JP2013087030A - Method for producing cover glass for portable device - Google Patents

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伴幸 後藤
Masatomo Shibui
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a cover glass for portable devices capable of improving dimensional accuracy of a glass substrate after chemical reinforcing treatment.SOLUTION: The method for producing the cover glass for portable devices comprises a shape forming step of forming sheet glass to a glass substrate having the form of the cover glass for portable devices by isotropic etching of the sheet glass and a chemical reinforcing step of performing chemical reinforcing of the glass substrate. A first correspondence relationship between the thickness of the sheet glass and the dimension of the glass substrate extracted by etching in the shape forming step, and a second correspondence relationship between the chemical reinforcing condition and the elongation of the dimension of the glass substrate caused by chemical reinforcing under the chemical reinforcing condition in the chemical reinforcing step are grasped beforehand, and the glass substrate is chemically reinforced in the chemical reinforcing step under a chemical toughening condition to make the dimension of the chemically reinforced glass substrate coincide with the demanded dimension of the cover glass for the portable device by referring the first and the second correspondence relationships based on the thickness of the sheet glass.

Description

本発明は、携帯電話やスマートフォン、PDA(Personal Digital Assistant)などの携帯端末装置の表示画面の保護に用いられる携帯機器用カバーガラスの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a cover glass for a mobile device used for protecting a display screen of a mobile terminal device such as a mobile phone, a smartphone, or a PDA (Personal Digital Assistant).

携帯電話やスマートフォン、PDAなどの携帯端末装置では、液晶などの表示装置を保護するために、表示装置の外側に透明な保護板が配置される。保護板としては、アクリルなどの樹脂が多く用いられているが、樹脂の保護板は撓み易いため、板厚を厚くしたり、表示装置との間隙を多く取ったりする必要がある。   In a portable terminal device such as a mobile phone, a smartphone, or a PDA, a transparent protective plate is disposed outside the display device in order to protect the display device such as a liquid crystal. As the protective plate, a resin such as acrylic is often used. However, since the protective plate made of resin is easy to bend, it is necessary to increase the thickness of the plate or to leave a large gap with the display device.

そこで、携帯端末装置の表示装置の保護のためには、ガラス素材からなるカバーガラスを用いることが好ましい。ガラスは、硬度が高いために撓みが少なく、薄型化に寄与することができる。   Therefore, in order to protect the display device of the portable terminal device, it is preferable to use a cover glass made of a glass material. Since glass has high hardness, there is little bending and it can contribute to thickness reduction.

一般に、カバーガラスは、大きい一枚板の板状ガラスから任意の形状のガラス基板を複数枚抜き出し、この抜き出されたガラス基板を加工することにより製造される。これにより、カバーガラスを1枚1枚製造する場合よりも高い生産性が得られる。板状ガラスからガラス基板を抜き出す方法としては、機械加工だけでなく、エッチングを用いた方法が知られている(例えば、特許文献1)。   In general, a cover glass is manufactured by extracting a plurality of glass substrates of an arbitrary shape from a large single plate-like glass and processing the extracted glass substrates. Thereby, productivity higher than the case where one cover glass is manufactured one by one is obtained. As a method for extracting a glass substrate from plate-like glass, not only machining but also a method using etching is known (for example, Patent Document 1).

特許文献1では、レジストパターンを主表面に形成した板状ガラスをエッチャントでエッチングして、板状ガラスから所望の形状のガラス基板を抜き出している。このようにエッチングで外形を形成することにより、端面は鏡面となって非常に高い平滑性を有し、機械加工では必ず生じるマイクロクラックが生じない。このため、携帯端末用カバーガラスに求められる高い強度を得ることができる。また、機械加工では困難な複雑な形状であっても、エッチングであれば容易に加工することができるという利点もある。   In Patent Document 1, a plate-like glass having a resist pattern formed on the main surface is etched with an etchant, and a glass substrate having a desired shape is extracted from the plate-like glass. By forming the outer shape by etching in this way, the end surface becomes a mirror surface and has very high smoothness, and microcracks that are inevitably generated in machining are not generated. For this reason, the high intensity | strength calculated | required by the cover glass for portable terminals can be obtained. Further, there is an advantage that even a complicated shape difficult to machine can be easily processed by etching.

しかしながら、ガラスは割れるという特性を有しているため、強度を向上させる必要がある。これに対して、特許文献2では、カバーガラスの外形を抜き出した後に、抜き出されたガラス基板をイオン交換処理により化学強化することが提案されている。特許文献2によれば、化学強化して表面に圧縮応力が作用するイオン交換層を形成することで、撓みを抑え、また破損し難い携帯端末用のカバーガラスを製造できるとしている。また、特許文献2には、化学強化のために、例えば、硝酸カリウムや硝酸ナトリウムなどの化学強化処理液を用い、温度400℃〜550℃で処理を行うことが記載されている。   However, since glass has the property of breaking, it is necessary to improve the strength. On the other hand, Patent Document 2 proposes to chemically strengthen the extracted glass substrate by ion exchange after extracting the outer shape of the cover glass. According to Patent Document 2, it is said that a cover glass for a portable terminal that is suppressed in bending and hardly damaged can be manufactured by chemically strengthening and forming an ion exchange layer on which a compressive stress acts. Patent Document 2 describes that chemical strengthening is performed at a temperature of 400 ° C. to 550 ° C. using a chemical strengthening treatment liquid such as potassium nitrate or sodium nitrate for chemical strengthening.

特開2009−167086号公報JP 2009-167086 A 特開2007−99557号公報JP 2007-99557 A

ところで、携帯機器の需要増加に伴い、携帯機器用のカバーガラスの需要も急増している。このような背景の下、携帯機器用カバーガラスには、例えば携帯機器の表示画面を保護するために強度を高めるだけでなく、より高い寸法精度も求められている。このような要求を満たすべく、本発明者らは、板状ガラスから等方性エッチングにより小片のガラス基板を抜き出した後、化学強化を行い、携帯機器用カバーガラスを製造した。しかしながら、製造された携帯機器用カバーガラスは、製品として要求される所望の寸法を満たさない場合があるという問題が発生した。   By the way, with the increase in demand for portable devices, the demand for cover glasses for portable devices is also increasing rapidly. Under such a background, the cover glass for mobile devices is required not only to increase the strength but also to have higher dimensional accuracy, for example, to protect the display screen of the mobile device. In order to satisfy such a requirement, the present inventors extracted a small glass substrate from a sheet glass by isotropic etching, and then chemically reinforced to produce a cover glass for portable devices. However, the produced cover glass for portable devices has a problem that it may not satisfy the desired dimensions required as a product.

本発明は、上記の課題に鑑み、化学強化後のガラス基板の寸法精度を向上できる携帯機器用カバーガラスの製造方法を提供することを目的としている。   An object of this invention is to provide the manufacturing method of the cover glass for portable devices which can improve the dimensional accuracy of the glass substrate after chemical strengthening in view of said subject.

本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意検討した。その結果、板状ガラスの主表面に形成されたレジストパターンを用いて板状ガラスを等方性エッチングして、小片のガラス基板を抜き出す場合に、抜き出されたガラス基板の寸法が板状ガラスの板厚に応じて変化することを見出した。また、高温の化学強化処理液にガラス基板を浸漬する化学強化に伴い、ガラス基板の寸法が伸びることを見出した。さらに検討した結果、本発明者らは、板状ガラスの板厚と等方性エッチングにより抜き出されたガラス基板の寸法との対応関係、および、化学強化条件とこの化学強化条件で化学強化を行ったガラス基板の寸法の伸びとの対応関係を参照しつつ、板状ガラスの板厚に基づいて化学強化条件を決定することで、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させるに至った。   The present inventors diligently studied to solve the above problems. As a result, when the glass sheet is isotropically etched using the resist pattern formed on the main surface of the glass sheet to extract a small glass substrate, the size of the glass substrate extracted is the glass sheet. It has been found that it varies depending on the thickness of the plate. Moreover, it discovered that the dimension of a glass substrate extended with the chemical strengthening which immerses a glass substrate in a high temperature chemical strengthening process liquid. As a result of further investigation, the present inventors have found that the correspondence between the plate thickness of the glass sheet and the dimensions of the glass substrate extracted by isotropic etching, and the chemical strengthening condition and the chemical strengthening condition. While determining the chemical strengthening conditions based on the plate thickness of the sheet glass while referring to the corresponding relationship with the elongation of the dimensions of the glass substrate, the inventors found that the above problems can be solved and completed the present invention. It was.

