KR20190035929A - Coloring composition, color filter, method for forming pattern, method for producing color filter, solid-state imaging element, image display device, and method for producing dye multimer - Google Patents

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Abstract

착색 조성물은, 일반식 (1)로 나타나는 색소 다량체와, 중합성 화합물을 포함한다. 일반식 (1) 중, P는 n가의 연결기를 나타내고, Q는 색소 구조를 갖는 반복 단위를 포함하는 폴리머쇄를 나타내며, n개의 Q의, 색소 구조를 갖는 반복 단위의 개수의 평균값이 2개 이상이고, n은 3~10의 정수를 나타낸다.
P-(Q)n …(1)
The coloring composition includes a pigment oligomer represented by the general formula (1) and a polymerizable compound. In the general formula (1), P represents a linking group of n, Q represents a polymer chain containing a repeating unit having a dye structure, and an average value of the number of repeating units having n pigment Q- And n represents an integer of 3 to 10.
P- (Q) n ... (One)

Description

착색 조성물, 컬러 필터, 패턴 형성 방법, 컬러 필터의 제조 방법, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치 및 색소 다량체의 제조 방법{COLORING COMPOSITION, COLOR FILTER, METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR PRODUCING COLOR FILTER, SOLID-STATE IMAGING ELEMENT, IMAGE DISPLAY DEVICE, AND METHOD FOR PRODUCING DYE MULTIMER}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a coloring composition, a color filter, a pattern forming method, a manufacturing method of a color filter, a solid-state image pickup device, an image display device and a manufacturing method of a colorant multimeter (COLORING COMPOSITION, COLOR FILTER, METHOD FOR PRODUCING COLOR FILTER, SOLID- STATE IMAGING ELEMENT, IMAGE DISPLAY DEVICE, AND METHOD FOR PRODUCING DYE MULTIMER}

본 발명은 착색 조성물에 관한 것이다. 특히, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치 등에 이용되는 컬러 필터에 적합한 착색 조성물에 관한 것이다. 또, 착색 조성물을 이용한, 컬러 필터, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치에 관한 것이다. 또, 착색 조성물을 이용한 패턴 형성 방법, 컬러 필터의 제조 방법, 색소 다량체의 제조 방법에도 관한 것이다.The present invention relates to a coloring composition. And more particularly to a coloring composition suitable for a color filter used in a solid-state image pickup device, an image display device, and the like. Further, the present invention relates to a color filter, a solid-state image pickup device and an image display device using a coloring composition. The present invention also relates to a method of forming a pattern using a coloring composition, a method of producing a color filter, and a method of producing a colorant.

최근, 디지털 카메라, 카메라가 장착된 휴대 전화 등의 보급으로부터, 전하 결합 소자(CCD) 이미지 센서 등의 고체 촬상 소자의 수요가 크게 성장하고 있다. 이들 디스플레이나 광학 소자의 키 디바이스로서 컬러 필터가 사용되고 있고, 추가적인 고감도화·소형화의 요구가 높아지고 있다. 이와 같은 컬러 필터는, 통상, 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 3원색의 착색 패턴을 구비하고 있어, 투과광을 3원색으로 분해하는 역할을 하고 있다.2. Description of the Related Art In recent years, demand for solid-state image pickup devices such as charge coupled device (CCD) image sensors has been greatly increased due to the spread of digital cameras and mobile phones equipped with cameras. Color filters are used as key devices for these displays and optical elements, and there is a growing demand for further high sensitivity and miniaturization. Such a color filter usually has three primary color patterns of red (R), green (G), and blue (B), and serves to decompose the transmitted light into three primary colors.

컬러 필터에 사용되고 있는 착색제에는, 공통적으로 이하와 같은 성질을 갖고 있을 것이 요구된다. 즉, 색재현성상 바람직한 광흡수 특성을 가질 것, 내광성이 양호할 것 등을 필요로 하고 있다.Colorants used in color filters are required to have the following properties in common. That is, it is required to have preferable light absorption characteristics on the color reproducibility, good light resistance, and the like.

한편, 특허문헌 1에는, 안료에 대한 흡착능을 갖는 부위를 1분자 중에 2~9개 갖는 안료 분산제가 개시되어 있다. 안료에 대한 흡착능을 갖는 부위로서, 유기 색소 구조, 복소환 구조, 산성기, 염기성 질소 원자를 갖는 기, 유레아기, 유레테인기, 배위성 산소 원자를 갖는 기, 탄소수 4 이상의 탄화 수소기, 알콕시실릴기, 에폭시기, 아이소사이아네이트기, 수산기, 이온성 관능기 등을 들 수 있다.On the other hand, Patent Document 1 discloses a pigment dispersant having 2 to 9 moieties in one molecule, having a site capable of adsorbing the pigment. A moiety having an organic dye structure, a heterocyclic structure, an acidic group, a group having a basic nitrogen atom, a urea group, a urethane group, a group having an oxygen atom, a hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms, A silyl group, an epoxy group, an isocyanate group, a hydroxyl group, and an ionic functional group.

특허문헌 1: 일본 공개특허공보 2008-222950호Patent Document 1: JP-A-2008-222950

컬러 필터 등에 이용하는 착색 조성물에 있어서는, 내광성, 이염성, 평탄성의 추가적인 개선이 요구되고 있다.In a coloring composition used for a color filter or the like, further improvement in light resistance, flame retardancy and flatness is required.

또한, 특허문헌 1은, 안료 분산제에 관한 발명이다. 특허문헌 1에는, 안료에 대한 흡착능을 갖는 부위로서, 유기 색소 구조를 이용해도 되는 것이 기재되어 있는데, 안료 분산제는, 색을 갖지 않는 것이 바람직하기 때문에, 안료에 대한 흡착능을 갖는 부위는, 흡광도가 작은 구조를 선택할 필요가 있다. 또, 특허문헌 1에는, 안료 분산제를 착색제로서 이용한다는 동기부여가 되는 기재도 없다.Patent Document 1 is an invention relating to a pigment dispersant. Patent Document 1 discloses that an organic pigment structure may be used as a site having adsorption ability to a pigment. Since it is preferable that the pigment dispersant does not have a color, a site having an adsorption ability to a pigment has a light absorbance You need to choose a small structure. Also, in Patent Document 1, there is no motivated statement that a pigment dispersant is used as a colorant.

본 발명은 이러한 상황을 감안하여 이루어진 것이며, 내광성, 이염성 및 평탄성이 우수한 착색 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 컬러 필터, 패턴 형성 방법, 컬러 필터의 제조 방법, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치 및 색소 다량체의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to provide a coloring composition excellent in light resistance, flame retardancy and flatness. It is also an object of the present invention to provide a color filter, a pattern forming method, a method of manufacturing a color filter, a solid-state image pickup device, an image display device, and a method of producing a colorant multimer.

본 발명자들은 상세하게 검토한 결과, n가의 연결기에, 색소 구조를 갖는 반복 단위를 포함하는 폴리머쇄가 n개 결합한 색소 다량체를 이용함으로써, 내광성, 이염성 및 평탄성이 우수한 착색 조성물을 얻을 수 있는 것을 발견하여, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 따라서, 본 발명은, 이하를 제공한다.As a result of a detailed investigation, the inventors of the present invention have found that a colored composition excellent in light resistance, flame retardancy and flatness can be obtained by using a dye multimer having n polymer chains in which n polymer chains including a repeating unit having a dye structure are bonded, The present invention has been accomplished on the basis of these findings. Therefore, the present invention provides the following.

<1> 일반식 (1)로 나타나는 색소 다량체와, 중합성 화합물을 포함하는 착색 조성물;&Lt; 1 > A coloring composition comprising a pigment multimer represented by the general formula (1) and a polymerizable compound;

P-(Q)n …(1)P- (Q) n ... (One)

일반식 (1) 중, P는 n가의 연결기를 나타내고,In the general formula (1), P represents an n-valent linking group,

Q는 색소 구조를 갖는 반복 단위를 포함하는 폴리머쇄를 나타내며,Q represents a polymer chain containing a repeating unit having a dye structure,

n개의 Q의, 색소 구조를 갖는 반복 단위의 개수의 평균값이 2개 이상이고,the average value of the number of n repeating units having a dye structure of Q is 2 or more,

n은 3~10의 정수를 나타낸다.n represents an integer of 3 to 10;

<2> 일반식 (1)로 나타나는 색소 다량체가, 일반식 (2)로 나타나는, <1>에 기재된 착색 조성물;&Lt; 2 > A coloring composition according to < 1 >, wherein the colorant multimer represented by the general formula (1) is represented by the general formula (2);

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

일반식 (2) 중, A1은 n가의 연결기를 나타내고,In the general formula (2), A 1 represents an n-valent linking group,

B1은 단결합, -O-, -S-, -CO-, -NR-, -O2C-, -CO2-, -NROC-, 또는 -CONR-을 나타내며,B 1 represents a single bond, -O-, -S-, -CO-, -NR-, -O 2 C-, -CO 2 -, -NROC- or -CONR-,

R은, 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기를 나타내고,R represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group,

C1은, 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내며,C 1 represents a single bond or a divalent linking group,

S는, 황 원자를 나타내고,S represents a sulfur atom,

Q는 색소 구조를 갖는 반복 단위를 포함하는 폴리머쇄를 나타내며,Q represents a polymer chain containing a repeating unit having a dye structure,

n개의 Q의, 색소 구조를 갖는 반복 단위의 개수의 평균값이 2개 이상이고,the average value of the number of n repeating units having a dye structure of Q is 2 or more,

n은 3~10의 정수를 나타낸다.n represents an integer of 3 to 10;

<3> A1은, 주쇄에 산소 원자를 가져도 되는 지방족 탄화 수소기, 방향족환기 및 복소환기로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 조합으로 이루어지는 기인, <2>에 기재된 착색 조성물.<3> A 1 is an aliphatic hydrocarbon group which may have an oxygen atom in its main chain, aromatic ring group and a group consisting of one or two or more selected from the heterocyclic group in combination, the coloring composition according to <2>.

<4> 색소 다량체는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의, 하기 식 (Aλ)로 나타나는 비흡광도가 5 이상인, <1> 내지 <3> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물;<4> The coloring composition according to any one of <1> to <3>, wherein the colorant multimer has a specific absorption at a maximum absorption wavelength of 400 nm to 800 nm represented by the following formula (Aλ)

E=A/(c×l) …(Aλ)E = A / (cxl) ... (A?)

식 (Aλ) 중, E는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 비흡광도를 나타내고,In the formula (A?), E represents a non-absorbance at a maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,

A는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 흡광도를 나타내며,A represents the absorbance at the maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,

l은, 단위가 cm로 나타나는 셀 길이를 나타내고,l represents the cell length in cm,

c는, 단위가 mg/ml로 나타나는, 용액 중의 색소 다량체의 농도를 나타낸다.c represents the concentration of the pigment multimer in the solution in units of mg / ml.

<5> 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여, 색소 다량체를 1~50질량% 함유하는, <1> 내지 <4> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.&Lt; 5 > The coloring composition according to any one of < 1 > to < 4 >, wherein the coloring composition contains 1 to 50 mass% of a pigment multimer relative to the total solid content.

<6> 색소 다량체는, 일반식 (3)으로 나타나는 화합물과, 색소 구조 및 라디칼 중합성기를 갖는 화합물을 라디칼 중합하여 얻어진 것인, <1> 내지 <5> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.<6> The coloring composition according to any one of <1> to <5>, wherein the pigment multimer is obtained by radical polymerization of a compound represented by the general formula (3) and a compound having a pigment structure and a radically polymerizable group.

P0-(SH)n …(3)P 0 - (SH) n ... (3)

일반식 (3) 중, P0은 n가의 연결기를 나타내며,In the general formula (3), P 0 represents a linking group of n,

SH는 싸이올기를 나타내고,SH represents a thiol group,

n은 3~10의 정수를 나타낸다.n represents an integer of 3 to 10;

<7> 색소 다량체 이외의 색소를 더 포함하는 <1> 내지 <6> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.<7> The coloring composition according to any one of <1> to <6>, further comprising a colorant other than a colorant multimer.

<8> 광중합 개시제를 더 포함하는 <1> 내지 <7> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.<8> The coloring composition according to any one of <1> to <7>, which further comprises a photopolymerization initiator.

<9> Q는, 트라이아릴메테인 색소, 잔텐 색소, 안트라퀴논 색소, 사이아닌 색소, 스쿠아릴륨 색소, 퀴노프탈론 색소, 프탈로사이아닌 색소, 서브프탈로사이아닌 색소, 아조 색소 및 다이피로메텐 색소로부터 선택되는 색소에 유래하는 색소 구조를 갖는, <1> 내지 <8> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.The Q may be at least one selected from the group consisting of a triarylmethane dye, a xanthine dye, an anthraquinone dye, a cyanine dye, a squarylium dye, a quinophthalone dye, a phthalocyanine dye, a subphthalocyanine dye, The coloring composition according to any one of < 1 > to < 8 >, wherein the coloring composition has a pigment structure derived from a coloring matter selected from pyromethene coloring matter.

<10> Q는, 산기를 갖는 반복 단위 및 중합성기를 갖는 반복 단위로부터 선택되는 1종 이상을 갖는, <1> 내지 <9> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.<10> The coloring composition according to any one of <1> to <9>, wherein Q has at least one kind selected from repeating units having an acid group and repeating units having a polymerizable group.

<11> Q는, (메트)아크릴계 수지, 스타이렌계 수지, 및 (메트)아크릴/스타이렌계 수지로부터 선택되는 1종인, <1> 내지 <10> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.<11> The coloring composition according to any one of <1> to <10>, wherein Q is a member selected from the group consisting of a (meth) acrylic resin, a styrene resin and a (meth) acrylic / styrene resin.

<12> <1> 내지 <11> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물을 이용하여 이루어지는 컬러 필터.<12> A color filter comprising the coloring composition according to any one of <1> to <11>.

<13> <1> 내지 <11> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물을 지지체 상에 적용하여 착색 조성물층을 형성하는 공정과, 착색 조성물층을 패턴 형상으로 노광하는 공정과, 패턴 형상으로 노광된 상기 착색 조성물층의 미노광부를 현상 제거하여 착색 패턴을 형성하는 공정을 포함하는 패턴 형성 방법.&Lt; 13 > A process for producing a colored composition, comprising the steps of: applying a coloring composition according to any one of < 1 > And developing and removing the unexposed portion of the colored composition layer to form a colored pattern.

<14> <1> 내지 <11> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물을 지지체 상에 적용하여 착색 조성물층을 형성하고, 경화하여 착색층을 형성하는 공정과, 착색층 상에 포토레지스트층을 형성하는 공정과, 노광 및 현상함으로써 포토레지스트층을 패터닝하여 레지스트 패턴을 얻는 공정과, 레지스트 패턴을 에칭 마스크로 하여 착색층을 드라이 에칭하여 착색 패턴을 형성하는 공정을 포함하는, 패턴 형성 방법.&Lt; 14 > A process for producing a colored layer, comprising the steps of: applying a coloring composition according to any one of < 1 > to < 11 > onto a support to form a coloring composition layer and curing to form a colored layer; A step of patterning the photoresist layer by exposure and development to obtain a resist pattern; and a step of dry-etching the colored layer using the resist pattern as an etching mask to form a colored pattern.

<15> <13> 또는 <14>에 기재된 패턴 형성 방법을 포함하는, 컬러 필터의 제조 방법.&Lt; 15 > A method for producing a color filter, comprising the pattern formation method according to < 13 > or < 14 >.

<16> <12>에 기재된 컬러 필터, 또는 <15>에 기재된 컬러 필터의 제조 방법에 의하여 얻어진 컬러 필터를 갖는 고체 촬상 소자.<16> A solid-state image pickup element having a color filter obtained by the color filter according to <12> or the method of manufacturing a color filter according to <15>.

<17> <12>에 기재된 컬러 필터, 또는 <15>에 기재된 컬러 필터의 제조 방법에 의하여 얻어진 컬러 필터를 갖는 화상 표시 장치.<17> An image display apparatus having a color filter according to <12> or a color filter obtained by the method for manufacturing a color filter described in <15>.

<18> 일반식 (3)으로 나타나는 화합물과, 색소 구조 및 라디칼 중합성기를 갖는 화합물을 라디칼 중합하는 것을 포함하는, 색소 다량체의 제조 방법.<18> A process for producing a colorant multimer, which comprises radical polymerization of a compound represented by the general formula (3) and a compound having a pigment structure and a radically polymerizable group.

P0-(SH)n …(3)P 0 - (SH) n ... (3)

일반식 (3) 중, P0은 n가의 연결기를 나타내며,In the general formula (3), P 0 represents a linking group of n,

SH는 싸이올기를 나타내고,SH represents a thiol group,

n은 3~10의 정수를 나타낸다.n represents an integer of 3 to 10;

본 발명에 의하면, 내광성, 이염성 및 평탄성이 우수한 착색 조성물이 제공 가능해졌다. 또, 컬러 필터, 패턴 형성 방법, 컬러 필터의 제조 방법, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치 및 색소 다량체의 제조 방법이 제공 가능해졌다.INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a colored composition excellent in light resistance, flame retardancy and flatness. It is also possible to provide a color filter, a pattern forming method, a method of manufacturing a color filter, a solid-state image pickup device, an image display device, and a method of producing a dye multimer.

이하에 있어서, 본 발명의 내용에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail.

본 명세서에 있어서의 기(원자단)의 표기에 있어서, 치환 및 무치환을 기재하지 않은 표기는, 치환기를 갖지 않는 것과 함께 치환기를 갖는 것도 포함하는 것이다. 예를 들면, "알킬기"란, 치환기를 갖지 않는 알킬기(무치환 알킬기)뿐만 아니라, 치환기를 갖는 알킬기(치환 알킬기)도 포함하는 것이다.In the notation of the group (atomic group) in the present specification, the notation in which substitution and non-substitution are not described includes those having a substituent and having a substituent. For example, the "alkyl group" includes not only an alkyl group having no substituent (an unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).

본 명세서에 있어서 광이란, 활성광선 또는 방사선을 의미한다. 또, "활성광선" 또는 "방사선"이란, 예를 들면 수은등의 휘선 스펙트럼, 엑시머 레이저로 대표되는 원자외선, 극자외선(EUV광), X선, 전자선 등을 의미한다.In this specification, light means an actinic ray or radiation. The term " actinic ray " or " radiation " means, for example, a line spectrum of a mercury lamp, far ultraviolet ray, extreme ultraviolet ray (EUV light) represented by an excimer laser, X-ray or electron ray.

본 명세서에 있어서 "노광"이란, 특별히 설명하지 않는 한, 수은등의 휘선 스펙트럼, 엑시머 레이저로 대표되는 원자외선, X선, EUV광 등에 의한 노광뿐만 아니라, 전자선, 이온빔 등의 입자선에 의한 묘화도 노광에 포함한다.In the present specification, unless otherwise specified, the term " exposure " means not only exposure by a bright line spectrum of a mercury lamp, deep ultraviolet ray represented by an excimer laser, X-ray or EUV light, Is included in the exposure.

본 명세서에 있어서 "~"를 이용하여 나타나는 수치 범위는, "~"의 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 범위를 의미한다.In the present specification, the numerical range indicated by using " ~ " means a range including numerical values written before and after "~" as a lower limit value and an upper limit value.

본 명세서에 있어서, 전체 고형분이란, 착색 조성물의 전체 조성으로부터 용제를 제외한 성분의 총 질량을 말한다.In the present specification, the total solid content refers to the total mass of the components excluding the solvent from the total composition of the coloring composition.

본 명세서에 있어서, "(메트)아크릴레이트"는, 아크릴레이트 및 메타크릴레이트의 쌍방, 또는 어느 한쪽을 나타내고, "(메트)아크릴"은, 아크릴 및 메타크릴의 쌍방, 또는 어느 한쪽을 나타내며, "(메트)알릴"은, 알릴 및 메탈릴의 쌍방, 또는 어느 한쪽을 나타내고, "(메트)아크릴로일"은, 아크릴로일 및 메타크릴로일의 쌍방, 또는 어느 한쪽을 나타낸다.In the present specification, the term " (meth) acrylate " refers to both or either of acrylate and methacrylate, and " (meth) acrylate " refers to both acrylate and methacrylate, Refers to both or both of allyl and methallyl, and " (meth) acryloyl " refers to both acryloyl and methacryloyl.

본 명세서에 있어서, 중합성 화합물이란, 중합성 관능기를 갖는 화합물을 말하며, 모노머여도 되고, 폴리머여도 된다. 중합성 관능기란, 중합 반응에 관여하는 기를 말한다.In the present specification, the polymerizable compound means a compound having a polymerizable functional group, and may be a monomer or a polymer. The polymerizable functional group refers to a group involved in the polymerization reaction.

본 명세서에 있어서, 화학식 중의 Me는 메틸기를, Et는 에틸기를, Pr은 프로필기를, Bu는 뷰틸기를, Ph는 페닐기를 각각 나타낸다.In the present specification, Me in the formula represents a methyl group, Et represents an ethyl group, Pr indicates a propyl group, Bu indicates a butyl group, and Ph indicates a phenyl group.

본 명세서에 있어서 "공정"이라는 말은, 독립적인 공정뿐만 아니라, 다른 공정과 명확하게 구별할 수 없는 경우이더라도 그 공정의 소기의 작용이 달성되면, 본 용어에 포함된다.In the present specification, the term " process " is included in this term, not only in the independent process but also in the case where the desired action of the process is achieved even if it can not be clearly distinguished from other processes.

본 명세서에 있어서, 중량 평균 분자량 및 수평균 분자량은, GPC 측정에 의한 폴리스타이렌 환산값으로서 정의된다. 본 명세서에 있어서, 중량 평균 분자량(Mw) 및 수평균 분자량(Mn)은, 예를 들면 HLC-8220(도소(주)제)을 이용하고, 칼럼으로서 TSKgel Super AWM-H(도소(주)제, 6.0mmID×15.0cm)를, 용리액으로서 10mmol/L 리튬 브로마이드 NMP(N-메틸피롤리딘온) 용액을 이용함으로써 구할 수 있다.In the present specification, the weight average molecular weight and the number average molecular weight are defined as polystyrene reduced values by GPC measurement. In this specification, the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) are, for example, HLC-8220 (manufactured by TOSOH CORPORATION) and TSKgel Super AWM-H , 6.0 mm ID x 15 cm) can be obtained by using 10 mmol / L lithium bromide NMP (N-methylpyrrolidinone) solution as an eluent.

<착색 조성물><Coloring composition>

본 발명의 착색 조성물은, 후술하는 일반식 (1)로 나타나는 색소 다량체와, 중합성 화합물을 함유한다.The coloring composition of the present invention contains a pigment multimer represented by the following general formula (1) and a polymerizable compound.

상기 구성으로 함으로써, 내광성, 이염성 및 평탄성이 우수한 착색 조성물을 제공할 수 있다.By using the above-described constitution, it is possible to provide a colored composition excellent in light resistance, flame retardancy and flatness.

이와 같은 효과가 얻어지는 이유에 대해서는, 아직 명확하지 않지만, 후술하는 일반식 (1)로 나타나는 색소 다량체는, n가의 연결기에, 색소 구조를 갖는 반복 단위를 포함하는 폴리머쇄가 n개 결합하고 있으므로, 직쇄 구조의 색소 다량체보다, 색소 구조를 갖는 폴리머쇄끼리의 뒤엉킴을 줄일 수 있었다고 생각된다. 이로 인하여, 색소 다량체가 응집되기 어려워져, 평탄성이 우수한 막을 얻을 수 있었다고 생각된다. 또, 색소 구조는 폴리머쇄에 도입되어 있으므로, 색소가 확산되기 어려워, 이염성에도 우수하다고 생각된다. 또, 색소 다량체로 함으로써, 안료 등 다른 분자와의 흡착능이 향상되고, 분자 간의 에너지 이동이 일어나기 쉬워짐으로써 내광성도 우수하다고 생각된다.The reason why such an effect is obtained is not clarified yet, but the dye multimer represented by the general formula (1) to be described later has n polymer chains containing a repeating unit having a dye structure bonded to n connecting groups , It is considered that the entanglement between the polymer chains having the dye structure can be reduced as compared with the dye chain polymer having the linear chain structure. As a result, it is considered that the pigment multimer is hardly aggregated and a film having excellent flatness can be obtained. Further, since the dye structure is introduced into the polymer chain, it is considered that the dye is difficult to diffuse and also excellent in dye transferability. In addition, it is considered that by making the pigment a large amount, adsorption ability with other molecules such as a pigment is improved, and energy transfer between molecules is easy to occur, so that the light resistance is also excellent.

또, 예를 들면 포토리소그래피법으로 패턴 형성하는 경우에 있어서는, 색소 구조를 갖는 폴리머쇄끼리의 뒤엉킴을 줄일 수 있으므로, 현상액의 침투를 양호하게 할 수 있어, 현상 속도가 빠르고, 현상 잔사를 발생하기 어렵게 할 수도 있다. 이하, 본 발명에 대하여 상세하게 설명한다.Further, in the case of forming a pattern by photolithography, for example, the entanglement of the polymer chains having the dye structure can be reduced, so that the penetration of the developer can be improved, the developing speed is fast, It may be difficult to do. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

<<일반식 (1)로 나타나는 색소 다량체>>&Quot; The pigment represented by the general formula (1) &quot;

본 발명의 착색 조성물은, 하기 일반식 (1)로 나타나는 색소 다량체(이하, 간단히 "색소 다량체 (A)"라고 하는 경우가 있음)를 함유한다.The coloring composition of the present invention contains a pigment multimer represented by the following general formula (1) (hereinafter sometimes simply referred to as "pigment multimer (A)").

색소 다량체 (A)는, 최대 흡수 파장이 400nm~800nm의 범위에 존재하는 것이 바람직하다. 색소 다량체 (A)는, 본 발명의 착색 조성물에 있어서, 예를 들면 착색제로서 기능한다.It is preferable that the maximum absorption wavelength of the dye oligomer (A) is in the range of 400 nm to 800 nm. The colorant oligomer (A) functions as, for example, a coloring agent in the coloring composition of the present invention.

P-(Q)n …(1)P- (Q) n ... (One)

일반식 (1) 중, P는 n가의 연결기를 나타내고,In the general formula (1), P represents an n-valent linking group,

Q는 색소 구조를 갖는 반복 단위를 포함하는 폴리머쇄를 나타내며,Q represents a polymer chain containing a repeating unit having a dye structure,

n개의 Q의, 색소 구조를 갖는 반복 단위의 개수의 평균값이 2개 이상이고,the average value of the number of n repeating units having a dye structure of Q is 2 or more,

n은 3~10의 정수를 나타낸다.n represents an integer of 3 to 10;

<<<연결기 P>>><<< Connector P >>>

일반식 (1) 중, P는, n가의 연결기를 나타낸다.In the general formula (1), P represents a linking group of n.

n가의 연결기로서는, 1에서 100개까지의 탄소 원자, 0개에서 10개까지의 질소 원자, 0개에서 50개까지의 산소 원자, 1개에서 200개까지의 수소 원자, 및 0개에서 20개까지의 황 원자로 이루어지는 기가 포함되며, 무치환이어도 되고 치환기를 더 갖고 있어도 된다.The linking group of n is preferably an alkylene group having from 1 to 100 carbon atoms, from 0 to 10 nitrogen atoms, from 0 to 50 oxygen atoms, from 1 to 200 hydrogen atoms, and from 0 to 20 Or a sulfur atom, and may be unsubstituted or may further have a substituent.

P가 나타내는 n가의 연결기는, 1에서 60개까지의 탄소 원자, 0개에서 10개까지의 질소 원자, 0개에서 40개까지의 산소 원자, 1개에서 120개까지의 수소 원자, 및 0개에서 10개까지의 황 원자로 이루어지는 기가 바람직하다. 보다 바람직하게는, 1에서 50개까지의 탄소 원자, 0개에서 10개까지의 질소 원자, 0개에서 30개까지의 산소 원자, 1개에서 100개까지의 수소 원자, 및 0개에서 7개까지의 황 원자로 이루어지는 기이다. 더 바람직하게는, 1에서 40개까지의 탄소 원자, 0개에서 8개까지의 질소 원자, 0개에서 20개까지의 산소 원자, 1개에서 80개까지의 수소 원자, 및 0개에서 5개까지의 황 원자로 이루어지는 기이다.The linking group represented by P represents an oxygen atom having 1 to 60 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 40 oxygen atoms, 1 to 120 hydrogen atoms, and 0 Lt; / RTI &gt; to 10 sulfur atoms are preferred. More preferably from 1 to 50 carbon atoms, from 0 to 10 nitrogen atoms, from 0 to 30 oxygen atoms, from 1 to 100 hydrogen atoms, and from 0 to 7 Of the sulfur atom. More preferably from 1 to 40 carbon atoms, from 0 to 8 nitrogen atoms, from 0 to 20 oxygen atoms, from 1 to 80 hydrogen atoms, and from 0 to 5 Of the sulfur atom.

P가 나타내는 n가의 연결기는, 다가 알코올로부터 유도되는 연결기인 것이 바람직하다.The n-valent linking group represented by P is preferably a linking group derived from a polyhydric alcohol.

본 발명에 있어서, 일반식 (1)로 나타나는 색소 다량체는, 일반식 (2)로 나타나는 것이 바람직하다.In the present invention, the dye multimer represented by the general formula (1) is preferably represented by the general formula (2).

[화학식 2](2)

Figure pat00002
Figure pat00002

일반식 (2) 중, A1은 n가의 연결기를 나타내고,In the general formula (2), A 1 represents an n-valent linking group,

B1은 단결합, -O-, -S-, -CO-, -NR-, -O2C-, -CO2-, -NROC-, 또는 -CONR-을 나타내며,B 1 represents a single bond, -O-, -S-, -CO-, -NR-, -O 2 C-, -CO 2 -, -NROC- or -CONR-,

R은, 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기를 나타내고,R represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group,

C1은, 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내며,C 1 represents a single bond or a divalent linking group,

S는, 황 원자를 나타내고,S represents a sulfur atom,

Q는 색소 구조를 갖는 반복 단위를 포함하는 폴리머쇄를 나타내며,Q represents a polymer chain containing a repeating unit having a dye structure,

n개의 Q의, 색소 구조를 갖는 반복 단위의 개수의 평균값이 2개 이상이고,the average value of the number of n repeating units having a dye structure of Q is 2 or more,

n은 3~10의 정수를 나타낸다.n represents an integer of 3 to 10;

또한, 일반식 (2)에 있어서의 Q를 제외한, 하기 식 (2a)의 구조는, 일반식 (1)에 있어서의 연결기 P에 상당한다. *는, Q와의 결합 위치를 나타낸다.The structure of the formula (2a) shown below except for Q in the formula (2) corresponds to the connecting group P in the formula (1). * Denotes the position of coupling with Q.

[화학식 3](3)

Figure pat00003
Figure pat00003

일반식 (2)에 있어서, A1은 n가의 연결기를 나타낸다.In the general formula (2), A 1 represents an n-valent linking group.

n가의 연결기로서는, 주쇄에 산소 원자를 가져도 되는 지방족 탄화 수소기, 방향족환기 및 복소환기로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 조합으로 이루어지는 기가 바람직하다.The n-valent linking group is preferably a group consisting of one kind or a combination of two or more kinds selected from an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic ring group and a heterocyclic group which may have an oxygen atom in the main chain.

지방족 탄화 수소기로서는, 알킬렌기, 알켄일렌기를 들 수 있다. 알킬렌기의 탄소수는, 예를 들면 1~60이 바람직하고, 1~30이 보다 바람직하다. 알켄일렌기의 탄소수는, 예를 들면 1~60이 바람직하고, 1~30이 보다 바람직하다.Examples of the aliphatic hydrocarbon group include an alkylene group and an alkenylene group. The number of carbon atoms of the alkylene group is, for example, preferably from 1 to 60, more preferably from 1 to 30. The carbon number of the alkenylene group is preferably, for example, 1 to 60, more preferably 1 to 30.

주쇄에 산소 원자를 갖는 지방족 탄화 수소기로서는, -(ORx1)m-, -(Rx1O)m-으로 나타나는 기를 들 수 있다. 주쇄에 산소 원자를 갖는 지방족 탄화 수소기는, 직쇄, 분기, 환상 중 어느 것이어도 된다. 또한, 주쇄란, 연결기의 골격 부분을 가리키고, 치환기는 포함하지 않는다.Examples of the aliphatic hydrocarbon group having an oxygen atom in the main chain include groups represented by - (OR x1 ) m - and - (R x1 O) m -. The aliphatic hydrocarbon group having an oxygen atom in the main chain may be linear, branched or cyclic. The backbone refers to a skeleton of a linking group and does not include a substituent.

Rx1은, 알킬렌기 또는 알켄일렌기를 나타낸다. m은 1 이상의 정수를 나타내고, m이 2 이상인 경우는, m개의 Rx1은, 동일해도 되고, 상이해도 된다.R x1 represents an alkylene group or an alkenylene group. m represents an integer of 1 or more, and when m is 2 or more, m R x1 may be the same or different.

Rx1이 나타내는 알킬렌기의 탄소수는, 1~20이 바람직하고, 1~10이 보다 바람직하며, 1~5가 더 바람직하다. 알킬렌기는 직쇄, 분기, 환상 중 어느 것이어도 된다.The alkylene group represented by R x1 preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, and even more preferably 1 to 5 carbon atoms. The alkylene group may be linear, branched or cyclic.

Rx1이 나타내는 알켄일렌기의 탄소수는, 2~20이 바람직하고, 2~10이 보다 바람직하며, 2~5가 더 바람직하다. 알켄일렌기는 직쇄, 분기, 환상 중 어느 것이어도 된다.The number of carbon atoms of the alkenylene group represented by R x1 is preferably from 2 to 20, more preferably from 2 to 10, and still more preferably from 2 to 5. The alkenylene group may be linear, branched or cyclic.

방향족환기는, 단환이어도 되고, 다환이어도 된다. 방향족환으로서는, 예를 들면 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환, 크리센환, 트라이페닐렌환, 플루오렌환, 바이페닐환 등을 들 수 있으며, 벤젠환이 바람직하다.The aromatic ring may be monocyclic or polycyclic. Examples of the aromatic ring include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a chrysene ring, a triphenylene ring, a fluorene ring and a biphenyl ring, and a benzene ring is preferable.

