JP6337583B2 - 構造色フィルターおよびこれを用いた光学機器 - Google Patents
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Description
Nanolithography Research Labs、「Optical Properties of Thin Films for DUV and VUV Microlithography」、[online]、2012年4月26日、インターネット<URL: http://www.rit.edu/kgcoe/microsystems/lithography/thinfilms/thinfilms/thinfilms>
また、ポリマーは光の波長400nmから700nmの領域における平均屈折率が約1.70のポリマーであり、分光エリプソメーターで実際に測定した数値を用いた。
実施例1および2の計算結果を図7および8に示す。実施例1(図7の(a))では、透明性薄膜2をポリマー、金属性薄膜材料3をAl、透過率調整膜4をTaONとし、TE偏光である入射光を回折格子側から入射した場合の分光透過率の計算を行った。詳細には、透過率調整膜4がTa2O5:TaN=80:20の組成比からなる化合物膜で、d1=150nm、d2=50nm、d3=100nm、F=w/P=0.4、回折格子の周期:P=350nm、465nm、595nmとした。この結果、光の波長=450nm、550nm、610nm付近に透過率のピークができるとともに、透過率調整膜4のない比較例1の場合と比べ、ピーク以外の透過率が抑えられ、加法混色用のB、G、Rの構造色フィルター10として望ましい結果になっていることが確認された。
実施例3および4の計算結果を図9および10に示す。実施例3(図9の(a))では、透明性薄膜2をポリマー、金属性薄膜材料3をAl、透過率調整膜4をTaONとし、TE偏光である入射光を基板側から入射した場合の分光透過率の計算を行った。詳細には、透過率調整膜4がTa2O5:TaN=85:15の組成比からなる化合物膜で、d1=150nm、d2=50nm、d3=100nmとし、F=w/P=0.4、回折格子の周期:P=345nm、465nm、590nmとした。この結果、光の波長=450nm、550nm、610nm付近に透過率のピークができるとともに、透過率調整膜4のない比較例2の場合と比べ、ピーク以外の透過率が抑えられ、加法混色用のB、G、Rの構造色フィルター10として望ましい結果になっていることが確認された。
実施例5の計算結果を図11に示す。実施例5では、透明性薄膜2をSiN膜、金属性薄膜材料3をAl、透過率調整膜4をTaONとし、TE偏光である入射光を回折格子側から入射した場合の分光透過率の計算を行った。詳細には、透過率調整膜4がTa2O5:TaN=50:50の組成比からなる化合物膜で、d1=100nm、d2=50nm、d3=140nmとし、B(青)に対してはF=w/P=0.35、G(緑)とR(赤)に対してはF=w/P=0.40、回折格子の周期:P=310nm、400nm、600nmとした。この結果、光の波長=450nm、550nm、610nm付近に透過率のピークができるとともに、透過率調整膜のない比較例1の場合と比べ、ピーク以外の透過率が抑えられ、加法混色用のB、G、Rの構造色フィルターとして望ましい結果になっていることが確認された(図11の(a))。
実施例6の計算結果を図12に示す。実施例6では、透明性薄膜2をSiN膜、金属性薄膜材料3をAl、透過率調整膜4をTaONとし、TE偏光である入射光を基板1側から入射した場合の分光透過率の計算を行った。詳細には、透過率調整膜4がTa2O5:TaN=50:50の組成比からなる化合物膜で、d1=130nm、d2=50nm、d3=120nm、F=w/P=0.40、回折格子の周期:P=260nm、370nm、460nmとした。この結果、それぞれ波長=450nm、550nm、610nm付近に透過率のピークができるとともに、透過率調整膜4のない比較例2の場合と比べ、ピーク以外の透過率が抑えられ、加法混色用のB、G、Rの構造色フィルター10として望ましい結果になっていることが確認された(図12の(a))。
実施例7の計算結果を図13に示す。実施例7では、透明性薄膜2の残膜部がない(d2=0nm)構造色フィルター10を用いた。一般に回折格子のパターンをインプリントで形成する場合には、ポリマーの残膜部が発生するが、半導体プロセスでエッチングにより形成する場合は、残膜部をつくることもできるが、基板表面までエッチングすることで残膜部を無くすこともできる。実施例7では、構造色フィルター10を、回折格子の透明性薄膜2がSiN膜、回折格子の金属性薄膜材料3がAl、透過率調整膜4がTa2O5:TaN=70:30の組成比からなる化合物膜で、d1=150nm、d3=150nmであるが、残膜部は無く(d2=0nm)、B(青)に対してはF=w/P=0.40、G(緑)とR(赤)に対してはF=w/P=0.35の条件で、回折格子の周期:P=265nm、410nm、470nmとして作製した。この結果、波長=450nm、550nm、610nm付近に透過率のピークができるとともに、透過率調整膜4のない比較例1の場合と比べ、ピーク以外の透過率が抑えられ、透明性薄膜の残膜部がない場合においても、加法混色用のB、G、Rの構造色フィルター10として望ましい結果になることが確認された(図13の(a))。
2 透明性薄膜
3 金属性膜
4 透過率調整膜
5、7 入射光
6、8 透過光
9 反射光
10、20、30 構造色フィルター
11 石英基板
12 回折格子
Claims (3)
- 基板と、前記基板に積層された透過率調整用の薄膜と、前記透過率調整用の薄膜に積層された透明性薄膜と、前記透明性薄膜に形成された回折格子パターンの間隙に埋め込まれた金属性薄膜材料とを含み、
前記透過率調整用の薄膜は、
Ta 2 O 5 および可視光域より短い波長領域から長い波長領域にかけて、消衰係数が単調に小さくなる方向へ変化するTaNを含む化合物膜であって、Ta 2 O 5 :TaNの組成比が50:50から85:15の範囲内で、
膜厚が100nm以上150nm以下であり、
前記回折格子パターンは、
格子部膜厚が、100nm以上150nm以下で、
残膜部膜厚が、50nm以下で、
回折格子の線幅が、104nm以上242nm以下で、
回折格子の周期が、260nm以上605nm以下である、
可視光域の所定の波長において透過率のピークを有する、
前記構造色フィルター。 - 前記金属性薄膜材料はアルミニウムである、請求項1に記載の構造色フィルター。
- 請求項1または2に記載の構造色フィルターを含み、前記構造色フィルターへの入射光として、TE偏光を用いる、光学機器。
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