JP6477941B2 - Hardened body, laminate, printed wiring board, and semiconductor device - Google Patents

Hardened body, laminate, printed wiring board, and semiconductor device Download PDF

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Description

本発明は、硬化体、積層体、プリント配線板及び半導体装置に関する。   The present invention relates to a cured body, a laminate, a printed wiring board, and a semiconductor device.

プリント配線板の製造技術として、絶縁層と導体層を交互に積み重ねるビルドアップ方式による製造方法が知られている。ビルドアップ方式による製造方法において、一般に、絶縁層は樹脂組成物を熱硬化させて形成される。例えば、特許文献1には、シリカ粒子を含有する樹脂組成物を熱硬化させて得た硬化体を粗化処理して絶縁層を形成する技術が開示されている。   As a technique for manufacturing a printed wiring board, a manufacturing method by a build-up method in which insulating layers and conductor layers are alternately stacked is known. In the manufacturing method by the build-up method, the insulating layer is generally formed by thermosetting a resin composition. For example, Patent Document 1 discloses a technique for forming an insulating layer by roughening a cured body obtained by thermally curing a resin composition containing silica particles.

配線密度の更なる向上が求められる中で、プリント配線板のビルドアップによる積層数は増加する傾向にあるが、積層数の増加に伴って絶縁層と導体層との熱膨張の差によるクラックや回路歪みの発生が問題となる。斯かるクラックや回路歪みの問題を抑制する技術として、例えば、特許文献2には、樹脂組成物におけるシリカ粒子等の無機充填材の含有量を高めることによって、形成される絶縁層の熱膨張率を低く抑える技術が開示されている。   While further improvement in wiring density is demanded, the number of layers due to build-up of printed wiring boards tends to increase, but as the number of layers increases, cracks due to differences in thermal expansion between insulating layers and conductor layers Generation of circuit distortion becomes a problem. As a technique for suppressing the problem of such cracks and circuit distortion, for example, Patent Document 2 discloses a coefficient of thermal expansion of an insulating layer formed by increasing the content of an inorganic filler such as silica particles in a resin composition. A technique for keeping the value low is disclosed.

国際公開第2010/35451号International Publication No. 2010/35451 特開2010−202865号公報JP 2010-202865 A

特許文献1記載の技術では、粗化処理において硬化体表面のシリカ粒子が脱離することによって、導体層に対して十分な剥離強度を呈する絶縁層が実現される。しかしながら、熱膨張率の低い絶縁層を形成すべく、シリカ粒子等の無機充填材の含有量の高い樹脂組成物を用いると、斯かる技術においても、形成される絶縁層と導体層との剥離強度の低下は避けられない場合があった。   In the technique described in Patent Document 1, an insulating layer exhibiting sufficient peel strength with respect to the conductor layer is realized by desorbing silica particles on the surface of the cured body in the roughening treatment. However, if a resin composition having a high content of inorganic fillers such as silica particles is used to form an insulating layer having a low coefficient of thermal expansion, even in such a technique, the formed insulating layer and the conductor layer are separated. In some cases, a decrease in strength was inevitable.

本発明は、無機充填材の含有量が高いというバルク(bulk)の特性は保持しつつ、粗化処理後に導体層に対して優れた剥離強度を呈する硬化体を提供することを課題とする。   This invention makes it a subject to provide the hardening body which exhibits the outstanding peeling strength with respect to a conductor layer after a roughening process, hold | maintaining the bulk characteristic that content of an inorganic filler is high.

本発明者らは、上記の課題につき鋭意検討した結果、表面近傍の領域において無機充填材と樹脂成分との量比(無機充填材/樹脂成分)に勾配(すなわち、硬化体表面から深さ方向に向かって一定値以上の正の勾配)を有する硬化体が、無機充填材の含有量が高いというバルクの特性は保持しつつ、粗化処理後に導体層に対して優れた剥離強度を呈することを見出した。   As a result of intensive studies on the above problems, the present inventors have found that the amount ratio (inorganic filler / resin component) between the inorganic filler and the resin component in the region in the vicinity of the surface is gradient (that is, depth direction from the surface of the cured body). The cured product having a positive gradient of a certain value or more toward the surface exhibits excellent peel strength to the conductor layer after the roughening treatment while maintaining the bulk property that the content of the inorganic filler is high. I found.

すなわち、本発明は以下の内容を含む。
[1] 無機充填材含有量が50質量%以上である樹脂組成物を硬化させて得られる硬化体であって、
硬化体表面に垂直な断面において、硬化体表面から深さ1μmまでの領域における樹脂面積A0-1と、深さ1μmから深さ2μmまでの領域における樹脂面積A1-2とが、A0-1/A1-2>1.1を満たす、硬化体。
[2] 無機充填材含有量が50質量%以上である樹脂組成物を硬化させて得られる硬化体であって、
硬化体表面に垂直な断面において、硬化体表面から深さ0.5μmまでの領域における樹脂面積A0-0.5と、深さ0.5μmから深さ1μmまでの領域における樹脂面積A0.5-1とが、A0-0.5/A0.5-1>1.1を満たす、硬化体。
[3] 硬化体表面に垂直な断面において、深さ0.5μmから深さdμmまでの領域における樹脂面積A0.5-dと、深さdμmから深さ0.5Dμmまでの領域における樹脂面積Ad-0.5Dとが、0.9≦kA0.5-d/Ad-0.5D≦1.1(ここで、kはk=|d−0.5D|/|0.5−d|を満たす係数であり、dは0.5<d<0.5Dを満たす数であり、Dは硬化体の厚みである。)を満たす、[1]又は[2]に記載の硬化体。
[4] X線光電子分光法により測定した、硬化体の表面における[(無機充填材由来の金属元素の数)/(硬化体表面の全元素の数)]が0.01未満である、[1]〜[3]のいずれかに記載の硬化体。
[5] 無機充填材含有量が50質量%以上である樹脂組成物を硬化させて得られる硬化体であって、
硬化体表面について、1)下記条件でのArによるスパッタ処理、及び2)スパッタ処理後のX線光電子分光法による表面組成分析を繰り返して行うとき、[(無機充填材由来の金属元素の原子数)/(スパッタ処理後の硬化体表面の全元素の原子数)]の値が初めて0.01以上となるまでに要するスパッタ処理の回数が4回以上である、硬化体。
〔条件:Arイオン、加速電圧;5kV、照射範囲;2mm×2mm、1回あたりのスパッタリング時間;30秒間〕
[6] [1]〜[5]のいずれかに記載の硬化体を粗化処理して得られる、表面の二乗平均平方根粗さRqが350nm以下である粗化硬化体。
[7] [6]に記載の粗化硬化体と、該粗化硬化体の表面に形成された金属層とを備える積層体。
[8] 粗化硬化体と金属層との剥離強度が0.5kgf/cm以上である、[7]に記載の積層体。
[9] [1]〜[5]のいずれかに記載の硬化体により絶縁層が形成されたプリント配線板。
[10] [9]に記載のプリント配線板を含む半導体装置。
That is, the present invention includes the following contents.
[1] A cured product obtained by curing a resin composition having an inorganic filler content of 50% by mass or more,
In a cross section perpendicular to the surface of the cured body, a resin area A 0-1 in a region from the cured body surface to a depth of 1 μm and a resin area A 1-2 in a region from a depth of 1 μm to a depth of 2 μm are A 0. −1 / A 1-2 > 1.1, a cured product.
[2] A cured product obtained by curing a resin composition having an inorganic filler content of 50% by mass or more,
In a cross section perpendicular to the surface of the cured body, a resin area A 0-0.5 in a region from the cured body surface to a depth of 0.5 μm, and a resin area A 0.5-1 in a region from a depth of 0.5 μm to a depth of 1 μm Is a cured product satisfying A 0-0.5 / A 0.5-1 > 1.1.
[3] In a cross section perpendicular to the surface of the cured body, the resin area A 0.5-d in a region from a depth of 0.5 μm to a depth d μm, and the resin area A d in a region from a depth d μm to a depth of 0.5 Dμm. -0.5D is 0.9 ≦ kA 0.5-d / A d-0.5D ≦ 1.1 (where k is a coefficient satisfying k = | d−0.5D | / | 0.5−d |) D is a number satisfying 0.5 <d <0.5D, and D is the thickness of the cured body.) The cured body according to [1] or [2].
[4] [(number of metal elements derived from inorganic filler) / (number of all elements on the surface of the cured body)] on the surface of the cured body, measured by X-ray photoelectron spectroscopy, is less than 0.01. The cured product according to any one of [1] to [3].
[5] A cured product obtained by curing a resin composition having an inorganic filler content of 50% by mass or more,
When the surface composition analysis by repeating 1) sputter treatment with Ar under the following conditions and 2) surface composition analysis by X-ray photoelectron spectroscopy after the sputter treatment is repeated on the surface of the cured product [[number of atoms of metal element derived from inorganic filler] ) / (Number of atoms of all elements on the surface of the cured body after the sputtering process)] is a cured body in which the number of sputtering processes required until the value of 0.01 or more for the first time is 4 or more.
[Conditions: Ar + ion, acceleration voltage: 5 kV, irradiation range: 2 mm × 2 mm, sputtering time per one time: 30 seconds]
[6] A roughened cured body having a surface root mean square roughness Rq of 350 nm or less, obtained by roughening the cured body according to any one of [1] to [5].
[7] A laminate comprising the roughened cured body according to [6] and a metal layer formed on the surface of the roughened cured body.
[8] The laminate according to [7], wherein the peel strength between the roughened cured body and the metal layer is 0.5 kgf / cm or more.
[9] A printed wiring board having an insulating layer formed of the cured body according to any one of [1] to [5].
[10] A semiconductor device including the printed wiring board according to [9].

本発明によれば、無機充填材の含有量が高いというバルクの特性は保持しつつ、粗化処理後に導体層に対して優れた剥離強度を呈する硬化体を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the hardening body which exhibits the outstanding peeling strength with respect to a conductor layer after a roughening process can be provided, maintaining the bulk characteristic that content of an inorganic filler is high.

さらに本発明の硬化体は、粗化処理後の表面粗さが小さいにもかかわらず、導体層(金属層)に対して優れた剥離強度を呈する。   Furthermore, the cured body of the present invention exhibits excellent peel strength with respect to the conductor layer (metal layer) despite the small surface roughness after the roughening treatment.

図1は、従来技術の硬化体の断面SEM写真を示す。FIG. 1 shows a cross-sectional SEM photograph of a prior art cured body. 図2は、本発明の一実施形態による硬化体の断面SEM写真を示す。FIG. 2 shows a cross-sectional SEM photograph of a cured body according to an embodiment of the present invention.

以下、本発明をその好適な実施形態に即して詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to preferred embodiments thereof.

[硬化体]
本発明の硬化体は、無機充填材含有量の高い樹脂組成物を硬化させて得られたものであり、表面近傍の領域において無機充填材と樹脂成分との量比(無機充填材/樹脂成分)に勾配(すなわち、硬化体表面から深さ方向に向かって一定値以上の正の勾配)を有することを特徴とする。
[Hardened body]
The cured body of the present invention is obtained by curing a resin composition having a high inorganic filler content, and the ratio of the inorganic filler to the resin component in the region near the surface (inorganic filler / resin component). ) Has a gradient (that is, a positive gradient of a certain value or more from the surface of the cured body in the depth direction).

プリント配線板の絶縁層となる硬化体に関しては、強度や耐熱性等の観点から、硬化体全体にわたって均一な組成を実現すべく研究開発が行われている。これに対し、本発明の硬化体は、バルクの特性として均一な組成を保持しつつ、その表面近傍の領域において急激な組成勾配を有することを特徴とする。   Research and development has been conducted on a cured body that becomes an insulating layer of a printed wiring board in order to achieve a uniform composition over the entire cured body from the viewpoint of strength, heat resistance, and the like. On the other hand, the cured body of the present invention is characterized by having a steep composition gradient in a region near the surface while maintaining a uniform composition as a bulk property.

図1に、従来の設計思想に基づき作製された「均一」な組成を有する硬化体の断面SEM写真を示す。斯かる硬化体においては、無機充填材の粒子は樹脂成分中に均一に分散しており、硬化体の表面においても無機充填材の粒子が他の領域と同じ割合にて存在する。断面SEM写真から把握されるように、斯かる「均一」な組成を有する硬化体においては、無機充填材の粒子の一部は硬化体表面において外部環境に露出している。   FIG. 1 shows a cross-sectional SEM photograph of a cured body having a “uniform” composition produced based on a conventional design concept. In such a cured body, the particles of the inorganic filler are uniformly dispersed in the resin component, and the particles of the inorganic filler are also present on the surface of the cured body in the same proportion as other regions. As can be understood from the cross-sectional SEM photograph, in the cured body having such a “uniform” composition, some of the particles of the inorganic filler are exposed to the external environment on the surface of the cured body.

図2に、本発明の設計思想に基づき作製された硬化体の断面SEM写真を示す。本発明の硬化体においては、表面近傍の領域において無機充填材と樹脂成分との量比(無機充填材/樹脂成分)に急激な勾配を有する。詳細には、硬化体表面には無機充填材の粒子はほとんど存在せず実質的に樹脂成分からなる相が存在するが、硬化体表面から一定の深さ位置において、急激に無機充填材の粒子の割合が上昇する。好ましくは硬化体表面から深さ0.05μm〜2μmの位置において、より好ましくは硬化体表面から深さ0.05μm〜1.5μmの位置において、さらに好ましくは硬化体表面から深さ0.05μm〜1μmの位置において、特に好ましくは硬化体表面から深さ0.05μm〜0.5μmの位置において、急激に無機充填材の粒子の割合が上昇する。
さらに深さ方向に進むと、無機充填材と樹脂成分との量比に勾配はなくなり、均一な組成を有する相となる。表面近傍の限られた領域においてのみ急激な組成勾配を有する本発明の硬化体においては、バルクの特性として均一な組成を保持しているため、強度や耐熱性等に優れると共に、硬化体表面においては粗化処理後に導体層に対して優れた剥離強度を呈するという顕著な効果を奏する。詳細は後述するが、本発明の硬化体は、粗化処理後の表面粗さが小さいにもかかわらず、導体層(金属層)に対して優れた剥離強度を呈することが確認されており、本発明の硬化体は、プリント配線板の微細配線化に著しく寄与するものである。
In FIG. 2, the cross-sectional SEM photograph of the hardening body produced based on the design concept of this invention is shown. In the hardened | cured material of this invention, in the area | region of the surface vicinity, it has a steep gradient in the quantity ratio (inorganic filler / resin component) of an inorganic filler and a resin component. Specifically, there are almost no inorganic filler particles on the surface of the cured body, and a phase consisting essentially of a resin component is present. However, the inorganic filler particles suddenly appear at a certain depth from the surface of the cured body. The proportion of increases. Preferably, at a position 0.05 μm to 2 μm deep from the surface of the cured body, more preferably at a position 0.05 μm to 1.5 μm deep from the surface of the cured body, and even more preferably from a depth of 0.05 μm to the surface of the cured body. At the position of 1 μm, particularly preferably, at the position of depth of 0.05 μm to 0.5 μm from the surface of the cured body, the proportion of the inorganic filler particles rapidly increases.
Further, in the depth direction, there is no gradient in the quantity ratio between the inorganic filler and the resin component, and the phase has a uniform composition. In the cured product of the present invention having a steep composition gradient only in a limited region near the surface, it retains a uniform composition as a bulk property, so that it has excellent strength, heat resistance, etc. Has a remarkable effect of exhibiting excellent peel strength to the conductor layer after the roughening treatment. Although details will be described later, the cured body of the present invention has been confirmed to exhibit excellent peel strength with respect to the conductor layer (metal layer) despite the small surface roughness after the roughening treatment, The cured body of the present invention significantly contributes to the fine wiring of the printed wiring board.

なお、本発明において、硬化体表面近傍の領域における無機充填材と樹脂成分との量比の勾配を表すにあたり、硬化体表面に垂直な断面における、所定の深さd1(μm)から所定の深さd2(μm)までの領域の樹脂面積Ad1−d2と、所定の深さd2(μm)から所定の深さd3(μm)までの領域の樹脂面積Ad2−d3との比(kAd1−d2/Ad2−d3)を用いることとする。ここで、d1、d2及びd3は、0≦d1<d2<d3を満たす数であり、kは、k=|d2−d3|/|d1−d2|を満たす係数である。
上記樹脂面積比は、硬化体表面に垂直な断面についてSEM観察し、深さd1(μm)から深さd2(μm)までの領域における樹脂面積Ad1−d2と、深さd2(μm)から深さd3(μm)までの領域における樹脂面積Ad2−d3とを測定し、得られたAd1−d2値及びAd2−d3値から算出することができる。Ad1−d2値及びAd2−d3値の測定にあたっては、測定領域の幅(硬化体表面に平行な方向における測定距離)を等しく設定する。
なお本発明において、「樹脂面積」とは、樹脂成分が占める面積をいう。樹脂面積についていう「樹脂成分」とは、樹脂組成物を構成する成分のうち、無機充填材を除いた成分をいう。
In the present invention, in expressing the gradient of the quantitative ratio between the inorganic filler and the resin component in the region in the vicinity of the cured body surface, the predetermined depth d1 (μm) in the cross section perpendicular to the cured body surface is a predetermined depth. The ratio (kA d1 ) between the resin area A d1-d2 of the region up to d2 (μm) and the resin area A d2-d3 of the region from the predetermined depth d2 (μm) to the predetermined depth d3 (μm) -D2 / Ad2-d3 ). Here, d1, d2, and d3 are numbers that satisfy 0 ≦ d1 <d2 <d3, and k is a coefficient that satisfies k = | d2-d3 | / | d1-d2 |.
The resin area ratio is obtained by SEM observation of a cross section perpendicular to the surface of the cured body, and from the resin area A d1 -d2 and the depth d2 (μm) in the region from the depth d1 (μm) to the depth d2 (μm). The resin area A d2-d3 in the region up to the depth d3 (μm) is measured, and can be calculated from the obtained A d1-d2 value and A d2-d3 value. In measuring the A d1-d2 value and the A d2-d3 value, the width of the measurement region (measurement distance in a direction parallel to the surface of the cured body) is set equal.
In the present invention, “resin area” means an area occupied by a resin component. The “resin component” for the resin area refers to a component excluding the inorganic filler among the components constituting the resin composition.

従来の設計思想に基づき作製された「均一」な組成を有する硬化体に関しては、上記kAd1−d2/Ad2−d3比は、d1、d2及びd3の値によらず、理論的に1であり、実測しても0.9〜1.1の範囲に収まるものである。 For a cured product having a “uniform” composition produced based on a conventional design concept, the kA d1 -d2 / A d2 -d3 ratio is theoretically 1 regardless of the values of d1, d2 and d3. Yes, even if it is actually measured, it falls within the range of 0.9 to 1.1.

一方、本発明の硬化体は、表面近傍の領域において無機充填材と樹脂成分との量比に急激な勾配を有し、上記kAd1−d2/Ad2−d3比はd1、d2及びd3の値によって大きく変化する。 On the other hand, the cured body of the present invention has a steep gradient in the amount ratio between the inorganic filler and the resin component in the region near the surface, and the kA d1-d2 / A d2-d3 ratio is d1, d2, and d3. It varies greatly depending on the value.

即ち、本発明の硬化体は、硬化体表面に垂直な断面において、硬化体表面から深さ1μmまでの領域における樹脂面積A0-1と、深さ1μmから深さ2μmまでの領域における樹脂面積A1-2とが、A0-1/A1-2>1.1を満たすことを特徴とする。無機充填材の含有量が高いというバルクの特性は保持しつつ、粗化処理後に導体層に対する剥離強度を高める観点から、本発明の硬化体は、好ましくはA0-1/A1-2≧1.15、より好ましくはA0-1/A1-2≧1.2を満たす。
0-1/A1-2比の上限は特に限定されないが、通常、20以下であり、好ましくは15以下、より好ましくは10以下、さらに好ましくは5以下である。
That is, the cured body of the present invention has a resin area A 0-1 in a region from the cured body surface to a depth of 1 μm and a resin area in a region from a depth of 1 μm to a depth of 2 μm in a cross section perpendicular to the cured body surface. A 1-2 satisfies A 0-1 / A 1-2 > 1.1. From the viewpoint of increasing the peel strength with respect to the conductor layer after the roughening treatment while maintaining the bulk property that the content of the inorganic filler is high, the cured product of the present invention is preferably A 0-1 / A 1-2 ≧ 1.15, more preferably, A 0-1 / A 1-2 ≧ 1.2 is satisfied.
The upper limit of the A 0-1 / A 1-2 ratio is not particularly limited, but is usually 20 or less, preferably 15 or less, more preferably 10 or less, and further preferably 5 or less.