복소환기는, 5원환 또는 6원환이 바람직하다. 복소환기는, 단환이어도 되고, 다환이어도 된다. 복소환기에 포함되는 헤테로 원자로서는, 질소 원자, 산소 원자, 황 원자가 예시된다. 질소 원자가 바람직하다. 헤테로 원자의 수는 1~3이 바람직하다. 복소환으로서는, 예를 들면 사이아누르환, 트라이아진환, 옥세인환, 피롤환, 퓨란환, 싸이오펜환, 이미다졸환, 옥사졸환, 싸이아졸환, 피리딘환, 피라진환, 피리미딘환, 피리다진환, 인돌리진환, 인돌환, 벤조퓨란환, 벤조싸이오펜환, 아이소벤조퓨란환, 퀴놀리진환, 퀴놀린환, 프탈라진환, 나프틸리딘환, 퀴녹살린환, 퀴녹사졸린환, 아이소퀴놀린환, 카바졸환, 페난트리딘환, 아크리딘환, 페난트롤린환, 싸이안트렌환, 크로멘환, 잔텐환, 페녹사싸이인환, 페노싸이아진환, 페나진환을 들 수 있고, 사이아누르환, 트라이아진환, 옥세인환이 바람직하다.The heterocyclic group is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring. The heterocyclic group may be monocyclic or polycyclic. Examples of the hetero atom contained in the heterocyclic group include a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom. Nitrogen atoms are preferred. The number of heteroatoms is preferably 1 to 3. The heterocycle includes, for example, cyanuron, triazine, oxazine, pyrrole, furan, thiophene, imidazole, oxazole, thiazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine A pyridazin ring, an indolizin ring, an indole ring, a benzofuran ring, a benzothiophen ring, an isobenzofuran ring, a quinolin ring, a quinoline ring, a phthalazin ring, a naphthyridine ring, a quinoxaline ring, A phenanthrene ring, a phenanthrene ring, a phenanthroline ring, a thianthrene ring, a cromene ring, a zentylene ring, a phenoxathiine ring, a phenothiazine ring, a phenanthrene ring, , Triazine ring, oxane ring are preferable.

A1이 나타내는 n가의 연결기는, 주쇄에 산소 원자를 가져도 되는 탄화 수소기, 방향족환기, 복소환기, 주쇄에 산소 원자를 가져도 되는 탄화 수소기와 방향족환기의 조합, 주쇄에 산소 원자를 가져도 되는 탄화 수소기와 복소환기의 조합 등을 바람직하게 들 수 있다.The n-valent linking group represented by A 1 is preferably a hydrocarbon group having an oxygen atom in its main chain, an aromatic ring group, a heterocyclic group, a combination of a hydrocarbon group and an aromatic ring group which may have an oxygen atom in the main chain, And a combination of a hydrocarbon group and a heterocyclic group to be used.

A1이, 방향족환기, 복소환기, 주쇄에 산소 원자를 가져도 되는 탄화 수소기와 방향족환기의 조합, 또는 주쇄에 산소 원자를 가져도 되는 탄화 수소기와 복소환기의 조합인 경우의 연결기 P(상기 식 (2a))로서는, 예를 들면 이하를 들 수 있다.A 1 represents a linking group P in the case of a combination of an aromatic ring, a heterocyclic group, a combination of a hydrocarbon group and an aromatic ring group which may have an oxygen atom in the main chain, or a hydrocarbon group and a heterocyclic group which may have an oxygen atom in the main chain, (2a) may be, for example, the following.

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure pat00004
Figure pat00004

식 중, X는, 주쇄에 산소 원자를 가져도 되는 탄화 수소기를 나타내고,In the formulas, X represents a hydrocarbon group which may have an oxygen atom in its main chain,

B1은 단결합, -O-, -S-, -CO-, -NR-, -O2C-, -CO2-, -NROC-, 또는 -CONR-을 나타내며,B 1 represents a single bond, -O-, -S-, -CO-, -NR-, -O 2 C-, -CO 2 -, -NROC- or -CONR-,

R은, 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기를 나타내고,R represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group,

C1은, 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내며,C 1 represents a single bond or a divalent linking group,

S는, 황 원자를 나타내고,S represents a sulfur atom,

n은 3 이상의 정수를 나타내며,n represents an integer of 3 or more,

*는, Q와의 결합 위치를 나타낸다.* Denotes the position of coupling with Q.

일반식 (2)에 있어서, B1은 단결합, -O-, -S-, -CO-, -NR-, -O2C-, -CO2-, -NROC-, 또는 -CONR-을 나타내고, 단결합, -O-, -CO-, -O2C-, -CO2-, -NROC-, 또는 -CONR-이 바람직하다.In the general formula (2), B 1 represents a single bond, -O-, -S-, -CO-, -NR-, -O 2 C-, -CO 2 -, -NROC- or -CONR- And is preferably a single bond, -O-, -CO-, -O 2 C-, -CO 2 -, -NROC-, or -CONR-.

R은, 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다.R represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.

R이 나타내는 알킬기의 탄소수는, 1~30이 바람직하고, 1~10이 보다 바람직하다. 알킬기는, 직쇄, 분기, 환상 중 어느 것이어도 된다.The number of carbon atoms of the alkyl group represented by R is preferably from 1 to 30, more preferably from 1 to 10. The alkyl group may be linear, branched or cyclic.

R이 나타내는 아릴기의 탄소수는, 6~30이 바람직하고, 6~12가 보다 바람직하다.The carbon number of the aryl group represented by R is preferably from 6 to 30, more preferably from 6 to 12.

R은 수소 원자 또는 알킬기가 바람직하고, 수소 원자가 보다 바람직하다.R is preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom.

일반식 (2)에 있어서, C1은, 단결합 또는 2가의 연결기를 나타낸다.In the general formula (2), C 1 represents a single bond or a divalent linking group.

2가의 연결기로서는, 알킬렌기, 아릴렌기, 옥시알킬렌기가 바람직하고, 알킬렌기 또는 옥시알킬렌기가 보다 바람직하다.As the divalent linking group, an alkylene group, an arylene group, and an oxyalkylene group are preferable, and an alkylene group or an oxyalkylene group is more preferable.

알킬렌기, 옥시알킬렌기의 탄소수는, 1~30이 바람직하고, 1~10이 보다 바람직하다. 알킬기, 옥시알킬렌기는, 직쇄, 분기, 환상 중 어느 것이어도 된다.The number of carbon atoms of the alkylene group and the oxyalkylene group is preferably from 1 to 30, more preferably from 1 to 10. The alkyl group and oxyalkylene group may be any of linear, branched and cyclic.

아릴렌기의 탄소수는, 6~30이 바람직하고, 6~12가 보다 바람직하다.The carbon number of the arylene group is preferably from 6 to 30, more preferably from 6 to 12.

P가 나타내는 n가의 연결기의 구체적인 예를 이하에 나타낸다. 단, 본 발명에 있어서는, 이들에 제한되는 것은 아니다.Specific examples of the linking group of n represented by P are shown below. However, the present invention is not limited thereto.

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure pat00005
Figure pat00005

[화학식 6][Chemical Formula 6]

Figure pat00006
Figure pat00006

[화학식 7](7)

Figure pat00007
Figure pat00007

n가의 연결기는, 상기 (P-1)~(P-8), (P-16)~(P-20), (P-22)~(P-32)가 바람직하다.The linking group of n is preferably (P-1) to (P-8), (P-16) to (P-20), and (P-22) to (P-32).

<<<폴리머쇄 Q>>><<< polymer chain Q >>>

Q가 나타내는 폴리머쇄는, 색소 구조를 갖는 반복 단위를 포함하는 폴리머쇄를 나타내고, n개의 Q의, 색소 구조를 갖는 반복 단위의 개수의 평균값이 2개 이상이다. 일반식 (1) 또는 (2)에 포함되는 n개의 Q에 대하여, 이 Q 1개당, 색소 구조를 갖는 반복 단위가 2개 이상 포함된다. 일반식 (1) 또는 (2)로 나타나는 색소 다량체는, 색소 구조를 갖는 반복 단위를 2n개 이상 포함한다. n개의 Q는, 동일해도 되고, 상이해도 된다.The polymer chain represented by Q represents a polymer chain containing a repeating unit having a dye structure, and the average value of the number of repeating units having a pigment structure of n Q is two or more. For n Qs contained in the general formula (1) or (2), two or more repeating units having a dye structure are contained per one Q. The dye multimer represented by the general formula (1) or (2) contains 2n or more repeating units having a pigment structure. The n number of Qs may be the same or different.

Q가 나타내는 폴리머쇄는, 색소 구조를 갖는 반복 단위의 평균값이 2~20개인 것이 바람직하고, 2~15개가 보다 바람직하며, 2~10개가 더 바람직하다.The polymer chain represented by Q preferably has an average value of repeating units having a dye structure of 2 to 20, more preferably 2 to 15, and still more preferably 2 to 10.

색소 구조를 갖는 반복 단위의 개수의 평균값은, NMR(핵자기 공명)에 의하여 구할 수 있다. 구체적으로는 예를 들면, P로 나타나는 n가의 연결기와 폴리머쇄 Q의 반복 단위의 피크 면적비로부터, 일반식 (1)에 있어서의 반복 단위의 개수를 구한다. 다음으로, 그 값을 n으로 나눔으로써 폴리머쇄 Q에 있어서의 반복 단위의 개수를 산출할 수 있다.The average value of the number of repeating units having a dye structure can be determined by NMR (nuclear magnetic resonance). Specifically, for example, the number of repeating units in the general formula (1) is determined from the peak area ratio of the repeating unit of the polymer chain Q and the linking group of the n-valence represented by P. Next, the number of repeating units in the polymer chain Q can be calculated by dividing the value by n.

폴리머쇄 Q의 중량 평균 분자량은, 1,000~100,000이 바람직하고, 1000~30000이 보다 바람직하며, 1000~10000이 특히 바람직하다.The weight average molecular weight of the polymer chain Q is preferably 1,000 to 100,000, more preferably 1,000 to 30,000, and particularly preferably 1,000 to 10,000.

각 반복 단위가 갖는 색소 구조는, 동일한 색소 구조여도 되고, 골격이 동일하지만, 치환기, 중심 금속 등이 상이한 색소 구조여도 되며, 골격이 상이한 색소 구조여도 된다.The dye structure of each repeating unit may be the same dye structure or the same skeleton but may be a dye structure having a different substituent or a central metal or a dye structure having a different skeleton.

또, 색소 구조가 양이온과 음이온을 갖는 경우, 양이온과 음이온은, 폴리머쇄 Q가 갖는 색소 구조의 동일 분자 내에 있어도 되고, 색소 구조의 분자 밖에 있어도 된다. 또한, 색소 구조의 동일 분자 내에 양이온과 음이온을 갖는다란, 양이온과 음이온이 공유 결합을 통하여 결합하고 있는 경우를 말한다. 또, 음이온을 색소 구조의 분자 밖에 갖는다란, 양이온과 음이온이 공유 결합을 통하여 결합하지 않고, 별개의 화합물로서 존재하고 있는 경우를 말한다. 이하, 색소 구조의 분자 밖의 음이온을 반대 음이온이라고도 한다.When the dye structure has a cation and an anion, the cation and the anion may be in the same molecule of the dye structure of the polymer chain Q or may be outside the molecule of the dye structure. Also, having a cation and an anion in the same molecule of the dye structure means a case in which a cation and an anion are bonded through a covalent bond. In addition, the term "having an anion outside the molecule of the dye structure" means that the cation and the anion are not bonded through a covalent bond and exist as separate compounds. Hereinafter, the anion outside the molecule of the dye structure is also referred to as a counter anion.

Q가 나타내는 폴리머쇄는, 색소 구조를 포함하고 있으면 특별히 정하는 것은 아니지만, (메트)아크릴계 수지, 스타이렌계 수지, 및 (메트)아크릴/스타이렌계 수지로부터 선택되는 1종인 것이 바람직하다.The polymer chain represented by Q is not particularly limited as long as it contains a dye structure, but it is preferably one selected from a (meth) acrylic resin, a styrene resin, and a (meth) acrylic / styrene resin.

또한, (메트)아크릴계 수지란, (메트)아크릴 수지를 주성분으로서 함유하는 수지를 의미한다. (메트)아크릴 수지를 주성분으로서 함유한다란, (메트)아크릴계 수지 중에, (메트)아크릴 수지를 50질량% 이상 함유하는 것이 바람직하고, 60질량% 이상 함유하는 것이 보다 바람직하며, 70질량% 이상 함유하는 것이 특히 바람직하다.The (meth) acrylic resin means a resin containing a (meth) acrylic resin as a main component. (Meth) acrylic resin as a main component means that the (meth) acrylic resin preferably contains 50 mass% or more of (meth) acrylic resin, more preferably 60 mass% or more, more preferably 70 mass% or more Is particularly preferable.

또, 스타이렌계 수지란, 스타이렌 수지를 주성분으로서 함유하는 수지를 의미한다. 스타이렌 수지를 주성분으로서 함유한다란, 스타이렌계 수지 중에, 스타이렌 수지를 50질량% 이상 함유하는 것이 바람직하고, 60질량% 이상 함유하는 것이 보다 바람직하며, 70질량% 이상 함유하는 것이 특히 바람직하다.The styrene-based resin means a resin containing a styrene resin as a main component. The term "containing styrene resin as a main component" means that the styrene resin preferably contains 50 mass% or more of styrene resin, more preferably 60 mass% or more, and particularly preferably 70 mass% or more .

또, (메트)아크릴/스타이렌계 수지란, (메트)아크릴 수지 및 스타이렌 수지를 주성분으로서 함유하는 수지를 의미한다. (메트)아크릴 수지 및 스타이렌 수지를 주성분으로서 함유한다란, (메트)아크릴/스타이렌계 수지 중에, (메트)아크릴 수지 및 스타이렌 수지를 합계로 50질량% 이상 함유하는 것이 바람직하고, 60질량% 이상 함유하는 것이 보다 바람직하며, 70질량% 이상 함유하는 것이 특히 바람직하다.The (meth) acrylic / styrene resin means a resin containing a (meth) acrylic resin and a styrene resin as main components. (Meth) acrylic resin and styrene resin as the main component means that the (meth) acrylic / styrene resin preferably contains 50 mass% or more of the total of (meth) acrylic resin and styrene resin, and 60 mass% Or more, more preferably 70 mass% or more.

이하, 폴리머쇄 Q에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the polymer chain Q will be described in detail.

<<<<색소 구조를 갖는 반복 단위의 골격 구조>>>><<<< Skeletal structure of repeating unit with pigment structure >>>>

색소 구조를 갖는 반복 단위의 골격 구조로서는, 특별히 정하는 것은 아니지만, 일본 공개특허공보 2013-28764호의 단락 번호 0276~0304에 나타나는, 일반식 (A), 일반식 (B), 및 일반식 (C)로 나타나는 구성 단위 중 적어도 하나를 골격으로 하는 것이 바람직하고, 또는 일반식 (D)로 나타나는 색소 다량체인 것이 바람직하다. 일본 공개특허공보 2013-28764호의 단락 번호 0276~0304의 기재는, 본원 명세서에 원용된다.(A), the general formula (B), and the general formula (C) shown in paragraphs 0276 to 0304 of Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2013-28764 are not particularly limited, but the skeleton structure of the repeating unit having a dye structure is not particularly limited, Is preferably a skeleton of at least one of the structural units represented by formula (D), or a large amount of a dye represented by formula (D). The description of paragraphs 0276 to 0304 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-28764 is incorporated herein by reference.

본 발명에서는, 하기 일반식 (a1-1)로 나타나는 반복 단위를 갖는 것이 바람직하다.In the present invention, it is preferable to have a repeating unit represented by the following general formula (a1-1).

또, 폴리머쇄 Q를 구성하는 전체 반복 단위 중에 있어서의, 색소 구조를 갖는 반복 단위의 합계는, 5~60몰%인 것이 바람직하고, 10~50몰%가 보다 바람직하며, 20~40몰%가 더 바람직하다.The total amount of repeating units having a dye structure in the total repeating units constituting the polymer chain Q is preferably from 5 to 60 mol%, more preferably from 10 to 50 mol%, still more preferably from 20 to 40 mol% Is more preferable.

[화학식 8][Chemical Formula 8]

Figure pat00008
Figure pat00008

일반식 (a1-1) 중, Q1은, 3가의 연결기를 나타내고, L1은, 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내며, D1은 색소 구조를 나타내고, "*"는 주쇄와의 결합손을 나타낸다.In formula (a1-1), Q 1 represents a trivalent linking group, L 1 represents a single bond or a divalent linking group, D 1 represents a dye structure, "*" represents a bond between the main chain .

일반식 (a1-1) 중, Q1은, 3가의 연결기를 나타낸다. Q1은, 중합에 의하여 형성되는 연결기로서, 중합 반응으로 형성되는 주쇄에 상당하는 반복 단위를 형성하는 부분을 가리킨다. 또한, 2개의 "*"로 나타난 부위가 반복 단위가 된다.In the general formula (a1-1), Q 1 represents a trivalent linking group. Q 1 is a linking group formed by polymerization, which refers to a moiety that forms a repeating unit corresponding to a main chain formed by a polymerization reaction. In addition, the parts indicated by two " * " are repeat units.

Q1로서는, 공지의 중합 가능한 모노머로부터 형성되는 연결기이면 특별히 제한은 없지만, 특히 하기 (XX-1)~(XX-24)로 나타나는 연결기가 바람직하고, (XX-1) 및 (XX-2)로 나타나는 (메트)아크릴계 연결쇄, (XX-10)~(XX-17)로 나타나는 스타이렌계 연결쇄, (XX-18) 및 (XX-19)와, (XX-24)로 나타나는 바이닐계 연결쇄로부터 선택되는 것이 보다 바람직하며, (XX-1) 및 (XX-2)로 나타나는 (메트)아크릴계 연결쇄, (XX-10)~(XX-17)로 나타나는 스타이렌계 연결쇄, (XX-24)로 나타나는 바이닐계 연결쇄로부터 선택되는 것이 보다 바람직하고, (XX-1) 및 (XX-2)로 나타나는 (메트)아크릴계 연결쇄 및 (XX-11)로 나타나는 스타이렌계 연결쇄가 보다 바람직하다.Q 1 is preferably a linking group represented by any of the following formulas (XX-1) to (XX-24), more preferably a linking group represented by any one of formulas (XX-1) Linking chain represented by (XX-10) to (XX-17), (XX-18) and (XX-19) and (XX-24) represented by More preferably a chain selected from the group consisting of a (meth) acrylic linkage chain represented by (XX-1) and (XX-2), a styrene-based chain represented by (XX- More preferably selected from vinyl-based connecting chains represented by (XX-1) and (XX-2), and more preferably the styrene-based connecting chains represented by (meth) acrylic connecting chains and Do.

(XX-1)~(XX-24) 중, *로 나타난 부위는 L1과 연결되어 있는 것을 나타낸다.(XX-1) to (XX-24), the part indicated by * indicates that it is connected to L 1 .

Me는 메틸기를 나타낸다. 또, (XX-18) 및 (XX-19) 중의 R은, 수소 원자, 탄소수 1~5의 알킬기 또는 페닐기를 나타낸다.Me represents a methyl group. In the formulas (XX-18) and (XX-19), R represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group.

[화학식 9][Chemical Formula 9]

Figure pat00009
Figure pat00009

[화학식 10][Chemical formula 10]

Figure pat00010
Figure pat00010

일반식 (a1-1) 중, L1은, 각각 독립적으로 단결합 또는 2가의 연결기를 나타낸다.In formula (a1-1), L 1 independently represents a single bond or a divalent linking group.

2가의 연결기로서는, 탄소수 1~30의 치환 혹은 무치환의 알킬렌기(예를 들면, 메틸렌기, 에틸렌기, 트라이메틸렌기, 프로필렌기, 뷰틸렌기 등), 탄소수 6~30의 치환 혹은 무치환의 아릴렌기(예를 들면, 페닐렌기, 나프틸렌기 등), 치환 혹은 무치환의 복소환기, -CH=CH-, -O-, -S-, -C(=O)-, -CO2-, -NR-, -CONR-, -O2C-, -SO-, -SO2- 및 이들을 2개 이상 연결하여 형성되는 연결기를 나타낸다. 또, L1은, 음이온을 포함하는 구성도 바람직하다. L1은, 단결합 또는 알킬렌기가 바람직하고, 단결합 또는 -(CH2)n-(n은 1~5의 정수)이 보다 바람직하다. 여기에서, R은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 알킬기, 아릴기, 또는 헤테로아릴기를 나타낸다.Examples of the divalent linking group include a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 30 carbon atoms (e.g., a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a propylene group, and a butylene group), a substituted or unsubstituted A substituted or unsubstituted heterocyclic group, -CH = CH-, -O-, -S-, -C (= O) -, -CO 2 -, or a substituted or unsubstituted arylene group (e.g., a phenylene group or a naphthylene group) , -NR-, -CONR-, -O 2 C- , -SO-, -SO 2 - , and these represent a bonding group formed by linking two or more. It is also preferable that L 1 contains an anion. L 1 is preferably a single bond or an alkylene group, more preferably a single bond or - (CH 2 ) n - (n is an integer of 1 to 5). Here, R represents, independently of each other, a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heteroaryl group.

D1은, 후술하는 색소 화합물에 유래하는 색소 구조를 나타낸다.D 1 represents a dye structure derived from a dye compound to be described later.

<<<<색소 구조>>>><<<< Pigment structure >>>>

색소 구조로서는, 특별히 제한은 없고, 공지의 색소 구조를 포함하는 다양한 것을 적용할 수 있다.The pigment structure is not particularly limited, and various ones including known pigment structures can be applied.

색소 구조를 형성할 수 있는 구체적인 색소 화합물에 대해서는 "신판 염료 편람"(유기 합성 화학 협회 편; 마루젠, 1970), "컬러 인덱스"(The Society of Dyers and colourists), "색소 핸드북"(오가와라 외 편; 고단샤, 1986) 등에 기재되어 있다.Specific dye compounds capable of forming a pigment structure are described in "New Edition Dye Handbook" (edited by Organic Synthetic Chemistry Association, Maruzen, 1970), "Society of Dyers and colourists", " Kodansha, 1986).

예를 들면, 퀴논 색소(벤조퀴논 색소, 나프토퀴논 색소, 안트라퀴논 색소, 안트라피리돈 색소 등), 카보늄 색소(다이아릴메테인 색소, 트라이아릴메테인 색소, 잔텐 색소, 아크리딘 색소 등), 퀴논이민 색소(옥사진 색소, 싸이아진 색소 등), 아진 색소, 폴리메타인 색소(옥소놀 색소, 메로사이아닌 색소, 아릴리덴 색소, 스타이릴 색소, 사이아닌 색소, 스쿠아릴륨 색소, 크로코늄 색소 등), 퀴노프탈론 색소, 프탈로사이아닌 색소, 서브프탈로사이아닌 색소, 페린온 색소, 인디고 색소, 싸이오인디고 색소, 퀴놀린 색소, 나이트로 색소, 나이트로소 색소, 다이피로메텐 색소, 아조 색소 및 그들의 금속 착체 색소로부터 선택되는 색소에 유래하는 색소 구조 등을 들 수 있다.Examples of the colorant include quinone dyes (benzoquinone dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes and anthrapyridone dyes), carbonium dyes (diarylmethane dyes, triarylmethane dyes, xanthine dyes, Etc.), quinone imine pigments (oxazine pigments, thiazine pigments, etc.), azine pigments, polymethine pigments (oxolin pigments, merocyanine pigments, aziridene pigments, stearyl pigments, cyanine pigments, squarylium A quinoline dye, a nitroso dye, a nitroso dye, a quinophthalone dye, a phthalocyanine dye, a subphthalocyanine dye, a perinone dye, an indigo dye, a thioindigo dye, A dye structure derived from a dye selected from a dipyramethane dye, an azo dye and a metal complex dye thereof.

이들 색소 구조 중에서도, 색분리성, 내광성의 관점에서, 트라이아릴메테인 색소, 잔텐 색소, 안트라퀴논 색소, 사이아닌 색소, 스쿠아릴륨 색소, 퀴노프탈론 색소, 프탈로사이아닌 색소, 서브프탈로사이아닌 색소, 아조 색소 및 다이피로메텐 색소로부터 선택되는 색소 구조가 바람직하고, 트라이아릴메테인 색소, 잔텐 색소, 안트라퀴논 색소, 스쿠아릴륨 색소, 퀴노프탈론 색소, 프탈로사이아닌 색소, 서브프탈로사이아닌 색소, 아조 색소 및 다이피로메텐 색소로부터 선택되는 색소 구조가 보다 바람직하며, 트라이아릴메테인 색소, 잔텐 색소가 더 바람직하다. Q가 나타내는 폴리머쇄에 포함되는 색소 구조는, 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 된다.Among these dye structures, from the viewpoints of color separation property and light resistance, it is preferable to use at least one of triarylmethane dye, xanthine dye, anthraquinone dye, cyanine dye, squarylium dye, quinophthalone dye, phthalocyanine dye, A dye structure selected from a dyes, a cyanine dyes, an azo dyes and a dipyramethine dyes is preferable, and a dye structure selected from among triarylmethane dyes, xanthine dyes, anthraquinone dyes, squarilium dyes, quinophthalone dyes, phthalocyanine dyes, More preferably a dye structure selected from phthalocyanine dyes, azo dyes and dipyramethine dyes, and more preferably a triarylmethane dye and a xanthine dye. The dye structure contained in the polymer chain represented by Q may be either one kind or two or more kinds.

이하, 본 발명에서 바람직하게 이용되는 색소 구조에 대하여 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the dye structure preferably used in the present invention will be described in detail.

<<<<<트라이아릴메테인 색소>>>>><<<<< Triaryl Methane Pigment >>>>>

본 발명에 있어서의 색소 구조의 바람직한 양태는, 트라이아릴메테인 색소(트라이아릴메테인 화합물)에 유래하는 부분 구조를 갖는 것이다. 트라이아릴메테인 색소로서는, 하기 식 (TP)로 나타나는 화합물을 들 수 있다. 트라이아릴메테인 화합물이란, 분자 내에 트라이아릴메테인 골격을 포함하는 색소 부위를 갖는 화합물을 총칭하는 것이다.A preferred embodiment of the dye structure in the present invention is one having a partial structure derived from a triarylmethane dye (triarylmethane compound). Examples of the triarylmethane dye include compounds represented by the following formula (TP). The term "triarylmethane compound" refers to a compound having a dye moiety having a triarylmethane skeleton in its molecule.

식 (TP)Equation (TP)

[화학식 11](11)

Figure pat00011
Figure pat00011

식 (TP) 중, Rtp1~Rtp4는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다. Rtp5는, 수소 원자, 알킬기, 아릴기 또는 NRtp9Rtp10(Rtp9 및 Rtp10은 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기를 나타냄)을 나타낸다. Rtp6, Rtp7 및 Rtp8은, 치환기를 나타낸다. a, b 및 c는, 0~4의 정수를 나타낸다. a, b 및 c가 2 이상인 경우, Rtp6, Rtp7 및 Rtp8은, 각각 연결되어 환을 형성해도 된다. X-는 음이온 구조를 나타낸다. X-가 존재하지 않는 경우는, Rtp1~Rtp7 중 적어도 하나가 음이온을 포함한다.In the formula (TP), Rtp 1 to Rtp 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. Rtp 5 is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or NRtp 9 Rtp 10 shows the (Rtp 9 and Rtp 10 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group). Rtp 6 , Rtp 7 and Rtp 8 represent a substituent. a, b and c represent an integer of 0 to 4; When a, b and c are two or more, Rtp 6 , Rtp 7 and Rtp 8 may be connected to form a ring. X - represents an anionic structure. When X - is not present, at least one of Rtp 1 to Rtp 7 contains an anion.

Rtp1~Rtp6으로서, 수소 원자, 탄소수 1~5의 직쇄 또는 분기의 알킬기 및 페닐기가 바람직하다. Rtp5는, 수소 원자 또는 NRtp9Rtp10이 바람직하고, NRtp9Rtp10이 특히 바람직하다. Rtp9 및 Rtp10은, 수소 원자, 탄소수 1~5의 직쇄 혹은 분기의 알킬기 또는 페닐기가 바람직하다. Rtp6, Rtp7 및 Rtp8이 나타내는 치환기는, 후술하는 치환기군 A의 항에서 든 치환기를 이용할 수 있는데, 특히, 탄소수 1~5의 직쇄 혹은 분기의 알킬기, 탄소수 1~5의 알켄일기, 탄소수 6~15의 아릴기, 카복실기 또는 설포기가 바람직하고, 탄소수 1~5의 직쇄 혹은 분기의 알킬기, 탄소수 1~5의 알켄일기, 페닐기 또는 카복실기가 더 바람직하다. 특히, Rtp6, Rtp8은, 탄소수 1~5의 알킬기가 바람직하고, Rtp7은, 알켄일기(특히 인접한 2개의 알켄일기가 연결된 페닐기가 바람직함), 페닐기 또는 카복실기가 바람직하다.As Rtp 1 to Rtp 6 , a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and a phenyl group are preferable. Rtp 5 is a hydrogen atom or NRtp 9 Rtp 10 are preferred, NRtp 9 Rtp 10 is particularly preferred. Rtp 9 and Rtp 10 are preferably a hydrogen atom, a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group. The substituent represented by Rtp 6 , Rtp 7 and Rtp 8 may be any of the substituents described in the Substituent Group A described later. In particular, the substituent may be a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, An aryl group, a carboxyl group or a sulfo group having 6 to 15 carbon atoms is preferable, and a straight or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 5 carbon atoms, a phenyl group or a carboxyl group is more preferable. In particular, Rtp 6 and Rtp 8 are preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and Rtp 7 is preferably an alkenyl group (particularly preferably a phenyl group to which two adjacent alkenyl groups are connected), a phenyl group or a carboxyl group.

a, b 또는 c는, 각각 독립적으로 0~4의 정수를 나타낸다. 특히 a 및 b는, 각각, 0 또는 1이 바람직하고, c는 0~2의 정수가 바람직하다.a, b, or c each independently represent an integer of 0 to 4; In particular, a and b are each preferably 0 or 1, and c is preferably an integer of 0 to 2.

Rtp1~Rtp7 중 적어도 하나가 음이온을 포함하는 경우, 음이온으로서는, Rtp1~Rtp7 중 적어도 하나가 일반식 (P)로 치환된 구조를 들 수 있다.When at least one of Rtp 1 to Rtp 7 contains an anion, examples of the anion include a structure in which at least one of Rtp 1 to Rtp 7 is substituted with a general formula (P).

일반식 (P)In general formula (P)

[화학식 12][Chemical Formula 12]

Figure pat00012
Figure pat00012

일반식 (P) 중, L은 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내고, X1은, -SO3 -, -COO-, -PO4 -, 하기 일반식 (A1)로 나타나는 구조를 포함하는 기 및 하기 일반식 (A2)로 나타나는 구조를 포함하는 기로부터 선택되는 적어도 1종으로부터 선택된다.In the general formula (P), L represents a single bond or a divalent linking group, X 1 is, -SO 3 -, -COO -, -PO 4 - group to which, comprises a structure represented by the general formula (A1) and Is selected from at least one group selected from the group comprising a structure represented by the following general formula (A2).

일반식 (A1)In formula (A1)

[화학식 13][Chemical Formula 13]

Figure pat00013
Figure pat00013

일반식 (A1) 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로 -SO2- 또는 -CO-를 나타낸다.In the general formula (A1), R 1 and R 2 each independently represent -SO 2 - or -CO-.

일반식 (A2)In general formula (A2)

[화학식 14][Chemical Formula 14]

Figure pat00014
Figure pat00014

일반식 (A2) 중, R3은, -SO2- 또는 -CO-를 나타낸다. R4 및 R5는 각각 독립적으로 -SO2-, -CO- 또는 -CN을 나타낸다.In the general formula (A2), R 3 represents -SO 2 - or -CO-. R 4 and R 5 each independently represent -SO 2 -, -CO- or -CN.

일반식 (P) 중, L은 단결합 또는 2가의 연결기를 나타낸다. 2가의 연결기로서는, -NR10-, -O-, -SO2-, 불소 치환 알킬렌기, 불소 치환 페닐렌기 또는 이들의 조합으로 이루어지는 기를 나타내는 것이 바람직하다. 특히, -NR10-과 -SO2-와 불소 치환 알킬렌기의 조합으로 이루어지는 기, -O-와 불소 치환 페닐렌기의 조합으로 이루어지는 기, 또는 -NR10-과 -SO2-와 불소 치환 페닐렌기의 조합으로 이루어지는 기가 바람직하다.In the general formula (P), L represents a single bond or a divalent linking group. The divalent linking group is preferably a group consisting of -NR 10 -, -O-, -SO 2 -, a fluorine-substituted alkylene group, a fluorine-substituted phenylene group, or a combination thereof. In particular, a group consisting of a combination of -NR 10 - and -SO 2 - and a fluorine-substituted alkylene group, a group formed by a combination of -O- and a fluorine-substituted phenylene group, -NR 10 - and -SO 2 - A group formed by a combination of cyanuric groups is preferable.

-NR10-에 있어서, R10은, 수소 원자 또는 탄소수 1~5의 알킬기를 나타내고, 수소 원자가 바람직하다.In -NR 10 -, R 10 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and is preferably a hydrogen atom.

불소 치환 알킬렌기의 탄소수는, 1~10이 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하며, 1~3이 더 바람직하다. 이들 알킬렌기는, 퍼플루오로알킬렌기가 보다 바람직하다. 불소 치환 알킬렌기의 구체예로서는, 다이플루오로메틸렌기, 테트라플루오로에틸렌기, 헥사플루오로프로필렌기 등을 들 수 있다.The fluorine-substituted alkylene group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, and more preferably 1 to 3 carbon atoms. These alkylene groups are more preferably perfluoroalkylene groups. Specific examples of the fluorine-substituted alkylene group include a difluoromethylene group, a tetrafluoroethylene group, and a hexafluoropropylene group.

