JP6397784B2 - Thermosetting resin composition and thermosetting sheet - Google Patents

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Description

本発明は、熱硬化性樹脂組成物、及び熱硬化性シートに関する。   The present invention relates to a thermosetting resin composition and a thermosetting sheet.

近年、電子部品あるいは電子基板材料のコストダウン化が顕著であり、そのためにより安価な樹脂を材料とした部材設計が進められている。必然的に部材の耐熱性は劣るようになり、より低温で硬化する部品接合剤の要求が高まっている。また、プロセスタクトタイムの短縮要求も強く、より短時間での硬化も同時に求められている。
エポキシ樹脂系の熱硬化を低温で行う技術として、カチオン重合を用いることは広く知られている。
In recent years, the cost reduction of electronic parts or electronic substrate materials has been remarkable, and member design using inexpensive resin as a material has been promoted. Inevitably, the heat resistance of the member becomes inferior, and the demand for a component bonding agent that cures at a lower temperature is increasing. In addition, there is a strong demand for shortening the process tact time, and there is a demand for curing in a shorter time.
The use of cationic polymerization is widely known as a technique for performing epoxy resin-based thermosetting at low temperatures.

例えば、特許文献1には、六フッ化アンチモン、六フッ化リンなどを対アニオンとして使用したスルホニウム塩がエポキシ樹脂のカチオン硬化触媒として有用であることを開示されている。特に六フッ化アンチモンを使用したスルホニウム塩は低温硬化触媒として市販されている。
また、特許文献2には、六フッ化アンチモンと同等の活性を有するテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートアニオンを使用したカチオン硬化触媒が開示されている。
これらのカチオン硬化触媒は低温硬化の活性を有するものの、そのままではエポキシ樹脂と配合した場合の保存安定性は極めて不十分であるという問題がある。
For example, Patent Document 1 discloses that a sulfonium salt using antimony hexafluoride, phosphorus hexafluoride or the like as a counter anion is useful as a cation curing catalyst for an epoxy resin. In particular, sulfonium salts using antimony hexafluoride are commercially available as low-temperature curing catalysts.
Patent Document 2 discloses a cation curing catalyst using a tetrakis (pentafluorophenyl) borate anion having an activity equivalent to that of antimony hexafluoride.
Although these cationic curing catalysts have low-temperature curing activity, there is a problem that the storage stability when blended with an epoxy resin is extremely insufficient as it is.

通常、オニウム塩型の熱カチオン重合触媒は低温硬化活性を上げるために、カチオン解離性を上げる構造設計がなされるが、このことは極性場における自然解離を招くことになり、保存安定性との両立が困難となる。
この点において、カチオン解離を別な方法で促す技術として、ラジカルにより酸発生させる技術が開示されている。例えば、非特許文献1には以下の構造によるラジカルを開始種としたオニウム塩解離及びシクロヘキセンオキシド(CHO)の重合方法について記載されている。かかる技術では、確かにラジカル種を併用することによりオキシラン化合物の重合促進効果が得られるようである。
しかし、かかる技術では、低温硬化活性が充分とはいえず、改良の余地があった。
Usually, onium salt-type thermal cation polymerization catalysts are designed to increase the cation dissociation in order to increase the low-temperature curing activity, but this leads to spontaneous dissociation in the polar field, which is considered to be storage stability. It becomes difficult to achieve both.
In this regard, as a technique for promoting cation dissociation by another method, a technique for generating an acid by a radical is disclosed. For example, Non-Patent Document 1 describes an onium salt dissociation and a polymerization method of cyclohexene oxide (CHO) using a radical having the following structure as a starting species. In such a technique, it seems that the polymerization promoting effect of the oxirane compound can be obtained by using radical species together.
However, such a technique does not have sufficient low-temperature curing activity and has room for improvement.

また、特許文献3〜5には、硬化促進などの目的で、熱硬化性樹脂組成物にアンモニウム塩系化合物を含有しうることが開示されている。しかしながら、これらの技術でも、低温硬化性と、保存安定性とを両立することはできない。
したがって、低温かつ短時間で硬化が可能で、かつ硬化前の保存安定性が確保できる熱硬化性樹脂組成物、及び熱硬化性シートの提供が求められているのが現状である。
Patent Documents 3 to 5 disclose that an ammonium salt compound can be contained in the thermosetting resin composition for the purpose of accelerating curing. However, these techniques cannot achieve both low-temperature curability and storage stability.
Therefore, the present condition is that provision of a thermosetting resin composition and a thermosetting sheet that can be cured at a low temperature in a short time and can ensure storage stability before curing is required.

特開平2−1470号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2-1470 特開平9−176112号公報JP 9-176112 A 特開2013−91687号公報JP 2013-91687 A 特開2011−132416号公報JP 2011-132416 A 特開2013−185013号公報JP 2013-185013 A

Aysen Onen and Yusuf Yagci Macromolecules 2001、34、7608−7612Aysen Onen and Yusuf Yagci Macromolecules 2001, 34, 7608-7612

本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、低温かつ短時間で硬化でき、かつ硬化前の保存安定性を確保しつつ効果的に硬化できる熱硬化性樹脂組成物、及び熱硬化性シートを提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve the above-described problems and achieve the following objects. That is, an object of the present invention is to provide a thermosetting resin composition and a thermosetting sheet that can be cured at a low temperature in a short time and can be effectively cured while ensuring storage stability before curing. .

前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
<1> カチオン硬化成分と、下記一般式(1)で表されるアンモニウム塩と、ラジカル発生剤とを含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物である。
ただし、前記一般式(1)中、R及びRは、それぞれ独立して、炭素数1〜2のアルキル基を表す。Rは、水素原子、アルキル基、アルコキシカルボニル基、及びアリールオキシカルボニル基のいずれかを表す。Yは、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルメチル基、アルコキシカルボニルメチル基、アリールカルボニル基、アリールカルボニルメチル基、N−アルキルカルバモイル基、及びN−フェニルカルバモイル基のいずれかを表す。Zは、SbF 、B(C 、C(CFSO 、及び[P(R(F)6−a(式中、Rは、それぞれ独立して、水素原子の少なくとも一部がフッ素で置換されてもよいアルキル基を示し、aは0〜5の整数を示す。)のいずれかを表す。
<2> 前記一般式(1)のZが、SbF 、B(C 、及びC(CFSO のいずれかである前記<1>に記載の熱硬化性樹脂組成物である。
<3> 前記ラジカル発生剤が、有機過酸化物である前記<1>から<2>のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物である。
<4> 更にフェノキシ樹脂を含有する前記<1>から<3>のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物である。
<5> 前記<1>から<4>のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物を含有することを特徴とする熱硬化性シートである。
Means for solving the problems are as follows. That is,
<1> A thermosetting resin composition comprising a cationic curing component, an ammonium salt represented by the following general formula (1), and a radical generator.
However, the general formula (1), R 1 and R 2 each independently represents an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms. R 3 represents any one of a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxycarbonyl group, and an aryloxycarbonyl group. Y represents any of an alkylcarbonyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkylcarbonylmethyl group, an alkoxycarbonylmethyl group, an arylcarbonyl group, an arylcarbonylmethyl group, an N-alkylcarbamoyl group, and an N-phenylcarbamoyl group. Z represents SbF 6 , B (C 6 F 5 ) 4 , C (CF 3 SO 2 ) 3 , and [P (R 8 ) a (F) 6−a ] (wherein R 8 Each independently represents an alkyl group in which at least a part of hydrogen atoms may be substituted with fluorine, and a represents an integer of 0 to 5.
<2> the general formula (1) Z - is, SbF 6 -, B (C 6 F 5) 4 -, and C (CF 3 SO 2) 3 - of according to <1> is either It is a thermosetting resin composition.
<3> The thermosetting resin composition according to any one of <1> to <2>, wherein the radical generator is an organic peroxide.
<4> The thermosetting resin composition according to any one of <1> to <3>, further including a phenoxy resin.
<5> A thermosetting sheet comprising the thermosetting resin composition according to any one of <1> to <4>.

本発明によれば、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、低温かつ短時間で硬化でき、かつ硬化前の保存安定性を確保しつつ効果的に硬化できる熱硬化性樹脂組成物、及び熱硬化性シートを提供することができる。   According to the present invention, the conventional problems can be solved, the object can be achieved, the curing can be performed at a low temperature and in a short time, and the curing can be effectively cured while ensuring the storage stability before curing. Resin composition and thermosetting sheet can be provided.

