JP6277611B2 - Epoxy resin molding material for device sealing and electronic component device - Google Patents

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Description

本発明は、素子封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置に関する。   The present invention relates to an element sealing epoxy resin molding material and an electronic component device.

従来から、トランジスタ、IC(Integrated Circuit)等の電子部品封止の分野ではエポキシ樹脂成形材料が広く用いられている。この理由としては、エポキシ樹脂が電気特性、耐湿性、耐熱性、機械特性、インサート品との接着性等のバランスがとれているためである。特に、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂とノボラック型フェノール硬化剤の組合せはこれらのバランスに優れており、素子封止用成形材料のベース樹脂の主流になっている。   Conventionally, epoxy resin molding materials have been widely used in the field of sealing electronic components such as transistors and ICs (Integrated Circuits). This is because the epoxy resin has a good balance of electrical properties, moisture resistance, heat resistance, mechanical properties, adhesiveness with inserts, and the like. In particular, the combination of an ortho-cresol novolac type epoxy resin and a novolac type phenol curing agent has an excellent balance between these, and has become the mainstream of the base resin of the molding material for device sealing.

近年の電子機器の小型化、軽量化及び高性能化に伴い、実装の高密度化が進み、電子部品装置は従来のピン挿入型から、表面実装型のパッケージが採用されるようになってきている。半導体装置を配線板に取り付ける場合、従来のピン挿入型パッケージはピンを配線板に挿入した後、配線板裏面からはんだ付けを行うため、パッケージが直接高温にさらされることはなかった。しかし、表面実装型パッケージでは半導体装置全体がはんだバス、リフロー装置等で処理されるため、直接はんだ付け温度にさらされる。この結果、パッケージが吸湿していた場合、はんだ付けの際に吸湿水分が急激に膨張し、接着界面の剥離、パッケージクラック等が発生し、実装工程でのパッケージの信頼性を低下させるという問題があった。   As electronic devices have become smaller, lighter, and higher performance in recent years, mounting density has increased, and electronic component devices have come to adopt surface mount packages instead of conventional pin insertion types. Yes. When a semiconductor device is attached to a wiring board, the conventional pin insertion type package is soldered from the back side of the wiring board after the pins are inserted into the wiring board, so that the package was not directly exposed to high temperature. However, in the surface mount type package, the entire semiconductor device is processed by a solder bath, a reflow device or the like, so that it is directly exposed to a soldering temperature. As a result, when the package absorbs moisture, moisture absorption moisture rapidly expands during soldering, causing peeling of the adhesive interface, package cracking, and the like, which reduces the reliability of the package in the mounting process. there were.

上記の問題を解決する対策として、半導体装置内部の吸湿水分を低減するためにICの防湿梱包又は配線板へ実装する前に予めICを充分乾燥して使用する方法もとられているが、これらの方法は手間がかかり、コストも高くなる。別の対策としては素子封止用成形材料中の充てん剤の含有量を増加する方法が挙げられる(例えば、特許文献1参照)。   As measures to solve the above problems, in order to reduce moisture absorption inside the semiconductor device, there is a method in which the IC is sufficiently dried and used before being mounted on the moisture-proof packaging or wiring board of the IC. This method is time consuming and expensive. As another countermeasure, there is a method of increasing the content of the filler in the element sealing molding material (for example, see Patent Document 1).

特開平06−224328号公報Japanese Patent Laid-Open No. 06-224328

しかし、この方法では半導体装置内部の吸湿水分は低減するものの、大幅な流動性の低下を引き起こしてしまう問題があった。素子封止用樹脂成形材料の流動性が低いと成形の際に金線流れ、ボイド、ピンホール等の発生といった問題が生じることがある。
本発明はかかる状況に鑑みなされたもので、高温における金属との接着性が高く、耐リフロー性に優れる硬化物を形成可能な素子封止用エポキシ樹脂成形材料、及びこれにより封止した素子を備える電子部品装置を提供することを課題とする。
However, although this method reduces moisture absorption inside the semiconductor device, there is a problem that it causes a significant decrease in fluidity. If the fluidity of the element molding resin molding material is low, problems such as the occurrence of gold wire flow, voids, pinholes, etc. may occur during molding.
The present invention has been made in view of such a situation. An epoxy resin molding material for sealing an element capable of forming a cured product having high adhesion to a metal at high temperatures and excellent reflow resistance, and an element sealed thereby It is an object to provide an electronic component device provided.

本発明は、次のものに関する。
(1) 1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂、硬化剤及びフタロシアニン構造を有する化合物を含有する素子封止用エポキシ樹脂成形材料。
(2) 前記フタロシアニン構造を有する化合物が、無金属フタロシアニン及び銅(II)フタロシアニンからなる群より選択される少なくとも一種である項(1)に記載の素子封止用エポキシ樹脂成形材料。
(3) 前記フタロシアニン構造を有する化合物の含有率が0.1質量%〜1.0質量%である項(1)又は項(2)に記載の素子封止用エポキシ樹脂成形材料。
(4) シラン化合物をさらに含有する項(1)〜項(3)のいずれかに記載の素子封止用エポキシ樹脂成形材料。
(5) 硬化促進剤をさらに含有する項(1)〜項(4)のいずれかに記載の素子封止用エポキシ樹脂成形材料。
(6) 無機充てん剤をさらに含有する項(1)〜項(5)のいずれかに記載の素子封止用エポキシ樹脂成形材料。
(7) 素子と、前記素子を封止する項(1)〜項(6)のいずれかに記載の素子封止用エポキシ樹脂成形材料の硬化物と、を有する電子部品装置。
(8) 表面が銅又は銀の配線を有する素子と、前記素子を封止する1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂、硬化剤並びに無金属フタロシアニン及び銅(II)フタロシアニンからなる群より選択される少なくとも一種のフタロシアニン構造を有する化合物を含有する素子封止用エポキシ樹脂成形材料の硬化物と、を有する電子部品装置。
The present invention relates to the following.
(1) An epoxy resin molding material for device encapsulation containing an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule, a curing agent and a compound having a phthalocyanine structure.
(2) The epoxy resin molding material for device encapsulation according to item (1), wherein the compound having a phthalocyanine structure is at least one selected from the group consisting of metal-free phthalocyanine and copper (II) phthalocyanine.
(3) The epoxy resin molding material for element sealing according to item (1) or item (2), wherein the content of the compound having the phthalocyanine structure is 0.1% by mass to 1.0% by mass.
(4) The epoxy resin molding material for device encapsulation according to any one of Items (1) to (3), further containing a silane compound.
(5) The epoxy resin molding material for element sealing according to any one of Items (1) to (4), further containing a curing accelerator.
(6) The epoxy resin molding material for element sealing according to any one of Items (1) to (5), which further contains an inorganic filler.
(7) An electronic component device having an element and a cured product of the epoxy resin molding material for element sealing according to any one of Items (1) to (6) for sealing the element.
(8) A group consisting of an element having a copper or silver wiring on the surface, an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule for sealing the element, a curing agent, metal-free phthalocyanine and copper (II) phthalocyanine And a cured product of an epoxy resin molding material for sealing an element containing at least one kind of compound having a phthalocyanine structure selected from the above.

本発明によれば、高温における金属との接着性が高く、耐リフロー性に優れる硬化物を形成可能な素子封止用エポキシ樹脂成形材料、及びこれにより封止した素子を備える電子部品装置が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the epoxy resin molding material for element sealing which can form the hardened | cured material with high adhesiveness with the metal in high temperature and excellent in reflow resistance, and an electronic component apparatus provided with the element sealed by this are provided. Is done.

以下、本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置について詳細に説明する。
なお、本明細書において「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
また、本発明において、組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。
Hereinafter, the epoxy resin molding material for element sealing and the electronic component device of the present invention will be described in detail.
In addition, the numerical value range shown using "to" in this specification shows the range which includes the numerical value described before and behind "to" as a minimum value and a maximum value, respectively.
In the present invention, the amount of each component in the composition is the total amount of the plurality of substances present in the composition unless there is a specific indication when there are a plurality of substances corresponding to each component in the composition. Means.

<素子封止用エポキシ樹脂成形材料>
本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料は、(A)1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂、(B)硬化剤及び(C)フタロシアニン構造を有する化合物を含有するものである。
本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料は、高温における金属との接着性が高い。その理由は明確ではないが、以下のように推察される。
フタロシアニン構造には8個の窒素原子が含まれているところ、当該窒素原子はエポキシ樹脂の硬化物に含まれる水酸基と水素結合等の相互作用をしうる。一方、フタロシアニン構造に含まれる窒素原子は金属と錯体を形成しうるものであり、電子部品装置の有する金属配線の表面と当該窒素原子とが相互作用をしうる。フタロシアニン構造を有する化合物がエポキシ樹脂硬化物に含まれる水酸基と金属配線表面の金属との間に介在することでエポキシ樹脂硬化物の金属配線表面に対する付着力が向上するため、高温における金属との接着性が高くなるものと推察される。
<Epoxy resin molding material for device sealing>
The epoxy resin molding material for device encapsulation of the present invention contains (A) an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule, (B) a curing agent and (C) a compound having a phthalocyanine structure. .
The epoxy resin molding material for sealing an element of the present invention has high adhesion to a metal at a high temperature. The reason is not clear, but is presumed as follows.
When the phthalocyanine structure contains eight nitrogen atoms, the nitrogen atoms can interact with the hydroxyl groups contained in the cured epoxy resin, such as hydrogen bonds. On the other hand, the nitrogen atom contained in the phthalocyanine structure can form a complex with the metal, and the surface of the metal wiring included in the electronic component device can interact with the nitrogen atom. Adhesion of hardened epoxy resin to the metal wiring surface is improved by interposing a compound having a phthalocyanine structure between the hydroxyl group contained in the hardened epoxy resin and the metal on the surface of the metal wiring. It is presumed that the nature will be higher.

以下、本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料を構成する各成分について説明する。   Hereinafter, each component which comprises the epoxy resin molding material for element sealing of this invention is demonstrated.

−エポキシ樹脂−
本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料は、(A)1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂を含有する。エポキシ基の数は1分子中に2個以上であればよく、2〜10であることが好ましく、2〜5であることがより好ましい。
本発明において用いられる(A)1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂は、素子封止用エポキシ樹脂成形材料に一般に使用されているものであれば特に制限はなく、例えばフェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂をはじめとするフェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF等のフェノール化合物及びα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール化合物からなる群より選択される少なくとも1種と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック樹脂をエポキシ化したノボラック型エポキシ樹脂;アルキル置換、芳香環置換又は非置換の、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、チオジフェノール等のジグリシジルエーテルであるビスフェノール型エポキシ樹脂;アルキル置換、芳香環置換又は非置換のビフェノール等のジグリシジルエーテルであるビフェニル型エポキシ樹脂;スチルベン型エポキシ樹脂;ハイドロキノン型エポキシ樹脂;フタル酸、ダイマー酸等の多塩基酸とエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジルエステル型エポキシ樹脂;ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸等のポリアミンとエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジルアミン型エポキシ樹脂;ジシクロペンタジエンとフェノール化合物の共縮合樹脂のエポキシ化物であるジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂;ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂であるナフタレン型エポキシ樹脂;アルキル置換、芳香環置換若しくは非置換のフェノール化合物又はアルキル置換、芳香環置換若しくは非置換のナフトール化合物とジメトキシパラキシレン又はビス(メトキシメチル)ビフェニルとから合成されるフェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂等をエポキシ化したアラルキル型エポキシ樹脂;トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂;テルペン変性エポキシ樹脂;並びにオレフィン結合を過酢酸等の過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂又は脂環族エポキシ樹脂が挙げられ、これらの1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
-Epoxy resin-
The epoxy resin molding material for device encapsulation of the present invention contains (A) an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule. The number of epoxy groups should just be 2 or more in 1 molecule, it is preferable that it is 2-10, and it is more preferable that it is 2-5.
The epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule used in the present invention is not particularly limited as long as it is generally used for an epoxy resin molding material for device sealing. For example, a phenol novolac type Epoxy resins, orthocresol novolac type epoxy resins, triphenylmethane type epoxy resins and other phenolic compounds, cresol, xylenol, resorcinol, catechol, bisphenol A, bisphenol F and other phenolic compounds and α-naphthol, β-naphthol, dihydroxynaphthalene And at least one selected from the group consisting of naphthol compounds such as formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, benzaldehyde, salicylaldehyde and the like under an acidic catalyst. A novolak-type epoxy resin obtained by epoxidizing a novolak resin obtained by condensation or co-condensation; bisphenol which is an alkyl-substituted, aromatic-ring-substituted or unsubstituted diglycidyl ether such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, thiodiphenol Type epoxy resin; biphenyl type epoxy resin which is diglycidyl ether such as alkyl-substituted, aromatic ring-substituted or unsubstituted biphenol; stilbene type epoxy resin; hydroquinone type epoxy resin; polybasic acid such as phthalic acid and dimer acid and epichlorohydrin Glycidyl ester type epoxy resin obtained by reaction; Glycidylamine type epoxy resin obtained by reaction of polyamine such as diaminodiphenylmethane and isocyanuric acid and epichlorohydrin; Dicyclopentadiene type epoxy resin which is an epoxidized product of a co-condensation resin of an enol compound; Naphthalene type epoxy resin which is an epoxy resin having a naphthalene skeleton; Alkyl-substituted, aromatic ring-substituted or unsubstituted phenol compound or alkyl-substituted, aromatic ring-substituted Or, an aralkyl type epoxy resin obtained by epoxidizing a phenol aralkyl resin or a naphthol aralkyl resin synthesized from an unsubstituted naphthol compound and dimethoxyparaxylene or bis (methoxymethyl) biphenyl; a trimethylolpropane type epoxy resin; a terpene modified epoxy resin And a linear aliphatic epoxy resin or alicyclic epoxy resin obtained by oxidizing an olefin bond with a peracid such as peracetic acid. These may be used alone or in combination of two or more. The Good.

なかでも、(A)1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂としては、流動性と硬化性の両立の観点からはアルキル置換、芳香環置換又は非置換のビフェノールのジグリシジルエーテルであるビフェニル型エポキシ樹脂を含有していることが好ましい。硬化性の観点からはノボラック型エポキシ樹脂を含有していることが好ましい。耐熱性及び低反り性の観点からはナフタレン型エポキシ樹脂及びトリフェニルメタン型エポキシ樹脂からなる群より選択される少なくとも一種を含有していることが好ましい。流動性と難燃性の両立の観点からはアルキル置換、芳香環置換又は非置換のビスフェノールFのジグリシジルエーテルであるビスフェノールF型エポキシ樹脂を含有していることが好ましい。流動性とリフロー性の両立の観点からはアルキル置換、芳香環置換又は非置換のチオジフェノールのジグリシジルエーテルであるチオジフェノール型エポキシ樹脂を含有していることが好ましい。硬化性と難燃性の両立の観点からはアルキル置換、芳香環置換又は非置換のフェノール化合物とビス(メトキシメチル)ビフェニルから合成されるフェノールアラルキル型エポキシ樹脂を含有していることが好ましい。保存安定性と難燃性の両立の観点からはアルキル置換、芳香環置換又は非置換のナフトール化合物とジメトキシパラキシレンから合成されるナフトールアラルキル型エポキシ樹脂を含有していることが好ましい。   Among them, (A) the epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule is a diglycidyl ether of alkyl-substituted, aromatic ring-substituted or unsubstituted biphenol from the viewpoint of compatibility between fluidity and curability. It preferably contains a biphenyl type epoxy resin. From the viewpoint of curability, it is preferable to contain a novolac type epoxy resin. From the viewpoint of heat resistance and low warpage, it preferably contains at least one selected from the group consisting of naphthalene type epoxy resins and triphenylmethane type epoxy resins. From the viewpoint of achieving both fluidity and flame retardancy, it is preferable to contain a bisphenol F-type epoxy resin that is an alkyl-substituted, aromatic ring-substituted or unsubstituted bisphenol F diglycidyl ether. From the viewpoint of compatibility between fluidity and reflowability, it is preferable to contain a thiodiphenol type epoxy resin which is a diglycidyl ether of alkyl-substituted, aromatic ring-substituted or unsubstituted thiodiphenol. From the viewpoint of achieving both curability and flame retardancy, it preferably contains a phenol aralkyl type epoxy resin synthesized from an alkyl-substituted, aromatic ring-substituted or unsubstituted phenol compound and bis (methoxymethyl) biphenyl. From the viewpoint of achieving both storage stability and flame retardancy, it preferably contains a naphthol aralkyl type epoxy resin synthesized from an alkyl-substituted, aromatic ring-substituted or unsubstituted naphthol compound and dimethoxyparaxylene.

ビフェニル型エポキシ樹脂は、ビフェノール化合物にエピクロルヒドリンを公知の方法で反応させることによって得られる。このようなエポキシ樹脂としては、4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)−3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニルを主成分とするエポキシ樹脂等が挙げられる。なかでも、ビフェニル型エポキシ樹脂としては、4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)−3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニルを主成分とするエポキシ樹脂が好ましい。そのようなエポキシ樹脂としては市販品としてジャパンエポキシレジン株式会社製商品名YX−4000が入手可能である。上記ビフェニル型エポキシ樹脂の含有率は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量中20質量%以上とすることが好ましく、30質量%以上がより好ましく、50質量%以上がさらに好ましい。   The biphenyl type epoxy resin can be obtained by reacting a biphenol compound with epichlorohydrin by a known method. As such an epoxy resin, 4,4′-bis (2,3-epoxypropoxy) biphenyl, 4,4′-bis (2,3-epoxypropoxy) -3,3 ′, 5,5′-tetra Examples thereof include an epoxy resin mainly composed of methylbiphenyl. Among these, as the biphenyl type epoxy resin, an epoxy resin mainly composed of 4,4'-bis (2,3-epoxypropoxy) -3,3 ', 5,5'-tetramethylbiphenyl is preferable. As such an epoxy resin, a product name YX-4000 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. is available as a commercial product. The content of the biphenyl type epoxy resin is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, and further preferably 50% by mass or more in the total amount of the epoxy resin in order to exhibit its performance.

チオジフェノール型エポキシ樹脂は、チオジフェノール化合物にエピクロルヒドリンを公知の方法で反応させることによって得られる。このようなエポキシ樹脂としては、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィドのジグリシジルエーテルを主成分とするエポキシ樹脂、2,2’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィドのジグリシジルエーテルを主成分とするエポキシ樹脂、2,2’−ジメチル−4,4’−ジヒドロキシ−5,5’−ジ−t−ブチルジフェニルスルフィドのジグリシジルエーテルを主成分とするエポキシ樹脂等が挙げられ、なかでも、チオジフェノール型エポキシ樹脂としては、2,2’−ジメチル−4,4’−ジヒドロキシ−5,5’−ジ−t−ブチルジフェニルスルフィドのジグリシジルエーテルを主成分とするエポキシ樹脂が好ましい。そのようなエポキシ樹脂としては市販品として新日鐵化学株式会社製商品名YSLV−120TEが入手可能である。
上記チオジフェノール型エポキシ樹脂を含有する場合、上記チオジフェノール型エポキシ樹脂の含有率は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量中20質量%以上とすることが好ましく、30質量%以上がより好ましく、50質量%以上がさらに好ましい。
The thiodiphenol type epoxy resin can be obtained by reacting a thiodiphenol compound with epichlorohydrin by a known method. Examples of such epoxy resins include epoxy resins mainly composed of diglycidyl ether of 4,4′-dihydroxydiphenyl sulfide, and 2,2 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-dihydroxydiphenyl sulfide. Epoxy resin mainly composed of diglycidyl ether, epoxy resin mainly composed of diglycidyl ether of 2,2′-dimethyl-4,4′-dihydroxy-5,5′-di-t-butyldiphenyl sulfide, etc. Among them, the thiodiphenol type epoxy resin is mainly composed of diglycidyl ether of 2,2′-dimethyl-4,4′-dihydroxy-5,5′-di-t-butyldiphenyl sulfide. Epoxy resins are preferred. As such an epoxy resin, a commercial name YSLV-120TE manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd. is available.
When the thiodiphenol type epoxy resin is contained, the content of the thiodiphenol type epoxy resin is preferably 20% by mass or more in the total amount of the epoxy resin in order to exert its performance, and 30% by mass or more is preferable. More preferred is 50% by mass or more.

ビスフェノールF型エポキシ樹脂は、ビスフェノールF化合物にエピクロルヒドリンを公知の方法で反応させることによって得られる。このようなエポキシ樹脂としては、4,4’−メチレンビス(2,6−ジメチルフェノール)のジグリシジルエーテルを主成分とするエポキシ樹脂、4,4’−メチレンビス(2,3,6−トリメチルフェノール)のジグリシジルエーテルを主成分とするエポキシ樹脂、4,4’−メチレンビスフェノールのジグリシジルエーテルを主成分とするエポキシ樹脂等が挙げられ、なかでも、ビスフェノールF型エポキシ樹脂としては、4,4’−メチレンビス(2,6−ジメチルフェノール)のジグリシジルエーテルを主成分とするエポキシ樹脂が好ましい。そのようなエポキシ樹脂としては市販品として新日鐵化学株式会社製商品名YSLV−80XYが入手可能である。
上記ビスフェノールF型エポキシ樹脂を含有する場合、上記ビスフェノールF型エポキシ樹脂の含有率は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量中20質量%以上とすることが好ましく、30質量%以上がより好ましく、50質量%以上がさらに好ましい。
The bisphenol F type epoxy resin is obtained by reacting a bisphenol F compound with epichlorohydrin by a known method. Examples of such an epoxy resin include an epoxy resin mainly composed of 4,4′-methylenebis (2,6-dimethylphenol) diglycidyl ether, and 4,4′-methylenebis (2,3,6-trimethylphenol). An epoxy resin mainly composed of diglycidyl ether, an epoxy resin mainly composed of 4,4′-methylenebisphenol diglycidyl ether, and the like. Among them, as the bisphenol F type epoxy resin, 4,4 ′ An epoxy resin mainly composed of diglycidyl ether of methylenebis (2,6-dimethylphenol) is preferable. As such an epoxy resin, a product name YSLV-80XY manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd. is available as a commercial product.
When the bisphenol F-type epoxy resin is contained, the content of the bisphenol F-type epoxy resin is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, based on the total amount of the epoxy resin in order to exhibit its performance. 50 mass% or more is more preferable.

ノボラック型エポキシ樹脂は、ノボラック樹脂にエピクロルヒドリンを反応させることによって容易に得られる。なかでも、ノボラック型エポキシ樹脂としては、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂が好ましい。そのようなエポキシ樹脂としては市販品としてDIC株式会社製商品名N−660が入手可能である。
上記ノボラック型エポキシ樹脂を含有する場合、上記ノボラック型エポキシ樹脂の含有率は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量中20質量%以上とすることが好ましく、30質量%以上がより好ましく、50質量%以上がさらに好ましい。
A novolac type epoxy resin can be easily obtained by reacting a novolak resin with epichlorohydrin. Especially, as a novolak-type epoxy resin, an ortho cresol novolak-type epoxy resin is preferable. As such an epoxy resin, a commercial name N-660 manufactured by DIC Corporation is available.
In the case of containing the novolac type epoxy resin, the content of the novolak type epoxy resin is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, based on the total amount of the epoxy resin in order to exhibit its performance. The mass% or more is more preferable.

ナフタレン型エポキシ樹脂としては、DIC株式会社製商品名HP−4700等が市販品として入手可能である。
上記ナフタレン型エポキシ樹脂を含有する場合、上記ナフタレン型エポキシ樹脂の含有率は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量中、20質量%以上とすることが好ましく、30質量%以上がより好ましく、50質量%以上とすることがさらに好ましい。
As a naphthalene type epoxy resin, DIC Corporation make brand name HP-4700 etc. can be obtained as a commercial item.
When the naphthalene-type epoxy resin is contained, the content of the naphthalene-type epoxy resin is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, in the total amount of the epoxy resin in order to exhibit its performance. More preferably, it is 50 mass% or more.

トリフェニルメタン型エポキシ樹脂としては、日本化薬製商品名EPPN−502又はジャパンエポキシレジン株式会社製商品名1032H60が入手可能である。
上記トリフェニルメタン型エポキシ樹脂を含有する場合、上記トリフェニルメタン型エポキシ樹脂の含有率は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量中、20質量%以上とすることが好ましく、30質量%以上がより好ましく、50質量%以上とすることがさらに好ましい。
As a triphenylmethane type epoxy resin, Nippon Kayaku brand name EPPN-502 or Japan Epoxy Resin brand name 1032H60 is available.
When the triphenylmethane type epoxy resin is contained, the content of the triphenylmethane type epoxy resin is preferably 20% by mass or more, and preferably 30% by mass or more in the total amount of the epoxy resin in order to exhibit its performance. Is more preferable, and it is further more preferable to set it as 50 mass% or more.

フェノールアラルキル型エポキシ樹脂は、アルキル置換、芳香環置換又は非置換のフェノール化合物とジメトキシパラキシレンから合成されるフェノールアラルキル樹脂にエピクロルヒドリンを公知の方法で反応させることによって得られる。また、ビフェニレン骨格含有フェノールアラルキル型エポキシ樹脂は、アルキル置換、芳香環置換又は非置換のフェノール化合物とビス(メトキシメチル)ビフェニルから合成されるフェノールアラルキル樹脂にエピクロルヒドリンを公知の方法で反応させることによって得られる。フェノールアラルキル型エポキシ樹脂は市販品として日本化薬株式会社製商品名NC−2000Lが、ビフェニレン骨格含有フェノールアラルキル型エポキシ樹脂は市販品として日本化薬株式会社製商品名NC−3000Sが入手可能である。
上記フェノールアラルキル型エポキシ樹脂を含有する場合、上記フェノールアラルキル型エポキシ樹脂の含有率は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量中20質量%以上とすることが好ましく、30質量%以上がより好ましく、50質量%以上がさらに好ましい。
The phenol aralkyl type epoxy resin can be obtained by reacting epichlorohydrin with a phenol aralkyl resin synthesized from an alkyl-substituted, aromatic ring-substituted or unsubstituted phenol compound and dimethoxyparaxylene by a known method. Moreover, the biphenylene skeleton-containing phenol aralkyl type epoxy resin is obtained by reacting epichlorohydrin with a phenol aralkyl resin synthesized from an alkyl-substituted, aromatic ring-substituted or unsubstituted phenol compound and bis (methoxymethyl) biphenyl by a known method. It is done. Phenol aralkyl type epoxy resin is commercially available as Nippon Kayaku Co., Ltd. product name NC-2000L, and biphenylene skeleton-containing phenol aralkyl type epoxy resin is commercially available as Nippon Kayaku Co., Ltd. product name NC-3000S. .
When the phenol aralkyl type epoxy resin is contained, the content of the phenol aralkyl type epoxy resin is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, based on the total amount of the epoxy resin in order to exhibit its performance. 50 mass% or more is more preferable.

ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂は、アルキル置換、芳香環置換又は非置換のナフトール化合物とジメトキシパラキシレン又はビス(メトキシメチル)ビフェニルとから合成されるナフトールアラルキル樹脂にエピクロルヒドリンを公知の方法で反応させることによって得られる。このようなエポキシ樹脂としては、市販品として新日鐵化学株式会社製商品名ESN−375又は新日鐵化学株式会社製商品名ESN−175が挙げられる。
上記ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂を含有する場合、上記ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂の含有率は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量中20質量%以上とすることが好ましく、30質量%以上がより好ましく、50質量%以上がさらに好ましい。
A naphthol aralkyl type epoxy resin is obtained by reacting epichlorohydrin with a naphthol aralkyl resin synthesized from an alkyl-substituted, aromatic ring-substituted or unsubstituted naphthol compound and dimethoxyparaxylene or bis (methoxymethyl) biphenyl by a known method. It is done. As such an epoxy resin, Nippon Steel Chemical Co., Ltd. trade name ESN-375 or Nippon Steel Chemical Co., Ltd. trade name ESN-175 can be given as commercial products.
When the naphthol aralkyl type epoxy resin is contained, the content of the naphthol aralkyl type epoxy resin is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, based on the total amount of the epoxy resin in order to exhibit its performance. 50 mass% or more is more preferable.

また、難燃性、耐リフロー性及び流動性の両立の観点からは上記ビフェニル型エポキシ樹脂とビフェニレン骨格含有フェノールアラルキル型エポキシ樹脂とを含有していることが好ましく、また特にその含有質量比は、ビフェニル型エポキシ樹脂/ビフェニレン骨格含有フェノールアラルキル型エポキシ樹脂=50/50〜5/95であることが好ましく、40/60〜10/90であることがより好ましく、30/70〜15/85であることがさらに好ましい。このような含有質量比を満足する化合物としては、日本化薬株式会社製商品名CER−3000L等が市販品として入手可能である。   Further, from the viewpoint of compatibility of flame retardancy, reflow resistance and fluidity, it is preferable to contain the biphenyl type epoxy resin and the biphenylene skeleton-containing phenol aralkyl type epoxy resin, and the content ratio by mass is particularly preferably Biphenyl type epoxy resin / biphenylene skeleton-containing phenol aralkyl type epoxy resin is preferably 50/50 to 5/95, more preferably 40/60 to 10/90, and 30/70 to 15/85. More preferably. As a compound satisfying such a content mass ratio, Nippon Kayaku Co., Ltd. brand name CER-3000L etc. are available as a commercial item.

また、上記以外にも(A)1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂として、ナフタレン変性ノボラック型エポキシ樹脂を使用することもできる。このような化合物としてはDIC株式会社製商品名HP−5000が挙げられる。
上記ナフタレン変性ノボラック型エポキシ樹脂を含有する場合、上記ナフタレン変性ノボラック型エポキシ樹脂の含有率は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量中20質量%以上とすることが好ましく、30質量%以上がより好ましく、50質量%以上がさらに好ましい。
In addition to the above, (A) a naphthalene-modified novolac type epoxy resin can also be used as an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule. An example of such a compound is trade name HP-5000 manufactured by DIC Corporation.
When the naphthalene-modified novolac type epoxy resin is contained, the content of the naphthalene-modified novolak type epoxy resin is preferably 20% by mass or more, and 30% by mass or more in the total amount of the epoxy resin in order to exhibit its performance. More preferred is 50% by mass or more.

さらに、(A)1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂としてジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂を使用することもできる。このような化合物としてはDIC株式会社製商品名HP−7200が挙げられる。
上記ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂を含有する場合、上記ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂の含有率は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量中20質量%以上とすることが好ましく、30質量%以上がより好ましく、50質量%以上がさらに好ましい。
Furthermore, (A) a dicyclopentadiene type epoxy resin can also be used as an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule. An example of such a compound is trade name HP-7200 manufactured by DIC Corporation.
When the dicyclopentadiene type epoxy resin is contained, the content of the dicyclopentadiene type epoxy resin is preferably 20% by mass or more, and more preferably 30% by mass or more in the total amount of the epoxy resin in order to exhibit its performance. More preferred is 50% by mass or more.

上記に挙げたビフェニル型エポキシ樹脂、チオジフェノール型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフタレン変性ノボラック型エポキシ樹脂及びジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂は、いずれか1種を単独で用いても2種以上を組合せて用いてもよい。これらエポキシ樹脂の2種以上を組み合わせて用いる場合の含有率は、エポキシ樹脂全量中合わせて50質量%以上とすることが好ましく、60質量%以上がより好ましく、80質量%以上がさらに好ましい。   Biphenyl type epoxy resin, thiodiphenol type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, novolac type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, naphthol aralkyl type epoxy resin mentioned above The naphthalene-modified novolac type epoxy resin and the dicyclopentadiene type epoxy resin may be used alone or in combination of two or more. When two or more of these epoxy resins are used in combination, the content is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, and even more preferably 80% by mass or more in the total amount of the epoxy resin.

(A)1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂のエポキシ当量としては、100g/eq〜1000g/eqが好ましく、150g/eq〜1000g/eqがより好ましく、150g/eq〜500g/eqがさらに好ましい。
(A)1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂が軟化点を有する場合、該融点は、40℃〜180℃が好ましく、45℃〜150℃がより好ましく、50℃〜130℃が更に好ましい。
(A)1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂が融点を有する場合、該融点は、40℃〜180℃が好ましく、45℃〜150℃がより好ましく、50℃〜130℃が更に好ましい。
(A) The epoxy equivalent of an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule is preferably 100 g / eq to 1000 g / eq, more preferably 150 g / eq to 1000 g / eq, and 150 g / eq to 500 g / eq. Is more preferable.
(A) When an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule has a softening point, the melting point is preferably 40 ° C to 180 ° C, more preferably 45 ° C to 150 ° C, and more preferably 50 ° C to 130 ° C. Further preferred.
(A) When the epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule has a melting point, the melting point is preferably 40 ° C to 180 ° C, more preferably 45 ° C to 150 ° C, and further 50 ° C to 130 ° C. preferable.

なお、(A)1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂が、軟化点を有するか融点を有するかは、次のようにして判断する。
ガラス毛細管に固体試料((A)1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂)を入れて、それをシリコーンオイル中に浸漬し、シリコーンオイルの温度を上昇させながら目視で融点を測定する方式の融点測定器による測定で、固体試料が融け始める温度から融け終わる温度までの温度差が一点の温度に決定できるか否かを判定し、温度差が一点の温度に決定できる場合に固体試料が融点を有すると判断する。一方、温度差を一点の温度に決定できない場合、固体試料が軟化点を有すると判断する。
In addition, (A) Whether an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule has a softening point or a melting point is determined as follows.
Put a solid sample ((A) epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule) into a glass capillary tube, immerse it in silicone oil, and measure the melting point visually while raising the temperature of the silicone oil. If the temperature difference from the temperature at which the solid sample begins to melt to the temperature at which it melts can be determined as a single point, and the temperature difference can be determined as a single point, the solid sample Is determined to have a melting point. On the other hand, if the temperature difference cannot be determined as a single temperature, it is determined that the solid sample has a softening point.

本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料に含まれる(A)1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂の含有率は、3質量%〜15質量%が好ましく、3質量%〜12質量%がより好ましく、5質量%〜12質量%がさらに好ましい。   The content of the epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule (A) contained in the epoxy resin molding material for device encapsulation of the present invention is preferably 3% by mass to 15% by mass, and preferably 3% by mass to 12%. % By mass is more preferable, and 5% by mass to 12% by mass is more preferable.

−硬化剤−
本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料は、(B)硬化剤を含有する。
本発明において用いられる(B)硬化剤は、素子封止用エポキシ樹脂成形材料に一般に使用されているものであれば特に制限はなく、フェノールノボラック樹脂、オルソクレゾールノボラック樹脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂をはじめとするフェノール、クレゾール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェニルフェノール、チオジフェノール、アミノフェノール等のフェノール化合物及びα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール化合物からなる群より選択される少なくとも1種と、ホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック型フェノール樹脂;フェノール化合物とジメトキシパラキシレン又はビス(メトキシメチル)ビフェニルから合成されるフェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂;フェノールノボラック構造とフェノールアラルキル構造がランダム、ブロック又は交互に繰り返された共重合型フェノールアラルキル樹脂;パラキシリレン及び/又はメタキシリレン変性フェノール樹脂;メラミン変性フェノール樹脂;テルペン変性フェノール樹脂;ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂;シクロペンタジエン変性フェノール樹脂;多環芳香環変性フェノール樹脂などのフェノール樹脂が挙げられ、これらを単独で用いても2種以上を組合せて用いてもよい。
-Curing agent-
The element sealing epoxy resin molding material of the present invention contains (B) a curing agent.
The (B) curing agent used in the present invention is not particularly limited as long as it is generally used for an epoxy resin molding material for device sealing. A phenol novolak resin, an orthocresol novolak resin, a triphenylmethane type phenol resin. From the group consisting of phenol compounds such as phenol, cresol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, phenylphenol, thiodiphenol and aminophenol, and naphthol compounds such as α-naphthol, β-naphthol and dihydroxynaphthalene A novolak-type phenolic resin obtained by condensing or co-condensing at least one selected with a compound having an aldehyde group such as formaldehyde, benzaldehyde, salicylaldehyde under an acidic catalyst; Aralkyl-type phenol resins such as phenol aralkyl resins and naphthol aralkyl resins synthesized from dimethoxyparaxylene or bis (methoxymethyl) biphenyl; copolymer in which the phenol novolak structure and the phenol aralkyl structure are randomly, block, or alternately repeated Type phenol aralkyl resin; paraxylylene and / or metaxylylene modified phenol resin; melamine modified phenol resin; terpene modified phenol resin; dicyclopentadiene modified phenol resin; cyclopentadiene modified phenol resin; These may be used alone or in combination of two or more.

なかでも、(B)硬化剤としては、流動性、難燃性及び耐リフロー性の観点からはフェノールアラルキル樹脂、共重合型フェノールアラルキル樹脂及びナフトールアラルキル樹脂が好ましく、耐熱性、低膨張率及び低そり性の観点からはトリフェニルメタン型フェノール樹脂が好ましく、硬化性の観点からはノボラック型フェノール樹脂が好ましく、これらのフェノール樹脂の少なくとも1種を含有していることが好ましい。   Especially, as (B) hardening | curing agent, a phenol aralkyl resin, a copolymerization type phenol aralkyl resin, and a naphthol aralkyl resin are preferable from a viewpoint of fluidity | liquidity, a flame retardance, and reflow resistance, and heat resistance, a low expansion coefficient, and low From the viewpoint of warpage, a triphenylmethane type phenol resin is preferable, and from the viewpoint of curability, a novolac type phenol resin is preferable, and it is preferable to contain at least one of these phenol resins.

フェノールアラルキル樹脂としては、市販品として三井化学株式会社製商品名XLC及び明和化成株式会社製商品名MEH−7800が挙げられる。ビフェニレン骨格含有フェノールアラルキル樹脂としては、市販品として明和化成株式会社製商品名MEH−7851が挙げられる。
上記フェノールアラルキル樹脂を含有する場合、上記フェノールアラルキル樹脂の含有率は、その性能を発揮するために硬化剤全量中20質量%以上とすることが好ましく、30質量%以上がより好ましく、50質量%以上がさらに好ましい。
ナフトールアラルキル樹脂としては、市販品として新日鐵化学株式会社製商品名SN−475又は新日鐵化学株式会社製商品名SN−170が挙げられる。
上記ナフトールアラルキル樹脂を含有する場合、上記ナフトールアラルキル樹脂の含有率は、その性能を発揮するために硬化剤全量中20質量%以上とすることが好ましく、30質量%以上がより好ましく、50質量%以上がさらに好ましい。
As a phenol aralkyl resin, Mitsui Chemicals, Inc. brand name XLC and Meiwa Kasei Co., Ltd. brand name MEH-7800 are mentioned as a commercial item. As a biphenylene skeleton containing phenol aralkyl resin, Meiwa Kasei Co., Ltd. brand name MEH-7851 is mentioned as a commercial item.
When the phenol aralkyl resin is contained, the content of the phenol aralkyl resin is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, and more preferably 50% by mass in the total amount of the curing agent in order to exhibit the performance. The above is more preferable.
As a naphthol aralkyl resin, Nippon Steel Chemical Co., Ltd. brand name SN-475 or Nippon Steel Chemical Co., Ltd. brand name SN-170 is mentioned as a commercial item.
When the naphthol aralkyl resin is contained, the content of the naphthol aralkyl resin is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, and more preferably 50% by mass in the total amount of the curing agent in order to exhibit the performance. The above is more preferable.

