JP6257150B2 - Electronic component package and method of manufacturing electronic component package - Google Patents

Electronic component package and method of manufacturing electronic component package Download PDF

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Description

本発明は、水晶振動子片や圧電素子に代表される電子部品パッケージ及び当該電子部品パッケージの製造方法に関する。   The present invention relates to an electronic component package represented by a quartz resonator piece and a piezoelectric element, and a method for manufacturing the electronic component package.

従来、水晶振動子片は周波数特性に優れているため、デバイス、具体的にはプリント基板実装部品の一つとして多用されている。同様に、圧電素子は加速度センサとしてよく用いられている。ただし、これらの電子部品(水晶振動子片や圧電素子)の特性を安定させるには、密封容器に入れて外気の影響を遮断することが望ましい。さらに、近年の電子デバイスは小型化、集積化を要求されるため、ウェハレベルでこれら電子部品のパッケージングを行い、その後に必要に応じて個片化することが必要とされている。このようなパッケージ技術の例として、電子部品を載置したガラス基板と電子部品を格納する格納部を備えたガラスとを接合することによって電子部品の封止を行う技術が提案されている(特許文献1参照)。   Conventionally, crystal resonator pieces are excellent in frequency characteristics, and thus are frequently used as devices, specifically, printed circuit board mounting components. Similarly, piezoelectric elements are often used as acceleration sensors. However, in order to stabilize the characteristics of these electronic components (quartz crystal piece and piezoelectric element), it is desirable to put them in a sealed container to block the influence of outside air. Furthermore, since recent electronic devices are required to be downsized and integrated, it is necessary to package these electronic components at the wafer level and then separate them as necessary. As an example of such a packaging technique, a technique has been proposed in which an electronic component is sealed by bonding a glass substrate on which the electronic component is placed and a glass having a storage unit for storing the electronic component (patent). Reference 1).

ここで、図8を用いて従来例の電子部品パッケージの概要を説明する。図8(a)は、電子部品パッケージの底面図であり、図8(b)は、図8(a)のA―A断面線に沿った縦断面図である。従来の電子部品パッケージでは、ガラスで形成され、貫通電極111を1つまたは複数備えた第一の基板110に、貫通電極と電気的に接続された状態で電子部品10が接続電極112を介して載置されている。当該電子部品パッケージ100は、その第一の基板110の上部へ、電子部品10の周囲を覆うための格納部121が下端に形成されたガラス製の第二の基板120を接合し電子部品パッケージ100が完成する。   Here, an outline of a conventional electronic component package will be described with reference to FIG. FIG. 8A is a bottom view of the electronic component package, and FIG. 8B is a longitudinal sectional view taken along the line AA in FIG. 8A. In the conventional electronic component package, the electronic component 10 is electrically connected to the through electrode via the connection electrode 112 on the first substrate 110 formed of glass and provided with one or more through electrodes 111. It is placed. In the electronic component package 100, a glass-made second substrate 120 having a storage portion 121 for covering the periphery of the electronic component 10 is bonded to the upper portion of the first substrate 110 to join the electronic component package 100. Is completed.

特開2012−44105号公報JP 2012-44105 A

ところで、上述の電子部品パッケージには、以下に示す課題がある。電子部品パッケージ100を長時間湿度環境下に放置すると、ガラス中の成分、例えばNaやCaなどが第一の基板110の電子部品を載置する面と反対側のガラス部分の表面に析出する。そしてそれらが大気中の水分によって潮解し導電性をもつことで貫通電極間の絶縁性を劣化させ、各貫通電極が導通し短絡が生じてしまう。これにより、パッケージの長期信頼性を損ねることになる。本発明は、長期信頼性を向上させた電子部品パッケージ及び当該電子部品パッケージの製造方法を提供することである。   Incidentally, the above-described electronic component package has the following problems. When the electronic component package 100 is left in a humidity environment for a long time, components in the glass, such as Na and Ca, are deposited on the surface of the glass portion opposite to the surface on which the electronic component of the first substrate 110 is placed. And since they are deliquescent by moisture in the atmosphere and have conductivity, the insulation between the through electrodes is deteriorated, and each through electrode becomes conductive and a short circuit occurs. As a result, the long-term reliability of the package is impaired. The present invention provides an electronic component package with improved long-term reliability and a method for manufacturing the electronic component package.

上述した課題を解決するために、本発明は以下の手段を提供する。
請求項1に記載の発明は、NaとCaの少なくとも一方を成分として含むガラスで形成される第一の基板と、前記第一の基板を貫通する複数の貫通電極と、前記貫通電極と電気的に接続する接続電極と、前記第一の基板と接合して前記第一の基板との間に格納部を形成する第二の基板と、前記格納部内に封止されるとともに、前記接続電極上に載置された電子部品と、を備える電子部品パッケージにおいて、少なくとも前記第一の基板の前記格納部側の面と反対側の面に形成されたNaとCaのいずれも成分として含有せず、かつガラスを形成しない珪素酸化物からなる絶縁性の保護膜を有し、前記保護膜は、前記第一の基板において、それぞれの前記貫通電極の端面を含む領域を分断することを特徴とする。
これにより、電子部品パッケージを湿度環境下に置いた場合でも、保護膜が形成された部分からのNaやCaなどのガラス含有成分の析出を防ぐことができる。この際、保護膜が貫通電極の端面を含む領域を分断しているため、複数の貫通電極の間の絶縁性を確保することができる。これによりパッケージの信頼性を向上させることができる。
In order to solve the above-described problems, the present invention provides the following means.
The invention according to claim 1 is a first substrate formed of glass containing at least one of Na and Ca as a component, a plurality of through electrodes penetrating the first substrate, the through electrodes and the electrical A connection electrode connected to the first substrate, a second substrate bonded to the first substrate to form a storage portion between the first substrate, and sealed in the storage portion, and on the connection electrode In the electronic component package comprising the electronic component mounted on the first substrate, at least one of Na and Ca formed on the surface opposite to the storage portion side surface of the first substrate is not included as a component, In addition, an insulating protective film made of silicon oxide that does not form glass is provided, and the protective film divides a region including an end face of each through electrode in the first substrate.
Thereby, even when the electronic component package is placed in a humidity environment, precipitation of glass-containing components such as Na and Ca from the portion where the protective film is formed can be prevented. At this time, since the protective film divides the region including the end face of the through electrode, insulation between the plurality of through electrodes can be ensured. Thereby, the reliability of the package can be improved.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の電子部品パッケージであって、前記保護膜は、前記反対側の面において、前記貫通電極の端面の外周縁を囲い、それぞれの前記貫通電極の端面の間に形成されることを特徴とする。   A second aspect of the present invention is the electronic component package according to the first aspect, wherein the protective film surrounds an outer peripheral edge of an end surface of the through electrode on the opposite surface, and each of the through electrodes It is characterized by being formed between the end surfaces.

