JP6212374B2 - Conductive particles with insulating particles, method for producing conductive particles with insulating particles, conductive material, and connection structure - Google Patents

Conductive particles with insulating particles, method for producing conductive particles with insulating particles, conductive material, and connection structure Download PDF

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本発明は、導電性粒子の表面に絶縁性粒子が付着している絶縁性粒子付き導電性粒子及び絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法に関する。また、本発明は、上記絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた導電材料及び接続構造体に関する。   The present invention relates to conductive particles with insulating particles in which insulating particles are attached to the surface of the conductive particles, and a method for producing conductive particles with insulating particles. Moreover, this invention relates to the electrically-conductive material and connection structure using the said electroconductive particle with an insulating particle.

ペースト状又はフィルム状の異方性導電材料が広く知られている。該異方性導電材料では、バインダー樹脂などに複数の導電性粒子が分散されている。   Pasty or film-like anisotropic conductive materials are widely known. In the anisotropic conductive material, a plurality of conductive particles are dispersed in a binder resin or the like.

上記異方性導電材料は、各種の接続構造体を得るために、例えば、フレキシブルプリント基板とガラス基板との接続(FOG(Film on Glass))、半導体チップとフレキシブルプリント基板との接続(COF(Chip on Film))、半導体チップとガラス基板との接続(COG(Chip on Glass))、並びにフレキシブルプリント基板とガラスエポキシ基板との接続(FOB(Film on Board))等に使用されている。   In order to obtain various connection structures, the anisotropic conductive material is, for example, a connection between a flexible printed circuit board and a glass substrate (FOG (Film on Glass)) or a connection between a semiconductor chip and a flexible printed circuit board (COF ( Chip on Film)), connection between a semiconductor chip and a glass substrate (COG (Chip on Glass)), connection between a flexible printed circuit board and a glass epoxy substrate (FOB (Film on Board)), and the like.

また、上記導電性粒子として、導電性粒子の表面上に絶縁性粒子が配置されている絶縁性粒子付き導電性粒子が用いられることがある。さらに、導電層の表面上に絶縁層が配置されている被覆導電性粒子が用いられることもある。   Moreover, as the conductive particles, conductive particles with insulating particles in which insulating particles are arranged on the surface of the conductive particles may be used. Further, coated conductive particles in which an insulating layer is disposed on the surface of the conductive layer may be used.

上記絶縁性粒子付き導電性粒子の一例として、下記の特許文献1では、表面の少なくとも一部に極性基を有する導電性粒子と、該導電性粒子の表面の少なくとも一部を被覆している絶縁性材料とを備える絶縁性粒子付き導電性粒子が開示されている。ここでは、該絶縁性粒子付き導電性粒子と、接着剤とを含む異方性導電接着剤組成物も開示されている。上記絶縁性材料は、導電性粒子の表面の極性基と吸着可能な高分子電解質と、該高分子電解質と吸着可能な無機物粒子とを含む。この無機物粒子は絶縁性粒子である。上記絶縁性粒子付き導電性粒子は、例えば、導電性粒子の表面の少なくとも一部に、上記高分子電解質を静電的に吸着させた後、上記無機酸化物粒子を静電的にさらに吸着させることにより得られる。   As an example of the conductive particles with insulating particles, in Patent Document 1 below, conductive particles having a polar group on at least a part of the surface and insulation covering at least a part of the surface of the conductive particles. Conductive particles with insulating particles comprising a conductive material are disclosed. Here, an anisotropic conductive adhesive composition containing the conductive particles with insulating particles and an adhesive is also disclosed. The insulating material includes a polar group on the surface of conductive particles, a polymer electrolyte that can be adsorbed, and inorganic particles that can be adsorbed to the polymer electrolyte. These inorganic particles are insulating particles. The conductive particles with insulating particles, for example, electrostatically adsorb the polymer electrolyte on at least a part of the surface of the conductive particles, and then further electrostatically adsorb the inorganic oxide particles. Can be obtained.

また、上記被覆導電性粒子の一例として、下記の特許文献2には、導電性粒子と、該導電性粒子の表面を被覆している樹脂層とを有する被覆導電性粒子が開示されている。この樹脂層は、トリアジンチオール化合物に由来する構造を介して、導電性粒子に結合されている。上記樹脂層は、厚み10nm程度の被膜である。   As an example of the coated conductive particles, Patent Document 2 listed below discloses coated conductive particles having conductive particles and a resin layer covering the surface of the conductive particles. This resin layer is bonded to the conductive particles through a structure derived from a triazine thiol compound. The resin layer is a film having a thickness of about 10 nm.

また、上記絶縁性粒子付き導電性粒子の一例として、下記の特許文献3では、導電性母粒子表面が、樹脂子粒子で被覆されてなる導電性の複合粒子が開示されている。上記の被覆は、官能基Aを表面に有する導電性母粒子と、該官能基Aと反応し得る官能基Bを表面に有する樹脂子粒子との混合処理により行われている。特許文献3では、導電性母粒子の表面に官能基Aを導入するために、2,4,6−トリメカプト−S−トリアジンを用いた具体例が示されている。また、特許文献3では、導電性母粒子として、銅粒子を用いた具体例と、樹脂粒子に無電解ニッケルメッキを施した後に、無電解金メッキを更に施した具体例とが示されている。銅粒子を用いた具体例では、導電性母粒子の表面の導電部は、銅により形成された導電部であり、ニッケルを含む導電部ではない。樹脂粒子に無電解ニッケルメッキを施した後に、無電解金メッキを更に施した具体例では、導電性母粒子の表面の導電部は、金により形成された導電部であり、ニッケルを含む導電部ではない。   In addition, as an example of the conductive particles with insulating particles, the following Patent Document 3 discloses conductive composite particles in which the surface of conductive mother particles is coated with resin particles. The above coating is performed by a mixing treatment of conductive mother particles having a functional group A on the surface and resin particles having a functional group B capable of reacting with the functional group A on the surface. Patent Document 3 shows a specific example using 2,4,6-trimecapto-S-triazine in order to introduce the functional group A onto the surface of the conductive mother particles. Patent Document 3 discloses a specific example in which copper particles are used as conductive mother particles, and a specific example in which electroless nickel plating is further applied to resin particles after electroless nickel plating. In a specific example using copper particles, the conductive portion on the surface of the conductive mother particles is a conductive portion formed of copper, not a conductive portion containing nickel. In a specific example in which electroless nickel plating is further applied to the resin particles and then electroless gold plating is further performed, the conductive portion on the surface of the conductive mother particles is a conductive portion formed of gold, and in the conductive portion including nickel, Absent.

特開2009−170414号公報JP 2009-170414 A 特開2010−153265号公報JP 2010-153265 A 特開2003−026813号公報JP 2003-026813 A

特許文献1に記載のような絶縁性粒子付き導電性粒子では、絶縁性粒子が導電性粒子の表面から脱離することがある。特に、特許文献1に記載のような絶縁性粒子付き導電性粒子では、導電層が金以外の導電層である場合、例えば、導電層がNi層であるか又は導電層の最表面にNi層が露出している場合に、絶縁性粒子が導電性粒子の表面から脱離しやすい。例えば、絶縁性粒子付き導電性粒子をバインダー樹脂に分散させる際に、絶縁性粒子が導電性粒子の表面から脱離しやすい。   In the conductive particles with insulating particles as described in Patent Document 1, the insulating particles may be detached from the surface of the conductive particles. In particular, in the conductive particles with insulating particles described in Patent Document 1, when the conductive layer is a conductive layer other than gold, for example, the conductive layer is a Ni layer or a Ni layer on the outermost surface of the conductive layer. When is exposed, the insulating particles are easily detached from the surface of the conductive particles. For example, when the conductive particles with insulating particles are dispersed in the binder resin, the insulating particles are easily detached from the surface of the conductive particles.

特許文献2に記載の被覆導電性粒子では、絶縁性粒子ではなく、樹脂層(絶縁層)により導電性粒子が被覆されている。このような樹脂層は、絶縁性粒子と比較して、電極間の接続時の圧着により充分に除去されず、導電性粒子と電極との間に残存することがある。このため、電極間の導通信頼性が低くなりやすい。   In the coated conductive particles described in Patent Document 2, the conductive particles are coated with a resin layer (insulating layer) instead of insulating particles. Such a resin layer may not be sufficiently removed by pressure bonding at the time of connection between the electrodes as compared with the insulating particles, and may remain between the conductive particles and the electrodes. For this reason, the conduction | electrical_connection reliability between electrodes tends to become low.

また、近年、電子機器の小型化及び高性能化に伴って、電極幅及び電極間幅のL/Sがより一層狭くなってきている。このようなL/Sが狭い電極間を導電接続した場合に、絶縁不良が特に生じやすいという問題がある。   In recent years, as electronic devices have become smaller and higher in performance, the L / S of the electrode width and interelectrode width has become even narrower. There is a problem that insulation failure is particularly likely to occur when such electrodes having a narrow L / S are conductively connected.

本発明の目的は、電極間の電気的な接続に用いた場合に、導通信頼性及び絶縁信頼性を高めることができる絶縁性粒子付き導電性粒子及び絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法、並びに該絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた導電材料及び接続構造体を提供することである。   An object of the present invention is to provide conductive particles with insulating particles and a method for producing conductive particles with insulating particles, which can improve conduction reliability and insulation reliability when used for electrical connection between electrodes, The present invention also provides a conductive material and a connection structure using the conductive particles with insulating particles.

本発明の広い局面によれば、導電部を少なくとも表面に有する導電性粒子と、前記導電性粒子の表面に付着している複数の絶縁性粒子とを備える絶縁性粒子付き導電性粒子であって、前記導電性粒子の表面の前記導電部が、ニッケルを含む導電部であり、下記式(11)で表される構造単位を有する化合物により表面処理されておりかつチオール基を表面に有する導電性粒子と、チオール基と反応可能な官能基を表面に有する絶縁性粒子とを用いて、前記導電性粒子におけるチオール基と前記絶縁性粒子におけるチオール基と反応可能な官能基とを化学結合させることで、前記導電性粒子の表面に前記絶縁性粒子を付着させることにより得られるか、又は、下記式(11)で表される構造単位を有する化合物により表面処理されておりかつチオール基を表面に有する導電性粒子と、官能基を表面に有する絶縁性粒子と、チオール基と反応可能な第1の官能基及び前記絶縁性粒子の表面の前記官能基と反応可能な第2の官能基を有する第1,第2の官能基含有化合物とを用いて、前記導電性粒子におけるチオール基と前記第1,第2の官能基含有化合物におけるチオール基と反応可能な第1の官能基とを化学結合させ、かつ前記絶縁性粒子の表面の官能基と前記第1,第2の官能基含有化合物における前記絶縁性粒子の表面の官能基と反応可能な前記第2の官能基とを化学結合させることで、前記導電性粒子の表面に前記絶縁性粒子を付着させることにより得られる、絶縁性粒子付き導電性粒子が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, there is provided conductive particles with insulating particles comprising conductive particles having at least a conductive portion on a surface thereof and a plurality of insulating particles attached to the surface of the conductive particles. The conductive part on the surface of the conductive particles is a conductive part containing nickel, is surface-treated with a compound having a structural unit represented by the following formula (11), and has a thiol group on the surface. Using a particle and an insulating particle having a functional group capable of reacting with a thiol group on the surface, the thiol group in the conductive particle and the functional group capable of reacting with the thiol group in the insulating particle are chemically bonded. And obtained by attaching the insulating particles to the surface of the conductive particles, or surface-treated with a compound having a structural unit represented by the following formula (11) and Conductive particles having a functional group on the surface; insulating particles having a functional group on the surface; a first functional group capable of reacting with a thiol group; and a functional group capable of reacting with the functional group on the surface of the insulating particle. The first and second functional group-containing compounds having two functional groups are used to react the thiol groups in the conductive particles with the thiol groups in the first and second functional group-containing compounds. The second functional group capable of chemically bonding with a functional group and capable of reacting with the functional group on the surface of the insulating particle and the functional group on the surface of the insulating particle in the first and second functional group-containing compounds. Is provided with conductive particles with insulating particles obtained by attaching the insulating particles to the surface of the conductive particles.

また、本発明の広い局面によれば、導電部を少なくとも表面に有する導電性粒子と、前記導電性粒子の表面に付着している複数の絶縁性粒子とを備える絶縁性粒子付き導電性粒
子の製造方法であって、前記導電性粒子の表面の前記導電部が、ニッケルを含む導電部であり、下記式(11)で表される構造単位を有する化合物により表面処理されておりかつチオール基を表面に有する導電性粒子と、チオール基と反応可能な官能基を表面に有する絶縁性粒子とを用いて、前記導電性粒子におけるチオール基と前記絶縁性粒子におけるチオール基と反応可能な官能基とを化学結合させることで、前記導電性粒子の表面に前記絶縁性粒子を付着させることにより、絶縁性粒子付き導電性粒子を得るか、又は、下記式(11)で表される構造単位を有する化合物により表面処理されておりかつチオール基を表面に有する導電性粒子と、官能基を表面に有する絶縁性粒子と、チオール基と反応可能な第1の官能基及び前記絶縁性粒子の表面の前記官能基と反応可能な第2の官能基を有する第1,第2の官能基含有化合物とを用いて、前記導電性粒子におけるチオール基と前記第1,第2の官能基含有化合物におけるチオール基と反応可能な第1の官能基とを化学結合させ、かつ前記絶縁性粒子の表面の官能基と前記第1,第2の官能基含有化合物における前記絶縁性粒子の表面の官能基と反応可能な前記第2の官能基とを化学結合させることで、前記導電性粒子の表面に前記絶縁性粒子を付着させることにより、絶縁性粒子付き導電性粒子を得る、絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法が提供される。
Further, according to a wide aspect of the present invention, there is provided a conductive particle with insulating particles comprising conductive particles having at least a conductive part on a surface and a plurality of insulating particles attached to the surface of the conductive particles. It is a manufacturing method, Comprising: The said electroconductive part of the surface of the said electroconductive particle is an electroconductive part containing nickel, and it is surface-treated with the compound which has a structural unit represented by following formula (11), and has a thiol group. Using conductive particles on the surface and insulating particles having functional groups capable of reacting with thiol groups on the surface, thiol groups in the conductive particles and functional groups capable of reacting with thiol groups in the insulating particles Is bonded to the surface of the conductive particles to obtain conductive particles with insulating particles, or has a structural unit represented by the following formula (11). Conductive particles having a surface treatment with a compound having a thiol group on the surface, insulating particles having a functional group on the surface, a first functional group capable of reacting with a thiol group, and the surface of the insulating particle. Using the first and second functional group-containing compounds having the second functional group capable of reacting with the functional group, the thiol groups in the conductive particles and the thiols in the first and second functional group-containing compounds The first functional group capable of reacting with a group is chemically bonded, and the functional group on the surface of the insulating particle reacts with the functional group on the surface of the insulating particle in the first and second functional group-containing compounds. Conductive particles with insulating particles are obtained by chemically bonding to the second functional group to obtain the conductive particles with insulating particles by attaching the insulating particles to the surface of the conductive particles. Provided by the manufacturing method It is.

Figure 0006212374
Figure 0006212374

前記式(11)で表される構造単位を有する化合物が、複数のチオール基を有する化合物であることが好ましい。前記式(11)で表される構造単位を有する化合物が、トリアジン骨格とチオール基とを有する化合物であることが好ましい。前記式(11)で表される構造単位を有する化合物が、下記式(1)で表される化合物であることが好ましい。   The compound having the structural unit represented by the formula (11) is preferably a compound having a plurality of thiol groups. The compound having the structural unit represented by the formula (11) is preferably a compound having a triazine skeleton and a thiol group. The compound having a structural unit represented by the formula (11) is preferably a compound represented by the following formula (1).

Figure 0006212374
Figure 0006212374

前記式(1)中、Xは、チオール基、アニリノ基、アルキルアミノ基、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、カルボキシル基、スルフォ基、アミノ基、エポキシ基又はイミド基を表す。   In the formula (1), X represents a thiol group, an anilino group, an alkylamino group, a vinyl group, a (meth) acryloyl group, a carboxyl group, a sulfo group, an amino group, an epoxy group, or an imide group.

本発明のある特定の局面では、前記絶縁性粒子付き導電性粒子は、前記式(11)で表される構造単位を有する化合物により表面処理されておりかつチオール基を表面に有する導電性粒子と、チオール基と反応可能な官能基を表面に有する絶縁性粒子とを用いて、前記導電性粒子におけるチオール基と前記絶縁性粒子におけるチオール基と反応可能な官能基とを化学結合させることで、前記導電性粒子の表面に前記絶縁性粒子を付着させることにより得られる。   In a specific aspect of the present invention, the conductive particles with insulating particles are surface-treated with a compound having a structural unit represented by the formula (11) and have conductive thiol groups on the surface. By using an insulating particle having a functional group capable of reacting with a thiol group on the surface, chemically bonding the thiol group in the conductive particle and the functional group capable of reacting with the thiol group in the insulating particle, It is obtained by attaching the insulating particles to the surface of the conductive particles.

前記絶縁性粒子付き導電性粒子は、前記式(11)で表される構造単位を有する化合物により表面処理されておりかつチオール基を表面に有する導電性粒子と、チオール基と反応可能な官能基及び前記導電性粒子の表面のチオール基以外の部分と反応可能な官能基を
表面に有する絶縁性粒子とを用いて、前記導電性粒子におけるチオール基と前記絶縁性粒子におけるチオール基と反応可能な官能基とを化学結合させ、かつ前記導電性粒子の表面のチオール基以外の部分と前記絶縁性粒子における前記導電性粒子の表面のチオール基以外の部分と反応可能な官能基とを化学結合させることで、前記導電性粒子の表面に前記絶縁性粒子を付着させることにより得られることが好ましい。
The conductive particles with insulating particles are surface-treated with a compound having the structural unit represented by the formula (11) and have functional groups capable of reacting with thiol groups, and conductive particles having thiol groups on the surface. And an insulating particle having a functional group capable of reacting with a portion other than a thiol group on the surface of the conductive particle, and capable of reacting with a thiol group in the conductive particle and a thiol group in the insulating particle. A functional group is chemically bonded, and a portion other than the thiol group on the surface of the conductive particle and a functional group capable of reacting with a portion other than the thiol group on the surface of the conductive particle in the insulating particle are chemically bonded. Thus, it is preferably obtained by attaching the insulating particles to the surface of the conductive particles.

前記絶縁性粒子付き導電性粒子の導電性の表面が、防錆処理されていることが好ましい。炭素数6〜22のアルキル基を有する化合物により、前記絶縁性粒子付き導電性粒子の導電性の表面が防錆処理されていることが好ましい。   It is preferable that the conductive surface of the conductive particles with insulating particles is subjected to rust prevention treatment. It is preferable that the conductive surface of the conductive particles with insulating particles is subjected to a rust prevention treatment with a compound having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms.

本発明の広い局面によれば、上述した絶縁性粒子付き導電性粒子と、バインダー樹脂とを含む、導電材料が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, there is provided a conductive material including the conductive particles with insulating particles described above and a binder resin.

本発明の広い局面によれば、第1の電極を表面に有する第1の接続対象部材と、第2の電極を表面に有する第2の接続対象部材と、前記第1の接続対象部材と、前記第2の接続対象部材を接続している接続部とを備え、前記接続部が、上述した絶縁性粒子付き導電性粒子により形成されているか、又は前記絶縁性粒子付き導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料により形成されており、前記第1の電極と前記第2の電極とが、前記絶縁性粒子付き導電性粒子における前記導電性粒子により電気的に接続されている、接続構造体が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, a first connection target member having a first electrode on the surface, a second connection target member having a second electrode on the surface, the first connection target member, A connecting portion connecting the second connection target member, wherein the connecting portion is formed of the above-described conductive particles with insulating particles, or the conductive particles with insulating particles and a binder resin. A connection structure in which the first electrode and the second electrode are electrically connected by the conductive particles in the conductive particles with insulating particles. Is provided.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子では、上記導電性粒子の表面の上記導電部が、ニッケルを含む導電部であり、更に本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子は、式(11)で表される構造単位を有する化合物により表面処理されておりかつチオール基を表面に有する導電性粒子と、チオール基と反応可能な官能基を表面に有する絶縁性粒子とを用いて、上記導電性粒子におけるチオール基と上記絶縁性粒子におけるチオール基と反応可能な官能基とを化学結合させることで、上記導電性粒子の表面に上記絶縁性粒子を付着させることにより得られるか、又は、式(11)で表される構造単位を有する化合物により表面処理されておりかつチオール基を表面に有する導電性粒子と、官能基を表面に有する絶縁性粒子と、チオール基と反応可能な第1の官能基及び上記絶縁性粒子の表面の上記官能基と反応可能な第2の官能基を有する第1,第2の官能基含有化合物とを用いて、上記導電性粒子におけるチオール基と上記第1,第2の官能基含有化合物におけるチオール基と反応可能な第1の官能基とを化学結合させ、かつ上記絶縁性粒子の表面の官能基と上記第1,第2の官能基含有化合物における上記絶縁性粒子の表面の官能基と反応可能な上記第2の官能基とを化学結合させることで、上記導電性粒子の表面に上記絶縁性粒子を付着させることにより得られるので、本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて電極間を電気的に接続した場合に、導通信頼性及び絶縁信頼性を高めることができる。   In the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the conductive portion on the surface of the conductive particles is a conductive portion containing nickel, and the conductive particles with insulating particles according to the present invention further have the formula (11 ) And conductive particles having a thiol group on the surface and insulating particles having a functional group capable of reacting with the thiol group on the surface. It is obtained by attaching the insulating particles to the surface of the conductive particles by chemically bonding a thiol group in the conductive particles and a functional group capable of reacting with the thiol group in the insulating particles, or a formula Conductive particles having a surface treatment with a compound having the structural unit represented by (11) and having a thiol group on the surface, insulating particles having a functional group on the surface, and a reaction with the thiol group Thiol in the conductive particle using the first functional group and the first functional group-containing compound having the second functional group capable of reacting with the functional group on the surface of the insulating particle. A first functional group capable of reacting with a thiol group in the first and second functional group-containing compounds, and a functional group on the surface of the insulating particle and the first and second functional groups. Since it is obtained by attaching the insulating particles to the surface of the conductive particles by chemically bonding the functional group on the surface of the insulating particles in the group-containing compound with the second functional group capable of reacting. When the electrodes are electrically connected using the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the conduction reliability and the insulation reliability can be improved.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法では、上記導電性粒子の表面の上記導電部が、ニッケルを含む導電部である絶縁性粒子付き導電性粒子であり、更に本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法では、式(11)で表される構造単位を有する化合物により表面処理されておりかつチオール基を表面に有する導電性粒子と、チオール基と反応可能な官能基を表面に有する絶縁性粒子とを用いて、上記導電性粒子におけるチオール基と上記絶縁性粒子におけるチオール基と反応可能な官能基とを化学結合させることで、上記導電性粒子の表面に上記絶縁性粒子を付着させることにより、絶縁性粒子付き導電性粒子を得るか、又は、式(11)で表される構造単位を有する化合物により表面処理されておりかつチオール基を表面に有する導電性粒子と、官能基を表面に有する絶縁性粒子と、チオール基と反応可能な第1の官能基及び上記絶縁性粒子の表面の上記官能基と反応可能な第2の官能基を有する第1,第2の官能基含有化合物とを用いて、上記導電性
粒子におけるチオール基と上記第1,第2の官能基含有化合物におけるチオール基と反応可能な第1の官能基とを化学結合させ、かつ上記絶縁性粒子の表面の官能基と上記第1,第2の官能基含有化合物における上記絶縁性粒子の表面の官能基と反応可能な上記第2の官能基とを化学結合させることで、上記導電性粒子の表面に上記絶縁性粒子を付着させることにより、絶縁性粒子付き導電性粒子を得るので、得られる絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて電極間を電気的に接続した場合に、導通信頼性及び絶縁信頼性を高めることができる。
In the method for producing conductive particles with insulating particles according to the present invention, the conductive portion on the surface of the conductive particles is a conductive particle with insulating particles that is a conductive portion containing nickel, and further according to the present invention. In the method for producing conductive particles with insulating particles, the conductive particles which are surface-treated with the compound having the structural unit represented by the formula (11) and have thiol groups on the surface, and functional groups capable of reacting with the thiol groups. By using an insulating particle having a group on the surface, the thiol group in the conductive particle and the functional group capable of reacting with the thiol group in the insulating particle are chemically bonded to the surface of the conductive particle. Conductive particles with insulating particles are obtained by attaching insulating particles, or surface-treated with a compound having a structural unit represented by formula (11) and thiol groups Conductive particles on the surface, insulating particles having a functional group on the surface, a first functional group capable of reacting with a thiol group, and a second functional group capable of reacting with the functional group on the surface of the insulating particle The first functional group capable of reacting with the thiol group in the conductive particles and the thiol group in the first and second functional group-containing compounds. A chemical bond between the functional group on the surface of the insulating particle and the second functional group capable of reacting with the functional group on the surface of the insulating particle in the first and second functional group-containing compounds. Thus, the conductive particles with insulating particles are obtained by attaching the insulating particles to the surface of the conductive particles, so that the electrodes are electrically connected using the conductive particles with insulating particles obtained. When connected, conduction reliability and It is possible to enhance the edge reliability.

図1は、本発明の第1の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing conductive particles with insulating particles according to the first embodiment of the present invention. 図2は、本発明の第2の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing conductive particles with insulating particles according to the second embodiment of the present invention. 図3は、本発明の第3の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing conductive particles with insulating particles according to the third embodiment of the present invention. 図4は、本発明の第4の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を示す断面図である。FIG. 4 is a sectional view showing conductive particles with insulating particles according to the fourth embodiment of the present invention. 図5は、本発明の第1の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた接続構造体を模式的に示す正面断面図である。FIG. 5 is a front cross-sectional view schematically showing a connection structure using conductive particles with insulating particles according to the first embodiment of the present invention. 図6は、被覆率の評価方法を説明するための模式図である。FIG. 6 is a schematic diagram for explaining a method for evaluating the coverage.

