JP6391408B2 - 粉粒体処理装置用サンプリング装置 - Google Patents

Description

本発明は、粉粒体の処理工程を観察するためのサンプリング装置に関し、特に、粉粒体の造粒、コーティング等を行う粉粒体処理装置に適用して有用なサンプリング装置に関する。

流動層コーティング装置など、粉粒体の造粒、コーティング、乾燥処理等を行う粉粒体処理装置では、処理の状況を観察するため、被処理物のサンプリングが適宜実施される。粉粒体処理装置の処理容器側面には、例えば特許文献１のようにそのためのサンプリング孔が設けられており、サンプリングはこの孔を介して行われる。サンプリング孔には装置外からプローブが差し込まれ、処理容器内に挿入されたプローブによって粉粒体粒子を補足し、所望量のサンプルを取得している。

サンプリング孔にはサンプリング筒が取り付けられ、サンプリング筒内には、その内径とほぼ同じ外径を有するプローブがセットされる。プローブ先端には、サンプル取得部が設けられており、サンプリングの際には、プローブをサンプリング筒に沿って装置内部に進入させ、サンプル取得部にて処理中の粉粒体（サンプル）を捕捉する。サンプル捕捉後、サンプリング筒に沿ってプローブを途中まで引き抜く。サンプリング筒の途中には下向きにサンプル取り出し孔が設けられており、サンプル取得部がサンプル取り出し孔の位置に来たところでプローブを１８０°反転させる。これにより、サンプル取得部とサンプル取り出し孔が対向し、装置内で取得したサンプルがサンプル取り出し孔から装置外に取り出される。

特開２００６−１３６７６３号公報 特開２０１３−９６７１７号公報

一方、サンプルが付着したプローブは、サンプリング筒内周とプローブ外周がほぼ密着している状態で出し入れされるため、サンプリング筒とプローブの間で粉噛みが生じるという問題があった。粉噛みが生じると、プローブがサンプリング筒内を前後に移動できなくなり、１回目のサンプリングは行えても２回目・３回目のサンプリングが困難になるという問題があった。

また、高活性の有効成分を含む薬剤の製造工程では、有効成分を外部に漏洩させない封じ込め（コンテインメント）技術が求められている。粉粒体処理装置をコンテインメント仕様とするには、装置全体をアイソレータ等の外部から操作が可能な枠で取り囲むことや、装置自体を外部に対して閉鎖系とすることなどが行われる。これに対し、従来のサンプリング装置は、サンプリング筒の内周とプローブの外周はほぼ密着状態となっているため、処理装置内の物質は外部にはほとんど漏れないものの、コンテインメントを保証するものではない。

本発明の目的は、サンプリング筒とプローブの間で粉噛みが生じないサンプリング装置を提供することである。また、本発明の他の目的は、粉粒体処理装置から処理中のサンプルをコンテインメント状態にて取り出し得る粉粒体処理装置用のサンプリング装置を提供することにある。

本発明の粉粒体処理装置用サンプリング装置は、粉粒体処理装置に設置され、該粉粒体処理装置内の被処理物をサンプルとして装置外部に取り出す粉粒体処理装置用サンプリング装置であって、前記粉粒体処理装置の処理容器に取り付けられる円筒状のサンプリング筒と、前記サンプリング筒内に回転可能に装着される円柱状のサンプリングロッドと、前記サンプリングロッド内に形成され、サンプリング実施時に前記処理容器内と連通するサンプル通過管と、前記サンプル通過管内を負圧とし、前記処理容器内の前記被処理物を該サンプル通過管内に吸引する気流を発生させる吸引圧発生手段と、前記サンプル通過管内に吸引された前記被処理物を前記気流と分離し収容するサンプル回収部と、を有することを特徴とする。

本発明にあっては、処理容器に取り付けられるサンプリング筒に、サンプリング実施時に処理容器内と連通するサンプル通過管を備えたサンプリングロッドを装着し、サンプル通過管内を負圧とする吸引圧発生手段により、処理容器内の被処理物をサンプル通過管内に吸引する気流を発生させる。そして、サンプル通過管内に吸引された被処理物を気流と分離してサンプル回収部に収容する。当該サンプリング装置では、サンプリングロッドをサンプリング筒に対して軸方向に出し入れすることなく、サンプリングロッドの回転により被処理物をサンプリングできる。このため、サンプリング筒とサンプリングロッドの間で粉噛みが生じにくく、複数回のサンプリングを容易に行うことができ、製造プロセスを正確に把握することが可能となる。