請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の電子部品パッケージであって、前記保護膜は、前記貫通電極の端面の近傍に形成され、前記貫通電極の端面から前記保護膜の貫通電極の端面の近傍に形成された部分まで覆って形成される導電性の電極膜を備えることを特徴とする。
これにより、電極膜が、貫通電極の導通を確保するとともに、貫通電極の端面の近傍に露出する第1の基板を覆う。そのため、第一の基板の格納部側の面と反対側の面において、貫通電極と第一の基板の境界部分の劣化を防止し、耐久性を向上することが出来る。
The invention according to claim 3 is the electronic component package according to claim 2, wherein the protective film is formed in the vicinity of an end face of the through electrode, and the through electrode of the protective film is formed from the end face of the through electrode. And a conductive electrode film formed so as to cover a portion formed in the vicinity of the end face.
Thus, the electrode film ensures the conduction of the through electrode and covers the first substrate exposed near the end face of the through electrode. Therefore, it is possible to prevent deterioration of the boundary portion between the through electrode and the first substrate on the surface opposite to the surface on the storage portion side of the first substrate, and improve durability.

請求項4に記載の発明は、請求項1に記載の電子部品パッケージであって、前記保護膜は、前記第一の基板の前記格納部側の面と、前記反対側の面とを接続する複数の側面のうち1つの前記側面の前記格納部側の端から、前記反対側の面のそれぞれの前記貫通電極の端面の間を通って、他の前記側面の前記格納部側の端まで連続して形成されていることを特徴とする。   A fourth aspect of the present invention is the electronic component package according to the first aspect, wherein the protective film connects a surface on the storage portion side of the first substrate and a surface on the opposite side. Continuous from one end of the side surface of the side surface of the plurality of side surfaces to the end of the other side surface on the storage portion side through between the end surfaces of the through electrodes of the opposite surface. It is characterized by being formed.

請求項5に記載の発明は、請求項1に記載の電子部品パッケージであって、前記第一の基板と第二の基板との間に金属膜で形成される接合膜が配置され、前記第一の基板と前記第二の基板とは、前記接合膜を介して接合され、前記保護膜は、さらに前記接合膜上に形成され、前記接合膜を覆うことを特徴とする。   A fifth aspect of the present invention is the electronic component package according to the first aspect, wherein a bonding film formed of a metal film is disposed between the first substrate and the second substrate, and the first substrate The one substrate and the second substrate are bonded via the bonding film, and the protective film is further formed on the bonding film and covers the bonding film.

請求項6に記載の発明は、請求項1に記載の電子部品パッケージであって、前記貫通電極と前記接続電極が同じ材料からなることを特徴とする。
請求項7に記載の発明は、請求項1に記載の電子部品パッケージであって、前記第二の基板がガラスからなることを特徴とする。
請求項8に記載の発明は、請求項1に記載の電子部品パッケージであって、前記電子部品が水晶振動片であることを特徴とする。
The invention according to claim 6 is the electronic component package according to claim 1, wherein the through electrode and the connection electrode are made of the same material.
The invention according to claim 7 is the electronic component package according to claim 1, wherein the second substrate is made of glass.
The invention according to claim 8 is the electronic component package according to claim 1, wherein the electronic component is a crystal vibrating piece.

請求項9に記載の発明は、電子部品パッケージの製造方法において、NaとCaの少なくとも一方を成分として含むガラスで形成される第一の基板に前記第一の基板を貫通する複数の貫通電極を形成する貫通電極形成工程と、前記貫通電極と電気的に接続する接続電極を形成する接続電極形成工程と、前記接続電極上に電子部品を載置する電子部品載置工程と、第二の基板と前記第一の基板を接合して、前記第一の基板と前記第二の基板に格納部を形成し、前記格納部内に電子部品を封止する接合工程と、前記第一の基板においてそれぞれの前記貫通電極の端面を含む領域を分断するとともにNaとCaのいずれも成分として含有せず、かつガラスを形成しない珪素酸化物からなる絶縁性の保護膜を少なくとも前記第一の基板の前記格納部側の面と反対側の面に形成する保護膜形成工程と、を備えることを特徴とする。 The invention according to claim 9 is the method of manufacturing an electronic component package, wherein a plurality of through electrodes penetrating the first substrate are formed on a first substrate formed of glass containing at least one of Na and Ca as a component. A through electrode forming step to be formed; a connection electrode forming step of forming a connection electrode electrically connected to the through electrode; an electronic component mounting step of mounting an electronic component on the connection electrode; and a second substrate And bonding the first substrate, forming a storage portion on the first substrate and the second substrate, and sealing the electronic component in the storage portion, and the first substrate, respectively An insulating protective film made of silicon oxide that divides the region including the end face of the through electrode and does not contain both Na and Ca as components and does not form glass is at least stored in the first substrate. Department side And a protective film forming step formed on the surface opposite to the surface.

請求項10に記載の発明は、請求項9に記載の電子部品パッケージの製造方法であって、前記保護膜形成工程において、前記保護膜は、前記貫通電極の端面の近傍に形成され、前記貫通電極の端面から前記保護膜の貫通電極の端面の近傍に形成された部分まで覆う導電性の電極膜を形成する電極膜形成工程を備えることを特徴とする。   A tenth aspect of the present invention is the electronic component package manufacturing method according to the ninth aspect, wherein, in the protective film forming step, the protective film is formed in the vicinity of an end surface of the through electrode, and the through hole is formed. An electrode film forming step of forming a conductive electrode film covering from the end face of the electrode to a portion formed in the vicinity of the end face of the through electrode of the protective film is provided.

請求項11に記載の発明は、請求項9又は10に記載の電子部品パッケージの製造方法であって、前記貫通電極形成工程及び前記接続電極形成工程は、同一の工程で行うことを特徴とする。
これにより、第一の基板に貫通電極と接続電極を同時に形成する工程を設けることにより、製造工程を簡略化することが出来る。
Invention of Claim 11 is a manufacturing method of the electronic component package of Claim 9 or 10, Comprising: The said penetration electrode formation process and the said connection electrode formation process are performed by the same process. .
Thereby, a manufacturing process can be simplified by providing the process which forms a penetration electrode and a connection electrode simultaneously in a 1st board | substrate.

