JP6278186B2 - 除草剤用薬害軽減剤及び薬害が軽減された除草剤組成物 - Google Patents
除草剤用薬害軽減剤及び薬害が軽減された除草剤組成物 Download PDFInfo
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式(1):
(a)Aは、C1〜C6ハロアルキル基又はC1〜C6ハロアルコキシ基を表し
Gは、カルボキシ基を表し、
R1、R2及びR3は、水素原子を表すか、
(b)R2は、C1〜C6ハロアルキル基を表し、
Gは、カルボキシ基を表し、
R1、A及びR3は、水素原子を表す。]で表される化合物を主成分とすることを特徴とする除草剤用薬害軽減剤。
Aは、C1〜C6ハロアルキル基又はC1〜C6ハロアルコキシ基を表し
Gは、カルボキシ基を表し、
R1、R2及びR3は、水素原子を表す上記〔1〕記載の除草剤用薬害軽減剤。
Aは、C1〜C6ハロアルキル基を表す上記〔2〕記載の除草剤用薬害軽減剤。
Aは、C1〜C6ハロアルコキシ基を表す上記〔2〕記載の除草剤用薬害軽減剤。
R2は、C1〜C6ハロアルキル基を表し、
Gは、カルボキシ基を表し、
R1、A及びR3は、水素原子を表す上記〔1〕記載の除草剤用薬害軽減剤。
(a)式(1):
(i)Aは、C1〜C6ハロアルキル基又はC1〜C6ハロアルコキシ基を表し
Gは、カルボキシ基を表し、
R1、R2及びR3は、水素原子を表すか、
(ii)R2は、C1〜C6ハロアルキル基を表し、
Gは、カルボキシ基を表し、
R1、A及びR3は、水素原子を表すか、
(iii)Aは、水素原子又はヒドロキシ基を表し、
Gは、カルボキシ基を表し、
R1は、水素原子又はヒドロキシ基を表し、
R2及びR3は、C4〜C5アルキル基を表し、ここで、A及びR1のいずれかは水素原子である。]で表される化合物を主成分とすることを特徴とする除草剤用薬害軽減剤と,
(b)スルホニル尿素系化合物、スルホンアミド系化合物、クロロアセトアニリド系化合物、チオカルバマート系化合物、ピリミジニルオキシ(チオ)安息香酸系化合物、テトラゾリノン系化合物、トリアゾール系化合物、ピラゾール系化合物、シクロヘキサンジオン系化合物、フェノキシカルボン酸系化合物、オキサジノン系化合物、ジフルオロメタンスルホニルアニリド系化合物及びイソオキサゾリン系化合物並びにその塩から選ばれる1又は2以上の除草活性化合物、
を含有することを特徴とする、薬害が軽減された除草剤組成物。
除草活性化合物がスルホニル尿素系化合物である上記〔6〕に記載の薬害が軽減された除草剤組成物。
スルホニル尿素系化合物がメタゾスルフロン、ピラゾスルフロンエチル、ハロスルフロンメチル、プロピリスルフロン、ベンスルフロンメチル、フルセトスルフロン、アジムスルフロン又はイマゾスルフロンである上記〔7〕に記載の薬害が軽減された除草剤組成物。
除草活性化合物がシクロヘキサンジオン系化合物である上記〔6〕に記載の薬害が軽減された除草剤組成物。
除草活性化合物がジフルオロメタンスルホニルアニリド系化合物である上記〔6〕に記載の薬害が軽減された除草剤組成物。
ジフルオロメタンスルホニルアニリド系化合物がピリミスルファンである上記〔10〕に記載の薬害が軽減された除草剤組成物。
除草活性化合物がクロロアセトアニリド系化合物である上記〔6〕に記載の薬害が軽減された除草剤組成物。
クロロアセトアニリド系化合物がブタクロールである上記〔12〕に記載の薬害が軽減された除草剤組成物。
除草活性化合物がチオカルバマート系化合物である上記〔6〕に記載の薬害が軽減された除草剤組成物。
チオカルバマート系化合物がエスプロカルブである上記〔14〕に記載の薬害が軽減された除草剤組成物。
除草活性化合物がジメタメトリンである上記〔6〕に記載の薬害が軽減された除草剤組成物。
除草活性化合物がメタゾスルフロン、ピラゾスルフロンエチル、ハロスルフロンメチル、ブタクロール、エスプロカルブ、ジメタメトリン、ピリミスルファン、プロピリスルフロン、ベンスルフロンメチル、イマゾスルフロン、フルセトスルフロン又はアジムスルフロンである上記〔6〕に記載の薬害が軽減された除草剤組成物。
(a)式(1):
(i)Aは、C1〜C6ハロアルキル基又はC1〜C6ハロアルコキシ基を表し
Gは、カルボキシ基を表し、
R1、R2及びR3は、水素原子を表すか、
(ii)R2は、C1〜C6ハロアルキル基を表し、
Gは、カルボキシ基を表し、
R1、A及びR3は、水素原子を表すか、
(iii)Aは、水素原子又はヒドロキシ基を表し、