均一な組成並びに高い無機充填材含有量といったバルクの特性を保持しつつ、粗化処理後に導体層に対する剥離強度を高める観点から、本発明の硬化体では、硬化体表面に垂直な断面において、硬化体表面から深さ0.5μmまでの領域における樹脂面積A0-0.5と、深さ0.5μmから深さ1μmまでの領域における樹脂面積A0.5-1とが、A0-0.5/A0.5-1>1.1を満たすことが好ましい。粗化処理後に導体層に対してより高い剥離強度を呈する硬化体表面を実現する観点から、本発明の硬化体は、より好ましくはA0-0.5/A0.5-1≧1.2、さらに好ましくはA0-0.5/A0.5-1≧1.4、さらにより好ましくはA0-0.5/A0.5-1≧1.6、特に好ましくはA0-0.5/A0.5-1≧1.8、A0-0.5/A0.5-1≧1.9、A0-0.5/A0.5-1≧2.0、A0-0.5/A0.5-1≧2.1、又はA0-0.5/A0.5-1≧2.2を満たす。
0-0.5/A0.5-1比の上限は特に限定されないが、通常、20以下であり、好ましくは15以下、より好ましくは10以下、さらに好ましくは5以下である。
From the viewpoint of increasing the peel strength to the conductor layer after the roughening treatment while maintaining the bulk characteristics such as a uniform composition and high inorganic filler content, the cured body of the present invention is cured in a cross section perpendicular to the surface of the cured body. the resin area a 0-0.5 in the region from the body surface to a depth of 0.5 [mu] m, the resin area a 0.5-1 in the region to a depth of 1μm in depth from 0.5 [mu] m is, a 0-0.5 / a 0.5- It is preferable to satisfy 1 > 1.1. From the viewpoint of realizing a cured body surface that exhibits higher peel strength to the conductor layer after the roughening treatment, the cured body of the present invention is more preferably A 0-0.5 / A 0.5-1 ≧ 1.2, and more preferably Is A 0-0.5 / A 0.5-1 ≧ 1.4, even more preferably A 0-0.5 / A 0.5-1 ≧ 1.6, particularly preferably A 0-0.5 / A 0.5-1 ≧ 1.8, A 0-0.5 / A 0.5-1 ≧ 1.9, A 0-0.5 / A 0.5-1 ≧ 2.0, A 0-0.5 / A 0.5-1 ≧ 2.1, or A 0-0.5 / A 0.5 -1 ≥ 2.2.
The upper limit of the ratio A 0-0.5 / A 0.5-1 is not particularly limited, but is usually 20 or less, preferably 15 or less, more preferably 10 or less, and further preferably 5 or less.

上述のとおり、本発明の硬化体は、表面近傍の限られた領域においてのみ組成勾配を有し、バルクの特性としては均一な組成を保持している。
好適な実施形態において、本発明の硬化体は、硬化体表面に垂直な断面において、深さ2μmから深さdμmまでの領域における樹脂面積A2-dと、深さdμmから深さ0.5Dμmまでの領域における樹脂面積Ad-0.5Dとが、0.9≦kA2-d/Ad-0.5D≦1.1(ここで、kはk=|d−0.5D|/|2−d|を満たす係数であり、dは2<d<0.5Dを満たす数であり、Dは硬化体の厚みである。)を満たすように構成される。これは、本発明の硬化体が、硬化体表面から深さ2μm以上の領域において均一な組成を有することを表す。
より好適な実施形態において、本発明の硬化体は、硬化体表面に垂直な断面において、深さ1.5μmから深さdμmまでの領域における樹脂面積A1.5-dと、深さdμmから深さ0.5Dμmまでの領域における樹脂面積Ad-0.5Dとが、0.9≦kA1.5-d/Ad-0.5D≦1.1(ここで、kはk=|d−0.5D|/|1.5−d|を満たす係数であり、dは1.5<d<0.5Dを満たす数であり、Dは硬化体の厚みである。)を満たすように構成される。これは、本発明の硬化体が、硬化体表面から深さ1.5μm以上の領域において均一な組成を有することを表す。
さらに好適な実施形態において、本発明の硬化体は、硬化体表面に垂直な断面において、深さ1μmから深さdμmまでの領域における樹脂面積A1-dと、深さdμmから深さ0.5Dμmまでの領域における樹脂面積Ad-0.5Dとが、0.9≦kA1-d/Ad-0.5D≦1.1(ここで、kはk=|d−0.5D|/|1−d|を満たす係数であり、dは1<d<0.5Dを満たす数であり、Dは硬化体の厚みである。)を満たすように構成される。これは、本発明の硬化体が、硬化体表面から深さ1μm以上の領域において均一な組成を有することを表す。
特に好適な実施形態において、本発明の硬化体は、硬化体表面に垂直な断面において、深さ0.5μmから深さdμmまでの領域における樹脂面積A0.5-dと、深さdμmから深さ0.5Dμmまでの領域における樹脂面積Ad-0.5Dとが、0.9≦kA0.5-d/Ad-0.5D≦1.1(ここで、kはk=|d−0.5D|/|0.5−d|を満たす係数であり、dは0.5<d<0.5Dを満たす数であり、Dは硬化体の厚みである。)を満たすように構成される。これは、本発明の硬化体が、硬化体表面から深さ0.5μm以上の領域において均一な組成を有することを表す。
As described above, the cured body of the present invention has a composition gradient only in a limited region near the surface, and maintains a uniform composition as a bulk property.
In a preferred embodiment, the cured body of the present invention has a resin area A 2-d in a region from a depth of 2 μm to a depth of d μm and a depth of d μm to a depth of 0.5 Dμm in a cross section perpendicular to the surface of the cured body. The resin area A d−0.5D in the region up to 0.9 ≦ kA 2−d / A d−0.5D ≦ 1.1 (where k is k = | d−0.5D | / | 2 -D |, where d is a number that satisfies 2 <d <0.5D, and D is the thickness of the cured body. This indicates that the cured body of the present invention has a uniform composition in a region having a depth of 2 μm or more from the surface of the cured body.
In a more preferred embodiment, the cured body of the present invention has a resin area A 1.5-d in a region from a depth of 1.5 μm to a depth of d μm and a depth of from d μm to a depth in a cross section perpendicular to the surface of the cured body. The resin area A d- 0.5D in the region up to 0.5 D μm is 0.9 ≦ kA 1.5-d / A d-0.5D ≦ 1.1 (where k is k = | d−0.5D | / | 1.5−d |, where d is a number that satisfies 1.5 <d <0.5D, and D is the thickness of the cured body. This means that the cured body of the present invention has a uniform composition in a region having a depth of 1.5 μm or more from the surface of the cured body.
In a more preferred embodiment, the cured body of the present invention has a resin area A 1-d in a region from a depth of 1 μm to a depth of d μm, and a depth of from 0 μm to a depth of 0. The resin area A d- 0.5D in the region up to 5D μm is 0.9 ≦ kA 1-d / A d-0.5D ≦ 1.1 (where k is k = | d−0.5D | / | 1−d |, d is a number satisfying 1 <d <0.5D, and D is the thickness of the cured body). This means that the cured body of the present invention has a uniform composition in a region having a depth of 1 μm or more from the surface of the cured body.
In a particularly preferred embodiment, the cured body of the present invention has a resin area A 0.5-d in a region from a depth of 0.5 μm to a depth d μm and a depth from the depth d μm to a depth in a cross section perpendicular to the surface of the cured body. The resin area A d- 0.5D in the region up to 0.5 D μm is 0.9 ≦ kA 0.5-d / A d-0.5D ≦ 1.1 (where k is k = | d−0.5D | / | 0.5−d |, where d is a number that satisfies 0.5 <d <0.5D, and D is the thickness of the cured body. This indicates that the cured body of the present invention has a uniform composition in a region having a depth of 0.5 μm or more from the surface of the cured body.

本発明の硬化体の厚みは、好ましくは3μm以上、より好ましくは5μm以上、さらに好ましくは10μm以上、さらにより好ましくは15μm以上、特に好ましくは20μm以上である。本発明の硬化体の厚みは、好ましくは100μm以下、より好ましくは90μm以下、さらに好ましくは80μm以下、さらにより好ましくは70μm以下、特に好ましくは60μm以下である。   The thickness of the cured product of the present invention is preferably 3 μm or more, more preferably 5 μm or more, still more preferably 10 μm or more, still more preferably 15 μm or more, and particularly preferably 20 μm or more. The thickness of the cured product of the present invention is preferably 100 μm or less, more preferably 90 μm or less, still more preferably 80 μm or less, still more preferably 70 μm or less, and particularly preferably 60 μm or less.

以下、本発明の硬化体を形成する際に用いる樹脂組成物について説明する。   Hereinafter, the resin composition used when forming the cured body of the present invention will be described.

<樹脂組成物>
本発明の硬化体は、無機充填材含有量が50質量%以上である樹脂組成物を硬化させて得られる。得られる硬化体(絶縁層)の熱膨張率を十分に低下させる観点から、樹脂組成物中の無機充填材の含有量は、好ましくは55質量%以上であり、より好ましくは60質量%以上が好ましく、さらに好ましくは65質量%以上である。
なお、本発明において、樹脂組成物を構成する各成分の含有量は、樹脂組成物中の不揮発成分の合計を100質量%としたときの値である。
<Resin composition>
The cured product of the present invention is obtained by curing a resin composition having an inorganic filler content of 50% by mass or more. From the viewpoint of sufficiently reducing the thermal expansion coefficient of the obtained cured body (insulating layer), the content of the inorganic filler in the resin composition is preferably 55% by mass or more, more preferably 60% by mass or more. Preferably, it is 65 mass% or more more preferably.
In addition, in this invention, content of each component which comprises a resin composition is a value when the sum total of the non-volatile component in a resin composition is 100 mass%.

硬化体表面に垂直な断面において、硬化体表面から深さ1μmまでの領域における樹脂面積A0-1と、深さ1μmから深さ2μmまでの領域における樹脂面積A1-2との比(A0-1/A1-2)が特定範囲にある本発明の硬化体においては、金属層(導体層)に対する剥離強度を低下させることなく、無機充填材の含有量を更に高めることができる。例えば、樹脂組成物中の無機充填材の含有量は、66質量%以上、68質量%以上、70質量%以上、72質量%以上、74質量%以上、76質量%以上、又は78質量%以上にまで高めてよい。 In a cross section perpendicular to the surface of the cured body, the ratio of the resin area A 0-1 in the region from the cured body surface to the depth of 1 μm and the resin area A 1-2 in the region from the depth of 1 μm to the depth of 2 μm (A In the cured body of the present invention in which 0-1 / A 1-2 ) is in a specific range, the content of the inorganic filler can be further increased without reducing the peel strength with respect to the metal layer (conductor layer). For example, the content of the inorganic filler in the resin composition is 66 mass% or more, 68 mass% or more, 70 mass% or more, 72 mass% or more, 74 mass% or more, 76 mass% or more, or 78 mass% or more. It may be increased to.

樹脂組成物中の無機充填材の含有量の上限は、樹脂組成物の熱硬化により得られる硬化体の機械強度の観点から、好ましくは95質量%以下、より好ましくは90質量%以下、更に好ましくは85質量%以下である。   The upper limit of the content of the inorganic filler in the resin composition is preferably 95% by mass or less, more preferably 90% by mass or less, and still more preferably from the viewpoint of the mechanical strength of a cured product obtained by thermosetting the resin composition. Is 85 mass% or less.

無機充填材としては、例えば、シリカ、アルミナ、硫酸バリウム、タルク、クレー、雲母粉、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、ホウ酸アルミニウム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸ビスマス、酸化チタン、ジルコン酸バリウム、及びジルコン酸カルシウム等が挙げられる。これらの中でも無定形シリカ、溶融シリカ、結晶シリカ、合成シリカ、中空シリカ等のシリカが特に好適である。またシリカとしては球状シリカが好ましい。無機充填材は1種単独で用いてもよく、又は2種以上を併用してもよい。市販されている球状溶融シリカとして、(株)アドマテックス製「SOC2」、「SOC1」が挙げられる。   Examples of the inorganic filler include silica, alumina, barium sulfate, talc, clay, mica powder, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, magnesium oxide, boron nitride, aluminum borate, barium titanate, Examples include strontium titanate, calcium titanate, magnesium titanate, bismuth titanate, titanium oxide, barium zirconate, and calcium zirconate. Among these, silica such as amorphous silica, fused silica, crystalline silica, synthetic silica, and hollow silica is particularly suitable. Moreover, spherical silica is preferable as the silica. An inorganic filler may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together. Examples of commercially available spherical fused silica include “SOC2” and “SOC1” manufactured by Admatechs.

無機充填材の平均粒径は0.01μm〜2μmの範囲が好ましく、0.05μm〜1.5μmの範囲がより好ましく、0.07μm〜1μmの範囲が更に好ましく、0.1μm〜0.8μmが更により好ましい。無機充填材の平均粒径はミー(Mie)散乱理論に基づくレーザー回折・散乱法により測定することができる。具体的にはレーザー回折散乱式粒度分布測定装置により、無機充填材の粒度分布を体積基準で作成し、そのメディアン径を平均粒径とすることで測定することができる。測定サンプルは、無機充填材を超音波により水中に分散させたものを好ましく使用することができる。レーザー回折散乱式粒度分布測定装置としては、株式会社堀場製作所製LA−500等を使用することができる。   The average particle size of the inorganic filler is preferably in the range of 0.01 μm to 2 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1.5 μm, still more preferably in the range of 0.07 μm to 1 μm, and 0.1 μm to 0.8 μm. Even more preferred. The average particle diameter of the inorganic filler can be measured by a laser diffraction / scattering method based on Mie scattering theory. Specifically, the particle size distribution of the inorganic filler can be prepared on a volume basis by a laser diffraction / scattering particle size distribution measuring apparatus, and the median diameter can be measured as the average particle diameter. As the measurement sample, an inorganic filler dispersed in water by ultrasonic waves can be preferably used. As a laser diffraction scattering type particle size distribution measuring apparatus, LA-500 manufactured by Horiba, Ltd. can be used.

無機充填材は、耐湿性向上のため、アミノシラン系カップリング剤、エポキシシラン系カップリング剤、メルカプトシラン系カップリング剤、シラン系カップリング剤、オルガノシラザン化合物、チタネート系カップリング剤などの1種又は2種以上の表面処理剤で処理されていることが好ましい。表面処理剤の市販品としては、例えば、信越化学工業(株)製「KBM403」(3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン)、信越化学工業(株)製「KBM803」(3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン)、信越化学工業(株)製「KBE903」(3−アミノプロピルトリエトキシシラン)、信越化学工業(株)製「KBM573」(N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン)、信越化学工業(株)製「SZ−31」(ヘキサメチルジシラザン)等が挙げられる。   Inorganic filler is one kind of aminosilane coupling agent, epoxysilane coupling agent, mercaptosilane coupling agent, silane coupling agent, organosilazane compound, titanate coupling agent, etc. for improving moisture resistance. Or it is preferable to process with 2 or more types of surface treating agents. Examples of commercially available surface treatment agents include “KBM403” (3-glycidoxypropyltrimethoxysilane) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., and “KBM803” (3-mercaptopropyltrimethoxy manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). Silane), Shin-Etsu Chemical "KBE903" (3-aminopropyltriethoxysilane), Shin-Etsu Chemical "KBM573" (N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane), Shin-Etsu Chemical "SZ-31" (Hexamethyldisilazane) manufactured by Co., Ltd.

また、表面処理剤で表面処理された無機充填材は、溶剤(例えば、メチルエチルケトン(MEK))により洗浄処理した後の無機充填材の単位表面積当たりのカーボン量を測定することができる。具体的には、溶剤として十分な量のMEKを表面処理剤で表面処理された無機充填材に加えて、25℃で5分間超音波洗浄する。上澄液を除去し、固形分を乾燥させた後、カーボン分析計を用いて無機充填材の単位表面積当たりのカーボン量を測定することができる。カーボン分析計としては、堀場製作所製「EMIA−320V」等を使用することができる。   In addition, the inorganic filler surface-treated with the surface treatment agent can measure the amount of carbon per unit surface area of the inorganic filler after being washed with a solvent (for example, methyl ethyl ketone (MEK)). Specifically, a sufficient amount of MEK as a solvent is added to the inorganic filler surface-treated with the surface treatment agent and ultrasonically cleaned at 25 ° C. for 5 minutes. After removing the supernatant and drying the solid, the carbon amount per unit surface area of the inorganic filler can be measured using a carbon analyzer. As the carbon analyzer, “EMIA-320V” manufactured by HORIBA, Ltd. can be used.

無機充填材の単位表面積当たりのカーボン量は、無機充填材の分散性向上の観点から、0.02mg/m以上が好ましく、0.1mg/m以上がより好ましく、0.2mg/m以上が更に好ましい。一方、樹脂ワニスの溶融粘度やフィルム形態での溶融粘度の上昇を防止する観点から、1mg/m以下が好ましく、0.8mg/m以下がより好ましく、0.5mg/m以下が更に好ましい。このように、無機充填材の表面処理量をコントロールすることで樹脂組成物の溶融粘度が低下し、硬化体表面に樹脂成分が移動しやすくなり、硬化体表面の急激な組成勾配を形成する傾向となる。 Carbon content per unit surface area of the inorganic filler, from the viewpoint of improving dispersibility of the inorganic filler is preferably 0.02 mg / m 2 or more, 0.1 mg / m 2 or more preferably, 0.2 mg / m 2 The above is more preferable. On the other hand, 1 mg / m 2 or less is preferable, 0.8 mg / m 2 or less is more preferable, and 0.5 mg / m 2 or less is more preferable from the viewpoint of preventing an increase in the melt viscosity of the resin varnish or the film form. preferable. Thus, by controlling the surface treatment amount of the inorganic filler, the melt viscosity of the resin composition decreases, the resin component tends to move to the surface of the cured body, and a tendency to form a sharp composition gradient on the surface of the cured body It becomes.

本発明の硬化体を形成するために使用する樹脂組成物は、樹脂として、熱硬化性樹脂を含む。熱硬化性樹脂としては、プリント配線板の絶縁層を形成する際に使用される従来公知の熱硬化性樹脂を用いることができ、中でもエポキシ樹脂が好ましい。樹脂組成物はまた、必要に応じて、硬化剤を含んでいてもよい。一実施形態において、無機充填材、エポキシ樹脂、及び硬化剤を含む樹脂組成物を用いて、本発明の硬化体を形成することができる。本発明の硬化体を形成するために使用する樹脂組成物は、更に熱可塑性樹脂、硬化促進剤、難燃剤及びゴム粒子等の添加剤を含んでいてもよい。
以下、樹脂組成物の材料として使用し得るエポキシ樹脂、硬化剤、及び添加剤について説明する。
The resin composition used for forming the cured body of the present invention contains a thermosetting resin as a resin. As a thermosetting resin, the conventionally well-known thermosetting resin used when forming the insulating layer of a printed wiring board can be used, and an epoxy resin is especially preferable. The resin composition may also contain a curing agent as necessary. In one Embodiment, the hardening body of this invention can be formed using the resin composition containing an inorganic filler, an epoxy resin, and a hardening | curing agent. The resin composition used for forming the cured product of the present invention may further contain additives such as a thermoplastic resin, a curing accelerator, a flame retardant, and rubber particles.
Hereinafter, an epoxy resin, a curing agent, and an additive that can be used as a material for the resin composition will be described.

(エポキシ樹脂)
エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールAF型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリスフェノールエポキシ樹脂、ナフトールノボラックエポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、tert-ブチル-カテコール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ナフトール型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、線状脂肪族エポキシ樹脂、ブタジエン構造を有するエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、スピロ環含有エポキシ樹脂、シクロヘキサンジメタノール型エポキシ樹脂、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂及びトリメチロール型エポキシ樹脂等が挙げられる。エポキシ樹脂は1種単独で用いてもよく、又は2種以上を併用してもよい。
(Epoxy resin)
Examples of the epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, bisphenol AF type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, trisphenol epoxy resin, naphthol novolac epoxy resin, phenol novolac. Type epoxy resin, tert-butyl-catechol type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, naphthol type epoxy resin, anthracene type epoxy resin, glycidylamine type epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin , Linear aliphatic epoxy resin, epoxy resin having butadiene structure, alicyclic epoxy resin, heterocyclic epoxy resin, spiro ring-containing epoxy Resins, cyclohexanedimethanol type epoxy resins, naphthylene ether type epoxy resins and trimethylol type epoxy resins. An epoxy resin may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

エポキシ樹脂は、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を含むことが好ましい。エポキシ樹脂の不揮発成分を100質量%とした場合に、少なくとも50質量%以上は1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂であるのが好ましい。中でも、1分子中に2個以上のエポキシ基を有し、温度20℃で液状のエポキシ樹脂(以下、「液状エポキシ樹脂」という。)と、1分子中に3個以上のエポキシ基を有し、温度20℃で固体状のエポキシ樹脂(以下、「固体状エポキシ樹脂」という。)とを含むことが好ましい。エポキシ樹脂として、液状エポキシ樹脂と固体状エポキシ樹脂とを併用することで、優れた可撓性を有する樹脂組成物が得られる。また、樹脂組成物を硬化して形成される硬化体の破断強度も向上する。特に液状エポキシ樹脂を含むことで、硬化体表面に樹脂成分が移動しやすくなり、硬化体表面の急激な組成勾配を形成する傾向となる。   The epoxy resin preferably contains an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule. When the nonvolatile component of the epoxy resin is 100% by mass, at least 50% by mass or more is preferably an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule. Among them, it has two or more epoxy groups in one molecule and has a liquid epoxy resin (hereinafter referred to as “liquid epoxy resin”) at a temperature of 20 ° C. and three or more epoxy groups in one molecule. And a solid epoxy resin at a temperature of 20 ° C. (hereinafter referred to as “solid epoxy resin”). By using a liquid epoxy resin and a solid epoxy resin in combination as an epoxy resin, a resin composition having excellent flexibility can be obtained. Moreover, the breaking strength of the cured body formed by curing the resin composition is also improved. In particular, by including a liquid epoxy resin, the resin component easily moves to the surface of the cured body, and tends to form an abrupt composition gradient on the surface of the cured body.

