JP6324599B1 - Manufacturing method of cover glass - Google Patents

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Abstract

【課題】使用者からのタッチ操作を受け付けるカバーガラスの製造方法において、周縁部に湾曲形状を含む領域を備えるカバーガラスの製造方法を提供する。【解決手段】カバーガラスの製造方法は、保護ステップ、第1のパターニングステップ、第1のエッチングステップ、分断ステップおよび端面形成ステップを含んでいる。保護ステップは、多面取り用のガラス母材30の両主面を保護フィルム32で被覆する工程である。第1のパターニングステップは、保護フィルム32の一部を除去する工程である。第1のエッチングステップは、エッチング処理によって、保護フィルム32が除去された領域に凹部38を形成する工程である。分断ステップは、切断予定線40に沿ってガラス母材30を分断する工程である。端面形成ステップは、分断ステップにおいて形成された分断面42が凹部38の側面部と略平行になるように研磨する工程である。【選択図】図5A method of manufacturing a cover glass that receives a touch operation from a user, the cover glass having a region including a curved shape at a peripheral edge. A cover glass manufacturing method includes a protection step, a first patterning step, a first etching step, a cutting step, and an end face forming step. The protection step is a process in which both main surfaces of the glass substrate 30 for multi-faces are covered with the protection film 32. The first patterning step is a step of removing a part of the protective film 32. The first etching step is a step of forming the recess 38 in the region where the protective film 32 has been removed by an etching process. The dividing step is a step of dividing the glass base material 30 along the planned cutting line 40. The end surface forming step is a step of polishing so that the divided section 42 formed in the dividing step is substantially parallel to the side surface portion of the recess 38. [Selection] Figure 5

Description

本発明は、使用者からのタッチ操作を受け付けるカバーガラスの製造方法に関し、特に周縁部に湾曲領域を備えたカバーガラスの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a cover glass that accepts a touch operation from a user, and more particularly, to a method for manufacturing a cover glass having a curved region at a peripheral edge.

近年、タッチパネルは直感的な操作が可能になるという利点により、使用者が機器を操作する際のインターフェースとして幅広い分野に採用されている。タッチパネル用のカバーガラスは、タッチパネルが使用者に露出する側に配置されており、アイコン等が表示されているタッチ操作領域を使用者が視認しながら行うタッチ操作を受け付けるように構成されている。カバーガラスの平坦性や高い透明度によるデザイン性の向上により、従来ならば、物理的なボタンやキーボードが用いられていた機器にも、タッチパネルへ置き換える動きが広がっている。例えば、スマートフォン等の携帯用電子端末では、ほとんどの操作をタッチパネルによって行うことができる。   In recent years, a touch panel has been adopted in a wide range of fields as an interface when a user operates a device because of an advantage that an intuitive operation is possible. The cover glass for the touch panel is arranged on the side where the touch panel is exposed to the user, and is configured to accept a touch operation performed while the user visually recognizes a touch operation area where icons and the like are displayed. Due to the improved design due to the flatness of the cover glass and high transparency, the movement to replace with a touch panel has spread to devices that conventionally used physical buttons and keyboards. For example, in a portable electronic terminal such as a smartphone, most operations can be performed with a touch panel.

通常、カバーガラスは大型のガラス母材から所望の個片ガラス基板に分断することによって製造されており、分断処理は、一般的にはスクライブブレーク処理等の機械加工によって行われるのが一般的である。近年では、デザイン面での差別化のために、輪郭部に曲線領域や切欠き領域を含むカバーガラスが要求されることがあったが、曲線領域や切欠き領域は、スクライブ装置を用いて分断することは困難であった。   Usually, the cover glass is manufactured by dividing into a desired individual glass substrate from a large glass base material, and the dividing process is generally performed by machining such as a scribe break process. is there. In recent years, there has been a demand for a cover glass that includes a curved region or a notch region in the contour portion for differentiation in terms of design, but the curved region or the notch region is divided using a scribing device. It was difficult to do.

そこで、従来技術のなかには、エッチング処理でガラス基板を分断することによって曲線領域等を含むカバーガラスを製造する技術があった(例えば、特許文献1参照。)。さらに、スクライブブレーク等の機械加工を行わずにエッチング処理で分断することによって、端面の細かな傷を除去することができるので、カバーガラスの強度が向上するとされている。   Therefore, among the prior arts, there has been a technique for manufacturing a cover glass including a curved region or the like by dividing a glass substrate by an etching process (see, for example, Patent Document 1). Furthermore, since it is possible to remove fine scratches on the end face by dividing by etching without performing machining such as scribe break, it is said that the strength of the cover glass is improved.

