JP6320969B2 - Cleaning liquid distillation regeneration device and parts cleaning device - Google Patents

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Description

本発明は、機械部品やメッキ部品等の洗浄に使用した洗浄液を蒸留再生する洗浄液蒸留再生装置、及び、部品洗浄装置に関する。 The present invention relates to a cleaning liquid distillation regenerating apparatus and a parts cleaning apparatus for distilling and regenerating a cleaning liquid used for cleaning mechanical parts and plated parts.

金属製機械部品、メッキ部品、電子部品等の各種部品には、その製造工程や組立工程等において、切削油等の工作油脂、フラックス、塵埃等をはじめとして様々な汚れが付着する。このような汚れが付着した機械部品や電子部品等の被処理物を洗浄する部品洗浄装置としては、被処理物の洗浄に使用された洗浄剤を再度使用できるように、汚れ成分を含む洗浄剤を蒸留する蒸留釜等からなる再生装置を備えたものが開発されている(例えば、特許文献1)。また、近年、切削油等の工作油脂やフラックス等を洗浄する洗浄液として、引火性を有さない洗浄液、すなわち非引火性の洗浄液が開発されている(例えば、特許文献2)。このような、非引火性の洗浄液を用いる場合、防爆、防火等の対策が不要になり、消防法に規定されているような管理も不要になる。   Various types of dirt such as machining oil such as cutting oil, flux, dust, and the like adhere to various parts such as metal machine parts, plated parts, and electronic parts in the manufacturing process and assembly process. As a parts cleaning device that cleans workpieces such as machine parts and electronic components that are contaminated with such dirt, a cleaning agent containing dirt components is used so that the cleaning agent used to clean the workpiece can be used again. A device equipped with a regenerator consisting of a distillation kettle or the like for distilling water has been developed (for example, Patent Document 1). In recent years, a cleaning liquid that does not have flammability, that is, a non-flammable cleaning liquid, has been developed as a cleaning liquid that cleans machine oils and fluxes such as cutting oil (for example, Patent Document 2). When such a non-flammable cleaning liquid is used, measures such as explosion prevention and fire prevention are unnecessary, and management as stipulated in the Fire Service Law is also unnecessary.

特開2006−51502号公報JP 2006-5502 A 特開2013−129815号公報JP2013-129815A

ところで、上記の洗浄液は、洗浄液中に一定の水分を含有することで非引火性を有する。しかしながら、上記した部品洗浄装置では、部品洗浄装置内において水分の揮発等により水分濃度が減少する虞があった。その結果、洗浄に使用された洗浄液を再び使用する際に、この再生された洗浄液から非引火性が消失する虞があった。換言すると、再生使用される洗浄液に引火点が出現する虞があった。   By the way, said washing | cleaning liquid has nonflammability by containing fixed water | moisture content in a washing | cleaning liquid. However, in the above-described component cleaning apparatus, there is a possibility that the moisture concentration may decrease due to the volatilization of moisture in the component cleaning apparatus. As a result, when the cleaning liquid used for cleaning is used again, there is a possibility that non-flammability may disappear from the regenerated cleaning liquid. In other words, there is a risk that a flash point may appear in the cleaning liquid that is recycled and used.

本発明は、上記した事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、洗浄液内の水分濃度を調整できる洗浄液蒸留再生装置、及び、部品洗浄装置を提供しようとするものである。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a cleaning liquid distillation regenerating apparatus and a parts cleaning apparatus capable of adjusting the water concentration in the cleaning liquid.

本発明は、上記目的を達成するために提案されたものであり、請求項1に記載のものは、水分を含む洗浄液を気化させる蒸留釜と、
気化された洗浄液の蒸気を凝縮すると共に減圧機構によって減圧された状態の洗浄液の水分濃度を調整する調整機構と、
前記調整機構内に水分を補充する水分補充機構と、
前記水分補充機構の前記調整機構内への水分の補充を制御する制御装置と、を備え、
前記調整機構は、
蒸留釜により気化された前記洗浄液の蒸気を凝縮して液化するコンデンサと、
液化した前記洗浄液を貯留するタンクと、
前記コンデンサ内を負圧にする減圧機構と、を備え、
前記水分補充機構は、
水分が流れる水分流路と、
前記水分流路の途中に設けられた水分補充弁と、を備え、
前記減圧機構は、
前記タンクから出て当該タンクに戻る循環流路と、
前記循環流路の途中に設けられたエゼクタと、
前記循環流路内の前記洗浄液を循環させるポンプと、を備え、
前記コンデンサは、前記エゼクタと接続され、
前記エゼクタにより前記コンデンサ内の前記洗浄液が前記循環流路内に吸引されるように構成され、
前記制御装置は、前記蒸留釜へ導入される洗浄液の水分濃度又は蒸留された洗浄液の水分濃度が所定の値よりも低い場合、前記水分補充弁を開状態にして前記水分補充機構から前記調整機構内の減圧された状態の洗浄液に水分を補充する制御を実行することを特徴とする洗浄液蒸留再生装置である。
The present invention has been proposed in order to achieve the above-mentioned object, and the one according to claim 1 is a distillation pot for vaporizing a cleaning liquid containing moisture;
An adjustment mechanism for condensing the vapor of the vaporized cleaning liquid and adjusting the moisture concentration of the cleaning liquid in a state where the pressure is reduced by the pressure reduction mechanism;
A moisture replenishment mechanism for replenishing moisture in the adjustment mechanism;
A controller for controlling the replenishment of water into the adjustment mechanism of the water replenishment mechanism,
The adjustment mechanism is
A condenser for condensing and liquefying the vapor of the cleaning liquid vaporized by the distillation kettle;
A tank for storing the liquefied cleaning liquid;
A pressure reducing mechanism for making the inside of the capacitor negative pressure,
The moisture replenishment mechanism is
A moisture channel through which moisture flows,
A water replenishment valve provided in the middle of the water flow path,
The decompression mechanism is
A circulation channel that exits the tank and returns to the tank;
An ejector provided in the middle of the circulation flow path;
A pump for circulating the cleaning liquid in the circulation flow path,
The capacitor is connected to the ejector;
The ejector is configured so that the cleaning liquid in the capacitor is sucked into the circulation flow path,
When the water concentration of the cleaning liquid introduced into the distillation kettle or the water concentration of the distilled cleaning liquid is lower than a predetermined value, the control device opens the water replenishing valve to adjust the adjusting mechanism from the water replenishing mechanism. The cleaning liquid distillation regenerator is characterized by executing control for replenishing water in the decompressed cleaning liquid.

請求項2に記載のものは、蒸留された洗浄液の水分濃度を検出する水分濃度検出機構を備え、
前記制御装置は、前記水分濃度検出機構により検出された前記洗浄液の水分濃度が所定の値よりも低い場合、前記水分補充機構から前記調整機構内に水分を補充する制御を実行することを特徴とする請求項1に記載の洗浄液蒸留再生装置である。
The thing of Claim 2 is equipped with the moisture concentration detection mechanism which detects the moisture concentration of the distilled cleaning liquid,
The control device executes control for replenishing moisture from the moisture replenishing mechanism into the adjustment mechanism when the moisture concentration of the cleaning liquid detected by the moisture concentration detecting mechanism is lower than a predetermined value. The cleaning liquid distillation regenerating apparatus according to claim 1.

請求項3に記載のものは、前記洗浄液は、含有される水分の濃度が少なくとも所定の最低水分濃度以上の場合において非引火性を有し、
前記制御装置は、前記水分濃度検出機構により検出された前記洗浄液の水分濃度が前記最低水分濃度よりも低い場合、前記水分補充機構から前記調整機構内に水分を補充する制御を実行することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の洗浄液蒸留再生装置である。
According to a third aspect of the present invention, the cleaning liquid has non-flammability when the concentration of contained water is at least a predetermined minimum moisture concentration,
The control device executes control for replenishing moisture from the moisture replenishing mechanism into the adjustment mechanism when the moisture concentration of the cleaning liquid detected by the moisture concentration detecting mechanism is lower than the minimum moisture concentration. The cleaning liquid distillation regenerating apparatus according to claim 1 or 2.

請求項に記載のものは、請求項1から請求項の何れか一項に記載の洗浄液蒸留再生装置を備えた部品洗浄装置である。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a component cleaning apparatus including the cleaning liquid distillation regenerating apparatus according to any one of the first to third aspects.

本発明によれば、以下のような優れた効果を奏する。
すなわち、洗浄液の水分濃度を調整でき、洗浄液に引火点が出現することを抑制できる。
According to the present invention, the following excellent effects can be obtained.
That is, the moisture concentration of the cleaning liquid can be adjusted, and the occurrence of a flash point in the cleaning liquid can be suppressed.

部品洗浄装置の構成を示す概略図である。It is the schematic which shows the structure of a components washing | cleaning apparatus. 蒸留再生装置の構成を示す概略図である。It is the schematic which shows the structure of a distillation reproduction apparatus. 制御装置の概略ブロック図である。It is a schematic block diagram of a control apparatus.

以下、本発明を実施するための形態として、洗浄液蒸留再生装置24を備えた部品洗浄装置1を例に挙げて説明する。図1は、本発明に係る部品洗浄装置1の構成を示す概略図、図2は、部品洗浄装置1に組み込まれた洗浄液蒸留再生装置24の構成を示す概略図である。図3は部品洗浄装置1及び洗浄液蒸留再生装置24を制御する制御装置50の概略ブロック図である。なお、図2における白抜き矢印は、洗浄溶剤の流れを表し、破線で表された白抜き矢印は、冷却水の流れを表している。また、図2において、冷却水が流れる冷却系は破線で表している。   Hereinafter, as an embodiment for carrying out the present invention, a component cleaning apparatus 1 including a cleaning liquid distillation regenerating apparatus 24 will be described as an example. FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration of a component cleaning apparatus 1 according to the present invention, and FIG. 2 is a schematic diagram showing a configuration of a cleaning liquid distillation regenerator 24 incorporated in the component cleaning apparatus 1. FIG. 3 is a schematic block diagram of a control device 50 that controls the component cleaning device 1 and the cleaning liquid distillation regenerating device 24. In addition, the white arrow in FIG. 2 represents the flow of the cleaning solvent, and the white arrow represented by a broken line represents the flow of the cooling water. In FIG. 2, the cooling system through which the cooling water flows is indicated by a broken line.

図1に示すように、工作油脂等の汚れが付着した機械部品や電子部品等の被処理物2の洗浄及び乾燥は、洗浄乾燥槽3内にバスケット4に入れた複数の被処理物2を収容して行われる。この洗浄乾燥槽3内では、非引火性の洗浄液(以下、洗浄溶剤、又は、単に溶剤という。)を使用して被処理物2の洗浄が行われる。本実施形態では、洗浄溶剤に浸漬して超音波による振動を与えて洗浄する浸漬洗浄工程を行ない、次に洗浄溶剤の蒸気を導入して被処理物2の洗浄を行う蒸気洗浄工程を行ない、さらに蒸気洗浄後の被処理物2を乾燥させる真空乾燥工程を行う。   As shown in FIG. 1, cleaning and drying of workpieces 2 such as machine parts and electronic components to which dirt such as machine oil and fat is attached are performed by cleaning a plurality of workpieces 2 placed in a basket 4 in a cleaning / drying tank 3. Accommodated. In the cleaning / drying tank 3, the workpiece 2 is cleaned using a non-flammable cleaning liquid (hereinafter referred to as a cleaning solvent or simply a solvent). In this embodiment, an immersion cleaning step is performed in which the substrate is immersed in a cleaning solvent and cleaned by applying ultrasonic vibration, and then a vapor cleaning step is performed in which the vapor of the cleaning solvent is introduced to clean the workpiece 2; Further, a vacuum drying process for drying the workpiece 2 after the steam cleaning is performed.

