JP6300653B2 - Grinding method - Google Patents

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Description

本発明は、半導体ウェーハ等の板状物を研削する研削方法に関する。   The present invention relates to a grinding method for grinding a plate-like object such as a semiconductor wafer.

携帯電話に代表される小型軽量な電子機器では、IC、LSI等の電子回路を備えた半導体チップが必須の構成となっている。半導体チップは、例えば、シリコン等の材料でなる半導体ウェーハの表面をストリートと呼ばれる複数の分割予定ラインで区画し、各領域に電子回路を形成した後、このストリートに沿って半導体ウェーハを切断することで製造できる。   In a small and light electronic device typified by a mobile phone, a semiconductor chip including an electronic circuit such as an IC or an LSI has an essential configuration. For example, a semiconductor chip is formed by dividing the surface of a semiconductor wafer made of a material such as silicon by a plurality of division lines called streets, forming an electronic circuit in each region, and then cutting the semiconductor wafer along the streets. Can be manufactured.

近年では、半導体チップの小型化、軽量化等を目的として、研削等の方法で半導体ウェーハを薄く加工する機会が増えている。半導体ウェーハの研削は、例えば、半導体ウェーハを保持するための保持面を備えたチャックテーブルを、この保持面と略平行に移動させるクリープフィードと呼ばれる方法(例えば、特許文献1参照)で実施されることがある。   In recent years, for the purpose of reducing the size and weight of semiconductor chips, there are increasing opportunities to process a semiconductor wafer thinly by a method such as grinding. The grinding of the semiconductor wafer is performed by a method called creep feed (for example, see Patent Document 1) in which a chuck table having a holding surface for holding the semiconductor wafer is moved substantially parallel to the holding surface. Sometimes.

クリープフィードでは、まず、半導体ウェーハを保持した状態のチャックテーブルを、複数の研削砥石が環状に固定された研削ホイールに対して平面視で重ならない位置に移動させる。その後、研削砥石の下面を、半導体ウェーハの上面より僅かに低い位置に位置付け、研削ホイールを回転させつつチャックテーブルを保持面と平行に移動させることで、上面側に研削砥石を作用させて半導体ウェーハを研削できる。   In creep feed, first, the chuck table holding a semiconductor wafer is moved to a position where it does not overlap in plan view with respect to a grinding wheel in which a plurality of grinding wheels are fixed in an annular shape. After that, the lower surface of the grinding wheel is positioned at a position slightly lower than the upper surface of the semiconductor wafer, and the chuck wheel is moved in parallel with the holding surface while rotating the grinding wheel. Can be ground.

特開2005−28550号公報JP 2005-28550 A

ところで、上述のチャックテーブルは、保持面と平行に配置されたガイドレールに沿って移動するので、ガイドレールにうねりがあると、チャックテーブルを直線的に移動させることができなくなる。例えば、ガイドレールに上下方向のうねりがあると、チャックテーブルも上下に変位しながら移動する。   By the way, the above-mentioned chuck table moves along the guide rails arranged in parallel with the holding surface. Therefore, if the guide rails swell, the chuck table cannot be moved linearly. For example, if the guide rail has a vertical undulation, the chuck table moves while being displaced up and down.

チャックテーブルが上下に変位すると、研削砥石に対して半導体ウェーハ等の被加工物が上下に変位しながら研削されることになり、被加工物を平坦に研削できない。特に、被加工物が大きい場合には、チャックテーブルの移動距離も大きくなってガイドレールの直線性を確保し難くなるので、被加工物の平坦性は低下しがちである。   When the chuck table is displaced up and down, the workpiece such as a semiconductor wafer is ground while being vertically displaced with respect to the grinding wheel, and the workpiece cannot be ground flat. In particular, when the workpiece is large, the moving distance of the chuck table is also increased, and it becomes difficult to ensure the linearity of the guide rail, so that the flatness of the workpiece tends to be lowered.

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、被加工物の平坦性を確保可能な研削方法を提供することである。   The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide a grinding method capable of ensuring the flatness of a workpiece.