特許第5654072号公報Japanese Patent No. 5654072

エッチング処理は、カバーガラスの形状を容易にコントロールすることができるが、カバーガラスの端面において、板厚方向の中心部に凸状の突起部が形成されてしまう。突起部は、先細りした形状であり、端面の中でも強度が低く、わずかな衝撃でも破損したり欠けたりすることがある。このため、分断処理後も追加でエッチング処理や端面研磨を行い、突起部の突出距離を短くする必要がある場合があった。   The etching process can easily control the shape of the cover glass, but a convex protrusion is formed at the center in the thickness direction on the end surface of the cover glass. The protruding portion has a tapered shape, has low strength even in the end face, and may be damaged or chipped even with a slight impact. For this reason, it may be necessary to additionally perform an etching process or end face polishing after the dividing process to shorten the protruding distance of the protruding portion.

さらに、近年のスマートフォンやタブレット等の携帯情報端末は、デザイン面での差別化を目的として周縁部に曲面領域を有するものがある。このため、カバーガラスも曲面領域に追従する形状に形成しなければならないが、カバーガラスの周縁部のみを湾曲させることは非常に難しい。周縁部の湾曲加工の一例としては、熱処理工程や端面研磨等が挙げられる。熱処理加工は、カバーガラスの周縁部を軟化点まで加熱した後に、金型等で加工しなければならず、生産性が低い。端面研磨工程は、スピンドル等の研磨装置を使用するが、端面に細かい傷がついたり、研磨量が多くなると生産性が低下したりするといった問題点があった。また、エッチング処理は、等方性に加工が進行するため、所望の形状を形成することが難しかった。   Furthermore, some recent portable information terminals such as smartphones and tablets have a curved region at the peripheral edge for the purpose of design differentiation. For this reason, the cover glass must also be formed in a shape that follows the curved area, but it is very difficult to curve only the peripheral edge of the cover glass. Examples of the peripheral edge bending process include a heat treatment step and end face polishing. In the heat treatment, the peripheral edge of the cover glass must be heated to the softening point and then processed with a mold or the like, and the productivity is low. In the end surface polishing step, a polishing device such as a spindle is used. However, there are problems that the end surface is finely scratched, and that the productivity decreases when the polishing amount increases. Further, since the etching process isotropically progressed, it has been difficult to form a desired shape.

本発明の目的は、使用者からのタッチ操作を受け付けるカバーガラスにおいて、周縁部に湾曲形状を含む領域を備えたカバーガラスの製造方法を提供することである。   The objective of this invention is providing the manufacturing method of a cover glass provided with the area | region containing a curved shape in a peripheral part in the cover glass which receives the touch operation from a user.

本発明に係るカバーガラスの製造方法は、保護ステップ、第1のパターニングステップ、第1のエッチングステップ、分断ステップおよび端面形成ステップを含んでいる。保護ステップは、少なくとも耐エッチング性を有する保護層でカバーガラスを多面取りするためのガラス基板の両主面を被覆する工程である。第1のパターニングステップは、ガラス基板の第2の主面において、中央部に対応する領域の保護層を除去する工程である。第1のエッチングステップは、ガラス基板をエッチング液に接触させることで、保護層が除去された領域に凹部を形成する工程である。分断ステップは、凹部の外縁部をカバーガラスの切断予定線に沿って分断する工程である。端面形成ステップは、分断ステップにおいて形成された分断面が凹部の側面部と略平行になるように研磨する工程である。本発明によって製造されるカバーガラスは、単一のガラス部材で構成されており、平坦状の中央部と中央部の周囲に配置された周縁部を備えている。周縁部は、第1の主面から第2の主面側に湾曲している湾曲部を有する領域である。   The cover glass manufacturing method according to the present invention includes a protection step, a first patterning step, a first etching step, a cutting step, and an end face forming step. The protection step is a step of covering both main surfaces of the glass substrate for multi-faceting the cover glass with a protective layer having at least etching resistance. The first patterning step is a step of removing the protective layer in the region corresponding to the central portion on the second main surface of the glass substrate. The first etching step is a step of forming a recess in the region where the protective layer has been removed by bringing the glass substrate into contact with an etching solution. The dividing step is a step of dividing the outer edge of the recess along the planned cutting line of the cover glass. The end surface forming step is a step of polishing so that the divided cross section formed in the dividing step is substantially parallel to the side surface portion of the recess. The cover glass manufactured by this invention is comprised with the single glass member, and is provided with the peripheral part arrange | positioned around the flat center part and the center part. The peripheral portion is a region having a curved portion that is curved from the first main surface to the second main surface.

