JP6368289B2 - 光変調器のpn接合位置測定方法 - Google Patents
光変調器のpn接合位置測定方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6368289B2 JP6368289B2 JP2015169794A JP2015169794A JP6368289B2 JP 6368289 B2 JP6368289 B2 JP 6368289B2 JP 2015169794 A JP2015169794 A JP 2015169794A JP 2015169794 A JP2015169794 A JP 2015169794A JP 6368289 B2 JP6368289 B2 JP 6368289B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- type semiconductor
- semiconductor region
- waveguide
- junction
- optical modulator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
図2は、本発明の一実施形態にかかるテスト構造部を有するシリコン光変調器の構造を示す図で、図2(a)はシリコン光変調器の上面図を示し、図2(b)は、シリコン光変調器のテスト構造部の拡大図の上面図を示し、図2(c)は、図2(b)のB−B´における断面図を示している。
d12/(V2−V1)
から空乏層幅と電圧の関係が得られる。
w−dx=d12/(V2−V1)*Vx
からpnxのpn接合部の位置dxを求めることができる。
図4は、シリコン光変調器200において、予めpn接合部215の位置をずらした構造のシリコン光変調器(pn1、pn2)を2種類作製し、逆バイアス電圧を変化させながら、それぞれの空乏層の静電容量を測定した結果を示す図である。ここで、グラフ21はpn1の静電容量の変化を示し、グラフ22はpn2の静電容量の変化を示している。
101、201 基板
102、202 下部クラッド
103、203 導波路
103−1、203−1 入射導波路
103−2、203−2 光分波器
103−3、103−4、203−3、203−4 アーム導波路
103−5、203−5 光合波器
103−6、203−6 出射導波路
104、204 上部クラッド
105−1〜105−4 信号発生器
210、220 凸部
110、215 pn接合部
111、211 p型半導体領域
112、212 n型半導体領域
113、213 高濃度p型半導体領域
114、214 高濃度n型半導体領域
116、118、216、218 電極
220−1、220−2 テスト構造部
226、228 テスト電極
Claims (3)
- 基板と、
前記基板上に形成された下部クラッドと、
前記下部クラッドに形成され、幅方向中央に凸部を有する導波路であって、一方の導波路縁側はp型半導体領域であり、他方の導波路縁側はn型半導体領域であり、前記凸部において、p型半導体領域とn型半導体領域とが接合されたpn接合部が形成され、前記p型半導体領域は、前記n型半導体領域と反対方向の上面の一部に高濃度p型半導体領域が形成され、前記n型半導体領域は、前記p型半導体領域と反対方向の上面の一部に高濃度n型半導体領域が形成された、導波路と、
それぞれが前記高濃度p型半導体領域及び前記高濃度n型半導体領域に接続されたテスト電極と、
前記下部クラッド及び前記導波路上に形成された上部クラッドと
を備えることを特徴とする光変調器の前記pn接合部の位置を測定するためのテスト構造部。 - 基板と、前記基板上に形成された下部クラッドと、前記下部クラッドに形成され、幅方向中央に凸部を有する導波路であって、一方の導波路縁側はp型半導体領域であり、他方の導波路縁側はn型半導体領域であり、前記凸部において、p型半導体領域とn型半導体領域とが接合されたpn接合部が形成され、前記p型半導体領域は、前記n型半導体領域と反対方向の上面の一部に高濃度p型半導体領域が形成され、前記n型半導体領域は、前記p型半導体領域と反対方向の上面の一部に高濃度n型半導体領域が形成された、導波路と、前記下部クラッド及び前記導波路上に形成された上部クラッドと、前記下部クラッド及び前記導波路上に形成された上部クラッドとを備える光変調器の前記pn接合部の位置を測定するためのテスト構造部において、前記pn接合部の位置を測定する方法であって、
前記テスト電極の間に逆バイアス電圧を印加するステップと、
前記逆バイアス電圧と、前記アーム導波路内に発生した空乏層の静電容量との関係を測定するステップと、
前記逆バイアス電圧と前記空乏層の静電容量との関係が屈曲する点を検出するステップと、
前記屈曲する点の電圧値から、前記pn接合部の前記位置と、前記導波路を伝播する光のモードフィールド中央部との距離を算出するステップと
を含むことを特徴とする光変調器のpn接合部の位置を測定する方法。 - 前記逆バイアス電圧と前記空乏層の静電容量との関係が屈曲する点を検出するステップは、予め前記pn接合部の位置をずらした構造の光変調器を複数作製し、それぞれの光変調器に逆バイアス電圧を変化させながら印加して、それぞれの空乏層の静電容量を測定するステップを含み、
前記屈曲する点の電圧値から、前記pn接合部の前記位置と、前記導波路を伝播する光のモードフィールド中央部との距離を算出するステップは、前記空乏層の幅と電圧の関係と、及び前記凸部の幅とから前記pn接合部の位置を求めるステップを含むことを特徴とする請求項2に記載の光変調器のpn接合部の位置を測定する方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015169794A JP6368289B2 (ja) | 2015-08-28 | 2015-08-28 | 光変調器のpn接合位置測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015169794A JP6368289B2 (ja) | 2015-08-28 | 2015-08-28 | 光変調器のpn接合位置測定方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017045011A JP2017045011A (ja) | 2017-03-02 |
JP6368289B2 true JP6368289B2 (ja) | 2018-08-01 |
Family
ID=58211281
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015169794A Active JP6368289B2 (ja) | 2015-08-28 | 2015-08-28 | 光変調器のpn接合位置測定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6368289B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5821766A (en) * | 1996-02-20 | 1998-10-13 | Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. | Method and apparatus for measuring the metallurgical channel length of a semiconductor device |
JP2004140040A (ja) * | 2002-10-15 | 2004-05-13 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 縦型mosfetの評価方法 |
JP5413865B1 (ja) * | 2012-12-27 | 2014-02-12 | 株式会社フジクラ | 光導波路素子及び光変調器 |
JP6135447B2 (ja) * | 2013-10-17 | 2017-05-31 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 半導体装置及びその検査方法 |
-
2015
- 2015-08-28 JP JP2015169794A patent/JP6368289B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017045011A (ja) | 2017-03-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN103460368B (zh) | Tsv检测用干涉仪以及利用该干涉仪的检测方法 | |
US9234854B2 (en) | Single fiber noncritical-alignment wafer-scale optical testing | |
Ding et al. | Low-loss asymmetric strip-loaded slot waveguides in silicon-on-insulator | |
TW201531747A (zh) | 光學裝置 | |
KR20130133009A (ko) | 효율적인 실리콘-온-인슐레이터 격자 결합기 | |
US20120093455A1 (en) | Ultra-sensitive electric field detection device | |
JP2017504004A (ja) | 光学式慣性センサ | |
CN112384846A (zh) | 光电装置 | |
JP6368289B2 (ja) | 光変調器のpn接合位置測定方法 | |
US10288806B2 (en) | Junction region between two waveguides and associated method of production | |
KR102189605B1 (ko) | 광검출기 | |
CN105651318B (zh) | 光子晶体传感器结构及其制造方法 | |
CN103439031B (zh) | 双层薄膜残余应力测试结构 | |
KR101623541B1 (ko) | 후진파 발진기 및 이의 제조방법 | |
WO2016179869A1 (zh) | 一种锥形波导及硅基芯片 | |
JP6204272B2 (ja) | 距離計測装置 | |
JP6911438B2 (ja) | 光変調器 | |
Heath et al. | A tunable fiber-coupled optical cavity for agile enhancement of detector absorption | |
US20160282558A1 (en) | Optical higher-order mode frustration in a rib waveguide | |
JP2017009672A (ja) | 波長選択素子及び波長選択素子の製造方法 | |
JP2016170025A (ja) | 検査用光回路及びその検査方法 | |
Ortlepp et al. | Ultrathin transparent photodetector for use in Standing-Wave Interferometer | |
US20240118167A1 (en) | Circuit, Device and Method for Optical Characteristic Inspection | |
US9263853B2 (en) | Optical semiconductor device, method for manufacturing optical semiconductor device, and method for manufacturing optical module | |
US20230400745A1 (en) | Method of measuring electro-optic characteristic of a traveling wave mach-zehnder modulator and device for same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170830 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180627 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180703 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180706 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6368289 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |