JP2015005499A - Conductive particle with insulative particles, conductive material and connection structure - Google Patents
Conductive particle with insulative particles, conductive material and connection structure Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015005499A JP2015005499A JP2014101977A JP2014101977A JP2015005499A JP 2015005499 A JP2015005499 A JP 2015005499A JP 2014101977 A JP2014101977 A JP 2014101977A JP 2014101977 A JP2014101977 A JP 2014101977A JP 2015005499 A JP2015005499 A JP 2015005499A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- particles
- conductive
- insulating
- conductive particles
- insulating particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 834
- 239000004020 conductor Substances 0.000 title claims description 37
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 41
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 68
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 68
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 22
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 8
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract description 24
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 211
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 52
- 238000000034 method Methods 0.000 description 45
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 43
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 40
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 33
- -1 phosphate ester Chemical class 0.000 description 30
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 29
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 24
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 23
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 22
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 21
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 21
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 17
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 15
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 15
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid Substances OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 12
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 11
- NMZSJIQGMAGSSO-UHFFFAOYSA-N 3-[[1-amino-2-[[1-amino-1-(2-carboxyethylimino)-2-methylpropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropylidene]amino]propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCNC(=N)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=N)NCCC(O)=O NMZSJIQGMAGSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 10
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- MEESPVWIOBCLJW-KTKRTIGZSA-N [(z)-octadec-9-enyl] dihydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOP(O)(O)=O MEESPVWIOBCLJW-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 10
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 10
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 9
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 9
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 9
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 8
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- 238000009396 hybridization Methods 0.000 description 8
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 7
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 6
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 6
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 6
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 6
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910008051 Si-OH Chemical group 0.000 description 4
- 229910006358 Si—OH Chemical group 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 4
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- QAJSOWVLJWYKLV-UHFFFAOYSA-N tetracosyl dihydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCOP(O)(O)=O QAJSOWVLJWYKLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 3
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 229940059574 pentaerithrityl Drugs 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 239000005518 polymer electrolyte Substances 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 3
- 229920000468 styrene butadiene styrene block copolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 2
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 2
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 2
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 2
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 150000008301 phosphite esters Chemical class 0.000 description 2
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 2
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxypropane Chemical compound CCCOC=C OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROGIWVXWXZRRMZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical compound CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1 ROGIWVXWXZRRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical compound C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEHPAAVNVAOMQP-UHFFFAOYSA-N 3-trihydroxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](O)(O)O IEHPAAVNVAOMQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEIQOMCWGDNMHM-UHFFFAOYSA-N 5-phenylpenta-2,4-dienoic acid Chemical compound OC(=O)C=CC=CC1=CC=CC=C1 FEIQOMCWGDNMHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018575 Al—Ti Inorganic materials 0.000 description 1
- YURJLMCNVZLDQB-UHFFFAOYSA-N C(#CCCCCC)OP(O)(O)=O Chemical compound C(#CCCCCC)OP(O)(O)=O YURJLMCNVZLDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHSCFNJCBGIZAS-UHFFFAOYSA-N CC(=C)C(=O)OCCCOP(=O)=O Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCOP(=O)=O RHSCFNJCBGIZAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFCXEKVTDVGNBZ-UHFFFAOYSA-N CCCCCCC#COP(=O)(O)O Chemical compound CCCCCCC#COP(=O)(O)O PFCXEKVTDVGNBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000004606 Fillers/Extenders Substances 0.000 description 1
- 238000012695 Interfacial polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 229920001283 Polyalkylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 241000135309 Processus Species 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCEUXSAXTBNJGO-UHFFFAOYSA-N [Ag].[Sn] Chemical compound [Ag].[Sn] QCEUXSAXTBNJGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLXNZDBHNLWCNK-UHFFFAOYSA-N [Pb].[Sn].[Ag] Chemical compound [Pb].[Sn].[Ag] OLXNZDBHNLWCNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(propyl)silyl]oxymethyl prop-2-enoate Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OCOC(=O)C=C RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- GZCGUPFRVQAUEE-SLPGGIOYSA-N aldehydo-D-glucose Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C=O GZCGUPFRVQAUEE-SLPGGIOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001356 alkyl thiols Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- YOQPKXIRWPWFIE-UHFFFAOYSA-N ctk4c8335 Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOP(=O)=O YOQPKXIRWPWFIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000010556 emulsion polymerization method Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNKAXGCRDYRABM-UHFFFAOYSA-N ethenyl dihydrogen phosphate Chemical compound OP(O)(=O)OC=C BNKAXGCRDYRABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLVVKKSPKXTQRB-UHFFFAOYSA-N ethenyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OC=C GLVVKKSPKXTQRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFSIMBWBBOJPJG-UHFFFAOYSA-N ethenyl octadecanoate Chemical class CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC=C AFSIMBWBBOJPJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDDPGRVMAVYUOZ-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trihydroxy)silane Chemical compound O[Si](O)(O)C=C JDDPGRVMAVYUOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920006226 ethylene-acrylic acid Polymers 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical compound FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSYLJRIXVZCQHW-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound O=C.NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 MSYLJRIXVZCQHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004108 freeze drying Methods 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- HINJDAVVKQXJLT-UHFFFAOYSA-N hex-1-enyl dihydrogen phosphate Chemical compound CCCCC=COP(O)(O)=O HINJDAVVKQXJLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009775 high-speed stirring Methods 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- NDJGGFVLWCNXSH-UHFFFAOYSA-N hydroxy(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](O)(OC)OC NDJGGFVLWCNXSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052588 hydroxylapatite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003100 immobilizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002843 nonmetals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- XYJRXVWERLGGKC-UHFFFAOYSA-D pentacalcium;hydroxide;triphosphate Chemical compound [OH-].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O XYJRXVWERLGGKC-UHFFFAOYSA-D 0.000 description 1
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920001490 poly(butyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001483 poly(ethyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000346 polystyrene-polyisoprene block-polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920006132 styrene block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010558 suspension polymerization method Methods 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229910000597 tin-copper alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001174 tin-lead alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- JRSJRHKJPOJTMS-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2-phenylethenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=CC1=CC=CC=C1 JRSJRHKJPOJTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRPURDFRFHUDSP-UHFFFAOYSA-N tris(prop-2-enyl) benzene-1,2,4-tricarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=C(C(=O)OCC=C)C(C(=O)OCC=C)=C1 GRPURDFRFHUDSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229920006163 vinyl copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Conductive Materials (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
Abstract
Description
本発明は、例えば、電極間の電気的な接続に用いることができる絶縁性粒子付き導電性粒子に関する。また、本発明は、上記絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた導電材料及び接続構造体に関する。 The present invention relates to conductive particles with insulating particles that can be used for electrical connection between electrodes, for example. Moreover, this invention relates to the electrically-conductive material and connection structure using the said electroconductive particle with an insulating particle.
異方性導電ペースト及び異方性導電フィルム等の異方性導電材料が広く知られている。これらの異方性導電材料では、バインダー樹脂中に導電性粒子が分散されている。 Anisotropic conductive materials such as anisotropic conductive pastes and anisotropic conductive films are widely known. In these anisotropic conductive materials, conductive particles are dispersed in a binder resin.
上記異方性導電材料は、ICチップとフレキシブルプリント回路基板との接続、及びICチップとITO電極を有する回路基板との接続等に使用されている。例えば、ICチップの電極と回路基板の電極との間に異方性導電材料を配置した後、加熱及び加圧することにより、これらの電極を電気的に接続できる。 The anisotropic conductive material is used for connection between an IC chip and a flexible printed circuit board, connection between an IC chip and a circuit board having an ITO electrode, and the like. For example, after disposing an anisotropic conductive material between the electrode of the IC chip and the electrode of the circuit board, these electrodes can be electrically connected by heating and pressing.
上記導電性粒子の一例として、下記の特許文献1には、導電性粒子と、該導電性粒子の表面に固定化されており、固着性を有する絶縁性粒子とを有する絶縁性粒子付き導電性粒子が開示されている。上記絶縁性粒子は、硬質粒子と、該硬質粒子の表面を被覆している高分子樹脂層とを有する。ここでは、導電性粒子の表面に絶縁性粒子を固定化させるために、固定化方法として物理的/機械的ハイブリダイゼーション法を用いている。
As an example of the conductive particles, the following
下記の特許文献2には、表面の少なくとも一部に極性基を有する導電性粒子と、該導電性粒子の表面の少なくとも一部を被覆しており、かつ絶縁性粒子を含む絶縁性材料とを有する絶縁性粒子付き導電性粒子が開示されている。上記絶縁性材料は、具体的には、上記極性基と吸着可能な高分子電解質と、上記高分子電解質と吸着可能な無機酸化物粒子とを含む。この無機酸化物粒子は、絶縁性粒子である。
下記の特許文献3には、導電性の表面を有する導電性核体の表面に絶縁層が形成されており、該絶縁層に絶縁性粒子が埋め込まれている絶縁性粒子付き導電性粒子が開示されている。特許文献3では、請求項5に「核体表面に絶縁層が形成された導電性核体の絶縁層に、ハイブリダイゼーション処理によって絶縁性微粒子を埋め込む」旨が記載されており、段落[0033]には、「絶縁性微粒子32の埋め込みは、公知のハイブリダイゼーション処理によって行うことができる。」旨が記載されている。
下記の特許文献4では、導電性粒子の表面に、該導電性粒子の粒子径以下の粒子径を有する絶縁性粒子が付着している絶縁性粒子付き導電性粒子が開示されている。特許文献4では、明細書第3頁左上欄第17行−右上欄第1行に「導電性粒子の表面に絶縁性粒子を付着させる方法としては、例えば、導電性粒子と絶縁性粒子を容器に入れて短時間混合し、摩擦によって生じる帯電の極性の相違により付着させる方法など公知の方法が採用される。」旨が記載されている。
The following
下記の特許文献5では、導電性粒子の表面に、該導電性粒子よりも粒子径が小さく、接続条件下で接着剤よりも硬質である絶縁性粒子が付着している絶縁性粒子付き導電性粒子が開示されている。上記導電性粒子は、高分子重合体により形成された核材上を、導電性金属薄層により実質的に被覆した粒子である。特許文献5では、明細書段落[0021]に「絶縁性粒子3の熱変形性導電粒子5上への固定化方法としては、例えば噴霧法や高速撹拌法などの造粒方法が適用可能であり、このような方法による製造装置としては、メカノミル(岡田精工)、オングミル(ホソカワミクロン)、ハイブリダイゼーションシステム(奈良機械)、コートマイザー(フロイント産業)、クラックスシステム(オリエント化学)等の商品名で市販されており、いずれも好ましく適用できる。」旨が記載されている。
In the following Patent Document 5, conductive particles with conductive particles are attached to the surface of the conductive particles. The conductive particles are smaller than the conductive particles and have insulating particles that are harder than the adhesive under the connecting conditions. Particles are disclosed. The conductive particles are particles obtained by substantially covering a core material made of a polymer with a thin conductive metal layer. In Patent Document 5, in the paragraph [0021] of the specification, “as a method of immobilizing the
近年、電子機器の消費電力を低くしたり、回路配線のピッチを狭くしたりすることが求められている。このため、例えば、上下の電極間の接続に用いられる絶縁性粒子付き導電性粒子には、上下の電極間の接続後に接続抵抗を低くし、かつ横方向の電極間の絶縁信頼性を高めることが求められている。 In recent years, there has been a demand for reducing the power consumption of electronic devices and reducing the pitch of circuit wiring. For this reason, for example, for conductive particles with insulating particles used for the connection between the upper and lower electrodes, the connection resistance is lowered after the connection between the upper and lower electrodes, and the insulation reliability between the lateral electrodes is increased. Is required.
しかしながら、特許文献1〜5に記載のような従来の絶縁性粒子付き導電性粒子では、上下の電極間の接続抵抗が高くなったり、横方向の電極間の絶縁信頼性が低くなったりする。すなわち、従来の絶縁性粒子付き導電性粒子では、導通信頼性と絶縁信頼性との双方を高めることが困難であるという問題がある。
However, in the conventional conductive particles with insulating particles as described in
また、特許文献1,2に記載のような従来の絶縁性粒子付き導電性粒子では、導電接続前に、絶縁性粒子が導電性粒子の表面から意図せずに脱離しやすい。例えば、絶縁性粒子付き導電性粒子をバインダー樹脂中に分散させる際に、導電性粒子の表面から、絶縁性粒子が容易に脱離することがある。
Moreover, in the conventional conductive particles with insulating particles as described in
特に、特許文献1に記載のように、導電性粒子の表面に絶縁性粒子を固定化させるために、物理的/機械的ハイブリダイゼーション法を用いた場合には、絶縁性粒子が導電性粒子の表面から脱離しやすい。
In particular, as described in
また、特許文献3〜5に記載の方法で得られた絶縁性粒子付き導電性粒子では、導電接続前に、絶縁性粒子が導電性粒子の表面から意図せずに脱離しやすかったり、導電接続時に、絶縁性粒子が導電性粒子の表面から容易に脱離しなかったりする。導電接続時に、絶縁性粒子が導電性粒子の表面から脱離しにくい場合には、導電性粒子と電極との間に絶縁性粒子が挟み込まれたり、導電性粒子と電極とが接触しなかったりする。導電性粒子と電極とが接触しないと、接続不良が生じる。
Moreover, in the conductive particles with insulating particles obtained by the methods described in
本発明の目的は、導電接続後に、導通信頼性と絶縁信頼性との双方を高めることができる絶縁性粒子付き導電性粒子を提供することである。 The objective of this invention is providing the electroconductive particle with an insulating particle which can improve both conduction | electrical_connection reliability and insulation reliability after electroconductive connection.
本発明の限定的な目的は、導電接続前に、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が意図せずに脱離し難く、かつ導電接続時に、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が脱離しやすい絶縁性粒子付き導電性粒子を提供することである。 The limited object of the present invention is that the insulating particles are not easily detached from the surface of the conductive particles unintentionally before the conductive connection, and the insulating particles are easily detached from the surface of the conductive particles during the conductive connection. It is to provide conductive particles with insulating particles.
また、本発明の目的は、上記絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた導電材料及び接続構造体を提供することである。 Another object of the present invention is to provide a conductive material and a connection structure using the conductive particles with insulating particles.
本発明の広い局面によれば、導電部を少なくとも表面に有する導電性粒子と、前記導電性粒子の表面上に配置された複数の絶縁性粒子と、前記導電性粒子の前記絶縁性粒子が配置されていない部分の表面を被覆している絶縁性層とを備え、前記絶縁性層が、重合性化合物を重合させることにより形成されており、前記導電部と前記絶縁性粒子とが、化学的に結合しており、かつ、前記導電部と前記絶縁性層とが、化学的に結合している、絶縁性粒子付き導電性粒子が提供される。 According to a wide aspect of the present invention, conductive particles having a conductive portion on at least a surface thereof, a plurality of insulating particles disposed on the surface of the conductive particles, and the insulating particles of the conductive particles are disposed. An insulating layer covering the surface of the portion that is not formed, the insulating layer is formed by polymerizing a polymerizable compound, and the conductive portion and the insulating particles are chemically In addition, conductive particles with insulating particles, which are bonded to each other and are chemically bonded to the conductive portion and the insulating layer, are provided.
本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子のある特定の局面では、前記絶縁性粒子と前記絶縁性層とが互いに接触している部分を有し、前記接触している部分において、前記絶縁性粒子と前記絶縁性層とが、化学的に結合している。 In a specific aspect of the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the insulating particles and the insulating layer have a portion in contact with each other, and the insulating property is in the contacted portion. The particles and the insulating layer are chemically bonded.
本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子のある特定の局面では、前記絶縁性層が、前記導電性粒子の前記絶縁性粒子が配置されていない部分の表面を被覆している第1の部分と、前記絶縁性粒子の表面を被覆している第2の部分とを有する。 In a specific aspect of the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the insulating layer covers a surface of a portion of the conductive particles where the insulating particles are not disposed. And a second portion covering the surface of the insulating particles.
本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子のある特定の局面では、前記第1の部分と前記第2の部分とが連なっている。 In a specific aspect of the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the first portion and the second portion are continuous.
本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子のある特定の局面では、前記絶縁性層における前記導電性粒子の前記絶縁性粒子が配置されていない部分の表面を被覆している第1の部分の平均厚みが、前記絶縁性粒子の平均粒子径の1/2以下である。 In a specific aspect of the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the first portion of the insulating layer covering the surface of the conductive particles where the insulating particles are not disposed. The average thickness is 1/2 or less of the average particle diameter of the insulating particles.
本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子のある特定の局面では、複数の前記絶縁性粒子の全個数の内の90%以上が、前記導電性粒子に接触している。 In a specific aspect of the conductive particles with insulating particles according to the present invention, 90% or more of the total number of the plurality of insulating particles is in contact with the conductive particles.
本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子のある特定の局面では、複数の前記絶縁性粒子が、前記絶縁性層により被覆されていることによって露出していない。 In a specific aspect of the conductive particles with insulating particles according to the present invention, a plurality of the insulating particles are not exposed by being covered with the insulating layer.
本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子のある特定の局面では、前記導電性粒子が、前記導電部の表面に複数の突起を有する。 On the specific situation with the electroconductive particle with an insulating particle which concerns on this invention, the said electroconductive particle has several protrusion on the surface of the said electroconductive part.
本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子のある特定の局面では、前記絶縁性粒子の平均粒子径が、前記突起の平均高さよりも大きい。 On the specific situation with the electroconductive particle with an insulating particle which concerns on this invention, the average particle diameter of the said insulating particle is larger than the average height of the said processus | protrusion.
本発明の広い局面によれば、上述した絶縁性粒子付き導電性粒子と、バインダー樹脂とを含む、導電材料が提供される。 According to a wide aspect of the present invention, there is provided a conductive material including the conductive particles with insulating particles described above and a binder resin.
本発明の広い局面によれば、第1の電極を表面に有する第1の接続対象部材と、第2の電極を表面に有する第2の接続対象部材と、前記第1の接続対象部材と、前記第2の接続対象部材とを接続している接続部とを備え、前記接続部が、上述した絶縁性粒子付き導電性粒子により形成されているか、又は前記絶縁性粒子付き導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料により形成されており、前記第1の電極と前記第2の電極とが、前記絶縁性粒子付き導電性粒子における前記導電性粒子により電気的に接続されている、接続構造体が提供される。 According to a wide aspect of the present invention, a first connection target member having a first electrode on the surface, a second connection target member having a second electrode on the surface, the first connection target member, A connecting portion connecting the second connection target member, wherein the connecting portion is formed of the conductive particles with insulating particles described above, or the conductive particles with insulating particles and a binder. A connection structure, wherein the first electrode and the second electrode are electrically connected by the conductive particles in the conductive particles with insulating particles. The body is provided.
本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子は、導電部を少なくとも表面に有する導電性粒子と、上記導電性粒子の表面上に配置された複数の絶縁性粒子と、上記導電性粒子の上記絶縁性粒子が配置されていない部分の表面を被覆している絶縁性層とを備えており、更に上記絶縁性層が、重合性化合物を重合させることにより形成されており、上記導電部と上記絶縁性粒子とが、化学的に結合しており、かつ、上記導電部と上記絶縁性層とが、化学的に結合しているので、導電接続後に、導通信頼性と絶縁信頼性との双方を高めることができる。 The conductive particles with insulating particles according to the present invention include conductive particles having at least a conductive portion on a surface thereof, a plurality of insulating particles disposed on the surface of the conductive particles, and the insulation of the conductive particles. An insulating layer covering the surface of the portion where the conductive particles are not disposed, and further, the insulating layer is formed by polymerizing a polymerizable compound, and the conductive portion and the insulating layer are formed. Since the conductive particles are chemically bonded, and the conductive portion and the insulating layer are chemically bonded, both conductive reliability and insulating reliability are obtained after the conductive connection. Can be increased.
以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態及び実施例を説明することにより本発明を明らかにする。 Hereinafter, the present invention will be clarified by describing specific embodiments and examples of the present invention with reference to the drawings.
(絶縁性粒子付き導電性粒子)
本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子は、導電部を少なくとも表面に有する導電性粒子と、上記導電性粒子の表面上に配置された複数の絶縁性粒子と、上記導電性粒子の上記絶縁性粒子が配置されていない部分の表面を被覆している絶縁性層とを備える。本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子では、上記絶縁性層が、重合性化合物を重合させることにより形成されている。本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子では、上記導電部と上記絶縁性粒子とが、化学的に結合しており、かつ、上記導電部と上記絶縁性層とが、化学的に結合している。上記絶縁層は、上記導電性粒子の上記絶縁性粒子が配置されていない部分の表面を少なくとも被覆している。
(Conductive particles with insulating particles)
The conductive particles with insulating particles according to the present invention include conductive particles having at least a conductive portion on a surface thereof, a plurality of insulating particles disposed on the surface of the conductive particles, and the insulation of the conductive particles. And an insulating layer covering the surface of the portion where the conductive particles are not disposed. In the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the insulating layer is formed by polymerizing a polymerizable compound. In the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the conductive part and the insulating particle are chemically bonded, and the conductive part and the insulating layer are chemically bonded. ing. The insulating layer covers at least the surface of the conductive particles where the insulating particles are not disposed.
図1に、本発明の第1の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を断面図で示す。 FIG. 1 is a sectional view showing conductive particles with insulating particles according to the first embodiment of the present invention.
図1に示す絶縁性粒子付き導電性粒子1は、導電性粒子2と、複数の絶縁性粒子3と、絶縁性層4とを備える。
A
導電性粒子2は、基材粒子11と、基材粒子11の表面上に配置された導電部12とを有する。導電性粒子2は、導電部12を表面に有する。導電部12は、導電層である。導電部12は、基材粒子11の表面を覆っている。導電性粒子2は、基材粒子11の表面が導電部12により被覆された被覆粒子である。
The
複数の絶縁性粒子3は、導電性粒子2の表面上に配置されている。複数の絶縁性粒子3は、導電性粒子2の表面に付着している。絶縁性粒子3は、絶縁性を有する材料により形成されている。
The plurality of insulating
絶縁性層4は、重合性化合物を重合させることにより形成されている。導電部12と絶縁性粒子3とは、化学的に結合している。さらに、導電部12と絶縁性層4とは、化学的に結合している。絶縁性層4は、導電性粒子2の絶縁性粒子3が配置されていない部分の表面を被覆している第1の部分4aと、絶縁性粒子3の表面を被覆している第2の部分4bとを有する。
The insulating
図2に、本発明の第2の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を断面図で示す。 FIG. 2 is a sectional view showing conductive particles with insulating particles according to the second embodiment of the present invention.
図2に示す絶縁性粒子付き導電性粒子1Aは、芯物質13を有する導電性粒子2Aと、複数の絶縁性粒子3と、絶縁性層4Aとを備える。導電性粒子2Aは、導電部12Aを表面に有する。複数の絶縁性粒子3は、導電性粒子2Aの表面上に配置されている。絶縁性層4Aは、導電性粒子2Aの絶縁性粒子3が配置されていない部分の表面を被覆している。
A conductive particle 1A with insulating particles shown in FIG. 2 includes a conductive particle 2A having a
導電性粒子2Aは、基材粒子11と、基材粒子11の表面上に配置された導電部12Aとを有する。導電部12Aは、導電層である。導電性粒子2Aは、基材粒子11の表面上に複数の芯物質13を有する。導電部12Aは、基材粒子11と芯物質13とを被覆している。芯物質13を導電部12Aが被覆していることにより、導電性粒子2Aは、導電部12Aの表面に、複数の突起2Aaを有する。芯物質13により導電部12Aの表面が隆起されており、複数の突起2Aaが形成されている。突起2Aaが形成されていることによって、突起2Aaの形状に対応して、導電性粒子2A、導電部12A及び絶縁性層4Aが、導電性粒子2、導電部12及び絶縁性層4とは異なる。
The
絶縁性層4Aは、重合性化合物を重合させることにより形成されている。導電部12Aと絶縁性粒子3とは、化学的に結合している。さらに、導電部12Aと絶縁性層4Aとは、化学的に結合している。絶縁性層4Aは、導電性粒子2Aの絶縁性粒子3が配置されていない部分の表面を被覆している。絶縁性層4Aは、導電性粒子2Aの絶縁性粒子3が配置されていない部分の表面を被覆している第1の部分4Aaと、絶縁性粒子3の表面を被覆している第2の部分4Abとを有する。
The insulating layer 4A is formed by polymerizing a polymerizable compound. The conductive portion 12A and the insulating
図3に、本発明の第3の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を断面図で示す。 In FIG. 3, the electroconductive particle with an insulating particle which concerns on the 3rd Embodiment of this invention is shown with sectional drawing.
図3に示す絶縁性粒子付き導電性粒子1Bは、芯物質13を有する導電性粒子2Bと、複数の絶縁性粒子3と、絶縁性層4Bとを備える。
A conductive particle 1B with insulating particles shown in FIG. 3 includes a conductive particle 2B having a
導電性粒子2Bは、基材粒子11と、基材粒子11の表面上に配置された導電部12Bとを有する。導電部12Bは、導電層である。導電性粒子2Bは、基材粒子11の表面上に複数の芯物質13を有する。導電部12Bは、基材粒子11と芯物質13とを被覆している。芯物質13を導電部12Bが被覆していることにより、導電性粒子2Bは、導電部12Bの表面に、複数の突起2Baを有する。芯物質13により導電部12Bの表面が隆起されており、複数の突起2Baが形成されている。
The
導電部12Bは、基材粒子11の表面上に配置された第1の導電部12BAと、第1の導電部12BAの表面上に配置された第2の導電部12BBとを有する。第1,第2の導電部12BA,12BBは導電層である。
The conductive part 12B includes a first conductive part 12BA disposed on the surface of the
導電性粒子2Bは、第1の導電部12BAの表面上に配置された複数の芯物質13を有する。第2の導電部12BBは、第1の導電部12BAと芯物質13とを被覆している。基材粒子11と芯物質13とは間隔を隔てて配置されている。基材粒子11と芯物質13との間には、第1の導電部12BAが存在する。芯物質13を第2の導電部12BBが被覆していることにより、導電性粒子2Bは第2の導電部12BBの表面に、複数の突起2Baを有する。芯物質13により第2の導電部12BBの表面が隆起されており、複数の突起2Baが形成されている。
The conductive particle 2B has a plurality of
絶縁性層4Bは、重合性化合物を重合させることにより形成されている。導電部12Bと絶縁性粒子3とは、化学的に結合している。さらに、導電部12Bと絶縁性層4Bとは、化学的に結合している。絶縁性層4Bは、導電性粒子2Bの絶縁性粒子3が配置されていない部分の表面を被覆している。絶縁性層4Bは、導電性粒子2Bの絶縁性粒子3が配置されていない部分の表面を被覆している第1の部分4Baと、絶縁性粒子3の表面を被覆している第2の部分4Bbとを有する。
The insulating layer 4B is formed by polymerizing a polymerizable compound. The conductive portion 12B and the insulating
図4に、本発明の第4の実施形態に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を断面図で示す。 FIG. 4 is a sectional view showing conductive particles with insulating particles according to the fourth embodiment of the present invention.
図4に示す絶縁性粒子付き導電性粒子1Cは、芯物質13を有する導電性粒子2Aと、複数の絶縁性粒子3と、絶縁性層4Cとを備える。
A conductive particle 1C with insulating particles shown in FIG. 4 includes a conductive particle 2A having a
絶縁性層4Cは、重合性化合物を重合させることにより形成されている。絶縁性粒子付き導電性粒子1Cでは、導電部12Aと絶縁性粒子3とは、化学的に結合している。さらに、導電部12Aと絶縁性層4Cとは、化学的に結合している。絶縁性層4Cは、導電性粒子2Aの絶縁性粒子3が配置されていない部分の表面を被覆している。絶縁性層4Cは、導電性粒子2Aの絶縁性粒子3が配置されていない部分の表面を被覆している第1の部分4Caを有するが、絶縁性粒子3の表面を被覆している第2の部分は有さない。
The insulating layer 4C is formed by polymerizing a polymerizable compound. In the conductive particles 1C with insulating particles, the conductive portion 12A and the insulating
絶縁性粒子付き導電性粒子1,1A,1B,1Cでは、絶縁性粒子3と絶縁性層4,4A,4B,4Cとは、互いに接触している部分を有する。この接触している部分において、絶縁性粒子3と絶縁性層4,4A,4B,4Cとが、化学的に結合している。このように、絶縁信頼性をより一層高める観点からは、上記絶縁性粒子と上記絶縁性層とが化学的に結合していることが好ましい。上記絶縁性粒子と上記絶縁性層とが化学的に結合していることにより、電極間のピッチが狭くても、絶縁信頼性が充分に確保される。
In the conductive particles with insulating
絶縁性粒子付き導電性粒子1,1A,1Bでは、絶縁性層4,4A,4Bは、導電性粒子2,2A,2Bの絶縁性粒子3が配置されていない部分の表面を被覆している第1の部分4a,4Aa,4Baと、絶縁性粒子3の表面を被覆している第2の部分4b,4Ab,4Bbとを有する。このように、絶縁信頼性をより一層高める観点からは、上記絶縁性層は、上記導電性粒子の上記絶縁性粒子が配置されていない部分の表面を被覆している第1の部分と、上記絶縁性粒子の表面を被覆している上記第2の部分とを有することが好ましい。上記絶縁性層が上記第1の部分と上記第2の部分とを有することにより、電極間のピッチが狭くても、絶縁信頼性が充分に確保される。
In the
上記絶縁性層における上記導電性粒子の上記絶縁性粒子が配置されていない部分の表面を被覆している上記第1の部分の平均厚みは、上記絶縁性粒子の平均粒子径の1/2以下であることが好ましい。この場合には、導電接続前には、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が意図せずにより一層脱離し難くなり、かつ導電接続時には、導電性粒子の表面から絶縁性粒子がより一層脱離しやすくなる。従って、絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて電極間を接続した場合に、導通信頼性がより一層高くなる。すなわち、絶縁性粒子付き導電性粒子における絶縁性粒子の導電接続前の脱離防止性と導電接続時の脱離性との双方が高くなる。なお、通常、導電接続時には、導電接続前よりも絶縁性粒子の脱離に影響する大きな力が付与される。 The average thickness of the first portion covering the surface of the conductive particles in the insulating layer where the insulating particles are not disposed is ½ or less of the average particle diameter of the insulating particles. It is preferable that In this case, before the conductive connection, the insulating particles are less likely to be detached from the surface of the conductive particles unintentionally, and during the conductive connection, the insulating particles are further detached from the surface of the conductive particles. It becomes easy. Therefore, when the electrodes are connected using the conductive particles with insulating particles, the conduction reliability is further enhanced. That is, in the conductive particles with insulating particles, both the anti-detachment property before the conductive connection of the insulating particles and the release property during the conductive connection are enhanced. In general, a larger force that affects the detachment of insulating particles is applied during conductive connection than before conductive connection.
導電接続時に、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が脱離するのを効果的に抑制する観点からは、上記絶縁性層における上記導電性粒子の上記絶縁性粒子が配置されていない部分の表面を被覆している上記第1の部分の平均厚みは薄いほどよい。上記絶縁性層における上記導電性粒子の上記絶縁性粒子が配置されていない部分の表面を被覆している上記第1の部分の平均厚みは、絶縁性粒子の平均粒子径の1/3以下であることがより好ましく、1/5以下であることが更に好ましい。絶縁性粒子の導電接続前の脱離防止の機能を効果的に果たすためには、上記絶縁性層における上記導電性粒子の上記絶縁性粒子が配置されていない部分の表面を被覆している上記第1の部分の平均厚みは、絶縁性粒子の平均粒子径の1/100以上であることが好ましく、1/20以上であることがより好ましい。 From the viewpoint of effectively suppressing the separation of the insulating particles from the surface of the conductive particles during the conductive connection, the surface of the portion of the insulating layer where the insulating particles are not disposed in the insulating layer The thinner the average thickness of the first part covering the film, the better. The average thickness of the first portion covering the surface of the conductive particles in the insulating layer where the insulating particles are not disposed is 1/3 or less of the average particle diameter of the insulating particles. More preferably, it is more preferably 1/5 or less. In order to effectively perform the function of preventing the detachment before the conductive connection of the insulating particles, the surface of the insulating layer where the insulating particles of the conductive particles are not disposed is coated. The average thickness of the first portion is preferably 1/100 or more of the average particle diameter of the insulating particles, and more preferably 1/20 or more.
上記絶縁性粒子の「平均粒子径」は、数平均粒子径を示す。導電性粒子の平均粒子径は、任意の導電性粒子50個を電子顕微鏡又は光学顕微鏡にて観察し、平均値を算出することにより求められる。 The “average particle diameter” of the insulating particles indicates a number average particle diameter. The average particle diameter of the conductive particles can be obtained by observing 50 arbitrary conductive particles with an electron microscope or an optical microscope and calculating an average value.
上記絶縁性層における上記導電性粒子の上記絶縁性粒子が配置されていない部分の表面を被覆している上記第1の部分の平均厚みは、上記絶縁性粒子の表面を被覆している上記第2の部分とは、同一であってもよく、異なっていてもよい。上記第1の部分の厚みは、好ましくは5nm以上、より好ましくは20nm以上、好ましくは150nm以下、より好ましくは80nm以下である。上記第2の部分の厚みは、好ましくは10nm以上、より好ましくは40nm以上、好ましくは300nmμm以下、より好ましくは150nm以下である。
The average thickness of the first portion that covers the surface of the conductive particle in the insulating layer where the insulating particle is not disposed is the first thickness that covers the surface of the insulating particle. The
導電接続後の絶縁信頼性をより一層高め、更に導電接続前に、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が意図せずに脱離するのを効果的に防ぐ観点からは、絶縁性粒子付き導電性粒子における複数の上記絶縁性粒子の全個数の内の50%以上が、上記導電性粒子に接触していることが好ましい。絶縁性粒子付き導電性粒子における複数の上記絶縁性粒子の全個数の内の90%以上が、上記導電性粒子に接触していることがより好ましく、95%以上が、上記導電性粒子に接触していることがより好ましい。 From the viewpoint of further improving the insulation reliability after the conductive connection, and effectively preventing unintentional detachment of the insulating particles from the surface of the conductive particles before the conductive connection. It is preferable that 50% or more of the total number of the plurality of insulating particles in the conductive particles is in contact with the conductive particles. 90% or more of the total number of the plurality of insulating particles in the conductive particles with insulating particles is more preferably in contact with the conductive particles, and 95% or more is in contact with the conductive particles. More preferably.
導電接続後の絶縁信頼性をより一層高め、更に導電接続前に、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が意図せずに脱離するのを効果的に防ぐ観点からは、上記第1の部分と、上記第2の部分とは連なっていることが好ましい。 From the viewpoint of further improving the insulation reliability after the conductive connection, and effectively preventing unintentional detachment of the insulating particles from the surface of the conductive particles before the conductive connection, the first part It is preferable that the second portion is continuous.
導電接続後の絶縁信頼性をより一層高め、更に導電接続前に、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が意図せずに脱離するのを効果的に防ぐ観点からは、複数の上記絶縁性粒子が、上記絶縁性層により被覆されていることによって露出していないことが好ましい。上記絶縁性粒子付き導電性粒子は、上記絶縁性層により覆われておらずかつ露出している絶縁性粒子を有さないことが好ましい。 From the viewpoint of further improving the insulation reliability after the conductive connection, and effectively preventing unintentional detachment of the insulating particles from the surface of the conductive particles before the conductive connection, a plurality of the above insulating properties It is preferable that the particles are not exposed by being covered with the insulating layer. It is preferable that the conductive particles with insulating particles do not have insulating particles that are not covered with the insulating layer and exposed.
また、上記導電性粒子の上記絶縁性粒子が配置されていない部分の表面を上記絶縁性層が被覆していることによって、絶縁性粒子付き導電性粒子における導電部に錆が生じ難くなる。上記絶縁性層は防錆効果を付与する。このため、絶縁性粒子付き導電性粒子における導電性粒子の導電性が高くなり、長期間にわたり高い導電性を維持できる。従って、絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて電極間を接続した場合に、導通信頼性を高めることができる。 Moreover, when the said insulating layer coat | covers the surface of the part in which the said insulating particle of the said electroconductive particle is not arrange | positioned, it becomes difficult to produce rust in the electroconductive part in the electroconductive particle with an insulating particle. The insulating layer imparts a rust prevention effect. For this reason, the electroconductivity of the electroconductive particle in the electroconductive particle with an insulating particle becomes high, and can maintain high electroconductivity over a long period of time. Therefore, when the electrodes are connected using conductive particles with insulating particles, the conduction reliability can be improved.
また、上記絶縁性層が、炭素数6〜22のアルキル基を有する化合物を含む高分子化合物により形成されていることが好ましい。これにより、絶縁性粒子付き導電性粒子における導電部に錆がより一層生じ難くなる。 Moreover, it is preferable that the said insulating layer is formed with the high molecular compound containing the compound which has a C6-C22 alkyl group. Thereby, it becomes difficult to produce rust in the electroconductive part in the electroconductive particle with an insulating particle.
絶縁信頼性をより一層高める観点からは、上記導電部が、上記絶縁性層により被覆されていることによって露出していないことが好ましい。 From the viewpoint of further increasing the insulation reliability, it is preferable that the conductive portion is not exposed by being covered with the insulating layer.
なお、上記絶縁性層は、上記導電部の一部の領域のみを被覆していてもよく、上記導電部の一部の領域が露出するように、上記導電部を被覆していてもよい。上記絶縁性層は、上記導電部の一部の領域が露出するように、上記導電部を被覆していたとしても、上記絶縁性層により被覆されている部分の存在によって、上記絶縁性層により被覆されている部分が存在しない場合と比べて、絶縁信頼性がより一層高くなる。 In addition, the said insulating layer may coat | cover only the one part area | region of the said electroconductive part, and may coat | cover the said electroconductive part so that the one part area | region of the said electroconductive part may be exposed. Even if the insulating layer covers the conductive portion so that a part of the conductive portion is exposed, the insulating layer is formed by the presence of the portion covered by the insulating layer. Compared with the case where there is no covered portion, the insulation reliability is further increased.
上記絶縁性粒子付き導電性粒子は、絶縁性粒子が導電部の表面上に配置された導電性粒子の表面を被覆するように絶縁性層を形成する工程を経て得られていてもよい。 The conductive particles with insulating particles may be obtained through a step of forming an insulating layer so that the insulating particles cover the surface of the conductive particles arranged on the surface of the conductive part.
以下、絶縁性層、導電性粒子及び絶縁性粒子などの詳細を説明する。 Hereinafter, details of the insulating layer, conductive particles, insulating particles, and the like will be described.
[絶縁性層]
上記絶縁性層は、重合性化合物を重合させることにより形成されている。上記重合性化合物は、ラジカル重合性化合物であることが好ましい。この場合には、絶縁性層を形成するために、ラジカル重合開始剤が一般的に用いられる。導電部に錆を生じ難くするために、上記絶縁性層は、炭素数6〜22のアルキル基及び反応性官能基を2つ以上有する化合物(以下、化合物Aともいう)により形成されていることが好ましい。上記化合物Aは、重合性化合物である。上記アルキル基の炭素数が6未満であると、導電部の表面に錆が生じやすくなる。上記アルキル基の炭素数が22を超えると、絶縁性粒子付き導電性粒子の導電性が低くなる。絶縁性粒子付き導電性粒子の導電性をより一層高める観点からは、上記化合物Aにおける上記アルキル基の炭素数は16以下であることが好ましい。上記アルキル基は直鎖構造を有していてもよく、分岐構造を有していてもよい。上記アルキル基は、直鎖構造を有することが好ましい。
[Insulating layer]
The insulating layer is formed by polymerizing a polymerizable compound. The polymerizable compound is preferably a radical polymerizable compound. In this case, a radical polymerization initiator is generally used to form an insulating layer. The insulating layer is made of a compound having two or more alkyl groups having 6 to 22 carbon atoms and a reactive functional group (hereinafter, also referred to as compound A) in order to make it difficult for rust to occur in the conductive part. Is preferred. The compound A is a polymerizable compound. When the carbon number of the alkyl group is less than 6, rust is likely to occur on the surface of the conductive portion. When carbon number of the said alkyl group exceeds 22, the electroconductivity of the electroconductive particle with an insulating particle will become low. From the viewpoint of further increasing the conductivity of the conductive particles with insulating particles, the alkyl group in the compound A preferably has 16 or less carbon atoms. The alkyl group may have a linear structure or a branched structure. The alkyl group preferably has a linear structure.
2つ以上の反応性官能基の内の少なくとも1つは、導電性粒子及び導電部と反応可能な官能基であることが好ましい。上記反応性官能基の存在により、導電性粒子と絶縁性層とを化学結合させたり、絶縁性粒子と絶縁性層とを化学結合させたりすることが容易である。化学結合によって、絶縁性層の意図しない剥離も生じ難くなり、導電部に錆がより一層生じ難くなり、かつ導電性粒子の表面から絶縁性粒子が意図せずにより一層脱離し難くなる。 It is preferable that at least one of the two or more reactive functional groups is a functional group capable of reacting with the conductive particles and the conductive part. Due to the presence of the reactive functional group, it is easy to chemically bond the conductive particles and the insulating layer, or to chemically bond the insulating particles and the insulating layer. Unintentional peeling of the insulating layer is less likely to occur due to the chemical bond, rust is less likely to occur in the conductive portion, and the insulating particles are more unintentionally detached from the surface of the conductive particles.
2つ以上の反応性官能基の内の少なくとも1つは、重合性単量体と重合可能な官能基であることが好ましい。上記反応性官能基の存在により、絶縁性層を重合反応により制御することが容易である。これにより、導電部に錆がより一層生じ難くなる。 At least one of the two or more reactive functional groups is preferably a functional group that can be polymerized with the polymerizable monomer. The presence of the reactive functional group makes it easy to control the insulating layer by a polymerization reaction. As a result, rust is less likely to occur in the conductive portion.
上記化合物Aは、炭素数6〜22のアルキル基及び反応性官能基を2つ以上有していれば特に限定されない。 The compound A is not particularly limited as long as it has two or more alkyl groups having 6 to 22 carbon atoms and reactive functional groups.
上記化合物Aは、リン酸エステル又はその塩、亜リン酸エステル又はその塩、アルコキシシラン、アルキルチオール及びジアルキルジスルフィドからなる群から選択された少なくとも1種であることが好ましい。これらの好ましい化合物Aの使用により、導電部に錆をより一層生じ難くすることができる。錆を更に一層生じ難くする観点からは、上記化合物Aは、上記リン酸エステル又はその塩、亜リン酸エステル又はその塩及びアルコキシシランからなる群から選択された少なくとも1種であることが好ましく、上記リン酸エステル又はその塩及び亜リン酸エステル又はその塩の内の少なくとも1種であることがより好ましい。上記化合物Aは、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。 The compound A is preferably at least one selected from the group consisting of a phosphate ester or a salt thereof, a phosphite ester or a salt thereof, an alkoxysilane, an alkylthiol, and a dialkyl disulfide. By using these preferable compounds A, it is possible to further prevent rust from being generated in the conductive portion. From the viewpoint of making rust more difficult to occur, the compound A is preferably at least one selected from the group consisting of the phosphate ester or a salt thereof, a phosphite ester or a salt thereof and an alkoxysilane, More preferably, the phosphoric acid ester or a salt thereof and a phosphorous acid ester or a salt thereof are at least one of them. As for the said compound A, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.
上記化合物Aは、導電性粒子及び導電部と反応可能な反応性官能基を有することが好ましい。上記化合物Aは、絶縁性粒子と反応可能な反応性官能基を有することが好ましい。上記反応性官能基の存在により、導電性粒子と絶縁性層を化学結合させたり、絶縁性粒子と絶縁性層とを化学結合させたりすることが容易である。化学結合によって、絶縁性層の意図しない剥離も生じ難くなり、導電部に錆がより一層生じ難くなり、かつ導電性粒子の表面から絶縁性粒子が意図せずにより一層脱離し難くなる。 The compound A preferably has a reactive functional group capable of reacting with the conductive particles and the conductive part. The compound A preferably has a reactive functional group capable of reacting with insulating particles. Due to the presence of the reactive functional group, it is easy to chemically bond the conductive particles and the insulating layer, or to chemically bond the insulating particles and the insulating layer. Unintentional peeling of the insulating layer is less likely to occur due to the chemical bond, rust is less likely to occur in the conductive portion, and the insulating particles are more unintentionally detached from the surface of the conductive particles.
2つ以上の反応性官能基の内の少なくとも1つは、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、カルボキシル基及び重合性反応基から選択された少なくとも1種であることが好ましい。上記重合性反応基としては、不飽和炭化水素基などの重合可能な反応基が挙げられる。これらの反応性官能基とエチレン性不飽和基を有する単量体を重合させることにより、絶縁性層を容易に制御することが可能である。この重合反応により形成された絶縁性層によって、導電部に錆がより一層生じ難くなる。 At least one of the two or more reactive functional groups is preferably at least one selected from a vinyl group, a (meth) acryloyl group, a carboxyl group, and a polymerizable reactive group. Examples of the polymerizable reactive group include polymerizable reactive groups such as an unsaturated hydrocarbon group. By polymerizing monomers having these reactive functional groups and ethylenically unsaturated groups, the insulating layer can be easily controlled. The insulating layer formed by this polymerization reaction makes it more difficult for rust to occur in the conductive portion.
上記炭素数6〜22のアルキル基及び反応性官能基を2つ以上有する化合物としては、例えば、リン酸ヘキセニルエステル、リン酸ヘプチニルエステル、リン酸モノオクチニルエステル、リン酸モノノニエルエステル、リン酸モノデシニルエステル、オレイルリン酸エステル及びビニルリン酸エステル等が挙げられる。 Examples of the compound having two or more alkyl groups having 6 to 22 carbon atoms and two or more reactive functional groups include, for example, phosphate hexenyl ester, phosphate heptynyl ester, phosphate monooctynyl ester, phosphate monononiel ester, Examples thereof include monodecynyl phosphate, oleyl phosphate, and vinyl phosphate.
上述した反応性官能基と重合する化合物としては、基材粒子を形成するための樹脂と同様の化合物を用いることができる。上記化合物としては、スチレン、(メタ)アクリル酸、メチル(メタ)アクリレート及びグリシジルメタクリレート等が挙げられる。 As a compound which polymerizes with the reactive functional group mentioned above, the compound similar to resin for forming base particle can be used. Examples of the compound include styrene, (meth) acrylic acid, methyl (meth) acrylate, and glycidyl methacrylate.
反応性官能基の少なくとも1つを、導電性粒子の表面に化学結合させた後に、他の反応性官能基を重合性単量体と公知の方法により重合させることで、導電性粒子の表面に絶縁性層を形成することができる。 After chemically bonding at least one of the reactive functional groups to the surface of the conductive particles, the other reactive functional groups are polymerized with the polymerizable monomer by a known method to form the surface of the conductive particles. An insulating layer can be formed.
この時、重合性単量体は、絶縁性粒子の表面に存在する反応性官能基と化学結合してもよい。重合性単量体は、導電性粒子の表面に形成された化合物Aに由来する化合物及び絶縁性粒子の表面の反応性官能基の両方と化学結合してもよい。 At this time, the polymerizable monomer may be chemically bonded to a reactive functional group present on the surface of the insulating particles. The polymerizable monomer may be chemically bonded to both the compound derived from the compound A formed on the surface of the conductive particle and the reactive functional group on the surface of the insulating particle.
[導電性粒子]
上記導電性粒子は、少なくとも表面に導電部を有していればよい。該導電部は例えば導電層である。導電性粒子は、基材粒子と、基材粒子の表面上に配置された導電部を有する導電性粒子であってもよく、全体が導電部である導電性粒子(金属粒子)であってもよい。なかでも、コストを低減したり、導電性粒子の柔軟性を高くして、電極間の導通信頼性を高めたりする観点からは、基材粒子と、基材粒子の表面上に配置された導電部を有する導電性粒子が好ましい。
[Conductive particles]
The said electroconductive particle should just have an electroconductive part on the surface at least. The conductive part is, for example, a conductive layer. The conductive particles may be conductive particles having base particles and conductive portions arranged on the surface of the base particles, or may be conductive particles (metal particles) whose entirety is a conductive portion. Good. Among these, from the viewpoint of reducing the cost and increasing the flexibility of the conductive particles to increase the conduction reliability between the electrodes, the base particles and the conductive material disposed on the surface of the base particles are used. The electroconductive particle which has a part is preferable.
上記基材粒子としては、樹脂粒子、金属粒子を除く無機粒子、有機無機ハイブリッド粒子及び金属粒子等が挙げられる。上記基材粒子は、金属粒子を除く基材粒子であることが好ましく、樹脂粒子、金属粒子を除く無機粒子又は有機無機ハイブリッド粒子であることが好ましい。上記有機無機ハイブリッド粒子は、コアと該コアの表面上に配置されたシェルとを有していてもよい。 Examples of the substrate particles include resin particles, inorganic particles excluding metal particles, organic-inorganic hybrid particles, and metal particles. The substrate particles are preferably substrate particles excluding metal particles, and are preferably resin particles, inorganic particles excluding metal particles, or organic-inorganic hybrid particles. The organic-inorganic hybrid particles may have a core and a shell disposed on the surface of the core.
上記基材粒子は、樹脂により形成された樹脂粒子であることが好ましい。絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて電極間を接続する際には、絶縁性粒子付き導電性粒子を電極間に配置した後、圧着することにより絶縁性粒子付き導電性粒子を圧縮させる。基材粒子が樹脂粒子であると、上記圧着の際に導電性粒子が変形しやすく、導電性粒子と電極との接触面積が大きくなる。このため、電極間の導通信頼性がより一層高くなる。 The substrate particles are preferably resin particles formed of a resin. When connecting the electrodes using the conductive particles with insulating particles, the conductive particles with insulating particles are compressed by placing the conductive particles with insulating particles between the electrodes and then pressing them. When the substrate particles are resin particles, the conductive particles are likely to be deformed during the pressure bonding, and the contact area between the conductive particles and the electrode is increased. For this reason, the conduction | electrical_connection reliability between electrodes becomes still higher.
上記樹脂粒子を形成するための樹脂として、種々の有機物が好適に用いられる。上記樹脂粒子を形成するための樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブタジエン等のポリオレフィン樹脂;ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート等のアクリル樹脂;ポリアルキレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアミド、フェノールホルムアルデヒド樹脂、メラミンホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミンホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、飽和ポリエステル樹脂、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリアセタール、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、及び、エチレン性不飽和基を有する種々の重合性単量体を1種もしくは2種以上重合させて得られる重合体等が挙げられる。導電材料に適した任意の圧縮時の物性を有する樹脂粒子を設計及び合成することができ、かつ基材粒子の硬度を好適な範囲に容易に制御できるので、上記樹脂粒子を形成するための樹脂は、エチレン性不飽和基を複数有する重合性単量体を1種又は2種以上重合させた重合体であることが好ましい。 Various organic materials are suitably used as the resin for forming the resin particles. Examples of the resin for forming the resin particles include polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polypropylene, polyisobutylene, and polybutadiene; acrylic resins such as polymethyl methacrylate and polymethyl acrylate. Polyalkylene terephthalate, polycarbonate, polyamide, phenol formaldehyde resin, melamine formaldehyde resin, benzoguanamine formaldehyde resin, urea formaldehyde resin, phenol resin, melamine resin, benzoguanamine resin, urea resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, saturated polyester resin, polysulfone , Polyphenylene oxide, polyacetal, polyimide, polyamideimide, poly Chromatography ether ether ketone, polyether sulfone, and polymers such as obtained by a variety of polymerizable monomer having an ethylenically unsaturated group is polymerized with one or more thereof. Resin for forming the resin particles can be designed and synthesized, and the hardness of the base particles can be easily controlled within a suitable range, which is suitable for conductive materials and having physical properties at the time of compression. Is preferably a polymer obtained by polymerizing one or more polymerizable monomers having a plurality of ethylenically unsaturated groups.
上記樹脂粒子を、エチレン性不飽和基を有する単量体を重合させて得る場合、上記エチレン性不飽和基を有する単量体としては、非架橋性の単量体と架橋性の単量体とが挙げられる。 When the resin particles are obtained by polymerizing a monomer having an ethylenically unsaturated group, the monomer having an ethylenically unsaturated group includes a non-crosslinkable monomer and a crosslinkable monomer. And so on.
上記非架橋性の単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系単量体;(メタ)アクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸等のカルボキシル基含有単量体;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート類;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、ポリオキシエチレン(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート等の酸素原子含有(メタ)アクリレート類;(メタ)アクリロニトリル等のニトリル含有単量体;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル等のビニルエーテル類;酢酸ビニル、酪酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等の酸ビニルエステル類;エチレン、プロピレン、イソプレン、ブタジエン等の不飽和炭化水素;トリフルオロメチル(メタ)アクリレート、ペンタフルオロエチル(メタ)アクリレート、塩化ビニル、フッ化ビニル、クロルスチレン等のハロゲン含有単量体等が挙げられる。 Examples of the non-crosslinkable monomer include styrene monomers such as styrene and α-methylstyrene; carboxyl group-containing monomers such as (meth) acrylic acid, maleic acid, and maleic anhydride; (Meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl ( Alkyl (meth) acrylates such as meth) acrylate and isobornyl (meth) acrylate; oxygen such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, polyoxyethylene (meth) acrylate and glycidyl (meth) acrylate (Meth) acrylates; nitrile-containing monomers such as (meth) acrylonitrile; vinyl ethers such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether; vinyl acids such as vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl laurate, vinyl stearate Esters; Unsaturated hydrocarbons such as ethylene, propylene, isoprene and butadiene; Halogen-containing monomers such as trifluoromethyl (meth) acrylate, pentafluoroethyl (meth) acrylate, vinyl chloride, vinyl fluoride and chlorostyrene Is mentioned.
上記架橋性の単量体としては、例えば、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、グリセロールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)テトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリレート類;トリアリル(イソ)シアヌレート、トリアリルトリメリテート、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、ジアリルアクリルアミド、ジアリルエーテル、γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、トリメトキシシリルスチレン、ビニルトリメトキシシラン等のシラン含有単量体等が挙げられる。 Examples of the crosslinkable monomer include tetramethylolmethane tetra (meth) acrylate, tetramethylolmethane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethane di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and dipenta Erythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, glycerol di (meth) acrylate, (poly) ethylene glycol di (meth) acrylate, (poly) propylene glycol di (meth) Polyfunctional (meth) acrylates such as acrylate, (poly) tetramethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate; triallyl (iso) cyanure Silane-containing monomers such as triallyl trimellitate, divinylbenzene, diallyl phthalate, diallylacrylamide, diallyl ether, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, trimethoxysilylstyrene, vinyltrimethoxysilane It is done.
上記エチレン性不飽和基を有する重合性単量体を、公知の方法により重合させることで、上記樹脂粒子を得ることができる。この方法としては、例えば、ラジカル重合開始剤の存在下で懸濁重合する方法、並びに非架橋の種粒子を用いてラジカル重合開始剤とともに単量体を膨潤させて重合する方法等が挙げられる。 The resin particles can be obtained by polymerizing the polymerizable monomer having an ethylenically unsaturated group by a known method. Examples of this method include a method of suspension polymerization in the presence of a radical polymerization initiator, and a method of polymerizing by swelling a monomer together with a radical polymerization initiator using non-crosslinked seed particles.
上記基材粒子が金属粒子を除く無機粒子又は有機無機ハイブリッド粒子である場合に、上記基材粒子を形成するための無機物としては、シリカ及びカーボンブラック等が挙げられる。この無機物は金属ではないことが好ましい。上記シリカにより形成された粒子としては特に限定されないが、例えば、加水分解性のアルコキシシリル基を2つ以上持つケイ素化合物を加水分解して架橋重合体粒子を形成した後に、必要に応じて焼成を行うことにより得られる粒子が挙げられる。上記有機無機ハイブリッド粒子としては、例えば、架橋したアルコキシシリルポリマーとアクリル樹脂とにより形成された有機無機ハイブリッド粒子等が挙げられる。 In the case where the substrate particles are inorganic particles or organic-inorganic hybrid particles excluding metal particles, examples of the inorganic material for forming the substrate particles include silica and carbon black. This inorganic substance is preferably not a metal. The particles formed by the silica are not particularly limited. For example, after forming a crosslinked polymer particle by hydrolyzing a silicon compound having two or more hydrolyzable alkoxysilyl groups, firing may be performed as necessary. The particle | grains obtained by performing are mentioned. Examples of the organic / inorganic hybrid particles include organic / inorganic hybrid particles formed of a crosslinked alkoxysilyl polymer and an acrylic resin.
上記基材粒子が金属粒子である場合に、該金属粒子を形成するための金属としては、銀、銅、ニッケル、ケイ素、金及びチタン等が挙げられる。但し、上記基材粒子は金属粒子ではないことが好ましい。 When the substrate particles are metal particles, examples of the metal for forming the metal particles include silver, copper, nickel, silicon, gold, and titanium. However, the substrate particles are preferably not metal particles.
上記導電部を形成するための金属は特に限定されない。さらに、導電性粒子が、全体が導電部である金属粒子である場合、該金属粒子を形成するための金属は特に限定されない。該金属としては、例えば、金、銀、パラジウム、銅、白金、亜鉛、鉄、錫、鉛、アルミニウム、コバルト、インジウム、ニッケル、クロム、チタン、アンチモン、ビスマス、タリウム、ゲルマニウム、カドミウム、ケイ素、タングステン、モリブデン及びこれらの合金等が挙げられる。また、上記金属としては、錫ドープ酸化インジウム(ITO)及びはんだ等が挙げられる。なかでも、電極間の接続抵抗をより一層低くすることができるので、錫を含む合金、ニッケル、パラジウム、銅又は金が好ましく、ニッケル又はパラジウムが好ましい。 The metal for forming the conductive part is not particularly limited. Furthermore, in the case where the conductive particles are metal particles that are conductive parts as a whole, the metal for forming the metal particles is not particularly limited. Examples of the metal include gold, silver, palladium, copper, platinum, zinc, iron, tin, lead, aluminum, cobalt, indium, nickel, chromium, titanium, antimony, bismuth, thallium, germanium, cadmium, silicon, and tungsten. , Molybdenum, and alloys thereof. Examples of the metal include tin-doped indium oxide (ITO) and solder. Especially, since the connection resistance between electrodes can be made still lower, an alloy containing tin, nickel, palladium, copper or gold is preferable, and nickel or palladium is preferable.
上記導電部を構成する金属に錆が生じやすいほど、上記被膜による被覆効果が顕著に得られる。ニッケル、銅又はスズにより形成された導電部では、導電部の表面に錆が比較的生じやすい。このような導電部の表面を被膜で被覆することにより、導電部の表面に錆が生じるのを効果的に抑制できる。上記被膜による被覆効果が効果的に得られるので、上記導電部は、ニッケル、銅又は錫を含んでいてもよい。 As the metal constituting the conductive part is more likely to be rusted, the coating effect by the coating is more remarkable. In the conductive part formed of nickel, copper or tin, rust is relatively easily generated on the surface of the conductive part. By covering the surface of such a conductive part with a film, it is possible to effectively suppress the occurrence of rust on the surface of the conductive part. Since the covering effect by the said film is acquired effectively, the said electroconductive part may contain nickel, copper, or tin.
なお、導電部の表面には、酸化により水酸基が存在することが多い。一般的に、ニッケルにより形成された導電部の表面には、酸化により水酸基が存在する。このような水酸基を有する導電部は絶縁性層と化学結合する。 In many cases, hydroxyl groups are present on the surface of the conductive portion by oxidation. In general, a hydroxyl group exists on the surface of a conductive portion formed of nickel by oxidation. The conductive portion having such a hydroxyl group is chemically bonded to the insulating layer.
上記導電層は、1つの層により形成されていてもよい。導電層は、複数の層により形成されていてもよい。すなわち、導電層は、2層以上の積層構造を有していてもよい。導電層が複数の層により形成されている場合には、最外層は、金層、ニッケル層、パラジウム層、銅層又は錫と銀とを含む合金層であることが好ましく、金層であることがより好ましい。最外層がこれらの好ましい導電層である場合には、電極間の接続抵抗をより一層低くすることができる。また、最外層が金層である場合には、耐腐食性がより一層高くなる。 The conductive layer may be formed of a single layer. The conductive layer may be formed of a plurality of layers. That is, the conductive layer may have a stacked structure of two or more layers. When the conductive layer is formed of a plurality of layers, the outermost layer is preferably a gold layer, a nickel layer, a palladium layer, a copper layer, or an alloy layer containing tin and silver, and is a gold layer. Is more preferable. When the outermost layer is these preferred conductive layers, the connection resistance between the electrodes can be further reduced. Moreover, when the outermost layer is a gold layer, the corrosion resistance is further enhanced.
粒子の表面上に導電部を形成する方法は特に限定されない。導電部を形成する方法としては、例えば、無電解めっきによる方法、電気めっきによる方法、物理的蒸着による方法、並びに金属粉末もしくは金属粉末とバインダーとを含むペーストを粒子の表面にコーティングする方法等が挙げられる。なかでも、導電部の形成が簡便であるので、無電解めっきによる方法が好ましい。上記物理的蒸着による方法としては、真空蒸着、イオンプレーティング及びイオンスパッタリング等の方法が挙げられる。 The method for forming the conductive portion on the surface of the particle is not particularly limited. Examples of the method for forming the conductive part include a method by electroless plating, a method by electroplating, a method by physical vapor deposition, and a method of coating the surface of particles with metal powder or a paste containing metal powder and a binder. Can be mentioned. Especially, since formation of an electroconductive part is simple, the method by electroless plating is preferable. Examples of the method by physical vapor deposition include methods such as vacuum vapor deposition, ion plating, and ion sputtering.
上記導電性粒子の平均粒子径は、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは1μm以上、好ましくは100μm以下、より好ましくは20μm以下である。上記導電性粒子の平均粒子径が上記下限以上及び上記上限以下であると、絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて電極間を接続した場合に、導電性粒子と電極との接触面積が充分に大きくなり、かつ導電部を形成する際に凝集した導電性粒子が形成されにくくなる。また、導電性粒子を介して接続された電極間の間隔が大きくなりすぎず、かつ導電部が基材粒子の表面から剥離し難くなる。 The average particle diameter of the conductive particles is preferably 0.5 μm or more, more preferably 1 μm or more, preferably 100 μm or less, more preferably 20 μm or less. When the average particle diameter of the conductive particles is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the contact area between the conductive particles and the electrodes is sufficiently large when the electrodes are connected using the conductive particles with insulating particles. It becomes large and it becomes difficult to form the agglomerated conductive particles when the conductive part is formed. Further, the distance between the electrodes connected via the conductive particles does not become too large, and the conductive portion is difficult to peel from the surface of the base particle.
上記導電性粒子の「平均粒子径」は、数平均粒子径を示す。導電性粒子の平均粒子径は、任意の導電性粒子50個を電子顕微鏡又は光学顕微鏡にて観察し、平均値を算出することにより求められる。 The “average particle size” of the conductive particles indicates a number average particle size. The average particle diameter of the conductive particles can be obtained by observing 50 arbitrary conductive particles with an electron microscope or an optical microscope and calculating an average value.
上記導電部の厚みは、好ましくは0.005μm以上、より好ましくは0.01μm以上、好ましくは1μm以下、より好ましくは0.3μm以下である。上記導電部の厚みが上記下限以上及び上記上限以下であると、充分な導電性が得られ、かつ導電性粒子が硬くなりすぎずに、電極間の接続の際に導電性粒子を充分に変形する。 The thickness of the conductive part is preferably 0.005 μm or more, more preferably 0.01 μm or more, preferably 1 μm or less, more preferably 0.3 μm or less. When the thickness of the conductive part is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, sufficient conductivity is obtained, and the conductive particles are not too hard, and the conductive particles are sufficiently deformed when connecting between the electrodes. To do.
上記導電部が複数の層により形成されている場合に、最外層の導電層の厚みは、特に最外層が金層である場合の金層の厚みは、好ましくは0.001μm以上、より好ましくは0.01μm以上、好ましくは0.5μm以下、より好ましくは0.1μm以下である。上記最外層の導電層の厚みが上記下限以上及び上記上限以下であると、最外層の導電層による被覆が均一になり、耐腐食性が充分に高くなり、かつ電極間の接続抵抗が充分に低くなる。また、上記最外層が金層である場合の金層の厚みが薄いほど、コストが低くなる。 When the conductive part is formed of a plurality of layers, the thickness of the outermost conductive layer is preferably 0.001 μm or more, more preferably the thickness of the gold layer when the outermost layer is a gold layer. It is 0.01 μm or more, preferably 0.5 μm or less, more preferably 0.1 μm or less. When the thickness of the outermost conductive layer is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the coating with the outermost conductive layer becomes uniform, corrosion resistance is sufficiently high, and the connection resistance between the electrodes is sufficiently high. Lower. Further, the thinner the gold layer when the outermost layer is a gold layer, the lower the cost.
上記導電部の厚みは、例えば透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて、導電性粒子又は絶縁性粒子付き導電性粒子の断面を観察することにより測定できる。 The thickness of the said electroconductive part can be measured by observing the cross section of electroconductive particle or electroconductive particle with an insulating particle using a transmission electron microscope (TEM), for example.
上記導電性粒子は、導電部の表面に突起を有することが好ましく、該突起は複数であることが好ましい。絶縁性粒子付き導電性粒子により接続される電極の表面には、酸化被膜が形成されていることが多い。導電部の表面に突起を有する絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた場合には、電極間に導電性粒子を配置して圧着させることにより、突起により上記酸化被膜を効果的に排除できる。このため、電極と導電部とがより一層確実に接触され、電極間の接続抵抗がより一層低くなる。さらに、電極間の接続時に、導電性粒子の突起によって、導電性粒子と電極との間の絶縁性粒子が効果的に排除される。このため、電極間の導通信頼性がより一層高くなる。 The conductive particles preferably have protrusions on the surface of the conductive part, and the protrusions are preferably plural. An oxide film is often formed on the surface of the electrode connected by the conductive particles with insulating particles. When conductive particles with insulating particles having protrusions on the surface of the conductive part are used, the oxide film can be effectively eliminated by the protrusions by disposing the conductive particles between the electrodes and pressing them. For this reason, an electrode and an electroconductive part are contacted still more reliably and the connection resistance between electrodes becomes still lower. Furthermore, when the electrodes are connected, the insulating particles between the conductive particles and the electrodes are effectively excluded by the protrusions of the conductive particles. For this reason, the conduction | electrical_connection reliability between electrodes becomes still higher.
導電性粒子の表面に突起を形成する方法としては、基材粒子の表面に芯物質を付着させた後、無電解めっきにより導電部を形成する方法、基材粒子の表面に無電解めっきにより導電部を形成した後、芯物質を付着させ、更に無電解めっきにより導電部を形成する方法、並びに無電解めっきにより導電部を形成する途中段階で、芯物質を添加して導電部を形成する方法等が挙げられる。なお、突起を形成するために、芯物質は必ずしも用いられなくてもよい。 As a method of forming protrusions on the surface of the conductive particles, a method of forming a conductive portion by electroless plating after attaching a core substance to the surface of the base particle, conductive by electroless plating on the surface of the base particle. A method of forming a conductive part by forming a conductive material by electroless plating, and a method of forming a conductive part by adding a core material in the middle of forming the conductive part by electroless plating Etc. Note that the core substance is not necessarily used to form the protrusions.
上記導電性粒子は、基材粒子の表面上に第1の導電層を有し、かつ該第1の導電層上に第2の導電層を有していてもよい。この場合に、第1の導電層の表面に芯物質を付着させてもよい。芯物質は第2の導電層により被覆されていること好ましい。上記第1の導電層の厚みは、好ましくは0.05μm以上、好ましくは0.5μm以下である。導電性粒子は、基材粒子の表面上に第1の導電層を形成し、次に該第1の導電層の表面上に芯物質を付着させた後、第1の導電層及び芯物質の表面上に第2の導電層を形成することにより得られていることが好ましい。 The conductive particles may have a first conductive layer on the surface of the base particle, and may have a second conductive layer on the first conductive layer. In this case, a core substance may be attached to the surface of the first conductive layer. The core material is preferably covered with a second conductive layer. The thickness of the first conductive layer is preferably 0.05 μm or more, and preferably 0.5 μm or less. The conductive particles form a first conductive layer on the surface of the base particle, and then a core material is deposited on the surface of the first conductive layer, and then the first conductive layer and the core material are formed. It is preferably obtained by forming a second conductive layer on the surface.
上記芯物質を構成する物質としては、導電性物質及び非導電性物質が挙げられる。上記導電性物質としては、例えば、金属、金属の酸化物、黒鉛等の導電性非金属及び導電性ポリマー等が挙げられる。上記導電性ポリマーとしては、ポリアセチレン等が挙げられる。上記非導電性物質としては、シリカ、アルミナ及びジルコニア等が挙げられる。なかでも、導電性を高めることができるので、金属が好ましい。上記芯物質は金属粒子であることが好ましい。 Examples of the material constituting the core material include conductive materials and non-conductive materials. Examples of the conductive material include conductive non-metals such as metals, metal oxides, and graphite, and conductive polymers. Examples of the conductive polymer include polyacetylene. Examples of the nonconductive material include silica, alumina, and zirconia. Among them, metal is preferable because conductivity can be increased. The core substance is preferably metal particles.
上記金属としては、例えば、金、銀、銅、白金、亜鉛、鉄、鉛、錫、アルミニウム、コバルト、インジウム、ニッケル、クロム、チタン、アンチモン、ビスマス、ゲルマニウム、タングステン、モリブデン及びカドミウム等の金属、並びに錫−鉛合金、錫−銅合金、錫−銀合金、錫−鉛−銀合金及び炭化タングステン等の2種類以上の金属で構成される合金等が挙げられる。なかでも、ニッケル、銅、銀又は金が好ましい。上記芯物質を構成する金属は、上記導電部(導電層)を構成する金属と同じであってもよく、異なっていてもよい。 Examples of the metal include gold, silver, copper, platinum, zinc, iron, lead, tin, aluminum, cobalt, indium, nickel, chromium, titanium, antimony, bismuth, germanium, tungsten, molybdenum, and cadmium. And alloys composed of two or more kinds of metals such as a tin-lead alloy, a tin-copper alloy, a tin-silver alloy, a tin-lead-silver alloy, and tungsten carbide. Of these, nickel, copper, silver or gold is preferable. The metal constituting the core substance may be the same as or different from the metal constituting the conductive part (conductive layer).
上記芯物質の形状は特に限定されない。芯物質の形状は塊状であることが好ましい。芯物質としては、例えば、粒子状の塊、複数の微小粒子が凝集した凝集塊、及び不定形の塊等が挙げられる。 The shape of the core material is not particularly limited. The shape of the core substance is preferably a lump. Examples of the core substance include a particulate lump, an agglomerate in which a plurality of fine particles are aggregated, and an irregular lump.
上記導電部の表面の複数の上記突起の平均高さは、好ましくは0.001μm以上、より好ましくは0.05μm以上、好ましくは0.9μm以下、より好ましくは0.2μm以下である。上記突起の平均高さが上記下限以上及び上記上限以下であると、電極間の接続抵抗が効果的に低くなる。導電接続後の絶縁信頼性をより一層高める観点からは、上記絶縁性粒子の平均粒子径が、上記突起の平均高さよりも大きいことが好ましい。 The average height of the plurality of protrusions on the surface of the conductive part is preferably 0.001 μm or more, more preferably 0.05 μm or more, preferably 0.9 μm or less, more preferably 0.2 μm or less. When the average height of the protrusions is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the connection resistance between the electrodes is effectively reduced. From the viewpoint of further increasing the insulation reliability after the conductive connection, it is preferable that the average particle diameter of the insulating particles is larger than the average height of the protrusions.
上記突起の高さは、導電性粒子の中心と突起の先端とを結ぶ線(図2に示す破線L1)上における、突起が無いと想定した場合の導電部の仮想線(図2に示す破線L2)上(突起が無いと想定した場合の球状の導電性粒子の外表面上)から突起の先端までの距離を示す。すなわち、図2においては、破線L1と破線L2との交点から突起の先端までの距離を示す。 The height of the projection is a virtual line of the conductive portion (dashed line shown in FIG. 2) on the assumption that there is no projection on the line connecting the center of the conductive particles and the tip of the projection (dashed line L1 shown in FIG. 2). L2) Indicates the distance from the top (on the outer surface of the spherical conductive particles assuming no projection) to the tip of the projection. That is, in FIG. 2, the distance from the intersection of the broken line L1 and the broken line L2 to the tip of the protrusion is shown.
