JP6409760B2 - Method for manufacturing printed wiring board - Google Patents

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Description

本発明は、プリント配線板等に使用する電磁波を遮蔽する電磁波シールドシートに関する。   The present invention relates to an electromagnetic wave shielding sheet for shielding electromagnetic waves used for printed wiring boards and the like.

近年では、小型化・薄型化が急速に進む携帯電話、ビデオカメラ、ノートパソコンなどの電子機器において、柔軟で可撓性のあるフレキシブルプリント基板(以下、FPCという)は必要不可欠となっている。さらに電子機器の高性能化に伴い内蔵される信号配線の狭ピッチ化・高周波化が進むため、電磁波ノイズに対する対策が重要度を増している。そのためFPCには、信号配線から発生する電磁波ノイズを遮蔽もしくは吸収する電磁波シールド材を組み込むことが一般的になっている。
なおFPCは、エッチング処理により回路形成した銅張積層版(CCL)とカバーコート材から構成される。カバーコート材はカバーレイフィルム、感光性インク(ソルダーレジスト)、感光性フィルム(感光性カバーレイフィルム)等から選択するのが一般的であり、取り扱いの容易さ、耐久性、絶縁信頼性の高さから、カバーレイフィルムが多く使用されている。カバーレイフィルムとは絶縁性基材に熱硬化性接着剤を塗布した材料である。
そこで例えば、特許文献1には、FPCの絶縁層上に導電性接着剤層や金属薄膜層等を有するシールド層を貼り合せると共に、FPCのグランド配線に導電接着剤層を介して金属薄膜層を電気的に接続した電磁波シールド機能を有するFPCが開示されている。
In recent years, flexible and flexible flexible printed boards (hereinafter referred to as FPCs) have become indispensable in electronic devices such as mobile phones, video cameras, and notebook personal computers that are rapidly becoming smaller and thinner. Furthermore, as the performance of electronic devices increases, the signal wiring built-in is becoming narrower and higher in frequency, and countermeasures against electromagnetic noise are becoming increasingly important. For this reason, an FPC is generally incorporated with an electromagnetic shielding material that shields or absorbs electromagnetic noise generated from signal wiring.
The FPC is composed of a copper clad laminate (CCL) formed by etching and a cover coat material. The cover coat material is generally selected from cover lay film, photosensitive ink (solder resist), photosensitive film (photosensitive cover lay film), etc., and easy to handle, high durability, and high insulation reliability. Therefore, many coverlay films are used. A coverlay film is a material obtained by applying a thermosetting adhesive to an insulating substrate.
Therefore, for example, in Patent Document 1, a shield layer having a conductive adhesive layer, a metal thin film layer, or the like is bonded to the insulating layer of the FPC, and a metal thin film layer is attached to the ground wiring of the FPC via the conductive adhesive layer. An FPC having an electrically connected electromagnetic shielding function is disclosed.

また、特許文献2には、熱硬化性樹脂、硬化剤、導電性微粒子、およびイオン捕集剤を含む導電層を有する電磁波シールドシートが開示されている。   Patent Document 2 discloses an electromagnetic wave shield sheet having a conductive layer containing a thermosetting resin, a curing agent, conductive fine particles, and an ion scavenger.

また、従来はグランド配線とシールド層を電気的に接続するためカバーレイフィルムにドリル等で穴等を形成していた。しかし信号配線の狭ピッチ化に伴い、ドリルでは微細加工が出来ないため、感光性カバーレイフィルムを使用することで穴等を形成するようになってきた。そこで特許文献3には、一般的なポリイミドカバーレイフィルムに代えて感光性アルカリ現像型のソルダーレジストをカバーコート材として使用したFPCが開示されている。   Conventionally, holes or the like have been formed in the coverlay film with a drill or the like in order to electrically connect the ground wiring and the shield layer. However, along with the narrowing of the signal wiring pitch, drills cannot be finely processed, and holes and the like have been formed by using a photosensitive coverlay film. Therefore, Patent Document 3 discloses an FPC using a photosensitive alkali development type solder resist as a cover coating material instead of a general polyimide cover lay film.

特開2007−294996号公報JP 2007-294996 A 特開2014−141628号公報JP 2014-141628 A 特開2013−38235号公報JP 2013-38235 A

しかし、このように感光性アルカリ現像型のソルダーレジストによってカバーコート層を形成した場合、カバーレイフィルムと比べ絶縁基材を有さない単層構成であり、且つ、フォトリソ工程由来のコンタミを含んでいるため絶縁信頼性が低く、このようなソルダーレジストまたは感光性カバーレイフィルムから形成されてなるカバーコート層に従来の電波波シールドシートを張り合わせたFPCは、マイグレーション耐性が極端に悪化する問題があった。
また、上記構成のFPCは、プレッシャークッカー試験(PCT試験)後の屈曲性と接着強度が低下する問題があった。
さらに、電磁波シールドシートと信号配線との間の接続信頼性が低下する問題があった。
However, when the cover coat layer is formed with a photosensitive alkali development type solder resist in this way, it has a single layer structure that does not have an insulating substrate as compared with the cover lay film, and includes contamination derived from the photolithography process. Therefore, the insulation reliability is low, and the FPC in which a conventional radio wave shield sheet is bonded to a cover coat layer formed of such a solder resist or a photosensitive cover lay film has a problem that the migration resistance is extremely deteriorated. It was.
Further, the FPC having the above configuration has a problem that the flexibility and the adhesive strength after the pressure cooker test (PCT test) are lowered.
Furthermore, there is a problem that the connection reliability between the electromagnetic wave shielding sheet and the signal wiring is lowered.

本発明は、ソルダーレジストまたは感光性カバーレイフィルムから形成されてなるカバーコート層を有する場合にも、マイグレーション耐性、接続信頼性および屈曲性が良好な電磁波シールドシート付きのプリント配線板の提供を目的とする。   The present invention aims to provide a printed wiring board with an electromagnetic wave shielding sheet having good migration resistance, connection reliability and flexibility even when it has a cover coat layer formed from a solder resist or a photosensitive cover lay film. And

本発明の電磁波シールドシートは、電磁波シールドシートと、ソルダーレジストまたは感光性カバーレイフィルムから形成されてなるカバーコート層と、信号配線および絶縁性基材を有する基板とを具備するプリント配線板用の電磁波シールドシートであって、絶縁層および導電層を備え、前記導電層が、熱硬化性樹脂、硬化剤、導電性微粒子、およびイオン捕集剤を含むことを特徴とする。   The electromagnetic wave shielding sheet of the present invention is for a printed wiring board comprising an electromagnetic wave shielding sheet, a cover coat layer formed from a solder resist or a photosensitive cover lay film, and a substrate having signal wiring and an insulating substrate. An electromagnetic wave shielding sheet comprising an insulating layer and a conductive layer, wherein the conductive layer contains a thermosetting resin, a curing agent, conductive fine particles, and an ion scavenger.

上記の本発明によれば、電磁波シールドシートの導電層がイオン捕集剤を含むため、カバーコート層が含む金属イオンや、導電性微粒子に起因する金属イオンを捕集できる。これにより、本発明の電磁波シールドシートを組み込んだプリント配線板は、マイグレーション耐性、接着力、および接続信頼性が良好であり、屈曲性も良好である。   According to the present invention described above, since the conductive layer of the electromagnetic wave shielding sheet contains an ion scavenger, the metal ions contained in the cover coat layer and the metal ions resulting from the conductive fine particles can be collected. Thereby, the printed wiring board incorporating the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention has good migration resistance, adhesive strength, connection reliability, and good flexibility.

本発明により接続信頼性および屈曲性が良好なプリント配線板を作製できる電磁波シールドシートおよびプリント配線板を提供できる。   The present invention can provide an electromagnetic wave shielding sheet and a printed wiring board that can produce a printed wiring board having good connection reliability and flexibility.

マイグレーション試験を説明した概念図である。It is the conceptual diagram explaining the migration test. 接続信頼性試験の説明図である。It is explanatory drawing of a connection reliability test.

本発明を説明する前に用語を定義する。配線回路は、グランド配線と信号配線を含む。   Before describing the present invention, terms will be defined. The wiring circuit includes a ground wiring and a signal wiring.

本発明の電磁波シールドシートは、電磁波シールドシートと、ソルダーレジストまたは感光性カバーレイフィルムから形成されてなるカバーコート層と、信号配線および絶縁性基材を有する基板とを具備するプリント配線板用であって、絶縁層および導電層を備え、前記導電層が、熱硬化性樹脂、硬化剤、導電性微粒子、およびイオン捕集剤を含む。   The electromagnetic wave shielding sheet of the present invention is for a printed wiring board comprising an electromagnetic wave shielding sheet, a cover coat layer formed from a solder resist or a photosensitive cover lay film, and a substrate having signal wiring and an insulating substrate. An insulating layer and a conductive layer are provided, and the conductive layer includes a thermosetting resin, a curing agent, conductive fine particles, and an ion scavenger.

<導電層>
電磁波シールドシートの導電層は、電磁波等のノイズをシールドし、主にFPCのカバーコート層に貼り付ける層である。
導電層は、導電性接着剤から形成した導電層の第一の態様、および金属層と導電性接着剤から形成した導電層とを有する第二の態様の2つの態様が好ましい。第二の態様を採用するとシールド効果がさらに向上する。また、導電層は、等方導電性または異方導電性を有することが好ましい。等方導電性とは、電磁波シールドシートを水平に置いたときに垂直方向(縦方向)と水平方向(面方向)に導電することをいう。また異方導電とは、電磁波シールドシートを水平に置いたときに垂直方向(縦方向)に導電することをいう。等方導電性は、フレーク状や樹枝状の導電性微粒子を使用する方法等公知の方法で得られる。また、異方導電性は、球状または樹枝状の導電性微粒子を使用する方法等で得られる。なお、導電層が樹枝状の導電性微粒子を大量に含む場合、等方導電性が得られる。また導電層が樹枝状の導電性微粒子を少量含む場合、異方導電性が得られる。
<Conductive layer>
The conductive layer of the electromagnetic wave shielding sheet is a layer that shields noise such as electromagnetic waves and is mainly attached to the cover coat layer of the FPC.
The conductive layer is preferably a first embodiment of a conductive layer formed of a conductive adhesive and a second embodiment of a second embodiment having a metal layer and a conductive layer formed of a conductive adhesive. Employing the second aspect further improves the shielding effect. The conductive layer preferably has isotropic conductivity or anisotropic conductivity. Isotropic conductivity means conducting in the vertical direction (longitudinal direction) and the horizontal direction (plane direction) when the electromagnetic wave shielding sheet is placed horizontally. The anisotropic conduction means conducting in the vertical direction (longitudinal direction) when the electromagnetic wave shielding sheet is placed horizontally. Isotropic conductivity is obtained by a known method such as a method using flaky or dendritic conductive fine particles. The anisotropic conductivity can be obtained by a method using spherical or dendritic conductive fine particles. Note that isotropic conductivity is obtained when the conductive layer contains a large amount of dendritic conductive fine particles. Further, when the conductive layer contains a small amount of dendritic conductive fine particles, anisotropic conductivity can be obtained.