上記課題を解決するために、本発明にかかる携帯機器用カバーガラスの製造方法の代表的な構成は、板状ガラスの主表面に形成されたレジストパターンを用いて板状ガラスを等方性エッチングすることにより、携帯機器用カバーガラス形状のガラス基板に加工する形状加工工程と、ガラス基板を化学強化処理液に接触させることにより、ガラス基板の中に含まれる一部のイオンを、そのイオンよりも大きなイオン半径である化学強化処理液中のイオンとイオン交換することによりガラス基板を化学強化する化学強化工程と、を含む携帯機器用カバーガラスの製造方法であって、形状加工工程における、板状ガラスの板厚とエッチングにより抜き出されたガラス基板の寸法との第1の対応関係と、化学強化工程における、化学強化条件と化学強化条件で化学強化を行った場合におけるガラス基板の寸法の伸びとの第2の対応関係とを予め把握しておき、化学強化工程では、板状ガラスの板厚に基づいて、第1の対応関係および第2の対応関係を参照して、化学強化工程後のガラス基板の寸法が携帯機器用カバーガラスに求められる寸法になる化学強化条件で、ガラス基板を化学強化することを特徴とする。   In order to solve the above-mentioned problems, a typical configuration of a method for manufacturing a cover glass for a portable device according to the present invention is an isotropic etching of a sheet glass using a resist pattern formed on the main surface of the sheet glass. By performing the shape processing step for processing into a glass substrate in the shape of a cover glass for portable devices, and by bringing the glass substrate into contact with the chemical strengthening treatment liquid, some ions contained in the glass substrate are obtained from the ions. A method of manufacturing a cover glass for a portable device, comprising: a chemical strengthening step for chemically strengthening a glass substrate by ion exchange with ions in a chemical strengthening treatment liquid having a large ion radius, The first correspondence between the thickness of the glass sheet and the dimensions of the glass substrate extracted by etching, the chemical strengthening conditions and the chemical strength in the chemical strengthening process The second correspondence relationship with the elongation of the dimension of the glass substrate when chemical strengthening is performed in advance is grasped in advance, and in the chemical strengthening step, the first correspondence relationship is based on the thickness of the sheet glass. With reference to the second correspondence relationship, the glass substrate is chemically strengthened under a chemical strengthening condition in which the size of the glass substrate after the chemical strengthening step becomes a size required for the cover glass for portable devices.

ここで、製品として要求される携帯機器用カバーガラスの寸法は、製品毎に決められている。しかし、板状ガラスの板厚に起因して、形状加工工程で加工されたガラス基板の寸法が変化してしまう。そこで、上記構成では、化学強化条件を変更することで、ガラス基板の寸法精度を向上させている。   Here, the dimension of the cover glass for portable devices required as a product is determined for each product. However, due to the plate thickness of the plate glass, the dimension of the glass substrate processed in the shape processing step changes. Therefore, in the above configuration, the dimensional accuracy of the glass substrate is improved by changing the chemical strengthening conditions.

すなわち、形状加工工程では、板状ガラスの板厚が異なると、等方性エッチングにより加工されたガラス基板の寸法が変わる。また、化学強化工程でも化学強化条件により、ガラス基板の寸法が変わる。そこで上記構成によれば、板状ガラスの板厚と等方性エッチングにより抜き出されたガラス基板の寸法との第1の対応関係と、化学強化条件とガラス基板の寸法の伸びとの第2の対応関係とを予め把握しておく。なお、第1の対応関係は、レジストパターンの形状とエッチング条件は一定であるという前提の下で成立している。その後で、化学強化工程では、板状ガラスの板厚に基づいて、第1の対応関係および第2の対応関係を参照して、化学強化後の寸法が携帯機器用カバーガラスに求められる寸法になるような化学強化条件で、ガラス基板を化学強化する。このように、板状ガラスの板厚に起因して生じる、等方性エッチングにより抜き出されたガラス基板の寸法誤差を、化学強化によって調整できるので、化学強化後のガラス基板の寸法精度が向上する。   That is, in the shape processing step, when the plate glass has a different thickness, the dimensions of the glass substrate processed by isotropic etching change. In the chemical strengthening process, the dimensions of the glass substrate vary depending on the chemical strengthening conditions. Therefore, according to the above configuration, the first correspondence relationship between the plate thickness of the glass sheet and the dimension of the glass substrate extracted by isotropic etching, and the second relationship between the chemical strengthening condition and the elongation of the glass substrate dimension. Are previously grasped. The first correspondence relationship is established on the assumption that the resist pattern shape and etching conditions are constant. Thereafter, in the chemical strengthening step, referring to the first correspondence relationship and the second correspondence relationship based on the plate thickness of the sheet glass, the dimension after chemical strengthening is the dimension required for the cover glass for portable devices. The glass substrate is chemically strengthened under such chemical strengthening conditions. In this way, the dimensional error of the glass substrate extracted by isotropic etching caused by the plate thickness of the plate glass can be adjusted by chemical strengthening, so the dimensional accuracy of the glass substrate after chemical strengthening is improved. To do.

ガラス基板は、Liイオンを含有するアルミノシリケートガラスであり、化学強化条件とは、化学強化処理液中に含まれるLiイオンの濃度であると好ましい。この場合に、アルミノシリケートガラスでは、ガラスに含まれるLiイオンがNaイオンと交換され、NaイオンがKイオンと交換されることによって化学強化される。したがって、化学強化処理液に含まれるLiイオンの濃度が高いほど、化学強化処理液が疲労していて、化学強化の程度が小さくなる。そこで、例えば等方性エッチング後のガラス基板の寸法が、所望の寸法よりも小さいほど、Liイオンの濃度を低くすることで、化学強化の際のイオン交換度合いを高めて、化学強化によるガラス基板の寸法の伸びを大きくすることができる。このようにして、化学強化後のガラス基板の寸法精度を向上できる。   The glass substrate is an aluminosilicate glass containing Li ions, and the chemical strengthening condition is preferably the concentration of Li ions contained in the chemical strengthening treatment liquid. In this case, in the aluminosilicate glass, Li ions contained in the glass are exchanged with Na ions, and Na ions are exchanged with K ions to be chemically strengthened. Therefore, the higher the concentration of Li ions contained in the chemical strengthening treatment liquid, the more fatigued the chemical strengthening treatment liquid, and the smaller the degree of chemical strengthening. Therefore, for example, by reducing the Li ion concentration as the dimension of the glass substrate after isotropic etching is smaller than the desired dimension, the degree of ion exchange during chemical strengthening is increased, and the glass substrate by chemical strengthening. The elongation of the dimension can be increased. Thus, the dimensional accuracy of the glass substrate after chemical strengthening can be improved.

化学強化条件は、ガラス基板を化学強化処理液と接触させる時間であると好ましい。この場合には、例えばガラス基板を化学強化処理液と接触させる時間を長くすれば、化学強化の際のイオン交換度合いを高くすることができ、化学強化によるガラス基板の寸法の伸びを大きくすることができる。他方、ガラス基板を化学強化処理液と接触させる時間を短くすれば、化学強化の際のイオン交換度合いを低くすることができ、化学強化によるガラス基板の寸法の伸びを小さくすることができる。このようにして、化学強化後のガラス基板の寸法精度を向上できる。   The chemical strengthening condition is preferably a time for bringing the glass substrate into contact with the chemical strengthening treatment liquid. In this case, for example, if the time for contacting the glass substrate with the chemical strengthening treatment liquid is lengthened, the degree of ion exchange during chemical strengthening can be increased, and the elongation of the glass substrate due to chemical strengthening can be increased. Can do. On the other hand, if the time during which the glass substrate is brought into contact with the chemical strengthening treatment solution is shortened, the degree of ion exchange during chemical strengthening can be reduced, and the elongation of the dimension of the glass substrate due to chemical strengthening can be reduced. Thus, the dimensional accuracy of the glass substrate after chemical strengthening can be improved.

化学強化条件は、化学強化処理液の温度であると好ましい。この場合には、例えば化学強化処理液の温度を高くすれば、化学強化の際のイオン交換度合いを高くすることができ、化学強化によるガラス基板の寸法の伸びを大きくすることができる。他方、化学強化処理液の温度を低くすれば、化学強化の際のイオン交換度合いを低くすることができ、化学強化によるガラス基板の寸法の伸びを小さくすることができる。このようにして、化学強化後のガラス基板の寸法精度を向上できる。   The chemical strengthening condition is preferably the temperature of the chemical strengthening treatment solution. In this case, for example, if the temperature of the chemical strengthening treatment liquid is increased, the degree of ion exchange during chemical strengthening can be increased, and the elongation of the dimension of the glass substrate due to chemical strengthening can be increased. On the other hand, if the temperature of the chemical strengthening treatment liquid is lowered, the degree of ion exchange during chemical strengthening can be lowered, and the elongation of the dimension of the glass substrate due to chemical strengthening can be reduced. Thus, the dimensional accuracy of the glass substrate after chemical strengthening can be improved.

本発明によれば、化学強化後のガラス基板の寸法精度を向上できる携帯機器用カバーガラスの製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the cover glass for portable devices which can improve the dimensional accuracy of the glass substrate after chemical strengthening can be provided.

本実施形態における携帯機器用カバーガラスの製造方法を適用したガラス基板を説明する図である。It is a figure explaining the glass substrate to which the manufacturing method of the cover glass for portable devices in this embodiment is applied. 本実施形態における携帯機器用カバーガラスの製造システムの機能ブロック図である。It is a functional block diagram of the manufacturing system of the cover glass for portable devices in this embodiment. 等方性エッチングで抜き出されたガラス基板の断面を示す図である。It is a figure which shows the cross section of the glass substrate extracted by isotropic etching.