前記粉粒体処理装置用サンプリング装置において、前記気流を前記処理容器内に戻すリターン経路を更に設けても良い。これにより、被処理物と分離された後の気流は、リターン経路を介して気密状態で処理容器内に戻される。従って、サンプリングの際に装置外部に粉粒体が漏れることがなく、処理中のサンプルを粉粒体処理装置からコンテインメント状態で取り出すことが可能となる。

前記サンプリングロッドは、前記サンプリング筒内にて回転させることにより、前記サンプル通過管の一端側が前記処理容器内に開口するサンプリング位置と、前記サンプル通過管の一端側が前記処理容器内に対し閉鎖状態となる通常位置との間を回転変位し、前記サンプリング筒は、前記サンプリングロッドを前記サンプリング位置としたとき、前記サンプル通過管の他端側と連通するサンプル取り出し孔を有し、前記サンプル取り出し孔は、前記吸引圧発生手段と通気管を介して接続されるようにしても良い。この場合、前記サンプル回収部は、前記通気管から分岐する形で、前記サンプル取り出し孔と前記吸引圧発生手段との間に配置するようにしても良い。

また、前記処理容器は、側壁がテーパ状に傾斜した原料コンテナを有し、当該サンプリング装置は、前記原料コンテナの前記側壁に取り付けられ、前記サンプリングロッドは、前記原料コンテナ側の端部が傾斜面となった斜切円柱状に形成され、前記傾斜面は、該サンプリングロッドが前記通常位置のとき、前記原料コンテナの前記側壁内面と面一となり、該サンプリングロッドを回転させて前記サンプリング位置としたとき、該傾斜面の尖端側が前記原料コンテナの側壁内面から突出し、該サンプリングロッドの側面に前記原料コンテナ内に露出する側面露出部を形成し、前記サンプル通過管の一端側は、前記側面露出部に開口するようにしても良い。

前記リターン経路は、前記通気管と連通して設けられた送気管と、前記サンプリング筒に形成され前記送気管と接続される送気孔と、前記サンプリング筒と前記サンプリングロッドの間に形成され一端側が前記送気孔と連通する間隙と、を有し、前記サンプリングロッドを前記サンプリング位置としたとき、前記間隙の他端側が前記処理容器内と連通するようにしても良い。

前記処理容器は、当該サンプリング装置が装着されるサンプリング孔と、前記サンプリング孔に固定され前記サンプリング筒が取り付けられる円筒状のブラケットと、を有し、前記サンプリングロッドは、一端側が前記送気孔と連通し前記サンプリング筒との間に前記間隙を形成する小径部と、該小径部の他端側に形成され前記処理容器方向に延びる連通溝と、を有し、前記サンプリング筒は、前記ブラケット内に収容される部位に、前記サンプリングロッドを前記サンプリング位置としたとき前記連通溝と連通し、前記間隙と前記処理容器内とを連通させる連通孔を有することを特徴とするようにしても良い。この場合、前記連通孔は、前記サンプリングロッドを前記サンプリング位置としたとき、端部が傾斜面となった斜切円柱状に形成された前記サンプリングロッドの前記傾斜面が、前記ブラケット内に形成する通気空間内に開口するようにしても良い。

さらに、前記吸引圧発生手段は、圧縮空気を供給するエアガンに接続された第１ポートと、前記第１ポートと連通状態にて対向配置され前記リターン経路と接続される第２ポートと、前記第１及び第２ポートを結ぶ線に対し交差して配置され前記サンプル通過管と接続される第３ポートと、を有するエジェクタであり、該エジェクタは、前記エアガンによって前記第１ポートに圧縮空気を供給し、前記第１及び第２ポート間に高速気流を発生させることにより、前記第３ポート側に負圧を発生させるようにしても良い。

また、当該サンプリング装置は、前記エジェクタの第１ポートに対し前記エアガンから圧縮空気を供給することにより、前記第３ポートと連通した前記サンプル通過管内を負圧とし、該負圧により、前記処理容器内の前記被処理物を該サンプル通過管内に吸引する気流を発生させ、前記第１ポートに供給された前記圧縮空気は、前記第３ポートから流入する前記気流と共に、前記第２ポートから前記リターン経路を介して前記処理容器内に戻されるようにしても良い。