本発明では、エッチング処理と機械加工を組み合わせることによって、ガラス基板の周縁部に湾曲領域を形成することを可能にしている。周縁部を形成する工程にエッチング処理を含むことによって、多面取り用のガラス基板から効率的にカバーガラスを製造することができる。さらに、エッチング処理を組み合わせることにより、機械加工にガラス基板の研磨量を削減することができるので、周縁部に細かな傷がつくことが抑制され、カバーガラスの強度を低下させることなく生産することができる。   In the present invention, it is possible to form a curved region in the peripheral portion of the glass substrate by combining etching and machining. By including an etching process in the process of forming the peripheral edge, a cover glass can be efficiently manufactured from a glass substrate for multi-face production. Furthermore, by combining the etching process, the amount of polishing of the glass substrate can be reduced by machining, so that fine scratches on the peripheral edge can be suppressed and production can be performed without reducing the strength of the cover glass. Can do.

また、分断ステップは、第2のパターニングステップと第2のエッチングステップを含んでいることが好ましい。第2のパターニングステップは、ガラス基板の両主面に被覆された保護層の一部を切断予定線に沿って除去する工程である。さらに、第2のパターニングステップでは、第1の主面に形成された切断予定線の幅が第2の主面に形成された切断予定線の幅よりも小さくなるように保護層の除去が行われる。第2のエッチングステップは、ガラス基板とエッチング液を接触させることにより切断予定線に沿ってガラス基板を分断する工程である。第2のパターニングで切断予定線の幅を調節した後にエッチング処理で分断することにより、凹部の側面の傾斜角度と分断面の傾斜角度が同程度になるので、端面形成ステップにおける端面研磨量を抑制でき、生産効率を向上させることができる。   The dividing step preferably includes a second patterning step and a second etching step. The second patterning step is a step of removing a part of the protective layer coated on both main surfaces of the glass substrate along the planned cutting line. Further, in the second patterning step, the protective layer is removed so that the width of the planned cutting line formed on the first main surface is smaller than the width of the planned cutting line formed on the second main surface. Is called. The second etching step is a step of dividing the glass substrate along the planned cutting line by bringing the glass substrate into contact with the etching solution. By adjusting the width of the planned cutting line in the second patterning and then dividing by the etching process, the inclination angle of the side surface of the recess and the inclination angle of the dividing surface become approximately the same, so the amount of end face polishing in the end face forming step is suppressed. Production efficiency can be improved.

また、第2のエッチングステップは、第1の主面と第2の主面に対して同時にエッチング液を接触させることが好ましい。エッチング処理は等方性に加工が進行するため、分断面の角度の調整は多段階のエッチングが必要になり、生産効率が低下することがあった。しかし、第2のパターニングステップで切断予定線の幅を調整しているため、1回のエッチングで所望の傾斜角度を有する分断面を形成することが可能になる。   In the second etching step, it is preferable that the etchant is simultaneously brought into contact with the first main surface and the second main surface. Since the etching process isotropically progressed, adjustment of the angle of the sectional surface requires multi-stage etching, which may reduce the production efficiency. However, since the width of the planned cutting line is adjusted in the second patterning step, it is possible to form a sectional surface having a desired inclination angle by one etching.

本発明によれば、周縁部に湾曲領域を備えたカバーガラスを簡易に製造することが可能となる。   According to the present invention, it is possible to easily manufacture a cover glass having a curved region at the peripheral edge.

本発明の一実施形態に係るカバーガラスを示す図である。It is a figure which shows the cover glass which concerns on one Embodiment of this invention. 携帯情報端末上に載置されたカバーガラスを示す図である。It is a figure which shows the cover glass mounted on the portable information terminal. ガラス母材のパターニングについて示す図である。It is a figure shown about patterning of a glass base material. ガラス母材への凹部の形成について示す図である。It is a figure shown about formation of the recessed part to a glass base material. カバーガラスの端面形状の加工について示す図である。It is a figure shown about the process of the end surface shape of a cover glass. ガラス母材のパターニングについて示す図である。It is a figure shown about patterning of a glass base material. ガラス母材のエッチングによる分断の様子を示す図である。It is a figure which shows the mode of the division | segmentation by the etching of a glass base material. カバーガラスの端面形状の加工について示す図である。It is a figure shown about the process of the end surface shape of a cover glass.

ここから、図面を用いて本発明の一実施形態について説明する。図1は、本発明の一実施形態によって製造されたカバーガラス10を示す図である。カバーガラス10は、第1の主面12および第2の主面14を有するガラス基板である。また、カバーガラス10は、カバーガラス10の中央部に配置された平面部16と平面部16の周囲に配置された湾曲部18を備えている。   From here, one Embodiment of this invention is described using drawing. FIG. 1 is a view showing a cover glass 10 manufactured according to an embodiment of the present invention. Cover glass 10 is a glass substrate having a first main surface 12 and a second main surface 14. Further, the cover glass 10 includes a flat portion 16 disposed at the center of the cover glass 10 and a curved portion 18 disposed around the flat portion 16.

