JP6353379B2 - Carbon dioxide purification supply method and system - Google Patents
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- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 652
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 title claims description 325
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 title claims description 325
- 238000000746 purification Methods 0.000 title claims description 110
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 34
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 142
- 238000007670 refining Methods 0.000 claims description 60
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 49
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 31
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 claims description 16
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 22
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 22
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 9
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 4
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 4
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N Nitrous Oxide Chemical compound [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical compound O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000011086 high cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 229960001730 nitrous oxide Drugs 0.000 description 1
- 235000013842 nitrous oxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Images
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-
- Y02A50/2342—
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- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
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Description
本発明は、二酸化炭素(CO2)を精製して供給する方法及びシステムに関し、特に、半導体デバイス製造プロセスや液晶表示デバイス製造プロセスなどにおいて使用できる高純度の二酸化炭素を供給できる方法及びシステムに関する。 The present invention relates to a method and system for purifying and supplying carbon dioxide (CO 2 ), and more particularly, to a method and system capable of supplying high-purity carbon dioxide that can be used in a semiconductor device manufacturing process, a liquid crystal display device manufacturing process, and the like.
半導体デバイスや液晶表示デバイスなどの製造では、表面に微細構造が形成されているウエハや基板などの被処理体を処理する工程が繰り返される。被処理体に付着した汚染物を除去することによって被処理体での高度な清浄度を達成しこれを維持することは、最終的な製品の品質保持や製造時の歩留まり向上にとって重要である。 In manufacturing a semiconductor device, a liquid crystal display device, or the like, a process of processing an object to be processed such as a wafer or a substrate on which a fine structure is formed is repeated. Achieving and maintaining a high degree of cleanliness in the object to be processed by removing contaminants adhering to the object to be processed is important for maintaining the quality of the final product and improving the production yield.
近年、半導体デバイスや液晶表示デバイスなどの製造工程での被処理体の高度化、高集積化、微細化などがさらに進行しており、これに伴って、従来の超純水や薬液を用いた洗浄や乾燥といったウェット(湿式)洗浄処理の限界が指摘され始めてきている。これを克服するため、低粘性、低表面張力などの特徴を有する超臨界流体、特に、超臨界二酸化炭素を使用して洗浄や乾燥を行う処理装置が注目されるようになってきている。超臨界流体は、密度は液体に近いものの、粘性が小さくかつ拡散性が大きくて気体のような挙動を示し、浸漬力に優れ、汚染成分を拡散しやすい性質を有し、表面に微細構造を有する被処理体を洗浄するのに適している。また、超臨界状態では表面張力が働かないので、洗浄後の乾燥工程において、被処理体間に残存する流体の毛管力に起因する倒壊現象を発生させることなく乾燥を行うことが可能になる。 In recent years, the advancement, high integration, and miniaturization of objects to be processed in the manufacturing process of semiconductor devices, liquid crystal display devices, etc. have further progressed. With this, conventional ultrapure water or chemicals have been used. Limitations of wet (wet) cleaning processes such as cleaning and drying are beginning to be pointed out. In order to overcome this problem, a supercritical fluid having characteristics such as low viscosity and low surface tension, in particular, a processing apparatus that performs cleaning and drying using supercritical carbon dioxide has been drawing attention. A supercritical fluid has a density close to that of a liquid, but has a low viscosity, a high diffusibility, behaves like a gas, has excellent immersion power, and easily diffuses contaminants, and has a fine structure on the surface. It is suitable for cleaning an object to be processed. Further, since the surface tension does not work in the supercritical state, it is possible to perform the drying without causing a collapse phenomenon due to the capillary force of the fluid remaining between the objects to be processed in the drying process after the cleaning.
このような超臨界流体の媒質として採用される物質としては、二酸化炭素、一酸化二窒素(N2O)、二酸化イオウ(SO2)、エタン(C2H6)、プロパン(C3H8)及びフロンなどがある。特に、二酸化炭素は、不燃性で無害であり、また臨界温度が31℃、臨界圧力が7.4MPaであるなど取り扱いが容易であるので、超臨界流体の媒質として好ましいものである。液体二酸化炭素を加熱することで容易に超臨界二酸化炭素を得ることができる。現在、半導体デバイスの製造プロセスに超臨界二酸化炭素を使用した洗浄や乾燥の構成を導入することが検討されているが、その実用化にあたり、高純度であって、含有するパーティクル(微粒子)数を極限にまで低下させた二酸化炭素を安定して供給できるようにする必要がある。 Substances employed as a medium for such a supercritical fluid include carbon dioxide, dinitrogen monoxide (N 2 O), sulfur dioxide (SO 2 ), ethane (C 2 H 6 ), propane (C 3 H 8). ) And Freon. In particular, carbon dioxide is nonflammable and harmless, and is preferable as a medium for a supercritical fluid because it is easy to handle such as a critical temperature of 31 ° C. and a critical pressure of 7.4 MPa. Supercritical carbon dioxide can be easily obtained by heating liquid carbon dioxide. Currently, the introduction of a cleaning and drying configuration using supercritical carbon dioxide in the manufacturing process of semiconductor devices is being studied, but for its practical use, the purity is high and the number of contained particles (fine particles) is reduced. It is necessary to be able to stably supply carbon dioxide that has been reduced to the limit.
また、半導体デバイスや液晶表示デバイスの製造工程において例えばウェット洗浄などを行うために超純水を使用する場合、超純水の導電率が極めて小さくて帯電しやすいので、半導体デバイスや液晶表示デバイスの静電破壊が発生するおそれがある。そこで、超純水に意図的に二酸化炭素を溶解させることによって導電率を上昇させ、これによって静電破壊の発生を防止することも試みられている(例えば、特許文献1参照)。導電率を上昇させるために超純水に加えられる二酸化炭素としても、高純度であって、含有するパーティクル等の不純物を極限にまで低下させた二酸化炭素を使用することが望ましい。 In addition, when ultrapure water is used to perform wet cleaning, for example, in the manufacturing process of semiconductor devices and liquid crystal display devices, the conductivity of ultrapure water is extremely small and easily charged. There is a risk of electrostatic breakdown. Therefore, an attempt has been made to increase the electrical conductivity by intentionally dissolving carbon dioxide in ultrapure water, thereby preventing the occurrence of electrostatic breakdown (for example, see Patent Document 1). As carbon dioxide added to ultrapure water in order to increase the conductivity, it is desirable to use carbon dioxide that has high purity and has impurities such as particles contained therein reduced to the limit.