(熱硬化性樹脂組成物)
本発明の熱硬化性樹脂組成物は、カチオン硬化成分と、特定の構造のアンモニウム塩と、ラジカル発生剤とを少なくとも含有し、好ましくは膜形成樹脂を含有し、更に必要に応じて、その他の成分を含有する。
上記要件を満たす、本発明の熱硬化性樹脂組成物は、低温短時間硬化性及び保存安定性の両方に優れたものとなる。
(Thermosetting resin composition)
The thermosetting resin composition of the present invention contains at least a cationic curing component, an ammonium salt having a specific structure, and a radical generator, preferably contains a film-forming resin, and further contains other resins as necessary. Contains ingredients.
The thermosetting resin composition of the present invention that satisfies the above requirements is excellent in both low-temperature short-time curability and storage stability.

本発明者は、前記非特許文献1に記載の構造を有するアンモニウム塩を含有させて熱硬化シートを作製したところ、かかる非特許文献1に記載のアンモニウム塩では、低温硬化活性が不十分であることがわかった(後述する実施例において、比較化合物例2(非特許文献1中の、上記EADAに相当するアンモニウム塩)を含有する比較例2の結果参照)。
そこで、本発明者は、種々の実験を行い、熱硬化性樹脂組成物の含有成分について研究を重ねた結果、特定のアンモニウム塩と熱によりラジカルを発生するラジカル発生剤とを組み合わせて含有させ、カチオン系硬化剤としての特定のアンモニウム塩を活性化させることにより、保存安定性を確保しつつ、かつ低温短時間硬化性に優れた熱硬化樹脂組成物が得られることを見出した。
本発明で規定する一般式(1)で表される化合物が非特許文献1に記載の化合物に対して低温短時間硬化性が優れる理由は明らかではないが、ラジカル発生剤から発生したラジカルが本発明のアンモニウム塩に付加した後に生成するアミンのカチオンラジカルの生成速度は非特許文献1に記載の構造のものよりも高く、その後のプロトン放出を迅速に行っている結果、より低温でカチオン硬化が進行するものと考えている。
The inventor made a thermosetting sheet by containing an ammonium salt having the structure described in Non-Patent Document 1, and the ammonium salt described in Non-Patent Document 1 has insufficient low-temperature curing activity. It was found that (see the results of Comparative Example 2 containing Comparative Compound Example 2 (ammonium salt corresponding to the above EADA in Non-Patent Document 1) in Examples described later).
Therefore, the present inventor conducted various experiments, and as a result of repeated research on the components contained in the thermosetting resin composition, the specific ammonium salt and a radical generator that generates radicals by heat are contained in combination. It has been found that by activating a specific ammonium salt as a cationic curing agent, a thermosetting resin composition excellent in low-temperature and short-time curability can be obtained while ensuring storage stability.
The reason why the compound represented by the general formula (1) defined in the present invention is excellent in low-temperature and short-time curability with respect to the compound described in Non-Patent Document 1 is not clear, but the radical generated from the radical generator is The generation rate of the cation radical of the amine generated after addition to the ammonium salt of the invention is higher than that of the structure described in Non-Patent Document 1, and as a result of rapid proton release thereafter, the cation curing can be performed at a lower temperature. I think it will progress.

<カチオン硬化成分>
前記カチオン硬化成分としては、カチオン系硬化剤としての特定のアンモニウム塩の作用により硬化する成分であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エポキシ化合物、ビニルエーテル化合物、オキセタン化合物、及び環状エーテル化合物などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
<Cationic curing component>
The cationic curing component is not particularly limited as long as it is a component that is cured by the action of a specific ammonium salt as a cationic curing agent, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, an epoxy compound, a vinyl ether compound , Oxetane compounds, and cyclic ether compounds. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

前記エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ポリグリシジルエーテル、ポリグリシジルエステル、芳香族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、ノボラック型エポキシ化合物、グリシジルアミン系エポキシ化合物、グリシジルエステル系エポキシ化合物、ビフェニルジグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート、ポリグリシジルメタクリレート、グリシジルメタクリレートと前記グリシジルメタクリレートと共重合可能なビニル単量体との共重合体などが挙げられる。   Examples of the epoxy compound include bisphenol type epoxy resin, polyglycidyl ether, polyglycidyl ester, aromatic epoxy compound, alicyclic epoxy compound, novolac type epoxy compound, glycidylamine type epoxy compound, glycidyl ester type epoxy compound, biphenyl. Examples thereof include diglycidyl ether, triglycidyl isocyanurate, polyglycidyl methacrylate, and a copolymer of glycidyl methacrylate and a vinyl monomer copolymerizable with the glycidyl methacrylate.

前記脂環式エポキシ化合物としては、例えば、シクロヘキセンオキシド含有化合物、シクロペンテンオキシド含有化合物などが挙げられる。   Examples of the alicyclic epoxy compound include a cyclohexene oxide-containing compound and a cyclopentene oxide-containing compound.

前記ビニルエーテル化合物としては、例えば、アルキルビニルエーテル化合物、アルケニルビニルエーテル化合物、アルキニルビニルエーテル化合物、アリールビニルエーテル化合物などが挙げられる。   Examples of the vinyl ether compound include alkyl vinyl ether compounds, alkenyl vinyl ether compounds, alkynyl vinyl ether compounds, and aryl vinyl ether compounds.

前記オキセタン化合物としては、オキセタンアルコール、脂肪族オキセタン化合物、芳香族オキセタン化合物などが挙げられる。   Examples of the oxetane compound include oxetane alcohols, aliphatic oxetane compounds, and aromatic oxetane compounds.

前記熱硬化性樹脂組成物における前記カチオン硬化成分の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記熱硬化性樹脂組成物の不揮発分に対して、10質量%〜98質量%が好ましく、20質量%〜90質量%がより好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as content of the said cationic hardening component in the said thermosetting resin composition, Although it can select suitably according to the objective, It is 10 with respect to the non volatile matter of the said thermosetting resin composition. % By mass to 98% by mass is preferable, and 20% by mass to 90% by mass is more preferable.

<一般式(1)で表されるアンモニウム塩>
本発明では、カチオン系硬化剤として、下記一般式(1)で表されるアンモニウム塩化合物を含有する。
ただし、前記一般式(1)中、R及びRは、それぞれ独立して、炭素数1〜2のアルキル基を表す。Rは、水素原子、アルキル基、アルコキシカルボニル基、及びアリールオキシカルボニル基のいずれかを表す。Yは、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルメチル基、アルコキシカルボニルメチル基、アリールカルボニル基、アリールカルボニルメチル基、N−アルキルカルバモイル基、及びN−フェニルカルバモイル基のいずれかを表す。Zは、SbF 、B(C 、C(CFSO 、及び[P(R(F)6−a(式中、Rは、それぞれ独立して、水素原子の少なくとも一部がフッ素で置換されてもよいアルキル基を示し、aは0〜5の整数を示す。)のいずれかを表す。
<Ammonium salt represented by the general formula (1)>
In this invention, the ammonium salt compound represented by following General formula (1) is contained as a cationic hardening | curing agent.
However, the general formula (1), R 1 and R 2 each independently represents an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms. R 3 represents any one of a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxycarbonyl group, and an aryloxycarbonyl group. Y represents any of an alkylcarbonyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkylcarbonylmethyl group, an alkoxycarbonylmethyl group, an arylcarbonyl group, an arylcarbonylmethyl group, an N-alkylcarbamoyl group, and an N-phenylcarbamoyl group. Z represents SbF 6 , B (C 6 F 5 ) 4 , C (CF 3 SO 2 ) 3 , and [P (R 8 ) a (F) 6−a ] (wherein R 8 Each independently represents an alkyl group in which at least a part of hydrogen atoms may be substituted with fluorine, and a represents an integer of 0 to 5.

