JP6248688B2 - Resin multilayer board - Google Patents

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Description

本発明は、樹脂多層基板に関する。   The present invention relates to a resin multilayer substrate.

一般的に樹脂多層基板は複数の樹脂層を積層して製造することができる。このような樹脂多層基板は、折り曲げられた状態で実装される場合や、使用時に折り曲げられる場合がある。   Generally, a resin multilayer substrate can be manufactured by laminating a plurality of resin layers. Such a resin multilayer substrate may be mounted in a bent state or may be bent during use.

樹脂層多層基板は、折り曲げた場合に樹脂層の主面上に形成された導電パターン同士が接触することにより短絡する場合がある。このような短絡を抑制可能な樹脂多層基板が開示された文献としては、たとえば国際公開第2012/147550号(特許文献1)が挙げられる。   The resin layer multilayer substrate may be short-circuited when the conductive patterns formed on the main surface of the resin layer come into contact with each other when folded. As a document in which such a resin multilayer substrate capable of suppressing a short circuit is disclosed, for example, International Publication No. 2012/147550 (Patent Document 1) is cited.

特許文献1に開示の樹脂多層基板は、折り曲げられた場合に内側となる表面である最内側表面と、外側となる表面である最外表面とを有するものであり、積層された複数の樹脂層を含む積層体と、複数の樹脂層のいずれかの表面である第1面に互いに離隔するように配置された第1導電パターンおよび第2導電パターンと、第1面より最外側表面に近い位置に複数の樹脂層のいずれかの表面として存在する第2面において互いに離隔するように配置された第3導電パターンと第4導電パターンとを備える。第3導電パターンと第4導電パターンとの間隔は、第1導電パターンと第2導電パターンとの間隔より狭くなっている。   The resin multilayer substrate disclosed in Patent Document 1 has an innermost surface that is an inner surface when folded and an outermost surface that is an outer surface, and is a plurality of laminated resin layers A first conductive pattern and a second conductive pattern arranged to be spaced apart from each other on the first surface which is the surface of any of the plurality of resin layers, and a position closer to the outermost surface than the first surface The third conductive pattern and the fourth conductive pattern are arranged so as to be separated from each other on the second surface existing as the surface of any of the plurality of resin layers. The interval between the third conductive pattern and the fourth conductive pattern is narrower than the interval between the first conductive pattern and the second conductive pattern.

このような構成とすることにより、樹脂多層基板を折り曲げた場合に第3導電パターンと第4導電パターンとの間隔が第1導電パターンと第2導電パターンとの間隔に比べて伸びにくくなるため、局所的な区間における急激な曲げが抑制される。これにより、内側に位置する複数の樹脂層が所定量を超えて折り曲げられることが抑制される。この結果、第1面上に位置する第1導電パターンと第2導電パターンとが近接して接触することによって短絡することを抑制することができる。   By adopting such a configuration, when the resin multilayer substrate is bent, the interval between the third conductive pattern and the fourth conductive pattern is less likely to extend than the interval between the first conductive pattern and the second conductive pattern. Sudden bending in a local section is suppressed. Thereby, it is suppressed that the some resin layer located inside is bent exceeding predetermined amount. As a result, it is possible to suppress a short circuit due to the close contact between the first conductive pattern and the second conductive pattern located on the first surface.

国際公開第2012/147550号International Publication No. 2012/147550

従来技術に基づく樹脂多層基板の一例として、たとえば図42および図43に示すように樹脂多層基板200がある。図42および図43は、従来技術に基づく樹脂多層基板において、導電パターンが形成されている樹脂層の平面図および導電パターンが形成されている部分の断面図である。なお、図42は、上方から見た場合の平面図であり、破線部は、下方側に位置する樹脂層2の表面に設けられた導電パターンを示している。図43は、図42中に示すXLIII−XLIII線矢視断面図である。   As an example of the resin multilayer substrate based on the prior art, there is a resin multilayer substrate 200 as shown in FIGS. 42 and 43, for example. 42 and 43 are a plan view of a resin layer on which a conductive pattern is formed and a cross-sectional view of a portion on which the conductive pattern is formed in a resin multilayer substrate based on the prior art. FIG. 42 is a plan view when viewed from above, and a broken line portion indicates a conductive pattern provided on the surface of the resin layer 2 located on the lower side. 43 is a cross-sectional view taken along line XLIII-XLIII shown in FIG.

樹脂多層基板200は、複数の樹脂層2が積層された積層体1を備える。たとえば、複数の樹脂層2のうち、上層から1層目の樹脂層2c、3層目の樹脂層2bおよび5層目の樹脂層2aのそれぞれの下方側に位置する主面3,13,23に導電パターン4,14,24が設けられている。導電パターン4,14,24は、複数の樹脂層2の積層方向に重なるように設けられている。   The resin multilayer substrate 200 includes a laminate 1 in which a plurality of resin layers 2 are laminated. For example, among the plurality of resin layers 2, the main surfaces 3, 13, 23 located on the lower side of the first resin layer 2c from the upper layer, the third resin layer 2b, and the fifth resin layer 2a, respectively. Are provided with conductive patterns 4, 14, 24. The conductive patterns 4, 14, 24 are provided so as to overlap in the stacking direction of the plurality of resin layers 2.

図44は、折り曲げ線を中心にして樹脂多層基板を折り曲げた場合において、図43に示す部分が変形した状態を示す図である。図44に示すように、樹脂多層基板200を導電パターン4,14,24の延在方向に対して直交する折り曲げ線F(図42参照)を中心に折り曲げた場合には、折り曲げない場合と比較して、導電パターン4,14,24に負荷がかかる。したがって、導電パターン4,14,24が破断することが懸念される。   FIG. 44 is a diagram showing a state in which the portion shown in FIG. 43 is deformed when the resin multilayer substrate is bent around the folding line. As shown in FIG. 44, when the resin multilayer substrate 200 is bent around a fold line F (see FIG. 42) perpendicular to the extending direction of the conductive patterns 4, 14, and 24, it is compared with the case where it is not bent. As a result, a load is applied to the conductive patterns 4, 14, and 24. Therefore, there is a concern that the conductive patterns 4, 14, and 24 are broken.

また、たとえば、折り曲げ程度を大きくして90度近く折り曲げた場合には、特に、内側に位置するA領域では、導電パターン24が大きく曲げられることとなる。このため、導電パターン24の一部に圧縮応力が集中してしまう。これにより、導電パターン24は導電パターン4と比較して破断しやすい。   In addition, for example, when the degree of bending is increased and bending is performed near 90 degrees, the conductive pattern 24 is greatly bent, particularly in the A region located on the inner side. For this reason, compressive stress is concentrated on a part of the conductive pattern 24. Thereby, the conductive pattern 24 is easily broken as compared with the conductive pattern 4.

さらに、外側に位置するB領域では、導電パターン14に引張応力が過度に作用することにより導電パターン14は導電パターン4と比較して破断しやすい。また、引張応力が作用することにより外側に位置する樹脂層2の層厚が薄くなるため、導電パターン4,14間の距離が狭くなり、電気的特性が変動することが懸念される。   Furthermore, in the B region located outside, the conductive pattern 14 is more likely to break than the conductive pattern 4 due to excessive tensile stress acting on the conductive pattern 14. Moreover, since the layer thickness of the resin layer 2 located outside becomes thin due to the action of tensile stress, the distance between the conductive patterns 4 and 14 is narrowed, and there is a concern that the electrical characteristics fluctuate.

引張応力は樹脂多層基板(積層体)の厚み方向の中央よりも外周側、圧縮応力は樹脂多層基板(積層体)の厚み方向の中央よりも内周側で発生し、それぞれ外周、内周に近いほど大きくなる。したがって、外周側、内周側に近い位置における導電パターンほど上記の影響を受けやすくなる。   Tensile stress is generated on the outer peripheral side of the resin multilayer substrate (laminate) in the thickness direction, and compressive stress is generated on the inner periphery side of the resin multilayer substrate (laminate) in the thickness direction. The closer you are, the bigger it will be. Therefore, the conductive pattern at a position closer to the outer peripheral side and the inner peripheral side is more likely to be affected by the above.

近年にあっては、導電パターンの微細化が要求されるところ、このような電気的特性の変動や導電パターンの破断は顕著に現れやすくなる。このため、電気的特性の変動や導電パターンの破断等による動作不良を防止するために、樹脂多層基板を折り曲げた場合に、導電パターンに作用する応力を緩和することが要求される。   In recent years, where the miniaturization of the conductive pattern is required, such a change in electrical characteristics and breakage of the conductive pattern tend to appear remarkably. For this reason, in order to prevent malfunctions due to fluctuations in electrical characteristics, breakage of the conductive pattern, etc., it is required to relieve the stress acting on the conductive pattern when the resin multilayer substrate is bent.

しかしながら、特許文献1に開示の樹脂多層基板にあっては、同一表面上に形成された複数の導電パターンが横方向に接近することを抑制することができるものの、樹脂層の積層方向における導電パターン間の距離の変動および導電パターンの破断については、十分に考慮されていない。   However, in the resin multilayer substrate disclosed in Patent Document 1, it is possible to suppress a plurality of conductive patterns formed on the same surface from approaching in the horizontal direction, but the conductive pattern in the stacking direction of the resin layers. The variation in the distance between them and the breakage of the conductive pattern are not fully considered.

本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、折り曲げて使用される際に、導電パターンに作用する応力を緩和することができる樹脂多層基板を提供することにある。   This invention is made | formed in view of the above problems, and the objective of this invention provides the resin multilayer substrate which can relieve | moderate the stress which acts on a conductive pattern when it is used by bending. There is.

本発明の第1の局面に基づく樹脂多層基板は、複数の樹脂層を備えた折り曲げ可能な樹脂多層基板であって、上記複数の樹脂層中に含まれ、第1主面を含む第1樹脂層と、上記第1樹脂層の上記第1主面上に形成された第1導電パターンと、上記第1導電パターンの少なくとも一部が延在する第1方向に沿って設けられ、かつ、上記第1樹脂層の厚み方向に貫通するように設けられた複数の第1ダミービアとを備える。上記第1方向と交差する折り曲げ線を中心にして折り曲げた場合に、上記第1樹脂層において、折り曲げ具合が大きくなる第1領域と、上記第1領域の両側に隣接して位置し、上記第1領域よりも折り曲げ具合が小さくなる第2領域とが形成される。折り曲げ前の状態において、上記第1領域は、上記折り曲げ線を中心として上記第1方向に平行となる幅方向に所定の幅を持って、上記折り曲げ線に沿って延在する。折り曲げ前の状態において、上記第2領域は、上記第1方向に平行となる幅方向に所定の幅を持って上記折り曲げ線に沿って延在する。上記第1領域に設けられた上記第1ダミービアの密度は、上記第2領域に設けられた上記第1ダミービアの密度よりも大きい。   A resin multilayer substrate according to the first aspect of the present invention is a foldable resin multilayer substrate including a plurality of resin layers, and is included in the plurality of resin layers and includes a first main surface. A layer, a first conductive pattern formed on the first main surface of the first resin layer, a first direction in which at least a part of the first conductive pattern extends, and the above A plurality of first dummy vias provided so as to penetrate in the thickness direction of the first resin layer. The first resin layer is located adjacent to both sides of the first region and the first region where the bending degree is increased in the first resin layer when bent around a fold line intersecting the first direction. A second region is formed that is less bent than the one region. In a state before bending, the first region extends along the folding line with a predetermined width in the width direction parallel to the first direction with the folding line as a center. In a state before folding, the second region extends along the folding line with a predetermined width in a width direction parallel to the first direction. The density of the first dummy vias provided in the first region is greater than the density of the first dummy vias provided in the second region.

上記本発明の第1の局面に基づく樹脂多層基板にあっては、複数の上記第1ダミービアは、折り曲げ線から離れるにつれて隣接する上記第1ダミービアの中心間の距離が徐々に大きくなるように設けられていることが好ましい。   In the resin multilayer substrate according to the first aspect of the present invention, the plurality of first dummy vias are provided such that the distance between the centers of the adjacent first dummy vias gradually increases as the distance from the folding line increases. It is preferable that

本発明の第2の局面に基づく樹脂多層基板は、複数の樹脂層を備えた折り曲げ可能な樹脂多層基板であって、上記複数の樹脂層中に含まれ、第1主面を含む第1樹脂層と、上記第1樹脂層の上記第1主面上に形成された第1導電パターンと、上記第1導電パターンの少なくとも一部が延在する第1方向に沿って設けられ、かつ、上記第1樹脂層の厚み方向に貫通するように設けられた複数の第1ダミービアとを備える。上記第1方向と交差する折り曲げ線を中心にして折り曲げた場合に、上記第1樹脂層において、折り曲げ具合が大きくなる第1領域と、上記第1領域の両側に隣接して位置し、上記第1領域よりも折り曲げ具合が小さくなる第2領域とが形成される。折り曲げ前の状態において、上記第1領域は、上記折り曲げ線を中心として上記第1方向に平行となる幅方向に所定の幅を持って、上記折り曲げ線に沿って延在する。折り曲げ前の状態において、上記第2領域は、上記第1方向に平行となる幅方向に所定の幅を持って上記折り曲げ線に沿って延在する。上記第1主面と反対側に位置する上記第1樹脂層の主面上おいて、上記第1領域に設けられた上記第1ダミービアのビア径は、上記第2領域に設けられた上記第1ダミービアのビア径よりも大きい。   A resin multilayer substrate according to a second aspect of the present invention is a foldable resin multilayer substrate including a plurality of resin layers, and is included in the plurality of resin layers and includes a first main surface. A layer, a first conductive pattern formed on the first main surface of the first resin layer, a first direction in which at least a part of the first conductive pattern extends, and the above A plurality of first dummy vias provided so as to penetrate in the thickness direction of the first resin layer. The first resin layer is located adjacent to both sides of the first region and the first region where the bending degree is increased in the first resin layer when bent around a fold line intersecting the first direction. A second region is formed that is less bent than the one region. In a state before bending, the first region extends along the folding line with a predetermined width in the width direction parallel to the first direction with the folding line as a center. In a state before folding, the second region extends along the folding line with a predetermined width in a width direction parallel to the first direction. On the main surface of the first resin layer located on the opposite side of the first main surface, the via diameter of the first dummy via provided in the first region is the first diameter provided in the second region. It is larger than the via diameter of one dummy via.

上記本発明の第2の局面に基づく樹脂多層基板にあっては、複数の上記第1ダミービアは、折り曲げ線から離れるについて上記ビア径が徐々に小さくなるように設けられていることが好ましい。   In the resin multilayer substrate according to the second aspect of the present invention, the plurality of first dummy vias are preferably provided such that the via diameter gradually decreases as the distance from the folding line increases.

上記本発明の第1の局面および第2の局面に基づく樹脂多層基板は、平面的に見た場合に、上記第1導電パターンを間に挟み込むとともに互いに平行となるように上記第1主面上に設けられ、上記第1方向に沿って延在する一対の第1ダミーパターンをさらに備えることが好ましい。この場合には、複数の上記第1ダミービアは、上記一対の第1ダミーパターンに接続されていることが好ましい。   The resin multilayer substrate according to the first aspect and the second aspect of the present invention has the first main surface so as to sandwich the first conductive pattern and to be parallel to each other when viewed in a plan view. It is preferable to further include a pair of first dummy patterns provided along the first direction. In this case, the plurality of first dummy vias are preferably connected to the pair of first dummy patterns.

