JP6496931B2 - Processing fluid treatment system - Google Patents

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Description

本発明は、ウォータージェット加工装置から排出された使用済加工液を再利用可能に処理する加工液処理システムに関する。   The present invention relates to a processing liquid processing system for processing a used processing liquid discharged from a water jet processing apparatus in a reusable manner.

従来より、加工液を平板などの被加工物に高圧で噴射させて切断するウォータージェット加工方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。このようなウォータージェット加工方法では、一般的な切削加工等と異なり加工熱が発生しないため、被加工物が熱影響を受けないという利点がある。また、ウォータージェット加工で用いられる加工液としては、水又は水に研磨材を混合させたものが用いられるのが一般的であり、一旦使用された加工液は産業廃棄物として廃棄される。また、加工効率の向上を目的として、このような従来の加工液に多価アルコール等の添加物を混合させて用いることが提案されている(例えば、特許文献2参照)。   2. Description of the Related Art Conventionally, a water jet machining method has been proposed in which a machining liquid is sprayed at a high pressure on a workpiece such as a flat plate and cut (see, for example, Patent Document 1). Such a water jet machining method has an advantage that the workpiece is not affected by heat because no machining heat is generated unlike general cutting or the like. Moreover, as a processing liquid used in water jet processing, it is common to use water or a mixture of abrasives in water, and the processing liquid once used is discarded as industrial waste. For the purpose of improving the processing efficiency, it has been proposed to use such a conventional processing liquid by mixing an additive such as a polyhydric alcohol (for example, see Patent Document 2).

特開第2010−184318号公報JP 2010-184318 A 特開第2012−250341号公報JP 2012-250341 A

しかしながら、上述したような添加物が添加された加工液を一旦使用しただけで廃棄してしまうと、加工コストが嵩むという問題があった。   However, if the processing liquid to which the additive as described above is added is used once and discarded, there is a problem that the processing cost increases.

そこで本発明は、ウォータージェット加工装置から排出された使用済加工液を再利用可能に処理することのできる加工液処理システムの提供を目的とする。   SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a machining fluid processing system that can process a used machining fluid discharged from a water jet machining apparatus in a reusable manner.

本発明に係る加工液処理システムは、ウォータージェット加工装置から排出された使用済加工液を再利用可能に処理するための加工液処理システムであって、前記使用済加工液を貯蔵するタンクと、前記タンクから供給された前記使用済加工液から夾雑物を除去して処理液を生成する液体サイクロンフィルタ装置と、前記処理液に残存する夾雑物を除去するチューブラー膜型の膜モジュールと、を備え、前記タンクは下方に傾斜して延びる底面を有し、前記タンクには撹拌ポンプが設けられ、前記撹拌ポンプは前記底面に沿って斜め下方に向けて使用済加工液を吐出させることによって、前記タンク内の前記使用済加工液を撹拌させ、前記底面の水平方向に対する傾斜角度は9°〜16°であることを特徴とする。 The processing liquid processing system according to the present invention is a processing liquid processing system for processing a used processing liquid discharged from a water jet processing apparatus so as to be reusable, and a tank for storing the used processing liquid , A liquid cyclone filter device that removes impurities from the used processing liquid supplied from the tank to generate a treatment liquid, and a tubular membrane type membrane module that removes impurities remaining in the treatment liquid. The tank has a bottom surface extending obliquely downward, the tank is provided with a stirring pump, and the stirring pump discharges the used working fluid obliquely downward along the bottom surface, allowed to stir the spent working fluid in the tank, the inclination angle with respect to the horizontal direction of the bottom surface is characterized by 9 ° ~ 16 ° der Rukoto.

本発明に係る加工液処理システムは、ウォータージェット加工装置から排出された使用済加工液を再利用可能に処理するための加工液処理システムであって、前記使用済加工液を貯蔵する第1タンクと、前記第1タンクから供給された前記使用済加工液から夾雑物を除去して処理液を生成する液体サイクロンフィルタ装置と、前記液体サイクロンフィルタ装置により生成された前記処理液を通過させる処理槽と、前記処理槽内の前記処理液に微細な気泡を発生させるための気泡発生装置と、浮遊物回収装置と、チューブラー膜型の膜モジュールと、を備え、前記使用済加工液は、加工液と、被加工物を加工する際に生じる加工屑と、を含み、前記加工液は多価アルコールを含み、前記気泡発生装置から発生した前記気泡は、前記処理液に残存する夾雑物に付着して前記処理液の液面に浮上し、前記浮遊物回収装置は、前記液面に浮上した前記夾雑物を回収し、前記処理槽を通過した前記処理液は前記膜モジュールへ移送され、前記膜モジュールは前記処理液に残存する夾雑物を除去することを特徴とする。 A machining fluid treatment system according to the present invention is a machining fluid treatment system for processing a used machining fluid discharged from a water jet machining device in a reusable manner, and stores the used machining fluid. A liquid cyclone filter device that removes impurities from the used processing liquid supplied from the first tank to generate a processing liquid, and a processing tank that allows the processing liquid generated by the liquid cyclone filter apparatus to pass therethrough And a bubble generating device for generating fine bubbles in the processing liquid in the processing tank, a suspended matter recovery device, and a tubular membrane type membrane module, wherein the used processing liquid is processed Liquid and processing waste generated when processing the workpiece, the processing liquid contains polyhydric alcohol, and the bubbles generated from the bubble generator remain in the processing liquid. The floating substance recovery device collects the foreign substances floating on the liquid surface and passes through the processing tank, and the processing liquid passes through the processing module. is transferred to the membrane module is characterized that you remove contaminants remaining in the treatment liquid.

また、前記処理槽の内部空間は、複数の仕切板によって、上流側から順に第1処理空間、第2処理空間、第3処理空間、及び第4処理空間へ仕切られ、前記処理水は、前記第1処理空間に供給されて、前記仕切板の下側と前記仕切板の上側とを交互に通って前記第1処理空間から下流側の前記第4処理空間に向けて流れ、前記気泡発生装置は、前記処理槽内の前記処理液に浸漬されて前記処理液を吸入するための吸入口と、前記処理槽内の前記処理液に前記微細な気泡を発生せるための気泡発生器と、を備え、前記吸入口は前記第4処理空間に配置され、前記気泡発生器は前記第2処理空間に配置されることを特徴とする。 Further, the internal space of the treatment tank is partitioned into a first treatment space, a second treatment space, a third treatment space, and a fourth treatment space in order from the upstream side by a plurality of partition plates, The bubble generating device is supplied to the first processing space and flows alternately from the lower side of the partition plate and the upper side of the partition plate toward the fourth processing space on the downstream side from the first processing space. Is a suction port for inhaling the treatment liquid immersed in the treatment liquid in the treatment tank, and a bubble generator for generating the fine bubbles in the treatment liquid in the treatment tank. The suction port is disposed in the fourth processing space, and the bubble generator is disposed in the second processing space.

