JP6481025B2 - アブレーション形成印を持つ電気光学素子およびその製造方法 - Google Patents

Description

本開示は、後方視野表示装置、可変透過ウィンドウおよびその他の用途に用いることができる電気光学素子および組立品に一般的に関連する。

電気光学素子および組立品は、例えば、後方視野表示装置および可変透過ウィンドウ内など、さまざまな車両および建築用途に使用されている。これらの組立品のさまざまな用途での使用は、費用、ならびに審美的および機能的な配慮によって限定される可能性がある。従って、新しい電気光学素子および組立品のデザインおよび構成、ならびにそれらの製造方法が、特に、材料および処理費用の低減、審美性の改善および／または機能性の向上の点から必要とされている。

本開示の一態様によると、第一の表面を持つ第一の基材、およびその上に配置された第一の導電部分持つ第二の表面を含む第一の電気光学素子が提供されている。素子は、第三の表面、第四の表面、および少なくとも第三の表面上に配置された第二の導電部分を持つ第二の基材も含む。プライマリシールが第二と第三の表面の間にあり、シールならびに第二および第三の表面が空洞を画定する。電気光学媒体は空洞内に配置されている。さらに、第二の表面は、その上の電気光学媒体と第二の表面との間に配置された少なくとも一つの印をさらに含む。

本開示の別の態様によると、第一の表面および第二の表面を持つ第一の基材を提供する工程と、第三の表面および第四の表面を含む第二の基材を提供する工程と、第二の表面の少なくとも一部分の上方に第一の導電部分を形成する工程と、第三の表面の少なくとも一部分の上方に第二の導電部分を形成する工程とを含むプロセスによって準備される電気光学素子が提供されている。プロセスには、第二の表面と第三の表面との間にプライマリシールを提供して空洞を画定する工程と、第二の表面の少なくとも一部分の上方の第二の表面とプライマリシールとの間にスペクトルフィルターを形成する工程と、スペクトルフィルターのレーザー部分でアブレーションして電気光学素子の可視部分および可視部分に少なくとも一つの印を画定する工程と、空洞に電気光学媒体を充填して電気光学素子を形成する工程も含む。

本開示のまた別の態様によると、第一の表面および第二の表面を持つ第一の基材を持つ電気光学素子であって、第二の表面が第一の導電部分を持つ電気光学素子が提供されている。第二の基材は第三の表面および第四の表面を持ち、第三の表面は第二の導電部分を持つ。シールは第二の表面と第三の表面との間に配置される。シールならびに第二および第三の表面が空洞を画定し、電気光学媒体が空洞内に配置されている。第二の表面は、（ｉ）プライマリシールと第二の表面との間に配置されたスペクトルフィルターおよび（ｉｉ）その上の電気光学媒体と第二の表面との間に配置された少なくとも一つの印をさらに含み、少なくとも一つの印はスペクトルフィルターと物理的に接触している。

一部の実施では、電気光学素子は、スペクトルフィルターが第一の導電部分の上方に配置されるように、第一の導電部分を形成する工程が、スペクトルフィルターを形成する工程の前に実施されるプロセスによって準備される。特定の実施では、素子は、第一の導電部分がスペクトルフィルターの上方に配置されるように、第一の導電部分を形成する工程が、スペクトルフィルターを形成する工程の後に実施されるプロセスによって準備される。

本発明のこれらおよびその他の特徴、利点、および目的は、以下の明細書、特許請求の範囲、および添付図面を参照することにより、当業者によってさらに理解および認識される。

本開示は、詳細な説明および添付図面から、より完全に理解される。

本開示の態様による、二つの電気光学素子の平面図である。 本開示の態様による、図１に示された素子の一つの断面図である。 本開示のさらなる態様による、図１に示されたもう一方の素子の断面図である。

図示した本発明の実施形態は、導電シールを持つ電気光学組立品に関する、さまざまな装置構成要素、およびそれらの製造方法の組み合わせに、主として属する。したがって、装置構成素子および方法ステップが説明されており、必要に応じて図中の慣習的な符号により、本開示の実施形態の理解に関係のある特定の詳細のみを示すことで、当業者が容易に理解して本明細書中の説明の利益を得るであろう詳細な開示が不明瞭にならないようにする。さらに、説明および図面にある同様の数字は同様の要素を表す。

