JP6320207B2 - 多孔性配位高分子複合体の製造方法 - Google Patents
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Description
<1> 多孔性配位高分子を溶媒中で合成する多孔性配位高分子の合成工程と、前記合成工程で合成される多孔性配位高分子を超臨界二酸化炭素により乾燥することで細孔維持された多孔性配位高分子を得る乾燥工程と、前記乾燥工程で得られる細孔維持された多孔性配位高分子と有効物質とを混合した混合物質を、超臨界二酸化炭素および有機溶媒の混合流体により処理することで、前記細孔維持された多孔性配位高分子に、前記有効物質を含浸させる含浸工程とを有することを特徴とする有効物質を多孔性配位高分子に高濃度で含浸させた多孔性配位高分子複合体の製造方法。
<2> 前記多孔性配位高分子が、ジカルボン酸および/またはトリカルボン酸からなる群から選択される少なくとも1以上の有機配位子と、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Al、Mgからなる群から選択される少なくとも1以上の金属のイオンからなる多孔性配位高分子である前記<1>記載の多孔性配位高分子複合体の製造方法。
<3> 前記含浸工程の前記混合物質に混合される有効物質が、医薬品化合物、化粧品化合物、触媒前駆体からなる群から選択される少なくとも1以上の有効物質である前記<1>または<2>に記載の多孔性配位高分子複合体の製造方法。
<4> 前記含浸工程の混合流体の有機溶媒が、アルコール類、ケトン類、芳香族炭化水素類、アルカン類からなる群から選択される少なくとも1以上の有機溶媒である前記<1>〜<3>のいずれかに記載の多孔性配位高分子複合体の製造方法。
<5> 前記<1>〜<4>のいずれかに記載の多孔性配位高分子複合体の製造方法によって得られてなる多孔性配位高分子複合体。
本発明の方法により、有効物質として様々な鎮痛効果を有することが知られているイブプロフェンを、トリメシン酸を用いた多孔性配位高分子に含浸させた多孔性配位高分子複合体を製造した。この製造等に関する各工程で得られた物質等について評価を行った結果を以下の実施例および比較例に示す。
[結晶構造解析]
多孔性配位高分子(以下、「PCP」)の結晶構造を以下のX線回折装置を用いて測定した。
装置:理学電気(株)製 X線回折装置(XRD)“RAD−IIc”(CuKα:40KV、20mA)
測定条件:ガラス試料板(深さ0.3mm)に、表面が平滑となるように試料を充填し、2θ=1〜30degの範囲を、0.01deg毎に走査して測定した。
PCPの表面構造を以下のSEMを用いて観察した。
装置:(株)エリオニクス製 FE−SEM“ERA−8900FE”
測定条件:カーボンテープを用いて、銅板の基板に粉末試料を貼り付け、金蒸着したものを観察した。
PCPの比表面積を以下の測定装置を用いて、BET比表面積として求めた。
装置:島津製作所(株)製 高機能比表面積/細孔分布測定装置“ASAP−2020”
測定条件:測定温度77Kにて窒素吸着法にて測定した。なお測定値から試料の窒素吸着等温線を決定し、BET法により試料の比表面積を求めた。
多孔性配位高分子複合体に含有されるイブプロフェン量を測定するために以下の熱重量測定装置を用いた。
装置:島津製作所(株)製 熱重量測定装置“TGA−50”
測定条件:R.T.(室温)から500℃まで昇温時の熱重量減少量をプロットし、イブプロフェン単独、PCP単独の場合の重量減少と比較し、多孔性配位高分子複合体に含有されるイブプロフェン量を測定した。
溶液中のイブプロフェン濃度を以下の条件のHPLC試験にて、イブプロフェンのピーク面積より測定した。
検出器:日立製紫外吸光光度計“L−4000 UV Detector”(測定波長:273.12nm)
カラム:資生堂製“CAPCELL CORE C18”