上記フェノールアラルキル樹脂及びナフトールアラルキル樹脂は、難燃性の観点からその一部又は全部がアセナフチレンと予備混合されていることが好ましい。アセナフチレンはアセナフテンを脱水素して得ることができるが、市販品を用いてもよい。また、アセナフチレンの代わりにアセナフチレンの重合物又はアセナフチレンと他の芳香族オレフィンとの重合物を用いることもできる。アセナフチレンの重合物又はアセナフチレンと他の芳香族オレフィンとの重合物を得る方法としては、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合等が挙げられる。また、重合に際しては従来公知の触媒を用いることができるが、加熱により行うこともできる。この際、重合温度は80℃〜160℃が好ましく、90℃〜150℃がより好ましい。得られるアセナフチレンの重合物又はアセナフチレンと他の芳香族オレフィンとの重合物の軟化点は、60℃〜150℃が好ましく、70℃〜130℃がより好ましい。60℃以上であれば成形の際の染み出しによる成形性の低下が生じにくい傾向にあり、150℃以下であれば樹脂との相溶性が向上する傾向にある。アセナフチレンと共重合させる他の芳香族オレフィンとしては、スチレン、α−メチルスチレン、インデン、ベンゾチオフェン、ベンゾフラン、ビニルナフタレン、ビニルビフェニル、それらのアルキル置換体等が挙げられる。また、上記した芳香族オレフィン以外に本発明の効果に支障の無い範囲で脂肪族オレフィンを併用することもできる。脂肪族オレフィンとしては、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステル、無水マレイン酸、無水イタコン酸、フマル酸、フマル酸エステル等が挙げられる。これら脂肪族オレフィンの含有率は重合モノマー全量中20質量%以下が好ましく、9質量%以下がより好ましい。   The phenol aralkyl resin and the naphthol aralkyl resin are preferably preliminarily mixed with acenaphthylene from the viewpoint of flame retardancy. Although acenaphthylene can be obtained by dehydrogenating acenaphthene, a commercially available product may be used. Further, instead of acenaphthylene, a polymer of acenaphthylene or a polymer of acenaphthylene and other aromatic olefins can be used. Examples of a method for obtaining a polymer of acenaphthylene or a polymer of acenaphthylene and another aromatic olefin include radical polymerization, cationic polymerization, and anionic polymerization. In the polymerization, a conventionally known catalyst can be used, but it can also be carried out by heating. In this case, the polymerization temperature is preferably 80 ° C to 160 ° C, and more preferably 90 ° C to 150 ° C. The softening point of the resulting polymer of acenaphthylene or the polymer of acenaphthylene and another aromatic olefin is preferably 60 ° C to 150 ° C, more preferably 70 ° C to 130 ° C. If it is 60 ° C. or higher, there is a tendency that the moldability is not easily lowered due to oozing during molding, and if it is 150 ° C. or lower, compatibility with the resin tends to be improved. Examples of other aromatic olefins copolymerized with acenaphthylene include styrene, α-methylstyrene, indene, benzothiophene, benzofuran, vinylnaphthalene, vinylbiphenyl, and alkyl-substituted products thereof. In addition to the above-mentioned aromatic olefins, aliphatic olefins can be used in combination as long as the effects of the present invention are not hindered. Examples of the aliphatic olefin include (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid ester, maleic anhydride, itaconic anhydride, fumaric acid, and fumaric acid ester. The content of these aliphatic olefins is preferably 20% by mass or less, more preferably 9% by mass or less, based on the total amount of the polymerization monomers.

上記フェノールアラルキル樹脂及びナフトールアラルキル樹脂の一部又は全部とアセナフチレンとの予備混合の方法としては、硬化剤及びアセナフチレンをそれぞれ微細に粉砕し固体状態のままミキサー等で混合する方法、両成分を溶解する溶媒に共に溶解させた後、溶媒を除去する方法、硬化剤及び/又はアセナフチレンの軟化点以上の温度で両者を溶融混合する方法などで行うことができ、両成分が良好に混じり合った混合物が得られて不純物の混入が少ない溶融混合法が好ましい。前記の方法により予備混合物(アセナフチレン変性硬化剤)が、製造される。溶融混合は、硬化剤及び/又はアセナフチレンの軟化点以上の温度であれば制限はなく、100℃〜250℃が好ましく、120℃〜200℃がより好ましい。また、溶融混合は両者が良好に混合すれば混合時間に制限はなく、1時間〜20時間が好ましく、2時間〜15時間がより好ましい。硬化剤とアセナフチレンを予備混合する場合、混合中にアセナフチレンが重合又は硬化剤と反応しても構わない。   As a method of premixing part or all of the phenol aralkyl resin and naphthol aralkyl resin with acenaphthylene, the curing agent and acenaphthylene are finely pulverized and mixed with a mixer or the like in a solid state, and both components are dissolved. After being dissolved together in the solvent, it can be performed by a method of removing the solvent, a method of melting and mixing the curing agent and / or acenaphthylene at a temperature equal to or higher than the softening point, and a mixture in which both components are well mixed is obtained. A melt mixing method is preferable because it is obtained and contains less impurities. A premix (acenaphthylene-modified curing agent) is produced by the above method. The melt mixing is not limited as long as the temperature is equal to or higher than the softening point of the curing agent and / or acenaphthylene, preferably 100 ° C to 250 ° C, more preferably 120 ° C to 200 ° C. In addition, in the melt mixing, if both are mixed well, the mixing time is not limited and is preferably 1 hour to 20 hours, more preferably 2 hours to 15 hours. When preliminarily mixing the curing agent and acenaphthylene, acenaphthylene may be polymerized or reacted with the curing agent during mixing.

トリフェニルメタン型フェノール樹脂としては、市販品としてエア・ウォーター株式会社製商品名HE−910及び明和化成株式会社製商品名MEH−7500が挙げられる。トリフェニルメタン型フェノール樹脂を用いる場合、その含有率はその性能を発揮するために硬化剤全量中30質量%以上とすることが好ましく、50質量%以上がより好ましい。   Examples of the triphenylmethane type phenol resin include commercially available product names HE-910 manufactured by Air Water Co., Ltd. and MEH-7500 manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd. When using a triphenylmethane type phenol resin, the content is preferably 30% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, based on the total amount of the curing agent in order to exhibit its performance.

ノボラック型フェノール樹脂としては、市販品として明和化成株式会社製商品名H−100等が挙げられる。ノボラック型フェノール樹脂を用いる場合、その含有率はその性能を発揮するために硬化剤全量中30質量%以上とすることが好ましく、50質量%以上がより好ましい。   As a novolak type phenol resin, Meiwa Kasei Co., Ltd. product name H-100 etc. are mentioned as a commercial item. In the case of using a novolac type phenol resin, the content is preferably 30% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, based on the total amount of the curing agent in order to exhibit its performance.

共重合型フェノールアラルキル樹脂としては、エア・ウォーター株式会社製商品名HE−510等が市販品として入手可能である。共重合型フェノールアラルキル樹脂を用いる場合、その含有率はその性能を発揮するために硬化剤全量中30質量%以上とすることが好ましく、50質量%以上がより好ましい。   As the copolymerization type phenol aralkyl resin, trade name HE-510 manufactured by Air Water Co., Ltd. is available as a commercial product. When a copolymeric phenol aralkyl resin is used, the content is preferably 30% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, based on the total amount of the curing agent in order to exhibit its performance.

ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂としては、群栄化学株式会社製商品名GDP−6085等が市販品として入手可能である。ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂を用いる場合、その含有率はその性能を発揮するために硬化剤全量中30質量%以上とすることが好ましく、50質量%以上がより好ましい。   As the dicyclopentadiene-modified phenol resin, a product name GDP-6085 manufactured by Gunei Chemical Co., Ltd. is commercially available. When using a dicyclopentadiene-modified phenol resin, the content is preferably 30% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, based on the total amount of the curing agent in order to exhibit its performance.

上記のフェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂、ノボラック型フェノール脂及び共重合型フェノールアラルキル樹脂は、いずれか1種を単独で用いても2種以上を組合せて用いてもよい。上記樹脂を2種以上組み合わせて用いる場合の含有率は、硬化剤全量中合わせて50質量%以上とすることが好ましく、60質量%以上がより好ましく、80質量%以上がさらに好ましい。
(B)硬化剤がフェノール樹脂であった場合、フェノール樹脂の水酸基当量は、70g/eq〜1000g/eqが好ましく、75g/eq〜700g/eqがより好ましく、80g/eq〜500g/eqが更に好ましい。
(B)硬化剤が軟化点を有する場合、該軟化点は、40℃〜180℃が好ましく、45℃〜150℃がより好ましく、50℃〜130℃が更に好ましい。
(B)硬化剤が融点を有する場合、該融点は、40℃〜180℃が好ましく、45℃〜150℃がより好ましく、50℃〜130℃が更に好ましい。
The above phenol aralkyl resin, naphthol aralkyl resin, dicyclopentadiene-modified phenol resin, triphenylmethane type phenol resin, novolac type phenol fat and copolymer type phenol aralkyl resin can be used alone or in combination of two or more. May be used in combination. The content in the case where two or more of the above resins are used in combination is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, and even more preferably 80% by mass or more in the total amount of the curing agent.
(B) When the curing agent is a phenol resin, the hydroxyl equivalent of the phenol resin is preferably 70 g / eq to 1000 g / eq, more preferably 75 g / eq to 700 g / eq, and further preferably 80 g / eq to 500 g / eq. preferable.
(B) When a hardening | curing agent has a softening point, 40 to 180 degreeC is preferable, as for this softening point, 45 to 150 degreeC is more preferable, and 50 to 130 degreeC is still more preferable.
(B) When a hardening | curing agent has melting | fusing point, 40 to 180 degreeC is preferable, as for this melting | fusing point, 45 to 150 degreeC is more preferable, and 50 to 130 degreeC is still more preferable.

なお、(B)硬化剤が、軟化点を有するか融点を有するかは、次のようにして判断する。
ガラス毛細管に固体試料((B)硬化剤)を入れて、それをシリコーンオイル中に浸漬し、シリコーンオイルの温度を上昇させながら目視で融点を測定する方式の融点測定器による測定で、固体試料が融け始める温度から融け終わる温度までの温度差が一点の温度に決定できるか否かを判定し、温度差が一点の温度に決定できる場合に固体試料が融点を有すると判断する。一方、温度差を一点の温度に決定できない場合、固体試料が軟化点を有すると判断する。
Whether (B) the curing agent has a softening point or a melting point is determined as follows.
Put a solid sample ((B) curing agent) in a glass capillary tube, immerse it in silicone oil, and measure the melting point visually by increasing the temperature of the silicone oil. It is determined whether or not the temperature difference from the temperature at which the melting starts to the temperature at which the melting ends can be determined as a single temperature. If the temperature difference can be determined as the single temperature, it is determined that the solid sample has a melting point. On the other hand, if the temperature difference cannot be determined as a single temperature, it is determined that the solid sample has a softening point.

本発明において、(A)1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂と、(B)硬化剤の当量比、すなわちエポキシ基数に対する水酸基数の比(硬化剤中の水酸基数/エポキシ樹脂中のエポキシ基数)は、特に制限はなく、それぞれの未反応分を少なく抑えるために0.5〜2.0の範囲に設定されることが好ましく、0.6〜1.3がより好ましい。成形性に優れる素子封止用エポキシ樹脂成形材料を得るためには0.8〜1.2の範囲に設定されることがさらに好ましい。   In the present invention, (A) an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule and (B) an equivalent ratio of the curing agent, that is, a ratio of the number of hydroxyl groups to the number of epoxy groups (number of hydroxyl groups in curing agent / in epoxy resin) The number of epoxy groups) is not particularly limited, and is preferably set in the range of 0.5 to 2.0, and more preferably 0.6 to 1.3 in order to suppress each unreacted component. In order to obtain an epoxy resin molding material for sealing an element having excellent moldability, it is more preferably set in the range of 0.8 to 1.2.

−フタロシアニン構造を有する化合物−
本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料は、(C)フタロシアニン構造を有する化合物を含有する。
本発明において「フタロシアニン構造を有する化合物」としては、置換又は無置換の無金属フタロシアニン、置換又は無置換の金属フタロシアニン、置換又は無置換の無金属ナフタロシアニン、置換又は無置換の金属ナフタロシアニン等が挙げられる。
-Compound having phthalocyanine structure-
The epoxy resin molding material for device encapsulation of the present invention contains (C) a compound having a phthalocyanine structure.
In the present invention, the “compound having a phthalocyanine structure” includes substituted or unsubstituted metal-free phthalocyanine, substituted or unsubstituted metal phthalocyanine, substituted or unsubstituted metal-free naphthalocyanine, substituted or unsubstituted metal naphthalocyanine, and the like. Can be mentioned.

(C)フタロシアニン構造を有する化合物に含まれる置換基としては、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子などが挙げられる。   (C) As a substituent contained in the compound which has a phthalocyanine structure, halogen atoms, such as a chlorine atom and a bromine atom, etc. are mentioned.

金属フタロシアニンに含まれる金属イオンとしては、銅(II)、マンガン(II)、鉄(II)、コバルト(II)、ニッケル(II)、亜鉛(II)等が挙げられる。   Examples of the metal ion contained in the metal phthalocyanine include copper (II), manganese (II), iron (II), cobalt (II), nickel (II), zinc (II) and the like.

本発明で用いられる(C)フタロシアニン構造を有する化合物としては、入手がしやすいという観点から無金属フタロシアニン及び銅(II)フタロシアニンからなる群より選択される少なくとも一種を使用することが好ましい。無金属フタロシアニン及び銅(II)フタロシアニンは、置換基が結合していない無置換のものであることが、入手がしやすいという観点から特に好ましい。また、(C)フタロシアニン構造を有する化合物として無金属フタロシアニン及び銅(II)フタロシアニンからなる群より選択される少なくとも一種を用いた場合、表面に銅又は銀を含む金属との接着性に優れる点で好ましい。   As the compound having a (C) phthalocyanine structure used in the present invention, it is preferable to use at least one selected from the group consisting of metal-free phthalocyanine and copper (II) phthalocyanine from the viewpoint of easy availability. The metal-free phthalocyanine and copper (II) phthalocyanine are particularly preferably unsubstituted from which no substituent is bonded from the viewpoint of easy availability. In addition, when at least one selected from the group consisting of metal-free phthalocyanine and copper (II) phthalocyanine is used as the compound having a (C) phthalocyanine structure, it is excellent in adhesion to a metal containing copper or silver on the surface. preferable.

銅(II)フタロシアニンは結晶状態がα型、β型等複数あり、いずれかの精製物であってもそれらの混合物であってもどちらでもよい。特に、結晶状態が安定なβ型の銅(II)フタロシアニン(別名:PigmentBlue15:3)を使用することが好ましい。本発明において用いられる(C)フタロシアニン構造を有する化合物の含有率は素子封止用エポキシ樹脂成形材料中0.1質量%〜1.0質量%が好ましい。0.1質量%以上であれば高温における金属との接着性がより向上する傾向にあり、1.0質量%以下であれば素子封止用エポキシ樹脂成形材料の硬度が向上する傾向にある。   Copper (II) phthalocyanine has a plurality of crystal states such as α-type and β-type, and may be either a purified product or a mixture thereof. In particular, it is preferable to use β-type copper (II) phthalocyanine (also known as Pigment Blue 15: 3) having a stable crystal state. As for the content rate of the compound which has the (C) phthalocyanine structure used in this invention, 0.1 mass%-1.0 mass% are preferable in the epoxy resin molding material for element sealing. If it is 0.1 mass% or more, the adhesiveness with the metal at high temperature tends to be improved, and if it is 1.0 mass% or less, the hardness of the epoxy resin molding material for device encapsulation tends to be improved.

素子封止用エポキシ樹脂成形材料中における(C)フタロシアニン構造を有する化合物は、硬化前の状態においては、以下の方法により定量される。
素子封止用エポキシ樹脂成形材料を溶剤中に分散させ、溶媒に不溶な成分(無機充てん剤、着色剤等)を分散液中から除去する。溶媒に不溶な成分を取り除くことで得られた溶液に対して高速液体クロマトグラフィー(HPLC)を用いて分析することにより、(C)フタロシアニン構造を有する化合物が検出され、定量される。
The compound having a (C) phthalocyanine structure in the epoxy resin molding material for device encapsulation is quantified by the following method in a state before curing.
The element sealing epoxy resin molding material is dispersed in a solvent, and components (inorganic filler, colorant, etc.) insoluble in the solvent are removed from the dispersion. By analyzing the solution obtained by removing components insoluble in the solvent using high performance liquid chromatography (HPLC), the compound having (C) a phthalocyanine structure is detected and quantified.

本発明において、(A)1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂と、(C)フタロシアニン構造を有する化合物との含有比は、(A)1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂100質量部に対して(C)フタロシアニン構造を有する化合物が1質量部〜20質量部であることが好ましく、2質量部〜15質量部であることがより好ましく、3質量部〜10質量部であることがさらに好ましい。   In the present invention, the content ratio of (A) an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule and (C) a compound having a phthalocyanine structure is (A) having two or more epoxy groups in one molecule. The compound (C) having a phthalocyanine structure is preferably 1 part by mass to 20 parts by mass, more preferably 2 parts by mass to 15 parts by mass, and more preferably 3 parts by mass to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin. More preferably, it is a part.

−シラン化合物−
本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料は、(D)シラン化合物を含有してもよい。
(D)シラン化合物としては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等のエポキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプトシラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン等のアミノシラン、メチルトリメトキシシラン等のアルキルシラン、γ−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン等のイソシアネートシラン、ビニルトリメトキシシラン等のビニルシランなどが挙げられる。これらは1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
-Silane compound-
The element sealing epoxy resin molding material of the present invention may contain (D) a silane compound.
(D) As the silane compound, epoxy silane such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, mercaptosilane such as γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, aminosilane such as γ-anilinopropyltrimethoxysilane, methyltrimethoxysilane And alkyl silanes such as γ-isocyanatopropyltrimethoxysilane, and vinyl silanes such as vinyltrimethoxysilane. These may be used alone or in combination of two or more.

(D)シラン化合物を含有する場合、(D)シラン化合物の含有率は成形性及び流動性の観点から素子封止用エポキシ樹脂成形材料中0.06質量%〜2質量%が好ましく、0.1質量%〜0.75質量%がより好ましく、0.2質量%〜0.7質量%がさらに好ましい。0.06質量%以上であれば流動性が確保される傾向にあり、2質量%以下であればボイド等の成形不良が発生しにくい傾向がある。   When (D) the silane compound is contained, the content of the (D) silane compound is preferably 0.06% by mass to 2% by mass in the epoxy resin molding material for device sealing from the viewpoint of moldability and fluidity. 1 mass%-0.75 mass% is more preferable, and 0.2 mass%-0.7 mass% is further more preferable. If it is 0.06 mass% or more, fluidity tends to be secured, and if it is 2 mass% or less, molding defects such as voids tend not to occur.

−硬化促進剤−
本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料は、(E)硬化促進剤を含有してもよい。
本発明で用いられる(E)硬化促進剤としては、素子封止用エポキシ樹脂成形材料で一般に使用されているもので特に限定はない。例えば、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5、5,6−ジブチルアミノ−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7等のシクロアミジン化合物;シクロアミジン化合物に無水マレイン酸、1,2−ベンゾキノン、1,4−ベンゾキノン、ジフェノキノン、2,5−トルキノン、1,4−ナフトキノン、2,3−ジメチルベンゾキノン、2,6−ジメチルベンゾキノン、2,3−ジメトキシ−5−メチル−1,4−ベンゾキノン、2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノン、フェニル−1,4−ベンゾキノン、アントラキノン等のキノン化合物、ジアゾフェニルメタン、フェノール樹脂などのπ結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合物;ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等の三級アミン化合物及びこれらの誘導体;2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2―フェニル−4−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール等のイミダゾール化合物及びこれらの誘導体;トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス(4−メチルフェニル)ホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィン等の有機ホスフィン化合物;これらの有機ホスフィン化合物に無水マレイン酸、上記キノン化合物、ジアゾフェニルメタン、フェノール樹脂等のπ結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有するリン化合物;テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムエチルトリフェニルボレート、テトラブチルホスホニウムテトラブチルボレート等のテトラ置換ホスホニウムテトラ置換ボレート;並びに2−エチル−4−メチルイミダゾールテトラフェニルボレート、N−メチルモルホリンテトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩及びこれらの誘導体が挙げられる。これらは1種を単独で用いても2種以上組み合わせて用いてもよい。
-Curing accelerator-
The epoxy resin molding material for element sealing of the present invention may contain (E) a curing accelerator.
As (E) hardening accelerator used by this invention, it is generally used with the epoxy resin molding material for element sealing, and there is no limitation in particular. For example, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5, 5,6-dibutylamino-1,8-diazabicyclo [5.4. 0.0] cycloamidine compounds such as undecene-7; maleic anhydride, 1,2-benzoquinone, 1,4-benzoquinone, diphenoquinone, 2,5-toluquinone, 1,4-naphthoquinone, 2,3-cycloamidine compound Quinones such as dimethylbenzoquinone, 2,6-dimethylbenzoquinone, 2,3-dimethoxy-5-methyl-1,4-benzoquinone, 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, phenyl-1,4-benzoquinone and anthraquinone Compounds with intramolecular polarization formed by adding compounds with π bonds such as compounds, diazophenylmethane, and phenolic resins Tertiary amine compounds such as benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol and their derivatives; 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2 -Imidazole compounds such as heptadecylimidazole and their derivatives; organic phosphine compounds such as tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, tris (4-methylphenyl) phosphine, diphenylphosphine, phenylphosphine; Phosphorus compound having intramolecular polarization formed by adding a compound having a π bond such as maleic anhydride, the above quinone compound, diazophenylmethane, phenol resin; Tetrasubstituted phosphonium tetrasubstituted borates such as ruphosphonium tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium ethyltriphenylborate, tetrabutylphosphonium tetrabutylborate; and 2-ethyl-4-methylimidazole tetraphenylborate, N-methylmorpholine tetraphenylborate, etc. And tetraphenylboron salts thereof and derivatives thereof. These may be used alone or in combination of two or more.

有機ホスフィン化合物とキノン化合物等との付加物に用いられる第三ホスフィンとしては特に制限はなく、ジブチルフェニルホスフィン、ブチルジフェニルホスフィン、エチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス(4−メチルフェニル)ホスフィン、トリス(4−エチルフェニル)ホスフィン、トリス(4−プロピルフェニル)ホスフィン、トリス(4−ブチルフェニル)ホスフィン、トリス(イソプロピルフェニル)ホスフィン、トリス(t−ブチルフェニル)ホスフィン、トリス(2,4−ジメチルフェニル)ホスフィン、トリス(2,6−ジメチルフェニル)ホスフィン、トリス(2,4,6−トリメチルフェニル)ホスフィン、トリス(2,6−ジメチル−4−エトキシフェニル)ホスフィン、トリス(4−メトキシフェニル)ホスフィン、トリス(4−エトキシフェニル)ホスフィン等のアリール基を有する第三ホスフィンが挙げられ、成形性の点からはトリフェニルホスフィンが好ましい。   The third phosphine used in the adduct of an organic phosphine compound and a quinone compound is not particularly limited, and is dibutylphenylphosphine, butyldiphenylphosphine, ethyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, tris (4-methylphenyl) phosphine, tris. (4-ethylphenyl) phosphine, tris (4-propylphenyl) phosphine, tris (4-butylphenyl) phosphine, tris (isopropylphenyl) phosphine, tris (t-butylphenyl) phosphine, tris (2,4-dimethylphenyl) ) Phosphine, tris (2,6-dimethylphenyl) phosphine, tris (2,4,6-trimethylphenyl) phosphine, tris (2,6-dimethyl-4-ethoxyphenyl) phosphine, tris (4-me Kishifeniru) phosphine, tertiary phosphines are exemplified with an aryl group such as tris (4-ethoxyphenyl) phosphine, triphenylphosphine is preferable in view of moldability.

また、第三ホスフィンとキノン化合物との付加物に用いられるキノン化合物としては特に制限はなく、1,2−ベンゾキノン、1,4−ベンゾキノン、ジフェノキノン、1,4−ナフトキノン、アントラキノン等が挙げられ、耐湿性又は保存安定性の観点からは1,4−ベンゾキノンが好ましい。   In addition, the quinone compound used for the adduct of the tertiary phosphine and the quinone compound is not particularly limited, and examples thereof include 1,2-benzoquinone, 1,4-benzoquinone, diphenoquinone, 1,4-naphthoquinone, anthraquinone, and the like. From the viewpoint of moisture resistance or storage stability, 1,4-benzoquinone is preferred.

(E)硬化促進剤を含有する場合、(E)硬化促進剤の含有量は、硬化促進効果が達成される量であれば特に限定されるものではなく、(A)1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂、(B)硬化剤及び(C)フタロシアニン構造を有する化合物の合計量100質量部に対して0.1質量部〜10質量部が好ましく、0.3質量部〜5質量部がより好ましい。0.1質量部以上であれば短時間で硬化させることが可能となり、10質量部以下であれば硬化速度が速すぎることがなく良好な成形品が得られる傾向にある。   In the case of containing (E) a curing accelerator, the content of (E) the curing accelerator is not particularly limited as long as the curing acceleration effect is achieved, and (A) an epoxy group in one molecule 0.1 parts by mass to 10 parts by mass, preferably 0.3 parts by mass to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the epoxy resin having 2 or more, (B) curing agent and (C) the compound having a phthalocyanine structure. Part by mass is more preferable. If it is 0.1 parts by mass or more, it can be cured in a short time, and if it is 10 parts by mass or less, the curing rate does not become too fast and a good molded product tends to be obtained.

−無機充てん剤−
本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料は、(F)無機充てん剤を含有してもよい。
本発明で用いられる(F)無機充てん剤は、吸湿性、線膨張係数低減、熱伝導性向上及び強度向上のために成形材料に含有されるものであり、素子封止用エポキシ樹脂成形材料に一般に使用されているものであれば特に制限されるものではない。無機充てん剤としては、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、チタン酸カリウム、炭化珪素、窒化珪素、窒化アルミ、窒化ホウ素、ベリリア、ジルコニア、フォステライト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニア等の粉体、又はこれらを球形化したビーズ、ガラス繊維などが挙げられる。これらは1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。なかでも、(F)無機充てん剤としては、線膨張係数低減の観点からは溶融シリカが、高熱伝導性の観点からはアルミナが好ましい。充てん剤の形状は成形の際の流動性及び金型摩耗性の点から球形が好ましい。特にコストと性能のバランスの観点からは球状溶融シリカが好ましい。
-Inorganic filler-
The element sealing epoxy resin molding material of the present invention may contain (F) an inorganic filler.
The (F) inorganic filler used in the present invention is contained in a molding material for hygroscopicity, linear expansion coefficient reduction, thermal conductivity improvement and strength improvement, and is used as an epoxy resin molding material for device sealing. If it is generally used, it will not be restrict | limited. Inorganic fillers include fused silica, crystalline silica, alumina, zircon, calcium silicate, calcium carbonate, potassium titanate, silicon carbide, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, beryllia, zirconia, fosterite, steatite, spinel, Examples thereof include powders such as mullite and titania, beads formed by spheroidizing these, and glass fibers. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, as the (F) inorganic filler, fused silica is preferable from the viewpoint of reducing the linear expansion coefficient, and alumina is preferable from the viewpoint of high thermal conductivity. The shape of the filler is preferably spherical from the viewpoint of fluidity and mold wear during molding. In particular, spherical fused silica is preferable from the viewpoint of a balance between cost and performance.

(F)無機充てん剤を含有する場合、(F)無機充てん剤の含有率は、難燃性、成形性、吸湿性、線膨張係数低減及び強度向上の観点から、素子封止用エポキシ樹脂成形材料中70質量%〜95質量%が好ましい。70質量%以上であれば難燃性が向上する傾向があり、95質量%以下であれば流動性が向上する傾向がある。   (F) When containing an inorganic filler, the content of the (F) inorganic filler is from the viewpoint of flame retardancy, moldability, hygroscopicity, linear expansion coefficient reduction and strength improvement, and epoxy resin molding for device encapsulation. 70 mass%-95 mass% in a material are preferable. If it is 70 mass% or more, the flame retardancy tends to be improved, and if it is 95 mass% or less, the fluidity tends to be improved.

−その他の成分−
(陰イオン交換体)
また、本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料には、IC等の素子の耐湿性及び高温放置特性を向上させる目的で陰イオン交換体を必要に応じて配合することができる。陰イオン交換体としては特に制限はなく、従来公知のものを用いることができる。陰イオン交換体としては、ハイドロタルサイト;マグネシウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム及びビスマスからなる群より選択される少なくとも一種の元素の含水酸化物;等が挙げられる。これらは1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
-Other ingredients-
(Anion exchanger)
In addition, an anion exchanger can be blended with the epoxy resin molding material for sealing an element of the present invention, if necessary, for the purpose of improving the moisture resistance and high temperature storage characteristics of an element such as an IC. There is no restriction | limiting in particular as an anion exchanger, A conventionally well-known thing can be used. Examples of the anion exchanger include hydrotalcite; a hydrous oxide of at least one element selected from the group consisting of magnesium, aluminum, titanium, zirconium and bismuth; These may be used alone or in combination of two or more.

陰イオン交換体を含有する場合、陰イオン交換体の含有量は、ハロゲンイオン等の陰イオンを捕捉できる充分量であれば特に限定されるものではなく、(A)1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂100質量部に対して、0.1質量部〜30質量部が好ましく、1質量部〜5質量部がより好ましい。   When an anion exchanger is contained, the content of the anion exchanger is not particularly limited as long as it is a sufficient amount capable of capturing anions such as halogen ions. (A) An epoxy group is contained in one molecule. 0.1 to 30 parts by mass is preferable with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin having two or more, and 1 to 5 parts by mass is more preferable.

(離型剤)
本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料には、必要に応じて離型剤を含有してもよい。離型剤としては、酸化型又は非酸化型のポリオレフィンを挙げることができる。酸化型又は非酸化型のポリオレフィンとしては、クラリアントジャパン株式会社製商品名H4、PE、PEDシリーズ等の数平均分子量が500〜10000程度の低分子量ポリエチレンなどが挙げられる。
離型剤を含有する場合、離型剤は、(A)1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂100質量部に対して0.01質量部〜10質量部用いることが好ましく、0.1質量部〜5質量部用いることがより好ましい。0.01質量部以上であれば離型性が充分となる傾向があり、10質量部以下であれば接着性の低下が抑制される傾向がある。
また、上記以外の他の離型剤としては、カルナバワックス、モンタン酸エステル、モンタン酸、ステアリン酸等が挙げられる。これらは1種を単独で用いても2種以上組み合わせて用いてもよい。酸化型又は非酸化型のポリオレフィンに加えてこれら他の離型剤を併用する場合、その含有量は合わせて(A)1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂100質量部に対して0.1質量部〜10質量部が好ましく、0.5質量部〜3質量部がより好ましい。
(Release agent)
The epoxy resin molding material for element sealing of the present invention may contain a release agent as necessary. Examples of the mold release agent include oxidized or non-oxidized polyolefin. Examples of the oxidized or non-oxidized polyolefin include low molecular weight polyethylene having a number average molecular weight of about 500 to 10,000, such as trade name H4, PE, and PED series manufactured by Clariant Japan.
When the release agent is contained, the release agent is preferably used in an amount of 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin (A) having two or more epoxy groups in one molecule. It is more preferable to use 1 part by mass to 5 parts by mass. If it is 0.01 mass part or more, there exists a tendency for mold release to become sufficient, and if it is 10 mass parts or less, there exists a tendency for the adhesive fall to be suppressed.
Examples of mold release agents other than the above include carnauba wax, montanic acid ester, montanic acid, and stearic acid. These may be used alone or in combination of two or more. When these other release agents are used in combination with oxidized or non-oxidized polyolefin, the total content thereof is (A) based on 100 parts by mass of epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule. 0.1 mass part-10 mass parts are preferable, and 0.5 mass part-3 mass parts are more preferable.

(難燃剤)
本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料には従来公知の難燃剤を必要に応じて含有することができる。難燃剤としては、ブロム化エポキシ樹脂;三酸化アンチモン;赤リン;水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、酸化亜鉛等の無機物及び/又はフェノール樹脂等の熱硬化性樹脂などで被覆された赤リン、リン酸エステルなどのリン化合物;メラミン、メラミン誘導体、メラミン変性フェノール樹脂、トリアジン環を有する化合物、シアヌル酸誘導体、イソシアヌル酸誘導体等の窒素含有化合物;シクロホスファゼン等のリン及び窒素含有化合物;水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、酸化亜鉛、錫酸亜鉛、硼酸亜鉛、酸化鉄、酸化モリブデン、モリブデン酸亜鉛、ジシクロペンタジエニル鉄等の金属元素を含む化合物などが挙げられる。これらは1種を単独で用いても2種以上を組合せて用いてもよい。
難燃剤を含有する場合、難燃剤の含有量は特に制限はなく、(A)1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂100質量部に対して1質量部〜30質量部が好ましく、2質量部〜15質量部がより好ましい。
(Flame retardants)
The epoxy resin molding material for sealing an element of the present invention can contain a conventionally known flame retardant as necessary. Examples of flame retardants include brominated epoxy resins; antimony trioxide; red phosphorus; red phosphorus and phosphorus coated with inorganic substances such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, zinc oxide and / or thermosetting resins such as phenol resins. Phosphorus compounds such as acid esters; melamine, melamine derivatives, melamine-modified phenolic resins, compounds containing a triazine ring, nitrogen-containing compounds such as cyanuric acid derivatives and isocyanuric acid derivatives; phosphorus and nitrogen-containing compounds such as cyclophosphazene; aluminum hydroxide, Examples thereof include compounds containing metal elements such as magnesium hydroxide, zinc oxide, zinc stannate, zinc borate, iron oxide, molybdenum oxide, zinc molybdate, and dicyclopentadienyl iron. These may be used alone or in combination of two or more.
When the flame retardant is contained, the content of the flame retardant is not particularly limited, and (A) 1 part by mass to 30 parts by mass is preferable with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule. 2 parts by mass to 15 parts by mass is more preferable.

(着色剤等)
また、本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料は、カーボンブラック、有機染料、有機顔料、酸化チタン、鉛丹、ベンガラ等の着色剤を含有してもよい。さらに、その他の添加剤として、シリコーンオイル、シリコーンゴム粉末等の応力緩和剤などを必要に応じて含有することができる。
(Colorants, etc.)
Moreover, the epoxy resin molding material for element sealing of the present invention may contain a colorant such as carbon black, organic dye, organic pigment, titanium oxide, red lead, or bengara. Furthermore, as other additives, stress relaxation agents such as silicone oil and silicone rubber powder can be contained as required.

−素子封止用エポキシ樹脂成形材料の調製−
本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料は、各種成分を均一に分散混合できるのであれば、いかなる手法を用いても調製できる。一般的な手法として、本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料の成分をミキサー等によって混合し、ミキシングロール、押出機等によって溶融混練し、冷却及び粉砕する方法を挙げることができる。具体的には、上述した成分を撹拌又は混合し、予め70℃〜140℃に加熱してあるニーダー、ロール、エクストルーダー等で混練した後、冷却し、粉砕するなどの方法で得ることができる。成形条件に合うような寸法及び質量でタブレット化すると使いやすい。
-Preparation of epoxy resin molding material for device sealing-
The epoxy resin molding material for device encapsulation of the present invention can be prepared by any method as long as various components can be uniformly dispersed and mixed. As a general technique, a method of mixing the components of the epoxy resin molding material for sealing an element of the present invention with a mixer or the like, melt-kneading with a mixing roll, an extruder or the like, and cooling and pulverizing can be mentioned. Specifically, it can be obtained by a method of stirring or mixing the above-described components, kneading with a kneader, roll, extruder or the like that has been heated to 70 ° C. to 140 ° C., cooling, and pulverizing. . It is easy to use if it is tableted with dimensions and mass that match the molding conditions.

<電子部品装置>
本発明の電子部品装置は、素子と、前記素子を封止する本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料の硬化物と、を有する。
本発明の電子部品装置としては、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、配線板、ガラス、シリコンウエハ等の支持部材に、半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子等の素子を搭載し、必要な部分を本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料で封止した、電子部品装置などが挙げられる。このような電子部品装置としては、リードフレーム上に半導体素子を固定し、ボンディングパッド等の素子の端子部とリード部をワイヤボンディング又はバンプで接続した後、本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料を用いてトランスファ成形等により封止してなる、DIP(Dual Inline Package)、PLCC(Plastic Leaded Chip Carrier)、QFP(Quad Flat Package)、SOP(Small Outline Package)、SOJ(Small Outline J−lead package)、TSOP(Thin Small Outline Package)、TQFP(Thin Quad Flat Package)等の一般的な樹脂封止型IC、テープキャリアにバンプで接続した半導体チップを、本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料で封止したTCP(Tape Carrier Package)、配線板又はガラス上に形成した配線に、ワイヤボンディング、フリップチップボンディング、はんだ等で接続した半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子及び/又はコンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子を、本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料で封止したCOB(Chip On Board)モジュール、ハイブリッドIC、マルチチップモジュール、裏面に配線板接続用の端子を形成した有機基板の表面に素子を搭載し、バンプ又はワイヤボンディングにより素子と有機基板に形成された配線を接続した後、本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料で素子を封止したBGA(Ball Grid Array)、CSP(Chip Size Package)などが挙げられる。また、プリント回路板にも本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料は有効に使用できる。
本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料を用いて素子を封止する方法としては、低圧トランスファ成形法が一般的であるが、インジェクション成形法、圧縮成形法等を用いてもよい。
<Electronic component device>
The electronic component device of the present invention includes an element and a cured product of the epoxy resin molding material for element sealing of the present invention that seals the element.
The electronic component device of the present invention includes a lead frame, a wired tape carrier, a wiring board, glass, a silicon wafer, and other supporting members, an active element such as a semiconductor chip, transistor, diode, thyristor, capacitor, resistor, coil Examples thereof include an electronic component device in which an element such as a passive element is mounted and a necessary part is sealed with the epoxy resin molding material for element sealing of the present invention. As such an electronic component device, a semiconductor element is fixed on a lead frame, a terminal portion of a device such as a bonding pad and a lead portion are connected by wire bonding or bump, and then the epoxy resin molding for device sealing of the present invention is performed. DIP (Dual Inline Package), PLCC (Plastic Leaded Chip Carrier), QFP (Quad Flat Package), SOP (Small Outline Package), SOJ (Small Outlet), which are sealed by transfer molding using materials. general resin-encapsulated ICs such as package (package), TSOP (Thin Small Outline Package), TQFP (Thin Quad Flat Package), and tape carrier A semiconductor chip connected to a bump by a TCP (Tape Carrier Package) encapsulated with an epoxy resin molding material for element encapsulation of the present invention, wiring formed on a wiring board or glass, wire bonding, flip chip bonding, soldering COB (Chip On) in which active elements such as semiconductor chips, transistors, diodes, thyristors, etc. and / or passive elements such as capacitors, resistors, coils, etc. are sealed with the epoxy resin molding material for element sealing of the present invention. Board) Module, hybrid IC, multi-chip module, after mounting an element on the surface of an organic substrate on which a wiring board connection terminal is formed on the back, and connecting the element and the wiring formed on the organic substrate by bump or wire bonding In the epoxy resin molding material for element sealing of the present invention BGA sealing the child (Ball Grid Array), CSP (Chip Size Package) and the like. Moreover, the epoxy resin molding material for element sealing of this invention can be used effectively also for a printed circuit board.
As a method for sealing an element using the epoxy resin molding material for element sealing of the present invention, a low-pressure transfer molding method is generally used, but an injection molding method, a compression molding method, or the like may be used.

