JP6470371B2 - 三次元的な物体を付加的に製造するための装置 - Google Patents

Description

本発明は、連続的で層ごとの選択的な露光と、これに伴う、エネルギービームを用いて凝固化可能な構造材料から成る構造材料層の連続的で層ごとの選択的な凝固化とによって三次元的な物体を付加的に製造するための装置であって、当該装置のプロセスチャンバ内で、付加的な構造工程の実行の範囲において生じる、特にプロセスに起因して生じる汚濁物を含むプロセスガスのフィルタリングのために設置されているフィルタ装置を含んでいる、前記装置に関するものである。

三次元的な物体を付加的に製造するための適当な装置は、例えば、選択的レーザ焼結法あるいは選択的レーザ溶融法を実行するための装置の形態で基本的に知られている。適当な装置は典型的にはフィルタ装置を含んでおり、このフィルタ装置は、付加的な構造過程の実行の範囲において装置のプロセスチャンバ内で生じる、特にプロセスに起因して生じる汚濁物、すなわち特にいわゆるスモーク残滓粒子を含むプロセスガスをフィルタリングするために設置されている。

適当なフィルタ装置についての特有の要求、すなわち例えばフィルタ装置によって最大限フィルタ可能なフィルタ体積は、様々な付加的な構造工程に対して、例えば付加的に製造されるべき物体、あるいはそれぞれ付加的に製造されるべき物体の幾何学的−構造上の形状に依存して変更されることが可能である。例えば、経験値又はシミュレーションによって、プロセスガス内の汚濁物についてどのくらの量が見込まれるかを算出することが可能である。例えば、所定の付加的な構造工程のために比較的大きな、又は比較的小さな最大にフィルタ可能なフィルタ体積を有するフィルタ装置を用いることが例えばフィルタ装置の個々の動作について合目的であり得る。

これまでは、様々な付加的な構造工程における所定の特有の要件について適合可能なフィルタ装置のための完全に満足のいく解決手段は知られていない。

本発明の課題は、これに比較して改善された、三次元的な物体を付加的に製造するための装置を提供することを基礎とするものである。

上記課題は、請求項１による、三次元的な物体を付加的に製造するための装置によって解決される。これに関して、従属請求項は、装置の可能な実施形態に関するものである。

ここに記載された装置（「装置」）は、連続的で層ごとの選択的な露光と、これに伴う、凝固化可能な構造材料から成る構造材料層の凝固化とによる、三次元的な物体、すなわち例えば技術的な部材あるいは技術的な部材群を付加的に製造するために設置されている。構造材料は、粒子状あるいは粉体状の金属材料、合成樹脂材料及び／又はセラミック材料であり得る。選択的に凝固化されるべき各構造材料層の選択的な凝固化は、物体に関する構造データに基づきなされる。適当な構造データは、付加的に製造されるべき各物体の幾何学的−構造上の形状を示すものであり、例えば付加的に製造されるべき各物体の「スライスされた」ＣＡＤデータを含むことができる。装置は、ＳＬＭ装置、すなわち選択的レーザ溶融法（ＳＬＭ法）を実行する装置として、又はＳＬＳ装置、すなわち選択的レーザ焼結法（ＳＬＳ法）を実行する装置として形成されることが可能である。

装置は、付加的な構造工程の実行に典型的に必要な機能構成要素を含んでいる。これには、特に（装置の構造平面内で）選択的に凝固化されるべき構造材料層の形成のために設置された積層装置と、（装置の構造平面内で）選択的に凝固化されるべき構造材料層の選択的な露光装置とが含まれる。積層装置は、典型的には複数の構成要素、すなわち例えば特にブレード状の積層工具を含む積層要素と、積層要素を所定の運動軌道に沿ってガイドするためのガイド装置とを含んでいる。露光装置も、典型的には複数の構成要素、すなわち例えばエネルギービームあるいはレーザビームを発生させるためのビーム発生装置と、ビーム発生装置によって発生されるエネルギービームあるいはレーザビームを選択的に固化されるべき積層装置の露光されるべき範囲へ偏向させるためのビーム偏向装置（スキャナ装置）と、例えばレンズ要素、対物レンズ要素などのような様々な光学的な要素とを含んでいる。

装置は、付加的な構造工程の実行の範囲において装置のプロセスチャンバ内で生じる、特にプロセスに起因して生じる汚濁物を含むプロセスガスのフィルタリングのために設置されているフィルタ装置を含んでいる。プロセスガスのフィルタリングは、適当な汚濁物をプロセスガスから除去することと理解されるべきである。フィルタされるべきプロセスガスにおける適当な汚濁物は、上述のように、特にプロセスに起因して生じるスモーク粒子若しくはスモーク残滓粒子及び／又は凝固化されていない構造材料粒子（「溶接スプラッシュ」）である。

