JP6205193B2 - Colored curable composition and color filter using the same - Google Patents

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Description

本発明は、着色硬化性組成物、これを用いた硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、液晶表示装置、及び有機EL表示装置に関する。   The present invention relates to a colored curable composition, a cured film using the same, a color filter, a method for producing a color filter, a solid-state imaging device, a liquid crystal display device, and an organic EL display device.

カラーフィルタは、固体撮像素子や液晶表示装置のディスプレイに不可欠な構成部品である。このようなカラーフィルタを形成するために、着色硬化性組成物が採用されている(特許文献1〜3)。
ここで、近年、クロストーク(光の混色)の軽減のため、カラーフィルタを薄膜化することが求められている。
The color filter is an indispensable component for a display of a solid-state image sensor or a liquid crystal display device. In order to form such a color filter, a colored curable composition is employed (Patent Documents 1 to 3).
Here, in recent years, it has been required to reduce the thickness of the color filter in order to reduce crosstalk (mixture of light).

特開2011−032366号公報JP 2011-032366 A 特開2008−070822号公報JP 2008-070822 A 特開2010−008915号公報JP 2010-008915 A

ここで、カラーフィルタを薄膜化しても分光波長の形はそのままであることが求められる。そうすると、着色硬化性組成物中の固形分中における着色剤の濃度を大幅に高めることが必要になる。しかしながら、着色硬化性組成物中の着色剤の濃度を高めると、着色層パターンをリソグラフィー技術によって作製することが困難になる。
本願発明はかかる問題点を解決することを目的としたものであって、薄膜化しても分光特性に優れ、かつ、耐薬品性および耐熱性の高い着色層パターンを形成できる着色硬化性組成物を提供することを目的とする。
Here, even if the color filter is thinned, it is required that the spectral wavelength shape remains the same. If it does so, it will be necessary to raise the density | concentration of the coloring agent in solid content in a colored curable composition significantly. However, when the concentration of the colorant in the colored curable composition is increased, it becomes difficult to produce a colored layer pattern by a lithography technique.
The present invention is intended to solve such problems, and a colored curable composition that can form a colored layer pattern that is excellent in spectral characteristics and has high chemical resistance and high heat resistance even when it is thinned. The purpose is to provide.

かかる状況のもと、本願発明者は、リソグラフィー技術を採用せずに、ドライエッチング工程によりパターン着色層を形成することを検討した。しかしながら、ドライエッチング工程で着色層を形成する場合でも、着色剤の濃度が高いと、必然的に、添加剤(硬化剤)の量が少なくなるため、耐薬品性や耐熱性(熱による拡散)が問題となる。そこで、本願発明者がさらに検討を行った結果、着色硬化性組成物において、着色剤としてハロゲン化フタロシアニン染料を用いることにより、着色剤濃度を高く維持しても、耐薬品性および耐熱性の高い着色層パターンを形成できることを見出した。このメカニズムは定かではないが、ハロゲン化による会合性変化や染料‐染料間または染料‐他分子間相互作用によるものと思われる。
具体的には、以下の手段<1>により、好ましくは<2>〜<14>により上記課題は解決された。
<1>少なくともハロゲン化フタロシアニン染料を含む着色剤、熱硬化性化合物、ならびに、ハロゲン化フタロシアニン染料および熱硬化性化合物を少なくとも溶解する溶剤を含み、着色剤の含有量の合計が全固形分に対し60〜90質量%である、着色硬化性組成物。
<2>着色剤が、さらに、黄色色素を含む、<1>に記載の着色硬化性組成物。
<3>着色硬化性組成物中における、熱硬化性化合物の含有量が全固形分に対し5〜40質量%である、<1>または<2>に記載の着色硬化性組成物。
<4>熱硬化性化合物がエポキシ化合物である、<1>〜<3>のいずれかに記載の着色硬化性組成物。
<5>熱硬化性化合物が、1分子内にエポキシ基を2つ以上有し、分子量が1000以上である、<1>〜<4>のいずれかに記載の着色硬化性組成物。
<6>黄色色素がアゾ系色素および/またはメチン系色素である、<1>〜<5>のいずれかに記載の着色硬化性組成物。
<7>ハロゲン化フタロシアニン染料が、下記一般式(1)で表される、<1>〜<6>のいずれかに記載の着色硬化性組成物。
一般式(1)
(一般式(1)中、Z1〜Z16は、それぞれ、水素原子または置換基であり、置換基の少なくとも1つは、ハロゲン原子であり、置換基の他の少なくとも1つは、芳香族基を含む基である。Mは2つの水素原子、金属原子、金属酸化物または金属ハロゲン化物を表わす。)
<8>一般式(1)において、Z1〜Z16のうち、1〜8つは、下記一般式(1−2)で表される基または一般式(1−4)で表される基を表し、かつ、少なくとも1つは一般式(1−2)で表される基である、<7>に記載の着色硬化性組成物。
一般式(1−2)
(一般式(1−2)中、Xは酸素原子または硫黄原子であり、A1は、置換基を有していてもよいフェニル基、または、置換基を有していてもよいナフチル基である。)
一般式(1−4)
(一般式(1−4)中、R'は炭素数1〜3のアルキレン基を表し、R”は炭素数1〜8のアルキル基を表す。n1は0〜4の整数を表す。)
<9>ハロゲン化フタロシアニン染料が下記一般式(1−1)で表される、<1>〜<6>のいずれかに記載の着色硬化性組成物。
一般式(1−1)
(一般式(1−1)中、Z1〜Z16は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、下記一般式(1−1−2)で表される基、下記一般式(1−3)で表される基、または、下記一般式(1−4)で表される基を表し、Z1〜Z16のうち、1〜8つは、一般式(1−1−2)で表される基または一般式(1−4)で表される基を表し、少なくとも1つはハロゲン原子であり、かつ、少なくとも1つは一般式(1−1−2)で表される基である。Mは2つの水素原子、金属原子、金属酸化物または金属ハロゲン化物を表わす。)
一般式(1−1−2)
(一般式(1−1−2)中、X1は酸素原子または硫黄原子であり、A11は、1〜5つの置換基Rを有するフェニル基、または1〜7つの置換基Rを有するナフチル基であり、置換基Rは、ニトロ基、COOR1(R1は一般式(1−3)で表される基または炭素数1〜8のアルキル基である)、OR2(R2は炭素数1〜8のアルキル基)、ハロゲン原子、アリール基、シアノ基、炭素数1〜8のアルキル基、一般式(4)〜(6)のいずれかで表される基、または、一般式(X)から選択される基を表す。)
(一般式(4)中、R4は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいジアルキルアミノ基、置換基を有してもよいジアリールアミノ基、または置換基を有してもよいアルキルアリールアミノ基を表す。
一般式(5)中、dは0〜2の整数を表し、dが0または1のとき、R5は、置換基を有してもよいアルキル基、または置換基を有してもよいアリール基であり、dが2のとき、R5は、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいジアルキルアミノ基、置換基を有してもよいジアリールアミノ基、置換基をまたは置換基を有してもよいアルキルアリールアミノ基を表す。
一般式(6)中、R6およびR7は、それぞれ、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルキルカルボニル基、置換基を有してもよいアリールカルボニル基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基を表す。)
(一般式(X)中、R11は水素原子または炭素数1〜8のアルキル基を表す。n1は1〜3の整数を表す。n1が2または3の場合、複数のR11は、それぞれ、同じでも異なっても良い。Y1は−O−、−S−、−NR13−(R13は、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表す。)、−SO2−、または、−C(=O)−を表す。R12は1価の置換基を表す。)
一般式(1−3)
(一般式(1−3)中、R3は炭素数1〜3のアルキレン基を表し、R4は炭素数1〜8のアルキル基を表し、nは1〜4の整数を表す。)
一般式(1−4)
(一般式(1−4)中、R'は炭素数1〜3のアルキレン基を表し、R”は炭素数1〜8のアルキル基を表す。n1は0〜4の整数を表す。)
<10><1>〜<9>のいずれかに記載の着色硬化性組成物を硬化してなることを特徴とする硬化膜。
<11><1>〜<9>のいずれかに記載の着色硬化性組成物を用いた着色層を有するカラーフィルタ。
<12>着色層の厚さが0.1〜1.0μmである、<11>に記載のカラーフィルタ。
<13><1>〜<9>のいずれかに記載の着色硬化性組成物を用いて着色層を形成する工程、着色層上にフォトレジスト層を形成する工程、露光及び現像することによりフォトレジスト層をパターニングしてレジストパターンを得る工程、及びレジストパターンをエッチングマスクとして着色層をドライエッチングする工程を含む、カラーフィルタの製造方法。
<14><11>または<12>に記載のカラーフィルタ、または<13>に記載のカラーフィルタの製造方法により作製されたカラーフィルタを有する液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス素子または固体撮像素子。
Under such circumstances, the inventor of the present application studied forming a pattern colored layer by a dry etching process without employing a lithography technique. However, even when a colored layer is formed in a dry etching process, a high concentration of the colorant inevitably reduces the amount of the additive (curing agent), so that it has chemical resistance and heat resistance (diffusion due to heat). Is a problem. Therefore, as a result of further investigation by the inventors of the present application, by using a halogenated phthalocyanine dye as a colorant in a colored curable composition, even if the colorant concentration is kept high, the chemical resistance and heat resistance are high. It has been found that a colored layer pattern can be formed. Although this mechanism is not clear, it is thought to be due to an associative change due to halogenation or a dye-dye or dye-other molecule interaction.
Specifically, the above problem has been solved by the following means <1>, preferably <2> to <14>.
<1> A colorant including at least a halogenated phthalocyanine dye, a thermosetting compound, and a solvent that dissolves at least the halogenated phthalocyanine dye and the thermosetting compound, and the total content of the colorant is based on the total solid content The colored curable composition which is 60-90 mass%.
<2> The colored curable composition according to <1>, wherein the colorant further contains a yellow pigment.
<3> The colored curable composition according to <1> or <2>, wherein the content of the thermosetting compound in the colored curable composition is 5 to 40% by mass with respect to the total solid content.
<4> The colored curable composition according to any one of <1> to <3>, wherein the thermosetting compound is an epoxy compound.
<5> The colored curable composition according to any one of <1> to <4>, wherein the thermosetting compound has two or more epoxy groups in one molecule and has a molecular weight of 1000 or more.
<6> The colored curable composition according to any one of <1> to <5>, wherein the yellow dye is an azo dye and / or a methine dye.
<7> The colored curable composition according to any one of <1> to <6>, wherein the halogenated phthalocyanine dye is represented by the following general formula (1).
General formula (1)
(In General Formula (1), Z 1 to Z 16 are each a hydrogen atom or a substituent, at least one of the substituents is a halogen atom, and at least one of the other substituents is aromatic. (M represents a hydrogen atom, a metal atom, a metal oxide or a metal halide.)
<8> In the general formula (1), 1 to 8 of Z 1 to Z 16 are groups represented by the following general formula (1-2) or groups represented by the general formula (1-4). The colored curable composition according to <7>, wherein at least one is a group represented by the general formula (1-2).
General formula (1-2)
(In General Formula (1-2), X is an oxygen atom or a sulfur atom, and A 1 is a phenyl group which may have a substituent, or a naphthyl group which may have a substituent. is there.)
General formula (1-4)
(In General Formula (1-4), R ′ represents an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, R ″ represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and n1 represents an integer of 0 to 4).
<9> The colored curable composition according to any one of <1> to <6>, wherein the halogenated phthalocyanine dye is represented by the following general formula (1-1).
General formula (1-1)
(In the general formula (1-1), Z 1 to Z 16 are a hydrogen atom, a halogen atom, a group represented by the following general formula (1-1-2), and the following general formula (1-3), respectively. Represents a group represented by the following general formula (1-4), and 1 to 8 of Z 1 to Z 16 are represented by the general formula (1-1-2). Represents a group or a group represented by the general formula (1-4), at least one is a halogen atom, and at least one is a group represented by the general formula (1-1-2). Represents two hydrogen atoms, a metal atom, a metal oxide or a metal halide.)
General formula (1-1-2)
(In General Formula (1-1-2), X 1 is an oxygen atom or a sulfur atom, and A 11 is a phenyl group having 1 to 5 substituents R, or a naphthyl having 1 to 7 substituents R. The substituent R is a nitro group, COOR 1 (R 1 is a group represented by the general formula (1-3) or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms), OR 2 (R 2 is carbon. An alkyl group having 1 to 8 carbon atoms), a halogen atom, an aryl group, a cyano group, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a group represented by any one of the general formulas (4) to (6), or a general formula ( Represents a group selected from X).)
(In the general formula (4), R 4 is a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, a dialkylamino group which may have a substituent, or a substituent. Represents a diarylamino group which may have a substituent or an alkylarylamino group which may have a substituent.
In General Formula (5), d represents an integer of 0 to 2, and when d is 0 or 1, R 5 is an alkyl group that may have a substituent or an aryl that may have a substituent. And when d is 2, R 5 represents an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, a dialkylamino group which may have a substituent, or a substituent. Represents a diarylamino group which may have a substituent, a substituent or an alkylarylamino group which may have a substituent.
In general formula (6), R 6 and R 7 are each an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an alkylcarbonyl group which may have a substituent, The arylcarbonyl group which may have a substituent, the alkylsulfonyl group which may have a substituent, and the arylsulfonyl group which may have a substituent are represented. )
(In general formula (X), R 11 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. N1 represents an integer of 1 to 3. When n1 is 2 or 3, a plurality of R 11 are each Y 1 is —O—, —S—, —NR 13 — (R 13 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), —SO 2 —, or , -C (= O)-, R 12 represents a monovalent substituent.)
General formula (1-3)
(In General Formula (1-3), R 3 represents an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, R 4 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 4).
General formula (1-4)
(In General Formula (1-4), R ′ represents an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, R ″ represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and n1 represents an integer of 0 to 4).
<10> A cured film obtained by curing the colored curable composition according to any one of <1> to <9>.
<11> A color filter having a colored layer using the colored curable composition according to any one of <1> to <9>.
<12> The color filter according to <11>, wherein the colored layer has a thickness of 0.1 to 1.0 μm.
<13> A step of forming a colored layer using the colored curable composition according to any one of <1> to <9>, a step of forming a photoresist layer on the colored layer, a photo by exposure and development. A method for producing a color filter, comprising: a step of patterning a resist layer to obtain a resist pattern; and a step of dry etching a colored layer using the resist pattern as an etching mask.
<14> A liquid crystal display device, an organic electroluminescence device, or a solid-state imaging device having the color filter according to <11> or <12> or the color filter produced by the method for producing a color filter according to <13>.

上記課題は、また、下記手段によっても解決された。
<15>上記いずれかの着色硬化性組成物において、ドライエッチング用に用いられる、着色硬化性組成物。
<16>上記いずれかの着色硬化性組成物において、光重合性化合物の配合量が、全固形分の5質量%以下である、着色硬化性組成物。
<17>上記いずれかの着色硬化性組成物において、ハロゲン化フタロシアニン染料の配合量が、全固形分の40〜50質量%以下である、着色硬化性組成物。
<18>上記いずれかの着色硬化性組成物において、ハロゲン化フタロシアニン染料の配合量が、着色剤の55〜80質量%である、着色硬化性組成物。
<19>上記いずれかの着色硬化性組成物において、エポキシ化合物の配合量が、全固形分の5〜40質量%である、着色硬化性組成物。
The above problem has also been solved by the following means.
<15> A colored curable composition used for dry etching in any one of the above colored curable compositions.
<16> The colored curable composition according to any one of the above colored curable compositions, wherein the amount of the photopolymerizable compound is 5% by mass or less based on the total solid content.
<17> The colored curable composition according to any one of the above colored curable compositions, wherein the compounding amount of the halogenated phthalocyanine dye is 40 to 50% by mass or less based on the total solid content.
<18> The colored curable composition according to any one of the above colored curable compositions, wherein the blending amount of the halogenated phthalocyanine dye is 55 to 80% by mass of the colorant.
<19> The colored curable composition according to any one of the above colored curable compositions, wherein the compounding amount of the epoxy compound is 5 to 40% by mass of the total solid content.

本発明により、薄膜化しても分光特性に優れ、かつ、耐薬品性および耐熱性の高い着色層パターンを形成できる着色硬化性組成物を提供可能になった。   According to the present invention, it has become possible to provide a colored curable composition that can form a colored layer pattern that is excellent in spectral characteristics and has high chemical resistance and heat resistance even when it is thinned.

カラーフィルタ及び固体撮像素子の構成例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the structural example of a color filter and a solid-state image sensor. 第1着色層の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of a 1st colored layer. 第1着色層の上にフォトレジスト層が形成された状態を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the state in which the photoresist layer was formed on the 1st colored layer. 第1着色層の上にレジストパターンが形成された状態を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the state in which the resist pattern was formed on the 1st colored layer. エッチングによって第1着色層に貫通孔群が設けられることにより、第1着色パターンが形成された状態を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the state in which the 1st colored pattern was formed by providing a through-hole group in the 1st colored layer by etching. 図5におけるレジストパターンが除去された状態を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the state from which the resist pattern in FIG. 5 was removed. 第2着色パターン及び第2着色感放射線性層が形成された状態を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the state in which the 2nd coloring pattern and the 2nd coloring radiation sensitive layer were formed. 図7における第2着色感放射線性層と、第2着色パターンを構成する第2着色画素の一部とが、除去された状態を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the state from which the 2nd coloring radiation sensitive layer in FIG. 7 and a part of 2nd coloring pixel which comprises a 2nd coloring pattern were removed. 第3着色パターン及び第3着色感放射線性層が形成された状態を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the state in which the 3rd coloring pattern and the 3rd coloring radiation sensitive layer were formed. 図9における第3着色感放射線性層が除去された状態を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the state from which the 3rd coloring radiation sensitive layer in FIG. 9 was removed. 実施例の耐熱性の評価における透明膜の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the transparent film in the heat resistance evaluation of an Example. 実施例の耐熱性の評価における透明膜の概略表面図である。It is a schematic surface figure of the transparent film in the heat resistance evaluation of an Example.

以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
尚、本明細書における基(原子団)の表記において、置換及び無置換を記していない表記は置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
また、本明細書中において、“(メタ)アクリレート”はアクリレートおよびメタクリレートを表し、“(メタ)アクリル”はアクリルおよびメタクリルを表し、“(メタ)アクリロイル”はアクリロイルおよびメタクリロイルを表す。
Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail. In the present specification, “to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.
In addition, in the description of the group (atomic group) in this specification, the description which does not describe substitution and non-substitution includes what has a substituent with what does not have a substituent. For example, the “alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
In the present specification, “(meth) acrylate” represents acrylate and methacrylate, “(meth) acryl” represents acryl and methacryl, and “(meth) acryloyl” represents acryloyl and methacryloyl.

本発明でいう「着色層」は、カラーフィルタに用いられる画素を意味する。   The “colored layer” in the present invention means a pixel used for a color filter.

本発明における染料とは、特定の有機溶剤に可溶する色素化合物を意味する。ここで、特定の有機溶剤とは、例えば、後述するハロゲン化フタロシアニン染料および熱硬化性化合物を少なくとも溶解する溶剤の欄で例示する有機溶剤が挙げられる。従って、これらの少なくとも1種の有機溶剤に溶解する色素化合物は本発明における染料に該当する。   The dye in the present invention means a coloring compound that is soluble in a specific organic solvent. Here, the specific organic solvent includes, for example, an organic solvent exemplified in the column of a solvent capable of dissolving at least a halogenated phthalocyanine dye and a thermosetting compound described later. Therefore, the coloring compound which dissolves in at least one organic solvent corresponds to the dye in the present invention.

以下、本発明の着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、液晶表示装置並びに有機EL表示装置について詳述する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。   Hereinafter, the colored curable composition, the color filter and the manufacturing method thereof, the solid-state imaging device, the liquid crystal display device, and the organic EL display device of the present invention will be described in detail. The description of the constituent elements described below may be made based on typical embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments.

本発明の着色硬化性組成物(以下、「本発明の組成物」ということがある)は、少なくともハロゲン化フタロシアニン染料を含む着色剤、熱硬化性化合物、ならびに、ハロゲン化フタロシアニン染料および熱硬化性化合物を少なくとも溶解する溶剤を含み、着色剤の含有量の合計が全固形分に対し60〜90質量%であることを特徴とする。
着色剤としては、ハロゲン化フタロシアニン染料を必須とし、他の着色剤を含んでいてもよく、他の着色剤を含んでいることが好ましい。本発明では、着色剤の合計量が、全固形分に対し65〜85質量%であることが好ましく、70〜80質量%であることがより好ましい。
以下、これらの詳細について説明する。
The colored curable composition of the present invention (hereinafter sometimes referred to as “the composition of the present invention”) includes a colorant containing at least a halogenated phthalocyanine dye, a thermosetting compound, and a halogenated phthalocyanine dye and a thermosetting compound. It contains a solvent that dissolves at least the compound, and the total content of the colorant is 60 to 90% by mass with respect to the total solid content.
As the colorant, a halogenated phthalocyanine dye is essential and may contain other colorants, and preferably contains other colorants. In this invention, it is preferable that it is 65-85 mass% with respect to the total solid, and, as for the total amount of a coloring agent, it is more preferable that it is 70-80 mass%.
Details of these will be described below.

<ハロゲン化フタロシアニン染料>
本発明の組成物は、ハロゲン化フタロシアニン染料を含む。ハロゲン化フタロシアニン染料は、フタロシアニン骨格を有し、かつ、その置換基としてハロゲン原子を1つ以上含む化合物をいう。本発明では、ハロゲン原子を1分子中に5〜15つ有することが好ましく、6〜14つ有することがより好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子、フッ素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が例示され、塩素原子、フッ素原子または臭素原子が好ましく、塩素原子またはフッ素原子がより好ましく、塩素原子がさらに好ましい。
本発明で用いられるハロゲン化フタロシアニン染料は、通常、極大吸収波長を600〜800nmの領域に有し、好ましくは極大吸収波長を630〜750nmの領域に有する化合物である。
<Halogenated phthalocyanine dye>
The composition of the present invention comprises a halogenated phthalocyanine dye. The halogenated phthalocyanine dye refers to a compound having a phthalocyanine skeleton and having one or more halogen atoms as a substituent. In this invention, it is preferable to have 5-15 halogen atoms in 1 molecule, and it is more preferable to have 6-14. Examples of the halogen atom include a chlorine atom, a fluorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. A chlorine atom, a fluorine atom, or a bromine atom is preferable, a chlorine atom or a fluorine atom is more preferable, and a chlorine atom is further preferable.
The halogenated phthalocyanine dye used in the present invention is usually a compound having a maximum absorption wavelength in the region of 600 to 800 nm, and preferably having a maximum absorption wavelength in the region of 630 to 750 nm.

本発明で用いるフタロシアニン染料は、下記一般式(1)で表される化合物が好ましい。
(一般式(1)中、Z1〜Z16は、それぞれ、水素原子または置換基であり、置換基の少なくとも1つは、ハロゲン原子であり、置換基の他の少なくとも1つは、芳香族基を含む基である。Mは2つの水素原子、金属原子、金属酸化物または金属ハロゲン化物を表わす。)
The phthalocyanine dye used in the present invention is preferably a compound represented by the following general formula (1).
(In General Formula (1), Z 1 to Z 16 are each a hydrogen atom or a substituent, at least one of the substituents is a halogen atom, and at least one of the other substituents is aromatic. (M represents a hydrogen atom, a metal atom, a metal oxide or a metal halide.)

ここで、一般式(1)における、Z1、Z4、Z5、Z8、Z9、Z12、Z13及びZ16は、フタロシアニン核の8箇所のα位に置換する置換基を表わすため、これらの置換基をα位の置換基とも称する。また、同様に、一般式(1)における、Z2、Z3、Z6、Z7、Z10、Z11、Z14及びZ15は、フタロシアニン核の8箇所のβ位に置換する置換基を表わすため、これらの置換基をβ位の置換基とも称する。
1〜Z16は、それぞれ、水素原子または置換基であり、置換基の少なくとも1つは、ハロゲン原子であり、置換基の他の少なくとも1つは、芳香族基を含む基である。ハロゲン原子を1分子中に5〜15つ有することが好ましく、6〜14つ有することがより好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子、フッ素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が例示され、塩素原子、フッ素原子または臭素原子が好ましく、塩素原子またはフッ素原子がより好ましく、塩素原子がさらに好ましい。芳香族基を含む基(好ましくは、後述する一般式(1−2)で表される基)中の芳香族基は、ベンゼン環基またはナフタレン環基が好ましく、ベンゼン環基がより好ましい。芳香族基を有する基の数は、1分子中、1〜11つであることが好ましく、1〜10つであることがより好ましく、2〜7つであることがさらに好ましい。また、Z1〜Z16は、ハロゲン原子以外の置換基がすべて、芳香族基を有する基である態様も好ましい。
置換基としては、フタロシアニン化合物が染料としての機能を失わない限り特に定めるものではないが、後述する置換基Tが例示される。
Here, in the general formula (1), Z 1 , Z 4 , Z 5 , Z 8 , Z 9 , Z 12 , Z 13 and Z 16 represent substituents substituted at eight α positions of the phthalocyanine nucleus. Therefore, these substituents are also referred to as α-position substituents. Similarly, Z 2 , Z 3 , Z 6 , Z 7 , Z 10 , Z 11 , Z 14 and Z 15 in the general formula (1) are substituents substituted at eight β-positions of the phthalocyanine nucleus. These substituents are also referred to as β-position substituents.
Z 1 to Z 16 are each a hydrogen atom or a substituent, at least one of the substituents is a halogen atom, and at least one of the substituents is a group containing an aromatic group. It is preferable to have 5 to 15 halogen atoms in one molecule, and more preferable to have 6 to 14 halogen atoms. Examples of the halogen atom include a chlorine atom, a fluorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. A chlorine atom, a fluorine atom, or a bromine atom is preferable, a chlorine atom or a fluorine atom is more preferable, and a chlorine atom is further preferable. The aromatic group in the group containing an aromatic group (preferably a group represented by the general formula (1-2) described later) is preferably a benzene ring group or a naphthalene ring group, and more preferably a benzene ring group. The number of groups having an aromatic group is preferably 1 to 11 in one molecule, more preferably 1 to 10 and even more preferably 2 to 7. Further, Z 1 to Z 16 are all substituents other than a halogen atom, preferably also a mode is a group having an aromatic group.
The substituent is not particularly defined as long as the phthalocyanine compound does not lose its function as a dye, and examples thereof include substituent T described later.

一般式(1)において、Z1〜Z16のうち、1〜8つは、下記一般式(1−2)で表される基または一般式(1−4)で表される基を表し、かつ、少なくとも1つは一般式(1−2)で表される基であることが好ましく、より好ましくは、Z1〜Z16のうち、2〜6つが一般式(1−2)で表される基または一般式(1−4)で表される基であり、かつ、少なくとも1つは一般式(1−2)で表される基である。
一般式(1−2)
(一般式(1−2)中、Xは酸素原子または硫黄原子であり、A1は、置換基を有していてもよいフェニル基、または、置換基を有していてもよいナフチル基である。)
一般式(1−4)
(一般式(1−4)中、R'は炭素数1〜3のアルキレン基を表し、R”は炭素数1〜8のアルキル基を表す。n1は0〜4の整数を表す。)
In General Formula (1), 1 to 8 of Z 1 to Z 16 represent a group represented by the following General Formula (1-2) or a group represented by General Formula (1-4), and, it is preferable that at least one is a group represented by the general formula (1-2), more preferably, of Z 1 to Z 16, 2 to 6 one is represented by the general formula (1-2) Or a group represented by the general formula (1-4), and at least one is a group represented by the general formula (1-2).
General formula (1-2)
(In General Formula (1-2), X is an oxygen atom or a sulfur atom, and A 1 is a phenyl group which may have a substituent, or a naphthyl group which may have a substituent. is there.)
General formula (1-4)
(In General Formula (1-4), R ′ represents an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, R ″ represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and n1 represents an integer of 0 to 4).

一般式(1−2)中、Xは酸素原子または硫黄原子であり、酸素原子が好ましい。Xが酸素原子であると、得られるフタロシアニン化合物の最大吸収波長を短波長側にシフトできる。
1は、置換基を有していてもよいフェニル基、または、置換基を有していてもよいナフチル基であり、1〜5つの置換基を有するフェニル基または1〜7つの置換基を有するナフチル基が好ましく、1〜5つの置換基を有するフェニル基がより好ましい。
In general formula (1-2), X is an oxygen atom or a sulfur atom, and an oxygen atom is preferable. When X is an oxygen atom, the maximum absorption wavelength of the obtained phthalocyanine compound can be shifted to the short wavelength side.
A 1 is a phenyl group which may have a substituent, or a naphthyl group which may have a substituent, and a phenyl group having 1 to 5 substituents or 1 to 7 substituents. The naphthyl group having is preferable, and the phenyl group having 1 to 5 substituents is more preferable.

一般式(1−2)で表される基は、下記一般式(1−1−2)で表される基であることがより好ましい。
一般式(1−1−2)
(一般式(1−1−2)中、X1は酸素原子または硫黄原子であり、A11は、1〜5つの置換基Rを有するフェニル基、または1〜7つの置換基Rを有するナフチル基であり、置換基Rは、ニトロ基、COOR1(R1は一般式(1−3)で表される基または炭素数1〜8のアルキル基である)、OR2(R2は炭素数1〜8のアルキル基)、ハロゲン原子、アリール基、シアノ基、炭素数1〜8のアルキル基、一般式(4)〜(6)のいずれかで表される基、または、一般式(X)から選択される基を表す。)
(一般式(4)中、R4は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいジアルキルアミノ基、置換基を有してもよいジアリールアミノ基、または置換基を有してもよいアルキルアリールアミノ基を表す。
一般式(5)中、dは0〜2の整数を表し、dが0または1のとき、R5は、置換基を有してもよいアルキル基、または置換基を有してもよいアリール基であり、dが2のとき、R5は、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいジアルキルアミノ基、置換基を有してもよいジアリールアミノ基、置換基をまたは置換基を有してもよいアルキルアリールアミノ基を表す。
一般式(6)中、R6およびR7は、それぞれ、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルキルカルボニル基、置換基を有してもよいアリールカルボニル基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基を表す。)
(一般式(X)中、R11は水素原子または炭素数1〜8のアルキル基を表す。n1は1〜3の整数を表す。n1が2または3の場合、複数のR11は、ぞれぞれ、同じでも異なっても良い。Y1は−O−、−S−、−NR13−(R13は、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表す。)、−SO2−、または、−C(=O)−を表す。R12は1価の置換基を表す。)
The group represented by the general formula (1-2) is more preferably a group represented by the following general formula (1-1-2).
General formula (1-1-2)
(In General Formula (1-1-2), X 1 is an oxygen atom or a sulfur atom, and A 11 is a phenyl group having 1 to 5 substituents R, or a naphthyl having 1 to 7 substituents R. The substituent R is a nitro group, COOR 1 (R 1 is a group represented by the general formula (1-3) or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms), OR 2 (R 2 is carbon. An alkyl group having 1 to 8 carbon atoms), a halogen atom, an aryl group, a cyano group, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a group represented by any one of the general formulas (4) to (6), or a general formula ( Represents a group selected from X).)
(In the general formula (4), R 4 is a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, a dialkylamino group which may have a substituent, or a substituent. Represents a diarylamino group which may have a substituent or an alkylarylamino group which may have a substituent.
In General Formula (5), d represents an integer of 0 to 2, and when d is 0 or 1, R 5 is an alkyl group that may have a substituent or an aryl that may have a substituent. And when d is 2, R 5 represents an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, a dialkylamino group which may have a substituent, or a substituent. Represents a diarylamino group which may have a substituent, a substituent or an alkylarylamino group which may have a substituent.
In general formula (6), R 6 and R 7 are each an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an alkylcarbonyl group which may have a substituent, The arylcarbonyl group which may have a substituent, the alkylsulfonyl group which may have a substituent, and the arylsulfonyl group which may have a substituent are represented. )
(In general formula (X), R 11 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. N1 represents an integer of 1 to 3. When n1 is 2 or 3, a plurality of R 11 are Y 1 is —O—, —S—, —NR 13 — (R 13 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), —SO 2. -, or, -C (= O) - .R 12 representing a represents a monovalent substituent).

一般式(1−1−2)中、X1は酸素原子または硫黄原子であり、酸素原子が好ましい。X1が酸素原子であると、得られるフタロシアニン化合物の最大吸収波長を短波長側にシフトできる。
11は、1〜5つの置換基を有するフェニル基または1〜7つの置換基を有するナフチル基であり、1〜5つの置換基を有するフェニル基がより好ましい。
In general formula (1-1-2), X < 1 > is an oxygen atom or a sulfur atom, and an oxygen atom is preferable. When X 1 is an oxygen atom, the maximum absorption wavelength of the obtained phthalocyanine compound can be shifted to the short wavelength side.
A 11 is a phenyl group having 1 to 5 substituents or a naphthyl group having 1 to 7 substituents, and a phenyl group having 1 to 5 substituents is more preferable.

フェニル基の置換基数は、1〜5の整数であるが、グラム吸光係数の観点から、より好ましくは1〜3の整数を示し、置換基がハロゲン原子の場合には、置換基数は1〜5の整数のいずれも好ましい。ナフチル基の置換基数は、1〜7の整数であるが、グラム吸光係数(グラム当たりの吸光度)の観点から、1〜5の整数であることが好ましく、1〜3の整数であることがより好ましく、1または2であることがさらに好ましい。   The number of substituents of the phenyl group is an integer of 1 to 5, but more preferably an integer of 1 to 3 from the viewpoint of the Gram extinction coefficient. When the substituent is a halogen atom, the number of substituents is 1 to 5 Any integer of is preferred. The number of substituents of the naphthyl group is an integer of 1 to 7, but from the viewpoint of the gram extinction coefficient (absorbance per gram), it is preferably an integer of 1 to 5, more preferably an integer of 1 to 3. 1 or 2 is more preferable.

ナフチル基とX1との結合位置は特に限定されず、下記1位(1−ナフチル基)または2位(2−ナフチル基)のいずれであってもよい。
同様にして、置換基のナフタレン環への結合位置もまた、特に制限されない。
例えば、ナフチル基とX1との結合位置が1位(1−ナフチル基)である場合には、置換基のナフタレン環への結合位置は、2位、3位、4位、5位、6位、7位または8位のいずれでもよいが、耐熱性や溶剤溶解性などを考慮すると、好ましくは2位、3位が好ましく、2位がより好ましい。また、ナフチル基とX1との結合位置が2位(2−ナフチル基)である場合には、置換基のナフタレン環への結合位置は、1位、3位、4位、5位、6位、7位または8位のいずれでもよいが、3位、6位が好ましく、耐熱性や溶剤溶解性などを考慮すると、3位がより好ましい。
The bonding position between the naphthyl group and X 1 is not particularly limited, and may be either the following 1-position (1-naphthyl group) or 2-position (2-naphthyl group).
Similarly, the bonding position of the substituent to the naphthalene ring is not particularly limited.
For example, when the bonding position between the naphthyl group and X 1 is the 1-position (1-naphthyl group), the bonding position of the substituent to the naphthalene ring is the 2-position, 3-position, 4-position, 5-position, 6 However, in view of heat resistance, solvent solubility, etc., the 2nd and 3rd positions are preferable, and the 2nd position is more preferable. Further, when the bonding position between the naphthyl group and X 1 is the 2-position (2-naphthyl group), the bonding positions of the substituent to the naphthalene ring are the 1-position, 3-position, 4-position, 5-position, 6 However, the 3rd and 6th positions are preferable, and the 3rd position is more preferable in consideration of heat resistance and solvent solubility.

フェニル基またはナフチル基の置換基Rは、ニトロ基、COOR1(R1は一般式(1−3)で表される基または炭素数1〜8のアルキル基である)、OR2(R2は炭素数1〜8のアルキル基)、ハロゲン原子、アリール基、シアノ基、炭素数1〜8のアルキル基、一般式(4)〜(6)のいずれかで表される基、または、一般式(X)から選択される基である。 The substituent R of the phenyl group or naphthyl group is a nitro group, COOR 1 (R 1 is a group represented by the general formula (1-3) or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms), OR 2 (R 2 Is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms), a halogen atom, an aryl group, a cyano group, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a group represented by any one of the general formulas (4) to (6), or general It is a group selected from the formula (X).

フェニル基またはナフチル基に置換基Rが複数存在する場合、複数のRは、同一であっても異なるものであってもよい。   When a plurality of substituents R are present in the phenyl group or naphthyl group, the plurality of Rs may be the same or different.

フェニル基またはナフチル基の置換基RがCOOR1の場合、COOR1におけるR1は、置換されていてもよい炭素数1〜8のアルキル基、または下記一般式(1−3)で表される基を表す。
一般式(1−3)
(一般式(1−3)中、R3は炭素数1〜3のアルキレン基を表し、R4は炭素数1〜8のアルキル基を表し、nは1〜4の整数を表す。)
When the substituent R of the phenyl or naphthyl group is COOR 1, R 1 in the COOR 1 is represented by an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or the following general formula, (1-3) Represents a group.
General formula (1-3)
(In General Formula (1-3), R 3 represents an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, R 4 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 4).

1が炭素数1〜8のアルキル基の場合、炭素数1〜8のアルキル基は、溶剤溶解性の点から、好ましくは炭素数1〜3のアルキル基である。炭素数1〜8のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が挙げられる。炭素数1〜8のアルキル基に場合によっては存在する置換基は、炭素数1〜8のアルキルオキシ基、ハロゲン原子またはアリール基が例示される。
場合によっては存在する、アルキル基の置換基である炭素数1〜8のアルキルオキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、iso−プロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、iso−ブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、t−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基などの直鎖、分岐又は環状のアルキルオキシ基が挙げられる。これらの中でも、炭素数1〜4のアルキルオキシ基が好ましい。場合によっては存在する、アルキル基の置換基であるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が挙げられる。これらの中でも、フッ素原子または塩素原子が好ましい。場合によっては存在する、アルキル基の置換基であるアリール基としては、フェニル基、p−メトキシフェニル基、p−t−ブチルフェニル基、p−クロロフェニル基などが挙げられる。これらの中でも、フェニル基が好ましい。これらの置換基は複数個存在していても良く、複数個存在する場合には同種若しくは異種のいずれであっても良く、同種の場合においても同一若しくは異なっていても良い。アルキル基の置換基の数は特に限定されるものではないが、1〜3個であることが好ましく、1または2個であることが好ましい。
When R 1 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms from the viewpoint of solvent solubility. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, and n-pentyl. And linear, branched or cyclic alkyl groups such as a group, n-hexyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group, n-octyl group and 2-ethylhexyl group. Examples of the substituent optionally present in the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include an alkyloxy group having 1 to 8 carbon atoms, a halogen atom or an aryl group.
As the alkyloxy group having 1 to 8 carbon atoms which is a substituent of the alkyl group which may be present in some cases, methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, iso-propyloxy group, n-butyloxy group, iso- Linear chain such as butyloxy group, sec-butyloxy group, t-butyloxy group, n-pentyloxy group, n-hexyloxy group, cyclohexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group And a branched or cyclic alkyloxy group. Among these, a C1-C4 alkyloxy group is preferable. Examples of the halogen atom that is a substituent of the alkyl group that may be present include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Among these, a fluorine atom or a chlorine atom is preferable. Examples of the aryl group that is a substituent of the alkyl group that may be present include a phenyl group, a p-methoxyphenyl group, a pt-butylphenyl group, and a p-chlorophenyl group. Among these, a phenyl group is preferable. A plurality of these substituents may be present. When a plurality of these substituents are present, they may be the same or different, and even in the same case, they may be the same or different. The number of substituents on the alkyl group is not particularly limited, but is preferably 1 to 3, and preferably 1 or 2.

フェニル基またはナフチル基の置換基RがCOOR1であり、R1が一般式(1−3)で表される基の場合、一般式(1−3)で表される基におけるR3は、エーテル溶剤溶解性への効果の点から1〜3のアルキレン基である。
炭素数1〜3のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、n−プロピレン基、iso−プロピレン基が挙げられる。好ましくは、エチレン基、プロピレン基である。
また、一般式(1−3)で表される基におけるR4は、分子量の観点から1〜8のアルキル基であり、より好ましくは1〜4のアルキル基である。炭素数1〜8のアルキル基としては、上記R1の欄で記載されたものが挙げられる。一般式(1−3)で表される基におけるnは、分子量の観点から、1〜4の整数であり、1〜3の整数であることが好ましい。
When the substituent R of the phenyl group or naphthyl group is COOR 1 and R 1 is a group represented by the general formula (1-3), R 3 in the group represented by the general formula (1-3) is: It is an alkylene group of 1-3 from the point of the effect on ether solvent solubility.
Examples of the alkylene group having 1 to 3 carbon atoms include a methylene group, an ethylene group, an n-propylene group, and an iso-propylene group. Preferably, they are an ethylene group and a propylene group.
R 4 in the group represented by the general formula (1-3) is an alkyl group having 1 to 8 from the viewpoint of molecular weight, and more preferably an alkyl group having 1 to 4. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include those described in the above R 1 column. N in the group represented by the general formula (1-3) is an integer of 1 to 4 and preferably an integer of 1 to 3 from the viewpoint of molecular weight.

フェニル基またはナフチル基の置換基RがOR2の場合、OR2におけるR2は、炭素数1〜8のアルキル基、好ましくは色素の結晶性、取扱性の良さの点から、炭素数1〜3のアルキル基を示す。
2で表される炭素数1〜8のアルキル基としては、上記置換基Rの一例である、COOR1のR1において、記載したものと同様の置換基が挙げられ、好ましい範囲も同義である。
When the substituent R of the phenyl or naphthyl group is OR 2, R 2 in OR 2 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, preferably crystalline dye, from the viewpoint of handling of the good, 1 carbon atoms 3 alkyl groups are shown.
Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by R 2 include the same substituents as those described in R 1 of COOR 1 , which is an example of the above-described substituent R, and a preferable range is also synonymous. is there.

フェニル基またはナフチル基の置換基Rがハロゲン原子の場合、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子、塩素原子またはヨウ素原子であることが好ましい。中でも、色素の分子量が小さくなり、グラム吸光係数が高くなるため、塩素原子、フッ素原子が好ましい。   When the substituent R of the phenyl group or naphthyl group is a halogen atom, examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and a fluorine atom, a chlorine atom or an iodine atom is preferable. Among them, a chlorine atom and a fluorine atom are preferable because the molecular weight of the dye is reduced and the gram absorption coefficient is increased.

フェニル基またはナフチル基の置換基Rがアリール基の場合、アリール基としては、フェニル基、p−メトキシフェニル基、p−t−ブチルフェニル基、p−クロロフェニル基、等のアリール基が挙げられる。中でも、色素の分子量が小さくなり、グラム吸光係数が高くなるため、フェニル基が好ましい。   When the substituent R of the phenyl group or naphthyl group is an aryl group, examples of the aryl group include aryl groups such as a phenyl group, a p-methoxyphenyl group, a pt-butylphenyl group, and a p-chlorophenyl group. Among them, a phenyl group is preferable because the molecular weight of the dye is reduced and the gram extinction coefficient is increased.

フェニル基またはナフチル基の置換基Rがアルキル基の場合、炭素数1〜8のアルキル基としては、上記置換基Rの一例である、COOR1のR1において、記載したものと同様の置換基が挙げられ、好ましい範囲も同義である。
好ましくは、色素の結晶性、取扱性の良さの点から、炭素数1〜3のアルキル基である。
場合によっては存在する、アルキル基の置換基としては、ハロゲン原子が例示され、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が好ましく、フッ素原子または塩素原子がより好ましい。アルキル基の置換基であるハロゲン原子は複数個存在していても良く、複数個存在する場合には同一若しくは異なっていても良い。アルキル基の置換基の数は特に限定されるものではないが、1〜3個であることが好ましい。
When the substituent R of the phenyl group or naphthyl group is an alkyl group, the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is the same as described above in R 1 of COOR 1 as an example of the substituent R. The preferable range is also synonymous.
Preferably, it is a C1-C3 alkyl group from the point of the crystallinity of a pigment | dye, and the good handleability.
As the substituent of the alkyl group which may be present in some cases, a halogen atom is exemplified, and a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom are preferable, and a fluorine atom or a chlorine atom is more preferable. There may be a plurality of halogen atoms as substituents for the alkyl group, and when there are a plurality of halogen atoms, they may be the same or different. The number of substituents on the alkyl group is not particularly limited, but is preferably 1 to 3.

フェニル基またはナフチル基の置換基Rが下記一般式(4)〜(6)から選択される基である場合について説明する。   The case where the substituent R of the phenyl group or naphthyl group is a group selected from the following general formulas (4) to (6) will be described.

一般式(4)中のR4は水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基を表し、置換基を有してもよいジアルキルアミノ基、置換基を有してもよいジアリールアミノ基、または置換基を有してもよいアルキルアリールアミノ基を表し、水素原子、総炭素数1〜20のアルキル基、総炭素数6〜20のアリール基、総炭素数2〜20のジアルキルアミノ基、総炭素数12〜20のジアリールアミノ基、または、総炭素数7〜20アルキルアリールアミノ基が好ましく、総炭素数1〜20のアルキル基、総炭素数2〜20のジアルキルアミノ基、総炭素数12〜20のジアリールアミノ基、または総炭素数7〜20アルキルアリールアミノ基がさらに好ましく、総炭素数12〜20のジアリールアミノ基または総炭素数2〜20のジアルキルアミノ基が特に好ましい。
上記アルキル部位およびアリール部位はさらに置換基を有しても良く、置換基としては、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基またはハロゲン原子等が好ましく、アルコキシ基がより好ましく、メトキシ基またはエトキシ基がさらに好ましい。また、置換基を有していない態様も好ましい。
R 4 in the general formula (4) represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, a dialkylamino group which may have a substituent, a substituted group A diarylamino group which may have a group or an alkylarylamino group which may have a substituent, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, A dialkylamino group having 2 to 20 carbon atoms, a diarylamino group having 12 to 20 carbon atoms, or an alkylarylamino group having 7 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and a total carbon number. A dialkylamino group having 2 to 20 carbon atoms, a diarylamino group having 12 to 20 carbon atoms in total, or an alkylarylamino group having 7 to 20 carbon atoms is more preferable, and a diarylamino group having 12 to 20 carbon atoms in total or Dialkylamino groups of primes from 2 to 20 are particularly preferred.
The alkyl moiety and the aryl moiety may further have a substituent, and the substituent is preferably an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group, an alkylthio group, an arylthio group or a halogen atom, and an alkoxy group Are more preferable, and a methoxy group or an ethoxy group is more preferable. Moreover, the aspect which does not have a substituent is also preferable.

一般式(5)中、dは0〜2の整数を表し、dが0または1のとき、R5は、置換基を有してもよいアルキル基、または置換基を有してもよいアリール基であり、dが2のとき、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいジアルキルアミノ基、置換基を有してもよいジアリールアミノ基、または置換基を有してもよいアルキルアリールアミノ基を表す。R5は、dが2のとき、炭素数2〜20のジアルキルアミノ基、炭素数12〜20のジアリールアミノ基、炭素数7〜20アルキルアリールアミノ基が好ましい。
上記アルキル部位およびアリール部位はさらに置換基を有しても良く、その置換基は、後述する置換基Tが例示され、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基またはハロゲン原子等が好ましく、アルコキシ基がより好ましく、メトキシ基またはエトキシ基がさらに好ましい。また、置換基を有していない態様も好ましい。
In General Formula (5), d represents an integer of 0 to 2, and when d is 0 or 1, R 5 is an alkyl group that may have a substituent or an aryl that may have a substituent. And when d is 2, the alkyl group which may have a substituent, the aryl group which may have a substituent, the dialkylamino group which may have a substituent, and the substituent Or a diarylamino group which may be substituted or an alkylarylamino group which may have a substituent. R 5 is preferably a dialkylamino group having 2 to 20 carbon atoms, a diarylamino group having 12 to 20 carbon atoms, or an alkylarylamino group having 7 to 20 carbon atoms when d is 2.
The alkyl moiety and the aryl moiety may further have a substituent, and examples of the substituent include a substituent T described later. An alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group, an alkylthio group, and an arylthio group. Or a halogen atom etc. are preferable, an alkoxy group is more preferable, and a methoxy group or an ethoxy group is further more preferable. Moreover, the aspect which does not have a substituent is also preferable.

一般式(6)中、R6およびR7は、それぞれ、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルキルカルボニル基、置換基を有してもよいアリールカルボニル基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基を表し、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数2〜20のアルキルカルボニル基、炭素数7〜20のアリールカルボニル基、炭素数1〜20のアルキルスルホニル基、炭素数6〜20のアリールスルホニル基が好ましく、炭素数2〜20のアルキルカルボニル基、炭素数7〜20のアリールカルボニル基、炭素数1〜20のアルキルスルホニル基、炭素数6〜20のアリールスルホニル基がより好ましい。
上記アルキル部位およびアリール部位はさらに置換基を有しても良く、その置換基は、後述する置換基Tが例示され、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基またはハロゲン原子等が好ましく、アルコキシ基がより好ましく、メトキシ基またはエトキシ基がさらに好ましい。また、置換基を有していない態様も好ましい。置換基を有していてもよいアルキル基等の例は、後述する。
In general formula (6), R 6 and R 7 are each an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an alkylcarbonyl group which may have a substituent, An arylcarbonyl group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and 6 carbon atoms An arylcarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, an arylcarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms, an alkylsulfonyl group having 1 to 20 carbon atoms, and an arylsulfonyl group having 6 to 20 carbon atoms are preferable. More preferred are an alkylcarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, an arylcarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms, an alkylsulfonyl group having 1 to 20 carbon atoms, and an arylsulfonyl group having 6 to 20 carbon atoms.
The alkyl moiety and the aryl moiety may further have a substituent, and examples of the substituent include a substituent T described later. An alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group, an alkylthio group, and an arylthio group. Or a halogen atom etc. are preferable, an alkoxy group is more preferable, and a methoxy group or an ethoxy group is further more preferable. Moreover, the aspect which does not have a substituent is also preferable. Examples of the alkyl group and the like which may have a substituent will be described later.

上記一般式中の、置換基を有しても良いアルキル基の好適な例を示す。置換基を有してもよいアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、1−ノルボルニル基、1−アダマンチル基、フェノキシエチル基、ベンジル基、フェニルエチル基、N−ブチルアミノスルホニルプロピル基、N−ブチルアミノカルボニルメチル基、N,N−ジブチルアミノスルホニルプロピル基、エトキシエトキシエチル基、2−クロロエチル基が挙げられ、さらに好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、フェノキシエチル基、ベンジル基、フェニルエチル基、N−ブチルアミノスルホニルプロピル基、N−ブチルアミノカルボニルメチル基、N,N−ジブチルアミノスルホニルプロピル基、エトキシエトキシエチル基が挙げられ、特に好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、tert−ブチル基、フェノキシエチル基、ベンジル基、フェニルエチル基、N−ブチルアミノスルホニルプロピル基、N−ブチルアミノカルボニルメチル基、N,N−ジブチルアミノスルホニルプロピル基、エトキシエトキシエチル基が挙げられる。   The suitable example of the alkyl group which may have a substituent in the said general formula is shown. Examples of the alkyl group which may have a substituent include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a 2-ethylhexyl group, a dodecyl group, Hexadecyl group, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, 1-norbornyl group, 1-adamantyl group, phenoxyethyl group, benzyl group, phenylethyl group, N-butylaminosulfonylpropyl group, N-butylaminocarbonylmethyl group, N, N-dibutylaminosulfonylpropyl group, ethoxyethoxyethyl group, 2-chloroethyl group can be mentioned, more preferably methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, phenoxyethyl group, benzyl group, Phenylethyl group, N-butyl Examples thereof include aminosulfonylpropyl group, N-butylaminocarbonylmethyl group, N, N-dibutylaminosulfonylpropyl group, and ethoxyethoxyethyl group, particularly preferably methyl group, ethyl group, propyl group, tert-butyl group, phenoxyethyl. Group, benzyl group, phenylethyl group, N-butylaminosulfonylpropyl group, N-butylaminocarbonylmethyl group, N, N-dibutylaminosulfonylpropyl group and ethoxyethoxyethyl group.

上記一般式(4)〜(6)中の、置換基を有しても良いアリール基の好適な例を示す。この様なアリール基としては、フェニル基、2−クロロフェニル基、2−メトキシフェニル基、4−ブトキシカルボニルフェニル基、4−N,N−ジブチルアミノカルボニルフェニル基、4−N−ブチルアミノスルホニルフェニル基、4−N,N−ジブチルアミノスルホニルフェニル基が挙げられ、さらに好ましくはフェニル基、4−ブトキシカルボニルフェニル基、4−N,N−ジブチルアミノカルボニルフェニル基、4−N−ブチルアミノスルホニルフェニル基、4−N,N−ジブチルアミノスルホニルフェニル基が挙げられ、特に好ましくはフェニル基、4−ブトキシカルボニルフェニル基、4−N,N−ジブチルアミノカルボニルフェニル基、4−N,N−ジブチルアミノスルホニルフェニル基が挙げられる。   The suitable example of the aryl group which may have a substituent in the said General Formula (4)-(6) is shown. Such an aryl group includes a phenyl group, a 2-chlorophenyl group, a 2-methoxyphenyl group, a 4-butoxycarbonylphenyl group, a 4-N, N-dibutylaminocarbonylphenyl group, and a 4-N-butylaminosulfonylphenyl group. 4-N, N-dibutylaminosulfonylphenyl group, more preferably phenyl group, 4-butoxycarbonylphenyl group, 4-N, N-dibutylaminocarbonylphenyl group, 4-N-butylaminosulfonylphenyl group. 4-N, N-dibutylaminosulfonylphenyl group, particularly preferably phenyl group, 4-butoxycarbonylphenyl group, 4-N, N-dibutylaminocarbonylphenyl group, 4-N, N-dibutylaminosulfonyl group. A phenyl group is mentioned.

上記一般式(4)〜(6)中の、置換基を有しても良いジアルキルアミノ基の好適な例を示す。この様なジアルキルアミノ基としては、N,N−ジメチルアミノ基、N,N−ジブチルアミノ基、N,N−ジ(2−エチルヘキシル)アミノ基、N−メチル−N−ベンジルアミノ基、N,N−ジ(2−エトキシエチル)アミノ基、N.N−ジ(2−ヒドロキシエチル)アミノ基が挙げられる。   The suitable example of the dialkylamino group which may have a substituent in the said General Formula (4)-(6) is shown. Examples of such a dialkylamino group include N, N-dimethylamino group, N, N-dibutylamino group, N, N-di (2-ethylhexyl) amino group, N-methyl-N-benzylamino group, N, N-di (2-ethoxyethyl) amino group, N.I. N-di (2-hydroxyethyl) amino group may be mentioned.

上記一般式(4)〜(6)中の、置換基を有しても良いジアリールアミノ基の好適な例を示す。この様なジアリールアミノ基としては、N,N−ジフェニルアミノ基、N,N−ジ(4−メトキシフェニル)アミノ基、N,N−ジ(4−アシルフェニル)アミノ基が挙げられる。   The suitable example of the diarylamino group which may have a substituent in the said General Formula (4)-(6) is shown. Examples of such a diarylamino group include an N, N-diphenylamino group, an N, N-di (4-methoxyphenyl) amino group, and an N, N-di (4-acylphenyl) amino group.

上記一般式(4)〜(6)中の、置換基を有しても良いアルキルアリールアミノ基の好適な例を示す。この様なアルキルアリールアミノ基としては、N−メチルーN−フェニルアミノ基、N−ベンジル−N−フェニルアミノ基、N−メチル−N−(4−メトキシフェニル)アミノ基が挙げられる。   The suitable example of the alkylarylamino group which may have a substituent in the said General Formula (4)-(6) is shown. Examples of such an alkylarylamino group include an N-methyl-N-phenylamino group, an N-benzyl-N-phenylamino group, and an N-methyl-N- (4-methoxyphenyl) amino group.

上記一般式(4)〜(6)中の、置換基を有しても良いアルキルカルボニル基の好適な例を示す。この様なアルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピルカルボニル基、ヘプチル−3−カルボニル基、2−エチルヘキシルオキシメチルカルボニル基、フェノキシメチルカルボニル基、2−エチルヘキシルオキシカルボニルメチルカルボニル基が挙げられる。   The suitable example of the alkylcarbonyl group which may have a substituent in the said General Formula (4)-(6) is shown. Examples of such an alkylcarbonyl group include an acetyl group, a propylcarbonyl group, a heptyl-3-carbonyl group, a 2-ethylhexyloxymethylcarbonyl group, a phenoxymethylcarbonyl group, and a 2-ethylhexyloxycarbonylmethylcarbonyl group.

上記一般式(4)〜(6)中の、置換基を有しても良いアリールカルボニル基の好適な例を示す。この様なアリールカルボニル基としては、ベンゾイル基、4−メトキシベンゾイル基、4−エトキシカルボニルベンゾイル基、が挙げられる。   The suitable example of the arylcarbonyl group which may have a substituent in the said General Formula (4)-(6) is shown. Examples of such an arylcarbonyl group include a benzoyl group, a 4-methoxybenzoyl group, and a 4-ethoxycarbonylbenzoyl group.

上記一般式(4)〜(6)中の、置換基を有しても良いアルキルスルホニル基の好適な例を示す。この様なアルキルスルホニル基としては、メタンスルホニル基、オクタンスルホニル基、ドデシルスルホニル基、ベンジルスルホニル基、フェノキシプロピルスルホニル基が挙げられる。   The suitable example of the alkylsulfonyl group which may have a substituent in the said General Formula (4)-(6) is shown. Examples of such an alkylsulfonyl group include a methanesulfonyl group, an octanesulfonyl group, a dodecylsulfonyl group, a benzylsulfonyl group, and a phenoxypropylsulfonyl group.

上記一般式(4)〜(6)中の、置換基を有しても良いアリールスルホニル基の好適な例を示す。この様なアリールスルホニル基としては、フェニルスルホニル基、2−メトキシフェニルスルホニル基、4−エトキシカルボニルフェニルスルホニル基、が挙げられる。   The suitable example of the arylsulfonyl group which may have a substituent in the said General Formula (4)-(6) is shown. Examples of such an arylsulfonyl group include a phenylsulfonyl group, a 2-methoxyphenylsulfonyl group, and a 4-ethoxycarbonylphenylsulfonyl group.

上記一般式(4)〜(6)中の、置換基を有しても良いアルキルスルホニルアミノ基の好適な例を示す。この様なアルキルスルホニルアミノ基としては、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、ヒドロキシプロピルスルホニルアミノ基、2−エチルヘキシルスルホニルアミノ基、n−オクチルスルホニルアミノ基、フェノキシエチルスルホニルアミノ基、アリルスルホニルアミノ基が挙げられる。   The suitable example of the alkylsulfonylamino group which may have a substituent in the said General Formula (4)-(6) is shown. As such alkylsulfonylamino group, methylsulfonylamino group, butylsulfonylamino group, hydroxypropylsulfonylamino group, 2-ethylhexylsulfonylamino group, n-octylsulfonylamino group, phenoxyethylsulfonylamino group, allylsulfonylamino group Is mentioned.

上記一般式(4)〜(6)中の、置換基を有してもよいビニルスルホニルアミノ基としては、ビニルスルホニルアミノ基、1−メチルビニルスルホニルアミノ基が挙げられる。   Examples of the vinylsulfonylamino group which may have a substituent in the general formulas (4) to (6) include a vinylsulfonylamino group and a 1-methylvinylsulfonylamino group.

上記一般式(4)〜(6)中の、置換基を有しても良いアリールスルホニルアミノ基としては、フェニルスルホニルアミノ基、p−メトキシフェニルスルホニルアミノ基、p−エトキシカルボニルスルホニルアミノ基、等が挙げられる。   Examples of the arylsulfonylamino group which may have a substituent in the general formulas (4) to (6) include a phenylsulfonylamino group, a p-methoxyphenylsulfonylamino group, a p-ethoxycarbonylsulfonylamino group, and the like. Is mentioned.

上記一般式(4)〜(6)中の、置換基を有しても良いアルキルカルボニルアミノ基としては、メチルカルボニルアミノ基、2−エチルヘキサノイルアミノ基、n−ヘプチルカルボニルアミノ基、エトキシエトキシメチルカルボニルアミノ基等が挙げられる。   Examples of the alkylcarbonylamino group which may have a substituent in the general formulas (4) to (6) include a methylcarbonylamino group, a 2-ethylhexanoylamino group, an n-heptylcarbonylamino group, and ethoxyethoxy. Examples include a methylcarbonylamino group.

上記一般式(4)〜(6)中の、置換基を有しても良いアリールカルボニルアミノ基としては、ベンゾイルアミノ基、2−メトキシベンゾイルアミノ基、4−ビニルベンゾイルアミノ基等が挙げられる。   Examples of the arylcarbonylamino group that may have a substituent in the general formulas (4) to (6) include a benzoylamino group, a 2-methoxybenzoylamino group, and a 4-vinylbenzoylamino group.

以下に、置換基Tの例を示す。
アルキル基(好ましくは炭素数1〜24の、直鎖、分岐鎖、または環状のアルキル基で、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、1−ノルボルニル基、1−アダマンチル基)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜18のアルケニル基で、例えば、ビニル基、アリル基、3−ブテン−1−イル基)、アリール基(好ましくは炭素数6〜24のアリール基で、例えば、フェニル基、ナフチル基)、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜18のヘテロ環基で、例えば、2−チエニル基、4−ピリジル基、2−フリル基、2−ピリミジニル基、1−ピリジル基、2−ベンゾチアゾリル基、1−イミダゾリル基、1−ピラゾリル基、ベンゾトリアゾール−1−イル基)、シリル基(好ましくは炭素数3〜18のシリル基で、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリブチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、tert−ヘキシルジメチルシリル基)、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜24のアルコキシ基で、例えば、メトキシ基、エトキシ基、1−ブトキシ基、2−ブトキシ基、イソプロポキシ基、tert−ブトキシ基、ドデシルオキシ基、また、シクロアルキルオキシ基であれば、例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜24のアリールオキシ基で、例えば、フェノキシ基、1−ナフトキシ基)、ヘテロ環オキシ基(好ましくは炭素数1〜18のヘテロ環オキシ基で、例えば、1−フェニルテトラゾール−5−オキシ基、2−テトラヒドロピラニルオキシ基)、シリルオキシ基(好ましくは炭素数1〜18のシリルオキシ基で、例えば、トリメチルシリルオキシ基、tert−ブチルジメチルシリルオキシ基、ジフェニルメチルシリルオキシ基)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜24のアシルオキシ基で、例えば、アセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ドデカノイルオキシ基)、アルコキシカルボニルオキシ基(好ましくは炭素数2〜24のアルコキシカルボニルオキシ基で、例えば、エトキシカルボニルオキシ基、tert−ブトキシカルボニルオキシ基、また、シクロアルキルオキシカルボニルオキシ基であれば、例えば、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ基)、アリールオキシカルボニルオキシ基(好ましくは炭素数7〜24のアリールオキシカルボニルオキシ基で、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基)、カルバモイルオキシ基(この好ましくは炭素数1〜24のカルバモイルオキシ基で、例えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ基、N−ブチルカルバモイルオキシ基、N−フェニルカルバモイルオキシ基、N−エチル−N−フェニルカルバモイルオキシ基)、スルファモイルオキシ基(好ましくは炭素数1〜24のスルファモイルオキシ基で、例えば、N,N−ジエチルスルファモイルオキシ基、N−プロピルスルファモイルオキシ基)、アルキルスルホニルオキシ基(好ましくは炭素数1〜24のアルキルスルホニルオキシ基で、例えば、メチルスルホニルオキシ基、ヘキサデシルスルホニルオキシ基、シクロヘキシルスルホニルオキシ基)、アリールスルホニルオキシ基(好ましくは炭素数6〜24のアリールスルホニルオキシ基で、例えば、フェニルスルホニルオキシ基)、アシル基(好ましくは炭素数1〜24のアシル基で、例えば、ホルミル基、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、テトラデカノイル基、シクロヘキサノイル基)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜24のアルコキシカルボニル基で、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル基)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜24のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル基)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜24のカルバモイル基で、例えば、カルバモイル基、N,N−ジエチルカルバモイル基、N−エチル−N−オクチルカルバモイル基、N,N−ジブチルカルバモイル基、N−プロピルカルバモイル基、N−フェニルカルバモイル基、N−メチルN−フェニルカルバモイル基、N,N−ジシクロへキシルカルバモイル基)、アミノ基(好ましくは炭素数24以下のアミノ基で、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、N,N−ジブチルアミノ基、テトラデシルアミノ基、2−エチルへキシルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基)、アニリノ基(好ましくは6〜24のアニリノ基で、例えば、アニリノ基、N−メチルアニリノ基)、ヘテロ環アミノ基(好ましくは1〜18のヘテロ環アミノ基で、例えば、4−ピリジルアミノ基)、カルボンアミド基(好ましくは2〜24のカルボンアミド基で、例えば、アセトアミド基、ベンズアミド基、テトラデカンアミド基、ピバロイルアミド基、シクロヘキサンアミド基)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜24のウレイド基で、例えば、ウレイド基、N,N−ジメチルウレイド基、N−フェニルウレイド基)、イミド基(好ましくは炭素数24以下のイミド基で、例えば、N−スクシンイミド基、N−フタルイミド基)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜24のアルコキシカルボニルアミノ基で、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、tert−ブトキシカルボニルアミノ基、オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、シクロヘキシルオキシカルボニルアミノ基)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜24のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜24のスルホンアミド基で、例えば、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基、ヘキサデカンスルホンアミド基、シクロヘキサンスルホンアミド基)、スルファモイルアミノ基(好ましくは炭素数1〜24のスルファモイルアミノ基で、例えば、N、N−ジプロピルスルファモイルアミノ基、N−エチル−N−ドデシルスルファモイルアミノ基)、アゾ基(好ましくは炭素数1〜24のアゾ基で、例えば、フェニルアゾ基、3−ピラゾリルアゾ基)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜24のアルキルチオ基で、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、オクチルチオ基、シクロヘキシルチオ基)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜24のアリールチオ基で、例えば、フェニルチオ基)、ヘテロ環チオ基(好ましくは炭素数1〜18のヘテロ環チオ基で、例えば、2−ベンゾチアゾリルチオ基、2−ピリジルチオ基、1−フェニルテトラゾリルチオ基)、アルキルスルフィニル基(好ましくは炭素数1〜24のアルキルスルフィニル基で、例えば、ドデカンスルフィニル基)、アリールスルフィニル基(好ましくは炭素数6〜24のアリールスルフィニル基で、例えば、フェニルスルフィニル基)、アルキルスルホニル基(好ましくは炭素数1〜24のアルキルスルホニル基で、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、ヘキサデシルスルホニル基、オクチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基)、アリールスルホニル基(好ましくは炭素数6〜24のアリールスルホニル基で、例えば、フェニルスルホニル基、1−ナフチルスルホニル基)、スルファモイル基(好ましくは炭素数24以下のスルファモイル基で、例えば、スルファモイル基、N,N−ジプロピルスルファモイル基、N−エチル−N−ドデシルスルファモイル基、N−エチル−N−フェニルスルファモイル基、N−シクロヘキシルスルファモイル基)、スルホ基、ホスホニル基(好ましくは炭素数1〜24のホスホニル基で、例えば、フェノキシホスホニル基、オクチルオキシホスホニル基、フェニルホスホニル基)、ホスフィノイルアミノ基(好ましくは炭素数1〜24のホスフィノイルアミノ基で、例えば、ジエトキシホスフィノイルアミノ基、ジオクチルオキシホスフィノイルアミノ基)を表す。
Examples of the substituent T are shown below.
An alkyl group (preferably a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, tert-butyl group, pentyl group, Hexyl group, heptyl group, octyl group, 2-ethylhexyl group, dodecyl group, hexadecyl group, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, 1-norbornyl group, 1-adamantyl group), alkenyl group (preferably having 2 to 2 carbon atoms) 18 alkenyl groups such as vinyl group, allyl group and 3-buten-1-yl group), aryl groups (preferably aryl groups having 6 to 24 carbon atoms such as phenyl group and naphthyl group), heterocyclic ring Group (preferably a heterocyclic group having 1 to 18 carbon atoms such as 2-thienyl group, 4-pyridyl group, 2-furyl group, 2- Limidinyl group, 1-pyridyl group, 2-benzothiazolyl group, 1-imidazolyl group, 1-pyrazolyl group, benzotriazol-1-yl group), silyl group (preferably a silyl group having 3 to 18 carbon atoms, for example, trimethylsilyl Group, triethylsilyl group, tributylsilyl group, tert-butyldimethylsilyl group, tert-hexyldimethylsilyl group), hydroxyl group, cyano group, nitro group, alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 24 carbon atoms, Methoxy group, ethoxy group, 1-butoxy group, 2-butoxy group, isopropoxy group, tert-butoxy group, dodecyloxy group, and cycloalkyloxy group, for example, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group) An aryloxy group (preferably having 6 to 2 carbon atoms) An aryloxy group of, for example, phenoxy group, 1-naphthoxy group), a heterocyclic oxy group (preferably a heterocyclic oxy group having 1 to 18 carbon atoms, such as 1-phenyltetrazole-5-oxy group, 2- Tetrahydropyranyloxy group), silyloxy group (preferably a silyloxy group having 1 to 18 carbon atoms, for example, trimethylsilyloxy group, tert-butyldimethylsilyloxy group, diphenylmethylsilyloxy group), acyloxy group (preferably carbon number) An acyloxy group having 2 to 24, for example, an acetoxy group, a pivaloyloxy group, a benzoyloxy group, a dodecanoyloxy group, an alkoxycarbonyloxy group (preferably an alkoxycarbonyloxy group having 2 to 24 carbon atoms, for example, ethoxycarbonyloxy Group, tert-butoki In the case of a sicarbonyloxy group or a cycloalkyloxycarbonyloxy group, for example, a cyclohexyloxycarbonyloxy group, an aryloxycarbonyloxy group (preferably an aryloxycarbonyloxy group having 7 to 24 carbon atoms, for example, phenoxy Carbonyloxy group), carbamoyloxy group (preferably a carbamoyloxy group having 1 to 24 carbon atoms, such as N, N-dimethylcarbamoyloxy group, N-butylcarbamoyloxy group, N-phenylcarbamoyloxy group, N- Ethyl-N-phenylcarbamoyloxy group), sulfamoyloxy group (preferably a sulfamoyloxy group having 1 to 24 carbon atoms, for example, N, N-diethylsulfamoyloxy group, N-propylsulfamoyl group) Oxy group), alkyl A sulfonyloxy group (preferably an alkylsulfonyloxy group having 1 to 24 carbon atoms, for example, a methylsulfonyloxy group, a hexadecylsulfonyloxy group, a cyclohexylsulfonyloxy group), an arylsulfonyloxy group (preferably having 6 to 24 carbon atoms) An arylsulfonyloxy group such as a phenylsulfonyloxy group, an acyl group (preferably an acyl group having 1 to 24 carbon atoms, such as a formyl group, acetyl group, pivaloyl group, benzoyl group, tetradecanoyl group, cyclohexa Noyl group), alkoxycarbonyl group (preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 24 carbon atoms, such as methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, octadecyloxycarbonyl group, cyclohexyloxycarbonyl group, 2,6-di-ter -Butyl-4-methylcyclohexyloxycarbonyl group), aryloxycarbonyl group (preferably an aryloxycarbonyl group having 7 to 24 carbon atoms, such as phenoxycarbonyl group), carbamoyl group (preferably carbamoyl having 1 to 24 carbon atoms) Groups such as carbamoyl, N, N-diethylcarbamoyl, N-ethyl-N-octylcarbamoyl, N, N-dibutylcarbamoyl, N-propylcarbamoyl, N-phenylcarbamoyl, N-methylN -Phenylcarbamoyl group, N, N-dicyclohexylcarbamoyl group), amino group (preferably an amino group having 24 or less carbon atoms, for example, amino group, methylamino group, N, N-dibutylamino group, tetradecylamino group) Group, 2-ethylhexylamino group, cyclohexyl Silamino group), anilino group (preferably 6 to 24 anilino group, for example, anilino group, N-methylanilino group), heterocyclic amino group (preferably 1 to 18 heterocyclic amino group, for example, 4-pyridylamino Group), a carbonamide group (preferably a carbonamide group having 2 to 24 carbon atoms, for example, an acetamido group, a benzamide group, a tetradecanamide group, a pivaloylamide group, a cyclohexaneamide group), a ureido group (preferably a ureido having 1 to 24 carbon atoms). Group, for example, ureido group, N, N-dimethylureido group, N-phenylureido group), imide group (preferably an imide group having 24 or less carbon atoms, for example, N-succinimide group, N-phthalimide group), An alkoxycarbonylamino group (preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 24 carbon atoms) Group, for example, methoxycarbonylamino group, ethoxycarbonylamino group, tert-butoxycarbonylamino group, octadecyloxycarbonylamino group, cyclohexyloxycarbonylamino group), aryloxycarbonylamino group (preferably having 7 to 24 carbon atoms). An aryloxycarbonylamino group such as a phenoxycarbonylamino group, a sulfonamide group (preferably a sulfonamide group having 1 to 24 carbon atoms, such as a methanesulfonamide group, a butanesulfonamide group, a benzenesulfonamide group, hexadecane A sulfonamido group, a cyclohexanesulfonamido group), a sulfamoylamino group (preferably a sulfamoylamino group having 1 to 24 carbon atoms, such as N, N-dipropylsulfamoylamino group, N Ethyl-N-dodecylsulfamoylamino group), azo group (preferably an azo group having 1 to 24 carbon atoms, for example, phenylazo group, 3-pyrazolylazo group), alkylthio group (preferably having 1 to 24 carbon atoms). An alkylthio group, for example, a methylthio group, an ethylthio group, an octylthio group, a cyclohexylthio group, an arylthio group (preferably an arylthio group having 6 to 24 carbon atoms, for example, a phenylthio group), a heterocyclic thio group (preferably a carbon number) 1 to 18 heterocyclic thio groups, for example, 2-benzothiazolylthio group, 2-pyridylthio group, 1-phenyltetrazolylthio group), alkylsulfinyl group (preferably an alkylsulfinyl group having 1 to 24 carbon atoms) , For example, dodecanesulfinyl group), arylsulfinyl group (preferably having 6 to 2 carbon atoms) 4 arylsulfinyl group, for example, phenylsulfinyl group), alkylsulfonyl group (preferably an alkylsulfonyl group having 1 to 24 carbon atoms, for example, methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, propylsulfonyl group, butylsulfonyl group, isopropyl Sulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, hexadecylsulfonyl group, octylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group), arylsulfonyl group (preferably arylsulfonyl group having 6 to 24 carbon atoms, such as phenylsulfonyl group, 1-naphthylsulfonyl group) Group), a sulfamoyl group (preferably a sulfamoyl group having 24 or less carbon atoms, such as a sulfamoyl group, an N, N-dipropylsulfamoyl group, an N-ethyl-N-dodecylsulfamoyl group, an N-ethyl group). Ru-N-phenylsulfamoyl group, N-cyclohexylsulfamoyl group), sulfo group, phosphonyl group (preferably phosphonyl group having 1 to 24 carbon atoms, such as phenoxyphosphonyl group, octyloxyphosphonyl group, Phenylphosphonyl group) and a phosphinoylamino group (preferably a phosphinoylamino group having 1 to 24 carbon atoms such as a diethoxyphosphinoylamino group and a dioctyloxyphosphinoylamino group).

上述した置換基が置換可能な基である場合には、上述した各基のいずれかによってさらに置換されていてもよい。なお、2個以上の置換基を有している場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。   When the above-described substituent is a substitutable group, it may be further substituted with any of the above-described groups. In addition, when it has two or more substituents, those substituents may be the same or different.

フェニル基またはナフチル基の置換基Rが、一般式(X)で表される基である場合について説明する。   The case where the substituent R of the phenyl group or naphthyl group is a group represented by the general formula (X) will be described.

11は水素原子または炭素数1〜8のアルキル基を表し、水素原子またはメチル基が好ましく、水素原子がさらに好ましい。
n1は1〜3の整数を表し、1または2がより好ましい。n1が2または3の場合、複数のR11は同じでも異なっても良い。
1は−O−、−S−、−NR13−、−SO2−、または、−C(=O)−を表し、−O−、−SO2−、または、−C(=O)−が好ましく、−O−または−C(=O)−がより好ましい。
12は1価の置換基を表し、置換基としては、上記の置換基Tが例示され、これらの置換基Tは、さらに、置換基Tによって置換されていてもよい。R12は好ましくは、置換基を有しても良いアルキル基、置換基を有しても良いアシル基、置換基を有しても良いスルホニル基、置換基を有しても良いアルコキシ基、または置換基を有しても良いアルキルアミノ基であり、より好ましくは置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキルアミノ基である。
1分子あたりのR12の部分の質量は、200〜2500であることが好ましく、250〜1500であることがより好ましい。
13は、それぞれ、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表す。
R 11 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or a methyl group, and more preferably a hydrogen atom.
n1 represents an integer of 1 to 3, and 1 or 2 is more preferable. When n1 is 2 or 3, the plurality of R 11 may be the same or different.
Y 1 represents —O—, —S—, —NR 13 —, —SO 2 —, or —C (═O) —, and represents —O—, —SO 2 —, or —C (═O). -Is preferable, and -O- or -C (= O)-is more preferable.
R 12 represents a monovalent substituent, and examples of the substituent include the above-described substituent T. The substituent T may be further substituted with the substituent T. R 12 is preferably an alkyl group which may have a substituent, an acyl group which may have a substituent, a sulfonyl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, Or an alkylamino group which may have a substituent, more preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, and 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent. Or an alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent.
The mass of the R 12 portion per molecule is preferably 200-2500, and more preferably 250-1500.
R 13 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

上述した1価の基がさらに置換可能な基である場合には、上述した各基のいずれかによってさらに置換されていてもよい。なお、2個以上の置換基を有している場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。   When the above-described monovalent group is a group that can be further substituted, it may be further substituted with any of the above-described groups. In addition, when it has two or more substituents, those substituents may be the same or different.

次に、一般式(1−4)について説明する。
一般式(1−4)において、R’はエーテル溶解性への効果と分子量の点から、炭素数1〜3のアルキレン基である。炭素数1〜3のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、n−プロピレン基、iso−プロピレン基が挙げられる。好ましくは、エチレン基、プロピレン基である。
R”はエーテル溶解性への効果と分子量の点から、炭素数1〜8のアルキル基であり、好ましくは1〜2のアルキル基である。1〜8のアルキル基としては、一般式(1−3)におけるR3と同義であり、好ましい範囲も同義である。
n1は、エーテル溶解性への効果と分子量の観点から、0〜4の整数であり、1〜2の整数であることがより好ましい。
Next, general formula (1-4) is demonstrated.
In General Formula (1-4), R ′ is an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms from the viewpoint of ether solubility and molecular weight. Examples of the alkylene group having 1 to 3 carbon atoms include a methylene group, an ethylene group, an n-propylene group, and an iso-propylene group. Preferably, they are an ethylene group and a propylene group.
R ″ is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and preferably an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, from the viewpoint of ether solubility and molecular weight. -3) has the same meaning as R 3 , and the preferred range is also the same.
n1 is an integer of 0 to 4 and more preferably an integer of 1 to 2 from the viewpoint of ether solubility and molecular weight.

次に、一般式(1)の中心部分であるMについて述べる。一般式(1)において、Mは、2つの水素原子、金属原子、金属酸化物または金属ハロゲン化物を表わす。また、金属原子としては、鉄、マグネシウム、ニッケル、コバルト、銅、パラジウム、亜鉛、バナジウム、チタン、インジウム、錫等が挙げられる。金属酸化物としては、チタニル、バナジル等が挙げられる。金属ハロゲン化物としては、塩化アルミニウム、塩化インジウム、塩化ゲルマニウム、塩化錫(II)、塩化錫(IV)、塩化珪素等が挙げられる。好ましくは、金属原子、金属酸化物または金属ハロゲン化物であり、具体的には、銅、亜鉛、コバルト、ニッケル、鉄、バナジル、チタニル、塩化インジウム、塩化錫(II)であり、より好ましくは銅、バナジル及び亜鉛であり、さらに好ましくは亜鉛、銅であり、最も好ましくは亜鉛である。中心金属が亜鉛、銅であると、耐熱性が高いため好ましい。また、中心金属が亜鉛であると、銅の場合よりも緑色の波長である520nm〜545nm付近の透過率が高くカラーフィルタにした際に輝度が向上できるので特に好ましい。また、アセトン、メタノール、メチルセルソルブといった汎用性溶剤に対する溶剤溶解性が高く、また樹脂に対する溶解性が高くコントラストが高くなるため、特に好ましい。   Next, M which is the central part of the general formula (1) will be described. In the general formula (1), M represents two hydrogen atoms, a metal atom, a metal oxide, or a metal halide. Examples of the metal atom include iron, magnesium, nickel, cobalt, copper, palladium, zinc, vanadium, titanium, indium, and tin. Examples of the metal oxide include titanyl and vanadyl. Examples of the metal halide include aluminum chloride, indium chloride, germanium chloride, tin (II) chloride, tin (IV) chloride, and silicon chloride. Preferably, it is a metal atom, a metal oxide or a metal halide, specifically, copper, zinc, cobalt, nickel, iron, vanadyl, titanyl, indium chloride, tin (II) chloride, more preferably copper. Vanadyl and zinc, more preferably zinc and copper, and most preferably zinc. It is preferable that the central metal is zinc or copper because of high heat resistance. Further, it is particularly preferable that the central metal is zinc because the transmittance in the vicinity of 520 nm to 545 nm, which is a green wavelength, is higher than that of copper, and the luminance can be improved when the color filter is formed. Further, it is particularly preferable because it has high solvent solubility in general-purpose solvents such as acetone, methanol, and methyl cellosolve, and has high solubility in resins and high contrast.

一般式(1)で表される化合物は、下記一般式(1−1)で表されることがより好ましい。
一般式(1−1)
(一般式(1−1)中、Z1〜Z16は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、一般式(1−1−2)で表される基、一般式(1−3)で表される基、または、一般式(1−4)で表される基を表し、Z1〜Z16のうち、1〜8つは、一般式(1−1−2)で表される基または一般式(1−4)で表される基を表し、少なくとも1つはハロゲン原子であり、かつ、少なくとも1つは一般式(1−1−2)で表される基である。Mは2つの水素原子、金属原子、金属酸化物または金属ハロゲン化物を表わす。)
The compound represented by the general formula (1) is more preferably represented by the following general formula (1-1).
General formula (1-1)
(In General Formula (1-1), Z 1 to Z 16 are each represented by a hydrogen atom, a halogen atom, a group represented by General Formula (1-1-2), or General Formula (1-3). Or a group represented by the general formula (1-4), and 1 to 8 of Z 1 to Z 16 are groups represented by the general formula (1-1-2) or general Represents a group represented by the formula (1-4), at least one is a halogen atom, and at least one is a group represented by the general formula (1-1-2). Represents hydrogen atom, metal atom, metal oxide or metal halide.)

一般式(1−1)における一般式(1−1−2)、一般式(1−3)、一般式(1−4)は、上記一般式(1)で説明した一般式(1−1−2)、一般式(1−3)、一般式(1−4)と同義であり、好ましい範囲も同義である。従って、一般式(1−1)におけるZ1〜Z16は、それぞれ、一般式(1)のZ1〜Z16は、同じ範囲がより好ましい。
一般式(1−1)のMは、上記一般式(1)におけるMと同義であり、好ましい範囲も同義である。
一般式(1−1)中におけるZ1〜Z16は、一般式(1−1−2)または一般式(1−4)で表される基を有することが好ましい。一般式(1−1−2)中のA11は、1〜5つの置換基Rを有するフェニル基であり、置換基Rが、COOR1(R1は一般式(1−3)で表される基)、一般式(4)、一般式(5)、一般式(6)または一般式(X)で表される基、および−COOHから選択される基であることが好ましい。
In the general formula (1-1), the general formula (1-1-2), the general formula (1-3), and the general formula (1-4) are represented by the general formula (1-1) described in the general formula (1). -2), general formula (1-3), and general formula (1-4), and the preferred range is also synonymous. Therefore, Z 1 to Z 16 in the general formula (1-1) are more preferably in the same range as Z 1 to Z 16 in the general formula (1).
M in the general formula (1-1) has the same meaning as M in the general formula (1), and the preferred range is also the same.
Z 1 to Z 16 in the general formula (1-1) preferably have a group represented by the general formula (1-1-2) or the general formula (1-4). A 11 in the general formula (1-1-2) is a phenyl group having 1 to 5 substituents R, and the substituent R is represented by COOR 1 (R 1 is represented by the general formula (1-3). A group selected from the group represented by formula (4), general formula (5), general formula (6) or general formula (X), and -COOH.

一般式(1)で表される化合物は、下記一般式(1−5)で表されることも好ましい。下記一般式(1−5)で表される化合物を含むことにより、耐薬品性をより向上させることができる。
(一般式(1−5)中、Z1〜Z16は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、一般式(1−5−1)で表される基を表し、Z1〜Z16のうち、少なくとも1つが、(1−5−1)で表される基を表し、かつ、少なくとも1つがハロゲン原子である。Mは2つの水素原子、金属原子、金属酸化物または金属ハロゲン化物を表わす。)
一般式(1−5−1)
(一般式(1−5−1)中、L1は2価の連結基を表し、Arはアリーレン基を表し、Aは下記一般式(1−5−2)で表される基を表す。*はフタロシアニン環との結合する部位を表す。)
一般式(1−5−2)
(一般式(1−5―2)中、L2は単結合または2価の連結基を表す。R5〜R7は、それぞれ、水素原子または1価の置換基を表す。*は一般式(1−5―1)中のArとの結合する部位を表す。)
The compound represented by the general formula (1) is also preferably represented by the following general formula (1-5). By including the compound represented by the following general formula (1-5), chemical resistance can be further improved.
(In General Formula (1-5), Z 1 to Z 16 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a group represented by General Formula (1-5-1), and among Z 1 to Z 16 , (At least one represents a group represented by (1-5-1) and at least one is a halogen atom. M represents two hydrogen atoms, a metal atom, a metal oxide, or a metal halide.)
Formula (1-5-1)
(In General Formula (1-5-1), L 1 represents a divalent linking group, Ar represents an arylene group, and A represents a group represented by the following General Formula (1-5-2). (* Represents the site of binding to the phthalocyanine ring.)
Formula (1-5-2)
(In the general formula (1-5-2), L 2 represents a single bond or a divalent linking group. R 5 to R 7 each represents a hydrogen atom or a monovalent substituent. * Represents a general formula. (Represents the site of binding to Ar in (1-5-1).)

一般式(1−5−1)中、L1は2価の連結基を表す。L1は、−O−、−S−、−C(=O)−、−CH2−、−C(=S)−、−NRA−、−SO−、−SO2−の1つまたは2つ以上の組み合わせからなる2価の連結基が好ましく、−O−、−S−、−C(=O)−、−CH2−、−SO2−の1つまたは2つ以上の組み合わせからなる2価の連結基がより好ましく、−O−または−S−がさらに好ましく、−O−が特に好ましい。
上記RAは、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、アルキル基は、炭素数1〜10のアルキル基(メチル基、エチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基など)であり、アリール基は、炭素数6〜10のアリール基(フェニル基、ナフチル基など)である。RAは、水素原子、メチル基またはエチル基が好ましく、水素原子またはメチル基がより好ましく、水素原子がさらに好ましい。
In General Formula (1-5-1), L 1 represents a divalent linking group. L 1 is one of —O—, —S—, —C (═O) —, —CH 2 —, —C (═S) —, —NR A —, —SO—, —SO 2 —, or divalent linking group is preferably composed of two or more thereof, -O -, - S -, - C (= O) -, - CH 2 -, - SO 2 - from one or combinations of two or more Are more preferable, -O- or -S- is more preferable, and -O- is particularly preferable.
R A represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and the alkyl group is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (methyl group, ethyl group, hexyl group, cyclohexyl group, etc.), and the aryl group is a carbon atom. It is an aryl group of several 6 to 10 (phenyl group, naphthyl group, etc.). R A is preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, and even more preferably a hydrogen atom.

一般式(1−5−1)中、Arはアリーレン基を表す。ここでのアリーレン基は、いわゆる芳香環基をいい、複素環基は含まない。Arは、フェニレン基、ナフチレン基が好ましく、フェニレン基またはナフチレン基がより好ましく、フェニレン基がさらに好ましい。   In general formula (1-5-1), Ar represents an arylene group. The arylene group here refers to a so-called aromatic ring group and does not include a heterocyclic group. Ar is preferably a phenylene group or a naphthylene group, more preferably a phenylene group or a naphthylene group, and even more preferably a phenylene group.

一般式(1−5−2)中、L2は2価の連結基であることが好ましい。2価の連結基としては、−O−、−S−、−C(=O)−、−CH2−、−CH(OH)−、−C(=S)−、−NRB−、−SO−、−SO2−の1つまたは2つ以上の組み合わせからなる2価の連結基であることが好ましく、−O−、−C(=O)−、−CH2−、−CH(OH)−、−NRB−の1つまたは2つ以上の組み合わせからなる2価の連結基であることがより好ましい。
一般式(1−5−2)は、アクリル酸エステル構造またはメタクリル酸エステル構造を有することが好ましい。例えば、一般式(1−5−2)中、L2が二重結合側にC(=O)O−構造を有することが好ましい。
Bは、上記RAと同義であり、好ましい範囲も同義である。
In general formula (1-5-2), L 2 is preferably a divalent linking group. Examples of the divalent linking group include —O—, —S—, —C (═O) —, —CH 2 —, —CH (OH) —, —C (═S) —, —NR B —, —. SO -, - SO 2 - is preferably one or a divalent linking group composed of a combination of two or more, -O -, - C (= O) -, - CH 2 -, - CH (OH More preferably, it is a divalent linking group consisting of one or a combination of-)-, -NR B- .
The general formula (1-5-2) preferably has an acrylate structure or a methacrylate structure. For example, in general formula (1-5-2), L 2 preferably has a C (═O) O— structure on the double bond side.
R B has the same meaning as R A described above, and the preferred range is also the same.

一般式(1−5−2)中、R5〜R7は、それぞれ、水素原子または1価の置換基を表す。1価の置換基は、上述の置換基Tが挙げられ、アルキル基が好ましく、炭素数1〜10のアルキル基(メチル基、エチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基)などがより好ましい。R5〜R7は、水素原子またはメチル基がさらに好ましく、R6およびR7は水素原子が特に好ましく、R5は水素原子またはメチル基が特に好ましい。
特に、一般式(1−5−2)が、*−L2A−(メタ)アクリロイルオキシ基で表されることが好ましい。L2Aは、上記2価の連結基と同義であり、−O−、−C(=O)−、−CH2−、−CH(OH)−、−NRB−の1つまたは2つ以上の組み合わせからなる基であることがより好ましい。
In general formula (1-5-2), R 5 to R 7 each represent a hydrogen atom or a monovalent substituent. Examples of the monovalent substituent include the above-described substituent T, and an alkyl group is preferable, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (a methyl group, an ethyl group, a hexyl group, a cyclohexyl group) and the like are more preferable. R 5 to R 7 are more preferably a hydrogen atom or a methyl group, R 6 and R 7 are particularly preferably a hydrogen atom, and R 5 is particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group.
In particular, the general formula (1-5-2) is preferably represented by a * -L 2A- (meth) acryloyloxy group. L 2A has the same meaning as the above divalent linking group, and is one or more of —O—, —C (═O) —, —CH 2 —, —CH (OH) —, —NR B —. It is more preferable that the group is a combination of the above.

以下に本発明で用いられる一般式(1)および一般式(1−1)における、Z1〜Z16の例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Examples of Z 1 to Z 16 in general formula (1) and general formula (1-1) used in the present invention will be given below, but the present invention is not limited to these.

以下に本発明で用いられるフタロシアニン化合物の例を挙げるが、本発明がこれらに限定されるものではないことはいうまでもない。
下記表は下記一般式に示される置換基とその数を表す。
下記表中のArは下記構造を表す。
上記式において、Phはフェニル基である。
Although the example of the phthalocyanine compound used by this invention is given to the following, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to these.
The following table shows the substituents represented by the following general formula and their numbers.
Ar in the following table represents the following structure.
In the above formula, Ph is a phenyl group.

上記において、Pcはフタロシアニン核を表わし、Znは中心金属を表わし、Pcのすぐ後にα位に置換する置換基を表わし、そのα位に置換する置換基の後にβ位に置換する置換基を表わし、置換位置に依らない置換基を表わす。x、yは置換基数が0以上の正数となる正数である。 In the above, Pc represents a phthalocyanine nucleus, Zn represents a central metal, a substituent substituted at the α-position immediately after Pc, and a substituent substituted at the β-position after the substituent substituted at the α-position. Represents a substituent independent of the substitution position. x and y are positive numbers whose number of substituents is 0 or more.

フタロシアニン化合物は置換位置や置換数が異なる混合物となるため、構造式として一義的に記述することが難しい。また、次の表で示す置換数は混合物中の置換基の数の平均値が近似された値であり、少数も取り得る。   Since the phthalocyanine compound is a mixture having different substitution positions and substitution numbers, it is difficult to uniquely describe it as a structural formula. Further, the number of substitutions shown in the following table is a value obtained by approximating the average value of the number of substituents in the mixture, and may be a small number.

ハロゲン化フタロシアニン化合物の製造方法
本発明で用いるフタロシアニン化合物の製造方法は、特に制限されるものではなく、従来公知の方法を利用することができる。好ましくは溶融状態または有機溶剤中で、フタロニトリル化合物と金属塩とを環化反応する方法が特に好ましく使用できる。以下、フタロシアニン化合物の製造方法の好ましい実施形態を記載する。しかしながら、本発明は、下記好ましい実施形態に制限されるものではない。
すなわち、下記式(I):
で表されるフタロニトリル化合物(1)、下記式(II):
で表されるフタロニトリル化合物(2)、下記式(III):
で表されるフタロニトリル化合物(3)、および下記式(IV):
で表されるフタロニトリル化合物(4)を、金属原子、金属酸化物、金属カルボニル、金属ハロゲン化物及び有機酸金属(本明細書中では、一括して「金属化合物」とも称する)からなる群から選ばれる一種と環化反応させることによって、フタロシアニン化合物が製造できる。
なお、上記式(I)〜(IV)中、Z1〜Z16は、所望のフタロシアニン化合物(1)の構造によって規定される。具体的には、上記式(I)〜(IV)中、Z1〜Z16は、それぞれ、上記式(1)中のZ1〜Z16の定義と同様であるため、ここでは説明を省略する。
Method for Producing Halogenated Phthalocyanine Compound The method for producing the phthalocyanine compound used in the present invention is not particularly limited, and a conventionally known method can be used. A method of cyclizing a phthalonitrile compound and a metal salt, preferably in a molten state or in an organic solvent, can be used particularly preferably. Hereinafter, preferred embodiments of the method for producing a phthalocyanine compound will be described. However, the present invention is not limited to the following preferred embodiments.
That is, the following formula (I):
A phthalonitrile compound (1) represented by the following formula (II):
A phthalonitrile compound (2) represented by the following formula (III):
And a phthalonitrile compound (3) represented by the following formula (IV):
And a phthalonitrile compound (4) represented by the formula: A phthalocyanine compound can be produced by cyclization reaction with one selected.
In the above formulas (I) to (IV), Z 1 to Z 16 are defined by the structure of the desired phthalocyanine compound (1). Specifically, in the above formulas (I) to (IV), Z 1 to Z 16 are the same as the definitions of Z 1 to Z 16 in the above formula (1), respectively, and thus the description thereof is omitted here. To do.

環化反応は、特開昭64−45474号公報に記載の方法などの、従来公知方法により合成できる。
上記態様において、環化反応は、式(I)〜(IV)のフタロニトリル化合物と金属、金属酸化物、金属カルボニル、金属ハロゲン化物及び有機酸金属からなる群から選ばれる一種を溶融状態または有機溶剤中で反応させることが好ましい。この際使用できる金属、金属酸化物、金属カルボニル、金属ハロゲン化物及び有機酸金属としては、反応後に得られるフタロシアニン化合物の中新聞(一般式(1)のM)に相当するものが得られるものであれば、特に制限されるものではない。従って、上記一般式(1)におけるMの項で列挙された鉄、銅、亜鉛、バナジウム、チタン、インジウム及びスズ等の金属、当該金属の、塩化物、臭化物、ヨウ化物等の金属ハロゲン化合物、酸化バナジウム、酸化チタニル及び酸化銅等の金属酸化物、酢酸塩等の有機酸金属、ならびにアセチルアセトナート等の錯体化合物及びカルボニル鉄等の金属カルボニル等が挙げられる。具体的には、鉄、銅、亜鉛、バナジウム、チタン、インジウム、マグネシウム及びスズ等の金属;当該金属の、塩化物、臭化物、ヨウ化物等の金属ハロゲン化合物、例えば、塩化バナジウム、塩化チタン、塩化銅、塩化亜鉛、塩化コバルト、塩化ニッケル、塩化鉄、塩化インジウム、塩化アルミニウム、塩化錫、塩化ガリウム、塩化ゲルマニウム、塩化マグネシウム、ヨウ化銅、ヨウ化亜鉛、ヨウ化コバルト、ヨウ化インジウム、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化ガリウム、臭化銅、臭化亜鉛、臭化コバルト、臭化アルミニウム、臭化ガリウム;一酸化バナジウム、三酸化バナジウム、四酸化バナジウム、五酸化バナジウム、二酸化チタン、一酸化鉄、三二酸化鉄、四三酸化鉄、酸化マンガン、一酸化ニッケル、一酸化コバルト、三二酸化コバルト、二酸化コバルト、酸化第一銅、酸化第二銅、三二酸化銅、酸化バラジウム、酸化亜鉛、一酸化ゲルマニウム、及び二酸化ゲルマニウム等の金属酸化物;酢酸銅、酢酸亜鉛、酢酸コバルト、安息香酸銅、安息香酸亜鉛等の有機酸金属;ならびにアセチルアセトナート等の錯体化合物及びコバルトカルボニル、鉄カルボニル、ニッケルカルボニル等の金属カルボニルなどが挙げられる。これらのうち、好ましくは金属、金属酸化物及び金属ハロゲン化物であり、より好ましくは金属ハロゲン化物であり、さらに好ましくは、ヨウ化バナジウム、ヨウ化銅およびヨウ化亜鉛であり、特に好ましくは、ヨウ化銅およびヨウ化亜鉛であり、最も好ましくはヨウ化亜鉛である。ヨウ化亜鉛を用いる場合、中心金属は、亜鉛ということになる。金属ハロゲン化物のうち、ヨウ化物を用いることが好適な理由は、溶剤や樹脂に対する溶解性に優れ、得られるフタロシアニン化合物のスペクトルがシャープであり、所望の波長である640〜750nmに収まりやすいためである。環化反応の際にヨウ化物を用いた場合にスペクトルがシャープになる詳細なメカニズムは不明であるが、ヨウ化物を用いた場合、反応後にフタロシアニン化合物中に残存するヨウ素が、フタロシアニン化合物と何らかの相互作用を起こして、フタロシアニン化合物の層間にヨウ素が存在するようになるためであると推定される。しかしながら、上記メカニズムに限定されるものではない。環化反応に金属ヨウ化物を用いた場合と同様の効果を得るために、得られたフタロシアニン化合物をヨウ素で処理してもよい。
The cyclization reaction can be synthesized by a conventionally known method such as the method described in JP-A No. 64-45474.
In the above embodiment, the cyclization reaction is carried out by melting one kind selected from the group consisting of the phthalonitrile compounds of formulas (I) to (IV) and a metal, a metal oxide, a metal carbonyl, a metal halide, and an organic acid metal in a molten state or organic. It is preferable to react in a solvent. Metals, metal oxides, metal carbonyls, metal halides and organic acid metals that can be used at this time are those obtained from the middle newspaper (M in the general formula (1)) of the phthalocyanine compound obtained after the reaction. If there is, there is no particular limitation. Accordingly, metals such as iron, copper, zinc, vanadium, titanium, indium, and tin listed in the item M in the general formula (1), metal halide compounds such as chloride, bromide, and iodide of the metal, Examples thereof include metal oxides such as vanadium oxide, titanyl oxide and copper oxide, organic acid metals such as acetate, complex compounds such as acetylacetonate, and metal carbonyls such as carbonyl iron. Specifically, metals such as iron, copper, zinc, vanadium, titanium, indium, magnesium, and tin; metal halides such as chloride, bromide, and iodide of the metal, such as vanadium chloride, titanium chloride, and chloride Copper, zinc chloride, cobalt chloride, nickel chloride, iron chloride, indium chloride, aluminum chloride, tin chloride, gallium chloride, germanium chloride, magnesium chloride, copper iodide, zinc iodide, cobalt iodide, indium iodide, iodide Aluminum, gallium iodide, copper bromide, zinc bromide, cobalt bromide, aluminum bromide, gallium bromide; vanadium monoxide, vanadium trioxide, vanadium tetroxide, vanadium pentoxide, titanium dioxide, iron monoxide, three Iron dioxide, iron trioxide, manganese oxide, nickel monoxide, cobalt monoxide, cobalt dioxide , Cobalt dioxide, cuprous oxide, cupric oxide, copper trioxide, barium oxide, zinc oxide, germanium monoxide, germanium dioxide and other metal oxides; copper acetate, zinc acetate, cobalt acetate, copper benzoate, And organic acid metals such as zinc benzoate; and complex compounds such as acetylacetonate; and metal carbonyls such as cobalt carbonyl, iron carbonyl and nickel carbonyl. Of these, preferred are metals, metal oxides and metal halides, more preferred are metal halides, still more preferred are vanadium iodide, copper iodide and zinc iodide, and particularly preferred is iodine. Copper iodide and zinc iodide, most preferably zinc iodide. When zinc iodide is used, the central metal is zinc. Among metal halides, it is preferable to use iodide because it is excellent in solubility in solvents and resins, and the spectrum of the obtained phthalocyanine compound is sharp and easily falls within the desired wavelength of 640 to 750 nm. is there. The detailed mechanism of sharpening the spectrum when using iodide during the cyclization reaction is unknown, but when iodide is used, the iodine remaining in the phthalocyanine compound after the reaction may not interact with the phthalocyanine compound. It is presumed that iodine is present between the layers of the phthalocyanine compound due to the action. However, the mechanism is not limited to the above mechanism. In order to obtain the same effect as when metal iodide is used for the cyclization reaction, the obtained phthalocyanine compound may be treated with iodine.

また、上記態様において、また、環化反応は、無溶剤中でも行なえるが、有機溶剤を使用して行なうのが好ましい。有機溶剤は、出発原料としてのフタロニトリル化合物との反応性の低い、好ましくは反応性を示さない不活性な溶剤であればいずれでもよく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ニトロベンゼン、モノクロロベンゼン、o−クロロトルエン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、1−クロロナフタレン、1−メチルナフタレン、エチレングリコール、およびベンゾニトリル等の不活性溶剤;メタノール、エタノール、1−プロパノ−ル、2−プロパノ−ル、1−ブタノール、1−ヘキサノール、1−ペンタノール、1−オクタノール等のアルコール;ならびにピリジン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリジノン、N,N−ジメチルアセトフェノン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の非プロトン性極性溶剤等が挙げられる。
これらのうち、好ましくは、1−クロロナフタレン、1−メチルナフタレン、1−オクタノール、ジクロロベンゼンおよびベンゾニトリルが、より好ましくは、1−オクタノール、ジクロロベンゼンおよびベンゾニトリルが使用される。これらの溶剤は1種単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。
In the above embodiment, the cyclization reaction can be carried out in the absence of a solvent, but it is preferably carried out using an organic solvent. The organic solvent may be any inert solvent that has a low reactivity with the phthalonitrile compound as a starting material, and preferably exhibits no reactivity. For example, benzene, toluene, xylene, nitrobenzene, monochlorobenzene, o -Inert solvents such as chlorotoluene, dichlorobenzene, trichlorobenzene, 1-chloronaphthalene, 1-methylnaphthalene, ethylene glycol, and benzonitrile; methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1- Alcohols such as butanol, 1-hexanol, 1-pentanol, 1-octanol; and pyridine, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidinone, N, N-dimethylacetophenone, Triethylamine, tri n- butylamine, dimethyl sulfoxide, aprotic polar solvents such as sulfolane.
Of these, 1-chloronaphthalene, 1-methylnaphthalene, 1-octanol, dichlorobenzene and benzonitrile are preferably used, and more preferably 1-octanol, dichlorobenzene and benzonitrile are used. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

上記態様における式(I)〜(IV)のフタロニトリル化合物と金属化合物との反応条件は、当該反応が進行する条件であれば特に制限されるものではないが、例えば、有機溶剤100質量部に対して、上記式(I)〜(IV)のフタロニトリル化合物を1〜500質量部、好ましくは10〜350質量部の範囲の合計量で、かつ金属化合物を該フタロニトリル化合物4モルに対して、好ましくは0.8〜2.0モル、より好ましくは0.8〜1.5モルの範囲で仕込む。環化の際は、特に限定されるものではないが、好ましくは反応温度30〜250℃、より好ましくは80〜200℃の範囲で反応させる。反応時間は、特に限定されるものではないが、好ましくは3〜20時間である。なお、反応後は、従来公知のフタロシアニン化合物の合成方法に従って、ろ過、洗浄、乾燥することにより、次工程に用いることのできるフタロシアニン化合物を効率よく、しかも高純度で得ることができる。   The reaction conditions of the phthalonitrile compound of formulas (I) to (IV) and the metal compound in the above embodiment are not particularly limited as long as the reaction proceeds. For example, the reaction condition is 100 parts by mass of an organic solvent. On the other hand, the total amount of the phthalonitrile compounds of the above formulas (I) to (IV) is 1 to 500 parts by weight, preferably 10 to 350 parts by weight, and the metal compound is based on 4 moles of the phthalonitrile compound. , Preferably 0.8 to 2.0 mol, more preferably 0.8 to 1.5 mol. The cyclization is not particularly limited, but the reaction is preferably performed at a reaction temperature of 30 to 250 ° C, more preferably 80 to 200 ° C. Although reaction time is not specifically limited, Preferably it is 3 to 20 hours. After the reaction, a phthalocyanine compound that can be used in the next step can be efficiently and highly purified by filtration, washing, and drying according to a conventionally known method for synthesizing phthalocyanine compounds.

上記態様において、出発原料である式(I)〜(IV)のフタロニトリル化合物は、従来既知の方法により合成でき、また、市販品を用いることもできる。   In the said aspect, the phthalonitrile compound of the formula (I)-(IV) which is a starting material can be synthesize | combined by a conventionally well-known method, and a commercial item can also be used for it.

<ハロゲン化フタロシアニン多量体>
本発明に用いるハロゲン化フタロシアニン染料は、多量体(ハロゲン化フタロシアニン多量体)であってもよい。本明細書において多量体とは、ハロゲン化フタロシアニン構造を2以上含む化合物であり、二量体、三量体又はポリマーなどの構造を包含する。
<Halogenated phthalocyanine multimer>
The halogenated phthalocyanine dye used in the present invention may be a multimer (halogenated phthalocyanine multimer). In the present specification, a multimer is a compound containing two or more halogenated phthalocyanine structures, and includes a structure such as a dimer, trimer or polymer.

ハロゲン化フタロシアニン多量体は、下記一般式(A)、一般式(B)、及び、一般式(C)で表される構成単位の少なくとも一つを含んでなるハロゲン化フタロシアニン多量体、又は、一般式(D)で表されるハロゲン化フタロシアニン多量体が好ましい。   The halogenated phthalocyanine multimer is a halogenated phthalocyanine multimer comprising at least one of structural units represented by the following general formula (A), general formula (B), and general formula (C), or general A halogenated phthalocyanine multimer represented by the formula (D) is preferred.

一般式(A)で表される構成単位
Structural unit represented by general formula (A)

一般式(A)中、X1は重合によって形成される連結基を表し、L1は単結合又は2価の連結基を表す。DyeIはハロゲン化フタロシアニン骨格を含む構造を表す。 In general formula (A), X 1 represents a linking group formed by polymerization, and L 1 represents a single bond or a divalent linking group. DyeI represents a structure containing a halogenated phthalocyanine skeleton.

上記一般式(A)中、X1は重合によって形成される連結基を表す。すなわち重合反応で形成される主鎖に相当する繰り返し単位を形成する部分を指す。なお、2つの*で表された部位が繰り返し単位となる。X1としては、公知の重合可能なモノマーから形成される連結基であれば得に制限ないが、特に下記(XX−1)〜(X−24)で表される連結基が好ましく、(XX−1)及び(XX−2)で表される(メタ)アクリル系連結鎖、(XX−10)〜(XX−17)で表されるスチレン系連結鎖、及び(XX−24)で表されるビニル系連結鎖であることが最も好ましい。(XX−1)〜(X−24)中、*で示された部位でL1と連結していることを表す。Meはメチル基を表す。また、(XX−18)及び(XX−19)中のRは水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又はフェニル基を表す。 In the above general formula (A), X 1 represents a linking group formed by polymerization. That is, it refers to a portion that forms a repeating unit corresponding to the main chain formed by the polymerization reaction. Two sites represented by * are repeating units. X 1 is not particularly limited as long as it is a linking group formed from a known polymerizable monomer, but linking groups represented by the following (XX-1) to (X-24) are particularly preferred, (XX -1) and (XX-2) (meth) acrylic linking chains, (XX-10) to (XX-17) styrenic linking chains, and (XX-24). Most preferred is a vinyl-based connecting chain. In (XX-1) to (X-24), it represents that L 1 is linked at the site indicated by *. Me represents a methyl group. R in (XX-18) and (XX-19) represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group.

一般式(A)中、L1は単結合又は2価の連結基を表す。L1が2価の連結基を表す場合の該2価の連結基としては、炭素数1〜30の置換もしくは無置換のアルキレン基(例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブチレン基など)、炭素数6〜30の置換もしくは無置換のアリーレン基(例えば、フェニレン基、ナフタレン基等)、置換もしくは無置換のヘテロ環連結基、−CH=CH−、−O−、−S−、−C(=O)−、−CO2−、−NR−、−CONR−、−O2C−、−SO−、−SO2−及びこれらを2個以上連結して形成される連結基を表す。ここで、Rは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。
一般式(A)中、DyeIはハロゲン化フタロシアニン骨格を含む構造、すなわち、ハロゲン化フタロシアニン多量体におけるハロゲン化フタロシアニンに由来する部分構造を表す。
一般式(A)についての詳細は、特開2013−29760号公報の段落0138〜0152を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
In general formula (A), L 1 represents a single bond or a divalent linking group. When L 1 represents a divalent linking group, the divalent linking group may be a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 30 carbon atoms (eg, methylene group, ethylene group, trimethylene group, propylene group, butylene). Group), a substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 30 carbon atoms (for example, phenylene group, naphthalene group, etc.), substituted or unsubstituted heterocyclic linking group, -CH = CH-, -O-, -S. —, —C (═O) —, —CO 2 —, —NR—, —CONR—, —O 2 C—, —SO—, —SO 2 — and a linkage formed by linking two or more thereof. Represents a group. Here, R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group each independently.
In the general formula (A), DyeI represents a structure containing a halogenated phthalocyanine skeleton, that is, a partial structure derived from a halogenated phthalocyanine in a halogenated phthalocyanine multimer.
For details of the general formula (A), paragraphs 0138 to 0152 of JP 2013-29760 A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.

一般式(B)で表される構成単位 Structural unit represented by general formula (B)

一般式(B)中、X2は上記一般式(A)中のX1と同義である。L2は上記一般式(A)中のL1と同義である。Y2はDyeIIとイオン結合もしくは配位結合可能な基を表す。DyeIIはハロゲン化フタロシアニン骨格を含む構造を表す。 In general formula (B), X 2 has the same meaning as X 1 in general formula (A). L 2 has the same meaning as L 1 in the general formula (A). Y 2 represents a group capable of ionic bonding or coordination bonding with DyeII. DyeII represents a structure containing a halogenated phthalocyanine skeleton.

一般式(B)中、X2は上記一般式(A)中のX2と同義であり、好ましい範囲も同様である。L2は上記一般式(A)中のL1と同義であり、好ましい範囲も同様である。Y2はDyeIIとイオン結合もしくは配位結合可能な基であればよく、アニオン性基又はカチオン性基のどちらでもよい。アニオン性基としては、COO-、PO3-、SO3 -、−SO3NH-、−SO3-CO−等が挙げられるが、COO-、PO3-、SO3 -が好ましい。
カチオン性基としては、置換又は無置換のオニウムカチオン(例えば、アンモニウム、ピリジニウム、イミダゾリウム及びホスホニウム等)が挙げられ、特にアンモニウムカチオンが好ましい。
2は、DyeIIが有しているアニオン部(COO-、SO3 -、O-等)やカチオン部(上記オニウムカチオンや金属カチオン等)と結合することが出来る。
一般式(B)の詳細については、特開2013−29760号公報の段落0156〜0161を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
In general formula (B), X 2 has the same meaning as X 2 in general formula (A), and the preferred range is also the same. L 2 has the same meaning as L 1 in the general formula (A), and the preferred range is also the same. Y 2 may be any group capable of ionic bonding or coordination bonding with Dye II, and may be either an anionic group or a cationic group. Examples of the anionic group include COO , PO 3 H , SO 3 , —SO 3 NH , —SO 3 N CO—, and the like, with COO , PO 3 H and SO 3 being preferred. .
Examples of the cationic group include substituted or unsubstituted onium cations (for example, ammonium, pyridinium, imidazolium, phosphonium and the like), and ammonium cations are particularly preferable.
Y 2 can be bonded to an anion part (COO , SO 3 , O etc.) or a cation part (the onium cation, metal cation etc.) of DyeII.
For details of the general formula (B), paragraphs 0156 to 0161 of JP2013-29760A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.

一般式(C)で表される構成単位
Structural unit represented by general formula (C)

一般式(C)中、L3は単結合又は2価の連結基を表す。DyeIIIは、ハロゲン化フタロシアニン骨格を含む構造を表す。mは0又は1を表す。 In general formula (C), L 3 represents a single bond or a divalent linking group. DyeIII represents a structure containing a halogenated phthalocyanine skeleton. m represents 0 or 1;

上記一般式(C)中、L3で表される2価の連結基としては、炭素数1〜30の置換もしくは無置換の直鎖、分岐もしくは環状アルキレン基(例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブチレン基など)、炭素数6〜30の置換もしくは無置換のアリーレン基(例えば、フェニレン基、ナフタレン基等)、置換もしくは無置換のヘテロ環連結基、−CH=CH−、−O−、−S−、−NR−(Rは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。)、−C(=O)−、−SO−、−SO2−,及び、これらを2個以上連結して形成される連結基が好適に挙げられる。mは0又は1を表すが、1であることが好ましい。 In the general formula (C), the divalent linking group represented by L 3 is a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkylene group having 1 to 30 carbon atoms (for example, a methylene group, an ethylene group, Trimethylene group, propylene group, butylene group, etc.), substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 30 carbon atoms (eg, phenylene group, naphthalene group, etc.), substituted or unsubstituted heterocyclic linking group, —CH═CH— , -O-, -S-, -NR- (R each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group), -C (= O)-, -SO-, Preferable examples include —SO 2 — and a linking group formed by linking two or more of these. m represents 0 or 1, but is preferably 1.

以下に一般式(C)中のL3で表される2価の連結基として好適に使用される具体例を記載するが、本発明のL3としてはこれらに限定されるものではない。
一般式(C)の詳細については、特開2013−29760号公報の段落0165〜0167を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
It describes a specific example which is suitably used as the divalent linking group represented by L 3 in the general formula (C) below, but not limited to as L 3 of the present invention.
For details of the general formula (C), paragraphs 0165 to 0167 of JP2013-29760A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.

一般式(D)で表されるハロゲン化フタロシアニン多量体 Halogenated phthalocyanine multimer represented by the general formula (D)

(一般式(D)中、L4はn価の連結基を表す。nは2〜20の整数を表す。nが2以上のときは、DyeIVの構造は同じであっても異なっていてもよい。DyeIVは、ハロゲン化フタロシアニン骨格を含む構造を表す。) (In General Formula (D), L 4 represents an n-valent linking group. N represents an integer of 2 to 20. When n is 2 or more, the structures of DyeIV may be the same or different. DyeIV represents a structure containing a halogenated phthalocyanine skeleton.)

上記一般式(D)中、nは好ましくは3〜15であり、特に好ましくは3〜6である。
一般式(D)において、nが2の場合、L4で表される2価の連結基としては、炭素数1〜30の置換もしくは無置換のアルキレン基(例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブチレン基など)、炭素数6〜30の置換もしくは無置換のアリーレン基(例えば、フェニレン基、ナフタレン基等)、置換もしくは無置換のヘテロ環連結基、−CH=CH−、−O−、−S−、−NR−(Rは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。)、−C(=O)−、−SO−、−SO2−,及び、これらを2個以上連結して形成される連結基が好適に挙げられる。
In said general formula (D), n becomes like this. Preferably it is 3-15, Most preferably, it is 3-6.
In the general formula (D), when n is 2, the divalent linking group represented by L 4 is a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 30 carbon atoms (for example, methylene group, ethylene group, trimethylene). Group, propylene group, butylene group, etc.), substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 30 carbon atoms (eg, phenylene group, naphthalene group, etc.), substituted or unsubstituted heterocyclic linking group, —CH═CH—, —O—, —S—, —NR— (R each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group), —C (═O) —, —SO—, — Preferable examples include SO 2 — and a linking group formed by linking two or more of these.

nが3以上のn価の連結基は、置換もしくは無置換のアリーレン基(1,3,5−フェニレン基、1,2,4−フェニレン基、1,4,5,8−ナフタレン基など)、へテロ環連結基(例えば、1,3,5−トリアジン基など)、アルキレン連結基等を中心母核とし、上記2価の連結基が置換して形成される連結基が挙げられる。   The n-valent linking group where n is 3 or more is a substituted or unsubstituted arylene group (1,3,5-phenylene group, 1,2,4-phenylene group, 1,4,5,8-naphthalene group, etc.) And a linking group formed by substituting the divalent linking group with a heterocycle linking group (for example, 1,3,5-triazine group, etc.), an alkylene linking group or the like as a central mother nucleus.

以下に一般式(D)中のL4の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
一般式(D)の詳細については、特開2013−29760号公報の段落0173〜0178を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
Specific examples of L 4 in the general formula (D) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
For details of the general formula (D), paragraphs 0173 to 0178 of JP2013-29760A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.

一般式(A)、一般式(B)及び一般式(C)のうちいずれかで表される構成単位を有するハロゲン化フタロシアニン多量体、及び、一般式(D)で表されるハロゲン化フタロシアニン多量体のうち、一般式(A)及び一般式(C)で表される構成単位を有するハロゲン化フタロシアニン多量体、及び一般式(D)で表されるハロゲン化フタロシアニン多量体は、共有結合で連結されているため、ハロゲン化フタロシアニン多量体を含有する着色硬化性組成物は耐熱性に優れ、着色硬化性組成物を複数色の着色パターン形成に適用した場合において、隣接する他の着色パターンへの色移り抑制に効果があるため好ましい。また、特に一般式(A)で表される化合物は、ハロゲン化フタロシアニン多量体の分子量の制御がし易く好ましい。   A halogenated phthalocyanine multimer having a structural unit represented by any one of general formula (A), general formula (B) and general formula (C), and a halogenated phthalocyanine large amount represented by general formula (D) The halogenated phthalocyanine multimer having a structural unit represented by general formula (A) and general formula (C) and the halogenated phthalocyanine multimer represented by general formula (D) are linked by a covalent bond. Therefore, the colored curable composition containing the halogenated phthalocyanine multimer is excellent in heat resistance, and when the colored curable composition is applied to the formation of a colored pattern of multiple colors, This is preferable because it is effective in suppressing color migration. In particular, the compound represented by the general formula (A) is preferable because the molecular weight of the halogenated phthalocyanine multimer is easily controlled.

ハロゲン化フタロシアニン多量体は、上述したハロゲン化フタロシアニン多量体のハロゲン化フタロシアニン骨格を含む構造部分に他の官能基を有していても良い。他の官能基としては、重合性基、酸基およびアルカリ可溶性基(例えば、カルボン酸、スルホン酸、リン酸及びフェノール性水酸基)等が例示される。
また、ハロゲン化フタロシアニン多量体は、上述したハロゲン化フタロシアニン骨格を含む構造を含む繰り返し単位の他に、他の繰り返し単位を含んでいても良い。他の繰り返し単位は、官能基を有していても良い。他の繰り返し単位としては、重合性基、酸基およびアルカリ可溶性基の少なくとも1種を含む繰り返し単位が例示される。すなわち、ハロゲン化フタロシアニン多量体は、上記一般式(A)〜(D)で表される繰り返し単位のほかに、他の繰り返し単位を有していてもよい。他の繰り返し単位は、1つのハロゲン化フタロシアニン多量体中に、1種類のみ含まれていても良いし、2種類以上含まれていてもよい。
また、ハロゲン化フタロシアニン多量体は、上記一般式(A)〜(D)で表されるハロゲン化フタロシアニン多量体中に、他の官能基を有していても良い。
The halogenated phthalocyanine multimer may have another functional group in the structural portion including the halogenated phthalocyanine skeleton of the above-described halogenated phthalocyanine multimer. Examples of other functional groups include polymerizable groups, acid groups, and alkali-soluble groups (for example, carboxylic acid, sulfonic acid, phosphoric acid, and phenolic hydroxyl group).
Moreover, the halogenated phthalocyanine multimer may contain other repeating units in addition to the repeating unit including the structure containing the halogenated phthalocyanine skeleton described above. Other repeating units may have a functional group. As another repeating unit, the repeating unit containing at least 1 sort (s) of a polymeric group, an acid group, and an alkali-soluble group is illustrated. That is, the halogenated phthalocyanine multimer may have other repeating units in addition to the repeating units represented by the general formulas (A) to (D). One type of other repeating unit may be contained in one halogenated phthalocyanine multimer, or two or more types may be contained.
Moreover, the halogenated phthalocyanine multimer may have another functional group in the halogenated phthalocyanine multimer represented by the general formulas (A) to (D).

ハロゲン化フタロシアニン多量体は、重合性基を含むことが好ましい。重合性基は1種類のみ含んでいても良いし、2種類以上含んでいても良い。
重合性基は、ハロゲン化フタロシアニン骨格を含む構造が重合性基を含んでいても良いし、他の部分が含んでいても良い。本発明では、ハロゲン化フタロシアニン骨格を含む構造が重合性基を含むことが好ましい。
また、本発明では、ハロゲン化フタロシアニン骨格を含む構造以外の他の部分が重合性基を含む態様も好ましい。
重合性基としては、ラジカル、酸、熱により架橋可能な公知の重合性基を用いることができる。例えば、エチレン性不飽和結合を含む基、環状エーテル基(エポキシ基、オキセタン基)、メチロール基等が挙げられる。特にエチレン性不飽和結合を含む基が好ましく、(メタ)アクリロイル基がさらに好ましく、(メタ)アクリル酸グリシジルおよび3,4−エポキシーシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート由来の(メタ)アクリロイル基がさらに好ましい。
ハロゲン化フタロシアニン多量体は、ラジカル重合性基を1つ有するハロゲン化フタロシアニン化合物に由来する繰り返し単位を有する重合体であることが好ましい。
The halogenated phthalocyanine multimer preferably contains a polymerizable group. One type of polymerizable group may be included, or two or more types may be included.
As for the polymerizable group, a structure containing a halogenated phthalocyanine skeleton may contain a polymerizable group, or may contain other parts. In the present invention, the structure containing a halogenated phthalocyanine skeleton preferably contains a polymerizable group.
Moreover, in this invention, the aspect in which other parts other than the structure containing a halogenated phthalocyanine skeleton contain a polymeric group is also preferable.
As the polymerizable group, a known polymerizable group that can be crosslinked by a radical, an acid, or heat can be used. Examples thereof include a group containing an ethylenically unsaturated bond, a cyclic ether group (epoxy group, oxetane group), and a methylol group. In particular, a group containing an ethylenically unsaturated bond is preferable, a (meth) acryloyl group is more preferable, and a (meth) acryloyl group derived from glycidyl (meth) acrylate and 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate is more preferable.
The halogenated phthalocyanine multimer is preferably a polymer having a repeating unit derived from a halogenated phthalocyanine compound having one radical polymerizable group.

ハロゲン化フタロシアニン多量体は、エポキシ基を有することも好ましい。エポキシ基を有するハロゲン化フタロシアニン多量体としては、例えばラジカル重合性基を1つ有するハロゲン化フタロシアニン化合物に由来する繰り返し単位と、エポキシ基を有するラジカル重合性モノマー(例えばグリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートなど)に由来する繰り返し単位を有する重合体が挙げられる。   It is also preferable that the halogenated phthalocyanine multimer has an epoxy group. Examples of the halogenated phthalocyanine multimer having an epoxy group include a repeating unit derived from a halogenated phthalocyanine compound having one radical polymerizable group and a radical polymerizable monomer having an epoxy group (for example, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, etc.). Examples thereof include a polymer having a repeating unit derived therefrom.

重合性基の導入方法としては、例えば、特開2013−29760号公報の段落0180〜0188を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
例えば、エチレン性不飽和二重結合を有するハロゲン化フタロシアニン多量体を得る方法は、ラジカル重合性基を1つ有するハロゲン化フタロシアニン化合物と、反応性基を有するラジカル重合性モノマーを含むモノマー混合物をラジカル重合して得られる重合体に対して、反応性基と反応する基とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を付加させる方法が挙げられる。
上記反応性基としては、例えばカルボキシル基、ヒドロキシ基などが挙げられる。上記反応性基を有するラジカル重合性モノマーとしては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレートなどが挙げられる。
上記反応性基と反応する基としては、例えば、エポキシ基、イソシアネート基などが挙げられる。
上記エチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、例えば、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、2−アクリロイルオキシエチルイソシアネート、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートなどが挙げられる。
As a method for introducing a polymerizable group, for example, paragraphs 0180 to 0188 in JP2013-29760A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
For example, a method of obtaining a halogenated phthalocyanine multimer having an ethylenically unsaturated double bond is obtained by radicalizing a monomer mixture containing a halogenated phthalocyanine compound having one radical polymerizable group and a radical polymerizable monomer having a reactive group. The method of adding the compound which reacts with a reactive group and the compound which has an ethylenically unsaturated double bond with respect to the polymer obtained by superposition | polymerization is mentioned.
Examples of the reactive group include a carboxyl group and a hydroxy group. Examples of the radical polymerizable monomer having a reactive group include acrylic acid, methacrylic acid, hydroxyethyl acrylate, and hydroxyethyl methacrylate.
Examples of the group that reacts with the reactive group include an epoxy group and an isocyanate group.
Examples of the compound having an ethylenically unsaturated double bond include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, 2-acryloyloxyethyl isocyanate, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, and the like.

ハロゲン化フタロシアニン多量体が有する重合性基量は、染料1gに対し0.1mmol〜2.0mmolであることが好ましく、0.2mmol〜1.5mmolであることがさらに好ましく、0.3mmol〜1.0mmolであることが特に好ましい。   The polymerizable group amount of the halogenated phthalocyanine multimer is preferably 0.1 mmol to 2.0 mmol, more preferably 0.2 mmol to 1.5 mmol, and more preferably 0.3 mmol to 1. Particularly preferred is 0 mmol.

ハロゲン化フタロシアニン多量体の重量平均分子量は、2,000〜20,000であることが好ましく、3,000〜15,000であることがさらに好ましく、4,000〜10,000であることが最も好ましい。また、ハロゲン化フタロシアニン多量体の重量平均分子量/数平均分子量の比は1.0〜3.0であることが好ましく、1.6〜2.5であることがさらに好ましく、1.6〜2.0であることが最も好ましい。重合体の重量平均分子量及び分散度は、GPC測定によるポリスチレン換算値として定義される。本明細書において、重合体の重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、例えば、HLC−8220(東ソー(株)製)を用い、カラムとしてTSKgel Super AWM―H(東ソー(株)製、6.0mmID×15.0cmを、溶離液として10mmol/L リチウムブロミドNMP(N−メチルピロリジノン)溶液を用いることによって求めることができる。   The weight average molecular weight of the halogenated phthalocyanine multimer is preferably 2,000 to 20,000, more preferably 3,000 to 15,000, and most preferably 4,000 to 10,000. preferable. The ratio of the weight average molecular weight / number average molecular weight of the halogenated phthalocyanine multimer is preferably 1.0 to 3.0, more preferably 1.6 to 2.5, and more preferably 1.6 to 2 0.0 is most preferred. The weight average molecular weight and degree of dispersion of the polymer are defined as polystyrene conversion values by GPC measurement. In this specification, the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) of the polymer are, for example, HLC-8220 (manufactured by Tosoh Corporation) and TSKgel Super AWM-H (Tosoh Corporation) as a column. 6.0 mm ID × 15.0 cm can be obtained by using a 10 mmol / L lithium bromide NMP (N-methylpyrrolidinone) solution as an eluent.

本発明の組成物におけるハロゲン化フタロシアニン染料の配合量は、全固形分に対し、好ましくは20〜70質量%であることが好ましく、30〜60質量%であることがさらに好ましく、40〜50質量%であることが特に好ましい。
また、ハロゲン化フタロシアニン染料が多量体である場合、本発明の組成物におけるハロゲン化フタロシアニン染料の多量体の配合量は、全固形分に対し、45〜55質量%であることが好ましい。
また、本発明の組成物に含まれる着色剤のうち、ハロゲン化フタロシアニン染料の配合量は、55〜80質量%であることが好ましく、60〜75質量%であることがより好ましい。
さらにまた、本発明の組成物における、ハロゲン原子を含まないフタロシアニン化合物(以下、「非ハロゲン化フタロシアニン化合物」ということがある)の配合量は、全固形分に対し、5質量%以下であることが好ましく、1質量%以下であることがより好ましい。このような範囲とすることにより、本発明の効果がより効果的に発揮される。
The blending amount of the halogenated phthalocyanine dye in the composition of the present invention is preferably 20 to 70% by mass, more preferably 30 to 60% by mass, and more preferably 40 to 50% by mass with respect to the total solid content. % Is particularly preferred.
When the halogenated phthalocyanine dye is a multimer, the blending amount of the halogenated phthalocyanine dye multimer in the composition of the present invention is preferably 45 to 55% by mass with respect to the total solid content.
Moreover, it is preferable that the compounding quantity of halogenated phthalocyanine dye is 55-80 mass% among the coloring agents contained in the composition of this invention, and it is more preferable that it is 60-75 mass%.
Furthermore, the blending amount of the phthalocyanine compound containing no halogen atom (hereinafter sometimes referred to as “non-halogenated phthalocyanine compound”) in the composition of the present invention is 5% by mass or less based on the total solid content. Is preferable, and it is more preferable that it is 1 mass% or less. By setting it as such a range, the effect of this invention is exhibited more effectively.

<他の着色剤>
本発明の組成物は、ハロゲン化フタロシアニン化合物に加えて、他の着色剤を含んでいてもよく、他の着色剤を含んでいる方が好ましい。他の着色剤としては、黄色色素が好ましく用いられ、染料でも顔料でも、染料と顔料の混合系よいが、分散剤を用いなくても組成物優に均一に溶解した状態の組成物を得ることができる観点から好ましくは染料である。
<Other colorants>
The composition of the present invention may contain other colorants in addition to the halogenated phthalocyanine compound, and preferably contains other colorants. As other colorants, yellow pigments are preferably used, and dyes or pigments, mixed systems of dyes and pigments may be used, but a composition in a state where the composition is uniformly dissolved can be obtained without using a dispersant. From the viewpoint of being able to produce a dye, a dye is preferable.

顔料としては、従来公知の種々の無機顔料又は有機顔料を挙げることができる。また、無機顔料であれ有機顔料であれ、高透過率であることが好ましいことを考慮すると、平均粒子径がなるべく小さい顔料の使用が好ましく、ハンドリング性をも考慮すると、上記顔料の平均粒子径は、0.01μm〜0.1μmが好ましく、0.01μm〜0.05μmがより好ましい。   Examples of the pigment include conventionally known various inorganic pigments or organic pigments. Further, considering that it is preferable to have a high transmittance, whether it is an inorganic pigment or an organic pigment, it is preferable to use a pigment having an average particle size as small as possible, and considering the handling properties, the average particle size of the pigment is 0.01 μm to 0.1 μm is preferable, and 0.01 μm to 0.05 μm is more preferable.

本発明において好ましく用いることができる顔料として、以下のものを挙げることができる。但し本発明は、これらに限定されるものではない。
C.I.Pigment Yellow 1,2,3,4,5,6,10,11,12,13,14,15,16,17,18,20,24,31,32,34,35,35:1,36,36:1,37,37:1,40,42,43,53,55,60,61,62,63,65,73,74,77,81,83,86,93,94,95,97,98,100,101,104,106,108,109,110,113,114,115,116,117,118,119,120,123,125,126,127,128,129,137,138,139,147,148,150,151,152,153,154,155,156,161,162,164,166,167,168,169,170,171,172,173,174,175,176,177,179,180,181,182,185,187,188,193,194,199,213,214
これら有機顔料は、単独若しくは色純度を上げるため種々組合せて用いることができる。
Examples of the pigment that can be preferably used in the present invention include the following. However, the present invention is not limited to these.
C. I. Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 20, 24, 31, 32, 34, 35, 35: 1, 36, 36: 1, 37, 37: 1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 86, 93, 94, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170, 171, 172, 173, 17 , 175,176,177,179,180,181,182,185,187,188,193,194,199,213,214
These organic pigments can be used alone or in various combinations in order to increase color purity.

本発明において、着色剤が染料である場合には、組成物中に均一に溶解した状態の着色硬化性組成物を得ることができる。染料としては特に制限はなく、従来カラーフィルタ用として公知の染料が使用できる。
化学構造としては、例えば、アゾ系(例えば、C.I.solvent yellow 162)、メチン系(C.I.solvent yellow 93)などが挙げられる。
メチン系染料としては、モノメチン染料が好ましく、下記一般式(5)で表されるモノメチン染料がより好ましい。
(一般式(5)中、R11は、それぞれ、アルキル基またはビニル基を表し、R12は、それぞれ、置換基を有する芳香族環基を表す。)
11は炭素数1〜12のアルキル基が好ましく、炭素数1〜6のアルキル基がより好ましい。
12は、フェニル基、ナフチル基が好ましく、置換基としては、アルキルスルホニルアミノ基、ビニルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、ビニルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミノ基が好ましく、特にアルキルスルホニルアミノ基が好ましいが好ましい。炭素数1〜12アルキル基は、不飽和結合を有しても良く、その様な置換基としては、アリルスルホニルアミノ基が挙げられる。
In the present invention, when the colorant is a dye, a colored curable composition in a state of being uniformly dissolved in the composition can be obtained. There is no restriction | limiting in particular as dye, A well-known dye can be used for conventional color filters.
Examples of the chemical structure include azo series (for example, CI solvent yellow 162) and methine series (CI solvent yellow 93).
As the methine dye, a monomethine dye is preferable, and a monomethine dye represented by the following general formula (5) is more preferable.
(In General Formula (5), R 11 represents an alkyl group or a vinyl group, and R 12 represents an aromatic ring group having a substituent.)
R 11 is preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
R 12 is preferably a phenyl group or a naphthyl group, and the substituent is preferably an alkylsulfonylamino group, a vinylsulfonylamino group, an arylsulfonylamino group, an alkylcarbonylamino group, a vinylcarbonylamino group, or an arylcarbonylamino group. Alkylsulfonylamino groups are preferred but preferred. The C 1-12 alkyl group may have an unsaturated bond, and examples of such a substituent include an allylsulfonylamino group.

また、着色剤としては、酸性染料及び/又はその誘導体が好適に使用できる場合がある。
その他、直接染料、塩基性染料、媒染染料、酸性媒染染料、アゾイック染料、分散染料、油溶染料、食品染料、及び/又は、これらの誘導体等も有用に使用することができる。
Moreover, as a coloring agent, an acid dye and / or its derivative may be used suitably.
In addition, direct dyes, basic dyes, mordant dyes, acid mordant dyes, azoic dyes, disperse dyes, oil-soluble dyes, food dyes, and / or derivatives thereof can also be used effectively.

以下に酸性染料の具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。例えば、 acid yellow 1,3,7,9,11,17,23,25,29,34,36,38,40、42,54,65,72,73,76,79,98,99,111,112,113,114,116,119,123,128,134,135,138,139,140,144,150、155,157,160,161,163,168,169,172,177,178,179,184,190,193,196,197,199,202,203,204,205,207,212,214,220,221,228,230,232,235,238,240,242,243,251;   Specific examples of the acid dye are shown below, but are not limited thereto. For example, acid yellow 1,3,7,9,11,17,23,25,29,34,36,38,40,42,54,65,72,73,76,79,98,99,111, 112, 113, 114, 116, 119, 123, 128, 134, 135, 138, 139, 140, 144, 150, 155, 157, 160, 161, 163, 168, 169, 172, 177, 178, 179, 184, 190, 193, 196, 197, 199, 202, 203, 204, 205, 207, 212, 214, 220, 221, 228, 230, 232, 235, 238, 240, 242, 243, 251;

Direct Yellow 2,33,34,35,38,39,43,47,50,54,58,68,69,70,71,86,93,94,95,98,102,108,109,129,136,138,141;;Food Yellow 3; Mordant Yellow 5,8,10,16,20,26,30,31,33,42,43,45,56,50,61,62,65;及びこれらの染料の誘導体が挙げられる。   Direct Yellow 2,33,34,35,38,39,43,47,50,54,58,68,69,70,71,86,93,94,95,98,102,108,109,129, 136, 138, 141 ;; Food Yellow 3; Modern Yellow 5, 8, 10, 16, 20, 26, 30, 31, 33, 42, 43, 45, 56, 50, 61, 62, 65; and these And derivatives of dyes.

本発明で用いる黄色色素は、特に、アゾ系色素および/またはメチン系色素が好ましい。   The yellow dye used in the present invention is particularly preferably an azo dye and / or a methine dye.

<顔料分散物>
本発明の組成物の調整に顔料を用いる場合には、顔料分散物としておくことが好ましい態様である。顔料の分散性を向上させる観点から、さらに顔料分散剤を添加することが好ましい。
<Pigment dispersion>
When a pigment is used for the preparation of the composition of the present invention, it is a preferable embodiment to prepare a pigment dispersion. From the viewpoint of improving the dispersibility of the pigment, it is preferable to further add a pigment dispersant.

本発明に用いうる顔料分散剤としては、高分子分散剤〔例えば、ポリアミドアミンとその塩、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物〕、及び、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルカノールアミン、顔料誘導体等を挙げることができる。
高分子分散剤は、その構造から更に直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。
Examples of pigment dispersants that can be used in the present invention include polymer dispersants [for example, polyamidoamines and salts thereof, polycarboxylic acids and salts thereof, high molecular weight unsaturated acid esters, modified polyurethanes, modified polyesters, and modified poly (meth) acrylates. , (Meth) acrylic copolymers, naphthalenesulfonic acid formalin condensates], polyoxyethylene alkyl phosphate esters, polyoxyethylene alkyl amines, alkanol amines, pigment derivatives, and the like.
The polymer dispersant can be further classified into a linear polymer, a terminal-modified polymer, a graft polymer, and a block polymer from the structure thereof.

高分子分散剤は顔料の表面に吸着し、再凝集を防止するように作用する。そのため、顔料表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子が好ましい構造として挙げることができる。
一方で、顔料誘導体は顔料表面を改質することで、高分子分散剤の吸着を促進させる効果を有する。
The polymer dispersant is adsorbed on the surface of the pigment and acts to prevent reaggregation. Therefore, a terminal-modified polymer, a graft polymer and a block polymer having an anchor site to the pigment surface can be mentioned as preferred structures.
On the other hand, the pigment derivative has an effect of promoting the adsorption of the polymer dispersant by modifying the pigment surface.

本発明に用いうる顔料分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、BYKChemie社製「Disperbyk−101(ポリアミドアミン燐酸塩)、107(カルボン酸エステル)、110(酸基を含む共重合物)、130(ポリアミド)、161、162、163、164、165、166、170(高分子共重合物)」、「BYK−P104、P105(高分子量不飽和ポリカルボン酸)、EFKA社製「EFKA4047、4050〜4010〜4165(ポリウレタン系)、EFKA4330〜4340(ブロック共重合体)、4400〜4402(変性ポリアクリレート)、5010(ポリエステルアミド)、5765(高分子量ポリカルボン酸塩)、6220(脂肪酸ポリエステル)、6745(フタロシアニン誘導体)、6750(アゾ顔料誘導体)」、味の素ファンテクノ社製「アジスパーPB821、PB822」、共栄社化学社製「フローレンTG−710(ウレタンオリゴマー)」、「ポリフローNo.50E、No.300(アクリル系共重合体)」、楠本化成社製「ディスパロンKS−860、873SN、874、#2150(脂肪族多価カルボン酸)、#7004(ポリエーテルエステル)、DA−703−50、DA−705、DA−725」、花王社製「デモールRN、N(ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物)、MS、C、SN−B(芳香族スルホン酸ホルマリン重縮合物)」、「ホモゲノールL−18(高分子ポリカルボン酸)」、「エマルゲン920、930、935、985(ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル)」、「アセタミン86(ステアリルアミンアセテート)」、ルーブリゾール社製「ソルスパース5000(フタロシアニン誘導体)、22000(アゾ顔料誘導体)、13240(ポリエステルアミン)、3000、17000、27000(末端部に機能部を有する高分子)、24000、28000、32000、38500(グラフト型高分子)」、日光ケミカル者製「ニッコールT106(ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート)、MYS−IEX(ポリオキシエチレンモノステアレート)」等が挙げられる。   The pigment dispersant that can be used in the present invention is also available as a commercial product, and specific examples thereof include “Disperbyk-101 (polyamideamine phosphate), 107 (carboxylic acid ester)”, 110 (by BYK Chemie). Copolymer containing acid groups), 130 (polyamide), 161, 162, 163, 164, 165, 166, 170 (polymer copolymer), "BYK-P104, P105 (high molecular weight unsaturated polycarboxylic acid) ) "EFKA 4047, 4050-4010-4165 (polyurethane)", EFKA 4330-4340 (block copolymer), 4400-4402 (modified polyacrylate), 5010 (polyesteramide), 5765 (high molecular weight polycarboxylic acid) Salt), 6220 (fatty acid polyester), 6745 Phthalocyanine derivatives), 6750 (azo pigment derivatives) ”,“ Ajispur PB821, PB822 ”manufactured by Ajinomoto Fan Techno Co.,“ Floren TG-710 (urethane oligomer) ”manufactured by Kyoeisha Chemical Co.,“ Polyflow No. 50E, No. 300 (acrylic) Copolymer) ”,“ Disparon KS-860, 873SN, 874, # 2150 (aliphatic polycarboxylic acid), # 7004 (polyetherester), DA-703-50, DA-705, manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd. “DA-725”, “Demol RN, N (naphthalene sulfonic acid formalin polycondensate), MS, C, SN-B (aromatic sulfonic acid formalin polycondensate)”, “Homogenol L-18 (polymer) Polycarboxylic acid) "," Emulgen 920, 930, 935, 985 (polyoxyethylene) Nonylphenyl ether) ”,“ acetamine 86 (stearylamine acetate) ”,“ Solsperse 5000 (phthalocyanine derivative), 22000 (azo pigment derivative), 13240 (polyesteramine), 3000, 17000, 27000 (end part) Polymer having functional part), 24000, 28000, 32000, 38500 (graft type polymer) "," Nikkor T106 (polyoxyethylene sorbitan monooleate), MYS-IEX (polyoxyethylene monostearate) "manufactured by Nikko Chemicals Or the like.

また、特開2011−070156号公報の段落番号0028〜0124に記載の分散剤や特開2007−277514号公報に記載の分散剤も好ましく用いられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。   Moreover, the dispersing agent described in paragraph numbers 0028 to 0124 of JP 2011-070156 A and the dispersing agent described in JP 2007-277514 A are preferably used, and the contents thereof are incorporated in the present specification.

これらの顔料分散剤は、単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。本発明においては、特に、顔料誘導体と高分子分散剤とを組み合わせて使用することが好ましい。   These pigment dispersants may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, it is particularly preferable to use a combination of a pigment derivative and a polymer dispersant.

本発明の組成物における顔料分散剤の含有量としては、着色剤である顔料100質量部に対して、1〜80質量部であることが好ましく、5〜70質量部がより好ましく、10〜60質量部であることが更に好ましい。
具体的には、高分子分散剤を用いる場合であれば、その使用量としては、顔料100質量部に対して、質量換算で5〜100質量部の範囲が好ましく、10〜80質量部の範囲であることがより好ましい。
また、顔料誘導体を併用する場合、顔料誘導体の使用量としては、顔料100質量部に対し、質量換算で1〜30質量部の範囲にあることが好ましく、3〜20質量部の範囲にあることがより好ましく、5〜15質量部の範囲にあることが特に好ましい。
As content of the pigment dispersant in the composition of this invention, it is preferable that it is 1-80 mass parts with respect to 100 mass parts of pigments which are colorants, 5-70 mass parts is more preferable, 10-60 More preferably, it is part by mass.
Specifically, if a polymer dispersant is used, the amount used is preferably in the range of 5 to 100 parts by mass, and in the range of 10 to 80 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the pigment. It is more preferable that
Moreover, when using together a pigment derivative, it is preferable that it is in the range of 1-30 mass parts in conversion of mass as a usage-amount of a pigment derivative with respect to 100 mass parts of pigments, and exists in the range of 3-20 mass parts. Is more preferable, and is particularly preferably in the range of 5 to 15 parts by mass.

−顔料誘導体−
着色剤として顔料を含有する場合、顔料に対する分散樹脂の吸着性を上げるため、更に、顔料誘導体を含有することが好ましい。顔料誘導体とは、有機顔料の一部分を、酸性基、塩基性基又はフタルイミドメチル基で置換した構造を有する化合物である。顔料誘導体としては、分散性及び分散安定性の観点から、酸性基又は塩基性基を有する顔料誘導体を含有することが好ましい。
-Pigment derivative-
When a pigment is contained as a colorant, it is preferable to further contain a pigment derivative in order to increase the adsorptivity of the dispersion resin to the pigment. The pigment derivative is a compound having a structure in which a part of an organic pigment is substituted with an acidic group, a basic group or a phthalimidomethyl group. The pigment derivative preferably contains a pigment derivative having an acidic group or a basic group from the viewpoint of dispersibility and dispersion stability.

顔料誘導体を構成するための有機顔料としては、ジケトピロロピロール系顔料、アゾ系顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、ペリノン系顔料、ペリレン系顔料、チオインジゴ系顔料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、スレン系顔料、金属錯体系顔料等が挙げられる。
また、顔料誘導体が有する酸性基としては、スルホン酸、カルボン酸及びその4級アンモニウム塩が好ましく、カルボン酸基及びスルホン酸基がさらに好ましく、スルホン酸基が特に好ましい。顔料誘導体が有する塩基性基としては、アミノ基が好ましく、特に三級アミノ基が好ましい。
Examples of the organic pigment for constituting the pigment derivative include diketopyrrolopyrrole pigments, azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, perinone pigments, perylene pigments, thioindigo pigments , Isoindoline pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, selenium pigments, metal complex pigments, and the like.
Moreover, as an acidic group which a pigment derivative has, a sulfonic acid, carboxylic acid, and its quaternary ammonium salt are preferable, a carboxylic acid group and a sulfonic acid group are more preferable, and a sulfonic acid group is especially preferable. The basic group possessed by the pigment derivative is preferably an amino group, particularly preferably a tertiary amino group.

顔料誘導体としては、特に、キノリン系、ベンズイミダゾロン系及びイソインドリン系の顔料誘導体が好ましく、キノリン系及びベンズイミダゾロン系の顔料誘導体がさらに好ましい。特に、下記構造を有する顔料誘導体が好ましい。   As the pigment derivative, quinoline-based, benzimidazolone-based and isoindoline-based pigment derivatives are particularly preferable, and quinoline-based and benzimidazolone-based pigment derivatives are more preferable. In particular, a pigment derivative having the following structure is preferable.

一般式(P)中、Aは、下記一般式(PA−1)〜(PA−3)から選ばれる部分構造を表す。Bは単結合、又は(t+1)価の連結基を表す。Cは、単結合、−NH−、−CONH−、−CO2−、−SO2NH−、−O−、−S−又は−SO2−を表す。Dは、単結合、アルキレン基、シクロアルキレン基又はアリーレン基を表す。Eは、−SO3H、−SO3M(Mはアルカリ金属原子を表す)、−CO2H又は−N(Rpa)(Rpb)を表す。Rpa及びRpbは、各々独立して、アルキル基又はアリール基を表し、Rpa及びRpbは互いに連結して環を形成してもよい。tは1〜5の整数を表す。 In the general formula (P), A represents a partial structure selected from the following general formulas (PA-1) to (PA-3). B represents a single bond or a (t + 1) -valent linking group. C represents a single bond, -NH -, - CONH -, - CO 2 -, - SO 2 NH -, - O -, - S- or -SO 2 - represents a. D represents a single bond, an alkylene group, a cycloalkylene group or an arylene group. E is, -SO 3 H, -SO 3 M ( where M represents an alkali metal atom), - CO represents the 2 H or -N (Rpa) (Rpb). Rpa and Rpb each independently represents an alkyl group or an aryl group, and Rpa and Rpb may be linked to each other to form a ring. t represents an integer of 1 to 5.

一般式(PA−1)及び(PA−2)中、Rp1は、炭素数1〜5のアルキル基又はアリール基を表す。一般式(PA−3)中、Rp2は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又はヒドロキシル基を表す。sは、1〜4の整数を表す。sが2以上の場合、複数のRp2は、互いに同じであっても、異なっていてもよい。一般式(PA−1)及び一般式(PA−3)中、Rp3は、単結合、−NH−、−CONH−、−CO2−、−SO2NH−、−O−、−S−又は−SO2−を表す。*はBとの連結部を表す。 In general formulas (PA-1) and (PA-2), Rp1 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an aryl group. In General Formula (PA-3), Rp2 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, or a hydroxyl group. s represents an integer of 1 to 4. When s is 2 or more, the plurality of Rp2s may be the same as or different from each other. In general formula (PA-1) and general formula (PA-3), Rp3 represents a single bond, —NH—, —CONH—, —CO 2 —, —SO 2 NH—, —O—, —S— or —SO 2 — is represented. * Represents a connecting portion with B.

一般式(P)中、Rp1は、特にメチル基又はフェニル基が好ましく、メチル基が最も好ましい。一般式(PA−3)中、Rp2は、水素原子又はハロゲン原子が好ましく、水素原子又は塩素原子が最も好ましい。   In general formula (P), Rp1 is particularly preferably a methyl group or a phenyl group, and most preferably a methyl group. In general formula (PA-3), Rp2 is preferably a hydrogen atom or a halogen atom, and most preferably a hydrogen atom or a chlorine atom.

一般式(P)中、Bで表される(t+1)価の連結基としては、例えば、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基及びヘテロアリーレン基が挙げられる。これらのうちでも、特に、下記構造式(PA−4)〜(PA−9)で表される連結基が好ましい。   In the general formula (P), examples of the (t + 1) -valent linking group represented by B include an alkylene group, a cycloalkylene group, an arylene group, and a heteroarylene group. Among these, the linking groups represented by the following structural formulas (PA-4) to (PA-9) are particularly preferable.

構造式(PA−4)〜(PA−9)のうちでも、特にBとして、構造式(PA−5)又は(PA−8)で表される連結基を有する顔料誘導体が、分散性により優れることから好ましい。   Among structural formulas (PA-4) to (PA-9), in particular, a pigment derivative having a linking group represented by the structural formula (PA-5) or (PA-8) as B is more excellent in dispersibility. This is preferable.

一般式(P)中、Dで表されるアルキレン基、シクロアルキレン基及びアリーレン基としては、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、デシレン、シクロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロオクチレン、シクロデシレン、フェニレン、ナフチレン等が挙げられる。これらのうちでも、Dとしては、特にアルキレン基が好ましく、炭素数1〜5のアルキレンが最も好ましい。   In the general formula (P), examples of the alkylene group, cycloalkylene group and arylene group represented by D include methylene, ethylene, propylene, butylene, pentylene, hexylene, decylene, cyclopropylene, cyclobutylene, cyclopentylene, Examples include cyclohexylene, cyclooctylene, cyclodecylene, phenylene, naphthylene, and the like. Among these, as D, an alkylene group is particularly preferable, and alkylene having 1 to 5 carbon atoms is most preferable.

一般式(P)中、Eが−N(Rpa)(Rpb)を表す場合に、Rpa及びRpbにおけるアルキル基及びアリール基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、フェニル基、ナフチル基等を挙げることができる。Rpa及びRpbとしては、特にアルキル基が好ましく、炭素数1〜5のアルキル基が最も好ましい。上記tは1又は2が好ましい。   In the general formula (P), when E represents -N (Rpa) (Rpb), examples of the alkyl group and aryl group in Rpa and Rpb include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and a butyl group. , Sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclooctyl group, cyclodecyl group, phenyl Group, naphthyl group and the like. As Rpa and Rpb, an alkyl group is particularly preferable, and an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is most preferable. T is preferably 1 or 2.

以下に、顔料誘導体の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、下記具体例中、Mは、アルカリ金属(Na,K等)を表す。   Specific examples of the pigment derivative are shown below, but the present invention is not limited thereto. In the following specific examples, M represents an alkali metal (Na, K, etc.).

上記顔料誘導体のうち、(A−1)、(A−2)、(A−5)、(A−9)、(A−10)、(A−11)、(A−19)、(A−20)、(A−21)、(A−22)、(A−23)、(A−24)及び(A−25)が好ましく、(A−1)、(A−2)、(A−9)、(A−10)及び(A−23)がさらに好ましい。   Among the pigment derivatives, (A-1), (A-2), (A-5), (A-9), (A-10), (A-11), (A-19), (A -20), (A-21), (A-22), (A-23), (A-24) and (A-25) are preferred, and (A-1), (A-2), (A -9), (A-10) and (A-23) are more preferable.

本発明の着色硬化性組成物における顔料誘導体の含有量は、顔料の全質量に対し、1〜30質量%が好ましく、3〜20質量%がさらに好ましい。顔料誘導体は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   1-30 mass% is preferable with respect to the total mass of a pigment, and, as for content of the pigment derivative in the colored curable composition of this invention, 3-20 mass% is more preferable. Only one pigment derivative may be used, or two or more pigment derivatives may be used in combination.

−溶剤−
顔料分散物における溶剤としては、一般の顔料分散性組成物に用いられる有機溶剤であれば特に限定されない。例えば、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、1−メトキシ−2−プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、n−プロパノール、2−プロパノール、n−ブタノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トルエン、キシレンなどの溶剤を挙げることができ、融点や粘度、顔料の分散性を調整するためにこれらのうち複数を併用することも可能である。
-Solvent-
The solvent in the pigment dispersion is not particularly limited as long as it is an organic solvent used in general pigment dispersible compositions. For example, 1-methoxy-2-propyl acetate, 1-methoxy-2-propanol, ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, n-propanol , 2-propanol, n-butanol, cyclohexanol, ethylene glycol, diethylene glycol, toluene, xylene, and the like, and a plurality of these may be used together to adjust the melting point, viscosity, and pigment dispersibility. Is also possible.

顔料分散物における溶剤の含有量は、顔料分散物の用途などに応じて適宜選択される。
顔料分散物が後述する着色硬化性組成物の調製に用いられる場合には、取り扱い性の観点から、顔料と顔料分散剤との総和が顔料分散物の溶剤を除いた総質量に対して5〜50質量%となるように含有することができる。
The content of the solvent in the pigment dispersion is appropriately selected according to the use of the pigment dispersion.
When the pigment dispersion is used for the preparation of the colored curable composition described later, from the viewpoint of handleability, the sum of the pigment and the pigment dispersant is 5 to 5 based on the total mass excluding the pigment dispersion solvent. It can contain so that it may become 50 mass%.

上記着色剤の含有量は、本発明の効果を損なわない範囲で使用でき、本発明の着色硬化性組成物の全固形分に対して、10〜55質量%であることが好ましく、15〜45質量%であることがより好ましい。また、吸収強度比(450nmの吸収/650nmの吸収)が、0.95〜1.05の範囲となるように、着色硬化性組成物に添加されることが好ましい。   The content of the colorant can be used as long as the effect of the present invention is not impaired, and is preferably 10 to 55% by mass with respect to the total solid content of the colored curable composition of the present invention. More preferably, it is mass%. Further, it is preferably added to the colored curable composition so that the absorption intensity ratio (absorption at 450 nm / absorption at 650 nm) is in the range of 0.95 to 1.05.

<熱硬化性化合物>
本発明の組成物は、熱硬化性化合物を少なくとも一種を含有する。ここで、熱硬化性化合物とは、加熱により膜硬化が行なえるものをいい、通常、180℃以上の加熱で硬化する化合物をいう。
本発明で用いる熱硬化性化合物は、例えば、熱硬化性官能基を有する化合物を用いることができる。熱硬化性官能基としては、例えば、エポキシ基、メチロール基、アルコキシメチル基、アシルオキシメチル基、(メタ)アクリロイル基、イソシアネート基、ビニル基、及びメルカプト基から選ばれる少なくとも1つの基を有するものが好ましい。熱硬化性化合物としては、一分子内に熱硬化性官能基を2つ以上で有するものがより好ましく、1分子内にエポキシ基を2つ以上有する化合物がさらに好ましい。
また、本発明で用いる熱硬化性化合物は、エポシキ化合物、メラミン化合物(例えば、アルコキシメチル化、アシルオキシメチル化メラミン化合物)、ウレア化合物(例えば、アルコキシメチル化、アシルオキシメチル化ウレア化合物)、フェノール化合物(例えば、ヒドロキシメチル化又はアルコキシメチル化フェノール化合物または樹脂、及びアルコキシメチルエーテル化フェノール化合物)等が好ましい例として挙げられ、エポキシ化合物、メラミン化合物がより好ましく、エポキシ化合物がさらに好ましい。
<Thermosetting compound>
The composition of the present invention contains at least one thermosetting compound. Here, the thermosetting compound refers to a compound that can be cured by heating, and generally refers to a compound that is cured by heating at 180 ° C. or higher.
As the thermosetting compound used in the present invention, for example, a compound having a thermosetting functional group can be used. Examples of the thermosetting functional group include those having at least one group selected from an epoxy group, a methylol group, an alkoxymethyl group, an acyloxymethyl group, a (meth) acryloyl group, an isocyanate group, a vinyl group, and a mercapto group. preferable. As the thermosetting compound, those having two or more thermosetting functional groups in one molecule are more preferable, and compounds having two or more epoxy groups in one molecule are more preferable.
The thermosetting compound used in the present invention includes epoxy compounds, melamine compounds (for example, alkoxymethylated, acyloxymethylated melamine compounds), urea compounds (for example, alkoxymethylated, acyloxymethylated urea compounds), phenol compounds ( For example, a hydroxymethylated or alkoxymethylated phenol compound or resin, and an alkoxymethyl etherified phenol compound) are preferable examples. An epoxy compound and a melamine compound are more preferable, and an epoxy compound is more preferable.

本発明で用いる熱硬化性化合物は、低分子化合物(例えば、分子量2000未満、さらには、分子量1000未満)でもよいし、高分子化合物(例えば、分子量1000以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が1000以上)のいずれでもよい。本発明では、分子量1000以上のものが好ましく、2000〜100000のものがより好ましい。本発明では特に、1分子中に2つ以上のエポキシ基を有し、分子量が1000以上の化合物が好ましい。   The thermosetting compound used in the present invention may be a low molecular compound (for example, a molecular weight of less than 2000, and further a molecular weight of less than 1000), or a high molecular compound (for example, a molecular weight of 1000 or more, in the case of a polymer, the weight average molecular weight is 1000 or more). In the present invention, those having a molecular weight of 1000 or more are preferred, and those having a molecular weight of 2000 to 100,000 are more preferred. In the present invention, a compound having 2 or more epoxy groups in one molecule and a molecular weight of 1000 or more is particularly preferable.

<エポキシ化合物>
エポキシ化合物が低分子化合物の場合、下記一般式(EP1)で表される化合物が挙げられる。
<Epoxy compound>
When the epoxy compound is a low molecular compound, a compound represented by the following general formula (EP1) can be mentioned.

式(EP1)中、REP1〜REP3は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基を表し、該アルキル基は、環状構造を有するものであってもよく、また、置換基を有していてもよい。またREP1とREP2、REP2とREP3は、互いに結合して環構造を形成していてもよい。アルキル基が有していてもよい置換基としては例えば、ヒドロキシル基、シアノ基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホン基、アルキルスルホニル基、アルキルアミノ基、アルキルアミド基、などが挙げられる。
EPは単結合若しくはnEP価の有機基を表す。REP1〜REP3は、QEPとも結合して環構造を形成していても良い。
EPは2以上の整数を表し、好ましくは2〜10、更に好ましくは2〜6である。但しQEPが単結合の場合、nEPは2である。
In the formula (EP1), R EP1 to R EP3 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group, and the alkyl group may have a cyclic structure, and has a substituent. May be. R EP1 and R EP2 and R EP2 and R EP3 may be bonded to each other to form a ring structure. Examples of the substituent that the alkyl group may have include a hydroxyl group, a cyano group, an alkoxy group, an alkylcarbonyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkylcarbonyloxy group, an alkylthio group, an alkylsulfone group, an alkylsulfonyl group, and an alkylamino group. Groups, alkylamide groups, and the like.
QEP represents a single bond or an nEP- valent organic group. R EP1 to R EP3 combines with Q EP may form a ring structure.
n EP represents an integer of 2 or more, preferably 2 to 10, more preferably 2 to 6. However, n EP is 2 when Q EP is a single bond.

EPがnEP価の有機基の場合、鎖状若しくは環状のnEP価の飽和炭化水素基(炭素数2〜20が好ましい)、nEP価の芳香環基(炭素数6〜30が好ましい)、又は鎖状若しくは環状の飽和炭化水素若しくは芳香族炭化水素に、エーテル基、エステル基、アミド基、スルホンアミド基、アルキレン基(炭素数1〜4が好ましく、メチレン基がより好ましい)等の2価の連結基、−N(−)2等の3価の連結基又はこれらの組み合わせが連結した構造を有するnEP価の有機基などが好ましい。 When Q EP is an n EP valent organic group, a chain or cyclic n EP valent saturated hydrocarbon group (preferably having 2 to 20 carbon atoms), n EP valent aromatic ring group (preferably having 6 to 30 carbon atoms) is preferred. ), Or a chain or cyclic saturated hydrocarbon or aromatic hydrocarbon such as an ether group, an ester group, an amide group, a sulfonamide group, an alkylene group (preferably having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methylene group), etc. A divalent linking group, a trivalent linking group such as —N (—) 2, or an n EP valent organic group having a structure in which a combination thereof is linked is preferable.

以下にエポキシ構造を有する化合物の具体例を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the compound having an epoxy structure are illustrated below, but the present invention is not limited thereto.

本発明で用いるエポキシ化合物は、側鎖にエポキシ基を有するオリゴマーやポリマーも好ましいこのような化合物としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等を挙げることができる。
これらの化合物は、市販品を用いてもよいし、ポリマーの側鎖へエポキシ基を導入することによっても得られる。
The epoxy compound used in the present invention is also preferably an oligomer or polymer having an epoxy group in the side chain. Examples of such compounds include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, and cresol novolac type epoxy resin. And aliphatic epoxy resins.
These compounds may be used as commercial products or can be obtained by introducing an epoxy group into the side chain of the polymer.

市販品としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂としては、JER827、JER828、JER834、JER1001、JER1002、JER1003、JER1055、JER1007、JER1009、JER1010(以上、ジャパンエポキシレジン(株)製)、EPICLON860、EPICLON1050、EPICLON1051、EPICLON1055(以上、DIC(株)製)等であり、ビスフェノールF型エポキシ樹脂としては、JER806、JER807、JER4004、JER4005、JER4007、JER4010(以上、ジャパンエポキシレジン(株)製)、EPICLON830、EPICLON835(以上、DIC(株)製)、LCE−21、RE−602S(以上、日本化薬(株)製)等であり、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、JER152、JER154、JER157S70、JER157S65、(以上、ジャパンエポキシレジン(株)製)、EPICLON N−740、EPICLON N−740、EPICLON N−770、EPICLON N−775(以上、DIC(株)製)等であり、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、EPICLON N−660、EPICLON N−665、EPICLON N−670、EPICLON N−673、EPICLON N−680、EPICLON N−690、EPICLON N−695(以上、DIC(株)製)、EOCN−1020(以上、日本化薬(株)製)等であり、脂肪族エポキシ樹脂としては、ADEKA RESIN EP−4080S、同EP−4085S、同EP−4088S(以上、(株)ADEKA製)セロキサイド2021P、セロキサイド2081、セロキサイド2083、セロキサイド2085、EHPE3150、EPOLEAD PB 3600、同PB 4700(以上、ダイセル化学工業(株)製)、デナコール EX−212L、EX−214L、EX−216L、EX−321L、EX−850L(以上、ナガセケムテックス(株)製)等である。その他にも、ADEKA RESIN EP−4000S、同EP−4003S、同EP−4010S、同EP−4011S(以上、(株)ADEKA製)、NC−2000、NC−3000、NC−7300、XD−1000、EPPN−501、EPPN−502(以上、(株)ADEKA製)、JER1031S(ジャパンエポキシレジン(株)製)等が挙げられる。   As a commercial product, for example, as bisphenol A type epoxy resin, JER827, JER828, JER834, JER1001, JER1002, JER1003, JER1055, JER1007, JER1009, JER1010 (above, Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), EPICLON860, EPICLON1050, EPICLON1051, EPICLON1055 (manufactured by DIC Corporation), etc., and bisphenol F type epoxy resin is JER806, JER807, JER4004, JER4005, JER4007, JER4010 (above, Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), EPICLON830, EPICLON835. (Above, manufactured by DIC Corporation), LCE-21, RE-602S (above, Nippon Kayaku) As a phenol novolac type epoxy resin, JER152, JER154, JER157S70, JER157S65 (manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd.), EPICLON N-740, EPICLON N-740, EPICLON N- 770, EPICLON N-775 (manufactured by DIC Corporation) and the like, and cresol novolac type epoxy resins include EPICLON N-660, EPICLON N-665, EPICLON N-670, EPICLON N-673, EPICLON N- 680, EPICLON N-690, EPICLON N-695 (manufactured by DIC Corporation), EOCN-1020 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), etc., and as an aliphatic epoxy resin, ADEK RESIN EP-4080S, EP-4085S, EP-4088S (above, manufactured by ADEKA) Celoxide 2021P, Celoxide 2081, Celoxide 2083, Celoxide 2085, EHPE3150, EPOLEAD PB 3600, PB 4700 (above, Daicel Chemical Industries) (Manufactured by Nagase ChemteX Corporation), etc., Denacol EX-212L, EX-214L, EX-216L, EX-321L, EX-850L. In addition, ADEKA RESIN EP-4000S, EP-4003S, EP-4010S, EP-4010S, EP-4011S (above, manufactured by ADEKA Corporation), NC-2000, NC-3000, NC-7300, XD-1000, EPPN-501, EPPN-502 (above, manufactured by ADEKA Co., Ltd.), JER1031S (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) and the like.

ポリマー側鎖へ導入して合成する場合、導入反応は、例えばトリエチルアミン、ベンジルメチルアミン等の3級アミン、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライド、等の4級アンモニウム塩、ピリジン、トリフェニルフォスフィン等を触媒として有機溶剤中、反応温度50〜150℃で数〜数十時間反応させることにより行える。脂環式エポキシ不飽和化合物の導入量は得られるポリマーの酸価が5〜200KOH・mg/gを満たす範囲になるように制御すると好ましい。また、分子量は重量平均で500〜5000000、更には1000〜500000の範囲が好ましい。
エポキシ不飽和化合物としてはグリシジル(メタ)アクリレートやアリルグリシジルエーテル等のエポキシ基としてグリシジル基を有するものも使用可能であるが、好ましいものは脂環式エポキシ基を有する不飽和化合物である。このようなものとしては例えば以下の化合物を例示することができる。
In the case of synthesizing by introducing into a polymer side chain, for example, the introduction reaction includes tertiary amines such as triethylamine and benzylmethylamine, quaternary ammonium salts such as dodecyltrimethylammonium chloride, tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, pyridine, The reaction can be carried out in an organic solvent at a reaction temperature of 50 to 150 ° C. for several to several tens of hours using triphenylphosphine or the like as a catalyst. The introduction amount of the alicyclic epoxy unsaturated compound is preferably controlled so that the acid value of the obtained polymer is in a range satisfying 5 to 200 KOH · mg / g. Further, the molecular weight is preferably 500 to 5000000, more preferably 1000 to 500000 in terms of weight average.
As the epoxy unsaturated compound, those having a glycidyl group as an epoxy group such as glycidyl (meth) acrylate and allyl glycidyl ether can be used, but preferred are unsaturated compounds having an alicyclic epoxy group. Examples of such compounds include the following compounds.

<メラミン化合物、ウレア化合物、その他の熱硬化性化合物>
本発明で用いる熱硬化性化合物としては、以下のN−ヒドロキシメチル基、N−アルコキシメチル基、若しくはN−アシルオキシメチル基を有する化合物も好ましい。このような化合物は、通常、メラミン化合物、ウレア化合物として提供される。
<Melamine compounds, urea compounds, other thermosetting compounds>
As the thermosetting compound used in the present invention, compounds having the following N-hydroxymethyl group, N-alkoxymethyl group, or N-acyloxymethyl group are also preferable. Such a compound is usually provided as a melamine compound or a urea compound.

N−ヒドロキシメチル基、N−アルコキシメチル基、若しくはN−アシルオキシメチル基を有する化合物としては、下記一般式(CLNM−1)で表される部分構造を2個以上(より好ましくは2〜8個)有する化合物が好ましい。   As a compound having an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group, or an N-acyloxymethyl group, two or more (more preferably 2 to 8) partial structures represented by the following general formula (CLNM-1) are used. ) Is preferred.

一般式(CLNM−1)において、RNM1は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はオキソアルキル基を表す。 In General Formula (CLNM-1), R NM1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, or an oxoalkyl group.

一般式(CLNM−1)に於ける、RNM1のアルキル基は、炭素数1〜6の直鎖又は分岐のアルキル基が好ましい。RNM1のシクロアルキル基は、炭素数5〜6のシクロアルキル基が好ましい。RNM1のオキソアルキル基は、炭素数3〜6のオキソアルキル基が好ましく、例えば、β‐オキソプロピル基、β‐オキソブチル基、β‐オキソペンチル基、β‐オキソへキシル基等を挙げることができる。 In general formula (CLNM-1), the alkyl group represented by R NM1 is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. The cycloalkyl group represented by R NM1 is preferably a cycloalkyl group having 5 to 6 carbon atoms. The oxoalkyl group of R NM1 is preferably an oxoalkyl group having 3 to 6 carbon atoms, and examples thereof include a β-oxopropyl group, a β-oxobutyl group, a β-oxopentyl group, and a β-oxohexyl group. it can.

一般式(CLNM−1)で表される部分構造を2個以上有する化合物のより好ましい態様として、下記一般式(CLNM−2)で表されるウレア化合物、下記一般式(CLNM−3)で表されるアルキレンウレア化合物、下記一般式(CLNM−4)で表されるグリコールウリル化合物、下記一般式(CLNM−5)で表されるメラミン化合物が挙げられる。   As a more preferable embodiment of the compound having two or more partial structures represented by the general formula (CLNM-1), a urea compound represented by the following general formula (CLNM-2), represented by the following general formula (CLNM-3) And an alkylene urea compound represented by the following general formula (CLNM-4), and a melamine compound represented by the following general formula (CLNM-5).

一般式(CLNM−2)に於いて、RNM1は、それぞれ、一般式(CLNM−1)に於ける、RNM1と同様のものである。RNM2は、それぞれ、水素原子、アルキル基(炭素数1〜6が好ましい)、又はシクロアルキル基(炭素数5〜6が好ましい)を表す。 In the general formula (CLNM-2), R NM1 are respectively those in formula (CLNM-1) at, the same as R NM1. R NM2 represents a hydrogen atom, an alkyl group (preferably having 1 to 6 carbon atoms), or a cycloalkyl group (preferably having 5 to 6 carbon atoms).

一般式(CLNM−2)で表されるウレア化合物の具体例としては、例えば、N,N−ジ(メトキシメチル)ウレア、N,N−ジ(エトキシメチル)ウレア、N,N−ジ(プロポキシメチル)ウレア、N,N−ジ(イソプロポキシメチル)ウレア、N,N−ジ(ブトキシメチル)ウレア、N,N−ジ(t−ブトキシメチル)ウレア、N,N−ジ(シクロヘキシルオキシメチル)ウレア、N,N−ジ(シクロペンチルオキシメチル)ウレア、N,N−ジ(アダマンチルオキシメチル)ウレア、N,N−ジ(ノルボルニルオキシメチル)ウレア等が挙げられる。   Specific examples of the urea compound represented by the general formula (CLNM-2) include, for example, N, N-di (methoxymethyl) urea, N, N-di (ethoxymethyl) urea, N, N-di (propoxy). Methyl) urea, N, N-di (isopropoxymethyl) urea, N, N-di (butoxymethyl) urea, N, N-di (t-butoxymethyl) urea, N, N-di (cyclohexyloxymethyl) Examples include urea, N, N-di (cyclopentyloxymethyl) urea, N, N-di (adamantyloxymethyl) urea, N, N-di (norbornyloxymethyl) urea and the like.

一般式(CLNM−3)に於いて、RNM1は、それぞれ、一般式(CLNM−1)に於ける、RNM1と同様のものである。RNM3は、それぞれ、水素原子、ヒドロキシル基、直鎖又は分岐のアルキル基(炭素数1〜6が好ましい)、シクロアルキル基(炭素数5〜6が好ましい)、オキソアルキル基(炭素数1〜6が好ましい)、アルコキシ基(炭素数1〜6が好ましい)又はオキソアルコキシ基(炭素数1〜6が好ましい)を表す。
Gは、単結合、酸素原子、硫黄原子、アルキレン基(炭素数1〜3が好ましい)又はカルボニル基を表す。より具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、1−メチルエチレン基、ヒドロキシメチレン基、シアノメチレン基等が挙げられる。
In the general formula (CLNM-3), R NM1 are respectively those in formula (CLNM-1) at, the same as R NM1. R NM3 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, a linear or branched alkyl group (preferably having 1 to 6 carbon atoms), a cycloalkyl group (preferably having 5 to 6 carbon atoms), an oxoalkyl group (having 1 to 6 carbon atoms). 6 is preferable), an alkoxy group (preferably having 1 to 6 carbon atoms) or an oxoalkoxy group (preferably having 1 to 6 carbon atoms).
G represents a single bond, an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group (preferably having 1 to 3 carbon atoms) or a carbonyl group. More specifically, a methylene group, ethylene group, propylene group, 1-methylethylene group, hydroxymethylene group, cyanomethylene group and the like can be mentioned.

一般式(CLNM−3)で表されるアルキレンウレア化合物の具体例としては、例えば、N,N−ジ(メトキシメチル)‐4,5−ジ(メトキシメチル)エチレンウレア、N,N−ジ(エトキシメチル)‐4,5−ジ(エトキシメチル)エチレンウレア、N,N−ジ(プロポキシメチル)‐4,5−ジ(プロポキシメチル)エチレンウレア、N,N−ジ(イソプロポキシメチル)‐4,5−ジ(イソプロポキシメチル)エチレンウレア、N,N−ジ(ブトキシメチル)‐4,5−ジ(ブトキシメチル)エチレンウレア、N,N−ジ(t−ブトキシメチル)‐4,5−ジ(t−ブトキシメチル)エチレンウレア、N,N−ジ(シクロヘキシルオキシメチル)‐4,5−ジ(シクロヘキシルオキシメチル)エチレンウレア、N,N−ジ(シクロペンチルオキシメチル)‐4,5−ジ(シクロペンチルオキシメチル)エチレンウレア、N,N−ジ(アダマンチルオキシメチル)‐4,5−ジ(アダマンチルオキシメチル)エチレンウレア、N,N−ジ(ノルボルニルオキシメチル)‐4,5−ジ(ノルボルニルオキシメチル)エチレンウレア等が挙げられる。   Specific examples of the alkylene urea compound represented by the general formula (CLNM-3) include, for example, N, N-di (methoxymethyl) -4,5-di (methoxymethyl) ethylene urea, N, N-di ( Ethoxymethyl) -4,5-di (ethoxymethyl) ethyleneurea, N, N-di (propoxymethyl) -4,5-di (propoxymethyl) ethyleneurea, N, N-di (isopropoxymethyl) -4 , 5-Di (isopropoxymethyl) ethyleneurea, N, N-di (butoxymethyl) -4,5-di (butoxymethyl) ethyleneurea, N, N-di (t-butoxymethyl) -4,5- Di (t-butoxymethyl) ethyleneurea, N, N-di (cyclohexyloxymethyl) -4,5-di (cyclohexyloxymethyl) ethyleneurea, N, N-di (cyclope Tiloxymethyl) -4,5-di (cyclopentyloxymethyl) ethyleneurea, N, N-di (adamantyloxymethyl) -4,5-di (adamantyloxymethyl) ethyleneurea, N, N-di (norbol) Nyloxymethyl) -4,5-di (norbornyloxymethyl) ethyleneurea and the like.

一般式(CLNM−4)に於いて、
NM1は、それぞれ、一般式(CLNM−1)に於ける、RNM1と同様のものである。
NM4は、それぞれ、水素原子、ヒドロキシル基、アルキル基、シクロアルキル基又はアルコキシ基を表す。
In the general formula (CLNM-4),
R NM1 are respectively those in formula (CLNM-1) at, the same as R NM1.
R NM4 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group, a cycloalkyl group, or an alkoxy group, respectively.

NM4のアルキル基(炭素数1〜6が好ましい)、シクロアルキル基(炭素数5〜6が好ましい)、アルコキシ基(炭素数1〜6が好ましい)として、より具体的には、メチル基、エチル基、ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。 R NM4 alkyl group (preferably having 1 to 6 carbon atoms), cycloalkyl group (preferably having 5 to 6 carbon atoms), alkoxy group (preferably having 1 to 6 carbon atoms), more specifically, methyl group, Examples include an ethyl group, a butyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a methoxy group, an ethoxy group, and a butoxy group.

一般式(CLNM−4)で表されるグリコールウリル化合物の具体例としては、例えば、N,N,N,N−テトラ(メトキシメチル)グリコールウリル、N,N,N,N−テトラ(エトキシメチル)グリコールウリル、N,N,N,N−テトラ(プロポキシメチル)グリコールウリル、N,N,N,N−テトラ(イソプロポキシメチル)グリコールウリル、N,N,N,N−テトラ(ブトキシメチル)グリコールウリル、N,N,N,N−テトラ(t−ブトキシメチル)グリコールウリル、N,N,N,N−テトラ(シクロヘキシルオキシメチル)グリコールウリル、N,N,N,N−テトラ(シクロペンチルオキシメチル)グリコールウリル、N,N,N,N−テトラ(アダマンチルオキシメチル)グリコールウリル、N,N,N,N−テトラ(ノルボルニルオキシメチル)グリコールウリル等が挙げられる。   Specific examples of the glycoluril compound represented by the general formula (CLNM-4) include, for example, N, N, N, N-tetra (methoxymethyl) glycoluril, N, N, N, N-tetra (ethoxymethyl). ) Glycoluril, N, N, N, N-tetra (propoxymethyl) glycoluril, N, N, N, N-tetra (isopropoxymethyl) glycoluril, N, N, N, N-tetra (butoxymethyl) Glycoluril, N, N, N, N-tetra (t-butoxymethyl) glycoluril, N, N, N, N-tetra (cyclohexyloxymethyl) glycoluril, N, N, N, N-tetra (cyclopentyloxy) Methyl) glycoluril, N, N, N, N-tetra (adamantyloxymethyl) glycoluril, N, N, N, N-te La (norbornyloxymethyl) glycoluril, and the like.

一般式(CLNM−5)に於いて、RNM1は、それぞれ、一般式(CLNM−1)に於ける、RNM1と同様のものである。RNM5は、それぞれ、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又は下記一般式(CLNM−5´)で表される原子団を表す。RNM6は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又は下記一般式(CLNM−5´´)で表される原子団を表す。 In the general formula (CLNM-5), R NM1 are respectively those in formula (CLNM-1) at, the same as R NM1. R NM5 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or an atomic group represented by the following general formula (CLNM-5 ′). R NM6 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or an atomic group represented by the following general formula (CLNM-5 ″).

一般式(CLNM−5´)において、RNM1は、一般式(CLNM−1)に於ける、RNM1と同様のものである。一般式(CLNM−5´´)において、RNM1は、一般式(CLNM−1)に於ける、RNM1と同様のものであり、RNM5は、一般式(CLNM−5)に於けるRNM5と同様のものである。 In formula (CLNM-5'), R NM1 are those in formula (CLNM-1) at, the same as R NM1. In formula (CLNM-5''), R NM1 is in formula (CLNM-1), is similar to the R NM1, R NM5 is in formula (CLNM-5) R It is the same as NM5 .

NM5及びRNM6のアルキル基(炭素数1〜6が好ましい)、シクロアルキル基(炭素数5〜6が好ましい)、アリール基(炭素数6〜10が好ましい)として、より具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t‐ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。 Alkyl group R NM5 and R NM6 (1 to 6 carbon atoms is preferred), cycloalkyl groups (5 to 6 carbon atoms is preferred), an aryl group (having 6 to 10 carbon atoms is preferred), and more specifically, Examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, a pentyl group, a cyclopentyl group, a hexyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, and a naphthyl group.

一般式(CLNM−5)で表されるメラミン化合物としては、例えば、N,N,N,N,N,N−ヘキサ(メトキシメチル)メラミン、N,N,N,N,N,N−ヘキサ(エトキシメチル)メラミン、N,N,N,N,N,N−ヘキサ(プロポキシメチル)メラミン、N,N,N,N,N,N−ヘキサ(イソプロポキシメチル)メラミン、N,N,N,N,N,N−ヘキサ(ブトキシメチル)メラミン、N,N,N,N,N,N−ヘキサ(t−ブトキシメチル)メラミン、N,N,N,N,N,N−ヘキサ(シクロヘキシルオキシメチル)メラミン、N,N,N,N,N,N−ヘキサ(シクロペンチルオキシメチル)メラミン、N,N,N,N,N,N−ヘキサ(アダマンチルオキシメチル)メラミン、N,N,N,N,N,N−ヘキサ(ノルボルニルオキシメチル)メラミン、N,N,N,N,N,N−ヘキサ(メトキシメチル)アセトグアナミン、N,N,N,N,N,N−ヘキサ(エトキシメチル)アセトグアナミン、N,N,N,N,N,N−ヘキサ(プロポキシメチル)アセトグアナミン、N,N,N,N,N,N−ヘキサ(イソプロポキシメチル)アセトグアナミン、N,N,N,N,N,N−ヘキサ(ブトキシメチル)アセトグアナミン、N,N,N,N,N,N−ヘキサ(t−ブトキシメチル)アセトグアナミン、N,N,N,N,N,N−ヘキサ(メトキシメチル)ベンゾグアナミン、N,N,N,N,N,N−ヘキサ(エトキシメチル)ベンゾグアナミン、N,N,N,N,N,N−ヘキサ(プロポキシメチル)ベンゾグアナミン、N,N,N,N,N,N−ヘキサ(イソプロポキシメチル)ベンゾグアナミン、N,N,N,N,N,N−ヘキサ(ブトキシメチル)ベンゾグアナミン、N,N,N,N,N,N−ヘキサ(t−ブトキシメチル)ベンゾグアナミン、等が挙げられる。   Examples of the melamine compound represented by the general formula (CLNM-5) include N, N, N, N, N, N-hexa (methoxymethyl) melamine, N, N, N, N, N, N-hexa. (Ethoxymethyl) melamine, N, N, N, N, N, N-hexa (propoxymethyl) melamine, N, N, N, N, N, N-hexa (isopropoxymethyl) melamine, N, N, N , N, N, N-hexa (butoxymethyl) melamine, N, N, N, N, N, N-hexa (t-butoxymethyl) melamine, N, N, N, N, N, N-hexa (cyclohexyl) Oxymethyl) melamine, N, N, N, N, N, N-hexa (cyclopentyloxymethyl) melamine, N, N, N, N, N, N-hexa (adamantyloxymethyl) melamine, N, N, N , N, N, N-hexa Bornyloxymethyl) melamine, N, N, N, N, N, N-hexa (methoxymethyl) acetoguanamine, N, N, N, N, N, N-hexa (ethoxymethyl) acetoguanamine, N, N , N, N, N, N-hexa (propoxymethyl) acetoguanamine, N, N, N, N, N, N-hexa (isopropoxymethyl) acetoguanamine, N, N, N, N, N, N- Hexa (butoxymethyl) acetoguanamine, N, N, N, N, N, N-hexa (t-butoxymethyl) acetoguanamine, N, N, N, N, N, N-hexa (methoxymethyl) benzoguanamine, N , N, N, N, N, N-hexa (ethoxymethyl) benzoguanamine, N, N, N, N, N, N-hexa (propoxymethyl) benzoguanamine, N, N, N, N, N, N- Oxa (isopropoxymethyl) benzoguanamine, N, N, N, N, N, N-hexa (butoxymethyl) benzoguanamine, N, N, N, N, N, N-hexa (t-butoxymethyl) benzoguanamine, etc. Can be mentioned.

一般式(CLNM−1)〜(CLNM−5)に於ける、RNM1〜RNM6で表される基は、更に置換基を有してもよい。RNM1〜RNM6が有してもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、シクロアルキル基(好ましくは炭素数3〜20)、アリール基(好ましくは炭素数6〜14)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20)、シクロアルコキシ基(好ましくは炭素数3〜20)、アシル基(好ましくは炭素数2〜20)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜20)等を挙げることができる。
以下に、上記一般式(CLNM−1)で表される部分構造を2個以上有する化合物の具体例を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。下記に示す化合物に加え、下記に例示されていない三和ケミカル社製、ニカラックシリーズの化合物も好ましく用いることができる。
The groups represented by R NM1 to R NM6 in formulas (CLNM-1) to (CLNM-5) may further have a substituent. Examples of the substituent that R NM1 to R NM6 may have include, for example, a halogen atom, a hydroxyl group, a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, a cycloalkyl group (preferably having 3 to 20 carbon atoms), an aryl group (preferably 6 to 14 carbon atoms), alkoxy group (preferably 1 to 20 carbon atoms), cycloalkoxy group (preferably 3 to 20 carbon atoms), acyl group (preferably 2 to 20 carbon atoms), acyloxy group (preferably carbon 2-20) etc. can be mentioned.
Specific examples of the compound having two or more partial structures represented by the general formula (CLNM-1) are illustrated below, but the present invention is not limited thereto. In addition to the compounds shown below, compounds from Sanwa Chemical Co., Ltd. and Nicarac series which are not exemplified below can also be preferably used.

<フェノール化合物>
フェノール化合物としては、分子内にベンゼン環を3〜5個含み、更にヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基を合わせて2個以上有し、そのヒドロキシメチル基、アルコキシメチル基を少なくともいずれかのベンゼン環に集中させ、あるいは振り分けて結合してなるフェノール化合物を挙げることができる。ベンゼン環に結合するアルコキシメチル基としては、炭素数6個以下のものが好ましい。具体的にはメトキシメチル基、エトキシメチル基、n−プロポキシメチル基、i−プロポキシメチル基、n−ブトキシメチル基、i−ブトキシメチル基、sec−ブトキシメチル基、t−ブトキシメチル基が好ましい。更に、2−メトキシエトキシ基及び、2−メトキシ−1−プロポキシ基の様に、アルコキシ置換されたアルコキシ基も好ましい。
熱硬化性化合物は、分子内にベンゼン環を2個以上有するフェノール化合物であることがより好ましく、また、窒素原子を含まないフェノール化合物であることが好ましい。
熱硬化性化合物は、熱硬化性官能基を1分子あたり2〜8個有するフェノール化合物であることが好ましく、熱硬化性官能基を3〜6個有することがより好ましい。
<Phenol compound>
The phenol compound contains 3 to 5 benzene rings in the molecule, and further has two or more hydroxymethyl groups or alkoxymethyl groups, and the hydroxymethyl group or alkoxymethyl group is attached to at least one of the benzene rings. Mention may be made of phenolic compounds which are concentrated or distributed and combined. As the alkoxymethyl group bonded to the benzene ring, those having 6 or less carbon atoms are preferable. Specifically, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, an n-propoxymethyl group, an i-propoxymethyl group, an n-butoxymethyl group, an i-butoxymethyl group, a sec-butoxymethyl group, and a t-butoxymethyl group are preferable. Further, alkoxy-substituted alkoxy groups such as 2-methoxyethoxy group and 2-methoxy-1-propoxy group are also preferable.
The thermosetting compound is more preferably a phenol compound having two or more benzene rings in the molecule, and is preferably a phenol compound containing no nitrogen atom.
The thermosetting compound is preferably a phenol compound having 2 to 8 thermosetting functional groups per molecule, and more preferably 3 to 6 thermosetting functional groups.

これらのフェノール化合物の内、特に好ましいものを以下に挙げる。式中、L1〜L8はアルコキシメチル基等の熱硬化性官能基を示し、同じであっても異なっていてもよく、熱硬化性官能基としては好ましくはヒドロキシメチル基、メトキシメチル基又はエトキシメチル基を示す。 Among these phenol compounds, particularly preferable ones are listed below. In the formula, L 1 to L 8 represent a thermosetting functional group such as an alkoxymethyl group and may be the same or different, and the thermosetting functional group is preferably a hydroxymethyl group, a methoxymethyl group or An ethoxymethyl group is shown.

熱硬化性化合物は、市販されているものを用いることもでき、また公知の方法で合成することもできる。例えば、ヒドロキシメチル基を有するフェノール化合物は、対応するヒドロキシメチル基を有さないフェノール化合物(上記式においてL1〜L8が水素原子である化合物)とホルムアルデヒドを塩基触媒下で反応させることによって得ることができる。この際、樹脂化やゲル化を防ぐために、反応温度を60℃以下で行うことが好ましい。具体的には、特開平6−282067号、特開平7−64285号公報等に記載されている方法にて合成することができる。 As the thermosetting compound, a commercially available one can be used, or it can be synthesized by a known method. For example, a phenol compound having a hydroxymethyl group is obtained by reacting a phenol compound not having a corresponding hydroxymethyl group (a compound in which L 1 to L 8 are hydrogen atoms in the above formula) with formaldehyde in the presence of a base catalyst. be able to. At this time, in order to prevent resinification or gelation, the reaction temperature is preferably 60 ° C. or lower. Specifically, it can be synthesized by the methods described in JP-A-6-282067, JP-A-7-64285 and the like.

アルコキシメチル基を有するフェノール化合物は、対応するヒドロキシメチル基を有するフェノール化合物とアルコールを酸触媒下で反応させることによって得ることができる。この際、樹脂化やゲル化を防ぐために、反応温度を100℃以下で行うことが好ましい。具体的には、EP632003A1等に記載されている方法にて合成することができる。このようにして合成されたヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基を有するフェノール化合物は、保存時の安定性の点で好ましいが、アルコキシメチル基を有するフェノール化合物は保存時の安定性の観点から特に好ましい。ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基を合わせて2個以上有し、いずれかのベンゼン環に集中させ、あるいは振り分けて結合してなるこのようなフェノール化合物は、単独で使用してもよく、また2種以上を組み合わせて使用してもよい。   A phenol compound having an alkoxymethyl group can be obtained by reacting a corresponding phenol compound having a hydroxymethyl group with an alcohol in the presence of an acid catalyst. At this time, in order to prevent resinification and gelation, the reaction temperature is preferably 100 ° C. or lower. Specifically, it can be synthesized by the method described in EP632003A1 and the like. A phenol compound having a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group synthesized in this manner is preferable from the viewpoint of stability during storage, but a phenol compound having an alkoxymethyl group is particularly preferable from the viewpoint of stability during storage. Such a phenol compound having two or more hydroxymethyl groups or alkoxymethyl groups in total and concentrated on any benzene ring or distributed and bonded may be used alone or in combination of two kinds. A combination of the above may also be used.

本発明において、熱硬化性化合物は単独で用いてもよいし、2種以上組み合わせて用いてもよい。   In this invention, a thermosetting compound may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

本発明の組成物中における熱硬化性化合物の総含有量としては、素材により異なるが、着色硬化性組成物の全固形分(質量)に対して、5〜40質量%が好ましく、7〜35質量%がより好ましく、10〜30%が特に好ましい。本発明では、このような熱硬化性化合物の配合量とすることにより、耐薬品性に優れた硬化膜を得られるという効果が得られる。   Although the total content of the thermosetting compound in the composition of the present invention varies depending on the material, it is preferably 5 to 40% by mass, and preferably 7 to 35% with respect to the total solid content (mass) of the colored curable composition. The mass% is more preferable, and 10 to 30% is particularly preferable. In this invention, the effect that the cured film excellent in chemical-resistance can be obtained by setting it as the compounding quantity of such a thermosetting compound is acquired.

<溶剤>
本発明の着色硬化性組成物はハロゲン化フタロシアニン染料および熱硬化性化合物を少なくとも溶解する溶剤(通常、有機溶剤)を含む。
有機溶剤としては、エステル類として、例えば、酢酸エチル、酢酸−n−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸アルキル(例:オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル(例えば、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル等))、3−オキシプロピオン酸アルキルエステル類(例:3−オキシプロピオン酸メチル、3−オキシプロピオン酸エチル等(例えば、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル等))、2−オキシプロピオン酸アルキルエステル類(例:2−オキシプロピオン酸メチル、2−オキシプロピオン酸エチル、2−オキシプロピオン酸プロピル等(例えば、2−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−エトキシプロピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチル))、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸メチル及び2−オキシ−2−メチルプロピオン酸エチル(例えば、2−メトキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−エトキシ−2−メチルプロピオン酸エチル等)、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸メチル、2−オキソブタン酸エチル等、並びに、エーテル類として、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート等、並びに、ケトン類として、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等、並びに、芳香族炭化水素類として、例えば、トルエン、キシレン等が好適に挙げられる。
<Solvent>
The colored curable composition of the present invention contains a solvent (usually an organic solvent) that dissolves at least the halogenated phthalocyanine dye and the thermosetting compound.
Examples of organic solvents include esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, methyl lactate, and ethyl lactate. , Alkyl oxyacetate (eg, methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate (eg, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate)), alkyl 3-oxypropionate Esters (eg, methyl 3-oxypropionate, ethyl 3-oxypropionate, etc. (eg, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, etc.) )), 2- Xylpropionic acid alkyl esters (eg, methyl 2-oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate, propyl 2-oxypropionate, etc. (eg, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, 2-methoxy) Propyl propionate, methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate)), methyl 2-oxy-2-methylpropionate and ethyl 2-oxy-2-methylpropionate (eg 2-methoxy-2- Methyl methyl propionate, ethyl 2-ethoxy-2-methylpropionate, etc.), methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methyl 2-oxobutanoate, ethyl 2-oxobutanoate, etc. And as ethers For example, diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, Propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate and the like and ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone and 3-heptanone and aromatic hydrocarbons such as toluene, Xylene and the like are preferred.

これらの溶剤は、塗布面状の改良などの観点から、2種以上を混合する形態も好ましい。この場合、特に好ましくは、上記の3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、2−ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、及びプロピレングリコールメチルエーテルアセテートから選択される2種以上で構成される混合溶液である。   These solvents are also preferably in a form of mixing two or more kinds from the viewpoint of improving the coated surface. In this case, particularly preferably, the above-mentioned methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2-heptanone, cyclohexanone, ethyl It is a mixed solution composed of two or more selected from carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol methyl ether, and propylene glycol methyl ether acetate.

溶剤の着色硬化性組成物中における含有量は、塗布性の観点から、組成物の全固形分濃度が5〜30質量%になる量とすることが好ましく、7〜25質量%が更に好ましく、10〜20質量%が特に好ましい。   The content of the solvent in the colored curable composition is preferably such that the total solid concentration of the composition is 5 to 30% by mass, more preferably 7 to 25% by mass, from the viewpoint of applicability. 10-20 mass% is especially preferable.

<各種添加物>
本発明の着色硬化性組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じて、各種添加物、例えば、界面活性剤、酸無水物、硬化剤、硬化触媒、充填剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤等を配合することができる。
一方、本発明の着色硬化性組成物は、光重合性化合物の配合量が全固形分の1質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以下であることがより好ましく、含まないことがさらに好ましい。
<Various additives>
The colored curable composition of the present invention has various additives as required, for example, surfactants, acid anhydrides, curing agents, curing catalysts, fillers, adhesion promoters, as long as the effects of the present invention are not impaired. An agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, an aggregation inhibitor and the like can be blended.
On the other hand, in the colored curable composition of the present invention, the amount of the photopolymerizable compound is preferably 1% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or less, based on the total solid content. Is more preferable.

(界面活性剤)
本発明の着色硬化性組成物は、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。
(Surfactant)
Various colored surfactants may be added to the colored curable composition of the present invention from the viewpoint of further improving coatability. As the surfactant, various surfactants such as a fluorine-based surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicone-based surfactant can be used.

特に、本発明の着色硬化性組成物は、フッ素系界面活性剤を含有することで、塗布液として調製したときの液特性(特に、流動性)がより向上することから、塗布厚の均一性や省液性をより改善することができる。
即ち、フッ素系界面活性剤を含有する着色硬化性組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力を低下させることにより、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、少量の液量で数μm程度の薄膜を形成した場合であっても、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行える点で有効である。
In particular, the colored curable composition of the present invention contains a fluorosurfactant, so that the liquid properties (particularly fluidity) when prepared as a coating liquid are further improved, so that the coating thickness is uniform. And the liquid-saving property can be further improved.
That is, when a film is formed using a coating liquid to which a colored curable composition containing a fluorosurfactant is applied, by reducing the interfacial tension between the coated surface and the coating liquid, The wettability is improved, and the coating property to the coated surface is improved. For this reason, even when a thin film of about several μm is formed with a small amount of liquid, it is effective in that it is possible to more suitably form a film having a uniform thickness with small thickness unevenness.

フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、3質量%〜40質量%が好適であり、より好ましくは5質量%〜30質量%であり、特に好ましくは7質量%〜25質量%である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、着色硬化性組成物中における溶解性も良好である。   The fluorine content in the fluorosurfactant is preferably 3% by mass to 40% by mass, more preferably 5% by mass to 30% by mass, and particularly preferably 7% by mass to 25% by mass. A fluorine-based surfactant having a fluorine content in this range is effective in terms of uniformity of coating film thickness and liquid-saving properties, and has good solubility in a colored curable composition.

フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックF781(以上、DIC(株)製)等が挙げられる。   Examples of the fluorine-based surfactant include Megafac F781 (manufactured by DIC Corporation).

界面活性剤は、1種のみを用いてもよいし、2種類以上を組み合わせてもよい。   Only one type of surfactant may be used, or two or more types may be combined.

着色硬化性組成物は、界面活性剤を含有してもしなくても良いが、含有する場合、界面活性剤の添加量は、着色硬化性組成物の全質量に対して、0.001質量%〜2.0質量%が好ましく、より好ましくは0.005質量%〜1.0質量%である。   The colored curable composition may or may not contain a surfactant, but when it is contained, the addition amount of the surfactant is 0.001% by mass relative to the total mass of the colored curable composition. -2.0 mass% is preferable, More preferably, it is 0.005 mass%-1.0 mass%.

なお、界面活性剤が高分子化合物(すなわち樹脂)である場合、その高分子化合物の固形分酸価は、80mgKOH/g以下とされる。   When the surfactant is a polymer compound (that is, a resin), the solid content acid value of the polymer compound is 80 mgKOH / g or less.

<酸無水物>
本発明の着色硬化性組成物は、酸無水物を含有しても良い。酸無水物を含有することにより、熱硬化性化合物、特にエポキシ化合物の熱硬化による架橋性を向上させることができる。
<Acid anhydride>
The colored curable composition of the present invention may contain an acid anhydride. By containing an acid anhydride, it is possible to improve the crosslinkability of the thermosetting compound, particularly the epoxy compound, by thermosetting.

酸無水物としては、例えば、フタル酸無水物、ナジック酸無水物、マレイン酸無水物、琥珀酸無水物などが挙げられる。中でも、酸無水物は、顔料分散への影響が少ない点で、フタル酸無水物が好ましい。 エポキシ硬化剤としてアミン系化合物も一般的であるが、ポットライフが比較的長いなどの利点がある。   Examples of the acid anhydride include phthalic anhydride, nadic anhydride, maleic anhydride, succinic anhydride, and the like. Among these, phthalic anhydride is preferable because the acid anhydride has little influence on pigment dispersion. An amine compound is generally used as an epoxy curing agent, but has advantages such as a relatively long pot life.

酸無水物の着色硬化性組成物中における含有量としては、熱硬化性化合物(特にエポキシ化合物)の含有量に対して、10〜40質量%の範囲が好ましく、15〜30質量%の範囲がより好ましい。酸無水物の含有量は、10質量%以上であると熱硬化性化合物、特にエポキシの架橋密度が向上し、機械的強度を高めることができ、30質量%以下であると塗膜中の熱硬化成分が抑制され、色材の濃度を高めるのに有利である。   As content in the colored curable composition of an acid anhydride, the range of 10-40 mass% is preferable with respect to content of a thermosetting compound (especially epoxy compound), and the range of 15-30 mass% is preferable. More preferred. When the content of the acid anhydride is 10% by mass or more, the crosslinking density of the thermosetting compound, particularly epoxy, can be improved, and the mechanical strength can be increased. Curing components are suppressed, which is advantageous for increasing the concentration of the coloring material.

(硬化剤)
熱硬化性化合物としてエポキシ樹脂を使用する場合、硬化剤を添加することが好ましい。エポキシ樹脂の硬化剤は種類が非常に多く、性質、樹脂と硬化剤の混合物との可使時間、粘度、硬化温度、硬化時間、発熱などが使用する硬化剤の種類によって非常に異なるため、硬化剤の使用目的、使用条件、作業条件などによって適当な硬化剤を選ばねばならない。硬化剤に関しては、垣内弘編「エポキシ樹脂(昇晃堂)」第5章に詳しく解説されている。以下、硬化剤の例を示す。
(Curing agent)
When using an epoxy resin as the thermosetting compound, it is preferable to add a curing agent. There are many types of curing agents for epoxy resins, and their properties, pot life with resin and curing agent mixture, viscosity, curing temperature, curing time, heat generation, etc. vary greatly depending on the type of curing agent used. An appropriate curing agent must be selected according to the purpose of use, use conditions, working conditions, and the like. The curing agent is explained in detail in Chapter 5 of Hiroshi Kakiuchi “Epoxy resin (Shojodo)”. Examples of curing agents are shown below.

触媒的に作用するものとしては、第三アミン類、三フッ化ホウ素−アミンコンプレックス、エポキシ樹脂の官能基と化学量論的に反応するものとして、ポリアミン、酸無水物等;また、常温硬化のものとして、ジエチレントリアミン、ポリアミド樹脂、中温硬化のものの例としてジエチルアミノプロピルアミン、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール;高温硬化の例として、無水フタル酸、メタフェニレンジアミン等がある。また化学構造別にみるとアミン類では、脂肪族ポリアミンとしてはジエチレントリアミン;芳香族ポリアミンとしてはメタフェニレンジアミン;第三アミンとしてはトリス(ジメチルアミノメチル)フェノール;酸無水物としては無水フタル酸、ポリアミド樹脂、ポリスルフィド樹脂、三フッ化ホウ素−モノエチルアミンコンプレックス;合成樹脂初期縮合物としてはフェノール樹脂、その他ジシアンジアミド等が挙げられる。   Those that act catalytically include tertiary amines, boron trifluoride-amine complexes, those that react stoichiometrically with functional groups of epoxy resins, polyamines, acid anhydrides, etc .; Examples include diethylenetriamine, polyamide resin, and medium temperature curing examples such as diethylaminopropylamine and tris (dimethylaminomethyl) phenol; examples of high temperature curing include phthalic anhydride and metaphenylenediamine. In terms of chemical structure, for amines, diethylenetriamine as an aliphatic polyamine; metaphenylenediamine as an aromatic polyamine; tris (dimethylaminomethyl) phenol as a tertiary amine; phthalic anhydride as an acid anhydride; polyamide resin Polysulfide resin, boron trifluoride-monoethylamine complex; Synthetic resin initial condensate includes phenol resin, dicyandiamide and the like.

これら硬化剤は、加熱によりエポキシ基と反応し、重合することによって架橋密度が上がり硬化するものである。薄膜化のためには、バインダー、硬化剤とも極力少量の方が好ましく、特に硬化剤に関しては熱硬化性化合物に対して35質量%以下、好ましくは30質量%以下、さらに好ましくは25質量%以下とすることが好ましい。   These curing agents react with an epoxy group by heating and polymerize to increase the crosslinking density and cure. For thinning, both the binder and the curing agent are preferably as small as possible. In particular, the curing agent is 35% by mass or less, preferably 30% by mass or less, more preferably 25% by mass or less with respect to the thermosetting compound. It is preferable that

(硬化触媒)
着色剤濃度の高い組成を実現するためには、硬化剤との反応による硬化のほか、主としてエポキシ基同士の反応による硬化が有効である。このため、硬化剤は用いず、硬化触媒を使用することもできる。硬化触媒の添加量としては、エポキシ当量が150〜200程度のエポキシ樹脂に対して、質量基準で1/10〜1/1000程度、好ましくは1/20〜1/500程度さらに好ましくは1/30〜1/250程度のわずかな量で硬化させることが可能である。
(Curing catalyst)
In order to realize a composition having a high colorant concentration, curing by reaction between epoxy groups is effective in addition to curing by reaction with a curing agent. For this reason, a curing catalyst can be used without using a curing agent. The addition amount of the curing catalyst is about 1/10 to 1/1000, preferably about 1/20 to 1/500, more preferably 1/30, based on the mass of the epoxy resin having an epoxy equivalent of about 150 to 200. It can be cured with a slight amount of about 1/250.

<着色硬化性組成物の調製方法>
本発明の着色硬化性組成物の好ましい調製方法について説明する。但し、本発明はこれに限定されるものではない。
<Preparation method of colored curable composition>
A preferred method for preparing the colored curable composition of the present invention will be described. However, the present invention is not limited to this.

着色剤が染料の場合は、しかるべき溶剤に熱硬化性化合物とともに溶解させる。着色剤として顔料を含む場合、通常、上述のとおり顔料分散物として調整してから配合する。   When the colorant is a dye, it is dissolved in a suitable solvent together with the thermosetting compound. When a pigment is included as a colorant, it is usually blended after adjusting as a pigment dispersion as described above.

特に、熱硬化性化合物がエポキシ化合物である場合、このようにして得られた顔料の分散物又は染料の溶液に熱硬化性化合物と硬化触媒や硬化剤とを添加、あるいは既にバインダーが熱硬化性化合物である場合には、硬化触媒や硬化剤を添加して熱硬化機能を付与し、必要に応じて溶剤を添加することで本発明における着色硬化性組成物を調製することが好ましい。   In particular, when the thermosetting compound is an epoxy compound, a thermosetting compound and a curing catalyst or a curing agent are added to the pigment dispersion or dye solution thus obtained, or the binder is already thermosetting. In the case of a compound, it is preferable to prepare the colored curable composition in the present invention by adding a curing catalyst or a curing agent to impart a thermosetting function, and adding a solvent as necessary.

<フィルターろ過>
本発明の着色硬化性組成物は、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、フィルターで濾過することが好ましい。
フィルターろ過に用いるフィルターとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルターであれば特に限定されることなく用いることができる。
上記フィルターの材質の例としては、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)等のフッ素樹脂;ナイロン−6、ナイロン−6,6等のポリアミド系樹脂;ポリエチレン、ポリプロピレン(PP)等のポリオレフィン樹脂(高密度、超高分子量を含む);等が挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン(高密度ポリプロピレンを含む)が好ましい。
<Filter filtration>
The colored curable composition of the present invention is preferably filtered with a filter for the purpose of removing foreign substances and reducing defects.
As a filter used for filter filtration, if it is a filter conventionally used for the filtration use etc., it can use without being specifically limited.
Examples of the filter material include: a fluororesin such as PTFE (polytetrafluoroethylene); a polyamide resin such as nylon-6 and nylon-6, 6; a polyolefin resin such as polyethylene and polypropylene (PP) (high density, Including ultra high molecular weight); Among these materials, polypropylene (including high density polypropylene) is preferable.

上記フィルターの孔径には特に限定はないが、例えば0.01〜20.0μm程度であり、好ましくは0.01〜5μm程度であり、さらに好ましくは0.01〜2.0μm程度である。
フィルターの孔径を上記範囲とすることにより、微細な粒子をより効果的に取り除くことができ、濁度をより低減することができる。
ここで、フィルターの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルターとしては、例えば、日本ポール株式会社、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社(旧日本マイクロリス株式会社)又は株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルターの中から選択することができる。
The pore size of the filter is not particularly limited, but is, for example, about 0.01 to 20.0 μm, preferably about 0.01 to 5 μm, and more preferably about 0.01 to 2.0 μm.
By setting the pore size of the filter within the above range, fine particles can be more effectively removed and turbidity can be further reduced.
Here, the pore size of the filter can refer to the nominal value of the filter manufacturer. As a commercially available filter, for example, it can be selected from various filters provided by Nippon Pole Co., Ltd., Advantech Toyo Co., Ltd., Japan Entegris Co., Ltd. (former Nihon Microlith Co., Ltd.), or Kitz Micro Filter Co., Ltd. .

上記フィルターろ過では、2種以上のフィルターを組み合わせて用いてもよい。
例えば、まず第1のフィルターを用いてろ過を行い、次に、第1のフィルターとは孔径が異なる第2のフィルターを用いてろ過を行うことができる。
その際、第1のフィルターでのフィルタリング及び第2のフィルターでのフィルタリングは、それぞれ、1回のみでもよいし、2回以上行ってもよい。
第2のフィルターは、上述した第1のフィルターと同様の材料等で形成されたものを使用することができる。
In the filter filtration, two or more filters may be used in combination.
For example, the filtration can be performed first using a first filter and then using a second filter having a pore diameter different from that of the first filter.
At that time, the filtering by the first filter and the filtering by the second filter may be performed only once or may be performed twice or more, respectively.
As the second filter, a filter formed of the same material as the first filter described above can be used.

<用途>
本発明の着色硬化性組成物は、硬化させて硬化膜として好ましく用いられる。本発明の着色硬化性組成物を硬化させた層は、カラーフィルタの着色層として好ましく用いることができる。特に、ドライエッチング用着色硬化性組成物として好ましく用いることができる。
<Application>
The colored curable composition of the present invention is cured and preferably used as a cured film. The layer obtained by curing the colored curable composition of the present invention can be preferably used as a colored layer of a color filter. In particular, it can be preferably used as a colored curable composition for dry etching.

<カラーフィルタ及びその製造方法>
本発明のカラーフィルタは、これを構成するパターンのうち、少なくとも一種のパターンが、上記した本発明の着色硬化性組成物から形成された着色パターンである。本発明のカラーフィルタは、少なくとも一種のパターンが、上記した本発明の着色硬化性組成物から形成された着色パターンであれば特に制限されるものではないが、好ましくは以下に示す本発明のカラーフィルタの製造方法により作製される。
<Color filter and manufacturing method thereof>
In the color filter of the present invention, at least one of the patterns constituting the color filter is a colored pattern formed from the above-described colored curable composition of the present invention. The color filter of the present invention is not particularly limited as long as at least one pattern is a colored pattern formed from the above-described colored curable composition of the present invention, but preferably the color of the present invention shown below. The filter is manufactured by a manufacturing method.

本発明のカラーフィルタの製造方法の一例としては、本発明の着色硬化性組成物を用いて着色層を形成する工程、上記着色層上にフォトレジスト層を形成する工程、露光及び現像することにより上記フォトレジスト層をパターニングしてレジストパターンを得る工程、及び上記レジストパターンをエッチングマスクとして上記着色層をドライエッチングする工程を含む。   As an example of the method for producing the color filter of the present invention, a step of forming a colored layer using the colored curable composition of the present invention, a step of forming a photoresist layer on the colored layer, exposure and development Patterning the photoresist layer to obtain a resist pattern, and dry etching the colored layer using the resist pattern as an etching mask.

本発明のカラーフィルタの製造方法は、既述の本発明の着色硬化性組成物(第1の着色硬化性組成物とも言う)を用いて第1の着色層を形成する。
ここで、第1着色層は、本発明の着色硬化性組成物により形成されているため、上述したように、耐溶剤性及び耐アルカリ現像液性に優れている。
これにより、後に詳細に述べる、第1着色層の上にエッチング用のマスクとしてレジストパターン(パターニングされたフォトレジスト層)を形成する際に使用する現像液や、第1着色層の上に第2着色感放射線性組成物により第2着色感放射線性層を形成する工程、及び、第1着色層の上に第3着色感放射線性組成物により第3着色感放射線性層を形成する工程において、第1着色層が、第2又は第3着色感放射線性組成物における有機溶剤や、第2又は第3着色感放射線性組成物により形成された第2又は第3着色感放射線性層を露光、現像する際に使用される現像液に溶解し、第1着色層における色成分が、上記溶剤や現像液に溶出する虞れや、第2又は第3着色感放射線性組成物における色成分が、第1の着色層に混入する虞れなどを抑制できる。その結果、第1着色層における色成分の色落ちの発生や複数の色が互いに重なり合うオーバーラップ領域の発生を抑制できるため、最終的に得られるカラーフィルタの性能を向上させることができる。
特に、例えば厚みが0.1〜1.0μm及び/又は画素パターンサイズ(正方パターンにおける一辺)が2μm以下(例えば0.5〜2.0μm)となるような微小サイズが求められる固体撮像素子用のカラーフィルタを作製するのに有効である。
In the method for producing a color filter of the present invention, the first colored layer is formed using the above-described colored curable composition of the present invention (also referred to as the first colored curable composition).
Here, since the 1st colored layer is formed with the colored curable composition of this invention, as above-mentioned, it is excellent in solvent resistance and alkali developing solution resistance.
As a result, a developer used when forming a resist pattern (patterned photoresist layer) as an etching mask on the first colored layer, which will be described in detail later, or a second on the first colored layer. In the step of forming the second colored radiation-sensitive layer with the colored radiation-sensitive composition and the step of forming the third colored radiation-sensitive layer with the third colored radiation-sensitive composition on the first colored layer, The first colored layer exposes the organic solvent in the second or third colored radiation-sensitive composition and the second or third colored radiation-sensitive layer formed by the second or third colored radiation-sensitive composition, When dissolved in the developer used for development, the color component in the first colored layer may be eluted into the solvent or developer, or the color component in the second or third colored radiation-sensitive composition is May be mixed into the first colored layer It can be suppressed. As a result, it is possible to suppress the occurrence of color fading in the first colored layer and the occurrence of overlapping regions in which a plurality of colors overlap each other, so that the performance of the finally obtained color filter can be improved.
In particular, for a solid-state imaging device in which a minute size is required such that the thickness is 0.1 to 1.0 μm and / or the pixel pattern size (one side in a square pattern) is 2 μm or less (for example, 0.5 to 2.0 μm). It is effective for producing a color filter.

ここで、固体撮像素子について、一例として図1を参照して略説する。
図1に示すように、固体撮像素子10は、シリコン基板上に設けられた受光素子(フォトダイオード)42、カラーフィルタ13、平坦化膜14、マイクロレンズ15等から構成される。本発明においては、平坦化膜14は必ずしも設ける必要はない。なお、図1では、各部を明確にするため、相互の厚みや幅の比率は無視して一部誇張して表示している。
Here, the solid-state imaging device will be briefly described with reference to FIG. 1 as an example.
As shown in FIG. 1, the solid-state imaging device 10 includes a light receiving element (photodiode) 42 provided on a silicon substrate, a color filter 13, a planarizing film 14, a microlens 15, and the like. In the present invention, the planarizing film 14 is not necessarily provided. In FIG. 1, in order to clarify each part, the ratios of the thicknesses and widths are disregarded and some of them are exaggerated.

支持体としては、シリコン基板のほか、カラーフィルタに用いられるものであれば特に制限はなく、例えば、液晶表示素子等に用いられるソーダガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス及びこれらに透明導電膜を付着させたものや、固体撮像素子等に用いられる光電変換素子基板、例えば酸化膜、窒化シリコン等が挙げられる。また、これら支持体とカラーフィルタ13との間には本発明を損なわない限り中間層などを設けてもよい。   The support is not particularly limited as long as it is used for a color filter in addition to a silicon substrate. For example, soda glass, borosilicate glass, quartz glass, and a transparent conductive film attached to these are used for liquid crystal display elements. And a photoelectric conversion element substrate used for a solid-state imaging device, such as an oxide film or silicon nitride. Further, an intermediate layer or the like may be provided between the support and the color filter 13 as long as the present invention is not impaired.

シリコン基板上には、Pウエル41を有し、このPウエルの表面の一部にフォトダイオード42を有している。フォトダイオード42は、Pウエルの表面の一部にPやAs等のN型不純物をイオン注入した後、熱処理を行うことにより形成される。また、シリコン基板のPウエル41の表面であって上記一部とは異なる領域には、フォトダイオード42よりN型不純物濃度の高い不純物拡散層43を有している。この不純物拡散層43は、PやAs等のN型不純物をイオン注入した後、熱処理を行うことにより形成され、フォトダイオード42が入射光を受けることにより発生した電荷を転送する浮遊拡散層の役割を果たす。ウエル41をP型不純物層、フォトダイオード42及び不純物拡散層43をN型不純物層とする以外にも、ウエル41をN型不純物層、フォトダイオード42及び不純物拡散層43をP型不純物層として実施することもできる。   A P well 41 is provided on the silicon substrate, and a photodiode 42 is provided on a part of the surface of the P well. The photodiode 42 is formed by performing heat treatment after ion-implanting N-type impurities such as P and As into a part of the surface of the P-well. In addition, an impurity diffusion layer 43 having an N-type impurity concentration higher than that of the photodiode 42 is provided in a region different from the above portion on the surface of the P well 41 of the silicon substrate. The impurity diffusion layer 43 is formed by ion implantation of N-type impurities such as P and As and then performing heat treatment, and the role of the floating diffusion layer that transfers charges generated when the photodiode 42 receives incident light. Fulfill. In addition to the well 41 being a P-type impurity layer and the photodiode 42 and the impurity diffusion layer 43 being an N-type impurity layer, the well 41 is an N-type impurity layer, and the photodiode 42 and the impurity diffusion layer 43 being a P-type impurity layer. You can also

Pウエル41、フォトダイオード42、及び不純物拡散層43上には、SiO2又はSiO2/SiN/SiO2等の絶縁膜47を有しており、この絶縁膜47上にはポリSi、タングステン、タングステンシリサイド、Al、Cu等からなる電極44が設けられている。電極44は、ゲートMOSトランジスタのゲートの役割を果たし、フォトダイオード42に発生した電荷を不純物拡散層43に転送するための転送ゲートとしての役割を果たすことができる。さらに、電極44の上方には、配線層45が形成されている。配線層45の更に上方には、BPSG膜46、P−SiN膜48を有している。BPSG膜46とP−SiN膜48の界面がフォトダイオード42の上方で下に湾曲する形状になるように形成されており、入射光を効率よくフォトダイオード42に導くための層内レンズの役割を果たす。BPSG膜46上には、P−SiN膜48表面又は画素領域以外の凹凸部を平坦化する目的で平坦化膜層49が形成されている。 An insulating film 47 such as SiO 2 or SiO 2 / SiN / SiO 2 is provided on the P well 41, the photodiode 42, and the impurity diffusion layer 43. Poly Si, tungsten, An electrode 44 made of tungsten silicide, Al, Cu or the like is provided. The electrode 44 serves as the gate of the gate MOS transistor, and can serve as a transfer gate for transferring charges generated in the photodiode 42 to the impurity diffusion layer 43. Further, a wiring layer 45 is formed above the electrode 44. Above the wiring layer 45, a BPSG film 46 and a P-SiN film 48 are provided. The interface between the BPSG film 46 and the P-SiN film 48 is formed so as to curve downward above the photodiode 42, and serves as an in-layer lens for efficiently guiding incident light to the photodiode 42. Fulfill. On the BPSG film 46, a planarizing film layer 49 is formed for the purpose of planarizing the surface of the P-SiN film 48 or the uneven portions other than the pixel region.

この平坦化膜層49上にカラーフィルタ13が形成されている。なお、以下の説明では、領域を区切らずにシリコン基板上に形成されている着色膜(いわゆるベタ膜)を「着色(着色感放射線性)層」といい、パターン状に領域を区切って形成されている着色膜(例えば、ストライプ状にパターニングされている膜等)を「着色パターン」という。また、着色パターンのうち、カラーフィルタ13を構成する要素となっている着色パターン(例えば、正方形や長方形にパターン化された着色パターン等)を「着色(赤色、緑色、青色)画素」という。   The color filter 13 is formed on the planarizing film layer 49. In the following description, a colored film (so-called solid film) formed on a silicon substrate without dividing the region is referred to as a “colored (colored radiation sensitive) layer”, and is formed by dividing the region into a pattern. A colored film (for example, a film patterned in a stripe shape) is referred to as a “colored pattern”. In addition, among the colored patterns, a colored pattern that is an element constituting the color filter 13 (for example, a colored pattern patterned into a square or a rectangle) is referred to as a “colored (red, green, blue) pixel”.

カラーフィルタ13は、2次元配列された複数の緑色画素(第1色画素)20G、赤色画素(第2色画素)20R、及び青色画素(第3色画素)20Bから構成されている。各着色画素20R,20G,20Bは、それぞれ受光素子42の上方位置に形成されている。緑色画素20Gが市松模様に形成されるとともに、青色画素20B及び赤色画素20Rは、各緑色画素20Gの間に形成されている。なお、図1では、カラーフィルタ13が3色の画素から構成されていることを説明するために、各着色画素20R,20G,20Bを1列に並べて表示している。   The color filter 13 includes a plurality of two-dimensionally arranged green pixels (first color pixels) 20G, red pixels (second color pixels) 20R, and blue pixels (third color pixels) 20B. Each of the colored pixels 20R, 20G, and 20B is formed above the light receiving element 42. The green pixels 20G are formed in a checkered pattern, and the blue pixels 20B and the red pixels 20R are formed between the green pixels 20G. In FIG. 1, in order to explain that the color filter 13 is composed of pixels of three colors, the colored pixels 20R, 20G, and 20B are displayed in a line.

平坦化膜14は、カラーフィルタ13の上面を覆うように形成されており、カラーフィルタ表面を平坦化している。   The planarization film 14 is formed so as to cover the upper surface of the color filter 13 and planarizes the color filter surface.

マイクロレンズ15は、凸面を上にして配置された集光レンズであり、平坦化膜14(平坦化膜を有しない場合はカラーフィルタ)の上方でかつ受光素子42の上方に設けられている。各マイクロレンズ15は、被写体からの光を効率良く各受光素子42へ導く。   The microlens 15 is a condensing lens arranged with the convex surface facing upward, and is provided above the planarizing film 14 (or a color filter when no planarizing film is provided) and above the light receiving element 42. Each microlens 15 efficiently guides light from the subject to each light receiving element 42.

次に、本発明の実施形態に係るカラーフィルタの製造方法について説明する。
本発明の実施形態に係るカラーフィルタの製造方法においては、先ず、図2の概略断面図に示すように、第1着色硬化性組成物によって第1着色層11を形成する(工程(ア))。ここで、第1着色硬化性組成物は、既述の本発明の着色硬化性組成物である。
Next, the manufacturing method of the color filter which concerns on embodiment of this invention is demonstrated.
In the method for producing a color filter according to the embodiment of the present invention, first, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 2, the first colored layer 11 is formed from the first colored curable composition (step (a)). . Here, the first colored curable composition is the colored curable composition of the present invention described above.

第1着色層11の形成は、着色硬化性組成物を支持体上に回転塗布、スリット塗布、スプレー塗布等の塗布方法により塗布し、乾燥させて着色層を形成することにより行なえる。   The first colored layer 11 can be formed by applying a colored curable composition on a support by a coating method such as spin coating, slit coating or spray coating, and drying to form a colored layer.

ここでの第1着色層11の厚みとしては、0.3〜1.0μmの範囲が好ましく、0.35〜0.8μmの範囲がより好ましく、0.35〜0.7μmの範囲がより好ましい。   As thickness of the 1st colored layer 11 here, the range of 0.3-1.0 micrometer is preferable, The range of 0.35-0.8 micrometer is more preferable, The range of 0.35-0.7 micrometer is more preferable. .

第1着色硬化性組成物が熱硬化性化合物を含有している場合、ホットプレート、オーブン等の加熱装置により、第1着色層11を加熱して、硬化させることが好ましい。加熱温度は、120℃〜250℃であることが好ましく、160℃〜230℃であることがより好ましい。加熱時間は、加熱手段により異なるが、ホットプレート上で加熱する場合、通常3〜30分間程度であり、オーブン中で加熱する場合、通常、30〜90分間程度である。   When the 1st colored curable composition contains the thermosetting compound, it is preferable to heat and harden the 1st colored layer 11 with heating apparatuses, such as a hotplate and oven. The heating temperature is preferably 120 ° C to 250 ° C, and more preferably 160 ° C to 230 ° C. The heating time varies depending on the heating means, but is usually about 3 to 30 minutes when heated on a hot plate, and usually about 30 to 90 minutes when heated in an oven.

次いで、第1着色層11に貫通孔群が形成されるようにドライエッチングによりパターニングする(工程(イ))。これにより第1の着色パターンを形成する。この手法によれば、着色感放射線性組成物により第1着色層を形成し、当該第1着色層を露光、現像することによって貫通孔群を設ける場合と比較して、所望の形状の貫通孔群をより確実に設けることができる。これは、組成物の全固形分に対する着色剤の含有量が50質量%以上とされた着色感放射線性組成物においては、組成物中に現像能に寄与する成分を添加できる余地が限られてくるため、確実なパターニングが困難になるためである。   Next, patterning is performed by dry etching so that a group of through holes is formed in the first colored layer 11 (step (a)). Thereby, a first colored pattern is formed. According to this technique, a through-hole having a desired shape is formed as compared with the case where a first colored layer is formed from a colored radiation-sensitive composition and the first colored layer is exposed and developed to provide a group of through-holes. A group can be provided more reliably. This is because, in a colored radiation-sensitive composition in which the content of the colorant with respect to the total solid content of the composition is 50% by mass or more, there is limited room for adding a component that contributes to developability to the composition. This is because reliable patterning becomes difficult.

第1着色パターンは、支持体上に第1色目として設けられる着色パターンでもよいし、場合によっては、既設のパターンを有する支持体上に例えば第2色目あるいは第3色目以降のパターンとして設けられる着色パターンでもよい。   The first coloring pattern may be a coloring pattern provided as the first color on the support, or depending on the case, for example, a coloring provided as a second color pattern or a pattern after the third color on the support having the existing pattern. It may be a pattern.

ドライエッチングは、第1着色層11を、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとしてエッチングガスを用いて行うことができる。例えば、図3の概略断面図に示すように、先ず、第1着色層11の上にフォトレジスト層51を形成する。   The dry etching can be performed using the etching gas using the patterned photoresist layer as a mask for the first colored layer 11. For example, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 3, first, a photoresist layer 51 is formed on the first colored layer 11.

具体的には、着色層上にポジ又はネガ型の感放射線性組成物を適用(好ましくは塗布)し、これを乾燥させることによりフォトレジスト層を形成する。フォトレジスト層51の形成においては、更にプリベーク処理を施すことが好ましい。特に、フォトレジストの形成プロセスとしては、露光後の加熱処理(PEB)、現像後の加熱処理(ポストベーク処理)を実施する形態が望ましい。   Specifically, a positive or negative radiation-sensitive composition is applied (preferably applied) on the colored layer, and dried to form a photoresist layer. In forming the photoresist layer 51, it is preferable to further perform a pre-bake treatment. In particular, as a process for forming a photoresist, a mode in which heat treatment after exposure (PEB) and heat treatment after development (post-bake treatment) are desirable.

フォトレジストとしては、例えば、ポジ型の感放射線性組成物が用いられる。このポジ型の感放射線性組成物としては、紫外線(g線、h線、i線)、エキシマー・レーザー等を含む遠紫外線、電子線、イオンビームおよびX線等の放射線に感応するポジ型フォトレジスト用に好適なポジ型レジスト組成物が使用できる。放射線のうち、g線、h線、i線が好ましく、中でもi線が好ましい。
具体的には、ポジ型の感放射線性組成物として、キノンジアジド化合物及びアルカリ可溶性樹脂を含有する組成物が好ましい。キノンジアジド化合物及びアルカリ可溶性樹脂を含有するポジ型の感放射線性組成物は、500nm以下の波長の光照射によりキノンジアジド基が分解してカルボキシル基を生じ、結果としてアルカリ不溶状態からアルカリ可溶性になることを利用するものである。このポジ型フォトレジストは解像力が著しく優れているので、ICやLSI等の集積回路の作製に用いられている。キノンジアジド化合物としては、ナフトキノンジアジド化合物が挙げられる。
As the photoresist, for example, a positive type radiation sensitive composition is used. As this positive type radiation sensitive composition, positive type photo sensitive to radiation such as ultraviolet rays (g rays, h rays, i rays), deep ultraviolet rays including excimer lasers, electron beams, ion beams and X rays. A positive resist composition suitable for resist can be used. Of the radiation, g-line, h-line and i-line are preferable, and i-line is particularly preferable.
Specifically, as the positive radiation sensitive composition, a composition containing a quinonediazide compound and an alkali-soluble resin is preferable. The positive-type radiation-sensitive composition containing a quinonediazide compound and an alkali-soluble resin indicates that a quinonediazide group is decomposed by irradiation with light having a wavelength of 500 nm or less to generate a carboxyl group, resulting in alkali-solubility from an alkali-insoluble state. It is what you use. Since this positive photoresist has remarkably excellent resolution, it is used for manufacturing integrated circuits such as ICs and LSIs. Examples of the quinonediazide compound include a naphthoquinonediazide compound.

フォトレジスト層51の厚みとしては、0.1〜3μmが好ましく、0.2〜2.5μmが好ましく、0.3〜2μmが更に好ましい。なお、フォトレジスト層51の塗布は、既述の第1着色層11における塗布方法を用いて好適に行なえる。   As thickness of the photoresist layer 51, 0.1-3 micrometers is preferable, 0.2-2.5 micrometers is preferable, and 0.3-2 micrometers is still more preferable. The application of the photoresist layer 51 can be suitably performed using the application method for the first colored layer 11 described above.

次いで、図4の概略断面図に示すように、このフォトレジスト層51を露光、現像することにより、レジスト貫通孔群51Aが設けられたレジストパターン(パターニングされたフォトレジスト層)52を形成する。
レジストパターン52の形成は、特に制限なく、従来公知のフォトリソグラフィーの技術を適宜最適化して行なうことができる。露光、現像によりフォトレジスト層51に、レジスト貫通孔群51Aが設けられることによって、次のエッチングで用いられるエッチングマスクとしてのレジストパターン52が、第1着色層11上に設けられる。
Next, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 4, the photoresist layer 51 is exposed and developed to form a resist pattern (patterned photoresist layer) 52 provided with a resist through-hole group 51A.
The formation of the resist pattern 52 is not particularly limited, and can be performed by appropriately optimizing a conventionally known photolithography technique. By providing the resist through hole group 51 </ b> A in the photoresist layer 51 by exposure and development, a resist pattern 52 as an etching mask used in the next etching is provided on the first colored layer 11.

フォトレジスト層51の露光は、所定のマスクパターンを介して、ポジ型又はネガ型の感放射線性組成物に、g線、h線、i線等、好ましくはi線で露光を施すことにより行なうことができる。露光後は、現像液で現像処理することにより、着色パターンを形成しようとする領域に合わせてフォトレジストが除去される。   The exposure of the photoresist layer 51 is performed by exposing the positive or negative radiation sensitive composition with g-line, h-line, i-line, etc., preferably i-line, through a predetermined mask pattern. be able to. After the exposure, the photoresist is removed in accordance with a region where a colored pattern is to be formed by developing with a developer.

上記現像液としては、着色剤を含む第1着色層には影響を与えず、ポジレジストの露光部及びネガレジストの未硬化部を溶解するものであればいずれも使用可能であり、例えば、種々の有機溶剤の組み合わせやアルカリ性の水溶液を用いることができる。アルカリ性の水溶液としては、アルカリ性化合物を濃度が0.001〜10質量%、好ましくは0.01〜5質量%となるように溶解して調製されたアルカリ性水溶液が好適である。アルカリ性化合物は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム,硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等が挙げられる。尚、アルカリ性水溶液を現像液として用いた場合は、一般に現像後に水で洗浄処理が施される。   Any developer can be used as long as it dissolves the exposed portion of the positive resist and the uncured portion of the negative resist without affecting the first colored layer containing the colorant. A combination of these organic solvents or an alkaline aqueous solution can be used. As the alkaline aqueous solution, an alkaline aqueous solution prepared by dissolving an alkaline compound so as to have a concentration of 0.001 to 10% by mass, preferably 0.01 to 5% by mass is suitable. Alkaline compounds include, for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium oxalate, sodium metasuccinate, aqueous ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropyl Ammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, trimethylbenzylammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene and the like can be mentioned. In addition, when alkaline aqueous solution is used as a developing solution, generally a washing process is performed with water after development.

次に、図5の概略断面図に示すように、レジストパターン52をエッチングマスクとして、第1着色層11に貫通孔群120が形成されるようにドライエッチングによりパターニングする。これにより、第1着色パターン12が形成される。ここで、貫通孔群120は、第1貫通孔部分群121と第2貫通孔部分群122とを有している。
貫通孔群120は、第1着色層11に、市松状に設けられている。よって、第1着色層11に貫通孔群120が設けられてなる第1着色パターン12は、複数の四角形状の第1着色画素を市松状に有している。
Next, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 5, patterning is performed by dry etching so that the through hole group 120 is formed in the first colored layer 11 using the resist pattern 52 as an etching mask. Thereby, the 1st coloring pattern 12 is formed. Here, the through-hole group 120 has a first through-hole part group 121 and a second through-hole part group 122.
The through-hole group 120 is provided in a checkered pattern in the first colored layer 11. Therefore, the 1st coloring pattern 12 by which the through-hole group 120 is provided in the 1st coloring layer 11 has a some square-shaped 1st coloring pixel in checkered form.

具体的には、ドライエッチングは、レジストパターン52をエッチングマスクとして、第1着色層11をドライエッチングする。ドライエッチングの代表的な例としては、特開昭59−126506号、特開昭59−46628号、同58−9108号、同58−2809号、同57−148706号、同61−41102号などの公報に記載の方法がある。   Specifically, in the dry etching, the first colored layer 11 is dry etched using the resist pattern 52 as an etching mask. Representative examples of dry etching include JP-A-59-126506, JP-A-59-46628, JP-A-58-9108, JP-A-58-2809, JP-A-57-148706, JP-A-61-41102, and the like. There is a method described in this publication.

ドライエッチングとしては、パターン断面をより矩形に近く形成する観点や支持体へのダメージをより低減する観点から、以下の形態で行なうのが好ましい。
フッ素系ガスと酸素ガス(O2)との混合ガスを用い、支持体が露出しない領域(深さ)までエッチングを行なう第1段階のエッチングと、この第1段階のエッチングの後に、窒素ガス(N2)と酸素ガス(O2)との混合ガスを用い、好ましくは支持体が露出する領域(深さ)付近までエッチングを行なう第2段階のエッチングと、支持体が露出した後に行なうオーバーエッチングとを含む形態が好ましい。以下、ドライエッチングの具体的手法、並びに第1段階のエッチング、第2段階のエッチング、及びオーバーエッチングについて説明する。
Dry etching is preferably performed in the following manner from the viewpoint of forming a pattern cross section closer to a rectangle and reducing damage to the support.
Using a mixed gas of fluorine-based gas and oxygen gas (O 2 ), the first stage etching is performed up to a region (depth) where the support is not exposed, and after this first stage etching, nitrogen gas ( N 2 ) and oxygen gas (O 2 ), and a second stage etching is preferably performed to the vicinity of the region (depth) where the support is exposed, and over-etching is performed after the support is exposed. The form containing these is preferable. Hereinafter, a specific method of dry etching and the first stage etching, second stage etching, and over-etching will be described.

ドライエッチングは、下記手法により事前にエッチング条件を求めて行なう。
(1)第1段階のエッチングにおけるエッチングレート(nm/min)と、第2段階のエッチングにおけるエッチングレート(nm/min)とをそれぞれ算出する。
(2)第1段階のエッチングで所望の厚さをエッチングする時間と、第2段階のエッチングで所望の厚さをエッチングする時間とをそれぞれ算出する。
(3)上記(2)で算出したエッチング時間に従って第1段階のエッチングを実施する。
(4)上記(2)で算出したエッチング時間に従って第2段階のエッチングを実施する。あるいはエンドポイント検出でエッチング時間を決定し、決定したエッチング時間に従って第2段階のエッチングを実施してもよい。
(5)上記(3)、(4)の合計時間に対してオーバーエッチング時間を算出し、オーバーエッチングを実施する。
Dry etching is performed by obtaining etching conditions in advance by the following method.
(1) The etching rate (nm / min) in the first stage etching and the etching rate (nm / min) in the second stage etching are calculated respectively.
(2) The time for etching the desired thickness in the first stage etching and the time for etching the desired thickness in the second stage etching are respectively calculated.
(3) The first stage etching is performed according to the etching time calculated in (2) above.
(4) The second stage etching is performed according to the etching time calculated in (2) above. Alternatively, the etching time may be determined by endpoint detection, and the second stage etching may be performed according to the determined etching time.
(5) Overetching time is calculated with respect to the total time of (3) and (4) above, and overetching is performed.

上記第1段階のエッチング工程で用いる混合ガスとしては、被エッチング膜である有機材料を矩形に加工する観点から、フッ素系ガス及び酸素ガス(O2)を含むことが好ましい。また、第1段階のエッチング工程は、支持体が露出しない領域までエッチングする形態にすることで、支持体のダメージを回避することができる。
また、上記第2段階のエッチング工程及び上記オーバーエッチング工程は、第1段階のエッチング工程でフッ素系ガス及び酸素ガスの混合ガスにより支持体が露出しない領域までエッチングを実施した後、支持体のダメージ回避の観点から、窒素ガス及び酸素ガスの混合ガスを用いてエッチング処理を行なうのが好ましい。
The mixed gas used in the first-stage etching process preferably contains a fluorine-based gas and an oxygen gas (O 2 ) from the viewpoint of processing the organic material that is the film to be etched into a rectangular shape. In addition, the first stage etching process can avoid damage to the support body by etching to a region where the support body is not exposed.
The second etching step and the over-etching step may be performed by etching the substrate to a region where the support is not exposed by the mixed gas of fluorine-based gas and oxygen gas in the first etching step. From the viewpoint of avoidance, it is preferable to perform the etching process using a mixed gas of nitrogen gas and oxygen gas.

第1段階のエッチング工程でのエッチング量と、第2段階のエッチング工程でのエッチング量との比率は、第1段階のエッチング工程でのエッチング処理による矩形性を損なわないように決定することが重要である。なお、全エッチング量(第1段階のエッチング工程でのエッチング量と第2段階のエッチング工程でのエッチング量との総和)中における後者の比率は、0%より大きく50%以下である範囲が好ましく、10〜20%がより好ましい。エッチング量とは、被エッチング膜の残存する膜厚のことをいう。   It is important to determine the ratio between the etching amount in the first stage etching process and the etching amount in the second stage etching process so as not to impair the rectangularity due to the etching process in the first stage etching process. It is. The latter ratio in the total etching amount (the sum of the etching amount in the first-stage etching process and the etching amount in the second-stage etching process) is preferably in the range of more than 0% and not more than 50%. 10 to 20% is more preferable. The etching amount refers to the remaining film thickness of the film to be etched.

また、エッチングは、オーバーエッチング処理を含むことが好ましい。オーバーエッチング処理は、オーバーエッチング比率を設定して行なうことが好ましい。また、オーバーエッチング比率は、初めに行なうエッチング処理時間より算出することが好ましい。オーバーエッチング比率は任意に設定できるが、フォトレジストのエッチング耐性と被エッチングパターンの矩形性維持の点で、エッチング工程におけるエッチング処理時間の30%以下であることが好ましく、5〜25%であることがより好ましく、10〜15%であることが特に好ましい。   Etching preferably includes an over-etching process. The overetching process is preferably performed by setting an overetching ratio. Moreover, it is preferable to calculate the overetching ratio from the etching process time to be performed first. The over-etching ratio can be arbitrarily set, but it is preferably 30% or less of the etching processing time in the etching process, and 5 to 25% in terms of maintaining the etching resistance of the photoresist and the rectangularity of the pattern to be etched. Is more preferable, and 10 to 15% is particularly preferable.

次いで、図6の概略断面図に示すように、エッチング後に残存するレジストパターン(すなわちエッチングマスク)52を除去する。レジストパターン52の除去は、レジストパターン52上に剥離液又は溶剤を付与して、レジストパターン52を除去可能な状態にする工程と、レジストパターン52を洗浄水を用いて除去する工程とを含むことが好ましい。   Next, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 6, the resist pattern (that is, etching mask) 52 remaining after the etching is removed. The removal of the resist pattern 52 includes a step of applying a stripping solution or a solvent to the resist pattern 52 so that the resist pattern 52 can be removed, and a step of removing the resist pattern 52 using cleaning water. Is preferred.

レジストパターン52上に剥離液又は溶剤を付与し、レジストパターン52を除去可能な状態にする工程としては、例えば、剥離液又は溶剤を少なくともレジストパターン52上に付与し、所定の時間停滞させてパドル現像する工程を挙げることができる。剥離液又は溶剤を停滞させる時間としては、特に制限はないが、数十秒から数分であることが好ましい。   As a process of applying a stripping solution or solvent on the resist pattern 52 to make the resist pattern 52 removable, for example, a stripping solution or solvent is applied on at least the resist pattern 52 and is stagnated for a predetermined time. A step of developing can be mentioned. Although there is no restriction | limiting in particular as time to make stripping solution or a solvent stagnant, It is preferable that it is several dozen seconds to several minutes.

また、レジストパターン52を洗浄水を用いて除去する工程としては、例えば、スプレー式又はシャワー式の噴射ノズルからレジストパターン52に洗浄水を噴射して、レジストパターン52を除去する工程を挙げることができる。洗浄水としては、純水を好ましく用いることができる。また、噴射ノズルとしては、その噴射範囲内に支持体全体が包含される噴射ノズルや、可動式の噴射ノズルであってその可動範囲が支持体全体を包含する噴射ノズルを挙げることができる。噴射ノズルが可動式の場合、レジストパターン52を除去する工程中に支持体中心部から支持体端部までを2回以上移動して洗浄水を噴射することで、より効果的にレジストパターン52を除去することができる。   Examples of the step of removing the resist pattern 52 using cleaning water include a step of removing the resist pattern 52 by spraying cleaning water onto the resist pattern 52 from a spray type or shower type spray nozzle. it can. As the washing water, pure water can be preferably used. Further, examples of the injection nozzle include an injection nozzle in which the entire support is included in the injection range, and an injection nozzle that is a movable injection nozzle and in which the movable range includes the entire support. When the spray nozzle is movable, the resist pattern 52 is more effectively moved by spraying the cleaning water by moving from the support center to the support end twice or more during the step of removing the resist pattern 52. Can be removed.

剥離液は、一般には有機溶剤を含有するが、無機溶剤を更に含有してもよい。有機溶剤としては、例えば、1)炭化水素系化合物、2)ハロゲン化炭化水素系化合物、3)アルコール系化合物、4)エーテル又はアセタール系化合物、5)ケトン又はアルデヒド系化合物、6)エステル系化合物、7)多価アルコール系化合物、8)カルボン酸又はその酸無水物系化合物、9)フェノール系化合物、10)含窒素化合物、11)含硫黄化合物、12)含フッ素化合物が挙げられる。剥離液としては、含窒素化合物を含有することが好ましく、非環状含窒素化合物と環状含窒素化合物とを含むことがより好ましい。   The stripping solution generally contains an organic solvent, but may further contain an inorganic solvent. Examples of organic solvents include 1) hydrocarbon compounds, 2) halogenated hydrocarbon compounds, 3) alcohol compounds, 4) ether or acetal compounds, 5) ketones or aldehyde compounds, and 6) ester compounds. 7) polyhydric alcohol compounds, 8) carboxylic acids or acid anhydride compounds thereof, 9) phenol compounds, 10) nitrogen compounds, 11) sulfur compounds, and 12) fluorine compounds. The stripping solution preferably contains a nitrogen-containing compound, and more preferably contains an acyclic nitrogen-containing compound and a cyclic nitrogen-containing compound.

非環状含窒素化合物としては、水酸基を有する非環状含窒素化合物であることが好ましい。具体的には、例えば、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、N−エチルエタノールアミン、N,N−ジブチルエタノールアミン、N−ブチルエタノールアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどが挙げられ、好ましくはモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンであり、より好ましくはモノエタノールアミン(H2NCH2CH2OH)である。また、環状含窒素化合物としては、イソキノリン、イミダゾール、N−エチルモルホリン、ε−カプロラクタム、キノリン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、α−ピコリン、β−ピコリン、γ−ピコリン、2−ピペコリン、3−ピペコリン、4−ピペコリン、ピペラジン、ピペリジン、ピラジン、ピリジン、ピロリジン、N−メチル−2−ピロリドン、N−フェニルモルホリン、2,4−ルチジン、2,6−ルチジンなどが挙げられ、好ましくは、N−メチル−2−ピロリドン、N−エチルモルホリンであり、より好ましくはN−メチル−2−ピロリドン(NMP)である。 The acyclic nitrogen-containing compound is preferably an acyclic nitrogen-containing compound having a hydroxyl group. Specifically, for example, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, triisopropanolamine, N-ethylethanolamine, N, N-dibutylethanolamine, N-butylethanolamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, etc. Preferably, they are monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine, and more preferably monoethanolamine (H 2 NCH 2 CH 2 OH). Examples of the cyclic nitrogen-containing compound include isoquinoline, imidazole, N-ethylmorpholine, ε-caprolactam, quinoline, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, α-picoline, β-picoline, γ-picoline, 2- Preferred examples include pipecoline, 3-pipecoline, 4-pipecoline, piperazine, piperidine, pyrazine, pyridine, pyrrolidine, N-methyl-2-pyrrolidone, N-phenylmorpholine, 2,4-lutidine, 2,6-lutidine and the like. Are N-methyl-2-pyrrolidone and N-ethylmorpholine, more preferably N-methyl-2-pyrrolidone (NMP).

剥離液は、非環状含窒素化合物と環状含窒素化合物とを含むことが好ましいが、中でも、非環状含窒素化合物として、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、及びトリエタノールアミンから選ばれる少なくとも1種と、環状含窒素化合物として、N−メチル−2−ピロリドン及びN−エチルモルホリンから選ばれる少なくとも1種とを含むことがより好ましく、モノエタノールアミンとN−メチル−2−ピロリドンとを含むことが更に好ましい。   The stripping solution preferably contains an acyclic nitrogen-containing compound and a cyclic nitrogen-containing compound. Among these, as the acyclic nitrogen-containing compound, at least one selected from monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine, and cyclic The nitrogen-containing compound preferably contains at least one selected from N-methyl-2-pyrrolidone and N-ethylmorpholine, and more preferably contains monoethanolamine and N-methyl-2-pyrrolidone.

剥離液で除去するときには、第1着色パターン12の上に形成されたレジストパターン52が除去されていればよく、第1着色パターン12の側壁にエッチング生成物であるデポ物が付着している場合でも、該デポ物が完全に除去されていなくてもよい。デポ物とは、エッチング生成物が着色層の側壁に付着し堆積したものをいう。   When removing with the stripping solution, it is sufficient that the resist pattern 52 formed on the first colored pattern 12 is removed, and a deposit as an etching product adheres to the side wall of the first colored pattern 12 However, the deposit may not be completely removed. A deposit means an etching product deposited and deposited on the side wall of a colored layer.

剥離液としては、非環状含窒素化合物の含有量が、剥離液100質量部に対して9質量部以上11質量部以下であって、環状含窒素化合物の含有量が、剥離液100質量部に対して65質量部以上70質量部以下であるものが望ましい。また、剥離液は、非環状含窒素化合物と環状含窒素化合物との混合物を純水で希釈したものが好ましい。   As the stripping solution, the content of the non-cyclic nitrogen-containing compound is 9 parts by weight or more and 11 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the stripping solution, and the content of the cyclic nitrogen-containing compound is 100 parts by weight of the stripping solution. On the other hand, what is 65 to 70 mass parts is desirable. Further, the stripping solution is preferably obtained by diluting a mixture of an acyclic nitrogen-containing compound and a cyclic nitrogen-containing compound with pure water.

次いで、図7の概略断面図に示すように、第1貫通孔部分群121及び第2貫通孔部分群122における各貫通孔の内部に第2着色感放射線性組成物を埋設させて、複数の第2着色画素が形成されるように、第1着色層(すなわち、第1着色層11に貫通孔群120が形成されてなる第1着色パターン12)上に第2着色感放射線性組成物により第2着色感放射線性層21を積層する(工程(ウ))。これにより、第1着色層11の貫通孔群120の中に、複数の第2着色画素を有する第2着色パターン22が形成される。ここで、第2着色画素は四角形状の画素となっている。第2着色感放射線性層21の形成は、既述の第1着色層11を形成する方法と同様にして行なえる。
ここでの第2着色感放射線性層21の厚みとしては、0.3〜1μmの範囲が好ましく、0.35〜0.8の範囲がより好ましく、0.35〜0.7μmの範囲がより好ましい。
Next, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 7, the second colored radiation-sensitive composition is embedded in each through-hole in the first through-hole portion group 121 and the second through-hole portion group 122 to obtain a plurality of The second colored radiation-sensitive composition is formed on the first colored layer (that is, the first colored pattern 12 in which the through-hole group 120 is formed in the first colored layer 11) so that the second colored pixel is formed. The second colored radiation-sensitive layer 21 is laminated (step (c)). Thereby, the 2nd coloring pattern 22 which has a some 2nd coloring pixel in the through-hole group 120 of the 1st coloring layer 11 is formed. Here, the second colored pixel is a square pixel. The second colored radiation sensitive layer 21 can be formed in the same manner as the method for forming the first colored layer 11 described above.
As thickness of the 2nd coloring radiation sensitive layer 21 here, the range of 0.3-1 micrometer is preferable, The range of 0.35-0.8 is more preferable, The range of 0.35-0.7 micrometer is more preferable.

そして、第2着色感放射線性層21の、第1着色層11に設けられた第1貫通孔部分群121に対応する位置21Aを露光し、現像することによって、第2着色感放射線性層21と、第2貫通孔部分群122の各貫通孔の内部に設けられた複数の第2着色画素22Rとを除去する(工程(エ))(図8の概略断面図を参照)。   Then, the second colored radiation-sensitive layer 21 is exposed and developed at a position 21A corresponding to the first through-hole portion group 121 provided in the first colored layer 11 of the second colored radiation-sensitive layer 21. Then, the plurality of second colored pixels 22R provided inside each through hole of the second through hole portion group 122 are removed (step (D)) (see the schematic sectional view of FIG. 8).

次いで、図9の概略断面図に示すように、第2貫通孔部分群122における各貫通孔の内部に第3着色感放射線性組成物を埋設させて、複数の第3着色画素が形成されるように、第1着色層(すなわち、第1貫通孔部分群121の中に第2着色パターン22が形成されてなる第1着色パターン12)上に第3着色感放射線性組成物により第3着色感放射線性層31を形成する(工程(オ))。これにより、第1着色層11の第2貫通孔部分群122の中に、複数の第3着色画素を有する第3着色パターン32が形成される。ここで、第3着色画素は四角形状の画素となっている。第3着色感放射線性層31の形成は、既述の第1着色層11を形成する方法と同様にして行なえる。
ここでの第3着色感放射線性層31の厚みとしては、0.3〜1μmの範囲が好ましく、0.35〜0.8の範囲がより好ましく、0.35〜0.7μmの範囲がより好ましい。
Next, as shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 9, a third colored radiation-sensitive composition is embedded in each through hole in the second through hole portion group 122 to form a plurality of third colored pixels. As described above, the third coloring radiation sensitive composition is used for the third coloring on the first coloring layer (that is, the first coloring pattern 12 in which the second coloring pattern 22 is formed in the first through-hole portion group 121). The radiation sensitive layer 31 is formed (process (e)). Thereby, the third colored pattern 32 having a plurality of third colored pixels is formed in the second through-hole portion group 122 of the first colored layer 11. Here, the third colored pixel is a square pixel. The third colored radiation-sensitive layer 31 can be formed in the same manner as the method for forming the first colored layer 11 described above.
As thickness of the 3rd coloring radiation sensitive layer 31 here, the range of 0.3-1 micrometer is preferable, The range of 0.35-0.8 is more preferable, The range of 0.35-0.7 micrometer is more preferable.

そして、第3着色感放射線性層31の、第1着色層11に設けられた第2貫通孔部分群122に対応する位置31Aを露光し、現像することによって、第3着色感放射線性層31を除去することで、図10の概略断面図に示すように、第1着色パターン12と、第2着色パターン22と、第3着色パターン32とを有するカラーフィルタ100が製造される(工程(カ))。   Then, the third colored radiation-sensitive layer 31 is exposed and developed at a position 31A corresponding to the second through-hole portion group 122 provided in the first colored layer 11 of the third colored radiation-sensitive layer 31. As shown in the schematic sectional view of FIG. 10, the color filter 100 having the first colored pattern 12, the second colored pattern 22, and the third colored pattern 32 is manufactured. )).

上述した第2着色感放射線性組成物、及び、第3着色感放射線性組成物は、それぞれ、着色剤を含有する。着色剤は、本発明の着色硬化性組成物において上述したものを同様に挙げることができるが、第2着色画素及び第3着色画素の一方が赤色透過部であり、他方が青色透過部であることが好ましい形態であるため、はそれぞれ赤色透過部または青色透過部であることが好ましい。赤色透過部を形成するための着色硬化性組成物に含有される着色剤は、C.I.Pigment Orange 2,5,13,16,17:1,31,34,36,38,43,46,48,49,51,52,55,59,60,61,62,64,71,73、及び、C.I.Pigment Red 1,2,3,4,5,6,7,9,10,14,17,22,23,31,38,41,48:1,48:2,48:3,48:4,49,49:1,49:2,52:1,52:2,53:1,57:1,60:1,63:1,66,67,81:1,81:2,81:3,83,88,90,105,112,119,122,123,144,146,149,150,155,166,168,169,170,171,172,175,176,177,178,179,184,185,187,188,190,200,202,206,207,208,209,210,216,220,224,226,242,246,254,255,264,270,272,279から選択される1種以上であることが好ましく、青色透過部を形成するための着色硬化性組成物に含有される着色剤は、C.I.Pigment Violet 1,19,23,27,32,37,42、及び、C.I.Pigment Blue 1,2,15,15:1,15:2,15:3,15:4,15:6,16,22,60,64,66,79,80から選択される1種以上であることが好ましい。   The second colored radiation-sensitive composition and the third colored radiation-sensitive composition described above each contain a colorant. Examples of the colorant include those described above in the colored curable composition of the present invention, but one of the second colored pixel and the third colored pixel is a red transmissive portion, and the other is a blue transmissive portion. Are preferably a red transmissive part or a blue transmissive part, respectively. The colorant contained in the colored curable composition for forming the red transmission part is C.I. I. Pigment Orange 2, 5, 13, 16, 17: 1, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 71, 73, And C.I. I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4 49, 49: 1, 49: 2, 52: 1, 52: 2, 53: 1, 57: 1, 60: 1, 63: 1, 66, 67, 81: 1, 81: 2, 81: 3 83, 88, 90, 105, 112, 119, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 155, 166, 168, 169, 170, 171, 172, 175, 176, 177, 178, 179, 184 185, 187, 188, 190, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 216, 220, 224, 226, 242, 246, 254, 255, 264, 270, 272, 279 Species Preferably, the colorant contained in the colored curable composition for forming the blue transmission part is C.I. I. Pigment Violet 1, 19, 23, 27, 32, 37, 42, and C.I. I. Pigment Blue 1, 2, 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 22, 60, 64, 66, 79, 80 It is preferable.

第2着色感放射線性組成物、及び、第3着色感放射線性組成物の各々において、着色剤の組成物の全固形分に対する含有量は、30質量%以上であることが好ましく、35質量%以上であることがより好ましく、40質量%以上であることが更に好ましい。また、着色剤の組成物の全固形分に対する含有量は、通常、90質量%以下であり、80質量%以下であることが好ましい。   In each of the second colored radiation-sensitive composition and the third colored radiation-sensitive composition, the content of the colorant composition with respect to the total solid content is preferably 30% by mass or more, and 35% by mass. More preferably, it is more preferably 40% by mass or more. Moreover, content with respect to the total solid of the composition of a coloring agent is 90 mass% or less normally, and it is preferable that it is 80 mass% or less.

また、第2着色感放射線性組成物、及び、第3着色感放射線性組成物は、それぞれ、ネガ型の感放射線性組成物が用いられることが好ましい。このネガ型の感放射線性組成物としては、紫外線(g線、h線、i線)、エキシマー・レーザー等を含む遠紫外線、電子線、イオンビームおよびX線等の放射線に感応するネガ型感放射線性組成物が使用できる。放射線のうち、g線、h線、i線が好ましく、中でもi線が好ましい。   Moreover, it is preferable that a negative radiation sensitive composition is respectively used for the 2nd colored radiation sensitive composition and the 3rd colored radiation sensitive composition. As this negative type radiation sensitive composition, there is a negative type feeling sensitive to radiation such as ultraviolet rays (g rays, h rays, i rays), deep ultraviolet rays including excimer lasers, electron beams, ion beams and X rays. A radiation composition can be used. Of the radiation, g-line, h-line and i-line are preferable, and i-line is particularly preferable.

具体的には、ネガ型の感放射線性組成物として、光重合開始剤、重合成分(重合性化合物)、及び、バインダー樹脂(アルカリ可溶性樹脂等)などを含有する組成物が好ましく、例えば、特開2005−326453号公報の段落番号[0017]〜[0064]に記載のものを挙げることができる。このようなネガ型の感放射線性組成物は、放射線の照射により、光重合開始剤が、重合性化合物の重合反応を開始させ、結果として、アルカリ可溶状態から、アルカリ不溶性になることを利用するものである。   Specifically, the negative radiation-sensitive composition is preferably a composition containing a photopolymerization initiator, a polymerization component (polymerizable compound), a binder resin (alkali-soluble resin, etc.) and the like. Examples described in Paragraph Nos. [0017] to [0064] of Kaikai 2005-326453. Such a negative radiation sensitive composition utilizes the fact that the photopolymerization initiator initiates the polymerization reaction of the polymerizable compound upon irradiation with radiation, and as a result, the alkali soluble state becomes alkali insoluble. To do.

第2着色感放射線性層21及び第3着色感放射線性層31に対する露光は、g線、h線、i線等、好ましくはi線で露光を施すことにより行なうことができる。
また、露光後に実施される現像は、通常、現像液で現像処理することにより行われる。
現像液としては、フォトレジスト層51に対する露光、現像において既述した現像液と同様のものを挙げることができる。
また、アルカリ性水溶液を現像液として用いた場合は、一般に現像後に水で洗浄処理が施される。
Exposure to the second colored radiation-sensitive layer 21 and the third colored radiation-sensitive layer 31 can be performed by exposing with g-line, h-line, i-line, etc., preferably i-line.
The development performed after exposure is usually performed by developing with a developer.
Examples of the developer include the same developers as those already described in the exposure and development of the photoresist layer 51.
When an alkaline aqueous solution is used as a developer, a washing treatment with water is generally performed after development.

第1着色画素、第2着色画素及び第3着色画素における一辺の長さ(画素が長方形である場合は短辺の長さであり、画素が正方形である場合は一辺の長さを指す)は、画像解像度の観点から、0.5〜1.7μmが好ましく、0.6〜1.5μmがより好ましい。   The length of one side of the first colored pixel, the second colored pixel, and the third colored pixel (the length of the short side when the pixel is a rectangle, and the length of one side when the pixel is a square) is From the viewpoint of image resolution, 0.5 to 1.7 μm is preferable, and 0.6 to 1.5 μm is more preferable.

以上に説明した本発明のカラーフィルタの製造方法によれば、第1着色層、ひいては、第1着色画素が、本発明の着色剤の濃度が高い着色硬化性組成物により形成されるため、第1着色画素の厚みを極めて薄くできる(例えば、0.7μm以下)。これにより、クロストーク(光の混色)が抑制されたカラーフィルタを製造し得るカラーフィルタの製造方法とすることができる。
また、本発明の着色硬化性組成物により形成された第1着色画素は、上述したように、耐溶剤性及び耐アルカリ現像液性が優れたものとなる。これにより、他の着色層及び他の着色パターンにおける色と重なり合うオーバーラップ領域の発生を低減でき、その結果、高性能のカラーフィルタを製造できる。
According to the method for producing a color filter of the present invention described above, the first colored layer, and thus the first colored pixel, is formed of the colored curable composition having a high concentration of the colorant of the present invention. The thickness of one colored pixel can be extremely reduced (for example, 0.7 μm or less). Thereby, it can be set as the manufacturing method of the color filter which can manufacture the color filter by which crosstalk (color mixture of light) was suppressed.
Moreover, as described above, the first colored pixel formed by the colored curable composition of the present invention has excellent solvent resistance and alkali developer resistance. Thereby, generation | occurrence | production of the overlap area | region which overlaps with the color in another coloring layer and another coloring pattern can be reduced, As a result, a high performance color filter can be manufactured.

本発明の着色硬化性組成物から得られるカラーフィルタは、液晶表示装置(LCD)や固体撮像素子(例えば、CCD、CMOS等)用として好適に用いることができる。また電子ペーパーや有機EL等の画像表示デバイスにも好適に用いることができる。特に、本発明のカラーフィルタは、CCD、及びCMOS等の固体撮像素子用として好適に用いることができる。   The color filter obtained from the colored curable composition of the present invention can be suitably used for a liquid crystal display (LCD) or a solid-state imaging device (for example, CCD, CMOS, etc.). Moreover, it can use suitably also for image display devices, such as electronic paper and organic EL. In particular, the color filter of the present invention can be suitably used for a solid-state imaging device such as a CCD and a CMOS.

また、本発明のカラーフィルタは、液晶表示装置用のカラーフィルタとしても好適である。このようなカラーフィルタを備えた液晶表示装置は、表示画像の色合いが良好で表示特性に優れた高画質画像を表示することができる。   The color filter of the present invention is also suitable as a color filter for a liquid crystal display device. A liquid crystal display device provided with such a color filter can display a high-quality image having a good display image color tone and excellent display characteristics.

表示装置の定義や各表示装置の詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス(佐々木 昭夫著、(株)工業調査会 1990年発行)」、「ディスプレイデバイス(伊吹 順章著、産業図書(株)平成元年発行)」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術(内田 龍男編集、(株)工業調査会 1994年発行)」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。   For the definition of display devices and details of each display device, refer to, for example, “Electronic Display Devices (Akio Sasaki, published by Industrial Research Institute 1990)”, “Display Devices (Junaki Ibuki, Industrial Books Co., Ltd.) Issued in the first year). The liquid crystal display device is described in, for example, “Next-generation liquid crystal display technology (edited by Tatsuo Uchida, published by Kogyo Kenkyukai 1994)”. The liquid crystal display device to which the present invention can be applied is not particularly limited, and can be applied to, for example, various types of liquid crystal display devices described in the “next generation liquid crystal display technology”.

本発明のカラーフィルタは、カラーTFT方式の液晶表示装置に対して有用である。カラーTFT方式の液晶表示装置については、例えば「カラーTFT液晶ディスプレイ(共立出版(株)1996年発行)」に記載されている。更に、本発明はIPSなどの横電界駆動方式、MVAなどの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置や、STN、TN、VA、OCS、FFS、及びR−OCB等にも適用できる。
また、本発明のカラーフィルタは、明るく高精細なCOA(Color−filter On Array)方式にも供することが可能である。
COA方式により形成される着色層には、着色層上に配置されるITO電極と着色層の下方の駆動用基板の端子とを導通させるために、一辺の長さが1〜15μm程度の矩形のスルーホールあるいはコの字型の窪み等の導通路を形成する必要であり、導通路の寸法(即ち、一辺の長さ)を特に5μm以下にすることが好ましいが、本発明を用いることにより、5μm以下の導通路を形成することも可能である。これらの画像表示方式については、例えば、「EL、PDP、LCDディスプレイ−技術と市場の最新動向−(東レリサーチセンター調査研究部門 2001年発行)」の43ページなどに記載されている。
The color filter of the present invention is useful for a color TFT type liquid crystal display device. The color TFT liquid crystal display device is described in, for example, “Color TFT liquid crystal display (issued in 1996 by Kyoritsu Publishing Co., Ltd.)”. Furthermore, the present invention is applied to a liquid crystal display device with a wide viewing angle such as a lateral electric field driving method such as IPS, a pixel division method such as MVA, STN, TN, VA, OCS, FFS, and R-OCB. it can.
The color filter of the present invention can also be used for a bright and fine COA (Color-filter On Array) system.
The colored layer formed by the COA method has a rectangular shape with a side length of about 1 to 15 μm in order to connect the ITO electrode arranged on the colored layer and the terminal of the driving substrate below the colored layer. It is necessary to form a conduction path such as a through hole or a U-shaped depression, and the dimension of the conduction path (that is, the length of one side) is particularly preferably 5 μm or less, but by using the present invention, It is also possible to form a conduction path of 5 μm or less. These image display methods are described, for example, on page 43 of "EL, PDP, LCD display-Technology and latest trends in the market (issued by Toray Research Center Research Division 2001)".

本発明の液晶表示装置は、本発明のカラーフィルタ以外に、電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサ、視野角保障フィルムなど様々な部材から構成される。本発明のカラーフィルタは、これらの公知の部材で構成される液晶表示素子に適用することができる。これらの部材については、例えば、「'94液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場(島 健太郎 (株)シーエムシー 1994年発行)」、「2003液晶関連市場の現状と将来展望(下巻)(表 良吉(株)富士キメラ総研、2003年発行)」に記載されている。
バックライトに関しては、SID meeting Digest 1380(2005)(A.Konno et.al)や、月刊ディスプレイ 2005年12月号の18〜24ページ(島 康裕)、同25〜30ページ(八木隆明)などに記載されている。
The liquid crystal display device of the present invention includes various members such as an electrode substrate, a polarizing film, a retardation film, a backlight, a spacer, and a viewing angle guarantee film in addition to the color filter of the present invention. The color filter of the present invention can be applied to a liquid crystal display element composed of these known members. Regarding these materials, for example, “'94 Liquid Crystal Display Peripheral Materials / Chemicals Market (Kentaro Shima, CMC 1994)”, “2003 Liquid Crystal Related Markets Current Status and Future Prospects (Volume 2)” Fuji Chimera Research Institute, Ltd., published in 2003) ”.
Regarding the backlight, SID meeting Digest 1380 (2005) (A. Konno et.al), Monthly Display December 2005, pages 18-24 (Yasuhiro Shima), pages 25-30 (Takaaki Yagi), etc. Have been described.

本発明のカラーフィルタを液晶表示装置に用いると、従来公知の冷陰極管の三波長管と組み合わせたときに高いコントラストを実現できるが、更に、赤、緑、青のLED光源(RGB−LED)をバックライトとすることによって輝度が高く、また、色純度の高い色再現性の良好な液晶表示装置を提供することができる。   When the color filter of the present invention is used in a liquid crystal display device, a high contrast can be realized when combined with a conventionally known three-wavelength tube of a cold-cathode tube. By using as a backlight, a liquid crystal display device having high luminance and high color purity and good color reproducibility can be provided.

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「%」は、質量基準である。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist thereof. Unless otherwise specified, “part” and “%” are based on mass.

<合成例1−ハロゲン化フタロシアニン染料Aの合成>
(中間体Aの合成)
フラスコにテトラクロロフタロニトリル(15.0g、56.4mmol)とHO−C64−COOC24OCH3(12.65g、56.4mmol)、アセトニロリル75.0gを投入し、マグネチックスターラーを用いて、内温が40℃に安定するまで30分間攪拌した後、炭酸カリウム(8.58g、62.1mmol)を投入して約3時間反応させた。冷却後、吸引ろ過して得た溶液を40℃、1時間で減圧濃縮し、溶剤を溜去した。さらに、110℃で一晩真空乾燥し、約23.0g(89.9%)の中間体Aが得られた。
Synthesis Example 1 Synthesis of Halogenated Phthalocyanine Dye A
(Synthesis of Intermediate A)
A flask was charged with tetrachlorophthalonitrile (15.0 g, 56.4 mmol), HO—C 6 H 4 —COOC 2 H 4 OCH 3 (12.65 g, 56.4 mmol), and 75.0 g of acetonitrile, and a magnetic stirrer. After stirring for 30 minutes until the internal temperature was stabilized at 40 ° C., potassium carbonate (8.58 g, 62.1 mmol) was added and allowed to react for about 3 hours. After cooling, the solution obtained by suction filtration was concentrated under reduced pressure at 40 ° C. for 1 hour, and the solvent was distilled off. Furthermore, it vacuum-dried at 110 degreeC overnight, and about 23.0 g (89.9%) of intermediate body A was obtained.

(ハロゲン化フタロシアニン染料Aの合成)
フラスコに中間体A(2.13g、4.7mmol)、ベンゾニトリル2.35mLを投入し、窒素気流下(10mL/min)、マグネチックスターラーを用いて内温150℃に安定するまで約1時間攪拌した後、ヨウ化亜鉛0.43g(1.3mmol)を投入して、約35時間反応させた。冷却後メタノール30mLを加え、マグネチックスターラーを用いて室温にて攪拌することで晶析溶液とした。晶析溶液をデカンテーションし、残った残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム/メタノール)にて精製した。得られた精製物にメタノール20mLを加え、マグネチックスターラーを用いて60℃で1時間加熱攪拌した。冷却後、吸引ろ過し、得られた結晶にメタノール20mLを加え、マグネチックスターラーを用いて60℃で1時間加熱攪拌した。冷却後、吸引ろ過し、得られた結晶を40℃で一晩送風乾燥し、約1.95g(88.2%)得られた。
(Synthesis of halogenated phthalocyanine dye A)
Intermediate A (2.13 g, 4.7 mmol) and 2.35 mL of benzonitrile were added to the flask, and about 1 hour until the internal temperature was stabilized at 150 ° C. using a magnetic stirrer under a nitrogen stream (10 mL / min). After stirring, 0.43 g (1.3 mmol) of zinc iodide was added and allowed to react for about 35 hours. 30 mL of methanol was added after cooling, and it was set as the crystallization solution by stirring at room temperature using a magnetic stirrer. The crystallization solution was decanted and the remaining residue was purified by silica gel column chromatography (chloroform / methanol). 20 mL of methanol was added to the obtained purified product, and the mixture was heated and stirred at 60 ° C. for 1 hour using a magnetic stirrer. After cooling, suction filtration was performed, 20 mL of methanol was added to the obtained crystals, and the mixture was heated and stirred at 60 ° C. for 1 hour using a magnetic stirrer. After cooling, suction filtration was performed, and the obtained crystal was blown and dried overnight at 40 ° C. to obtain about 1.95 g (88.2%).

<合成例2−他のフタロシアニン染料の合成>
上記合成例1に従って、他のフタロシアニン染料を合成した。
<Synthesis Example 2-Synthesis of other phthalocyanine dyes>
According to Synthesis Example 1, another phthalocyanine dye was synthesized.

<顔料分散液の調製>
下記化合物を配合した混合液を、0.3mm径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル(減圧機構付き高圧分散機NANO−3000−10(日本ビーイーイー(株)製))で、3時間、混合、分散して、顔料分散液を調製した。顔料の種類は下記表1に記載のものとし、また、各成分の配合量は、最終的に得られる着色硬化性組成物中の組成比が下記表に記載の割合となるように配合した。
・顔料(下記表に示す顔料)
・誘導体A
・分散剤A
・溶剤:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)
<Preparation of pigment dispersion>
The mixed solution containing the following compound was mixed for 3 hours with a bead mill (high-pressure disperser NANO-3000-10 (manufactured by Nippon BEE Co., Ltd.) with a decompression mechanism) using zirconia beads having a diameter of 0.3 mm. Dispersed to prepare a pigment dispersion. The types of pigments were as described in Table 1 below, and the amounts of each component were blended so that the composition ratio in the finally obtained colored curable composition would be the ratio described in the following table.
・ Pigments (Pigments shown in the table below)
Derivative A
・ Dispersant A
・ Solvent: Propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA)

<着色硬化性組成物の調製>
下記表に記載の組成となるように各成分を混合し、撹拌して着色硬化性組成物を調製した。
・フタロシアニン化合物(下記表に示す化合物)
・顔料分散液(上記で調整したもの)
・熱硬化性化合物(下記表に示す化合物)
・界面活性剤(下記表に示す化合物)
・溶剤(下記表に示す溶剤) 最終固形分濃度が15質量%となる量
<Preparation of colored curable composition>
Each component was mixed so that it might become a composition of the following table | surface, and it stirred and prepared the colored curable composition.
・ Phthalocyanine compounds (compounds shown in the table below)
・ Pigment dispersion (adjusted above)
・ Thermosetting compounds (compounds shown in the table below)
・ Surfactant (compound shown in the table below)
・ Solvent (solvent shown in the table below)

上記表において、フタロシアニン化合物、他の着色剤、誘導体、分散剤、熱硬化性化合物および界面活性剤の欄内の( )は着色硬化性組成物の全固形分に対する割合を示している。   In the said table | surface, () in the column of a phthalocyanine compound, another coloring agent, a derivative | guide_body, a dispersing agent, a thermosetting compound, and surfactant has shown the ratio with respect to the total solid of a colored curable composition.

<フタロシアニン化合物>
ハロゲン化フタロシアニン染料A:
<Phthalocyanine compound>
Halogenated phthalocyanine dye A:

ハロゲン化フタロシアニン染料B:
Halogenated phthalocyanine dye B:

ハロゲン化フタロシアニン染料C:
Halogenated phthalocyanine dye C:

ハロゲン化フタロシアニン染料D:
Halogenated phthalocyanine dye D:

ハロゲン化フタロシアニン染料E:
Halogenated phthalocyanine dye E:

ハロゲン化フタロシアニン染料F:
Halogenated phthalocyanine dye F:

ハロゲン化フタロシアニン染料G:
Halogenated phthalocyanine dye G:

ハロゲン化フタロシアニン多量体H(ハロゲン化フタロシアニン染料Eの多量体)
ハロゲン化フタロシアニン多量体Hは、下記化合物Dに由来する繰り返し単位とメタクリル酸に由来する繰り返し単位からなる重合体に、メタクリル酸グリシジルを付加して重合性二重結合基を付与したポリマーである。
以下のスキームで合成を行った。
Halogenated phthalocyanine multimer H (multimer of halogenated phthalocyanine dye E)
The halogenated phthalocyanine multimer H is a polymer in which glycidyl methacrylate is added to a polymer composed of a repeating unit derived from the following compound D and a repeating unit derived from methacrylic acid to give a polymerizable double bond group.
The synthesis was performed according to the following scheme.

(化合物Aの合成)
フラスコにテトラクロロフタロニトリル(15.0g、56.4mmol)と上記化合物1(12.65g、56.4mmol)、アセトニロリル75.0gを投入し、内温が40℃に安定するまで30分間攪拌した後、炭酸カリウム(8.58g、62.1mmol)を投入して約3時間反応させた。冷却後、吸引ろ過して得た溶液を40℃1時間で減圧濃縮し、溶媒を溜去した。さらに、110℃で一晩真空乾燥し、化合物Aが約23.0gが得られた。
(Synthesis of Compound A)
Tetrachlorophthalonitrile (15.0 g, 56.4 mmol), the above compound 1 (12.65 g, 56.4 mmol), and 75.0 g of acetonitrile were put into the flask and stirred for 30 minutes until the internal temperature was stabilized at 40 ° C. Then, potassium carbonate (8.58 g, 62.1 mmol) was added and allowed to react for about 3 hours. After cooling, the solution obtained by suction filtration was concentrated under reduced pressure at 40 ° C. for 1 hour, and the solvent was distilled off. Furthermore, it vacuum-dried at 110 degreeC overnight, and about 23.0g of compound A was obtained.

(化合物Bの合成)
フラスコに化合物A(2.13g、4.7mmol)、ベンゾニトリル2.35mLを投入し、窒素気流下(10mL/min)、内温150℃に安定するまで約1時間攪拌した後、ヨウ化亜鉛0.43g(1.3mmol)を投入して、約60時間反応させた。冷却後メタノール30mLを加え、室温にて攪拌することで晶析溶液とした。晶析溶液をデカンテーションし、残った残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム/メタノール)にて精製した。得られた精製物にメタノール20mLを加え、60℃で1時間加熱攪拌した。冷却後、吸引ろ過し、得られた結晶にメタノール20mLを加え、60℃で1時間加熱攪拌した。冷却後、吸引ろ過し、得られた固体を40℃で一晩送風乾燥し、化合物Bが約1.95g得られた。
(Synthesis of Compound B)
The flask was charged with compound A (2.13 g, 4.7 mmol) and 2.35 mL of benzonitrile and stirred under a nitrogen stream (10 mL / min) for about 1 hour until the internal temperature was stabilized at 150 ° C. 0.43 g (1.3 mmol) was added and reacted for about 60 hours. After cooling, 30 mL of methanol was added and stirred at room temperature to obtain a crystallization solution. The crystallization solution was decanted and the remaining residue was purified by silica gel column chromatography (chloroform / methanol). 20 mL of methanol was added to the obtained purified product, and the mixture was heated and stirred at 60 ° C. for 1 hour. After cooling, suction filtration was performed, 20 mL of methanol was added to the obtained crystals, and the mixture was heated and stirred at 60 ° C. for 1 hour. After cooling, suction filtration was carried out, and the obtained solid was blown and dried overnight at 40 ° C. to obtain about 1.95 g of Compound B.

(化合物Cの合成)
フラスコに化合物B(1.75g、1.06mmol)、DMF20mL、1M水酸化ナトリウム水溶液1.06mLを投入し、内温60℃で約6時間攪拌した。冷却後、1M塩酸10mLを加えた。この溶液にメタノール50mLを加え、吸引ろ過し、得られた固体を40℃で一晩送風乾燥し、化合物Cが約1.48g得られた。
(Synthesis of Compound C)
Compound B (1.75 g, 1.06 mmol), DMF 20 mL, and 1 M aqueous sodium hydroxide solution 1.06 mL were added to the flask and stirred at an internal temperature of 60 ° C. for about 6 hours. After cooling, 10 mL of 1M hydrochloric acid was added. 50 mL of methanol was added to this solution and suction filtered, and the resulting solid was blown and dried overnight at 40 ° C. to obtain about 1.48 g of Compound C.

(例示化合物G−1(化合物D)の合成)
フラスコに化合物C(1.5g)、グリシジルメタクリレート0.18g、テトラブチルアンモニウムブロミド0.23g、p-メトキシフェノール0.02g、プロピレングリコールモノメチルエーテル9.0mLを投入し、100℃で約8時間攪拌した。この反応液にメタノール45mLを加え、吸引ろ過し、得られた結晶を40℃で一晩送風乾燥し、化合物Dが約1.21g得られた。
(Synthesis of Exemplified Compound G-1 (Compound D))
Compound C (1.5 g), 0.18 g of glycidyl methacrylate, 0.23 g of tetrabutylammonium bromide, 0.02 g of p-methoxyphenol, and 9.0 mL of propylene glycol monomethyl ether were added to the flask and stirred at 100 ° C. for about 8 hours. did. To this reaction liquid, 45 mL of methanol was added and suction filtered, and the resulting crystal was blown and dried overnight at 40 ° C. to obtain about 1.21 g of Compound D.

三口フラスコに、化合物D(24.2g)、メタクリル酸(1.08g)、ドデシルメルカプタン(0.25g)、プロピレングリコール1−モノメチルエーテル2−アセテート(以下、「PGMEA」とも称する。)(23.3g)を添加し、窒素雰囲気下で80℃に加熱した。この溶液に、化合物D(24.2g)、メタクリル酸(1.08g)、ドデシルメルカプタン(0.25g)、2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル(0.58g)〔商品名:V601、和光純薬工業(株)製〕、PGMEA(23.3g)の混合溶液を2時間かけて滴下した。その後3時間攪拌した後、90℃に昇温し、2時間加熱攪拌した後、放冷して多量体中間物のPGMEA溶液を得た。次に、メタクリル酸グリシジル(1.42g)、テトラブチルアンモニウムブロミド(80mg)、p−メトキシフェノール(20mg)を添加し、空気雰囲気下で、100℃で15時間加熱し、メタクリル酸グリシジルが消失するのを確認した。冷却後、メタノール/イオン交換水=100mL/10mLの混合溶媒に滴下して再沈し、ハロゲン化フタロシアニン多量体Hを47.6g得た。
GPC測定により確認したハロゲン化フタロシアニン多量体Hの重量平均分子量(Mw)は6,500であり、重量平均分子量/数平均分子量(Mw/Mn)の比は1.9であった。
In a three-necked flask, compound D (24.2 g), methacrylic acid (1.08 g), dodecyl mercaptan (0.25 g), propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate (hereinafter also referred to as “PGMEA”) (23. 3 g) was added and heated to 80 ° C. under a nitrogen atmosphere. To this solution, compound D (24.2 g), methacrylic acid (1.08 g), dodecyl mercaptan (0.25 g), 2,2′-azobis (isobutyric acid) dimethyl (0.58 g) [trade name: V601, Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] and PGMEA (23.3 g) were added dropwise over 2 hours. Then, after stirring for 3 hours, the temperature was raised to 90 ° C., the mixture was heated and stirred for 2 hours, and then allowed to cool to obtain a PGMEA solution of a multimeric intermediate. Next, glycidyl methacrylate (1.42 g), tetrabutylammonium bromide (80 mg) and p-methoxyphenol (20 mg) are added and heated in an air atmosphere at 100 ° C. for 15 hours, and glycidyl methacrylate disappears. Confirmed. After cooling, it was added dropwise to a mixed solvent of methanol / ion-exchanged water = 100 mL / 10 mL and reprecipitated to obtain 47.6 g of halogenated phthalocyanine multimer H.
The weight average molecular weight (Mw) of the halogenated phthalocyanine multimer H confirmed by GPC measurement was 6,500, and the ratio of the weight average molecular weight / number average molecular weight (Mw / Mn) was 1.9.

非ハロゲン化フタロシアニン染料A:
ハロゲン化フタロシアニン顔料A:(P.G58)
Non-halogenated phthalocyanine dye A:
Halogenated phthalocyanine pigment A: (P.G58)

<他の着色剤>
メチン系色素(染料)A:(合成例は後述する。)
メチン系色素(染料)B:(OPLAS YELLOW 140、オリエント化学工業(株))
アゾ系色素(顔料)A:P.Y150
アゾ系色素(顔料)B:P.Y155
イソインドリン系色素(顔料)A:P.Y139
<Other colorants>
Methine pigment (dye) A: (Synthesis examples will be described later.)
Methine dye (dye) B: (OPLAS YELLOW 140, Orient Chemical Co., Ltd.)
Azo dye (pigment) A: P.I. Y150
Azo dye (pigment) B: P.I. Y155
Isoindoline dye (pigment) A: P.I. Y139

<誘導体>
誘導体A:
<Derivative>
Derivative A:

<分散剤>
分散剤A:(特開2007−277514号公報の段落番号0334を参照して合成した。)
上記において、aは、2.0、bは4.0、酸価10mgKOH/g、Mw20000である。
また、分散剤Aにおけるa及びbは、それぞれ、括弧内で表される部分構造の数を表し、a+b=6を満たす。
<Dispersant>
Dispersant A: (synthesized with reference to paragraph number 0334 of JP-A-2007-277514)
In the above, a is 2.0, b is 4.0, acid value is 10 mgKOH / g, and Mw20000.
Further, a and b in the dispersant A each represent the number of partial structures represented in parentheses and satisfy a + b = 6.

<熱硬化性化合物>
エポキシ化合物A:EHPE3150(ダイセル化学工業(株)製 分子量=2234)
エポキシ化合物B:(DIC(株)、EPICLON HP−4032 分子量=272)
エポキシ化合物C:(DIC(株)、EPICLON N−660 分子量=3400)
メラミン化合物A:ニカラック、三和ケミカル(株)製
メラミン化合物B:下記構造式で表される構造を含む化合物の80%溶液(シグマアルドリッチ社製)
<Thermosetting compound>
Epoxy compound A: EHPE3150 (Daicel Chemical Industries, Ltd. molecular weight = 2234)
Epoxy compound B: (DIC Corporation, EPICLON HP-4032 molecular weight = 272)
Epoxy compound C: (DIC Corporation, EPICLON N-660, molecular weight = 3400)
Melamine compound A: Nicalak, Sanwa Chemical Co., Ltd. melamine compound B: 80% solution of a compound containing a structure represented by the following structural formula (manufactured by Sigma-Aldrich)

<界面活性剤>
界面活性剤A:F−781(DIC(株)製 フッ素型界面活性剤)
<Surfactant>
Surfactant A: F-781 (Fluorine type surfactant manufactured by DIC Corporation)

<メチン系色素(染料)Aの合成>
メチン系色素(染料)Aは、以下のスキームで合成した。
<Synthesis of methine pigment (dye) A>
Methine pigment (dye) A was synthesized according to the following scheme.

(中間体Aの合成)
上記化合物(A)(EP0571959A2公報に記載の方法にて合成)100重量部、ピリジン390mlの混合溶液を5℃まで冷却し、オクタンスルホニルクロライド87重量部を、反応温度25℃以下で滴下した。反応液を室温で2時間撹拌後、4N 塩酸水溶液 2Lを加え、室温で攪拌した後、濾取した。濾取した結晶をメタノール500mlで洗浄後、乾燥することにより、中間体Aを153g(収率91%)得た。
1H-NMR CDCl3 δ0.8(t, 3H) 1.0-1.4(m, 19), 1.6(m, 2H) 3.2(t, 2H) 5.6(s, 1H) 7.3(d, 2H) 7.9(d, 2H) 10.2(s, 1H) 12.9(s, 1H)
(Synthesis of Intermediate A)
A mixed solution of 100 parts by weight of the above compound (A) (synthesized by the method described in EP 0571959A2) and 390 ml of pyridine was cooled to 5 ° C., and 87 parts by weight of octanesulfonyl chloride was added dropwise at a reaction temperature of 25 ° C. or less. The reaction mixture was stirred at room temperature for 2 hours, 2 L of 4N aqueous hydrochloric acid solution was added, and the mixture was stirred at room temperature and collected by filtration. The crystals collected by filtration were washed with 500 ml of methanol and dried to obtain 153 g of intermediate A (yield 91%).
1 H-NMR CDCl 3 δ0.8 (t, 3H) 1.0-1.4 (m, 19), 1.6 (m, 2H) 3.2 (t, 2H) 5.6 (s, 1H) 7.3 (d, 2H) 7.9 (d , 2H) 10.2 (s, 1H) 12.9 (s, 1H)

(メチン系色素(染料)Aの合成)
中間体A 110g、酢酸650mlの懸濁溶液に室温で、オルトギ酸エチル68gを加え、反応液を80℃で3時間攪拌させた。反応液にメタノール1.1Lを加え、冷却後、濾取、メタノール洗浄することにより、メチン系色素(染料)Aを96g(収率88%)得た。
1H-NMR CDCl3 δ0.8(t, 6H) 1.2-2.0(m, 41H) 3.3(t, 4H) 7.3(d, 4H), 7.6(br, 2H) 7.8(d, 4H) 8.4(s, 1H)
(Synthesis of methine pigment (dye) A)
To a suspension of 110 g of Intermediate A and 650 ml of acetic acid, 68 g of ethyl orthoformate was added at room temperature, and the reaction solution was allowed to stir at 80 ° C. for 3 hours. Methanol 1.1L was added to the reaction liquid, and after cooling, it was filtered and washed with methanol to obtain 96 g (yield 88%) of methine dye (dye) A.
1 H-NMR CDCl 3 δ0.8 (t, 6H) 1.2-2.0 (m, 41H) 3.3 (t, 4H) 7.3 (d, 4H), 7.6 (br, 2H) 7.8 (d, 4H) 8.4 (s , 1H)

得られた組成物について、以下の評価を行った。   The following evaluation was performed about the obtained composition.

<分光特性(膜厚)>
上述で得られた組成物を7.5cm×7.5cmのガラス基板上にスピンコータにて膜厚0.6μmの塗布膜となるように塗布した後、ホットプレートを使用して、100℃で2分間加熱乾燥し、更に200℃で5分間の加熱を行い、塗布膜の硬化を行って着色層を形成した。
<Spectroscopic characteristics (film thickness)>
The composition obtained above was applied onto a 7.5 cm × 7.5 cm glass substrate with a spin coater so as to form a coating film having a thickness of 0.6 μm, and then heated at 100 ° C. using a hot plate. The coating layer was heated and dried for 5 minutes, and further heated at 200 ° C. for 5 minutes to cure the coating film, thereby forming a colored layer.

上記で得られたガラス基板の分光スペクトルをMCPD−3000(大塚(株)製)を使用して測定した。それぞれの組成物から得られた着色層の分光スペクトルにおける最大透過率と最少透過率との差Δ%を以下の区分に従って評価した。なお、Δ%が大きいほど分光特性に優れていることを意味する。
5:Δ%=95以上100以下
4:Δ%=90以上95未満
3:Δ%=85以上90未満
2:Δ%=80以上85未満
1:Δ%=0以上80未満
The spectrum of the glass substrate obtained above was measured using MCPD-3000 (manufactured by Otsuka Corporation). The difference Δ% between the maximum transmittance and the minimum transmittance in the spectral spectrum of the colored layer obtained from each composition was evaluated according to the following categories. In addition, it means that it is excellent in spectral characteristics, so that (DELTA)% is large.
5: Δ% = 95 or more and 100 or less 4: Δ% = 90 or more and less than 95 3: Δ% = 85 or more and less than 90 2: Δ% = 80 or more and less than 85 1: Δ% = 0 or more and less than 80

<耐薬品性>
上述で得られた組成物から上記と同様方法で作成した着色層基板をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶剤に10分間浸漬させた後、流水にてリンスし得られた基板の分光スペクトルを測定した。
浸漬前後の吸光度を比較し、下記式より浸漬後の色材残存率を算出し、以下の区分に従って評価した。なお、色材残存率は数値が高いほど耐薬品性に優れていることを意味する。
算出式:
色材残存率(%)=溶剤浸漬後の最大吸光度/溶剤浸漬前の最大吸光度×100
5:色材残存率=95%以上100%以下
4:色材残存率=80%以上95%未満
3:色材残存率=70%以上80%未満
2:色材残存率=40%以上70%未満
1:色材残存率=0%以上40%未満
<Chemical resistance>
A colored layer substrate prepared by the same method as described above from the composition obtained above was immersed in a propylene glycol monomethyl ether acetate solvent for 10 minutes, and then the spectrum obtained by rinsing with running water was measured.
The absorbance before and after immersion was compared, the color material remaining rate after immersion was calculated from the following formula, and evaluated according to the following categories. In addition, it means that it is excellent in chemical resistance, so that a color material residual rate is high.
Formula:
Residual ratio of coloring material (%) = maximum absorbance after immersion in solvent / maximum absorbance before immersion in solvent × 100
5: Color material remaining rate = 95% or more and 100% or less 4: Color material remaining rate = 80% or more and less than 95% 3: Color material remaining rate = 70% or more and less than 80% 2: Color material remaining rate = 40% or more and 70 Less than% 1: Color material remaining rate = 0% or more and less than 40%

<耐熱性(熱による色材拡散)>
評価基板の作製
(着色層の形成)
7.5cm×7.5cmのガラス基板上にスピンコータにて、上述の組成物を膜厚0.6μmの塗布膜となるように塗布した後、ホットプレートを使用して100℃で2分間加熱乾燥し、次いで200℃で5分間の加熱を行い、塗布膜の硬化を行って着色層を形成した。
<Heat resistance (diffusion of colorant by heat)>
Preparation of evaluation substrate (formation of colored layer)
After applying the above composition to a 0.6 μm-thick coating film on a 7.5 cm × 7.5 cm glass substrate with a spin coater, heat drying at 100 ° C. for 2 minutes using a hot plate Then, heating was performed at 200 ° C. for 5 minutes, and the coating film was cured to form a colored layer.

(パターン形成)
((マスク用レジストの塗布))
ポジ型フォトレジスト「FHi622BC」(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製)を塗布し、プリベークを実施し、膜厚0.8μmのフォトレジスト層を形成した。
次いで、フォトレジスト層の温度又は雰囲気温度が90℃となる温度で1分間、加熱処理を行なった。次いで、i線縮小投影露光装置を使用して塗布膜に365nmの波長で縦1cm×横1cmの市松模様マスクを通して照射した。その後、現像液「FHD−5」(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製)で1分間の現像処理を行ない、さらに110℃で1分間のポストベーク処理を実施した。
(Pattern formation)
((Applying mask resist))
A positive photoresist “FHi622BC” (manufactured by FUJIFILM Electronics Materials) was applied and pre-baked to form a 0.8 μm-thick photoresist layer.
Next, heat treatment was performed for 1 minute at a temperature at which the temperature of the photoresist layer or the ambient temperature was 90 ° C. Next, the i-line reduction projection exposure apparatus was used to irradiate the coating film at a wavelength of 365 nm through a checkered mask measuring 1 cm in length and 1 cm in width. Thereafter, development processing was performed for 1 minute with a developer “FHD-5” (manufactured by Fujifilm Electronics Materials), and further post-baking processing was performed at 110 ° C. for 1 minute.

(ドライエッチング)
次に、得られたガラス基板を8inchシリコンウェハに貼り付け、ドライエッチングを以下の手順で行った。ドライエッチング装置(日立ハイテクノロジーズ社製、U−621)にて、RFパワー:800W、アンテナバイアス:400W、ウエハバイアス:200W、チャンバーの内部圧力:4.0Pa、基板温度:50℃、混合ガスのガス種及び流量をCF4:80mL/min、O2:40mL/min、Ar:800mL/minとして、80秒の第1段階のエッチング処理を実施した。
次いで、同一のエッチングチャンバーにて、RFパワー:600W、アンテナバイアス:100W、ウエハバイアス:250W、チャンバーの内部圧力:2.0Pa、基板温度:50℃、混合ガスのガス種及び流量をN2:500mL/min、O2:50mL/min、Ar:500mL/minとし(N2/O2/Ar=10/1/10)、28秒の第2段階エッチング処理、オーバーエッチング処理を実施した。
上記条件でドライエッチングを行った後、フォトレジスト剥離液「MS230C」(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製)を使用して120秒間、剥離処理を実施してレジストを除去し、更に純水による洗浄、スピン乾燥を実施した。その後、100℃で2分間の脱水ベーク処理を行った。以上により、着色層パターン基板を得た。
(Dry etching)
Next, the obtained glass substrate was bonded to an 8-inch silicon wafer, and dry etching was performed according to the following procedure. RF power: 800 W, antenna bias: 400 W, wafer bias: 200 W, chamber internal pressure: 4.0 Pa, substrate temperature: 50 ° C., mixed gas with dry etching apparatus (Hitachi High Technologies, U-621) The first stage etching process was performed for 80 seconds with the gas type and flow rate being CF 4 : 80 mL / min, O 2 : 40 mL / min, and Ar: 800 mL / min.
Next, in the same etching chamber, RF power: 600 W, antenna bias: 100 W, wafer bias: 250 W, chamber internal pressure: 2.0 Pa, substrate temperature: 50 ° C., gas mixture type and flow rate of N 2 : 500 mL / min, O 2 : 50 mL / min, Ar: 500 mL / min (N 2 / O 2 / Ar = 10/1/10), and the second-stage etching treatment and over-etching treatment for 28 seconds were performed.
After performing dry etching under the above conditions, a resist stripping solution “MS230C” (manufactured by FUJIFILM Electronics Materials Co., Ltd.) is used for 120 seconds to remove the resist, and further cleaning with pure water. Spin drying was performed. Thereafter, a dehydration baking process was performed at 100 ° C. for 2 minutes. The colored layer pattern board | substrate was obtained by the above.

上記のようにして作製した着色パターン形成面に、乾燥膜厚が0.6μmとなるようにCT−2000L溶液(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製;下地透明剤)を塗布し、乾燥させて、図11、図12に示すように透明膜を形成した後、200℃で5分間加熱処理を行なった。加熱終了後、着色パターンに隣接する透明膜部の吸光度をMCPD−3000(大塚電子(株)製)にて測定した。透明膜部の加熱前後の吸光度を比較し、下記式より色材拡散量を算出、以下の区分に従って評価した。なお、移動量が少ないほど耐熱性に優れることを意味する。
算出式:
色材移動量=加熱後の透明膜部最大吸光度/加熱前の着色パターン部最大吸光度×100
5:色材移動量=0
4:色材移動量=0超5以下
3:色材移動量=5超10以下
2:色材移動量=10超20以下
1:色材移動量=20超100以下
A CT-2000L solution (manufactured by FUJIFILM Electronics Materials Co., Ltd .; base clearing agent) is applied to the colored pattern forming surface produced as described above so that the dry film thickness is 0.6 μm, and dried. 11 and FIG. 12, after forming a transparent film, a heat treatment was performed at 200 ° C. for 5 minutes. After heating, the absorbance of the transparent film part adjacent to the colored pattern was measured with MCPD-3000 (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.). The absorbance of the transparent film part before and after heating was compared, the color material diffusion amount was calculated from the following formula, and evaluated according to the following categories. In addition, it means that it is excellent in heat resistance, so that movement amount is small.
Formula:
Color material transfer amount = maximum absorbance of transparent film portion after heating / maximum absorbance of colored pattern portion before heating × 100
5: Color material movement amount = 0
4: Color material movement amount = 0 to more than 5 3: Color material movement amount = More than 5 to 10 or less 2: Color material movement amount = More than 10 to 20 or less 1: Color material movement amount = 20 to 100 or less

<耐薬品性(強制条件)>
上述で得られた組成物から上記と同様方法で作成した着色層基板をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶剤に1ヶ月浸漬させた後、流水にてリンスし得られた基板の分光スペクトルを測定した。
浸漬前後の吸光度を比較し、下記式より浸漬後の色材残存率を算出し、以下の区分に従って評価した。なお、色材残存率は数値が高いほど耐薬品性に優れていることを意味する。
算出式:
色材残存率(%)=溶剤浸漬後の最大吸光度/溶剤浸漬前の最大吸光度×100
5:色材残存率=95%以上100%以下
4:色材残存率=80%以上95%未満
3:色材残存率=70%以上80%未満
2:色材残存率=40%以上70%未満
1:色材残存率=0%以上40%未満
<Chemical resistance (mandatory conditions)>
A colored layer substrate prepared by the same method as described above from the composition obtained above was immersed in a propylene glycol monomethyl ether acetate solvent for 1 month, and then the spectrum obtained by rinsing with running water was measured.
The absorbance before and after immersion was compared, the color material remaining rate after immersion was calculated from the following formula, and evaluated according to the following categories. In addition, it means that it is excellent in chemical resistance, so that a color material residual rate is high.
Formula:
Residual ratio of coloring material (%) = maximum absorbance after immersion in solvent / maximum absorbance before immersion in solvent × 100
5: Color material remaining rate = 95% or more and 100% or less 4: Color material remaining rate = 80% or more and less than 95% 3: Color material remaining rate = 70% or more and less than 80% 2: Color material remaining rate = 40% or more and 70 Less than% 1: Color material remaining rate = 0% or more and less than 40%

上記表から明らかなとおり、少なくともハロゲン化フタロシアニン染料を含む着色剤、熱硬化性化合物、および、これらを溶解する溶剤を含み、着色剤の含有量の合計が全固形分に対し60〜90質量%である、着色硬化性組成物を用いて形成した着色層(実施例1〜19)は、分光特性、耐薬品性および耐熱性のいずれにも優れた着色硬化性組成物が得られることが分かった。
特に、熱硬化性化合物としてエポキシ樹脂を用いた場合、および、黄色色素として、メチン系色素またはアゾ系色素を用いた場合に顕著な効果を奏することが分かった。
これに対し、フタロシアニン染料がハロゲンを含まない場合(比較例1)、フタロシアニン化合物が顔料である場合(比較例2)、着色剤の配合量が少ない場合(比較例3)、分光特性、耐薬品性および耐熱性のいずれか1つ以上が劣る着色層しか得られなかった。
As is apparent from the above table, it contains at least a colorant containing a halogenated phthalocyanine dye, a thermosetting compound, and a solvent for dissolving them, and the total content of the colorant is 60 to 90% by mass with respect to the total solid content. It can be seen that the colored layers (Examples 1 to 19) formed using the colored curable composition are excellent in spectral characteristics, chemical resistance and heat resistance. It was.
In particular, it has been found that when an epoxy resin is used as a thermosetting compound and when a methine dye or an azo dye is used as a yellow dye, a remarkable effect is obtained.
On the other hand, when the phthalocyanine dye does not contain a halogen (Comparative Example 1), when the phthalocyanine compound is a pigment (Comparative Example 2), when the blending amount of the colorant is small (Comparative Example 3), spectral characteristics, chemical resistance Only a colored layer inferior in any one or more of property and heat resistance was obtained.

本発明により着色剤の濃度を上げた着色硬化性組成物が作成でき、色分離が良好な薄膜カラーフィルタの作成への利用が期待できる。本発明では、例えば、着色層の厚さを0.1〜1.0μmとしても優れた効果を発揮させることが期待できる。また、本発明の着色硬化性組成物を組み合わせて用いることにより画素の硬化性を向上させることができ、種々工程においてさらされる薬品(レジスト剥離液、アルカリ現像液および一般溶剤)に対する色抜けを抑制することが期待できる。また、積層時に他画素への熱拡散混色(耐熱性)を抑制し、良好なデバイス感度を達成することが期待できる。   According to the present invention, a colored curable composition with an increased colorant concentration can be prepared, and it can be expected to be used for preparing a thin film color filter with good color separation. In the present invention, for example, it can be expected that excellent effects can be exhibited even when the thickness of the colored layer is 0.1 to 1.0 μm. In addition, the combined use of the colored curable composition of the present invention can improve the curability of the pixel and suppress color loss for chemicals (resist stripping solution, alkali developer and general solvent) exposed in various processes. Can be expected to do. In addition, it can be expected that thermal diffusion color mixing (heat resistance) to other pixels is suppressed at the time of stacking and a good device sensitivity is achieved.

10 固体撮像素子
11 第1着色層
12 第1着色パターン
13,100 カラーフィルタ
14 平坦化膜
15 マイクロレンズ
20G 緑色画素(第1色画素)
20R 赤色画素(第2色画素)
20B 青色画素(第3色画素)
21 第2着色感放射線性層
21A 第1貫通孔部分群121に対応する位置
22 第2着色パターン
22R 第2貫通孔部分群122の各貫通孔の内部に設けられた複数の第2着色画素
31 第3着色感放射線性層
31A 第2貫通孔部分群122に対応する位置
32 第3着色パターン
41 Pウエル
42 受光素子(フォトダイオード)
43 不純物拡散層
44 電極
45 配線層
46 BPSG膜
47 絶縁膜
48 P−SiN膜
49 平坦化膜層
51 フォトレジスト層
51A レジスト貫通孔
52 レジストパターン(パターニングされたフォトレジスト層)
120 貫通孔群
121 第1貫通孔部分群
122 第2貫通孔部分群
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Solid-state image sensor 11 1st colored layer 12 1st colored pattern 13,100 Color filter 14 Flattening film 15 Microlens 20G Green pixel (1st color pixel)
20R red pixel (second color pixel)
20B Blue pixel (third color pixel)
21 2nd coloring radiation sensitive layer 21A The position corresponding to the 1st through-hole part group 121 22 2nd coloring pattern 22R The some 2nd coloring pixel 31 provided in the inside of each through-hole of the 2nd through-hole part group 122 Third colored radiation-sensitive layer 31A Position corresponding to second through-hole portion group 32 Third colored pattern 41 P well 42 Light receiving element (photodiode)
43 Impurity diffusion layer 44 Electrode 45 Wiring layer 46 BPSG film 47 Insulating film 48 P-SiN film 49 Planarizing film layer 51 Photoresist layer 51A Resist through hole 52 Resist pattern (patterned photoresist layer)
120 through-hole group 121 first through-hole part group 122 second through-hole part group

Claims (14)

少なくともハロゲン化フタロシアニン染料および黄色色素を含む着色剤、熱硬化性化合物、ならびに、ハロゲン化フタロシアニン染料および熱硬化性化合物を少なくとも溶解する溶剤を含み、着色剤の含有量の合計が全固形分に対し60〜90質量%である着色硬化性組成物であり、
前記着色剤は、前記ハロゲン化フタロシアニン染料を55〜80質量%、および、前記黄色色素を20〜45質量%含有し、
前記ハロゲン化フタロシアニン染料は、下記一般式(1)で表わされる化合物であるか、または、フタロシアニン骨格の炭素原子を直接ハロゲン化したハロゲン化フタロシアニン構造を2以上含む化合物であって下記一般式(A)で表される構成単位を含んでなるハロゲン化フタロシアニン多量体であり、
前記黄色色素は、下記一般式(5)で表されるモノメチン染料、アゾ系黄色顔料、または、イソインドリン系黄色顔料であり、
前記熱硬化性化合物は、エポキシ化合物、メラミン化合物、ウレア化合物およびフェノール化合物から選ばれる少なくとも1種であり、
前記着色硬化性組成物は、前記熱硬化性化合物を、前記着色硬化性組成物の全固形分に対して4.5〜40質量%含有する、着色硬化性組成物。
一般式(1)
(一般式(1)中、Z1〜Z16は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、シリル基、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルファモイルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、アニリノ基、ヘテロ環アミノ基、カルボンアミド基、ウレイド基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、アゾ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、スルホ基、ホスホニル基、ホスフィノイルアミノ基、下記一般式(1−1−2)で表される基、または、下記一般式(1−5−1)で表される基であり、Z1〜Z16の少なくとも1つは、ハロゲン原子であり、かつ、Z1〜Z16の少なくとも1つは、下記一般式(1−5−1)で表される基である。Mは2つの水素原子、金属原子、金属酸化物または金属ハロゲン化物を表わす。)
一般式(1−1−2)
(一般式(1−1−2)中、X 1 は酸素原子または硫黄原子であり、A 11 は、1〜5つの置換基Rを有するフェニル基、または1〜7つの置換基Rを有するナフチル基であり、置換基Rは、ニトロ基、COOR 1 (R 1 は一般式(1−3)で表される基または炭素数1〜8のアルキル基である)、OR 2 (R 2 は炭素数1〜8のアルキル基)、ハロゲン原子、アリール基、シアノ基、炭素数1〜8のアルキル基、一般式(4)〜(6)のいずれかで表される基、または、一般式(X)から選択される基を表す。)
(一般式(4)中、R 4 は水素原子、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基およびハロゲン原子から選ばれる置換基を有してもよいアルキル基、前記置換基を有してもよいアリール基、前記置換基を有してもよいジアルキルアミノ基、前記置換基を有してもよいジアリールアミノ基、または前記置換基を有してもよいアルキルアリールアミノ基を表す。
一般式(5)中、dは0〜2の整数を表し、dが0または1のとき、R 5 は、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基およびハロゲン原子から選ばれる置換基を有してもよいアルキル基、または前記置換基を有してもよいアリール基であり、dが2のとき、R 5 は、前記置換基を有してもよいアルキル基、前記置換基を有してもよいアリール基、前記置換基を有してもよいジアルキルアミノ基、前記置換基を有してもよいジアリールアミノ基、または前記置換基を有してもよいアルキルアリールアミノ基を表す。
一般式(6)中、R 6 およびR 7 は、それぞれ、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基およびハロゲン原子から選ばれる置換基を有してもよいアルキル基、前記置換基を有してもよいアリール基、前記置換基を有してもよいアルキルカルボニル基、前記置換基を有してもよいアリールカルボニル基、前記置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、または、前記置換基を有してもよいアリールスルホニル基を表す。)
一般式(1−3)
(一般式(1−3)中、R 3 は炭素数1〜3のアルキレン基を表し、R 4 は炭素数1〜8のアルキル基を表し、nは1〜4の整数を表す。)
(一般式(X)中、R 11 は水素原子または炭素数1〜8のアルキル基を表す。n1は1〜3の整数を表す。n1が2または3の場合、複数のR 11 は、それぞれ、同じでも異なっても良い。Y 1 は−O−、−S−、−NR 13 −(R 13 は、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表す。)、−SO 2 −、または、−C(=O)−を表す。R 12 は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、シリル基、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルファモイルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、アニリノ基、ヘテロ環アミノ基、カルボンアミド基、ウレイド基、イミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、アゾ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、スルホ基、ホスホニル基およびホスフィノイルアミノ基から選ばれる置換基を有しても良いアルキル基、前記置換基を有しても良いアシル基、前記置換基を有しても良いスルホニル基、前記置換基を有しても良いアルコキシ基、または前記置換基を有しても良いアルキルアミノ基を表す。)
一般式(1−5−1)
(一般式(1−5−1)中、L1−O−または−S−を表し、Arはアリーレン基を表し、Aは下記一般式(1−5−2)で表される基を表す。*はフタロシアニン環との結合する部位を表す。)
一般式(1−5−2)
*−L2A−(メタ)アクリロイルオキシ基
(一般式(1−5―2)中、 2A は、−O−、−C(=O)−、−CH 2 −、−CH(OH)−、−NR B −の1つまたは2つ以上の組み合わせからなる基を表す。R B は水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。*は一般式(1−5―1)中のArとの結合する部位を表す。)
一般式(A)
(一般式(A)中、X 1 は(メタ)アクリル系連結鎖を表し、L 1 は単結合を表すか、又は、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロ環連結基、−CH=CH−、−O−、−S−、−C(=O)−、−CO 2 −、−NR−、−CONR−、−O 2 C−、−SO−、−SO 2 −及びこれらを2個以上連結して形成される基を表し、Rは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロ環基を表す。DyeIは前記一般式(1)で表される化合物に由来する部分構造を表す。)
一般式(5)
(一般式(5)中、R11は、それぞれ、アルキル基またはビニル基を表し、R12は、それぞれ、アルキルスルホニルアミノ基、ビニルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、ビニルカルボニルアミノ基およびアリールカルボニルアミノ基から選ばれる置換基を有する芳香族環基を表す。)
A colorant containing at least a halogenated phthalocyanine dye and a yellow pigment, a thermosetting compound, and a solvent that dissolves at least the halogenated phthalocyanine dye and the thermosetting compound, and the total content of the colorant is based on the total solid content 60 to 90% by weight of a colored curable composition,
The colorant contains 55 to 80% by mass of the halogenated phthalocyanine dye and 20 to 45% by mass of the yellow pigment,
The halogenated phthalocyanine dye or a compound represented by the following general formula (1), or, a halogenated phthalocyanine structures directly halogenating the carbon atoms of the phthalocyanine skeleton is a compound containing 2 or more the following general formula (A Is a halogenated phthalocyanine multimer comprising a structural unit represented by :
The yellow pigment is a monomethine dye represented by the following general formula (5), an azo yellow pigment, or an isoindoline yellow pigment,
The thermosetting compound, epoxy compound, melamine compound, at least one selected from urea compounds and phenolic compounds,
The said colored curable composition is a colored curable composition which contains the said thermosetting compound 4.5 to 40 mass% with respect to the total solid of the said colored curable composition.
General formula (1)
(In the general formula (1), Z 1 to Z 16 are each a hydrogen atom , a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a silyl group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, or an alkoxy group. , Aryloxy group, heterocyclic oxy group, silyloxy group, acyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, carbamoyloxy group, sulfamoyloxy group, alkylsulfonyloxy group, arylsulfonyloxy group, acyl group, Alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, amino group, anilino group, heterocyclic amino group, carbonamido group, ureido group, imide group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfonamido group, sulfamoyla Group, azo group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfamoyl group, sulfo group, phosphonyl group, phosphinoylamino group, the following general A group represented by the formula (1-1-2) or a group represented by the following general formula (1-5-1), wherein at least one of Z 1 to Z 16 is a halogen atom; At least one of Z 1 to Z 16 is a group represented by the following general formula (1-5-1), where M represents two hydrogen atoms, a metal atom, a metal oxide, or a metal halide. .)
General formula (1-1-2)
(In General Formula (1-1-2), X 1 is an oxygen atom or a sulfur atom, and A 11 is a phenyl group having 1 to 5 substituents R, or a naphthyl having 1 to 7 substituents R. The substituent R is a nitro group, COOR 1 (R 1 is a group represented by the general formula (1-3) or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms), OR 2 (R 2 is carbon. An alkyl group having 1 to 8 carbon atoms), a halogen atom, an aryl group, a cyano group, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a group represented by any one of the general formulas (4) to (6), or a general formula ( Represents a group selected from X).)
(In the general formula (4), R 4 is a hydrogen atom, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group, an alkylthio group, an arylthio group and an alkyl group which may have a substituent selected from a halogen atom, The aryl group which may have the substituent, the dialkylamino group which may have the substituent, the diarylamino group which may have the substituent, or the alkylaryl which may have the substituent Represents an amino group.
In the general formula (5), d represents an integer of 0 to 2, and when d is 0 or 1, R 5 represents an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group, an alkylthio group, an arylthio group, and a halogen. An alkyl group which may have a substituent selected from atoms, or an aryl group which may have the substituent, and when d is 2, R 5 is an alkyl which may have the substituent A group, an aryl group that may have the substituent, a dialkylamino group that may have the substituent, a diarylamino group that may have the substituent, or the substituent. Represents an alkylarylamino group.
In general formula (6), R 6 and R 7 are each an alkyl optionally having a substituent selected from an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group, an alkylthio group, an arylthio group, and a halogen atom. Group, aryl group optionally having substituent (s), alkylcarbonyl group optionally having substituent (s), arylcarbonyl group optionally having substituent (s), alkyl optionally having substituent (s) A sulfonyl group or an arylsulfonyl group which may have the above-described substituent is represented. )
General formula (1-3)
(In General Formula (1-3), R 3 represents an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, R 4 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 4).
(In general formula (X), R 11 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. N1 represents an integer of 1 to 3. When n1 is 2 or 3, a plurality of R 11 are each Y 1 is —O—, —S—, —NR 13 — (R 13 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), —SO 2 —, or -C (= O)-R 12 represents an alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, silyl group, hydroxyl group, cyano group, nitro group, alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy Group, silyloxy group, acyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, carbamoyloxy group, sulfamoyloxy group, alkylsulfonyloxy group, arylsulfonyloxy group, acyl group, Coxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, amino group, anilino group, heterocyclic amino group, carbonamido group, ureido group, imide group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfonamide group, sulfo From famoylamino group, azo group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfamoyl group, sulfo group, phosphonyl group and phosphinoylamino group An alkyl group which may have a substituent selected, an acyl group which may have the substituent, a sulfonyl group which may have the substituent, an alkoxy group which may have the substituent, or Alkylamino optionally having the substituent A representative.)
Formula (1-5-1)
(In the general formula (1-5-1), L 1 represents —O— or —S— , Ar represents an arylene group, and A represents a group represented by the following general formula (1-5-2). * Represents the site of bonding to the phthalocyanine ring.)
Formula (1-5-2)
* -L 2A- (Meth) acryloyloxy group (in the general formula (1-5-2), L 2A represents -O-, -C (= O)-, -CH 2- , -CH (OH)- , —NR B — represents a group consisting of one or a combination of two or more, R B represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, * represents an Ar atom in the general formula (1-5-1) Represents the binding site.)
Formula (A)
(In General Formula (A), X 1 represents a (meth) acrylic linking chain, L 1 represents a single bond, or an alkylene group, an arylene group, a heterocyclic linking group, —CH═CH—, — O—, —S— , —C (═O) —, —CO 2 —, —NR—, —CONR—, —O 2 C— , —SO— , —SO 2 — and two or more of these are linked. And each R independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and DyeI represents a partial structure derived from the compound represented by the general formula (1). Represents.)
General formula (5)
(In the general formula (5), R 11 represents an alkyl group or a vinyl group, and R 12 represents an alkylsulfonylamino group, a vinylsulfonylamino group, an arylsulfonylamino group, an alkylcarbonylamino group, a vinylcarbonyl, respectively. Represents an aromatic ring group having a substituent selected from an amino group and an arylcarbonylamino group.)
前記熱硬化性化合物は、エポキシ化合物およびメラミン化合物から選ばれる少なくとも1種である、請求項1に記載の着色硬化性組成物。 The thermosetting compound is at least one selected from epoxy compounds and melamine compounds, colored curable composition according to claim 1. 前記着色硬化性組成物中における、熱硬化性化合物の含有量が全固形分に対し5〜40質量%である、請求項1または2に記載の着色硬化性組成物。   The colored curable composition of Claim 1 or 2 whose content of the thermosetting compound in the said colored curable composition is 5-40 mass% with respect to the total solid. 熱硬化性化合物がエポキシ化合物である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の着色硬化性組成物。   The colored curable composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the thermosetting compound is an epoxy compound. 熱硬化性化合物が、1分子内にエポキシ基を2つ以上有し、分子量が1000以上である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の着色硬化性組成物。   The colored curable composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the thermosetting compound has two or more epoxy groups in one molecule and has a molecular weight of 1,000 or more. 前記黄色色素が、前記一般式(5)で表されるモノメチン染料である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の着色硬化性組成物。   The colored curable composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the yellow pigment is a monomethine dye represented by the general formula (5). 前記一般式(1)において、Z1〜Z16のうち、1〜8つは、下記のいずれかで表される基である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の着色硬化性組成物。
In the general formula (1), of Z 1 to Z 16, 1 to 8 one is a group represented by any one of the following, the colored curable according to any one of claims 1 to 6 Composition.
前記ハロゲン化フタロシアニン染料は、下記一般式(1−5)で表される化合物である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の着色硬化性組成物。
一般式(1−5)
(一般式(1−5)中、Z1〜Z16は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、前記一般式(1−5−1)で表される基を表し、Z1〜Z16のうち、少なくとも1つが、前記一般式(1−5−1)で表される基を表し、かつ、少なくとも1つがハロゲン原子である。Mは2つの水素原子、金属原子、金属酸化物または金属ハロゲン化物を表わす。)
The colored curable composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the halogenated phthalocyanine dye is a compound represented by the following general formula (1-5).
Formula (1-5)
(In the general formula (1-5), Z 1 to Z 16 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a group represented by the general formula (1-5-1), of Z 1 to Z 16 , At least one represents a group represented by the general formula (1-5-1), and at least one is a halogen atom, M is two hydrogen atoms, a metal atom, a metal oxide or a metal halide. Represents.)
前記ハロゲン化フタロシアニン染料は、前記一般式(A)で表される構成単位を含んでなるハロゲン化フタロシアニン多量体である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の着色硬化性組成物。 The colored curable composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the halogenated phthalocyanine dye is a halogenated phthalocyanine multimer comprising the structural unit represented by the general formula (A) . 請求項1〜9のいずれか1項に記載の着色硬化性組成物を硬化してなることを特徴とする硬化膜。   A cured film obtained by curing the colored curable composition according to claim 1. 請求項1〜9のいずれか1項に記載の着色硬化性組成物を用いた着色層を有するカラーフィルタ。   The color filter which has a colored layer using the colored curable composition of any one of Claims 1-9. 着色層の厚さが0.1〜1.0μmである、請求項11に記載のカラーフィルタ。   The color filter of Claim 11 whose thickness of a colored layer is 0.1-1.0 micrometer. 請求項1〜9のいずれか1項に記載の着色硬化性組成物を用いて着色層を形成する工程、前記着色層上にフォトレジスト層を形成する工程、露光及び現像することにより前記フォトレジスト層をパターニングしてレジストパターンを得る工程、及び前記レジストパターンをエッチングマスクとして前記着色層をドライエッチングする工程を含む、カラーフィルタの製造方法。   A step of forming a colored layer using the colored curable composition according to any one of claims 1 to 9, a step of forming a photoresist layer on the colored layer, exposure and development to form the photoresist. A method for producing a color filter, comprising: a step of patterning a layer to obtain a resist pattern; and a step of dry etching the colored layer using the resist pattern as an etching mask. 請求項11または12に記載のカラーフィルタを有する液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス素子または固体撮像素子。   A liquid crystal display device, an organic electroluminescence element, or a solid-state imaging device having the color filter according to claim 11.
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