前記R及びRの炭素数1〜2のアルキル基としては、メチル基、及びエチル基が挙げられる。
前記Rのアルキル基としては、例えば炭素数1〜4のアルキル基が挙げられ、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。
前記Rのアルコキシカルボニル基としては、例えば炭素数1〜8のアルコキシカルボニル基が挙げられ、具体的には、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基等が挙げられる。
前記Rのアリールオキシカルボニル基としては、例えば置換、無置換のフェノキシカルボニル基、トリロキシカルボニル基、キシリロキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基等が挙げられ、置換基としては、例えばヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基等が挙げられる。
Examples of the alkyl group having 1 to 2 carbon atoms of R 1 and R 2 include a methyl group and an ethyl group.
Examples of the alkyl group for R 3 include an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and examples include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, and an isobutyl group.
Examples of the alkoxycarbonyl group for R 3 include an alkoxycarbonyl group having 1 to 8 carbon atoms, and specific examples include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, and an n-butoxycarbonyl group. .
Examples of the aryloxycarbonyl group for R 3 include a substituted or unsubstituted phenoxycarbonyl group, a triroxycarbonyl group, a xylyloxycarbonyl group, and a naphthoxycarbonyl group. Examples of the substituent include a hydroxyl group and an alkoxy group. Group, carboxyl group and the like.

前記Yのアルキルカルボニル基としては、例えば炭素数2〜8のアルキルカルボニル基が挙げられる。
前記Yのアルコキシカルボニル基としては、例えば炭素数2〜8のアルコキシカルボニル基が挙げられる。
前記Yのアルキルカルボニルメチル基としては、例えば炭素数3〜10のアルキルカルボニルメチル基が挙げられる。
前記Yのアルコキシカルボニルメチル基としては、例えば炭素数3〜10のアルコキシカルボニルメチル基が挙げられる。
前記Yのアリールカルボニル基としては、例えば置換、無置換のフェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基が挙げられ、置換基としては、例えばアルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等が挙げられる。
前記Yのアリールカルボニルメチル基としては、例えば置換、無置換のフェニルカルボニルメチル基、ナフチルカルボニルメチル基が挙げられ、置換基としては、例えばアルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等が挙げられる。
前記YのN−アルキルカルバモイル基としては、例えば炭素数2〜10のN−アルキルカルバモイル基が挙げられる。
前記YのN−フェニルカルバモイル基としては、例えば炭素数7〜12のN−フェニルカルバモイル基が挙げられる。N−フェニルカルバモイル基におけるフェニル基は、置換基を有してもよい。
As said alkylcarbonyl group of Y, a C2-C8 alkylcarbonyl group is mentioned, for example.
Examples of the alkoxycarbonyl group for Y include an alkoxycarbonyl group having 2 to 8 carbon atoms.
Examples of the alkylcarbonylmethyl group for Y include an alkylcarbonylmethyl group having 3 to 10 carbon atoms.
Examples of the alkoxycarbonylmethyl group for Y include an alkoxycarbonylmethyl group having 3 to 10 carbon atoms.
Examples of the arylcarbonyl group for Y include substituted and unsubstituted phenylcarbonyl groups and naphthylcarbonyl groups. Examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxyl group, and a carboxyl group.
Examples of the arylcarbonylmethyl group for Y include a substituted or unsubstituted phenylcarbonylmethyl group and a naphthylcarbonylmethyl group. Examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxyl group, and a carboxyl group. .
Examples of the N-alkylcarbamoyl group for Y include N-alkylcarbamoyl groups having 2 to 10 carbon atoms.
Examples of the N-phenylcarbamoyl group for Y include an N-phenylcarbamoyl group having 7 to 12 carbon atoms. The phenyl group in the N-phenylcarbamoyl group may have a substituent.

前記一般式(1)で表されるアンモニウム塩のカチオン部の具体的な構造としては、例えば、以下の構造が挙げられる。
Examples of the specific structure of the cation moiety of the ammonium salt represented by the general formula (1) include the following structures.

前記一般式(1)におけるXは、アニオンであり、具体的には、SbF 、B(C 、C(CFSO 、及び[P(R(F)6−a(式中、Rは、それぞれ独立して、水素原子の少なくとも一部がフッ素で置換されてもよいアルキル基を示し、aは0〜5の整数を示す。)である。 X in the general formula (1) is an anion, specifically, SbF 6 , B (C 6 F 5 ) 4 , C (CF 3 SO 2 ) 3 , and [P (R 8). ) a (F) 6-a ] - ( wherein, R 8 are each independently at least a portion of the hydrogen atom is an alkyl group which may be substituted with fluorine, a is an integer of 0 to 5 It is shown.)

前記Rのアルキル基としては、例えば、炭素数1〜10のアルキル基が挙げられ、特に炭素数1〜4のパーフルオロアルキル基が好ましい。具体的には、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基が挙げられる。
この中で、より低温硬化性が得られる点で、SbF 、B(C 、及びC(CFSO が好ましい。
Examples of the alkyl group for R 8 include an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms is particularly preferable. Specific examples include a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, a heptafluoropropyl group, and a nonafluorobutyl group.
Among these, SbF 6 , B (C 6 F 5 ) 4 , and C (CF 3 SO 2 ) 3 are preferable in that lower temperature curability can be obtained.

前記熱硬化性樹脂組成物における前記一般式(1)で表されるアンモニウム塩の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記熱硬化性樹脂組成物の不揮発分に対して、0.5質量%〜20質量%が好ましく、2質量%〜15質量%がより好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as content of the ammonium salt represented by the said General formula (1) in the said thermosetting resin composition, Although it can select suitably according to the objective, The said thermosetting resin composition The non-volatile content is preferably 0.5% by mass to 20% by mass, and more preferably 2% by mass to 15% by mass.

<ラジカル発生剤>
前記ラジカル発生剤としては、熱によりラジカルを発生するものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アゾ系化合物、有機及び無機過酸化物などが挙げられる。これらの中でも、保存安定性が得やすい点で、有機過酸化物が好ましい。
前記有機過酸化物としては、例えば、ジアシルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート、パーオキシエステル、パーオキシケタール、ジアルキルパーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、シリルパーオキサイドが挙げられる。これらのうち、低温活性が得やすい点で、ジアシルパーオキサイド、パーオキシエステル、パーオキシジカーボネート、パーオキシケタールが好ましい。
また、これら熱によりラジカルを発生する化合物は複数を併用して用いることができる。
<Radical generator>
The radical generator is not particularly limited as long as it generates radicals by heat and can be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include azo compounds, organic and inorganic peroxides. . Among these, an organic peroxide is preferable in terms of easy storage stability.
Examples of the organic peroxide include diacyl peroxide, peroxydicarbonate, peroxyester, peroxyketal, dialkyl peroxide, hydroperoxide, and silyl peroxide. Of these, diacyl peroxide, peroxyester, peroxydicarbonate, and peroxyketal are preferable in that low temperature activity is easily obtained.
A plurality of these compounds that generate radicals by heat can be used in combination.

前記熱硬化性樹脂組成物における前記ラジカル発生剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記熱硬化性樹脂組成物の不揮発分に対して、0.3質量%〜20質量%が好ましく、0.5質量%〜15質量%がより好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as content of the said radical generator in the said thermosetting resin composition, Although it can select suitably according to the objective, It is 0 with respect to the non volatile matter of the said thermosetting resin composition. .3% by mass to 20% by mass is preferable, and 0.5% by mass to 15% by mass is more preferable.

<膜形成樹脂>
前記膜形成樹脂としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリアクリル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステルウレタン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、製膜性、加工性の点からフェノキシ樹脂が特に好ましい。
<Film forming resin>
The film-forming resin is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. For example, polyacrylic resin, phenoxy resin, polyester resin, polyurethane resin, polyester urethane resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl formal resin, Examples thereof include polyamide resin and polyimide resin. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together. Among these, a phenoxy resin is particularly preferable from the viewpoint of film formability and processability.

前記フェノキシ樹脂としては、例えば、2官能フェノール類とエピクロルヒドリンとを反応させ高分子量化したもの、あるいは2官能エポキシ樹脂と2官能フェノール類とを重付加することにより得られる樹脂などが挙げられる。
使用される2官能エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビフェニルジグリシジルエーテル、メチル置換ビフェニルジグリシジルエーテルなどが挙げられる。
また、2官能フェノール類としては、例えば、ハイドロキノン類、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールAD、ビスフェノールS、ビスフェノールフルオレン、メチル置換ビスフェノールフルオレン、ジヒドロキシビフェニル、メチル置換ジヒドロキシビフェニル等のビスフェノール類などが挙げられる。
Examples of the phenoxy resin include those obtained by reacting a bifunctional phenol with epichlorohydrin to increase the molecular weight, or a resin obtained by polyaddition of a bifunctional epoxy resin and a bifunctional phenol.
Examples of the bifunctional epoxy resin used include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, biphenyl diglycidyl ether, and methyl-substituted biphenyl diglycidyl ether. It is done.
Examples of the bifunctional phenols include hydroquinones, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, bisphenol S, bisphenol fluorene, methyl-substituted bisphenol fluorene, bisphenols such as dihydroxybiphenyl and methyl-substituted dihydroxybiphenyl.

前記熱硬化性樹脂組成物における前記膜形成樹脂の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記熱硬化性樹脂組成物の不揮発分に対して、10質量%〜90質量%が好ましく、20質量%〜80質量%がより好ましく、30質量%〜60質量%が特に好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as content of the said film formation resin in the said thermosetting resin composition, Although it can select suitably according to the objective, It is 10 with respect to the non volatile matter of the said thermosetting resin composition. % By mass to 90% by mass is preferable, 20% by mass to 80% by mass is more preferable, and 30% by mass to 60% by mass is particularly preferable.

<その他の成分>
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、チキソトロピー剤、充填剤、レベリング剤、酸化防止剤、重合禁止剤、光安定剤、着色剤、導電性付与剤、接着付与剤などが挙げられる。
特に、重合禁止剤、あるいは酸化防止剤を含有することは、本発明の熱硬化性樹脂組成物の保存中のラジカルトラップとして機能し、保存安定性を向上させる場合があり好ましい。
<Other ingredients>
The other components are not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, thixotropic agents, fillers, leveling agents, antioxidants, polymerization inhibitors, light stabilizers, colorants, conductive agents Examples include property imparting agents and adhesion imparting agents.
In particular, it is preferable to contain a polymerization inhibitor or an antioxidant because it functions as a radical trap during storage of the thermosetting resin composition of the present invention and may improve storage stability.

前記重合禁止剤あるいは前記酸化防止剤としては、ラジカル重合の重合禁止剤である限り特に限定はなく、例として、フェノール系重合禁止剤、アミン系重合禁止剤、スピントラップ剤などが挙げられる。
前記フェノール系重合禁止剤の例としては、ハイドロキノン、2−t−ブチルハイドロキノン、2−t−ブチル−4−メトキシフェノール、2,3−ジ−t−ブチル−4−メトキシフェノール、p−メトキシフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、4−アリル−2−メトキシフェノール、4−t−ブチルカテコール、4,4’チオビス(6−t−ブチル−m−クレゾール)、2,5−ジ−t−ブチルヒドロキノン、2,5−ジ−t−アミルヒドロキノン、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネ−ト、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、3,9−ビス〔1,1−ジメチル−2−〔β−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ〕エチル〕−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス−〔メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネ−ト〕メタン、ビス〔3,3’−ビス(4’−ヒドロキシ−3’−ブチルフェニル)ブチリックアシッド〕グリコールエステル、1,3,5−トリス(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシベンジル)−2−トリアジン−2,4,6−(1H,3H,5H)トリオン、α−トコフェノール等が挙げられる。
The polymerization inhibitor or the antioxidant is not particularly limited as long as it is a polymerization inhibitor for radical polymerization, and examples thereof include a phenol polymerization inhibitor, an amine polymerization inhibitor, and a spin trap agent.
Examples of the phenol polymerization inhibitor include hydroquinone, 2-t-butylhydroquinone, 2-t-butyl-4-methoxyphenol, 2,3-di-t-butyl-4-methoxyphenol, and p-methoxyphenol. 2,6-di-t-butyl-p-cresol, 4-allyl-2-methoxyphenol, 4-t-butylcatechol, 4,4′thiobis (6-t-butyl-m-cresol), 2, 5-di-t-butylhydroquinone, 2,5-di-t-amylhydroquinone, 2,6-di-t-butyl-4-ethylphenol, stearyl-β- (3,5-di-t-butyl- 4-hydroxyphenyl) propionate, 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2′-methylenebis (4-ethyl-6-tert-butylphenol) 4,4′-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4′-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 3,9-bis [1,1- Dimethyl-2- [β- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] ethyl] -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane, 1,1 , 3-Tris (2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl) butane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4- Hydroxybenzyl) benzene, tetrakis- [methylene-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate] methane, bis [3,3′-bis (4′-hydroxy) -3'-butylphenyl) butyryl Quad] glycol ester, 1,3,5-tris (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxybenzyl) -2-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) trione , Α-tocophenol and the like.

前記アミン系重合禁止剤の例としては、2−フェニルインドール、N,N’−ジフェニルエチレンジアミン、N,N’−ジサリシラールプロピレンジアミン、フェノチアジン等が挙げられる。
前記スピントラップ剤の例としては、ジフェニルピクリルヒドラジルラジカル、2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシラジカル、1,1,3,3−テトラメチルイソインドール−2−オキシラジカル等が挙げられる。
Examples of the amine polymerization inhibitor include 2-phenylindole, N, N′-diphenylethylenediamine, N, N′-disalisilalpropylenediamine, and phenothiazine.
Examples of the spin trapping agent include diphenylpicrylhydrazyl radical, 2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidinyloxy radical, 1,1,3,3-tetramethylisoindole-2- An oxy radical etc. are mentioned.

これらのうち、酸性環境でも機能するという観点でフェノール系重合禁止剤が好ましい。
前記重合禁止剤あるいは前記酸化防止剤の熱硬化性樹脂組成物への含有量としては、前記一般式(1)の化合物に対して、0.1mol%から3mol%が好ましい。
Among these, a phenol polymerization inhibitor is preferable from the viewpoint of functioning in an acidic environment.
The content of the polymerization inhibitor or the antioxidant in the thermosetting resin composition is preferably 0.1 mol% to 3 mol% with respect to the compound of the general formula (1).

(熱硬化性シート)
本発明の前記熱硬化性シートは、本発明の前記熱硬化性樹脂組成物を含有し、更に必要に応じて、その他の成分を含有する。
(Thermosetting sheet)
The said thermosetting sheet | seat of this invention contains the said thermosetting resin composition of this invention, and also contains another component as needed.

前記熱硬化性シートは、例えば、基材フィルム(剥離基材)上に前記熱硬化性樹脂組成物からなる熱硬化性接着層が形成されてなるものである。前記基材フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリイミドフィルムなどが挙げられる。
前記熱硬化性シートは、保管性、使用時のハンドリング性などの観点から、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリイミドフィルム等に必要に応じてシリコーン等で剥離処理した基材フィルムに、前記熱硬化性樹脂組成物からなる熱硬化性接着層が10μm〜50μmの平均厚みで形成されていることが好ましい。
The thermosetting sheet is formed, for example, by forming a thermosetting adhesive layer made of the thermosetting resin composition on a base film (peeling base). Examples of the base film include a polyethylene terephthalate film and a polyimide film.
From the viewpoints of storage properties, handling properties during use, and the like, the thermosetting sheet is obtained by applying the thermosetting resin composition to a base film that is peel-treated with silicone or the like as necessary for a polyethylene terephthalate film, a polyimide film, or the like. It is preferable that the thermosetting adhesive layer made of is formed with an average thickness of 10 μm to 50 μm.

前記熱硬化性樹脂組成物、及び前記熱硬化性シートは、電子部品分野に好ましく適用できる。特に、前記熱硬化性シートは、フレキシブルプリント配線板の端子部等と、その裏打ちするためのポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ガラスエポキシ、ステンレス、アルミニウム等の厚み50μm〜2mmの補強用シートとを接着固定するために好ましく適用でき、その適用により、フレキシブルプリント配線板の端子部と補強用シートとが、本発明の熱硬化性シートの基材フィルムを除いた熱硬化性接着層の熱硬化物で接着固定されてなる補強フレキシブルプリント配線板が得られる。   The thermosetting resin composition and the thermosetting sheet can be preferably applied to the field of electronic components. In particular, the thermosetting sheet adheres and fixes a terminal portion of a flexible printed wiring board and a reinforcing sheet having a thickness of 50 μm to 2 mm such as polyethylene terephthalate, polyimide, glass epoxy, stainless steel, and aluminum for lining the same. Therefore, the terminal portion of the flexible printed wiring board and the reinforcing sheet can be bonded and fixed with the thermosetting material of the thermosetting adhesive layer excluding the base film of the thermosetting sheet of the present invention. Thus, a reinforced flexible printed wiring board is obtained.

熱硬化性シートを接着シートとして使用する場合、組成中には熱可塑性樹脂が含有されていることが好ましい。使用される熱可塑性樹脂としては、前記<膜形成樹脂>の欄でも記載のポリアクリル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステルウレタン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、及びエポキシ樹脂等が挙げられる。この中でも、上述したように成膜性、相溶性、耐熱性の観点でフェノキシ樹脂が含有されていることが好ましい。
金属を接着する接着シートとして使用される場合、組成中にシランカップリング剤を含有することが好ましい。シランカップリング剤の種類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばエポキシ系シランカップリング剤、アクリル系シランカップリング剤、チオール系シランカップリング剤、アミン系シランカップリング剤などが挙げられる。
導電性を付与する接着シートとして使用される場合、組成中に導電性粒子を含有することが好ましい。導電粒子の種類は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば金、銀、銅、スズ、ニッケル等の金属粒子、金属酸化物あるいはシリカ等の無機粒子に金属メッキあるいは蒸着等により金属を被覆した粒子、樹脂粒子に金属メッキあるいは蒸着等により金属を被覆した粒子などが挙げられる。粒子の形状も特に制限はなく、球状、針状、不定形、細かい突起を有する形状等が挙げられる。
When using a thermosetting sheet as an adhesive sheet, it is preferable that a thermoplastic resin is contained in the composition. As the thermoplastic resin used, the polyacryl resin, phenoxy resin, polyester resin, polyurethane resin, polyester urethane resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl formal resin, polyamide resin, polyimide resin described in the section of <Film-forming resin> And epoxy resin. Among these, as described above, the phenoxy resin is preferably contained from the viewpoints of film formability, compatibility, and heat resistance.
When used as an adhesive sheet for bonding metals, it is preferable that a silane coupling agent is contained in the composition. There is no restriction | limiting in particular as a kind of silane coupling agent, According to the objective, it can select suitably, For example, an epoxy-type silane coupling agent, an acrylic-type silane coupling agent, a thiol-type silane coupling agent, an amine-type silane A coupling agent etc. are mentioned.
When used as an adhesive sheet that imparts conductivity, it is preferable to contain conductive particles in the composition. The type of the conductive particles is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. For example, metal particles such as gold, silver, copper, tin, and nickel, metal particles, or inorganic particles such as silica are subjected to metal plating or Examples thereof include particles coated with metal by vapor deposition and the like, and particles coated with metal by metal plating or vapor deposition on resin particles. The shape of the particle is not particularly limited, and examples thereof include a spherical shape, a needle shape, an irregular shape, and a shape having fine protrusions.

以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。   Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.

(合成例p−1)
<化合物p−1の合成>
攪拌器、冷却管、窒素導入管を設置した200mL三口フラスコに3−(ジメチルアミノ)フェノール5.00g(0.0364mol)、脱水アセトニトリル50mL、トリエチルアミン4.42g(0.0437mol)を入れ、毎分100mLの窒素ガスを導入しながらそこにアセチルクロライド3.14g(0.0400mol)を20分かけて滴下し、その後さらに2時間攪拌した。攪拌終了後、濾過を行い、析出したトリエチルアミンの塩酸塩を除去し、濾液を減圧濃縮後、酢酸エチルと純水にて分液を行い、さらに酢酸エチル相の水洗を3回行った。その後、酢酸エチル相を減圧濃縮し、さらに24時間減圧乾燥することで、下記構造式(p−1)で表される化合物p−1の液状物5.64g(収率86.4%)を得た。
(Synthesis Example p-1)
<Synthesis of Compound p-1>
A 200 mL three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser tube, and a nitrogen inlet tube was charged with 5.00 g (0.0364 mol) of 3- (dimethylamino) phenol, 50 mL of dehydrated acetonitrile and 4.42 g (0.0437 mol) of triethylamine every minute. While introducing 100 mL of nitrogen gas, 3.14 g (0.0400 mol) of acetyl chloride was added dropwise thereto over 20 minutes, followed by further stirring for 2 hours. After completion of the stirring, filtration was performed to remove the precipitated hydrochloride of triethylamine, the filtrate was concentrated under reduced pressure, then separated with ethyl acetate and pure water, and the ethyl acetate phase was washed with water three times. Thereafter, the ethyl acetate phase was concentrated under reduced pressure, and further dried under reduced pressure for 24 hours to obtain 5.64 g (yield: 86.4%) of a liquid compound p-1 represented by the following structural formula (p-1). Obtained.

(合成例p−2)
<化合物p−2の合成>
攪拌器、冷却管、窒素導入管を設置した200mL三口フラスコに3−(ジメチルアミノ)フェノール5.00g(0.0364mol)、脱水アセトニトリル50mL、トリエチルアミン4.42g(0.0437mol)を入れ、10℃に冷却後、毎分100mLの窒素ガスを導入しながらそこにクロロ蟻酸メチル3.78g(0.0400mol)を20分かけて滴下し、その後さらに4時間攪拌した。攪拌終了後、濾過を行い、析出したトリエチルアミンの塩酸塩を除去し、濾液を減圧濃縮後、酢酸エチルと純水にて分液を行い、さらに酢酸エチル相の水洗を3回行った。その後、酢酸エチル相を減圧濃縮し、さらに24時間減圧乾燥することで、下記構造式(p−2)で表される化合物p−2の液状物6.37g(収率89.7%)を得た。
(Synthesis Example p-2)
<Synthesis of Compound p-2>
A 200 mL three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser tube, and a nitrogen inlet tube was charged with 5.00 g (0.0364 mol) of 3- (dimethylamino) phenol, 50 mL of dehydrated acetonitrile, and 4.42 g (0.0437 mol) of triethylamine. After cooling to 100 mL of nitrogen gas per minute, 3.78 g (0.0400 mol) of methyl chloroformate was added dropwise over 20 minutes, followed by further stirring for 4 hours. After completion of the stirring, filtration was performed to remove the precipitated hydrochloride of triethylamine, the filtrate was concentrated under reduced pressure, then separated with ethyl acetate and pure water, and the ethyl acetate phase was washed with water three times. Thereafter, the ethyl acetate phase was concentrated under reduced pressure, and further dried under reduced pressure for 24 hours to obtain 6.37 g (yield: 89.7%) of a liquid compound p-2 represented by the following structural formula (p-2). Obtained.

(合成例p−3)
<化合物p−3の合成>
攪拌器、冷却管、窒素導入管を設置した200mL三口フラスコに3−(ジメチルアミノ)フェノール5.00g(0.0364mol)、脱水アセトニトリル30mL、炭酸カリウム6.03g(0.0437mol)を入れ、70℃に昇温して30分攪拌した。毎分100mLの窒素ガスを導入しながらそこにクロロ酢酸メチル4.34g(0.0400mol)を10分かけて滴下し、その後さらに4時間攪拌した。攪拌終了後、濾過を行い、濾液を減圧濃縮後、酢酸エチルと純水にて分液を行い、さらに酢酸エチル相の水洗を3回行った。その後、酢酸エチル相を減圧濃縮し、さらに24時間減圧乾燥することで、下記構造式(p−3)で表される化合物p−3の液状物6.66g(収率87.5%)を得た。
(Synthesis Example p-3)
<Synthesis of Compound p-3>
In a 200 mL three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser tube, and a nitrogen inlet tube, 5.00 g (0.0364 mol) of 3- (dimethylamino) phenol, 30 mL of dehydrated acetonitrile and 6.03 g (0.0437 mol) of potassium carbonate were placed. The temperature was raised to ° C. and stirred for 30 minutes. While introducing 100 mL of nitrogen gas per minute, 4.34 g (0.0400 mol) of methyl chloroacetate was added dropwise over 10 minutes, and the mixture was further stirred for 4 hours. After completion of the stirring, the mixture was filtered, and the filtrate was concentrated under reduced pressure, then separated with ethyl acetate and pure water, and the ethyl acetate phase was washed with water three times. Thereafter, the ethyl acetate phase was concentrated under reduced pressure, and further dried under reduced pressure for 24 hours to obtain 6.66 g (yield 87.5%) of a liquid product of compound p-3 represented by the following structural formula (p-3). Obtained.