フィルタ装置は、複数のフィルタモジュールを含んでいる。各フィルタモジュールはフィルタハウジングを含んでいる。各フィルタモジュールハウジングは、幾何学的に規定して構成されたフィルタ体収容空間を含んでいる。フィルタ体収容空間は、幾何学的に規定して構成された所定の数のフィルタ体（のみ）を収容するために設置されている。換言すれば、各フィルタ体収容空間は、その内部に収容可能な、あるいは収容されたフィルタ体に関して、各フィルタモジュールについて規定された数の幾何学的に規定して構成されたフィルタ体のみがこのフィルタ体収容空間内に収容され得るように幾何学的に規定されて構成されることができ、すなわち、幾何学的−構造的に寸法設定されることができる。その幾何学的な構成にかかわらず、フィルタ体は、例えば組織様の、多孔性の、又は細胞状のフィルタ材料で形成されているか、あるいは少なくとも１つのこのようなものを含んでいる。

例えば、フィルタハウジングあるいはフィルタ体収容空間は、所定の寸法、すなわち所定の外径及び内径並びに所定の高さを有する（中空）円筒状の基本形状を備えることが可能である。適当なフィルタ体収容空間は、所定の寸法を有する円筒あるいは中空円筒として規定して構成されており、このフィルタ体収容空間内には、その幾何学的に規定された構成により、幾何学的に規定されて構成された所定の数のフィルタ体、すなわち外径及び内径並びに高さあるいは全高がフィルタ体収容空間に適合されているリング状あるいはリングセグメント状の基本形状を有するフィルタ体のみを収容することができる。この構成は、当然、（中空）円筒状とは異なる基本形状を有するフィルタモジュールハウジングあるいはフィルタ体収容空間についても同様に当てはまる。

したがって、各フィルタ体収容空間は空間的に規定されたフィルタ体収容空間体積を備えており、このフィルタ体収容空間体積内には、それぞれ幾何学的に規定されて構成された所定の数のフィルタ体（のみ）が収容可能であるか、あるいは収容されている。幾何学的に規定されて構成された所定の数のフィルタ体は、１の数とも理解されることができ、すなわち、フィルタ体収容空間内には１つのみの（唯一の）幾何学的に規定して構成されたフィルタ体も収容可能であるか、あるいは収容され得る。

典型的には、フィルタモジュールのフィルタモジュールハウジングは、それぞれ幾何学的に規定して構成されたフィルタモジュールハウジング側で含まれるフィルタ体収容空間内に収容可能あるいは収容された幾何学的に規定して構成されたフィルタ体のそれぞれ規定された数において異なっている。したがって、典型的には、各フィルタモジュールハウジングのフィルタ体収容空間はその各フィルタ体収容空間体積において異なっており、各フィルタ体収容空間内には、幾何学的に規定されて構成された所定の数のフィルタ体のみが収容可能である。

幾何学的に規定された所定の構成のフィルタ体を基礎として、第１のフィルタモジュールは、第１の数のこのようなフィルタ体が収容可能あるいは収容されているフィルタ体収容空間を含むことができ、第２の（あるいは別の）フィルタモジュールは、第１の数とは異なる第２の数のこのようなフィルタ体が収容可能あるいは収容されているフィルタ体収容空間を含むことができる。例えば、第１のフィルタモジュールは、１つのみのこのようなフィルタ体が収容可能あるいは収容されているフィルタ体収容空間を含むことができ、第２のフィルタモジュールは、第１のフィルタモジュールのフィルタ体収容空間に関して少なくとも１つの別のこのようなフィルタ体が収容可能あるいは収容されているフィルタ体収容空間を含むことができ、第３のフィルタモジュールは、第２のフィルタモジュールのフィルタ体収容空間に関して少なくとも１つの別のこのようなフィルタ体が収容可能あるいは収容されているフィルタ体収容空間を含むことができ、以下同様である。

フィルタ体収容空間内に複数のフィルタ体が収容されていれば、これらフィルタ体は、例えば積層状に互いに重なり合って配置されることが可能である。このとき、フィルタ体は、互いに一直線に配置されることができる。フィルタ体がリング形あるいはリング状に、一般にフィルタ体側で規定された内部空間によって形成されていれば、フィルタ体側で規定された各内部空間は互いに一直線となり得る。各フィルタ体の互いに重なり合った積層状の配置に代えて、各フィルタ体の互いに隣り合った列状の配置も考えられる。