불소 치환 페닐렌기의 탄소수는, 6~20이 바람직하고, 6~14가 보다 바람직하며, 6~10이 더 바람직하다. 불소 치환 페닐렌기의 구체예로서는, 테트라플루오로페닐렌기, 헥사플루오로-1-나프틸렌기, 헥사플루오로-2-나프틸렌기 등을 들 수 있다.The number of carbon atoms of the fluorine-substituted phenylene group is preferably from 6 to 20, more preferably from 6 to 14, and even more preferably from 6 to 10. Specific examples of the fluorine-substituted phenylene group include a tetrafluorophenylene group, a hexafluoro-1-naphthylene group and a hexafluoro-2-naphthylene group.

일반식 (P) 중, X1은, 음이온이며, -SO3 -, -COO-, 일반식 (A1)로 나타나는 구조를 포함하는 기 및 일반식 (A2)로 나타나는 구조를 포함하는 기로부터 선택되는 적어도 1종으로부터 선택되는 것이 바람직하다.In the general formula (P), X 1 is an anionic, -SO 3 -, -COO -, the formula selected from a group containing a structure represented by the group, and general formula (A2) containing a structure represented by (A1) , And the like.

일반식 (A1)로 나타나는 구조를 포함하는 기는, 상술한 일반식 (A1) 중, R1 및 R2 중 한쪽의 말단에, 불소 치환 알킬기를 갖는 것이 바람직하고, R1 및 R2 중 한쪽이 직접 불소 치환 알킬기와 결합하고 있는 것이 보다 바람직하다. 불소 치환 알킬기의 탄소수는, 1~10이 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하며, 1~3이 더 바람직하고, 1 또는 2가 보다 더 바람직하며, 1이 특히 바람직하다. 이들 알킬기는, 퍼플루오로알킬기가 보다 바람직하다. 불소 치환 알킬기의 구체예로서는, 트라이플루오로메틸기가 바람직하다.The group containing the structure represented by the general formula (A1) is preferably a fluorine-substituted alkyl group at one of the ends of R 1 and R 2 in the general formula (A1), and one of R 1 and R 2 More preferably a fluorine-substituted alkyl group. The number of carbon atoms of the fluorine-substituted alkyl group is preferably from 1 to 10, more preferably from 1 to 6, still more preferably from 1 to 3, still more preferably 1 or 2, These alkyl groups are more preferably perfluoroalkyl groups. As specific examples of the fluorine-substituted alkyl group, a trifluoromethyl group is preferable.

일반식 (A2)로 나타나는 구조를 포함하는 기는, 상술한 일반식 (A2) 중, R3~R5 중 적어도 어느 하나의 말단에, 불소 치환 알킬기를 갖는 것이 바람직하고, R3~R5 중 적어도 2개가 직접 불소 치환 알킬기와 결합하고 있는 것이 보다 바람직하다. 특히, R3~R5 중 적어도 2개의 말단에, 불소 치환 알킬기를 갖는 것이 바람직하고, R3~R5 중 적어도 2개가 직접 불소 치환 알킬기와 결합하고 있는 것이 보다 바람직하다. 불소 치환 알킬기는, 일반식 (A1)로 나타나는 구조를 포함하는 기에서 설명한 것과 동의이며, 바람직한 범위도 동일하다.Of the general formula (A2) group containing a structure represented by the above-described general formula (A2), R 3 ~ R in at least one of the ends of the 5, desirable to have a fluorine-substituted alkyl group, R 3 ~ R 5 And it is more preferable that at least two of them are bonded to the fluorine-substituted alkyl group directly. In particular, R 3 ~ R to at least two of the terminal 5, preferably has a fluorine-substituted alkyl group, more preferably that R 3 ~ R in combination with at least two fluorine-substituted alkyl group of 5 directly. The fluorine-substituted alkyl group is the same as that described in the group including the structure represented by formula (A1), and the preferable range is also the same.

<<<<<잔텐 색소>>>>><<<<< xanthan color >>>>>

본 발명에 있어서의 색소 구조의 바람직한 양태는, 잔텐 색소(잔텐 화합물)에 유래하는 부분 구조를 갖는 것이다. 잔텐 색소로서는, 하기 식 (J)로 나타나는 잔텐 화합물을 들 수 있다.A preferred embodiment of the dye structure in the present invention is one having a partial structure derived from a xanthine dye (xanthine compound). As the xanthene dye, a xanthene compound represented by the following formula (J) can be mentioned.

[화학식 15][Chemical Formula 15]

Figure pat00015
Figure pat00015

식 (J) 중, R81, R82, R83 및 R84는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1가의 치환기를 나타내고, R85는, 각각 독립적으로 1가의 치환기를 나타내며, m은, 0~5의 정수를 나타낸다. X-는, 반대 음이온을 나타낸다. X-가 존재하지 않는 경우는, R81~R85 중 적어도 하나가 음이온을 포함한다.In formula (J), R 81 , R 82 , R 83 and R 84 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent, R 85 each independently represents a monovalent substituent, Lt; / RTI &gt; X - represents a counter anion. When X &lt; - & gt ; is absent, at least one of R 81 to R 85 includes an anion.

식 (J)에 있어서의 R81~R85가 취할 수 있는 치환기는, 후술하는 치환기군 A의 항에서 든 치환기와 동일하다.The substituent group R 81 to R 85 in the formula (J) is the same as the substituent group in the group of Substituent Group A described later.

식 (J) 중의 R81과 R82, R83과 R84, 및 m이 2 이상인 경우의 R85끼리는, 각각 독립적으로, 서로 결합하여 5원, 6원 혹은 7원의 포화환, 또는 5원, 6원 혹은 7원의 불포화환을 형성하고 있어도 된다. 형성되는 5원, 6원 또는 7원의 환이, 추가로 치환 가능한 기인 경우에는, R81~R85에서 설명한 치환기로 치환되어 있어도 되고, 2개 이상의 치환기로 치환되어 있는 경우에는, 그들 치환기는 동일해도 되고 상이해도 된다.R 81 and R 82 in the formula (J), R 83 and R 84 , and R 85 when m is 2 or more are each independently bonded to form a 5-membered, 6-membered or 7-membered ring, , 6-membered or 7-membered unsaturated ring may be formed. When the 5-membered, 6-membered or 7-membered ring to be formed is a further substitutable group, the substituent may be substituted with the substituent described in R 81 to R 85 , and when the substituent is substituted with two or more substituents, May be different or different.

상기 식 (J) 중의 R81과 R82, R83과 R84, 및 m이 2 이상인 경우의 R85끼리는, 각각 독립적으로, 서로 결합하여, 치환기를 갖지 않는 5원, 6원과 7원의 포화환 또는 5원, 6원과 7원의 불포화환을 형성하는 경우, 치환기를 갖지 않는 5원, 6원과 7원의 포화환 또는 5원, 6원과 7원의 불포화환으로서는, 예를 들면 피롤환, 퓨란환, 싸이오펜환, 피라졸환, 이미다졸환, 트라이아졸환, 옥사졸환, 싸이아졸환, 피롤리딘환, 피페리딘환, 사이클로펜텐환, 사이클로헥센환, 벤젠환, 피리딘환, 피라진환, 피리다진환을 들 수 있고, 바람직하게는, 벤젠환, 피리딘환을 들 수 있다.R 81 and R 82 in the formula (J), R 83 and R 84 , and R 85 when m is 2 or more are each independently bonded to form a 5-membered, 6-membered or 7-membered When the unsaturated ring is a 5-membered, 5-membered, 6-membered or 7-membered unsaturated ring, the 5-membered, 6-membered or 7-membered monocyclic ring or the 5-membered, 6-membered or 7-membered unsaturated ring having no substituent A thiazole ring, a thiazole ring, an oxazole ring, a thiazole ring, a pyrrole ring, a piperidine ring, a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, a benzene ring, a pyridine ring , Pyrazine ring and pyridazin ring, and preferred examples thereof include a benzene ring and a pyridine ring.

음이온으로서는, 상술한 것을 들 수 있다.Examples of the anion include those described above.

특히, R82 및 R83은 수소 원자 또는 치환 또는 무치환의 알킬기이며, R81 및 R84는 치환 또는 무치환의 알킬기 또는 페닐기인 것이 바람직하다. 또, R85는 할로젠 원자, 탄소수 1~5의 직쇄 또는 분기의 알킬기, 설포기, 설폰아마이드기, 카복실기, 아마이드기인 것이 바람직하고, 설포기, 설폰아마이드기, 카복실기, 아마이드기인 것이 더 바람직하다. R85는 잔텐환과 연결된 탄소의 인접부에 결합하는 것이 바람직하다. R81 및 R84의 페닐기가 갖는 치환기는, 수소 원자, 할로젠 원자, 탄소수 1~5의 직쇄 또는 분기의 알킬기, 설포기, 설폰아마이드기, 카복실기인 것이 특히 바람직하다.In particular, it is preferable that R 82 and R 83 are a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, and R 81 and R 84 are a substituted or unsubstituted alkyl group or a phenyl group. R 85 is preferably a halogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a sulfo group, a sulfonamido group, a carboxyl group or an amido group, and more preferably a sulfo group, a sulfonamido group, a carboxyl group or an amido group desirable. It is preferred that R 85 is bonded to the adjacent portion of the carbon linked to the residual ring. The substituent of the phenyl group of R 81 and R 84 is particularly preferably a hydrogen atom, a halogen atom, a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a sulfo group, a sulfonamido group or a carboxyl group.

식 (J)로 나타나는 잔텐 골격을 갖는 화합물은, 문헌에 기재된 방법으로 합성할 수 있다. 구체적으로는, 테트라헤드론 레터스, 2003년, vol. 44, No. 23, 4355~4360페이지, 테트라헤드론, 2005년, vol. 61, No.12, 3097~3106페이지 등에 기재된 방법을 적용할 수 있다.The compound having the xanthane skeleton represented by the formula (J) can be synthesized by a method described in the literature. Specifically, Tetrahedron Letters, 2003, vol. 44, No. 23, pp. 4355-4360, Tetrahedron, 2005, vol. 61, No. 12, pages 3097 to 3106 can be applied.

X-가, 음이온을 나타내는 경우, 후술하는 반대 음이온이 별개의 분자인 경우의 기재를 참조할 수 있다.When X - represents an anion, reference can be made to a case where the opposite anion described later is a different molecule.

또, X-가 존재하지 않고, R81, R82, R83 및 R84 중 적어도 하나가 음이온을 포함하는 경우, 반대 음이온이 동일 구성 단위 내에 있는 경우의 기재를 참조할 수 있다.When X - is absent and at least one of R 81 , R 82 , R 83 and R 84 contains an anion, reference may be made to the description of the case where the opposite anion is present in the same constitutional unit.

또한, 색소 구조 중, 양이온은, 비국재화되어 있기 때문에, 예를 들면 이하에 나타내는 바와 같이, 질소 원자 또는 잔텐환의 탄소 원자 상에 존재하고 있다.Further, among the dye structures, the cations are present on the carbon atom of the nitrogen atom or the zirconium ring, as shown below, for example, since they are non-localized.

[화학식 16][Chemical Formula 16]

Figure pat00016
Figure pat00016

<<<<<안트라퀴논 색소>>>>><<<<< Anthraquinone color >>>>>

본 발명에 있어서의 색소 구조의 바람직한 양태는, 안트라퀴논 색소에 유래하는 부분 구조를 갖는 것이다. 안트라퀴논 색소(안트라퀴논 화합물)로서는, 하기 일반식 (AQ-1)~(AQ-3)으로 나타나는 화합물이 바람직하다. 안트라퀴논 화합물이란, 분자 내에 안트라퀴논 골격을 포함하는 색소 부위를 갖는 화합물을 총칭하는 것이다.A preferred embodiment of the dye structure in the present invention is one having a partial structure derived from an anthraquinone dye. As the anthraquinone dye (anthraquinone compound), compounds represented by the following general formulas (AQ-1) to (AQ-3) are preferable. An anthraquinone compound is a compound generally referred to as a compound having a dye moiety including an anthraquinone skeleton in a molecule.

[화학식 17][Chemical Formula 17]

Figure pat00017
Figure pat00017

일반식 (AQ-1) 중, A 및 B는, 각각 독립적으로 아미노기, 하이드록실기, 알콕시기 또는 수소 원자를 나타낸다. Xqa는 ORqa1 또는 NRqa2Rqa3을 나타낸다. Rqa1~Rqa3은 각각 독립적으로 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다. Rq1~Rq4는 치환기를 나타낸다. Rq1~Rq4가 취할 수 있는 치환기는, 후술하는 치환기군 A의 항에서 든 치환기와 동일하다. Ra 및 Rb는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다.In the general formula (AQ-1), A and B each independently represent an amino group, a hydroxyl group, an alkoxy group or a hydrogen atom. And Xqa represents ORqa 1 or NRqa 2 Rqa 3 . Each of Rqa 1 to Rqa 3 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. Rq 1 to Rq 4 represent substituents. The substituents Rq 1 to Rq 4 can take are the same as the substituents in the group of Substituent Group A described later. Ra and Rb each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.

일반식 (AQ-2) 중, C 및 D는, 일반식 (AQ-1) 중의 A 및 B와 동의이다. Xqb는 ORqb1 또는 NRqb2Rqb3을 나타낸다. Rqb1~Rqb3은 각각 독립적으로 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다. Rq5~Rq8은 치환기를 나타낸다. Rq5~Rq8은, 일반식 (AQ-1) 중의 Rq1~Rq4와 동의이다. Rc는, 일반식 (AQ-1) 중의 Ra 또는 Rb와 동의이다.In the general formula (AQ-2), C and D are synonymous with A and B in the general formula (AQ-1). And Xqb represents ORqb 1 or NRqb 2 Rqb 3 . Each of Rqb 1 to Rqb 3 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. Rq Rq 5 ~ 8 represents a substituent. Rq 5 to Rq 8 are the same as Rq 1 to Rq 4 in the general formula (AQ-1). Rc is synonymous with Ra or Rb in formula (AQ-1).

일반식 (AQ-3) 중, E 및 F는, 일반식 (AQ-1) 중의 A 및 B와 동의이다. Xqc는 ORqc1 또는 NRqc2Rqc3을 나타낸다. Rqc1~Rqc3은 각각 독립적으로 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다. Rq9~Rq12는, 일반식 (AQ-1) 중의 Rq1~Rq4와 동의이다. Rd는, 일반식 (AQ-1) 중의 Ra 또는 Rb와 동의이다.In the general formula (AQ-3), E and F are synonymous with A and B in the general formula (AQ-1). Xqc represents ORqc 1 or NRqc 2 Rqc 3 . Each of Rqc 1 to Rqc 3 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. Rq Rq 9 ~ 12 is a Rq Rq 1 ~ 4 and the consent of the general formula (AQ-1). Rd is synonymous with Ra or Rb in the general formula (AQ-1).

일반식 (AQ-1), (AQ-2) 및 (AQ-3)의 바람직한 범위로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0045~0047을 참조할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 원용된다.As a preferable range of the general formulas (AQ-1), (AQ-2) and (AQ-3), for example, see paragraphs 0045 to 0047 of Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2013-29760, .

안트라퀴논 색소로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0049~0050을 참조할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 원용된다.As an anthraquinone dye, for example, refer to paragraphs 0049 to 0050 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-29760, the contents of which are incorporated herein by reference.

<<<<<사이아닌 색소>>>>><<<<< Cyanine color >>>>>

본 발명에 있어서의 색소 구조의 바람직한 양태는, 사이아닌 색소(사이아닌 화합물)에 유래하는 부분 구조를 갖는 것이다. 사이아닌 색소로서는, 하기 일반식 (PM)으로 나타나는 화합물(사이아닌 화합물)이 바람직하다. 본 발명에 있어서 사이아닌 화합물이란, 분자 내에 사이아닌 골격을 포함하는 색소 부위를 갖는 화합물을 총칭하는 것이다.A preferred embodiment of the dye structure in the present invention is one having a partial structure derived from a cyanine dye (a cyanide compound). As the cyanine dye, a compound (cyanide compound) represented by the following general formula (PM) is preferable. In the present invention, a cyanide compound refers to a compound having a dye site including a cyanide skeleton in a molecule.

[화학식 18][Chemical Formula 18]

Figure pat00018
Figure pat00018

일반식 (PM) 중, 환 Z1 및 환 Z2는, 각각 독립적으로 치환기를 가져도 되는 복소환을 나타낸다. l은 0 이상 3 이하의 정수를 나타낸다. X-는 음이온을 나타낸다.In the general formula (PM), ring Z1 and ring Z2 each independently represent a heterocyclic ring which may have a substituent. and l represents an integer of 0 or more and 3 or less. X - represents an anion.

일반식 (PM)의 바람직한 범위로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0077~0084를 참조할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 원용된다. 또한, 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0077~0084에 기재된 사이아닌 색소의 구체예에 있어서, 사이아닌 색소 구조 중 어느 하나의 수소 원자가, 일반식 (1)의 R2와 결합한다.As a preferable range of the general formula (PM), for example, reference can be made to paragraphs 0077 to 0084 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-29760, which is incorporated herein by reference. In the specific example of the cyanine dye described in paragraphs 0077 to 0084 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-29760, any one hydrogen atom of the cyanine dye structure binds to R 2 of the general formula (1).

<<<<<스쿠아릴륨 색소>>>>><<<<< Squarylium pigment >>>>>

본 발명에 있어서의 색소 구조의 바람직한 양태는, 스쿠아릴륨 색소(스쿠아릴륨 화합물)에 유래하는 부분 구조를 갖는 것이다. 스쿠아릴륨 색소로서는, 하기 일반식 (K)로 나타나는 화합물(스쿠아릴륨 화합물)이 바람직하다. 본 발명에 있어서 스쿠아릴륨 화합물이란, 분자 내에 스쿠아릴륨 골격을 포함하는 색소 부위를 갖는 화합물을 총칭하는 것이다.A preferred embodiment of the dye structure in the present invention is one having a partial structure derived from a squarylium dye (squarylium compound). As the squarylium dye, a compound represented by the following formula (K) (squarylium compound) is preferable. In the present invention, the term "squarylium compound" refers to a compound having a dye moiety including a squarylium skeleton in its molecule.

[화학식 19][Chemical Formula 19]

Figure pat00019
Figure pat00019

일반식 (K) 중, A 및 B는, 각각 독립적으로, 아릴기 또는 헤테로환기를 나타낸다. 아릴기로서는, 바람직하게는 탄소수 6~48, 보다 바람직하게는 6~24의 아릴기이고, 예를 들면 페닐, 나프틸 등을 들 수 있다. 헤테로환기로서는 5원환 또는 6원환의 헤테로환기가 바람직하고, 예를 들면 피로일, 이미다조일, 피라조일, 싸이엔일, 피리딜, 피리미딜, 피리다질, 트라이아졸-1-일, 퓨릴, 싸이아다이아조일 등을 들 수 있다.In the general formula (K), A and B each independently represent an aryl group or a heterocyclic group. The aryl group is preferably an aryl group having 6 to 48 carbon atoms, more preferably 6 to 24 carbon atoms, and examples thereof include phenyl and naphthyl. The heterocyclic group is preferably a 5- or 6-membered heterocyclic group such as pyrroyl, imidazoyl, pyrazolyl, thienyl, pyridyl, pyrimidyl, pyridazyl, triazol- Thia diamonds, and the like.

일반식 (K)의 바람직한 범위로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0088~0106을 참조할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 원용된다.As a preferable range of the general formula (K), reference may be made, for example, to paragraphs 0088 to 0106 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-29760, the contents of which are incorporated herein by reference.

스쿠아릴륨 색소의 구체예로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0105를 참조할 수 있다.As a specific example of the squarylium dye, see, for example, paragraph 0105 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-29760.

<<<<<퀴노프탈론 색소>>>>><<<<< Quinofthalone color >>>>>

본 발명에 있어서의 색소 구조의 바람직한 양태는, 퀴노프탈론 색소(퀴노프탈론 화합물)에 유래하는 부분 구조를 갖는 것이다. 퀴노프탈론 색소로서는, 하기 일반식 (QP)로 나타나는 화합물(퀴노프탈론 화합물)이 바람직하다. 본 발명에 있어서 퀴노프탈론 화합물이란, 분자 내에 퀴노프탈론 골격을 포함하는 색소 부위를 갖는 화합물을 총칭하는 것이다.A preferred embodiment of the dye structure in the present invention is one having a partial structure derived from a quinophthalone dye (quinophthalone compound). As the quinophthalone dye, a compound represented by the following general formula (QP) (quinophthalone compound) is preferable. The quinophthalone compound in the present invention refers to a compound having a dye moiety having a quinophthalone skeleton in its molecule.

[화학식 20][Chemical Formula 20]

Figure pat00020
Figure pat00020

일반식 (QP) 중, Rqp1~Rqp6은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환기를 나타낸다. Rqp1~Rqp6 중 적어도 2개가 인접위에 있는 경우는, 서로 결합하여 환을 형성해도 되고, 상기 형성된 환이 치환기를 더 가져도 된다.In the general formula (QP), each of Rqp 1 to Rqp 6 independently represents a hydrogen atom or a substituent. When at least two of Rqp 1 to Rqp 6 are adjacent to each other, they may be bonded to each other to form a ring, and the ring formed may further have a substituent.

일반식 (QP)의 바람직한 범위로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0110~0114를 참조할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 원용된다.As a preferable range of the general formula (QP), for example, see paragraphs 0110 to 0114 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-29760, which is incorporated herein by reference.

퀴노프탈론 색소의 구체예로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0113의 기재를 참조할 수 있다.As a specific example of the quinophthalone dye, reference can be made, for example, to paragraph 0113 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-29760.

<<<<<프탈로사이아닌 색소>>>>><<<<< phthalocyanine color >>>>>

본 발명에 있어서의 색소 구조의 바람직한 양태는, 프탈로사이아닌 색소(프탈로사이아닌 화합물)에 유래하는 부분 구조를 갖는 것이다. 프탈로사이아닌 색소로서는, 하기 일반식 (F)로 나타나는 화합물(프탈로사이아닌 화합물)에 유래하는 부분 구조를 갖는 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서 프탈로사이아닌 화합물이란, 분자 내에 프탈로사이아닌 골격을 포함하는 색소 부위를 갖는 화합물을 총칭하는 것이다.A preferred embodiment of the dye structure in the present invention is one having a partial structure derived from a phthalocyanine dye (phthalocyanine compound). The phthalocyanine dye preferably has a partial structure derived from a compound represented by the following general formula (F) (phthalocyanine compound). The phthalocyanine compound in the present invention refers to a compound having a pigment moiety including a phthalocyanine skeleton in a molecule.

[화학식 21][Chemical Formula 21]

Figure pat00021
Figure pat00021

일반식 (F) 중, M1은 금속류를 나타내고, Z1, Z2, Z3, 및 Z4는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소 원자 및 질소 원자로부터 선택되는 원자를 포함하여 구성되는 6원환을 형성하기 위하여 필요한 원자군을 나타낸다.In Formula (F), M 1 represents a metal, and Z 1 , Z 2 , Z 3 , and Z 4 each independently represent a hydrogen atom, an atom selected from a hydrogen atom, a carbon atom, Represents the group of atoms necessary to form a ring.

일반식 (F)의 바람직한 범위로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0118~0124를 참조할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 원용된다.As a preferable range of the general formula (F), reference may be made, for example, to paragraphs 0118 to 0124 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-29760, the contents of which are incorporated herein by reference.

프탈로사이아닌 색소의 구체예로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0123을 참조할 수 있다.As specific examples of phthalocyanine pigments, see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-29760, paragraph 0123.

<<<<<서브프탈로사이아닌 색소>>>>><<<<< Subphthalocyanine pigment >>>>>

본 발명에 있어서의 색소 구조의 바람직한 양태는, 서브프탈로사이아닌 색소(서브프탈로사이아닌 화합물)에 유래하는 부분 구조를 갖는 것이다. 서브프탈로사이아닌 색소로서는, 하기 일반식 (SP)로 나타나는 화합물(서브프탈로사이아닌 화합물)이 바람직하다. 본 발명에 있어서 서브프탈로사이아닌 화합물이란, 분자 내에 서브프탈로사이아닌 골격을 포함하는 색소 부위를 갖는 화합물을 총칭하는 것이다.A preferred embodiment of the dye structure in the present invention is one having a partial structure derived from a subphthalocyanine dye (subphthalocyanine compound). As the subphthalocyanine dye, a compound represented by the following general formula (SP) (a subphthalocyanine compound) is preferable. In the present invention, a subphthalocyanine compound refers to a compound having a dye moiety including a subphthalocyanine skeleton in a molecule.

[화학식 22][Chemical Formula 22]

Figure pat00022
Figure pat00022

일반식 (SP) 중, Z1~Z12는, 각각 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 아릴기, 하이드록실기, 머캅토기, 아미노기, 알콕시기, 아릴옥시기, 싸이오에터기를 나타낸다. X는 음이온을 나타낸다.In formula (SP), Z 1 to Z 12 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a hydroxyl group, a mercapto group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group or a thioether group. X represents an anion.

일반식 (SP)의 바람직한 범위로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0128~0133을 참조할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 원용된다.As a preferable range of the general formula (SP), for example, reference can be made to paragraphs 0128 to 0133 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-29760, the contents of which are incorporated herein by reference.

서브프탈로사이아닌 색소의 구체예로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0132의 기재를 참조할 수 있다.As a specific example of the subphthalocyanine dye, for example, reference may be made to paragraph 0132 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-29760.

<<<<<아조 색소>>>>><<<<< Azo dye >>>>>

본 발명에 있어서의 색소 구조의 바람직한 양태는, 아조 색소(아조 화합물)에 유래하는 부분 구조를 갖는 것이다. 본 발명에 있어서 아조 화합물이란, 분자 내에 N=N기를 포함하는 색소 부위를 갖는 화합물을 총칭하는 것이다. 아조 색소로서는, 공지의 아조 색소(예를 들면, 치환 아조벤젠 등)로부터 적절히 선택하여 적용할 수 있다. 예를 들면, 아조 색소로서는, 일본 공개특허공보 2013-41097호의 단락 0084~0134의 기재, 및 일본 공개특허공보 2011-162760호의 단락 0029~0136의 기재를 참조할 수 있고, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.A preferred embodiment of the dye structure in the present invention is one having a partial structure derived from an azo dye (azo compound). In the present invention, an azo compound generally refers to a compound having a dye moiety containing N = N groups in a molecule. The azo dye can be appropriately selected from known azo dyes (for example, substituted azo benzene). For example, as the azo dye, reference can be made to the description of paragraphs 0084 to 0134 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-41097 and the description of paragraphs 0029 to 0136 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2011-162760, Is used.

<<<<<다이피로메텐 색소>>>>><<<<< Dipyromethane coloring >>>>>

본 발명에 관한 색소 구조의 양태의 하나는, 다이피로메텐 색소에 유래하는 부분 구조를 갖는 것이다. 다이피로메텐 색소로서는, 다이피로메텐 화합물, 및 다이피로메텐 화합물과 금속 또는 금속 화합물로부터 얻어지는 다이피로메텐 금속 착체 화합물이 바람직하다. 예를 들면, 다이피로메텐 색소로서는, 일본 공개특허공보 2011-95732호의 단락 0033~0136의 기재를 참조할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 원용된다.One embodiment of the dye structure according to the present invention is one having a partial structure derived from a dipyramethane dye. As the dipyrammethene dye, a dipyrammethene compound and a dipyrammethene metal complex compound obtained from a dipyrammethene compound and a metal or a metal compound are preferable. For example, as the dipyrammethene dye, reference can be made to the description of paragraphs 0033 to 0136 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2011-95732, the content of which is incorporated herein by reference.

상기 색소 구조는, 색소 구조 중의 수소 원자가 하기 치환기군 A로부터 선택된 치환기에 의하여 치환되어 있어도 된다.The hydrogen atom in the dye structure may be substituted with a substituent selected from Substituent Group A below.

(치환기군 A)(Substituent group A)

색소 구조가 가져도 되는 치환기로서는, 할로젠 원자(예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자), 알킬기(바람직하게는 탄소수 1~48, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의, 직쇄, 분기쇄, 또는 환상의 알킬기이고, 예를 들면 메틸, 에틸, 프로필, 아이소프로필, 뷰틸기(바람직하게는, t-뷰틸기), 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 2-에틸헥실, 도데실, 헥사데실, 사이클로프로필, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 1-노보닐, 1-아다만틸), 알켄일기(바람직하게는 탄소수 2~48, 보다 바람직하게는 탄소수 2~18의 알켄일기이고, 예를 들면 바이닐, 알릴, 3-뷰텐-1-일), 알카인일기(바람직하게는 탄소수 2~20, 보다 바람직하게는 탄소수 2~12, 특히 바람직하게는 탄소수 2~8이고, 예를 들면 프로파길, 3-펜타인일 등을 들 수 있음), 아릴기(바람직하게는 탄소수 6~48, 보다 바람직하게는 탄소수 6~24의 아릴기이고, 예를 들면 페닐, 나프틸), 헤테로환기(바람직하게는 탄소수 1~32, 보다 바람직하게는 탄소수 1~18의 헤테로환기이고, 예를 들면 2-싸이엔일, 4-피리딜, 2-퓨릴, 2-피리미딘일, 1-피리딜, 2-벤조싸이아졸일, 1-이미다졸일, 1-피라졸일, 벤조트라이아졸-1-일), 실릴기(바람직하게는 탄소수 3~38, 보다 바람직하게는 탄소수 3~18의 실릴기이고, 예를 들면 트라이메틸실릴, 트라이에틸실릴, 트라이뷰틸실릴, t-뷰틸다이메틸실릴, t-헥실다이메틸실릴), 하이드록실기, 사이아노기, 나이트로기, 알콕시기(바람직하게는 탄소수 1~48, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 알콕시기이고, 예를 들면 메톡시, 에톡시, 1-뷰톡시, 2-뷰톡시, 아이소프로폭시, t-뷰톡시, 도데실옥시, 사이클로알킬옥시기이며, 예를 들면 사이클로펜틸옥시, 사이클로헥실옥시), 아릴옥시기(바람직하게는 탄소수 6~48, 보다 바람직하게는 탄소수 6~24의 아릴옥시기이고, 예를 들면 페녹시, 1-나프톡시), 헤테로환 옥시기(바람직하게는 탄소수 1~32, 보다 바람직하게는 탄소수 1~18의 헤테로환 옥시기이고, 예를 들면 1-페닐테트라졸-5-옥시, 2-테트라하이드로피란일옥시), 실릴옥시기(바람직하게는 탄소수 1~32, 보다 바람직하게는 탄소수 1~18의 실릴옥시기이고, 예를 들면 트라이메틸실릴옥시, t-뷰틸다이메틸실릴옥시, 다이페닐메틸실릴옥시), 아실옥시기(바람직하게는 탄소수 2~48, 보다 바람직하게는 탄소수 2~24의 아실옥시기이고, 예를 들면 아세톡시, 피발로일옥시, 벤조일옥시, 도데칸오일옥시), 알콕시카보닐옥시기(바람직하게는 탄소수 2~48, 보다 바람직하게는 탄소수 2~24의 알콕시카보닐옥시기이고, 예를 들면 에톡시카보닐옥시, t-뷰톡시카보닐옥시, 사이클로알킬옥시카보닐옥시기이고, 예를 들면 사이클로헥실옥시카보닐옥시), 아릴옥시카보닐옥시기(바람직하게는 탄소수 7~32, 보다 바람직하게는 탄소수 7~24의 아릴옥시카보닐옥시기이고, 예를 들면 페녹시카보닐옥시),Examples of the substituent which the dye structure may have include a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom), an alkyl group (preferably having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, Branched or cyclic alkyl group and is, for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl (preferably t-butyl), pentyl, hexyl, heptyl, octyl, (Preferably an alkenyl group having 2 to 48 carbon atoms, more preferably an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, (Preferably having from 2 to 20 carbon atoms, more preferably from 2 to 12 carbon atoms, particularly preferably from 2 to 8 carbon atoms, such as, for example, vinyl, allyl and 3-butene- , 3-pentanyl and the like), an aryl group (preferably having 6 to 48 carbon atoms, more preferably 6 carbon atoms (For example, phenyl, naphthyl), a heterocyclic group (preferably a heterocyclic group having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 18 carbon atoms, such as 2-thienyl, 4 2-pyrimidinyl, 1-pyridyl, 2-benzothiazolyl, 1-imidazolyl, 1-pyrazolyl, benzotriazol- Is a silyl group having 3 to 38 carbon atoms, more preferably 3 to 18 carbon atoms, such as trimethylsilyl, triethylsilyl, tributylsilyl, t-butyldimethylsilyl, t-hexyldimethylsilyl) An alkoxy group (preferably having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, 1-butoxy, Butoxy, isopropoxy, t-butoxy, dodecyloxy, cycloalkyloxy groups such as cyclopentyloxy, cyclohexyloxy), aryloxy groups (For example, phenoxy, 1-naphthoxy), a heterocyclic oxy group (preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, Is a heterocyclic oxy group having 1 to 18 carbon atoms, such as 1-phenyltetrazole-5-oxy, 2-tetrahydropyranyloxy), a silyloxy group (preferably having 1 to 32 carbon atoms, (For example, trimethylsilyloxy, t-butyldimethylsilyloxy, diphenylmethylsilyloxy), an acyloxy group (preferably having 2 to 48 carbon atoms, more preferably a carbon number An alkoxycarbonyloxy group (preferably having 2 to 48 carbon atoms, more preferably 2 to 24 carbon atoms, such as acetoxy, pivaloyloxy, benzoyloxy, dodecanoyloxy) Alkoxycarbonyloxy group, for example ethoxycarbonyloxy, t-butoxycarbonyloxy , A cycloalkyloxycarbonyloxy group, for example, cyclohexyloxycarbonyloxy), an aryloxycarbonyloxy group (preferably an aryloxycarbonyloxy group having 7 to 32 carbon atoms, more preferably a carbon number 7 to 24, For example, phenoxycarbonyloxy),