以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値などは、発明の理解を容易とするための例示に過ぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本発明に直接関係のない要素は図示を省略する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The dimensions, materials, and other specific numerical values shown in the embodiments are merely examples for facilitating understanding of the invention, and do not limit the present invention unless otherwise specified. In the present specification and drawings, elements having substantially the same function and configuration are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted, and elements not directly related to the present invention are not illustrated. To do.

図1は、本実施形態における携帯機器用カバーガラスの製造方法を適用したガラス基板を説明する図である。ガラス基板100は、携帯端末の表示画面を保護する携帯機器用カバーガラス(以下、カバーガラス)として用いられる。ガラス基板100は、矩形の外形部分102を有する板状である。また、ガラス基板100には、マイクやスピーカー用の開口104が設けられている。ガラス基板100は、必要に応じて例えば、印刷等の加飾を施すことでカバーガラスとなる。カバーガラスは、携帯端末のフレーム等に装着され、表示画面を保護することから、強度だけでなく高い寸法精度が求められている。   FIG. 1 is a view for explaining a glass substrate to which a method for manufacturing a cover glass for a portable device in the present embodiment is applied. The glass substrate 100 is used as a cover glass for a portable device (hereinafter referred to as a cover glass) that protects a display screen of a mobile terminal. The glass substrate 100 has a plate shape having a rectangular outer portion 102. The glass substrate 100 is provided with an opening 104 for a microphone or a speaker. The glass substrate 100 becomes a cover glass by performing decoration such as printing as necessary. Since the cover glass is attached to a frame of a portable terminal and the like to protect the display screen, not only strength but also high dimensional accuracy is required.

本実施形態では、カバーガラスを製造する際に、後述するエッチング工程および化学強化工程でガラス基板の寸法が変化することに着目し、化学強化後のガラス基板の寸法が製品として要求される所望の目標寸法となるような高い寸法精度を得ることを目的としている。以下、エッチング工程および化学強化工程を含む一連の工程を実施可能なカバーガラスの製造システムを説明する。   In this embodiment, when manufacturing the cover glass, paying attention to the dimensions of the glass substrate being changed in the etching process and the chemical strengthening process described later, the dimensions of the glass substrate after the chemical strengthening are desired as a desired product. The purpose is to obtain a high dimensional accuracy that is the target dimension. Hereinafter, a cover glass manufacturing system capable of performing a series of steps including an etching step and a chemical strengthening step will be described.

図2は、本実施形態における携帯機器用カバーガラスの製造システムの機能ブロック図である。制御システム110は、大きい一枚板の板状ガラス120から小片のガラス基板を抜き出した後、化学強化を行い、カバーガラスに用いられる上記ガラス基板100を製造する。製造システム110は、エッチング加工装置130と、化学強化処理槽140と、板厚測定装置150と、強化条件決定装置160と、把握装置170と、第1テーブルおよび第2テーブルを記憶するメモリ180とを備えている。   FIG. 2 is a functional block diagram of a system for manufacturing a cover glass for portable devices in the present embodiment. The control system 110 extracts the small glass substrate from the large sheet glass 120 and then chemically strengthens the glass substrate 100 used for the cover glass. The manufacturing system 110 includes an etching processing device 130, a chemical strengthening treatment tank 140, a plate thickness measuring device 150, a strengthening condition determining device 160, a grasping device 170, and a memory 180 that stores a first table and a second table. It has.

板状ガラス120は、溶融ガラスから直接シート状に成型したもの、あるいは、ある厚さに成型されたガラス体を所定の厚さに成型し、主表面を研磨して所定の厚さに仕上げたものを使用することができる。特に、溶融ガラスから直接シート状に成型する場合には、板状ガラス120の主表面がマイクロクラックのない表面状態となるため好ましい。溶融ガラスから直接シート状に成型する方法としては、ダウンドロー法、フロート法などが挙げられる。また、プレス法によって板状ガラスを形成してもよい。   The sheet glass 120 is formed directly from a molten glass into a sheet shape, or a glass body molded to a certain thickness is molded to a predetermined thickness, and the main surface is polished to a predetermined thickness. Things can be used. In particular, when molding directly from molten glass into a sheet, it is preferable because the main surface of the sheet glass 120 is in a surface state free from microcracks. Examples of the method for directly forming a sheet from molten glass include a downdraw method and a float method. Moreover, you may form plate glass by a press method.

板状ガラス120としては、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラス等が挙げられ、強い圧縮応力を形成できる観点からアルミノシリケートガラスがより好ましい。特に、SiO、Al、LiO及び/又はNaOを含有するアルミノシリケートガラスであることが好ましい。Alは、後述する化学強化においてイオン交換性能を向上させるために有用である。LiOは、化学強化においてNa+イオンとイオン交換させるための成分である。NaOは、化学強化においてK+イオンとイオン交換させるための成分である。ZrOは、機械的強度を高めるために有用である。 Examples of the plate glass 120 include aluminosilicate glass, soda lime glass, borosilicate glass, and the like, and aluminosilicate glass is more preferable from the viewpoint of forming a strong compressive stress. In particular, an aluminosilicate glass containing SiO 2 , Al 2 O 3 , Li 2 O and / or Na 2 O is preferable. Al 2 O 3 is useful for improving ion exchange performance in chemical strengthening described later. Li 2 O is a component for ion exchange with Na + ions in chemical strengthening. Na 2 O is a component for ion exchange with K + ions in chemical strengthening. ZrO 2 is useful for increasing the mechanical strength.

エッチング加工装置130は、板状ガラス120から等方性エッチングによって、カバーガラス形状の小片のガラス基板を抜き出すエッチング工程を行う。エッチング工程では、板状ガラス120の主表面にレジストパターンを形成し、このレジストパターンを用いて、エッチャントでエッチングして、小片のガラス基板の外形および開口を形成する。エッチングにより外形および開口が形成されることで、外形の端面および開口の内壁面は鏡面で非常に高い平滑性を有し、機械加工では必ず生じるマイクロクラックが生じず、カバーガラスに求められる高い強度を得ることができる。また、機械加工では困難な複雑な形状であっても、容易に形成することができる。   The etching processing apparatus 130 performs an etching process of extracting a small glass substrate having a cover glass shape from the sheet glass 120 by isotropic etching. In the etching step, a resist pattern is formed on the main surface of the plate-like glass 120, and the resist pattern is used to etch with an etchant to form the outer shape and opening of the small glass substrate. By forming the outer shape and opening by etching, the end face of the outer shape and the inner wall surface of the opening have a very high smoothness on the mirror surface, and the microcrack that always occurs in machining does not occur, and the high strength required for the cover glass Can be obtained. Moreover, even a complicated shape difficult to machine can be easily formed.

レジストパターンを形成する際には、まず、板状ガラス120の両主表面上にレジスト材をコーティングする。レジスト材としては、エッチングする際に使用するエッチャントに対して耐性を有する材料であればよい。一例として、フッ酸を含む水溶液の湿式エッチング(ウェットエッチング)による等方性エッチングで板状ガラス120を食刻する場合には、フッ酸耐性に優れたレジスト材などを用いることができる。   When forming a resist pattern, first, a resist material is coated on both main surfaces of the sheet glass 120. Any resist material may be used as long as it is resistant to an etchant used for etching. As an example, when the glass sheet 120 is etched by isotropic etching by wet etching (wet etching) of an aqueous solution containing hydrofluoric acid, a resist material having excellent hydrofluoric acid resistance can be used.

次に、所望のマスクパターンを有するフォトマスクを板状ガラス120の両主表面と平行に配置して、レジスト材の両面から光を照射して露光する。露光後のレジスト材を現像すると、エッチングされる領域以外の領域(残る領域)にレジストパターンが形成される(ネガ型)。   Next, a photomask having a desired mask pattern is arranged in parallel with both main surfaces of the plate glass 120, and exposure is performed by irradiating light from both sides of the resist material. When the exposed resist material is developed, a resist pattern is formed in a region other than the region to be etched (remaining region) (negative type).

ウェットエッチングに使用するエッチャントは、板状ガラス120を食刻できるものであればよい。例えば、フッ酸を主成分とする酸性溶液や、フッ酸に硫酸、硝酸、塩酸、ケイフッ酸のうち少なくとも一つの酸を含む混酸などを用いることができる。   The etchant used for wet etching may be any material that can etch the plate-like glass 120. For example, an acidic solution containing hydrofluoric acid as a main component or a mixed acid containing at least one of sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and silicic hydrofluoric acid in hydrofluoric acid can be used.

ウェットエッチングでは、板状ガラス120は等方的にエッチングされる。したがってレジストパターンによってマスクされていない領域は、両面から溝が掘り下げられるように溶解し、やがて板厚のほぼ中央部で両側の溝同士が繋がることによって、ガラス基板の外形ないし開口が形成される。このようにして、エッチング加工装置130によるエッチング工程が実施される。   In the wet etching, the plate glass 120 is etched isotropically. Therefore, the region not masked by the resist pattern is melted so that the grooves are dug down from both sides, and eventually the grooves on both sides are connected at approximately the center of the plate thickness, thereby forming the outer shape or opening of the glass substrate. In this way, the etching process by the etching processing apparatus 130 is performed.