本発明の粉粒体処理装置用サンプリング装置によれば、粉粒体処理装置の処理容器に取り付けられるサンプリング筒と、サンプリング筒内に回転可能に装着されるサンプリングロッドと、を設け、このサンプリングロッド内に、サンプリング実施時に処理容器内と連通するサンプル通過管を形成する。そして、サンプル通過管内を負圧とし、処理容器内の被処理物をサンプル通過管内に吸引する気流を発生させる吸引圧発生手段と、サンプル通過管内に吸引された被処理物を気流と分離し収容するサンプル回収部と、を設けることにより、サンプリングロッドの回転操作により被処理物をサンプリングでき、粉噛みすることなくサンプルを取り出すことが可能となる。このため、複数回のサンプリングを容易に行うことができ、製造プロセスを正確に把握し、均一な製品を確実に得ることが可能となる。

また、本発明の粉粒体処理装置用サンプリング装置によれば、被処理物をサンプル通過管内に吸引する気流を処理容器内に戻すリターン経路を設けることにより、装置外部に粉粒体が漏れることがなく、処理中のサンプルを粉粒体処理装置からコンテインメント状態で取り出すことが可能となる。

本発明の一実施形態であるサンプリング装置を使用した流動層装置の構成を示す説明図である。 通常時におけるサンプリング装置の構成を示す説明図である。 サンプリング時におけるサンプリング装置の構成を示す説明図である。

以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。図１は、本発明の一実施形態であるサンプリング装置を使用した流動層装置（粉粒体処理装置）の構成を示す説明図である。図１の流動層装置１は、例えば、医薬品や食品等の製造に使用される打錠用顆粒等の造粒物や、顆粒状の医薬品や食品等の製造に使用され、装置内では、処理気体によって流動化された粉粒体にバインダ液やコーティング液が噴霧される。

流動層装置１には、原料材となる粉粒体（被処理物）が収容され、所望の造粒コーティング処理や乾燥処理等が行われる円筒状の処理容器２が設けられている。処理容器２はステンレス鋼にて形成されており、図１に示すように、支持台３によって支持されている。流動層装置１の処理容器２は、上から順に、カバーユニット４、フィルタケーシング５、スプレーケーシング６、原料コンテナ７及び給気ユニット８を重ねて配置した形態となっている。粉粒体処理時には、カバーユニット４とフィルタケーシング５間など各ユニット間は、リング状のシール部材によって気密に締結される。

カバーユニット４は、図１においてカバーユニット４の背後に設けられた図示しないブラケットによって支持台３に固定支持されている。カバーユニット４には排気口（図示せず）が設けられており、排気口には排気ダクトが接続される。カバーユニット４の下面側には、スプレーケーシング６とは別途形成されたフィルタケーシング５が取り付けられる。フィルタケーシング５は、支持台３に組み込まれた昇降機構によって、上下方向に移動可能なように設けられている。フィルタケーシング５の上端部には円板状の天板９が固定されており、天板９にはカートリッジフィルタ１１が取り付けられている。天板９は、ケーシング−天板間から粉漏れが生じないように、フィルタケーシング５の内周に隙間なく溶接固定されている。

スプレーケーシング６内には、粉粒体にバインダ液やコーティング液を噴霧するためのスプレーノズル１２が設けられている。スプレーケーシング６もまた、図示しないブラケットによって支持台３に取り付けられている。スプレーケーシング６内には、流動室１３が形成されている。流動室１３内にはスプレーノズル１２が配置されており、図示しないチューブによって、装置外に設けられたポンプからバインダ液やコーティング液が供給される。

スプレーケーシング６の下方には原料コンテナ７が配置され、原料コンテナ７内には被処理物となる粉粒体が投入される。原料コンテナ７は台車１４に取り付けられている。原料コンテナ７の内部には原料収容室１５が形成されており、原料コンテナ７の下部には通気性を有する目皿板１６が設けられている。原料収容室１５内に投入された粉粒体はこの目皿板１６上にて支持される。