Gは、カルボキシ基を表し、
R1は、水素原子又はヒドロキシ基を表し、
R2及びR3は、C4〜C5アルキル基を表し、ここで、A及びR1のいずれかは水素原子である。]で表される化合物を主成分とすることを特徴とする除草剤用薬害軽減剤と,
(b)スルホニル尿素系化合物、スルホンアミド系化合物、クロロアセトアニリド系化合物、チオカルバマート系化合物、ピリミジニルオキシ(チオ)安息香酸系化合物、テトラゾリノン系化合物、トリアゾール系化合物、ピラゾール系化合物、シクロヘキサンジオン系化合物、フェノキシカルボン酸系化合物、オキサジノン系化合物、ジフルオロメタンスルホニルアニリド系化合物及びイソオキサゾリン系化合物並びにその塩から選ばれる1又は2以上の除草活性化合物を、同時に施用するか或いは時間的に近接して施用することを特徴とする、該除草活性化合物による作物の薬害を軽減する方法。
水田の雑草を防除する上記〔18〕記載の除草方法。
マザキン(imazaquin/一般名)、イマゾスルフロン(imazosulfuron/一般名)、インダノファン(indanofan/一般名)、インダジフラム(indaziflam/一般名)、ヨードスルフロンメチルナトリウム(iodosulfuron−methyl−sodium/一般名)、アイオキシニル(ioxynil octanoate/一般名)、アイオキシニルの塩およびエステル(ioxynil―salts and esters)、イプフェンカルバゾン(ipfencarbazone/一般名)、イソプロチュロン(isoproturon/一般名)、イソウロン(isouron/一般名)、イソキサベン(isoxaben/一般名)、イソキサフルトール(isoxaflutole/一般名)、カルブチレート(karbutilate/一般名)、ラクトフェン(lactofen/一般名)、レナシル(lenacil/一般名)、リニュロン(linuron/一般名)、マレイン酸ヒドラジド(maleic hydrazide/一般名)、MCPA(一般名)、MCPAの塩およびエステル(MCPA―salts and esters)、MCPB(一般名)、MCPBの塩およびエステル(MCPB―salts and esters)、メコプロップ(mecoprop、MCPP/一般名)、メコプロップの塩およびエステル(mecoprop―salts and esters)、Pメコプロップ(mecoprop―P、MCPP―P/一般名)、Pメコプロップの塩およびエステル(mecoprop―P―salts and esters)、メフェナセット(mefenacet/一般名)、メフルイジド(mefluidide/一般名)、メソスルフロンメチル(mesosulfuron―methyl/一般名)、メソトリオン(mesotrione/一般名)、メタム(metam/一般名)、メタミホップ(metamifop/一般名)、メタミトロン(metamitron/一般名)、メタザクロール(metazachlor/一般名)、メタベンズチアズロン(methabenzthiazuron/一般名)、メタゾスルフロン(metazosulfuron/一般名)、メチオゾリン(methiozolin/一般名)、メチルアジド(methyl azide/一般名)、臭化メチル(methyl bromide/一般名)、メチルダイムロン(methyl dymron/一般名)、ヨウ化メチル(methyl iodide/一般名)、メトベンズロン(metobenzuron/一般名)、メトラクロール(metolachlor/一般名)、Sメトラクロール(metolachlor―S/一般名)、メトスラム(metosulam/一般名)、メトリブジン(metribuzin/一般名)、メトスルフロンメチル(metsulfuron−methyl/一般名)、メトクスロン(metoxuron/一般名)、モリネート(molinate/一般名)、モノリニュロン(monolinuron/一般名)、モノスルフロン(monosulfuron/一般名)、モノスルフロンメチル(monosulfuron−methyl/一般名)、MSMA/一般名、ナプロアニリド(naproanilide/一般名)、ナプロパミド(napropamide/一般名)、ナプタラム(naptalam/一般名)、ナプタラムナトリウム(naptalam―sodium/一般名)、ネブロン(neburon/一般名)、ニコスルフロン(nicosulfuron/一般名)、ノルフルラゾン(norflurazon/一般名)、OK−701(試験名)、オレイン酸(oleic