本発明者らは、等方性エッチングでは板状ガラス120の板厚が異なると、抜き出されたガラス基板の寸法(外形寸法)が変わることに着目した(図3参照)。図3は、等方性エッチングで抜き出されたガラス基板の断面を示す図である。ここでは、板状ガラス120がウェットエッチングにより等方的にエッチングされた場合のガラス基板100A、100Bの断面形状を示している。図中、ガラス基板100A、100Bの両主表面に形成されたレジストマスク204a、204bを斜線で示している。ここでは、一種類のフォトマスクを用いた露光工程で形成されたレジストパターンの上記レジストマスク204a、204bの主表面の寸法(主表面方向の幅)を、それぞれLa、Lb(但しLa=Lb)で示している。さらに、ガラス基板100A、100Bの板厚を、図示のようにそれぞれDa、Db(但し、Da<Db)で示している。   The present inventors paid attention to the fact that the dimensions (outside dimensions) of the extracted glass substrate change when the plate glass 120 is different in isotropic etching (see FIG. 3). FIG. 3 is a view showing a cross section of a glass substrate extracted by isotropic etching. Here, the cross-sectional shapes of the glass substrates 100A and 100B when the plate-like glass 120 is isotropically etched by wet etching are shown. In the drawing, resist masks 204a and 204b formed on both main surfaces of the glass substrates 100A and 100B are indicated by hatching. Here, the dimensions (width in the main surface direction) of the resist masks 204a and 204b of the resist pattern formed in the exposure process using one type of photomask are La and Lb (where La = Lb), respectively. Is shown. Further, the thicknesses of the glass substrates 100A and 100B are indicated by Da and Db (where Da <Db), respectively, as shown.

ガラス基板100Aの端面は、図3(a)に示すように、中央部が外方に向かって突出した突出部106aを有していて、その突出部106aから両方の主表面側に向かって緩やかに湾曲した傾斜面106b、106cが形成されている。なお、傾斜面106b、106cと主表面との境界、および傾斜面106b、106c同士の突出部106aは、半径数十μmの丸みを帯びた形状にすることが好ましい。このような端面形状とすることで、携帯端末装置のフレーム等に当該カバーガラスを装着する際、カジリや欠けが生じることなく容易に装着することができる。また同様に、図3(b)に示すように、ガラス基板100Bの端面も等方性エッチングにより、突出部108aおよび傾斜面108b、108cが形成される。   As shown in FIG. 3A, the end surface of the glass substrate 100A has a protruding portion 106a whose central portion protrudes outward, and from the protruding portion 106a toward both main surfaces, Inclined surfaces 106b and 106c are formed. Note that the boundaries between the inclined surfaces 106b and 106c and the main surface and the protruding portions 106a between the inclined surfaces 106b and 106c preferably have a rounded shape with a radius of several tens of μm. By adopting such an end face shape, when the cover glass is attached to the frame or the like of the mobile terminal device, it can be easily attached without causing galling or chipping. Similarly, as shown in FIG. 3B, the projecting portion 108a and the inclined surfaces 108b and 108c are also formed on the end surface of the glass substrate 100B by isotropic etching.

また、ガラス基板100A、100Bの外形寸法は、それぞれ両端面の突出部106a、106a間の距離、突出部108a、108a間の距離で規定される。ここでは、ガラス基板100A、100Bの外形寸法を、図示のようにそれぞれWa、Wb(但し、Wa<Wb)で示している。   The external dimensions of the glass substrates 100A and 100B are defined by the distance between the protruding portions 106a and 106a and the distance between the protruding portions 108a and 108a on both end faces, respectively. Here, the external dimensions of the glass substrates 100A and 100B are indicated by Wa and Wb (Wa <Wb), respectively, as shown.

等方性エッチングにより抜き出されたガラス基板の外形寸法が板厚に応じて異なる理由について説明する。理由としては、板厚が大きいほどガラス基板が板状ガラスから分離するまでに時間を要すること、また、エッチング工程では、板厚の大きいガラス基板が板状ガラスから確実に分離されるように等方性エッチングの処理時間が設定されていることが挙げられる。   The reason why the external dimensions of the glass substrate extracted by isotropic etching differ depending on the plate thickness will be described. The reason is that the larger the plate thickness, the longer it takes for the glass substrate to separate from the plate glass, and the etching step ensures that the glass substrate with a large plate thickness is separated from the plate glass. For example, the processing time for the isotropic etching is set.

例えば、設定された処理時間で等方性エッチングを行った場合、板厚の小さいガラス基板100Aは分離され突出部が形成された後も、板厚の大きいガラス基板100Bが分離されるまでは引き続きエッチングされ続ける。つまり、エッチング工程では、板厚が小さいほど、突出部が形成されてからエッチングが終了するまでの時間が長くなり、端面の突出部および傾斜面がより多くエッチング処理され、結果的に基板寸法が小さくなる。なお、図3(a)および図3(b)において一点鎖線で示す複数の円弧形状は、等方性エッチングが進行する様子を模式的に示したものである。   For example, when isotropic etching is performed for a set processing time, after the glass substrate 100A having a small plate thickness is separated and the protruding portion is formed, it continues until the glass substrate 100B having a large plate thickness is separated. Continue to be etched. In other words, in the etching process, the smaller the plate thickness, the longer the time from the formation of the protruding portion to the end of etching, and the more the protruding portion and the inclined surface of the end face are etched, resulting in the substrate dimensions being reduced. Get smaller. Note that the plurality of arc shapes indicated by alternate long and short dash lines in FIG. 3A and FIG. 3B schematically show the progress of isotropic etching.

第1テーブルは、図2に示すようにメモリ180に格納されていて、例えば、板状ガラスの板厚Dと、等方性エッチングにより抜き出されたガラス基板の寸法Wとの対応関係(以下、第1の対応関係)を示す。なお、第1テーブルが示す第1の対応関係は、実施例の表1にて詳述するが、前記の理由から板状ガラスの板厚が大きくなるほど、抜き出されたガラス基板の寸法が大きくなる。また、上記の第1の対応関係は、レジストマスクの形状およびエッチング条件が一定であることが前提となる。   The first table is stored in the memory 180 as shown in FIG. 2. For example, the correspondence relationship between the plate thickness D of the plate glass and the dimension W of the glass substrate extracted by isotropic etching (hereinafter referred to as the first table). , First correspondence relationship). In addition, although the 1st correspondence which a 1st table shows is explained in full detail in Table 1 of an Example, the dimension of the extracted glass substrate becomes large, so that the plate | board thickness of plate glass becomes large from the said reason. Become. In addition, the above first correspondence relationship is based on the premise that the resist mask shape and etching conditions are constant.

エッチング後には、レジスト剥離が行われる。例えばレジスト材をガラス基板100A、100Bから剥離するための剥離液としては、KOHやNaOHなどのアルカリ溶液を用いることが好ましい。なお、レジスト材、エッチャント、剥離液の種類は、被エッチング材料である板状ガラス120の材料に応じて適宜選択することができる。   After etching, resist stripping is performed. For example, as a stripping solution for stripping the resist material from the glass substrates 100A and 100B, it is preferable to use an alkaline solution such as KOH or NaOH. Note that the types of the resist material, the etchant, and the stripping solution can be appropriately selected according to the material of the plate glass 120 that is the material to be etched.

次に、エッチング工程後のガラス基板に対して実施される化学強化工程について説明する。図2に示す化学強化処理槽140は、エッチングによる形状加工工程により板状ガラス120から抜き出されたガラス基板に対して、イオン交換処理により化学強化を行う。化学強化は、ガラスの表層面のイオンをイオン半径の大きな他のイオンと交換することにより、ガラス表面に圧縮応力層を形成し、機械的強度をさらに高める処理である。化学強化には、例えば、硝酸カリウムや硝酸ナトリウムなどの化学強化処理液が用いられ、温度300〜450(℃)、1〜30時間の処理が行われる。これにより、ガラス中のLi+イオンが化学強化処理液中のNa+イオンと交換されるとともに、ガラス中のNa+イオンが化学強化処理液中のK+イオンと交換される。   Next, the chemical strengthening process performed with respect to the glass substrate after an etching process is demonstrated. The chemical strengthening treatment tank 140 shown in FIG. 2 performs chemical strengthening by ion exchange processing on the glass substrate extracted from the sheet glass 120 by the shape processing step by etching. Chemical strengthening is a process of further increasing mechanical strength by forming a compressive stress layer on the glass surface by exchanging ions on the surface of the glass with other ions having a large ionic radius. For the chemical strengthening, for example, a chemical strengthening treatment liquid such as potassium nitrate or sodium nitrate is used, and the treatment is performed at a temperature of 300 to 450 (° C.) for 1 to 30 hours. Thereby, Li + ions in the glass are exchanged with Na + ions in the chemical strengthening treatment liquid, and Na + ions in the glass are exchanged with K + ions in the chemical strengthening treatment liquid.

化学強化により形成する圧縮応力層は5(μm)以上あればよい。好ましくは、圧縮応力層の厚みは、35(μm)以上、より好ましくは50(μm)以上、さらに好ましくは100(μm)以上が望ましい。また、ガラス基板を抜き出した後に化学強化を行うことで、ガラス基板の端面も化学強化される。このため、図1に示すガラス基板100を携帯端末装置に装着する際、および携帯機器の使用中にガラス基板100の欠けや割れが生じることを抑制できる。   The compressive stress layer formed by chemical strengthening may be 5 (μm) or more. Preferably, the thickness of the compressive stress layer is 35 (μm) or more, more preferably 50 (μm) or more, and still more preferably 100 (μm) or more. Moreover, the end surface of a glass substrate is also chemically strengthened by performing chemical strengthening after extracting a glass substrate. For this reason, when mounting | wearing the portable terminal device with the glass substrate 100 shown in FIG. 1, and during use of a portable apparatus, it can suppress that the chip | tip and crack of the glass substrate 100 arise.

化学強化後のガラス基板は、化学強化処理槽140から取り出され、空中と水中で冷却された後、ガラス基板に付着している溶融塩やその他の付着物を取り除くために洗浄され、図1に示すガラス基板100となる。洗浄方法としては、水などの洗浄液で洗い流す方法や、洗浄液に浸漬する浸漬法、洗浄液を流しながら回転するロール体をガラス基板に接触させるスクラブ洗浄法などを利用することができる。浸漬法では、洗浄液に超音波を印加した状態で実施してもよい。その後、ガラス基板100に、必要に応じて印刷等の加飾を施すことでカバーガラスが製造される。   The glass substrate after chemical strengthening is taken out from the chemical strengthening treatment tank 140, cooled in the air and water, and then washed to remove the molten salt and other deposits adhering to the glass substrate. It becomes the glass substrate 100 shown. As a cleaning method, a method of washing away with a cleaning solution such as water, a dipping method of immersing in a cleaning solution, a scrub cleaning method of contacting a rotating roll body with a glass substrate while flowing the cleaning solution, or the like can be used. The dipping method may be performed in a state where ultrasonic waves are applied to the cleaning liquid. Then, a cover glass is manufactured by giving decoration, such as printing, to the glass substrate 100 as needed.

ここで、本発明者らは、化学強化工程での化学強化条件により、ガラス基板100の外形寸法が変わることに着目した。化学強化では、ガラスの表層面のイオンがイオン半径のより大きな他のイオンと交換されることにより、ガラス表面に圧縮応力層が形成される。この圧縮応力層は、ガラス基板を膨張させるため、ガラス基板の基板寸法が大きくなる。   Here, the inventors focused on the fact that the outer dimensions of the glass substrate 100 change depending on the chemical strengthening conditions in the chemical strengthening step. In chemical strengthening, ions on the surface of the glass are exchanged with other ions having a larger ion radius, thereby forming a compressive stress layer on the glass surface. Since this compressive stress layer expands the glass substrate, the substrate size of the glass substrate increases.

このガラス基板の外形寸法の伸びは、化学強化工程における化学強化条件によって変化する。そこで、化学強化条件と化学強化によるガラス基板の外形寸法の伸び(伸びを定量的に表すための基板寸法変動比)との対応関係(以下、第2の対応関係)を示す第2テーブルを用意すればよい。なお、第2テーブルが示す第2の対応関係は、実施例の表2、表3にて詳述する。   The elongation of the outer dimension of the glass substrate varies depending on the chemical strengthening conditions in the chemical strengthening process. Therefore, a second table is prepared that shows the correspondence relationship (hereinafter referred to as the second correspondence relationship) between the chemical strengthening conditions and the elongation of the outer dimensions of the glass substrate by chemical strengthening (the substrate dimension variation ratio for quantitatively expressing the elongation). do it. The second correspondence relationship indicated by the second table will be described in detail in Tables 2 and 3 of the embodiments.

第2テーブルは、図2に示すようにメモリ180に格納されていて、化学強化条件と化学強化によるガラス基板の外形寸法の伸びとの第2の対応関係を示している。化学強化条件としては、例えば、化学強化処理液中に含まれるLiイオンの濃度(ppm)や、ガラス基板を化学強化処理液と接触させる時間である浸漬時間(hr)や、化学強化処理液の温度(℃)などが挙げられる。   The second table is stored in the memory 180 as shown in FIG. 2, and shows a second correspondence between the chemical strengthening condition and the elongation of the outer dimension of the glass substrate due to the chemical strengthening. As chemical strengthening conditions, for example, the concentration of Li ions (ppm) contained in the chemical strengthening treatment liquid, the immersion time (hr) that is the time for contacting the glass substrate with the chemical strengthening treatment liquid, Temperature (° C.).

化学強化工程では、ガラス基板に含まれているLiイオンがNaイオンと交換されるとともに、NaイオンがKイオンと交換される。このため、化学強化処理液に含まれるLiイオンの濃度が高いほど、化学強化処理液が疲労し、イオン交換の速度が低下するので化学強化の程度が小さくなる。なお、Li濃度の変更は、化学強化処理液の交換もしくは溶融塩の継ぎ足しによって実行可能である。   In the chemical strengthening step, Li ions contained in the glass substrate are exchanged with Na ions, and Na ions are exchanged with K ions. For this reason, the higher the concentration of Li ions contained in the chemical strengthening treatment liquid, the more the chemical strengthening treatment liquid becomes fatigued and the rate of ion exchange decreases, so the degree of chemical strengthening decreases. The Li concentration can be changed by exchanging the chemical strengthening treatment liquid or adding molten salt.

化学強化は浸漬時間が長いほど、また化学強化処理液の温度が高いほどイオン交換が進行しガラス基板の外形寸法の伸びが大きくなる傾向がある。ただし、時間や温度に関する上記の傾向は、ガラス基板の応力緩和現象などにより単調に外形寸法の伸びが大きくならない場合もある。なお、温度の変更は、化学強化処理槽のヒーターを調整することで実行可能である。   In chemical strengthening, the longer the immersion time and the higher the temperature of the chemical strengthening treatment liquid, the more the ion exchange proceeds and the larger the external dimension of the glass substrate tends to increase. However, the above-mentioned tendency regarding time and temperature may not monotonously increase the external dimension due to the stress relaxation phenomenon of the glass substrate. The temperature can be changed by adjusting the heater of the chemical strengthening treatment tank.

次に、制御システム110での情報の流れについて説明する。メモリ180は、上記の第1テーブルおよび第2テーブルを記憶しており、図2に示す把握装置170の要求に応じて、第1テーブルおよび第2テーブルの内容を把握装置170に参照させる。把握装置170は、エッチング工程での板状ガラスの板厚と基板寸法との第1の対応関係を第1テーブルから把握し、また、化学強化条件と化学強化工程に伴うガラス基板の外形寸法の伸びとの第2の対応関係を第2テーブルから把握する。さらに、把握装置170は、強化条件決定装置160の要求に応じて第1のおよび2の対応関係を参照させる。   Next, the flow of information in the control system 110 will be described. The memory 180 stores the first table and the second table, and makes the grasping device 170 refer to the contents of the first table and the second table in response to a request from the grasping device 170 shown in FIG. The grasping device 170 grasps the first correspondence between the plate thickness of the glass sheet and the substrate dimensions in the etching process from the first table, and also determines the external dimensions of the glass substrate accompanying the chemical strengthening conditions and the chemical strengthening process. The second correspondence with the elongation is grasped from the second table. Furthermore, the grasping device 170 refers to the first and second correspondences in response to a request from the strengthening condition determining device 160.

一方、板厚測定装置150は、板状ガラス120の板厚を測定し、その測定データを強化条件決定装置160の要求に応じて参照させる。但し、板状ガラス120の供給元などから板厚の測定データを予め取得してもよく、この場合には、板厚測定装置150は不要となる。   On the other hand, the plate thickness measuring device 150 measures the plate thickness of the sheet glass 120 and refers to the measurement data according to the request of the strengthening condition determining device 160. However, plate thickness measurement data may be acquired in advance from a supplier of the plate glass 120, and in this case, the plate thickness measuring device 150 is not necessary.

強化条件決定装置160は、例えば板厚測定装置150が測定した板厚の測定データに基づいて、第1テーブルの第1の対応関係および第2テーブルの第2の対応関係を参照し、化学強化工程後のガラス基板の外形寸法が所望の外形寸法、すなわち製品として要求される目標寸法になるように、化学強化条件を決定する。なお、ガラス基板の目標寸法は、例えばメモリ180に適宜記憶させてもよい。   The strengthening condition determination device 160 refers to the first correspondence relationship of the first table and the second correspondence relationship of the second table, for example, based on the measurement data of the plate thickness measured by the plate thickness measurement device 150, and performs chemical strengthening. The chemical strengthening conditions are determined so that the outer dimension of the glass substrate after the process becomes a desired outer dimension, that is, a target dimension required as a product. Note that the target dimensions of the glass substrate may be appropriately stored in the memory 180, for example.

具体的には、強化条件決定装置160は、実際に使用する板状ガラス120の板厚の測定データに基づいて、第1テーブルを参照することで、エッチング工程後のガラス基板100の外形寸法を把握する。次に、強化条件決定装置160は、把握されたガラス基板100の外形寸法と目標寸法との差分を把握する。   Specifically, the tempering condition determining device 160 refers to the first table based on the measurement data of the thickness of the sheet glass 120 that is actually used, thereby determining the outer dimensions of the glass substrate 100 after the etching process. To grasp. Next, the strengthening condition determination device 160 grasps the difference between the grasped outer dimension of the glass substrate 100 and the target dimension.

続いて、強化条件決定装置160は、第2テーブルを参照して、化学強化工程で上記差分を補正するガラス基板の外形寸法の伸びを得るための化学強化条件を選択して決定する。そして、化学強化処理槽140では、決定された化学強化条件でガラス基板を化学強化する。このようにすれば、化学強化工程後のガラス基板の外形寸法が目標寸法とほぼ一致するようになる。   Subsequently, the strengthening condition determining device 160 refers to the second table and selects and determines the chemical strengthening condition for obtaining the elongation of the outer dimension of the glass substrate for correcting the difference in the chemical strengthening step. And in the chemical strengthening processing tank 140, a glass substrate is chemically strengthened on the determined chemical strengthening conditions. If it does in this way, the external dimension of the glass substrate after a chemical strengthening process will come to correspond substantially with a target dimension.

化学強化工程では、化学強化処理液中に含まれるLiイオンの濃度や、ガラス基板を化学強化処理液と接触させる浸漬時間や、化学強化処理液の温度などの化学強化条件と、化学強化によるガラス基板の外形寸法の伸び(伸び量)とがそれぞれ対応関係を有している。このため、強化条件決定装置160は、1つの化学強化条件に限らず、これらの群から選択された2以上の化学強化条件を変更して、化学強化によるガラス基板の外形寸法の伸びを調整することで、化学強化後のガラス基板の外形寸法を目標寸法に近付けるようにしてもよい。   In the chemical strengthening process, the concentration of Li ions contained in the chemical strengthening treatment liquid, the chemical strengthening conditions such as the immersion time for bringing the glass substrate into contact with the chemical strengthening treatment liquid, the temperature of the chemical strengthening treatment liquid, and the glass by chemical strengthening The elongation (elongation amount) of the external dimensions of the substrate has a corresponding relationship. For this reason, the strengthening condition determination device 160 changes not only one chemical strengthening condition but also changes two or more chemical strengthening conditions selected from these groups, and adjusts the elongation of the outer dimensions of the glass substrate by chemical strengthening. Thereby, you may make it make the external dimension of the glass substrate after chemical strengthening approach a target dimension.

ここで、化学強化条件の選択基準について説明する。Liイオンの濃度は、化学強化処理液の寿命に影響を与えるため、化学強化処理液の寿命を考慮してLiイオンの濃度を調整しない場合には、化学強化条件として、浸漬時間および温度のいずれか一方または両方を調整すればよい。   Here, selection criteria for chemical strengthening conditions will be described. Since the concentration of Li ions affects the life of the chemical strengthening treatment liquid, if the concentration of Li ions is not adjusted in consideration of the life of the chemical strengthening treatment liquid, either the immersion time or the temperature is used as the chemical strengthening condition. Either one or both may be adjusted.

また、浸漬時間は、その調整をすることによって化学強化の終了時刻が変わるため、製造工程全体の時間コントロールを考慮して、浸漬時間の調整をしない場合には、化学強化条件として、Li濃度および温度のいずれか一方または両方を調整すればよい。   In addition, since the end time of chemical strengthening changes by adjusting the immersion time, considering the time control of the entire manufacturing process, when the immersion time is not adjusted, the Li concentration and One or both of the temperatures may be adjusted.

さらに、加熱温度は、化学強化処理槽140や化学強化処理液の使用可能温度の制約を受けるため、加熱温度の調整をしない場合には、化学強化条件として、Li濃度および浸漬時間のいずれか一方または両方を調整すればよい。   Furthermore, since the heating temperature is restricted by the usable temperature of the chemical strengthening treatment tank 140 and the chemical strengthening treatment liquid, when the heating temperature is not adjusted, either the Li concentration or the immersion time is used as the chemical strengthening condition. Or both may be adjusted.

上記のような本実施形態における携帯機器用カバーガラスの製造方法では、板状ガラスの板厚と等方性エッチングにより抜き出されるガラス基板の外形寸法との第1の対応関係、および、化学強化工程での化学強化条件とガラス基板の外形寸法の伸びとの第2の対応関係を参照して、板状ガラスの板厚に基づいて、化学強化条件を決定する。よって、板状ガラスの板厚に起因して生じる、等方性エッチングにより抜き出されたガラス基板の外形寸法誤差を、化学強化によって調整することなり、化学強化後のガラス基板の寸法精度を向上できる。   In the manufacturing method of the cover glass for portable devices in the present embodiment as described above, the first correspondence relationship between the plate thickness of the plate glass and the outer dimension of the glass substrate extracted by isotropic etching, and chemical strengthening The chemical strengthening condition is determined based on the plate thickness of the sheet glass with reference to the second correspondence relationship between the chemical strengthening condition in the process and the elongation of the outer dimension of the glass substrate. Therefore, the external dimension error of the glass substrate extracted by isotropic etching caused by the thickness of the sheet glass is adjusted by chemical strengthening, and the dimensional accuracy of the glass substrate after chemical strengthening is improved. it can.

なお、ガラス基板の開口寸法に関しても、上記の調整を同様に適用できる。よって、板状ガラスの板厚に起因して生じる、等方性エッチングにより抜き出されたガラス基板の開口の寸法誤差を、化学強化によって調整することができ、ガラス基板の開口の寸法精度が向上する。これに加えて、ガラス基板の外形寸法及び開口寸法の両方を調整することによって、ガラス基板の外周端面と開口の内壁面との間で生じうる寸法変化を小さくすることができ、開口の位置ずれが抑えられることから、開口の位置精度が向上する。   The above adjustment can be similarly applied to the opening size of the glass substrate. Therefore, the dimensional error of the glass substrate opening extracted by isotropic etching caused by the plate thickness of the glass sheet can be adjusted by chemical strengthening, improving the dimensional accuracy of the glass substrate opening. To do. In addition to this, by adjusting both the outer dimensions and opening dimensions of the glass substrate, the dimensional change that can occur between the outer peripheral end surface of the glass substrate and the inner wall surface of the opening can be reduced, and the positional deviation of the opening can be reduced. Therefore, the positional accuracy of the opening is improved.

[実施例]
以下、本発明の実施例を挙げて説明するが、本発明は以下の実施例にのみ限定されるものではない。例1〜例3は板状ガラスの板厚とエッチング工程後の基板寸法(基板寸法変動比)との対応関係を把握するための実験結果を示す例である。この対応関係は上記実施形態での第1テーブルに相当する。
[Example]
Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to the following examples. Examples 1 to 3 are examples showing experimental results for grasping the correspondence between the plate thickness of the sheet glass and the substrate dimensions after the etching process (substrate dimension variation ratio). This correspondence corresponds to the first table in the above embodiment.

まず、板状ガラスの板厚を測定し、例1〜例3の3種類の板厚の板状ガラスを準備した。ガラス組成は、62.5〜64.5重量%のSiOと、13〜15重量%のAlと、5〜7重量%のLiOと、9.5〜11.5重量%のNaOと、5〜7重量%のZrOとを含むガラス材料を使用した。 First, the plate | board thickness of plate-like glass was measured and the plate-like glass of three types of plate | board thickness of Example 1-3 was prepared. Glass composition, and 62.5 to 64.5 wt% of SiO 2, and 13 to 15 wt% Al 2 O 3, and 5-7 wt% of Li 2 O, 9.5 to 11.5 wt% and Na 2 O of using glass material containing 5-7 wt% of ZrO 2.

上記各板状ガラスの両面にそれぞれレジストを塗布し、1種類のフォトマスクを使用して所定の露光、現像を行って、レジストパターンを形成した。そして、このレジストパターンをマスクとして、ガラス素材をエッチングするエッチング液(フッ酸を含有する酸性溶液)を用いて、各板状ガラスに対してウェットエッチングを行った。ウェットエッチングにより各板状ガラスからガラス基板を切り出し、残ったレジストを除去し洗浄した。   A resist was applied to both surfaces of each of the above plate-like glasses, and a predetermined pattern was exposed and developed using one type of photomask to form a resist pattern. Then, using this resist pattern as a mask, wet etching was performed on each plate glass using an etching solution for etching a glass material (an acidic solution containing hydrofluoric acid). A glass substrate was cut out from each plate glass by wet etching, and the remaining resist was removed and washed.

その後、各板状ガラスから切り出されたガラス基板の基板寸法を測定した。この携帯機器用カバーガラスに用いる矩形状のガラス基板での、製品として要求される目標寸法は長辺101(mm)、短辺48(mm)であり、本例では短辺寸法を測定した。測定は(株)ニコン製のCNC画像測定システム「NEXIV」を使用した。測定枚数は、例1〜例3ともに各10枚である。表1に結果を示す。   Then, the board | substrate dimension of the glass substrate cut out from each plate glass was measured. The target dimensions required for the product in the rectangular glass substrate used for the cover glass for portable devices are the long side 101 (mm) and the short side 48 (mm). In this example, the short side dimension was measured. For the measurement, a CNC image measurement system “NEXIV” manufactured by Nikon Corporation was used. The number of measurement sheets is 10 for each of Examples 1 to 3. Table 1 shows the results.