以下、本発明の詳細を説明する。   Details of the present invention will be described below.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子は、導電部を少なくとも表面に有する導電性粒子と、上記導電性粒子の表面に付着している複数の絶縁性粒子とを備える。本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子では、上記導電性粒子の表面の上記導電部が、ニッケルを含む導電部である。本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子は、式(11)で表される構造単位を有する化合物により表面処理されておりかつチオール基を表面に有する導電性粒子と、チオール基と反応可能な官能基を表面に有する絶縁性粒子とを用いて、上記導電性粒子におけるチオール基と上記絶縁性粒子におけるチオール基と反応可能な官能基とを化学結合させることで、上記導電性粒子の表面に上記絶縁性粒子を付着させることにより得られる(構成1)。又は、本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子は、式(11)で表される構造単位を有する化合物により表面処理されておりかつチオール基を表面に有する導電性粒子と、官能基を表面に有する絶縁性粒子と、チオール基と反応可能な第1の官能基及び上記絶縁性粒子の表面の上記官能基と反応可能な第2の官能基を有する第1,第2の官能基含有化合物とを用いて、上記導電性粒子におけるチオール基と上記第1,第2の官能基含有化合物におけるチオール基と反応可能な第1の官能基とを化学結合させ、かつ上記絶縁性粒子の表面の官能基と上記第1,第2の官能基含有化合物における上記絶縁性粒子の表面の官能基と反応可能な上記第2の官能基とを化学結合させることで、上記導電性粒子の表面に上記絶縁性粒子を付着させることにより得られる(構成2)。本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子は、上記構成1を備えていてもよく、上記構成2を備えていてもよく、上記構成1を備えることが好ましい。   The conductive particles with insulating particles according to the present invention include conductive particles having a conductive portion on at least a surface, and a plurality of insulating particles attached to the surface of the conductive particles. In the conductive particle with insulating particles according to the present invention, the conductive part on the surface of the conductive particle is a conductive part containing nickel. The conductive particles with insulating particles according to the present invention are surface-treated with a compound having a structural unit represented by the formula (11) and can react with the thiol group and the conductive particles having a thiol group on the surface. Using the insulating particles having a functional group on the surface, the thiol group in the conductive particle and the functional group capable of reacting with the thiol group in the insulating particle are chemically bonded to the surface of the conductive particle. It is obtained by adhering the insulating particles (Configuration 1). Alternatively, the conductive particles with insulating particles according to the present invention are surface-treated with a compound having a structural unit represented by the formula (11) and have a thiol group on the surface, and functional groups on the surface. 1st and 2nd functional group containing compound which has the 2nd functional group which can react with the 1st functional group which can react with the insulating particle which has, and the 1st functional group which can react with a thiol group, and the surface of the said insulating particle Are used to chemically bond the thiol group in the conductive particle and the first functional group capable of reacting with the thiol group in the first and second functional group-containing compounds, and on the surface of the insulating particle. By chemically bonding the functional group and the second functional group capable of reacting with the functional group on the surface of the insulating particle in the first and second functional group-containing compounds, the surface of the conductive particle is To attach insulating particles Ri obtained (configuration 2). The conductive particles with insulating particles according to the present invention may include the above configuration 1, may include the above configuration 2, and preferably include the above configuration 1.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法では、導電部を少なくとも表面に有する導電性粒子と、上記導電性粒子の表面に付着している複数の絶縁性粒子とを備える絶縁性粒子付き導電性粒子を得る。本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法では、上記導電性粒子の表面の上記導電部が、ニッケルを含む導電部である。本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法では、式(11)で表される構造単位を有する化合物により表面処理されておりかつチオール基を表面に有する導電性粒子と、チオール基と反
応可能な官能基を表面に有する絶縁性粒子とを用いて、上記導電性粒子におけるチオール基と上記絶縁性粒子におけるチオール基と反応可能な官能基とを化学結合させることで、上記導電性粒子の表面に上記絶縁性粒子を付着させることにより、絶縁性粒子付き導電性粒子を得る(構成1’)。又は、式(11)で表される構造単位を有する化合物により表面処理されておりかつチオール基を表面に有する導電性粒子と、官能基を表面に有する絶縁性粒子と、チオール基と反応可能な第1の官能基及び上記絶縁性粒子の表面の上記官能基と反応可能な第2の官能基を有する第1,第2の官能基含有化合物とを用いて、上記導電性粒子におけるチオール基と上記第1,第2の官能基含有化合物におけるチオール基と反応可能な第1の官能基とを化学結合させ、かつ上記絶縁性粒子の表面の官能基と上記第1,第2の官能基含有化合物における上記絶縁性粒子の表面の官能基と反応可能な上記第2の官能基とを化学結合させることで、上記導電性粒子の表面に上記絶縁性粒子を付着させることにより、絶縁性粒子付き導電性粒子を得る(構成2’)。本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法は、上記構成1’を備えていてもよく、上記構成2’を備えていてもよく、上記構成1’を備えることが好ましい。
In the method for producing conductive particles with insulating particles according to the present invention, insulating particles comprising conductive particles having at least a conductive portion on the surface, and a plurality of insulating particles attached to the surface of the conductive particles. The attached conductive particles are obtained. In the method for producing conductive particles with insulating particles according to the present invention, the conductive portion on the surface of the conductive particles is a conductive portion containing nickel. In the method for producing conductive particles with insulating particles according to the present invention, conductive particles which are surface-treated with a compound having a structural unit represented by formula (11) and have a thiol group on the surface, Using the insulating particles having a reactive functional group on the surface, the conductive particles are chemically bonded to the thiol groups in the conductive particles and the functional groups capable of reacting with the thiol groups in the insulating particles. By attaching the insulating particles to the surface, conductive particles with insulating particles are obtained (Configuration 1 ′). Alternatively, the conductive particles that are surface-treated with the compound having the structural unit represented by the formula (11) and have a thiol group on the surface, insulating particles that have a functional group on the surface, and can react with the thiol group. Using the first functional group and the first functional group-containing compound having the second functional group capable of reacting with the functional group on the surface of the insulating particle, the thiol group in the conductive particle, The first functional group capable of reacting with the thiol group in the first and second functional group-containing compounds is chemically bonded, and the functional group on the surface of the insulating particle and the first and second functional groups are contained. By attaching the insulating particles to the surface of the conductive particles by chemically bonding the second functional group capable of reacting with the functional groups on the surface of the insulating particles in the compound, the insulating particles are attached. Obtain conductive particles 2 '). The method for producing conductive particles with insulating particles according to the present invention may include the above-described configuration 1 ′, may include the above-described configuration 2 ′, and preferably includes the above-described configuration 1 ′.

Figure 0006212374
Figure 0006212374

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子及び本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法における上述した構成の採用により、導電性粒子から絶縁性粒子が意図せずに脱離し難くなり、電極間の導通信頼性及び絶縁信頼性を高めることができる。すなわち、電極間の接続時には、電極間で絶縁性粒子付き導電性粒子が圧着されることで、電極と導電性粒子との間の絶縁性粒子が導電性粒子の表面から脱離するので、電極間の導通信頼性を高めることができる。一方で、電極と導電性粒子との間に配置されていない絶縁性粒子は導電性粒子の表面から脱離し難いために、複数の絶縁性粒子付き導電性粒子が接触したとしても、隣接する導電性粒子間には絶縁性粒子が存在するので、接続されてはならない横方向の電極間の電気的な接続を抑えることができる。   By employing the above-described configuration in the conductive particles with insulating particles according to the present invention and the method for producing the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the insulating particles are less likely to be unintentionally detached from the conductive particles. In addition, it is possible to improve conduction reliability and insulation reliability between the electrodes. That is, when the electrodes are connected, the conductive particles with insulating particles are pressed between the electrodes, so that the insulating particles between the electrodes and the conductive particles are detached from the surface of the conductive particles. It is possible to improve the reliability of conduction between the two. On the other hand, since the insulating particles that are not arranged between the electrode and the conductive particles are difficult to be detached from the surface of the conductive particles, even if a plurality of conductive particles with insulating particles come into contact with each other, the adjacent conductive particles Since insulating particles exist between the conductive particles, electrical connection between the lateral electrodes that should not be connected can be suppressed.

また、本発明では、絶縁性粒子の脱離を抑制する観点から、上記導電性粒子の表面の上記導電部が、ニッケルを含む導電部である。導電部が多層構造を有する場合に、導電部の最外層が、ニッケルを含む導電部である。絶縁性粒子の脱離を抑制することで、電極間の絶縁信頼性が高くなる。本発明では、上記導電性粒子の表面の上記導電部が、銅により形成されておりかつニッケルを含まない導電部や金により形成されておりかつニッケルを含まない導電部とは異なり、ニッケルを含む導電部である。上記導電性粒子の表面の上記導電部がニッケルを含む導電部であることで、上記導電性粒子の表面の上記導電部が、銅により形成されておりかつニッケルを含まない導電部である場合と比べて、絶縁信頼性が効果的に高くなる。また、上記導電性粒子の表面の上記導電部がニッケルを含む導電部であることで、上記導電性粒子の表面の上記導電部が、金により形成されておりかつニッケルを含まない導電部である場合と比べて、導通信頼性が効果的に高くなる。金により形成されておりかつニッケルを含まない導電部では、該導電部が比較的柔らかいために、電極の表面の異物や酸化膜を十分に排除できず、接続抵抗が高くなる傾向がある。本発明では、上記導電性粒子の表面の上記導電部が、ニッケルを含む導電部であることは、本発明の効果の発現に大きく寄与する。また、上記導電性粒子の表面の上記導電部が、ニッケルを含む導電部であると、導通信頼性も高くなる。   In the present invention, from the viewpoint of suppressing the detachment of the insulating particles, the conductive portion on the surface of the conductive particles is a conductive portion containing nickel. When the conductive part has a multilayer structure, the outermost layer of the conductive part is a conductive part containing nickel. By suppressing the detachment of the insulating particles, the insulation reliability between the electrodes is increased. In the present invention, the conductive portion on the surface of the conductive particles is formed of copper, and is different from a conductive portion that is formed of copper or gold and does not include nickel. It is a conductive part. When the conductive part on the surface of the conductive particle is a conductive part containing nickel, the conductive part on the surface of the conductive particle is a conductive part formed of copper and not containing nickel. In comparison, the insulation reliability is effectively increased. Further, the conductive part on the surface of the conductive particles is a conductive part containing nickel, so that the conductive part on the surface of the conductive particles is formed of gold and does not contain nickel. Compared to the case, the conduction reliability is effectively increased. In a conductive portion made of gold and not containing nickel, the conductive portion is relatively soft, so that foreign matters and oxide films on the surface of the electrode cannot be sufficiently removed, and the connection resistance tends to increase. In this invention, that the said electroconductive part of the surface of the said electroconductive particle is a electroconductive part containing nickel contributes greatly to expression of the effect of this invention. Moreover, conduction | electrical_connection reliability also becomes it high that the said electroconductive part of the surface of the said electroconductive particle is an electroconductive part containing nickel.

また、近年、電子機器の小型化及び高性能化に伴って、電極が形成されている部分のラ
イン(L)である電極幅と、電極が形成されていない部分のスペース(S)の電極間幅とが狭くなってきている。例えば、L/Sが30μm以下/30μm以下の微細な電極間を電気的に接続する必要が高まっている。L/Sが小さい電極間を電気的に接続する場合には、従来の導電材料では、スペース(S)に絶縁性粒子付き導電性粒子が多く配置されやすいので、絶縁不良が特に生じやすいという問題がある。
Also, in recent years, with the downsizing and higher performance of electronic devices, the electrode width, which is the line (L) where the electrode is formed, and the space between the electrodes where the electrode is not formed (S) The width is getting narrower. For example, it is necessary to electrically connect fine electrodes having L / S of 30 μm or less / 30 μm or less. In the case of electrically connecting electrodes having a small L / S, the conventional conductive material has a problem that insulation defects are particularly likely to occur because many conductive particles with insulating particles are easily arranged in the space (S). There is.

これに対して、本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子の使用により、スペース(S)に導電性粒子が配置され難くなり、絶縁不良が生じるのを効果的に抑制できる。特に、L/Sが30μm以下/30μm以下の微細な電極間を導電接続する場合であっても、絶縁信頼性を十分に高くすることができる。   On the other hand, by using the conductive particles with insulating particles according to the present invention, it becomes difficult to arrange the conductive particles in the space (S), and it is possible to effectively suppress the occurrence of poor insulation. In particular, the insulation reliability can be sufficiently increased even in the case of conductive connection between fine electrodes having L / S of 30 μm or less / 30 μm or less.

また、近年、L/Sが小さい電極間を電気的に接続したときの絶縁信頼性を高めるために、導電性粒子の表面に付着している絶縁性粒子の粒子径を大きくすることが要求されている。しかし、絶縁性粒子の粒子径を大きくすると、絶縁性粒子が導電性粒子の表面から脱離しやすくなる。   In recent years, it has been required to increase the particle size of the insulating particles attached to the surface of the conductive particles in order to increase the insulation reliability when the electrodes having a small L / S are electrically connected. ing. However, when the particle diameter of the insulating particles is increased, the insulating particles are easily detached from the surface of the conductive particles.

これに対して、本発明によれば、絶縁性粒子の粒子径が大きくても、絶縁性粒子の意図しない脱離を抑えることができ、導通信頼性及び絶縁信頼性を十分に確保できる。   On the other hand, according to the present invention, even when the particle diameter of the insulating particles is large, unintentional detachment of the insulating particles can be suppressed, and sufficient conduction reliability and insulation reliability can be ensured.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子では、特に、電極(第1,第2の電極)が形成されている部分のライン(L)である電極幅と、電極(第1,第2の電極)が形成されていない部分のスペース(S)の電極間幅とを示すL/Sが30μm以下/30μm以下である場合に、絶縁信頼性を効果的に高めることができ、L/Sが20μm以下/20μm以下である場合に、絶縁信頼性をより一層効果的に高めることができ、L/Sが17.5μm以下/17.5μm以下である場合に、絶縁信頼性を更に一層効果的に高めることができ、L/Sが15μm以下/15μm以下である場合に、絶縁信頼性を特に効果的に高めることができる。上記L/Sは50μm以下/50μm以下であってもよい。   In the conductive particles with insulating particles according to the present invention, in particular, the electrode width which is the line (L) of the portion where the electrodes (first and second electrodes) are formed, and the electrodes (first and second electrodes). When the L / S indicating the inter-electrode width of the space (S) where the electrode is not formed is 30 μm or less / 30 μm or less, the insulation reliability can be effectively increased, and the L / S is When it is 20 μm or less / 20 μm or less, the insulation reliability can be further effectively improved, and when L / S is 17.5 μm or less / 17.5 μm or less, the insulation reliability is even more effective. When L / S is 15 μm or less / 15 μm or less, the insulation reliability can be particularly effectively increased. The L / S may be 50 μm or less / 50 μm or less.

また、本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子により導通信頼性を高めることができるので、電極(第1,第2の電極)が形成されている部分のライン(L)である電極幅の最小値は、好ましくは30μm以下、より好ましくは20μm以下、更に好ましくは17.5μm以下、特に好ましくは15μm以下である。ライン(L)である電極幅は、絶縁性粒子付き導電性粒子における平均粒子径よりも大きいことが好ましく、更に導電性粒子の平均粒子径の1.1倍以上であることがより好ましく、2倍以上であることが更に好ましく、3倍以上であることが特に好ましい。上記ライン(L)である電極幅は、50μm以下であってもよい。   In addition, since the conductive reliability can be enhanced by the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the width of the electrode which is the line (L) of the portion where the electrodes (first and second electrodes) are formed. The minimum value is preferably 30 μm or less, more preferably 20 μm or less, still more preferably 17.5 μm or less, and particularly preferably 15 μm or less. The electrode width of the line (L) is preferably larger than the average particle size of the conductive particles with insulating particles, more preferably 1.1 times or more the average particle size of the conductive particles. More preferably, it is more than twice, and it is particularly preferably 3 times or more. The electrode width of the line (L) may be 50 μm or less.

また、本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子により絶縁信頼性を高めることができるので、電極(第1,第2の電極)が形成されていない部分のスペース(S)である電極間幅の最小値は、好ましくは30μm以下、より好ましくは20μm以下、更に好ましくは17.5μm以下、特に好ましくは15μm以下である。スペース(S)である電極間幅は、絶縁性粒子付き導電性粒子における導電性粒子の平均粒子径よりも大きいことが好ましく、更に導電性粒子の平均粒子径の1.1倍以上であることがより好ましく、2倍以上であることが更に好ましく、3倍以上であることが特に好ましい。上記スペース(S)である電極間幅は、50μm以下であってもよい。   In addition, since the insulation reliability can be enhanced by the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the interelectrode width which is a space (S) in a portion where the electrodes (first and second electrodes) are not formed. The minimum value of is preferably 30 μm or less, more preferably 20 μm or less, still more preferably 17.5 μm or less, and particularly preferably 15 μm or less. The width between the electrodes as the space (S) is preferably larger than the average particle diameter of the conductive particles in the conductive particles with insulating particles, and more than 1.1 times the average particle diameter of the conductive particles. Is more preferably 2 times or more, and particularly preferably 3 times or more. The inter-electrode width that is the space (S) may be 50 μm or less.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子の使用により絶縁信頼性が効果的に高くなることから、本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子は、電極間の電気的な接続に用いられ、該電極が形成されていない部分のスペースの電極間幅の最小値が30μm以下であることが好ましい。   Since the use of the conductive particles with insulating particles according to the present invention effectively increases the insulation reliability, the conductive particles with insulating particles according to the present invention is used for electrical connection between the electrodes, It is preferable that the minimum value of the inter-electrode width of the space where the electrode is not formed is 30 μm or less.

上記導電性粒子の表面積全体に占める上記絶縁性粒子により被覆されている部分の面積である被覆率は好ましくは40%以上、より好ましくは50%以上、更に好ましくは50%を超え、特に好ましくは60%以上である。上記被覆率が上記下限以上であると、隣接する導電性粒子がより一層接触し難くなる。上記被覆率は好ましくは95%以下、より好ましくは90%以下、更に好ましくは80%以下、特に好ましくは70%以下である。上記被覆率が上記上限以下であると、電極の接続の際に、熱及び圧力を必要以上に付与しなくても、絶縁性粒子を充分に排除できる。   The coverage, which is the area of the portion covered with the insulating particles in the entire surface area of the conductive particles, is preferably 40% or more, more preferably 50% or more, still more preferably more than 50%, particularly preferably. 60% or more. When the coverage is equal to or higher than the lower limit, adjacent conductive particles are more difficult to contact. The coverage is preferably 95% or less, more preferably 90% or less, still more preferably 80% or less, and particularly preferably 70% or less. If the coverage is less than or equal to the above upper limit, the insulating particles can be sufficiently eliminated without applying heat and pressure more than necessary when the electrodes are connected.

上記被覆率は、具体的には、以下のようにして求められる。   Specifically, the coverage is determined as follows.

走査型電子顕微鏡(SEM)での観察により100個の絶縁性粒子付き導電性粒子を観察し、絶縁性粒子付き導電性粒子における導電性粒子の被覆率X1(%)(付着率X1(%)ともいう)を求める。上記被覆率X1は、導電性粒子の表面積全体に占める絶縁性粒子により被覆されている部分の面積(投影面積)である。   100 conductive particles with insulating particles were observed by observation with a scanning electron microscope (SEM), and the coverage ratio X1 (%) of the conductive particles in the conductive particles with insulating particles (attachment rate X1 (%)) (Also called). The coverage X1 is the area (projected area) of the portion covered with the insulating particles in the entire surface area of the conductive particles.

具体的には、図6に示すように、絶縁性粒子付き導電性粒子Aを一方向から走査型電子顕微鏡(SEM)で観察した場合、絶縁性粒子付き導電性粒子Aの導電部の外表面(外周縁)の円内に存在する絶縁性粒子B1を1個、絶縁性粒子付き導電性粒子Aの導電部の外表面(外周縁)の円周上に存在する絶縁性粒子B2を0.5個とカウントする。上記被覆率は、絶縁性粒子付き導電性粒子Aの投影面積に対する絶縁性粒子の投影面積の割合で示す。   Specifically, as shown in FIG. 6, when the conductive particles A with insulating particles are observed from one direction with a scanning electron microscope (SEM), the outer surface of the conductive part of the conductive particles A with insulating particles One insulating particle B1 is present in the circle on the (outer peripheral edge), and the insulating particle B2 present on the circumference on the outer surface (outer peripheral edge) of the conductive portion of the conductive particle A with insulating particles is 0.00. Count as 5. The said coverage is shown by the ratio of the projection area of an insulating particle with respect to the projection area of the electroconductive particle A with an insulating particle.

すなわち、上記被覆率は下記式(1)で表される。   That is, the coverage is expressed by the following formula (1).

被覆率(%)=((((円内の絶縁性粒子の数)×1+(円周上の絶縁性粒子の数)×0.5)×(絶縁性粒子の投影面積))/(絶縁性粒子付き導電性粒子の投影面積))×100 ・・・式(1)   Coverage (%) = ((((number of insulating particles in circle) × 1 + (number of insulating particles on the circumference) × 0.5) × (projected area of insulating particles)) / (insulation Projected area of conductive particles with conductive particles)) × 100 (1)

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子は、バインダー樹脂中に分散され、導電材料として用いられることが好ましい。本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子は、ペースト状の導電ペーストに用いられることが好ましい。上記導電材料は、導電ペーストであることが好ましい。   The conductive particles with insulating particles according to the present invention are preferably dispersed in a binder resin and used as a conductive material. The conductive particles with insulating particles according to the present invention are preferably used for a paste-like conductive paste. The conductive material is preferably a conductive paste.

絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて電極間を接続したときに、接続されてはならない隣り合う電極間で短絡をより一層生じ難くし、かつ接続されるべき上下の電極間の導通性を十分に確保する観点からは、本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子は、25℃及び2.5rpmでの粘度が100Pa・sを超え、1000Pa・s以下である導電ペーストに用いられることが好ましく、導電ペーストの25℃及び2.5rpmでの粘度は、100Pa・sを超え、1000Pa・s以下であることが好ましい。   When electrodes are connected using conductive particles with insulating particles, short-circuiting between adjacent electrodes that should not be connected is more difficult to occur, and there is sufficient continuity between the upper and lower electrodes to be connected. From the viewpoint of securing the conductive particles, the conductive particles with insulating particles according to the present invention are preferably used for a conductive paste having a viscosity at 25 ° C. and 2.5 rpm of more than 100 Pa · s and 1000 Pa · s or less. The viscosity of the conductive paste at 25 ° C. and 2.5 rpm is preferably more than 100 Pa · s and 1000 Pa · s or less.

電極間の導通信頼性及び絶縁信頼性をより一層高める観点からは、上記絶縁性粒子付き導電性粒子の粒子径の変動係数は、好ましくは8%以下、より好ましくは5%以下である。   From the viewpoint of further enhancing the conduction reliability and insulation reliability between the electrodes, the coefficient of variation of the particle diameter of the conductive particles with insulating particles is preferably 8% or less, more preferably 5% or less.

上記変動係数(CV値)は下記式で表される。   The coefficient of variation (CV value) is expressed by the following equation.

CV値(%)=(ρ/Dn)×100
ρ:絶縁性粒子付き導電性粒子の粒子径の標準偏差
Dn:絶縁性粒子付き導電性粒子の粒子径の平均値
CV value (%) = (ρ / Dn) × 100
ρ: Standard deviation of particle diameter of conductive particles with insulating particles Dn: Average value of particle diameter of conductive particles with insulating particles

以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態及び実施例を説明することにより本発明を明らかにする。   Hereinafter, the present invention will be clarified by describing specific embodiments and examples of the present invention with reference to the drawings.

(絶縁性粒子付き導電性粒子)
図1に、本発明の第1の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を断面図で示す。
(Conductive particles with insulating particles)
FIG. 1 is a sectional view showing conductive particles with insulating particles according to the first embodiment of the present invention.

図1に示す絶縁性粒子付き導電性粒子1は、導電性粒子2と、導電性粒子2の表面に付着している複数の絶縁性粒子3とを備える。絶縁性粒子3は、絶縁性を有する材料により形成されている。絶縁性粒子3は、被覆粒子ではない。絶縁性粒子3にかえて後述する絶縁性粒子43を用いてもよい。   A conductive particle 1 with insulating particles shown in FIG. 1 includes conductive particles 2 and a plurality of insulating particles 3 attached to the surface of the conductive particles 2. The insulating particles 3 are made of an insulating material. The insulating particles 3 are not coated particles. Insulating particles 43 described later may be used instead of the insulating particles 3.

導電性粒子2は、基材粒子11と、基材粒子11の表面上に配置された導電部12とを有する。導電部12は導電層である。導電部12は、基材粒子11の表面を覆っている。導電性粒子2は、基材粒子11の表面が導電部12により被覆された被覆粒子である。導電性粒子2は表面に導電部12を有する。   The conductive particle 2 includes a base particle 11 and a conductive portion 12 disposed on the surface of the base particle 11. The conductive part 12 is a conductive layer. The conductive part 12 covers the surface of the base particle 11. The conductive particle 2 is a coated particle in which the surface of the base particle 11 is coated with the conductive portion 12. The conductive particle 2 has a conductive portion 12 on the surface.

図2に、本発明の第2の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を断面図で示す。   FIG. 2 is a sectional view showing conductive particles with insulating particles according to the second embodiment of the present invention.

図2に示す絶縁性粒子付き導電性粒子21は、導電性粒子22と、導電性粒子22の表面に付着している複数の絶縁性粒子3とを備える。絶縁性粒子3にかえて後述する絶縁性粒子43を用いてもよい。   The conductive particles 21 with insulating particles shown in FIG. 2 include conductive particles 22 and a plurality of insulating particles 3 attached to the surface of the conductive particles 22. Insulating particles 43 described later may be used instead of the insulating particles 3.

導電性粒子22は、基材粒子11と、基材粒子11の表面上に配置された導電部31とを有する。導電部31は導電層である。導電性粒子22は、基材粒子11の表面上に複数の芯物質32を有する。導電部31は、基材粒子11と芯物質32とを被覆している。芯物質32を導電部31が被覆していることにより、導電性粒子22は導電性の表面に、複数の突起33を有する。芯物質32により導電部31の表面が隆起されており、複数の突起33が形成されている。   The conductive particle 22 includes the base particle 11 and a conductive portion 31 disposed on the surface of the base particle 11. The conductive part 31 is a conductive layer. The conductive particles 22 have a plurality of core substances 32 on the surface of the substrate particles 11. The conductive portion 31 covers the base particle 11 and the core substance 32. By covering the core substance 32 with the conductive portion 31, the conductive particle 22 has a plurality of protrusions 33 on the conductive surface. The surface of the conductive portion 31 is raised by the core substance 32, and a plurality of protrusions 33 are formed.

図3に、本発明の第3の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を断面図で示す。   In FIG. 3, the electroconductive particle with an insulating particle which concerns on the 3rd Embodiment of this invention is shown with sectional drawing.

図3に示す絶縁性粒子付き導電性粒子41は、導電性粒子42と、導電性粒子42の表面に付着している複数の絶縁性粒子43とを備える。絶縁性粒子43にかえて絶縁性粒子3を用いてもよい。   A conductive particle 41 with insulating particles shown in FIG. 3 includes conductive particles 42 and a plurality of insulating particles 43 attached to the surface of the conductive particles 42. The insulating particles 3 may be used instead of the insulating particles 43.

導電性粒子42は、基材粒子11と、基材粒子11の表面上に配置された導電部51とを有する。導電部51は導電層である。導電性粒子42は、導電性粒子22のように芯物質を有さない。導電部51は、第1の部分と、該第1の部分よりも厚みが厚い第2の部分とを有する。導電性粒子42は導電性の表面に、複数の突起52を有する。複数の突起52を除く部分が、導電部51の上記第1の部分である。複数の突起52は、導電部51の厚みが厚い上記第2の部分である。絶縁性粒子43は被覆粒子である。   The conductive particle 42 includes the base particle 11 and a conductive portion 51 disposed on the surface of the base particle 11. The conductive part 51 is a conductive layer. The conductive particles 42 do not have a core substance like the conductive particles 22. The conductive portion 51 has a first portion and a second portion that is thicker than the first portion. The conductive particles 42 have a plurality of protrusions 52 on the conductive surface. A portion excluding the plurality of protrusions 52 is the first portion of the conductive portion 51. The plurality of protrusions 52 are the second portions where the conductive portion 51 is thick. The insulating particles 43 are coated particles.

絶縁性粒子43は、絶縁性粒子本体45と、絶縁性粒子本体45の表面を覆っている層46とを有する。層46は、有機化合物により形成されていることが好ましく、高分子化合物により形成されていることが好ましい。   The insulating particles 43 have an insulating particle main body 45 and a layer 46 covering the surface of the insulating particle main body 45. The layer 46 is preferably formed of an organic compound, and is preferably formed of a polymer compound.

層46は、絶縁性粒子本体45の表面全体を被覆している。従って、導電性粒子42と絶縁性粒子本体45との間に層46が配置されている。層46は、絶縁性粒子本体の表面の少なくとも一部の領域を覆うように存在していればよく、絶縁性粒子本体の表面全体を
覆っていなくてもよい。層46は、導電性粒子と絶縁性粒子本体との間に配置されていることが好ましい。
The layer 46 covers the entire surface of the insulating particle main body 45. Therefore, the layer 46 is disposed between the conductive particles 42 and the insulating particle main body 45. The layer 46 may be present so as to cover at least a part of the surface of the insulating particle body, and does not need to cover the entire surface of the insulating particle body. The layer 46 is preferably disposed between the conductive particles and the insulating particle body.

図4に、本発明の第4の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を断面図で示す。   FIG. 4 is a sectional view showing conductive particles with insulating particles according to the fourth embodiment of the present invention.

図4に示す絶縁性粒子付き導電性粒子61は、導電性粒子2と、導電性粒子2の表面に付着している複数の絶縁性粒子3と、導電性粒子2と絶縁性粒子3との表面を被覆している被膜62とを備える。被膜62は、導電性粒子2と、導電性粒子2の表面に付着している複数の絶縁性粒子3とを備える粒子の導電性の表面を防錆処理することにより形成されている。なお、導電性粒子2の導電性の表面を防錆処理した後に、導電性粒子2の表面上に絶縁性粒子3を配置してもよい。導電性粒子2にかえて導電性粒子22,42を用いてもよい。絶縁性粒子3にかえて絶縁性粒子43を用いてもよい。   The conductive particles 61 with insulating particles shown in FIG. 4 include conductive particles 2, a plurality of insulating particles 3 attached to the surface of the conductive particles 2, and the conductive particles 2 and the insulating particles 3. And a coating 62 covering the surface. The coating 62 is formed by subjecting the conductive surface of particles including the conductive particles 2 and the plurality of insulating particles 3 attached to the surface of the conductive particles 2 to rust prevention. Note that the insulating particles 3 may be disposed on the surface of the conductive particles 2 after the conductive surface of the conductive particles 2 has been subjected to rust prevention treatment. The conductive particles 22 and 42 may be used instead of the conductive particles 2. Insulating particles 43 may be used instead of the insulating particles 3.

なお、被膜62は、導電性粒子2、及び絶縁性粒子3の表面全体を必ずしも被覆している必要はない。被膜62は、導電性粒子2、導電部12、及び絶縁性粒子3の表面全体を被覆していることが好ましい。被膜62により、導電性粒子2、導電部12及び絶縁性粒子3の表面が露出していないことが好ましい。導電部12の表面の少なくとも一部の領域を被膜62が被覆していることにより、被膜62が形成されている部分において、導電部12の錆を抑制できる。   The coating 62 does not necessarily have to cover the entire surfaces of the conductive particles 2 and the insulating particles 3. The coating 62 preferably covers the entire surfaces of the conductive particles 2, the conductive portions 12, and the insulating particles 3. It is preferable that the surfaces of the conductive particles 2, the conductive portions 12, and the insulating particles 3 are not exposed by the coating 62. Since the coating 62 covers at least a part of the surface of the conductive portion 12, rust of the conductive portion 12 can be suppressed in the portion where the coating 62 is formed.

以下、導電性粒子、絶縁性粒子及び防錆処理の詳細を説明する。   Hereinafter, the detail of electroconductive particle, insulating particle | grains, and a rust prevention process is demonstrated.

[導電性粒子]
本発明では、絶縁性粒子を付着させる前の導電性粒子として、上述した式(11)で表される構造単位を有する化合物により表面処理されておりかつチオール基を表面に有する導電性粒子が用いられる。導電部を少なくとも表面に有する導電性粒子の表面に、上記絶縁性粒子を付着することにより、絶縁性粒子付き導電性粒子を得ることができる。上記導電性粒子における上記導電部は導電層であることが好ましい。
[Conductive particles]
In the present invention, conductive particles that are surface-treated with the compound having the structural unit represented by the formula (11) and have a thiol group on the surface are used as the conductive particles before the insulating particles are attached. It is done. Conductive particles with insulating particles can be obtained by attaching the insulating particles to the surface of the conductive particles having at least a conductive portion on the surface. The conductive part in the conductive particles is preferably a conductive layer.

導電性粒子の表面にチオール基を効率的に導入できることから、上記式(11)で表される構造単位を有する化合物は、複数のチオール基を有する化合物であることが好ましい。上記式(11)で表される構造単位を有する化合物は、チオール基を3つ以上有することがより好ましい。このような化合物では、複数のチオール基のうち、一部のチオール基を導電性粒子の表面と化学結合させ、残りのチオール基を絶縁性粒子におけるチオール基と反応可能な官能基と化学結合させることができる。   Since the thiol group can be efficiently introduced on the surface of the conductive particles, the compound having the structural unit represented by the formula (11) is preferably a compound having a plurality of thiol groups. The compound having the structural unit represented by the above formula (11) more preferably has three or more thiol groups. In such a compound, some of the thiol groups are chemically bonded to the surface of the conductive particles, and the remaining thiol groups are chemically bonded to the functional groups capable of reacting with the thiol groups in the insulating particles. be able to.

上記式(11)で表される構造単位を有する化合物により導電性粒子を表面処理する方法としては、電解重合法及び浸漬法等が挙げられる。   Examples of the method for surface-treating the conductive particles with the compound having the structural unit represented by the above formula (11) include an electrolytic polymerization method and an immersion method.

導電性粒子の表面にチオール基を効率的に導入できることから、上記式(11)で表される構造単位を有する化合物は、トリアジン骨格とチオール基とを有する化合物であることが好ましい。導電性粒子の表面にチオール基を効率的に導入できることから、上記式(11)で表される構造単位を有する化合物は、下記式(1)で表される化合物であることが好ましい。   Since a thiol group can be efficiently introduced on the surface of the conductive particles, the compound having a structural unit represented by the above formula (11) is preferably a compound having a triazine skeleton and a thiol group. Since the thiol group can be efficiently introduced on the surface of the conductive particles, the compound having the structural unit represented by the above formula (11) is preferably a compound represented by the following formula (1).

Figure 0006212374
Figure 0006212374

上記式(1)中、Xは、チオール基、アニリノ基、アルキルアミノ基、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、カルボキシル基、スルフォ基、アミノ基、エポキシ基又はイミド基を表す。上記アルキルアミノ基としては、ジブチルアミノ基、ジオクチルアミノ基、ジラウリルアミノ基、オレイルアミノ基、フェニルアミノ基及びステアリルアミノ基等が挙げられる。上記式(1)中、Xは、チオール基、アニリノ基又はアルキルアミノ基であってもよい。化学結合する基が多いことから、上記式(1)中のXは、チオール基であることが好ましい。すなわち、上記式(1)で表される化合物は、下記式(1A)で表される化合物であることが好ましい。また、絶縁性粒子付き導電性粒子では、上記式(1)におけるXを介して、導電性粒子に絶縁性粒子が付着していることが好ましい。
In the above formula (1), X represents a thiol group, an anilino group, an alkylamino group, a vinyl group, a (meth) acryloyl group, a carboxyl group, a sulfo group, an amino group, an epoxy group or an imide group. Examples of the alkylamino group include a dibutylamino group, a dioctylamino group, a dilaurylamino group, an oleylamino group, a phenylamino group, and a stearylamino group. In the above formula (1), X may be a thiol group, an anilino group or an alkylamino group. Since many groups are chemically bonded, X in the above formula (1) is preferably a thiol group. That is, the compound represented by the above formula (1) is preferably a compound represented by the following formula (1A). In the conductive particles with insulating particles, it is preferable that the insulating particles are attached to the conductive particles through X in the above formula (1).

Figure 0006212374
Figure 0006212374

上記式(11)で表される構造単位を有する化合物は、2,4,6−トリメルカプト−s−トリアジン(トリアジンチオール)、2−ジ−n−ブチルアミノ−4,6−ジメルカプト−s−トリアジン、又は2−フェニルアミノ−4,6−ジメルカプト−s−トリアジンであることが好ましい。これらの化合物の1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これら以外の化合物を用いてもよい。上記式(11)で表される構造単位を有する化合物は、2,4,6−トリメルカプト−s−トリアジン(トリアジンチオール)であることが特に好ましい。   The compound having the structural unit represented by the formula (11) is 2,4,6-trimercapto-s-triazine (triazinethiol), 2-di-n-butylamino-4,6-dimercapto-s-. Triazine or 2-phenylamino-4,6-dimercapto-s-triazine is preferable. Only 1 type of these compounds may be used, and 2 or more types may be used together. You may use compounds other than these. The compound having the structural unit represented by the above formula (11) is particularly preferably 2,4,6-trimercapto-s-triazine (triazine thiol).

上記導電性粒子は、少なくとも表面に導電部を有しており、かつ上記導電性粒子の表面の上記導電部が、ニッケルを含む導電部であればよい。コストを低減したり、導電性粒子の柔軟性を高くして、電極間の導通信頼性を高めたりする観点からは、上記導電性粒子は、基材粒子と、該基材粒子の表面上に配置された導電部とを有することが好ましい。   The conductive particles have at least a conductive portion on the surface, and the conductive portion on the surface of the conductive particles may be a conductive portion containing nickel. From the viewpoint of reducing the cost and increasing the flexibility of the conductive particles to increase the conduction reliability between the electrodes, the conductive particles are formed on the surface of the base material particles and the base material particles. It is preferable to have a conductive part arranged.

上記基材粒子としては、樹脂粒子、金属粒子を除く無機粒子、有機無機ハイブリッド粒子及び金属粒子等が挙げられる。上記基材粒子は、金属粒子を除く基材粒子であることが好ましく、樹脂粒子、金属粒子を除く無機粒子又は有機無機ハイブリッド粒子であることがより好ましい。上記基材粒子は、コアと、コアの表面上に配置されたシェルとを備えるコアシェル粒子であってもよい。上記コアが有機コアであってもよい。上記シェルが無機シェルであってもよい。   Examples of the substrate particles include resin particles, inorganic particles excluding metal particles, organic-inorganic hybrid particles, and metal particles. The substrate particles are preferably substrate particles excluding metal particles, and more preferably resin particles, inorganic particles excluding metal particles, or organic-inorganic hybrid particles. The base particle may be a core-shell particle including a core and a shell disposed on the surface of the core. The core may be an organic core. The shell may be an inorganic shell.

上記基材粒子は、樹脂により形成された樹脂粒子であることが好ましい。絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて電極間を接続する際には、絶縁性粒子付き導電性粒子を電極間に配置した後、圧着することにより絶縁性粒子付き導電性粒子を圧縮させる。基材粒子が樹脂
粒子であると、上記圧着の際に導電性粒子が変形しやすく、導電性粒子と電極との接触面積が大きくなる。このため、電極間の導通信頼性が高くなる。
The substrate particles are preferably resin particles formed of a resin. When connecting the electrodes using the conductive particles with insulating particles, the conductive particles with insulating particles are compressed by placing the conductive particles with insulating particles between the electrodes and then pressing them. When the substrate particles are resin particles, the conductive particles are likely to be deformed during the pressure bonding, and the contact area between the conductive particles and the electrode is increased. For this reason, the conduction | electrical_connection reliability between electrodes becomes high.

上記樹脂粒子を形成するための樹脂として、種々の有機物が好適に用いられる。上記樹脂粒子を形成するための樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリイソブチレン、ポリブタジエン等のポリオレフィン樹脂;ポリメチルメタクリレート及びポリメチルアクリレート等のアクリル樹脂;ポリエチレンテレフタレート等のポリアルキレンテレフタレート;ポリカーボネート、ポリアミド、フェノールホルムアルデヒド樹脂、メラミンホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミンホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、飽和ポリエステル樹脂、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリアセタール、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ジビニルベンゼン重合体、並びにジビニルベンゼン系共重合体等が挙げられる。上記ジビニルベンゼン系共重合体等としては、ジビニルベンゼン−スチレン共重合体及びジビニルベンゼン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体等が挙げられる。上記樹脂粒子の硬度を好適な範囲に容易に制御できるので、上記樹脂粒子を形成するための樹脂は、エチレン性不飽和基を有する重合性単量体を1種又は2種以上重合させた重合体であることが好ましい。   Various organic materials are suitably used as the resin for forming the resin particles. Examples of the resin for forming the resin particles include polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyisobutylene, and polybutadiene; acrylic resins such as polymethyl methacrylate and polymethyl acrylate; polyethylene Polyalkylene terephthalates such as terephthalate; polycarbonate, polyamide, phenol formaldehyde resin, melamine formaldehyde resin, benzoguanamine formaldehyde resin, urea formaldehyde resin, phenol resin, melamine resin, benzoguanamine resin, urea resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, saturated polyester resin , Polysulfone, polyphenylene oxide, polyacetal, polyimide, polya Doimido, polyether ether ketone, polyether sulfone, divinyl benzene polymer, and divinylbenzene copolymer, and the like. Examples of the divinylbenzene copolymer include divinylbenzene-styrene copolymer and divinylbenzene- (meth) acrylic acid ester copolymer. Since the hardness of the resin particles can be easily controlled within a suitable range, the resin for forming the resin particles is a polymer obtained by polymerizing one or more polymerizable monomers having an ethylenically unsaturated group. It is preferably a coalescence.

上記樹脂粒子を、エチレン性不飽和基を有する単量体を重合させて得る場合には、該エチレン性不飽和基を有する単量体としては、非架橋性の単量体と架橋性の単量体とが挙げられる。   When the resin particles are obtained by polymerizing a monomer having an ethylenically unsaturated group, the monomer having the ethylenically unsaturated group may be a non-crosslinkable monomer or a crosslinkable monomer. And a polymer.

上記非架橋性の単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系単量体;(メタ)アクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸等のカルボキシル基含有単量体;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート類;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、ポリオキシエチレン(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート等の酸素原子含有(メタ)アクリレート類;(メタ)アクリロニトリル等のニトリル含有単量体;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル等のビニルエーテル類;酢酸ビニル、酪酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等の酸ビニルエステル類;エチレン、プロピレン、イソプレン、ブタジエン等の不飽和炭化水素;トリフルオロメチル(メタ)アクリレート、ペンタフルオロエチル(メタ)アクリレート、塩化ビニル、フッ化ビニル、クロルスチレン等のハロゲン含有単量体等が挙げられる。   Examples of the non-crosslinkable monomer include styrene monomers such as styrene and α-methylstyrene; carboxyl group-containing monomers such as (meth) acrylic acid, maleic acid, and maleic anhydride; (Meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl ( Alkyl (meth) acrylates such as meth) acrylate and isobornyl (meth) acrylate; oxygen such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, polyoxyethylene (meth) acrylate and glycidyl (meth) acrylate (Meth) acrylates; nitrile-containing monomers such as (meth) acrylonitrile; vinyl ethers such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether; vinyl acids such as vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl laurate, vinyl stearate Esters; Unsaturated hydrocarbons such as ethylene, propylene, isoprene and butadiene; Halogen-containing monomers such as trifluoromethyl (meth) acrylate, pentafluoroethyl (meth) acrylate, vinyl chloride, vinyl fluoride and chlorostyrene Is mentioned.

上記架橋性の単量体としては、例えば、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、グリセロールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)テトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリレート類;トリアリル(イソ)シアヌレート、トリアリルトリメリテート、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、ジアリルアクリルアミド、ジアリルエーテル、γ−(メタ)アクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン、トリメトキシシリルスチレン、ビニルトリメトキシシラン等のシラン含有単量体等が挙げられる。
Examples of the crosslinkable monomer include tetramethylolmethane tetra (meth) acrylate, tetramethylolmethane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethane di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and dipenta Erythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, glycerol di (meth) acrylate, (poly) ethylene glycol di (meth) acrylate, (poly) propylene glycol di (meth) Polyfunctional (meth) acrylates such as acrylate, (poly) tetramethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate; triallyl (iso) cyanure Silane-containing monomers such as triallyl trimellitate, divinylbenzene, diallyl phthalate, diallylacrylamide, diallyl ether, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, trimethoxysilylstyrene, vinyltrimethoxysilane It is done.

上記エチレン性不飽和基を有する重合性単量体を、公知の方法により重合させることで、上記樹脂粒子を得ることができる。この方法としては、例えば、ラジカル重合開始剤の存在下で懸濁重合する方法、並びに非架橋の種粒子を用いてラジカル重合開始剤とともに単量体を膨潤させて重合する方法等が挙げられる。   The resin particles can be obtained by polymerizing the polymerizable monomer having an ethylenically unsaturated group by a known method. Examples of this method include a method of suspension polymerization in the presence of a radical polymerization initiator, and a method of polymerizing by swelling a monomer together with a radical polymerization initiator using non-crosslinked seed particles.

上記基材粒子が金属を除く無機粒子又は有機無機ハイブリッド粒子である場合には、基材粒子を形成するための無機物としては、シリカ及びカーボンブラック等が挙げられる。上記シリカにより形成された粒子としては特に限定されないが、例えば、加水分解性のアルコキシシリル基を2つ以上有するケイ素化合物を加水分解して架橋重合体粒子を形成した後に、必要に応じて焼成を行うことにより得られる粒子が挙げられる。上記有機無機ハイブリッド粒子としては、例えば、架橋したアルコキシシリルポリマーとアクリル樹脂とにより形成された有機無機ハイブリッド粒子等が挙げられる。   In the case where the substrate particles are inorganic particles or organic-inorganic hybrid particles excluding metal, examples of the inorganic material for forming the substrate particles include silica and carbon black. The particles formed from the silica are not particularly limited. For example, after forming a crosslinked polymer particle by hydrolyzing a silicon compound having two or more hydrolyzable alkoxysilyl groups, firing may be performed as necessary. The particle | grains obtained by performing are mentioned. Examples of the organic / inorganic hybrid particles include organic / inorganic hybrid particles formed of a crosslinked alkoxysilyl polymer and an acrylic resin.

上記基材粒子が金属粒子である場合に、該金属粒子を形成するための金属としては、銀、銅、ニッケル、ケイ素、金及びチタン等が挙げられる。上記基材粒子が金属粒子である場合に、該金属粒子は銅粒子であることが好ましい。但し、上記基材粒子は金属粒子ではないことが好ましい。   When the substrate particles are metal particles, examples of the metal for forming the metal particles include silver, copper, nickel, silicon, gold, and titanium. When the base material particles are metal particles, the metal particles are preferably copper particles. However, the substrate particles are preferably not metal particles.

上記導電性粒子の表面の上記導電部が、ニッケルを含む導電部であれば、上記導電部を形成するための金属は特に限定されない。該金属としては、例えば、金、銀、銅、パラジウム、白金、亜鉛、鉄、錫、鉛、アルミニウム、コバルト、インジウム、ニッケル、クロム、チタン、アンチモン、ビスマス、タリウム、ゲルマニウム、カドミウム、タングステン、モリブデン、ケイ素及びこれらの合金等が挙げられる。また、上記金属としては、錫ドープ酸化インジウム(ITO)及びはんだ等が挙げられる。なかでも、電極間の接続抵抗がより一層低くなるので、錫を含む合金、ニッケル、パラジウム、銅又は金が好ましく、ニッケル又はパラジウムがより好ましい。   If the conductive part on the surface of the conductive particles is a conductive part containing nickel, the metal for forming the conductive part is not particularly limited. Examples of the metal include gold, silver, copper, palladium, platinum, zinc, iron, tin, lead, aluminum, cobalt, indium, nickel, chromium, titanium, antimony, bismuth, thallium, germanium, cadmium, tungsten, and molybdenum. , Silicon and alloys thereof. Examples of the metal include tin-doped indium oxide (ITO) and solder. Especially, since the connection resistance between electrodes becomes still lower, an alloy containing tin, nickel, palladium, copper or gold is preferable, and nickel or palladium is more preferable.

上記導電部(導電層)は、1つの層により形成されていてもよい。導電部は、複数の層により形成されていてもよい。すなわち、導電部は、2層以上の積層構造を有していてもよい。導電部が複数の層により形成されている場合には、最外層として、ニッケル層が形成される。   The conductive part (conductive layer) may be formed of a single layer. The conductive part may be formed of a plurality of layers. That is, the conductive part may have a laminated structure of two or more layers. When the conductive part is formed of a plurality of layers, a nickel layer is formed as the outermost layer.

なお、導電部の表面には、酸化により水酸基が存在することが多い。一般的に、ニッケルを含む導電部の表面には、酸化により水酸基が存在する。導電性粒子の表面の水酸基と、上記式(11)で表される構造単位を有する化合物とは、化学結合しやすい。この水酸基の反応性を利用して、上記式(11)で表される構造単位を有する化合物による表面処理で、導電性粒子の表面にチオール基を導入することができる。また、絶縁性粒子が、導電性粒子の表面の水酸基(チオール基以外の部分)と反応可能な官能基を有する場合に、導電性粒子の表面に絶縁性粒子をより一層強固に付着させることができる。すなわち、導電性粒子におけるチオール基と絶縁性粒子におけるチオール基と反応可能な官能基との第1の化学結合と、導電性粒子の表面の水酸基(チオール基以外の部分)と絶縁性粒子における導電性粒子の表面の水酸基(チオール基以外の部分)と反応可能な官能基との第2の化学結合とによって、導電性粒子の表面に絶縁性粒子をより一層強固に付着させることができる。   In many cases, hydroxyl groups are present on the surface of the conductive portion by oxidation. Generally, a hydroxyl group exists on the surface of a conductive part containing nickel by oxidation. The hydroxyl group on the surface of the conductive particles and the compound having the structural unit represented by the formula (11) are easily chemically bonded. By utilizing the reactivity of this hydroxyl group, a thiol group can be introduced onto the surface of the conductive particles by surface treatment with a compound having a structural unit represented by the above formula (11). Further, when the insulating particles have a functional group capable of reacting with a hydroxyl group (a portion other than a thiol group) on the surface of the conductive particles, the insulating particles can be more firmly attached to the surface of the conductive particles. it can. That is, the first chemical bond between the thiol group in the conductive particle and the functional group capable of reacting with the thiol group in the insulating particle, the hydroxyl group (part other than the thiol group) on the surface of the conductive particle, and the conductivity in the insulating particle By the second chemical bond between the functional group capable of reacting with the hydroxyl group (part other than the thiol group) on the surface of the conductive particle, the insulating particle can be more firmly attached to the surface of the conductive particle.

絶縁性粒子の脱離を抑制する観点から、上記導電性粒子の表面の上記導電部が、ニッケルを含む導電部である。導電部が多層構造を有する場合に、導電部の最外層が、ニッケル
を含む導電部である。
From the viewpoint of suppressing the detachment of the insulating particles, the conductive portion on the surface of the conductive particles is a conductive portion containing nickel. When the conductive part has a multilayer structure, the outermost layer of the conductive part is a conductive part containing nickel.

上記ニッケルを含む導電部100重量%中、ニッケルの含有量は50重量%以上であることが好ましい。上記導電部が単層である場合に、上記導電部100重量%中、ニッケルの含有量は50重量%以上であることが好ましい。上記導電部が積層構造を有し、ニッケルを含む導電部とニッケルを含まない導電部とを有する場合に、ニッケルを含む導電部100重量%中、ニッケルの含有量は50重量%以上であることが好ましい。上記ニッケルの含有量が50重量%以上であると、電極間の接続抵抗がかなり低くなる。上記ニッケルを含む導電部100重量%中、ニッケルの含有量はより好ましくは60重量%以上、更に好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。上記ニッケルを含む導電部100重量%中のニッケルの含有量は97重量%以上であってもよく、97.5重量%以上であってもよく、98重量%以上であってもよい。上記ニッケルを含む導電部100重量%中のニッケルの含有量は好ましくは99.85重量%以下、より好ましくは99.7重量%以下、更に好ましくは99.45重量%未満である。上記ニッケルの含有量が上記下限以上であると、電極間の接続抵抗がより一層低くなる。また、電極及び導電部の表面における酸化被膜が少ない場合には、上記ニッケルの含有量が多いほど電極間の接続抵抗が低くなる傾向がある。   The content of nickel is preferably 50% by weight or more in 100% by weight of the conductive part containing nickel. When the conductive part is a single layer, the content of nickel is preferably 50% by weight or more in 100% by weight of the conductive part. When the conductive part has a laminated structure and has a conductive part containing nickel and a conductive part not containing nickel, the content of nickel is 50% by weight or more in 100% by weight of the conductive part containing nickel. Is preferred. When the nickel content is 50% by weight or more, the connection resistance between the electrodes becomes considerably low. In 100% by weight of the conductive part containing nickel, the nickel content is more preferably 60% by weight or more, still more preferably 70% by weight or more, and particularly preferably 90% by weight or more. The content of nickel in 100% by weight of the conductive part containing nickel may be 97% by weight or more, 97.5% by weight or more, or 98% by weight or more. The content of nickel in 100% by weight of the conductive part containing nickel is preferably 99.85% by weight or less, more preferably 99.7% by weight or less, and still more preferably less than 99.45% by weight. When the nickel content is not less than the lower limit, the connection resistance between the electrodes is further reduced. Moreover, when there are few oxide films in the surface of an electrode and an electroconductive part, there exists a tendency for the connection resistance between electrodes to become low, so that there is much content of the said nickel.

上記ニッケルを含む導電部は、ニッケルと、ボロン及びリンの内の少なくとも1種とを含むことが好ましい。上記ニッケルを含む導電部では、ニッケルとボロン及びリンの内の少なくとも1種とは合金化していてもよい。また、上記ニッケルを含む導電部では、ニッケル、ボロン及びリン以外の成分を用いてもよい。   The conductive part containing nickel preferably contains nickel and at least one of boron and phosphorus. In the conductive part containing nickel, nickel and at least one of boron and phosphorus may be alloyed. In the conductive part containing nickel, components other than nickel, boron, and phosphorus may be used.

