JP6290320B2 - Exhaust gas treatment equipment, exhaust gas treatment method - Google Patents

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Description

本発明は、揮発性の有機化合物を含む排ガスを処理する排ガス処理方法、及びこの方法を実行する設備に関する。   The present invention relates to an exhaust gas treatment method for treating an exhaust gas containing a volatile organic compound, and an equipment for executing the method.

塗装や印刷等を行う工業施設では多量の有機溶剤が使用される。このため、各工場から排出される排ガスには、有機溶剤に起因する揮発性有機化合物(Volatile Organic Compounds:VOC)が含まれている。このようなVOCを処理せずに大気中に放出した場合、大気汚染の原因物質となる。したがって、行政機関は、VOCの放出に関する施策の一環として、上記のような工業施設に対して、製造工程で発生するVOCの処理を義務化すると共に、その排出濃度についての規制を設けている。これを受けて、各施設では、排出に先立って排ガス中のVOC濃度を低減するための措置が取られる。このような技術の具体例として、例えば、下記特許文献1に記載された処理装置がある。この処理装置は、排ガスを加熱して、この排ガス中のVOCを酸化分解し、無害化する。   Large quantities of organic solvents are used in industrial facilities that perform painting and printing. For this reason, the exhaust gas discharged from each factory contains volatile organic compounds (VOC) caused by organic solvents. When such VOC is released into the atmosphere without being treated, it becomes a causative substance of air pollution. Therefore, as a part of the measures concerning the release of VOCs, the governmental agencies obligate the industrial facilities as described above to process VOCs generated in the manufacturing process, and set regulations on the emission concentration. In response, each facility takes measures to reduce the VOC concentration in the exhaust gas prior to discharge. As a specific example of such a technique, for example, there is a processing apparatus described in Patent Document 1 below. This processing apparatus heats the exhaust gas and oxidizes and decomposes VOC in the exhaust gas to render it harmless.

特開2011−94861号公報JP 2011-94861 A

ところで、近年では、新興国の産業発展に伴って世界各地で大気汚染の深刻度が増している。これにより、各国行政によるVOC排出規制も年を追うごとに厳格化している。したがって、特定の国や地域では、上記特許文献1に記載の処理装置を用いても、排ガス中のVOC濃度を規制値未満に低減することが難しい場合がある。このため、VOCを含む排ガスの処理能力をさらに高めることが求められている。   By the way, in recent years, with the industrial development of emerging countries, the severity of air pollution is increasing in various parts of the world. As a result, VOC emission regulations by governments in each country are becoming stricter with each passing year. Therefore, in a specific country or region, it may be difficult to reduce the VOC concentration in the exhaust gas to less than the regulated value even if the processing apparatus described in Patent Document 1 is used. For this reason, it is required to further increase the treatment capacity of exhaust gas containing VOC.

本発明は、排ガス中に含まれる揮発性有機化合物(VOC)の処理能力を高めることができる排ガス処理設備、排ガス処理方法を提供する。   The present invention provides an exhaust gas treatment facility and an exhaust gas treatment method capable of enhancing the treatment capacity of a volatile organic compound (VOC) contained in exhaust gas.

本発明の第一の態様によれば、排ガス処理設備は、
揮発性の有機化合物を含む排ガスを加熱して、前記有機化合物を酸化分解する燃焼室を有する第一排ガス処理装置と、前記燃焼室で前記有機化合物が酸化分解された後の排ガスである第一処理ガス中に残留する前記有機化合物を酸化分解する触媒を有する第二排ガス処理装置と、前記第二排ガス処理装置で前記有機化合物が酸化分解された後の排ガスである第二処理ガスと、前記第一排ガス処理装置に流入する前の前記排ガスとを熱交換させ、前記第二処理ガスの熱によって前記排ガスを加熱する予熱熱交換器と、を備える。
前記第一排ガス処理装置は、前記第一処理ガスから熱を奪って、前記熱を一時的に蓄え、蓄えた前記熱を前記燃焼室に流入する前の前記排ガスに対して放熱する蓄熱室を有する。
この排ガス処理設備は、前記蓄熱室で熱を奪われた前記第一処理ガスが前記第二排ガス処理装置に導かれるよう、前記第一排ガス処理装置と前記第二排ガス処理装置とを接続する第一処理ガスラインと、前記燃焼室内の排ガスである第一中間処理ガスが前記第二排ガス処理装置に導かれるよう、前記第一排ガス処理装置の前記燃焼室と前記第一処理ガスラインとを接続する第一中間処理ガスラインと、前記第一処理ガスライン及び前記第一中間処理ガスラインから前記第二排ガス処理装置に流入する排ガスの温度を検知する温度調節計と、前記温度調節計で検知された温度に応じて、前記第一中間処理ガスラインを流れる前記第一中間処理ガスの流量を調節するホットバイパス弁と、を更に備える。
前記温度調節計は、第一処理ガスライン中であって、第一中間処理ガスラインとの接続位置よりも第二排ガス処理装置側に設けられる。前記ホットバイパス弁は、第一中間処理ガスラインに設けられる。
前記ホットバイパス弁は、温度調節計で検知された混合ガスの温度に基づき、第一中間処理ガスラインを流れる第一中間処理ガスの流量を調節する。
According to the first aspect of the present invention, the exhaust gas treatment facility comprises:
A first exhaust gas treatment device having a combustion chamber that heats exhaust gas containing a volatile organic compound to oxidatively decompose the organic compound, and a first exhaust gas after the organic compound is oxidatively decomposed in the combustion chamber A second exhaust gas treatment device having a catalyst that oxidatively decomposes the organic compound remaining in the treatment gas; a second treatment gas that is an exhaust gas after the organic compound is oxidatively decomposed in the second exhaust gas treatment device; A preheating heat exchanger that exchanges heat with the exhaust gas before flowing into the first exhaust gas treatment device and heats the exhaust gas with the heat of the second treatment gas.
The first exhaust gas treatment device has a heat storage chamber that takes heat from the first process gas, temporarily stores the heat, and dissipates the stored heat to the exhaust gas before flowing into the combustion chamber. Have.
The exhaust gas treatment facility is configured to connect the first exhaust gas treatment device and the second exhaust gas treatment device so that the first treatment gas deprived of heat in the heat storage chamber is guided to the second exhaust gas treatment device. The first processing gas line is connected to the first processing gas line so that the first intermediate processing gas that is the exhaust gas in the combustion chamber is led to the second exhaust gas processing device. A first intermediate processing gas line, a temperature controller for detecting a temperature of exhaust gas flowing into the second exhaust gas processing device from the first processing gas line and the first intermediate processing gas line, and detection by the temperature controller A hot bypass valve that adjusts a flow rate of the first intermediate process gas flowing through the first intermediate process gas line according to the set temperature.
The temperature controller is provided in the first treatment gas line and on the second exhaust gas treatment device side of the connection position with the first intermediate treatment gas line. The hot bypass valve is provided in the first intermediate processing gas line.
The hot bypass valve adjusts the flow rate of the first intermediate processing gas flowing through the first intermediate processing gas line based on the temperature of the mixed gas detected by the temperature controller.

当該排ガス処理設備では、第一排ガス処理装置で排ガスを加熱して排ガス中の有機化合物(VOC)が酸化分解される。さらに、当該排ガス処理設備では、第一排ガス処理装置から排出された第一処理ガス中に残存するVOCを第二排ガス処理装置で更に酸化分解する。よって、当該排ガス処理設備では、排ガスに対して単体の処理装置で処理を施す場合よりも、排ガス中のVOCを高度に処理できる。すなわち、排ガス中のVOC濃度を大幅に低減させることができる。   In the exhaust gas treatment facility, the exhaust gas is heated by the first exhaust gas treatment device, and the organic compound (VOC) in the exhaust gas is oxidatively decomposed. Further, in the exhaust gas treatment facility, the VOC remaining in the first treatment gas discharged from the first exhaust gas treatment device is further oxidized and decomposed by the second exhaust gas treatment device. Therefore, in the exhaust gas treatment facility, VOCs in the exhaust gas can be treated to a higher degree than when the exhaust gas is treated with a single treatment device. That is, the VOC concentration in the exhaust gas can be greatly reduced.

また、当該排ガス処理設備では、排ガスが第一排ガス処理装置に流入する前に、この排ガスを第二処理ガスの熱で加熱するため、第一排ガス処理装置において排ガスを昇温するのに必要な熱量を削減でき、結果として燃料等の消費量を抑えることができる。よって、当該排ガス処理設備では、排ガス処理にかかるランニングコストを抑えることができる。   Further, in the exhaust gas treatment facility, the exhaust gas is heated by the heat of the second treatment gas before the exhaust gas flows into the first exhaust gas treatment device. Therefore, it is necessary to raise the temperature of the exhaust gas in the first exhaust gas treatment device. The amount of heat can be reduced, and as a result, the amount of fuel consumed can be reduced. Therefore, in the exhaust gas treatment facility, the running cost for the exhaust gas treatment can be suppressed.

本発明の第二の態様によれば、前記第一の態様に係る前記排ガス処理設備において、前記予熱熱交換器で放熱により温度が下がった前記第二処理ガスと媒体とを熱交換させ、前記第二処理ガスの熱によって前記媒体を加熱する廃熱回収熱交換器を備える。   According to the second aspect of the present invention, in the exhaust gas treatment facility according to the first aspect, heat exchange is performed between the second process gas and the medium whose temperature has decreased due to heat radiation in the preheating heat exchanger, A waste heat recovery heat exchanger that heats the medium with the heat of the second processing gas is provided.

当該排ガス処理設備では、予熱熱交換器を通過した後の第二処理ガスの熱を廃熱回収熱交換器で回収するので、この第二処理ガスの熱を有効利用することができる。   In the exhaust gas treatment facility, the heat of the second process gas after passing through the preheating heat exchanger is recovered by the waste heat recovery heat exchanger, so that the heat of the second process gas can be effectively used.