各フィルタモジュールは（２つの）接続インターフェースを含んでおり、これら接続インターフェースを介して、フィルタモジュールが、（フィルタされるべき、あるいはフィルタされた）プロセスガスによって貫流可能あるいは貫流される装置側の管路構造あるいは配管構造の規定された装置側の接続範囲へ接続可能であるか、あるいは接続されている。装置側の接続範囲は、例えばフランジ範囲を含む接続パイプ部を含むことが可能である。したがって、フィルタ装置に属するフィルタモジュールは、所定の付加的な構造工程についてフィルタ装置の効率的な動作を保証するために、フィルタ装置に属するフィルタモジュールは、必要に応じて交換されることが可能である。冒頭に記載した従来技術に関連して説明したように、フィルタ装置の効率的な動作にとって、比較的大きな、又は比較的小さな最大にフィルタ可能なフィルタ体積を有するフィルタ装置を用いることがしばしば合目的であり得る。フィルタサイズは、異なるフィルタモジュールの使用、あるいは各フィルタモジュールのフィルタモジュールハウジングのフィルタ体収容空間内に収容されたフィルタ体の異なる数によって生じる。

フィルタモジュール側の各接続インターフェースは、適切な固定要素及びシール要素を含むことが可能である。接続インターフェースは、フランジ範囲を含む接続パイプ部として形成されることができる。各接続パイプ部あるいはフランジ範囲は、典型的には固定要素及びシール要素を含んでいる。各固定要素は、フィルタモジュールを不変の位置固定された位置決めにおいて管路構造側の接続範囲に固定するために設置されることができる。固定要素は、管路構造側の接続範囲におけるフィルタモジュールの係合式及び／又は嵌合式の固定を可能とするものである。装置側の接続範囲におけるフィルタモジュールの係合式あるいは嵌合式の固定を可能とする固定要素は、例えば固定クランプあるいは張力クランプであり得る。したがって、適当な固定要素は、例えば部分リング形又は完全リング形あるいは部分リング状又は完全リング状の固定クランプあるいは張力クランプであり得るか、あるいはこれを含むことが可能である。適当なシール要素は、例えばシールリングであり得るか、あるいはシールリングを含むことが可能である。

全てのフィルタモジュールの接続インターフェースは、合目的には同一に（同様に）構成されている。これにより、各フィルタモジュールの必要に応じた交換が容易化される。フィルタモジュールの容易な交換の可能性により、装置の動作の効率が全体的に改善される。

合目的には、各フィルタモジュールは、予備構成可能な、又は予備構成された、個別に操作可能なアセンブリを形成している。したがって、各フィルタモジュールの操作が容易化されており、フィルタモジュールは、特に自動化可能あるいは自動化されて、問題なく、例えば交換あるいは取り換えに関連して操作されることが可能である。

典型的には幾何学的に規定された所定の構成の、特に所定の長さのフィルタモジュールハウジングのみが装置側の接続範囲に接続可能あるいは接続されている。したがって、典型的には幾何学的に規定された所定の構成の、特に所定の長さのフィルタモジュールハウジングのみが装置側の接続範囲に接続されることが可能である。したがって、フィルタ装置に属するフィルタモジュールは、合目的には幾何学的に規定された適当な構成、特に適当な長さを備えている。幾何学的に規定されたフィルタモジュールの構成により、装置側の接続範囲におけるフィルタモジュールの特に正確な接続が可能となる。

フィルタモジュールハウジング側で含まれるフィルタ体収容空間内での各フィルタ体の（位置）安定的な配置を保証するために、各フィルタ体収容空間内に収容された１つ又は複数のフィルタ体が圧力ばめあるいはプレスばめによって各フィルタ体収容空間内に収容されることが可能である。圧力ばめあるいはプレスばめは、各フィルタ体収容空間内に収容されたフィルタ体のフィルタ体収容空間に対するある程度の内径過大によって形成されることが可能である。

各フィルタモジュールは、フィルタモジュールハウジング側に配置又は形成された閉鎖装置を含むことが可能である。各フィルタモジュールハウジングは、各閉鎖装置によって閉鎖可能な、各フィルタ体収容空間内へのアクセスを可能とするアクセス開口部を備えることが可能である。閉鎖装置とアクセス開口部の相互作用によって、場合によっては、すなわち例えば保守点検の目的で必要な、各フィルタ体収容空間内に収容された１つ又は複数のフィルタ体の交換が可能である。