上記ニッケルを含む導電部100重量%中のボロンとリンとの合計の含有量は好ましくは0.01重量%以上、より好ましくは0.05重量%以上、更に好ましくは0.1重量%以上、好ましくは5重量%以下、より好ましくは4重量%以下、更に好ましくは3重量%以下、特に好ましくは2.5重量%以下、最も好ましくは2重量%以下である。ボロンとリンとの合計の含有量が上記下限以上であると、上記ニッケルを含む導電部がより一層硬くなり、電極及び導電性粒子の表面の酸化被膜をより一層効果的に除去でき、電極間の接続抵抗をより一層低くすることができる。ボロンとリンとの合計の含有量が上記上限以下であると、ニッケルの含有量が相対的に多くなるので、電極間の接続抵抗が低くなる。   The total content of boron and phosphorus in 100% by weight of the conductive part containing nickel is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.05% by weight or more, still more preferably 0.1% by weight or more, It is preferably 5% by weight or less, more preferably 4% by weight or less, still more preferably 3% by weight or less, particularly preferably 2.5% by weight or less, and most preferably 2% by weight or less. When the total content of boron and phosphorus is not less than the above lower limit, the conductive part containing nickel becomes harder, and the oxide film on the surface of the electrode and conductive particles can be more effectively removed. The connection resistance can be further reduced. When the total content of boron and phosphorus is not more than the above upper limit, the content of nickel is relatively increased, so that the connection resistance between the electrodes is reduced.

上記ニッケルを含む導電部100重量%中のボロンの含有量は好ましくは0.01重量%以上、より好ましくは0.05重量%以上、更に好ましくは0.1重量%以上、好ましくは5重量%以下、より好ましくは4重量%以下、更に好ましくは3重量%以下、特に好ましくは2.5重量%以下、最も好ましくは2重量%以下である。ボロンの含有量が上記下限以上であると、上記ニッケルを含む導電部がより一層硬くなり、電極及び導電性粒子の表面の酸化被膜をより一層効果的に除去でき、電極間の接続抵抗をより一層低くすることができる。ボロンの含有量が上記上限以下であると、ニッケルの含有量が相対的に多くなるので、電極間の接続抵抗が低くなる。   The content of boron in 100% by weight of the conductive part containing nickel is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.05% by weight or more, still more preferably 0.1% by weight or more, preferably 5% by weight. Below, more preferably 4% by weight or less, still more preferably 3% by weight or less, particularly preferably 2.5% by weight or less, and most preferably 2% by weight or less. When the boron content is not less than the above lower limit, the conductive part containing nickel is further hardened, and the oxide film on the surface of the electrode and the conductive particles can be more effectively removed, and the connection resistance between the electrodes is further increased. It can be made even lower. If the boron content is less than or equal to the above upper limit, the nickel content is relatively increased, so that the connection resistance between the electrodes is reduced.

上記ニッケルを含む導電部は、リンを含まないか又は含み、かつ上記ニッケルを含む導電部100重量%中のリンの含有量が0.5重量%未満であることが好ましい。上記ニッケルを含む導電部100重量%中のリンの含有量はより好ましくは0.3重量%以下、更に好ましくは0.1重量%以下である。上記ニッケルを含む導電部はリンを含まないことが特に好ましい。   The conductive part containing nickel preferably does not contain phosphorus or contains phosphorus, and the content of phosphorus in 100% by weight of the conductive part containing nickel is preferably less than 0.5% by weight. The content of phosphorus in the conductive part 100% by weight containing nickel is more preferably 0.3% by weight or less, and still more preferably 0.1% by weight or less. It is particularly preferable that the conductive part containing nickel does not contain phosphorus.

上記ニッケルを含む導電部におけるニッケル、ボロン及びリンなどの各含有量の測定方法は、既知の種々の分析法を用いることができ特に限定されない。この測定方法として、吸光分析法又はスペクトル分析法等が挙げられる。上記吸光分析法では、フレーム吸光光
度計及び電気加熱炉吸光光度計等を用いることができる。上記スペクトル分析法としては、プラズマ発光分析法及びプラズマイオン源質量分析法等が挙げられる。
The measuring method of each content of nickel, boron, phosphorus, etc. in the conductive part containing nickel is not particularly limited, and various known analysis methods can be used. Examples of this measuring method include absorption spectrometry or spectrum analysis. In the above-mentioned absorption analysis method, a flame absorptiometer, an electric heating furnace absorptiometer or the like can be used. Examples of the spectrum analysis method include a plasma emission analysis method and a plasma ion source mass spectrometry method.

上記ニッケルを含む導電部におけるニッケル、ボロン及びリンなどの各含有量を測定する際には、ICP発光分析装置を用いることが好ましい。ICP発光分析装置の市販品としては、HORIBA社製のICP発光分析装置等が挙げられる。   When measuring the contents of nickel, boron, phosphorus, etc. in the conductive part containing nickel, it is preferable to use an ICP emission spectrometer. Examples of commercially available ICP emission analyzers include ICP emission analyzers manufactured by HORIBA.

上記基材粒子の表面上に導電部を形成する方法は特に限定されない。導電部を形成する方法としては、例えば、無電解めっきによる方法、電気めっきによる方法、物理的蒸着による方法、並びに金属粉末もしくは金属粉末とバインダーとを含むペーストを基材粒子の表面にコーティングする方法等が挙げられる。なかでも、導電部の形成が簡便であるので、無電解めっきによる方法が好ましい。上記物理的蒸着による方法としては、真空蒸着、イオンプレーティング及びイオンスパッタリング等の方法が挙げられる。   The method for forming the conductive part on the surface of the substrate particle is not particularly limited. As a method for forming the conductive portion, for example, a method by electroless plating, a method by electroplating, a method by physical vapor deposition, and a method of coating the surface of base particles with metal powder or a paste containing metal powder and a binder Etc. Especially, since formation of an electroconductive part is simple, the method by electroless plating is preferable. Examples of the method by physical vapor deposition include methods such as vacuum vapor deposition, ion plating, and ion sputtering.

上記基材粒子の表面上に導電部を形成する方法として物理的な衝突による方法も、生産性を高める観点で有効である。物理的な衝突により形成する方法としては、例えばシータコンポーザ(徳寿工作所社製)を用いてコーティングする方法がある。   As a method for forming a conductive portion on the surface of the substrate particle, a method based on physical collision is also effective from the viewpoint of improving productivity. As a method of forming by physical collision, for example, there is a method of coating using a theta composer (manufactured by Tokuju Kogakusha Co., Ltd.).

上記導電性粒子の平均粒子径は、好ましくは0.1μm以上、より好ましくは0.5μm以上、更に好ましくは1μm以上、好ましくは100μm以下、より好ましくは20μm以下、更に好ましくは5μm以下である。導電性粒子の平均粒子径が上記下限以上及び上記上限以下であると、絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて電極間を接続した場合に、導電性粒子と電極との接触面積が充分に大きくなり、かつ導電部を形成する際に凝集した導電性粒子が形成されにくくなる。また、導電性粒子を介して接続された電極間の間隔が大きくなりすぎず、かつ導電部が基材粒子の表面から剥離し難くなる。   The average particle diameter of the conductive particles is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.5 μm or more, further preferably 1 μm or more, preferably 100 μm or less, more preferably 20 μm or less, and further preferably 5 μm or less. When the average particle diameter of the conductive particles is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the contact area between the conductive particles and the electrodes is sufficiently large when the electrodes are connected using the conductive particles with insulating particles. In addition, it becomes difficult to form agglomerated conductive particles when the conductive part is formed. Further, the distance between the electrodes connected via the conductive particles does not become too large, and the conductive portion is difficult to peel from the surface of the base particle.

上記導電性粒子の「平均粒子径」は、数平均粒子径を示す。導電性粒子の平均粒子径は、任意の導電性粒子50個を電子顕微鏡又は光学顕微鏡にて観察し、平均値を算出することにより求められる。   The “average particle size” of the conductive particles indicates a number average particle size. The average particle diameter of the conductive particles can be obtained by observing 50 arbitrary conductive particles with an electron microscope or an optical microscope and calculating an average value.

上記導電部(導電層)の厚みは好ましくは0.005μm以上、より好ましくは0.01μm以上、好ましくは1μm以下、より好ましくは0.3μm以下である。導電部の厚みが上記下限以上及び上記上限以下であると、充分な導電性が得られ、かつ導電性粒子が硬くなりすぎずに、電極間の接続の際に導電性粒子が充分に変形する。   The thickness of the conductive part (conductive layer) is preferably 0.005 μm or more, more preferably 0.01 μm or more, preferably 1 μm or less, more preferably 0.3 μm or less. When the thickness of the conductive portion is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, sufficient conductivity is obtained, and the conductive particles are not hardened, and the conductive particles are sufficiently deformed when connecting the electrodes. .

上記導電部(導電層)が複数の層により形成されている場合に、最外層の導電部(最外層のニッケルを含む導電部)の厚みは、好ましくは0.001μm以上、より好ましくは0.01μm以上、好ましくは0.5μm以下、より好ましくは0.1μm以下である。上記最外層の導電部の厚みが上記下限以上及び上記上限以下であると、最外層の導電部による被覆を均一にでき、耐腐食性が充分に高くなり、かつ電極間の接続抵抗が充分に低くなる。   When the conductive portion (conductive layer) is formed of a plurality of layers, the thickness of the outermost conductive portion (the conductive portion containing nickel in the outermost layer) is preferably 0.001 μm or more, more preferably 0.00. It is 01 μm or more, preferably 0.5 μm or less, more preferably 0.1 μm or less. When the thickness of the conductive portion of the outermost layer is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the coating with the conductive portion of the outermost layer can be made uniform, the corrosion resistance is sufficiently high, and the connection resistance between the electrodes is sufficiently high Lower.

上記導電部の厚みは、例えば透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて、導電性粒子又は絶縁性粒子付き導電性粒子の断面を観察することにより測定できる。   The thickness of the said electroconductive part can be measured by observing the cross section of electroconductive particle or electroconductive particle with an insulating particle using a transmission electron microscope (TEM), for example.

上記導電性粒子は導電性の表面に複数の突起を有することが好ましい。絶縁性粒子付き導電性粒子により接続される電極の表面には、酸化被膜が形成されていることが多い。さらに、上記導電性粒子の導電部の表面には、酸化被膜が形成されていることが多い。突起を有する導電性粒子の使用により、電極間に絶縁性粒子付き導電性粒子を配置した後、圧着させることにより、突起により上記酸化被膜が効果的に排除される。このため、電極と
導電性粒子とがより一層確実に接触し、電極間の接続抵抗が低くなる。さらに、導電性粒子の突起によって、導電性粒子と電極との間の絶縁性粒子を効果的に排除できる。このため、電極間の導通信頼性がより一層高くなる。
The conductive particles preferably have a plurality of protrusions on the conductive surface. An oxide film is often formed on the surface of the electrode connected by the conductive particles with insulating particles. Furthermore, an oxide film is often formed on the surface of the conductive part of the conductive particles. By using conductive particles having protrusions, the oxide film is effectively eliminated by the protrusions by placing the conductive particles with insulating particles between the electrodes and then pressing them. For this reason, an electrode and electroconductive particle contact still more reliably and the connection resistance between electrodes becomes low. Furthermore, the insulating particles between the conductive particles and the electrode can be effectively excluded by the protrusions of the conductive particles. For this reason, the conduction | electrical_connection reliability between electrodes becomes still higher.

導電性粒子の導電性の表面に突起を形成する方法としては、基材粒子の表面に芯物質を付着させた後、無電解めっきにより導電部を形成する方法、基材粒子の表面に無電解めっきにより導電部を形成した後、芯物質を付着させ、更に無電解めっきにより導電部を形成する方法、並びに無電解めっきにより導電部を形成する途中段階で、芯物質を添加する方法等が挙げられる。また、突起を形成するために、芯物質を必ずしも用いなくてもよい。無電解めっき等により導電部を形成する際に、導電部の厚みを部分的に異ならせることによっても、上記突起を形成できる。   As a method of forming protrusions on the conductive surface of the conductive particles, a method of forming a conductive part by electroless plating after attaching a core substance to the surface of the base particle, electroless on the surface of the base particle Examples include a method of forming a conductive part by plating, then attaching a core substance, and further forming a conductive part by electroless plating, and a method of adding a core substance in the middle of forming a conductive part by electroless plating It is done. Further, the core material is not necessarily used to form the protrusions. When the conductive portion is formed by electroless plating or the like, the protrusion can also be formed by partially varying the thickness of the conductive portion.

上記導電性粒子は、基材粒子の表面上に第1の導電部を有し、かつ該第1の導電部上に第2の導電部を有していてもよい。この場合に、第1の導電部の表面に芯物質を付着させてもよい。芯物質は第2の導電部により被覆されていること好ましい。上記第1の導電部の厚みは、好ましくは0.05μm以上、好ましくは0.5μm以下である。導電性粒子は、基材粒子の表面上に第1の導電部を形成し、次に該第1の導電部の表面上に芯物質を付着させた後、第1の導電部及び芯物質の表面上に第2の導電部を形成することにより得られていることが好ましい。   The conductive particles may have a first conductive portion on the surface of the base particle, and may have a second conductive portion on the first conductive portion. In this case, a core substance may be attached to the surface of the first conductive part. It is preferable that the core substance is covered with the second conductive portion. The thickness of the first conductive portion is preferably 0.05 μm or more, and preferably 0.5 μm or less. The conductive particles form a first conductive part on the surface of the base particle, and then attach a core substance on the surface of the first conductive part, and then the first conductive part and the core substance It is preferable to be obtained by forming the second conductive portion on the surface.

上記芯物質を構成する物質としては、導電性物質及び非導電性物質が挙げられる。上記導電性物質としては、例えば、金属、金属の酸化物、黒鉛等の導電性非金属及び導電性ポリマー等が挙げられる。上記導電性ポリマーとしては、ポリアセチレン等が挙げられる。上記非導電性物質としては、シリカ、アルミナ及びジルコニア等が挙げられる。なかでも、導電性を高めることができるので、金属が好ましい。   Examples of the material constituting the core material include conductive materials and non-conductive materials. Examples of the conductive material include conductive non-metals such as metals, metal oxides, and graphite, and conductive polymers. Examples of the conductive polymer include polyacetylene. Examples of the nonconductive material include silica, alumina, and zirconia. Among them, metal is preferable because conductivity can be increased.

上記金属としては、例えば、金、銀、銅、白金、亜鉛、鉄、鉛、錫、アルミニウム、コバルト、インジウム、ニッケル、クロム、チタン、アンチモン、ビスマス、ゲルマニウム及びカドミウム等の金属、並びに錫−鉛合金、錫−銅合金、錫−銀合金、錫−鉛−銀合金及び炭化タングステン等の2種類以上の金属で構成される合金等が挙げられる。なかでも、ニッケル、銅、銀又は金が好ましい。上記芯物質を構成する金属は、上記導電部を構成する金属と同じであってもよく、異なっていてもよい。   Examples of the metal include gold, silver, copper, platinum, zinc, iron, lead, tin, aluminum, cobalt, indium, nickel, chromium, titanium, antimony, bismuth, germanium and cadmium, and tin-lead. Examples include alloys composed of two or more metals such as alloys, tin-copper alloys, tin-silver alloys, tin-lead-silver alloys, and tungsten carbide. Of these, nickel, copper, silver or gold is preferable. The metal constituting the core substance may be the same as or different from the metal constituting the conductive part.

上記芯物質の形状は特に限定されない。芯物質の形状は塊状であることが好ましい。芯物質としては、例えば、粒子状の塊、複数の微小粒子が凝集した凝集塊、及び不定形の塊等が挙げられる。   The shape of the core material is not particularly limited. The shape of the core substance is preferably a lump. Examples of the core substance include a particulate lump, an agglomerate in which a plurality of fine particles are aggregated, and an irregular lump.

[絶縁性粒子]
上記絶縁性粒子は、絶縁性を有する粒子である。絶縁性粒子は導電性粒子よりも小さいことが好ましい。絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて電極間を接続すると、絶縁性粒子により、隣接する電極間の短絡を防止できる。具体的には、複数の絶縁性粒子付き導電性粒子が接触したときに、複数の絶縁性粒子付き導電性粒子における導電性粒子間には絶縁性粒子が存在するので、上下の電極間ではなく、横方向に隣り合う電極間の短絡を防止できる。なお、電極間の接続の際に、2つの電極で絶縁性粒子付き導電性粒子を加圧することにより、導電部と電極との間の絶縁性粒子を容易に排除できる。導電性粒子の導電性の表面に突起が設けられている場合には、導電部と電極との間の絶縁性粒子を容易に排除できる。さらに突起部分が電極との接触を容易にするため接続信頼性が向上する。
[Insulating particles]
The insulating particles are particles having insulating properties. The insulating particles are preferably smaller than the conductive particles. When the electrodes are connected using conductive particles with insulating particles, the insulating particles can prevent a short circuit between adjacent electrodes. Specifically, when the conductive particles with a plurality of insulating particles are in contact with each other, there are insulating particles between the conductive particles in the conductive particles with a plurality of insulating particles. Short circuit between the electrodes adjacent in the lateral direction can be prevented. In addition, the insulating particle between an electroconductive part and an electrode can be easily excluded by pressurizing the electroconductive particle with an insulating particle with two electrodes in the case of the connection between electrodes. In the case where protrusions are provided on the conductive surface of the conductive particles, the insulating particles between the conductive portion and the electrode can be easily excluded. Furthermore, since the protruding portion facilitates contact with the electrode, connection reliability is improved.

本発明では、導電性粒子に付着させる前の絶縁性粒子として、チオール基と反応可能な官能基を表面に有する絶縁性粒子が用いられる。又は、本発明では、導電性粒子に付着さ
せる前の絶縁性粒子として、官能基を表面に有する絶縁性粒子が用いられ、更にチオール基と反応可能な第1の官能基及び上記絶縁性粒子の表面の上記官能基と反応可能な第2の官能基を有する第1,第2の官能基含有化合物が用いられる。上記第1,第2の官能基含有化合物における第1の官能基と第2の官能基とは、同一の官能基であってもよく、別々の官能基であってもよい。上記同一の官能基が、チオール基と反応可能であり、かつ上記絶縁性粒子の表面の上記官能基と反応可能であってもよい。複数の上記同一の官能基の内の一部を、導電性粒子におけるチオール基と化学結合させ、かつ、複数の上記同一の官能基の内の一部を、上記絶縁性粒子の表面の上記官能基と化学結合させてもよい。上記第1,第2の官能基含有化合物は、チオール基と反応可能であり、かつ上記絶縁性粒子の表面の上記官能基と反応可能ではない第1の官能基と、チオール基と反応可能ではなく、かつ上記絶縁性粒子の表面の上記官能基と反応可能である第2の官能基とを有していてもよい。
In this invention, the insulating particle which has the functional group which can react with a thiol group on the surface is used as insulating particle before making it adhere to electroconductive particle. Alternatively, in the present invention, insulating particles having functional groups on the surface are used as the insulating particles before being attached to the conductive particles, and the first functional group capable of reacting with a thiol group and the insulating particles The 1st, 2nd functional group containing compound which has the 2nd functional group which can react with the said functional group of the surface is used. The first functional group and the second functional group in the first and second functional group-containing compounds may be the same functional group or different functional groups. The same functional group may react with the thiol group and may react with the functional group on the surface of the insulating particle. A part of the plurality of the same functional groups is chemically bonded to a thiol group in the conductive particle, and a part of the plurality of the same functional groups is a function of the surface of the insulating particle. It may be chemically bonded to a group. The first and second functional group-containing compounds are capable of reacting with a thiol group and are capable of reacting with the thiol group and the first functional group that is not capable of reacting with the functional group on the surface of the insulating particle. And a second functional group capable of reacting with the functional group on the surface of the insulating particle.

チオール基と反応可能な官能基としては、エポキシ基、水酸基、イソシアネート基及びチオール基等が挙げられる。なかでも、チオール基とチオール基と反応可能な官能基との化学結合を効果的に進行させ、導電性粒子の表面に絶縁性粒子をより一層強固に付着させる観点からは、上記チオール基と反応可能な官能基は、エポキシ基であることが好ましい。   Examples of the functional group capable of reacting with a thiol group include an epoxy group, a hydroxyl group, an isocyanate group, and a thiol group. Among these, from the viewpoint of effectively promoting chemical bonding between the thiol group and the functional group capable of reacting with the thiol group, and more firmly attaching the insulating particles to the surface of the conductive particles, the reaction with the above thiol groups. A possible functional group is preferably an epoxy group.

上記絶縁性粒子は、チオール基と反応可能な官能基を有する化合物により表面処理されていることが好ましい。例えば、エポキシ基を有する化合物により、上記絶縁性粒子を表面処理することで、エポキシ基を表面に有する絶縁性粒子が得られる。   The insulating particles are preferably surface-treated with a compound having a functional group capable of reacting with a thiol group. For example, insulating particles having an epoxy group on the surface can be obtained by surface-treating the insulating particles with a compound having an epoxy group.

導電性粒子の表面に絶縁性粒子をより一層強固に付着させ、電極間の導通信頼性及び絶縁信頼性をより一層高める観点からは、上記絶縁性粒子付き導電性粒子は、上記式(11)で表される構造単位を有する化合物により表面処理されておりかつチオール基を表面に有する導電性粒子と、チオール基と反応可能な官能基を表面に有する絶縁性粒子とを用いて、上記導電性粒子におけるチオール基と上記絶縁性粒子におけるチオール基と反応可能な官能基とを化学結合させることで、上記導電性粒子の表面に上記絶縁性粒子を付着させることにより得られることが好ましい。導電性粒子の表面に絶縁性粒子を更に一層強固に付着させ、電極間の導通信頼性及び絶縁信頼性を更に一層高める観点からは、上記絶縁性粒子付き導電性粒子は、上記式(11)で表される構造単位を有する化合物により表面処理されておりかつチオール基を表面に有する導電性粒子と、チオール基と反応可能な官能基及び上記導電性粒子の表面のチオール基以外の部分と反応可能な官能基を表面に有する絶縁性粒子とを用いて、上記導電性粒子におけるチオール基と上記絶縁性粒子におけるチオール基と反応可能な官能基とを化学結合(第1の化学結合)させ、かつ上記導電性粒子の表面のチオール基以外の部分と上記絶縁性粒子における上記導電性粒子の表面のチオール基以外の部分と反応可能な官能基とを化学結合(第2の化学結合)させることで、上記導電性粒子の表面に上記絶縁性粒子を付着させることにより得られることが好ましい。   From the viewpoint of further firmly attaching the insulating particles to the surface of the conductive particles and further improving the conduction reliability and the insulation reliability between the electrodes, the conductive particles with the insulating particles are represented by the above formula (11). Using the conductive particles having a surface treatment with a compound having a structural unit represented by formula (II) and having a thiol group on the surface and insulating particles having a functional group capable of reacting with the thiol group on the surface. It is preferably obtained by attaching the insulating particles to the surface of the conductive particles by chemically bonding a thiol group in the particles and a functional group capable of reacting with the thiol group in the insulating particles. From the viewpoint of further firmly attaching the insulating particles to the surface of the conductive particles and further enhancing the conduction reliability and the insulation reliability between the electrodes, the conductive particles with insulating particles are represented by the above formula (11). It reacts with a conductive particle having a surface treated with a compound having a structural unit represented by the formula and having a thiol group on the surface, a functional group capable of reacting with the thiol group, and a portion other than the thiol group on the surface of the conductive particle Using an insulating particle having a functional group on its surface, chemically bond (first chemical bond) a thiol group in the conductive particle and a functional group capable of reacting with a thiol group in the insulating particle, And a chemical bond between the part other than the thiol group on the surface of the conductive particle and the functional group capable of reacting with the part other than the thiol group on the surface of the conductive particle in the insulating particle (second chemical bond) By causing, it is preferably obtained by depositing the insulating particles to the surface of the conductive particles.

上記絶縁性粒子は、チオール基と反応可能な官能基と、上記導電性粒子の表面のチオール基以外の部分と反応可能な官能基とを有する化合物により表面処理されていることが好ましい。   The insulating particles are preferably surface-treated with a compound having a functional group capable of reacting with a thiol group and a functional group capable of reacting with a portion other than the thiol group on the surface of the conductive particle.

上記導電性粒子の表面のチオール基以外の部分と反応可能な官能基としては、下記式(21)で表される基、珪素原子に直接結合した水酸基(Si−OH基)、及びチタン原子に直接結合した水酸基(Ti−OH基)等が挙げられる。なかでも、チオール基とチオール基と反応可能な官能基との化学結合を効果的に進行させ、導電性粒子の表面に絶縁性粒子をより一層強固に付着させる観点からは、上記チオール基以外の部分と反応可能な官能基は、下記式(21)で表される基又は珪素原子に直接結合した水酸基であることが好ま
しく、下記式(21)で表される基であることが好ましい。
Examples of the functional group capable of reacting with a portion other than the thiol group on the surface of the conductive particle include a group represented by the following formula (21), a hydroxyl group directly bonded to a silicon atom (Si—OH group), and a titanium atom. A directly bonded hydroxyl group (Ti-OH group) and the like can be mentioned. Among them, from the viewpoint of effectively advancing chemical bonding between the thiol group and the functional group capable of reacting with the thiol group, and further firmly attaching the insulating particles to the surface of the conductive particles, other than the above thiol groups The functional group capable of reacting with the moiety is preferably a group represented by the following formula (21) or a hydroxyl group bonded directly to a silicon atom, and is preferably a group represented by the following formula (21).

Figure 0006212374
Figure 0006212374

上記式(21)中、X1は、水酸基、アルコキシ基又は炭素数1〜12のアルキル基を表す。   In said formula (21), X1 represents a hydroxyl group, an alkoxy group, or a C1-C12 alkyl group.

導電性粒子の表面に絶縁性粒子をより一層強固に付着させる観点からは、上記式(21)で表される基は、下記式(21A)で表される基であることが好ましい。   From the viewpoint of more firmly attaching the insulating particles to the surface of the conductive particles, the group represented by the above formula (21) is preferably a group represented by the following formula (21A).

Figure 0006212374
Figure 0006212374

導電性粒子の表面に絶縁性粒子をより一層強固に付着させる観点からは、上記珪素原子に直接結合した水酸基を表面に有する絶縁性粒子は、下記式(22)で表される基を表面に有することが好ましい。   From the viewpoint of more firmly attaching the insulating particles to the surface of the conductive particles, the insulating particles having a hydroxyl group directly bonded to the silicon atom on the surface have a group represented by the following formula (22) on the surface. It is preferable to have.