本発明の電子部品装置は、表面が銅又は銀の配線を有する素子と、前記素子を封止する(A)1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂、(B)硬化剤並びに無金属フタロシアニン及び銅(II)フタロシアニンからなる群より選択される少なくとも一種の(C)フタロシアニン構造を有する化合物を含有する本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料の硬化物とを有するものであってもよい。
本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料が(C)フタロシアニン構造を有する化合物として無金属フタロシアニン及び銅(II)フタロシアニンからなる群より選択される少なくとも一種を含有するものである場合、本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料は表面が銅又は銀の配線に対して優れた接着性を示す。そのため、(C)フタロシアニン構造を有する化合物として無金属フタロシアニン及び銅(II)フタロシアニンからなる群より選択される少なくとも一種を含有する本発明の素子封止用エポキシ樹脂成形材料は、表面が銅又は銀の配線を有する素子を備える電子部品装置の封止に特に有効である。なお、表面が銅又は銀の配線とは、銅の配線、銀の配線、銅の配線表面に銀メッキの施された配線等が挙げられる。
The electronic component device according to the present invention includes an element having a wiring with copper or silver on the surface, (A) an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule, (B) a curing agent, and none. And a cured product of the epoxy resin molding material for device encapsulation of the present invention containing at least one compound having a (C) phthalocyanine structure selected from the group consisting of metal phthalocyanine and copper (II) phthalocyanine, Also good.
When the epoxy resin molding material for device encapsulation of the present invention contains at least one selected from the group consisting of metal-free phthalocyanine and copper (II) phthalocyanine as the compound having (C) phthalocyanine structure, The epoxy resin molding material for element sealing shows excellent adhesiveness to the wiring whose surface is copper or silver. Therefore, the epoxy resin molding material for device encapsulation of the present invention containing at least one selected from the group consisting of (C) a phthalocyanine structure and a metal-free phthalocyanine and copper (II) phthalocyanine has a surface of copper or silver This is particularly effective for sealing an electronic component device including an element having the above wiring. In addition, the wiring whose surface is copper or silver includes copper wiring, silver wiring, wiring in which silver plating is performed on the surface of copper wiring, and the like.

次に、実施例により本発明を説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention, the scope of the present invention is not limited to these Examples.

以下の成分をそれぞれ下記表1〜表6に示す質量部で配合し、混練温度80℃、混練時間10分の条件でロール混練を行い、実施例1〜実施例24及び比較例1〜比較例24の素子封止用エポキシ樹脂成形材料を作製した。なお表中の空欄は配合無しを表す。   The following components are blended in parts by mass shown in Tables 1 to 6 below, and roll kneading is carried out under conditions of a kneading temperature of 80 ° C. and a kneading time of 10 minutes. Examples 1 to 24 and Comparative Examples 1 to 1 24 element sealing epoxy resin molding materials were produced. Note that the blank in the table indicates no blending.

(A)1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂としては、以下を使用した。
・エポキシ樹脂1:エポキシ当量196g/eq、融点106℃のビフェニル型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン株式会社製商品名YX−4000、1分子中に含まれるエポキシ基の数:2個)
・エポキシ樹脂2:エポキシ当量240g/eq、軟化点96℃のビフェニル型エポキシ樹脂/ビフェニレン骨格含有フェノールアラルキル型エポキシ樹脂=20/80の質量比の組成物(日本化薬株式会社製商品名CER−3000L、1分子中に含まれるエポキシ基の数:2個〜5個)
・エポキシ樹脂3:エポキシ当量238g/eq、軟化点55℃のフェノールアラルキル型エポキシ樹脂(日本化薬株式会社製商品名NC−2000L、1分子中に含まれるエポキシ基の数:2個〜5個)
・エポキシ樹脂4:エポキシ当量202g/eq、軟化点60℃のオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(DIC株式会社製商品名N−660、1分子中に含まれるエポキシ基の数:2個〜5個)
・エポキシ樹脂5:エポキシ当量250g/eq、軟化点58℃のナフタレン変性ノボラック型エポキシ樹脂(DIC株式会社製商品名HP−5000、1分子中に含まれるエポキシ基の数:2個〜5個)
・エポキシ樹脂6:エポキシ当量258g/eq、軟化点60℃のジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(DIC株式会社製商品名HP−7200、1分子中に含まれるエポキシ基の数:2個〜5個)
(A) As an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule, the following was used.
Epoxy resin 1: biphenyl type epoxy resin having an epoxy equivalent of 196 g / eq and a melting point of 106 ° C. (trade name YX-4000, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., number of epoxy groups contained in one molecule: 2)
-Epoxy resin 2: Epoxy equivalent 240 g / eq, softening point 96 ° C biphenyl type epoxy resin / biphenylene skeleton-containing phenol aralkyl type epoxy resin = 20/80 mass ratio composition (trade name CER- manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. 3000L, the number of epoxy groups contained in one molecule: 2 to 5)
Epoxy resin 3: phenol aralkyl type epoxy resin having an epoxy equivalent of 238 g / eq and a softening point of 55 ° C. (trade name NC-2000L, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., number of epoxy groups contained in one molecule: 2 to 5 )
-Epoxy resin 4: Ortho-equivalent novolak epoxy resin having an epoxy equivalent of 202 g / eq and a softening point of 60 ° C (trade name N-660, manufactured by DIC Corporation, number of epoxy groups contained in one molecule: 2 to 5)
Epoxy resin 5: naphthalene-modified novolak type epoxy resin having an epoxy equivalent of 250 g / eq and a softening point of 58 ° C. (trade name HP-5000, manufactured by DIC Corporation, number of epoxy groups contained in one molecule: 2 to 5)
Epoxy resin 6: dicyclopentadiene type epoxy resin having an epoxy equivalent of 258 g / eq and a softening point of 60 ° C. (product name HP-7200, manufactured by DIC Corporation, number of epoxy groups contained in one molecule: 2 to 5)

(B)硬化剤としては、以下を使用した。
・硬化剤1:水酸基当量175g/eq、軟化点70℃のフェノールアラルキル樹脂(明和化成株式会社製商品名MEH−7800)
・硬化剤2:水酸基当量106g/eq、軟化点83℃のフェノールノボラック樹脂(明和化成株式会社製商品名H−100)
(B) As the curing agent, the following was used.
Curing agent 1: phenol aralkyl resin having a hydroxyl group equivalent of 175 g / eq and a softening point of 70 ° C. (trade name MEH-7800 manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.)
Curing agent 2: Phenol novolak resin having a hydroxyl group equivalent of 106 g / eq and a softening point of 83 ° C. (trade name H-100, manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.)

(C)フタロシアニン構造を有する化合物としては、無金属フタロシアニン及び銅(II)フタロシアニンの少なくとも一方を使用した。銅(II)フタロシアニンはβ型を使用した。表中、無金属フタロシアニン及び銅(II)フタロシアニンの少なくとも一方を合わせてフタロシアニン化合物と称する。
また、比較例でフタロシアニン構造を有する化合物の替わりに使用した材料は、以下のとおりである。
・フェノール化合物1:フェノール
・フェノール化合物2:o−クレゾール
・フェノール化合物3:レゾルシノール
(C) As the compound having a phthalocyanine structure, at least one of metal-free phthalocyanine and copper (II) phthalocyanine was used. Copper (II) phthalocyanine used β type. In the table, at least one of metal-free phthalocyanine and copper (II) phthalocyanine is collectively referred to as a phthalocyanine compound.
Moreover, the material used instead of the compound which has a phthalocyanine structure in a comparative example is as follows.
-Phenol compound 1: Phenol-Phenol compound 2: o-cresol-Phenol compound 3: Resorcinol

(D)シラン化合物としては、シラン化合物1:γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、(E)硬化促進剤としては、硬化促進剤1:トリフェニルホスフィンとp−ベンゾキノンとのベタイン型付加物、(F)無機充てん剤としては、無機充てん剤1:平均粒径17.5μm、比表面積3.8m/gの球状溶融シリカを使用した。その他の添加成分としてはモンタン酸エステル、カーボンブラックを使用した。 (D) As the silane compound, silane compound 1: γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, (E) As the curing accelerator, curing accelerator 1: betaine-type adduct of triphenylphosphine and p-benzoquinone, (F) As the inorganic filler, an inorganic filler 1: spherical fused silica having an average particle diameter of 17.5 μm and a specific surface area of 3.8 m 2 / g was used. As other additive components, montanic acid ester and carbon black were used.

本実施例において、エポキシ当量は、精秤したエポキシ樹脂をメチルエチルケトンに溶解させ、酢酸と臭化テトラエチルアンモニウム酢酸溶液を加えた後、過塩素酸酢酸標準液によって電位差滴定することにより測定される。この滴定の際には、指示薬を用いてもよい。本実施例においては、詳細はJIS K7236:2009に準拠して測定される。
本実施例において、水酸基当量は、精秤した硬化剤をピリジン−無水酢酸混合溶液中で加熱還流してフェノール性水酸基をアセチル化し、反応後の溶液を水酸化ナトリウムで逆滴定することにより測定される。本実施例においては、詳細はJIS K0070:1992に準拠して測定される。
本実施例において、軟化点は、環球法により測定される。環球法とは、水浴中で支え環に樹脂をセットし、その環の中央に3.5±0.05gの球を置き浴温を毎分5±0.5℃の速さで上昇させたあと、球の重みによって樹脂がたれさがった時の温度を測定するというものである。本実施例においては、詳細はJIS K7234:1986に準拠して測定される。
また、融点は、ガラス毛細管に固体試料を入れて、それをシリコーンオイル中に浸漬し、シリコーンオイルの温度を上昇させながら目視で融点を測定する方式の融点測定器(MP-21:ヤマト科学株式会社製)により測定される。
In this example, the epoxy equivalent is measured by dissolving a precisely weighed epoxy resin in methyl ethyl ketone, adding acetic acid and a tetraethylammonium bromide acetic acid solution, and then performing potentiometric titration with a perchloric acid acetic acid standard solution. An indicator may be used for this titration. In this embodiment, details are measured according to JIS K7236: 2009.
In this example, the hydroxyl group equivalent is measured by heating and refluxing a precisely weighed curing agent in a pyridine-acetic anhydride mixed solution to acetylate the phenolic hydroxyl group, and back titrating the solution after the reaction with sodium hydroxide. The In the present embodiment, details are measured in accordance with JIS K0070: 1992.
In this example, the softening point is measured by the ring and ball method. In the ring and ball method, a resin is set on a support ring in a water bath, and a ball of 3.5 ± 0.05 g is placed in the center of the ring to raise the bath temperature at a rate of 5 ± 0.5 ° C. per minute. After that, the temperature when the resin sags due to the weight of the sphere is measured. In this embodiment, details are measured in accordance with JIS K7234: 1986.
The melting point is determined by placing a solid sample in a glass capillary tube, immersing it in silicone oil, and measuring the melting point visually while raising the temperature of the silicone oil (MP-21: Yamato Scientific Co., Ltd.). Measured by company).

実施例及び比較例の素子封止用エポキシ樹脂成形材料を、次の(1)〜(6)の各種特性試験により評価した。評価結果を下記表7〜表12に示す。なお、素子封止用エポキシ樹脂成形材料の成形は、明記しない限りトランスファ成形機により、金型温度180℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間90秒の条件で行った。また、後硬化は180℃で5時間行った。   The epoxy resin molding materials for device encapsulation of Examples and Comparative Examples were evaluated by the following various characteristic tests (1) to (6). The evaluation results are shown in Tables 7 to 12 below. In addition, the epoxy resin molding material for element sealing was molded by a transfer molding machine under conditions of a mold temperature of 180 ° C., a molding pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 90 seconds unless otherwise specified. Further, post-curing was performed at 180 ° C. for 5 hours.