(合成例p−4)
<化合物p−4の合成>
攪拌器、冷却管、窒素導入管を設置した200mL三口フラスコに3−(ジメチルアミノ)フェノール5.00g(0.0364mol)、脱水アセトニトリル30mL、炭酸カリウム6.03g(0.0437mol)を入れ、70℃に昇温して30分攪拌した。毎分100mLの窒素ガスを導入しながらそこに1−クロロピナコリン5.42g(0.0400mol)を10分かけて滴下し、その後さらに4時間攪拌した。攪拌終了後、濾過を行い、さらに残渣をアセトニトリルで洗浄し、濾液を減圧濃縮後、酢酸エチルと純水にて分液を行い、さらに酢酸エチル相の水洗を3回行った。その後、酢酸エチル相を減圧濃縮し、さらに24時間減圧乾燥することで、下記構造式(p−4)で表される化合物p−4の赤色結晶物7.16g(収率83.2%)を得た。
(Synthesis Example p-4)
<Synthesis of Compound p-4>
In a 200 mL three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser tube, and a nitrogen inlet tube, 5.00 g (0.0364 mol) of 3- (dimethylamino) phenol, 30 mL of dehydrated acetonitrile and 6.03 g (0.0437 mol) of potassium carbonate were placed. The temperature was raised to ° C. and stirred for 30 minutes. While introducing 100 mL of nitrogen gas per minute, 5.42 g (0.0400 mol) of 1-chloropinacholine was added dropwise over 10 minutes, and then the mixture was further stirred for 4 hours. After the stirring, filtration was performed, and the residue was washed with acetonitrile. The filtrate was concentrated under reduced pressure, then separated with ethyl acetate and pure water, and the ethyl acetate phase was further washed with water three times. Thereafter, the ethyl acetate phase was concentrated under reduced pressure, and further dried under reduced pressure for 24 hours, whereby 7.16 g (yield: 83.2%) of a red crystal of compound p-4 represented by the following structural formula (p-4) Got.

(合成例p−5)
<化合物p−5の合成>
攪拌器、冷却管、窒素導入管を設置した200mL三口フラスコに3−(ジメチルアミノ)フェノール5.00g(0.0364mol)、メチルエチルケトン40mL、トリエチルアミン0.05gを入れ60℃に昇温した。毎分100mLの窒素ガスを導入しながらそこにイソシアン酸フェニル3.78g(0.0437mol)を30分かけて滴下し、その後さらに2時間攪拌した。
攪拌終了後冷却したのち、減圧濃縮後、トルエンで洗浄し、24時間減圧乾燥することで、下記構造式(p−5)で表される化合物p−5の赤色結晶物7.30g(収率78.2%)を得た。
(Synthesis Example p-5)
<Synthesis of Compound p-5>
In a 200 mL three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser tube, and a nitrogen inlet tube, 5.00 g (0.0364 mol) of 3- (dimethylamino) phenol, 40 mL of methyl ethyl ketone, and 0.05 g of triethylamine were added and heated to 60 ° C. While introducing 100 mL of nitrogen gas per minute, 3.78 g (0.0437 mol) of phenyl isocyanate was added dropwise over 30 minutes, followed by further stirring for 2 hours.
After cooling, the mixture was cooled, concentrated under reduced pressure, washed with toluene, and dried under reduced pressure for 24 hours. Thus, 7.30 g (yield) of the compound p-5 represented by the following structural formula (p-5) 78.2%).

(合成例1−A)
<アンモニウム塩1−Aの合成>
攪拌器を設置した100mL三口フラスコに合成例p−1で合成した化合物p−1 3.000g(0.0167mol)、アセトニトリル10gを入れ室温で攪拌し均一溶液とした。そこに、2−(ブロモメチル)アクリル酸エチル3.87g(0.0200mol)を10分かけて滴下し、さらに24時間攪拌した。攪拌後、減圧濃縮を行った後、酢酸エチル50g/蒸留水100gで分液をし、水相を取り出した。
その後、水相を1Lのフラスコに移し、室温にて攪拌しながら、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートのナトリウム塩の3質量%水溶液351.7g(0.0167mol)を10分かけてゆっくりと添加した。添加直後より赤色の結晶が析出した。
添加後さらに1時間攪拌を行った後、濾過・水洗・減圧乾燥を行い、構造式(1−A)で表されるアンモニウム塩の化合物1−Aの赤色結晶6.86g(収率42.3%)を得た。
(Synthesis Example 1-A)
<Synthesis of ammonium salt 1-A>
In a 100 mL three-necked flask equipped with a stirrer, 3.000 g (0.0167 mol) of compound p-1 synthesized in Synthesis Example p-1 and 10 g of acetonitrile were added and stirred at room temperature to obtain a uniform solution. Thereto, 3.87 g (0.0200 mol) of ethyl 2- (bromomethyl) acrylate was added dropwise over 10 minutes, and the mixture was further stirred for 24 hours. After stirring, concentration under reduced pressure was performed, followed by liquid separation with 50 g of ethyl acetate / 100 g of distilled water, and the aqueous phase was taken out.
Thereafter, the aqueous phase was transferred to a 1 L flask, and 351.7 g (0.0167 mol) of a 3% by mass aqueous solution of sodium salt of tetrakis (pentafluorophenyl) borate was slowly added over 10 minutes while stirring at room temperature. . Red crystals precipitated immediately after the addition.
After the addition, the mixture was further stirred for 1 hour, and then filtered, washed with water, and dried under reduced pressure. 6.86 g of a red crystal of compound 1-A of the ammonium salt represented by the structural formula (1-A) (yield 42.3) %).

(合成例2−A)
<アンモニウム塩2−Aの合成>
合成例1−Aでの化合物p−1を、化合物p−2 3.26g(0.0167mol)に代えた以外は、合成例1−Aと同様にして、構造式(2−A)で表されるアンモニウム塩の化合物2−Aの赤色結晶6.44g(収率39.1%)を得た。
(Synthesis Example 2-A)
<Synthesis of Ammonium Salt 2-A>
A compound represented by the structural formula (2-A) in the same manner as in Synthesis Example 1-A, except that Compound p-1 in Synthesis Example 1-A was replaced by 3.26 g (0.0167 mol) of Compound p-2. This gave 6.44 g (yield 39.1%) of red crystals of the ammonium salt compound 2-A.

(合成例3−A)
<アンモニウム塩3−Aの合成>
合成例1−Aでの化合物p−1を、化合物p−3 3.49g(0.0167mol)に代えた以外は、合成例1−Aと同様にして、構造式(3−A)で表されるアンモニウム塩の化合物3−Aの赤色結晶8.61g(収率51.5%)を得た。
(Synthesis Example 3-A)
<Synthesis of ammonium salt 3-A>
A compound represented by the structural formula (3-A) in the same manner as in Synthesis Example 1-A, except that Compound p-1 in Synthesis Example 1-A was replaced by 3.49 g (0.0167 mol) of Compound p-3. As a result, 8.61 g (yield 51.5%) of red crystals of the ammonium salt compound 3-A was obtained.

(合成例4−A)
<アンモニウム塩4−Aの合成>
合成例1−Aでの化合物p−1を、化合物p−4 3.95g(0.0167mol)に代えた以外は、合成例1−Aと同様にして、構造式(4−A)で表されるアンモニウム塩の化合物4−Aの赤色結晶10.5g(収率61.2%)を得た。
(Synthesis Example 4-A)
<Synthesis of Ammonium Salt 4-A>
A compound represented by the structural formula (4-A) in the same manner as in Synthesis Example 1-A, except that Compound p-1 in Synthesis Example 1-A was replaced with 3.95 g (0.0167 mol) of Compound p-4. As a result, 10.5 g (yield 61.2%) of red crystals of the ammonium salt compound 4-A was obtained.

(合成例5−A)
<アンモニウム塩5−Aの合成>
合成例1−Aでの化合物p−1を、化合物p−5 4.28g(0.0167mol)に代え、さらにアセトニトリルを、アセトニトリル10gとアセトン10gの混合溶媒に代えた以外は、合成例1−Aと同様にして、構造式(5−A)で表されるアンモニウム塩の化合物5−Aの赤褐色結晶5.18g(収率29.3%)を得た。
(Synthesis Example 5-A)
<Synthesis of Ammonium Salt 5-A>
The compound p-1 in synthesis example 1-A was replaced with 4.28 g (0.0167 mol) of compound p-5, and acetonitrile was further replaced with a mixed solvent of 10 g of acetonitrile and 10 g of acetone. In the same manner as A, 5.18 g (yield 29.3%) of reddish brown crystals of the compound 5-A of the ammonium salt represented by the structural formula (5-A) were obtained.