本発明によると、電子部品パッケージを湿度環境下に置いた場合でも、保護膜が形成された部分からのNaやCaなどのガラス含有成分の析出を防ぐことができる。この際、保護膜が貫通電極の端面を含む領域を分断しているため、複数の貫通電極の間の絶縁性を確保することができる。これによりパッケージの信頼性を向上させることができる。   According to the present invention, precipitation of glass-containing components such as Na and Ca from the portion where the protective film is formed can be prevented even when the electronic component package is placed in a humidity environment. At this time, since the protective film divides the region including the end face of the through electrode, insulation between the plurality of through electrodes can be ensured. Thereby, the reliability of the package can be improved.

本発明の第1実施形態における電子部品パッケージ基板を模式的に示した図であり、(a)は第一の基板側からみた平面図、(b)は(a)に示すA―A断面線に沿った縦断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is the figure which showed typically the electronic component package board | substrate in 1st Embodiment of this invention, (a) is the top view seen from the 1st board | substrate side, (b) is the AA sectional line shown to (a) It is a longitudinal cross-sectional view along line. 本発明の第1実施形態の変形例における電子部品パッケージ基板を模式的に示した図であり、(a)は第一の基板側からみた平面図、(b)は(a)に示すA―A断面線に沿った縦断面図である。It is the figure which showed typically the electronic component package board | substrate in the modification of 1st Embodiment of this invention, (a) is the top view seen from the 1st board | substrate side, (b) is A-A shown to (a). It is a longitudinal cross-sectional view along A sectional line. 本発明の第1実施形態の変形例における電子部品パッケージ基板を模式的に示した図であり、(a)は第一の基板側からみた平面図、(b)は側面図である。It is the figure which showed typically the electronic component package board | substrate in the modification of 1st Embodiment of this invention, (a) is the top view seen from the 1st board | substrate side, (b) is a side view. 本発明の第2実施形態における電子部品パッケージ基板を模式的に示した図であり、(a)は第一の基板側からみた平面図、(b)は(a)に示すA―A断面線に沿った縦断面図である。It is the figure which showed typically the electronic component package board | substrate in 2nd Embodiment of this invention, (a) is the top view seen from the 1st board | substrate side, (b) is the AA sectional line shown to (a) It is a longitudinal cross-sectional view along line. 本発明の第3実施形態における電子部品パッケージ基板を模式的に示した図であり、(a)は第一の基板側からみた平面図、(b)は(a)に示すA―A断面線に沿った縦断面図である。It is the figure which showed typically the electronic component package board | substrate in 3rd Embodiment of this invention, (a) is the top view seen from the 1st board | substrate side, (b) is the AA sectional line shown to (a) It is a longitudinal cross-sectional view along line. 本発明の第1実施形態における第一の基板110の製造工程を模式的に示した図であり、(a)は第一の基板側からみた平面図、(b)は(a)に示すA―A断面線に沿った縦断面図である。It is the figure which showed typically the manufacturing process of the 1st board | substrate 110 in 1st Embodiment of this invention, (a) is the top view seen from the 1st board | substrate side, (b) is A shown to (a). -It is a longitudinal cross-sectional view along A sectional line. 本発明の第1実施形態における第一の基板110への電子部品10の搭載工程を模式的に示した図であり、(a)は第一の基板側からみた平面図、(b)は(a)に示すA―A断面線に沿った縦断面図である。It is the figure which showed typically the mounting process of the electronic component 10 in the 1st board | substrate 110 in 1st Embodiment of this invention, (a) is the top view seen from the 1st board | substrate side, (b) is ( It is a longitudinal cross-sectional view along the AA cross section line shown to a). 従来の電子部品パッケージを模式的に示した図であり、(a)は第一の基板側からみた平面図、(b)は(a)に示すA―A断面線に沿った縦断面図である。It is the figure which showed the conventional electronic component package typically, (a) is the top view seen from the 1st board | substrate side, (b) is a longitudinal cross-sectional view along the AA sectional line shown to (a). is there.

(第1実施形態)
以下、本発明にかかる電子部品パッケージの第1実施形態を、図1を参照して説明する。ここで、図1(a)は、電子部品10を搭載した電子部品パッケージ100を第一の基板110側から見た平面図であり、図1(b)は、図1(a)のA―A断面線に沿った縦断面図である。
(First embodiment)
Hereinafter, a first embodiment of an electronic component package according to the present invention will be described with reference to FIG. Here, FIG. 1A is a plan view of the electronic component package 100 on which the electronic component 10 is mounted as viewed from the first substrate 110 side, and FIG. It is a longitudinal cross-sectional view along A sectional line.

電子部品パッケージ100は、ガラスで形成される第一の基板110と、第一の基板110を貫通する複数の貫通電極111と、貫通電極111と電気的に接続する接続電極112と、第一の基板110と接合して第一のガラス基板との間に格納部121を形成する第二の基板120と、格納部121内に載置されるとともに、接続電極112上に載置された電子部品10と、を備える。また、電子部品パッケージ100は、第一の基板110の格納部121側の面と反対側の面に形成された絶縁性の保護膜200を有する。 第一の基板110は、絶縁性を有し、例えばソーダライムガラスやテンパックスガラスなどで形成される。 電子部品10は、例えば、表面に電極が形成された水晶振動片や圧電素子などである。   The electronic component package 100 includes a first substrate 110 made of glass, a plurality of through electrodes 111 that penetrate the first substrate 110, a connection electrode 112 that is electrically connected to the through electrodes 111, a first A second substrate 120 that forms a housing portion 121 between the substrate 110 and the first glass substrate, and an electronic component that is placed in the housing portion 121 and placed on the connection electrode 112 10. In addition, the electronic component package 100 includes an insulating protective film 200 formed on the surface opposite to the surface on the storage unit 121 side of the first substrate 110. The first substrate 110 has an insulating property, and is formed of, for example, soda lime glass or Tempax glass. The electronic component 10 is, for example, a crystal vibrating piece or a piezoelectric element having electrodes formed on the surface.

貫通電極111は、導電性を有し、例えば導電樹脂、金属膜、金属ピンなどで形成される。貫通電極111は、第一の基板110を厚さ方向に貫通する電極である。すなわち、貫通電極111は、第一の基板110の格納部121側の面から格納部121側の面と反対側の面まで貫通する。また、貫通電極111の端面は、第一の基板110の格納部121側の面及び格納部121側の面と反対側の面から露出している。本実施形態において、2つの貫通電極111が配置されている。なお、貫通電極111は、電子部品121によっては、2つ以上配置されてもよい。また、貫通電極111は、電子部品10と、図示しない外部と導通する外部電極とを電気的に接続する。   The through electrode 111 has conductivity, and is formed of, for example, a conductive resin, a metal film, a metal pin, or the like. The through electrode 111 is an electrode that penetrates the first substrate 110 in the thickness direction. That is, the through electrode 111 penetrates from the surface on the storage unit 121 side of the first substrate 110 to the surface opposite to the surface on the storage unit 121 side. Further, the end surface of the through electrode 111 is exposed from the surface on the storage unit 121 side of the first substrate 110 and the surface opposite to the surface on the storage unit 121 side. In the present embodiment, two through electrodes 111 are arranged. Two or more through electrodes 111 may be arranged depending on the electronic component 121. The through electrode 111 electrically connects the electronic component 10 and an external electrode that is electrically connected to the outside (not shown).

