JP6345531B2 - 一酸化炭素の製造方法 - Google Patents
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Description
上記の気固不均一系での水素化反応は、金属や金属酸化物、金属硫化物等の触媒を担体上に担持させて実施するが、二酸化炭素の水素化による一酸化炭素の生成反応のような吸熱反応を気固不均一系で行う場合には、反応器の温度管理が難しく、吸熱により触媒表面の温度が低下し、反応速度の減少を招くという問題点がある。
<1>下記式(1)で表される化合物よりなる群から選ばれた、少なくとも一種のリン−ピリジン系有機三座配位子とニッケル化合物を組み合わせた触媒系の存在下に、有機溶媒中で二酸化炭素を水素化することを特徴とする一酸化炭素の製造方法。
<2>下記式(2)に示されるリン−ピリジン系有機三座配位子を有するニッケル錯体からなる均一系液相反応触媒の存在下に、有機溶媒中で二酸化炭素を水素化することを特徴とする一酸化炭素の製造方法。
<3>ニッケルに配位する陰イオンL’、L”のうち、少なくとも一つがハロゲン化物イオンである<1>又は<2>に記載の一酸化炭素の製造方法。
<4>ニッケルに配位する陰イオンL’、L”のうち、少なくとも一つが塩化物イオンである<1>〜<3>のいずれか1項に記載の一酸化炭素の製造方法。
<5>有機溶媒としてアルコール系溶媒、エステル系溶媒、又は、ラクトン系溶媒を用いる<1>〜<4>のいずれか1項に記載の一酸化炭素の製造方法。
<6>前記任意の置換基が、アルキル基、アリール基、エーテル基、カルボニル基、カルボキシル基、アミノ基、ニトリル基、ニトロ基、スルフィド基、スルホキシド基、スルホニル基、又は、ハロゲン化物基である<1>〜<5>のいずれか1項に記載の一酸化炭素の製造方法。
<7>二酸化炭素と水素の全圧を1〜400気圧とする<1>〜<6>のいずれか1項に記載の一酸化炭素の製造方法。
<8>前記芳香族誘導体が、炭素数6〜36の単環式、多環式、又は、縮合環式のアリール基である<1>〜<7>のいずれか1項に記載の一酸化炭素の製造方法。
<9>前記芳香族誘導体が、置換又は非置換のフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、又は、ビフェニル基である<8>に記載の一酸化炭素の製造方法。
<10>前記芳香族誘導体が非置換のフェニル基である<9>に記載の一酸化炭素の製造方法。
<11>前記有機溶媒がアルコール系溶媒である<5>に記載の一酸化炭素の製造方法。
<12>前記有機溶媒がメタノール、エタノール、プロパノール、又は、エチレングリコールである<11>に記載の一酸化炭素の製造方法。
また、本発明を一酸化炭素を原料として用いる各種合成プロセスと組み合わせて用いることで、一酸化炭素を二酸化炭素で代替するプロセスの構築が可能になる。
本発明の一酸化炭素の製造方法では、反応容器中で各種有機溶媒に各種ニッケル化合物と一般式(1)で示されるリン−ピリジン系三座配位子を加え、二酸化炭素と水素を反応容器中に導入し、適当な温度で反応させることにより一酸化炭素を製造する。
式(1)中におけるX、Y、Zは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は、任意の置換基である。任意の置換基としては、アルキル基、アリール基、エーテル基、カルボニル基、カルボキシル基、アミノ基、ニトリル基、ニトロ基、スルフィド基、スルホキシド基、スルホニル基、ハロゲン化物基などが挙げられる。
内容積20mLのオートクレーブ中で、ニッケル化合物としてNiCl2を0.08mmol,リン−ピリジン系三座配位子として2,6−ビス(メチルジフェニルホスフィノ)ピリジンを0.08mmol、有機溶媒としてメタノールを2mL混合し、ついで二酸化炭素と水素との容積比1:3の混合ガスを室温で80気圧になるまで圧入した後、温度を140℃に保ちながら10時間反応させた。反応終了後、得られた生成物をガスクロマトグラフィーにより定量分析した。
有機溶媒としてメタノールをエタノールに代えた他は実施例1と同様の条件で反応を行なった。
有機溶媒としてメタノールを2−プロパノールに代えた他は実施例1と同様の条件で反応を行なった。
有機溶媒としてメタノールを1−ブタノールに代えた他は実施例1と同様の条件で反応を行なった。
有機溶媒としてメタノールをエチレングリコールに代えた他は実施例1と同様の条件で反応を行なった。
反応温度を160℃に代えた他は実施例5と同様の条件で反応を行なった。
反応時間を5時間に代えた他は実施例5と同様の条件で反応を行なった。
反応温度を160℃に代えた他は実施例7と同様の条件で反応を行なった。
有機溶媒をグリセリンに代えた他は実施例7と同様の条件で反応を行なった。
有機溶媒をγ−ブチロラクトンに代えた他は実施例1と同様の条件で反応を行なった。
ニッケル化合物をNiBr2に代えた他は実施例10と同様の条件で反応を行なった。
ニッケル化合物をNi(CF3SO3)2に代えた他は実施例3と同様の条件で反応を行なった。
リン−ピリジン系三座配位子として式(3)に示す2,6−ビス(ジ−t−ブチルホスフィノメチル)ピリジンを用いた他は、実施例10と同様に反応を行なったが、一酸化炭素は生成しなかった。
以上の結果から、式(1)又は式(2)で示される構造のうち、R’又はR”は芳香族誘導体でなければならないことが分かる。
ニッケル化合物の代わりにFeCl2を用いた他は、実施例1と同様に反応を行なったが、一酸化炭素は生成しなかった。
ニッケル化合物の代わりにCoCl2を用いた他は、実施例1と同様に反応を行なったが、一酸化炭素は生成しなかった。
以上の結果から、ニッケル以外の金属化合物では同様の反応は進行しないことが分かる。
Claims (5)
- ニッケルに配位する陰イオンL’、L”のうち、少なくとも一つがハロゲン化物イオンである請求項2に記載の一酸化炭素の製造方法。
- ニッケルに配位する陰イオンL’、L”のうち、少なくとも一つが塩化物イオンである請求項2又は3に記載の一酸化炭素の製造方法。
- 有機溶媒としてアルコール系溶媒、エステル系溶媒、又は、ラクトン系溶媒を用いる請求項1〜4のいずれか1項に記載の一酸化炭素の製造方法。
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