JP6455198B2 - Method for producing film with concavo-convex structure and measuring method - Google Patents
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Description
本発明は、凹凸構造付きフィルムを製造する方法に関する。本発明はまた、凹凸構造付きフィルムの凹凸構造の高さを測定する方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a film with an uneven structure. The present invention also relates to a method for measuring the height of the concavo-convex structure of the film with a concavo-convex structure.
従来、光学フィルムなどのフィルムを製造する場合、ある程度の量をまとめて長尺状に製造し、このフィルムを巻回してフィルムロールとして保存することが行われている。 Conventionally, when a film such as an optical film is manufactured, a certain amount of the film is manufactured into a long shape, and the film is wound and stored as a film roll.
フィルムの製造において、種々の目的で、フィルムの面の一部の領域に凹凸構造を付与することが知られている。例えば、長尺のフィルムを巻回する際のフィルムの取り扱い性の向上のため、フィルムの端部に凹凸構造を付与することが知られている。このような凹凸構造は、ナールとも呼ばれることがあり、このような凹凸構造を付与する処理は、ナーリング処理等の名称で呼ばれる。ナーリング処理の具体的な操作の例としては、フィルムに凹凸構造を有する型を当接する方法、フィルムに厚みを有する層を印刷によって付与する方法、及びフィルムにレーザー光を照射することにより凹凸構造を形成する方法といった各種の方法が知られている。フィルムを巻回してロール体とするのに先立ち、フィルムの表面にかかる凹凸構造を設けて凹凸構造付きフィルムとすることにより、ロール体中のフィルム間の摩擦による傷の発生、フィルムのブロッキング(ロール体において、重なったフィルムの面が付着する現象)等の不所望な現象が低減され、フィルムの取り扱い性を向上させることができる。 In the production of a film, it is known to impart a concavo-convex structure to a partial region of the film surface for various purposes. For example, it is known to provide a concavo-convex structure at the end of the film in order to improve the handleability of the film when winding a long film. Such a concavo-convex structure is sometimes referred to as a knurl, and a process for imparting such a concavo-convex structure is referred to by a name such as a knurling process. Examples of specific operations of the knurling treatment include a method of contacting a mold having a concavo-convex structure with a film, a method of applying a layer having a thickness to a film by printing, and a concavo-convex structure by irradiating the film with laser light. Various methods such as a forming method are known. Prior to winding a film into a roll body, a film with a concavo-convex structure is provided by forming a concavo-convex structure on the surface of the film, thereby generating scratches due to friction between the films in the roll body and blocking the film (roll Undesirable phenomena such as a phenomenon in which the surfaces of overlapping films adhere to the body are reduced, and the handleability of the film can be improved.
高品質なフィルムの効率的な製造を行う上では、搬送経路上で連続的に搬送されるフィルムの凹凸構造の高さを連続的に測定することが求められる。例えば、フィルムへ付与する凹凸構造は、その効果を均一に発現する等の目的で、その高さを所定の目標値からの偏差が少ない範囲に制御することが求められる。特に、製造フィルムが光学的な用途に用いられるフィルムの場合、その光学的性質を良好に保つことが求められるため、ナールの高さを精密に制御することが求められることがある。この場合、凹凸構造の高さを連続的に測定し、精密な品質管理を行ったり、測定結果を凹凸構造付与の工程にフィードバックしたりすることが求められる。 In order to efficiently produce a high-quality film, it is required to continuously measure the height of the concavo-convex structure of the film that is continuously conveyed on the conveyance path. For example, the concavo-convex structure imparted to the film is required to control its height within a range with a small deviation from a predetermined target value for the purpose of uniformly expressing the effect. In particular, in the case where the production film is a film used for an optical application, it is required to maintain its optical properties well, so that it is sometimes required to precisely control the height of the nal. In this case, it is required to continuously measure the height of the concavo-convex structure, perform precise quality control, and feed back the measurement result to the process of providing the concavo-convex structure.
搬送されるフィルムの凹凸構造の高さを連続的に測定する方法としては、フィルムの搬送経路において、凹凸構造が設けられた領域とそれ以外の領域におけるフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを、トラバース即ちフィルム幅方向に往復する計測器により測定し、その測定値に基づいて凹凸構造の高さを計算することが知られている(特許文献1)。 As a method of continuously measuring the height of the concavo-convex structure of the film to be transported, in the film transport path, the height of the film surface in the film thickness direction in the region where the concavo-convex structure is provided and other regions, It is known to measure with a measuring device that reciprocates in the traverse, that is, the film width direction, and calculate the height of the concavo-convex structure based on the measured value (Patent Document 1).
特許文献1に記載されるトラバースによる測定では、凹凸構造の高さの測定の精度が低く、光学フィルムのフィルムロールに付与するナール等、精密な高さ制御が求められる凹凸構造の高さの測定には不十分であるという問題点がある。
In the measurement by the traverse described in
従って、本発明の目的は、搬送されるフィルムにおける凹凸構造の高さ測定を精密に行いうる、凹凸構造の高さの測定方法、及び精密な凹凸構造の高さの測定により、高品質な凹凸構造付きフィルムを効率的に製造しうる、凹凸構造付きフィルムの製造方法を提供することにある。 Therefore, the object of the present invention is to provide a high-quality unevenness by measuring the height of the uneven structure, which can accurately measure the height of the uneven structure in the film to be conveyed, and the precise measurement of the uneven structure height. It is providing the manufacturing method of a film with an uneven structure which can manufacture a film with a structure efficiently.
本発明者は、上述した課題を解決するべく検討した結果、トラバースによる測定に代えて、搬送経路において固定された計測器を用いることにより、上記課題を解決しうることを見出した。本発明は、かかる知見に基づき完成された。
すなわち、本発明によれば、下記〔1〕〜〔22〕が提供される。
As a result of studying to solve the above-described problem, the present inventor has found that the above-described problem can be solved by using a measuring instrument fixed in the conveyance path instead of measurement by traverse. The present invention has been completed based on such findings.
That is, according to the present invention, the following [1] to [22] are provided.
〔1〕 搬送経路において連続的に搬送される長尺のフィルムの表面の一部の領域RHに凹凸構造を付与する工程(A)、及び
前記搬送経路において、前記フィルムの前記凹凸構造の高さを測定する工程(B)
を含む、凹凸構造付きフィルムの製造方法であって、
前記工程(B)が、前記領域RHにおける、フィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さHと、前記領域RHの外の領域RLにおける、フィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さLとを、固定された計測器により計測し、その差(H−L)を計算することを含む製造方法。
〔2〕 前記高さHの計測は、
前記領域RH内における所定の幅の領域WAに亘りフィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点においてフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを測定し、得られた複数の測定値群DHに基づく計算により高さHを求めることを含み、
前記高さLの計測は、
前記領域RL内において、所定の幅の領域WBに亘りフィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点においてフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを測定し、得られた複数の測定値群DLに基づく計算により高さLを求めることを含む、〔1〕に記載の製造方法。
〔3〕 前記高さHを求めるための前記測定値群DHに基づく計算が、前記測定値群DHの平均を求め、これを前記高さHとする計算であり、
前記高さLを求めるための前記測定値群DLに基づく計算が、前記測定値群DLの平均を求め、これを前記高さLとする計算である、〔2〕に記載の製造方法。
〔4〕 一つの前記領域WAにおける測定点の個数がNHであり、
一つの前記領域WBにおける測定点の個数がNLであり、
前記高さHを求めるための前記測定値群DHに基づく計算が、前記測定値群DHのうち、上位XH個の測定値の平均を求め、これを高さHとする計算であり、
前記高さLを求めるための前記測定値群DLに基づく計算が、前記測定値群DLのうち、上位XL個の測定値の平均を求め、これを高さLとする計算であり、
前記XHが、2以上NH/2以下の範囲内で設定される個数であり、
前記XLが、2以上NL以下の範囲内で設定される個数である、〔2〕に記載の製造方法。
〔5〕 前記差(H−L)の値の一つを求めるための前記高さHの測定位置と前記高さLの測定位置とが、フィルム幅方向に整列した位置である、〔1〕〜〔4〕のいずれか1項に記載の製造方法。
〔6〕 前記高さHを測定する前記計測器と、前記高さLを測定する前記計測器とが、同一の装置である、〔1〕〜〔5〕のいずれか1項に記載の製造方法。
〔7〕 前記領域RH、前記領域WA及び前記領域WBが、前記フィルムの長尺方向に連続して延長する帯状の領域であり、前記領域WA及び前記領域WBは幅方向に離隔し、前記領域WAと前記領域WBとの間隔は、搬送される前記フィルムの蛇行の幅より広い、〔2〕〜〔6〕のいずれか1項に記載の製造方法。
〔8〕 前記領域RH、前記領域WA及び前記領域WBが、前記フィルムの長尺方向に連続して延長する帯状の領域であり、前記領域WA及び前記領域WBは幅方向に離隔し、前記領域WAと前記領域WBとの間隔は、前記領域WAの幅及び前記領域WBの幅の平均よりも狭い、〔2〕〜〔7〕のいずれか1項に記載の製造方法。
〔9〕 前記工程(B)が複数回行われ、その周期が0.1秒以下である、〔1〕〜〔8〕のいずれか1項に記載の製造方法。
〔10〕 前記工程(B)において測定された高さの値に基づいて、前記工程(A)において付与される凹凸構造の高さをフィードバック制御する工程(C)をさらに含む、〔1〕〜〔9〕のいずれか1項に記載の製造方法。
〔11〕 前記工程(B)の下流において、前記凹凸構造付きフィルムを巻回しフィルムロールとする工程(D)をさらに含み、
前記工程(A)において、前記凹凸構造を、前記フィルムロールの巻内側ほど高さが高く、巻外側ほど高さが低くなるよう付与する、〔1〕〜〔10〕のいずれか1項に記載の製造方法。
〔12〕 前記領域RHが、フィルム縁部の領域である、〔1〕〜〔11〕のいずれか1項に記載の製造方法。
〔13〕 搬送経路において連続的に搬送される、表面の一部の領域RHに凹凸構造を有する長尺のフィルムの、前記凹凸構造の高さを測定する測定方法であって、
前記領域RHにおける、フィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さHと、前記領域RHの外の領域RLにおける、フィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さLとを、固定された計測器により計測し、その差(H−L)を計算することを含む測定方法。
〔14〕 前記高さHの計測は、
前記領域RH内における所定の幅の領域WAに亘りフィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点においてフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを測定し、得られた複数の測定値群DHに基づく計算により高さHを求めることを含み、
前記高さLの計測は、
前記領域RL内において、所定の幅の領域WBに亘りフィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点においてフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを測定し、得られた複数の測定値群DLに基づく計算により高さLを求めることを含む、〔13〕に記載の測定方法。
〔15〕 前記高さHを求めるための前記測定値群DHに基づく計算が、前記測定値群DHの平均を求め、これを前記高さHとする計算であり、
前記高さLを求めるための前記測定値群DLに基づく計算が、前記測定値群DLの平均を求め、これを前記高さLとする計算である、〔14〕に記載の測定方法。
〔16〕 一つの前記領域WAにおける測定点の個数がNHであり、
一つの前記領域WBにおける測定点の個数がNLであり、
前記高さHを求めるための前記測定値群DHに基づく計算が、前記測定値群DHのうち、上位XH個の測定値の平均を求め、これを高さHとする計算であり、
前記高さLを求めるための前記測定値群DLに基づく計算が、前記測定値群DLのうち、上位XL個の測定値の平均を求め、これを高さLとする計算であり、
前記XHが、2以上NH/2以下の範囲内で設定される個数であり、
前記XLが、2以上NL以下の範囲内で設定される個数である、〔14〕に記載の測定方法。
〔17〕 前記差(H−L)の値の一つを求めるための前記高さHの測定位置と前記高さLの測定位置とが、フィルム幅方向に整列した位置である、〔13〕〜〔16〕のいずれか1項に記載の測定方法。
〔18〕 前記高さHを測定する前記計測器と、前記高さLを測定する前記計測器とが、同一の装置である、〔13〕〜〔17〕のいずれか1項に記載の測定方法。
〔19〕 前記領域RH、前記領域WA及び前記領域WBが、前記フィルムの長尺方向に連続して延長する帯状の領域であり、前記領域WA及び前記領域WBは幅方向に離隔し、前記領域WAと前記領域WBとの間隔は、搬送される前記フィルムの蛇行の幅より広い、〔14〕〜〔18〕のいずれか1項に記載の測定方法。
〔20〕 前記領域RH、前記領域WA及び前記領域WBが、前記フィルムの長尺方向に連続して延長する帯状の領域であり、前記領域WA及び前記領域WBは幅方向に離隔し、前記領域WAと前記領域WBとの間隔は、前記領域WAの幅及び前記領域WBの幅の平均よりも狭い、〔14〕〜〔19〕のいずれか1項に記載の測定方法。
〔21〕 前記計測が複数回行われ、その周期が0.1秒以下である、〔13〕〜〔20〕のいずれか1項に記載の測定方法。
〔22〕 前記領域RHが、フィルム縁部の領域である、〔13〕〜〔21〕のいずれか1項に記載の測定方法。
[1] A step (A) of imparting a concavo-convex structure to a partial region RH on the surface of a long film that is continuously conveyed in the conveyance path, and a height of the concavo-convex structure of the film in the conveyance path. Measuring the thickness (B)
A method for producing a film with a concavo-convex structure, comprising:
Step (B), in the region R H, the height H of the film surface in the film thickness direction, in the outer region R L of the region R H, and a height L of the film surface in the film thickness direction, A manufacturing method including measuring with a fixed measuring instrument and calculating the difference (HL).