接続電極112は、例えば金属膜などで形成される。接続電極112は、電子部品10と貫通電極111との間に配設されて双方を電気的に接続する。本実施形態においては、接続電極112は、それぞれの貫通電極111の第一の基板110の格納部121側の端面上に形成される。   The connection electrode 112 is made of, for example, a metal film. The connection electrode 112 is disposed between the electronic component 10 and the through electrode 111 to electrically connect both. In the present embodiment, the connection electrode 112 is formed on the end surface of each through electrode 111 on the storage unit 121 side of the first substrate 110.

第二の基板120は、例えばソーダライムガラスやパイレックス(登録商標)ガラスなどのガラス、シリコンなどの半導体、アルミナなどのセラミックス、アルミニウムなどの金属、又は樹脂などで種々の材料で形成される。また、本実施形態において、第二の基板120は、第一の基板110と接合する側に凹部を有している。   The second substrate 120 is formed of various materials such as glass such as soda lime glass and Pyrex (registered trademark) glass, a semiconductor such as silicon, a ceramic such as alumina, a metal such as aluminum, or a resin. In the present embodiment, the second substrate 120 has a recess on the side to be joined to the first substrate 110.

格納部121は、この凹部と第一の基板とで構成される。この格納部121は、第一の基板110と第二の基板120とにより、気密封止されたキャビティである。なお、格納部121は、本実施形態に限定されず、第一の基板110と第二の基板120とにより形成され、電子部品を内部に格納していればよい。例えば、格納部121は第一の基板110の第二の基板120との接合する側に凹部を設けて、この凹部によりキャビティを構成するものでもよい。   The storage unit 121 includes the recess and the first substrate. The storage unit 121 is a cavity hermetically sealed by the first substrate 110 and the second substrate 120. Note that the storage unit 121 is not limited to the present embodiment, and may be formed of the first substrate 110 and the second substrate 120 and store electronic components therein. For example, the storage unit 121 may be configured such that a recess is provided on the side of the first substrate 110 to be bonded to the second substrate 120 and the cavity is formed by the recess.

保護膜200は、第一の基板110の格納部121側の面と反対側の面において、貫通電極111の端面の外周縁を囲っている。これにより、保護膜200は、それぞれの貫通電極111の端面の間に形成される。すなわち、保護膜200は、前記第一の基板において、それぞれの貫通電極111の端面を含む領域を分断する。この場合、それぞれの領域には、1つの貫通電極111の端面が含まれる。また、保護膜200は例えばSiO2、絶縁樹脂などからなる絶縁性の膜である。 The protective film 200 surrounds the outer peripheral edge of the end surface of the through electrode 111 on the surface of the first substrate 110 opposite to the surface on the storage unit 121 side. Thereby, the protective film 200 is formed between the end faces of the respective through electrodes 111. That is, the protective film 200 divides the region including the end face of each through electrode 111 in the first substrate. In this case, each region includes the end face of one through electrode 111. The protective film 200 is an insulating film made of, for example, SiO 2 or an insulating resin.

これにより、電子部品パッケージ100を湿度環境下に置いた場合でも、第一の基板110の格納部121側の面と反対側の面の保護膜200が形成された部分からのNaやCaなどのガラス含有成分の析出を防ぐことができる。この際、保護膜200が貫通電極111の端面を含む領域を分断しているため、複数の貫通電極111の間の絶縁性を確保することができる。これによりパッケージの信頼性を向上させることができる。なお、第一の基板110の格納部121側の面は、格納部121が気密封止されたキャビティであり、湿度環境下にならないため、この面でガラス含有成分の析出が生じない。   Thereby, even when the electronic component package 100 is placed in a humidity environment, Na, Ca, and the like from the portion where the protective film 200 on the surface opposite to the surface on the storage unit 121 side of the first substrate 110 is formed. Precipitation of glass-containing components can be prevented. At this time, since the protective film 200 divides the region including the end face of the through electrode 111, insulation between the plurality of through electrodes 111 can be ensured. Thereby, the reliability of the package can be improved. Note that the surface of the first substrate 110 on the side of the storage unit 121 is a cavity in which the storage unit 121 is hermetically sealed and is not in a humidity environment, and thus no glass-containing component is precipitated on this surface.

本実施形態において、保護膜200は、第一の基板110の格納部121側の面と反対側の面において、それぞれの貫通電極111の端面の外周縁に沿って、外周縁を完全に囲っている。   In the present embodiment, the protective film 200 completely surrounds the outer peripheral edge along the outer peripheral edge of the end surface of each through electrode 111 on the surface opposite to the surface on the storage unit 121 side of the first substrate 110. Yes.

また、本実施形態において、保護膜200は、第一の基板110の格納部121側の面と反対側の面において、貫通電極110の端面及び貫通電極110の近傍以外の領域を覆っている。これにより、ガラス含有成分の析出を確実に防止することができる。なお、本実施形態に限らず、貫通電極111の端面の外周縁を囲う状態で、第一の基板110の格納部121側の面と反対側の面の一部を覆っていてもよい。   In the present embodiment, the protective film 200 covers a region other than the end surface of the through electrode 110 and the vicinity of the through electrode 110 on the surface of the first substrate 110 opposite to the surface on the storage unit 121 side. Thereby, precipitation of a glass containing component can be prevented reliably. Note that the present invention is not limited to this embodiment, and a part of the surface of the first substrate 110 opposite to the surface on the storage unit 121 side may be covered so as to surround the outer peripheral edge of the end surface of the through electrode 111.

図2は、第1実施形態の変形例を示す図である。図2(a)は第一の基板側からみた平面図であり、図2(b)は図2(a)に示すA―A断面線に沿った縦断面図である。なお、第1実施形態に係る電子部品パッケージ100と同様の構成は、説明を省略する。   FIG. 2 is a diagram illustrating a modification of the first embodiment. 2A is a plan view seen from the first substrate side, and FIG. 2B is a longitudinal sectional view taken along the line AA shown in FIG. 2A. The description of the same configuration as that of the electronic component package 100 according to the first embodiment is omitted.