本発明の第三の態様によれば、前記第一又は第二の態様に係る排ガス処理設備において、前記有機化合物を含む低濃度排ガス中の有機化合物濃度を高めた排ガスを生成して、前記排ガスを排気する濃縮装置を備える。前記予熱熱交換器は、前記濃縮装置から排気された前記排ガスと前記第二処理ガスとを熱交換させる。   According to a third aspect of the present invention, in the exhaust gas treatment facility according to the first or second aspect, an exhaust gas having an increased organic compound concentration in a low concentration exhaust gas containing the organic compound is generated, and the exhaust gas A concentrating device for exhausting the air. The preheating heat exchanger exchanges heat between the exhaust gas exhausted from the concentrator and the second processing gas.

当該排ガス処理設備では、低濃度排ガスを処理するに当たり、第一排ガス処理装置及び第二排ガス処理装置で処理する排ガス量を少なくすることができる。このため、第一排ガス処理装置及び第二排ガス処理装置の小型化を図ることができ、設備コストを抑えることができる。さらに、当該排ガス処理設備では、第一排ガス処理装置及び第二排ガス処理装置で処理する排ガスを高濃度化することができるので、ランニングコストも抑えることができる。   In the exhaust gas treatment facility, the amount of exhaust gas treated by the first exhaust gas treatment device and the second exhaust gas treatment device can be reduced when treating low concentration exhaust gas. For this reason, size reduction of a 1st exhaust gas processing apparatus and a 2nd exhaust gas processing apparatus can be achieved, and installation cost can be held down. Furthermore, in the exhaust gas treatment facility, the exhaust gas treated by the first exhaust gas treatment device and the second exhaust gas treatment device can be increased in concentration, so that the running cost can be suppressed.

当該排ガス処理設備では、蓄熱室で熱を奪われた第一処理ガスに対して、燃焼室内の高温の排ガスである第一中間処理ガスを合流させてから、この混合ガスを第二排ガス処理装置に流入させる。このため、当該排ガス処理設備では、燃料等を燃焼させて第一処理ガスを加熱しなくても、第二排ガス処理装置に流入する排ガスの温度を触媒の活性温度範囲にすることができる。よって、当該排ガス処理設備では、かかる観点からも、排ガス処理にかかるランニングコストを抑えることができる。   In the exhaust gas treatment facility, the first intermediate treatment gas, which is a high-temperature exhaust gas in the combustion chamber, is joined to the first treatment gas that has been deprived of heat in the heat storage chamber, and then this mixed gas is used as the second exhaust gas treatment device. To flow into. For this reason, in the exhaust gas treatment facility, the temperature of the exhaust gas flowing into the second exhaust gas treatment device can be within the activation temperature range of the catalyst without burning the fuel or the like and heating the first treatment gas. Therefore, in this exhaust gas treatment facility, the running cost for exhaust gas treatment can also be suppressed from this viewpoint.

本発明の第六の態様によれば、前記第一の態様から前記第五の態様のいずれかの態様に係る前記排ガス処理設備において、前記第二排ガス処理装置は、ガス入口及びガス出口が形成されているケーシングと、前記ケーシング内に配置されている前記触媒と、前記ケーシング内であって前記触媒よりも前記ガス入口側に配置されている前処理部と、を有する。前記前処理部は、前記第二排ガス処理装置に流入する排ガスに含まれ、前記触媒の性能を低下させる原因物質を除去する。   According to a sixth aspect of the present invention, in the exhaust gas treatment facility according to any one of the first aspect to the fifth aspect, the second exhaust gas treatment device includes a gas inlet and a gas outlet. A casing, the catalyst disposed in the casing, and a pretreatment portion disposed in the casing and closer to the gas inlet than the catalyst. The pretreatment unit is included in the exhaust gas flowing into the second exhaust gas treatment device, and removes a causative substance that degrades the performance of the catalyst.

当該排ガス処理設備では、触媒の性能低下を抑えることができる。   In the exhaust gas treatment facility, deterioration in catalyst performance can be suppressed.

本発明の他の態様によれば、排ガス処理設備は、
揮発性の有機化合物を含む排ガスを加熱して、前記有機化合物を酸化分解する燃焼室と、前記燃焼室で前記有機化合物が酸化分解された後の排ガスである第一処理ガスからの熱を前記燃焼室に流入する前の前記排ガスに与える蓄熱室とを有する第一排ガス処理装置と、前記第一排ガス処理装置から排気されたガス中に残留する前記有機化合物を酸化分解する触媒を有する第二排ガス処理装置と、前記伝達室で熱を奪われた後の前記第一処理ガスが前記第二ガス処理装置に導かれるよう、前記第一ガス処理装置と前記第二ガス処理装置とを接続する第一処理ガスラインと、前記燃焼室内のガスである第一中間処理ガスが前記第二ガス処理装置に導かれるよう、前記第一ガス処理装置の前記燃焼室と前記第一処理ガスラインとを接続する第一中間処理ガスラインと、前記第一処理ガスライン及び前記第一中間処理ガスラインから前記第二ガス処理装置に流入するガスの温度を検知する温度調節計と、前記温度調節計で検知された温度に応じて、前記第一中間処理ガスラインを流れる前記第一中間処理ガスの流量を調節するホットバイパス弁と、を備える。
According to another aspect of the present invention, the exhaust gas treatment facility comprises:
A combustion chamber that heats exhaust gas containing a volatile organic compound to oxidatively decompose the organic compound, and heat from the first processing gas that is exhaust gas after the organic compound is oxidized and decomposed in the combustion chamber A second exhaust gas treatment device having a heat storage chamber for giving to the exhaust gas before flowing into the combustion chamber; and a second catalyst having a catalyst for oxidizing and decomposing the organic compound remaining in the gas exhausted from the first exhaust gas treatment device. The first gas treatment device and the second gas treatment device are connected so that the exhaust gas treatment device and the first treatment gas after the heat is taken away in the transmission chamber are guided to the second gas treatment device. The first processing gas line and the combustion chamber of the first gas processing device and the first processing gas line so that the first intermediate processing gas that is the gas in the combustion chamber is led to the second gas processing device. First intermediate to connect A temperature controller for detecting a temperature of a gas flowing into the second gas processing apparatus from the first processing gas line and the first intermediate processing gas line, and a temperature detected by the temperature controller. And a hot bypass valve for adjusting a flow rate of the first intermediate process gas flowing through the first intermediate process gas line.

本発明の第七の態様によれば、排ガス処理方法は、
揮発性の有機化合物を含む排ガスを加熱して、前記有機化合物を酸化分解する酸化処理工程を含む第一排ガス処理工程と、前記酸化処理工程で前記排ガス中の前記有機化合物が酸化分解された後の排ガスである第一処理ガス中に残存する前記有機化合物を触媒で酸化分解する第二酸化処理工程を含む第二排ガス処理工程と、前記第二排ガス処理工程で前記有機化合物が酸化分解された後の排ガスである第二処理ガスと、前記第一排ガス処理工程を経る前の前記排ガスとを熱交換させ、前記第二処理ガスを冷却する一方で前記排ガスを加熱する予熱工程と、を実行する。
前記第一排ガス処理工程は、前記第一処理ガスから熱を奪って、前記熱を一時的に蓄え、蓄えた前記熱を前記酸化処理工程が実行される前の前記排ガスに対して放熱する蓄熱/放熱工程を含む。
前記蓄熱/放熱工程で熱を奪われ、前記第二排ガス処理工程を経る前の前記第一処理ガスに、前記酸化処理工程中の排ガスである第一中間処理ガスを混合する混合工程を実行する。
前記第二排ガス処理工程では、前記第一処理ガスと前記第一中間処理ガスとが混合した排ガスである混合ガス中の前記有機化合物を酸化分解する。
前記混合工程は、前記混合ガスの温度を検知する温度検知工程と、前記温度検知工程で検知された温度に応じて、前記第一処理ガスに混合させる前記第一中間処理ガスの流量を調節する流量調節工程を含む。
According to the seventh aspect of the present invention, the exhaust gas treatment method comprises:
A first exhaust gas treatment step including an oxidation treatment step in which exhaust gas containing a volatile organic compound is heated to oxidatively decompose the organic compound; and after the organic compound in the exhaust gas is oxidatively decomposed in the oxidation treatment step A second exhaust gas treatment step including a second oxidation treatment step of oxidizing and decomposing the organic compound remaining in the first treatment gas which is an exhaust gas of the catalyst, and after the organic compound is oxidatively decomposed in the second exhaust gas treatment step Heat exchange between the second processing gas that is the exhaust gas of the gas and the exhaust gas before passing through the first exhaust gas processing step, and a preheating step that heats the exhaust gas while cooling the second processing gas. .
The first exhaust gas treatment step takes heat from the first treatment gas, temporarily stores the heat, and stores heat to release the stored heat to the exhaust gas before the oxidation treatment step is performed. / Includes heat dissipation process.
The mixing step of mixing the first intermediate processing gas, which is the exhaust gas in the oxidation processing step, with the first processing gas, which has been deprived of heat in the heat storage / radiation step and before the second exhaust gas processing step, is performed. .
In the second exhaust gas treatment step, the organic compound in the mixed gas, which is an exhaust gas in which the first treatment gas and the first intermediate treatment gas are mixed, is oxidatively decomposed.
The mixing step adjusts the flow rate of the first intermediate processing gas to be mixed with the first processing gas according to the temperature detection step of detecting the temperature of the mixed gas and the temperature detected in the temperature detection step. A flow rate adjusting step is included.

本発明の第八の態様によれば、前記第七の態様に係る前記排ガス処理方法において、前記予熱工程で冷却された前記第二処理ガスと媒体とを熱交換させ、前記第二処理ガスを冷却する一方で前記媒体を加熱する廃熱回収工程を実行する。   According to an eighth aspect of the present invention, in the exhaust gas processing method according to the seventh aspect, the second processing gas cooled in the preheating step and the medium are subjected to heat exchange, and the second processing gas is A waste heat recovery process for heating the medium while cooling is performed.

本発明の第九の態様によれば、前記第七の態様もしくは第八の態様のいずれかに係る前記排ガス処理方法において、前記有機化合物を含む低濃度排ガス中の有機化合物濃度を高めた排ガスを生成して、前記排ガスを排気する濃縮工程を実行する。前記予熱工程では、前記濃縮工程で排気された前記排ガスと前記第二処理ガスとを熱交換させる。   According to a ninth aspect of the present invention, in the exhaust gas treatment method according to either the seventh aspect or the eighth aspect, an exhaust gas having an increased concentration of an organic compound in a low-concentration exhaust gas containing the organic compound is provided. A concentration step of generating and exhausting the exhaust gas is performed. In the preheating step, heat exchange is performed between the exhaust gas exhausted in the concentration step and the second processing gas.

