構わない。
This metal paste is prepared by adjusting an appropriate viscosity by adding an appropriate solvent and binder to the metal powder made of the above-described metal material and kneading. The metal paste may contain glass or ceramics in order to increase the bonding strength with the
(3)次に、前述のグリーンシートを金型等によって加工する。枠体2となるグリーン
シートの中央部に、第1貫通孔2aを形成する。
(3) Next, the above-described green sheet is processed with a mold or the like. A first through
(4)次に、各絶縁層となるセラミックグリーンシートを積層して加圧することにより枠体2となるセラミックグリーンシート積層体を作製する。また、本工程では、例えば、それぞれの層となるグリーンシートに貫通孔を設け、両者を積層して加圧することにより、枠体2となるグリーンシート積層体を作製しても良い。
(4) Next, the ceramic green sheet laminated body used as the
(5)次に、このセラミックグリーンシート積層体を約1500〜1800℃の温度で焼成して、枠体2が複数配列された多数個取り配線基板を得る。なお、この工程によって、前述した金属ペーストは、枠体2となるセラミックグリーンシートと同時に焼成され、撮像素子接続用パッド3、外部回路接続用電極、内部配線および貫通導体となる。
(5) Next, this ceramic green sheet laminate is fired at a temperature of about 1500 to 1800 ° C. to obtain a multi-piece wiring board in which a plurality of
(6)次に、焼成して得られた多数個取り配線基板を複数の枠体2に分断する。この分断においては、枠体2の外縁となる箇所に沿って多数個取り配線基板に分割溝を形成しておき、この分割溝に沿って破断させて分割する方法またはスライシング法等により枠体2の外縁となる箇所に沿って切断する方法等を用いることができる。なお、分割溝は、焼成後にスライシング装置により多数個取り配線基板の厚みより小さく切り込むことによって形成することができるが、多数個取り配線基板用のセラミックグリーンシート積層体にカッター刃を押し当てたり、スライシング装置によりセラミックグリーンシート積層体の厚みより小さく切り込んだりすることによって形成してもよい。
(6) Next, the multi-cavity wiring board obtained by firing is divided into a plurality of
(7)次に、枠体2の下面に接合されるフレキシブル基板5を用意する。まず、ポリイミドから成るベースフィルム5bを用意する。ベースフィルム5bの上にフォトレジスト層を形成する工程およびDES(Development Etching Stripping)工程またはスクリー
ン印刷法等で基板上に導電層7を形成する。その後、導電層7の上面にポリイミドフィルム等からなるカバーフィルム5cを接着する工程を経ることで、フレキシブル基板5を作製することができる。なお、このとき第1カバーフィルムに第2貫通孔5aよりも大きい孔を設け、導電層7を露出させることで、切欠き部6を設けることができる。その後、所定の場所にエッチング方法または金型で形状を形成する方法等を用いて、第2貫通孔5aを設けることで、フレキシブル基板5を作製することができる。
(7) Next, the
(8)次に、フレキシブル基板5の下面に接合される平板4を用意する。平板4は、金属材料からなる場合は、金属材料から成る板材に、従来周知のスタンピング金型を用いた打ち抜き加工またはエッチング加工等によって作製される。また、他の材料から成る場合も同様にそれぞれの材質にあった打ち抜き加工等によって作製することが可能となる。また、平板4が金属材料であるFe−Ni−Co合金、42アロイ、Cuまたは銅合金等の金属から成る場合には、その表面にニッケルめっき層および金めっき層を被着してもよい。これにより、平板4の表面の酸化腐食を有効に抑制することができる。
(8) Next, the flat plate 4 to be bonded to the lower surface of the
また、平板4が電気絶縁性セラミック等からなり、表面に導体パターンをプリントしている場合も同様にその表面にニッケルめっき層および金めっき層を被着してもよい。これにより、平板4の表面の酸化腐食を有効に抑制することができる。 Further, when the flat plate 4 is made of an electrically insulating ceramic or the like and a conductor pattern is printed on the surface, a nickel plating layer and a gold plating layer may be similarly applied to the surface. Thereby, the oxidative corrosion of the surface of the flat plate 4 can be effectively suppressed.