카바모일옥시기(바람직하게는 탄소수 1~48, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 카바모일옥시기이고, 예를 들면 N,N-다이메틸카바모일옥시, N-뷰틸카바모일옥시, N-페닐카바모일옥시, N-에틸-N-페닐카바모일옥시), 설파모일옥시기(바람직하게는 탄소수 1~32, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 설파모일옥시기이고, 예를 들면 N,N-다이에틸설파모일옥시, N-프로필설파모일옥시), 알킬설폰일옥시기(바람직하게는 탄소수 1~38, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 알킬설폰일옥시기이고, 예를 들면 메틸설폰일옥시, 헥사데실설폰일옥시, 사이클로헥실설폰일옥시), 아릴설폰일옥시기(바람직하게는 탄소수 6~32, 보다 바람직하게는 탄소수 6~24의 아릴설폰일옥시기이고, 예를 들면 페닐설폰일옥시), 아실기(바람직하게는 탄소수 1~48, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 아실기이고, 예를 들면 폼일, 아세틸, 피발로일, 벤조일, 테트라데칸오일, 사이클로헥산오일), 알콕시카보닐기(바람직하게는 탄소수 2~48, 보다 바람직하게는 탄소수 2~24의 알콕시카보닐기이고, 예를 들면 메톡시카보닐, 에톡시카보닐, 옥타데실옥시카보닐, 사이클로헥실옥시카보닐, 2,6-다이-tert-뷰틸-4-메틸사이클로헥실옥시카보닐), 아릴옥시카보닐기(바람직하게는 탄소수 7~32, 보다 바람직하게는 탄소수 7~24의 아릴옥시카보닐기이고, 예를 들면 페녹시카보닐), 카바모일기(바람직하게는 탄소수 1~48, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 카바모일기이고, 예를 들면 카바모일, N,N-다이에틸카바모일, N-에틸-N-옥틸카바모일, N,N-다이뷰틸카바모일, N-프로필카바모일, N-페닐카바모일, N-메틸-N-페닐카바모일, N,N-다이사이클로헥실카바모일), 아미노기(바람직하게는 탄소수 32 이하, 보다 바람직하게는 탄소수 24 이하의 아미노기이고, 예를 들면 아미노, 메틸아미노, N,N-다이뷰틸아미노, 테트라데실아미노, 2-에틸헥실아미노, 사이클로헥실아미노), 아닐리노기(바람직하게는 탄소수 6~32, 보다 바람직하게는 6~24의 아닐리노기이고, 예를 들면 아닐리노, N-메틸아닐리노), 헤테로환 아미노기(바람직하게는 탄소수 1~32, 보다 바람직하게는 1~18의 헤테로환 아미노기이고, 예를 들면 4-피리딜아미노), 카본아마이드기(바람직하게는 탄소수 2~48, 보다 바람직하게는 2~24의 카본아마이드기이고, 예를 들면 아세트아마이드기, 벤즈아마이드기, 테트라데케인아마이드기, 피발로일아마이드기, 사이클로헥세인아마이드기), 유레이도기(바람직하게는 탄소수 1~32, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 유레이도기이고, 예를 들면 유레이도, N,N-다이메틸유레이도, N-페닐유레이도), 이미드기(바람직하게는 탄소수 36 이하, 보다 바람직하게는 탄소수 24 이하의 이미드기이고, 예를 들면 N-석신이미드기, N-프탈이미드기), 알콕시카보닐아미노기(바람직하게는 탄소수 2~48, 보다 바람직하게는 탄소수 2~24의 알콕시카보닐아미노기이고, 예를 들면 메톡시카보닐아미노, 에톡시카보닐아미노, t-뷰톡시카보닐아미노, 옥타데실옥시카보닐아미노, 사이클로헥실옥시카보닐아미노),A carbamoyloxy group (preferably a carbamoyloxy group having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as N, N-dimethylcarbamoyloxy, N-butylcarbamoyloxy, N-ethyl-N-phenylcarbamoyloxy), a sulfamoyloxy group (preferably a sulfamoyloxy group having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as N, N-diethyl Sulfamoyloxy, N-propylsulfamoyloxy), an alkylsulfonyloxy group (preferably an alkylsulfonyloxy group having 1 to 38 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as methylsulfonyloxy, hexadecyl (Preferably an arylsulfonyloxy group having 6 to 32 carbon atoms, more preferably 6 to 24 carbon atoms, such as phenylsulfonyloxy), an arylsulfonyloxy group (e.g., phenylsulfonyloxy), an arylsulfonyloxy group (Preferably an acyl group having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms , An alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 48 carbon atoms, more preferably having 2 to 24 carbon atoms, and examples of such an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, such as formyl, acetyl, pivaloyl, benzoyl, tetradecanyl, cyclohexanoyl) For example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, octadecyloxycarbonyl, cyclohexyloxycarbonyl, 2,6-di-tert-butyl-4-methylcyclohexyloxycarbonyl), aryloxycarbonyl groups Is preferably an aryloxycarbonyl group having 7 to 32 carbon atoms, more preferably 7 to 24 carbon atoms, such as phenoxycarbonyl), a carbamoyl group (preferably having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 48 carbon atoms, N-diethylcarbamoyl, N, N-dibutylcarbamoyl, N-propylcarbamoyl, N-phenylcarbamoyl, Carbamoyl, N-methyl-N-phenylcarbamoyl, N, N-dicyclohexylcarbamoyl), an amino group More preferably an amino group having not more than 24 carbon atoms, such as amino, methylamino, N, N-dibutylamino, tetradecylamino, 2-ethylhexylamino, cyclohexylamino) Is an anilino group having 6 to 32 carbon atoms, more preferably 6 to 24 carbon atoms, such as anilino, N-methylanilino), a heterocyclic amino group (preferably having 1 to 32 carbon atoms, (For example, 4-pyridylamino), a carbonamido group (preferably a carbonamido group having 2 to 48 carbon atoms, more preferably 2 to 24 carbon atoms, such as an acetamido group, (Preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as a ureido group, for example, a ureido group, a ureido group, a thienyl group, N, N-dimethyl N-phenylureido), an imide group (preferably an imide group having not more than 36 carbon atoms, more preferably not more than 24 carbon atoms, such as an N-succinimide group and an N-phthalimide group) An alkoxycarbonylamino group (preferably an alkoxycarbonylamino group having 2 to 48 carbon atoms, more preferably a carbon number of 2 to 24, such as methoxycarbonylamino, ethoxycarbonylamino, t-butoxycarbonylamino , Octadecyloxycarbonylamino, cyclohexyloxycarbonylamino),

아릴옥시카보닐아미노기(바람직하게는 탄소수 7~32, 보다 바람직하게는 탄소수 7~24의 아릴옥시카보닐아미노기이고, 예를 들면 페녹시카보닐아미노), 설폰아마이드기(바람직하게는 탄소수 1~48, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 설폰아마이드기이고, 예를 들면 메테인설폰아마이드기, 뷰테인설폰아마이드기, 벤젠설폰아마이드기, 헥사데케인설폰아마이드기, 사이클로헥세인설폰아마이드기), 설파모일아미노기(바람직하게는 탄소수 1~48, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 설파모일아미노기이고, 예를 들면 N,N-다이프로필설파모일아미노, N-에틸-N-도데실설파모일아미노), 아조기(바람직하게는 탄소수 1~32, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 아조기이고, 예를 들면 페닐아조기, 3-피라졸일아조기), 알킬싸이오기(바람직하게는 탄소수 1~48, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 알킬싸이오기이고, 예를 들면 메틸싸이오, 에틸싸이오, 옥틸싸이오, 사이클로헥실싸이오), 아릴싸이오기(바람직하게는 탄소수 6~48, 보다 바람직하게는 탄소수 6~24의 아릴싸이오기이고, 예를 들면 페닐싸이오), 헤테로환 싸이오기(바람직하게는 탄소수 1~32, 보다 바람직하게는 탄소수 1~18의 헤테로환 싸이오기이고, 예를 들면 2-벤조싸이아졸일싸이오, 2-피리딜싸이오, 1-페닐테트라졸일싸이오), 알킬설핀일기(바람직하게는 탄소수 1~32, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 알킬설핀일기이고, 예를 들면 도데케인설핀일), 아릴설핀일기(바람직하게는 탄소수 6~32, 보다 바람직하게는 탄소수 6~24의 아릴설핀일기이고, 예를 들면 페닐설핀일), 알킬설폰일기(바람직하게는 탄소수 1~48, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 알킬설폰일기이고, 예를 들면 메틸설폰일, 에틸설폰일, 프로필설폰일, 뷰틸설폰일, 아이소프로필설폰일, 2-에틸헥실설폰일, 헥사데실설폰일, 옥틸설폰일, 사이클로헥실설폰일), 아릴설폰일기(바람직하게는 탄소수 6~48, 보다 바람직하게는 탄소수 6~24의 아릴설폰일기이고, 예를 들면 페닐설폰일, 1-나프틸설폰일), 설파모일기(바람직하게는 탄소수 32 이하, 보다 바람직하게는 탄소수 24 이하의 설파모일기이고, 예를 들면 설파모일, N,N-다이프로필설파모일, N-에틸-N-도데실설파모일, N-에틸-N-페닐설파모일, N-사이클로헥실설파모일), 설포기, 포스포닐기(바람직하게는 탄소수 1~32, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 포스포닐기이고, 예를 들면 페녹시포스포닐, 옥틸옥시포스포닐, 페닐포스포닐), 포스핀오일아미노기(바람직하게는 탄소수 1~32, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 포스핀오일아미노기이고, 예를 들면 다이에톡시포스핀오일아미노, 다이옥틸옥시포스핀오일아미노), 알킬옥시카보닐옥시기(바람직하게는 탄소수 5~30, 보다 바람직하게는 탄소수 5~10의 알킬옥시카보닐옥시기) 등을 들 수 있다.An aryloxycarbonylamino group (preferably an aryloxycarbonylamino group having 7 to 32 carbon atoms, more preferably a carbon number 7 to 24, such as phenoxycarbonylamino), a sulfonamido group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, Preferably 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, and examples thereof include a methanesulfonamido group, a butanesulfonamido group, a benzenesulfonamido group, a hexadecanesulfonamido group, a cyclohexanesulfonamido group, , A sulfamoylamino group (preferably a sulfamoylamino group having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as N, N-dipropylsulfamoylamino, N-ethyl-N-dodecylsulfamoyl Amino), an azo group (preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably an azo group having 1 to 24 carbon atoms, such as phenyl azo group and 3-pyrazolyl azo group), an alkyl thio group (preferably having 1 to 48 carbon atoms, More preferably, Alkylthio groups having 1 to 24 carbon atoms, such as methylthio, ethylthio, octylthio, cyclohexylthio), arylthio groups (preferably having 6 to 48 carbon atoms, more preferably 6 to 48 carbon atoms, (Preferably phenylthio), a heterocyclic thio group (preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably a heterocyclic thio group having 1 to 18 carbon atoms, such as 2-benzothiazolyl, (Preferably an alkylsulfinyl group having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, and examples thereof include an alkylsulfinyl group, an alkylsulfinyl group, an alkylsulfinyl group, (Preferably an arylsulfinyl group having 6 to 32 carbon atoms, more preferably 6 to 24 carbon atoms, such as phenylsulfinyl), an alkylsulfonyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, 48, more preferably an alkylsulfonyl group having 1 to 24 carbon atoms, (Preferably having a carbon number of 6 or less, more preferably a carbon number of 1 to 6, and more preferably a carbon number of 1 to 6), a sulfonyl group, a sulfonyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group (Preferably an arylsulfonyl group having from 6 to 24 carbon atoms, more preferably a carbon number of 24 or less, and still more preferably an arylsulfonyl group having from 2 to 48 carbon atoms, more preferably a carbon number of 6 to 24, such as phenylsulfonyl and 1-naphthylsulfonyl) A sulfamoyl group such as sulfamoyl, N, N-dipropylsulfamoyl, N-ethyl-N-dodecylsulfamoyl, N-ethyl-N-phenylsulfamoyl, N-cyclohexylsulfamoyl) A phosphonyl group (preferably a phosphonyl group having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms such as phenoxyphosphonyl, octyloxyphosphonyl, phenylphosphonyl), a phosphine oil amino group (Preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, For example, diethoxyphosphine oil amino, dioctyloxyphosphine oil amino), an alkyloxycarbonyloxy group (preferably an alkyloxycarbonyloxy group having 5 to 30 carbon atoms, more preferably 5 to 10 carbon atoms ) And the like.

이들 치환기는 추가로 치환되어도 된다. 또 치환기가 2개 이상인 경우는, 동일해도 되고 상이해도 된다. 또, 가능한 경우에는 서로 연결되어 환을 형성하고 있어도 된다.These substituents may be further substituted. When two or more substituents are present, they may be the same or different. If possible, they may be connected to form a ring.

상세에 대해서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0027~0038을 참조할 수도 있고, 이 내용은 본원 명세서에 원용된다.For details, reference may be made, for example, to paragraphs 0027 to 0038 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-29760, the contents of which are incorporated herein by reference.

<<<<반대 음이온>>>><<<< The opposite negative ion >>>>

색소 구조가, 양이온과 반대 음이온으로 구성되는 경우, 반대 음이온으로서는 특별히 제한은 없지만, 내열성의 관점에서 비구핵성의 음이온인 것이 바람직하다. 비구핵성의 반대 음이온으로서는, 일본 공개특허공보 2007-310315호의 단락 번호 0075 등에 기재된 공지의 비구핵성 음이온이 바람직하다. 여기에서, 비구핵성이란, 가열에 의하여 색소를 구핵 공격하지 않는 성질을 의미한다.When the dye structure is composed of a cation and a counter anion, the counter anion is not particularly limited, but from the viewpoint of heat resistance, it is preferable that the anion is an anion. As the counter anion of the non-nucleophilic nature, a known non-nucleophilic anion described in JP-A-2007-310315, paragraph No. 0075 is preferable. Here, the term &quot; non-nucleophilic &quot; means a property of not attacking the pigment by nucleation.

반대 음이온으로서는, 설폰산 음이온, 카복실산 음이온, 설폰일이미드 음이온, 비스(알킬설폰일)이미드 음이온, 트리스(알킬설폰일)메타이드 음이온, 카복실산 음이온, 테트라아릴보레이트 음이온, -CON-CO-, -CON-SO2-, BF4 -, PF6 -, SbF6 -, B-(CN)3OCH3으로부터 선택되는 적어도 1종이 바람직하다. 보다 바람직하게는, 설폰산 음이온, 설폰일이미드 음이온, 비스(알킬설폰일)이미드 음이온, 트리스(알킬설폰일)메타이드 음이온, 카복실산 음이온, 테트라아릴보레이트 음이온, BF4 -, PF6 -, 및 SbF6 -으로부터 선택되는 적어도 1종이다.As the counter anion, sulfonic acid anion, carboxylic acid anion, sulfonyl imide anion, bis (alkylsulfonyl) imide anion and tris (alkylsulfonyl) methide anion, carboxylic acid anion, tetra aryl anion, -CON - CO- , -CON - SO 2 -, BF 4 - , PF 6 - , SbF 6 - and B - (CN) 3 OCH 3 . More preferably, a sulfonic acid anion, a sulfonylimide anion, a bis (alkylsulfonyl) imide anion, a tris (alkylsulfonyl) methide anion, a carboxylic acid anion, a tetraarylborate anion, BF 4 - , PF 6 - , And SbF 6 - .

이들 중에서도, 반대 음이온으로서는, 하기 (AN-1)~(AN-5)로 나타나는 구조를 갖는 비구핵성 음이온이 보다 바람직하다.Among them, as the counter anion, an unconjugated anion having a structure represented by the following (AN-1) to (AN-5) is more preferable.

[화학식 23](23)

Figure pat00023
Figure pat00023

식 (AN-1) 중, X1 및 X2는, 각각 독립적으로, 불소 원자 또는 불소 원자를 갖는 탄소수 1~10의 알킬기를 나타낸다. X1 및 X2는 서로 결합하여 환을 형성해도 된다.In the formula (AN-1), X 1 and X 2 each independently represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and having a fluorine atom or a fluorine atom. X 1 and X 2 may be bonded to each other to form a ring.

X1 및 X2는, 각각 독립적으로, 불소 원자 또는 불소 원자를 갖는 탄소수 1~10의 알킬기를 나타내고, 불소 원자 또는 불소 원자를 갖는 탄소수 1~10의 알킬기가 바람직하며, 탄소수 1~10의 퍼플루오로알킬기인 것이 보다 바람직하고, 탄소수 1~4의 퍼플루오로알킬기인 것이 더 바람직하며, 트라이플루오로메틸기가 특히 바람직하다.X 1 and X 2 each independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a fluorine atom or a fluorine atom and is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and having a fluorine atom or a fluorine atom, More preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and still more preferably a trifluoromethyl group.

[화학식 24]&Lt; EMI ID =

Figure pat00024
Figure pat00024

식 (AN-2) 중, X3, X4 및 X5는 각각 독립적으로, 불소 원자 또는 탄소수 1~10의 불소 원자를 갖는 알킬기를 나타낸다.In the formula (AN-2), X 3 , X 4 and X 5 each independently represent a fluorine atom or an alkyl group having a fluorine atom of 1 to 10 carbon atoms.

X3, X4 및 X5는, 각각 독립적으로, X1 및 X2와 동의이며, 바람직한 범위도 동의이다.X 3 , X 4 and X 5 are, each independently, the same as X 1 and X 2 , and the preferred range is also synonymous.

[화학식 25](25)

Figure pat00025
Figure pat00025

식 (AN-3) 중, X6은 탄소수 1~10의 불소 원자를 갖는 알킬기를 나타낸다.In the formula (AN-3), X 6 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a fluorine atom.

X6은, 탄소수 1~10의 퍼플루오로알킬기인 것이 바람직하고, 탄소수 1~4의 퍼플루오로알킬기인 것이 더 바람직하다.X 6 is preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

[화학식 26](26)

Figure pat00026
Figure pat00026

식 (AN-4) 중, X7은 탄소수 1~10의 불소 원자를 갖는 알킬렌기를 나타낸다.In the formula (AN-4), X 7 represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms and a fluorine atom.

X7은, 탄소수 1~10의 퍼플루오로알킬렌기인 것이 바람직하고, 탄소수 1~4의 퍼플루오로알킬렌기인 것이 더 바람직하다.X 7 is preferably a perfluoroalkylene group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably a perfluoroalkylene group having 1 to 4 carbon atoms.

[화학식 27](27)

Figure pat00027
Figure pat00027

식 (AN-5) 중, Ar1, Ar2, Ar3 및 Ar4는, 각각 독립적으로, 아릴기를 나타낸다.In the formula (AN-5), Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 and Ar 4 each independently represent an aryl group.

Ar1, Ar2, Ar3 및 Ar4는, 각각 독립적으로, 탄소수 6~20의 아릴기가 바람직하고, 탄소수 6~14의 아릴기가 보다 바람직하며, 탄소수 6~10의 아릴기가 더 바람직하다.Each of Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 and Ar 4 is preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, more preferably an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, and still more preferably an aryl group having 6 to 10 carbon atoms.

Ar1, Ar2, Ar3 및 Ar4가 나타내는 아릴기는, 치환기를 가져도 된다. 치환기를 갖는 경우, 할로젠 원자, 알킬기, 아릴기, 알콕시기, 카보닐기, 카보닐옥시기, 카바모일기, 설포기, 설폰아마이드기, 나이트로기 등을 들 수 있고, 할로젠 원자 및 알킬기가 바람직하며, 불소 원자, 알킬기가 보다 바람직하고, 불소 원자, 탄소수 1~4의 퍼플루오로알킬기가 더 바람직하다.The aryl group represented by Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 and Ar 4 may have a substituent. A halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, a carbonyl group, a carbonyloxy group, a carbamoyl group, a sulfo group, a sulfonamido group and a nitro group, More preferably a fluorine atom or an alkyl group, more preferably a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

Ar1, Ar2, Ar3 및 Ar4는, 각각 독립적으로, 할로젠 원자 및/또는 할로젠 원자를 갖는 알킬기를 갖는 페닐기가 보다 바람직하며, 불소 원자 및/또는 불소 원자를 갖는 알킬기를 갖는 페닐기가 더 바람직하다.Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 and Ar 4 are each independently preferably a phenyl group having an alkyl group having a halogen atom and / or a halogen atom, and more preferably a phenyl group having an alkyl group having a fluorine atom and / Is more preferable.

비구핵성의 반대 음이온은, 또, -B(CN)n1(ORa)4-n1(Ra는 탄소수 1~10의 알킬기 또는 탄소수 6~10의 아릴기를 나타내고, n1은 1~4의 정수를 나타냄)인 것이 바람직하다. 탄소수 1~10의 알킬기로서의 Ra는, 탄소수 1~6의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1~4의 알킬기가 보다 바람직하다. 탄소수 6~10의 아릴기로서의 Ra는, 페닐기, 나프틸기가 바람직하다.The counter anion of the non-nucleophilic group may also be -B (CN) n1 (OR a ) 4-n1 wherein R a is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, n1 is an integer of 1 to 4 ). R a as an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. R a as an aryl group having 6 to 10 carbon atoms is preferably a phenyl group or a naphthyl group.

n1은, 1~3이 바람직하고, 1~2가 보다 바람직하다.n1 is preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2.

비구핵성의 반대 음이온은, 또한, -PF6RP (6-n2) -(RP는 탄소수 1~10의 불소화 알킬기를 나타내고, n2는 1~6의 정수를 나타냄)인 것이 바람직하다. RP는, 탄소수 1~6의 불소 원자를 갖는 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1~4의 불소 원자를 갖는 알킬기가 보다 바람직하며, 탄소수 1~3의 퍼플루오로알킬기가 더 바람직하다.The counter anion of the non-nucleophilic group is also preferably -PF 6 R P (6-n 2) - (wherein R P is a fluorinated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and n 2 is an integer of 1 to 6). R P is preferably an alkyl group having a fluorine atom of 1 to 6 carbon atoms, more preferably an alkyl group having a fluorine atom of 1 to 4 carbon atoms, and more preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms.

n2는, 1~4의 정수가 바람직하고, 1 또는 2가 보다 바람직하다.n2 is preferably an integer of 1 to 4, more preferably 1 or 2.

비구핵성 반대 음이온의 1분자당 질량은, 100~1,000이 바람직하고, 200~500이 보다 바람직하다.The mass per molecule of the non-nucleophilic counter anion is preferably 100 to 1,000, more preferably 200 to 500.

색소 다량체 (A)는, 비구핵성 반대 음이온을 1종류만 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상을 포함하고 있어도 된다.The colorant oligomer (A) may contain only one kind of non-nucleophilic counter anion or two or more kinds of non-nucleophilic counter anions.

이하에, 비구핵성의 반대 음이온의 구체예를 나타내지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of counteranionic counter anions are shown below, but the present invention is not limited thereto.

[화학식 28](28)

Figure pat00028
Figure pat00028

[화학식 29][Chemical Formula 29]

Figure pat00029
Figure pat00029

[화학식 30](30)

Figure pat00030
Figure pat00030

[화학식 31](31)

Figure pat00031
Figure pat00031

이하에, 본 발명에서 바람직하게 이용되는, 색소 구조를 갖는 반복 단위의 구체예를 나타낸다. 본 발명은 이들에 한정되는 것이 아닌 것은 말할 필요도 없다.Specific examples of the repeating unit having a pigment structure, which is preferably used in the present invention, are shown below. It is needless to say that the present invention is not limited to these.

[화학식 32](32)

Figure pat00032
Figure pat00032

[화학식 33](33)

Figure pat00033
Figure pat00033

[화학식 34](34)

Figure pat00034
Figure pat00034

<<<<다른 반복 단위>>>><<<< Other Repeat Units >>>>

폴리머쇄 Q는, 상술한 색소 구조를 갖는 반복 단위 외에 다른 반복 단위를 포함하고 있어도 된다. 다른 반복 단위는, 중합성기, 산기 등의 관능기를 포함하고 있어도 된다. 관능기를 포함하고 있지 않아도 된다. 산기를 갖는 반복 단위 및 중합성기를 갖는 반복 단위로부터 선택되는 1종 이상을 갖는 것이 바람직하고, 산기를 갖는 반복 단위를 포함하는 것이 더 바람직하다.The polymer chain Q may contain a repeating unit other than the above-described repeating unit having a dye structure. The other repeating unit may contain a functional group such as a polymerizable group and an acid group. It may not contain a functional group. A repeating unit having an acid group and a repeating unit having a polymerizable group, and more preferably a repeating unit having an acid group.

중합성기로서는, 라디칼, 산, 열에 의하여 가교 가능한 공지의 중합성기를 이용할 수 있고, 예를 들면 에틸렌성 불포화 결합을 포함하는 기, 환상 에터기(에폭시기, 옥세테인기), 메틸올기 등을 들 수 있으며, 에틸렌성 불포화 결합을 포함하는 기가 바람직하고, (메트)아크릴로일기가 더 바람직하다. (메트)아크릴로일기는, 예를 들면 (메트)아크릴산 글리시딜과 3,4-에폭시사이클로헥실메틸(메트)아크릴레이트를 반응시켜 도입할 수 있다.As the polymerizable group, known polymerizable groups capable of crosslinking by radicals, acids and heat can be used, and examples thereof include groups containing ethylenic unsaturated bonds, cyclic ethers (epoxy groups, oxetane groups), methylol groups And a group containing an ethylenically unsaturated bond is preferable, and a (meth) acryloyl group is more preferable. The (meth) acryloyl group can be introduced, for example, by reacting glycidyl (meth) acrylate with 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate.

폴리머쇄 Q가 중합성기를 갖는 반복 단위를 포함하는 경우, 중합성기를 갖는 반복 단위의 비율은, 폴리머쇄 Q의 전체 반복 단위 100몰에 대하여, 예를 들면 5~50몰이 바람직하고, 10~40몰이 보다 바람직하다.When the polymer chain Q comprises a repeating unit having a polymerizable group, the proportion of the repeating unit having a polymerizable group is preferably 5 to 50 moles, more preferably 10 to 40 moles per 100 moles of the total repeating units of the polymer chain Q, The molar amount is more preferable.

산기로서는, 카복실기, 설폰산기, 인산기가 예시된다. 산기는 1종류만 포함되어 있어도 되고, 2종류 이상 포함되어 있어도 된다.Examples of the acid group include a carboxyl group, a sulfonic acid group and a phosphoric acid group. The acid group may be contained only in one kind or in two or more kinds.

폴리머쇄 Q가 산기를 갖는 반복 단위를 포함하는 경우, 산기를 갖는 반복 단위의 비율은, 폴리머쇄 Q의 전체 반복 단위 100몰에 대하여, 예를 들면 5~50몰이 바람직하고, 10~40몰이 보다 바람직하다.When the polymer chain Q contains a repeating unit having an acid group, the proportion of the repeating unit having an acid group is preferably 5 to 50 moles, more preferably 10 to 40 moles, per 100 moles of the total repeating units of the polymer chain Q desirable.

그 외의 관능기로서, 2~20개의 무치환의 알킬렌옥시쇄의 반복으로 이루어지는 기, 락톤기, 산무수물기, 아마이드기, 사이아노기 등의 현상 촉진기, 장쇄 및 환상 알킬기, 아랄킬기, 아릴기, 폴리알킬렌옥사이드기, 하이드록실기, 말레이미드기, 아미노기 등의 친소수성 조정기 등을 들 수 있고, 적절히 도입할 수 있다.Examples of the other functional groups include a repeating group of 2 to 20 unsubstituted alkyleneoxy chains, a development promoter such as a lactone group, an acid anhydride group, an amide group and a cyano group, a long chain and cyclic alkyl group, an aralkyl group, , A polyalkylene oxide group, a hydroxyl group, a maleimide group, and an amino group, and the like, and they can be suitably introduced.

2~20개의 무치환의 알킬렌옥시쇄의 반복으로 이루어지는 기에 있어서, 알킬렌옥시쇄의 반복의 수는, 2~10개가 바람직하고, 2~15개가 보다 바람직하며, 2~10개가 더 바람직하다. 1개의 알킬렌옥시쇄는, -(CH2)nO-로 나타나고, n은 정수인데, n은 1~10이 바람직하고, 1~5가 보다 바람직하며, 2 또는 3이 더 바람직하다.In the group consisting of repetition of 2 to 20 unsubstituted alkyleneoxy chains, the number of repeating alkyleneoxy chains is preferably 2 to 10, more preferably 2 to 15, and even more preferably 2 to 10 . One alkyleneoxy group is represented by - (CH 2 ) n O- and n is an integer, and n is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, and still more preferably 2 or 3.

다른 반복 단위의 구체예를 나타내지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of other repeating units are shown, but the present invention is not limited thereto.

[화학식 35](35)

Figure pat00035
Figure pat00035

[화학식 36](36)

Figure pat00036
Figure pat00036

[화학식 37](37)

Figure pat00037
Figure pat00037

<<<색소 구조를 포함하지 않는 폴리머쇄>>><<< Polymeric chain not containing pigment structure >>>

색소 다량체 (A)는, 색소 구조를 포함하지 않는 폴리머쇄를 갖고 있어도 된다.The colorant oligomer (A) may have a polymer chain not containing a dye structure.

색소 구조를 포함하지 않는 폴리머쇄로서는, 상술한 폴리머쇄 Q의 다른 반복 단위에서 설명한 반복 단위로 구성된 폴리머쇄를 들 수 있다.Examples of the polymer chain not including the dye structure include a polymer chain composed of repeating units described in other repeating units of the polymer chain Q described above.

<<색소 다량체 (A)의 제성질>><< Properties of pigment multimer (A) >>

색소 다량체 (A)의 중량 평균 분자량은, 1000~100000이 바람직하다. 하한은 예를 들면, 3000 이상이 보다 바람직하며, 4000 이상이 더 바람직하고, 5000 이상이 보다 더 바람직하다. 상한은, 50000 이하가 보다 바람직하며, 20000 이하가 더 바람직하고, 15000 이하가 보다 더 바람직하다. 중량 평균 분자량이 상기 범위이면, 이염성이 보다 양호하다. 나아가서는, 현상성이 향상되어, 현상 잔사의 발생을 보다 저감시킬 수 있다.The weight average molecular weight of the colorant oligomer (A) is preferably 1000 to 100000. The lower limit is, for example, more preferably 3000 or more, more preferably 4000 or more, and still more preferably 5000 or more. The upper limit is more preferably 50000 or less, more preferably 20000 or less, and even more preferably 15000 or less. If the weight average molecular weight is in the above range, the dyeing property is better. Further, the developability is improved, and the occurrence of the development residue can be further reduced.

색소 다량체 (A)의 산가는 10mgKOH/g 이상이 바람직하다. 하한은, 15mgKOH/g 이상이 보다 바람직하며, 20mgKOH/g 이상이 더 바람직하다. 상한은, 200mgKOH/g 이하가 보다 바람직하며, 150mgKOH/g 이하가 특히 바람직하다. 산가가 10mgKOH/g 이상이면, 현상성이 향상되어, 현상 잔사의 발생을 보다 저감시킬 수 있다.The acid value of the colorant oligomer (A) is preferably 10 mgKOH / g or more. The lower limit is more preferably 15 mgKOH / g or more, and more preferably 20 mgKOH / g or more. The upper limit is more preferably 200 mgKOH / g or less, and particularly preferably 150 mgKOH / g or less. When the acid value is 10 mgKOH / g or more, the developability is improved and the occurrence of the development residue can be further reduced.

색소 다량체 (A)의 비흡광도의 측정 방법은, 예를 들면 색소 다량체 (A)에 대하여 충분한 용해성을 갖는 용매를 이용하여, 400nm~800nm에서의 최대 흡광도가 1.0이 되도록 색소 다량체 (A)를 포함하는 용액의 농도를 조정하고, 이 용액의 25℃에서의 흡광도를, 광로 길이 1cm의 셀을 이용하여 측정하는 방법 등을 들 수 있다. 비흡광도를 측정할 때의 용매는, 색소 다량체 (A)에 대하여 충분한 용해성을 갖는 것을 적절히 이용할 수 있다. 바람직한 용매로서는, 테트라하이드로퓨란, 메탄올, 아이소프로필알코올, 다이메틸설폭사이드, 아세토나이트릴, 아세트산 에틸, 헥세인, 톨루엔, 물, 농황산, 메테인설폰산 등을 들 수 있다. 테트라하이드로퓨란이 충분한 용해성을 갖는 경우에는 테트라하이드로퓨란을 이용한다.The non-absorbance of the colorant multimer (A) can be measured, for example, by using a solvent having sufficient solubility to the colorant multimer (A) to obtain a colorant oligomer (A) having a maximum absorbance at 400 nm to 800 nm of 1.0 ), And measuring the absorbance of the solution at 25 캜 using a cell having an optical path length of 1 cm. As the solvent for measurement of the non-absorbance, those having sufficient solubility in the colorant multimer (A) can be suitably used. Preferred examples of the solvent include tetrahydrofuran, methanol, isopropyl alcohol, dimethyl sulfoxide, acetonitrile, ethyl acetate, hexane, toluene, water, concentrated sulfuric acid and methanesulfonic acid. When tetrahydrofuran has sufficient solubility, tetrahydrofuran is used.

400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의, 하기 식 (Aλ)로 나타나는 비흡광도는, 5 이상이 바람직하고, 10 이상이 보다 바람직하며, 20 이상이 더 바람직하고, 30 이상이 특히 바람직하다. 비흡광도가 5 이상이면, 착색제로서 적합하게 이용할 수 있다.The specific absorbance expressed by the following formula (A?) At a maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, further preferably 20 or more, and particularly preferably 30 or more. When the specific absorbance is 5 or more, it can be suitably used as a coloring agent.

E=A/(c×l) …(Aλ)E = A / (cxl) ... (A?)

식 (Aλ) 중, E는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 비흡광도를 나타내고,In the formula (A?), E represents a non-absorbance at a maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,

A는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 흡광도를 나타내며,A represents the absorbance at the maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,

l은, 단위가 cm로 나타나는 셀 길이를 나타내고,l represents the cell length in cm,

c는, 단위가 mg/ml로 나타나는, 용액 중의 색소 다량체의 농도를 나타낸다.c represents the concentration of the pigment multimer in the solution in units of mg / ml.

색소 다량체 (A)는, 염료인 것이 바람직하다. 염료란, 물 또는 유기 용제에 실질적인 용해도를 갖는 색소를 가리키고, 특히 이하의 유기 용제에 용해되는 유기 용제 용해성 염료인 것이 바람직하다.The dye-sensitized compound (A) is preferably a dye. The dye is a dye which has a substantial solubility in water or an organic solvent, and is preferably an organic solvent soluble dye soluble in the following organic solvent.

