JP6302816B2 - Silicone resin composition and optical semiconductor device - Google Patents
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Description
接着性や機械的強度に優れるビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂或いは脂環式エポキシ樹脂のようなUV吸収の無いエポキシ樹脂、硬化剤、および硬化触媒を含む組成物が光半導体素子用封止樹脂組成物として多用されている。しかしLED素子の輝度及び出力が高くなるにしたがい、LED素子からの光及び熱等により、これらの樹脂組成物から得られる硬化物は変色及びクラックを起こす問題がある。 A composition containing an epoxy resin having no UV absorption, such as a bisphenol A type epoxy resin, a hydrogenated bisphenol A type epoxy resin or an alicyclic epoxy resin having excellent adhesion and mechanical strength, a curing agent, and a curing catalyst is an optical semiconductor. It is frequently used as a sealing resin composition for elements. However, as the luminance and output of the LED element increase, the cured product obtained from these resin compositions is subject to discoloration and cracking due to light and heat from the LED element.
UV吸収がなく且つ可撓性のある硬化物を与える樹脂として、シリコーン樹脂にエポキシ基を導入した樹脂が知られている。例えば、特許文献1には、グリシジル基、脂環式エポキシ基等の環状エーテル含有基を1個以上有するアルコキシシランと、両末端シラノール基及び/又はアルコキシ基を有するポリオルガノシロキサンとの反応生成物が記載されている。しかし、該シリコーン樹脂はエポキシ樹脂に比べてガス透過性が非常に高い。そのためシリコーン含有量が増えるにつれて、低ガス透過性が必要な用途に用いることは困難になる。特許文献2には、低ガス透過性を向上する為にポリオルガノシロキサン中にフェニル基を導入することが記載されている。詳細には、エポキシ基を有し、ジフェニルシロキサン単位を所定量有するオルガノポリシロキサンを含有する組成物が、耐熱性及び耐透湿性に優れた封止材となると記載している。 As a resin that does not absorb UV and gives a flexible cured product, a resin in which an epoxy group is introduced into a silicone resin is known. For example, Patent Document 1 discloses a reaction product of an alkoxysilane having one or more cyclic ether-containing groups such as a glycidyl group and an alicyclic epoxy group, and a polyorganosiloxane having both terminal silanol groups and / or alkoxy groups. Is described. However, the silicone resin has a very high gas permeability compared to the epoxy resin. Therefore, as the silicone content increases, it becomes difficult to use in applications that require low gas permeability. Patent Document 2 describes that a phenyl group is introduced into polyorganosiloxane in order to improve low gas permeability. Specifically, it describes that a composition containing an organopolysiloxane having an epoxy group and a predetermined amount of diphenylsiloxane units is a sealing material excellent in heat resistance and moisture permeability resistance.
上記特許文献2に記載のオルガノポリシロキサンは、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルシランジオール、ジメチルジメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン等の有機ケイ素化合物と、2−(3’4’−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランとを反応させて製造される。該オルガノポリシロキサンは、脂環式エポキシ基をT単位シロキサン構造上に有する。このようなオルガノポリシロキサンにおいて低ガス透過性を得るためにジフェニルシロキサン単位の量を増やすと、オルガノポリシロキサンの粘度が非常に高くなり、樹脂組成物の作業性が劣る。そこで、作業性に優れ、特には低粘度を有し、且つ、低ガス透過性に優れる封止樹脂材料の開発が望まれている。 The organopolysiloxane described in Patent Document 2 includes an organosilicon compound such as diphenyldimethoxysilane, diphenylsilanediol, dimethyldimethoxysilane, cyclohexylmethyldimethoxysilane, and 2- (3′4′-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane. It is manufactured by reacting with The organopolysiloxane has an alicyclic epoxy group on the T unit siloxane structure. When the amount of diphenylsiloxane units is increased in order to obtain low gas permeability in such an organopolysiloxane, the viscosity of the organopolysiloxane becomes very high and the workability of the resin composition is inferior. Therefore, development of a sealing resin material that is excellent in workability, in particular, has a low viscosity and is excellent in low gas permeability is desired.
本発明は、上記事情に鑑み、ジフェニルシロキサン単位を多く含み、且つ、低粘度を有するシリコーン樹脂組成物を提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the silicone resin composition which has many diphenylsiloxane units and has low viscosity in view of the said situation.
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討し、脂環式エポキシ基を有するD単位シロキサン構造を有するオルガノポリシロキサンは、ジフェニルシロキサン単位の量が多くても粘度が低く、得られる組成物は作業性に優れることを見出し、本発明を為すに至った。 The present inventors have intensively studied to solve the above problems, and organopolysiloxane having a D unit siloxane structure having an alicyclic epoxy group has a low viscosity even if the amount of diphenylsiloxane units is large, and the resulting composition Has been found to be excellent in workability, and has led to the present invention.
即ち本発明は、
(A)下記式(1)で表されるオルガノポリシロキサン
、
(上記構造中、R’は水素原子または炭素数1〜6のアルキル基であり、R 4 は炭素数1〜20の2価の炭化水素基である)
RはR1、R2、及びR3のための選択肢から選ばれる基であり、0≦k<0.5、0.1≦m≦0.5、0≦n<0.8、0.01≦p≦0.5、0≦q<0.6であり、k+m+n+p+q=1であり、但し、k及びnは同時に0でない。上記括弧内にある各シロキサン単位の結合順序は制限されないが、−O1/2Xの少なくとも2つは末端に結合されており、Xは水素原子または炭素数1〜10のアルキル基であり、rは−O1/2Xの個数であり、q=0のときrは2であり、q≠0のときrは(RSiO3/2)単位の個数+2である)
(B)エポキシ基と反応する官能基を有する硬化剤 (A)成分中のエポキシ基1個に対する(B)成分中のエポキシ基と反応する官能基の個数が0.3〜1個となる量、及び
(C)硬化触媒 触媒量
を含有するシリコーン樹脂組成物を提供する。
That is, the present invention
(A) Organopolysiloxane represented by the following formula (1)
,
(In the above structure, R ′ is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 4 is a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms)
R is a group selected from the options for R 1 , R 2 , and R 3 , 0 ≦ k <0.5, 0.1 ≦ m ≦ 0.5, 0 ≦ n <0.8, 0. 01 ≦ p ≦ 0.5, 0 ≦ q <0.6, and k + m + n + p + q = 1, provided that k and n are not 0 at the same time. The bonding order of each siloxane unit in the parenthesis is not limited, but at least two of -O1 / 2X are bonded to the terminal, X is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, r is the number of -O 1/2 X, r is 2 when q = 0, and r is the number of (RSiO 3/2 ) units + 2 when q ≠ 0)
(B) Curing agent having a functional group that reacts with an epoxy group (A) Amount that the number of functional groups that react with an epoxy group in component (B) is 0.3 to 1 with respect to one epoxy group in component (A) And (C) a curing catalyst. A silicone resin composition containing a catalytic amount is provided.
また本発明は、上記シリコーン樹脂組成物の硬化物によって光半導体素子が封止された光半導体装置を提供する。 The present invention also provides an optical semiconductor device in which an optical semiconductor element is sealed with a cured product of the silicone resin composition.
本発明のシリコーン樹脂組成物は、低ガス透過性に優れる硬化物を与えることができ、且つ、低粘度であり作業性に優れる。また、耐熱性及び耐UV性にも優れる。従って、光半導体素子封止用の樹脂組成物として好適に使用することができる。 The silicone resin composition of the present invention can give a cured product having excellent low gas permeability, and has a low viscosity and excellent workability. Moreover, it is excellent also in heat resistance and UV resistance. Therefore, it can be suitably used as a resin composition for sealing an optical semiconductor element.
以下、本発明について、詳細に説明する。
(A)オルガノポリシロキサン
(A)成分は、下記式(1)で表されるオルガノポリシロキサンである。
(式(1)中、R1は炭素数6〜12の一価芳香族炭化水素基であり、R2は炭素数1〜12の、不飽和結合を有してもよい一価脂肪族炭化水素基であり、R3は炭素数7〜50の一価脂環式エポキシ基であり、RはR1、R2、及びR3のための選択肢から選ばれる基であり、0≦k<0.5、0.1≦m≦0.5、0≦n<0.8、0.01≦p≦0.5、0≦q<0.6であり、k+m+n+p+q=1であり、但し、k及びnは同時に0でない。上記括弧内にある各シロキサン単位の結合順序は制限されないが、−O1/2Xの少なくとも2つは末端に結合されており、Xは水素原子または炭素数1〜10のアルキル基であり、rは−O1/2Xの個数であり、q=0のときrは2であり、q≠0のときrは(RSiO3/2)単位の個数+2である)
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
(A) The organopolysiloxane (A) component is an organopolysiloxane represented by the following formula (1).
(In formula (1), R 1 is a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms, and R 2 is a monovalent aliphatic carbonized carbon atom having 1 to 12 carbon atoms and may have an unsaturated bond. A hydrogen group, R 3 is a monovalent alicyclic epoxy group having 7 to 50 carbon atoms, R is a group selected from the options for R 1 , R 2 , and R 3 , and 0 ≦ k < 0.5, 0.1 ≦ m ≦ 0.5, 0 ≦ n <0.8, 0.01 ≦ p ≦ 0.5, 0 ≦ q <0.6, k + m + n + p + q = 1, provided that k and n are not simultaneously 0. Although the bonding order of each siloxane unit in the parentheses is not limited, at least two of —O 1/2 X are bonded to the terminal, and X is a hydrogen atom or a carbon number of 1 -10, r is the number of —O 1/2 X, r is 2 when q = 0, and r is (RSiO 3 / 2 ) Number of units + 2)
上記式(1)において、R1は炭素数6〜12、好ましくは炭素数6〜9の一価芳香族炭化水素基である。該一価芳香族炭化水素基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基や、ベンジル基、2−フェニルエチル基、2−フェニルプロピル基等のアラルキル基が挙げられる。中でも好ましくは、フェニル基、ベンジル基、2−フェニルエチル基、及び2−フェニルプロピル基であり、更に好ましくはフェニル基である。 In the above formula (1), R 1 is a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms, preferably 6 to 9 carbon atoms. Examples of the monovalent aromatic hydrocarbon group include aryl groups such as phenyl group, tolyl group, xylyl group and naphthyl group, and aralkyl groups such as benzyl group, 2-phenylethyl group and 2-phenylpropyl group. Among these, a phenyl group, a benzyl group, a 2-phenylethyl group, and a 2-phenylpropyl group are preferable, and a phenyl group is more preferable.