本発明の第十二の態様によれば、
前記第七から前記第十一の態様のいずれかに係る前記排ガス処理方法において、前記第二排ガス処理工程は、前記第二酸化処理工程を経る前の前記排ガスに前処理を施す前処理工程を更に含む。前記前処理工程では、前記第二酸化処理工程を経る前の前記排ガス中に含まれ、前記触媒の性能を低下させる原因物質を除去する。
According to a twelfth aspect of the present invention,
In the exhaust gas treatment method according to any one of the seventh to eleventh aspects, the second exhaust gas treatment step further includes a pretreatment step of pretreating the exhaust gas before passing through the second dioxide treatment step. Including. In the pretreatment step, a causative substance that is contained in the exhaust gas before passing through the second oxidation treatment step and reduces the performance of the catalyst is removed.

本発明の態様に係る排ガス処理装置及び排ガス処理方法によれば、排ガス中に含まれるVOCを高度に処理することが出来る。すなわち、排ガス中のVOC濃度を大幅に低減させることができる。   According to the exhaust gas processing apparatus and the exhaust gas processing method according to the aspect of the present invention, VOC contained in the exhaust gas can be processed at a high level. That is, the VOC concentration in the exhaust gas can be greatly reduced.

また、本発明の態様に係る排ガス処理装置及び排ガス処理方法によれば、排ガスが流入する前に、この排ガスを加熱する。このため、排ガスを昇温するのに必要な熱量を削減でき、結果として燃料等の消費量を抑えることができる。よって、排ガス処理にかかるランニングコストを抑えることができる。   Moreover, according to the exhaust gas processing apparatus and the exhaust gas processing method according to the aspect of the present invention, the exhaust gas is heated before the exhaust gas flows in. For this reason, the amount of heat required to raise the temperature of the exhaust gas can be reduced, and as a result, the consumption of fuel and the like can be suppressed. Therefore, the running cost concerning exhaust gas treatment can be suppressed.

本発明に係る第一実施形態における排ガス処理設備の系統図である。It is a systematic diagram of the exhaust gas treatment facility in the first embodiment according to the present invention. 本発明に係る第一実施形態における排ガス処理方法の手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the procedure of the waste gas processing method in 1st embodiment which concerns on this invention. 本発明に係る第二実施形態における排ガス処理設備の系統図である。It is a systematic diagram of the exhaust gas treatment facility in the second embodiment according to the present invention. 本発明に係る第二実施形態における排ガス処理方法の手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the procedure of the waste gas processing method in 2nd embodiment which concerns on this invention.

以下、本発明に係る排ガス処理設備の各種実施形態について、図面を参照して説明する。   Hereinafter, various embodiments of an exhaust gas treatment facility according to the present invention will be described with reference to the drawings.

「第一実施形態」
本発明に係る排ガス処理設備の第一実施形態について、図1及び図2を参照して説明する。
"First embodiment"
A first embodiment of an exhaust gas treatment facility according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

本実施形態の排ガス処理設備は、VOCを含む排ガスG0を処理する設備である。この排ガス処理設備は、図1に示すように、排ガスG0を加熱して排ガスG0中のVOCを酸化分解する第一排ガス処理装置10と、触媒36を用いてVOCを酸化分解する第二排ガス処理装置30と、第一排ガス処理装置10に流入する排ガスG0を加熱する予熱熱交換器55と、を備える。   The exhaust gas treatment facility of this embodiment is a facility for treating the exhaust gas G0 containing VOC. As shown in FIG. 1, the exhaust gas treatment facility includes a first exhaust gas treatment device 10 that heats the exhaust gas G0 to oxidatively decompose VOC in the exhaust gas G0, and a second exhaust gas treatment that oxidizes and decomposes VOC using the catalyst 36. The apparatus 30 and the preheating heat exchanger 55 which heats the waste gas G0 which flows into the 1st waste gas processing apparatus 10 are provided.

第一排ガス処理装置10は、ケーシング11とバーナー21と、回転分配弁23とを有する。ケーシング11には、燃焼室15と蓄熱室17と入出室12とが形成されている。燃焼室15は、排ガスG0を加熱して、排ガスG0中のVOCを酸化分解する室である。蓄熱室17は、排ガスG0が燃焼室15でVOCが酸化分解された後の排ガスである第一排ガスG1から熱を奪って、この熱を一時的に蓄え、蓄えた熱を排ガスG0に放熱する室である。入出室12は、排ガスG0が外部から流入すると共に第一処理ガスG1を外部に流出させる室である。蓄熱室17は、ケーシング11内において、燃焼室15と入出室12との間に形成されている。ケーシング11の部分であって入出室12の画定する部分には、ガス入口13及びガス出口14が形成されている。蓄熱室17には、燃焼室15と入出室12とを連通させる複数の蓄熱流路18が形成されている。複数の蓄熱流路18は、例えば、セラミック等の蓄熱体で形成されている。ケーシング11の部分であって燃焼室15を画定する部分には、燃焼室15内の排ガスである第一中間処理ガスG1iを外部に流出させる中間処理ガス出口16が形成されている。   The first exhaust gas treatment device 10 includes a casing 11, a burner 21, and a rotary distribution valve 23. In the casing 11, a combustion chamber 15, a heat storage chamber 17, and an entry / exit chamber 12 are formed. The combustion chamber 15 is a chamber for heating the exhaust gas G0 to oxidatively decompose VOC in the exhaust gas G0. The heat storage chamber 17 takes heat from the first exhaust gas G1 which is exhaust gas after the exhaust gas G0 is oxidatively decomposed in the combustion chamber 15, stores this heat temporarily, and releases the stored heat to the exhaust gas G0. It is a room. The entry / exit chamber 12 is a chamber through which the exhaust gas G0 flows from the outside and the first processing gas G1 flows out. The heat storage chamber 17 is formed between the combustion chamber 15 and the entrance / exit chamber 12 in the casing 11. A gas inlet 13 and a gas outlet 14 are formed in a portion of the casing 11 and defined by the inlet / outlet chamber 12. In the heat storage chamber 17, a plurality of heat storage passages 18 are formed to connect the combustion chamber 15 and the inlet / outlet chamber 12. The plurality of heat storage passages 18 are formed of a heat storage body such as ceramic, for example. An intermediate processing gas outlet 16 through which the first intermediate processing gas G1i, which is the exhaust gas in the combustion chamber 15, flows out to the outside, is formed in a portion of the casing 11 that defines the combustion chamber 15.

バーナー21は、ケーシング11の部分であって燃焼室15を画定する部分に設けられている。このバーナー21は、外部からの燃料を受け入れて、この燃料を燃焼室15の外部で空気と混合させて燃焼し、燃焼室15内で火炎を形成させ、燃焼室15に流入した排ガスG0を加熱する。すなわち、このバーナー21は、燃焼室15に流入した排ガスG0を加熱するための加熱器として機能する。   The burner 21 is provided in a portion of the casing 11 that defines the combustion chamber 15. The burner 21 receives fuel from the outside, mixes this fuel with air outside the combustion chamber 15 and burns it, forms a flame in the combustion chamber 15, and heats the exhaust gas G 0 flowing into the combustion chamber 15. To do. That is, the burner 21 functions as a heater for heating the exhaust gas G0 flowing into the combustion chamber 15.

入出室12には、回転分配弁23が配置されている。回転分配弁23には、蓄熱室17に形成されている複数の蓄熱流路18と同じ数の分配流路25が形成されている。回転分配弁23が静止している状態では、複数の分配流路25のそれぞれが蓄熱室17に形成されている複数の蓄熱流路18のいずれかと連通している。   A rotation distribution valve 23 is disposed in the entrance / exit chamber 12. In the rotary distribution valve 23, the same number of distribution channels 25 as the plurality of heat storage channels 18 formed in the heat storage chamber 17 are formed. In a state in which the rotary distribution valve 23 is stationary, each of the plurality of distribution channels 25 communicates with one of the plurality of heat storage channels 18 formed in the heat storage chamber 17.

ケーシング11のガス入口13から入出室12に流入した排ガスG0は、回転分配弁23に形成された複数の分配流路25のうちの一部の分配流路25を経て、蓄熱室17の一部の蓄熱流路18に流入する。蓄熱室17の一部の蓄熱流路18に流入した排ガスG0は、この一部の蓄熱流路18を経て燃焼室15に流入する。燃焼室15内の排ガスは、蓄熱室17の他の一部の蓄熱流路18に流入する。この排ガスは、前述の第一処理ガスG1として、他の一部の蓄熱流路18を経て、回転分配弁23に形成された複数の分配流路25のうちの他の一部の分配流路25に流入する。他の一部の分配流路25に流入した第一処理ガスG1は、ガス出口14から外部に流出する。前記第一処理ガスG1の熱は、この蓄熱流路18を形成している蓄熱体に蓄えられる。   The exhaust gas G0 that has flowed into the inlet / outlet chamber 12 from the gas inlet 13 of the casing 11 passes through a part of the plurality of distribution channels 25 formed in the rotary distribution valve 23, and a part of the heat storage chamber 17. Into the heat storage flow path 18. The exhaust gas G0 that has flowed into a part of the heat storage passage 18 of the heat storage chamber 17 flows into the combustion chamber 15 through this part of the heat storage passage 18. The exhaust gas in the combustion chamber 15 flows into another part of the heat storage passage 18 of the heat storage chamber 17. This exhaust gas passes through the other part of the heat storage passage 18 as the first processing gas G1 described above, and the other part of the plurality of distribution passages 25 formed in the rotary distribution valve 23. 25. The first processing gas G1 that has flowed into the other part of the distribution flow path 25 flows out from the gas outlet 14 to the outside. The heat of the first processing gas G1 is stored in the heat storage body forming the heat storage flow path 18.

