JP6360010B2 - Conveying device used for film forming apparatus - Google Patents

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Description

この発明は、成膜装置における基板の搬入及び搬出を行う搬送装置に関する。   The present invention relates to a transfer apparatus that carries in and out a substrate in a film forming apparatus.

真空状態に保持された成膜室において、原料ガスをプラズマ化することにより生成される金属イオンを、基板表面に吸着させて成膜するプラズマ成膜装置が知られている。例えば、特許文献1のプラズマ成膜装置では、成膜室の鉛直方向上側に真空予備室が設けられており、また、真空予備室と成膜室との間の基板の搬送を実行する搬送機構が真空予備室の鉛直方向上側に設けられている。搬送機構は、シリンダ筒とシリンダ軸と摺動部とを備えている。シリンダ軸は、鉛直方向に沿ったシリンダ筒の筒内に摺動可能に配置され、シリンダ軸の下端部は真空予備室に突出している。シリンダ軸の下端部には、成膜室と真空予備室とを連結する搬送口を封止するための弁体が設けられ、弁体の下面には、基板を保持する基板保持部が設けられている。なお、以下では、弁体及び基板保持部を、まとめて「保持部」とも呼ぶ。シリンダ軸の上端部には磁石が設けられている。摺動部は、シリンダ筒の外周において往復可能に嵌められた環状のスライダであり、摺動部の内周面に電磁石が設けられている。搬送機構は、摺動部の電磁石とシリンダ軸の磁石との間の磁力を利用して、シリンダ筒に沿った摺動部の往復摺動に伴って、シリンダ軸を往復運動させることにより、真空予備室と成膜室との間の基板の搬送を実行する。   2. Description of the Related Art There is known a plasma film forming apparatus that forms a film by adsorbing metal ions generated by converting a raw material gas into plasma in a film forming chamber kept in a vacuum state on a substrate surface. For example, in the plasma film forming apparatus of Patent Document 1, a vacuum preliminary chamber is provided on the upper side in the vertical direction of the film forming chamber, and a transport mechanism that transports the substrate between the vacuum preliminary chamber and the film forming chamber. Is provided on the upper side in the vertical direction of the vacuum preliminary chamber. The transport mechanism includes a cylinder cylinder, a cylinder shaft, and a sliding portion. The cylinder shaft is slidably disposed in the cylinder tube along the vertical direction, and the lower end portion of the cylinder shaft projects into the vacuum prechamber. A valve body is provided at the lower end of the cylinder shaft to seal the transfer port connecting the film formation chamber and the vacuum preparatory chamber, and a substrate holding portion for holding the substrate is provided on the lower surface of the valve body. ing. Hereinafter, the valve body and the substrate holding part are also collectively referred to as “holding part”. A magnet is provided at the upper end of the cylinder shaft. The sliding portion is an annular slider that is reciprocally fitted on the outer periphery of the cylinder cylinder, and an electromagnet is provided on the inner peripheral surface of the sliding portion. The transport mechanism uses the magnetic force between the electromagnet of the sliding portion and the magnet of the cylinder shaft to reciprocate the cylinder shaft as the sliding portion reciprocates along the cylinder cylinder. The substrate is transferred between the preliminary chamber and the film forming chamber.

特開2013−237885号公報JP 2013-237485 A 特開2013−237884号公報JP 2013-237484 A 特開平11−23344号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-23344 特開平11−029871号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-029871 特開平10−253355号公報JP-A-10-253355

しかしながら、従来の搬送装置では、摺動部を移動させる駆動機構の構成によっては、摺動部の移動時においてガタつき等の振動によって、滑らかな搬送動作ができず、動作不良が発生しやすい、という問題があることを見出した。また、ガタつき等の振動の発生は、保持する基板の振動による基板の落下や動作音の増大を招く、という問題を生じさせることを見出した。   However, in the conventional transport device, depending on the configuration of the drive mechanism that moves the sliding portion, smooth transport operation cannot be performed due to vibration such as rattling at the time of movement of the sliding portion, and malfunction is likely to occur. I found that there is a problem. Further, it has been found that the occurrence of vibration such as rattling causes a problem that the substrate falls due to the vibration of the substrate to be held and the operation sound increases.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms.

(1)本発明の一形態によれば、成膜装置の鉛直方向の上側に配置され、前記成膜装置における基板の搬入及び搬出を行う搬送装置が提供される。この搬送装置は、前記基板を保持する保持部と;水平方向に沿って配置されて前記鉛直方向に移動可能なスライド板と;前記鉛直方向に沿って延びるネジ軸と、前記ネジ軸に挿入されるとともに前記スライド板に取り付けられたナットと、を有し、前記スライド板を前記鉛直方向に移動させる1以上のボールネジと;前記鉛直方向に沿って延びるシリンダ筒と、前記シリンダ筒の外周面に沿って摺動可能に配置された第1磁石を含み前記スライド板に取り付けられた摺動部と、前記シリンダ筒の筒内に挿入されるとともに上端部に第2磁石が固定され下端部に前記保持部が固定されたシリンダ軸と、をそれぞれ有する複数のリニア作動機構であって、前記スライド板の移動に伴う前記第1磁石の移動に追従して、前記第2磁石及び前記シリンダ軸が前記シリンダ筒の筒内を移動することにより、前記保持部を移動させる複数のリニア作動機構と;を備える。そして、平面視において、前記複数のリニア作動機構と前記ボールネジとが前記スライド板の長手方向に沿って一直線上に配置されている。
この形態の搬送装置によれば、平面視において、複数のリニア作動機構とボールネジとがスライド板の長手方向に沿って一直線上に配置されているので、スライド板が鉛直方向に移動する際に、ボールネジのナットが取り付けられたスライド板の部分と、摺動部が取り付けられたスライド板の部分とで、傾きが発生することを抑制することができる。これにより、スライド板の移動動作時においてガタつき等の振動による動作不良の発生を抑制して滑らかに移動させることができる。また、保持する基板の振動による基板の落下や動作音の増大を抑制することができる。
(1) According to one aspect of the present invention, there is provided a transfer device that is disposed on the upper side in the vertical direction of the film forming apparatus and carries in and out the substrate in the film forming apparatus. The transfer device includes: a holding unit that holds the substrate; a slide plate that is disposed along the horizontal direction and is movable in the vertical direction; a screw shaft that extends along the vertical direction; and a screw shaft that is inserted into the screw shaft. And at least one ball screw for moving the slide plate in the vertical direction; a cylinder cylinder extending along the vertical direction; and an outer peripheral surface of the cylinder cylinder A sliding portion that is attached to the slide plate and includes a first magnet that is slidably disposed along the cylinder, and a second magnet is fixed to the upper end portion of the cylinder barrel and the lower end portion is fixed to the lower end portion. A plurality of linear operation mechanisms each having a cylinder shaft to which a holding portion is fixed, and following the movement of the first magnet accompanying the movement of the slide plate, the second magnet and the cylinder By axis moves within the cylinder of the cylinder tube, and a plurality of linear actuating mechanism which moves the holding unit; comprises. In plan view, the plurality of linear operation mechanisms and the ball screw are arranged on a straight line along the longitudinal direction of the slide plate.
According to the transport device of this aspect, in the plan view, since the plurality of linear operation mechanisms and the ball screw are arranged in a straight line along the longitudinal direction of the slide plate, when the slide plate moves in the vertical direction, It is possible to suppress the occurrence of inclination between the slide plate portion to which the ball screw nut is attached and the slide plate portion to which the sliding portion is attached. As a result, it is possible to smoothly move the slide plate while suppressing the occurrence of malfunction due to vibration such as rattling when the slide plate is moved. Moreover, the fall of the board | substrate and the increase in an operating sound by the vibration of the board | substrate to hold | maintain can be suppressed.

(2)上記形態の搬送装置において、前記複数のリニア作動機構は、前記平面視において、前記ボールネジの位置を中心として対称な位置に配置されているとしてもよい。
この構成では、前記複数のリニア作動機構が、ボールネジの位置を中心として対称な位置に配置されているので、スライド板が鉛直方向に移動させる際に、ボールネジのナットが取り付けられたスライド板の部分と、摺動部が取り付けられたスライド板の部分とで、傾きが発生することをより効果的に抑制することができる。これにより、スライド板の移動動作時においてガタつき等の振動による動作不良の発生をより効果的に抑制して、シリンダ軸を滑らかに移動させることができる。また、保持する基板の振動による基板の落下や動作音の増大をより効果的に抑制することができる。
(2) In the transport device according to the aspect described above, the plurality of linear operation mechanisms may be arranged at symmetrical positions around the position of the ball screw in the plan view.
In this configuration, since the plurality of linear operation mechanisms are arranged at symmetrical positions with respect to the position of the ball screw, when the slide plate is moved in the vertical direction, the portion of the slide plate to which the nut of the ball screw is attached And it can suppress more effectively that an inclination generate | occur | produces by the part of the slide plate to which the sliding part was attached. Accordingly, it is possible to more effectively suppress the occurrence of malfunction due to vibration such as rattling during the movement operation of the slide plate, and to smoothly move the cylinder shaft. Moreover, the fall of the board | substrate and the increase in an operation sound by the vibration of the board | substrate to hold | maintain can be suppressed more effectively.

(3)上記形態の搬送装置において、前記スライド板の前記長手方向の両側の端部を前記鉛直方向に沿って移動可能にガイドする一対のガイド機構を備えるとしてもよい。
この場合には、スライド板の鉛直方向に沿った移動を一対のガイド機構によってガイドすることができるので、スライド板の傾きをさらに抑制して、スライド板を水平方向に沿った状態に保ちつつ、鉛直方向に沿って安定に移動させることができる。これにより、スライド板の移動動作時においてガタつき等の振動による動作不良の発生をさらに抑制して、シリンダ軸を滑らかに移動させることができる。また、保持する基板の振動による基板の落下や動作音の増大をさらに抑制することができる。
(3) The transport apparatus according to the above aspect may include a pair of guide mechanisms that guide both end portions of the slide plate in the longitudinal direction so as to be movable along the vertical direction.
In this case, since the movement along the vertical direction of the slide plate can be guided by the pair of guide mechanisms, the inclination of the slide plate is further suppressed, while keeping the slide plate in a state along the horizontal direction, It can be moved stably along the vertical direction. Thereby, it is possible to further suppress the occurrence of malfunction due to vibration such as rattling during the movement operation of the slide plate, and to smoothly move the cylinder shaft. Moreover, the fall of the board | substrate and the increase in an operating sound by the vibration of the board | substrate to hold | maintain can further be suppressed.