上記式(1)において、R2は炭素数1〜12、好ましくは炭素数1〜6の、不飽和結合を有してよい、一価脂肪族炭化水素基である。該一価脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、ヘプチル基、2−エチルヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等のアルキル基などの飽和一価脂肪族炭化水素基、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、ブテニル基等のアルケニル基などが挙げられる。中でも好ましくは飽和一価脂肪族炭化水素基であり、特にはメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、及びヘプチル基が好ましく、更に好ましくはメチル基である。 In the above formula (1), R 2 is a monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, which may have an unsaturated bond. Examples of the monovalent aliphatic hydrocarbon group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, t-butyl group, heptyl group, 2-ethylhexyl group, heptyl group, octyl group and the like. Examples thereof include saturated monovalent aliphatic hydrocarbon groups such as alkyl groups, alkenyl groups such as vinyl groups, allyl groups, isopropenyl groups, and butenyl groups. Among them, a saturated monovalent aliphatic hydrocarbon group is preferable, and a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a t-butyl group, and a heptyl group are particularly preferable, and a methyl group is more preferable. It is a group.
上記式(1)において、R3は炭素数7〜50、好ましくは炭素数7〜40、さらに好ましくは炭素数7〜30の一価脂環式エポキシ基である。該脂環式エポキシ基は、例えば、下記構造で表される。
中でも、下記式(2)で表される脂環式エポキシ基が好ましい。
(R4は好ましくは炭素数1〜20のアルキレン基であり、より好ましくはエチレン基である。)
特に好ましくは下記構造の脂環式エポキシ基(β−(3,4−エポキシシクロへキシル)エチル基)である。
(R 4 is preferably an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an ethylene group.)
Particularly preferred is an alicyclic epoxy group (β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group) having the following structure.
上記式(1)において、Rは、上記R1、R2、及びR3の為に記載した選択肢から選ばれる基である。 In the above formula (1), R is a group selected from the options described for R 1 , R 2 , and R 3 above.
上記式(1)は組成式であり、k、m、n、p、及びqは、各シロキサン単位の個数比(モル比)を示す。0≦k<0.5、0.1≦m≦0.5、0≦n<0.8、0.01≦p≦0.5、及び0≦q<0.6であり、k+m+n+p+q=1である。但し、k及びnは同時に0でない。上記括弧内にある各シロキサン単位の結合順序は制限されない。 The above formula (1) is a composition formula, and k, m, n, p, and q represent the number ratio (molar ratio) of each siloxane unit. 0 ≦ k <0.5, 0.1 ≦ m ≦ 0.5, 0 ≦ n <0.8, 0.01 ≦ p ≦ 0.5, and 0 ≦ q <0.6, k + m + n + p + q = 1 It is. However, k and n are not 0 at the same time. The bonding order of the siloxane units in the parentheses is not limited.
pは脂環式エポキシ基含有D単位(即ち、(R3R2SiO2/2)単位)の含有量(モル比)を示す。好ましくは0.03≦p≦0.5であり、さらに好ましくは0.05≦p≦0.5であり、特に好ましくは0.05≦p≦0.4である。pの値が上記範囲内にあることにより、低粘度を有するオルガノポリシロキサンを提供することができる。 p represents the content (molar ratio) of the alicyclic epoxy group-containing D units (that is, (R 3 R 2 SiO 2/2 ) units). Preferably 0.03 ≦ p ≦ 0.5, more preferably 0.05 ≦ p ≦ 0.5, and particularly preferably 0.05 ≦ p ≦ 0.4. When the value of p is in the above range, an organopolysiloxane having a low viscosity can be provided.
mは一価芳香族炭化水素基を2つ有するシロキサン単位(即ち、(R1 2SiO2/2)単位)の含有量(モル比)を示す。mは好ましくは0.12≦m≦0.5、さらに好ましくは0.14≦m≦0.48であり、特には0.15≦m≦0.45である。mの値が上記範囲内にあることにより、優れた低ガス透過性を有する硬化物を提供することができる。 m represents the content (molar ratio) of siloxane units having two monovalent aromatic hydrocarbon groups (that is, (R 1 2 SiO 2/2 ) units). m is preferably 0.12 ≦ m ≦ 0.5, more preferably 0.14 ≦ m ≦ 0.48, and particularly 0.15 ≦ m ≦ 0.45. When the value of m is in the above range, a cured product having excellent low gas permeability can be provided.
本発明において低ガス透過性及び低粘度を両立するためには、上記(R1 2SiO2/2)単位に併せて、(R2 2SiO2/2)単位及び(R1R2SiO2/2)単位の少なくとも1つを含むことが必要である。当該単位を含まないとオルガノポリシロキサンの低ガス透過性及び低粘度を両立できない。従って、n及びkは共に0であってはいけない。nの好ましい範囲は0<n≦0.7、さらに好ましくは0.5≦n≦0.78、特には0.6≦n≦0.7である。kの好ましい範囲は0<k≦0.45、さらに好ましくは0.1≦k≦0.38、特には0.2≦k≦0.35である。 In order to achieve both low gas permeability and low viscosity in the present invention, the (R 2 2 SiO 2/2 ) unit and the (R 1 R 2 SiO 2 ) unit are combined with the above (R 1 2 SiO 2/2 ) unit. / 2 ) It is necessary to include at least one of the units. If the unit is not included, the low gas permeability and low viscosity of the organopolysiloxane cannot be achieved. Therefore, n and k must not be 0. A preferable range of n is 0 <n ≦ 0.7, more preferably 0.5 ≦ n ≦ 0.78, and particularly 0.6 ≦ n ≦ 0.7. A preferable range of k is 0 <k ≦ 0.45, more preferably 0.1 ≦ k ≦ 0.38, and particularly 0.2 ≦ k ≦ 0.35.
(R1 2SiO2/2)単位を(R1R2SiO2/2)単位との組合せで含む場合、mは好ましくは0.12≦m≦0.2、さらに好ましくは0.14≦m≦0.19、特には0.15≦m≦0.18であり、nは好ましくは0.5≦n≦0.78、さらに好ましくは0.6≦n≦0.7であるのがよい。当該組合せで含むことにより低ガス透過性及び低粘度を良好に達成することができる。 When the (R 1 2 SiO 2/2 ) unit is included in combination with the (R 1 R 2 SiO 2/2 ) unit, m is preferably 0.12 ≦ m ≦ 0.2, more preferably 0.14 ≦ m ≦ 0.19, in particular 0.15 ≦ m ≦ 0.18, and n is preferably 0.5 ≦ n ≦ 0.78, more preferably 0.6 ≦ n ≦ 0.7. Good. By including the combination, low gas permeability and low viscosity can be achieved satisfactorily.
(R1 2SiO2/2)単位を(R2 2SiO2/2)単位との組合せで含む場合、mは好ましくは0.3≦m≦0.5、さらに好ましくは0.35≦m≦0.48、特には0.38≦m≦0.45であり、kは好ましくは0.1≦k≦0.45、さらに好ましくは0.2≦k≦0.38であるのがよい。当該組合せで含むことにより低ガス透過性及び低粘度を良好に達成することができる。 When including (R 1 2 SiO 2/2 ) units in combination with (R 2 2 SiO 2/2 ) units, m is preferably 0.3 ≦ m ≦ 0.5, more preferably 0.35 ≦ m. ≦ 0.48, especially 0.38 ≦ m ≦ 0.45, k is preferably 0.1 ≦ k ≦ 0.45, more preferably 0.2 ≦ k ≦ 0.38. . By including the combination, low gas permeability and low viscosity can be achieved satisfactorily.
本発明のオルガノポリシロキサンはT単位(分岐)を有してよい。上記においてqで示す単位はT単位(即ち、(RSiO3/2)単位)の含有量(モル比)を示す。qの値は、好ましくは0≦q≦0.5であり、さらに好ましくは0≦q≦0.3、特に好ましくは0≦q≦0.1である。 The organopolysiloxane of the present invention may have T units (branched). In the above, the unit represented by q represents the content (molar ratio) of T unit (that is, (RSiO 3/2 ) unit). The value of q is preferably 0 ≦ q ≦ 0.5, more preferably 0 ≦ q ≦ 0.3, and particularly preferably 0 ≦ q ≦ 0.1.
上記オルガノポリシロキサンは末端が−O1/2Xで封鎖されている。Xは水素原子または、炭素数1〜10、好ましくは炭素数1〜3のアルキル基である。rは1分子中に含まれる−O1/2Xの個数を意味する。q=0のときrは2であり、q≠0のときrは(RSiO3/2)単位の個数+2である。Xは好ましくは水素原子またはメチル基であり、特にはメチル基である。 The organopolysiloxane is blocked with —O 1/2 X at the ends. X is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms. r means the number of —O 1/2 X contained in one molecule. When q = 0, r is 2. When q ≠ 0, r is the number of (RSiO 3/2 ) units + 2. X is preferably a hydrogen atom or a methyl group, particularly a methyl group.
上記オルガノポリシロキサンにおいて一価芳香族炭化水素基(R1)の個数は、R、R1、R2、及びR3の合計個数のうち40%以上95%以下であるのが好ましく、さらに好ましくは45%以上75%以下であり、特に好ましくは50%以上65%以下である。当該範囲内であることにより、耐熱性、耐UV性及び低ガス透過性をより向上することができる。一価芳香族炭化水素基の含有量が上記上限値より大きいと組成物の粘度が非常に高く、作業性が悪くなる。一価芳香族炭化水素基の含有量が上記下限値より小さいと、十分な低ガス透過性を有する硬化物が形成できない。上記一価芳香族炭化水素基(R1)は好ましくはフェニル基である。 In the organopolysiloxane, the number of monovalent aromatic hydrocarbon groups (R 1 ) is preferably 40% or more and 95% or less of the total number of R, R 1 , R 2 , and R 3 , and more preferably Is 45% or more and 75% or less, and particularly preferably 50% or more and 65% or less. By being in the said range, heat resistance, UV resistance, and low gas permeability can be improved more. When the content of the monovalent aromatic hydrocarbon group is larger than the above upper limit, the viscosity of the composition is very high and workability is deteriorated. When the content of the monovalent aromatic hydrocarbon group is smaller than the lower limit, a cured product having sufficient low gas permeability cannot be formed. The monovalent aromatic hydrocarbon group (R 1 ) is preferably a phenyl group.