回転分配弁23が回転すると、蓄熱室17における複数の蓄熱流路18のうち、排ガスG0が流れる蓄熱流路18が他の蓄熱流路18に切り替わると共に、第一処理ガスG1が流れる蓄熱流路18が他の蓄熱流路18に切り替わる。この結果、蓄熱室17における複数の蓄熱流路18のうち、先に第一処理ガスG1が流れていた蓄熱流路18に排ガスG0が流れる。このため、先に第一処理ガスG1が流れることで蓄熱体に蓄えられていた熱は、排ガスG0へ放熱される。すなわち、蓄熱室17では、排ガスG0が加熱され、第一処理ガスG1が冷却される。   When the rotary distribution valve 23 rotates, among the plurality of heat storage channels 18 in the heat storage chamber 17, the heat storage channel 18 through which the exhaust gas G0 flows is switched to another heat storage channel 18, and the heat storage channel through which the first processing gas G1 flows. 18 switches to another heat storage flow path 18. As a result, the exhaust gas G0 flows into the heat storage channel 18 in which the first processing gas G1 has previously flowed out of the plurality of heat storage channels 18 in the heat storage chamber 17. For this reason, the heat previously stored in the heat accumulator by flowing the first processing gas G1 is radiated to the exhaust gas G0. That is, in the heat storage chamber 17, the exhaust gas G0 is heated and the first processing gas G1 is cooled.

以上のように、回転分配弁23が回転すると、蓄熱室17における複数の蓄熱流路18のうち、排ガスG0が流れる蓄熱流路18及び第一処理ガスG1が流れる蓄熱流路18が順次切り替わり、蓄熱室17の複数の蓄熱流路18を形成する蓄熱体中で、蓄熱する領域及び放熱する領域が順次移動する。   As described above, when the rotary distribution valve 23 rotates, among the plurality of heat storage channels 18 in the heat storage chamber 17, the heat storage channel 18 through which the exhaust gas G0 flows and the heat storage channel 18 through which the first processing gas G1 flows are sequentially switched. In the heat storage body forming the plurality of heat storage flow paths 18 of the heat storage chamber 17, the region for storing heat and the region for radiating heat move sequentially.

以上のように、第一排ガス処理装置10では、排ガスG0を加熱して、この排ガスG0中のVOCを酸化分解すると共に、排ガスG0の加熱で生成された第一処理ガスG1中の熱を一次的に蓄熱体に蓄えて、この熱を排ガスG0の加熱に利用する。なお、第一排ガス処理装置10は、排ガスG0を加熱する機能を備えていれば、如何なる構成であってもよい。   As described above, in the first exhaust gas treatment device 10, the exhaust gas G0 is heated to oxidize and decompose the VOC in the exhaust gas G0, and the heat in the first treatment gas G1 generated by the heating of the exhaust gas G0 is primary. The heat is stored in the heat storage body and this heat is used for heating the exhaust gas G0. The first exhaust gas treatment device 10 may have any configuration as long as it has a function of heating the exhaust gas G0.

第二排ガス処理装置30は、ケーシング31と、ケーシング31内に配置されている触媒36と、ケーシング31内に配置されている前処理部35と、を有する。ケーシング31には、ガス入口33とガス出口34とが形成されている。   The second exhaust gas treatment device 30 includes a casing 31, a catalyst 36 disposed in the casing 31, and a pretreatment unit 35 disposed in the casing 31. A gas inlet 33 and a gas outlet 34 are formed in the casing 31.

触媒36は、例えば、白金、又はパラジウム等で形成されている。この触媒36は、活性温度でVOCの分解反応を促す機能を有する。このVOCの分解反応は、VOCの酸化反応を伴う。すなわち、触媒36は、VOCを酸化分解して、このVOCをCOとHOにする反応を促す。この触媒36の活性温度は、例えば、200〜380℃である。 The catalyst 36 is made of, for example, platinum or palladium. The catalyst 36 has a function of promoting the decomposition reaction of VOC at the activation temperature. This decomposition reaction of VOC is accompanied by oxidation reaction of VOC. That is, the catalyst 36 oxidizes and decomposes VOC and promotes a reaction to convert this VOC into CO 2 and H 2 O. The activation temperature of the catalyst 36 is, for example, 200 to 380 ° C.

第二排ガス処理装置30のガス入口33から流入する排ガス中には、触媒性能を低下させる原因物質、つまり触媒毒が含まれる場合がある。このような原因物質としては、例えば、ダスト、カーボン、タール、有機金属化合物、有機シリコーン化合物等がある。これらの原因物質は、いずれも、触媒36の表面に付着して、触媒36の機能を低下させる。前処理部35は、このような原因物質を除去する機能を有する。よって、前処理部35は、ケーシング31内であって触媒36よりもガス入口33側に配置されている。前処理部35は、アルミナや酸化マンガン等を母材として形成される前処理剤、又は、ダスト等を捕捉するフィルタで構成される。前処理剤の活性温度は、例えば、350〜400℃である。なお、前処理部35は、前処理剤とフィルタとを有してもよい。   The exhaust gas flowing in from the gas inlet 33 of the second exhaust gas treatment device 30 may contain a causative substance that lowers the catalyst performance, that is, catalyst poison. Examples of such causative substances include dust, carbon, tar, organometallic compounds, and organosilicon compounds. Any of these causative substances adheres to the surface of the catalyst 36 and lowers the function of the catalyst 36. The preprocessing unit 35 has a function of removing such causative substances. Therefore, the pretreatment unit 35 is disposed in the casing 31 and closer to the gas inlet 33 than the catalyst 36. The pretreatment unit 35 includes a pretreatment agent formed using alumina, manganese oxide, or the like as a base material, or a filter that captures dust or the like. The activation temperature of the pretreatment agent is, for example, 350 to 400 ° C. The pretreatment unit 35 may have a pretreatment agent and a filter.

本実施形態の排ガス処理設備は、さらに、排ガスライン45と、第一処理ガスライン41と、第一中間処理ガスライン42と、温度調節計43と、ホットバイパス弁44と、第二処理ガスライン46と、吸気口47と、を備える。
排ガスライン45は、第一排ガス処理装置10のガス入口13に接続されている。排ガスライン45は、排ガスG0を第一排ガス処理装置10内に導く。この排ガスライン45には、必要に応じて、排ガスG0の流れを形成する排ガスファン59が設けられる。また、この排ガスライン45には、必要に応じて吸気口47が設けられる。吸気口47は、本実施形態に係る排ガス処理装置の起動時、もしくは緊急時等に、排ガスライン45に外気を導入する。
第一処理ガスライン41は、第一排ガス処理装置10のガス出口14と第二排ガス処理装置30のガス入口33とを接続する。第一処理ガスライン41は、第一排ガス処理装置10の蓄熱室17で熱を奪われた後の第一処理ガスG1を第二排ガス処理装置30に導く。第一中間処理ガスライン42は、第一排ガス処理装置10の中間処理ガス出口16と第一処理ガスライン41とを接続する。第一中間処理ガスライン42は、第一排ガス処理装置10の燃焼室15内の排ガスである第一中間処理ガスG1iを第二排ガス処理装置30に導く。温度調節計43は、第一処理ガスライン41中であって、第一中間処理ガスライン42との接続位置よりも第二排ガス処理装置30側に設けられている。よって、この温度調節計43は、第一処理ガスライン41を流れてきた第一処理ガスG1と第一中間処理ガスライン42を流れてきた第一中間処理ガスG1iとが混合した混合ガスGmの温度を検知する。
ホットバイパス弁44は、第一中間処理ガスライン42に設けられている。このホットバイパス弁44は、温度調節計43で検知された温度に基づき、第一中間処理ガスライン42を流れる第一中間処理ガスG1iの流量を調節する。
The exhaust gas treatment facility of the present embodiment further includes an exhaust gas line 45, a first process gas line 41, a first intermediate process gas line 42, a temperature controller 43, a hot bypass valve 44, and a second process gas line. 46 and an intake port 47.
The exhaust gas line 45 is connected to the gas inlet 13 of the first exhaust gas treatment device 10. The exhaust gas line 45 guides the exhaust gas G0 into the first exhaust gas treatment device 10. The exhaust gas line 45 is provided with an exhaust gas fan 59 that forms a flow of the exhaust gas G0 as necessary. The exhaust gas line 45 is provided with an intake port 47 as necessary. The intake port 47 introduces outside air into the exhaust gas line 45 when the exhaust gas treatment apparatus according to the present embodiment is activated or in an emergency.
The first treatment gas line 41 connects the gas outlet 14 of the first exhaust gas treatment device 10 and the gas inlet 33 of the second exhaust gas treatment device 30. The first processing gas line 41 guides the first processing gas G <b> 1 after the heat is removed from the heat storage chamber 17 of the first exhaust gas processing device 10 to the second exhaust gas processing device 30. The first intermediate processing gas line 42 connects the intermediate processing gas outlet 16 of the first exhaust gas processing apparatus 10 and the first processing gas line 41. The first intermediate processing gas line 42 guides the first intermediate processing gas G1i that is the exhaust gas in the combustion chamber 15 of the first exhaust gas processing device 10 to the second exhaust gas processing device 30. The temperature controller 43 is provided in the first process gas line 41 and closer to the second exhaust gas treatment device 30 than the connection position with the first intermediate process gas line 42. Therefore, the temperature controller 43 is a mixture gas Gm in which the first processing gas G1 flowing through the first processing gas line 41 and the first intermediate processing gas G1i flowing through the first intermediate processing gas line 42 are mixed. Detect temperature.
The hot bypass valve 44 is provided in the first intermediate processing gas line 42. The hot bypass valve 44 adjusts the flow rate of the first intermediate processing gas G1i flowing through the first intermediate processing gas line 42 based on the temperature detected by the temperature controller 43.

第二処理ガスライン46は、第二排ガス処理装置30のガス出口34に接続されている。予熱熱交換器55は、この第二処理ガスライン46と排ガスライン45とを跨って設けられる熱交換器である。この予熱熱交換器55は、排ガスライン45を流れる排ガスG0と、第二処理ガスライン46を流れる第二処理ガスG2とを熱交換させ、第二処理ガスG2を冷却する一方で排ガスG0を加熱する。   The second processing gas line 46 is connected to the gas outlet 34 of the second exhaust gas processing device 30. The preheating heat exchanger 55 is a heat exchanger provided across the second processing gas line 46 and the exhaust gas line 45. The preheating heat exchanger 55 heat-exchanges the exhaust gas G0 flowing through the exhaust gas line 45 and the second processing gas G2 flowing through the second processing gas line 46 to cool the second processing gas G2 while heating the exhaust gas G0. To do.

