JP6495701B2 - Electronic component storage package and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、圧電振動子や半導体素子等の電子部品を気密に収容するための電子部品収納用パッケージ、および電子部品収納用パッケージの製造方法に関するものである。   The present invention relates to an electronic component storage package for hermetically storing electronic components such as piezoelectric vibrators and semiconductor elements, and a method for manufacturing the electronic component storage package.

従来、圧電振動子や半導体素子等の電子部品を搭載するための電子部品収納用パッケージとして、一般に、セラミック焼結体等からなる四角形板状等の絶縁基板に電子部品が収容される搭載部が設けられたものが用いられている。絶縁基板の上面には、搭載部を塞ぐように蓋体が接合される。このような電子部品収納用パッケージは、上面に電子部品の搭載部を有する平板状の下部絶縁層と、この下部絶縁層の上面に搭載部を取り囲んで積層された枠状の上部絶縁層とを有する絶縁基板と、搭載部から下部絶縁層の下面等にかけて形成された配線導体とにより基本的に構成されている。配線導体のうち下部絶縁層の下面(絶縁基板の下面)に設けられた部分は、外部接続用の導体(外部接続導体)として機能する。   Conventionally, as an electronic component storage package for mounting an electronic component such as a piezoelectric vibrator or a semiconductor element, there is generally a mounting portion in which the electronic component is stored in an insulating substrate such as a rectangular plate made of a ceramic sintered body or the like. The provided one is used. A lid is bonded to the upper surface of the insulating substrate so as to close the mounting portion. Such an electronic component storage package includes a flat lower insulating layer having an electronic component mounting portion on the upper surface, and a frame-shaped upper insulating layer laminated around the mounting portion on the upper surface of the lower insulating layer. It is basically composed of an insulating substrate having a wiring conductor formed from the mounting portion to the lower surface of the lower insulating layer and the like. A portion of the wiring conductor provided on the lower surface of the lower insulating layer (lower surface of the insulating substrate) functions as an external connection conductor (external connection conductor).

そして、搭載部に電子部品が搭載され、電子部品の各電極が配線導体に電気的に接続された後、搭載部が蓋体等で封止されて電子装置が製作される。   Then, after the electronic component is mounted on the mounting portion and each electrode of the electronic component is electrically connected to the wiring conductor, the mounting portion is sealed with a lid or the like to manufacture the electronic device.

絶縁基板の下部絶縁層の側面の各コーナー部等には、上下方向に側面導体が形成されている。この側面導体は、例えば各コーナー部に形成された溝の内側面を覆うように形成されており、配線導体のうち搭載部内に形成された部分と外部接続導体とを互いに電気的に接続するための導通経路として作用する。これにより、例えば電子部品が外部回路基板に電気的に接続される。   Side conductors are formed in the vertical direction at each corner on the side of the lower insulating layer of the insulating substrate. For example, the side conductor is formed so as to cover the inner side surface of the groove formed in each corner portion, and electrically connects the portion formed in the mounting portion of the wiring conductor and the external connection conductor to each other. It acts as a conduction path. Thereby, for example, an electronic component is electrically connected to the external circuit board.

特開2003−133454号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2003-133454

しかしながら、近年、電子部品収納用パッケージは、ますます小型化が図られてきている。これに伴い側面導体と外部接続導体との接続の範囲(接続領域)がより狭くなってきているため、例えば側面導体が配置される溝の位置ずれ等に起因して、側面導体と外部接続導体との接続信頼性の低下が生じやすい等の問題点が顕著になってきた。   However, in recent years, electronic component storage packages have been increasingly miniaturized. As a result, the connection range (connection region) between the side conductors and the external connection conductors has become narrower. For example, the side conductors and the external connection conductors are caused by positional deviation of the grooves in which the side conductors are arranged. The problem that the connection reliability is likely to decrease is becoming more prominent.

本発明の一つの態様の電子部品収納用パッケージは、上面に電子部品が搭載される搭載部を有する下部絶縁層と、該下部絶縁層上に前記搭載部を取り囲むように積層された枠状の上部絶縁層と、前記下部絶縁層の下面の外周部に設けられた外部接続導体とを具備しており、前記上部絶縁層の外側面に、該側面の下端から上端にかけて上部溝が形成されており、前記下部絶縁層の側面に、平面視で前記上部溝と重なる位置において前記側面の下端から上端にかけて前記上部溝よりも大径の下部溝が形成されており、前記下部溝の内側面の下端から上方向に設けられているとともに、下端部が前記外部接続導体と接続されている埋め込み導体をさらに有し、該埋め込み導体が前記上部絶縁層側に傾斜する傾斜部を有しており、前記埋め込み導体が前記下部溝の下端から上端にかけて設けられており、前記上部溝の内側面と前記埋め込み導体の露出する側面とが同じ面上に位置している。
An electronic component storage package according to one aspect of the present invention includes a lower insulating layer having a mounting portion on which an electronic component is mounted on an upper surface, and a frame-like shape laminated on the lower insulating layer so as to surround the mounting portion. The upper insulating layer and an external connection conductor provided on the outer periphery of the lower surface of the lower insulating layer are provided, and an upper groove is formed on the outer surface of the upper insulating layer from the lower end to the upper end of the side surface. A lower groove having a diameter larger than that of the upper groove is formed on a side surface of the lower insulating layer from a lower end to an upper end of the side surface at a position overlapping the upper groove in a plan view. together provided upward from the lower end, further comprising a buried conductor lower end is connected to the external connection conductor, and have a slope portion in which the buried conductors are inclined to the upper insulating layer side, The embedded conductor is Serial provided toward the upper end from the lower end of the lower groove, and the side to expose the buried conductor and the inner surface of the upper groove that is located on the same plane.

本発明の一つの態様の電子部品収納用パッケージの製造方法は、第1および第2セラミックグリーンシートを準備する工程と、第1セラミックグリーンシートに厚み方向に貫通する第1貫通孔を形成するとともに、該第1貫通孔の内側面に金属ペーストを充填する工程と、前記第2セラミックグリーンシートに厚み方向に貫通する第2貫通孔を形成する工程と、前記第1セラミックグリーンシートと前記第2セラミックグリーンシートとを、前記第1貫通孔と前記第2貫通孔とは上下に連続するように積層して積層体を作製する工程と、平面視における前記第1貫通孔内の前記金属ペーストの一部を前記第1セラミックグリーンシートの厚み方向に打ち抜く工程と、前記積層体の前記第1セラミックグリーンシート側の主面に、端部が前記第1貫通孔内の前記金属ペーストに接続するように金属ペーストを塗布する工程と、前記積層体の前記第1セラミックグリーンシート側の主面に、前記第1貫通孔の内側に向かって深さが大きくなる領域を前記金属ペーストに有するように分割溝を形成する工程と、前記第1貫通孔および前記第2貫通孔を通るように前記積層体を該積層体の厚み方向に分割する工程とを有している。
According to one aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing an electronic component storage package, the steps of preparing first and second ceramic green sheets, and forming first through holes penetrating in the thickness direction in the first ceramic green sheets. A step of filling the inner surface of the first through hole with a metal paste, a step of forming a second through hole penetrating in the thickness direction in the second ceramic green sheet, the first ceramic green sheet and the second A step of laminating a ceramic green sheet so that the first through hole and the second through hole are vertically continuous, and a laminate, and the metal paste in the first through hole in a plan view. A step of punching a part in the thickness direction of the first ceramic green sheet; and a main surface of the laminate on the first ceramic green sheet side, the end portion of which is the first ceramic green sheet A step of applying a metal paste to connect to the metal paste in the through hole, the first ceramic green sheet side of the main surface of the laminate, increases the depth toward the inside of the first through hole Forming a dividing groove so as to have a region to be formed in the metal paste, and dividing the laminated body in the thickness direction of the laminated body so as to pass through the first through hole and the second through hole. doing.

本発明の一つの態様の電子部品収納用パッケージによれば、上面に電子部品が搭載される搭載部を有する下部絶縁層と、下部絶縁層上に搭載部を取り囲むように積層された枠状の上部絶縁層と、下部絶縁層の下面の外周部に設けられた外部接続導体とを具備しており、上部絶縁層の外側面に、外側面の下端から上端にかけて上部溝が形成されており、下部絶縁層の側面に、平面視で上部溝と重なる位置において側面の下端から上端にかけて上部溝よりも大径の下部溝が形成されており、下部溝の内側面の下端から上方向に設けられているとともに、下端部が外部接続導体と接続されている埋め込み導体をさらに有し、埋め込み導体が上部絶縁層側に傾斜する傾斜部を有しており、埋め込み導体が下部溝の下端から上端にかけて設けられており、上部溝の内側面と埋め込み導体の露出する側面とが同じ面上に位置している。これにより、配線導体と外部接続導体とを電気的に接続する側面導体としての埋め込み導体が外部接続導体に対して、下部絶縁層の下面だけでなく下部絶縁層の厚み方向においてもより広範囲に接続することができる。よって、電子部品収納用パッケージが小型化しても側面導体(埋め込み導体の側面における露出部)と外部接続導体との接続領域を十分に確保して、両者間の接続信頼性を向上できる。 According to an electronic component storage package of one aspect of the present invention, a lower insulating layer having a mounting portion on which an electronic component is mounted on an upper surface, and a frame-like shape laminated on the lower insulating layer so as to surround the mounting portion. It comprises an upper insulating layer and an external connection conductor provided on the outer peripheral portion of the lower surface of the lower insulating layer, and an upper groove is formed on the outer surface of the upper insulating layer from the lower end to the upper end of the outer surface, On the side surface of the lower insulating layer, a lower groove having a diameter larger than that of the upper groove is formed from the lower end to the upper end of the side surface at a position overlapping the upper groove in plan view, and is provided upward from the lower end of the inner side surface of the lower groove. together and further comprises a buried conductor lower ends are connected to the external connection conductor, and have a slope portion which buried conductors is inclined upper insulating layer side, toward the upper end embedded conductors from the lower end of the lower groove Provided And side to expose the inner surface and the buried conductors of the upper grooves that are located on the same plane. As a result, the embedded conductor as the side conductor that electrically connects the wiring conductor and the external connection conductor is connected to the external connection conductor in a wider range not only on the lower surface of the lower insulating layer but also in the thickness direction of the lower insulating layer. can do. Therefore, even if the electronic component storage package is downsized, a sufficient connection region between the side conductor (exposed portion on the side surface of the embedded conductor) and the external connection conductor can be secured, and the connection reliability between the two can be improved.

本発明の一つの態様の電子部品収納用パッケージの製造方法によれば、上記工程を有していることから、電子部品収納用パッケージの小型化による側面導体と外部接続導体との導電性の低下や断線を抑制でき、電子部品に対するグランドの安定性やシールド性が高められるとともに、電気めっきによる各配線基板へのめっき層の被着性に優れた電子部品収納用パッケージを製造することができる。 According to the method for manufacturing an electronic component storage package of one aspect of the present invention, since the above-described steps are included, the electrical conductivity between the side conductor and the external connection conductor is reduced due to the downsizing of the electronic component storage package. In addition to suppressing grounding and disconnection, the stability and shielding performance of the ground for the electronic component can be improved, and an electronic component storage package having excellent adhesion of the plating layer to each wiring board by electroplating can be manufactured.