上記オルガノポリシロキサンは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定によるポリスチレン換算での重量平均分子量(Mw)2,000以上10,000以下が好ましく、より好ましくは2,500以上6,000以下である。重量平均分子量(Mw)が上記範囲内であれば作業性が良好な組成物となり、光半導体素子を封止する際に取り扱いやすい。また当該組成物から得られる硬化物は光半導体封止材として十分な機械的特性を有する。 The organopolysiloxane preferably has a weight average molecular weight (Mw) of 2,000 to 10,000 in terms of polystyrene as measured by gel permeation chromatography (GPC), more preferably 2,500 to 6,000. . When the weight average molecular weight (Mw) is within the above range, the composition has good workability and is easy to handle when sealing the optical semiconductor element. Moreover, the hardened | cured material obtained from the said composition has sufficient mechanical characteristics as an optical semiconductor sealing material.
上記式(1)で表されるオルガノポリシロキサンとしては、例えば、下記式で示される構造が挙げられる。
上記式(1)で示されるオルガノポリシロキサンの製造方法は特に制限されるものではない。(R2 2SiO2/2)単位、(R1 2SiO2/2)単位、(R1R2SiO2/2)単位、(R3R2SiO2/2)単位、及び(RSiO3/2)単位の原料となる、シラノール基またはアルコキシシリル基を1分子中に少なくとも2個有する有機ケイ素化合物の1種以上を、触媒存在下、縮合反応させることによって得られる。R1、R2、R3、及びRは上記の通りである。原料化合物の反応比率は、各シロキサン単位のモル比が上記した範囲となるように適宜調整されればよい。 The method for producing the organopolysiloxane represented by the above formula (1) is not particularly limited. (R 2 2 SiO 2/2 ) unit, (R 1 2 SiO 2/2 ) unit, (R 1 R 2 SiO 2/2 ) unit, (R 3 R 2 SiO 2/2 ) unit, and (RSiO 3 / 2 ) It can be obtained by subjecting one or more organosilicon compounds having at least two silanol groups or alkoxysilyl groups per molecule to a condensation reaction in the presence of a catalyst. R 1 , R 2 , R 3 , and R are as described above. The reaction ratio of the raw material compounds may be appropriately adjusted so that the molar ratio of each siloxane unit falls within the above-described range.
(R1 2SiO2/2)単位の原料となる有機ケイ素化合物としては、例えば下記式で示すジフェニルシランジオールが挙げられる。
(R3R2SiO2/2)単位の原料となる有機ケイ素化合物としては、例えば、下記式で示す脂環式エポキシ基含有シラン化合物が挙げられる。
The (R 3 R 2 SiO 2/2) organosilicon compounds comprising units of the raw material, for example, alicyclic epoxy group-containing silane compound represented by the following formula.
(R3SiO3/2)単位の原料となる有機ケイ素化合物としては、例えば、下記式で示す脂環式エポキシ基含有シラン化合物が挙げられる。
(R2 2SiO2/2)単位、及び(R1R2SiO2/2)単位の原料となる有機ケイ素化合物としては、例えば下記式(7)で示すオルガノ(ポリ)シロキサンが挙げられる。
(式(7)中、R6はR1またはR2であり、R1及びR2は上記の通りであり、Xは水素原子または炭素数1〜10のアルキル基であり、好ましくはメチル基である。eは1〜20の整数である)
Examples of the organosilicon compound that is a raw material for the (R 2 2 SiO 2/2 ) unit and the (R 1 R 2 SiO 2/2 ) unit include organo (poly) siloxanes represented by the following formula (7).
(In Formula (7), R 6 is R 1 or R 2 , R 1 and R 2 are as described above, and X is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably a methyl group. E is an integer from 1 to 20)
上記式(7)で表されるシラン化合物としては下記式で示すメチルジアルコキシシランが挙げられる。好ましくはジメトキシシランである。
上記式(7)で表されるオルガノポリシロキサンとしては、繰返し単位数2〜10を有する、下記式で示すジアルコキシシランのオリゴマーが挙げられる。
(RSiO3/2)単位の原料となる有機ケイ素化合物としては、例えば下記式(8)で示すオルガノ(ポリ)シロキサンが挙げられる。
(式(8)中、Rは上記の通りであり、R7は炭素数1〜12の一価脂肪族炭化水素基あるいは炭素数1〜10のアルコキシ基であり、少なくとも1のR7は炭素数1〜10のアルコキシ基であり、Xは水素原子または炭素数1〜10のアルキル基であり、好ましくはメチル基である。eは1〜20の整数である)
Examples of the organosilicon compound that is a raw material for the (RSiO 3/2 ) unit include organo (poly) siloxanes represented by the following formula (8).
(In Formula (8), R is as described above, R 7 is a monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, and at least one R 7 is carbon. An alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, X is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably a methyl group, and e is an integer of 1 to 20)
上記式(8)で表されるシラン化合物としては下記式で示すトリアルコキシシランが挙げられる。好ましくはトリメトキシシランである。
上記式(8)で表されるオルガノポリシロキサンとしては、1分子中に加水分解性基を3つ以上有し、繰返し単位数2〜5を有する、下記に示すトリアルコキシシランのオリゴマーが挙げられる。
上記オリゴマーの中でも、反応性、作業性、低ガス透過性の観点から、ジメトキシシランのオリゴマーが特に好適である。 Among the above oligomers, dimethoxysilane oligomers are particularly preferred from the viewpoints of reactivity, workability, and low gas permeability.
上記縮合反応は従来公知の触媒を使用して行えばよい。例えば、フェニル基を含有する両末端シラノール基及び/又はアルコキシ基を有するオルガノ(ポリ)シロキサンと、脂環式エポキシ基等の置換基を有するアルコキシシラン化合物との縮合反応として、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、及びテトラメチルアンモニア水酸化物、ジアザビシクロウンデセン、1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタンなど強塩基類を用いる方法がある。しかし当該方法は、縮合反応中にシロキサン結合(Si−O−Si)の切断および再配列を起こす恐れがある。また当該製造方法ではフェニル基を有する環状シロキサンが大量に生成するという問題もある。 The condensation reaction may be performed using a conventionally known catalyst. For example, as a condensation reaction between an organo (poly) siloxane having a phenyl group-containing silanol group and / or an alkoxy group and an alkoxysilane compound having a substituent such as an alicyclic epoxy group, sodium hydroxide, water There are methods using strong bases such as potassium oxide, tetramethylammonium hydroxide, diazabicycloundecene, 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octane. However, this method can cause siloxane bond (Si—O—Si) cleavage and rearrangement during the condensation reaction. In addition, the production method has a problem that a large amount of cyclic siloxane having a phenyl group is generated.
本発明のオルガノポリシロキサンの製造方法としては、オルガノポリシロキサン鎖の再配列を最小限に留め、構造を制御できる方法が望ましい。従って、例えば、下記特許文献3〜6に記載されるような特定の触媒を使用するのが好ましい。
特許文献3には、ナトリウムまたはカリウムのホウ酸塩またはリン酸塩を触媒として用いる、オルガノシリコーン縮合生成物の製造方法が記載されている。特許文献4には、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化物、塩化物、酸化物あるいは塩基性金属塩から選ばれる少なくとも1種の触媒を用いる、ポリオルガノシロキサンの製造方法が記載されている。特許文献5には、プロトン性溶媒の存在下でマグネシウムおよびカルシウムの水酸化物を触媒としてシラノール基含有シロキサンとアルコキシシランの縮合反応を行うことが記載されている。特許文献6には、周期表第2族元素の水酸化物、前記水酸化物の水和物、及び周期表第2族元素の酸化物からなる群より選ばれる少なくとも1種をシランカップリング剤で表面処理して得られたものを触媒として使用する、オルガノシリコーン縮合物の製造方法が記載されている。これらの製造方法を使用することにより、オルガノポリシロキサン鎖の構造を好適に制御することができる。 Patent Document 3 describes a method for producing an organosilicone condensation product using sodium or potassium borate or phosphate as a catalyst. Patent Document 4 describes a method for producing a polyorganosiloxane using at least one catalyst selected from alkali metal or alkaline earth metal hydroxides, chlorides, oxides or basic metal salts. . Patent Document 5 describes that a condensation reaction of a silanol group-containing siloxane and an alkoxysilane is carried out using magnesium and calcium hydroxide as a catalyst in the presence of a protic solvent. In Patent Document 6, a silane coupling agent includes at least one selected from the group consisting of a hydroxide of Group 2 element of the periodic table, a hydrate of the hydroxide, and an oxide of Group 2 element of the periodic table. Describes a method for producing an organosilicone condensate using as a catalyst the product obtained by surface treatment in (1). By using these production methods, the structure of the organopolysiloxane chain can be suitably controlled.
上記特許文献3〜6に記載される触媒は固体であるため、得られるオルガノポリシロキサンから触媒を濾過により容易に除去することができる。当該利点は、例えば光学材料や電子材料など、使用する材料に精密な制御を必要とする分野や残留不純物が許容されない分野において有利である。従って、当該方法で製造されるオルガノポリシロキサンは光半導体素子封止用樹脂組成物に好適に使用できる。 Since the catalysts described in Patent Documents 3 to 6 are solid, the catalyst can be easily removed from the obtained organopolysiloxane by filtration. This advantage is advantageous in fields that require precise control of materials used, such as optical materials and electronic materials, and fields in which residual impurities are not allowed. Therefore, the organopolysiloxane produced by the method can be suitably used for a resin composition for sealing an optical semiconductor element.
本発明のオルガノポリシロキサンを製造するための特に好ましい触媒としては、周期表第2族元素の水酸化物、周期表第2族元素の水酸化物の水和物、及び周期表第2族元素の酸化物からなる群より選ばれる少なくとも1種(以下、第2族元素の化合物と称す)が挙げられる。第2族元素の化合物は、シラノール基(−SiOH)及び/又はアルコキシシリル基(−SiOR)を有する有機ケイ素化合物の縮合反応を進行することができる触媒機能を有する化合物であればよい。例えば、水酸化ラジウム、水酸化バリウム、水酸化ストロンチウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、水酸化ベリリウム、水酸化バリウム八水和物、水酸化バリウム一水和物、水酸化ストロンチウム八水和物、酸化バリウム、酸化ストロンチウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化ベリリウムなどが挙げられる。中でも、水酸化バリウム八水和物、水酸化バリウム一水和物、水酸化バリウム、酸化バリウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、及び水酸化ストロンチウム八水和物が好ましく、特には、水酸化バリウム、及び水酸化ストロンチウムが好ましい。 As a particularly preferred catalyst for producing the organopolysiloxane of the present invention, a hydroxide of a Group 2 element of the periodic table, a hydroxide hydrate of a Group 2 element of the periodic table, and a Group 2 element of the periodic table And at least one selected from the group consisting of these oxides (hereinafter referred to as Group 2 element compounds). The group 2 element compound may be a compound having a catalytic function capable of proceeding a condensation reaction of an organosilicon compound having a silanol group (—SiOH) and / or an alkoxysilyl group (—SiOR). For example, radium hydroxide, barium hydroxide, strontium hydroxide, calcium hydroxide, magnesium hydroxide, beryllium hydroxide, barium hydroxide octahydrate, barium hydroxide monohydrate, strontium hydroxide octahydrate, Examples thereof include barium oxide, strontium oxide, calcium oxide, magnesium oxide, and beryllium oxide. Among these, barium hydroxide octahydrate, barium hydroxide monohydrate, barium hydroxide, barium oxide, calcium hydroxide, strontium hydroxide, and strontium hydroxide octahydrate are preferable, and in particular, barium hydroxide And strontium hydroxide are preferred.