次に、図2に示すフローチャートに従って、本実施形態に排ガス処理設備における排ガス処理の手順について説明する。   Next, according to the flowchart shown in FIG. 2, the procedure of the exhaust gas treatment in the exhaust gas treatment facility according to the present embodiment will be described.

排ガスライン45を流れる排ガスG0は、前述したように、予熱熱交換器55内で第二処理ガスG2と熱交換され、加熱される(S11:予熱工程)。第二排ガス処理装置30から流出した直後の第二処理ガスG2の温度は、例えば、355℃である。予熱熱交換器55で加熱される前の排ガスG0の温度は、例えば、60℃である。予熱熱交換器55で加熱された後の排ガスG0の温度は、例えば、160℃である。   As described above, the exhaust gas G0 flowing through the exhaust gas line 45 is heat-exchanged with the second processing gas G2 in the preheating heat exchanger 55 and heated (S11: preheating step). The temperature of the second process gas G2 immediately after flowing out of the second exhaust gas treatment device 30 is, for example, 355 ° C. The temperature of the exhaust gas G0 before being heated by the preheating heat exchanger 55 is, for example, 60 ° C. The temperature of the exhaust gas G0 after being heated by the preheating heat exchanger 55 is 160 ° C., for example.

予熱熱交換器55で加熱された排ガスG0は、第一排ガス処理装置10のガス入口13からケーシング11内に流入する。この排ガスG0は、蓄熱室17の複数の蓄熱流路18のうちの一部の蓄熱流路18を経て、燃焼室15内に流入する。排ガスG0は、前述したように、蓄熱室17の蓄熱流路18を流れる過程で、蓄熱流路18を形成する蓄熱体に蓄えられた熱により加熱される(S2:蓄熱/放熱工程)。蓄熱体により加熱された排ガスG0は、燃焼室15で更に加熱され、排ガスG0中のほとんどのVOCが酸化分解される(S3:酸化分解工程)。この酸化分解工程(S3)により、排ガスG0中のほとんどのVOCは、COとHOになり、無毒化される。燃焼室15内の排ガスのほとんどは、第一処理ガスG1として、蓄熱室17の複数の蓄熱流路18のうちの他の一部の蓄熱流路18に流入し、この蓄熱流路18内を流れる。燃焼室15から蓄熱室17に流入する直前の排ガスの温度は、例えば、850℃である。第一処理ガスG1は、前述したように、蓄熱室17の蓄熱流路18を流れる過程で、蓄熱流路18を形成する蓄熱体に熱を奪われ、冷却される(S2:蓄熱/放熱工程)。 The exhaust gas G0 heated by the preheating heat exchanger 55 flows into the casing 11 from the gas inlet 13 of the first exhaust gas treatment device 10. The exhaust gas G0 flows into the combustion chamber 15 through a part of the heat storage channels 18 of the plurality of heat storage channels 18 of the heat storage chamber 17. As described above, the exhaust gas G0 is heated by the heat stored in the heat storage body forming the heat storage flow path 18 in the process of flowing through the heat storage flow path 18 of the heat storage chamber 17 (S2: heat storage / heat radiation process). The exhaust gas G0 heated by the heat storage body is further heated in the combustion chamber 15, and most VOCs in the exhaust gas G0 are oxidatively decomposed (S3: oxidative decomposition step). By this oxidative decomposition step (S3), most of the VOC in the exhaust gas G0 becomes CO 2 and H 2 O, and is detoxified. Most of the exhaust gas in the combustion chamber 15 flows into the other part of the heat storage channels 18 among the plurality of heat storage channels 18 of the heat storage chamber 17 as the first processing gas G1, Flowing. The temperature of the exhaust gas immediately before flowing into the heat storage chamber 17 from the combustion chamber 15 is, for example, 850 ° C. As described above, in the process of flowing through the heat storage flow path 18 of the heat storage chamber 17, the first process gas G1 is deprived of heat by the heat storage body forming the heat storage flow path 18 and cooled (S2: heat storage / heat radiation process). ).

蓄熱流路18を流れる過程で冷却された第一処理ガスG1は、第一排ガス処理装置10のガス出口14から流出し、第一処理ガスライン41を流れる。第一排ガス処理装置10から流出した直後の第一処理ガスG1の温度は、例えば、200℃である。第一排ガス処理装置10では、以上で説明した蓄熱/放熱工程(S2)及び酸化分解工程(S3)を含む第一排ガス処理工程(S1)が実行される。   The first processing gas G <b> 1 cooled in the process of flowing through the heat storage flow path 18 flows out from the gas outlet 14 of the first exhaust gas processing apparatus 10 and flows through the first processing gas line 41. The temperature of the first process gas G1 immediately after flowing out of the first exhaust gas treatment device 10 is, for example, 200 ° C. In the first exhaust gas treatment apparatus 10, the first exhaust gas treatment step (S1) including the heat storage / heat release step (S2) and the oxidative decomposition step (S3) described above is performed.

第一排ガス処理装置10の燃焼室15内の排ガスの一部は、第一中間処理ガスG1iとして、第一排ガス処理装置10の中間処理ガス出口16から流出し、第一中間処理ガスライン42を流れる。この第一中間処理ガスG1iは、第一中間処理ガスライン42から第一処理ガスライン41に流入し、第一処理ガスG1に合流する(S4:混合工程)。この第一中間処理ガスG1iの温度は、例えば、850℃である。第一処理ガスG1と第一中間処理ガスG1iとが合流した排ガスである混合ガスGmは、第一処理ガスライン41を経て、第二排ガス処理装置30のガス入口33から第二排ガス処理装置30内に流入する。この混合工程(S4)において、混合ガスGmの温度は、温度調節計43により検知される(S5:温度検知工程)。第一中間処理ガスライン42に設けられているホットバイパス弁44は、温度調節計43で検知された混合ガスGmの温度に基づき、第一中間処理ガスライン42を流れる第一中間処理ガスG1iの流量を調節する(S6:流量調節工程)。   Part of the exhaust gas in the combustion chamber 15 of the first exhaust gas treatment device 10 flows out from the intermediate treatment gas outlet 16 of the first exhaust gas treatment device 10 as the first intermediate treatment gas G1i, and passes through the first intermediate treatment gas line 42. Flowing. The first intermediate processing gas G1i flows from the first intermediate processing gas line 42 into the first processing gas line 41 and joins the first processing gas G1 (S4: mixing step). The temperature of the first intermediate processing gas G1i is, for example, 850 ° C. The mixed gas Gm, which is an exhaust gas in which the first processing gas G1 and the first intermediate processing gas G1i are merged, passes through the first processing gas line 41 and from the gas inlet 33 of the second exhaust gas processing device 30 to the second exhaust gas processing device 30. Flows in. In this mixing step (S4), the temperature of the mixed gas Gm is detected by the temperature controller 43 (S5: temperature detection step). The hot bypass valve 44 provided in the first intermediate processing gas line 42 is configured to supply the first intermediate processing gas G1i flowing through the first intermediate processing gas line 42 based on the temperature of the mixed gas Gm detected by the temperature controller 43. The flow rate is adjusted (S6: flow rate adjusting step).

第二排ガス処理装置30の触媒36の活性温度は、前述したように、例えば、200〜380℃である。また、第一排ガス処理装置10から流出した直後の第一処理ガスG1の温度は、前述したように、例えば、180℃である。このため、流量調節工程(S6)では、混合ガスGmの温度が280〜380℃になるよう、180℃の第一処理ガスG1中に混合させる850℃の第一中間処理ガスG1iの流量を調節する。なお、第二排ガス処理装置30の前処理部35として、例えば、活性温度が350〜400℃の前処理剤を用いる場合、流量調節工程(S6)では、混合ガスGmの温度が350〜400℃になるよう、第一処理ガスG1中に混合させる第一中間処理ガスG1iの流量を調節する。350〜400℃は、触媒36と前処理剤が共に活性温度になる温度範囲である。   The activation temperature of the catalyst 36 of the second exhaust gas treatment device 30 is, for example, 200 to 380 ° C. as described above. Further, the temperature of the first process gas G1 immediately after flowing out of the first exhaust gas treatment apparatus 10 is, for example, 180 ° C. as described above. For this reason, in the flow rate adjusting step (S6), the flow rate of the first intermediate processing gas G1i at 850 ° C. mixed in the first processing gas G1 at 180 ° C. is adjusted so that the temperature of the mixed gas Gm becomes 280-380 ° C. To do. For example, when a pretreatment agent having an activation temperature of 350 to 400 ° C. is used as the pretreatment unit 35 of the second exhaust gas treatment apparatus 30, the temperature of the mixed gas Gm is 350 to 400 ° C. in the flow rate adjustment step (S 6). The flow rate of the first intermediate processing gas G1i mixed in the first processing gas G1 is adjusted so that 350 to 400 ° C. is a temperature range in which both the catalyst 36 and the pretreatment agent are at the activation temperature.

第二排ガス処理装置30内に流入した混合ガスGmは、まず、前処理部35を通過する。混合ガスGmは、この前処理部35を通過する過程で、この混合ガスGm中で触媒性能を低下させる原因物質が混合ガスGmから除去される(S8:前処理工程)。前処理部35を通過した混合ガスGmは、次に、触媒36を通過する。混合ガスGmは、この触媒36を通過する過程で、混合ガスGm中に残存するVOCを酸化分解し、COとHOになる(S9:酸化分解工程)。 The mixed gas Gm that has flowed into the second exhaust gas treatment device 30 first passes through the pretreatment unit 35. In the course of passing through the pretreatment section 35, the mixed gas Gm is removed from the mixed gas Gm by a causative substance that lowers the catalyst performance in the mixed gas Gm (S8: pretreatment step). The mixed gas Gm that has passed through the pretreatment section 35 then passes through the catalyst 36. In the process of passing through the catalyst 36, the mixed gas Gm oxidizes and decomposes VOC remaining in the mixed gas Gm to become CO 2 and H 2 O (S9: oxidative decomposition step).