また、前記浮遊物回収装置は、前記液面に浮上した前記夾雑物を回収する回収具と、一端が前記回収具に連結された連結管と、前記連結管の他端が連結された回収タンクと、を備え、前記回収具により回収された前記夾雑物は前記連結管を介して前記回収タンクへ移送され、前記回収具は前記処理槽の前記第3処理空間に配置されていることを特徴とする。 In addition, the floating substance recovery device includes a recovery tool for recovering the contaminants floating on the liquid surface, a connection pipe having one end connected to the recovery tool, and a recovery tank to which the other end of the connection pipe is connected. The contaminants recovered by the recovery tool are transferred to the recovery tank via the connection pipe, and the recovery tool is disposed in the third processing space of the processing tank. And

また、前記第1処理空間の底面には、下向き円錐台形状の集積部が設けられていることを特徴とする。
本発明に係る加工液処理システムは、ウォータージェット加工装置から排出された使用済加工液を再利用可能に処理するための加工液処理システムであって、前記使用済加工液を貯蔵するタンクと、前記タンクから供給された前記使用済加工液から夾雑物を除去して前記タンクへ返送する液体サイクロンフィルタ装置と、チューブラー膜型の膜モジュールと、を備え、前記使用済加工液は、前記タンクと前記液体サイクロンフィルタ装置の間を所定時間又は所定量循環されて処理液とされ、前記膜モジュールは前記処理液に残存する夾雑物を除去することを特徴とする。
Further, the bottom surface of the first processing space, characterized in that the stacking unit of the downward frustoconical provided.
The processing liquid processing system according to the present invention is a processing liquid processing system for processing a used processing liquid discharged from a water jet processing apparatus so as to be reusable, and a tank for storing the used processing liquid, A liquid cyclone filter device that removes contaminants from the used processing fluid supplied from the tank and returns the same to the tank; and a tubular membrane type membrane module, wherein the used processing fluid is the tank The liquid cyclone filter device is circulated for a predetermined time or a predetermined amount to be a processing liquid, and the membrane module removes impurities remaining in the processing liquid.

本発明に係る加工液処理システムによれば、使用済加工液から夾雑物を除去して処理液を生成する液体サイクロンフィルタ装置と、処理液に残存する夾雑物を除去するチューブラー膜型の膜モジュールと、を備えるので、液体サイクロンフィルタ装置により比較的大きな夾雑物を除去した後に、液体サイクロンフィルタ装置で除去しきれなかった微細な夾雑物を膜モジュールにて除去することができ、このように段階を踏んで夾雑物を除去することによって、夾雑物を効率良く除去することができる。また、比較的大きな夾雑物を除去するために比較的安価な液体サイクロンフィルタ装置を用いることによって加工液処理システム全体の製造コストを抑えることができ、膜モジュールを用いることにより微細な夾雑物をも確実に除去することができる。 According to the machining liquid treatment system of the present invention , a liquid cyclone filter device that removes impurities from a used machining liquid to generate a treatment liquid, and a tubular membrane type film that removes impurities remaining in the treatment liquid Module, so that after removing relatively large contaminants by the liquid cyclone filter device, fine impurities that could not be removed by the liquid cyclone filter device can be removed by the membrane module, like this By removing the impurities in steps, the impurities can be efficiently removed. In addition, the manufacturing cost of the entire processing liquid treatment system can be reduced by using a relatively inexpensive liquid cyclone filter device to remove relatively large contaminants, and fine contaminants can be reduced by using a membrane module. It can be removed reliably.

また、第1タンク内において使用済加工液を撹拌させるので、使用済加工液に含まれる夾雑物は第1タンク内にて沈殿することなく、液体サイクロンフィルタ装置へ送られて除去される。よって、第1タンク内に沈殿した夾雑物を除去する必要がなくなり、第1タンクのメンテナンスを容易にできる。また、使用済加工液の撹拌に撹拌ポンプを用いるので、撹拌羽根を用いた場合と比較して、小さな駆動力で効率良く使用済加工液を撹拌させることができる。更に、第1タンクの底面を傾斜させ、この底面に沿って使用済加工液を斜め下方に向けて吐出させて撹拌させるため、使用済加工液全体を効率良く撹拌させることができる。 Further, since the used processing liquid is stirred in the first tank, the impurities contained in the used processing liquid are sent to the liquid cyclone filter device and removed without being precipitated in the first tank. Therefore, it is not necessary to remove the foreign matter precipitated in the first tank, and the maintenance of the first tank can be facilitated. Further, since the stirring pump is used for stirring the used machining fluid, the used machining fluid can be efficiently stirred with a small driving force as compared with the case where the stirring blade is used. Furthermore, since the bottom surface of the first tank is inclined and the used working fluid is discharged obliquely downward along the bottom surface and agitated, the entire used machining fluid can be efficiently agitated.

本発明に係る加工液処理システムによれば、使用済加工液には多価アルコールが含まれるので、この多価アルコールの作用によって、気泡発生装置から発生した気泡を処理液に残存する夾雑物に付着させて液面に浮上させることができ、浮遊物回収装置による夾雑物の回収を効率良く行うことができる。 According to the processing liquid treatment system of the present invention , since the used processing liquid contains polyhydric alcohol, the bubbles generated from the bubble generating device are made into impurities remaining in the processing liquid by the action of the polyhydric alcohol. It can be made to adhere and float on the liquid surface, and the collection | recovery of a foreign material by a floating material collection | recovery apparatus can be performed efficiently.

また、処理槽の内部空間は上流側から順に第1処理空間、第2処理空間、第3処理空間、及び第4処理空間へ仕切られ、気泡発生装置の吸入口は第4処理空間に配置され、気泡発生器は第2処理空間に配置されているので、第2処理空間における処理液の撹拌が防止され、第2処理空間で処理液に発生した微細な気泡を処理液の上向きの流れに沿ってスムーズに浮上させることができる。 In addition, the internal space of the processing tank is partitioned into a first processing space, a second processing space, a third processing space, and a fourth processing space in order from the upstream side, and the suction port of the bubble generating device is disposed in the fourth processing space. Since the bubble generator is disposed in the second processing space, stirring of the processing liquid in the second processing space is prevented, and fine bubbles generated in the processing liquid in the second processing space are turned upward in the processing liquid. It can float smoothly along.

また、浮遊物回収装置が備える回収具は、処理槽の第3処理空間に配置されるので、気泡発生装置から発生する気泡の浮上を妨げることなく、液面に浮上した夾雑物を回収することができる。 Moreover, since the collection | recovery tool with which a floating substance collection apparatus is equipped is arrange | positioned in the 3rd processing space of a processing tank, it collects the foreign substance which floated on the liquid level, without preventing the bubble raise | generated from a bubble generation apparatus. Can do.

また、処理槽の第1処理空間の底面には下向き円錐台形状の集積部が設けられているので、処理槽に供給される処理液に含まれる比較的密度の高い夾雑部が第1処理空間において沈殿した場合には、この沈殿物を集積部にて集積し、第2処理空間への侵入を防止することができる。




Moreover, since the downward frustoconical accumulation portion is provided on the bottom surface of the first processing space of the processing tank, the relatively high-density contaminated portion contained in the processing liquid supplied to the processing tank is the first processing space. In the case of sedimentation, the sediment can be accumulated at the accumulating portion to prevent entry into the second processing space.




本発明の実施形態にかかる加工液処理システムの全体を示す模式図。The schematic diagram which shows the whole process liquid processing system concerning embodiment of this invention. 図1に示す加工液処理システムが備える処理槽を模式的に示す図であり、(a)はその平面図、(b)は(a)のIIbーIIb線断面図。It is a figure which shows typically the processing tank with which the processing liquid processing system shown in FIG. 1 is provided, (a) is the top view, (b) is the IIb-IIb sectional view taken on the line of (a).