Figure 2013087030
Figure 2013087030

表1の例1〜例3により、板状ガラスの板厚と基板寸法との第1の対応関係が得られた。ここで、基板寸法変動比は、化学強化による基板寸法の伸びを定量的に表すためのものである。また、基板寸法変動比は、各板厚の基板寸法を、板厚0.5(mm)の基板寸法で割った値であり、基準の板厚0.5(mm)の板状ガラスの基板寸法変動比は1となる。なお、各板厚の基板寸法は測定した10枚の平均値である。上記実験結果から、板状ガラスの板厚が厚いと基板寸法変動比は大きくなり、板状ガラスの板厚が薄いと基板寸法変動比が小さくなるという第1の対応関係が確認された。   According to Examples 1 to 3 in Table 1, the first correspondence relationship between the plate thickness of the glass sheet and the substrate dimensions was obtained. Here, the substrate dimension variation ratio is for quantitatively representing the elongation of the substrate dimension due to chemical strengthening. The substrate size variation ratio is a value obtained by dividing the substrate size of each plate thickness by the substrate size of 0.5 (mm) thickness, and is a plate-like glass substrate with a standard plate thickness of 0.5 (mm). The dimensional variation ratio is 1. In addition, the board | substrate dimension of each board thickness is an average value of 10 sheets measured. From the above experimental results, it was confirmed that the first correspondence relationship that the substrate dimension variation ratio increases when the plate glass is thick and the substrate dimension variation ratio decreases when the plate glass is thin.

例4〜例9は、化学強化条件と基板寸法(基板寸法変動比)の第2の対応関係を把握するための実験結果を示す例である。この対応関係は、上記実施形態での第2テーブルに相当する。   Examples 4 to 9 are examples showing experimental results for grasping the second correspondence relationship between the chemical strengthening condition and the substrate dimension (substrate dimension variation ratio). This correspondence corresponds to the second table in the above embodiment.

例4〜例6は、例2のエッチング工程後のガラス基板の寸法を測定し、そのガラス基板を化学強化処理液のLi濃度を、0(ppm)、900(ppm)、1800(ppm)の3種類に設定して化学強化したガラス基板である。化学強化処理液は硝酸カリウムと硝酸ナトリウムの混合塩、温度360(℃)、浸漬時間は3時間である。Li濃度は、イオンクロマトクラフィー(Dionex製 ICS−2000)により測定した。使用した交換カラムはCS−12A、また溶離液はメタンスルホン酸である。化学強化後、所定の洗浄を実施し、ガラス基板寸法を測定した。基板寸法の測定方法、測定枚数は例1〜3と同じである。結果を表2に示す。表中の化学強化による基板寸法変動比は、化学強化後基板寸法/化学強化前基板寸法である。なお基板寸法変動比は測定した10枚の平均値である。   In Examples 4 to 6, the dimensions of the glass substrate after the etching step of Example 2 were measured, and the Li concentration of the chemical strengthening treatment liquid was adjusted to 0 (ppm), 900 (ppm), or 1800 (ppm). It is a glass substrate that is chemically strengthened by setting three types. The chemical strengthening treatment liquid is a mixed salt of potassium nitrate and sodium nitrate, temperature 360 (° C.), and immersion time is 3 hours. The Li concentration was measured by ion chromatography (ICS-2000 manufactured by Dionex). The exchange column used was CS-12A, and the eluent was methanesulfonic acid. After chemical strengthening, predetermined cleaning was performed, and the glass substrate dimensions were measured. The measurement method of the substrate dimensions and the number of measurement are the same as in Examples 1-3. The results are shown in Table 2. The substrate dimension variation ratio due to chemical strengthening in the table is the substrate size after chemical strengthening / the substrate size before chemical strengthening. The substrate dimension variation ratio is an average value of 10 sheets measured.

Figure 2013087030
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例7〜例9は、例2のエッチング工程後のガラス基板の寸法を測定し、そのガラス基板を化学強化処理液の温度を、340(℃)、360(℃)、380(℃)の3種類に設定して化学強化した。化学強化処理液は硝酸カリウムと硝酸ナトリウムの混合塩、Li濃度は900(ppm)、浸漬時間は3時間である。化学強化処理液のLi濃度の測定方法は、例4〜例6と同じである。化学強化後、所定の洗浄を実施し、ガラス基板寸法を測定した。基板寸法の測定方法、測定枚数、および化学強化による基板寸法変動比の算出方法は例4〜6と同じである。結果を表3に示す。   In Examples 7 to 9, the dimensions of the glass substrate after the etching process of Example 2 were measured, and the temperature of the chemical strengthening treatment liquid for the glass substrate was changed to 3 of 340 (° C.), 360 (° C.), and 380 (° C.). Chemical strengthening by setting the type. The chemical strengthening treatment liquid is a mixed salt of potassium nitrate and sodium nitrate, the Li concentration is 900 (ppm), and the immersion time is 3 hours. The method for measuring the Li concentration of the chemical strengthening treatment liquid is the same as in Examples 4 to 6. After chemical strengthening, predetermined cleaning was performed, and the glass substrate dimensions were measured. The method for measuring the substrate dimensions, the number of sheets to be measured, and the method for calculating the substrate dimension variation ratio by chemical strengthening are the same as in Examples 4-6. The results are shown in Table 3.

Figure 2013087030
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表2の例4〜例6から、化学強化条件(Li濃度)と基板寸法の第2の対応関係が得られた。化学強化処理溶液のLi濃度が小さいと、化学強化による基板寸法変動比(基板寸法の増加率)は大きくなり、Li濃度が大きいと化学強化による基板寸法変動比は小さくなることが分かる。   From Example 4 to Example 6 in Table 2, the second correspondence relationship between the chemical strengthening condition (Li concentration) and the substrate dimensions was obtained. It can be seen that when the Li concentration of the chemical strengthening solution is small, the substrate size variation ratio (increase rate of the substrate size) due to chemical strengthening increases, and when the Li concentration is large, the substrate size variation ratio due to chemical strengthening decreases.

表3の例7〜例9から、化学強化条件(処理液の温度)と基板寸法の第2の対応関係が得られた。化学強化処理溶液の温度が高いと、化学強化による基板寸法変動比は大きくなり、温度が低いと化学強化による基板寸法変動比は小さくなることが分かる。   From Example 7 to Example 9 in Table 3, the second correspondence relationship between the chemical strengthening conditions (temperature of the processing solution) and the substrate dimensions was obtained. It can be seen that the substrate size variation ratio due to chemical strengthening increases when the temperature of the chemical strengthening treatment solution is high, and the substrate size variation ratio due to chemical strengthening decreases when the temperature is low.

(実施例)
実施例では、表1の板状ガラスの板厚とガラス基板寸法との第1の対応関係、および表2、表3の化学強化処理液のLi濃度、化学強化処理液の温度とガラス基板の外形寸法の伸びとの第2の対応関係を参照し化学強化した。
(Example)
In the examples, the first correspondence relationship between the plate thickness of the plate-like glass and the glass substrate size in Table 1, the Li concentration of the chemical strengthening treatment liquid in Tables 2 and 3, the temperature of the chemical strengthening treatment solution, and the glass substrate Chemical strengthening was performed by referring to the second correspondence relationship with the elongation of the outer dimensions.

本例では、標準の板厚0.5(mm)に対し板厚0.515(mm)の板状ガラスを使用した。上記板状ガラスの板厚は0.511(mm)以上、0.519(mm)以下に分布し、その平均値が0.515(mm)であった。板状ガラスのガラス組成は例1〜3と同じである。板状ガラスの両面にそれぞれネガ型のレジストを塗布し、標準(ここでは標準板厚0.5(mm)用)のフォトマスクを使用して、所定の露光、現像処理をすることにより、レジストパターンを形成した。つぎに上記レジストパターンを用いてエッチング処理によりガラス基板に切り出し、残ったレジストを除去し洗浄した。   In this example, plate glass having a plate thickness of 0.515 (mm) with respect to a standard plate thickness of 0.5 (mm) was used. The plate thickness of the plate glass was distributed between 0.511 (mm) and 0.519 (mm), and the average value was 0.515 (mm). The glass composition of the sheet glass is the same as in Examples 1 to 3. By applying a negative resist on both sides of the plate glass and using a standard photomask (for standard plate thickness of 0.5 (mm) here), the resist is exposed and developed. A pattern was formed. Next, the resist pattern was cut into a glass substrate by etching, and the remaining resist was removed and washed.

ここで、エッチングによる外形加工時の板状ガラス移動速度は、1.04(m/分)とした。板状ガラス移動速度とは、搬送型のエッチング処理装置での板状ガラスの移動速度であり、移動速度が小さいほどエッチング処理時間が長くなることを意味する。その後、表2と表3を参照し化学強化処理液のLi濃度1800(ppm)、温度340(℃)により化学強化した。化学強化の浸漬時間は3時間である。化学強化後のガラス基板の寸法を表4に示す。ガラス基板の寸法は、700枚測定した。   Here, the plate-like glass moving speed at the time of external processing by etching was set to 1.04 (m / min). The plate glass moving speed is the plate glass moving speed in the transport type etching processing apparatus, and means that the etching processing time becomes longer as the moving speed is lower. Then, with reference to Table 2 and Table 3, it chemically strengthened by Li concentration 1800 (ppm) of the chemical strengthening process liquid, and temperature 340 (degreeC). The immersion time for chemical strengthening is 3 hours. Table 4 shows the dimensions of the glass substrate after chemical strengthening. The dimension of the glass substrate was measured 700 sheets.