本実施形態における洗浄溶剤は、水分を含むことで、非引火性を有する溶剤が用いられる。例えば、水を10%〜20%、アルコール類を60%〜80%、及び、水溶性溶剤を10%〜20%含有するものであって、非引火性(クリーブランド解放式測定法において引火点なし)を有するものが用いられる。このような組成の洗浄溶剤は、水分を含有させることにより、引火点を消失させている。換言すると、含有される水分の濃度が所定の水分濃度(例えば、10%)以上の場合において非引火性を有する。   The cleaning solvent in the present embodiment includes a non-flammable solvent by containing moisture. For example, it contains 10% to 20% water, 60% to 80% alcohol, and 10% to 20% water-soluble solvent, and is non-flammable (no flash point in the Cleveland release method) ) Is used. The cleaning solvent having such a composition eliminates the flash point by containing water. In other words, it has non-flammability when the concentration of contained moisture is a predetermined moisture concentration (for example, 10%) or more.

なお、水分は、洗浄溶剤の引火点を消失させられれば、不純物を含んでいても良い。例えば、蒸留水やイオン交換水のほか、水道水も使用できる。また、アルコール類としては、例えば、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、及び、これらを混合したもの等が用いられる。さらに、水溶性溶剤としては、油分の溶解性の良いものが望ましく、例えば、1−(2−メトキシ―2−メチルエトキシ)−2−プロパノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、3−メチル−3−メトキシ−1−ブタノール、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、及び、これらを混合したもの等が用いられる。   The water may contain impurities as long as the flash point of the cleaning solvent can be eliminated. For example, tap water can be used in addition to distilled water and ion exchange water. Examples of alcohols include dimethyl ether, diethyl ether, dibutyl ether, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, and mixtures thereof. Further, as the water-soluble solvent, those having good oil solubility are desirable, such as 1- (2-methoxy-2-methylethoxy) -2-propanol, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol, diethylene glycol monoethyl ether, Dipropylene glycol monomethyl ether, 3-methyl-3-methoxy-1-butanol, diethylene glycol methyl ethyl ether, and a mixture thereof are used.

洗浄乾燥槽3は、上部が開閉可能な中空箱体状の耐圧容器であり、上部開口の縁に形成されたシール材6を介して当該開口を密閉する開閉蓋7が設けられている。この開閉蓋7は、洗浄乾燥槽3の上部開口に対して開閉自在に設けられており、少なくともその天井面(下面)7aが傾斜されている。このように開閉蓋7の天井面7aを傾斜させることで、この天井面7aに溶剤ガスが結露した場合に、溶剤液滴を当該天井面7a及び洗浄乾燥槽3の側壁面3bを伝って底面3aへ流下させることができる。したがって、結露した溶剤滴が被処理物2に付着してシミが発生することを防止できる。   The washing / drying tank 3 is a pressure-resistant container having a hollow box shape whose upper part can be opened and closed, and is provided with an opening / closing lid 7 for sealing the opening via a sealing material 6 formed at the edge of the upper opening. The open / close lid 7 is provided so as to be openable and closable with respect to the upper opening of the cleaning / drying tank 3, and at least its ceiling surface (lower surface) 7 a is inclined. By tilting the ceiling surface 7a of the open / close lid 7 in this way, when solvent gas is condensed on the ceiling surface 7a, the solvent droplets are transferred to the bottom surface of the ceiling surface 7a and the side wall surface 3b of the cleaning / drying tank 3 through the bottom surface. It can flow down to 3a. Therefore, it is possible to prevent the condensed solvent droplets from adhering to the workpiece 2 and causing spots.

また、洗浄乾燥槽3の底部3aには、後述する溶剤タンク13に至る排液管8が接続されており、該排液管8にはこれを開閉する排液弁9が介設されている。このため、漬洗浄工程の完了後、洗浄乾燥槽3内の洗浄溶剤は、排液弁9を開放して両者を連通させることにより、洗浄乾燥槽3の傾斜底部3aの最下部に接続された排液管8を通じて溶剤タンク13へと排液される。さらに、上記の浸漬洗浄工程、蒸気洗浄工程、及び、真空乾燥工程は、被処理物2を収容する洗浄乾燥槽3内を減圧して行われるため、洗浄乾燥槽3には、真空ポンプ10に至る排気管11が接続されている。この排気管11の途中には、洗浄乾燥槽真空弁12が設けられており、洗浄乾燥槽3と真空ポンプ10との間を開閉する。なお、排気管11の洗浄乾燥槽真空弁12よりも上流側(洗浄乾燥槽側)には、洗浄乾燥槽3の内部圧力を大気開放して調整するための洗浄乾燥槽大気開放弁18が分岐介設されている。   Further, a drainage pipe 8 reaching a solvent tank 13 described later is connected to the bottom 3a of the washing / drying tank 3, and a drainage valve 9 for opening and closing the drainage pipe 8 is interposed in the drainage pipe 8. . For this reason, after completion of the pickling washing process, the washing solvent in the washing / drying tank 3 is connected to the lowermost part of the inclined bottom portion 3a of the washing / drying tank 3 by opening the drain valve 9 and communicating both. The liquid is discharged to the solvent tank 13 through the drain pipe 8. Furthermore, since the above-described immersion cleaning process, steam cleaning process, and vacuum drying process are performed by reducing the pressure in the cleaning / drying tank 3 that accommodates the workpiece 2, the cleaning / drying tank 3 includes a vacuum pump 10. The exhaust pipe 11 is connected. A cleaning / drying tank vacuum valve 12 is provided in the middle of the exhaust pipe 11 to open and close between the cleaning / drying tank 3 and the vacuum pump 10. A cleaning / drying tank air release valve 18 for adjusting the internal pressure of the cleaning / drying tank 3 to open to the atmosphere is branched upstream of the cleaning / drying tank vacuum valve 12 of the exhaust pipe 11 (the cleaning / drying tank side). It is installed.

また、洗浄乾燥槽3には、その内部に洗浄溶剤を流入させて被処理物2を浸漬洗浄するために、溶剤タンク13に至る浸漬洗浄管14が接続されている。この浸漬洗浄管14にはこれを開閉する浸漬洗浄弁15が介設されている。さらに、洗浄乾燥槽3には、浸漬洗浄工程において、洗浄溶剤に浸漬された被処理物2を超音波による振動を与えて洗浄するための超音波発生装置3cが備えられている。その他、洗浄乾燥槽3には、その内部に流入された洗浄溶剤のレベルを検出するためのレベルスイッチ16、その内部圧力を検出する洗浄乾燥槽圧力センサ51(図3参照)、及び、内部圧力表示する洗浄乾燥槽内圧力計17等が備えられている。   The washing / drying tank 3 is connected with a dipping / washing pipe 14 that reaches the solvent tank 13 in order to allow the washing solvent to flow into the washing / drying tank 3 to dip and wash the workpiece 2. The immersion cleaning pipe 14 is provided with an immersion cleaning valve 15 for opening and closing the tube. Further, the cleaning / drying tank 3 is provided with an ultrasonic generator 3c for cleaning the workpiece 2 immersed in the cleaning solvent by applying ultrasonic vibration in the immersion cleaning step. In addition, the cleaning / drying tank 3 includes a level switch 16 for detecting the level of the cleaning solvent flowing into the cleaning / drying tank 3, a cleaning / drying tank pressure sensor 51 (see FIG. 3) for detecting the internal pressure, and an internal pressure. A pressure gauge 17 for cleaning and drying tank to be displayed is provided.

溶剤タンク13は、上部が覆われた密閉容器であり、排液管8を介して洗浄乾燥槽3と接続されている。本実施形態では、溶剤タンク13から洗浄乾燥槽3への洗浄溶剤の流入、及び洗浄乾燥槽3から溶剤タンク13への排液は、溶剤タンク13と洗浄乾燥槽3との圧力差により行われる。このため、溶剤タンク13は、分岐排気管19を介して真空ポンプ10に接続されている。具体的には、排気管11の洗浄乾燥槽真空弁12よりも下流側(真空ポンプ10側)を分岐させて分岐排気管19に接続し、この分岐排気管19の排気管11とは反対側の端部を溶剤タンク13に接続している。そして、分岐排気管19にはこれを開閉する溶剤タンク減圧弁20が介設されている。このように、真空ポンプ10に至る排気管11から分岐された分岐排気管19を溶剤タンク13に接続したので、洗浄乾燥槽3との相対関係において溶剤タンク13の内部圧力を調整することができる。   The solvent tank 13 is a hermetically sealed container with an upper part covered, and is connected to the cleaning / drying tank 3 via the drainage pipe 8. In the present embodiment, the inflow of the cleaning solvent from the solvent tank 13 to the cleaning / drying tank 3 and the drainage from the cleaning / drying tank 3 to the solvent tank 13 are performed by a pressure difference between the solvent tank 13 and the cleaning / drying tank 3. . For this reason, the solvent tank 13 is connected to the vacuum pump 10 via the branch exhaust pipe 19. Specifically, the downstream side (vacuum pump 10 side) of the exhaust pipe 11 from the cleaning / drying tank vacuum valve 12 is branched and connected to the branch exhaust pipe 19, and the branch exhaust pipe 19 is opposite to the exhaust pipe 11. Is connected to the solvent tank 13. The branch exhaust pipe 19 is provided with a solvent tank pressure reducing valve 20 for opening and closing the branch exhaust pipe 19. Thus, since the branch exhaust pipe 19 branched from the exhaust pipe 11 leading to the vacuum pump 10 is connected to the solvent tank 13, the internal pressure of the solvent tank 13 can be adjusted relative to the cleaning / drying tank 3. .

また、溶剤タンク13には、その内部圧力を検出する溶剤タンク圧力センサ52、内部圧力を表示する溶剤タンク圧力計21、及び、溶剤タンク13内の洗浄溶剤の温度を検出して温度管理を行うための溶剤タンク温度センサ53が備えられている。さらに、溶剤タンク13の内部には、溶剤タンクヒータ13aが設けられており、溶剤タンク温度センサ53からの信号により洗浄溶剤が所定の温度よりも低下すると、制御装置50が溶剤タンクヒータ13aに通電して洗浄溶剤を加熱する。なお、溶剤タンク13には、その内部圧力を大気開放して調整するための溶剤タンク大気開放弁22が備えられている。   Further, the solvent tank 13 detects the internal pressure of the solvent tank pressure sensor 52, displays the internal pressure of the solvent tank pressure gauge 21, and detects the temperature of the cleaning solvent in the solvent tank 13 to perform temperature management. A solvent tank temperature sensor 53 is provided. Further, a solvent tank heater 13a is provided inside the solvent tank 13, and when the cleaning solvent falls below a predetermined temperature by a signal from the solvent tank temperature sensor 53, the controller 50 energizes the solvent tank heater 13a. Then, the cleaning solvent is heated. The solvent tank 13 is provided with a solvent tank atmosphere release valve 22 for adjusting the internal pressure by opening the atmosphere.

ここで、浸漬洗浄工程の完了後、排液弁9を開放して両者を連通することにより、洗浄乾燥槽3内の使用済み洗浄溶剤が排液管8を通じて溶剤タンク13へと排液されるが、洗浄に使用した洗浄溶剤には被処理物2に付着していた各種の汚れが混入している。これらの汚れ成分は洗浄乾燥槽3や排液管8に設けるフィルタ等を通しただけでは除去しきれず、省資源および環境保護の観点から洗浄溶剤を再生して使用する。このため、本実施形態における部品洗浄装置1は、使用済み溶剤を蒸留して凝縮する洗浄液蒸留再生装置24が設けられている。すなわち、溶剤タンク13には、洗浄液蒸留再生装置24が接続されている。   Here, after the immersion cleaning process is completed, the drainage valve 9 is opened to communicate the both, whereby the used cleaning solvent in the cleaning / drying tank 3 is drained to the solvent tank 13 through the drainage pipe 8. However, various kinds of dirt adhering to the workpiece 2 are mixed in the cleaning solvent used for cleaning. These dirt components cannot be removed by simply passing through a filter or the like provided in the cleaning / drying tank 3 or the drainage pipe 8, and the cleaning solvent is regenerated and used from the viewpoint of resource saving and environmental protection. For this reason, the parts washing | cleaning apparatus 1 in this embodiment is provided with the washing | cleaning liquid distillation reproduction | regeneration apparatus 24 which distills a used solvent and condenses. That is, a cleaning liquid distillation regenerator 24 is connected to the solvent tank 13.