以下、添付図面を参照して、本発明の実施形態に係る加工液処理システムについて説明する。   Hereinafter, with reference to an accompanying drawing, a processing fluid processing system concerning an embodiment of the present invention is explained.

図1を参照して、図示の加工液処理システムは、ウォータージェット加工装置2から排出された使用済加工液(以下、「廃液」という)を再利用可能に処理するためのものである。ウォータージェット加工装置2は、研磨材が混入された加工液を被加工物に噴射して切断等するものであり、廃液は、加工液、研磨材、及び被加工物を加工する際に生じる加工屑から成る。本実施形態においては、加工液には水に多価アルコール等の成分が添加された組成物が用いられる。多価アルコール等の組成成分を含む加工液を用いることにより、水のみから成る加工液を用いた場合と比較して、ウォータージェット加工装置2における加工速度を向上させることができる。研磨材には密度が4.0g/cmのガーネットを用い、加工液に対する研磨材の混合率は体積比で1.6%とする。 Referring to FIG. 1, the illustrated processing liquid processing system is for processing a used processing liquid (hereinafter referred to as “waste liquid”) discharged from a water jet processing apparatus 2 in a reusable manner. The water jet machining apparatus 2 is for cutting and cutting a processing liquid mixed with an abrasive on a workpiece, and the waste liquid is a processing generated when processing the machining liquid, the abrasive and the workpiece. Composed of trash. In the present embodiment, a composition in which a component such as polyhydric alcohol is added to water is used as the processing liquid. By using a machining fluid containing a composition component such as a polyhydric alcohol, the machining speed in the water jet machining apparatus 2 can be improved as compared with the case of using a machining fluid consisting only of water. A garnet having a density of 4.0 g / cm 2 is used as the abrasive, and the mixing ratio of the abrasive to the working fluid is 1.6% by volume.

本実施形態の加工液処理システム1を用いることにより、加工液に含まれる多価アルコール等の組成成分を減損することなく、廃液から夾雑物(研磨材や加工屑等の固形物)を除去し、再利用可能な加工液を生成することができる。なお、ウォータージェット加工装置2の構成は公知であるので詳細な説明は省略する。   By using the processing liquid treatment system 1 of the present embodiment, impurities (solid materials such as abrasives and processing waste) are removed from the waste liquid without deteriorating composition components such as polyhydric alcohol contained in the processing liquid. A reusable working fluid can be produced. In addition, since the structure of the water jet processing apparatus 2 is well-known, detailed description is abbreviate | omitted.

本実施形態に係る加工液処理システム1は、廃液から比較的大きな夾雑物(粒子)を除去するための前ろ過システムS1と、前ろ過システムS1にて処理された廃液に残存する比較的小さな夾雑物を除去するための中間ろ過システムS2と、中間ろ過システムS2にて処理された廃液に残存する微細な夾雑物を除去する後ろ過システムS3と、クリーンタンク10と、を備えて構成されている。   The processing liquid treatment system 1 according to the present embodiment includes a prefiltration system S1 for removing relatively large contaminants (particles) from the waste liquid, and a relatively small contamination remaining in the waste liquid treated in the prefiltration system S1. An intermediate filtration system S2 for removing substances, a post-filtration system S3 for removing fine impurities remaining in the waste liquid treated in the intermediate filtration system S2, and a clean tank 10 are provided. .

前ろ過システムS1は、ダーティタンク3と、液体サイクロンフィルタ装置4と、を備え、ダーティタンク3にはウォータージェット加工装置2から移送管L1を介して廃液が導入される。ダーティタンク3は、円形状の横断面を有し、その底面31は中心に向かうに従い下方に傾斜するようテーパー状に形成されている。   The prefiltration system S1 includes a dirty tank 3 and a hydrocyclone filter device 4. A waste liquid is introduced into the dirty tank 3 from the water jet processing device 2 through the transfer pipe L1. The dirty tank 3 has a circular cross section, and its bottom surface 31 is tapered so as to incline downward toward the center.

また、ダーティタンク3には、ダーティタンク3内の廃液を撹拌するための撹拌ポンプ36が設けられ、この撹拌ポンプ36は、図示しない吸込口から吸い込んだ廃液を吐出口36aからダーティタンク3の底面31に沿って斜め下方に向けて吐出することによって、ダーティタンク3内の廃液を縦回りに撹拌し、廃液中の夾雑物の沈殿を防止する。ここで、廃液に含まれる夾雑物は比較的高密度であるため沈殿し易く、撹拌羽根を用いた撹拌では廃液を十分に撹拌するのが困難であるが、上述したように撹拌ポンプ36からダーティタンク3の底面31に沿って斜め下方に向けて廃液を吐出させることによって、比較的高密度の夾雑物を含む廃液であっても全体的にムラなく効果的に撹拌させることができる。なお、ダーティタンク3の底面31の水平方向に対する傾き角度αは9°〜16°であるのが好ましく、12.5°であるのが更に好ましい。このような傾き角度αとすることにより、撹拌ポンプ36による撹拌を効率的に行うことができる。即ち、傾き角度αが9°よりも小さくても16°より大きくても、撹拌ポンプ36による撹拌を均一に行うのが難しくなる。   Further, the dirty tank 3 is provided with a stirring pump 36 for stirring the waste liquid in the dirty tank 3, and the stirring pump 36 discharges the waste liquid sucked from a suction port (not shown) from the discharge port 36 a to the bottom surface of the dirty tank 3. By discharging obliquely downward along the line 31, the waste liquid in the dirty tank 3 is stirred in the longitudinal direction, and precipitation of impurities in the waste liquid is prevented. Here, the contaminants contained in the waste liquid are likely to settle because of its relatively high density, and it is difficult to sufficiently stir the waste liquid with stirring using the stirring blades. By discharging the waste liquid obliquely downward along the bottom surface 31 of the tank 3, even the waste liquid containing relatively high-density impurities can be effectively stirred as a whole. The tilt angle α of the bottom surface 31 of the dirty tank 3 with respect to the horizontal direction is preferably 9 ° to 16 °, and more preferably 12.5 °. By using such an inclination angle α, stirring by the stirring pump 36 can be performed efficiently. That is, even if the inclination angle α is smaller than 9 ° or larger than 16 °, it is difficult to perform the stirring by the stirring pump 36 uniformly.

液体サイクロンフィルタ装置4は、遠心力で廃液に含まれる夾雑物を除去するものであり、下半部が円錐形状に縮径されたシリンダ部41を有し、シリンダ部41にはダーティタンク3から移送管L2を介して廃液が注入される。シリンダ部41の最下部には排出弁(図示せず)が設けられ、シリンダ部41内において後述の如く分離された夾雑物は、排出弁を介してスラッジ貯留部43へ排出される。また、シリンダ部41の上部には、夾雑物が除去された後の廃液(以下、「処理液」ともいう)を流出させるための流出部44が設けられ、処理液は流出部44から返送管L3を介してダーティタンク3へ返送される。   The hydrocyclone filter device 4 removes impurities contained in the waste liquid by centrifugal force, and has a cylinder part 41 whose lower half is reduced in diameter to a conical shape. Waste liquid is injected through the transfer pipe L2. A discharge valve (not shown) is provided at the lowermost part of the cylinder part 41, and foreign substances separated in the cylinder part 41 as described later are discharged to the sludge storage part 43 through the discharge valve. Further, an upper portion of the cylinder portion 41 is provided with an outflow portion 44 for discharging waste liquid (hereinafter also referred to as “processing liquid”) after the impurities are removed, and the processing liquid is returned from the outflow portion 44 to the return pipe. It is returned to the dirty tank 3 via L3.