この明細書では、関連する用語、例えば、第１および第２、上および下などは、１つの構成素子または動作を他の構成素子または動作と区別するために、単独で用いられるもので、そのような複数の構成素子または動作の間での実際の相互関係または順序を必ずしも要求または包含するものではない。用語「含む（“ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ”、“ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ”）」またはその用語の他のバリエーションは、列挙される複数の要素を含むプロセス、方法、物品、または装置がそれらの要素のみを含むものではなく、はっきりと列挙されていない、またはそのようなプロセス、方法、物品、もしくは装置にとって固有のものではない他の要素を含んでもよいように、非排他的包含を範囲とすることを意図している。「１つの・・・を含む」が前に付く要素は、それ以上の制約なしに、その要素を含むプロセス、方法、物品、または装置の追加的な同一要素の存在を除外しない。

図１、２Ａおよび２Ｂを参照すると、電気光学素子が参照識別子１００ａ、１００ｂで一般的に示されている。図１は、シール１７８を見えなくするかまたはマスクするために、スペクトルフィルター部分１９６が観察者とプライマリシール１７８との間に位置付けられている、平面図の第一の基材１０２に向かって見た電気光学素子１００ａ、１００ｂを示す。一部の実施形態では、素子１００ａ、１００ｂは、スペクトルフィルター部分１９６を含まない場合がある。素子１００ａ、１００ｂは図１にも示されており、印１０１が素子の可視部分にある。素子１００ａ、１００ｂの可視部分は、スペクトルフィルター部分１９６によって取り囲まれたエリアを実質的に含む。印１０１は、光が素子を透過する時、および素子が照射されていないかまたはバックライトが付いていない時に目に見える。図示された実施形態では、一つの印１０１（矢印）は、スペクトルフィルター部分１９６と物理的に接触しているか、またはそれによって画定されており、二つの印１０１（星および識別子）はそうでない。電気光学素子１００ａ、１００ｂは、示されるよりも多いまたは少ない印１０１を含む場合があり、印１０１のすべて、または一部のみがスペクトルフィルター部分１９６から理解されるべきである。本明細書で使用される場合、プライマリシール１７８は、素子１００ａ、１００ｂ内に電気光学媒体１１０が充填された後に用いられるプラグを含む場合がある。同様に、素子１００ａ、１００ｂは、観察者とプライマリシール１７５との間に位置付けられたスペクトルフィルター部分１２４、１３６を含むことができる（図２Ａおよび２Ｂを参照）。電気光学媒体１１０は、当業者によって理解されるように、少なくとも一つの溶媒、少なくとも一つの陽極材料、および少なくとも一つの陰極材料を含むことができる。特定の態様では、陽極材料および陰極材料は、両方とも電気活性材料であり、また、それらの少なくとも一つはエレクトロクロミック酸化反応または還元反応によって特徴付けられる。さらに、ラミネート基材間の間隔を制御する非導電および導電間隔媒体が、（例えば、シール材料が電気光学素子１００ａ、１００ｂ内に分配される前または後に）プライマリシール１７５、１７８の中に配置される場合がある。

図２Ａ、２Ｂは、より詳細を提供するために図１に示された素子の拡大断面図として、例示的電気光学素子１００ａ、１００ｂを示す。素子１００ａ、１００ｂはそれぞれ、第一の表面１０４および第二の表面１０６を持つ第一の基材１０２を含む。ほとんどの態様では、基材１０２は実質的に透明である。一態様では、図２Ａおよび２Ｂに示されるように、第一の導電部分１０８および第二の導電部分１３０が第二の表面１０６に適用され、第一の分離エリア１４０によって実質的に、お互いから電気的に絶縁されている。少なくとも一つの実施形態では、分離エリア１４０は、導電部分１０８および１１８の上またはその間にあって、電気的に分離しており、したがって導電部分１０８、１１８がお互いに電気的に接触するのを防ぐように配置することができる。このように、第一の分離エリア１４０は、第二の表面１０６上の電極材料の部分を除去して、または除去することなく画定または作ることができる。分離エリア１４０および第二の導電部分１３０は本開示のすべての態様で必要なわけではないことも理解されるべきである。例えば、第一の導電部分１０８を一方に、導電材料１４８および第一の電気クリップ１６３をもう一方に配置すると、それらがお互いに電気的に接触しなくなり、分離エリア１４０の必要性をなくすことができる。スペクトルフィルター部分１９６、およびスペクトルフィルター部分１２４、１３６は、導電部分１０８を導電部分１１８から電気的に分離するために、電気的絶縁材料も含むことができる。

