JP6328633B2 - Euv投影リソグラフィ投影露光装置用の照明系 - Google Patents
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Description
−所定の偏光状態を有するEUV照明光の出力ビームを生成するEUV光源と、
−光学軸に沿って出力ビームを誘導し、その結果、レチクル平面の照明視野が出力ビームによって照明される照明光学ユニットとを備え、
−EUV光源は、以下、すなわち、
−電子ビーム供給装置と、
−電子ビーム供給装置によって電子ビームが供給されるEUV発生装置と、
−出力ビームの偏光を設定するために調節可能な偏向効果を電子ビームに与える偏光設定装置とを有する。
−視野ファセットミラーの視野ファセットと瞳ファセットミラーの瞳ファセットとの傾斜角の関連付けを、出力ビームの入射する視野ファセット群のそれぞれの視野ファセットが、照明経路を介して、瞳ファセットの内の1つとそれぞれ関連付けられるように設定し、
−走査装置、偏光設定装置および傾斜角の関連付けを、各瞳ファセットへの出力ビームが所定の偏光状態を有するように相互に適合させるステップを含む、
本発明に係る照明系を作動させる方法の利点は、本発明に係る照明系に関してすでに上記に説明したものに対応する。この作動方法により、具体的に、瞳ファセットミラーにおける出力ビームの偏光分布および、よって、照明角度における偏光分布を規定することが可能である。
Claims (11)
- EUV投影リソグラフィ投影露光装置(1)用の照明系であって、
−所定の偏光状態のEUV照明光の出力ビーム(3)を生成するEUV光源(2)と、
−前記出力ビーム(3)を光学軸に沿って誘導し、その結果、レチクル平面(15)における照明領域(14)が前記出力ビーム(3)によって照明される照明光学ユニット(5)とを備え、
−前記EUV光源(2)が、以下、すなわち、
−電子ビーム供給装置(2a)と、
−前記電子ビーム供給装置(2a)によって電子ビーム(2b)が供給されるEUV発生装置(2c)と、
−前記出力ビーム(3)の偏光を設定するために、調節可能な偏向効果を前記電子ビーム(2b)に与える偏光設定装置(25)とを有し、
−前記EUV光源(2)が自由電子レーザ(FEL)として具現化される照明系において、
前記偏光設定装置(25)と同期して動作するように構成された、前記出力ビーム(3)を偏向する走査装置(6)を特徴とする照明系。 - 請求項1に記載の照明系において、前記EUV発生装置(2c)がアンジュレータとして具現化され、前記偏光設定装置(25)が前記アンジュレータ(2c)の偏向磁石(26)の前記電子ビーム(2b)への効果に影響を与えるように具現化されることを特徴と
する照明系。 - 請求項2に記載の照明系において、前記偏向磁石(26)が電磁石として具現化され、前記偏光設定装置(25)が前記電磁石(26)を流れる電流の電流強さを制御することを特徴とする照明系。
- 請求項1〜3の何れか1項に記載の照明系において、
−前記照明光学ユニット(5)が複数の視野ファセット(8)を有する視野ファセットミラー(7)と、前記出力ビーム(3)による前記照明領域(14)の照明の照明角度分布を規定する複数の瞳孔ファセット(9a)を有する瞳孔ファセットミラー(9)とを備え、
−前記出力ビーム(3)が照明経路に沿って誘導されて、各々の視野ファセット(8)および各々の瞳孔ファセット(9a)の照明角度を規定し、
−前記出力ビーム(3)を偏向する前記走査装置 (6)が前記視野ファセットミラー(7)の前に配置され、前記偏光設定装置(25)は、前記出力ビーム(3)の偏光状態が、第1視野ファセット(8)への入射と、前記走査装置(6)による適切な走査偏向後の、さらなる視野ファセット(8)への入射との間で変更されるように具現化されることを特徴とする照明系。 - 請求項1〜4の何れか1項に係る照明系を作動させる方法であって、以下のステップ、すなわち、
−前記視野ファセットミラー(7)の前記視野ファセット(8)と、前記瞳孔ファセットミラー(9)の前記瞳孔ファセット(9a)との傾斜角度の関連付けを、前記出力ビーム(3)の入射される視野ファセット(8)の群の視野ファセット(8)の各々を、照明経路を介して前記瞳孔ファセット(9a)の内の1つとそれぞれ関連付けるように設定するステップを含み、
−前記走査装置(6)、前記偏光設定装置(25)および前記傾斜角の関連付けを、前記瞳孔ファセット(9a)の各々における前記出力ビーム(3)が所定の偏光状態を持つように相互に適合させる方法。 - 請求項5に記載の方法において、前記走査装置(6)、前記偏光設定装置(25)および前記傾斜角の関連付けを、前記瞳孔ファセット(9a)の各々における前記出力ビーム(3)の前記偏光状態が、前記瞳孔ファセットミラー(9)上の前記瞳孔ファセット(9a)から前記瞳孔ファセット(9a)の配置の中心(Z)までの接続線(28)に垂直な直線状の偏光成分(27)を有するように相互に適合させることを特徴とする方法。
- 請求項5または請求項6に記載の方法において、前記入射した瞳孔ファセット(9a)に関して規定される前記偏光状態が、前記瞳孔ファセットミラー(9)の後の、前記出力ビーム(3)の前記経路に沿った前記偏光の次の影響を考慮した偏光リードを含むことを特徴とする方法。
- 請求項5〜7の何れか1項に記載の方法において、前記適合を、その間に前記偏光状態の違いが規定されていない複数の瞳孔ファセット(9a)が前記瞳孔ファセットミラー(9)において連続して入射されるように行うことを特徴とする方法。
- 光学系であって、
−請求項1〜4の何れか1項に記載の照明系と、
−前記照明領域(14)を像視野(17)に結像する投影光学ユニット(16)とを備える光学系。 - EUVリソグラフィ投影露光装置(1)であって、
−請求項9に係る光学系と、
−前記レチクル平面(15)において、前記光学系の照明光(3)に入射されるレチクル(16a)を保持するレチクルホルダ(16b)と、
−像平面(18)における像視野(17)に前記照明領域(14)を結像する投影光学ユニット(16)と、
−前記像平面(18)において、ウエハ(18a)を、投影露光中に前記照明領域(14)に配置されるレチクル構造体が前記像視野(17)に配置されるウエハセクションに入射されるように保持するウエハホルダ(18b)と
を備える投影露光装置。 - 構造化コンポーネントを製造する方法であって、以下の方法のステップ、すなわち、
−レチクル(16a)およびウエハ(18a)を提供するステップと、
−請求項10に係る投影露光装置(1)により、前記レチクル(16a)上の構造体を前記ウエハ(18a)の感光層上に投影するステップと、
−前記投影中に、請求項5〜8の何れか1項に記載の前記照明系を作動するステップと、−前記ウエハ(18a)に、ミクロ構造および/またはナノ構造体を生成するステップとを含む方法。
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