[2] The measurement of the height H is as follows:
A plurality of measurement value groups D obtained by measuring the height of the film surface in the film thickness direction at a plurality of measurement points distributed in alignment in the film width direction over a region WA having a predetermined width in the region RH . Determining the height H by calculation based on H,
The measurement of the height L is as follows:
In the region RL , the height of the film surface in the film thickness direction is measured at a plurality of measurement points distributed in alignment in the film width direction over the region WB of a predetermined width, and a plurality of measurement value groups obtained and determining the height L by calculation based on the D L, the method according to [1].
[3] the height H is based on the measurement value group D H for obtaining the calculation, an average of the measurement value group D H, is the same calculations that the height H,
The height L based on the measurement value group D L for obtaining the calculation, an average of the measurement value group D L, a this calculation to the height L, production method according to [2] .
[4] The number of measurement points in one area WA is NH ,
The number of measurement points in one area WB is NL ,
The height H is based on the measurement value group D H for obtaining the calculation of the measured value group D H, it calculates the average of the top X H number of measurements, be calculated for this height H ,
The height L based on the measurement value group D L for obtaining the calculation of the measured value group D L, obtains the average of the top X L pieces of measurement, be calculated for this height L ,
X H is a number set within a range of 2 or more and N H / 2 or less,
Wherein X L is a number that is set in a range of 2 or more N L or less, The method according to [2].
[5] The measurement position of the height H and the measurement position of the height L for obtaining one of the difference (HL) values are aligned in the film width direction. [1] The manufacturing method of any one of-[4].
[6] The manufacturing method according to any one of [1] to [5], wherein the measuring device that measures the height H and the measuring device that measures the height L are the same device. Method.
[7] The region R H , the region WA, and the region WB are band-like regions extending continuously in the longitudinal direction of the film, and the region WA and the region WB are separated in the width direction, The space | interval of the area | region WA and the said area | region WB is a manufacturing method of any one of [2]-[6] wider than the width | variety of the meandering of the said film conveyed.
[8] The region R H , the region WA, and the region WB are band-like regions extending continuously in the longitudinal direction of the film, and the region WA and the region WB are separated in the width direction, The method according to any one of [2] to [7], wherein an interval between the area WA and the area WB is narrower than an average of the width of the area WA and the width of the area WB.
[9] The manufacturing method according to any one of [1] to [8], wherein the step (B) is performed a plurality of times, and the cycle is 0.1 second or less.
[10] The method further includes a step (C) of feedback-controlling the height of the uneven structure provided in the step (A) based on the height value measured in the step (B). [9] The production method according to any one of [9].
[11] In the downstream of the step (B), the method further includes a step (D) of winding the film with an uneven structure into a film roll.
In said process (A), the said uneven structure is provided so that height may become high so that the roll inner side of the said film roll may become low, and the height may become low as the roll outer side. Manufacturing method.
[12] The manufacturing method according to any one of [1] to [11], wherein the region RH is a region of a film edge.
[13] A measurement method for measuring the height of the concavo-convex structure of a long film having a concavo-convex structure in a partial region RH on the surface, which is continuously transported in the transport path,
Measurements in the region R H, the height H of the film surface in the film thickness direction, in the outer region R L of the region R H, and a height L of the film surface in the film thickness direction, by a fixed instrument And measuring the difference (HL).
[14] The measurement of the height H is as follows:
A plurality of measurement value groups D obtained by measuring the height of the film surface in the film thickness direction at a plurality of measurement points distributed in alignment in the film width direction over a region WA having a predetermined width in the region RH . Determining the height H by calculation based on H,
The measurement of the height L is as follows:
In the region RL , the height of the film surface in the film thickness direction is measured at a plurality of measurement points distributed in alignment in the film width direction over the region WB of a predetermined width, and a plurality of measurement value groups obtained and determining the height L by calculation based on the D L, the measuring method described in [13].
[15] The height H is based on the measurement value group D H for obtaining the calculation, an average of the measurement value group D H, is the same calculations that the height H,
The height L based on the measurement value group D L for obtaining the calculation, an average of the measurement value group D L, a this calculation to the height L, the measuring method described in [14] .
[16] The number of measurement points in one area WA is NH ,
The number of measurement points in one area WB is NL ,
The height H is based on the measurement value group D H for obtaining the calculation of the measured value group D H, it calculates the average of the top X H number of measurements, be calculated for this height H ,
The height L based on the measurement value group D L for obtaining the calculation of the measured value group D L, obtains the average of the top X L pieces of measurement, be calculated for this height L ,
X H is a number set within a range of 2 or more and N H / 2 or less,
Wherein X L is a number that is set in a range of 2 or more N L or less, the measuring method described in [14].
[17] The measurement position of the height H and the measurement position of the height L for obtaining one of the difference (HL) values are aligned in the film width direction. [13] The measuring method of any one of-[16].
[18] The measurement according to any one of [13] to [17], wherein the measuring device that measures the height H and the measuring device that measures the height L are the same device. Method.
[19] The region R H , the region WA, and the region WB are band-like regions that continuously extend in the longitudinal direction of the film, and the region WA and the region WB are separated in the width direction, The measurement method according to any one of [14] to [18], wherein an interval between the area WA and the area WB is wider than a meandering width of the film to be conveyed.
[20] The region R H , the region WA, and the region WB are band-like regions extending continuously in the longitudinal direction of the film, and the region WA and the region WB are separated in the width direction, The measurement method according to any one of [14] to [19], wherein an interval between the area WA and the area WB is narrower than an average of the width of the area WA and the width of the area WB.
[21] The measurement method according to any one of [13] to [20], wherein the measurement is performed a plurality of times and the cycle is 0.1 second or less.
[22] The measurement method according to any one of [13] to [21], wherein the region RH is a region of a film edge.
本発明の測定方法によれば、搬送されるフィルムにおける凹凸構造の高さ測定を精密に行いうる。また、本発明の凹凸構造付きフィルムの製造方法によれば、精密な凹凸構造の高さの測定により、高品質な凹凸構造付きフィルムを効率的に製造しうる。 According to the measurement method of the present invention, it is possible to precisely measure the height of the concavo-convex structure in the conveyed film. Moreover, according to the manufacturing method of the film with a concavo-convex structure of the present invention, a high-quality film with a concavo-convex structure can be efficiently manufactured by accurately measuring the height of the concavo-convex structure.
以下、実施形態及び例示物等を示して本発明について詳細に説明するが、本発明は以下に示す実施形態及び例示物等に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。以下の説明において、本発明の方法を実施するための部材の構成要素の方向が「平行」とは、本発明の効果を著しく損なわない範囲内(例えば±5°)での誤差を含んでいてもよい。また、「長尺」のフィルムとは、フィルムの幅に対して、5倍以上の長さを有するものをいい、好ましくは10倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するものをいう。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments and examples, but the present invention is not limited to the following embodiments and examples, and the claims of the present invention and equivalents thereof. The present invention may be carried out with any change without departing from the above range. In the following description, the direction of the component of the member for carrying out the method of the present invention is “parallel” includes an error within a range that does not significantly impair the effects of the present invention (for example, ± 5 °). Also good. Further, the “long” film means a film having a length of 5 times or more, preferably 10 times or more, more specifically in a roll shape. It has a length enough to be wound up and stored or transported.
〔1.概要〕
本発明の凹凸構造付きフィルムの製造方法は、搬送経路において連続的に搬送される長尺のフィルムの表面の一部の領域RHに凹凸構造を付与する工程(A)、及び搬送経路において、フィルムの凹凸構造の高さを測定する工程(B)を含む。
[1. Overview〕
In the method for producing a film with a concavo-convex structure of the present invention, the step (A) of imparting a concavo-convex structure to a partial region RH on the surface of a long film continuously conveyed in the conveyance path, and the conveyance path, The process (B) which measures the height of the uneven structure of a film is included.
図1は、本発明の製造方法の一実施形態を概略的に示す側面図であり、図2は、図1に示す実施形態における支持ロール31の近傍を概略的に示す斜視図である。この例において、凹凸構造付与前のフィルムのロール等の任意のフィルム供給手段(不図示)から供給されたフィルム11は、搬送方向A1に搬送される。製造ラインにおけるフィルムの流れ方向は、MD方向(machine direction)とも呼ばれ、通常は搬送される長尺のフィルムの長手方向と平行である。さらに、MD方向に垂直で且つ搬送されるフィルム面に平行な方向はTD方向(traverse direction)とも呼ばれ、通常は搬送される長尺のフィルムの幅方向と一致する。
FIG. 1 is a side view schematically showing an embodiment of the manufacturing method of the present invention, and FIG. 2 is a perspective view schematically showing the vicinity of a
〔2.工程(A)〕
図1に示す例では、フィルム11は凹凸構造付与装置20へ搬送され、ここで、工程(A)が行われる。図1に示す例では、凹凸構造付与装置20は、凹凸構造を有するロール21と、ゴムロール22とを備え、これらによりフィルム11を挟むことによりフィルム11に凹凸構造13を付与し、凹凸構造付きフィルム12を形成する。但し本発明における工程(A)を行う装置は、この例に限られず、凹凸構造を付与しうる任意の装置としうる。また、本願の各図は概略的な図であるため、凹凸構造13はフィルム12の寸法に比して大きく且つ疎に設けられた状態で示しているが、実際に製造されるフィルムにおける凹凸構造は、これらの図面で図示されるものより小さいものとしうるし、またより密に設けうる。
[2. Step (A)]
In the example shown in FIG. 1, the
この例では、図2に示される通り、凹凸構造13が付与された領域RHは、フィルム12の両方の幅方向端部12Eに近接した縁部の、フィルムの長尺方向に連続して延長する帯状の領域であり、その間の凹凸構造13が付与されていない領域を領域RLとしている。凹凸構造付与装置20において凹凸構造13が付与されたフィルム12は、続いて、支持ロール31へ搬送され、ここで、工程(B)が行われる。
In this example, as shown in FIG. 2, the region RH to which the concavo-
〔3.工程(B)、及び本発明の測定方法〕
本発明の製造方法の工程(B)、及び本発明の測定方法では、領域RHにおける、フィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さHと、領域RHの外の領域RLにおける、フィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さLとを、固定された計測器により計測する。
[3. Step (B) and Measurement Method of the Present Invention]
In the step (B) of the production method of the present invention and the measurement method of the present invention, the film surface height H in the film thickness direction in the region RH and the film thickness direction in the region RL outside the region RH. The film surface height L is measured with a fixed measuring instrument.