(1)スパイラルフロー
EMMI−1−66に準じたスパイラルフロー測定用金型を用いて、素子封止用エポキシ成形材料を上記条件で成形し、流動距離(cm)を求めた。
(2)熱時硬度
素子封止用エポキシ樹脂成形材料を上記条件で直径50mm×厚さ3mmの円板に成形し、成形後直ちにショアD型硬度計(株式会社上島製作所製HD−1120(タイプD))を用いて測定した。
(3)吸水率
(2)で成形した円板を上記条件で後硬化し、85℃、60%RHの条件下で168時間放置し、放置前後の質量変化を測定して、吸水率(質量%)={(放置後の円板質量−放置前の円板質量)/放置前の円板質量}×100を評価した。
(4)260℃における弾性率(高温曲げ試験)
JIS K6911:2006に準じた3点曲げ試験を曲げ試験機(A&D社製テンシロン)を用いて行い、恒温槽で260℃に保ちながら、曲げ弾性率(E)を求めた。測定は素子封止用エポキシ樹脂成形材料を上記条件で10mm×70mm×3mmに成形した試験片を用い、ヘッドスピード1.5mm/minの条件で行った。
(1) Spiral flow Using a spiral flow measurement mold according to EMMI-1-66, an epoxy molding material for device sealing was molded under the above conditions, and the flow distance (cm) was determined.
(2) Hardness upon heating An epoxy resin molding material for element sealing is molded into a disk having a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm under the above conditions, and immediately after molding, a Shore D hardness meter (HD-1120 (type Ueshima Seisakusho Co., Ltd.) D)).
(3) A disk molded at a water absorption rate (2) is post-cured under the above conditions, left for 168 hours at 85 ° C. and 60% RH, and the mass change before and after being left is measured to determine the water absorption rate (mass %) = {(Disc mass after leaving -disc mass before leaving) / disc mass before leaving} × 100.
(4) Elastic modulus at 260 ° C (high temperature bending test)
A three-point bending test according to JIS K6911: 2006 was performed using a bending tester (A & D Tensilon), and the flexural modulus (E) was determined while maintaining the temperature at 260 ° C. in a thermostatic bath. The measurement was performed under the condition of a head speed of 1.5 mm / min using a test piece obtained by molding the element sealing epoxy resin molding material into 10 mm × 70 mm × 3 mm under the above conditions.

(5)260℃における金属との接着力測定(シェア強度測定)
素子封止用エポキシ樹脂成形材料を上記条件で、銅板又は銀メッキした銅板にそれぞれ底面4mmφ、上面3mmφ、高さ4mmのサイズに成形し、後硬化し、ボンドテスター(デイジ社製シリーズ4000)によって、各種銅板の温度を260℃に保ちながら、せん断速度50μm/sでせん断接着力(MPa)を測定した。
(6)耐リフロー性
8mm×10mm×0.4mmのシリコーンチップを搭載した外形寸法20mm×14mm×2mmの80ピンフラットパッケージ(リードフレーム材質:銅合金、ダイパッド部上面及びリード先端部銀メッキ処理品)を、素子封止用エポキシ樹脂成形材料を用いて上記条件で成形、後硬化して作製し、85℃、60%RHの条件で1週間放置後、実施例1〜実施例8及び比較例1〜比較例8は240℃で、実施例9〜実施例12、実施例17〜実施例20、比較例9〜比較例12及び比較例17〜比較例20は230℃で、実施例13〜実施例16、実施例21〜実施例24、比較例13〜比較例16及び比較例21〜比較例24は220℃でリフロー処理を行い、樹脂とフレームとの界面におけるはく離の有無を超音波探傷装置(日立建機株式会社製HYE−FOCUS)で観察し、試験パッケージ数(5)に対するはく離発生パッケージ数で評価した。
(5) Measurement of adhesive strength with metal at 260 ° C (measurement of shear strength)
An epoxy resin molding material for device sealing is formed on a copper plate or a silver-plated copper plate under the above conditions to have a bottom surface size of 4 mmφ, a top surface of 3 mmφ, and a height of 4 mm, post-cured, and by a bond tester (Daisy series 4000). While maintaining the temperature of various copper plates at 260 ° C., the shear adhesive strength (MPa) was measured at a shear rate of 50 μm / s.
(6) Reflow resistance 80mm flat package with outer dimensions of 20mm x 14mm x 2mm mounted with 8mm x 10mm x 0.4mm silicone chip (Lead frame material: copper alloy, die pad top surface and lead tip silver plated product) ) Was molded and post-cured using the epoxy resin molding material for device sealing under the above-mentioned conditions, and allowed to stand for 1 week at 85 ° C. and 60% RH, then Examples 1 to 8 and Comparative Example 1 to Comparative Example 8 is 240 ° C., Example 9 to Example 12, Example 17 to Example 20, Comparative Example 9 to Comparative Example 12 and Comparative Example 17 to Comparative Example 20 are 230 ° C., and Example 13 to Example 16, Example 21 to Example 24, Comparative Example 13 to Comparative Example 16, and Comparative Example 21 to Comparative Example 24 were subjected to reflow treatment at 220 ° C., and ultrasonic waves were used to determine the presence or absence of delamination at the interface between the resin and the frame. Was observed in wounds apparatus (Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. HYE-FOCUS), was evaluated by peeling occurs Packages for the test number of packages (5).

上記(1)〜(6)の特性を、同一のエポキシ樹脂及び硬化剤の組合せで実施例と比較例を比べる。例えば、エポキシ樹脂1及び2並びに硬化剤1の組合せである実施例1〜実施例8と比較例1〜比較例8、エポキシ樹脂1及び3並びに硬化剤1の組合せである実施例9〜実施例12と比較例9〜比較例12、エポキシ樹脂1及び4並びに硬化剤2の組合せである実施例13〜実施例16と比較例13〜比較例16、エポキシ樹脂1及び5並びに硬化剤1の組合せである実施例17〜実施例18と比較例17〜比較例18、エポキシ樹脂1及び6並びに硬化剤1の組合せである実施例19〜実施例20と比較例19〜比較例20、エポキシ樹脂1及び5並びに硬化剤2の組合せである実施例21〜実施例22と比較例21〜比較例22、エポキシ樹脂1及び6並びに硬化剤2の組合せである実施例23〜実施例24と比較例23〜比較例24を比べる。
表7〜表12を見ると、フタロシアニン構造を有する化合物を添加した実施例は、比較例よりも260℃せん断接着力(銀及び銅)が高く、85℃、60%RHの条件で1週間放置後のリフロー処理において、樹脂とフレームとの界面におけるはく離が発生せず、耐リフロー性に優れている。
The characteristics of the above (1) to (6) are compared with Examples and Comparative Examples with the same combination of epoxy resin and curing agent. For example, Examples 1 to 8 which are combinations of epoxy resins 1 and 2 and curing agent 1, and Comparative Examples 1 to 8, Examples 9 to Examples which are combinations of epoxy resins 1 and 3 and curing agent 1 12 and Comparative Example 9 to Comparative Example 12, Epoxy Resins 1 and 4 and Curing Agent 2, Example 13 to Example 16, Comparative Example 13 to Comparative Example 16, Epoxy Resins 1 and 5 and Curing Agent 1 Examples 19 to 20 and Comparative Examples 19 to 20, which are combinations of Examples 17 to 18 and Comparative Examples 17 to 18, Epoxy Resins 1 and 6 and Curing Agent 1, are Epoxy Resin 1 5 and 5 and a combination of curing agent 2 Examples 21 to 22 and Comparative Examples 21 to 22 and epoxy resins 1 and 6 and combinations of curing agent 2 to Examples 23 to 24 and Comparative Example 23 Comparative Example 24 Compared.
As shown in Tables 7 to 12, the examples to which the compounds having a phthalocyanine structure were added had higher 260 ° C. shear adhesive strength (silver and copper) than the comparative examples, and were allowed to stand for 1 week at 85 ° C. and 60% RH. In the subsequent reflow treatment, no peeling occurs at the interface between the resin and the frame, and the reflow resistance is excellent.

本発明と異なる組成の比較例では本発明の目的を満足しない。実施例と比較して260℃せん断接着力(銀及び銅)が同等以下で、85℃、60%RHの条件で1週間放置後のリフロー処理において、樹脂とフレームとの界面におけるはく離が全てのパッケージで発生し、耐リフロー性に劣る。   The comparative example having a composition different from that of the present invention does not satisfy the object of the present invention. In the reflow treatment after standing for 1 week at 85 ° C. and 60% RH, the peeling at the interface between the resin and the frame is all the same in comparison with the examples, where the 260 ° C. shear adhesive strength (silver and copper) is the same or less. Occurs in the package and has poor reflow resistance.

Claims (9)

1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂、硬化剤及びフタロシアニン構造を有する化合物を含有し、
前記エポキシ樹脂が、ビフェニル型エポキシ樹脂とナフタレン変性ノボラック型エポキシ樹脂とを含む素子封止用エポキシ樹脂成形材料。
Containing an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule, a curing agent and a compound having a phthalocyanine structure;
The epoxy resin, biphenyl type epoxy resin and Na Futaren modified novolac-type epoxy resins and epoxy resin molding material for element encapsulation containing.
前記ナフタレン変性ノボラック型エポキシ樹脂の含有率が、前記エポキシ樹脂全量中20質量%以上である請求項1に記載の素子封止用エポキシ樹脂成形材料。  The epoxy resin molding material for element sealing according to claim 1, wherein the content of the naphthalene-modified novolac epoxy resin is 20% by mass or more based on the total amount of the epoxy resin. 前記フタロシアニン構造を有する化合物が、無金属フタロシアニン及び銅(II)フタロシアニンからなる群より選択される少なくとも一種である請求項1又は請求項2に記載の素子封止用エポキシ樹脂成形材料。   The epoxy resin molding material for device encapsulation according to claim 1 or 2, wherein the compound having a phthalocyanine structure is at least one selected from the group consisting of metal-free phthalocyanine and copper (II) phthalocyanine. 前記フタロシアニン構造を有する化合物の含有率が0.1質量%〜1.0質量%である請求項1〜請求項のいずれか1項に記載の素子封止用エポキシ樹脂成形材料。 The content rate of the compound which has the said phthalocyanine structure is 0.1 mass%-1.0 mass%, The epoxy resin molding material for element sealing of any one of Claims 1-3 . シラン化合物をさらに含有する請求項1〜請求項のいずれか1項に記載の素子封止用エポキシ樹脂成形材料。 The epoxy resin molding material for element sealing according to any one of claims 1 to 4 , further comprising a silane compound. 硬化促進剤をさらに含有する請求項1〜請求項のいずれか1項に記載の素子封止用エポキシ樹脂成形材料。 The epoxy resin molding material for element sealing of any one of Claims 1-5 which further contains a hardening accelerator. 無機充てん剤をさらに含有する請求項1〜請求項のいずれか1項に記載の素子封止用エポキシ樹脂成形材料。 The epoxy resin molding material for element sealing according to any one of claims 1 to 6 , further comprising an inorganic filler. 素子と、
前記素子を封止する請求項1〜請求項のいずれか1項に記載の素子封止用エポキシ樹脂成形材料の硬化物と、
を有する電子部品装置。
Elements,
The cured product of the epoxy resin molding material for device sealing according to any one of claims 1 to 7 , which seals the device,
An electronic component device.
表面が銅又は銀の配線を有する素子と、
前記素子を封止する1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂、硬化剤並びに無金属フタロシアニン及び銅(II)フタロシアニンからなる群より選択される少なくとも一種のフタロシアニン構造を有する化合物を含有し、前記エポキシ樹脂が、ビフェニル型エポキシ樹脂とナフタレン変性ノボラック型エポキシ樹脂とを含む素子封止用エポキシ樹脂成形材料の硬化物と、
を有する電子部品装置。
An element having a copper or silver wiring on the surface;
Containing at least one compound having a phthalocyanine structure selected from the group consisting of an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule for sealing the element, a curing agent, and a metal-free phthalocyanine and copper (II) phthalocyanine. , the epoxy resin is a cured product of the element encapsulating epoxy resin molding material comprising a biphenyl type epoxy resin and Na Futaren modified novolac-type epoxy resins,
An electronic component device.
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JP7078218B2 (en) * 2017-08-25 2022-05-31 富士電機株式会社 Semiconductor devices, manufacturing methods for semiconductor devices, and resin molded products
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6019146A (en) * 1983-07-13 1985-01-31 Hitachi Ltd Electrophotographic sensitive body
JPS6333412A (en) * 1986-07-28 1988-02-13 Hitachi Ltd Epoxy resin composition and semiconductor device
JPH098178A (en) * 1995-06-14 1997-01-10 Matsushita Electric Works Ltd Epoxy resin composition for sealing and semiconductor device using it
JPH11295910A (en) * 1998-04-14 1999-10-29 Ricoh Co Ltd Electrophotographic photoreceptor
JP2000345004A (en) * 1999-06-03 2000-12-12 Nippon Kayaku Co Ltd Electrical/electronic parts-coating epoxy resin composition
JP4399902B2 (en) * 1999-06-18 2010-01-20 日立化成工業株式会社 Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation and semiconductor device using the same
JP3632558B2 (en) * 1999-09-17 2005-03-23 日立化成工業株式会社 Epoxy resin composition for sealing and electronic component device
JP2002226678A (en) * 2000-11-28 2002-08-14 Sumitomo Bakelite Co Ltd Flame retardant epoxy resin composition and semiconductor-sealing material and semiconductor device each using the same
JP2003238768A (en) * 2002-02-20 2003-08-27 Toray Ind Inc Epoxy resin composition and semiconductor device
JP2006282980A (en) * 2005-03-09 2006-10-19 Yamamoto Chem Inc Epoxy resin composition for sealing semiconductor
JP4950770B2 (en) * 2006-09-21 2012-06-13 日東電工株式会社 Epoxy resin composition for optical semiconductor encapsulation, cured product thereof, and optical semiconductor device using the same

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