유기 용제로서는, 에스터류(예를 들면, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 락트산 에틸, 아세트산 뷰틸, 3-메톡시프로피온산 메틸 등), 에터류(예를 들면 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 프로필렌글라이콜모노메틸에터, 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트 등), 케톤류(메틸에틸케톤, 사이클로헥산온, 2-헵탄온, 3-헵탄온 등), 방향족 탄화 수소류(예를 들면, 톨루엔, 자일렌 등)를 들 수 있으며, 이들 유기 용제에 대하여, 1~50질량% 용해하는 것이 바람직하고, 5~40질량% 용해하는 것이 보다 바람직하며, 10~30질량% 용해하는 것이 특히 바람직하다. 이 범위에 있음으로써, 본 발명의 착색 조성물을 컬러 필터 등의 제작에 적용할 때에, 도포면 형상이 적합해지고, 또, 다른 색 도포 후의 용출에 의한 농도 저하를 보다 저감시킬 수 있다.Examples of the organic solvent include esters (e.g., methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl lactate, butyl acetate and methyl 3-methoxypropionate), ethers Acetone, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate), ketones (methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3- , And aromatic hydrocarbon (for example, toluene, xylene, etc.). The solvent is preferably dissolved in an amount of 1 to 50 mass%, more preferably 5 to 40 mass% And particularly preferably 10 to 30% by mass. Within this range, when the coloring composition of the present invention is applied to the production of a color filter or the like, the shape of the coated surface becomes suitable, and the concentration lowering due to elution after coating with other colors can be further reduced.

본 발명의 착색 조성물에 있어서는, 색소 다량체 (A)를 1종 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상 병용해도 된다.In the coloring composition of the present invention, the colorant oligomer (A) may be used singly or in combination of two or more.

본 발명의 착색 조성물 중에 있어서의 색소 다량체 (A)의 함유량은, 후술하는 다른 색소(바람직하게는 안료) 등과의 함유 비율을 고려한 후 설정된다.The content of the colorant multimer (A) in the coloring composition of the present invention is set after considering the content ratio with other coloring matters (preferably, pigment) described later.

안료에 대한 색소 다량체의 질량비(색소 다량체 (A)/안료)로서는, 0.1~5가 바람직하고, 0.2~2가 보다 바람직하며, 0.3~1이 더 바람직하다.The mass ratio of the pigment to the pigment (pigment / polymer (A) / pigment) is preferably from 0.1 to 5, more preferably from 0.2 to 2, still more preferably from 0.3 to 1.

본 발명의 착색 조성물에 있어서의 색소 다량체 (A)의 함유량은, 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여 1~50질량%가 바람직하고, 5~30질량%가 더 바람직하며, 10~25질량%가 특히 바람직하다.The content of the colorant multimer (A) in the coloring composition of the present invention is preferably from 1 to 50 mass%, more preferably from 5 to 30 mass%, and still more preferably from 10 to 25 mass%, based on the total solid content of the coloring composition Particularly preferred.

<<색소 다량체 (A)의 합성 방법>>&Lt; Synthesis method of dye multimer (A) &gt;

상기 일반식 (1)로 나타나는 색소 다량체의 제조 방법은, 특별히 제한되지 않지만, 1분자 중에 3~10개의 싸이올기를 갖는 다관능 싸이올 화합물과, 색소 구조 및 라디칼 중합성기를 갖는 화합물을 라디칼 중합하는 방법에 의하여 제조할 수 있다. 이하, 색소 구조 및 라디칼 중합성기를 갖는 화합물을, "라디칼 중합성 색소 화합물"이라고도 한다.The method for producing the colorant multimer represented by the above general formula (1) is not particularly limited, but a multifunctional thiol compound having 3 to 10 thiol groups per molecule and a compound having a pigment structure and a radical polymerizable group are reacted with a radical Followed by polymerization. Hereinafter, the compound having a pigment structure and a radically polymerizable group is also referred to as a " radically polymerizable dye compound ".

라디칼 중합성 색소 화합물에 있어서, 색소 구조로서는, 상술한 것을 들 수 있다. 라디칼 중합성 색소 화합물에 있어서, 라디칼 중합성기로서는, 바이닐기, (메트)알릴기, (메트)아크릴로일기 등의 에틸렌성 불포화 결합을 포함하는 기를 들 수 있다.As the pigment structure in the radical polymerizable coloring matter compound, the above-mentioned ones can be mentioned. In the radical polymerizable dye compound, examples of the radically polymerizable group include groups containing an ethylenic unsaturated bond such as a vinyl group, (meth) allyl group, or (meth) acryloyl group.

보다 구체적으로는, 일반식 (3)으로 나타나는 화합물과, 라디칼 중합성 색소 화합물을 라디칼 중합하는 방법이 바람직하다.More specifically, a method of radically polymerizing a compound represented by the general formula (3) and a radical polymerizable dye compound is preferred.

P0-(SH)n …(3)P 0 - (SH) n ... (3)

일반식 (3) 중, P0은 n가의 연결기를 나타내며,In the general formula (3), P 0 represents a linking group of n,

SH는 싸이올기를 나타내고,SH represents a thiol group,

n은 3~10의 정수를 나타낸다.n represents an integer of 3 to 10;

일반식 (3)에 있어서, P0은, 1에서 100개까지의 탄소 원자, 0개에서 10개까지의 질소 원자, 0개에서 50개까지의 산소 원자, 1개에서 200개까지의 수소 원자, 및 0개에서 20개까지의 황 원자로 이루어지는 기가 포함되며, 무치환이어도 되고 치환기를 더 갖고 있어도 된다.In the general formula (3), P 0 represents an alkyl group having 1 to 100 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 200 hydrogen atoms , And a group consisting of 0 to 20 sulfur atoms, which may be unsubstituted or may further have a substituent.

P0이 나타내는 n가의 연결기는, 1에서 60개까지의 탄소 원자, 0개에서 10개까지의 질소 원자, 0개에서 40개까지의 산소 원자, 1개에서 120개까지의 수소 원자, 및 0개에서 10개까지의 황 원자로 이루어지는 기가 바람직하다. 보다 바람직하게는, 1에서 50개까지의 탄소 원자, 0개에서 10개까지의 질소 원자, 0개에서 30개까지의 산소 원자, 1개에서 100개까지의 수소 원자, 및 0개에서 7개까지의 황 원자로 이루어지는 기이다. 더 바람직하게는, 1에서 40개까지의 탄소 원자, 0개에서 8개까지의 질소 원자, 0개에서 20개까지의 산소 원자, 1개에서 80개까지의 수소 원자, 및 0개에서 5개까지의 황 원자로 이루어지는 기이다.The linking group represented by P &lt; 0 &gt; may have from 1 to 60 carbon atoms, from 0 to 10 nitrogen atoms, from 0 to 40 oxygen atoms, from 1 to 120 hydrogen atoms, and from 0 Groups consisting of up to 10 sulfur atoms are preferred. More preferably from 1 to 50 carbon atoms, from 0 to 10 nitrogen atoms, from 0 to 30 oxygen atoms, from 1 to 100 hydrogen atoms, and from 0 to 7 Of the sulfur atom. More preferably from 1 to 40 carbon atoms, from 0 to 8 nitrogen atoms, from 0 to 20 oxygen atoms, from 1 to 80 hydrogen atoms, and from 0 to 5 Of the sulfur atom.

P0이 나타내는 n가의 연결기는, 다가 알코올로부터 유도되는 연결기인 것이 바람직하다.The n-valent linking group represented by P 0 is preferably a linking group derived from a polyhydric alcohol.

일반식 (3)으로 나타나는 화합물은, 일반식 (4)로 나타나는 화합물이 바람직하다.The compound represented by the general formula (3) is preferably the compound represented by the general formula (4).

A0-(B0-C0-SH)n …(4)A 0 - (B 0 -C 0 -SH) n - (4)

일반식 (4) 중, A0은 n가의 연결기를 나타내고,In the general formula (4), A 0 represents a linking group of n,

B0은 단결합, -O-, -S-, -CO-, -NR-, -O2C-, -CO2-, -NROC-, 또는 -CONR-을 나타내며,B 0 represents a single bond, -O-, -S-, -CO-, -NR-, -O 2 C-, -CO 2 -, -NROC- or -CONR-,

R은, 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기를 나타내고,R represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group,

C0은, 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내며,C 0 represents a single bond or a divalent linking group,

SH는 싸이올기를 나타내고,SH represents a thiol group,

n은 3~10의 정수를 나타낸다.n represents an integer of 3 to 10;

일반식 (4)에 있어서의 A0, B0 및 C0은 각각, 일반식 (2)에 있어서의 A1, B1 및 C1에 대하여 설명한 범위와 동의이며, 바람직한 양태도 동일하다.A 0 , B 0 and C 0 in the general formula (4) are in agreement with the ranges described for A 1 , B 1 and C 1 in the general formula (2), respectively, and preferred embodiments are also the same.

일반식 (3)으로 나타나는 화합물의 구체적인 예로서는, 이하의 화합물을 들 수 있다.Specific examples of the compound represented by the general formula (3) include the following compounds.

[화학식 38](38)

Figure pat00038
Figure pat00038

[화학식 39][Chemical Formula 39]

Figure pat00039
Figure pat00039

[화학식 40](40)

Figure pat00040
Figure pat00040

상기 중에서도, 원료의 입수성, 합성의 용이성, 각종 용매에 대한 용해성의 관점에서, 특히 바람직한 화합물은, (SH-1)~(SH-8), (SH-16)~(SH-20), (SH-22)~(SH-32)가 바람직하다.Among these, particularly preferred compounds are (SH-1) to (SH-8), (SH-16) to (SH-20), (SH-22) to (SH-32) are preferable.

다관능 싸이올 화합물과, 라디칼 중합성 색소 화합물의 라디칼 중합은, 예를 들면 다관능 싸이올 화합물과, 라디칼 중합성 색소 화합물을 적당한 용매 중에 용해하고, 여기에 라디칼 발생제를 첨가하여, 약 50℃~100℃에서, 부가시키는 방법(싸이올-엔 반응법)을 이용하여 행할 수 있다.The radical polymerization of the polyfunctional thiol compound and the radical polymerizable dye compound can be carried out, for example, by dissolving the polyfunctional thiol compound and the radical polymerizable dye compound in an appropriate solvent, adding a radical generator thereto, At a temperature of from room temperature to 100 ° C (thiol-ene reaction method).

싸이올-엔 반응법에서 이용되는 적당한 용매의 예로서는, 다관능 싸이올 화합물 및 라디칼 중합성 색소 화합물의 용해성에 따라 임의로 선택할 수 있다.Examples of a suitable solvent to be used in the thiol-ene reaction method may be arbitrarily selected depending on the solubility of the polyfunctional thiol compound and the radical polymerizable dye compound.

예를 들면, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 아이소프로판올, 1-메톡시-2-프로판올, 1-메톡시-2-프로필아세테이트, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸아이소뷰틸케톤, 메톡시프로필아세테이트, 락트산 에틸, 아세트산 에틸, 아세토나이트릴, 테트라하이드로퓨란, 다이메틸폼아마이드, 클로로폼, 톨루엔을 들 수 있다. 이들 용매는, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.Methoxy-2-propanol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methoxypropyl acetate, ethyl lactate, ethyl lactate, , Ethyl acetate, acetonitrile, tetrahydrofuran, dimethylformamide, chloroform, and toluene. These solvents may be used in combination of two or more kinds.

또, 라디칼 발생제로서는, 2,2'-아조비스(아이소뷰티로나이트릴)(AIBN), 2,2'-아조비스-(2,4'-다이메틸발레로나이트릴), 2,2'-아조비스아이소뷰티르산 다이메틸과 같은 아조 화합물, 벤조일퍼옥사이드와 같은 과산화물, 및 과황산 칼륨, 과황산 암모늄과 같은 과황산염 등을 이용할 수 있다.Examples of the radical generator include 2,2'-azobis (isobutyronitrile) (AIBN), 2,2'-azobis- (2,4'-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis Azo compounds such as azobisisobutyrate, peroxides such as benzoyl peroxide, and persulfates such as potassium persulfate and ammonium persulfate.

<<중합성 화합물>><< Polymerizable compound >>

본 발명의 착색 조성물은, 중합성 화합물을 함유한다. 중합성 화합물로서는, 라디칼, 산, 열에 의하여 가교 가능한 공지의 화합물을 이용할 수 있다. 예를 들면, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 기, 환상 에터(에폭시, 옥세테인)기, 메틸올기 등을 갖는 화합물을 들 수 있다. 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 기로서는, 바이닐기, (메트)알릴기, (메트)아크릴로일기 등을 들 수 있다. 본 발명에 있어서, 중합성 화합물은, 3~6관능의 (메트)아크릴레이트 화합물인 것이 바람직하다.The coloring composition of the present invention contains a polymerizable compound. As the polymerizable compound, known compounds that can be crosslinked by radicals, acids and heat can be used. For example, a compound having an ethylenically unsaturated bond, a cyclic ether (epoxy, oxetane) group, a methylol group, or the like can be given. Examples of the group having an ethylenic unsaturated bond include a vinyl group, a (meth) allyl group, and a (meth) acryloyl group. In the present invention, the polymerizable compound is preferably a (meth) acrylate compound having 3 to 6 functional groups.

중합성 화합물은, 예를 들면 모노머, 프리폴리머(즉 2량체, 3량체 및 올리고머), 또는 그들의 혼합물과 그들의 다량체 등의 화학적 형태 중 어느 것이어도 된다.The polymerizable compound may be, for example, a monomer, a prepolymer (i.e., a dimer, a trimer and an oligomer), or a mixture thereof and a chemical form thereof such as a multimer thereof.

모노머, 프리폴리머의 예로서는, 불포화 카복실산(예를 들면, 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 크로톤산, 아이소크로톤산, 말레산 등)이나 그 에스터류, 아마이드류와, 이들의 다량체를 들 수 있고, 바람직하게는, 불포화 카복실산과 지방족 다가 알코올 화합물의 에스터, 및 불포화 카복실산과 지방족 다가 아민 화합물의 아마이드류와, 이들의 다량체이다. 또, 하이드록실기, 아미노기, 머캅토기 등의 구핵성 치환기를 갖는 불포화 카복실산 에스터 혹은 아마이드류와, 단관능 혹은 다관능 아이소사이아네이트류 혹은 에폭시류와의 부가 반응물이나, 단관능 혹은 다관능의 카복실산과의 탈수 축합 반응물 등도 적합하게 사용된다. 또, 아이소사이아네이트기, 에폭시기 등의 친전자성 치환기를 갖는 불포화 카복실산 에스터 혹은 아마이드류와, 단관능 혹은 다관능의 알코올류, 아민류, 싸이올류와의 반응물, 할로젠기나 토실옥시기 등의 탈리성 치환기를 갖는 불포화 카복실산 에스터 혹은 아마이드류와, 단관능 혹은 다관능의 알코올류, 아민류, 싸이올류와의 반응물도 적합하다. 또, 상기의 불포화 카복실산 대신에, 불포화 포스폰산, 스타이렌 등의 바이닐벤젠 유도체, 바이닐에터, 알릴에터 등으로 치환된 화합물군을 사용하는 것도 가능하다.Examples of monomers and prepolymers include unsaturated carboxylic acids (e.g., acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters thereof, amides, and oligomers thereof , Preferably an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, and an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound, and a multimer thereof. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group or a mercapto group with a monofunctional or multifunctional isocyanate or an epoxide, or a monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a carboxylic acid, and the like are suitably used. In addition, it is also possible to use an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group, a reaction product of a monofunctional or polyfunctional alcohol, an amine, a thiol, a halogen or a tosyloxy group Also suitable are unsaturated carboxylic acid esters or amides having a cleavable substituent and reacting with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines and thiols. It is also possible to use a group of compounds substituted with an unsaturated phosphonic acid, a vinylbenzene derivative such as styrene, a vinyl ether, an ally ether or the like in place of the above unsaturated carboxylic acid.

이들의 구체적인 화합물로서는, 일본 공개특허공보 2009-288705호의 단락 번호 〔0095〕~〔0108〕 에 기재되어 있는 화합물을 본 발명에 있어서도 적합하게 이용할 수 있다.As specific compounds of these compounds, compounds described in paragraphs [0095] to [0108] of JP-A No. 2009-288705 can be suitably used in the present invention.

또, 중합성 화합물은, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 기를 1개 이상 갖는, 상압하에서 100℃ 이상의 비점을 갖는 화합물도 바람직하다. 그 예로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0227, 일본 공개특허공보 2008-292970호의 단락 번호 0254~0257에 기재된 화합물을 참조할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 원용된다.The polymerizable compound is also preferably a compound having at least one group having an ethylenic unsaturated bond and a boiling point of at least 100 캜 at normal pressure. As an example thereof, reference may be made to the compounds described in paragraphs 0227 and 02257 of JP-A-2013-29760 and paragraphs 0254 to 0257 of JP-A-2008-292970, the contents of which are incorporated herein by reference.

중합성 화합물은, 다이펜타에리트리톨트라이아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD D-330; 닛폰 가야쿠 가부시키가이샤제), 다이펜타에리트리톨테트라아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD D-320; 닛폰 가야쿠 가부시키가이샤제), 다이펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD D-310; 닛폰 가야쿠 가부시키가이샤제), 다이펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD DPHA; 닛폰 가야쿠 가부시키가이샤제, A-DPH-12E; 신나카무라 가가쿠사제), 및 이들의 (메트)아크릴로일기가 에틸렌글라이콜, 프로필렌글라이콜 잔기를 개재하고 있는 구조(예를 들면, 사토머사로부터 시판되고 있는, SR454, SR499)가 바람직하다. 이들의 올리고머 타입도 사용할 수 있다. 이하에 바람직한 중합성 화합물의 양태를 나타낸다.As the polymerizable compound, dipentaerythritol triacrylate (KAYARAD D-330, Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha) and dipentaerythritol tetraacrylate (KAYARAD D-320, Nippon Kayaku Co., Ltd., (KAYARAD D-310 manufactured by Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha), dipentaerythritol hexa (meth) acrylate (commercially available as KAYARAD DPHA; Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha), dipentaerythritol penta A-DPH-12E manufactured by Shin-Nakamura Kagaku Co., Ltd.), and a structure in which the (meth) acryloyl group intervenes between ethylene glycol and propylene glycol moieties (for example, SR454, SR499, which are commercially available, for example). These oligomer types can also be used. Preferred embodiments of the polymerizable compound are shown below.

중합성 화합물은, 카복실기, 설폰산기, 인산기 등의 산기를 갖고 있어도 된다. 산기를 갖는 중합성 화합물로서는, 지방족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카복실산의 에스터가 바람직하고, 지방족 폴리하이드록시 화합물의 미반응의 하이드록실기에 비방향족 카복실산 무수물을 반응시켜 산기를 갖게 한 에스터가 보다 바람직하며, 특히 바람직하게는, 이 에스터에 있어서, 지방족 폴리하이드록시 화합물이 펜타에리트리톨 및/또는 다이펜타에리트리톨인 것이다. 시판품으로서는, 예를 들면 도아 고세이 가부시키가이샤제의 다염기산 변성 아크릴 올리고머로서, M-510, M-520 등을 들 수 있다.The polymerizable compound may have an acid group such as a carboxyl group, a sulfonic acid group, or a phosphoric acid group. The polymerizable compound having an acid group is preferably an ester of an aliphatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid, more preferably an ester in which an unreacted hydroxyl group of the aliphatic polyhydroxy compound is reacted with a nonaromatic carboxylic acid anhydride to give an acid group And particularly preferably, in this ester, the aliphatic polyhydroxy compound is pentaerythritol and / or dipentaerythritol. Examples of commercially available products include M-510 and M-520, which are polybasic acid-modified acrylic oligomers made by Toagosei Co., Ltd.

산기를 갖는 중합성 화합물의 바람직한 산가는, 0.1~40mgKOH/g이며, 특히 바람직하게는 5~30mgKOH/g이다. 중합성 화합물의 산가가 0.1mgKOH/g 이상이면, 현상 용해 특성이 양호하고, 40mgKOH/g 이하이면, 제조나 취급상, 유리하다. 나아가서는, 광중합 성능이 양호하고, 경화성이 우수하다.The acid value of the polymerizable compound having an acid group is preferably 0.1 to 40 mg KOH / g, particularly preferably 5 to 30 mg KOH / g. If the acid value of the polymerizable compound is 0.1 mgKOH / g or more, the development and dissolution characteristics are good, and if it is 40 mgKOH / g or less, it is advantageous in terms of production and handling. Further, the photopolymerization performance is good and the curability is excellent.

중합성 화합물로서는, 환상 에스터(예를 들면, 카프로락톤, 발레로락톤 등을 들 수 있고, 카프로락톤이 특히 바람직함)에 유래하는 구조를 갖는 화합물도 바람직한 양태이다.As the polymerizable compound, a compound having a structure derived from a cyclic ester (e.g., caprolactone, valerolactone and the like, caprolactone being particularly preferable) is also a preferable embodiment.

카프로락톤에 유래하는 구조를 갖는 화합물로서는, 분자 내에 카프로락톤에 유래하는 구조를 갖는 한 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 트라이메틸올에테인이나 다이트라이메틸올에테인, 트라이메틸올프로페인, 다이트라이메틸올프로페인, 펜타에리트리톨, 다이펜타에리트리톨, 트라이펜타에리트리톨, 글리세린, 다이글리세롤, 트라이메틸올멜라민 등의 다가 알코올과, (메트)아크릴산 및 ε-카프로락톤을 에스터화함으로써 얻어지는, ε-카프로락톤 변성 다관능 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 그 중에서도 하기 일반식 (Z-1)로 나타나는 카프로락톤에 유래하는 구조를 갖는 화합물이 바람직하다.The compound having a structure derived from caprolactone is not particularly limited as long as it has a structure derived from caprolactone in the molecule, and examples thereof include trimethylolethane, ditrimethylolethane, trimethylolpropane, (Meth) acrylic acid and? -Caprolactone obtained by esterifying polyhydric alcohols such as methylol propane, pentaerythritol, dipentaerythritol, tripentaerythritol, glycerin, diglycerol and trimethylol melamine, and -Caprolactone-modified polyfunctional (meth) acrylate. Among them, a compound having a structure derived from caprolactone represented by the following general formula (Z-1) is preferable.

[화학식 41](41)

Figure pat00041
Figure pat00041

일반식 (Z-1) 중, 6개의 R은 모두가 하기 일반식 (Z-2)로 나타나는 기이거나, 또는 6개의 R 중 1~5개가 하기 일반식 (Z-2)로 나타나는 기이며, 잔여가 하기 일반식 (Z-3)으로 나타나는 기이다.In the general formula (Z-1), all six R's are groups represented by the following general formula (Z-2), or one to five of the six R's are groups represented by the general formula (Z-2) And the remainder is a group represented by the following general formula (Z-3).

[화학식 42](42)

Figure pat00042
Figure pat00042

일반식 (Z-2) 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, m은 1 또는 2의 수를 나타내며, "*"는 결합손인 것을 나타낸다.In the general formula (Z-2), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, m represents a number of 1 or 2, and "*" represents a bonding bond.

[화학식 43](43)

Figure pat00043
Figure pat00043

일반식 (Z-3) 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, "*"는 결합손인 것을 나타낸다.In the general formula (Z-3), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and "*" represents a bonding bond.

카프로락톤에 유래하는 구조를 갖는 중합성 화합물은, 예를 들면 닛폰 가야쿠(주)로부터 KAYARAD DPCA 시리즈로서 시판되고 있고, DPCA-20(상기 식 (Z-1)~(Z-3)에 있어서 m=1, 식 (Z-2)로 나타나는 기의 수=2, R1이 모두 수소 원자인 화합물), DPCA-30(동일 식, m=1, 식 (Z-2)로 나타나는 기의 수=3, R1이 모두 수소 원자인 화합물), DPCA-60(동일 식, m=1, 식 (Z-2)로 나타나는 기의 수=6, R1이 모두 수소 원자인 화합물), DPCA-120(동일 식에 있어서 m=2, 식 (Z-2)로 나타나는 기의 수=6, R1이 모두 수소 원자인 화합물) 등을 들 수 있다.The polymerizable compound having a structure derived from caprolactone is commercially available as, for example, KAYARAD DPCA series from Nippon Kayaku Co., Ltd. and DPCA-20 (in the formulas (Z-1) to (Z-3) m = 1, the number of groups represented by formula (Z-2) = 2, and R 1 are all hydrogen atoms), DPCA-30 = 3 and R 1 are all hydrogen atoms), DPCA-60 (the compound represented by the formula: m = 1, the number of groups represented by the formula (Z-2) = 6 and R 1 are all hydrogen atoms), DPCA- 120 (a compound wherein m = 2 in the same formula, the number of groups represented by the formula (Z-2) = 6, and R 1 are all hydrogen atoms).

중합성 화합물은, 하기 일반식 (Z-4) 또는 (Z-5)로 나타나는 화합물을 이용할 수도 있다.The polymerizable compound may be a compound represented by the following general formula (Z-4) or (Z-5).

[화학식 44](44)

Figure pat00044
Figure pat00044

일반식 (Z-4) 및 (Z-5) 중, E는, 각각 독립적으로, -((CH2)yCH2O)-, 또는 -((CH2)yCH(CH3)O)-를 나타내고, y는, 각각 독립적으로 0~10의 정수를 나타내며, X는, 각각 독립적으로, (메트)아크릴로일기, 수소 원자, 또는 카복실기를 나타낸다.In the general formulas (Z-4) and (Z-5), E is each independently - ((CH 2 ) y CH 2 O) - or - ((CH 2 ) y CH (CH 3 ) -, y represents an integer independently from 0 to 10, and X represents, independently of each other, a (meth) acryloyl group, a hydrogen atom, or a carboxyl group.

일반식 (Z-4) 중, (메트)아크릴로일기의 합계는 3개 또는 4개이며, m은 각각 독립적으로 0~10의 정수를 나타내고, 각 m의 합계는 0~40의 정수이다. 단, 각 m의 합계가 0인 경우, X 중 어느 하나는 카복실기이다.In the general formula (Z-4), the sum of the (meth) acryloyl groups is 3 or 4, m is independently an integer of 0 to 10, and the sum of m is an integer of 0 to 40. Provided that when the sum of each m is 0, any one of X is a carboxyl group.

일반식 (Z-5) 중, (메트)아크릴로일기의 합계는 5개 또는 6개이며, n은 각각 독립적으로 0~10의 정수를 나타내고, 각 n의 합계는 0~60의 정수이다. 단, 각 n의 합계가 0인 경우, X 중 어느 하나는 카복실기이다.In the general formula (Z-5), the sum of the (meth) acryloyl groups is 5 or 6, and each n independently represents an integer of 0 to 10, and the sum of n is an integer of 0 to 60. Provided that when the sum of each n is 0, any one of X is a carboxyl group.

일반식 (Z-4) 중, m은, 0~6의 정수가 바람직하고, 0~4의 정수가 보다 바람직하다.In the general formula (Z-4), m is preferably an integer of 0 to 6, more preferably an integer of 0 to 4.

또, 각 m의 합계는, 2~40의 정수가 바람직하고, 2~16의 정수가 보다 바람직하며, 4~8의 정수가 특히 바람직하다.The sum of m is preferably an integer of 2 to 40, more preferably an integer of 2 to 16, and an integer of 4 to 8 is particularly preferable.

일반식 (Z-5) 중, n은, 0~6의 정수가 바람직하고, 0~4의 정수가 보다 바람직하다.In the general formula (Z-5), n is preferably an integer of 0 to 6, more preferably an integer of 0 to 4.

또, 각 n의 합계는, 3~60의 정수가 바람직하고, 3~24의 정수가 보다 바람직하며, 6~12의 정수가 특히 바람직하다.The sum of each n is preferably an integer of 3 to 60, more preferably an integer of 3 to 24, and particularly preferably an integer of 6 to 12.

또, 일반식 (Z-4) 또는 일반식 (Z-5) 중의 -((CH2)yCH2O)- 또는 -((CH2)yCH(CH3)O)-는, 산소 원자측의 말단이 X에 결합하는 형태가 바람직하다.- ((CH 2 ) y CH 2 O) - or - ((CH 2 ) y CH (CH 3 ) O) - in the general formula (Z-4) or the general formula (Z- Side is bonded to X is preferable.

일반식 (Z-4) 또는 일반식 (Z-5)로 나타나는 화합물은 1종 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상 병용해도 된다. 특히, 일반식 (Z-5)에 있어서, 6개의 X 모두가 아크릴로일기인 형태가 바람직하다.The compounds represented by the general formula (Z-4) or (Z-5) may be used singly or in combination of two or more. Particularly, in the general formula (Z-5), all of the six X's are preferably acryloyl groups.

또, 일반식 (Z-4) 또는 일반식 (Z-5)로 나타나는 화합물의 중합성 화합물 중에 있어서의 전체 함유량으로서는, 20질량% 이상이 바람직하고, 50질량% 이상이 보다 바람직하다.The total content of the compound represented by the formula (Z-4) or (Z-5) in the polymerizable compound is preferably 20% by mass or more, and more preferably 50% by mass or more.

일반식 (Z-4) 또는 일반식 (Z-5)로 나타나는 화합물은, 펜타에리트리톨 또는 다이펜타에리트리톨에 에틸렌옥사이드 또는 프로필렌옥사이드를 개환 부가 반응에 의하여 개환 골격을 결합하는 공정과, 개환 골격의 말단 하이드록실기에, 예를 들면 (메트)아크릴로일 클로라이드를 반응시켜 (메트)아크릴로일기를 도입하는 공정으로부터 합성할 수 있다. 각 공정은 잘 알려진 공정이며, 당업자는 용이하게 일반식 (Z-4) 또는 (Z-5)로 나타나는 화합물을 합성할 수 있다.The compound represented by the general formula (Z-4) or the general formula (Z-5) can be obtained by a process comprising the steps of: coupling a ring opening skeleton to pentaerythritol or dipentaerythritol by ring-opening addition reaction of ethylene oxide or propylene oxide; Can be synthesized from a step of introducing a (meth) acryloyl group by reacting, for example, (meth) acryloyl chloride to the terminal hydroxyl group of the terminal hydroxyl group. Each process is a well-known process, and a person skilled in the art can easily synthesize a compound represented by the general formula (Z-4) or (Z-5).

일반식 (Z-4) 또는 일반식 (Z-5)로 나타나는 화합물 중에서도, 펜타에리트리톨 유도체 및/또는 다이펜타에리트리톨 유도체가 보다 바람직하다.Among the compounds represented by formula (Z-4) or formula (Z-5), pentaerythritol derivatives and / or dipentaerythritol derivatives are more preferable.

구체적으로는, 하기 식 (a)~(f)로 나타나는 화합물(이하, "예시 화합물 (a)~(f)"라고도 칭함)을 들 수 있고, 그 중에서도, 예시 화합물 (a), (b), (e), (f)가 바람직하다.(A), (b), (f), (f), and (f) are examples of the compounds represented by the following formulas , (e) and (f) are preferable.

[화학식 45][Chemical Formula 45]

Figure pat00045
Figure pat00045

[화학식 46](46)

Figure pat00046
Figure pat00046

일반식 (Z-4) 또는 일반식 (Z-5)로 나타나는 중합성 화합물의 시판품으로서는, 예를 들면 사토머사제의 에틸렌옥시쇄를 4개 갖는 4관능 아크릴레이트인 SR-494, 닛폰 가야쿠 가부시키가이샤제의 펜틸렌옥시쇄를 6개 갖는 6관능 아크릴레이트인 DPCA-60, 아이소뷰틸렌옥시쇄를 3개 갖는 3관능 아크릴레이트인 TPA-330 등을 들 수 있다.Examples of commercially available products of the polymerizable compounds represented by the general formula (Z-4) or (Z-5) include SR-494 which is a tetrafunctional acrylate having four ethyleneoxy chains of Satomar Co., DPCA-60, which is a hexafunctional acrylate having 6 pentylene oxy chains, TPA-330, which is a trifunctional acrylate having three isobutylene oxy chains, and the like.

본 발명에서는, 중합성 화합물로서, 에폭시기를 갖는 화합물을 이용할 수도 있다. 에폭시기를 갖는 화합물로서는, 1분자 내에 에폭시기를 2개 이상 갖는 것이 바람직하다. 1분자 내에 에폭시기를 2개 이상 갖는 화합물을 이용함으로써, 본 발명의 효과를 보다 효과적으로 달성할 수 있다. 에폭시기는, 1분자 내에 2~10개가 바람직하고, 2~5개가 보다 바람직하며, 3개가 특히 바람직하다.In the present invention, as the polymerizable compound, a compound having an epoxy group may also be used. As the compound having an epoxy group, it is preferable to have two or more epoxy groups in one molecule. By using a compound having two or more epoxy groups in one molecule, the effect of the present invention can be more effectively achieved. The epoxy group is preferably 2 to 10, more preferably 2 to 5, and most preferably 3 in one molecule.

본 발명에 있어서 에폭시기를 갖는 화합물은, 2개의 벤젠환이 탄화 수소기로 연결된 구조를 갖는 것이 바람직하게 이용된다. 탄화 수소기는, 탄소수 1~6의 알킬렌기가 바람직하다.The compound having an epoxy group in the present invention is preferably a compound having a structure in which two benzene rings are connected to each other through hydrocarbon groups. The hydrocarbon group is preferably an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms.

또, 에폭시기는, 연결기를 통하여 연결되어 있는 것이 바람직하다. 연결기로서는, 알킬렌기, 아릴렌기, -O-, -NR'-(R'은, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기를 나타내고, 수소 원자가 바람직함)로 나타나는 구조, -SO2-, -CO-, -O- 및 -S-로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는 기를 들 수 있다.The epoxy group is preferably connected through a linking group. Examples of the linking group include a structure represented by an alkylene group, an arylene group, -O-, -NR'- (wherein R 'represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent and preferably a hydrogen atom) -SO 2 -, -CO-, -O-, and -S-.

