JP6213271B2 - Polysilsesquioxane-based encapsulant composition for UV-LED and use of acetylacetonate-based catalyst therefor - Google Patents

Polysilsesquioxane-based encapsulant composition for UV-LED and use of acetylacetonate-based catalyst therefor Download PDF

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Description

本発明は、UV−LED用ポリシルセスキオキサン系封止材組成物及びそのためのアセチルアセトネート系触媒の使用に関する。   The present invention relates to a polysilsesquioxane-based encapsulant composition for UV-LED and the use of an acetylacetonate-based catalyst therefor.

特許文献1には、縮合系シリコーン封止材の硬化促進剤として、アルミニウムアセチルアセトネートを用いて得られた封止材が記載されている。   Patent Document 1 describes a sealing material obtained using aluminum acetylacetonate as a curing accelerator for a condensation silicone sealing material.

特開2007−112975号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2007-112975

しかしながら、かかる封止材は、UV領域に吸収を有するため、UV−LED用の封止材としては、必ずしも満足できるものではなかった。   However, since such a sealing material has absorption in the UV region, it is not always satisfactory as a sealing material for UV-LED.

本発明は、下記〔1〕及び〔2〕記載の発明を含む。
〔1〕硬化物の260nmにおける光の透過率が65%以上であるUV−LED用ポリシルセスキオキサン系封止材の硬化促進剤として、ポリシルセスキオキサン系封止材に対して5ppm〜200ppm(質量百万分率)の範囲でのアセチルアセトネート系触媒の使用;
〔2〕ポリシルセスキオキサン系封止材とアセチルアセトネート系触媒とを含み、アセチルアセトネート系触媒をポリシルセスキオキサン系封止材に対して5ppm〜200ppm(質量百万分率)の範囲で含むUV−LED用ポリシルセスキオキサン系封止材組成物。
The present invention includes the inventions described in [1] and [2] below.
[1] 5 ppm of polysilsesquioxane-based encapsulant as a curing accelerator for a UV-LED polysilsesquioxane-based encapsulant whose light transmittance at 260 nm of the cured product is 65% or more Use of an acetylacetonate-based catalyst in the range of ~ 200 ppm (parts per million by mass);
[2] A polysilsesquioxane-based encapsulant and an acetylacetonate-based catalyst, wherein the acetylacetonate-based catalyst is 5 ppm to 200 ppm (parts per million by mass) with respect to the polysilsesquioxane-based encapsulant. A polysilsesquioxane-based encapsulant composition for UV-LEDs contained in the range of

本発明の硬化促進剤の使用により、紫外領域(特にUV−C領域)の光を放出する素子の封止に適したポリシルセスキオキサン系封止材組成物及びそのためのアセチルアセトネート系触媒の使用が提供される。   Polysilsesquioxane-based encapsulant composition suitable for encapsulating devices that emit light in the ultraviolet region (especially UV-C region) by using the curing accelerator of the present invention, and acetylacetonate-based catalyst therefor Use of is provided.

実施例1で得られた硬化物の紫外可視透過率測定結果である。It is an ultraviolet-visible transmittance | permeability measurement result of the hardened | cured material obtained in Example 1. FIG. 比較例1で得られた硬化物の紫外可視透過率測定結果である。It is an ultraviolet-visible transmittance | permeability measurement result of the hardened | cured material obtained by the comparative example 1.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

<ポリシルセスキオキサン系封止材>
本発明において、ポリシルセスキオキサン系封止材としては、例えば、アヅマックス株式会社ホームページ「ポリシルセスキオキサン・T−レジン」<URL:http://www.azmax.co.jp/cnt_catalog_chemical/pdf/attach_20110517_135825.pdf>等に記載されたポリシルセスキオキサンが挙げられる。
<Polysilsesquioxane-based sealing material>
In the present invention, as the polysilsesquioxane-based encapsulant, for example, Amax Co., Ltd. website “polysilsesquioxane T-resin” <URL: http://www.azmax.co.jp/cnt_catalog_chemical/ and polysilsesquioxane described in pdf / attach_20110517_135825.pdf> and the like.

ポリシルセスキオキサン系封止材の具体例としては、式(1)で表されるオルガノポリシロキサン構造を有する樹脂Aを含む封止材が挙げられる。

Figure 0006213271
(一般式(1)中、Rはそれぞれ独立してアルキル基を表し、Rはそれぞれ独立してアルコキシ基、又は水酸基を表し、p、q、a、及びbは、[p+b×q]:[a×q]=1:0.25〜9となる任意の正数を表す。) Specific examples of the polysilsesquioxane-based sealing material include a sealing material containing the resin A having an organopolysiloxane structure represented by the formula (1).
Figure 0006213271
(In General Formula (1), each R 1 independently represents an alkyl group, each R 2 independently represents an alkoxy group or a hydroxyl group, and p 1 , q 1 , a 1 , and b 1 are p 1 + b 1 × q 1 ]: [a 1 × q 1 ] = 1: represents an arbitrary positive number that satisfies 0.25 to 9.