導電層は、導電性接着剤を使用して形成できる。導電性接着剤は、熱硬化性樹脂、硬化剤、導電性微粒子、およびイオン捕集剤を含む。   The conductive layer can be formed using a conductive adhesive. The conductive adhesive includes a thermosetting resin, a curing agent, conductive fine particles, and an ion scavenger.

[熱硬化性樹脂]
熱硬化性樹脂は、硬化剤と反応可能な官能基を複数有する樹脂である。官能基は、例えば、水酸基、フェノール性水酸基、メトキシメチル基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリン基、オキサジン基、アジリジン基、チオール基、イソシアネート基、ブロック化イソシアネート基、ブロック化カルボキシル基、シラノール基等が挙げられる。熱硬化性樹脂は、例えば、アクリル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、フェノール系樹脂、アルキド樹脂、アミノ樹脂、ポリ乳酸樹脂、オキサゾリン樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂等の公知の樹脂が挙げられる。これらの中でも屈曲性と絶縁信頼性の点から、ポリウレタン樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂が好ましい。
熱硬化性樹脂は、単独または2種類以上併用できる。
[Thermosetting resin]
A thermosetting resin is a resin having a plurality of functional groups capable of reacting with a curing agent. Functional groups include, for example, hydroxyl group, phenolic hydroxyl group, methoxymethyl group, carboxyl group, amino group, epoxy group, oxetanyl group, oxazoline group, oxazine group, aziridine group, thiol group, isocyanate group, blocked isocyanate group, blocked A carboxyl group, a silanol group, etc. are mentioned. Thermosetting resins include, for example, acrylic resins, maleic resins, polybutadiene resins, polyester resins, polyurethane resins, polyurethane urea resins, epoxy resins, oxetane resins, phenoxy resins, polyimide resins, polyamide resins, polyamideimide resins, phenolic resins. Known resins such as resins, alkyd resins, amino resins, polylactic acid resins, oxazoline resins, benzoxazine resins, silicone resins, and fluorine resins can be used. Among these, polyurethane resin, polyurethane urea resin, epoxy resin, phenoxy resin, polyimide resin, polyamide resin, and polyamideimide resin are preferable from the viewpoint of flexibility and insulation reliability.
Thermosetting resins can be used alone or in combination of two or more.

[硬化剤]
硬化剤は、熱硬化性樹脂の官能基と反応可能な官能基を複数有している。硬化剤は、例えばエポキシ化合物、酸無水物基含有化合物、イソシアネート化合物、アジリジン化合物、アミン化合物、フェノール化合物等の公知の化合物が挙げられる。
硬化剤は、単独または2種類以上併用できる。
[Curing agent]
The curing agent has a plurality of functional groups that can react with the functional groups of the thermosetting resin. Examples of the curing agent include known compounds such as an epoxy compound, an acid anhydride group-containing compound, an isocyanate compound, an aziridine compound, an amine compound, and a phenol compound.
A hardening | curing agent can be used individually or in combination with 2 or more types.

硬化剤は、熱硬化性樹脂100重量部に対して1〜50重量部含むことが好ましく、3〜30重量部がより好ましく、3〜20重量部がさらに好ましい。   It is preferable that 1-50 weight part is contained with respect to 100 weight part of thermosetting resins, as for a hardening | curing agent, 3-30 weight part is more preferable, and 3-20 weight part is further more preferable.

[導電性微粒子]
導電性微粒子は、導電層に導電性を付与する機能を有する。導電性微粒子は、素材としては、例えば金、白金、銀、銅およびニッケル等の導電性金属およびその合金、ならびに導電性ポリマーの微粒子が好ましく、価格と導電性の面から銀がより好ましい。
また単一素材の微粒子ではなく金属や樹脂を核体とし、核体の表面を被覆した被覆層を有する複合微粒子もコストダウンの観点から好ましい。ここで核体は、価格が安いニッケル、シリカ、銅およびその合金、ならびに樹脂から適宜選択することが好ましい。被覆層は、核体より導電性が優れる素材であればよく、導電性金属または導電性ポリマーが好ましい。導電性金属は、例えば、金、白金、銀、ニッケル、マンガン、およびインジウム等、ならびにその合金が挙げられる。また導電性ポリマーは、ポリアニリン、ポリアセチレン等が挙げられる。これらの中でも価格と導電性の面から銀が好ましい。
[Conductive fine particles]
The conductive fine particles have a function of imparting conductivity to the conductive layer. The conductive fine particles are preferably, for example, conductive metals such as gold, platinum, silver, copper and nickel, and alloys thereof, and conductive polymer fine particles, and silver is more preferable from the viewpoint of cost and conductivity.
In addition, composite fine particles having a coating layer in which a metal or a resin is used as a core and the surface of the core is covered, are preferable from the viewpoint of cost reduction. Here, the core is preferably selected appropriately from inexpensive nickel, silica, copper and alloys thereof, and resins. The coating layer may be a material that is more conductive than the core, and is preferably a conductive metal or a conductive polymer. Examples of the conductive metal include gold, platinum, silver, nickel, manganese, indium, and alloys thereof. Examples of the conductive polymer include polyaniline and polyacetylene. Among these, silver is preferable from the viewpoints of price and conductivity.

導電性微粒子の形状は、所望の導電性が得られればよく形状は限定されない。具体的には、例えば、球状、フレーク状、葉状、樹枝状、プレート状、針状、棒状、ブドウ状が好ましい。これらの中でも接続信頼性を向上する点から樹枝状がより好ましい。
導電性微粒子は、単独または2種類以上併用できる。
The shape of the conductive fine particles is not limited as long as desired conductivity is obtained. Specifically, for example, a spherical shape, a flake shape, a leaf shape, a dendritic shape, a plate shape, a needle shape, a rod shape, and a grape shape are preferable. Among these, a dendritic shape is more preferable from the viewpoint of improving connection reliability.
The conductive fine particles can be used alone or in combination of two or more.

導電性微粒子の平均粒子径は、D50平均粒子径であり、1〜100μmが好ましく、3〜50μmがより好ましい。
なお、D50平均粒子径は、レーザー回折・散乱法粒度分布測定装置LS13320
( ベックマン・コールター社製)を使用し、トルネードドライパウダーサンプルモジュールにて、導電性微粒子を測定して得た数値であり、粒子径累積分布における累積値が50%の粒子径である。なお、屈折率の設定は1.6とした。
The average particle diameter of the conductive fine particles is D50 average particle diameter, preferably 1 to 100 μm, more preferably 3 to 50 μm.
The D50 average particle size is determined by the laser diffraction / scattering particle size distribution analyzer LS13320.
This is a numerical value obtained by measuring conductive fine particles with a tornado dry powder sample module using (manufactured by Beckman Coulter), and a cumulative value in the cumulative particle size distribution is a particle size of 50%. The refractive index was set to 1.6.

導電性微粒子は、熱硬化性樹脂100重量部に対して、50〜1500重量部を配合することが好ましく、100〜1000重量部がより好ましい。   The conductive fine particles are preferably blended in an amount of 50 to 1500 parts by weight, more preferably 100 to 1000 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the thermosetting resin.

[イオン捕集剤]
本発明においてイオン捕集剤は、電磁波シールドシートの特性に悪影響を与えるイオンを捕集する機能を有する。
イオン捕集剤は、陽イオン捕集剤、陰イオン捕集剤、および両イオン捕集剤を含む。これらのなかでも、電磁波シールドシートの導電接着剤層と配線回路の間のマイグレーションを抑制し、接続信頼性を高める点で、陽イオン捕集剤を用いることが好ましい。特に好ましくは、無機陽イオン捕集剤である。
[Ion collector]
In the present invention, the ion collector has a function of collecting ions that adversely affect the properties of the electromagnetic wave shielding sheet.
The ion collector includes a cation collector, an anion collector, and both ion collectors. Among these, it is preferable to use a cation scavenger in terms of suppressing migration between the conductive adhesive layer of the electromagnetic wave shield sheet and the wiring circuit and improving connection reliability. Particularly preferred is an inorganic cation scavenger.

(陽イオン捕集剤)
陽イオン捕集剤は、金属イオン等の陽イオンを捕集する機能を有する。導電層が陽イオン捕集剤を含むと、カバーコート層に残留した金属イオンや導電性微粒子から発生した金属イオンを捕集し、導電層と信号配線との間のマイグレーションを抑制する。陽イオン捕集剤は、無機陽イオン捕集剤と有機陽イオン捕集剤があり、両者とも使用できる。この中でもマイグレーション耐性をより向上する点から無機陽イオン捕集剤が好ましい。
(Cation collector)
The cation collector has a function of collecting cations such as metal ions. When the conductive layer contains a cation scavenger, metal ions remaining in the cover coat layer and metal ions generated from the conductive fine particles are collected, and migration between the conductive layer and the signal wiring is suppressed. As the cation collector, there are an inorganic cation collector and an organic cation collector, and both can be used. Among these, an inorganic cation scavenger is preferable from the viewpoint of further improving migration resistance.