에폭시기를 갖는 화합물은, 에폭시 당량(=에폭시기를 갖는 화합물의 분자량/에폭시기의 수)이 500g/eq 이하인 것이 바람직하고, 100~400g/eq인 것이 보다 바람직하며, 100~300g/eq인 것이 더 바람직하다. 에폭시기를 갖는 화합물의 에폭시 당량의 상한값을 500g/eq 이하로 함으로써, 상기 효과가 얻어진다. 또, 에폭시기를 갖는 화합물의 에폭시 당량의 하한값을 100g/eq 이상으로 하는 것이, 실용상의 안정성에서 바람직하다.The compound having an epoxy group preferably has an epoxy equivalent (= molecular weight of a compound having an epoxy group / number of epoxy groups) of 500 g / eq or less, more preferably 100 to 400 g / eq, further preferably 100 to 300 g / eq Do. The above effect can be obtained by setting the upper limit of the epoxy equivalent of the epoxy group-containing compound to 500 g / eq or less. The lower limit of the epoxy equivalent of a compound having an epoxy group is preferably 100 g / eq or more in view of practical stability.

에폭시기를 갖는 화합물은, 저분자 화합물(예를 들면, 분자량 2000 미만, 나아가서는, 분자량 1000 미만)이어도 되고, 고분자 화합물(macromolecule)(예를 들면, 분자량 1000 이상, 폴리머의 경우는, 중량 평균 분자량이 1000 이상) 중 어느 것이어도 된다. 에폭시기를 갖는 화합물의 중량 평균 분자량은, 200~100000이 바람직하고, 500~50000이 보다 바람직하다.The compound having an epoxy group may be a low molecular weight compound (for example, having a molecular weight of less than 2000, and further having a molecular weight of less than 1000), and may be a macromolecule (for example, a molecular weight of 1000 or more, 1000 or more). The weight-average molecular weight of the compound having an epoxy group is preferably 200 to 100000, more preferably 500 to 50,000.

2개의 벤젠환이 탄화 수소기로 연결된 구조의, 에폭시기를 갖는 화합물로서는, 하기 일반식 (2a)로 나타나는 화합물이 바람직하게 이용된다.As the compound having an epoxy group in the structure in which two benzene rings are connected to each other through a hydrocarbon group, a compound represented by the following formula (2a) is preferably used.

[화학식 47](47)

Figure pat00047
Figure pat00047

일반식 (2a)에 있어서, R1~R19는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 알킬기, 알콕시기, 또는 할로젠 원자를 나타낸다.In formula (2a), R 1 to R 19 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group or a halogen atom.

일반식 (2a)의 R1~R19의 상세는, 일본 공개특허공보 2013-011869호의 단락 번호 0036을 참조할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 포함되는 것으로 한다.For details of R 1 to R 19 in the general formula (2a), reference may be made to paragraph No. 0036 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-011869, the contents of which are incorporated herein by reference.

특히, R1~R19는, 각각 독립적으로 수소 원자, 메틸기, 에틸기 또는 메톡시기 중 어느 하나가 바람직하다. 또, 보다 바람직하게는, R13, R18 및 R19로부터 선택되는 1 이상이 메틸기이다. 더 바람직하게는, R13, R18 및 R19가 메틸기이고, R1~R12, R14~R17이 수소 원자이다.In particular, each of R 1 to R 19 is preferably independently a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group or a methoxy group. More preferably, at least one selected from R 13 , R 18 and R 19 is a methyl group. More preferably, R 13 , R 18 and R 19 are methyl groups, and R 1 to R 12 and R 14 to R 17 are hydrogen atoms.

상기 일반식 (2a)로 나타나는 화합물은, 일본 공개특허공보 2013-011869호의 단락 번호 0036을 참조하여 합성할 수 있다. 시판품으로서는, 가부시키가이샤 프린텍제 VG-3101L, 닛폰 가야쿠 가부시키가이샤제 NC-6000 및 NC-6300 등을 들 수 있다.The compound represented by the above general formula (2a) can be synthesized by referring to Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-011869, Paragraph No. 0036. Commercially available products include VG-3101L manufactured by Takeuchi Chemical Co., Ltd., NC-6000 and NC-6300 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., and the like.

에폭시기를 갖는 화합물은, 예를 들면 하기 일반식 (EP1)로 나타나는 화합물을 이용할 수 있다.As the compound having an epoxy group, for example, a compound represented by the following general formula (EP1) can be used.

[화학식 48](48)

Figure pat00048
Figure pat00048

식 (EP1) 중, REP1~REP3은, 각각, 수소 원자, 할로젠 원자, 알킬기를 나타내며, 알킬기는, 환상 구조를 갖는 것이어도 되고, 또 치환기를 갖고 있어도 된다. 또 REP1과 REP2, REP2와 REP3은, 서로 결합하여 환 구조를 형성하고 있어도 된다.In the formula (EP1), R EP1 to R EP3 each represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and the alkyl group may have a cyclic structure or may have a substituent. R EP1 and R EP2 , R EP2 and R EP3 may be bonded to each other to form a ring structure.

QEP는 단결합 혹은 nEP가의 유기기를 나타낸다. REP1~REP3은, QEP와도 결합하여 환 구조를 형성하고 있어도 된다.Q EP represents an organic group of single bond or n EP . R EP1 to R EP3 may also be bonded to Q EP to form a ring structure.

nEP는 2 이상의 정수를 나타내고, 바람직하게는 2~10, 더 바람직하게는 2~6이다. 단 QEP가 단결합인 경우, nEP는 2이다.n EP represents an integer of 2 or more, preferably 2 to 10, more preferably 2 to 6. However, when Q EP is a single bond, n EP is 2.

REP1~REP3, QEP의 상세에 대하여, 일본 공개특허공보 2014-089408호의 단락 번호 0087~0088의 기재를 참조할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 원용되는 것으로 한다.For details of R EP1 to R EP3 and Q EP , reference can be made to the description of paragraphs 0087 to 0088 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2014-089408, the contents of which are incorporated herein by reference.

이하에 에폭시기를 갖는 화합물의 구체예를 예시하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the compound having an epoxy group are illustrated below, but the present invention is not limited thereto.

[화학식 49](49)

Figure pat00049
Figure pat00049

[화학식 50](50)

Figure pat00050
Figure pat00050

에폭시기를 갖는 화합물로서는, 측쇄에 에폭시기를 갖는 올리고머나 폴리머도 바람직하게 이용할 수 있다. 이와 같은 화합물로서는, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 지방족 에폭시 수지 등을 들 수 있다.As the compound having an epoxy group, an oligomer or polymer having an epoxy group in the side chain can also be preferably used. Examples of such a compound include a bisphenol A type epoxy resin, a bisphenol F type epoxy resin, a phenol novolak type epoxy resin, a cresol novolak type epoxy resin, and an aliphatic epoxy resin.

이들 화합물은, 시판품을 이용해도 되고, 폴리머의 측쇄에 에폭시기를 도입하는 것에 의해서도 얻어진다.These compounds may be commercially available products or may be obtained by introducing an epoxy group into the side chain of the polymer.

시판품으로서는, 예를 들면 비스페놀 A형 에폭시 수지로서는, JER827, JER828, JER834, JER1001, JER1002, JER1003, JER1055, JER1007, JER1009, JER1010(이상, 재팬 에폭시 레진(주)제), EPICLON860, EPICLON1050, EPICLON1051, EPICLON1055(이상, DIC(주)제) 등이며, 비스페놀 F형 에폭시 수지로서는, JER806, JER807, JER4004, JER4005, JER4007, JER4010(이상, 재팬 에폭시 레진(주)제), EPICLON830, EPICLON835(이상, DIC(주)제), LCE-21, RE-602S(이상, 닛폰 가야쿠(주)제) 등이고, 페놀 노볼락형 에폭시 수지로서는, JER152, JER154, JER157S70, JER157S65(이상, 재팬 에폭시 레진(주)제), EPICLON N-740, EPICLON N-770, EPICLON N-775(이상, DIC(주)제) 등이며, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지로서는, EPICLON N-660, EPICLON N-665, EPICLON N-670, EPICLON N-673, EPICLON N-680, EPICLON N-690, EPICLON N-695(이상, DIC(주)제), EOCN-1020(이상, 닛폰 가야쿠(주)제) 등이고, 지방족 에폭시 수지로서는, ADEKA RESIN EP-4080S, 동 EP-4085S, 동 EP-4088S(이상, (주)ADEKA제), 셀록사이드 2021P, 셀록사이드 2081, 셀록사이드 2083, 셀록사이드 2085, EHPE3150, EPOLEAD PB 3600, 동 PB 4700(이상, 다이셀 가가쿠 고교(주)제), 데나콜 EX-212L, EX-214L, EX-216L, EX-321L, EX-850L(이상, 나가세 켐텍스(주)제) 등이다. 그 외에도, ADEKA RESIN EP-4000S, 동 EP-4003S, 동 EP-4010S, 동 EP-4011S(이상, (주)ADEKA제), NC-2000, NC-3000, NC-7300, XD-1000, EPPN-501, EPPN-502(이상, (주)ADEKA제), JER1031S(재팬 에폭시 레진(주)제) 등을 들 수 있다.As commercial products, for example, bisphenol A type epoxy resins include JER827, JER828, JER834, JER1001, JER1002, JER1003, JER1055, JER1007, JER1009, JER1010 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), EPICLON860, EPICLON1050, EPICLON1051, (Manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), EPICLON 830, EPICLON 835 (manufactured by DIC Corporation), and the like. Examples of the bisphenol F type epoxy resin include JER806, JER807, JER4004, JER4005, JER4007, JER4010 JER152, JER154, JER157S70, JER157S65 (above, Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), and the like can be used as the phenol novolak type epoxy resin, (EPICLON N-660, EPICLON N-665, EPICLON N-775, and EPICLON N-775 manufactured by DIC Corporation) EPICLON N-690, EPICLON N-690, EPICLON N-690 (manufactured by DIC Corporation) and EOCN-1020 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) in (Manufactured by ADEKA Corporation), Celloxide 2021P, Celloxide 2081, Celloxide 2083, Celloxide 2085, EHPE 3150, EPOLEAD PB 3600, and EPOLEAD PB 3600, which are manufactured by ADEKA RESIN EP-4080S, EP- PB 4700 (manufactured by Daicel Chemical Industries Ltd.), Denacol EX-212L, EX-214L, EX-216L, EX-321L and EX-850L (manufactured by Nagase ChemteX Corporation) . In addition, ADEKA RESIN EP-4000S, EP-4003S, EP-4010S and EP-4011S (manufactured by ADEKA), NC-2000, NC-3000, NC-7300, XD- -501, EPPN-502 (manufactured by ADEKA Corporation) and JER1031S (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.).

또, JER1031S(미쓰비시 가가쿠(주)제), JER1032H60(미쓰비시 가가쿠(주)제), EPICLON HP-4700(DIC(주)제), EPICLON N-695(DIC(주)제), EPICLON840(DIC(주)제), EPICLON N660(DIC(주)제), EPICLON HP7200(DIC(주)제) 등도 바람직하게 이용할 수 있다.EPICLON HP-4700 (manufactured by DIC Corporation), EPICLON N-695 (manufactured by DIC Corporation), EPICLON 840 (manufactured by Mitsubishi Kagaku K.K.), JER1032H60 (Manufactured by DIC Corporation), EPICLON N660 (manufactured by DIC Corporation), and EPICLON HP7200 (manufactured by DIC Corporation).

본 발명에서는 중합성 화합물로서는, 일본 공고특허공보 소48-41708호, 일본 공개특허공보 소51-37193호, 일본 공고특허공보 평2-32293호, 일본 공고특허공보 평2-16765호에 기재되어 있는 유레테인아크릴레이트류나, 일본 공고특허공보 소58-49860호, 일본 공고특허공보 소56-17654호, 일본 공고특허공보 소62-39417호, 일본 공고특허공보 소62-39418호에 기재된 에틸렌옥사이드계 골격을 갖는 유레테인 화합물류도 적합하다. 또, 일본 공개특허공보 소63-277653호, 일본 공개특허공보 소63-260909호, 일본 공개특허공보 평1-105238호에 기재되는, 분자 내에 아미노 구조나 설파이드 구조를 갖는 부가 중합성 화합물류를 이용함으로써, 매우 감광 스피드가 우수한 착색 조성물을 얻을 수 있다.In the present invention, polymeric compounds are described in Japanese Examined Patent Publication Nos. 48-41708, 51-37193, 2-32293, and 2-16765, Butene-containing acrylate, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, Yutein compounds having an oxide-based skeleton are also suitable. Further, addition polymerizable compounds having an amino structure or sulfide structure in the molecule, which are described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909 and JP-A-1-105238, , A coloring composition having a very high photosensitive speed can be obtained.

또, 본 발명에서는 중합성 화합물로서 옥세테인기를 갖는 화합물을 이용할 수도 있다. 옥세테인기를 갖는 화합물로서는, 일본 공개특허공보 2008-224970호의 단락 0134~0145에 기재된 화합물을 들 수 있고, 그 내용은 본 명세서에 원용된다. 구체예로서는, 아론옥세테인 OXT-121, OXT-221, OX-SQ, PNOX(이상, 도아 고세이(주)제)를 이용할 수 있다.In the present invention, a compound having oxetane's popularity may also be used as the polymerizable compound. Examples of compounds having oxetecyl groups include the compounds described in paragraphs 0134 to 0145 of JP-A No. 2008-224970, the content of which is incorporated herein by reference. As specific examples, Aromaxhene OXT-121, OXT-221, OX-SQ and PNOX (manufactured by Doago Kosai Co., Ltd.) can be used.

중합성 화합물의 시판품으로서는, 유레테인 올리고머 UAS-10, UAB-140(산요 고쿠사쿠 펄프사제), UA-7200(신나카무라 가가쿠사제), DPHA-40H(닛폰 가야쿠사제), UA-306H, UA-306T, UA-306I, AH-600, T-600, AI-600(교에이샤제) 등을 들 수 있다.UA-7200 (manufactured by Shin Nakamura Kagaku), DPHA-40H (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), UA-306H (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) , UA-306T, UA-306I, AH-600, T-600, AI-600 (manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.).

본 발명의 착색 조성물에 있어서, 중합성 화합물의 함유량은, 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여, 0.1~30질량%가 바람직하다. 하한은, 예를 들면 0.5질량% 이상이 보다 바람직하며, 1질량% 이상이 더 바람직하다. 상한은, 예를 들면 20질량% 이하가 보다 바람직하며, 15질량% 이하가 더 바람직하다. 중합성 화합물은, 1종 단독이어도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 2종 이상을 병용하는 경우는, 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.In the coloring composition of the present invention, the content of the polymerizable compound is preferably from 0.1 to 30% by mass relative to the total solid content of the coloring composition. The lower limit is, for example, more preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1% by mass or more. The upper limit is more preferably 20 mass% or less, for example, and further preferably 15 mass% or less. The polymerizable compounds may be used singly or in combination of two or more. When two or more kinds are used in combination, it is preferable that the total amount is in the above range.

<<다관능 싸이올 화합물>><< Multifunctional Thiol Compounds >>

본 발명의 착색 조성물은, 중합성 화합물의 반응을 촉진시키는 것 등을 목적으로 하여, 분자 내에 2개 이상의 머캅토기를 갖는 다관능 싸이올 화합물을 포함하고 있어도 된다. 다관능 싸이올 화합물은, 2급의 알케인싸이올류인 것이 바람직하고, 특히 하기 일반식 (T1)로 나타나는 구조를 갖는 화합물인 것이 바람직하다.The coloring composition of the present invention may contain a polyfunctional thiol compound having two or more mercapto groups in the molecule for the purpose of promoting the reaction of the polymerizable compound and the like. The polyfunctional thiol compound is preferably a secondary alkene thiol compound, particularly preferably a compound having a structure represented by the following general formula (T1).

일반식 (T1)The general formula (T1)

[화학식 51](51)

Figure pat00051
Figure pat00051

(식 (T1) 중, n은 2~4의 정수를 나타내고, L은 2~4가의 연결기를 나타낸다.)(In the formula (T1), n represents an integer of 2 to 4, and L represents a linking group having a valency of 2 to 4.)

상기 일반식 (T1)에 있어서, 연결기 L은 탄소수 2~12의 지방족기인 것이 바람직하고, n이 2이며, L이 탄소수 2~12의 알킬렌기인 것이 특히 바람직하다. 다관능 싸이올 화합물의 구체예로서는, 하기의 구조식 (T2)~(T4)로 나타나는 화합물을 들 수 있고, 식 (T2)로 나타나는 화합물이 특히 바람직하다. 이들 다관능 싸이올은 1종 또는 복수 조합하여 사용하는 것이 가능하다.In the general formula (T1), the linking group L is preferably an aliphatic group having 2 to 12 carbon atoms, n is 2, and L is particularly preferably an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms. Specific examples of the polyfunctional thiol compound include compounds represented by the following structural formulas (T2) to (T4), and compounds represented by the formula (T2) are particularly preferable. These polyfunctional thiols can be used singly or in combination.

[화학식 52](52)

Figure pat00052
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본 발명의 착색 조성물이 다관능 싸이올을 함유하는 경우, 다관능 싸이올의 함유량은, 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여 0.3~8.9질량%가 바람직하고, 0.8~6.4질량%가 보다 바람직하다. 또, 다관능 싸이올은 안정성, 취기(臭氣), 해상성, 현상성, 밀착성 등의 개량을 목적으로 하여 첨가해도 된다.When the coloring composition of the present invention contains a polyfunctional thiol, the content of the polyfunctional thiol is preferably 0.3 to 8.9 mass%, more preferably 0.8 to 6.4 mass%, based on the total solid content of the coloring composition. The polyfunctional thiol may be added for the purpose of improving stability, odor, resolution, developability and adhesion.

<<다른 색소>><< Other color >>

본 발명의 착색 조성물은, 상술한 색소 다량체 (A) 이외의 색소(이하, 다른 색소라고도 함)를 포함하고 있어도 된다. 다른 색소는, 안료, 염료 모두 바람직하게 이용할 수 있고, 열이나 광에 대한 내성이 높다는 이유에서 안료가 보다 바람직하다.The coloring composition of the present invention may contain a coloring matter other than the above-mentioned colorant multimer (A) (hereinafter, also referred to as another coloring matter). The other pigments are preferably pigments because they can be favorably used for both pigments and dyes and have high resistance to heat and light.

다른 색소는, 안료의 함유량이, 다른 색소의 전체량에 대하여 95질량% 이상인 것이 바람직하고, 97질량% 이상인 것이 보다 바람직하며, 99질량% 이상인 것이 더 바람직하다. 이 양태에 의하면, 열이나 광에 대한 내성이 높아지는 효과가 얻어지기 쉽다.The content of the pigment in the other pigments is preferably 95% by mass or more, more preferably 97% by mass or more, further preferably 99% by mass or more based on the total amount of the other pigments. According to this embodiment, the effect of increasing the resistance to heat and light is easily obtained.

안료로서는, 종래 공지의 다양한 무기 안료 또는 유기 안료를 이용할 수 있고, 유기 안료가 바람직하다.As the pigment, various conventionally known inorganic pigments or organic pigments can be used, and organic pigments are preferred.

<<<염료>>><<< Dye >>>

염료로서는 특별히 제한은 없고, 컬러 필터에 사용되고 있는 공지의 염료를 사용할 수 있다. 예를 들면 일본 공개특허공보 소64-90403호, 일본 공개특허공보 소64-91102호, 일본 공개특허공보 평1-94301호, 일본 공개특허공보 평6-11614호, 일본 특허 2592207호, 미국 특허공보 4808501호, 미국 특허공보 5667920호, 미국 특허공보 505950호, 미국 특허공보 5667920호, 일본 공개특허공보 평5-333207호, 일본 공개특허공보 평6-35183호, 일본 공개특허공보 평6-51115호, 일본 공개특허공보 평6-194828호 등에 개시되어 있는 염료를 사용할 수 있다. 화학 구조로서는, 피라졸아조계, 피로메텐계, 아닐리노아조계, 트라이아릴메테인계, 안트라퀴논계, 벤질리덴계, 옥소놀계, 피라졸로트라이아졸아조계, 피리돈아조계, 사이아닌계, 페노싸이아진계, 피롤로피라졸아조메타인계 등의 염료를 사용할 수 있다.The dye is not particularly limited, and known dyes used in color filters can be used. For example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 64-90403, 64-91102, 1-94301, 6-11614, 2592207, 4808501, US 5667920, US 505950, US 5667920, JP-A-5-333207, JP-A-6-35183, JP-A-6-51115 And JP-A-6-194828 can be used. Examples of the chemical structure include pyrazolone group, pyromethene group, anilino group, triarylmethane group, anthraquinone group, benzylidene group, oxolin group, pyrazolotriazoazo group, pyridazoazo group, And pyrrolopyrazole azo methane phosphoric acid, can be used.

<<<안료>>><<< Pigment >>>

무기 안료로서는, 금속 산화물, 금속 착염 등으로 나타나는 금속 화합물 또는 카본 블랙(C. I. 피그먼트 블랙 7)을 들 수 있다. 금속 화합물로서는, 구체적으로는, 철, 코발트, 알루미늄, 카드뮴, 납, 구리, 타이타늄, 마그네슘, 크로뮴, 아연, 안티모니 등의 금속 산화물, 및 금속의 복합 산화물을 들 수 있다.As the inorganic pigment, a metal compound or carbon black (CI Pigment Black 7), which is represented by a metal oxide, a metal complex salt or the like, can be mentioned. Specific examples of the metal compound include metal oxides such as iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, zinc and antimony and complex oxides of metals.

유기 안료로서는, 예를 들면As the organic pigment, for example,

C. I. 피그먼트 옐로 11, 24, 31, 53, 83, 93, 99, 108, 109, 110, 138, 139, 147, 150, 151, 154, 155, 167, 180, 185, 199;C. I. Pigment Yellow 11, 24, 31, 53, 83, 93, 99, 108, 109, 110, 138, 139, 147, 150, 151, 154, 155, 167, 180, 185, 199;

C. I. 피그먼트 오렌지 36, 38, 43, 71;C. I. Pigment Orange 36, 38, 43, 71;

C. I. 피그먼트 레드 81, 105, 122, 149, 150, 155, 167, 171, 175, 176, 177, 179, 209, 220, 224, 242, 254, 255, 264, 270;C. I. Pigment Red 81, 105, 122, 149, 150, 155, 167, 171, 175, 176, 177, 179, 209, 220, 224, 242, 254, 255, 264, 270;

C. I. 피그먼트 바이올렛 19, 23, 32, 39;C. I. Pigment Violet 19, 23, 32, 39;

C. I. 피그먼트 블루 1, 2, 15, 15:1, 15:3, 15:6, 16, 22, 60, 66;C. I. Pigment Blue 1, 2, 15, 15: 1, 15: 3, 15: 6, 16, 22, 60, 66;

C. I. 피그먼트 그린 7, 36, 37, 58;C. I. Pigment Green 7, 36, 37, 58;

C. I. 피그먼트 브라운 25, 28;C. I. Pigment Brown 25, 28;

C. I. 피그먼트 블랙 1; 등을 들 수 있다.C. I. Pigment Black 1; And the like.

유기 안료는, 단독 혹은, 분광의 조정이나 색순도를 올리기 위하여 다양하게 조합하여 이용할 수 있다. 바람직한 조합의 구체예를 이하에 나타낸다.The organic pigments may be used alone or in various combinations in order to adjust the spectroscopy or increase the color purity. Specific examples of preferable combinations are shown below.

예를 들면, 적색의 안료로서, 안트라퀴논계 안료, 페릴렌계 안료, 다이케토피롤로피롤계 안료 단독, 또는 그들의 적어도 1종과, 디스아조계 황색 안료, 아이소인돌린계 황색 안료, 퀴노프탈론계 황색 안료 또는 페릴렌계 적색 안료의 혼합 등을 이용할 수 있다. 예를 들면, 안트라퀴논계 안료로서는, C. I. 피그먼트 레드 177을 들 수 있고, 페릴렌계 안료로서는, C. I. 피그먼트 레드 155, C. I. 피그먼트 레드 224를 들 수 있으며, 다이케토피롤로피롤계 안료로서는, C. I. 피그먼트 레드 254를 들 수 있고, 색분해성의 점에서 C. I. 피그먼트 옐로 139와의 혼합이 바람직하다. 또, 적색 안료와 황색 안료의 질량비는, 100:5~100:50이 바람직하고, 100:10~100:30의 범위가 보다 바람직하다. 적색 안료끼리의 조합의 경우는, 구하는 분광에 맞춰 조정할 수 있다.Examples of the red pigment include an anthraquinone pigment, a perylene pigment, a diketopyrrolopyrrole pigment alone, or at least one of them, a disazo yellow pigment, an isophorone yellow pigment, a quinophthalone pigment, A yellow pigment, a perylene red pigment, or the like can be used. Examples of the anthraquinone pigments include CI Pigment Red 177, and the perylene pigments include CI Pigment Red 155 and CI Pigment Red 224. As the diketopyrrolopyrrole pigments, CI Pigment Red 254, and it is preferable to mix with CI Pigment Yellow 139 in terms of color degradability. The mass ratio of the red pigment to the yellow pigment is preferably from 100: 5 to 100: 50, and more preferably from 100: 10 to 100: 30. In the case of a combination of red pigments, it can be adjusted in accordance with the obtained spectroscopy.

녹색 안료로서는, 할로젠화 프탈로사이아닌계 안료를 단독으로, 또는 이것과 디스아조계 황색 안료, 퀴노프탈론계 황색 안료, 아조메타인계 황색 안료 혹은 아이소인돌린계 황색 안료의 혼합을 이용할 수 있다. 예를 들면, 이들의 예로서는, C. I. 피그먼트 그린 7, 36, 37과 C. I. 피그먼트 옐로 83, C. I. 피그먼트 옐로 138, C. I. 피그먼트 옐로 139, C. I. 피그먼트 옐로 150, C. I. 피그먼트 옐로 180 또는 C. I. 피그먼트 옐로 185와의 혼합이 바람직하다. 녹색 안료와 황색 안료의 질량비는, 100:5~100:150이 바람직하고, 100:30~100:120의 범위가 보다 바람직하다.As the green pigment, a halogenated phthalocyanine pigment may be used singly or in combination with a disazo yellow pigment, a quinophthalone yellow pigment, an azomethan yellow pigment or an isoindolene yellow pigment have. Examples of these include CI Pigment Green 7, 36, 37 and CI Pigment Yellow 83, CI Pigment Yellow 138, CI Pigment Yellow 139, CI Pigment Yellow 150, CI Pigment Yellow 180, Lt; RTI ID = 0.0 &gt; 185 &lt; / RTI &gt; The mass ratio of the green pigment to the yellow pigment is preferably 100: 5 to 100: 150, and more preferably 100: 30 to 100: 120.

청색 안료로서는, 프탈로사이아닌계 안료를 단독으로, 혹은 이것과 다이옥사진계 자색 안료의 혼합을 이용할 수 있다. 예를 들면 C. I. 피그먼트 블루 15:6과 C. I. 피그먼트 바이올렛 23의 혼합이 바람직하다. 청색 안료와 자색 안료의 질량비는, 100:0~100:100이 바람직하다.As the blue pigment, a phthalocyanine-based pigment may be used alone, or a mixture of the phthalocyanine-based pigment and a dioxazine-based purple pigment may be used. For example, a mixture of C. I. Pigment Blue 15: 6 and C. I. Pigment Violet 23 is preferred. The mass ratio of the blue pigment to the purple pigment is preferably 100: 0 to 100: 100.

블랙 매트릭스용의 안료로서는, 카본, 타이타늄 블랙, 산화 철, 산화 타이타늄 단독, 또는 이들 중 2종류 이상의 혼합이 이용되고, 카본과 타이타늄 블랙의 조합이 바람직하다. 또, 카본과 타이타늄 블랙의 질량비는, 100:0~100:60의 범위가 바람직하다.As the pigment for the black matrix, carbon, titanium black, iron oxide, titanium oxide alone, or a mixture of two or more thereof is used, and a combination of carbon and titanium black is preferable. The mass ratio of carbon to titanium black is preferably in the range of 100: 0 to 100: 60.

안료의 1차 입자 사이즈는, 컬러 필터용으로서 이용하는 경우에는, 색 불균일이나 콘트라스트의 관점에서, 100nm 이하인 것이 바람직하다. 또, 분산 안정성의 관점에서 5nm 이상인 것이 바람직하다. 안료의 1차 입자 사이즈로서 보다 바람직하게는, 5~75nm이며, 더 바람직하게는 5~55nm이고, 특히 바람직하게는 5~35nm이다.When the pigment is used for a color filter, the primary particle size of the pigment is preferably 100 nm or less from the viewpoint of color unevenness and contrast. Also, from the viewpoint of dispersion stability, it is preferably 5 nm or more. The primary particle size of the pigment is more preferably 5 to 75 nm, further preferably 5 to 55 nm, and particularly preferably 5 to 35 nm.

안료의 1차 입자 사이즈는, 전자 현미경 등의 공지의 방법으로 측정할 수 있다.The primary particle size of the pigment can be measured by a known method such as an electron microscope.

그 중에서도, 안료로서는, 안트라퀴논 안료, 다이케토피롤로피롤 안료, 프탈로사이아닌 안료, 퀴노프탈론 안료, 아이소인돌린 안료, 아조메타인 안료, 및 다이옥사진 안료로부터 선택되는 안료인 것이 바람직하다. 특히, C. I. 피그먼트 레드 177(안트라퀴논 안료), C. I. 피그먼트 레드 254(다이케토피롤로피롤 안료), C. I. 피그먼트 그린 7, 36, 58, C. I. 피그먼트 블루 15:6(프탈로사이아닌 안료), C. I. 피그먼트 옐로 138(퀴노프탈론 안료), C. I. 피그먼트 옐로 139, 185(아이소인돌린 안료), C. I. 피그먼트 옐로 150(아조메타인 안료), C. I. 피그먼트 바이올렛 23(다이옥사진 안료)이 특히 바람직하다.Among them, the pigment is preferably a pigment selected from anthraquinone pigment, diketopyrrolopyrrole pigment, phthalocyanine pigment, quinophthalone pigment, isoindoline pigment, azomethine pigment, and dioxazine pigment . Particularly, CI Pigment Red 177 (anthraquinone pigment), CI Pigment Red 254 (diketopyrrolopyrrole pigment), CI Pigment Green 7, 36, 58, CI Pigment Blue 15: 6 ), CI Pigment Yellow 138 (quinophthalone pigment), CI Pigment Yellow 139, 185 (isoindoline pigment), CI Pigment Yellow 150 (azomethine pigment), CI Pigment Violet 23 Is particularly preferable.

본 발명의 착색 조성물이 다른 색소를 함유하는 경우, 다른 색소의 함유량은, 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여, 10~70질량%가 바람직하고, 25~65질량%가 보다 바람직하며, 35~55질량%가 더 바람직하다.When the coloring composition of the present invention contains other coloring matters, the content of the other coloring matter is preferably 10 to 70 mass%, more preferably 25 to 65 mass%, and more preferably 35 to 55 mass%, based on the total solid content of the coloring composition % Is more preferable.

본 발명의 착색 조성물은, 다른 색소를, 1종류만을 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The coloring composition of the present invention may contain only one kind of other coloring matter or may contain two or more kinds of other coloring matters. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.

<<수지>><< Resin >>

본 발명의 착색 조성물은, 수지를 함유하는 것이 바람직하다. 이 수지로서는, 안료를 분산시키는 수지(분산 수지)나, 알칼리 가용성 수지 등을 들 수 있다.The coloring composition of the present invention preferably contains a resin. Examples of the resin include a resin (dispersion resin) for dispersing a pigment and an alkali-soluble resin.

<<<분산 수지>>><<< Dispersion resin >>>

분산 수지로서는, 예를 들면 폴리아마이드아민과 그 염, 폴리카복실산과 그 염, 고분자량 불포화산 에스터, 변성 폴리유레테인, 변성 폴리에스터, 변성 폴리(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴계 공중합체, 나프탈렌설폰산 포말린 축합물 등의 고분자 분산제를 들 수 있다.As the dispersing resin, there may be mentioned, for example, polyamide amines and their salts, polycarboxylic acids and their salts, high molecular weight unsaturated acid esters, modified polyurethane, modified polyester, modified poly (meth) acrylate, (meth) , Naphthalenesulfonic acid-formalin condensate, and the like.

고분자 분산제는, 그 구조로부터 직쇄상 고분자, 안료 표면에 대한 앵커 부위를 갖는 말단 변성형 고분자, 안료 표면에 대한 앵커 부위를 갖는 그래프트형 고분자, 안료 표면에 대한 앵커 부위를 갖는 블록형 고분자로 더 분류할 수 있다.The polymer dispersant is further classified into a block polymer having a linear polymer, an end-modified polymer having an anchor site on the pigment surface, a graft polymer having an anchor site on the pigment surface, and an anchor site on the pigment surface from the structure can do.

안료 표면에 대한 앵커 부위를 갖는 말단 변성형 고분자로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 평3-112992호 및 일본 공표특허공보 2003-533455호 등에 기재된 말단에 인산기를 갖는 고분자, 일본 공개특허공보 2002-273191호 등에 기재된 말단에 설폰산기를 갖는 고분자, 일본 공개특허공보 평9-77994호 등에 기재된 유기 색소의 부분 골격이나 복소환을 갖는 고분자 등을 들 수 있다. 또, 일본 공개특허공보 2007-277514호에 기재된 고분자 말단에 2개 이상의 안료 표면에 대한 앵커 부위(산기, 염기성기, 유기 색소의 부분 골격이나 헤테로환 등)를 도입한 고분자도 분산 안정성이 우수하여 바람직하다.Examples of the terminal modified polymer having an anchor site on the surface of the pigment include a polymer having a phosphate group at the terminals described in JP-A-3-112992 and JP-A-2003-533455, JP-A- 273191 and the like, polymers having a partial skeleton of an organic dye described in JP-A No. 9-77994 and the like, and polymers having a heterocyclic ring, and the like. Furthermore, a polymer having an anchor site (an acid group, a basic group, a partial skeleton of an organic dye, a heterocycle, etc.) introduced into two or more pigment surfaces at the polymer terminal end described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-277514 is also excellent in dispersion stability desirable.

안료 표면에 대한 앵커 부위를 갖는 그래프트형 고분자로서는, 예를 들면 폴리에스터계 수지 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 일본 공개특허공보 소54-37082호, 일본 공표특허공보 평8-507960호, 일본 공개특허공보 2009-258668호 등에 기재된 폴리(저급 알킬렌이민)와 폴리에스터의 반응 생성물, 일본 공개특허공보 평9-169821호 등에 기재된 폴리알릴아민과 폴리에스터의 반응 생성물, 일본 공개특허공보 평10-339949호, 일본 공개특허공보 2004-37986호 등에 기재된 매크로모노머와, 질소 원자 모노머의 공중합체, 일본 공개특허공보 2003-238837호, 일본 공개특허공보 2008-9426호, 일본 공개특허공보 2008-81732호 등에 기재된 유기 색소의 부분 골격이나 복소환을 갖는 그래프트형 고분자, 일본 공개특허공보 2010-106268호 등에 기재된 매크로모노머와 산기 함유 모노머의 공중합체 등을 들 수 있다. 특히, 일본 공개특허공보 2009-203462호에 기재된 염기성기와 산기를 갖는 양성(兩性) 수지는, 안료 분산물의 분산성, 분산 안정성, 및 안료 분산물을 이용한 착색 조성물이 나타내는 현상성의 관점에서 특히 바람직하다.Examples of the graft-type polymer having an anchor portion to the pigment surface include a polyester-based resin and the like. Specifically, the reaction product of a poly (lower alkyleneimine) and a polyester described in JP-A-54-37082, JP-A-8-507960, JP-A-2009-258668, A reaction product of a polyallylamine and a polyester described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-169821, a macromonomer described in JP-A No. 10-339949, JP-A No. 2004-37986, etc., a copolymer of a nitrogen atom monomer, Graft polymers having a partial skeleton of an organic dye or a heterocyclic ring described in JP-A-2003-238837, JP-A-2008-9426, and JP-A-2008-81732, JP-A-2010-106268 And a copolymer of an acid group-containing monomer and the like. In particular, the amphoteric resin having a basic group and an acid group described in JP-A-2009-203462 is particularly preferable in view of the dispersibility of the pigment dispersion, the dispersion stability, and the developability exhibited by the coloring composition using the pigment dispersion .

그래프트형 고분자를 라디칼 중합으로 제조할 때에 이용하는 매크로모노머로서는, 공지의 매크로모노머를 이용할 수 있고, 도아 고세이(주)제의 매크로모노머 AA-6(말단기가 메타크릴로일기인 폴리메타크릴산 메틸), AS-6(말단기가 메타크릴로일기인 폴리스타이렌), AN-6S(말단기가 메타크릴로일기인 스타이렌과 아크릴로나이트릴의 공중합체), AB-6(말단기가 메타크릴로일기인 폴리아크릴산 뷰틸), 다이셀 가가쿠 고교(주)제의 플락셀 FM5(메타크릴산 2-하이드록시에틸의 ε-카프로락톤 5몰 당량 부가품), FA10L(아크릴산 2-하이드록시에틸의 ε-카프로락톤 10몰 당량 부가품), 및 일본 공개특허공보 평2-272009호에 기재된 폴리에스터계 매크로모노머 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 특히 유연성 또한 친용제성이 우수한 폴리에스터계 매크로모노머가, 안료 분산물의 분산성, 분산 안정성, 및 안료 분산물을 이용한 착색 조성물이 나타내는 현상성의 관점에서 바람직하고, 일본 공개특허공보 평2-272009호에 기재된 폴리에스터계 매크로모노머로 나타나는 폴리에스터계 매크로모노머가 특히 바람직하다.Known macromonomers can be used as the macromonomer used when the graft polymer is produced by radical polymerization. Macromonomer AA-6 (polymethacryloyl group having a terminal group of methacryloyl group) manufactured by DOKOSEI CO., LTD. , AN-6S (a copolymer of styrene and acrylonitrile having a terminal group of methacryloyl group), AB-6 (poly (meth) acrylate having a terminal group of methacryloyl group), AS-6 (polystyrene in which the terminal group is methacryloyl group) Butyl acrylate), Flaccel FM5 (5-molar equivalent of 2-hydroxyethyl methacrylate-epsilon -caprolactone) manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., FA10L (? -Caprolactone of 2-hydroxyethyl acrylate 10 molar equivalents of lactone), and polyester-based macromonomers described in JP-A-2-272009. Of these, polyester-based macromonomers having particularly good flexibility and good solventability are preferable from the viewpoints of dispersibility of the pigment dispersion, dispersion stability, and developability exhibited by the coloring composition using the pigment dispersion, and Japanese Laid- Especially preferred are polyester-based macromonomers represented by the polyester-based macromonomers described in JP-A-27-272009.

안료 표면에 대한 앵커 부위를 갖는 블록형 고분자로서는, 일본 공개특허공보 2003-49110호, 일본 공개특허공보 2009-52010호 등에 기재된 블록형 고분자가 바람직하다.As block type polymers having anchor sites on the pigment surface, block type polymers described in JP-A-2003-49110 and JP-A-2009-52010 are preferable.

수지는, 시판품으로서도 입수 가능하고, 이와 같은 구체예로서는, 구스모토 가세이 가부시키가이샤제 "DA-7301", BYK Chemie사제 "Disperbyk-101(폴리아마이드아민 인산염), 107(카복실산 에스터), 110(산기를 포함하는 공중합물), 130(폴리아마이드), 161, 162, 163, 164, 165, 166, 170(고분자 공중합물)", "BYK-P104, P105(고분자량 불포화 폴리카복실산)", EFKA사제 "EFKA4047, 4050~4010~4165(폴리유레테인계), EFKA4330~4340(블록 공중합체), 4400~4402(변성 폴리아크릴레이트), 5010(폴리에스터아마이드), 5765(고분자량 폴리카복실산염), 6220(지방산 폴리에스터), 6745(프탈로사이아닌 유도체), 6750(아조 안료 유도체)", 아지노모토 파인 테크노사제 "아지스퍼 PB821, PB822, PB880, PB881", 교에이샤 가가쿠사제 "플로렌 TG-710(유레테인 올리고머), 폴리플로 No. 50E, No. 300(아크릴계 공중합체)", 구스모토 가세이사제 "디스파론 KS-860, 873SN, 874, #2150(지방족 다가 카복실산), #7004(폴리에터에스터), DA-703-50, DA-705, DA-725", 가오사제 "데몰 RN, N(나프탈렌설폰산 포말린 중축합물), MS, C, SN-B(방향족 설폰산 포말린 중축합물)", "호모게놀 L-18(고분자 폴리카복실산), 에멀겐 920, 930, 935, 985(폴리옥시에틸렌노닐페닐에터), 아세타민 86(스테아릴아민아세테이트)", 니혼 루브리졸(주)제 "솔스퍼스 5000(프탈로사이아닌 유도체), 22000(아조 안료 유도체), 13240(폴리에스터아민), 3000, 17000, 27000(말단부에 기능부를 갖는 고분자), 24000, 28000, 32000, 38500(그래프트형 고분자)", 닛코 케미컬사제 "닛콜 T106(폴리옥시에틸렌소비탄모노올레이트), MYS-IEX(폴리옥시에틸렌모노스테아레이트)", 가와켄 파인 케미컬(주)제 "히노액트 T-8000E 등", 신에쓰 가가쿠 고교(주)제 "오가노실록세인 폴리머 KP341", 유쇼(주)제 "W001: 양이온계 계면활성제, 폴리옥시에틸렌라우릴에터, 폴리옥시에틸렌스테아릴에터, 폴리옥시에틸렌올레일에터, 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에터, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에터, 폴리에틸렌글라이콜다이라우레이트, 폴리에틸렌글라이콜다이스테아레이트, 소비탄 지방산 에스터 등의 비이온계 계면활성제, "W004, W005, W017" 등의 음이온계 계면활성제", 모리시타 산교(주)제 "EFKA-46, EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA 폴리머 100, EFKA 폴리머 400, EFKA 폴리머 401, EFKA 폴리머 450", 산노프코(주)제 "디스퍼스에이드 6, 디스퍼스에이드 8, 디스퍼스에이드 15, 디스퍼스에이드 9100" 등의 고분자 분산제, (주)ADEKA제 "아데카플루로닉 L31, F38, L42, L44, L61, L64, F68, L72, P95, F77, P84, F87, P94, L101, P103, F108, L121, P-123", 및 산요 가세이(주)제 "이오넷(상품명) S-20" 등을 들 수 있다.Specific examples thereof include DA-7301 manufactured by Gusumoto Kasei Co., Ltd., Disperbyk-101 (polyamide amine phosphate) manufactured by BYK Chemie, 107 (carboxylic acid ester), 110 Quot; BYK-P104, P105 (high molecular weight unsaturated polycarboxylic acid) ", manufactured by EFKA Co., Ltd.), 130 (polyamide), 161,162,163,164,165,166 (Denatured polyacrylate), 5010 (polyester amide), 5765 (high molecular weight polycarboxylic acid salt), EFKA4030 to EFKA4030 to EFKA4330 to EFKA4340 to EFKA4340 to EFKA4340 to EFKA4340 to EFKA4340 to EFKA4340 to EFKA4340 to EFKA4340, (Azobisisobutyronitrile), 6220 (fatty acid polyester), 6745 (phthalocyanine derivative), 6750 (azo pigment derivative), Azizuper PB821, PB822, PB880, PB881 manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., -710 (uretene oligomer), Polyflow No. 50E, No. 300 (acrylic copolymer) "manufactured by Kusumoto Chemical Industry Co., &Quot; DERMARON KS-860, 873SN, 874, # 2150 (aliphatic polyvalent carboxylic acid), # 7004 (polyetherester), DA-703-50, DA- N (naphthalene sulfonic acid-formaldehyde polycondensate), MS, C, SN-B (aromatic sulfonic acid-formaldehyde polycondensate) "," Homogenol L-18 (polymeric polycarboxylic acid) ", EMULGEN 920, 930, 935, 985 (Polyoxyethylene nonylphenyl ether), acetamin 86 (stearylamine acetate) "manufactured by Nippon Lubricant Co., Ltd.," Solspers 5000 (phthalocyanine derivative) ", 22000 (azo pigment derivative), 13240 (Graft polymer), " NIKOL T106 (polyoxyethylene sorbitan monooleate) manufactured by Nikko Chemical Co., Ltd., and "Quot; MYS-IEX (polyoxyethylene monostearate) " manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd., " Hinoact T-8000E etc. " manufactured by Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd., " Organosiloxane polymer KP341 " Note) "W0 01: a cationic surfactant, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol Nonionic surfactants such as polyoxyethylene sorbitan monolaurate, polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, polyoxyethylene sorbitan monolaurate, polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, , EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA polymer 100, EFKA polymer 400, EFKA polymer 401, EFKA polymer 450 ", Disperse 6, Disperse 8, Disperse 15, F98, L42, L44, L61, L64, F68, L72, P95, F77, P84, F87, P94, L101, P103 and P103 of Adeka Co., F108, L121, P-123 "manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd. and" Ionet (trade name) S-20 "manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.

수지는, 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 또, 수지는, 안료 표면에 대한 앵커 부위를 갖는 말단 변성형 고분자, 안료 표면에 대한 앵커 부위를 갖는 그래프트형 고분자, 안료 표면에 대한 앵커 부위를 갖는 블록형 고분자와 함께, 후술하는 알칼리 가용성 수지를 병용해도 된다.The resin may be used alone, or two or more resins may be used in combination. In addition, the resin can be obtained by mixing an alkali-soluble resin to be described later with an end-modified polymer having an anchor site to the pigment surface, a graft polymer having an anchor site to the pigment surface, and a block polymer having an anchor site to the pigment surface Or may be used in combination.

알칼리 가용성 수지로서는, (메트)아크릴산 공중합체, 이타콘산 공중합체, 크로톤산 공중합체, 말레산 공중합체, 부분 에스터화 말레산 공중합체 등, 및 측쇄에 카복실산을 갖는 산성 셀룰로스 유도체, 하이드록실기를 갖는 폴리머에 산무수물을 변성한 수지를 들 수 있다. 특히 (메트)아크릴산 공중합체가 바람직하다. 또, 일본 공개특허공보 평10-300922호에 기재된 N위 치환 말레이미드 모노머 공중합체, 일본 공개특허공보 2004-300204호에 기재된 에터 다이머 공중합체, 일본 공개특허공보 평7-319161호에 기재된 중합성기를 함유하는 알칼리 가용성 수지도 바람직하다.Examples of the alkali-soluble resin include (meth) acrylic acid copolymers, itaconic acid copolymers, crotonic acid copolymers, maleic acid copolymers, partially esterified maleic acid copolymers and the like, and acidic cellulose derivatives having a carboxylic acid in the side chain, May be a resin obtained by modifying an acid anhydride in the polymer. Particularly, a (meth) acrylic acid copolymer is preferable. The N-substituted maleimide monomer copolymer described in JP-A No. 10-300922, the ether dimer copolymer disclosed in JP-A No. 2004-300204, the polymerizable group described in JP-A No. 7-319161 Is also preferable.

착색 조성물에 있어서, 분산 수지를 함유하는 경우, 분산 수지의 함유량으로서는, 안료 100질량부에 대하여, 1~100질량부인 것이 바람직하다. 하한은, 예를 들면 5질량부 이상이 보다 바람직하며, 10질량부 이상이 더 바람직하다. 상한은, 예를 들면 80질량부 이하가 보다 바람직하며, 70질량부 이하가 더 바람직하고, 60질량부 이하가 보다 더 바람직하다.In the case of containing the dispersion resin in the coloring composition, the content of the dispersion resin is preferably 1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment. The lower limit is more preferably 5 parts by mass or more, for example, and 10 parts by mass or more is more preferable. The upper limit is more preferably 80 parts by mass or less, more preferably 70 parts by mass or less, and even more preferably 60 parts by mass or less.

<<<알칼리 가용성 수지>>><<< Alkali-soluble resin >>>

본 발명의 착색 조성물은, 수지로서 알칼리 가용성 수지를 함유할 수 있다. 알칼리 가용성 수지를 함유함으로써, 현상성·패턴 형성성이 향상된다. 또한, 알칼리 가용성 수지는, 상술한 분산 수지로서 이용할 수도 있다.The coloring composition of the present invention may contain an alkali-soluble resin as a resin. By containing an alkali-soluble resin, developability and pattern formation property are improved. The alkali-soluble resin may also be used as the above-mentioned dispersion resin.

알칼리 가용성 수지의 분자량으로서는, 특별히 정하는 것은 아니지만, 중량 평균 분자량(Mw)이 5000~100,000인 것이 바람직하다. 또, 수평균 분자량(Mn)은, 1000~20,000인 것이 바람직하다.The molecular weight of the alkali-soluble resin is not particularly limited, but the weight average molecular weight (Mw) is preferably 5000 to 100,000. The number average molecular weight (Mn) is preferably 1,000 to 20,000.

알칼리 가용성 수지로서는, 선상 유기 고분자 중합체여도 되고, 분자(바람직하게는, 아크릴계 공중합체, 스타이렌계 공중합체를 주쇄로 하는 분자) 중에 적어도 하나의 알칼리 가용성을 촉진하는 기를 갖는 알칼리 가용성 수지 중에서 적절히 선택할 수 있다.The alkali-soluble resin may be a linear organic polymer or may be appropriately selected from among alkali-soluble resins having at least one group capable of promoting alkali solubility in a molecule (preferably, acrylic copolymer, styrene-based copolymer as a main chain) have.

알칼리 가용성 수지에 대하여 설명한다.The alkali-soluble resin will be described.

알칼리 가용성 수지로서는, 내열성의 관점에서는, 폴리하이드록시스타이렌계 수지, 폴리실록세인계 수지, 아크릴계 수지, 아크릴아마이드계 수지, 아크릴/아크릴아마이드 공중합체 수지가 바람직하고, 현상성 제어의 관점에서는, 아크릴계 수지, 아크릴아마이드계 수지, 아크릴/아크릴아마이드 공중합체 수지가 바람직하다.The alkali-soluble resin is preferably a polyhydroxystyrene-based resin, a polysiloxane-based resin, an acrylic resin, an acrylamide-based resin or an acrylic / acrylamide copolymer resin from the viewpoint of heat resistance, , An acrylamide resin, and an acrylic / acrylamide copolymer resin.

알칼리 가용성을 촉진하는 기(이하, 산기라고도 함)로서는, 예를 들면 카복실기, 인산기, 설폰산기, 페놀성 하이드록실기 등을 들 수 있는데, 유기 용제에 가용이고 약알칼리 수용액에 의하여 현상 가능한 것이 바람직하며, (메트)아크릴산을 특히 바람직한 것으로서 들 수 있다. 이들 산기는, 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 된다.Examples of the group capable of promoting alkali solubility (hereinafter also referred to as an acid group) include a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, and a phenolic hydroxyl group. Examples thereof include those soluble in an organic solvent and capable of being developed by a weakly alkaline aqueous solution , And (meth) acrylic acid is particularly preferable. These acid groups may be only one kind, or two or more kinds.

알칼리 가용성 수지의 제조에는, 예를 들면 공지의 라디칼 중합법에 의한 방법을 적용할 수 있다. 라디칼 중합법으로 알칼리 가용성 수지를 제조할 때의 온도, 압력, 라디칼 개시제의 종류 및 그 양, 용매의 종류 등의 중합 조건은, 당업자에 있어서 용이하게 설정 가능하고, 실험적으로 조건을 정하도록 할 수도 있다.For the production of the alkali-soluble resin, for example, a known radical polymerization method can be applied. Polymerization conditions such as the temperature, pressure, kind and amount of the radical initiator and the kind of solvent at the time of producing the alkali-soluble resin by the radical polymerization method can be easily set by those skilled in the art, have.

알칼리 가용성 수지로서는, 측쇄에 카복실산을 갖는 폴리머가 바람직하고, 메타크릴산 공중합체, 아크릴산 공중합체, 이타콘산 공중합체, 크로톤산 공중합체, 말레산 공중합체, 부분 에스터화 말레산 공중합체, 노볼락형 수지 등의 알칼리 가용성 페놀 수지 등, 및 측쇄에 카복실기를 갖는 산성 셀룰로스 유도체, 하이드록실기를 갖는 폴리머에 산무수물을 부가시킨 것 들 수 있다. 특히, (메트)아크릴산과, 이것과 공중합 가능한 다른 모노머의 공중합체가, 알칼리 가용성 수지로서 적합하다. (메트)아크릴산과 공중합 가능한 다른 모노머로서는, 알킬(메트)아크릴레이트, 아릴(메트)아크릴레이트, 바이닐 화합물 등을 들 수 있다. 알킬(메트)아크릴레이트 및 아릴(메트)아크릴레이트로서는, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 뷰틸(메트)아크릴레이트, 아이소뷰틸(메트)아크릴레이트, 펜틸(메트)아크릴레이트, 헥실(메트)아크릴레이트, 옥틸(메트)아크릴레이트, 페닐(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 톨릴(메트)아크릴레이트, 나프틸(메트)아크릴레이트, 사이클로헥실(메트)아크릴레이트 등, 바이닐 화합물로서는, 스타이렌, α-메틸스타이렌, 바이닐톨루엔, 글리시딜메타크릴레이트, 아크릴로나이트릴, 바이닐아세테이트, N-바이닐피롤리돈, 테트라하이드로퓨퓨릴메타크릴레이트, 폴리스타이렌 매크로모노머, 폴리메틸메타크릴레이트 매크로모노머 등, 일본 공개특허공보 평10-300922호에 기재된 N위 치환 말레이미드 모노머로서, N-페닐말레이미드, N-사이클로헥실말레이미드 등을 들 수 있다. 또한, 이들 (메트)아크릴산과 공중합 가능한 다른 모노머는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 된다.As the alkali-soluble resin, a polymer having a carboxylic acid in its side chain is preferable, and a methacrylic acid copolymer, an acrylic acid copolymer, an itaconic acid copolymer, a crotonic acid copolymer, a maleic acid copolymer, a partially esterified maleic acid copolymer, Soluble resin such as an alkali-soluble phenol resin such as a phenol resin, an acidic cellulose derivative having a carboxyl group in the side chain, and an acid anhydride added to a polymer having a hydroxyl group. Particularly, a copolymer of (meth) acrylic acid and other monomer copolymerizable therewith is suitable as an alkali-soluble resin. Examples of other monomers copolymerizable with (meth) acrylic acid include alkyl (meth) acrylate, aryl (meth) acrylate, and vinyl compounds. Examples of the alkyl (meth) acrylate and aryl (meth) acrylate include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (Meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, phenyl , And cyclohexyl (meth) acrylate. Examples of the vinyl compound include styrene,? -Methylstyrene, vinyltoluene, glycidyl methacrylate, acrylonitrile, vinyl acetate, N-vinylpyrrolidone, Furfuryl methacrylate, polystyrene macromonomer, polymethyl methacrylate macromonomer, and the like as the N-substituted maleimide monomer described in JP-A No. 10-300922 , N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide and the like. The other monomers copolymerizable with the (meth) acrylic acid may be one type or two or more types.

또, 본 발명에 있어서의 착색 조성물의 가교 효율을 향상시키기 위하여, 중합성기를 가진 알칼리 가용성 수지를 사용해도 된다. 중합성기로서는, (메트)알릴기, (메트)아크릴로일기 등을 들 수 있다. 중합성기를 가진 알칼리 가용성 수지는, 중합성기를 측쇄에 함유한 알칼리 가용성 수지 등이 유용하다.In order to improve the crosslinking efficiency of the coloring composition of the present invention, an alkali-soluble resin having a polymerizable group may be used. Examples of the polymerizable group include (meth) allyl group and (meth) acryloyl group. The alkali-soluble resin having a polymerizable group is useful as an alkali-soluble resin containing a polymerizable group in a side chain.

중합성기를 함유하는 알칼리 가용성 수지는, 미리 아이소사이아네이트기와 하이드록실기를 반응시켜, 미반응의 아이소사이아네이트기를 1개 남기고, 또한 (메트)아크릴로일기 등의 중합성기를 포함하는 화합물과, 카복실기를 포함하는 아크릴 수지를 반응시켜 얻어지는 유레테인 변성된 알칼리 가용성 수지; 카복실기를 포함하는 아크릴 수지와, 분자 내에 에폭시기 및 중합성 이중 결합을 갖는 화합물과의 반응에 의하여 얻어지는 알칼리 가용성 수지; 산펜던트형 에폭시아크릴레이트 수지; 하이드록실기를 포함하는 아크릴 수지와 중합성 이중 결합을 갖는 2염기산 무수물을 반응시켜 얻어지는 알칼리 가용성 수지; 하이드록실기를 포함하는 아크릴 수지와, 아이소사이아네이트 및 중합성기를 갖는 화합물을 반응시켜 얻어지는 알칼리 가용성 수지; 일본 공개특허공보 2002-229207호 및 일본 공개특허공보 2003-335814호에 기재되는 α위 또는 β위에 할로젠 원자 혹은 설포네이트기 등의 탈리기를 갖는 에스터기를 측쇄에 갖는 수지를 염기성 처리를 행함으로써 얻어지는 알칼리 가용성 수지; 등이 바람직하다.The alkali-soluble resin containing a polymerizable group may be prepared by reacting an isocyanate group and a hydroxyl group in advance to prepare a compound (a) containing a polymerizable group such as a (meth) acryloyl group and leaving one unreacted isocyanate group And an urethane-modified alkali-soluble resin obtained by reacting an acrylic resin containing a carboxyl group; An alkali-soluble resin obtained by reacting an acrylic resin containing a carboxyl group with a compound having an epoxy group and a polymerizable double bond in the molecule; Acid pendant epoxy acrylate resins; An alkali-soluble resin obtained by reacting an acrylic resin containing a hydroxyl group with a dibasic acid anhydride having a polymerizable double bond; An alkali-soluble resin obtained by reacting an acrylic resin containing a hydroxyl group with a compound having an isocyanate and a polymerizable group; A resin obtained by subjecting a resin having an ester group on the side chain to a? -Position or an? -Olefin atom or a sulfonate group on? On the? Side described in JP-A-2002-229207 and JP-A-2003-335814 by a basic treatment Alkali-soluble resins; .

중합성기를 함유하는 알칼리 가용성 수지로서는, 다이아날 NR 시리즈(미쓰비시 레이온 가부시키가이샤제), Photomer6173(COOH 함유 polyurethane acrylic oligomer. Diamond Shamrock Co., Ltd.제), 비스코트 R-264, KS 레지스트 106(모두 오사카 유키 가가쿠 고교 가부시키가이샤제), 사이클로머 P 시리즈, 플락셀 CF200 시리즈(모두 다이셀 가가쿠 고교 가부시키가이샤제), Ebecryl3800(다이셀 유시비 가부시키가이샤제), 아크리큐어 RD-F8(닛폰 쇼쿠바이사제) 등을 들 수 있다.Examples of the alkali-soluble resin containing a polymerizable group include a dianal NR series (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Photomer 6173 (a polyurethane acrylic oligomer containing COOH, manufactured by Diamond Shamrock Co., Ltd.), Viscot R- (All manufactured by Osaka Yuki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha), Cyclomer P series, Plexel CF200 series (all manufactured by Daicel Chemical Industries Ltd.), Ebecryl 3800 (manufactured by Dai-ichi Yushi Kabushiki Kaisha) -F8 (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) and the like.

알칼리 가용성 수지는, 벤질(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산 공중합체, 벤질(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트 공중합체, 벤질(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산/다른 모노머로 이루어지는 다원 공중합체를 바람직하게 이용할 수 있다. 또, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트를 공중합한 것, 일본 공개특허공보 평7-140654호에 기재된, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트/폴리스타이렌 매크로모노머/벤질메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체, 2-하이드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로모노머/벤질메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트/폴리스타이렌 매크로모노머/메틸메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트/폴리스타이렌 매크로모노머/벤질메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체 등도 바람직하게 이용할 수 있다.The alkali-soluble resin is preferably a copolymer of benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymer, benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / 2- hydroxyethyl / (Meth) acrylic acid / other monomers can be preferably used. Also, a copolymer obtained by copolymerizing 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and a copolymer of 2-hydroxypropyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylate Methacrylic acid copolymer, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer / Methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer can also be preferably used.

알칼리 가용성 수지는, 하기 일반식 (ED)로 나타나는 화합물 및/또는 하기 일반식 (ED2)로 나타나는 화합물(이하, 이들 화합물을 "에터 다이머"라고 칭하는 경우도 있음)을 포함하는 모노머 성분을 중합하여 이루어지는 폴리머 (a)를 포함하는 것도 바람직하다.The alkali-soluble resin is obtained by polymerizing a monomer component comprising a compound represented by the following formula (ED) and / or a compound represented by the following formula (ED2) (hereinafter, these compounds may also be referred to as " It is also preferable to include the polymer (a).

[화학식 53](53)

Figure pat00053
Figure pat00053

일반식 (ED) 중, R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~25의 탄화 수소기를 나타낸다.In the general formula (ED), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent.

일반식 (ED2)(ED2)

[화학식 54](54)

Figure pat00054
Figure pat00054

일반식 (ED2) 중, R은, 수소 원자 또는 탄소수 1~30의 유기기를 나타낸다. 일반식 (ED2)의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2010-168539호의 기재를 참조할 수 있다.In the general formula (ED2), R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms. As a specific example of the general formula (ED2), reference can be made to the disclosure of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2010-168539.

일반식 (ED) 중, R1 및 R2로 나타나는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~25의 탄화 수소기로서는, 특별히 제한은 없지만, 예를 들면 메틸, 에틸, n-프로필, 아이소프로필, n-뷰틸, 아이소뷰틸, tert-뷰틸, tert-아밀, 스테아릴, 라우릴, 2-에틸헥실 등의 직쇄상 또는 분기상의 알킬기; 페닐 등의 아릴기; 사이클로헥실, tert-뷰틸사이클로헥실, 다이사이클로펜타다이엔일, 트라이사이클로데칸일, 아이소보닐, 아다만틸, 2-메틸-2-아다만틸 등의 지환식기; 1-메톡시에틸, 1-에톡시에틸 등의 알콕시로 치환된 알킬기; 벤질 등의 아릴기로 치환된 알킬기; 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 특히, 메틸, 에틸, 사이클로헥실, 벤질 등과 같은 산이나 열로 탈리되기 어려운 1급 또는 2급 탄소의 치환기가 내열성의 점에서 바람직하다.In the general formula (ED), the hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent represented by R 1 and R 2 is not particularly limited, and examples thereof include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n- Butyl, isobutyl, tert-butyl, tert-amyl, stearyl, lauryl, 2-ethylhexyl, and other straight or branched alkyl groups; An aryl group such as phenyl; Alicyclic groups such as cyclohexyl, tert-butylcyclohexyl, dicyclopentadienyl, tricyclodecanyl, isobornyl, adamantyl, 2-methyl-2-adamantyl and the like; An alkyl group substituted by alkoxy such as 1-methoxyethyl or 1-ethoxyethyl; An alkyl group substituted with an aryl group such as benzyl; And the like. Of these, an acid such as methyl, ethyl, cyclohexyl, benzyl and the like, or a substituent of a primary or secondary carbon which is difficult to be desorbed by heat, is preferable from the viewpoint of heat resistance.

에터 다이머의 구체예로서는, 예를 들면 다이메틸-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이에틸-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(n-프로필)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(아이소프로필)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(n-뷰틸)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(아이소뷰틸)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(tert-뷰틸)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(tert-아밀)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(스테아릴)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(라우릴)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(2-에틸헥실)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(1-메톡시에틸)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(1-에톡시에틸)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이벤질-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이페닐-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이사이클로헥실-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(tert-뷰틸사이클로헥실)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(다이사이클로펜타다이엔일)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(트라이사이클로데칸일)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(아이소보닐)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이아다만틸-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(2-메틸-2-아다만틸)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 특히, 다이메틸-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이에틸-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이사이클로헥실-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이벤질-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트가 바람직하다. 이들 에터 다이머는, 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 된다. 일반식 (ED)로 나타나는 화합물 유래의 구조체는, 그 외의 모노머를 공중합시켜도 된다.Specific examples of the ether dimer include dimethyl-2,2'- [oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, diethyl-2,2 '- [oxybis (methylene)] bis- (Isopropyl) -2,2 '- [oxybis (methylene)] - propenoate, di (n-propyl) -2,2' - [oxybis Di (isobutyl) -2,2 '- [oxybis (2-methoxyphenyl) -2,2'- Methylene)] bis-2-propenoate, di (tert-butyl) -2,2 '- [oxybis Di (lauryl) -2,2 '- [oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (lauryl) Bis (2-ethylhexyl) -2,2 '- [oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di Methoxyethyl) -2,2 '- [oxybis (meth) 2-propenoate, dibenzyl-2, 2 '- [oxy (2-methoxyphenyl) Bis (methylene)] bis-2-propenoate, diphenyl-2,2 '- [oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, dicyclohexyl- )] Bis-2-propenoate, dicyclohexylcyclohexyl) -2,2 '- [oxybis (methylene)] bis- , 2 '- [oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (tricyclodecanyl) -2,2' Bis (2-propenyl) -2,2'- [oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, diadamantyl- 2-methyl-2-adamantyl) -2,2 '- [oxybis (methylene)] bis-2-propenoate. Among these, dimethyl-2,2'- [oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, diethyl-2,2 '- [oxybis (methylene)] bis- Propylene glycol dicyclohexyl-2,2 '- [oxybis (methylene)] bis-2-propenoate and dibenzyl-2,2' - [oxybis (methylene)] bis-2-propenoate. These ether dimers may be either one kind or two or more kinds. The structure derived from the compound represented by the general formula (ED) may be copolymerized with other monomers.

알칼리 가용성 수지는, 하기 식 (X)로 나타나는 화합물에 유래하는 구조 단위를 포함하고 있어도 된다.The alkali-soluble resin may contain a structural unit derived from a compound represented by the following formula (X).

[화학식 55](55)

Figure pat00055
Figure pat00055

식 (X)에 있어서, R1은, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R2는 탄소수 2~10의 알킬렌기를 나타내며, R3은, 수소 원자 또는 벤젠환을 포함해도 되는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타낸다. n은 1~15의 정수를 나타낸다.In formula (X), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, and R 3 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a hydrogen atom or a benzene ring . n represents an integer of 1 to 15;

상기 식 (X)에 있어서, R2의 알킬렌기의 탄소수는, 2~3이 바람직하다. 또, R3의 알킬기의 탄소수는 1~20이지만, 바람직하게는 1~10이며, R3의 알킬기는 벤젠환을 포함해도 된다. R3으로 나타나는 벤젠환을 포함하는 알킬기로서는, 벤질기, 2-페닐(아이소)프로필기 등을 들 수 있다.In the formula (X), the number of carbon atoms of the alkylene group of R 2 is preferably 2 to 3. The alkyl group of R 3 has 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, and the alkyl group of R 3 may include a benzene ring. Examples of the alkyl group containing a benzene ring represented by R 3 include a benzyl group and a 2-phenyl (isopropyl) group.

알칼리 가용성 수지는, 일본 공개특허공보 2012-208494호 단락 0558~0571(대응하는 미국 특허출원 공개공보 제2012/0235099호의 [0685]~[0700]) 이후의 기재를 참조할 수 있고, 이들 내용은 본원 명세서에 원용된다.The alkali-soluble resin may be referred to the following description in Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2012-208494, paragraphs 0558 to 0571 (corresponding to [0685] to [0700] of US Patent Application Publication No. 2012/0235099) Which is incorporated herein by reference.

또한, 일본 공개특허공보 2012-32767호에 기재된 단락 번호 0029~0063에 기재된 공중합체 (B) 및 실시예에서 이용되고 있는 알칼리 가용성 수지, 일본 공개특허공보 2012-208474호의 단락 번호 0088~0098에 기재된 바인더 수지 및 실시예에서 이용되고 있는 바인더 수지, 일본 공개특허공보 2012-137531호의 단락 번호 0022~0032에 기재된 바인더 수지 및 실시예에서 이용되고 있는 바인더 수지, 일본 공개특허공보 2013-024934호의 단락 번호 0132~0143에 기재된 바인더 수지 및 실시예에서 이용되고 있는 바인더 수지, 일본 공개특허공보 2011-242752호의 단락 번호 0092~0098 및 실시예에서 이용되고 있는 바인더 수지, 일본 공개특허공보 2012-032770호의 단락 번호 0030~0072에 기재된 바인더 수지를 이용할 수도 있다. 이들 내용은 본원 명세서에 원용된다.In addition, the copolymer (B) described in paragraphs Nos. 0029 to 0063 described in JP-A-2012-32767 and the alkali-soluble resin used in the examples, and the copolymer described in paragraphs 0088 to 0098 of JP-A- The binder resin used in the examples, the binder resin described in paragraphs 0022 to 0032 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2012-137531 and the binder resin used in the examples, and the binder resin used in the examples of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-024934 To 0143 and binder resins used in the examples, paragraphs 0092 to 0098 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2011-242752 and binder resins used in the examples, and Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2012-032770, paragraph No. 0030 0072 may be used. The contents of which are incorporated herein by reference.