(4)上記形態の搬送装置において、前記水平方向に沿った上面支持板及び底面支持板と、前記底面支持板及び前記上面支持板の間に設けられた前記鉛直方向に沿った第1側面支持板及び第2側面支持板と、を有する直方体骨組構造のフレームを備え、前記ボールネジの前記ネジ軸は、前記ネジ軸の上端部が前記上面支持板で支持されるとともに下端部が前記底面支持板で支持されることにより、前記鉛直方向に沿った状態で支持されており、前記リニア作動機構の前記シリンダ筒は、前記シリンダ筒の上端部が前記上面支持板で支持されるとともに下端部が前記底面支持板で支持されることにより、前記鉛直方向に沿った状態で支持されており、前記第1側面支持板及び前記第2側面支持板の内側面に、それぞれ、前記ガイド機構が設けられているとしてもよい。
この場合には、直方体骨組構造のフレームによって、ボールネジのネジ軸およびリニア作動機構のシリンダ筒を鉛直方向に沿った状態で安定に支持することができるとともに、ガイド機構を鉛直方向に沿って安定な状態で支持することができる。これにより、スライド板の移動動作時においてガタつき等の振動による動作不良の発生をさらに抑制して、シリンダ軸を滑らかに移動させることができる。また、保持する基板の振動による基板の落下や動作音の増大をさらに抑制することができる。
(4) In the transport device according to the above aspect, an upper surface support plate and a bottom surface support plate along the horizontal direction, a first side surface support plate along the vertical direction provided between the bottom surface support plate and the upper surface support plate, and A frame having a rectangular parallelepiped frame structure having a second side support plate, and the screw shaft of the ball screw is supported at the upper end portion of the screw shaft by the upper surface support plate and at the lower end portion by the bottom surface support plate. Thus, the cylinder cylinder of the linear operation mechanism is supported in a state along the vertical direction, and the upper end portion of the cylinder cylinder is supported by the upper surface support plate and the lower end portion is supported by the bottom surface. By being supported by a plate, it is supported in a state along the vertical direction, and the guide mechanism is provided on each of the inner side surfaces of the first side surface support plate and the second side surface support plate. It may be used as is.
In this case, the frame of the rectangular parallelepiped frame structure can stably support the screw shaft of the ball screw and the cylinder cylinder of the linear operation mechanism in a state along the vertical direction, and the guide mechanism can be stabilized along the vertical direction. It can be supported in a state. Thereby, it is possible to further suppress the occurrence of malfunction due to vibration such as rattling during the movement operation of the slide plate, and to smoothly move the cylinder shaft. Moreover, the fall of the board | substrate and the increase in an operating sound by the vibration of the board | substrate to hold | maintain can further be suppressed.

(5)上記形態の搬送装置において、前記複数のリニア作動機構は第1リニア作動機構と第2リニア作動機構を有し、前記第1リニア作動機構の前記シリンダ軸の下端部は、前記保持部の前記シリンダ軸に対する前記鉛直方向及び前記水平方向の変位を不可とする固定機構に取り付けられており、前記第2リニア作動機構の前記シリンダ軸の下端部は、前記保持部の前記シリンダ軸に対する前記鉛直方向の変位を不可とするとともに、前記水平方向の変位を許容する水平スライド機構に取り付けられているとしてもよい。
この場合には、例えば、保持部が温度変化に応じて水平方向に沿って伸縮したとしても、第2リニア機構駆動機構のシリンダ軸の下端部が取り付けられている水平スライド機構によって、シリンダ軸に対する保持部の水平方向の位置を変位させることができるので、各リニア作動機構のシリンダ軸の下端部の位置を変位させずに、各リニア作動機構のシリンダ軸を鉛直方向に沿った状態に保つことができる。これにより、シリンダ軸の傾きに起因するガタつき等の振動による動作不良の発生を抑制して滑らかにシリンダ軸を移動させることができる。また、保持する基板の振動による基板の落下や動作音の増大を抑制することができる。
(5) In the transport apparatus according to the above aspect, the plurality of linear operation mechanisms include a first linear operation mechanism and a second linear operation mechanism, and a lower end portion of the cylinder shaft of the first linear operation mechanism is configured to be the holding unit. The lower end portion of the cylinder shaft of the second linear operating mechanism is attached to the cylinder shaft of the holding portion with respect to the cylinder shaft. It may be attached to a horizontal slide mechanism that disables the displacement in the vertical direction and allows the displacement in the horizontal direction.
In this case, for example, even if the holding portion expands and contracts along the horizontal direction in response to a temperature change, the horizontal slide mechanism to which the lower end portion of the cylinder shaft of the second linear mechanism drive mechanism is attached causes the cylinder shaft to Since the horizontal position of the holding part can be displaced, the cylinder axis of each linear actuation mechanism must be kept in the vertical direction without displacing the position of the lower end of the cylinder axis of each linear actuation mechanism. Can do. Accordingly, it is possible to smoothly move the cylinder shaft while suppressing the occurrence of malfunction due to vibration such as rattling caused by the tilt of the cylinder shaft. Moreover, the fall of the board | substrate and the increase in an operating sound by the vibration of the board | substrate to hold | maintain can be suppressed.

(6)上記形態の搬送装置において、前記保持部の上昇端位置において、前記保持部の長手方向の向きを固定するストッパを備えるようにしてもよい。
この場合には、上昇端位置における保持部の位置精度を向上させることができ、保持部によって基板を安定に保持させることができる。
(6) In the transport apparatus of the above aspect, a stopper may be provided that fixes the orientation of the holding unit in the longitudinal direction at the rising end position of the holding unit.
In this case, it is possible to improve the positional accuracy of the holding portion at the rising end position, and the substrate can be stably held by the holding portion.

(7)上記形態の搬送装置において、前記シリンダ軸の外周面に沿って円環状に覆うように固定され、前記シリンダ筒の内周面に付着する粉塵を除去するためのスクレーパーを備えるようにしてもよい。
この場合には、シリンダ軸が移動する際に、シリンダ筒の内周面に付着した粉塵を除去することができるので、粉塵に起因するガタツキを抑制して滑らかにシリンダ軸を移動させることができる。また、保持する基板の振動による基板の落下や動作音の増大を抑制することができる。
(7) In the transport device according to the above aspect, a scraper that is fixed so as to cover an annular shape along the outer peripheral surface of the cylinder shaft and that removes dust adhering to the inner peripheral surface of the cylinder cylinder is provided. Also good.
In this case, since the dust adhering to the inner peripheral surface of the cylinder cylinder can be removed when the cylinder shaft moves, it is possible to smoothly move the cylinder shaft while suppressing rattling caused by the dust. . Moreover, the fall of the board | substrate and the increase in an operating sound by the vibration of the board | substrate to hold | maintain can be suppressed.

なお、本発明は、種々の態様で実現することが可能である。例えば、搬送装置や、搬送装置を備える成膜装置等の形態で実現することができる。   Note that the present invention can be realized in various modes. For example, it can be realized in the form of a transfer device, a film forming apparatus including the transfer device, or the like.

本発明の一実施形態としてのプラズマ成膜装置の構成を示す概略図である。It is the schematic which shows the structure of the plasma film-forming apparatus as one Embodiment of this invention. 搬送装置の構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of a conveying apparatus. 第1リニア作動機構の摺動部の部分の断面を拡大して示す概略図である。It is the schematic which expands and shows the cross section of the part of the sliding part of a 1st linear action | operation mechanism. 成膜室に基板を搬送した状態の搬送装置を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the conveying apparatus of the state which conveyed the board | substrate to the film-forming chamber. 水平スライド機構で構成された弁体支持部の一例を拡大して示す概略図である。It is the schematic which expands and shows an example of the valve body support part comprised with the horizontal slide mechanism. 一対の弁体回転ストッパの一方の弁体回転ストッパを弁体ストッパ側から側面視した概略図である。It is the schematic which looked at one valve body rotation stopper of a pair of valve body rotation stopper from the valve body stopper side. 比較例としての搬送装置を示す概略図である。It is the schematic which shows the conveying apparatus as a comparative example. 比較例の搬送装置のスライド板を平面視した状態で示す概略図である。It is the schematic shown in the state which planarly viewed the slide board of the conveying apparatus of a comparative example.

図1は、本発明の一実施形態としてのプラズマ成膜装置10の構成を示す概略図である。なお、図1には、互いに直交する3つの方向x,y,zが図示されている。y方向は鉛直下向き方向を示し、x方向及びz方向は水平方向を示している。図2以降の図に描かれた方向x,y,zも同様である。   FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration of a plasma film forming apparatus 10 as an embodiment of the present invention. FIG. 1 illustrates three directions x, y, and z that are orthogonal to each other. The y direction indicates a vertically downward direction, and the x direction and the z direction indicate horizontal directions. The same applies to the directions x, y, and z drawn in the drawings after FIG.

このプラズマ成膜装置10は、いわゆるプラズマCVD法(plasma CVD; plasma-enhanced chemical vapor deposition)によって成膜対象である基板WPの表面全体に炭素薄膜を形成する。基板WPとしては、燃料電池に用いられるセパレータプレートが例示される。なお、成膜される炭素薄膜の構造としては、アモルファス構造や、グラファイト構造であるものとしても良く、他の種類の構造であるものとしても良い。なお、プラズマ成膜装置10は、基板WPに炭素薄膜を形成するものに限定されるものではなく、炭素薄膜以外の他の種類の薄膜を、基板WPの外表面に成膜するものとしても良い。例えば、プラズマ成膜装置10は、金や、白金、タンタルなどの金属元素の薄膜を成膜するものとしても良い。また、基板WPとしては、燃料電池に用いられるセパレータプレートに限定されるものではなく、他の用途に用いられる種々の基板であっても良い。   The plasma film forming apparatus 10 forms a carbon thin film on the entire surface of a substrate WP that is a film forming target by so-called plasma CVD (plasma CVD; plasma-enhanced chemical vapor deposition). An example of the substrate WP is a separator plate used in a fuel cell. In addition, as a structure of the carbon thin film formed into a film, it may be an amorphous structure or a graphite structure, and may be another kind of structure. Note that the plasma film forming apparatus 10 is not limited to the one that forms a carbon thin film on the substrate WP, and other types of thin films other than the carbon thin film may be formed on the outer surface of the substrate WP. . For example, the plasma film forming apparatus 10 may form a thin film of a metal element such as gold, platinum, or tantalum. The substrate WP is not limited to the separator plate used in the fuel cell, and may be various substrates used for other purposes.

プラズマ成膜装置10は、成膜室20と、真空予備室30と、搬送装置40と、を備える。真空予備室30は成膜室20に対して鉛直方向(y方向)の上側に配置され、搬送装置40は真空予備室30に対して鉛直方向の上側に配置されている。但し、搬送装置40のうち、真空予備室30と成膜室20との間で基板WPを実際に搬送する構造の部分(図1には不図示)は、真空予備室30の内部31に配置されている。   The plasma film forming apparatus 10 includes a film forming chamber 20, a vacuum preliminary chamber 30, and a transfer device 40. The vacuum preliminary chamber 30 is disposed above the film forming chamber 20 in the vertical direction (y direction), and the transfer device 40 is disposed above the vacuum preliminary chamber 30 in the vertical direction. However, a portion of the transfer device 40 that actually transports the substrate WP between the vacuum preliminary chamber 30 and the film forming chamber 20 (not shown in FIG. 1) is disposed in the interior 31 of the vacuum preliminary chamber 30. Has been.