本発明によれば、板状の被加工物をチャックテーブルの保持面に保持し、該チャックテーブルの保持面に保持された被加工物の上面側に回転する研削砥石の研削面を作用させるとともに該チャックテーブルと該研削砥石とを該保持面に対して平行な方向に相対的に移動させて被加工物の上面側を研削する研削方法であって、該研削面が被加工物に作用する作用位置に対応した位置を該チャックテーブルが通過する際の該チャックテーブルの該保持面の高さ位置の変位を予め測定する高さ変位測定工程と、該チャックテーブルで被加工物を保持する保持工程と、該高さ変位測定工程によって測定された該チャックテーブルの該保持面の高さ位置の変位に合わせて該研削砥石の該研削面の高さ位置を上下に移動させて該研削面と該保持面との距離を所定の距離に保ちながら被加工物の上面側を研削する研削工程と、を含むことを特徴とする研削方法が提供される。   According to the present invention, the plate-like workpiece is held on the holding surface of the chuck table, and the grinding surface of the rotating grinding wheel is applied to the upper surface side of the workpiece held on the holding surface of the chuck table. A grinding method for grinding the upper surface side of a workpiece by moving the chuck table and the grinding wheel in a direction parallel to the holding surface, the grinding surface acting on the workpiece. A height displacement measuring step for measuring in advance the displacement of the height position of the holding surface of the chuck table when the chuck table passes through a position corresponding to the operating position, and a holding for holding the workpiece by the chuck table And the height position of the grinding surface of the grinding wheel is moved up and down in accordance with the displacement of the height position of the holding surface of the chuck table measured by the height displacement measuring step, and the grinding surface Distance to the holding surface Grinding method which comprises and a grinding step of grinding the upper surface of the workpiece while maintaining a predetermined distance is provided.

本発明の研削方法は、チャックテーブルの保持面の高さ位置の変位を予め測定する高さ変位測定工程と、高さ変位測定工程で測定されたチャックテーブルの保持面の高さ位置の変位に合わせて研削砥石を上下に移動させながら被加工物を研削する研削工程と、を備えるので、チャックテーブルの保持面が上下に変位する場合でも、研削面と保持面との距離を所定の距離に保ちながら被加工物を研削できる。   The grinding method of the present invention includes a height displacement measuring step for measuring in advance the displacement of the height position of the holding surface of the chuck table, and a displacement of the height position of the holding surface of the chuck table measured in the height displacement measuring step. And a grinding step of grinding the workpiece while moving the grinding wheel up and down, so that even if the holding surface of the chuck table is displaced up and down, the distance between the grinding surface and the holding surface is set to a predetermined distance. The workpiece can be ground while keeping it.

このように、本発明の研削方法では、保持面から所定の距離の位置で被加工物を研削するので、チャックテーブルの保持面が上下に変位する場合でも被加工物の平坦性を確保できる。   Thus, in the grinding method of the present invention, the workpiece is ground at a predetermined distance from the holding surface, so that the flatness of the workpiece can be ensured even when the holding surface of the chuck table is displaced up and down.

研削装置の構成例を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structural example of a grinding apparatus typically. 研削装置の構成例を模式的に示す図である。It is a figure which shows the structural example of a grinding device typically. 高さ変位測定工程で得られるデータの例を示すグラフである。It is a graph which shows the example of the data obtained by a height displacement measurement process. 研削工程を模式的に示す側面図である。It is a side view which shows a grinding process typically.

添付図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。本実施形態に係る研削方法は、高さ変位測定工程(図2参照)、保持工程、及び研削工程(図4参照)を含む。高さ変位測定工程では、チャックテーブルの保持面の高さ位置の変位を測定する。   Embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The grinding method according to the present embodiment includes a height displacement measuring step (see FIG. 2), a holding step, and a grinding step (see FIG. 4). In the height displacement measuring step, the displacement of the height position of the holding surface of the chuck table is measured.

保持工程では、被加工物をチャックテーブルで保持する。研削工程では、高さ変位測定工程で測定されたチャックテーブルの保持面の高さ位置の変位に合わせて研削砥石を上下に移動させながら被加工物の上面側を研削する。以下、本実施形態に係る研削方法について詳述する。   In the holding step, the workpiece is held by the chuck table. In the grinding process, the upper surface side of the workpiece is ground while moving the grinding wheel up and down in accordance with the displacement of the height position of the holding surface of the chuck table measured in the height displacement measuring process. Hereinafter, the grinding method according to this embodiment will be described in detail.