洗浄液蒸留再生装置24は、図2に示すように、洗浄溶剤を蒸発(気化)させる蒸留釜25(蒸留器の一種)と、気化された洗浄溶剤の蒸気を凝縮(液化)及び調整する調整機構34と、調整機構34内における洗浄溶剤(換言すると、蒸留された洗浄溶剤)の水分濃度を検出する水分センサ35(本発明における水分濃度検出機構に相当)と、調整機構34内に水分を補充する水分補充機構36と、を備えている。蒸留釜25は、例えば耐熱・耐圧性を有する概略円筒体状の竪型容器であり、本実施形態では蒸留釜25の下部を収納する状態で、加熱機構25aが備えられている。この加熱機構25aは、例えばオイル加熱ユニットであり、熱源として電気ヒータを備えている。この電気ヒータにより加熱媒体としての耐熱オイルを加熱し、この加熱オイルを介して蒸留釜25を加熱する。これにより、この蒸留釜25内を流通する汚れ成分を含む洗浄溶剤を加熱して蒸発(気化)させることができる。   As shown in FIG. 2, the cleaning liquid distillation regenerator 24 includes a distillation pot 25 (a kind of distiller) for evaporating (vaporizing) the cleaning solvent, and an adjustment mechanism for condensing (liquefying) and adjusting the vapor of the evaporated cleaning solvent. 34, a moisture sensor 35 (corresponding to the moisture concentration detection mechanism in the present invention) for detecting the moisture concentration of the cleaning solvent in the adjustment mechanism 34 (in other words, the distilled cleaning solvent), and the adjustment mechanism 34 is replenished with moisture. And a moisture replenishing mechanism 36. The distillation pot 25 is, for example, a generally cylindrical bowl-shaped container having heat resistance and pressure resistance. In this embodiment, the heating mechanism 25a is provided in a state in which the lower part of the distillation pot 25 is accommodated. The heating mechanism 25a is an oil heating unit, for example, and includes an electric heater as a heat source. Heat resistance oil as a heating medium is heated by the electric heater, and the distillation pot 25 is heated through the heating oil. As a result, the cleaning solvent containing the dirt component flowing through the distillation pot 25 can be heated and evaporated (vaporized).

なお、蒸留釜25内は、後述する減圧機構37により減圧されている。これにより、洗浄溶剤の沸点を低下させることができる。また、溶剤タンク13と蒸留釜25との間には、蒸留再生弁49が設けられている。溶剤タンク13から蒸留釜25への汚れ成分を含む溶剤の流入は、蒸留再生弁49を開放した状態で、溶剤タンク13と蒸留釜25との圧力差により行われる。そして、蒸留釜25にて蒸留分離された洗浄溶剤は、溶剤蒸気として蒸留釜25の上部から取り出され、調整機構34側(後述するコンデンサ26)に送られる。一方、蒸留分離された汚れ成分は、蒸留釜25の下部から取り出される。   Note that the inside of the distillation pot 25 is depressurized by a depressurization mechanism 37 described later. Thereby, the boiling point of the cleaning solvent can be lowered. A distillation regeneration valve 49 is provided between the solvent tank 13 and the distillation pot 25. The inflow of the solvent containing the dirt component from the solvent tank 13 to the distillation pot 25 is performed by a pressure difference between the solvent tank 13 and the distillation pot 25 with the distillation regeneration valve 49 opened. Then, the cleaning solvent distilled and separated in the distillation pot 25 is taken out from the upper part of the distillation pot 25 as solvent vapor and sent to the adjustment mechanism 34 side (capacitor 26 described later). On the other hand, the dirt component separated by distillation is taken out from the lower portion of the distillation pot 25.

本実施形態では、蒸留釜25から取り出された汚れ成分は、排出管38を介して蒸留釜25と接続されたスラッジタンク40に送られる。このスラッジタンク40内には、冷却水を通す冷却細管40aが設けられており、スラッジタンク40内の蒸気を含む汚れ成分を冷却する。そして、スラッジタンク40内で冷却された液体状の汚れ成分は、廃液管41を介して廃液を処理する廃液出口に排出される。なお、蒸留釜25とスラッジタンク40との間の排出管38にはこれを開閉する排出弁39が介設されている。また、スラッジタンク40と蒸留釜25との間には、排出弁39を開放した状態で、蒸留釜25からスラッジタンク40に汚れ成分を排出させる排出機構(図示せず)が設けられている。さらに、スラッジタンク40と廃液出口との間の廃液管41にはこれを開閉する廃液弁42が介設されている。   In this embodiment, the dirt component taken out from the distillation pot 25 is sent to the sludge tank 40 connected to the distillation pot 25 via the discharge pipe 38. The sludge tank 40 is provided with a cooling thin tube 40a through which cooling water passes, and cools dirt components including steam in the sludge tank 40. Then, the liquid dirt component cooled in the sludge tank 40 is discharged via a waste liquid pipe 41 to a waste liquid outlet for processing the waste liquid. A discharge valve 39 for opening / closing the discharge pipe 38 between the distillation pot 25 and the sludge tank 40 is interposed. In addition, a discharge mechanism (not shown) is provided between the sludge tank 40 and the distillation pot 25 to discharge dirt components from the distillation pot 25 to the sludge tank 40 with the discharge valve 39 opened. Further, a waste liquid pipe 42 between the sludge tank 40 and the waste liquid outlet is provided with a waste liquid valve 42 for opening and closing the same.

蒸留釜25から洗浄溶剤が送られる調整機構34は、蒸留釜25により気化された洗浄溶剤の蒸気を凝縮して液化するコンデンサ26と、液化した洗浄溶剤を貯留する循環用タンク27(本発明におけるタンクに相当)と、コンデンサ26内を負圧にする減圧機構37と、を備えている。コンデンサ26は、蒸留釜25と接続された熱交換器である。このコンデンサ26の本体は、例えば概略円筒体状の縦型または横型の容器であり、その内部に冷却水を通す冷却細管26aが収納されている。蒸留釜25にて蒸留分離された溶剤蒸気は、まずコンデンサ26に送られ、コンデンサ26を通過する際に冷却細管26aに接触して凝縮(液化)される。そして、この液化した再生溶剤が、コンデンサ26の下流側に接続された溶剤供給管43及び後述するエゼクタ28を介して循環用タンク27に送られる。   The adjustment mechanism 34 to which the cleaning solvent is sent from the distillation pot 25 includes a condenser 26 that condenses and liquefies the vapor of the cleaning solvent vaporized by the distillation pot 25 and a circulation tank 27 that stores the liquefied cleaning solvent (in the present invention). Equivalent to a tank) and a pressure reducing mechanism 37 for making the inside of the capacitor 26 have a negative pressure. The condenser 26 is a heat exchanger connected to the distillation pot 25. The main body of the capacitor 26 is, for example, a substantially cylindrical vertical or horizontal container, and a cooling thin tube 26a through which cooling water passes is housed. The solvent vapor distilled and separated in the distillation pot 25 is first sent to the condenser 26, and when passing through the condenser 26, it contacts the cooling thin tube 26 a and is condensed (liquefied). The liquefied regenerated solvent is sent to the circulation tank 27 through a solvent supply pipe 43 connected to the downstream side of the condenser 26 and an ejector 28 described later.

本実施形態では、コンデンサ26に水分補充機構36が接続されている。水分補充機構36は、例えば、別途設けられた、蒸留水等の水が排出される蛇口や給水タンクの流出口等の給水口に接続され、水分を給水口からコンデンサ26に送る機構である。水分補充機構36は、水分が流れ水分補充管44(本発明における水分流路に相当)とこれを開閉する水分補充弁45とを備えている。水分補充管44により給水口とコンデンサ26との間が接続され、該水分補充管44の途中に設けられた水分補充弁45を開状態にすることで、給水口からの水分をコンデンサ26内へ補充できるように構成されている。ここで、コンデンサ26内は、蒸留釜25と同様に、後述する減圧機構37により減圧されている。このため、水分補充弁45を開状態にするだけで、給水口からの水分をコンデンサ26内に取り込むことができ、コンデンサ26以降の洗浄溶剤に水分を補充できる。   In the present embodiment, a moisture replenishing mechanism 36 is connected to the capacitor 26. The water replenishing mechanism 36 is a mechanism that is connected to a water supply port such as a faucet for discharging water such as distilled water or an outlet of a water supply tank, which is provided separately, and sends water from the water supply port to the condenser 26. The water replenishment mechanism 36 includes a water replenishment pipe 44 (corresponding to a water flow path in the present invention) through which water flows and a water replenishment valve 45 that opens and closes this. The water replenishment pipe 44 connects the water supply port and the condenser 26, and the water replenishment valve 45 provided in the middle of the water replenishment pipe 44 is opened to allow moisture from the water supply opening to enter the condenser 26. It is configured to be replenished. Here, like the distillation pot 25, the inside of the condenser 26 is decompressed by a decompression mechanism 37 described later. For this reason, the water from the water supply port can be taken into the condenser 26 only by opening the water replenishing valve 45, and the cleaning solvent after the condenser 26 can be replenished with water.

また、本実施形態における減圧機構37は、循環用タンク27から出て当該循環用タンク27に戻る循環流路46と、循環流路46の途中に設けられたエゼクタ28と、循環流路46内の洗浄溶剤を循環させる循環ポンプ29(本発明におけるポンプに相当)と、を備えている。循環用タンク27には、その内部に冷却水を通す冷却細管27aが収納されている。このため循環する洗浄溶剤は、循環用タンク27内で冷却され、液体状態が維持される。また、循環用タンク27の循環流路46側とは反対側には、リザーブタンク23(図1参照)へ向けて洗浄溶剤を排出する溶剤出口が設けられている。リザーブタンク23内に貯留されている洗浄溶剤の量に応じて、再生された洗浄溶剤が循環用タンク27から排出される。なお、リザーブタンク23内に不純物を取り除くフィルタ等を設けても良い。   Further, the decompression mechanism 37 in this embodiment includes a circulation channel 46 that returns from the circulation tank 27 and returns to the circulation tank 27, an ejector 28 provided in the middle of the circulation channel 46, and the circulation channel 46. And a circulation pump 29 (which corresponds to the pump in the present invention) for circulating the cleaning solvent. The circulation tank 27 accommodates a cooling thin tube 27a through which cooling water passes. Therefore, the circulating cleaning solvent is cooled in the circulation tank 27 and the liquid state is maintained. A solvent outlet for discharging the cleaning solvent toward the reserve tank 23 (see FIG. 1) is provided on the side of the circulation tank 27 opposite to the circulation flow path 46 side. The regenerated cleaning solvent is discharged from the circulation tank 27 according to the amount of the cleaning solvent stored in the reserve tank 23. A filter for removing impurities may be provided in the reserve tank 23.