カバーガラス10に使用されるガラス基板としてはアルミノシリケートガラスが好ましいが、特に限定はされず、ソーダガラスや無アルカリガラスを使用しても良い。カバーガラス10の板厚は、0.1〜1.5mm程度あることが好ましい。また、必要に応じて、圧縮応力層が形成されても良く、圧縮応力層は公知のイオン交換法によって形成することができ、形成される圧縮応力層の厚みは5〜100μmの範囲で調整される。   The glass substrate used for the cover glass 10 is preferably aluminosilicate glass, but is not particularly limited, and soda glass or non-alkali glass may be used. The cover glass 10 preferably has a thickness of about 0.1 to 1.5 mm. Further, if necessary, a compressive stress layer may be formed. The compressive stress layer can be formed by a known ion exchange method, and the thickness of the formed compressive stress layer is adjusted in the range of 5 to 100 μm. The

平面部16は、カバーガラス10の中央部に存在する平坦な領域である。平面部16の板厚は、0.1〜0.5mm程度に形成されることが好ましいが、これには限定されない。湾曲部18は、カバーガラス10の周縁部に形成された領域である。湾曲部18は、カバーガラス10の周縁部において、第1の主面12側から第2の主面14側に向かって傾斜する形状を呈している。また、湾曲部18の主面領域は、外側に向かって凸状に湾曲するように構成される。平面部16と湾曲部18の境界部は、丸みを帯びた形状になるように構成される。湾曲部18の傾斜角度は、カバーガラス10が装着される機器に応じて、適宜調整される。なお、湾曲部18は、カバーガラス10の周縁部全域にわたって配置される必要はなく、所望の1辺のみに配置されていても良い。   The flat portion 16 is a flat region existing in the central portion of the cover glass 10. The plate thickness of the flat portion 16 is preferably about 0.1 to 0.5 mm, but is not limited thereto. The curved portion 18 is a region formed at the peripheral edge of the cover glass 10. The curved portion 18 has a shape that inclines from the first main surface 12 side toward the second main surface 14 side at the peripheral edge of the cover glass 10. Further, the main surface area of the bending portion 18 is configured to bend in a convex shape toward the outside. The boundary between the flat portion 16 and the curved portion 18 is configured to have a rounded shape. The inclination angle of the bending portion 18 is appropriately adjusted according to the device to which the cover glass 10 is attached. In addition, the bending part 18 does not need to be arrange | positioned over the peripheral part whole region of the cover glass 10, and may be arrange | positioned only on one desired side.

カバーガラス10は、例えば、図2(A)に示す携帯情報端末50に使用することができる。携帯情報端末50は、中央部に情報表示領域52を有している。情報表示領域52は、液晶ディスプレイ等のフラットパネルディスプレイによりアイコン等の情報を表示する領域である。また、情報表示領域52の周縁部は、断面視において湾曲形状を呈している。   Cover glass 10 can be used for portable information terminal 50 shown in Drawing 2 (A), for example. The portable information terminal 50 has an information display area 52 in the center. The information display area 52 is an area for displaying information such as icons on a flat panel display such as a liquid crystal display. Moreover, the peripheral part of the information display area 52 has a curved shape in a cross-sectional view.

カバーガラス10は、情報表示領域52が配置された主面を被覆するように配置されている。湾曲部18が携帯情報端末50の端部に対応するように湾曲しているため、携帯情報端末50の端部も確実に保護することができる。フラットな形状のカバーガラス101では、図2(C)に示すように携帯情報端末50の端部が露出してしまう。   The cover glass 10 is disposed so as to cover the main surface on which the information display area 52 is disposed. Since the curved portion 18 is curved so as to correspond to the end portion of the portable information terminal 50, the end portion of the portable information terminal 50 can also be reliably protected. In the cover glass 101 having a flat shape, the end of the portable information terminal 50 is exposed as shown in FIG.

ここから、図3〜図5を用いてカバーガラス10の製造方法を説明する。カバーガラス10を製造する場合は、通常、複数のカバーガラス10が面取りされた大型のガラス母材30を使用する。カバーガラス10は、ガラス母材30から個片に分断されることによって、所望の形状に形成される。本実施形態では、矩形上のカバーガラスの製造方法を説明するが、カバーガラスの形状はエッチング処理によって所望の形状に形成することが可能である。   From here, the manufacturing method of the cover glass 10 is demonstrated using FIGS. When manufacturing the cover glass 10, the large sized glass base material 30 by which the several cover glass 10 was chamfered is normally used. The cover glass 10 is formed into a desired shape by being divided into individual pieces from the glass base material 30. In the present embodiment, a method for manufacturing a rectangular cover glass will be described, but the cover glass can be formed into a desired shape by an etching process.

まず、ガラス母材30の第1の主面34および第2の主面36に耐エッチング性を有する保護フィルム32を被覆する。本実施形態では、保護フィルム32として、少なくともフッ酸に対する耐性を有する自己粘着型フィルムを使用した。なお、フィルム以外にもフッ酸に対する耐性を有しているものであれば、樹脂剤やレジスト剤を使用しても良い。   First, the protective film 32 having etching resistance is covered on the first main surface 34 and the second main surface 36 of the glass base material 30. In the present embodiment, a self-adhesive film having at least resistance to hydrofluoric acid is used as the protective film 32. In addition to the film, a resin agent or a resist agent may be used as long as it has resistance to hydrofluoric acid.

保護フィルム32でガラス母材30の両主面を被覆した後に、図3(A)および図3(B)に示すように、第2の主面34において平面部16に対応する領域から保護フィルム32を除去するパターニング処理が行われる。パターニング処理の一例としては、レーザ装置を用いて保護フィルム32を除去する方法が挙げられる。パターニング処理に使用するレーザ装置はガラス母材30に過度にダメージを与えないものであれば、特に制限はない。なお、感光性レジスト材を利用してガラス母材30を被覆する場合は、フォトリソグラフィを利用してパターニングを行うことも可能である。   After covering both main surfaces of the glass base material 30 with the protective film 32, as shown in FIG. 3 (A) and FIG. 3 (B), the protective film from the region corresponding to the flat portion 16 in the second main surface 34. A patterning process for removing 32 is performed. An example of the patterning process includes a method of removing the protective film 32 using a laser device. The laser device used for the patterning process is not particularly limited as long as the glass base material 30 is not excessively damaged. When the glass base material 30 is coated using a photosensitive resist material, patterning can also be performed using photolithography.

続いて、ガラス母材30をエッチング液に接触させることによりパターニング処理された領域に凹部38を形成するエッチング処理を行う。エッチング処理としては、エッチング液中にガラス母材30を浸漬させるディップ式エッチング方法やガラス母材30に対してエッチング液を噴射するスプレイ式エッチング方法が挙げられる。エッチング液は、少なくともフッ酸を含んでおり、必要に応じて塩酸等の無機酸や界面活性剤等のエッチング補助剤を添加することも可能である。   Subsequently, the glass base material 30 is brought into contact with the etching solution to perform an etching process for forming a recess 38 in the patterned region. Examples of the etching treatment include a dip type etching method in which the glass base material 30 is immersed in the etching liquid and a spray type etching method in which the etching liquid is sprayed onto the glass base material 30. The etching solution contains at least hydrofluoric acid, and it is possible to add an inorganic acid such as hydrochloric acid or an etching aid such as a surfactant as necessary.

エッチング処理により形成された凹部38は、図4(B)に示すように底面が第1の主面34と略水平になるように形成される。また、凹部38の側面部は開放側に向かって広がるような傾斜面を呈している。さらに、エッチング処理により凹部38の側面は湾曲している。凹部38の側面の湾曲形状やテーパの傾きは、エッチング液の組成やエッチング方法によって適宜調整可能であり、カバーガラス10が配置される物品の形状に応じて変更される。   The recess 38 formed by the etching process is formed so that the bottom surface is substantially horizontal to the first main surface 34 as shown in FIG. Moreover, the side part of the recessed part 38 is exhibiting the inclined surface which spreads toward an open side. Furthermore, the side surface of the recess 38 is curved by the etching process. The curved shape of the side surface of the recess 38 and the inclination of the taper can be appropriately adjusted depending on the composition of the etching solution and the etching method, and are changed according to the shape of the article on which the cover glass 10 is disposed.

複数の凹部38が形成されたガラス母材30は、保護フィルム32を剥離した後に、切断予定線40に沿って切断される。切断予定線40は、図4(A)に示す破線であり、凹部38の外周領域においてカバーガラス10の輪郭部に対応する線である。分断処理は、公知のスクライブブレーク装置やレーザ装置を使用することができる。本実施形態では、スクライブブレークでガラス母材30を分断しており、分断面42は図5(A)に示すようにガラス母材30の主面に対して略垂直になるように形成される。切断予定線が直線のみで構成される場合は、スクライブ装置によって分断することが効果的であるが、カバーガラス10の輪郭部に曲線領域を含む場合は、レーザ装置等を使用することが好ましい。   The glass base material 30 on which the plurality of recesses 38 are formed is cut along the planned cutting line 40 after the protective film 32 is peeled off. The planned cutting line 40 is a broken line shown in FIG. 4A and is a line corresponding to the contour portion of the cover glass 10 in the outer peripheral region of the recess 38. A known scribing break device or a laser device can be used for the cutting process. In the present embodiment, the glass base material 30 is divided by a scribe break, and the dividing surface 42 is formed so as to be substantially perpendicular to the main surface of the glass base material 30 as shown in FIG. . When the planned cutting line is composed only of straight lines, it is effective to divide by a scribing device. However, when the contour portion of the cover glass 10 includes a curved region, it is preferable to use a laser device or the like.

続いて、ガラス母材30から個片に分断されたカバーガラス10の分断面42を凹部38の側面と略平行になるまで研磨する。凹部38の側面と略平行になるまで分断面42を研磨することによって、カバーガラス10の周縁部が図5(C)に示すように図面下方に向かって湾曲するような形状となる。また、この際、カバーガラス10の端面44は、主面と略平行になるように構成される。研磨処理は、公知のスピンドル等の端面研磨装置を使用することができる。スピンドルは、番手を変更し、複数回の研磨処理を繰り返しながら、所望の端面形状になるまで研磨処理が行われる。また、端面研磨後に分断面42をわずかにエッチング処理することによって細かな傷を除去することが好ましい。   Subsequently, the divided section 42 of the cover glass 10 divided into pieces from the glass base material 30 is polished until it becomes substantially parallel to the side surface of the recess 38. By polishing the dividing surface 42 until it is substantially parallel to the side surface of the recess 38, the peripheral edge of the cover glass 10 is shaped to curve downward as shown in FIG. 5C. At this time, the end surface 44 of the cover glass 10 is configured to be substantially parallel to the main surface. A known end face polishing apparatus such as a spindle can be used for the polishing process. The spindle is subjected to the polishing process until the desired end face shape is obtained while changing the count and repeating the polishing process a plurality of times. Further, it is preferable to remove fine scratches by slightly etching the dividing surface 42 after end face polishing.

本実施形態では、エッチング処理と機械加工を組み合わせることによりカバーガラス10の周縁部に湾曲部18を形成することを可能にした。エッチング処理は、ガラス母材30に対して複数の凹部38を同時に形成することができるため、生産効率が良い。また、凹部30を形成した後に、カバーガラス10の端面を形成することにより機械加工による端面の研磨量を抑制することができる。凹部38を機械加工で形成する場合、研磨処理を行う総体積が大きくなってしまうため、効率の悪い処理となってしまう。また、機械加工ではガラス基板に細かな傷が発生してしまい、カバーガラス10の強度が低下してしまうおそれが高い。本実施形態では、エッチング処理で凹部38を形成するため、カバーガラス10の強度の低下を抑制することができる。   In the present embodiment, the curved portion 18 can be formed on the peripheral edge of the cover glass 10 by combining the etching process and the machining. Since the etching process can simultaneously form a plurality of recesses 38 in the glass base material 30, the production efficiency is high. In addition, by forming the end surface of the cover glass 10 after forming the concave portion 30, the amount of polishing of the end surface by machining can be suppressed. In the case where the concave portion 38 is formed by machining, the total volume for performing the polishing process is increased, which results in an inefficient process. Further, in machining, fine scratches are generated on the glass substrate, and the strength of the cover glass 10 is likely to be reduced. In this embodiment, since the recessed part 38 is formed by an etching process, the fall of the intensity | strength of the cover glass 10 can be suppressed.

ここから、カバーガラス10の他の製造方法について、図6〜図8を用いて説明する。本実施形態では、凹部38を形成した後のガラス母材30の分断処理をエッチングによって行う方法について説明する。まず、凹部38が形成されたガラス母材30に対して、再び保護フィルム32を両主面に被覆する。この際、凹部38の形成時に使用した保護フィルム32は、一旦剥離した後に新たな保護フィルム32を被覆し直すことが好ましい。   From here, the other manufacturing method of the cover glass 10 is demonstrated using FIGS. In the present embodiment, a method for performing the cutting process of the glass base material 30 after forming the recess 38 by etching will be described. First, the protective film 32 is again coated on both main surfaces of the glass base material 30 in which the recesses 38 are formed. At this time, it is preferable that the protective film 32 used at the time of forming the concave portion 38 is re-coated with a new protective film 32 after being once peeled off.

続いて、切断予定線に沿って保護フィルム32にパターニング処理を行う。この際、第1の主面34に形成される切断予定線401の幅は、凹部38が形成されている第2の主面36側に形成される切断予定線402よりも狭くなるように形成される。切断予定線401および切断予定線402の幅の差は、ガラス母材30の板厚に対して5〜60%の範囲で狭くなるように調整されることが好ましい。エッチング処理でガラス基板を分断する場合、略垂直の端面に凸状の突起部が形成されたような端面になるが、パターニングの幅を調整することにより、端面の傾斜角度や突起部の位置をずらすことが可能になる。パターニング処理は、上述の同様にレーザ装置やフォトリソグラフィによって行うことが可能である。   Subsequently, a patterning process is performed on the protective film 32 along the planned cutting line. At this time, the width of the planned cutting line 401 formed on the first main surface 34 is formed to be narrower than the planned cutting line 402 formed on the second main surface 36 side where the recess 38 is formed. Is done. The width difference between the planned cutting line 401 and the planned cutting line 402 is preferably adjusted to be narrow within a range of 5 to 60% with respect to the plate thickness of the glass base material 30. When the glass substrate is divided by the etching process, it becomes an end face that has a convex protrusion formed on a substantially vertical end face, but by adjusting the patterning width, the inclination angle of the end face and the position of the protrusion can be adjusted. It becomes possible to shift. The patterning process can be performed by a laser device or photolithography in the same manner as described above.

パターニング処理が行われたガラス母材30は、エッチング処理によって分断される。エッチング処理は、上述のエッチング処理と同様に少なくともフッ酸を含むエッチング液とガラス母材30を接触させることによって行われる。エッチング処理を行うことで、図7(A)〜図7(C)に示すように断面形状が変化しながら、ガラス母材30の分断が進行する。図7(A)は、エッチング処理開始直後のガラス母材30の分断面の様子を示す図面である。保護フィルム32のパターニングの幅が広い第1の主面34の方が第2の主面36よりも板厚方向に対するエッチングが進行している。エッチング処理は、第1の主面34と第2の主面36で同時に進行していくが、切断予定線の幅が広い第1の主面34の方がエッチングの進行が速い。   The glass base material 30 on which the patterning process has been performed is divided by an etching process. The etching process is performed by bringing the glass base material 30 into contact with an etching solution containing at least hydrofluoric acid as in the above-described etching process. By performing the etching process, the cutting of the glass base material 30 proceeds while the cross-sectional shape changes as shown in FIGS. 7 (A) to 7 (C). FIG. 7A is a drawing showing a state of a divided section of the glass base material 30 immediately after the start of the etching process. The first main surface 34 having a wider patterning width of the protective film 32 is more etched in the plate thickness direction than the second main surface 36. The etching process proceeds simultaneously on the first main surface 34 and the second main surface 36, but the first main surface 34 having a wider width of the planned cutting line has a faster etching progress.

図7(B)は、図7(A)よりもさらにエッチングが進行し、ガラス母材30が分断された直後の状態を示す図である。分断面42は、板厚方向において第2の主面36側に突起部46が形成される。また、分断面42の傾斜角度は、エッチング処理により形成されているため、凹部38の傾斜角度に近くなる。図7(C)は、図7(B)よりもエッチングが進行し、完全に分断された状態を示す図である。突起部46の頂部が丸みを帯びたような形状になる。   FIG. 7B is a view showing a state immediately after the etching proceeds further than in FIG. 7A and the glass base material 30 is divided. The dividing surface 42 is formed with a protrusion 46 on the second main surface 36 side in the thickness direction. Further, the inclination angle of the dividing surface 42 is close to the inclination angle of the recess 38 because it is formed by etching. FIG. 7C is a diagram illustrating a state in which etching has progressed more than FIG. 7B and is completely divided. The top of the protrusion 46 has a rounded shape.

エッチングによりガラス母材30から個片に分断されたカバーガラス10は、保護フィルム32を剥離した後に機械研磨によって分断面42を研磨処理する。機械研磨は、上述の端面研磨処理と同様にスピンドル等の公知の研磨装置によって行われる。機械研磨によって突起部46を含む分断面42が研磨され(図8(B)参照)、カバーガラス10は、最終的に凹部38の側面と分断面42が略水平になるように構成される。エッチング処理によりガラス母材30を分断することで、分断面42の形状が凹部38の側面の形状に近い形状となっているため、スクライブブレークで形成された端面よりも端面加工の研磨量を抑制することができ、より効率的な生産を行うことが可能になる。   The cover glass 10 that has been divided into individual pieces from the glass base material 30 by etching is subjected to a polishing process on the dividing surface 42 by mechanical polishing after the protective film 32 is peeled off. The mechanical polishing is performed by a known polishing apparatus such as a spindle similarly to the above-described end surface polishing process. The dividing surface 42 including the protrusion 46 is polished by mechanical polishing (see FIG. 8B), and the cover glass 10 is finally configured so that the side surface of the recess 38 and the dividing surface 42 are substantially horizontal. By dividing the glass base material 30 by etching, the shape of the dividing surface 42 is close to the shape of the side surface of the recess 38, so that the polishing amount of the end surface processing is suppressed more than the end surface formed by the scribe break. It becomes possible to perform more efficient production.