このプラズマ成膜装置10では、概ね、以下に示すように基板WPに対する成膜処理が実行される。まず、真空予備室30の基板導入口32を密閉する導入蓋33を開き、真空予備室30の内部31に基板WPが不図示の基板導入装置によって導入され、搬送装置40の後述する保持部で保持された後、導入蓋33を閉じて、不図示の真空ポンプによって真空予備室30の内部31が真空化される。一方、成膜室20は、別の真空ポンプによって真空状態に維持されている。そして、真空予備室30と成膜室20とを連通する連通孔21を成膜室20側で封止するゲートバルブ22が開いて、真空状態の成膜室20と真空予備室30とが連通されると、搬送装置40によって、基板WPが成膜室20の内部23へ搬入されるとともに、後述するように搬送装置40の保持部によって連通孔21が真空予備室30側で封止される。成膜室20は、真空ポンプ、プラズマ発生装置、原料ガス供給装置、排ガス処理装置、等の成膜のための不図示の装置を備えている。成膜室20では、搬入された基板WPに対する成膜処理が実行される。そして、成膜処理後の基板WPは、搬送装置40によって成膜室20から真空予備室30へ搬出され、ゲートバルブ22を閉じて成膜室20が密閉された後、真空予備室30の真空状態が開放され、導入蓋33を開いて、基板導入装置によって真空予備室30から導出される。以上のように、プラズマ成膜装置10では、基板WPに成膜処理が実行される。なお、プラズマ成膜装置10のこのような動作については、上記先行技術文献1(特開2013−237885号公報)に記載されており、その開示内容は参照により組み込まれる。   In the plasma film forming apparatus 10, the film forming process is generally performed on the substrate WP as described below. First, the introduction lid 33 that seals the substrate introduction port 32 of the vacuum preliminary chamber 30 is opened, and the substrate WP is introduced into the inside 31 of the vacuum preliminary chamber 30 by a substrate introduction device (not shown). After being held, the introduction lid 33 is closed, and the interior 31 of the vacuum preliminary chamber 30 is evacuated by a vacuum pump (not shown). On the other hand, the film forming chamber 20 is maintained in a vacuum state by another vacuum pump. Then, the gate valve 22 for sealing the communication hole 21 communicating the vacuum preliminary chamber 30 and the film forming chamber 20 on the film forming chamber 20 side is opened, so that the vacuum film forming chamber 20 and the vacuum preliminary chamber 30 communicate with each other. Then, the substrate WP is carried into the inside 23 of the film forming chamber 20 by the transfer device 40, and the communication hole 21 is sealed on the vacuum preliminary chamber 30 side by a holding portion of the transfer device 40 as will be described later. . The film forming chamber 20 includes devices (not shown) for film formation, such as a vacuum pump, a plasma generator, a source gas supply device, an exhaust gas treatment device, and the like. In the film forming chamber 20, a film forming process is performed on the loaded substrate WP. Then, the substrate WP after the film forming process is carried out from the film forming chamber 20 to the vacuum preparatory chamber 30 by the transfer device 40, the gate valve 22 is closed and the film forming chamber 20 is sealed, and then the vacuum in the vacuum preparatory chamber 30 is removed. The state is opened, the introduction lid 33 is opened, and the substrate is introduced from the vacuum preliminary chamber 30 by the substrate introduction apparatus. As described above, in the plasma film forming apparatus 10, the film forming process is performed on the substrate WP. Note that such operation of the plasma film forming apparatus 10 is described in the above-mentioned prior art document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2013-237885), and the disclosure content thereof is incorporated by reference.

図2(A)は搬送装置40を正面視した状態を示し、図2(B)はスライド板400を平面視した状態を示している。   2A shows a state in which the transport device 40 is viewed from the front, and FIG. 2B shows a state in which the slide plate 400 is viewed in plan.

搬送装置40は、直方体骨組構造フレーム100と、ボールネジ200と、一対のリニア作動機構300A,300Bと、スライド板400と、保持部500と、ボールネジ駆動部600と、一対のリニアガイド700A,700Bと、を備える。   The conveying device 40 includes a cuboid frame 100, a ball screw 200, a pair of linear operation mechanisms 300A and 300B, a slide plate 400, a holding unit 500, a ball screw driving unit 600, and a pair of linear guides 700A and 700B. .

直方体骨組構造フレーム100は、真空予備室30の上蓋34上に固定されたxz平面に平行な底面支持板120と、yz平面に平行な第1側面部分131及びyx平面に平行な第2側面部分132でそれぞれL字状に構成された第1側面支持板130A及び第2側面支持板130Bと、第1側面支持板130A及び第2側面支持板130Bの上端に固定されたxz平面に平行な上面支持板140と、を備える。直方体骨組構造フレーム100は、底面支持板120と、第1側面支持板130A及び第2側面支持板130Bと、上面支持板140とがボルト等により互いに固定されることによって、隣り合う面同士のなす角度が直角で、対向する面同士が平行となるように構成されている。なお、直方体骨組構造フレーム100は、ボールネジ200、リニア作動機構300A,300B、及び、リニアガイド700A,700Bを粉塵等から保護するための防塵カバー(不図示)で覆われることが好ましい。   The rectangular parallelepiped frame 100 includes a bottom support plate 120 parallel to the xz plane fixed on the upper lid 34 of the vacuum preliminary chamber 30, a first side portion 131 parallel to the yz plane, and a second side portion parallel to the yx plane. The first side surface support plate 130A and the second side surface support plate 130B each configured in an L shape at 132, and the upper surface parallel to the xz plane fixed to the upper ends of the first side surface support plate 130A and the second side surface support plate 130B And a support plate 140. The rectangular frame structure frame 100 is formed by adjoining surfaces by fixing the bottom surface support plate 120, the first side surface support plate 130A and the second side surface support plate 130B, and the top surface support plate 140 to each other with bolts or the like. The angle is a right angle and the opposing surfaces are parallel to each other. The rectangular parallelepiped frame 100 is preferably covered with a dustproof cover (not shown) for protecting the ball screw 200, the linear operation mechanisms 300A and 300B, and the linear guides 700A and 700B from dust and the like.

ボールネジ200は、ネジ軸210と、ネジ軸210に嵌められたナット220と、を備える。ネジ軸210は、その上端部が上部サポート230を介して上面支持板140に固定され、その下端部が下部サポート240を介して底面支持板120の上面側に設けられた台座部112に固定されている。上部サポート230及び下部サポート240は、それぞれ、軸受けを有しており、ネジ軸210を回転可能に支持している。ボールネジ200は、直方体骨組構造フレーム100によって、ネジ軸210の中心軸線CY0が鉛直方向(y方向)に沿った状態で支持されている。   The ball screw 200 includes a screw shaft 210 and a nut 220 fitted to the screw shaft 210. The screw shaft 210 has an upper end fixed to the upper surface support plate 140 via the upper support 230 and a lower end fixed to the pedestal portion 112 provided on the upper surface side of the bottom surface support plate 120 via the lower support 240. ing. Each of the upper support 230 and the lower support 240 has a bearing, and supports the screw shaft 210 rotatably. The ball screw 200 is supported by the rectangular parallelepiped frame 100 in a state where the central axis CY0 of the screw shaft 210 is along the vertical direction (y direction).

ネジ軸210の下端部は、台座部112の内部スペースに配置されたボールネジ駆動部600に連結されており、ネジ軸210は、ボールネジ駆動部600が出力する動力(回転力)に応じて回転する。なお、ボールネジ駆動部600の構造に特に制限はなく、モーターの回転力を直接ネジ軸210に伝達する構造や、モーターの回転力をギアやベルト等を介して間接的にネジ軸210に伝達する構造等の種々の構造を採用することができる。   The lower end portion of the screw shaft 210 is connected to a ball screw driving unit 600 disposed in the internal space of the pedestal portion 112, and the screw shaft 210 rotates according to power (rotational force) output from the ball screw driving unit 600. . The structure of the ball screw drive unit 600 is not particularly limited, and the structure in which the rotational force of the motor is directly transmitted to the screw shaft 210 or the rotational force of the motor is indirectly transmitted to the screw shaft 210 via a gear, a belt, or the like. Various structures such as a structure can be employed.

ネジ軸210に嵌められているナット220は、xz平面(「水平面」とも呼ぶ)に平行で長手方向がx方向に沿った略矩形状のスライド板400の上面に取り付けられており、ネジ軸210の回転に応じて鉛直方向に沿って移動する。これにより、ボールネジ200は、ナット220が取り付けられたスライド板400をネジ軸210の回転に伴って鉛直方向に沿って移動させることができる。   A nut 220 fitted to the screw shaft 210 is attached to the upper surface of a substantially rectangular slide plate 400 parallel to the xz plane (also referred to as “horizontal plane”) and having a longitudinal direction along the x direction. It moves along the vertical direction according to the rotation of. Thereby, the ball screw 200 can move the slide plate 400 to which the nut 220 is attached along the vertical direction as the screw shaft 210 rotates.

一対のリニア作動機構300A,300B(以下、「第1リニア作動機構300A」及び「第2リニア作動機構300B」とも呼ぶ)は、それぞれ、シリンダ筒310と、シリンダ筒310の筒内に挿入されたシリンダ軸320と、シリンダ筒310の外周面に沿って摺動可能に設けられた摺動部330と、を備える。   A pair of linear operation mechanisms 300A and 300B (hereinafter also referred to as “first linear operation mechanism 300A” and “second linear operation mechanism 300B”) are inserted into cylinder cylinder 310 and cylinder cylinder 310, respectively. A cylinder shaft 320 and a sliding portion 330 provided to be slidable along the outer peripheral surface of the cylinder cylinder 310 are provided.

第1リニア作動機構300Aは、シリンダ筒310の上端部をシリンダガイド340によって上面支持板140に固定し、シリンダ筒310の下端部をフランジ350によって台座部112に固定することにより、直方体骨組構造フレーム100によって、シリンダ筒310の中心軸線CY1aが鉛直方向に沿った状態で支持されている。第2リニア作動機構300Bも、同様に、シリンダ筒310の中心軸線CY1bが鉛直方向(y方向)に沿った状態で支持されている。リニア作動機構300A,300Bの摺動部330は、ぞれぞれ、スライド板400の上面に取り付けられており、後述するように、スライド板400の上下動に応じて、それぞれのシリンダ筒310に沿って摺動し、それぞれのシリンダ軸320を上下動させる。   The first linear actuating mechanism 300A fixes the upper end portion of the cylinder tube 310 to the upper surface support plate 140 by the cylinder guide 340 and fixes the lower end portion of the cylinder tube 310 to the pedestal portion 112 by the flange 350, thereby 100, the center axis CY1a of the cylinder tube 310 is supported in a state along the vertical direction. Similarly, the second linear operation mechanism 300B is also supported in a state where the central axis CY1b of the cylinder cylinder 310 is along the vertical direction (y direction). The sliding portions 330 of the linear operation mechanisms 300A and 300B are respectively attached to the upper surface of the slide plate 400. As will be described later, the slide portions 330 are respectively attached to the cylinder cylinders 310 according to the vertical movement of the slide plate 400. The cylinder shaft 320 is moved up and down.

図2(B)に示すように、ボールネジ200と一対のリニア作動機構300A,300Bとは、スライド板400を鉛直方向上側から平面視した場合において、スライド板400の長手方向(x方向)に沿った直線CX上に並ぶように一直線上に配置されている。また、本実施形態では、一対のリニア作動機構300A,300Bは、ボールネジ200を中心として対称な位置に配置されている。   As shown in FIG. 2B, the ball screw 200 and the pair of linear operation mechanisms 300A and 300B are arranged along the longitudinal direction (x direction) of the slide plate 400 when the slide plate 400 is viewed from above in the vertical direction. It is arranged on a straight line so as to be aligned on the straight line CX. In the present embodiment, the pair of linear operation mechanisms 300 </ b> A and 300 </ b> B are disposed at symmetrical positions around the ball screw 200.

図2(A)に示すように、リニア作動機構300A,300Bのシリンダ軸320の下端部は、それぞれ、台座部112、底面支持板120及び真空予備室30の上蓋34の内部の貫通孔を介して真空予備室30の内部31に突出しており、保持部500に取り付けられている。   As shown in FIG. 2A, the lower end portions of the cylinder shafts 320 of the linear operation mechanisms 300A and 300B are respectively passed through through holes in the base portion 112, the bottom surface support plate 120, and the upper cover 34 of the vacuum preliminary chamber 30. It protrudes into the interior 31 of the vacuum preliminary chamber 30 and is attached to the holding unit 500.