循環ポンプ29は、循環用タンク27から出てエゼクタ28に向かう循環流路46の途中に設けられている。この循環ポンプ29を駆動することで、循環用タンク27から当該循環ポンプ29及びエゼクタ28を経て再び循環用タンク27に戻る洗浄溶剤の流れを発生させることができる。そして、この循環により再生溶剤と補充された水分との攪拌混合を確実に行うことができ、再生溶剤の均質化を図ることができる。なお、循環ポンプ29は、洗浄溶剤を循環させることができれば、循環用タンク27及び循環流路46内の何れの場所に設けても良い。また、水分センサ35は、循環ポンプ29の下流側であって、エゼクタ28よりも上流側の循環流路46に設けられている。すなわち、水分センサ35は、エゼクタ28と循環流路46との間に設けられ、循環流路46内の循環ポンプ29から排出された洗浄溶剤の水分濃度を測定する。そして、エゼクタ28には、溶剤供給管43を介してコンデンサ26が接続されている。循環ポンプ29を駆動させて循環流路46内の洗浄溶剤を循環させた状態において、コンデンサ26からの洗浄溶剤はエゼクタ28を介して循環流路46内に吸引される。このように、エゼクタ28により洗浄溶剤が吸引されるため、コンデンサ26内が減圧され、さらにコンデンサ26に接続された蒸留釜25内が減圧される。   The circulation pump 29 is provided in the middle of the circulation flow path 46 that exits from the circulation tank 27 and faces the ejector 28. By driving the circulation pump 29, it is possible to generate a flow of the cleaning solvent that returns from the circulation tank 27 to the circulation tank 27 through the circulation pump 29 and the ejector 28 again. By this circulation, the regenerated solvent and the replenished water can be reliably stirred and mixed, and the regenerated solvent can be homogenized. The circulation pump 29 may be provided at any location in the circulation tank 27 and the circulation flow path 46 as long as the cleaning solvent can be circulated. Further, the moisture sensor 35 is provided in the circulation flow path 46 on the downstream side of the circulation pump 29 and upstream of the ejector 28. That is, the moisture sensor 35 is provided between the ejector 28 and the circulation channel 46 and measures the moisture concentration of the cleaning solvent discharged from the circulation pump 29 in the circulation channel 46. A capacitor 26 is connected to the ejector 28 via a solvent supply pipe 43. In a state where the circulation pump 29 is driven to circulate the cleaning solvent in the circulation flow path 46, the cleaning solvent from the condenser 26 is sucked into the circulation flow path 46 through the ejector 28. As described above, since the cleaning solvent is sucked by the ejector 28, the inside of the condenser 26 is decompressed, and the inside of the distillation pot 25 connected to the condenser 26 is decompressed.

なお、本実施形態では、循環用タンク27内に設けられた冷却細管27a、コンデンサ26内に設けられた冷却細管26a、及び、スラッジタンク40内に設けられた冷却細管40aは、冷却水が流れる冷却流路47により接続されている。すなわち、冷却水入口から流入した冷却水は、冷却流路47内を流下しつつ、循環用タンク27内に設けられた冷却細管27a、コンデンサ26内に設けられた冷却細管26a、及び、スラッジタンク40内に設けられた冷却細管40aを通過して、冷却水出口から流出するように構成されている。このように、各冷却細管26a、27a、40aを一つの流路で接続することで、各冷却細管26a、27a、40aへの冷却水の供給を容易にすることができる。   In the present embodiment, the cooling water flows through the cooling thin tubes 27a provided in the circulation tank 27, the cooling thin tubes 26a provided in the condenser 26, and the cooling thin tubes 40a provided in the sludge tank 40. They are connected by a cooling channel 47. That is, the cooling water flowing in from the cooling water inlet flows down in the cooling flow path 47, and the cooling thin tube 27a provided in the circulation tank 27, the cooling thin tube 26a provided in the condenser 26, and the sludge tank. It passes through the cooling thin tube 40a provided in 40 and is configured to flow out from the cooling water outlet. Thus, the cooling water can be easily supplied to the cooling thin tubes 26a, 27a, and 40a by connecting the cooling thin tubes 26a, 27a, and 40a with one flow path.

洗浄液蒸留再生装置24により蒸留再生された洗浄剤は、図1に示すように、リザーブタンク23に貯留される。このリザーブタンク23内には、貯留された洗浄溶剤のレベルを検出するためのリザーブタンクレベルスイッチ48が設けられている。本実施形態においては、リザーブタンク23内の洗浄剤は、浄乾燥槽3内に収容された被処理物2を蒸気洗浄する蒸気洗浄工程に使用される。このため、リザーブタンク23から浄乾燥槽3に至る導入管33の途中には、該リザーブタンク23から導入される再生溶剤を溶剤蒸気として気化させるための熱交換器30が介設されている。この熱交換器30の本体は、例えば概略円筒体状の縦型または横型の容器であり、その内部に加熱媒体を通す加熱細管30aが収納されている。これにより熱交換器30を通過する再生溶剤は、加熱細管30aに接触して気化され、溶剤蒸気として洗浄乾燥槽3に導入される。なお、熱交換器30の加熱細管30aに通す加熱媒体としては、電気ヒータ等の加熱手段により加熱したオイルが挙げられる。また、本実施形態では、リザーブタンク23から熱交換器30への再生溶剤の導入、及び熱交換器30から洗浄乾燥槽3への溶剤蒸気の導入は、リザーブタンク23と洗浄乾燥槽3との圧力差により行われる。このため、熱交換器30よりも上流側の導入管33にはこれを開閉するための蒸気洗浄補助弁31が介設され、熱交換器30よりも下流側の導入管33にはこれを開閉するための蒸気洗浄弁32が介設されている。   The cleaning agent distilled and regenerated by the cleaning liquid distillation regenerator 24 is stored in the reserve tank 23 as shown in FIG. In the reserve tank 23, a reserve tank level switch 48 for detecting the level of the stored cleaning solvent is provided. In the present embodiment, the cleaning agent in the reserve tank 23 is used in a steam cleaning process in which the workpiece 2 accommodated in the clean / dry tank 3 is steam cleaned. For this reason, a heat exchanger 30 for vaporizing the regenerated solvent introduced from the reserve tank 23 as a solvent vapor is provided in the middle of the introduction pipe 33 extending from the reserve tank 23 to the purification tank 3. The main body of the heat exchanger 30 is, for example, a substantially cylindrical vertical or horizontal container, and a heating thin tube 30a through which a heating medium passes is housed. As a result, the regenerated solvent passing through the heat exchanger 30 is vaporized in contact with the heating thin tube 30a, and is introduced into the washing / drying tank 3 as solvent vapor. The heating medium that passes through the heating thin tube 30a of the heat exchanger 30 includes oil heated by heating means such as an electric heater. In this embodiment, the introduction of the regenerated solvent from the reserve tank 23 to the heat exchanger 30 and the introduction of the solvent vapor from the heat exchanger 30 to the washing / drying tank 3 are performed between the reserve tank 23 and the washing / drying tank 3. This is done by pressure difference. For this reason, the steam cleaning auxiliary valve 31 for opening and closing the inlet pipe 33 upstream of the heat exchanger 30 is interposed, and the inlet pipe 33 downstream of the heat exchanger 30 is opened and closed. A steam cleaning valve 32 is provided for this purpose.

前記した各機器、即ち各種ポンプ、各種の弁、及び各種センサは、制御装置50に電気的に接続され、この制御装置50の制御の下で予め設定した手順と条件で作動する。なお、制御装置50は、洗浄液蒸留再生装置24を制御する制御装置としても機能する。   Each of the above-described devices, that is, various pumps, various valves, and various sensors are electrically connected to the control device 50, and operate according to preset procedures and conditions under the control of the control device 50. The control device 50 also functions as a control device that controls the cleaning liquid distillation regenerating device 24.

本実施形態における制御装置50は、図3に示すように、CPU、ROM、RAMなどを備えたコンピュータにより構成され、タイマ54を備えている。そして、この制御装置50の入力側には、操作パネル55に設けた電源スイッチ56、スタートスイッチ57、減圧洗浄時間設定スイッチ58、復圧洗浄時間設定スイッチ59、低圧真空乾燥時間設定スイッチ60、復圧真空乾燥時間設定スイッチ61、水分濃度設定スイッチ64の他に、洗浄乾燥槽圧力センサ51、洗浄乾燥槽レベルスイッチ16、溶剤タンク温度センサ53、溶剤タンク圧力センサ52、リザーブタンクレベルスイッチ48、水分センサ35などが接続される。また、制御装置50の出力側には、操作パネル55に設けた表示器62の他に、真空ポンプ10、洗浄乾燥槽真空弁12、排液弁9、浸漬洗浄弁15、溶剤タンクヒータ13a、洗浄乾燥槽大気開放弁18、分岐排気弁19、溶剤タンク減圧弁20、溶剤タンク大気開放弁22、蒸気洗浄補助弁31、蒸気洗浄弁32、蒸留再生弁49、加熱機構25a、排出弁39、廃液弁42、水分補充弁45、循環ポンプ29などが接続されている。   As shown in FIG. 3, the control device 50 in the present embodiment is configured by a computer including a CPU, a ROM, a RAM, and the like, and includes a timer 54. On the input side of the control device 50, a power switch 56, a start switch 57, a reduced pressure cleaning time setting switch 58, a return pressure cleaning time setting switch 59, a low pressure vacuum drying time setting switch 60 provided on the operation panel 55, In addition to pressure vacuum drying time setting switch 61 and moisture concentration setting switch 64, cleaning / drying tank pressure sensor 51, cleaning / drying tank level switch 16, solvent tank temperature sensor 53, solvent tank pressure sensor 52, reserve tank level switch 48, moisture A sensor 35 or the like is connected. Further, on the output side of the control device 50, in addition to the indicator 62 provided on the operation panel 55, the vacuum pump 10, the cleaning / drying tank vacuum valve 12, the drainage valve 9, the immersion cleaning valve 15, the solvent tank heater 13a, Cleaning / drying tank air release valve 18, branch exhaust valve 19, solvent tank pressure reducing valve 20, solvent tank air release valve 22, steam cleaning auxiliary valve 31, steam cleaning valve 32, distillation regeneration valve 49, heating mechanism 25a, discharge valve 39, A waste liquid valve 42, a water replenishment valve 45, a circulation pump 29, and the like are connected.

なお、復圧洗浄時間設定スイッチ59、復圧真空乾燥時間設定スイッチ61は、被処理物2の重量、表面積、微細孔や微細隙間の有無や数などの特質に応じて、復圧時間をタイマ54に設定する入力手段として機能する。また、減圧洗浄時間設定スイッチ58、低圧真空乾燥時間設定スイッチ60は、被処理物2に応じて所望する時間をタイマ54に設定する入力手段として機能するものである。さらに、水分濃度設定スイッチ64は、洗浄溶剤の種類に応じて、コンデンサ26内に水分を補充する最低水分濃度を設定する入力手段として機能するものである。例えば、含有される水分の濃度が10%未満で引火性となる洗浄溶剤の場合、最低水分濃度は、10%或いはある程度のマージンをとって11%〜15%程度に設定される。すなわち、最低水分濃度は、洗浄液蒸留再生装置24内において管理される洗浄溶剤の水分濃度の値である。このため、洗浄溶剤は、少なくとも最低水分濃度以上の場合において非引火性を有するようになる。   The return pressure cleaning time setting switch 59 and the return pressure vacuum drying time setting switch 61 are used to set the return pressure time to a timer according to characteristics such as the weight, surface area, presence / absence and number of fine holes and fine gaps of the workpiece 2. 54 functions as an input means. Further, the reduced pressure cleaning time setting switch 58 and the low pressure vacuum drying time setting switch 60 function as input means for setting a desired time in the timer 54 according to the workpiece 2. Further, the moisture concentration setting switch 64 functions as an input means for setting a minimum moisture concentration for replenishing moisture in the capacitor 26 according to the type of cleaning solvent. For example, in the case of a cleaning solvent that becomes flammable when the concentration of water contained is less than 10%, the minimum water concentration is set to 10% or about 11% to 15% with some margin. That is, the minimum water concentration is the value of the water concentration of the cleaning solvent managed in the cleaning liquid distillation regenerator 24. For this reason, a cleaning solvent comes to have non-flammability at least when it is above the minimum moisture concentration.