acid/一般名)、オルベンカーブ(orbencarb/一般名)、オルソスルファムロン(orthosulfamuron/一般名)、オリザリン(oryzalin/一般名)、オキサジアルギル(oxadiargyl/一般名)、オキサジアゾン(oxadiazon/一般名)、オキサスルフロン(oxasulfuron/一般名)、オキサジクロメホン(oxaziclomefone/一般名)、オキシフルオルフェン(oxyfluorfen/一般名)、パラコート(paraquat/一般名)、ペラルゴン酸(pelargonicacid/一般名)、ペンディメタリン(pendimethalin/一般名)、ペノキススラム(penoxsulam/一般名)、ペンタノクロール(pentanochlor/一般名)、ペントキサゾン(pentoxazone/一般名)、ペトキサミド(pethoxamid/一般名)、フェンメディファムエチル(phenmedipham―ethyl/一般名)、ピクロラム(picloram/一般名)、ピクロラムの塩およびエステル(picloram―salts and esters)、ピコリナフェン(picolinafen/一般名)、ピノキサデン(pinoxaden/一般名)、ピペロフォス(piperophos/一般名)、プレチラクロール(pretilachlor/一般名)、プリミスルフロンメチル(primisulfuron―methyl/一般名)、プロジアミン(prodiamine/一般名)、プロフルアゾール(profluazol/一般名)、プロフォキシジム(profoxydim/一般名)、プロメトン(prometon/一般名)、プロメトリン(prometryn/一般名)、プロパクロール(propachlor/一般名)、プロパニル(propanil/一般名)、プロパキザホップ(propaquizafop/一般名)、プロパジン(propazin/一般名)、プロファム(propham/一般名)、プロピソクロール(propisochlor/一般名)、プロポキシカルバゾンナトリウム(propoxycarbazone−sodium/一般名)、プロピリスルフロン(propyrisulfuron/一般名)、プロピザミド(propyzamide/一般名)、プロスルホカーブ(prosulfocarb/一般名)、プロスルフロン(prosulfuron/一般名)、ピラクロニル(pyraclonil/一般名)、ピラフルフェンエチル(pyraflufen―ethyl/一般名)、ピラスルホトール(pyrasulfotole/一般名)、ピラゾリネート(pyrazolynate/一般名)、ピラゾスルフロン(pyrazosulfuron/一般名)、ピラゾスルフロンエチル(pyrazosulfuron−ethyl/一般名)、ピラゾキシフェン(pyrazoxyfen/一般名)、ピリベンゾキシム(pyribenzoxim/一般名)、ピリブチカルブ(pyributicarb/一般名)、ピリダフォル(pyridafol/一般名)、ピリデート(pyridate/一般名)、ピリフタリド(pyriftalid/一般名)、ピリミノバックメチル(pyriminobac−methyl/一般名)、ピリミスルファン(pyrimisulfan/一般名)、ピリチオバックナトリウム(pyrithiobac―sodium/一般名)、ピロキサスルホン(pyroxasulfone/一般名)、ピロキシスラム(pyroxsulam/一般名)、キンクロラック(quinclorac/一般名)、キンメラック(quinmerac/一般名)、キノクラミン(quinoclamine/一般名)、キザロホップ(quizalofop/一般名)、キザロホップエチル(quizalofop−ethyl/一般名)、キザロホップテフリル(quizalofop−tefuryl/一般名)、Pキザロホップ(quizalofop―P/一般名)、Pキザロホップエチル(quizalofop―P−ethyl/一般名)、Pキザロホップテフリル(quizalofop―P−tefuryl/一般名)、リムスルフロン(rimsulfuron/一般名)、サフルフェナシル(saflufenacil/一般名)、セトキシジム(sethoxydim/一般名)、シデュロン(siduron/一般名)、シマジン(simazine/一般名)、シメトリン(simetryn/一般名)、スルコトリオン(sulcotrione/一般名)、スルフェントラゾン(sulfentrazone/一般名)、スルフォメツロンメチル(sulfometuron―methyl/一般名)、スルフォスルフロン(sulfosulfuron/一般名)、シクロピリモレート(cyclopyrimorate/一般名、SW−065/試験名)、TCBA(2,3,6−TBA/一般名)、TCBAの塩およびエステル(2,3,6−TBA―salts and esters)、TCTP(chlorthal−dimethyl,tetorachlorothiophene/一般名)、テブタム(tebutam/一般名)、テブティウロン(tebuthiuron/一般名)、テフリルトリオン(tefuryltrione/一般名)、テンボトリオン(tembotrione/一般名)、テプラロキシジム(tepraloxydim/一般名)、ターバシル(terbacil/一般名)、ターブメトン(terbumeton/一般名)、ターブチラジン(terbuthylazine/一般名)、ターブトリン(terbutryn/一般名)、テトラピオン(tetrapion/flupropanate/一般名)、テニルクロール(thenylchlor/一般名)、チアザフルロン(thiazafluron/一般名)、チアゾピル(thiazopyr/一般名)、チジアジミン(thidiazimin/一般名)、チジアズロン(thidiazuron/一般名)、チエンカルバゾンメチル(thiencarbazone−methyl/一般名)、チフェンスルフロンメチル(thifensulfuron−methyl/一般名)、トプラメゾン(topramezon/一般名)、トラルコキシジム(tralkoxydim/一般名)、トリアファモン(triafamone/一般名)、トリアレート(triallate/一般名)、トリアスルフロン(triasulfuron/一般名)、トリアジフラム(triaziflam/一般名)、トリベニュロンメチル(tribenuron−methyl/一般名)、トリクロピル(triclopyr/一般名)、トリクロピルの塩およびエステル(triclopyr―salts and esters)、トリディファン(tridiphane/一般名)、トリエタジン(trietazine/一般名)、トリフロキシスルフロン(trifloxysulfuron/一般名)、トリフルラリン(trifluralin/一般名)、トリフルスルフロンメチル(triflusulfuron―methyl/一般名)、トリトスルフロン(tritosulfuron/一般名)、2,4−PA(一般名)、2,4−PAの塩およびエステル(2,4−PA―salts and esters)、2,4−DB(一般名)、2,4−DBの塩およびエステル(2,4−DB―salts and esters)等が挙げられる。
式(1)で表される化合物 0.1〜80部
化合物群Bから選ばれる化合物 0.1〜80部
固体担体 5〜98.8部
界面活性剤 1〜10部
その他 0〜 5部
その他として、例えば固結防止剤、分解防止剤等が挙げられる。
式(1)で表される化合物 0.1〜30部
化合物群Bから選ばれる化合物 0.1〜30部
液体担体 15〜95部
界面活性剤 4.8〜15部
その他 0〜10部
その他として、例えば展着剤、分解防止剤等が挙げられる。
式(1)で表される化合物 0.1〜70部
化合物群Bから選ばれる化合物 0.1〜70部
液体担体 15〜98.79部
界面活性剤 1〜12部
その他 0.01〜30部
その他として、例えば凍結防止剤、増粘剤等が挙げられる。
式(1)で表される化合物 0.1〜90部
化合物群Bから選ばれる化合物 0.1〜90部
固体担体 0〜98.8部
界面活性剤 1〜20部
その他 0〜 10部
その他として、例えば結合剤、分解防止剤等が挙げられる。
式(1)で表される化合物 0.1〜70部
化合物群Bから選ばれる化合物 0.1〜70部
液体担体 20〜99.8部
その他 0〜 10部
その他として、例えば凍結防止剤、展着剤等が挙げられる。
式(1)で表される化合物 0.1〜80部
化合物群Bから選ばれる化合物 0.1〜80部
固体担体 10〜99.8部
その他 0〜10部
その他として、例えば結合剤、分解防止剤等が挙げられる。
式(1)で表される化合物 0.1〜30部
化合物群Bから選ばれる化合物 0.1〜30部
固体担体 35〜99.8部
その他 0〜5部
その他として、例えばドリフト防止剤、分解防止剤等が挙げられる。
化合物(A−1) 10部
化合物(1) 3部
パイロフィライト 81部
ソルポール5039 4部
(非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混合物:東邦化学工業(株)商品名)
カープレックス#80D 2部
(合成含水珪酸:塩野義製薬(株)商品名)
以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
化合物(A−1) 1部
化合物(2) 10部
キシレン 69部
N−メチルピロリドン 15部
ソルポール2680 5部
(非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混合物:東邦化学工業(株)商品名)
以上を均一に混合して乳剤とする。
化合物(A−1) 10部
化合物(1) 6部
アグリゾールS−710 10部
(非イオン性界面活性剤:花王(株)商品名)
ルノックス1000C 0.5部
(アニオン性界面活性剤:東邦化学工業(株)商品名)
キサンタンガム 0.2部
水 73.3部
以上を均一に混合した後、湿式粉砕して懸濁剤とする。
化合物(A−1) 40部
化合物(2) 35部
ハイテノールNE-15 5部
(アニオン性界面活性剤:第一工業製薬(株)商品名)
バニレックスN 10部
(アニオン性界面活性剤:日本製紙(株)商品名)
カープレックス#80D 10部
(合成含水珪酸:塩野義製薬(株)商品名)
以上を均一に混合粉砕した後、少量の水を加えて攪拌混合し、押出式造粒機で造粒し、乾燥して顆粒水和剤とする。
化合物(A−1) 2部
化合物(1) 10部
ベントナイト 50部
タルク 38部
以上を均一に混合粉砕した後、少量の水を加えて攪拌混合し、押出式造粒機で造粒し、乾燥して粒剤とする。
化合物(A−1) 1部
化合物(2) 1部
カープレックス#80D 0.5部
(合成含水珪酸:塩野義製薬(株)商品名)
カオリナイト 96部
リン酸ジイソプロピル 1.5部
以上を均一に混合粉砕して粉剤とする。
化合物(A−1) 5部
化合物(2) 5部
パイロフィライト 84部
ソルポール5039 4部
(非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混合物:東邦化学工業(株)商品名)
カープレックス#80D 2部
(合成含水珪酸:塩野義製薬(株)商品名)
以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
化合物(A−1) 5部
化合物(1) 5部
キシレン 70部
N−メチルピロリドン 15部
ソルポール2680 5部
(非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混合物:東邦化学工業(株)商品名)
以上を均一に混合して乳剤とする。
化合物群Bから選ばれる1種以上を単独で使用した場合と、式(1)で表される化合物の1種以上と化合物群Bから選ばれる1種以上を併用した場合のイネに与える影響を比較し、式(1)で表される化合物が薬害軽減効果を奏することを以下の試験例で示すが、本発明はこれらのみに限定されるべきものではない。
1/10000アールのプラスチック製ポットに沖積土を入れて代掻きした後、2.5葉期のイネを3cmの深さに移植し、水を入れて4cmの湛水条件としガラス温室内に静置した。イネ移植直後に化合物群Bから選ばれる化合物の所定濃度の薬液を水面に滴下処理し、これを単剤区とした。また、同様にして化合物群Bから選ばれる化合物と式(1)で表される化合物のそれぞれの所定量を合わせた薬液を水面に滴下処理し、これを混合区とした。薬剤処理20日後に、イネに対する影響を目視による観察評価で0=影響なし〜100=完全枯殺の判定基準に従い調査した。結果を第1表に示す。
[第1表]
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
処理薬量 イネに対する
gai/ha 影響
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
化合物(1) 100 20
化合物(1)+ 化合物(A−1)100+1000 4
化合物(1)+ 化合物(A−2)100+1000 7
化合物(1)+ 化合物(A−5)100+1000 10
化合物(1)+ 化合物(A−6)100+1000 10
化合物(1)+ 化合物(A−7)100+1000 12
化合物(1)+ 化合物(A−8)100+1000 10
化合物(1)+ 化合物(A−9)100+1000 12
化合物(1)+ 化合物(A−10)100+1000 4
化合物(1)+ 化合物(A−11)100+1000 2
化合物(1)+ 化合物(A−12)100+1000 7
化合物(1)+ 化合物(A−13)100+1000 12
化合物(1)+ 化合物(A−14)100+1000 4
化合物(1)+ 化合物(A−15)100+1000 7
化合物(1)+ 化合物(A−16)100+1000 7
化合物(1)+ 化合物(A−17)100+1000 7
化合物(1)+ 化合物(A−18)100+1000 7
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
第1表から明らかなように、単剤区より混合区の方が明らかに薬害は軽減されていることが判明した。
1/10000アールのプラスチック製ポットに沖積土を入れて代掻きした後、2.5葉期のイネの基部を根が土壌表面に露出するようにして接地させ基部をピンで固定し、置き苗条件とした。そこに水を入れて4cmの湛水条件としガラス温室内に静置した。イネ接地直後に化合物群Bから選ばれる化合物の所定濃度の薬液を水面に滴下処理し、これを単剤区とした。また、同様にして化合物群Bから選ばれる化合物と式(1)で表される化合物のそれぞれの所定量を合わせた薬液を水面に滴下処理し、これを混合区とした。薬剤処理20日後に、イネに対する影響を目視による観察評価で0=影響なし〜100=完全枯殺の判定基準に従い調査した。結果を第2表に示す。
表中、「gai」は除草活性化合物の重量を意味し、「ha」はヘクタールを意味する。
化合物(12)は市販のアジムスルフロン標準品(和光純薬)を使用した。
[第2表]
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
処理薬量 イネ
gai/ha
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
化合物(2) 30 40
化合物(2)+ 化合物(A−1) 30+1000 19
化合物(2)+ 化合物(A−2) 30+1000 10
化合物(2)+ 化合物(A−10) 30+1000 8
化合物(2)+ 化合物(A−11) 30+1000 5
化合物(2)+ 化合物(A−14) 30+1000 10
化合物(2)+ 化合物(A−15) 30+1000 10
化合物(3) 90 46
化合物(3)+ 化合物(A−1) 90+1000 21
化合物(3)+ 化合物(A−2) 90+1000 17
化合物(3)+ 化合物(A−10) 90+1000 20
化合物(3)+ 化合物(A−11) 90+1000 8
化合物(3)+ 化合物(A−14) 90+1000 18
化合物(3)+ 化合物(A−15) 90+1000 15
化合物(4) 1500 90
化合物(4)+ 化合物(A−1)1500+1000 45
化合物(4)+ 化合物(A−2)1500+1000 34
化合物(4)+ 化合物(A−10)1500+1000 40
化合物(4)+ 化合物(A−11)1500+1000 20
化合物(4)+ 化合物(A−14)1500+1000 35
化合物(4)+ 化合物(A−15)1500+1000 45
化合物(5) 1500 33
化合物(5)+ 化合物(A−1)1500+1000 21
化合物(5)+ 化合物(A−2)1500+1000 11
化合物(5)+ 化合物(A−10)1500+1000 20
化合物(5)+ 化合物(A−11)1500+1000 8
化合物(5)+ 化合物(A−14)1500+1000 20
化合物(5)+ 化合物(A−15)1500+1000 18
化合物(6) 60 27
化合物(6)+ 化合物(A−1) 60+1000 11
化合物(6)+ 化合物(A−2) 60+1000 6
化合物(6)+ 化合物(A−10)60+1000 5
化合物(6)+ 化合物(A−11)60+1000 2
化合物(6)+ 化合物(A−14)60+1000 8
化合物(6)+ 化合物(A−15)60+1000 10
化合物(7) 67 50
化合物(7)+ 化合物(A−1)67+1000 22
化合物(7)+ 化合物(A−2)67+1000 20
化合物(7)+ 化合物(A−10)67+1000 20
化合物(7)+ 化合物(A−11)67+1000 8