中間ろ過システムS2は、処理液に残存する夾雑物を浮遊させて回収するものであって、処理液を通過させる処理槽5と、マイクロバブルやナノバブル等の微細な気泡を発生するための気泡発生装置6と、浮遊物回収装置7と、を備える。処理槽5の内部には、上部に固定された2枚の仕切板51,53と、下部が固定された仕切板52が交互に設けられ、これにより処理槽5の内部が第1〜第4処理空間5a,5b,5c,5dへ仕切られている。図2をも参照して、第1処理空間5aの上流側(図2における左側)には更に受空間5eが設けられ、受空間5eの側面に流入口58が設けられている。受空間5eは処理槽5の幅方向(図2(a)における上下方向)全体に渡って延びると共に、その底面54は第1処理空間5aの底面50ひいては処理槽5内における処理液の液面よりも上方に位置する。また、底面54には、処理槽5の幅方向全体に渡って延びる板状の規制部材55が固定されている。この規制部材55は、底面54に固定された一端部55aと、一端部55aから第1処理空間5aに向けて斜め下方に延びる他端部55bと、を有し、全体として略へ字型縦断面を有して構成されている。また、第1処理空間5aの底面50における中央部位には、下向き円錐台形状の集積部56が凹設され、集積部56の底面56aには図示しない弁が設けられた筒状の排出口57が設けられている。第4処理空間5dの幅方向中央には垂直方向に配列された一対の排出口59が設けられている。   The intermediate filtration system S2 floats and collects contaminants remaining in the processing liquid. The intermediate filtration system S2 generates a bubble for generating a fine bubble such as microbubbles and nanobubbles, and a processing tank 5 through which the processing liquid passes. The apparatus 6 and the suspended | floating matter collection | recovery apparatus 7 are provided. Inside the processing tank 5, two partition plates 51, 53 fixed to the upper part and a partition plate 52 fixed to the lower part are alternately provided, whereby the inside of the processing tank 5 is first to fourth. It is partitioned into processing spaces 5a, 5b, 5c and 5d. Referring also to FIG. 2, a receiving space 5e is further provided on the upstream side (left side in FIG. 2) of the first processing space 5a, and an inlet 58 is provided on a side surface of the receiving space 5e. The receiving space 5e extends over the entire width of the processing tank 5 (the vertical direction in FIG. 2A), and its bottom surface 54 is the bottom surface 50 of the first processing space 5a and thus the liquid level of the processing liquid in the processing tank 5. It is located above. In addition, a plate-like regulating member 55 extending over the entire width direction of the processing tank 5 is fixed to the bottom surface 54. The restricting member 55 has one end portion 55a fixed to the bottom surface 54 and the other end portion 55b extending obliquely downward from the one end portion 55a toward the first processing space 5a. It has a surface. Further, a downward frustoconical accumulation portion 56 is recessed in the central portion of the bottom surface 50 of the first processing space 5a, and a cylindrical discharge port 57 provided with a valve (not shown) on the bottom surface 56a of the accumulation portion 56. Is provided. A pair of discharge ports 59 arranged in the vertical direction is provided at the center in the width direction of the fourth processing space 5d.

ダーティタンク3から移送管L4を介して供給された処理液は、流入口58を介して最上流側の受空間54bに注入されたのち、規制板55を伝って第1処理空間5aへ流れ落ちる。その後、仕切板51の下部の空間から下流側の第2処理空間5bに流れ、下部が固定された仕切板52を乗り越えて下流側の第3処理空間5cに流れ、更に仕切板53の下部の空間から下流側の第4処理空間5dに流れた後に、流出口59及び移送管L5を介して後ろ過システムS3へ排出されるようになっている。   The processing liquid supplied from the dirty tank 3 through the transfer pipe L4 is injected into the receiving space 54b on the most upstream side through the inflow port 58, and then flows down to the first processing space 5a through the regulation plate 55. Thereafter, the gas flows from the space below the partition plate 51 to the second processing space 5b on the downstream side, passes over the partition plate 52 to which the lower part is fixed, flows to the third processing space 5c on the downstream side, and further flows below the partition plate 53. After flowing from the space to the fourth processing space 5d on the downstream side, it is discharged to the postfiltration system S3 via the outlet 59 and the transfer pipe L5.

気泡発生装置6は、ポンプ61と、気体溶解タンク62と、処理槽5の第2処理空間5bに配置された気泡発生器63と、を備える。ポンプ61には配管64が接続され、配管64の取込口64aは処理槽5の第4処理空間5dに配置されている。ポンプ61が稼働すると、配管64の取込口64aから処理液が取り込まれ、気体溶解タンク62において空気が溶解された後に気泡発生器63から噴出され、これにより処理槽5内の処理液中に微細な気泡が発生する。ここで、廃液に含まれる加工液が水のみからなり、多価アルコール等の成分を含まない場合には、廃液中に微細な気泡を発生させても何らの効果も得られない。しかしながら、本実施形態における廃液に含まれる加工液は多価アルコールを含むことから、処理液(廃液)中に発生された微細な気泡は、処理液中の夾雑物に吸着し、これら夾雑物を液面に浮上させる。   The bubble generating device 6 includes a pump 61, a gas dissolution tank 62, and a bubble generator 63 disposed in the second processing space 5 b of the processing tank 5. A pipe 64 is connected to the pump 61, and an intake port 64 a of the pipe 64 is disposed in the fourth processing space 5 d of the processing tank 5. When the pump 61 is operated, the processing liquid is taken in from the inlet 64 a of the pipe 64, and after the air is dissolved in the gas dissolution tank 62, it is ejected from the bubble generator 63, thereby entering the processing liquid in the processing tank 5. Fine bubbles are generated. Here, when the processing liquid contained in the waste liquid is composed only of water and does not contain a component such as a polyhydric alcohol, no effect can be obtained even if fine bubbles are generated in the waste liquid. However, since the processing liquid contained in the waste liquid in this embodiment contains polyhydric alcohol, the fine bubbles generated in the treatment liquid (waste liquid) are adsorbed on the impurities in the treatment liquid, and these impurities are removed. Float on the liquid surface.

浮遊物回収装置7は、処理槽5内の処理液のうち液面付近の表層液を吸い込んで回収するためのものであって、例えば広和エムテック株式会社製の鉱物油回収装置「ミニスキマ− MS−S」を用いることができる。この浮遊物回収装置7は、回収具71と、回収タンク72と、回収具71と回収タンク72とを連結する連結管73と、連結管73の長手方向途中部分に接続されたポンプ(図示せず)と、を備える。回収具71は処理槽5の第3処理空間5c内に設置され、その内部には上面が開口された回収空間が規定されている。また、回収具71にはフロートが設けられると共に、回収具71自体が液面レベルに応じて上下方向に伸縮自在とされており、常に処理液の液面付近に回収空間の上部開口が位置するようにされている。   The suspended matter recovery device 7 is for sucking and recovering the surface layer liquid near the liquid surface of the processing liquid in the processing tank 5. For example, the mineral oil recovery device “Mini Skimmer MS-MS” manufactured by Hirowa M-Tech Co., Ltd. S "can be used. The floating substance recovery device 7 includes a recovery tool 71, a recovery tank 72, a connecting pipe 73 that connects the recovery tool 71 and the recovery tank 72, and a pump (not shown) connected to a middle portion in the longitudinal direction of the connecting pipe 73. And). The collection tool 71 is installed in the third treatment space 5c of the treatment tank 5, and a collection space having an open upper surface is defined therein. Further, the recovery tool 71 is provided with a float, and the recovery tool 71 itself is vertically extendable according to the liquid level, and the upper opening of the recovery space is always located near the liquid surface of the processing liquid. Has been.