Figure 0006212374
Figure 0006212374

上記式(22)中、Z1及びZ2はそれぞれ、水酸基、アルコキシ基又は炭素数1〜12のアルキル基を表す。Z1とZ2とは同一であってもよく、異なっていてもよい。   In said formula (22), Z1 and Z2 respectively represent a hydroxyl group, an alkoxy group, or a C1-C12 alkyl group. Z1 and Z2 may be the same or different.

絶縁性粒子の表面に、P−OH基又はSi−OH基を導入する方法としては、絶縁性粒子を、リン原子に直接結合された水酸基を有する化合物(以下、P−OH基含有化合物ともいう)、又はケイ素原子に直接結合された水酸基を有する化合物(以下、Si−OH基含有化合物ともいう)により表面処理する方法、並びに絶縁性粒子の作製の際に、絶縁性粒子を構成する材料に、上記P−OH基含有化合物又は上記Si−OH基含有化合物を含有させる方法等が挙げられる。絶縁性粒子の表面にP−OH基又はSi−OH基を効率的に導入する観点からは、絶縁性粒子の作製の際に、絶縁性粒子を構成する材料に、P−OH基含有化合物又はSi−OH基含有化合物を含有させる方法が好ましい。   As a method for introducing a P—OH group or a Si—OH group into the surface of the insulating particle, the insulating particle is a compound having a hydroxyl group directly bonded to a phosphorus atom (hereinafter also referred to as a P—OH group-containing compound). ), Or a method of surface treatment with a compound having a hydroxyl group directly bonded to a silicon atom (hereinafter also referred to as a Si—OH group-containing compound), and a material constituting the insulating particle in the production of the insulating particle. And a method of containing the P—OH group-containing compound or the Si—OH group-containing compound. From the viewpoint of efficiently introducing P—OH groups or Si—OH groups on the surface of the insulating particles, the P-OH group-containing compound or the material constituting the insulating particles is used in the production of the insulating particles. A method of containing a Si—OH group-containing compound is preferred.

絶縁性粒子を上記P−OH基含有化合物又は上記Si−OH基含有化合物により表面処理する方法としては、絶縁性粒子の表面に、上記P−OH基含有化合物又は上記Si−O
H基含有化合物を化学的に結合させる方法、並びに絶縁性粒子の表面を化学処理し、上記P−OH基含有化合物又は上記Si−OH基含有化合物により、絶縁性粒子が表面に上記P−OH基又は上記Si−OH基を有するように改質する方法等が挙げられる。
As a method for surface-treating the insulating particles with the P-OH group-containing compound or the Si-OH group-containing compound, the P-OH group-containing compound or the Si-O is applied to the surface of the insulating particles.
A method of chemically bonding the H group-containing compound, and the surface of the insulating particles are chemically treated, so that the insulating particles are formed on the surface by the P-OH group-containing compound or the Si-OH group-containing compound. And a method of modifying the group to have a Si-OH group.

上記P−OH基含有化合物の具体例としては、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート、アシッドホスホオキシプロピルメタクリレート、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールモノメタクリレート及びアシッドホスホオキシポリオキシプロピレングリコールモノメタクリレート等が挙げられる。上記P−OH基含有化合物は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Specific examples of the P-OH group-containing compound include acid phosphooxyethyl methacrylate, acid phosphooxypropyl methacrylate, acid phosphooxypolyoxyethylene glycol monomethacrylate, and acid phosphooxypolyoxypropylene glycol monomethacrylate. As for the said P-OH group containing compound, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記Si−OH基含有化合物の具体例としては、ビニルトリヒドロキシシラン、及び3−メタクリロキシプロピルトリヒドロキシシラン等が挙げられる。上記Si−OH基含有化合物は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Specific examples of the Si-OH group-containing compound include vinyltrihydroxysilane and 3-methacryloxypropyltrihydroxysilane. As for the said Si-OH group containing compound, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記絶縁性粒子を構成する材料としては、絶縁性の樹脂、及び絶縁性の無機物等が挙げられる。上記絶縁性の樹脂としては、基材粒子として用いることが可能な樹脂粒子を形成するための樹脂として挙げた上記樹脂が挙げられる。上記絶縁性の無機物としては、基材粒子として用いることが可能な無機粒子を形成するための無機物として挙げた上記無機物が挙げられる。   Examples of the material constituting the insulating particles include an insulating resin and an insulating inorganic substance. As said insulating resin, the said resin quoted as resin for forming the resin particle which can be used as a base particle is mentioned. As said insulating inorganic substance, the said inorganic substance quoted as an inorganic substance for forming the inorganic particle which can be used as a base particle is mentioned.

上記絶縁性粒子は、有機粒子又は無機粒子であることが好ましい。上記有機粒子は、有機化合物(例えば、絶縁性の樹脂)を用いて形成されている。上記無機粒子は、無機化合物を用いて形成されている。   The insulating particles are preferably organic particles or inorganic particles. The organic particles are formed using an organic compound (for example, an insulating resin). The inorganic particles are formed using an inorganic compound.

上記絶縁性粒子の材料である絶縁性樹脂の具体例としては、ポリオレフィン類、(メタ)アクリレート重合体、(メタ)アクリレート共重合体、ブロックポリマー、熱可塑性樹脂、熱可塑性樹脂の架橋物、熱硬化性樹脂及び水溶性樹脂等が挙げられる。   Specific examples of the insulating resin that is the material of the insulating particles include polyolefins, (meth) acrylate polymers, (meth) acrylate copolymers, block polymers, thermoplastic resins, crosslinked thermoplastic resins, heat Examples thereof include curable resins and water-soluble resins.

上記ポリオレフィン類としては、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体及びエチレン−アクリル酸エステル共重合体等が挙げられる。上記(メタ)アクリレート重合体としては、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリエチル(メタ)アクリレート及びポリブチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。上記ブロックポリマーとしては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、SB型スチレン−ブタジエンブロック共重合体、及びSBS型スチレン−ブタジエンブロック共重合体、並びにこれらの水素添加物等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としては、ビニル重合体及びビニル共重合体等が挙げられる。上記熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂及びメラミン樹脂等が挙げられる。上記水溶性樹脂としては、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキシド及びメチルセルロース等が挙げられる。なかでも、水溶性樹脂が好ましく、ポリビニルアルコールがより好ましい。   Examples of the polyolefins include polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, and ethylene-acrylic acid ester copolymer. Examples of the (meth) acrylate polymer include polymethyl (meth) acrylate, polyethyl (meth) acrylate, and polybutyl (meth) acrylate. Examples of the block polymer include polystyrene, styrene-acrylic acid ester copolymer, SB type styrene-butadiene block copolymer, SBS type styrene-butadiene block copolymer, and hydrogenated products thereof. Examples of the thermoplastic resin include vinyl polymers and vinyl copolymers. As said thermosetting resin, an epoxy resin, a phenol resin, a melamine resin, etc. are mentioned. Examples of the water-soluble resin include polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyacrylamide, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, and methyl cellulose. Of these, water-soluble resins are preferable, and polyvinyl alcohol is more preferable.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子では、絶縁性粒子が、絶縁性粒子本体と、該絶縁性粒子本体の表面の少なくとも一部の領域を覆っている層とを有することが好ましい。これにより、導電材料の作製の際の混練により、導電性粒子の表面から絶縁性粒子がより一層脱離し難くなる。さらに、複数の絶縁性粒子付き導電性粒子が接触したときに、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が脱離し難くなる。絶縁性粒子の意図しない脱離を効果的に抑制するために、上記絶縁性粒子又は上記絶縁性粒子本体の材料は、無機化合物であることが好ましく、上記絶縁性粒子又は上記絶縁性粒子本体は無機粒子であることが好ましい。絶縁性粒子の意図しない脱離を効果的に抑制するために、上記絶縁性粒子本体の表面の少なくとも一部の領域を覆っている層は、有機化合物により形成されていることが好まし
く、該有機化合物は高分子化合物であることが好ましい。
In the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the insulating particles preferably have an insulating particle body and a layer covering at least a part of the surface of the insulating particle body. Thereby, the insulating particles are more difficult to be detached from the surface of the conductive particles by kneading in the production of the conductive material. Furthermore, when a plurality of conductive particles with insulating particles come into contact, the insulating particles are difficult to be detached from the surface of the conductive particles. In order to effectively suppress unintentional detachment of the insulating particles, the material of the insulating particles or the insulating particle main body is preferably an inorganic compound, and the insulating particles or the insulating particle main body is Inorganic particles are preferred. In order to effectively suppress unintentional detachment of the insulating particles, the layer covering at least a part of the surface of the insulating particle main body is preferably formed of an organic compound. The compound is preferably a polymer compound.

上記絶縁性粒子本体の表面の少なくとも一部の領域を覆っている層が、チオール基と反応可能な官能基を有するか、又は上記第1,第2の官能基含有化合物における上記第2の官能基と反応可能な官能基を有することが好ましく、チオール基と反応可能な官能基を有していてもよく、上記第1,第2の官能基含有化合物における上記第2の官能基と反応可能な官能基を有していてもよく、上記導電性粒子の表面のチオール基以外の部分と反応可能な官能基を有することが好ましい。   The layer covering at least a part of the surface of the insulating particle body has a functional group capable of reacting with a thiol group, or the second function in the first and second functional group-containing compounds. It preferably has a functional group capable of reacting with a group, may have a functional group capable of reacting with a thiol group, and can react with the second functional group in the first and second functional group-containing compounds. It may preferably have a functional group, and preferably has a functional group capable of reacting with a portion other than the thiol group on the surface of the conductive particles.

上記絶縁性粒子付き導電性粒子は、絶縁性粒子本体の表面の少なくとも一部の領域を覆うように、高分子化合物又は高分子化合物となる化合物を用いて、高分子化合物により形成された層を形成し、絶縁性粒子を得る工程と、導電部を少なくとも表面に有する導電性粒子の表面に、上記絶縁性粒子を付着させ、絶縁性粒子付き導電性粒子を得る工程を経て得られることが好ましい。   The conductive particles with insulating particles have a layer formed of a polymer compound using a polymer compound or a compound that becomes a polymer compound so as to cover at least a part of the surface of the insulating particle body. It is preferably obtained through a step of forming and obtaining insulating particles and a step of obtaining the conductive particles with insulating particles by attaching the insulating particles to the surfaces of the conductive particles having at least the conductive portion on the surface. .

熱圧着時の絶縁性粒子の脱離性をより一層高める観点からは、絶縁性粒子又は絶縁性粒子本体は、無機粒子であることが好ましく、シリカ粒子であることが好ましい。上記無機粒子としては、シラス粒子、ハイドロキシアパタイト粒子、マグネシア粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子、炭化ケイ素粒子、窒化ケイ素粒子、窒化アルミニウム粒子及びシリカ粒子等が挙げられる。シリカ粒子としては、粉砕シリカ、球状シリカが挙げられ、球状シリカを用いることが好ましい。また、シリカ粒子は表面に、例えばカルボキシル基、水酸基等の化学結合可能な官能基を有することが好ましく、水酸基を有することがより好ましい。無機粒子は比較的硬く、特にシリカ粒子は比較的硬い。このような硬い絶縁性粒子をそのまま絶縁性粒子として用いた絶縁性粒子付き導電性粒子をバインダー樹脂中に添加して混練すると、絶縁性粒子が硬いので、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が脱離しやすい傾向がある。絶縁性粒子が上記高分子化合物により形成された層を有する場合には、硬い絶縁性粒子を用いたとしても、上記混練の際に、硬い絶縁性粒子が脱離するのを抑制できる。   From the viewpoint of further improving the detachability of the insulating particles during thermocompression bonding, the insulating particles or the insulating particle main body is preferably inorganic particles, and is preferably silica particles. Examples of the inorganic particles include shirasu particles, hydroxyapatite particles, magnesia particles, zirconium oxide particles, aluminum oxide particles, silicon carbide particles, silicon nitride particles, aluminum nitride particles, and silica particles. Examples of the silica particles include pulverized silica and spherical silica, and spherical silica is preferably used. The silica particles preferably have a functional group capable of chemical bonding such as a carboxyl group and a hydroxyl group on the surface, and more preferably have a hydroxyl group. Inorganic particles are relatively hard, especially silica particles are relatively hard. When conductive particles with insulating particles using such hard insulating particles as insulating particles are added to a binder resin and kneaded, the insulating particles are hard, so that the insulating particles are removed from the surface of the conductive particles. There is a tendency to detach easily. In the case where the insulating particles have a layer formed of the polymer compound, even if hard insulating particles are used, it is possible to suppress the separation of the hard insulating particles during the kneading.

上記有機化合物により形成された層及び上記高分子化合物により形成された層は、例えば柔軟層としての役割を果たす。上記高分子化合物により形成された層における高分子化合物又は重合等により該高分子化合物となる化合物としては、重合可能な反応性官能基を有する化合物であることが好ましい。該重合可能な反応性官能基は、不飽和二重結合であることが好ましい。例えば、絶縁性粒子本体の表面上で不飽和二重結合を有する化合物(高分子化合物となる化合物)を重合反応させてもよく、また高分子化合物と絶縁性粒子本体の表面の反応性官能基とを反応させてもよい。上記高分子化合物としては、(メタ)アクリロイル基を有する化合物、エポキシ基を有する化合物及びビニル基を有する化合物等が挙げられる。絶縁性粒子付き導電性粒子を分散する際などに、導電性粒子の表面から絶縁性粒子の脱離を抑制する観点からは、上記高分子化合物又は該高分子化合物となる化合物は、(メタ)アクリロイル基、グリシジル基及びビニル基からなる群から選択された少なくとも1種の反応性官能基を有することが好ましい。なかでも、絶縁性粒子の脱離をより一層抑制する観点からは、上記高分子化合物又は該高分子化合物となる化合物は、(メタ)アクリロイル基を有することが好ましい。   The layer formed of the organic compound and the layer formed of the polymer compound serve as a flexible layer, for example. The polymer compound in the layer formed of the polymer compound or the compound that becomes the polymer compound by polymerization or the like is preferably a compound having a polymerizable reactive functional group. The polymerizable reactive functional group is preferably an unsaturated double bond. For example, a compound having an unsaturated double bond (a compound that becomes a polymer compound) may be subjected to a polymerization reaction on the surface of the insulating particle main body, and the reactive functional group on the surface of the polymer compound and the insulating particle main body. And may be reacted. Examples of the polymer compound include a compound having a (meth) acryloyl group, a compound having an epoxy group, and a compound having a vinyl group. From the viewpoint of suppressing detachment of the insulating particles from the surface of the conductive particles when dispersing the conductive particles with insulating particles, the polymer compound or the compound to be the polymer compound is (meth) It preferably has at least one reactive functional group selected from the group consisting of an acryloyl group, a glycidyl group and a vinyl group. Among these, from the viewpoint of further suppressing the detachment of the insulating particles, the polymer compound or the compound to be the polymer compound preferably has a (meth) acryloyl group.

上記(メタ)アクリロイル基を有する化合物の具体例としては、メタクリル酸、ヒドロキシエチルアクリレート及びジメタクリル酸エチレングリコール等が挙げられる。   Specific examples of the compound having the (meth) acryloyl group include methacrylic acid, hydroxyethyl acrylate, and ethylene glycol dimethacrylate.

上記エポキシ化合物の具体例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂及びレゾルシノールグリシジルエーテル等が挙げられる。   Specific examples of the epoxy compound include bisphenol A type epoxy resin and resorcinol glycidyl ether.

上記ビニル基を有する化合物の具体例としては、スチレン及び酢酸ビニル等が挙げられる。   Specific examples of the compound having a vinyl group include styrene and vinyl acetate.

上記絶縁性粒子の平均粒子径は、導電性粒子の粒子径及び絶縁性粒子付き導電性粒子の用途等によって適宜選択できる。上記絶縁性粒子の平均粒子径は好ましくは0.005μm以上、より好ましくは0.01μm以上、好ましくは5μm以下、より好ましくは2.5μm以下、更に好ましくは1μm以下、特に好ましくは0.5μm以下である。絶縁性粒子の平均粒子径が上記下限以上であると、絶縁性粒子付き導電性粒子がバインダー樹脂に分散されたときに、複数の絶縁性粒子付き導電性粒子における導電性粒子同士が接触し難くなる。絶縁性粒子の平均粒子径が上記上限以下であると、電極間の接続の際に、電極と導電性粒子との間の絶縁性粒子を排除するために、圧力を高くしすぎる必要がなくなり、高温に加熱する必要もなくなる。   The average particle diameter of the insulating particles can be appropriately selected depending on the particle diameter of the conductive particles, the use of the conductive particles with insulating particles, and the like. The average particle diameter of the insulating particles is preferably 0.005 μm or more, more preferably 0.01 μm or more, preferably 5 μm or less, more preferably 2.5 μm or less, still more preferably 1 μm or less, and particularly preferably 0.5 μm or less. It is. When the average particle diameter of the insulating particles is not less than the above lower limit, the conductive particles in the plurality of conductive particles with insulating particles are difficult to contact when the conductive particles with insulating particles are dispersed in the binder resin. Become. When the average particle diameter of the insulating particles is not more than the above upper limit, it is not necessary to make the pressure too high in order to eliminate the insulating particles between the electrodes and the conductive particles when connecting the electrodes, There is no need to heat to high temperatures.

上記絶縁性粒子の「平均粒子径」は、数平均粒子径を示す。絶縁性粒子の平均粒子径は、粒度分布測定装置等を用いて求められる。   The “average particle diameter” of the insulating particles indicates a number average particle diameter. The average particle size of the insulating particles is determined using a particle size distribution measuring device or the like.

上記絶縁性粒子の平均粒子径は、導電性粒子の粒子径の1/2以下であることが好ましく、1/3以下であることがより好ましく、1/4以下であることが更に好ましく、1/5以下であることが特に好ましい。絶縁性粒子の粒子径は、導電性粒子の粒子径の1/1000以上であることが好ましく、1/10以上であることがより好ましく、1/10を超えることがより一層好ましい。絶縁性粒子の平均粒子径が導電性粒子の粒子径の1/5以下であると、例えば、絶縁性粒子付き導電性粒子を製造する際に、絶縁性粒子が導電性粒子の表面により一層効率的に付着する。   The average particle diameter of the insulating particles is preferably 1/2 or less of the particle diameter of the conductive particles, more preferably 1/3 or less, still more preferably 1/4 or less. / 5 or less is particularly preferable. The particle diameter of the insulating particles is preferably 1/1000 or more of the particle diameter of the conductive particles, more preferably 1/10 or more, and even more preferably more than 1/10. When the average particle diameter of the insulating particles is 1/5 or less of the particle diameter of the conductive particles, for example, when producing conductive particles with insulating particles, the insulating particles are more efficient on the surface of the conductive particles. Adheres.

上記絶縁性粒子の平均粒子径は、上記導電性粒子における上記導電部(導電層)の厚みの0.5倍以上であることが好ましく、1倍以上であることが更に好ましい。上記絶縁性粒子の平均粒子径は、上記導電性粒子における上記導電部(導電層)の厚みの20倍以下であることが好ましく、10倍以下であることが更に好ましい。絶縁性粒子の平均粒子径と導電部の厚みとがこのような好ましい関係を満足すると、複数の絶縁性粒子付き導電性粒子における導電性粒子同士が接触し難くなり、導電部と電極との間の絶縁性粒子を容易に排除できる。   The average particle diameter of the insulating particles is preferably 0.5 times or more, more preferably 1 time or more, the thickness of the conductive part (conductive layer) in the conductive particles. The average particle diameter of the insulating particles is preferably 20 times or less, more preferably 10 times or less the thickness of the conductive part (conductive layer) in the conductive particles. When the average particle diameter of the insulating particles and the thickness of the conductive portion satisfy such a preferable relationship, the conductive particles in the plurality of conductive particles with insulating particles are difficult to contact each other, and the conductive portion and the electrode are not contacted. Insulating particles can be easily eliminated.

上記絶縁性粒子の平均粒子径は、芯物質の平均粒子径の0.5倍以上であることが好ましく、1倍以上であることが更に好ましい。上記絶縁性粒子の平均粒子径は、芯物質の平均粒子径の20倍以下であることが好ましく、10倍以下であることが更に好ましい。上記絶縁性粒子の平均粒子径と上記芯物質の平均粒子径とがこのような好ましい関係を満足すると、複数の絶縁性粒子付き導電性粒子における導電性粒子同士が接触し難くなり、導電層と電極との間の絶縁性粒子を容易に排除できる。   The average particle diameter of the insulating particles is preferably 0.5 times or more, more preferably 1 time or more, the average particle diameter of the core substance. The average particle size of the insulating particles is preferably 20 times or less, more preferably 10 times or less, the average particle size of the core substance. When the average particle diameter of the insulating particles and the average particle diameter of the core substance satisfy such a preferable relationship, the conductive particles in the plurality of conductive particles with insulating particles are difficult to contact each other, and the conductive layer and Insulating particles between the electrodes can be easily eliminated.

上記芯物質の「平均粒子径」は、数平均粒子径を示す。芯物質の平均粒子径は、粒度分布測定装置等を用いて求められる。   The “average particle size” of the core substance indicates a number average particle size. The average particle size of the core substance is determined using a particle size distribution measuring device or the like.

上記絶縁性粒子の粒子径の変動係数(CV値)は、好ましくは1%以上、好ましくは10%以下、より好ましくは8%以下である。   The coefficient of variation (CV value) of the particle diameter of the insulating particles is preferably 1% or more, preferably 10% or less, more preferably 8% or less.

粒子径の異なる2種以上の絶縁性粒子を用いてもよい。この場合には、導電性粒子の表面の大きな絶縁性粒子の間に、小さな絶縁性粒子を存在させることができるので、導電性粒子の露出面積を小さくすることができる。従って、複数の絶縁性粒子付き導電性粒子が接触したとしても、隣接する導電性粒子は接触し難いため、隣接する電極間の短絡を抑制できる。小さな絶縁性粒子の平均粒子径は、大きな絶縁性粒子の平均粒子径の1/2以下
であることが好ましい。小さな絶縁性粒子の数は、大きな絶縁性粒子の数の1/4以下であることが好ましい。
Two or more insulating particles having different particle diameters may be used. In this case, since small insulating particles can exist between the large insulating particles on the surface of the conductive particles, the exposed area of the conductive particles can be reduced. Therefore, even if a plurality of conductive particles with insulating particles are in contact with each other, adjacent conductive particles are difficult to contact, and thus a short circuit between adjacent electrodes can be suppressed. The average particle size of the small insulating particles is preferably 1/2 or less of the average particle size of the large insulating particles. The number of small insulating particles is preferably ¼ or less of the number of large insulating particles.

[防錆処理(被膜形成)]
導通信頼性をより一層高める観点からは、上記絶縁性粒子付き導電性粒子は、導電性の表面が防錆処理されていることが好ましい。導通信頼性をより一層高める観点からは、上記絶縁性粒子付き導電性粒子は、炭素数6〜22のアルキル基を有する化合物により、導電性の表面が防錆処理されていることが好ましい。導通信頼性をより一層高める観点からは、上記絶縁性粒子付き導電性粒子は、アルキルリン酸化合物又はアルキルチオールにより、導電性の表面が防錆処理されていることが好ましい。防錆処理により、絶縁性粒子付き導電性粒子の表面に、被膜を形成できる。すなわち、被膜を備える絶縁性粒子付き導電性粒子が得られる。
[Rust prevention treatment (film formation)]
From the viewpoint of further improving the conduction reliability, it is preferable that the conductive surface with the insulating particles has a rust preventive treatment on the conductive surface. From the viewpoint of further improving the conduction reliability, it is preferable that the conductive surface with the insulating particles has a conductive surface subjected to rust prevention with a compound having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms. From the viewpoint of further improving the conduction reliability, it is preferable that the conductive surface with the insulating particles has a conductive surface subjected to rust prevention with an alkyl phosphate compound or an alkyl thiol. A coating can be formed on the surface of the conductive particles with insulating particles by the rust prevention treatment. That is, conductive particles with insulating particles having a coating film are obtained.

上記被膜は、炭素数6〜22のアルキル基を有する化合物(以下、化合物Aともいう)により形成されていることが好ましい。上記絶縁性粒子付き導電性粒子は、上記化合物Aにより表面処理されていることが好ましい。上記アルキル基の炭素数が6以上であると、導電部の表面に錆がより一層生じ難くなる。上記アルキル基の炭素数が22以下であると、絶縁性粒子付き導電性粒子の導電性が高くなる。絶縁性粒子付き導電性粒子の導電性をより一層高める観点からは、上記化合物Aにおける上記アルキル基の炭素数は16以下であることが好ましい。上記アルキル基は直鎖構造を有していてもよく、分岐構造を有していてもよい。上記アルキル基は、直鎖構造を有することが好ましい。   The coating is preferably formed of a compound having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms (hereinafter also referred to as compound A). The conductive particles with insulating particles are preferably surface-treated with the compound A. When the carbon number of the alkyl group is 6 or more, rust is more unlikely to occur on the surface of the conductive portion. When the carbon number of the alkyl group is 22 or less, the conductivity of the conductive particles with insulating particles is increased. From the viewpoint of further increasing the conductivity of the conductive particles with insulating particles, the alkyl group in the compound A preferably has 16 or less carbon atoms. The alkyl group may have a linear structure or a branched structure. The alkyl group preferably has a linear structure.

上記化合物Aは、炭素数6〜22のアルキル基を有していれば特に限定されない。上記化合物Aは、炭素数6〜22のアルキル基を有するリン酸エステル又はその塩、炭素数6〜22のアルキル基を有する亜リン酸エステル又はその塩、炭素数6〜22のアルキル基を有するアルコキシシラン、炭素数6〜22のアルキル基を有するアルキルチオール、及び炭素数6〜22のアルキル基を有するジアルキルジスルフィドからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。すなわち、上記炭素数6〜22のアルキル基を有する化合物Aは、リン酸エステル又はその塩、亜リン酸エステル又はその塩、アルコキシシラン、アルキルチオール及びジアルキルジスルフィドからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。これらの好ましい化合物Aの使用により、導電部に錆をより一層生じ難くすることができる。錆をより一層生じ難くする観点からは、上記化合物Aは、上記リン酸エステルもしくはその塩、亜リン酸エステルもしくはその塩、又は、アルキルチオールであることが好ましく、上記リン酸エステルもしくはその塩、又は、亜リン酸エステルもしくはその塩であることがより好ましい。上記化合物Aは、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The compound A is not particularly limited as long as it has an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms. The compound A has a phosphate ester having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms or a salt thereof, a phosphite ester having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms or a salt thereof, and an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms. It is preferably at least one selected from the group consisting of alkoxysilanes, alkylthiols having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms, and dialkyl disulfides having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms. That is, the compound A having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms is at least one selected from the group consisting of phosphate esters or salts thereof, phosphite esters or salts thereof, alkoxysilanes, alkylthiols, and dialkyl disulfides. It is preferable that By using these preferable compounds A, it is possible to further prevent rust from being generated in the conductive portion. From the viewpoint of making rust even more difficult to generate, the compound A is preferably the phosphate ester or salt thereof, phosphite ester or salt thereof, or alkylthiol, and the phosphate ester or salt thereof, Or it is more preferable that it is a phosphite ester or its salt. As for the said compound A, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記化合物Aは、導電性粒子と反応可能な反応性官能基を有することが好ましく、導電部と反応可能な反応性官能基を有することが好ましい。上記化合物Aは、絶縁性粒子と反応可能な反応性官能基を有することが好ましい。被膜は、被膜を除く絶縁性粒子付き導電性粒子部分(導電性粒子又は絶縁性粒子)と化学結合していることが好ましい。被膜は、導電性粒子と化学結合していることが好ましく、導電部と化学結合していることが好ましい。被膜は、絶縁性粒子と化学結合していることが好ましい。被膜は、導電性粒子及び絶縁性粒子と化学結合していることがより好ましく、導電部及び絶縁性粒子と化学結合していることがより好ましい。上記反応性官能基の存在により、及び上記化学結合により、被膜の剥離が生じ難くなり、この結果導電部に錆がより一層生じ難くなり、かつ導電性粒子の表面から絶縁性粒子が意図せずにより一層脱離し難くなる。   The compound A preferably has a reactive functional group capable of reacting with the conductive particles, and preferably has a reactive functional group capable of reacting with the conductive part. The compound A preferably has a reactive functional group capable of reacting with insulating particles. It is preferable that the coating is chemically bonded to the conductive particle portion with insulating particles (conductive particles or insulating particles) excluding the coating. The coating is preferably chemically bonded to the conductive particles, and is preferably chemically bonded to the conductive portion. The coating is preferably chemically bonded to the insulating particles. The coating is more preferably chemically bonded to the conductive particles and the insulating particles, and more preferably chemically bonded to the conductive portions and the insulating particles. Due to the presence of the reactive functional group and the chemical bond, peeling of the film is less likely to occur, and as a result, rust is less likely to occur in the conductive part, and insulating particles are not intended from the surface of the conductive particles. Makes it more difficult to detach.

上記炭素数6〜22のアルキル基を有するリン酸エステル又はその塩としては、例えば、リン酸ヘキシルエステル、リン酸ヘプチルエステル、リン酸モノオクチルエステル、リ
ン酸モノノニルエステル、リン酸モノデシルエステル、リン酸モノウンデシルエステル、リン酸モノドデシルエステル、リン酸モノトリデシルエステル、リン酸モノテトラデシルエステル、リン酸モノペンタデシルエステル、リン酸モノヘキシルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノヘプチルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノオクチルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノノニルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノデシルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノウンデシルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノドデシルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノトリデシルエステルモノナトリウム塩、リン酸モノテトラデシルエステルモノナトリウム塩及びリン酸モノペンタデシルエステルモノナトリウム塩等が挙げられる。上記リン酸エステルのカリウム塩を用いてもよい。
Examples of the phosphoric acid ester having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms or a salt thereof include, for example, phosphoric acid hexyl ester, phosphoric acid heptyl ester, phosphoric acid monooctyl ester, phosphoric acid monononyl ester, phosphoric acid monodecyl ester, Monoundecyl phosphate, monododecyl phosphate, monotridecyl phosphate, monotetradecyl phosphate, monopentadecyl phosphate, monohexyl phosphate monosodium salt, monoheptyl phosphate monosodium Salts, monooctyl phosphate monosodium salt, monononyl phosphate monosodium salt, monodecyl phosphate monosodium salt, monoundecyl phosphate monosodium salt, monododecyl phosphate monosodium salt, Phosphate mono tridecyl ester monosodium salt, phosphate acid mono tetradecyl ester monosodium salt and phosphoric acid mono pentadecyl ester monosodium salt. You may use the potassium salt of the said phosphate ester.

上記炭素数6〜22のアルキル基を有する亜リン酸エステル又はその塩としては、例えば、亜リン酸ヘキシルエステル、亜リン酸ヘプチルエステル、亜リン酸モノオクチルエステル、亜リン酸モノノニルエステル、亜リン酸モノデシルエステル、亜リン酸モノウンデシルエステル、亜リン酸モノドデシルエステル、亜リン酸モノトリデシルエステル、亜リン酸モノテトラデシルエステル、亜リン酸モノペンタデシルエステル、亜リン酸モノヘキシルエステルモノナトリウム塩、亜リン酸モノヘプチルエステルモノナトリウム塩、亜リン酸モノオクチルエステルモノナトリウム塩、亜リン酸モノノニルエステルモノナトリウム塩、亜リン酸モノデシルエステルモノナトリウム塩、亜リン酸モノウンデシルエステルモノナトリウム塩、亜リン酸モノドデシルエステルモノナトリウム塩、亜リン酸モノトリデシルエステルモノナトリウム塩、亜リン酸モノテトラデシルエステルモノナトリウム塩及び亜リン酸モノペンタデシルエステルモノナトリウム塩等が挙げられる。上記亜リン酸エステルのカリウム塩を用いてもよい。   Examples of the phosphite ester having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms or a salt thereof include, for example, hexyl phosphite ester, heptyl phosphite ester, monooctyl phosphite ester, monononyl phosphite ester, Phosphoric acid monodecyl ester, phosphorous acid monoundecyl ester, phosphorous acid monododecyl ester, phosphorous acid monotridecyl ester, phosphorous acid monotetradecyl ester, phosphorous acid monopentadecyl ester, phosphorous acid monohexyl Ester monosodium salt, phosphorous acid monoheptyl ester monosodium salt, phosphorous acid monooctyl ester monosodium salt, phosphorous acid monononyl ester monosodium salt, phosphorous acid monodecyl ester monosodium salt, phosphorous acid monoun Decyl ester monosodium salt, phosphorous acid Dodecyl ester monosodium salt, phosphorous acid mono-tridecyl ester monosodium salt, phosphorous acid mono-tetradecyl ester monosodium salt and phosphorous acid mono-pentadecyl ester monosodium salt. You may use the potassium salt of the said phosphite.

上記炭素数6〜22のアルキル基を有するアルコキシシランとしては、例えば、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘプチルトリメトキシシラン、ヘプチルトリエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ノニルトリメトキシシラン、ノニルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ウンデシルトリメトキシシラン、ウンデシルトリエトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、トリデシルトリメトキシシラン、トリデシルトリエトキシシラン、テトラデシルトリメトキシシラン、テトラデシルトリエトキシシラン、ペンタデシルトリメトキシシラン及びペンタデシルトリエトキシシラン等が挙げられる。   Examples of the alkoxysilane having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms include hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, heptyltrimethoxysilane, heptyltriethoxysilane, octyltrimethoxysilane, octyltriethoxysilane, and nonyltri. Methoxysilane, nonyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane, decyltriethoxysilane, undecyltrimethoxysilane, undecyltriethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, dodecyltriethoxysilane, tridecyltrimethoxysilane, tridecyltriethoxy Examples include silane, tetradecyltrimethoxysilane, tetradecyltriethoxysilane, pentadecyltrimethoxysilane, and pentadecyltriethoxysilane.

上記炭素数6〜22のアルキル基を有するアルキルチオールとしては、例えば、ヘキシルチオール、ヘプチルチオール、オクチルチオール、ノニルチオール、デシルチオール、ウンデシルチオール、ドデシルチオール、トリデシルチオール、テトラデシルチオール、ペンタデシルチオール及びヘキサデシルチオール等が挙げられる。上記アルキルチオールは、アルキル鎖の末端にチオール基を有することが好ましい。   Examples of the alkyl thiol having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms include hexyl thiol, heptyl thiol, octyl thiol, nonyl thiol, decyl thiol, undecyl thiol, dodecyl thiol, tridecyl thiol, tetradecyl thiol, pentadecyl. Examples include thiol and hexadecyl thiol. The alkyl thiol preferably has a thiol group at the end of the alkyl chain.

上記炭素数6〜22のアルキル基を有するジアルキルジスルフィドとしては、例えば、ジヘキシルジスルフィド、ジヘプチルジスルフィド、ジオクチルジスルフィド、ジノニルジスルフィド、ジデシルジスルフィド、ジウンデシルジスルフィド、ジドデシルジスルフィド、ジトリデシルジスルフィド、ジテトラデシルジスルフィド、ジペンタデシルジスルフィド及びジヘキサデシルジスルフィド等が挙げられる。   Examples of the dialkyl disulfide having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms include dihexyl disulfide, diheptyl disulfide, dioctyl disulfide, dinonyl disulfide, didecyl disulfide, diundecyl disulfide, didodecyl disulfide, ditridecyl disulfide, ditetradecyl disulfide. Examples include decyl disulfide, dipentadecyl disulfide, and dihexadecyl disulfide.

(導電材料)
本発明に係る導電材料は、上述した絶縁性粒子付き導電性粒子と、バインダー樹脂とを含む。上記絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた場合には、絶縁性粒子付き導電性粒子をバインダー樹脂中に分散させる際などに、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が脱離し難い。本発明に係る導電材料は、異方性導電材料であることが好ましい。本発明に係る導電材料
は、回路接続用導電材料であることが好ましい。
(Conductive material)
The conductive material according to the present invention includes the above-described conductive particles with insulating particles and a binder resin. When the conductive particles with insulating particles are used, the insulating particles are unlikely to be detached from the surface of the conductive particles when the conductive particles with insulating particles are dispersed in the binder resin. The conductive material according to the present invention is preferably an anisotropic conductive material. The conductive material according to the present invention is preferably a circuit connecting conductive material.

上記バインダー樹脂は特に限定されない。上記バインダー樹脂としては、一般的には絶縁性の樹脂が用いられる。上記バインダー樹脂としては、例えば、ビニル樹脂、熱可塑性樹脂、硬化性樹脂、熱可塑性ブロック共重合体又はエラストマー等が挙げられる。上記バインダー樹脂は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The binder resin is not particularly limited. In general, an insulating resin is used as the binder resin. Examples of the binder resin include vinyl resins, thermoplastic resins, curable resins, thermoplastic block copolymers, and elastomers. As for the said binder resin, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記ビニル樹脂としては、例えば、酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂及びスチレン樹脂等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリオレフィン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体及びポリアミド樹脂等が挙げられる。上記硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂及び不飽和ポリエステル樹脂等が挙げられる。なお、上記硬化性樹脂は、常温硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、光硬化型樹脂又は湿気硬化型樹脂であってもよい。上記硬化性樹脂は、硬化剤と併用されてもよい。上記熱可塑性ブロック共重合体としては、例えば、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体の水素添加物、及びスチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体の水素添加物等が挙げられる。上記エラストマーとしては、例えば、スチレン−ブタジエン共重合ゴム、及びアクリロニトリル−スチレンブロック共重合ゴム等が挙げられる。   Examples of the vinyl resin include vinyl acetate resin, acrylic resin, and styrene resin. Examples of the thermoplastic resin include polyolefin resins, ethylene-vinyl acetate copolymers, and polyamide resins. Examples of the curable resin include an epoxy resin, a urethane resin, a polyimide resin, and an unsaturated polyester resin. The curable resin may be a room temperature curable resin, a thermosetting resin, a photocurable resin, or a moisture curable resin. The curable resin may be used in combination with a curing agent. Examples of the thermoplastic block copolymer include a styrene-butadiene-styrene block copolymer, a styrene-isoprene-styrene block copolymer, a hydrogenated product of a styrene-butadiene-styrene block copolymer, and a styrene-isoprene. -Hydrogenated product of a styrene block copolymer. Examples of the elastomer include styrene-butadiene copolymer rubber and acrylonitrile-styrene block copolymer rubber.

上記導電材料は、上記絶縁性粒子付き導電性粒子及び上記バインダー樹脂の他に、例えば、充填剤、増量剤、軟化剤、可塑剤、重合触媒、硬化触媒、着色剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤及び難燃剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。   In addition to the conductive particles with insulating particles and the binder resin, the conductive material includes, for example, a filler, an extender, a softener, a plasticizer, a polymerization catalyst, a curing catalyst, a colorant, an antioxidant, and heat stability. Various additives such as an agent, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a lubricant, an antistatic agent and a flame retardant may be contained.

上記バインダー樹脂中に上記絶縁性粒子付き導電性粒子を分散させる方法は、従来公知の分散方法を用いることができ特に限定されない。上記バインダー樹脂中に上記絶縁性粒子付き導電性粒子を分散させる方法としては、例えば、上記バインダー樹脂中に上記絶縁性粒子付き導電性粒子を添加した後、プラネタリーミキサー等で混練して分散させる方法、上記絶縁性粒子付き導電性粒子を水又は有機溶剤中にホモジナイザー等を用いて均一に分散させた後、上記バインダー樹脂中に添加し、プラネタリーミキサー等で混練して分散させる方法、並びに上記バインダー樹脂を水又は有機溶剤等で希釈した後、上記絶縁性粒子付き導電性粒子を添加し、プラネタリーミキサー等で混練して分散させる方法等が挙げられる。   The method for dispersing the conductive particles with insulating particles in the binder resin is not particularly limited, and a conventionally known dispersion method can be used. As a method for dispersing the conductive particles with insulating particles in the binder resin, for example, the conductive particles with insulating particles are added to the binder resin and then kneaded and dispersed with a planetary mixer or the like. A method, a method in which the conductive particles with insulating particles are uniformly dispersed in water or an organic solvent using a homogenizer or the like, then added to the binder resin, and kneaded and dispersed with a planetary mixer or the like; and Examples include a method of diluting the binder resin with water or an organic solvent, adding the conductive particles with insulating particles, and kneading and dispersing with a planetary mixer or the like.

上記導電材料は、導電ペースト及び導電フィルム等として使用され得る。上記導電ペーストは、導電インク又は導電粘接着剤であってもよい。また、上記導電フィルムには、導電シートが含まれる。上記絶縁性粒子付き導電性粒子を含む導電材料が、導電フィルムである場合には、絶縁性粒子付き導電性粒子を含む導電フィルムに、絶縁性粒子付き導電性粒子を含まないフィルムが積層されていてもよい。ただし、上述のように、本発明に係る導電材料は、ペースト状であることが好ましく、導電ペーストであることが好ましい。ペースト状には液状が含まれる。上記導電ペーストは、異方性導電ペーストであることが好ましい。上記導電フィルムは、異方性導電フィルムであることが好ましい。   The conductive material can be used as a conductive paste and a conductive film. The conductive paste may be a conductive ink or a conductive adhesive. The conductive film includes a conductive sheet. When the conductive material including the conductive particles with insulating particles is a conductive film, a film not including the conductive particles with insulating particles is laminated on the conductive film including the conductive particles with insulating particles. May be. However, as described above, the conductive material according to the present invention is preferably in a paste form, and is preferably a conductive paste. The paste form includes liquid. The conductive paste is preferably an anisotropic conductive paste. The conductive film is preferably an anisotropic conductive film.

上記導電材料100重量%中、上記バインダー樹脂の含有量は好ましくは10重量%以上、より好ましくは30重量%以上、更に好ましくは50重量%以上、特に好ましくは70重量%以上、好ましくは99.99重量%以下、より好ましくは99.9重量%以下である。上記バインダー樹脂の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、電極間に絶縁性粒子付き導電性粒子が効率的に配置され、導電材料により接続された接続対象部材の接続信頼性がより一層高くなる。   In 100% by weight of the conductive material, the content of the binder resin is preferably 10% by weight or more, more preferably 30% by weight or more, still more preferably 50% by weight or more, particularly preferably 70% by weight or more, preferably 99.% or more. It is 99 weight% or less, More preferably, it is 99.9 weight% or less. When the content of the binder resin is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the conductive particles with insulating particles are efficiently arranged between the electrodes, and the connection reliability of the connection target member connected by the conductive material is more It gets even higher.

上記導電材料100重量%中、上記絶縁性粒子付き導電性粒子の含有量は好ましくは0.01重量%以上、より好ましくは0.1重量%以上、好ましくは40重量%以下、より好ましくは20重量%以下、更に好ましくは10重量%以下である。上記絶縁性粒子付き導電性粒子の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、電極間の導通信頼性がより一層高くなる。   The content of the conductive particles with insulating particles in 100% by weight of the conductive material is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, preferably 40% by weight or less, more preferably 20%. % By weight or less, more preferably 10% by weight or less. When the content of the conductive particles with insulating particles is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the conduction reliability between the electrodes is further enhanced.

(接続構造体)
本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料を用いて、接続対象部材を接続することにより、接続構造体を得ることができる。
(Connection structure)
The connection structure can be obtained by connecting the connection target member using the conductive material including the conductive particles with insulating particles according to the present invention and the binder resin.

上記接続構造体は、第1の電極を表面に有する第1の接続対象部材と、第2の電極を表面に有する第2の接続対象部材と、上記第1の接続対象部材と、上記第2の接続対象部材を接続している接続部とを備える。上記接続部が、上述した絶縁性粒子付き導電性粒子により形成されているか、又は上述した絶縁性粒子付き導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料により形成されている。上記第1の電極と上記第2の電極とが、上記絶縁性粒子付き導電性粒子における上記導電性粒子により電気的に接続されている。   The connection structure includes a first connection target member having a first electrode on the surface, a second connection target member having a second electrode on the surface, the first connection target member, and the second The connection part which has connected the connection object member. The connecting portion is formed of the conductive particles with insulating particles described above, or is formed of a conductive material including the conductive particles with insulating particles and the binder resin described above. The first electrode and the second electrode are electrically connected by the conductive particles in the conductive particles with insulating particles.

図5に、本発明の第1の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた接続構造体を模式的に正面断面図で示す。   FIG. 5 is a front cross-sectional view schematically showing a connection structure using conductive particles with insulating particles according to the first embodiment of the present invention.

図5に示す接続構造体81は、第1の接続対象部材82と、第2の接続対象部材83と、第1,第2の接続対象部材82,83を接続している接続部84とを備える。接続部84は、絶縁性粒子付き導電性粒子1を含む導電材料により形成されている。接続部84は、絶縁性粒子付き導電性粒子1を複数含む導電材料を硬化させることにより形成されていることが好ましい。なお、図5では、絶縁性粒子付き導電性粒子1は、図示の便宜上、略図的に示されている。絶縁性粒子付き導電性粒子1にかえて、絶縁性粒子付き導電性粒子21,41,61などを用いてもよい。   A connection structure 81 shown in FIG. 5 includes a first connection target member 82, a second connection target member 83, and a connection portion 84 connecting the first and second connection target members 82 and 83. Prepare. The connecting portion 84 is formed of a conductive material including the conductive particles 1 with insulating particles. The connecting portion 84 is preferably formed by curing a conductive material including a plurality of conductive particles 1 with insulating particles. In FIG. 5, the conductive particles 1 with insulating particles are schematically shown for convenience of illustration. Instead of the conductive particles 1 with insulating particles, the conductive particles with insulating particles 21, 41, 61 may be used.

第1の接続対象部材82は表面(上面)に、複数の第1の電極82aを有する。第2の接続対象部材83は表面(下面)に、複数の第2の電極83aを有する。第1の電極82aと第2の電極83aとが、1つ又は複数の絶縁性粒子付き導電性粒子1における導電性粒子2により電気的に接続されている。従って、第1,第2の接続対象部材82,83が絶縁性粒子付き導電性粒子1における導電性粒子2により電気的に接続されている。   The first connection target member 82 has a plurality of first electrodes 82a on the surface (upper surface). The second connection target member 83 has a plurality of second electrodes 83a on the surface (lower surface). The 1st electrode 82a and the 2nd electrode 83a are electrically connected by the electroconductive particle 2 in the electroconductive particle 1 with one or some insulating particle. Therefore, the first and second connection target members 82 and 83 are electrically connected by the conductive particles 2 in the conductive particles 1 with insulating particles.

上記接続構造体の製造方法は特に限定されない。接続構造体の製造方法の一例としては、第1の接続対象部材と第2の接続対象部材との間に上記導電材料を配置し、積層体を得た後、該積層体を加熱及び加圧する方法等が挙げられる。上記加圧の圧力は9.8×10〜4.9×10Pa程度である。上記加熱の温度は、120〜220℃程度である。 The manufacturing method of the connection structure is not particularly limited. As an example of the manufacturing method of the connection structure, the conductive material is disposed between the first connection target member and the second connection target member to obtain a laminate, and then the laminate is heated and pressurized. Methods and the like. The pressure of the said pressurization is about 9.8 * 10 < 4 > -4.9 * 10 < 6 > Pa. The temperature of the said heating is about 120-220 degreeC.

上記積層体を加熱及び加圧する際に、導電性粒子2と第1,第2の電極82a,83aとの間に存在していた絶縁性粒子3を排除できる。例えば、上記加熱及び加圧の際には、導電性粒子2と第1,第2の電極82a,83aとの間に存在していた絶縁性粒子3が溶融したり、変形したりして、導電性粒子2の表面が部分的に露出する。なお、上記加熱及び加圧の際には、大きな力が付与されるので、導電性粒子2の表面から一部の絶縁性粒子3が剥離して、導電性粒子2の表面が部分的に露出することもある。導電性粒子2の表面が露出した部分が、第1,第2の電極82a,83aに接触することにより、導電性粒子2を介して第1,第2の電極82a,83aを電気的に接続できる。   When the laminate is heated and pressed, the insulating particles 3 existing between the conductive particles 2 and the first and second electrodes 82a and 83a can be eliminated. For example, during the heating and pressurization, the insulating particles 3 existing between the conductive particles 2 and the first and second electrodes 82a and 83a are melted or deformed, The surface of the conductive particle 2 is partially exposed. Note that a large force is applied during the heating and pressurization, so that some of the insulating particles 3 are peeled off from the surface of the conductive particles 2 and the surface of the conductive particles 2 is partially exposed. Sometimes. The portion where the surface of the conductive particle 2 is exposed contacts the first and second electrodes 82a and 83a, so that the first and second electrodes 82a and 83a are electrically connected through the conductive particle 2. it can.

上記接続対象部材としては、具体的には、半導体チップ、コンデンサ及びダイオード等の電子部品、並びにプリント基板、フレキシブルプリント基板、ガラスエポキシ基板及び
ガラス基板等の回路基板などの電子部品等が挙げられる。上記導電材料は、電子部品を接続するための導電材料であることが好ましい。上記導電材料はペースト状の導電ペーストであり、ペースト状の状態で接続対象部材上に塗工されることが好ましい。
Specific examples of the connection target member include electronic components such as semiconductor chips, capacitors, and diodes, and electronic components such as printed boards, flexible printed boards, glass epoxy boards, and glass boards. The conductive material is preferably a conductive material for connecting electronic components. The conductive material is a paste-like conductive paste, and is preferably applied on the connection target member in a paste-like state.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子の使用により絶縁信頼性が効果的に高くなることから、上記第1の電極が形成されていない部分のスペースである電極間幅の最小値と上記第2の電極が形成されていない部分のスペースである電極間幅の最小値とがそれぞれ30μm以下であることが好ましい。   Since the insulation reliability is effectively increased by using the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the minimum value of the inter-electrode width which is the space of the portion where the first electrode is not formed and the first It is preferable that the minimum value of the interelectrode width, which is the space of the portion where the two electrodes are not formed, is 30 μm or less.

本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子は、特にガラス基板と半導体チップとを接続対象部材とするCOG、又はガラス基板とフレキシブルプリント基板(FPC)とを接続対象部材とするFOGに好適に使用される。本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子は、COGに用いられてもよく、FOGに用いられてもよい。本発明に係る接続構造体では、上記第1,第2の接続対象部材が、ガラス基板と半導体チップとであるか、又はガラス基板とフレキシブルプリント基板とであることが好ましい。上記第1,第2の接続対象部材は、ガラス基板と半導体チップとであってもよく、ガラス基板とフレキシブルプリント基板とであってもよい。   The conductive particles with insulating particles according to the present invention are particularly suitable for COG having a glass substrate and a semiconductor chip as connection target members, or FOG having a glass substrate and a flexible printed circuit board (FPC) as connection target members. Is done. The conductive particles with insulating particles according to the present invention may be used for COG or FOG. In the connection structure according to the present invention, the first and second connection target members are preferably a glass substrate and a semiconductor chip, or a glass substrate and a flexible printed board. The first and second connection target members may be a glass substrate and a semiconductor chip, or may be a glass substrate and a flexible printed board.

ガラス基板と半導体チップとを接続対象部材とするCOGで使用される半導体チップには、バンプが設けられていることが好ましい。   It is preferable that bumps are provided on a semiconductor chip used in a COG having a glass substrate and a semiconductor chip as connection target members.

上記接続対象部材に設けられている電極としては、金電極、ニッケル電極、錫電極、アルミニウム電極、銅電極、モリブデン電極及びタングステン電極等の金属電極が挙げられる。上記接続対象部材がフレキシブルプリント基板である場合には、上記電極は金電極、ニッケル電極、錫電極又は銅電極であることが好ましい。上記接続対象部材がガラス基板である場合には、上記電極はアルミニウム電極、銅電極、モリブデン電極又はタングステン電極であることが好ましい。なお、上記電極がアルミニウム電極である場合には、アルミニウムのみで形成された電極であってもよく、金属酸化物層の表面にアルミニウム層が積層された電極であってもよい。上記金属酸化物層の材料としては、3価の金属元素がドープされた酸化インジウム及び3価の金属元素がドープされた酸化亜鉛等が挙げられる。上記3価の金属元素としては、Sn、Al及びGa等が挙げられる。   Examples of the electrode provided on the connection target member include metal electrodes such as a gold electrode, a nickel electrode, a tin electrode, an aluminum electrode, a copper electrode, a molybdenum electrode, and a tungsten electrode. When the connection object member is a flexible printed board, the electrode is preferably a gold electrode, a nickel electrode, a tin electrode, or a copper electrode. When the connection target member is a glass substrate, the electrode is preferably an aluminum electrode, a copper electrode, a molybdenum electrode, or a tungsten electrode. In addition, when the said electrode is an aluminum electrode, the electrode formed only with aluminum may be sufficient and the electrode by which the aluminum layer was laminated | stacked on the surface of the metal oxide layer may be sufficient. Examples of the material for the metal oxide layer include indium oxide doped with a trivalent metal element and zinc oxide doped with a trivalent metal element. Examples of the trivalent metal element include Sn, Al, and Ga.

以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を具体的に説明する。本発明は、以下の実施例のみに限定されない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited only to the following examples.

(実施例1)
(1)導電性粒子の作製工程
ジビニルベンゼン樹脂粒子の表面上にニッケルめっき層(導電層)が形成されている導電性粒子(平均粒子径3.01μm、導電層の厚み0.10μm)を用意した。
Example 1
(1) Conductive particle manufacturing process Conductive particles (average particle diameter of 3.01 μm, conductive layer thickness of 0.10 μm) having a nickel plating layer (conductive layer) formed on the surface of divinylbenzene resin particles are prepared. did.