(9)次に、接合材15を介して、フレキシブル基板5と平板4とを接合する。接合材15は、ペースト状の熱硬化性樹脂(接着部材)をスクリーン印刷法またはディスペンス法等で、フレキシブル基板5または平板4のいずれか一方の接合面に塗布する。そして、熱硬化性樹脂を乾燥させた後、フレキシブル基板5と平板4とを重ねた状態で、トンネル式の雰囲気炉またはオーブン等に通炉させ、加圧し加熱することで接合材15を熱硬化させ、フレキシブル基板5と平板4とを強固に接着させる。
(9) Next, the
接合材15は、例えばビスフェノールA型液状エポキシ樹脂、ビスフェノールF型液状エポキシ樹脂、フェノールノボラック型液状樹脂等からなる主剤に、球状の酸化珪素等から成る充填材、テトラヒドロメチル無水フタル酸等の酸無水物などを主とする硬化剤および着色剤としてカーボン紛末等を添加し遠心攪拌機等を用いて混合または混練してペースト状とすることによって得られる。
The
また、接合材15としては、この他にも例えばビスフェノールA型エポキシ樹脂やビスフェノールA変性エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、特殊ノボラック型エポキシ樹脂、フェノール誘導体エポキシ樹脂、ビスフェノール骨格型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂にイミダゾール系、アミン系、リン系、ヒドラジン系、イミダゾールアダクト系、アミンアダクト系、カチオン重合系またはジシアンジアミド系等の硬化剤を添加したもの等を使用することができる。
In addition, as the
また、接合材15は異方性導電膜23と同じ部材であっても良く、接合材15が異方性導電膜23と同じ部材であると、枠体2とフレキシブル基板5とを接合する工程と合わせて1回の工程で接合することが可能となる。
Further, the
(10)次に、異方性導電膜23を介して、枠体2の下面に設けられた外部回路接続用電極と、フレキシブル基板5の切欠き部6に露出した導電層7とを接合する。このとき、例えば枠体2またはフレキシブル基板5の所定の位置に異方性導電膜23を塗布し、押圧し加熱をすることで、枠体2とフレキシブル基板5とを接合し、電気的に導通させることができる。
(10) Next, the external circuit connection electrode provided on the lower surface of the
以上のようにして枠体2とフレキシブル基板5とを電気的に接合することで、撮像素子実装用基板1を作製することができる。上記(1)〜(10)の工程によって、撮像素子実装用基板1が得られる。なお、上記(1)〜(10)の工程順番は指定されない。例えば、枠体2とフレキシブル基板5とを接合した後、平板4を接合してもよい。
The imaging
このようにして形成された撮像素子実装用基板1の撮像素子実装部11に撮像素子10を実装し、蓋体12を実装することで撮像装置21を作製することができる。
The
(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態による撮像素子実装用基板1および撮像装置21について、図2を参照しつつ説明する。
(Second Embodiment)
Next, an imaging
本実施形態における撮像装置21において、第1の実施形態の撮像装置21と異なる点は、断面視において異方性導電膜23の外側端部がフレキシブル基板5の切欠き部6よりも外側に位置している点、断面視における異方性導電膜23の外側が膨らんでいる点である。
The
本実施形態では、異方性導電膜23の外縁は、切欠き部6を除いたフレキシブル基板5の上面に位置している。カバーフィルム5cの端面と異方性導電膜23の端面とが接続されていると、撮像素子実装用基板1に引っ張り応力がかかったとき、または熱履歴で熱膨張が起きたとき、異方性導電膜23とカバーフィルム5cの端部との接合面に応力がかかる。このとき、異方性導電膜23の端部に引きはがしの応力がかかり、異方性導電膜23の端部の一部が剥がれる可能性がある。この異方性導電膜23の剥がれにより、枠体2とフレキシブル基板5との間の気密性の悪化、導電層7の保護性の悪化などが懸念される。このように、異方性導電膜23がカバーフィルム5cと上面視で重なることで、異方性導電膜23またはカバーフィルム5cの端部にかかる引きはがしの応力を低減させることが
可能となる。
In the present embodiment, the outer edge of the anisotropic