上記本発明の第1の局面および第2の局面に基づく樹脂多層基板は、上記複数の樹脂層中に含まれ、折り曲げた場合に上記第1樹脂層よりも内側に位置するとともに、上記第1主面とは接しない第2主面を含む第2樹脂層と、上記第1導電パターンに対応するように上記第2樹脂層の上記第2主面上に形成された第2導電パターンと、上記第1方向に沿って設けられ、かつ、上記第2樹脂層の厚み方向に貫通するように設けられた複数の第2ダミービアとをさらに備えることが好ましい。この場合には、上記第2樹脂層に設けられた上記第2ダミービアの数は、上記第1樹脂層に設けられた上記第1ダミービアの数よりも少ないことが好ましい。   The resin multilayer substrate based on the first aspect and the second aspect of the present invention is included in the plurality of resin layers, and is located on the inner side of the first resin layer when bent. A second resin layer including a second main surface not in contact with the main surface; a second conductive pattern formed on the second main surface of the second resin layer so as to correspond to the first conductive pattern; It is preferable to further include a plurality of second dummy vias provided along the first direction and provided so as to penetrate in the thickness direction of the second resin layer. In this case, it is preferable that the number of the second dummy vias provided in the second resin layer is smaller than the number of the first dummy vias provided in the first resin layer.

上記本発明の第1の局面および第2の局面に基づく樹脂多層基板は、平面的に見た場合に、上記第2導電パターンを間に挟み込むとともに互いに平行となるように上記第2主面上に設けられ、上記第1方向に沿って延在する一対の第2ダミーパターンをさらに備えることが好ましい。この場合には、複数の上記第2ダミービアは、上記一対の第2ダミーパターンに接続されていることが好ましい。   The resin multilayer substrate according to the first aspect and the second aspect of the present invention has the second main surface so that the second conductive pattern is sandwiched between and parallel to each other when viewed in a plan view. It is preferable to further include a pair of second dummy patterns provided along the first direction and extending along the first direction. In this case, the plurality of second dummy vias are preferably connected to the pair of second dummy patterns.

上記本発明の第1の局面および第2の局面に基づく樹脂多層基板にあっては、上記一対の第1ダミーパターンのそれぞれは、互いに独立した状態で、上記第1方向に沿って分断されずに連続して延在することが好ましい。この場合には、平面的に見た場合に、上記第1方向と交差する方向における上記第1導電パターンの両側のそれぞれにおいて、複数の上記第1ダミービアは、連続して設けられた上記第1ダミーパターンに接続されていることが好ましい。   In the resin multilayer substrate according to the first aspect and the second aspect of the present invention, each of the pair of first dummy patterns is independent from each other and is not divided along the first direction. It is preferable to extend continuously. In this case, when viewed in plan, the plurality of first dummy vias are continuously provided on both sides of the first conductive pattern in a direction intersecting the first direction. It is preferably connected to a dummy pattern.

上記本発明の第1の局面および第2の局面に基づく樹脂多層基板にあっては上記一対の第2ダミーパターンのそれぞれは、互いに独立した状態で、上記第1方向に沿って分断されずに連続して延在することが好ましい。この場合には、平面的に見た場合に、上記第1方向と交差する方向における上記第2導電パターンの両側のそれぞれにおいて、複数の上記第2ダミービアは、連続して設けられた上記第2ダミーパターンに接続されていることが好ましい。   In the resin multilayer substrate according to the first aspect and the second aspect of the present invention, each of the pair of second dummy patterns is independent from each other and is not divided along the first direction. It is preferable to extend continuously. In this case, when viewed in plan, the plurality of second dummy vias are continuously provided on both sides of the second conductive pattern in a direction intersecting the first direction. It is preferably connected to a dummy pattern.

本発明によれば、折り曲げて使用される際に、導電パターンに作用する応力を緩和することができる樹脂多層基板を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when using it by bending, the resin multilayer substrate which can relieve | moderate the stress which acts on a conductive pattern can be provided.

本発明の実施の形態1に係る樹脂多層基板に含まれる樹脂層であって、上方から1層目に位置する樹脂層を示す平面図である。It is a top view which shows the resin layer which is a resin layer contained in the resin multilayer substrate which concerns on Embodiment 1 of this invention, and is located in the 1st layer from upper direction. 本発明の実施の形態1に係る樹脂多層基板に含まれる樹脂層であって、上方から3層目に位置する樹脂層を示す平面図である。It is a top view which shows the resin layer which is a resin layer contained in the resin multilayer substrate which concerns on Embodiment 1 of this invention, and is located in the 3rd layer from upper direction. 本発明の実施の形態1に係る樹脂多層基板に含まれる樹脂層であって、上方から5層目に位置する樹脂層を示す平面図である。It is a resin layer contained in the resin multilayer substrate which concerns on Embodiment 1 of this invention, Comprising: It is a top view which shows the resin layer located in the 5th layer from upper direction. 本発明の実施の形態1に係る樹脂多層基板においてダミービアが形成されている部分の断面図である。It is sectional drawing of the part in which the dummy via is formed in the resin multilayer substrate which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1に係る樹脂多層基板において平面視した場合にダミービアの間に位置することとなる導電パターンが設けられている部分の断面図である。It is sectional drawing of the part in which the conductive pattern which will be located between dummy vias in planar view in the resin multilayer substrate concerning Embodiment 1 of this invention is provided. 折り曲げ線を中心にして樹脂多層基板を折り曲げた場合において、図4に示す部分が変形した状態を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a state in which the portion shown in FIG. 4 is deformed when a resin multilayer substrate is bent around a fold line. 折り曲げ線を中心にして樹脂多層基板を折り曲げた場合において、図5に示す部分が変形した状態を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a state in which a portion shown in FIG. 5 is deformed when a resin multilayer substrate is bent around a folding line. 本発明の実施の形態2に係る樹脂多層基板に含まれる樹脂層であって、上方から1層目に位置する樹脂層を示す平面図である。It is a top view which shows the resin layer which is a resin layer contained in the resin multilayer substrate which concerns on Embodiment 2 of this invention, and is located in the 1st layer from upper direction. 本発明の実施の形態2に係る樹脂多層基板に含まれる樹脂層であって、上方から3層目に位置する樹脂層を示す平面図である。It is a resin layer contained in the resin multilayer substrate which concerns on Embodiment 2 of this invention, Comprising: It is a top view which shows the resin layer located in the 3rd layer from upper direction. 本発明の実施の形態2に係る樹脂多層基板に含まれる樹脂層であって、上方から5層目に位置する樹脂層を示す平面図である。It is a top view which shows the resin layer which is a resin layer contained in the resin multilayer substrate which concerns on Embodiment 2 of this invention, and is located in the 5th layer from upper direction. 本発明の実施の形態2に係る樹脂多層基板においてダミービアが形成されている部分の断面図である。It is sectional drawing of the part in which the dummy via | veer is formed in the resin multilayer substrate concerning Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態2に係る樹脂多層基板において平面視した場合にダミービアの間に位置することとなる導電パターンが設けられている部分の断面図である。It is sectional drawing of the part in which the conductive pattern which will be located between dummy vias when planarly viewed in the resin multilayer substrate concerning Embodiment 2 of this invention is provided. 折り曲げ線を中心にして樹脂多層基板を折り曲げた場合において、図11に示す部分が変形した状態を示す図である。FIG. 12 is a diagram illustrating a state in which the portion illustrated in FIG. 11 is deformed when the resin multilayer substrate is folded around the folding line. 折り曲げ線を中心にして樹脂多層基板を折り曲げた場合において、図12に示す部分が変形した状態を示す図である。It is a figure which shows the state which the part shown in FIG. 12 deform | transformed when the resin multilayer substrate is bent centering on a bending line. 本発明の実施の形態3に係る樹脂多層基板においてダミービアが形成されている部分の断面図である。It is sectional drawing of the part in which the dummy via is formed in the resin multilayer substrate concerning Embodiment 3 of this invention. 折り曲げ線を中心にして樹脂多層基板を折り曲げた場合において、図15に示す部分が変形した状態を示す図である。FIG. 16 is a diagram showing a state in which the portion shown in FIG. 15 is deformed when the resin multilayer substrate is bent around a fold line. 本発明の実施の形態4に係る樹脂多層基板に含まれる樹脂層であって、上方から3層目の樹脂層を示す平面図である。It is a resin layer contained in the resin multilayer substrate concerning Embodiment 4 of the present invention, and is a top view showing the 3rd resin layer from the upper part. 本発明の実施の形態4に係る樹脂多層基板においてダミービア形成されている部分の断面図である。It is sectional drawing of the part by which the dummy via is formed in the resin multilayer substrate concerning Embodiment 4 of this invention. 折り曲げ線を中心にして樹脂多層基板を折り曲げた場合において、図18に示す部分が変形した状態を示す図である。It is a figure which shows the state which the part shown in FIG. 18 deform | transformed when the resin multilayer substrate is bent centering on a bending line. 本発明の実施の形態5に係る樹脂多層基板に含まれる樹脂層であって、上方から3層目を示す平面図である。It is a resin layer contained in the resin multilayer substrate concerning Embodiment 5 of the present invention, and is a top view showing the 3rd layer from the upper part. 本発明の実施の形態5に係る樹脂多層基板においてダミービアが形成されている部分の断面図である。It is sectional drawing of the part in which the dummy via is formed in the resin multilayer substrate concerning Embodiment 5 of this invention. 折り曲げ線を中心にして樹脂多層基板を折り曲げた場合において、図21に示す部分が変形した状態を示す図である。It is a figure which shows the state which the part shown in FIG. 21 deform | transformed when the resin multilayer substrate is bent centering on a bending line. 本発明の実施の形態6に係る樹脂多層基板に含まれる樹脂層であって、上方から3層目を示す平面図である。It is a resin layer contained in the resin multilayer substrate concerning Embodiment 6 of the present invention, and is a top view showing the 3rd layer from the upper part. 本発明の実施の形態7に係る樹脂多層基板に含まれる樹脂層であって、上方から3層目を示す平面図である。It is a resin layer contained in the resin multilayer substrate concerning Embodiment 7 of the present invention, and is a top view showing the 3rd layer from the upper part. 本発明の実施の形態7に係る樹脂多層基板に含まれる樹脂層であって、上方から5層目を示す平面図である。It is a resin layer contained in the resin multilayer substrate concerning Embodiment 7 of the present invention, and is a top view showing the 5th layer from the upper part. 本発明の実施の形態7に係る樹脂多層基板においてダミービアが形成されている部分の断面図である。It is sectional drawing of the part in which the dummy via | veer is formed in the resin multilayer substrate concerning Embodiment 7 of this invention. 折り曲げ線を中心にして樹脂多層基板を折り曲げた場合において、図26に示す部分が変形した状態を示す図である。FIG. 27 is a diagram showing a state in which the portion shown in FIG. 26 is deformed when a resin multilayer substrate is bent around a fold line. 本発明の実施の形態8に係る樹脂多層基板に含まれる樹脂層であって、上方から3層目を示す平面図である。It is a resin layer contained in the resin multilayer substrate concerning Embodiment 8 of the present invention, and is a top view showing the 3rd layer from the upper part. 本発明の実施の形態8に係る樹脂多層基板に含まれる樹脂層であって、上方から5層目を示す平面図である。It is a resin layer contained in the resin multilayer substrate concerning Embodiment 8 of the present invention, and is a top view showing the 5th layer from the upper part. 本発明の実施の形態8に係る樹脂多層基板においてダミービアが形成されている部分の断面図である。It is sectional drawing of the part in which the dummy via | veer is formed in the resin multilayer substrate concerning Embodiment 8 of this invention. 折り曲げ線を中心にして樹脂多層基板を折り曲げた場合において、図30に示す部分が変形した状態を示す図である。It is a figure which shows the state which the part shown in FIG. 30 deform | transformed when the resin multilayer substrate is bent centering on a bending line. 本発明の実施の形態9に係る樹脂多層基板においてダミービアが形成されている部分の断面図である。It is sectional drawing of the part in which the dummy via is formed in the resin multilayer substrate concerning Embodiment 9 of this invention. 折り曲げ線を中心にして樹脂多層基板を折り曲げた場合において、図32に示す部分が変形した状態を示す図である。It is a figure which shows the state which the part shown in FIG. 32 deform | transformed when the resin multilayer substrate is bent centering on a bending line. 変形例1における樹脂多層基板に含まれる樹脂層であって、上方から3層目および5層目を示す平面図である。It is a resin layer contained in the resin multilayer substrate in modification 1, and is a top view showing the 3rd layer and the 5th layer from the upper part. 変形例2における樹脂多層基板に含まれる樹脂層であって、上方から3層目および5層目を示す平面図である。It is a resin layer contained in the resin multilayer substrate in the modification 2, Comprising: It is a top view which shows the 3rd layer and 5th layer from upper direction. 本発明の実施の形態10に係る樹脂多層基板の製造方法の第1工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 1st process of the manufacturing method of the resin multilayer substrate concerning Embodiment 10 of this invention. 本発明の実施の形態10に係る樹脂多層基板の製造方法の第2工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 2nd process of the manufacturing method of the resin multilayer substrate which concerns on Embodiment 10 of this invention. 本発明の実施の形態10に係る樹脂多層基板の製造方法の第3工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 3rd process of the manufacturing method of the resin multilayer substrate concerning Embodiment 10 of this invention. 本発明の実施の形態10に係る樹脂多層基板の製造方法の第4工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 4th process of the manufacturing method of the resin multilayer substrate concerning Embodiment 10 of this invention. 本発明の実施の形態10に係る樹脂多層基板の製造方法の第5工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 5th process of the manufacturing method of the resin multilayer substrate concerning Embodiment 10 of this invention. 本発明の実施の形態10に係る樹脂多層基板の製造方法の第6工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 6th process of the manufacturing method of the resin multilayer substrate concerning Embodiment 10 of this invention. 従来技術に基づく樹脂多層基板において、導電パターンが形成されている樹脂層の平面図である。It is a top view of the resin layer in which the conductive pattern is formed in the resin multilayer substrate based on a prior art. 従来技術に基づく樹脂多層基板において、導電パターンが形成されている部分の断面図である。It is sectional drawing of the part in which the conductive pattern is formed in the resin multilayer substrate based on a prior art. 折り曲げ線を中心にして樹脂多層基板を折り曲げた場合において、図43に示す部分が変形した状態を示す図である。FIG. 44 is a diagram showing a state in which the portion shown in FIG. 43 is deformed when the resin multilayer substrate is bent around the bend line.

以下、本発明の実施の形態について、図を参照して詳細に説明する。なお、以下に示す実施の形態においては、同一のまたは共通する部分について図中同一の符号を付し、その説明は繰り返さない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following embodiments, the same or common parts are denoted by the same reference numerals in the drawings, and description thereof will not be repeated.

(実施の形態1)
図1から図3は、本実施の形態に係る樹脂多層基板に含まれる樹脂層であって、上方から1層目、3層目、5層目に位置する樹脂層を示す平面図である。図1から図3は、上方から見た場合の平面図であり、破線部は、樹脂層2の下方側に位置する主面に設けられた導電パターンまたはダミーパターンを示している。図4および図5は、本実施の形態に係る樹脂多層基板においてダミービアが形成されている部分および平面視した場合にダミービアの間に位置することとなる導電パターンが設けられている部分の断面図であり、図2中に示すIV−IV線矢視断面図およびV−V線矢視断面図である。図1から図5を参照して、本実施の形態に係る樹脂多層基板について説明する。なお、本明細書においてダミーパターンおよびダミービアの「ダミー」とは、回路の一部として機能せず、また他の回路要素と実質的に電気的な接続がなされていないことを意味する。
(Embodiment 1)
FIGS. 1 to 3 are plan views showing resin layers included in the resin multilayer substrate according to the present embodiment, which are located in the first, third, and fifth layers from above. 1 to 3 are plan views when viewed from above, and a broken line portion indicates a conductive pattern or a dummy pattern provided on a main surface located on the lower side of the resin layer 2. 4 and 5 are cross-sectional views of a portion where a dummy via is formed in the resin multilayer substrate according to the present embodiment and a portion where a conductive pattern which is located between the dummy vias when viewed in plan is provided. They are IV-IV arrow directional cross-sectional view and VV line arrow directional cross-sectional view which are shown in FIG. With reference to FIGS. 1 to 5, the resin multilayer substrate according to the present embodiment will be described. In this specification, the “dummy” of the dummy pattern and the dummy via means that the dummy pattern and the dummy via do not function as a part of the circuit and are not substantially electrically connected to other circuit elements.