液状エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、又はナフタレン型エポキシ樹脂が好ましく、ビスフェノールA型エポキシ樹脂又はナフタレン型エポキシ樹脂がより好ましい。液状エポキシ樹脂の具体例としては、DIC(株)製の「HP4032」、「HP4032D」、「EXA4032SS」、「HP4032SS」(ナフタレン型エポキシ樹脂)、三菱化学(株)製の「jER828EL」(ビスフェノールA型エポキシ樹脂)、「jER807」(ビスフェノールF型エポキシ樹脂)、「jER152」(フェノールノボラック型エポキシ樹脂)等が挙げられる。これらは1種単独で用いてもよく、又は2種以上を併用してもよい。   As the liquid epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, or naphthalene type epoxy resin is preferable, and bisphenol A type epoxy resin or naphthalene type epoxy resin is more preferable. Specific examples of the liquid epoxy resin include “HP4032”, “HP4032D”, “EXA4032SS”, “HP4032SS” (naphthalene type epoxy resin) manufactured by DIC Corporation, and “jER828EL” (bisphenol A) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. Type epoxy resin), “jER807” (bisphenol F type epoxy resin), “jER152” (phenol novolac type epoxy resin) and the like. These may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

固体状エポキシ樹脂としては、4官能ナフタレン型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリスフェノールエポキシ樹脂、ナフトールノボラックエポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、又はナフチレンエーテル型エポキシ樹脂が好ましく、4官能ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、又はナフチレンエーテル型エポキシ樹脂がより好ましい。固体状エポキシ樹脂の具体例としては、DIC(株)製の「HP−4700」、「HP−4710」(4官能ナフタレン型エポキシ樹脂)、「N−690」(クレゾールノボラック型エポキシ樹脂)、「N−695」(クレゾールノボラック型エポキシ樹脂)、「HP−7200」(ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂)、「EXA7311」、「EXA7311−G3」、「HP6000」(ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂)、日本化薬(株)製の「EPPN−502H」(トリスフェノールエポキシ樹脂)、「NC7000L」(ナフトールノボラックエポキシ樹脂)、「NC3000H」、「NC3000」、「NC3000L」、「NC3100」(ビフェニル型エポキシ樹脂)、新日鐵化学(株)製の「ESN475」(ナフトールノボラック型エポキシ樹脂)、「ESN485」(ナフトールノボラック型エポキシ樹脂)、三菱化学(株)製の「YX4000H」、「YX4000HK」、「YL6121」(ビフェニル型エポキシ樹脂)等が挙げられる。   Examples of solid epoxy resins include tetrafunctional naphthalene type epoxy resins, cresol novolac type epoxy resins, dicyclopentadiene type epoxy resins, trisphenol epoxy resins, naphthol novolac epoxy resins, biphenyl type epoxy resins, and naphthylene ether type epoxy resins. A tetrafunctional naphthalene type epoxy resin, a biphenyl type epoxy resin, or a naphthylene ether type epoxy resin is more preferable. Specific examples of the solid epoxy resin include “HP-4700”, “HP-4710” (tetrafunctional naphthalene type epoxy resin), “N-690” (cresol novolac type epoxy resin) manufactured by DIC Corporation, “ N-695 ”(cresol novolac type epoxy resin),“ HP-7200 ”(dicyclopentadiene type epoxy resin),“ EXA7311 ”,“ EXA7311-G3 ”,“ HP6000 ”(naphthylene ether type epoxy resin), Nippon Kayaku “EPPN-502H” (trisphenol epoxy resin), “NC7000L” (naphthol novolac epoxy resin), “NC3000H”, “NC3000”, “NC3000L”, “NC3100” (biphenyl type epoxy resin), manufactured by Yakuhin Co., Ltd. “ESN475” manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd. Tall novolak epoxy resin), "ESN485" (naphthol novolak type epoxy resin), "YX4000H" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, "YX4000HK", "YL6121" (biphenyl type epoxy resin) and the like.

エポキシ樹脂として、液状エポキシ樹脂と固体状エポキシ樹脂とを併用する場合、それらの量比(液状エポキシ樹脂:固体状エポキシ樹脂)は、質量比で、1:0.1〜1:3の範囲が好ましく、1:0.1〜1:2.5の範囲がより好ましく、1:0.1〜1:2の範囲が更に好ましい。液状エポキシ樹脂と固体状エポキシ樹脂との量比を斯かる範囲とすることにより、i)後述する接着シートの形態で使用する場合に適度な粘着性がもたらされる、ii)接着シートの形態で使用する場合に十分な可撓性が得られ、取り扱い性が向上する、並びにiii)樹脂組成物の硬化物において十分な破断強度を得ることができるなどの効果が得られる。上記i)〜iii)の効果の観点から、液状エポキシ樹脂と固体状エポキシ樹脂の量比(液状エポキシ樹脂:固体状エポキシ樹脂)は、質量比で、1:0.3〜1:1.8の範囲が更により好ましく、1:0.6〜1:1.5の範囲が特に好ましい。   When the liquid epoxy resin and the solid epoxy resin are used in combination as the epoxy resin, the quantitative ratio thereof (liquid epoxy resin: solid epoxy resin) is in the range of 1: 0.1 to 1: 3 by mass ratio. The range of 1: 0.1 to 1: 2.5 is more preferable, and the range of 1: 0.1 to 1: 2 is even more preferable. By setting the quantity ratio of the liquid epoxy resin and the solid epoxy resin within such a range, i) moderate adhesiveness is obtained when used in the form of an adhesive sheet described later, and ii) used in the form of an adhesive sheet. In this case, sufficient flexibility can be obtained, handling properties can be improved, and iii) sufficient breaking strength can be obtained in the cured product of the resin composition. From the viewpoint of the effects i) to iii), the quantitative ratio of liquid epoxy resin to solid epoxy resin (liquid epoxy resin: solid epoxy resin) is 1: 0.3 to 1: 1.8 in terms of mass ratio. Is even more preferable, and a range of 1: 0.6 to 1: 1.5 is particularly preferable.

樹脂組成物中のエポキシ樹脂の含有量は、3質量%〜50質量%が好ましく、5質量%〜45質量%がより好ましく、5質量%〜40質量%が更に好ましく、7質量%〜35質量%が特に好ましい。   The content of the epoxy resin in the resin composition is preferably 3% by mass to 50% by mass, more preferably 5% by mass to 45% by mass, still more preferably 5% by mass to 40% by mass, and 7% by mass to 35% by mass. % Is particularly preferred.

エポキシ樹脂のエポキシ当量は、好ましくは50〜3000、より好ましくは80〜2000、さらに好ましくは110〜1000である。この範囲となることで、硬化物の架橋密度が十分となり表面粗度の低い絶縁層をもたらす。なお、エポキシ当量は、JIS K7236に従って測定することができ、1当量のエポキシ基を含む樹脂の質量である。   The epoxy equivalent of the epoxy resin is preferably 50 to 3000, more preferably 80 to 2000, and still more preferably 110 to 1000. By being in this range, the crosslink density of the cured product is sufficient and an insulating layer having a low surface roughness is obtained. The epoxy equivalent can be measured according to JIS K7236, and is the mass of a resin containing 1 equivalent of an epoxy group.

(硬化剤)
硬化剤としては、エポキシ樹脂を硬化する機能を有する限り特に限定されないが、例えば、フェノール系硬化剤、ナフトール系硬化剤、活性エステル系硬化剤、ベンゾオキサジン系硬化剤、及びシアネートエステル系硬化剤が挙げられ、特にフェノール系硬化剤がより好ましい。フェノール系硬化剤を使用した場合には、エポキシ樹脂との相溶性が比較的良好であるため流動性が高くなり、硬化体表面に樹脂成分が移動しやすくなり、硬化体表面の急激な組成勾配を形成する傾向となる。硬化剤は1種単独で用いてもよく、又は2種以上を併用してもよい。
(Curing agent)
The curing agent is not particularly limited as long as it has a function of curing the epoxy resin. For example, a phenolic curing agent, a naphthol curing agent, an active ester curing agent, a benzoxazine curing agent, and a cyanate ester curing agent may be used. In particular, phenolic curing agents are more preferable. When a phenolic curing agent is used, the compatibility with the epoxy resin is relatively good, so the fluidity is high, the resin component easily moves to the surface of the cured body, and a steep composition gradient on the surface of the cured body. Tend to form. A hardening | curing agent may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

フェノール系硬化剤及びナフトール系硬化剤としては、耐熱性及び耐水性の観点から、ノボラック構造を有するフェノール系硬化剤、又はノボラック構造を有するナフトール系硬化剤が好ましい。また、導体層との密着性(剥離強度)の観点から、含窒素フェノール系硬化剤が好ましく、トリアジン骨格含有フェノール系硬化剤がより好ましい。中でも、耐熱性、耐水性、及び導体層との密着性(剥離強度)を高度に満足させる観点から、トリアジン骨格含有フェノールノボラック樹脂を硬化剤として用いることが好ましい。   As the phenol-based curing agent and the naphthol-based curing agent, a phenol-based curing agent having a novolak structure or a naphthol-based curing agent having a novolak structure is preferable from the viewpoint of heat resistance and water resistance. Further, from the viewpoint of adhesion (peel strength) to the conductor layer, a nitrogen-containing phenol-based curing agent is preferable, and a triazine skeleton-containing phenol-based curing agent is more preferable. Among these, from the viewpoint of highly satisfying heat resistance, water resistance, and adhesiveness (peel strength) to the conductor layer, it is preferable to use a triazine skeleton-containing phenol novolac resin as a curing agent.

フェノール系硬化剤及びナフトール系硬化剤の具体例としては、例えば、明和化成(株)製の「MEH−7700」、「MEH−7810」、「MEH−7851」、日本化薬(株)製の「NHN」、「CBN」、「GPH」、東都化成(株)製の「SN170」、「SN180」、「SN190」、「SN475」、「SN485」、「SN495」、「SN375」、「SN395」、DIC(株)製の「LA7052」、「LA7054」、「LA3018」等が挙げられる。   Specific examples of the phenol-based curing agent and the naphthol-based curing agent include, for example, “MEH-7700”, “MEH-7810”, “MEH-7785” manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd., and Nippon Kayaku Co., Ltd. “NHN”, “CBN”, “GPH”, “SN170”, “SN180”, “SN190”, “SN475”, “SN485”, “SN495”, “SN375”, “SN395” manufactured by Toto Kasei Co., Ltd. "LA7052", "LA7054", "LA3018", etc. manufactured by DIC Corporation.

導体層との密着性(剥離強度)の観点から、活性エステル系硬化剤も好ましい。活性エステル系硬化剤としては、特に制限はないが、一般にフェノールエステル類、チオフェノールエステル類、N−ヒドロキシアミンエステル類、複素環ヒドロキシ化合物のエステル類等の反応活性の高いエステル基を1分子中に2個以上有する化合物が好ましく用いられる。当該活性エステル系硬化剤は、カルボン酸化合物及び/又はチオカルボン酸化合物とヒドロキシ化合物及び/又はチオール化合物との縮合反応によって得られるものが好ましい。特に耐熱性向上の観点から、カルボン酸化合物とヒドロキシ化合物とから得られる活性エステル系硬化剤が好ましく、カルボン酸化合物とフェノール化合物及び/又はナフトール化合物とから得られる活性エステル系硬化剤がより好ましい。カルボン酸化合物としては、例えば安息香酸、酢酸、コハク酸、マレイン酸、イタコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ピロメリット酸等が挙げられる。フェノール化合物又はナフトール化合物としては、例えば、ハイドロキノン、レゾルシン、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フェノールフタリン、メチル化ビスフェノールA、メチル化ビスフェノールF、メチル化ビスフェノールS、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、カテコール、α−ナフトール、β−ナフトール、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシベンゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、フロログルシン、ベンゼントリオール、ジシクロペンタジエニルジフェノール化合物、フェノールノボラック等が挙げられる。ここで、「ジシクロペンタジエニルジフェノール化合物」とは、ジシクロペンタジエン1分子にフェノール2分子が縮合して得られるジフェノール化合物をいう。   From the viewpoint of adhesion (peel strength) to the conductor layer, an active ester curing agent is also preferable. Although there is no restriction | limiting in particular as an active ester type hardening | curing agent, Generally ester groups with high reaction activity, such as phenol ester, thiophenol ester, N-hydroxyamine ester, ester of heterocyclic hydroxy compound, are in 1 molecule. A compound having two or more in the above is preferably used. The active ester curing agent is preferably obtained by a condensation reaction between a carboxylic acid compound and / or a thiocarboxylic acid compound and a hydroxy compound and / or a thiol compound. In particular, from the viewpoint of improving heat resistance, an active ester curing agent obtained from a carboxylic acid compound and a hydroxy compound is preferable, and an active ester curing agent obtained from a carboxylic acid compound and a phenol compound and / or a naphthol compound is more preferable. Examples of the carboxylic acid compound include benzoic acid, acetic acid, succinic acid, maleic acid, itaconic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, and pyromellitic acid. Examples of the phenol compound or naphthol compound include hydroquinone, resorcin, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, phenolphthaline, methylated bisphenol A, methylated bisphenol F, methylated bisphenol S, phenol, o-cresol, m- Cresol, p-cresol, catechol, α-naphthol, β-naphthol, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, dihydroxybenzophenone, trihydroxybenzophenone, tetrahydroxybenzophenone, phloroglucin, Examples thereof include benzenetriol, dicyclopentadienyl diphenol compound, phenol novolac and the like. Here, the “dicyclopentadienyl diphenol compound” refers to a diphenol compound obtained by condensing two molecules of phenol with one molecule of dicyclopentadiene.

具体的には、ジシクロペンタジエニルジフェノール構造を含む活性エステル化合物、ナフタレン構造を含む活性エステル化合物、フェノールノボラックのアセチル化物を含む活性エステル化合物、フェノールノボラックのベンゾイル化物を含む活性エステル化合物が好ましく、なかでもナフタレン構造を含む活性エステル化合物、ジシクロペンタジエニルジフェノール構造を含む活性エステル化合物がより好ましい。活性エステル系硬化剤の具体例としては、例えば、ジシクロペンタジエニルジフェノール構造を含む活性エステル化合物として、「EXB9451」、「EXB9460」、「EXB9460S」、「HPC−8000−65T」(DIC(株)製)、ナフタレン構造を含む活性エステル化合物として「EXB9416−70BK」(DIC(株)製)、フェノールノボラックのアセチル化物を含む活性エステル化合物として「DC808」(三菱化学(株)製)、フェノールノボラックのベンゾイル化物を含む活性エステル化合物として「YLH1026」(三菱化学(株)製)などが挙げられる。   Specifically, an active ester compound containing a dicyclopentadienyl diphenol structure, an active ester compound containing a naphthalene structure, an active ester compound containing an acetylated product of a phenol novolak, and an active ester compound containing a benzoylated product of a phenol novolak are preferred. Of these, an active ester compound containing a naphthalene structure and an active ester compound containing a dicyclopentadienyl diphenol structure are more preferred. Specific examples of the active ester curing agent include, for example, “EXB9451”, “EXB9460”, “EXB9460S”, “HPC-8000-65T” (DIC ()) as an active ester compound containing a dicyclopentadienyl diphenol structure. Manufactured by Co., Ltd.), “EXB9416-70BK” (manufactured by DIC Corporation) as an active ester compound containing a naphthalene structure, “DC808” (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) as an active ester compound containing an acetylated product of phenol novolac “YLH1026” (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) and the like are mentioned as active ester compounds containing a benzoylated product of novolak.

ベンゾオキサジン系硬化剤の具体例としては、昭和高分子(株)製の「HFB2006M」、四国化成工業(株)製の「P−d」、「F−a」が挙げられる。   Specific examples of the benzoxazine-based curing agent include “HFB2006M” manufactured by Showa Polymer Co., Ltd., “Pd” and “Fa” manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.

シアネートエステル系硬化剤としては、例えば、ビスフェノールAジシアネート、ポリフェノールシアネート(オリゴ(3−メチレン−1,5−フェニレンシアネート)、4,4’−メチレンビス(2,6−ジメチルフェニルシアネート)、4,4’−エチリデンジフェニルジシアネート、ヘキサフルオロビスフェノールAジシアネート、2,2−ビス(4−シアネート)フェニルプロパン、1,1−ビス(4−シアネートフェニルメタン)、ビス(4−シアネート−3,5−ジメチルフェニル)メタン、1,3−ビス(4−シアネートフェニル−1−(メチルエチリデン))ベンゼン、ビス(4−シアネートフェニル)チオエーテル、及びビス(4−シアネートフェニル)エーテル等の2官能シアネート樹脂、フェノールノボラック及びクレゾールノボラック等から誘導される多官能シアネート樹脂、これらシアネート樹脂が一部トリアジン化したプレポリマーなどが挙げられる。シアネートエステル系硬化剤の具体例としては、ロンザジャパン(株)製の「PT30」及び「PT60」(いずれもフェノールノボラック型多官能シアネートエステル樹脂)、「BA230」(ビスフェノールAジシアネートの一部又は全部がトリアジン化され三量体となったプレポリマー)等が挙げられる。   Examples of cyanate ester-based curing agents include bisphenol A dicyanate, polyphenol cyanate (oligo (3-methylene-1,5-phenylene cyanate), 4,4′-methylenebis (2,6-dimethylphenyl cyanate), 4,4. '-Ethylidene diphenyl dicyanate, hexafluorobisphenol A dicyanate, 2,2-bis (4-cyanate) phenylpropane, 1,1-bis (4-cyanatephenylmethane), bis (4-cyanate-3,5-dimethyl) Bifunctional cyanate resins such as phenyl) methane, 1,3-bis (4-cyanatephenyl-1- (methylethylidene)) benzene, bis (4-cyanatephenyl) thioether, and bis (4-cyanatephenyl) ether, phenol Novolac and K Examples include polyfunctional cyanate resins derived from sol novolac, prepolymers in which these cyanate resins are partly triazines, etc. Specific examples of cyanate ester curing agents include “PT30” manufactured by Lonza Japan Co., Ltd. “PT60” (both phenol novolac-type polyfunctional cyanate ester resins), “BA230” (prepolymer in which a part or all of bisphenol A dicyanate is triazine-modified), and the like.

エポキシ樹脂と硬化剤との量比は、[エポキシ樹脂のエポキシ基の合計数]:[硬化剤の反応基の合計数]の比率で、1:0.2〜1:2の範囲が好ましく、1:0.3〜1:1.5がより好ましく、1:0.4〜1:1が更に好ましい。ここで、硬化剤の反応基とは、活性水酸基、活性エステル基等であり、硬化剤の種類によって異なる。また、エポキシ樹脂のエポキシ基の合計数とは、各エポキシ樹脂の固形分質量をエポキシ当量で除した値をすべてのエポキシ樹脂について合計した値であり、硬化剤の反応基の合計数とは、各硬化剤の固形分質量を反応基当量で除した値をすべての硬化剤について合計した値である。エポキシ樹脂と硬化剤との量比を斯かる範囲とすることにより、樹脂組成物の硬化物の耐熱性がより向上する。   The amount ratio of the epoxy resin and the curing agent is preferably a ratio of [total number of epoxy groups of the epoxy resin]: [total number of reactive groups of the curing agent] in the range of 1: 0.2 to 1: 2. 1: 0.3-1: 1.5 are more preferable, and 1: 0.4-1: 1 are still more preferable. Here, the reactive group of the curing agent is an active hydroxyl group, an active ester group or the like, and varies depending on the type of the curing agent. Moreover, the total number of epoxy groups of the epoxy resin is a value obtained by dividing the value obtained by dividing the solid mass of each epoxy resin by the epoxy equivalent for all epoxy resins, and the total number of reactive groups of the curing agent is: The value obtained by dividing the solid mass of each curing agent by the reactive group equivalent is the total value for all curing agents. By setting the amount ratio of the epoxy resin and the curing agent in such a range, the heat resistance of the cured product of the resin composition is further improved.