まず、本実施形態に係る研削方法で使用される研削装置の構成例について説明する。図1は、研削装置の構成例を模式的に示す斜視図であり、図2は、研削装置の構成例を模式的に示す図である。   First, a configuration example of a grinding apparatus used in the grinding method according to this embodiment will be described. FIG. 1 is a perspective view schematically illustrating a configuration example of a grinding apparatus, and FIG. 2 is a diagram schematically illustrating a configuration example of a grinding apparatus.

図1に示すように、研削装置2は水平移動機構4を含んでいる。水平移動機構4は、略水平な方向(図1では、X軸方向)に伸びる2本の水平ガイドレール6を備えおり、この水平ガイドレール6には、水平移動テーブル8がスライド可能に設置されている。   As shown in FIG. 1, the grinding device 2 includes a horizontal movement mechanism 4. The horizontal movement mechanism 4 includes two horizontal guide rails 6 extending in a substantially horizontal direction (X-axis direction in FIG. 1), and a horizontal movement table 8 is slidably installed on the horizontal guide rail 6. ing.

水平移動テーブル8の裏面側(下面側)には、ナット部(不図示)が設けられており、このナット部には、水平ガイドレール6と平行な水平ボールネジ10が螺合されている。水平ボールネジ10の一端部には、水平パルスモータ12が連結されている。水平パルスモータ12で水平ボールネジ10を回転させれば、水平移動テーブル8は、水平ガイドレール6に沿って略水平に移動する。   A nut portion (not shown) is provided on the back surface side (lower surface side) of the horizontal movement table 8, and a horizontal ball screw 10 parallel to the horizontal guide rail 6 is screwed to the nut portion. A horizontal pulse motor 12 is connected to one end of the horizontal ball screw 10. When the horizontal ball screw 10 is rotated by the horizontal pulse motor 12, the horizontal movement table 8 moves substantially horizontally along the horizontal guide rail 6.

水平移動テーブル8の表面側(上面側)には、支持台14が設けられている。支持台14の上部には、平面視で矩形状のチャックテーブル16が配置されている。図2に示すように、チャックテーブル16の表面は、矩形状の被加工物11を吸引保持する保持面16aとなっている。   A support base 14 is provided on the surface side (upper surface side) of the horizontal movement table 8. A rectangular chuck table 16 is disposed on the support base 14 in a plan view. As shown in FIG. 2, the surface of the chuck table 16 is a holding surface 16 a that sucks and holds the rectangular workpiece 11.

保持面16aには、チャックテーブル16の内部に形成された流路(不図示)を通じて吸引源(不図示)の負圧が作用し、被加工物11を吸引する吸引力が発生する。被加工物11は、例えば、シリコン等の半導体材料で形成された板状物(ウェーハ)であり、矩形状の上面11a(図4参照)及び下面11bを有している。   A negative pressure of a suction source (not shown) acts on the holding surface 16a through a flow path (not shown) formed inside the chuck table 16 to generate a suction force for sucking the workpiece 11. The workpiece 11 is, for example, a plate-like object (wafer) formed of a semiconductor material such as silicon, and has a rectangular upper surface 11a (see FIG. 4) and a lower surface 11b.

図1に示すように、水平移動機構4と隣接する位置には、柱状の支持構造18が立設されている。支持構造18の前面には、昇降機構20が設けられている。昇降機構20は、鉛直方向(Z軸方向)に伸びる2本の昇降ガイドレール22を備えており、この昇降ガイドレール22には、昇降テーブル24がスライド可能に設置されている。   As shown in FIG. 1, a columnar support structure 18 is erected at a position adjacent to the horizontal movement mechanism 4. An elevating mechanism 20 is provided on the front surface of the support structure 18. The elevating mechanism 20 includes two elevating guide rails 22 extending in the vertical direction (Z-axis direction), and an elevating table 24 is slidably installed on the elevating guide rails 22.

昇降テーブル24の後面側(裏面側)には、ナット部(不図示)が固定されており、このナット部には、昇降ガイドレール22と平行な昇降ボールネジ26が螺合されている。昇降ボールネジ26の一端部には、昇降パルスモータ28が連結されている。昇降パルスモータ28で昇降ボールネジ26を回転させることにより、昇降テーブル24は昇降ガイドレール22に沿って上下に移動する。   A nut portion (not shown) is fixed to the rear surface side (back surface side) of the lifting table 24, and a lifting ball screw 26 parallel to the lifting guide rail 22 is screwed to the nut portion. A lifting pulse motor 28 is connected to one end of the lifting ball screw 26. By rotating the lifting ball screw 26 by the lifting pulse motor 28, the lifting table 24 moves up and down along the lifting guide rail 22.

昇降テーブル24の前面(表面)には、所定の固定具30が設けられている。この固定具30には、被加工物11を研削する研削機構32が取り付けられている。研削機構32は、固定具30に固定されたスピンドルハウジング34を備えている。スピンドルハウジング34には、回転軸を構成するスピンドル36が支持されている。   A predetermined fixture 30 is provided on the front surface (front surface) of the lifting table 24. A grinding mechanism 32 that grinds the workpiece 11 is attached to the fixture 30. The grinding mechanism 32 includes a spindle housing 34 fixed to the fixture 30. A spindle 36 that constitutes a rotation shaft is supported on the spindle housing 34.

なお、スピンドルハウジング34は、図2に示すように、鉛直方向に対してスピンドル36が僅かに傾斜するように固定具30に固定されている。スピンドルハウジング34の傾斜角度は、固定具30によって調節可能である。   As shown in FIG. 2, the spindle housing 34 is fixed to the fixture 30 such that the spindle 36 is slightly inclined with respect to the vertical direction. The inclination angle of the spindle housing 34 can be adjusted by the fixture 30.

スピンドル36の下端部(先端部)には、円盤状のホイールマウント38が固定されており、ホイールマウント38の下面には、ホイールマウント38と略同径の研削ホイール40が装着されている。図2に示すように、研削ホイール40は、ステンレス等の金属材料で形成された円環状のホイール基台40aを含む。   A disc-shaped wheel mount 38 is fixed to the lower end portion (tip portion) of the spindle 36, and a grinding wheel 40 having substantially the same diameter as the wheel mount 38 is attached to the lower surface of the wheel mount 38. As shown in FIG. 2, the grinding wheel 40 includes an annular wheel base 40a made of a metal material such as stainless steel.

ホイール基台40aの下面には、全周にわたって複数の研削砥石40bが固定されている。なお、本実施形態の研削方法に用いられるクリープフィードでは、研削砥石40bの下面の一部(側面の一部を含む場合もある)が被加工物11に接触する研削面となる。   A plurality of grinding wheels 40b are fixed to the lower surface of the wheel base 40a over the entire circumference. In the creep feed used in the grinding method of the present embodiment, a part of the lower surface of the grinding wheel 40b (which may include a part of the side surface) becomes a ground surface that contacts the workpiece 11.

スピンドル36の上端側には、モータ等の回転駆動源(不図示)が連結されており、研削ホイール40は、回転駆動源から伝達される回転力で回転する。研削機構32には、研削ホイール40(研削砥石40b)の高さ位置等を制御する制御ユニット42が接続されている。   A rotary drive source (not shown) such as a motor is connected to the upper end side of the spindle 36, and the grinding wheel 40 rotates with a rotational force transmitted from the rotary drive source. A control unit 42 for controlling the height position of the grinding wheel 40 (grinding wheel 40b) is connected to the grinding mechanism 32.

制御ユニット42は、各種処理を実行するCPU42aと、各種データを記憶するメモリ42bとを含む。この制御ユニット42には、チャックテーブル16の保持面16aの高さ位置の変位を測定するための光学式の変位計44が接続されている。   The control unit 42 includes a CPU 42a that executes various processes and a memory 42b that stores various data. Connected to the control unit 42 is an optical displacement meter 44 for measuring the displacement of the height position of the holding surface 16 a of the chuck table 16.

変位計44は、例えば、チャックテーブル16で保持された被加工物11と研削砥石40bの研削面とが接触する位置(作用位置)の上方に位置付けられており、保持面16aの高さを非接触で検出できる。ただし、被加工物11の研削時には、変位計44を研削ホイール40と干渉しない位置に移動させる。   The displacement meter 44 is positioned, for example, above the position (working position) where the workpiece 11 held by the chuck table 16 and the grinding surface of the grinding wheel 40b come into contact with each other, and the height of the holding surface 16a is not set. It can be detected by contact. However, when grinding the workpiece 11, the displacement meter 44 is moved to a position where it does not interfere with the grinding wheel 40.