閉鎖装置は、場合によっては可動にフィルタモジュールハウジングに配置又は形成されたカバー状の閉鎖要素を含むことができる。閉鎖要素は、フィルタ体収容空間へのアクセスが可能であるように閉鎖要素がアクセス開口部に対して相対的に移動されている開放位置と、フィルタ体収容空間へのアクセスが不可能であるように閉鎖要素がアクセス開口部に対して相対的に移動されている閉鎖位置との間で（旋回）移動可能に支持されている。閉鎖要素は、閉鎖位置において、典型的にはフィルタ体収容空間が流体密に閉鎖されているようにアクセス開口部に対して相対的に、すなわち特にアクセス開口部に対して移動されている。

各フィルタモジュールハウジング内には、プロセスガスあるいはプロセスガス流によって貫流可能な、あるいはフィルタ装置の動作中に貫流される流れ通路構造が形成され得る。流れ通路構造は、フィルタされるべきプロセスガスあるいはフィルタされるべきプロセスガス流をフィルタモジュールへ流入させるための特に配管状の流入側を形成する流入部分を含む第１の流れ通路構造部分と、フィルタされたプロセスガスあるいはフィルタされたプロセスガス流をフィルタモジュールから流出させるための特に配管状の流出側を形成する流出部分を含む第２の流れ通路構造部分とを含むことができる。両流れ通路構造部分は互いに連通している。それぞれフィルタモジュール側で含まれるフィルタ体収容空間内に収容された１つ又は複数のフィルタ体は、第１の流れ通路構造部分と第２の流れ通路構造部分の間に配置されている。

本発明は、装置のほかに、連続的で層ごとの選択的な露光と、これに伴う、エネルギービームを用いて凝固化可能な構造材料から成る構造材料層の連続的で層ごとの選択的な凝固化とによって三次元的な物体を付加的に製造するための装置のためのフィルタ装置に関するものでもある。フィルタ装置は、それぞれフィルタモジュールハウジングを有する複数のフィルタモジュールを含んでおり、各フィルタモジュールハウジングが、幾何学的に規定されて構成された所定の数のフィルタ体を収容するために設置されている、幾何学的に規定して構成されたフィルタ体収容空間を含んでおり、各フィルタモジュールがフィルタモジュール側の接続インターフェースを含んでおり、該接続インターフェースによって、フィルタモジュールが、必要に応じて、プロセスガスによって貫流可能な、又は貫流される装置側の管路構造の所定の装置側の接続範囲に接続可能であるか、又は接続されている。装置に関連して説明した全ての実施は、同様にフィルタ装置についても当てはまる。

本発明を、図面における実施例に基づき詳細に説明する。

一実施例による装置の原理図である。 一実施例によるフィルタモジュールの原理図である。 一実施例によるフィルタモジュールの原理図である。

図１には、一実施例による装置１の原理図が示されている。図１では、装置１における後述の原理の説明に関連する部分のみが切断された視点において示されている。

装置１は、連続的で層ごとの選択的な露光及びこれに伴う、レーザビーム５によって凝固化可能な構造材料３すなわち例えば金属粉体から成る構造材料層の連続的で層ごとの選択的な凝固化によって、三次元的な物体２、すなわち特に技術的な部材あるいは技術的な部材群の付加的な製造に用いられる。凝固化されるべき各構造材料層の選択的な凝固化は、物体に関連した構造データに基づいてなされる。適当な構造データは、付加的に製造されるべき各物体２の幾何学的な、あるいは幾何学的−構造上の形状を示すとともに、製造されるべき物体２の例えば「スライスされた」ＣＡＤデータを含むことができる。装置１は、ＬａｓｅｒＣＵＳＩＮＧ（登録商標）装置として、すなわち選択的レーザ溶融法を実行するための装置として形成されることができる。

装置１は、付加的な構造工程の実行に必要な機能構成要素を含んでいる。これには、（装置１の構造平面において）選択的に凝固化されるべき構造材料層を形成するために設置されている積層装置（不図示）と、（装置１の構造平面において）選択的に凝固化されるべき構造材料層を選択的に露光させるために設置されている露光装置４とが含まれる。積層装置は、複数の構成部材（不図示）、すなわち特にブレード状の積層工具を含む積層要素と、所定の運動軌道に沿って積層要素をガイドするためのガイド装置とを含んでいる。露光装置４も、複数の構成部材（不図示）、すなわちレーザビーム５を発生させるためのレーザビーム発生装置と、このレーザビーム発生装置によって発生するレーザビーム５を選択的に凝固化されるべき構造材料層の露光されるべき範囲へ偏向させるためのビーム偏向装置と、典型的にはビーム発生装置とビーム偏向装置の間に配置されている、例えば対物レンズ要素、レンズ要素などの様々な光学的な要素（不図示）とを含んでいる。