無機陽イオン捕集剤は、例えばマンガン化合物(含水二酸化マンガン等)、アンチモン化合物(結晶性アンチモン酸、含水五酸化アンチモン等)、ジルコニウム化合物(水酸化ジルコニウム、リン酸ジルコニウム、モリブデン酸ジルコニウム、タングステン酸ジルコニウム等)、ケイ酸塩化合物(アルミノケイ酸塩、合成アルミノケイ酸塩等)、リン酸塩化合物(リン酸チタン、リン酸スズ等)、シュウ酸セリウム(III)、モリブドリン酸アンモニウム、ヘキサシアノ鉄(III)コバルト(II)カリウム、天然グリーンサンド、安定化グリーンサンド、Mn2+型にしたグリーンサンド等が挙げられる。これらの中でもアンチモン化合物、ジルコニウム化合物は、陽イオンを捕集する能力が高いので、マイグレーション耐性が高い電磁波シールドシートが得やすくなる。
無機陽イオン捕集剤は、例えばIXE−100、IXE−300(東亜合成社製)等の公知の製品を使用できる。
Examples of inorganic cation collectors include manganese compounds (hydrous manganese dioxide, etc.), antimony compounds (crystalline antimonic acid, hydrous antimony pentoxide, etc.), zirconium compounds (zirconium hydroxide, zirconium phosphate, zirconium molybdate, tungstic acid). Zirconium), silicate compounds (aluminosilicate, synthetic aluminosilicate, etc.), phosphate compounds (titanium phosphate, tin phosphate, etc.), cerium oxalate (III), ammonium molybdate, hexacyanoiron (III ) Cobalt (II) potassium, natural green sand, stabilized green sand, green sand having Mn 2+ type, and the like. Among these, antimony compounds and zirconium compounds have a high ability to collect cations, so that an electromagnetic wave shield sheet having high migration resistance can be easily obtained.
As the inorganic cation scavenger, known products such as IXE-100 and IXE-300 (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.) can be used.

有機陽イオン捕集剤は、例えば、ピラゾール化合物として、例えば3,5−ジメチルピラゾール、3−メチル−5−ピラゾロン等が挙げられる。また、トリアゾール化合物として、例えば1,2,4−トリアゾール、4−アミノ−1,2,4−トリアゾール、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、5−メチルベンゾトリアゾール、5−アミノベンゾトリアゾール、5−クロロベンゾトリアゾール、1−(ヒドロキシメチル)ベンゾトリアゾール、1−[(2−ヘキシルアミノ)メチル]-ベンゾトリアゾール、1−(1,2-ジカルボキシエチル)ベンゾトリアゾール、N−ベンゾトリアゾリメチルウレア、1-(2
,3−ジカルボキシプロピル)ベンゾトリアゾール、1-[N,N−ビス(2−エチルヘキシル)アミノメチル]トリアゾール、1-[N,N−ビス(ヒドロキシエチル)アミノメチル
]トリアゾール、1,2,3−ベンゾトリアゾール・ナトリウム塩溶液、テトラゾール、5−アミノテトラゾール、5−メチルテトラゾール、5−フェニルテトラゾール等が挙げられる。また、チアゾール化合物として、例えば2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾールのナトリウム塩、(2−ベンゾチアジルチオ)酢酸、3−(2−ベンゾチアジルチオ)プロピオン酸、ベンゾチアゾール、2−ベンゾチアゾールアセトニトリル、ベンゾチアゾール−6−カルボン酸、2−(2−ベンゾチアゾールチオ)エタノール等が挙げられる。また、クラウンエーテル化合物として、例えば12−クラウン−4、15−クラウンー5、18−クラウン−6、21−クラウン−7、24−クラウン−8、ビストレン、クリプタッド、ジシクロヘキサノ−18−クラウン−6、ジベンゾ−24−クラウン−8、サイクラム(cyclam:1,4,8,11−tetrazacyclote−tradecane)、シクロデキストリン等が挙げられる。また、下記化学式(1)で表す単位を有するジヒドラジド化合物も好ましい。ジヒドラジド化合物は、例えば、N−サリシロイル−N’−アルデヒドラジン、N,N−ジベンザル(オキザルヒドラジド)、イソフタリック酸ビス(2−フェノキシプロピオニルヒドラジン)、[3−(N−サリチロイル)アミノ−1,2,4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヒドラジンなどが挙げられる。これらの中でも特に化学式(2)で示した化合物:デカメチレンカルボン酸ジサリチロイルヒドラジド、及び化学式(3)に示した化合物:N,N’−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヒドラジンが好ましい。
Examples of the organic cation collector include pyrazole compounds such as 3,5-dimethylpyrazole and 3-methyl-5-pyrazolone. Examples of triazole compounds include 1,2,4-triazole, 4-amino-1,2,4-triazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, benzotriazole, 1-hydroxybenzotriazole, and carboxybenzo. Triazole, 5-methylbenzotriazole, 5-aminobenzotriazole, 5-chlorobenzotriazole, 1- (hydroxymethyl) benzotriazole, 1-[(2-hexylamino) methyl] -benzotriazole, 1- (1,2 -Dicarboxyethyl) benzotriazole, N-benzotriazolymethylurea, 1- (2
, 3-Dicarboxypropyl) benzotriazole, 1- [N, N-bis (2-ethylhexyl) aminomethyl] triazole, 1- [N, N-bis (hydroxyethyl) aminomethyl] triazole, 1,2,3 -A benzotriazole sodium salt solution, tetrazole, 5-aminotetrazole, 5-methyltetrazole, 5-phenyltetrazole and the like. Examples of the thiazole compound include 2-mercaptobenzothiazole, sodium salt of 2-mercaptobenzothiazole, (2-benzothiazylthio) acetic acid, 3- (2-benzothiazylthio) propionic acid, benzothiazole, 2- Examples include benzothiazole acetonitrile, benzothiazole-6-carboxylic acid, and 2- (2-benzothiazolethio) ethanol. Examples of the crown ether compound include 12-crown-4, 15-crown-5, 18-crown-6, 21-crown-7, 24-crown-8, bistrene, cryptad, and dicyclohexano-18-crown-6. , Dibenzo-24-crown-8, cyclam (1,4,8,11-tetrazacyclate-tradicane), cyclodextrin and the like. Moreover, the dihydrazide compound which has a unit represented by following Chemical formula (1) is also preferable. Examples of the dihydrazide compound include N-salicyloyl-N′-aldehyde azine, N, N-dibenzal (oxal hydrazide), bis (2-phenoxypropionylhydrazine) isophthalic acid, [3- (N-salicyloyl) amino-1, 2,4-hydroxyphenyl) propionyl] hydrazine and the like. Among these, the compound represented by the chemical formula (2): decamethylenecarboxylic acid disalicyloyl hydrazide, and the compound represented by the chemical formula (3): N, N′-bis [3- (3,5-di-t -Butyl-4-hydroxyphenyl) propionyl] hydrazine is preferred.

化学式(1)
Chemical formula (1)

化学式(2)
Chemical formula (2)

化学式(3)

Chemical formula (3)

有機陽イオン捕集剤は、例えばアデカスタブCDA−6、CDA−10(ADEKA社製)等の公知の製品を使用できる。   As the organic cation collector, known products such as ADK STAB CDA-6 and CDA-10 (manufactured by ADEKA) can be used.

(陰イオン捕集剤)
本発明の電磁波シールドシートは、陰イオン捕集剤を用いることもできる。なかでも、陽イオン捕集剤に、さらに陰イオン捕集剤を含むことが好ましい。例えば導電性接着剤が硬化剤としてエポキシ化合物を含む場合、導電層には原料のエピクロロヒドリンに由来する塩化物イオンが残留することがある。係る場合、陰イオン捕集剤を含むことで、陰イオン(塩化物イオン)に起因する熱硬化性樹脂の劣化を抑制できるため、マイグレーション耐性、PCT後の接着力、および耐屈曲性を向上できる。
陰イオン捕集剤は、例えばビスマス化合物(含水酸化ビスマス、水和硝酸ビスマス等)、マグネシウム・アルミニウム複合酸化物(マグネシウムアルミニウムハイドロタルサイト等)、リン酸塩化合物(水酸化リン酸鉛等)等が挙げられる。これらの中でもマグネシウム・アルミニウム複合酸化物は、陰イオンを捕集する能力が高いので、PCT後の接着力および耐屈曲性をさらに向上できる。陰イオン捕集剤はマイグレーション耐性、PCT後の接着力、および耐屈曲性をより向上する点から無機陽イオン捕集剤が好ましい。
(Anion collector)
The electromagnetic wave shielding sheet of the present invention can also use an anion scavenger. Especially, it is preferable that an anion collector is further included in the cation collector. For example, when the conductive adhesive contains an epoxy compound as a curing agent, chloride ions derived from the raw material epichlorohydrin may remain in the conductive layer. In such a case, since the deterioration of the thermosetting resin due to the anion (chloride ion) can be suppressed by including the anion scavenger, the migration resistance, the adhesion force after PCT, and the bending resistance can be improved. .
Examples of the anion collector include bismuth compounds (hydrous bismuth oxide, hydrated bismuth nitrate, etc.), magnesium / aluminum composite oxides (magnesium aluminum hydrotalcite, etc.), phosphate compounds (lead hydroxide phosphate, etc.), etc. Is mentioned. Among these, the magnesium / aluminum composite oxide has a high ability to collect anions, and therefore can further improve the adhesive strength and bending resistance after PCT. The anion collector is preferably an inorganic cation collector from the viewpoint of further improving migration resistance, adhesion after PCT, and bending resistance.

陰イオン捕集剤は、例えばIXE−500、IXE−530、IXE−550、IXE−700F、IXE−700D、IXE−800(東亜合成社製)等の公知の製品を使用できる。   As the anion scavenger, known products such as IXE-500, IXE-530, IXE-550, IXE-700F, IXE-700D, and IXE-800 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) can be used.

(両イオン捕集剤)
両イオン捕集剤とは、陽イオン捕集剤および陰イオン捕集剤を含むものである。両イオン捕集剤は、例えば既に説明したジルコニウム化合物、アンチモン化合物、リン酸塩化合物等から適宜選択した陽イオン捕集剤と、ビスマス化合物、マグネシウム・アルミニウム化合物等から適宜選択した陰イオン捕集剤との混合物が好ましい。
(Both ion collector)
Both ion scavengers include a cation scavenger and an anion scavenger. Both ion collectors are, for example, a cation collector appropriately selected from the already described zirconium compounds, antimony compounds, phosphate compounds, and the like, and an anion collector appropriately selected from bismuth compounds, magnesium / aluminum compounds, etc. A mixture with is preferred.

両イオン捕集剤は、例えばIXEPLAS−A1、IXEPLAS−A2、IXEPLAS−B1、IXE−600、IXE−633、IXE−6107、IXE−6136(東亜合成社製)等の公知の製品を使用できる。   As the both ion scavengers, known products such as IXEPLAS-A1, IXEPLAS-A2, IXEPLAS-B1, IXE-600, IXE-633, IXE-6107, IXE-6136 (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.) can be used.