次に、この研削装置2を用いる研削方法について説明する。本実施形態の研削方法では、まず、チャックテーブル16の保持面16aの高さ位置の変位を測定する高さ変位測定工程を実施する。   Next, a grinding method using this grinding apparatus 2 will be described. In the grinding method of the present embodiment, first, a height displacement measuring step for measuring the displacement of the height position of the holding surface 16a of the chuck table 16 is performed.

具体的には、図2に示すように、水平移動機構4で保持面16aと略平行な方向にチャックテーブル16を移動させながら、変位計44で保持面16aの高さ位置を検出する。これにより、上記作用位置に対応した位置をチャックテーブル16が通過する際の保持面16aの高さ位置の変化(変位)を検出できる。   Specifically, as shown in FIG. 2, the height position of the holding surface 16 a is detected by the displacement meter 44 while the chuck table 16 is moved in a direction substantially parallel to the holding surface 16 a by the horizontal movement mechanism 4. Thereby, the change (displacement) of the height position of the holding surface 16a when the chuck table 16 passes the position corresponding to the operation position can be detected.

図3は、高さ変位測定工程で得られるデータの例を示すグラフである。図3では、チャックテーブル16の位置(X軸方向における位置)を横軸に、保持面16aの高さ(Z軸方向における位置)を縦軸にとっている。得られた高さ位置のデータは、制御ユニット42のメモリ42bに記憶される。   FIG. 3 is a graph showing an example of data obtained in the height displacement measuring step. In FIG. 3, the position of the chuck table 16 (position in the X-axis direction) is on the horizontal axis, and the height of the holding surface 16a (position in the Z-axis direction) is on the vertical axis. The obtained height position data is stored in the memory 42 b of the control unit 42.

高さ変位測定工程の後には、被加工物11をチャックテーブル16で保持する保持工程を実施する。具体的には、チャックテーブル16の保持面16aに被加工物11の下面11b側を重ねて吸引源の負圧を作用させる。これにより、被加工物11は上面11a側を上方に露出した状態でチャックテーブル16に吸着保持される。   After the height displacement measuring step, a holding step for holding the workpiece 11 with the chuck table 16 is performed. Specifically, the negative pressure of the suction source is applied to the holding surface 16a of the chuck table 16 with the lower surface 11b side of the workpiece 11 overlapped. As a result, the workpiece 11 is sucked and held on the chuck table 16 with the upper surface 11a exposed upward.

保持工程の後には、高さ変位測定工程で測定されたチャックテーブル16の保持面16aの高さ位置の変位に合わせて研削砥石40bを上下に移動させながら被加工物11の上面11a側を研削する研削工程を実施する。図4は、研削工程を模式的に示す側面図である。   After the holding step, the upper surface 11a side of the workpiece 11 is ground while moving the grinding wheel 40b up and down in accordance with the displacement of the height position of the holding surface 16a of the chuck table 16 measured in the height displacement measuring step. A grinding process is performed. FIG. 4 is a side view schematically showing the grinding process.

研削工程では、まず、水平移動機構4で、被加工物11を保持した状態のチャックテーブル16を、研削ホイール40に対して平面視で重ならない位置に移動させる。また、昇降機構20で、研削砥石40bの下面を、被加工物11の上面11aより僅かに低い位置に位置付ける。なお、研削砥石40bの下面を位置付ける高さは、被加工物11の仕上げ厚み等に応じて調整される。   In the grinding step, first, the horizontal movement mechanism 4 moves the chuck table 16 holding the workpiece 11 to a position that does not overlap the grinding wheel 40 in plan view. Further, the lower surface of the grinding wheel 40 b is positioned at a position slightly lower than the upper surface 11 a of the workpiece 11 by the lifting mechanism 20. The height at which the lower surface of the grinding wheel 40b is positioned is adjusted according to the finished thickness of the workpiece 11 and the like.