(合成例1−B)
<アンモニウム塩1−Bの合成>
合成例1−Aでのテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートをヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウム3質量%水溶液144.1g(0.0167mol)に代えた以外は、合成例1−Aと同様にして、構造式(1−B)で表されるアンモニウム塩の化合物1−Bの赤色結晶3.31g(収率37.5%)を得た。
(Synthesis Example 1-B)
<Synthesis of ammonium salt 1-B>
The structural formula is the same as in Synthesis Example 1-A, except that tetrakis (pentafluorophenyl) borate in Synthesis Example 1-A is replaced with 144.1 g (0.0167 mol) of a 3% by weight aqueous solution of sodium hexafluoroantimonate. 3.31 g (yield 37.5%) of red crystals of the compound 1-B of the ammonium salt represented by (1-B) was obtained.

(合成例6−A)
<アンモニウム塩6−Aの合成>
合成例1−Aでの2−(ブロモメチル)アクリル酸エチルを3−ブロモ−2−メチル−1−プロペン2.7g(0.0200mol)に代えた以外は、合成例1−Aと同様にして、構造式(6−A)で表されるアンモニウム塩の化合物6−Aの赤色結晶9.52g(収率62.4%)を得た。
(Synthesis Example 6-A)
<Synthesis of ammonium salt 6-A>
The same procedure as in Synthesis Example 1-A was conducted, except that ethyl 2- (bromomethyl) acrylate in Synthesis Example 1-A was replaced with 2.7 g (0.0200 mol) of 3-bromo-2-methyl-1-propene. Then, 9.52 g (yield 62.4%) of red crystals of the ammonium salt compound 6-A represented by the structural formula (6-A) was obtained.

(合成例7−A)
<アンモニウム塩7−Aの合成>
合成例1−Aでの2−(ブロモメチル)アクリル酸エチルをアリルブロミド2.42g(0.0200mol)に代えた以外は、合成例1−Aと同様にして、構造式(7−A)で表されるアンモニウム塩の化合物7−Aの赤色結晶9.93g(収率66.1%)を得た。
(Synthesis Example 7-A)
<Synthesis of ammonium salt 7-A>
In the same manner as in Synthesis Example 1-A, except that ethyl 2- (bromomethyl) acrylate in Synthesis Example 1-A was replaced with 2.42 g (0.0200 mol) of allyl bromide, Structural Formula (7-A) 9.93 g (yield 66.1%) of red crystals of the represented ammonium salt compound 7-A were obtained.

(比較化合物例1(合成例8−A))
<アンモニウム塩8−Aの合成>
合成例1−Aにおいて、化合物p−1を、N,N−ジメチルアニリン2.02g(0.0167mol)に代えた以外は、合成例1−Aと同様にして、構造式(8−A)で表されるアンモニウム塩8−Aの白色結晶10.39g(収率68.1%)を得た。
(Comparative Compound Example 1 (Synthesis Example 8-A))
<Synthesis of Ammonium Salt 8-A>
In the synthesis example 1-A, the structural formula (8-A) was obtained in the same manner as in the synthesis example 1-A, except that the compound p-1 was replaced with 2.02 g (0.0167 mol) of N, N-dimethylaniline. As a result, 10.39 g (yield: 68.1%) of white crystals of ammonium salt 8-A represented by

(比較化合物例2(合成例8−B))
<アンモニウム塩8−Bの合成>
合成例8−Aにおいて、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートのナトリウム塩3質量%水溶液をヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウム3質量%水溶液144.1g(0.0167mol)に代えた以外は、合成例8−Aと同様にして、構造式(8−B)で表されるアンモニウム塩8−Bの白色結晶4.80g(収率61.1%)を得た。
(Comparative Compound Example 2 (Synthesis Example 8-B))
<Synthesis of ammonium salt 8-B>
Synthesis Example 8-A, except that in Synthesis Example 8-A, the sodium salt 3 mass% aqueous solution of tetrakis (pentafluorophenyl) borate was replaced with 144.1 g (0.0167 mol) of a 3 mass% sodium hexafluoroantimonate aqueous solution. In the same manner, 4.80 g (yield 61.1%) of white crystals of ammonium salt 8-B represented by the structural formula (8-B) were obtained.

(比較化合物例3(合成例9−A))
<アンモニウム塩9−Aの合成>
合成例8−Aにおいて、2−(ブロモメチル)アクリル酸エチルを、3−ブロモ−2−メチル−1−プロペン2.7g(0.0200mol)に代えた以外は、合成例8−Aと同様にして、アンモニウム塩9−Aの白色結晶9.73g(収率68.1%)を得た。
(Comparative Compound Example 3 (Synthesis Example 9-A))
<Synthesis of Ammonium Salt 9-A>
In Synthesis Example 8-A, the procedure was the same as that of Synthesis Example 8-A, except that 2- (bromomethyl) ethyl acrylate was replaced with 2.7 g (0.0200 mol) of 3-bromo-2-methyl-1-propene. As a result, 9.73 g (yield 68.1%) of white crystals of ammonium salt 9-A was obtained.

(比較化合物例4(合成例10−A))
<アンモニウム塩10−Aの合成>
合成例8−Aにおいて、2−(ブロモメチル)アクリル酸エチルを、アリルブロミド2.42g(0.0200mol)に代えた以外は、合成例8−Aと同様にして、アンモニウム塩10−Aの白色結晶10.0g(収率71.5%)を得た。
(Comparative Compound Example 4 (Synthesis Example 10-A))
<Synthesis of ammonium salt 10-A>
In Synthesis Example 8-A, white of ammonium salt 10-A was obtained in the same manner as in Synthesis Example 8-A, except that ethyl 2- (bromomethyl) acrylate was replaced with 2.42 g (0.0200 mol) of allyl bromide. 10.0 g (yield 71.5%) of crystals were obtained.

(実施例1〜10及び比較例1〜17)
表1−1から表1−5に示す配合にしたがって熱硬化性樹脂組成物を作製した。
作製した熱硬化性樹脂組成物をシリコーン系離型処理された剥離PET(ポリエチレンテレフタレート)にコーティングし、60℃に設定された熱風循環オーブン中で5分間乾燥することにより、平均厚み15μmの熱硬化性シートを作製した。
(Examples 1-10 and Comparative Examples 1-17)
Thermosetting resin compositions were prepared according to the formulations shown in Table 1-1 to Table 1-5.
The prepared thermosetting resin composition is coated on release PET (polyethylene terephthalate) that has been subjected to silicone-based mold release treatment, and is dried in a hot-air circulating oven set at 60 ° C. for 5 minutes, thereby thermosetting with an average thickness of 15 μm. Sheet was prepared.

表1−1から表1−5における数値は、溶剤分を除いた配合量であり、単位は、質量部である。
なお、表1−1から表1−5における各材料は、以下のとおりである。
YP−70:新日鐵住金化学株式会社製、ビスフェノールA/ビスフェノールF共重合型フェノキシ樹脂
FX−316:新日鐵住金化学株式会社製、ビスフェノールF型フェノキシ樹脂
YL980:三菱化学株式会社製、ビスフェノールAタイプエポキシ樹脂
YL983U:三菱化学株式会社製、ビスフェノールFタイプエポキシ樹脂
パーロイルL:日油株式会社製、ジラウロイルパーオキサイド
The numerical value in Table 1-1 to Table 1-5 is the compounding quantity except a solvent part, and a unit is a mass part.
In addition, each material in Table 1-1 to Table 1-5 is as follows.
YP-70: manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd., bisphenol A / bisphenol F copolymerized phenoxy resin FX-316: manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd. A type epoxy resin YL983U: Mitsubishi Chemical Corporation, bisphenol F type epoxy resin Parroyl L: NOF Corporation, dilauroyl peroxide

なお、配合する際、YP−70及びFX−316は、メチルエチルケトンの45質量%固形分溶液を用い、YL980、及びYL983Uは、原液を用いた。パーロイルLは、トルエンの30質量%固形分溶液を用いた。各アンモニウム塩は、メチルエチルケトンの30質量%固形分溶液を用いた。   When blended, YP-70 and FX-316 used a 45 mass% solid content solution of methyl ethyl ketone, and YL980 and YL983U used a stock solution. Parroyl L was a 30% solids solution of toluene. As each ammonium salt, a 30% by mass solid content solution of methyl ethyl ketone was used.