装置１の上述の機能構成要素は、装置１のプロセスチャンバ８に、又はこのプロセスチャンバ内に配置又は形成されている。プロセスチャンバ８は、不活性化されており、すなわち例えばアルゴン、窒素などのような不活性ガスで満たされている。

装置１は更にフィルタ装置７を含んでいる。このフィルタ装置７は、付加的な構造工程の実行の範囲で装置１のプロセスチャンバ８内において生じる、特にプロセスに起因して生じる汚濁物を含むプロセスガス９のフィルタリングのために設置されている。フィルタされるべきプロセスガスにおける適当な汚濁物は、特にプロセスに起因して生じるスモーク粒子又はスモーク残滓粒子であり、及び／又は凝固化されていない構造材料粒子（「溶接スプラッシュ」）である。プロセスチャンバ８を通るプロセスガス９の流れ、すなわちプロセスガス流は、プロセスチャンバ８内の矢印によって示唆されている。

フィルタ装置７が、プロセスチャンバ側の流出開口部１０とプロセスチャンバ側の流入開口部１１の間で延在し、複数の管路要素（不図示）を含む管路構造あるいは配管構造１２に接続されていることが分かる。管路構造あるいは配管構造１２には更にポンプ装置１３が接続されており、このポンプ装置は、管路構造あるいは配管構造１２を通る、すなわちフィルタ装置７も通るプロセスガス９の流れを可能とする吸引流を発生させるために設置されている。プロセスチャンバ８及び管路構造あるいは配管構造１２によって閉じた流れ回路が形成されていることが分かる。したがって、プロセスガス９は、プロセスチャンバ８と管路構造あるいは配管構造１２の間において、閉じた流れ回路内で流れる。

フィルタ装置７は、複数のフィルタモジュール１４を含んでいる。各フィルタモジュール１４は、幾何学的に規定されて構成されたフィルタ体収容空間１６を含むフィルタモジュールハウジング１５を含んでいる。フィルタモジュール１４のフィルタ体収容空間１６は、幾何学的に規定して構成された所定の数のフィルタ体１８（のみ）を収容するために設置されている。各フィルタ体収容空間１６は、その内部に収容可能な、あるいは収容されたフィルタ体１８に関して、このフィルタ体収容空間内には幾何学的に規定されて構成されたフィルタ体１８の各フィルタモジュール１４のために規定された数のみが収容され得るように、幾何学的に規定されて構成されており、すなわち幾何学的−構造上寸法設定されている。

図２及び図３には、それぞれ、フィルタ装置７に属するフィルタモジュール１４の原理図が（長手）切断された視点において示されている。

図２及び図３に示されたフィルタモジュール１４は、それぞれ１つのフィルタモジュールハウジング１５又は所定の寸法若しくは所定の外径あるいは内径及び所定の高さを有する（中空）円筒状の基本形状をもったフィルタ体収容空間１６を備えている。各フィルタ体収容空間１６は、その所定の寸法によって、幾何学的に規定されて構成されている。そのそれぞれの幾何学的に規定された構成により、フィルタ体収容空間１６内には、それぞれ幾何学的に規定して構成されたフィルタ体１８、すなわちこの実施例においては外径及び内径並びに高さあるいは全高が各フィルタ体収容空間１６の寸法に適合されているリング状の基本形状を有するフィルタ体１８の所定の数のみが収容され得る。

図２に示されているフィルタモジュール１４のフィルタ体収容空間１６内には５つのフィルタ体１８を収容することができ、これに対して、図３に示されているフィルタモジュール１４のフィルタ体収容空間１６内には例示的に１つのみの（唯一の）フィルタ体１８を収容することができる。

したがって、各フィルタ体収容空間１６は空間的に規定されたフィルタ体収容空間体積（「体積」）を有しており、このフィルタ体収容空間体積内には、幾何学的に規定されて構成されたフィルタ体１８のそれぞれ所定の数（のみ）が収容されることができるか、あるいは収容されている。幾何学的に規定されて構成されたフィルタ体の所定の数は、図３から分かるように、１の数とも理解され得る。すなわち、フィルタ体収容空間１６内には、１つのみの（唯一の）幾何学的に規定して構成されたフィルタ体１８が収容可能であり得るか、あるいは収容されることが可能である。場合によっては、図２に示されている実施例において唯一の長めのフィルタ体１８を配置することも考えられ、このフィルタ体の高さは、５つの個々のフィルタ体１８の全高に相当する。長めのフィルタ体１８は、その比較的大きな高さにより、幾何学的に規定された他の構成を個々のフィルタ体１８として備えている。