現在、市販の二酸化炭素のうち高純度のものとしては、4Nグレード(純度99.99%)及び6Nグレード(純度99.9999%)のものがある。しかしながら、これらの4Nグレードあるいは6Nグレードの二酸化炭素はそれ自体が高価であり、かつ、清浄度を管理された専用ボンベに充填されて流通するので、流通コスト等も高くなる。したがって、専用ボンベに充填された高純度二酸化炭素を使用する場合には、その消費に関わる全コストが高くなるとともに、重量物である専用ボンベ輸送に関わるエネルギーも必要であって、流通による環境負荷も大きくなる。 Currently, commercially available carbon dioxide has high purity of 4N grade (purity 99.99%) and 6N grade (purity 99.9999%). However, these 4N grade or 6N grade carbon dioxide is expensive per se, and is distributed in a dedicated cylinder whose cleanliness is controlled. Therefore, when using high-purity carbon dioxide filled in a dedicated cylinder, the overall cost for consumption increases, and energy for transporting the dedicated cylinder, which is a heavy object, is also required. Also grows.
特許文献2には、高純度二酸化炭素を専用ボンベで運搬することを必要としないで、高度な清浄度を維持して超臨界二酸化炭素を供給するシステムが開示されている。特許文献2のシステムでは、循環処理によってオンサイトで二酸化炭素の精製を行っており、システムに供給される二酸化炭素の純度はユーズポイントで要求される純度よりも低純度であってよく、このため、専用ボンベの流通コストも含め、高純度二酸化炭素消費のコストを全体として低減することができる。特許文献2のシステムは、精製された二酸化炭素を常時循環させる循環系と、必要に応じてユースポイントに対して循環系から超臨界二酸化炭素を供給する供給系とを備えている。しかしながら特許文献2のシステムは、循環系の運転開始から高純度の二酸化炭素が得られるようになるまでに時間がかかり、その間は純度がそれほど高くない二酸化炭素がユースポイントに供給されてしまう、という課題を有する。 Patent Document 2 discloses a system for supplying supercritical carbon dioxide while maintaining high cleanliness without requiring high-purity carbon dioxide to be transported by a dedicated cylinder. In the system of Patent Document 2, carbon dioxide is purified on-site by circulation processing, and the purity of carbon dioxide supplied to the system may be lower than that required at the use point, and for this reason. The cost of high-purity carbon dioxide consumption can be reduced as a whole, including the distribution cost of dedicated cylinders. The system of Patent Document 2 includes a circulation system that constantly circulates purified carbon dioxide, and a supply system that supplies supercritical carbon dioxide from the circulation system to the use point as necessary. However, the system of Patent Document 2 takes time from the start of operation of the circulation system until high-purity carbon dioxide can be obtained, and in the meantime, carbon dioxide having a low purity is supplied to the use point. Has a problem.
特許文献3には、特許文献2に開示されたシステムを改良し、パーティクルを十分に低減した二酸化炭素をユースポイント(使用点)に供給することができるようにしたものとして、精製循環系に二酸化炭素を供給して二酸化炭素を精製循環系内で循環させながら精製する精製循環処理を行い、精製循環系内の二酸化炭素が所定の清浄度になるまで精製循環処理を行ったのちに、精製循環処理で精製された二酸化炭素をユースポイントに供給するようにしたシステムが開示されている。 Patent Document 3 discloses that the system disclosed in Patent Document 2 has been improved so that carbon dioxide with sufficiently reduced particles can be supplied to a use point (use point). Purify and recycle after supplying carbon and purifying while circulating carbon dioxide in the refining circulation system, purify and recycle until the carbon dioxide in the refining circulation system reaches the specified cleanliness, A system is disclosed in which carbon dioxide purified by processing is supplied to a use point.
精製循環系を有してユースポイントに対して高純度二酸化炭素をオンサイトで供給する従来の二酸化炭素供給システムでは、精製循環系内部で循環する二酸化炭素が何らかの理由で汚染したとしてもその汚染は直ちに除去されるものの、精製循環系からユースポイントに至る経路内で汚染が発生した場合には、ユースポイントには汚染された二酸化炭素が供給されてしまう。汚染されていない二酸化炭素をユースポイントに供給するためには、精製循環系からユースポイントに至る経路内での汚染を簡単かつ確実に除去できるようにする必要がある。 In a conventional carbon dioxide supply system that has a refining circulation system and supplies high-purity carbon dioxide on-site to the point of use, even if the carbon dioxide circulating inside the refining circulation system is contaminated for some reason, the contamination is Although it is immediately removed, if contamination occurs in the route from the refining circulation system to the use point, the contaminated carbon dioxide is supplied to the use point. In order to supply uncontaminated carbon dioxide to the use point, it is necessary to easily and reliably remove the contamination in the route from the refining circulation system to the use point.
本発明の目的は、二酸化炭素を精製し、例えば半導体デバイス製造プロセスや液晶表示デバイス製造デバイスにおいて使用でき、あるいは超純水への溶解に用いることができるるまでに高純度な二酸化炭素をユースポイントに確実に供給できる二酸化炭素精製供給方法及びシステムを提供することにある。 It is an object of the present invention to purify carbon dioxide, and use high-purity carbon dioxide before it can be used in, for example, a semiconductor device manufacturing process or a liquid crystal display device manufacturing device, or used for dissolution in ultrapure water. Another object of the present invention is to provide a carbon dioxide refining and supplying method and system which can be reliably supplied.
本発明の二酸化炭素精製供給方法は、二酸化炭素を精製してユースポイントに供給する二酸化炭素精製供給方法において、精製循環系に二酸化炭素を供給して二酸化炭素を精製循環系内で循環させて精製する精製循環処理と、精製循環系内の二酸化炭素が所定の清浄度になるまで精製循環処理を行ったのちに、精製循環系から分岐する導入配管を介して精製循環処理で精製された二酸化炭素を精製循環系の外部に設けられた貯槽に貯留し、貯槽から供給配管を介してユースポイントに精製された二酸化炭素を供給する供給処理と、精製循環系に接続する返送配管を介して貯槽から二酸化炭素を精製循環系に返送させる返送処理と、を有することを特徴とする。 The carbon dioxide purification and supply method of the present invention is a carbon dioxide purification and supply method for purifying carbon dioxide and supplying it to a use point. In this method, carbon dioxide is supplied to a purification circulation system and the carbon dioxide is circulated in the purification circulation system for purification. Carbon dioxide purified by the purification circulation treatment through the introduction pipe branched from the purification circulation system after performing the purification circulation treatment until the carbon dioxide in the purification circulation system reaches a predetermined cleanliness level. Is stored in a storage tank provided outside the refining circulation system, and the carbon dioxide purified from the storage tank is supplied to the use point via the supply pipe, and the storage tank is connected via the return pipe connected to the refining circulation system. And a return process for returning the carbon dioxide to the refining circulation system.