かかる構成において、前ろ過システムS1では除去されなかった処理液に含まれる比較的小さな夾雑物は、気泡発生装置6が発生する微細な気泡に吸着されて液面に浮上し、このようにして液面に浮上した夾雑物を含む処理液の表層液が、回収具71の上部開口から回収空間に回収され、ポンプの駆動によって連結管73を介して回収タンク72へ移送される。   In such a configuration, relatively small contaminants contained in the processing liquid that has not been removed by the prefiltration system S1 are adsorbed by the fine bubbles generated by the bubble generating device 6 and float on the liquid surface. The surface layer liquid of the processing liquid including the contaminants floating on the surface is collected in the collection space from the upper opening of the collection tool 71 and is transferred to the collection tank 72 through the connection pipe 73 by driving the pump.

後ろ過システムS3は、中間ろ過システムS2により夾雑物が取り除かれた後の処理液(「第2処理液」ともいう)から、残存する微細な夾雑物を更に除去するものであって、例えば、株式会社マツケン製のUF膜含油廃水処理システムを用いることができる。この後ろ過システムS3は、中間ろ過システムS2から排出された第2処理液が注入される濃縮タンク8と、チューブラー膜型の膜モジュール9と、第2処理液を濃縮タンク8から膜モジュール9へ供給する供給管L6と、供給管L6に接続されたポンプ81と、膜モジュール9を通過した第2処理液(濃縮液)を濃縮タンク8へ返送する返送管L7と、を備える。   The post-filtration system S3 further removes the remaining fine contaminants from the processing liquid after the impurities are removed by the intermediate filtration system S2 (also referred to as “second processing liquid”). A UF membrane oil-containing wastewater treatment system manufactured by Matsuken Corporation can be used. Thereafter, the filtration system S3 includes a concentration tank 8 into which the second treatment liquid discharged from the intermediate filtration system S2 is injected, a tubular membrane type membrane module 9, and a second treatment liquid from the concentration tank 8 to the membrane module 9. A supply pipe L6 that is supplied to the supply pipe L6, a pump 81 connected to the supply pipe L6, and a return pipe L7 that returns the second processing liquid (concentrated liquid) that has passed through the membrane module 9 to the concentration tank 8.

図示しないが、膜モジュール9は、ケーシングと、ケーシング内に収容されたチューブラー膜と、を備える。チューブラー膜は、多孔性チューブの内側に、孔径が0.005μm程度の微細な孔が多数設けられたウルトラフィルタ膜がコーティングされて構成されており、円筒状の膜面に対して水平に(即ち、チューブラー膜の長手方向に沿って)第2処理液が流れるクロスフローろ過方式を採用している。濃縮タンク8から供給された第2処理液はチューブラー膜の内部を通過した後に排出管L7を介して濃縮タンク8へ還元されるが、チューブラー膜に供給された第2処理液の一部は、濃縮タンク8へは還元されずにチューブラー膜の膜壁を通過してケーシング内へ排出される。そして、このようにチューブラー膜の膜壁を通過する際に微細な夾雑物が取り除かれ、ケーシング内に排出された処理液(「第3処理液」ともいう)は、移送管L8を介してクリーンタンク10へ排出される。   Although not shown, the membrane module 9 includes a casing and a tubular membrane accommodated in the casing. The tubular membrane is formed by coating an ultrafilter membrane having a large number of fine pores having a pore diameter of about 0.005 μm inside the porous tube, and is horizontal to the cylindrical membrane surface ( That is, a cross-flow filtration method is used in which the second processing liquid flows along the longitudinal direction of the tubular membrane. The second processing liquid supplied from the concentration tank 8 passes through the inside of the tubular membrane and then is reduced to the concentration tank 8 through the discharge pipe L7. However, a part of the second processing liquid supplied to the tubular membrane is used. Is not reduced to the concentration tank 8 but passes through the membrane wall of the tubular membrane and is discharged into the casing. Then, the fine impurities are removed when passing through the membrane wall of the tubular membrane in this way, and the treatment liquid (also referred to as “third treatment liquid”) discharged into the casing passes through the transfer pipe L8. It is discharged to the clean tank 10.

このように廃液を前ろ過システムS1、中間ろ過システムS2及び後ろ過システムS3で処理することにより、廃液に含まれる組成成分を減損することなく、粒子(研磨材や加工屑等の固形物)のみが完全に取り除かれる。   By treating the waste liquid with the pre-filtration system S1, the intermediate filtration system S2, and the post-filtration system S3 in this way, only particles (solid materials such as abrasives and processing waste) are not lost without deteriorating the composition components contained in the waste liquid. Is completely removed.

クリーンタンク10には、クリーンタン10内の第3処理液を撹拌するための撹拌ポンプ16が設けられ、この撹拌ポンプ16は、図示しない吸込口から吸い込んだ第3処理液を吐出口16aからクリーンタンク10の底面11に沿って斜め下方に向けて吐出することによって、クリーンタンク10内の第3処理液を縦回りに撹拌させる。また、後ろ過システムS3には、図示しない濃度センサと濃度調整装置が設けられている。濃度センサは、第3処理液に含まれる組成成分の濃度を検出するものであり、濃度調整装置は、濃度センサの検出結果に基づき、第3処理液に組成成分又は水を注入して、所定濃度の再生加工液を生成する。このようにして得られた再生加工液は、供給管L9を介してウォータージェット加工装置2へ供給される。なお、クリーンタンク10の底面11の水平方向に対する傾き角度についても、ダーティタンク3の場合と同様に、9°〜16°であるのが好ましく、12.5°であるのが更に好ましい。このような傾き角度とすることにより、クリーンタンク内の第3処理液(又は再生加工液)を均一に撹拌できる。   The clean tank 10 is provided with a stirring pump 16 for stirring the third processing liquid in the clean tank 10, and this stirring pump 16 cleans the third processing liquid sucked from a suction port (not shown) from the discharge port 16a. The third treatment liquid in the clean tank 10 is agitated in the longitudinal direction by discharging the ink 10 obliquely downward along the bottom surface 11 of the tank 10. Further, the postfiltration system S3 is provided with a concentration sensor and a concentration adjusting device (not shown). The concentration sensor detects the concentration of the composition component contained in the third treatment liquid, and the concentration adjusting device injects the composition component or water into the third treatment liquid based on the detection result of the concentration sensor, Concentrate regenerated processing fluid is produced. The regenerated processing liquid thus obtained is supplied to the water jet processing apparatus 2 through the supply pipe L9. Note that the inclination angle of the bottom surface 11 of the clean tank 10 with respect to the horizontal direction is preferably 9 ° to 16 °, and more preferably 12.5 °, as in the case of the dirty tank 3. By setting it as such an inclination angle, the 3rd process liquid (or reproduction | regeneration processing liquid) in a clean tank can be stirred uniformly.