したがって、フィルタモジュール１４のフィルタモジュールハウジング１５は、幾何学的に規定されて構成されたフィルタモジュールハウジング側で含まれる各フィルタ体収容空間１６内に収容可能な、あるいは収容された幾何学的に規定して構成されたフィルタ体１８のそれぞれ所定の数において相違している。したがって、各フィルタモジュールハウジング１５のフィルタ体収容空間１６は、各フィルタ体収容空間体積において相違しており、上述のように、各フィルタ体収容空間１６内には幾何学的に規定して構成されたフィルタ体１８の所定の数のみが収容可能である。

図２及び図３に基づき、幾何学的に規定された所定の構成のフィルタ体１８、すなわちここでは所定の外径及び内径並びに所定の高さを有するリング状のフィルタ体１８を基礎として、第１のフィルタモジュール１４は、第１の数のこのようなフィルタ体１８が収容可能あるいは収容されているフィルタ体収容空間１６を含むことができ、第２の（あるいは別の）フィルタモジュール１４は、第１の数とは異なる第２の数のこのようなフィルタ体１８が収容可能あるいは収容されているフィルタ体収容空間１６を含むことができる。上述のように、図２に示されたフィルタモジュール１４のフィルタ体収容空間１６内には５つのフィルタ体１８を収容することができ、図３に示されたフィルタモジュール１４のフィルタ体収容空間１６内には１つのみの（唯一の）フィルタ体１８を収容することができる。

さらに、図２に基づき、フィルタ体収容空間１６内に複数のフィルタ体１８が収容されている限り、これらが積層状に互いに重なり合って配置され得ることが分かる。このとき、ここではリング状のフィルタ体１８は、互いに一直線に配置されている。フィルタ体側で規定された各内部空間が互いに一直線となっている。各フィルタ体収容空間１６内での（位置）安定的なフィルタ体１８の配置を保証するために、フィルタ体１８は、圧力ばめあるいはプレスばめによって各フィルタ体収容空間１６内に収容されている。

さらに、図２及び図３に基づき、各フィルタモジュール１４が２つの接続インターフェース１９，２０を含んでいることが分かり、これら接続インターフェースを介して、フィルタモジュールが必要に応じてフィルタされるべき、あるいはフィルタされたプロセスガス９によって貫流可能あるいは貫流される管路構造あるいは配管構造１２の装置側の接続範囲２１，２２へ接続可能であるか、又は接続されている。装置側の接続範囲２１，２２は、フランジ範囲を含む接続パイプ部（不図示）を含んでいる。したがって、所定の付加的な構造工程についてフィルタ装置７の効率的な動作を保証するために、フィルタモジュール１４は、必要に応じて交換される（取り換えられる）ことが可能である。これにより、可変に適合可能なフィルタサイズを有するフィルタ装置７が存在する。フィルタサイズは、異なるフィルタモジュール１４の使用によって、あるいは各フィルタモジュール１４のフィルタモジュールハウジング１５のフィルタ体収容空間１６内に収容されるフィルタ体１８の異なる数によって規定されている。

フィルタモジュール側の各接続インターフェース１９，２０は、適切な固定要素及びシール要素（不図示）を含んでいる。フィルタモジュール側の各接続インターフェース１９，２０も、フランジ範囲を含み、適当な固定要素及びシール要素を有する接続パイプ部として形成されることが可能である。各固定要素は、フィルタモジュール１４を不動の位置固定された位置決めにおける装置側の接続範囲２１，２２に固定するために設置されることが可能である。固定要素は、装置側の接続範囲２１，２２へのフィルタモジュール７の例えば係合式及び／又は嵌合式の固定を可能とすることができる。装置側の接続範囲２１，２２へのフィルタモジュール７の係合式及び／又は嵌合式の固定を可能とする固定要素は、例えば固定クランプ（Ｂｅｆｅｓｔｉｇｕｎｇｓｓｃｈｅｌｌｅ）あるいは張力クランプ（Ｓｐａｎｎｓｃｈｅｌｌｅ）であり得る。したがって、適当な固定要素は、例えば部分リング状あるいは完全リング状の固定クランプあるいは張力クランプであり得る。適当なシール要素は、例えばシールリングであり得る。