本発明の二酸化炭素精製供給システムは、二酸化炭素を精製してユースポイントに供給する二酸化炭素精製供給システムにおいて、二酸化炭素源から二酸化炭素の供給を受け、二酸化炭素を循環させて精製する精製循環系と、精製循環系の外部に設けられた貯槽部と、精製循環系から分岐して貯槽部に精製された二酸化炭素を供給する導入配管と、貯槽部から精製された二酸化炭素をユースポイントに供給する供給配管と、精製循環系に接続して、貯槽部から二酸化炭素を精製循環系に返送する返送配管と、を有することを特徴とする。 The carbon dioxide purification and supply system of the present invention is a carbon dioxide purification and supply system that purifies carbon dioxide and supplies it to a use point. A purification circulation system that receives carbon dioxide from a carbon dioxide source and circulates and purifies carbon dioxide. And a storage tank provided outside the refining circulation system, an introduction pipe for supplying purified carbon dioxide branched from the refining circulation system, and supplying purified carbon dioxide from the storage tank to the use point And a return pipe connected to the purification circulation system and returning carbon dioxide from the storage tank to the purification circulation system.
本発明によれば、精製循環系での精製循環処理によって二酸化炭素を精製し、精製循環系の外部に設けられた貯槽に対して精製循環系から精製された二酸化炭素を貯留し、この貯槽からさらにユースポイントに対して二酸化炭素を供給するようにしたことにより、高純度な二酸化炭素をユースポイントに確実かつ安定して供給できるようになる。さらに、精製循環系に接続する返送配管を設けこの返送配管を介して貯槽から精製された二酸化炭素を循環させることができるようにしているので、精製循環系と貯槽との間で二酸化炭素を循環させて貯槽などの洗浄を容易に行うことができるようになる。 According to the present invention, carbon dioxide is purified by a purification circulation process in the purification circulation system, and the carbon dioxide purified from the purification circulation system is stored in a storage tank provided outside the purification circulation system. Furthermore, by supplying carbon dioxide to the use point, it becomes possible to reliably and stably supply high-purity carbon dioxide to the use point. Furthermore, a return pipe connected to the refining circulation system is provided so that the purified carbon dioxide can be circulated from the storage tank through this return pipe, so that carbon dioxide is circulated between the refining circulation system and the storage tank. Thus, the storage tank can be easily cleaned.
図1に示す本発明の第1の実施形態の二酸化炭素精製供給システムは、二酸化炭素の供給を受けてこの二酸化炭素を精製し、精製された二酸化炭素を貯槽に蓄えた上で、気体の二酸化炭素をユースポイント50に供給するものである。
The carbon dioxide purification and supply system according to the first embodiment of the present invention shown in FIG. 1 receives the supply of carbon dioxide, purifies the carbon dioxide, stores the purified carbon dioxide in a storage tank, The carbon is supplied to the
このシステムでは、二酸化炭素を循環させながら精製する精製循環系20と、精製循環系20からユースポイント50に供給されるべき精製された二酸化炭素を一時的に貯える貯槽32と、精製循環系20から分岐して貯槽32の頂部に接続する導入配管30と、導入配管30に設けられた開閉弁31とが設けられている。貯槽32の頂部には、ユースポイント50に供給される二酸化炭素の圧力を調節する減圧弁33の入口が接続し、減圧弁33の出口は、気体の二酸化炭素をユースポイント50に供給するための供給配管34に接続している。供給配管34は、フィルタ35とフィルタ35の出口に接続した配管を介して、ユースポイント50に接続している。供給配管34上であってフィルタ35の入口の直前の位置には弁49が設けられている。このシステムでは、開閉弁31を閉じた状態で精製循環系20において所定の清浄度になるまで二酸化炭素の精製循環処理を行った後に、開閉弁31を開けて高純度の二酸化炭素を貯槽32に一時的に貯留し、必要に応じて貯槽32から高純度の二酸化炭素を気体でユースポイント50に向けて供給する。開閉弁31からは、通常、液体状態の二酸化炭素が供給されるので、貯槽32では、その下部に二酸化炭素の液体が貯留し、上部は二酸化炭素の気体が充満している。
In this system, the
図1に示したシステムでは、精製循環処理の休止中や、二酸化炭素ボンベなどの二酸化炭素源から精製循環系20への二酸化炭素の補充中であっても、精製された二酸化炭素は貯槽32中に蓄えられており、ユースポイント50に対する精製された二酸化炭素の供給を継続して実行することができる。貯槽32内の二酸化炭素量が減少したら、開閉弁31を再び開けて、精製循環系20から精製された二酸化炭素が貯槽32に供給されるようにする。貯槽32に供給される二酸化炭素は、例えば、パーティクル数が所定のレベルより低減していることを後述するパーティクルカウンタ14によって確認された二酸化炭素である。
In the system shown in FIG. 1, the purified carbon dioxide is stored in the