保持部500は、弁体510と、弁体支持部520A,520Bと、基板WPを保持する複数の基板保持部530と、を備える。弁体支持部520A,520Bは、弁体510の上部に固定されている。第1の弁体支持部520Aには、第1リニア作動機構300Aのシリンダ軸320の下端部が取り付けられており、第2の弁体支持部520Bには、第2リニア作動機構300Bのシリンダ軸320の下端部が取り付けられている。複数の基板保持部530は、弁体510の下面に設けられており、下端部に有するフック532によって、基板WPを吊り下げて保持する。本実施形態では、2つの基板保持部530が設けられている。また、弁体510の下部には、位置決めピン512及びOリング514が設けられている。なお、弁体支持部520A,520Bの構成については後述する。   The holding unit 500 includes a valve body 510, valve body support portions 520A and 520B, and a plurality of substrate holding portions 530 that hold the substrate WP. The valve body support portions 520A and 520B are fixed to the upper part of the valve body 510. The lower end portion of the cylinder shaft 320 of the first linear operation mechanism 300A is attached to the first valve body support portion 520A, and the cylinder shaft of the second linear operation mechanism 300B is attached to the second valve body support portion 520B. The lower end of 320 is attached. The plurality of substrate holding portions 530 are provided on the lower surface of the valve body 510, and the substrate WP is suspended and held by a hook 532 provided at the lower end portion. In the present embodiment, two substrate holders 530 are provided. In addition, a positioning pin 512 and an O-ring 514 are provided below the valve body 510. In addition, the structure of valve body support part 520A, 520B is mentioned later.

図3は、第1リニア作動機構300Aの摺動部330の部分の断面を拡大して示す概略図である。摺動部330は、スライド板400に固定された円筒状のカバー332と、カバー332の内周面に固定され、シリンダ筒310の外周面に沿って摺動可能に配置された円環状の第1磁石334と、を備える。第1磁石334には、鉛直方向(y方向)に沿って磁化された永久磁石が用いられている。図3の例では、鉛直方向の上側がS極で下側がN極となっている。また、図3の例では、鉛直方向に沿って1列の第1磁石334が設けられている。   FIG. 3 is an enlarged schematic view showing a section of the sliding portion 330 of the first linear operating mechanism 300A. The sliding portion 330 is a cylindrical cover 332 fixed to the slide plate 400 and an annular first cover fixed to the inner peripheral surface of the cover 332 and slidably disposed along the outer peripheral surface of the cylinder tube 310. 1 magnet 334. As the first magnet 334, a permanent magnet magnetized along the vertical direction (y direction) is used. In the example of FIG. 3, the upper side in the vertical direction is the S pole and the lower side is the N pole. In the example of FIG. 3, one row of first magnets 334 is provided along the vertical direction.

シリンダ筒310の筒内に挿入されたシリンダ軸320の上端部には、シリンダ軸320の外周面に沿って固定された円環状の第2磁石336が設けられている。第2磁石336は、1列の第1磁石334に対応させて1列の第2磁石が設けられている。なお、第2磁石336は、後述する第1磁石334との間で働く磁力による第1磁石334の移動に対する追従性を高めるために、第1磁石334と同様に鉛直方向に沿って磁化された2つの永久磁石336a,336bを異極性同士が接触するように組み合わせて構成されている。   An annular second magnet 336 fixed along the outer peripheral surface of the cylinder shaft 320 is provided at the upper end portion of the cylinder shaft 320 inserted into the cylinder tube 310. The second magnet 336 is provided with a row of second magnets corresponding to the row of first magnets 334. The second magnet 336 is magnetized along the vertical direction in the same manner as the first magnet 334 in order to improve the followability to the movement of the first magnet 334 by the magnetic force acting between the first magnet 334 described later. Two permanent magnets 336a and 336b are combined so that different polarities are in contact with each other.

スライド板400の鉛直方向に沿った移動(図中矢印で示す)に伴って摺動部330が移動すると、第1磁石334と第2磁石336との間で働く磁力(引力および斥力)によって第1磁石334の移動に追従して第2磁石336がシリンダ筒310内を摺動して移動し、シリンダ軸320が鉛直方向に沿って移動する。なお、図示及び説明を省略するが、第2リニア作動機構300Bにおいても同様である。従って、リニア作動機構300A,300Bは、スライド板400に取り付けられたそれぞれの摺動部330の鉛直方向に沿った摺動に伴って、真空予備室30の内部31に突出するシリンダ軸320の部分(図2(A)参照)の長さを変化させることができる。なお、第1磁石334と第2磁石336の構成は例示であり、これ以外の種々の構成を採用可能である。また、2つの磁石334,336の少なくとも一方を電磁石としても良い。   When the sliding portion 330 moves along with the movement of the slide plate 400 along the vertical direction (indicated by an arrow in the figure), the first magnetic 334 and the second magnet 336 act to generate magnetic force (attraction and repulsion). Following the movement of the first magnet 334, the second magnet 336 slides and moves in the cylinder tube 310, and the cylinder shaft 320 moves along the vertical direction. Although not shown and described, the same applies to the second linear operation mechanism 300B. Therefore, the linear operating mechanisms 300A and 300B are portions of the cylinder shaft 320 that protrude into the interior 31 of the vacuum preliminary chamber 30 as the sliding portions 330 attached to the slide plate 400 slide along the vertical direction. The length of (see FIG. 2A) can be changed. In addition, the structure of the 1st magnet 334 and the 2nd magnet 336 is an illustration, and various structures other than this are employable. Further, at least one of the two magnets 334 and 336 may be an electromagnet.

なお、シリンダ軸320の外周面には、シリンダ筒310の内周面に付着する粉塵を除去するための円環状のスクレーパー337が、上下2か所に設けられている。また、カバー332の内周面にも、シリンダ筒310の外周面に付着する粉塵を除去するための円環状のスクレーパー338が、上下2か所に設けられている。   An annular scraper 337 for removing dust adhering to the inner peripheral surface of the cylinder tube 310 is provided on the upper and lower portions on the outer peripheral surface of the cylinder shaft 320. In addition, annular scrapers 338 for removing dust adhering to the outer peripheral surface of the cylinder tube 310 are also provided on the inner peripheral surface of the cover 332 at two locations, upper and lower.

図4は、成膜室20に基板WPを搬送した状態の搬送装置40を示す説明図である。スライド板400を、台座部112上に設けられた下端位置決め部114で規定される下端位置までスライドさせると、上述したように、リニア作動機構300A,300Bのそれぞれのシリンダ軸320を鉛直方向下向きに移動させることができる。これにより、シリンダ軸320に取り付けられた保持部500を、真空予備室30の内部31において、鉛直方向下側の成膜室20の上蓋24に弁体510が接触するまで移動させることができる。そして、保持部500の基板保持部530で保持された基板WPを、真空予備室30と成膜室20との間の連通孔21を介して、成膜室20の内部23へ搬入することができる。この際、保持部500の弁体510の下面には、位置決めピン512及びOリング514が設けられており、位置決めピン512が連通孔21の外側の位置決め孔26に嵌合され、Oリング514が成膜室20の上蓋24に密接して連通孔21の外周を覆うことにより、成膜室20の内部23を真空予備室30に対して封止し、成膜室20内を真空状態に保つことができる。   FIG. 4 is an explanatory diagram showing the transfer device 40 in a state where the substrate WP is transferred to the film forming chamber 20. When the slide plate 400 is slid to the lower end position defined by the lower end positioning portion 114 provided on the pedestal portion 112, the respective cylinder shafts 320 of the linear operation mechanisms 300A and 300B are directed downward in the vertical direction as described above. Can be moved. Thereby, the holding part 500 attached to the cylinder shaft 320 can be moved in the interior 31 of the vacuum preliminary chamber 30 until the valve body 510 comes into contact with the upper cover 24 of the film forming chamber 20 on the lower side in the vertical direction. Then, the substrate WP held by the substrate holding unit 530 of the holding unit 500 can be carried into the inside 23 of the film forming chamber 20 through the communication hole 21 between the vacuum preliminary chamber 30 and the film forming chamber 20. it can. At this time, a positioning pin 512 and an O-ring 514 are provided on the lower surface of the valve body 510 of the holding portion 500, the positioning pin 512 is fitted into the positioning hole 26 outside the communication hole 21, and the O-ring 514 is By covering the outer periphery of the communication hole 21 in close contact with the upper cover 24 of the film forming chamber 20, the inside 23 of the film forming chamber 20 is sealed with respect to the vacuum preliminary chamber 30, and the inside of the film forming chamber 20 is kept in a vacuum state. be able to.

また、スライド板400を下端位置(図4)から鉛直上方向にスライドさせることにより、リニア作動機構300A,300Bのそれぞれのシリンダ軸320を鉛直上方向に移動させることができ、図2に示すように、保持部500を上昇端位置まで移動させることができる。これにより、保持部500の基板保持部530で保持された基板WPを、真空予備室30と成膜室20との間の連通孔21を介して、成膜室20の内部23から真空予備室30の内部31へ搬出することができる。なお、上昇端位置は、真空予備室30の上蓋34の下面側(内部31の側)の中央の位置に設けられた弁体ストッパ550と、弁体ストッパ550の両側に設けられた一対の弁体回転ストッパ560A,560Bで規定される。なお、弁体回転ストッパ560A,560Bの構成については後述する。   Also, by sliding the slide plate 400 vertically upward from the lower end position (FIG. 4), the cylinder shafts 320 of the linear operation mechanisms 300A and 300B can be moved vertically upward, as shown in FIG. In addition, the holding unit 500 can be moved to the rising end position. As a result, the substrate WP held by the substrate holding unit 530 of the holding unit 500 is transferred from the inside 23 of the film forming chamber 20 to the vacuum preliminary chamber via the communication hole 21 between the vacuum preliminary chamber 30 and the film forming chamber 20. It can be carried out to the inside 31 of 30. The rising end position is a valve body stopper 550 provided at a central position on the lower surface side (inside 31 side) of the upper lid 34 of the vacuum preliminary chamber 30 and a pair of valves provided on both sides of the valve body stopper 550. It is defined by body rotation stoppers 560A and 560B. The configuration of the valve body rotation stoppers 560A and 560B will be described later.

図2,図4に示すように、一対のリニアガイド700A,700Bのうち、右側のリニアガイド700Aは第1側面支持板130Aの第1側面部分131に設けられ、左側のリニアガイド700Bは第2側面支持板130Bの第1側面部分131に設けられている。リニアガイド700A,700Bは、鉛直方向(y方向)に沿って延びるリニアレール710と、リニアレール710上をスライドするリニアブロック720と、を備える。リニアガイド700A,700Bは、それぞれ、リニアレール710上をリニアブロック720がスライドすることで、それぞれのリニアブロック720に取り付けられたスライド板400がリニアレールの方向(鉛直方向)に沿って移動する直線運動をガイドするガイド機構である。これにより、スライド板400は、ボールネジ200によって鉛直方向に沿って移動する際に、左右一対のリニアガイド700A,700Bによって、xz平面(水平面)に沿った水平状態を維持しつつ、鉛直方向に沿った滑らかな移動(直線運動)となるようにガイドされる。   2 and 4, of the pair of linear guides 700A and 700B, the right side linear guide 700A is provided on the first side surface portion 131 of the first side surface support plate 130A, and the left side linear guide 700B is the second linear guide 700B. It is provided on the first side surface portion 131 of the side surface support plate 130B. The linear guides 700A and 700B include a linear rail 710 extending along the vertical direction (y direction) and a linear block 720 that slides on the linear rail 710. The linear guides 700A and 700B are straight lines in which the slide block 400 attached to each linear block 720 moves along the direction (vertical direction) of the linear rail when the linear block 720 slides on the linear rail 710. It is a guide mechanism that guides movement. Thus, when the slide plate 400 moves along the vertical direction by the ball screw 200, the horizontal direction along the xz plane (horizontal plane) is maintained by the pair of left and right linear guides 700A and 700B along the vertical direction. Guided so as to achieve smooth movement (linear motion).