上記導電性粒子50重量部及び2,4,6−トリメルカプト−s−トリアジン(トリアジンチオール)1.5重量部をテトラヒドロフラン(THF)100mL中に入れ、60℃で1時間撹拌し、撹拌液を得た。得られた撹拌液をろ過した後、洗浄し、120℃で5時間真空乾燥して、導電性粒子のニッケルめっき層の表面に、トリアジンチオールに由来する化合物が結合しており、チオール基を表面に有する導電性粒子Aを得た。   50 parts by weight of the above conductive particles and 1.5 parts by weight of 2,4,6-trimercapto-s-triazine (triazinethiol) were put in 100 mL of tetrahydrofuran (THF), and stirred at 60 ° C. for 1 hour. Obtained. The obtained stirring liquid is filtered, washed, and vacuum-dried at 120 ° C. for 5 hours. A compound derived from triazine thiol is bonded to the surface of the nickel plating layer of the conductive particles, and the thiol group is attached to the surface. Conductive particles A were obtained.

なお、導電性粒子Aのニッケルめっき層の表面に、トリアジンチオールに由来する化合物が結合していることは、TOF−SIMS(ION−TOF社製「TOF−SIMS Type−5」)を用いて、導電性粒子の表面の官能基を測定し、トリアジンチオールに由来する官能基のピークがあることで確認した。   In addition, it is TOF-SIMS ("TOF-SIMS Type-5" made by ION-TOF) that the compound derived from triazine thiol is bonded to the surface of the nickel plating layer of the conductive particles A. The functional group on the surface of the conductive particles was measured and confirmed by the presence of a functional group peak derived from triazine thiol.

(2)絶縁性粒子の作製工程
4ツ口セパラブルカバー、攪拌翼、三方コック、冷却管及び温度プローブを取り付けた1000mLセパラブルフラスコに、メタクリル酸グリシジル45mmol、メタクリル酸メチル380mmol、ジメタクリル酸エチレングリコール13mmol、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールメタクリレート0.5mmol、及び2,2’−アゾビス{2−[N−(2−カルボキシエチル)アミジノ]プロパン}1mmolを含むモノマー組成物を入れた。該モノマー組成物を固形分が10重量%となるように蒸留水を添加した後、300rpmで攪拌し、窒素雰囲気下70℃で24時間重合を行った。反応終了後、凍結乾燥して、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールメタクリレートに由来する上記P−OH基、メタクリル酸グリシジルに由来するエポキシ基を表面に有する絶縁性粒子a(平均粒子径300nm)を得た。
(2) Production process of insulating particles A 1000 mL separable flask equipped with a four-neck separable cover, a stirring blade, a three-way cock, a condenser tube and a temperature probe was charged with 45 mmol of glycidyl methacrylate, 380 mmol of methyl methacrylate, and ethylene dimethacrylate. A monomer composition containing 13 mmol of glycol, 0.5 mmol of acid phosphooxypolyoxyethylene glycol methacrylate, and 1 mmol of 2,2′-azobis {2- [N- (2-carboxyethyl) amidino] propane} was added. Distilled water was added to the monomer composition so that the solid content was 10% by weight, and the mixture was stirred at 300 rpm and polymerized at 70 ° C. for 24 hours in a nitrogen atmosphere. After completion of the reaction, freeze-drying is performed to obtain insulating particles a (average particle diameter of 300 nm) having the above-described P—OH group derived from acid phosphooxypolyoxyethylene glycol methacrylate and the epoxy group derived from glycidyl methacrylate on the surface. It was.

得られた絶縁性粒子aを蒸留水に分散させて、絶縁性粒子aの10重量%分散液を得た。   The obtained insulating particles a were dispersed in distilled water to obtain a 10 wt% dispersion of insulating particles a.

(3)防錆処理前の絶縁性粒子付き導電性粒子の作製工程
得られた導電性粒子A50重量部を蒸留水300mLに分散させた。その分散液に、絶縁性粒子aの10重量%分散液50mLを滴下し、50℃で8時間撹拌した。分散液をろ過した後、メタノールで洗浄し、120℃で7時間真空乾燥した。このようにして、導電性粒子におけるチオール基と絶縁性粒子におけるエポキシ基とを化学結合させ、かつ導電性粒子のニッケルめっき層の表面の水酸基と絶縁性粒子におけるP−OH基とを化学結合させることで、導電性粒子の表面に絶縁性粒子を付着させて、防錆処理前の絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(3) Production Step of Conductive Particles with Insulating Particles Before Rust Prevention Treatment 50 parts by weight of the obtained conductive particles A were dispersed in 300 mL of distilled water. To the dispersion, 50 mL of a 10 wt% dispersion of insulating particles a was added dropwise and stirred at 50 ° C. for 8 hours. The dispersion was filtered, washed with methanol, and vacuum dried at 120 ° C. for 7 hours. In this way, the thiol group in the conductive particle and the epoxy group in the insulating particle are chemically bonded, and the hydroxyl group on the surface of the nickel plating layer of the conductive particle and the P—OH group in the insulating particle are chemically bonded. In this way, insulating particles were adhered to the surface of the conductive particles to obtain conductive particles with insulating particles before rust prevention treatment.

(4)防錆処理
エタノールにラウリルリン酸を溶解させ、ラウリルリン酸の3重量%溶液を得た。得られた絶縁性粒子付き導電性粒子をラウリルリン酸3重量%溶液に入れ、50℃で1時間撹拌し、撹拌液を得た。得られた撹拌液をろ過した後、洗浄し、50℃で真空乾燥して、防錆処理された絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(4) Rust prevention treatment Lauryl phosphate was dissolved in ethanol to obtain a 3% by weight solution of lauryl phosphate. The obtained conductive particles with insulating particles were put into a 3% by weight solution of lauryl phosphoric acid and stirred at 50 ° C. for 1 hour to obtain a stirring solution. The obtained stirring liquid was filtered, washed, and vacuum-dried at 50 ° C. to obtain conductive particles with insulating particles subjected to rust prevention treatment.

(実施例2)
導電性粒子の作製工程において、2,4,6−トリメルカプト−s−トリアジン(トリアジンチオール)を、2−ジ−n−ブチルアミノ−4,6−ジメルカプト−s−トリアジンに変更したこと以外は導電性粒子Aと同様にして、2−ジ−n−ブチルアミノ−4,6−ジメルカプト−s−トリアジンに由来する化合物が結合しており、チオール基及びアルキルアミノ基を表面に有する導電性粒子Bを得た。
(Example 2)
Except that 2,4,6-trimercapto-s-triazine (triazinethiol) was changed to 2-di-n-butylamino-4,6-dimercapto-s-triazine in the process of producing conductive particles. Similarly to the conductive particle A, a conductive particle having a thiol group and an alkylamino group on the surface, to which a compound derived from 2-di-n-butylamino-4,6-dimercapto-s-triazine is bonded. B was obtained.

導電性粒子Aを導電性粒子Bに変更したこと以外は実施例1と同様にして、防錆処理された絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。なお、実施例2では、導電性粒子におけるチオール基と絶縁性粒子におけるエポキシ基とが化学結合していることに加えて、導電性粒子におけるアルキルアミノ基と絶縁性粒子におけるエポキシ基とが化学結合していた。すなわち、アルキルアミノ基を介して、導電性粒子に絶縁性粒子が付着していた。   Except having changed the electroconductive particle A into the electroconductive particle B, it carried out similarly to Example 1, and obtained the electroconductive particle with the insulating particle by which the antirust process was carried out. In Example 2, in addition to the chemical bond between the thiol group in the conductive particle and the epoxy group in the insulating particle, the alkylamino group in the conductive particle and the epoxy group in the insulating particle are chemically bonded. Was. That is, the insulating particles are attached to the conductive particles via the alkylamino group.

(実施例3)
導電性粒子の作製工程において、2,4,6−トリメルカプト−s−トリアジン(トリアジンチオール)を、2−フェニルアミノ−4,6−ジメルカプト−s−トリアジンに変更したこと以外は導電性粒子Aと同様にして、2−フェニルアミノ−4,6−ジメルカプト−s−トリアジンに由来する化合物が結合しており、チオール基及びアニリノ基を表面に有する導電性粒子Cを得た。なお、実施例3では、導電性粒子におけるチオール基と絶
縁性粒子におけるエポキシ基とが化学結合していることに加えて、導電性粒子におけるアニリノ基と絶縁性粒子におけるエポキシ基とが化学結合していた。すなわち、アニリノ基を介して、導電性粒子に絶縁性粒子が付着していた。
(Example 3)
Conductive particle A except that 2,4,6-trimercapto-s-triazine (triazinethiol) was changed to 2-phenylamino-4,6-dimercapto-s-triazine in the production step of conductive particles. In the same manner as above, a conductive particle C was obtained in which a compound derived from 2-phenylamino-4,6-dimercapto-s-triazine was bonded and the surface had a thiol group and an anilino group. In Example 3, in addition to the thiol group in the conductive particle and the epoxy group in the insulating particle being chemically bonded, the anilino group in the conductive particle and the epoxy group in the insulating particle were chemically bonded. It was. That is, the insulating particles were attached to the conductive particles through the anilino group.

導電性粒子Aを導電性粒子Cに変更したこと以外は実施例1と同様にして、防錆処理された絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。   Except having changed the electroconductive particle A into the electroconductive particle C, it carried out similarly to Example 1, and obtained the electroconductive particle with the insulating particle by which the antirust process was carried out.

(実施例4)
ゾルゲル法を使用して作製したシリカ粒子(平均粒子径300nm)の表面をグリシジルトリエトキシシランで被覆し、エポキシ基を表面に有する絶縁性粒子bを得た。得られた絶縁性粒子bを蒸留水に分散させて、絶縁性粒子bの10重量%分散液を得た。
Example 4
The surface of silica particles (average particle diameter 300 nm) produced using the sol-gel method was coated with glycidyltriethoxysilane to obtain insulating particles b having epoxy groups on the surface. The obtained insulating particles b were dispersed in distilled water to obtain a 10 wt% dispersion of insulating particles b.

絶縁性粒子aの10重量%分散液を、絶縁性粒子bの10重量%分散液に変更したこと以外は実施例1と同様にして、防錆処理された絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。   Rust-proof conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the 10 wt% dispersion of insulating particles a was changed to a 10 wt% dispersion of insulating particles b. It was.

(実施例5)
絶縁性粒子の作製工程において、上記アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールメタクリレートを、アシッドホスホオキシエチルメタクリレートに変更したこと以外は絶縁性粒子aと同様にして、アシッドホスホオキシエチルメタクリレートに由来する上記P−OH基、メタクリル酸グリシジルに由来するエポキシ基を表面に有する絶縁性粒子cを得た。得られた絶縁性粒子cを蒸留水に分散させて、絶縁性粒子cの10重量%分散液を得た。
(Example 5)
In the production process of the insulating particles, the P- derived from the acid phosphooxyethyl methacrylate is the same as the insulating particles a except that the acid phosphooxypolyoxyethylene glycol methacrylate is changed to the acid phosphooxyethyl methacrylate. Insulating particles c having OH groups and epoxy groups derived from glycidyl methacrylate on the surface were obtained. The obtained insulating particles c were dispersed in distilled water to obtain a 10 wt% dispersion of insulating particles c.

絶縁性粒子aの10重量%分散液を、絶縁性粒子cの10重量%分散液に変更したこと以外は実施例1と同様にして、防錆処理された絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。   Rust-proof conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the 10 wt% dispersion of insulating particles a was changed to a 10 wt% dispersion of insulating particles c. It was.

(実施例6)
絶縁性粒子の作製工程において、上記アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールメタクリレートを、アシッドホスホオキシポリオキシプロピレングリコールモノメタクリレートに変更したこと以外は絶縁性粒子aと同様にして、アシッドホスホオキシポリオキシプロピレングリコールモノメタクリレートに由来する上記P−OH基、メタクリル酸グリシジルに由来するエポキシ基を表面に有する絶縁性粒子dを得た。得られた絶縁性粒子dを蒸留水に分散させて、絶縁性粒子dの10重量%分散液を得た。
(Example 6)
Acid phosphooxypolyoxypropylene glycol is the same as the insulating particle a except that the acid phosphooxypolyoxyethylene glycol methacrylate is changed to acid phosphooxypolyoxypropylene glycol monomethacrylate in the production process of the insulating particles. Insulating particles d having the P-OH group derived from monomethacrylate and the epoxy group derived from glycidyl methacrylate on the surface were obtained. The obtained insulating particles d were dispersed in distilled water to obtain a 10 wt% dispersion of insulating particles d.

絶縁性粒子aの10重量%分散液を、絶縁性粒子dの10重量%分散液に変更したこと以外は実施例1と同様にして、防錆処理された絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。   Rust-proof conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the 10 wt% dispersion of insulating particles a was changed to a 10 wt% dispersion of insulating particles d. It was.

(実施例7)
アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールメタクリレートを用いなかったこと以外は絶縁性粒子aと同様にして、メタクリル酸グリシジルメタクリル酸グリシジルに由来する上記エポキシ基を表面に有する絶縁性粒子e(P−OH基を表面に有さない)を得た。得られた絶縁性粒子eを蒸留水に分散させて、絶縁性粒子eの10重量%分散液を得た。
(Example 7)
Insulating particles e (with P-OH groups) having the above epoxy groups derived from glycidyl methacrylate on the surface in the same manner as insulating particles a except that acid phosphooxypolyoxyethylene glycol methacrylate was not used. Not on the surface). The obtained insulating particles e were dispersed in distilled water to obtain a 10 wt% dispersion of insulating particles e.

絶縁性粒子aの10重量%分散液を、絶縁性粒子eの10重量%分散液に変更したこと以外は実施例1と同様にして、防錆処理された絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。   Rust-proof conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the 10 wt% dispersion of insulating particles a was changed to a 10 wt% dispersion of insulating particles e. It was.

(実施例8)
防錆処理を行わなかったこと以外は、実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。すなわち、実施例8の絶縁性粒子付き導電性粒子では、実施例1における防錆
処理前の絶縁性粒子付き導電性粒子である。
(Example 8)
Conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the rust prevention treatment was not performed. That is, the conductive particles with insulating particles of Example 8 are the conductive particles with insulating particles before the antirust treatment in Example 1.

(実施例9)
実施例2で得られた導電性粒子Bを用意した。導電性粒子B50重量部を蒸留水300mLに分散させた。その分散液にグリシジルメタクリレートを2重量部入れ、40℃の恒温槽で3時間撹拌することで、チオール基及びメタクリロイル基を表面に有する導電性粒子B’を得た。
Example 9
Conductive particles B obtained in Example 2 were prepared. 50 parts by weight of conductive particles B were dispersed in 300 mL of distilled water. 2 parts by weight of glycidyl methacrylate was added to the dispersion and stirred for 3 hours in a constant temperature bath at 40 ° C. to obtain conductive particles B ′ having thiol groups and methacryloyl groups on the surface.

また、実施例1で得られた絶縁性粒子aを用意した。この絶縁性粒子aを蒸留水に分散させて10重量%分散液1Lを作製した。この分散液100重量部にメタクリル酸2−アミノエチルを2重量部入れ、40℃の恒温槽で3時間撹拌することでメタクリロイル基を表面に有する絶縁性粒子a’を得た。また、蒸留水を添加して、メタクリロイル基を表面に有する絶縁性粒子a’の10重量%分散液を得た。   Moreover, the insulating particle a obtained in Example 1 was prepared. This insulating particle a was dispersed in distilled water to prepare 1 L of a 10 wt% dispersion. 2 parts by weight of 2-aminoethyl methacrylate was added to 100 parts by weight of this dispersion and stirred for 3 hours in a constant temperature bath at 40 ° C. to obtain insulating particles a ′ having a methacryloyl group on the surface. Distilled water was added to obtain a 10 wt% dispersion of insulating particles a ′ having a methacryloyl group on the surface.

得られたチオール基及びメタクリロイル基を表面に有する導電性粒子B’50重量部を蒸留水300mlに分散し、そこへ2,2’−アゾビス{2−[N−(2−カルボキシエチル)アミジノ]プロパン}1重量部を加え、窒素雰囲気下70℃300rpmで攪拌しながら、メタクリロイル基を表面に有する絶縁性粒子a’の10重量%分散液50mlを滴下した。70℃で24時間重合を行うことで、防錆処理前の絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。   50 parts by weight of the resulting conductive particles B ′ having thiol groups and methacryloyl groups on the surface are dispersed in 300 ml of distilled water, and 2,2′-azobis {2- [N- (2-carboxyethyl) amidino] is dispersed therein. 1 part by weight of propane} was added, and 50 ml of a 10 wt% dispersion of insulating particles a ′ having a methacryloyl group on the surface was dropped while stirring at 70 ° C. and 300 rpm in a nitrogen atmosphere. By conducting polymerization at 70 ° C. for 24 hours, conductive particles with insulating particles before rust prevention treatment were obtained.

以降は実施例1と同様にして、防錆処理された絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。   Thereafter, in the same manner as in Example 1, conductive particles with insulating particles subjected to rust prevention treatment were obtained.

(比較例1)
ジビニルベンゼン樹脂粒子の表面上にニッケルめっき層(導電層)が形成されている導電性粒子X(平均粒子径3.01μm、導電層の厚み0.10μm)を用意した。
(Comparative Example 1)
Conductive particles X (average particle diameter 3.01 μm, conductive layer thickness 0.10 μm) having a nickel plating layer (conductive layer) formed on the surface of divinylbenzene resin particles were prepared.

導電性粒子Aを導電性粒子Xに変更したこと、すなわち導電性粒子Xをトリアジンチオールで表面処理せずに用いたこと以外は実施例1と同様にして、防錆処理された絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。   With the insulating particles treated with rust-proofing in the same manner as in Example 1 except that the conductive particles A were changed to the conductive particles X, that is, the conductive particles X were used without being surface-treated with triazine thiol. Conductive particles were obtained.

(比較例2)
実施例1で得られた導電性粒子A50重量部及びグリシジルメタクリレート3重量部をメタノール1L中に入れ、50℃の超音波浴槽で2時間超音波分散を行った。分散後、ろ過し、メタノールで洗浄することで、アクリロイル基を表面に有する導電性粒子Yを得た。
(Comparative Example 2)
50 parts by weight of the conductive particles A obtained in Example 1 and 3 parts by weight of glycidyl methacrylate were placed in 1 L of methanol, and subjected to ultrasonic dispersion in an ultrasonic bath at 50 ° C. for 2 hours. After dispersion, the mixture was filtered and washed with methanol to obtain conductive particles Y having an acryloyl group on the surface.

この導電性粒子Y50重量部と、重合性モノマーである2−エチルヘキシルアクリレート3重量部と、熱重合開始剤である2,2−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.25重量部とをメタノール1L中に入れ、50℃で10時間反応させた後、ろ過し、メタノールで洗浄した。その後、40℃で真空乾燥し、絶縁性樹脂(厚み15nm)で被覆された導電性粒子を得た。   50 parts by weight of these conductive particles Y, 3 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate as a polymerizable monomer, and 0.25 parts by weight of 2,2-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as a thermal polymerization initiator After putting in 1 L of methanol and reacting at 50 ° C. for 10 hours, it was filtered and washed with methanol. Then, it vacuum-dried at 40 degreeC and obtained the electroconductive particle coat | covered with insulating resin (thickness 15nm).

(比較例3)
ジビニルベンゼン樹脂粒子の表面上にニッケルめっき層(導電層)が形成されている導性粒子(平均粒子径3.01μm、導電層の厚み0.10μm)を用意した。
(Comparative Example 3)
Conductive particles (average particle diameter 3.01 μm, conductive layer thickness 0.10 μm) having a nickel plating layer (conductive layer) formed on the surface of divinylbenzene resin particles were prepared.

上記導電性粒子50重量部及びオクタンジチオール1.5重量部をTHF100mL中に入れ、60℃で1時間撹拌し、撹拌液を得た。得られた撹拌液をろ過した後、洗浄し、120℃で5時間真空乾燥して、導電性粒子Zを得た。導電性粒子Aを導電性粒子Zに変
更した以外は実施例1と同様にして、防錆処理された絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
50 parts by weight of the conductive particles and 1.5 parts by weight of octanedithiol were put in 100 mL of THF and stirred at 60 ° C. for 1 hour to obtain a stirring solution. The obtained stirring liquid was filtered, washed, and vacuum dried at 120 ° C. for 5 hours to obtain conductive particles Z. Except having changed the electroconductive particle A into the electroconductive particle Z, it carried out similarly to Example 1, and obtained the electroconductive particle with the insulating particle by which the antirust process was carried out.

(比較例4)
導電性粒子Aを導電性粒子Xに変更したこと、すなわち導電性粒子Xをトリアジンチオールで表面処理せずに用いたこと、並びに絶縁性粒子aの10重量%分散液を、絶縁性粒子bの10重量%分散液に変更したこと以外は実施例1と同様にして、防錆処理された絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Comparative Example 4)
The conductive particles A were changed to the conductive particles X, that is, the conductive particles X were used without being surface-treated with triazine thiol, and a 10 wt% dispersion of the insulating particles a was used. Except having changed to the 10 weight% dispersion liquid, it carried out similarly to Example 1, and obtained the electroconductive particle with the insulating particle by which the antirust process was carried out.

(比較例5)
導電性粒子X50重量部を蒸留水300mLに分散させた。その分散液に3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを2重量部入れ、40℃の恒温槽で3時間撹拌した後、濾過し、120℃で7時間真空乾燥することで、メタクリロイル基を表面に有する導電性粒子X’を得た。導電性粒子Bを導電性粒子X’に変更したこと、すなわち導電性粒子X’をトリアジンチオールで表面処理せずに、メタクリロイル基を表面に有する導電性粒子を得て、得られたメタクリロイル基を表面に有する導電性粒子X’を用いたこと以外は実施例9と同様にして、防錆処理された絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Comparative Example 5)
50 parts by weight of conductive particles X were dispersed in 300 mL of distilled water. 2 parts by weight of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane was added to the dispersion, stirred for 3 hours in a constant temperature bath at 40 ° C., filtered, and vacuum-dried at 120 ° C. for 7 hours to have a methacryloyl group on the surface. Conductive particles X ′ were obtained. The conductive particle B was changed to the conductive particle X ′, that is, the conductive particle X ′ was not surface-treated with triazine thiol to obtain a conductive particle having a methacryloyl group on the surface, and the obtained methacryloyl group was Rust-proof conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 9, except that the conductive particles X ′ on the surface were used.

(比較例6)
銅粒子(平均粒子径3.01μm)である導電性粒子Cuを用意した。
(Comparative Example 6)
The electroconductive particle Cu which is a copper particle (average particle diameter of 3.01 micrometer) was prepared.

導電性粒子Aを導電性粒子Cuに変更したこと、すなわち導電性粒子Cuを実施例1と同様の方法でトリアジンチオールで表面処理した導電性粒子Cu2を用いたこと以外は実施例1と同様にして、防錆処理された絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。   The same procedure as in Example 1 was conducted except that the conductive particle A was changed to the conductive particle Cu, that is, the conductive particle Cu2 that was surface-treated with triazine thiol in the same manner as in Example 1 was used. Thus, conductive particles with insulating particles subjected to rust prevention treatment were obtained.

(比較例7)
ジビニルベンゼン樹脂粒子の表面上にニッケルめっき層(導電層)が形成されており、かつニッケルめっき層の表面上に金層(導電層)が形成されている導電性粒子Au(平均粒子径3.01μm、ニッケル層の厚み0.10μm、金層の厚み0.10μm)を用意した。
(Comparative Example 7)
Conductive particles Au (average particle diameter of 3.3) in which a nickel plating layer (conductive layer) is formed on the surface of the divinylbenzene resin particles and a gold layer (conductive layer) is formed on the surface of the nickel plating layer. 01 μm, nickel layer thickness 0.10 μm, gold layer thickness 0.10 μm).

導電性粒子Aを導電性粒子Auに変更したこと、すなわち導電性粒子Auを実施例1と同様の方法でトリアジンチオールで表面処理した導電性粒子Au2を用いたこと以外は実施例1と同様にして、防錆処理された絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。   The same procedure as in Example 1 was conducted except that the conductive particle A was changed to the conductive particle Au, that is, the conductive particle Au2 which was surface-treated with triazine thiol in the same manner as in Example 1 was used. Thus, conductive particles with insulating particles subjected to rust prevention treatment were obtained.

(評価)
(1)異方性導電ペーストの作製
熱硬化性化合物であるエポキシ化合物(ナガセケムテックス社製「EP−3300P」)20重量部と、熱硬化性化合物であるエポキシ化合物(DIC社製「EPICLON HP−4032D」)15重量部と、熱硬化剤であるイミダゾールのアミンアダクト体(味の素ファインテクノ社製「PN−F」)10重量部と、硬化促進剤である2−エチル−4−メチルイミダゾール1重量部と、フィラーであるアルミナ(平均粒子径0.5μm)20重量部とを配合し、さらに得られた絶縁性粒子付き導電性粒子を配合物100重量%中での含有量が10重量%となるように添加した後、遊星式攪拌機を用いて2000rpmで5分間攪拌することにより、異方性導電ペーストを得た。
(Evaluation)
(1) Production of anisotropic conductive paste 20 parts by weight of an epoxy compound (“EP-3300P” manufactured by Nagase ChemteX) that is a thermosetting compound and an epoxy compound (“EPICLON HP” manufactured by DIC) -4032D ") 15 parts by weight, 10 parts by weight of an amine adduct of imidazole (" PN-F "manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co.) as a thermosetting agent, and 2-ethyl-4-methylimidazole 1 as a curing accelerator Part by weight and 20 parts by weight of alumina (average particle diameter: 0.5 μm) as a filler are blended, and the obtained conductive particles with insulating particles have a content of 10% by weight in 100% by weight of the blend. Then, an anisotropic conductive paste was obtained by stirring for 5 minutes at 2000 rpm using a planetary stirrer.

(2)第1の接続構造体(L/S=20μm/20μm)の作製
L/Sが20μm/20μmのAl−Ti4%電極パターン(Al−Ti4%電極厚み1μm)を上面に有するガラス基板を用意した。また、L/Sが20μm/20μmの金電極パターン(金電極厚み20μm)を下面に有する半導体チップを用意した。
(2) Production of first connection structure (L / S = 20 μm / 20 μm) A glass substrate having an Al—Ti 4% electrode pattern (Al—Ti 4% electrode thickness 1 μm) having an L / S of 20 μm / 20 μm on the upper surface. Prepared. A semiconductor chip having a gold electrode pattern (gold electrode thickness 20 μm) with L / S of 20 μm / 20 μm on the lower surface was prepared.

上記ガラス基板の上面に、作製直後の異方性導電ペーストを厚さ20μmとなるように塗工し、異方性導電材料層を形成した。次に、異方性導電材料層の上面に上記半導体チップを、電極同士が対向するように積層した。その後、異方性導電材料層の温度が185℃となるようにヘッドの温度を調整しながら、半導体チップの上面に加圧加熱ヘッドを載せ、3.0MPaの圧力をかけて、異方性導電材料層を185℃で硬化させ、第1の接続構造体を得た。   On the upper surface of the glass substrate, the anisotropic conductive paste immediately after fabrication was applied to a thickness of 20 μm to form an anisotropic conductive material layer. Next, the semiconductor chip was stacked on the upper surface of the anisotropic conductive material layer so that the electrodes face each other. Then, while adjusting the temperature of the head so that the temperature of the anisotropic conductive material layer becomes 185 ° C., a pressure heating head is placed on the upper surface of the semiconductor chip and a pressure of 3.0 MPa is applied to apply the anisotropic conductive material. The material layer was cured at 185 ° C. to obtain a first connection structure.

(3)第2の接続構造体(L/S=30μm/30μm)の作製
L/Sが30μm/30μmのAl−Ti4%電極パターン(Al−Ti4%電極厚み1μm)を上面に有するガラス基板を用意した。また、L/Sが30μm/30μmの金電極パターン(金電極厚み20μm)を下面に有する半導体チップを用意した。
(3) Production of Second Connection Structure (L / S = 30 μm / 30 μm) A glass substrate having an Al—Ti 4% electrode pattern (Al—Ti 4% electrode thickness 1 μm) having an L / S of 30 μm / 30 μm on the upper surface Prepared. Further, a semiconductor chip having a gold electrode pattern (gold electrode thickness 20 μm) with an L / S of 30 μm / 30 μm on the lower surface was prepared.

L/Sが異なる上記ガラス基板及び半導体チップを用いたこと以外は第1の接続構造体の作製と同様にして、第2の接続構造体を得た。   A second connection structure was obtained in the same manner as the production of the first connection structure except that the glass substrate and the semiconductor chip having different L / S were used.

(4)第3の接続構造体(L/S=50μm/50μm)の作製
L/Sが50μm/50μmのAl−Ti4%電極パターン(Al−Ti4%電極厚み1μm)を上面に有するガラス基板を用意した。また、L/Sが50μm/50μmの金電極パターン(金電極厚み20μm)を下面に有する半導体チップを用意した。
(4) Production of Third Connection Structure (L / S = 50 μm / 50 μm) A glass substrate having an Al—Ti 4% electrode pattern (Al—Ti 4% electrode thickness 1 μm) having an L / S of 50 μm / 50 μm on the upper surface. Prepared. Further, a semiconductor chip having a gold electrode pattern (gold electrode thickness 20 μm) with an L / S of 50 μm / 50 μm on the lower surface was prepared.

L/Sが異なる上記ガラス基板及び半導体チップを用いたこと以外は第1の接続構造体の作製と同様にして、第3の接続構造体を得た。   A third connection structure was obtained in the same manner as the first connection structure except that the glass substrate and the semiconductor chip having different L / S were used.

(5)絶縁性粒子の付着性
得られた導電材料(異方性導電ペースト)の一部をトルエンで洗浄し、絶縁性粒子付き導電性粒子を取り出した。SEMにより、取り出された絶縁性粒子付き導電性粒子において、絶縁性粒子が導電性粒子の表面から脱離しているか否かを観察し、絶縁性粒子の付着性を下記の評価基準で評価した。
(5) Adhesiveness of insulating particles Part of the obtained conductive material (anisotropic conductive paste) was washed with toluene, and the conductive particles with insulating particles were taken out. In the extracted conductive particles with insulating particles, it was observed whether the insulating particles were detached from the surface of the conductive particles, and the adhesion of the insulating particles was evaluated according to the following evaluation criteria.

[絶縁性粒子の付着性の評価基準]
○○:絶縁性粒子の全個数の90%以上が、導電性粒子の表面から脱離していない
○:絶縁性粒子の全個数の60%以上、90%未満が、導電性粒子の表面から脱離していない
△:絶縁性粒子の全個数の30%以上、60%未満が、導電性粒子の表面から脱離していない
△△:絶縁性粒子の全個数の20%以上、30%未満が、導電性粒子の表面から脱離していない
×:絶縁性粒子の全個数の20%未満が、導電性粒子の表面から脱離していない
[Evaluation criteria for adhesion of insulating particles]
○○: 90% or more of the total number of insulating particles is not detached from the surface of the conductive particles ○: 60% or more and less than 90% of the total number of insulating particles are detached from the surface of the conductive particles Not separated Δ: 30% or more and less than 60% of the total number of insulating particles are not detached from the surface of the conductive particles ΔΔ: 20% or more and less than 30% of the total number of insulating particles Not desorbed from the surface of the conductive particles ×: Less than 20% of the total number of insulating particles is not desorbed from the surface of the conductive particles

(6)粘度
得られた導電材料(異方性導電ペースト)の粘度を、E型粘度計(東機産業社製)を用いて、25℃及び2.5rpmrpmの条件で測定した。粘度を下記の基準で判定した。
(6) Viscosity The viscosity of the obtained conductive material (anisotropic conductive paste) was measured using an E-type viscometer (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.) at 25 ° C. and 2.5 rpm rpm. The viscosity was determined according to the following criteria.

[粘度の判定基準]
A:100Pa・sを超え、1000Pa・s以下
B:Aに相当しない
[Criteria for viscosity]
A: Over 100 Pa · s and 1000 Pa · s or less B: Not equivalent to A

(7)電極上の導電性粒子の配置精度
得られた第1,第2,第3の接続構造体において、導電材料により形成された接続部に含まれる導電性粒子を確認した。電極上に配置されている導電性粒子と電極間に配置され
ている導電性粒子との個数の割合(%)を評価した。電極上の導電性粒子の配置精度を下記の基準で判定した。
(7) Disposition accuracy of conductive particles on electrode In the obtained first, second and third connection structures, conductive particles contained in a connection portion formed of a conductive material were confirmed. The ratio (%) of the number of the conductive particles arranged on the electrode and the conductive particles arranged between the electrodes was evaluated. The arrangement accuracy of the conductive particles on the electrode was determined according to the following criteria.

[電極上の導電性粒子の配置精度の判定基準]
○○:電極上に配置されている導電性粒子の個数の割合が70%以上
○:電極上に配置されている導電性粒子の個数の割合が60%以上、70%未満
△:電極上に配置されている導電性粒子の個数の割合が50%以上、60%未満
×:電極上に配置されている導電性粒子の個数の割合が50%未満
[Judgment criteria for placement accuracy of conductive particles on electrode]
◯: Ratio of the number of conductive particles arranged on the electrode is 70% or more ○: Ratio of the number of conductive particles arranged on the electrode is 60% or more and less than 70% Δ: On the electrode Ratio of the number of conductive particles arranged is 50% or more and less than 60% ×: Ratio of the number of conductive particles arranged on the electrode is less than 50%

(8)上下の電極間の導通信頼性
得られた第1,第2,第3の接続構造体(n=15個)において、上下の電極間の接続抵抗をそれぞれ、4端子法により測定した。接続抵抗の平均値を算出した。なお、電圧=電流×抵抗の関係から、一定の電流を流した時の電圧を測定することにより接続抵抗を求めることができる。導通信頼性を下記の基準で判定した。
(8) Conduction reliability between upper and lower electrodes In the obtained first, second, and third connection structures (n = 15), the connection resistance between the upper and lower electrodes was measured by a four-terminal method, respectively. . The average value of connection resistance was calculated. Note that the connection resistance can be obtained by measuring the voltage when a constant current is passed from the relationship of voltage = current × resistance. The conduction reliability was determined according to the following criteria.

[導通信頼性の判定基準]
○○:接続抵抗の平均値が2.0Ω以下
○:接続抵抗の平均値が2.0Ωを超え、5.0Ω以下
△:接続抵抗の平均値が5.0Ωを超え、10.0Ω以下
×:接続抵抗の平均値が10.0Ωを超える
[Judgment criteria for conduction reliability]
○○: Average value of connection resistance is 2.0Ω or less ○: Average value of connection resistance exceeds 2.0Ω, 5.0Ω or less △: Average value of connection resistance exceeds 5.0Ω, 10.0Ω or less × : Average value of connection resistance exceeds 10.0Ω

(9)隣接する電極間の絶縁信頼性
得られた第1,第2,第3の接続構造体(n=15個)において、85℃、85%の雰囲気中に100時間放置後、隣接する電極間が絶縁状態か導通状態かを25か所で測定した。絶縁信頼性を下記の基準で判定した。
(9) Insulation reliability between adjacent electrodes In the obtained first, second and third connection structures (n = 15), they are left in an atmosphere of 85 ° C. and 85% for 100 hours and then adjacent to each other. It was measured at 25 locations whether the electrodes were insulative or conductive. Insulation reliability was judged according to the following criteria.

[絶縁信頼性の判定基準]
○○:絶縁状態の電極間が25か所
○:絶縁状態の電極間が20か所以上、25か所未満
△:絶縁状態の電極間が15か所以上、20か所未満
△△:絶縁状態の電極間が10か所以上、15か所未満
×:絶縁状態の電極間が10か所未満
[Criteria for insulation reliability]
○○: 25 places between insulated electrodes ○: 20 places or more and less than 25 places between insulated electrodes △: 15 places or more and less than 20 places between insulated electrodes △△: Insulation Between the electrodes in the state is 10 or more and less than 15 ×: Between the electrodes in the insulated state is less than 10

結果を下記の表1に示す。   The results are shown in Table 1 below.

Figure 0006212374
Figure 0006212374

1…絶縁性粒子付き導電性粒子
2…導電性粒子
3…絶縁性粒子
11…基材粒子
12…導電部
21…絶縁性粒子付き導電性粒子
22…導電性粒子
31…導電部
32…芯物質
33…突起
41…絶縁性粒子付き導電性粒子
42…導電性粒子
43…絶縁性粒子
45…絶縁性粒子本体
46…層
51…導電部
52…突起
61…絶縁性粒子付き導電性粒子
62…被膜
81…接続構造体
82…第1の接続対象部材
82a…第1の電極
83…第2の接続対象部材
83a…第2の電極
84…接続部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Conductive particle with insulating particle 2 ... Conductive particle 3 ... Insulating particle 11 ... Base particle 12 ... Conductive part 21 ... Conductive particle with insulating particle 22 ... Conductive particle 31 ... Conductive part 32 ... Core substance 33 ... Protrusions 41 ... Conductive particles with insulating particles 42 ... Conductive particles 43 ... Insulating particles 45 ... Insulating particle main body 46 ... Layer 51 ... Conductive part 52 ... Protrusions 61 ... Conductive particles with insulating particles 62 ... Coating DESCRIPTION OF SYMBOLS 81 ... Connection structure 82 ... 1st connection object member 82a ... 1st electrode 83 ... 2nd connection object member 83a ... 2nd electrode 84 ... Connection part

Claims (20)

導電部を少なくとも表面に有する導電性粒子と、前記導電性粒子の表面に付着している複数の絶縁性粒子とを備える絶縁性粒子付き導電性粒子であって、
前記導電性粒子の表面の前記導電部が、ニッケルを含む導電部であり、
下記式(11)で表される構造単位を有する化合物により表面処理されておりかつチオール基を表面に有する導電性粒子と、チオール基と反応可能な官能基を表面に有する絶縁性粒子とを用いて、前記導電性粒子におけるチオール基と前記絶縁性粒子におけるチオール基と反応可能な官能基とを化学結合させることで、前記導電性粒子の表面に前記絶縁性粒子を付着させることにより得られるか、又は、
下記式(11)で表される構造単位を有する化合物により表面処理されておりかつチオール基を表面に有する導電性粒子と、官能基を表面に有する絶縁性粒子と、チオール基と反応可能な第1の官能基及び前記絶縁性粒子の表面の前記官能基と反応可能な第2の官能基を有する第1,第2の官能基含有化合物とを用いて、前記導電性粒子におけるチオール基と前記第1,第2の官能基含有化合物におけるチオール基と反応可能な第1の官能基とを化学結合させ、かつ前記絶縁性粒子の表面の官能基と前記第1,第2の官能基含有化合物における前記絶縁性粒子の表面の官能基と反応可能な前記第2の官能基とを化学結合させることで、前記導電性粒子の表面に前記絶縁性粒子を付着させることにより得られる、絶縁性粒子付き導電性粒子。
Figure 0006212374
Conductive particles with insulating particles comprising conductive particles having at least a conductive portion on the surface, and a plurality of insulating particles attached to the surface of the conductive particles,
The conductive part on the surface of the conductive particles is a conductive part containing nickel;
Conductive particles surface-treated with a compound having a structural unit represented by the following formula (11) and having thiol groups on the surface, and insulating particles having functional groups capable of reacting with thiol groups on the surface are used. The thiol group in the conductive particle and the functional group capable of reacting with the thiol group in the insulating particle are chemically bonded to obtain the insulating particle on the surface of the conductive particle. Or
Conductive particles surface-treated with a compound having a structural unit represented by the following formula (11) and having a thiol group on the surface; insulating particles having a functional group on the surface; The first and second functional group-containing compounds having the first functional group and the second functional group capable of reacting with the functional group on the surface of the insulating particle, and the thiol group in the conductive particle and the The first functional group capable of reacting with the thiol group in the first and second functional group-containing compounds is chemically bonded, and the functional group on the surface of the insulating particle and the first and second functional group-containing compounds are combined. Insulating particles obtained by attaching the insulating particles to the surfaces of the conductive particles by chemically bonding the second functional groups capable of reacting with the functional groups on the surface of the insulating particles in With conductive particles.
Figure 0006212374
前記式(11)で表される構造単位を有する化合物が、複数のチオール基を有する化合物である、請求項1に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。   The conductive particles with insulating particles according to claim 1, wherein the compound having the structural unit represented by the formula (11) is a compound having a plurality of thiol groups. 前記式(11)で表される構造単位を有する化合物が、トリアジン骨格とチオール基とを有する化合物である、請求項1又は2に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。   The conductive particles with insulating particles according to claim 1 or 2, wherein the compound having the structural unit represented by the formula (11) is a compound having a triazine skeleton and a thiol group. 前記式(11)で表される構造単位を有する化合物が、下記式(1)で表される化合物である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。
Figure 0006212374
前記式(1)中、Xは、チオール基、アニリノ基、アルキルアミノ基、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、カルボキシル基、スルフォ基、アミノ基、エポキシ基又はイミド基を表す。
The conductive particles with insulating particles according to any one of claims 1 to 3, wherein the compound having a structural unit represented by the formula (11) is a compound represented by the following formula (1).
Figure 0006212374
In the formula (1), X represents a thiol group, an anilino group, an alkylamino group, a vinyl group, a (meth) acryloyl group, a carboxyl group, a sulfo group, an amino group, an epoxy group, or an imide group.
前記式(11)で表される構造単位を有する化合物により表面処理されておりかつチオール基を表面に有する導電性粒子と、チオール基と反応可能な官能基を表面に有する絶縁性粒子とを用いて、前記導電性粒子におけるチオール基と前記絶縁性粒子におけるチオール基と反応可能な官能基とを化学結合させることで、前記導電性粒子の表面に前記絶縁性粒子を付着させることにより得られる、請求項1〜4のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。   Conductive particles surface-treated with a compound having a structural unit represented by the formula (11) and having a thiol group on the surface, and insulating particles having a functional group capable of reacting with the thiol group on the surface are used. Then, by chemically bonding a thiol group in the conductive particle and a functional group capable of reacting with the thiol group in the insulating particle, the insulating particle is obtained by attaching the insulating particle to the surface of the conductive particle. The electroconductive particle with an insulating particle of any one of Claims 1-4. 前記式(11)で表される構造単位を有する化合物により表面処理されておりかつチオール基を表面に有する導電性粒子と、チオール基と反応可能な官能基及び前記導電性粒子の表面のチオール基以外の部分と反応可能な官能基を表面に有する絶縁性粒子とを用いて、
前記導電性粒子におけるチオール基と前記絶縁性粒子におけるチオール基と反応可能な官能基とを化学結合させ、かつ前記導電性粒子の表面のチオール基以外の部分と前記絶縁性粒子における前記導電性粒子の表面のチオール基以外の部分と反応可能な官能基とを化学結合させることで、前記導電性粒子の表面に前記絶縁性粒子を付着させることにより得られる、請求項1〜5のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。
Conductive particles surface-treated with the compound having the structural unit represented by the formula (11) and having a thiol group on the surface, a functional group capable of reacting with the thiol group, and a thiol group on the surface of the conductive particle Using insulating particles having functional groups capable of reacting with other parts on the surface,
The thiol group in the conductive particle and the functional group capable of reacting with the thiol group in the insulating particle are chemically bonded, and the portion other than the thiol group on the surface of the conductive particle and the conductive particle in the insulating particle Any one of Claims 1-5 obtained by attaching the said insulating particle to the surface of the said electroconductive particle by chemically bonding the functional group which can react with parts other than the thiol group of the surface of this. Conductive particles with insulating particles according to Item.
導電の表面が防錆処理されている、請求項1〜6のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。 The electroconductive particle with an insulating particle of any one of Claims 1-6 by which the surface of the electroconductive part is rust-proofed. 炭素数6〜22のアルキル基を有する化合物により、導電の表面が防錆処理されている、請求項7に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。 The conductive particles with insulating particles according to claim 7, wherein the surface of the conductive portion is subjected to rust prevention treatment with a compound having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms. 請求項1〜8のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子と、バインダー樹脂とを含む、導電材料。   The electroconductive material containing the electroconductive particle with an insulating particle of any one of Claims 1-8, and binder resin. 第1の電極を表面に有する第1の接続対象部材と、
第2の電極を表面に有する第2の接続対象部材と、
前記第1の接続対象部材と、前記第2の接続対象部材を接続している接続部とを備え、
前記接続部が、請求項1〜8のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子により形成されているか、又は前記絶縁性粒子付き導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料により形成されており、
前記第1の電極と前記第2の電極とが、前記絶縁性粒子付き導電性粒子における前記導電性粒子により電気的に接続されている、接続構造体。
A first connection object member having a first electrode on its surface;
A second connection target member having a second electrode on its surface;
The first connection target member, and a connection portion connecting the second connection target member,
The connection portion is formed of the conductive particles with insulating particles according to any one of claims 1 to 8, or formed of a conductive material including the conductive particles with insulating particles and a binder resin. Has been
The connection structure in which the first electrode and the second electrode are electrically connected by the conductive particles in the conductive particles with insulating particles.
導電部を少なくとも表面に有する導電性粒子と、前記導電性粒子の表面に付着している複数の絶縁性粒子とを備える絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法であって、
前記導電性粒子の表面の前記導電部が、ニッケルを含む導電部であり、
下記式(11)で表される構造単位を有する化合物により表面処理されておりかつチオール基を表面に有する導電性粒子と、チオール基と反応可能な官能基を表面に有する絶縁性粒子とを用いて、前記導電性粒子におけるチオール基と前記絶縁性粒子におけるチオール基と反応可能な官能基とを化学結合させることで、前記導電性粒子の表面に前記絶縁性粒子を付着させることにより、絶縁性粒子付き導電性粒子を得るか、又は、
下記式(11)で表される構造単位を有する化合物により表面処理されておりかつチオール基を表面に有する導電性粒子と、官能基を表面に有する絶縁性粒子と、チオール基と反応可能な第1の官能基及び前記絶縁性粒子の表面の前記官能基と反応可能な第2の官能基を有する第1,第2の官能基含有化合物とを用いて、前記導電性粒子におけるチオール基と前記第1,第2の官能基含有化合物におけるチオール基と反応可能な第1の官能基とを化学結合させ、かつ前記絶縁性粒子の表面の官能基と前記第1,第2の官能基含有化合物における前記絶縁性粒子の表面の官能基と反応可能な前記第2の官能基とを化学結合させることで、前記導電性粒子の表面に前記絶縁性粒子を付着させることにより、絶縁性粒子付き導電性粒子を得る、絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法。
Figure 0006212374
A method for producing conductive particles with insulating particles, comprising conductive particles having at least a conductive portion on the surface, and a plurality of insulating particles attached to the surface of the conductive particles,
The conductive part on the surface of the conductive particles is a conductive part containing nickel;
Conductive particles surface-treated with a compound having a structural unit represented by the following formula (11) and having thiol groups on the surface, and insulating particles having functional groups capable of reacting with thiol groups on the surface are used. Then, by chemically bonding the thiol group in the conductive particle and the functional group capable of reacting with the thiol group in the insulating particle, the insulating particle is attached to the surface of the conductive particle, thereby providing an insulating property. Obtain conductive particles with particles, or
Conductive particles surface-treated with a compound having a structural unit represented by the following formula (11) and having a thiol group on the surface; insulating particles having a functional group on the surface; The first and second functional group-containing compounds having the first functional group and the second functional group capable of reacting with the functional group on the surface of the insulating particle, and the thiol group in the conductive particle and the The first functional group capable of reacting with the thiol group in the first and second functional group-containing compounds is chemically bonded, and the functional group on the surface of the insulating particle and the first and second functional group-containing compounds are combined. By electrically bonding the second functional group capable of reacting with the functional group on the surface of the insulating particle in the above, the insulating particle is attached to the surface of the conductive particle, thereby providing conductive with insulating particle. To obtain particles, insulation Method for producing particles with conductive particles.
Figure 0006212374
前記式(11)で表される構造単位を有する化合物が、複数のチオール基を有する化合物である、請求項11に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法。   The method for producing conductive particles with insulating particles according to claim 11, wherein the compound having the structural unit represented by the formula (11) is a compound having a plurality of thiol groups. 前記式(11)で表される構造単位を有する化合物が、トリアジン骨格とチオール基とを有する化合物である、請求項11又は12に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法。   The method for producing conductive particles with insulating particles according to claim 11 or 12, wherein the compound having the structural unit represented by the formula (11) is a compound having a triazine skeleton and a thiol group. 前記式(11)で表される構造単位を有する化合物が、下記式(1)で表される化合物である、請求項11〜13のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法。
Figure 0006212374
前記式(1)中、Xは、チオール基、アニリノ基、アルキルアミノ基、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、カルボキシル基、スルフォ基、アミノ基、エポキシ基又はイミド基を表す。
The compound having the structural unit represented by the formula (11) is a compound represented by the following formula (1), the conductive particles with insulating particles according to any one of claims 11 to 13. Production method.
Figure 0006212374
In the formula (1), X represents a thiol group, an anilino group, an alkylamino group, a vinyl group, a (meth) acryloyl group, a carboxyl group, a sulfo group, an amino group, an epoxy group, or an imide group.
前記式(11)で表される構造単位を有する化合物により表面処理されておりかつチオール基を表面に有する導電性粒子と、チオール基と反応可能な官能基を表面に有する絶縁性粒子とを用いて、前記導電性粒子におけるチオール基と前記絶縁性粒子におけるチオール基と反応可能な官能基とを化学結合させることで、前記導電性粒子の表面に前記絶縁性粒子を付着させることにより、絶縁性粒子付き導電性粒子を得る、請求項11〜14のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法。   Conductive particles surface-treated with a compound having a structural unit represented by the formula (11) and having a thiol group on the surface, and insulating particles having a functional group capable of reacting with the thiol group on the surface are used. Then, by chemically bonding the thiol group in the conductive particle and the functional group capable of reacting with the thiol group in the insulating particle, the insulating particle is attached to the surface of the conductive particle, thereby providing an insulating property. The method for producing conductive particles with insulating particles according to claim 11, wherein conductive particles with particles are obtained. 前記式(11)で表される構造単位を有する化合物により表面処理されておりかつチオール基を表面に有する導電性粒子と、チオール基と反応可能な官能基及び前記導電性粒子の表面のチオール基以外の部分と反応可能な官能基を表面に有する絶縁性粒子とを用いて、
前記導電性粒子におけるチオール基と前記絶縁性粒子におけるチオール基と反応可能な官能基とを化学結合させ、かつ前記導電性粒子の表面のチオール基以外の部分と前記絶縁性粒子における前記導電性粒子の表面のチオール基以外の部分と反応可能な官能基とを化学結合させることで、前記導電性粒子の表面に前記絶縁性粒子を付着させることにより、絶縁性粒子付き導電性粒子を得る、請求項11〜15のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法。
Conductive particles surface-treated with the compound having the structural unit represented by the formula (11) and having a thiol group on the surface, a functional group capable of reacting with the thiol group, and a thiol group on the surface of the conductive particle Using insulating particles having functional groups capable of reacting with other parts on the surface,
The thiol group in the conductive particle and the functional group capable of reacting with the thiol group in the insulating particle are chemically bonded, and the portion other than the thiol group on the surface of the conductive particle and the conductive particle in the insulating particle The conductive particles with insulating particles are obtained by attaching the insulating particles to the surface of the conductive particles by chemically bonding a functional group capable of reacting with a portion other than the thiol group on the surface of the conductive particles. Item 16. The method for producing conductive particles with insulating particles according to any one of Items 11 to 15.
導電の表面を防錆処理することにより絶縁性粒子付き導電性粒子を得る、請求項11〜16のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法。 The manufacturing method of the electroconductive particle with an insulating particle of any one of Claims 11-16 which obtains the electroconductive particle with an insulating particle by carrying out the antirust process of the surface of an electroconductive part . 炭素数6〜22のアルキル基を有する化合物により、導電の表面を防錆処理することにより絶縁性粒子付き導電性粒子を得る、請求項17に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法。 The method for producing conductive particles with insulating particles according to claim 17, wherein the conductive particles with insulating particles are obtained by subjecting the surface of the conductive portion to rust prevention with a compound having an alkyl group having 6 to 22 carbon atoms. . 請求項11〜18のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法により得られる絶縁性粒子付き導電性粒子と、バインダー樹脂とを含む、導電材料。   The electroconductive material containing the electroconductive particle with an insulating particle obtained by the manufacturing method of the electroconductive particle with an insulating particle of any one of Claims 11-18, and binder resin. 第1の電極を表面に有する第1の接続対象部材と、
第2の電極を表面に有する第2の接続対象部材と、
前記第1の接続対象部材と、前記第2の接続対象部材を接続している接続部とを備え、
前記接続部が、請求項11〜18のいずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子の製造方法により得られる絶縁性粒子付き導電性粒子により形成されているか、又は前記絶縁性粒子付き導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料により形成されており、
前記第1の電極と前記第2の電極とが、前記絶縁性粒子付き導電性粒子における前記導電性粒子により電気的に接続されている、接続構造体。
A first connection object member having a first electrode on its surface;
A second connection target member having a second electrode on its surface;
The first connection target member, and a connection portion connecting the second connection target member,
The said connection part is formed with the electroconductive particle with an insulating particle obtained by the manufacturing method of the electroconductive particle with an insulating particle of any one of Claims 11-18, or with the said insulating particle. It is made of a conductive material containing conductive particles and a binder resin,
The connection structure in which the first electrode and the second electrode are electrically connected by the conductive particles in the conductive particles with insulating particles.
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