JP6271354B2 - 基板収納容器及びその製造方法 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 64
- 238000003860 storage Methods 0.000 title claims description 47
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 22
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 claims description 48
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 21
- 239000012778 molding material Substances 0.000 claims description 14
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 230000013011 mating Effects 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 49
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 34
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 26
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 24
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 18
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 2
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- PQJZHMCWDKOPQG-UHFFFAOYSA-N 2-anilino-2-oxoacetic acid Chemical compound OC(=O)C(=O)NC1=CC=CC=C1 PQJZHMCWDKOPQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001651 Cyanoacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 description 1
- MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N Methyl cyanoacrylate Chemical compound COC(=O)C(=C)C#N MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000005273 aeration Methods 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 description 1
- -1 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-M salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C([O-])=O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960001860 salicylate Drugs 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 238000013022 venting Methods 0.000 description 1
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Description
容器本体の底部後方に、基板保護用の気体を容器本体の外部から通気手段に導く給気弁を取り付け、
通気手段は、容器本体の成形時にその底部後方と背面壁の一部分を形成する形成部材と、容器本体の成形時に形成部材に一体的に設けられて容器本体の給気弁に連通する中空の半円柱形状のノズル部材とを含み、形成部材を、容器本体の底部後方と背面壁の一部分に対応するよう断面L字形状に屈曲形成し、この形成部材の縦長上部と下部とにノズル部材用の固定溝を形成し、形成部材の下部には、容器本体の給気弁用の貫通孔を設け、ノズル部材を断面L字形状に屈曲形成してその屈曲上部の開口を形成部材の縦長上部に重ねるとともに、このノズル部材の屈曲上部の周壁に、給気弁からの基板保護用の気体を吹き出す吹出孔を設け、ノズル部材の屈曲下部の開口を形成部材の下部に重ねて形成部材の貫通孔を被覆するようにしたことを特徴としている。
容器本体用の成形金型の底部後方と背面壁の一部分に、通気手段のノズル部材用の被嵌合部を形成し、
成形金型の被嵌合部に通気手段のノズル部材を嵌め合わせ、成形金型の背面壁に、通気手段の形成部材を装着した後、成形金型を型締めし、容器本体用の成形材料を充填することにより、容器本体と通気手段とを一体成形することを特徴としている。
請求項3記載の発明によれば、容器本体の製造の際、容器本体用の成形材料を、通気手段の形成部材の隙間に流通させ、形成部材とノズル部材とを一体化して固定することが可能となる。
本実施形態においても上記実施形態と同様の作用効果が期待でき、しかも、パージガスの噴射範囲や方向を拡大したり、変更することができるのは明らかである。したがって、パージガスの流れを必要に応じ、交差させたり、交差しないようにすることもできる。
本実施形態においても上記実施形態と同様の作用効果が期待でき、しかも、パージガスの噴射量や範囲を拡大することができるのは明白である。
本実施形態においても上記実施形態と同様の作用効果が期待でき、しかも、パージガスの噴射量や範囲を拡大することができるのは明白である。
3 支持片
4 底板(底部)
5 取付孔
7 背面壁
10 蓋体
20 施錠機構
30 給気弁
34 排気弁
40 通気手段
41 形成部材
42 縦長上部
43 下部
44 固定溝
45 隙間
46 貫通孔
47 ノズル部材
48 屈曲上部
49 吹出孔
50 屈曲下部
60 成形金型
61 被嵌合部
W 半導体ウェーハ(基板)
Claims (3)
- フロントオープンボックスに成形されて開口した正面に蓋体が着脱自在に嵌め合わされる基板収納用の容器本体と、この容器本体と一体化される通気手段とを備えた基板収納容器であって、
容器本体の底部後方に、基板保護用の気体を容器本体の外部から通気手段に導く給気弁を取り付け、
通気手段は、容器本体の成形時にその底部後方と背面壁の一部分を形成する形成部材と、容器本体の成形時に形成部材に一体的に設けられて容器本体の給気弁に連通する中空の半円柱形状のノズル部材とを含み、形成部材を、容器本体の底部後方と背面壁の一部分に対応するよう断面L字形状に屈曲形成し、この形成部材の縦長上部と下部とにノズル部材用の固定溝を形成し、形成部材の下部には、容器本体の給気弁用の貫通孔を設け、ノズル部材を断面L字形状に屈曲形成してその屈曲上部の開口を形成部材の縦長上部に重ねるとともに、このノズル部材の屈曲上部の周壁に、給気弁からの基板保護用の気体を吹き出す吹出孔を設け、ノズル部材の屈曲下部の開口を形成部材の下部に重ねて形成部材の貫通孔を被覆するようにしたことを特徴とする基板収納容器。 - 容器本体用の成形金型を用い、請求項1に記載した基板収納容器を製造する基板収納容器の製造方法であって、
容器本体用の成形金型の底部後方と背面壁の一部分に、通気手段のノズル部材用の被嵌合部を形成し、
成形金型の被嵌合部に通気手段のノズル部材を嵌め合わせ、成形金型の背面壁に、通気手段の形成部材を装着した後、成形金型を型締めし、容器本体用の成形材料を充填することにより、容器本体と通気手段とを一体成形することを特徴とする基板収納容器の製造方法。 - 通気手段の形成部材をノズル部材の形状に対応するよう断面L字形状に屈曲形成し、この形成部材の縦長上部と下部とにノズル部材用の固定溝を形成し、この固定溝には、容器本体用の成形材料を流通させる隙間を設けた請求項2記載の基板収納容器の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014133596A JP6271354B2 (ja) | 2014-06-30 | 2014-06-30 | 基板収納容器及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014133596A JP6271354B2 (ja) | 2014-06-30 | 2014-06-30 | 基板収納容器及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016012662A JP2016012662A (ja) | 2016-01-21 |
JP6271354B2 true JP6271354B2 (ja) | 2018-01-31 |
Family
ID=55229187
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014133596A Active JP6271354B2 (ja) | 2014-06-30 | 2014-06-30 | 基板収納容器及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6271354B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210003732A (ko) | 2018-04-25 | 2021-01-12 | 미라이얼 가부시키가이샤 | 기판 수납 용기 |
US10964570B2 (en) | 2018-12-03 | 2021-03-30 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Semiconductor wafer storage system and method of supplying fluid for semiconductor wafer storage |
KR20220039527A (ko) * | 2020-09-22 | 2022-03-29 | 구뎅 프리시젼 인더스트리얼 코포레이션 리미티드 | 내부 유동 필드를 증강하는 기판 용기 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018203384A1 (ja) | 2017-05-02 | 2018-11-08 | ミライアル株式会社 | 基板収納容器 |
KR102113275B1 (ko) * | 2018-04-19 | 2020-05-20 | 주식회사 저스템 | 버퍼 챔버용 웨이퍼 퍼지 장치 |
CN112289718A (zh) | 2019-07-13 | 2021-01-29 | 家登精密工业股份有限公司 | 基板载具及其气体扩散模块 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6098304A (en) * | 1996-07-26 | 2000-08-08 | Advanced Micro Devices, Inc. | Apparatus for reducing delamination within a polycide structure |
WO2009114798A2 (en) * | 2008-03-13 | 2009-09-17 | Entegris, Inc. | Wafer container with tubular environmental control components |
JP5241607B2 (ja) * | 2009-05-21 | 2013-07-17 | 信越ポリマー株式会社 | 基板収納容器 |
-
2014
- 2014-06-30 JP JP2014133596A patent/JP6271354B2/ja active Active
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KR20210003732A (ko) | 2018-04-25 | 2021-01-12 | 미라이얼 가부시키가이샤 | 기판 수납 용기 |
US11948821B2 (en) | 2018-04-25 | 2024-04-02 | Miraial Co., Ltd. | Substrate storing container |
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KR102446248B1 (ko) | 2020-09-22 | 2022-09-21 | 구뎅 프리시젼 인더스트리얼 코포레이션 리미티드 | 내부 유동 필드를 증강하는 기판 용기 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016012662A (ja) | 2016-01-21 |
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Legal Events
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A621 | Written request for application examination |
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