図1及び図2の例では、フィルム12は、支持ロール31により支持され、その周面に沿って曲げられた搬送経路に沿って搬送され、ここで工程(B)が行われる。このように、搬送経路上の支持ロールの周面により支持された位置において測定を行うことにより、フィルム12のばたつきにより発生しうる測定誤差を低減することができる。
In the example of FIG.1 and FIG.2, the
工程(B)を行う計測器40は、矢印44及び45方向に測定用の光を投光する投光器41、投光器41により投光された光を受光する受光器42、及びこれらを支持する支持台43を含む。支持台43は、製造装置に支持具(不図示)により固定されており、従って、測定器40は、搬送経路において固定された状態において、搬送されるフィルム12の測定を行う。計測器40は、必要に応じてコントローラ(不図示)と接続し、計測器40により得られた情報をコントローラーで解析することにより、測定を行いうる。
The measuring
図2に示す通り、この例では、計測器として、領域RHにおける測定を行うための計測器40Aと、領域RLにおける測定を行うための計測器40Bの2つの計測器を用いている。図2においては、図示の便宜ため、計測器の支持台は省略している。また、図2に示す通りフィルム12の両方の縁部に領域RHを設ける場合、両方の領域において工程(B)を行いうるが、図2においては、図示の便宜のため、図中手前側の領域RHの測定を行う装置のみを示している。
As shown in FIG. 2, in this example, two measuring instruments, a measuring instrument 40 </ b> A for performing measurement in the region RH, and a measuring instrument 40 </ b> B for performing measurement in the region RL are used as measuring instruments. In FIG. 2, the support for the measuring instrument is omitted for convenience of illustration. In addition, when the regions RH are provided on both edges of the
測定の操作において、計測器40Aの投光器41Aから矢印44A及び45A方向に投光された光は、受光器42Aで受光され、これにより、支持ロール31で支持されているフィルム12の領域RHを観察する。一方、計測器40Bの投光器41Bから矢印44B及び45B方向に投光された光は、受光器42Bで受光され、これにより、支持ロール31で支持されているフィルム12の領域RLを観察する。
In the measurement operation, the light projected from the
図2の例において示す通り、計測器40A及び40Bは、好ましくは2次元寸法測定器の測定ヘッドである。本願において2次元寸法測定器とは、測定対象の2次元の画像を取得し、当該画像内の測定対象の位置を解析することにより、観察される測定対象の外形の寸法の測定を行う装置である。2次元寸法測定器の例としては、2次元寸法測定器 TM−3000シリーズの測定ヘッドであるTM−006、TM−040、及びTM−065(いずれも株式会社キーエンス社製)が挙げられる。また、好ましい態様において、高さHの計測は、領域RH内における所定の幅の領域WAに亘りフィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点においてフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを測定し、得られた複数の測定値群DHに基づく計算により高さHを求めることを含み、高さLの計測は、領域RL内において、所定の幅の領域WBに亘りフィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点においてフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを測定し、得られた複数の測定値群DLに基づく計算により高さLを求めることを含む。
As shown in the example of FIG. 2, the measuring
2次元寸法測定器を用いたこのような測定の例を、図3及び図4を参照して説明する。図3は、図2における計測器40Aの受光器42Aにより取得された画像の例を示す概略図であり、図4は、図2における計測器40Bの受光器42Bにより取得された画像の例を示す概略図である。
An example of such measurement using a two-dimensional dimension measuring device will be described with reference to FIGS. 3 is a schematic diagram illustrating an example of an image acquired by the
図3において、画像46Aは、支持ロール31により支持されて搬送されるフィルム12の領域RH内における外形を観察した画像となる。また、画像46Aは、その上下方向がフィルム厚み方向に対応し、その左右方向が支持ロール31の軸3Xと平行な方向に対応する。画像46Aにおいては、線51A及び52Aの間に所定の幅の領域WAが設定される。このような画像46Aにより示される情報により、領域WA内の複数の位置における、フィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを同時に検出することができる。領域WA内において、フィルム12の表面は、凹凸構造13の頂部13T及び斜面13S、並びに凹凸構造13の間の領域13S等の様々な状態を有した外形として観察される。このように観察される領域WA内の複数の測定点において、フィルム表面の高さを検出して複数の測定値を求め、これを測定値群DHとしうる。
高さHを求めるための、測定値群DHに基づく計算は、特に限定されず、高さHの増減が実際の凹凸構造の高さの増減を反映するような、任意の計算を設定しうる。例えば、単に測定値群DHの算術平均を求め、これを高さHとしうる。この場合、高さHとして、線53Aで示される、平均の高さの位置を求めることができる。
高さHを求めるための、測定値群DHに基づく計算の他の例としては、測定値群DHのうち、上位XH個の測定値の平均を求め、これを高さHとする計算が挙げられる。ここで個数XHは、2個以上で、且つ、一つの前記領域WAにおける測定点の個数NH以下の任意の値に設定しうる。好ましくは、XHは、2以上NH/2以下の範囲内で設定しうる。より具体的には、測定点の個数NHが100個である場合、XHは、好ましくは2以上50以下の範囲で設定しうる。この例において、例えばXHを10と設定した場合は、測定値群DHのうち、最も高い測定値、2番目に高い測定値、3番目に高い測定値、・・・・及び10番目に高い測定値の平均を求め、これを高さHとする。XHの値は、計算される高さHが凹凸構造の高さを反映されるような値を適宜選択して設定しうる。
In FIG. 3, an image 46 </ b> A is an image obtained by observing the outer shape in the region RH of the film 12 that is supported and conveyed by the
For determining the height H, calculations based on the measured value group D H it is not particularly limited, such as increasing or decreasing the height H to reflect the actual height of the increase or decrease of the concavo-convex structure, set any calculation sell. For example, an arithmetic average of the measured value group DH can be obtained and this can be used as the height H. In this case, as the height H, an average height position indicated by a
For determining the height H, as another example of the calculation based on the measurement value group D H, among the measurement value group D H, it calculates the average of the top X H number of measurements to the same height H Calculation. Here, the number X H may be set to an arbitrary value that is 2 or more and less than or equal to the number NH of measurement points in one area WA. Preferably, X H can be set within a range of 2 or more and N H / 2 or less. More specifically, when the number N H of the measuring point is 100, X H is preferably be set in a range of 2 or more and 50 or less. In this example, for example, when X H is set to 10, the highest measured value, the second highest measured value, the third highest measured value, and the tenth measured value in the measured value group DH. The average of the high measured values is obtained, and this is designated as height H. The value of X H may set the value as the height H to be calculated is reflected the height of the concavo-convex structure appropriately selected and.
一方図4において、画像46Bは、支持ロール31により支持されて搬送されるフィルム12の領域RL内における外形を観察した画像となる。画像46Aと同様画像46Bにおいても、その上下方向がフィルム厚み方向に対応し、その左右方向が支持ロール31の軸3Xと平行な方向に対応する。画像46Bにおいては、線51B及び52Bの間に所定の幅の領域WBが設定される。このような画像46Bにより示される情報により、領域WB内の複数の位置における、フィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを同時に検出して複数の測定値を求め、これを測定値群DLとしうる。
高さLを求めるための、測定値群DLに基づく計算は、特に限定されず、高さLの増減が実際のフィルム表面の高さの増減を反映するような、任意の計算を設定しうる。例えば、単に測定値群DLの算術平均を求め、これを高さLとしうる。この場合、高さLとして、線53Bで示される、平均の高さの位置を求めることができる。
高さLを求めるための、測定値群DLに基づく計算の他の例としては、測定値群DLのうち、上位XL個の測定値の平均を求め、これを高さLとする計算が挙げられる。ここで個数XLは、2個以上で、且つ、一つの前記領域WAにおける測定点の個数NL以下の任意の値に設定しうる。個数XLは、個数XHと同じ値に設定してもよく、個数XHとは異なる別の値を設定してもよい。XLの値は、計算される高さLがフィルム表面の高さを反映されるような値を適宜選択して設定しうる。
On the other hand, in FIG. 4, an image 46 </ b> B is an image obtained by observing the outer shape in the region RL of the film 12 that is supported and conveyed by the
The calculation based on the measurement value group DL for obtaining the height L is not particularly limited, and an arbitrary calculation is set so that the increase / decrease in the height L reflects the increase / decrease in the actual film surface height. sell. For example, simply determine the arithmetic mean of the measured value group D L, can the height L of this. In this case, as the height L, the average height position indicated by the
For determining the height L, as another example of the calculation based on the measurement value group D L, of the measurement value group D L, we obtain the average of the top X L number of measurements to the same height L Calculation. Here, the number X L can be set to an arbitrary value that is two or more and less than or equal to the number N L of measurement points in one area WA. Number X L may be set to the same value as the number X H, it may be set to different another value than the number X H. The value of X L can set the value as the height L to be calculated is reflected the height of the film surface appropriately selected and.
領域WAにおける一つの高さHの測定、及び領域WBにおける一つの高さLの測定において、複数の測定点において測定を行う場合、測定点の数の上限は、測定器の解像度に依存し、当該解像度において測定しうる測定点の数が上限となる。当該上限以下において、多数の測定点における測定を行うと、より信頼性の高い測定を行うことができる。一方測定点を少なくすることにより、情報処理の負荷を低減させることができる。一つの高さHの測定又は一つの高さLの測定における測定点の数は、好ましくは2個以上、より好ましくは5個以上であり、一方好ましくは1000個以下、より好ましくは500個以下である。 In the measurement of one height H in the area WA and the measurement of one height L in the area WB, when measuring at a plurality of measurement points, the upper limit of the number of measurement points depends on the resolution of the measuring instrument, The number of measurement points that can be measured at the resolution is the upper limit. If the measurement is performed at a large number of measurement points below the upper limit, measurement with higher reliability can be performed. On the other hand, by reducing the number of measurement points, the information processing load can be reduced. The number of measurement points in one height H measurement or one height L measurement is preferably 2 or more, more preferably 5 or more, while preferably 1000 or less, more preferably 500 or less. It is.
画像46Aにおいて線53Aで示される位置、及び画像46Bにおいて線53Bで示される位置が、フィルム高さ方向のどの位置であるかを、支持ロール31の表面の位置等の共通の基準に基づいて決定することにより、当該基準からフィルム表面までの距離として、高さH及びLを求めることができる。例えば、画像46Aにおいて観察される支持ロール31の表面31Sから線53Aで示される位置までの高さを高さHとし、画像46Bにおいて観察される支持ロール31の表面31Sから線53Bで示される位置までの高さを高さLとしうる。このように計算された高さH及びLから、その差(H−L)を計算しうる。
The position indicated by the
画像46A及び画像46Bのような一の画像において、複数の測定点における高さを求めることにより、フィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点における測定を行うことができる。測定点がフィルム幅方向に整列するとは、複数の測定点がいずれも、フィルム幅方向に対して平行な一本の線上に位置することをいう。ただし、フィルム長尺方向に0.21mm程度の誤差があってもよい。また、例えば、測定点の整列方向(図5の例であれば、線53A−1〜53A−8のそれぞれの延長方向)が、フィルム幅方向に対して完全に平行でなく、3°程度の誤差があってもよい。
In one image such as the
領域RH、領域WA及び領域WBは、フィルムの長尺方向に連続して延長する帯状の領域としうる。さらに、領域WA及び領域WBは幅方向に離隔した領域としうる。また、差(H−L)の値の一つを求めるための高さHの測定位置と高さLの測定位置とは、フィルム幅方向に整列した位置であることが好ましい。また、工程(B)は複数回行なうことができる。 The region R H , the region WA, and the region WB can be a band-like region extending continuously in the longitudinal direction of the film. Furthermore, the area WA and the area WB can be areas separated in the width direction. Moreover, it is preferable that the measurement position of the height H and the measurement position of the height L for obtaining one of the differences (HL) are positions aligned in the film width direction. Moreover, a process (B) can be performed in multiple times.