全てのフィルタモジュール１４の接続インターフェース１９，２０は、同一に（同様に）構成されており、これにより、各フィルタモジュール１４の必要に応じた交換が容易化される。

したがって、各フィルタモジュール１４は、予備構成可能な、又は予備構成された、個別に操作可能なアセンブリを形成している。したがって、各フィルタモジュール１４の操作が容易化されており、フィルタモジュール１４は、特に自動化可能あるいは自動化されて、問題なく、操作あるいは交換されることが可能である。

所定の幾何学的に規定された構成、特に所定の長さのフィルタモジュール１４あるいはフィルタモジュールハウジング１５のみが、装置側の接続範囲２１，２２に接続可能であることが分かる。したがって、所定の幾何学的に規定された構成、特に所定の長さのフィルタモジュール１４あるいはフィルタモジュールハウジング１５のみが、装置側の接続範囲２１，２２に接続されることが可能である。したがって、フィルタモジュール１４は、幾何学的に規定された適当な構成、特に適当な長さを備えており、この構成は、装置側の接続範囲２１，２２へのフィルタモジュール１４の正確な接続を可能とするものである。図２及び図３に示されたフィルタモジュール１４あるいはフィルタモジュールハウジング１５の全長Ｌは同一である。

プロセスガス９あるいはプロセスガス流が貫流可能な、あるいはフィルタ装置７の動作において貫流される流れ通路構造２５が各フィルタモジュールハウジング１５内に形成されている。流れ通路構造２５は、フィルタされるべきプロセスガス９あるいはフィルタされるべきプロセスガス流をフィルタモジュール１４へ流入させるための配管状の流入部分２６を含む第１の流れ通路構造部分２５ａと、フィルタされたプロセスガス９あるいはフィルタされたプロセスガス流をフィルタモジュール１４から流出させるための配管状の流出部分２７を含む第２の流れ通路構造部分２５ｂとを含んでいる。両流れ通路構造部分２５ａ，２５ｂは互いに連通している。各フィルタ体収容空間１６内に収容された１つ又は複数のフィルタ体１８は、第１の流れ通路構造部分２５ａと第２の流れ通路構造部分２５ｂの間に配置されている。第１の流れ通路構造部分２５ａ内には、フィルタされるべきプロセスガス９を特定してフィルタ体１８へガイドする、例えば円すい形の流れガイド要素２８が更に配置されている。

各フィルタモジュール１４は、オプションでフィルタモジュールハウジング側に配置又は形成された閉鎖装置２３を含んでいる。各フィルタモジュールハウジング１５は、各閉鎖装置２３によって閉鎖可能な、各フィルタ体収容空間１６へのアクセス可能性を形成するアクセス開口部（不図示）を備えている。閉鎖装置２３とアクセス開口部の相互作用によって、場合によっては、すなわち例えば保守点検の目的で必要な１つ又は複数のフィルタ体１８の交換が可能である。

閉鎖装置２３は、場合によっては可動にフィルタモジュールハウジング１５に配置あるいは形成されたカバー状の閉鎖要素２４を含んでいる。図２及び図３に示された実施例では、閉鎖要素２４は、配管状の流入部分２６を含む第１の流れ通路構造部分２５ａの一部によって形成されている。

閉鎖要素２４は、フィルタ体収容空間１６へのアクセスが可能であるように閉鎖要素２４がアクセス開口部に対して相対的に移動されている開放位置と、フィルタ体収容空間１６へのアクセスが不可能であるように閉鎖要素２４がアクセス開口部に対して相対的に移動されている図２及び図３に示された閉鎖位置との間で（旋回）移動可能に支持されている。閉鎖要素２４は、閉鎖位置において、典型的にはフィルタ体収容空間１６が流体密に閉鎖されているようにアクセス開口部に対して相対的に、すなわち特にアクセス開口部に対して移動されている。

Claims (9)