一実施形態において、本発明の硬化体を形成するために使用する樹脂組成物は、上述の無機充填材、エポキシ樹脂、及び硬化剤を含む。粗化処理後に金属層(導体層)に対して優れた剥離強度を呈する硬化体を得る観点から、樹脂組成物は、無機充填材としてシリカを、エポキシ樹脂として液状エポキシ樹脂と固体状エポキシ樹脂との混合物(液状エポキシ樹脂:固体状エポキシ樹脂の質量比は1:0.1〜1:3の範囲が好ましく、1:0.1〜1:2.5の範囲がより好ましく、1:0.1〜1:2の範囲が更に好ましく、1:0.3〜1:1.8の範囲が更により好ましく、1:0.6〜1:1.5の範囲が特に好ましい)を、硬化剤としてノボラック構造を有するフェノール系硬化剤、含窒素フェノール系硬化剤(好ましくはトリアジン骨格含有フェノール系硬化剤)及び活性エステル系硬化剤からなる群から選択される1種以上を、それぞれ含むことが好ましい。斯かる特定の成分を組み合わせて含む樹脂組成物層に関しても、無機充填材、エポキシ樹脂、及び硬化剤の好適な含有量は上述のとおりであるが、中でも、無機充填材の含有量が50質量%〜95質量%、エポキシ樹脂の含有量が3質量%〜50質量%であることが好ましく、無機充填材の含有量が50質量%〜90質量%、エポキシ樹脂の含有量が5質量%〜45質量%であることがより好ましい。硬化剤の含有量に関しては、エポキシ樹脂のエポキシ基の合計数と、硬化剤の反応基の合計数との比が、好ましくは1:0.2〜1:2の範囲、より好ましくは1:0.3〜1:1.5の範囲、さらに好ましくは1:0.4〜1:1の範囲となるように含有させる。   In one Embodiment, the resin composition used in order to form the hardening body of this invention contains the above-mentioned inorganic filler, an epoxy resin, and a hardening | curing agent. From the viewpoint of obtaining a cured product exhibiting excellent peel strength with respect to the metal layer (conductor layer) after the roughening treatment, the resin composition comprises silica as an inorganic filler, liquid epoxy resin as an epoxy resin, and solid epoxy resin. (Mass ratio of liquid epoxy resin: solid epoxy resin is preferably in the range of 1: 0.1 to 1: 3, more preferably in the range of 1: 0.1 to 1: 2.5, and 1: 0. A range of 1-1: 2 is more preferred, a range of 1: 0.3-1: 1.8 is even more preferred, and a range of 1: 0.6-1: 1.5 is particularly preferred). It preferably contains at least one selected from the group consisting of a phenolic curing agent having a novolak structure, a nitrogen-containing phenolic curing agent (preferably a triazine skeleton-containing phenolic curing agent) and an active ester curing agent. . Regarding the resin composition layer containing a combination of such specific components, the preferred content of the inorganic filler, the epoxy resin, and the curing agent is as described above, and among them, the content of the inorganic filler is 50 mass. The content of the epoxy resin is preferably 3% by mass to 50% by mass, the content of the inorganic filler is 50% by mass to 90% by mass, and the content of the epoxy resin is 5% by mass to More preferably, it is 45 mass%. Regarding the content of the curing agent, the ratio of the total number of epoxy groups of the epoxy resin to the total number of reactive groups of the curing agent is preferably in the range of 1: 0.2 to 1: 2, more preferably 1: It is contained so as to be in the range of 0.3 to 1: 1.5, more preferably in the range of 1: 0.4 to 1: 1.

樹脂組成物は、必要に応じて、さらに熱可塑性樹脂、硬化促進剤、難燃剤及びゴム粒子等の添加剤を含んでいてもよい。   The resin composition may further contain additives such as a thermoplastic resin, a curing accelerator, a flame retardant, and rubber particles as necessary.

(熱可塑性樹脂)
熱可塑性樹脂としては、例えば、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、及びポリスルホン樹脂等が挙げられる。熱可塑性樹脂を含むことで、熱硬化工程中においても、硬化体表面に樹脂成分が移動しやすくなり、硬化体表面の急激な組成勾配を形成する傾向となる。熱可塑性樹脂は1種単独で用いてもよく、又は2種以上を併用してもよい。
(Thermoplastic resin)
Examples of the thermoplastic resin include phenoxy resin, polyvinyl acetal resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polyethersulfone resin, and polysulfone resin. By including the thermoplastic resin, the resin component easily moves to the surface of the cured body even during the thermosetting process, and tends to form an abrupt composition gradient on the surface of the cured body. A thermoplastic resin may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

熱可塑性樹脂のポリスチレン換算の重量平均分子量は8,000〜70,000の範囲が好ましく、10,000〜60,000の範囲がより好ましく、20,000〜60,000の範囲が更に好ましい。熱可塑性樹脂のポリスチレン換算の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法で測定される。具体的には、熱可塑性樹脂のポリスチレン換算の重量平均分子量は、測定装置として(株)島津製作所製LC−9A/RID−6Aを、カラムとして昭和電工(株)製Shodex K−800P/K−804L/K−804Lを、移動相としてクロロホルム等を用いて、カラム温度40℃にて測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて算出することができる。   The weight average molecular weight in terms of polystyrene of the thermoplastic resin is preferably in the range of 8,000 to 70,000, more preferably in the range of 10,000 to 60,000, and still more preferably in the range of 20,000 to 60,000. The weight average molecular weight in terms of polystyrene of the thermoplastic resin is measured by a gel permeation chromatography (GPC) method. Specifically, the polystyrene-reduced weight average molecular weight of the thermoplastic resin is LC-9A / RID-6A manufactured by Shimadzu Corporation as a measuring device, and Shodex K-800P / K- manufactured by Showa Denko KK as a column. 804L / K-804L can be measured at a column temperature of 40 ° C. using chloroform or the like as a mobile phase, and can be calculated using a standard polystyrene calibration curve.

フェノキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA骨格、ビスフェノールF骨格、ビスフェノールS骨格、ビスフェノールアセトフェノン骨格、ノボラック骨格、ビフェニル骨格、フルオレン骨格、ジシクロペンタジエン骨格、ノルボルネン骨格、ナフタレン骨格、アントラセン骨格、アダマンタン骨格、テルペン骨格、及びトリメチルシクロヘキサン骨格からなる群から選択される1種以上の骨格を有するフェノキシ樹脂が挙げられる。フェノキシ樹脂の末端は、フェノール性水酸基、エポキシ基等のいずれの官能基でもよい。フェノキシ樹脂は1種単独で用いてもよく、又は2種以上を併用してもよい。フェノキシ樹脂の具体例としては、三菱化学(株)製の「1256」及び「4250」(いずれもビスフェノールA骨格含有フェノキシ樹脂)、「YX8100」(ビスフェノールS骨格含有フェノキシ樹脂)、及び「YX6954」(ビスフェノールアセトフェノン骨格含有フェノキシ樹脂)が挙げられ、その他にも、東都化成(株)製の「FX280」及び「FX293」、三菱化学(株)製の「YL7553」、「YL6794」、「YL7213」、「YL7290」及び「YL7482」等が挙げられる。   Examples of the phenoxy resin include bisphenol A skeleton, bisphenol F skeleton, bisphenol S skeleton, bisphenolacetophenone skeleton, novolac skeleton, biphenyl skeleton, fluorene skeleton, dicyclopentadiene skeleton, norbornene skeleton, naphthalene skeleton, anthracene skeleton, adamantane skeleton, terpene Examples thereof include phenoxy resins having a skeleton and one or more skeletons selected from the group consisting of a trimethylcyclohexane skeleton. The terminal of the phenoxy resin may be any functional group such as a phenolic hydroxyl group or an epoxy group. A phenoxy resin may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together. Specific examples of the phenoxy resin include “1256” and “4250” (both bisphenol A skeleton-containing phenoxy resin), “YX8100” (bisphenol S skeleton-containing phenoxy resin), and “YX6954” (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation). In addition, “FX280” and “FX293” manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., “YL7553”, “YL6794”, “YL7213” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, YL7290 "," YL7482 ", etc. are mentioned.

ポリビニルアセタール樹脂の具体例としては、電気化学工業(株)製の電化ブチラール4000−2、5000−A、6000−C、6000−EP、積水化学工業(株)製のエスレックBHシリーズ、BXシリーズ、KSシリーズ、BLシリーズ、BMシリーズ等が挙げられる。   Specific examples of the polyvinyl acetal resin include: Electric Butyral 4000-2, 5000-A, 6000-C, 6000-EP manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., S-Lec BH Series, BX Series manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. KS series, BL series, BM series, etc. are mentioned.

ポリイミド樹脂の具体例としては、新日本理化(株)製の「リカコートSN20」及び「リカコートPN20」が挙げられる。ポリイミド樹脂の具体例としてはまた、2官能性ヒドロキシル基末端ポリブタジエン、ジイソシアネート化合物及び四塩基酸無水物を反応させて得られる線状ポリイミド(特開2006−37083号公報記載のもの)、ポリシロキサン骨格含有ポリイミド(特開2002−12667号公報及び特開2000−319386号公報等に記載のもの)等の変性ポリイミドが挙げられる。   Specific examples of the polyimide resin include “Rika Coat SN20” and “Rika Coat PN20” manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd. Specific examples of the polyimide resin include linear polyimide obtained by reacting a bifunctional hydroxyl group-terminated polybutadiene, a diisocyanate compound and a tetrabasic acid anhydride (described in JP-A-2006-37083), a polysiloxane skeleton. Examples thereof include modified polyimides such as containing polyimide (described in JP-A No. 2002-12667 and JP-A No. 2000-319386).

ポリアミドイミド樹脂の具体例としては、東洋紡績(株)製の「バイロマックスHR11NN」及び「バイロマックスHR16NN」が挙げられる。ポリアミドイミド樹脂の具体例としてはまた、日立化成工業(株)製のポリシロキサン骨格含有ポリアミドイミド「KS9100」、「KS9300」等の変性ポリアミドイミドが挙げられる。   Specific examples of the polyamide-imide resin include “Bilomax HR11NN” and “Bilomax HR16NN” manufactured by Toyobo Co., Ltd. Specific examples of the polyamideimide resin also include modified polyamideimides such as polysiloxane skeleton-containing polyamideimides “KS9100” and “KS9300” manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.

ポリエーテルスルホン樹脂の具体例としては、住友化学(株)製の「PES5003P」等が挙げられる。   Specific examples of the polyethersulfone resin include “PES5003P” manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.

ポリスルホン樹脂の具体例としては、ソルベイアドバンストポリマーズ(株)製のポリスルホン「P1700」、「P3500」等が挙げられる。   Specific examples of the polysulfone resin include polysulfone “P1700” and “P3500” manufactured by Solvay Advanced Polymers Co., Ltd.

樹脂組成物中の熱可塑性樹脂の含有量は、0.1質量%〜20質量%であることが好ましい。熱可塑性樹脂の含有量を斯かる範囲とすることにより、樹脂組成物の粘度が適度となり、厚みやバルク性状の均一な樹脂組成物を形成することができる。樹脂組成物中の熱可塑性樹脂の含有量は、0.5質量%〜10質量%であることがより好ましい。   The content of the thermoplastic resin in the resin composition is preferably 0.1% by mass to 20% by mass. By setting the content of the thermoplastic resin within such a range, the viscosity of the resin composition becomes appropriate, and a uniform resin composition having a thickness and a bulk property can be formed. The content of the thermoplastic resin in the resin composition is more preferably 0.5% by mass to 10% by mass.

硬化促進剤としては、例えば、有機ホスフィン化合物、イミダゾール化合物、アミンアダクト化合物、及び3級アミン化合物などが挙げられる。硬化促進剤の含有量は、エポキシ樹脂と硬化剤の不揮発成分合計量を100質量%としたとき、0.05質量%〜3質量%の範囲で使用することが好ましい。硬化促進剤は1種単独で用いてもよく、又は2種以上を併用してもよい。   Examples of the curing accelerator include organic phosphine compounds, imidazole compounds, amine adduct compounds, and tertiary amine compounds. The content of the curing accelerator is preferably used in the range of 0.05% by mass to 3% by mass when the total amount of nonvolatile components of the epoxy resin and the curing agent is 100% by mass. A hardening accelerator may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

難燃剤としては、例えば、有機リン系難燃剤、有機系窒素含有リン化合物、窒素化合物、シリコーン系難燃剤、金属水酸化物等が挙げられる。難燃剤は1種単独で用いてもよく、又は2種以上を併用してもよい。樹脂組成物層中の難燃剤の含有量は特に限定はされないが、0.5質量%〜10質量%が好ましく、1質量%〜9質量%がより好ましく、1.5質量%〜8質量%が更に好ましい。   Examples of the flame retardant include an organic phosphorus flame retardant, an organic nitrogen-containing phosphorus compound, a nitrogen compound, a silicone flame retardant, and a metal hydroxide. A flame retardant may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together. The content of the flame retardant in the resin composition layer is not particularly limited, but is preferably 0.5% by mass to 10% by mass, more preferably 1% by mass to 9% by mass, and 1.5% by mass to 8% by mass. Is more preferable.

ゴム粒子としては、例えば、後述する有機溶剤に溶解せず、上述のエポキシ樹脂、硬化剤、及び熱可塑性樹脂などとも相溶しないものが使用される。このようなゴム粒子は、一般には、ゴム成分の分子量を有機溶剤や樹脂に溶解しないレベルまで大きくし、粒子状とすることで調製される。   As the rubber particles, for example, those that do not dissolve in an organic solvent described later and are incompatible with the above-described epoxy resin, curing agent, thermoplastic resin, and the like are used. Such rubber particles are generally prepared by increasing the molecular weight of the rubber component to a level at which it does not dissolve in an organic solvent or resin and making it into particles.

ゴム粒子としては、例えば、コアシェル型ゴム粒子、架橋アクリロニトリルブタジエンゴム粒子、架橋スチレンブタジエンゴム粒子、アクリルゴム粒子などが挙げられる。コアシェル型ゴム粒子は、コア層とシェル層とを有するゴム粒子であり、例えば、外層のシェル層がガラス状ポリマーで構成され、内層のコア層がゴム状ポリマーで構成される2層構造、又は外層のシェル層がガラス状ポリマーで構成され、中間層がゴム状ポリマーで構成され、コア層がガラス状ポリマーで構成される3層構造のものなどが挙げられる。ガラス状ポリマー層は、例えば、メチルメタクリレート重合物などで構成され、ゴム状ポリマー層は、例えば、ブチルアクリレート重合物(ブチルゴム)などで構成される。ゴム粒子は1種単独で用いてもよく、又は2種以上を併用してもよい。   Examples of the rubber particles include core-shell type rubber particles, cross-linked acrylonitrile butadiene rubber particles, cross-linked styrene butadiene rubber particles, and acrylic rubber particles. The core-shell type rubber particles are rubber particles having a core layer and a shell layer. For example, a two-layer structure in which an outer shell layer is made of a glassy polymer and an inner core layer is made of a rubbery polymer, or Examples include a three-layer structure in which the outer shell layer is made of a glassy polymer, the intermediate layer is made of a rubbery polymer, and the core layer is made of a glassy polymer. The glassy polymer layer is made of, for example, methyl methacrylate polymer, and the rubbery polymer layer is made of, for example, butyl acrylate polymer (butyl rubber). A rubber particle may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

ゴム粒子の平均粒径は、好ましくは0.005μm〜1μmの範囲であり、より好ましくは0.2μm〜0.6μmの範囲である。ゴム粒子の平均粒径は、動的光散乱法を用いて測定することができる。例えば、適当な有機溶剤にゴム粒子を超音波などにより均一に分散させ、濃厚系粒径アナライザー(FPAR−1000;大塚電子(株)製)を用いて、ゴム粒子の粒度分布を質量基準で作成し、そのメディアン径を平均粒径とすることで測定することができる。樹脂組成物中のゴム粒子の含有量は、好ましくは1質量%〜10質量%であり、より好ましくは2質量%〜5質量%である。   The average particle size of the rubber particles is preferably in the range of 0.005 μm to 1 μm, more preferably in the range of 0.2 μm to 0.6 μm. The average particle diameter of the rubber particles can be measured using a dynamic light scattering method. For example, rubber particles are uniformly dispersed in an appropriate organic solvent by ultrasonic waves, etc., and a particle size distribution of rubber particles is created on a mass basis using a concentrated particle size analyzer (FPAR-1000; manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.). And it can measure by making the median diameter into an average particle diameter. The content of the rubber particles in the resin composition is preferably 1% by mass to 10% by mass, and more preferably 2% by mass to 5% by mass.

本発明の硬化体を形成するために使用する樹脂組成物は、必要に応じて、他の添加剤を含んでいてもよく、斯かる他の添加剤としては、例えば、有機銅化合物、有機亜鉛化合物及び有機コバルト化合物等の有機金属化合物、並びに有機フィラー、増粘剤、消泡剤、レベリング剤、密着性付与剤、着色剤及び硬化性樹脂等の樹脂添加剤等が挙げられる。   The resin composition used to form the cured product of the present invention may contain other additives as necessary. Examples of such other additives include organic copper compounds and organic zinc. Examples include organic metal compounds such as compounds and organic cobalt compounds, and resin fillers such as organic fillers, thickeners, antifoaming agents, leveling agents, adhesion-imparting agents, colorants, and curable resins.

本発明の硬化体は、金属張積層板の絶縁層を形成するための硬化体(金属張積層板の絶縁層用硬化体)、プリント配線板の絶縁層を形成するための硬化体(プリント配線板の絶縁層用硬化体)として使用することができる。中でも、ビルドアップ方式によるプリント配線板の製造において、絶縁層を形成するための硬化体(プリント配線板のビルドアップ絶縁層用硬化体)として好適に使用することができ、メッキにより導体層を形成するための硬化体(メッキにより導体層を形成するプリント配線板のビルドアップ絶縁層用硬化体)としてさらに好適に使用することができる。   The cured body of the present invention includes a cured body for forming an insulating layer of a metal-clad laminate (cured body for an insulating layer of a metal-clad laminate), and a cured body for forming an insulating layer of a printed wiring board (printed wiring) It can be used as a cured body for an insulating layer of a plate). In particular, in the production of printed wiring boards by the build-up method, it can be suitably used as a cured body for forming an insulating layer (cured body for build-up insulating layers of printed wiring boards), and a conductor layer is formed by plating It can be more suitably used as a cured body (a cured body for a build-up insulating layer of a printed wiring board on which a conductor layer is formed by plating).

本発明の硬化体を使用する場合、本発明の硬化体を形成するために使用する樹脂組成物は、硬化体(絶縁層)の積層を簡便かつ効率よく実施できる観点から、該樹脂組成物からなる層を含む接着シートの形態で用いることが好適である。   When the cured product of the present invention is used, the resin composition used for forming the cured product of the present invention is obtained from the resin composition from the viewpoint that stacking of the cured product (insulating layer) can be performed easily and efficiently. It is preferable to use it in the form of an adhesive sheet including a layer.

一実施形態において、接着シートは、支持体と、該支持体と接合している樹脂組成物層(接着層)とを含んでなり、樹脂組成物層(接着層)が上記樹脂組成物から形成される。   In one embodiment, the adhesive sheet includes a support and a resin composition layer (adhesive layer) bonded to the support, and the resin composition layer (adhesive layer) is formed from the resin composition. Is done.

支持体としては、プラスチック材料からなるフィルムが好適に用いられる。プラスチック材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(以下、「PET」と略称することがある。)、ポリエチレンナフタレート(以下、「PEN」と略称することがある。)等のポリエステル、ポリカーボネート(以下、「PC」と略称することがある。)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のアクリル、環状ポリオレフィン、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリエーテルサルファイド(PES)、ポリエーテルケトン、ポリイミドなどが挙げられる。中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが好ましく、安価なポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。好適な一実施形態において、支持体は、ポリエチレンテレフタレートフィルムである。   A film made of a plastic material is preferably used as the support. Examples of the plastic material include polyesters such as polyethylene terephthalate (hereinafter sometimes abbreviated as “PET”) and polyethylene naphthalate (hereinafter sometimes abbreviated as “PEN”), polycarbonate (hereinafter referred to as “PET”). PC ”), acrylic such as polymethyl methacrylate (PMMA), cyclic polyolefin, triacetyl cellulose (TAC), polyether sulfide (PES), polyether ketone, polyimide and the like. Among these, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferable, and inexpensive polyethylene terephthalate is particularly preferable. In a preferred embodiment, the support is a polyethylene terephthalate film.

支持体は、樹脂組成物層と接合する側の表面にマット処理、コロナ処理を施してあってもよい。また、支持体としては、樹脂組成物層と接合する側の表面に離型層を有する離型層付き支持体を使用してもよい。   The support may be subjected to a mat treatment or a corona treatment on the surface to be joined to the resin composition layer. Further, as the support, a support with a release layer having a release layer on the surface to be bonded to the resin composition layer may be used.

支持体の厚みは、特に限定されないが、5μm〜75μmの範囲が好ましく、10μm〜60μmの範囲がより好ましい。なお、支持体が離型層付き支持体である場合、離型層付き支持体全体の厚みが上記範囲であることが好ましい。   Although the thickness of a support body is not specifically limited, The range of 5 micrometers-75 micrometers is preferable, and the range of 10 micrometers-60 micrometers is more preferable. In addition, when a support body is a support body with a release layer, it is preferable that the thickness of the whole support body with a release layer is the said range.

接着シートは、例えば、有機溶剤に樹脂組成物を溶解した樹脂ワニスを調製し、この樹脂ワニスを、ダイコーターなどを用いて支持体上に塗布し、更に加熱、あるいは熱風吹きつけ等により有機溶剤を乾燥させて樹脂組成物層を形成させることにより製造することができる。   The adhesive sheet is prepared by, for example, preparing a resin varnish in which a resin composition is dissolved in an organic solvent, applying the resin varnish on a support using a die coater, and further heating or blowing hot air to the organic solvent. It can manufacture by drying and forming a resin composition layer.

有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン及びシクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びカルビトールアセテート等の酢酸エステル類、セロソルブ及びブチルカルビトール等のカルビトール類、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド及びN−メチルピロリドン等のアミド系溶媒等を挙げることができる。有機溶剤は1種単独で用いてもよく、又は2種以上を併用してもよい。   Examples of the organic solvent include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone, acetates such as ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and carbitol acetate, and carbitols such as cellosolve and butyl carbitol. And aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, amide solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone. An organic solvent may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.