[絶縁性粒子]
上記絶縁性粒子は、絶縁性を有する粒子である。絶縁性粒子は導電性粒子よりも小さい。絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて電極間を接続すると、絶縁性粒子により、隣接する電極間の短絡を防止できる。具体的には、複数の絶縁性粒子付き導電性粒子が接触したときに、複数の絶縁性粒子付き導電性粒子における導電性粒子間には絶縁性粒子が存在するので、上下の電極間ではなく、横方向に隣り合う電極間の短絡を防止できる。なお、電極間の接続の際に、2つの電極で絶縁性粒子付き導電性粒子を加圧することにより、導電部と電極との間の絶縁性粒子を容易に排除できる。導電性粒子が導電性の表面に突起を有する場合には、導電部と電極との間の絶縁性粒子をより一層容易に排除できる。
[Insulating particles]
The insulating particles are particles having insulating properties. Insulating particles are smaller than conductive particles. When the electrodes are connected using conductive particles with insulating particles, the insulating particles can prevent a short circuit between adjacent electrodes. Specifically, when the conductive particles with a plurality of insulating particles are in contact with each other, there are insulating particles between the conductive particles in the conductive particles with a plurality of insulating particles. Short circuit between the electrodes adjacent in the lateral direction can be prevented. In addition, the insulating particle between an electroconductive part and an electrode can be easily excluded by pressurizing the electroconductive particle with an insulating particle with two electrodes in the case of the connection between electrodes. When the conductive particles have protrusions on the conductive surface, the insulating particles between the conductive portion and the electrode can be more easily eliminated.
上記絶縁性粒子を構成する材料としては、絶縁性の樹脂、及び絶縁性の無機物等が挙げられる。上記絶縁性の樹脂としては、基材粒子として用いることが可能な樹脂粒子を形成するための樹脂として挙げた上記樹脂が挙げられる。上記絶縁性の無機物としては、基材粒子として用いることが可能な無機粒子を形成するための無機物として挙げた上記無機物が挙げられる。 Examples of the material constituting the insulating particles include an insulating resin and an insulating inorganic substance. As said insulating resin, the said resin quoted as resin for forming the resin particle which can be used as a base particle is mentioned. As said insulating inorganic substance, the said inorganic substance quoted as an inorganic substance for forming the inorganic particle which can be used as a base particle is mentioned.
上記絶縁性粒子の材料である絶縁性樹脂の具体例としては、ポリオレフィン類、(メタ)アクリレート重合体、(メタ)アクリレート共重合体、ブロックポリマー、熱可塑性樹脂、熱可塑性樹脂の架橋物、熱硬化性樹脂及び水溶性樹脂等が挙げられる。 Specific examples of the insulating resin that is the material of the insulating particles include polyolefins, (meth) acrylate polymers, (meth) acrylate copolymers, block polymers, thermoplastic resins, crosslinked thermoplastic resins, heat Examples thereof include curable resins and water-soluble resins.
上記ポリオレフィン類としては、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体及びエチレン−アクリル酸エステル共重合体等が挙げられる。上記(メタ)アクリレート重合体としては、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリエチル(メタ)アクリレート及びポリブチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。上記ブロックポリマーとしては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、SB型スチレン−ブタジエンブロック共重合体、及びSBS型スチレン−ブタジエンブロック共重合体、並びにこれらの水素添加物等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としては、ビニル重合体及びビニル共重合体等が挙げられる。上記熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂及びメラミン樹脂等が挙げられる。上記水溶性樹脂としては、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキシド及びメチルセルロース等が挙げられる。なかでも、水溶性樹脂が好ましく、ポリビニルアルコールがより好ましい。 Examples of the polyolefins include polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, and ethylene-acrylic acid ester copolymer. Examples of the (meth) acrylate polymer include polymethyl (meth) acrylate, polyethyl (meth) acrylate, and polybutyl (meth) acrylate. Examples of the block polymer include polystyrene, styrene-acrylic acid ester copolymer, SB type styrene-butadiene block copolymer, SBS type styrene-butadiene block copolymer, and hydrogenated products thereof. Examples of the thermoplastic resin include vinyl polymers and vinyl copolymers. As said thermosetting resin, an epoxy resin, a phenol resin, a melamine resin, etc. are mentioned. Examples of the water-soluble resin include polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyacrylamide, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, and methyl cellulose. Of these, water-soluble resins are preferable, and polyvinyl alcohol is more preferable.
熱圧着時の絶縁性粒子の脱離性をより一層高める観点からは、絶縁性粒子は、無機粒子を含むことが好ましく、シリカ粒子であることが好ましい。上記無機粒子としては、シラス粒子、ハイドロキシアパタイト粒子、マグネシア粒子、酸化ジルコニウム粒子及びシリカ粒子等が挙げられる。熱圧着時の絶縁性粒子の脱離性をより一層高める観点からは、上記絶縁性粒子はシリカ粒子を含むことが好ましく、上記無機粒子はシリカ粒子であることが好ましい。シリカ粒子としては、粉砕シリカ、球状シリカが挙げられ、球状シリカを用いることが好ましい。また、シリカ粒子は表面に、例えばカルボキシル基、水酸基等の化学結合可能な官能基を有することが好ましく、水酸基を有することがより好ましい。無機粒子は比較的硬く、特にシリカ粒子は比較的硬い。このような硬い絶縁性粒子を有する絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた場合には、絶縁性粒子付き導電性粒子とバインダー樹脂とを混練する際に、導電性粒子の表面から、硬い絶縁性粒子が脱離しやすい。しかしながら、本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた場合には、硬い絶縁性粒子を用いたとしても、上記混練の際に、絶縁性層により硬い絶縁性粒子が脱離するのを抑制できる。上記絶縁性層は、例えば柔軟層としての役割を果たす。 From the viewpoint of further improving the detachability of the insulating particles during thermocompression bonding, the insulating particles preferably include inorganic particles, and are preferably silica particles. Examples of the inorganic particles include shirasu particles, hydroxyapatite particles, magnesia particles, zirconium oxide particles, and silica particles. From the viewpoint of further improving the detachability of the insulating particles during thermocompression bonding, the insulating particles preferably include silica particles, and the inorganic particles are preferably silica particles. Examples of the silica particles include pulverized silica and spherical silica, and spherical silica is preferably used. The silica particles preferably have a functional group capable of chemical bonding such as a carboxyl group and a hydroxyl group on the surface, and more preferably have a hydroxyl group. Inorganic particles are relatively hard, especially silica particles are relatively hard. When conductive particles with insulating particles having such hard insulating particles are used, when the conductive particles with insulating particles and the binder resin are kneaded, hard insulating properties are obtained from the surface of the conductive particles. Particles are easily detached. However, when the conductive particles with insulating particles according to the present invention are used, even if hard insulating particles are used, the hard insulating particles are detached by the insulating layer during the kneading. Can be suppressed. The insulating layer serves as a flexible layer, for example.
上記導電性粒子及び上記導電部の表面に絶縁性粒子を付着させる方法としては、化学的方法、及び物理的もしくは機械的方法等が挙げられる。上記化学的方法としては、例えば、界面重合法、粒子存在下での懸濁重合法及び乳化重合法等が挙げられる。上記物理的もしくは機械的方法としては、スプレードライ、ハイブリダイゼーション、静電付着法、噴霧法、ディッピング及び真空蒸着による方法等が挙げられる。本発明では、導電接続後の導通信頼性及び絶縁信頼性との双方を高めるために、上記導電部と上記絶縁層とを化学結合させる。これに対して、ハイブリダイゼーション法では、絶縁性粒子の脱離が生じやすい傾向がある。 Examples of the method for attaching insulating particles to the surfaces of the conductive particles and the conductive part include chemical methods and physical or mechanical methods. Examples of the chemical method include an interfacial polymerization method, a suspension polymerization method in the presence of particles, and an emulsion polymerization method. Examples of the physical or mechanical method include spray drying, hybridization, electrostatic adhesion, spraying, dipping, and vacuum deposition. In the present invention, in order to improve both the conduction reliability and the insulation reliability after the conductive connection, the conductive portion and the insulating layer are chemically bonded. In contrast, the hybridization method tends to cause desorption of insulating particles.
本発明に係る絶縁性粒子付き導電性粒子において、絶縁性粒子は、導電性粒子の表面に、ハイブリダイゼーション法により付着されていないことが好ましい。 In the conductive particles with insulating particles according to the present invention, the insulating particles are preferably not attached to the surface of the conductive particles by a hybridization method.
導電部の表面、及び絶縁性粒子の表面はそれぞれ、反応性官能基を有する化合物によって被覆されていてもよい。導電部の表面と絶縁性粒子の表面とは、直接化学結合していなくてもよく、反応性官能基を有する化合物によって間接的に化学結合していてもよい。導電部の表面にカルボキシル基を導入した後、該カルボキシル基がポリエチレンイミンなどの高分子電解質を介して絶縁性粒子の表面の官能基と化学結合していても構わない。 The surface of the conductive part and the surface of the insulating particles may each be coated with a compound having a reactive functional group. The surface of the conductive part and the surface of the insulating particles may not be directly chemically bonded, but may be indirectly chemically bonded by a compound having a reactive functional group. After introducing a carboxyl group into the surface of the conductive part, the carboxyl group may be chemically bonded to a functional group on the surface of the insulating particle through a polymer electrolyte such as polyethyleneimine.
上記導電性粒子及び上記導電部の表面に絶縁性粒子を付着させる方法の一例としては、以下の方法が挙げられる。 The following method is mentioned as an example of the method of making an insulating particle adhere to the surface of the said electroconductive particle and the said electroconductive part.
先ず、水などの溶媒3L中に、導電性粒子を入れ、撹拌しながら、絶縁性粒子を徐々に添加する。十分に撹拌した後、絶縁性粒子付き導電性粒子を分離し、真空乾燥機などにより乾燥して、絶縁性粒子付き導電性粒子を得る。 First, the conductive particles are put in 3 L of a solvent such as water, and the insulating particles are gradually added while stirring. After sufficiently stirring, the conductive particles with insulating particles are separated and dried by a vacuum dryer or the like to obtain conductive particles with insulating particles.
上記導電部は表面に、絶縁性粒子と反応可能な反応性官能基を有することが好ましく、絶縁性層と反応可能な反応性官能基を有することが好ましい。絶縁性粒子は表面に、導電部と反応可能な反応性官能基を有することが好ましく、絶縁性層と反応可能な反応性官能基を有することが好ましい。上記絶縁性層は表面に、導電部と反応可能な反応性官能基を有することが好ましく、絶縁性粒子と反応可能な官能基を有することが好ましい。これらの反応性官能基により、導電接続後の絶縁信頼性がより一層高くなり、更に導電性粒子の表面から絶縁性粒子が意図せずに脱離し難くなり、更に導電性粒子の表面及び絶縁性粒子の表面から絶縁性層が剥離し難くなる。さらに、導電部の表面を絶縁性層により充分に被覆でき、更に絶縁性粒子の表面を絶縁性層により充分に被覆できる。 The conductive part preferably has a reactive functional group capable of reacting with the insulating particles on the surface, and preferably has a reactive functional group capable of reacting with the insulating layer. The insulating particles preferably have a reactive functional group capable of reacting with the conductive portion on the surface, and preferably have a reactive functional group capable of reacting with the insulating layer. The insulating layer preferably has a reactive functional group capable of reacting with the conductive portion on the surface, and preferably has a functional group capable of reacting with the insulating particles. By these reactive functional groups, the insulation reliability after the conductive connection is further increased, and further, the insulating particles are difficult to be removed from the surface of the conductive particles unintentionally. The insulating layer is difficult to peel off from the surface of the particles. Furthermore, the surface of the conductive portion can be sufficiently covered with the insulating layer, and the surface of the insulating particles can be sufficiently covered with the insulating layer.
上記反応性官能基として、反応性を考慮して適宜の基が選択される。上記反応性官能基としては、水酸基、ビニル基及びアミノ基等が挙げられる。反応性に優れているので、上記反応性官能基は水酸基であることが好ましい。上記絶縁性粒子付き導電性粒子は、表面の少なくとも一部の領域に、水酸基を有することが好ましい。上記導電性粒子は表面に、水酸基を有することが好ましい。上記絶縁性粒子は表面に、水酸基を有することが好ましい。上記絶縁性層は表面に水酸基を有することが好ましい。 As the reactive functional group, an appropriate group is selected in consideration of reactivity. Examples of the reactive functional group include a hydroxyl group, a vinyl group, and an amino group. Since the reactivity is excellent, the reactive functional group is preferably a hydroxyl group. The conductive particles with insulating particles preferably have a hydroxyl group in at least a part of the surface. The conductive particles preferably have a hydroxyl group on the surface. The insulating particles preferably have a hydroxyl group on the surface. The insulating layer preferably has a hydroxyl group on the surface.
絶縁性粒子の表面と導電性粒子の表面とに水酸基がある場合には、脱水反応により絶縁性粒子と導電性粒子との付着力が適度に高くなる。 When there are hydroxyl groups on the surface of the insulating particles and the surface of the conductive particles, the adhesion force between the insulating particles and the conductive particles is appropriately increased by the dehydration reaction.
上記水酸基を有する化合物としては、P−OH基含有化合物及びSi−OH基含有化合物等が挙げられる。絶縁性粒子の表面に水酸基を導入するための水酸基を有する化合物としては、P−OH基含有化合物及びSi−OH基含有化合物等が挙げられる。 Examples of the compound having a hydroxyl group include a P—OH group-containing compound and a Si—OH group-containing compound. Examples of the compound having a hydroxyl group for introducing a hydroxyl group on the surface of the insulating particles include a P—OH group-containing compound and a Si—OH group-containing compound.
上記P−OH基含有化合物の具体例としては、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート、アシッドホスホオキシプロピルメタクリレート、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールモノメタクリレート及びアシッドホスホオキシポリオキシプロピレングリコールモノメタクリレート等が挙げられる。上記P−OH基含有化合物は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。 Specific examples of the P-OH group-containing compound include acid phosphooxyethyl methacrylate, acid phosphooxypropyl methacrylate, acid phosphooxypolyoxyethylene glycol monomethacrylate, and acid phosphooxypolyoxypropylene glycol monomethacrylate. As for the said P-OH group containing compound, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.
上記Si−OH基含有化合物の具体例としては、ビニルトリヒドロキシシラン、及び3−メタクリロキシプロピルトリヒドロキシシラン等が挙げられる。上記Si−OH基含有化合物は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。 Specific examples of the Si-OH group-containing compound include vinyltrihydroxysilane and 3-methacryloxypropyltrihydroxysilane. As for the said Si-OH group containing compound, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.
例えば、水酸基を表面に有する絶縁性粒子は、シランカップリング剤を用いた処理により得ることができる。上記シランカップリング剤としては、例えば、ヒドロキシトリメトキシシラン等が挙げられる。 For example, insulating particles having a hydroxyl group on the surface can be obtained by a treatment using a silane coupling agent. Examples of the silane coupling agent include hydroxytrimethoxysilane.
(導電材料)
本発明に係る導電材料は、上記絶縁性粒子付き導電性粒子と、バインダー樹脂とを含む。上記導電性粒子は、バインダー樹脂中に分散され、導電材料として用いられることが好ましい。上記導電材料は、異方性導電材料であることが好ましい。上記導電材料は、電極の電気的な接続に好適に用いられる。上記導電材料は、回路接続材料であることが好ましい。
(Conductive material)
The conductive material according to the present invention includes the conductive particles with insulating particles and a binder resin. The conductive particles are preferably dispersed in a binder resin and used as a conductive material. The conductive material is preferably an anisotropic conductive material. The conductive material is preferably used for electrical connection of electrodes. The conductive material is preferably a circuit connection material.
上記絶縁性粒子付き導電性粒子を用いた場合には、絶縁性粒子と導電性粒子との表面が絶縁性層により被覆されているので、更に上記導電部と上記絶縁性粒子とが化学的に結合しているので、絶縁性粒子付き導電性粒子をバインダー樹脂中に分散させる際などに、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が脱離し難い。 When the conductive particles with insulating particles are used, since the surfaces of the insulating particles and the conductive particles are covered with an insulating layer, the conductive portion and the insulating particles are chemically separated. Since they are bonded, it is difficult for the insulating particles to be detached from the surface of the conductive particles when the conductive particles with insulating particles are dispersed in the binder resin.
上記バインダー樹脂は特に限定されない。上記バインダー樹脂としては、一般的には絶縁性の樹脂が用いられる。上記バインダー樹脂としては、例えば、ビニル樹脂、熱可塑性樹脂、硬化性樹脂、熱可塑性ブロック共重合体及びエラストマー等が挙げられる。上記バインダー樹脂は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。 The binder resin is not particularly limited. In general, an insulating resin is used as the binder resin. Examples of the binder resin include vinyl resins, thermoplastic resins, curable resins, thermoplastic block copolymers, and elastomers. As for the said binder resin, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.
上記ビニル樹脂としては、例えば、酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂及びスチレン樹脂等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリオレフィン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体及びポリアミド樹脂等が挙げられる。上記硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂及び不飽和ポリエステル樹脂等が挙げられる。なお、上記硬化性樹脂は、常温硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、光硬化型樹脂又は湿気硬化型樹脂であってもよい。上記硬化性樹脂は、硬化剤と併用されてもよい。上記熱可塑性ブロック共重合体としては、例えば、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体の水素添加物、及びスチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体の水素添加物等が挙げられる。上記エラストマーとしては、例えば、スチレン−ブタジエン共重合ゴム、及びアクリロニトリル−スチレンブロック共重合ゴム等が挙げられる。 Examples of the vinyl resin include vinyl acetate resin, acrylic resin, and styrene resin. Examples of the thermoplastic resin include polyolefin resins, ethylene-vinyl acetate copolymers, and polyamide resins. Examples of the curable resin include an epoxy resin, a urethane resin, a polyimide resin, and an unsaturated polyester resin. The curable resin may be a room temperature curable resin, a thermosetting resin, a photocurable resin, or a moisture curable resin. The curable resin may be used in combination with a curing agent. Examples of the thermoplastic block copolymer include a styrene-butadiene-styrene block copolymer, a styrene-isoprene-styrene block copolymer, a hydrogenated product of a styrene-butadiene-styrene block copolymer, and a styrene-isoprene. -Hydrogenated product of a styrene block copolymer. Examples of the elastomer include styrene-butadiene copolymer rubber and acrylonitrile-styrene block copolymer rubber.