原料コンテナ７の下方には、内部に給気室１７を有する給気ユニット８が据え付けられている。給気ユニット８は、給気室１７に連通する図示しない給気ダクトに接続されている。給気ダクトは、装置外に設けられたエア供給源に接続されている。給気室１７内には、給気ダクトを介して、粉粒体を流動化するための処理気体（流動エア）が供給される。粉粒体を流動状態とした処理気体は、微細な固体粒子がカートリッジフィルタ１１によって除去されて清浄化され、その後、排気ダクトを通って装置外へと排出される。

このような流動層装置１では、給気ダクトから給気室１７に流動エアを供給すると、このエアが目皿板１６を通って原料収容室１５に流入する。これにより、原料収容室１５内の粉粒体が吹き上げられ、原料収容室１５や流動室１３内にて流動状態となる。この状態にてスプレーノズル１２から適宜バインダ液やコーティング液をスプレー状に噴霧することにより、粉粒体の造粒処理やコーティング処理が実行される。

一方、流動層装置１には、処理中の粉粒体をサンプリングするため、原料コンテナ７にサンプリング装置２１が取り付けられている。図２,３は、サンプリング装置２１の構成を示す説明図であり、図２は通常時（サンプリング非実施時）の状態を、図３はサンプリング時の状態をそれぞれ示している。図２に示すように、サンプリング装置２１は、円筒状のサンプリング筒２２と、サンプリング筒２２内に回転可能に収容されたサンプリングロッド２３とを備えている。サンプリング装置２１は、従来のサンプリング装置と異なり、サンプリングロッド２３を前後に動かすことなく、サンプリングロッド２３の回転操作のみで被処理物をサンプリングできるようになっている。

サンプリング筒２２はステンレス鋼にて形成されており、原料コンテナ７の側壁７ａに設けられたサンプリング孔２４に取り付けられる。サンプリング孔２４には円筒状のブラケット２５（ステンレス製）が溶接固定されており、サンプリング筒２２は、ブラケット２５内に挿入される形で原料コンテナ７に取り付けられる。ブラケット２５の外端部にはフランジ２６が設けられている。フランジ２６は、図示しないクランプ等により、サンプリング筒２２の外周に設けられたフランジ２７と接合される。フランジ２６,２７の間にはシール部材２８が介設され、サンプリング筒２２はブラケット２５に密接状態で固定される。サンプリング筒２２のフランジ２６は、フランジ２６,２７を接合したとき、サンプリング筒２２の内端部２２ａが、通常時には原料コンテナ７の側壁内面７ｂと面一となるような位置に設けられている（図２）。

サンプリング筒２２の下方側には、サンプル取り出し孔２９が設けられている。一方、サンプリング筒２２の上方側、サンプル取り出し孔２９よりも原料コンテナ７寄りには、送気孔３１が設けられている。サンプル取り出し孔２９には通気管３２、送気孔３１には送気管３３がそれぞれ接続されている。通気管３２と送気管３３は気密状態で連通しており、Ｔ字管を用いたエジェクタ（吸引圧発生手段）３４に接続されている。送気管３３の送気孔３１とエジェクタ３４との間には、手動のフィンガバルブ３５が介設されている。

通気管３２とエジェクタ３４との間には、原料コンテナ７内から採取したサンプルのみを取り出す分岐管３６が設けられている。分岐管３６では、重力によってエアとサンプルが分離され、サイトグラス部（サンプル回収部）３７に貯留される。サイトグラス部３７に貯留されたサンプルは、外部から視認可能となっている。サイトグラス部３７の下方には排出バルブ３８が設けられている。排出バルブ３８を開けることにより、サイトグラス部３７内のサンプルを外に取り出すことができる。

エジェクタ３４のポートＡ（第１ポート）には、圧縮空気を噴射供給するエアガン３９が接続されている。また、ポートＡに対向するポートＢ（第２ポート）には送気管３３が接続されている。さらに、ポートＡ,Ｂを結ぶ流路とは直角に交差するように配されたポートＣ（第２ポート）には通気管３２が接続されている。エジェクタ３４では、フィンガバルブ３５が開いている場合、エアガン３９によって噴射された高速の気流は、ポートＡから対向するポートＢに向かって進む。その際、側方のポートＣには、Ａ−Ｂ間の高速気流により負圧が生じ、この負圧と空気の粘性によって、通気管３２内の空気がポートＢ側に引き込まれる。これにより、通気管３２と接続されたサンプル取り出し孔２９側には、負圧（吸引圧）が生じる。