そして、本実施形態における制御装置50は、浸漬洗浄工程において、上記洗浄乾燥槽内を200Pa以下に減圧して減圧洗浄を行うと共に、該減圧洗浄を行った後、200Paを超え所定の圧力まで復圧し、この復圧状態で復圧洗浄を行う制御を実行する。この減圧洗浄及び復圧洗浄は繰り返し行われる。すなわち、制御装置50は、減圧洗浄を所定の時間行い、該減圧洗浄を行った後、所定の時間復圧洗浄を行う操作を洗浄工程中で複数回繰り返す制御を実行する。なお、繰り返し回数は、予め設定した固定回数でもよいが、操作パネル55の図示していない操作部(外部入力手段)を操作することにより設定できるようにしてもよい。   In the immersion cleaning process, the control device 50 according to the present embodiment reduces the pressure in the cleaning / drying tank to 200 Pa or less and performs reduced-pressure cleaning. After performing the reduced-pressure cleaning, the control device 50 recovers to a predetermined pressure exceeding 200 Pa. And control to perform the return pressure cleaning in this return pressure state. This reduced pressure cleaning and return pressure cleaning are repeated. That is, the control device 50 performs a control for repeating the vacuum cleaning for a predetermined time, repeating the vacuum cleaning for a predetermined time, and then repeating the operation for performing the pressure recovery cleaning for a predetermined time a plurality of times during the cleaning process. The number of repetitions may be a fixed number set in advance, but may be set by operating an operation unit (external input means) (not shown) of the operation panel 55.

また、制御装置50は、真空乾燥工程において、上記洗浄乾燥槽3内を真空ポンプ10の限界値まで減圧して低圧真空乾燥を行うと共に、該低圧真空乾燥を行った後、真空ポンプ10の限界値を開放し所定の圧力まで復圧し、この復圧状態で復圧真空乾燥を行う制御を実行する。この低圧真空乾燥及び復圧真空乾燥は繰り返し行われる。すなわち、制御装置50は、低圧真空乾燥を所定の時間行い、該低圧真空乾燥を行った後、所定の時間復圧真空乾燥する操作を乾燥工程中で複数回繰り返す制御を実行する。なお、この繰り返し回数は、予め設定した固定回数でもよいが、操作パネル55の操作部(外部入力手段)を操作することにより設定できるようにしてもよい。   Further, in the vacuum drying process, the control device 50 reduces the inside of the washing / drying tank 3 to the limit value of the vacuum pump 10 to perform low pressure vacuum drying, and after performing the low pressure vacuum drying, the limit of the vacuum pump 10 is reached. The control is performed to release the value, return the pressure to a predetermined pressure, and perform return pressure vacuum drying in this recovered pressure state. This low-pressure vacuum drying and reverse pressure vacuum drying are repeated. That is, the control device 50 performs control for performing low-pressure vacuum drying for a predetermined time, repeating the operation of performing vacuum decompression for a predetermined time several times during the drying process after performing the low-pressure vacuum drying. The number of repetitions may be a fixed number set in advance, but may be set by operating the operation unit (external input means) of the operation panel 55.

さらに、制御装置50は、水分補充機構36の調整機構34内への水分の補充を制御する制御装置として機能する。すなわち、制御装置50は、水分センサ35から送信された調整機構34内の洗浄溶剤の水分濃度を監視し、該水分濃度が所定の値よりも低い場合、水分補充機構36から調整機構34内に水分を補充する制御を実行する。より具体的には、制御装置50は、水分センサ35により測定された循環流路46内における洗浄溶剤の水分濃度が最低水分濃度よりも低い場合、水分補充弁45を開状態にして給水口からコンデンサ26に水分を導入する制御を実行する。このようにすることで、洗浄液蒸留再生装置24の調整機構34内における洗浄溶剤が非引火性を有する最低水分濃度以上を保持でき、洗浄溶剤に引火点が出現することを抑制できる。   Further, the control device 50 functions as a control device that controls the replenishment of moisture into the adjustment mechanism 34 of the moisture replenishment mechanism 36. That is, the control device 50 monitors the moisture concentration of the cleaning solvent in the adjustment mechanism 34 transmitted from the moisture sensor 35, and when the moisture concentration is lower than a predetermined value, the moisture replenishment mechanism 36 enters the adjustment mechanism 34. Execute control to replenish moisture. More specifically, when the moisture concentration of the cleaning solvent in the circulation flow path 46 measured by the moisture sensor 35 is lower than the minimum moisture concentration, the control device 50 opens the moisture replenishing valve 45 and starts from the water supply port. Control to introduce moisture into the capacitor 26 is executed. By doing in this way, the washing | cleaning solvent in the adjustment mechanism 34 of the washing | cleaning liquid distillation reproduction | regeneration apparatus 24 can hold | maintain more than the minimum moisture concentration which has nonflammability, and it can suppress that a flash point appears in a washing | cleaning solvent.

次に、本実施形態における部品洗浄装置1の操作を具体的に説明する。
準備段階として、洗浄乾燥槽大気開放弁18を開放した後、洗浄乾燥槽3の開閉蓋7を開放して、機械部品等の被処理物2を複数個入れたバスケット4を載置部上に載置する。被処理物2を洗浄乾燥槽3内に収容したならば、シール部材6を介して開閉蓋7を密閉状態で閉成する。そして、スタートスイッチ57を操作すると、制御装置50が洗浄乾燥槽大気開放弁18を閉成する。
Next, the operation of the component cleaning apparatus 1 in this embodiment will be specifically described.
As a preparatory stage, after opening the cleaning / drying tank air release valve 18, the opening / closing lid 7 of the cleaning / drying tank 3 is opened, and a basket 4 containing a plurality of workpieces 2 such as machine parts is placed on the mounting portion. Place. If the workpiece 2 is accommodated in the cleaning / drying tank 3, the open / close lid 7 is closed in a sealed state via the seal member 6. When the start switch 57 is operated, the control device 50 closes the cleaning / drying tank atmosphere release valve 18.

このような準備が整ったら、まず、洗浄乾燥槽3へ洗浄溶剤の給液を行う。給液操作は、制御装置50が溶剤タンク大気開放弁22を開放して溶剤タンク13の内部圧力を大気方向へと戻す。そして、溶剤タンク13の内部圧力が所定の圧力(例えば500Pa)になったことが溶剤タンク圧力センサ52により検出されると、制御装置50が溶剤タンク大気開放弁22を閉成し、浸漬洗浄管14の浸漬洗浄弁15、及び排気管11の洗浄乾燥槽真空弁12を開放すると共に真空ポンプ10を駆動する。すると、浸漬洗浄弁15が洗浄乾燥槽3と溶剤タンク13との間を連通し、洗浄乾燥槽3と溶剤タンク13との圧力差により、溶剤タンク13内から洗浄溶剤が洗浄乾燥槽3へと給液される。このとき、制御装置50の制御により、溶剤タンク減圧弁20、蒸気洗浄弁32、蒸気洗浄補助弁31、排液弁9、及び蒸留再生弁49は閉成されている。そして、洗浄乾燥槽3のレベルスイッチ16の上限レベルスイッチが上限レベルを検出して制御装置50に信号を送ると、これにより、制御装置50が浸漬洗浄弁15及び洗浄乾燥槽真空弁12を閉成すると共に、真空ポンプ10を停止する。   When such preparation is completed, first, the cleaning solvent is supplied to the cleaning / drying tank 3. In the liquid supply operation, the control device 50 opens the solvent tank atmospheric release valve 22 and returns the internal pressure of the solvent tank 13 to the atmospheric direction. When the solvent tank pressure sensor 52 detects that the internal pressure of the solvent tank 13 has reached a predetermined pressure (for example, 500 Pa), the control device 50 closes the solvent tank atmosphere release valve 22 and the immersion cleaning pipe. 14 the immersion cleaning valve 15 and the cleaning / drying tank vacuum valve 12 of the exhaust pipe 11 are opened and the vacuum pump 10 is driven. Then, the immersion cleaning valve 15 communicates between the cleaning / drying tank 3 and the solvent tank 13, and the cleaning solvent is transferred from the solvent tank 13 to the cleaning / drying tank 3 due to a pressure difference between the cleaning / drying tank 3 and the solvent tank 13. The liquid is supplied. At this time, the solvent tank pressure reducing valve 20, the steam cleaning valve 32, the steam cleaning auxiliary valve 31, the drainage valve 9, and the distillation regeneration valve 49 are closed under the control of the control device 50. Then, when the upper limit level switch of the level switch 16 of the cleaning / drying tank 3 detects the upper limit level and sends a signal to the control device 50, the control device 50 closes the immersion cleaning valve 15 and the cleaning / drying chamber vacuum valve 12. At the same time, the vacuum pump 10 is stopped.

そして、浸漬洗浄工程を行う。この浸漬洗浄工程では被処理物2が加熱溶剤内に浸漬している状態で、超音波発生装置3cにより超音波振動を与えて浸漬洗浄(超音波洗浄)を行う。具体的には、真空ポンプ10により排気管11を通じて洗浄乾燥槽3内を洗浄乾燥槽圧力センサ51が所定の値(例えば200Pa)以下を検出するまで減圧して減圧洗浄を行う。この減圧洗浄を行った後に制御装置50が洗浄乾燥槽大気開放弁18を開放し、洗浄乾燥槽圧力センサ51による検出圧力が所定の圧力(例えば500Pa以下の圧力)を指示するまで大気圧方向へと復圧して、この復圧状態で復圧洗浄を行う。この復圧洗浄を所定の時間行った後に洗浄乾燥槽大気開放弁18を閉成し、再度、真空ポンプ10により排気管11を通じて洗浄乾燥槽3内を減圧して減圧洗浄を行う。このように、減圧洗浄と復圧洗浄を繰り返し行う。   Then, an immersion cleaning process is performed. In this immersion cleaning process, immersion cleaning (ultrasonic cleaning) is performed by applying ultrasonic vibration by the ultrasonic generator 3c while the workpiece 2 is immersed in the heating solvent. Specifically, the inside of the washing / drying tank 3 is reduced in pressure by the vacuum pump 10 through the exhaust pipe 11 until the washing / drying tank pressure sensor 51 detects a predetermined value (for example, 200 Pa) or less to perform the reduced pressure washing. After performing this vacuum cleaning, the control device 50 opens the cleaning / drying tank atmosphere release valve 18 and moves toward the atmospheric pressure until the pressure detected by the cleaning / drying tank pressure sensor 51 indicates a predetermined pressure (for example, a pressure of 500 Pa or less). And return pressure cleaning is performed in this recovered pressure state. After the return pressure cleaning is performed for a predetermined time, the cleaning / drying tank air release valve 18 is closed, and the cleaning / drying tank 3 is again decompressed through the exhaust pipe 11 by the vacuum pump 10 to perform the vacuum cleaning. Thus, the reduced pressure cleaning and the return pressure cleaning are repeated.