触媒36を通過した排ガスは、第二処理ガスG2として、第二排ガス処理装置30のガス出口34から流出し、第二処理ガスライン46に流入する。第二排ガス処理装置30では、以上で説明した前処理工程(S8)及び酸化分解工程(S9)を含む第二処理工程(S7)が実行される。   The exhaust gas that has passed through the catalyst 36 flows out from the gas outlet 34 of the second exhaust gas processing device 30 as the second processing gas G2, and flows into the second processing gas line 46. In the second exhaust gas treatment device 30, the second treatment step (S7) including the pretreatment step (S8) and the oxidative decomposition step (S9) described above is performed.

第二処理ガスライン46を流れる第二処理ガスG2は、前述したように、予熱熱交換器55内で排ガスライン45を流れる排ガスG0と熱交換され、冷却される(S11:予熱工程)。第二排ガス処理装置30から流出した直後の第二処理ガスG2の温度は、例えば、355℃である。予熱熱交換器55で冷却された後の第二処理ガスG2の温度は、例えば、250℃である。   As described above, the second process gas G2 flowing through the second process gas line 46 is heat-exchanged with the exhaust gas G0 flowing through the exhaust gas line 45 in the preheating heat exchanger 55 and cooled (S11: preheating step). The temperature of the second process gas G2 immediately after flowing out of the second exhaust gas treatment device 30 is, for example, 355 ° C. The temperature of the second processing gas G2 after being cooled by the preheating heat exchanger 55 is, for example, 250 ° C.

以上のように、本実施形態では、第一排ガス処理装置10で排ガスG0中のVOCを酸化分解した後、第一排ガス処理装置10を通過した第一処理ガスG1中に残存するVOCを第二排ガス処理装置30で更に酸化分解する。よって、本実施形態では、排ガスG0中のVOCを単体の処理装置で処理する場合よりも、排ガスG0中のVOCの濃度を大幅に低減させることができる。すなわち、本実施形態では、排ガスG0中に含まれるVOCの処理能力を大幅に高めることができる。   As described above, in this embodiment, after the VOC in the exhaust gas G0 is oxidatively decomposed by the first exhaust gas treatment apparatus 10, the VOC remaining in the first process gas G1 that has passed through the first exhaust gas treatment apparatus 10 is secondly converted. Further oxidative decomposition is performed by the exhaust gas treatment device 30. Therefore, in this embodiment, the concentration of VOC in the exhaust gas G0 can be significantly reduced as compared with the case where the VOC in the exhaust gas G0 is processed by a single processing device. That is, in this embodiment, the processing capacity of VOC contained in the exhaust gas G0 can be significantly increased.

また、本実施形態では、排ガスG0が第一排ガス処理装置10に流入する前に、予熱熱交換器55で第二処理ガスG2の熱により加熱されるため、燃焼室15に流入した排ガスG0を加熱するために必要な燃料等の流量を抑えることができる。また、本実施形態では、蓄熱室17で熱を奪われた第一処理ガスG1に対して、燃焼室15内の高温の排ガスである第一中間処理ガスG1iを合流させてから、この混合ガスGmを第二排ガス処理装置30に流入させている。このため、本実施形態では、燃料等を燃焼させて第一処理ガスG1を加熱しなくても、第二排ガス処理装置30に流入する排ガスの温度を触媒36の活性温度範囲にすることができる。よって、本実施形態では、排ガス処理にかかるランニングコストを抑えることができる。   Further, in the present embodiment, the exhaust gas G0 is heated by the heat of the second processing gas G2 in the preheating heat exchanger 55 before the exhaust gas G0 flows into the first exhaust gas treatment device 10, so that the exhaust gas G0 that has flowed into the combustion chamber 15 is The flow rate of fuel or the like necessary for heating can be suppressed. In the present embodiment, the first intermediate processing gas G1i that is the high-temperature exhaust gas in the combustion chamber 15 is joined to the first processing gas G1 that has been deprived of heat in the heat storage chamber 17, and then this mixed gas. Gm is allowed to flow into the second exhaust gas treatment device 30. For this reason, in this embodiment, the temperature of the exhaust gas flowing into the second exhaust gas treatment device 30 can be within the activation temperature range of the catalyst 36 without burning the fuel or the like and heating the first treatment gas G1. . Therefore, in this embodiment, the running cost concerning exhaust gas treatment can be suppressed.

「第二実施形態」
本発明に係る排ガス処理設備の第二実施形態について、図3及び図4を参照して説明する。
"Second embodiment"
A second embodiment of the exhaust gas treatment facility according to the present invention will be described with reference to FIGS. 3 and 4.

本実施形態の排ガス処理設備は、図3に示すように、第一実施形態の排ガス処理設備に、濃縮装置50及び廃熱回収熱交換器56を追加した設備である。   As shown in FIG. 3, the exhaust gas treatment facility of the present embodiment is a facility in which a concentrator 50 and a waste heat recovery heat exchanger 56 are added to the exhaust gas treatment facility of the first embodiment.

本実施形態の排ガス処理設備では、第一実施形態の排ガス処理設備で処理する排ガスG0よりもVOC濃度が低い低濃度排ガスGLを処理する。濃縮装置50は、この低濃度排ガスGLを高濃度低風量の排ガスに濃縮する。濃縮装置50は、回転する円筒形のロータと、ロータの表面に担持されている吸着剤と、ロータを覆うケーシングと、を有する。吸着剤は、例えば、ゼオライトで、VOCを吸着する。ケーシング内には、吸着ゾーンと、再生ゾーンと、冷却ゾーンとがある。ケーシング内の再生ゾーン内は、熱風が通る。ロータの表面に担持されている吸着剤のうち、吸着ゾーン内に位置する吸着剤は、低濃度排ガスGL中のVOCを吸着する。吸着ゾーン内に位置し、VOCを吸着した吸着剤は、ロータの回転で再生ゾーン内に位置すると、少風量の熱風中にVOCを離脱させる。これにより、低濃度排ガスGL中のVOC濃度を高めた小風量の排ガスが生成される。   In the exhaust gas treatment facility of the present embodiment, the low concentration exhaust gas GL having a VOC concentration lower than that of the exhaust gas G0 treated in the exhaust gas treatment facility of the first embodiment is processed. The concentrator 50 concentrates the low-concentration exhaust gas GL into exhaust gas having a high concentration and a low air volume. The concentrating device 50 has a rotating cylindrical rotor, an adsorbent supported on the surface of the rotor, and a casing that covers the rotor. The adsorbent is, for example, zeolite and adsorbs VOC. Within the casing are an adsorption zone, a regeneration zone, and a cooling zone. Hot air passes through the regeneration zone in the casing. Of the adsorbents supported on the rotor surface, the adsorbent located in the adsorption zone adsorbs VOC in the low-concentration exhaust gas GL. The adsorbent that is located in the adsorption zone and has adsorbed the VOC causes the VOC to be released in the small amount of hot air when the adsorbent that has adsorbed the VOC is located in the regeneration zone by the rotation of the rotor. Thereby, the exhaust gas of the small air volume which raised the VOC density | concentration in the low concentration exhaust gas GL is produced | generated.

濃縮装置50は、VOC濃度を高めた排ガスを排ガスG0として排出する。濃縮装置50のガス出口54と第一排ガス処理装置10のガス入口13とは、排ガスライン45で接続されている。この排ガスライン45には、必要に応じて、この排ガスライン45を流れる排ガスG0の流れを形成する排ガスファン59が設けられる。   The concentrating device 50 discharges the exhaust gas having an increased VOC concentration as the exhaust gas G0. The gas outlet 54 of the concentrator 50 and the gas inlet 13 of the first exhaust gas treatment device 10 are connected by an exhaust gas line 45. The exhaust gas line 45 is provided with an exhaust gas fan 59 that forms a flow of the exhaust gas G0 flowing through the exhaust gas line 45 as necessary.

予熱熱交換器55は、第一実施形態と同様に、第二処理ガスライン46と排ガスライン45とを跨って設けられている。廃熱回収熱交換器56は、第二処理ガスライン46中であって、予熱熱交換器55よりも第二処理ガスG2の流れの下流側に配置されている。この廃熱回収熱交換器56は、熱交換器で、第二処理ガスライン46を流れる第二処理ガスG2と外気Aとを熱交換させ、第二処理ガスG2を冷却する一方で外気Aを加熱する。なお、廃熱回収熱交換器56は、外気Aと第二処理ガスG2とを熱交換させるが、外気A以外の媒体と第二処理ガスG2とを熱交換させてもよい。   The preheating heat exchanger 55 is provided across the second process gas line 46 and the exhaust gas line 45 as in the first embodiment. The waste heat recovery heat exchanger 56 is disposed in the second processing gas line 46 and downstream of the preheating heat exchanger 55 in the flow of the second processing gas G2. The waste heat recovery heat exchanger 56 is a heat exchanger that exchanges heat between the second processing gas G2 flowing through the second processing gas line 46 and the outside air A, and cools the second processing gas G2, while Heat. The waste heat recovery heat exchanger 56 exchanges heat between the outside air A and the second processing gas G2, but may exchange heat between a medium other than the outside air A and the second treatment gas G2.

次に、図4に示すフローチャートに従って、本実施形態に係る排ガス処理設備における排ガス処理の手順について説明する。   Next, the procedure of the exhaust gas treatment in the exhaust gas treatment facility according to the present embodiment will be described according to the flowchart shown in FIG.

濃縮装置50は、前述したように、低濃度排ガスGLを小風量で且つVOC濃度の高い排ガスG0にしてから、この排ガスG0を排出する。すなわち、濃縮装置50は、低濃度排ガスGL中のVOCを濃縮する(S10:濃縮工程)。ここで、濃縮装置50から流出した直後の排ガスG0の温度は、例えば、60℃である。この排ガスG0は、前述したように、予熱熱交換器55内で第二処理ガスG2と熱交換される(S11:予熱工程)。第二排ガス処理装置30から流出した直後の第二処理ガスG2の温度は、例えば、355℃である。第二処理ガスG2と排ガスG0との間で熱交換により、第二処理ガスG2が冷却され、排ガスG0が加熱される。第二処理ガスG2との熱交換で予熱された排ガスG0の温度は、例えば、160℃である。   As described above, the concentrating device 50 changes the low-concentration exhaust gas GL into an exhaust gas G0 having a small air volume and a high VOC concentration, and then discharges the exhaust gas G0. That is, the concentration apparatus 50 concentrates VOC in the low concentration exhaust gas GL (S10: concentration step). Here, the temperature of the exhaust gas G0 immediately after flowing out of the concentrator 50 is, for example, 60 ° C. As described above, the exhaust gas G0 is heat-exchanged with the second processing gas G2 in the preheating heat exchanger 55 (S11: preheating step). The temperature of the second process gas G2 immediately after flowing out of the second exhaust gas treatment device 30 is, for example, 355 ° C. The second process gas G2 is cooled by heat exchange between the second process gas G2 and the exhaust gas G0, and the exhaust gas G0 is heated. The temperature of the exhaust gas G0 preheated by heat exchange with the second processing gas G2 is, for example, 160 ° C.

予熱熱交換器55で予熱された排ガスG0は、第一実施形態と同様に、第一排ガス処理装置10及び第二排ガス処理装置30を通過する。このため、第一排ガス処理装置10及び第二排ガス処理装置30を含む設備では、第一実施形態と同様、第一排ガス処理工程(S1)、混合工程(S4)、及び第二排ガス処理工程(S7)が実行される。   The exhaust gas G0 preheated by the preheating heat exchanger 55 passes through the first exhaust gas treatment device 10 and the second exhaust gas treatment device 30 as in the first embodiment. For this reason, in the facility including the first exhaust gas treatment device 10 and the second exhaust gas treatment device 30, as in the first embodiment, the first exhaust gas treatment step (S1), the mixing step (S4), and the second exhaust gas treatment step ( S7) is executed.

第二排ガス処理装置30からの第二処理ガスG2は、第二処理ガスライン46を経て、予熱熱交換器55に流入する。第二処理ガスG2は、前述したように、予熱熱交換器55内を流れる過程で、排ガスG0との熱交換により冷却される(S11:予熱工程)。予熱熱交換器55で冷却された後の第二処理ガスG2の温度は、第一実施形態と同様、例えば、250℃である。   The second processing gas G <b> 2 from the second exhaust gas processing device 30 flows into the preheating heat exchanger 55 through the second processing gas line 46. As described above, the second processing gas G2 is cooled by heat exchange with the exhaust gas G0 in the process of flowing through the preheating heat exchanger 55 (S11: preheating step). The temperature of the second processing gas G2 after being cooled by the preheating heat exchanger 55 is, for example, 250 ° C. as in the first embodiment.

予熱熱交換器55を通過した第二処理ガスG2は、廃熱回収熱交換器56に流入する。この廃熱回収熱交換器56では、外気A等の媒体と第二処理ガスG2とが熱交換され、外気A等が加熱される一方で第二処理ガスG2が冷却される(S12:廃熱回収工程)。   The second processing gas G <b> 2 that has passed through the preheating heat exchanger 55 flows into the waste heat recovery heat exchanger 56. In the waste heat recovery heat exchanger 56, the medium such as the outside air A and the second process gas G2 are heat-exchanged, and the outside process A is heated while the second process gas G2 is cooled (S12: waste heat). Recovery process).

以上のように、本実施形態では、低濃度排ガスGLを小風量で且つVOC濃度の高い排ガスG0にしてから、この排ガスG0を第一排ガス処理装置10及び第二排ガス処理装置30で処理する。よって、本実施形態では、低濃度排ガスGLを処理するに当たり、第一排ガス処理装置10及び第二排ガス処理装置30で処理する排ガス量を少なくすることができるので、第一排ガス処理装置10及び第二排ガス処理装置30の小型化を図ることができ、設備コストを抑えることができる。さらに、本実施形態では、第一排ガス処理装置10及び第二排ガス処理装置30で処理する排ガス量を高濃度化することができるので、ランニングコストも抑えることができる。   As described above, in this embodiment, the low-concentration exhaust gas GL is converted into the exhaust gas G0 having a small air volume and a high VOC concentration, and then the exhaust gas G0 is processed by the first exhaust gas treatment device 10 and the second exhaust gas treatment device 30. Therefore, in this embodiment, when processing the low-concentration exhaust gas GL, the amount of exhaust gas to be processed by the first exhaust gas processing device 10 and the second exhaust gas processing device 30 can be reduced. The two exhaust gas treatment devices 30 can be downsized, and the equipment cost can be reduced. Furthermore, in this embodiment, since the amount of exhaust gas processed by the first exhaust gas treatment device 10 and the second exhaust gas treatment device 30 can be increased, the running cost can also be suppressed.

また、本実施形態では、予熱熱交換器55を通過した後の第二処理ガスG2の熱を廃熱回収熱交換器56で回収するので、この第二処理ガスG2の熱を有効利用することができる。   Moreover, in this embodiment, since the heat | fever of the 2nd process gas G2 after passing the preheating heat exchanger 55 is collect | recovered with the waste-heat recovery heat exchanger 56, using this heat | fever of the 2nd process gas G2 effectively. Can do.

なお、本実施形態は、前述したように、第一実施形態の排ガス処理設備に、濃縮装置50及び廃熱回収熱交換器56を追加した設備である。しかしながら、第一実施形態の排ガス処理設備に、濃縮装置50と廃熱回収熱交換器56とのうち、いずれか一方のみを追加してもよい。   In addition, this embodiment is the installation which added the concentrating apparatus 50 and the waste heat recovery heat exchanger 56 to the waste gas treatment facility of 1st embodiment as mentioned above. However, only one of the concentrator 50 and the waste heat recovery heat exchanger 56 may be added to the exhaust gas treatment facility of the first embodiment.

10 第一排ガス処理装置
11 ケーシング
12 入出室
13 ガス入口
14 ガス出口
15 燃焼室
16 中間処理ガス出口
17 蓄熱室
18 蓄熱流路
21 バーナー
23 回転分配弁
25 分配流路
30 第二排ガス処理装置
31 ケーシング
33 ガス入口
34 ガス出口
35 前処理部
36 触媒
41 第一処理ガスライン
42 第一中間処理ガスライン
43 温度調節計
44 ホットバイパス弁
45 排ガスライン
46 第二処理ガスライン
47 吸気口
50 濃縮装置
54 ガス出口
55 予熱熱交換器
56 廃熱回収熱交換器
59 排ガスファン
G0 排ガス
G1 第一処理ガス
G1i 第一中間処理ガス
Gm 混合ガス
G2 第二処理ガス
GL 低濃度排ガス
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 1st exhaust gas processing apparatus 11 Casing 12 Entrance / exit chamber 13 Gas inlet 14 Gas outlet 15 Combustion chamber 16 Intermediate processing gas outlet 17 Thermal storage chamber 18 Thermal storage flow path 21 Burner 23 Rotary distribution valve 25 Distribution flow path 30 Second exhaust gas processing apparatus 31 Casing 33 Gas inlet 34 Gas outlet 35 Pretreatment section 36 Catalyst 41 First treatment gas line 42 First intermediate treatment gas line 43 Temperature controller 44 Hot bypass valve 45 Exhaust gas line 46 Second treatment gas line 47 Inlet 50 Concentrator 54 Gas Outlet 55 Preheat heat exchanger 56 Waste heat recovery heat exchanger 59 Exhaust gas fan G0 Exhaust gas G1 First process gas G1i First intermediate process gas Gm Mixed gas G2 Second process gas GL Low concentration exhaust gas

Claims (8)