このように構成された加工液処理システム1では、ウォータージェット加工装置2から排出された廃液が次の様にして再生処理される。まず、廃液はウォータージェット加工装置2から移送管L1を介してダーティタンク3に供給される。ダーティタンク3内では撹拌ポンプ36の駆動により廃液が常に撹拌される。このように廃液を撹拌することによって、廃液に含まれる夾雑物はダーティタンク3内で沈殿することなく液体サイクロンフィルタ装置4へ送られることになる。よって、ダーティタンク3内で沈殿した夾雑物を除去するためのメンテナンスが不要となり、使い勝手を向上できる。   In the machining liquid treatment system 1 configured as described above, the waste liquid discharged from the water jet machining apparatus 2 is regenerated as follows. First, the waste liquid is supplied from the water jet processing device 2 to the dirty tank 3 via the transfer pipe L1. In the dirty tank 3, the waste liquid is always stirred by driving the stirring pump 36. By stirring the waste liquid in this way, the impurities contained in the waste liquid are sent to the liquid cyclone filter device 4 without being precipitated in the dirty tank 3. Therefore, the maintenance for removing the foreign matter precipitated in the dirty tank 3 becomes unnecessary, and the usability can be improved.

ダーティタンク3から液体サイクロンフィルタ装置4へ送られた廃液は、シリンダ部41内を旋回しながら下降していく。このとき、廃液の旋回流に生じる遠心力の作用によって、加工液よりも比重の重い夾雑物はシリンダ部41の内壁に沿うことになり、重力によってスラッジ貯留部43へ排出される。一方、このようにして夾雑物が除去された後の廃液(処理液)は、シリンダ部41の下端で反転し、中心を旋回しながら上昇して流出部44を介して排出され、返送管L3を介してダーティタンク3へ返送される。   The waste liquid sent from the dirty tank 3 to the hydrocyclone filter device 4 descends while turning in the cylinder part 41. At this time, due to the action of the centrifugal force generated in the swirling flow of the waste liquid, impurities having a higher specific gravity than the machining liquid follow the inner wall of the cylinder part 41 and are discharged to the sludge storage part 43 by gravity. On the other hand, the waste liquid (treatment liquid) after the impurities are removed in this way is reversed at the lower end of the cylinder part 41, rises while turning around the center, is discharged through the outflow part 44, and is returned to the return pipe L3. Is returned to the dirty tank 3.

このようにダーティタンク3と液体サイクロンフィルタ装置4の間で廃液を所定時間(又は所定量)循環させることによって、廃液から夾雑物を一定程度取り除く。このようにして一定程度の夾雑物が除去された廃液(処理液)は、移送管L4を介して中間ろ過システムS2へ送られる。   In this way, the waste liquid is circulated between the dirty tank 3 and the hydrocyclone filter device 4 for a predetermined time (or a predetermined amount), thereby removing a certain amount of impurities from the waste liquid. The waste liquid (treatment liquid) from which a certain amount of impurities has been removed in this way is sent to the intermediate filtration system S2 via the transfer pipe L4.

中間ろ過システムS2では、処理液(廃液)は先ず処理槽5の受空間5eに注入され、規制板55の上面を伝って第1処理空間5aへ流れ落ち、仕切板51の下部の空間から第2処理空間5bに流れ込む。このように、処理液を一旦、受空間5eで受けて規制板55を伝って第1処理空間5a内へ流れ落とすことにより、処理液を第1処理空間5a内へ比較的しずかに供給でき、処理液を流入口58から直接第1処理空間5aへ注入させた場合と比較して、第1処理空間5a内で処理液が渦巻くのを抑制できる。また、このようにして第1処理空間5aに供給された処理液に含まれる比較的比重の重い夾雑物は沈殿して集積部56内に溜まる。このようにして集積部56内に溜まった夾雑物は、定期的に排出口57を介して排出される。なお、集積部56の側壁56bの水平方向に対する傾き角度α2は、30°〜60°とするのが好ましい。30°より小さいと、集積部56内に溜まった夾雑物が再び舞い上がり第2処理空間5bへ侵入するおそれがあり、また60°よりも小さいと、夾雑物が排出口57内で詰まりやすくなり、排出口57を介した夾雑物の除去に支障がでるおそれがあるためである。   In the intermediate filtration system S <b> 2, the processing liquid (waste liquid) is first injected into the receiving space 5 e of the processing tank 5, flows down to the first processing space 5 a along the upper surface of the regulation plate 55, and passes through the second space from the space below the partition plate 51. It flows into the processing space 5b. In this way, the processing liquid is received in the receiving space 5e and then flows down the first processing space 5a through the regulation plate 55, so that the processing liquid can be relatively easily supplied into the first processing space 5a. Compared with the case where the processing liquid is directly injected into the first processing space 5a from the inlet 58, the swirling of the processing liquid in the first processing space 5a can be suppressed. In addition, contaminants having a relatively high specific gravity contained in the processing liquid supplied to the first processing space 5 a in this way are settled and accumulated in the accumulation unit 56. The foreign matter accumulated in the accumulation unit 56 in this manner is periodically discharged through the discharge port 57. In addition, it is preferable that inclination | tilt angle (alpha) 2 with respect to the horizontal direction of the side wall 56b of the accumulation | storage part 56 shall be 30 degrees-60 degrees. If it is smaller than 30 °, there is a risk that the foreign matter accumulated in the accumulation portion 56 will rise again and enter the second processing space 5b, and if it is smaller than 60 °, the foreign matter tends to be clogged in the discharge port 57, This is because there is a possibility that the removal of foreign matters through the discharge port 57 may be hindered.

上述の様に仕切板51の下部の空間から第2処理空間5bに流れ込んだ処理水は、第2処理空間5b内を上向きに流れる。このとき、処理液に含まれる比較的小さな夾雑物は、気泡発生装置6により発生された微細な気泡に吸着されて液面に浮上し、このように浮上した夾雑物を含む処理液の表層液は、第3処理空間5cにおいて浮上物回収装置7により回収される。このとき、第3処理空間5cと第4処理空間5dとは上端が固定された仕切板53により仕切られているため、液面に浮上した夾雑物は仕切板53により遮られて第4処理空間5dに侵入するのが阻止される。   As described above, the treated water flowing into the second treatment space 5b from the space below the partition plate 51 flows upward in the second treatment space 5b. At this time, the relatively small impurities contained in the treatment liquid are adsorbed by the fine bubbles generated by the bubble generator 6 and float on the liquid surface, and the surface liquid of the treatment liquid containing the contaminants thus floated Is recovered by the levitated object recovery device 7 in the third processing space 5c. At this time, since the third processing space 5c and the fourth processing space 5d are partitioned by the partition plate 53 whose upper end is fixed, the foreign matter floating on the liquid surface is blocked by the partition plate 53, and the fourth processing space. Intrusion into 5d is prevented.

また、本実施形態においては、気泡発生装置6は第2処理空間5b内にて処理液に気泡を発生させるのに対し、処理液を取り込むための取込口64aは第2処理空間5bとは仕切板52,53により仕切られた第4処理空間5dに配置されているため、気泡を効果的に夾雑物に付着させてこれを浮上させることができる。即ち、取込口64aを気泡発生器51と同じ第2処理空間5bに設けた場合には、第2処理空間5b内において処理液が撹拌されてしまい、気泡を効果的に夾雑物に付着させることができない。これに対し、本実施形態のように取込口64aを第2処理空間5bとは異なる処理空間に設けることによって、第2処理空間5b内における処理液の上向きの流れが乱れることがなく、夾雑物に付着した気泡を当該流れに乗せてスムーズに浮上させることができる。   In the present embodiment, the bubble generating device 6 generates bubbles in the processing liquid in the second processing space 5b, whereas the intake port 64a for taking in the processing liquid is different from the second processing space 5b. Since it arrange | positions in the 4th process space 5d partitioned off by the partition plates 52 and 53, a bubble can adhere to a foreign substance effectively and this can be floated. That is, when the intake port 64a is provided in the same second processing space 5b as the bubble generator 51, the processing liquid is agitated in the second processing space 5b, and the bubbles are effectively attached to foreign substances. I can't. On the other hand, by providing the intake port 64a in a processing space different from the second processing space 5b as in the present embodiment, the upward flow of the processing liquid in the second processing space 5b is not disturbed, and is complicated. Bubbles attached to an object can be put on the flow and floated smoothly.

このようにして比較的小さな夾雑物が除去された後の廃液(第2処理液)は、第4処理空間5dから移送管L5を介して後ろ過システムS3へ供給される。後ろ過システムS3では、第2処理液は一旦濃縮タンク8に集められた後に、ポンプ81の駆動によって膜モジュール9へ供給される。膜モジュール9へ供給された第2処理液の一部は、チューブラー膜の膜壁を通過することによって微細な粒子が除去された状態でケーシング内へ排出され、クリーンタンク10へ送られ、一方、残りの第2処理液はチューブラー膜の内部を通過して濃縮タンク8へ還元され、再び膜モジュール9へ供給される。   The waste liquid (second processing liquid) after removing relatively small impurities in this way is supplied from the fourth processing space 5d to the post-filtration system S3 via the transfer pipe L5. In the post-filtration system S 3, the second processing liquid is once collected in the concentration tank 8 and then supplied to the membrane module 9 by driving the pump 81. Part of the second processing liquid supplied to the membrane module 9 is discharged into the casing in a state where fine particles are removed by passing through the membrane wall of the tubular membrane, and is sent to the clean tank 10. The remaining second processing solution passes through the inside of the tubular membrane, is reduced to the concentration tank 8, and is supplied to the membrane module 9 again.

クリーンタンク10へ送られた廃液(第3処理液)は、上述したように内部で撹拌されながら濃度調整装置により濃度が調整され、再生加工液となってウォータージェット加工装置2へ還元され、研磨材と混合されて再びウォータージェット加工に供される。   As described above, the concentration of the waste liquid (third processing liquid) sent to the clean tank 10 is adjusted by the concentration adjusting device while being stirred inside, and is reduced to the water jet processing device 2 as a regenerated processing solution for polishing. It is mixed with the material and again subjected to water jet processing.

このように、本実施形態の加工液処理システム1では、比較的大きな夾雑物から微細な夾雑物まで、複数の段階を経て除去するため、廃液に含まれる夾雑物を効率良く除去することができる。また、前ろ過システムS1では液体サイクロンフィルタ装置4を用いるので、バグフィルタや糸巻きフィルタを用いた場合と比較してフィルタ自体の交換頻度を減らすことができ、また機械式遠心分離器を用いた場合と比較して、製造コストを削減できる。   As described above, in the machining liquid treatment system 1 of the present embodiment, since a relatively large contaminant to a fine contaminant is removed through a plurality of stages, the contaminant contained in the waste liquid can be efficiently removed. . In addition, since the pre-filtration system S1 uses the hydrocyclone filter device 4, the frequency of replacement of the filter itself can be reduced as compared with the case where a bag filter or a pincushion filter is used, and the case where a mechanical centrifuge is used. Compared with the manufacturing cost can be reduced.

また、本実施形態においては、加工液として多価アルコール等の成分を含む組成物を用いているため、気泡発生装置6により廃液中に微細な気泡を発生させることによって、夾雑物を効果的に分離して除去することができる。   Moreover, in this embodiment, since the composition containing components, such as a polyhydric alcohol, is used as a processing liquid, by generating a fine bubble in a waste liquid with the bubble generator 6, a foreign substance is effectively removed. It can be separated and removed.

更に、後ろ過システムS3ではチューブラー膜型の膜モジュール9を用いるため、ペーパーフィルタを用いた場合におけるフィルタの交換にかかる費用やコストが発生せず、また中空フィルタを用いた場合における頻繁な目詰まりの発生もない。また、比較的大きな夾雑物から小さな夾雑物まで、前ろ過システムS1及び中間ろ過システムS2において予め除去しておくことにより、膜モジュール9にかかる負荷を軽減することができ、膜モジュール9の寿命を向上できる。   Further, since the tubular membrane type membrane module 9 is used in the post-filtration system S3, there is no cost or cost for replacing the filter when a paper filter is used, and frequent eyes when a hollow filter is used. There is no clogging. Moreover, by removing in advance the pre-filtration system S1 and the intermediate filtration system S2 from relatively large contaminants to small contaminants, the load on the membrane module 9 can be reduced, and the lifetime of the membrane module 9 can be reduced. Can be improved.

以上、本発明の実施形態に係る加工液処理システムについて添付の図面を参照して説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されず、本発明の範囲を逸脱することなく種々の変形乃至修正が可能である。   The working fluid treatment system according to the embodiment of the present invention has been described above with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiment, and various modifications and corrections can be made without departing from the scope of the present invention. Is possible.

例えば、上記実施形態においては、前ろ過システムS1と、中間ろ過システムS2と、後ろ過システムS3の3つの処理システムを用いて廃液を処理したが、中間ろ過システムS2を省略し、前ろ過システムS1で処理された廃液を直接後ろ過システムS3へ供給し、膜モジュール9にて処理するようにしてもよい。   For example, in the said embodiment, although waste liquid was processed using three processing systems, prefiltration system S1, intermediate filtration system S2, and postfiltration system S3, intermediate filtration system S2 is abbreviate | omitted and prefiltration system S1. The waste liquid treated in step 1 may be directly supplied to the post-filtration system S3 and processed by the membrane module 9.

また、ダーティタンク31の底面中央部に例えばボールバルブ等の排出部を設けてもよい。このようにダーティタンク31の底面中央部に排出部を設けておくことにより、仮にダーティタンク31内で夾雑物が沈殿しても、これを排出部を介して除去することができる。また、この場合においても、上述したようにダーティタンク3の底面31の傾き角度αを9°よりも大きくしているので、排出部を介した夾雑物の除去を容易にできる。   Further, a discharge unit such as a ball valve may be provided at the center of the bottom surface of the dirty tank 31. Thus, by providing a discharge part in the center part of the bottom of dirty tank 31, even if a foreign substance settles in dirty tank 31, this can be removed via a discharge part. Also in this case, since the inclination angle α of the bottom surface 31 of the dirty tank 3 is larger than 9 ° as described above, it is possible to easily remove impurities through the discharge portion.