図2において、保護膜200は、それぞれの貫通電極111に対応して複数形成されている。保護膜200は、第一の基板110の格納部121側の面と反対側の面において、貫通電極111の端面の外周縁に沿って、外周縁の周囲を完全に囲っている。これにより、保護膜200は、それぞれの貫通電極111の端面の間に形成される。すなわち、保護膜200は、前記第一の基板において、それぞれの貫通電極111の端面を含む領域を分断する。この場合、それぞれの領域には、1つの貫通電極111の端面が含まれる。この場合においても、電子部品パッケージ100を湿度環境下に置いた場合でも、第一の基板110の格納部121側の面と反対側の面の保護膜200が形成された部分からのNaやCaなどのガラス含有成分の析出を防ぐことができる。そのため、保護膜200が貫通電極111の端面を含む領域を分断しているため、複数の貫通電極111の間の絶縁性を確保することができる。これによりパッケージの信頼性を向上させることができる。   In FIG. 2, a plurality of protective films 200 are formed corresponding to the respective through electrodes 111. The protective film 200 completely surrounds the periphery of the outer peripheral edge along the outer peripheral edge of the end surface of the through electrode 111 on the surface opposite to the surface on the storage portion 121 side of the first substrate 110. Thereby, the protective film 200 is formed between the end faces of the respective through electrodes 111. That is, the protective film 200 divides the region including the end face of each through electrode 111 in the first substrate. In this case, each region includes the end face of one through electrode 111. Even in this case, even when the electronic component package 100 is placed in a humidity environment, the Na or Ca from the portion where the protective film 200 on the surface opposite to the surface on the storage portion 121 side of the first substrate 110 is formed. Precipitation of glass-containing components such as can be prevented. Therefore, since the protective film 200 divides the region including the end face of the through electrode 111, insulation between the plurality of through electrodes 111 can be ensured. Thereby, the reliability of the package can be improved.

なお、本実施形態においては、保護膜200は、それぞれの貫通電極111と同数形成されているが、これに限られず、それぞれの貫通電極111の端面を含む領域を分断していればよい。例えば、複数の貫通電極111のうち、1つの貫通電極111は保護膜で囲まれていなくてもよい。   In the present embodiment, the same number of protective films 200 as the respective through electrodes 111 are formed. However, the present invention is not limited to this, and it is only necessary to divide the region including the end face of each through electrode 111. For example, one through electrode 111 among the plurality of through electrodes 111 may not be surrounded by the protective film.

また、保護膜200は、貫通電極111の端面の外周縁から離間した位置で外周縁を囲っている。このため、貫通電極111の外周縁近傍は、第一の基板110が露出している。このように、保護膜200と貫通電極111の端面の外周縁とを離間させて形成する場合、貫通電極111を確実に露出させることができる。そのため、貫通電極1111の図示しない外部電極との電気的接続を確実にすることができる。   Further, the protective film 200 surrounds the outer peripheral edge at a position separated from the outer peripheral edge of the end face of the through electrode 111. For this reason, the first substrate 110 is exposed in the vicinity of the outer peripheral edge of the through electrode 111. As described above, when the protective film 200 and the outer peripheral edge of the end surface of the through electrode 111 are formed apart from each other, the through electrode 111 can be reliably exposed. Therefore, the electrical connection of the through electrode 1111 with an external electrode (not shown) can be ensured.

なお、これに限られず、保護膜200は、貫通電極111の端面を露出する状態で、貫通電極111の端面の外周縁を囲っていればよい。例えば、保護膜200は、貫通電極111と隣接する位置でその外周縁を囲ってもよい。この場合、ガラス含有成分の析出を確実に防止することができる。   However, the present invention is not limited to this, and the protective film 200 only needs to surround the outer peripheral edge of the end surface of the through electrode 111 in a state where the end surface of the through electrode 111 is exposed. For example, the protective film 200 may surround the outer periphery at a position adjacent to the through electrode 111. In this case, precipitation of the glass-containing component can be reliably prevented.

図3は、第1実施形態の変形例を示す図である。図3(a)は第一の基板側からみた平面図であり、図3(b)は側面図である。なお、第1実施形態に係る電子部品パッケージ100と同様の構成は、説明を省略する。   FIG. 3 is a diagram illustrating a modification of the first embodiment. FIG. 3A is a plan view seen from the first substrate side, and FIG. 3B is a side view. The description of the same configuration as that of the electronic component package 100 according to the first embodiment is omitted.

図3において、保護膜200は、第一の基板110の格納部121側の面と、この面と反対側の面とを接続する複数の側面のうち、1つの側面の格納部121側の端から、第一の基板110の格納部121側の面と反対側の面のそれぞれの貫通電極111の端面の間を通って、他の側面の格納部121側の端まで連続して形成されている。   In FIG. 3, the protective film 200 is an end on the side of the storage unit 121 on one side among a plurality of side surfaces connecting the surface on the storage unit 121 side of the first substrate 110 and the surface opposite to this surface. To the end on the other side of the storage unit 121 through the end surface of each through electrode 111 on the surface opposite to the surface on the storage unit 121 side of the first substrate 110. Yes.

図3においては、保護膜200は、図3(b)に示す側面、第一の基板110の格納部121側の面、及び図3(b)に示す側面に対向する側面に一直線状に連続して形成されている。これにより、保護膜200は、それぞれの貫通電極111の端面の間に形成される。すなわち、保護膜200は、前記第一の基板において、それぞれの貫通電極111の端面を含む領域を分断する。この場合、それぞれの領域には、1つの貫通電極111の端面が含まれる。本変形例の場合、それぞれの貫通電極111の端面を含む領域は、第一の基板110の側面まで含む領域である。   In FIG. 3, the protective film 200 is continuous in a straight line with the side surface shown in FIG. 3B, the surface on the storage portion 121 side of the first substrate 110, and the side surface facing the side surface shown in FIG. Is formed. Thereby, the protective film 200 is formed between the end faces of the respective through electrodes 111. That is, the protective film 200 divides the region including the end face of each through electrode 111 in the first substrate. In this case, each region includes the end face of one through electrode 111. In the case of this modification, the region including the end face of each through electrode 111 is a region including up to the side surface of the first substrate 110.

この場合においても、電子部品パッケージ100を湿度環境下に置いた場合でも、保護膜200が形成された部分からのNaやCaなどのガラス含有成分の析出を防ぐことができる。そのため、保護膜200が貫通電極111の端面を含む領域を分断しているため、複数の貫通電極111の間の絶縁性を確保することができる。   Even in this case, even when the electronic component package 100 is placed in a humidity environment, precipitation of glass-containing components such as Na and Ca from the portion where the protective film 200 is formed can be prevented. Therefore, since the protective film 200 divides the region including the end face of the through electrode 111, insulation between the plurality of through electrodes 111 can be ensured.

次に、本実施形態の電子部品パッケージ100の製造方法について、図1、図6及び図7を参照して説明する。   Next, a method for manufacturing the electronic component package 100 of this embodiment will be described with reference to FIGS.

電子部品パッケージ100の製造方法は、第一の基板110に第一の基板110を貫通する複数の貫通電極111を形成する貫通電極形成工程と、貫通電極111と電気的に接続する接続電極112を形成する接続電極形成工程と、接続電極112上に電子部品10を載置する電子部品載置工程と、第二の基板120と第一の基板110を接合して、第一の基板110と第二の基板120に格納部112を形成し、格納部112内に電子部品10を封止する接合工程と、第一の基板110においてそれぞれの貫通電極111の端面を含む領域を分断する絶縁性の保護膜200を少なくとも第一の基板110の格納部側の面と反対側の面に形成する保護膜形成工程と、を備える。   The manufacturing method of the electronic component package 100 includes a through electrode forming step of forming a plurality of through electrodes 111 penetrating the first substrate 110 on the first substrate 110, and a connection electrode 112 electrically connected to the through electrodes 111. A connecting electrode forming step to be formed; an electronic component placing step of placing the electronic component 10 on the connecting electrode 112; and the second substrate 120 and the first substrate 110 are joined together, and the first substrate 110 and the first substrate 110 The storage portion 112 is formed on the second substrate 120, and the bonding step of sealing the electronic component 10 in the storage portion 112 and the insulating property of dividing the region including the end face of each through electrode 111 in the first substrate 110 are performed. And a protective film forming step of forming the protective film 200 on at least the surface of the first substrate 110 opposite to the surface on the storage unit side.

まず、貫通電極形成工程を行う。第一の基板110に、厚さ方向に貫通する複数の貫通電極111を形成する。ここで、貫通電極111は、サンドブラストやホットプレス加工、プラズマドライエッチング、ウェットエッチングなどの加工法によって第一の基板110に貫通孔を形成した後に、導電性材料を充填する方法や、加熱しながらピン状の導電性材料を差し込む方法によって作製できる。   First, a through electrode forming process is performed. A plurality of through electrodes 111 penetrating in the thickness direction is formed on the first substrate 110. Here, the through electrode 111 is formed by forming a through hole in the first substrate 110 by a processing method such as sand blasting, hot press processing, plasma dry etching, or wet etching, and then filling a conductive material or while heating. It can be produced by a method of inserting a pin-like conductive material.

次に、接続電極形成工程を行う。図6は、接続電極形成工程を示す図であり、図6(a)は第一の基板側からみた平面図であり、図6(b)は図6(a)に示すA―A断面線に沿った縦断面図である。   Next, a connection electrode formation process is performed. 6A and 6B are diagrams showing a connection electrode forming process, FIG. 6A is a plan view seen from the first substrate side, and FIG. 6B is a cross-sectional view taken along line AA shown in FIG. It is a longitudinal cross-sectional view along line.

本実施形態においては、貫通電極111の上部に接続電極112を配設する。接続電極112は、バンプボンディングによって形成する。また、接続電極112は、ソルダーペースト印刷、スパッタ、蒸着などの薄膜作成法により、第一の基板110の接続電極を形成する面の全面に導電性膜を成膜した後、リフトオフ、フォトリソグラフィー、ウェットエッチング、ドライエッチングなどの工程を組み合わせることにより導電性膜をパターニングして配設することが出来る。また、導電性ペーストをパターニングして接続電極112を配設することができる。   In this embodiment, the connection electrode 112 is disposed on the through electrode 111. The connection electrode 112 is formed by bump bonding. The connection electrode 112 is formed by forming a conductive film on the entire surface of the first substrate 110 on which the connection electrode is to be formed by a thin film forming method such as solder paste printing, sputtering, or vapor deposition, and then lift-off, photolithography, By combining processes such as wet etching and dry etching, the conductive film can be patterned and disposed. Further, the connection electrode 112 can be provided by patterning a conductive paste.

次に、電子部品載置載置工程を行う。図7は、電子部品載置載置工程を示す図であり、図7(a)は第一の基板側からみた平面図であり、図7(b)は図7(a)に示すA―A断面線に沿った縦断面図である。   Next, an electronic component placement step is performed. FIG. 7 is a view showing the electronic component placement step, FIG. 7 (a) is a plan view seen from the first substrate side, and FIG. 7 (b) is an A- It is a longitudinal cross-sectional view along A sectional line.

電子部品10と接続電極112の平面位置を合わせて、電子部品10を接続電極112に接合する。これにより、第一の基板110に電子部品10を載置する。このときの接合方法としては、接続電極112に導電性ペーストを使用した場合、電子部品10を接続電極112に載置した後にリフローを行う方法がある。また、フリップチップボンディング、熱圧着工程などにより電子部品10を接続電極112と接合する方法がある。   The electronic component 10 and the connection electrode 112 are aligned to join the electronic component 10 to the connection electrode 112. As a result, the electronic component 10 is placed on the first substrate 110. As a joining method at this time, when a conductive paste is used for the connection electrode 112, there is a method of performing reflow after placing the electronic component 10 on the connection electrode 112. Further, there is a method of joining the electronic component 10 to the connection electrode 112 by flip chip bonding, thermocompression bonding process, or the like.

次いで、接合工程を行う。まず、第二の基板に凹部を形成する。凹部はエッチングやサンドブラスト、ホットプレスなどの加工方法を用いて形成することが出来る。   Subsequently, a joining process is performed. First, a recess is formed in the second substrate. The concave portion can be formed by using a processing method such as etching, sand blasting or hot pressing.

次に、真空下、窒素雰囲気下又は大気下など周辺環境で、第一の基板110の電子部品10が搭載された側の表面に、第二の基板120を図1に示したように重ね合わせて、密接させる。この状態で、第一の基板110と第二の基板130を接合する。このときの接合方法としては、陽極接合や直接接合や金属共晶接合、熱圧着接合などの方法を用いることができる。なお、電子部品の種類や第二の基板の材質により、周辺環境、接合方法を選択する。また、第一の基板と第二の基板とは、金属膜で形成される図示しない接合膜を介して接合してもよい。このとき、接合膜は、第一の基板及び第二の基板のそれぞれの接合面上に配置される。   Next, as shown in FIG. 1, the second substrate 120 is overlaid on the surface of the first substrate 110 on the side where the electronic component 10 is mounted in a surrounding environment such as a vacuum, a nitrogen atmosphere, or the atmosphere. Close. In this state, the first substrate 110 and the second substrate 130 are bonded. As a bonding method at this time, methods such as anodic bonding, direct bonding, metal eutectic bonding, and thermocompression bonding can be used. The peripheral environment and the bonding method are selected according to the type of electronic component and the material of the second substrate. Further, the first substrate and the second substrate may be bonded via a bonding film (not shown) formed of a metal film. At this time, the bonding film is disposed on each bonding surface of the first substrate and the second substrate.

なお、第二の基板120は、第一の基板110と同一のガラスを用いて陽極接合できる。第一の基板110と第二の基板120に同一の材料を用いた場合、材料の膨張係数を一致させることで耐熱性等を向上させることが出来る。   Note that the second substrate 120 can be anodically bonded using the same glass as the first substrate 110. When the same material is used for the first substrate 110 and the second substrate 120, heat resistance and the like can be improved by matching the expansion coefficients of the materials.

次に、保護膜形成工程を行う。図1に示すように、絶縁性の保護膜200を第一の基板110の格納部側の面と反対側の面に形成する。このとき、保護膜200は、第一の基板110においてそれぞれの貫通電極111の端面を含む領域を分断する。保護膜200はCVDやスパッタ法など薄膜成膜法で、第一の基板110の格納部側の面と反対側の面の全面に絶縁膜を形成した後、フォトリソグラフィーとエッチングを組み合わせてパターニングして形成する。また、貫通電極111の端面を含む保護膜200を形成しない領域にフォトレジストを形成した後、上述の成膜方法で絶縁膜の成膜を行い、フォトレジスト及びフォトレジスト上の絶縁膜を脱離するリフトオフなどを利用して保護膜200を形成することが出来る。   Next, a protective film forming step is performed. As shown in FIG. 1, an insulating protective film 200 is formed on the surface of the first substrate 110 opposite to the surface on the storage unit side. At this time, the protective film 200 divides the region including the end face of each through electrode 111 in the first substrate 110. The protective film 200 is formed by a thin film deposition method such as CVD or sputtering, and after an insulating film is formed on the entire surface of the first substrate 110 opposite to the storage portion side, patterning is performed using a combination of photolithography and etching. Form. Further, after forming a photoresist in a region where the protective film 200 including the end face of the through electrode 111 is not formed, an insulating film is formed by the above-described film forming method, and the photoresist and the insulating film on the photoresist are removed. The protective film 200 can be formed using liftoff or the like.

このようにして電子部品パッケージ100を製造することが出来る。なお、保護膜形成工程後に、貫通電極111の第一の基板110の格納部側の面と反対側の面において露出している端面に電気的に接続する外部電極を形成してもよい。   In this way, the electronic component package 100 can be manufactured. Note that, after the protective film forming step, an external electrode that is electrically connected to the end surface exposed on the surface of the through electrode 111 opposite to the surface on the housing portion side of the first substrate 110 may be formed.

(第2実施形態)
本発明にかかる第2実施形態の電子部品パッケージについて図4を用いて説明する。図4(a)は、第一の基板側からみた平面図、図4(b)は図4(a)に示すA―A断面線に沿った縦断面図である。なお、第1実施形態に係る電子部品パッケージ100と同様の構成は、説明を省略する。
(Second Embodiment)
The electronic component package of 2nd Embodiment concerning this invention is demonstrated using FIG. FIG. 4A is a plan view seen from the first substrate side, and FIG. 4B is a longitudinal sectional view taken along the line AA shown in FIG. The description of the same configuration as that of the electronic component package 100 according to the first embodiment is omitted.

本実施形態においては、第一の基板110と第二の基板120との間に金属膜で形成される図示しない接合膜が配置される。この接合膜を介して、第一の基板110と第二の基板120とが接合される。
接合膜は、アルミニウムの他にシリコン、クロム、その他の導電材料又はこれら材料のいずれかを含む複合物を使用することができる。
In the present embodiment, a bonding film (not shown) formed of a metal film is disposed between the first substrate 110 and the second substrate 120. The first substrate 110 and the second substrate 120 are bonded via the bonding film.
For the bonding film, in addition to aluminum, silicon, chromium, another conductive material, or a composite containing any of these materials can be used.

さらに、保護膜200は、図4に示すように、図1の保護膜200が形成された領域に加え、接合膜上に形成され、接合膜を覆っている。また、本実施形態においては、第一の基板110及び第二の基板120の側面全体を覆っている。この場合、側面において、保護膜200のパターニングの必要がないため、保護膜200を容易に形成できる。ただし、本実施形態に限られず、保護膜200は、第1実施形態の形成領域に加え、接合膜を覆って形成されていればよい。例えば接合膜にアルミニウムを用いた場合、接合膜は外面に露出している部分から水分と反応し、腐食する。このとき、格納部121の気密性が悪くなる。本実施形態により、接合膜は、外面へ露出しないため、接合膜の腐食を防止することができる。   Further, as shown in FIG. 4, the protective film 200 is formed on the bonding film in addition to the region where the protective film 200 of FIG. 1 is formed, and covers the bonding film. In the present embodiment, the entire side surfaces of the first substrate 110 and the second substrate 120 are covered. In this case, it is not necessary to pattern the protective film 200 on the side surface, so that the protective film 200 can be easily formed. However, the present invention is not limited to this embodiment, and the protective film 200 may be formed so as to cover the bonding film in addition to the formation region of the first embodiment. For example, when aluminum is used for the bonding film, the bonding film reacts with moisture from a portion exposed on the outer surface and corrodes. At this time, the airtightness of the storage unit 121 is deteriorated. According to the present embodiment, since the bonding film is not exposed to the outer surface, corrosion of the bonding film can be prevented.

(第3実施形態)
本発明にかかる第3実施形態の電子部品パッケージについて図5を用いて説明する。図5(a)は第一の基板側からみた平面図であり、図5(b)は図5(a)に示すA―A断面線に沿った縦断面図である。なお、第1実施形態に係る電子部品パッケージ100と同様の構成は、説明を省略する。本実施形態において、保護膜200は、図1と同様に、貫通電極111の端面の近傍に形成される。
(Third embodiment)
An electronic component package according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 5A is a plan view seen from the first substrate side, and FIG. 5B is a longitudinal sectional view taken along the line AA shown in FIG. 5A. The description of the same configuration as that of the electronic component package 100 according to the first embodiment is omitted. In the present embodiment, the protective film 200 is formed in the vicinity of the end face of the through electrode 111 as in FIG.

また、導電性の電極膜113が、貫通電極111の端面から保護膜200の貫通電極111の端面の近傍に形成された部分まで覆って形成されている。電極膜113の材料としては、接続膜112と同様の材料を用いることができる。   In addition, a conductive electrode film 113 is formed so as to cover from the end surface of the through electrode 111 to a portion formed in the vicinity of the end surface of the through electrode 111 of the protective film 200. As the material of the electrode film 113, the same material as that of the connection film 112 can be used.

これにより、電極膜113が、貫通電極111の導通を確保するとともに、貫通電極111の端面の近傍に露出する第1の基板を覆う。そのため、第一の基板110の格納部側の面と反対側の面において、貫通電極111と第一の基板110の境界部分の劣化を防止し、耐久性を向上することが出来る。   Thereby, the electrode film 113 secures the conduction of the through electrode 111 and covers the first substrate exposed in the vicinity of the end face of the through electrode 111. Therefore, it is possible to prevent deterioration of the boundary portion between the through electrode 111 and the first substrate 110 on the surface opposite to the surface on the storage portion side of the first substrate 110 and improve durability.

ここで第3実施形態に係る電子部品パッケージ100の製造方法を説明する。保護膜形成工程までは第1実施形態と同様である。   Here, a method for manufacturing the electronic component package 100 according to the third embodiment will be described. The process up to the protective film forming process is the same as that of the first embodiment.

保護膜形成工程後、電極膜形成工程を行う。本実施形態においては、保護膜200を形成した後、導電性の金属等からなる電極膜113を形成する。電極膜113は、バンプボンディングによって形成する。また、接続電極112は、ソルダーペースト印刷、スパッタ、蒸着などの薄膜作成法により、第一の基板110の保護膜200を形成した面及び保護膜200の全面に導電性膜を成膜した後、リフトオフ、フォトリソグラフィー、ウェットエッチング、ドライエッチングなどの工程を組み合わせることにより導電性膜をパターニングして配設することが出来る。また、導電性ペーストをパターニングして電極膜113を配設することができる。また、電極膜113は、無電解メッキ等の方法を用いて配設することが出来る。
なお、電子部品100の製造方法は、各実施形態に限定されない。
After the protective film forming step, an electrode film forming step is performed. In this embodiment, after forming the protective film 200, the electrode film 113 made of a conductive metal or the like is formed. The electrode film 113 is formed by bump bonding. Further, the connection electrode 112 is formed by forming a conductive film on the surface of the first substrate 110 on which the protective film 200 is formed and on the entire surface of the protective film 200 by a thin film forming method such as solder paste printing, sputtering, or vapor deposition. By combining processes such as lift-off, photolithography, wet etching, and dry etching, the conductive film can be patterned and disposed. Further, the electrode film 113 can be provided by patterning a conductive paste. The electrode film 113 can be disposed by using a method such as electroless plating.
In addition, the manufacturing method of the electronic component 100 is not limited to each embodiment.

例えば、貫通電極形成工程と接続電極形成工程を同一工程で行ってもよい。この場合、導電性材料を第一の基板の貫通孔に充填するとともに、その導電性材料で第一の基板の表面の貫通孔上からその周辺の接続電極を形成する部分までを覆うことができる。また、第一の基板の貫通孔の表面及び接続電極を形成する面に導電性膜を成膜し、その後、導電性膜上に電解メッキ、無電解メッキによってメッキ膜を形成してもよい。この際、メッキ膜は、貫通孔を埋め、貫通電極を形成するのと同時に接続電極を形成することが出来る。これにより、製造工程の簡略化ができる。なお、この場合、貫通電極と接続電極とは、同一の材料で形成される。   For example, the through electrode formation step and the connection electrode formation step may be performed in the same step. In this case, the conductive material can be filled in the through hole of the first substrate, and the conductive material can be used to cover the through hole on the surface of the first substrate to the portion where the peripheral connection electrode is formed. . Alternatively, a conductive film may be formed on the surface of the through hole of the first substrate and the surface on which the connection electrode is formed, and then a plated film may be formed on the conductive film by electrolytic plating or electroless plating. At this time, the plating film fills the through hole and can form the connection electrode simultaneously with the formation of the through electrode. Thereby, the manufacturing process can be simplified. In this case, the through electrode and the connection electrode are formed of the same material.

10 電子部品
100 電子部品パッケージ
110 第一の基板
111 貫通電極
112 接続電極
113 電極膜
120 第二の基板
121 格納部
200 保護膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Electronic component 100 Electronic component package 110 1st board | substrate 111 Through electrode 112 Connection electrode 113 Electrode film | membrane 120 2nd board | substrate 121 Storage part 200 Protective film

Claims (4)

NaとCaの少なくとも一方を成分として含むガラスで形成される第一の基板と、前記第一の基板を貫通する複数の貫通電極と、前記貫通電極と電気的に接続する接続電極と、前記第一の基板と接合して前記第一の基板との間に格納部を形成する第二の基板と、前記格納部内に封止されるとともに、前記接続電極上に載置された電子部品と、を備える電子部品パッケージにおいて、
少なくとも前記第一の基板の前記格納部側の面と反対側の面に、NaとCaのいずれも成分として含有せず、かつガラスで形成されない酸化珪素からなる絶縁性の保護膜を有し、
前記保護膜は、前記第一の基板において、それぞれの前記貫通電極の端面を含む領域を分断し、
前記第一の基板と第二の基板との間に金属膜で形成される接合膜が配置され、前記第一の基板と前記第二の基板とは、前記接合膜を介して接合され、
前記保護膜は、さらに前記接合膜上に形成され、前記接合膜を覆うことを特徴とする電子部品パッケージ。
A first substrate formed of glass containing at least one of Na and Ca as a component; a plurality of through electrodes penetrating the first substrate; a connection electrode electrically connected to the through electrode; A second substrate that is bonded to the first substrate to form a storage portion between the first substrate, an electronic component that is sealed in the storage portion and placed on the connection electrode; In an electronic component package comprising:
At least the surface of the first substrate opposite to the surface on the storage unit side has an insulating protective film made of silicon oxide that does not contain Na and Ca as components and is not formed of glass,
The protective film divides a region including an end face of each through electrode in the first substrate ,
A bonding film formed of a metal film is disposed between the first substrate and the second substrate, and the first substrate and the second substrate are bonded via the bonding film,
The electronic component package , wherein the protective film is further formed on the bonding film and covers the bonding film .
請求項1に記載の電子部品パッケージであって、The electronic component package according to claim 1,
前記貫通電極と前記接続電極が同じ材料からなることを特徴とする電子部品パッケージ。The electronic component package, wherein the through electrode and the connection electrode are made of the same material.
請求項1に記載の電子部品パッケージであって、The electronic component package according to claim 1,
前記第二の基板がガラスからなることを特徴とする電子部品パッケージ。The electronic component package, wherein the second substrate is made of glass.
請求項1に記載の電子部品パッケージであって、The electronic component package according to claim 1,
前記電子部品が水晶振動片であることを特徴とする電子部品パッケージ。The electronic component package is a crystal vibrating piece.
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