JP6360010B2 - Conveying device used for film forming apparatus - Google Patents
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Description
この発明は、成膜装置における基板の搬入及び搬出を行う搬送装置に関する。 The present invention relates to a transfer apparatus that carries in and out a substrate in a film forming apparatus.
真空状態に保持された成膜室において、原料ガスをプラズマ化することにより生成される金属イオンを、基板表面に吸着させて成膜するプラズマ成膜装置が知られている。例えば、特許文献1のプラズマ成膜装置では、成膜室の鉛直方向上側に真空予備室が設けられており、また、真空予備室と成膜室との間の基板の搬送を実行する搬送機構が真空予備室の鉛直方向上側に設けられている。搬送機構は、シリンダ筒とシリンダ軸と摺動部とを備えている。シリンダ軸は、鉛直方向に沿ったシリンダ筒の筒内に摺動可能に配置され、シリンダ軸の下端部は真空予備室に突出している。シリンダ軸の下端部には、成膜室と真空予備室とを連結する搬送口を封止するための弁体が設けられ、弁体の下面には、基板を保持する基板保持部が設けられている。なお、以下では、弁体及び基板保持部を、まとめて「保持部」とも呼ぶ。シリンダ軸の上端部には磁石が設けられている。摺動部は、シリンダ筒の外周において往復可能に嵌められた環状のスライダであり、摺動部の内周面に電磁石が設けられている。搬送機構は、摺動部の電磁石とシリンダ軸の磁石との間の磁力を利用して、シリンダ筒に沿った摺動部の往復摺動に伴って、シリンダ軸を往復運動させることにより、真空予備室と成膜室との間の基板の搬送を実行する。
2. Description of the Related Art There is known a plasma film forming apparatus that forms a film by adsorbing metal ions generated by converting a raw material gas into plasma in a film forming chamber kept in a vacuum state on a substrate surface. For example, in the plasma film forming apparatus of
しかしながら、従来の搬送装置では、摺動部を移動させる駆動機構の構成によっては、摺動部の移動時においてガタつき等の振動によって、滑らかな搬送動作ができず、動作不良が発生しやすい、という問題があることを見出した。また、ガタつき等の振動の発生は、保持する基板の振動による基板の落下や動作音の増大を招く、という問題を生じさせることを見出した。 However, in the conventional transport device, depending on the configuration of the drive mechanism that moves the sliding portion, smooth transport operation cannot be performed due to vibration such as rattling at the time of movement of the sliding portion, and malfunction is likely to occur. I found that there is a problem. Further, it has been found that the occurrence of vibration such as rattling causes a problem that the substrate falls due to the vibration of the substrate to be held and the operation sound increases.
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態として実現することが可能である。 SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms.
(1)本発明の一形態によれば、成膜装置の鉛直方向の上側に配置され、前記成膜装置における基板の搬入及び搬出を行う搬送装置が提供される。この搬送装置は、前記基板を保持する保持部と;水平方向に沿って配置されて前記鉛直方向に移動可能なスライド板と;前記鉛直方向に沿って延びるネジ軸と、前記ネジ軸に挿入されるとともに前記スライド板に取り付けられたナットと、を有し、前記スライド板を前記鉛直方向に移動させる1以上のボールネジと;前記鉛直方向に沿って延びるシリンダ筒と、前記シリンダ筒の外周面に沿って摺動可能に配置された第1磁石を含み前記スライド板に取り付けられた摺動部と、前記シリンダ筒の筒内に挿入されるとともに上端部に第2磁石が固定され下端部に前記保持部が固定されたシリンダ軸と、をそれぞれ有する複数のリニア作動機構であって、前記スライド板の移動に伴う前記第1磁石の移動に追従して、前記第2磁石及び前記シリンダ軸が前記シリンダ筒の筒内を移動することにより、前記保持部を移動させる複数のリニア作動機構と;を備える。そして、平面視において、前記複数のリニア作動機構と前記ボールネジとが前記スライド板の長手方向に沿って一直線上に配置されている。
この形態の搬送装置によれば、平面視において、複数のリニア作動機構とボールネジとがスライド板の長手方向に沿って一直線上に配置されているので、スライド板が鉛直方向に移動する際に、ボールネジのナットが取り付けられたスライド板の部分と、摺動部が取り付けられたスライド板の部分とで、傾きが発生することを抑制することができる。これにより、スライド板の移動動作時においてガタつき等の振動による動作不良の発生を抑制して滑らかに移動させることができる。また、保持する基板の振動による基板の落下や動作音の増大を抑制することができる。
(1) According to one aspect of the present invention, there is provided a transfer device that is disposed on the upper side in the vertical direction of the film forming apparatus and carries in and out the substrate in the film forming apparatus. The transfer device includes: a holding unit that holds the substrate; a slide plate that is disposed along the horizontal direction and is movable in the vertical direction; a screw shaft that extends along the vertical direction; and a screw shaft that is inserted into the screw shaft. And at least one ball screw for moving the slide plate in the vertical direction; a cylinder cylinder extending along the vertical direction; and an outer peripheral surface of the cylinder cylinder A sliding portion that is attached to the slide plate and includes a first magnet that is slidably disposed along the cylinder, and a second magnet is fixed to the upper end portion of the cylinder barrel and the lower end portion is fixed to the lower end portion. A plurality of linear operation mechanisms each having a cylinder shaft to which a holding portion is fixed, and following the movement of the first magnet accompanying the movement of the slide plate, the second magnet and the cylinder By axis moves within the cylinder of the cylinder tube, and a plurality of linear actuating mechanism which moves the holding unit; comprises. In plan view, the plurality of linear operation mechanisms and the ball screw are arranged on a straight line along the longitudinal direction of the slide plate.
According to the transport device of this aspect, in the plan view, since the plurality of linear operation mechanisms and the ball screw are arranged in a straight line along the longitudinal direction of the slide plate, when the slide plate moves in the vertical direction, It is possible to suppress the occurrence of inclination between the slide plate portion to which the ball screw nut is attached and the slide plate portion to which the sliding portion is attached. As a result, it is possible to smoothly move the slide plate while suppressing the occurrence of malfunction due to vibration such as rattling when the slide plate is moved. Moreover, the fall of the board | substrate and the increase in an operating sound by the vibration of the board | substrate to hold | maintain can be suppressed.
(2)上記形態の搬送装置において、前記複数のリニア作動機構は、前記平面視において、前記ボールネジの位置を中心として対称な位置に配置されているとしてもよい。
この構成では、前記複数のリニア作動機構が、ボールネジの位置を中心として対称な位置に配置されているので、スライド板が鉛直方向に移動させる際に、ボールネジのナットが取り付けられたスライド板の部分と、摺動部が取り付けられたスライド板の部分とで、傾きが発生することをより効果的に抑制することができる。これにより、スライド板の移動動作時においてガタつき等の振動による動作不良の発生をより効果的に抑制して、シリンダ軸を滑らかに移動させることができる。また、保持する基板の振動による基板の落下や動作音の増大をより効果的に抑制することができる。
(2) In the transport device according to the aspect described above, the plurality of linear operation mechanisms may be arranged at symmetrical positions around the position of the ball screw in the plan view.
In this configuration, since the plurality of linear operation mechanisms are arranged at symmetrical positions with respect to the position of the ball screw, when the slide plate is moved in the vertical direction, the portion of the slide plate to which the nut of the ball screw is attached And it can suppress more effectively that an inclination generate | occur | produces by the part of the slide plate to which the sliding part was attached. Accordingly, it is possible to more effectively suppress the occurrence of malfunction due to vibration such as rattling during the movement operation of the slide plate, and to smoothly move the cylinder shaft. Moreover, the fall of the board | substrate and the increase in an operation sound by the vibration of the board | substrate to hold | maintain can be suppressed more effectively.
(3)上記形態の搬送装置において、前記スライド板の前記長手方向の両側の端部を前記鉛直方向に沿って移動可能にガイドする一対のガイド機構を備えるとしてもよい。
この場合には、スライド板の鉛直方向に沿った移動を一対のガイド機構によってガイドすることができるので、スライド板の傾きをさらに抑制して、スライド板を水平方向に沿った状態に保ちつつ、鉛直方向に沿って安定に移動させることができる。これにより、スライド板の移動動作時においてガタつき等の振動による動作不良の発生をさらに抑制して、シリンダ軸を滑らかに移動させることができる。また、保持する基板の振動による基板の落下や動作音の増大をさらに抑制することができる。
(3) The transport apparatus according to the above aspect may include a pair of guide mechanisms that guide both end portions of the slide plate in the longitudinal direction so as to be movable along the vertical direction.
In this case, since the movement along the vertical direction of the slide plate can be guided by the pair of guide mechanisms, the inclination of the slide plate is further suppressed, while keeping the slide plate in a state along the horizontal direction, It can be moved stably along the vertical direction. Thereby, it is possible to further suppress the occurrence of malfunction due to vibration such as rattling during the movement operation of the slide plate, and to smoothly move the cylinder shaft. Moreover, the fall of the board | substrate and the increase in an operating sound by the vibration of the board | substrate to hold | maintain can further be suppressed.
(4)上記形態の搬送装置において、前記水平方向に沿った上面支持板及び底面支持板と、前記底面支持板及び前記上面支持板の間に設けられた前記鉛直方向に沿った第1側面支持板及び第2側面支持板と、を有する直方体骨組構造のフレームを備え、前記ボールネジの前記ネジ軸は、前記ネジ軸の上端部が前記上面支持板で支持されるとともに下端部が前記底面支持板で支持されることにより、前記鉛直方向に沿った状態で支持されており、前記リニア作動機構の前記シリンダ筒は、前記シリンダ筒の上端部が前記上面支持板で支持されるとともに下端部が前記底面支持板で支持されることにより、前記鉛直方向に沿った状態で支持されており、前記第1側面支持板及び前記第2側面支持板の内側面に、それぞれ、前記ガイド機構が設けられているとしてもよい。
この場合には、直方体骨組構造のフレームによって、ボールネジのネジ軸およびリニア作動機構のシリンダ筒を鉛直方向に沿った状態で安定に支持することができるとともに、ガイド機構を鉛直方向に沿って安定な状態で支持することができる。これにより、スライド板の移動動作時においてガタつき等の振動による動作不良の発生をさらに抑制して、シリンダ軸を滑らかに移動させることができる。また、保持する基板の振動による基板の落下や動作音の増大をさらに抑制することができる。
(4) In the transport device according to the above aspect, an upper surface support plate and a bottom surface support plate along the horizontal direction, a first side surface support plate along the vertical direction provided between the bottom surface support plate and the upper surface support plate, and A frame having a rectangular parallelepiped frame structure having a second side support plate, and the screw shaft of the ball screw is supported at the upper end portion of the screw shaft by the upper surface support plate and at the lower end portion by the bottom surface support plate. Thus, the cylinder cylinder of the linear operation mechanism is supported in a state along the vertical direction, and the upper end portion of the cylinder cylinder is supported by the upper surface support plate and the lower end portion is supported by the bottom surface. By being supported by a plate, it is supported in a state along the vertical direction, and the guide mechanism is provided on each of the inner side surfaces of the first side surface support plate and the second side surface support plate. It may be used as is.
In this case, the frame of the rectangular parallelepiped frame structure can stably support the screw shaft of the ball screw and the cylinder cylinder of the linear operation mechanism in a state along the vertical direction, and the guide mechanism can be stabilized along the vertical direction. It can be supported in a state. Thereby, it is possible to further suppress the occurrence of malfunction due to vibration such as rattling during the movement operation of the slide plate, and to smoothly move the cylinder shaft. Moreover, the fall of the board | substrate and the increase in an operating sound by the vibration of the board | substrate to hold | maintain can further be suppressed.
(5)上記形態の搬送装置において、前記複数のリニア作動機構は第1リニア作動機構と第2リニア作動機構を有し、前記第1リニア作動機構の前記シリンダ軸の下端部は、前記保持部の前記シリンダ軸に対する前記鉛直方向及び前記水平方向の変位を不可とする固定機構に取り付けられており、前記第2リニア作動機構の前記シリンダ軸の下端部は、前記保持部の前記シリンダ軸に対する前記鉛直方向の変位を不可とするとともに、前記水平方向の変位を許容する水平スライド機構に取り付けられているとしてもよい。
この場合には、例えば、保持部が温度変化に応じて水平方向に沿って伸縮したとしても、第2リニア機構駆動機構のシリンダ軸の下端部が取り付けられている水平スライド機構によって、シリンダ軸に対する保持部の水平方向の位置を変位させることができるので、各リニア作動機構のシリンダ軸の下端部の位置を変位させずに、各リニア作動機構のシリンダ軸を鉛直方向に沿った状態に保つことができる。これにより、シリンダ軸の傾きに起因するガタつき等の振動による動作不良の発生を抑制して滑らかにシリンダ軸を移動させることができる。また、保持する基板の振動による基板の落下や動作音の増大を抑制することができる。
(5) In the transport apparatus according to the above aspect, the plurality of linear operation mechanisms include a first linear operation mechanism and a second linear operation mechanism, and a lower end portion of the cylinder shaft of the first linear operation mechanism is configured to be the holding unit. The lower end portion of the cylinder shaft of the second linear operating mechanism is attached to the cylinder shaft of the holding portion with respect to the cylinder shaft. It may be attached to a horizontal slide mechanism that disables the displacement in the vertical direction and allows the displacement in the horizontal direction.
In this case, for example, even if the holding portion expands and contracts along the horizontal direction in response to a temperature change, the horizontal slide mechanism to which the lower end portion of the cylinder shaft of the second linear mechanism drive mechanism is attached causes the cylinder shaft to Since the horizontal position of the holding part can be displaced, the cylinder axis of each linear actuation mechanism must be kept in the vertical direction without displacing the position of the lower end of the cylinder axis of each linear actuation mechanism. Can do. Accordingly, it is possible to smoothly move the cylinder shaft while suppressing the occurrence of malfunction due to vibration such as rattling caused by the tilt of the cylinder shaft. Moreover, the fall of the board | substrate and the increase in an operating sound by the vibration of the board | substrate to hold | maintain can be suppressed.
(6)上記形態の搬送装置において、前記保持部の上昇端位置において、前記保持部の長手方向の向きを固定するストッパを備えるようにしてもよい。
この場合には、上昇端位置における保持部の位置精度を向上させることができ、保持部によって基板を安定に保持させることができる。
(6) In the transport apparatus of the above aspect, a stopper may be provided that fixes the orientation of the holding unit in the longitudinal direction at the rising end position of the holding unit.
In this case, it is possible to improve the positional accuracy of the holding portion at the rising end position, and the substrate can be stably held by the holding portion.
(7)上記形態の搬送装置において、前記シリンダ軸の外周面に沿って円環状に覆うように固定され、前記シリンダ筒の内周面に付着する粉塵を除去するためのスクレーパーを備えるようにしてもよい。
この場合には、シリンダ軸が移動する際に、シリンダ筒の内周面に付着した粉塵を除去することができるので、粉塵に起因するガタツキを抑制して滑らかにシリンダ軸を移動させることができる。また、保持する基板の振動による基板の落下や動作音の増大を抑制することができる。
(7) In the transport device according to the above aspect, a scraper that is fixed so as to cover an annular shape along the outer peripheral surface of the cylinder shaft and that removes dust adhering to the inner peripheral surface of the cylinder cylinder is provided. Also good.
In this case, since the dust adhering to the inner peripheral surface of the cylinder cylinder can be removed when the cylinder shaft moves, it is possible to smoothly move the cylinder shaft while suppressing rattling caused by the dust. . Moreover, the fall of the board | substrate and the increase in an operating sound by the vibration of the board | substrate to hold | maintain can be suppressed.
なお、本発明は、種々の態様で実現することが可能である。例えば、搬送装置や、搬送装置を備える成膜装置等の形態で実現することができる。 Note that the present invention can be realized in various modes. For example, it can be realized in the form of a transfer device, a film forming apparatus including the transfer device, or the like.
図1は、本発明の一実施形態としてのプラズマ成膜装置10の構成を示す概略図である。なお、図1には、互いに直交する3つの方向x,y,zが図示されている。y方向は鉛直下向き方向を示し、x方向及びz方向は水平方向を示している。図2以降の図に描かれた方向x,y,zも同様である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration of a plasma
このプラズマ成膜装置10は、いわゆるプラズマCVD法(plasma CVD; plasma-enhanced chemical vapor deposition)によって成膜対象である基板WPの表面全体に炭素薄膜を形成する。基板WPとしては、燃料電池に用いられるセパレータプレートが例示される。なお、成膜される炭素薄膜の構造としては、アモルファス構造や、グラファイト構造であるものとしても良く、他の種類の構造であるものとしても良い。なお、プラズマ成膜装置10は、基板WPに炭素薄膜を形成するものに限定されるものではなく、炭素薄膜以外の他の種類の薄膜を、基板WPの外表面に成膜するものとしても良い。例えば、プラズマ成膜装置10は、金や、白金、タンタルなどの金属元素の薄膜を成膜するものとしても良い。また、基板WPとしては、燃料電池に用いられるセパレータプレートに限定されるものではなく、他の用途に用いられる種々の基板であっても良い。
The plasma
プラズマ成膜装置10は、成膜室20と、真空予備室30と、搬送装置40と、を備える。真空予備室30は成膜室20に対して鉛直方向(y方向)の上側に配置され、搬送装置40は真空予備室30に対して鉛直方向の上側に配置されている。但し、搬送装置40のうち、真空予備室30と成膜室20との間で基板WPを実際に搬送する構造の部分(図1には不図示)は、真空予備室30の内部31に配置されている。
The plasma
このプラズマ成膜装置10では、概ね、以下に示すように基板WPに対する成膜処理が実行される。まず、真空予備室30の基板導入口32を密閉する導入蓋33を開き、真空予備室30の内部31に基板WPが不図示の基板導入装置によって導入され、搬送装置40の後述する保持部で保持された後、導入蓋33を閉じて、不図示の真空ポンプによって真空予備室30の内部31が真空化される。一方、成膜室20は、別の真空ポンプによって真空状態に維持されている。そして、真空予備室30と成膜室20とを連通する連通孔21を成膜室20側で封止するゲートバルブ22が開いて、真空状態の成膜室20と真空予備室30とが連通されると、搬送装置40によって、基板WPが成膜室20の内部23へ搬入されるとともに、後述するように搬送装置40の保持部によって連通孔21が真空予備室30側で封止される。成膜室20は、真空ポンプ、プラズマ発生装置、原料ガス供給装置、排ガス処理装置、等の成膜のための不図示の装置を備えている。成膜室20では、搬入された基板WPに対する成膜処理が実行される。そして、成膜処理後の基板WPは、搬送装置40によって成膜室20から真空予備室30へ搬出され、ゲートバルブ22を閉じて成膜室20が密閉された後、真空予備室30の真空状態が開放され、導入蓋33を開いて、基板導入装置によって真空予備室30から導出される。以上のように、プラズマ成膜装置10では、基板WPに成膜処理が実行される。なお、プラズマ成膜装置10のこのような動作については、上記先行技術文献1(特開2013−237885号公報)に記載されており、その開示内容は参照により組み込まれる。
In the plasma
図2(A)は搬送装置40を正面視した状態を示し、図2(B)はスライド板400を平面視した状態を示している。
2A shows a state in which the
搬送装置40は、直方体骨組構造フレーム100と、ボールネジ200と、一対のリニア作動機構300A,300Bと、スライド板400と、保持部500と、ボールネジ駆動部600と、一対のリニアガイド700A,700Bと、を備える。
The conveying
直方体骨組構造フレーム100は、真空予備室30の上蓋34上に固定されたxz平面に平行な底面支持板120と、yz平面に平行な第1側面部分131及びyx平面に平行な第2側面部分132でそれぞれL字状に構成された第1側面支持板130A及び第2側面支持板130Bと、第1側面支持板130A及び第2側面支持板130Bの上端に固定されたxz平面に平行な上面支持板140と、を備える。直方体骨組構造フレーム100は、底面支持板120と、第1側面支持板130A及び第2側面支持板130Bと、上面支持板140とがボルト等により互いに固定されることによって、隣り合う面同士のなす角度が直角で、対向する面同士が平行となるように構成されている。なお、直方体骨組構造フレーム100は、ボールネジ200、リニア作動機構300A,300B、及び、リニアガイド700A,700Bを粉塵等から保護するための防塵カバー(不図示)で覆われることが好ましい。
The rectangular parallelepiped frame 100 includes a
ボールネジ200は、ネジ軸210と、ネジ軸210に嵌められたナット220と、を備える。ネジ軸210は、その上端部が上部サポート230を介して上面支持板140に固定され、その下端部が下部サポート240を介して底面支持板120の上面側に設けられた台座部112に固定されている。上部サポート230及び下部サポート240は、それぞれ、軸受けを有しており、ネジ軸210を回転可能に支持している。ボールネジ200は、直方体骨組構造フレーム100によって、ネジ軸210の中心軸線CY0が鉛直方向(y方向)に沿った状態で支持されている。
The
ネジ軸210の下端部は、台座部112の内部スペースに配置されたボールネジ駆動部600に連結されており、ネジ軸210は、ボールネジ駆動部600が出力する動力(回転力)に応じて回転する。なお、ボールネジ駆動部600の構造に特に制限はなく、モーターの回転力を直接ネジ軸210に伝達する構造や、モーターの回転力をギアやベルト等を介して間接的にネジ軸210に伝達する構造等の種々の構造を採用することができる。
The lower end portion of the
ネジ軸210に嵌められているナット220は、xz平面(「水平面」とも呼ぶ)に平行で長手方向がx方向に沿った略矩形状のスライド板400の上面に取り付けられており、ネジ軸210の回転に応じて鉛直方向に沿って移動する。これにより、ボールネジ200は、ナット220が取り付けられたスライド板400をネジ軸210の回転に伴って鉛直方向に沿って移動させることができる。
A
一対のリニア作動機構300A,300B(以下、「第1リニア作動機構300A」及び「第2リニア作動機構300B」とも呼ぶ)は、それぞれ、シリンダ筒310と、シリンダ筒310の筒内に挿入されたシリンダ軸320と、シリンダ筒310の外周面に沿って摺動可能に設けられた摺動部330と、を備える。
A pair of
第1リニア作動機構300Aは、シリンダ筒310の上端部をシリンダガイド340によって上面支持板140に固定し、シリンダ筒310の下端部をフランジ350によって台座部112に固定することにより、直方体骨組構造フレーム100によって、シリンダ筒310の中心軸線CY1aが鉛直方向に沿った状態で支持されている。第2リニア作動機構300Bも、同様に、シリンダ筒310の中心軸線CY1bが鉛直方向(y方向)に沿った状態で支持されている。リニア作動機構300A,300Bの摺動部330は、ぞれぞれ、スライド板400の上面に取り付けられており、後述するように、スライド板400の上下動に応じて、それぞれのシリンダ筒310に沿って摺動し、それぞれのシリンダ軸320を上下動させる。
The first linear actuating mechanism 300A fixes the upper end portion of the
図2(B)に示すように、ボールネジ200と一対のリニア作動機構300A,300Bとは、スライド板400を鉛直方向上側から平面視した場合において、スライド板400の長手方向(x方向)に沿った直線CX上に並ぶように一直線上に配置されている。また、本実施形態では、一対のリニア作動機構300A,300Bは、ボールネジ200を中心として対称な位置に配置されている。
As shown in FIG. 2B, the
図2(A)に示すように、リニア作動機構300A,300Bのシリンダ軸320の下端部は、それぞれ、台座部112、底面支持板120及び真空予備室30の上蓋34の内部の貫通孔を介して真空予備室30の内部31に突出しており、保持部500に取り付けられている。
As shown in FIG. 2A, the lower end portions of the
保持部500は、弁体510と、弁体支持部520A,520Bと、基板WPを保持する複数の基板保持部530と、を備える。弁体支持部520A,520Bは、弁体510の上部に固定されている。第1の弁体支持部520Aには、第1リニア作動機構300Aのシリンダ軸320の下端部が取り付けられており、第2の弁体支持部520Bには、第2リニア作動機構300Bのシリンダ軸320の下端部が取り付けられている。複数の基板保持部530は、弁体510の下面に設けられており、下端部に有するフック532によって、基板WPを吊り下げて保持する。本実施形態では、2つの基板保持部530が設けられている。また、弁体510の下部には、位置決めピン512及びOリング514が設けられている。なお、弁体支持部520A,520Bの構成については後述する。
The holding
図3は、第1リニア作動機構300Aの摺動部330の部分の断面を拡大して示す概略図である。摺動部330は、スライド板400に固定された円筒状のカバー332と、カバー332の内周面に固定され、シリンダ筒310の外周面に沿って摺動可能に配置された円環状の第1磁石334と、を備える。第1磁石334には、鉛直方向(y方向)に沿って磁化された永久磁石が用いられている。図3の例では、鉛直方向の上側がS極で下側がN極となっている。また、図3の例では、鉛直方向に沿って1列の第1磁石334が設けられている。
FIG. 3 is an enlarged schematic view showing a section of the sliding
シリンダ筒310の筒内に挿入されたシリンダ軸320の上端部には、シリンダ軸320の外周面に沿って固定された円環状の第2磁石336が設けられている。第2磁石336は、1列の第1磁石334に対応させて1列の第2磁石が設けられている。なお、第2磁石336は、後述する第1磁石334との間で働く磁力による第1磁石334の移動に対する追従性を高めるために、第1磁石334と同様に鉛直方向に沿って磁化された2つの永久磁石336a,336bを異極性同士が接触するように組み合わせて構成されている。
An annular
スライド板400の鉛直方向に沿った移動(図中矢印で示す)に伴って摺動部330が移動すると、第1磁石334と第2磁石336との間で働く磁力(引力および斥力)によって第1磁石334の移動に追従して第2磁石336がシリンダ筒310内を摺動して移動し、シリンダ軸320が鉛直方向に沿って移動する。なお、図示及び説明を省略するが、第2リニア作動機構300Bにおいても同様である。従って、リニア作動機構300A,300Bは、スライド板400に取り付けられたそれぞれの摺動部330の鉛直方向に沿った摺動に伴って、真空予備室30の内部31に突出するシリンダ軸320の部分(図2(A)参照)の長さを変化させることができる。なお、第1磁石334と第2磁石336の構成は例示であり、これ以外の種々の構成を採用可能である。また、2つの磁石334,336の少なくとも一方を電磁石としても良い。
When the sliding
なお、シリンダ軸320の外周面には、シリンダ筒310の内周面に付着する粉塵を除去するための円環状のスクレーパー337が、上下2か所に設けられている。また、カバー332の内周面にも、シリンダ筒310の外周面に付着する粉塵を除去するための円環状のスクレーパー338が、上下2か所に設けられている。
An
図4は、成膜室20に基板WPを搬送した状態の搬送装置40を示す説明図である。スライド板400を、台座部112上に設けられた下端位置決め部114で規定される下端位置までスライドさせると、上述したように、リニア作動機構300A,300Bのそれぞれのシリンダ軸320を鉛直方向下向きに移動させることができる。これにより、シリンダ軸320に取り付けられた保持部500を、真空予備室30の内部31において、鉛直方向下側の成膜室20の上蓋24に弁体510が接触するまで移動させることができる。そして、保持部500の基板保持部530で保持された基板WPを、真空予備室30と成膜室20との間の連通孔21を介して、成膜室20の内部23へ搬入することができる。この際、保持部500の弁体510の下面には、位置決めピン512及びOリング514が設けられており、位置決めピン512が連通孔21の外側の位置決め孔26に嵌合され、Oリング514が成膜室20の上蓋24に密接して連通孔21の外周を覆うことにより、成膜室20の内部23を真空予備室30に対して封止し、成膜室20内を真空状態に保つことができる。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing the
また、スライド板400を下端位置(図4)から鉛直上方向にスライドさせることにより、リニア作動機構300A,300Bのそれぞれのシリンダ軸320を鉛直上方向に移動させることができ、図2に示すように、保持部500を上昇端位置まで移動させることができる。これにより、保持部500の基板保持部530で保持された基板WPを、真空予備室30と成膜室20との間の連通孔21を介して、成膜室20の内部23から真空予備室30の内部31へ搬出することができる。なお、上昇端位置は、真空予備室30の上蓋34の下面側(内部31の側)の中央の位置に設けられた弁体ストッパ550と、弁体ストッパ550の両側に設けられた一対の弁体回転ストッパ560A,560Bで規定される。なお、弁体回転ストッパ560A,560Bの構成については後述する。
Also, by sliding the
図2,図4に示すように、一対のリニアガイド700A,700Bのうち、右側のリニアガイド700Aは第1側面支持板130Aの第1側面部分131に設けられ、左側のリニアガイド700Bは第2側面支持板130Bの第1側面部分131に設けられている。リニアガイド700A,700Bは、鉛直方向(y方向)に沿って延びるリニアレール710と、リニアレール710上をスライドするリニアブロック720と、を備える。リニアガイド700A,700Bは、それぞれ、リニアレール710上をリニアブロック720がスライドすることで、それぞれのリニアブロック720に取り付けられたスライド板400がリニアレールの方向(鉛直方向)に沿って移動する直線運動をガイドするガイド機構である。これにより、スライド板400は、ボールネジ200によって鉛直方向に沿って移動する際に、左右一対のリニアガイド700A,700Bによって、xz平面(水平面)に沿った水平状態を維持しつつ、鉛直方向に沿った滑らかな移動(直線運動)となるようにガイドされる。
2 and 4, of the pair of
第1リニア作動機構300Aのシリンダ軸320が取り付けられた弁体支持部520Aは、シリンダ軸320に対する保持部500のx,z方向(水平方向)及びy方向(鉛直方向)の変位を不可とするように、シリンダ軸320の下端部を固定する固定機構で構成されている。固定機構の構造としては、シリンダ軸320の下端を固定可能であれば、その構造に制限はない。これに対して、第2リニア作動機構300Bのシリンダ軸320が取り付けられた弁体支持部520B(図2,4)は、以下で説明するように、シリンダ軸320に対する保持部500のy方向(鉛直方向)の変位を不可とするとともに、x方向(水平方向)の変位を許容する機構(以下、「水平スライド機構」とも呼ぶ)で構成されている。
The valve
図5は、水平スライド機構で構成された弁体支持部520B(図2,4)の一例を拡大して示す概略図である。図5(A)は弁体支持部520Bをxy平面に沿ったシリンダ軸320の中心軸線CYLを含む面で切った断面を示しており、図5(B)は、弁体支持部520Bに取り付けられたシリンダ軸320の部分を抜き出して示している。図5(A)に示すように、弁体支持部520Bには、シリンダ軸320の外径よりも大きい内径のシリンダ軸挿入溝521がy方向(鉛直方向)に沿って設けられており、シリンダ軸挿入溝521の外側の弁体支持部520Bの部分には、x方向(水平方向)に沿って係合棒523が挿入される係合孔522a,522bが設けられている。また、図5(B)に示すように、シリンダ軸320にもx方向に沿って貫通し、係合棒523が挿入される係合孔321が設けられている。図5(A)に示すように、係合棒523は、弁体支持部520Bのx方向左側の係合孔522a、シリンダ軸320の係合孔321、弁体支持部520Bのx方向右側の係合孔522bの順に挿入され、固定ピン524によって係合孔522a,522bから抜け落ちないように弁体支持部520Bに固定される。
FIG. 5 is an enlarged schematic view showing an example of the valve
上記構造によって、シリンダ軸320は、係合棒523によって、y方向(鉛直方向)に対しては移動できないように固定(拘束)される。これに対して、シリンダ軸320を挿入したシリンダ軸挿入溝521の内径はシリンダ軸320の外径よりも大きく、x方向(水平方向)に沿って隙間が設けられているので、シリンダ軸320は、弁体510に対して係合棒523に沿ってx方向(水平方向)に移動(スライド)できる。
With the above structure, the
ここで、弁体510は、真空予備室30内の温度の変動に応じて体積変動が発生しやすく、これに伴って発生するx方向(水平方向)の寸法変動によって、以下の問題が発生する可能性がある。第2リニア作動機構300Bのシリンダ軸320および第1リニア作動機構300Aのシリンダ軸320の両方が固定機構の弁体支持部で固定された構造とした場合、弁体510のx方向の寸法の変動に伴って、シリンダ軸320の下端部が寸法変動の方向に引っ張られて、シリンダ軸320が鉛直方向(y方向)に沿った状態から傾くことになる。シリンダ軸320が鉛直方向に沿った状態から傾いた場合、シリンダ筒310に対してシリンダ軸320が傾いた状態となるので、シリンダ軸320の上下動時においてガタつき等の振動が発生し、滑らかな移動動作が困難となる可能性がある。
Here, the
これに対して、図5に示したように、弁体支持部520Bでは、弁体510のx方向の寸法が変動しても、シリンダ軸320の下端部は係合棒523に沿ってx方向(水平方向)にスライドすることができるので、シリンダ軸320はy方向(鉛直方向)に沿った状態を維持することができ、滑らかな移動動作を維持することができる。なお、シリンダ軸挿入溝521の内径寸法は、弁体510の温度変化によるx方向の寸法変動を吸収できる大きさとされる。但し、温度変動等に基因するシリンダ軸320の傾きが問題とならない場合には、弁体支持部520Bに水平スライド機構を設けなくても良い。
On the other hand, as shown in FIG. 5, in the valve
図6は、一対の弁体回転ストッパ560A,560B(図2,図4)の一方の弁体回転ストッパ560Bを弁体ストッパ550側から側面視した概略図である。なお、図6は、真空予備室30の上蓋34および保持部500の弁体510を概略断面(ハッチング)で示し、説明上不要な部材は省略して示している。この弁体回転ストッパ560Bは、弁体支持部520Bを挟持して固定する固定ガイド562を有している。図示は省略するが、他方の弁体回転ストッパ560Aも、一方の弁体回転ストッパ560Bと同様である。2つの弁体回転ストッパ560A,560Bが弁体510の弁体支持部520A,520Bを固定することにより、保持部500の上昇端位置における、弁体510の位置、特に、長手方向の向きをx方向に沿うように固定することができる(図2)。
FIG. 6 is a schematic view of one valve
以上説明した構造を有する搬送装置40は、ボールネジ200によるスライド板400を一対のリニアガイド700A,700Bによるガイドによって水平状態を維持しつつ鉛直方向に沿って移動させ、これに伴って、一対のリニア作動機構300A,300Bを動作させることによって、保持部500の基板保持部530で保持された基板WPの成膜室20への搬入および成膜室20からの搬出を行うことができる。
The
図7は、比較例としての搬送装置40Rを示す概略図である。図7(A)は図2(A)に対応する正面図であり、図7(B)は図7(A)の左側面図である。また、図8は、搬送装置40Rのスライド板400Rを平面視した状態で示す概略図である。比較例の搬送装置40Rは、ボールネジ200と、リニア作動機構300と、一対のサポート機構800A,800Bと、保持部500と、ボールネジ駆動部600と、を備えている。
FIG. 7 is a schematic diagram illustrating a
リニア作動機構300は、シリンダ筒310の下端部が支持台370を介して真空予備室30の上蓋34の上面に設置されており、上端部がシリンダガイド340を介して連結板170に固定されている。リニア作動機構300のシリンダ筒310は、連結板170及び上部シリンダガイド340と上蓋34及び支持台370とによって、その中心軸CY1が鉛直方向に沿った状態となるように支持されている。
In the
ボールネジ200は、図7(B),図8に示すように、リニア作動機構300に対してz方向にずれた位置で、ネジ軸210の下端部が下部サポート240を介してボールネジ支持板160に固定され、ネジ軸210の上端部が上部サポート230を介して連結板170に固定されている。ボールネジ200のネジ軸210は、連結板170及び上部サポート230とボールネジ支持板160及び下部サポート240とによって、その中心軸線CY0が鉛直方向に沿った状態となるように支持されている。
As shown in FIGS. 7B and 8, the
一対のサポート機構800A,800Bのうち、第1のサポート機構800Aは、サポートバー810の下端部が真空予備室30の上蓋34の上面にフランジ830を介して設置されており、サポートバー810の上端部が連結板170に固定されている。第2のサポート機構800Bも、同様である。サポート機構800A,800Bは、それぞれのサポートバー810が連結板170と上蓋34及びフランジ830とによって、それぞれの中心軸線CY2a,CY2bが鉛直方向(y方向)に沿った状態となるように支持されている。
Of the pair of
ボールネジ200のナット220、リニア作動機構300の摺動部330、及び、サポート機構800A,800Bの滑り軸受け820は、スライド板400Rに取り付けられている。ボールネジ200のネジ軸210の回転に伴ってナット220が鉛直方向に移動し、これに伴ってスライド板400Rが移動する。この際、スライド板400Rに取り付けられた滑り軸受け820が、サポートバー810を滑って移動することにより、スライド板400Rの鉛直方向に沿った移動がサポートされる。
The
以上説明した比較例の搬送装置40Rでは、以下で説明する不具合がある。図8に示すように、リニア作動機構300のシリンダ筒310に対して、ボールネジ200のネジ軸210の配置位置が、z方向にずれた配置(「オフセット配置」とも呼ぶ)となっている。このため、ボールネジ200のナット220及びリニア作動機構300の摺動部330が取り付けられたスライド板400Rが、ナット220の移動に応じて、図7(B)の矢印Y400Rに示すように、z方向(水平方向)に対して傾斜する事象が発生し易い。例えば、スライド板400Rが上昇する場合には、ナット220側が高く摺動部330側が低く傾斜し、スライド板400Rが下降する場合には、ナット220側が低く摺動部330側が高く傾斜する。このようにスライド板400Rが傾斜した場合、リニア作動機構300の摺動部330のシリンダ筒310に沿った摺動時にガタつき等の振動が発生し、滑らかな動作が困難となる場合がある。なお、ガタつき等の振動は装置の動作音の増大を招く場合もある。
The
また、サポート機構800A,800Bのサポートバー810は、実質的には、その下端のみがフランジ830を介して真空予備室30の上蓋34上で固定されて鉛直方向に沿った状態となるように支持されているだけである。このため、第1のサポート機構800Aのサポートバー810及び第2のサポート機構800Bのサポートバー810に、それぞれ、図7(A)の矢印XZ800A,XZ800Bに示すように、x方向及びz方向に対して傾きが発生し、鉛直方向に沿った平行度が確保できない場合等が発生する。このため、滑り軸受け820の滑らかな動きが抑制されて、スライド板400Rの動作にガタつき等の振動が発生し、滑らかな動作が困難となる場合がある。
Further, the
また、リニア作動機構300のシリンダ筒310も、実質的には、その下端のみが支持台370を介して真空予備室30の上蓋34上で固定されて鉛直方向に沿った状態となるように支持されているだけである。このため、リニア作動機構300のシリンダ筒310に、図7(A)の矢印XZ300に示すように、x方向及びz方向に対して傾きが発生し、鉛直方向に沿った平行度が確保できない場合等が発生する。このため、摺動部330のシリンダ筒310に沿った摺動によるスライド板400の上下動動作にガタつき等の振動が発生し、滑らかな動作が困難となる場合もある。
Further, the
また、保持部500の長手方向(x方向)の中心位置でリニア作動機構300のシリンダ軸320によって保持部500を支持しているため、保持部500の位置(特に、長手方向の向き)にバラツキが発生し易い。特に、上昇端位置(図7(A))における保持部500の位置にバラツキが発生した場合には、基板を基板保持部に保持させることができずに落下させてしまう場合等の不具合が発生する。また、リニア作動機構300によって保持部500を上昇あるいは降下させる際に、保持部500にシリンダ軸320を中心とした回転振動が発生し易くなり、この振動によって基板が真空予備室30の壁面等に接触し、基板が落下する可能性もある。
In addition, since the holding
これに対して、実施形態の搬送装置40(図2〜図4)では、上述したように、ボールネジ200及び一対のリニア作動機構300A,300Bを、鉛直方向上側から平面視した場合においてスライド板400の長手方向(x方向)に沿って一直線上に並ぶように配置している。より具体的には、ボールネジ200を中心として一対のリニア作動機構300A,300Bをスライド板400の長手方向(x方向)に沿った対称な位置に配置している。これにより、スライド板400の鉛直方向(y方向)に沿った移動時における傾斜を抑制することができ、スライド板400の移動時におけるガタつき等の振動を抑制し、滑らかな動作とすることができる。
On the other hand, in the transport apparatus 40 (FIGS. 2 to 4) of the embodiment, as described above, the
また、直方体骨組構造フレーム100の上面支持板140及び底面支持板120(台座112を含む)でボールネジ200及びリニア作動機構300A,300Bを支持することにより、ボールネジ200のネジ軸210及びリニア作動機構300A,300Bのシリンダ筒310を、鉛直方向に沿った状態および互いに平行な状態で安定に設置することができる。これにより、スライド板400の移動時におけるガタつき等の振動を抑制して滑らかな動作とすることができる。
Further, by supporting the
また、直方体骨組構造フレーム100の両側の側面部に設けたリニアガイド700A,700Bにより、スライド板400を鉛直方向に沿って移動させる場合において、スライド板400のxz平面に沿った水平状態を容易に維持することができる。これにより、スライド板400がx方向およびz方向に対して傾斜して、リニア作動機構300A,300Bの摺動部330がシリンダ筒310に沿って摺動する際にガタつき等の振動が発生することを抑制し、滑らかな動作とすることができる。
Further, when the
また、シリンダ筒310に付着した粉塵をスクレーパー337,338によって除去することにより、摺動部330A,330Bの摺動動作及びこれに伴うシリンダ軸320の移動動作におけるガタつき等の振動の発生を抑制し、滑らかな動作とすることができる。
In addition, by removing dust adhering to the
また、スライド機構で構成した弁体支持部520Bによって、弁体510のx方向の寸法が変動しても、第2リニア作動機構300Bのシリンダ軸320の下端部を係合棒523に沿ってx方向(水平方向)にスライドさせることができるので、シリンダ軸320はy方向(鉛直方向)に沿った状態を維持することができ、ガタつき等の振動の発生を抑制して、滑らかな移動動作を維持することができる。
Further, even if the dimension of the
また、上記したように、ガタつき等の振動の発生を抑制すれば、装置の動作音の増大を抑制することもできる。保持部500の基板保持部530で保持した基板WPの落下を抑制することができる。
Further, as described above, if the occurrence of vibration such as rattling is suppressed, an increase in the operation sound of the apparatus can also be suppressed. The fall of the substrate WP held by the
また、中心に配置されたボールネジ200に対してx方向に沿って左右対称な位置に配置されたリニア作動機構300A,300Bのシリンダ軸320で保持部500の弁体510を保持しているので、弁体510の水平方向での回転の自由度を抑制することができる。これにより、保持部500の基板保持部530で保持した基板WPが真空予備室30内で壁面等に接触して落下することを抑制することができる。
In addition, since the
また、保持部500の上昇端位置において、弁体回転ストッパ560A,560Bによって保持部500の弁体510の水平方向に沿った長手方向の向きをx方向に沿った方向となるように規制することができる。また、保持部500の基板保持部530の位置精度を向上させることができ、基板保持部530によって安定に基板WPを保持させることができる。
Further, at the rising end position of the holding
本発明は、上述の実施形態や実施例、変形例に限られるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の構成で実現することができる。例えば、発明の概要の欄に記載した各形態中の技術的特徴に対応する実施形態、実施例、変形例中の技術的特徴は、上述の課題の一部または全部を解決するために、或いは、上述の効果の一部または全部を達成するために、適宜、差し替えや組み合わせを行うことが可能である。また、その技術的特徴が本明細書中に必須なものとして説明されていなければ、適宜、削除することが可能である。 The present invention is not limited to the above-described embodiments, examples, and modifications, and can be realized with various configurations without departing from the spirit thereof. For example, the technical features in the embodiments, examples, and modifications corresponding to the technical features in each embodiment described in the summary section of the invention are to solve some or all of the above-described problems, or In order to achieve part or all of the above-described effects, replacement or combination can be performed as appropriate. Further, if the technical feature is not described as essential in the present specification, it can be deleted as appropriate.
(1)上記実施形態の搬送装置40では、1つのボールネジ200と、ボールネジ200を中心として対称配置された一対のリニア作動機構300A,300Bを備える構成を例に説明したが、これに限定されるものではない。例えば、1つのボールネジと一対のリニア作動機構を1組の機構として、複数組の機構を備える構成としてもよい。また、1つのリニア作動機構と1つのボールネジとを1組の機構として、複数組の機構を備える構成としてもよい。但し、搬送装置40としては、1つ以上のボールネジ200と、複数のリニア作動機構300とを備え、これらを、平面視においてスライド板400の長手方向に沿って一直線上に配置することが好ましい。
(1) In the
(2)上記実施形態では、ボールネジ200のネジ軸210をボールネジ駆動部600で回転させる場合を例に説明したが、ナット220をボールネジ駆動部によって回転させる構成としてもよい。
(2) In the above embodiment, the case where the
(3)上記実施形態では、摺動部330には1列の第1磁石334が設けられ、シリンダ軸320には1列の第1磁石334に対応する1列の第2磁石336が設けられている場合を例に説明したが、複数列の第1磁石334及び第2磁石336が鉛直方向(y方向)に沿って設けられている構成としてもよい。
(3) In the above embodiment, the sliding
(4)上記実施形態では、シリンダ筒310に付着した粉塵をスクレーパー337,338によって除去することにより、摺動部330A,330Bの摺動動作及びこれに伴うシリンダ軸320の移動動作におけるガタつき等の振動の発生を抑制する構成としたが、これに限定されるものではない。例えば、シリンダ筒310に粉塵が付着しない場合、あるいは、付着する粉塵の量が非常に少ない場合等のように、付着する粉塵がガタつき等の振動の発生に影響しないような場合には、スクレーパー337,338を省略することも可能である。
(4) In the above embodiment, the dust attached to the
(5)上記実施形態では、直方体骨組構造フレーム100の第1側面支持板130A及び第2側面支持板130Bの内側面に、それぞれ、スライド板400を鉛直方向に沿って移動可能にガイドするガイド機構としてのリニアガイド700A,700Bを備える場合を例に説明した。しかしながら、リニアガイド700A,700Bを省略することも可能である。
(5) In the above embodiment, the guide mechanism that guides the
(6)上記実施形態では、直方体骨組構造フレーム100によって、ボールネジ200のネジ軸210及びリニア作動機構300A,300Bのそれぞれのシリンダ筒310が鉛直方向に沿って支持される構成として説明している。しかしながら、これに限定されるものではなく、ボールネジ200のネジ軸210及びリニア作動機構300A,300Bのそれぞれのシリンダ筒310が鉛直方向に沿って支持される構造であれば、どのような構造であってもよい。
(6) In the above embodiment, the structure is described in which the rectangular parallelepiped frame 100 supports the
(7)上記実施形態では、成膜室20と真空予備室30とを備えるプラズマ成膜装置10において、真空予備室30の鉛直方向の上側に搬送装置40を備える場合を例に説明した。しかしながら、これに限定されるものではなく、例えば、成膜室と真空予備室に分かれていない構成の成膜装置であって良い。すなわち、本発明の搬送装置は、種々の構成の成膜装置の鉛直方向の上側に配置する搬送装置として適用することができる。
(7) In the above embodiment, the plasma
10…プラズマ成膜装置
20…成膜室
21…連通孔
22…ゲートバルブ
23…内部
24…上蓋
26…位置決め孔
30…真空予備室
31…内部
32…基板導入口
33…導入蓋
34…上蓋
40…搬送装置
40R…搬送装置
100…直方体骨組構造フレーム
112…台座部
120…底面支持板
130A,130B…側面支持板
131,132…側面部分
140…上面支持板
160…ボールネジ支持板
170…連結板
200…ボールネジ
210…ネジ軸
220…ナット
230…上部サポート
240…下部サポート
300…リニア作動機構
300A,300B…リニア作動機構
310…シリンダ筒
320…シリンダ軸
321…係合孔
330…摺動部
332…カバー
334…第1磁石
336…第2磁石
336a,336b…永久磁石
337,338…スクレーパー
340…シリンダガイド
350…フランジ
370…支持台
400…スライド板
500…保持部
510…弁体
512…位置決めピン
514…Oリング
520A,520B…弁体支持部
530…基板保持部
521…シリンダ軸挿入溝
522…係合孔
523…係合棒
524…固定ピン
550…弁体ストッパ
560A,560B…弁体回転ストッパ
570…弁体固定部
600…ボールネジ駆動部
700A,700B…リニアガイド
710…リニアレール
720…リニアブロック
800A,800B…サポート機構
810…サポートバー
820…滑り軸受け
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記搬送装置は、
前記基板を保持する保持部と、
水平方向に沿って配置されて前記鉛直方向に移動可能なスライド板と、
前記鉛直方向に沿って延びるネジ軸と、前記ネジ軸に挿入されるとともに前記スライド板に取り付けられたナットと、を有し、前記スライド板を前記鉛直方向に移動させる1以上のボールネジと、
前記鉛直方向に沿って延びるシリンダ筒と、前記シリンダ筒の外周面に沿って摺動可能に配置された第1磁石を含み前記スライド板に取り付けられた摺動部と、前記シリンダ筒の筒内に挿入されるとともに上端部に第2磁石が固定され下端部に前記保持部が固定されたシリンダ軸と、をそれぞれ有する複数のリニア作動機構であって、前記スライド板の移動に伴う前記第1磁石の移動に追従して、前記第2磁石及び前記シリンダ軸が前記シリンダ筒の筒内を移動することにより、前記保持部を移動させる複数のリニア作動機構と、
を備え、
平面視において、前記複数のリニア作動機構と前記ボールネジとが前記スライド板の長手方向に沿って一直線上に配置されている、搬送装置。 A transfer device that is arranged above the film forming apparatus in the vertical direction and carries in and out the substrate in the film forming apparatus,
The transfer device
A holding unit for holding the substrate;
A slide plate arranged along the horizontal direction and movable in the vertical direction;
A screw shaft extending along the vertical direction; and a nut inserted into the screw shaft and attached to the slide plate; and one or more ball screws that move the slide plate in the vertical direction;
A cylinder that extends along the vertical direction; a sliding portion that includes a first magnet that is slidably disposed along an outer peripheral surface of the cylinder; and that is attached to the slide plate; A plurality of linear operation mechanisms each having a second magnet fixed to an upper end portion and a cylinder shaft having the holding portion fixed to a lower end portion. Following the movement of the magnet, a plurality of linear actuation mechanisms that move the holding portion by moving the second magnet and the cylinder shaft in the cylinder tube;
With
The transport apparatus in which the plurality of linear operation mechanisms and the ball screw are arranged in a straight line along a longitudinal direction of the slide plate in a plan view.
前記複数のリニア作動機構は、前記平面視において、前記ボールネジの位置を中心として対称な位置に配置されている、搬送装置。 It is a conveying apparatus of Claim 1, Comprising:
The plurality of linear operation mechanisms are arranged in a symmetrical position with respect to the position of the ball screw in the plan view.
前記スライド板の前記長手方向の両側の端部を前記鉛直方向に沿って移動可能にガイドする一対のガイド機構を備える、搬送装置。 The transport apparatus according to claim 1 or 2, further comprising:
A conveying apparatus comprising a pair of guide mechanisms that guide both end portions of the slide plate in the longitudinal direction so as to be movable along the vertical direction.
前記水平方向に沿った上面支持板及び底面支持板と、前記底面支持板及び前記上面支持板の間に設けられた前記鉛直方向に沿った第1側面支持板及び第2側面支持板と、を有する直方体骨組構造のフレームを備え、
前記ボールネジの前記ネジ軸は、前記ネジ軸の上端部が前記上面支持板で支持されるとともに下端部が前記底面支持板で支持されることにより、前記鉛直方向に沿った状態で支持されており、
前記リニア作動機構の前記シリンダ筒は、前記シリンダ筒の上端部が前記上面支持板で支持されるとともに下端部が前記底面支持板で支持されることにより、前記鉛直方向に沿った状態で支持されており、
前記第1側面支持板及び前記第2側面支持板の内側面に、それぞれ、前記ガイド機構が設けられている、搬送装置。 The transfer device according to claim 3, further comprising:
A rectangular parallelepiped having a top surface support plate and a bottom surface support plate along the horizontal direction, and a first side surface support plate and a second side surface support plate along the vertical direction provided between the bottom surface support plate and the top surface support plate. With a frame of frame structure,
The screw shaft of the ball screw is supported in a state along the vertical direction, with the upper end portion of the screw shaft being supported by the upper surface support plate and the lower end portion being supported by the bottom surface support plate. ,
The cylinder cylinder of the linear operation mechanism is supported in a state along the vertical direction by supporting an upper end portion of the cylinder cylinder with the upper surface support plate and a lower end portion with the bottom surface support plate. And
The conveying apparatus in which the said guide mechanism is provided in the inner surface of the said 1st side surface support plate and the said 2nd side surface support plate, respectively.
前記複数のリニア作動機構は第1リニア作動機構と第2リニア作動機構を有し、
前記第1リニア作動機構の前記シリンダ軸の下端部は、前記保持部の前記シリンダ軸に対する前記鉛直方向及び前記水平方向の変位を不可とする固定機構に取り付けられており、
前記第2リニア作動機構の前記シリンダ軸の下端部は、前記保持部の前記シリンダ軸に対する前記鉛直方向の変位を不可とするとともに、前記水平方向の変位を許容する水平スライド機構に取り付けられている、搬送装置。 It is a conveying apparatus as described in any one of Claim 1- Claim 4, Comprising:
The plurality of linear operation mechanisms have a first linear operation mechanism and a second linear operation mechanism,
The lower end portion of the cylinder shaft of the first linear operating mechanism is attached to a fixing mechanism that disables displacement of the holding portion in the vertical direction and the horizontal direction with respect to the cylinder shaft,
The lower end portion of the cylinder shaft of the second linear operation mechanism is attached to a horizontal slide mechanism that disables the vertical displacement of the holding portion relative to the cylinder shaft and allows the horizontal displacement. , Conveying device.
前記保持部の上昇端位置において、前記保持部の長手方向の向きを固定するストッパを備える、搬送装置。 It is a conveying apparatus as described in any one of Claim 1- Claim 5, Comprising:
A transport device comprising a stopper for fixing a longitudinal direction of the holding portion at a rising end position of the holding portion.
前記複数のリニア作動機構のそれぞれは、前記シリンダ軸の外周面に沿って円環状に覆うように固定され、前記シリンダ筒の内周面に付着する粉塵を除去するためのスクレーパーを備える、搬送装置。 It is a conveyance apparatus as described in any one of Claim 1- Claim 6, Comprising:
Each of the plurality of linear operation mechanisms includes a scraper that is fixed so as to be annularly covered along the outer peripheral surface of the cylinder shaft and includes a scraper for removing dust adhering to the inner peripheral surface of the cylinder cylinder. .
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