JP6345100B2 - ヒートシンクおよびレーザダイオード装置 - Google Patents

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Description

本発明は、電子部品などを放熱するためのヒートシンクおよびその製造方法に関する。また本発明は、該ヒートシンクを用いたレーザダイオード装置に関する。
下記特許文献1では、多数のヒートシンク部材を拡散接合、ろう付け等を用いて接合することによって、内部に微細な流路を設けた構造が提案されている。こうした構造は、1)冷媒が微細な流路を通過することによって、冷媒とヒートシンクの接触面積が増える効果と、2)細い流路を冷媒が通過することによって、流速が増加する効果の両方により、高い冷却能力を獲得するものである。
特許第4031903号
上記のようなヒートシンクでは、接合箇所が多いため、接合の不具合により冷媒漏れが生ずる可能性がある。さらに、部品点数および接合工程が多いため、複雑かつ高コストになる。従って、冷却能力は確保できるものの、一方で信頼性、寿命、コストの点で課題がある。
本発明の目的は、高い冷却能力を有し、簡単かつ低コストで実現できるヒートシンクおよびその製造方法を提供することである。
また本発明の目的は、こうしたヒートシンクを用いたレーザダイオード装置を提供することである。
この発明に係るヒートシンクは、シール部材の当たり面となる外面を有するブロック部材と、外面に対して傾斜し外面に形成された複数のドリル当たり面と、ドリル当たり面に垂直でありドリル当たり面に開口部を有し外面に対して傾斜しブロック部材の内部で互いに連通し開口部からブロック部材の内部へと延びる直線状の複数の流路とを備えている。
本発明によれば、ブロック部材の内部に冷媒流路を比較的簡単に形成できるため、高い冷却能力を有するヒートシンクを低コストで実現できる。
本発明の実施の形態1を示しており、図1(a)は正面図、図1(b)は平面図、図1(c)は図1(b)中のA−A線に沿った断面図である。 本発明の実施の形態1の分解断面図である。 図1のヒートシンクの形状を示すもので、図3(a)は正面図、図3(b)は平面図、図3(c)は断面図、図3(d)は底面図である。 電気絶縁板およびシール部材の形状を示すもので、図4(a)は側面図、図4(b)は平面図、図4(c)は平面図、図4(d)は側面図である。 マニホルドの形状を示すもので、図5(a)は平面図、図5(b)は図5(a)中のA−A線に沿った断面図である。 本発明の実施の形態2を示しており、図6(a)は正面図、図6(b)は平面図、図6(c)は図6(b)中のB−B線に沿った断面図、図6(d)は背面図である。 図6のヒートシンクの後面にマニホルドを装着した状態を示す断面図である。
実施の形態1.
図1は本発明の実施の形態1を示しており、図1(a)は正面図、図1(b)は平面図、図1(c)は図1(b)中のA−A線に沿った断面図である。図2は、その分解断面図である。レーザダイオード装置は、LD(レーザダイオード)バー7と、サブマウント8と、ヒートシンク9と、電気絶縁板5と、マニホルド3と、ポンプ(P)51と、熱交換器(HE)52などを備える。
LDバー7は、複数の発光点が直線状に配列した半導体チップであり、一例として、光軸方向の長さが1mm〜4mm、幅が約10mm、チップ厚みが約0.1mmの寸法を有する。LDバー7の発光波長は、典型的には600nm〜1100nmであるが、その他の赤外波長、紫外波長または可視波長でもよく、発光波長と適合する半導体材料、例えば、GaAs,GaN等が使用される。LDバー7は、放射した光ビームが他の部材によって妨害されないように、好ましくはヒートシンク9の端部に揃えて、サブマウント8とともに設置される。接合方法として、半田付け、接着剤、溶接、熱圧着などが使用できる。また図1には示していないが、LDバー7に給電するため機構、例えば、ワイヤボンディング、リード部材等が設けられる。
サブマウント8は、ヒートシンク9とLDバー7の間の熱膨張率の差に起因した損傷を防ぐ機能を有する。その材質として、導電材料、電気絶縁材料などが使用できる。導電材料の場合、GaAsと熱膨張率が近い材料、例えば、CuWが一般に使用される。電気絶縁材料の場合、SiC,AlN,ダイヤモンド等が使用される。その他に、CuとWを交互に積層して、適切な熱膨張率を実現した複合材料も使用できる。