(比較例)
比較例は、実施例と同様な板厚分布で同じ平均値である板厚0.515(mm)の板状ガラスを使用し実施例と同じエッチング条件で外形加工した。その後、化学強化処理液のLi濃度および温度とガラス基板の外形寸法の伸びとの対応関係を参照せず、化学強化した。化学強化条件は、Li濃度900(ppm)、温度360(℃)、浸漬時間3時間である。化学強化後のガラス基板の寸法を表4に示す。ガラス基板の寸法は、700枚測定した。
(Comparative example)
In the comparative example, a sheet glass having a plate thickness distribution similar to that of the example and a plate thickness of 0.515 (mm) having the same average value was used, and the outer shape was processed under the same etching conditions as in the example. Thereafter, chemical strengthening was performed without referring to the correspondence relationship between the Li concentration and temperature of the chemical strengthening treatment liquid and the elongation of the outer dimensions of the glass substrate. The chemical strengthening conditions are an Li concentration of 900 (ppm), a temperature of 360 (° C.), and an immersion time of 3 hours. Table 4 shows the dimensions of the glass substrate after chemical strengthening. The dimension of the glass substrate was measured 700 sheets.

Figure 2013087030
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表4から、表1の第1の対応関係を参照して板状ガラスの板厚が標準よりも厚い場合、切断加工後の基板寸法が大きくなることを把握し、これを補正するために表2と表3の第2の対応関係を参照して化学強化条件を伸びが標準よりも小さい条件、具体的にはLI濃度1800(ppm)、温度340(℃)で実施した実施例のガラス基板の寸法は、48.004(mm)となり、目標寸法48(mm)とほぼ一致した。一方、表1〜表3の第1の対応関係および第2の対応関係を参照せず、板状ガラスの板厚が標準よりも厚い場合に標準条件の化学強化を実施した比較例のガラス基板の寸法は48.028(mm)となり、目標寸法48(mm)に対して0.028(mm)ずれていた。   From Table 4, with reference to the first correspondence relationship in Table 1, when the thickness of the sheet glass is thicker than the standard, it is grasped that the substrate size after the cutting process becomes large, and the table is used to correct this. 2 and the second correspondence relationship of Table 3, the glass substrate of the example which was implemented under the condition that the elongation was smaller than the standard, specifically, the LI concentration was 1800 (ppm) and the temperature was 340 (° C.). The dimension was 48.004 (mm), which substantially coincided with the target dimension 48 (mm). On the other hand, the glass substrate of the comparative example which performed the chemical strengthening of the standard conditions when the plate | board thickness of plate-like glass was thicker than a standard, without referring the 1st correspondence of Table 1-3, and the 2nd correspondence The dimension was 48.028 (mm), which was shifted by 0.028 (mm) from the target dimension 48 (mm).

このように、使用する板状ガラスの板厚を把握し、ガラス基板の伸び量を考慮した化学強化条件にて化学強化工程を実施した実施例では、ガラス基板の寸法精度がより向上することが確かめられた。   As described above, in the embodiment in which the thickness of the glass sheet to be used is grasped and the chemical strengthening process is performed under the chemical strengthening condition in consideration of the elongation amount of the glass substrate, the dimensional accuracy of the glass substrate may be further improved. It was confirmed.

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described referring an accompanying drawing, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to the example which concerns. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope of the claims, and these are naturally within the technical scope of the present invention. Understood.

特に、実施例では短辺寸法の測定結果を示したが、このほかにガラス基板の長辺寸法および開口寸法などを必要に応じて測定し、長辺寸法および開口寸法のいずれかの寸法と板厚との第1の対応関係、及び当該寸法の化学強化による伸びと化学強化条件との第2の対応関係を参照して、化学強化条件を決定してもよい。あるいは、各種寸法を複数組み合わせて、この組み合わせと板厚・化学強化条件との対応関係を参照して、化学強化条件を決定してもよい。   In particular, the measurement results of the short side dimension were shown in the examples, but in addition to this, the long side dimension and the opening dimension of the glass substrate were measured as necessary, and either the long side dimension or the opening dimension was measured. The chemical strengthening condition may be determined with reference to the first correspondence relationship with the thickness and the second correspondence relationship between the elongation due to chemical strengthening of the dimension and the chemical strengthening condition. Alternatively, the chemical strengthening conditions may be determined by combining a plurality of various dimensions and referring to the correspondence between the combination and the plate thickness / chemical strengthening conditions.

本発明は、携帯電話やスマートフォン、PDAなどの携帯端末装置やデジタルスチルカメラ等の携帯機器(携帯型電子機器)の表示画面の保護や、携帯機器の筐体に用いられる携帯機器用カバーガラスの製造方法に利用することができる。   The present invention relates to protection of a display screen of a mobile device (portable electronic device) such as a mobile terminal device such as a mobile phone, a smartphone, or a PDA, or a digital still camera, or a cover glass for a mobile device used for a casing of the mobile device. It can be used for manufacturing methods.

100、100A、100B…ガラス基板、102…外形部分、104…開口、106a、108a…突出部、106b、106c、108b、108c…傾斜面、110…制御システム、120…板状ガラス、130…エッチング加工装置、140…化学強化処理槽、150…板厚測定装置、160…強化条件決定装置、170…把握装置、180…メモリ DESCRIPTION OF SYMBOLS 100, 100A, 100B ... Glass substrate, 102 ... Outline part, 104 ... Opening, 106a, 108a ... Projection part, 106b, 106c, 108b, 108c ... Inclined surface, 110 ... Control system, 120 ... Sheet glass, 130 ... Etching Processing device 140 ... Chemical strengthening treatment tank 150 ... Plate thickness measuring device 160 ... Strengthening condition determining device 170 ... Grasping device 180 ... Memory

Claims (4)

板状ガラスの主表面に形成されたレジストパターンを用いて当該板状ガラスを等方性エッチングすることにより、携帯機器用カバーガラス形状のガラス基板に加工する形状加工工程と、
前記ガラス基板を化学強化処理液に接触させることにより、ガラス基板の中に含まれる一部のイオンを、そのイオンよりも大きなイオン半径である前記化学強化処理液中のイオンとイオン交換することによりガラス基板を化学強化する化学強化工程と、を含む携帯機器用カバーガラスの製造方法であって、
前記形状加工工程における、板状ガラスの板厚とエッチングにより抜き出されたガラス基板の寸法との第1の対応関係と、
前記化学強化工程における、化学強化条件と当該化学強化条件で化学強化を行った場合におけるガラス基板の寸法の伸びとの第2の対応関係とを予め把握しておき、
前記化学強化工程では、前記板状ガラスの板厚に基づいて、前記第1の対応関係および前記第2の対応関係を参照して、化学強化工程後のガラス基板の寸法が携帯機器用カバーガラスに求められる寸法になる化学強化条件で、前記ガラス基板を化学強化することを特徴とする携帯機器用カバーガラスの製造方法。
A shape processing step for processing a glass substrate in a cover glass shape for a portable device by isotropically etching the plate glass using a resist pattern formed on the main surface of the plate glass;
By bringing the glass substrate into contact with the chemical strengthening treatment liquid, by ion exchange of some ions contained in the glass substrate with ions in the chemical strengthening treatment liquid having an ionic radius larger than the ions. A chemical strengthening step for chemically strengthening a glass substrate;
In the shape processing step, a first correspondence between the thickness of the sheet glass and the dimension of the glass substrate extracted by etching,
In the chemical strengthening step, grasp in advance the second correspondence relationship between the chemical strengthening condition and the elongation of the dimension of the glass substrate when chemical strengthening is performed under the chemical strengthening condition,
In the chemical strengthening step, the size of the glass substrate after the chemical strengthening step is determined to be a cover glass for portable devices by referring to the first correspondence relationship and the second correspondence relationship based on the plate thickness of the plate glass. A method for producing a cover glass for a portable device, wherein the glass substrate is chemically strengthened under chemical strengthening conditions having dimensions required for the above.
前記ガラス基板は、Liイオンを含有するアルミノシリケートガラスであり、
前記化学強化条件とは、化学強化処理液中に含まれるLiイオンの濃度であることを特徴とする請求項1に記載の携帯機器用カバーガラスの製造方法。
The glass substrate is an aluminosilicate glass containing Li ions,
The said chemical strengthening condition is the density | concentration of Li ion contained in a chemical strengthening process liquid, The manufacturing method of the cover glass for portable devices of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
前記化学強化条件は、ガラス基板を化学強化処理液と接触させる時間であることを特徴とする請求項1または2に記載の携帯機器用カバーガラスの製造方法。   The said chemical strengthening conditions are the time which makes a glass substrate contact with a chemical strengthening process liquid, The manufacturing method of the cover glass for portable devices of Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned. 前記化学強化条件は、化学強化処理液の温度であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の携帯機器用カバーガラスの製造方法。   The said chemical strengthening condition is the temperature of a chemical strengthening process liquid, The manufacturing method of the cover glass for portable devices of any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned.
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