上述の実施形態の説明は、すべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上述の実施形態ではなく、特許請求の範囲によって示される。さらに、本発明の範囲には、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   The above description of the embodiment is to be considered in all respects as illustrative and not restrictive. The scope of the present invention is shown not by the above embodiments but by the claims. Furthermore, the scope of the present invention is intended to include all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of the claims.

10‐カバーガラス
12‐第1の主面
14‐第2の主面
16‐平面部
18‐湾曲部
30‐ガラス母材
32‐保護フィルム
38‐凹部
40‐切断予定線
42‐分断面
10-cover glass 12-first main surface 14-second main surface 16-planar portion 18-curved portion 30-glass base material 32-protective film 38-recess 40-planned cutting line 42-section

Claims (4)

単一のガラス部材で構成されたカバーガラスであって、平坦状の中央部と、前記中央部の周囲に配置された周縁部であって第1の主面から第2の主面側に湾曲している湾曲部を有する周縁部とを備えたカバーガラスの製造方法であって、
少なくとも耐エッチング性を有する保護層で前記カバーガラスを多面取りするためのガラス基板の両主面を被覆する保護ステップと、
前記ガラス基板の第2の主面において、前記平面部に対応する領域の前記保護層を除去する第1のパターニングステップと、
前記ガラス基板をエッチング液に接触させることで、前記保護層が除去された領域に凹部を形成する第1のエッチングステップと、
カバーガラスの輪郭部に対応する切断予定線に沿って前記ガラス基板を分断する分断ステップと、
前記分断ステップにおいて形成された分断面が前記凹部の側面部と略平行になるように研磨する端面形成ステップと、
を含むことを特徴とするカバーガラスの製造方法。
A cover glass composed of a single glass member, which is a flat central portion and a peripheral portion disposed around the central portion, and is curved from the first main surface to the second main surface side. A cover glass manufacturing method comprising a peripheral portion having a curved portion,
A protective step of covering both main surfaces of the glass substrate for multi-chatting the cover glass with a protective layer having at least etching resistance;
A first patterning step of removing the protective layer in a region corresponding to the planar portion on the second main surface of the glass substrate;
A first etching step of forming a recess in a region where the protective layer has been removed by bringing the glass substrate into contact with an etching solution;
A cutting step of cutting the glass substrate along a planned cutting line corresponding to a contour portion of the cover glass;
An end face forming step for polishing so that the divided cross section formed in the dividing step is substantially parallel to the side surface of the recess;
The manufacturing method of the cover glass characterized by including.
前記分断ステップにおいて、分断面が前記ガラス基板の主面と略垂直になるように分断されることを特徴とする請求項1に記載のカバーガラスの製造方法。   The method for manufacturing a cover glass according to claim 1, wherein in the dividing step, the dividing surface is divided so as to be substantially perpendicular to a main surface of the glass substrate. 前記分断ステップは、前記ガラス基板の両主面に被覆された前記保護層の一部を切断予定線に沿って除去する第2のパターニングステップと、
前記ガラス基板とエッチング液を接触させることにより切断予定線に沿って前記ガラス基板を分断する第2のエッチングステップと、
を含んでおり、
前記第1の主面に形成された切断予定線の幅が前記第2の主面に形成された切断予定線の幅よりも大きいことを特徴とする請求項1に記載のカバーガラスの製造方法。
The dividing step includes a second patterning step of removing a part of the protective layer covered on both main surfaces of the glass substrate along a planned cutting line;
A second etching step of dividing the glass substrate along a planned cutting line by contacting the glass substrate with an etching solution;
Contains
The cover glass manufacturing method according to claim 1, wherein a width of the planned cutting line formed on the first main surface is larger than a width of the planned cutting line formed on the second main surface. .
前記第2のエッチングステップは、前記第1の主面と前記第2の主面に対して同時にエッチング液を接触させることを特徴とする請求項3に記載のカバーガラスの製造方法。   The method for manufacturing a cover glass according to claim 3, wherein in the second etching step, an etching solution is simultaneously brought into contact with the first main surface and the second main surface.
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