第1リニア作動機構300Aのシリンダ軸320が取り付けられた弁体支持部520Aは、シリンダ軸320に対する保持部500のx,z方向(水平方向)及びy方向(鉛直方向)の変位を不可とするように、シリンダ軸320の下端部を固定する固定機構で構成されている。固定機構の構造としては、シリンダ軸320の下端を固定可能であれば、その構造に制限はない。これに対して、第2リニア作動機構300Bのシリンダ軸320が取り付けられた弁体支持部520B(図2,4)は、以下で説明するように、シリンダ軸320に対する保持部500のy方向(鉛直方向)の変位を不可とするとともに、x方向(水平方向)の変位を許容する機構(以下、「水平スライド機構」とも呼ぶ)で構成されている。   The valve body support portion 520A to which the cylinder shaft 320 of the first linear operation mechanism 300A is attached disables the displacement of the holding portion 500 with respect to the cylinder shaft 320 in the x, z direction (horizontal direction) and y direction (vertical direction). Thus, it is comprised by the fixing mechanism which fixes the lower end part of the cylinder shaft 320. FIG. The structure of the fixing mechanism is not limited as long as the lower end of the cylinder shaft 320 can be fixed. On the other hand, the valve body support portion 520B (FIGS. 2 and 4) to which the cylinder shaft 320 of the second linear operation mechanism 300B is attached has a y-direction of the holding portion 500 with respect to the cylinder shaft 320 (described below). It is composed of a mechanism (hereinafter also referred to as “horizontal slide mechanism”) that disables displacement in the vertical direction) and allows displacement in the x direction (horizontal direction).

図5は、水平スライド機構で構成された弁体支持部520B(図2,4)の一例を拡大して示す概略図である。図5(A)は弁体支持部520Bをxy平面に沿ったシリンダ軸320の中心軸線CYLを含む面で切った断面を示しており、図5(B)は、弁体支持部520Bに取り付けられたシリンダ軸320の部分を抜き出して示している。図5(A)に示すように、弁体支持部520Bには、シリンダ軸320の外径よりも大きい内径のシリンダ軸挿入溝521がy方向(鉛直方向)に沿って設けられており、シリンダ軸挿入溝521の外側の弁体支持部520Bの部分には、x方向(水平方向)に沿って係合棒523が挿入される係合孔522a,522bが設けられている。また、図5(B)に示すように、シリンダ軸320にもx方向に沿って貫通し、係合棒523が挿入される係合孔321が設けられている。図5(A)に示すように、係合棒523は、弁体支持部520Bのx方向左側の係合孔522a、シリンダ軸320の係合孔321、弁体支持部520Bのx方向右側の係合孔522bの順に挿入され、固定ピン524によって係合孔522a,522bから抜け落ちないように弁体支持部520Bに固定される。   FIG. 5 is an enlarged schematic view showing an example of the valve body support portion 520B (FIGS. 2 and 4) configured with a horizontal slide mechanism. 5A shows a cross section of the valve body support 520B cut along a plane including the central axis CYL of the cylinder shaft 320 along the xy plane, and FIG. 5B is attached to the valve body support 520B. A portion of the cylinder shaft 320 thus extracted is shown. As shown in FIG. 5A, the valve body support portion 520B is provided with a cylinder shaft insertion groove 521 having an inner diameter larger than the outer diameter of the cylinder shaft 320 along the y direction (vertical direction). Engagement holes 522a and 522b into which the engagement rods 523 are inserted along the x direction (horizontal direction) are provided in the valve body support portion 520B outside the shaft insertion groove 521. Further, as shown in FIG. 5B, the cylinder shaft 320 is also provided with an engagement hole 321 that penetrates along the x direction and into which the engagement rod 523 is inserted. As shown in FIG. 5A, the engagement rod 523 has an engagement hole 522a on the left side in the x direction of the valve body support portion 520B, an engagement hole 321 on the cylinder shaft 320, and a right side in the x direction of the valve body support portion 520B. The engagement holes 522b are inserted in this order, and are fixed to the valve body support portion 520B by the fixing pins 524 so as not to fall out of the engagement holes 522a and 522b.

上記構造によって、シリンダ軸320は、係合棒523によって、y方向(鉛直方向)に対しては移動できないように固定(拘束)される。これに対して、シリンダ軸320を挿入したシリンダ軸挿入溝521の内径はシリンダ軸320の外径よりも大きく、x方向(水平方向)に沿って隙間が設けられているので、シリンダ軸320は、弁体510に対して係合棒523に沿ってx方向(水平方向)に移動(スライド)できる。   With the above structure, the cylinder shaft 320 is fixed (restrained) by the engagement rod 523 so that it cannot move in the y direction (vertical direction). In contrast, the inner diameter of the cylinder shaft insertion groove 521 into which the cylinder shaft 320 is inserted is larger than the outer diameter of the cylinder shaft 320, and a gap is provided along the x direction (horizontal direction). The valve body 510 can move (slide) in the x direction (horizontal direction) along the engagement rod 523.

ここで、弁体510は、真空予備室30内の温度の変動に応じて体積変動が発生しやすく、これに伴って発生するx方向(水平方向)の寸法変動によって、以下の問題が発生する可能性がある。第2リニア作動機構300Bのシリンダ軸320および第1リニア作動機構300Aのシリンダ軸320の両方が固定機構の弁体支持部で固定された構造とした場合、弁体510のx方向の寸法の変動に伴って、シリンダ軸320の下端部が寸法変動の方向に引っ張られて、シリンダ軸320が鉛直方向(y方向)に沿った状態から傾くことになる。シリンダ軸320が鉛直方向に沿った状態から傾いた場合、シリンダ筒310に対してシリンダ軸320が傾いた状態となるので、シリンダ軸320の上下動時においてガタつき等の振動が発生し、滑らかな移動動作が困難となる可能性がある。   Here, the valve body 510 is likely to change in volume according to the change in temperature in the vacuum preliminary chamber 30, and the following problem occurs due to the dimensional change in the x direction (horizontal direction) that occurs along with this. there is a possibility. When both the cylinder shaft 320 of the second linear operation mechanism 300B and the cylinder shaft 320 of the first linear operation mechanism 300A are fixed by the valve body support portion of the fixing mechanism, the dimension of the valve body 510 in the x direction varies. Accordingly, the lower end portion of the cylinder shaft 320 is pulled in the direction of dimensional variation, and the cylinder shaft 320 is tilted from the state along the vertical direction (y direction). When the cylinder shaft 320 is tilted from the state along the vertical direction, the cylinder shaft 320 is tilted with respect to the cylinder tube 310. Therefore, vibration such as rattling occurs when the cylinder shaft 320 moves up and down, and smooth. Movement may be difficult.

これに対して、図5に示したように、弁体支持部520Bでは、弁体510のx方向の寸法が変動しても、シリンダ軸320の下端部は係合棒523に沿ってx方向(水平方向)にスライドすることができるので、シリンダ軸320はy方向(鉛直方向)に沿った状態を維持することができ、滑らかな移動動作を維持することができる。なお、シリンダ軸挿入溝521の内径寸法は、弁体510の温度変化によるx方向の寸法変動を吸収できる大きさとされる。但し、温度変動等に基因するシリンダ軸320の傾きが問題とならない場合には、弁体支持部520Bに水平スライド機構を設けなくても良い。   On the other hand, as shown in FIG. 5, in the valve body support portion 520 </ b> B, the lower end portion of the cylinder shaft 320 extends along the engagement rod 523 in the x direction even if the dimension in the x direction of the valve body 510 varies. Since the cylinder shaft 320 can slide in the (horizontal direction), the cylinder shaft 320 can maintain a state along the y direction (vertical direction), and can maintain a smooth movement operation. In addition, the inner diameter dimension of the cylinder shaft insertion groove 521 is set to a size that can absorb the dimensional variation in the x direction due to the temperature change of the valve body 510. However, when the inclination of the cylinder shaft 320 due to temperature fluctuation or the like is not a problem, the valve body support portion 520B may not be provided with a horizontal slide mechanism.

図6は、一対の弁体回転ストッパ560A,560B(図2,図4)の一方の弁体回転ストッパ560Bを弁体ストッパ550側から側面視した概略図である。なお、図6は、真空予備室30の上蓋34および保持部500の弁体510を概略断面(ハッチング)で示し、説明上不要な部材は省略して示している。この弁体回転ストッパ560Bは、弁体支持部520Bを挟持して固定する固定ガイド562を有している。図示は省略するが、他方の弁体回転ストッパ560Aも、一方の弁体回転ストッパ560Bと同様である。2つの弁体回転ストッパ560A,560Bが弁体510の弁体支持部520A,520Bを固定することにより、保持部500の上昇端位置における、弁体510の位置、特に、長手方向の向きをx方向に沿うように固定することができる(図2)。   FIG. 6 is a schematic view of one valve body rotation stopper 560B of the pair of valve body rotation stoppers 560A and 560B (FIGS. 2 and 4) viewed from the side from the valve body stopper 550 side. FIG. 6 shows the upper lid 34 of the vacuum preliminary chamber 30 and the valve body 510 of the holding unit 500 in a schematic cross section (hatching), omitting unnecessary members for explanation. The valve body rotation stopper 560B includes a fixed guide 562 that holds and fixes the valve body support portion 520B. Although not shown, the other valve body rotation stopper 560A is the same as the one valve body rotation stopper 560B. The two valve body rotation stoppers 560A and 560B fix the valve body support portions 520A and 520B of the valve body 510 to thereby change the position of the valve body 510, particularly the longitudinal direction, at the rising end position of the holding portion 500. It can be fixed along the direction (FIG. 2).

以上説明した構造を有する搬送装置40は、ボールネジ200によるスライド板400を一対のリニアガイド700A,700Bによるガイドによって水平状態を維持しつつ鉛直方向に沿って移動させ、これに伴って、一対のリニア作動機構300A,300Bを動作させることによって、保持部500の基板保持部530で保持された基板WPの成膜室20への搬入および成膜室20からの搬出を行うことができる。   The transport apparatus 40 having the structure described above moves the slide plate 400 by the ball screw 200 along the vertical direction while maintaining the horizontal state by the guides by the pair of linear guides 700A and 700B. By operating the operation mechanisms 300 </ b> A and 300 </ b> B, the substrate WP held by the substrate holding unit 530 of the holding unit 500 can be carried into and out of the film forming chamber 20.