ヒートシンク9は、LDバー7で発生した熱を吸収して、外部へ放散する機能を有する。その材質として、熱伝導性に優れた単一のブロック部材、例えば、CuブロックにAuメッキを施したものが一般に使用される。Auメッキは、Cuブロックの酸化を防止し、半田の塗れ性を改善する。その他に、CuとWを交互に積層した複合材料も使用でき、この場合、LDバー7の材料、例えば、GaAsの熱膨張率と近いものであれば、サブマウント8を省略してもよい。絶縁材料のAlNに金属を積層した部材も使用できる。
ヒートシンク9には、外面から内部へ直線状に延びる複数の流路6が設けられ、各流路6は、ヒートシンク9の内部で互いに連通している。図1(c)では、2つの流路6がヒートシンク9の下面から互いに異なる角度で内部へ直線状に延びており、LDバー7の近傍で互いに交差して連通部Qを設けた構造を例示している。これらの流路6に冷媒を通過させることによって、LDバー7で発生した熱を効率的に外部へ排出することが可能になる。
マニホルド3は、ヒートシンク9の流路6に冷媒を供給するための入口流路1および、流路6から冷媒を排出するための出口流路2が一体的に形成された単一のブロック部材である。その材質として、金属、プラスチック、セラミック、ガラスなどの各種材料などが使用される。入口流路1および出口流路2は、ヒートシンク9の各流路6の開口部とそれぞれ対向するように設置される。マニホルド3は、ヒートシンク9の下面と液密的に接合され、必要に応じて、Oリングなどのシール部材4が入口流路1および出口流路2の周囲にそれぞれ設けられる。また、ヒートシンク9とマニホルド3との間に電気絶縁板5を介在させることによって、両者間の電気絶縁を確保することができる。電気絶縁板5の材料として、PEEK(ポリエーテルエーテルケトン)樹脂、ガラス樹脂等の絶縁体を使用したり、当接面に絶縁板を設けた金属などが使用できる。
ポンプ51は、冷媒を送給する機能を有する。熱交換器52は、例えば、放熱フィンを備え、冷媒の熱を外部へ取り出す機能を有する。入口流路1と出口流路2との間には、ポンプ51および熱交換器52からなる直列回路が接続される。冷媒は、ポンプ51→入口流路1→流路6→連通部Q→流路6→出口流路2→熱交換器52→ポンプ51の順で循環し、その結果、LDバー7で発生した熱が効率的に外部へ排出される。冷媒として、水、フルオロカーボン、アンモニア、ヘリウム、二酸化炭素、オイルなどが使用できる。
次に、ヒートシンク9の製造方法について説明する。
図3は図1のヒートシンク9の形状を示すもので、図3(a)は正面図、図3(b)は平面図、図3(c)は断面図、図3(d)は底面図である。まず最初に、銅材等の金属ブロックの外形を直方体に加工することにより、ヒートシンク9の外形寸法を有する単一のブロック部材を用意する。
次に、各流路6を形成する前の工程として、流路6の長手方向に対して垂直な面12,13を切削加工によって形成する。傾斜した流路6をそのままドリル加工する場合、傾斜面に沿ってドリル刃先が逃げて、加工が安定しない。その対策として、ドリル刃先が当たる面12,13を流路6の長手方向に対して垂直に加工することによって、安定したドリル加工を実現できる。また、より細いドリルを使用することができる。その結果、複雑で微細な水路を、金属等の接合またはろう付けを行うことなく設計、製造することができる。
次に、ブロック部材の外面から内部へ直線状に延びる第1の流路6を切削加工によって形成する。このとき、面12において複数の開口部15が存在するように、複数の流路6を形成することができる。こうした切削加工として、例えば、ドリル加工、エンドミル加工、リーマ加工などが利用できる。
次に、ブロック部材の外面から内部へ直線状に延びる第2の流路6を、ブロック部材の内部で第1の流路6と連通するように切削加工によって形成する。このとき、面13において複数の開口部14が存在するように、複数の流路6を形成することができる。