化合物(7)+ 化合物(A−14)67+1000 22
化合物(7)+ 化合物(A−15)67+1000 25
化合物(8) 90 55
化合物(8)+ 化合物(A−1)90+1000 18
化合物(8)+ 化合物(A−2)90+1000 25
化合物(8)+ 化合物(A−10)90+1000 20
化合物(8)+ 化合物(A−11)90+1000 10
化合物(8)+ 化合物(A−14)90+1000 25
化合物(8)+ 化合物(A−15)90+1000 25
化合物(9) 75 20
化合物(9)+ 化合物(A−1)75+1000 8
化合物(9)+ 化合物(A−2)75+1000 6
化合物(9)+ 化合物(A−10)75+1000 8
化合物(9)+ 化合物(A−11)75+1000 3
化合物(9)+ 化合物(A−14)75+1000 8
化合物(9)+ 化合物(A−15)75+1000 10
化合物(10) 90 25
化合物(10)+ 化合物(A−1)90+1000 10
化合物(10)+ 化合物(A−2)90+1000 12
化合物(10)+ 化合物(A−10)90+1000 10
化合物(10)+ 化合物(A−11)90+1000 5
化合物(10)+ 化合物(A−14) 90+1000 10
化合物(10)+ 化合物(A−15)90+1000 15
化合物(11) 22 45
化合物(11)+ 化合物(A−1)22+1000 20
化合物(11)+ 化合物(A−2)22+1000 25
化合物(11)+ 化合物(A−10)22+1000 20
化合物(11)+ 化合物(A−11)22+1000 8
化合物(11)+ 化合物(A−14)22+1000 25
化合物(11)+ 化合物(A−15)22+1000 25
化合物(12) 6 22
化合物(12)+ 化合物(A−1) 6+1000 10
化合物(12)+ 化合物(A−2) 6+1000 15
化合物(12)+ 化合物(A−10)6+1000 10
化合物(12)+ 化合物(A−11)6+1000 5
化合物(12)+ 化合物(A−14)6+1000 12
化合物(12)+ 化合物(A−15)6+1000 12
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
以上の結果から、化合物(1)、(2)、(3)、(4)、(5)、(6)、(7)、(8)、(9)、(10)、(11)、(12)のいずれかに化合物(A−1)、(A−2)、(A−10)、(A−11)、(A−14),(A−15)のいずれかを混合することにより、イネに対する薬害が軽減されていることが分かった。
1/10000アールのプラスチック製ポットに沖積土を入れて代掻きした後、2.5葉期のイネを3cmの深さに移植し、水を入れて4cmの湛水条件としガラス温室内に静置した。イネ移植直後に化合物群Bから選ばれる化合物の所定濃度の薬液を水面に滴下処理し、これを単剤区とした。また、同様にして化合物群Bから選ばれる化合物と式(1)で表される化合物のそれぞれの所定量を合わせた薬液を水面に滴下処理し、これを混合区とした。薬剤処理20日後に、イネに対する影響を目視による観察評価で0=影響なし〜100=完全枯殺の判定基準に従い調査した。結果を第3表に示す。
[第3表]
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
処理薬量 イネ
gai/ha
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
化合物(1) 100 20
化合物(1)+ 化合物(A−3)100+1000 7
化合物(1)+ 化合物(A−4)100+1000 8
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
以上の結果から、化合物(1)に化合物(A−3)または(A−4)を混合することにより、イネに対する薬害が軽減されていることが分かった。
Claims (19)
- Aは、C1〜C6ハロアルキル基又はC1〜C6ハロアルコキシ基を表し
Gは、カルボキシ基を表し、
R1、R2及びR3は、水素原子を表す請求項1記載の除草剤用薬害軽減剤。 - Aは、C1〜C6ハロアルキル基を表す請求項2記載の除草剤用薬害軽減剤。
- Aは、C1〜C6ハロアルコキシ基を表す請求項2記載の除草剤用薬害軽減剤。
- R2は、C1〜C6ハロアルキル基を表し、
Gは、カルボキシ基を表し、