上記導電材料は、上記絶縁性粒子付き導電性粒子及び上記バインダー樹脂の他に、例えば、充填剤、増量剤、軟化剤、可塑剤、重合触媒、硬化触媒、着色剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤及び難燃剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。 In addition to the conductive particles with insulating particles and the binder resin, the conductive material includes, for example, a filler, an extender, a softener, a plasticizer, a polymerization catalyst, a curing catalyst, a colorant, an antioxidant, and heat stability. Various additives such as an agent, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a lubricant, an antistatic agent and a flame retardant may be contained.
本発明に係る導電材料は、導電ペースト又は導電フィルムとして使用され得る。本発明に係る導電材料が、導電フィルムとして使用される場合には、該導電性粒子を含む導電フィルムに、導電性粒子を含まないフィルムが積層されていてもよい。上記導電ペーストは、異方性導電ペーストであることが好ましい。上記導電フィルムは、異方性導電フィルムであることが好ましい。 The conductive material according to the present invention can be used as a conductive paste or a conductive film. When the conductive material according to the present invention is used as a conductive film, a film not including conductive particles may be laminated on the conductive film including the conductive particles. The conductive paste is preferably an anisotropic conductive paste. The conductive film is preferably an anisotropic conductive film.
本発明に係る導電材料は、導電ペーストであることが好ましく、異方性導電ペーストであることがより好ましい。異方性導電ペーストなどの導電ペーストは取り扱い性及び回路充填性に優れている。導電ペーストを得る際には絶縁性粒子付き導電性粒子に比較的大きな力が付与されるものの、上記絶縁性層の存在によって導電性粒子の表面から絶縁性粒子が脱離するのを抑制できる。 The conductive material according to the present invention is preferably a conductive paste, and more preferably an anisotropic conductive paste. Conductive pastes such as anisotropic conductive pastes are excellent in handleability and circuit fillability. When a conductive paste is obtained, a relatively large force is applied to the conductive particles with insulating particles, but the presence of the insulating layer can prevent the insulating particles from being detached from the surface of the conductive particles.
上記導電材料100重量%中、上記バインダー樹脂の含有量は好ましくは10重量%以上、より好ましくは30重量%以上、更に好ましくは50重量%以上、特に好ましくは70重量%以上、好ましくは99.99重量%以下、より好ましくは99.9重量%以下である。上記バインダー樹脂の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、電極間に導電性粒子が効率的に配置され、導電材料により接続された接続対象部材の接続信頼性がより一層高くなる。 In 100% by weight of the conductive material, the content of the binder resin is preferably 10% by weight or more, more preferably 30% by weight or more, still more preferably 50% by weight or more, particularly preferably 70% by weight or more, preferably 99.% or more. It is 99 weight% or less, More preferably, it is 99.9 weight% or less. When the content of the binder resin is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the conductive particles are efficiently arranged between the electrodes, and the connection reliability of the connection target member connected by the conductive material is further increased.
上記導電材料100重量%中、上記導電性粒子の含有量は好ましくは0.01重量%以上、より好ましくは0.1重量%以上、好ましくは40重量%以下、より好ましくは20重量%以下、更に好ましくは10重量%以下である。上記導電性粒子の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、電極間の導通信頼性がより一層高くなる。 In 100% by weight of the conductive material, the content of the conductive particles is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, preferably 40% by weight or less, more preferably 20% by weight or less, More preferably, it is 10 weight% or less. When the content of the conductive particles is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the conduction reliability between the electrodes is further enhanced.
(接続構造体)
上記絶縁性粒子付き導電性粒子を用いて、又は該絶縁性粒子付き導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料を用いて、接続対象部材を接続することにより、接続構造体を得ることができる。
(Connection structure)
A connection structure can be obtained by connecting the connection target members using the conductive particles with insulating particles or using a conductive material containing the conductive particles with insulating particles and a binder resin. .
上記接続構造体は、第1の電極を表面に有する第1の接続対象部材と、第2の電極を表面に有する第2の接続対象部材と、上記第1の電極と上記第2の電極とを電気的に接続している接続部とを備え、該接続部が上記絶縁性粒子付き導電性粒子により形成されているか、又は上記絶縁性粒子付き導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料(異方性導電材料など)により形成されている接続構造体であることが好ましい。上記第1の電極と上記第2の電極とが、上記絶縁性粒子付き導電性粒子における上記導電性粒子により電気的に接続されていることが好ましい。上記絶縁性粒子付き導電性粒子が用いられた場合には、接続部自体が絶縁性粒子付き導電性粒子によって形成される。すなわち、上記第1,第2の電極が絶縁性粒子付き導電性粒子における導電性粒子により電気的に接続される。 The connection structure includes a first connection target member having a first electrode on the surface, a second connection target member having a second electrode on the surface, the first electrode, and the second electrode. A conductive material comprising: a connecting portion electrically connecting the conductive portion with the insulating particles; or a conductive material comprising the conductive particles with insulating particles and a binder resin. A connection structure formed of an anisotropic conductive material or the like is preferable. It is preferable that the first electrode and the second electrode are electrically connected by the conductive particles in the conductive particles with insulating particles. When the conductive particles with insulating particles are used, the connection portion itself is formed by the conductive particles with insulating particles. That is, the first and second electrodes are electrically connected by the conductive particles in the conductive particles with insulating particles.
図5は、図1に示す絶縁性粒子付き導電性粒子1を用いた接続構造体を模式的に示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a connection structure using the
図5に示す接続構造体51は、第1の接続対象部材52と、第2の接続対象部材53と、第1,第2の接続対象部材52,53を接続している接続部54とを備える。接続部54は、絶縁性粒子付き導電性粒子1とバインダー樹脂とを含む導電材料により形成されている。図5では、図示の便宜上、絶縁性粒子付き導電性粒子1は略図的に示されている。絶縁性粒子付き導電性粒子1にかえて、絶縁性粒子付き導電性粒子1A,1B,1Cを用いてもよい。
The
第1の接続対象部材52は表面に、複数の第1の電極52aを有する。第2の接続対象部材53は表面に、複数の第2の電極53aを有する。第1の電極52aと第2の電極53aとが、1つ又は複数の絶縁性粒子付き導電性粒子1における導電性粒子2により電気的に接続されている。第1,第2の接続対象部材52,53は、導電材料に含まれるバインダー樹脂に由来する成分により接続されている。
The first
上記接続構造体の製造方法は特に限定されない。接続構造体の製造方法の一例として、第1の接続対象部材と第2の接続対象部材との間に上記導電材料を配置し、積層体を得た後、該積層体を加熱及び加圧する方法等が挙げられる。上記加圧の圧力は9.8×104〜4.9×106Pa程度である。上記加熱の温度は、120〜220℃程度である。 The manufacturing method of the connection structure is not particularly limited. As an example of a method of manufacturing a connection structure, a method of placing the conductive material between a first connection target member and a second connection target member to obtain a laminate, and then heating and pressurizing the laminate Etc. The pressure of the pressurization is about 9.8 × 10 4 to 4.9 × 10 6 Pa. The temperature of the said heating is about 120-220 degreeC.
上記積層体を加熱及び加圧する際に、上記導電性粒子と上記第1,第2の電との間に存在していた上記絶縁性粒子を排除できる。例えば、上記加熱及び加圧の際には、上記導電性粒子と上記第1,第2の電極との間に存在していた上記絶縁性粒子が溶融したり、変形したりして、上記導電性粒子の表面が部分的に露出する。なお、上記加熱及び加圧の際には、大きな力が付与されるので、上記導電性粒子の表面から一部の上記絶縁性粒子が剥離して、上記導電性粒子の表面が部分的に露出することもある。上記導電性粒子の表面が露出した部分が、上記第1,第2の電極に接触することにより、上記導電性粒子を介して上記第1,第2の電極を電気的に接続できる。 When the laminated body is heated and pressurized, the insulating particles existing between the conductive particles and the first and second electricity can be eliminated. For example, during the heating and pressurization, the insulating particles existing between the conductive particles and the first and second electrodes are melted or deformed, so that the conductive The surface of the conductive particles is partially exposed. In addition, since a large force is applied during the heating and pressurization, some of the insulating particles are peeled off from the surface of the conductive particles, and the surface of the conductive particles is partially exposed. Sometimes. The portion where the surface of the conductive particles is exposed contacts the first and second electrodes, whereby the first and second electrodes can be electrically connected via the conductive particles.
上記接続対象部材としては、具体的には、半導体チップ、コンデンサ及びダイオード等の電子部品、並びにプリント基板、フレキシブルプリント基板、ガラスエポキシ基板及びガラス基板等の回路基板などの電子部品等が挙げられる。上記導電材料はペースト状であり、ペーストの状態で接続対象部材上に塗布されることが好ましい。上記絶縁性粒子付き導電性粒子及び導電材料は、電子部品である接続対象部材の接続に用いられることが好ましい。上記接続対象部材は電子部品であることが好ましい。上記絶縁性粒子付き導電性粒子は、電子部品における電極の電気的な接続に用いられることが好ましい。 Specific examples of the connection target member include electronic components such as semiconductor chips, capacitors, and diodes, and electronic components such as printed boards, flexible printed boards, glass epoxy boards, and glass boards. The conductive material is in a paste form, and is preferably applied on the connection target member in a paste state. The conductive particles with insulating particles and the conductive material are preferably used for connection of a connection target member that is an electronic component. The connection target member is preferably an electronic component. The conductive particles with insulating particles are preferably used for electrical connection of electrodes in an electronic component.
上記接続対象部材に設けられている電極としては、金電極、ニッケル電極、錫電極、アルミニウム電極、銅電極、銀電極、モリブデン電極及びタングステン電極等の金属電極が挙げられる。上記接続対象部材がフレキシブルプリント基板である場合には、上記電極は金電極、ニッケル電極、錫電極又は銅電極であることが好ましい。上記接続対象部材がガラス基板である場合には、上記電極はアルミニウム電極、銅電極、モリブデン電極又はタングステン電極であることが好ましい。なお、上記電極がアルミニウム電極である場合には、アルミニウムのみで形成された電極であってもよく、金属酸化物層の表面にアルミニウム層が積層された電極であってもよい。上記金属酸化物層の材料としては、3価の金属元素がドープされた酸化インジウム及び3価の金属元素がドープされた酸化亜鉛等が挙げられる。上記3価の金属元素としては、Sn、Al及びGa等が挙げられる。 Examples of the electrode provided on the connection target member include metal electrodes such as a gold electrode, a nickel electrode, a tin electrode, an aluminum electrode, a copper electrode, a silver electrode, a molybdenum electrode, and a tungsten electrode. When the connection object member is a flexible printed board, the electrode is preferably a gold electrode, a nickel electrode, a tin electrode, or a copper electrode. When the connection target member is a glass substrate, the electrode is preferably an aluminum electrode, a copper electrode, a molybdenum electrode, or a tungsten electrode. In addition, when the said electrode is an aluminum electrode, the electrode formed only with aluminum may be sufficient and the electrode by which the aluminum layer was laminated | stacked on the surface of the metal oxide layer may be sufficient. Examples of the material for the metal oxide layer include indium oxide doped with a trivalent metal element and zinc oxide doped with a trivalent metal element. Examples of the trivalent metal element include Sn, Al, and Ga.
以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を具体的に説明する。本発明は、以下の実施例のみに限定されない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited only to the following examples.
(実施例1)
(1)導電性粒子の準備工程
ジビニルベンゼン樹脂粒子の表面上にニッケルめっき層(導電層)が形成されている導電性粒子(平均粒子径3.01μm、導電層の厚み0.10μm)を用意した。
Example 1
(1) Preparation step of conductive particles Prepare conductive particles (average particle diameter 3.01 μm, conductive layer thickness 0.10 μm) in which a nickel plating layer (conductive layer) is formed on the surface of divinylbenzene resin particles did.
(2)絶縁性粒子の作製工程
4ツ口セパラブルカバー、攪拌翼、三方コック、冷却管及び温度プローブを取り付けた1000mLセパラブルフラスコに、メタクリル酸メチル380mmol、ジメタクリル酸エチレングリコール13mmol、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールメタクリレート0.5mmol、及び2,2’−アゾビス[N−(2−カルボキシエチル)−2−メチルプロピオンアミジン]1mmolを含むモノマー組成物を入れた。該モノマー組成物に固形分が10重量%となるように蒸留水を添加した後、300rpmで攪拌し、窒素雰囲気下70℃で24時間重合を行った。反応終了後、凍結乾燥して、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールメタクリレートに由来する上記P−OH基を表面に有する絶縁性粒子a(平均粒子径300nm)を得た。
(2) Production process of insulating particles In a 1000 mL separable flask equipped with a four-neck separable cover, a stirring blade, a three-way cock, a condenser tube and a temperature probe, 380 mmol of methyl methacrylate, 13 mmol of ethylene glycol dimethacrylate, acid phospho A monomer composition containing 0.5 mmol of oxypolyoxyethylene glycol methacrylate and 1 mmol of 2,2′-azobis [N- (2-carboxyethyl) -2-methylpropionamidine] was added. Distilled water was added to the monomer composition so that the solid content was 10% by weight, and the mixture was stirred at 300 rpm and polymerized at 70 ° C. for 24 hours in a nitrogen atmosphere. After completion of the reaction, the mixture was freeze-dried to obtain insulating particles a (average particle diameter of 300 nm) having the P—OH group derived from acid phosphooxypolyoxyethylene glycol methacrylate on the surface.
得られた絶縁性粒子aを蒸留水に分散させて、絶縁性粒子aの10重量%分散液を得た。 The obtained insulating particles a were dispersed in distilled water to obtain a 10 wt% dispersion of insulating particles a.
(3)絶縁性層の形成前の絶縁性粒子付き導電性粒子の作製工程
用意した導電性粒子50重量部を蒸留水300mLに分散させた。その分散液に、絶縁性粒子aの10重量%分散液50mLを滴下し50℃で8時間撹拌した。分散液を濾過した後、メタノールで洗浄し、120℃で7時間真空乾燥した。このようにして、ニッケル導電層の表面の水酸基と絶縁性粒子におけるP−OH基とを化学結合させることで、導電性粒子の表面に絶縁性粒子を付着させて、絶縁性層の形成前の絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(3) Step of producing conductive particles with insulating particles before forming the insulating layer 50 parts by weight of the prepared conductive particles were dispersed in 300 mL of distilled water. To the dispersion, 50 mL of a 10 wt% dispersion of insulating particles a was added dropwise and stirred at 50 ° C. for 8 hours. The dispersion was filtered, washed with methanol, and vacuum dried at 120 ° C. for 7 hours. In this way, by chemically bonding the hydroxyl groups on the surface of the nickel conductive layer and the P—OH groups in the insulating particles, the insulating particles are attached to the surface of the conductive particles, and the insulating layer is formed before the formation. Conductive particles with insulating particles were obtained.
(4)絶縁性層の形成工程
エタノールと純水とを重量比1:1で含む溶液にオレイルリン酸を溶解させて、オレイルリン酸の1重量%溶液を得た。得られた絶縁性層の形成前の絶縁性粒子付き導電性粒子50重量部をオレイルリン酸1重量%溶液300mL中に入れ、50℃で1時間撹拌し、撹拌液を得た。その後、メチルメタクリレート(MMA、重合性化合物)0.5重量部、及びラジカル重合開始剤である2,2’−アゾビス[N−(2−カルボキシエチル)−2−メチルプロピオンアミジン](和光純薬工業社製「VA−057」)0.1重量部を溶液に入れ、60℃で5時間撹拌した。これによりニッケル導電層の表面の水酸基とオレイルリン酸におけるP−OH基とを化学結合させ、さらにオレイルリン酸の不飽和結合とMMAのアクリロイル基とを化学結合させて、MMAに由来する絶縁性層が形成された絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(4) Formation process of insulating layer Oleyl phosphoric acid was dissolved in a solution containing ethanol and pure water at a weight ratio of 1: 1 to obtain a 1% by weight solution of oleyl phosphoric acid. 50 parts by weight of the conductive particles with insulating particles before formation of the obtained insulating layer were placed in 300 mL of a 1% by weight oleyl phosphoric acid solution and stirred at 50 ° C. for 1 hour to obtain a stirring solution. Thereafter, 0.5 parts by weight of methyl methacrylate (MMA, polymerizable compound) and 2,2′-azobis [N- (2-carboxyethyl) -2-methylpropionamidine] (Wako Pure Chemical) which is a radical polymerization initiator 0.1 part by weight of “VA-057” manufactured by Kogyo Co., Ltd. was put into the solution and stirred at 60 ° C. for 5 hours. As a result, the hydroxyl group on the surface of the nickel conductive layer is chemically bonded to the P—OH group in oleyl phosphate, and the unsaturated bond of oleyl phosphate and the acryloyl group of MMA are chemically bonded to form an insulating layer derived from MMA. The formed conductive particles with insulating particles were obtained.
得られた絶縁性粒子付き導電性粒子では、絶縁性層が、導電性粒子の絶縁性粒子が配置されていない部分の表面を被覆している第1の部分と、絶縁性粒子の表面を被覆している第2の部分とを有し、上記第1の部分と上記第2の部分とは連なっていた。複数の上記絶縁性粒子は、絶縁性層により被覆されていることによって露出していなかった。導電性粒子の上記絶縁性粒子が配置されていない部分の表面を被覆している上記第1の部分の平均厚みは100nmであった。絶縁性粒子は全て、導電性粒子に接触していた。 In the obtained conductive particles with insulating particles, the insulating layer covers the first part covering the surface of the conductive particles where the insulating particles are not disposed, and the surface of the insulating particles. The first portion and the second portion are connected to each other. The plurality of the insulating particles were not exposed by being covered with the insulating layer. The average thickness of the first part covering the surface of the part where the insulating particles of the conductive particles are not disposed was 100 nm. All of the insulating particles were in contact with the conductive particles.