ポンプ:日立製“L−6250 Intelligent Pump”
移動相:アセトニトリル/リン酸二水素ナトリウム溶液(pH2.6 0.05mol/L)混合液(アセトニトリル:リン酸二水素ナトリウム=3:2)
流量:1mL/min
カラム温度:40℃
(錠剤成型) 試料0.3gをプレス機で打錠成型し錠剤化した。
(緩衝液内で撹拌) 錠剤化した試料を、Na2HPO4/クエン酸緩衝液(pH5.47)100mLに加え、撹拌速度50rpmにて撹拌した(パドル法)。
(溶出液のサンプリング) 緩衝液内で撹拌した液から、規定時間ごとに25μLずつ採取した。
(溶出液中のイブプロフェン濃度の測定) 規定時間ごとにサンプリングした溶出液中のイブプロフェン濃度を、前述のHPLCを用いるイブプロフェン濃度の測定方法で測定した。
[合成工程(1):MIL−53(Fe)の合成]
有機配位子としてテレフタル酸を用い、金属イオンとしてFeのイオンより合成されるMIL−53(Fe)を、以下の表1に示す原料の混合モル比率で仕込み、以下のソルボサーマル反応により合成した。前述したモル比率の原料をテフロン(登録商標)製の容器に仕込み、この容器を耐圧性を有するステンレスジャケットにて密封し、150℃で15時間加熱処理することでPCPである「MIL−53(Fe)」を合成した。
有機配位子としてトリメシン酸を用い、金属イオンとしてFeのイオンを用いて合成されるMIL−100(Fe)を、以下の表2に示す原料の混合モル比率で仕込み、以下のソルボサーマル反応により合成した。前述したモル比率の原料をテフロン(登録商標)製の容器に仕込み、この容器を耐圧性を有するステンレスジャケットにて密封し、150℃で6日間加熱処理することでPCPである「MIL−53(Fe)」を合成した。
[乾燥工程(1)]
(超臨界CO2による乾燥)
前述した合成工程により得られたPCPを、水に24時間浸漬させた後エタノールに24時間浸漬させる工程を1サイクルとし、これを3サイクル行うことで合成に用いた溶媒を置換洗浄した。洗浄後のPCP約2gを、容積50cm3の耐圧容器に移し、20MPa・353K下の超臨界二酸化炭素を流通させる装置(Flow Rate 2.0mL/min)を用いて、70℃にて5時間乾燥した。
(減圧加熱処理による乾燥)
前述した合成工程により得られたPCPを、エタノールで洗浄し、減圧加熱処理することで乾燥した。
[含浸工程(1)]
(混合流体による含浸)
容積50cm3の耐圧容器に、PCP0.5gと、イブプロフェン0.5gと、ヘキサン50mLとを混合した。ここに、20MPa・333K下の超臨界二酸化炭素を充填することで、超臨界二酸化炭素とヘキサンとの混合流体による含浸をおこなった。この含浸中、耐圧容器内の混合物を磁気撹拌機で6時間混合した。含浸後、30分かけて徐々に大気圧に戻し、サンプルを取り出した。その後、ろ過することで溶媒中に残存するイブプロフェンを取り除き、残存するヘキサンを80℃(大気圧下)で揮発させて除去した。
(ヘキサン溶液中での含浸)
容積50cm3の容器に、PCP0.5gと、イブプロフェン0.5gと、ヘキサン50mLとを混合した。この容器内の混合物を磁気撹拌機で6時間混合することで含浸させた。含浸後、ろ過することで溶媒中に残存するイブプロフェンを取り除き、残存するヘキサンを80℃(大気圧下)で揮発させて除去した。
上記した、合成工程、乾燥工程、含浸工程を組み合わせて製造したサンプルの一覧を表3に示す。
[細孔維持されたPCPの構造]
細孔維持される乾燥を行った参考例1および参考例2により得られるPCPの構造と、細孔維持されない乾燥を行った比較例3および比較例4の条件により得られるPCPの構造を分析した結果を以下に表す。
(1)PCPの外観(光学写真像およびSEM像)
得られたPCPの光学写真像(各像右上)およびSEM像を図1に示す。細孔維持されたPCPである参考例1,2(図中(a−1)、(b−1))は、細かく柔らかい粉末状で、SEMで確認した微細構造にも多くの空洞が観察される。一方、細孔維持されていないPCPである比較例3,4(図中(図a−2)、(b−2))は、硬い粒状に固まりやすく、SEMで観察下微細構造では密に凝集している。
(2)結晶構造(XRDパターン)
得られたPCPのXRDパターン解析結果を図2に示す。細孔維持の有無に関わらず、MIL−53(Fe)、MIL−100(Fe)とでそれぞれのXRDパターンが観察され、結晶構造は変化していないことが確認される。
(3)BET比表面積
得られたPCPのBET比表面積の評価結果を図3に示す。MIL−53(Fe)系(参考例1/比較例3)の場合、超臨界CO2による乾燥を行うことでBET比表面積がおよそ17倍大きくなることが確認された。一方、MIL−100(Fe)系(参考例2/比較例4)の場合、超臨界CO2による乾燥を行うことでBET比表面積がおよそ1.2倍大きくなることが確認された。
実施例1、2および比較例1、2、5、6の条件により得られるイブプロフェンを多孔性配位高分子に複合した複合体に含浸されたイブプロフェン濃度をTGAの分析結果から求めた結果を表4に示す。本発明の含浸を行うことでより多くのイブプロフェンを含浸させることができた。
実施例1および比較例1、5の条件により得られるイブプロフェンを多孔性配位高分子(MIL−53(Fe))に複合した複合体に含浸されたイブプロフェンの徐放性を評価した結果を図4に示す。また、実施例2および比較例2、6の条件により得られるイブプロフェンを多孔性配位高分子(MIL−100(Fe))に複合した複合体に含浸されたイブプロフェンの徐放性を評価した結果を図5に示す。
Claims (5)
- 多孔性配位高分子を溶媒中で合成する多孔性配位高分子の合成工程と、
前記合成工程で合成される多孔性配位高分子を超臨界二酸化炭素により乾燥することで細孔維持された多孔性配位高分子を得る乾燥工程と、
前記乾燥工程で得られる細孔維持された多孔性配位高分子と有効物質とを混合した混合物質を、超臨界二酸化炭素および有機溶媒の混合流体により処理することで、前記細孔維持された多孔性配位高分子に、前記有効物質を含浸させる含浸工程とを有し、
前記多孔性配位高分子が、ジカルボン酸および/またはトリカルボン酸からなる群から選択される少なくとも1以上の有機配位子と、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Al、Mgからなる群から選択される少なくとも1以上の金属のイオンからなる多孔性配位高分子であることを特徴とする
有効物質を多孔性配位高分子に高濃度で含浸させた多孔性配位高分子複合体の製造方法。 - 前記多孔性配位高分子の有機配位子のジカルボン酸が、テレフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,5−ジアミノテレフタル酸、及び2,5−ジヒドロキシテレフタル酸からなる群から選択され、
前記多孔性配位高分子の有機配位子のトリカルボン酸が、トリメシン酸、および1,3,5−トリス(4−カルボキシフェニル)ベンゼンからなる群から選択される請求項1記載の多孔性配位高分子複合体の製造方法。 - 前記含浸工程の前記混合物質に混合される有効物質が、医薬品化合物、化粧品化合物、触媒前駆体からなる群から選択される少なくとも1以上の有効物質である請求項1または2に記載の多孔性配位高分子複合体の製造方法。
- 前記含浸工程の混合流体の有機溶媒が、アルコール類、ケトン類、芳香族炭化水素類、アルカン類からなる群から選択される少なくとも1以上の有機溶媒である請求項1〜3のいずれか一項に記載の多孔性配位高分子複合体の製造方法。
- 前記有効物質が、大きさ20nm以下のナノ粒子であり、
前記多孔性配位高分子の細孔の大きさが、0.4nm〜6nmである請求項1〜4のいずれか一項に記載の多孔性配位高分子複合体の製造方法。
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