触媒の量は、縮合反応に供する原料有機ケイ素化合物の合計モル量に対する触媒のモル量が、0.0001〜20mol%となる量、好ましくは0.01〜10mol%となる量、より好ましくは0.1〜1mol%となる量がよい。触媒の量が上記範囲内であれば、縮合反応において十分な触媒効果を得ることができ、また、反応後に濾過により触媒を除去する工程において、濾紙が目詰まりすることなく目的の化合物を効率良く得ることができるため好ましい。 The amount of the catalyst is such that the molar amount of the catalyst is 0.0001 to 20 mol%, preferably 0.01 to 10 mol%, more preferably 0, relative to the total molar amount of the starting organosilicon compound to be subjected to the condensation reaction. The quantity which becomes 1-1 mol% is good. If the amount of the catalyst is within the above range, a sufficient catalytic effect can be obtained in the condensation reaction, and the target compound can be efficiently obtained without clogging the filter paper in the step of removing the catalyst by filtration after the reaction. It is preferable because it can be obtained.
(B)硬化剤
硬化剤は、エポキシ基と反応性の官能基を有する従来公知の硬化剤を使用すればよい。例えば、アミン系硬化剤、フェノール系硬化剤、及び酸無水物系硬化剤が挙げられる。本発明において「エポキシ基と反応性を有する官能基」とは、アミン系硬化剤が有するアミノ基、フェノール系硬化剤が有するフェノール性水酸基、酸無水物系硬化剤が有する酸無水物基を意味する。尚、酸無水物系硬化剤における酸無水物基は−CO−O−CO−で表される。中でも酸無水物系硬化剤が好ましい。
(B) The hardening agent hardening | curing agent should just use the conventionally well-known hardening | curing agent which has a functional group reactive with an epoxy group. For example, an amine type hardening | curing agent, a phenol type hardening | curing agent, and an acid anhydride type hardening | curing agent are mentioned. In the present invention, “functional group having reactivity with an epoxy group” means an amino group possessed by an amine curing agent, a phenolic hydroxyl group possessed by a phenol curing agent, and an acid anhydride group possessed by an acid anhydride curing agent. To do. The acid anhydride group in the acid anhydride curing agent is represented by -CO-O-CO-. Of these, acid anhydride curing agents are preferred.
酸無水物系硬化剤としては、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸、4−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸、3−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸と4−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸との混合物、テトラヒドロ無水フタル酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸、ノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチルノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物、2,4−ジエチルグルタル酸無水物などを挙げることができ、これらのうち、ヘキサヒドロ無水フタル酸及びその誘導体が好ましい。 Examples of the acid anhydride curing agent include phthalic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3-methyl-hexahydrophthalic anhydride, 4-methyl-hexahydrophthalic anhydride, A mixture of 3-methyl-hexahydrophthalic anhydride and 4-methyl-hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, nadic anhydride, methyl nadic anhydride, norbornane-2,3-dicarboxylic anhydride, methylnorbornane-2 , 3-dicarboxylic acid anhydride, 2,4-diethylglutaric acid anhydride, etc., among which hexahydrophthalic anhydride and its derivatives are preferred.
(B)硬化剤の配合量は、(A)成分中のエポキシ基の合計数に対する(B)成分中のエポキシ基と反応性を有する官能基の個数の比が0.3〜1となる量、好ましくは0.4〜0.8となる量である。上記下限値以上であれば、硬化物の耐熱性、及び透明性が向上する。また上記上限値以下であれば硬化物の機械特性が向上するため好ましい。 (B) The compounding quantity of a hardening | curing agent is the quantity from which the ratio of the number of the functional group which has the reactivity with the epoxy group in (B) component with respect to the total number of the epoxy group in (A) component will be 0.3-1. The amount is preferably 0.4 to 0.8. If it is more than the said lower limit, the heat resistance of a hardened | cured material and transparency will improve. Moreover, if it is below the said upper limit, since the mechanical characteristic of hardened | cured material improves, it is preferable.
(C)硬化触媒
硬化触媒は特に制限されるものでなく、シリコーン樹脂組成物に従来使用されている硬化触媒から選択すればよい。例えば、テトラブチルホスホニウム−o,o−ジエチルホスホロジチオエート、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレートなどの第四級ホスホニウム塩、トリフェニルフォスフィン、ジフェニルフォスフィン等の有機フォスフィン系硬化触媒、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、トリエタノールアミン、ベンジルジメチルアミン等の三級アミン系硬化触媒、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7 フェノール塩、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7 オクチル酸塩、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7p−トルエンスルホン酸塩、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7 ギ酸塩等の第四級アンモニウム塩、オクチル酸亜鉛、ナフチル酸亜鉛等の有機カルボン酸塩、アルミニウムビスエチルアセトアセテート・モノアセチルアセトネート、アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレート等のアルミキレート化合物、2−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾールなどのイミダゾール類などが挙げられる。中でも第四級ホスホニウム塩、及び第四級アンモニウム塩が好ましい。
(C) Curing catalyst The curing catalyst is not particularly limited, and may be selected from curing catalysts conventionally used for silicone resin compositions. For example, quaternary phosphonium salts such as tetrabutylphosphonium-o, o-diethyl phosphorodithioate, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, organic phosphine-based curing catalysts such as triphenylphosphine, diphenylphosphine, 1,8- Tertiary amine-based curing catalyst such as diazabicyclo (5,4,0) undecene-7, triethanolamine, benzyldimethylamine, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7 phenol salt, 1,8- Diazabicyclo (5,4,0) undecene-7 octylate, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7p-toluenesulfonate, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene 7 Quaternary ammonium salts such as formate, zinc octylate, naphthylic acid Organic carboxylates such as aluminum bisethylacetoacetate / monoacetylacetonate, aluminum chelate compounds such as aluminum ethylacetoacetate / diisopropylate, imidazoles such as 2-methylimidazole and 2-phenyl-4-methylimidazole, etc. Is mentioned. Of these, quaternary phosphonium salts and quaternary ammonium salts are preferred.
硬化触媒の配合量は特に制限されず(A)成分と(B)成分の反応を促進する有効量(触媒量)であればよい。好ましくは(A)成分と(B)成分の合計100質量部に対して0.01〜3質量部、さらに好ましくは0.05〜1.5質量部であるのがよい。硬化触媒の配合量が前記下限値より少ないと、エポキシ樹脂と硬化剤との反応を促進させる効果が十分得られないおそれがある。また硬化触媒の配合量が前記上限値より多いと、硬化時やリフロー試験時の変色の原因となるおそれがある。 The blending amount of the curing catalyst is not particularly limited as long as it is an effective amount (catalyst amount) that promotes the reaction between the component (A) and the component (B). Preferably it is 0.01-3 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of (A) component and (B) component, More preferably, it is 0.05-1.5 mass parts. If the amount of the curing catalyst is less than the lower limit, the effect of promoting the reaction between the epoxy resin and the curing agent may not be sufficiently obtained. Moreover, when there are more compounding quantities of a curing catalyst than the said upper limit, there exists a possibility of causing the discoloration at the time of hardening or a reflow test.
(D)酸化防止剤
本発明のシリコーン樹脂組成物はさらに酸化防止剤を含有するのが好ましい。該酸化防止剤としては、亜リン酸化合物、ヒンダードフェノール系酸化防止剤等が挙げられる。特にはヒンダードフェノール系酸化防止剤が好ましい。ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、例えば、ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオナート、N,N’−プロパン−1,3−ジイルビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオナミド]、チオジエチレンビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、6,6’−ジ−tert−ブチル−2,2’−チオジ−p−クレゾール、N,N’−ヘキサン−1,6−ジイルビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド)]、ベンゼンプロパン酸,3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ,C7−C9側鎖アルキルエステル、ジエチル[[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]メチル]ホスフォネート、2,2’−エチリデンビス[4,6−ジ−tert−ブチルフェノール]、3,3’,3”,5,5’,5”−ヘキサ−tert−ブチル−a,a’,a”−(メシチレン−2,4,6−トリイル)トリ−p−クレゾール、カルシウムジエチルビス[[[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]メチル]ホスホネート]、4,6−ビス(オクチルチオメチル)−o−クレゾール、4,6−ビス(ドデシルチオメチル)−o−クレゾール、エチレンビス(オキシエチレン)ビス[3−(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−m−トリル)プロピオネート]、ヘキサメチレンビス[3−(3,5−シ゛−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、1,3,5−トリス(3,5−シ゛−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリオン、1,3,5−トリス[(4−tert−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−キシリル)メチル]−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン、6,6’−ジ−tert−ブチル−4,4’−チオジ−m−クレゾール、ジフェニルアミン、N−フェニルベンゼンアミンと2,4,4−トリメチルペンテンの反応生成物、2,6−ジ−tert−ブチル−4−(4,6−ビス(オクチルチオ)−1,3,5−トリアジン−2−イルアミノ)フェノール、3,4−ジヒドロ−2,5,7,8−テトラメチル−2−(4,8,12−トリメチルトリデシル)−2H−1−ベンゾピラン−6−オール、2’,3−ビス[[3−[3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル]プロピオニル]]プロピオノヒドラジド、ジドデシル3,3’−チオジプロピオネート、ジオクタデシル3,3’−チオジプロピオネートが例示される。
(D) Antioxidant The silicone resin composition of the present invention preferably further contains an antioxidant. Examples of the antioxidant include phosphorous acid compounds and hindered phenol antioxidants. In particular, hindered phenol antioxidants are preferred. Examples of the hindered phenol antioxidant include pentaerythritol tetrakis [3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate, N, N′-propane-1,3- Diylbis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionamide], thiodiethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl- 3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 6,6′-di-tert-butyl-2,2′-thiodi-p-cresol, N, N′-hexane-1 , 6-Diylbis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenylpropionamide)], benzenepropanoic acid, 3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxy, C7-C9 side chain alkyl ester, diethyl [[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl] phosphonate, 2,2 '-Ethylidenebis [4,6-di-tert-butylphenol], 3,3', 3 ", 5,5 ', 5" -hexa-tert-butyl-a, a', a "-(mesitylene-2 , 4,6-triyl) tri-p-cresol, calcium diethylbis [[[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl] phosphonate], 4,6-bis (octyl) Thiomethyl) -o-cresol, 4,6-bis (dodecylthiomethyl) -o-cresol, ethylenebis (oxyethylene) bis [3- (5-tert-butyl-4-hydroxy) Cy-m-tolyl) propionate], hexamethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 1,3,5-tris (3,5-di-tert-butyl) -4-hydroxybenzyl) -1,3,5-triazine-2,4,6-trione, 1,3,5-tris [(4-tert-butyl-3-hydroxy-2,6-xylyl) methyl] -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione, 6,6'-di-tert-butyl-4,4'-thiodi-m-cresol, diphenylamine, N- Reaction product of phenylbenzeneamine and 2,4,4-trimethylpentene, 2,6-di-tert-butyl-4- (4,6-bis (octylthio) -1,3,5-triazin-2-ylamino ) Phenol, 3,4-dihydro-2,5,7,8-tetramethyl-2- (4,8,12-trimethyltridecyl) -2H-1-benzopyran-6-ol, 2 ', 3-bis [[3- [3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl] propionyl]] propionohydrazide, didodecyl 3,3′-thiodipropionate, dioctadecyl 3,3′-thiodipropionate Illustrated.
(D)成分の配合量は(A)成分100質量部に対して、0.1〜0.5質量部が好ましく、さらに好ましくは0.1〜0.3質量部である。酸化防止剤の配合量が上記上限値を超えると、残存する酸化防止剤が硬化後の樹脂の表面に析出するおそれがある。また上記下限値未満では得られる硬化物の耐熱性及び透明性が低下するおそれがある。 (D) As for the compounding quantity of component, 0.1-0.5 mass part is preferable with respect to 100 mass parts of (A) component, More preferably, it is 0.1-0.3 mass part. When the compounding quantity of antioxidant exceeds the said upper limit, there exists a possibility that the remaining antioxidant may precipitate on the surface of resin after hardening. Moreover, if it is less than the said lower limit, there exists a possibility that the heat resistance and transparency of the hardened | cured material obtained may fall.
本発明のシリコーン樹脂組成物は上記成分(A)〜(D)の他に、従来公知の添加剤、例えば、紫外線吸収剤、光又は熱劣化防止剤、蛍光体、熱可塑剤、及び希釈剤などを含有してもよい。紫外線吸収剤としては例えばヒンダードアミン系紫外線吸収剤が好適に使用できる。蛍光体はシリコーン樹脂組成物の硬化物により封止される光半導体素子が発する光の波長を変更するために添加される。該蛍光体としては、例えば、LEDに広く利用されている、YAG(イットリウム、アルミニウム、ガーネット)系蛍光体、ZnS系蛍光体、Y2O2S系蛍光体、赤色発光蛍光体、青色発光蛍光体、及び緑色発光蛍光体等が挙げられる。これら添加剤の配合量は、従来公知の技術に従い、本発明の効果を損ねない範囲で適宜選択することができる。 In addition to the above components (A) to (D), the silicone resin composition of the present invention includes conventionally known additives such as ultraviolet absorbers, light or thermal deterioration inhibitors, phosphors, thermoplastics, and diluents. Etc. may be contained. As the ultraviolet absorber, for example, a hindered amine ultraviolet absorber can be preferably used. The phosphor is added to change the wavelength of light emitted from the optical semiconductor element sealed with the cured product of the silicone resin composition. Examples of the phosphor include YAG (yttrium, aluminum, garnet) phosphor, ZnS phosphor, Y 2 O 2 S phosphor, red light emitting phosphor, and blue light emitting phosphor widely used in LEDs. And green light emitting phosphors. The blending amount of these additives can be appropriately selected according to a conventionally known technique as long as the effects of the present invention are not impaired.
本発明のシリコーン樹脂組成物は、上記各成分および必要により各種の添加剤を溶解または溶融混合することで製造することができる。溶融混合は、公知の方法で行えばよい。例えば、上記各成分をリアクターに仕込み、バッチ式にて溶融混合してもよい。また、上記各成分をニーダーや熱三本ロールなどの混練機に投入して、連続的に溶融混合することもできる。特には(C)硬化触媒は(B)硬化剤に予め加熱溶解混合し、混合の最終段階で(A)成分及び(D)成分等と分散混合することが好ましい。 The silicone resin composition of this invention can be manufactured by melt | dissolving or melt-mixing each said component and various additives as needed. The melt mixing may be performed by a known method. For example, the above components may be charged into a reactor and melt mixed in a batch system. Moreover, each said component can also be thrown into kneading machines, such as a kneader and a heat | fever three roll, and can also be continuously melt-mixed. In particular, the (C) curing catalyst is preferably preliminarily heated and dissolved and mixed in the (B) curing agent, and dispersed and mixed with the components (A) and (D) at the final stage of mixing.
本発明のシリコーン樹脂組成物は、JIS K 7117−1:1999に準拠しB型粘度計により測定された23℃での粘度0.5Pa・s以上30Pa・s以下、より好ましくは2Pa・s以上20Pa・s以下を有する。粘度が上記上限値より大きいと、組成物の作業性が悪くなる。粘度が上記下限値より小さいと、該組成物にて封止するときにブリードなどが起こるおそれがある。 The silicone resin composition of the present invention has a viscosity at 23 ° C. of 0.5 Pa · s or more and 30 Pa · s or less, more preferably 2 Pa · s or more, as measured by a B-type viscometer according to JIS K 7117-1: 1999. 20 Pa · s or less. When the viscosity is larger than the above upper limit, the workability of the composition is deteriorated. If the viscosity is smaller than the lower limit, bleeding or the like may occur when sealing with the composition.
シリコーン樹脂組成物の硬化は目的とする装置に応じて適宜設定すればよい。例えばシリコーン樹脂組成物を用いて光半導体素子を封止する場合は、通常、100℃で1〜2時間程度加熱(プレキュア)し、さらに150〜200℃で0.1〜2時間加熱(アフターキュア)するのがよい。 The curing of the silicone resin composition may be appropriately set according to the target device. For example, when sealing an optical semiconductor element using a silicone resin composition, it is usually heated (precured) at 100 ° C. for about 1 to 2 hours, and further heated at 150 to 200 ° C. for 0.1 to 2 hours (aftercuring). )
本発明のシリコーン樹脂組成物は低粘度であり取り扱い性に優れ、且つ、低ガス透過性に優れる硬化物を与える。そのため本発明のシリコーン樹脂組成物は光半導体素子封止用の樹脂組成物として好適に使用でき、信頼性に優れた光半導体装置を提供する。光半導体装置の製造方法は、光半導体素子の種類に応じて公知の方法を採用すればよい。 The silicone resin composition of the present invention has a low viscosity, excellent handleability, and gives a cured product excellent in low gas permeability. Therefore, the silicone resin composition of the present invention can be suitably used as a resin composition for sealing an optical semiconductor element, and provides an optical semiconductor device having excellent reliability. As a method for manufacturing the optical semiconductor device, a known method may be adopted depending on the type of the optical semiconductor element.
以下、実施例及び比較例を示し、本発明をより詳細に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。下記中の「部」は質量部を意味し、Meはメチル基を、Phはフェニル基を表す。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated in detail, this invention is not restrict | limited to the following Example. "Part" in the following means a part by mass, Me represents a methyl group, and Ph represents a phenyl group.
下記実施例及び比較例に示した重量平均分子量(Mw)はポリスチレンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によって測定した値である。以下に測定条件を示す。
[GPC測定条件]
展開溶媒:テトラヒドロフラン
流速:0.6mL/min
カラム:TSK Guardcоlumn SuperH−L
TSKgel SuperH4000(6.0mmI.D ×15cm×1)
TSKgel SuperH3000(6.0mmI.D ×15cm×1)
TSKgel SuperH2000(6.0mmI.D ×15cm×2)
(いずれも東ソー社製)
カラム温度:40℃
試料注入量:20μl(試料濃度:0.5wt%−テトラヒドロフラン溶液)
検出器:示差屈折率計(RI)
The weight average molecular weight (Mw) shown in the following Examples and Comparative Examples is a value measured by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard substance. The measurement conditions are shown below.
[GPC measurement conditions]
Developing solvent: Tetrahydrofuran Flow rate: 0.6 mL / min
Column: TSK Guardcolumn SuperH-L
TSKgel SuperH4000 (6.0 mm ID × 15 cm × 1)
TSKgel SuperH3000 (6.0 mm ID × 15 cm × 1)
TSKgel SuperH2000 (6.0 mm ID × 15 cm × 2)
(Both manufactured by Tosoh Corporation)
Column temperature: 40 ° C
Sample injection amount: 20 μl (sample concentration: 0.5 wt% -tetrahydrofuran solution)
Detector: Differential refractometer (RI)
[合成例1]
[β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルジメトキシメチルシランの合成]
2Lのセパラブルフラスコに0.5質量%塩化白金酸トルエン溶液0.39g、メタノール10g、セロキサイド2000(1,2−エポキシ−4−ビニルシクロヘキサン、ダイセル化学工業株式会社製)546gを入れ、攪拌した後、内温を50℃まで上昇させた。その後、ジメトキシメチルシラン 425gを3時間かけて滴下し、70℃で3時間反応させた。トルエンを減圧蒸留した後、アンテージW−500(2,2’−メチレン−ビス−(4−エチル−6−ターシャルブチルフェノール)、川口化学工業株式会社製)0.9gとアクセルDM(2−ベンゾチアゾイル−ジサルファイド、川口化学工業株式会社製)0.9gを添加、攪拌した。溶解したのを確認した後、減圧蒸留(110℃、5mmHg)を行うことで、下記式(14)で示される化合物568g(収率63%)を得た。
[Synthesis of β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyldimethoxymethylsilane]
In a 2 L separable flask, 0.39 g of 0.5 mass% chloroplatinic acid toluene solution, 10 g of methanol, and 546 g of Celoxide 2000 (1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) were added and stirred. Thereafter, the internal temperature was raised to 50 ° C. Thereafter, 425 g of dimethoxymethylsilane was added dropwise over 3 hours and reacted at 70 ° C. for 3 hours. After toluene was distilled under reduced pressure, Antage W-500 (2,2′-methylene-bis- (4-ethyl-6-tert-butylphenol), manufactured by Kawaguchi Chemical Co., Ltd.) 0.9 g and Accel DM (2-benzo 0.9 g of thiazoyl-disulfide (manufactured by Kawaguchi Chemical Co., Ltd.) was added and stirred. After confirming that it was dissolved, vacuum distillation (110 ° C., 5 mmHg) was performed to obtain 568 g (yield 63%) of a compound represented by the following formula (14).