また、本実施形態のように異方性導電膜23がカバーフィルム5cと上面視で重なるように設けることで、工程誤差があっても、異方性導電膜23で導電層7を覆うことが可能となる。このことで、導電層7の保護性をより向上させることが可能となる。また、カバーフィルム5cと異方性導電膜23との間にわずかでも隙間があると、水分または粉塵等がカバーフィルム5cとベースフィルム5bまたはカバーフィルム5cと導電層7との間に入り込み、カバーフィルム5cの剥がれが生じる可能性がある。このとき、異方性導電膜23がカバーフィルム5cと上面視で重なるように設けることで、カバーフィルム5cの端部を覆うことが可能となり、カバーフィルム5cの剥がれを低減することが可能となる。
Further, by providing the anisotropic
また、本実施形態のように、フレキシブル基板5の外縁は上面視で枠体2よりも外側に位置していても良い。一般的に近年、撮像装置21の薄型化の要求により、枠体2の厚みも薄型化が要求されている。このとき、撮像装置21が組み込まれた機器または撮像装置21および撮像素子実装用基板1の状態で、外部から落下等意図しなしストレスがかかった場合に、枠体2に割れ、クラック等が発生し撮像装置21の誤作動が懸念される。フレキシブル基板5の外縁が上面視で枠体2の外縁よりも外側に位置していることで、落下などの衝撃をフレキシブル基板5が緩和剤のような役割で受け止めることが可能となる。よって、枠体2に衝撃がかかることを低減させることが可能となり、枠体2の割れ等を低減させることが可能となる。
Further, as in the present embodiment, the outer edge of the
また、フレキシブル基板5の内側の端部は、上面視で枠体2の第1貫通孔2aよりも外側、即ち、枠体2と上面視で重なる位置に設けられていても良いし、枠体2の第1貫通孔2aと重なる位置に設けられていても良い。フレキシブル基板5の端部が枠体2の第1貫通孔2aよりも外側に位置することで、工程誤差等において、フレキシブル基板5の第2貫通孔5aの内側側面が第1貫通孔2a側へ突出し、撮像素子実装部11のエリアが小さくなることを低減させることが可能となる。また、フレキシブル基板5の端部が上面視で枠体2の第1貫通孔2aと重なる位置に設けられていることで、枠体2とフレキシブル基板5との接合面積を最大とすることが可能となり、接合強度をより向上させることが可能となる。
Moreover, the inner edge part of the
このような撮像素子実装用基板1を作製する方法として、例えばフレキシブル基板5に異方性導電膜23を通常より多めにかつカバーフィルム5cに至るまで塗布し、また大きな圧力をかけながら接合することで作製することができる。
As a method for producing such an image pickup
(第3の実施形態)
次に、本発明の第3の実施形態による撮像素子実装用基板1および撮像装置21について、図3を参照しつつ説明する。
(Third embodiment)
Next, an imaging
本実施形態における撮像装置21において、第2の実施形態の撮像装置21と異なる点は、断面視において異方性導電膜23の外側の形状が異なっている点である。
The
図3に示す本実施形態では異方性導電膜23の外縁は、切欠き部6を除いたフレキシブル基板5の上面に位置しており、枠体2と上面視で重ならない部分の異方性導電膜23の上面は水平になっている。このように、枠体2と重ならない部分の異方性導電膜23の上面が水平になっていることで、異方性導電膜23にダストまたは水分がトラップされることを低減させることが可能となる。よって、異方性導電膜23の良好な表面状態を維持することが可能となり、撮像素子実装用基板1の長期信頼性の向上を図ることが可能となる。
In the present embodiment shown in FIG. 3, the outer edge of the anisotropic
また、枠体2と重ならない部分の異方性導電膜23の上面が水平となっていることで、導電層7に対する寄生容量等の設計がより容易となる。よって、撮像素子実装用基板1の電気特性を向上させることが可能となる。
In addition, since the upper surface of the anisotropic
また、フレキシブル基板5の外縁は上面視で枠体2よりも内側に位置していても良い。これにより、工程誤差等によりフレキシブル基板5の外縁が上面視で枠体2よりも外側に位置することを低減することができ、撮像装置21および撮像装置21の実装エリアをより小型化することが可能となる。
Moreover, the outer edge of the
(第4の実施形態)
次に、本発明の第4の実施形態による撮像素子実装用基板1および撮像装置21について、図4を参照しつつ説明する。
(Fourth embodiment)
Next, an imaging
本実施形態における撮像装置21において、第2の実施形態の撮像装置21と異なる点は、フレキシブル基板5は第1切欠き部6aと第2切欠き部6bとを有しており、フレキシブル基板5と枠体2およびフレキシブル基板5と平板4とがそれぞれ異方性導電膜23で接合されている点である。
The