より好ましくは、さらに式(2)で表されるオルガノポリシロキサン構造を有するオリゴマーBを含み、樹脂AとオリゴマーBの混合比率が、樹脂A:オリゴマーB=100:0.1〜20(質量比)であることがさらに好ましい。樹脂Aを主成分とすることにより紫外光による劣化を抑制したり、耐熱性を向上させたりする効果がある。

Figure 0006213271
(一般式(2)中、R及びRは、前記一般式(1)と同じ意味を表し、p、q、r、a、及びbは、[a×q]/[(p+b×q)+a×q+(r+q)]=0〜0.3となる任意の0以上の数を表す。) More preferably, it further includes an oligomer B having an organopolysiloxane structure represented by the formula (2), and the mixing ratio of the resin A and the oligomer B is such that the resin A: oligomer B = 100: 0.1-20 (mass ratio). More preferably, By using the resin A as a main component, there is an effect of suppressing deterioration due to ultraviolet light or improving heat resistance.
Figure 0006213271
(In General Formula (2), R 1 and R 2 represent the same meaning as in General Formula (1), and p 2 , q 2 , r 2 , a 2 , and b 2 are [a 2 × q 2 ] / [(P 2 + b 2 × q 2 ) + a 2 × q 2 + (r 2 + q 2 )] = 0 represents an arbitrary number of 0 or more that is 0 to 0.3.)

で表されるアルキル基としては、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよく、環状構造を有していてもよいが、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、直鎖状のアルキル基がより好ましい。また、当該アルキル基の炭素数は特に限定されるものではないが、炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、炭素数1〜6のアルキル基がより好ましく、炭素数1〜3のアルキル基がさらに好ましく、炭素数1が特に好ましい。 The alkyl group represented by R 1 may be linear or branched, and may have a cyclic structure, but may be a linear or branched alkyl group. Are preferable, and a linear alkyl group is more preferable. Moreover, although the carbon number of the said alkyl group is not specifically limited, A C1-C10 alkyl group is preferable, A C1-C6 alkyl group is more preferable, A C1-C3 alkyl group is More preferably, carbon number 1 is particularly preferable.

はそれぞれ独立してアルコキシ基、又は水酸基を表す。 R 2 each independently represents an alkoxy group or a hydroxyl group.

がアルコキシ基の場合、当該アルコキシ基としては、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよく、環状構造を有していてもよいが、直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシ基が好ましく、直鎖状のアルコキシ基がより好ましい。また、当該アルコキシ基の炭素数は特に限定されるものではないが、炭素数1〜3のアルコキシ基が好ましく、炭素数1〜2がより好ましく、特に炭素数1が好ましい。 When R 2 is an alkoxy group, the alkoxy group may be linear or branched, and may have a cyclic structure, but may be linear or branched. Are more preferable, and a linear alkoxy group is more preferable. Moreover, although carbon number of the said alkoxy group is not specifically limited, A C1-C3 alkoxy group is preferable, C1-C2 is more preferable, and C1-C1 is especially preferable.

複数あるR及びRは、それぞれ同種の基であってもよく、互いに異なる基であってもよい。 The plurality of R 1 and R 2 may be the same type of group or different from each other.

樹脂Aとしては、Rとしてメチル基及びエチル基からなる群より選択される1種以上を有しており、かつ、Rとしてメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、及び水酸基からなる群より選択される1種以上を有しているものが好ましく、Rとしてメチル基及びエチル基からなる群より選択される1種以上を有しており、かつ、Rとしてメトキシ基、エトキシ基、及びイソプロポキシ基からなる群より選択される1種以上と水酸基とを有しているものがより好ましい。 The resin A has at least one selected from the group consisting of a methyl group and an ethyl group as R 1 , and R 2 from the group consisting of a methoxy group, an ethoxy group, an isopropoxy group, and a hydroxyl group Those having one or more selected are preferable, R 1 has one or more selected from the group consisting of a methyl group and an ethyl group, and R 2 has a methoxy group, an ethoxy group, And those having one or more selected from the group consisting of isopropoxy groups and a hydroxyl group are more preferred.

樹脂Aの重量平均分子量(Mw)は、1500以上8000以下である。樹脂Aの重量平均分子量が小さすぎる場合には、硬化時の体積収縮率が大きくなるために封止体に生じる応力が大きくなりクラックを生じやすくなる。また大きすぎる場合には硬化前の封止体の粘度や硬化時の粘度上昇が大きくなり、縮合反応で生じるアルコールや水が揮発する際に気泡を生じやすくなる。樹脂Aの重量平均分子量は、1500以上7000以下が好ましく、2000以上5000以下がより好ましい。   The weight average molecular weight (Mw) of the resin A is 1500 or more and 8000 or less. When the weight average molecular weight of the resin A is too small, the volume shrinkage rate at the time of curing increases, so that the stress generated in the sealing body increases and cracks are likely to occur. On the other hand, if it is too large, the viscosity of the encapsulated body before curing and the viscosity increase at the time of curing increase, and bubbles tend to be generated when alcohol or water generated by the condensation reaction volatilizes. The weight average molecular weight of the resin A is preferably 1500 or more and 7000 or less, and more preferably 2000 or more and 5000 or less.

樹脂Aは、上述した各繰り返し単位に対応し、シロキサン結合を生じ得る官能基を有する有機ケイ素化合物を出発原料として合成することができる。「シロキサン結合を生じ得る官能基」としては、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基を挙げることができる。有機ケイ素化合物としては、例えば、オルガノトリハロシランやオルガノトリアルコキシラン等を出発原料とすることができる。樹脂Aは、このような出発原料を各繰り返し単位の存在比に対応した比で加水分解縮合法で反応させることにより合成することができる。また、こうして合成された樹脂Aは、シリコーンレジンやアルコキシオリゴマーとして工業的に市販されているものを用いることもできる。   Resin A can be synthesized using an organosilicon compound having a functional group capable of generating a siloxane bond as a starting material, corresponding to each of the repeating units described above. Examples of the “functional group capable of generating a siloxane bond” include a halogen atom, a hydroxyl group, and an alkoxy group. As the organosilicon compound, for example, organotrihalosilane or organotrialkoxylane can be used as a starting material. Resin A can be synthesized by reacting such starting materials by a hydrolysis-condensation method at a ratio corresponding to the abundance ratio of each repeating unit. In addition, as the resin A synthesized in this manner, those commercially available as a silicone resin or an alkoxy oligomer can be used.

オリゴマーBとしては、Rとしてメチル基及びエチル基からなる群より選択される1種以上を有しており、Rとして、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、及び水酸基からなる群より選択される1種以上を有しているものが好ましく、Rがメチル基であり、Rとしてメトキシ基または水酸基を有しているものがより好ましい。 The oligomer B has at least one selected from the group consisting of a methyl group and an ethyl group as R 1 , and R 2 is selected from the group consisting of a methoxy group, an ethoxy group, an isopropoxy group, and a hydroxyl group It is preferable that R 1 is a methyl group, and R 2 has a methoxy group or a hydroxyl group.

オリゴマーBの重量平均分子量は1500未満である。オリゴマーBの重量平均分子量が大きすぎる場合には、硬化後の封止材の耐クラック性が不充分となるおそれがある。オリゴマーBの重量平均分子量は、200以上1500未満が好ましく、250〜1000がより好ましい。   The weight average molecular weight of the oligomer B is less than 1500. If the weight average molecular weight of the oligomer B is too large, the crack resistance of the encapsulant after curing may be insufficient. The weight average molecular weight of the oligomer B is preferably 200 or more and less than 1500, and more preferably 250 to 1000.

オリゴマーBは、オリゴマーBを構成する上述した各繰り返し単位に対応し、シロキサン結合を生じ得る官能基を有する有機ケイ素化合物を出発原料として合成することができる。「シロキサン結合を生じ得る官能基」は、上述したものと同じ意味を表す。有機ケイ素化合物としては、例えば、オルガノトリハロシランやオルガノトリアルコキシラン等を出発原料とすることができる。シリコーン樹脂は、このような出発原料を各繰り返し単位の存在比に対応した比で加水分解縮合法で反応させることにより合成することができる。   The oligomer B can be synthesized using an organosilicon compound having a functional group capable of generating a siloxane bond, corresponding to each of the above-described repeating units constituting the oligomer B. “Functional group capable of forming a siloxane bond” has the same meaning as described above. As the organosilicon compound, for example, organotrihalosilane or organotrialkoxylane can be used as a starting material. The silicone resin can be synthesized by reacting such starting materials by a hydrolysis condensation method at a ratio corresponding to the abundance ratio of each repeating unit.

樹脂Aとの重量平均分子量の違いは、例えば、出発原料を加水分解縮合反応させる際の反応温度や、反応系内への出発原料の追加速度を制御することによっても制御することができる。こうして合成されたシリコーン樹脂は、シリコーンレジンやアルコキシオリゴマーとして工業的に市販されているものを用いることもできる。   The difference in the weight average molecular weight from that of the resin A can be controlled, for example, by controlling the reaction temperature at the time of subjecting the starting material to a hydrolytic condensation reaction or the rate of addition of the starting material into the reaction system. As the silicone resin synthesized in this manner, those commercially available as a silicone resin or an alkoxy oligomer can be used.

樹脂AとオリゴマーBの重量平均分子量は、市販のGPC装置を用いて、ポリスチレンを標準に用いて測定することができる。   The weight average molecular weights of the resin A and the oligomer B can be measured using polystyrene as a standard using a commercially available GPC apparatus.

硬化前のポリシルセスキオキサン系封止材は、基板上に設置した素子へのポッティングを容易にするために、溶媒に溶解させて用いてもよい。この際、得られる溶液の粘度が10mPasから10000mPasになるように調整するとよい。   The polysilsesquioxane-based encapsulant before curing may be used after being dissolved in a solvent in order to facilitate potting on an element placed on the substrate. At this time, the viscosity of the obtained solution may be adjusted to be 10 mPas to 10,000 mPas.

溶媒としては、用いる硬化前の封止材を、それぞれ溶解し得るものであれば特に限定されず、例えば、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン溶媒;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ノルマルプロピルアルコール等のアルコール溶媒;ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、ベンゼン等の炭化水素溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル等の酢酸エステル溶媒;ジメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル溶媒;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノエチルヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノベンジルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノエチルヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノベンジルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールモノフェニルエーテル、ジプロピレングリコールモノベンジルエーテル等のグリコールエーテル溶媒;エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノヘキシルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルヘキシルエーテルアセテート、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、エチレングリコールモノベンジルエーテルアセテート等の、前記記載のグリコールエーテル溶媒に酢酸基を付加させた、グリコールエステル溶媒;等が挙げられる。   The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the pre-curing sealing material used, for example, ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone; alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, and normal propyl alcohol. Hydrocarbon solvents such as hexane, cyclohexane, heptane and benzene; acetate solvents such as methyl acetate and ethyl acetate; ether solvents such as dimethyl ether and tetrahydrofuran; ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, Ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monohexyl ether, ethylene glycol monoethyl hexyl ether, ethylene glycol monophenyl ether Ter, ethylene glycol monobenzyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoisopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol monoethyl hexyl ether, diethylene glycol monophenyl ether, diethylene glycol monobenzyl ether, propylene glycol monomethyl ether , Propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monoisopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monohexyl ether, propylene glycol monoethyl hexyl ether, propylene glycol monomer Phenyl ether, propylene glycol monobenzyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monoisopropyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monohexyl ether, dipropylene glycol monoethyl hexyl ether, di Glycol ether solvents such as propylene glycol monophenyl ether and dipropylene glycol monobenzyl ether; ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, ethylene glycol monohexyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl And glycol ester solvents obtained by adding an acetic acid group to the above-described glycol ether solvents such as tilhexyl ether acetate, ethylene glycol monophenyl ether acetate, and ethylene glycol monobenzyl ether acetate.

<硬化促進剤>
本発明における硬化促進剤は、アセチルアセトネート系触媒である。アセチルアセトネート系触媒とは、アセチルアセトネート配位子を有する金属錯体である。アセチルアセトネート系触媒が有する金属としては、ジルコニウム、亜鉛、アルミニウム等が挙げられる。アセチルアセトネート配位子が有する水素原子は、その一部又は全部が、他の原子又は他の基で置換されていてもよい。アセチルアセトネート系触媒としては、具体的には、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、アルミニウムトリアセチルアセトネート、亜鉛ジアセチルアセトネート等が挙げられる。
<Curing accelerator>
The curing accelerator in the present invention is an acetylacetonate catalyst. An acetylacetonate catalyst is a metal complex having an acetylacetonate ligand. Examples of the metal that the acetylacetonate catalyst has include zirconium, zinc, and aluminum. A part or all of the hydrogen atoms of the acetylacetonate ligand may be substituted with other atoms or other groups. Specific examples of the acetylacetonate catalyst include zirconium tetraacetylacetonate, aluminum triacetylacetonate, and zinc diacetylacetonate.

硬化促進剤は、有機溶媒に溶解させて使用してもよい。この際用いる溶媒はアセチルアセトネート系触媒が溶解するものであればよく、アルコール系、エステル系、エーテル系が好ましい。硬化促進剤の濃度は、一般的には0.01%〜10%であることが好ましい。   The curing accelerator may be used after being dissolved in an organic solvent. The solvent used in this case may be any solvent that dissolves the acetylacetonate catalyst, and is preferably an alcohol, ester or ether. In general, the concentration of the curing accelerator is preferably 0.01% to 10%.

硬化促進剤の使用量は、ポリシルセスキオキサン系封止材に対して5ppm〜200ppmの範囲であり、10ppm〜100ppmの範囲であることが好ましい。硬化促進剤の量が少なすぎる場合、硬化が不十分となり、硬化物が脆くなりクラックが生じやすくなる。また量が多すぎる場合、硬化速度が速くなりすぎるために、気泡の発生や急激な体積収縮によるクラックが生じたり、紫外領域、特にUV−C領域の透過率が低下したりする。   The usage-amount of a hardening accelerator is the range of 5 ppm-200 ppm with respect to a polysilsesquioxane type | system | group sealing material, and it is preferable that it is the range of 10 ppm-100 ppm. When there is too little quantity of a hardening accelerator, hardening will become inadequate, hardened | cured material will become weak and it will become easy to produce a crack. On the other hand, when the amount is too large, the curing speed becomes too high, and therefore, generation of bubbles and cracks due to rapid volume shrinkage occur, or the transmittance in the ultraviolet region, particularly in the UV-C region is lowered.

効果促進剤は、樹脂A、オリゴマーBとは別の溶液として準備し、使用前にそれらの溶液を混合して使用することが好ましい。   The effect accelerator is preferably prepared as a solution different from the resin A and the oligomer B, and these solutions are preferably mixed before use.

<封止材の硬化>
本発明の使用は、通常、上記のポリシルセスキオキサン系封止材と硬化促進剤とを含む硬化前の封止材を、基板に設置した素子にポッティングし、次いで硬化させることにより行われる。即ち、本発明の使用によるUV−LED用素子の封止方法は、基板に素子を設置する第1工程、第1工程で基板に設置した素子にポリシルセスキオキサン系封止材と下記溶媒aとを含むポリシルセスキオキサン系封止材組成物をポッティングする第2工程、及び、第2工程でポッティングされたポリシルセスキオキサン系封止材を硬化させる工程とを含む。
<Curing sealing material>
The use of the present invention is usually carried out by potting a pre-curing encapsulant containing the polysilsesquioxane-based encapsulant and a curing accelerator on an element placed on a substrate and then curing. . That is, the sealing method of the element for UV-LED by use of the present invention is the first step of installing the element on the substrate, the polysilsesquioxane-based sealing material and the following solvent on the element installed on the substrate in the first step. a second step of potting a polysilsesquioxane-based encapsulant composition containing a, and a step of curing the polysilsesquioxane-based encapsulant potted in the second step.

基板上への素子の設置は、常法により行われる。もちろん、電極や配線等、半導体発光装置に通常必要となる他の構成を設置してもよい。   The element is placed on the substrate by a conventional method. Of course, you may install other structures normally required for a semiconductor light-emitting device, such as an electrode and wiring.

上記のポッティングは、通常、専用のディスペンサーによって基板上に硬化前の封止材を供給することにより行われる。供給する硬化前の封止材の量は、基板や素子の構造、面積、体積、その他電極やワイヤー配線の構造等によっても異なるが、これらの素子やワイヤー配線を埋め込み、かつ発光素子上を覆う封止材の厚みは可能な限り薄くできる量であることが好ましく、2mm以下の厚みにする量であることがより好ましい。素子上の封止材が厚い場合、素子が発光する際に発生する熱や紫外線によって、封止材が徐々に劣化し、変色することで封止材の透明性が失われ、発光装置としての輝度が経時的に低下する。特に近年開発が進んでいる発光出力電流100mA以上の可視光用パワーLEDや、波長350nm以下の紫外線を発光するUV−LEDにおいてその傾向が顕著であるため、発光素子上の封止材の厚みは薄くすることが有効である。   The potting is usually performed by supplying a sealing material before curing onto a substrate with a dedicated dispenser. The amount of the sealing material to be supplied before curing varies depending on the structure, area, volume, and other electrode and wire wiring structures of the substrate and elements, but these elements and wire wirings are embedded and the light emitting element is covered. The thickness of the sealing material is preferably an amount that can be made as thin as possible, and more preferably an amount that makes the thickness 2 mm or less. When the sealing material on the element is thick, the sealing material gradually deteriorates due to heat and ultraviolet rays generated when the element emits light, and the transparency of the sealing material is lost due to discoloration. Luminance decreases over time. In particular, since the tendency is remarkable in a power LED for visible light having a light emission output current of 100 mA or more and a UV-LED that emits ultraviolet light having a wavelength of 350 nm or less, which has been developed in recent years, the thickness of the sealing material on the light emitting element is Thinning is effective.

硬化条件としては、通常の重縮合反応が生じる温度と時間を設定すればよく、具体的には大気圧下、空気中、温度は100〜200℃が好ましく、120〜200℃がより好ましい。時間は1〜5時間程度が好ましい。また、封止材中の残留溶媒の揮発や、重縮合反応を効果的に促進させるために、硬化温度を段階的に上げて硬化させてもよい。   As curing conditions, a temperature and a time at which a normal polycondensation reaction occurs may be set. Specifically, the temperature is preferably 100 to 200 ° C. and more preferably 120 to 200 ° C. in air at atmospheric pressure. The time is preferably about 1 to 5 hours. Further, in order to effectively promote the volatilization of the residual solvent in the encapsulant and the polycondensation reaction, the curing temperature may be increased stepwise to be cured.

下記実施例に記載している紫外可視透過率測定に用いた装置及び測定条件は以下のとおりである。
<紫外可視透過率測定>
装置名 :島津製作所社製 UV−3600
アタッチメント :積分球 ISR−3100
測定波長 :220〜800nm
バックグラウンド測定:大気
測定速度 :中速
The apparatus and measurement conditions used for the UV-visible transmittance measurement described in the following examples are as follows.
<Ultraviolet visible transmittance measurement>
Device name: UV-3600 manufactured by Shimadzu Corporation
Attachment: Integrating sphere ISR-3100
Measurement wavelength: 220 to 800 nm
Background measurement: Atmospheric measurement speed: Medium speed

樹脂Aとして、前記式(1)で表されるオルガノポリシロキサン構造を有する樹脂(A−1)(Mw=3500、前記式(1)中、R=メチル基、R=メトキシ基又は水酸基)を用いた。樹脂A−1の各繰り返し単位の存在比率を、表1に示す。また、オリゴマーBとして、前記式(2)で表されるオルガノポリシロキサン構造を有するオリゴマー(Mw=450、前記一般式(2)中、R1=メチル基、R2=メトキシ基)を用いた。オリゴマーB−1の各繰り返し単位の存在比率を、表2に示す。 As the resin A, a resin (A-1) having an organopolysiloxane structure represented by the formula (1) (Mw = 3500, in the formula (1), R 1 = methyl group, R 2 = methoxy group or hydroxyl group ) Was used. Table 1 shows the abundance ratio of each repeating unit of the resin A-1. Further, as the oligomer B, an oligomer having an organopolysiloxane structure represented by the formula (2) (Mw = 450, R1 = methyl group, R2 = methoxy group in the general formula (2)) was used. Table 2 shows the abundance ratio of each repeating unit of the oligomer B-1.

Figure 0006213271
Figure 0006213271

Figure 0006213271
Figure 0006213271

実施例1
ウォーターバス内に設置したフラスコ内に、前記樹脂(A−1)135g及びイソプロピルアルコール72.7gを加え、内温が85℃になるまで加熱攪拌して前記樹脂(A−1)を溶解させた。次いで、前記オリゴマー(B−1)15gを加え、1時間以上攪拌して前記オリゴマー(B−1)を溶解させて混合物を得た。
得られた混合物に、酢酸2−ブトキシエチル47.2gを加えた後、エバポレーターを用いて、温度が80℃、圧力が4kPaAの条件で、イソプロピルアルコール濃度が1質量%以下になるまでイソプロピルアルコールを留去し、前記樹脂(A−1)と前記オリゴマー(B−1)の混合比が90:10のポリシルセスキオキサン系封止材組成物(α1)を得た。
Example 1
135 g of the resin (A-1) and 72.7 g of isopropyl alcohol were added to a flask placed in a water bath, and the resin (A-1) was dissolved by heating and stirring until the internal temperature reached 85 ° C. . Next, 15 g of the oligomer (B-1) was added and stirred for 1 hour or longer to dissolve the oligomer (B-1) to obtain a mixture.
After adding 47.2 g of 2-butoxyethyl acetate to the obtained mixture, isopropyl alcohol was added using an evaporator until the isopropyl alcohol concentration became 1% by mass or less under the conditions of a temperature of 80 ° C. and a pressure of 4 kPaA. The polysilsesquioxane-based sealing material composition (α1) having a mixing ratio of 90:10 between the resin (A-1) and the oligomer (B-1) was distilled off.

ポリシルセスキオキサン系封止材組成物(α1)100質量部に対し、アルミニウムアセチルアセトネート0.5質量%のメタノール溶液を、アルミニウムアセチルアセトネートが、α1に対して100ppmとなるように添加し、充分に攪拌混合してポリシルセスキオキサン系封止材組成物(α1−1)を得た。その後、得られた混合物をアルミニウム製カップ内に約3.8g投入し、オーブンの中で3.7℃/分の速度で室温から150℃まで昇温し、150℃で5時間放置することで、シリコーン樹脂組成物(α1−1)の硬化物を得た。得られた硬化物の厚みは1.7mmであった。この硬化物の紫外可視透過率測定結果を図1に示す。   To 100 parts by mass of the polysilsesquioxane-based sealing material composition (α1), a 0.5% by mass methanol solution of aluminum acetylacetonate is added so that the aluminum acetylacetonate is 100 ppm with respect to α1. The mixture was sufficiently stirred and mixed to obtain a polysilsesquioxane-based sealing material composition (α1-1). Thereafter, about 3.8 g of the obtained mixture was put into an aluminum cup, heated in an oven at a rate of 3.7 ° C./minute from room temperature to 150 ° C., and left at 150 ° C. for 5 hours. A cured product of the silicone resin composition (α1-1) was obtained. The thickness of the obtained cured product was 1.7 mm. FIG. 1 shows the results of measuring the ultraviolet and visible transmittance of the cured product.

実施例2
実施例1において、アルミニウムアセチルアセトネートが、α1に対して50ppmとなるように添加した以外は、実施例1と同じ手順で、ポリシルセスキオキサン系封止材組成物(α1−2)及びその硬化物を得た。
Example 2
In Example 1, the polysilsesquioxane-based encapsulant composition (α1-2) and the same procedure as in Example 1 except that aluminum acetylacetonate was added so as to be 50 ppm relative to α1. The cured product was obtained.

実施例3
実施例1において、アルミニウムアセチルアセトネートが、α1に対して25ppmとなるように添加した以外は、実施例1と同じ手順で、ポリシルセスキオキサン系封止材組成物(α1−3)及びその硬化物を得た。
Example 3
In Example 1, the polysilsesquioxane-based encapsulant composition (α1-3) and the same procedure as in Example 1 except that aluminum acetylacetonate was added to 25 ppm with respect to α1. The cured product was obtained.

実施例4
実施例1において、アルミニウムアセチルアセトネートが、α1に対して10ppmとなるように添加した以外は、実施例1と同じ手順で、ポリシルセスキオキサン系封止材組成物(α1−4)及びその硬化物を得た。
Example 4
In Example 1, the polysilsesquioxane-based encapsulant composition (α1-4) and the same procedure as in Example 1 except that aluminum acetylacetonate was added so as to be 10 ppm relative to α1. The cured product was obtained.

実施例5
実施例1において、アルミニウムアセチルアセトネート0.5質量%のメタノール溶液に代わり、ジルコニウムアセチルアセトネート0.5質量%のメタノール溶液を用い、ジルコニウムアセチルアセトネートが、α1に対して50ppmとなるように添加した以外は、実施例1と同じ手順で、ポリシルセスキオキサン系封止材組成物(α1−5)及びその硬化物を得た。
Example 5
In Example 1, a methanol solution of 0.5% by mass of zirconium acetylacetonate was used instead of a methanol solution of 0.5% by mass of aluminum acetylacetonate, and zirconium acetylacetonate was 50 ppm with respect to α1. A polysilsesquioxane-based encapsulant composition (α1-5) and a cured product thereof were obtained in the same procedure as in Example 1 except for the addition.

実施例6
実施例5において、ジルコニウムアセチルアセトネートが、α1に対して25ppmとなるように添加した以外は、実施例5と同じ手順で、ポリシルセスキオキサン系封止材組成物(α1−6)及びその硬化物を得た。
Example 6
In Example 5, the polysilsesquioxane-based encapsulant composition (α1-6) and the same procedure as in Example 5 except that zirconium acetylacetonate was added at 25 ppm with respect to α1. The cured product was obtained.

実施例7
実施例1において、アルミニウムアセチルアセトネート0.5質量%のメタノール溶液に代わり、亜鉛アセチルアセトネート0.5質量%のメタノール溶液を用い、亜鉛アセチルアセトネートが、α1に対して50ppmとなるように添加した以外は、実施例1と同じ手順で、ポリシルセスキオキサン系封止材組成物(α1−7)及びその硬化物を得た。
Example 7
In Example 1, a methanol solution of 0.5% by mass of zinc acetylacetonate was used instead of a methanol solution of 0.5% by mass of aluminum acetylacetonate so that the zinc acetylacetonate was 50 ppm with respect to α1. A polysilsesquioxane-based encapsulant composition (α1-7) and a cured product thereof were obtained in the same procedure as Example 1 except for the addition.

実施例8
実施例7において、亜鉛アセチルアセトネートが、α1に対して25ppmとなるように添加した以外は、実施例7と同じ手順で、ポリシルセスキオキサン系封止材組成物(α1−8)及びその硬化物を得た。
Example 8
In Example 7, the polysilsesquioxane-based encapsulant composition (α1-8) and the same procedure as in Example 7 except that zinc acetylacetonate was added to 25 ppm with respect to α1. The cured product was obtained.

比較例1
メチルトリメトキシシラン1 2 . 7 g 、ジメチルジメトキシシラン1 1 . 2 g 、メタノール3 . 3 g 、水8 . 1 g 及び5質量%アセチルアセトンアルミニウム塩メタノール溶液4.8gを、フラスコ内にて密栓してスターラーで撹拌しながら50℃の温水バスにて8時間加熱した後、室温に戻し、樹脂液を調液した。
この樹脂液7.3gを直径5cmのテフロン(登録商標)シャーレに入れ、40℃で4時間、ついで65℃まで3時間かけて昇温し、ついで150℃まで1時間かけて昇温し、150℃で3時間保持することにより硬化物を得た。この時の硬化物の厚さは0.9mmであった。この硬化物の紫外可視透過率測定結果を図2に示す。
Comparative Example 1
Methyltrimethoxysilane 1 2. 7 g, dimethyldimethoxysilane 1 1. 2 g, methanol 3. 3 g, water 8. 1 g and 4.8 g of a 5% by mass acetylacetone aluminum salt methanol solution were sealed in a flask and heated with a stirrer for 8 hours in a 50 ° C. hot water bath, then returned to room temperature to prepare a resin solution. did.
7.3 g of this resin liquid was put in a Teflon (registered trademark) petri dish having a diameter of 5 cm, heated at 40 ° C. for 4 hours, then heated to 65 ° C. over 3 hours, then heated to 150 ° C. over 1 hour, A cured product was obtained by holding at 3 ° C. for 3 hours. The thickness of the cured product at this time was 0.9 mm. FIG. 2 shows the results of measuring the ultraviolet-visible transmittance of the cured product.

実施例1〜8及び比較例1でそれぞれ得られた硬化物の紫外可視透過率測定結果を表3に示す。   Table 3 shows the results of measuring the ultraviolet and visible transmittance of the cured products obtained in Examples 1 to 8 and Comparative Example 1, respectively.

Figure 0006213271
Figure 0006213271

Claims (2)

硬化物の260nmにおける光の透過率が65%以上であるUV−LED用ポリシルセスキオキサン系封止材の硬化促進剤として、下記樹脂Aを含むポリシルセスキオキサン系封止材に対して5ppm〜200ppm(質量百万分率)の範囲でのアセチルアセトネート系触媒の使用。
<樹脂A>
式(1)で表されるオルガノポリシロキサン構造を有する樹脂
Figure 0006213271
(一般式(1)中、R はそれぞれ独立してアルキル基を表し、R はそれぞれ独立してアルコキシ基、又は水酸基を表し、p 、q 、a 、及びb は、[p +b ×q ]:[a ×q ]=1:0.25〜9となる任意の正数を表す。)
As a curing accelerator for a polysilsesquioxane-based encapsulant for UV-LED whose light transmittance at 260 nm of the cured product is 65% or more, for a polysilsesquioxane-based encapsulant containing the following resin A Use of an acetylacetonate-based catalyst in the range of 5 ppm to 200 ppm (parts per million by mass).
<Resin A>
Resin having organopolysiloxane structure represented by formula (1)
Figure 0006213271
(In General Formula (1), each R 1 independently represents an alkyl group, each R 2 independently represents an alkoxy group or a hydroxyl group, and p 1 , q 1 , a 1 , and b 1 are p 1 + b 1 × q 1 ]: [a 1 × q 1 ] = 1: represents an arbitrary positive number that satisfies 0.25 to 9.
下記樹脂Aを含むポリシルセスキオキサン系封止材とアセチルアセトネート系触媒とを含み、アセチルアセトネート系触媒をポリシルセスキオキサン系封止材に対して5ppm〜200ppm(質量百万分率)の範囲で含むUV−LED用ポリシルセスキオキサン系封止材組成物。
<樹脂A>
式(1)で表されるオルガノポリシロキサン構造を有する樹脂
Figure 0006213271
(一般式(1)中、R はそれぞれ独立してアルキル基を表し、R はそれぞれ独立してアルコキシ基、又は水酸基を表し、p 、q 、a 、及びb は、[p +b ×q ]:[a ×q ]=1:0.25〜9となる任意の正数を表す。)
A polysilsesquioxane-based encapsulant containing the following resin A and an acetylacetonate-based catalyst are included, and the acetylacetonate-based catalyst is 5 ppm to 200 ppm (mass million minutes) with respect to the polysilsesquioxane-based encapsulant. Ratio), a polysilsesquioxane-based encapsulant composition for UV-LED.
<Resin A>
Resin having organopolysiloxane structure represented by formula (1)
Figure 0006213271
(In General Formula (1), each R 1 independently represents an alkyl group, each R 2 independently represents an alkoxy group or a hydroxyl group, and p 1 , q 1 , a 1 , and b 1 are p 1 + b 1 × q 1 ]: [a 1 × q 1 ] = 1: represents an arbitrary positive number that satisfies 0.25 to 9.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3395904A4 (en) * 2015-12-21 2019-07-17 Sumitomo Chemical Company, Limited Silicone resin composition and use thereof
WO2017110623A1 (en) * 2015-12-21 2017-06-29 住友化学株式会社 Silicone resin composition and sealing material for semiconductor light emitting element
CN108368343A (en) * 2015-12-21 2018-08-03 住友化学株式会社 Organosilicon resin composition and semiconductor light-emitting elements encapsulating material
JP6690607B2 (en) * 2016-08-03 2020-04-28 信越化学工業株式会社 Synthetic quartz glass lid and optical element package

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006131849A (en) * 2004-11-09 2006-05-25 Toagosei Co Ltd Two-pack curable composition
JP2006131848A (en) * 2004-11-09 2006-05-25 Toagosei Co Ltd Polyorganosiloxane and method for producing the same and curable composition containing polyorganosiloxane
JP2008084986A (en) * 2006-09-26 2008-04-10 Matsushita Electric Works Ltd Sealant for optical semiconductor, and semiconductor optical device
JP4623322B2 (en) * 2007-12-26 2011-02-02 信越化学工業株式会社 White thermosetting silicone resin composition for forming optical semiconductor case, optical semiconductor case and molding method thereof
JP2011202154A (en) * 2010-03-01 2011-10-13 Yokohama Rubber Co Ltd:The Heat-curable optical semiconductor-encapsulating silicone resin composition and optical semiconductor-encapsulated product using the same
JP2012092240A (en) * 2010-10-27 2012-05-17 Fujifilm Corp Method for producing cured material, method for manufacturing semiconductor light-emitting device, kit for producing cured material, and kit for manufacturing sealed semiconductor light-emitting device
JP2012197338A (en) * 2011-03-18 2012-10-18 Kyocera Chemical Corp Curable resin composition containing isocyanuric group-containing siloxane-modified silsesquioxane, optical semiconductor-sealing composition and optical semiconductor element adhesive
JP2012255050A (en) * 2011-06-07 2012-12-27 Fujifilm Corp Kit for producing cured product, composition for producing cured product, and use of the same

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