乾燥条件は特に限定されないが、樹脂組成物層中の有機溶剤の含有量(残留溶剤量)が10質量%以下、好ましくは5質量%以下となるように乾燥させる。また、樹脂組成物層の取扱性やフィルム形態での溶融粘度の上昇を防止する観点から、0.5質量%以上が好ましく、1質量%以上がより好ましい。樹脂ワニス中の有機溶剤の沸点によっても異なるが、例えば30質量%〜60質量%の有機溶剤を含む樹脂ワニスを用いる場合、50℃〜150℃で3〜10分乾燥させることにより、樹脂組成物層を形成することができる。このように、残留溶剤量をコントロールすることで樹脂組成物の溶融粘度が低下し、硬化体表面に樹脂成分が移動しやすくなり、硬化体表面の急激な組成勾配を形成する傾向となる。   The drying conditions are not particularly limited, but the organic solvent content (residual solvent amount) in the resin composition layer is 10% by mass or less, preferably 5% by mass or less. Moreover, from a viewpoint of preventing the raise of the melt viscosity in the handleability of a resin composition layer and a film form, 0.5 mass% or more is preferable and 1 mass% or more is more preferable. Depending on the boiling point of the organic solvent in the resin varnish, for example, when using a resin varnish containing 30% by mass to 60% by mass of the organic solvent, the resin composition is dried at 50 ° C. to 150 ° C. for 3 to 10 minutes. A layer can be formed. Thus, by controlling the residual solvent amount, the melt viscosity of the resin composition decreases, the resin component easily moves to the surface of the cured body, and a rapid composition gradient on the surface of the cured body tends to be formed.

接着シートにおいて、樹脂組成物層の支持体と接合していない面(即ち、支持体とは反対側の面)には、支持体に準じた保護フィルムをさらに積層することができる。保護フィルムの厚みは、特に限定されるものではないが、例えば、1μm〜40μmである。保護フィルムを積層することにより、樹脂組成物層の表面へのゴミ等の付着やキズを防止することができる。接着シートは、ロール状に巻きとって保存することが可能であり、本発明の硬化体を形成する際には、保護フィルムを剥がすことによって使用可能となる。   In the adhesive sheet, a protective film according to the support can be further laminated on the surface of the resin composition layer that is not joined to the support (that is, the surface opposite to the support). Although the thickness of a protective film is not specifically limited, For example, they are 1 micrometer-40 micrometers. By laminating the protective film, it is possible to prevent dust and the like from being attached to the surface of the resin composition layer and scratches. The adhesive sheet can be wound and stored in a roll shape, and can be used by removing the protective film when forming the cured body of the present invention.

本発明の硬化体は、無機充填材含有量が50質量%以上である上記樹脂組成物を硬化させて得られる。一実施形態において、本発明の硬化体は、無機充填材含有量が50質量%以上である樹脂組成物を、温度Tにて一定時間保持する加熱工程に付した後、温度Tよりも高い温度Tにて一定時間保持する熱硬化工程に付して得られる。好適な一実施形態において、本発明の硬化体は、無機充填材含有量が50質量%以上である樹脂組成物を、温度T(但し50℃≦T<150℃)にて10分間以上保持する加熱工程に付した後、温度T(但し150℃≦T≦240℃)にて5分間以上保持する熱硬化工程に付して得られる。 The cured body of the present invention is obtained by curing the above resin composition having an inorganic filler content of 50% by mass or more. In one embodiment, the cured body of the present invention is subjected to a heating step of holding a resin composition having an inorganic filler content of 50% by mass or more at a temperature T 1 for a certain time, and then the temperature is higher than the temperature T 1. obtained is subjected to a heat curing step for a predetermined holding time at a higher temperature T 2. In a preferred embodiment, the cured product of the present invention comprises a resin composition having an inorganic filler content of 50% by mass or more at a temperature T 1 (where 50 ° C. ≦ T 1 <150 ° C.) for 10 minutes or more. After being subjected to the heating step for holding, it is obtained by being subjected to a thermosetting step for holding at temperature T 2 (150 ° C. ≦ T 2 ≦ 240 ° C.) for 5 minutes or more.

加熱工程において、温度Tは、樹脂組成物の組成にもよるが、好ましくは60℃≦T≦130℃、より好ましくは70℃≦T≦120℃、さらに好ましくは80℃≦T≦110℃、特に好ましくは80℃≦T≦100℃を満たす。 In the heating step, the temperature T 1 depends on the composition of the resin composition, but is preferably 60 ° C. ≦ T 1 ≦ 130 ° C., more preferably 70 ° C. ≦ T 1 ≦ 120 ° C., and further preferably 80 ° C. ≦ T 1. ≦ 110 ° C., particularly preferably 80 ° C. ≦ T 1 ≦ 100 ° C.

加熱工程において、温度Tにて保持する時間は、温度Tの値にもよるが、好ましくは10分間〜150分間、より好ましくは15分間〜120分間、更に好ましくは20分間〜120分間である。 In the heating step, the time of holding at temperatures T 1 depends on the value of the temperatures T 1, preferably 10 minutes to 150 minutes, more preferably 15 minutes to 120 minutes, more preferably 20 to 120 minutes is there.

加熱工程は、常圧下で実施しても減圧下で実施してもよいが、所望の樹脂面積比を実現する観点から、好ましくは0.075mmHg〜3751mmHg(0.1hPa〜5000hPa)の範囲、より好ましくは1mmHg〜1875mmHg(1.3hPa〜2500hPa)の範囲の空気圧にて実施することが好ましい。   The heating step may be carried out under normal pressure or under reduced pressure, but from the viewpoint of realizing a desired resin area ratio, it is preferably in the range of 0.075 mmHg to 3751 mmHg (0.1 hPa to 5000 hPa). It is preferable to carry out at an air pressure in the range of 1 mmHg to 1875 mmHg (1.3 hPa to 2500 hPa).

熱硬化工程において、温度Tは、樹脂組成物の組成にもよるが、好ましくは155℃≦T≦230℃、より好ましくは160℃≦T≦220℃、さらに好ましくは170℃≦T≦210℃、特に好ましくは180℃≦T≦200℃を満たす。 In the thermosetting step, the temperature T 2 depends on the composition of the resin composition, but is preferably 155 ° C. ≦ T 2 ≦ 230 ° C., more preferably 160 ° C. ≦ T 2 ≦ 220 ° C., and more preferably 170 ° C. ≦ T. 2 ≦ 210 ° C., particularly preferably 180 ° C. ≦ T 2 ≦ 200 ° C.

なお、温度Tと温度Tは、好ましくは20℃≦T−T≦150℃、より好ましくは30℃≦T−T≦140℃、さらに好ましくは40℃≦T−T≦130℃、特に好ましくは50℃≦T−T≦120℃の関係を満たす。 The temperature T 1 and the temperature T 2 are preferably 20 ° C. ≦ T 2 −T 1 ≦ 150 ° C., more preferably 30 ° C. ≦ T 2 −T 1 ≦ 140 ° C., and further preferably 40 ° C. ≦ T 2 −T. 1 ≦ 130 ° C., particularly preferably 50 ° C. ≦ T 2 −T 1 ≦ 120 ° C.

熱硬化工程において、温度Tにて熱硬化する時間は、温度Tの値にもよるが、好ましくは5分間〜100分間、より好ましくは10分間〜80分間、さらに好ましくは10分間〜50分間である。 In the thermosetting process, the time of heat curing at temperature T 2 depends on the value of temperature T 2, preferably 5 minutes to 100 minutes, more preferably 10 minutes to 80 minutes, more preferably 10 minutes to 50 For minutes.

熱硬化工程は、常圧下で実施しても減圧下で実施してもよい。好ましくは、加熱工程と同様の空気圧にて実施することが好ましい。   The thermosetting step may be performed under normal pressure or under reduced pressure. Preferably, the air pressure is the same as in the heating step.

温度Tにおける加熱工程の後、樹脂組成物を一旦冷まして、温度Tにおける熱硬化工程に付してもよい。あるいはまた、温度Tにおける加熱工程の後、樹脂組成物を冷ますことなく、温度Tにおける熱硬化工程に付してもよい。好適な一実施形態において、本発明の硬化体は、上記加熱工程と上記熱硬化工程との間に、温度Tから温度Tへと昇温する工程にさらに付して得られる。斯かる昇温工程において、温度Tから温度Tへの昇温速度は、好ましくは1.5℃/分〜30℃/分、より好ましくは2℃/分〜30℃/分、さらに好ましくは4℃/分〜20℃/分、さらにより好ましくは4℃/分〜10℃/分である。
なお、斯かる昇温工程の途中において樹脂組成物の熱硬化が開始されてもよい。
After the heating step at a temperature T 1, the resin composition once cooled, may be subjected to a heat curing step at a temperature T 2. Alternatively, after the heating step at a temperature T 1, without cool down resin composition may be subjected to a heat curing step at a temperature T 2. In a preferred embodiment, the cured product of the present invention, between the heating step and the heat curing step, the resulting further subjected to the step of raising the temperature from temperatures T 1 to a temperature T 2. In such a temperature raising step, the rate of temperature rise from the temperature T 1 to the temperature T 2 is preferably 1.5 ° C./min to 30 ° C./min, more preferably 2 ° C./min to 30 ° C./min, and even more preferably. Is 4 ° C./min to 20 ° C./min, even more preferably 4 ° C./min to 10 ° C./min.
In addition, thermosetting of the resin composition may be started in the middle of such a temperature raising step.

こうして得られた本発明の硬化体は、上記のとおり、均一な組成並びに高い無機充填材含有量といったバルクの特性を保持しつつ、その表面近傍の領域において急激な組成勾配を有する。   As described above, the cured product of the present invention thus obtained has a steep composition gradient in a region near the surface while maintaining bulk properties such as a uniform composition and a high inorganic filler content.

本発明の硬化体に関して、表面において外部環境に露出した無機充填材はほとんどないことが好ましい。一実施形態において、X線光電子分光法により測定した、硬化体の表面における[(無機充填材由来の金属元素の原子数)/(硬化体表面の全元素の原子数)]は0.01未満であることが好ましい。例えば、無機充填材としてシリカを使用する場合、X線光電子分光法により測定した、硬化体の表面における[(ケイ素の原子数)/(硬化体表面の全元素の原子数)]が0.01未満であることが好ましい。無機充填材としてシリカとアルミナの混合物を使用する場合、X線光電子分光法により測定した、硬化体の表面における[(ケイ素及びアルミニウムの原子数)/(硬化体表面の全元素の原子数)]が0.01未満であることが好ましい。
なお、X線光電子分光法による硬化体の表面組成分析は、例えば、下記の条件により実施することができる。
測定装置:アルバックファイ社製「PHI Quantera SXM」
X線源:AlKα
X線ビーム径:100μm
電力値:25W
電圧:15kV
取り出し角度:45°
測定範囲:500×500(μm2
帯電補正:Neutralizer及びArイオン照射
With respect to the cured product of the present invention, it is preferable that almost no inorganic filler is exposed on the surface to the external environment. In one embodiment, [(number of atoms of metal element derived from inorganic filler) / (number of atoms of all elements on the surface of the cured body)] on the surface of the cured body, measured by X-ray photoelectron spectroscopy, is less than 0.01. It is preferable that For example, when silica is used as the inorganic filler, [(number of silicon atoms) / (number of atoms of all elements on the cured body surface)] on the surface of the cured body, measured by X-ray photoelectron spectroscopy, is 0.01. It is preferable that it is less than. When a mixture of silica and alumina is used as the inorganic filler, [(number of atoms of silicon and aluminum) / (number of atoms of all elements on the surface of the cured body)] measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the surface of the cured body Is preferably less than 0.01.
The surface composition analysis of the cured body by X-ray photoelectron spectroscopy can be performed, for example, under the following conditions.
Measuring device: “PHI Quantera SXM” manufactured by ULVAC-PHI
X-ray source: AlKα
X-ray beam diameter: 100 μm
Electric power value: 25W
Voltage: 15kV
Extraction angle: 45 °
Measurement range: 500 × 500 (μm 2 )
Charging correction: Neutralizer and Ar + ion irradiation

本発明の硬化体においては、上述のとおり、硬化体表面には無機充填材の粒子はほとんど存在せず実質的に樹脂成分からなる相が存在するが、硬化体表面から一定の深さ位置において、急激に無機充填材の粒子の割合が上昇する。斯かる本発明の硬化体の構造的特徴は、X線光電子分光法による表面組成分析の後、硬化体の深さ方向について組成分析を行うことによっても確認することができる。深さ方向の組成分析は、例えば、下記の手順で実施することができる。1)Arによるスパッタ処理、及び2)スパッタ処理後の表面組成分析を繰り返す。なお、2)スパッタ処理後の表面組成分析は、上記のX線光電子分光法による表面組成分析と同様の条件で実施することができる。そして、[(無機充填材由来の金属元素の原子数)/(スパッタ処理後の硬化体表面の全元素の原子数)]の値が所定のレベルとなるまでに要したスパッタ処理の回数を求める。このとき、Arによるスパッタ処理を、全ての硬化体試料について同じ条件とすることにより、求められたスパッタ処理の回数は、[(無機充填材由来の金属元素の原子数)/(スパッタ処理後の硬化体表面の全元素の原子数)]の値が所定のレベル以上となる、硬化体表面からの深さの指標となる。   In the cured body of the present invention, as described above, there are almost no inorganic filler particles on the surface of the cured body and a phase consisting essentially of a resin component exists, but at a certain depth position from the cured body surface. The proportion of the inorganic filler particles increases rapidly. Such structural characteristics of the cured product of the present invention can also be confirmed by performing composition analysis in the depth direction of the cured product after surface composition analysis by X-ray photoelectron spectroscopy. The composition analysis in the depth direction can be performed, for example, by the following procedure. 1) Sputtering treatment with Ar and 2) Surface composition analysis after the sputtering treatment are repeated. 2) The surface composition analysis after the sputter treatment can be performed under the same conditions as the surface composition analysis by the X-ray photoelectron spectroscopy. Then, the number of sputter treatments required until the value of [(number of atoms of metal element derived from inorganic filler) / (number of atoms of all elements on the surface of the cured body after sputter treatment)] reaches a predetermined level is obtained. . At this time, the sputter treatment with Ar is performed under the same conditions for all the cured body samples, so that the number of times of the obtained sputter treatment is [(number of atoms of the metal element derived from the inorganic filler) / (after the sputter treatment]. The value of the number of atoms of all elements on the surface of the cured body)] is an index of the depth from the surface of the cured body, which is a predetermined level or more.

Arによるスパッタ処理は、例えば、下記の条件で実施することができる。
・Arイオン
・加速電圧:5kV
・照射範囲:2mm×2mm
・1回あたりのスパッタリング時間:30秒間
The sputtering process using Ar can be performed, for example, under the following conditions.
・ Ar + ion ・ Acceleration voltage: 5 kV
・ Irradiation range: 2mm x 2mm
-Sputtering time per time: 30 seconds

上記の条件でArによるスパッタ処理を行う場合、本発明の硬化体は、[(無機充填材由来の金属元素の原子数)/(スパッタ処理後の硬化体表面の全元素の原子数)]の値が初めて0.01以上となるまでに要するスパッタ処理の回数は、4回以上である。粗化処理後に導体層に対してより高い剥離強度を呈する硬化体表面を実現する観点から、上記の条件でArによるスパッタ処理を行うとき、[(無機充填材由来の金属元素の原子数)/(スパッタ処理後の硬化体表面の全元素の原子数)]の値が初めて0.01以上となるまでに要するスパッタ処理の回数は、好ましくは5回以上、より好ましくは10回以上、さらに好ましくは15回以上、特に好ましくは20回以上である。なお、均一な組成並びに高い無機充填材含有量といったバルクの特性を保持する観点から、[(無機充填材由来の金属元素の原子数)/(スパッタ処理後の硬化体表面の全元素の原子数)]の値が初めて0.01以上となるまでに要するスパッタ処理の回数は、好ましくは100回以下、より好ましくは50回以下、更に好ましくは30回以下である。   When performing the sputtering process with Ar under the above conditions, the cured body of the present invention is [(number of atoms of the metal element derived from the inorganic filler) / (number of atoms of all elements on the surface of the cured body after the sputtering process)]. The number of sputter treatments required for the value to be 0.01 or more for the first time is 4 or more. From the viewpoint of realizing a cured body surface exhibiting higher peel strength with respect to the conductor layer after the roughening treatment, when performing the sputtering treatment with Ar under the above conditions, [(number of atoms of the metal element derived from the inorganic filler) / The number of sputter treatments required for the value of (number of atoms of all elements on the surface of the cured body after the sputter treatment) to be 0.01 or more for the first time is preferably 5 times or more, more preferably 10 times or more, and still more preferably. Is 15 times or more, particularly preferably 20 times or more. In addition, from the viewpoint of maintaining bulk properties such as a uniform composition and high inorganic filler content, [(number of atoms of metal element derived from inorganic filler) / (number of atoms of all elements on the surface of the cured body after sputtering treatment) )] Is preferably 100 times or less, more preferably 50 times or less, and even more preferably 30 times or less until the value of)] reaches 0.01 or more for the first time.

[粗化硬化体]
従来の設計思想に基づく「均一」な組成を有する硬化体は、粗化処理において、表面に存在する無機充填材が脱離し、表面に凹凸が形成される。斯かる凹凸は、金属層(導体層)との間でアンカー効果を発揮し、粗化硬化体と金属層との間の剥離強度の向上に寄与すると考えられている。しかしながら、硬化体中の無機充填材の含有量が高くなると、斯かる凹凸によるアンカー効果をもってしても、粗化硬化体と金属層との間の剥離強度の低下は避けられない場合があり、また、粗化硬化体の表面粗さが高くなってしまう場合があった。
[Roughened hardened body]
In a hardened body having a “uniform” composition based on the conventional design concept, the inorganic filler present on the surface is detached in the roughening treatment, and irregularities are formed on the surface. Such unevenness is considered to exhibit an anchor effect between the metal layer (conductor layer) and contribute to an improvement in peel strength between the roughened cured body and the metal layer. However, when the content of the inorganic filler in the cured body is high, even if it has an anchor effect due to such unevenness, a decrease in peel strength between the roughened cured body and the metal layer may be unavoidable, Moreover, the surface roughness of the roughened cured body may increase.

本発明の硬化体は、上記のとおり、硬化体の表面において外部環境に露出した無機充填材はほとんどない。本発明の硬化体に関しては、無機充填材を高い含有量にて含むものの、粗化処理による無機充填材の脱離は、従来の設計思想に基づく「均一」な組成を有する硬化体に比して起こり難い。本発明の硬化体は粗化処理後に金属層に対して優れた剥離強度を呈するが、これは、無機充填材の含有量と無機充填材の脱離とのバランスにおいて、金属層との剥離強度に寄与するような表面が再現されたことによるものと推察される。   As described above, the cured body of the present invention has almost no inorganic filler exposed to the external environment on the surface of the cured body. Regarding the cured product of the present invention, although it contains an inorganic filler in a high content, the detachment of the inorganic filler due to the roughening treatment is compared with a cured product having a “uniform” composition based on the conventional design concept. It is hard to happen. The cured product of the present invention exhibits excellent peel strength to the metal layer after the roughening treatment. This is due to the balance between the content of the inorganic filler and the detachment of the inorganic filler. This is probably due to the reproduction of the surface that contributes to

粗化処理の手順、条件は特に限定されず、プリント配線板の絶縁層を形成するに際して通常使用される公知の手順、条件を採用することができる。例えば、膨潤液による膨潤処理、酸化剤による粗化処理、中和液による中和処理をこの順に実施して硬化体表面を粗化処理することができる。膨潤液としては特に限定されないが、アルカリ溶液、界面活性剤溶液等が挙げられ、好ましくはアルカリ溶液であり、該アルカリ溶液としては、水酸化ナトリウム溶液、水酸化カリウム溶液がより好ましい。市販されている膨潤液としては、例えば、アトテックジャパン(株)製のスウェリング・ディップ・セキュリガンスP、スウェリング・ディップ・セキュリガンスSBU等が挙げられる。膨潤液による膨潤処理は、特に限定されないが、例えば、30〜90℃の膨潤液に硬化体を1分間〜20分間浸漬することにより行うことができる。硬化体の樹脂の膨潤を適度なレベルに抑える観点から、40〜80℃の膨潤液に硬化体を5秒〜15分浸漬させることが好ましい。酸化剤としては、特に限定されないが、例えば、水酸化ナトリウムの水溶液に過マンガン酸カリウムや過マンガン酸ナトリウムを溶解したアルカリ性過マンガン酸溶液が挙げられる。アルカリ性過マンガン酸溶液等の酸化剤による粗化処理は、60℃〜80℃に加熱した酸化剤溶液に硬化体を10分間〜30分間浸漬させて行うことが好ましい。また、アルカリ性過マンガン酸溶液における過マンガン酸塩の濃度は5質量%〜10質量%が好ましい。市販されている酸化剤としては、例えば、アトテックジャパン(株)製のコンセントレート・コンパクトP、ドージングソリューション・セキュリガンスP等のアルカリ性過マンガン酸溶液が挙げられる。また、中和液としては、酸性の水溶液が好ましく、市販品としては、例えば、アトテックジャパン(株)製のリダクションショリューシン・セキュリガントPが挙げられる。中和液による処理は、酸化剤溶液による粗化処理がなされた処理面を30〜80℃の中和液に5分間〜30分間浸漬させることにより行うことができる。作業性等の点から、酸化剤溶液による粗化処理がなされた対象物を、40〜70℃の中和液に5分〜20分浸漬する方法が好ましい。   The procedure and conditions for the roughening treatment are not particularly limited, and known procedures and conditions that are usually used when forming an insulating layer of a printed wiring board can be employed. For example, the surface of the cured body can be roughened by performing a swelling treatment with a swelling liquid, a roughening treatment with an oxidizing agent, and a neutralization treatment with a neutralizing liquid in this order. Although it does not specifically limit as a swelling liquid, An alkaline solution, surfactant solution, etc. are mentioned, Preferably it is an alkaline solution, As this alkaline solution, a sodium hydroxide solution and a potassium hydroxide solution are more preferable. Examples of commercially available swelling liquids include Swelling Dip Securigans P and Swelling Dip Securigans SBU manufactured by Atotech Japan. Although the swelling process by a swelling liquid is not specifically limited, For example, it can carry out by immersing a hardening body for 1 minute-20 minutes in 30-90 degreeC swelling liquid. From the viewpoint of suppressing the swelling of the resin of the cured body to an appropriate level, it is preferable to immerse the cured body in a swelling liquid at 40 to 80 ° C. for 5 seconds to 15 minutes. Although it does not specifically limit as an oxidizing agent, For example, the alkaline permanganate solution which melt | dissolved potassium permanganate and sodium permanganate in the aqueous solution of sodium hydroxide is mentioned. The roughening treatment with an oxidizing agent such as an alkaline permanganic acid solution is preferably performed by immersing the cured product in an oxidizing agent solution heated to 60 ° C. to 80 ° C. for 10 to 30 minutes. The concentration of permanganate in the alkaline permanganate solution is preferably 5% by mass to 10% by mass. Examples of commercially available oxidizing agents include alkaline permanganate solutions such as Concentrate Compact P and Dosing Solution Securigans P manufactured by Atotech Japan Co., Ltd. As the neutralizing solution, an acidic aqueous solution is preferable, and as a commercially available product, for example, Reduction Sholysin Securigant P manufactured by Atotech Japan Co., Ltd. may be mentioned. The treatment with the neutralizing solution can be performed by immersing the treated surface subjected to the roughening treatment with the oxidant solution in the neutralizing solution at 30 to 80 ° C. for 5 to 30 minutes. From the viewpoint of workability and the like, a method of immersing an object subjected to roughening treatment with an oxidant solution in a neutralizing solution at 40 to 70 ° C. for 5 to 20 minutes is preferable.

好適な一実施形態において、本発明の粗化硬化体は、表面の二乗平均平方根粗さRqが350nm以下である。本発明の粗化硬化体の表面粗さRqは、好ましくは300nm以下、より好ましくは250nm以下、さらに好ましくは220nm以下、特に好ましくは200nm以下である。本発明の粗化硬化体においては、表面粗さRqが、180nm以下、160nm以下、140nm以下、又は120nm以下と非常に小さい場合であっても、金属層(導体層)に対し優れた剥離強度を呈する。一方、表面粗さRqの下限値は特に限定されないが、剥離強度を安定化させるために、10nm以上、30nm以上、50nm以上などとなる。
粗化硬化体の二乗平均平方根粗さRqは、非接触型表面粗さ計を用いて測定することができる。非接触型表面粗さ計の具体例としては、ビーコインスツルメンツ製の「WYKO NT3300」が挙げられる。
In a preferred embodiment, the roughened cured product of the present invention has a surface root mean square roughness Rq of 350 nm or less. The surface roughness Rq of the roughened cured product of the present invention is preferably 300 nm or less, more preferably 250 nm or less, still more preferably 220 nm or less, and particularly preferably 200 nm or less. In the roughened cured body of the present invention, even when the surface roughness Rq is as small as 180 nm or less, 160 nm or less, 140 nm or less, or 120 nm or less, excellent peel strength against the metal layer (conductor layer) Presents. On the other hand, the lower limit value of the surface roughness Rq is not particularly limited, but is 10 nm or more, 30 nm or more, 50 nm or more, etc. in order to stabilize the peel strength.
The root mean square roughness Rq of the roughened cured body can be measured using a non-contact type surface roughness meter. As a specific example of the non-contact type surface roughness meter, “WYKO NT3300” manufactured by Bee Coins Instruments can be cited.

[積層体]
本発明の積層体は、本発明の粗化硬化体と、該粗化硬化体の表面に形成された金属層とを備える。
[Laminate]
The laminated body of this invention is equipped with the roughening hardening body of this invention, and the metal layer formed in the surface of this roughening hardening body.

金属層に使用する金属は特に限定されないが、好適な一実施形態では、金属層は、金、白金、銀、銅、アルミニウム、コバルト、クロム、亜鉛、ニッケル、チタン、タングステン、鉄、スズ及びインジウムからなる群から選択される1種以上の金属を含む。金属層は、単金属層であっても合金層であってもよく、合金層としては、例えば、上記の群から選択される2種以上の金属の合金(例えば、ニッケル・クロム合金、銅・ニッケル合金及び銅・チタン合金)から形成された層が挙げられる。中でも、金属層形成の汎用性、コスト、エッチングによる除去の容易性等の観点から、クロム、ニッケル、チタン、アルミニウム、亜鉛、金、銀若しくは銅の単金属層、又はニッケル・クロム合金、銅・ニッケル合金、銅・チタン合金の合金層が好ましく、クロム、ニッケル、チタン、アルミニウム、亜鉛、金、銀若しくは銅の単金属層、又はニッケル・クロム合金の合金層がより好ましく、銅の単金属層が更に好ましい。   Although the metal used for the metal layer is not particularly limited, in a preferred embodiment, the metal layer is made of gold, platinum, silver, copper, aluminum, cobalt, chromium, zinc, nickel, titanium, tungsten, iron, tin, and indium. One or more metals selected from the group consisting of: The metal layer may be a single metal layer or an alloy layer. As the alloy layer, for example, an alloy of two or more metals selected from the above group (for example, nickel-chromium alloy, copper- A layer formed from a nickel alloy and a copper / titanium alloy). Among them, from the viewpoint of versatility of metal layer formation, cost, ease of removal by etching, etc., single metal layer of chromium, nickel, titanium, aluminum, zinc, gold, silver or copper, or nickel-chromium alloy, copper Nickel alloy, copper / titanium alloy alloy layer is preferable, chromium, nickel, titanium, aluminum, zinc, gold, silver or copper single metal layer, or nickel / chromium alloy alloy layer is more preferable, copper single metal layer Is more preferable.

金属層は、単層構造であっても、異なる種類の金属若しくは合金からなる単金属層又は合金層が2層以上積層した複層構造であってもよい。金属層が複層構造である場合、粗化硬化体と接する層は、クロム、亜鉛若しくはチタンの単金属層、又はニッケル・クロム合金の合金層であることが好ましい。   The metal layer may have a single-layer structure or a multi-layer structure in which two or more single metal layers or alloy layers made of different types of metals or alloys are laminated. When the metal layer has a multilayer structure, the layer in contact with the roughened cured body is preferably a single metal layer of chromium, zinc or titanium, or an alloy layer of nickel / chromium alloy.

金属層は、乾式メッキ又は湿式メッキにより形成することができる。乾式メッキとしては、例えば、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の公知の方法が挙げられる。湿式メッキの場合は、例えば、無電解メッキと電解メッキとを組み合わせて金属層を形成する。あるいは、金属層(導体層)とは逆パターンのメッキレジストを形成し、無電解メッキのみで金属層を形成することもできる。配線パターン形成の方法としては、例えば、当業者に公知のサブトラクティブ法、セミアディティブ法などを用いることができる。   The metal layer can be formed by dry plating or wet plating. Examples of the dry plating include known methods such as vapor deposition, sputtering, and ion plating. In the case of wet plating, for example, a metal layer is formed by combining electroless plating and electrolytic plating. Alternatively, a plating resist having a pattern opposite to that of the metal layer (conductor layer) can be formed, and the metal layer can be formed only by electroless plating. As a method for forming the wiring pattern, for example, a subtractive method or a semi-additive method known to those skilled in the art can be used.

金属層の厚みは、プリント配線板の微細配線化の観点から、40μm以下が好ましく、1〜35μmがより好ましく、3〜20μmが更に好ましい。金属層が複層構造である場合も、金属層全体の厚みは上記範囲であることが好ましい。   The thickness of the metal layer is preferably 40 μm or less, more preferably 1 to 35 μm, and still more preferably 3 to 20 μm, from the viewpoint of miniaturization of the printed wiring board. Even when the metal layer has a multilayer structure, the thickness of the entire metal layer is preferably within the above range.

本発明の積層体において、粗化硬化体と金属層との剥離強度は、好ましくは0.5kgf/cm以上、より好ましくは0.55kgf/cm以上、さらに好ましくは0.60kgf/cm以上、特に好ましくは0.65kgf/cm以上である。一方、剥離強度の上限値は特に限定されないが、1.2kgf/cm以下、0.9kgf/cm以下などとなる。
本発明の積層体は、粗化硬化体の表面粗さRqが350nm以下と小さいにもかかわらず、このように高い剥離強度を呈することから、プリント配線板の微細配線化に著しく寄与するものである。
なお本発明において、粗化硬化体と金属層との剥離強度とは、金属層を粗化硬化体に対して垂直方向(90度方向)に引き剥がしたときの剥離強度(90度ピール強度)をいい、金属層を粗化硬化体に対して垂直方向(90度方向)に引き剥がしたときの剥離強度を引っ張り試験機で測定することにより求めることができる。引っ張り試験機としては、例えば、(株)TSE製の「AC−50C−SL」等が挙げられる。
In the laminate of the present invention, the peel strength between the roughened cured body and the metal layer is preferably 0.5 kgf / cm or more, more preferably 0.55 kgf / cm or more, still more preferably 0.60 kgf / cm or more, particularly Preferably it is 0.65 kgf / cm or more. On the other hand, the upper limit value of the peel strength is not particularly limited, but is 1.2 kgf / cm or less, 0.9 kgf / cm or less, and the like.
Although the laminate of the present invention exhibits such a high peel strength even though the surface roughness Rq of the roughened cured body is as small as 350 nm or less, it greatly contributes to the fine wiring of the printed wiring board. is there.
In the present invention, the peel strength between the roughened cured body and the metal layer means the peel strength when the metal layer is peeled in the direction perpendicular to the roughened cured body (90-degree direction) (90-degree peel strength). The peel strength when the metal layer is peeled in the direction perpendicular to the roughened cured body (90-degree direction) can be determined by measuring with a tensile tester. Examples of the tensile tester include “AC-50C-SL” manufactured by TSE Corporation.

[プリント配線板]
本発明のプリント配線板は、本発明の硬化体により絶縁層が形成されることを特徴とする。
[Printed wiring board]
The printed wiring board of the present invention is characterized in that an insulating layer is formed by the cured body of the present invention.

一実施形態において、本発明のプリント配線板は、上述の接着シートを用いて製造することができる。斯かる実施形態においては、接着シートの樹脂組成物層が回路基板と接合するようにラミネート処理した後、上述の「加熱工程」及び「熱硬化工程」を実施して本発明の硬化体を回路基板上に形成することができる。なお、接着シートが保護フィルムを有する場合、保護フィルムを除去した後に製造に供することができる。   In one embodiment, the printed wiring board of the present invention can be manufactured using the above-described adhesive sheet. In such an embodiment, after the laminating process is performed so that the resin composition layer of the adhesive sheet is bonded to the circuit board, the above-described “heating step” and “thermosetting step” are performed, and the cured body of the present invention is circuitized. It can be formed on a substrate. In addition, when an adhesive sheet has a protective film, it can use for manufacture after removing a protective film.

ラミネート処理の条件は特に限定されず、接着シートを用いてプリント配線板の絶縁層を形成するにあたり使用される公知の条件を採用することができる。例えば、加熱されたSUS鏡板等の金属板を接着シートの支持体側からプレスすることにより行うことができる。この場合、金属板を直接プレスするのではなく、回路基板の回路凹凸に接着シートが十分に追随するよう、耐熱ゴム等の弾性材を介してプレスを行うのが好ましい。プレス温度は、好ましくは70℃〜140℃の範囲であり、プレス圧力は好ましくは1kgf/cm〜11kgf/cm(9.8×10N/m〜107.9×10N/m)の範囲で行われ、プレス時間は好ましくは5秒間〜3分間の範囲である。また、ラミネート処理は、好ましくは20mmHg(26.7hPa)以下の減圧下で実施する。ラミネート処理は、市販されている真空ラミネーターを用いて実施することができる。市販されている真空ラミネーターとしては、例えば、(株)名機製作所製の真空加圧式ラミネーター、ニチゴー・モートン(株)製のバキュームアップリケーター等が挙げられる。 The conditions for the laminating treatment are not particularly limited, and known conditions used for forming an insulating layer of a printed wiring board using an adhesive sheet can be employed. For example, it can be performed by pressing a heated metal plate such as a SUS mirror plate from the support side of the adhesive sheet. In this case, it is preferable not to press the metal plate directly, but to press through an elastic material such as heat-resistant rubber so that the adhesive sheet sufficiently follows the circuit irregularities of the circuit board. The pressing temperature is preferably in the range of 70 ° C. to 140 ° C., and the pressing pressure is preferably 1 kgf / cm 2 to 11 kgf / cm 2 (9.8 × 10 4 N / m 2 to 107.9 × 10 4 N / m 2 ), and the pressing time is preferably in the range of 5 seconds to 3 minutes. The laminating process is preferably performed under a reduced pressure of 20 mmHg (26.7 hPa) or less. Lamination treatment can be performed using a commercially available vacuum laminator. Examples of the commercially available vacuum laminator include a vacuum pressure laminator manufactured by Meiki Seisakusho, a vacuum applicator manufactured by Nichigo Morton, and the like.

なお、本発明において、「回路基板」とは、主として、ガラスエポキシ基板、金属基板、ポリエステル基板、ポリイミド基板、BTレジン基板、熱硬化型ポリフェニレンエーテル基板等の基板の片面又は両面にパターン加工された導体層(回路)が形成されたものをいう。またプリント配線板を製造する際に、さらに絶縁層及び/又は導体層が形成されるべき中間製造物の内層回路基板も本発明でいう「回路基板」に含まれる。   In the present invention, the “circuit board” is mainly patterned on one or both sides of a substrate such as a glass epoxy substrate, a metal substrate, a polyester substrate, a polyimide substrate, a BT resin substrate, and a thermosetting polyphenylene ether substrate. This means that a conductor layer (circuit) is formed. Further, when the printed wiring board is manufactured, an inner layer circuit board of an intermediate product on which an insulating layer and / or a conductor layer is to be formed is also included in the “circuit board” in the present invention.

他の実施形態において、本発明のプリント配線板は、上述の樹脂ワニスを用いて製造することができる。斯かる実施形態においては、樹脂ワニスをダイコーター等により回路基板上に均一に塗布し、加熱、乾燥させることにより回路基板上に樹脂組成物層を形成した後、上述の「加熱工程」及び「熱硬化工程」を実施して本発明の硬化体を回路基板上に形成することができる。樹脂ワニスに使用する有機溶剤並びに加熱、乾燥の条件は、接着シートの製造について説明したものと同様とし得る。   In other embodiment, the printed wiring board of this invention can be manufactured using the above-mentioned resin varnish. In such an embodiment, after the resin varnish is uniformly applied on the circuit board by a die coater or the like, and the resin composition layer is formed on the circuit board by heating and drying, the above-mentioned “heating step” and “ The cured body of the present invention can be formed on a circuit board by performing a “thermosetting step”. The organic solvent used for the resin varnish and the heating and drying conditions may be the same as those described for the production of the adhesive sheet.

次いで、回路基板上に形成された硬化体に対して、上述の「粗化処理」を実施して粗化硬化体を形成した後、該粗化硬化体の表面に金属層(導体層)を形成する。なお、プリント配線板の製造においては、絶縁層に穴あけする穴あけ工程等をさらに含んでもよい。これらの工程は、当業者に公知である、プリント配線板の製造に用いられている各種方法に従って行うことができる。   Next, after the above-mentioned “roughening treatment” is performed on the cured body formed on the circuit board to form the roughened cured body, a metal layer (conductor layer) is formed on the surface of the roughened cured body. Form. Note that the manufacturing of the printed wiring board may further include a drilling step for drilling the insulating layer. These steps can be performed according to various methods used for manufacturing a printed wiring board, which are known to those skilled in the art.

[半導体装置]
上記のプリント配線板を用いて、半導体装置を製造することができる。
[Semiconductor device]
A semiconductor device can be manufactured using the printed wiring board.

かかる半導体装置としては、電気製品(例えば、コンピューター、携帯電話、デジタルカメラ及びテレビ等)及び乗物(例えば、自動二輪車、自動車、電車、船舶及び航空機等)等に供される各種半導体装置が挙げられる。   Examples of such semiconductor devices include various semiconductor devices used for electrical products (for example, computers, mobile phones, digital cameras, and televisions) and vehicles (for example, motorcycles, automobiles, trains, ships, and aircrafts). .

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、以下の記載において、「部」は、別途記載のない限り、「質量部」を意味する。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the following description, “parts” means “parts by mass” unless otherwise specified.

まず各種測定方法・評価方法について説明する。   First, various measurement methods and evaluation methods will be described.

<樹脂面積比の測定>
実施例及び比較例で製造した硬化体の樹脂面積比は、硬化体表面に垂直な断面についてSEM観察し、深さd1(μm)から深さd2(μm)までの領域における樹脂面積Ad1−d2と、深さd2(μm)から深さd3(μm)までの領域における樹脂面積Ad2−d3とを測定し、得られたAd1−d2値及びAd2−d3値から算出した。
具体的には、樹脂面積はSEM観察像を画像として保存し、画像解析ソフトを使用して、樹脂部分を黒色、樹脂以外の無機充填材部分を白色として白黒2値化し、黒色部分のビット数を樹脂部分の面積とした。
樹脂面積比(A0-1/A1-2)は、硬化体表面に垂直な断面についてSEM観察し、硬化体表面から深さ1μmまでの領域における樹脂面積A0-1と、深さ1μmから深さ2μmまでの領域における樹脂面積A1-2とを測定し、得られたA0-1値及びA1-2値から算出した。
また樹脂面積比(A0-0.5/A0.5-1)は、硬化体表面に垂直な断面についてSEM観察し、硬化体表面から深さ0.5μmまでの領域における樹脂面積A0-0.5と、深さ0.5μmから深さ1μmまでの領域における樹脂面積A0.5-1とを測定し、得られたA0-0.5値及びA0.5-1値から算出した。
樹脂面積比(kA0.5-d/Ad-0.5D)は、硬化体表面に垂直な断面についてSEM観察し、深さ0.5μmから深さd(μm)までの領域における樹脂面積A0.5-dと、深さd(μm)から深さ0.5D(μm)までの領域における樹脂面積Ad-0.5Dとを測定し、得られたA0.5-d値及びAd-0.5D値から算出した。ここで、本実施例においては、d=1(μm)であり、D=35(μm)であり、k=|d−0.5D|/|0.5−d|=16.5/0.5=33であった。
なお、硬化体断面のSEM観察は、エスアイアイ・ナノテクノロジー社製集束イオンビーム/走査イオン顕微鏡「SMI3050SE」を用いて実施し、測定領域の幅は7.5μmとした。
<Measurement of resin area ratio>
The resin area ratio of the cured bodies produced in the examples and comparative examples was observed by SEM for the cross section perpendicular to the cured body surface, and the resin area A d1− in the region from the depth d1 (μm) to the depth d2 (μm). d2 and the resin area A d2-d3 in the region from the depth d2 (μm) to the depth d3 (μm) were measured, and calculated from the obtained A d1-d2 value and A d2-d3 value.
Specifically, the resin area is stored as an SEM observation image as an image, and using image analysis software, the resin part is black and the inorganic filler part other than resin is white and is binarized, and the number of bits of the black part Was the area of the resin part.
The resin area ratio (A 0-1 / A 1-2 ) is determined by SEM observation of a cross section perpendicular to the surface of the cured body. The resin area A 0-1 in the region from the cured body surface to a depth of 1 μm and the depth of 1 μm The resin area A 1-2 in the region from 1 to 2 μm in depth was measured and calculated from the obtained A 0-1 value and A 1-2 value.
The resin area ratio (A 0-0.5 / A 0.5-1 ) was determined by SEM observation of a cross section perpendicular to the surface of the cured body, and the resin area A 0-0.5 in the region from the cured body surface to a depth of 0.5 μm, The resin area A 0.5-1 in a region from a depth of 0.5 μm to a depth of 1 μm was measured and calculated from the obtained A 0-0.5 value and A 0.5-1 value.
The resin area ratio (kA 0.5-d / A d-0.5D ) is determined by SEM observation of a cross section perpendicular to the surface of the cured body, and the resin area A 0.5- in the region from depth 0.5 μm to depth d (μm). d and the resin area A d-0.5D in the region from the depth d (μm) to the depth 0.5 D (μm), and from the obtained A 0.5-d value and A d-0.5D value Calculated. Here, in the present embodiment, d = 1 (μm), D = 35 (μm), k = | d−0.5D | / | 0.5−d | = 16.5 / 0. .5 = 33.
The SEM observation of the cross-section of the cured product was performed using a focused ion beam / scanning ion microscope “SMI3050SE” manufactured by SII Nanotechnology, and the width of the measurement region was 7.5 μm.

<X線光電子分光法による硬化体の組成分析>
実施例及び比較例で製造した硬化体の表面組成、すなわち[(無機充填材由来の金属元素の原子数)/(硬化体表面の全元素の原子数)]は、X線光電子分光分析装置(アルバックファイ社製「PHI Quantera SXM」)を用いて、下記の条件にて行った。
X線源:AlKα
X線ビーム径:100μm
電力値:25W
電圧:15kV
取り出し角度:45°
測定範囲:500×500(μm2
帯電補正:Neutralizer及びArイオン照射
表面組成分析の後、硬化体の深さ方向について組成分析を行った。深さ方向の組成分析は、1)Arによるスパッタ処理、及び2)スパッタ処理後の表面組成分析を繰り返すことにより実施した。そして、[(無機充填材由来の金属元素の原子数)/(スパッタ処理後の硬化体表面の全元素の原子数)]の値が初めて0.01以上となるまでに要したスパッタ処理の回数を求めた。なお、Arによるスパッタ処理の条件は、下記のとおりであり、全ての硬化体試料について同じ条件とした。
Arイオン
加速電圧:5kV
照射範囲:2mm×2mm
1回あたりのスパッタリング時間:30秒間
<Composition analysis of cured body by X-ray photoelectron spectroscopy>
The surface composition of the cured bodies produced in Examples and Comparative Examples, that is, [(number of atoms of metal element derived from inorganic filler) / (number of atoms of all elements on the surface of the cured body)] is X-ray photoelectron spectrometer ( The measurement was performed under the following conditions using “PHI Quantera SXM” manufactured by ULVAC-PHI.
X-ray source: AlKα
X-ray beam diameter: 100 μm
Electric power value: 25W
Voltage: 15kV
Extraction angle: 45 °
Measurement range: 500 × 500 (μm 2 )
Charging correction: Neutralizer and Ar + ion irradiation After surface composition analysis, composition analysis was performed in the depth direction of the cured product. The composition analysis in the depth direction was performed by repeating 1) sputtering with Ar and 2) surface composition analysis after the sputtering. The number of sputtering processes required until the value of [(number of atoms of the metal element derived from the inorganic filler) / (number of atoms of all elements on the surface of the cured body after the sputtering process)] becomes 0.01 or more for the first time. Asked. In addition, the conditions of the sputter | spatter process by Ar are as follows, It was set as the same conditions about all the hardening body samples.
Ar + ion Acceleration voltage: 5 kV
Irradiation range: 2mm x 2mm
Sputtering time per time: 30 seconds

<粗化硬化体の表面の二乗平均平方根粗さ(Rq)の測定>
実施例及び比較例で得られた粗化硬化体の表面の二乗平均平方根粗さ(Rq)は、非接触型表面粗さ計(ビーコインスツルメンツ社製、「WYKO NT3300」)を用いて、VSIモード、50倍レンズにより測定範囲を121μm×92μmとして得られる数値により二乗平均平方根粗さ(Rq)の値(nm)を求めた。また10点の平均値を求めることにより測定した。
<Measurement of root mean square roughness (Rq) of surface of roughened cured body>
The root mean square roughness (Rq) of the surfaces of the roughened cured bodies obtained in the examples and comparative examples was measured using a non-contact type surface roughness meter ("WYKO NT3300" manufactured by BEIKO INSTRUMENTS Co., Ltd.) in the VSI mode. The value (nm) of the root mean square roughness (Rq) was obtained from the numerical value obtained by setting the measurement range to 121 μm × 92 μm with a 50 × lens. Moreover, it measured by calculating | requiring the average value of 10 points | pieces.

<剥離強度の測定>
実施例及び比較例で製造した積層体の金属層(導体層)に、幅10mm、長さ100mmの部分の切込みをいれ、この一端を剥がしてつかみ具で掴み、室温中にて、50mm/分の速度で垂直方向に35mmを引き剥がした時の荷重(kgf/cm)を測定し、剥離強度を求めた。測定には、引っ張り試験機((株)TSE製、「AC−50C−SL」)を使用した。
<Measurement of peel strength>
The metal layer (conductor layer) of the laminate manufactured in the examples and comparative examples was cut into a portion having a width of 10 mm and a length of 100 mm, this one end was peeled off and grasped with a gripper, and at room temperature, 50 mm / min. The load (kgf / cm) when peeling 35 mm in the vertical direction at a speed of was measured to determine the peel strength. For the measurement, a tensile tester (manufactured by TSE, “AC-50C-SL”) was used.

実施例及び比較例で使用した樹脂組成物層1、2、3又は4を有する接着シートは、下記の方法に従って調製した。   Adhesive sheets having the resin composition layers 1, 2, 3, or 4 used in Examples and Comparative Examples were prepared according to the following method.

(樹脂組成物層1を有する接着シートの調製)
(1)樹脂ワニス1の調製
ビフェニル型エポキシ樹脂(エポキシ当量約290、日本化薬(株)製「NC3000H」)20部、ナフタレン型4官能エポキシ樹脂(エポキシ当量162、DIC(株)製「HP−4700」)5部、液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量180、三菱化学(株)製「jER828EL」)20部、及びフェノキシ樹脂(重量平均分子量35000、三菱化学(株)製「YL7553BH30」、固形分30質量%のメチルエチルケトン(MEK)溶液)12部を、MEK8部及びシクロヘキサノン8部の混合溶剤に撹拌しながら加熱溶解させた。そこへ、フェノールノボラック系硬化剤(フェノール性水酸基当量約124、DIC(株)製「LA−7054」、不揮発成分60質量%のMEK溶液)15部、活性エステル系硬化剤(活性エステル当量約223、DIC(株)製「HPC8000−65T」、不揮発成分65質量%のトルエン溶液)5部、4級ホスホニウム系硬化促進剤であるテトラブチルホスホニウムデカン酸塩(北興化学工業(株)製「TBP−DA」)0.2部、アミノシラン系カップリング剤(信越化学製「KBM573」)で表面処理した球形シリカ((株)アドマテックス製「SOC2」、平均粒径0.5μm、単位面積当たりのカーボン量0.39mg/m)75部、ポリビニルブチラール樹脂溶液(ガラス転移温度105℃、積水化学工業(株)製「KS−1」、不揮発成分15質量%のエタノールとトルエンの質量比が1:1の混合溶液)2.5部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂ワニス1を調製した。
樹脂ワニス1中の不揮発成分の合計を100質量%としたとき、無機充填材(球形シリカ)の含有量は、54.1質量%であった。
(2)接着シートの調製
支持体としてポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み38μm、以下「PETフィルム」と略称する。)を用意した。上記で得た樹脂ワニス1を、該支持体上に、ダイコーターにて均一に塗布し、80〜120℃(平均100℃)で6分間乾燥させて樹脂組成物層1を形成した。樹脂組成物層1は、厚み40μm、残留溶剤量約2質量%であった。
次いで樹脂組成物層1の表面に、保護フィルムとしてポリプロピレンフィルム(厚み15μm)を貼り合わせながらロール状に巻き取った。得られたロール状の接着シートを幅507mmにスリットして、寸法507mm×336mmの接着シートを得た。
(Preparation of adhesive sheet having resin composition layer 1)
(1) Preparation of resin varnish 1 20 parts of biphenyl type epoxy resin (epoxy equivalent of about 290, “NC3000H” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), naphthalene type tetrafunctional epoxy resin (epoxy equivalent of 162, “HP” manufactured by DIC Corporation) -4700 ") 5 parts, 20 parts of liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 180," jER828EL "manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), and phenoxy resin (weight average molecular weight 35000," YL7553BH30 "manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), 12 parts of a methyl ethyl ketone (MEK) solution having a solid content of 30% by mass was dissolved by heating in a mixed solvent of 8 parts of MEK and 8 parts of cyclohexanone with stirring. There, 15 parts of phenol novolac-based curing agent (phenolic hydroxyl group equivalent of about 124, “LA-7054” manufactured by DIC Corporation, MEK solution of 60% by mass of nonvolatile component), active ester-based curing agent (active ester equivalent of about 223) , "HPC8000-65T" manufactured by DIC Corporation, toluene part of 65% by mass nonvolatile component), tetrabutylphosphonium decanoate which is a quaternary phosphonium-based curing accelerator ("TBP-" manufactured by Hokuko Chemical Co., Ltd.) DA ") 0.2 parts, spherical silica (" SOC2 "manufactured by Admatechs Co., Ltd.) surface-treated with an aminosilane-based coupling agent (" KBM573 "manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), average particle size 0.5 [mu] m, carbon per unit area 75 parts by weight of 0.39 mg / m 2 ), polyvinyl butyral resin solution (glass transition temperature 105 ° C., manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) Resin varnish 1 was prepared by mixing 2.5 parts of “KS-1”, a mixed solution of 15% by mass of a non-volatile component of 15% by mass of ethanol and toluene in a mass ratio of 1: 1) and uniformly dispersing with a high-speed rotary mixer.
When the total of the non-volatile components in the resin varnish 1 was 100% by mass, the content of the inorganic filler (spherical silica) was 54.1% by mass.
(2) Preparation of Adhesive Sheet A polyethylene terephthalate film (thickness 38 μm, hereinafter abbreviated as “PET film”) was prepared as a support. The resin varnish 1 obtained above was uniformly applied on the support with a die coater and dried at 80 to 120 ° C. (average 100 ° C.) for 6 minutes to form a resin composition layer 1. The resin composition layer 1 had a thickness of 40 μm and a residual solvent amount of about 2% by mass.
Next, a polypropylene film (thickness: 15 μm) as a protective film was wound around the surface of the resin composition layer 1 in a roll shape. The obtained roll-shaped adhesive sheet was slit to a width of 507 mm to obtain an adhesive sheet having dimensions of 507 mm × 336 mm.

(樹脂組成物層2を有する接着シートの調製)
(1)樹脂ワニス2の調製
ビフェニル型エポキシ樹脂(エポキシ当量約290、日本化薬(株)製「NC3000H」)30部、ナフタレン型4官能エポキシ樹脂(エポキシ当量162、DIC(株)製「HP−4700」)5部、液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量180、三菱化学(株)製「jER828EL」)15部、及びフェノキシ樹脂(重量平均分子量35000、三菱化学(株)製「YL7553BH30」、固形分30質量%のメチルエチルケトン(MEK)溶液)2部を、MEK8部及びシクロヘキサノン8部の混合溶剤に撹拌しながら加熱溶解させた。そこへ、フェノールノボラック系硬化剤(フェノール性水酸基当量約124、DIC(株)製「LA−7054」、不揮発成分60質量%のMEK溶液)30部、硬化促進剤(広栄化学工業(株)製、「4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)」)0.1部、アミノシラン系カップリング剤(信越化学製「KBM573」)で表面処理した球形シリカ((株)アドマテックス製「SOC1」、平均粒径0.24μm、単位面積当たりのカーボン量0.36mg/m)160部、ポリビニルブチラール樹脂溶液(ガラス転移温度105℃、積水化学工業(株)製「KS−1」、不揮発成分15質量%のエタノールとトルエンの質量比が1:1の混合溶液)2部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂ワニス2を調製した。
樹脂ワニス2中の不揮発成分の合計を100質量%としたとき、無機充填材(球形シリカ)の含有量は、69.4質量%であった。
(2)接着シートの調製
樹脂ワニス1に代えて、上記で得た樹脂ワニス2を使用した以外は、上記「(樹脂組成物層1を有する接着シートの調製)」と同様にして、樹脂組成物層2を有する接着シート(寸法507mm×336mm)を調製した。
(Preparation of adhesive sheet having resin composition layer 2)
(1) Preparation of resin varnish 2 30 parts of biphenyl type epoxy resin (epoxy equivalent of about 290, “NC3000H” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), naphthalene type tetrafunctional epoxy resin (epoxy equivalent of 162, “HP” manufactured by DIC Corporation) -4700 "), 5 parts, liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 180," jER828EL "manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), and phenoxy resin (weight average molecular weight 35000," YL7553BH30 "manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), 2 parts of a methyl ethyl ketone (MEK) solution having a solid content of 30% by mass was dissolved by heating in a mixed solvent of 8 parts of MEK and 8 parts of cyclohexanone with stirring. There, 30 parts of a phenol novolac-based curing agent (phenolic hydroxyl group equivalent of about 124, “LA-7054” manufactured by DIC Corporation, MEK solution having a nonvolatile component of 60% by mass), a curing accelerator (manufactured by Guangei Chemical Industry Co., Ltd.) , “4-dimethylaminopyridine (DMAP)” 0.1 part, spherical silica surface treated with an aminosilane coupling agent (“KBM573” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) (“SOC1” manufactured by Admatechs Co., Ltd.), average particle diameter 0.24 μm, 160 parts of carbon amount per unit area 0.36 mg / m 2 , polyvinyl butyral resin solution (glass transition temperature 105 ° C., “KS-1” manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.), 15% by mass of non-volatile components 2 parts of a mixed solution having a mass ratio of ethanol and toluene of 1: 1) was mixed and uniformly dispersed with a high-speed rotary mixer to prepare a resin varnish 2.
When the total of the non-volatile components in the resin varnish 2 was 100% by mass, the content of the inorganic filler (spherical silica) was 69.4% by mass.
(2) Preparation of adhesive sheet Resin composition in the same manner as "(Preparation of adhesive sheet having resin composition layer 1)" except that resin varnish 2 obtained above was used instead of resin varnish 1. An adhesive sheet (size: 507 mm × 336 mm) having the physical layer 2 was prepared.

(樹脂組成物層3を有する接着シートの調製)
(1)樹脂ワニス3の調製
ビフェニル型エポキシ樹脂(エポキシ当量約290、日本化薬(株)製「NC3000H」)35部、液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量180、三菱化学(株)製「jER828EL」)15部、及びフェノキシ樹脂(重量平均分子量35000、三菱化学(株)製「YL7553BH30」、固形分30質量%のメチルエチルケトン(MEK)溶液)10部を、MEK8部及びシクロヘキサノン8部の混合溶剤に撹拌しながら加熱溶解させた。そこへ、トリアジン含有クレゾール系硬化剤(水酸基当量151、DIC(株)製「LA−3018−50P」)の固形分50質量%のメトキシプロパノール溶液10部、活性エステル系硬化剤(活性エステル当量約223、DIC(株)製「HPC8000−65T」、不揮発成分65質量%のトルエン溶液)40部、硬化促進剤(広栄化学工業(株)製、「4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)」)0.5部、硬化促進剤(四国化成工業株式会社製、「2−フェニル−4−メチルイミダゾール(2P4MZ)」)0.2部、アミノシラン系カップリング剤(信越化学製「KBM573」)で表面処理した球形シリカ((株)アドマテックス製「SOC1」、平均粒径0.24μm、単位面積当たりのカーボン量0.36mg/m)200部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂ワニス3を調製した。
樹脂ワニス3中の不揮発成分の合計を100質量%としたとき、無機充填材(球形シリカ)の含有量は、70.2質量%であった。
(2)接着シートの調製
樹脂ワニス1に代えて、上記で得た樹脂ワニス3を使用した以外は、上記「(樹脂組成物層1を有する接着シートの調製)」と同様にして、樹脂組成物層3を有する接着シート(寸法507mm×336mm)を調製した。
(Preparation of adhesive sheet having resin composition layer 3)
(1) Preparation of resin varnish 3 35 parts of biphenyl type epoxy resin (epoxy equivalent of about 290, “NC3000H” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent of 180, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) jER828EL ") 15 parts, and phenoxy resin (weight average molecular weight 35000," YL7553BH30 "manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, methyl ethyl ketone (MEK) solution with a solid content of 30% by mass) in a mixed solvent of MEK 8 parts and cyclohexanone 8 parts The solution was heated and dissolved with stirring. Thereto, 10 parts of a methoxypropanol solution having a solid content of 50% by mass of a triazine-containing cresol-based curing agent (hydroxyl group equivalent 151, "LA-3018-50P" manufactured by DIC Corporation), an active ester-based curing agent (active ester equivalent of about 223, “HPC8000-65T” manufactured by DIC Corporation, 40 parts of a non-volatile component 65 mass% toluene solution, a curing accelerator (manufactured by Guangei Chemical Industry Co., Ltd., “4-dimethylaminopyridine (DMAP)”) 5 parts, 0.2 part of a curing accelerator (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., “2-phenyl-4-methylimidazole (2P4MZ)”), an aminosilane coupling agent (“KBM573” manufactured by Shin-Etsu Chemical) was surface treated. Spherical silica (“SOC1” manufactured by Admatechs Co., Ltd., average particle size 0.24 μm, carbon amount per unit area 0.36 mg / m 2 ) 200 parts were mixed and uniformly dispersed with a high-speed rotary mixer to prepare a resin varnish 3.
When the total of the non-volatile components in the resin varnish 3 was 100% by mass, the content of the inorganic filler (spherical silica) was 70.2% by mass.
(2) Preparation of Adhesive Sheet Resin composition in the same manner as “(Preparation of Adhesive Sheet Having Resin Composition Layer 1)”, except that instead of resin varnish 1, resin varnish 3 obtained above was used. An adhesive sheet (size: 507 mm × 336 mm) having the physical layer 3 was prepared.

(樹脂組成物層4を有する接着シートの調製)
(1)樹脂ワニス4の調製
ビフェニル型エポキシ樹脂(エポキシ当量約290、日本化薬(株)製「NC3000H」)35部、液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量180、三菱化学(株)製「jER828EL」)15部、及びフェノキシ樹脂(重量平均分子量35000、三菱化学(株)製「YL7553BH30」、固形分30質量%のメチルエチルケトン(MEK)溶液)10部を、MEK8部及びシクロヘキサノン8部の混合溶剤に撹拌しながら加熱溶解させた。そこへ、トリアジン含有クレゾール系硬化剤(水酸基当量151、DIC(株)製「LA−3018−50P」)の固形分50質量%のメトキシプロパノール溶液10部、活性エステル系硬化剤(活性エステル当量約223、DIC(株)製「HPC8000−65T」、不揮発成分65質量%のトルエン溶液)40部、硬化促進剤(広栄化学工業(株)製、「4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)」)0.3部、硬化促進剤(四国化成工業株式会社製、「2−フェニル−4−メチルイミダゾール(2P4MZ)」)0.1部、アミノシラン系カップリング剤(信越化学製「KBM573」)で表面処理した球形シリカ((株)アドマテックス製「SOC2」、平均粒径0.5μm、単位面積当たりのカーボン量0.39mg/m)300部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂ワニス4を調製した。
樹脂ワニス4中の不揮発成分の合計を100質量%としたとき、無機充填材(球形シリカ)の含有量は、78.0質量%であった。
(2)接着シートの調製
樹脂ワニス1に代えて、上記で得た樹脂ワニス4を使用した以外は、上記「(樹脂組成物層1を有する接着シートの調製)」と同様にして、樹脂組成物層4を有する接着シート(寸法507mm×336mm)を調製した。
(Preparation of adhesive sheet having resin composition layer 4)
(1) Preparation of resin varnish 4 35 parts of biphenyl type epoxy resin (epoxy equivalent of about 290, “NC3000H” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent of 180, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) jER828EL ") 15 parts, and phenoxy resin (weight average molecular weight 35000," YL7553BH30 "manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, methyl ethyl ketone (MEK) solution with a solid content of 30% by mass) in a mixed solvent of MEK 8 parts and cyclohexanone 8 parts The solution was heated and dissolved with stirring. Thereto, 10 parts of a methoxypropanol solution having a solid content of 50% by mass of a triazine-containing cresol-based curing agent (hydroxyl group equivalent 151, "LA-3018-50P" manufactured by DIC Corporation), an active ester-based curing agent (active ester equivalent of about 223, “HPC8000-65T” manufactured by DIC Corporation, 40 parts of a non-volatile component 65 mass% toluene solution, a curing accelerator (manufactured by Guangei Chemical Industry Co., Ltd., “4-dimethylaminopyridine (DMAP)”) 3 parts, 0.1 part of a curing accelerator (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., “2-Phenyl-4-methylimidazole (2P4MZ)”), surface treatment with an aminosilane coupling agent (“KBM573” manufactured by Shin-Etsu Chemical) Spherical silica (“SOC2” manufactured by Admatechs Co., Ltd., average particle size 0.5 μm, carbon amount per unit area 0.39 mg / m 2 ) 3 00 parts were mixed and dispersed uniformly with a high-speed rotary mixer to prepare a resin varnish 4.
When the total of the non-volatile components in the resin varnish 4 was 100% by mass, the content of inorganic filler (spherical silica) was 78.0% by mass.
(2) Preparation of adhesive sheet Resin composition in the same manner as "(Preparation of adhesive sheet having resin composition layer 1)" except that resin varnish 4 obtained above was used instead of resin varnish 1. An adhesive sheet (size: 507 mm × 336 mm) having the physical layer 4 was prepared.

<実施例1>
下記の方法に従って、硬化体を製造した。得られた硬化体について、X線光電子分光法による表面分析、樹脂面積比の測定を行った。結果を表2に示す。
<Example 1>
A cured product was produced according to the following method. About the obtained hardening body, the surface analysis by a X ray photoelectron spectroscopy and the measurement of the resin area ratio were performed. The results are shown in Table 2.