フィルタだけを使用して二酸化炭素中からパーティクルを除去する単純な構成では、例えば液体あるいは超臨界状態である二酸化炭素からその中の微小パーティクルを十分には低減できないが、本実施形態の構成では、精製循環系20での精製循環処理によって二酸化炭素を精製することにより、必要なレベルまで高純度に二酸化炭素を精製でき、その後、精製された二酸化炭素を貯槽32に一時的に貯留してからユースポイント50に供給するので、ユースポイント50には必要な純度の二酸化炭素のみが必要なときに供給されることになる。精製循環処理を行っていることにより、原料である二酸化炭素として例えば4Nグレードや6Nグレードといった高純度品を使用する必要はなく、汎用品の二酸化炭素を使用することができる。したがって、清浄度を管理された専用ボンベで小容量ごとに運搬される高価な二酸化炭素を使用する必要はなくなる。二酸化炭素として、食品用の純度が99.98%のものを好ましく用いることができる。二酸化炭素は、コールドエバポレーターに貯蔵して必要に応じて精製循環系20に供給される。
In a simple configuration in which particles are removed from carbon dioxide using only a filter, for example, microparticles therein cannot be sufficiently reduced from carbon dioxide in a liquid or supercritical state, but in the configuration of this embodiment, By purifying carbon dioxide by refining circulation processing in the
精製循環系20内や精製循環系に対して二酸化炭素を供給する管路には、必要に応じてフィルタを設置する。ユースポイント50において必要な純度に応じ、これらのフィルタの仕様を決定し、また、精製循環系20での循環処理回数や処理時間を変更することができる。さらに、精製循環系20内や精製循環系20に対して二酸化炭素を供給する管路には、二酸化炭素中に存在する水分や有機成分などの不純物を除去するために吸着塔を設置することができる。
A filter is installed in the pipe line for supplying carbon dioxide in the
さらに図1に示した二酸化炭素精製供給システムでは、貯槽32の下部に弁46が接続し、この弁46は、貯槽32から二酸化炭素を流すための配管43の一端に接続する。配管43の他端は、精製循環系20に対して二酸化炭素を戻す返送配管41に接続し、返送配管41には背圧弁42が設けられている。さらに、図示破線で示すように、弁49の入口の位置で供給配管34と配管43とを短絡する配管44と、ユースポイント50の出口に接続する配管と配管43とを短絡する配管45とを設け、これらの配管44,45にそれぞれ弁47,48を設けるようにしてもよい。
Further, in the carbon dioxide purification and supply system shown in FIG. 1, a
精製循環系で精製された二酸化炭素を貯槽に一時的に貯えてからユースポイントに供給する構成では、貯槽の新増設や交換、メンテナンス、装置トラブルなどによって貯槽が汚染された場合に、貯槽に貯えられる二酸化炭素も汚染されることとなって、ユースポイントに対して高純度の二酸化炭素を供給することができなくなる。貯槽の汚染が起きた場合、貯槽の洗浄クリーニングする必要があるが、従来の二酸化炭素精製供給システムでは、二酸化炭素を貯槽に張り込んだ上で外部にパージするなど、クリーニングのための多大な時間及び労力と、クリーニングのための二酸化炭素の消費が必要であった。これに対して図1に示した二酸化炭素精製供給システムでは、貯槽32から配管43及び返送配管41を経る経路によって二酸化炭素を流すことによって、貯槽32を洗浄クリーニングすることができる。後述するように洗浄クリーニング時には精製循環処理が引き続いて実行されているので、洗浄クリーニングに用いられた二酸化炭素は精製循環系20に戻されて再度、精製される。精製循環系20から貯槽32、配管43、返送配管41を経て精製循環系20へと二酸化炭素を循環させることによって、貯槽32の洗浄効果が向上するとともに、外部パージ等による無駄な二酸化炭素の消費を抑えることができる。貯槽32の洗浄を行う際には、洗浄能力が高い液体または超臨界の状態で二酸化炭素が貯槽32に供給されて循環するようにすることが好ましく、このために、背圧弁42によって、貯槽32内の圧力が、二酸化炭素が液化する圧力を上回るようにする。また、洗浄効率を考慮すると、洗浄時には貯槽32内を二酸化炭素が一方向に流れることが好ましく、このため、図1に示したものでは、洗浄時には二酸化炭素が貯槽32の頂部に供給されて底部から排出されるようになっている。なお、精製循環系20から導入配管30、貯槽32を経て、さらに返送配管41を通って精製循環系20に戻る二酸化炭素の循環を外部循環と呼ぶ。
In the configuration where carbon dioxide purified in the refining circulation system is temporarily stored in the storage tank and then supplied to the use point, if the storage tank becomes contaminated due to new expansion or replacement of the storage tank, maintenance, equipment trouble, etc., it is stored in the storage tank. The carbon dioxide that is produced is also contaminated, making it impossible to supply high-purity carbon dioxide to the point of use. When the tank is contaminated, it is necessary to clean and clean the tank. However, in the conventional carbon dioxide purification and supply system, a large amount of time is required for cleaning, for example, carbon dioxide is put into the tank and then purged outside. And labor and consumption of carbon dioxide for cleaning. On the other hand, in the carbon dioxide refining and supplying system shown in FIG. 1, the
同様に、貯槽32から供給配管34、配管44、配管43を介して二酸化炭素を流すことによって、供給配管34の洗浄を行うことができ、貯槽32からユースポイント50に二酸化炭素を供給し、配管45及び配管43を介して二酸化炭素を循環させることによって、ユースポイント50を含めた配管の洗浄を行うことができる。ただし、供給配管34やユースポイント50が液化された二酸化炭素の圧力に耐えられないものであるときは、洗浄効率は低下するものの、背圧弁42による設定圧力を低くして気体状態の二酸化炭素を用いて供給配管34やユースポイント50の配管等の洗浄を行うことになる。
Similarly, the