図２Ａおよび２Ｂに示された例示的電気光学素子１００ａ、１００ｂでは、第一の分離エリア１４０の一部分が、その中心の近くに位置するプライマリシール１７５の一部分内に平行に延長していることが示されている。本明細書で使用される場合、プライマリシール１７５は、電気光学媒体１１０が素子１００ａ、１００ｂ内に導入された後に導入されるプラグも含む場合があることが理解されるべきである。分離エリア１４０のこの部分は、観察者がスペクトルフィルター部分１２４、１３６の間の線に簡単に気付かないように置くことができる。例えば、分離エリア１４０の一部分は、スペクトルフィルター部分１２４の内側縁と実質的に整列する場合がある。分離エリア１４０の任意の部分がプライマリシール１７５の内側に位置する時、電気光学媒体１１０の色の断続および／または除去が観察される場合があることが理解されるべきである。主観的に見た目が良い要素をもたらすために、この動作特性を操作することができる。分離エリア１４０は、目で簡単に見えるものより小さな寸法（例えば、幅１０μｍ未満）であってもよい。

図２Ａおよび２Ｂをさらに参照すると、例示的電気光学素子１００ａ、１００ｂは、第三の表面１１６および第四の表面１１４を持つ第二の基材１１２を含むことが示されている。図２Ａおよび２Ｂに示されるように、第一の基材１０２は、組立品の周囲の少なくとも一部分に沿ってオフセットを作るために、第二の基材１１２よりも大きい場合がある。同様に、第二の基材１１２は第一の基材１０２と同じサイズであるか、または大きい可能性がある。一部の態様では、米国特許出願第第２０１４／００５５８３６号（これは本出願内での参照により、その全体が本明細書に組み込まれる）に詳述されるように、第一の基材１０２は、第二の基材１１２を隠すまたはマスクするように（例えば、連続的に精密な形状を持つ縁を伴って）成形することができる。

さらに、例示的電気光学素子１００ａ、１００ｂの特定用途は、ウィンドウ用途など、実質的に透明な第二の基材１１２を持つことが望ましい場合がある。第三および第四の導電部分１１８、１８７はそれぞれ、第三の表面１１６に隣接して示されており、第二の分離エリア１８６で実質的に電気的に絶縁されている。第二の分離エリア１８６の一部分は、その中心の近くに位置するプライマリシール１７８の一部分内に平行に延長することが示されている。さらに、第二の分離エリア１８６この部分は、観察者がスペクトルフィルター材料内の線に簡単に気付かないように置くことができる。例えば、第二の分離エリア１８６の一部分は、スペクトルフィルター部分１９６の内側縁１９７と実質的に整列する場合がある。一部の実施では、分離エリア１８６は、第四の導電部分１８７を排除するような方法で第二の基材１１２の外向き縁へと延長する場合がある。その他の実施では、第二の分離エリア１８６および第四の導電部分１８７は存在しない場合がある。例えば、第三の導電部分１１８を一方に、導電材料１４８および第二の電気クリップ１８４をもう一方に配置すると、それらがお互いに電気的に接触しなくなり、第二の分離エリア１８６の必要性をなくすことができる。図２Ａおよび２Ｂにさらに示されるように、選択的反射材料１２０を、オーバーコート１２２（これも選択的）と第三の導電部分１１８との間に適用してもよい。

図２Ａおよび２Ｂに示される例示的電気光学素子１００ａ、１００ｂをさらに参照すると、第一の分離エリア１４０はプライマリシール１７５の一部分と連携して、それぞれが第一の導電部分１０８および第一のスペクトルフィルター部分１２４から実質的に電気的に絶縁された、第二の導電部分１３０および第二のスペクトルフィルター材料部分１３６を画定する。この構成は、プライマリシール１７５と接触している第一の電気クリップ１６３が、導電材料１４８、第三の導電部分１１８、第二の導電部分１３０、および電気光学媒体１１０とさらに電気通信するように、導電材料１４８（例えば、銀含有導電性エポキシ）をプライマリシール１７５に隣接して配置することを可能にする。第三の導電部分１１８および導電材料１４８を形成する材料、または材料の組成物は、クリップ１６３と電気光学媒体１１０につながる材料との間に持続的な電気通信を促進するように選択されることが好ましい。