実施例用オルガノポリシロキサン1〜4の合成
[合成例2]
[オルガノポリシロキサン1の合成]
2Lのセパラブルフラスコにジフェニルシランジオール216g、XO―(MePhSiO)a―X(Xは水素原子またはメチル基であり、aは3〜10の整数であり平均7である)486g、合成例1で得られたβ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルジメトキシメチルシラン230gを入れ、攪拌した後、内温を80℃まで上昇させた。その後、触媒として水酸化ストロンチウム2.4gを加え、80℃でメタノールを留去しながら4時間反応させた。反応終了後、トルエン900gを加え、攪拌した後、0.8μmのフィルターを用いて加圧ろ過を行い、触媒を除去した。その後、得られた反応溶液を熱水で水洗した後、共沸脱水し、トルエンを減圧蒸留することで、下記式(15)で表される、直鎖状のオルガノポリシロキサン1を得た。
上記式(15)において、m、n、及びpは、各シロキサン単位のモル比として、m=0.18、n=0.64、p=0.18であった。−O1/2Xの数(r)は2個であり、両末端に存在する。Xは水素原子またはメチル基である。
上記括弧内に示す各単位の結合順序は特に制限されない。
フェニル基、メチル基、及び脂環式エポキシ基の合計個数に対するフェニル基の含有量は50%であった。
得られたオルガノポリシロキサン1の、GPC測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量は2500であり、エポキシ当量は885g/eqであった。
Synthesis of organopolysiloxanes 1 to 4 for Examples [Synthesis Example 2]
[Synthesis of Organopolysiloxane 1]
In a 2 L separable flask, 216 g of diphenylsilane diol, 486 g of XO— (MePhSiO) a —X (where X is a hydrogen atom or a methyl group, a is an integer of 3 to 10 and an average of 7), and in Synthesis Example 1 230 g of the obtained β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyldimethoxymethylsilane was added and stirred, and then the internal temperature was raised to 80 ° C. Thereafter, 2.4 g of strontium hydroxide was added as a catalyst, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 4 hours while distilling off methanol. After completion of the reaction, 900 g of toluene was added and stirred, followed by pressure filtration using a 0.8 μm filter to remove the catalyst. Thereafter, the obtained reaction solution was washed with hot water, then azeotropically dehydrated, and toluene was distilled under reduced pressure to obtain linear organopolysiloxane 1 represented by the following formula (15).
In the above formula (15), m, n, and p were m = 0.18, n = 0.64, and p = 0.18 as the molar ratio of each siloxane unit. The number (r) of —O 1/2 X is 2 and exists at both ends. X is a hydrogen atom or a methyl group.
There is no particular limitation on the order of bonding of the units shown in the parentheses.
The phenyl group content relative to the total number of phenyl groups, methyl groups, and alicyclic epoxy groups was 50%.
The obtained organopolysiloxane 1 had a polystyrene-equivalent weight average molecular weight of 2500 by GPC measurement, and an epoxy equivalent of 885 g / eq.
[合成例3]
[オルガノポリシロキサン2の合成]
2Lのセパラブルフラスコにジフェニルシランジオール195g、XO―(MePhSiO)a―X(Xは水素原子またはメチル基であり、aは3〜10の整数であり平均7である)583g、合成例1で得られたβ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルジメトキシメチルシラン115gを攪拌した後、内温を80℃まで上昇させた。その後、触媒として水酸化ストロンチウム2.4gを加え、80℃でメタノールを留去しながら4時間反応させた。反応終了後、トルエン900gを加え、攪拌した後、0.8μmのフィルターを用いて加圧ろ過を行い、触媒を除去した。その後、得られた反応溶液を熱水で水洗した後、共沸脱水し、トルエンを減圧蒸留することで、下記式(16)で表される、直鎖状のオルガノポリシロキサン2を得た。
上記式(16)において、m、n、及びpは、各シロキサン単位のモル比として、m=0.15、n=0.69、p=0.16であった。−O1/2Xの数(r)は2個であり、両末端に存在する。Xは水素原子またはメチル基である。
上記括弧内に示す各単位の結合順序は特に制限されない。
フェニル基、メチル基、及び脂環式エポキシ基の合計個数に対するフェニル基の含有量は50%であった。
得られたオルガノポリシロキサン2の、GPC測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量は2600であり、エポキシ当量は959g/eqであった。
[Synthesis Example 3]
[Synthesis of Organopolysiloxane 2]
In a 2 L separable flask, 195 g of diphenylsilanediol, 583 g of XO— (MePhSiO) a —X (where X is a hydrogen atom or a methyl group, a is an integer of 3 to 10 and an average of 7), After stirring 115 g of the obtained β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyldimethoxymethylsilane, the internal temperature was raised to 80 ° C. Thereafter, 2.4 g of strontium hydroxide was added as a catalyst, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 4 hours while distilling off methanol. After completion of the reaction, 900 g of toluene was added and stirred, followed by pressure filtration using a 0.8 μm filter to remove the catalyst. Thereafter, the obtained reaction solution was washed with hot water, then azeotropically dehydrated, and toluene was distilled under reduced pressure to obtain linear organopolysiloxane 2 represented by the following formula (16).
In the above formula (16), m, n, and p were m = 0.15, n = 0.69, and p = 0.16 as the molar ratio of each siloxane unit. The number (r) of —O 1/2 X is 2 and exists at both ends. X is a hydrogen atom or a methyl group.
There is no particular limitation on the order of bonding of the units shown in the parentheses.
The phenyl group content relative to the total number of phenyl groups, methyl groups, and alicyclic epoxy groups was 50%.
The obtained organopolysiloxane 2 had a polystyrene-reduced weight average molecular weight of 2600 as measured by GPC, and an epoxy equivalent of 959 g / eq.
[合成例4]
[オルガノポリシロキサン3の合成]
2Lのセパラブルフラスコにジフェニルシランジオール216g、XO―(MePhSiO)a―X(Xは水素原子またはメチル基であり、aは3〜10の整数であり平均7である)486g、合成例1で得られたβ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルジメトキシメチルシラン115g、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(KBM−303、信越化学工業株式会社製)123gを攪拌した後、内温を80℃まで上昇させた。その後、触媒として水酸化ストロンチウム2.4gを加え、80℃でメタノールを留去しながら4時間反応させた。反応終了後、トルエン900gを加え、攪拌した後、0.8μmのフィルターを用いて加圧ろ過を行い、触媒を除去した。その後、得られた反応溶液を熱水で水洗した後、共沸脱水し、トルエンを減圧蒸留することで、下記式(17)で表される、分岐構造を有するオルガノポリシロキサン3を得た。
上記式(17)において、m、n、p、及びqは、各シロキサン単位のモル比として、m=0.18、n=0.64、p=0.09、q=0.09であった。−O1/2Xの数(r)はT単位の数+2個である。Xは水素原子またはメチル基である。
上記括弧内に示す各単位の結合順序は特に制限されない。
フェニル基、メチル基、及び脂環式エポキシ基の合計個数に対するフェニル基の含有量は52%であった。
得られたオルガノポリシロキサン3の、GPC測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量は2800であり、エポキシ当量は878g/eqであった。
[Synthesis Example 4]
[Synthesis of Organopolysiloxane 3]
In a 2 L separable flask, 216 g of diphenylsilane diol, 486 g of XO— (MePhSiO) a —X (where X is a hydrogen atom or a methyl group, a is an integer of 3 to 10 and an average of 7), and in Synthesis Example 1 After stirring 115 g of the obtained β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyldimethoxymethylsilane and 123 g of β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane (KBM-303, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) The internal temperature was raised to 80 ° C. Thereafter, 2.4 g of strontium hydroxide was added as a catalyst, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 4 hours while distilling off methanol. After completion of the reaction, 900 g of toluene was added and stirred, followed by pressure filtration using a 0.8 μm filter to remove the catalyst. Thereafter, the obtained reaction solution was washed with hot water, then azeotropically dehydrated, and toluene was distilled under reduced pressure to obtain organopolysiloxane 3 having a branched structure represented by the following formula (17).
In the above formula (17), m, n, p, and q are m = 0.18, n = 0.64, p = 0.09, q = 0.09 as the molar ratio of each siloxane unit. It was. The number (r) of −O 1/2 X is the number of T units + 2. X is a hydrogen atom or a methyl group.
There is no particular limitation on the order of bonding of the units shown in the parentheses.
The phenyl group content relative to the total number of phenyl groups, methyl groups, and alicyclic epoxy groups was 52%.
The obtained organopolysiloxane 3 had a polystyrene-equivalent weight average molecular weight of 2800 as measured by GPC, and an epoxy equivalent of 878 g / eq.
[合成例5]
[オルガノポリシロキサン4の合成]
2Lのセパラブルフラスコにジフェニルシランジオール281g、XO―(Me2SiO)a―X(Xは水素原子またはメチル基であり、aは2〜5の整数であり平均は3.5である)55g、合成例1で得られたβ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルジメトキシメチルシラン230gを攪拌した後、内温を80℃まで上昇させた。その後、触媒として水酸化ストロンチウム2.4gを加え、80℃でメタノールを留去しながら4時間反応させた。反応終了後、トルエン900gを加え、攪拌した後、0.8μmのフィルターを用いて加圧ろ過を行い、触媒を除去した。その後、得られた反応溶液を熱水で水洗した後、共沸脱水し、トルエンを減圧蒸留することで、下記式(18)で表される、直鎖状のオルガノポリシロキサン4を得た。
上記式(18)において、k、m、及びpは、各シロキサン単位のモル比として、k=0.23、m=0.44、p=0.33であった。−O1/2Xの数(r)は2個であり、両末端に存在する。Xは水素原子またはメチル基である。
上記括弧内に示す各単位の結合順序は特に制限されない。
フェニル基、メチル基、及び脂環式エポキシ基の合計個数に対するフェニル基の含有量は53%であった。
得られたオルガノポリシロキサン4の、GPC測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量は3100であり、エポキシ当量は513g/eqであった。
[Synthesis Example 5]
[Synthesis of Organopolysiloxane 4]
In a 2 L separable flask, 281 g of diphenylsilanediol, XO— (Me 2 SiO) a —X (X is a hydrogen atom or a methyl group, a is an integer of 2 to 5, and the average is 3.5) 55 g After stirring 230 g of β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyldimethoxymethylsilane obtained in Synthesis Example 1, the internal temperature was raised to 80 ° C. Thereafter, 2.4 g of strontium hydroxide was added as a catalyst, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 4 hours while distilling off methanol. After completion of the reaction, 900 g of toluene was added and stirred, followed by pressure filtration using a 0.8 μm filter to remove the catalyst. Thereafter, the obtained reaction solution was washed with hot water, then azeotropically dehydrated, and toluene was distilled under reduced pressure to obtain linear organopolysiloxane 4 represented by the following formula (18).