(a)は本発明の実施形態の電子部品収納用パッケージを示す上面図であり、(b)は(a)のX−X’線における断面図であり、(c)は下面図である。(A) is a top view which shows the electronic component storage package of embodiment of this invention, (b) is sectional drawing in the X-X 'line | wire of (a), (c) is a bottom view. 本発明の実施形態の電子部品収納用パッケージを製作する際の多数個取り配線基板を示すコーナー部における要部の下面側の斜視図である。It is a perspective view of the lower surface side of the principal part in the corner part which shows the multi-piece wiring board at the time of manufacturing the electronic component storage package of embodiment of this invention. 本発明の実施形態のその他の電子部品収納用パッケージを製作する際の多数個取り配線基板を示すコーナー部における要部の下面側の斜視図である。It is a perspective view of the lower surface side of the principal part in the corner part which shows the multi-piece wiring board at the time of manufacturing the other electronic component storage package of embodiment of this invention. 本発明の実施形態のその他の電子部品収納用パッケージを製作する際の多数個取り配線基板を示す辺部における要部の下面側の斜視図である。It is a perspective view of the lower surface side of the principal part in the edge part which shows the multi-cavity wiring board at the time of manufacturing the other electronic component storage package of embodiment of this invention. 本発明の実施形態のその他の電子部品収納用パッケージを製作する際の多数個取り配線基板を示すコーナー部における要部の下面側の斜視図である。It is a perspective view of the lower surface side of the principal part in the corner part which shows the multi-piece wiring board at the time of manufacturing the other electronic component storage package of embodiment of this invention. (a)〜(e)は、本発明の実施形態の電子部品収納用パッケージの製造方法を工程順に示す断面図である。(A)-(e) is sectional drawing which shows the manufacturing method of the electronic component storage package of embodiment of this invention in order of a process. (a)および(b)は、本発明の実施形態の電子部品収納用パッケージの製造方法を工程順に示す図6に続く断面図である。(A) And (b) is sectional drawing following FIG. 6 which shows the manufacturing method of the electronic component storage package of embodiment of this invention in order of a process.

本発明の電子部品収納用パッケージ等について、添付の図面を参照しつつ説明する。図1(a)は本発明の電子部品収納用パッケージの実施の形態の一例を示す上面図であり、図1(b)は図1(a)のX−X’線における断面図、図1(c)は下面図である。   An electronic component storage package and the like of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1A is a top view showing an example of an embodiment of an electronic component storage package according to the present invention, FIG. 1B is a cross-sectional view taken along the line XX ′ of FIG. (C) is a bottom view.

図1において、絶縁基板101に搭載部102が設けられている。搭載部102には電子部品103
が搭載される。絶縁基板101は、互いに積層された上部絶縁層104および下部絶縁層105を
有している。絶縁基板101の側面には、上部溝106および下部溝107が設けられている。下
部溝107内には埋め込み導体108が配置されている。埋め込み導体108と直接に接続された
外部接続導体109が絶縁基板101の下面に設けられている。また、この例の配線基板は、端面が絶縁基板101の側面に露出した補助導体110、および絶縁基板101の上面に設けられた
枠状メタライズ層111、搭載部102内に位置する配線導体112をさらに有している。この電
子部品収納用パッケージについて、蓋体113が接合材114によって絶縁基板101上に接合さ
れて、電子部品103が気密封止される。
In FIG. 1, a mounting portion 102 is provided on an insulating substrate 101. The mounting part 102 has an electronic component 103.
Is installed. The insulating substrate 101 includes an upper insulating layer 104 and a lower insulating layer 105 that are stacked on each other. On the side surface of the insulating substrate 101, an upper groove 106 and a lower groove 107 are provided. A buried conductor 108 is disposed in the lower groove 107. An external connection conductor 109 directly connected to the embedded conductor 108 is provided on the lower surface of the insulating substrate 101. Further, the wiring board of this example includes the auxiliary conductor 110 whose end face is exposed on the side surface of the insulating substrate 101, the frame-shaped metallized layer 111 provided on the upper surface of the insulating substrate 101, and the wiring conductor 112 positioned in the mounting portion 102. In addition. In this electronic component storage package, the lid 113 is bonded onto the insulating substrate 101 by the bonding material 114, and the electronic component 103 is hermetically sealed.

なお、この実施の形態において、絶縁基板101は、厚み方向の断面視で凹型の搭載部102を有している。この電子部品収納用パッケージに圧電振動素子等の電子部品103が気密封
止されて電子装置(符号なし)が形成される。搭載部102を封止する蓋体113は、図1においては見やすくするために透視している。
In this embodiment, the insulating substrate 101 has a concave mounting portion 102 in a sectional view in the thickness direction. In this electronic component storage package, an electronic component 103 such as a piezoelectric vibration element is hermetically sealed to form an electronic device (no reference). The lid 113 that seals the mounting portion 102 is seen through in FIG. 1 for easy viewing.

絶縁基板101は、平板状の基部となる下部絶縁層105上に、枠部となる上部絶縁層104が
積層されて形成されている。なお、以下の説明において、上部絶縁層104および下部絶縁
層105の代わりに枠部および基部という場合がある。平面視において、枠部が基部の上面
の搭載部102を取り囲んでいる。この枠部の内側面と搭載部102の内側において露出する基部とによって、電子部品103を収容するための凹型の搭載部102が形成されている。
The insulating substrate 101 is formed by laminating an upper insulating layer 104 serving as a frame portion on a lower insulating layer 105 serving as a flat base. In the following description, a frame portion and a base portion may be used instead of the upper insulating layer 104 and the lower insulating layer 105. In a plan view, the frame portion surrounds the mounting portion 102 on the upper surface of the base portion. A concave mounting portion 102 for accommodating the electronic component 103 is formed by the inner side surface of the frame portion and the base portion exposed inside the mounting portion 102.

基部および枠部は、例えば酸化アルミニウム質焼結体,窒化アルミニウム焼結体,ムライト質焼結体またはガラス−セラミック焼結体等のセラミック材料からなる。絶縁基板101は、例えば全体の外形が平面視で一辺の長さが1.6〜10mm程度の長方形状であり、厚みが0.3〜2mm程度の板状であり、上面に上記のような凹型の搭載部102を有している。   The base and the frame are made of a ceramic material such as an aluminum oxide sintered body, an aluminum nitride sintered body, a mullite sintered body, or a glass-ceramic sintered body. The insulating substrate 101 is, for example, a rectangular shape having a one-side length of about 1.6 to 10 mm and a thickness of about 0.3 to 2 mm in plan view, and has a concave mounting portion as described above on the upper surface. 102.

絶縁基板101は、基部および枠部が酸化アルミニウム質焼結体からなる場合であれば、
酸化アルミニウム,酸化珪素,酸化マグネシウムおよび酸化カルシウム等の原料粉末に適当な有機バインダや溶剤,可塑剤等を添加混合して泥漿状にするとともに、これを例えばドクターブレード法やロールカレンダー法等のシート成形法によりシート状となすことにより複数枚のセラミックグリーンシートを得て、次に一部のセラミックグリーンシートに適当な打ち抜き加工を施して枠状に成形するとともに、枠状に成形していない平板状のセラミックグリーンシートの上面にそれぞれ枠状のセラミックグリーンシートが位置するように上下に積層し、その積層体を高温で焼成することにより製作することができる。
Insulating substrate 101 is a case where the base and the frame are made of an aluminum oxide sintered body,
Add appropriate organic binder, solvent, plasticizer, etc. to raw material powders such as aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide and calcium oxide to make a slurry, and for example, this is a sheet such as doctor blade method or roll calender method A plurality of ceramic green sheets are obtained by forming into a sheet shape by a forming method, and then a part of the ceramic green sheets are subjected to appropriate punching to form into a frame shape, and a flat plate not formed into a frame shape It can be manufactured by stacking up and down so that the frame-shaped ceramic green sheets are respectively positioned on the upper surface of the shaped ceramic green sheets and firing the laminate at a high temperature.

絶縁基板101は、例えば、それぞれが個片の絶縁基板101になる基板領域が配列された母基板(図示せず)として形成された後に個片に分割されて製作されている。母基板は、互いに積層された、下部絶縁層105となる複数の領域を有する平板状の絶縁層(図示せず)
と、それぞれに枠部を含む上部絶縁層104となる複数の領域を有する(複数の開口部が配
列された)絶縁層(図示せず)とを有している。多数個取り基板としての実施形態の詳細については後述する。
The insulating substrate 101 is manufactured, for example, by being formed as a mother substrate (not shown) in which substrate regions each serving as an individual insulating substrate 101 are arranged and then divided into individual pieces. The mother substrate is a flat insulating layer (not shown) having a plurality of regions that are stacked on each other to be the lower insulating layer 105.
And an insulating layer (not shown) having a plurality of regions (a plurality of openings are arranged) each serving as the upper insulating layer 104 including a frame portion. Details of the embodiment as a multi-chip substrate will be described later.

上部絶縁層104は、その上面に枠状メタライズ層111を有し、その外側面に上部溝106を
有している。また、下部絶縁層105には、搭載部102に搭載される電子部品103と外部電気
回路(図示せず)とを電気的に接続するための導電路として、配線導体112、埋め込み導
体108および外部接続導体109が設けられている。また、この例では、絶縁基板101のコー
ナー部に上部溝106および下部溝107が設けられ、下部溝107の上端部に埋め込み導体108に沿って補助導体110が形成されている。
The upper insulating layer 104 has a frame-like metallized layer 111 on its upper surface and an upper groove 106 on its outer surface. The lower insulating layer 105 has a wiring conductor 112, a buried conductor 108 and an external conductor as a conductive path for electrically connecting the electronic component 103 mounted on the mounting portion 102 and an external electric circuit (not shown). A connecting conductor 109 is provided. In this example, an upper groove 106 and a lower groove 107 are provided in the corner portion of the insulating substrate 101, and an auxiliary conductor 110 is formed along the embedded conductor 108 at the upper end portion of the lower groove 107.

ここで、電子装置がTCXO(Temperature Compensated Crystal Oscillator、温度補償水晶発振器)等の複数の電子部品(図示せず)が搭載部102内に収容されるようなもの
である場合には、複数の電子部品が搭載される段状の内側面を有する搭載部(図示せず)を形成するために、上部絶縁層104が2層以上の絶縁層で構成される場合もある。
Here, when the electronic device is such that a plurality of electronic components (not shown) such as TCXO (Temperature Compensated Crystal Oscillator) are accommodated in the mounting portion 102, a plurality of electronic devices In order to form a mounting portion (not shown) having a stepped inner surface on which a component is mounted, the upper insulating layer 104 may be composed of two or more insulating layers.

搭載部102は、例えば四角板状の電子部品103に合わせて平面視で四角形状である。図1の例では、その四角形状の搭載部102の互いに隣り合う2つのコーナー部に一対の配線導
体112が形成されている。この配線導体112は、搭載部102に搭載される水晶振動素子等の
電子部品103の電極(図示せず)を接続するための接続導体として機能する。電子部品103が水晶振動素子であれば、通常、その外形が平面視で四角形状であり、その主面のコーナー部に接続用の一対の電極(図示せず)が形成されている。そのような電極の接続を容易かつ確実に行なえるようにするため、配線導体112は搭載部102のコーナー部に形成されている。
The mounting portion 102 has a quadrangular shape in plan view in accordance with, for example, a square plate-shaped electronic component 103. In the example of FIG. 1, a pair of wiring conductors 112 are formed at two corner portions adjacent to each other of the rectangular mounting portion 102. The wiring conductor 112 functions as a connection conductor for connecting an electrode (not shown) of the electronic component 103 such as a crystal resonator element mounted on the mounting portion 102. If the electronic component 103 is a crystal resonator element, its outer shape is generally quadrangular in plan view, and a pair of electrodes (not shown) for connection are formed at the corners of its main surface. The wiring conductor 112 is formed at the corner portion of the mounting portion 102 so that such electrodes can be connected easily and reliably.

電子部品103の各電極と配線導体112との接続は、導電性接着剤等の接合材114を介して
行なわれる。すなわち、図1(a)に示すように電子部品103の主面のコーナー部に形成
された一対の電極が、搭載部102上に形成された一対の配線導体112に対向するように電子部品103を搭載部102に位置決めして、あらかじめ配線導体112に被着させておいた接合材114を加熱して硬化させれば、電子部品103の電極と配線導体112とが接続される。
Each electrode of the electronic component 103 and the wiring conductor 112 are connected via a bonding material 114 such as a conductive adhesive. That is, as shown in FIG. 1A, the electronic component 103 is formed such that the pair of electrodes formed at the corners of the main surface of the electronic component 103 faces the pair of wiring conductors 112 formed on the mounting portion 102. Is positioned on the mounting portion 102, and the bonding material 114 previously attached to the wiring conductor 112 is heated and cured, the electrode of the electronic component 103 and the wiring conductor 112 are connected.

なお、配線導体112は、この実施の形態の例では電子部品103として水晶振動素子を用いた例を説明しているので上記のような位置に配線導体112が形成されているが、その他の
電子部品(図示せず)を搭載する場合や、その他の電子部品を複数搭載する場合であれば、その電子部品の電極の配置に応じて位置や形状を変えて形成してもよい。このようなその他の電子部品としては、例えば、セラミック圧電素子や弾性表面波素子等の圧電素子,半導体素子,容量素子および抵抗素子等を挙げることができる。
Note that the wiring conductor 112 is described in the example of this embodiment in which a crystal resonator element is used as the electronic component 103, and thus the wiring conductor 112 is formed at the above position. When mounting a component (not shown) or mounting a plurality of other electronic components, the position and shape may be changed according to the arrangement of the electrodes of the electronic component. Examples of such other electronic components include piezoelectric elements such as ceramic piezoelectric elements and surface acoustic wave elements, semiconductor elements, capacitive elements, and resistive elements.

配線導体112は、例えば、搭載部102またはその周辺から絶縁基板101の外表面にかけて
電気的に導出するように設けられている。配線導体112は、上記のように、搭載部102に搭載される電子部品103の各電極を外部の電気回路に電気的に接続するための導電路の一部
として機能する。図1(a)〜(c)に示す例においては、配線導体112は搭載部102から下部絶縁層105に形成される埋め込み導体108を介して、絶縁基板101(下部絶縁層105)の下面に電気的に導出され、この下面に形成された外部接続導体109に電気的に接続されて
いる。
For example, the wiring conductor 112 is provided so as to be electrically led out from the mounting portion 102 or its periphery to the outer surface of the insulating substrate 101. As described above, the wiring conductor 112 functions as a part of a conductive path for electrically connecting each electrode of the electronic component 103 mounted on the mounting portion 102 to an external electric circuit. In the example shown in FIGS. 1A to 1C, the wiring conductor 112 is formed on the lower surface of the insulating substrate 101 (lower insulating layer 105) through the embedded conductor 108 formed in the lower insulating layer 105 from the mounting portion 102. Electrically derived and electrically connected to an external connection conductor 109 formed on the lower surface.

また、絶縁基板101(上部絶縁層104)の上面には枠状メタライズ層111が被着されてい
る。枠状メタライズ層111は、搭載部102を取り囲んでおり、この枠状メタライズ層111に
蓋体113や金属枠体(図示せず)が接合される。そして、搭載部102に電子部品103を収容
して搭載し、電子部品103の電極を導電性接着剤等の接合材114で配線導体112に接続した
後、枠状メタライズ層111の上面に蓋体113を接合することにより、蓋体113と絶縁基板101とからなる容器内に電子部品103が気密封止されて電子装置(水晶発振器等)となる。ま
た、あらかじめ枠状メタライズ層111に金属枠体をろう付けした後に、金属枠体上に蓋体113を接合してもよい。なお、本実施形態では、ろう材を介して蓋体113が上部絶縁層104に接合される例を示したが、ガラスや樹脂等の封止材によって蓋体113が接合されるもので
あってもよい。
Further, a frame-like metallized layer 111 is deposited on the upper surface of the insulating substrate 101 (upper insulating layer 104). The frame-shaped metallized layer 111 surrounds the mounting portion 102, and a lid 113 and a metal frame (not shown) are joined to the frame-shaped metallized layer 111. Then, the electronic component 103 is accommodated and mounted on the mounting portion 102, and the electrode of the electronic component 103 is connected to the wiring conductor 112 with a bonding material 114 such as a conductive adhesive, and then a lid is formed on the upper surface of the frame-like metallized layer 111. By joining 113, the electronic component 103 is hermetically sealed in a container formed of the lid body 113 and the insulating substrate 101 to form an electronic device (a crystal oscillator or the like). Further, after the metal frame is brazed to the frame-shaped metallized layer 111 in advance, the lid 113 may be joined on the metal frame. In this embodiment, the lid 113 is bonded to the upper insulating layer 104 through the brazing material. However, the lid 113 is bonded by a sealing material such as glass or resin. Also good.

枠状メタライズ層111は、蓋体113を絶縁基板101にシーム溶接や電子ビーム溶接等の方
法で接合するための金属部材として機能する。蓋体113は、例えば四角板状であり、鉄−
ニッケル合金や鉄−ニッケル−コバルト合金等の金属材料やセラミック材料からなり、ろう付け法や溶接法(例えばシーム溶接や電子ビーム溶接等)の接合法で下面の外周部が枠状メタライズ層111に接合される。なお、蓋体113がセラミック材料からなる場合は、ろう付け法や溶接法によって枠状メタライズ層111に接合できるように、蓋体113の接合面とな
る領域に、メタライズ法やめっき法等の方法により接合用の金属層(図示せず)が形成される。
The frame-like metallized layer 111 functions as a metal member for joining the lid 113 to the insulating substrate 101 by a method such as seam welding or electron beam welding. The lid 113 is, for example, a square plate,
It is made of a metal material such as a nickel alloy or iron-nickel-cobalt alloy or a ceramic material, and the outer peripheral portion of the lower surface is formed into a frame-like metallized layer 111 by a brazing method or a welding method (for example, seam welding or electron beam welding). Be joined. When the lid 113 is made of a ceramic material, a method such as a metallization method or a plating method is applied to the region to be a joint surface of the lid 113 so that the lid 113 can be joined to the frame-like metallization layer 111 by a brazing method or a welding method. As a result, a metal layer (not shown) for bonding is formed.

この枠状メタライズ層111は、例えば、埋め込み導体108等を介して導通経路となる配線導体112(上記のように搭載部102から延在している部分等)の一部(例えば電子部品103
の接地用の電極が接続されるもの)と電気的に接続されていてもよい。この場合には、例えば接地用の導体面積をより広くして、電子部品103の接地電位をより安定させることが
できる。
The frame-like metallized layer 111 is, for example, a part (for example, the electronic component 103) of the wiring conductor 112 (such as a part extending from the mounting part 102 as described above) serving as a conduction path via the embedded conductor 108 or the like.
To which the grounding electrode is connected) may be electrically connected. In this case, for example, the conductor area for grounding can be increased, and the ground potential of the electronic component 103 can be further stabilized.

枠状メタライズ層111は、さらに外部接続導体109と電気的に接続されていてもよい。枠状メタライズ層111と外部接続導体109との電気的な接続は、例えば下部溝107内を埋めて
形成された埋め込み導体108だけでなく、後述する補助導体110を介しても行なわれる。
The frame-like metallized layer 111 may be further electrically connected to the external connection conductor 109. The electrical connection between the frame-shaped metallized layer 111 and the external connection conductor 109 is performed not only through the embedded conductor 108 formed by filling the inside of the lower groove 107 but also through an auxiliary conductor 110 described later.

配線導体112,枠状メタライズ層111,および外部接続導体109等の導体部分は、例えば
、タングステンやモリブデン,マンガン,銅,銀等のメタライズ層からなる。このようなメタライズ層となる金属材料のペースト(金属ペースト)を、母基板となるセラミックグリーンシートに所定パターンに印刷しておき、各セラミックグリーンシートと同時焼成する方法で形成される。
The conductor portions such as the wiring conductor 112, the frame-like metallized layer 111, and the external connection conductor 109 are made of a metallized layer such as tungsten, molybdenum, manganese, copper, or silver. Such a metal material paste (metal paste) used as a metallized layer is formed by printing in a predetermined pattern on a ceramic green sheet used as a base substrate and simultaneously firing the ceramic green sheets.

これらの配線導体112,枠状メタライズ層111,および外部接続導体109は、酸化腐食を
防止するとともに、配線導体112と電子部品103の電極との接続、または外部接続導体109
と外部の電気回路との接続等をより容易または強固なものとするために、それらの露出した表面に1〜20μm程度の厚みのニッケルめっき層と0.1〜3.0μm程度の厚みの金めっき層とが順次被着されていてもよい。
The wiring conductor 112, the frame-like metallized layer 111, and the external connection conductor 109 prevent oxidative corrosion and connect the wiring conductor 112 and the electrode of the electronic component 103 or the external connection conductor 109.
A nickel plating layer having a thickness of about 1 to 20 μm and a gold plating layer having a thickness of about 0.1 to 3.0 μm on the exposed surfaces, in order to make connection between the circuit board and an external electric circuit easier or stronger. May be sequentially applied.

また、埋め込み導体108についても、上記と同様の金属ペーストの充填等の方法で形成
されている。埋め込み導体108の形成方法の詳細については後述する。
The embedded conductor 108 is also formed by a method such as filling with a metal paste similar to the above. Details of the method of forming the buried conductor 108 will be described later.

電子部品収納用パッケージは、例えば前述したように多数個取り基板(多数個取り配線基板)の形態でまとめて製作されたものでもよい。電子部品収納用パッケージを製作するための多数個取り配線基板の一例を図2に示す。図2は、この多数個取り配線基板の要部(コーナー部)を示す下面から見た斜視図である。図2において、図1と同様の部位には同様の符号を付している。多数個取り配線基板は、前述したように、個片の電子部品収納用パッケージの絶縁基板101となる複数の基板領域が縦横の並びに配列された母基板を有
している。
For example, as described above, the electronic component storage package may be manufactured in the form of a multi-piece board (multi-piece wiring board). FIG. 2 shows an example of a multi-piece wiring board for manufacturing an electronic component storage package. FIG. 2 is a perspective view of the main part (corner part) of the multi-piece wiring board as seen from the lower surface. In FIG. 2, the same reference numerals are given to the same parts as in FIG. As described above, the multi-cavity wiring board has a mother board in which a plurality of board regions to be the insulating board 101 of the individual electronic component storage package are arranged vertically and horizontally.

多数個取り配線基板についても、個片の電子部品収納用パッケージと同様の部位については同様の呼称として、同様の符号を付している。例えば、多数個取り配線基板の母基板を形成している下側の絶縁層および上側の絶縁層についても、個片の場合と同様に下部絶縁層105および上部絶縁層104という。   Also for the multi-piece wiring board, the same parts as those of the individual electronic component storage package are denoted by the same reference numerals with the same reference numerals. For example, the lower insulating layer and the upper insulating layer forming the mother substrate of the multi-piece wiring board are also referred to as the lower insulating layer 105 and the upper insulating layer 104 as in the case of the individual pieces.

この場合、個片の電子部品収納用パッケージにおける上部溝106は、例えば多数個取り
配線基板の母基板のうち上部絶縁層104となるセラミックグリーンシートの各基板領域の
境界115に跨るように、上部絶縁層104を厚み方向に貫通する貫通孔を設けておくことによって形成することができる。
In this case, the upper groove 106 in the individual electronic component storage package is, for example, the upper groove so as to straddle the boundary 115 of each substrate region of the ceramic green sheet serving as the upper insulating layer 104 of the mother substrate of the multi-piece wiring substrate. It can be formed by providing a through-hole penetrating the insulating layer 104 in the thickness direction.