以下、この二酸化炭素精製供給システムについてさらに詳しく説明する。ここでは、精製循環系20に対して二酸化炭素を供給する二酸化炭素源として、二酸化炭素ボンベ10が用いられるものとする。もちろん、二酸化炭素源として他のものを使用することもでき、例えば、ユースポイントで使用されて回収された二酸化炭素を二酸化炭素源として使用してもよい。高純度二酸化炭素を得て工業的に大量に使用する場合には、二酸化炭素源としてボンベを用いるのではなく、タンクローリーによって供給されてコールドエバポレーターなどに貯えられた二酸化炭素を用いることが好ましい。タンクローリーによって供給される二酸化炭素としては、上述したように、例えば、食品用の純度が99.98%のものを好ましく用いることができる。
Hereinafter, the carbon dioxide purification and supply system will be described in more detail. Here, it is assumed that the
二酸化炭素ボンベ10と精製循環系20とが弁11を介して接続され、二酸化炭素が精製循環系20に導入される。二酸化炭素ボンベ10から精製循環系20への二酸化炭素の供給は、精製循環系20の二酸化炭素保有量が所定値以上となったところで停止する。
The
精製循環系20は、二酸化炭素ボンベ10から供給された二酸化炭素を液化させる凝縮器21と、凝縮器21で液化された二酸化炭素を一時的に貯える内部貯槽22と、内部貯槽22の出口に設けられて液体二酸化炭素を過冷却する過冷却器23と、過冷却器23の出口に設けられ液体二酸化炭素を圧送するポンプ24と、ポンプ24の出口に設けられたフィルタ25と、フィルタ25から流出した液体二酸化炭素を気化させる蒸発器27と、フィルタ25と蒸発器27の間に設けられた背圧弁26と、蒸発器27から流出する気体二酸化炭素をろ過するフィルタ28と、を備えており、フィルタ28から流出する気体二酸化炭素も凝縮器21に供給されて液化されるようなっている。また、必要に応じて水分や油分などの不純物を除去する吸着塔を設置してもよい。上述した返送配管41は、背圧弁26の出口と蒸発器27の入口とを接続する配管に接続している。
The
フィルタ25の出口と背圧弁26の入口を接続する配管から、二酸化炭素を貯槽32に供給するための導入配管30が分岐し、この分岐した配管30に開閉弁31が設けられている。さらに、フィルタ25の出口と背圧弁26の入口を接続する配管には、精製循環系20内を循環する二酸化炭素の分析試料を採取するためのサンプリング弁13が設けられている。例えば、サンプリング弁13を介して、二酸化炭素に含まれるパーティクルの量を測定するパーティクルカウンタ14を取り付けることができる。このパーティクルの量は、精製循環系20を循環している二酸化炭素の清浄度の指標となるものである。なお、清浄度を検出する手段はパーティクルカウンタに限られるものではなく、他の測定手段を用いることができ、また、清浄度の指標としてもパーティクル数以外の指標を用いることができる。
An
ユースポイント50としては、気体の高純度二酸化炭素の供給を受ける各種のものが考えられる。図1に示したものでは、一例として、ユースポイント50は、比較的圧力の低い気体の二酸化炭素が供給されて超純水に二酸化炭素を溶解させる超純水処理装置である。ユースポイント50の出口に排出弁51を設けてもよい。ユースポイント50で使用された二酸化炭素または余剰の二酸化炭素を排出弁51の出口から排気することができる。当然のことながらユースポイント50自体は、本発明の二酸化炭素精製供給システムを構成する要素ではない。
As the
図1に示した二酸化炭素精製供給システムでは、背圧弁26を開け、開閉弁31を閉じ、弁46〜49を閉じた状態で、まず、二酸化炭素源である二酸化炭素ボンベ10から弁11を介して二酸化炭素を精製循環系20に供給する。精製循環系20に供給された二酸化炭素は凝縮器21で液化され、内部貯槽22に一時的に貯えられる。内部貯槽22の液体二酸化炭素は、過冷却器23で過冷却され、ポンプ24によって圧送されて、フィルタ25及び背圧弁26を介し、蒸発器27に供給される。
In the carbon dioxide refining and supplying system shown in FIG. 1, the
蒸発器27にはヒーターが組み込まれており、蒸発器27内にCO2の気液界面が形成されるようになっている。蒸発器27に供給された液体二酸化炭素は気化し、二酸化炭素中の難揮発性のパーティクルは液相側に残ることとなる。そして、蒸発器27において気化することにより精製された二酸化炭素は、気体状態のまま、蒸発器27から、パーティクル類をさらに除去するためのフィルタ28を介して凝縮器21に送られ、凝縮器21において冷却されることにより再度液化され、液体二酸化炭素として内部貯槽22に戻される。
A heater is incorporated in the
このように精製循環系20内で二酸化炭素を循環させることによる精製循環処理を行うことによって、二酸化炭素中のパーティクルの数が次第に低下する。例えば、パーティクル数が所定のレベルよりも低減したことがパーティクルカウンタ14によって検出されたら、次に、開閉弁31を開けて貯槽32に二酸化炭素を供給する。また、パーティクルカウンタ14によるパーティクル数の検出・確認は必須ではなく、予め規定した所定時間以上の精製循環処理を行った後、開閉弁31を開けて貯槽32に対して二酸化炭素を供給してもよい。
Thus, by performing the refining circulation process by circulating carbon dioxide in the
精製循環系20内に保有する二酸化炭素量が減少したら、開閉弁31を閉じて貯槽32に対する二酸化炭素の供給を停止し、二酸化炭素ボンベ10から精製循環系20に対して二酸化炭素の供給を行い、精製循環系20内に二酸化炭素を補給する。これにより、補給された二酸化炭素に対して精製循環処理が行われることになる。
When the amount of carbon dioxide held in the
これ以降は、精製循環系20内での二酸化炭素量が所定値に達し、かつ二酸化炭素中の清浄度が所定のレベルに達した時点で開閉弁31を開けて貯槽32に対して二酸化炭素を供給し、精製循環系20内の二酸化炭素量が減少したら開閉弁31を閉じて精製循環系20内に二酸化炭素を補給することを繰り返す。
Thereafter, when the amount of carbon dioxide in the
上述のようにして貯槽32に二酸化炭素が貯えられるが、貯槽32に貯えられた二酸化炭素は、減圧弁33によって圧力が調整された後、供給配管34、弁49及びフィルタ35を経て、気体状態でユースポイント50に供給される。貯槽32を設けていることにより、精製循環処理の休止中や、二酸化炭素ボンベ10から精製循環系20への二酸化炭素の補充中であっても、ユースポイント50に対する精製された二酸化炭素の供給を継続して実行することができる。貯槽32内の二酸化炭素量が減少したら、開閉弁31を再び開けて、精製循環系20から精製された二酸化炭素が貯槽32に供給されるようにする。
As described above, carbon dioxide is stored in the
次に、図1に示す二酸化炭素精製供給システムにおける洗浄処理の一例について説明する。 Next, an example of the cleaning process in the carbon dioxide purification supply system shown in FIG. 1 will be described.
貯槽32の新増設や交換、メンテナンス、装置トラブルなどによって貯槽32が汚染された場合などに、貯槽32の洗浄処理を実行する。貯槽32を洗浄するときは、精製循環系20を動作させて高純度二酸化炭素を生成し、弁46を開け、減圧弁33と弁47〜49を閉じた状態で開閉弁31を開ける。その結果、貯槽32には高純度二酸化炭素が供給される。このとき、背圧弁42を貯槽32内の圧力が二酸化炭素の液化圧力よりも高くなるように設定することで、貯槽32には液体の二酸化炭素が貯えられることとなる。さらに二酸化炭素を貯槽32に供給することにより、二酸化炭素が貯槽32から弁46、配管43、返送配管41を経て精製循環系20へと流れ、精製循環系20と貯槽32との間で二酸化炭素が循環することとなり、導入配管30及び貯槽32が洗浄クリーニングされることになる。この構成では、導入配管30から貯槽32、配管43を経て背圧弁42に至る区間では二酸化炭素は液体または超臨界状態となっており、貯槽32内の汚染に対する高い洗浄効率を示すこととなる。また導入配管30は精製循環系20において背圧弁26の入口の直前から分岐し、返送配管41は背圧弁26の直後の位置で精製循環系20に接続するので、返送配管41から精製循環系20に戻された二酸化炭素は、精製循環系20内を循環して精製されることになる。貯槽32の洗浄クリーニングは、例えば、供給配管30を介して貯槽32に貯えられる二酸化炭素の清浄度が所定レベル以上となるまで実行される。貯槽32に貯えられる二酸化炭素の清浄度は、例えば、上述と同様に二酸化炭素に含まれるパーティクルの数を数えることによって求められる。
When the
供給配管34の洗浄クリーニングを行う時は、減圧弁33を開け(あるいは、減圧弁33に並列に設けられた不図示のバイパス弁を開け)、配管44の弁47も開け、弁46,48、49を閉じた状態とする。弁49を閉じる代わりに排出弁51を閉じてもよい。この状態で開閉弁31を開けて高純度二酸化炭素を貯槽32に供給すると、二酸化炭素が貯槽32から減圧弁33、供給配管34を経て、配管44へと流れることとなる。配管44に流れた二酸化炭素は返送配管41を経て精製循環系20に戻るので、供給配管34と精製循環系20との間で二酸化炭素が循環し、供給配管34が洗浄クリーニングされることになる。このとき、減圧弁33の設定圧力を二酸化炭素の液化圧力以上とするか、減圧弁33に並列に設けられたバイパス弁を開けることによって、液体または超臨界状態の二酸化炭素を供給配管34に流してこの液体または超臨界状態の二酸化炭素によって供給配管34が洗浄クリーニングされるようにしてもよい。あるいは、減圧弁33の設定圧力を二酸化炭素の液化圧力未満として、気体の二酸化炭素を供給配管34に流して気体の二酸化炭素によって供給配管34が洗浄されるようにしてもよい。
When cleaning and cleaning the
ユースポイント50の内部の洗浄クリーニングを行う場合には、減圧弁33を開け(あるいは、減圧弁33に並列に設けられた不図示のバイパス弁を開け)、弁48,49も開け、弁46,47と排出弁51を閉じた状態とする。この状態で開閉弁31を開けて高純度二酸化炭素を貯槽32に供給すると、二酸化炭素が貯槽32から減圧弁33、供給配管34を経て、ユースポイント50、配管45へと流れることとなる。配管45に流れた二酸化炭素は返送配管41を経て精製循環系20に戻るので、ユースポイント50と精製循環系20との間で二酸化炭素が循環し、ユースポイント50の内部や、ユースポイント50の周辺の配管が洗浄クリーニングされることになる。このとき、減圧弁33の設定圧力を二酸化炭素の液化圧力以上とするか、減圧弁33に並列に設けられたバイパス弁を開けることによって、液体または超臨界状態の二酸化炭素をユースポイント50に流してこの液体または超臨界状態の二酸化炭素によってユースポイント50が洗浄クリーニングされるようにしてもよい。あるいは、減圧弁33の設定圧力を二酸化炭素の液化圧力未満として、気体の二酸化炭素を供給配管34に流して気体の二酸化炭素によってユースポイント50が洗浄されるようにしてもよい。
When cleaning and cleaning the inside of the
図1に示したものでは、精製循環系20からユースポイント50に供給される高純度二酸化炭素を一時的に貯留する貯槽32が1台設けられているが、貯槽の数は1に限られるものではなく、複数個の貯槽を設けることもできる。複数個の貯槽を設けた場合には、ユースポイントへの二酸化炭素の供給のためにいくつかの貯槽を用いつつ同時に残りの貯槽の洗浄クリーニングを行うことが可能となる。図2は2個の貯槽を有する二酸化炭素精製供給システムを示している。
In the example shown in FIG. 1, one
図2に示すシステムは、図1に示すシステムと同様のものであるが、2個の貯槽32a,32bが設けられていることに対応して、精製循環系20から貯槽32a,32bの頂部にそれぞれ接続する2本の導入配管30a,30bが分岐し、導入配管30a,30bにはそれぞれ開閉弁31a,31bが設けられ、また、貯槽32a,32bの頂部に減圧弁33a,33bの入口がそれぞれ接続し、貯槽32a,32bの底部には弁46a,46bがそれぞれ設けられている点で、図1に示すものと異なっている。減圧弁33a,33bの出口は供給配管34に接続し、弁46a,46bは配管43に接続する。
The system shown in FIG. 2 is the same as the system shown in FIG. 1, but corresponding to the fact that two
図2に示したシステムでは、例えば、弁46a,47,48を閉じた状態で、開閉弁31aを開けることで、精製循環系20から貯槽32aに高純度の二酸化炭素を供給でき、適切な出口圧力となるように減圧弁33aを開け、さらに弁49も開けることによって、貯槽32aからユースポイント50に気体の二酸化炭素を供給することができる。これと同時に、減圧弁33bを閉じ、弁46bを開け、開閉弁31bを開けて高純度の二酸化炭素を貯槽32bに供給することによって、液体の二酸化炭素が貯槽32bから配管43に向かって流れることとなり、上述したように、循環精製系20と貯槽32bとの間で二酸化炭素が循環し、貯槽32bの洗浄クリーニングを行うことができる。貯槽32bの洗浄クリーニングが終了すれば、各弁の操作により、貯槽32bをユースポイントへの二酸化炭素の供給のために用いることとして、貯槽32aの洗浄クリーニングを行うことができるようになる。図2に示したシステムでは、貯槽32a,32bの洗浄クリーニングを交互に行うことにより、ユースポイント50に対して二酸化炭素を連続して供給しつつ各貯槽を清浄に保つことが可能になる。
In the system shown in FIG. 2, for example, by opening the on-off valve 31a with the
図1に示したシステムでは、洗浄クリーニング時には貯槽32において二酸化炭素が頂部から底部に向かう方向に流れていたが、洗浄クリーニング時の二酸化炭素の流れの向きはこれに限られるものではない。図3に示したシステムは、洗浄クリーニング時に貯槽32において底部から頂部に向かう方向に二酸化炭素が流れるようにしたものである。この向きに二酸化炭素を流すために、開閉弁31が設けられている導入配管30は貯槽32の底部に接続し、配管43に接続する弁46は貯槽32の頂部に接続している。ユースポイント50に対して気体の二酸化炭素を供給するので、減圧弁33は貯槽32の頂部に接続したままである。図3に示すシステムにおいては、図1に示したシステムと同じ弁操作によって、ユースポイント50への二酸化炭素の供給と貯槽32の洗浄クリーニングとを行うことができる。
In the system shown in FIG. 1, carbon dioxide flows in the direction from the top to the bottom in the
図4は、二酸化炭素中に存在する水分や有機成分などの不純物を除去するための吸着塔を備える二酸化炭素精製供給システムの一例を示している。図4に示したシステムは、図1に示すシステムの精製循環系20において、蒸発器27の出口とフィルタ28の入口とを接続する配管に吸着塔29を設けたものである。吸着塔29には、水分除去用の吸着剤や有機成分除去用の吸着剤が充填されている。一般的な公知なものとして、水分除去用の吸着剤には、ゼオライト、モレキュラーシーブス、活性アルミナ、シリカゲルなどを用いることができ、有機物除去用の吸着剤には活性炭などを用いることができる。吸着塔29を設ける位置は、図4に示したものに限られるものではなく、精製循環系20内、あるいは、二酸化炭素源から精製循環系20に至る管路内であって、二酸化炭素が気体状態で流れる位置であれば、任意の位置に設けることができる。水分や油分(有機成分)などの不純物除去のために吸着塔29を精製循環系20に設定した場合、精製循環系20内で二酸化炭素が循環するにつれて、二酸化炭素中の水分濃度や有機成分量も低下する。二酸化炭素中の水分濃度は例えば露点計によって計測でき、有機成分量は例えばガスクロマトグラフィーなどの分析手段によって計測できる。ただし、これらの計測手段による水分濃度や有機成分量の検出及び確認は、必須のものではない。
FIG. 4 shows an example of a carbon dioxide purification and supply system including an adsorption tower for removing impurities such as moisture and organic components present in carbon dioxide. The system shown in FIG. 4 is obtained by providing an