続いて、面精度が必要な面、例えば、LDバー7およびサブマウント8の搭載面について、さらに切削、研磨などを行って高精度の面とし、その後、全体にメッキ等を行う。その際、必要に応じて、メッキ不要面についてはマスクを施す。こうしてヒートシンク9が完成する。その後、LDバー7、サブマウント8を搭載する。
ここで、2つの流路6がヒートシンク9の内部でサブマウント8の近傍で連通した状態になるための方法を説明する。所望の寿命を確保するため、ヒートシンク内部の流路と外部の間に一定の厚みの削れしろを考慮し、例えば、その厚みが3mmであった場合には、サブマウント8の下3mmより深い位置、また、ヒートシンク9の光出射側の端面から3mm以上深い位置に、交点である連通部Qを設定する。その際、十分な連通状態を得るために、ドリルが交点より深く入る必要があること、その場合でも削れしろを確保することを考慮して、交点の位置を決定する。流路の曲がりにより乱流を生じさせ冷却能力を向上することができる。
ドリル穴は、水路が交わるだけ十分深く、かつ、削れしろが小さくなりすぎないような深さ、例えば、流路6の径の1〜1.5倍に設定する。その後、図3(d)に示すように、面12から穿孔した穴と面13から穿孔した穴が重なるように、すなわち、穴が並んでいる方向に見て、同じ位置に穴を設けることにより、流路6の十分な接続が得られる。
図4は電気絶縁板5およびシール部材4の形状を示すもので、図4(a)は側面図、図4(b)は平面図、図4(c)は平面図、図4(d)は側面図である。図5は、マニホルド3の形状を示すもので、図5(a)は平面図、図5(b)は図5(a)中のA−A線に沿った断面図である。
ヒートシンク9とマニホルド3との間の接合面は、弾性体であるシール部材4によって封止されており、図示していないが、両者はネジ等で固定されている。シール部材4は、一定の弾性を持ち、変形、つぶれによって隙間を埋める機能を有するものであれば、パッキン、ガスケット等でもよい。また、取り外しの自由度を残す必要がないものであれば、半田付け、接着剤等による封止を行うことも可能である。
また、図2に示すように、開口部14,15が設けられている凹部の外側周囲には、マニホルド3の凸部10,11の外側で、電気絶縁板5の開口部の内側にシール部材4が位置決めされるように構成されている。シール部材4が適切な量で変形することによって、入口流路1と流路6および出口流路2と流路6とが液密的に接続される。また、図示していないが、電気絶縁板5は、位置決めピン等の手段によって、マニホルド3およびヒートシンク9に位置決めされており、シール部材4が位置ずれを起こすことがない。なお、シール部材4を固定するためには、上記のようにマニホルド3の上面に凸部10,11を設ける代わりに、ヒートシンク9の下面に凸部を設けることも可能である。
このように構成されたヒートシンク9では、ブロック部材の外面に対して傾斜した流路6を精度よく形成することが可能である。また、シール部材4の当たり面を単一面に限ることができるようになる。
また、ブロック部材の外面に対して垂直に流路を形成する場合と比べて、傾斜した流路6を形成した場合は、LDバー7の近傍まで流路6を設置できるという利点がある。LDバー7の光は、速軸方向の拡がり角が大きいため、ビームが大きく拡がる方向に障害物を設けることができない。また、速軸方向コリメータ(FAC)をLDバー7の出射端面近傍に設ける必要があるため、そのためのスペースが必要となる。以上の理由により、LDバー7の直下にあるヒートシンクの流路設計には制約が生じ、Oリングの幅等を考えると、外面に対して垂直に流路を形成した場合、LDバー直下には流路の入口を設けることができない。
一方、ヒートシンク9の形状変更により、LDバー直下に流路の入口を設けようとすると、ヒートシンクの前面に突出部を設ける必要が生じるため、加工費用、材料費用が大きくなるという課題がある。これに対して本実施形態の手法を採用することによって、所望の位置に流路の入口を設置できる。しかも、ドリルを用いた複数回の穿孔によって、微細な流路を比較的容易に形成できる。また、流路には接合部がなく、LDバー7に対して可及的に接近するような流路設計が可能である。なお、実際の設計では、冷媒による壊食を考慮して、冷媒の流速を一定以下に維持するとともに、ヒートシンクの壊食による削れしろを確保して、長寿命を達成することが望ましい。
実施の形態2.
図6は本発明の実施の形態2を示しており、図6(a)は正面図、図6(b)は平面図、図6(c)は図6(b)中のB−B線に沿った断面図、図6(d)は背面図である。本実施形態では、LD(レーザダイオード)バーの上面および下面の両方にヒートシンクをそれぞれ設置した例について説明する。
レーザダイオード装置は、LDバー7と、2つのサブマウント8a,8bと、2つのヒートシンク9a,9bと、電気絶縁板17,18などを備える。
LDバー7は、実施の形態1で説明したものと同様な構成を有する。
サブマウント8a,8bは、実施の形態1で説明したものと同様な構成を有し、LDバー7の上面および下面の両方に設けられる。
ヒートシンク9a,9bは、実施の形態1で説明したものと同様に、外面から内部へ直線状に延びる複数の流路6a,6bがそれぞれ設けられ、各流路6a,6bは、ヒートシンク9の内部で互いに連通している。図6(c)では、2つの流路6a,6bがヒートシンク9a,9bの後面から互いに異なる角度で内部へ直線状に延びており、LDバー7の近傍で互いに交差して連通部Qa,Qbをそれぞれ設けた構造を例示している。これらの流路6a,6bに冷媒を通過させることによって、LDバー7で発生した熱を効率的に外部へ排出することが可能になる。ヒートシンク9aは、サブマウント8aを介してLDバー7の上面に設けられ、ヒートシンク9bは、サブマウント8bを介してLDバー7の下面に設けられる。
電気絶縁板17,18は、LDバー7およびサブマウント8a,8bの合計厚さと同程度な厚さを有しており、ヒートシンク9a,9bの間に介在することによって、ヒートシンク9a,9bの対向面を平行に保つ機能を有する。また、ヒートシンク9aをプラス電極とし、ヒートシンク9bをマイナス電極としてLDバー7への給電を行う場合、ヒートシンク9a,9bの間の電気絶縁を確保する。
接合方法に関して、LDバー7とサブマウント8a,8bとは、融点の高いハードソルダと呼ばれる半田、例えばAuSn半田で接合し、サブマウント8bとヒートシンク9bとは、AuSn半田より融点の低い半田、例えばSnAgCu半田で接合し、さらに、サブマウント8aとヒートシンク9aとは、SnAgCu半田より融点の低い半田、例えばBi系半田で接合することが好ましい。これにより半田の融点の高い順番に接合を行うことが可能になり、各部材を安定に積層することができる。
次に、ヒートシンク9a,9bの製造方法について説明する。まず最初に、銅材等の金属ブロックの外形を直方体に加工することにより、ヒートシンク9a,9bの外形寸法を有する単一のブロック部材を用意する。
次に、各流路6a,6bを形成する前の工程として、流路6a,6bの長手方向に対して垂直な面を切削加工によって形成する。これによりドリル加工の際、ドリル刃先の逃げを防止でき、安定したドリル加工を実現できる。
次に、ブロック部材の外面から内部へ直線状に延びる第1の流路6a,6bを切削加工によって形成する。こうした切削加工として、例えば、ドリル加工、エンドミル加工、リーマ加工などが利用できる。
次に、ブロック部材の外面から内部へ直線状に延びる第2の流路6a,6bを、ブロック部材の内部で第1の流路6a,6bと連通するように切削加工によって形成する。
続いて、LDバー7およびサブマウント8a,8bの搭載面について、さらに切削、研磨などを行って高精度の面とし、その後、全体にメッキ等を行う。その際、必要に応じて、メッキ不要面についてはマスクを施す。こうしてヒートシンク9a,9bが完成する。その後、LDバー7の上面および下面にサブマウント8a,8bをそれぞれ固定し、さらにヒートシンク9a,9bをそれぞれ固定する。
