JP6241193B2 - Transparent electrode, electronic device, and organic electroluminescence element - Google Patents

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本発明は、透明電極、電子デバイス及び有機エレクトロルミネッセンス素子に関し、特に、高い光透過性、シート抵抗値の低減及び高温・高湿保存下における長寿命化が可能な透明電極、当該透明電極を備えた光透過性に優れ、駆動電圧及び定電流下での整流比変化を低減することができる電子デバイス及び有機エレクトロルミネッセンス素子に関する。   The present invention relates to a transparent electrode, an electronic device, and an organic electroluminescent element, and in particular, has a high transparency, a reduction in sheet resistance, and a long life under high temperature and high humidity storage, and the transparent electrode. The present invention relates to an electronic device and an organic electroluminescence element that are excellent in light transmittance and can reduce a change in rectification ratio under a driving voltage and a constant current.

有機材料のエレクトロルミネッセンス(electroluminescence:以下、ELと略記する。)を利用した有機エレクトロルミネッセンス素子(「有機EL素子」、「有機電界発光素子」ともいう。)は、数V〜数十V程度の低電圧で発光が可能な薄膜型の完全固体素子であり、高輝度、高発光効率、薄型、軽量といった多くの優れた特徴を有する。このため、各種ディスプレイのバックライト、看板や非常灯等の表示板、照明光源等の面発光体として近年注目されている。   An organic electroluminescent element (also referred to as “organic EL element” or “organic electroluminescent element”) using an organic material electroluminescence (hereinafter abbreviated as EL) is about several V to several tens V. It is a thin-film, completely solid element that can emit light at a low voltage, and has many excellent features such as high brightness, high luminous efficiency, thinness, and light weight. For this reason, it has been attracting attention in recent years as surface light emitters such as backlights for various displays, display boards such as signs and emergency lights, and illumination light sources.

このような有機EL素子は、2枚の電極間に有機材料からなる発光層を挟持させた構成であり、発光層で生じた発光光は電極を透過して外部に取り出される。このため、2枚の電極のうちの少なくとも一方は透明電極として構成される。   Such an organic EL element has a configuration in which a light emitting layer made of an organic material is sandwiched between two electrodes, and emitted light generated in the light emitting layer passes through the electrode and is extracted outside. For this reason, at least one of the two electrodes is configured as a transparent electrode.

透明電極としては、酸化インジウムスズ(SnO−In:Indium Tin Oxide:ITO)等の酸化物半導体系の材料が一般的に用いられているが、ITOと銀とを積層して低抵抗化を狙った材料の検討もなされている(例えば、特許文献1及び2参照。)。しかしながら、ITOはレアメタルのインジウムを使用しているため、材料コストが高く、また、抵抗を下げるために成膜後に300℃程度でアニール処理する必要がある。 As the transparent electrode, an oxide semiconductor material such as indium tin oxide (SnO 2 -In 2 O 3 : Indium Tin Oxide: ITO) is generally used. Studies have been made on materials aiming at resistance (see, for example, Patent Documents 1 and 2). However, since ITO uses rare metal indium, the material cost is high, and it is necessary to anneal at about 300 ° C. after film formation in order to reduce resistance.

そこで、電気伝導率の高い銀とMgとの合金を用いて薄膜を構成することで透過率と導電性の両立を図った技術や、安価で入手容易なZnやSnを原料として薄膜を構成する技術が提案されている(例えば、特許文献3及び4参照。)。
しかしながら、銀とMgの合金を用いて薄膜を構成する技術にあっては、得られる薄膜の抵抗値が100Ω/□程度と不十分であり、しかもMgが酸化されやすいため経時劣化が著しいという問題があった。また、ZnやSnを原料として薄膜を構成する技術にあっては、十分な抵抗値が得られない、Znを含有したZnO系の薄膜は水と反応して性能が変動しやすい、Snを含有したSnO系の薄膜はエッチングが困難である、等の問題があった。
Therefore, a thin film is formed using Zn and Sn as raw materials, and a technology that achieves both transmittance and conductivity by forming a thin film using an alloy of silver and Mg having high electrical conductivity. Techniques have been proposed (see, for example, Patent Documents 3 and 4).
However, in the technology of forming a thin film using an alloy of silver and Mg, the resistance value of the obtained thin film is insufficient at about 100Ω / □, and the deterioration with time is remarkable because Mg is easily oxidized. was there. In addition, in the technology of forming a thin film using Zn or Sn as a raw material, a sufficient resistance value cannot be obtained. A ZnO-based thin film containing Zn is likely to react with water and its performance is likely to fluctuate. The SnO 2 -based thin film had problems such as being difficult to etch.

また、陰極として銀を15nm蒸着した透明な有機発光ダイオード(Organic Light−Emitting Diode:OLED)が報告されている(例えば、特許文献5参照)。
しかしながら、上記特許文献5の場合、銀からなる蒸着膜の膜厚が厚いため、光透過性(透明度)が低いという問題があった。一方で、銀からなる蒸着膜の膜厚をさらに薄くした場合、充分な導電膜が形成されないためにシート抵抗値が高くなり、またマイグレーションしやすいために、高温・高湿保存下において、シート抵抗値変化が大きくなってしまい、電極特性を維持することができない。このような電極を使用したOLEDは、駆動電圧が高く、定電流下での電圧変化が大きくなってしまうという問題があった。
In addition, a transparent organic light emitting diode (OLED) in which 15 nm of silver is deposited as a cathode has been reported (for example, see Patent Document 5).
However, in the case of the above-mentioned patent document 5, there is a problem that the light transmittance (transparency) is low because the film thickness of the deposited film made of silver is thick. On the other hand, when the film thickness of the vapor deposition film made of silver is further reduced, the sheet resistance value is increased because a sufficient conductive film is not formed, and the sheet resistance is increased under high temperature and high humidity storage because of easy migration. The change in value becomes large, and the electrode characteristics cannot be maintained. The OLED using such an electrode has a problem that the drive voltage is high and the voltage change under a constant current becomes large.

特開2002−15623号公報JP 2002-15623 A 特開2006−164961号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-164961 特開2006−344497号公報JP 2006-344497 A 特開2007−031786号公報JP 2007-031786 A 米国特許出願公開第2011/0260148号明細書US Patent Application Publication No. 2011/0260148

本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、高い光透過性、シート抵抗値の低減及び高温・高湿保存下における長寿命化を実現することのできる透明電極、当該透明電極を備えた光透過性に優れ、駆動電圧及び定電流下での整流比変化を低減することのできる電子デバイス及び有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することである。   The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and the problem to be solved is a transparent electrode capable of realizing high light transmittance, reduction in sheet resistance, and long life under high temperature and high humidity storage, It is an object to provide an electronic device and an organic electroluminescence element that are excellent in light transmissivity provided with the transparent electrode and can reduce a rectification ratio change under a driving voltage and a constant current.

本発明者等は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、導電性層と、前記導電性層に隣接して設けられる中間層と、を備え、前記透明電極は、波長550nmでの光透過率が50%以上で、かつ、シート抵抗値が20Ω/□以下であり、前記中間層は、分子内に銀と共有結合し得る共有結合部位と、銀と配位結合し得る配位結合部位の両方を有する有機化合物を含有し、前記導電性層は銀を主成分として含有していることを特徴とする透明電極により、光透過性に優れ、シート抵抗値が低く、かつ、定電流下での整流比変化を低減した透明電極を実現することができることを見いだし、本発明に至った次第である。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
In order to solve the above problems, the present inventors include a conductive layer and an intermediate layer provided adjacent to the conductive layer in the process of examining the cause of the problem, and the transparent electrode The light transmittance at a wavelength of 550 nm is 50% or more, and the sheet resistance value is 20 Ω / □ or less, and the intermediate layer has a covalent bond site capable of covalently bonding to silver in the molecule, and coordination with silver. It contains an organic compound having both coordination bond sites capable of bonding, and the conductive layer contains silver as a main component, and has excellent light transmittance and sheet resistance. It has been found that a transparent electrode having a low rectification ratio change under a constant current can be realized, and the present invention has been achieved.
That is, the said subject which concerns on this invention is solved by the following means.

1.導電性層と、前記導電性層に隣接して設けられる中間層と、を備える透明電極であって、
前記透明電極は、波長550nmでの光透過率が50%以上で、かつ、シート抵抗値が20Ω/□以下であり、
前記中間層は、分子内に銀と共有結合し得る共有結合部位と、銀と配位結合し得る配位結合部位の両方を有する有機化合物を含有し、
前記導電性層は、銀を主成分とする蒸着膜であることを特徴とする透明電極。
1. A transparent electrode comprising a conductive layer and an intermediate layer provided adjacent to the conductive layer,
The transparent electrode has a light transmittance of 50% or more at a wavelength of 550 nm and a sheet resistance value of 20Ω / □ or less,
The intermediate layer contains an organic compound having both a covalent bond site capable of covalently bonding to silver and a coordinate bond site capable of coordinating with silver in the molecule,
The conductive electrode is a vapor-deposited film containing silver as a main component.

2.前記配位結合部位が、芳香族複素環に含まれる窒素原子であって、芳香族性に関与しない窒素原子であることを特徴とする第1項に記載の透明電極。   2. 2. The transparent electrode according to item 1, wherein the coordination bond site is a nitrogen atom contained in an aromatic heterocycle and is not involved in aromaticity.

3.前記共有結合部位が、下記一般式(1)又は下記一般式(2)で表されることを特徴とする第1項又は第2項に記載の透明電極。
一般式(1):−S−H
一般式(2):−S−S−R
〔上記一般式(2)において、Rは置換基を表す。〕
3. The said covalent bond site | part is represented by the following general formula (1) or the following general formula (2), The transparent electrode of 1st term | claim or 2nd term | claim characterized by the above-mentioned.
General formula (1): -SH
Formula (2): —S—S—R
[In the above general formula (2), R represents a substituent. ]

4.前記分子内の前記配位結合部位の数は、前記共有結合部位の数よりも多いことを特徴とする第1項から第3項までのいずれか一項に記載の透明電極。
5.前記有機化合物の分子量が、1200以下であることを特徴とする第1項から第4項までのいずれか一項に記載の透明電極。
4). 4. The transparent electrode according to claim 1, wherein the number of the coordination binding sites in the molecule is larger than the number of the covalent binding sites.
5. 5. The transparent electrode according to any one of items 1 to 4, wherein the organic compound has a molecular weight of 1200 or less.

.前記導電性層に隣接し、かつ、前記中間層に対向する第2の中間層を更に有し、
前記導電性層を前記中間層及び前記第2の中間層で挟持した構成であることを特徴とする第1項から第項までのいずれか一項に記載の透明電極。
6 . A second intermediate layer adjacent to the conductive layer and facing the intermediate layer;
The transparent electrode of any one of the first term, characterized in that the conductive layer is a structure which sandwiches in the intermediate layer and the second intermediate layer to the fifth term.

.第1項から第項までのいずれか一項に記載の透明電極が具備されていることを特徴とする電子デバイス。 7 . An electronic device comprising the transparent electrode according to any one of items 1 to 6 .

.第1項から第項までのいずれか一項に記載の透明電極が具備されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 8 . An organic electroluminescence device comprising the transparent electrode according to any one of items 1 to 6 .

本発明の上記手段により、高い光透過性、シート抵抗値の低減及び高温・高湿保存下における長寿命化を実現することのできる透明電極を提供することができる。また、当該透明電極を備えた光透過性に優れ、駆動電圧及び定電流下での整流比変化を低減することのできる電子デバイス及び有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することができる。
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
すなわち、本発明の透明電極は、中間層の上部に、銀を主成分として含有している導電性層が設けられており、かつ、当該中間層には、銀原子と親和性のある原子を有する化合物である「分子内に、銀と共有結合し得る共有結合部位(以下、単に共有結合部位という)と、銀と配位結合し得る配位結合部位(以下、単に配位結合部位という)の両方を備えた有機化合物」が含有されているという構成である。
これにより、中間層の上部に導電性層を形成する際には、導電性層を構成する銀原子が、中間層に含有されている「前記共有結合部位と前記配位結合部位の両方を備えた有機化合物」と相互作用し、当該中間層表面上での銀原子の拡散距離が減少し、特異箇所での銀の凝集が抑えられる。
すなわち、銀原子は、まず銀原子と親和性のある「前記共有結合部位と前記配位結合部位の両方を備えた有機化合物」を含有する中間層表面上で2次元的な核を形成し、それを中心に2次元の単結晶層を形成するという単層成長型(Frank−van der Merwe:FM型)の成長によって形成されるようになる。
なお、一般的には、中間層表面において付着した銀原子が表面を拡散しながら結合し3次元的な核を形成し、3次元的な島状に成長するという島状成長型(Volumer−Weber:VW型)での成長により島状に形成しやすいと考えられるが、本発明では、中間層に含有されている「前記共有結合部位と前記配位結合部位の両方を備えた有機化合物」により、このような様式の島状成長が抑制され、単層成長が促進されると推察される。
したがって、薄い層厚でありながらも、均一な厚さの導電性層が得られるようになる。この結果、より薄い層厚として光透過率を保ちつつも、シート抵抗値が低く、かつ、高温・高湿保存下でのシート抵抗値変化を抑制することのできる透明電極とすることができる。
By the above means of the present invention, it is possible to provide a transparent electrode capable of realizing high light transmittance, reduction in sheet resistance, and long life under high temperature / high humidity storage. Moreover, the electronic device and organic electroluminescent element which are excellent in the light transmittance provided with the said transparent electrode, and can reduce the rectification ratio change under a drive voltage and a constant current can be provided.
The expression mechanism or action mechanism of the effect of the present invention is not clear, but is presumed as follows.
That is, in the transparent electrode of the present invention, a conductive layer containing silver as a main component is provided on the upper part of the intermediate layer, and the intermediate layer contains atoms having an affinity for silver atoms. A compound having a “covalent bond site capable of covalently bonding to silver (hereinafter simply referred to as a covalent bond site) and a coordinate bond site capable of coordinating with silver (hereinafter simply referred to as a coordinated bond site). It is the structure that "the organic compound provided with both" is contained.
Thus, when the conductive layer is formed on the intermediate layer, the silver atoms constituting the conductive layer contain both the covalent bond site and the coordinate bond site contained in the intermediate layer. Interacting with the organic compound ", the diffusion distance of silver atoms on the surface of the intermediate layer is reduced, and the aggregation of silver at specific locations is suppressed.
That is, the silver atom first forms a two-dimensional nucleus on the surface of the intermediate layer containing the “organic compound having both the covalent bond site and the coordinate bond site” having an affinity for the silver atom, It is formed by growth of a single layer growth type (Frank-van der Merwe: FM type) in which a two-dimensional single crystal layer is formed around this.
In general, an island-shaped growth type (Volume-Weber) in which silver atoms attached on the surface of the intermediate layer are bonded while diffusing the surface to form a three-dimensional nucleus and grow into a three-dimensional island shape. : VW type), it is considered that it is easily formed into an island shape. However, in the present invention, the “organic compound having both the covalent bond site and the coordinate bond site” contained in the intermediate layer It is assumed that island-like growth in this manner is suppressed and single layer growth is promoted.
Therefore, it is possible to obtain a conductive layer having a uniform thickness while having a thin layer thickness. As a result, it is possible to provide a transparent electrode that has a low sheet resistance value and can suppress a change in sheet resistance value under high temperature and high humidity storage while maintaining light transmittance with a thinner layer thickness.

本発明の透明電極の構成の一例を示す概略断面図Schematic sectional view showing an example of the configuration of the transparent electrode of the present invention 本発明の透明電極の構成の一例を示す概略断面図Schematic sectional view showing an example of the configuration of the transparent electrode of the present invention 本発明の透明電極を適用した有機EL素子の第1例を示す概略断面図Schematic sectional view showing a first example of an organic EL element to which the transparent electrode of the present invention is applied 本発明の透明電極を適用した有機EL素子の第2例を示す概略断面図Schematic sectional view showing a second example of an organic EL element to which the transparent electrode of the present invention is applied 本発明の透明電極を適用した有機EL素子の第3例を示す概略断面図Schematic sectional view showing a third example of an organic EL element to which the transparent electrode of the present invention is applied. 本発明の透明電極を備えた有機EL素子を用いて、発光面を大面積化した照明装置の一例を示す概略断面図The schematic sectional drawing which shows an example of the illuminating device which enlarged the light emission surface using the organic EL element provided with the transparent electrode of this invention. 実施例にて作製した有機EL素子の構成を説明する概略断面図Schematic cross-sectional view for explaining the structure of the organic EL device produced in the example

本発明の透明電極は、導電性層と、前記導電性層に隣接して設けられる中間層と、を備える透明電極であって、前記透明電極は、波長550nmでの光透過率が50%以上で、かつ、シート抵抗値が20Ω/□以下であり、前記中間層は、分子内に銀と共有結合し得る共有結合部位と、銀と配位結合し得る配位結合部位の両方を有する有機化合物を含有し、前記導電性層は、銀を主成分として含有していることを特徴とする。この特徴は、請求項1から請求項7までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記配位結合部位が、芳香族複素環に含まれる窒素原子であって、芳香族性に関与しない窒素原子であることが、光透過性の向上、シート抵抗値の低減及び高温・高湿保存下における長寿命化の点から好ましい。
The transparent electrode of the present invention is a transparent electrode comprising a conductive layer and an intermediate layer provided adjacent to the conductive layer, and the transparent electrode has a light transmittance of 50% or more at a wavelength of 550 nm. And the sheet resistance value is 20Ω / □ or less, and the intermediate layer has both a covalent bond site that can be covalently bonded to silver and a coordinate bond site that can be coordinated to silver in the molecule. A compound is contained, and the conductive layer contains silver as a main component. This feature is a technical feature common to the inventions according to claims 1 to 7.
As an embodiment of the present invention, from the viewpoint of expression of the effect of the present invention, the coordination bond site is a nitrogen atom contained in an aromatic heterocycle, and is a nitrogen atom not involved in aromaticity, It is preferable from the viewpoint of improving light transmittance, reducing sheet resistance, and extending the life under high temperature / high humidity storage.

また、前記共有結合部位が、下記一般式(1)又は下記一般式(2)で表されることが、光透過性の向上、シート抵抗値の低減及び高温・高湿保存下における長寿命化の点から好ましい。
一般式(1):−S−H
一般式(2):−S−S−R
〔上記一般式(2)において、Rは置換基を表す。〕
In addition, the covalent bond site is represented by the following general formula (1) or the following general formula (2), so that the light transmission is improved, the sheet resistance value is reduced, and the lifetime is increased under high temperature and high humidity storage. From the point of view, it is preferable.
General formula (1): -SH
Formula (2): —S—S—R
[In the above general formula (2), R represents a substituent. ]

また、前記分子内の前記配位結合部位の数は、前記共有結合部位の数よりも多いことが好ましい。これによって、ある一箇所における銀と前記共有結合部位との共有結合を、複数の銀と前記配位結合部位との配位結合が補助することができる。   Moreover, it is preferable that the number of the coordination binding sites in the molecule is larger than the number of the covalent binding sites. Thereby, the covalent bond between silver and the covalent bond site at a certain position can be assisted by the coordinate bond between a plurality of silver and the coordinate bond site.

さらに、前記中間層に対向する第2の中間層を更に有し、前記導電性層の両面にそれぞれ隣接して設けられていることが、光透過性の向上、シート抵抗値の低減及び高温・高湿保存下における長寿命化の点から好ましい。   Furthermore, it further has a second intermediate layer facing the intermediate layer, and is provided adjacent to both surfaces of the conductive layer to improve light transmittance, reduce sheet resistance, This is preferable from the viewpoint of extending the life under high humidity storage.

本発明の電子デバイスは、前記透明電極が具備されていることを特徴とする。これによって、光透過性に優れ、駆動電圧及び定電流下での整流比変化を低減することのできる電子デバイスとすることができる。   The electronic device of the present invention includes the transparent electrode. Thereby, it is possible to provide an electronic device that is excellent in light transmittance and can reduce a change in rectification ratio under a driving voltage and a constant current.

本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、前記透明電極が具備されていることを特徴とする。これによって、光透過性に優れ、駆動電圧及び定電流下での整流比変化を低減することのできる有機エレクトロルミネッセンス素子とすることができる。   The organic electroluminescence element of the present invention is characterized in that the transparent electrode is provided. Thereby, it is possible to obtain an organic electroluminescence element that is excellent in light transmittance and can reduce a change in rectification ratio under a driving voltage and a constant current.

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。   Hereinafter, the present invention, its components, and modes and modes for carrying out the present invention will be described in detail. In addition, in this application, "-" is used in the meaning which includes the numerical value described before and behind that as a lower limit and an upper limit.

《1.透明電極》
図1は、実施形態の透明電極の構成の一例を示す概略断面図である。
<< 1. Transparent electrode >>
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the configuration of the transparent electrode of the embodiment.

図1に示すように、透明電極1は、中間層1aと、この上部に形成された導電性層1bとを積層した2層構造であり、例えば、基材11の上部に、中間層1a、導電性層1bの順に設けられている。このうち、中間層1aは、分子内に銀と共有結合し得る共有結合部位と、銀と配位結合し得る配位結合部位の両方を備えた有機化合物が含有されて構成されている層であり、導電性層1bは、銀を主成分として含有している層である。
なお、本発明の透明電極1でいう透明とは、波長550nmでの光透過率が50%以上であることをいう。また、本発明の透明電極1は、シート抵抗値が20Ω/□以下である。ここで、シート抵抗値とは、抵抗率計(三菱化学社製MCP−T610)を用い、4端子4探針法定電流印加方式によって測定した値である。
また、本願において、「導電性層の主成分」とは、導電性層を構成する成分のうち、構成比率が最も高い成分をいう。本発明に係る導電性層は、銀を主成分とし、その構成比率は、60質量%以上であることが好ましい。より好ましくは、80質量%以上であり、さらに好ましくは90質量%以上であり、特に好ましくは98質量%以上である。
As shown in FIG. 1, the transparent electrode 1 has a two-layer structure in which an intermediate layer 1a and a conductive layer 1b formed on the intermediate layer 1a are stacked. For example, the intermediate layer 1a, The conductive layers 1b are provided in this order. Among these, the intermediate layer 1a is a layer that is configured to contain an organic compound having both a covalent bond site that can be covalently bonded to silver and a coordinate bond site that can be coordinated to silver in the molecule. The conductive layer 1b is a layer containing silver as a main component.
The term “transparent” in the transparent electrode 1 of the present invention means that the light transmittance at a wavelength of 550 nm is 50% or more. Further, the transparent electrode 1 of the present invention has a sheet resistance value of 20Ω / □ or less. Here, the sheet resistance value is a value measured by a 4-terminal 4-probe method constant current application method using a resistivity meter (MCP-T610 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation).
In the present application, the “main component of the conductive layer” refers to a component having the highest constituent ratio among the components constituting the conductive layer. The conductive layer according to the present invention is mainly composed of silver, and the composition ratio is preferably 60% by mass or more. More preferably, it is 80 mass% or more, More preferably, it is 90 mass% or more, Most preferably, it is 98 mass% or more.

次に、このような積層構造の透明電極1が設けられる基材11、透明電極1を構成する中間層1a及び導電性層1bの順に、詳細な構成を説明する。   Next, a detailed structure is demonstrated in order of the base material 11 with which the transparent electrode 1 of such a laminated structure is provided, the intermediate | middle layer 1a which comprises the transparent electrode 1, and the electroconductive layer 1b.

〔基材11〕
本発明の透明電極1が形成される基材11は、例えば、ガラス、プラスチック等を挙げることができるが、これらに限定されない。また、基材11は、透明であっても不透明であってもよい。本発明の透明電極1が、基材11側から光を取り出す電子デバイスに用いられる場合には、基材11は透明であることが好ましい。好ましく用いられる透明な基材11としては、ガラス、石英、透明樹脂フィルムを挙げることができる。
[Base material 11]
Examples of the substrate 11 on which the transparent electrode 1 of the present invention is formed include, but are not limited to, glass and plastic. Moreover, the base material 11 may be transparent or opaque. When the transparent electrode 1 of the present invention is used in an electronic device that extracts light from the substrate 11 side, the substrate 11 is preferably transparent. Examples of the transparent substrate 11 that is preferably used include glass, quartz, and a transparent resin film.

ガラスとしては、例えば、シリカガラス、ソーダ石灰シリカガラス、鉛ガラス、ホウケイ酸塩ガラス、無アルカリガラス等が挙げられる。これらのガラス材料の表面には、中間層1aとの密着性、耐久性、平滑性の観点から、必要に応じて、研磨等の物理的処理が施されていても良いし、無機物又は有機物からなる被膜や、これらの被膜を組み合わせたハイブリッド被膜が形成されていても良い。   Examples of the glass include silica glass, soda-lime silica glass, lead glass, borosilicate glass, and alkali-free glass. From the viewpoints of adhesion to the intermediate layer 1a, durability, and smoothness, the surface of these glass materials may be subjected to physical treatment such as polishing, if necessary, and from inorganic or organic substances. Or a hybrid film obtained by combining these films may be formed.

樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート(TAC)、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート(CAP)、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類又はそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリルあるいはポリアリレート類、アートン(商品名JSR社製)あるいはアペル(商品名三井化学社製)といったシクロオレフィン系樹脂等が挙げられる。   Examples of the resin film include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene, polypropylene, cellophane, cellulose diacetate, cellulose triacetate (TAC), cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate ( CAP), cellulose esters such as cellulose acetate phthalate, cellulose nitrate or derivatives thereof, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate, norbornene resin, polymethylpentene, polyether ketone, polyimide , Polyethersulfone (PES), polyphenylene sulfide, polysulfones, Cycloolefin resins such as polyetherimide, polyetherketoneimide, polyamide, fluororesin, nylon, polymethylmethacrylate, acrylic or polyarylate, Arton (trade name, manufactured by JSR) or Appel (trade name, manufactured by Mitsui Chemicals) Is mentioned.

上記樹脂フィルムの表面には、無機物又は有機物からなる被膜や、これらの被膜を組み合わせたハイブリッド被膜が形成されていてもよい。このような被膜及びハイブリッド被膜は、JIS−K−7129−1992に準拠した方法で測定された、水蒸気透過度(25±0.5℃、相対湿度90±2%RH)が0.01g/(m・24時間)以下のバリア性フィルム(バリア膜等ともいう)であることが好ましい。
また、さらには、JIS−K−7126−1987に準拠した方法で測定された酸素透過度が1×10−3ml/(m・24時間・atm)以下、水蒸気透過度が1×10−5g/(m・24時間)以下の高バリア性フィルムであることが好ましい。
On the surface of the resin film, a film made of an inorganic material or an organic material or a hybrid film combining these films may be formed. Such coatings and hybrid coatings have a water vapor transmission rate (25 ± 0.5 ° C., relative humidity 90 ± 2% RH) measured by a method according to JIS-K-7129-1992 of 0.01 g / ( m 2 · 24 hours) or less of a barrier film (also referred to as a barrier film or the like) is preferable.
Furthermore, the oxygen permeability measured by a method according to JIS-K-7126-1987 is 1 × 10 −3 ml / (m 2 · 24 hours · atm) or less, and the water vapor permeability is 1 × 10 A high barrier film of 5 g / (m 2 · 24 hours) or less is preferable.

以上のようなバリア性フィルムを形成する材料としては、水分や酸素等、有機EL素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を備えた材料であればよく、例えば、二酸化ケイ素、窒化ケイ素等を用いることができる。
さらに、当該バリア性フィルムの脆弱性を改良するために、これら無機層と有機材料からなる層(有機層)の積層構造を持たせることがより好ましい。無機層と有機層の積層順については特に制限はないが、両者を交互に複数回積層させることが好ましい。
The material for forming the barrier film as described above may be a material having a function of suppressing the intrusion of water or oxygen that causes deterioration of the organic EL element, such as silicon dioxide, silicon nitride, etc. Can be used.
Furthermore, in order to improve the brittleness of the barrier film, it is more preferable to have a laminated structure of these inorganic layers and layers (organic layers) made of an organic material. Although there is no restriction | limiting in particular about the lamination | stacking order of an inorganic layer and an organic layer, It is preferable to laminate | stack both alternately several times.

バリア性フィルムの形成方法については特に限定はなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマCVD法(CVD:化学蒸着法、Chemical Vapor Deposition)、レーザーCVD法、熱CVD法、コーティング法等を用いることができるが、特開2004−68143号公報に記載の大気圧プラズマ重合法によるものが特に好ましい。   The method for forming the barrier film is not particularly limited. For example, the vacuum deposition method, the sputtering method, the reactive sputtering method, the molecular beam epitaxy method, the cluster ion beam method, the ion plating method, the plasma polymerization method, the atmospheric pressure plasma weighting. For example, a plasma CVD method (CVD: Chemical Vapor Deposition), a laser CVD method, a thermal CVD method, a coating method, or the like can be used, but an atmospheric pressure plasma polymerization method described in JP-A-2004-68143 can be used. Is particularly preferred.

一方、基材11が不透明なものである場合、例えば、アルミニウム、ステンレス等の金属基板、フィルムや不透明樹脂基板、セラミック製の基板等を用いることができる。   On the other hand, when the base material 11 is opaque, for example, a metal substrate such as aluminum or stainless steel, a film, an opaque resin substrate, a ceramic substrate, or the like can be used.

<中間層1a>
中間層1aは、分子内に銀と共有結合し得る共有結合部位と、銀と配位結合し得る配位結合部位の両方を備えた有機化合物が含有されて構成されている層である。
このような中間層1aが基材11上に形成されたものである場合、その形成方法としては、塗布法、インクジェット法、コーティング法、ディップ法などのウェットプロセスを用いる方法や、蒸着法(抵抗加熱、EB法(エレクトロンビーム法)など)、スパッタ法、CVD法などのドライプロセスを用いる方法などが挙げられる。中でも蒸着法が好ましく適用される。
<Intermediate layer 1a>
The intermediate layer 1a is a layer formed by containing an organic compound having both a covalent bond site that can be covalently bonded to silver and a coordinate bond site that can be coordinated to silver in the molecule.
When such an intermediate layer 1a is formed on the substrate 11, the formation method includes a method using a wet process such as a coating method, an ink-jet method, a coating method, a dip method, or a vapor deposition method (resistance Examples thereof include a method using a dry process such as heating, an EB method (electron beam method), a sputtering method, and a CVD method. Of these, the vapor deposition method is preferably applied.

さらに、この中間層1aは、厚さが1〜100nmの範囲内にあることが好ましく、5〜30nmの範囲内にあることがより好ましい。この範囲であればいずれの厚さであっても効果が得られる。
厚さが100nmより薄いと層の吸収成分が少なくなり、透明電極の透過率が向上するため好ましい。また、厚さが5nmより厚いと均一で連続的な中間層が形成されるため好ましい。
Furthermore, the intermediate layer 1a preferably has a thickness in the range of 1 to 100 nm, and more preferably in the range of 5 to 30 nm. An effect can be obtained with any thickness within this range.
When the thickness is less than 100 nm, the absorption component of the layer is reduced and the transmittance of the transparent electrode is improved, which is preferable. A thickness of more than 5 nm is preferable because a uniform and continuous intermediate layer is formed.

[中間層1aに含有される有機化合物]
本発明の透明電極1において、中間層1aには、分子内に前記共有結合部位と前記配位結合部位の両方を備えた有機化合物が含有されている。
前記配位結合部位が、芳香族複素環に含まれる窒素原子であって、芳香族性に関与しない窒素原子であることが好ましい。
[Organic compound contained in intermediate layer 1a]
In the transparent electrode 1 of the present invention, the intermediate layer 1a contains an organic compound having both the covalent bond site and the coordination bond site in the molecule.
The coordination bond site is preferably a nitrogen atom contained in an aromatic heterocycle and not involved in aromaticity.

本願において、「芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子」とは、非共有電子対(「孤立電子対」ともいう。)を持つ窒素原子であって、不飽和環状化合物の芳香族性に、当該非共有電子対が必須要素として直接的に関与していない窒素原子をいう。すなわち、共役不飽和環構造(芳香環)上の非局在化したπ電子系に、当該非共有電子対が、化学構造式上、芳香性発現のために必須のものとして、関与していない窒素原子をいう。
以下、詳細に説明する。
In the present application, the “nitrogen atom having an unshared electron pair not involved in aromaticity” is a nitrogen atom having an unshared electron pair (also referred to as “lone electron pair”), and is an aromatic of an unsaturated cyclic compound. A family member refers to a nitrogen atom in which the unshared electron pair is not directly involved as an essential element. That is, the unshared electron pair is not involved in the delocalized π-electron system on the conjugated unsaturated ring structure (aromatic ring) as an essential element for aromatic expression in the chemical structural formula. Refers to the nitrogen atom.
Details will be described below.

窒素原子は第15族元素であるため最外殻に5個の電子を有する。このうち3個は他の原子との共有結合に用いられ、残りの2個は一対の非共有電子対となるため、通常窒素原子の結合本数は3本である。
したがって、例えば、アミノ基(−NR)、アミド基(−C(=O)NR−)、ニトロ基(−NO)、シアノ基(−CN)、ジアゾ基(−N=N−)、アジド基(−N)、ウレア結合(−NRC=ONR−)、イソチオシアネート基(−N=C=S)、チオアミド基(−C(=S)NR)などが挙げられ、これらは本発明の「芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子」に該当する。
Since the nitrogen atom is a Group 15 element, it has 5 electrons in the outermost shell. Of these, three are used for covalent bonds with other atoms, and the remaining two are a pair of unshared electron pairs, so the number of bonds of nitrogen atoms is usually three.
Thus, for example, an amino group (—NR 1 R 2 ), an amide group (—C (═O) NR 1 R 2 —), a nitro group (—NO 2 ), a cyano group (—CN), a diazo group (—N = N-), azido group (-N 3), a urea bond (-NR 1 C = ONR 2 - ), isothiocyanate group (-N = C = S), thioamide group (-C (= S) NR 1 R 2 ) and the like, and these correspond to the “nitrogen atom having an unshared electron pair not involved in aromaticity” in the present invention.

このうち例えばニトロ基(−NO)の共鳴式は以下のように記すことができ、厳密には窒素原子の非共有電子対は酸素原子との共鳴構造に利用されているが、本発明においては、ニトロ基の窒素原子も非共有電子対を持つこととする。 Among these, for example, the resonance formula of a nitro group (—NO 2 ) can be written as follows. Strictly speaking, an unshared electron pair of a nitrogen atom is used for a resonance structure with an oxygen atom. The nitro group nitrogen atom also has an unshared electron pair.

Figure 0006241193
Figure 0006241193

一方、窒素原子は非共有電子対を利用することで4本目の結合を作り出すこともできる。例えば、下記化学構造式に示すように、テトラブチルアンモニウムクロライドは、四つ目のブチル基が窒素原子とイオン結合しており、対イオンとして塩化物イオンを有する第四級アンモニウム塩である。またトリス(2−フェニルピリジン)イリジウム(III)は、イリジウム原子と窒素原子とが配位結合している中性の金属錯体である。これらの化合物は窒素原子を有するものの、その非共有電子対がそれぞれイオン結合、配位結合に利用されてしまっているため、本発明の「芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子」には該当しない。   On the other hand, the nitrogen atom can also create a fourth bond by utilizing an unshared electron pair. For example, as shown in the following chemical structural formula, tetrabutylammonium chloride is a quaternary ammonium salt in which a fourth butyl group is ionically bonded to a nitrogen atom and has a chloride ion as a counter ion. Tris (2-phenylpyridine) iridium (III) is a neutral metal complex in which an iridium atom and a nitrogen atom are coordinated. Although these compounds have a nitrogen atom, the lone pair of electrons is used for ionic bond and coordinate bond, respectively. Is not applicable.

Figure 0006241193
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したがって、本発明は、結合に利用されていない窒素原子の非共有電子対を有効利用するというものである。
窒素原子は芳香環を構成することのできるヘテロ原子として一般的であり、芳香族性の発現に寄与することができる。この「含窒素芳香環」としては、例えばピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアジン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、などが挙げられる。
Therefore, the present invention effectively uses a non-shared electron pair of a nitrogen atom that is not used for bonding.
A nitrogen atom is common as a heteroatom that can constitute an aromatic ring, and can contribute to the expression of aromaticity. Examples of the “nitrogen-containing aromatic ring” include a pyridine ring, a pyrazine ring, a pyrimidine ring, a triazine ring, a pyrrole ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, a triazole ring, and a tetrazole ring.

下記化学構造式は、ピリジンの分子軌道を表す。
ピリジン環の場合、六員環状に並んだ共役(共鳴)不飽和環構造において、非局在化したπ電子の数が6個であるため、4n+2(n=0又は自然数)のヒュッケル則を満たす。六員環内の窒素原子は、−CH=を置換したものであるため1個の不対電子を6π電子系に動員するのみで、非共有電子対は芳香族性発現のために必須のものとして関与していない。
したがって、ピリジン環の窒素原子は本発明の「芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子」に該当する。
The following chemical structural formula represents the molecular orbital of pyridine.
In the case of a pyridine ring, the number of delocalized π electrons in a conjugated (resonant) unsaturated ring structure arranged in a six-membered ring satisfies the Hückel rule of 4n + 2 (n = 0 or natural number). . Since the nitrogen atom in the six-membered ring is substituted with —CH═, only one unpaired electron is mobilized to the 6π-electron system, and the unshared electron pair is essential for aromatic expression. Not involved as.
Therefore, the nitrogen atom of the pyridine ring corresponds to the “nitrogen atom having an unshared electron pair not involved in aromaticity” in the present invention.

Figure 0006241193
Figure 0006241193

下記化学構造式は、ピロールの分子軌道を表す。
ピロール環の場合、窒素原子を一つ有する五員の複素環構造であるが、やはりπ電子の数は6個であり、ヒュッケル則を満たした含窒素芳香環である。ピロール環の窒素原子は水素原子とも結合しているため、3個の電子がσ結合に利用されており、残る2個の電子、つまり非共有電子対がπ結合に利用されることで、6π電子系となっている。したがってピロール環の窒素原子は非共有電子対を有するものの、芳香族性発現のために必須のものとして利用されてしまっているため、本発明の「芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子」には該当しない。
The following chemical structural formula represents the molecular orbital of pyrrole.
In the case of a pyrrole ring, it is a 5-membered heterocyclic structure having one nitrogen atom, but the number of π electrons is 6, and it is a nitrogen-containing aromatic ring that satisfies the Hückel rule. Since the nitrogen atom of the pyrrole ring is also bonded to the hydrogen atom, three electrons are used for σ bond, and the remaining two electrons, that is, unshared electron pairs, are used for π bond. It is an electronic system. Therefore, although the nitrogen atom of the pyrrole ring has an unshared electron pair, it has been utilized as an essential element for the expression of aromaticity. Does not fall under “nitrogen atom”.

Figure 0006241193
Figure 0006241193

下記化学構造式は、イミダゾールの分子軌道を表す。
イミダゾール環は、五員環上に二つの窒素原子を1、3位に含む複素環構造をしており、やはりπ電子数が6個の含窒素芳香環である。
窒素原子Nは、1個の不対電子のみを6π電子系に動員し、非共有電子対を芳香族性発現のために利用していないピリジン環型の窒素原子である。つまり、窒素原子Nにおいては、本発明の要件を満たしており、したがって、イミダゾール環の窒素原子Nは本発明の「芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子」に該当する。
一方、窒素原子Nは、非共有電子対を6π電子系に動員しているピロール環型の窒素原子である。つまり、窒素原子Nにおいては、本発明の要件を満たしておらず、したがって、イミダゾール環の窒素原子Nは本発明の「芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子」に該当しない。
The following chemical structural formula represents the molecular orbital of imidazole.
The imidazole ring has a heterocyclic structure containing two nitrogen atoms at the 1- and 3-positions on a 5-membered ring, and is also a nitrogen-containing aromatic ring having 6 π electrons.
The nitrogen atom N 1 is a pyridine ring-type nitrogen atom in which only one unpaired electron is mobilized to the 6π-electron system, and the unshared electron pair is not used for aromaticity expression. That is, the nitrogen atom N 1 satisfies the requirements of the present invention, and therefore the nitrogen atom N 1 of the imidazole ring corresponds to the “nitrogen atom having an unshared electron pair not involved in aromaticity” of the present invention. .
On the other hand, the nitrogen atom N 2 is a pyrrole-ring nitrogen atom that mobilizes an unshared electron pair to the 6π electron system. That is, the nitrogen atom N 2 does not satisfy the requirements of the present invention, and therefore the nitrogen atom N 2 of the imidazole ring corresponds to the “nitrogen atom having an unshared electron pair not involved in aromaticity” of the present invention. do not do.

Figure 0006241193
Figure 0006241193

含窒素芳香環骨格を有する縮環化合物の場合も同様である。例えば、下記化学構造式で示されるδ−カルボリンはベンゼン環骨格、ピロール環骨格及びピリジン環骨格がこの順番に縮合したアザカルバゾール化合物である。ピリジン環骨格の窒素原子Nは1個の電子のみを、ピロール環骨格の窒素原子Nは非共有電子対を、それぞれπ電子系に動員しており、環を形成している炭素原子からの11個のπ電子とともに、全体のπ電子数が14個の芳香環である。したがって、δ−カルボリンの二つの窒素原子のうち、ピリジン環骨格の窒素原子Nは本発明の「芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子」に該当するが、ピロール環骨格の窒素原子Nは該当しない。このように骨格が縮合環化合物中に組み込まれている場合でも、ピリジン環やピロール環の窒素原子は、その芳香族性への関与が阻害及び抑制並びに助長及び促進されたりすることはなく、単環として利用したときとなんら相違はない。 The same applies to a condensed ring compound having a nitrogen-containing aromatic ring skeleton. For example, δ-carboline represented by the following chemical structural formula is an azacarbazole compound in which a benzene ring skeleton, a pyrrole ring skeleton, and a pyridine ring skeleton are condensed in this order. The nitrogen atom N 3 of the pyridine ring skeleton mobilizes only one electron, and the nitrogen atom N 4 of the pyrrole ring skeleton mobilizes an unshared electron pair, respectively, from the carbon atoms forming the ring. The total number of π electrons is an aromatic ring with 14 π electrons. Therefore, among the two nitrogen atoms of δ-carboline, the nitrogen atom N 3 of the pyridine ring skeleton corresponds to the “nitrogen atom having an unshared electron pair not involved in aromaticity” of the present invention, The nitrogen atom N 4 is not applicable. Thus, even when the skeleton is incorporated in the condensed ring compound, the nitrogen atom of the pyridine ring or pyrrole ring is not inhibited or suppressed, promoted or promoted, and is not easily involved in the aromaticity. There is no difference when used as a ring.

Figure 0006241193
Figure 0006241193

本発明の「芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子」は、その非共有電子対と導電性層の主成分である銀とが強く相互作用するために重要である。また安定性、耐久性の観点から該窒素原子は、含窒素芳香環中の窒素原子であることが好ましい。   The “nitrogen atom having an unshared electron pair not involved in aromaticity” of the present invention is important because the unshared electron pair strongly interacts with silver which is the main component of the conductive layer. Moreover, it is preferable that this nitrogen atom is a nitrogen atom in a nitrogen-containing aromatic ring from a viewpoint of stability and durability.

本発明の共有結合部位とは、銀原子と共有結合を形成できる原子を含む部位を表す。以下に、銀原子と共有結合を形成する前後の化合物の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。   The covalent bond site | part of this invention represents the site | part containing the atom which can form a covalent bond with a silver atom. Although the specific example of the compound before and behind forming a covalent bond with a silver atom is shown below, it is not limited to these.

Figure 0006241193
Figure 0006241193

また、前記共有結合部位は、下記一般式(1)又は下記一般式(2)で表されることが好ましい。
一般式(1):−S−H
一般式(2):−S−S−R
〔上記一般式(2)において、Rは置換基を表す。〕
Moreover, it is preferable that the said covalent bond site | part is represented by following General formula (1) or following General formula (2).
General formula (1): -SH
Formula (2): —S—S—R
[In the above general formula (2), R represents a substituent. ]

一般式(1)の具体例としては、アルカンチオール、芳香族炭化水素環チオール、芳香族複素環チオールなどが挙げられる。
一般式(2)において、Rで表される置換基としては、水素原子、直鎖状の脂肪族炭化水素基、枝状の脂肪族炭化水素基、直鎖状の不飽和脂肪族炭化水素基、枝状の不飽和脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基などが挙げられる。
一般式(2)の具体例としては、アルカンジスルフィド、アルケンジスルフィド、アルキンジスルフィド、芳香族炭化水素環ジスルフィド、芳香族複素環ジスルフィドなどが挙げられる。
Specific examples of the general formula (1) include alkane thiol, aromatic hydrocarbon ring thiol, aromatic heterocyclic thiol and the like.
In the general formula (2), examples of the substituent represented by R include a hydrogen atom, a linear aliphatic hydrocarbon group, a branched aliphatic hydrocarbon group, and a linear unsaturated aliphatic hydrocarbon group. A branched unsaturated aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, an aromatic heterocyclic group, and the like.
Specific examples of the general formula (2) include alkane disulfide, alkene disulfide, alkyne disulfide, aromatic hydrocarbon ring disulfide, aromatic heterocyclic disulfide and the like.

本発明の配位結合部位とは、銀原子が配位結合を形成できる原子を含む部位を表す。以下に銀原子と配位結合を形成する前後の化合物の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。   The coordinate bond site | part of this invention represents the site | part containing the atom in which a silver atom can form a coordinate bond. Although the specific example of the compound before and behind forming a silver atom and a coordinate bond is shown below, it is not limited to these.

Figure 0006241193
Figure 0006241193

前記中間層に含まれる本発明の化合物は、分子内に共有結合部位と配位結合部位の両方を備えることから、銀原子とより強く結合して、導電性と光透過性に優れた透明電極を作製することができる。これらの結合の様子の推定を下記化学構造式に示す。ただし、中間層と導電性層の界面の全ての箇所においてこのような様子であるとは限らない。   Since the compound of the present invention contained in the intermediate layer has both a covalent bond site and a coordinate bond site in the molecule, it is more strongly bonded to a silver atom, and is a transparent electrode excellent in conductivity and light transmittance. Can be produced. The estimation of the state of these bonds is shown in the following chemical structural formula. However, this is not always the case at all locations on the interface between the intermediate layer and the conductive layer.

Figure 0006241193
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なお、分子内の配位結合部位の数は、共有結合部位の数よりも多いことが好ましい。   The number of coordination binding sites in the molecule is preferably larger than the number of covalent binding sites.

また、共通結合部位と配位結合部位とを有する骨格においては、特に限定はなく本発明の効果が得られるならばいずれの構造でも用いることができる。   The skeleton having a common binding site and a coordination binding site is not particularly limited, and any structure can be used as long as the effects of the present invention can be obtained.

前記骨格として好ましくは、芳香環を主として含むものであり、より好ましくは芳香環のみである。   The skeleton preferably contains mainly an aromatic ring, more preferably an aromatic ring only.

〈中間層1aに適用可能な有機化合物の具体例〉
以下に、本発明に係る中間層1aに含有することができる、分子内に前記共有結合部位と前記配位結合部位の両方を備えた有機化合物の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。
<Specific examples of organic compounds applicable to the intermediate layer 1a>
Specific examples of organic compounds that can be contained in the intermediate layer 1a according to the present invention and have both the covalent bond site and the coordinate bond site in the molecule are shown below, but are not limited thereto. is not.

Figure 0006241193
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〔導電性層1b〕
本発明に係る導電性層1bは、銀を主成分として含有している層であって、中間層1a上に形成された層である。このような導電性層1bの形成方法としては、塗布法、インクジェット法、コーティング法、ディップ法などのウェットプロセスを用いる方法や、蒸着法(抵抗加熱、EB法など)、スパッタ法、CVD法などのドライプロセスを用いる方法などが挙げられる。中でも蒸着法が好ましく適用される。
また、導電性層1bは、中間層1a上に形成されることにより、導電性層形成後の高温アニール処理(例えば、150℃以上の加熱プロセス)等がなくても十分に導電性を有することを特徴とするが、必要に応じて、形成後に高温アニール処理等を行ったものであっても良い。
[Conductive layer 1b]
The conductive layer 1b according to the present invention is a layer containing silver as a main component and formed on the intermediate layer 1a. As a method of forming such a conductive layer 1b, a method using a wet process such as a coating method, an ink jet method, a coating method, a dip method, a vapor deposition method (resistance heating, EB method, etc.), a sputtering method, a CVD method, etc. And a method using the dry process. Of these, the vapor deposition method is preferably applied.
In addition, the conductive layer 1b is formed on the intermediate layer 1a, so that the conductive layer 1b has sufficient conductivity even without a high-temperature annealing treatment (for example, a heating process at 150 ° C. or higher) after the formation of the conductive layer. However, if necessary, it may be subjected to high-temperature annealing after formation.

導電性層1bは、銀(Ag)を含有する合金から構成されていても良く、そのような合金としては、例えば、銀・マグネシウム(Ag・Mg)、銀・銅(Ag・Cu)、銀・パラジウム(Ag・Pd)、銀・パラジウム・銅(Ag・Pd・Cu)、銀・インジウム(Ag・In)などが挙げられる。
なお、銀の含有量は、50%以上であることを要し、90%以上であることが好ましい。
The conductive layer 1b may be composed of an alloy containing silver (Ag). Examples of such an alloy include silver / magnesium (Ag / Mg), silver / copper (Ag / Cu), silver, and the like. -Palladium (Ag * Pd), silver * palladium * copper (Ag * Pd * Cu), silver * indium (Ag * In), etc. are mentioned.
The silver content needs to be 50% or more, and preferably 90% or more.

本発明に係る導電性層1bにおいては、銀を主成分として含有している層が、必要に応じて複数の層に分けて積層された構成であっても良い。   The conductive layer 1b according to the present invention may have a configuration in which a layer containing silver as a main component is divided into a plurality of layers as necessary.

さらに、当該導電性層1bは、厚さが5〜20nmの範囲内にあることが好ましく、5〜8nmの範囲内がより好ましい。厚さが20nmより薄いと層の吸収成分、又は反射成分が少なくなり、透明電極の透過率が向上するためより好ましい。また、厚さが5nmより厚いと層の導電性が十分になるため好ましい。   Furthermore, the conductive layer 1b preferably has a thickness in the range of 5 to 20 nm, and more preferably in the range of 5 to 8 nm. When the thickness is less than 20 nm, the absorption component or reflection component of the layer is reduced, and the transmittance of the transparent electrode is improved, which is more preferable. A thickness of more than 5 nm is preferable because the conductivity of the layer is sufficient.

なお、以上のような中間層1aとこの上部に形成された導電性層1bとからなる積層構造の透明電極1は、さらに、導電性層1bの上部が保護膜で覆われていても良いし、別の導電性層が積層されていても良い。この場合、透明電極1の光透過性を損なうことのないように、保護膜及び別の導電性層が光透過性を有することが好ましい。
また、中間層1aの下部、すなわち中間層1aと基材11との間にも、必要に応じた層を設けた構成としても良い。
In addition, in the transparent electrode 1 having the laminated structure including the intermediate layer 1a and the conductive layer 1b formed thereon, the upper part of the conductive layer 1b may be covered with a protective film. Another conductive layer may be laminated. In this case, it is preferable that the protective film and another conductive layer have light transmittance so that the light transmittance of the transparent electrode 1 is not impaired.
Moreover, it is good also as a structure which provided the layer as needed also under the intermediate | middle layer 1a, ie, between the intermediate | middle layer 1a and the base material 11.

〔透明電極1の効果〕
以上説明したように、本発明に係る透明電極1は、分子内に前記共有結合部位と前記配位結合部位の両方を有する有機化合物を用いて構成された中間層1a上に、銀を主成分として含有している導電性層1bを設けた構成である。これにより、中間層1aの上部に導電性層1bを形成する際には、導電性層1bを構成する銀原子が中間層1aを構成する分子内に前記共有結合部位と前記配位結合部位の両方を有する有機化合物と相互作用し、銀原子の中間層1a表面における拡散距離が減少し、銀の凝集の生成を抑制することができる。
[Effect of transparent electrode 1]
As described above, the transparent electrode 1 according to the present invention is mainly composed of silver on the intermediate layer 1a formed using an organic compound having both the covalent bond site and the coordinate bond site in the molecule. It is the structure which provided the electroconductive layer 1b contained as. As a result, when the conductive layer 1b is formed on the intermediate layer 1a, the silver atoms constituting the conductive layer 1b are bonded to the covalent bond site and the coordinate bond site within the molecule constituting the intermediate layer 1a. By interacting with an organic compound having both, the diffusion distance of silver atoms on the surface of the intermediate layer 1a can be reduced, and the formation of silver aggregates can be suppressed.

ここで、一般的には、銀を主成分として含有している導電性層1bの形成においては、核成長型(Volumer−Weber:VW型)で薄膜成長するため、銀粒子が島状に孤立しやすく、層厚が薄いときは導電性を得ることが困難となり、シート抵抗値が高くなる。したがって、導電性を確保するにはある程度層厚を厚くする必要があるが、層厚を厚くすると光透過率が低下し、透明電極としては不適であった。   Here, in general, in the formation of the conductive layer 1b containing silver as a main component, a thin film is grown in a nucleus growth type (Volume-Weber: VW type), so that silver particles are isolated in an island shape. When the layer thickness is thin, it becomes difficult to obtain conductivity, and the sheet resistance value becomes high. Therefore, in order to ensure conductivity, the layer thickness needs to be increased to some extent. However, if the layer thickness is increased, the light transmittance is lowered, which is not suitable as a transparent electrode.

しかしながら、本発明で規定する構成の透明電極1によれば、上述したように中間層1a上において銀の凝集が抑えられるため、銀を主成分として含有している導電性層1bの形成においては、単層成長型(Frank−van der Merwe:FM型)で薄膜成長するようになる。   However, according to the transparent electrode 1 having the configuration defined in the present invention, since aggregation of silver is suppressed on the intermediate layer 1a as described above, in the formation of the conductive layer 1b containing silver as a main component, Then, a single layer growth type (Frank-van der Merwe: FM type) thin film is grown.

なお、本発明でいう「透明電極1の透明」とは、波長550nmでの光透過率が50%以上であることをいうが、中間層1aとして用いられる上述した各材料は、銀を主成分とした導電性層1bと比較して、十分な光透過性を備えた良好な膜である。一方、透明電極1の導電性は、主に導電性層1bによって確保される。
したがって、上述のように、銀を主成分として含有している導電性層1bが、より薄い厚さで導電性が確保されたものとなることにより、透明電極1の光透過性の向上、シート抵抗値の低減及び高温・高湿保存下における長寿命化を図ることが可能になるのである。
In the present invention, “transparent electrode 1” means that the light transmittance at a wavelength of 550 nm is 50% or more. However, each of the materials used as the intermediate layer 1a is mainly composed of silver. Compared to the conductive layer 1b described above, the film is a good film having sufficient light transmittance. On the other hand, the conductivity of the transparent electrode 1 is ensured mainly by the conductive layer 1b.
Therefore, as described above, the conductive layer 1b containing silver as a main component has a smaller thickness and the conductivity is ensured, thereby improving the light transmittance of the transparent electrode 1, and the sheet. It is possible to reduce the resistance value and extend the life under high temperature / high humidity storage.