図1から図5に示すように、本実施の形態に係る樹脂多層基板100は、複数の樹脂層2を積層した積層体1を備える樹脂多層基板である。複数の樹脂層2は可撓性を有し、樹脂多層基板100は、折り曲げ可能に構成されている。本実施の形態においては、図1から図3に示す折り曲げ線Fを中心として一端側が他端側に近づくように折り曲げることにより、図4および図5における上方に位置する樹脂層2が内周側に位置し、下方に位置する樹脂層2が外周側に位置することとなる。これにより、積層体1は、折り曲げた際に内側の表面となる内側表面1aと折り曲げた際に外側の表面となる外側表面1bを有する。   As shown in FIGS. 1 to 5, a resin multilayer substrate 100 according to the present embodiment is a resin multilayer substrate including a laminate 1 in which a plurality of resin layers 2 are laminated. The plurality of resin layers 2 have flexibility, and the resin multilayer substrate 100 is configured to be bendable. In the present embodiment, the resin layer 2 located above in FIGS. 4 and 5 is arranged on the inner peripheral side by bending the one end side closer to the other end side with the fold line F shown in FIGS. 1 to 3 as the center. The resin layer 2 located at the lower side is located on the outer peripheral side. Thereby, the laminated body 1 has the inner surface 1a which becomes an inner surface when bent, and the outer surface 1b which becomes an outer surface when bent.

図1、図3から図5に示すように、樹脂多層基板100は、導体箔からなる平面導体であるグランド電極7およびグランド電極8を備える。グランド電極7は、上方から1層目の樹脂層の主面(外側表面1a側に位置する主面)に設けられている。グランド電極8は、上方から5層目の樹脂層の主面(外側表面1b側に位置する主面)に設けられている。グランド電極7,8は、樹脂層2の積層方向において後述する第1導電パターン4、第1ダミーパターン5および複数の第1ダミービア6を挟み込むように互いに対向して設けられることによりストリップラインを構成している。   As shown in FIGS. 1 and 3 to 5, the resin multilayer substrate 100 includes a ground electrode 7 and a ground electrode 8 that are planar conductors made of conductive foil. The ground electrode 7 is provided on the main surface (main surface located on the outer surface 1a side) of the first resin layer from above. The ground electrode 8 is provided on the main surface (main surface located on the outer surface 1b side) of the fifth resin layer from the top. The ground electrodes 7 and 8 are provided opposite to each other so as to sandwich a first conductive pattern 4, a first dummy pattern 5, and a plurality of first dummy vias 6 described later in the stacking direction of the resin layer 2, thereby forming a strip line. doing.

図2、図4および図5に示すように、樹脂多層基板100は、第1樹脂層2aと、第1導電パターン4と、第1ダミーパターン5と、複数の第1ダミービア6とを備える。第1樹脂層2aは、複数の樹脂層2中に含まれ第1主面3aを含む。第1樹脂層2aは、たとえば上方から3層目の樹脂層2に相当する。第1主面3aは、外側表面1b側に位置する。   As shown in FIGS. 2, 4 and 5, the resin multilayer substrate 100 includes a first resin layer 2 a, a first conductive pattern 4, a first dummy pattern 5, and a plurality of first dummy vias 6. The first resin layer 2a is included in the plurality of resin layers 2 and includes a first main surface 3a. The first resin layer 2a corresponds to, for example, the third resin layer 2 from above. The first major surface 3a is located on the outer surface 1b side.

第1導電パターン4は、導体箔からなる平面導体であり、第1主面3a上に形成されている。第1導電パターン4は、たとえば長手方向(第1方向:図2中矢印A方向)に延在するように設けられている。第1導電パターン4は、たとえば信号ラインや電源ライン等の配線パターンによって構成されている。   The first conductive pattern 4 is a planar conductor made of a conductive foil, and is formed on the first main surface 3a. The first conductive pattern 4 is provided, for example, so as to extend in the longitudinal direction (first direction: arrow A direction in FIG. 2). The first conductive pattern 4 is constituted by a wiring pattern such as a signal line or a power supply line.

第1ダミーパターン5は、導体箔からなる平面導体であり、平面的に見た場合に、第1導電パターン4を間に挟み込むとともに第1主面3a上に互いに平行となるように一対設けられている。一対の第1ダミーパターン5は、たとえば第1導電パターン4に沿って第1方向(矢印A方向)に延在する。第1方向は、第1導電パターン4の長手方向に一致するとともに、第1主面3a上において折り曲げ線Fに直交する。   The first dummy patterns 5 are planar conductors made of conductive foil, and when viewed in a plane, a pair of first dummy patterns 5 are provided so as to sandwich the first conductive pattern 4 therebetween and be parallel to each other on the first main surface 3a. ing. The pair of first dummy patterns 5 extends in the first direction (arrow A direction), for example, along the first conductive pattern 4. The first direction coincides with the longitudinal direction of the first conductive pattern 4 and is orthogonal to the folding line F on the first main surface 3a.

一対のダミーパターン5のそれぞれは、互いに離間するように複数の部分パターン5aに分割されている。複数の部分パターン5aのそれぞれは、第1ダミービア6を設ける位置に対応するように設けられている。すなわち、複数の部分パターン5aのそれぞれは第1ダミービア6の受けパッド(受け導体)のような機能を有する。一対の第1ダミーパターン5は、第1導電パターン4と電気的に分離されている。   Each of the pair of dummy patterns 5 is divided into a plurality of partial patterns 5a so as to be separated from each other. Each of the plurality of partial patterns 5a is provided so as to correspond to the position where the first dummy via 6 is provided. That is, each of the plurality of partial patterns 5 a has a function like a receiving pad (receiving conductor) of the first dummy via 6. The pair of first dummy patterns 5 is electrically separated from the first conductive pattern 4.

複数の第1ダミービア6は、一対の第1ダミーパターン5に接続され、第1樹脂層2aの厚み方向に貫通するように設けられている。複数の第1ダミービア6のそれぞれは、部分パターン5aに接続されている。複数の第1ダミービア6は、第1樹脂層2aにおいて第1主面3aと反対側に位置する主面3b上でのビア径が同一となるように設けられている。第1ダミービア6は樹脂層2内部に設けられた孔に導電性ペーストを充填し、硬化することによって形成されたものである。   The plurality of first dummy vias 6 are connected to the pair of first dummy patterns 5 and are provided so as to penetrate in the thickness direction of the first resin layer 2a. Each of the plurality of first dummy vias 6 is connected to the partial pattern 5a. The plurality of first dummy vias 6 are provided so that via diameters on the main surface 3b located on the opposite side of the first main surface 3a in the first resin layer 2a are the same. The first dummy via 6 is formed by filling a hole provided in the resin layer 2 with a conductive paste and curing it.

第1方向と交差する折り曲げ線Fを中心にして折り曲げた場合に、第1樹脂層2aには、折り曲げ具合が大きくなる第1領域R1と、第1領域R1の両側に隣接して位置し、第1領域R1よりも折り曲げ具合が小さくなる第2領域R2とが形成される。第1樹脂層2aにおいて、第1領域R1と第2領域R2以外の領域は実質的に折り曲げられない領域である。   When folded around a folding line F that intersects the first direction, the first resin layer 2a is positioned adjacent to both sides of the first region R1 and the first region R1 where the degree of folding increases. A second region R2 that is less bent than the first region R1 is formed. In the first resin layer 2a, regions other than the first region R1 and the second region R2 are regions that are not substantially bent.

第1領域R1は、折り曲げ前の状態において、折り曲げ線Fを中心として第1方向に平行となる幅方向に所定の幅W1を持って、折り曲げ線Fに沿って延在する。第2領域R2は、折り曲げ前の状態において、第1方向に平行となる幅方向に所定の幅W2を持って折り曲げ線Fに沿って延在する。   The first region R1 extends along the folding line F with a predetermined width W1 in the width direction parallel to the first direction with the folding line F as the center in the state before folding. The second region R2 extends along the folding line F with a predetermined width W2 in the width direction parallel to the first direction in a state before folding.

複数の第1ダミービア6は、第1領域R1に設けられた第1ダミービア6aの密度が第2領域R2に設けられた第1ダミービア6bの密度よりも大きくなるように設けられている。   The plurality of first dummy vias 6 are provided such that the density of the first dummy vias 6a provided in the first region R1 is higher than the density of the first dummy vias 6b provided in the second region R2.

図6および図7は、折り曲げ線を中心にして樹脂多層基板を折り曲げた場合において、図4に示す部分が変形した状態および図5に示す部分が変形した状態を示す図である。図6および図7を参照して、樹脂多層基板100を折り曲げた状態について説明する。   6 and 7 are diagrams showing a state in which the portion shown in FIG. 4 is deformed and a state in which the portion shown in FIG. 5 is deformed when the resin multilayer substrate is bent around the folding line. A state where the resin multilayer substrate 100 is bent will be described with reference to FIGS.

樹脂多層基板100の一端側を折り曲げ線Fを中心にして上方に向けて90度近く折り曲げた場合においては、上方(グランド電極7側)に位置する樹脂層2側で圧縮状態となり、下方(グランド電極8側)に位置する樹脂層2側で引張状態となる。   When one end of the resin multilayer substrate 100 is bent nearly 90 degrees upward with the folding line F as the center, the resin multilayer substrate 100 is compressed on the resin layer 2 side located on the upper side (the ground electrode 7 side) and below (ground) The resin layer 2 side located on the electrode 8 side) is in a tensile state.

樹脂層2aにおいては、平面的に見た場合に第1導電パターン4を挟み込むように、折り曲げ線方向における第1導電パターン4の両側に複数の第1ダミービア6が設けられている。第1ダミービア6は樹脂層2よりも硬いため、第1ダミービア6が設けられていない場合と比較して、樹脂層2において第1ダミービア6が設けられている場合には、折り曲げ部における樹脂層2の伸縮を抑制することができる。   In the resin layer 2a, a plurality of first dummy vias 6 are provided on both sides of the first conductive pattern 4 in the folding line direction so as to sandwich the first conductive pattern 4 when viewed in plan. Since the first dummy via 6 is harder than the resin layer 2, when the first dummy via 6 is provided in the resin layer 2 as compared with the case where the first dummy via 6 is not provided, the resin layer in the bent portion. 2 expansion and contraction can be suppressed.

折り曲げ具合が大きくなる第1領域R1では、曲げ応力が集中しやすくなる。第1領域R1に設けられた第1ダミービア6aの密度が第2領域R2に設けられた第1ダミービア6bの密度よりも大きくすることにより、第1導電パターン4および樹脂層2に作用する応力を効果的に緩和させることができる。また、このように曲げ具合に応じて密度を変更することにより、折り曲げ部に過剰に第1ダミービア6が密集することを防止でき、樹脂多層基板100の柔軟性を向上できる。これにより、樹脂多層基板100に曲げ応力が加えられるときの曲がりやすさを確保できる。この結果、第1導電パターン4が断線することに加え、第1導電パターンをさらに微細化することが可能となる。また、樹脂層2自体が破損することを防止することができる。   In the first region R1 where the degree of bending becomes large, bending stress tends to concentrate. By making the density of the first dummy vias 6a provided in the first region R1 larger than the density of the first dummy vias 6b provided in the second region R2, the stress acting on the first conductive pattern 4 and the resin layer 2 is increased. Can be effectively mitigated. In addition, by changing the density according to the bending condition in this way, it is possible to prevent the first dummy vias 6 from being excessively concentrated in the bent portion, and the flexibility of the resin multilayer substrate 100 can be improved. Thereby, it is possible to ensure the ease of bending when a bending stress is applied to the resin multilayer substrate 100. As a result, the first conductive pattern 4 can be further miniaturized in addition to the disconnection of the first conductive pattern 4. Further, the resin layer 2 itself can be prevented from being damaged.

第1導電パターン4および樹脂層2に作用する曲げ応力を効果的に緩和させることにより、樹脂層2の厚みの変動を抑止することもできる。これにより、第1導電パターン4がグランド電極7側に移動して、第1導電パターン4とグランド電極7との間の容量が変動することが抑制される。この結果、電気的特性の変動を抑制することができる。   By effectively relieving the bending stress acting on the first conductive pattern 4 and the resin layer 2, fluctuations in the thickness of the resin layer 2 can be suppressed. Thereby, the 1st conductive pattern 4 moves to the ground electrode 7 side, and it is suppressed that the capacity | capacitance between the 1st conductive pattern 4 and the ground electrode 7 fluctuates. As a result, fluctuations in electrical characteristics can be suppressed.

また、第1ダミービア6と第1ダミーパターン5は、いずれもダミー導体からなっている。したがって、樹脂多層基板が曲げられた際に曲げ応力によって第1ダミービア6と第1ダミーパターン5とその他の導体の相対的な位置関係が変動したとしても、樹脂多層基板の電気的特性に影響を及ぼすことが抑制される。   The first dummy via 6 and the first dummy pattern 5 are both made of dummy conductors. Therefore, even if the relative positional relationship among the first dummy via 6, the first dummy pattern 5, and other conductors is changed by bending stress when the resin multilayer substrate is bent, the electrical characteristics of the resin multilayer substrate are affected. The effect is suppressed.

(実施の形態2)
図8から図10は、本実施の形態に係る樹脂多層基板に含まれる樹脂層であって、上方から1層目、3層目および5層目に位置する樹脂層を示す平面図である。図8から図10は、上方から見た場合の平面図であり、破線部は、樹脂層2の下方側に位置する主面に設けられた導電パターンまたはダミーパターンを示している。図11および図12は、本実施の形態に係る樹脂多層基板においてダミービアが形成されている部分および平面視した場合にダミービアの間に位置することとなる導電パターンが設けられている部分の断面図であり、図9および図10中に示すXI−XI線矢視断面図およびXII−XII線矢視断面図である。図8から図12を参照して、本実施の形態に係る樹脂多層基板100Aについて説明する。
(Embodiment 2)
8 to 10 are plan views showing resin layers included in the resin multilayer substrate according to the present embodiment, which are located in the first, third, and fifth layers from above. 8 to 10 are plan views when viewed from above, and a broken line portion indicates a conductive pattern or a dummy pattern provided on the main surface located on the lower side of the resin layer 2. 11 and 12 are cross-sectional views of a portion where a dummy via is formed in the resin multilayer substrate according to the present embodiment and a portion where a conductive pattern which is located between the dummy vias in plan view is provided. FIG. 11 is a cross-sectional view taken along line XI-XI and a cross-sectional view taken along line XII-XII shown in FIGS. 9 and 10. A resin multilayer substrate 100A according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.

図8から図12に示すように、本実施の形態に係る樹脂多層基板100Aは、実施の形態1に係る樹脂多層基板100と比較した場合に、積層体1の構成が相違する。   As shown in FIGS. 8 to 12, the resin multilayer substrate 100 </ b> A according to the present embodiment is different in the configuration of the laminate 1 from the resin multilayer substrate 100 according to the first embodiment.

本実施の形態に係る樹脂層2aにあっては、複数の第1ダミービア6が折り曲げ線Fから第1方向(矢印A方向)に沿って離れるにつれて徐々に間隔が広くなるように設けられている。これに対応して、複数の部分パターン5aも折り曲げ線Fから第1方向(矢印A方向)に沿って離れるにつれて徐々に間隔が広くなるように設けられている(図10参照)。その他の構成は、実施の形態1に係る第1樹脂層2aの構成とほぼ同様である。なお、樹脂層2aは、たとえば上方から5層目に位置する。   In the resin layer 2a according to the present embodiment, the plurality of first dummy vias 6 are provided such that the intervals gradually increase as the first dummy vias 6 are separated from the fold line F along the first direction (arrow A direction). . Correspondingly, the plurality of partial patterns 5a are also provided such that the intervals gradually increase as they move away from the folding line F along the first direction (arrow A direction) (see FIG. 10). Other configurations are substantially the same as the configuration of the first resin layer 2a according to the first embodiment. The resin layer 2a is located at the fifth layer from the top, for example.

図8、図11および図12に示すように、樹脂多層基板100Aは、導電パターン24が主面23aに設けられた樹脂層2cを含む。樹脂層2cは、たとえば上方から1層目に位置し、外側表面1b側に位置する主面23aおよび内側表面側1aに位置する主面23bを含む。樹脂層2cは、折り曲げた場合に後述する第2樹脂層2bよりも内側に位置する。   As shown in FIGS. 8, 11 and 12, the resin multilayer substrate 100A includes a resin layer 2c in which a conductive pattern 24 is provided on the main surface 23a. The resin layer 2c is located, for example, in the first layer from above, and includes a main surface 23a located on the outer surface 1b side and a main surface 23b located on the inner surface side 1a. When the resin layer 2c is bent, the resin layer 2c is positioned inside a second resin layer 2b described later.

導電パターン24は、たとえば長手方向に延在するように設けられている。導電パターン24は、たとえば信号ラインや電源ライン等の配線パターンによって構成されている。導電パターン24は、樹脂層2の積層方向において、第1導電パターン4および、後述する第2導電パターン14に重なるように設けられている。   The conductive pattern 24 is provided, for example, so as to extend in the longitudinal direction. The conductive pattern 24 is constituted by a wiring pattern such as a signal line or a power supply line. The conductive pattern 24 is provided so as to overlap the first conductive pattern 4 and a second conductive pattern 14 described later in the stacking direction of the resin layer 2.

図9、図11および図12に示すように、樹脂多層基板100Aは、第2樹脂層2bと、第2導電パターン14と、第2ダミーパターン15と、複数の第2ダミービア16とをさらに備える。第2樹脂層2bは、複数の樹脂層2中に含まれ、折り曲げた場合に第1樹脂層2aよりも内側に位置するとともに、第1主面3aとは接しない第2主面13aを含む。第2樹脂層2bは、たとえば上方から3層目に位置し、外側表面1b側に位置する主面13aおよび内側表面側1aに位置する主面13bを含む。   As shown in FIGS. 9, 11 and 12, the resin multilayer substrate 100A further includes a second resin layer 2b, a second conductive pattern 14, a second dummy pattern 15, and a plurality of second dummy vias 16. . The second resin layer 2b is included in the plurality of resin layers 2, and includes a second main surface 13a that is located on the inner side of the first resin layer 2a when bent and does not contact the first main surface 3a. . The second resin layer 2b is located at the third layer from the top, for example, and includes a main surface 13a located on the outer surface 1b side and a main surface 13b located on the inner surface side 1a.

第2導電パターン14は、導体箔からなる平面導体であり、第1導電パターン4に対応するように第2樹脂層2bの第2主面13a上に形成されている。第2導電パターン14は、たとえば長手方向に延在するように設けられている。第2導電パターン14は、樹脂層2の積層方向において第1導電パターン4と重なるように設けられている。第2導電パターン14は、たとえば信号ラインや電源ライン等の配線パターンである。   The second conductive pattern 14 is a planar conductor made of a conductive foil, and is formed on the second main surface 13 a of the second resin layer 2 b so as to correspond to the first conductive pattern 4. The second conductive pattern 14 is provided, for example, so as to extend in the longitudinal direction. The second conductive pattern 14 is provided so as to overlap the first conductive pattern 4 in the stacking direction of the resin layer 2. The second conductive pattern 14 is a wiring pattern such as a signal line or a power supply line.

第2ダミーパターン15は、導体箔からなる平面導体であり、平面的に見た場合に、第2導電パターン14を間に挟み込むとともに第2主面13a上に互いに平行となるように一対設けられている。一対の第2ダミーパターン15は、たとえば第2導電パターン14に沿って第1方向(矢印A方向)に延在する。一対の第2ダミーパターン15は、第1ダミーパターン5から見て積層方向の上方に位置するように、第1ダミーパターン5に対応するように設けられている。   The second dummy patterns 15 are planar conductors made of conductive foil, and when viewed in plan, a pair of second dummy patterns 15 are provided so as to sandwich the second conductive pattern 14 therebetween and be parallel to each other on the second main surface 13a. ing. The pair of second dummy patterns 15 extends in the first direction (arrow A direction), for example, along the second conductive pattern 14. The pair of second dummy patterns 15 are provided so as to correspond to the first dummy patterns 5 so as to be positioned above the stacking direction when viewed from the first dummy patterns 5.

一対の第2ダミーパターン15のそれぞれは、互いに離間するように複数の部分パターン15aに分割されている。複数の部分パターン15aのそれぞれは、第2ダミービア16を設ける位置に対応するように設けられている。一対のダミーパターン15は、第2導電パターン14と電気的に分離されている。   Each of the pair of second dummy patterns 15 is divided into a plurality of partial patterns 15a so as to be separated from each other. Each of the plurality of partial patterns 15a is provided so as to correspond to the position where the second dummy via 16 is provided. The pair of dummy patterns 15 is electrically separated from the second conductive pattern 14.

複数の第2ダミービア16は、一対の第2ダミーパターン15に接続され、第2樹脂層2bの厚み方向に貫通するように設けられている。複数の第2ダミービア16のそれぞれは、部分パターン15aに接続されている。複数の第2ダミービア16は、折り曲げ線Fから、第2導電パターン14が延在する第1方向に離れるにつれて、隣接する第2ダミービアの中心間の距離が徐々に大きくなるように設けられている。なお、複数の第2ダミービア16は、中心間の間隔がほぼ一定となるように設けられてもよい。   The plurality of second dummy vias 16 are connected to the pair of second dummy patterns 15 and are provided so as to penetrate in the thickness direction of the second resin layer 2b. Each of the plurality of second dummy vias 16 is connected to the partial pattern 15a. The plurality of second dummy vias 16 are provided such that the distance between the centers of adjacent second dummy vias gradually increases as the distance from the folding line F in the first direction in which the second conductive pattern 14 extends is increased. . The plurality of second dummy vias 16 may be provided so that the distance between the centers is substantially constant.

複数の第2ダミービア16は、第2樹脂層2bにおいて第2主面13aと反対側に位置する主面13b上でのビア径が同一となるように設けられている。第2ダミービア16は、第1ダミービア6と同様に樹脂層内部に設けられた孔に導電性ペーストを充填し、硬化することによって形成されたものである。   The plurality of second dummy vias 16 are provided such that via diameters on the main surface 13b located on the opposite side of the second main surface 13a in the second resin layer 2b are the same. Similar to the first dummy via 6, the second dummy via 16 is formed by filling a hole provided in the resin layer with a conductive paste and curing.

また、複数の第2ダミービア16は、折り曲げ線Fに対して線対称に配置されている。第2樹脂層2bに設けられた第2ダミービア16の密度は、第1領域R1に設けられた第1ダミービア6aの密度よりも低くなっている。さらに、第2ダミービア16の数は、第1ダミービア6の数よりも少なくなっている。   The plurality of second dummy vias 16 are arranged symmetrically with respect to the folding line F. The density of the second dummy vias 16 provided in the second resin layer 2b is lower than the density of the first dummy vias 6a provided in the first region R1. Further, the number of second dummy vias 16 is smaller than the number of first dummy vias 6.

図13および図14は、折り曲げ線を中心にして樹脂多層基板を折り曲げた場合において、図11に示す部分および図12に示す部分が変形した状態を示す図である。図13および図14を参照して、樹脂多層基板100を折り曲げた状態について説明する。   FIG. 13 and FIG. 14 are diagrams showing a state in which the portion shown in FIG. 11 and the portion shown in FIG. 12 are deformed when the resin multilayer substrate is bent around the folding line. A state where the resin multilayer substrate 100 is bent will be described with reference to FIGS. 13 and 14.

本実施の形態においても、樹脂多層基板100Aの一端側を折り曲げ線Fを中心にして上方に向けて90度近く折り曲げた場合においては、上方に位置する樹脂層2側で圧縮状態となり、下方に位置する樹脂層2側で引張状態となる。   Also in the present embodiment, when one end side of the resin multilayer substrate 100A is bent nearly 90 degrees upward with the fold line F as the center, the resin multilayer substrate 100 located on the upper side is in a compressed state and is The resin layer 2 side that is positioned is in a tensile state.

この場合においては、実施の形態1同様に外周側に位置する第1樹脂層2aに設けられた第1ダミービア6によって、第1導電パターン4、第2導電パターン14、導電パターン24および樹脂層2に作用する曲げ応力の集中を緩和することができる。   In this case, the first conductive pattern 4, the second conductive pattern 14, the conductive pattern 24, and the resin layer 2 are provided by the first dummy via 6 provided in the first resin layer 2a located on the outer peripheral side as in the first embodiment. It is possible to alleviate the concentration of bending stress acting on the.

本実施の形態においては、複数の第1ダミービア6は、折り曲げ線Fから、第1ダミーパターン5が延在する第1方向に離れるにつれて、隣接する第1ダミービア6の中心間の間隔が徐々に広くなるように設けられている。これにより、第1ダミービア6が過度に密集することを防止できるため、より緩やかに樹脂多層基板100Aを折り曲げることができる。   In the present embodiment, the distance between the centers of the adjacent first dummy vias 6 gradually increases as the plurality of first dummy vias 6 move away from the folding line F in the first direction in which the first dummy pattern 5 extends. It is provided to be wide. Accordingly, the first dummy vias 6 can be prevented from being excessively crowded, and the resin multilayer substrate 100A can be bent more gently.

また、第1樹脂層2aよりも内周側に位置する第2樹脂層2bの折り曲げ部に複数の第2ダミービア16が設けられることにより、第1導電パターン4、第2導電パターン14、導電パターン24および樹脂層2に作用する曲げ応力の集中を緩和することができる。   In addition, by providing a plurality of second dummy vias 16 at the bent portion of the second resin layer 2b located on the inner peripheral side of the first resin layer 2a, the first conductive pattern 4, the second conductive pattern 14, and the conductive pattern 24 and the concentration of bending stress acting on the resin layer 2 can be reduced.

ここで、内周側に外周側と同数のダミービアを配置した場合には、折り曲げられた際に内周側に位置するダミービアが、外周側に位置するダミービアよりも互いに近接しやすくなる。ダミービア同士が接触する場合には、曲げ変形を確保することが困難となる場合がある。   Here, when the same number of dummy vias as the outer peripheral side are arranged on the inner peripheral side, the dummy vias positioned on the inner peripheral side when bent are closer to each other than the dummy vias positioned on the outer peripheral side. When dummy vias contact each other, it may be difficult to ensure bending deformation.

本実施においては、複数の第2ダミービア16の数を複数の第1ダミービア6の数よりも少なくすることにより、折り曲げ部に集中する曲げ応力を緩和しつつ、第2ダミービア16同士が接触することを防止することができる。さらに、複数の第2ダミービア16を、折り曲げ線Fから離れるにつれて隣接する第2ダミービアの中心間の距離が徐々に大きくなるように設けることにより、より緩やかに樹脂多層基板100Aを折り曲げることができる。この結果、樹脂多層基板100Aの柔軟性を十分に確保することができる。   In the present embodiment, the number of the second dummy vias 16 is made smaller than the number of the plurality of first dummy vias 6 so that the second dummy vias 16 come into contact with each other while alleviating the bending stress concentrated on the bent portion. Can be prevented. Furthermore, by providing the plurality of second dummy vias 16 so that the distance between the centers of the adjacent second dummy vias gradually increases as the distance from the folding line F increases, the resin multilayer substrate 100A can be bent more gently. As a result, the flexibility of the resin multilayer substrate 100A can be sufficiently secured.

これらの結果、第1導電パターン4、第2導電パターン14および導電パターン24が断線することに加え、第1導電パターン4、第2導電パターン14および導電パターン24をさらに微細化することが可能となる。さらに、樹脂層2自体が破損することを防止することができる。   As a result, in addition to the disconnection of the first conductive pattern 4, the second conductive pattern 14, and the conductive pattern 24, the first conductive pattern 4, the second conductive pattern 14, and the conductive pattern 24 can be further miniaturized. Become. Furthermore, it is possible to prevent the resin layer 2 itself from being damaged.

また、第1導電パターン4、第2導電パターン14、導電パターン24および樹脂層2に作用する曲げ応力を緩和することにより、樹脂層2の厚みの変動も抑制することができる。これにより、折り曲げ部において、第2導電パターン14が導電パターン4に近づくことを防止することができるとともに、第1導電パターン4が第2導電パターン14に近づくことを防止することができる。この結果、第2導電パターン14と導電パターン4との間の容量が変動すること、第1導電パターン4と第2導電パターン14との間の容量が変動することを抑制でき、電気的特性の変動を抑制することができる。   Moreover, the fluctuation | variation of the thickness of the resin layer 2 can also be suppressed by relieving the bending stress which acts on the 1st conductive pattern 4, the 2nd conductive pattern 14, the conductive pattern 24, and the resin layer 2. FIG. Accordingly, it is possible to prevent the second conductive pattern 14 from approaching the conductive pattern 4 in the bent portion and to prevent the first conductive pattern 4 from approaching the second conductive pattern 14. As a result, it is possible to prevent the capacitance between the second conductive pattern 14 and the conductive pattern 4 from fluctuating and the capacitance between the first conductive pattern 4 and the second conductive pattern 14 from being changed. Variations can be suppressed.

また、第1ダミービア6、第1ダミーパターン5、第2ダミービア16および第2ダミーパターン15は、いずれもダミー導体からなっている。このため、樹脂多層基板が曲げられた際に曲げ応力によって第1ダミービア6と第1ダミーパターン5とその他の導体の相対的な位置関係が変動したとしても、樹脂多層基板の電気的特性に影響を及ぼすことが抑制される。同様に、第2ダミービア16と第2ダミーパターン15とその他の導体の相対的な位置関係が変動したとしても、樹脂多層基板の電気的特性に影響を及ぼすことが抑制される。   The first dummy via 6, the first dummy pattern 5, the second dummy via 16, and the second dummy pattern 15 are all made of dummy conductors. For this reason, even if the relative positional relationship among the first dummy via 6, the first dummy pattern 5, and other conductors changes due to bending stress when the resin multilayer substrate is bent, the electrical characteristics of the resin multilayer substrate are affected. Is suppressed. Similarly, even if the relative positional relationship among the second dummy via 16, the second dummy pattern 15, and the other conductors is changed, the influence on the electrical characteristics of the resin multilayer substrate is suppressed.

(実施の形態3)
図15は、本実施の形態に係る樹脂多層基板においてダミービアが形成されている部分の断面図である。図15を参照して、本実施の形態に係る樹脂多層基板100Bについて説明する。
(Embodiment 3)
FIG. 15 is a cross-sectional view of a portion where a dummy via is formed in the resin multilayer substrate according to the present embodiment. With reference to FIG. 15, the resin multilayer substrate 100B according to the present embodiment will be described.

図15に示すように、本実施の形態に係る樹脂多層基板100Bは、1つの第1ダミービア6または第2ダミービア16に対して、1つずつの第1ダミーパターン(部分パターン5a)または第2ダミーパターン(部分パターン15a)を形成した実施の形態2に係る樹脂多層基板100Aと比較した場合に、第1ダミーパターン5および第2ダミーパターン15がそれぞれ連続して(連結して)設けられている点において相違し、その他の構成については、ほぼ同様である。   As shown in FIG. 15, the resin multilayer substrate 100 </ b> B according to the present embodiment has one first dummy pattern (partial pattern 5 a) or second one for each first dummy via 6 or second dummy via 16. When compared with the resin multilayer substrate 100A according to the second embodiment in which the dummy pattern (partial pattern 15a) is formed, the first dummy pattern 5 and the second dummy pattern 15 are respectively provided continuously (connected). The other configurations are substantially the same.

具体的には、一対の第1ダミーパターン5のそれぞれは、互いに独立した状態で、第1方向に沿って分断されずに連続して延在している。また、平面的に見た場合には、第1方向と交差する方向における第1導電パターン4の両側のそれぞれにおいて、複数の第1ダミービア6は、連続して設けられた第1ダミーパターン5に接続されている。   Specifically, each of the pair of first dummy patterns 5 extends continuously without being divided along the first direction in an independent state. Further, when viewed in a plan view, the plurality of first dummy vias 6 are formed on the first dummy pattern 5 provided continuously on both sides of the first conductive pattern 4 in the direction intersecting the first direction. It is connected.

一対の第2ダミーパターン15のそれぞれは、互いに独立した状態で、第1方向に沿って分断されずに連続して延在している。また、平面的に見た場合には第1方向と交差する方向における第2導電パターン14の両側のそれぞれにおいて、複数の第2ダミービア16は、連続して設けられた第2ダミーパターン15に接続されている。   Each of the pair of second dummy patterns 15 extends continuously without being divided along the first direction in an independent state. When viewed in a plan view, the plurality of second dummy vias 16 are connected to the second dummy pattern 15 provided continuously on each side of the second conductive pattern 14 in a direction intersecting the first direction. Has been.

図16は、折り曲げ線を中心にして樹脂多層基板を折り曲げた場合において、図15に示す部分が変形した状態を示す図である。図16を参照して、樹脂多層基板100Bを折り曲げた状態について説明する。   FIG. 16 is a diagram showing a state in which the portion shown in FIG. 15 is deformed when the resin multilayer substrate is bent around the folding line. A state where the resin multilayer substrate 100B is bent will be described with reference to FIG.

本実施の形態においても、樹脂多層基板100Bの一端側を折り曲げ線Fを中心にして上方に向けて90度近く折り曲げた場合においては、上方に位置する樹脂層2側で圧縮状態となり、下方に位置する樹脂層2側で引張状態となる。   Also in the present embodiment, when one end side of the resin multilayer substrate 100B is bent nearly 90 degrees upward with the fold line F as the center, the resin multilayer substrate 100B is in a compressed state on the upper side and the downward direction. The resin layer 2 side that is positioned is in a tensile state.

本実施の形態にあっては、実施の形態2と比較して、第1ダミーパターン5が連続するように設けられ、また、第2ダミーパターンが連続するように設けられることにより、第1導電パターン4、第2導電パターン14、樹脂層2cの主面23a上に設けられた導電パターン24、第1樹脂層2a、第2樹脂層2b、樹脂層2cに作用する曲げ応力をさらに緩和することができる。この結果、実施の形態2と同等以上の効果が得られる。   In the present embodiment, as compared with the second embodiment, the first dummy pattern 5 is provided to be continuous, and the second dummy pattern is provided to be continuous, whereby the first conductive pattern is provided. Further relax the bending stress acting on the pattern 4, the second conductive pattern 14, the conductive pattern 24 provided on the main surface 23a of the resin layer 2c, the first resin layer 2a, the second resin layer 2b, and the resin layer 2c. Can do. As a result, an effect equal to or greater than that of the second embodiment can be obtained.

(実施の形態4)
図17は、本実施の形態に係る樹脂多層基板に含まれる樹脂層であって、上方から3層目の樹脂層を示す平面図である。図17は、上方から見た場合の平面図であり、破線部は、樹脂層2の下方側に位置する主面に設けられた導電パターンおよびダミーパターンを示している。図18は、本実施の形態に係る樹脂多層基板においてダミービア形成されている部分の断面図であり、図17中に示すXVIII−XVIII線矢視断面図である。図17および図18を参照して、本実施の形態に係る樹脂多層基板100Cについて説明する。
(Embodiment 4)
FIG. 17 is a plan view showing a third resin layer from above, which is a resin layer included in the resin multilayer substrate according to the present embodiment. FIG. 17 is a plan view when viewed from above, and a broken line portion shows a conductive pattern and a dummy pattern provided on the main surface located on the lower side of the resin layer 2. 18 is a cross-sectional view of a portion where a dummy via is formed in the resin multilayer substrate according to the present embodiment, and is a cross-sectional view taken along line XVIII-XVIII shown in FIG. A resin multilayer substrate 100C according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.

図17および図18に示すように、本実施の形態に係る樹脂多層基板100Cは、実施の形態2に係る樹脂多層基板100Aと比較した場合に、折り曲げた際に内側となる樹脂層2cに導電パターンが形成されていない点、ダミービアが形成されている層が1層のみである点、樹脂層2の積層数において相違し、その他の構成についてはほぼ同様である。   As shown in FIGS. 17 and 18, the resin multilayer substrate 100C according to the present embodiment is electrically conductive with the resin layer 2c that is on the inner side when bent when compared with the resin multilayer substrate 100A according to the second embodiment. The point that the pattern is not formed, the point that the dummy via is formed is only one layer, the number of laminated resin layers 2 is different, and the other configurations are almost the same.

樹脂多層基板100Cにあっては、導電パターン、ダミーパターンおよびダミービアが形成された第1樹脂層2aが上方から3層目に位置する。   In the resin multilayer substrate 100C, the first resin layer 2a in which the conductive pattern, the dummy pattern, and the dummy via are formed is located in the third layer from above.

図19は、折り曲げ線を中心にして樹脂多層基板を折り曲げた場合において、図18に示す部分が変形した状態を示す図である。図19を参照して、樹脂多層基板100Cが折り曲げられた状態について説明する。   FIG. 19 is a diagram showing a state in which the portion shown in FIG. 18 is deformed when the resin multilayer substrate is bent around the folding line. With reference to FIG. 19, a state where the resin multilayer substrate 100C is bent will be described.

本実施の形態においても、樹脂多層基板100Cの一端側を折り曲げ線Fを中心にして上方に向けて90度近く折り曲げた場合においては、上方に位置する樹脂層2側で圧縮状態となり、下方に位置する樹脂層2側で引張状態となる。   Also in the present embodiment, when one end side of the resin multilayer substrate 100C is bent nearly 90 degrees upward with the folding line F as the center, the resin multilayer substrate 100 located above is in a compressed state and is The resin layer 2 side that is positioned is in a tensile state.

この場合においては、実施の形態2同様に外周側に位置する第1樹脂層2aに設けられた複数の第1ダミービア6によって、第1導電パターン4および樹脂層2に作用する曲げ応力の集中を緩和することができる。   In this case, the concentration of bending stress acting on the first conductive pattern 4 and the resin layer 2 is concentrated by the plurality of first dummy vias 6 provided in the first resin layer 2a located on the outer peripheral side as in the second embodiment. Can be relaxed.

また、複数の第1ダミービア6は、折り曲げ線Fから、第1ダミーパターン5が延在する第1方向に離れるにつれて、徐々に間隔が広くなるように設けられている。これにより、第1ダミービア6が過度に密集することを防止できるため、より緩やかに樹脂多層基板100Cを折り曲げることができる。   The plurality of first dummy vias 6 are provided so that the intervals gradually increase as the distance from the folding line F in the first direction in which the first dummy pattern 5 extends is increased. Thereby, since the first dummy vias 6 can be prevented from being excessively crowded, the resin multilayer substrate 100C can be bent more gently.

これらの結果、本実施の形態においても、第1導電パターン14の破断および樹脂層2の破損を防止できる。また、樹脂多層基板が曲げられた際に曲げ応力によって第1ダミービア6と第1ダミーパターン5とその他の導体の相対的な位置関係が変動したとしても、第1ダミービア6と第1ダミーパターン5は、いずれもダミー導体からなっているため、樹脂多層基板の電気的特性に影響を及ぼすことが抑制される。   As a result, also in the present embodiment, it is possible to prevent the first conductive pattern 14 from being broken and the resin layer 2 from being damaged. Even if the relative positional relationship between the first dummy via 6, the first dummy pattern 5, and the other conductors is changed by bending stress when the resin multilayer substrate is bent, the first dummy via 6 and the first dummy pattern 5 are changed. Since both are made of dummy conductors, the influence on the electrical characteristics of the resin multilayer substrate is suppressed.

(実施の形態5)
図20は、本実施の形態に係る樹脂多層基板に含まれる樹脂層であって、上方から3層目を示す平面図である。図20は、上方から見た場合の平面図であり、破線部は、樹脂層2の下方側に位置する主面に設けられた導電パターンおよびダミーパターンを示している。図21は、本実施の形態に係る樹脂多層基板においてダミービアが形成されている部分の断面図であり、図20中に示すXXI−XXI線矢視断面図である。図20および図21を参照して、樹脂多層基板100Dについて説明する。
(Embodiment 5)
FIG. 20 is a plan view showing a third layer from the top, which is a resin layer included in the resin multilayer substrate according to the present embodiment. FIG. 20 is a plan view when viewed from above, and a broken line portion shows a conductive pattern and a dummy pattern provided on the main surface located on the lower side of the resin layer 2. FIG. 21 is a cross-sectional view of the portion where the dummy via is formed in the resin multilayer substrate according to the present embodiment, and is a cross-sectional view taken along line XXI-XXI shown in FIG. With reference to FIG. 20 and FIG. 21, the resin multilayer substrate 100D will be described.

図20および図21に示すように、本実施の形態に係る樹脂多層基板100Dは、実施の形態4に係る樹脂多層基板100Cと比較した場合に、第1ダミービア6および第1ダミーパターン5の配置が相違し、その他の構成についてはほぼ同様である。また、本実施の形態に係る樹脂多層基板100Dは、複数の折り曲げ線F1およびF2で折り曲げられるように構成されている点において相違する。   As shown in FIGS. 20 and 21, the resin multilayer substrate 100D according to the present embodiment is arranged with the first dummy via 6 and the first dummy pattern 5 when compared with the resin multilayer substrate 100C according to the fourth embodiment. However, the other configurations are almost the same. Further, the resin multilayer substrate 100D according to the present embodiment is different in that it is configured to be bent at a plurality of folding lines F1 and F2.

平面的に見た場合に、複数の第1ダミービア6の密度が高い領域と、低い領域とが交互に形成されている。具体的には、複数の第1ダミービア6は、2つの第1領域R1、2つの第2領域R2、1つの第3領域R3にそれぞれ形成されている。   When viewed in a plan view, regions where the density of the plurality of first dummy vias 6 is high and regions where the density is low are alternately formed. Specifically, the plurality of first dummy vias 6 are respectively formed in two first regions R1, two second regions R2, and one third region R3.

第1領域R1は、折り曲げ前の状態において、折り曲げ線F1,F2を中心として第1方向に平行となる幅方向に所定の幅W1を持って、折り曲げ線F1,F2に沿って延在する。なお、折り曲げ線F1と折り曲げ線F2は、互いに平行である。   The first region R1 extends along the folding lines F1 and F2 with a predetermined width W1 in the width direction parallel to the first direction with the folding lines F1 and F2 as the center before the first region R1. The fold line F1 and the fold line F2 are parallel to each other.

2つの第2領域R2のそれぞれは、各第1領域R1の外側に隣接して位置し、第1方向に平行となる幅方向に所定の幅W2を持って、折り曲げ線F1,F2に沿って延在する。樹脂多層基板100Dを折り曲げた場合には、第2領域R2の折り曲げ具合は、第1領域R1よりも小さくなる。   Each of the two second regions R2 is located adjacent to the outside of each first region R1, has a predetermined width W2 in the width direction parallel to the first direction, and extends along the folding lines F1 and F2. Extend. When the resin multilayer substrate 100D is bent, the degree of bending of the second region R2 is smaller than that of the first region R1.

第3領域R3は、各第1領域R1に挟まれるように各第1領域R1の内側に隣接して位置し、第1方向に平行となる幅方向に所定の幅W3を持って、折り曲げ線Fに沿って延在する。第3領域R3に設けられたダミービア6bの数は、各第2領域R2に設けられたダミービア6bの数よりも多く、第3領域R3の幅W3は、各第2領域R2の幅W2よりも大きくなっているが、これに限定されず、適宜変更することができる。たとえば、第3領域R3に設けられたダミービア6bの数は、各第2領域R2に設けられたダミービア6bの数と同じであってもよく、第3領域R3の幅W3は、各第2領域R2の幅W2と同じであってもよい。   The third region R3 is located adjacent to the inside of each first region R1 so as to be sandwiched between the first regions R1, and has a predetermined width W3 in the width direction parallel to the first direction, and is a folding line. It extends along F. The number of dummy vias 6b provided in the third region R3 is larger than the number of dummy vias 6b provided in each second region R2, and the width W3 of the third region R3 is larger than the width W2 of each second region R2. Although it is large, it is not limited to this, It can change suitably. For example, the number of dummy vias 6b provided in the third region R3 may be the same as the number of dummy vias 6b provided in each second region R2, and the width W3 of the third region R3 is set to each second region R2. It may be the same as the width W2 of R2.

この場合において、第1領域R1に設けられた第1ダミービア6aの各密度は、少なくとも第2領域R2に設けられた第1ダミービア6bの各密度および第3領域R3に設けられた第1ダミービア6dの密度よりも高い。   In this case, the densities of the first dummy vias 6a provided in the first region R1 are at least the densities of the first dummy vias 6b provided in the second region R2 and the first dummy vias 6d provided in the third region R3. Higher than the density.

第2領域R2に設けられた第1ダミービア6bの密度は、第3領域R3に設けられたダミービア6bの密度と同じであってもよく、それよりも高くてもよいし、それより低くてもよい。   The density of the first dummy vias 6b provided in the second region R2 may be the same as the density of the dummy vias 6b provided in the third region R3, or may be higher or lower. Good.

図22は、折り曲げ線を中心にして樹脂多層基板を折り曲げた場合において、図21に示す部分が変形した状態を示す図である。図22を参照して、樹脂多層基板100Dが折り曲げられた状態について説明する。   FIG. 22 is a diagram showing a state in which the portion shown in FIG. 21 is deformed when the resin multilayer substrate is bent around the folding line. With reference to FIG. 22, a state where the resin multilayer substrate 100D is bent will be described.

本実施の形態においては、樹脂多層基板100Dの一端側を上方に向けて90度近く折り曲げる。この場合においては、折り曲げ線F1,F2において2段階で折り曲げる。上方に位置する樹脂層2側で圧縮状態となり、下方に位置する樹脂層2側で引張状態となる。   In the present embodiment, the resin multilayer substrate 100D is bent nearly 90 degrees with one end side facing upward. In this case, bending is performed in two stages along the folding lines F1 and F2. The resin layer 2 located on the upper side is in a compressed state, and the resin layer 2 located on the lower side is in a tensile state.

この場合にあっては、第1ダミービア6の密度が高い部分と低い部分とを交互に配置させ、かつ、密度が高い部分で段階的に折り曲げることにより、実施の形態4と比較した場合に、さらに緩やかに樹脂多層基板100Dを折り曲げることができる。本実施の形態にあっては、実施の形態4と同等以上の効果が得られる。   In this case, when the first dummy vias 6 are alternately arranged with the high density portions and the low density portions and bent in a stepwise manner with the high density portions, compared with the fourth embodiment, Further, the resin multilayer substrate 100D can be bent gently. In the present embodiment, an effect equal to or greater than that of the fourth embodiment is obtained.

なお、本実施の形態においては、2段階に折り曲げる場合を例示して説明したが、これに限定されず、密度が高い領域と低い領域とをさらに交互に配置させ、3段階以上で折り曲げてもよい。   In the present embodiment, the case of bending in two stages has been described as an example. However, the present invention is not limited to this, and a high-density area and a low-density area may be arranged alternately and bend in three or more stages. Good.

(実施の形態6)
図23は、本実施の形態に係る樹脂多層基板に含まれる樹脂層であって、上方から3層目を示す平面図である。図23は、上方から見た場合の平面図であり、破線部は、樹脂層2の下方側に位置する主面に設けられた導電パターンおよびダミーパターンを示している。図23を参照して、樹脂多層基板100Eについて説明する。
(Embodiment 6)
FIG. 23 is a plan view showing the third layer from above, which is a resin layer included in the resin multilayer substrate according to the present embodiment. FIG. 23 is a plan view when viewed from above, and a broken line portion shows a conductive pattern and a dummy pattern provided on the main surface located on the lower side of the resin layer 2. The resin multilayer substrate 100E will be described with reference to FIG.

図23に示すように、樹脂多層基板100Eは、実施の形態5に係る樹脂多層基板100Dと比較した場合に、折り曲げ線Fが所定の角度をもって第1方向と交差する点において相違し、その他の構成についてはほぼ同様である。   As shown in FIG. 23, the resin multilayer substrate 100E is different from the resin multilayer substrate 100D according to the fifth embodiment in that the folding line F intersects the first direction at a predetermined angle. The configuration is almost the same.

この場合であっても第1領域R1、第2領域R2、第3領域R3は第1方向に平行となる幅方向に所定の幅W1,W2,W3を持って、折り曲げ線Fに沿って延在する。   Even in this case, the first region R1, the second region R2, and the third region R3 have predetermined widths W1, W2, and W3 in the width direction parallel to the first direction, and extend along the folding line F. Exists.

本実施の形態においても、第1ダミービア6の密度が高い部分と低い部分とを交互に配置させ、かつ、密度が高い部分で段階的に折り曲げることにより、さらに緩やかに樹脂多層基板100Eを折り曲げることができる。これにより、実施の形態5とほぼ同様の効果が得られる。   Also in the present embodiment, the resin multilayer substrate 100E is more gently bent by alternately arranging the high density portions and the low density portions of the first dummy vias 6 and stepwise bending the high density portions. Can do. Thereby, substantially the same effect as in the fifth embodiment can be obtained.

(実施の形態7)
図24および図25は、本実施の形態に係る樹脂多層基板に含まれる樹脂層であって、上方から3層目および5層目を示す平面図である。図24および図25は、上方から見た場合の平面図であり、破線部は、樹脂層2の下方側に位置する主面に設けられた導電パターンおよびダミーパターンを示している。図26は、本実施の形態に係る樹脂多層基板においてダミービアが形成されている部分の断面図であり、図24および図25に示すXXVI−XXVI線矢視断面図である。図24から図26を参照して、本実施の形態に係る樹脂多層基板100Fについて説明する。
(Embodiment 7)
24 and 25 are plan views showing the third and fifth layers from the top, which are resin layers included in the resin multilayer substrate according to the present embodiment. 24 and 25 are plan views when viewed from above, and the broken line portion shows a conductive pattern and a dummy pattern provided on the main surface located on the lower side of the resin layer 2. FIG. 26 is a cross-sectional view of a portion where the dummy via is formed in the resin multilayer substrate according to the present embodiment, and is a cross-sectional view taken along the line XXVI-XXVI shown in FIGS. 24 and 25. A resin multilayer substrate 100F according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.

図24から図26に示すように、本実施の形態に係る樹脂多層基板100Fは、実施の形態2に係る樹脂多層基板100Aと比較した場合に、折り曲げた際に内側となる樹脂層2cに導電パターンが設けられていない点、第1ダミービア6のビア径および第2ダミービア16のビア径が相違し、その他の構成については、ほぼ同様である。なお、ビア径とは、ダミーパターン5,15が設けられている樹脂層2a,2bの主面3a,13aと反対側に位置する主面3b,13b上おけるダミービアの直径を指す。   As shown in FIGS. 24 to 26, the resin multilayer substrate 100F according to the present embodiment is electrically conductive with the resin layer 2c that is inside when bent when compared with the resin multilayer substrate 100A according to the second embodiment. The pattern is not provided, the via diameter of the first dummy via 6 and the via diameter of the second dummy via 16 are different, and the other configurations are substantially the same. The via diameter refers to the diameter of the dummy via on the main surfaces 3b and 13b located on the opposite side of the main surfaces 3a and 13a of the resin layers 2a and 2b on which the dummy patterns 5 and 15 are provided.

図25に示すように、第1樹脂層2aにあっては、第1領域R1に設けられた第1ダミービア6aのビア径が、第2領域R2に設けられた第1ダミービア6aのビア径よりも大きくなるように複数の第1ダミービア6が設けられている。   As shown in FIG. 25, in the first resin layer 2a, the via diameter of the first dummy via 6a provided in the first region R1 is larger than the via diameter of the first dummy via 6a provided in the second region R2. A plurality of first dummy vias 6 are provided so as to be larger.

複数の第1ダミービア6は、折り曲げ線Fから第1方向に沿って離れるにつれて、徐々にビア径が小さくなるように設けられている。実施の形態2同様に、第1領域R1に設けられたダミービア6aの密度は、第2領域R2に設けられた第1ダミービア6bの密度よりも大きくなっている。   The plurality of first dummy vias 6 are provided such that the via diameter gradually decreases as the distance from the folding line F in the first direction is increased. As in the second embodiment, the density of the dummy vias 6a provided in the first region R1 is higher than the density of the first dummy vias 6b provided in the second region R2.

図26に示すように、第2樹脂層2bにあっては、複数の第2ダミービア16は、中心間の距離が一定となるように配置されている。複数の第2ダミービア16は、複数の第2ダミービア16は、折り曲げ線Fに対して線対称に配置されている。また、第2ダミービア16の数は、第1ダミービア6の数よりも少なくなっている。折り曲げ線Fに近い側に位置する第2ダミービア16aのビア径は、折り曲げ線Fから遠い側に位置する第2ダミービア16bのビア径よりも大きい。   As shown in FIG. 26, in the second resin layer 2b, the plurality of second dummy vias 16 are arranged such that the distance between the centers is constant. The plurality of second dummy vias 16 are arranged symmetrically with respect to the folding line F. Further, the number of second dummy vias 16 is smaller than the number of first dummy vias 6. The via diameter of the second dummy via 16a located on the side closer to the fold line F is larger than the via diameter of the second dummy via 16b located on the side far from the fold line F.

図27は、折り曲げ線を中心にして樹脂多層基板を折り曲げた場合において、図26に示す部分が変形した状態を示す図である。図27を参照して、樹脂多層基板100Fが折り曲げられた状態について説明する。   FIG. 27 is a diagram showing a state where the portion shown in FIG. 26 is deformed when the resin multilayer substrate is bent around the folding line. With reference to FIG. 27, a state where the resin multilayer substrate 100F is bent will be described.

本実施の形態においても、樹脂多層基板100Fの一端側を折り曲げ線Fを中心にして上方に向けて90度近く折り曲げた場合においては、上方に位置する樹脂層2側で圧縮状態となり、下方に位置する樹脂層2側で引張状態となる。   Also in the present embodiment, when one end side of the resin multilayer substrate 100F is bent nearly 90 degrees upward with the fold line F as the center, the resin multilayer substrate 100F is in a compressed state on the upper side and the downward direction The resin layer 2 side that is positioned is in a tensile state.

この場合にあっては、折り曲げ具合が大きくなる第1領域R1において、曲げ応力が集中しやすくなる。第1領域R1に設けられた第1ダミービア6のビア径を、第2領域R2に設けられた第1ダミービア6のビア径よりも大きくすることにより、第1導電パターン4および樹脂層2に作用する曲げ応力を効果的に緩和させることができる。   In this case, the bending stress tends to concentrate in the first region R1 where the degree of bending becomes large. By making the via diameter of the first dummy via 6 provided in the first region R1 larger than the via diameter of the first dummy via 6 provided in the second region R2, it acts on the first conductive pattern 4 and the resin layer 2. It is possible to effectively relieve bending stress.

また、このように曲げ具合に応じて第1ダミービア6のビア径を変更することにより、ビア径が大きい第1ダミービア6同士が接触することを抑制でき、樹脂多層基板100Fの柔軟性を十分に確保することができる。   Further, by changing the via diameter of the first dummy via 6 in accordance with the bending condition in this way, it is possible to suppress the first dummy vias 6 having large via diameters from contacting each other, and the resin multilayer substrate 100F has sufficient flexibility. Can be secured.

第1樹脂層2aよりも内周側に位置する第2樹脂層2bの折り曲げ部に複数の第2ダミービア16が設けられることにより、第1導電パターン4、第2導電パターン14、および樹脂層2に作用する曲げ応力の集中を緩和することができる。   By providing a plurality of second dummy vias 16 at the bent portion of the second resin layer 2b located on the inner peripheral side of the first resin layer 2a, the first conductive pattern 4, the second conductive pattern 14, and the resin layer 2 are provided. It is possible to alleviate the concentration of bending stress acting on the.

さらに、複数の第2ダミービア16の数を複数の第1ダミービアの数よりも少なくすることにより、折り曲げ部に集中する応力を緩和しつつ、第2ダミービア16同士が接触することを防止することができる。これにより、樹脂多層基板100Fの柔軟性を十分に確保することができる。   Furthermore, by reducing the number of the plurality of second dummy vias 16 than the number of the plurality of first dummy vias, it is possible to prevent the second dummy vias 16 from coming into contact with each other while alleviating the stress concentrated on the bent portion. it can. Thereby, the softness | flexibility of the resin multilayer substrate 100F can fully be ensured.

これらの結果、第1導電パターン4および第2導電パターン14が断線することに加え、第1導電パターン4および第2導電パターン14をさらに微細化することが可能となるとともに、樹脂層2自体が破損することを防止することができる。   As a result, in addition to the disconnection of the first conductive pattern 4 and the second conductive pattern 14, the first conductive pattern 4 and the second conductive pattern 14 can be further miniaturized, and the resin layer 2 itself It can be prevented from being damaged.

また、1導電パターン4、第2導電パターン14および樹脂層2に作用する曲げ応力を緩和することにより、樹脂層2の厚みの変動も抑制することができる。これにより、折り曲げ部において、第1導電パターン4が第2導電パターン14に近づくことを防止することができる。この結果、第1導電パターン4と第2導電パターン14との間の容量が変動することを抑制でき、電気的特性の変動を抑制することができる。   Moreover, the fluctuation | variation of the thickness of the resin layer 2 can also be suppressed by relieving the bending stress which acts on the 1 conductive pattern 4, the 2nd conductive pattern 14, and the resin layer 2. FIG. Thereby, it can prevent that the 1st conductive pattern 4 approaches the 2nd conductive pattern 14 in a bending part. As a result, it is possible to suppress a change in capacitance between the first conductive pattern 4 and the second conductive pattern 14, and it is possible to suppress a change in electrical characteristics.

また、第1ダミービア6、第1ダミーパターン5、第2ダミービア16および第2ダミーパターン15は、いずれもダミー導体からなっている。このため、樹脂多層基板が曲げられた際に曲げ応力によって第1ダミービア6と第1ダミーパターン5とその他の導体の相対的な位置関係が変動したとしても、樹脂多層基板の電気的特性に影響を及ぼすことが抑制される。同様に、第2ダミービア16と第2ダミーパターン15とその他の導体の相対的な位置関係が変動したとしても、樹脂多層基板の電気的特性に影響を及ぼすことが抑制される。   The first dummy via 6, the first dummy pattern 5, the second dummy via 16, and the second dummy pattern 15 are all made of dummy conductors. For this reason, even if the relative positional relationship among the first dummy via 6, the first dummy pattern 5, and other conductors changes due to bending stress when the resin multilayer substrate is bent, the electrical characteristics of the resin multilayer substrate are affected. Is suppressed. Similarly, even if the relative positional relationship among the second dummy via 16, the second dummy pattern 15, and the other conductors is changed, the influence on the electrical characteristics of the resin multilayer substrate is suppressed.

(実施の形態8)
図28および図29は、本実施の形態に係る樹脂多層基板に含まれる樹脂層であって、上方から3層目および5層目を示す平面図である。図28および図29は、上方から見た場合の平面図であり、破線部は、樹脂層2の下方側に位置する主面に設けられた導電パターンおよびダミーパターンを示している。図30は、本実施の形態に係る樹脂多層基板においてダミービアが形成されている部分の断面図であり、図28および図29に示すXXX−XXX線矢視断面図である。図28から図30を参照して本実施の形態に係る樹脂多層基板100Gについて説明する。
(Embodiment 8)
28 and 29 are plan views showing the third and fifth layers from the top, which are resin layers included in the resin multilayer substrate according to the present embodiment. FIG. 28 and FIG. 29 are plan views when viewed from above, and the broken line portion shows a conductive pattern and a dummy pattern provided on the main surface located on the lower side of the resin layer 2. FIG. 30 is a cross-sectional view of the portion where the dummy via is formed in the resin multilayer substrate according to the present embodiment, and is a cross-sectional view taken along the line XXX-XXX shown in FIGS. 28 and 29. The resin multilayer substrate 100G according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.

図28から図30に示すように、本実施の形態に係る樹脂多層基板100Gは、実施の形態7に係る樹脂多層基板100Fと比較した場合に、第1ダミービア6および第1ダミーパターン5が相違し、その他の構成はほぼ同様である。   As shown in FIGS. 28 to 30, the resin multilayer substrate 100G according to the present embodiment is different from the resin multilayer substrate 100F according to the seventh embodiment in that the first dummy via 6 and the first dummy pattern 5 are different. However, other configurations are almost the same.

第1樹脂層2aにあっては、複数の第1ダミービア6は、中心間の間隔が一定となるように配置されている。これに対応して、複数の部分パターン5aも中心間の間隔が一定となるように配置されている。   In the first resin layer 2a, the plurality of first dummy vias 6 are arranged so that the distance between the centers is constant. Correspondingly, the plurality of partial patterns 5a are also arranged so that the distance between the centers is constant.

図31は、折り曲げ線を中心にして樹脂多層基板を折り曲げた場合において、図30に示す部分が変形した状態を示す図である。図31を参照して、樹脂多層基板100Gが折り曲げられた状態について説明する。   FIG. 31 is a diagram showing a state in which the portion shown in FIG. 30 is deformed when the resin multilayer substrate is bent around the folding line. With reference to FIG. 31, the state where the resin multilayer substrate 100G is bent will be described.

本実施の形態においても、樹脂多層基板100Gの一端側を折り曲げ線Fを中心にして上方に向けて90度近く折り曲げた場合においては、上方に位置する樹脂層2側で圧縮状態となり、下方に位置する樹脂層2側で引張状態となる。   Also in the present embodiment, when one end side of the resin multilayer substrate 100G is bent nearly 90 degrees upward with the fold line F as the center, the resin multilayer substrate 100G is in a compressed state on the upper side, and downward The resin layer 2 side that is positioned is in a tensile state.

この場合にあっては、実施の形態7同様に外周側に位置する第1樹脂層2aに設けられた複数の第1ダミービア6および内周側に位置する第2樹脂層2bに設けられた複数の第2ダミービア16によって、樹脂多層基板100Gの柔軟性を十分に確保しつつ、第1導電パターン4、第2導電パターン14および樹脂層2に作用する曲げ応力の集中を緩和することができる。この結果、本実施の形態においても、実施の形態7とほぼ同様の効果が得られる。   In this case, as in the seventh embodiment, a plurality of first dummy vias 6 provided on the first resin layer 2a located on the outer peripheral side and a plurality provided on the second resin layer 2b located on the inner peripheral side. This second dummy via 16 can alleviate the concentration of bending stress acting on the first conductive pattern 4, the second conductive pattern 14, and the resin layer 2 while sufficiently ensuring the flexibility of the resin multilayer substrate 100G. As a result, the present embodiment can provide substantially the same effect as that of the seventh embodiment.

(実施の形態9)
図32は、本実施の形態に係る樹脂多層基板においてダミービアが形成されている部分の断面図である。図32を参照して、本実施の形態に係る樹脂多層基板100Hについて説明する。
(Embodiment 9)
FIG. 32 is a cross-sectional view of a portion where a dummy via is formed in the resin multilayer substrate according to the present embodiment. With reference to FIG. 32, resin multilayer substrate 100H according to the present embodiment will be described.

図32に示すように、本実施の形態に係る樹脂多層基板100Hは、実施の形態7に係る樹脂多層基板100Fと比較した場合に、ダミービアが形成されている層が1層のみである点において相違し、その他の構成についてはほぼ同様である。   As shown in FIG. 32, the resin multilayer substrate 100H according to the present embodiment is different from the resin multilayer substrate 100F according to the seventh embodiment in that only one layer is provided with a dummy via. The other configurations are almost the same.

樹脂多層基板100Hにあっては、第1樹脂層2aが上方から3層目に位置する。
図33は、折り曲げ線を中心にして樹脂多層基板を折り曲げた場合において、図32に示す部分が変形した状態を示す図である。図33を参照して、樹脂多層基板100Hが折り曲げられた状態について説明する。
In the resin multilayer substrate 100H, the first resin layer 2a is located in the third layer from above.
FIG. 33 is a diagram showing a state in which the portion shown in FIG. 32 is deformed when the resin multilayer substrate is bent around the folding line. With reference to FIG. 33, the state where the resin multilayer substrate 100H is bent will be described.

本実施の形態においても、樹脂多層基板100Gの一端側を折り曲げ線Fを中心にして上方に向けて90度近く折り曲げた場合においては、上方に位置する樹脂層2側で圧縮状態となり、下方に位置する樹脂層2側で引張状態となる。   Also in the present embodiment, when one end side of the resin multilayer substrate 100G is bent nearly 90 degrees upward with the fold line F as the center, the resin multilayer substrate 100G is in a compressed state on the upper side, and downward The resin layer 2 side that is positioned is in a tensile state.

この場合にあっては、実施の形態7同様に外周側に位置する第1樹脂層2aに設けられた複数の第1ダミービア6によって、第1導電パターン4、および樹脂層2に作用する曲げ応力の集中を緩和することができる。   In this case, the bending stress acting on the first conductive pattern 4 and the resin layer 2 by the plurality of first dummy vias 6 provided in the first resin layer 2a located on the outer peripheral side as in the seventh embodiment. Can be relaxed.

また、曲げ具合に応じて第1ダミービア6のビア径を変更することにより、過剰にビア径が大きい第1ダミービア6が配置されることを防止でき、樹脂多層基板100Hの柔軟性を十分に確保することができる。   Further, by changing the via diameter of the first dummy via 6 according to the bending condition, it is possible to prevent the first dummy via 6 having an excessively large via diameter from being arranged, and sufficiently ensure the flexibility of the resin multilayer substrate 100H. can do.

これらの結果、本実施の形態においても、第1導電パターン14の破断および樹脂層2の破損を防止でき、かつ、電気的特性の変動を抑制することができる。   As a result, also in the present embodiment, breakage of the first conductive pattern 14 and breakage of the resin layer 2 can be prevented, and fluctuations in electrical characteristics can be suppressed.

(変形例1)
図34Aおよび図34Bは、変形例1における樹脂多層基板に含まれる樹脂層であって、上方から3層目および5層目を示す平面図である。図34Aおよび図34Bを参照して、本変形例における樹脂多層基板100Iについて説明する。
(Modification 1)
34A and 34B are plan views showing the third and fifth layers from the top, which are resin layers included in the resin multilayer substrate in Modification 1. FIG. With reference to FIG. 34A and FIG. 34B, the resin multilayer substrate 100I in the present modification will be described.

本変形例にあっては、上記実施例と比較した場合に、導電パターンが直線状の導電パターンだけではなく、第1の容量電極41または第2の容量電極42を含むように構成されている点において相違する。なお、第1ダミービア6は、第1導電パターンの少なくとも一部が延在する第1方向(図34中矢印A方向)に沿って設けられている。   In this modified example, the conductive pattern is configured to include not only the linear conductive pattern but also the first capacitive electrode 41 or the second capacitive electrode 42 as compared with the above-described embodiment. The point is different. The first dummy via 6 is provided along the first direction (the direction of arrow A in FIG. 34) in which at least a part of the first conductive pattern extends.

このような場合であっても、第1ダミービア6および第2ダミービア16を上述の実施の形態に準じて設けることにより、第1の容量電極41、第2の容量電極42および樹脂層2に作用する曲げ応力の集中を緩和することができる。これにより、第1の容量電極41、第2の容量電極42の破断および樹脂層2の破損を防止でき、かつ、電気的特性の変動を抑制することができる。   Even in such a case, by providing the first dummy via 6 and the second dummy via 16 according to the above-described embodiment, it acts on the first capacitor electrode 41, the second capacitor electrode 42, and the resin layer 2. The concentration of bending stress can be reduced. Thereby, the breakage of the first capacitor electrode 41 and the second capacitor electrode 42 and the breakage of the resin layer 2 can be prevented, and fluctuations in electrical characteristics can be suppressed.

(変形例2)
図35Aおよび図35Bは、変形例2における樹脂多層基板に含まれる樹脂層であって、上方から3層目および5層目を示す平面図である。図35Aおよび図35Bを参照して、本変形例における樹脂多層基板100Jについて説明する。
(Modification 2)
FIG. 35A and FIG. 35B are plan views showing the third and fifth layers from the top, which are resin layers included in the resin multilayer substrate in Modification 2. With reference to FIG. 35A and FIG. 35B, the resin multilayer substrate 100J in the present modification will be described.

本変形例にあっては、上記実施例と比較した場合に、導電パターンが直線状の導電パターンだけではなく、コイルを形成するためのらせん状の第1のインダクタパターン43および第2のインダクタパターン44を含むように構成されている点において相違する。なお、第1ダミービア6は、上記第1導電パターンの少なくとも一部が延在する第1方向(図35中矢印A方向)に沿って設けられている。   In this modification, when compared with the above-described embodiment, the conductive pattern is not only a linear conductive pattern, but also a spiral first inductor pattern 43 and a second inductor pattern for forming a coil. 44 in that it is configured to include 44. The first dummy via 6 is provided along the first direction (the direction of arrow A in FIG. 35) in which at least a part of the first conductive pattern extends.

このような場合であっても、第1ダミービア6および第2ダミービア16を上述の実施の形態に準じて設けることにより、第1のインダクタパターン43、第2のインダクタパターン44および樹脂層2に作用する曲げ応力の集中を緩和することができる。これにより、第1のインダクタパターン43、第2のインダクタパターン44の破断および樹脂層2の破損を防止でき、かつ、電気的特性の変動を抑制することができる。   Even in such a case, by providing the first dummy via 6 and the second dummy via 16 in accordance with the above-described embodiment, the first inductor pattern 43, the second inductor pattern 44, and the resin layer 2 are acted on. The concentration of bending stress can be reduced. Thereby, the breakage of the first inductor pattern 43 and the second inductor pattern 44 and the breakage of the resin layer 2 can be prevented, and fluctuations in electrical characteristics can be suppressed.

(実施の形態10)
図36から図41を参照して、本実施の形態10に係る樹脂多層基板の製造方法について説明する。
(Embodiment 10)
With reference to FIGS. 36 to 41, a method for manufacturing a resin multilayer substrate according to the tenth embodiment will be described.

まず、図36に示すような導体箔付き樹脂シート30を用意する。導体箔付き樹脂シート30は、樹脂層2の片面に導体箔31が付着した構造のシートである。樹脂層2は、たとえば熱可塑性樹脂であるLCP(液晶ポリマー)からなるものである。樹脂層2の材料としては、LCPの他に、PEEK(ポリエーテルエーテルケトン)、PEI(ポリエーテルイミド)、PPS(ポニフェニレンスルファイド)、PI(ポリイミド)などであってもよい。   First, a resin sheet 30 with conductor foil as shown in FIG. 36 is prepared. The resin sheet with conductor foil 30 is a sheet having a structure in which the conductor foil 31 is attached to one surface of the resin layer 2. The resin layer 2 is made of, for example, LCP (liquid crystal polymer) that is a thermoplastic resin. The material of the resin layer 2 may be PEEK (polyetheretherketone), PEI (polyetherimide), PPS (poniphenylene sulfide), PI (polyimide), etc. in addition to LCP.

導体箔31は、たとえばCuからなる厚さ18μmの箔である。なお、導体箔31の材料はCu以外にAg、Al、SUS、Ni、Auであってもよく、これらの金属のうちから選択された2以上の異なる金属の合金であってもよい。本実施の形態では、導体箔31は厚さ18μmとしたが、導体箔31の厚みは3〜40μm程度であってよい。導体箔31は、回路形成が可能な厚みであればよい。   The conductor foil 31 is a foil having a thickness of 18 μm made of Cu, for example. The material of the conductor foil 31 may be Ag, Al, SUS, Ni, Au other than Cu, or an alloy of two or more different metals selected from these metals. In the present embodiment, the conductor foil 31 has a thickness of 18 μm, but the conductor foil 31 may have a thickness of about 3 to 40 μm. The conductor foil 31 may be any thickness that allows circuit formation.

次に、図37に示すように、導体箔付き樹脂シート30の樹脂層2側の表面に炭酸ガスレーザ光を照射することによって樹脂層2を貫通するようにビア孔32を形成する。ビア孔32は、樹脂層2を貫通しているが導体箔31は貫通していない。その後、ビア孔32のスミア(図示せず)を除去する。ここではビア孔32を形成するために炭酸ガスレーザ光を用いたが、他の種類のレーザ光であってもよい。また、ビア孔32を形成するためにレーザ光照射以外の方法を採用してもよい。   Next, as shown in FIG. 37, via holes 32 are formed so as to penetrate the resin layer 2 by irradiating the surface on the resin layer 2 side of the resin sheet 30 with conductor foil with a carbon dioxide laser beam. The via hole 32 penetrates the resin layer 2 but does not penetrate the conductor foil 31. Thereafter, the smear (not shown) of the via hole 32 is removed. Although carbon dioxide laser light is used here to form the via hole 32, other types of laser light may be used. Further, in order to form the via hole 32, a method other than laser beam irradiation may be employed.

次に、図38に示すように、導体箔付き樹脂シート30の導体箔31の表面にスクリーン印刷などの方法で、所望の回路パターンに対応するレジストパターン33を印刷する。   Next, as shown in FIG. 38, a resist pattern 33 corresponding to a desired circuit pattern is printed on the surface of the conductor foil 31 of the resin sheet with conductor foil 30 by a method such as screen printing.

次に、レジストパターン33をマスクとしてエッチングを行ない、図39に示すように、導体箔31のうちレジストパターン33で被覆されていない部分を除去する。その後、図40に示すように、レジストパターン33を除去する。こうして樹脂層2の一方の表面に所望の導電パターンおよびダミーパターン等が得られる。   Next, etching is performed using the resist pattern 33 as a mask, and as shown in FIG. 39, the portion of the conductor foil 31 that is not covered with the resist pattern 33 is removed. Thereafter, as shown in FIG. 40, the resist pattern 33 is removed. In this way, a desired conductive pattern and dummy pattern are obtained on one surface of the resin layer 2.

次に、図41に示すように、ビア孔32に、スクリーン印刷などにより導電性ペーストを充填する。スクリーン印刷は、図40、図41における下側の面から行なわれる。図40では説明の便宜上、ビア孔32が下方を向いた姿勢で表示しているが、実際には適宜姿勢を変えてスクリーン印刷を行なってよい。また、導電性ペーストの充填は、真空印刷によって行なってもよい。あるいは、導電性ペーストの充填は、ペースト充填機による穴埋めであってもよい。充填する導電性ペーストは上述したように銀を主成分とするものであってもよいが、その代わりにたとえば銅を主成分とするものであってもよい。   Next, as shown in FIG. 41, the via holes 32 are filled with a conductive paste by screen printing or the like. Screen printing is performed from the lower surface in FIGS. In FIG. 40, for convenience of explanation, the via hole 32 is displayed in a posture facing downward, but in practice, screen printing may be performed by changing the posture as appropriate. Further, the filling of the conductive paste may be performed by vacuum printing. Alternatively, the filling of the conductive paste may be hole filling by a paste filling machine. The conductive paste to be filled may be mainly composed of silver as described above, but may instead be composed mainly of copper, for example.

この導電性ペーストは、のちに積層した樹脂層を熱圧着する際の温度(以下「熱圧着温度」という。)で、導電パターンおよびダミーパターンの材料である金属との間で合金層を形成するような金属粉を適量含むものであることが好ましい。この導電性ペーストは導電性を発揮するための主成分として銅すなわちCuを含むので、この導電性ペーストは主成分の他にAg,Cu,Niのうち少なくとも1種類と、Sn,Bi,Znのうち少なくとも1種類とを含むことが好ましい。図41では、導電性ペーストの充填により、ダミービア等のビア導体が形成されている。樹脂層2はのちに積層して組み立てられるためのものであるので、複数の樹脂層2においてそれぞれ設計に従って、ビア導体が配置される。   This conductive paste forms an alloy layer between the conductive pattern and the metal that is the material of the dummy pattern at the temperature (hereinafter referred to as “thermocompression temperature”) when the laminated resin layer is thermocompression bonded later. It is preferable that the metal powder contains an appropriate amount. Since this conductive paste contains copper, that is, Cu as a main component for exerting conductivity, this conductive paste includes at least one of Ag, Cu, and Ni in addition to the main component, and Sn, Bi, Zn. It is preferable that at least one of them is included. In FIG. 41, via conductors such as dummy vias are formed by filling with conductive paste. Since the resin layer 2 is to be stacked and assembled later, via conductors are arranged in the plurality of resin layers 2 according to the design.

以上のように処理された複数の樹脂層2を積層して積層体を形成する。積層する際には、設計に従って、導電パターン同士の距離が設定される。あるいはさらにビア導体同士の距離が設定される。   A plurality of resin layers 2 processed as described above are laminated to form a laminate. When laminating, the distance between the conductive patterns is set according to the design. Alternatively, the distance between via conductors is set.

複数の樹脂層2を途中まで積層した時点で、熱圧着温度より低い温度で仮圧着してもよい。仮圧着の温度は、たとえば150℃以上200℃以下である。仮圧着することにより、この時点までに積層した樹脂層2同士が接合される。仮圧着をした場合、さらに残りの樹脂層2を積み重ねる。   At the time when the plurality of resin layers 2 are laminated halfway, temporary compression bonding may be performed at a temperature lower than the thermocompression bonding temperature. The temperature of the temporary pressure bonding is, for example, 150 ° C. or higher and 200 ° C. or lower. By temporarily press-bonding, the resin layers 2 laminated up to this point are joined. When the temporary pressure bonding is performed, the remaining resin layer 2 is further stacked.

次に、この積層体を本圧着する。本圧着の工程では既に仮圧着された積層体および仮圧着より後から積層された樹脂層2の全体を一括して熱圧着する。本圧着の温度はたとえば250℃以上300℃以下である。上述の「熱圧着温度」は、この本圧着の温度を意味する。本圧着することにより、厚み方向に隣り合った樹脂層2同士は相互に接着されて一体的な樹脂多層基板が形成される。樹脂多層基板の上面または下面に露出するように配置された導電パターンがある場合、これらは外部電極となる。本圧着が済んだ後、外部電極の表面に、Ni、Auなどでめっき処理を施すことが好ましい。   Next, this laminate is subjected to main pressure bonding. In the final press-bonding process, the laminated body that has already been temporarily press-bonded and the entire resin layer 2 that has been stacked after the temporary press-bonding are collectively thermocompression bonded. The temperature of the main press bonding is, for example, 250 ° C. or more and 300 ° C. or less. The above-mentioned “thermocompression bonding temperature” means the temperature of the main compression bonding. By performing this pressure bonding, the resin layers 2 adjacent in the thickness direction are bonded to each other to form an integral resin multilayer substrate. When there are conductive patterns arranged so as to be exposed on the upper surface or the lower surface of the resin multilayer substrate, these become external electrodes. After the main pressure bonding, the surface of the external electrode is preferably plated with Ni, Au or the like.

樹脂多層基板の上面および下面の両方に導電パターンを利用した外部電極を形成すべき場合、積層の途中のいずれかの層において表裏を反転させ、その反転箇所以外ではすぐ下の層と表裏同じ向きで積み重ねることが好ましい。   When external electrodes using conductive patterns are to be formed on both the top and bottom surfaces of a resin multilayer board, the front and back are reversed in any layer in the middle of the stack, and the same orientation as the front and back of the layer immediately below except for the reversed portion It is preferable to stack with.

仮圧着を行なわずに、全ての樹脂層2を積み重ねてからまとめて本圧着を行なってもよい。   Instead of pre-bonding, all the resin layers 2 may be stacked and then collectively bonded.

いずれにしても、本圧着を終えた時点で、上記各実施の形態で示したような樹脂多層基板が得られる。   In any case, when the main pressure bonding is finished, the resin multilayer substrate as shown in each of the above embodiments is obtained.

本実施の形態における樹脂多層基板の製造方法によれば、上記各実施の形態で述べたような樹脂多層基板を得ることができる。   According to the method for producing a resin multilayer substrate in the present embodiment, the resin multilayer substrate as described in each of the above embodiments can be obtained.

上述した実施の形態1から9および変形例1,2にあっては、折り曲げ角が略90度になるように折り曲げる場合を例示して説明したが、これに限定されず、折り曲げ角が90度以下になるように折り曲げてもよいし、90度以上になるように折り曲げてもよい。特に折り曲げ角が大きくなる場合に、本発明の効果がより顕著に発揮される。   In Embodiments 1 to 9 and Modifications 1 and 2 described above, the case where the bending angle is approximately 90 degrees has been described as an example. However, the present invention is not limited to this, and the bending angle is 90 degrees. You may bend so that it may become below, and you may bend so that it may become 90 degree | times or more. In particular, when the bending angle is increased, the effect of the present invention is more remarkably exhibited.

上述した実施の形態1から9および変形例1,2にあっては、樹脂層2が6層または4層積層されることにより積層体1が構成される場合を例示したが、これに限定されず、樹脂層2の数は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において適宜変更することができる。   In Embodiments 1 to 9 and Modifications 1 and 2 described above, the case where the laminate 1 is configured by laminating six or four resin layers 2 is illustrated, but the present invention is not limited thereto. The number of the resin layers 2 can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention.

上述した実施の形態1から9および変形例1,2にあっては、導電パターンが設けられた樹脂層2の主面が、外側表面1b側である場合を例示して説明したが、これに限定されず、内側表面1a側であってもよく、適宜変更することができる。   In Embodiments 1 to 9 and Modifications 1 and 2 described above, the case where the main surface of the resin layer 2 provided with the conductive pattern is on the outer surface 1b side is described as an example. It is not limited, The inner surface 1a side may be sufficient and can be changed suitably.

以上、本発明の実施の形態について説明したが、今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の範囲は特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。   Although the embodiments of the present invention have been described above, the embodiments disclosed herein are illustrative and non-restrictive in every respect. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, and includes meanings equivalent to the terms of the claims and all modifications within the scope.

1 積層体、1a 内側表面、1b 外側表面、2 樹脂層、2a 第1樹脂層、2b 第2樹脂層、4 第1導電パターン、5 第1ダミーパターン、5a 部分パターン、6 第1ダミービア、7,8 グランド電極、14 第2導電パターン、15 第2ダミーパターン、15a 部分パターン、16 第2ダミービア、24 導電パターン、30 樹脂シート、31 導体箔、32 ビア孔、33 レジストパターン、41 第1の容量電極、42 第2の容量電極、43 第1のインダクタパターン、44 第2のインダクタパターン、100,100A,100B,100C,100D,100E,100F,100G,100H,100I,100J,200 樹脂多層基板。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laminated body, 1a Inner surface, 1b Outer surface, 2 Resin layer, 2a 1st resin layer, 2b 2nd resin layer, 4 1st conductive pattern, 5 1st dummy pattern, 5a Partial pattern, 6 1st dummy via, 7 , 8 Ground electrode, 14 Second conductive pattern, 15 Second dummy pattern, 15a Partial pattern, 16 Second dummy via, 24 Conductive pattern, 30 Resin sheet, 31 Conductive foil, 32 Via hole, 33 Resist pattern, 41 First Capacitance electrode, 42 2nd capacitance electrode, 43 1st inductor pattern, 44 2nd inductor pattern, 100, 100A, 100B, 100C, 100D, 100E, 100F, 100G, 100H, 100I, 100J, 200 Resin multilayer substrate .

Claims (9)

複数の樹脂層を備えた折り曲げ可能な樹脂多層基板であって、
前記複数の樹脂層中に含まれ、第1主面を含む第1樹脂層と、
前記第1樹脂層の前記第1主面上に形成され第1導電パターンと、
前記第1導電パターンの少なくとも一部が延在する第1方向に沿って設けられ、かつ、前記第1樹脂層の厚み方向に貫通するように設けられた複数の第1ダミービアとを備え、
前記第1方向と交差する折り曲げ線を中心にして折り曲げた場合に、前記第1樹脂層において、折り曲げ具合が大きくなる第1領域と、前記第1領域の両側に隣接して位置し、
前記第1領域よりも折り曲げ具合が小さくなる第2領域とが形成され、
折り曲げ前の状態において、前記第1領域は、前記折り曲げ線を中心として前記第1方向に平行となる幅方向に所定の幅を持って、前記折り曲げ線に沿って延在し、
折り曲げ前の状態において、前記第2領域は、前記第1方向に平行となる幅方向に所定の幅を持って前記折り曲げ線に沿って延在し、
前記第1領域に設けられた前記第1ダミービアの密度は、前記第2領域に設けられた前記第1ダミービアの密度よりも大きい、樹脂多層基板。
A foldable resin multilayer substrate having a plurality of resin layers,
A first resin layer included in the plurality of resin layers and including a first main surface;
A first conductive pattern formed on the first main surface of the first resin layer,
A plurality of first dummy vias provided along a first direction in which at least a part of the first conductive pattern extends, and provided so as to penetrate in a thickness direction of the first resin layer;
In the first resin layer, when folded around a fold line that intersects the first direction, the first region where the degree of bending increases, and is positioned adjacent to both sides of the first region,
A second region that is less bent than the first region is formed;
In a state before bending, the first region has a predetermined width in a width direction parallel to the first direction around the bending line, and extends along the bending line.
In a state before folding, the second region extends along the folding line with a predetermined width in a width direction parallel to the first direction,
The resin multilayer substrate, wherein a density of the first dummy via provided in the first region is higher than a density of the first dummy via provided in the second region.
複数の前記第1ダミービアは、前記折り曲げ線から離れるにつれて隣接する前記第1ダミービアの中心間の距離が徐々に大きくなるように設けられている、請求項1に記載の樹脂多層基板。   2. The resin multilayer substrate according to claim 1, wherein the plurality of first dummy vias are provided such that a distance between centers of the adjacent first dummy vias gradually increases as the distance from the bending line increases. 複数の樹脂層を備えた折り曲げ可能な樹脂多層基板であって、
前記複数の樹脂層中に含まれ、第1主面を含む第1樹脂層と、
前記第1樹脂層の前記第1主面上に形成された第1導電パターンと、
前記第1導電パターンの少なくとも一部が延在する第1方向に沿って設けられ、かつ、前記第1樹脂層の厚み方向に貫通するように設けられた複数の第1ダミービアとを備え、
前記第1方向と交差する折り曲げ線を中心にして折り曲げた場合に、前記第1樹脂層において、折り曲げ具合が大きくなる第1領域と、前記第1領域の両側に隣接して位置し、前記第1領域よりも折り曲げ具合が小さくなる第2領域とが形成され、
折り曲げ前の状態において、前記第1領域は、前記折り曲げ線を中心として前記第1方向に平行となる幅方向に所定の幅を持って、前記折り曲げ線に沿って延在し、
折り曲げ前の状態において、前記第2領域は、前記第1方向に平行となる幅方向に所定の幅を持って前記折り曲げ線に沿って延在し、
前記第1主面と反対側に位置する前記第1樹脂層の主面上おいて、前記第1領域に設けられた前記第1ダミービアのビア径は、前記第2領域に設けられた前記第1ダミービアのビア径よりも大きい、樹脂多層基板。
A foldable resin multilayer substrate having a plurality of resin layers,
A first resin layer included in the plurality of resin layers and including a first main surface;
A first conductive pattern formed on the first main surface of the first resin layer;
A plurality of first dummy vias provided along a first direction in which at least a part of the first conductive pattern extends, and provided so as to penetrate in a thickness direction of the first resin layer;
The first resin layer is located adjacent to both sides of the first region and the first region where the degree of bending increases when folded around a fold line intersecting the first direction. A second region that is less bent than one region is formed,
In a state before bending, the first region has a predetermined width in a width direction parallel to the first direction around the bending line, and extends along the bending line.
In a state before folding, the second region extends along the folding line with a predetermined width in a width direction parallel to the first direction,
On the main surface of the first resin layer located on the side opposite to the first main surface, the via diameter of the first dummy via provided in the first region is the first diameter provided in the second region. A resin multilayer substrate that is larger than the via diameter of one dummy via.
複数の前記第1ダミービアは、前記折り曲げ線から離れるにつれて前記ビア径が徐々に小さくなるように設けられている、請求項3に記載の樹脂多層基板。 A plurality of the first dummy via, said via diameter As the distance from the fold lines are provided so as to gradually become smaller, the resin multilayer substrate according to claim 3. 平面的に見た場合に、前記第1導電パターンを間に挟み込むとともに互いに平行となるように前記第1主面上に設けられ、前記第1方向に沿って延在する一対の第1ダミーパターンをさらに備え、
複数の前記第1ダミービアは、前記一対の第1ダミーパターンに接続されている、請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の樹脂多層基板。
A pair of first dummy patterns provided on the first main surface so as to sandwich the first conductive pattern and to be parallel to each other when viewed in a plan view, and extend along the first direction Further comprising
The resin multilayer substrate according to claim 1, wherein the plurality of first dummy vias are connected to the pair of first dummy patterns.
前記複数の樹脂層中に含まれ、折り曲げた場合に前記第1樹脂層よりも内側に位置するとともに、前記第1主面とは接しない第2主面を含む第2樹脂層と、
前記第1導電パターンに対応するように前記第2樹脂層の前記第2主面上に形成された第2導電パターンと、
前記第1方向に沿って設けられ、かつ、前記第2樹脂層の厚み方向に貫通するように設けられた複数の第2ダミービアとをさらに備え、
前記第2樹脂層に設けられた前記第2ダミービアの数は、前記第1樹脂層に設けられた前記第1ダミービアの数よりも少ない、請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の樹脂多層基板。
A second resin layer that is included in the plurality of resin layers and includes a second main surface that is located on the inner side of the first resin layer when bent and is not in contact with the first main surface;
A second conductive pattern formed on the second main surface of the second resin layer so as to correspond to the first conductive pattern;
A plurality of second dummy vias provided along the first direction and provided so as to penetrate in the thickness direction of the second resin layer;
6. The number of the second dummy vias provided in the second resin layer is smaller than the number of the first dummy vias provided in the first resin layer. 6. Resin multilayer board.
平面的に見た場合に、前記第2導電パターンを間に挟み込むとともに互いに平行となるように前記第2主面上に設けられ、前記第1方向に沿って延在する一対の第2ダミーパターンをさらに備え、
複数の前記第2ダミービアは、前記一対の第2ダミーパターンに接続されている、請求項6に記載の樹脂多層基板。
A pair of second dummy patterns provided on the second main surface so as to be sandwiched between the second conductive patterns and parallel to each other when viewed in a plan view, and extend along the first direction. Further comprising
The resin multilayer substrate according to claim 6, wherein the plurality of second dummy vias are connected to the pair of second dummy patterns.
前記一対の第1ダミーパターンのそれぞれは、互いに独立した状態で、前記第1方向に沿って分断されずに連続して延在し、
平面的に見た場合に、前記第1方向と交差する方向における前記第1導電パターンの両側のそれぞれにおいて、複数の前記第1ダミービアは、連続して設けられた前記第1ダミーパターンに接続されている、請求項に記載の樹脂多層基板。
Each of the pair of first dummy patterns extends continuously without being divided along the first direction in a state independent from each other,
When viewed in a plan view, a plurality of the first dummy vias are connected to the first dummy pattern provided continuously on each side of the first conductive pattern in a direction intersecting the first direction. The resin multilayer substrate according to claim 5 .
前記一対の第2ダミーパターンのそれぞれは、互いに独立した状態で、前記第1方向に沿って分断されずに連続して延在し、
平面的に見た場合に、前記第1方向と交差する方向における前記第2導電パターンの両側のそれぞれにおいて、複数の前記第2ダミービアは、連続して設けられた前記第2ダミーパターンに接続されている、請求項7に記載の樹脂多層基板。
Each of the pair of second dummy patterns extends continuously without being divided along the first direction in an independent state from each other,
When viewed in a plan view, a plurality of the second dummy vias are connected to the second dummy patterns provided continuously on both sides of the second conductive pattern in a direction intersecting the first direction. The resin multilayer substrate according to claim 7.
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