一方、フィンガバルブ３５が閉じている場合は、ポートＢ側が閉じ、ポートＡ,Ｃが連通している状態となる。このため、エアガン３９の圧縮エアは、ポートＡからポートＣに供給される。従って、フィンガバルブ３５が閉じることにより、先の場合とは逆に、通気管３２に圧縮エアが流入し、サンプル取り出し孔２９に高速の気流が供給される。なお、エアガン３９とエジェクタ３４の間に、エアガン３９からの気流をエジェクタ３４側と通気管３２側に分岐する三方弁を介設し、それの切り替えにより、サンプル取り出し孔２９に圧縮エアを供給するようにしても良い。

サンプリングロッド２３は、合成樹脂（例えば、フッ素樹脂）にて円柱状に形成されており、サンプリング筒２２内に回転可能な状態で取り付けられる。サンプリングロッド２３の外径は、サンプリング筒２２の内径と略同寸法（若干小径）となっており、サンプリングロッド２３は、サンプリング筒２２の内周壁２２ｂと摺接しつつ回転する。サンプリングロッド２３とサンプリング筒２２との間には、気密保持用のＯリング４１が介設されている。サンプリングロッド２３の外端部には、サンプリングロッド２３を回転させるためのハンドル４２が取り付けられている。サンプリングロッド２３の右端側には、周方向に沿って周回溝４３が形成されている。周回溝４３には、サンプリング筒２２に取り付けられた抜け止めボルト４４が係合しており、サンプリングロッド２３の軸方向への移動が規制されている。

サンプリングロッド２３の中心には、軸方向に沿ってサンプル通過管４５が設けられている。サンプリング装置２１は、サンプリングロッド２３を回転するだけでサンプリングが行えるように、サンプリングロッド２３内にサンプル通過管４５が配されている。サンプル通過管４５内にはエジェクタ３４によって吸引気流が形成され、このサンプル通過管４５を経由してサンプルが取り出される。サンプル通過管４５は、サンプリングロッド２３の中心軸上を延びるストレート部４５ａと、サンプリングロッド先端側に設けられたサンプル導入部４５ｂ、サンプル取り出し孔２９の位置に設けられたサンプル送出部４５ｃとから構成されている。サンプル導入部４５ｂは、ストレート部４５ａの行き止まり部４５ｄから外周方向に向かって径方向に延びており、サンプリングロッド２３の一端側に形成されたサンプル取り入れ口４６にて開口している。サンプル送出部４５ｃは、サンプリング筒２２のサンプル取り出し孔２９に対応して設けられており、ストレート部４５ａから径方向に分岐し、サンプリングロッド２３の他端側に形成されたサンプル送出口４７にて開口している。

サンプリングロッド２３は、原料コンテナ７側の端部２３ａが斜めに切り落とされた斜切円柱状となっている。端部２３ａには傾斜面４８が形成されており、図２に示すように、傾斜面４８は、通常時は、原料コンテナ７のテーパ状となった側壁内面７ｂと面一となる。このとき、サンプル取り入れ口４６はブラケット２５内に隠れ、サンプル通過管４５は閉鎖状態となる。これに対し、サンプリング時にサンプリングロッド２３を１８０°回転させると（図３：サンプリング位置ＳＰ）、その端部２３ａも反転し、傾斜面４８の尖端側４８ａが側壁内面７ｂから原料コンテナ７内に突出した状態となる。すると、端部２３ａの側面に側面露出部４９が現れ、サンプル取り入れ口４６が原料コンテナ７内に開口する。すなわち、サンプリングロッド２３をサンプリング位置ＳＰにすることにより、原料コンテナ７内から、サンプル通過管４５、サンプル取り出し孔２９及び通気管３２が連通状態となる。

サンプリングロッド２３の中央から先端側（図２,３において左側）には、小径部５１が形成されている。サンプリングロッド２３をサンプリング筒２２に挿入すると、サンプリング筒２２の内周壁２２ｂと小径部５１との間には間隙５２が形成される。小径部５１の一端側（図２,３において右端側）は送気孔３１の位置まで延在しており、間隙５２は送気孔３１と連通している。小径部５１の他端側にはさらに、連通溝５３が軸方向に沿って延出形成されている。

