JP6367091B2 - 質量分析装置および質量分析方法 - Google Patents
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Description
図1は、実施形態1による質量分析装置の概略構成を示すブロック図の一例である。図1に示すように、本実施形態の質量分析装置1は、イオンビームガン20と、レーザ光源LG1,LG2と、質量分析器30とを含む。イオンビームガン20、質量分析器30、および、分析対象である試料S1は、チャンバCB内に設置される。チャンバCBは、質量分析に先立ち、図示しない真空ポンプにより真空引きされる。
質量分析器30は、イオン化された二次粒子NPの質量スペクトルを測定し、測定結果に基づいて試料S1の質量分析を行う。本実施形態の測定方法において質量分析器30は例えば質量分析手段に対応する。
図3は、実施形態2による質量分析装置の概略構成を示すブロック図の一例である。図3に示す質量分析装置3は、上述した質量分析装置1および2と同様のイオンビームガン20および質量分析器30を含む。本実施形態の質量分析装置3は、パルスビームを出射する単一のレーザ光源LG3と、二次粒子NPが飛び出す領域RNPでレーザが干渉するように光学素子が配置された光学系と、をさらに含む。
前述した実施形態2のような複数のレーザ光の干渉に加え、凸レンズを通過させればレーザ光の強度をさらに強めることが可能になる。このような構成を実現した装置の一例を実施形態3による質量分析装置として説明する。
図5は、実施形態4による質量分析装置の概略構成を示すブロック図の一例である。図4との対比により明らかなように,本実施形態の質量分析装置5は、図4に示す構成に加え、ハーフミラーHM3および3つのミラーMR7,MR11,MR12、並びに、マニピュレータ40がさらに設けられた光学系を含む。
Claims (2)
- 試料を収容するチャンバと、
荷電粒子ビームを生成して試料に照射する荷電粒子ビーム源と、
前記荷電粒子ビームの照射により前記試料から放出する中性粒子にレーザ光を照射するレーザ光源と、
前記試料が保持される側の前記チャンバの壁面に設けられ、前記レーザ光を該壁面に対して略垂直方向に通過させる複数の窓と、
前記窓を通過して前記チャンバ内に入射したレーザ光を、前記中性粒子が放出される領域に入射させるように、入射方向に対して略垂直方向に反射するミラーと、
レーザ光の照射によりイオン化された中性粒子を検出して前記試料の質量を分析する質量分析手段と、
を備える質量分析装置。 - 前記複数の窓は、前記試料を間に挟むように前記チャンバの壁面に設けられている、請求項1に記載の質量分析装置。
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