In the above formula (18), k, m, and p were k = 0.23, m = 0.44, and p = 0.33 as the molar ratio of each siloxane unit. The number (r) of —O 1/2 X is 2 and exists at both ends. X is a hydrogen atom or a methyl group.
There is no particular limitation on the order of bonding of the units shown in the parentheses.
The phenyl group content relative to the total number of phenyl groups, methyl groups, and alicyclic epoxy groups was 53%.
The obtained organopolysiloxane 4 had a polystyrene-equivalent weight average molecular weight of 3100 as measured by GPC, and an epoxy equivalent of 513 g / eq.
比較例用オルガノポリシロキサン5〜8の合成
[合成例6]
[オルガノポリシロキサン5の合成]
2Lのセパラブルフラスコにジフェニルシランジオール216g、XO―(MePhSiO)a―X(Xは水素原子またはメチル基であり、aは3〜10の整数であり平均は7である)486g、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(KBM−303、信越化学工業株式会社製)246gを攪拌した後、内温を80℃まで上昇させた。その後、触媒として水酸化ストロンチウム2.4gを加え、80℃でメタノールを留去しながら4時間反応させた。反応終了後、トルエン900gを加え、攪拌した後、0.8μmのフィルターを用いて加圧ろ過を行い、触媒を除去した。その後、得られた反応溶液を熱水で水洗した後、共沸脱水し、トルエンを減圧蒸留することで、下記式(19)で表される、分岐を有するオルガノポリシロキサン5を得た。
上記式(18)において、m、n、及びqは、各シロキサン単位のモル比として、m=0.18、n=0.64、q=0.18であった。−O1/2Xの数(r)はT単位の個数+2個である。Xは水素原子またはメチル基である。
上記括弧内に示す各単位の結合順序は特に制限されない。
フェニル基、メチル基、及び脂環式エポキシ基の合計個数に対するフェニル基の含有量は50%であった。
得られたオルガノポリシロキサン5の、GPC測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量は3200であり、エポキシ当量は871g/eqであった。
Synthesis of Comparative Examples Organopolysiloxanes 5 to 8 [Synthesis Example 6]
[Synthesis of Organopolysiloxane 5]
In a 2 L separable flask, 216 g of diphenylsilanediol, XO— (MePhSiO) a —X (where X is a hydrogen atom or a methyl group, a is an integer of 3 to 10 and the average is 7), 486 g, β- ( After stirring 246 g of 3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane (KBM-303, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), the internal temperature was raised to 80 ° C. Thereafter, 2.4 g of strontium hydroxide was added as a catalyst, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 4 hours while distilling off methanol. After completion of the reaction, 900 g of toluene was added and stirred, followed by pressure filtration using a 0.8 μm filter to remove the catalyst. Thereafter, the obtained reaction solution was washed with hot water, then azeotropically dehydrated, and toluene was distilled under reduced pressure to obtain a branched organopolysiloxane 5 represented by the following formula (19).
In the above formula (18), m, n, and q were m = 0.18, n = 0.64, and q = 0.18 as the molar ratio of each siloxane unit. The number (r) of −O 1/2 X is the number of T units + 2. X is a hydrogen atom or a methyl group.
There is no particular limitation on the order of bonding of the units shown in the parentheses.
The phenyl group content relative to the total number of phenyl groups, methyl groups, and alicyclic epoxy groups was 50%.
The resulting organopolysiloxane 5 had a polystyrene-equivalent weight average molecular weight of 3200 as measured by GPC, and an epoxy equivalent of 871 g / eq.
[合成例7]
[オルガノポリシロキサン6の合成]
2LのセパラブルフラスコにXO―(MePhSiO)a―X(Xは水素原子またはメチル基であり、aは3〜10の整数であり平均は7である)486g、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(KBM−303、信越化学工業株式会社製)123gを攪拌した後、内温を80℃まで上昇させた。その後、触媒として水酸化ストロンチウム2.4gを加え、80℃でメタノールを留去しながら4時間反応させた。反応終了後、トルエン600gを加え、攪拌した後、0.8μmのフィルターを用いて加圧ろ過を行い、触媒を除去した。その後、得られた反応溶液を熱水で水洗した後、共沸脱水し、トルエンを減圧蒸留することで、下記式(20)で表される、分岐を有するオルガノポリシロキサン6を得た。
上記式(20)において、n及びqは、各シロキサン単位のモル比として、n=0.88、q=0.12であった。−O1/2Xの数(r)はT単位の個数+2個である。Xは水素原子またはメチル基である。
上記括弧内に示す各単位の結合順序は特に制限されない。
フェニル基、メチル基、及び脂環式エポキシ基の合計個数に対するフェニル基の含有量は47%であった。
得られたオルガノポリシロキサン6のGPC測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量は5400であり、エポキシ当量は1171g/eqであった。
[Synthesis Example 7]
[Synthesis of Organopolysiloxane 6]
In a 2 L separable flask, 486 g of XO- (MePhSiO) a -X (X is a hydrogen atom or a methyl group, a is an integer of 3 to 10 and the average is 7), β- (3,4-epoxy After stirring 123 g of (cyclohexyl) ethyltrimethoxysilane (KBM-303, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), the internal temperature was raised to 80 ° C. Thereafter, 2.4 g of strontium hydroxide was added as a catalyst, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 4 hours while distilling off methanol. After completion of the reaction, 600 g of toluene was added and stirred, followed by pressure filtration using a 0.8 μm filter to remove the catalyst. Thereafter, the obtained reaction solution was washed with hot water, then azeotropically dehydrated, and toluene was distilled under reduced pressure to obtain a branched organopolysiloxane 6 represented by the following formula (20).
In the above formula (20), n and q were n = 0.88 and q = 0.12 as the molar ratio of each siloxane unit. The number (r) of −O 1/2 X is the number of T units + 2. X is a hydrogen atom or a methyl group.
There is no particular limitation on the order of bonding of the units shown in the parentheses.
The phenyl group content relative to the total number of phenyl groups, methyl groups, and alicyclic epoxy groups was 47%.
The obtained polypolysiloxane 6 had a polystyrene-reduced weight average molecular weight of 5400 as measured by GPC and an epoxy equivalent of 1171 g / eq.
[合成例8]
[オルガノポリシロキサン7の合成]
2Lのセパラブルフラスコにジフェニルシランジオール216g、合成例1で得られたβ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルジメトキシメチルシラン345gを攪拌した後、内温を80℃まで上昇させた。その後、触媒として水酸化ストロンチウム2.4gを加え、80℃でメタノールを留去しながら4時間反応させた。反応終了後、トルエン900gを加え、攪拌した後、0.8μmのフィルターを用いて加圧ろ過を行い、触媒を除去した。その後、得られた反応溶液を熱水で水洗した後、共沸脱水し、トルエンを減圧蒸留することで、下記式(21)で表される、直鎖状のオルガノポリシロキサン7を得た。
上記式(21)において、m及びqは、各シロキサン単位のモル比として、m=0.4、p=0.6であった。−O1/2Xの数(r)は2個であり、両末端に存在する。Xは水素原子またはメチル基である。
上記括弧内に示す各単位の結合順序は特に制限されない。
フェニル基、メチル基、及び脂環式エポキシ基の合計個数に対するフェニル基の含有量は40%であった。
得られたオルガノポリシロキサン7のGPCで測定されたポリスチレン換算の重量平均分子量は2300であり、エポキシ当量は426g/eqであった。
[Synthesis Example 8]
[Synthesis of Organopolysiloxane 7]
After stirring 216 g of diphenylsilanediol and 345 g of β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyldimethoxymethylsilane obtained in Synthesis Example 1 in a 2 L separable flask, the internal temperature was raised to 80 ° C. Thereafter, 2.4 g of strontium hydroxide was added as a catalyst, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 4 hours while distilling off methanol. After completion of the reaction, 900 g of toluene was added and stirred, followed by pressure filtration using a 0.8 μm filter to remove the catalyst. Thereafter, the obtained reaction solution was washed with hot water, then azeotropically dehydrated, and toluene was distilled under reduced pressure to obtain linear organopolysiloxane 7 represented by the following formula (21).
In the said Formula (21), m and q were m = 0.4 and p = 0.6 as molar ratio of each siloxane unit. The number (r) of —O 1/2 X is 2 and exists at both ends. X is a hydrogen atom or a methyl group.
There is no particular limitation on the order of bonding of the units shown in the parentheses.
The phenyl group content relative to the total number of phenyl groups, methyl groups, and alicyclic epoxy groups was 40%.
The weight average molecular weight of polystyrene conversion measured by GPC of the obtained organopolysiloxane 7 was 2300, and the epoxy equivalent was 426 g / eq.
[合成例9]
[オルガノポリシロキサン8の合成]
2Lのセパラブルフラスコにジフェニルシランジオール108g、XO―(MePhSiO)a―X(Xは水素原子またはメチル基であり、aは3〜10の整数であり平均は7である)971g、合成例1で得られたβ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルジメトキシメチルシラン230gを攪拌した後、内温を80℃まで上昇させた。その後、触媒として水酸化ストロンチウム2.4gを加え、80℃でメタノールを留去しながら4時間反応させた。反応終了後、トルエン900gを加え、攪拌した後、0.8μmのフィルターを用いて加圧ろ過を行い、触媒を除去した。その後、得られた反応溶液を熱水で水洗した後、共沸脱水し、トルエンを減圧蒸留することで、下記式(22)で表される、直鎖状のオルガノポリシロキサン8を得た。
上記式(22)において、m、n、及びpは、各シロキサン単位のモル比として、m=0.06、n=0.82、p=0.12であった。−O1/2Xの数(r)は2個であり、両末端に存在する。Xは水素原子またはメチル基である。
記括弧内に示す各単位の結合順序は特に制限されない。
フェニル基、メチル基、及び脂環式エポキシ基の合計個数に対するフェニル基の含有量は47%であった。
得られたオルガノポリシロキサン8の、GPC測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量は3000であり、エポキシ当量は1140g/eqであった。
[Synthesis Example 9]
[Synthesis of Organopolysiloxane 8]
In a 2 L separable flask, 108 g of diphenylsilanediol, XO— (MePhSiO) a —X (where X is a hydrogen atom or a methyl group, a is an integer of 3 to 10 and the average is 7), 971 g, Synthesis Example 1 After stirring 230 g of β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyldimethoxymethylsilane obtained in (1), the internal temperature was raised to 80 ° C. Thereafter, 2.4 g of strontium hydroxide was added as a catalyst, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 4 hours while distilling off methanol. After completion of the reaction, 900 g of toluene was added and stirred, followed by pressure filtration using a 0.8 μm filter to remove the catalyst. Thereafter, the obtained reaction solution was washed with hot water, then azeotropically dehydrated, and toluene was distilled under reduced pressure to obtain linear organopolysiloxane 8 represented by the following formula (22).
In the above formula (22), m, n, and p were m = 0.06, n = 0.82, and p = 0.12 as the molar ratio of each siloxane unit. The number (r) of —O 1/2 X is 2 and exists at both ends. X is a hydrogen atom or a methyl group.
There are no particular restrictions on the order in which the units shown in brackets are combined.
The phenyl group content relative to the total number of phenyl groups, methyl groups, and alicyclic epoxy groups was 47%.
The resulting organopolysiloxane 8 had a polystyrene-equivalent weight average molecular weight of 3,000 by GPC measurement and an epoxy equivalent of 1140 g / eq.
[実施例1〜4、比較例1〜4]
下記表1に示す組成及び配合(質量部)でシリコーン樹脂組成物を調製した。表1に記載の各成分は以下のとおりである。また、表中、空欄は「0」を意味する。
(B)硬化剤:4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸(新日本理化株式会社製、リカシッドMH)
(C)硬化触媒:第四級ホスホニウム塩(サンアプロ株式会社製、U−CAT5003)
(D)酸化防止剤:ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオナート](株式会社ADEKA社製、アデカスタブAO−60)
[Examples 1-4, Comparative Examples 1-4]
A silicone resin composition was prepared with the composition and formulation (parts by mass) shown in Table 1 below. Each component described in Table 1 is as follows. In the table, a blank column means “0”.
(B) Curing agent: 4-methylhexahydrophthalic anhydride (manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd., Ricacid MH)
(C) Curing catalyst: quaternary phosphonium salt (manufactured by Sun Apro, U-CAT5003)
(D) Antioxidant: Pentaerythritol tetrakis [3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate] (manufactured by ADEKA Corporation, ADK STAB AO-60)
[評価試験]
下記において組成物の硬化は、100℃で1時間加熱し、次いで150℃で4時間加熱して行った。各組成物及び各硬化物を以下の方法で評価した。
(1)粘度
各組成物の粘度を、東機産業製B型回転粘度計(製品名:TVB−15M)にて、23℃で測定した。結果を表1に示す。
(2)硬度
上記方法により各組成物を硬化して棒状硬化物を作成した。各硬化物の硬度(タイプD)をJIS K6301に準拠して測定した。結果を表1に示す。
(3)耐UV性
上記方法により各組成物を硬化して1mm厚のシート状硬化物を作成した。該硬化物の波長450nmにおける光透過率(T0)を、分光光度計U−4100(日立ハイテック社製)にて測定した。次いで、365nmバンドパスフィルターを装備したUV照射装置(照度100mW/cm2)にて該硬化物に24時間UV照射した。UV照射後の各硬化物の光透過率(T1)を上記と同じ方法で測定した。T1/T0(%)の値を表1に示す。
(4)耐熱性
上記方法により各組成物を硬化して1mm厚のシート状硬化物を作成した。該硬化物の波長450nmにおける光透過率(T0)を分光光度計U−4100(日立ハイテック社製)にて測定した。次いで、該硬化物を150℃×400時間加熱した。加熱後の各硬化物の光透過率(T1)を上記と同じ方法で測定した。T1/T0(%)の値を表1に示す。
(5)水蒸気透過率
上記方法により各組成物を硬化して1mm厚のシート状硬化物を作成した。各硬化物の水蒸気透過率をJIS K 7129に準拠して測定した。結果を表1に示す。
[Evaluation test]
In the following, the composition was cured by heating at 100 ° C. for 1 hour and then at 150 ° C. for 4 hours. Each composition and each cured product were evaluated by the following methods.
(1) Viscosity The viscosity of each composition was measured at 23 ° C. using a Toki Sangyo B-type rotational viscometer (product name: TVB-15M). The results are shown in Table 1.
(2) Hardness Each composition was cured by the above method to prepare a rod-shaped cured product. The hardness (type D) of each cured product was measured according to JIS K6301. The results are shown in Table 1.
(3) UV resistance Each composition was cured by the above method to prepare a 1 mm thick sheet-like cured product. The light transmittance (T 0 ) at a wavelength of 450 nm of the cured product was measured with a spectrophotometer U-4100 (manufactured by Hitachi High-Tech). Subsequently, the cured product was irradiated with UV for 24 hours using a UV irradiation device (illuminance: 100 mW / cm 2 ) equipped with a 365 nm band pass filter. The light transmittance (T 1 ) of each cured product after UV irradiation was measured by the same method as described above. Table 1 shows the value of T 1 / T 0 (%).
(4) Heat resistance Each composition was cured by the above method to prepare a 1 mm thick sheet-like cured product. The light transmittance (T 0 ) at a wavelength of 450 nm of the cured product was measured with a spectrophotometer U-4100 (manufactured by Hitachi High-Tech). The cured product was then heated at 150 ° C. for 400 hours. The light transmittance (T 1 ) of each cured product after heating was measured by the same method as described above. Table 1 shows the value of T 1 / T 0 (%).
(5) Water vapor transmission rate Each composition was cured by the above method to prepare a sheet-like cured product having a thickness of 1 mm. The water vapor transmission rate of each cured product was measured based on JIS K 7129. The results are shown in Table 1.
比較例1のシリコーン樹脂組成物は、オルガノポリシロキサンがジフェニルシロキサン単位、メチルフェニルシロキサン単位、及び脂環式エポキシ基を有するT単位を有するが、脂環式エポキシ基を有するD単位を有さない。該オルガノポリシロキサンを含む組成物は粘度が高すぎる。
比較例2のシリコーン樹脂組成物はジフェニルシロキサン単位を有さない。該オルガノポリシロキサンを含む組成物は低ガス透過性に劣る。
比較例3のシリコーン樹脂組成物は、オルガノポリシロキサンがジフェニルシロキサン単位及び脂環式エポキシ基含有D単位を有するが、ジメチルシロキサン単位及びメチルフェニルシロキサン単位を有さない。該オルガノポリシロキサンを含む組成物は粘度が高すぎる。
比較例4のシリコーン樹脂組成物は、オルガノポリシロキサンがジフェニルシロキサン単位、フェニルメチルシロキサン単位、及び脂環式エポキシ基含有D単位を有するが、ジフェニルシロキサン単位の含有比率が小さすぎる。該オルガノポリシロキサンを含む組成物は低ガス透過性に劣る。
これに対し本発明のシリコーン樹脂組成物は粘度が低く作業性に優れ、且つ、低ガス透過性に優れた硬化物を与え、さらに耐熱性及び耐UV性に優れる。
In the silicone resin composition of Comparative Example 1, the organopolysiloxane has a diphenylsiloxane unit, a methylphenylsiloxane unit, and a T unit having an alicyclic epoxy group, but does not have a D unit having an alicyclic epoxy group. . The composition containing the organopolysiloxane is too viscous.
The silicone resin composition of Comparative Example 2 does not have diphenylsiloxane units. The composition containing the organopolysiloxane is inferior in low gas permeability.
In the silicone resin composition of Comparative Example 3, the organopolysiloxane has a diphenylsiloxane unit and an alicyclic epoxy group-containing D unit, but does not have a dimethylsiloxane unit and a methylphenylsiloxane unit. The composition containing the organopolysiloxane is too viscous.
In the silicone resin composition of Comparative Example 4, the organopolysiloxane has diphenylsiloxane units, phenylmethylsiloxane units, and alicyclic epoxy group-containing D units, but the content ratio of the diphenylsiloxane units is too small. The composition containing the organopolysiloxane is inferior in low gas permeability.
On the other hand, the silicone resin composition of the present invention has a low viscosity and excellent workability, gives a cured product excellent in low gas permeability, and is excellent in heat resistance and UV resistance.
本発明のシリコーン樹脂組成物は、低ガス透過性に優れた硬化物を与え、且つ、低粘度であり作業性に優れ、耐熱性及び耐UV性に優れる。本発明のシリコーン樹脂組成物は、光半導体素子を封止するための樹脂組成物として好適に使用することができる。
The silicone resin composition of the present invention gives a cured product excellent in low gas permeability, has low viscosity, excellent workability, and excellent heat resistance and UV resistance. The silicone resin composition of the present invention can be suitably used as a resin composition for sealing an optical semiconductor element.
Claims (8)
RはR1、R2、及びR3のための選択肢から選ばれる基であり、0≦k<0.5、0.1≦m≦0.5、0≦n<0.8、0.01≦p≦0.5、0≦q<0.6であり、k+m+n+p+q=1であり、但し、k及びnは同時に0でない。上記括弧内にある各シロキサン単位の結合順序は制限されないが、−O1/2Xの少なくとも2つは末端に結合されており、Xは水素原子または炭素数1〜10のアルキル基であり、rは−O1/2Xの個数であり、q=0のときrは2であり、q≠0のときrは(RSiO3/2)単位の個数+2である)
(B)エポキシ基と反応する官能基を有する硬化剤 (A)成分中のエポキシ基1個に対する(B)成分中のエポキシ基と反応する官能基の個数が0.3〜1個となる量、及び
(C)硬化触媒 触媒量
を含有するシリコーン樹脂組成物。 (A) Organopolysiloxane represented by the following formula (1)
R is a group selected from the options for R 1 , R 2 , and R 3 , 0 ≦ k <0.5, 0.1 ≦ m ≦ 0.5, 0 ≦ n <0.8, 0. 01 ≦ p ≦ 0.5, 0 ≦ q <0.6, and k + m + n + p + q = 1, provided that k and n are not 0 at the same time. The bonding order of each siloxane unit in the parenthesis is not limited, but at least two of -O1 / 2X are bonded to the terminal, X is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, r is the number of -O 1/2 X, r is 2 when q = 0, and r is the number of (RSiO 3/2 ) units + 2 when q ≠ 0)
(B) Curing agent having a functional group that reacts with an epoxy group (A) Amount that the number of functional groups that react with an epoxy group in component (B) is 0.3 to 1 with respect to one epoxy group in component (A) (C) Curing catalyst A silicone resin composition containing a catalytic amount.
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