図7は、比較例としての搬送装置40Rを示す概略図である。図7(A)は図2(A)に対応する正面図であり、図7(B)は図7(A)の左側面図である。また、図8は、搬送装置40Rのスライド板400Rを平面視した状態で示す概略図である。比較例の搬送装置40Rは、ボールネジ200と、リニア作動機構300と、一対のサポート機構800A,800Bと、保持部500と、ボールネジ駆動部600と、を備えている。   FIG. 7 is a schematic diagram illustrating a transfer device 40R as a comparative example. FIG. 7A is a front view corresponding to FIG. 2A, and FIG. 7B is a left side view of FIG. 7A. FIG. 8 is a schematic view showing the slide plate 400R of the transport apparatus 40R in a plan view. The transfer device 40R of the comparative example includes a ball screw 200, a linear operation mechanism 300, a pair of support mechanisms 800A and 800B, a holding unit 500, and a ball screw driving unit 600.

リニア作動機構300は、シリンダ筒310の下端部が支持台370を介して真空予備室30の上蓋34の上面に設置されており、上端部がシリンダガイド340を介して連結板170に固定されている。リニア作動機構300のシリンダ筒310は、連結板170及び上部シリンダガイド340と上蓋34及び支持台370とによって、その中心軸CY1が鉛直方向に沿った状態となるように支持されている。   In the linear operating mechanism 300, the lower end portion of the cylinder tube 310 is installed on the upper surface of the upper lid 34 of the vacuum preliminary chamber 30 via the support base 370, and the upper end portion is fixed to the connecting plate 170 via the cylinder guide 340. Yes. The cylinder cylinder 310 of the linear operation mechanism 300 is supported by the connecting plate 170, the upper cylinder guide 340, the upper lid 34, and the support base 370 so that the central axis CY1 is in a state along the vertical direction.

ボールネジ200は、図7(B),図8に示すように、リニア作動機構300に対してz方向にずれた位置で、ネジ軸210の下端部が下部サポート240を介してボールネジ支持板160に固定され、ネジ軸210の上端部が上部サポート230を介して連結板170に固定されている。ボールネジ200のネジ軸210は、連結板170及び上部サポート230とボールネジ支持板160及び下部サポート240とによって、その中心軸線CY0が鉛直方向に沿った状態となるように支持されている。   As shown in FIGS. 7B and 8, the ball screw 200 is positioned at a position shifted in the z direction with respect to the linear operation mechanism 300, and the lower end portion of the screw shaft 210 is connected to the ball screw support plate 160 via the lower support 240. The upper end portion of the screw shaft 210 is fixed to the connecting plate 170 via the upper support 230. The screw shaft 210 of the ball screw 200 is supported by the connecting plate 170, the upper support 230, the ball screw support plate 160, and the lower support 240 so that the center axis CY0 is in a state along the vertical direction.

一対のサポート機構800A,800Bのうち、第1のサポート機構800Aは、サポートバー810の下端部が真空予備室30の上蓋34の上面にフランジ830を介して設置されており、サポートバー810の上端部が連結板170に固定されている。第2のサポート機構800Bも、同様である。サポート機構800A,800Bは、それぞれのサポートバー810が連結板170と上蓋34及びフランジ830とによって、それぞれの中心軸線CY2a,CY2bが鉛直方向(y方向)に沿った状態となるように支持されている。   Of the pair of support mechanisms 800A and 800B, the first support mechanism 800A has a lower end portion of the support bar 810 installed on the upper surface of the upper cover 34 of the vacuum preliminary chamber 30 via a flange 830. The part is fixed to the connecting plate 170. The same applies to the second support mechanism 800B. In the support mechanisms 800A and 800B, the support bars 810 are supported by the connecting plate 170, the upper lid 34, and the flange 830 so that the central axes CY2a and CY2b are in a state along the vertical direction (y direction). Yes.

ボールネジ200のナット220、リニア作動機構300の摺動部330、及び、サポート機構800A,800Bの滑り軸受け820は、スライド板400Rに取り付けられている。ボールネジ200のネジ軸210の回転に伴ってナット220が鉛直方向に移動し、これに伴ってスライド板400Rが移動する。この際、スライド板400Rに取り付けられた滑り軸受け820が、サポートバー810を滑って移動することにより、スライド板400Rの鉛直方向に沿った移動がサポートされる。   The nut 220 of the ball screw 200, the sliding portion 330 of the linear operation mechanism 300, and the sliding bearing 820 of the support mechanisms 800A and 800B are attached to the slide plate 400R. As the screw shaft 210 of the ball screw 200 rotates, the nut 220 moves in the vertical direction, and the slide plate 400R moves accordingly. At this time, the sliding bearing 820 attached to the slide plate 400R slides and moves on the support bar 810, thereby supporting the movement of the slide plate 400R along the vertical direction.

以上説明した比較例の搬送装置40Rでは、以下で説明する不具合がある。図8に示すように、リニア作動機構300のシリンダ筒310に対して、ボールネジ200のネジ軸210の配置位置が、z方向にずれた配置(「オフセット配置」とも呼ぶ)となっている。このため、ボールネジ200のナット220及びリニア作動機構300の摺動部330が取り付けられたスライド板400Rが、ナット220の移動に応じて、図7(B)の矢印Y400Rに示すように、z方向(水平方向)に対して傾斜する事象が発生し易い。例えば、スライド板400Rが上昇する場合には、ナット220側が高く摺動部330側が低く傾斜し、スライド板400Rが下降する場合には、ナット220側が低く摺動部330側が高く傾斜する。このようにスライド板400Rが傾斜した場合、リニア作動機構300の摺動部330のシリンダ筒310に沿った摺動時にガタつき等の振動が発生し、滑らかな動作が困難となる場合がある。なお、ガタつき等の振動は装置の動作音の増大を招く場合もある。   The transport device 40R of the comparative example described above has the following problems. As shown in FIG. 8, the arrangement position of the screw shaft 210 of the ball screw 200 is shifted in the z direction with respect to the cylinder cylinder 310 of the linear operation mechanism 300 (also referred to as “offset arrangement”). Therefore, the slide plate 400R to which the nut 220 of the ball screw 200 and the sliding portion 330 of the linear operation mechanism 300 are attached moves in the z direction as indicated by the arrow Y400R in FIG. An event that is inclined with respect to (horizontal direction) is likely to occur. For example, when the slide plate 400R is raised, the nut 220 side is high and the sliding portion 330 side is inclined low, and when the slide plate 400R is lowered, the nut 220 side is low and the sliding portion 330 side is inclined high. When the slide plate 400R is inclined as described above, vibration such as rattling occurs when sliding along the cylinder tube 310 of the sliding portion 330 of the linear operation mechanism 300, and smooth operation may be difficult. In addition, vibrations such as rattling may increase the operation sound of the apparatus.

また、サポート機構800A,800Bのサポートバー810は、実質的には、その下端のみがフランジ830を介して真空予備室30の上蓋34上で固定されて鉛直方向に沿った状態となるように支持されているだけである。このため、第1のサポート機構800Aのサポートバー810及び第2のサポート機構800Bのサポートバー810に、それぞれ、図7(A)の矢印XZ800A,XZ800Bに示すように、x方向及びz方向に対して傾きが発生し、鉛直方向に沿った平行度が確保できない場合等が発生する。このため、滑り軸受け820の滑らかな動きが抑制されて、スライド板400Rの動作にガタつき等の振動が発生し、滑らかな動作が困難となる場合がある。   Further, the support bar 810 of the support mechanisms 800A and 800B is supported so that substantially only the lower end thereof is fixed on the upper cover 34 of the vacuum preliminary chamber 30 via the flange 830 and is in a state along the vertical direction. It has only been done. Therefore, the support bar 810 of the first support mechanism 800A and the support bar 810 of the second support mechanism 800B are respectively in the x direction and the z direction as shown by arrows XZ800A and XZ800B in FIG. In some cases, tilting occurs and parallelism along the vertical direction cannot be ensured. For this reason, smooth movement of the sliding bearing 820 is suppressed, vibration such as rattling occurs in the operation of the slide plate 400R, and smooth operation may be difficult.

また、リニア作動機構300のシリンダ筒310も、実質的には、その下端のみが支持台370を介して真空予備室30の上蓋34上で固定されて鉛直方向に沿った状態となるように支持されているだけである。このため、リニア作動機構300のシリンダ筒310に、図7(A)の矢印XZ300に示すように、x方向及びz方向に対して傾きが発生し、鉛直方向に沿った平行度が確保できない場合等が発生する。このため、摺動部330のシリンダ筒310に沿った摺動によるスライド板400の上下動動作にガタつき等の振動が発生し、滑らかな動作が困難となる場合もある。   Further, the cylinder cylinder 310 of the linear operation mechanism 300 is also supported so that only its lower end is fixed on the upper cover 34 of the vacuum preliminary chamber 30 via the support base 370 and is in a state along the vertical direction. It has only been done. For this reason, as shown by the arrow XZ300 in FIG. 7A, the cylinder cylinder 310 of the linear operation mechanism 300 is inclined with respect to the x direction and the z direction, and the parallelism along the vertical direction cannot be secured. Etc. occur. For this reason, vibration such as rattling occurs in the vertical movement operation of the slide plate 400 by sliding along the cylinder cylinder 310 of the sliding portion 330, and smooth operation may be difficult.

また、保持部500の長手方向(x方向)の中心位置でリニア作動機構300のシリンダ軸320によって保持部500を支持しているため、保持部500の位置(特に、長手方向の向き)にバラツキが発生し易い。特に、上昇端位置(図7(A))における保持部500の位置にバラツキが発生した場合には、基板を基板保持部に保持させることができずに落下させてしまう場合等の不具合が発生する。また、リニア作動機構300によって保持部500を上昇あるいは降下させる際に、保持部500にシリンダ軸320を中心とした回転振動が発生し易くなり、この振動によって基板が真空予備室30の壁面等に接触し、基板が落下する可能性もある。   In addition, since the holding unit 500 is supported by the cylinder shaft 320 of the linear operation mechanism 300 at the center position in the longitudinal direction (x direction) of the holding unit 500, the position of the holding unit 500 (particularly, the longitudinal direction) varies. Is likely to occur. In particular, when a variation occurs in the position of the holding unit 500 at the rising end position (FIG. 7A), there is a problem that the substrate cannot be held by the substrate holding unit and dropped. To do. In addition, when the holding unit 500 is raised or lowered by the linear operation mechanism 300, rotational vibration about the cylinder shaft 320 is likely to occur in the holding unit 500, and this vibration causes the substrate to move to the wall surface of the vacuum preliminary chamber 30 or the like. There is also a possibility that the substrate may fall due to contact.

これに対して、実施形態の搬送装置40(図2〜図4)では、上述したように、ボールネジ200及び一対のリニア作動機構300A,300Bを、鉛直方向上側から平面視した場合においてスライド板400の長手方向(x方向)に沿って一直線上に並ぶように配置している。より具体的には、ボールネジ200を中心として一対のリニア作動機構300A,300Bをスライド板400の長手方向(x方向)に沿った対称な位置に配置している。これにより、スライド板400の鉛直方向(y方向)に沿った移動時における傾斜を抑制することができ、スライド板400の移動時におけるガタつき等の振動を抑制し、滑らかな動作とすることができる。   On the other hand, in the transport apparatus 40 (FIGS. 2 to 4) of the embodiment, as described above, the slide plate 400 is obtained when the ball screw 200 and the pair of linear operation mechanisms 300A and 300B are viewed from above in the vertical direction. Are arranged in a straight line along the longitudinal direction (x direction). More specifically, the pair of linear operation mechanisms 300A and 300B are arranged at symmetrical positions along the longitudinal direction (x direction) of the slide plate 400 with the ball screw 200 as the center. Thereby, the inclination at the time of the movement of the slide plate 400 along the vertical direction (y direction) can be suppressed, and vibration such as rattling at the time of movement of the slide plate 400 can be suppressed to achieve a smooth operation. it can.