(実施例1〜10及び比較例1〜17の熱硬化性シートの低温短時間硬化性及び保存安定性評価)
作製した実施例1〜10及び比較例1〜17の熱硬化性シート(平均厚み15μm)の低温短時間硬化性及び保存安定性を、エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製の示差走査熱量測定装置DSC6200を用いて評価した。
(Low-temperature short-time curability and storage stability evaluation of the thermosetting sheets of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 17)
The differential scanning calorimeter DSC6200 manufactured by SII Nanotechnology Co., Ltd. was used to determine the low-temperature short-time curability and storage stability of the produced thermosetting sheets of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 17 (average thickness 15 μm). Was used to evaluate.

<低温短時間硬化性の評価>
各熱硬化性シート1.5mgをDSC6200用の直径5mmのアルミ容器に入れ、クランプカバーをして、評価用サンプルを作製した。本サンプルをヒーター板に各々5秒間押し付けた後、示差走査熱量測定を行い、その発熱量と押し付ける前の発熱量から反応率を算出した。ヒーター板の温度は120℃及び130℃とした。
示差走査熱量測定による発熱挙動はエポキシ樹脂の硬化反応挙動を反映していることが当業界ではよく知られている。よって、ヒーター板による加熱前後の発熱量の比率は熱硬化性シート中のエポキシ樹脂の反応率を反映していると言える。
実用的な観点では、低温短時間硬化性としては、130℃で65%を超えていることが目安となる。
結果を表2−1から表2−5に示す。
−測定条件−
昇温速度 10℃/min(25℃〜300℃)
ガス 100mL/min
サンプル重量 約1.5mg
<Evaluation of low-temperature short-time curability>
Each thermosetting sheet (1.5 mg) was put in an aluminum container having a diameter of 5 mm for DSC6200, covered with a clamp, and an evaluation sample was produced. After each sample was pressed against the heater plate for 5 seconds, differential scanning calorimetry was performed, and the reaction rate was calculated from the heat value and the heat value before pressing. The temperature of the heater plate was 120 ° C and 130 ° C.
It is well known in the art that the exothermic behavior by differential scanning calorimetry reflects the curing reaction behavior of the epoxy resin. Therefore, it can be said that the ratio of the calorific value before and after heating by the heater plate reflects the reaction rate of the epoxy resin in the thermosetting sheet.
From a practical viewpoint, the low-temperature short-time curability is approximately 65% at 130 ° C.
The results are shown in Tables 2-1 to 2-5.
-Measurement conditions-
Temperature increase rate 10 ° C / min (25 ° C to 300 ° C)
N 2 gas 100mL / min
Sample weight about 1.5mg

<保存安定性の評価>
保存安定性は、25℃/65%RHの暗所環境下にて2週間放置前後の示差走査熱量測定における発熱量変化から減少率を算出することで評価した。先に記載した通り、示差走査熱量測定による発熱挙動はエポキシ樹脂の硬化反応挙動を反映しているので、放置前後の発熱量の変化量は放置中でのエポキシの反応進行量を反映する。放置前後で発熱量の変化が少ないほど保存安定性が高いと言える。実用的な観点では、具体的には、10%以下の減少に抑えることで熱硬化性シートとしての機能は維持できる。保存安定性の評価結果を表2−1〜表2−5に示す。
−測定条件−
昇温速度 10℃/min(25℃〜300℃)
ガス 100mL/min
サンプル重量 約5mg
<Evaluation of storage stability>
Storage stability was evaluated by calculating the rate of decrease from the calorific value change in differential scanning calorimetry before and after standing for 2 weeks in a dark environment at 25 ° C./65% RH. As described above, since the exothermic behavior by differential scanning calorimetry reflects the curing reaction behavior of the epoxy resin, the amount of change in the exothermic amount before and after leaving reflects the amount of progress of the epoxy reaction during leaving. It can be said that the smaller the change in calorific value before and after being left, the higher the storage stability. From a practical viewpoint, specifically, the function as a thermosetting sheet can be maintained by suppressing the decrease to 10% or less. The evaluation results of storage stability are shown in Tables 2-1 to 2-5.
-Measurement conditions-
Temperature increase rate 10 ° C / min (25 ° C to 300 ° C)
N 2 gas 100mL / min
Sample weight about 5mg

表2−1〜表2−5の結果より、本発明の一般式(1)で表される特定の構造を有するアンモニウム塩化合物はラジカル発生剤を含有させることにより顕著に低温短時間硬化性を発現することができる(実施例1から8と比較例5から12より)。
一方、一般式(1)以外のアンモニウム塩化合物は、ラジカル発生剤を含有させても、保存安定性はよいものの顕著な低温硬化性の発現は見られなかった(比較例1から4と比較例13から16より)。
従って、低温硬化性と保存安定性の両立を図るうえで、本発明の一般式(1)で表される特定の構造を有するアンモニウム塩化合物、及びラジカル発生剤を含有させることが有効であることがわかった。
From the results of Tables 2-1 to 2-5, the ammonium salt compound having a specific structure represented by the general formula (1) of the present invention has a remarkable low-temperature short-time curability by containing a radical generator. It can be expressed (from Examples 1 to 8 and Comparative Examples 5 to 12).
On the other hand, ammonium salt compounds other than the general formula (1), although containing a radical generator, had good storage stability but did not show significant low-temperature curability (Comparative Examples 1 to 4 and Comparative Example) 13 to 16).
Therefore, in order to achieve both low-temperature curability and storage stability, it is effective to contain an ammonium salt compound having a specific structure represented by the general formula (1) of the present invention and a radical generator. I understood.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、低温かつ短時間で硬化が可能で、かつ硬化前の保存安定性が確保できるため、電子部品を接合する接着剤として、好適に用いることができる。   Since the thermosetting resin composition of the present invention can be cured at a low temperature in a short time and can ensure storage stability before curing, it can be suitably used as an adhesive for joining electronic components.

Claims (5)

カチオン硬化成分と、下記一般式(1)で表されるアンモニウム塩と、ラジカル発生剤とを含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
ただし、前記一般式(1)中、R及びRは、それぞれ独立して、炭素数1〜2のアルキル基を表す。Rは、水素原子、アルキル基、アルコキシカルボニル基、及びアリールオキシカルボニル基のいずれかを表す。Yは、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルメチル基、アルコキシカルボニルメチル基、アリールカルボニル基、アリールカルボニルメチル基、N−アルキルカルバモイル基、及びN−フェニルカルバモイル基のいずれかを表す。Zは、SbF 、B(C 、C(CFSO 、及び[P(R(F)6−a(式中、Rは、それぞれ独立して、水素原子の少なくとも一部がフッ素で置換されてもよいアルキル基を示し、aは0〜5の整数を示す。)のいずれかを表す。
A thermosetting resin composition comprising a cationic curing component, an ammonium salt represented by the following general formula (1), and a radical generator.
However, the general formula (1), R 1 and R 2 each independently represents an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms. R 3 represents any one of a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxycarbonyl group, and an aryloxycarbonyl group. Y represents any of an alkylcarbonyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkylcarbonylmethyl group, an alkoxycarbonylmethyl group, an arylcarbonyl group, an arylcarbonylmethyl group, an N-alkylcarbamoyl group, and an N-phenylcarbamoyl group. Z represents SbF 6 , B (C 6 F 5 ) 4 , C (CF 3 SO 2 ) 3 , and [P (R 8 ) a (F) 6−a ] (wherein R 8 Each independently represents an alkyl group in which at least a part of hydrogen atoms may be substituted with fluorine, and a represents an integer of 0 to 5.
前記一般式(1)のZが、SbF 、B(C 、及びC(CFSO のいずれかである請求項1に記載の熱硬化性樹脂組成物。 2. The thermosetting resin according to claim 1, wherein Z − in the general formula (1) is any one of SbF 6 , B (C 6 F 5 ) 4 , and C (CF 3 SO 2 ) 3 —. Composition. 前記ラジカル発生剤が、有機過酸化物である請求項1から2のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。   The thermosetting resin composition according to claim 1, wherein the radical generator is an organic peroxide. 更にフェノキシ樹脂を含有する請求項1から3のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物。   Furthermore, the thermosetting resin composition in any one of Claim 1 to 3 containing a phenoxy resin. 請求項1から4のいずれかに記載の熱硬化性樹脂組成物を含有することを特徴とする熱硬化性シート。
A thermosetting sheet comprising the thermosetting resin composition according to claim 1.
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