この状態で、研削ホイール40を回転させながら、チャックテーブル16を水平方向(保持面16aと平行な方向)に移動させる。同時に、制御ユニット42(CPU42a)は、メモリ42bに記憶されたデータを参照しながら、このデータに合わせて研削砥石40bを上下に移動させる。   In this state, the chuck table 16 is moved in the horizontal direction (direction parallel to the holding surface 16a) while rotating the grinding wheel 40. At the same time, the control unit 42 (CPU 42a) moves the grinding wheel 40b up and down according to this data while referring to the data stored in the memory 42b.

つまり、チャックテーブル16の上下方向の変位に合わせて、研削砥石40bを昇降させる。このように、高さ変位測定工程で測定された保持面16aの高さ位置の変位に合わせて研削砥石40bを昇降させることで、研削砥石40bの研削面と保持面16aとの距離を所定の距離に保つことができる。   That is, the grinding wheel 40b is moved up and down in accordance with the vertical displacement of the chuck table 16. Thus, the distance between the grinding surface of the grinding wheel 40b and the holding surface 16a is set to a predetermined value by moving the grinding wheel 40b up and down in accordance with the displacement of the height position of the holding surface 16a measured in the height displacement measuring step. Can be kept at a distance.

これにより、例えば、水平ガイドレール6に上下方向のうねりがあり、チャックテーブル16の保持面16aが上下に変位するような場合でも、研削砥石40bの研削面と保持面16aとの距離を所定の距離に保ちながら被加工物11を研削できる。その結果、研削による被加工物11の平坦性を確保できる。   Thereby, for example, even when the horizontal guide rail 6 has a vertical undulation and the holding surface 16a of the chuck table 16 is displaced vertically, the distance between the grinding surface of the grinding wheel 40b and the holding surface 16a is set to a predetermined value. The workpiece 11 can be ground while maintaining the distance. As a result, the flatness of the workpiece 11 can be ensured by grinding.

なお、水平方向へのチャックテーブル16の移動速度は任意である。少なくとも、チャックテーブル16の上下方向の変位に対して、研削砥石40bを追従させることができればよい。   The moving speed of the chuck table 16 in the horizontal direction is arbitrary. It is sufficient that the grinding wheel 40b can follow at least the displacement of the chuck table 16 in the vertical direction.

以上のように、本実施形態の研削方法は、チャックテーブル16の保持面16aの高さ位置の変位を予め測定する高さ変位測定工程と、高さ変位測定工程で測定されたチャックテーブル16の保持面16aの高さ位置の変位に合わせて研削砥石40bを上下に移動させながら被加工物11を研削する研削工程と、を備えるので、チャックテーブル16の保持面16aが上下に変位する場合でも、研削砥石40bの研削面と保持面16aとの距離を所定の距離に保ちながら被加工物11を研削できる。   As described above, the grinding method according to the present embodiment includes the height displacement measuring step for measuring the displacement of the height position of the holding surface 16a of the chuck table 16 in advance, and the chuck table 16 measured in the height displacement measuring step. A grinding step of grinding the workpiece 11 while moving the grinding wheel 40b up and down in accordance with the displacement of the height position of the holding surface 16a, so that even when the holding surface 16a of the chuck table 16 is displaced up and down The workpiece 11 can be ground while maintaining the distance between the grinding surface of the grinding wheel 40b and the holding surface 16a at a predetermined distance.

このように、本実施形態の研削方法では、被加工物11を保持面16aから所定の距離の位置で研削するので、チャックテーブル16の保持面16aが上下に変位する場合でも被加工物11の平坦性を確保できる。   As described above, in the grinding method of the present embodiment, the workpiece 11 is ground at a predetermined distance from the holding surface 16a. Therefore, even when the holding surface 16a of the chuck table 16 is displaced up and down, Flatness can be ensured.

なお、本発明は上記実施形態の記載に限定されず、種々変更して実施可能である。例えば、保持面16aの高さ位置の再現性が担保される状況では、一度の高さ変位測定工程に対して、複数回の保持工程及び研削工程を実施しても良い。   In addition, this invention is not limited to description of the said embodiment, A various change can be implemented. For example, in a situation where the reproducibility of the height position of the holding surface 16a is ensured, a plurality of holding steps and grinding steps may be performed for one height displacement measuring step.