揮発性の有機化合物を含む排ガスを加熱して、前記有機化合物を酸化分解する燃焼室を有する第一排ガス処理装置と、
前記燃焼室で前記有機化合物が酸化分解された後の排ガスである第一処理ガス中に残留する前記有機化合物を酸化分解する触媒を有する第二排ガス処理装置と、
前記第二排ガス処理装置で前記有機化合物が酸化分解された後の排ガスである第二処理ガスと、前記第一排ガス処理装置に流入する前の前記排ガスとを熱交換させ、前記第二処理ガスの熱によって前記排ガスを加熱する予熱熱交換器と、
を備え
前記第一排ガス処理装置は、前記第一処理ガスから熱を奪って、前記熱を一時的に蓄え、蓄えた前記熱を前記燃焼室に流入する前の前記排ガスに対して放熱する蓄熱室を有し、
前記蓄熱室で熱を奪われた前記第一処理ガスが前記第二排ガス処理装置に導かれるよう、前記第一排ガス処理装置と前記第二排ガス処理装置とを接続する第一処理ガスラインと、
前記燃焼室内の排ガスである第一中間処理ガスが前記第二排ガス処理装置に導かれるよう、前記第一排ガス処理装置の前記燃焼室と前記第一処理ガスラインとを接続する第一中間処理ガスラインと、
前記第一処理ガスライン及び前記第一中間処理ガスラインから前記第二排ガス処理装置に流入する排ガスの温度を検知する温度調節計と、
前記温度調節計で検知された温度に応じて、前記第一中間処理ガスラインを流れる前記第一中間処理ガスの流量を調節するホットバイパス弁と、
を更に備え、
前記温度調節計は、第一処理ガスライン中であって、第一中間処理ガスラインとの接続位置よりも第二排ガス処理装置側に設けられ、
前記ホットバイパス弁は、第一中間処理ガスラインに設けられ、
前記ホットバイパス弁は、温度調節計で検知された混合ガスの温度に基づき、第一中間処理ガスラインを流れる第一中間処理ガスの流量を調節する
排ガス処理設備。
A first exhaust gas treatment device having a combustion chamber that heats exhaust gas containing a volatile organic compound to oxidatively decompose the organic compound;
A second exhaust gas treatment device having a catalyst that oxidatively decomposes the organic compound remaining in the first treatment gas, which is exhaust gas after the organic compound is oxidatively decomposed in the combustion chamber;
Heat exchange between the second processing gas, which is the exhaust gas after the organic compound has been oxidatively decomposed in the second exhaust gas processing device, and the exhaust gas before flowing into the first exhaust gas processing device; A preheating heat exchanger for heating the exhaust gas by the heat of
Equipped with a,
The first exhaust gas treatment device has a heat storage chamber that takes heat from the first process gas, temporarily stores the heat, and dissipates the stored heat to the exhaust gas before flowing into the combustion chamber. Have
A first treatment gas line connecting the first exhaust gas treatment device and the second exhaust gas treatment device so that the first treatment gas deprived of heat in the heat storage chamber is guided to the second exhaust gas treatment device;
A first intermediate processing gas that connects the combustion chamber of the first exhaust gas processing device and the first processing gas line so that the first intermediate processing gas that is the exhaust gas in the combustion chamber is guided to the second exhaust gas processing device. Line,
A temperature controller for detecting the temperature of the exhaust gas flowing into the second exhaust gas treatment device from the first process gas line and the first intermediate process gas line;
A hot bypass valve that adjusts the flow rate of the first intermediate processing gas flowing through the first intermediate processing gas line in accordance with the temperature detected by the temperature controller;
Further comprising
The temperature controller is in the first processing gas line, and is provided on the second exhaust gas treatment device side from the connection position with the first intermediate processing gas line,
The hot bypass valve is provided in the first intermediate processing gas line,
The hot bypass valve is an exhaust gas treatment facility that adjusts the flow rate of the first intermediate process gas flowing through the first intermediate process gas line based on the temperature of the mixed gas detected by the temperature controller .
請求項1に記載の排ガス処理設備において、
前記予熱熱交換器で放熱により温度が下がった前記第二処理ガスと媒体とを熱交換させ、前記第二処理ガスの熱によって前記媒体を加熱する廃熱回収熱交換器を備える、
排ガス処理設備。
In the exhaust gas treatment facility according to claim 1,
A waste heat recovery heat exchanger that heat-exchanges the second processing gas and the medium whose temperature has been reduced by heat radiation in the preheating heat exchanger, and heats the medium by the heat of the second processing gas;
Exhaust gas treatment equipment.
請求項2に記載の排ガス処理設備において、
前記有機化合物を含む低濃度排ガス中の有機化合物濃度を高めた排ガスを生成して、前記排ガスを排気する濃縮装置を更に備え、
前記予熱熱交換器は、前記濃縮装置から排気された前記排ガスと前記第二処理ガスとを熱交換させる、
排ガス処理設備。
The exhaust gas treatment facility according to claim 2,
Further comprising a concentrating device for generating exhaust gas having an increased organic compound concentration in the low-concentration exhaust gas containing the organic compound and exhausting the exhaust gas;
The preheating heat exchanger exchanges heat between the exhaust gas exhausted from the concentrator and the second processing gas.
Exhaust gas treatment equipment.
請求項1からのいずれか一項に記載の排ガス処理設備において、
前記第二排ガス処理装置は、ガス入口及びガス出口が形成されているケーシングと、前記ケーシング内に配置されている前記触媒と、前記ケーシング内であって前記触媒よりも前記ガス入口側に配置されている前処理部と、を有し、
前記前処理部は、前記第二排ガス処理装置に流入する排ガスに含まれ、前記触媒の性能を低下させる原因物質を除去する、
排ガス処理設備。
In the exhaust gas treatment facility according to any one of claims 1 to 3 ,
The second exhaust gas treatment device includes a casing in which a gas inlet and a gas outlet are formed, the catalyst arranged in the casing, and the gas inside the casing and closer to the gas inlet than the catalyst. A pre-processing unit,
The pretreatment unit is included in the exhaust gas flowing into the second exhaust gas treatment device, and removes a causative substance that reduces the performance of the catalyst.
Exhaust gas treatment equipment.
揮発性の有機化合物を含む排ガスを加熱して、前記有機化合物を酸化分解する酸化処理工程を含む第一排ガス処理工程と、
前記酸化処理工程で前記排ガス中の前記有機化合物が酸化分解された後の排ガスである第一処理ガス中に残存する前記有機化合物を触媒で酸化分解する第二酸化処理工程を含む第二排ガス処理工程と、
前記第二排ガス処理工程で前記有機化合物が酸化分解された後の排ガスである第二処理ガスと、前記第一排ガス処理工程を経る前の前記排ガスとを熱交換させ、前記第二処理ガスを冷却する一方で前記排ガスを加熱する予熱工程と、
を実行し、
前記第一排ガス処理工程は、前記第一処理ガスから熱を奪って、前記熱を一時的に蓄え、蓄えた前記熱を前記酸化処理工程が実行される前の前記排ガスに対して放熱する蓄熱/放熱工程を含み、
前記蓄熱/放熱工程で熱を奪われ、前記第二排ガス処理工程を経る前の前記第一処理ガスに、前記酸化処理工程中の排ガスである第一中間処理ガスを混合する混合工程を実行し、
前記第二排ガス処理工程では、前記第一処理ガスと前記第一中間処理ガスとが混合した排ガスである混合ガス中の前記有機化合物を酸化分解し、
前記混合工程は、前記混合ガスの温度を検知する温度検知工程と、前記温度検知工程で検知された温度に応じて、前記第一処理ガスに混合させる前記第一中間処理ガスの流量を調節する流量調節工程を含む、
排ガス処理方法。
A first exhaust gas treatment step including an oxidation treatment step in which an exhaust gas containing a volatile organic compound is heated to oxidatively decompose the organic compound;
A second exhaust gas treatment step including a second dioxide treatment step of oxidizing and decomposing the organic compound remaining in the first treatment gas, which is an exhaust gas after the organic compound in the exhaust gas is oxidatively decomposed in the oxidation treatment step, with a catalyst; When,
The second treatment gas, which is the exhaust gas after the organic compound is oxidized and decomposed in the second exhaust gas treatment step, is heat-exchanged with the exhaust gas before the first exhaust gas treatment step, and the second treatment gas is A preheating step of heating the exhaust gas while cooling;
Run
The first exhaust gas treatment step takes heat from the first treatment gas, temporarily stores the heat, and stores heat to release the stored heat to the exhaust gas before the oxidation treatment step is performed. / Including heat dissipation process,
The mixing step of mixing the first intermediate processing gas, which is the exhaust gas in the oxidation processing step, with the first processing gas before being subjected to the second exhaust gas processing step is deprived of heat in the heat storage / radiation step. ,
In the second exhaust gas treatment step, the organic compound in the mixed gas which is an exhaust gas in which the first treatment gas and the first intermediate treatment gas are mixed is oxidized and decomposed,
The mixing step adjusts the flow rate of the first intermediate processing gas to be mixed with the first processing gas according to the temperature detection step of detecting the temperature of the mixed gas and the temperature detected in the temperature detection step. Including a flow control step,
Exhaust gas treatment method.
請求項5に記載の排ガス処理方法において、  The exhaust gas treatment method according to claim 5,
前記予熱工程で冷却された前記第二処理ガスと媒体とを熱交換させ、前記第二処理ガスを冷却する一方で前記媒体を加熱する廃熱回収工程を実行する、  Heat exchange between the second processing gas and the medium cooled in the preheating step, and performing a waste heat recovery step of heating the medium while cooling the second processing gas;
排ガス処理方法。  Exhaust gas treatment method.
請求項5又は6に記載の排ガス処理方法において、  In the exhaust gas treatment method according to claim 5 or 6,
前記有機化合物を含む低濃度排ガス中の有機化合物濃度を高めた排ガスを生成して、前記排ガスを排気する濃縮工程を実行し、  Generating an exhaust gas having an increased concentration of organic compounds in the low-concentration exhaust gas containing the organic compound, and executing a concentration step of exhausting the exhaust gas;
前記予熱工程では、前記濃縮工程で排気された前記排ガスと前記第二処理ガスとを熱交換させる、  In the preheating step, heat exchange is performed between the exhaust gas exhausted in the concentration step and the second processing gas.
排ガス処理方法。  Exhaust gas treatment method.
請求項5から7のいずれか一項に記載の排ガス処理方法において、  In the exhaust gas treatment method according to any one of claims 5 to 7,
前記第二排ガス処理工程は、前記第二酸化処理工程を経る前の前記排ガスに前処理を施す前処理工程を更に含み、  The second exhaust gas treatment step further includes a pretreatment step of pretreating the exhaust gas before passing through the second dioxide treatment step,
前記前処理工程では、前記第二酸化処理工程を経る前の前記排ガス中に含まれ、前記触媒の性能を低下させる原因物質を除去する、  In the pretreatment step, a causative substance that is contained in the exhaust gas before passing through the second oxidation treatment step and reduces the performance of the catalyst is removed.
排ガス処理方法。  Exhaust gas treatment method.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110887051A (en) * 2019-11-22 2020-03-17 深圳市群卜鸿科技有限公司 A waste gas burns burning furnace that burning is abundant for environmental protection engineering
JP7021852B2 (en) 2014-06-16 2022-02-17 グロッツ-ベッケルト・カーゲー Multi-die melt blow system and method for forming mixed fiber structure

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6367454B1 (en) * 2017-12-01 2018-08-01 中外炉工業株式会社 Exhaust gas treatment system
CN109939534A (en) * 2018-11-23 2019-06-28 江苏金门能源装备有限公司 A kind of device of Adsorption Concentration and catalysis burning coupling processing VOCs exhaust gas
CN109882871A (en) * 2019-01-29 2019-06-14 维珂瑞(北京)环境科技有限公司 A kind of high-concentration organic waste gas processing system
DE102019105283A1 (en) * 2019-03-01 2020-09-03 Eisenmann Se Regenerative post-combustion device, coating system and method for coating objects
CN113483343B (en) * 2021-05-31 2024-03-22 成都思达能环保设备有限公司 Dangerous waste flue gas treatment method and dangerous waste flue gas treatment system
KR102357359B1 (en) * 2021-06-11 2022-02-08 케이씨브이씨에스 주식회사 The disposing equipment for noxious gas
CN114870580A (en) * 2021-06-17 2022-08-09 埃飘环境科技(上海)有限公司 Equipment for safely treating waste gas and application thereof

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4930265A (en) * 1972-07-19 1974-03-18
JPH09189411A (en) * 1996-01-09 1997-07-22 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Heat accumulation type heat-exchange type exhaust gas combustion device
JP2007247922A (en) * 2006-03-14 2007-09-27 Sintokogio Ltd Exhaust gas treatment system
JP5991234B2 (en) * 2013-03-07 2016-09-14 マツダ株式会社 Deodorizing device
JP2016083629A (en) * 2014-10-28 2016-05-19 大日本印刷株式会社 Deodorization device, deodorization method and print system

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7021852B2 (en) 2014-06-16 2022-02-17 グロッツ-ベッケルト・カーゲー Multi-die melt blow system and method for forming mixed fiber structure
CN110887051A (en) * 2019-11-22 2020-03-17 深圳市群卜鸿科技有限公司 A waste gas burns burning furnace that burning is abundant for environmental protection engineering

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