イオン捕集剤は、単独または2種類以上併用できる。   The ion scavenger can be used alone or in combination of two or more.

イオン捕集剤は、熱硬化性樹脂100重量部に対して、0.1〜20重量部配合することが好ましく、0.3〜10重量部がより好ましい。0.1〜20重量部配合することで接続信頼性および屈曲性がより向上したFPCを得易くなる。   The ion scavenger is preferably blended in an amount of 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 0.3 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the thermosetting resin. By blending 0.1 to 20 parts by weight, it becomes easy to obtain an FPC with improved connection reliability and flexibility.

イオン捕集剤の平均粒子径は、0.1〜10μmが好ましく、0.1〜3μmがより好ましく、0.1〜1μmがさらに好ましい。平均粒子径を0.1〜10μmにすることでマイグレーション耐性が得やすくなる。なお平均粒子径は、D50平均粒子径である。   The average particle diameter of the ion scavenger is preferably from 0.1 to 10 μm, more preferably from 0.1 to 3 μm, still more preferably from 0.1 to 1 μm. By making the average particle diameter 0.1 to 10 μm, it becomes easy to obtain migration resistance. The average particle size is D50 average particle size.

導電性接着剤は、他に任意成分としてシランカップリング剤、防錆剤、還元剤、酸化防止剤、顔料、染料、粘着付与樹脂、可塑剤、紫外線吸収剤、消泡剤、レベリング調整剤、充填剤、難燃剤などを配合できる。   Conductive adhesives include silane coupling agents, rust inhibitors, reducing agents, antioxidants, pigments, dyes, tackifying resins, plasticizers, UV absorbers, antifoaming agents, leveling regulators as optional components. Fillers and flame retardants can be blended.

導電性接着剤は、これまで説明した材料を混合し攪拌して得ることができる。攪拌は、例えばディスパーマット、ホモジナイザー等に公知の攪拌装置を使用できる。   The conductive adhesive can be obtained by mixing and stirring the materials described so far. For the stirring, for example, a known stirring device can be used for a disperse mat, a homogenizer or the like.

<絶縁層>
絶縁層は、絶縁性樹脂組成物を使用して形成できる。
絶縁性樹脂組成物は、導電性接着剤で説明した熱硬化性樹脂および硬化剤を、必要に応じて上記任意成分を含むことができる。なお、絶縁層および導電層に使用する熱硬化性樹脂、硬化剤は、同一、または異なっていてもよい。
<Insulating layer>
The insulating layer can be formed using an insulating resin composition.
The insulating resin composition can contain the above-mentioned optional components as necessary for the thermosetting resin and the curing agent described in the conductive adhesive. The thermosetting resin and the curing agent used for the insulating layer and the conductive layer may be the same or different.

絶縁性樹脂組成物は、導電性接着剤と同様の方法で得ることが出来る。   The insulating resin composition can be obtained by the same method as that for the conductive adhesive.

《電磁波シールドシート》
本発明の電磁波シールドシートは、電磁波シールドシートと、ソルダーレジストまたは感光性カバーレイフィルムから形成されてなるカバーコート層と、信号配線および絶縁性基材を有する基板とを具備するプリント配線板用であって、導電層および絶縁層を備える。または、導電層、金属層および絶縁層を備える。
<Electromagnetic wave shield sheet>
The electromagnetic wave shielding sheet of the present invention is for a printed wiring board comprising an electromagnetic wave shielding sheet, a cover coat layer formed from a solder resist or a photosensitive cover lay film, and a substrate having signal wiring and an insulating substrate. A conductive layer and an insulating layer are provided. Alternatively, a conductive layer, a metal layer, and an insulating layer are provided.

電磁波シールドシートの作製方法を説明する。まず導電層の作製は、公知の方法を使用できる。例えば、導電性接着剤を剥離性シート上に塗工して乾燥することで導電層を形成する方法、または、Tダイのような押出成形機を使用して導電性接着剤をシート状に押し出すことで形成することもできる。   A method for producing an electromagnetic wave shielding sheet will be described. First, a known method can be used for producing the conductive layer. For example, a method of forming a conductive layer by applying a conductive adhesive on a peelable sheet and drying, or extruding the conductive adhesive into a sheet using an extruder such as a T-die It can also be formed.

塗工方法は、例えば、グラビアコート方式、キスコート方式、ダイコート方式、リップコート方式、コンマコート方式、ブレード方式、ロールコート方式、ナイフコート方式、スプレーコート方式、バーコート方式、スピンコート方式、ディップコート方式等の公知の塗工方法を使用できる。塗工に際して、乾燥工程を行うことが好ましい。乾燥工程は、例えば、熱風乾燥機、赤外線ヒーター等の公知の乾燥装置を使用できる。   Coating methods include, for example, gravure coating method, kiss coating method, die coating method, lip coating method, comma coating method, blade method, roll coating method, knife coating method, spray coating method, bar coating method, spin coating method, dip coating. A known coating method such as a method can be used. In coating, it is preferable to perform a drying step. In the drying step, for example, a known drying device such as a hot air dryer or an infrared heater can be used.

導電層の厚みは、1〜100μmが好ましく、3〜50μmがより好ましく、4〜15μmがさらに好ましい。厚みが1〜100μmの範囲にあることで導電性と、その他の物性とのバランスを取り易くなる。   1-100 micrometers is preferable, as for the thickness of a conductive layer, 3-50 micrometers is more preferable, and 4-15 micrometers is further more preferable. When the thickness is in the range of 1 to 100 μm, it becomes easy to balance the conductivity and other physical properties.

既に説明したように導電層に加えて、絶縁層と導電層の間に金属層を設けても良い。導電層と金属層とを積層する方法は公知の方法を使用できる。方法は、例えば、剥離性シート上に金属層を形成する。さらに、別途、剥離性シート上に形成した導電層を、前記金属層とラミネートする方法等が挙げられる。   As described above, a metal layer may be provided between the insulating layer and the conductive layer in addition to the conductive layer. A known method can be used for laminating the conductive layer and the metal layer. For example, the method forms a metal layer on a peelable sheet. Furthermore, a method of laminating a conductive layer separately formed on a peelable sheet with the metal layer can be used.

金属層は、例えばアルミニウム、銅、銀、金等の導電性の金属箔が好ましく、シールド性、接続信頼性およびコストの面から銅、銀、アルミニウムがより好ましく、銅がさらに好ましい。銅は、例えば、圧延銅箔または電解銅箔を使用することが好ましく、金属層の薄さを追及すると電解銅がより好ましい。金属箔の場合、厚みは0.1〜10μmが好ましく、0.5〜5μmがより好ましい。
また、金属は、金属箔以外に真空蒸着、スパッタリング、CVD法、MO(メタルオーガニック)、メッキ等で形成しても良い。これらの中でも量産性を考慮すれば真空蒸着が好ましい。金属箔以外の金属層の厚みは、通常0.005〜10μm程度である。
The metal layer is preferably a conductive metal foil such as aluminum, copper, silver, and gold. Copper, silver, and aluminum are more preferable, and copper is more preferable in terms of shielding properties, connection reliability, and cost. For example, rolled copper foil or electrolytic copper foil is preferably used as copper, and electrolytic copper is more preferable when the thickness of the metal layer is pursued. In the case of a metal foil, the thickness is preferably 0.1 to 10 μm, and more preferably 0.5 to 5 μm.
In addition to the metal foil, the metal may be formed by vacuum deposition, sputtering, CVD, MO (metal organic), plating, or the like. Among these, vacuum deposition is preferable in view of mass productivity. The thickness of the metal layer other than the metal foil is usually about 0.005 to 10 μm.

絶縁層は、絶縁性樹脂組成物を使用して導電層と同様の方法で作成することができる。または、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリフェニレンサルファイド等の絶縁性樹脂を成形したフィルムを使用することもできる。   The insulating layer can be formed by the same method as the conductive layer using the insulating resin composition. Alternatively, a film obtained by molding an insulating resin such as polyester, polycarbonate, polyimide, polyphenylene sulfide, or the like can be used.

絶縁層の厚みは、通常2〜10μm程度である。   The thickness of the insulating layer is usually about 2 to 10 μm.

電磁波シールドシートは、例えば、導電層と絶縁層と貼り合わせて作製できる。なお、前記したとおり、絶縁層と導電層との間には、公知の方法で金属層を設けてもよい。   The electromagnetic wave shielding sheet can be produced by bonding a conductive layer and an insulating layer, for example. As described above, a metal layer may be provided between the insulating layer and the conductive layer by a known method.

電磁波シールドシートは、導電層に含まれる熱硬化性樹脂と硬化剤が未硬化状態で存在し、配線板と加熱圧着により硬化することで、所望の接着強度を得ることが出来る。なお、前記未硬化状態は、硬化剤の一部が硬化した半硬化状態を含む。   In the electromagnetic wave shielding sheet, the thermosetting resin and the curing agent contained in the conductive layer exist in an uncured state, and a desired adhesive strength can be obtained by curing with a wiring board and thermocompression bonding. The uncured state includes a semi-cured state in which a part of the curing agent is cured.

剥離性シートは、紙やプラスチック等の基材に公知の剥離処理を行ったシートである。   The peelable sheet is a sheet obtained by performing a known peeling treatment on a substrate such as paper or plastic.

なお電磁波シールドシートは、異物の付着を防止するため、導電層および絶縁層に剥離性シートを貼り付けた状態で保存することが一般的である。   Note that the electromagnetic wave shielding sheet is generally stored in a state where a peelable sheet is attached to the conductive layer and the insulating layer in order to prevent adhesion of foreign matters.

電磁波シールドシートは、導電層および絶縁層のほかに、他の機能層を備えることができる。他の機能層とは、ハードコート性、水蒸気バリア性、酸素バリア性、熱伝導性、低誘電率、高誘電率性または耐熱性等の機能を有する層である。   The electromagnetic wave shielding sheet can include other functional layers in addition to the conductive layer and the insulating layer. The other functional layer is a layer having functions such as hard coat property, water vapor barrier property, oxygen barrier property, thermal conductivity, low dielectric constant, high dielectric constant or heat resistance.

本発明の電磁波シールドシートは、電磁波をシールドする必要がある様々な用途に使用できる。例えば、フレキシブルプリント配線板は元より、リジッドプリント配線板、COF、TAB、フレキシブルコネクタ、液晶ディスプレイ、タッチパネル等に使用できる。   The electromagnetic wave shielding sheet of the present invention can be used for various applications where electromagnetic waves need to be shielded. For example, flexible printed wiring boards can be used for rigid printed wiring boards, COFs, TABs, flexible connectors, liquid crystal displays, touch panels, and the like.