なお、図2に示すように、透明電極1は、導電性層1b(以下、「第1の中間層1a」ともいう。)の上部に別の中間層1c(以下、「第2の中間層1c」ともいう。)が積層されていても良い。すなわち、透明電極1は、導電性層1bに隣接し、かつ、第1の中間層1aに対向する第2の中間層1cを更に有し、導電性層1bを第1の中間層1a及び第2の中間層1cで挟持した構成であっても良い。
この第2の中間層1cとしては、第1の中間層1aと同様の、非共有電子対を有する硫黄原子を含む有機化合物を用いて構成された層である。このように第1の中間層1a及び第2の中間層1cで導電性層1bを挟み込む構造とすることによって、導電性層1bを構成する銀原子が第1の中間層1a及び第2の中間層1cを構成する「分子内に前記共有結合部位と前記配位結合部位の両方を備えた有機化合物」と相互作用し、銀原子の第1の中間層1a及び第2の中間層1c表面における拡散距離が減少し、銀の凝集の生成をより確実に抑制することができる。その結果、十分な導電性が確保され、光透過性の向上、シート抵抗値の低減及び高温・高湿保存下における長寿命化を図ることのできる透明電極とすることができる。
As shown in FIG. 2, the transparent electrode 1 has another intermediate layer 1c (hereinafter referred to as “second intermediate layer”) on top of the conductive layer 1b (hereinafter also referred to as “first intermediate layer 1a”). 1c ") may be stacked. That is, the transparent electrode 1 further includes a second intermediate layer 1c adjacent to the conductive layer 1b and facing the first intermediate layer 1a, and the conductive layer 1b includes the first intermediate layer 1a and the first intermediate layer 1a. The structure may be sandwiched between two intermediate layers 1c.
The second intermediate layer 1c is a layer formed using an organic compound containing a sulfur atom having an unshared electron pair, similar to the first intermediate layer 1a. As described above, the conductive layer 1b is sandwiched between the first intermediate layer 1a and the second intermediate layer 1c, so that the silver atoms constituting the conductive layer 1b are changed between the first intermediate layer 1a and the second intermediate layer 1b. It interacts with the “organic compound having both the covalent bond site and the coordination bond site in the molecule” constituting the layer 1c, and on the surface of the first intermediate layer 1a and the second intermediate layer 1c of silver atoms. The diffusion distance is reduced, and the formation of silver agglomeration can be more reliably suppressed. As a result, it is possible to obtain a transparent electrode that can secure sufficient conductivity, improve light transmittance, reduce sheet resistance, and extend the life under high temperature and high humidity storage.

《2.透明電極の用途》
上記構成かるなる本発明の透明電極1は、各種電子デバイスに用いることができる。電子デバイスの例としては、有機EL素子、LED(light Emitting Diode)、液晶素子、太陽電池、タッチパネル等が挙げられ、これらの電子デバイスにおいて、光透過性を必要とされる電極部材として、本発明の透明電極1を用いることができる。
<< 2. Applications of transparent electrodes >>
The transparent electrode 1 of the present invention having the above configuration can be used for various electronic devices. Examples of electronic devices include organic EL elements, LEDs (light emitting diodes), liquid crystal elements, solar cells, touch panels, etc. In these electronic devices, the present invention is used as an electrode member that requires light transmission. The transparent electrode 1 can be used.

以下、用途の一例として、透明電極を用いた有機EL素子の実施の形態を説明する。   Hereinafter, as an example of the application, an embodiment of an organic EL element using a transparent electrode will be described.

《3.有機EL素子の第1例》
〔有機EL素子100の構成〕
図3は、本発明の電子デバイスの一例として、本発明の透明電極1を具備した有機EL素子の第1例を示す断面構成図である。以下、図2に基づいて有機EL素子の構成を説明する。
<< 3. First Example of Organic EL Device >>
[Configuration of Organic EL Element 100]
FIG. 3 is a cross-sectional configuration diagram illustrating a first example of an organic EL element including the transparent electrode 1 of the present invention as an example of the electronic device of the present invention. Hereinafter, the configuration of the organic EL element will be described with reference to FIG.

図3に示す有機EL素子100は、透明基板(基材)13上に設けられており、透明基板13側から順に、透明電極1、有機材料等を用いて構成された発光機能層3、及び対向電極5aをこの順に積層して構成されている。この有機EL素子100においては、透明電極1として、先に説明した本発明の透明電極1を用いている。このため有機EL素子100は、発生させた光(以下、発光光hと記す)を、少なくとも透明基板13側から取り出すように構成されている。   The organic EL element 100 shown in FIG. 3 is provided on a transparent substrate (base material) 13, and in order from the transparent substrate 13 side, the light emitting functional layer 3 configured using the transparent electrode 1, an organic material, and the like, and The counter electrode 5a is laminated in this order. In the organic EL element 100, the transparent electrode 1 of the present invention described above is used as the transparent electrode 1. For this reason, the organic EL element 100 is configured to extract the generated light (hereinafter referred to as emission light h) from at least the transparent substrate 13 side.

また、有機EL素子100の層構造を以下に説明するが、これら例示する構成例に限定されることはなく、一般的な層構造であっても良い。図3に示す構成では、透明電極1がアノード(すなわち陽極)として機能し、対向電極5aがカソード(すなわち陰極)として機能することとする。この場合、例えば、発光機能層3は、図3に示すようにアノードである透明電極1側から順に正孔注入層3a/正孔輸送層3b/発光層3c/電子輸送層3d/電子注入層3eを積層した構成が例示されるが、このうち少なくとも有機材料を用いて構成された発光層3cを有することが必須である。
正孔注入層3a及び正孔輸送層3bは、正孔輸送・注入層として設けられていても良い。
電子輸送層3d及び電子注入層3eは、電子輸送・注入層として設けられていても良い。
また、これらの発光機能層3のうち、例えば、電子注入層3eは、無機材料で構成されているものとしても良い。
Moreover, although the layer structure of the organic EL element 100 is demonstrated below, it is not limited to these structural examples illustrated, A general layer structure may be sufficient. In the configuration shown in FIG. 3, the transparent electrode 1 functions as an anode (that is, an anode), and the counter electrode 5a functions as a cathode (that is, a cathode). In this case, for example, as shown in FIG. 3, the light-emitting functional layer 3 includes a hole injection layer 3a / a hole transport layer 3b / a light-emitting layer 3c / an electron transport layer 3d / an electron injection layer in order from the transparent electrode 1 side that is an anode. Although the structure which laminated | stacked 3e is illustrated, it is essential to have the light emitting layer 3c comprised among these at least using the organic material.
The hole injection layer 3a and the hole transport layer 3b may be provided as a hole transport / injection layer.
The electron transport layer 3d and the electron injection layer 3e may be provided as an electron transport / injection layer.
Of these light emitting functional layers 3, for example, the electron injection layer 3e may be made of an inorganic material.

また、発光機能層3は、これらの例示した構成層の他に、正孔阻止層や電子阻止層等が必要に応じて必要箇所に積層されていても良い。さらに、発光層3cは、各波長領域の発光光を発生させる各色発光層を有し、これらの各色発光層を、非発光性の中間層を介して積層させた構造としても良い。
中間層は、正孔阻止層、電子阻止層として機能しても良い。さらに、カソードである対向電極5aも、必要に応じた積層構造であっても良い。このような構成においては、透明電極1と対向電極5aとで発光機能層3が挟持された部分のみが、有機EL素子100における発光領域となる。
In addition to these exemplified constituent layers, the light-emitting functional layer 3 may have a hole blocking layer, an electron blocking layer, or the like laminated as necessary. Furthermore, the light emitting layer 3c may have a structure in which each color light emitting layer that generates emitted light in each wavelength region is laminated, and each of these color light emitting layers is laminated via a non-light emitting intermediate layer.
The intermediate layer may function as a hole blocking layer and an electron blocking layer. Furthermore, the counter electrode 5a, which is a cathode, may also have a laminated structure as necessary. In such a configuration, only a portion where the light emitting functional layer 3 is sandwiched between the transparent electrode 1 and the counter electrode 5 a becomes a light emitting region in the organic EL element 100.

また、以上のような層構成においては、透明電極1の低抵抗化を図ることを目的とし、透明電極1の導電性層1bに接して、補助電極15が設けられていても良い。   In the layer configuration as described above, the auxiliary electrode 15 may be provided in contact with the conductive layer 1 b of the transparent electrode 1 for the purpose of reducing the resistance of the transparent electrode 1.

以上のような構成の有機EL素子100は、有機材料等を用いて構成された発光機能層3の劣化を防止することを目的として、透明基板13上において後述する封止材17で封止されている。
この封止材17は、接着剤19を介して透明基板13側に固定されている。ただし、透明電極1及び対向電極5aの端子部分は、透明基板13上において発光機能層3によって互いに絶縁性を保った状態で封止材17から露出させた状態で設けられていることとする。
The organic EL element 100 having the above configuration is sealed with a sealing material 17 described later on the transparent substrate 13 for the purpose of preventing deterioration of the light emitting functional layer 3 formed using an organic material or the like. ing.
The sealing material 17 is fixed to the transparent substrate 13 side with an adhesive 19. However, the terminal portions of the transparent electrode 1 and the counter electrode 5a are provided on the transparent substrate 13 so as to be exposed from the sealing material 17 while being insulated from each other by the light emitting functional layer 3.

以下、図3で示した有機EL素子100を構成するための主要各層の詳細を、透明基板13、透明電極1、対向電極5a、発光機能層3の発光層3c、発光機能層3の他の層、補助電極15、及び封止材17の順に説明する。その後、有機EL素子100の作製方法を説明する。   Hereinafter, details of the main layers for constituting the organic EL element 100 shown in FIG. 3 are described in detail for the transparent substrate 13, the transparent electrode 1, the counter electrode 5 a, the light emitting layer 3 c of the light emitting functional layer 3, The layer, the auxiliary electrode 15, and the sealing material 17 will be described in this order. Thereafter, a method for producing the organic EL element 100 will be described.

(透明基板13)
透明基板13は、先に説明した本発明の透明電極1が設けられる基材11であり、先に説明した基材11のうち、光透過性を有する透明な基材11が用いられる。
(Transparent substrate 13)
The transparent substrate 13 is the base material 11 on which the transparent electrode 1 of the present invention described above is provided, and the transparent base material 11 having light transmittance among the base materials 11 described above is used.

(透明電極1)
透明電極1(アノード:陽極)は、先に説明した本発明の透明電極1であり、透明基板13側から順に中間層1a及び導電性層1bを順に形成した構成である。ここでは特に、透明電極1はアノード(陽極)として機能するものであり、導電性層1bが実質的なアノードとなる。
(Transparent electrode 1)
The transparent electrode 1 (anode: anode) is the transparent electrode 1 of the present invention described above, and has a configuration in which the intermediate layer 1a and the conductive layer 1b are sequentially formed from the transparent substrate 13 side. Here, in particular, the transparent electrode 1 functions as an anode (anode), and the conductive layer 1b is a substantial anode.

(対向電極5a)
対向電極5a(カソード:陰極)は、発光機能層3に電子を供給するカソード(陰極)として機能する電極膜であり、例えば、金属、合金、有機若しくは無機の導電性化合物、又はこれらの混合物等から構成されている。
具体的には、アルミニウム、銀、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物、希土類金属、ITO、ZnO、TiO、SnO等の酸化物半導体などが挙げられる。
(Counter electrode 5a)
The counter electrode 5a (cathode: cathode) is an electrode film that functions as a cathode (cathode) for supplying electrons to the light emitting functional layer 3, and includes, for example, a metal, an alloy, an organic or inorganic conductive compound, or a mixture thereof. It is composed of
Specifically, aluminum, silver, magnesium, lithium, magnesium / copper mixture, magnesium / silver mixture, magnesium / aluminum mixture, magnesium / indium mixture, indium, lithium / aluminum mixture, rare earth metal, ITO, ZnO, TiO 2 , An oxide semiconductor such as SnO 2 can be given.

対向電極5aは、これらの導電性材料を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより作製することができる。また、対向電極5aとしてのシート抵抗値は、数百Ω/□以下が好ましく、膜厚は通常5nm〜5μmの範囲内、好ましくは5〜200nmの範囲内で選ばれる。   The counter electrode 5a can be produced by forming a thin film of these conductive materials by a method such as vapor deposition or sputtering. The sheet resistance value as the counter electrode 5a is preferably several hundred Ω / □ or less, and the film thickness is usually selected within the range of 5 nm to 5 μm, preferably within the range of 5 to 200 nm.

なお、この有機EL素子100が、対向電極5a側からも発光光hを取り出すものである場合には、上述した導電性材料のうちから選択される光透過性の良好な導電性材料により対向電極5aが構成されていれば良い。   In addition, when this organic EL element 100 takes out the emitted light h also from the counter electrode 5a side, the counter electrode is made of a conductive material having a good light transmission property selected from the above-described conductive materials. 5a should just be comprised.

(発光層3c)
本発明に用いられる発光層3cは、発光材料が含有されているが、その中でも、発光材料としてリン光発光化合物が含有されていることが好ましい。
(Light emitting layer 3c)
The light emitting layer 3c used in the present invention contains a light emitting material, and among them, a phosphorescent light emitting compound is preferably contained as the light emitting material.

この発光層3cは、電極又は電子輸送層3dから注入された電子と、正孔輸送層3bから注入された正孔とが再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層3cの層内であっても発光層3cと隣接する層との界面であってもよい。   The light emitting layer 3c is a layer that emits light by recombination of electrons injected from the electrode or the electron transport layer 3d and holes injected from the hole transport layer 3b, and the light emitting portion is the light emitting layer 3c. Even within the layer, it may be the interface between the light emitting layer 3c and the adjacent layer.

このような発光層3cとしては、含まれる発光材料が発光要件を満たしていれば、その構成には特に制限はない。また、同一の発光スペクトルや発光極大波長を有する層が複数層あってもよい。この場合、各発光層3c間には非発光性の補助層を有していることが好ましい。   There is no restriction | limiting in particular in the structure as such a light emitting layer 3c, if the light emitting material contained satisfies the light emission requirements. Moreover, there may be a plurality of layers having the same emission spectrum and emission maximum wavelength. In this case, it is preferable to have a non-light emitting auxiliary layer between the light emitting layers 3c.

発光層3cの厚さの総和は、好ましくは、1〜100nmの範囲内であり、さらに好ましくは、より低い駆動電圧を得ることができることから1〜30nmの範囲内である。なお、発光層3cの厚さの総和とは、発光層3c間に非発光性の補助層が存在する場合には、当該補助層も含む厚さである。   The total thickness of the light emitting layer 3c is preferably in the range of 1 to 100 nm, and more preferably in the range of 1 to 30 nm because a lower driving voltage can be obtained. In addition, the sum total of the thickness of the light emitting layer 3c is a thickness also including the said auxiliary layer, when a nonluminous auxiliary layer exists between the light emitting layers 3c.

複数層を積層した構成の発光層3cの場合、個々の発光層の厚さとしては、1〜50nmの範囲内に調整することが好ましく、1〜20nmの範囲内に調整することがより好ましい。積層された複数の発光層が、青、緑、赤のそれぞれの発光色に対応する場合、青、緑、赤の各発光層の厚さの関係については、特に制限はない。   In the case of the light emitting layer 3c having a configuration in which a plurality of layers are laminated, the thickness of each light emitting layer is preferably adjusted within a range of 1 to 50 nm, and more preferably adjusted within a range of 1 to 20 nm. When the plurality of stacked light emitting layers correspond to the respective emission colors of blue, green, and red, there is no particular limitation on the relationship between the thicknesses of the blue, green, and red light emitting layers.

以上のように構成されている発光層3cは、後述する発光材料やホスト化合物を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、LB法、インクジェット法等の公知の薄膜形成方法により製膜して形成することができる。   The light emitting layer 3c configured as described above is formed by forming a light emitting material or a host compound, which will be described later, by a known thin film forming method such as a vacuum deposition method, a spin coating method, a casting method, an LB method, or an ink jet method. Can be formed.

また、発光層3cは、複数の発光材料が混合されて構成されていてもよく、またリン光発光材料と蛍光発光材料(以下、蛍光ドーパント、蛍光性化合物ともいう)とが混合されて構成されていてもよい。   In addition, the light emitting layer 3c may be configured by mixing a plurality of light emitting materials, and is configured by mixing a phosphorescent light emitting material and a fluorescent light emitting material (hereinafter also referred to as a fluorescent dopant or a fluorescent compound). It may be.

発光層3cの構成として、ホスト化合物(発光ホスト等ともいう)、発光材料(発光ドーパント化合物、あるいはドーパント化合物ともいう)を含有し、発光材料を発光させることが好ましい。   As a structure of the light emitting layer 3c, it is preferable to contain a host compound (also referred to as a light emitting host or the like) and a light emitting material (also referred to as a light emitting dopant compound or a dopant compound) to emit light.

〈ホスト化合物〉
発光層3cに含有されるホスト化合物としては、室温(25℃)におけるリン光発光のリン光量子収率が0.1未満の化合物が好ましい。さらに好ましくは、リン光量子収率が0.01未満である。また、ホスト化合物は、発光層3cに含有される化合物の中で、その層中での体積比が50%以上であることが好ましい。
<Host compound>
As the host compound contained in the light emitting layer 3c, a compound having a phosphorescence quantum yield of phosphorescence emission at room temperature (25 ° C.) of less than 0.1 is preferable. More preferably, the phosphorescence quantum yield is less than 0.01. Moreover, it is preferable that the volume ratio in the layer is 50% or more among the compounds contained in the light emitting layer 3c.

ホスト化合物としては、公知のホスト化合物を単独で用いてもよく、又は複数種用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機EL素子を高効率化することができる。また、後述する発光材料を複数種用いることで、異なる発光を混ぜることが可能となり、これにより任意の発光色を得ることができる。   As a host compound, a well-known host compound may be used independently, or multiple types may be used. By using a plurality of types of host compounds, it is possible to adjust the movement of charges, and the organic EL element can be made highly efficient. In addition, by using a plurality of kinds of light emitting materials described later, it is possible to mix different light emission, thereby obtaining an arbitrary light emission color.

用いられるホスト化合物としては、従来公知の低分子化合物でも、繰り返し単位をもつ高分子化合物でもよく、ビニル基やエポキシ基のような重合性基を有する低分子化合物(蒸着重合性発光ホスト)でもよい。   The host compound used may be a conventionally known low molecular compound, a high molecular compound having a repeating unit, or a low molecular compound having a polymerizable group such as a vinyl group or an epoxy group (evaporation polymerizable light emitting host). .

公知のホスト化合物としては、正孔輸送能、電子輸送能を有しつつ、発光の長波長化を防ぎ、かつ高Tg(ガラス転移温度)の化合物が好ましい。
ここでいうガラス転移温度(Tg)とは、DSC(Differential Scanning Colorimetry:示差走査熱量法)を用いて、JIS−K−7121に準拠した方法により求められる値である。
As the known host compound, a compound having a hole transporting ability and an electron transporting ability while preventing the emission of light from being increased in wavelength and having a high Tg (glass transition temperature) is preferable.
Glass transition temperature (Tg) here is a value calculated | required by the method based on JIS-K-7121 using DSC (Differential Scanning Colorimetry: Differential scanning calorimetry).

以下に、本発明で用いることのできるホスト化合物の具体例(H1〜H79)を示すが、これらに限定されない。なお、ホスト化合物H68において、x及びyはランダム共重合体の比率、ホスト化合物H69において、p、q及びrはランダム共重合体の比率を表す。その比率は、例えば、x:y=1:10などとすることができる。   Although the specific example (H1-H79) of the host compound which can be used by this invention below is shown, it is not limited to these. In the host compound H68, x and y represent the ratio of the random copolymer, and in the host compound H69, p, q, and r represent the ratio of the random copolymer. The ratio can be, for example, x: y = 1: 10.

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公知のホスト化合物の具体例としては、以下の文献に記載されている化合物を挙げることができる。例えば、特開2001−257076号公報、同2002−308855号公報、同2001−313179号公報、同2002−319491号公報、同2001−357977号公報、同2002−334786号公報、同2002−8860号公報、同2002−334787号公報、同2002−15871号公報、同2002−334788号公報、同2002−43056号公報、同2002−334789号公報、同2002−75645号公報、同2002−338579号公報、同2002−105445号公報、同2002−343568号公報、同2002−141173号公報、同2002−352957号公報、同2002−203683号公報、同2002−363227号公報、同2002−231453号公報、同2003−3165号公報、同2002−234888号公報、同2003−27048号公報、同2002−255934号公報、同2002−260861号公報、同2002−280183号公報、同2002−299060号公報、同2002−302516号公報、同2002−305083号公報、同2002−305084号公報、同2002−308837号公報等に記載されている化合物が挙げられる。   Specific examples of known host compounds include compounds described in the following documents. For example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-257076, 2002-308855, 2001-313179, 2002-319491, 2001-357777, 2002-334786, 2002-8860 Gazette, 2002-334787 gazette, 2002-15871 gazette, 2002-334788 gazette, 2002-43056 gazette, 2002-334789 gazette, 2002-75645 gazette, 2002-338579 gazette. No. 2002-105445, No. 2002-343568, No. 2002-141173, No. 2002-352957, No. 2002-203683, No. 2002-363227, No. 2002-231453. No. 2003-3165, No. 2002-234888, No. 2003-27048, No. 2002-255934, No. 2002-286061, No. 2002-280183, No. 2002-299060. , 2002-302516, 2002-305083, 2002-305084, 2002-308837 and the like.

〈発光材料〉
本発明で用いることのできる発光材料(発光ドーパント化合物、あるいはドーパント化合物)としては、リン光発光性化合物(リン光性化合物、リン光発光材料ともいう)が挙げられる。
<Light emitting material>
Examples of the light-emitting material (light-emitting dopant compound or dopant compound) that can be used in the present invention include phosphorescent compounds (also referred to as phosphorescent compounds and phosphorescent materials).

リン光発光性化合物とは、励起三重項からの発光が観測される化合物であり、具体的には室温(25℃)にてリン光発光する化合物であり、リン光量子収率が25℃において0.01以上の化合物であると定義されるが、好ましいリン光量子収率は0.1以上である。   A phosphorescent compound is a compound in which light emission from an excited triplet is observed. Specifically, it is a compound that emits phosphorescence at room temperature (25 ° C.), and the phosphorescence quantum yield is 0 at 25 ° C. A preferred phosphorescence quantum yield is 0.1 or more, although it is defined as 0.01 or more compounds.

上記リン光量子収率は、第4版実験化学講座7の分光IIの398頁(1992年版、丸善)に記載の方法により測定できる。
溶液中でのリン光量子収率は、種々の溶媒を用いて測定できるが、本発明においてリン光発光性化合物を用いる場合、任意の溶媒のいずれかにおいて、上記リン光量子収率として0.01以上が達成されればよい。
The phosphorescence quantum yield can be measured by the method described in Spectroscopic II, page 398 (1992 edition, Maruzen) of Experimental Chemistry Course 4 of the 4th edition.
The phosphorescence quantum yield in the solution can be measured using various solvents, but when using a phosphorescent compound in the present invention, the phosphorescence quantum yield is 0.01 or more in any solvent. Should be achieved.

リン光発光性化合物の発光の原理としては2種挙げられる。一つの方法は、キャリアが輸送されるホスト化合物上で、キャリアの再結合が起こってホスト化合物の励起状態が生成し、このエネルギーをリン光発光性化合物に移動させることでリン光発光性化合物からの発光を得るというエネルギー移動型である。
もう一つの方法は、リン光発光性化合物がキャリアトラップとなり、リン光発光性化合物上でキャリアの再結合が生じ、リン光発光性化合物からの発光が得られるというキャリアトラップ型である。
いずれの場合においても、リン光発光性化合物の励起状態のエネルギーは、ホスト化合物の励起状態のエネルギーよりも低いことが条件となる。
There are two types of light emission principles of the phosphorescent compound. One method is that the carrier recombination occurs on the host compound to which the carrier is transported to generate an excited state of the host compound, and this energy is transferred to the phosphorescent compound to transfer the energy from the phosphorescent compound. It is an energy transfer type that obtains luminescence.
Another method is a carrier trap type in which a phosphorescent compound serves as a carrier trap, carrier recombination occurs on the phosphorescent compound, and light emission from the phosphorescent compound is obtained.
In either case, the condition is that the excited state energy of the phosphorescent compound is lower than the excited state energy of the host compound.

リン光発光性化合物は、一般的な有機EL素子の発光層に使用される公知のものの中から適宜選択して用いることができるが、好ましくは元素の周期表で8〜10族の金属を含有する錯体系化合物であり、さらに好ましくはイリジウム化合物、オスミウム化合物、又は白金化合物(白金錯体系化合物)、希土類錯体であり、中でも最も好ましいのはイリジウム化合物である。   The phosphorescent compound can be appropriately selected from known compounds used for the light emitting layer of a general organic EL device, but preferably contains a group 8-10 metal in the periodic table of elements. More preferred are iridium compounds, more preferred are iridium compounds, osmium compounds, platinum compounds (platinum complex compounds), and rare earth complexes, and most preferred are iridium compounds.

本発明においては、少なくとも一つの発光層3cが、2種以上のリン光発光性化合物が含有されていてもよく、発光層3cにおけるリン光発光性化合物の濃度比が発光層3cの厚さ方向で変化している態様であってもよい。   In the present invention, at least one light emitting layer 3c may contain two or more phosphorescent compounds, and the concentration ratio of the phosphorescent compound in the light emitting layer 3c is the thickness direction of the light emitting layer 3c. It may be an aspect that changes.

リン光発光性化合物は、好ましくは発光層3cの総量に対し0.1体積%以上、30体積%未満の範囲である。   The phosphorescent compound is preferably in the range of 0.1 volume% or more and less than 30 volume% with respect to the total amount of the light emitting layer 3c.

〈一般式(A)で表される化合物〉
本発明に係る発光層3cにおいては、リン光発光性化合物として、下記一般式(A)で表される化合物を含有することが好ましい。
<Compound represented by formula (A)>
The light emitting layer 3c according to the present invention preferably contains a compound represented by the following general formula (A) as the phosphorescent compound.

なお、下記一般式(A)で表されるリン光発光性化合物(リン光発光性の金属錯体ともいう)は、有機EL素子100の発光層3cに発光ドーパントとして含有されることが好ましい態様であるが、発光層3c以外の発光機能層に含有されていてもよい。   The phosphorescent compound represented by the following general formula (A) (also referred to as a phosphorescent metal complex) is preferably contained in the light emitting layer 3c of the organic EL element 100 as a light emitting dopant. However, it may be contained in a light emitting functional layer other than the light emitting layer 3c.

Figure 0006241193
Figure 0006241193

上記一般式(A)において、P、Qは、各々炭素原子又は窒素原子を表し、AはP−Cとともに芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を形成する原子群を表す。
は、Q−Nとともに芳香族複素環を形成する原子群を表す。
−L−Pは、2座の配位子を表し、P、Pは、各々独立に炭素原子、窒素原子又は酸素原子を表す。
は、P、Pとともに2座の配位子を形成する原子群を表す。
j1は、1〜3の整数を表し、j2は、0〜2の整数を表すが、j1+j2は2又は3である。
は、元素周期表における8〜10族の遷移金属元素を表す。
In the general formula (A), P and Q each represent a carbon atom or a nitrogen atom, and A 1 represents an atomic group that forms an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocyclic ring together with P—C.
A 2 represents an atomic group that forms an aromatic heterocycle with QN.
P 1 -L 1 -P 2 represents a bidentate ligand, and P 1 and P 2 each independently represent a carbon atom, a nitrogen atom, or an oxygen atom.
L 1 represents an atomic group that forms a bidentate ligand together with P 1 and P 2 .
j1 represents an integer of 1 to 3, j2 represents an integer of 0 to 2, and j1 + j2 is 2 or 3.
M 1 represents a transition metal element of Group 8 to Group 10 in the periodic table.

一般式(A)において、P、Qは、各々炭素原子又は窒素原子を表す。   In general formula (A), P and Q each represent a carbon atom or a nitrogen atom.

一般式(A)において、Aが、P−Cとともに形成する芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフタレン環、アズレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ピレン環、クリセン環、ナフタセン環、トリフェニレン環、o−テルフェニル環、m−テルフェニル環、p−テルフェニル環、アセナフテン環、コロネン環、フルオレン環、フルオラントレン環、ナフタセン環、ペンタセン環、ペリレン環、ペンタフェン環、ピセン環、ピレン環、ピラントレン環、アンスラアントレン環等が挙げられる。 In the general formula (A), examples of the aromatic hydrocarbon ring that A 1 forms with PC include a benzene ring, a biphenyl ring, a naphthalene ring, an azulene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, a pyrene ring, and a chrysene ring. , Naphthacene ring, triphenylene ring, o-terphenyl ring, m-terphenyl ring, p-terphenyl ring, acenaphthene ring, coronene ring, fluorene ring, fluoranthrene ring, naphthacene ring, pentacene ring, perylene ring, pentaphen ring , Picene ring, pyrene ring, pyranthrene ring, anthraanthrene ring and the like.

これらの環は、さらに置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、例えば、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、プロパルギル基等)、芳香族炭化水素基(芳香族炭素環基、アリール基等ともいい、例えば、フェニル基、p−クロロフェニル基、メシチル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントリル基、アズレニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、フェナントリル基、インデニル基、ピレニル基、ビフェニリル基等)、芳香族複素環基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、キナゾリニル基、カルバゾリル基、カルボリニル基、ジアザカルバゾリル基(前記カルボリニル基のカルボリン環を構成する任意の炭素原子の一つが窒素原子で置き換わったものを表す)、フタラジニル基等)、複素環基(例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等)、シクロアルコキシ基(例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等)、シクロアルキルチオ基(例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等)、アミド基(例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、2−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基ナフチルウレイド基、2−ピリジルアミノウレイド基等)、スルフィニル基(例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、2−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、2−ピリジルスルフィニル基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等)、アリールスルホニル基又はヘテロアリールスルホニル基(例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基、ピペリジル基(ピペリジニル基ともいう)、2,2,6,6−テトラメチルピペリジニル基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、フッ化炭化水素基(例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等)、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、シリル基(例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等)、リン酸エステル基(例えば、ジヘキシルホスホリル基等)、亜リン酸エステル基(例えばジフェニルホスフィニル基等)、ホスホノ基等が挙げられる。   These rings may further have a substituent. Examples of such a substituent include an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a tert-butyl group, a pentyl group). Hexyl group, octyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, etc.), cycloalkyl group (for example, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), alkenyl group (for example, vinyl group, allyl group, etc.), alkynyl group (For example, ethynyl group, propargyl group, etc.), aromatic hydrocarbon group (also called aromatic carbocyclic group, aryl group, etc.), for example, phenyl group, p-chlorophenyl group, mesityl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group , Anthryl group, azulenyl group, acenaphthenyl group, fluorenyl group, phenanthryl group, indenyl , Pyrenyl group, biphenylyl group, etc.), aromatic heterocyclic group (for example, furyl group, thienyl group, pyridyl group, pyridazinyl group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, triazinyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, thiazolyl group, quinazolinyl group, A carbazolyl group, a carbolinyl group, a diazacarbazolyl group (representing one in which any carbon atom constituting the carboline ring of the carbolinyl group is replaced by a nitrogen atom), a phthalazinyl group, etc.), a heterocyclic group (for example, Pyrrolidyl group, imidazolidyl group, morpholyl group, oxazolidyl group, etc.), alkoxy group (for example, methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, octyloxy group, dodecyloxy group, etc.), cycloalkoxy group (For example, cyclopentyloxy group Cyclohexyloxy group etc.), aryloxy group (eg phenoxy group, naphthyloxy group etc.), alkylthio group (eg methylthio group, ethylthio group, propylthio group, pentylthio group, hexylthio group, octylthio group, dodecylthio group etc.), cyclo An alkylthio group (eg, cyclopentylthio group, cyclohexylthio group, etc.), an arylthio group (eg, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), an alkoxycarbonyl group (eg, methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, butyloxycarbonyl group, octyl) Oxycarbonyl group, dodecyloxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (eg, phenyloxycarbonyl group, naphthyloxycarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (eg, aminosulfuryl group, etc.) Phenyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl group, butylaminosulfonyl group, hexylaminosulfonyl group, cyclohexylaminosulfonyl group, octylaminosulfonyl group, dodecylaminosulfonyl group, phenylaminosulfonyl group, naphthylaminosulfonyl group, 2- Pyridylaminosulfonyl group, etc.), acyl groups (for example, acetyl group, ethylcarbonyl group, propylcarbonyl group, pentylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, octylcarbonyl group, 2-ethylhexylcarbonyl group, dodecylcarbonyl group, phenylcarbonyl group, naphthylcarbonyl) Group, pyridylcarbonyl group, etc.), acyloxy group (for example, acetyloxy group, ethylcarbonyloxy group, butylcarbonyloxy group, octyl group) Rucarbonyloxy group, dodecylcarbonyloxy group, phenylcarbonyloxy group, etc.), amide group (eg, methylcarbonylamino group, ethylcarbonylamino group, dimethylcarbonylamino group, propylcarbonylamino group, pentylcarbonylamino group, cyclohexylcarbonylamino) Group, 2-ethylhexylcarbonylamino group, octylcarbonylamino group, dodecylcarbonylamino group, phenylcarbonylamino group, naphthylcarbonylamino group, etc.), carbamoyl group (for example, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, Propylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group, octylaminocarbonyl group, 2-ethylhexylamino Rubonyl group, dodecylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, naphthylaminocarbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), ureido group (for example, methylureido group, ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylureido group, octylureido group) , Dodecylureido group, phenylureido group, naphthylureido group, 2-pyridylaminoureido group, etc.), sulfinyl group (for example, methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, butylsulfinyl group, cyclohexylsulfinyl group, 2-ethylhexylsulfinyl group, dodecylsulfinyl group) , Phenylsulfinyl group, naphthylsulfinyl group, 2-pyridylsulfinyl group, etc.), alkylsulfonyl group (for example, methylsulfonyl group, ethylsulfo group) Nyl group, butylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, dodecylsulfonyl group, etc.), arylsulfonyl group or heteroarylsulfonyl group (for example, phenylsulfonyl group, naphthylsulfonyl group, 2-pyridylsulfonyl group, etc.), Amino group (for example, amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino group, 2-ethylhexylamino group, dodecylamino group, anilino group, naphthylamino group, 2-pyridylamino group, piperidinyl group (piperidinyl group) Group), 2,2,6,6-tetramethylpiperidinyl group, etc.), halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom etc.), fluorinated hydrocarbon group (eg, fluoromethyl group, Trifluoromethyl group, penta Fluoroethyl group, pentafluorophenyl group, etc.), cyano group, nitro group, hydroxy group, mercapto group, silyl group (for example, trimethylsilyl group, triisopropylsilyl group, triphenylsilyl group, phenyldiethylsilyl group, etc.), phosphate ester Examples include a group (for example, dihexyl phosphoryl group), a phosphite group (for example, diphenylphosphinyl group), a phosphono group, and the like.

上記一般式(A)において、Aが、P−Cとともに形成する芳香族複素環としては、フラン環、チオフェン環、オキサゾール環、ピロール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、ベンゾイミダゾール環、オキサジアゾール環、トリアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、インドール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノキサリン環、キナゾリン環、フタラジン環、カルバゾール環、アザカルバゾール環等が挙げられる。 In the general formula (A), the aromatic heterocycle formed by A 1 together with P—C includes a furan ring, a thiophene ring, an oxazole ring, a pyrrole ring, a pyridine ring, a pyridazine ring, a pyrimidine ring, a pyrazine ring, and a triazine. Ring, benzimidazole ring, oxadiazole ring, triazole ring, imidazole ring, pyrazole ring, thiazole ring, indole ring, benzimidazole ring, benzothiazole ring, benzoxazole ring, quinoxaline ring, quinazoline ring, phthalazine ring, carbazole ring, And azacarbazole ring.

ここで、アザカルバゾール環とは、前記カルバゾール環を構成するベンゼン環の炭素原子が一つ以上窒素原子で置き換わったものを表す。   Here, the azacarbazole ring represents one in which at least one carbon atom of the benzene ring constituting the carbazole ring is replaced with a nitrogen atom.

これらの環はさらに、上記した置換基を有していてもよい。   These rings may further have the above-described substituent.

一般式(A)において、Aが、Q−Nとともに形成する芳香族複素環としては、オキサゾール環、オキサジアゾール環、オキサトリアゾール環、イソオキサゾール環、テトラゾール環、チアジアゾール環、チアトリアゾール環、イソチアゾール環、ピロール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環等が挙げられる。 In the general formula (A), examples of the aromatic heterocycle formed by A 2 together with QN include an oxazole ring, an oxadiazole ring, an oxatriazole ring, an isoxazole ring, a tetrazole ring, a thiadiazole ring, a thiatriazole ring, Examples include isothiazole ring, pyrrole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, triazine ring, imidazole ring, pyrazole ring, and triazole ring.

これらの環はさらに、上記した置換基を有していてもよい。   These rings may further have the above-described substituent.

一般式(A)において、P−L−Pは2座の配位子を表し、P、Pは各々独立に炭素原子、窒素原子又は酸素原子を表す。
は、P、Pとともに2座の配位子を形成する原子群を表す。
In the general formula (A), P 1 -L 1 -P 2 represents a bidentate ligand, and P 1 and P 2 each independently represent a carbon atom, a nitrogen atom, or an oxygen atom.
L 1 represents an atomic group that forms a bidentate ligand together with P 1 and P 2 .

−L−Pで表される2座の配位子としては、フェニルピリジン、フェニルピラゾール、フェニルイミダゾール、フェニルトリアゾール、フェニルテトラゾール、ピラザボール、アセチルアセトン、ピコリン酸等が挙げられる。 Examples of the bidentate ligand represented by P 1 -L 1 -P 2 include phenylpyridine, phenylpyrazole, phenylimidazole, phenyltriazole, phenyltetrazole, pyrazabol, acetylacetone, and picolinic acid.

一般式(A)において、j1は、1〜3の整数を表し、j2は、0〜2の整数を表すが、j1+j2は、2又は3を表す、中でも、j2は、0である場合が好ましい。   In the general formula (A), j1 represents an integer of 1 to 3, j2 represents an integer of 0 to 2, j1 + j2 represents 2 or 3, and j2 is preferably 0. .

一般式(A)において、Mは、元素周期表における8〜10族の遷移金属元素(単に遷移金属ともいう)が用いられるが、中でも、イリジウム好ましい。 In General Formula (A), M 1 is a transition metal element belonging to Group 8 to 10 in the periodic table of elements (also simply referred to as a transition metal), and is preferably iridium.

〈一般式(B)で表される化合物〉
上記説明した一般式(A)で表される化合物の中でも、下記一般式(B)で表される化合物であることが、さらに好ましい。
<Compound represented by formula (B)>
Among the compounds represented by the general formula (A) described above, a compound represented by the following general formula (B) is more preferable.

Figure 0006241193
Figure 0006241193

上記一般式(B)において、Zは、炭化水素環基又は複素環基を表す。P、Qは、各々炭素原子又は窒素原子を表し、Aは、P−Cとともに芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を形成する原子群を表す。
は、−C(R01)=C(R02)−、−N=C(R02)−、−C(R01)=N−又は−N=N−を表し、R01、R02は、各々水素原子又は置換基を表す。
−L−Pは、2座の配位子を表し、P、Pは、各々独立に炭素原子、窒素原子、又は酸素原子を表す。
は、P、Pとともに2座の配位子を形成する原子群を表す。
j1は、1〜3の整数を表し、j2は、0〜2の整数を表すが、j1+j2は、2又は3である。
は、元素周期表における8〜10族の遷移金属元素を表す。
In the general formula (B), Z represents a hydrocarbon ring group or a heterocyclic group. P and Q each represent a carbon atom or a nitrogen atom, and A 1 represents an atomic group that forms an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocyclic ring together with P—C.
A 3 represents -C (R 01 ) = C (R 02 )-, -N = C (R 02 )-, -C (R 01 ) = N- or -N = N-, and R 01 , R 02 each represents a hydrogen atom or a substituent.
P 1 -L 1 -P 2 represents a bidentate ligand, and P 1 and P 2 each independently represent a carbon atom, a nitrogen atom, or an oxygen atom.
L 1 represents an atomic group that forms a bidentate ligand together with P 1 and P 2 .
j1 represents an integer of 1 to 3, j2 represents an integer of 0 to 2, and j1 + j2 is 2 or 3.
M 1 represents a transition metal element of Group 8 to Group 10 in the periodic table.

一般式(B)において、Zで表される炭化水素環基としては、非芳香族炭化水素環基、芳香族炭化水素環基が挙げられ、非芳香族炭化水素環基としては、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの基は、無置換でも後述する置換基を有していてもよい。   In the general formula (B), examples of the hydrocarbon ring group represented by Z include a non-aromatic hydrocarbon ring group and an aromatic hydrocarbon ring group, and examples of the non-aromatic hydrocarbon ring group include a cyclopropyl group. , Cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like. These groups may be unsubstituted or have a substituent described later.

また、芳香族炭化水素環基(芳香族炭化水素基、アリール基等ともいう)としては、例えば、フェニル基、p−クロロフェニル基、メシチル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントリル基、アズレニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、フェナントリル基、インデニル基、ピレニル基、ビフェニリル基等が挙げられる。   Examples of the aromatic hydrocarbon ring group (also referred to as aromatic hydrocarbon group, aryl group, etc.) include, for example, phenyl group, p-chlorophenyl group, mesityl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, anthryl group, azulenyl. Group, acenaphthenyl group, fluorenyl group, phenanthryl group, indenyl group, pyrenyl group, biphenylyl group and the like.

これらの基は、無置換でも良いし、置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、一般式(A)においてAで表される環が有していても良い置換基と同様のものが挙げられる。 These groups may be unsubstituted or may have a substituent. Examples of such a substituent include a substituent that the ring represented by A 1 in General Formula (A) may have. The same thing as a group is mentioned.

一般式(B)において、Zで表される複素環基としては、非芳香族複素環基、芳香族複素環基等が挙げられる。
非芳香族複素環基としては、例えば、エポキシ環、アジリジン環、チイラン環、オキセタン環、アゼチジン環、チエタン環、テトラヒドロフラン環、ジオキソラン環、ピロリジン環、ピラゾリジン環、イミダゾリジン環、オキサゾリジン環、テトラヒドロチオフェン環、スルホラン環、チアゾリジン環、ε−カプロラクトン環、ε−カプロラクタム環、ピペリジン環、ヘキサヒドロピリダジン環、ヘキサヒドロピリミジン環、ピペラジン環、モルホリン環、テトラヒドロピラン環、1,3−ジオキサン環、1,4−ジオキサン環、トリオキサン環、テトラヒドロチオピラン環、チオモルホリン環、チオモルホリン−1,1−ジオキシド環、ピラノース環、ジアザビシクロ[2,2,2]−オクタン環等から導出される基を挙げられる。
In the general formula (B), examples of the heterocyclic group represented by Z include a non-aromatic heterocyclic group and an aromatic heterocyclic group.
Non-aromatic heterocyclic groups include, for example, epoxy ring, aziridine ring, thiirane ring, oxetane ring, azetidine ring, thietane ring, tetrahydrofuran ring, dioxolane ring, pyrrolidine ring, pyrazolidine ring, imidazolidine ring, oxazolidine ring, tetrahydrothiophene Ring, sulfolane ring, thiazolidine ring, ε-caprolactone ring, ε-caprolactam ring, piperidine ring, hexahydropyridazine ring, hexahydropyrimidine ring, piperazine ring, morpholine ring, tetrahydropyran ring, 1,3-dioxane ring, 1, And groups derived from 4-dioxane ring, trioxane ring, tetrahydrothiopyran ring, thiomorpholine ring, thiomorpholine-1,1-dioxide ring, pyranose ring, diazabicyclo [2,2,2] -octane ring, and the like. .

これらの基は、無置換でも良いし、置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、一般式(A)においてAで表される環が有していても良い置換基と同様のものが挙げられる。 These groups may be unsubstituted or may have a substituent. Examples of such a substituent include a substituent that the ring represented by A 1 in General Formula (A) may have. The same thing as a group is mentioned.

芳香族複素環基としては、例えば、ピリジル基、ピリミジニル基、フリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ピラゾリル基、ピラジニル基、トリアゾリル基(例えば、1,2,4−トリアゾール−1−イル基、1,2,3−トリアゾール−1−イル基等)、オキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、チアゾリル基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、フラザニル基、チエニル基、キノリル基、ベンゾフリル基、ジベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、インドリル基、カルバゾリル基、カルボリニル基、ジアザカルバゾリル基(前記カルボリニル基のカルボリン環を構成する炭素原子の一つが窒素原子で置き換わったものを表す)、キノキサリニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基、キナゾリニル基、フタラジニル基等が挙げられる。   Examples of the aromatic heterocyclic group include pyridyl group, pyrimidinyl group, furyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, benzoimidazolyl group, pyrazolyl group, pyrazinyl group, triazolyl group (for example, 1,2,4-triazol-1-yl). Group, 1,2,3-triazol-1-yl group, etc.), oxazolyl group, benzoxazolyl group, thiazolyl group, isoxazolyl group, isothiazolyl group, furazanyl group, thienyl group, quinolyl group, benzofuryl group, dibenzofuryl group , Benzothienyl group, dibenzothienyl group, indolyl group, carbazolyl group, carbolinyl group, diazacarbazolyl group (representing one of the carbon atoms constituting the carboline ring of the carbolinyl group replaced by a nitrogen atom), quinoxalinyl Group, pyridazinyl group, triazinyl group, key Zoriniru group, phthalazinyl group, and the like.

これらの基は、無置換でも良いし、置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、一般式(A)においてAで表される環が有していても良い置換基と同様のものが挙げられる。 These groups may be unsubstituted or may have a substituent. Examples of such a substituent include a substituent that the ring represented by A 1 in General Formula (A) may have. The same thing as a group is mentioned.

好ましくは、Zで表される基は、芳香族炭化水素環基又は芳香族複素環基である。   Preferably, the group represented by Z is an aromatic hydrocarbon ring group or an aromatic heterocyclic group.

一般式(B)において、Aが、P−Cとともに形成する芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフタレン環、アズレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ピレン環、クリセン環、ナフタセン環、トリフェニレン環、o−テルフェニル環、m−テルフェニル環、p−テルフェニル環、アセナフテン環、コロネン環、フルオレン環、フルオラントレン環、ナフタセン環、ペンタセン環、ペリレン環、ペンタフェン環、ピセン環、ピレン環、ピラントレン環、アンスラアントレン環等が挙げられる。 In the general formula (B), the aromatic hydrocarbon ring formed by A 1 together with P—C includes benzene ring, biphenyl ring, naphthalene ring, azulene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, pyrene ring, chrysene ring, naphthacene. Ring, triphenylene ring, o-terphenyl ring, m-terphenyl ring, p-terphenyl ring, acenaphthene ring, coronene ring, fluorene ring, fluoranthrene ring, naphthacene ring, pentacene ring, perylene ring, pentaphen ring, picene And a ring, a pyrene ring, a pyranthrene ring, and an anthraanthrene ring.

これらの環はさらに、置換基を有していても良く、そのような置換基としては、一般式(A)においてAで表される環が有していても良い置換基と同様のものが挙げられる。 These rings may further have a substituent, such as the substituent of the general formula (A) similar to the substituent which may be possessed by the ring represented by A 1 in Is mentioned.

一般式(B)において、Aが、P−Cとともに形成する芳香族複素環としては、フラン環、チオフェン環、オキサゾール環、ピロール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、ベンゾイミダゾール環、オキサジアゾール環、トリアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、インドール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノキサリン環、キナゾリン環、フタラジン環、カルバゾール環、カルボリン環、アザカルバゾール環等が挙げられる。 In the general formula (B), the aromatic heterocycle formed by A 1 together with P—C includes a furan ring, a thiophene ring, an oxazole ring, a pyrrole ring, a pyridine ring, a pyridazine ring, a pyrimidine ring, a pyrazine ring, and a triazine ring. , Benzimidazole ring, oxadiazole ring, triazole ring, imidazole ring, pyrazole ring, thiazole ring, indole ring, benzimidazole ring, benzothiazole ring, benzoxazole ring, quinoxaline ring, quinazoline ring, phthalazine ring, carbazole ring, carboline Ring, azacarbazole ring and the like.

ここで、アザカルバゾール環とは、前記カルバゾール環を構成するベンゼン環の炭素原子が一つ以上窒素原子で置き換わったものを表す。   Here, the azacarbazole ring represents one in which at least one carbon atom of the benzene ring constituting the carbazole ring is replaced with a nitrogen atom.

これらの環はさらに、置換基を有していても良く、そのような置換基としては、一般式(A)においてAで表される環が有していても良い置換基と同様のものが挙げられる。 These rings may further have a substituent, such as the substituent of the general formula (A) similar to the substituent which may be possessed by the ring represented by A 1 in Is mentioned.

一般式(B)のAで表される、−C(R01)=C(R02)−、−N=C(R02)−、−C(R01)=N−において、R01、R02で各々表される置換基は、一般式(A)においてAで表される環が有していても良い置換基と同義である。 In -C (R 01 ) = C (R 02 )-, -N = C (R 02 )-, -C (R 01 ) = N- represented by A 3 in the general formula (B), R 01 , R 02 each has the same definition as the substituent that the ring represented by A 1 in formula (A) may have.

一般式(B)において、P−L−Pで表される2座の配位子としては、フェニルピリジン、フェニルピラゾール、フェニルイミダゾール、フェニルトリアゾール、フェニルテトラゾール、ピラザボール、アセチルアセトン、ピコリン酸等が挙げられる。 In the general formula (B), examples of the bidentate ligand represented by P 1 -L 1 -P 2 include phenylpyridine, phenylpyrazole, phenylimidazole, phenyltriazole, phenyltetrazole, pyrazabol, acetylacetone, picolinic acid, and the like. Is mentioned.

また、j1は1〜3の整数を表し、j2は0〜2の整数を表すが、j1+j2は2又は3を表す、中でも、j2は0である場合が好ましい。   J1 represents an integer of 1 to 3, and j2 represents an integer of 0 to 2, j1 + j2 represents 2 or 3, and j2 is preferably 0.

一般式(B)において、Mで表される元素周期表における8〜10族の遷移金属元素(単に遷移金属ともいう)は、一般式(A)において、Mで表される元素周期表における8〜10族の遷移金属元素と同義である。 In the general formula (B), the transition metal element of group 8 to 10 in the periodic table of elements represented by M 1 (also simply referred to as transition metal) is the element periodic table represented by M 1 in the general formula (A). Are synonymous with the group 8-10 transition metal elements.

〈一般式(C)で表される化合物〉
本発明においては、上記一般式(B)で表される化合物の好ましい態様の一つとして、下記一般式(C)で表される化合物が挙げられる。
<Compound represented by formula (C)>
In this invention, the compound represented by the following general formula (C) is mentioned as one of the preferable aspects of the compound represented by the said general formula (B).

Figure 0006241193
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上記一般式(C)において、R03は、置換基を表し、R04は、水素原子又は置換基を表し、複数のR04は、互いに結合して環を形成してもよい。
n01は、1〜4の整数を表す。
05は、水素原子又は置換基を表し、複数のR05は、互いに結合して環を形成してもよい。n02は、1〜2の整数を表す。
06は、水素原子又は置換基を表し、互いに結合して環を形成してもよい。
n03は、1〜4の整数を表す。
は、C−Cとともに6員の芳香族炭化水素環若しくは、5員又は6員の芳香族複素環を形成するのに必要な原子群を表す。
は、炭化水素環基又は複素環基を形成するのに必要な原子群を表す。
−L−Pは、2座の配位子を表し、P、Pは各々独立に炭素原子、窒素原子又は酸素原子を表す。
は、P、Pとともに2座の配位子を形成する原子群を表す。
j1は、1〜3の整数を表し、j2は、0〜2の整数を表すが、j1+j2は、2又は3である。
は、元素周期表における8〜10族の遷移金属元素を表す。
03とR06、R04とR06及びR05とR06は、互いに結合して環を形成していてもよい。
In the general formula (C), R 03 represents a substituent, R 04 represents a hydrogen atom or a substituent, and a plurality of R 04 may be bonded to each other to form a ring.
n01 represents an integer of 1 to 4.
R 05 represents a hydrogen atom or a substituent, and a plurality of R 05 may be bonded to each other to form a ring. n02 represents an integer of 1 to 2.
R 06 represents a hydrogen atom or a substituent, and may combine with each other to form a ring.
n03 represents an integer of 1 to 4.
Z 1 represents an atomic group necessary for forming a 6-membered aromatic hydrocarbon ring or a 5-membered or 6-membered aromatic heterocycle together with C—C.
Z 2 represents an atomic group necessary for forming a hydrocarbon ring group or a heterocyclic group.
P 1 -L 1 -P 2 represents a bidentate ligand, and P 1 and P 2 each independently represent a carbon atom, a nitrogen atom or an oxygen atom.
L 1 represents an atomic group that forms a bidentate ligand together with P 1 and P 2 .
j1 represents an integer of 1 to 3, j2 represents an integer of 0 to 2, and j1 + j2 is 2 or 3.
M 1 represents a transition metal element of Group 8 to Group 10 in the periodic table.
R 03 and R 06 , R 04 and R 06, and R 05 and R 06 may be bonded to each other to form a ring.

一般式(C)において、R03、R04、R05、R06で各々表される置換基は、一般式(A)において、Aで表される環が有していても良い置換基と同義である。 In the general formula (C), each of the substituents represented by R 03 , R 04 , R 05 , and R 06 is a substituent that the ring represented by A 1 in the general formula (A) may have. It is synonymous with.

一般式(C)において、Zが、C−Cとともに形成する6員の芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環等が挙げられる。 In the general formula (C), examples of the 6-membered aromatic hydrocarbon ring formed by Z 1 together with C—C include a benzene ring.

これらの環は、さらに置換基を有していても良く、そのような置換基としては、一般式(A)においてAで表される環が有していても良い置換基と同様のものが挙げられる。 These rings may further have a substituent, and examples of the substituent of the general formula (A) similar to the substituent which may be possessed by the ring represented by A 1 in Is mentioned.

一般式(C)において、Zが、C−Cとともに形成する5員又は6員の芳香族複素環としては、例えば、オキサゾール環、オキサジアゾール環、オキサトリアゾール環、イソオキサゾール環、テトラゾール環、チアジアゾール環、チアトリアゾール環、イソチアゾール環、チオフェン環、フラン環、ピロール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環等が挙げられる。 In the general formula (C), examples of the 5-membered or 6-membered aromatic heterocycle formed by Z 1 together with C—C include an oxazole ring, an oxadiazole ring, an oxatriazole ring, an isoxazole ring, and a tetrazole ring. , Thiadiazole ring, thiatriazole ring, isothiazole ring, thiophene ring, furan ring, pyrrole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, triazine ring, imidazole ring, pyrazole ring, triazole ring and the like.

これらの環は、さらに置換基を有していても良く、そのような置換基としては、一般式(A)においてAで表される環が有していても良い置換基と同様のものが挙げられる。 These rings may further have a substituent, and examples of the substituent of the general formula (A) similar to the substituent which may be possessed by the ring represented by A 1 in Is mentioned.

一般式(C)において、Zで表される炭化水素環基としては、非芳香族炭化水素環基、芳香族炭化水素環基が挙げられる。
非芳香族炭化水素環基としては、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの基は、無置換でも良いし、置換基を有していても良く、そのような置換基としては、一般式(A)においてAで表される環が有していても良い置換基と同様のものが挙げられる。
In the general formula (C), examples of the hydrocarbon ring group represented by Z 2 include a non-aromatic hydrocarbon ring group and an aromatic hydrocarbon ring group.
Examples of the non-aromatic hydrocarbon ring group include a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group. These groups may be unsubstituted or may have a substituent. Examples of such a substituent include a substituent that the ring represented by A 1 in General Formula (A) may have. The same thing as a group is mentioned.

また、芳香族炭化水素環基(芳香族炭化水素基、アリール基等ともいう)としては、例えば、フェニル基、p−クロロフェニル基、メシチル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントリル基、アズレニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、フェナントリル基、インデニル基、ピレニル基、ビフェニリル基等が挙げられる。これらの基は、無置換でも良いし、置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、一般式(A)においてAで表される環が有していても良い置換基と同様のものが挙げられる。 Examples of the aromatic hydrocarbon ring group (also referred to as aromatic hydrocarbon group, aryl group, etc.) include, for example, phenyl group, p-chlorophenyl group, mesityl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, anthryl group, azulenyl. Group, acenaphthenyl group, fluorenyl group, phenanthryl group, indenyl group, pyrenyl group, biphenylyl group and the like. These groups may be unsubstituted or may have a substituent. Examples of such a substituent include a substituent that the ring represented by A 1 in General Formula (A) may have. The same thing as a group is mentioned.

一般式(C)において、Zで表される複素環基としては、非芳香族複素環基、芳香族複素環基等が挙げられる。
非芳香族複素環基としては、例えば、エポキシ環、アジリジン環、チイラン環、オキセタン環、アゼチジン環、チエタン環、テトラヒドロフラン環、ジオキソラン環、ピロリジン環、ピラゾリジン環、イミダゾリジン環、オキサゾリジン環、テトラヒドロチオフェン環、スルホラン環、チアゾリジン環、ε−カプロラクトン環、ε−カプロラクタム環、ピペリジン環、ヘキサヒドロピリダジン環、ヘキサヒドロピリミジン環、ピペラジン環、モルホリン環、テトラヒドロピラン環、1,3−ジオキサン環、1,4−ジオキサン環、トリオキサン環、テトラヒドロチオピラン環、チオモルホリン環、チオモルホリン−1,1−ジオキシド環、ピラノース環、ジアザビシクロ[2,2,2]−オクタン環等から導出される基を挙げることができる。これらの基は無置換でも良いし、置換基を有していても良く、そのような置換基としては、一般式(A)においてAで表される環が有していても良い置換基と同様のものが挙げられる。
In the general formula (C), examples of the heterocyclic group represented by Z 2 include a non-aromatic heterocyclic group and an aromatic heterocyclic group.
Non-aromatic heterocyclic groups include, for example, epoxy ring, aziridine ring, thiirane ring, oxetane ring, azetidine ring, thietane ring, tetrahydrofuran ring, dioxolane ring, pyrrolidine ring, pyrazolidine ring, imidazolidine ring, oxazolidine ring, tetrahydrothiophene Ring, sulfolane ring, thiazolidine ring, ε-caprolactone ring, ε-caprolactam ring, piperidine ring, hexahydropyridazine ring, hexahydropyrimidine ring, piperazine ring, morpholine ring, tetrahydropyran ring, 1,3-dioxane ring, 1, Examples include groups derived from 4-dioxane ring, trioxane ring, tetrahydrothiopyran ring, thiomorpholine ring, thiomorpholine-1,1-dioxide ring, pyranose ring, diazabicyclo [2,2,2] -octane ring, etc. Can do. These groups may be unsubstituted or may have a substituent. Examples of such a substituent include a substituent that the ring represented by A 1 in the general formula (A) may have. The same thing is mentioned.

芳香族複素環基としては、例えば、ピリジル基、ピリミジニル基、フリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ピラゾリル基、ピラジニル基、トリアゾリル基(例えば、1,2,4−トリアゾール−1−イル基、1,2,3−トリアゾール−1−イル基等)、オキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、チアゾリル基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、フラザニル基、チエニル基、キノリル基、ベンゾフリル基、ジベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、インドリル基、カルバゾリル基、カルボリニル基、ジアザカルバゾリル基(前記カルボリニル基のカルボリン環を構成する炭素原子の一つが窒素原子で置き換わったもの表す)、キノキサリニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基、キナゾリニル基、フタラジニル基等が挙げられる。   Examples of the aromatic heterocyclic group include pyridyl group, pyrimidinyl group, furyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, benzoimidazolyl group, pyrazolyl group, pyrazinyl group, triazolyl group (for example, 1,2,4-triazol-1-yl). Group, 1,2,3-triazol-1-yl group, etc.), oxazolyl group, benzoxazolyl group, thiazolyl group, isoxazolyl group, isothiazolyl group, furazanyl group, thienyl group, quinolyl group, benzofuryl group, dibenzofuryl group , Benzothienyl group, dibenzothienyl group, indolyl group, carbazolyl group, carbolinyl group, diazacarbazolyl group (representing one of the carbon atoms constituting the carboline ring of the carbolinyl group replaced by a nitrogen atom), quinoxalinyl group , Pyridazinyl group, triazinyl group, quina Riniru group, phthalazinyl group, and the like.

これらの環は無置換でも良いし、置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、一般式(A)においてAで表される環が有していても良い置換基と同様のものが挙げられる。 These rings may be unsubstituted or may have a substituent. Examples of such a substituent include the substituent that the ring represented by A 1 in the general formula (A) may have. The same thing is mentioned.

一般式(C)において、Z及びZで形成される基としては、ベンゼン環が好ましい。 In the general formula (C), the group formed by Z 1 and Z 2 is preferably a benzene ring.

一般式(C)において、P−L−Pで表される2座の配位子は、一般式(A)において、P−L−Pで表される2座の配位子と同義である。 In formula (C), bidentate ligand represented by P 1 -L 1 -P 2 is In formula (A), coordination of bidentate represented by P 1 -L 1 -P 2 Synonymous with rank.

一般式(C)において、Mで表される元素周期表における8〜10族の遷移金属元素は、一般式(A)において、Mで表される元素周期表における8〜10族の遷移金属元素と同義である。 In the formula (C), transition metal elements of Group 8 to Group 10 in the periodic table represented by M 1 is In formula (A), the transition of 8-10 in the periodic table represented by M 1 Synonymous with metal element.

また、リン光発光性化合物は、有機EL素子100の発光層3cに使用される公知のものの中から適宜選択して用いることができる。   The phosphorescent compound can be appropriately selected from known compounds used for the light emitting layer 3 c of the organic EL element 100.

本発明に係るリン光発光性化合物は、好ましくは、元素の周期表で8〜10族の金属を含有する錯体系化合物であり、さらに好ましくは、イリジウム化合物、オスミウム化合物、又は白金化合物(白金錯体系化合物)、希土類錯体であり、中でも最も好ましいのはイリジウム化合物である。   The phosphorescent compound according to the present invention is preferably a complex compound containing a group 8-10 metal in the periodic table of elements, more preferably an iridium compound, an osmium compound, or a platinum compound (platinum complex). System compounds), rare earth complexes, and most preferred are iridium compounds.

本発明に係るリン光発光性化合物の具体例(Pt−1〜Pt−3、A−1、Ir−1〜Ir−45)を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。なお、これらの化合物において、m及びnは繰り返し数を表す。   Specific examples (Pt-1 to Pt-3, A-1, Ir-1 to Ir-45) of the phosphorescent compound according to the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto. In these compounds, m and n represent the number of repetitions.

Figure 0006241193
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上記のリン光発光性化合物(リン光発光性金属錯体ともいう)は、例えば、Organic Letter誌、vol3、No.16、2579〜2581頁(2001)、Inorganic Chemistry,第30巻、第8号、1685〜1687頁(1991年)、J.Am.Chem.Soc.,123巻、4304頁(2001年)、Inorganic Chemistry,第40巻、第7号、1704〜1711頁(2001年)、Inorganic Chemistry,第41巻、第12号、3055〜3066頁(2002年)、New Journal of Chemistry.,第26巻、1171頁(2002年)、European Journal of Organic Chemistry,第4巻、695〜709頁(2004年)、さらにこれらの文献中に記載の参考文献等の方法を適用することにより合成できる。   The phosphorescent compound (also referred to as a phosphorescent metal complex) is described in, for example, Organic Letter, vol. 16, 2579-2581 (2001), Inorganic Chemistry, Vol. 30, No. 8, 1685-1687 (1991), J. Am. Am. Chem. Soc. , 123, 4304 (2001), Inorganic Chemistry, Vol. 40, No. 7, 1704-1711 (2001), Inorganic Chemistry, Vol. 41, No. 12, 3055-3066 (2002) , New Journal of Chemistry. , Vol. 26, 1171 (2002), European Journal of Organic Chemistry, Vol. 4, pages 695-709 (2004), and synthesis by applying methods such as references described in these documents. it can.

〈蛍光発光材料〉
蛍光発光材料としては、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、オキソベンツアントラセン系色素、フルオレセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素、又は希土類錯体系蛍光体等が挙げられる。
<Fluorescent material>
Fluorescent materials include coumarin dyes, pyran dyes, cyanine dyes, croconium dyes, squalium dyes, oxobenzanthracene dyes, fluorescein dyes, rhodamine dyes, pyrylium dyes, perylene dyes, stilbene dyes Examples thereof include dyes, polythiophene dyes, and rare earth complex phosphors.

(注入層)
注入層(正孔注入層3a、電子注入層3e)とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために電極と発光層3cの間に設けられる層のことで、「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の第2編第2章「電極材料」(123〜166頁)に詳細に記載されており、正孔注入層3aと電子注入層3eとがある。
(Injection layer)
The injection layers (the hole injection layer 3a and the electron injection layer 3e) are layers provided between the electrode and the light emitting layer 3c in order to lower the driving voltage and improve the light emission luminance. It is described in detail in Volume 2, Chapter 2, “Electrode Materials” (pages 123-166) of the front line (published by NTS, November 30, 1998), and the hole injection layer 3a and electron injection There is a layer 3e.

注入層は、必要に応じて設けることができる。正孔注入層3aであれば、アノードと発光層3c又は正孔輸送層3bとの間、電子注入層3eであればカソードと発光層3c又は電子輸送層3dとの間に存在させてもよい。   The injection layer can be provided as necessary. The hole injection layer 3a may be present between the anode and the light emitting layer 3c or the hole transport layer 3b, and the electron injection layer 3e may be present between the cathode and the light emitting layer 3c or the electron transport layer 3d. .

正孔注入層3aは、特開平9−45479号公報、同9−260062号公報、同8−288069号公報等にもその詳細が記載されており、具体例として、銅フタロシアニンに代表されるフタロシアニン層、酸化バナジウムに代表される酸化物層、アモルファスカーボン層、ポリアニリン(エメラルディン)やポリチオフェン等の導電性高分子を用いた高分子層等が挙げられる。   The details of the hole injection layer 3a are described in JP-A-9-45479, JP-A-9-260062, JP-A-8-288069, and the like. Specific examples thereof include phthalocyanine represented by copper phthalocyanine. Examples thereof include a layer, an oxide layer typified by vanadium oxide, an amorphous carbon layer, and a polymer layer using a conductive polymer such as polyaniline (emeraldine) or polythiophene.

電子注入層3eは、特開平6−325871号公報、同9−17574号公報、同10−74586号公報等にもその詳細が記載されており、具体的にはストロンチウムやアルミニウム等に代表される金属層、フッ化カリウムに代表されるアルカリ金属ハライド層、フッ化マグネシウムに代表されるアルカリ土類金属化合物層、酸化モリブデンに代表される酸化物層等が挙げられる。本発明においては、電子注入層3eはごく薄い層であることが望ましく、素材にもよるがその厚さは1nm〜10μmの範囲内が好ましい。   The details of the electron injection layer 3e are described in JP-A-6-325871, JP-A-9-17574, JP-A-10-74586, and the like, and specifically represented by strontium, aluminum and the like. Examples thereof include a metal layer, an alkali metal halide layer typified by potassium fluoride, an alkaline earth metal compound layer typified by magnesium fluoride, and an oxide layer typified by molybdenum oxide. In the present invention, the electron injection layer 3e is desirably a very thin layer, and the thickness thereof is preferably in the range of 1 nm to 10 μm, although it depends on the material.

(正孔輸送層3b)
正孔輸送層3bは、正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層3a、電子阻止層も正孔輸送層3bに含まれる。正孔輸送層3bは単層又は複数層設けることができる。
(Hole transport layer 3b)
The hole transport layer 3b is made of a hole transport material having a function of transporting holes, and the hole injection layer 3a and the electron blocking layer are also included in the hole transport layer 3b in a broad sense. The hole transport layer 3b can be provided as a single layer or a plurality of layers.

正孔輸送材料としては、正孔の注入又は輸送、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物、無機物のいずれであってもよい。例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、また、導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオリゴマー等が挙げられる。   The hole transport material has any of hole injection or transport and electron barrier properties, and may be either organic or inorganic. For example, triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives and pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, oxazole derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, Examples thereof include stilbene derivatives, silazane derivatives, aniline copolymers, and conductive polymer oligomers, particularly thiophene oligomers.

正孔輸送材料としては、上記のものを使用することができるが、ポルフィリン化合物、芳香族第3級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、特に芳香族第3級アミン化合物を用いることが好ましい。   Although the above-mentioned thing can be used as a positive hole transport material, It is preferable to use a porphyrin compound, an aromatic tertiary amine compound, and a styryl amine compound, especially an aromatic tertiary amine compound.

芳香族第3級アミン化合物及びスチリルアミン化合物の代表例としては、N,N,N′,N′−テトラフェニル−4,4′−ジアミノフェニル;N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミン(略称:TPD);2,2−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)プロパン;1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)シクロヘキサン;N,N,N′,N′−テトラ−p−トリル−4,4′−ジアミノビフェニル;1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)−4−フェニルシクロヘキサン;ビス(4−ジメチルアミノ−2−メチルフェニル)フェニルメタン;ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)フェニルメタン;N,N′−ジフェニル−N,N′−ジ(4−メトキシフェニル)−4,4′−ジアミノビフェニル;N,N,N′,N′−テトラフェニル−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル;4,4′−ビス(ジフェニルアミノ)クオードリフェニル;N,N,N−トリ(p−トリル)アミン;4−(ジ−p−トリルアミノ)−4′−〔4−(ジ−p−トリルアミノ)スチリル〕スチルベン;4−N,N−ジフェニルアミノ−(2−ジフェニルビニル)ベンゼン;3−メトキシ−4′−N,N−ジフェニルアミノスチルベンゼン;N−フェニルカルバゾール、さらには米国特許第5061569号明細書に記載されている2個の縮合芳香族環を分子内に有するもの、例えば、4,4′−ビス〔N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ〕ビフェニル(略称:NPD)、特開平4−308688号公報に記載されているトリフェニルアミンユニットが三つスターバースト型に連結された4,4′,4″−トリス〔N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン(略称:MTDATA)等が挙げられる。   Representative examples of aromatic tertiary amine compounds and styrylamine compounds include N, N, N ', N'-tetraphenyl-4,4'-diaminophenyl; N, N'-diphenyl-N, N'- Bis (3-methylphenyl)-[1,1′-biphenyl] -4,4′-diamine (abbreviation: TPD); 2,2-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) propane; -Bis (4-di-p-tolylaminophenyl) cyclohexane; N, N, N ', N'-tetra-p-tolyl-4,4'-diaminobiphenyl; 1,1-bis (4-di-p -Tolylaminophenyl) -4-phenylcyclohexane; bis (4-dimethylamino-2-methylphenyl) phenylmethane; bis (4-di-p-tolylaminophenyl) phenylmethane; N, N'-diphenyl-N, '-Di (4-methoxyphenyl) -4,4'-diaminobiphenyl; N, N, N', N'-tetraphenyl-4,4'-diaminodiphenyl ether; 4,4'-bis (diphenylamino) c N, N, N-tri (p-tolyl) amine; 4- (di-p-tolylamino) -4 '-[4- (di-p-tolylamino) styryl] stilbene; 4-N, N- Diphenylamino- (2-diphenylvinyl) benzene; 3-methoxy-4'-N, N-diphenylaminostilbenzene; N-phenylcarbazole and two condensations described in US Pat. No. 5,061,569 Those having an aromatic ring in the molecule, for example, 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (abbreviation: NPD), JP-A-4 3,4 ', 4 "-tris [N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine in which triphenylamine units described in Japanese Patent No. 308688 are linked in three starburst forms ( (Abbreviation: MTDATA).

さらに、これらの材料を高分子鎖に導入した、又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。また、p型−Si、p型−SiC等の無機化合物も正孔注入材料、正孔輸送材料として使用することができる。   Furthermore, a polymer material in which these materials are introduced into a polymer chain or these materials are used as a polymer main chain can also be used. In addition, inorganic compounds such as p-type-Si and p-type-SiC can also be used as the hole injection material and the hole transport material.

また、特開平11−251067号公報、J.Huang et.al.,Applied Physics Letters,80(2002),p.139に記載されているようないわゆるp型正孔輸送材料を用いることもできる。本発明においては、より高効率の発光素子が得られることから、これらの材料を用いることが好ましい。   JP-A-11-251067, J. Org. Huang et. al. , Applied Physics Letters, 80 (2002), p. A so-called p-type hole transport material as described in 139 can also be used. In the present invention, it is preferable to use these materials because a light-emitting element with higher efficiency can be obtained.

正孔輸送層3bは、上記正孔輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法、LB法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。
正孔輸送層3bの厚さについては特に制限はないが、通常は5nm〜5μmの範囲内、好ましくは5〜200nmの範囲内である。この正孔輸送層3bは、上記材料の1種又は2種以上からなる1層構造であってもよい。
The hole transport layer 3b is formed by thinning the hole transport material by a known method such as a vacuum deposition method, a spin coating method, a casting method, a printing method including an ink jet method, or an LB method. be able to.
Although there is no restriction | limiting in particular about the thickness of the positive hole transport layer 3b, Usually, it exists in the range of 5 nm-5 micrometers, Preferably it exists in the range of 5-200 nm. The hole transport layer 3b may have a single layer structure composed of one or more of the above materials.

また、正孔輸送層3bの材料に不純物をドープしてp性を高くすることもできる。その例としては、特開平4−297076号公報、特開2000−196140号公報、同2001−102175号公報、J.Appl.Phys.,95,5773(2004)等に記載されたものが挙げられる。   Also, the p-type can be enhanced by doping impurities into the material of the hole transport layer 3b. Examples thereof include JP-A-4-297076, JP-A-2000-196140, 2001-102175, J.A. Appl. Phys. 95, 5773 (2004), and the like.

このように、正孔輸送層3bのp性を高くすると、より低消費電力の素子を作製することができるため好ましい。   Thus, it is preferable to increase the p property of the hole transport layer 3b because an element with lower power consumption can be manufactured.

[電子輸送層3d]
電子輸送層3dは、電子を輸送する機能を有する材料からなり、広い意味で電子注入層3e、正孔阻止層(図示せず)も電子輸送層3dに含まれる。電子輸送層3dは単層構造又は複数層の積層構造として設けることができる。
[Electron transport layer 3d]
The electron transport layer 3d is made of a material having a function of transporting electrons. In a broad sense, the electron injection layer 3e and a hole blocking layer (not shown) are also included in the electron transport layer 3d. The electron transport layer 3d can be provided as a single layer structure or a multi-layer structure.

単層構造の電子輸送層3d、及び積層構造の電子輸送層3dにおいて発光層3cに隣接する層部分を構成する電子輸送材料(正孔阻止材料を兼ねる)としては、カソードより注入された電子を発光層3cに伝達する機能を有していれば良い。
このような材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン、アントロン誘導体及びオキサジアゾール誘導体等が挙げられる。
さらに、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送層3dの材料として用いることができる。
さらにこれらの材料を高分子鎖に導入した、又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。
As an electron transport material (also serving as a hole blocking material) constituting the layer portion adjacent to the light emitting layer 3c in the electron transport layer 3d having a single layer structure and the electron transport layer 3d having a multilayer structure, electrons injected from the cathode are used. What is necessary is just to have the function to transmit to the light emitting layer 3c.
As such a material, any one of conventionally known compounds can be selected and used. Examples include nitro-substituted fluorene derivatives, diphenylquinone derivatives, thiopyran dioxide derivatives, carbodiimides, fluorenylidenemethane derivatives, anthraquinodimethane, anthrone derivatives, and oxadiazole derivatives.
Further, in the above oxadiazole derivative, a thiadiazole derivative in which an oxygen atom of the oxadiazole ring is substituted with a sulfur atom, and a quinoxaline derivative having a quinoxaline ring known as an electron withdrawing group are also used as the material for the electron transport layer 3d. Can do.
Furthermore, a polymer material in which these materials are introduced into a polymer chain or these materials are used as a polymer main chain can also be used.

また、8−キノリノール誘導体の金属錯体、例えば、トリス(8−キノリノール)アルミニウム(略称:Alq)、トリス(5,7−ジクロロ−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(5,7−ジブロモ−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(2−メチル−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(5−メチル−8−キノリノール)アルミニウム、ビス(8−キノリノール)亜鉛(略称:Znq)等、及びこれらの金属錯体の中心金属がIn、Mg、Cu、Ca、Sn、Ga又はPbに置き替わった金属錯体も、電子輸送層3dの材料として用いることができる。 In addition, metal complexes of 8-quinolinol derivatives such as tris (8-quinolinol) aluminum (abbreviation: Alq 3 ), tris (5,7-dichloro-8-quinolinol) aluminum, tris (5,7-dibromo-8- Quinolinol) aluminum, tris (2-methyl-8-quinolinol) aluminum, tris (5-methyl-8-quinolinol) aluminum, bis (8-quinolinol) zinc (abbreviation: Znq), etc., and the central metal of these metal complexes A metal complex in which In, Mg, Cu, Ca, Sn, Ga, or Pb is replaced can also be used as the material of the electron transport layer 3d.

その他、メタルフリー若しくはメタルフタロシアニン、又はそれらの末端がアルキル基やスルホン酸基等で置換されているものも、電子輸送層3dの材料として好ましく用いることができる。
また、発光層3cの材料としても例示されるジスチリルピラジン誘導体も電子輸送層3dの材料として用いることができるし、正孔注入層3a、正孔輸送層3bと同様にn型−Si、n型−SiC等の無機半導体も電子輸送層3dの材料として用いることができる。
In addition, metal-free or metal phthalocyanine, or those having terminal ends substituted with an alkyl group or a sulfonic acid group can be preferably used as the material for the electron transport layer 3d.
Further, a distyrylpyrazine derivative exemplified also as a material of the light emitting layer 3c can be used as a material of the electron transport layer 3d, and similarly to the hole injection layer 3a and the hole transport layer 3b, n-type -Si, n An inorganic semiconductor such as type-SiC can also be used as the material of the electron transport layer 3d.

電子輸送層3dは、上記材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法、LB法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。
電子輸送層3dの厚さについては特に制限はないが、通常は5nm〜5μm程度、好ましくは5〜200nmの範囲内である。電子輸送層3dは上記材料の1種又は2種以上からなる1層構造であってもよい。
The electron transport layer 3d can be formed by thinning the above material by a known method such as a vacuum deposition method, a spin coating method, a casting method, a printing method including an ink jet method, or an LB method.
Although there is no restriction | limiting in particular about the thickness of 3 d of electron carrying layers, Usually, 5 nm-about 5 micrometers, Preferably it exists in the range of 5-200 nm. The electron transport layer 3d may have a single layer structure composed of one or more of the above materials.

また、電子輸送層3dに不純物をドープし、n性を高くすることもできる。その例としては、特開平4−297076号公報、同10−270172号公報、特開2000−196140号公報、同2001−102175号公報、J.Appl.Phys.,95,5773(2004)等に記載されたものが挙げられる。
さらに、電子輸送層3dには、カリウムやカリウム化合物などを含有させることが好ましい。カリウム化合物としては、例えば、フッ化カリウム等を用いることができる。このように電子輸送層3dのn性を高くすると、より低消費電力の有機EL素子を作製することができる。
In addition, the electron transport layer 3d can be doped with impurities to increase the n property. Examples thereof include JP-A-4-297076, JP-A-10-270172, JP-A-2000-196140, 2001-102175, J.A. Appl. Phys. 95, 5773 (2004), and the like.
Furthermore, it is preferable that the electron transport layer 3d contains potassium, a potassium compound, or the like. As the potassium compound, for example, potassium fluoride can be used. Thus, when the n property of the electron carrying layer 3d is made high, the organic EL element of lower power consumption can be produced.

また、電子輸送層3dの材料(電子輸送性化合物)として、上述した中間層1aを構成する材料と同様のものを用いても良い。これは、電子注入層3eを兼ねた電子輸送層3dであっても同様であり、上述した中間層1aを構成する材料と同様のものを用いても良い。   Further, as the material (electron transporting compound) of the electron transport layer 3d, the same material as that of the intermediate layer 1a described above may be used. The same applies to the electron transport layer 3d that also serves as the electron injection layer 3e, and the same material as that of the intermediate layer 1a described above may be used.

(阻止層)
阻止層(正孔阻止層、電子阻止層)は、上記のように有機化合物薄膜の基本構成層の他に、必要に応じて設けられるものである。例えば、特開平11−204258号公報、同11−204359号公報、及び「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の237頁等に記載されている正孔阻止(ホールブロック)層がある。
(Blocking layer)
The blocking layer (hole blocking layer, electron blocking layer) is provided as necessary in addition to the basic constituent layer of the organic compound thin film as described above. For example, it is described in JP-A Nos. 11-204258, 11-204359, and “Organic EL elements and their forefront of industrialization” (issued by NTT, Inc. on November 30, 1998). There is a hole blocking (hole blocking) layer.

正孔阻止層とは、広い意味では、電子輸送層3dの機能を有する。正孔阻止層は、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい正孔阻止材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、後述する電子輸送層3dの構成を必要に応じて、正孔阻止層として用いることができる。正孔阻止層は、発光層3cに隣接して設けられていることが好ましい。   The hole blocking layer has the function of the electron transport layer 3d in a broad sense. The hole blocking layer is made of a hole blocking material that has a function of transporting electrons but has a very small ability to transport holes, and recombines electrons and holes by blocking holes while transporting electrons. Probability can be improved. Moreover, the structure of the electron carrying layer 3d mentioned later can be used as a hole-blocking layer as needed. The hole blocking layer is preferably provided adjacent to the light emitting layer 3c.

一方、電子阻止層とは、広い意味では、正孔輸送層3bの機能を有する。電子阻止層は、正孔を輸送する機能を有しつつ、電子を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。
また、後述する正孔輸送層3bの構成を必要に応じて電子阻止層として用いることができる。
本発明に適用する正孔阻止層の厚さとしては、好ましくは3〜100nmの範囲内であり、さらに好ましくは5〜30nmの範囲内である。
On the other hand, the electron blocking layer has the function of the hole transport layer 3b in a broad sense. The electron blocking layer is made of a material that has the ability to transport holes and has a very small ability to transport electrons. By blocking holes while transporting holes, the probability of recombination of electrons and holes is improved. Can be made.
Moreover, the structure of the positive hole transport layer 3b mentioned later can be used as an electron blocking layer as needed.
The thickness of the hole blocking layer applied to the present invention is preferably in the range of 3 to 100 nm, and more preferably in the range of 5 to 30 nm.

(補助電極15)
補助電極15は、透明電極1の抵抗を下げる目的で設けられるものであって、透明電極1の導電性層1bに接して設けられる。補助電極15を形成する材料は、金、白金、銀、銅、アルミニウム等の抵抗が低い金属が好ましい。これらの金属は光透過性が低いため、光取り出し面13aからの発光光hの取り出しの影響のない範囲でパターン形成される。
このような補助電極15の形成方法としては、蒸着法、スパッタリング法、印刷法、インクジェット法、エアロゾルジェット法などが挙げられる。
補助電極15の線幅は、光を取り出す開口率の観点から、50μm以下であることが好ましく、補助電極15の厚さは、導電性の観点から、1μm以上であることが好ましい。
(Auxiliary electrode 15)
The auxiliary electrode 15 is provided for the purpose of reducing the resistance of the transparent electrode 1, and is provided in contact with the conductive layer 1 b of the transparent electrode 1. The material forming the auxiliary electrode 15 is preferably a metal having low resistance such as gold, platinum, silver, copper, or aluminum. Since these metals have low light transmittance, a pattern is formed in a range not affected by extraction of the emitted light h from the light extraction surface 13a.
Examples of the method for forming the auxiliary electrode 15 include a vapor deposition method, a sputtering method, a printing method, an ink jet method, and an aerosol jet method.
The line width of the auxiliary electrode 15 is preferably 50 μm or less from the viewpoint of the aperture ratio for extracting light, and the thickness of the auxiliary electrode 15 is preferably 1 μm or more from the viewpoint of conductivity.

(封止材17)
封止材17は、有機EL素子100を覆うものであって、板状(フィルム状)の封止部材であって、接着剤19によって透明基板13側に固定されるものであっても良く、封止膜であっても良い。
このような封止材17は、有機EL素子100における透明電極1及び対向電極5aの端子部分を露出させる状態で、少なくとも発光機能層3を覆う状態で設けられている。また、封止材17に電極を設け、有機EL素子100の透明電極1及び対向電極5aの端子部分と、この電極とを導通させるように構成されていても良い。
(Encapsulant 17)
The sealing material 17 covers the organic EL element 100 and may be a plate-shaped (film-shaped) sealing member that is fixed to the transparent substrate 13 side by the adhesive 19. It may be a sealing film.
Such a sealing material 17 is provided so as to cover at least the light emitting functional layer 3 in a state where the terminal portions of the transparent electrode 1 and the counter electrode 5a in the organic EL element 100 are exposed. Moreover, an electrode may be provided on the sealing material 17 so that the transparent electrode 1 of the organic EL element 100 and the terminal portions of the counter electrode 5a are electrically connected to this electrode.

板状(フィルム状)の封止材17としては、具体的には、ガラス基板、ポリマー基板、金属基板等が挙げられ、これらの基板材料をさらに薄型のフィルム状にして用いても良い。
ガラス基板としては、特に、ソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を挙げることができる。
また、ポリマー基板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリサルフォン等を挙げることができる。
金属基板としては、ステンレス、鉄、銅、アルミニウム、マグネシウム、ニッケル、亜鉛、クロム、チタン、モリブデン、シリコン、ゲルマニウム及びタンタルからなる群から選ばれる1種以上の金属又は合金からなるものが挙げられる。
Specific examples of the plate-like (film-like) sealing material 17 include a glass substrate, a polymer substrate, a metal substrate, and the like. These substrate materials may be used in the form of a thin film.
Examples of the glass substrate include soda lime glass, barium / strontium-containing glass, lead glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, barium borosilicate glass, and quartz.
Examples of the polymer substrate include polycarbonate, acrylic, polyethylene terephthalate, polyether sulfide, and polysulfone.
Examples of the metal substrate include those made of one or more metals or alloys selected from the group consisting of stainless steel, iron, copper, aluminum, magnesium, nickel, zinc, chromium, titanium, molybdenum, silicon, germanium, and tantalum.

中でも、有機EL素子を薄膜化できるという観点から、封止材としてポリマー基板や金属基板を薄型のフィルム状にしたものを好ましく使用することができる。   Among these, from the viewpoint that the organic EL element can be thinned, a thin film-like polymer substrate or metal substrate can be preferably used as the sealing material.

さらには、フィルム状としたポリマー基板は、JIS K 7126−1987に準拠した方法で測定された酸素透過度が1×10−3ml/(m・24h・atm)以下、JIS K 7129−1992に準拠した方法で測定された、水蒸気透過度(25±0.5℃、相対湿度(90±2)%RH)が、1×10−3g/(m・24h)以下のものであることが好ましい。 Furthermore, the polymer substrate in the form of a film has an oxygen permeability measured by a method according to JIS K 7126-1987 of 1 × 10 −3 ml / (m 2 · 24 h · atm) or less, JIS K 7129-1992. The water vapor permeability (25 ± 0.5 ° C., relative humidity (90 ± 2)% RH) measured by a method based on the above is 1 × 10 −3 g / (m 2 · 24 h) or less. It is preferable.

以上のような基板材料は、凹板状に加工して封止材17として用いても良い。この場合、上述した基板部材に対してサンドブラスト加工、化学エッチング加工等の加工が施され、凹状が形成される。   The substrate material as described above may be processed into a concave plate shape and used as the sealing material 17. In this case, the above-described substrate member is subjected to processing such as sand blasting or chemical etching to form a concave shape.

また、このような板状の封止材17を、透明基板13側に固定するための接着剤19は、封止材17と透明基板13との間に挟持された有機EL素子100を封止するためのシール剤として用いられる。
このような接着剤19は、具体的には、アクリル酸系オリゴマー、メタクリル酸系オリゴマーの反応性ビニル基を有する光硬化及び熱硬化型接着剤、2−シアノアクリル酸エステル等の湿気硬化型等の接着剤を挙げることができる。
An adhesive 19 for fixing the plate-shaped sealing material 17 to the transparent substrate 13 side seals the organic EL element 100 sandwiched between the sealing material 17 and the transparent substrate 13. It is used as a sealing agent.
Specifically, such an adhesive 19 is a photocuring and thermosetting adhesive having a reactive vinyl group of an acrylic acid-based oligomer, a methacrylic acid-based oligomer, a moisture-curing type such as 2-cyanoacrylic acid ester, or the like. Can be mentioned.

また、このような接着剤19としては、エポキシ系等の熱及び化学硬化型(二液混合)を挙げることができる。また、ホットメルト型のポリアミド、ポリエステル、ポリオレフィンを挙げることができる。また、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤を挙げることができる。   Moreover, as such an adhesive agent 19, the heat | fever and chemical curing types (two-component mixing), such as an epoxy type, can be mentioned. Moreover, hot-melt type polyamide, polyester, and polyolefin can be mentioned. Moreover, a cationic curing type ultraviolet curing epoxy resin adhesive can be mentioned.

なお、有機EL素子100を構成する有機材料は、熱処理により劣化する場合がある。このため、接着剤19は、室温から80℃までに接着硬化できるものが好ましい。また、接着剤19中に乾燥剤を分散させておいてもよい。   In addition, the organic material which comprises the organic EL element 100 may deteriorate with heat processing. For this reason, the adhesive 19 is preferably one that can be adhesively cured from room temperature to 80 ° C. Further, a desiccant may be dispersed in the adhesive 19.

封止材17と透明基板13との接着部分への接着剤19の塗布は、市販のディスペンサーを使ってもよいし、スクリーン印刷のように印刷してもよい。   Application | coating of the adhesive agent 19 to the adhesion part of the sealing material 17 and the transparent substrate 13 may use a commercially available dispenser, and may print like screen printing.

また、板状の封止材17と透明基板13と接着剤19との間に隙間が形成される場合、この間隙には、気相及び液相では、窒素、アルゴン等の不活性気体やフッ化炭化水素、シリコンオイルのような不活性液体を注入することが好ましい。また、真空とすることも可能である。また、内部に吸湿性化合物を封入することもできる。   In addition, when a gap is formed between the plate-shaped sealing material 17, the transparent substrate 13, and the adhesive 19, in this gap, in the gas phase and the liquid phase, an inert gas such as nitrogen or argon or a fluorine is used. It is preferable to inject an inert liquid such as activated hydrocarbon or silicon oil. A vacuum can also be used. Moreover, a hygroscopic compound can also be enclosed inside.

吸湿性化合物としては、例えば、金属酸化物(例えば、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム等)、硫酸塩(例えば、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸コバルト等)、金属ハロゲン化物(例えば、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、フッ化セシウム、フッ化タンタル、臭化セリウム、臭化マグネシウム、沃化バリウム、沃化マグネシウム等)、過塩素酸類(例えば、過塩素酸バリウム、過塩素酸マグネシウム等)等が挙げられ、硫酸塩、金属ハロゲン化物及び過塩素酸類においては無水塩が好適に用いられる。   Examples of the hygroscopic compound include metal oxides (for example, sodium oxide, potassium oxide, calcium oxide, barium oxide, magnesium oxide, aluminum oxide) and sulfates (for example, sodium sulfate, calcium sulfate, magnesium sulfate, cobalt sulfate). Etc.), metal halides (eg calcium chloride, magnesium chloride, cesium fluoride, tantalum fluoride, cerium bromide, magnesium bromide, barium iodide, magnesium iodide etc.), perchloric acids (eg perchloric acid) Barium, magnesium perchlorate, and the like), and anhydrous salts are preferably used in sulfates, metal halides, and perchloric acids.

一方、封止材17として封止膜を用いる場合、有機EL素子100における発光機能層3を完全に覆い、かつ有機EL素子100における透明電極1及び対向電極5aの端子部分を露出させる状態で、透明基板13上に封止膜が設けられる。   On the other hand, when a sealing film is used as the sealing material 17, the light emitting functional layer 3 in the organic EL element 100 is completely covered and the terminal portions of the transparent electrode 1 and the counter electrode 5a in the organic EL element 100 are exposed. A sealing film is provided on the transparent substrate 13.

このような封止膜は、無機材料や有機材料を用いて構成される。特に、水分や酸素等、有機EL素子100における発光機能層3の劣化をもたらす物質の浸入を抑制する機能を有する材料で構成される。このような材料としては、例えば、酸化ケイ素、二酸化ケイ素、窒化ケイ素等の無機材料が用いられる。
さらに、封止膜の脆弱性を改良するために、これら無機材料からなる膜とともに、有機材料からなる膜を用いて積層構造としても良い。
Such a sealing film is configured using an inorganic material or an organic material. In particular, it is made of a material having a function of suppressing intrusion of a substance that causes deterioration of the light emitting functional layer 3 in the organic EL element 100 such as moisture and oxygen. As such a material, for example, inorganic materials such as silicon oxide, silicon dioxide, and silicon nitride are used.
Furthermore, in order to improve the brittleness of the sealing film, a laminated structure may be formed using a film made of an organic material in addition to a film made of these inorganic materials.

これらの膜の形成方法については、特に限定はなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱CVD法、コーティング法等を用いることができる。   The method for forming these films is not particularly limited. For example, vacuum deposition method, sputtering method, reactive sputtering method, molecular beam epitaxy method, cluster ion beam method, ion plating method, plasma polymerization method, atmospheric pressure plasma A polymerization method, a plasma CVD method, a laser CVD method, a thermal CVD method, a coating method, or the like can be used.

(保護膜、保護板)
先に例示した図ではその記載を省略したが、透明基板13との間に有機EL素子100及び封止材17を挟んで保護膜若しくは保護板を設けても良い。この保護膜若しくは保護板は、有機EL素子100を機械的に保護するためのものであり、特に封止材17が封止膜である場合には、有機EL素子100に対する機械的な保護が十分ではないため、このような保護膜若しくは保護板を設けることが好ましい。
(Protective film, protective plate)
Although not shown in the drawings illustrated above, a protective film or a protective plate may be provided between the transparent substrate 13 and the organic EL element 100 and the sealing material 17. This protective film or protective plate is for mechanically protecting the organic EL element 100, and in particular when the sealing material 17 is a sealing film, sufficient mechanical protection is provided for the organic EL element 100. Therefore, it is preferable to provide such a protective film or protective plate.

以上のような保護膜若しくは保護板は、ガラス板、ポリマー板、これよりも薄型のポリマーフィルム、金属板、これよりも薄型の金属フィルム、又はポリマー材料膜や金属材料膜が適用される。このうち特に、軽量かつ薄膜化ということからポリマーフィルムを用いることが好ましい。   As the above protective film or protective plate, a glass plate, a polymer plate, a polymer film thinner than this, a metal plate, a metal film thinner than this, a polymer material film or a metal material film is applied. Among these, it is particularly preferable to use a polymer film because it is light and thin.

〔有機EL素子の作製方法〕
ここでは一例として、図2に示す有機EL素子100の製造方法について説明する。
[Method for producing organic EL element]
Here, as an example, a method for manufacturing the organic EL element 100 shown in FIG. 2 will be described.

まず、透明基板13上に、分子内に前記共有結合部位と前記配位結合部位の両方を備えた有機化合物からなる中間層1aを、1μm以下、好ましくは10〜100nmの範囲内の層厚になるように蒸着法等の方法を適宜選択して形成する。
次に、銀(又は銀を主成分とした合金)からなる導電性層1bを、5〜20nmの範囲内、好ましくは5〜8nmの範囲内の層厚になるように、蒸着法等の方法を適宜選択して中間層1a上に形成し、アノードとなる透明電極1を作製する。
First, on the transparent substrate 13, an intermediate layer 1a made of an organic compound having both the covalent bond site and the coordinate bond site in the molecule is formed to a layer thickness of 1 μm or less, preferably in the range of 10 to 100 nm. A method such as a vapor deposition method is appropriately selected so as to be formed.
Next, a method such as a vapor deposition method so that the conductive layer 1b made of silver (or an alloy containing silver as a main component) has a layer thickness in the range of 5 to 20 nm, preferably in the range of 5 to 8 nm. Is appropriately selected and formed on the intermediate layer 1a to produce the transparent electrode 1 serving as an anode.

次に、この透明電極1上に、正孔注入層3a、正孔輸送層3b、発光層3c、電子輸送層3d、電子注入層3eの順に形成し、発光機能層3を形成する。これらの各層の形成は、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法、蒸着法、印刷法等があるが、均質な膜が得られやすく、かつピンホールが生成しにくい等の点から、真空蒸着法又はスピンコート法が特に好ましい。さらに、層ごとに異なる形成法を適用してもよい。
これらの各層の形成に蒸着法を採用する場合、その蒸着条件は使用する化合物の種類等により異なるが、一般にボート加熱温度50〜450℃の範囲内、真空度1×10−6〜1×10−2Paの範囲内、蒸着速度0.01〜50nm/秒の範囲内、基板温度−50〜300℃の範囲内、層厚0.1〜5μmの範囲内で、各条件を適宜選択することが望ましい。
Next, the hole injection layer 3a, the hole transport layer 3b, the light emitting layer 3c, the electron transport layer 3d, and the electron injection layer 3e are formed in this order on the transparent electrode 1, thereby forming the light emitting functional layer 3. The formation of each of these layers includes spin coating, casting, ink jet, vapor deposition, and printing. However, vacuum vapor deposition is used because it is easy to obtain a homogeneous film and pinholes are not easily generated. Or a spin coat method is particularly preferable. Further, different formation methods may be applied for each layer.
When employing a vapor deposition method for forming each of these layers, the vapor deposition conditions vary depending on the type of compound used, but generally the boat heating temperature is in the range of 50 to 450 ° C., and the degree of vacuum is 1 × 10 −6 to 1 × 10. Each condition is appropriately selected within a range of −2 Pa, a deposition rate of 0.01 to 50 nm / second, a substrate temperature of −50 to 300 ° C., and a layer thickness of 0.1 to 5 μm. Is desirable.

以上のようにして発光機能層3を形成した後、この上部にカソードとなる対向電極5aを、蒸着法やスパッタ法などの成膜法を適宜選択して形成する。この際、対向電極5aは、発光機能層3によって透明電極1に対して絶縁状態を保ちつつ、発光機能層3の上方から透明基板13の周縁に端子部分を引き出した形状にパターン形成する。これにより、有機EL素子100が得られる。
またその後には、有機EL素子100における透明電極1及び対向電極5aの端子部分を露出させた状態で、少なくとも発光機能層3を覆う封止材17を設ける。
After the light emitting functional layer 3 is formed as described above, the counter electrode 5a serving as a cathode is formed thereon by appropriately selecting a film forming method such as a vapor deposition method or a sputtering method. At this time, the counter electrode 5 a is patterned in a shape in which a terminal portion is drawn from the upper side of the light emitting functional layer 3 to the periphery of the transparent substrate 13 while maintaining the insulating state with respect to the transparent electrode 1 by the light emitting functional layer 3. Thereby, the organic EL element 100 is obtained.
Thereafter, a sealing material 17 that covers at least the light emitting functional layer 3 is provided in a state where the terminal portions of the transparent electrode 1 and the counter electrode 5a in the organic EL element 100 are exposed.

以上により、透明基板13上に所望の有機EL素子を作製することができる。このような有機EL素子100の作製においては、一回の真空引きで一貫して発光機能層3から対向電極5aまで作製する方式が好ましいが、途中で真空雰囲気から透明基板13を取り出して、異なる成膜法を施しても構わない。その際、作業を乾燥不活性ガス雰囲気下で行う等の配慮が必要となる。   As described above, a desired organic EL element can be produced on the transparent substrate 13. In the production of such an organic EL element 100, it is preferable to consistently produce from the light emitting functional layer 3 to the counter electrode 5a by one evacuation. However, the transparent substrate 13 is taken out from the vacuum atmosphere in the middle and is different. A film forming method may be applied. At that time, it is necessary to consider that the work is performed in a dry inert gas atmosphere.

このようにして得られた有機EL素子100に直流電圧を印加する場合には、アノードである透明電極1を+の極性とし、カソードである対向電極5aを−の極性として、電圧として2〜40Vの範囲内で印加すると発光が観測できる。また交流電圧を印加してもよい。なお、印加する交流の波形は任意でよい。   When a DC voltage is applied to the organic EL element 100 thus obtained, the transparent electrode 1 as an anode has a positive polarity, the counter electrode 5a as a cathode has a negative polarity, and the voltage is 2 to 40 V. Luminescence can be observed when applied within the range. An alternating voltage may be applied. The alternating current waveform to be applied may be arbitrary.

〔第1例で示す有機EL素子の効果〕
以上説明した有機EL素子100は、導電性と光透過性とを兼ね備えた本発明の透明電極1をアノードとして用い、この上部に発光機能層3とカソードとなる対向電極5aとを設けた構成である。このため、透明電極1と対向電極5aとの間に十分な電圧を印加して有機EL素子100での高輝度発光を実現しつつ、透明電極1側からの発光光hの取り出し効率が向上することにより、高輝度化を図ることが可能である。さらに、所望の輝度を得るため、駆動電圧の低減による発光寿命の向上を図ることも可能になる。
[Effect of the organic EL element shown in the first example]
The organic EL element 100 described above has a configuration in which the transparent electrode 1 of the present invention having both conductivity and light transmittance is used as an anode, and a light emitting functional layer 3 and a counter electrode 5a serving as a cathode are provided above the transparent electrode 1. is there. For this reason, the extraction efficiency of the emitted light h from the transparent electrode 1 side is improved while applying a sufficient voltage between the transparent electrode 1 and the counter electrode 5a to realize high luminance light emission in the organic EL element 100. Thus, it is possible to increase the luminance. Further, in order to obtain a desired luminance, it is possible to improve the light emission lifetime by reducing the drive voltage.

《4.有機EL素子の第2例》
〔有機EL素子の構成〕
図4は、本発明の電子デバイスの一例として、上述した透明電極を用いた有機EL素子の第2例を示す断面構成図である。
図4に示す第2例の有機EL素子200が、図3に示した第1例の有機EL素子100と異なるところは、透明電極1をカソードとして用いるところにある。以下、第1例と同様の構成要素についての重複する詳細な説明は省略し、第2例の有機EL素子200の特徴的な構成について、以下に説明する。
<< 4. Second Example of Organic EL Device >>
[Configuration of organic EL element]
FIG. 4 is a cross-sectional configuration diagram showing a second example of the organic EL element using the transparent electrode described above as an example of the electronic device of the present invention.
The organic EL element 200 of the second example shown in FIG. 4 is different from the organic EL element 100 of the first example shown in FIG. 3 in that the transparent electrode 1 is used as a cathode. Hereinafter, a detailed description of the same components as in the first example will be omitted, and a characteristic configuration of the organic EL element 200 in the second example will be described below.

図4に示す有機EL素子200は、透明基板13上に設けられており、第1例と同様に、透明基板13上の透明電極1として、先に説明した本発明の透明電極1を用いている。このため、有機EL素子200は、少なくとも透明基板13側から発光光hを取り出せるように構成されている。ただし、この透明電極1は、カソード(陰極)として用いられ、対向電極5bはアノード(陽極)として用いられることになる。   The organic EL element 200 shown in FIG. 4 is provided on the transparent substrate 13, and the transparent electrode 1 of the present invention described above is used as the transparent electrode 1 on the transparent substrate 13 as in the first example. Yes. For this reason, the organic EL element 200 is configured to extract the emitted light h from at least the transparent substrate 13 side. However, the transparent electrode 1 is used as a cathode (cathode), and the counter electrode 5b is used as an anode (anode).

このように構成される有機EL素子200の層構造は、以下に説明する例に限定されることはなく、一般的な層構造であっても良いことは、第1例と同様である。   The layer structure of the organic EL element 200 configured as described above is not limited to the example described below, and may be a general layer structure as in the first example.

第2例で示す層構成の一例としては、カソードとして機能する透明電極1の上部に、電子注入層3e/電子輸送層3d/発光層3c/正孔輸送層3b/正孔注入層3aをこの順に積層した発光機能層3が例示される。ただし、このうち少なくとも有機材料で構成される発光層3cを有することが必須の条件である。   As an example of the layer structure shown in the second example, an electron injection layer 3e / electron transport layer 3d / light emitting layer 3c / hole transport layer 3b / hole injection layer 3a are formed on the transparent electrode 1 functioning as a cathode. The light emitting functional layer 3 laminated in order is illustrated. However, among these, it is an essential condition to have at least the light emitting layer 3c made of an organic material.

なお、発光機能層3は、これらの層の他にも、第1例で説明したのと同様に、必要に応じ、様々な機能層を組み入れることができる。このような構成において、透明電極1と対向電極5bとで発光機能層3が挟持された部分のみが、有機EL素子200における発光領域となることも、第1例と同様である。   In addition to these layers, the light emitting functional layer 3 can incorporate various functional layers as necessary, as described in the first example. In such a configuration, only the portion where the light emitting functional layer 3 is sandwiched between the transparent electrode 1 and the counter electrode 5b becomes the light emitting region in the organic EL element 200, as in the first example.

また、以上のような層構成においては、透明電極1の低抵抗化を図ることを目的として透明電極1の導電性層1bに接して補助電極15が設けられていても良いことも、第1例と同様である。   In the layer configuration as described above, the auxiliary electrode 15 may be provided in contact with the conductive layer 1b of the transparent electrode 1 for the purpose of reducing the resistance of the transparent electrode 1. Similar to the example.

ここで、アノードとして用いられる対向電極5bは、金属、合金、有機若しくは無機の導電性化合物、又はこれらの混合物等から構成されている。具体的には、金(Au)等の金属、ヨウ化銅(CuI)、ITO、ZnO、TiO、SnO等の酸化物半導体などが挙げられる。 Here, the counter electrode 5b used as the anode is composed of a metal, an alloy, an organic or inorganic conductive compound, or a mixture thereof. Specific examples include metals such as gold (Au), oxide semiconductors such as copper iodide (CuI), ITO, ZnO, TiO 2 , and SnO 2 .

以上のような材料で構成される対向電極5bは、これらの導電性材料を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより作製することができる。
また、対向電極5bとしてのシート抵抗値は、数百Ω/□以下が好ましく、膜厚は通常5nm〜5μmの範囲内、好ましくは5〜200nmの範囲内で選ばれる。
The counter electrode 5b composed of the materials as described above can be produced by forming a thin film of these conductive materials by a method such as vapor deposition or sputtering.
Further, the sheet resistance value as the counter electrode 5b is preferably several hundred Ω / □ or less, and the film thickness is usually selected within a range of 5 nm to 5 μm, preferably within a range of 5 to 200 nm.

なお、この有機EL素子200が、対向電極5b側からも発光光hを取り出せるように構成されている場合、対向電極5bを構成する材料としては、上述した導電性材料のうち光透過性の良好な導電性材料が選択されて用いられる。   In addition, when this organic EL element 200 is comprised so that emitted light h can be taken out also from the counter electrode 5b side, as a material which comprises the counter electrode 5b, favorable light transmittance is mentioned among the electrically conductive materials mentioned above. A suitable conductive material is selected and used.

以上のような構成の有機EL素子200は、発光機能層3の劣化を防止することを目的として、第1例と同様に封止材17で封止されている。   The organic EL element 200 having the above configuration is sealed with the sealing material 17 in the same manner as in the first example for the purpose of preventing deterioration of the light emitting functional layer 3.

以上説明した有機EL素子200を構成する主要各層のうち、アノードとして用いられる対向電極5b以外の構成要素の詳細な構成、及び有機EL素子200の作製方法は、第1例と同様である。このため詳細な説明は省略する。   Of the main layers constituting the organic EL element 200 described above, the detailed structure of the constituent elements other than the counter electrode 5b used as the anode and the method for producing the organic EL element 200 are the same as in the first example. Therefore, detailed description is omitted.

〔第2例で示す有機EL素子の効果〕
以上説明した図4で示す有機EL素子200は、導電性と光透過性とを兼ね備えた本発明の透明電極1をカソードとして用い、この上部に発光機能層3とアノードとなる対向電極5bとを設けた構成である。このため、第1例と同様に、透明電極1と対向電極5bとの間に十分な電圧を印加して有機EL素子200での高輝度発光を実現しつつ、透明電極1側からの発光光hの取り出し効率が向上することによる高輝度化を図ることが可能である。さらに、所定輝度を得るための駆動電圧の低減による発光寿命の向上を図ることも可能になる。
[Effect of organic EL element shown in second example]
In the organic EL element 200 shown in FIG. 4 described above, the transparent electrode 1 of the present invention having both conductivity and light transmittance is used as a cathode, and the light emitting functional layer 3 and the counter electrode 5b serving as the anode are formed on the upper portion. This is a configuration provided. For this reason, as in the first example, a sufficient voltage is applied between the transparent electrode 1 and the counter electrode 5b to realize high-luminance light emission in the organic EL element 200, and light emitted from the transparent electrode 1 side. It is possible to increase the luminance by improving the extraction efficiency of h. Further, it is possible to improve the light emission life by reducing the drive voltage for obtaining a predetermined luminance.

《5.有機EL素子の第3例》
〔有機EL素子の構成〕
図5は、本発明の電子デバイスの一例として、上述した透明電極を用いた有機EL素子の第3例を示す断面構成図である。
図5に示す第3例の有機EL素子300が、図3を用いて説明した第1例の有機EL素子100と異なるところは、基板131側に対向電極5cを設け、この上部に発光機能層3と透明電極1とをこの順に積層したところにある。以下、第1例と同様の構成要素についての重複する詳細な説明は省略し、第3例の有機EL素子300の特徴的な構成を説明する。
<< 5. Third Example of Organic EL Device >>
[Configuration of organic EL element]
FIG. 5 is a cross-sectional configuration diagram illustrating a third example of the organic EL element using the transparent electrode described above as an example of the electronic device of the present invention.
The organic EL element 300 of the third example shown in FIG. 5 is different from the organic EL element 100 of the first example described with reference to FIG. 3 in that a counter electrode 5c is provided on the substrate 131 side, and a light emitting functional layer is formed thereon. 3 and the transparent electrode 1 are stacked in this order. Hereinafter, the detailed description of the same components as those in the first example will be omitted, and the characteristic configuration of the organic EL element 300 in the third example will be described.

図5に示す有機EL素子300は、基板131上に設けられており、基板131側から、アノードとなる対向電極5c、発光機能層3、及びカソードとなる透明電極1がこの順に積層されている。このうち、透明電極1としては、先に説明した本発明の透明電極1を用いている。このため有機EL素子300は、少なくとも基板131とは逆の透明電極1側から発光光hを取り出せるように構成されている。   The organic EL element 300 shown in FIG. 5 is provided on a substrate 131, and the counter electrode 5c serving as an anode, the light emitting functional layer 3, and the transparent electrode 1 serving as a cathode are laminated in this order from the substrate 131 side. . Among these, as the transparent electrode 1, the transparent electrode 1 of the present invention described above is used. For this reason, the organic EL element 300 is configured to extract the emitted light h from at least the transparent electrode 1 side opposite to the substrate 131.

このように構成される有機EL素子300の層構造は、以下に説明する例に限定されることはなく、一般的な層構造であっても良いことは、第1例と同様である。第3例の場合の一例としては、図5に示すように、アノードとして機能する対向電極5cの上部に、正孔注入層3a/正孔輸送層3b/発光層3c/電子輸送層3dをこの順に積層した構成が例示される。ただし、このうち少なくとも有機材料を用いて構成された発光層3cを有することが必須である。また、電子輸送層3dは、電子注入層3eを兼ねたもので、電子注入性を有する電子輸送層3dとして設けられていることとする。   The layer structure of the organic EL element 300 configured as described above is not limited to the example described below, and may be a general layer structure as in the first example. As an example in the case of the third example, as shown in FIG. 5, a hole injection layer 3a / a hole transport layer 3b / a light emitting layer 3c / an electron transport layer 3d are formed on the counter electrode 5c functioning as an anode. The structure laminated | stacked in order is illustrated. However, it is essential to have at least the light emitting layer 3c configured using an organic material. The electron transport layer 3d also serves as the electron injection layer 3e, and is provided as an electron transport layer 3d having electron injection properties.

特に、第3例として示す有機EL素子300の特徴的な構成としては、電子注入性を有する電子輸送層3dが、透明電極1における中間層1aとして設けられているところにある。すなわち、第3例においては、カソードとして用いられる透明電極1が、電子注入性を有する電子輸送層3dを兼ねる中間層1aと、その上部に設けられた導電性層1bとで構成されているものである。   In particular, a characteristic configuration of the organic EL element 300 shown as the third example is that an electron transporting layer 3d having an electron injecting property is provided as the intermediate layer 1a in the transparent electrode 1. That is, in the third example, the transparent electrode 1 used as a cathode is composed of an intermediate layer 1a also serving as an electron transport layer 3d having electron injection properties, and a conductive layer 1b provided on the intermediate layer 1a. It is.

このような電子輸送層3dは、上述した透明電極1の中間層1aを構成する材料を用いて構成されている。   Such an electron transport layer 3d is configured by using the material constituting the intermediate layer 1a of the transparent electrode 1 described above.

なお、発光機能層3は、これらの層の他にも、第1例で説明したのと同様に、必要に応じた様々な機能層を採用することができるが、透明電極1の中間層1aを兼ねる電子輸送層3dと、透明電極1の導電性層1bとの間には、電子注入層や正孔阻止層が設けられることはない。以上のような構成において、透明電極1と対向電極5cとで発光機能層3が挟持された部分のみが、有機EL素子300における発光領域となることは、第1例と同様である。   In addition to these layers, the light emitting functional layer 3 can employ various functional layers as necessary, as described in the first example, but the intermediate layer 1a of the transparent electrode 1 can be used. The electron injection layer and the hole blocking layer are not provided between the electron transport layer 3d serving also as the conductive layer 1b and the conductive layer 1b of the transparent electrode 1. In the configuration as described above, only the portion where the light emitting functional layer 3 is sandwiched between the transparent electrode 1 and the counter electrode 5c becomes the light emitting region in the organic EL element 300, as in the first example.

また、以上のような層構成においては、透明電極1の低抵抗化を図ることを目的とし、透明電極1の導電性層1bに接して補助電極15が設けられていても良いことも、第1例と同様である。   In the layer structure as described above, the auxiliary electrode 15 may be provided in contact with the conductive layer 1b of the transparent electrode 1 for the purpose of reducing the resistance of the transparent electrode 1. The same as in the example.

さらに、アノードとして用いられる対向電極5cは、金属、合金、有機若しくは無機の導電性化合物、又はこれらの混合物等から構成されている。具体的には、金(Au)等の金属、ヨウ化銅(CuI)、ITO、ZnO、TiO、SnO等の酸化物半導体などが挙げられる。 Furthermore, the counter electrode 5c used as the anode is composed of a metal, an alloy, an organic or inorganic conductive compound, or a mixture thereof. Specific examples include metals such as gold (Au), oxide semiconductors such as copper iodide (CuI), ITO, ZnO, TiO 2 , and SnO 2 .

以上のような材料で構成されている対向電極5cは、これらの導電性材料を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより作製することができる。
また、対向電極5cとしてのシート抵抗値は、数百Ω/□以下が好ましく、膜厚は通常5nm〜5μm、好ましくは5〜200nmの範囲で選ばれる。
The counter electrode 5c made of the material as described above can be produced by forming a thin film of these conductive materials by a method such as vapor deposition or sputtering.
Further, the sheet resistance value as the counter electrode 5c is preferably several hundred Ω / □ or less, and the film thickness is usually selected in the range of 5 nm to 5 μm, preferably 5 to 200 nm.

なお、この有機EL素子300が、対向電極5c側からも発光光hを取り出せるように構成されている場合、対向電極5cを構成する材料としては、上述した導電性材料のうち光透過性の良好な導電性材料が選択されて用いられる。また、この場合、基板131としては、第1例で説明した透明基板13と同様のものが用いられ、基板131の外側に向かう面が光取り出し面131aとなる場合がある。   In addition, when this organic EL element 300 is comprised so that the emitted light h can be taken out also from the counter electrode 5c side, as a material which comprises the counter electrode 5c, light transmittance is favorable among the electrically conductive materials mentioned above. A suitable conductive material is selected and used. In this case, the substrate 131 is the same as the transparent substrate 13 described in the first example, and the surface facing the outside of the substrate 131 may be the light extraction surface 131a.

〔第3例で示す有機EL素子の効果〕
以上説明した第3例で示す有機EL素子300は、発光機能層3の最上部を構成する電子注入性を有する電子輸送層3dを中間層1aとし、この上部に導電性層1bを設けることにより、中間層1aとこの上部の導電性層1bとからなる透明電極1をカソードとして設けた構成である。このため、第1例及び第2例と同様に、透明電極1と対向電極5cとの間に十分な電圧を印加して有機EL素子300での高輝度発光を実現しつつ、透明電極1側からの発光光hの取り出し効率が向上することによる高輝度化を図ることが可能である。さらに、所定輝度を得るための駆動電圧の低減による発光寿命の向上を図ることも可能になる。また、対向電極5cが光透過性を有する電極材料で構成されている場合には、対向電極5cからも発光光hを取り出すことができる。
[Effect of organic EL element shown in third example]
In the organic EL element 300 shown in the third example described above, the electron transporting layer 3d having the electron injecting property constituting the uppermost part of the light emitting functional layer 3 is used as the intermediate layer 1a, and the conductive layer 1b is provided thereon. The transparent electrode 1 comprising the intermediate layer 1a and the upper conductive layer 1b is provided as a cathode. Therefore, similarly to the first example and the second example, a sufficient voltage is applied between the transparent electrode 1 and the counter electrode 5c to realize high-luminance light emission in the organic EL element 300, while the transparent electrode 1 side. It is possible to increase the luminance by improving the extraction efficiency of the emitted light h from the light source. Further, it is possible to improve the light emission life by reducing the drive voltage for obtaining a predetermined luminance. Further, when the counter electrode 5c is made of a light-transmissive electrode material, the emitted light h can be extracted from the counter electrode 5c.

なお、上述の第3例においては、透明電極1の中間層1aが電子注入性を有する電子輸送層3dを兼ねているものとして説明したが、本発明においてはこれら例示する構成に限られるものではなく、中間層1aが電子注入性を有していない電子輸送層3dを兼ねているものであっても良いし、中間層1aが電子輸送層ではなく電子注入層を兼ねているものであっても良い。また、中間層1aが有機EL素子の発光機能に影響を及ぼさない程度の極薄膜として形成されているものとしても良く、この場合には、中間層1aは電子輸送性及び電子注入性を有していない。   In the third example described above, the intermediate layer 1a of the transparent electrode 1 has been described as also serving as the electron transport layer 3d having electron injection properties. However, in the present invention, the configuration is not limited to these examples. The intermediate layer 1a may also serve as the electron transport layer 3d that does not have electron injecting property, or the intermediate layer 1a may serve as the electron injection layer instead of the electron transport layer. Also good. In addition, the intermediate layer 1a may be formed as an extremely thin film that does not affect the light emitting function of the organic EL element. In this case, the intermediate layer 1a has electron transport properties and electron injection properties. Not.

さらに、透明電極1の中間層1aが有機EL素子の発光機能に影響を及ぼさない程度の極薄膜として形成されている場合には、基板131側の対向電極をカソードとし、発光機能層3上の透明電極1をアノードとしても良い。この場合、発光機能層3は、基板131上の対向電極5c(カソード)側から順に、例えば、電子注入層3e/電子輸送層3d/発光層3c/正孔輸送層3b/正孔注入層3aが積層される。そしてこの上部に極薄い中間層1aと導電性層1bとの積層構造からなる透明電極1が、アノードとして設けられている。   Furthermore, when the intermediate layer 1a of the transparent electrode 1 is formed as an ultrathin film that does not affect the light emitting function of the organic EL element, the counter electrode on the substrate 131 side is used as a cathode, and the light emitting functional layer 3 is formed. The transparent electrode 1 may be an anode. In this case, the light emitting functional layer 3 is formed in order from the counter electrode 5c (cathode) side on the substrate 131, for example, electron injection layer 3e / electron transport layer 3d / light emitting layer 3c / hole transport layer 3b / hole injection layer 3a. Are stacked. A transparent electrode 1 having a laminated structure of an extremely thin intermediate layer 1a and a conductive layer 1b is provided as an anode on the top.

《6.有機EL素子の用途》
上記図を交えて説明した各構成からなる有機EL素子は、上述したように面発光体であるため、各種の発光光源として適用することができる。例えば、家庭用照明や車内照明などの照明装置、時計や液晶表示装置用のバックライト、看板広告用照明、信号機の光源、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられるが、これに限定するものではなく、特に、カラーフィルターと組み合わせた液晶表示装置のバックライト、照明用光源の用途として有効に用いることができる。
<< 6. Applications of organic EL devices >>
Since the organic EL element which consists of each structure demonstrated with the said figure is a surface light emitter as mentioned above, it can be applied as various light emission sources. For example, lighting devices such as home lighting and interior lighting, backlights for watches and liquid crystal display devices, lighting for billboard advertisements, light sources for traffic lights, light sources for optical storage media, light sources for electrophotographic copying machines, optical communication processors Examples include, but are not limited to, a light source and a light source of an optical sensor. In particular, the light source can be effectively used as a backlight of a liquid crystal display device combined with a color filter and an illumination light source.

また、本発明の有機EL素子は、照明用や露光光源のような1種のランプとして使用してもよいし、画像を投影するタイプのプロジェクション装置や、静止画像や動画像を直接視認するタイプの表示装置(ディスプレイ)として使用してもよい。この場合、近年の照明装置及びディスプレイの大型化にともない、有機EL素子を設けた発光パネル同士を平面的に接合する、いわゆるタイリングによって発光面を大面積化しても良い。   Further, the organic EL element of the present invention may be used as a kind of lamp for illumination or exposure light source, a projection apparatus for projecting an image, or a type for directly viewing a still image or a moving image. It may be used as a display device (display). In this case, with the recent increase in the size of lighting devices and displays, the light emitting surface may be enlarged by so-called tiling, in which light emitting panels provided with organic EL elements are joined together in a plane.

動画再生用の表示装置として使用する場合の駆動方式は、単純マトリクス(パッシブマトリクス)方式でもアクティブマトリクス方式でもどちらでもよい。また、異なる発光色を有する本発明の有機EL素子を2種以上使用することにより、カラー又はフルカラー表示装置を作製することが可能である。   The driving method when used as a display device for moving image reproduction may be either a simple matrix (passive matrix) method or an active matrix method. In addition, a color or full-color display device can be manufactured by using two or more organic EL elements of the present invention having different emission colors.

以下では、用途の一例として照明装置について説明し、次にタイリングによって発光面を大面積化した照明装置について説明する。   Hereinafter, a lighting device will be described as an example of the application, and then a lighting device in which the light emitting surface is enlarged by tiling will be described.

《7.照明装置−1》
本発明に係る照明装置では、本発明の有機EL素子を具備することができる。
<< 7. Illumination device-1 >>
The lighting device according to the present invention can include the organic EL element of the present invention.

本発明に係る照明装置に用いる有機EL素子は、上述した構成の各有機EL素子に共振器構造を持たせた設計としてもよい。共振器構造を有するように構成された有機EL素子の使用目的としては、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられるが、これらに限定されない。また、レーザー発振をさせることにより上記用途に使用してもよい。   The organic EL element used in the lighting device according to the present invention may be designed such that each organic EL element having the above-described configuration has a resonator structure. The purpose of use of the organic EL element configured to have a resonator structure includes a light source of an optical storage medium, a light source of an electrophotographic copying machine, a light source of an optical communication processor, a light source of an optical sensor, etc. It is not limited to. Moreover, you may use for the said use by making a laser oscillation.

なお、本発明の有機EL素子に用いられる材料は、実質的に白色の発光を生じる有機EL素子(白色有機EL素子ともいう)に適用できる。例えば、複数の発光材料により複数の発光色を同時に発光させて混色により白色発光を得ることもできる。複数の発光色の組み合わせとしては、赤色、緑色、青色の3原色の三つの発光極大波長を含有させたものでもよいし、青色と黄色、青緑と橙色等の補色の関係を利用した二つの発光極大波長を含有したものでもよい。   In addition, the material used for the organic EL element of this invention is applicable to the organic EL element (it is also called white organic EL element) which produces substantially white light emission. For example, a plurality of light emitting materials can simultaneously emit a plurality of light emission colors to obtain white light emission by color mixing. The combination of a plurality of emission colors may include three emission maximum wavelengths of the three primary colors of red, green, and blue, or two of the complementary colors such as blue and yellow, blue green and orange, etc. The thing containing the light emission maximum wavelength may be used.

また、複数の発光色を得るための発光材料の組み合わせは、複数のリン光又は蛍光で発光する材料を複数組み合わせたもの、蛍光又はリン光で発光する発光材料と、発光材料からの光を励起光として発光する色素材料との組み合わせたもののいずれでもよいが、白色有機EL素子においては、発光ドーパントを複数組み合わせて混合したものでもよい。   In addition, a combination of light emitting materials for obtaining a plurality of emission colors is a combination of a plurality of phosphorescent or fluorescent materials, a light emitting material that emits fluorescence or phosphorescence, and excitation of light from the light emitting materials. Any combination with a pigment material that emits light as light may be used, but in a white organic EL element, a combination of a plurality of light-emitting dopants may be used.

このような白色有機EL素子は、各色発光の有機EL素子をアレー状に個別に並列配置して白色発光を得る構成と異なり、有機EL素子自体が白色を発光する。このため、素子を構成するほとんどの層の形成にマスクを必要とせず、一面に蒸着法、キャスト法、スピンコート法、インクジェット法、印刷法等で例えば電極膜を形成でき、生産性も向上する。   Such a white organic EL element is different from a configuration in which organic EL elements each emitting light are individually arranged in parallel in an array to obtain white light emission, and the organic EL element itself emits white light. For this reason, a mask is not required for the formation of most layers constituting the element, and for example, an electrode film can be formed on one surface by vapor deposition, casting, spin coating, ink jet, printing, etc., and productivity is improved. .

また、このような白色有機EL素子の発光層に用いる発光材料としては、特に制限はなく、例えば、液晶表示素子におけるバックライトであれば、CF(カラーフィルター)特性に対応した波長範囲に適合するように、本発明に係る金属錯体、また公知の発光材料の中から任意のものを選択して組み合わせて白色化すればよい。   Moreover, there is no restriction | limiting in particular as a light emitting material used for the light emitting layer of such a white organic EL element, For example, if it is a backlight in a liquid crystal display element, it will fit in the wavelength range corresponding to CF (color filter) characteristic. As described above, any metal complex according to the present invention or a known light emitting material may be selected and combined to be whitened.

以上説明した白色有機EL素子を用いれば、実質的に白色の発光を生じる照明装置を作製することが可能である。   If the white organic EL element demonstrated above is used, it is possible to produce the illuminating device which produces substantially white light emission.

《8.照明装置−2》
図6には、上記各構成の有機EL素子を複数用いて発光面を大面積化した照明装置の断面構成図を示す。
図6で示す照明装置21は、例えば、透明基板13上に有機EL素子100を設けた複数の発光パネル22を、支持基板23上に複数配列する(すなわちタイリングする)ことによって発光面を大面積化した構成である。支持基板23は、封止材を兼ねるものであっても良く、この支持基板23と、発光パネル22の透明基板13との間に有機EL素子100を挟持する状態で、各発光パネル22をタイリングする。支持基板23と透明基板13との間には接着剤19を充填し、これによって有機EL素子100を封止しても良い。
なお、発光パネル21の周囲には、アノードである透明電極1及びカソードである対向電極5aの端部を露出させておく。ただし、図面においては対向電極5aの露出部分のみを図示した。
また、図6では、有機EL素子100を構成する発光機能層3としては、透明電極1上に、正孔注入層3a/正孔輸送層3b/発光層3c/電子輸送層3d/電子注入層3eを順次積層した構成を一例として示してある。
<< 8. Illumination device-2 >>
FIG. 6 shows a cross-sectional configuration diagram of a lighting device in which a plurality of organic EL elements having the above-described configurations are used to increase the light emitting surface area.
The lighting device 21 shown in FIG. 6 has a large light emitting surface by, for example, arranging a plurality of light emitting panels 22 provided with the organic EL elements 100 on the transparent substrate 13 on the support substrate 23 (that is, tiling). It is the structure which made the area. The support substrate 23 may also serve as a sealing material, and each light-emitting panel 22 is tied with the organic EL element 100 sandwiched between the support substrate 23 and the transparent substrate 13 of the light-emitting panel 22. Ring. An adhesive 19 may be filled between the support substrate 23 and the transparent substrate 13, thereby sealing the organic EL element 100.
In addition, the edge part of the transparent electrode 1 which is an anode, and the counter electrode 5a which is a cathode are exposed around the light emission panel 21. FIG. However, only the exposed portion of the counter electrode 5a is shown in the drawing.
Moreover, in FIG. 6, as the light emission functional layer 3 which comprises the organic EL element 100, on the transparent electrode 1, hole injection layer 3a / hole transport layer 3b / light emission layer 3c / electron transport layer 3d / electron injection layer A configuration in which 3e is sequentially laminated is shown as an example.

図6に示す構成の照明装置21では、各発光パネル22の中央が発光領域Aとなり、発光パネル22間には非発光領域Bが発生する。このため、非発光領域Bからの光取り出し量を増加させるための光取り出し部材を、光取り出し面13aの非発光領域Bに設けても良い。光取り出し部材としては、集光シートや光拡散シートを用いることができる。   In the lighting device 21 having the configuration shown in FIG. 6, the center of each light emitting panel 22 is a light emitting area A, and a non-light emitting area B is generated between the light emitting panels 22. For this reason, a light extraction member for increasing the light extraction amount from the non-light emitting region B may be provided in the non-light emitting region B of the light extraction surface 13a. As the light extraction member, a light collecting sheet or a light diffusion sheet can be used.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量%」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, although the display of "%" is used in an Example, unless otherwise indicated, "mass%" is represented.

実施例1
《透明電極の作製》
以下に示す方法に従って、透明電極1〜20を、導電性領域の面積が5cm×5cmとなるように作製した。透明電極1〜4は、単層構造の透明電極として作製し、透明電極5〜20は、中間層と導電性層との積層構造からなる透明電極を作製した。
Example 1
<< Preparation of transparent electrode >>
According to the method shown below, the transparent electrodes 1 to 20 were produced so that the area of the conductive region was 5 cm × 5 cm. The transparent electrodes 1 to 4 were produced as single layer transparent electrodes, and the transparent electrodes 5 to 20 were produced as transparent electrodes having a laminated structure of an intermediate layer and a conductive layer.

〔透明電極1の作製〕
下記に示す方法に従って、単層構造からなる比較例の透明電極1を作製した。
[Preparation of transparent electrode 1]
A transparent electrode 1 of a comparative example having a single layer structure was produced according to the method shown below.

透明な無アルカリガラス製の基材を、市販の真空蒸着装置の基材ホルダーに固定し、これを真空蒸着装置の真空槽に取り付けた。一方、タングステン製の抵抗加熱ボートに銀(Ag)を充填し、当該真空槽内に取り付けた。次に、真空槽内を4×10−4Paまで減圧した後、抵抗加熱ボートを通電及び加熱し、蒸着速度0.1〜0.2nm/秒の範囲内で、基材上に銀からなる厚さ5μmの導電性層の単膜を蒸着して、透明電極1を作製した。 A transparent non-alkali glass substrate was fixed to a substrate holder of a commercially available vacuum deposition apparatus, and this was attached to a vacuum tank of the vacuum deposition apparatus. On the other hand, a resistance heating boat made of tungsten was filled with silver (Ag) and mounted in the vacuum chamber. Next, after depressurizing the inside of the vacuum chamber to 4 × 10 −4 Pa, the resistance heating boat is energized and heated, and is made of silver on the base material within a deposition rate range of 0.1 to 0.2 nm / second. A single electrode of a conductive layer having a thickness of 5 μm was deposited to prepare the transparent electrode 1.

〔透明電極2〜4の作製〕
上記透明電極1の作製において、導電性層の厚さを、それぞれ8nm、10nm及び15nmに変更した以外は同様にして、透明電極2〜4を作製した。
[Preparation of transparent electrodes 2 to 4]
In the production of the transparent electrode 1, transparent electrodes 2 to 4 were produced in the same manner except that the thickness of the conductive layer was changed to 8 nm, 10 nm, and 15 nm, respectively.

〔透明電極5の作製〕
透明な無アルカリガラス製の基材上に、下記に構造を示すAlqをスパッタ法により厚さ25nmの中間層として形成し、この上部に、透明電極1の作製において、導電性層の形成に用いたのと同様の方法(真空蒸着法)で、厚さが8nmの銀(Ag)からなる導電性層を蒸着形成して透明電極5を作製した。
[Preparation of transparent electrode 5]
On a transparent base made of alkali-free glass, Alq 3 having the following structure is formed as an intermediate layer having a thickness of 25 nm by a sputtering method, and an upper portion thereof is used to form a conductive layer in the production of the transparent electrode 1. A transparent electrode 5 was produced by vapor-depositing a conductive layer made of silver (Ag) having a thickness of 8 nm by the same method (vacuum vapor deposition method) as used.

Figure 0006241193
Figure 0006241193

〔透明電極6の作製〕
透明な無アルカリガラス製の基材を市販の真空蒸着装置の基材ホルダーに固定し、下記に示す構造のET−1をタンタル製抵抗加熱ボートに充填し、これらの基板ホルダーと加熱ボートとを真空蒸着装置の第1真空槽に取り付けた。また、タングステン製の抵抗加熱ボートに銀(Ag)を入れ、第2真空槽内に取り付けた。
[Preparation of transparent electrode 6]
A transparent non-alkali glass base material is fixed to a base material holder of a commercially available vacuum deposition apparatus, and ET-1 having a structure shown below is filled in a resistance heating boat made of tantalum. It attached to the 1st vacuum chamber of a vacuum evaporation system. Moreover, silver (Ag) was put into the resistance heating boat made from tungsten, and it attached in the 2nd vacuum chamber.

Figure 0006241193
Figure 0006241193

次いで、第1真空槽を4×10−4Paまで減圧した後、ET−1の入った加熱ボートを通電して加熱し、蒸着速度0.1〜0.2nm/秒の範囲内で基材上に蒸着し、厚さが25nmのET−1からなる中間層を形成した。 Next, after reducing the pressure in the first vacuum tank to 4 × 10 −4 Pa, the heating boat containing ET-1 was energized and heated, and the substrate was within a deposition rate range of 0.1 to 0.2 nm / second. An intermediate layer made of ET-1 having a thickness of 25 nm was formed by evaporation.

次に、中間層を形成した基材を真空状態のまま第2真空槽に移し、第2真空槽を4×10−4Paまで減圧した後、銀の入った加熱ボートを通電及び加熱し、蒸着速度0.1〜0.2nm/秒の範囲で、厚さ8nmの銀からなる導電性層を蒸着し、中間層とこの上部に銀からなる導電性層を積層した透明電極6を得た。 Next, the base material on which the intermediate layer is formed is transferred to the second vacuum tank while being in a vacuum state, and after the second vacuum tank is depressurized to 4 × 10 −4 Pa, the heating boat containing silver is energized and heated, A conductive layer made of silver having a thickness of 8 nm was vapor-deposited at a deposition rate of 0.1 to 0.2 nm / second to obtain a transparent electrode 6 in which an intermediate layer and a conductive layer made of silver were laminated thereon. .

〔透明電極7及び8の作製〕
透明電極6の作製において、中間層の形成材料の種類をET−1から下記に示す構造のET−2及びET−3にそれぞれ変更した以外は同様にして、透明電極7及び8を作製した。
[Preparation of transparent electrodes 7 and 8]
In the production of the transparent electrode 6, transparent electrodes 7 and 8 were produced in the same manner except that the type of the intermediate layer forming material was changed from ET-1 to ET-2 and ET-3 having the structure shown below.

Figure 0006241193
Figure 0006241193

〔透明電極9〜49の作製〕
上記透明電極6の作製において、中間層の形成材料の種類(上記化合物(1)〜化合物(38))及び導電性層における銀層の厚さを、それぞれ表1〜表3に記載の条件に変更した以外は同様にして、透明電極9〜49を作製した。
[Preparation of transparent electrodes 9 to 49]
In the production of the transparent electrode 6, the type of the material for forming the intermediate layer (the compound (1) to the compound (38)) and the thickness of the silver layer in the conductive layer were set to the conditions described in Tables 1 to 3, respectively. Transparent electrodes 9 to 49 were produced in the same manner except that the change was made.

〔透明電極50及51の作製〕
上記透明電極31及び32の作製において、基材の種類を無アルカリガラスからPET(ポリエチレンテレフタレート)に変更した以外は同様にして、透明電極50及び51を作製した。
[Preparation of transparent electrodes 50 and 51]
Transparent electrodes 50 and 51 were produced in the same manner as in the production of the transparent electrodes 31 and 32 except that the type of the base material was changed from non-alkali glass to PET (polyethylene terephthalate).

〔透明電極52の作製〕
透明な無アルカリガラス製の基材を市販の真空蒸着装置の基材ホルダーに固定し、化合物(6)をタンタル製抵抗加熱ボートに充填し、これらの基板ホルダーと加熱ボートとを真空蒸着装置の第1真空槽に取り付けた。また、タングステン製の抵抗加熱ボートに銀(Ag)を入れ、第2真空槽内に取り付けた。
[Preparation of transparent electrode 52]
A transparent non-alkali glass base material is fixed to a base material holder of a commercially available vacuum deposition apparatus, compound (6) is filled in a resistance heating boat made of tantalum, and these substrate holder and heating boat are connected to the vacuum deposition apparatus. Attached to the first vacuum chamber. Moreover, silver (Ag) was put into the resistance heating boat made from tungsten, and it attached in the 2nd vacuum chamber.

次いで、第1真空槽を4×10−4Paまで減圧した後、化合物(6)の入った加熱ボートを通電して加熱し、蒸着速度0.1〜0.2nm/秒の範囲内で基材上に蒸着し、厚さが25nmの化合物(6)からなる中間層1aを形成した。 Next, after reducing the pressure of the first vacuum tank to 4 × 10 −4 Pa, the heating boat containing the compound (6) was heated by energization, and the deposition rate was within a range of 0.1 to 0.2 nm / second. It vapor-deposited on the material and the intermediate | middle layer 1a which consists of a compound (6) with a thickness of 25 nm was formed.

次に、中間層を形成した基材を真空状態のまま第2真空槽に移し、第2真空槽を4×10−4Paまで減圧した後、銀の入った加熱ボートを通電及び加熱し、蒸着速度0.1〜0.2nm/秒の範囲で、厚さ8nmの銀からなる導電性層1bを蒸着した。 Next, the base material on which the intermediate layer is formed is transferred to the second vacuum tank while being in a vacuum state, and after the second vacuum tank is depressurized to 4 × 10 −4 Pa, the heating boat containing silver is energized and heated, A conductive layer 1b made of silver having a thickness of 8 nm was deposited at a deposition rate of 0.1 to 0.2 nm / second.

次に、導電性層を形成した基材を真空状態のまま第1真空槽に移し、第1真空槽を44×10−4Paまで減圧した後、化合物(6)の入った加熱ボートを通電して加熱し、蒸着速度0.1〜0.2nm/秒の範囲内で基材上に蒸着し、厚さが15nmの化合物(6)からなる中間層1cを形成した。
化合物(6)からなる中間層1aの上部に銀からなる導電性層1bを積層し、さらにこの上部に化合物(6)からなる中間層1cを積層した透明電極52を得た。
Next, the base material on which the conductive layer is formed is transferred to the first vacuum chamber in a vacuum state, and the first vacuum chamber is depressurized to 44 × 10 −4 Pa, and then the heating boat containing the compound (6) is energized. Then, the intermediate layer 1c made of the compound (6) having a thickness of 15 nm was formed by vapor deposition on the base material at a deposition rate of 0.1 to 0.2 nm / second.
A transparent electrode 52 was obtained in which a conductive layer 1b made of silver was laminated on top of an intermediate layer 1a made of compound (6), and further an intermediate layer 1c made of compound (6) was laminated on top of this.

〔透明電極53〜63の作製〕
透明電極52の作製において、中間層1a、1cの形成材料を表3に記載の化合物にそれぞれ変更した以外は同様にして、透明電極53〜63を作製した。
[Production of transparent electrodes 53 to 63]
In the production of the transparent electrode 52, transparent electrodes 53 to 63 were produced in the same manner except that the forming materials of the intermediate layers 1a and 1c were changed to the compounds shown in Table 3, respectively.

《透明電極の評価》
上記作製した透明電極1〜63について、下記の方法に従って、光透過率、シート抵抗値及び高温・高湿保存性(高温・高湿保存下における電極寿命)の測定を行った。
<< Evaluation of transparent electrode >>
About the produced said transparent electrodes 1-63, according to the following method, the light transmittance, the sheet resistance value, and the high temperature and high humidity preservability (electrode life under high temperature and high humidity preservation) were measured.

〔光透過率の測定〕
上記作製した各透明電極について、分光光度計(日立製作所製U−3300)を用い、各透明電極の作製に用いた基材をリファレンスとして、波長550nmにおける光透過率(%)を測定した。
(Measurement of light transmittance)
About each produced said transparent electrode, the light transmittance (%) in wavelength 550nm was measured using the base material used for preparation of each transparent electrode using the spectrophotometer (Hitachi Ltd. U-3300).

〔シート抵抗値の測定〕
上記作製した各透明電極について、抵抗率計(三菱化学社製MCP−T610)を用い、4端子4探針法定電流印加方式でシート抵抗値(Ω/□)の測定を行った。
[Measurement of sheet resistance]
About each produced said transparent electrode, the sheet resistance value (ohm / square) was measured by the 4-terminal 4 probe method constant current application system using the resistivity meter (MCP-T610 by Mitsubishi Chemical Corporation).

〔高温・高湿保存性(高温・高湿保存下における電極寿命)〕
上記作製した各透明電極について、高温・高湿環境(温度60℃、湿度90%)下に保存し、経時におけるシート抵抗値を測定して絶縁するまでの時間を記録し、この値を高温・高湿保存性とした。高温・高湿保存性は、透明電極8(中間層1aの材料ET−3を使用したときのもの)を100としたときの相対値で表した。
[High temperature and high humidity storage stability (electrode life under high temperature and high humidity storage)]
About each produced said transparent electrode, it preserve | saves in a high temperature, high humidity environment (temperature 60 degreeC, humidity 90%), records the time until it measures and measures the sheet resistance value in time, High humidity storage stability. The high-temperature and high-humidity storage stability is expressed as a relative value when the transparent electrode 8 (when the material ET-3 of the intermediate layer 1a is used) is set to 100.

以上により得られた結果を、表1〜表3に示す。   The results obtained as described above are shown in Tables 1 to 3.

Figure 0006241193
Figure 0006241193

Figure 0006241193
Figure 0006241193

Figure 0006241193
Figure 0006241193

表1〜表3に記載の結果より明らかなように、分子内に銀と共有結合部位と配位結合部位の両方を備えた有機化合物を用いて形成した中間層上に、銀(Ag)を主成分とした導電性層を設けた本発明の透明電極9〜51は、いずれも光透過率52%以上であり、かつシート抵抗値が11.5Ω/□以下に抑えられている。また、高温・高湿保存性は250以上と高くなっている。
これは、中間層を分子内に銀と共有結合部位と配位結合部位の両方を備えた有機化合物を用いて形成することにより、その上に形成する銀膜の凝集やモトルの発生を抑制することができ、ある程度の厚さを有する銀膜を形成しても、銀の凝集が抑制され、高い光透過性、シート抵抗値の低減及び高温・高湿保存下における長寿命化の両立を果たすことができた。
さらに、導電性層を2層の中間層で狭持した構成とした透明電極52〜63においても、より好ましい結果を得ることができることを確認することができた。
As is clear from the results described in Tables 1 to 3, silver (Ag) is formed on an intermediate layer formed using an organic compound having both silver, a covalent bond site, and a coordinate bond site in the molecule. Each of the transparent electrodes 9 to 51 of the present invention provided with the conductive layer as the main component has a light transmittance of 52% or more and a sheet resistance value of 11.5Ω / □ or less. Moreover, the high temperature / high humidity storage stability is as high as 250 or more.
This is because the intermediate layer is formed by using an organic compound having both silver, a covalent bond site and a coordinate bond site in the molecule, thereby suppressing aggregation of the silver film formed thereon and generation of mottle. Even if a silver film having a certain thickness is formed, aggregation of silver is suppressed, and both high light transmission, reduction of sheet resistance value, and long life under high temperature and high humidity storage are achieved. I was able to.
Furthermore, it was confirmed that more preferable results can be obtained even in the transparent electrodes 52 to 63 having a configuration in which the conductive layer is sandwiched between two intermediate layers.

これに対し、中間層を有していない比較例の透明電極1〜4では、銀層である導電性層の厚さを厚くするに従い、シート抵抗値の低下は認められるものの、導電性層形成時の銀の凝集(モトル)に起因する光透過率の低下が著しくなり、光透過性とシート抵抗値の両立を達成することができない。さらに、高温・高湿保存性は32以下と非常に低かった。
また、中間層としてAlq、ET−1〜ET−3を用いた透明電極5〜8でも、光透過率が低く、かつシート抵抗値が所望の条件まで低下させることができなかった。さらに、高温・高湿保存性は100以下と低かった。
On the other hand, in the transparent electrodes 1 to 4 of the comparative example having no intermediate layer, although the sheet resistance value decreases as the thickness of the conductive layer that is a silver layer is increased, the conductive layer is formed. Decrease in light transmittance due to silver aggregation (motor) at the time becomes remarkable, and it is impossible to achieve both light transmittance and sheet resistance value. Furthermore, the high temperature / high humidity storage property was very low at 32 or less.
Moreover, even in the transparent electrodes 5 to 8 using Alq 3 and ET-1 to ET- 3 as the intermediate layer, the light transmittance was low and the sheet resistance value could not be lowered to a desired condition. Furthermore, the high temperature / high humidity storage property was as low as 100 or less.

実施例2
《発光パネルの作製》
〔発光パネル1の作製〕
実施例1で作製した透明電極1をアノードとして用い、図7に記載の構成(ただし、中間層1aは有していない)の両面発光型の発光パネル1を、下記の手順に従って作製した。
Example 2
<Production of light emitting panel>
[Preparation of light-emitting panel 1]
Using the transparent electrode 1 produced in Example 1 as an anode, a double-sided light emitting panel 1 having the configuration shown in FIG. 7 (but not including the intermediate layer 1a) was produced according to the following procedure.

はじめに、実施例1で作製した導電性層1bのみを形成した透明電極1を有する透明基板13を、市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、透明電極1(導電性層1bのみ)の形成面側に蒸着マスクを対向配置した。また、真空蒸着装置内の加熱ボートの各々に、発光機能層3を構成する各材料を、それぞれの層の形成に最適な量で充填した。なお、加熱ボートとしては、タングステン製抵抗加熱用材料で作製されたものを用いた。   First, the transparent substrate 13 having the transparent electrode 1 formed only with the conductive layer 1b produced in Example 1 is fixed to a substrate holder of a commercially available vacuum deposition apparatus, and the transparent electrode 1 (only the conductive layer 1b) is formed. A vapor deposition mask was placed opposite to the surface side. Moreover, each material which comprises the light emission functional layer 3 was filled with the optimal quantity for formation of each layer to each heating boat in a vacuum evaporation system. In addition, as a heating boat, what was produced with the resistance heating material made from tungsten was used.

次いで、真空蒸着装置の蒸着室内を真空度4×10−4Paまで減圧し、各材料が入った加熱ボートを順次通電して加熱することにより、以下に示す発光機能層3を構成する各層を形成した。 Next, the vapor deposition chamber of the vacuum vapor deposition apparatus is depressurized to a vacuum degree of 4 × 10 −4 Pa, and each layer constituting the light emitting functional layer 3 shown below is heated by sequentially energizing and heating a heating boat containing each material. Formed.

はじめに、正孔輸送注入材料として下記に示すα−NPDが入った加熱ボートを通電及び加熱して、α−NPDからなる正孔注入層と正孔輸送層とを兼ねた正孔輸送・注入層31を、透明電極1を構成する導電性層1b上に形成した。この際、蒸着速度は0.1〜0.2nm/秒の範囲内とし、層厚が20nmとなる条件で蒸着した。   First, a hole-transporting / injecting layer which serves as both a hole-injecting layer and a hole-transporting layer made of α-NPD by energizing and heating a heating boat containing α-NPD shown below as a hole-transporting injecting material 31 was formed on the conductive layer 1 b constituting the transparent electrode 1. At this time, the vapor deposition rate was in the range of 0.1 to 0.2 nm / second, and the vapor deposition was performed under the condition that the layer thickness was 20 nm.

Figure 0006241193
Figure 0006241193

次いで、ホスト化合物として例示化合物H4の入った加熱ボートと、リン光発光性化合物として例示化合物Ir−4の入った加熱ボートとを、それぞれ独立に通電し、ホスト化合物である例示化合物H4と、リン光発光性化合物である例示化合物Ir−4とからなる発光層3cを、正孔輸送・注入層31上に形成した。この際、蒸着速度(nm/秒)が例示化合物H4:例示化合物Ir−4=100:6となる条件で、加熱ボートの通電条件を適宜調節して、発光層の厚さが30nmとなるようにした。   Next, a heating boat containing Exemplified Compound H4 as a host compound and a heating boat containing Exemplified Compound Ir-4 as a phosphorescent compound were energized independently, and Exemplified Compound H4 as a host compound and Phosphorus A light-emitting layer 3 c composed of Illustrative Compound Ir-4, which is a photoluminescent compound, was formed on the hole transport / injection layer 31. At this time, under the condition that the deposition rate (nm / second) is Exemplified Compound H4: Exemplified Compound Ir-4 = 100: 6, the current-carrying conditions of the heating boat are adjusted as appropriate so that the thickness of the light emitting layer becomes 30 nm. I made it.

次いで、正孔阻止材料として下記に示すBAlqが入った加熱ボートを通電及び加熱して、BAlqよりなる正孔阻止層33を、発光層3c上に形成した。この際、蒸着速度0.1〜0.2nm/秒の範囲とし、厚さが10nmとなる条件で蒸着した。   Next, a heating boat containing BAlq shown below as a hole blocking material was energized and heated to form a hole blocking layer 33 made of BAlq on the light emitting layer 3c. At this time, vapor deposition was performed under the conditions of a deposition rate of 0.1 to 0.2 nm / second and a thickness of 10 nm.

Figure 0006241193
Figure 0006241193

その後、電子輸送材料として下記に示すET−4の入った加熱ボートと、フッ化カリウムの入った加熱ボートとを、それぞれ独立に通電し、ET−4とフッ化カリウムから構成される電子輸送層3dを、正孔阻止層33上に形成した。この際、蒸着速度(nm/秒)としてET−4:フッ化カリウム=75:25となる条件で、加熱ボートの通電条件を適宜調節し、電子輸送層3dの厚さが30nmとなるようにして蒸着した。   Thereafter, a heating boat containing ET-4 shown below as an electron transporting material and a heating boat containing potassium fluoride are energized independently, and an electron transport layer composed of ET-4 and potassium fluoride. 3d was formed on the hole blocking layer 33. At this time, under the condition that the deposition rate (nm / second) is ET-4: potassium fluoride = 75: 25, the current-carrying conditions of the heating boat are appropriately adjusted so that the thickness of the electron transport layer 3d is 30 nm. And deposited.

Figure 0006241193
Figure 0006241193

次に、電子注入材料としてフッ化カリウムの入った加熱ボートを通電及び加熱して、フッ化カリウムよりなる電子注入層3eを、電子輸送層3d上に形成した。この際、蒸着速度0.01〜0.02nm/秒の範囲で、層厚1nmとなるように蒸着した。   Next, a heating boat containing potassium fluoride as an electron injection material was energized and heated to form an electron injection layer 3e made of potassium fluoride on the electron transport layer 3d. At this time, vapor deposition was performed at a vapor deposition rate of 0.01 to 0.02 nm / second so as to have a layer thickness of 1 nm.

その後、電子注入層3eまで形成した透明基板13を、真空蒸着装置の蒸着室から、対向電極材料としてITOのターゲットが取り付けられたスパッタ装置の処理室内に、真空状態を保持したまま移送した。次いで、処理室内において、成膜速度0.3〜0.5nm/秒の範囲内で、膜厚150nmのITOからなる光透過性の対向電極5aをカソードとして成膜した。   Thereafter, the transparent substrate 13 formed up to the electron injection layer 3e was transferred from the vapor deposition chamber of the vacuum vapor deposition apparatus to the processing chamber of the sputtering apparatus to which an ITO target as a counter electrode material was attached while maintaining the vacuum state. Next, in the processing chamber, a light-transmitting counter electrode 5a made of ITO having a film thickness of 150 nm was formed as a cathode at a film formation rate of 0.3 to 0.5 nm / second.

以上により、透明基板13上に有機EL素子400を形成した。   As described above, the organic EL element 400 was formed on the transparent substrate 13.

次いで、有機EL素子400を、厚さ300μmのガラス基板からなる封止材17で覆い、有機EL素子400を囲む状態で、封止材17と透明基板13との間に接着剤19(シール材)を充填した。接着剤19としては、エポキシ系光硬化型接着剤(東亞合成社製ラックストラックLC0629B)を用いた。封止材17と透明基板13との間に充填した接着剤19に対して、ガラス基板(封止材17)側からUV光を照射し、接着剤19を硬化させて有機EL素子400を封止した。   Next, the organic EL element 400 is covered with a sealing material 17 made of a glass substrate having a thickness of 300 μm, and the adhesive 19 (sealing material) is interposed between the sealing material 17 and the transparent substrate 13 so as to surround the organic EL element 400. ). As the adhesive 19, an epoxy photocurable adhesive (Lux Track LC0629B manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was used. The adhesive 19 filled between the sealing material 17 and the transparent substrate 13 is irradiated with UV light from the glass substrate (sealing material 17) side to cure the adhesive 19 and seal the organic EL element 400. Stopped.

なお、有機EL素子400の形成においては、各層の形成に蒸着マスクを使用し、5cm×5cmの透明基板13における中央の4.5cm×4.5cmを発光領域Aとし、発光領域Aの全周に幅0.25cmの非発光領域Bを設けた。また、アノードである透明電極1とカソードである対向電極5aとは、正孔輸送・注入層31〜電子注入層35までの発光機能層3によって絶縁された状態で、透明基板13の周縁に端子部分を引き出された形状で形成した。   In forming the organic EL element 400, an evaporation mask is used for forming each layer, and the central 4.5 cm × 4.5 cm of the 5 cm × 5 cm transparent substrate 13 is defined as the light emitting region A, and the entire circumference of the light emitting region A is formed. A non-light emitting region B having a width of 0.25 cm was provided. The transparent electrode 1 serving as the anode and the counter electrode 5a serving as the cathode are insulated from each other by the light-emitting functional layer 3 from the hole transport / injection layer 31 to the electron injection layer 35 and are connected to the periphery of the transparent substrate 13. The part was formed in a drawn shape.

以上のようにして、透明基板13上に有機EL素子400を設け、これを封止材17と接着剤19とで封止した発光パネル1を作製した。この発光パネル1においては、発光層3cで発生した各色の発光光hが、透明電極1側、すなわち透明基板13側と、対向電極5a側すなわち封止材17側との両方から取り出される構成となっている。   As described above, the light-emitting panel 1 in which the organic EL element 400 was provided on the transparent substrate 13 and sealed with the sealing material 17 and the adhesive 19 was manufactured. In this light emitting panel 1, the light emission h of each color generated in the light emitting layer 3c is extracted from both the transparent electrode 1 side, that is, the transparent substrate 13 side, and the counter electrode 5a side, that is, the sealing material 17 side. It has become.

〔発光パネル2〜63の作製〕
上記発光パネル1の作製において、透明電極1に代えて、実施例1で作製した透明電極2〜63をそれぞれ用いた以外は同様にして、発光パネル2〜63を作製した。
[Production of light emitting panels 2 to 63]
In the production of the light-emitting panel 1, light-emitting panels 2 to 63 were produced in the same manner except that the transparent electrodes 2 to 63 produced in Example 1 were used in place of the transparent electrode 1, respectively.

《発光パネルの評価》
上記作製した発光パネル1〜63について、下記の方法に従って、光透過率及び駆動電圧の測定を行った。
<Evaluation of luminous panel>
About the produced said light emission panels 1-63, the light transmittance and the drive voltage were measured in accordance with the following method.

〔光透過率の測定〕
上記作製した各発光パネルについて、分光光度計(日立製作所製U−3300)を用い、各透明電極の作製に用いた基材をリファレンスとして、波長550nmにおける光透過率(%)を測定した。
(Measurement of light transmittance)
About each produced said light emission panel, the light transmittance (%) in wavelength 550nm was measured using the base material used for preparation of each transparent electrode using the spectrophotometer (Hitachi U-3300).

〔駆動電圧の測定〕
上記作製した各発光パネルの透明電極1側(すなわち透明基板13側)と、対向電極5a側(すなわち封止材17側)との両側での正面輝度を測定し、その和が1000cd/mとなるときの電圧を駆動電圧(V)として測定した。なお、輝度の測定には、分光放射輝度計CS−1000(コニカミノルタ社製)を用いた。得られた駆動電圧の数値が小さいほど、好ましい結果であることを表す。
[Measurement of drive voltage]
The front luminance is measured on both sides of the transparent electrode 1 side (that is, the transparent substrate 13 side) and the counter electrode 5a side (that is, the sealing material 17 side) of each of the produced light emitting panels, and the sum is 1000 cd / m 2. Was measured as a drive voltage (V). For the measurement of luminance, a spectral radiance meter CS-1000 (manufactured by Konica Minolta) was used. It represents that it is so preferable that the numerical value of the obtained drive voltage is small.

〔定電流下における整流比変化〕
上記作製した各発光パネルの透明電極1側(すなわち透明基板13側)について、整流比を測定した。ここでは、順方向に+2.5Vの駆動電圧を印加した場合の電流値と、逆方向に−2.5V駆動電圧を印加した場合の電流値を測定し、[電流値(+2.5V)/電流値(−2.5V)]を、整流比として算出した。
[Change of rectification ratio under constant current]
The rectification ratio was measured for the transparent electrode 1 side (that is, the transparent substrate 13 side) of each of the produced light emitting panels. Here, the current value when a drive voltage of +2.5 V is applied in the forward direction and the current value when a drive voltage of −2.5 V is applied in the reverse direction are measured, and [current value (+2.5 V) / Current value (−2.5 V)] was calculated as a rectification ratio.

以上により得られた結果を、表4及び表5に示す。   The results obtained as described above are shown in Tables 4 and 5.

Figure 0006241193
Figure 0006241193

Figure 0006241193
Figure 0006241193

表4及び表5に記載の結果より明らかなように、本発明の透明電極1を有機EL素子のアノードに用いた本発明の発光パネル9〜63は、いずれも光透過率が51%以上であり、かつ駆動電圧が3.7V以下に抑えられている。さらに、定電流下での整流比変化は、25以下に抑えられている。
これに対して、比較例の透明電極を有機EL素子のアノードに用いた発光パネル1〜8は、光透過率がいずれも48%未満であり、しかも、電圧を印加しても発光しないか、又は発光しても駆動電圧が5.0Vと高いものがあった。さらに、定電流下における整流比変化は非常に大きかった。
As is clear from the results shown in Tables 4 and 5, the light-emitting panels 9 to 63 of the present invention using the transparent electrode 1 of the present invention as the anode of the organic EL element each have a light transmittance of 51% or more. Yes, and the drive voltage is suppressed to 3.7 V or less. Furthermore, the rectification ratio change under a constant current is suppressed to 25 or less.
On the other hand, the light-emitting panels 1 to 8 using the transparent electrode of the comparative example as the anode of the organic EL element all have a light transmittance of less than 48%, and do not emit light even when a voltage is applied, Or even if it emitted light, the drive voltage was as high as 5.0V. Furthermore, the rectification ratio change under a constant current was very large.

これにより、本発明で規定する構成からなる透明電極を用いた本発明の有機EL素子を具備した発光パネルは、光透過性に優れ、駆動電圧が低く、かつ、定電流下での整流比変化を低減できることが認められる。   As a result, the light-emitting panel including the organic EL element of the present invention using the transparent electrode having the configuration defined in the present invention has excellent light transmittance, low driving voltage, and change in rectification ratio under a constant current. It can be seen that can be reduced.

1 透明電極
1a 中間層
1b 導電性層
3 発光機能層
3a 正孔注入層
3b 正孔輸送層
3c 発光層
3d 電子輸送層
3e 電子注入層
5a、5b、5c 対向電極
11 基材
13 透明基板(基材)
13a 光取り出し面
15 補助電極
17 封止剤
19 接着剤
22 発光パネル
23 支持基板
100、200、300、400 有機EL素子
131 基板
131a 光取り出し面
A 発光領域
B 非発光領域
h 発光光
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent electrode 1a Intermediate | middle layer 1b Conductive layer 3 Light emission functional layer 3a Hole injection layer 3b Hole transport layer 3c Light emission layer 3d Electron transport layer 3e Electron injection layer 5a, 5b, 5c Counter electrode 11 Base material 13 Transparent substrate (base) Material)
13a Light extraction surface 15 Auxiliary electrode 17 Sealant 19 Adhesive 22 Light-emitting panel 23 Support substrate 100, 200, 300, 400 Organic EL element 131 Substrate 131a Light extraction surface A Light-emitting region B Non-light-emitting region h Light-emitting light

Claims (8)

導電性層と、前記導電性層に隣接して設けられる中間層と、を備える透明電極であって、
前記透明電極は、波長550nmでの光透過率が50%以上で、かつ、シート抵抗値が20Ω/□以下であり、
前記中間層は、分子内に銀と共有結合し得る共有結合部位と、銀と配位結合し得る配位結合部位の両方を有する有機化合物を含有し、
前記導電性層は、銀を主成分とする蒸着膜であることを特徴とする透明電極。
A transparent electrode comprising a conductive layer and an intermediate layer provided adjacent to the conductive layer,
The transparent electrode has a light transmittance of 50% or more at a wavelength of 550 nm and a sheet resistance value of 20Ω / □ or less,
The intermediate layer contains an organic compound having both a covalent bond site capable of covalently bonding to silver and a coordinate bond site capable of coordinating with silver in the molecule,
The conductive electrode is a vapor-deposited film containing silver as a main component.
前記配位結合部位が、芳香族複素環に含まれる窒素原子であって、芳香族性に関与しない窒素原子であることを特徴とする請求項1に記載の透明電極。   2. The transparent electrode according to claim 1, wherein the coordination bond site is a nitrogen atom contained in an aromatic heterocycle and is not involved in aromaticity. 前記共有結合部位が、下記一般式(1)又は下記一般式(2)で表されることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の透明電極。
一般式(1):−S−H
一般式(2):−S−S−R
〔上記一般式(2)において、Rは置換基を表す。〕
The transparent electrode according to claim 1, wherein the covalent bond site is represented by the following general formula (1) or the following general formula (2).
General formula (1): -SH
Formula (2): —S—S—R
[In the above general formula (2), R represents a substituent. ]
前記分子内の前記配位結合部位の数は、前記共有結合部位の数よりも多いことを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の透明電極。   4. The transparent electrode according to claim 1, wherein the number of the coordination binding sites in the molecule is larger than the number of the covalent binding sites. 5. 前記有機化合物の分子量が、1200以下であることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載の透明電極。The transparent electrode according to any one of claims 1 to 4, wherein the molecular weight of the organic compound is 1200 or less. 前記導電性層に隣接し、かつ、前記中間層に対向する第2の中間層を更に有し、
前記導電性層を前記中間層及び前記第2の中間層で挟持した構成であることを特徴とする請求項1から請求項までのいずれか一項に記載の透明電極。
A second intermediate layer adjacent to the conductive layer and facing the intermediate layer;
The transparent electrode of any one of claims 1 to 5, wherein said conductive layer said an intermediate layer and configurations sandwiched by said second intermediate layer.
請求項1から請求項までのいずれか一項に記載の透明電極が具備されていることを特徴とする電子デバイス。 An electronic device comprising the transparent electrode according to any one of claims 1 to 6 . 請求項1から請求項までのいずれか一項に記載の透明電極が具備されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 An organic electroluminescence device comprising the transparent electrode according to any one of claims 1 to 6 .
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