さらに図２Ａおよび２Ｂを参照すると、例示的電気光学素子１００ａ、１００ｂの第二の分離エリア１８６はプライマリシール１７８の一部分と連携して、第三の導電部分１１８、反射層１２０、選択的オーバーコート１２２および電気光学媒体１１０から実質的に電気的に絶縁された第四の導電部分１８７（存在する場合）を画定する。この構成は、第二の電気クリップ１８４が導電材料１４８、第一のスペクトルフィルター部分１２４、第一の導電部分１０８および電気光学媒体１１０と電気通信するように、導電材料１４８をプライマリシール１７８に隣接して配置することを可能にする。導電材料１４８および第一の導電部分１０８を形成する材料、または材料の組成物は、クリップ１８４と電気光学媒体１１０につながる材料との間に持続的な電気通信を促進するように選択されることが好ましい。

本開示の一態様によると、第一の表面１０４、およびその上に配置された複数の導電部分１０８、１３０を含む第二の表面１０６を含む第一の基材１０２を含む図２Ａおよび２Ｂの例示的形態に示された電気光学素子１００ａ、１００ｂが提供されている。特定の態様では、部分１０８、１３０は、分離エリア１４０によってお互いに実質的に分離されている。分離エリア１４０は、特定の態様では、導電材料が実質的に欠けている。素子１００ａ、１００ｂは、第三の表面１１６、第四の表面１１４、および少なくとも第三の表面１１６上に配置された導電部分１１８を持つ第二の基材１１２も含む。導電部分１８７は、一部の実施では、第三の表面１１６上にも配置することができる。電気光学素子１００ａ、１００ｂは、それぞれ第二および第三の表面１０６、１１６の間にプライマリシール１７５、１７８部分も含み、シール１７５、１７８ならびに第二および第三の表面１０６、１１６は空洞を画定する。素子１００ａ、１００ｂは、空洞内に配置された電気光学媒体１１０をさらに含む。さらに第二の表面１０６は、その上の、プライマリシール１７５、１７８の部分と第二の表面１０６との間に配置されたスペクトルフィルターをさらに含む。特定の態様では、スペクトルフィルターは、分離エリア１４０によって互いに実質的に分離された第一および第二のスペクトルフィルター１２４、１３６、ならびにプライマリシール１７８上方のスペクトルフィルター部分１９６を含むことができる。第二の表面１０６は、その上の電気光学媒体１１０と第二の表面１０６との間に配置された少なくとも一つの印１０１も含む。

図２Ａおよび２Ｂに示される電気光学素子１００ａ、１００ｂのこれらの態様では、スペクトルフィルター部分１２４、１３６は、少なくともプライマリシール１７５および導電材料１４８の部分を（目のシンボルで示される）観察者から見えなくするまたはマスクするような材料から成る、および／またはそのような寸法に構成される。同様に、スペクトルフィルター部分１９６は、少なくともプライマリシール１７８および導電材料１４８の部分を観察者から見えなくするまたはマスクするような材料から成る、および／またはそのような寸法に構成される。従って、スペクトルフィルター部分１２４、１３６および１９６は、光透過率が低い不透明または鏡のような成分（例えば、クロム含有コーティング、光沢のある金属またはその他の鏡のようなコーティング）で作製されるかまたはそうでなければそのような成分を含むことができる。

またさらに、これらの態様による例示的電気光学素子１００ａ、１００ｂは、第二の表面１０６上に配置された一つ以上の印１０１も含む。より具体的には、印１０１は第二の表面１０６と電気光学媒体１１０との間に位置する。スペクトルフィルター部分１２４、１３６および１９６と同様に、印１０１は光透過率が低い不透明または鏡のような成分で作製されるかまたはそうでなければそのような成分を含む。一部の実施では、印１０１を形成するために用いられる材料は、スペクトルフィルター部分１２４、１３６および１９６に用いられる材料と類似しているかまたは同じである可能性がある。特定実施形態によると、印１０１は、印１０１を含まない素子１００ａ、１００ｂの領域、およびスペクトルフィルター部分１２４、１３６および１９６が照射されるか、そうでなければ観察者に向かって可視光を通過させる時、観察者に見える一つ以上の形状（例えば、星、アイコンおよびその他のシンボル）に構成される場合がある。印１０１は、素子１００ａ、１００ｂにバックライトが付いていないかまたはそうでなければ照射されていない時にも見ることができる。印１０１は、電気光学素子１００ａ、１００ｂに関連するデータ（例えば、部品番号、ロット番号、部品タイプ、製造業者、モデル）を示す一つ以上の識別子（例えば、１次元バーコード、２次元バーコード、ＱＲコード（登録商標）、その他の形態の機械可読コード、ロゴタイプ、グラフィック、エンブレム、またはテキスト）として構成することもできる。識別子実施形態の印１０１は、識別子印１０１が人間の目には見えないか簡単に気付かないほど小さいまたは薄い場合がある。電気光学媒体１１０と第一の導電部分１０８との間に位置するように示されているが、さまざまな実施形態でスペクトルフィルター部分１２４、１３６および１９６の印１０１は、第二の表面１０６上に直接、第二の表面１０６と第一の導電部分１０８との間に配置することができる。

本開示のさらなる態様によると、分離エリアおよび印を画定するための、スペクトルフィルターの部分および導電部分（例えば、導電コーティングまたは電極）のパターン化のためのレーザーアブレーション工程を含むプロセスによって準備できる電気光学素子１００ａ、１００ｂが提供されている。このような一方法では、素子１００ａ、１００ｂは、（ａ）第一の表面１０４および第二の表面１０６を含む第一の基材１０２を提供する工程と、（ｂ）第三の表面１１６および第四の表面１１４を含む第二の基材１１２を提供する工程と、（ｃ）第二の表面１０６の少なくとも一部分上に例えば部分１０８（および存在する場合は部分１３０）などの第一の導電部分を形成する工程と、（ｄ）第三の表面１１６の少なくとも一部分の上方に例えば部分１１８（および存在する場合は部分１８７）などの第二の導電部分を形成する工程とによって作製することができる。電気光学素子１００ａ、１００ｂのプロセスには、（ｅ）第二の表面１０６の少なくとも一部分の上方にスペクトルフィルターを形成する工程と、（ｆ）スペクトルフィルターの部分をレーザーでアブレーションして、電気光学素子の可視部分および可視部分に少なくとも一つの印１０１を画定する工程と、（ｇ）第二の表面１０６と第三の表面１１６との間にプライマリシール１７５、１７８の部分を提供して空洞を画定する（例えば、シール１７５、１７８を第二の表面１０６および第三の表面１１６に貼り付けることによって空洞を画定する）工程と、（ｈ）空洞に電気光学媒体１１０を充填して電気光学素子１００ａ、１００ｂを形成する工程も含む。方法には、スペクトルフィルターおよび第一の導電部分の部分をレーザーでアブレーションして、互いに実質的に電気的に分離された第一の導電部分１０８、１３０およびスペクトルフィルター１２４、１３６のそれぞれ第一および第二の部分を画定する分離エリア１４０を形成する工程を随意に含んでもよい。

特に図２Ａに示される電気光学素子１００ａに関しては、この素子は、スペクトルフィルターが第一の導電部分の上方に配置されるように、第一の導電部分１０８を形成する工程が、スペクトルフィルターを形成する工程の前に実施されるプロセスによって準備することができる。従って、第一の導電部分は、第一の基材１０２の第二の表面１０６上に直接またはその上方の、第二の表面１０６とスペクトルフィルター部分１２４、１３６、１９６および印１０１との間に配置される。一つ以上のレーザーアブレーション工程は、第一の導電部分およびスペクトルフィルター部分を形成して、スペクトルフィルター部分１２４、１３６、１９６、印１０１および導電部分１０８、１３０を形成および画定する工程の後に用いることができる。このように、第一の導電部分およびスペクトルフィルターを形成する工程で、後にアブレーションして、スペクトルフィルター部分１２４、１３６、１９６、印１０１、および導電部分１０８、１３０を形成するかまたはそうでなければ画定する、連続的または実質的に連続的コーティング、フィルムまたは層を形成することができる。