(実施例2)
(1)導電性粒子の準備工程
ジビニルベンゼン樹脂粒子の表面上にニッケルめっき層(導電層)が形成されている導電性粒子(平均粒子径3.01μm、導電層の厚み0.10μm)を用意した。
(Example 2)
(1) Preparation step of conductive particles Prepare conductive particles (average particle diameter 3.01 μm, conductive layer thickness 0.10 μm) in which a nickel plating layer (conductive layer) is formed on the surface of divinylbenzene resin particles did.
(2)絶縁性粒子の作製工程
4ツ口セパラブルカバー、攪拌翼、三方コック、冷却管及び温度プローブを取り付けた1000mLセパラブルフラスコに、メタクリル酸グリシジル45mmol、メタクリル酸メチル380mmol、ジメタクリル酸エチレングリコール13mmol、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールメタクリレート0.5mmol、及び2,2’−アゾビス[N−(2−カルボキシエチル)−2−メチルプロピオンアミジン]1mmolを含むモノマー組成物を入れた。該モノマー組成物に固形分が10重量%となるように蒸留水を添加した後、300rpmで攪拌し、窒素雰囲気下70℃で24時間重合を行った。反応終了後、凍結乾燥して、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールメタクリレートに由来する上記P−OH基、メタクリル酸グリシジルに由来するエポキシ基を表面に有する絶縁性粒子b(平均粒子径300nm)を得た。
(2) Production process of insulating particles A 1000 mL separable flask equipped with a four-neck separable cover, a stirring blade, a three-way cock, a condenser tube and a temperature probe was charged with 45 mmol of glycidyl methacrylate, 380 mmol of methyl methacrylate, and ethylene dimethacrylate. A monomer composition containing 13 mmol of glycol, 0.5 mmol of acid phosphooxypolyoxyethylene glycol methacrylate, and 1 mmol of 2,2′-azobis [N- (2-carboxyethyl) -2-methylpropionamidine] was added. Distilled water was added to the monomer composition so that the solid content was 10% by weight, and the mixture was stirred at 300 rpm and polymerized at 70 ° C. for 24 hours in a nitrogen atmosphere. After completion of the reaction, freeze-drying is performed to obtain insulating particles b (average particle size of 300 nm) having the above-mentioned P—OH group derived from acid phosphooxypolyoxyethylene glycol methacrylate and the epoxy group derived from glycidyl methacrylate on the surface. It was.
得られた絶縁性粒子bを蒸留水に分散させて、絶縁性粒子bの10重量%分散液を得た。 The obtained insulating particles b were dispersed in distilled water to obtain a 10 wt% dispersion of insulating particles b.
(3)絶縁性層の形成前の絶縁性粒子付き導電性粒子の作製工程
用意した導電性粒子50重量部を蒸留水300mLに分散させた。その分散液に、絶縁性粒子bの10重量%分散液50mLを滴下し50℃で8時間撹拌した。分散液を濾過した後、メタノールで洗浄し、120℃で7時間真空乾燥した。このようにして、導電性粒子のニッケル金属表面の水酸基と絶縁性粒子におけるP−OH基とを化学結合させることで、導電性粒子の表面に絶縁性粒子を付着させて、絶縁性層の形成前の絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(3) Step of producing conductive particles with insulating particles before forming the insulating layer 50 parts by weight of the prepared conductive particles were dispersed in 300 mL of distilled water. 50 mL of a 10 wt% dispersion of insulating particles b was added dropwise to the dispersion and stirred at 50 ° C. for 8 hours. The dispersion was filtered, washed with methanol, and vacuum dried at 120 ° C. for 7 hours. In this way, the insulating particles are adhered to the surface of the conductive particles by chemically bonding the hydroxyl groups on the nickel metal surface of the conductive particles and the P-OH groups in the insulating particles, thereby forming an insulating layer. The previous conductive particles with insulating particles were obtained.
(4)絶縁性層の形成工程
エタノールと純水とを重量比1:1で含む溶液にオレイルリン酸を溶解させて、オレイルリン酸の1重量%溶液を得た。得られた絶縁性層の形成前の絶縁性粒子付き導電性粒子50重量部をオレイルリン酸1重量%溶液300mL中に入れ、50℃で1時間撹拌し、撹拌液を得た。その後、メチルメタクリレート(MMA、重合性化合物)0.5重量部、ラジカル重合開始剤である2,2’−アゾビス[N−(2−カルボキシエチル)−2−メチルプロピオンアミジン](和光純薬工業社製「VA−057」)0.05重量部、グリシジルメタクリレート(重合性化合物)0.3重量部、及びカチオン重合開始剤(三新化学社製「サンエイドSI−60」)0.05重量部を溶液に入れ、60℃で8時間撹拌した。これにより導電性粒子のニッケル導電層の表面の水酸基とオレイルリン酸におけるP−OH基とを化学結合させ、さらにオレイルリン酸の不飽和結合とMMA及びグリシジルメタクリレートのアクリロイル基を化学結合させ、グリシジルメタクリレートのエポキシ基と絶縁性粒子のエポキシ基とを化学結合させて、MMA及びグリシジルメタクリレートに由来する絶縁性層が形成された絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(4) Formation process of insulating layer Oleyl phosphoric acid was dissolved in a solution containing ethanol and pure water at a weight ratio of 1: 1 to obtain a 1% by weight solution of oleyl phosphoric acid. 50 parts by weight of the conductive particles with insulating particles before formation of the obtained insulating layer were placed in 300 mL of a 1% by weight oleyl phosphoric acid solution and stirred at 50 ° C. for 1 hour to obtain a stirring solution. Thereafter, 0.5 parts by weight of methyl methacrylate (MMA, polymerizable compound), 2,2′-azobis [N- (2-carboxyethyl) -2-methylpropionamidine] (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) which is a radical polymerization initiator "VA-057" manufactured by the company) 0.05 parts by weight, glycidyl methacrylate (polymerizable compound) 0.3 parts by weight, and cationic polymerization initiator ("Sun Aid SI-60" manufactured by Sanshin Chemical Co., Ltd.) 0.05 parts by weight Was added to the solution and stirred at 60 ° C. for 8 hours. As a result, the hydroxyl group on the surface of the nickel conductive layer of the conductive particles is chemically bonded to the P-OH group in oleyl phosphate, and the unsaturated bond of oleyl phosphate and the acryloyl group of MMA and glycidyl methacrylate are chemically bonded to each other. The epoxy group and the epoxy group of the insulating particles were chemically bonded to obtain conductive particles with insulating particles in which an insulating layer derived from MMA and glycidyl methacrylate was formed.
(実施例3)
ジビニルベンゼン樹脂粒子の表面上に、ニッケル芯物質が付着しており、該ニッケル芯物質を被覆するようにジビニルベンゼン樹脂粒子の表面上にニッケルめっき層(導電層)が形成されている導電性粒子(平均粒子径3.01μm、導電層の厚み0.10μm、突起の平均高さ150nm)を用意した。
Example 3
Conductive particles in which a nickel core material is attached on the surface of the divinylbenzene resin particles, and a nickel plating layer (conductive layer) is formed on the surface of the divinylbenzene resin particles so as to cover the nickel core material. (Average particle diameter 3.01 μm, conductive layer thickness 0.10 μm, protrusion average height 150 nm) was prepared.
上記導電性粒子を用いたこと以外は実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。 Except having used the said electroconductive particle, it carried out similarly to Example 1, and obtained the electroconductive particle with an insulating particle.
(実施例4)
実施例1と同様にして、絶縁性層の形成前の絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
Example 4
In the same manner as in Example 1, conductive particles with insulating particles before the formation of the insulating layer were obtained.
(4)絶縁性層の形成工程
エタノールと純水とを重量比1:1で含む溶液にオレイルリン酸を溶解させて、オレイルリン酸の1重量%溶液を得た。得られた絶縁性層の形成前の絶縁性粒子付き導電性粒子50重量部をオレイルリン酸1重量%溶液300mL中に入れ、50℃で1時間撹拌し、撹拌液を得た。その後、メチルメタクリレート(MMA、重合性化合物)1.0重量部、及びラジカル重合開始剤である2,2’−アゾビス[N−(2−カルボキシエチル)−2−メチルプロピオンアミジン](和光純薬工業社製「VA−057」)0.2重量部を溶液に入れ、60℃で5時間撹拌した。これによりニッケル導電層の表面の水酸基とオレイルリン酸におけるP−OH基とを化学結合させ、さらにオレイルリン酸の不飽和結合とMMAのアクリロイル基とを化学結合させて、MMAに由来する絶縁性層が形成された絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(4) Formation process of insulating layer Oleyl phosphoric acid was dissolved in a solution containing ethanol and pure water at a weight ratio of 1: 1 to obtain a 1% by weight solution of oleyl phosphoric acid. 50 parts by weight of the conductive particles with insulating particles before formation of the obtained insulating layer were placed in 300 mL of a 1% by weight oleyl phosphoric acid solution and stirred at 50 ° C. for 1 hour to obtain a stirring solution. Thereafter, 1.0 part by weight of methyl methacrylate (MMA, polymerizable compound) and 2,2′-azobis [N- (2-carboxyethyl) -2-methylpropionamidine] (Wako Pure Chemical) which is a radical polymerization initiator 0.2 part by weight of “VA-057” manufactured by Kogyo Co., Ltd. was put in the solution, and stirred at 60 ° C. for 5 hours. As a result, the hydroxyl group on the surface of the nickel conductive layer is chemically bonded to the P—OH group in oleyl phosphate, and the unsaturated bond of oleyl phosphate and the acryloyl group of MMA are chemically bonded to form an insulating layer derived from MMA. The formed conductive particles with insulating particles were obtained.
得られた絶縁性粒子付き導電性粒子では、絶縁性層が、導電性粒子の絶縁性粒子が配置されていない部分の表面を被覆している第1の部分と、絶縁性粒子の表面を被覆している第2の部分とを有し、上記第1の部分と上記第2の部分とは連なっていた。複数の上記絶縁性粒子は、絶縁性層により被覆されていることによって露出していなかった。導電性粒子の上記絶縁性粒子が配置されていない部分の表面を被覆している上記第1の部分の平均厚みは200nmであった。絶縁性粒子は全て、導電性粒子に接触していた。 In the obtained conductive particles with insulating particles, the insulating layer covers the first part covering the surface of the conductive particles where the insulating particles are not disposed, and the surface of the insulating particles. The first portion and the second portion are connected to each other. The plurality of the insulating particles were not exposed by being covered with the insulating layer. The average thickness of the first part covering the surface of the part where the insulating particles of the conductive particles are not disposed was 200 nm. All of the insulating particles were in contact with the conductive particles.
(実施例5)
実施例1と同様にして、絶縁性層の形成前の絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Example 5)
In the same manner as in Example 1, conductive particles with insulating particles before the formation of the insulating layer were obtained.
(4)絶縁性層の形成工程
エタノールと純水とを重量比1:1で含む溶液にオレイルリン酸を溶解させて、オレイルリン酸の1重量%溶液を得た。得られた絶縁性層の形成前の絶縁性粒子付き導電性粒子50重量部をオレイルリン酸1重量%溶液300mL中に入れ、50℃で1時間撹拌し、撹拌液を得た。その後、メチルメタクリレート(MMA、重合性化合物)0.2重量部、及びラジカル重合開始剤である2,2’−アゾビス[N−(2−カルボキシエチル)−2−メチルプロピオンアミジン](和光純薬工業社製「VA−057」)0.1重量部を溶液に入れ、60℃で5時間撹拌した。これによりニッケル導電層の表面の水酸基とオレイルリン酸におけるP−OH基とを化学結合させ、さらにオレイルリン酸の不飽和結合とMMAのアクリロイル基とを化学結合させて、MMAに由来する絶縁性層が形成された絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(4) Formation process of insulating layer Oleyl phosphoric acid was dissolved in a solution containing ethanol and pure water at a weight ratio of 1: 1 to obtain a 1% by weight solution of oleyl phosphoric acid. 50 parts by weight of the conductive particles with insulating particles before formation of the obtained insulating layer were placed in 300 mL of a 1% by weight oleyl phosphoric acid solution and stirred at 50 ° C. for 1 hour to obtain a stirring solution. Thereafter, 0.2 parts by weight of methyl methacrylate (MMA, polymerizable compound) and 2,2′-azobis [N- (2-carboxyethyl) -2-methylpropionamidine] (Wako Pure Chemical) which is a radical polymerization initiator 0.1 part by weight of “VA-057” manufactured by Kogyo Co., Ltd. was put into the solution and stirred at 60 ° C. for 5 hours. As a result, the hydroxyl group on the surface of the nickel conductive layer is chemically bonded to the P—OH group in oleyl phosphate, and the unsaturated bond of oleyl phosphate and the acryloyl group of MMA are chemically bonded to form an insulating layer derived from MMA. The formed conductive particles with insulating particles were obtained.
得られた絶縁性粒子付き導電性粒子では、絶縁性層が、導電性粒子の絶縁性粒子が配置されていない部分の表面を被覆している第1の部分と、絶縁性粒子の表面を被覆している第2の部分とを有し、上記第1の部分と上記第2の部分とは連なっていた。複数の上記絶縁性粒子は、絶縁性層により被覆されていることによって露出していなかった。導電性粒子の上記絶縁性粒子が配置されていない部分の表面を被覆している上記第1の部分の平均厚みは50nmであった。絶縁性粒子は全個数の内の85%が導電性粒子に接触していた。 In the obtained conductive particles with insulating particles, the insulating layer covers the first part covering the surface of the conductive particles where the insulating particles are not disposed, and the surface of the insulating particles. The first portion and the second portion are connected to each other. The plurality of the insulating particles were not exposed by being covered with the insulating layer. The average thickness of the first part covering the surface of the part where the insulating particles of the conductive particles are not disposed was 50 nm. Of the total number of insulating particles, 85% were in contact with the conductive particles.
(実施例6)
(1)導電性粒子の準備工程
ジビニルベンゼン樹脂粒子の表面上に、ニッケル芯物質が付着しており、該ニッケル芯物質を被覆するようにジビニルベンゼン樹脂粒子の表面上にニッケルめっき層(導電層)が形成されている導電性粒子(平均粒子径3.01μm、導電層の厚み0.10μm、突起の平均高さ350nm)を用意した。
(Example 6)
(1) Preparation Step of Conductive Particles Nickel core material adheres on the surface of divinylbenzene resin particles, and a nickel plating layer (conductive layer) is formed on the surface of divinylbenzene resin particles so as to cover the nickel core material. ) Are formed (average particle diameter 3.01 μm, conductive layer thickness 0.10 μm, protrusion average height 350 nm).
用意した導電性粒子を使用したこと以外は実施例1と同様にして絶縁性層が形成された絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。 Except having used the prepared electroconductive particle, it carried out similarly to Example 1, and obtained the electroconductive particle with the insulating particle in which the insulating layer was formed.
(実施例7)
ジビニルベンゼン樹脂粒子の表面上に、ニッケル芯物質が付着しており、該ニッケル芯物質を被覆するようにジビニルベンゼン樹脂粒子の表面上にニッケルめっき層(導電層)が形成されている導電性粒子(平均粒子径2.01μm、導電層の厚み0.08μm、突起の平均高さ100nm)を用意した。
(Example 7)
Conductive particles in which a nickel core material is attached on the surface of the divinylbenzene resin particles, and a nickel plating layer (conductive layer) is formed on the surface of the divinylbenzene resin particles so as to cover the nickel core material. (Average particle diameter of 2.01 μm, conductive layer thickness of 0.08 μm, protrusion average height of 100 nm) was prepared.
用意した導電性粒子を使用したこと以外は実施例1と同様にして絶縁性層が形成された絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。 Except having used the prepared electroconductive particle, it carried out similarly to Example 1, and obtained the electroconductive particle with the insulating particle in which the insulating layer was formed.
(比較例1)
絶縁性層を形成しなかったこと以外は実施例1と同様にして、絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Comparative Example 1)
Conductive particles with insulating particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the insulating layer was not formed.
(比較例2)
実施例1で得られた導電性粒子10重量部及び絶縁性粒子a1重量部を、ハイブリタイザーを用いて1時間撹拌混合することで、導電性粒子の表面に絶縁性層を形成して、絶縁性層付き導電性粒子を得た。得られた絶縁性層付き導電性粒子10重量部と絶縁性粒子0.5重量部とを、ハイブリタイザーで再度15分撹拌混合することで、絶縁性粒子及び絶縁性層を有する絶縁性粒子付き導電性粒子を作製した。
(Comparative Example 2)
10 parts by weight of the conductive particles obtained in Example 1 and 1 part by weight of the insulating particles a were stirred and mixed using a hybridizer for 1 hour to form an insulating layer on the surface of the conductive particles, thereby insulating the particles. Conductive particles with a conductive layer were obtained. 10 parts by weight of the obtained conductive particles with an insulating layer and 0.5 parts by weight of the insulating particles are stirred and mixed again with a hybridizer for 15 minutes, so that the insulating particles having the insulating particles and the insulating layer are attached. Conductive particles were produced.
(比較例3)
実施例1で得られた絶縁性層の形成前の絶縁性粒子付き導電性粒子を準備した。エタノールと純水とを重量比1:1で含む溶液に、オレイルリン酸を溶解させて、オレイルリン酸の1重量%溶液を得た。得られた絶縁性層の形成前の絶縁性粒子付き導電性粒子50重量部をオレイルリン酸1重量%溶液300mL中に入れ、50℃で1時間撹拌し、撹拌液を得た。得られた撹拌液を濾過し、回収された粒子を100℃で5時間乾燥することで、層状の絶縁性層は形成されていないが、導電性粒子の表面にオレイルリン酸に由来する化合物が存在している絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。
(Comparative Example 3)
Conductive particles with insulating particles before the formation of the insulating layer obtained in Example 1 were prepared. Oleyl phosphoric acid was dissolved in a solution containing ethanol and pure water at a weight ratio of 1: 1 to obtain a 1% by weight solution of oleyl phosphoric acid. 50 parts by weight of the conductive particles with insulating particles before formation of the obtained insulating layer were placed in 300 mL of a 1% by weight oleyl phosphoric acid solution and stirred at 50 ° C. for 1 hour to obtain a stirring solution. The obtained stirring liquid is filtered, and the collected particles are dried at 100 ° C. for 5 hours, whereby a layered insulating layer is not formed, but a compound derived from oleyl phosphate exists on the surface of the conductive particles. Conductive particles with insulating particles were obtained.