(硬化体の製造)
(1)内層回路基板の下地処理
内層回路の形成されたガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板(銅箔厚み18μm、基板厚み0.3mm、松下電工(株)製「R5715ES」)の両面を、メック(株)製「CZ8100」に浸漬して銅表面の粗化処理を行った。
(2)接着シートのラミネート処理
樹脂組成物層1を有する接着シートを、バッチ式真空加圧ラミネーター((株)名機製作所製、「MVLP-500」)を用いて、樹脂組成物層1が内層回路基板と接合するように、内層回路基板の両面にラミネート処理した。ラミネート処理は、30秒間減圧して空気圧を13hPa以下とした後、100℃、圧力0.74MPaで30秒間プレスすることにより行った。
(3)樹脂組成物の硬化
ラミネート処理された接着シートからPETフィルムを剥離し、表1に記載する硬化条件1で樹脂組成物を硬化して、内層回路基板の両面上に硬化体(銅上厚み35μm)を得た。
(Manufacture of cured product)
(1) Base treatment of inner layer circuit board Both surfaces of glass cloth base epoxy resin double-sided copper clad laminate (copper foil thickness 18 μm, substrate thickness 0.3 mm, Matsushita Electric Works “R5715ES”) on which inner layer circuit is formed Was immersed in “CZ8100” manufactured by MEC Co., Ltd., and the copper surface was roughened.
(2) Adhesive sheet laminating process The adhesive sheet having the resin composition layer 1 is obtained by using a batch type vacuum pressure laminator (manufactured by Meiki Seisakusho Co., Ltd., “MVLP-500”). Lamination was performed on both sides of the inner layer circuit board so as to be bonded to the inner layer circuit board. The laminating process was performed by reducing the pressure for 30 seconds to reduce the air pressure to 13 hPa or less, and then pressing at 100 ° C. and a pressure of 0.74 MPa for 30 seconds.
(3) Curing of resin composition The PET film was peeled from the laminated adhesive sheet, the resin composition was cured under curing conditions 1 listed in Table 1, and a cured body (on copper) on both surfaces of the inner circuit board. A thickness of 35 μm) was obtained.

次いで、得られた硬化体を、下記の方法に従って粗化処理して、粗化硬化体を製造した。得られた粗化硬化体について、表面の二乗平均平方根粗さRqを測定した。結果を表2に示す。   Next, the obtained cured body was roughened according to the following method to produce a roughened cured body. About the obtained roughening hardening body, the root mean square roughness Rq of the surface was measured. The results are shown in Table 2.

(粗化硬化体の製造)
硬化体を、膨潤液(アトテックジャパン(株)製、「スエリングディップ・セキュリガンドP」、ジエチレングリコールモノブチルエーテル含有)に60℃で5分間浸漬させ、次いで粗化液(アトテックジャパン(株)製、「コンセントレート・コンパクトP」、過マンガン酸カリウム濃度約6質量%、水酸化ナトリウム濃度約4質量%の水溶液)に80℃で20分間浸漬させた。最後に中和液(アトテックジャパン(株)製、「リダクションソリューシン・セキュリガントP」)に40℃で5分間浸漬し、粗化硬化体を得た。
(Production of roughened cured body)
The cured product was immersed in a swelling solution (Atotech Japan Co., Ltd., “Swelling Dip / Seculigand P”, containing diethylene glycol monobutyl ether) at 60 ° C. for 5 minutes, and then a roughening solution (Atotech Japan Co., Ltd., “ Concentrate Compact P ”, an aqueous solution having a potassium permanganate concentration of about 6% by mass and a sodium hydroxide concentration of about 4% by mass) at 80 ° C. for 20 minutes. Finally, it was immersed for 5 minutes at 40 ° C. in a neutralizing solution (“Reduction Solutionin Securigant P” manufactured by Atotech Japan Co., Ltd.) to obtain a roughened cured body.

次いで、下記の方法に従って、得られた粗化硬化体の表面に金属層(導体層)を形成し、内層回路基板の両面上に積層体を得た。得られた積層体について、剥離強度を測定した。結果を表2に示す。   Subsequently, according to the following method, a metal layer (conductor layer) was formed on the surface of the obtained roughened cured body, and a laminate was obtained on both surfaces of the inner layer circuit board. About the obtained laminated body, peel strength was measured. The results are shown in Table 2.

(積層体の製造)
両面に粗化硬化体を有する内層回路基板を、塩化パラジウム(PdCl)を含む無電解めっき用溶液に浸漬し、次いで無電解銅めっき液に浸漬し、粗化硬化体表面にめっきシード層を形成した。その後、150℃にて30分間加熱してアニール処理を行った後に、めっきシード層上にエッチングレジストを形成し、エッチングによりめっきシード層をパターン形成した。次いで、硫酸銅電解めっきを行い、30±5μmの厚みの銅層(導体層)を形成した後、180℃にて60分間アニール処理し、内層回路基板の両面に積層体を得た。
(Manufacture of laminates)
An inner layer circuit board having a roughened cured body on both sides is immersed in an electroless plating solution containing palladium chloride (PdCl 2 ), and then immersed in an electroless copper plating solution, and a plating seed layer is formed on the surface of the roughened cured body. Formed. Then, after annealing for 30 minutes at 150 ° C., an etching resist was formed on the plating seed layer, and the plating seed layer was patterned by etching. Subsequently, copper sulfate electrolytic plating was performed to form a copper layer (conductor layer) having a thickness of 30 ± 5 μm, and then annealed at 180 ° C. for 60 minutes to obtain a laminate on both surfaces of the inner circuit board.

<実施例2>
樹脂組成物の硬化条件を表1に記載する硬化条件2へと変更した以外は、実施例1と同様にして、硬化体、粗化硬化体、及び積層体を製造し、評価を行った。結果を表2に示す。
<Example 2>
A cured product, a roughened cured product, and a laminate were produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the curing condition of the resin composition was changed to the curing condition 2 described in Table 1. The results are shown in Table 2.

<実施例3>
樹脂組成物の硬化条件を表1に記載する硬化条件3へと変更した以外は、実施例1と同様にして、硬化体、粗化硬化体、及び積層体を製造し、評価を行った。結果を表2に示す。
<Example 3>
A cured product, a roughened cured product, and a laminate were produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the curing condition of the resin composition was changed to the curing condition 3 described in Table 1. The results are shown in Table 2.

<実施例4>
樹脂組成物の硬化条件を表1に記載する硬化条件4へと変更した以外は、実施例1と同様にして、硬化体、粗化硬化体、及び積層体を製造し、評価を行った。結果を表2に示す。
<Example 4>
A cured product, a roughened cured product, and a laminate were produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the curing condition of the resin composition was changed to the curing condition 4 described in Table 1. The results are shown in Table 2.

<実施例5>
樹脂組成物の硬化条件を表1に記載する硬化条件5へと変更した以外は、実施例1と同様にして、硬化体、粗化硬化体、及び積層体を製造し、評価を行った。結果を表2に示す。
<Example 5>
A cured product, a roughened cured product, and a laminate were produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the curing condition of the resin composition was changed to the curing condition 5 described in Table 1. The results are shown in Table 2.

<実施例6>
樹脂組成物の硬化条件を表1に記載する硬化条件6へと変更した以外は、実施例1と同様にして、硬化体、粗化硬化体、及び積層体を製造し、評価を行った。結果を表2に示す。
<Example 6>
A cured product, a roughened cured product, and a laminate were produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the curing condition of the resin composition was changed to the curing condition 6 described in Table 1. The results are shown in Table 2.

<実施例7>
樹脂組成物の硬化条件を表1に記載する硬化条件7へと変更した以外は、実施例1と同様にして、硬化体、粗化硬化体、及び積層体を製造し、評価を行った。結果を表2に示す。
<Example 7>
A cured product, a roughened cured product, and a laminate were produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the curing condition of the resin composition was changed to the curing condition 7 described in Table 1. The results are shown in Table 2.

<実施例8>
樹脂組成物の硬化条件を表1に記載する硬化条件8へと変更した以外は、実施例1と同様にして、硬化体、粗化硬化体、及び積層体を製造し、評価を行った。結果を表2に示す。
<Example 8>
A cured product, a roughened cured product, and a laminate were produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the curing condition of the resin composition was changed to the curing condition 8 described in Table 1. The results are shown in Table 2.

<実施例9>
樹脂組成物層1を有する接着シートに代えて樹脂組成物層2を有する接着シートを使用した点、及び樹脂組成物の硬化条件を表1に記載する硬化条件4へと変更した点以外は、実施例1と同様にして、硬化体、粗化硬化体、及び積層体を製造し、評価を行った。結果を表2に示す。
<Example 9>
Except that the adhesive sheet having the resin composition layer 2 was used instead of the adhesive sheet having the resin composition layer 1 and the curing conditions of the resin composition were changed to the curing conditions 4 described in Table 1, In the same manner as in Example 1, a cured product, a roughened cured product, and a laminate were produced and evaluated. The results are shown in Table 2.

<実施例10>
樹脂組成物層1を有する接着シートに代えて樹脂組成物層3を有する接着シートを使用した点、及び樹脂組成物の硬化条件を表1に記載する硬化条件4へと変更した点以外は、実施例1と同様にして、硬化体、粗化硬化体、及び積層体を製造し、評価を行った。結果を表2に示す。
<Example 10>
Except for using the adhesive sheet having the resin composition layer 3 instead of the adhesive sheet having the resin composition layer 1 and changing the curing conditions of the resin composition to the curing conditions 4 described in Table 1, In the same manner as in Example 1, a cured product, a roughened cured product, and a laminate were produced and evaluated. The results are shown in Table 2.

<実施例11>
樹脂組成物層1を有する接着シートに代えて樹脂組成物層4を有する接着シートを使用した点、及び樹脂組成物の硬化条件を表1に記載する硬化条件4へと変更した点以外は、実施例1と同様にして、硬化体、粗化硬化体、及び積層体を製造し、評価を行った。結果を表2に示す。
<Example 11>
Except that the adhesive sheet having the resin composition layer 4 was used instead of the adhesive sheet having the resin composition layer 1 and the curing conditions of the resin composition were changed to the curing conditions 4 described in Table 1, In the same manner as in Example 1, a cured product, a roughened cured product, and a laminate were produced and evaluated. The results are shown in Table 2.

<比較例1>
樹脂組成物の硬化条件を表1に記載する硬化条件9へと変更した以外は、実施例1と同様にして、硬化体、粗化硬化体、及び積層体を製造し、評価を行った。結果を表2に示す。
<Comparative Example 1>
A cured product, a roughened cured product, and a laminate were produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the curing condition of the resin composition was changed to the curing condition 9 described in Table 1. The results are shown in Table 2.

<比較例2>
樹脂組成物の硬化条件を表1に記載する硬化条件10へと変更した以外は、実施例1と同様にして、硬化体、粗化硬化体、及び積層体を製造し、評価を行った。結果を表2に示す。
<Comparative example 2>
A cured product, a roughened cured product, and a laminate were produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the curing condition of the resin composition was changed to the curing condition 10 described in Table 1. The results are shown in Table 2.

<比較例3>
樹脂組成物の硬化条件を表1に記載する硬化条件11へと変更した以外は、実施例1と同様にして、硬化体、粗化硬化体、及び積層体を製造し、評価を行った。結果を表2に示す。
<Comparative Example 3>
A cured product, a roughened cured product, and a laminate were produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the curing condition of the resin composition was changed to the curing condition 11 described in Table 1. The results are shown in Table 2.

<比較例4>
樹脂組成物の硬化条件を表1に記載する硬化条件12へと変更した以外は、実施例1と同様にして、硬化体、粗化硬化体、及び積層体を製造し、評価を行った。結果を表2に示す。
<Comparative example 4>
A cured product, a roughened cured product, and a laminate were produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the curing condition of the resin composition was changed to the curing condition 12 shown in Table 1. The results are shown in Table 2.

Claims (13)

エポキシ樹脂及び無機充填材を含み且つ無機充填材含有量が50質量%以上95質量%以下である樹脂組成物(但し、シアネートエステル系硬化剤とナフチレンエーテル型エポキシ樹脂を含有する樹脂組成物を除く。)を硬化させて得られる硬化体であって、
硬化体表面に垂直な断面において、硬化体表面から深さ1μmまでの領域における樹脂面積A0-1と、深さ1μmから深さ2μmまでの領域における樹脂面積A1-2とが、A0-1/A1-2>1.1を満たす、硬化体。
A resin composition containing an epoxy resin and an inorganic filler and having an inorganic filler content of 50% by mass or more and 95% by mass or less (however, a resin composition containing a cyanate ester-based curing agent and a naphthylene ether type epoxy resin) A cured product obtained by curing
In a cross section perpendicular to the surface of the cured body, a resin area A 0-1 in a region from the cured body surface to a depth of 1 μm and a resin area A 1-2 in a region from a depth of 1 μm to a depth of 2 μm are A 0. −1 / A 1-2 > 1.1, a cured product.
エポキシ樹脂及び無機充填材を含み且つ無機充填材含有量が50質量%以上95質量%以下である樹脂組成物(但し、シアネートエステル系硬化剤とナフチレンエーテル型エポキシ樹脂を含有する樹脂組成物を除く。)を硬化させて得られる硬化体であって、
硬化体表面に垂直な断面において、硬化体表面から深さ0.5μmまでの領域における樹脂面積A0-0.5と、深さ0.5μmから深さ1μmまでの領域における樹脂面積A0.5-1とが、A0-0.5/A0.5-1>1.1を満たす、硬化体。
A resin composition containing an epoxy resin and an inorganic filler and having an inorganic filler content of 50% by mass or more and 95% by mass or less (however, a resin composition containing a cyanate ester-based curing agent and a naphthylene ether type epoxy resin) A cured product obtained by curing
In a cross section perpendicular to the surface of the cured body, a resin area A 0-0.5 in a region from the cured body surface to a depth of 0.5 μm, and a resin area A 0.5-1 in a region from a depth of 0.5 μm to a depth of 1 μm Is a cured product satisfying A 0-0.5 / A 0.5-1 > 1.1.
熱硬化性樹脂及び無機充填材を含み且つ無機充填材含有量が50質量%以上95質量%以下である樹脂組成物(但し、シアネートエステル系硬化剤とナフチレンエーテル型エポキシ樹脂を含有する樹脂組成物を除く。)を硬化させて得られる硬化体であって、
硬化体表面に垂直な断面において、硬化体表面から深さ1μmまでの領域における樹脂面積A0-1と、深さ1μmから深さ2μmまでの領域における樹脂面積A1-2とが、A0-1/A1-2>1.1を満たす、プリント配線板の絶縁層用硬化体。
A resin composition containing a thermosetting resin and an inorganic filler and having an inorganic filler content of 50% by mass to 95% by mass (however, a resin composition containing a cyanate ester-based curing agent and a naphthylene ether type epoxy resin) A cured product obtained by curing
In a cross section perpendicular to the surface of the cured body, a resin area A 0-1 in a region from the cured body surface to a depth of 1 μm and a resin area A 1-2 in a region from a depth of 1 μm to a depth of 2 μm are A 0. −1 / A 1-2 > 1.1, a cured body for an insulating layer of a printed wiring board.
熱硬化性樹脂及び無機充填材を含み且つ無機充填材含有量が50質量%以上95質量%以下である樹脂組成物(但し、シアネートエステル系硬化剤とナフチレンエーテル型エポキシ樹脂を含有する樹脂組成物を除く。)を硬化させて得られる硬化体であって、
硬化体表面に垂直な断面において、硬化体表面から深さ0.5μmまでの領域における樹脂面積A0-0.5と、深さ0.5μmから深さ1μmまでの領域における樹脂面積A0.5-1とが、A0-0.5/A0.5-1>1.1を満たす、プリント配線板の絶縁層用硬化体。
A resin composition containing a thermosetting resin and an inorganic filler and having an inorganic filler content of 50% by mass to 95% by mass (however, a resin composition containing a cyanate ester-based curing agent and a naphthylene ether type epoxy resin) A cured product obtained by curing
In a cross section perpendicular to the surface of the cured body, a resin area A 0-0.5 in a region from the cured body surface to a depth of 0.5 μm, and a resin area A 0.5-1 in a region from a depth of 0.5 μm to a depth of 1 μm Is a cured body for an insulating layer of a printed wiring board, satisfying A 0-0.5 / A 0.5-1 > 1.1.
硬化体表面に垂直な断面において、深さ0.5μmから深さdμmまでの領域における樹脂面積A0.5-dと、深さdμmから深さ0.5Dμmまでの領域における樹脂面積Ad-0.5Dとが、0.9≦kA0.5-d/Ad-0.5D≦1.1(ここで、kはk=|d−0.5D|/|0.5−d|を満たす係数であり、dは0.5<d<0.5Dを満たす数であり、Dは硬化体の厚みである。)を満たす、請求項1〜4のいずれか一項に記載の硬化体。 In the cross section perpendicular to the surface of the cured body, the resin area A 0.5-d in the region from the depth 0.5 μm to the depth d μm and the resin area A d- 0.5D in the region from the depth d μm to the depth 0.5 Dμm. 0.9 ≦ kA 0.5-d / A d-0.5D ≦ 1.1 (where k is a coefficient satisfying k = | d−0.5D | / | 0.5−d | The cured product according to any one of claims 1 to 4, wherein d is a number satisfying 0.5 <d <0.5D and D is a thickness of the cured product. X線光電子分光法により測定した、硬化体の表面における[(無機充填材由来の金属元素の原子数)/(硬化体表面の全元素の原子数)]が0.01未満である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の硬化体。   The [(number of atoms of metal element derived from inorganic filler) / (number of atoms of all elements on the surface of the cured body)] on the surface of the cured body, measured by X-ray photoelectron spectroscopy, is less than 0.01. Hardened | cured material as described in any one of 1-5. エポキシ樹脂及び無機充填材を含み且つ無機充填材含有量が50質量%以上95質量%以下である樹脂組成物(但し、シアネートエステル系硬化剤とナフチレンエーテル型エポキシ樹脂を含有する樹脂組成物を除く。)を硬化させて得られる硬化体であって、
硬化体表面について、1)下記条件でのArによるスパッタ処理、及び2)スパッタ処理後のX線光電子分光法による表面組成分析を繰り返して行うとき、[(無機充填材由来の金属元素の原子数)/(スパッタ処理後の硬化体表面の全元素の原子数)]の値が初めて0.01以上となるまでに要するスパッタ処理の回数が4回以上100回以下である、硬化体。
〔条件:Arイオン、加速電圧;5kV、照射範囲;2mm×2mm、1回あたりのスパッタリング時間;30秒間〕
A resin composition containing an epoxy resin and an inorganic filler and having an inorganic filler content of 50% by mass or more and 95% by mass or less (however, a resin composition containing a cyanate ester-based curing agent and a naphthylene ether type epoxy resin) A cured product obtained by curing
When the surface composition analysis by repeating 1) sputter treatment with Ar under the following conditions and 2) surface composition analysis by X-ray photoelectron spectroscopy after the sputter treatment is repeated on the surface of the cured product [[number of atoms of metal element derived from inorganic filler] ) / (Number of atoms of all elements on the surface of the cured body after the sputtering process)] is a cured body in which the number of sputtering processes required until the value reaches 0.01 or more for the first time is 4 or more and 100 or less.
[Conditions: Ar + ion, acceleration voltage: 5 kV, irradiation range: 2 mm × 2 mm, sputtering time per one time: 30 seconds]
熱硬化性樹脂及び無機充填材を含み且つ無機充填材含有量が50質量%以上95質量%以下である樹脂組成物(但し、シアネートエステル系硬化剤とナフチレンエーテル型エポキシ樹脂を含有する樹脂組成物を除く。)を硬化させて得られる硬化体であって、
硬化体表面について、1)下記条件でのArによるスパッタ処理、及び2)スパッタ処理後のX線光電子分光法による表面組成分析を繰り返して行うとき、[(無機充填材由来の金属元素の原子数)/(スパッタ処理後の硬化体表面の全元素の原子数)]の値が初めて0.01以上となるまでに要するスパッタ処理の回数が4回以上100回以下である、プリント配線板の絶縁層用硬化体。
〔条件:Arイオン、加速電圧;5kV、照射範囲;2mm×2mm、1回あたりのスパッタリング時間;30秒間〕
A resin composition containing a thermosetting resin and an inorganic filler and having an inorganic filler content of 50% by mass to 95% by mass (however, a resin composition containing a cyanate ester-based curing agent and a naphthylene ether type epoxy resin) A cured product obtained by curing
When the surface composition analysis by repeating 1) sputter treatment with Ar under the following conditions and 2) surface composition analysis by X-ray photoelectron spectroscopy after the sputter treatment is repeated on the surface of the cured product [[number of atoms of metal element derived from inorganic filler] ) / (Number of atoms of all elements on the surface of the hardened body after the sputtering process)] The number of times of the sputtering process required until the value of 0.01 or more for the first time is 4 or more and 100 or less. Cured body for layer.
[Conditions: Ar + ion, acceleration voltage: 5 kV, irradiation range: 2 mm × 2 mm, sputtering time per one time: 30 seconds]
請求項1〜8のいずれか一項に記載の硬化体を粗化処理して得られる、表面の二乗平均平方根粗さRqが10nm以上350nm以下である粗化硬化体。   The roughening hardening body whose surface root mean square roughness Rq obtained by roughening the hardening body as described in any one of Claims 1-8 is 10 nm or more and 350 nm or less. 請求項9に記載の粗化硬化体と、該粗化硬化体の表面に形成された金属層とを備える積層体。   A laminate comprising the roughened cured body according to claim 9 and a metal layer formed on the surface of the roughened cured body. 粗化硬化体と金属層との剥離強度が0.5kgf/cm以上1.2kgf/cm以下である、請求項10に記載の積層体。   The laminate according to claim 10, wherein the peeling strength between the roughened cured body and the metal layer is 0.5 kgf / cm or more and 1.2 kgf / cm or less. 請求項1〜8のいずれか一項に記載の硬化体により絶縁層が形成されたプリント配線板。   The printed wiring board by which the insulating layer was formed with the hardening body as described in any one of Claims 1-8. 請求項12に記載のプリント配線板を含む半導体装置。   A semiconductor device comprising the printed wiring board according to claim 12.
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