図4に示す本実施形態では、 平板4は、上面のうち中央領域に撮像素子実装部11を
有している。フレキシブル基板5は、平板4上であって中央領域を取り囲む周縁領域に接続され、一部が外方に向かって延在するとともに、内部に複数の導電層7と、上面には中央領域側が切り欠かれ複数の導電層7のうち最上層の導電層7aが位置する第1切欠き部6aと、下面には中央領域側に切り欠かれ複数の導電層7のうち最下層の導電層7bが位置する第2切欠き部6bとを有している。枠体2は、フレキシブル基板5の第1切欠き部6a上から、周縁領域に沿って連続して設けられ、撮像素子実装部11を取り囲んでいる。枠体2とフレキシブル基板5は、第1異方性導電膜23aを介して接続され、第1異方性導電膜23aは第1切欠き部6aに位置する最上層の導電層7aの表面を全て覆い、フレキシブル基板5と平板4は、第2異方性導電膜23bを介して接続され、第2異方性導電膜23bは第2切欠き部6bに位置する最下層の導電層7bの表面を全て覆っている。
In the present embodiment shown in FIG. 4, the flat plate 4 has an image
平板4が金属材料から成るときまたは表面に導体層を有するとき、平板4とフレキシブル基板5とはノイズ対策等により電気的に接続させることがある。このとき、撮像素子実装用基板1のフレキシブル基板5が上面と下面に枠体2および平板4をそれぞれを異方性導電膜23で接合することでフレキシブル基板5に対する異方性導電膜23からの引っ張り応力を均一としやすくなる。よって、フレキシブル基板5にかかる引っ張り応力のバランスがよくなり、フレキシブル基板5に接合材の引っ張り応力の差に応じた変形が生じることを低減させることが可能となる。
When the flat plate 4 is made of a metal material or has a conductor layer on the surface, the flat plate 4 and the
また、第1異方性導電膜23aおよび第2異方性導電膜23bとを、それぞれ最上層の導電層7aと最下層の導電層7bを全て覆うことで樹脂等からなる保護材を設けることなくフレキシブル基板5の露出した最上層の導電層7aおよび最下層の導電層7bを保護することが可能となる。これらにより、保護材を硬化させるための加熱を行う工程を削減することが可能となる。撮像素子実装用基板1にかかる熱応力を低減させることが可能で、かつフレキシブル基板5にかかる接合材の引っ張り応力の差に応じた変形が生じることを低減させることが可能となる。よって、熱負荷および接合材による引っ張り応力が接合箇所に大きくかかることによる、各部材同士の剥がれ、または変形をより低減させることが可能となる。
Further, the first anisotropic
本実施形態における平板4は金属材料または電気絶縁性セラミックス等からなる基材の
表面に導体が印刷されたものが用いられる。なお、平板4が電気絶縁性セラミックス等から成るときは内部に導体層を有していても良く、表面に設けられた導体層と内部に設けられた導体層とが接続していても構わない。
As the flat plate 4 in the present embodiment, a plate in which a conductor is printed on the surface of a base material made of a metal material or an electrically insulating ceramic is used. When the flat plate 4 is made of electrically insulating ceramic or the like, it may have a conductor layer inside, and the conductor layer provided on the surface may be connected to the conductor layer provided inside. .
本実施形態におけるフレキシブル基板5の製造方法および構成材料は、下面に第2切欠き部6bを設ける点以外は、基本的に第1実施形態の記載のフレキシブル基板5と同じである。またフレキシブル基板5は複数の導電層7を有しており、フレキシブル基板5の内部には、内部の複数の導電層7と、複数の導電層7同士を上下に接続する貫通導体とが設けられていてもよい。またこれらを介して最上層の導電層7aと最下層の導電層7bとが電気的に接続されていても良い。また、最上層の導電層7aと最下層の導電層7bの露出した表面はめっき層が設けられていても良い。また、フレキシブル基板5の最上層の導電層7aの第1切欠き部6aと重なる部分以外は第1カバーフィルム5dで覆われており、最下層の導電層7bの第2切欠き部6bと重なる部分以外は第2カバーフィルム5eで覆われている。
The manufacturing method and constituent materials of the
また、第1異方性導電膜23aおよび第2異方性導電膜23bは黒色とすることで、フレキシブル基板5の最上層の導電層7aおよび最下層の導電層7bの表面で反射した光が接合箇所の隙間で乱反射し、撮像素子10の受光面側に到達することを効果的に低減することが可能となる。よって、撮像装置21が取得する画像をより良好とさせることが可能となる。
The first anisotropic
また、フレキシブル基板5が第1カバーフィルム5dと第2カバーフィルム5eを有するとき、第1カバーフィルム5dの内側端部と第2カバーフィルム5eの端部は上面視で重ならない位置に設けていてもよい。このことで、フレキシブル基板5の剛性を確保しやすくなる。よって、フレキシブル基板5が屈曲しすぎることによる応力が第1異方性導電膜23aおよび第2異方性導電膜23bにかかり剥がれなどが発生することを低減させることが可能となる。
Further, when the
(第5の実施形態)
次に、本発明の第5の実施形態による撮像素子実装用基板1および撮像装置21について、図5を参照しつつ説明する。
(Fifth embodiment)
Next, an imaging
本実施形態における撮像装置21において、第4の実施形態の撮像装置21と異なる点は、断面視において第1異方性導電膜23aおよび第2異方性導電膜23bの外側端部がフレキシブル基板5の第1切欠き部6aまたは第2切欠き部6bよりも外側に位置している点である。
The
図5に示す本実施形態では、第1異方性導電膜23aの外縁は、第1切欠き部6aを除いたフレキシブル基板5の上面に位置しており、第2異方性導電膜23bの外縁は、第2切欠き部6bを除いたフレキシブル基板5の表面上に位置している。第1カバーフィルム5dまたは第2カバーフィルム5eの端面と第1異方性導電膜23aまたは第2異方性導電膜23bの端面とが接続されている場合にかかる可能性のある引きはがしの応力がかかることを低減させることが可能となる。よって、第1異方性導電膜23aおよび第2異方性導電膜23bの接合強度を向上させることが可能となる。
In the present embodiment shown in FIG. 5, the outer edge of the first anisotropic
また、第1異方性導電膜23aまたは第2異方性導電膜23bが第1カバーフィルム5dまたは第2カバーフィルム5eと上面視で重なるように設けることで、工程誤差により第1異方性導電膜23aまたは第2異方性導電膜23bが最上層の導電層7aまたは最下層の導電層7bを覆い切れないことを低減させることが可能となる。このことで、最上層の導電層7aまたは最下層の導電層7bの保護性をより向上させることが可能となる。
Further, by providing the first anisotropic
また、第1カバーフィルム5dまたは第2カバーフィルム5eと第1異方性導電膜23aまたは第2異方性導電膜23bとの間にわずかでも隙間があると、水分、または粉塵等が第1カバーフィルム5dまたは第2カバーフィルム5eとベースフィルム5b、もしくは第1カバーフィルム5dまたは第2カバーフィルム5eと最上層の導電層7aまたは最下層の導電層7bとの間に入り込み、第1カバーフィルム5dまたは第2カバーフィルム5eの剥がれが生じる可能性がある。このとき、第1カバーフィルム5dまたは第2カバーフィルム5eと第1異方性導電膜23aまたは第2異方性導電膜23bとが上面視で重なるように設けることで、第1カバーフィルム5dまたは第2カバーフィルム5eの端部を覆うことが可能となり、第1カバーフィルム5dまたは第2カバーフィルム5eの接合強度を向上させることが可能となる。
In addition, if there is even a slight gap between the
また、フレキシブル基板5が第1カバーフィルム5dと第2カバーフィルム5eを有するとき、第1カバーフィルム5dの内側端部と第2カバーフィルム5eの端部は上面視で重なる位置に設けていてもよい。このことで、第1異方性導電膜23aと第2異方性導電膜23bとの熱膨張等における変形または引っ張り応力をフレキシブル基板5の上面と下面とで均一としやすくなる。よって、フレキシブル基板5にかかる引っ張り応力のバランスがよくなり、フレキシブル基板5に接合材の引っ張り応力の差に応じた変形が生じることを低減させることが可能となる。
Further, when the
なお、本発明は上述の実施形態の例に限定されるものではなく、数値などの種々の変形が可能である。 In addition, this invention is not limited to the example of the above-mentioned embodiment, Various modifications, such as a numerical value, are possible.