このように復圧洗浄を実施する理由は、被処理物2に微細な空間、例えば微細な孔(特に直径に比較して深い孔)が存在する場合には、洗浄溶剤中に浸漬しても微細な孔の中に空気が残留して抜け難く、すなわち孔内に洗浄溶剤が浸入し難く、超音波洗浄を施しても孔内部へ洗浄溶剤が浸透していかない。また、一度減圧しただけでは、孔内の空気が膨張して、膨張した分の空気が抜けたとしても洗浄溶剤が孔内に浸透していかない。そこで、孔の中の空気を減圧して膨張させて希薄にして膨張分は排出し、その後の復圧操作により残った空気を収縮させることによりこの収縮分の洗浄溶剤を浸透させ、この減圧と復圧とを繰り返すことにより、孔の中から空気を抜け出し易くさせるものである。これにより、孔内部へ洗浄溶剤を浸透させることができ、浸透した洗浄溶剤を介して孔の内周面に超音波を伝播して超音波洗浄を効率良く行うことができる。なお、減圧洗浄の時間及び復圧洗浄の時間の調整は、操作パネル55の減圧洗浄時間設定スイッチ58、復圧洗浄時間設定スイッチ59の操作により、被処理物2に応じて設定することができる。   The reason why the return pressure cleaning is performed in this way is that, if the object to be processed 2 has a fine space, for example, a fine hole (especially a deep hole compared to the diameter), it can be immersed in the cleaning solvent. Air remains in the fine holes and is difficult to escape, that is, it is difficult for the cleaning solvent to enter the holes, and the cleaning solvent does not penetrate into the holes even if ultrasonic cleaning is performed. Further, once the pressure is reduced, the air in the hole expands, and the cleaning solvent does not penetrate into the hole even if the expanded air is removed. Therefore, the air in the hole is depressurized and expanded to dilute, and the expanded portion is discharged, and the remaining air is contracted by the subsequent return pressure operation to infiltrate the cleaning solvent for this contraction. By repeating the return pressure, the air can easily escape from the hole. Thereby, the cleaning solvent can be infiltrated into the hole, and the ultrasonic cleaning can be efficiently performed by propagating the ultrasonic wave to the inner peripheral surface of the hole through the permeated cleaning solvent. The adjustment of the reduced pressure cleaning time and the return pressure cleaning time can be set according to the workpiece 2 by operating the reduced pressure cleaning time setting switch 58 and the return pressure cleaning time setting switch 59 of the operation panel 55. .

浸漬洗浄の完了後に、洗浄乾燥槽3内の汚れ成分を含む洗浄溶剤を排液する。排液操作は、制御装置50からの信号により洗浄乾燥槽大気開放弁18を開放し、洗浄乾燥槽3の内部圧力を洗浄乾燥槽圧力センサ51が所定の圧力(例えば500Pa以下の圧力)を検出するまで大気方向へと戻す。その後、洗浄乾燥槽大気開放弁18を閉成し、排液管8の排液弁9、及び分岐排気管19の溶剤タンク減圧弁20を開放すると共に真空ポンプ10を駆動する。すると、排液弁9の開放により洗浄乾燥槽3と溶剤タンク13とが連通し、洗浄乾燥槽3と溶剤タンク13との圧力差により、洗浄乾燥槽3内から汚れ成分を含む洗浄溶剤が溶剤タンク13へと排液される。そして、洗浄乾燥槽3のレベルスイッチ16の下限レベル検出により、排液弁9及び溶剤タンク減圧弁20を閉成する。   After completion of the immersion cleaning, the cleaning solvent containing the dirt component in the cleaning / drying tank 3 is drained. In the drain operation, the cleaning / drying tank atmosphere release valve 18 is opened by a signal from the control device 50, and the internal pressure of the cleaning / drying tank 3 is detected by the cleaning / drying tank pressure sensor 51 (for example, a pressure of 500 Pa or less). Return to the atmosphere until you do. Thereafter, the cleaning / drying tank atmosphere release valve 18 is closed, the drain valve 9 of the drain pipe 8 and the solvent tank pressure reducing valve 20 of the branch exhaust pipe 19 are opened, and the vacuum pump 10 is driven. Then, the cleaning / drying tank 3 and the solvent tank 13 are communicated with each other by opening the drain valve 9, and the cleaning solvent containing the dirt component is removed from the cleaning / drying tank 3 by the pressure difference between the cleaning / drying tank 3 and the solvent tank 13. The liquid is discharged to the tank 13. Then, the drain valve 9 and the solvent tank pressure reducing valve 20 are closed by detecting the lower limit level of the level switch 16 of the washing / drying tank 3.

ここで、溶剤タンク13へと排液され汚れ成分を含む洗浄溶剤は、洗浄液蒸留再生装置24により蒸留再生される。蒸留再生工程では、まず、溶剤タンク大気開放弁22を開放して溶剤タンク13の内部圧力を大気方向へと戻す。また、循環ポンプ29を駆動すると共に、蒸留再生弁49を開放する。そして、溶剤タンク13と蒸留釜25との圧力差により洗浄溶剤を蒸留釜25へ流入させる。次に、加熱機構25aにより蒸留釜25内の洗浄溶剤を加熱して蒸発させる。その後、所定時間が経過したならば、蒸留再生弁49を閉成して蒸留釜25への溶剤の流入を遮断し、蒸留釜25内の残留溶剤を蒸留する。そして、排出弁39を開放し、図示しない排出機構により蒸留分離された蒸気を含む汚れ成分をスラッジタンク40に排出する。この蒸気を含む汚れ成分は、スラッジタンク40内において冷却細管40aと接触し、冷却され、液化される。排出弁39の開放後、所定時間が経過したならば、排出弁39を閉成すると共に、廃液弁42を開放し、汚れ成分を廃液出口から排出する。   Here, the cleaning solvent drained to the solvent tank 13 and containing the dirt component is distilled and regenerated by the cleaning liquid distillation regenerator 24. In the distillation regeneration step, first, the solvent tank atmospheric release valve 22 is opened to return the internal pressure of the solvent tank 13 to the atmospheric direction. In addition, the circulation pump 29 is driven and the distillation regeneration valve 49 is opened. Then, the cleaning solvent is caused to flow into the distillation pot 25 due to the pressure difference between the solvent tank 13 and the distillation pot 25. Next, the cleaning solvent in the distillation pot 25 is heated and evaporated by the heating mechanism 25a. Thereafter, when a predetermined time has elapsed, the distillation regeneration valve 49 is closed to block the inflow of the solvent into the distillation pot 25, and the residual solvent in the distillation pot 25 is distilled. Then, the discharge valve 39 is opened, and the dirt component containing the vapor distilled and separated by a discharge mechanism (not shown) is discharged to the sludge tank 40. The dirt component including the vapor comes into contact with the cooling thin tube 40a in the sludge tank 40, and is cooled and liquefied. When a predetermined time has elapsed after the discharge valve 39 is opened, the discharge valve 39 is closed, the waste liquid valve 42 is opened, and the dirt component is discharged from the waste liquid outlet.

一方、蒸留分離された溶剤蒸気は、順次コンデンサ26内に流入し、液化される。具体的には、コンデンサ26内において、溶剤蒸気は冷却細管26aと接触し、凝縮(液化)される。そして、液化したコンデンサ26内の再生溶剤(洗浄溶剤)は、循環ポンプ29が駆動されている状態で、エゼクタ28に吸引される。エゼクタ28に吸引された再生溶剤は、循環用タンク27側に送られると共に、循環流路46内を循環して攪拌され、均質化される。ここで、循環流路46内を循環する再生溶剤の水分濃度は、水分センサ35により測定されると共に、電気信号として制御装置50に送信される。制御装置50は、この水分濃度を監視し、最低水分濃度以下になった場合、水分補充弁45を開放してコンデンサ26内に水分を補充する。この水分濃度の監視は、少なくとも洗浄溶剤が蒸留釜25内で蒸留されている間行われる。なお、最低水分濃度は、上記したように、洗浄溶剤の種類に応じて別途設定される。   On the other hand, the solvent vapor separated by distillation flows into the condenser 26 sequentially and is liquefied. Specifically, in the condenser 26, the solvent vapor comes into contact with the cooling thin tube 26a and is condensed (liquefied). Then, the regenerated solvent (cleaning solvent) in the condenser 26 is sucked into the ejector 28 while the circulation pump 29 is driven. The regenerated solvent sucked into the ejector 28 is sent to the circulation tank 27 side, and is circulated through the circulation flow path 46 to be stirred and homogenized. Here, the moisture concentration of the regenerated solvent circulating in the circulation channel 46 is measured by the moisture sensor 35 and transmitted to the control device 50 as an electrical signal. The control device 50 monitors the water concentration, and when the water concentration becomes lower than the minimum water concentration, the water replenishing valve 45 is opened to replenish the capacitor 26 with water. The water concentration is monitored at least while the cleaning solvent is distilled in the distillation pot 25. The minimum moisture concentration is set separately according to the type of cleaning solvent as described above.

このように、洗浄液蒸留再生装置24は、調整機構34内(本実施形態では、循環流路46内)における洗浄溶剤(換言すると、蒸留された洗浄溶剤)の水分濃度を検出する水分センサ35と、調整機構34内(本実施形態では、コンデンサ26内)に水分を補充する水分補充機構36と、水分補充機構36の調整機構34内への水分の補充を制御する制御装置50と、を備え、制御装置50が、水分センサ35により検出された洗浄溶剤の水分濃度が所定の値よりも低い場合、水分補充機構36から調整機構34内に水分を補充する制御を実行するので、洗浄溶剤の水分濃度を調整できる。すなわち、部品洗浄装置1内において、洗浄溶剤の水分濃度が減少したとしても、水分を補うことができる。これにより、洗浄溶剤の水分濃度を所定の濃度以上に保つことができる。その結果、含有される水分の濃度が所定の水分濃度よりも低い場合に非引火性が消失する洗浄溶剤を蒸留再生する際に、当該洗浄溶剤に引火点が出現することを抑制できる。その結果、洗浄液蒸留再生装置24に防火、防爆対策を施すこと無く、洗浄液蒸留再生装置24の構成、ひいては部品洗浄装置1の構成を簡単にできる。   As described above, the cleaning liquid distillation regenerator 24 includes the moisture sensor 35 that detects the moisture concentration of the cleaning solvent (in other words, the distilled cleaning solvent) in the adjustment mechanism 34 (in this embodiment, the circulation flow path 46). A water replenishment mechanism 36 for replenishing water in the adjustment mechanism 34 (in the capacitor 26 in the present embodiment), and a control device 50 for controlling replenishment of water in the adjustment mechanism 34 of the water replenishment mechanism 36. When the moisture concentration of the cleaning solvent detected by the moisture sensor 35 is lower than a predetermined value, the control device 50 executes control for replenishing moisture from the moisture replenishing mechanism 36 into the adjustment mechanism 34. The water concentration can be adjusted. That is, in the component cleaning apparatus 1, even if the water concentration of the cleaning solvent decreases, the water can be supplemented. Thereby, the water concentration of the cleaning solvent can be maintained at a predetermined concentration or more. As a result, when the cleaning solvent that loses non-flammability is distilled and regenerated when the concentration of the contained water is lower than the predetermined moisture concentration, it is possible to suppress the flash point from appearing in the cleaning solvent. As a result, it is possible to simplify the configuration of the cleaning liquid distillation regenerator 24 and hence the configuration of the parts cleaning apparatus 1 without taking fire prevention and explosion protection measures on the cleaning liquid distillation regenerator 24.