図２Ｂを参照すると、電気光学素子１００ｂは、第一の導電部分がスペクトルフィルター部分１２４、１３６、１９６の一つの少なくとも一部分を第一の導電部分が被包するように、第一の導電部分がスペクトルフィルターの上方に配置されるように、第一の導電部分を形成する工程が、スペクトルフィルターを形成する工程の後に実施されるプロセスによって準備することができる。従って、スペクトルフィルター部分１２４、１３６、１９６および印１０１は、第一の基材１０２の第二の表面１０６上に直接またはその上方に、第二の表面１０６と導電部分１０８、１３０との間に配置される。一つ以上のレーザーアブレーション工程を用いて、スペクトルフィルターをアブレーションし、印１０１およびスペクトルフィルター部分１９６を形成することができる。次に、第一の導電部分１０８を印１０１、スペクトルフィルター部分１９６、およびスペクトルフィルターの残りの非アブレーション部分（例えば、後でスペクトルフィルター１２４、１３６となるスペクトルフィルターの部分）に適用することができる。この時点で、一部の態様によると、別のレーザーアブレーション工程を実施して、分離エリア１４０を形成し、それぞれのスペクトルフィルター部分１２４、１３６および導電部分１０８、１３０を画定し電気的に分離することができる。

図２Ａおよび２Ｂに示される電気光学素子１００ａ、１００ｂを作製するために用いられる上述の方法は、特定の利点を有する。図２Ａに示される素子１００ａおよびその特定の構成を作製するために用いられる方法の利点は、スペクトルフィルター（例えば、スペクトルフィルター部分１２４、１３６、１９６）、印１０１および分離エリア１４０（存在する場合）を形成するために、一つのアブレーション工程のみが必要となることである。さらに、第二の表面１０６の上方に暫定的スペクトルフィルターおよび第一の導電部分（複数可）を形成する比較的シンプルな工程は、パターン化なしで、または限定されたパターン化工程で実施できる。従って、素子１００ａは、低コスト製造アプローチに従った構成を有する。

図２Ｂに示される電気光学素子１００ｂ、およびその特定構成を作る前述の方法に関して、方法は、スペクトルフィルター部分と電気光学媒体１１０との間の材料適合性の問題の管理について利点を提供する。特に、スペクトルフィルター部分１２４、１３６、１９６および印１０１は、導電部分１０８、１３０によって電気光学媒体１１０から効率的に分離される。このように、特定の材料を、（例えば、耐食性、半農産物を生成する傾向、電気光学媒体１１０の原因分離などに関して）電気光学媒体１１０とそうでなければ適合しないであろうスペクトルフィルター部分および／または印に用いることができる。当然のことながら、印１０１およびスペクトルフィルター部分１２４、１３６および１９６が第二の表面１０６上に直接配置されている実施形態では、アブレーションによる印１０１の形成は、第一の導電層１０８の堆積前に起こる場合がある。

本明細書に記述された特定の配置および順序にかかわらず、本開示に従って用いられるレーザーアブレーション機器および技術は、当業者の理解内である。同様に、スペクトルフィルター部分、印および導電部分に用いられる特定の材料は、電気光学素子１００ａ、１００ｂの指定用途に対してカスタマイズされる。例えば、透明電極材料（例えば、酸化インジウムスズ組成物を含むがこれに限られない透明導電性酸化物）を、後方視野光学装置での使用のために構成された電気光学素子１００ａ、１００ｂの導電部分に用いることができる。スペクトルフィルター部分１２４、１３６、１９６および印１０１は、単一コーティング材料、複数コーティングならびにその他のスタック構造および組立品を含むことができることも理解すべきである。このように、さまざまなコーティング材料および構造を選択して、第一の基材１０１第二の表面１０６および／または第一の導電部分（例えば、部分１０８、１３０）へのコーティングの接着を考慮して、（例えば、スペクトルフィルター部分１２４、１３６および／または１９６に対する）望ましい光学マスキング特徴および（例えば、印１０１に対する）審美性を最適化することができる。スペクトルフィルター部分および印に対して選択される特定構成に影響を与えうるその他の考慮事項には、大きなエリアへの従順性、レーザーアブレーション製造プロセスを含む。