また、上記実施形態では、チャックテーブル16を保持面16aと平行な方向に移動させて被加工物11を研削しているが、少なくとも、チャックテーブル16と研削砥石40bとを保持面16aと平行な方向に相対的に移動させて被加工物11を研削できれば良い。   In the above embodiment, the workpiece 11 is ground by moving the chuck table 16 in a direction parallel to the holding surface 16a. However, at least the chuck table 16 and the grinding wheel 40b are parallel to the holding surface 16a. What is necessary is just to be able to grind the workpiece 11 by moving relatively in the direction.

また、上記実施形態では、変位計44を備える研削装置2を例示しているが、変位計は、測定時にのみ研削装置に取り付けられても良い。すなわち、研削装置は、変位計を含まなくて良い。   Moreover, although the grinding apparatus 2 provided with the displacement meter 44 is illustrated in the said embodiment, a displacement meter may be attached to a grinding apparatus only at the time of a measurement. That is, the grinding device may not include a displacement meter.

その他、上記実施形態に係る構成、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。   In addition, the configurations, methods, and the like according to the above-described embodiments can be appropriately modified and implemented without departing from the scope of the object of the present invention.

11 被加工物
11a 上面
11b 下面
2 研削装置
4 水平移動機構
6 水平ガイドレール
8 水平移動テーブル
10 水平ボールネジ
12 水平パルスモータ
14 支持台
16 チャックテーブル
16a 保持面
18 支持構造
20 昇降機構
22 昇降ガイドレール
24 昇降テーブル
26 昇降ボールネジ
28 昇降パルスモータ
30 固定具
32 研削機構
34 スピンドルハウジング
36 スピンドル
38 ホイールマウント
40 研削ホイール
40a ホイール基台
40b 研削砥石
42 制御ユニット
42a CPU
42b メモリ
44 変位計
11 Workpiece 11a Upper surface 11b Lower surface 2 Grinding device 4 Horizontal movement mechanism 6 Horizontal guide rail 8 Horizontal movement table 10 Horizontal ball screw 12 Horizontal pulse motor 14 Support base 16 Chuck table 16a Holding surface 18 Support structure 20 Elevating mechanism 22 Elevating guide rail 24 Lift table 26 Lift ball screw 28 Lift pulse motor 30 Fixture 32 Grinding mechanism 34 Spindle housing 36 Spindle 38 Wheel mount 40 Grinding wheel 40a Wheel base 40b Grinding wheel 42 Control unit 42a CPU
42b Memory 44 Displacement meter

Claims (1)

板状の被加工物をチャックテーブルの保持面に保持し、該チャックテーブルの保持面に保持された被加工物の上面側に回転する研削砥石の研削面を作用させるとともに該チャックテーブルと該研削砥石とを該保持面に対して平行な方向に相対的に移動させて被加工物の上面側を研削する研削方法であって、
該研削面が被加工物に作用する作用位置に対応した位置を該チャックテーブルが通過する際の該チャックテーブルの該保持面の高さ位置の変位を予め測定する高さ変位測定工程と、
該チャックテーブルで被加工物を保持する保持工程と、
該高さ変位測定工程によって測定された該チャックテーブルの該保持面の高さ位置の変位に合わせて該研削砥石の該研削面の高さ位置を上下に移動させて該研削面と該保持面との距離を所定の距離に保ちながら被加工物の上面側を研削する研削工程と、を含むことを特徴とする研削方法。
A plate-like workpiece is held on the holding surface of the chuck table, and a grinding surface of a rotating grinding wheel is applied to the upper surface side of the workpiece held on the holding surface of the chuck table, and the chuck table and the grinding are applied. A grinding method for grinding a top surface side of a workpiece by moving a grindstone relative to a direction parallel to the holding surface,
A height displacement measuring step for measuring in advance a displacement of a height position of the holding surface of the chuck table when the chuck table passes through a position corresponding to an operating position at which the grinding surface acts on the workpiece;
A holding step for holding a workpiece on the chuck table;
The grinding surface and the holding surface are moved up and down in accordance with the displacement of the height position of the holding surface of the chuck table measured by the height displacement measuring step. And a grinding step of grinding the upper surface side of the workpiece while maintaining the distance to the predetermined distance.
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