また、例えば、図1〜図5に示す本実施形態の例では、撮像素子接続用パッド3、もしくは第1貫通孔2aまたは第2貫通孔5aの形状は矩形状であるが、円形状やその他の多角形状であってもかまわない。また、本実施形態における撮像素子接続用パッド3の配置、数、形状などは指定されない。また、本実施形態における特徴部の種々の組み合わせは上述の実施形態の例に限定されるものではない。
Further, for example, in the example of the present embodiment shown in FIGS. 1 to 5, the shape of the imaging
1・・・・撮像素子実装用基板
2・・・・枠体
2a・・・第1貫通孔
3・・・・撮像素子接続用パッド
4・・・・平板
5・・・・フレキシブル基板
5a・・・第2貫通孔
5b・・・ベースフィルム
5c・・・カバーフィルム
5d・・・第1カバーフィルム
5e・・・第2カバーフィルム
6・・・・切欠き部
6a・・・第1切欠き部
6b・・・第2切欠き部
7・・・・導電層
7a・・・最上層の導電層
7b・・・最下層の導電層
10・・・撮像素子
11・・・撮像素子実装部
12・・・蓋体
13・・・接続部材
14・・・接合部材
15・・・接合材
21・・・撮像装置
23・・・異方性導電膜
23a・・第1異方性導電膜
23b・・第2異方性導電膜
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記平板上であって前記中央領域を取り囲む周縁領域に接続され、一部が外方に向かって延在するとともに、内部に導電層と、上面には前記中央領域側が切り欠かれ前記導電層が位置する切欠き部とを有するフレキシブル基板と、
前記フレキシブル基板の切欠き部上から前記周縁領域に沿って連続して設けられた、前記撮像素子実装部を取り囲む枠体とを備え、
前記枠体と前記フレキシブル基板は、異方性導電膜を介して接続され、前記異方性導電膜は前記切欠き部に位置する前記導電層の表面を全て覆っていることを特徴とする撮像素子実装用基板。 A flat plate having an image sensor mounting portion in the central region of the upper surface;
Connected to a peripheral region on the flat plate and surrounding the central region, a part of the conductive layer extends outward, and a conductive layer is formed inside, and the central region side is cut out on the upper surface to form the conductive layer. A flexible substrate having a notch located;
A frame body that is provided continuously from the cutout portion of the flexible substrate along the peripheral region, and surrounds the imaging element mounting portion;
The frame body and the flexible substrate are connected via an anisotropic conductive film, and the anisotropic conductive film covers the entire surface of the conductive layer located in the notch. Device mounting board.
前記平板上であって前記中央領域を取り囲む周縁領域に接続され、一部が外方に向かって延在するとともに、内部に複数の導電層と、上面には前記中央領域側が切り欠かれ前記複数の導電層のうち最上層の導電層が位置する第1切欠き部と、下面には前記中央領域側に切り欠かれ前記複数の導電層のうち最下層の導電層が位置する第2切欠き部とを有するフレキシブル基板と、
前記フレキシブル基板の第1切欠き部上から前記周縁領域に沿って連続して設けられた、前記撮像素子実装部を取り囲む枠体とを備え、
前記枠体と前記フレキシブル基板は、第1異方性導電膜を介して接続され、前記第1異方性導電膜は前記第1切欠き部に位置する前記最上層の導電層の表面を全て覆い、
前記フレキシブル基板と前記平板は、第2異方性導電膜を介して接続され、前記第2異方性導電膜は前記第2切欠き部に位置する前記最下層の導電層の表面を全て覆っていることを特徴とする撮像素子実装用基板。 A flat plate having an image sensor mounting portion in the central region of the upper surface;
Connected to a peripheral region on the flat plate and surrounding the central region, a part thereof extends outward, a plurality of conductive layers are formed therein, and the central region side is cut out on the upper surface. A first notch where the uppermost conductive layer is located, and a second notch where the lowermost conductive layer of the plurality of conductive layers is located on the lower surface. A flexible substrate having a portion;
A frame body that is continuously provided along the peripheral region from the first cutout portion of the flexible substrate, and surrounds the imaging element mounting portion;
The frame and the flexible substrate are connected via a first anisotropic conductive film, and the first anisotropic conductive film covers the entire surface of the uppermost conductive layer located in the first notch. Covering,
The flexible substrate and the flat plate are connected via a second anisotropic conductive film, and the second anisotropic conductive film covers the entire surface of the lowermost conductive layer located at the second notch. A substrate for mounting an image pickup element,
前記第2異方性導電膜の外縁は、前記第2切欠き部を除いた前記フレキシブル基板の下面に位置していることを特徴とする請求項4に記載の撮像素子実装用基板。 The outer edge of the first anisotropic conductive film is located on the upper surface of the flexible substrate excluding the first notch,
The imaging element mounting substrate according to claim 4, wherein an outer edge of the second anisotropic conductive film is located on a lower surface of the flexible substrate excluding the second notch portion.
前記撮像素子実装用基板の前記平板の前記撮像素子実装部に実装された撮像素子とを備えていることを特徴とする撮像装置。 The imaging device mounting substrate according to any one of claims 1 to 6,
An imaging device comprising: an imaging device mounted on the imaging device mounting portion of the flat plate of the imaging device mounting substrate.
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