また、調整機構34は、蒸留釜25により気化された洗浄溶剤の蒸気を凝縮して液化するコンデンサ26と、液化した洗浄溶剤を貯留する循環用タンク27と、コンデンサ26内を負圧にする減圧機構37と、を備え、水分補充機構36は、水分が流れる水分流路と、水分流路の途中に設けられた水分補充弁45と、を備え、制御装置50は、水分補充弁45を開状態にしてコンデンサ26以降の洗浄溶剤に水分を補充する制御を実行するので、水分補充弁45の開閉を制御するだけで、水分の補充を制御できる。このため、水分を供給する際に別途ポンプ等を設ける必要が無く、洗浄液蒸留再生装置24の構成、ひいては部品洗浄装置1の構成を一層簡単にできる。また、本実施形態では、コンデンサ26内に水分を供給するため、この水分によりコンデンサ26内の洗浄溶剤を冷却でき、コンデンサ26による冷却効率を向上させることができる。さらに、減圧機構37は、タンクから出て当該タンクに戻る循環流路46と、循環流路46の途中に設けられたエゼクタ28と、循環流路46内の洗浄溶剤を循環させる循環ポンプ29と、を備え、コンデンサ26は、エゼクタ28と接続され、エゼクタ28によりコンデンサ26内の洗浄溶剤が循環流路46内に吸引されるので、循環ポンプ29の他に、コンデンサ26から洗浄溶剤を排出させるポンプを別途設ける必要が無く、洗浄液蒸留再生装置24の構成、ひいては部品洗浄装置1の構成を一層簡単にできる。また、循環流路46内の洗浄溶剤を循環させることで、洗浄溶剤中に含まれる水分やアルコール類等の成分濃度のムラや、洗浄溶剤の温度ムラを無くすことができる。さらに、この循環により、洗浄溶剤と補充された水分との攪拌混合を確実に行うことができる。その結果、洗浄溶剤の均質化を図ることができる。   The adjusting mechanism 34 also condenses and liquefies the vapor of the cleaning solvent vaporized by the distillation pot 25, a circulation tank 27 that stores the liquefied cleaning solvent, and a decompression that makes the inside of the capacitor 26 a negative pressure. The water replenishment mechanism 36 includes a water flow path through which water flows, and a water replenishment valve 45 provided in the middle of the water flow path, and the control device 50 opens the water replenishment valve 45. Since the control for replenishing water to the cleaning solvent after the condenser 26 in the state is executed, the replenishment of water can be controlled only by controlling the opening and closing of the water replenishment valve 45. For this reason, it is not necessary to provide a separate pump or the like when supplying moisture, and the configuration of the cleaning liquid distillation regenerator 24 and thus the configuration of the parts cleaning apparatus 1 can be further simplified. In the present embodiment, since moisture is supplied into the capacitor 26, the cleaning solvent in the capacitor 26 can be cooled by the moisture, and the cooling efficiency of the capacitor 26 can be improved. Further, the decompression mechanism 37 includes a circulation channel 46 that returns from the tank to the tank, an ejector 28 provided in the middle of the circulation channel 46, and a circulation pump 29 that circulates the cleaning solvent in the circulation channel 46. The condenser 26 is connected to the ejector 28, and the cleaning solvent in the condenser 26 is sucked into the circulation flow path 46 by the ejector 28, so that the cleaning solvent is discharged from the condenser 26 in addition to the circulation pump 29. There is no need to provide a separate pump, and the configuration of the cleaning liquid distillation regenerator 24 and thus the configuration of the parts cleaning apparatus 1 can be further simplified. Further, by circulating the cleaning solvent in the circulation channel 46, it is possible to eliminate unevenness in the concentration of components such as moisture and alcohol contained in the cleaning solvent and uneven temperature in the cleaning solvent. Furthermore, this circulation ensures that the cleaning solvent and the replenished moisture are stirred and mixed. As a result, the cleaning solvent can be homogenized.

そして、蒸留釜25による蒸留を開始してから所定の時間が経過した後、循環する再生溶剤が循環用タンク27からリザーブタンク23に向けて排出される。なお、循環用タンク27からリザーブタンク23への排出は、図示しない再生溶剤排出機構により行われる。この再生溶剤排出機構は、例えば、循環用タンク27とリザーブタンク23との間を開閉する弁やポンプ等により構成される。そして、リザーブタンク23に貯留された再生溶剤は、浸漬洗浄工程の後に行われる蒸気洗浄工程に使用される。   Then, after a predetermined time has elapsed since the start of distillation by the distillation pot 25, the circulating regenerated solvent is discharged from the circulation tank 27 toward the reserve tank 23. The discharge from the circulation tank 27 to the reserve tank 23 is performed by a regenerative solvent discharge mechanism (not shown). The regeneration solvent discharge mechanism is configured by, for example, a valve or a pump that opens and closes between the circulation tank 27 and the reserve tank 23. The regenerated solvent stored in the reserve tank 23 is used for a steam cleaning process performed after the immersion cleaning process.

蒸気洗浄工程では、真空ポンプ10が駆動されている状態で、排気管11の洗浄乾燥槽真空弁12を開放した後、導入管33の蒸気洗浄弁32及び蒸気洗浄補助弁31を開放する。蒸気洗浄弁32及び蒸気洗浄補助弁31の開放タイミングは、洗浄乾燥槽3の洗浄乾燥槽圧力センサ51が所定の圧力(例えば、100Pa以下の圧力)を検出したときである。これにより、洗浄乾燥槽3とリザーブタンク23との圧力差により、再生溶剤がリザーブタンク23から熱交換器30に導入され、入口に設けられた噴霧ノズル(図示せず)から再生溶剤が霧状に噴出される。この霧状溶剤が溶加熱媒体の通過する加熱細管30aと熱交換してガス化し、溶剤ガスとして洗浄乾燥槽3に導入される。これにより、熱交換器30を大型化することなく、洗浄乾燥槽3に導入する溶剤蒸気への溶剤液滴の混入を防止でき、被処理物2へのシミの付着を抑制できる。   In the steam cleaning step, the cleaning / drying tank vacuum valve 12 of the exhaust pipe 11 is opened while the vacuum pump 10 is driven, and then the steam cleaning valve 32 and the steam cleaning auxiliary valve 31 of the introduction pipe 33 are opened. The opening timing of the steam cleaning valve 32 and the steam cleaning auxiliary valve 31 is when the cleaning / drying tank pressure sensor 51 of the cleaning / drying tank 3 detects a predetermined pressure (for example, a pressure of 100 Pa or less). Thereby, due to the pressure difference between the washing / drying tank 3 and the reserve tank 23, the regenerated solvent is introduced from the reserve tank 23 into the heat exchanger 30, and the regenerated solvent is sprayed from a spray nozzle (not shown) provided at the inlet. Is erupted. This atomized solvent is gasified by heat exchange with the heating capillary 30a through which the solution heating medium passes, and is introduced into the washing and drying tank 3 as a solvent gas. Thereby, without enlarging the heat exchanger 30, the mixing of solvent droplets into the solvent vapor introduced into the washing / drying tank 3 can be prevented, and the adhesion of stains to the object to be treated 2 can be suppressed.

蒸気洗浄を所定の時間行った後、制御装置50が蒸気洗浄弁32及び蒸気洗浄補助弁31を閉成して蒸気洗浄工程を完了し、真空乾燥工程へと移行する。移行した時点では、真空ポンプ10は継続して駆動状態であり、また、排気管11の洗浄乾燥槽真空弁12は開放されたままである。そして、真空ポンプ10の限界値まで減圧する。なお、真空ポンプ10は、真空乾燥に理想的な圧力である約7Pa以下まで減圧する能力を備えている。そして、限界値に達したならば、この状態を所定時間維持して低圧真空乾燥を行う。その後、所定時間経過後に制御装置50が洗浄乾燥槽大気開放弁18を開放して、即ち真空ポンプ10の限界値を開放し、洗浄乾燥槽圧力センサ51が所定の圧力(例えば、500Pa)を検出するまで大気方向へと戻す。すなわち、復圧する。そして、この復圧状態を所定時間だけ維持して復圧真空乾燥を行い、その後、再度洗浄乾燥槽大気開放弁18を閉成して真空ポンプ限界値まで再び減圧する。このように、低圧真空乾燥と復圧真空乾燥を繰り返し行う。これにより、すなわち所定時間ごとに復圧を行うことにより、溶剤の蒸発を抑制し、気化熱が奪われて冷却されることを一時的に抑制することができる。そして、この間に被処理物2が保有する芯熱(内部の熱)を表面に呼び戻して表面温度を高めることができ、この表面温度上昇後に、再び真空方向へと減圧することにより被処理物2の表面からの蒸発を促進させることができる。その結果、乾燥効率を向上させることができる。   After performing the steam cleaning for a predetermined time, the control device 50 closes the steam cleaning valve 32 and the steam cleaning auxiliary valve 31 to complete the steam cleaning process, and proceeds to the vacuum drying process. At the time of transition, the vacuum pump 10 is continuously driven, and the cleaning / drying tank vacuum valve 12 of the exhaust pipe 11 remains open. Then, the pressure is reduced to the limit value of the vacuum pump 10. The vacuum pump 10 has a capability of reducing the pressure to about 7 Pa or less, which is an ideal pressure for vacuum drying. When the limit value is reached, this state is maintained for a predetermined time and low-pressure vacuum drying is performed. Thereafter, after a predetermined time has elapsed, the control device 50 opens the cleaning / drying tank atmosphere release valve 18, that is, opens the limit value of the vacuum pump 10, and the cleaning / drying tank pressure sensor 51 detects a predetermined pressure (for example, 500 Pa). Return to the atmosphere until you do. That is, the pressure is restored. Then, the pressure-reducing state is maintained for a predetermined time to perform pressure-reducing vacuum drying, and then the cleaning / drying tank air release valve 18 is closed again to reduce the pressure to the vacuum pump limit value again. Thus, the low pressure vacuum drying and the reverse pressure vacuum drying are repeated. Thus, by performing the return pressure every predetermined time, it is possible to suppress the evaporation of the solvent and temporarily suppress the cooling due to the evaporation heat. And the core heat (internal heat) which the to-be-processed object 2 hold | maintains in the meantime can be recalled to the surface, and surface temperature can be raised, and after this surface temperature rises, the to-be-processed object 2 is decompressed again to a vacuum direction. Evaporation from the surface can be promoted. As a result, the drying efficiency can be improved.

真空乾燥工程が完了したら、制御装置50が洗浄乾燥槽大気開放弁18を開放して、洗浄乾燥槽3の内部圧力を大気開放し、全工程の終了を報知する。そして、洗浄乾燥槽3の開閉蓋7を開放すれば、バスケット4と共に洗浄乾燥された複数の被処理物2を取り出すことができる。   When the vacuum drying process is completed, the control device 50 opens the cleaning / drying tank atmosphere release valve 18 to release the internal pressure of the cleaning / drying tank 3 to the atmosphere and notifies the end of all processes. When the opening / closing lid 7 of the cleaning / drying tank 3 is opened, a plurality of objects to be processed 2 cleaned and dried together with the basket 4 can be taken out.

そして、以上では、部品洗浄装置1に組み込まれた洗浄液蒸留再生装置24を説明したが、これには限られず、部品洗浄装置1以外のものに組み込まれた洗浄液蒸留再生装置24にも本発明を適用できる。また、他の装置に組み込まれず、溶剤を蒸留再生する装置として単独で使用される洗浄液蒸留再生装置にも本発明を適用できる。さらに、上記実施形態では、洗浄液蒸留再生装置により蒸留再生された再生溶剤は、蒸気洗浄工程で使用されたが、これには限られず、その他の工程で使用されても良い。   In the above, the cleaning liquid distillation regenerator 24 incorporated in the parts cleaning apparatus 1 has been described. However, the present invention is not limited to this, and the present invention is also applied to the cleaning liquid distillation regenerator 24 incorporated in other than the parts cleaning apparatus 1. Applicable. Further, the present invention can also be applied to a cleaning liquid distillation regenerator that is used alone as a device for distilling and regenerating a solvent without being incorporated in another device. Furthermore, in the said embodiment, although the reproduction | regeneration solvent distilled and regenerated with the washing | cleaning liquid distillation reproduction | regeneration apparatus was used at the vapor | steam washing process, it is not restricted to this, You may use it at another process.