1 加工液処理システム
2 ウォータージェット加工装置
3 ダーティタンク
4 液体サイクロンフィルタ装置
5 処理槽
6 気泡発生装置
7 浮遊物回収装置
8 濃縮タンク
9 膜モジュール
10 クリーンタンク
S1 前ろ過システム
S2 中ろ過理システム
S3 後ろ過システム

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Processing liquid processing system 2 Water jet processing apparatus 3 Dirty tank 4 Hydrocyclone filter apparatus 5 Processing tank 6 Bubble generating apparatus 7 Floating substance collection apparatus 8 Concentration tank 9 Membrane module 10 Clean tank S1 Prefiltration system S2 Medium filtration system S3 Back Over-system

Claims (6)

ウォータージェット加工装置から排出された使用済加工液を再利用可能に処理するための加工液処理システムであって、
前記使用済加工液を貯蔵するタンクと、
前記タンクから供給された前記使用済加工液から夾雑物を除去して処理液を生成する液体サイクロンフィルタ装置と、
前記処理液に残存する夾雑物を除去するチューブラー膜型の膜モジュールと、を備え
前記タンクは下方に傾斜して延びる底面を有し、前記タンクには撹拌ポンプが設けられ、前記撹拌ポンプは前記底面に沿って斜め下方に向けて使用済加工液を吐出させることによって、前記タンク内の前記使用済加工液を撹拌させ、
前記底面の水平方向に対する傾斜角度は9°〜16°であることを特徴とする加工液処理システム。
A processing fluid processing system for processing a used processing fluid discharged from a water jet processing device in a reusable manner,
A tank for storing the used machining fluid ;
A hydrocyclone filter device for removing impurities from the used processing liquid supplied from the tank to generate a processing liquid;
A tubular membrane type membrane module for removing impurities remaining in the treatment liquid ,
The tank has a bottom surface extending obliquely downward, and the tank is provided with a stirring pump, and the stirring pump discharges the used processing liquid obliquely downward along the bottom surface, thereby Stir the used working fluid in
Machining liquid processing system tilt angle, wherein 9 ° ~ 16 ° der Rukoto respect to the horizontal direction of the bottom surface.
ウォータージェット加工装置から排出された使用済加工液を再利用可能に処理するための加工液処理システムであって、
前記使用済加工液を貯蔵する第1タンクと
前記第1タンクから供給された前記使用済加工液から夾雑物を除去して処理液を生成する液体サイクロンフィルタ装置と、
前記液体サイクロンフィルタ装置により生成された前記処理液を通過させる処理槽と、
前記処理槽内の前記処理液に微細な気泡を発生させるための気泡発生装置と、
浮遊物回収装置と、
ューブラー膜型の膜モジュールと、を備え
前記使用済加工液は、加工液と、被加工物を加工する際に生じる加工屑と、を含み、前記加工液は多価アルコールを含み、
前記気泡発生装置から発生した前記気泡は、前記処理液に残存する夾雑物に付着して前記処理液の液面に浮上し、前記浮遊物回収装置は、前記液面に浮上した前記夾雑物を回収し、
前記処理槽を通過した前記処理液は前記膜モジュールへ移送され、前記膜モジュールは前記処理液に残存する夾雑物を除去することを特徴とする加工液処理システム。
A processing fluid processing system for processing a used processing fluid discharged from a water jet processing device in a reusable manner,
A first tank for storing the used machining fluid ;
A hydrocyclone filter device for removing impurities from the used processing liquid supplied from the first tank to generate a processing liquid;
A treatment tank for allowing the treatment liquid generated by the liquid cyclone filter device to pass through;
A bubble generating device for generating fine bubbles in the processing liquid in the processing tank;
A suspended matter collection device;
Comprising a membrane module Ji Yubura membrane type, a,
The used processing liquid includes a processing liquid and processing waste generated when processing the workpiece, and the processing liquid includes a polyhydric alcohol,
The bubbles generated from the bubble generating device adhere to foreign matters remaining in the processing liquid and float on the liquid surface of the processing liquid, and the floating matter collecting device removes the foreign matters floating on the liquid surface. Recovered,
The processing liquid processing system , wherein the processing liquid that has passed through the processing tank is transferred to the membrane module, and the membrane module removes impurities remaining in the processing liquid.
前記処理槽の内部空間は、複数の仕切板によって、上流側から順に第1処理空間、第2処理空間、第3処理空間、及び第4処理空間へ仕切られ、
前記処理水は、前記第1処理空間に供給されて、前記仕切板の下側と前記仕切板の上側とを交互に通って前記第1処理空間から下流側の前記第4処理空間に向けて流れ、
前記気泡発生装置は、前記処理槽内の前記処理液に浸漬されて前記処理液を吸入するための吸入口と、前記処理槽内の前記処理液に前記微細な気泡を発生せるための気泡発生器と、を備え、
前記吸入口は前記第4処理空間に配置され、前記気泡発生器は前記第2処理空間に配置されることを特徴とする請求項2に記載の加工液処理システム。
The internal space of the processing tank is partitioned into a first processing space, a second processing space, a third processing space, and a fourth processing space in order from the upstream side by a plurality of partition plates.
The treated water is supplied to the first treatment space, and alternately passes through the lower side of the partition plate and the upper side of the partition plate toward the fourth treatment space on the downstream side from the first treatment space. flow,
The bubble generating device includes a suction port that is immersed in the treatment liquid in the treatment tank and sucks the treatment liquid, and a bubble generation that generates the fine bubbles in the treatment liquid in the treatment tank. And equipped with
The processing liquid treatment system according to claim 2 , wherein the suction port is disposed in the fourth processing space, and the bubble generator is disposed in the second processing space.
前記浮遊物回収装置は、前記液面に浮上した前記夾雑物を回収する回収具と、一端が前記回収具に連結された連結管と、前記連結管の他端が連結された回収タンクと、を備え、前記回収具により回収された前記夾雑物は前記連結管を介して前記回収タンクへ移送され、
前記回収具は前記処理槽の前記第3処理空間に配置されていることを特徴とする請求項3に記載の加工液処理システム。
The floating substance recovery device is a recovery tool for recovering the impurities floating on the liquid surface, a connection pipe having one end connected to the recovery tool, a recovery tank to which the other end of the connection pipe is connected, The contaminants recovered by the recovery tool are transferred to the recovery tank via the connection pipe,
The processing liquid processing system according to claim 3 , wherein the recovery tool is disposed in the third processing space of the processing tank.
前記第1処理空間の底面には、下向き円錐台形状の集積部が設けられていることを特徴とする、請求項3又は4に記載の加工液処理システム。 5. The machining liquid treatment system according to claim 3 , wherein an accumulation portion having a downward truncated cone shape is provided on a bottom surface of the first treatment space. ウォータージェット加工装置から排出された使用済加工液を再利用可能に処理するための加工液処理システムであって、
前記使用済加工液を貯蔵するタンクと、前記タンクから供給された前記使用済加工液から夾雑物を除去して前記タンクへ返送する液体サイクロンフィルタ装置と、チューブラー膜型の膜モジュールと、を備え
前記使用済加工液は、前記タンクと前記液体サイクロンフィルタ装置の間を所定時間又は所定量循環されて処理液とされ、
前記膜モジュールは前記処理液に残存する夾雑物を除去することを特徴とする加工液処理システム。
A processing fluid processing system for processing a used processing fluid discharged from a water jet processing device in a reusable manner,
A tank for storing the spent working fluid, a liquid cyclone filter device to return to the tank to remove contaminants from the spent working fluid supplied from the tank, Ji Yubura membrane and membrane module, the Prepared ,
The used processing liquid is circulated between the tank and the hydrocyclone filter device for a predetermined time or a predetermined amount to be a processing liquid,
The processing solution processing system, wherein the membrane module removes impurities remaining in the processing solution.
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