このような測定の具体例を、図5を参照して説明する。図5は、図2におけるフィルム12の領域Fを拡大して示す平面図である。図5において、凹凸構造13が付与された領域RHは、線61及び62で囲まれた領域であり、領域RLは、線62より、フィルム幅方向の内側(図中左側)の領域である。図3及び図4において示した、線51A及び52Aの間の複数の測定点が分布する領域WA並びに線51B及び52Bの間の複数の測定点が分布する領域WBは、図5においても同一の符号を付して示している。図5に示す通り、領域WA及び領域WBは、フィルムの長尺方向に連続して延長する帯状の領域である。さらに、領域WA及び領域WBは幅方向に離隔し、その間隔は矢印WCで示される。
A specific example of such measurement will be described with reference to FIG. FIG. 5 is an enlarged plan view showing a region F of the
図5において、線53A−1〜53A−8のそれぞれは、1回の高さHの測定における複数の測定点の位置が、フィルム表面においてフィルム幅方向に整列して分布する位置を示している。例えば、線53A−1の一方の端部から他方の端部までの間に、1回の高さHの測定における複数の測定点の位置が分布する。同様に、線53B−1〜53B−8のそれぞれは、1回の高さLの測定における複数の測定点の位置が、フィルム表面においてフィルム幅方向に整列して分布する位置を示している。線53A−1と線53B−1とは、フィルム幅方向に整列している。同様に、線53A−2、線53A−3、・・・は、それぞれ、線53B−2、線53B−3、・・・と、フィルム幅方向に整列している。
In FIG. 5, each of the
このような配置の測定点において、線53A−1で測定した高さHと、線53B−1で測定した高さLとの差を求めることにより、フィルム幅方向に整列した位置における差(H−L)の値の一つを求めることができる。同様に、線53A−2で測定した高さHと線53B−2で測定した高さLとの差、線53A−3で測定した高さHと線53B−3で測定した高さLとの差、線54A−3で測定した高さHと線54B−3で測定した高さLとの差、・・・をそれぞれ求めることにより、フィルム幅方向に整列した位置における差(H−L)の値の一つずつを求めることができる。このような測定は、計測器40Aと計測器40Bとの測定のタイミングを同期させることにより行いうる。
By calculating the difference between the height H measured by the
但し、本発明はこれに限られず、計測器40Aと計測器40Bとの測定のタイミングは同期していなくてもよい。例えば、計測器40Aの測定の周期と、計測器40Bの測定の周期とを同じ値に設定し、且つ測定開始のタイミングのみを揃えた状態で、複数回の測定を行いうる。この場合、例えば、1番目の測定で得られたHの値と1番目の測定で得られたLの値との差、2番目の測定で得られたHの値と2番目の測定で得られたLの値との差、3番目の測定で得られたHの値と3番目の測定で得られたLの値との差、・・・を順次求めることにより、差(H−L)の値の一つずつを求めることができる。この場合、差(H−L)の値の一つを求めるための高さHの測定位置と高さLの測定位置とは、フィルム長さ方向に、10mm程度のずれがあってもよい。
However, the present invention is not limited to this, and the measurement timings of the measuring
上に説明した工程(B)を採用することによる本発明の効果を、図6に示す従来技術との対比により説明する。図6は、図5と同様のフィルム12の領域Fを、従来技術による測定方法で測定する態様を説明する平面図である。図6に示す従来技術による測定方法では、ある点におけるフィルムの高さを測定することができる測定装置を、線63から線64までの間をトラバース即ち幅方向に往復するよう駆動させることにより測定を行っており、従って、フィルム面上における測定点は、フィルム幅方向に対して斜めの線69上に整列する。この例では、例えば線61と62との間の領域における複数の測定点の平均値と、線62から64までの領域及び線61から63までの領域における複数の測定点の平均値との差を求めることにより、凹凸構造13の高さを求めることができる。
The effect of the present invention by adopting the step (B) described above will be described in comparison with the prior art shown in FIG. FIG. 6 is a plan view for explaining a mode in which the region F of the
しかしながら、図6に示すトラバースによる測定を行った場合、計測器を駆動させることにより、計測器の位置が意図しない変動(例えば振動等)を来す場合がある。そのような意図しない変動により、測定結果には誤差が生じうる。これに対して、本発明における工程(B)では、高さH及び高さLのいずれをも、固定された計測器により計測するため、計測器を駆動させる操作を行わない。その結果、計測器の駆動に基づく、意図しない変動による誤差を低減することができる。このような効果は、フィルムを高速で搬送させる場合等、測定を迅速に行う必要がある場合に特に有利である。したがって、本発明によれば、凹凸構造の高さをより精密に把握しながらも効率的な生産を行うことが可能となる。 However, when the measurement by the traverse shown in FIG. 6 is performed, driving the measuring instrument may cause unintended fluctuations (for example, vibration or the like) in the position of the measuring instrument. Such unintended variations can cause errors in the measurement results. On the other hand, in step (B) in the present invention, since both the height H and the height L are measured by a fixed measuring instrument, an operation for driving the measuring instrument is not performed. As a result, errors due to unintended fluctuations based on driving of the measuring instrument can be reduced. Such an effect is particularly advantageous when the measurement needs to be performed quickly, such as when the film is conveyed at high speed. Therefore, according to the present invention, efficient production can be performed while grasping the height of the concavo-convex structure more precisely.
また、搬送経路において搬送されるフィルムの厚み方向の位置は、搬送による運動のために変動しうる。例えば、支持ロール31上のフィルム12は、常に支持ロール31の周面上に密接した状態で搬送されるとは限らず、一時的に支持ロール31の周面から浮き上がることがある。また、支持ロール31の軸3Xが偏心している場合、支持ロール31の回転により、搬送されるフィルム12の、フィルム厚み方向の位置が変動しうる。そのような場合において、図6に示すトラバースによる測定を行った場合、測定結果に誤差が生じうる。これに対して、本発明における工程(B)において、差(H−L)の値の一つを求めるための高さHの測定位置と高さLの測定位置とがフィルム幅方向に整列した位置であると、これらの測定を同時に行うこととなり、そのようなフィルムの厚み方向の位置の変動に基づく測定値の変動が、差を求めることにより相殺され、その結果、そのような変動による誤差を低減することができる。
Further, the position in the thickness direction of the film transported in the transport path can vary due to movement due to transport. For example, the
また、搬送経路において搬送されるフィルムは、その幅方向に蛇行することがある。即ち、搬送経路上のある位置において、連続的に搬送されるフィルムを観察した場合、フィルムの位置が、幅方向に変動することがある。その場合において、領域RHがフィルムの長尺方向に連続して延長する帯状の領域である場合は、領域RHが通過する位置も幅方向に変動しうる。ここで、領域WA及び領域WBが幅方向に離隔していることにより、かかる蛇行のため一時的に領域WAが領域RHから外れた位置になったり、領域WBが領域RHに重なったりすることを低減することができる。そのため、好ましい態様において、領域WAと領域WBとの間隔(図5において矢印WCで示される間隔)は、搬送される前記フィルムの蛇行の幅より広いことが好ましい。フィルムの蛇行の幅は、実際にフィルムを搬送し、搬送されるフィルムの位置を観察することにより求めることができる。 Moreover, the film conveyed in a conveyance path may meander in the width direction. That is, when a continuously transported film is observed at a certain position on the transport path, the film position may fluctuate in the width direction. In that case, when the region RH is a belt-like region extending continuously in the longitudinal direction of the film, the position through which the region RH passes can also vary in the width direction. Here, since the region WA and the region WB are separated from each other in the width direction, the region WA temporarily deviates from the region RH due to such meandering, or the region WB overlaps the region RH. This can be reduced. Therefore, in a preferred embodiment, the interval between the region WA and the region WB (interval indicated by the arrow WC in FIG. 5) is preferably wider than the meandering width of the film being conveyed. The meandering width of the film can be determined by actually transporting the film and observing the position of the film being transported.
一方で、領域WAと領域WBとの間隔が広すぎると、上で述べた、フィルムの一時的な浮き上がりや支持ロールの偏心等に基づくフィルムの厚み方向の位置の変動が、領域WAと領域WBとで相違する度合いが大きくなり、その結果、高さH及びLを同時に測定することによりかかる変動が相殺される割合が低減しうる。そのため、領域WAと領域WBとの間隔(図5において矢印WCで示される間隔)は、所定以下の狭い間隔であることが好ましい。具体的には、上述のようにフィルムが蛇行した場合でも領域WAが領域RHから外れた位置になったり、領域WBが領域RHに重なったりすることがない程度に近接していることが好ましく、領域WAと領域WBとの間隔は、領域WAの幅及び領域WBの幅の平均よりも狭いことが好ましい。 On the other hand, if the distance between the area WA and the area WB is too wide, the variation in the position in the thickness direction of the film based on the temporary lifting of the film, the eccentricity of the support roll, etc. described above may occur. As a result, by measuring the heights H and L at the same time, the rate at which such fluctuations are offset can be reduced. For this reason, the interval between the region WA and the region WB (the interval indicated by the arrow WC in FIG. 5) is preferably a narrow interval of a predetermined value or less. Specifically, or become position area WA even when meandering film as described above is out of the region R H, that region WB is close to the extent not to overlap or to the region R H Preferably, the distance between the area WA and the area WB is narrower than the average of the width of the area WA and the width of the area WB.
また、図6に示すトラバースによる測定を行った場合、凹凸構造の高さを、多数の測定値の平均値として求める場合、フィルムの長尺方向の長い領域において測定を行った結果に基づく平均値を求めることになる。これに対して、本発明における工程(B)において、高さHを領域WAに亘りフィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点における測定値の平均として求め、高さLを領域WBに亘りフィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点における測定値の平均として求めることにより、フィルムの長尺方向のより短い領域における測定で多数の測定値に基づく平均値を求めることができ、その結果、凹凸構造の高さの変動をより迅速に把握することができる。 Moreover, when the measurement by the traverse shown in FIG. 6 is performed, when the height of the concavo-convex structure is obtained as an average value of a large number of measurement values, the average value based on the measurement results in the long region in the longitudinal direction of the film Will be asked. On the other hand, in the step (B) in the present invention, the height H is obtained as an average of the measurement values at a plurality of measurement points distributed and aligned in the film width direction over the area WA, and the height L is determined in the area WB. By obtaining the average of the measurement values at a plurality of measurement points distributed in alignment across the film width direction, it is possible to obtain an average value based on a large number of measurement values in a measurement in a shorter region in the longitudinal direction of the film, As a result, fluctuations in the height of the concavo-convex structure can be grasped more quickly.
工程(B)において、測定位置の、フィルム長尺方向のピッチ(図5において、矢印PA及びPBで示される)を狭くすることにより、工程(A)で形成される凹凸構造の高さの変動をより迅速に把握することができる。工程(B)を短い周期で繰り返して複数回行うことにより、測定位置のピッチを狭くすることができる。具体的には例えば、工程(B)の周期は、好ましくは0.1秒以下、より好ましくは0.01秒以下としうる。 In the step (B), the variation in the height of the concavo-convex structure formed in the step (A) is reduced by narrowing the pitch in the film longitudinal direction (indicated by arrows PA and PB in FIG. 5) at the measurement position. Can be grasped more quickly. By repeating the step (B) at a short cycle and performing a plurality of times, the pitch of the measurement positions can be narrowed. Specifically, for example, the period of the step (B) can be preferably 0.1 seconds or less, more preferably 0.01 seconds or less.
本発明の製造方法におけるフィルムの搬送速度は、遅い程短いピッチの測定を容易に行うことができるが、一方、早い程効率的な生産が可能となる。好ましい搬送速度は、例えば5m/分〜200m/分である。より好ましくは10m/分〜100m/分である。 In the production method of the present invention, the slower the film conveyance speed, the easier the measurement of a short pitch, whereas the faster the film conveyance speed, the more efficient production becomes possible. A preferable conveyance speed is, for example, 5 m / min to 200 m / min. More preferably, it is 10 m / min to 100 m / min.
上に説明した実施形態では、高さHを測定する計測器と、高さLを測定する計測器として、別々の計測器40A及び40Bを用いている。しかしながら、本発明の製造方法はこれに限られず、例えば高さHを測定する計測器と、高さLを測定する計測器とを、同一の装置とすることができる。具体的には、領域WAと領域WBとを一つの画像において観察しうる計測器を用い、一つの画像内において領域WAと領域WBとを観察することにより、そのような同一の装置による測定を行いうる。そのような同一の装置による測定を行うことにより、計測器40Aと計測器40Bとの測定のタイミングの同期を、より正確に行うことができ、その結果、差(H−L)の値の一つを求めるための高さHの測定位置と高さLの測定位置とのフィルム幅方向の整列を、より正確に達成しうる。
In the embodiment described above,
〔4.工程(C)〕
本発明の製造方法は、工程(B)において測定された高さの値に基づいて、工程(A)において付与される凹凸構造の高さをフィードバック制御する工程(C)をさらに含みうる。
本願における凹凸構造の高さのフィードバック制御とは、工程(B)において測定された測定値と、凹凸構造の高さの目標値との偏差を小さくする制御である。具体的には、工程(B)において測定された測定値が凹凸構造の高さの目標値より大きい場合は工程(A)において付与される凹凸構造の高さを小さくするよう制御し、工程(B)において測定された測定値が凹凸構造の高さの目標値より小さい場合は工程(A)において付与される凹凸構造の高さを大きくするよう制御する。かかるフィードバック制御は、工程(B)で得られた測定値に基づき工程(A)を行う装置を手動で調整して行うこともでき、工程(B)で得られた測定値に基づいて工程(A)を行う装置を自動で調整して行うこともできる。
[4. Step (C)]
The production method of the present invention may further include a step (C) of feedback-controlling the height of the concavo-convex structure provided in the step (A) based on the height value measured in the step (B).
The feedback control of the height of the concavo-convex structure in the present application is control for reducing a deviation between the measured value measured in the step (B) and the target value of the height of the concavo-convex structure. Specifically, when the measured value measured in the step (B) is larger than the target value of the height of the concavo-convex structure, the height of the concavo-convex structure applied in the step (A) is controlled to be small, When the measured value measured in B) is smaller than the target height of the concavo-convex structure, control is performed to increase the height of the concavo-convex structure provided in the step (A). Such feedback control can also be performed by manually adjusting a device that performs the step (A) based on the measurement value obtained in the step (B), and can be performed based on the measurement value obtained in the step (B) ( It is also possible to automatically adjust the apparatus for performing A).
H及びLが領域WA及びWB内の複数の測定値の平均値である場合、差(H−L)の値は、例えばフィルム12の平坦な面から凹凸構造頂部(図3における頂部13T)までの高さよりは、低い値として算出される。しかしながらこのような場合であっても、かかる差(H−L)の値は、凹凸構造頂部の高さとも相関するので、凹凸構造の高さのフィードバック制御に有効に用いうる。
When H and L are average values of a plurality of measured values in the regions WA and WB, the value of the difference (HL) is, for example, from the flat surface of the
差(H−L)の目標値は、所望の高さの凹凸構造が得られるよう適宜設定しうる。例えば、凹凸構造として、長尺のフィルムを巻回する際のフィルムの取り扱い性の向上のためのナールを形成する場合、差(H−L)の目標値は、例えば3〜100μmの範囲内、好ましくは5〜50μmの範囲内において適宜設定しうる。 The target value of the difference (H−L) can be set as appropriate so that a concavo-convex structure having a desired height can be obtained. For example, when forming a knurl for improving the handleability of a film when winding a long film as a concavo-convex structure, the target value of the difference (H−L) is within a range of 3 to 100 μm, for example, Preferably, it can be appropriately set within the range of 5 to 50 μm.
工程(A)において付与される凹凸構造の高さは、工程(A)において用いる凹凸構造付与装置の操作条件を適宜変更することにより調整しうる。例えば、凹凸構造付与装置として、図1に示すような凹凸構造を有するロール21とゴムロール22とを備える装置20を用いる場合、これらによりフィルム11を挟む圧力を変更することにより、凹凸構造13の高さを調整しうる。
The height of the concavo-convex structure imparted in the step (A) can be adjusted by appropriately changing the operating conditions of the concavo-convex structure imparting device used in the step (A). For example, when an
他に、凹凸構造付与装置として、例えばフィルムに厚みを有する層を印刷によって付与する装置を用いる場合は、印刷の条件を変更して凹凸構造を構成する印刷層の厚みを変更することにより、凹凸構造の高さを調整しうる。また例えばレーザーにより凹凸構造を付与する装置を用いる場合は、レーザー出力を変更することにより、凹凸構造の高さを調整しうる。 In addition, when using a device for applying a layer having a thickness to a film by printing, for example, as a concavo-convex structure applying device, by changing the printing conditions to change the thickness of the printed layer constituting the concavo-convex structure, The height of the structure can be adjusted. In addition, for example, when using an apparatus that imparts a concavo-convex structure with a laser, the height of the concavo-convex structure can be adjusted by changing the laser output.
〔5.工程(D)〕
本発明の製造方法は、工程(B)の下流において、凹凸構造付きフィルムを巻回しフィルムロールとする工程(D)をさらに含みうる。そのようなロールを形成することにより、本発明の製造方法により製造された凹凸構造付きフィルムを容易に保存及び輸送することが可能となる。
[5. Step (D)]
The production method of the present invention may further include a step (D) of winding the film with a concavo-convex structure into a film roll downstream of the step (B). By forming such a roll, the film with a concavo-convex structure produced by the production method of the present invention can be easily stored and transported.
このようなフィルムロールを形成する場合、工程(A)において、凹凸構造を、フィルムロールの巻内側(即ちフィルムロールの芯に近い部分)ほど高さが高く、巻外側(即ちフィルムロールの芯から遠い部分)ほど高さが低くなるよう付与することが好ましい。一般にフィルムロールにおいては、中心に近い部分ほど、フィルムの面間に働く圧力が高くなるため、巻内側ほど高さが高く、巻外側ほど高さが低い凹凸構造を付与することにより、ナールとして均一に機能する凹凸構造とすることができる。 In the case of forming such a film roll, in the step (A), the height of the concavo-convex structure is higher on the inner side of the film roll (that is, the portion closer to the core of the film roll), and the outer side (that is, from the core of the film roll). It is preferable to apply such that the farther part) the lower the height. In general, in film rolls, the closer to the center, the higher the pressure acting between the faces of the film, so that the inner side of the winding is higher and the lower side is lower, giving a uniform structure as a knurl. The concavo-convex structure functioning in
このようなフィルムロールは、具体的には、連続的な凹凸構造付きフィルムの製造の開始直後には高い凹凸構造を付与し、その後順次凹凸構造を低くしていくよう、凹凸構造の高さを制御し、そのように凹凸構造を付与したフィルムを巻回することにより製造しうる。本発明の製造方法によれば、工程(B)において精密な凹凸構造の高さ測定を容易に行うことができるので、そのような態様の凹凸構造を有するフィルムロールを容易に得ることができる。 Specifically, such a film roll provides a high concavo-convex structure immediately after the start of production of a continuous film with a concavo-convex structure, and then increases the height of the concavo-convex structure so that the concavo-convex structure is successively lowered. It can be manufactured by controlling and winding a film having a concavo-convex structure. According to the production method of the present invention, precise measurement of the height of the concavo-convex structure can be easily performed in the step (B), and thus a film roll having such a concavo-convex structure can be easily obtained.
〔6.凹凸構造付きフィルムの用途〕
本発明の製造方法で製造される凹凸構造付きフィルムの用途は、特に限定されず、当該フィルムにおける凹凸構造の機能も、特に限定されない。凹凸構造付きフィルムの好ましい例としては、光学フィルムが挙げられる。また、当該光学フィルムにおける凹凸構造の好ましい例としては、フィルムを巻回する際のフィルムの取り扱い性の向上のためのナールとして機能するものが挙げられる。そのようなナールは、図2及び図5に示す例のように、フィルム縁部に施されたナールとしうる。このようなナールを施すことにより、凹凸構造付きフィルムを巻回しフィルムロールとした際に、ナールが施されていない部分における摩擦による傷の発生、フィルムのブロッキング等の不所望な現象が低減され、光学フィルムとしての凹凸構造付きフィルムを、品質を維持しながら容易に保存及び輸送することができる。
[6. (Use of film with uneven structure)
The use of the film with an uneven structure produced by the production method of the present invention is not particularly limited, and the function of the uneven structure in the film is not particularly limited. A preferable example of the film with a concavo-convex structure is an optical film. Moreover, as a preferable example of the uneven | corrugated structure in the said optical film, what functions as a knurl for the improvement of the handleability of the film at the time of winding a film is mentioned. Such a knurl can be a knurl applied to the film edge, as in the example shown in FIGS. By applying such a knurl, when a film with a concavo-convex structure is wound into a film roll, undesired phenomena such as scratching due to friction in the part where the knurl has not been applied, blocking of the film, etc. are reduced, The film with an uneven structure as an optical film can be easily stored and transported while maintaining the quality.
〔7.変形例〕
本発明の製造方法及び本発明の測定方法は、上に具体的に述べた例に限られず、これに様々な変更を施したものとしうる。
例えば、図2及び図5に示した例では、領域RHの外の領域RLとしては、領域RHよりもフィルム幅方向内側の領域を設定したが、本発明はこれに限られず、領域RHよりもフィルム幅方向内側の領域を領域RLとしてもよい。但し、領域RHよりもフィルム幅方向内側の領域の方が、搬送されるフィルムの厚み方向の位置の変動が少なく、こちらを領域RLとした方が、より正確な測定を行いうる。
[7. (Modification)
The production method of the present invention and the measurement method of the present invention are not limited to the examples specifically described above, and may be variously modified.
For example, in the example shown in FIG. 2 and FIG. 5, as the region RL outside the region RH , the region on the inner side in the film width direction than the region RH is set, but the present invention is not limited to this, and the region A region on the inner side in the film width direction from RH may be set as the region RL . However, the region on the inner side in the film width direction of the region RH has less fluctuation in the position in the thickness direction of the film to be conveyed, and more accurate measurement can be performed by setting this region as the region RL .
また例えば、図2及び図5に示した例では、領域RHはフィルムの両縁部においてフィルムの長尺方向に連続して延長する帯状の領域としたが、本発明はこれに限られず、領域RHはフィルムの片方の縁部のみに設けてもよく、フィルムの中央部に設けてもよい。また、必要に応じて、フィルムの長尺方向において不連続な部分があってもよい。 Further, for example, in the example shown in FIGS. 2 and 5, the region RH is a belt-like region continuously extending in the longitudinal direction of the film at both edges of the film, but the present invention is not limited thereto. The region RH may be provided only at one edge of the film, or may be provided at the center of the film. Further, if necessary, there may be discontinuous portions in the longitudinal direction of the film.
また例えば、図1〜図5に示した例では、計測器として2次元寸法測定器の測定ヘッドを用いたが、本発明はこれに限られず、例えば2次元寸法測定器に代えて、立体の3次元形状を連続的に測定しうる3次元寸法計測器を用いてもよい。 In addition, for example, in the example shown in FIGS. 1 to 5, the measuring head of the two-dimensional dimension measuring device is used as the measuring instrument, but the present invention is not limited to this, for example, instead of the two-dimensional dimension measuring device, You may use the three-dimensional dimension measuring device which can measure a three-dimensional shape continuously.
また、本発明の製造方法において、工程(C)及び(D)は任意である。工程(C)を行わない場合は、例えば単に凹凸構造の高さが目標値内におさまったものだけを選別して最終製品とすることができる。 Moreover, in the manufacturing method of this invention, process (C) and (D) are arbitrary. In the case where the step (C) is not performed, for example, only those whose height of the concavo-convex structure falls within the target value can be selected as a final product.
〔8.フィルムの形状〕
本発明の測定方法及び製造方法に供するフィルムの寸法は、特に限定されず、製品として所望される任意の寸法としうる。フィルムの厚みは、好ましくは1〜1000μm、より好ましくは5μm〜300μm、さらにより好ましくは10μm〜150μmとしうる。また、フィルムの幅は、好ましくは700〜2500mm、より好ましくは1000mm〜2200mm、さらにより好ましくは1200mm〜2000mm。フィルムの長さは、長尺である限り特に限定されず、例えば10〜10000mとしうる。
[8. (Shape of film)
The dimension of the film used for the measurement method and the production method of the present invention is not particularly limited, and may be any dimension desired as a product. The thickness of the film is preferably 1 to 1000 μm, more preferably 5 μm to 300 μm, and even more preferably 10 μm to 150 μm. The width of the film is preferably 700 to 2500 mm, more preferably 1000 mm to 2200 mm, and even more preferably 1200 mm to 2000 mm. The length of the film is not particularly limited as long as it is long, and may be, for example, 10 to 10,000 m.
凹凸構造付きフィルムの凹凸構造の寸法も、特に限定されず、製品として所望される任意の寸法としうる。例えば、凹凸構造の高さの平均値を0.01〜1000μmとしうる。 The size of the concavo-convex structure of the film with a concavo-convex structure is not particularly limited, and may be any dimension desired as a product. For example, the average height of the concavo-convex structure can be 0.01 to 1000 μm.
〔9.フィルムの材料〕
本発明の測定方法及び製造方法に供するフィルムの材料は、特に限定されず、各種のフィルムを用いうる。フィルムは、延伸フィルムであってもよく、未延伸フィルムであってもよい。
[9. Film material)
The material of the film used for the measurement method and the production method of the present invention is not particularly limited, and various films can be used. The film may be a stretched film or an unstretched film.
凹凸構造付きフィルムを光学フィルムとして使用する場合には、フィルムは、光学部材としての機能を発揮する観点から、通常は高い透明性を有していることが好ましい。具体的には、フィルムの全光線透過率は、80%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。ここで、全光線透過率は、JIS K7105に準拠して、日本電色工業社製「濁度計 NDH−2000」を用いて、5箇所測定し、それから求めた平均値である。 When using a film with a concavo-convex structure as an optical film, it is usually preferable that the film has high transparency from the viewpoint of exhibiting a function as an optical member. Specifically, the total light transmittance of the film is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more. Here, the total light transmittance is an average value obtained by measuring five places using “turbidimeter NDH-2000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. in accordance with JIS K7105.
また、凹凸構造付きフィルムを光学フィルムとして使用する場合には、フィルムは、通常、ヘイズが小さいことが好ましい。具体的には、フィルムのヘイズは、好ましくは5%以下、より好ましくは3%以下、特に好ましくは2%以下である。ヘイズを低い値とすることにより、凹凸構造付きフィルムから切り出したフィルム片を表示装置に組み込んだ場合に、その表示装置の表示画像の鮮明性を高めることができる。ここで、ヘイズは、日本電色工業社製の濁度計「NDH2000」を用いて測定できる。 Moreover, when using a film with a concavo-convex structure as an optical film, it is usually preferable that the film has a small haze. Specifically, the haze of the film is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and particularly preferably 2% or less. By setting the haze to a low value, when a film piece cut out from a film with a concavo-convex structure is incorporated in a display device, the clarity of a display image of the display device can be improved. Here, the haze can be measured using a turbidimeter “NDH2000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.
本発明に用いるフィルムは通常、各種の重合体を含む、熱可塑性樹脂の層を1層以上備えるフィルムである。かかる重合体としては、炭化水素重合体、(メタ)アクリル重合体およびポリエステル等が挙げられる。 The film used in the present invention is usually a film comprising one or more thermoplastic resin layers containing various polymers. Such polymers include hydrocarbon polymers, (meth) acrylic polymers and polyesters.
本発明の製造方法に供するフィルムは、炭化水素重合体を含むことが好ましい。「炭化水素重合体を含む」フィルムには、炭化水素重合体を含む樹脂の層を1層以上備えるフィルム、及び炭化水素重合体を含む樹脂の層の1層以上と、その他の層を1層以上とを備えるフィルムの両方が含まれる。 The film to be subjected to the production method of the present invention preferably contains a hydrocarbon polymer. The “including hydrocarbon polymer” film includes a film including one or more resin layers including a hydrocarbon polymer, one or more resin layers including a hydrocarbon polymer, and one other layer. Both films comprising the above are included.
炭化水素重合体とは、重合体の繰り返し単位の少なくとも一部が、炭化水素基である重合体をいう。炭化水素重合体中の、繰り返し単位である炭化水素基の割合は、使用目的に応じて適宜選択しうるが、好ましくは55重量%以上、さらに好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。 The hydrocarbon polymer refers to a polymer in which at least a part of the repeating unit of the polymer is a hydrocarbon group. The proportion of the hydrocarbon group which is a repeating unit in the hydrocarbon polymer can be appropriately selected according to the purpose of use, but is preferably 55% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, and particularly preferably 90% by weight. That's it.
炭化水素重合体としては、脂環式構造含有重合体が好ましい。脂環式構造含有重合体とは、重合体の繰り返し単位中に脂環式構造を有する重合体であり、主鎖に脂環式構造を有する重合体、及び、側鎖に脂環式構造を有する重合体のいずれであってもよい。中でも、機械的強度、耐熱性などの観点から、主鎖に脂環式構造を含有する重合体が好ましい。 As the hydrocarbon polymer, an alicyclic structure-containing polymer is preferable. An alicyclic structure-containing polymer is a polymer having an alicyclic structure in the repeating unit of the polymer, a polymer having an alicyclic structure in the main chain, and an alicyclic structure in the side chain. Any of the polymers it has may be used. Among these, a polymer containing an alicyclic structure in the main chain is preferable from the viewpoint of mechanical strength, heat resistance, and the like.
脂環式構造としては、例えば、飽和脂環式炭化水素(シクロアルカン)構造、不飽和脂環式炭化水素(シクロアルケン、シクロアルキン)構造などが挙げられる。中でも、機械強度、耐熱性などの観点から、シクロアルカン構造及びシクロアルケン構造が好ましく、中でもシクロアルカン構造が特に好ましい。 Examples of the alicyclic structure include a saturated alicyclic hydrocarbon (cycloalkane) structure and an unsaturated alicyclic hydrocarbon (cycloalkene, cycloalkyne) structure. Among these, from the viewpoints of mechanical strength, heat resistance and the like, a cycloalkane structure and a cycloalkene structure are preferable, and a cycloalkane structure is particularly preferable.
脂環式構造を構成する炭素原子数は、一つの脂環式構造あたり、好ましくは4個以上、より好ましくは5個以上であり、好ましくは30個以下、より好ましくは20個以下、特に好ましくは15個以下の範囲であるときに、機械強度、耐熱性、及びフィルムの成形性が高度にバランスされ、好適である。 The number of carbon atoms constituting the alicyclic structure is preferably 4 or more, more preferably 5 or more, preferably 30 or less, more preferably 20 or less, particularly preferably per alicyclic structure. Is in the range of 15 or less, the mechanical strength, heat resistance, and film formability are highly balanced, which is preferable.
脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択しうるが、好ましくは55重量%以上、さらに好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合がこの範囲にあると、フィルムの透明性および耐熱性の観点から好ましい。 The proportion of the repeating unit having an alicyclic structure in the alicyclic structure-containing polymer can be appropriately selected according to the purpose of use, but is preferably 55% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, particularly preferably. 90% by weight or more. When the ratio of the repeating unit having an alicyclic structure in the alicyclic structure-containing polymer is in this range, it is preferable from the viewpoint of transparency and heat resistance of the film.
脂環式構造含有重合体としては、例えば、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体、及び、これらの水素化物等を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン系重合体は、透明性と成形性が良好なため、好適に用いることができる。 Examples of alicyclic structure-containing polymers include norbornene polymers, monocyclic olefin polymers, cyclic conjugated diene polymers, vinyl alicyclic hydrocarbon polymers, and hydrides thereof. Can be mentioned. Among these, norbornene-based polymers can be suitably used because of their good transparency and moldability.
ノルボルネン系重合体としては、例えば、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体、若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との開環共重合体、又はそれらの水素化物;ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体、若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との付加共重合体、又はそれらの水素化物;等を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン構造を有する単量体の開環(共)重合体水素化物は、透明性、成形性、耐熱性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、特に好適に用いることができる。「(共)重合体」とは、重合体及び共重合体のことをいう。 As the norbornene-based polymer, for example, a ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure, a ring-opening copolymer of a monomer having a norbornene structure and another monomer, or a hydride thereof; An addition polymer of a monomer having a norbornene structure, an addition copolymer of a monomer having a norbornene structure and another monomer, or a hydride thereof. Among these, a ring-opening (co) polymer hydride of a monomer having a norbornene structure is particularly suitable from the viewpoints of transparency, moldability, heat resistance, low hygroscopicity, dimensional stability, lightness, and the like. Can be used. “(Co) polymer” means a polymer and a copolymer.
ノルボルネン構造を有する単量体としては、例えば、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(慣用名:ノルボルネン)、トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3,7−ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)、7,8−ベンゾトリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン(慣用名:メタノテトラヒドロフルオレン)、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン(慣用名:テトラシクロドデセン)、およびこれらの化合物の誘導体(例えば、環に置換基を有するもの)などを挙げることができる。ここで、置換基としては、例えばアルキル基、アルキレン基、極性基などを挙げることができる。また、これらの置換基は、同一または相異なって、複数個が環に結合していてもよい。ノルボルネン構造を有する単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 Examples of the monomer having a norbornene structure include bicyclo [2.2.1] hept-2-ene (common name: norbornene), tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] deca-3,7. -Diene (common name: dicyclopentadiene), 7,8-benzotricyclo [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene (common name: methanotetrahydrofluorene), tetracyclo [4.4. 0.1 2,5 . 17, 10 ] dodec-3-ene (common name: tetracyclododecene), and derivatives of these compounds (for example, those having a substituent in the ring). Here, examples of the substituent include an alkyl group, an alkylene group, and a polar group. Moreover, these substituents may be the same or different, and a plurality thereof may be bonded to the ring. One type of monomer having a norbornene structure may be used alone, or two or more types may be used in combination at any ratio.
極性基の種類としては、例えば、ヘテロ原子、またはヘテロ原子を有する原子団などが挙げられる。ヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、ハロゲン原子などが挙げられる。極性基の具体例としては、カルボキシル基、カルボニルオキシカルボニル基、エポキシ基、ヒドロキシル基、オキシ基、エステル基、シラノール基、シリル基、アミノ基、ニトリル基、スルホン酸基などが挙げられる。 Examples of the polar group include a hetero atom or an atomic group having a hetero atom. Examples of the hetero atom include an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, a silicon atom, and a halogen atom. Specific examples of the polar group include a carboxyl group, a carbonyloxycarbonyl group, an epoxy group, a hydroxyl group, an oxy group, an ester group, a silanol group, a silyl group, an amino group, a nitrile group, and a sulfonic acid group.
ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な他の単量体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテンなどのモノ環状オレフィン類およびその誘導体;シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエンなどの環状共役ジエンおよびその誘導体;などが挙げられる。ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な他の単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 Other monomers capable of ring-opening copolymerization with a monomer having a norbornene structure include, for example, monocyclic olefins such as cyclohexene, cycloheptene, and cyclooctene and derivatives thereof; and cyclic conjugates such as cyclohexadiene and cycloheptadiene. Dienes and derivatives thereof; and the like. As the other monomer capable of ring-opening copolymerization with a monomer having a norbornene structure, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination at any ratio.
ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体、およびノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な他の単量体との開環共重合体は、例えば、単量体を公知の開環重合触媒の存在下に重合又は共重合することにより得ることができる。 A ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure and a ring-opening copolymer with another monomer copolymerizable with a monomer having a norbornene structure are, for example, a known ring-opening monomer. It can be obtained by polymerization or copolymerization in the presence of a polymerization catalyst.
ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な他の単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン、1−ブテンなどの炭素数2〜20のα−オレフィンおよびこれらの誘導体;シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセンなどのシクロオレフィンおよびこれらの誘導体;1,4−ヘキサジエン、4−メチル−1,4−ヘキサジエン、5−メチル−1,4−ヘキサジエンなどの非共役ジエン;などが挙げられる。これらの中でも、α−オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な他の単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 Examples of other monomers that can be addition copolymerized with a monomer having a norbornene structure include α-olefins having 2 to 20 carbon atoms such as ethylene, propylene, and 1-butene, and derivatives thereof; cyclobutene, cyclopentene, And cycloolefins such as cyclohexene and derivatives thereof; non-conjugated dienes such as 1,4-hexadiene, 4-methyl-1,4-hexadiene, 5-methyl-1,4-hexadiene; and the like. Among these, α-olefin is preferable and ethylene is more preferable. As the other monomer capable of addition copolymerization with a monomer having a norbornene structure, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination at any ratio.
ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体、およびノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な他の単量体との付加共重合体は、例えば、単量体を公知の付加重合触媒の存在下に重合又は共重合することにより得ることができる。 An addition polymer of a monomer having a norbornene structure and an addition copolymer of another monomer copolymerizable with the monomer having a norbornene structure are, for example, a known addition polymerization catalyst. It can be obtained by polymerization or copolymerization in the presence.
単環の環状オレフィン系重合体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等の単環を有する環状オレフィン系モノマーの付加重合体を挙げることができる。 Examples of the monocyclic olefin polymer include addition polymers of a cyclic olefin monomer having a single ring such as cyclohexene, cycloheptene, and cyclooctene.
環状共役ジエン系重合体としては、例えば、1,3−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の共役ジエン系モノマーの付加重合体を環化反応して得られる重合体;シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン等の環状共役ジエン系モノマーの1,2−または1,4−付加重合体;およびこれらの水素化物;などを挙げることができる。 Examples of the cyclic conjugated diene polymer include polymers obtained by cyclization reaction of addition polymers of conjugated diene monomers such as 1,3-butadiene, isoprene and chloroprene; cyclic conjugates such as cyclopentadiene and cyclohexadiene. And 1,2- or 1,4-addition polymers of diene monomers; and their hydrides.
ビニル脂環式炭化水素重合体としては、例えば、ビニルシクロヘキセン、ビニルシクロヘキサン等のビニル脂環式炭化水素系モノマーの重合体およびその水素化物;スチレン、α−メチルスチレン等のビニル芳香族炭化水素系モノマーを重合してなる重合体に含まれる芳香環部分を水素化してなる水素化物;ビニル脂環式炭化水素系モノマー、またはビニル芳香族炭化水素系モノマーとこれらビニル芳香族炭化水素系モノマーに対して共重合可能な他のモノマーとのランダム共重合体若しくはブロック共重合体等の共重合体の、芳香環の水素化物;等を挙げることができる。前記のブロック共重合体としては、例えば、ジブロック共重合体、トリブロック共重合体またはそれ以上のマルチブロック共重合体、並びに傾斜ブロック共重合体等を挙げることもできる。 Examples of vinyl alicyclic hydrocarbon polymers include polymers of vinyl alicyclic hydrocarbon monomers such as vinylcyclohexene and vinylcyclohexane and their hydrides; vinyl aromatic hydrocarbons such as styrene and α-methylstyrene. Hydrogenated product obtained by hydrogenating an aromatic ring part contained in a polymer obtained by polymerizing monomers; vinyl alicyclic hydrocarbon monomer, or vinyl aromatic hydrocarbon monomer and vinyl aromatic hydrocarbon monomer And an aromatic ring hydride of a copolymer such as a random copolymer or a block copolymer with another copolymerizable monomer. Examples of the block copolymer include a diblock copolymer, a triblock copolymer or a multi-block copolymer having more than that, a gradient block copolymer, and the like.
炭化水素重合体の分子量は使用目的に応じて適宜選定されるが、溶媒としてシクロヘキサンを用いて(但し、試料がシクロヘキサンに溶解しない場合にはトルエンを用いてもよい)ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレンまたはポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)で、通常10,000以上、好ましくは15,000以上、より好ましくは20,000以上であり、通常100,000以下、好ましくは80,000以下、より好ましくは50,000以下である。重量平均分子量がこのような範囲にあるときに、フィルムの機械的強度および成型加工性が高度にバランスされ好適である。 The molecular weight of the hydrocarbon polymer is appropriately selected according to the purpose of use, but gel permeation chromatography using cyclohexane as a solvent (however, if the sample does not dissolve in cyclohexane, toluene may be used). The polyisoprene or polystyrene-equivalent weight average molecular weight (Mw) measured in (1) is usually 10,000 or more, preferably 15,000 or more, more preferably 20,000 or more, and usually 100,000 or less, preferably 80,000. 000 or less, more preferably 50,000 or less. When the weight average molecular weight is in such a range, the mechanical strength and molding processability of the film are highly balanced and suitable.
炭化水素重合体の分子量分布(重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn))は通常1.2以上、好ましくは1.5以上、更に好ましくは1.8以上であり、通常3.5以下、好ましくは3.0以下、更に好ましくは2.7以下である。凹凸構造付きフィルムを光学フィルムとして使用する場合、炭化水素重合体の分子量分布が3.5を超えると低分子成分が増すため緩和時間の短い成分が増加し、一見同じ面内レターデーションReを有するフィルムであっても高温暴露時の緩和が短時間で大きくなることが推定され、フィルムの安定性が低下するおそれがある。一方、分子量分布が1.2を下回るようなものは炭化水素重合体の生産性の低下とコスト増につながりうる。 The molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)) of the hydrocarbon polymer is usually 1.2 or more, preferably 1.5 or more, more preferably 1.8 or more, usually 3.5. Hereinafter, it is preferably 3.0 or less, more preferably 2.7 or less. When a film with a concavo-convex structure is used as an optical film, when the molecular weight distribution of the hydrocarbon polymer exceeds 3.5, the low-molecular component increases, so the component with a short relaxation time increases, and it has the same in-plane retardation Re at first glance. Even if it is a film, it is estimated that relaxation at high temperature increases in a short time, and the stability of the film may be lowered. On the other hand, when the molecular weight distribution is less than 1.2, the productivity of the hydrocarbon polymer can be reduced and the cost can be increased.
炭化水素重合体のガラス転移温度は、使用目的に応じて適宜選択しうるが、好ましくは130℃以上、より好ましくは135℃以上であり、好ましくは150℃以下、より好ましくは145℃以下である。ガラス転移温度が130℃を下回ると高温下における耐久性が悪化する可能性があり、150℃を上回るものは耐久性は向上するが通常の延伸加工が困難となる可能性がある。 The glass transition temperature of the hydrocarbon polymer can be appropriately selected according to the purpose of use, but is preferably 130 ° C. or higher, more preferably 135 ° C. or higher, preferably 150 ° C. or lower, more preferably 145 ° C. or lower. . When the glass transition temperature is lower than 130 ° C., durability at high temperatures may be deteriorated. When the glass transition temperature is higher than 150 ° C., durability is improved, but normal stretching may be difficult.
フィルムを構成する樹脂の層は、本発明の効果を著しく損なわない限り、脂環式構造含有重合体等の重合体に加えて、それ以外の任意成分を含んでいてもよい。任意成分の例を挙げると、顔料、染料等の着色剤;蛍光増白剤;分散剤;熱安定剤;光安定剤;紫外線吸収剤;耐電防止剤;酸化防止剤;滑剤;などの添加剤が挙げられる。なお、任意成分は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。ただし、フィルムを構成する樹脂の層は、脂環式構造含有重合体等の重合体を、一般的には約50%〜100%、または約70%〜100%含むことが好ましい。 The resin layer constituting the film may contain other optional components in addition to the polymer such as the alicyclic structure-containing polymer as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. Examples of optional components include colorants such as pigments and dyes; fluorescent brighteners; dispersants; thermal stabilizers; light stabilizers; ultraviolet absorbers; antistatic agents; antioxidants; Is mentioned. In addition, an arbitrary component may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios. However, the resin layer constituting the film preferably contains about 50% to 100% or about 70% to 100% of a polymer such as an alicyclic structure-containing polymer.
本発明に用いるフィルムは、樹脂を公知のフィルム成形法で成形することによって得られる。フィルム成形法としては、例えば、キャスト成形法、押出成形法、インフレーション成形法などが挙げられる。中でも、溶剤を使用しない溶融押出法の方が、残留揮発成分量を効率よく低減させることができ、地球環境や作業環境の観点、及び製造効率に優れる観点から好ましい。溶融押出法としては、ダイスを用いるインフレーション法などが挙げられるが、生産性や厚さ精度に優れる点でTダイを用いる方法が好ましい。得られた樹脂の層は、そのまま本発明の製造方法に供するフィルムとして用いることができる。または、得られた樹脂の層の表面上に、任意に易滑層、帯電防止層等の任意の層を形成し、これを本発明に用いるフィルムとすることもできる。 The film used in the present invention can be obtained by molding a resin by a known film molding method. Examples of the film forming method include a cast forming method, an extrusion forming method, and an inflation forming method. Among these, the melt extrusion method that does not use a solvent can reduce the amount of residual volatile components efficiently, and is preferable from the viewpoints of the global environment and work environment, and excellent manufacturing efficiency. Examples of the melt extrusion method include an inflation method using a die, and a method using a T die is preferable in terms of excellent productivity and thickness accuracy. The obtained resin layer can be used as it is as a film for use in the production method of the present invention. Alternatively, an arbitrary layer such as a slippery layer or an antistatic layer may be arbitrarily formed on the surface of the obtained resin layer, and this may be used as a film used in the present invention.
以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。以下に述べる操作は、特に断らない限り、常温常圧の環境において行った。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited to the examples shown below, and the scope of the claims of the present invention and the equivalents thereof are not deviated from. You may carry out by changing arbitrarily. The operations described below were performed in an environment of normal temperature and pressure unless otherwise specified.
<実施例1>
(1−1.フィルムの調製)
脂環式構造含有重合体樹脂(日本ゼオン社製「ZEONOR」;ガラス転移温度135℃)のペレットを、空気を流通させた熱風乾燥器を用いて70℃で2時間乾燥した後、直径65mmのスクリューを備えた樹脂溶融混練機を有するTダイ式フィルム溶融押出し成形機を使用し、溶融樹脂温度270℃、Tダイの幅1500mmの成形条件で、厚さ20μm、幅1200mm、長さ4000mのフィルムを調製した。
<Example 1>
(1-1. Preparation of Film)
A pellet of an alicyclic structure-containing polymer resin (“ZEONOR” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd .; glass transition temperature: 135 ° C.) was dried at 70 ° C. for 2 hours using a hot air dryer in which air was circulated. A film having a thickness of 20 μm, a width of 1200 mm, and a length of 4000 m using a T-die type film melt extrusion molding machine having a resin melt kneader equipped with a screw, under a molding condition of a molten resin temperature of 270 ° C. and a T die width of 1500 mm. Was prepared.
(1−2.工程(A):凹凸構造の付与)
図1〜図4に概略的に示す装置を用いて、凹凸構造を付与する工程(A)及び凹凸構造の高さを測定する工程(B)を行った。
(1−1)で調製したフィルム12を、凹凸構造付与装置20に、搬送速度25m/分で搬送した。フィルム12の両端の縁部の領域RHに、凹凸構造を有するロール21を押し当てること、フィルムに凹凸構造を転写し、凹凸構造を付与し、凹凸構造付きフィルムを得た。領域RHの幅は15mmとし、その間の領域RLの幅は1160mmとした。
(1-2. Step (A): Provision of Concavity and convexity structure)
Using the apparatus schematically shown in FIGS. 1 to 4, a step (A) for imparting a concavo-convex structure and a step (B) for measuring the height of the concavo-convex structure were performed.
The
(1−3.工程(B):凹凸構造の高さの測定)
(1−2)で得られた凹凸構造付きフィルムを、支持ロール31に導き、固定された計測器40A及び40Bを用いて、フィルム表面の領域RH内の領域WAの平均高さH及び領域RL内の領域WBの平均高さLを計測した。計測器としては、それぞれ、2次元寸法測定器TM−040(測定ヘッド)を用いた。それぞれの測定器で取得した情報は、それぞれの測定器に一台ずつ接続したコントローラー(商品名「TM−3000」、株式会社キーエンス社製)にて解析し、高さH及びLを求め、さらにそれらの差(H−L)を計算した。計測の具体的な手順は、下記の通りである。
(1-3. Process (B): Measurement of height of uneven structure)
The average height H and area of the area WA in the area RH on the film surface are obtained by using the measuring
(i)領域WAの平均高さHの1回の測定においては、線51A及び52Aの間の幅4mmの領域において、フィルム幅方向に一列に整列して等間隔に分布する100個の測定点においてフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを測定し、得られた複数の測定値の平均を計算して高さHとした。
(I) In one measurement of the average height H of the area WA, in the area of 4 mm width between the
(ii) 領域WBの平均高さBの1回の測定においては、線51B及び52Bの間の幅5mmの領域において、フィルム幅方向に一列に整列して等間隔に分布する100個の測定点においてフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを測定し、得られた複数の測定値の平均を計算して高さLとした。領域WAと領域WBとの間隔(図5における矢印WCで示される距離に対応)は、10mmとした。
(Ii) In one measurement of the average height B of the region WB, in the region of 5 mm width between the
(iii) 一つのHの測定値と、一つのLの測定値とから、差(H−L)を求めた。 (Iii) The difference (H−L) was determined from one measured value of H and one measured value of L.
(iv) (i)〜(iii)を、周期0.01秒で繰り返し、フィルム12を4000mに亘り測定した。計測器40Aによる測定及び計測器40Bによる測定は特に同期させなかった。但し、測定開始のタイミングは同時とし、1番目の測定で得られたHの値と1番目の測定で得られたLの値との差、2番目の測定で得られたHの値と2番目の測定で得られたLの値との差、3番目の測定で得られたHの値と3番目の測定で得られたLの値との差、・・・を順次求めることにより、差(H−L)の値の一つずつを求めた。差(H−L)の値の一つを求めるための高さHの測定位置と高さLの測定位置とは、フィルム長さ方向に、最大10mmずれていた。フィルム搬送速度は工程(A)と同じく25m/分とした。その結果、960000個の、(H−L)の測定値を得た。
(Iv) (i) to (iii) were repeated at a cycle of 0.01 seconds, and the
(1−4.工程(D))
工程(B)の下流において、凹凸構造付きフィルムを巻回しフィルムロールとした。
(1-4. Process (D))
A film with a concavo-convex structure was wound downstream of the step (B) to form a film roll.
(1−5.評価)
(1−3)で得られた960000個の(H−L)の値の標準偏差σを求めたところ1.7μmであった。
(1-5. Evaluation)
The standard deviation σ of 960000 (HL) values obtained in (1-3) was determined to be 1.7 μm.
<実施例2>
測定対象として、実施例1の工程(1−4)で得られたフィルムロールから繰り出したフィルムを用いたこと、及び(1−3)(i)の線51A及び52Aの間の領域の幅、及び(ii)の線51B及び52Bの間の領域の幅を2mmに変更したこと以外は、実施例1の(1−3)〜(1−5)と同様にして、フィルム12を4000mに亘り測定し、標準偏差を求めた。その結果、標準偏差σは1.8μmであった。
<Example 2>
As a measurement object, the film drawn out from the film roll obtained in the step (1-4) of Example 1 was used, and the width of the region between the
<実施例3〜4>
(1−3)(i)の線51A及び52Aの間の領域の幅、及び(ii)の線51B及び52Bの間の領域の幅を、0.5mm(実施例3)又は8mm(実施例4)に変更した他は、実施例2と同様にして、フィルム12を4000mに亘り測定し、標準偏差を求めた。その結果、標準偏差σは実施例3は1.9μm、実施例4は1.6μmであった。
<Examples 3 to 4>
(1-3) The width of the region between the
<実施例5>
以下の点以外は、実施例2と同様にして、フィルム12を4000mに亘り測定し、標準偏差を求めた。
・(1−3)(i)の線51A及び52Aの間の領域の幅、及び(ii)の線51B及び52Bの間の領域の幅は、実施例1と同じく5mmとする一方、計測器40Aによる測定及び計測器40Bによる測定を、外部入力信号により同期させ、その結果、差(H−L)の値の個々を求めるための高さHの測定位置と高さLの測定位置とが、フィルム幅方向に整列した位置となるようにした。
その結果、標準偏差σは1.4μmであった。
<Example 5>
Except for the following points, the
(1-3) The width of the region between the
As a result, the standard deviation σ was 1.4 μm.
<実施例6>
以下の点以外は、実施例5と同様にして、フィルム12を4000mに亘り測定し、標準偏差を求めた。
・(1−3)において、高さHを測定する計測器と、高さLを測定する計測器とを、同一の装置とした。即ち、領域WA及び領域WBを、一台の計測器(2次元寸法測定器測定ヘッド、商品名「TM−040」、株式会社キーエンス社製)で観察し、取得した情報を、一台のコントローラー(商品名「TM−3000」、株式会社キーエンス社製)にて解析し、領域WAにおける高さH及び領域WBにおける高さL、ならびにこれらの差(H−L)を計算した。したがって、差(H−L)の値の個々を求めるための高さHの測定位置と高さLの測定位置とが、実施例5よりさらに正確に、フィルム幅方向に整列した位置となった。
その結果、標準偏差σは1.3μmであった。
<Example 6>
Except for the following points, the
In (1-3), the measuring device that measures the height H and the measuring device that measures the height L are the same device. That is, the area WA and the area WB are observed with one measuring instrument (two-dimensional dimension measuring instrument measuring head, trade name “TM-040”, manufactured by Keyence Corporation), and the acquired information is acquired by one controller. (Trade name “TM-3000”, manufactured by Keyence Corporation), and the height H in the area WA, the height L in the area WB, and the difference (HL) between them were calculated. Therefore, the measurement position of the height H and the measurement position of the height L for obtaining each difference (HL) value are aligned more accurately in the film width direction than in Example 5. .
As a result, the standard deviation σ was 1.3 μm.
<実施例7>
領域WAと領域WBとの間隔を3mmに変更した他は、実施例6と同様にして、フィルム12を4000mに亘り測定し、標準偏差を求めた。その結果、標準偏差σは1.1μmであった。
<Example 7>
The
<比較例1>
凹凸構造の高さを、領域RH及びRLの両方にわたりトラバースする計測器を用いて、実施例1〜7で測定に供した凹凸構造付きフィルム12を4000mに亘り測定した。
凹凸構造付きフィルムを、支持ロール31に導き、フィルム表面の領域RH及びその外側の領域のフィルム表面の高さを、フィルム幅方向にトラバースする計測器を用いて計測した。計測器としては、寸法測定器(商品名「LS−9030」、株式会社キーエンス社製)を用い、当該測定器をトラバースさせながら、周期0.01秒で繰り返し測定を行った。フィルム面上における測定点の軌跡は、図6に示す斜めの線69に示す通りとした。トラバースの振幅(図6中の線63〜64間の距離)は30mmとし、領域RHからフィルム縁部側へのトラバースの距離(図6中の線61〜63間の距離)は7.5mmとし、領域RHからフィルム中央部側へのトラバースの距離(図6中の線62〜64間の距離)は7.5mmとした。トラバースの一往復の周期は5秒(12mm/sec)とした。また、凹凸構造付きフィルムの搬送速度は実施例と同様25m/分とした。
<Comparative Example 1>
Using the measuring device that traverses the height of the concavo-convex structure over both the regions RH and RL , the
The film with a concavo-convex structure was guided to the
その結果、960000個の、フィルム表面の高さの測定値を得た。1回の片道のトラバースにおけるこれらの測定値の組(即ち、計測器が線63の位置から線64の位置へ移動する間の測定値の組、又は計測器が線64の位置から線63の位置へ移動する間の測定値の組)のうち、線61と62との間の測定値の平均H’と、線62と64との間及び線61と63との間の測定値の平均L’とを求め、これらの差(H’−L’)を計算した。得られた3840個の(H’−L’)の値の標準偏差σを求めたところ3.1μmであった。
As a result, 960000 measured values of the film surface height were obtained. A set of these measurements in a single one-way traverse (ie, a set of measurements while the instrument moves from the position of
実施例1〜7及び比較例1の結果を、表1にまとめて示す。 The results of Examples 1 to 7 and Comparative Example 1 are summarized in Table 1.
実施例1〜7及び比較例1においては、同じ一本の凹凸構造付きフィルムのロールを測定対象として測定を行っているため、測定の精密度が同じであれば、同じ標準偏差の値が得られるべきところ、標準偏差の値は、上に示した通り様々であった。本願発明の製造方法における工程(B)を採用した実施例1〜7における測定結果の標準偏差は、比較例1に比べて、小さい値となった。特に、高さHと高さLとの測定の同期を行った実施例5では、標準偏差σが小さく、さらに、一台の計測器で測定を行った実施例6〜7ではさらに標準偏差σが小さく、さらに、一台の計測器で測定を行った上測定位置の間隔を3mmに狭めた実施例7では、特に小さい標準偏差σが得られた。 In Examples 1-7 and Comparative Example 1, since the measurement is performed using the same roll of a film with a concavo-convex structure as a measurement target, the same standard deviation value is obtained if the measurement precision is the same. Where to be done, the standard deviation values varied as indicated above. The standard deviation of the measurement results in Examples 1 to 7 in which the step (B) in the production method of the present invention was adopted was smaller than that in Comparative Example 1. Particularly, in Example 5 in which the measurement of the height H and the height L was synchronized, the standard deviation σ was small, and in Examples 6 to 7 in which measurement was performed with one measuring instrument, the standard deviation σ was further increased. In Example 7, in which the measurement was performed with a single measuring instrument and the interval between the measurement positions was narrowed to 3 mm, a particularly small standard deviation σ was obtained.
11:フィルム
12:凹凸構造付きフィルム
12E:フィルムの幅方向端部
13:凹凸構造
13T:凹凸構造の頂部
13S:凹凸構造の斜面
13S:凹凸構造の間の領域
20:凹凸構造付与装置
21:凹凸構造を有するロール
22:ゴムロール
31:支持ロール
31S:支持ロールの表面
3X:支持ロールの軸
40:計測器
40A:領域RHにおける測定を行うための計測器
40B:領域RLにおける測定を行うための計測器
41:投光器
42:受光器
43:支持台
46A:画像
46B:画像
RH:凹凸構造が付与された領域
RL:凹凸構造が付与されていない領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11: Film 12: Film with
Claims (22)
前記搬送経路において、前記フィルムの前記凹凸構造の高さを測定する工程(B)
を含む、凹凸構造付きフィルムの製造方法であって、
前記工程(B)が、前記領域RHにおける、フィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さHと、前記領域RHの外の領域RLにおける、フィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さLとを、固定された計測器により計測し、その差(H−L)を計算することを含み、
前記高さHは、支持ロールにより支持されて搬送されるフィルムの、前記領域R H における、当該支持ロールの表面を基準とした高さであり、
前記高さLは、支持ロールにより支持されて搬送されるフィルムの、前記領域R L における、当該支持ロールの表面を基準とした高さである、製造方法。 A step (A) of imparting a concavo-convex structure to a partial region RH on the surface of a long film continuously conveyed in the conveyance path, and measuring the height of the concavo-convex structure of the film in the conveyance path Step (B)
A method for producing a film with a concavo-convex structure, comprising:
Step (B), in the region R H, the height H of the film surface in the film thickness direction, in the outer region R L of the region R H, and a height L of the film surface in the film thickness direction, measured by a fixed instrument, seen including a calculating the difference (H-L),
The height H is a height based on the surface of the support roll in the region RH of the film supported and conveyed by the support roll.
The said height L is a manufacturing method which is the height on the basis of the surface of the said support roll in the said area | region RL of the film supported and conveyed by the support roll .
前記領域RH内における所定の幅の領域WAに亘りフィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点においてフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを測定し、得られた複数の測定値群DHに基づく計算により高さHを求めることを含み、
前記高さLの計測は、
前記領域RL内において、所定の幅の領域WBに亘りフィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点においてフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを測定し、得られた複数の測定値群DLに基づく計算により高さLを求めることを含む、請求項1に記載の製造方法。 The measurement of the height H is as follows:
A plurality of measurement value groups D obtained by measuring the height of the film surface in the film thickness direction at a plurality of measurement points distributed in alignment in the film width direction over a region WA having a predetermined width in the region RH . Determining the height H by calculation based on H,
The measurement of the height L is as follows:
In the region RL , the height of the film surface in the film thickness direction is measured at a plurality of measurement points distributed in alignment in the film width direction over the region WB of a predetermined width, and a plurality of measurement value groups obtained and determining the height L by calculation based on the D L, the method according to claim 1.
前記高さLを求めるための前記測定値群DLに基づく計算が、前記測定値群DLの平均を求め、これを前記高さLとする計算である、請求項2に記載の製造方法。 Calculation based on the measurement value group D H for determining the height H is, an average of the measurement value group D H, and which is calculated according to the height H,
The height L based on the measurement value group D L for obtaining the calculation, an average of the measurement value group D L, a this calculation to the height L, the manufacturing method according to claim 2 .
一つの前記領域WBにおける測定点の個数がNLであり、
前記高さHを求めるための前記測定値群DHに基づく計算が、前記測定値群DHのうち、上位XH個の測定値の平均を求め、これを高さHとする計算であり、
前記高さLを求めるための前記測定値群DLに基づく計算が、前記測定値群DLのうち、上位XL個の測定値の平均を求め、これを高さLとする計算であり、
前記XHが、2以上NH/2以下の範囲内で設定される個数であり、
前記XLが、2以上NL以下の範囲内で設定される個数である、請求項2に記載の製造方法。 The number of measurement points in one area WA is NH ,
The number of measurement points in one area WB is NL ,
The height H is based on the measurement value group D H for obtaining the calculation of the measured value group D H, it calculates the average of the top X H number of measurements, be calculated for this height H ,
The height L based on the measurement value group D L for obtaining the calculation of the measured value group D L, obtains the average of the top X L pieces of measurement, be calculated for this height L ,
X H is a number set within a range of 2 or more and N H / 2 or less,
Wherein X L is a number that is set in the range of 2 or more N L, the manufacturing method according to claim 2.
前記工程(A)において、前記凹凸構造を、前記フィルムロールの巻内側ほど高さが高く、巻外側ほど高さが低くなるよう付与する、請求項1〜10のいずれか1項に記載の製造方法。 In the downstream of the step (B), the method further includes a step (D) of winding the film with an uneven structure into a film roll.
11. The production according to claim 1, wherein in the step (A), the uneven structure is applied such that the height is higher toward the inner side of the film roll and lower toward the outer side of the film roll. Method.
前記領域RHにおける、フィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さHと、前記領域RHの外の領域RLにおける、フィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さLとを、固定された計測器により計測し、その差(H−L)を計算することを含み、
前記高さHは、支持ロールにより支持されて搬送されるフィルムの、前記領域R H における、当該支持ロールの表面を基準とした高さであり、
前記高さLは、支持ロールにより支持されて搬送されるフィルムの、前記領域R L における、当該支持ロールの表面を基準とした高さである、測定方法。 A measurement method for measuring the height of the concavo-convex structure of a long film having a concavo-convex structure in a partial region RH on the surface, which is continuously transported in a transport path,
Measurements in the region R H, the height H of the film surface in the film thickness direction, in the outer region R L of the region R H, and a height L of the film surface in the film thickness direction, by a fixed instrument and, viewed it contains a calculating the difference (H-L),
The height H is a height based on the surface of the support roll in the region RH of the film supported and conveyed by the support roll.
The said height L is a measuring method which is the height on the basis of the surface of the said support roll in the said area | region RL of the film supported and conveyed by the support roll .
前記領域RH内における所定の幅の領域WAに亘りフィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点においてフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを測定し、得られた複数の測定値群DHに基づく計算により高さHを求めることを含み、
前記高さLの計測は、
前記領域RL内において、所定の幅の領域WBに亘りフィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点においてフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを測定し、得られた複数の測定値群DLに基づく計算により高さLを求めることを含む、請求項13に記載の測定方法。 The measurement of the height H is as follows:
A plurality of measurement value groups D obtained by measuring the height of the film surface in the film thickness direction at a plurality of measurement points distributed in alignment in the film width direction over a region WA having a predetermined width in the region RH . Determining the height H by calculation based on H,
The measurement of the height L is as follows:
In the region RL , the height of the film surface in the film thickness direction is measured at a plurality of measurement points distributed in alignment in the film width direction over the region WB of a predetermined width, and a plurality of measurement value groups obtained and determining the height L by calculation based on the D L, measuring method according to claim 13.
前記高さLを求めるための前記測定値群DLに基づく計算が、前記測定値群DLの平均を求め、これを前記高さLとする計算である、請求項14に記載の測定方法。 Calculation based on the measurement value group D H for determining the height H is, an average of the measurement value group D H, and which is calculated according to the height H,
The height L based on the measurement value group D L for obtaining the calculation, an average of the measurement value group D L, a this calculation to the height L, the measuring method according to claim 14 .
一つの前記領域WBにおける測定点の個数がNLであり、
前記高さHを求めるための前記測定値群DHに基づく計算が、前記測定値群DHのうち、上位XH個の測定値の平均を求め、これを高さHとする計算であり、
前記高さLを求めるための前記測定値群DLに基づく計算が、前記測定値群DLのうち、上位XL個の測定値の平均を求め、これを高さLとする計算であり、
前記XHが、2以上NH/2以下の範囲内で設定される個数であり、
前記XLが、2以上NL以下の範囲内で設定される個数である、請求項14に記載の測定方法。 The number of measurement points in one area WA is NH ,
The number of measurement points in one area WB is NL ,
The height H is based on the measurement value group D H for obtaining the calculation of the measured value group D H, it calculates the average of the top X H number of measurements, be calculated for this height H ,
The height L based on the measurement value group D L for obtaining the calculation of the measured value group D L, obtains the average of the top X L pieces of measurement, be calculated for this height L ,
X H is a number set within a range of 2 or more and N H / 2 or less,
Wherein X L is a number that is set in the range of 2 or more N L, the measuring method according to claim 14.
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