JP6389381B2 - 偏波制御素子 - Google Patents
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Description
Ex=E0xcos(az−ωt) (式1)
Ey=E0ycos(az−ωt+ε) (式2)
S1=E0x 2−E0y 2 (式3)
S2=2E0xE0ycosε (式4)
S3=2E0xE0ysinε (式5)
図4は、参考例に係る安定子の構成を示す。図4には、入射した電磁波の偏波に応じて発生する電流を変化させるセンシング・電流発生部402と、センシング・電流発生部402に接続され、センシング・電流発生部402に発生した電流に比例した磁場を発生させる磁場発生部403と、センシング・電流発生部402及び磁場発生部403が表面又は内部に設けられた媒質401と、を備えた安定子400が示されている。
E0y 2=(S0−S1)/2=(1−S1)/2 (式7)
(式7)より、発生する偏波面回転量θは、以下の(式8)で示される。
θ(S1)=k(1−S1)/2 (式8)
図8を用いて、本発明の実施例1に係る偏波制御素子の構成を説明する。図8には、入射した電磁波の偏波に応じて発生する電流を変化させるセンシング・電流発生部802、センシング・電流発生部802に接続され、センシング・電流発生部802に発生した電流に比例した磁場を発生させる磁場発生部803、並びにセンシング・電流発生部802及び磁場発生部803が表面又は内部に設けられた媒質801を含む複数の安定子からなる安定子群と、媒質801の内部あるいは近傍に設けられ、垂直偏波と水平偏波との間に位相差を生じさせる位相差発生部804と、を備えた偏波制御素子800が示されている。位相差発生部804は、垂直偏波と水平偏波との間の位相差を制御することができる。
図13を用いて、本発明の実施例2に係る偏波制御素子の構成について説明する。実施例1に係る偏波制御素子では位相差発生部として永久磁石を用いたが、本実施例2に係る偏波制御素子では、図13に示すように位相差発生部としてコイル1310を用いており、コイル1310内に安定子群1000を設けている。コイル1310により、電磁波の進行方向と垂直な磁場1301を安定子1000に印加することができる。
図14を用いて、本発明の実施例3に係る偏波制御素子の構成について説明する。実施例1及び2に係る偏波制御素子では媒質に磁場を印加することにより位相差発生部を構成したが、本実施例3に係る偏波制御素子では、図14に示すように、波長板などの位相差を変化させる素子である位相子1402を用いて構成している。
図15を用いて、本発明の実施例4に係る偏波制御素子の構成について説明する。図15には、センシング・電流発生部1502、磁場発生部1503、並びにセンシング・電流発生部1502及び磁場発生部1503が表面又は内部に設けられた媒質1501を含む複数の安定子からなる安定子群と、媒質1501の内部あるいは近傍に設けられた一定の位相差を発生し偏波面に一定の回転を生じさせる位相差・偏波面回転発生部1504と、を備えた偏波制御素子1500が示されている。上記実施例に係る偏波制御素子では任意の偏波面を有する偏波を偏波面回転がなくなる水平偏波に変換して出射したが、実施例5に係る偏波制御素子1500では、任意の偏波面を有する偏波を位相差・偏波面回転発生部1504で生じる一定の偏波面回転を加えることにより安定点が決定される偏波に変換して出射することができる。
図19を用いて、本発明の実施例5に係る偏波制御素子の構成について説明する。実施例4に係る偏波制御素子では位相差・偏波面回転発生部として永久磁石を用いたが、本実施例5に係る偏波制御素子では、図19に示すように位相差・偏波面回転発生部としてコイル1910を用いており、コイル1910内に安定子群1600を設けている。
図20及び図21を用いて、本発明の実施例6に係る偏波制御素子の構成について説明する。実施例4及び5に係る偏波制御素子では、電磁波の進行方向と垂直方向の両成分を持つ磁場により位相差・偏波面回転発生部を実現したが、本実施例6に係る偏波制御素子では位相差発生を位相子、偏波面回転発生を光の進行方向磁場をそれぞれ用いて実現する。
図22を用いて、本発明の実施例7に係る偏波制御素子について説明する。実施例6では、永久磁石を用いて光の進行方向に一定の磁場を印加したが、本実施例では、図22に示すようにコイル2210を用いて磁場2203を発生することにより一定の偏波回転を発生する。安定子群2000は安定子によって発生する電磁波の垂直成分によって変動する偏波面回転を発生することに加え、光の進行方向と平行な外部磁場により一定の偏波面回転、位相子により一定の位相差が発生する。
ファラデー回転子 200
偏波制御素子 800、1500 媒質 401、501、801、902、1501、2301
センシング・電流発生部 402、502、802、1502
磁場発生部 403、503、803、1503
偏光子 504
光電変換素子 505
安定子群 600、1000、1400、1600、2000
位相差発生部 804
安定子 400、500、1004、1401、1604、2004、2300
永久磁石 1005、1006、1605、1606、2105、2106
コイル 1310、1910、2210
位相子 1402、2005
位相差・偏波面回転発生部 1504
金属スプリットリング共振器 2302
Claims (7)
- 入射した電磁波の偏波に応じて発生する電流を変化させるセンシング・電流発生部であって、光電変換素子の電磁波が入射する側の面を偏光子で覆って構成したセンシング・電流発生部と、
前記センシング・電流発生部に接続され、前記センシング・電流発生部で発生した電流に比例した磁場を発生する磁場発生部と、
前記センシング・電流発生部及び前記磁場発生部が表面又は内部に設けられた媒質と、
を含む複数の安定子と、
前記電磁波における垂直偏波と水平偏波との間に、2πの整数倍ではない所定の位相差を発生させる位相差発生部と、
を備え、
前記複数の安定子は、電磁波の進行方向に並んで配置されており、
前記磁場発生部は、前記媒質の表面又は内部において電磁波の進行方向に垂直な平面上に設けられたループ状の導体で構成され、
前記ループ状の導体の一端には前記光電変換素子の正極が接続され、前記ループ状の導体の他端には前記光電変換素子の負極が接続され、
前記センシング・電流発生部は、前記センシング・電流発生部において発生した前記電流を前記ループ状の導体に流すことを特徴とする偏波制御素子。 - 前記位相差発生部は、前記電磁波の進行方向と垂直な磁場成分を有する磁場を発生して前記媒質に印加することにより、前記位相差を発生させることを特徴とする請求項1に記載の偏波制御素子。
- 前記位相差発生部は、前記電磁波の進行方向と垂直な磁場成分及び水平な磁場成分を有する磁場を発生して前記媒質に印加することにより、前記位相差を発生させるとともに前記偏波に一定の偏波面回転をさらに発生させることを特徴とする請求項1に記載の偏波制御素子。
- 前記位相差発生部は、位相子であり、
前記安定子と前記位相子とが前記電磁波の進行方向に対して交互に並べられていることを特徴とする請求項1に記載の偏波制御素子。 - 前記偏波に一定の偏波面回転を発生させる磁場を生成する偏波面回転発生部をさらに含むことを特徴とする請求項4に記載の偏波制御素子。
- 前記位相差発生部は、永久磁石又はコイルを用いて磁場を発生させることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の偏波制御素子。
- 前記偏波面回転発生部は、永久磁石又はコイルを用いて磁場を発生させることを特徴とする請求項5に記載の偏波制御素子。
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2014
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