《プリント配線板》
本発明のプリント配線板は、電磁波シールドシートと、ソルダーレジストまたは感光性カバーレイフィルムから形成されてなるカバーコート層と、信号配線および絶縁性基材を含む配線板とを備えている。
<Printed wiring board>
The printed wiring board of the present invention includes an electromagnetic wave shielding sheet, a cover coat layer formed from a solder resist or a photosensitive cover lay film, and a wiring board including a signal wiring and an insulating substrate.

<カバーコート層>
カバーコート層は、配線板の信号配線を覆い外部環境から保護する絶縁材料である。本発明のプリント配線板におけるカバーコート層は、紫外線硬化型のソルダーレジスト、感光性カバーレイフィルムから構成される。プリント配線板の製造コストダウンの点から感光性カバーレイフィルムがより好ましい。
このようなソルダーレジストまたは感光性カバーレイフィルムから形成されてなるカバーコート層を用いることで、信号配線の狭ピッチ化に対応した、微細な穴の形成が可能である。また、導電層が、熱硬化性樹脂、硬化剤、導電性微粒子、およびイオン捕集剤を含む電磁波シールドシートを用いることにより、前記カバーコート層由来の金属イオンがマイグレーションすることを防止することができる。すなわち、感光性カバーレイを使用した穴の形成は、フォトリソ工程を行う必要があるため、現像液(例えば、水酸化ナトリウム水溶液)から金属イオン(例えば、ナトリウムイオンが感光性カバーレイに浸透して残留することが多い。この金属イオンのマイグレーションによる、電磁波シールドシートと信号配線との間の接続信頼性の低下を抑制することが可能となる。
また、電磁波シールドシートの導電層に含まれる導電性微粒子から金属イオン(例えば、銀イオン)がマイグレーションすることでの、接続信頼性の低下を防ぐことも可能である。
<Cover coat layer>
The cover coat layer is an insulating material that covers the signal wiring of the wiring board and protects it from the external environment. The cover coat layer in the printed wiring board of the present invention is composed of an ultraviolet curable solder resist and a photosensitive cover lay film. A photosensitive coverlay film is more preferable from the viewpoint of reducing the production cost of the printed wiring board.
By using a cover coat layer formed of such a solder resist or a photosensitive cover lay film, it is possible to form fine holes corresponding to a narrow pitch of signal wiring. Moreover, it is possible to prevent migration of metal ions derived from the cover coat layer by using an electromagnetic wave shielding sheet that includes a thermosetting resin, a curing agent, conductive fine particles, and an ion scavenger. it can. That is, the formation of holes using a photosensitive coverlay requires a photolithography process, so that metal ions (for example, sodium ions penetrate into the photosensitive coverlay from a developer (for example, an aqueous sodium hydroxide solution)). It is possible to suppress a decrease in connection reliability between the electromagnetic wave shielding sheet and the signal wiring due to migration of the metal ions.
It is also possible to prevent a decrease in connection reliability due to migration of metal ions (for example, silver ions) from conductive fine particles contained in the conductive layer of the electromagnetic wave shielding sheet.

ソルダーレジストおよび感光性カバーレイフィルムは、従来公知のものを用いることができ、通常、熱硬化性樹脂、感光性樹脂、モノマー、光開始剤および増感剤等を含み、必要に応じて着色剤を含む。
感光性カバーレイフィルムによりカバーコート層を形成する場合、絶縁性基材の信号配線上に真空ラミネーターによって感光性カバーレイフィルムを貼り合わせる。その後、感光性カバーレイフィルムに紫外線を照射し光硬化させた後、アルカリ水溶液によって現像することで、未照射部が洗い流される。現像後感光性カバーレイフィルムを130〜190℃でキュアし硬化させてカバーコート層を形成する。
ソルダーレジストを使用する場合は、ソルダーレジストを信号配線上にコーティングし乾燥させる。その後の工程は感光性カバーレイフィルムと同様の手順でカバーコート層を形成する。
As the solder resist and the photosensitive coverlay film, conventionally known ones can be used, and usually contain a thermosetting resin, a photosensitive resin, a monomer, a photoinitiator, a sensitizer and the like, and if necessary, a colorant including.
When the cover coat layer is formed from a photosensitive cover lay film, the photosensitive cover lay film is bonded to the signal wiring of the insulating base material by a vacuum laminator. Thereafter, the photosensitive cover lay film is irradiated with ultraviolet rays to be photocured, and then developed with an alkaline aqueous solution to wash away the unirradiated portion. After development, the photosensitive coverlay film is cured at 130 to 190 ° C. and cured to form a cover coat layer.
When using a solder resist, the solder resist is coated on the signal wiring and dried. Subsequent processes form a cover coat layer in the same procedure as the photosensitive cover lay film.

カバーコート層の厚みは10〜70μmが好ましく、20〜50μmがより好ましい。カバーコート層の厚みを10〜70μmの範囲にすることで、プリント配線板の屈曲性とマイグレーション耐性を向上することができる。   The thickness of the cover coat layer is preferably 10 to 70 μm, and more preferably 20 to 50 μm. By setting the thickness of the cover coat layer in the range of 10 to 70 μm, the flexibility and migration resistance of the printed wiring board can be improved.

カバーコート層のガラス転移温度(Tg)は40℃〜120℃が好ましく、50℃〜100℃がより好ましい。カバーコート層のガラス転移温度(Tg)を40℃〜120℃にすることで、屈曲性とマイグレーション耐性を向上することができる。   The glass transition temperature (Tg) of the cover coat layer is preferably 40 ° C to 120 ° C, more preferably 50 ° C to 100 ° C. Flexibility and migration resistance can be improved by setting the glass transition temperature (Tg) of the cover coat layer to 40 ° C to 120 ° C.

<信号配線および絶縁性基材を含む配線板>
信号配線は、アースを取るグランド配線、電子部品に電気信号を送る配線回路を含み、銅箔をエッチング処理することで形成することが一般的である。
絶縁性基材は、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリフェニレンサルファイド等の屈曲可能なプラスチックが好ましく、ポリイミドがより好ましい。
<Wiring board including signal wiring and insulating base>
The signal wiring includes a ground wiring for grounding and a wiring circuit for sending an electric signal to the electronic component, and is generally formed by etching a copper foil.
The insulating substrate is preferably a bendable plastic such as polyester, polycarbonate, polyimide, polyphenylene sulfide, and more preferably polyimide.

電磁波シールドシートと、配線板との加熱圧着は、温度150〜190℃程度、圧力1〜3MPa程度、時間1〜60分程度の条件で行うことが一般的である。加熱圧着により熱硬化性樹脂と硬化剤が反応する。なお、硬化を促進させるため、加熱圧着後に150〜190℃で30〜90分ポストキュアを行う場合もある。なお、電磁波シールドシートは、加熱圧着後に電磁波シールド層ということがある。   In general, the thermocompression bonding between the electromagnetic wave shielding sheet and the wiring board is performed under conditions of a temperature of about 150 to 190 ° C., a pressure of about 1 to 3 MPa, and a time of about 1 to 60 minutes. The thermosetting resin and the curing agent react by thermocompression bonding. In order to accelerate curing, post-curing may be performed at 150 to 190 ° C. for 30 to 90 minutes after thermocompression bonding. In addition, an electromagnetic wave shield sheet may be called an electromagnetic wave shield layer after thermocompression bonding.

本発明のプリント配線板は、液晶ディスプレイ、タッチパネル等のほか、ノートPC、携帯電話、スマートフォン、タブレット端末等の電子機器に備えることが好ましい。   The printed wiring board of the present invention is preferably provided in an electronic device such as a notebook PC, a mobile phone, a smartphone, and a tablet terminal in addition to a liquid crystal display and a touch panel.

以下、実施例、比較例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。なお、以下の「部」及び「%」は、それぞれ「重量部」及び「重量%」に基づく値である。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited only to a following example. The following “parts” and “%” are values based on “parts by weight” and “% by weight”, respectively.

実施例で使用した原料を以下に示す。
<バインダー樹脂>
ウレタン樹脂:(熱硬化性樹脂 酸価=10mgKOH/g、アミン価=0.1mgKOH/g) トーヨーケム製社
The raw materials used in the examples are shown below.
<Binder resin>
Urethane resin: (thermosetting resin acid value = 10 mgKOH / g, amine value = 0.1 mgKOH / g) Toyochem

<導電性微粒子>
導電性微粒子1:(核体に銅、被覆層に銀を使用した樹枝状粒子 D50平均粒子径=11.0μm、)福田金属箔粉工業社製
導電性微粒子2:(核体に銅、被覆層に銀を使用した球状粒子 D50平均粒子径=10.0μm、)福田金属箔粉工業社製
導電性微粒子3:(核体に銅、被覆層に銀を使用したフレーク状粒子 D50平均粒子径=10.0μm)福田金属箔粉工業社製
<Conductive fine particles>
Conductive fine particles 1: (dendritic particles using copper for the core and silver for the coating layer D50 average particle diameter = 11.0 μm) manufactured by Fukuda Metal Foil Powder Industry Co., Ltd .: (copper for the core, coated) Spherical particles using silver for the layer D50 average particle diameter = 10.0 μm, manufactured by Fukuda Metal Foil Powder Co., Ltd. Conductive fine particles 3: (Flake particles using copper for the core and silver for the coating layer D50 average particle diameter = 10.0μm) Fukuda Metal Foil Powder Industry

<硬化剤>
エポキシ化合物:「JER828」(ビスフェノールA型エポキシ樹脂 エポキシ当量=189g/eq)三菱化学社製
アジリジン化合物:「ケミタイトPZ−33」日本触媒社製
<Curing agent>
Epoxy compound: “JER828” (bisphenol A type epoxy resin epoxy equivalent = 189 g / eq) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation Aziridine compound: “Chemite PZ-33” manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.

<陽イオン捕集剤>
IXE100:ジルコニア系無機陽イオン捕集剤、粒径1μm(東亞合成社製)
IXE300:アンチモン系無機陽イオン捕集剤、粒径0.5μm(東亞合成社製)
CDA−6:デカメチレンカルボン酸ジサリチロイルヒドラジド(ADEKA社製)
CDA−10:N,N’−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヒドラジン(ADEKA社製)
<陰イオン捕集剤>
IXE500:ビスマス系無機陰イオン捕集剤、粒径1.5μm(東亞合成社製)
IXE700F:ハイドロタルサイト系無機陰イオン捕集剤、粒径1.5μm(東亞合成社製)
<両イオン捕集剤>
IXE PLUS−A1:ジルコニア系無機陽イオン捕集剤とハイドロタルサイト系無機陰イオン捕集剤の混合物、粒径0.5μm(東亞合成社製)
<Cation collector>
IXE100: Zirconia-based inorganic cation scavenger, particle size 1 μm (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
IXE300: antimony inorganic cation scavenger, particle size 0.5 μm (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
CDA-6: Decamethylene carboxylic acid disalicyloyl hydrazide (manufactured by ADEKA)
CDA-10: N, N′-bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyl] hydrazine (manufactured by ADEKA)
<Anion collector>
IXE500: Bismuth inorganic anion scavenger, particle size 1.5 μm (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
IXE700F: Hydrotalcite-based inorganic anion scavenger, particle size 1.5 μm (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
<Both ion scavenger>
IXE PLUS-A1: Mixture of zirconia inorganic cation collector and hydrotalcite inorganic anion collector, particle size 0.5 μm (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)

[実施例1]
バインダー樹脂を100部、導電性微粒子1を450部、容器に仕込み、不揮発分濃度が40%になるようトルエン:イソプロピルアルコール(重量比=2:1)の混合溶剤を加えて混合した。次いでエポキシ化合物10部、アジリジン化合物1.0部および陽イオン捕集剤(東亜合成株式会社製「IXE100」)2部を加えディスパーで10分攪拌して導
電性接着剤を作成した。さらに得られた導電性接着剤をバーコーターを使用して乾燥厚みが10μmになるように剥離性シート上に塗工し、100℃の電気オーブンで2分間乾燥することで導電層を得た。
[Example 1]
100 parts of binder resin and 450 parts of conductive fine particles 1 were charged into a container, and a mixed solvent of toluene: isopropyl alcohol (weight ratio = 2: 1) was added and mixed so that the nonvolatile content concentration was 40%. Next, 10 parts of an epoxy compound, 1.0 part of an aziridine compound and 2 parts of a cation scavenger (“IXE100” manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.) were added and stirred with a disper for 10 minutes to prepare a conductive adhesive. Further, the obtained conductive adhesive was coated on a peelable sheet using a bar coater so as to have a dry thickness of 10 μm, and dried in an electric oven at 100 ° C. for 2 minutes to obtain a conductive layer.

別途、バインダー樹脂100部、エポキシ化合物10部およびアジリジン化合物10部を加えディスパーで10分攪拌することで絶縁性樹脂組成物を得た。次いで得られた絶縁性樹脂組成物をバーコーターを使用して乾燥厚みが10μmになるように剥離性シート上に塗工し、100℃の電気オーブンで2分間乾燥することで絶縁層を得た。さらに導電層に絶縁層を貼り合わせることで電磁波シールドシートを得た。   Separately, 100 parts of a binder resin, 10 parts of an epoxy compound and 10 parts of an aziridine compound were added and stirred with a disper for 10 minutes to obtain an insulating resin composition. Next, the obtained insulating resin composition was coated on a peelable sheet using a bar coater so that the dry thickness was 10 μm, and dried in an electric oven at 100 ° C. for 2 minutes to obtain an insulating layer. . Further, an electromagnetic wave shielding sheet was obtained by attaching an insulating layer to the conductive layer.

[実施例2〜17、比較例1]
実施例1の導電性接着剤の組成を表1、2に記載した通りに変更した以外は、実施例1と同様に行うことで実施例2〜17、比較例1の電磁波シールドシートをそれぞれ得た。
[Examples 2 to 17, Comparative Example 1]
Except that the composition of the conductive adhesive of Example 1 was changed as described in Tables 1 and 2, the electromagnetic wave shield sheets of Examples 2 to 17 and Comparative Example 1 were obtained by carrying out in the same manner as Example 1. It was.

[実施例18]
バインダー樹脂を100部、導電性微粒子1を50部、容器に仕込み、不揮発分濃度が40%になるようトルエン:イソプロピルアルコール(重量比=2:1)の混合溶剤を加えて混合した。次いでエポキシ化合物10部、アジリジン化合物1.0部および陽イオン捕集剤(東亜合成株式会社製「IXEPLAS−A1」)2部を加えディスパーで10分攪拌して導電性接着剤を作成した。さらに得られた導電性接着剤をバーコーターを使用して乾燥厚みが10μmになるように剥離性シート上に塗工し、100℃の電気オーブンで2分間乾燥することで異方導電層を得た。
[Example 18]
100 parts of binder resin and 50 parts of conductive fine particles 1 were charged into a container, and a mixed solvent of toluene: isopropyl alcohol (weight ratio = 2: 1) was added and mixed so that the nonvolatile content concentration was 40%. Next, 10 parts of an epoxy compound, 1.0 part of an aziridine compound and 2 parts of a cation scavenger (“IXEPLAS-A1” manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.) were added and stirred with a disper for 10 minutes to prepare a conductive adhesive. Furthermore, the anisotropic conductive layer was obtained by applying the obtained conductive adhesive on the peelable sheet using a bar coater so as to have a dry thickness of 10 μm, and drying in an electric oven at 100 ° C. for 2 minutes. It was.

別途、バインダー樹脂100部、エポキシ化合物10部およびアジリジン硬化剤10部を加えディスパーで10分攪拌することで絶縁性樹脂組成物を得た。次いで得られた絶縁性樹脂組成物をバーコーターを使用して乾燥厚みが10μmになるように厚さ3μmの銅キャリア付き電解銅箔の面に塗工し、100℃の電気オーブンで2分間乾燥し、微粘着剥離シートを張り合わせた。次いで、銅キャリアを剥がし、その面に異方導電層を張り合わせることで、微粘着剥離性シート/絶縁層/金属層(電解銅箔)/異方導電層/剥離性シートの構成の電磁波シールドシートを得た。   Separately, 100 parts of a binder resin, 10 parts of an epoxy compound and 10 parts of an aziridine curing agent were added and stirred with a disper for 10 minutes to obtain an insulating resin composition. Next, the obtained insulating resin composition was coated on the surface of an electrolytic copper foil with a copper carrier having a thickness of 3 μm using a bar coater so as to have a dry thickness of 10 μm, and dried for 2 minutes in an electric oven at 100 ° C. Then, a slightly adhesive release sheet was laminated. Next, the copper carrier is peeled off, and an anisotropic conductive layer is laminated on the surface thereof, whereby an electromagnetic wave shield having a configuration of a slightly adhesive release sheet / insulating layer / metal layer (electrolytic copper foil) / anisotropic conductive layer / release sheet. A sheet was obtained.

[実施例19]
実施例18の導電性接着剤の組成を表1、2に記載した通りに変更した以外は、実施例18と同様に行うことで実施例19の電磁波シールドシートを得た。
[Example 19]
An electromagnetic wave shielding sheet of Example 19 was obtained in the same manner as in Example 18 except that the composition of the conductive adhesive of Example 18 was changed as described in Tables 1 and 2.

得られた電磁波シールドシートについて以下の物性を評価した。結果を表1、2に記す。   The following physical properties of the obtained electromagnetic wave shielding sheet were evaluated. The results are shown in Tables 1 and 2.

<マイグレーション試験>
カルボキシル基含有感光性ウレタン樹脂(トーヨーケム株式会社製:酸価=67mgKOH/g、エチレン性不飽和基当量=765g/eq)の固形分100部に対して、硬化剤として、エピコート1031S(三菱化学株式会社製:多官能グリシジルエーテル型エポキシ樹脂);10部、BL3175(住化バイエルウレタン株式会社製:イソシアヌレート型ブロックイソシアネート)10部、難燃剤としてホスフィン酸アルミニウムEXOLITOP−935(クラリアントジャパン株式会社製);20部、着色剤として銅フタロシアニン顔料LIONOL BLUE FG7350(トーヨーカラー株式会社製);1部、光重合開始剤としてイルガキュアー907(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製:2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−1−プロパン);5部、光増感剤としてDETX−S(日本化薬株式会社製:2,4−ジエチルチオキサントン);0.5部を均一に溶解・混合し、横型サンドミルDYNO−MILL(株式会社シンマルエンタープライズ製)を使用して、グラインドゲージによる粒子径が10μm未満になるまで分散し、感光性樹脂組成物を得た。
<Migration test>
Epicoat 1031S (Mitsubishi Chemical Corporation) as a curing agent for 100 parts of a solid content of carboxyl group-containing photosensitive urethane resin (manufactured by Toyochem Co., Ltd .: acid value = 67 mg KOH / g, ethylenically unsaturated group equivalent = 765 g / eq) 10 parts, BL3175 (manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd .: isocyanurate type block isocyanate), aluminum phosphinate EXOLITOP-935 (made by Clariant Japan Co., Ltd.) as a flame retardant 20 parts, copper phthalocyanine pigment LIONOL BLUE FG7350 (manufactured by Toyocolor Co., Ltd.) as a colorant; 1 part, Irgacure 907 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals: 2-methyl-1- [4- ( Mechi Thio) phenyl] -2-morpholino-1-propane); 5 parts, DETX-S as a photosensitizer (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .: 2,4-diethylthioxanthone); The mixture was mixed and dispersed using a horizontal sand mill DYNO-MILL (manufactured by Shinmaru Enterprise Co., Ltd.) until the particle diameter by a grind gauge was less than 10 μm to obtain a photosensitive resin composition.

上記で得られた感光性樹脂組成物を、ドクターブレードを使用して乾燥後の厚さが40μmとなるようにポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(S-12 厚さ12
μm 東レ・デュポン社製)上に均一塗工して100℃で5分乾燥させた後、室温まで冷却し被膜を形成した。さらに得られた被膜を二軸延伸ポリプロピレンフィルム(OPPフィルム)製の剥離性シートに貼り合わせることで感光性カバーレイフィルムを得た。
感光性カバーレイフィルムの硬化後のガラス転移温度(Tg)は、60℃であった。
A polyethylene terephthalate (PET) film (S-12 thickness 12) was prepared so that the thickness after drying of the photosensitive resin composition obtained above using a doctor blade was 40 μm.
(μm manufactured by Toray DuPont) and dried at 100 ° C. for 5 minutes, and then cooled to room temperature to form a film. Furthermore, the obtained film was bonded to a peelable sheet made of a biaxially oriented polypropylene film (OPP film) to obtain a photosensitive coverlay film.
The glass transition temperature (Tg) after curing of the photosensitive coverlay film was 60 ° C.

図1を参照してマイグレーション試験を説明する。厚さ16μmの銅箔と厚さ25μmポリイミドフィルムの積層体をエッチング処理することで図1(1)の平面図に示した通り、ポリイミドフィルム1上にライン/スペース=0.050mm/0.050mmの、カソード電極接続点2’を備えたカソード電極用櫛型信号配線2と、アノード電極接続点3’を備えたアノード電極用櫛型信号配線3とをそれぞれ形成した。次いで感光性カバーレイフィルムから、OPPフィルムを剥がし、図1(2)の平面図に示した通り、カソード電極用櫛型信号配線2およびアノード電極用櫛型信号配線3を覆い、カソード電極接続点2’付近およびアノード電極接続点3’付近が露出する程度の大きさに感光性カバーレイフィルを重ね、真空ラミネートすることで感光性カバーレイフィルムを積層体に貼り合わせた。なお真空ラミネート条件は加熱温度60℃、真空時間60秒、真空到達圧2hPa、圧力0.4MPa、加圧時間60秒であった。さらに積層体の感光性カバーレイフィルムの上に厚さ120μmのPETシートを重ね、その上方から水銀ショートアークアンプ(5kW)を使用して5分間露光した。次いで、PETマイラーシートを剥がし、現像機で40秒間現像(現像液:濃度1%の炭酸ナトリウム水溶液、液温30℃、スプレー圧0.2MPa)した。現像後、150℃の熱風乾燥器で感光性カバーレイフィルムを1
時間熱硬化(ポストキュア)することでカバーコート層4付き配線板を得た。
さらに得られた電磁波シールドシートの導電層側から剥離性シートを剥がし、露出した導電層面をカバーコート層4の上に貼り合わせることで図1(3)に示す平面図の通りに積層した試料を得た。得られた試料は、図1(4)に示す試料のA−A’断面図に記載した通り導電層5bはカソード電極用櫛型信号配線2と電気的に接続している。
The migration test will be described with reference to FIG. As shown in the plan view of FIG. 1A by etching a laminate of a 16 μm thick copper foil and a 25 μm thick polyimide film, line / space = 0.050 mm / 0.050 mm on the polyimide film 1. The cathode electrode comb signal wiring 2 having the cathode electrode connection point 2 'and the anode electrode comb signal wiring 3 having the anode electrode connection point 3' were formed. Next, the OPP film is peeled off from the photosensitive cover lay film, and as shown in the plan view of FIG. 1 (2), the cathode electrode comb signal wiring 2 and the anode electrode comb signal wiring 3 are covered, and the cathode electrode connection point The photosensitive coverlay film was laminated in such a size that the vicinity of 2 ′ and the vicinity of the anode electrode connection point 3 ′ were exposed, and the photosensitive coverlay film was bonded to the laminate by vacuum lamination. The vacuum lamination conditions were a heating temperature of 60 ° C., a vacuum time of 60 seconds, a vacuum ultimate pressure of 2 hPa, a pressure of 0.4 MPa, and a pressurization time of 60 seconds. Further, a PET sheet having a thickness of 120 μm was stacked on the photosensitive coverlay film of the laminate, and exposed for 5 minutes from above using a mercury short arc amplifier (5 kW). Subsequently, the PET mylar sheet was peeled off, and developed with a developing machine for 40 seconds (developer: sodium carbonate aqueous solution with a concentration of 1%, liquid temperature 30 ° C., spray pressure 0.2 MPa). After development, the photosensitive coverlay film is 1 in a hot air dryer at 150 ° C.
A wiring board with a cover coat layer 4 was obtained by time-curing (post-cure).
Further, the peelable sheet was peeled off from the conductive layer side of the obtained electromagnetic wave shielding sheet, and the exposed conductive layer surface was bonded onto the cover coat layer 4 so that a sample laminated as shown in the plan view of FIG. Obtained. In the obtained sample, the conductive layer 5b is electrically connected to the comb signal wiring 2 for the cathode electrode as described in the AA ′ sectional view of the sample shown in FIG.

得られた試料を150℃、2.0MPa、30minの条件で熱プレスすることで熱硬化性樹脂を硬化させた。次いで、試料を85℃−85%RH(相対湿度)の雰囲気下で、アノード電極接続点3’にアノード電極を接続し、カソード電極接続点2’にカソード電極を接続した上で、電圧50Vを印加し500時間継続した。そして1000時間を経過するまでの抵抗値の変化を継続して測定した。なお下記「リークタッチ」とは、短絡による絶縁破壊があり、瞬間的に抵抗が低下し電流が流れることをいう。リークタッチがない場合は絶縁性が低下しない。評価基準は以下の通りである。

◎:500時間経過後の抵抗値が1×10Ω以上、かつリークタッチ無し。良好
○:500時間経過後の抵抗値が1×107Ω以上、かつリークタッチ無し。良好
△:500時間経過後の抵抗値が1×107Ω以上、かつリークタッチ1回有り。実用
上問題ない。
×:500時間経過後の抵抗値が1×107Ω未満、かつリークタッチ2回以上有り。
実用不可。
The obtained sample was hot-pressed under the conditions of 150 ° C., 2.0 MPa, and 30 min to cure the thermosetting resin. Next, the anode was connected to the anode electrode connection point 3 ′ and the cathode electrode was connected to the cathode electrode connection point 2 ′ in an atmosphere of 85 ° C. to 85% RH (relative humidity). Application was continued for 500 hours. And the change of the resistance value until 1000 hours passed was measured continuously. The “leak touch” described below means that there is a dielectric breakdown due to a short circuit, the resistance decreases instantaneously, and a current flows. If there is no leak touch, insulation does not decrease. The evaluation criteria are as follows.

A: Resistance value after 500 hours is 1 × 10 8 Ω or more and no leak touch. Good ○: Resistance value after 500 hours is 1 × 10 7 Ω or more and no leak touch. Good Δ: Resistance value after 500 hours is 1 × 10 7 Ω or more, and there is one leak touch. There is no problem in practical use.
×: Resistance value after 500 hours is less than 1 × 10 7 Ω, and there are two or more leak touches.
Not practical.

<屈曲性>
プレッシャークッカーテスト(PCT)後の屈曲性をJIS C6471に準拠して耐折性についてMIT試験にて測定した。
電磁波シールドシートを幅15mm、長さ120mmの大きさに準備した。また、電磁波シールドフィルムを貼り付ける被着体は、ポリイミドフィルム(厚さ12.5μm)と銅箔(厚さ18μm)とを積層した2層CCLを元に、JIS C6471に基づく形状に配線を形成した。次いで配線上に上記マイグレーション試験と同様に感光性カバーレイフィルムを貼付、露光、現像後、にポストキュアを行なうことでカバーコート層を形成した。さらに、電磁波シールドシートの導電層側の剥離性シートを剥離して露出した導電層をカバーコート層に対して、150℃、30分間、2.0MPaの条件で圧着することで試料を得た。得られた試料についてPCT試験(条件:121℃、100%RH、2気圧、24時間)を行った。PCT試験後の試料について、温度25℃、湿度50%雰囲気下で、曲率半径0.38mm、荷重500g、速度180回/minの条件でMIT試験機を使用して耐折性を測定した。評価は、屈曲を3000回行い配線が断線するまでの屈曲回数を測定した。評価基準は以下の通りである。

○:3000回以上で断線しなかった。 良好。
△:断線までに2500回以上、3000回未満 実用上問題ない。
×:2500回未満で断線した。 実用不可。
<Flexibility>
Flexibility after the pressure cooker test (PCT) was measured by MIT test for folding resistance according to JIS C6471.
An electromagnetic wave shielding sheet was prepared with a width of 15 mm and a length of 120 mm. In addition, the adherend to which the electromagnetic wave shielding film is attached is formed in a shape based on JIS C6471, based on a two-layer CCL in which a polyimide film (thickness 12.5 μm) and a copper foil (thickness 18 μm) are laminated. did. Next, a cover coat layer was formed by pasting a photosensitive coverlay film on the wiring in the same manner as in the migration test, post-curing after exposure and development. Furthermore, the sample was obtained by pressure-bonding the conductive layer exposed by peeling the peelable sheet on the conductive layer side of the electromagnetic wave shielding sheet to the cover coat layer at 150 ° C. for 30 minutes at 2.0 MPa. The obtained sample was subjected to a PCT test (conditions: 121 ° C., 100% RH, 2 atmospheres, 24 hours). With respect to the sample after the PCT test, bending resistance was measured using an MIT tester under conditions of a curvature radius of 0.38 mm, a load of 500 g, and a speed of 180 times / min in an atmosphere of a temperature of 25 ° C. and a humidity of 50%. In the evaluation, the number of bending until the wiring was broken after 3000 times of bending was measured. The evaluation criteria are as follows.

○: No disconnection after 3000 times. Good.
Δ: 2500 times or more and less than 3000 times before disconnection No problem in practical use.
X: Disconnected in less than 2500 times. Not practical.