1. 連続的で層ごとの選択的な露光と、これに伴う、エネルギービームを用いて凝固化可能な構造材料（３）から成る構造材料層の連続的で層ごとの選択的な凝固化とによって三次元的な物体（２）を付加的に製造するための装置（１）であって、当該装置（１）のプロセスチャンバ（８）内で、付加的な構造工程の実行の範囲において生じる、特にプロセスに起因して生じる汚濁物を含むプロセスガス（９）のフィルタリングのために設置されているフィルタ装置（７）を含んでいる、前記装置において、
   前記フィルタ装置（７）が、それぞれフィルタモジュールハウジング（１５）を有する複数のフィルタモジュール（１４）を含んでおり、各フィルタモジュールハウジング（１５）が、幾何学的に規定して構成された所定の数のフィルタ体（１８）を収容するために設置されている、幾何学的に規定して構成されたフィルタ体収容空間（１６）を含んでおり、各フィルタモジュール（１４）がフィルタモジュール側の接続インターフェース（１９，２０）を含んでおり、該接続インターフェースを介して、前記フィルタモジュールが、プロセスガス（９）によって貫流可能な、又は貫流される装置側の管路構造（１２）の所定の装置側の接続範囲（２１，２２）に必要に応じて接続可能であるか、又は接続されていること、及び
   前記各フィルタモジュールハウジング（１５）の前記フィルタ体収容空間（１６）がその各フィルタ体収容体積において異なっており、その結果、各フィルタ体収容空間（１６）内には、幾何学的に規定して構成された所定の数のフィルタ体（１８）のみが収容可能であることを特徴とする装置。
2. 各フィルタモジュール（１４）が、予備組立可能な、又は予備組立された、個別に交換可能なアセンブリを形成していることを特徴とする請求項１に記載の装置。
3. 全てのフィルタモジュール（１４）の前記接続インターフェース（１９，２０）が同一に構成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の装置。
4. 所定の幾何学的に規定された構成の、特に所定の長さのフィルタモジュールハウジング（１５）のみが前記装置側の接続範囲（２１，２２）に接続可能であり、前記フィルタ装置（７）の全てのフィルタモジュール（１４）が適当に幾何学的に規定された構成、特に適当な長さを備えていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の装置。
5. それぞれフィルタモジュールハウジング側で含まれるフィルタ体収容空間（１６）内に収容された１つ又は複数の前記フィルタ体（１８）が、プレスばめによって前記各フィルタ体収容空間（１６）内に収容されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の装置。
6. 各フィルタモジュール（１４）が、フィルタモジュール側に配置又は形成された閉鎖装置（２３）を含んでおり、各フィルタモジュールハウジング（１５）が、各閉鎖装置（２３）によって閉鎖可能な、各フィルタ体収容空間（１６）内へのアクセスを可能とするアクセス開口部を備えていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の装置。
7. 前記閉鎖装置（２３）が、移動可能に前記フィルタモジュールハウジング（１５）に配置又は形成された閉鎖要素（２４）を含んでいることを特徴とする請求項６に記載の装置。
8. 各フィルタモジュールハウジング（１５）内には、プロセスガス（９）によって貫流可能又は貫流される流れ通路構造（２５）が形成されており、該流れ通路構造（２５）が、フィルタされるべきプロセスガス（９）を前記フィルタモジュール（１４）へ流入させるための流入部分（２６）を含む第１の流れ通路構造部分（２５ａ）と、フィルタされたプロセスガス（９）を前記フィルタモジュール（１４）から流出させるための流出部分（２７）を含む第２の流れ通路構造部分（２５ｂ）とを含んでおり、前記各フィルタモジュールハウジング側で含まれるフィルタ体収容空間（１６）内に収容された１つ又は複数の前記フィルタ体（１８）が前記第１の流れ通路構造部分（２５ａ）と前記第２の流れ通路構造部分（２５ｂ）の間に配置されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の装置。
9. 連続的で層ごとの選択的な露光と、これに伴う、エネルギービームを用いて凝固化可能な構造材料（３）から成る構造材料層の連続的で層ごとの選択的な凝固化とによって三次元的な物体（２）を付加的に製造するための装置（１）のためのフィルタ装置（７）において、
   当該フィルタ装置（７）が、それぞれフィルタモジュールハウジング（１５）を有する複数のフィルタモジュール（１４）を含んでおり、各フィルタモジュールハウジング（１５）が、幾何学的に規定されて構成された所定の数のフィルタ体（１８）を収容するために設置されている、幾何学的に規定して構成されたフィルタ体収容空間（１６）を含んでおり、各フィルタモジュール（１４）がフィルタモジュール側の接続インターフェース（１９，２０）を含んでおり、該接続インターフェースを介して、前記フィルタモジュールが、プロセスガス（９）によって貫流可能な、又は貫流される装置側の管路構造（１２）の所定の装置側の接続範囲（２１，２２）に必要に応じて接続可能であるか、又は接続されていること、及び
   前記各フィルタモジュールハウジング（１５）の前記フィルタ体収容空間（１６）がその各フィルタ体収容体積において異なっており、その結果、各フィルタ体収容空間（１６）内には、幾何学的に規定して構成された所定の数のフィルタ体（１８）のみが収容可能であることを特徴とするフィルタ装置。

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