図5は、気体の二酸化炭素が供給されるユースポイント50の例として、超純水に二酸化炭素を溶解させて超純水の導電率を上昇させる超純水処理装置を示している。この超純水処理装置は、疎水性微多孔隔膜61を介して超純水流通路62と二酸化炭素流通路63とが接した構造を有する気液接触室60を備えている。超純水流通路62には超純水が供給され、超純水流通路62の出口に接続する配管には、比抵抗計65と流量計66とが設けられている。二酸化炭素流通路63には比較的低い圧力の気体の二酸化炭素(CO2)が流量調節器64を介して供給される。比抵抗計65は、気液接触室60の出口での超純水の比抵抗(導電率)を測定するものであり、比抵抗計65で測定される比抵抗及び流量計66で測定される超純水流量に応じてマイクロコンピュータ67が流量調節器64を制御することによって、所望の導電率の水が得られるように、気液接触室60に対して二酸化炭素が供給される。気液接触室60では、気体の二酸化炭素が疎水性微多孔隔膜61を介して超純水流通路62側に移行し、超純水に溶解する。余剰の二酸化炭素は二酸化炭素流通路63から排出される。このような超純水処理装置によれば、超純水に二酸化炭素を溶解させて所望の導電率となった水が得られる。
FIG. 5 shows an ultrapure water treatment apparatus that increases the conductivity of ultrapure water by dissolving carbon dioxide in ultrapure water as an example of a
図1〜図4に示した二酸化炭素精製供給システムは、気体の二酸化炭素をユースポイントに供給するものであるが、ユースポイントには液体あるいは超臨界状態の二酸化炭素を供給するようにしてもよい。図6に示す本発明の第2の実施形態の二酸化炭素精製供給システムは、図1に示すものと同様のものであるが、ユースポイント50に対して液体あるいは超臨界状態の二酸化炭素を供給するようにしたものであり、例えば二酸化炭素はウエハに対する洗浄や乾燥などの処理が行われるチャンバーに供給される。また、第2の実施形態の二酸化炭素精製供給システムにおいては、減圧弁33が設けられない代わりに貯槽32の底部に開閉弁36が設けられ、開閉弁36が供給配管34に接続し、さらに、ユースポイント50の出口に排出弁51の代わりに背圧弁52が設けられている。背圧弁52は、ユースポイント50内の圧力を二酸化炭素の液化圧力以上の一定の圧力に保つものであり、これによって、開閉弁36を開けたときに貯槽32から液体の二酸化炭素がユースポイント50に供給されるようになる。
The carbon dioxide refining and supplying system shown in FIGS. 1 to 4 supplies gaseous carbon dioxide to the use point. However, the use point may be supplied with liquid or supercritical carbon dioxide. . The carbon dioxide purification and supply system according to the second embodiment of the present invention shown in FIG. 6 is the same as that shown in FIG. 1 but supplies liquid or supercritical carbon dioxide to the
この二酸化炭素精製供給システムでは、図1に示したシステムと同様に、精製循環系20を動作させて循環する二酸化炭素の清浄度が所定のレベルに達したら開閉弁31を開いて高純度二酸化炭素を貯槽32に貯える。貯槽32に貯えられた高純度二酸化炭素は、弁46〜48を閉じた状態で、必要に応じて開閉弁36を開けることによってユースポイント50に供給される。
In this carbon dioxide refining and supplying system, as in the system shown in FIG. 1, when the cleanliness of the carbon dioxide circulated by operating the
また、貯槽32の洗浄クリーニングを行う時は、開閉弁36、弁47〜49を閉じ、弁46を開け、開閉弁31から貯槽32に二酸化炭素を供給すればよい。供給された二酸化炭素は、気体であってもよいが好ましくは液体または超臨界状態で、弁46から配管43を流れ、さらに背圧弁42や返送配管41を通って精製循環系20に戻る。精製循環系20と貯槽32との間で二酸化炭素が循環することにより、貯槽32の洗浄クリーニングが行われることになる。供給配管34の洗浄クリーニングを行う時は、弁46,48,49を閉じ、開閉弁36と弁47を開けて、貯槽32及び供給配管34と精製循環系20との間で二酸化炭素が循環するようにすればよい。さらに、ユースポイント50も含めて洗浄クリーニングを行う場合には、弁46,47を閉じ、背圧弁52も閉じ、開閉弁36と弁48,49を開けて、貯槽32、供給配管34及びユースポイント50と精製循環系20との間で二酸化炭素が循環するようにすればよい。
When cleaning and cleaning the
以上説明した各実施形態では、二酸化炭素精製供給システムから単一のユースポイント50に対して二酸化炭素を供給していたが、本発明においては、当然のことながら、1つの二酸化炭素精製供給システムから複数のユースポイントに対して二酸化炭素を供給するようにしてもよい。
In each of the embodiments described above, carbon dioxide is supplied from the carbon dioxide purification supply system to the
また、本発明においては、二酸化炭素を精製循環系内で循環させて精製する精製循環処理と、洗浄クリーニングのために返送配管を介して貯槽から二酸化炭素を精製循環系に返送させる返送処理とを同時に実行してもよいし、別々に実行してもよい。上述した各実施形態の二酸化炭素精製供給システムを用いる場合であれば、精製循環処理と返送処理とを同時に実行するときには、背圧弁26を開けて精製循環系20内を二酸化炭素が循環し、かつ、返送配管41を介して二酸化炭素が貯槽32から精製循環系20に返送されるようにすればよく、一方、精製循環処理と返送処理とを別々に実行するときには、背圧弁26を開いた状態とする精製循環処理の実行中には二酸化炭素が返送配管41を介して精製循環系20には返送されないようにし、返送処理の実行中には背圧弁26を閉めるようにすればよい。
Further, in the present invention, a purification circulation process for circulating and purifying carbon dioxide in the purification circulation system, and a return process for returning carbon dioxide from the storage tank to the purification circulation system via a return pipe for cleaning cleaning. It may be executed simultaneously or separately. In the case of using the carbon dioxide purification supply system of each embodiment described above, when performing the purification circulation process and the return process at the same time, the
10 二酸化炭素ボンベ
11,46,46a,46b,47〜49 弁
13 サンプリング弁
14 パーティクルカウンタ
20 精製循環系
21 凝縮器
22 内部貯槽
23 過冷却器
24 ポンプ
25,28,35 フィルタ
26,42,52 背圧弁
27 蒸発器
29 吸着塔
30 導入配管
31,31a,31b,36 開閉弁
32,32a,32b 貯槽
33,33a,33b 減圧弁
34 供給配管
41 返送配管
43〜45 配管
50 ユースポイント
51 排出弁
DESCRIPTION OF
Claims (10)
精製循環系に二酸化炭素を供給して前記二酸化炭素を前記精製循環系内で循環させて精製する精製循環処理と、
前記精製循環系内の前記二酸化炭素が所定の清浄度になるまで前記精製循環処理を行ったのちに、前記精製循環系から分岐する導入配管を介して前記精製循環処理で精製された前記二酸化炭素を前記精製循環系の外部に設けられた貯槽に貯留し、前記貯槽から供給配管を介して前記ユースポイントに前記精製された二酸化炭素を供給する供給処理と、
前記精製循環系に接続する返送配管を介して前記貯槽から二酸化炭素を前記精製循環系に返送させる返送処理と、
を有することを特徴とする、二酸化炭素精製供給方法。 In a carbon dioxide refining and supplying method for purifying carbon dioxide and supplying it to a use point,
A purification circulation process for supplying carbon dioxide to a purification circulation system and circulating the carbon dioxide in the purification circulation system for purification;