また、下部溝107も同様に、例えば、母基板のうち下部絶縁層105となるセラミックグリーンシートの各配線基板領域の境界115に跨るように、下部絶縁層105を厚み方向に貫通する貫通孔を設けておくことによって形成することができる。そして、上部溝106となる貫
通孔と下部溝107となる貫通孔とが平面視で重なるように配置して、それぞれ母基板の上
部絶縁層104となるセラミックグリーンシートと、下部絶縁層105となるセラミックグリーンシートを積層して焼成する。以上により、上部溝106および下部溝107となる貫通孔を有する母基板が製作される。この母基板が各基板領域の境界115の部分で分割されれば、上
部溝106および下部溝107となる貫通孔が縦方向に分断されて、個片の絶縁基板101の側面
(図2の例ではコーナー部)に上部溝106と下部溝107とが連通した溝部が形成される。なお、上記の焼成は、個片の電子部品収納用パッケージに分割された後に行なわれても構わない。
Similarly, the lower groove 107 has a through hole penetrating the lower insulating layer 105 in the thickness direction so as to straddle the boundary 115 of each wiring board region of the ceramic green sheet that becomes the lower insulating layer 105 of the mother board. It can be formed by providing. Then, the through hole to be the upper groove 106 and the through hole to be the lower groove 107 are arranged so as to overlap with each other in plan view, and become the ceramic green sheet to be the upper insulating layer 104 of the mother substrate and the lower insulating layer 105, respectively. A ceramic green sheet is laminated and fired. As described above, a mother substrate having through holes to be the upper groove 106 and the lower groove 107 is manufactured. If this mother substrate is divided at the boundary 115 of each substrate region, the through holes to be the upper groove 106 and the lower groove 107 are divided in the vertical direction, and the side surfaces of the individual insulating substrate 101 (example of FIG. 2) In this case, a groove portion in which the upper groove 106 and the lower groove 107 communicate with each other is formed in the corner portion. The firing may be performed after being divided into individual electronic component storage packages.

作製された個片の電子部品収納用パッケージは、上記のように、絶縁基板101の側面に
上部溝106および下部溝107を有している。上部溝106および下部溝107は互いに上下につながって一つの溝(いわゆるキャスタレーション)を形成している。また、下部溝107は上
部溝106よりも大径である。なお、上部溝106および下部溝107の径とは、平面視(上側か
ら電子部品収納用パッケージを見たとき)における上部溝106および下部溝107それぞれの差し渡しの寸法であり、上部溝106および下部溝107の端部における開口寸法である。例えば、上部溝106および下部溝107が絶縁基板101の辺部に形成され、それぞれ平面視で半円
状のものであれば、その直径が開口の直径となる。また、上部溝106および下部溝107が絶縁基板101のコーナー部に形成され、それぞれ平面視で四半円状のものであれば、その半
径の√2倍が開口径となる。上記の溝は、その長さ方向の途中に、上部溝106と下部溝107との径の差に応じた段状の部分を有しているものとみなすこともできる。
The manufactured individual electronic component storage package has the upper groove 106 and the lower groove 107 on the side surface of the insulating substrate 101 as described above. The upper groove 106 and the lower groove 107 are vertically connected to each other to form one groove (so-called castellation). Further, the lower groove 107 has a larger diameter than the upper groove 106. The diameters of the upper groove 106 and the lower groove 107 are the dimensions of the upper groove 106 and the lower groove 107 in plan view (when the electronic component storage package is viewed from above). It is an opening dimension at the end of the groove 107. For example, if the upper groove 106 and the lower groove 107 are formed in the sides of the insulating substrate 101 and are each semicircular in plan view, the diameter is the diameter of the opening. Further, if the upper groove 106 and the lower groove 107 are formed at the corners of the insulating substrate 101 and each have a quadrant shape in plan view, the opening diameter is √2 times the radius thereof. The groove can be regarded as having a stepped portion corresponding to the difference in diameter between the upper groove 106 and the lower groove 107 in the middle of the length direction.

また、実施形態の電子部品収納用パッケージは、下端部が外部接続導体109と接続され
ている埋め込み導体108をさらに有している。すなわち、比較的径が大きい下部溝107の内側面に、例えば上記の段差を埋めるような埋め込み導体108が設けられている。この埋め
込み導体108が外部接続導体109と直接に接続されて、電子部品103と外部電気回路(図示
せず)とを電気的に接続するための上記の導電路の一部が形成されている。この導電路は、下部絶縁層105の下面だけでなく下部溝107の内側面に沿った方向(下部溝107の長さ方
向)においても広範囲に埋め込み導体108と外部接続導体109とが互いに接続されている。
In addition, the electronic component storage package of the embodiment further includes an embedded conductor 108 whose lower end is connected to the external connection conductor 109. In other words, the embedded conductor 108 is provided on the inner surface of the lower groove 107 having a relatively large diameter so as to fill the step, for example. The embedded conductor 108 is directly connected to the external connection conductor 109 to form a part of the conductive path for electrically connecting the electronic component 103 and an external electric circuit (not shown). In this conductive path, not only the lower surface of the lower insulating layer 105 but also the direction along the inner surface of the lower groove 107 (the length direction of the lower groove 107), the embedded conductor 108 and the external connection conductor 109 are connected to each other over a wide range. ing.

つまり、例えば図2に示すように、下部溝107に形成される導通経路となる埋め込み導
体の幅(平面視における埋め込み導体108の内周と外周と間の距離)が従来の側面導体に
比べて大きい。そのため、埋め込み導体108の外周側の広い領域と外部接続導体109とが接続されることになり、電子部品収納用パッケージ(絶縁基板101)が小型化しても側面導
体としての埋め込み導体108と外部接続導体109との接続領域を十分に確保して、両者間の接続信頼性を向上できる。
That is, for example, as shown in FIG. 2, the width of the buried conductor that is a conduction path formed in the lower groove 107 (the distance between the inner circumference and the outer circumference of the buried conductor 108 in plan view) is larger than that of a conventional side conductor. large. For this reason, a wide area on the outer peripheral side of the embedded conductor 108 is connected to the external connection conductor 109, and the embedded conductor 108 as a side conductor is connected to the external connection even if the electronic component storage package (insulating substrate 101) is downsized. A sufficient connection area with the conductor 109 can be secured, and the connection reliability between the two can be improved.

外部接続導体109は、埋め込み導体108の外周部に接続されていればよいが、その接続構造を形成する方法については種々選択することができる。例えば、生加工工程(前述したセラミックグリーンシートの加工および金属ペーストの塗布等の工程)での埋め込み導体108および外部接続導体109等の導体部分の形成方法(金属ペーストの印刷方法等)に応じて、外部接続導体109を形成した後で埋め込み導体108を形成してもよく、また埋め込み導体108を形成した後で埋め込み導体108を覆うように外部接続導体109を形成してもよい。   The external connection conductor 109 only needs to be connected to the outer peripheral portion of the embedded conductor 108, but various methods can be selected for a method of forming the connection structure. For example, depending on the forming method (metal paste printing method, etc.) of the conductor parts such as the embedded conductor 108 and the external connection conductor 109 in the raw processing process (process of processing the ceramic green sheet and applying the metal paste described above) The embedded conductor 108 may be formed after the external connection conductor 109 is formed, or the external connection conductor 109 may be formed so as to cover the embedded conductor 108 after the embedded conductor 108 is formed.

なお、絶縁基板101となる基板領域が配列された母基板には、各基板領域を個片に分割
するために、その主面に分割溝116が形成されている。近年、個々の電子部品収納用パッ
ケージは小さなものとなってきており、例えば平面視における絶縁基板101の縦横の寸法
が1.6×1.2mm以下のものが製作されている。この電子部品収納用パッケージの小型化に応じて、枠部の幅は非常に小さなものとなってきており、搭載部102と外部環境とを仕切
る部位(枠部および金属枠体などの厚み)が小さくなってきている。そこで、高い位置精度で分割溝116を形成するために、レーザー加工により分割溝116を形成する技術が提案されている。
In the mother substrate on which the substrate regions to be the insulating substrate 101 are arranged, dividing grooves 116 are formed on the main surface in order to divide each substrate region into pieces. In recent years, individual electronic component storage packages have become small, and for example, an insulating substrate 101 having a vertical and horizontal dimension of 1.6 × 1.2 mm or less in plan view is manufactured. With the downsizing of this electronic component storage package, the width of the frame has become very small, and the part (the thickness of the frame, metal frame, etc.) that separates the mounting part 102 from the external environment It is getting smaller. Therefore, in order to form the dividing groove 116 with high positional accuracy, a technique for forming the dividing groove 116 by laser processing has been proposed.

このように、母基板にレーザー加工で分割溝116が形成される場合、母基板の各基板領
域の境界115に分割溝116が形成される際に、従来技術の電子部品収納用パッケージを作製するための多数個取り配線基板の場合には、次のような問題点が生じる可能性がある。すなわち、従来技術の電子部品収納用パッケージの側面導体(図示せず)が、実施形態の電子部品収納用パッケージの埋め込み導体108に比べて薄い。仮にこのような電子部品収納
用パッケージが多数個取り配線基板の形態で製作されるとしたときには、その下部溝107
内の側面導体の一部が切断される可能性がある。この場合、側面導体の一部が切断されると、電子部品103と外部電気回路とを電気的に接続するための導電路の導通抵抗の増加、
または断線といった不具合を生じる。このような不具合が生じると、配線導体112等の、
側面導体と電気的に接続されているべき導体(図示せず)に電気めっきを施すときに、複数の配線基板領域の少なくとも一部で、上記の導体にめっき層が被着されないという問題が生じる可能性があった。
As described above, when the dividing grooves 116 are formed on the mother board by laser processing, when the dividing grooves 116 are formed at the boundary 115 of each substrate region of the mother board, a conventional electronic component storage package is manufactured. Therefore, the following problems may occur in the case of the multi-cavity wiring board. That is, the side conductor (not shown) of the conventional electronic component storage package is thinner than the embedded conductor 108 of the electronic component storage package of the embodiment. If such a package for storing electronic components is manufactured in the form of a multi-piece wiring board, its lower groove 107
There is a possibility that a part of the inner side conductor is cut. In this case, when a part of the side conductor is cut, the conduction resistance of the conductive path for electrically connecting the electronic component 103 and the external electric circuit is increased,
Or a malfunction such as disconnection occurs. When such a problem occurs, such as the wiring conductor 112,
When conducting electroplating on a conductor (not shown) that is to be electrically connected to the side conductor, there is a problem that the plating layer is not deposited on the conductor in at least a part of the plurality of wiring board regions. There was a possibility.

これに対して、実施形態の電子部品収納用パッケージのように下部溝107に側面導体を
含む埋め込み導体108が設けられている場合には、図2で示すように導体部分の厚み(埋
め込み導体108と上端と下端との間の距離)が比較的大きく、その導体部分の一部が厚み
方向に切断される可能性が低減される。ここで、埋め込み導体108を切断しない前提条件
は、レーザー加工による溝以外の分割溝116の形成深さが下部絶縁層105の厚みよりも小さいことである。例えば、分割溝116の深さが下部絶縁層105の厚みに対して30〜70%程度となるように形成される。
On the other hand, when the embedded conductor 108 including the side conductor is provided in the lower groove 107 as in the electronic component storage package of the embodiment, as shown in FIG. And the distance between the upper end and the lower end) is relatively large, and the possibility that a part of the conductor portion is cut in the thickness direction is reduced. Here, a precondition for not cutting the embedded conductor 108 is that the formation depth of the division grooves 116 other than the grooves by laser processing is smaller than the thickness of the lower insulating layer 105. For example, the depth of the dividing groove 116 is formed to be about 30 to 70% with respect to the thickness of the lower insulating layer 105.

さらに、例えば図2で示すように、分割溝116の深さが変化しない領域が埋め込み導体108の内部に広く留まる構造にすることにより、埋め込み導体108の導通抵抗の増加や断線
を抑制する効果がさらに有効に作用する。
Further, for example, as shown in FIG. 2, the structure in which the region where the depth of the dividing groove 116 does not change widely stays inside the buried conductor 108, so that the effect of suppressing increase in conduction resistance and disconnection of the buried conductor 108 can be obtained. It works more effectively.

また、埋め込み導体108が下部溝107の下端から上端にかけて設けられており、上部溝106の内側面と埋め込み導体108の露出する側面とが同じ面上に位置していてもよい。言い換えれば、下部溝107と上部溝106との径の差に応じた段状の部分が埋め込み導体108で埋め
られていてもよい。このような構造とした場合には、例えば多数個取り配線基板の状態において、各基板領域に露出した埋め込み導体108等の表面にニッケルめっき層や金めっき
層等を被着させる際に、上部溝106および下部溝107となる貫通孔内のめっき液の循環がより良好となる。そのため、貫通孔のうち下部溝107となる部分の内側面に形成された埋め
込み導体108の露出する面により良好にめっき層を被着させることができる。
Further, the embedded conductor 108 may be provided from the lower end to the upper end of the lower groove 107, and the inner side surface of the upper groove 106 and the exposed side surface of the embedded conductor 108 may be located on the same surface. In other words, a stepped portion corresponding to the difference in diameter between the lower groove 107 and the upper groove 106 may be filled with the buried conductor 108. In the case of such a structure, for example, in the state of a multi-piece wiring board, when depositing a nickel plating layer, a gold plating layer, etc. on the surface of the embedded conductor 108 etc. exposed in each board region, the upper groove The circulation of the plating solution in the through holes serving as 106 and the lower groove 107 becomes better. Therefore, it is possible to satisfactorily deposit the plating layer on the exposed surface of the embedded conductor 108 formed on the inner surface of the portion of the through hole that becomes the lower groove 107.

つまり、電子部品収納用パッケージの小型化に応じて、枠部の幅は小さなものとなってきており、これにともない上部溝106や下部溝107の溝の幅も小さくなってきている。そして、これら溝の幅が狭くなると溝となる貫通孔内におけるめっき液の循環が悪化する傾向がある。これに対して、下部溝107となる貫通孔の内面に形成された埋め込み導体108の表面と、上部溝106との表面(導体が被着されていない面)とが同じ面上に位置しており、
上部溝106から下部溝107にかけて段差が形成されない。そのため、貫通孔内におけるめっき液の循環が極めて良好となり、めっき層が埋め込み導体108の露出面に良好に被着され
る。
That is, as the electronic component storage package is downsized, the width of the frame portion has become smaller, and accordingly, the width of the upper groove 106 and the lower groove 107 has also decreased. And when the width of these grooves becomes narrow, the circulation of the plating solution in the through-holes that become the grooves tends to deteriorate. On the other hand, the surface of the embedded conductor 108 formed on the inner surface of the through hole serving as the lower groove 107 and the surface of the upper groove 106 (surface on which no conductor is attached) are located on the same surface. And
No step is formed from the upper groove 106 to the lower groove 107. Therefore, the circulation of the plating solution in the through hole becomes extremely good, and the plating layer is satisfactorily applied to the exposed surface of the embedded conductor 108.

各配線基板領域における配線導体112、埋め込み導体108および外部接続導体109等の導
体の露出表面へのめっき層の被着は、例えば前述のように電気めっき法を採用することによって行われる。上記の導体が設けられた母基板をニッケルめっき浴や金めっき浴中に浸漬するとともに、例えば母基板に形成された共通配線層(図示せず)に外部電源を接続する。共通配線層は複数の基板領域の上記導体にまとめて電気的接続されている。この共通配線層に接続された引き出し線(図示せず)を介して共通に電気的に接続されている上記
の導体に所定の電界を印加し、露出した導体の表面にニッケルや金を析出させる。以上によって電気めっきが行われる。この場合、各導体の各々は引き出し線を介して共通配線層に共通に接続されていることから、電気めっきのための外部電源を共通配線層に接続することにより全ての配線基板領域の露出する導体にめっき用の電界を共通に印加することができる。よって、電気めっきの作業性が容易となる。
The plating layer is deposited on the exposed surfaces of the conductors such as the wiring conductor 112, the embedded conductor 108, and the external connection conductor 109 in each wiring board region, for example, by employing an electroplating method as described above. The mother board provided with the conductor is immersed in a nickel plating bath or a gold plating bath, and an external power source is connected to a common wiring layer (not shown) formed on the mother board, for example. The common wiring layer is collectively connected to the conductors in a plurality of substrate regions. A predetermined electric field is applied to the conductors electrically connected in common via lead wires (not shown) connected to the common wiring layer, and nickel or gold is deposited on the exposed conductor surface. . Electroplating is performed as described above. In this case, since each of the conductors is commonly connected to the common wiring layer through the lead wire, all the wiring board regions are exposed by connecting an external power source for electroplating to the common wiring layer. An electric field for plating can be commonly applied to the conductors. Therefore, the workability of electroplating becomes easy.

このように、下部溝107となる貫通孔の内面に形成された埋め込み導体108の表面と、上部溝106との表面とが同じ面上に位置するように形成するためには、例えば、下部絶縁層105となるセラミックグリーンシートの各配線基板領域の境界115に跨るように、下部溝107となる貫通孔を設けておき、この下部溝107となる貫通孔内に埋め込み導体108となる金属ペースト(図示せず)を充填する。さらに、下部溝107となる貫通孔と、上部溝106となる貫通孔の形成予定位置とを平面視で重なるように、下部絶縁層105となるセラミックグリ
ーンシートと上部絶縁層104となるセラミックグリーンシートとを位置決めして積層した
後、上部溝106となる貫通孔の形成予定位置と下部溝107の貫通孔内に埋め込んだ埋め込み導体108とを一括して打抜き加工すればよい。この打ち抜き面は、上部溝106の内側面と下部溝107の内側面の埋め込み導体108の表面(内側面)になる。これにより、上部溝106の
内側面と埋め込み導体108の露出する側面とが同じ面上に位置した母基板を製作すること
ができる。
As described above, in order to form the surface of the embedded conductor 108 formed on the inner surface of the through hole to be the lower groove 107 and the surface of the upper groove 106 on the same surface, for example, lower insulation A through hole to be the lower groove 107 is provided so as to straddle the boundary 115 of each wiring board region of the ceramic green sheet to be the layer 105, and a metal paste (being an embedded conductor 108 in the through hole to be the lower groove 107 ( Fill (not shown). Further, the ceramic green sheet to be the lower insulating layer 105 and the ceramic green sheet to be the upper insulating layer 104 so that the through hole to be the lower groove 107 and the formation position of the through hole to be the upper groove 106 overlap in plan view Are positioned and laminated, and then the formation position of the through hole to be the upper groove 106 and the embedded conductor 108 embedded in the through hole of the lower groove 107 may be punched together. This punched surface becomes the surface (inner surface) of the embedded conductor 108 on the inner surface of the upper groove 106 and the inner surface of the lower groove 107. As a result, a mother substrate in which the inner side surface of the upper groove 106 and the exposed side surface of the buried conductor 108 are located on the same surface can be manufactured.

また、埋め込み導体108の露出した側面が上部溝106の内側面よりも外側に位置しており、埋め込み導体108の露出した側面に沿って上部絶縁層104の下面の一部が露出していてもよい。言い換えれば、埋め込み導体108よりも内側で上部絶縁層104の下面が露出する程度に、上部溝106の径が小さくなっている。または、下部溝107の径が比較的大きくなっている。または、埋め込み導体108の幅(平面視における埋め込み導体108の内周と外周と間の距離)が小さくなっている。この例の電子部品収納用パッケージが多数個取り配線基板の形態で製作された例を図3に示す。図3は、他の実施形態電子部品収納用パッケージを製作する際の多数個取り配線基板の要部を下面から見た斜視図である。図3において図1および図2と同様の部位には同様の符号を付している。多数個取り配線基板においては、上部溝106および下部溝107となる貫通孔の下側で径が比較的大きく、上側で径が比較的小さい。   Further, the exposed side surface of the buried conductor 108 is located outside the inner side surface of the upper groove 106, and a part of the lower surface of the upper insulating layer 104 is exposed along the exposed side surface of the buried conductor 108. Good. In other words, the diameter of the upper groove 106 is reduced to the extent that the lower surface of the upper insulating layer 104 is exposed inside the buried conductor 108. Alternatively, the diameter of the lower groove 107 is relatively large. Alternatively, the width of the embedded conductor 108 (the distance between the inner periphery and the outer periphery of the embedded conductor 108 in plan view) is reduced. FIG. 3 shows an example in which a large number of electronic component storage packages of this example are manufactured in the form of a wiring board. FIG. 3 is a perspective view of the main part of the multi-piece wiring board when the electronic component storage package according to another embodiment is viewed from the lower surface. In FIG. 3, the same parts as those in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals. In the multi-cavity wiring board, the diameter is relatively large below the through holes that form the upper groove 106 and the lower groove 107, and the diameter is relatively small on the upper side.

このような構造とした場合には、例えば上部溝106の径が比較的小さいため、上部絶縁
層104の枠部としての幅を大きくしながら、下部絶縁層105の下部溝107の開口幅を大きく
できる。つまり、上部絶縁層104の枠部の幅が大きく、搭載部102の気密封止性に優れた構造とすることが容易である。また同時に、下部絶縁層105に形成された下部溝107(貫通孔の下部)の開口を大きくすることができる。そのため、例えば下部溝107内の埋め込み導
体108に、多数個取り配線基板の状態でめっきを施す際に、貫通孔内におけるめっき液の
循環がより一層極良好となり、めっき層が、埋め込み導体108の露出面により良好に被着
される。
In such a structure, for example, since the diameter of the upper groove 106 is relatively small, the opening width of the lower groove 107 of the lower insulating layer 105 is increased while increasing the width of the upper insulating layer 104 as a frame portion. it can. That is, it is easy to obtain a structure in which the width of the frame portion of the upper insulating layer 104 is large and the mounting portion 102 is excellent in hermetic sealing. At the same time, the opening of the lower groove 107 (lower part of the through hole) formed in the lower insulating layer 105 can be enlarged. Therefore, for example, when plating the embedded conductor 108 in the lower groove 107 in the state of a multi-piece wiring board, the circulation of the plating solution in the through hole becomes much better, and the plating layer is formed of the embedded conductor 108. Good deposition on the exposed surface.

また、埋め込み導体108の外径(下部溝107と接触する領域)を大きくすることも容易であることから、埋め込み導体108の厚みが比較的小さくても外部接続導体109との接続される幅を広くすることがより容易である。そのため、埋め込み導体108(側面導体を含む)
と外部接続導体109との接続領域をより十分に確保して、両者間の接続信頼性をさらに効
果的に向上できる。
Further, since it is easy to increase the outer diameter of the embedded conductor 108 (the region in contact with the lower groove 107), the width of the connection with the external connection conductor 109 can be reduced even if the thickness of the embedded conductor 108 is relatively small. It is easier to widen. Therefore, embedded conductor 108 (including side conductors)
And the external connection conductor 109 can be more sufficiently secured, and the connection reliability between them can be further effectively improved.

また、母基板にレーザー加工で分割溝116を形成する場合、この上部絶縁層104の下面の露出した領域が遮蔽部として作用するため、側面導体の一部が切断される可能性が低減される。つまり、図3で示したように、レーザー加工で上部絶縁層104の主面側から分割溝116aを形成する際に、埋め込み導体108が上部絶縁層104の下面の露出した領域で遮蔽され
る。これにより、埋め込み導体108が切断される可能性が低減される。
Further, when the dividing groove 116 is formed on the mother substrate by laser processing, the exposed region of the lower surface of the upper insulating layer 104 acts as a shielding portion, so that the possibility that a part of the side conductor is cut is reduced. . That is, as shown in FIG. 3, when the dividing groove 116 a is formed from the main surface side of the upper insulating layer 104 by laser processing, the embedded conductor 108 is shielded by the exposed region on the lower surface of the upper insulating layer 104. Thereby, the possibility that the embedded conductor 108 is cut is reduced.

また、レーザー加工で下部絶縁層105の主面側から分割溝116bを形成する際には、埋め込み導体108に厚みがあり、埋め込み導体108が切断される可能性が低減される。図3に示すように、分割溝116の深さが変化する領域が埋め込み導体108の内部に存在する場合には、形成された補助導体110が導通経路としてより有効に作用することから、埋め込み導体108の導通抵抗の増加や断線を抑制する効果がさらに高くなる。   Further, when the dividing groove 116b is formed from the main surface side of the lower insulating layer 105 by laser processing, the embedded conductor 108 has a thickness, and the possibility that the embedded conductor 108 is cut is reduced. As shown in FIG. 3, when the region where the depth of the dividing groove 116 changes is present inside the buried conductor 108, the formed auxiliary conductor 110 acts more effectively as a conduction path. The effect of suppressing an increase in the conduction resistance of 108 and disconnection is further enhanced.

さらに、図3に示すように、埋め込み導体108に沿って補助導体110が形成されていてもよい。補助導体110は、例えば埋め込み導体108の上端部に接続され、埋め込み導体108と
補助導体110とが合わさって一つの導体になっている。言い換えれば、補助導体110は、埋め込み導体108の端部の径を実質的に外側に広げる機能を有する部分である。この場合に
は、補助導体110が埋め込み導体108を全周にわたって電気的に接続された構造となり、埋め込み導体108の厚みが比較的小さくても、埋め込み導体108(補助導体110を合わせた上
記の一体化された導体)が切断される可能性がより効果的に低減される。
Further, as shown in FIG. 3, an auxiliary conductor 110 may be formed along the embedded conductor 108. The auxiliary conductor 110 is connected to, for example, the upper end portion of the embedded conductor 108, and the embedded conductor 108 and the auxiliary conductor 110 are combined into one conductor. In other words, the auxiliary conductor 110 is a portion having a function of substantially expanding the diameter of the end portion of the embedded conductor 108 outward. In this case, the auxiliary conductor 110 has a structure in which the embedded conductor 108 is electrically connected over the entire circumference, and even if the thickness of the embedded conductor 108 is relatively small, the embedded conductor 108 (the above-mentioned integrated conductor 110 including the auxiliary conductor 110 is combined). The possibility that the conductor is turned off is reduced more effectively.

このような構造の電子部品収納用パッケージ(多数個取り配線基板)は、例えば次のようにして製作することができる。上部絶縁層104となるセラミックグリーンシートの各基
板領域の境界115に跨るように、上部溝106となる貫通孔を設けておく。さらに、下部絶縁層105となるセラミックグリーンシートの各基板領域の境界115に跨るように、かつ上部溝106となる貫通孔よりも大径の下部溝107となる貫通孔を設けておき、この下部溝107とな
る貫通孔内に埋め込み導体108となる金属ペースト(図示せず)を充填しておく。さらに
、下部溝107となる貫通孔よりも小径であり、上部溝106となる貫通孔よりも大径となるように、かつ埋め込み導体108となる金属ペーストが下部溝107の周囲に形成されるように、側面導体(図示せず)となる貫通孔の中央を打ち抜く。
The electronic component storage package (multi-piece wiring board) having such a structure can be manufactured as follows, for example. A through-hole serving as the upper groove 106 is provided so as to straddle the boundary 115 between the substrate regions of the ceramic green sheet serving as the upper insulating layer 104. Furthermore, a through-hole serving as a lower groove 107 having a diameter larger than that of the through-hole serving as the upper groove 106 is provided so as to straddle the boundary 115 of each substrate region of the ceramic green sheet serving as the lower insulating layer 105. A metal paste (not shown) that becomes the embedded conductor 108 is filled in the through hole that becomes the groove 107. Further, a metal paste that becomes a buried conductor 108 is formed around the lower groove 107 so as to have a smaller diameter than the through hole that becomes the lower groove 107 and a larger diameter than the through hole that becomes the upper groove 106. Next, the center of the through hole that becomes a side conductor (not shown) is punched out.

ここで、埋め込み導体108を充填法で形成したが、充填法に限定されず、金属ペースト
の粘度により塗布厚みを調整した吸引法で形成してもよい。そして、下部溝107となる貫
通孔の中心と、上部溝106となる貫通孔の中心とが平面視で重なるように、下部絶縁層105となるセラミックグリーンシートと上部絶縁層104となるセラミックグリーンシートとを
位置決めして積層することで形成することができる。これにより、埋め込み導体108の露
出した側面に沿って上部絶縁層104の下面が露出した母基板を製作することができる。
Here, the embedded conductor 108 is formed by the filling method, but the filling method is not limited to the filling method, and may be formed by a suction method in which the coating thickness is adjusted by the viscosity of the metal paste. Then, the ceramic green sheet serving as the lower insulating layer 105 and the ceramic green sheet serving as the upper insulating layer 104 so that the center of the through hole serving as the lower groove 107 and the center of the through hole serving as the upper groove 106 overlap in plan view. Can be formed by positioning and stacking. Thus, a mother substrate in which the lower surface of the upper insulating layer 104 is exposed along the exposed side surface of the buried conductor 108 can be manufactured.

また、上記の各実施形態の電子部品収納用パッケージは、下面透視において埋め込み導体108の外周に沿うように上部絶縁層104と下部絶縁層105との層間に配置されており、そ
の層間において埋め込み導体108に接続された補助導体110をさらに具備していてもよい。
In addition, the electronic component storage package of each of the above embodiments is disposed between the upper insulating layer 104 and the lower insulating layer 105 so as to be along the outer periphery of the embedded conductor 108 when viewed from below, and the embedded conductor is interposed between the layers. An auxiliary conductor 110 connected to 108 may be further provided.

このような構造とした場合には、例えば多数個取り配線基板の形態での電子部品収納用パッケージの製作時に、母基板にレーザー加工で分割溝116を形成する際に、補助導体110がレーザーの届かない上部絶縁層104と下部絶縁層105との層間に形成されているため、埋め込み導体108と補助導体110とを合わせた導体の全体が厚み方向等に切断される可能性がより効果的に低減される。   In the case of such a structure, for example, when manufacturing a package for storing electronic components in the form of a multi-piece wiring board, the auxiliary conductor 110 is made of laser when forming the dividing groove 116 by laser processing on the mother board. Since it is formed between the upper insulating layer 104 and the lower insulating layer 105 that do not reach, the entire conductor including the embedded conductor 108 and the auxiliary conductor 110 may be cut more effectively in the thickness direction, etc. Reduced.

つまり、母基板において埋め込み導体108となる貫通孔の表面付近は、レーザー加工の
条件次第ではレーザーが貫通孔を移動する際に、埋め込み導体108の厚み方向全体に照射
されて、誤って埋め込み導体108が切断される可能性があった。しかし、このような場合
でも、この形態の場合には、補助導体110まではレーザーが照射されにくいため、埋め込
み導体108が切断される可能性がより効果的に低減される。
That is, the vicinity of the surface of the through-hole that becomes the embedded conductor 108 in the mother board is irradiated to the entire thickness direction of the embedded conductor 108 when the laser moves through the through-hole depending on the laser processing conditions, and the embedded conductor 108 is mistakenly irradiated. Could be cut off. However, even in such a case, in the case of this embodiment, since the laser is difficult to be irradiated up to the auxiliary conductor 110, the possibility that the embedded conductor 108 is cut is more effectively reduced.

この補助導体110のレーザー加工時の断線抑制効果は、例えば、図3に示すような各基
板領域のコーナー部に側面導体が形成される場合だけでなく、図4に示すような各基板領域の辺部に埋め込み導体108が形成される場合も同様に効果がある。図4は、他の実施形
態電子部品収納用パッケージを製作する際の多数個取り配線基板の要部を下面から見た斜視図である。ここで、このコーナー部、辺部の両方において、埋め込み導体108を切断し
ない前提条件は、レーザー加工による溝以外の分割溝116の形成深さが、上部絶縁層104の主面からレーザー加工する場合には上部絶縁層104の厚みよりも小さく、下部絶縁層105の主面からレーザー加工する場合には下部絶縁層105の厚みよりも小さくなる構造となる場
合である。
The effect of suppressing breakage of the auxiliary conductor 110 during laser processing is not limited to the case where side conductors are formed at the corners of each substrate region as shown in FIG. The same effect is obtained when the buried conductor 108 is formed on the side. FIG. 4 is a perspective view of the main part of the multi-piece wiring board when the electronic component storage package according to another embodiment is manufactured as viewed from the lower surface. Here, the precondition that the embedded conductor 108 is not cut in both the corner portion and the side portion is that the formation depth of the division groove 116 other than the groove by laser processing is laser processing from the main surface of the upper insulating layer 104. In this case, the thickness is smaller than the thickness of the upper insulating layer 104, and when the laser processing is performed from the main surface of the lower insulating layer 105, the thickness becomes smaller than the thickness of the lower insulating layer 105.

例えば多数個取り配線基板の形態での電子部品収納用パッケージの製作時に、補助導体110は、基板領域の境界115上に形成されていれば埋め込み導体108の断線を抑制する効果
がある。そのため、基板領域のコーナー部に埋め込み導体108が形成される場合には、例
えば平面視で境界115と重なる位置に十字状に補助導体110が形成された構造でもよい。また、辺部に埋め込み導体108が形成される場合には、例えば平面視で境界115と重なる位置に一の字状に補助導体110が形成された構造でもよい。
For example, when the electronic component storage package is manufactured in the form of a multi-piece wiring board, if the auxiliary conductor 110 is formed on the boundary 115 of the board region, there is an effect of suppressing disconnection of the embedded conductor 108. Therefore, when the embedded conductor 108 is formed in the corner portion of the substrate region, for example, a structure in which the auxiliary conductor 110 is formed in a cross shape at a position overlapping the boundary 115 in a plan view may be used. Further, when the embedded conductor 108 is formed on the side portion, for example, a structure in which the auxiliary conductor 110 is formed in a single letter shape at a position overlapping the boundary 115 in plan view may be employed.

なお、上述した図3の例のように、埋め込み導体108の露出した側面に沿って上部絶縁
層104の下面の一部が露出した構造とした場合、遮蔽効果により上部絶縁層104の主面からレーザー加工する場合の断線抑制効果が高まる。この遮蔽効果は、図示しないが各配線基板領域の辺部に埋め込み導体108が形成されている場合も同様に効果がある。補助導体110は、上部絶縁層104と下部絶縁層105との層間に形成されており、搭載部102に形成される
配線導体112等にさらに接続されている。
In the case where a part of the lower surface of the upper insulating layer 104 is exposed along the exposed side surface of the buried conductor 108 as in the example of FIG. 3 described above, the main surface of the upper insulating layer 104 is shielded. The effect of suppressing disconnection when laser processing is increased. Although not shown, this shielding effect is also effective when the embedded conductor 108 is formed in the side portion of each wiring board region. The auxiliary conductor 110 is formed between the upper insulating layer 104 and the lower insulating layer 105, and is further connected to the wiring conductor 112 and the like formed on the mounting portion 102.