また、上記の洗浄液蒸留再生装置24では、循環流路46内における循環ポンプ29の下流側に水分センサ35が設けられていたが、これには限られず、調整機構34内であればどの位置に設けられていても良い。さらに、上記実施形態では、洗浄液蒸留再生装置24に水分センサ35が設けられていたが、これには限られず、洗浄液蒸留再生装置以外に水分センサが設けられる構成を採用することもできる。例えば、部品洗浄装置の洗浄乾燥槽内や溶剤タンク内に水分センサが設けられる構成を採用することもできる。この場合、水分センサは、蒸留釜へ導入される洗浄溶剤の水分濃度を事前に検出し、その検出した値を制御装置に送信する。そして、制御装置は、この値を監視し、水分濃度が所定の値よりも低い場合、水分補充機構から調整機構内に水分を補充する制御を実行する。   In the cleaning liquid distillation regenerator 24, the moisture sensor 35 is provided on the downstream side of the circulation pump 29 in the circulation channel 46. However, the moisture sensor 35 is not limited to this, and any position within the adjustment mechanism 34 can be used. It may be provided. Furthermore, in the above embodiment, the moisture sensor 35 is provided in the cleaning liquid distillation regenerator 24. However, the present invention is not limited to this, and a configuration in which a moisture sensor is provided in addition to the cleaning liquid distillation regenerator can be employed. For example, a configuration in which a moisture sensor is provided in the cleaning / drying tank or the solvent tank of the component cleaning apparatus may be employed. In this case, the moisture sensor detects in advance the moisture concentration of the cleaning solvent introduced into the distillation kettle, and transmits the detected value to the control device. Then, the control device monitors this value, and when the water concentration is lower than the predetermined value, executes a control for replenishing the water from the water replenishing mechanism into the adjusting mechanism.

さらに、上記の洗浄液蒸留再生装置24では、コンデンサ26に水分補充機構36が接続されていたが、これには限られず、調整機構34におけるコンデンサ26よりも下流側であればどの位置に接続されていても良い。また、上記の水分補充機構36では、水分補充管44の途中に水分補充弁45のみが設けられていたが、これには限られず、より積極的に水分を送れるように、水分補充弁45の他にポンプ等の送液機構を設けても良い。さらに、上記の部品洗浄装置1では、リザーブタンク23が設けられていたが、これには限られず、リザーブタンク23が設けられずに、循環用タンク27と熱交換器30とが直接接続されてもよい。   Further, in the cleaning liquid distillation regenerator 24 described above, the moisture replenishing mechanism 36 is connected to the condenser 26. However, the present invention is not limited to this, and any position as long as it is downstream of the condenser 26 in the adjusting mechanism 34 is connected. May be. In the water replenishment mechanism 36 described above, only the water replenishment valve 45 is provided in the middle of the water replenishment pipe 44. However, the present invention is not limited to this. In addition, a liquid feeding mechanism such as a pump may be provided. Furthermore, in the above-described component cleaning apparatus 1, the reserve tank 23 is provided. However, the reserve tank 23 is not limited to this, and the circulation tank 27 and the heat exchanger 30 are directly connected without providing the reserve tank 23. Also good.

なお、前記減圧洗浄時間設定スイッチ58、復圧洗浄時間設定スイッチ59、低圧真空乾燥時間設定スイッチ60、復圧真空乾燥設定スイッチ61、及び水分濃度設定スイッチ64は、公知のスイッチを適宜選択して構成することができ、テンキー、或いは表示器62と一体化したタッチパネルスイッチでもよい。   The decompression cleaning time setting switch 58, the return pressure cleaning time setting switch 59, the low pressure vacuum drying time setting switch 60, the return pressure vacuum drying setting switch 61, and the moisture concentration setting switch 64 are appropriately selected from known switches. A touch panel switch integrated with the numeric keypad or the display 62 may be used.

1 部品洗浄装置
2 被処理物
3 洗浄乾燥槽
3a 底部
3b 側壁面
3c 超音波発生装置
4 バスケット
6 シール材
7 開閉蓋
7a 天井面
8 排液管
9 排液弁
10 真空ポンプ
11 排気管
12 洗浄乾燥槽真空弁
13 溶剤タンク
13a 溶剤タンクヒータ
14 浸漬洗浄管
15 浸漬洗浄弁
16 レベルスイッチ
17 洗浄乾燥槽内圧力計
18 洗浄乾燥槽大気開放弁
19 分岐排気管
20 溶剤タンク減圧弁
21 溶剤タンク圧力計
22 溶剤タンク大気開放弁
23 リザーブタンク
24 洗浄液蒸留再生装置
25 蒸留釜
25a 加熱機構
26 コンデンサ
26a 冷却細管
27 循環用タンク
27a 冷却細管
28 エゼクタ
29 循環ポンプ
30 熱交換器
30a 加熱細管
31 蒸気洗浄補助弁
32 蒸気洗浄弁
33 導入管
34 調整機構
35 水分センサ
36 水分補充機構
37 減圧機構
38 排出管
39 排出弁
40 スラッジタンク
40a 冷却細管
41 廃液管
42 廃液弁
43 溶剤供給管
44 水分補充管
45 水分補充弁
46 循環流路
47 冷却流路
48 リザーブタンクレベルスイッチ
49 蒸留再生弁
50 制御装置
51 洗浄乾燥槽圧力センサ
52 溶剤タンク圧力センサ
53 溶剤タンク温度センサ
54 タイマ
55 操作パネル
56 電源スイッチ
57 スタートスイッチ
58 減圧洗浄時間設定スイッチ
59 復圧洗浄時間設定スイッチ
60 低圧真空乾燥時間設定スイッチ
61 復圧真空乾燥時間設定スイッチ
62 表示器
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Parts washing apparatus 2 To-be-processed object 3 Washing and drying tank 3a Bottom part 3b Side wall surface 3c Ultrasonic generator 4 Basket 6 Sealing material 7 Opening lid 7a Ceiling surface 8 Drain pipe 9 Drain valve 10 Vacuum pump 11 Exhaust pipe 12 Wash and dry Tank vacuum valve 13 Solvent tank 13a Solvent tank heater 14 Immersion washing pipe 15 Immersion washing valve 16 Level switch 17 Washing / drying tank pressure gauge 18 Washing / drying tank air release valve 19 Branch exhaust pipe 20 Solvent tank pressure reducing valve 21 Solvent tank pressure gauge 22 Solvent tank air release valve 23 Reserve tank 24 Cleaning liquid distillation regenerator 25 Distilling pot 25a Heating mechanism 26 Capacitor 26a Cooling thin tube 27 Circulating tank 27a Cooling thin tube 28 Ejector 29 Circulating pump 30 Heat exchanger 30a Heating thin tube 31 Steam cleaning auxiliary valve 32 Steam Cleaning valve 33 Introduction pipe 34 Adjustment mechanism 35 Moisture sensor 36 Moisture supplement Mechanism 37 Decompression mechanism 38 Discharge pipe 39 Discharge valve 40 Sludge tank 40a Cooling thin tube 41 Waste liquid pipe 42 Waste liquid valve 43 Solvent supply pipe 44 Water replenishment pipe 45 Water replenishment valve 46 Circulation flow path 47 Cooling flow path 48 Reserve tank level switch 49 Distillation regeneration Valve 50 Control device 51 Washing and drying tank pressure sensor 52 Solvent tank pressure sensor 53 Solvent tank temperature sensor 54 Timer 55 Operation panel 56 Power switch 57 Start switch 58 Depressurization washing time setting switch 59 Reset pressure washing time setting switch 60 Low pressure vacuum drying time setting Switch 61 Reverse pressure vacuum drying time setting switch 62 Display

Claims (4)

水分を含む洗浄液を気化させる蒸留釜と、
気化された洗浄液の蒸気を凝縮すると共に減圧機構によって減圧された状態の洗浄液の水分濃度を調整する調整機構と、
前記調整機構内に水分を補充する水分補充機構と、
前記水分補充機構の前記調整機構内への水分の補充を制御する制御装置と、を備え、
前記調整機構は、
蒸留釜により気化された前記洗浄液の蒸気を凝縮して液化するコンデンサと、
液化した前記洗浄液を貯留するタンクと、
前記コンデンサ内を負圧にする減圧機構と、を備え、
前記水分補充機構は、
水分が流れる水分流路と、
前記水分流路の途中に設けられた水分補充弁と、を備え、
前記減圧機構は、
前記タンクから出て当該タンクに戻る循環流路と、
前記循環流路の途中に設けられたエゼクタと、
前記循環流路内の前記洗浄液を循環させるポンプと、を備え、
前記コンデンサは、前記エゼクタと接続され、
前記エゼクタにより前記コンデンサ内の前記洗浄液が前記循環流路内に吸引されるように構成され、
前記制御装置は、前記蒸留釜へ導入される洗浄液の水分濃度又は蒸留された洗浄液の水分濃度が所定の値よりも低い場合、前記水分補充弁を開状態にして前記水分補充機構から前記調整機構内の減圧された状態の洗浄液に水分を補充する制御を実行することを特徴とする洗浄液蒸留再生装置。
A distillation pot for vaporizing a cleaning solution containing moisture;
An adjustment mechanism for condensing the vapor of the vaporized cleaning liquid and adjusting the moisture concentration of the cleaning liquid in a state where the pressure is reduced by the pressure reduction mechanism;
A moisture replenishment mechanism for replenishing moisture in the adjustment mechanism;
A controller for controlling the replenishment of water into the adjustment mechanism of the water replenishment mechanism,
The adjustment mechanism is
A condenser for condensing and liquefying the vapor of the cleaning liquid vaporized by the distillation kettle;
A tank for storing the liquefied cleaning liquid;
A pressure reducing mechanism for making the inside of the capacitor negative pressure,
The moisture replenishment mechanism is
A moisture channel through which moisture flows,
A water replenishment valve provided in the middle of the water flow path,
The decompression mechanism is
A circulation channel that exits the tank and returns to the tank;
An ejector provided in the middle of the circulation flow path;
A pump for circulating the cleaning liquid in the circulation flow path,
The capacitor is connected to the ejector;
The ejector is configured so that the cleaning liquid in the capacitor is sucked into the circulation flow path,
When the water concentration of the cleaning liquid introduced into the distillation kettle or the water concentration of the distilled cleaning liquid is lower than a predetermined value, the control device opens the water replenishing valve to adjust the adjusting mechanism from the water replenishing mechanism. A cleaning liquid distillation regenerator that performs control for replenishing water in a vacuumed cleaning liquid.
蒸留された洗浄液の水分濃度を検出する水分濃度検出機構を備え、
前記制御装置は、前記水分濃度検出機構により検出された前記洗浄液の水分濃度が所定の値よりも低い場合、前記水分補充機構から前記調整機構内に水分を補充する制御を実行することを特徴とする請求項1に記載の洗浄液蒸留再生装置。
Equipped with a moisture concentration detection mechanism that detects the moisture concentration of the distilled cleaning liquid,
The control device executes control for replenishing moisture from the moisture replenishing mechanism into the adjustment mechanism when the moisture concentration of the cleaning liquid detected by the moisture concentration detecting mechanism is lower than a predetermined value. The cleaning liquid distillation regenerating apparatus according to claim 1.
前記洗浄液は、含有される水分の濃度が少なくとも所定の最低水分濃度以上の場合において非引火性を有し、
前記制御装置は、前記水分濃度検出機構により検出された前記洗浄液の水分濃度が前記最低水分濃度よりも低い場合、前記水分補充機構から前記調整機構内に水分を補充する制御を実行することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の洗浄液蒸留再生装置。
The cleaning liquid has non-flammability when the concentration of water contained is at least a predetermined minimum water concentration,
The control device executes control for replenishing moisture from the moisture replenishing mechanism into the adjustment mechanism when the moisture concentration of the cleaning liquid detected by the moisture concentration detecting mechanism is lower than the minimum moisture concentration. The cleaning liquid distillation regenerating apparatus according to claim 1 or 2.
請求項1から請求項3の何れか一項に記載の洗浄液蒸留再生装置を備えたことを特徴とする部品洗浄装置。A parts cleaning apparatus comprising the cleaning liquid distillation regenerating apparatus according to any one of claims 1 to 3.
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