R1、A及びR3は、水素原子を表す請求項1記載の除草剤用薬害軽減剤。 - (a)式(1):
(i)Aは、C1〜C6ハロアルキル基又はC1〜C6ハロアルコキシ基を表し
Gは、カルボキシ基を表し、
R1、R2及びR3は、水素原子を表すか、
(ii)R2は、C1〜C6ハロアルキル基を表し、
Gは、カルボキシ基を表し、
R1、A及びR3は、水素原子を表す。]で表される化合物を主成分とすることを特徴とする除草剤用薬害軽減剤と、
(b)スルホニル尿素系化合物、スルホンアミド系化合物、クロロアセトアニリド系化合物、チオカルバマート系化合物、ピリミジニルオキシ(チオ)安息香酸系化合物、テトラゾリノン系化合物、トリアゾール系化合物、ピラゾール系化合物、シクロヘキサンジオン系化合物、フェノキシカルボン酸系化合物、オキサジノン系化合物、ジフルオロメタンスルホニルアニリド系化合物及びイソオキサゾリン系化合物並びにその塩から選ばれる1又は2以上の除草活性化合物、
を含有することを特徴とする、薬害が軽減された除草剤組成物。 - 除草活性化合物がスルホニル尿素系化合物である請求項6に記載の薬害が軽減された除草剤組成物。
- スルホニル尿素系化合物がメタゾスルフロン、ピラゾスルフロンエチル、ハロスルフロンメチル、プロピリスルフロン、ベンスルフロンメチル、フルセトスルフロン、アジムスルフロン又はイマゾスルフロンである請求項7に記載の薬害が軽減された除草剤組成物。
- 除草活性化合物がシクロヘキサンジオン系化合物である請求項6に記載の薬害が軽減された除草剤組成物。
- 除草活性化合物がジフルオロメタンスルホニルアニリド系化合物である請求項6に記載の薬害が軽減された除草剤組成物。
- ジフルオロメタンスルホニルアニリド系化合物がピリミスルファンである請求項10に記載の薬害が軽減された除草剤組成物。
- 除草活性化合物がクロロアセトアニリド系化合物である請求項6に記載の薬害が軽減された除草剤組成物。
- クロロアセトアニリド系化合物がブタクロールである請求項12に記載の薬害が軽減された除草剤組成物。
- 除草活性化合物がチオカルバマート系化合物である請求項6に記載の薬害が軽減された除草剤組成物。
- チオカルバマート系化合物がエスプロカルブである請求項14に記載の薬害が軽減された除草剤組成物。
- (a)式(1):
(i)Aは、C 1 〜C 6 ハロアルキル基又はC 1 〜C 6 ハロアルコキシ基を表し
Gは、カルボキシ基を表し、
R 1 、R 2 及びR 3 は、水素原子を表すか、
(ii)R 2 は、C 1 〜C 6 ハロアルキル基を表し、
Gは、カルボキシ基を表し、
R 1 、A及びR 3 は、水素原子を表す。]で表される化合物を主成分とすることを特徴とする除草剤用薬害軽減剤と、
(b´)メタゾスルフロン、ピラゾスルフロンエチル、ハロスルフロンメチル、ブタクロール、エスプロカルブ、ジメタメトリン、ピリミスルファン、プロピリスルフロン、ベンスルフロンメチル、イマゾスルフロン、フルセトスルフロン及びアジムスルフロン並びにその塩から選ばれる1又は2以上の除草活性化合物、
を含有することを特徴とする、薬害が軽減された除草剤組成物。 - 除草活性化合物がジメタメトリンである請求項16に記載の薬害が軽減された除草剤組成物。
- (a)式(1):
(i)Aは、C1〜C6ハロアルキル基又はC1〜C6ハロアルコキシ基を表し
Gは、カルボキシ基を表し、
R1、R2及びR3は、水素原子を表すか、
(ii)R2は、C1〜C6ハロアルキル基を表し、
Gは、カルボキシ基を表し、
R1、A及びR3は、水素原子を表す。]で表される化合物を主成分とすることを特徴とする除草剤用薬害軽減剤と、
(b)スルホニル尿素系化合物、スルホンアミド系化合物、クロロアセトアニリド系化合物、チオカルバマート系化合物、ピリミジニルオキシ(チオ)安息香酸系化合物、テトラゾリノン系化合物、トリアゾール系化合物、ピラゾール系化合物、シクロヘキサンジオン系化合物、フェノキシカルボン酸系化合物、オキサジノン系化合物、ジフルオロメタンスルホニルアニリド系化合物及びイソオキサゾリン系化合物並びにその塩から選ばれる1又は2以上の除草活性化合物を、同時に施用するか或いは時間的に近接して施用することを特徴とする、該除草活性化合物による作物の薬害を軽減する方法。 - 請求項18記載の作物の薬害を軽減する方法を用いて水田の雑草を防除する除草方法。
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