また、埋め込み導体108や補助導体110は、金属ペーストがガラス質を含んで緻密に焼結したものであり、セラミック部と同様に気密性に優れたものであることから、その一部が搭載部102に露出していてもよい。よって、例えば図5に示すように、埋め込み導体108が外部接続導体109側(平面視で下部溝107から絶縁基板101の中央側に離間する方向)に延
在するように形成されている場合には、埋め込み導体108と外部接続導体109との接続領域をさらに広範囲に確保でき、両者間の接続信頼性を向上できる。図5は、他の実施形態電子部品収納用パッケージを製作する際の多数個取り配線基板の要部を下面から見た斜視図である。そして、図示しないが埋め込み導体108の一部が搭載部102に露出するように搭載部102まで延在された構造とすれば、この延在された埋め込み導体108を、前述した導電路の一部として用いることもできる。また、この場合には導電路における電流の伝送方向に直交する方向における断面積が大きい導通経路として作用させることができ、配線導体112と外部接続導体109とを、埋め込み導体108を介してより低い電気抵抗となるように、良
好に接続することも可能となる。
In addition, the embedded conductor 108 and the auxiliary conductor 110 are those in which the metal paste is densely sintered including glass and is excellent in airtightness like the ceramic part. 102 may be exposed. Therefore, for example, as shown in FIG. 5, when the embedded conductor 108 is formed so as to extend to the external connection conductor 109 side (a direction away from the lower groove 107 to the center side of the insulating substrate 101 in a plan view). Can secure a wider connection area between the embedded conductor 108 and the external connection conductor 109, and can improve the connection reliability between them. FIG. 5 is a perspective view of the main part of the multi-piece wiring board when the electronic component storage package according to another embodiment is viewed from the lower surface. Although not shown, if the structure extends to the mounting portion 102 so that a part of the embedded conductor 108 is exposed to the mounting portion 102, the extended embedded conductor 108 is connected to a part of the conductive path described above. Can also be used. Further, in this case, it is possible to act as a conduction path having a large cross-sectional area in a direction orthogonal to the current transmission direction in the conduction path, and the wiring conductor 112 and the external connection conductor 109 are lower through the embedded conductor 108. It is also possible to connect well so as to achieve electrical resistance.

本発明の実施形態の電子部品収納用パッケージの製造方法について、図6〜図7を参照して説明する。この製造方法は、以下の各工程を含んでいる。すなわち、第1および第2セラミックグリーンシート201a、201bを準備する工程。第1セラミックグリーンシート201aに厚み方向に貫通する第1貫通孔203を形成するとともに、第1貫通孔203の内側面
に埋め込み導体用金属ペースト202を充填する工程。第2セラミックグリーンシート201bに厚み方向に貫通する第2貫通孔205を形成する工程。第1セラミックグリーンシート201aと第2セラミックグリーンシート201bとを、第1貫通孔203と第2貫通孔205とが上下
に連続するように積層して積層体を作製する工程。平面視における第1貫通孔203内の埋
め込み導体用金属ペースト202の一部を第1セラミックグリーンシート201aの厚み方向に打ち抜く工程と、積層体の第1セラミックグリーンシート201a側の主面に、端部が第1
貫通孔203内の埋め込み導体用金属ペースト202に接続するように外部接続導体用金属ペースト206を塗布する工程。および、第1貫通孔203および第2貫通孔205を通るように積層
体を積層体の厚み方向に分割する工程を含んでいる。
A method for manufacturing an electronic component storage package according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. This manufacturing method includes the following steps. That is, a step of preparing the first and second ceramic green sheets 201a and 201b. Forming a first through-hole 203 penetrating in the thickness direction in the first ceramic green sheet 201a and filling the inner surface of the first through-hole 203 with a buried conductive metal paste 202; Forming a second through hole 205 penetrating in the thickness direction in the second ceramic green sheet 201b; A step of producing a laminated body by laminating the first ceramic green sheet 201a and the second ceramic green sheet 201b so that the first through hole 203 and the second through hole 205 are continuous vertically. A part of the embedded conductor metal paste 202 in the first through hole 203 in plan view is punched in the thickness direction of the first ceramic green sheet 201a, and the main surface of the laminate on the first ceramic green sheet 201a side is First part
A step of applying an external connection conductor metal paste 206 so as to be connected to the embedded conductor metal paste 202 in the through hole 203. And the process of dividing | segmenting a laminated body in the thickness direction of a laminated body so that the 1st through-hole 203 and the 2nd through-hole 205 may be passed is included.

このような製造方法によれば、上記工程を有していることから、電子部品収納用パッケージ(絶縁基板101)の小型化による側面導体(埋め込み導体108の側面における露出部)と外部接続導体109との導電性の低下や断線を抑制できる。そのため、電子部品103に対するグランドの安定性やシールド性が高められるとともに、電気めっきによる各配線基板へのめっき層の被着性に優れた電子部品収納用パッケージを製造することができる。   According to such a manufacturing method, since the above steps are included, the side conductor (exposed portion on the side surface of the embedded conductor 108) and the external connection conductor 109 due to the downsizing of the electronic component storage package (insulating substrate 101). It is possible to suppress a decrease in electrical conductivity and disconnection. Therefore, the stability of the ground for the electronic component 103 and the shielding property can be improved, and an electronic component storage package excellent in the adhesion of the plating layer to each wiring board by electroplating can be manufactured.

前述したように、複数個の実施形態の電子部品収納用パッケージが互いに平面上に配列されたものが多数個取り配線基板である。上記の実施形態の製造方法は、この多数個取り配線基板の形態による電子部品収納用パッケージの製造方法である。すなわち、多数個取り基板が個片に分割されて、複数個の電子部品収納用パッケージが製作される。   As described above, a multi-piece wiring board is obtained by arranging a plurality of electronic component storage packages of a plurality of embodiments on a plane. The manufacturing method of the above embodiment is a manufacturing method of an electronic component storage package in the form of the multi-piece wiring board. That is, a multi-piece substrate is divided into individual pieces to produce a plurality of electronic component storage packages.

このような工程について、図6(a)〜(e)、および図7(a)、(b)を参照して工程順に詳細に説明する。   Such steps will be described in detail in the order of steps with reference to FIGS. 6A to 6E and FIGS. 7A and 7B.

まず初めに、図6(a)のように平板状の第1セラミックグリーンシート201aを準備
する。
First, as shown in FIG. 6A, a flat first ceramic green sheet 201a is prepared.

次に、図6(b)のように、第1セラミックグリーンシート201aの所定の位置に下部
溝107となる第1貫通孔203をパンチング(金型を用いた機械的な加工)等の孔あけ加工により形成する。
Next, as shown in FIG. 6 (b), the first through-hole 203 serving as the lower groove 107 is formed at a predetermined position of the first ceramic green sheet 201a by punching (mechanical processing using a mold) or the like. Formed by processing.

次に、図6(c)のように、第1貫通孔203内に上記の埋め込み導体108となる金属ペースト(埋め込み導体用金属ペースト202)を充填する。より具体的には、例えば次の通り
である。まず、第1セラミックグリーンシート201aの上に埋め込み治具(図示せず)を
載置する。埋め込み治具は、例えば金属板からなり、埋め込み導体用金属ペースト202を
局所的に吸引するための複数の孔が形成されている。その後、例えば、スクリーン印刷法により、第1貫通孔203内に埋め込み導体用金属ペースト202を充填する。ここで、その充填方法は、スクリーン印刷法のみには限定されず、吸引法や圧入法などを採用してもよい。
Next, as shown in FIG. 6C, the first through-hole 203 is filled with a metal paste to be the embedded conductor 108 (embedded conductor metal paste 202). More specifically, for example, as follows. First, an embedding jig (not shown) is placed on the first ceramic green sheet 201a. The embedding jig is made of a metal plate, for example, and has a plurality of holes for locally sucking the embedded conductor metal paste 202. Thereafter, the embedded conductor metal paste 202 is filled into the first through holes 203 by, for example, screen printing. Here, the filling method is not limited to the screen printing method, and a suction method, a press-fitting method, or the like may be employed.

次に、図6(d)のように、第1貫通孔203内に埋め込み導体用金属ペースト202を充填した第1セラミックグリーンシート201aに、この第1貫通孔203を覆うように上記の補助導体110となる金属ペースト(補助導体用金属ペースト204)を印刷、塗布等の方法で形成する。   Next, as shown in FIG. 6 (d), the above-mentioned auxiliary conductor is covered with a first ceramic green sheet 201a filled with the embedded conductor metal paste 202 in the first through hole 203 so as to cover the first through hole 203. A metal paste (auxiliary conductor metal paste 204) to be 110 is formed by a method such as printing or coating.

このとき、補助導体用金属ペースト204は、基板領域(符号なし)の境界115上に形成されていれば埋め込み導体108の断線(埋め込み導体用金属ペースト202の切断)をより確実に抑制する効果がある。そのため、各基板領域のコーナー部に埋め込み導体108を形成す
る場合には、例えば多数個取り配線基板において平面視で境界115と重なる位置に十字状
に補助導体110が形成された構造となるように、補助導体用金属ペースト204を形成してもよい。また、基板領域の辺部に埋め込み導体108を形成する場合には、例えば多数個取り
配線基板において平面視で境界115と重なる位置に一の字状に補助導体110が形成された構造となるように、補助導体用金属ペースト204を形成してもよい。
At this time, if the auxiliary conductor metal paste 204 is formed on the boundary 115 of the substrate region (no symbol), the effect of more reliably suppressing disconnection of the embedded conductor 108 (cutting of the embedded conductor metal paste 202) is obtained. is there. Therefore, when the embedded conductor 108 is formed in the corner portion of each substrate region, for example, the auxiliary conductor 110 is formed in a cross shape at a position overlapping the boundary 115 in plan view in the multi-piece wiring substrate. Alternatively, the auxiliary conductor metal paste 204 may be formed. Further, when the embedded conductor 108 is formed in the side portion of the board region, for example, the auxiliary conductor 110 is formed in a single letter shape at a position overlapping the boundary 115 in plan view on the multi-piece wiring board. Further, the auxiliary conductor metal paste 204 may be formed.

次に、図6(e)のように、第2セラミックグリーンシート201bを準備するとともに
、その第2セラミックグリーンシート201bに搭載部102を取り囲む枠部となる開口部(符号なし)を形成した後、下部溝107となる第1貫通孔203の中心と、次の工程で上部溝106
となる第2貫通孔205を形成する予定位置の中心とが平面視で重なるように、第1セラミ
ックグリーンシート201aと第2セラミックグリーンシート201bとを位置決めして積層す
る。
Next, as shown in FIG. 6E, after the second ceramic green sheet 201b is prepared, an opening (not shown) serving as a frame surrounding the mounting portion 102 is formed in the second ceramic green sheet 201b. The center of the first through hole 203 to be the lower groove 107 and the upper groove 106 in the next step
The first ceramic green sheet 201a and the second ceramic green sheet 201b are positioned and laminated so that the center of the planned position where the second through hole 205 to be formed overlaps in plan view.

次に、図7(a)のように、第2セラミックグリーンシート201bの上面に枠状メタラ
イズ層111となる金属ペーストを印刷、塗布等の方法で形成するとともに、外部接続導体109となる外部接続導体用金属ペースト206を印刷、塗布等の方法で形成する。この形成時
には、外部接続導体用金属ペースト206を、埋め込み導体用金属ペースト202と接続されるように形成する。
Next, as shown in FIG. 7A, a metal paste that becomes the frame-like metallized layer 111 is formed on the upper surface of the second ceramic green sheet 201b by a method such as printing or coating, and an external connection that becomes the external connection conductor 109. The conductor metal paste 206 is formed by a method such as printing or coating. In this formation, the external connection conductor metal paste 206 is formed so as to be connected to the embedded conductor metal paste 202.