このようにLDバー7の上面および下面を冷却することによって、片面冷却と比べて放熱回路の熱抵抗を下げることができ、LDバーの光出力、量子効率といった出力特性を改善できるだけでなく、電流に依存した波長変化も小さくすることができる。さらに、温度上昇を抑えることができるため、遅軸方向の拡がり角の電流に依存した増加を抑制できるという利点がある。
流路6a,6bは、冷媒とヒートシンクの接触面積の拡大および流速の向上のために、細い水路を多くを設けた方がよいが、ドリルの径は穴の深さによって制限される。そのため、図6(c)のような形状では、ヒートシンク9a,9bの光軸方向の長さは可能な限り短い方が好ましい。
また、本実施形態では、光出射方向とは反対の後面に流路6a,6bの入口と出口を設けた例を示したが、後面以外にも、実施の形態1のようにヒートシンクの最外面に設けもよく、ヒートシンク9a,9bの対向面または側面に設けもよい。
図7は、図6のヒートシンクの後面にマニホルドを装着した状態を示す断面図である。マニホルド3aは、ヒートシンク9aの流路6aに冷媒を供給するための入口流路20と、流路6aから冷媒を排出する流路21と、流路21に排出された冷媒をヒートシンク9bの流路6bに供給する流路22と、流路6bから冷媒を排出するための出口流路23が一体的に形成された単一のブロック部材である。その材質として、金属、プラスチック、セラミック、ガラスなどの各種材料などが使用される。入口流路20および出口流路23は、ヒートシンク9a,9bの各流路6a,6bの開口部とそれぞれ対向するように設置される。マニホルド3aは、ヒートシンク9a,9bの後面と液密的に接合され、必要に応じて、Oリングなどのシール部材24が入口流路20および出口流路23の周囲にそれぞれ設けられる。また、ヒートシンク9a,9bとマニホルド3aとの間に電気絶縁板19を介在させることによって、両者間の電気絶縁を確保することができる。
ポンプ51は、冷媒を送給する機能を有する。熱交換器52は、例えば、放熱フィンを備え、冷媒の熱を外部へ取り出す機能を有する。入口流路20と出口流路23との間には、ポンプ51および熱交換器52からなる直列回路が接続される。冷媒は、ポンプ51→入口流路20→流路6a→連通部Qa→流路6a→流路21→流路22→流路6b→連通部Qb→流路6b→出口流路23→熱交換器52→ポンプ51の順で循環し、その結果、LDバー7で発生した熱が効率的に外部へ排出される。
このようにヒートシンク9a,9bの後面だけで冷媒の供給および排出を行うことにより、例えばOリング等による封止を行った場合には、Oリングの当たり面が1面に限られるため、Oリング当たり面が複数である場合と比べて、より単純で低コストかつ堅固な封止を実現できるという利点がある。
なお、ここではヒートシンク9aの流路6aとヒートシンク9bの流路6bとが直列に接続した例を示したが、並列に接続することも可能である。直列接続の場合、全体の冷媒流量を抑制できる利点がある。並列接続の場合、ヒートシンク9aを通過するときの冷媒温度とヒートシンク9bを通過するときの冷媒温度の差を抑制できる利点がある。
上述の各実施形態において、単一のLDバー7を使用した場合を例示したが、複数のLDバーを、光軸が平行になるように厚さ方向に積層した垂直スタック型のLDバー、あるいは、複数のLDバーを、光軸が平行になるように水平方向に配列した水平アレイ型のLDバーでも同様に適用できる。
また、LDバーの形状についても、上述の各実施形態においては、幅寸法(発光点が並ぶ方向)が約10mmのものについて説明したが、LDバーの幅、長さについては制限がなく、幅3〜4mm程度のミニバーと呼ばれるLDバー、あるいは単一の発光点を持ち、幅が0.5mm前後で、長さが3〜4mm程度のシングルチップLDでも同様に適用できる。
また、冷却対象としてLD(レーザダイオード)を例示したが、上述の各実施形態においても冷却対象はLDに限る必要はなく、その他の発熱体でも同様に適用できる。その場合でも、本発明の手法を使用することによって、Oリング押さえ面の制約の少ない、単一のOリング押さえ面で封止が可能であり、信頼性の高い、製作コストが過大とならないヒートシンクを実現できる。
以上、説明したように、本発明に係るヒートシンクは、特許文献1のものと比べて、接合部および封止部がなく、信頼性が高く、製造の過大なコストを要しない冷却ブロックが得られる。
また、発熱体の近傍まで冷媒が到達するため、十分な冷却性能を達成できる。また、ドリル加工による穿孔だけで形成可能な単純な構成の冷却ブロックが得られる。
また、LDの近傍まで冷媒が到達するため、十分な冷却性能を達成でき、波長の電流依存性が小さく、LD寿命の長い冷却ブロックが得られる。
1,20 入口流路、 2,23 出口流路、 3 マニホルド、
4,24 シール部材、 5,17,18,19 電気絶縁板、
6,6a,6b,21,22 流路、 7 LD(レーザダイオード)バー、
8,8a,8b サブマウント、 9,9a,9b ヒートシンク、
10,11 凸部、 12,13 面、
14,14a,14b,15,15a,15b 開口部
51 ポンプ、 52 熱交換器、 Q,Qa,Qb 連通部。

Claims (4)

  1. シール部材の当たり面となる外面を有するブロック部材と、
    前記外面に対して傾斜し前記外面に形成された複数のドリル当たり面と、
    前記ドリル当たり面に垂直であり前記ドリル当たり面に開口部を有し前記ブロック部材の内部で互いに連通し前記開口部から前記ブロック部材の内部へと延びる直線状の複数の流路と
    を備えるヒートシンク。
  2. ひとつの前記ドリル当たり面に対して複数の前記流路が形成されていることを特徴とする請求項1に記載のヒートシンク。
  3. 前記ブロック部材に対して間接又は直接にLDが接合され、前記流路に冷媒を流すことによって、前記LDを冷却することを特徴とする請求項1又は2に記載のヒートシンク。
  4. レーザダイオードと、
    単一の第1ブロック部材で構成され前記第1ブロック部材の外面から内部へ直線状に延びる複数の流路が設けられ、各流路は、前記第1ブロック部材の内部で互いに連通し前記レーザダイオードの上面に熱的に接触する第1ヒートシンクと、
    単一の第2ブロック部材で構成され前記第2ブロック部材の外面から内部へ直線状に延びる複数の流路が設けられ、各流路は、前記第2ブロック部材の内部で互いに連通し前記レーザダイオードの下面に熱的に接触する第2ヒートシンクと、
    第1ヒートシンクおよび第2ヒートシンクの各流路と個別に連結される複数の連絡流路を備え、単一のブロック部材で構成されたマニホルドと、
    第1ヒートシンクおよび第2ヒートシンクと前記マニホルドとの間に介在した電気絶縁部材と、を備えることを特徴とするレーザダイオード装置。
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