一方、サンプリング筒２２の先端部には、ブラケット２５内に収容される部位に長孔状の連通孔５４が形成されている。連通孔５４は、サンプリング時にサンプリングロッド２３を１８０°回転させると（図３）、ブラケット２５内にて連通溝５３と連通する。図３に示すように、このとき連通孔５４の左端側は、傾斜面がブラケット２５内に形成する通気空間５５内に開口し、原料コンテナ７内と連通する。すなわち、サンプリング位置ＳＰでは、送気管３３から、送気孔３１、間隙５２、連通溝５３、連通孔５４、通気空間５５及び原料コンテナ７内が連通状態となる。

このようなサンプリング装置２１では、次のようにして、原料コンテナ７内から処理中の粉粒体サンプルを取り出す。ここではまず、ハンドル４２を用いてサンプリングロッド２３を１８０°回転させ、サンプリングロッド２３を通常位置ＮＰ（図２）からサンプリング位置ＳＰ（図３）に切り替える。次に、フィンガバルブ３５が「開」となっていることを確認し、エアガン３９にてエジェクタ３４にエア（圧縮空気）を供給する。エジェクタ３４にエアが供給されると、前述のように、通気管３２側（ポートＢ側）が負圧となり、サンプル取り出し孔２９側に吸引圧が生じ、原料コンテナ７内の被処理物をサンプル通過管４５内に吸引する気流が発生する。

図３に示すように、サンプリングロッド２３がサンプリング位置ＳＰとなっている場合、サンプル通過管４５のサンプル取り入れ口４６が原料コンテナ７内にて開口しており、原料コンテナ７内から、サンプル通過管４５、サンプル取り出し孔２９及び通気管３２が連通状態となっている。従って、エアガン操作により、サンプル取り出し孔２９側に吸引圧が生じると、連通するサンプル取り入れ口４６から、原料コンテナ７内の粉粒体がサンプル通過管４５内に吸引される。サンプル通過管４５内に引き込まれた粉粒体サンプルは、サンプル取り出し孔２９から通気管３２に入る。

通気管３２内のサンプルは、分岐管３６にてエアと分離され、サイトグラス部３７に貯留される。サイトグラス部３７に貯留されたサンプルは外部から視認可能となっており、サンプルの溜まり具合を見ながら、エアガン３９を何回かに分けて操作しサンプリングを行う。一方、サイトグラス部３７に入らなかった粉粒体サンプルは、エジェクタ３４から送気管３３を通り、送気孔３１→間隙５２→連通溝５３→連通孔５４と連なるリターン経路Ｒを介して、気流と共に原料コンテナ７内に戻される。従って、サンプリングの際も、不必要に粉粒体が装置外部に漏れることがなく、コンテインメント状態が維持される。また、通気空間５５には連通孔５４から気流が流れ込むため、サンプリング時に通気空間５５内に被処理物が溜まりにくく、サンプリングロッド回転時も被処理物が巻き込まれにくい。

サイトグラス部３７に必要量のサンプルが溜まった後、サンプリングを終了すべく、フィンガバルブ３５を「閉」にする。そして、エアガン３９にて再度エジェクタ３４にエアを供給する。この場合、エジェクタ３４のポートＢ側が閉じ、ポートＡ,Ｃが連通している状態となるため、エアガン３９の圧縮エアは通気管３２に流入する。これにより、サンプル通過管４５に高速の気流が供給され、サンプリング経路Ｓ（サンプル取り入れ口４６→サンプル通過管４５→サンプル取り出し孔２９→通気管３２）のエアパージが行われる。このエアパージによりサンプリング経路Ｓが清浄化され、次回サンプリング時に今回のサンプルが混入することを防止できる。そして、エアパージ終了後、フィンガバルブ３５を「開」とし、サンプリングロッド２３を通常位置ＮＰに戻す。

サンプリングロッド２３を通常位置ＮＰに戻すと、図２に示すように、通気管３２や送気管３３は閉鎖された状態となる。そして、この状態で排出バルブ３８を開き、サイトグラス部３７内のサンプルを外に取り出す。これにより、コンテインメント状態にて、原料コンテナ７内から処理中のサンプルを取り出すことが可能となる。取り出したサンプルは拡大鏡や各種計測機器等を用いて解析され、これにより、現在の処理状況がリアルタイムで把握される。

このように、本発明によるサンプリング装置２１では、サンプリングロッド２３の回転操作により開通・閉鎖されるサンプリング経路Ｓを設け、エジェクタによる吸引圧によってサンプリング操作を行う。このため、サンプリング筒２２内にてサンプリングロッド２３を軸方向に前後させることなく、サンプリングロッド２３の回転だけで被処理物をサンプリングすることができ、サンプリングの際、サンプリング筒２２とサンプリングロッド２３の間に粉噛みが生じるのを防止することが可能となる。従って、複数回のサンプリングを容易に行うことができ、製造プロセスを正確に把握し、均一な製品を確実に得ることが可能となる。

また、リターン経路Ｒを設けることにより、サンプリングの際に装置外部に粉粒体が漏れることがなく、サンプルを外に取り出す際も、装置内外を遮断した状態で当該操作を行うことができる。従って、粉粒体処理装置をアイソレータ等に収容したり、装置自体を外部に対して閉鎖系としたりするなどの大掛かりな仕組みを採用することなく、処理中のサンプルを粉粒体処理装置から容易にコンテインメント状態で取り出すことが可能となる。

本発明は前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。
例えば、前述の実施形態では、本発明によるサンプリング装置を流動層装置に適用した例を示したが、コンテインメント仕様が求められる他の種類の粉粒体処理装置にも本発明のサンプリング装置は適用可能である。

１ 流動層装置
２ 処理容器
３ 支持台
４ カバーユニット
５ フィルタケーシング
６ スプレーケーシング
７ 原料コンテナ
７ａ 側壁
７ｂ 側壁内面
８ 給気ユニット
９ 天板
１１ カートリッジフィルタ
１２ スプレーノズル
１３ 流動室
１４ 台車
１５ 原料収容室
１６ 目皿板
１７ 給気室
２１ サンプリング装置
２２ サンプリング筒
２２ａ 内端部
２２ｂ 内周壁
２３ サンプリングロッド
２３ａ 端部
２４ サンプリング孔
２５ ブラケット
２６ フランジ
２７ フランジ
２８ シール部材
２９ サンプル取り出し孔
３１ 送気孔
３２ 通気管
３３ 送気管
３４ エジェクタ
３５ フィンガバルブ
３６ 分岐管
３７ サイトグラス部（サンプル回収部）
３８ 排出バルブ
３９ エアガン
４１ Ｏリング
４２ ハンドル
４３ 周回溝
４４ 抜け止めボルト
４５ サンプル通過管
４５ａ ストレート部
４５ｂ サンプル導入部
４５ｃ サンプル送出部
４５ｄ 行き止まり部
４６ サンプル取り入れ口
４７ サンプル送出口
４８ 傾斜面
４８ａ 尖端側
４９ 側面露出部
５１ 小径部
５２ 間隙
５３ 連通溝
５４ 連通孔
５５ 通気空間
Ａ〜Ｃ エジェクタポート（第１〜第３ポート）
ＮＰ 通常位置
ＳＰ サンプリング位置
Ｒ リターン経路
Ｓ サンプリング経路

Claims (9)

1. 粉粒体処理装置に設置され、該粉粒体処理装置内の被処理物をサンプルとして装置外部に取り出す粉粒体処理装置用サンプリング装置であって、
   前記粉粒体処理装置の処理容器に取り付けられる円筒状のサンプリング筒と、
   前記サンプリング筒内に回転可能に装着される円柱状のサンプリングロッドと、
   前記サンプリングロッド内に形成され、サンプリング実施時に前記処理容器内と連通するサンプル通過管と、
   前記サンプル通過管内を負圧とし、前記処理容器内の前記被処理物を該サンプル通過管内に吸引する気流を発生させる吸引圧発生手段と、
   前記サンプル通過管内に吸引された前記被処理物を前記気流と分離し収容するサンプル回収部と、を有し、
   前記サンプリングロッドは、前記サンプリング筒内にて回転させることにより、前記サンプル通過管の一端側が前記処理容器内に開口するサンプリング位置と、前記サンプル通過管の一端側が前記処理容器内に対し閉鎖状態となる通常位置との間を回転変位し、
   前記サンプリング筒は、前記サンプリングロッドを前記サンプリング位置としたとき、前記サンプル通過管の他端側と連通するサンプル取り出し孔を有し、
   前記サンプル取り出し孔は、前記吸引圧発生手段と通気管を介して接続されることを特徴とする粉粒体処理装置用サンプリング装置。
2. 請求項１記載の粉粒体処理装置用サンプリング装置において、
   該サンプリング装置はさらに、前記気流を前記処理容器内に戻すリターン経路を有することを特徴とする粉粒体処理装置用サンプリング装置。
3. 請求項１又は２記載の粉粒体処理装置用サンプリング装置において、
   前記サンプル回収部は、前記通気管から分岐し、前記サンプル取り出し孔と前記吸引圧発生手段との間に配置されることを特徴とする粉粒体処理装置用サンプリング装置。
4. 請求項１〜３の何れか１項に記載の粉粒体処理装置用サンプリング装置において、
   前記処理容器は、側壁がテーパ状に傾斜した原料コンテナを有し、
   当該サンプリング装置は、前記原料コンテナの前記側壁に取り付けられ、
   前記サンプリングロッドは、
   前記原料コンテナ側の端部が傾斜面となった斜切円柱状に形成され、
   前記傾斜面は、該サンプリングロッドが前記通常位置のとき、前記原料コンテナの前記側壁内面と面一となり、該サンプリングロッドを回転させて前記サンプリング位置としたとき、該傾斜面の尖端側が前記原料コンテナの側壁内面から突出し、該サンプリングロッドの側面に前記原料コンテナ内に露出する側面露出部を形成し、
   前記サンプル通過管の一端側は、前記側面露出部に開口することを特徴とする粉粒体処理装置用サンプリング装置。
5. 請求項２記載の粉粒体処理装置用サンプリング装置において、
   前記リターン経路は、前記通気管と連通して設けられた送気管と、前記サンプリング筒に形成され前記送気管と接続される送気孔と、前記サンプリング筒と前記サンプリングロッドの間に形成され一端側が前記送気孔と連通する間隙と、を有し、
   前記サンプリングロッドを前記サンプリング位置としたとき、前記間隙の他端側が前記処理容器内と連通することを特徴とする粉粒体処理装置用サンプリング装置。
6. 請求項５記載の粉粒体処理装置用サンプリング装置において、
   前記処理容器は、当該サンプリング装置が装着されるサンプリング孔と、前記サンプリング孔に固定され前記サンプリング筒が取り付けられる円筒状のブラケットと、を有し、
   前記サンプリングロッドは、一端側が前記送気孔と連通し前記サンプリング筒との間に前記間隙を形成する小径部と、該小径部の他端側に形成され前記処理容器方向に延びる連通溝と、を有し、
   前記サンプリング筒は、前記ブラケット内に収容される部位に、前記サンプリングロッドを前記サンプリング位置としたとき前記連通溝と連通し、前記間隙と前記処理容器内とを連通させる連通孔を有することを特徴とする粉粒体処理装置用サンプリング装置。
7. 請求項６記載の粉粒体処理装置用サンプリング装置において、
   前記連通孔は、前記サンプリングロッドを前記サンプリング位置としたとき、端部が傾斜面となった斜切円柱状に形成された前記サンプリングロッドの前記傾斜面が、前記ブラケット内に形成する通気空間内に開口することを特徴とする粉粒体処理装置用サンプリング装置。
8. 請求項２記載の粉粒体処理装置用サンプリング装置において、
   前記吸引圧発生手段は、圧縮空気を供給するエアガンに接続された第１ポートと、前記第１ポートと連通状態にて対向配置され前記リターン経路と接続される第２ポートと、前記第１及び第２ポートを結ぶ線に対し交差して配置され前記サンプル通過管と接続される第３ポートと、を有するエジェクタであり、
   該エジェクタは、前記エアガンによって前記第１ポートに圧縮空気を供給し、前記第１及び第２ポート間に高速気流を発生させることにより、前記第３ポート側に負圧を発生させることを特徴とする粉粒体処理装置用サンプリング装置。
9. 請求項８記載の粉粒体処理装置用サンプリング装置において、
   当該サンプリング装置は、
   前記エジェクタの第１ポートに対し前記エアガンから圧縮空気を供給することにより、前記第３ポートと連通した前記サンプル通過管内を負圧とし、該負圧により、前記処理容器内の前記被処理物を該サンプル通過管内に吸引する気流を発生させ、
   前記第１ポートに供給された前記圧縮空気は、前記第３ポートから流入する前記気流と共に、前記第２ポートから前記リターン経路を介して前記処理容器内に戻されることを特徴とする粉粒体処理装置用サンプリング装置。

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