The carbon dioxide purified by the purification circulation treatment through an introduction pipe branched from the purification circulation system after performing the purification circulation treatment until the carbon dioxide in the purification circulation system reaches a predetermined cleanliness. In a storage tank provided outside the refining circulation system, and supplying the purified carbon dioxide from the storage tank to the use point through a supply pipe;
A return process for returning carbon dioxide from the storage tank to the refining circulation system via a return pipe connected to the refining circulation system;
The carbon dioxide purification supply method characterized by having.
二酸化炭素源から二酸化炭素の供給を受け、前記二酸化炭素を循環させて精製する精製循環系と、
前記精製循環系の外部に設けられた貯槽部と、
前記精製循環系から分岐して前記貯槽部に精製された二酸化炭素を供給する導入配管と、
前記貯槽部から前記精製された二酸化炭素を前記ユースポイントに供給する供給配管と、
前記精製循環系に接続して、前記貯槽部から二酸化炭素を前記精製循環系に返送する返送配管と、
を有することを特徴とする二酸化炭素精製供給システム。 In a carbon dioxide purification supply system that purifies carbon dioxide and supplies it to the use point,
A purification circulation system that receives supply of carbon dioxide from a carbon dioxide source and circulates and purifies the carbon dioxide;
A storage tank provided outside the refining circulation system;
An introduction pipe for supplying the purified carbon dioxide branched from the purification circulation system to the storage tank section;
A supply pipe for supplying the purified carbon dioxide from the storage tank to the use point;
A return pipe connected to the refining circulation system and returning carbon dioxide from the storage tank to the refining circulation system;
A carbon dioxide purification supply system characterized by comprising:
前記第1の貯槽と前記第2の貯槽とを切り替えることにより、前記ユースポイントへの二酸化炭素の供給と前記貯槽部の洗浄とを並行して実行する切替手段をさらに有する、請求項7に記載の二酸化炭素精製供給システム。 The storage tank section includes a first storage tank that supplies the purified carbon dioxide to the use point through the supply pipe, and carbon dioxide that is returned to the purification circulation system through the return pipe. 2 storage tanks,
8. The apparatus according to claim 7, further comprising switching means for switching the first storage tank and the second storage tank to perform the supply of carbon dioxide to the use point and the cleaning of the storage tank in parallel. Carbon dioxide purification supply system.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015022025A JP6353379B2 (en) | 2015-02-06 | 2015-02-06 | Carbon dioxide purification supply method and system |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015022025A JP6353379B2 (en) | 2015-02-06 | 2015-02-06 | Carbon dioxide purification supply method and system |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016145121A JP2016145121A (en) | 2016-08-12 |
JP6353379B2 true JP6353379B2 (en) | 2018-07-04 |
Family
ID=56685274
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015022025A Expired - Fee Related JP6353379B2 (en) | 2015-02-06 | 2015-02-06 | Carbon dioxide purification supply method and system |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6353379B2 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7525231B2 (en) | 2020-12-24 | 2024-07-30 | 東京エレクトロン株式会社 | SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD |
JP7458533B2 (en) | 2022-07-13 | 2024-03-29 | 東京エレクトロン株式会社 | Processing fluid supply device |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20040058207A (en) * | 2001-10-17 | 2004-07-03 | 프랙스에어 테크놀로지, 인코포레이티드 | Recycle for Supercritical Carbon Dioxide |
WO2004101181A2 (en) * | 2003-05-13 | 2004-11-25 | Ekc Technology, Inc. | System and method for cleaning of workpieces using supercritical carbon dioxide |
JP5013567B2 (en) * | 2005-05-24 | 2012-08-29 | オルガノ株式会社 | Fluid supply system |
JP2007203192A (en) * | 2006-02-02 | 2007-08-16 | Mitsubishi Materials Corp | Method and system for circularly using carbon dioxide |
JP2013032245A (en) * | 2011-08-02 | 2013-02-14 | Japan Organo Co Ltd | Method and system for purifying and supplying carbon dioxide |
-
2015
- 2015-02-06 JP JP2015022025A patent/JP6353379B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016145121A (en) | 2016-08-12 |
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A977 | Report on retrieval |
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