<接着強度>
PCT後の接着強度を以下の通りに測定した。
得られた電磁波シールドシートを幅25mm・長さ70mmに準備し試料とした。試料から導電層の剥離性シートを剥がし、露出した導電層に厚さ50μmのポリイミドフィルム(「カプトン200EN」 東レ・デュポン社製)を150℃、2.0MPa、30minの条件で圧着し、熱硬化させた。熱硬化後の試料について、PCT(条件:121℃、100%RH、2気圧、24時間)を行った。次いで接着強度を安定して測定するために試料を補強した。具体的には、試料の絶縁層側の剥離性シートを剥がし、露出した絶縁層と熱硬化性接着シート(トーヨーケム社製)と、厚さ50μmのポリイミドフィルムとを重ね、150℃、1MPa、30minの条件で加熱圧着することで「ポリイミドフィルム/電磁波シールドシート/熱硬化性接着シート/ポリイミドフィルム」の積層体を得た。この積層体を引張試験機(島津製作所社製)を使用して23℃−50%RHの雰囲気下、剥離速度50mm/min、剥離角度90°で、電磁波シールドシートの導電層とポリイミドフィルムとの界面を剥離することで剥離強度を測定した。評価基準は以下の通りである。

○:6N/25mm以上。良好。
△:4N/25mm以上、6N/25mm未満。実用上問題ない。
×:4N/25mm未満。実用不可。
<Adhesive strength>
The adhesive strength after PCT was measured as follows.
The obtained electromagnetic wave shielding sheet was prepared to have a width of 25 mm and a length of 70 mm and used as a sample. The peelable sheet of the conductive layer is peeled off from the sample, and a polyimide film (“Kapton 200EN” manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.) having a thickness of 50 μm is pressure-bonded to the exposed conductive layer under conditions of 150 ° C., 2.0 MPa, 30 min, and thermosetting. I let you. The sample after thermosetting was subjected to PCT (conditions: 121 ° C., 100% RH, 2 atm, 24 hours). The sample was then reinforced in order to measure the adhesive strength stably. Specifically, the peelable sheet on the insulating layer side of the sample is peeled off, and the exposed insulating layer, a thermosetting adhesive sheet (manufactured by Toyochem Co., Ltd.), and a polyimide film having a thickness of 50 μm are stacked, and 150 ° C., 1 MPa, 30 min. A laminate of “polyimide film / electromagnetic wave shield sheet / thermosetting adhesive sheet / polyimide film” was obtained by thermocompression bonding under the above conditions. Using this tensile tester (manufactured by Shimadzu Corp.), the conductive layer of the electromagnetic wave shielding sheet and the polyimide film were peeled at a peel rate of 50 mm / min and a peel angle of 90 ° in an atmosphere of 23 ° C.-50% RH. The peel strength was measured by peeling the interface. The evaluation criteria are as follows.

○: 6 N / 25 mm or more. Good.
Δ: 4 N / 25 mm or more and less than 6 N / 25 mm. There is no problem in practical use.
X: Less than 4N / 25mm. Not practical.

<接続信頼性>
電磁波シールドシートを幅20mm、長さ50mmの大きさに準備し試料15とした。図2(1)の平面図を示して説明すると電磁波シールドシート15から剥離性シートを剥がし、露出した導電層15bを、別に作製したフレキシブルプリント配線板(厚み25μmのポリイミドフィルム11上に、互いに電気的に接続されていない厚み18μmの銅箔回路12A、および銅箔回路12Bが形成されており、銅箔回路12A上に、マイグレーション試験と同様の方法で感光性カバーレイフィルムを用いて形成した、厚み37.5μm、直径1.6mmのスルーホール14を有するカバーコート層13が積層された配線板)に150℃、2MPa、30minの条件で圧着し、導電層15bおよび絶縁層15aを硬化させることで試料を得た。次いで、試料の絶縁層15a側の剥離性シートを除去し、85℃、85%のオーブンに500時間放置した後、図2(4)の平面図に示す12A−12B間の接続信頼性を、三菱化学製「ロレスターGP」のBSPプローブを用いて抵抗値を測定することにより評価した。なお、図2(2)は、図2(1)のD−D’断面図、図2(3)は図2(1)のC−C’断面図である。同様に図2(5)は、図2(4)のD−D’断面図、図2(6)は図2(4)のC−C’断面図である。接続信頼性の評価基準は以下の通りである。

○:抵抗値が300mΩ未満 良好な結果である。
△:抵抗値が300mΩ以上700mΩ未満 実用上問題ない。
×:抵抗値が700mΩ以上 実用不可
<Connection reliability>
An electromagnetic wave shielding sheet having a width of 20 mm and a length of 50 mm was prepared as Sample 15. 2A, the peelable sheet is peeled off from the electromagnetic wave shielding sheet 15, and the exposed conductive layer 15b is electrically connected to a separately prepared flexible printed wiring board (polyimide film 11 having a thickness of 25 μm). 18 μm thick copper foil circuit 12A and copper foil circuit 12B that are not connected to each other are formed, and formed on the copper foil circuit 12A using a photosensitive coverlay film in the same manner as the migration test, Pressure bonding to a wiring board on which a cover coat layer 13 having a through hole 14 having a thickness of 37.5 μm and a diameter of 1.6 mm is laminated under conditions of 150 ° C., 2 MPa, 30 min, and curing the conductive layer 15b and the insulating layer 15a. A sample was obtained. Next, after removing the peelable sheet on the insulating layer 15a side of the sample and leaving it in an oven at 85 ° C. and 85% for 500 hours, the connection reliability between 12A and 12B shown in the plan view of FIG. Evaluation was made by measuring the resistance value using a BSP probe of “Lorestar GP” manufactured by Mitsubishi Chemical. 2 (2) is a cross-sectional view taken along the line DD ′ of FIG. 2 (1), and FIG. 2 (3) is a cross-sectional view taken along the line CC ′ of FIG. 2 (1). Similarly, FIG. 2 (5) is a DD ′ sectional view of FIG. 2 (4), and FIG. 2 (6) is a CC ′ sectional view of FIG. 2 (4). The evaluation criteria for connection reliability are as follows.

○: Resistance value is less than 300 mΩ.
Δ: Resistance value of 300 mΩ or more and less than 700 mΩ There is no practical problem.
×: Resistance value of 700 mΩ or more

表1の結果から、実施例1〜19は、マイグレーション耐性、PCT後の屈曲性、接着強度、および接続信頼性が良好な結果が得られた。この中でも、無機陽イオン捕集剤を添加した場合においてマイグレーション耐性がより優れた結果となっている。これは、感光性カバーレイフィルムのフォトリソ工程における、現像液(例えば、水酸化ナトリウム水溶液)に由来する、ナトリウムイオンなどの金属陽イオンを捕集したことで、マイグレーション耐性がより向上したものと考えられる。
また、実施例8および9で示されるように、無機陽イオン捕集剤と無機陰イオン捕集剤を併用した場合、マイグレーション耐性のみならず、屈曲性と接着強度がより良好な結果となっている。これは、陰イオン捕集剤によってエポキシ化合物由来の塩化物イオンを捕集したことで、導電接着剤層の屈曲性とPCT後の接着強度がより向上したものと考えられる。
From the results in Table 1, Examples 1 to 19 obtained results with favorable migration resistance, flexibility after PCT, adhesive strength, and connection reliability. Among these, when an inorganic cation scavenger is added, the migration resistance is more excellent. This is because the migration resistance was further improved by collecting metal cations such as sodium ions derived from the developer (for example, sodium hydroxide aqueous solution) in the photolithographic process of the photosensitive coverlay film. It is done.
Further, as shown in Examples 8 and 9, when an inorganic cation collector and an inorganic anion collector were used in combination, not only migration resistance but also flexibility and adhesive strength were obtained. Yes. This is thought to be because the flexibility of the conductive adhesive layer and the adhesive strength after PCT were further improved by collecting the chloride ions derived from the epoxy compound with the anion collector.

1 ポリイミドフィルム
2 カソード電極用櫛形信号配線
2’ カソード電極接続点
3 アノード電極用櫛形信号配線
3’ アノード電極接続点
4 カバーコート層
5 電磁波シールドシート
5a 絶縁層
5b 導電層
11 ポリイミドフィルム
12A、12B 銅箔回路
13 カバーフィルム
14 スルーホール
15a 絶縁層
15b 導電層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Polyimide film 2 Comb signal wiring 2 'for cathode electrodes Cathode electrode connection point 3 Comb signal wiring 3' for anode electrodes Anode electrode connection point 4 Cover coat layer 5 Electromagnetic wave shielding sheet 5a Insulating layer 5b Conductive layer 11 Polyimide films 12A and 12B Copper Foil circuit 13 Cover film 14 Through hole 15a Insulating layer 15b Conductive layer

Claims (5)

信号配線および絶縁性基材を有する基板上に、
アルカリ現像型の紫外線硬化型ソルダーレジストをコーティングし、乾燥させ、
紫外線により光硬化させた後、現像し、カバーコート層を形成する工程と、
前記カバーコート層上に電磁波シールドシートを加熱圧着する工程、
を備え、
電磁波シールドシートは、絶縁層および導電層を有し、
前記導電層は、熱硬化性樹脂、硬化剤、導電性微粒子、およびイオン捕集剤を含む
プリント配線板の製造方法。
On a substrate having signal wiring and an insulating base material,
Coating with alkali-developing UV curable solder resist and drying,
A step of photocuring with ultraviolet light, developing, and forming a cover coat layer;
A step of heat-pressing an electromagnetic wave shielding sheet on the cover coat layer;
With
The electromagnetic wave shielding sheet has an insulating layer and a conductive layer,
The said conductive layer is a manufacturing method of the printed wiring board containing a thermosetting resin, a hardening | curing agent, electroconductive fine particles, and an ion scavenger.
信号配線および絶縁性基材を有する基板上に、
アルカリ現像型の感光性カバーレイを貼り合わせ、
紫外線により光硬化させた後、現像し、カバーコート層を形成する工程と、
前記カバーコート層上に電磁波シールドシートを加熱圧着する工程、
を備え、
電磁波シールドシートは、絶縁層および導電層を有し、
前記導電層は、熱硬化性樹脂、硬化剤、導電性微粒子、およびイオン捕集剤を含む
プリント配線板の製造方法。
On a substrate having signal wiring and an insulating base material,
Laminate an alkali development type photosensitive coverlay,
A step of photocuring with ultraviolet light, developing, and forming a cover coat layer;
A step of heat-pressing an electromagnetic wave shielding sheet on the cover coat layer;
With
The electromagnetic wave shielding sheet has an insulating layer and a conductive layer,
The said conductive layer is a manufacturing method of the printed wiring board containing a thermosetting resin, a hardening | curing agent, electroconductive fine particles, and an ion scavenger.
熱硬化性樹脂100重量部に対して、前記イオン捕集剤を0.1〜20重量部含むことを特徴とする請求項1または2記載のプリント配線板の製造方法。The method for producing a printed wiring board according to claim 1 or 2, wherein 0.1 to 20 parts by weight of the ion scavenger is included with respect to 100 parts by weight of the thermosetting resin. 前記電磁波シールドシートは、絶縁層と、金属層と、導電性接着剤から形成されてなる導電層とを有することを特徴とする、請求項1〜3いずれか1項記載のプリント配線板の製造方法。The said electromagnetic wave shield sheet has an insulating layer, a metal layer, and the conductive layer formed from a conductive adhesive, The manufacture of the printed wiring board of any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. Method. イオン捕集剤が、陽イオン捕集剤であることを特徴とする請求項1〜4いずれか1項記載のプリント配線板の製造方法。The method for producing a printed wiring board according to claim 1, wherein the ion collector is a cation collector.
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