その後、積層した第1セラミックグリーンシート201aと第2セラミックグリーンシー
ト201bとからなる積層体において、上部溝106となる第2貫通孔205の形成予定位置と下
部溝107の第1貫通孔203内に埋め込んだ埋め込み導体用金属ペースト202とを一括して打
抜き加工する。この打ち抜き面は、上部溝106の内側面と下部溝107の内側面の埋め込み導体108の表面(内側面)になる。これにより、上部溝106の内側面と埋め込み導体108の露
出する側面とが同じ面上に位置した、多数個取り配線基板となる積層体を製作することができる。
Thereafter, in the laminated body composed of the laminated first ceramic green sheet 201a and second ceramic green sheet 201b, the formation position of the second through hole 205 to be the upper groove 106 and the first through hole 203 of the lower groove 107 are formed. The embedded conductive metal paste 202 is embedded and punched. This punched surface becomes the surface (inner surface) of the embedded conductor 108 on the inner surface of the upper groove 106 and the inner surface of the lower groove 107. As a result, it is possible to manufacture a multilayer body that becomes a multi-piece wiring substrate in which the inner side surface of the upper groove 106 and the exposed side surface of the embedded conductor 108 are located on the same surface.

次に、図7(b)のように、絶縁基板101となる基板領域が配列された積層体に、各基
板領域を個片に分割するために、その主面に分割溝116を形成する。分割溝116は、金型やカッター刃等の機械加工や、レーザー加工等により形成される。上述したように分割溝116をレーザー加工で形成するとともに、下部溝107に側面導体を含む埋め込み導体108(埋
め込み導体用金属ペースト202等)を設ける場合には、埋め込み導体108等の導体部分(金属ペースト部分)の厚みが比較的大きいため、その導体部分の一部が厚み方向に切断される可能性を低減することができる。
Next, as shown in FIG. 7B, a dividing groove 116 is formed on the main surface of the stacked body in which the substrate regions to be the insulating substrate 101 are arranged in order to divide each substrate region into pieces. The dividing groove 116 is formed by machining such as a mold or a cutter blade, laser processing, or the like. As described above, when the dividing groove 116 is formed by laser processing and the embedded conductor 108 including the side conductor (such as the embedded conductor metal paste 202) is provided in the lower groove 107, a conductor portion (metal) such as the embedded conductor 108 is provided. Since the thickness of the paste portion) is relatively large, the possibility that a part of the conductor portion is cut in the thickness direction can be reduced.

また、埋め込み導体108に沿って補助導体110(補助導体用金属ペースト204)を形成す
る場合には、上記の積層体においてこの補助導体110が基板領域同士の境界115を跨いで埋め込み導体108に電気的に接続した構造となる。そのため、埋め込み導体108の厚みが比較的小さくても、レーザー加工による分割溝の形成時に、レーザー光の照射等によって埋め込み導体108(上記金属ペースト)を誤って切断してしまうような可能性がより効果的に
低減される。
When the auxiliary conductor 110 (auxiliary conductor metal paste 204) is formed along the embedded conductor 108, the auxiliary conductor 110 is electrically connected to the embedded conductor 108 across the boundary 115 between the substrate regions in the laminate. Connected structure. Therefore, even if the thickness of the embedded conductor 108 is relatively small, there is a possibility that the embedded conductor 108 (the metal paste) may be accidentally cut due to laser light irradiation or the like when forming the division grooves by laser processing. Effectively reduced.

このような積層体は、高温で焼成することにより基板領域が配列された多数個取り配線基板となる。この多数個取り配線基板の主面に形成された分割溝116に沿って、第1貫通
孔203(下部溝107となる部分)、および第2貫通孔205(上部溝106となる部分)を通るように、多数個取り配線基板(母基板)の厚み方向に分割することにより、側面導体と外部接続導体109との接続信頼性が高い複数の電子部品収納用パッケージを同時に製作するこ
とができる。すなわち、本実施形態の製造方法によれば、上記実施形態の電子部品収納用パッケージを、高い生産性で製作することができる。
Such a laminated body becomes a multi-piece wiring substrate in which substrate regions are arranged by baking at a high temperature. Along the dividing grooves 116 formed on the main surface of the multi-cavity wiring board, the first through holes 203 (portions that become the lower grooves 107) and the second through holes 205 (portions that become the upper grooves 106) pass. As described above, by dividing the multi-piece wiring board (mother board) in the thickness direction, a plurality of electronic component storage packages having high connection reliability between the side conductors and the external connection conductors 109 can be manufactured simultaneously. That is, according to the manufacturing method of the present embodiment, the electronic component storage package of the above embodiment can be manufactured with high productivity.

なお、本発明は上述の実施の形態の一例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば種々の変更は可能である。例えば、上述の実施の形態の一例では、絶縁基板101の形状を長辺と短辺が異なる長方形状としたが、正方形状としてもよい。ま
た、絶縁基板101を2層の絶縁層(下部および上部絶縁層105,104)から構成したが、電
子部品103の収容形態に合わせて3層以上の絶縁層から構成してもよい。また、外部接続
導体109は絶縁基板101の下面において各コーナー部の4箇所に形成したが、電子部品103
の用途、端子数にあわせてその他の位置に4箇所以外で形成してもよい。また、枠状メタライズ層111の上面に蓋体113をシーム溶接で接合するために、四角枠状の鉄−ニッケル−コバルト合金金属からなる金属枠体(図示せず)をろう材により接合した構造としてもよい。
Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. For example, in the example of the above-described embodiment, the shape of the insulating substrate 101 is a rectangular shape having different long sides and short sides, but may be a square shape. Further, although the insulating substrate 101 is composed of two insulating layers (lower and upper insulating layers 105 and 104), it may be composed of three or more insulating layers in accordance with the accommodation form of the electronic component 103. Further, although the external connection conductor 109 is formed at the four corners of the bottom surface of the insulating substrate 101, the electronic component 103
Depending on the application and the number of terminals, it may be formed at other positions other than four locations. Further, in order to join the lid 113 to the upper surface of the frame-like metallized layer 111 by seam welding, a metal frame (not shown) made of iron-nickel-cobalt alloy metal having a square frame shape is joined with a brazing material. It is good.

101・・・絶縁基板
102・・・搭載部
103・・・電子部品
104・・・上部絶縁層
105・・・下部絶縁層
106・・・上部溝
107・・・下部溝
108・・・埋め込み導体
109・・・外部接続導体
110・・・補助導体
111・・・枠状メタライズ層
112・・・配線導体
113・・・蓋体
114・・・接合材
201a・・・第1セラミックグリーンシート
201b・・・第2セラミックグリーンシート
202・・・埋め込み導体用金属ペースト
203・・・第1貫通孔
204・・・補助導体用金属ペースト
205・・・第2貫通孔
206・・・外部接続導体用金属ペースト
101 ・ ・ ・ Insulating substrate
102 ・ ・ ・ Mounting part
103 ... Electronic components
104 ... Upper insulating layer
105 ... Lower insulation layer
106 ・ ・ ・ Upper groove
107 ... Lower groove
108 ... Built-in conductor
109 ・ ・ ・ External connection conductor
110 ... Auxiliary conductor
111 ・ ・ ・ Frame metallization layer
112 ・ ・ ・ Wiring conductor
113 ・ ・ ・ Cover
114 ・ ・ ・ Bonding material
201a ... 1st ceramic green sheet
201b 2nd ceramic green sheet
202 ・ ・ ・ Metal paste for embedded conductor
203 ... 1st through hole
204 ・ ・ ・ Metal paste for auxiliary conductor
205 ... Second through hole
206 ・ ・ ・ Metal paste for external connection conductor

Claims (3)

上面に電子部品が搭載される搭載部を有する下部絶縁層と、該下部絶縁層上に前記搭載部を取り囲むように積層された枠状の上部絶縁層と、前記下部絶縁層の下面の外周部に設けられた外部接続導体とを具備しており、
前記上部絶縁層の外側面に、該外側面の下端から上端にかけて上部溝が形成されており、前記下部絶縁層の側面に、平面視で前記上部溝と重なる位置において前記側面の下端から上端にかけて前記上部溝よりも大径の下部溝が形成されており、
前記下部溝の内側面の下端から上方向に設けられているとともに、下端部が前記外部接続導体と接続されている埋め込み導体をさらに有し、
該埋め込み導体が前記上部絶縁層側に傾斜する傾斜部を有しており、
前記埋め込み導体が前記下部溝の下端から上端にかけて設けられており、前記上部溝の内側面と前記埋め込み導体の露出する側面とが同じ面上に位置していることを特徴とする電子部品収納用パッケージ。
A lower insulating layer having a mounting portion on which an electronic component is mounted on the upper surface, a frame-shaped upper insulating layer laminated on the lower insulating layer so as to surround the mounting portion, and an outer peripheral portion of the lower surface of the lower insulating layer And an external connection conductor provided in
An upper groove is formed on the outer surface of the upper insulating layer from the lower end to the upper end of the outer surface, and on the side surface of the lower insulating layer from the lower end to the upper end of the side surface at a position overlapping the upper groove in plan view. A lower groove having a larger diameter than the upper groove is formed,
The lower groove further includes a buried conductor that is provided upward from the lower end of the inner surface of the lower groove, and the lower end portion is connected to the external connection conductor,
The buried conductor has to have a slope portion inclined in the upper insulating layer side,
Said buried conductor is provided toward the upper end from the lower end of said lower groove, the electronic component housing in which the sides to expose the buried conductor and the inner surface of the upper groove is characterized that you have located on the same plane package.
下面透視において前記埋め込み導体の外周に沿うように前記上部絶縁層と前記下部絶縁層との層間に配置されており、該層間において前記埋め込み導体に接続された補助導体をさらに具備していることを特徴とする請求項1に記載の電子部品収納用パッケージ。 It is disposed between the upper insulating layer and the lower insulating layer so as to follow the outer periphery of the embedded conductor in a bottom perspective, and further includes an auxiliary conductor connected to the embedded conductor between the layers. The electronic component storage package according to claim 1, wherein: 第1および第2セラミックグリーンシートを準備する工程と、
第1セラミックグリーンシートに厚み方向に貫通する第1貫通孔を形成するとともに、該第1貫通孔の内側面に金属ペーストを充填する工程と、
前記第2セラミックグリーンシートに厚み方向に貫通する第2貫通孔を形成する工程と、前記第1セラミックグリーンシートと前記第2セラミックグリーンシートとを、前記第1貫通孔と前記第2貫通孔とが上下に連続するように積層して積層体を作製する工程と、
平面視における前記第1貫通孔内の前記金属ペーストの一部を前記第1セラミックグリーンシートの厚み方向に打ち抜く工程と、
前記積層体の前記第1セラミックグリーンシート側の主面に、端部が前記第1貫通孔内の前記金属ペーストに接続するように金属ペーストを塗布する工程と、
前記積層体の前記第1セラミックグリーンシート側の主面に、前記第1貫通孔の内側に向かって深さが漸次大きくなる領域を前記金属ペーストに有するように分割溝を形成する工程と、
前記第1貫通孔および前記第2貫通孔を通るように前記積層体を該積層体の厚み方向に分割する工程とを備えることを特徴とする電子部品収納用パッケージの製造方法。
Preparing first and second ceramic green sheets;
Forming a first through hole penetrating in a thickness direction in the first ceramic green sheet, and filling an inner surface of the first through hole with a metal paste;
Forming a second through-hole penetrating in the thickness direction in the second ceramic green sheet; the first ceramic green sheet and the second ceramic green sheet; the first through-hole and the second through-hole; Are stacked so that are vertically continuous, and a laminate is manufactured,
Punching a part of the metal paste in the first through hole in a plan view in the thickness direction of the first ceramic green sheet;
Applying a metal paste to the main surface of the laminate on the first ceramic green sheet side so that an end thereof is connected to the metal paste in the first through hole;
Forming a dividing groove on the main surface of the laminate on the first ceramic green sheet side so that the metal paste has a region where the depth gradually increases toward the inside of the first through hole;
And a step of dividing the laminated body in the thickness direction of the laminated body so as to pass through the first through hole and the second through hole.
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