また、直方体骨組構造フレーム100の上面支持板140及び底面支持板120(台座112を含む)でボールネジ200及びリニア作動機構300A,300Bを支持することにより、ボールネジ200のネジ軸210及びリニア作動機構300A,300Bのシリンダ筒310を、鉛直方向に沿った状態および互いに平行な状態で安定に設置することができる。これにより、スライド板400の移動時におけるガタつき等の振動を抑制して滑らかな動作とすることができる。   Further, by supporting the ball screw 200 and the linear operation mechanisms 300A and 300B with the upper surface support plate 140 and the bottom surface support plate 120 (including the pedestal 112) of the cuboid frame structure frame 100, the screw shaft 210 and the linear operation mechanism 300A of the ball screw 200 are supported. , 300B can be stably installed in a state along the vertical direction and in a state parallel to each other. Thereby, it is possible to suppress a vibration such as rattling during the movement of the slide plate 400 and to achieve a smooth operation.

また、直方体骨組構造フレーム100の両側の側面部に設けたリニアガイド700A,700Bにより、スライド板400を鉛直方向に沿って移動させる場合において、スライド板400のxz平面に沿った水平状態を容易に維持することができる。これにより、スライド板400がx方向およびz方向に対して傾斜して、リニア作動機構300A,300Bの摺動部330がシリンダ筒310に沿って摺動する際にガタつき等の振動が発生することを抑制し、滑らかな動作とすることができる。   Further, when the slide plate 400 is moved along the vertical direction by the linear guides 700A and 700B provided on the side surfaces on both sides of the cuboid frame structure frame 100, the horizontal state along the xz plane of the slide plate 400 can be easily obtained. Can be maintained. Thereby, when the slide plate 400 is inclined with respect to the x direction and the z direction and the sliding portion 330 of the linear operation mechanism 300A, 300B slides along the cylinder tube 310, vibration such as rattling occurs. This can be suppressed and a smooth operation can be achieved.

また、シリンダ筒310に付着した粉塵をスクレーパー337,338によって除去することにより、摺動部330A,330Bの摺動動作及びこれに伴うシリンダ軸320の移動動作におけるガタつき等の振動の発生を抑制し、滑らかな動作とすることができる。   In addition, by removing dust adhering to the cylinder tube 310 by the scrapers 337 and 338, it is possible to suppress the occurrence of vibrations such as rattling in the sliding operation of the sliding portions 330A and 330B and the moving operation of the cylinder shaft 320 associated therewith. And smooth operation can be achieved.

また、スライド機構で構成した弁体支持部520Bによって、弁体510のx方向の寸法が変動しても、第2リニア作動機構300Bのシリンダ軸320の下端部を係合棒523に沿ってx方向(水平方向)にスライドさせることができるので、シリンダ軸320はy方向(鉛直方向)に沿った状態を維持することができ、ガタつき等の振動の発生を抑制して、滑らかな移動動作を維持することができる。   Further, even if the dimension of the valve body 510 in the x direction varies due to the valve body support portion 520B configured by a slide mechanism, the lower end portion of the cylinder shaft 320 of the second linear operation mechanism 300B is moved along the engagement rod 523 x. Since it can be slid in the direction (horizontal direction), the cylinder shaft 320 can maintain the state along the y direction (vertical direction), suppress the occurrence of vibration such as rattling, and move smoothly. Can be maintained.

また、上記したように、ガタつき等の振動の発生を抑制すれば、装置の動作音の増大を抑制することもできる。保持部500の基板保持部530で保持した基板WPの落下を抑制することができる。   Further, as described above, if the occurrence of vibration such as rattling is suppressed, an increase in the operation sound of the apparatus can also be suppressed. The fall of the substrate WP held by the substrate holding unit 530 of the holding unit 500 can be suppressed.

また、中心に配置されたボールネジ200に対してx方向に沿って左右対称な位置に配置されたリニア作動機構300A,300Bのシリンダ軸320で保持部500の弁体510を保持しているので、弁体510の水平方向での回転の自由度を抑制することができる。これにより、保持部500の基板保持部530で保持した基板WPが真空予備室30内で壁面等に接触して落下することを抑制することができる。   In addition, since the valve element 510 of the holding portion 500 is held by the cylinder shaft 320 of the linear operation mechanism 300A, 300B arranged at a symmetrical position along the x direction with respect to the ball screw 200 arranged at the center, The degree of freedom of rotation of the valve body 510 in the horizontal direction can be suppressed. Thereby, it is possible to suppress the substrate WP held by the substrate holding unit 530 of the holding unit 500 from falling in contact with the wall surface or the like in the vacuum preliminary chamber 30.

また、保持部500の上昇端位置において、弁体回転ストッパ560A,560Bによって保持部500の弁体510の水平方向に沿った長手方向の向きをx方向に沿った方向となるように規制することができる。また、保持部500の基板保持部530の位置精度を向上させることができ、基板保持部530によって安定に基板WPを保持させることができる。   Further, at the rising end position of the holding part 500, the longitudinal direction along the horizontal direction of the valve body 510 of the holding part 500 is regulated by the valve body rotation stoppers 560A and 560B so as to be along the x direction. Can do. In addition, the positional accuracy of the substrate holder 530 of the holder 500 can be improved, and the substrate WP can be stably held by the substrate holder 530.

本発明は、上述の実施形態や実施例、変形例に限られるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の構成で実現することができる。例えば、発明の概要の欄に記載した各形態中の技術的特徴に対応する実施形態、実施例、変形例中の技術的特徴は、上述の課題の一部または全部を解決するために、或いは、上述の効果の一部または全部を達成するために、適宜、差し替えや組み合わせを行うことが可能である。また、その技術的特徴が本明細書中に必須なものとして説明されていなければ、適宜、削除することが可能である。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, examples, and modifications, and can be realized with various configurations without departing from the spirit thereof. For example, the technical features in the embodiments, examples, and modifications corresponding to the technical features in each embodiment described in the summary section of the invention are to solve some or all of the above-described problems, or In order to achieve part or all of the above-described effects, replacement or combination can be performed as appropriate. Further, if the technical feature is not described as essential in the present specification, it can be deleted as appropriate.

(1)上記実施形態の搬送装置40では、1つのボールネジ200と、ボールネジ200を中心として対称配置された一対のリニア作動機構300A,300Bを備える構成を例に説明したが、これに限定されるものではない。例えば、1つのボールネジと一対のリニア作動機構を1組の機構として、複数組の機構を備える構成としてもよい。また、1つのリニア作動機構と1つのボールネジとを1組の機構として、複数組の機構を備える構成としてもよい。但し、搬送装置40としては、1つ以上のボールネジ200と、複数のリニア作動機構300とを備え、これらを、平面視においてスライド板400の長手方向に沿って一直線上に配置することが好ましい。 (1) In the conveyance device 40 of the above-described embodiment, a configuration including one ball screw 200 and a pair of linear operation mechanisms 300A and 300B symmetrically arranged around the ball screw 200 has been described as an example. It is not a thing. For example, one ball screw and a pair of linear operation mechanisms may be used as one set of mechanisms, and a plurality of sets of mechanisms may be provided. Moreover, it is good also as a structure provided with several sets of mechanisms by using one linear actuating mechanism and one ball screw as one set of mechanisms. However, it is preferable that the conveying device 40 includes one or more ball screws 200 and a plurality of linear operation mechanisms 300, which are arranged in a straight line along the longitudinal direction of the slide plate 400 in a plan view.

(2)上記実施形態では、ボールネジ200のネジ軸210をボールネジ駆動部600で回転させる場合を例に説明したが、ナット220をボールネジ駆動部によって回転させる構成としてもよい。 (2) In the above embodiment, the case where the screw shaft 210 of the ball screw 200 is rotated by the ball screw driving unit 600 has been described as an example, but the nut 220 may be rotated by the ball screw driving unit.

(3)上記実施形態では、摺動部330には1列の第1磁石334が設けられ、シリンダ軸320には1列の第1磁石334に対応する1列の第2磁石336が設けられている場合を例に説明したが、複数列の第1磁石334及び第2磁石336が鉛直方向(y方向)に沿って設けられている構成としてもよい。 (3) In the above embodiment, the sliding portion 330 is provided with one row of first magnets 334, and the cylinder shaft 320 is provided with one row of second magnets 336 corresponding to the one row of first magnets 334. However, a plurality of rows of the first magnet 334 and the second magnet 336 may be provided along the vertical direction (y direction).

(4)上記実施形態では、シリンダ筒310に付着した粉塵をスクレーパー337,338によって除去することにより、摺動部330A,330Bの摺動動作及びこれに伴うシリンダ軸320の移動動作におけるガタつき等の振動の発生を抑制する構成としたが、これに限定されるものではない。例えば、シリンダ筒310に粉塵が付着しない場合、あるいは、付着する粉塵の量が非常に少ない場合等のように、付着する粉塵がガタつき等の振動の発生に影響しないような場合には、スクレーパー337,338を省略することも可能である。 (4) In the above embodiment, the dust attached to the cylinder cylinder 310 is removed by the scrapers 337 and 338, whereby the sliding operation of the sliding portions 330A and 330B and the accompanying movement operation of the cylinder shaft 320, etc. However, the present invention is not limited to this. For example, when dust does not adhere to the cylinder 310 or when the amount of dust that adheres does not affect the generation of vibrations such as rattling, such as when the amount of dust that adheres is very small, the scraper It is also possible to omit 337 and 338.

(5)上記実施形態では、直方体骨組構造フレーム100の第1側面支持板130A及び第2側面支持板130Bの内側面に、それぞれ、スライド板400を鉛直方向に沿って移動可能にガイドするガイド機構としてのリニアガイド700A,700Bを備える場合を例に説明した。しかしながら、リニアガイド700A,700Bを省略することも可能である。 (5) In the above embodiment, the guide mechanism that guides the slide plate 400 movably along the vertical direction on the inner side surfaces of the first side support plate 130A and the second side support plate 130B of the cuboid frame 100, respectively. As an example, the linear guides 700A and 700B are provided. However, the linear guides 700A and 700B can be omitted.

(6)上記実施形態では、直方体骨組構造フレーム100によって、ボールネジ200のネジ軸210及びリニア作動機構300A,300Bのそれぞれのシリンダ筒310が鉛直方向に沿って支持される構成として説明している。しかしながら、これに限定されるものではなく、ボールネジ200のネジ軸210及びリニア作動機構300A,300Bのそれぞれのシリンダ筒310が鉛直方向に沿って支持される構造であれば、どのような構造であってもよい。 (6) In the above embodiment, the structure is described in which the rectangular parallelepiped frame 100 supports the screw shaft 210 of the ball screw 200 and the cylinder cylinders 310 of the linear operation mechanisms 300A and 300B along the vertical direction. However, the present invention is not limited to this, and any structure can be used as long as the screw shaft 210 of the ball screw 200 and the cylinder cylinders 310 of the linear operation mechanisms 300A and 300B are supported along the vertical direction. May be.

(7)上記実施形態では、成膜室20と真空予備室30とを備えるプラズマ成膜装置10において、真空予備室30の鉛直方向の上側に搬送装置40を備える場合を例に説明した。しかしながら、これに限定されるものではなく、例えば、成膜室と真空予備室に分かれていない構成の成膜装置であって良い。すなわち、本発明の搬送装置は、種々の構成の成膜装置の鉛直方向の上側に配置する搬送装置として適用することができる。 (7) In the above embodiment, the plasma film forming apparatus 10 including the film forming chamber 20 and the vacuum preliminary chamber 30 has been described as an example in which the transfer device 40 is provided above the vacuum preliminary chamber 30 in the vertical direction. However, the present invention is not limited to this. For example, a film forming apparatus having a structure that is not divided into a film forming chamber and a vacuum preliminary chamber may be used. That is, the transfer apparatus of the present invention can be applied as a transfer apparatus disposed on the upper side in the vertical direction of film forming apparatuses having various configurations.

10…プラズマ成膜装置
20…成膜室
21…連通孔
22…ゲートバルブ
23…内部
24…上蓋
26…位置決め孔
30…真空予備室
31…内部
32…基板導入口
33…導入蓋
34…上蓋
40…搬送装置
40R…搬送装置
100…直方体骨組構造フレーム
112…台座部
120…底面支持板
130A,130B…側面支持板
131,132…側面部分
140…上面支持板
160…ボールネジ支持板
170…連結板
200…ボールネジ
210…ネジ軸
220…ナット
230…上部サポート
240…下部サポート
300…リニア作動機構
300A,300B…リニア作動機構
310…シリンダ筒
320…シリンダ軸
321…係合孔
330…摺動部
332…カバー
334…第1磁石
336…第2磁石
336a,336b…永久磁石
337,338…スクレーパー
340…シリンダガイド
350…フランジ
370…支持台
400…スライド板
500…保持部
510…弁体
512…位置決めピン
514…Oリング
520A,520B…弁体支持部
530…基板保持部
521…シリンダ軸挿入溝
522…係合孔
523…係合棒
524…固定ピン
550…弁体ストッパ
560A,560B…弁体回転ストッパ
570…弁体固定部
600…ボールネジ駆動部
700A,700B…リニアガイド
710…リニアレール
720…リニアブロック
800A,800B…サポート機構
810…サポートバー
820…滑り軸受け
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Plasma film-forming apparatus 20 ... Film-forming chamber 21 ... Communication hole 22 ... Gate valve 23 ... Inside 24 ... Upper lid 26 ... Positioning hole 30 ... Vacuum preliminary chamber 31 ... Inside 32 ... Substrate introduction port 33 ... Introduction lid 34 ... Upper lid 40 ... Conveying device 40R ... Conveying device 100 ... Rectangular frame structure frame 112 ... Pedestal part 120 ... Bottom support plate 130A, 130B ... Side support plate 131,132 ... Side portion 140 ... Top support plate 160 ... Ball screw support plate 170 ... Connecting plate 200 ... Ball screw 210 ... Screw shaft 220 ... Nut 230 ... Upper support 240 ... Lower support 300 ... Linear operation mechanism 300A, 300B ... Linear operation mechanism 310 ... Cylinder cylinder 320 ... Cylinder shaft 321 ... Engagement hole 330 ... Sliding part 332 ... Cover 334 ... 1st magnet 336 ... 2nd magnet 336a, 336b ... Permanent Stone 337, 338 ... Scraper 340 ... Cylinder guide 350 ... Flange 370 ... Support base 400 ... Slide plate 500 ... Holding part 510 ... Valve body 512 ... Positioning pin 514 ... O-ring 520A, 520B ... Valve body support part 530 ... Substrate holding part 521 ... Cylinder shaft insertion groove 522 ... Engagement hole 523 ... Engagement rod 524 ... Fixing pin 550 ... Valve body stopper 560A, 560B ... Valve body rotation stopper 570 ... Valve body fixing part 600 ... Ball screw drive part 700A, 700B ... Linear guide 710 ... Linear rail 720 ... Linear block 800A, 800B ... Support mechanism 810 ... Support bar 820 ... Sliding bearing

Claims (7)

成膜装置の鉛直方向の上側に配置され、前記成膜装置における基板の搬入及び搬出を行う搬送装置であって、
前記搬送装置は、
前記基板を保持する保持部と、
水平方向に沿って配置されて前記鉛直方向に移動可能なスライド板と、
前記鉛直方向に沿って延びるネジ軸と、前記ネジ軸に挿入されるとともに前記スライド板に取り付けられたナットと、を有し、前記スライド板を前記鉛直方向に移動させる1以上のボールネジと、
前記鉛直方向に沿って延びるシリンダ筒と、前記シリンダ筒の外周面に沿って摺動可能に配置された第1磁石を含み前記スライド板に取り付けられた摺動部と、前記シリンダ筒の筒内に挿入されるとともに上端部に第2磁石が固定され下端部に前記保持部が固定されたシリンダ軸と、をそれぞれ有する複数のリニア作動機構であって、前記スライド板の移動に伴う前記第1磁石の移動に追従して、前記第2磁石及び前記シリンダ軸が前記シリンダ筒の筒内を移動することにより、前記保持部を移動させる複数のリニア作動機構と、
を備え、
平面視において、前記複数のリニア作動機構と前記ボールネジとが前記スライド板の長手方向に沿って一直線上に配置されている、搬送装置。
A transfer device that is arranged above the film forming apparatus in the vertical direction and carries in and out the substrate in the film forming apparatus,
The transfer device
A holding unit for holding the substrate;
A slide plate arranged along the horizontal direction and movable in the vertical direction;
A screw shaft extending along the vertical direction; and a nut inserted into the screw shaft and attached to the slide plate; and one or more ball screws that move the slide plate in the vertical direction;
A cylinder that extends along the vertical direction; a sliding portion that includes a first magnet that is slidably disposed along an outer peripheral surface of the cylinder; and that is attached to the slide plate; A plurality of linear operation mechanisms each having a second magnet fixed to an upper end portion and a cylinder shaft having the holding portion fixed to a lower end portion. Following the movement of the magnet, a plurality of linear actuation mechanisms that move the holding portion by moving the second magnet and the cylinder shaft in the cylinder tube;
With
The transport apparatus in which the plurality of linear operation mechanisms and the ball screw are arranged in a straight line along a longitudinal direction of the slide plate in a plan view.
請求項1に記載の搬送装置であって、
前記複数のリニア作動機構は、前記平面視において、前記ボールネジの位置を中心として対称な位置に配置されている、搬送装置。
It is a conveying apparatus of Claim 1, Comprising:
The plurality of linear operation mechanisms are arranged in a symmetrical position with respect to the position of the ball screw in the plan view.
請求項1または請求項2に記載の搬送装置であって、さらに、
前記スライド板の前記長手方向の両側の端部を前記鉛直方向に沿って移動可能にガイドする一対のガイド機構を備える、搬送装置。
The transport apparatus according to claim 1 or 2, further comprising:
A conveying apparatus comprising a pair of guide mechanisms that guide both end portions of the slide plate in the longitudinal direction so as to be movable along the vertical direction.
請求項3に記載の搬送装置であって、さらに、
前記水平方向に沿った上面支持板及び底面支持板と、前記底面支持板及び前記上面支持板の間に設けられた前記鉛直方向に沿った第1側面支持板及び第2側面支持板と、を有する直方体骨組構造のフレームを備え、
前記ボールネジの前記ネジ軸は、前記ネジ軸の上端部が前記上面支持板で支持されるとともに下端部が前記底面支持板で支持されることにより、前記鉛直方向に沿った状態で支持されており、
前記リニア作動機構の前記シリンダ筒は、前記シリンダ筒の上端部が前記上面支持板で支持されるとともに下端部が前記底面支持板で支持されることにより、前記鉛直方向に沿った状態で支持されており、
前記第1側面支持板及び前記第2側面支持板の内側面に、それぞれ、前記ガイド機構が設けられている、搬送装置。
The transfer device according to claim 3, further comprising:
A rectangular parallelepiped having a top surface support plate and a bottom surface support plate along the horizontal direction, and a first side surface support plate and a second side surface support plate along the vertical direction provided between the bottom surface support plate and the top surface support plate. With a frame of frame structure,
The screw shaft of the ball screw is supported in a state along the vertical direction, with the upper end portion of the screw shaft being supported by the upper surface support plate and the lower end portion being supported by the bottom surface support plate. ,
The cylinder cylinder of the linear operation mechanism is supported in a state along the vertical direction by supporting an upper end portion of the cylinder cylinder with the upper surface support plate and a lower end portion with the bottom surface support plate. And
The conveying apparatus in which the said guide mechanism is provided in the inner surface of the said 1st side surface support plate and the said 2nd side surface support plate, respectively.
請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載の搬送装置であって、
前記複数のリニア作動機構は第1リニア作動機構と第2リニア作動機構を有し、
前記第1リニア作動機構の前記シリンダ軸の下端部は、前記保持部の前記シリンダ軸に対する前記鉛直方向及び前記水平方向の変位を不可とする固定機構に取り付けられており、
前記第2リニア作動機構の前記シリンダ軸の下端部は、前記保持部の前記シリンダ軸に対する前記鉛直方向の変位を不可とするとともに、前記水平方向の変位を許容する水平スライド機構に取り付けられている、搬送装置。
It is a conveying apparatus as described in any one of Claim 1- Claim 4, Comprising:
The plurality of linear operation mechanisms have a first linear operation mechanism and a second linear operation mechanism,
The lower end portion of the cylinder shaft of the first linear operating mechanism is attached to a fixing mechanism that disables displacement of the holding portion in the vertical direction and the horizontal direction with respect to the cylinder shaft,
The lower end portion of the cylinder shaft of the second linear operation mechanism is attached to a horizontal slide mechanism that disables the vertical displacement of the holding portion relative to the cylinder shaft and allows the horizontal displacement. , Conveying device.
請求項1から請求項5までのいずれか一項に記載の搬送装置であって、
前記保持部の上昇端位置において、前記保持部の長手方向の向きを固定するストッパを備える、搬送装置。
It is a conveying apparatus as described in any one of Claim 1- Claim 5, Comprising:
A transport device comprising a stopper for fixing a longitudinal direction of the holding portion at a rising end position of the holding portion.
請求項1から請求項6までのいずれか一項に記載の搬送装置であって、
前記複数のリニア作動機構のそれぞれは、前記シリンダ軸の外周面に沿って円環状に覆うように固定され、前記シリンダ筒の内周面に付着する粉塵を除去するためのスクレーパーを備える、搬送装置。
It is a conveyance apparatus as described in any one of Claim 1- Claim 6, Comprising:
Each of the plurality of linear operation mechanisms includes a scraper that is fixed so as to be annularly covered along the outer peripheral surface of the cylinder shaft and includes a scraper for removing dust adhering to the inner peripheral surface of the cylinder cylinder. .
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WO2001044534A1 (en) * 1999-12-16 2001-06-21 Hitachi, Ltd Method and apparatus for thin film deposition
JP2006291262A (en) * 2005-04-08 2006-10-26 Alps Electric Co Ltd Thin film deposition apparatus
JP4611430B2 (en) * 2009-04-24 2011-01-12 智雄 松下 Lifting conveyor
JP5814618B2 (en) * 2011-05-18 2015-11-17 東芝機械株式会社 Molding material property measuring device
JP5785131B2 (en) * 2012-05-14 2015-09-24 トヨタ自動車株式会社 Plasma deposition system

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