(比較例4)
実施例1で得られた絶縁性層の形成前の絶縁性粒子付き導電性粒子を用意した。用意した導電性粒子10重量部と絶縁性粒子0.5重量部とを、ハイブリタイザーで10分撹拌混合することで、絶縁性粒子及び絶縁性層を有する絶縁性粒子付き導電性粒子を作製した。
(Comparative Example 4)
Conductive particles with insulating particles before the formation of the insulating layer obtained in Example 1 were prepared. 10 parts by weight of the prepared conductive particles and 0.5 parts by weight of the insulating particles were stirred and mixed with a hybridizer for 10 minutes to produce conductive particles with insulating particles having insulating particles and an insulating layer. .
(比較例5)
実施例1で得られた絶縁性層の形成前の絶縁性粒子付き導電性粒子を用意した。
(Comparative Example 5)
Conductive particles with insulating particles before the formation of the insulating layer obtained in Example 1 were prepared.
(4)絶縁性層の形成工程
エタノールと純水とを重量比1:1で含む溶液にテトラコシルリン酸を70℃で溶解させて、テトラコシルリン酸の1重量%溶液を得た。用意した絶縁性層の形成前の絶縁性粒子付き導電性粒子10重量部をテトラコシルリン酸1重量%溶液300mL中に入れ、70℃で3時間撹拌し、テトラコシルリン酸に由来する絶縁性層が形成された絶縁性粒子付き導電性粒子を得た。比較例5では、絶縁性層を、重合性化合物を重合させることにより形成しなかった。
(4) Insulating layer forming step Tetracosyl phosphate was dissolved at 70 ° C. in a solution containing ethanol and pure water at a weight ratio of 1: 1 to obtain a 1% by weight solution of tetracosyl phosphate. 10 parts by weight of conductive particles with insulating particles before formation of the prepared insulating layer is placed in 300 mL of a 1 wt% tetracosyl phosphate solution, and stirred at 70 ° C. for 3 hours to provide insulation derived from tetracosyl phosphate Conductive particles with insulating particles formed with a layer were obtained. In Comparative Example 5, the insulating layer was not formed by polymerizing a polymerizable compound.
(評価)
接続構造体の作製:
得られた絶縁性粒子付き導電性粒子を含有量が10重量%となるように、三井化学社製「ストラクトボンドXN−5A」に添加し、分散させ、異方性導電ペーストを得た。
(Evaluation)
Fabrication of connection structure:
The obtained conductive particles with insulating particles were added to “Strectbond XN-5A” manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd. so as to have a content of 10% by weight, and dispersed to obtain an anisotropic conductive paste.
L/Sが15μm/15μmであるAl−Ti複層電極パターンが上面に形成された透明ガラス基板を用意した。また、L/Sが15μm/15μmである金電極パターンが下面に形成された半導体チップを用意した。 A transparent glass substrate having an Al—Ti multilayer electrode pattern with L / S of 15 μm / 15 μm formed on the upper surface was prepared. Further, a semiconductor chip was prepared in which a gold electrode pattern having L / S of 15 μm / 15 μm was formed on the lower surface.
上記透明ガラス基板上に、得られた異方性導電ペーストを厚さ30μmとなるように塗工し、異方性導電ペースト層を形成した。次に、異方性導電ペースト層上に上記半導体チップを、電極同士が対向するように積層した。その後、異方性導電ペースト層の温度が185℃となるようにヘッドの温度を調整しながら、半導体チップの上面に加圧加熱ヘッドを載せ、3MPaの圧力をかけて異方性導電ペースト層を185℃で完全硬化させ、接続構造体を得た。 On the transparent glass substrate, the obtained anisotropic conductive paste was applied to a thickness of 30 μm to form an anisotropic conductive paste layer. Next, the semiconductor chip was stacked on the anisotropic conductive paste layer so that the electrodes face each other. Then, while adjusting the temperature of the head so that the temperature of the anisotropic conductive paste layer becomes 185 ° C., a pressure heating head is placed on the upper surface of the semiconductor chip and a pressure of 3 MPa is applied to form the anisotropic conductive paste layer. Completely cured at 185 ° C. to obtain a connection structure.
(1)導通信頼性の評価(上下の電極間)
得られた接続構造体の上下の電極間の接続抵抗をそれぞれ、4端子法により測定した。2つの接続抵抗の平均値を算出した。なお、電圧=電流×抵抗の関係から、一定の電流を流した時の電圧を測定することにより接続抵抗を求めることができる。導通信頼性を下記の基準で判定した。
(1) Evaluation of conduction reliability (between upper and lower electrodes)
The connection resistance between the upper and lower electrodes of the obtained connection structure was measured by a four-terminal method. The average value of the two connection resistances was calculated. Note that the connection resistance can be obtained by measuring the voltage when a constant current is passed from the relationship of voltage = current × resistance. The conduction reliability was determined according to the following criteria.
[導通信頼性の判定基準]
○○○:接続抵抗が2.0Ω以下
○○:接続抵抗が2.0Ωを超え、3.0Ω以下
○:接続抵抗が3.0Ωを超え、5.0Ω以下
△:接続抵抗が5.0Ωを超え、10Ω以下
×:接続抵抗が10Ωを超える
[Judgment criteria for conduction reliability]
○○○: Connection resistance is 2.0Ω or less ○○: Connection resistance is over 2.0Ω, 3.0Ω or less ○: Connection resistance is over 3.0Ω, 5.0Ω or less Δ: Connection resistance is 5.0Ω Exceeding 10Ω ×: Connection resistance exceeds 10Ω
(2)絶縁信頼性の評価(横方向に隣り合う電極間)
得られた接続構造体において、隣接する櫛歯状の100の電極間のリークの有無を、テスターで抵抗を測定することにより評価した。絶縁信頼性を下記の基準で判定した。
(2) Evaluation of insulation reliability (between adjacent electrodes in the horizontal direction)
In the obtained connection structure, the presence or absence of leakage between the adjacent comb-like electrodes of 100 was evaluated by measuring the resistance with a tester. Insulation reliability was judged according to the following criteria.
[絶縁信頼性の判定基準]
○:抵抗が500MΩを超える(リーク無しと判定)
△:抵抗が100MΩを超え、500MΩ以下
×:抵抗が100MΩ以下(リーク有りと判定)
[Criteria for insulation reliability]
○: Resistance exceeds 500 MΩ (determined that there is no leakage)
Δ: Resistance exceeds 100 MΩ, 500 MΩ or less ×: Resistance is 100 MΩ or less (determined that there is a leak)
(3)防錆性能の評価
上記絶縁評価で作製した接続構造体を、85℃及び相対湿度85%の条件で放置した。放置開始から、100時間後に上記同様に電極間の接続抵抗を4端子法により測定した。防錆性能を下記の基準で判定した。
(3) Evaluation of rust prevention performance The connection structure produced by the above insulation evaluation was left under the conditions of 85 ° C. and relative humidity of 85%. After 100 hours from the start of standing, the connection resistance between the electrodes was measured by the 4-terminal method in the same manner as described above. Rust prevention performance was judged according to the following criteria.
[防錆性能の判定基準]
○:上記の導通信頼性の評価時の接続抵抗(放置前)の平均値に比べ、接続抵抗(放置後)の平均値が150%未満
×:上記の導通信頼性の評価時の接続抵抗(放置前)の平均値に比べ、接続抵抗(放置後)の平均値が150%以上上昇
[Criteria for rust prevention performance]
○: The average value of the connection resistance (after leaving) is less than 150% compared to the average value of the connection resistance (before leaving) at the time of the above-described conduction reliability evaluation. Compared to the average value before leaving), the average value of connection resistance (after leaving) is increased by 150% or more.
(4)導電接続前の絶縁性粒子の脱離防止性
上記(2)絶縁信頼性の評価で得られた異方性導電ペーストにおいて、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が脱離しているか否かを観察した。絶縁性粒子の脱離防止性を下記の基準で判定した。
(4) Preventing detachment of insulating particles before conductive connection In the anisotropic conductive paste obtained by the above (2) evaluation of insulating reliability, whether or not insulating particles are detached from the surface of the conductive particles. Was observed. The anti-detachment property of the insulating particles was determined according to the following criteria.
[脱離防止性の判定基準]
○:導電性粒子の表面から脱離した絶縁性粒子の割合が極めて少ない(脱離した絶縁性粒子の個数割合が10%未満)
△:導電性粒子の表面から脱離した絶縁性粒子が少しある(脱離した絶縁性粒子の個数割合が10%以上、40%未満)
×:導電性粒子の表面から脱離した絶縁性粒子が多くある(脱離した絶縁性粒子の個数割合が40%以上)
[Decision criteria for desorption prevention]
○: The ratio of the insulating particles detached from the surface of the conductive particles is extremely small (the number ratio of the detached insulating particles is less than 10%).
Δ: There are a few insulating particles detached from the surface of the conductive particles (number ratio of the detached insulating particles is 10% or more and less than 40%)
X: There are many insulating particles detached from the surface of the conductive particles (number ratio of detached insulating particles is 40% or more)
(5)導電接続時の絶縁性粒子の脱離性
上記(1)導通信頼性の評価により得られた接続構造体において、導電性粒子の表面から絶縁性粒子が脱離せずに又は脱離後に、電極と導電性粒子との間に挟み込まれている絶縁性粒子が存在するか否かを評価した。
(5) Detachability of insulating particles during conductive connection In the connection structure obtained by the above (1) evaluation of conduction reliability, the insulating particles are not detached from the surface of the conductive particles or after being detached. It was evaluated whether or not there are insulating particles sandwiched between the electrode and the conductive particles.
[絶縁性粒子の脱離性の判定基準]
○:電極と導電性粒子との間に挟み込まれている絶縁性粒子が存在しない
×:電極と導電性粒子との間に挟み込まれている絶縁性粒子が存在する
[Judgment criteria for detachability of insulating particles]
○: Insulating particles sandwiched between electrodes and conductive particles do not exist ×: Insulating particles sandwiched between electrodes and conductive particles exist
結果を下記の表1に示す。なお、比較例3では、防錆性能が低かったので、周囲環境によって導通信頼性が低くなりやすかった。 The results are shown in Table 1 below. In Comparative Example 3, since the rust prevention performance was low, the conduction reliability was likely to be lowered depending on the surrounding environment.
1,1A,1B,1C…絶縁性粒子付き導電性粒子
2,2A,2B…導電性粒子
2Aa,2Ba…突起
3…絶縁性粒子
4,4A,4B,4C…絶縁性層
4a,4Aa,4Ba,4Ca…第1の部分
4b,4Ab,4Bb…第2の部分
11…基材粒子
12,12A,12B…導電部(導電層)
12BA…第1の導電部
12BB…第2の導電部
13…芯物質
51…接続構造体
52…第1の接続対象部材
52a…第1の電極
53…第2の接続対象部材
53a…第2の電極
54…接続部
1, 1A, 1B, 1C ... conductive particles with insulating
12BA ... 1st electroconductive part 12BB ... 2nd
Claims (11)
前記導電性粒子の表面上に配置された複数の絶縁性粒子と、
前記導電性粒子の前記絶縁性粒子が配置されていない部分の表面を被覆している絶縁性層とを備え、
前記絶縁性層が、重合性化合物を重合させることにより形成されており、
前記導電部と前記絶縁性粒子とが、化学的に結合しており、かつ、前記導電部と前記絶縁性層とが、化学的に結合している、絶縁性粒子付き導電性粒子。 Conductive particles having at least a conductive portion on the surface;
A plurality of insulating particles disposed on a surface of the conductive particles;
An insulating layer covering the surface of a portion of the conductive particles where the insulating particles are not disposed,
The insulating layer is formed by polymerizing a polymerizable compound;
Conductive particles with insulating particles, wherein the conductive portion and the insulating particles are chemically bonded, and the conductive portion and the insulating layer are chemically bonded.
前記接触している部分において、前記絶縁性粒子と前記絶縁性層とが、化学的に結合している、請求項1に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子。 The insulating particles and the insulating layer have portions in contact with each other;
The conductive particles with insulating particles according to claim 1, wherein the insulating particles and the insulating layer are chemically bonded to each other in the contacting portion.
第2の電極を表面に有する第2の接続対象部材と、
前記第1の接続対象部材と、前記第2の接続対象部材とを接続している接続部とを備え、
前記接続部が、請求項1〜9いずれか1項に記載の絶縁性粒子付き導電性粒子により形成されているか、又は前記絶縁性粒子付き導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料により形成されており、
前記第1の電極と前記第2の電極とが、前記絶縁性粒子付き導電性粒子における前記導電性粒子により電気的に接続されている、接続構造体。 A first connection object member having a first electrode on its surface;
A second connection target member having a second electrode on its surface;
A connecting portion connecting the first connection target member and the second connection target member;
The connection portion is formed of the conductive particles with insulating particles according to any one of claims 1 to 9, or is formed of a conductive material including the conductive particles with insulating particles and a binder resin. And
The connection structure in which the first electrode and the second electrode are electrically connected by the conductive particles in the conductive particles with insulating particles.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014101977A JP6357348B2 (en) | 2013-05-22 | 2014-05-16 | Conductive particles with insulating particles, conductive material, and connection structure |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013108146 | 2013-05-22 | ||
JP2013108146 | 2013-05-22 | ||
JP2014101977A JP6357348B2 (en) | 2013-05-22 | 2014-05-16 | Conductive particles with insulating particles, conductive material, and connection structure |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015005499A true JP2015005499A (en) | 2015-01-08 |
JP6357348B2 JP6357348B2 (en) | 2018-07-11 |
Family
ID=52301214
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014101977A Active JP6357348B2 (en) | 2013-05-22 | 2014-05-16 | Conductive particles with insulating particles, conductive material, and connection structure |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6357348B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020098764A (en) * | 2018-12-13 | 2020-06-25 | 積水化学工業株式会社 | Conductive particle with insulating part, method for producing conductive particle with insulating part, conductive material and connection structure |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009187672A (en) * | 2008-02-01 | 2009-08-20 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | Nickel particle with dielectric particle, and its manufacturing method |
JP2010050086A (en) * | 2008-07-23 | 2010-03-04 | Hitachi Chem Co Ltd | Insulation coated conductive particle and its manufacturing method |
JP2011187332A (en) * | 2010-03-09 | 2011-09-22 | Sekisui Chem Co Ltd | Conductive particle, anisotropic conductive material, and connection structure |
WO2012014925A1 (en) * | 2010-07-28 | 2012-02-02 | 積水化学工業株式会社 | Insulating-particle-adhered electrically conductive particle, process for producing insulating-particle-adhered electrically conductive particle, anisotropic conductive material, and connected structure |
JP2013030479A (en) * | 2011-06-22 | 2013-02-07 | Sekisui Chem Co Ltd | Conductive particle with insulative particle, anisotropic conductive material, and connection structure |
JP2013175453A (en) * | 2012-01-26 | 2013-09-05 | Sekisui Chem Co Ltd | Conductive particle with insulative particles, manufacturing method of conductive particle with insulative particles, conductor material, and connection structure |
-
2014
- 2014-05-16 JP JP2014101977A patent/JP6357348B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009187672A (en) * | 2008-02-01 | 2009-08-20 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | Nickel particle with dielectric particle, and its manufacturing method |
JP2010050086A (en) * | 2008-07-23 | 2010-03-04 | Hitachi Chem Co Ltd | Insulation coated conductive particle and its manufacturing method |
JP2011187332A (en) * | 2010-03-09 | 2011-09-22 | Sekisui Chem Co Ltd | Conductive particle, anisotropic conductive material, and connection structure |
WO2012014925A1 (en) * | 2010-07-28 | 2012-02-02 | 積水化学工業株式会社 | Insulating-particle-adhered electrically conductive particle, process for producing insulating-particle-adhered electrically conductive particle, anisotropic conductive material, and connected structure |
JP2013030479A (en) * | 2011-06-22 | 2013-02-07 | Sekisui Chem Co Ltd | Conductive particle with insulative particle, anisotropic conductive material, and connection structure |
JP2013175453A (en) * | 2012-01-26 | 2013-09-05 | Sekisui Chem Co Ltd | Conductive particle with insulative particles, manufacturing method of conductive particle with insulative particles, conductor material, and connection structure |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020098764A (en) * | 2018-12-13 | 2020-06-25 | 積水化学工業株式会社 | Conductive particle with insulating part, method for producing conductive particle with insulating part, conductive material and connection structure |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6357348B2 (en) | 2018-07-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6475805B2 (en) | Conductive particles with insulating particles, conductive material, and connection structure | |
JP4977276B2 (en) | Method for producing conductive particles with insulating particles, anisotropic conductive material, and connection structure | |
JP6084850B2 (en) | Conductive particles with insulating particles, conductive material, and connection structure | |
JP6333552B2 (en) | Conductive particles, conductive materials, and connection structures | |
JP2014029857A (en) | Conductive particles with insulating particles, conductive material, and connection structure | |
JP6577698B2 (en) | Conductive film and connection structure | |
JP5530571B1 (en) | Conductive particles with insulating particles, conductive material, and connection structure | |
JP2014132567A (en) | Conductive particle with insulating particles, method for producing conductive particle with insulating particles, conductive material and connection structure | |
JP6431411B2 (en) | Conductive particles with insulating particles, conductive material, and connection structure | |
JP6151990B2 (en) | Conductive particles with insulating particles, conductive material, and connection structure | |
JP6084866B2 (en) | Conductive particles, conductive materials, and connection structures | |
JP6564302B2 (en) | Conductive particles with insulating particles, method for producing conductive particles with insulating particles, conductive material, and connection structure | |
JP6478308B2 (en) | Conductive particles, conductive materials, and connection structures | |
JP6357348B2 (en) | Conductive particles with insulating particles, conductive material, and connection structure | |
JP6577723B2 (en) | Conductive particles with insulating particles, conductive material, and connection structure | |
JP6592235B2 (en) | Conductive particles with insulating particles, method for producing conductive particles with insulating particles, conductive material, and connection structure | |
JP2018137225A (en) | Conductive particles, conductive material and connection structure | |
JP2015056306A (en) | Electrically conductive particle, electrically conductive material, and connection structure |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170215 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20171213 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20171219 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180216 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180313 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180511 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180522 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180618 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6357348 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |