JP6433872B2 - 集塵装置及び集塵システム - Google Patents
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Description
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
なお、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
図1(a)及び図1(b)は、第1の実施形態に係る集塵装置を例示する模式図である。
図1(a)は、集塵装置を例示する模式的断面図である。
図1(b)は、集塵装置を例示する模式的平面図である。
図2(a)は、溝パターンを例示する模式的平面図である。
図2(b)は、図2(a)の溝パターンのA1-A2断面を示す図である。
図3(a)は、別の溝パターンを例示する模式的平面図である。
図3(b)は、図3(a)の溝パターンのB1-B2断面を示す図である。
図5(a)は、集塵装置110を例示する模式的断面図である。
図5(b)は、図5(a)のX部を拡大した模式的断面図である。
図5(c)は、図5(a)のX部を拡大した模式的平面図である。
図6(a)は、集塵装置110を例示する模式的断面図である。
図6(b)は、図6(a)のY部を拡大した模式的断面図である。
図6(c)は、図6(a)のY部を拡大した模式的平面図である。
図7(a)及び図7(b)は、第2の実施形態に係る集塵装置の一部を例示する模式図である。
図7(a)は、集塵装置を例示する模式的断面図である。
図7(b)は、集塵装置を例示する模式的平面図である。
図8(a)及び図8(b)は、第3の実施形態に係る集塵装置の一部を例示する模式図である。
図9は、第4の実施形態に係る集塵システムを例示する模式図である。
実施形態に係る集塵システム210は、集塵装置110、111、112と、処理室150と、を含む。処理室150は、集塵装置110、111、112を収容する。この例においては、処理室150として、フォトマスク製造における現像処理室を例示する。
気体供給部136は、第1部材30の第1面30aに向けて気体Gを吹き付ける。すなわち、第1面30aに向けて気体Gによる気流を生成する。この気流は、層流または乱流のいずれでもよい。
Claims (18)
- 第1幅を有する第1管部と、前記第1管部と接続され、前記第1幅よりも広い第2幅を有する中間部と、前記中間部と接続され、前記第1幅よりも狭い第3幅を有する第2管部と、を含む液体供給部と、
液体回収部と、
一端が前記液体供給部に接続され、他端が前記液体回収部に接続された導電性の第1部材であって、複数の溝を有する第1面を含む第1部材と、
を備えた集塵装置。 - 前記複数の溝は、前記液体供給部から前記液体回収部に向かう第1方向に延び、前記第1方向と交差する第2方向に並ぶ請求項1記載の集塵装置。
- 前記複数の溝は、
前記液体供給部から前記液体回収部に向かう第1方向に延び、前記第1方向と交差する第2方向に並ぶ複数の第1溝部分と、
前記第2方向に延び、前記第1方向に並び、前記複数の第1溝部分のそれぞれと交差する複数の第2溝部分と、
を含む請求項1記載の集塵装置。 - 前記複数の溝は、
前記第1液体供給部から前記液体回収部に向かう第1方向と交差する第3方向に延び、前記第3方向と交差する第4方向に並ぶ複数の第3溝部分と、
前記第4方向に延び、前記第3方向に並び、前記複数の第3溝部分のそれぞれと交差する複数の第4溝部分と、
を含む請求項1記載の集塵装置。 - 前記第1面に設けられ親水性を有する膜をさらに備えた請求項1〜4のいずれか1つに記載の集塵装置。
- 前記膜は、酸化チタンを含む請求項5記載の集塵装置。
- 前記液体回収部と前記液体供給部との間に接続された濾過循環部をさらに備えた請求項1〜6のいずれか1つに記載の集塵装置。
- 前記第2管部は、前記第1面に対して傾斜して配置されている請求項1〜7のいずれか1つに記載の集塵装置。
- 前記液体回収部は、前記第1面を流れた液体を溜めることが可能な空間を含み、
前記第1部材は、前記空間に接続された開口を含む請求項1〜8のいずれか1つに記載の集塵装置。 - 前記空間に溜めた前記液体の表面の位置を検出可能なセンサと、
前記センサで検出される前記位置に基づいて、前記液体の供給量を制御する制御部と、
をさらに備えた請求項9記載の集塵装置。 - 前記液体供給部は、前記液体回収部よりも上方に位置する請求項1〜10のいずれか1つに記載の集塵装置。
- 前記液体供給部は、前記液体回収部よりも高い位置に配置され、
前記第1面は、重力の方向に対して傾斜する請求項1〜10のいずれか1つに記載の集塵装置。 - 前記第1面に流す液体は、帯電した気泡を含む請求項1〜12のいずれか1つに記載の集塵装置。
- 集塵装置であって、
第1幅を有する第1管部と、前記第1管部と接続され、前記第1幅よりも広い第2幅を有する中間部と、前記中間部と接続され、前記第1幅よりも狭い第3幅を有する第2管部と、を含む液体供給部と、
液体回収部と、
一端が前記液体供給部に接続され、他端が前記液体回収部に接続された導電性の第1部材であって、複数の溝を有する第1面を含む第1部材と、
を備えた集塵装置と、
前記集塵装置を収容する処理室と、
を備えた集塵システム。 - 前記処理室は、
処理対象物を支持する支持台と、
前記支持台が設置される設置面と、
前記設置面の下側に設けられた底面と、
前記底面から前記支持台に向かう方向を軸として前記支持台の周りに設けられた側面と、
を含み、
前記集塵装置は、前記側面、前記設置面及び前記側面の少なくともいずれかの面に着脱可能に設けられている請求項14記載の集塵システム。 - 前記第1面は、前記側面に沿って配置され、前記液体供給部は、前記液体回収部の上方に位置する請求項15記載の集塵システム。
- 前記第1面は、前記設置面または前記底面に沿って配置され、前記液体供給部は、前記液体回収部よりも高い位置に配置され、前記第1面は、重力の方向に対して傾斜する請求項15記載の集塵システム。
- 前記処理室は、前記第1面に向けて気体を吹き付ける気体供給部をさらに含む請求項14〜17のいずれか1つに記載の集塵システム。
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