当然のことながら、当業者であれば、電気光学素子１００ａ、１００ｂならびにそうでなければそれらを組み込んだ装置および組立品は、追加的または代替的利点を持つ可能性があることを理解する。同様に、当然のことながら当業者であれば、電気光学素子および組立品を作るための本明細書に記述された方法は、同じように追加的または代替え的利点を持つことも理解する。さらに当然のことながら当業者であれば、上述の構成要素は、本明細書に明示的に記述されていない追加的または代替え的方法で組み合わせることができることを理解する。

当業者および本発明を実施または利用しようとする者は、本発明の改良を想起できる。したがって、図面および上記の説明に示した実施形態は、単に説明を目的にしたものであって、本発明の範囲を限定することを意図したものではない。本発明の範囲は、均等論を含む特許法の原則に従って解釈される以下の特許請求の範囲によって定義される。

Claims (20)

1. 電気光学素子であって、
   第一の基材であって、
   第一の表面と、
   その上に配置された第一の導電部分と第二の導電部分とを含む第二の表面と、前記第二の導電部分から分離し、かつ前記第一の導電部分を電気的に隔離する第一の分離エリアと、を含む第一の基材と、
   第二の基材であって、
   第三の表面と、
   第四の表面と、
   少なくとも前記第三の表面上に配置された第三の導電部分と、
   を含む第二の基材と、
   前記第二と前記第三の表面の間のプライマリシールであって、前記シールならびに前記第二および前記第三の表面が空洞を画定するプライマリシールと、
   前記空洞内に配置された電気光学媒体と、を含み、
   前記第二の表面が、その上の前記電気光学媒体と前記第二の表面との間に配置された少なくとも一つの印をさらに含む電気光学素子。
2. 請求項１に記載の電気光学素子であって、
   スペクトルフィルターをさらに含み、前記スペクトルフィルターおよび前記少なくとも一つの印が同じ材料を含み、
   前記第二の基材が、第四の導電部分と、及び前記第二の導電部分から分離しかつ前記第四の導電部分を電気的に隔離する第二の分離エリアと、をさらに含む、電気光学素子。
3. 前記少なくとも一つの印がバーコード印である、請求項１および２のいずれか一項に記載の電気光学素子。
4. 前記印が前記第一の導電部分および前記第二の表面によって実質的に被包されている、請求項１〜３のいずれか一項に記載の電気光学素子。
5. 前記第一の導電部分が前記印と前記第二の表面との間に位置付けられている、請求項１に記載の電気光学素子。
6. 前記印が前記スペクトルフィルターに少なくとも部分的に接続されている、請求項２〜４のいずれか一項に記載の電気光学素子。
7. 請求項１〜６のいずれか一項に記載の電気光学素子であって、
   少なくとも二つの印をさらに含み、前記第一の導電部分が前記少なくとも二つの印の間に配置されている電気光学素子。
8. 電気光学素子であって、
   第一の表面および第二の表面を含む第一の基材を提供する工程と、
   第三の表面および第四の表面を含む第二の基材を提供する工程と、
   前記第二の表面の少なくとも一部分の上方に導電部分を形成する工程と、
   前記第三の表面の少なくとも一部分の上方に他の導電部分を形成する工程と、
   前記第二の表面の少なくとも一部分の上方にスペクトルフィルターを形成する工程と、
   前記スペクトルフィルターの部分をレーザーでアブレーションして、前記電気光学素子の可視部分および前記可視部分内の少なくとも一つの印を画定する工程と、
   前記第二の表面の少なくとも一部分の上方に形成された前記スペクトルフィルター及び導電部分の部分をレーザーでアブレーションして、前記第二の表面の少なくとも一部分上に形成された前記導電部分を第一の導電部分と第二の導電部分に分離し、かつ前記第二の表面の少なくとも一部分上に形成された前記スペクトルフィルターを第一のスペクトルフィルターと第二のスペクトルフィルターに分離する分離エリアを形成する工程と、
   前記第二の表面と前記第三の表面との間にプライマリシールを提供して、空洞を画定する工程と、
   前記空洞に電気光学媒体を充填して電気光学素子を形成する工程と、を含むプロセスによって準備される電気光学素子。
9. 前記スペクトルフィルターが前記導電部分の上方に配置されるように、前記第二の表面の少なくとも一部分上に前記導電部分を形成する工程が、前記第二の表面の少なくとも一部分上に前記スペクトルフィルターを形成する工程の前に実施され、かつ前記スペクトルフィルターの部分をレーザーでアブレーションして、前記電気光学素子の可視部分および前記可視部分内の少なくとも一つの印を画定する工程及び前記第二の表面の少なくとも一部分の上方に形成された前記スペクトルフィルター及び導電部分の部分をレーザーでアブレーションして、前記第二の表面の少なくとも一部分上に形成された前記導電部分を第一の導電部分と第二の導電部分に分離し、かつ前記第二の表面の少なくとも一部分上に形成された前記スペクトルフィルターを第一のスペクトルフィルターと第二のスペクトルフィルターに分離する分離エリアを形成する工程がレーザーアブレーションの１つの連続工程の中で生じる、請求項８に記載の前記プロセスによって準備される電気光学素子。
10. 前記導電部分が前記スペクトルフィルターの上方に配置されるように、前記第二の表面の少なくとも一部分上に前記導電部分を形成する工程が、前記第二の表面の少なくとも一部分の上方に前記スペクトルフィルターを形成する工程の後に実施され、
    前記スペクトルフィルターの部分をレーザーでアブレーションして、前記電気光学素子の可視部分および前記可視部分内の少なくとも一つの印を画定する工程が、前記第二の表面の少なくとも一部分上に前記導電部分を形成する工程の前に生じる、請求項８に記載の前記プロセスによって準備される電気光学素子。
11. 前記印が、前記第二の表面の少なくとも一部分上に形成された前記導電部分および前記第二の表面によって実質的に被包されている、請求項１０に記載の前記プロセスによって準備される電気光学素子。
12. 前記スペクトルフィルターおよび前記印がそれぞれ金属を含む、請求項８〜１１のいずれか一項に記載の前記プロセスによって準備される電気光学素子。
13. 前記印が前記スペクトルフィルターに少なくとも部分的に接続されている、請求項８〜１２のいずれか一項に記載の前記プロセスによって準備される電気光学素子。
14. 請求項８〜１３のいずれか一項に記載の前記プロセスによって準備される電気光学素子であって、
    少なくとも二つの印をさらに含み、前記第二の表面の少なくとも一部分上に形成された前記導電部分の一部分が前記少なくとも二つの印の間に配置されている電気光学素子。
15. 電気光学素子であって、
    第一の表面および第二の表面を持つ第一の基材であって、前記第二の表面が第一の導電部分、第二の導電部分及び前記第一の導電部分を前記第二の導電部分から電気的に隔離する第一の分離エリアを含む第一の基材と、
    第三の表面および第四の表面を持つ第二の基材であって、前記第三の表面が第三の導電部分を持つ第二の基材と、
    前記第二と前記第三の表面の間に配置されたシールであって、前記シールならびに前記第二および前記第三の表面が空洞を画定するプライマリシールと、
    前記空洞内に配置された電気光学媒体とを含み、
    前記第二の表面が、（ｉ）プライマリシールと前記第二の表面との間に配置されたスペクトルフィルターおよび（ｉｉ）その上の前記電気光学媒体と前記第二の表面との間に配置された少なくとも一つの印をさらに含み、前記少なくとも一つの印が前記スペクトルフィルターと物理的に接触している電気光学素子。
16. 前記スペクトルフィルターおよび前記印が同じ材料を含む、請求項１５に記載の電気光学素子。
17. 前記印が前記第二の表面と前記第一の導電部分との間に位置付けられている、請求項１５および１６のいずれか一項に記載の電気光学素子。
18. 請求項１５および１６のいずれか一項に記載のいずれかの電気光学素子であって、
    少なくとも二つの印をさらに含み、前記電気光学媒体が前記少なくとも二つの印の間に配置されている電気光学素子。
19. 前記第一の導電部分が前記印と前記第二の表面との間に位置付けられている、請求項１５および１６のいずれか一項に記載の電気光学素子。
20. 請求項１５〜１９のいずれか一項に記載の電気光学素子であって、
    少なくとも二つの印をさらに含み、少なくとも一つの印が、前記スペクトルフィルターと物理的に接触しており、前記少なくとも一つの印が前記スペクトルフィルターと接触していない電気光学素子。

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