알칼리 가용성 수지의 산가는, 30~500mgKOH/g이 바람직하다. 하한은, 50mgKOH/g 이상이 보다 바람직하며, 70mgKOH/g 이상이 더 바람직하다. 상한은, 400mgKOH/g 이하가 보다 바람직하며, 200mgKOH/g 이하가 더 바람직하고, 150mgKOH/g 이하가 특히 바람직하며, 120mgKOH/g 이하가 보다 더 바람직하다.The acid value of the alkali-soluble resin is preferably 30 to 500 mgKOH / g. The lower limit is more preferably 50 mgKOH / g or more, and more preferably 70 mgKOH / g or more. The upper limit is more preferably 400 mg KOH / g or less, more preferably 200 mg KOH / g or less, particularly preferably 150 mg KOH / g or less, and even more preferably 120 mg KOH / g or less.

착색 조성물이 알칼리 가용성 수지를 함유하는 경우, 알칼리 가용성 수지의 함유량은, 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여, 1~15질량%가 바람직하고, 2~12질량%가 보다 바람직하며, 3~10질량%가 더 바람직하다. 본 발명의 착색 조성물은, 알칼리 가용성 수지를, 1종류만을 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.When the coloring composition contains an alkali-soluble resin, the content of the alkali-soluble resin is preferably from 1 to 15 mass%, more preferably from 2 to 12 mass%, still more preferably from 3 to 10 mass%, based on the total solid content of the coloring composition. Is more preferable. The coloring composition of the present invention may contain only one alkali-soluble resin, or may contain two or more kinds of alkali-soluble resins. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.

<<안료 유도체>><< Pigment Derivatives >>

본 발명의 착색 조성물은, 안료 유도체를 함유할 수 있다.The coloring composition of the present invention may contain a pigment derivative.

안료 유도체란, 안료의 일부분을, 산성기, 염기성기, 프탈이미드메틸기 등으로 치환한 구조를 갖는 화합물이다. 안료 유도체로서는, 분산성 및 분산 안정성의 관점에서, 산성기 또는 염기성기를 갖는 안료 유도체를 함유하는 것이 바람직하다.The pigment derivative is a compound having a structure in which a part of the pigment is substituted with an acidic group, a basic group, a phthalimidomethyl group or the like. As the pigment derivative, it is preferable to contain a pigment derivative having an acidic group or a basic group from the viewpoints of dispersibility and dispersion stability.

안료 유도체를 구성하기 위한 안료로서는, 피롤로피롤 안료, 다이케토피롤로피롤 안료, 아조 안료, 프탈로사이아닌 안료, 안트라퀴논 안료, 퀴나크리돈 안료, 다이옥사진 안료, 페린온 안료, 페릴렌 안료, 싸이오인디고 안료, 아이소인돌린 안료, 아이소인돌린온 안료, 퀴노프탈론 안료, 트렌 안료, 금속 착체 안료 등을 들 수 있다.Examples of the pigment for constituting the pigment derivative include pyrrolopyrrole pigment, diketopyrrolopyrrole pigment, azo pigment, phthalocyanine pigment, anthraquinone pigment, quinacridone pigment, dioxazine pigment, perine pigment, perylene pigment , Thioindigo pigments, isoindoline pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, threne pigments, metal complex pigments, and the like.

안료 유도체가 갖는 산성기로서는, 설폰산기, 카복실산기 및 그 4급 암모늄염이 바람직하고, 카복실산기 및 설폰산기가 더 바람직하며, 설폰산기가 특히 바람직하다. 안료 유도체가 갖는 염기성기로서는, 아미노기가 바람직하고, 특히 3급 아미노기가 바람직하다.The acidic group of the pigment derivative is preferably a sulfonic acid group, a carboxylic acid group or a quaternary ammonium salt thereof, more preferably a carboxylic acid group or a sulfonic acid group, and particularly preferably a sulfonic acid group. As the basic group of the pigment derivative, an amino group is preferable, and a tertiary amino group is particularly preferable.

안료 유도체의 함유량은, 안료의 전체 질량에 대하여, 1~50질량%가 바람직하고, 3~30질량%가 더 바람직하다. 안료 유도체는, 1종류만을 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The content of the pigment derivative is preferably from 1 to 50% by mass, more preferably from 3 to 30% by mass, based on the total mass of the pigment. The pigment derivative may contain only one kind or two or more kinds thereof. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.

<<광중합 개시제>><< Photopolymerization initiator >>

본 발명의 착색 조성물은, 광중합 개시제를 더 함유해도 된다.The coloring composition of the present invention may further contain a photopolymerization initiator.

광중합 개시제로서는, 중합성 화합물의 중합을 개시하는 능력을 갖는 한, 특별히 제한은 없고, 공지의 광중합 개시제 중에서 적절히 선택할 수 있다. 예를 들면, 자외선 영역으로부터 가시의 광선에 대하여 감광성을 갖는 것이 바람직하다. 또, 광여기된 증감제와 어떠한 작용을 일으켜, 활성 라디칼을 생성하는 활성제여도 되고, 모노머의 종류에 따라 양이온 중합을 개시시키는 개시제여도 된다.The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it has the ability to initiate polymerization of the polymerizable compound, and can be appropriately selected from known photopolymerization initiators. For example, it is preferable to have photosensitivity to a visible ray from an ultraviolet ray region. In addition, it may be an activator that generates an active radical by generating some action with a photosensitized sensitizer, or may be an initiator that initiates cationic polymerization depending on the type of the monomer.

또, 광중합 개시제는, 약 300nm~800nm(330nm~500nm가 보다 바람직함)의 범위 내에 적어도 약 50의 몰 흡광 계수를 갖는 화합물을, 적어도 1종 함유하고 있는 것이 바람직하다.The photopolymerization initiator preferably contains at least one compound having a molar extinction coefficient of at least about 50 within a range of about 300 nm to 800 nm (more preferably 330 nm to 500 nm).

광중합 개시제로서는, 예를 들면 할로젠화 탄화 수소 유도체(예를 들면, 트라이아진 골격을 갖는 것, 옥사다이아졸 골격을 갖는 것 등), 아실포스핀옥사이드 등의 아실포스핀 화합물, 헥사아릴바이이미다졸, 옥심 유도체 등의 옥심 화합물, 유기 과산화물, 싸이오 화합물, 케톤 화합물, 방향족 오늄염, 케톡심에터, 아미노아세토페논 화합물, 하이드록시아세토페논 등을 들 수 있다.Examples of the photopolymerization initiator include halogenated hydrocarbon derivatives (for example, those having a triazine skeleton, those having an oxadiazole skeleton, etc.), acylphosphine compounds such as acylphosphine oxide, Organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ketoxime ethers, aminoacetophenone compounds, hydroxyacetophenones, and the like.

또, 노광 감도의 관점에서, 트라이할로메틸트라이아진 화합물, 벤질다이메틸케탈 화합물, α-하이드록시케톤 화합물, α-아미노케톤 화합물, 아실포스핀 화합물, 포스핀옥사이드 화합물, 메탈로센 화합물, 옥심 화합물, 트라이알릴이미다졸 다이머, 오늄 화합물, 벤조싸이아졸 화합물, 벤조페논 화합물, 아세토페논 화합물 및 그 유도체, 사이클로펜타다이엔-벤젠-철 착체 및 그 염, 할로메틸옥사다이아졸 화합물, 3-아릴 치환 쿠마린 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 화합물이 바람직하다.From the viewpoint of exposure sensitivity, it is also possible to use a trihalomethyltriazine compound, a benzyldimethylketal compound, an? -Hydroxyketone compound, an? -Amino ketone compound, an acylphosphine compound, a phosphine oxide compound, Oxime compounds, triallyl imidazole dimers, onium compounds, benzothiazole compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds and derivatives thereof, cyclopentadiene-benzene-iron complexes and salts thereof, halomethyloxadiazole compounds, 3 -Aryl-substituted coumarin compound is preferable.

더 바람직하게는, 트라이할로메틸트라이아진 화합물, α-아미노케톤 화합물, 아실포스핀 화합물, 포스핀옥사이드 화합물, 옥심 화합물, 트라이알릴이미다졸 다이머, 오늄 화합물, 벤조페논 화합물, 아세토페논 화합물이며, 트라이할로메틸트라이아진 화합물, α-아미노케톤 화합물, 옥심 화합물, 트라이알릴이미다졸 다이머, 벤조페논 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물이 특히 바람직하다.More preferably, it is a trihalomethyltriazine compound, an? -Amino ketone compound, an acylphosphine compound, a phosphine oxide compound, an oxime compound, a triallylimidazole dimer, an onium compound, a benzophenone compound or an acetophenone compound , At least one compound selected from the group consisting of a trihalomethyltriazine compound, an? -Amino ketone compound, an oxime compound, a triallylimidazole dimer, and a benzophenone compound is particularly preferable.

특히, 본 발명의 착색 조성물을 고체 촬상 소자의 컬러 필터의 제작에 사용하는 경우에는, 미세한 패턴을 샤프한 형상으로 형성할 필요가 있기 때문에, 경화성과 함께 미노광부에 잔사가 없이 현상되는 것이 중요하다. 이와 같은 관점에서는, 광중합 개시제로서는 옥심 화합물을 사용하는 것이 특히 바람직하다. 특히, 고체 촬상 소자에 있어서 미세한 패턴을 형성하는 경우, 경화용 노광에 스테퍼 노광을 이용한다. 이 노광기는 할로젠에 의하여 손상되는 경우가 있고, 광중합 개시제의 첨가량도 낮게 억제할 필요가 있다. 이러한 점을 고려하면, 고체 촬상 소자와 같은 미세 패턴을 형성하려면 광중합 개시제로서는, 옥심 화합물을 이용하는 것이 특히 바람직하다. 또, 옥심 화합물을 이용함으로써, 이염성을 보다 양호하게 할 수 있다.Particularly, when the coloring composition of the present invention is used in the production of a color filter of a solid-state imaging device, it is necessary to form a fine pattern in a sharp shape, and therefore it is important that the coloring composition is developed without residue on the unexposed portion with curing property. From this viewpoint, it is particularly preferable to use an oxime compound as the photopolymerization initiator. Particularly, in the case of forming a fine pattern in the solid-state image pickup device, stepper exposure is used for curing exposure. This exposure apparatus may be damaged by the halogen, and it is also necessary to suppress the addition amount of the photopolymerization initiator to a low level. Taking this into consideration, it is particularly preferable to use an oxime compound as a photopolymerization initiator in order to form a fine pattern such as a solid-state imaging element. Further, by using an oxime compound, it is possible to further improve the flammability.

광중합 개시제의 구체예로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0265~0268을 참조할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 원용된다.As specific examples of the photopolymerization initiator, reference may be made, for example, to paragraphs 0265 to 0268 of JP-A-2013-29760, the contents of which are incorporated herein by reference.

광중합 개시제로서는, 하이드록시아세토페논 화합물, 아미노아세토페논 화합물, 및 아실포스핀 화합물도 적합하게 이용할 수 있다. 보다 구체적으로는, 예를 들면 일본 공개특허공보 평10-291969호에 기재된 아미노아세토페논계 개시제, 일본 특허공보 제4225898호에 기재된 아실포스핀계 개시제도 이용할 수 있다.As the photopolymerization initiator, a hydroxyacetophenone compound, an aminoacetophenone compound, and an acylphosphine compound can also be suitably used. More specifically, for example, the aminoacetophenone-based initiator described in JP-A-10-291969 and the acylphosphine-based initiator disclosed in Japanese Patent Publication No. 4225898 can be used.

하이드록시아세토페논계 개시제로서는, IRGACURE-184, DAROCUR-1173, IRGACURE-500, IRGACURE-2959, IRGACURE-127(상품명: 모두 BASF사제)을 이용할 수 있다.As the hydroxyacetophenone-based initiator, IRGACURE-184, DAROCUR-1173, IRGACURE-500, IRGACURE-2959 and IRGACURE-127 (all trade names, manufactured by BASF) can be used.

아미노아세토페논계 개시제로서는, 시판품인 IRGACURE-907, IRGACURE-369, 및 IRGACURE-379(상품명: 모두 BASF사제)를 이용할 수 있다. 아미노아세토페논계 개시제는, 365nm 또는 405nm 등의 장파 광원에 흡수 파장이 매칭된 일본 공개특허공보 2009-191179 공보에 기재된 화합물도 이용할 수 있다.As the aminoacetophenone-based initiator, commercially available products IRGACURE-907, IRGACURE-369, and IRGACURE-379 (all trade names, manufactured by BASF) can be used. As the aminoacetophenone-based initiator, compounds described in JP-A-2009-191179 in which the absorption wavelength is matched to a long-wavelength light source such as 365 nm or 405 nm can be used.

아실포스핀계 개시제로서는, 시판품인 IRGACURE-819나 DAROCUR-TPO(상품명: 모두 BASF사제)를 이용할 수 있다.As the acylphosphine-based initiator, commercially available IRGACURE-819 and DAROCUR-TPO (all trade names, all manufactured by BASF) can be used.

광중합 개시제로서, 보다 바람직하게는 옥심 화합물을 들 수 있다.The photopolymerization initiator is more preferably an oxime compound.

옥심 화합물의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2001-233842호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2000-80068호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2006-342166호에 기재된 화합물을 이용할 수 있다.As specific examples of the oxime compounds, compounds described in JP 2001-233842 A, compounds described in JP-A 2000-80068, and JP 2006-342166 A can be used.

본 발명에 있어서, 적합하게 이용할 수 있는 옥심 화합물로서는, 예를 들면 3-벤조일옥시이미노뷰탄-2-온, 3-아세톡시이미노뷰탄-2-온, 3-프로피온일옥시이미노뷰탄-2-온, 2-아세톡시이미노펜탄-3-온, 2-아세톡시이미노-1-페닐프로판-1-온, 2-벤조일옥시이미노-1-페닐프로판-1-온, 3-(4-톨루엔설폰일옥시)이미노뷰탄-2-온, 및 2-에톡시카보닐옥시이미노-1-페닐프로판-1-온 등을 들 수 있다.Examples of oxime compounds that can be suitably used in the present invention include 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one, 3-propionyloxyiminobutan- , 2-acetoxyiminopentan-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino- 2-ethoxycarbonyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, and the like.

또, J. C. S. Perkin II(1979년) pp. 1653-1660, J. C. S. Perkin II(1979년) pp. 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology(1995년) pp. 202-232, 일본 공개특허공보 2000-66385호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2000-80068호, 일본 공표특허공보 2004-534797호, 일본 공개특허공보 2006-342166호의 각 공보에 기재된 화합물 등도 들 수 있다.J. C. S. Perkin II (1979) pp. Pp. 1653-1660, J. C. S. Perkin II (1979) pp. Pp. 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) pp. 202-232, JP-A 2000-66385, JP-A 2000-80068, JP-A 2004-534797, JP-A 2006-342166, etc. have.

시판품에서는 IRGACURE-OXE01(BASF사제), IRGACURE-OXE02(BASF사제)도 적합하게 이용된다. 또, TR-PBG-304(창저우 강력 전자 신재료 유한공사(Changzhou Tronly New Electronic Materials Co., Ltd.)제), 아데카 아클즈 NCI-831 및 아데카 아클즈 NCI-930(ADEKA사제)도 이용할 수 있다.IRGACURE-OXE01 (manufactured by BASF) and IRGACURE-OXE02 (manufactured by BASF) are suitably used in commercial products. ADEKA ACKNES NCI-831 and ADEKA ACKLS NCI-930 (manufactured by ADEKA), TR-PBG-304 (manufactured by Changzhou Tronly New Electronic Materials Co., Ltd.) Can also be used.

또 상기 기재 이외의 옥심 화합물로서, 카바졸 N위에 옥심이 연결된 일본 공표특허공보 2009-519904호에 기재된 화합물, 벤조페논 부위에 헤테로 치환기가 도입된 미국 특허공보 제7626957호에 기재된 화합물, 색소 부위에 나이트로기가 도입된 일본 공개특허공보 2010-15025호 및 미국특허 공개공보 2009-292039호에 기재된 화합물, 국제공개 특허공보 2009-131189호에 기재된 케톡심 화합물, 트라이아진 골격과 옥심 골격을 동일 분자 내에 함유하는 미국 특허공보 7556910호에 기재된 화합물, 405nm에 흡수 극대를 갖고 g선 광원에 대하여 양호한 감도를 갖는 일본 공개특허공보 2009-221114호에 기재된 화합물 등을 이용해도 된다.As oxime compounds other than the above-mentioned materials, compounds described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-519904 in which oxime is linked to carbazole N, compounds described in U.S. Patent No. 7626957 in which a hetero substituent is introduced into a benzophenone moiety, Compounds disclosed in Japanese Unexamined Patent Application Publication Nos. 2002-15025 and 2009-292039 where nitro groups are introduced, ketoxime compounds described in International Patent Publication No. 2009-131189, triazine skeleton and oxime skeleton in the same molecule The compound described in U.S. Patent Publication No. 7556910, the compound described in JP-A-2009-221114 having an absorption maximum at 405 nm and good sensitivity to a g-ray light source, or the like may be used.

바람직하게는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0274~0275를 참조할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 원용된다.Preferably, for example, refer to paragraphs 0274 to 0275 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-29760, the content of which is incorporated herein by reference.

구체적으로는, 옥심 화합물로서는, 하기 식 (OX-1)로 나타나는 화합물이 바람직하다. 또한, 옥심의 N-O 결합이 (E)체의 옥심 화합물이어도 되고, (Z)체의 옥심 화합물이어도 되며, (E)체와 (Z)체의 혼합물이어도 된다.Specifically, the oxime compound is preferably a compound represented by the following formula (OX-1). Further, the N-O bond of the oxime may be an oxime compound of the (E) form, an oxime compound of the (Z) form, or a mixture of the form (E) and the form (Z).

[화학식 56](56)

Figure pat00056
Figure pat00056

일반식 (OX-1) 중, R 및 B는 각각 독립적으로 1가의 치환기를 나타내고, A는 2가의 유기기를 나타내며, Ar은 아릴기를 나타낸다.In the general formula (OX-1), R and B each independently represent a monovalent substituent, A represents a divalent organic group, and Ar represents an aryl group.

일반식 (OX-1) 중, R로 나타나는 1가의 치환기로서는, 1가의 비금속 원자단인 것이 바람직하다.In the general formula (OX-1), the monovalent substituent represented by R is preferably a monovalent non-metallic atomic group.

1가의 비금속 원자단으로서는, 알킬기, 아릴기, 아실기, 알콕시카보닐기, 아릴옥시카보닐기, 복소환기, 알킬싸이오카보닐기, 아릴싸이오카보닐기 등을 들 수 있다. 또, 이들 기는, 1 이상의 치환기를 갖고 있어도 된다. 또, 상술한 치환기는, 다른 치환기로 더 치환되어 있어도 된다.Examples of the monovalent nonmetal atomic group include an alkyl group, an aryl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a heterocyclic group, an alkylthiocarbonyl group, and an arylthiocarbonyl group. These groups may have one or more substituents. The above-mentioned substituent may be further substituted with another substituent.

치환기로서는 할로젠 원자, 아릴옥시기, 알콕시카보닐기 또는 아릴옥시카보닐기, 아실옥시기, 아실기, 알킬기, 아릴기 등을 들 수 있다.Examples of the substituent include a halogen atom, an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group or an aryloxycarbonyl group, an acyloxy group, an acyl group, an alkyl group, and an aryl group.

일반식 (OX-1) 중, B로 나타나는 1가의 치환기로서는, 아릴기, 복소환기, 아릴카보닐기, 또는 복소환 카보닐기가 바람직하다. 이들 기는 1 이상의 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 상술한 치환기를 예시할 수 있다.In the general formula (OX-1), the monovalent substituent represented by B is preferably an aryl group, a heterocyclic group, an arylcarbonyl group or a heterocyclic carbonyl group. These groups may have one or more substituents. As the substituent, the above-mentioned substituent can be exemplified.

일반식 (OX-1) 중, A로 나타나는 2가의 유기기로서는, 탄소수 1~12의 알킬렌기, 사이클로알킬렌기, 알카인일렌기가 바람직하다. 이들 기는 1 이상의 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 상술한 치환기를 예시할 수 있다.In the general formula (OX-1), as the divalent organic group represented by A, an alkylene group, a cycloalkylene group or an alkane-ylene group having 1 to 12 carbon atoms is preferable. These groups may have one or more substituents. As the substituent, the above-mentioned substituent can be exemplified.

일반식 (OX-1)로 나타나는 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the compound represented by formula (OX-1) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

[화학식 57](57)

Figure pat00057
Figure pat00057

옥심 화합물은, 350nm~500nm의 파장 영역에 극대 흡수 파장을 갖는 것이 바람직하고, 360nm~480nm의 파장 영역에 극대 흡수 파장을 갖는 것이 보다 바람직하며, 365nm 및 405nm의 흡광도가 높은 것이 특히 바람직하다.The oxime compound preferably has a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 350 nm to 500 nm, more preferably a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 360 nm to 480 nm, and particularly preferably a high absorbance at 365 nm and 405 nm.

옥심 화합물은, 365nm 또는 405nm에 있어서의 몰 흡광 계수는, 감도의 관점에서, 1,000~300,000인 것이 바람직하고, 2,000~300,000인 것이 보다 바람직하며, 5,000~200,000인 것이 특히 바람직하다.The molar extinction coefficient of the oxime compound at 365 nm or 405 nm is preferably 1,000 to 300,000, more preferably 2,000 to 300,000, and particularly preferably 5,000 to 200,000 from the viewpoint of sensitivity.

화합물의 몰 흡광 계수는, 공지의 방법을 이용할 수 있는데, 예를 들면 자외 가시 분광 광도계(Varian사제 Cary-5 spectrophotometer)로, 아세트산 에틸 용매를 이용하여 0.01g/L의 농도에서 측정하는 것이 바람직하다.The molar extinction coefficient of the compound can be measured by a known method. For example, the measurement is preferably carried out at a concentration of 0.01 g / L using an ultraviolet visible spectrophotometer (Cary-5 spectrophotometer manufactured by Varian) using an ethyl acetate solvent .

본 발명에 이용되는 광중합 개시제는, 필요에 따라서 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.The photopolymerization initiator used in the present invention may be used in combination of two or more as necessary.

본 발명의 착색 조성물이 광중합 개시제를 함유하는 경우, 광중합 개시제의 함유량은, 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여 0.1~50질량%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5~30질량%이며, 더 바람직하게는 1~20질량%이다. 이 범위에서, 보다 양호한 감도와 패턴 형성성이 얻어진다.When the coloring composition of the present invention contains a photopolymerization initiator, the content of the photopolymerization initiator is preferably from 0.1 to 50% by mass, more preferably from 0.5 to 30% by mass, based on the total solid content of the colorant composition, 1 to 20% by mass. Within this range, more excellent sensitivity and pattern formability can be obtained.

본 발명의 조성물은, 광중합 개시제를, 1종류만을 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The composition of the present invention may contain only one type of photopolymerization initiator or two or more types of photopolymerization initiators. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.

<<다른 성분>><< Other Ingredients >>

본 발명의 착색 조성물은, 상술한 각 성분에 더하여, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서, 용제, 가교제, 중합 금지제, 계면활성제, 유기 카복실산, 유기 카복실산 무수물 등 다른 성분을 더 포함하고 있어도 된다.The coloring composition of the present invention may further contain other components such as a solvent, a crosslinking agent, a polymerization inhibitor, a surfactant, an organic carboxylic acid, and an organic carboxylic acid anhydride in addition to the components described above, do.

<<<유기 용제>>><<< Organic solvents >>>

본 발명의 착색 조성물은, 용제를 함유해도 된다.The coloring composition of the present invention may contain a solvent.

용제는, 각 성분의 용해성이나 착색 조성물의 도포성을 만족하면 기본적으로는 특별히 제한은 없지만, 색소 다량체 (A), 중합성 화합물 등의 용해성, 도포성, 안전성을 고려하여 선택되는 것이 바람직하다.The solvent is not particularly limited so long as it satisfies the solubility of each component and the coating property of the coloring composition, but is preferably selected in consideration of the solubility, coatability, and safety of the colorant oligomer (A) and the polymerizable compound .

용제로서는,As the solvent,

에스터류로서, 예를 들면 아세트산 에틸, 아세트산-n-뷰틸, 아세트산 아이소뷰틸, 아세트산 사이클로헥실, 폼산 아밀, 아세트산 아이소아밀, 프로피온산 뷰틸, 뷰티르산 아이소프로필, 뷰티르산 에틸, 뷰티르산 뷰틸, 락트산 메틸, 락트산 에틸, 옥시아세트산 알킬(예를 들면, 옥시아세트산 메틸, 옥시아세트산 에틸, 옥시아세트산 뷰틸(예를 들면, 메톡시아세트산 메틸, 메톡시아세트산 에틸, 메톡시아세트산 뷰틸, 에톡시아세트산 메틸, 에톡시아세트산 에틸 등)), 3-옥시프로피온산 알킬에스터류(예를 들면, 3-옥시프로피온산 메틸, 3-옥시프로피온산 에틸 등(예를 들면, 3-메톡시프로피온산 메틸, 3-메톡시프로피온산 에틸, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸 등)), 2-옥시프로피온산 알킬에스터류(예를 들면, 2-옥시프로피온산 메틸, 2-옥시프로피온산 에틸, 2-옥시프로피온산 프로필 등(예를 들면, 2-메톡시프로피온산 메틸, 2-메톡시프로피온산 에틸, 2-메톡시프로피온산 프로필, 2-에톡시프로피온산 메틸, 2-에톡시프로피온산 에틸)), 2-옥시-2-메틸프로피온산 메틸 및 2-옥시-2-메틸프로피온산 에틸(예를 들면, 2-메톡시-2-메틸프로피온산 메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산 에틸 등), 피루브산 메틸, 피루브산 에틸, 피루브산 프로필, 아세토아세트산 메틸, 아세토아세트산 에틸, 2-옥소뷰탄산 메틸, 2-옥소뷰탄산 에틸 등,Examples of the esters include ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, cyclohexyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl lactate, Ethyl lactate, alkyloxyacetate (for example, methyl oxycetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate (for example, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, ethoxyacetate, ethoxyacetic acid Ethyl), 3-oxypropionic acid alkyl esters (for example, methyl 3-oxypropionate, ethyl 3-oxypropionate (for example, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, Ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate), 2-oxypropionic acid alkyl esters (e.g., methyl 2-oxypropionate, 2-oxyphosphate Ethyl propionate, propyl 2-oxypropionate and the like (for example, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate Methyl 2-methylpropionate, ethyl 2-oxy-2-methylpropionate (for example, methyl 2-methoxy-2-methylpropionate, ethyl 2-ethoxy- , Methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methyl 2-oxobutanoate, ethyl 2-oxobutanoate,

에터류로서, 예를 들면 다이에틸렌글라이콜다이메틸에터, 테트라하이드로퓨란, 에틸렌글라이콜모노메틸에터, 에틸렌글라이콜모노에틸에터, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 다이에틸렌글라이콜모노메틸에터, 다이에틸렌글라이콜모노에틸에터, 다이에틸렌글라이콜모노뷰틸에터, 프로필렌글라이콜모노메틸에터, 프로필렌글라이콜메틸에터아세테이트, 프로필렌글라이콜에틸에터아세테이트, 프로필렌글라이콜프로필에터아세테이트 등,As ethers, for example, diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate , Diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, propylene Glycol ethylacetate, propylene glycol propyl ether acetate and the like,

케톤류로서, 예를 들면 메틸에틸케톤, 사이클로펜탄온, 사이클로헥산온, 2-헵탄온, 3-헵탄온 등, 및Examples of the ketones include methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, etc., and

방향족 탄화 수소류로서, 예를 들면 톨루엔, 자일렌 등을 적합하게 들 수 있다.As the aromatic hydrocarbon, for example, toluene, xylene and the like are suitably used.

이들 용제는, 색소 다량체 (A), 중합성 화합물 등의 용해성, 도포면 형상의 개량 등의 관점에서, 2종 이상을 혼합하는 것도 바람직하다. 예를 들면, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 에틸셀로솔브아세테이트, 락트산 에틸, 다이에틸렌글라이콜다이메틸에터, 아세트산 뷰틸, 3-메톡시프로피온산 메틸, 2-헵탄온, 사이클로펜탄온, 사이클로헥산온, 에틸카비톨아세테이트, 뷰틸카비톨아세테이트, 프로필렌글라이콜메틸에터, 및 프로필렌글라이콜메틸에터아세테이트로부터 선택되는 2종 이상으로 구성되는 혼합 용액이 바람직하다.From the viewpoints of solubility of the dye-sensitized compound (A), the polymerizable compound, etc., and the shape of the coated surface, it is also preferable to mix two or more of these solvents. Examples of the solvent include methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethylcellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, A mixed solution composed of at least two members selected from onium, cyclopentanone, cyclohexanone, ethylcarbitol acetate, butylcarbitol acetate, propylene glycol methyl ether, and propylene glycol methyl ether acetate is preferable Do.

용제의 함유량은, 도포성의 관점에서, 착색 조성물의 전체 고형분 농도가 5~80질량%가 되는 양이 바람직하다. 하한은, 예를 들면 5질량% 이상이 보다 바람직하며, 10질량% 이상이 더 바람직하다. 상한은, 예를 들면 60질량% 이하가 보다 바람직하며, 50질량% 이하가 더 바람직하다.The content of the solvent is preferably such that the total solid content concentration of the coloring composition is 5 to 80 mass% from the viewpoint of coatability. The lower limit is more preferably 5% by mass or more, for example, and 10% by mass or more is more preferable. The upper limit is more preferably 60 mass% or less, for example, and still more preferably 50 mass% or less.

본 발명의 착색 조성물은, 용제를, 1종류만 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The coloring composition of the present invention may contain only one kind of solvent, or may contain two or more kinds of solvents. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.

<<<가교제>>><<< Crosslinking agent >>>

본 발명의 착색 조성물은, 가교제를 함유해도 된다. 가교제를 함유시킴으로써, 얻어지는 경화막의 경도를 보다 높일 수도 있다.The coloring composition of the present invention may contain a crosslinking agent. By containing a crosslinking agent, the hardness of the resulting cured film can be further increased.

가교제로서는, 가교 반응에 의하여 막 경화를 행할 수 있는 것이면, 특별히 한정은 없다. 예를 들면, (a) 에폭시 수지, (b) 메틸올기, 알콕시메틸기, 및 아실옥시메틸기로부터 선택되는 적어도 하나의 치환기로 치환된, 멜라민 화합물, 구아나민 화합물, 글라이콜우릴 화합물 또는 유레아 화합물, (c) 메틸올기, 알콕시메틸기, 및 아실옥시메틸기로부터 선택되는 적어도 하나의 치환기로 치환된, 페놀 화합물, 나프톨 화합물 또는 하이드록시안트라센 화합물을 들 수 있다. 그 중에서도, 다관능 에폭시 수지가 바람직하다.The crosslinking agent is not particularly limited as long as it can perform film curing by a crosslinking reaction. For example, a melamine compound, a guanamine compound, a glycoluril compound or a urea compound substituted with at least one substituent selected from (a) an epoxy resin, (b) a methylol group, an alkoxymethyl group and an acyloxymethyl group, (c) phenol compounds, naphthol compounds or hydroxyanthracene compounds substituted with at least one substituent selected from a methylol group, an alkoxymethyl group and an acyloxymethyl group. Among them, a polyfunctional epoxy resin is preferable.

가교제의 구체예 등의 상세에 대해서는, 일본 공개특허공보 2004-295116호의 단락 0134~0147의 기재를 참조할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 원용된다.For details of the specific examples of the crosslinking agent, reference can be made to the description in paragraphs 0134 to 0147 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2004-295116, the contents of which are incorporated herein by reference.

본 발명의 착색 조성물이 가교제를 함유하는 경우, 가교제의 함유량은, 특별히 정하는 것은 아니지만, 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여, 2~30질량%가 바람직하고, 3~20질량%가 보다 바람직하다.When the coloring composition of the present invention contains a crosslinking agent, the content of the crosslinking agent is not particularly limited, but is preferably from 2 to 30 mass%, more preferably from 3 to 20 mass%, based on the total solid content of the coloring composition.

본 발명의 착색 조성물은, 가교제를, 1종류만 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The coloring composition of the present invention may contain only one type of crosslinking agent or two or more types of crosslinking agents. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.

<<<중합 금지제>>><<< polymerization inhibitor >>>

본 발명의 착색 조성물에 있어서는, 착색 조성물의 제조 중 또는 보존 중에 있어서, 중합성 화합물의 불필요한 열중합을 저지하기 위하여, 소량의 중합 금지제를 첨가하는 것이 바람직하다.In the coloring composition of the present invention, it is preferable to add a small amount of a polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable compound during or during the production of the coloring composition.

중합 금지제로서는, 하이드로퀴논, p-메톡시페놀, 다이-t-뷰틸-p-크레졸, 파이로갈롤, t-뷰틸카테콜, 벤조퀴논, 4,4'-싸이오비스(3-메틸-6-t-뷰틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-뷰틸페놀), N-나이트로소페닐하이드록실아민 제1 세륨염 등을 들 수 있다.Examples of the polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'- -t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), and N-nitrosophenylhydroxylamine cerium salt.

본 발명의 착색 조성물이 중합 금지제를 함유하는 경우, 중합 금지제의 함유량은, 착색 조성물의 질량에 대하여, 약 0.01~5질량%가 바람직하다.When the coloring composition of the present invention contains a polymerization inhibitor, the content of the polymerization inhibitor is preferably about 0.01 to 5% by mass with respect to the mass of the coloring composition.

본 발명의 착색 조성물은, 중합 금지제를, 1종류만 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The coloring composition of the present invention may contain only one kind of polymerization inhibitor or two or more kinds thereof. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.

<<<계면활성제>>><<< Surfactant >>>

본 발명의 착색 조성물에는, 도포성을 보다 향상시키는 관점에서, 각종 계면활성제를 첨가해도 된다. 계면활성제로서는, 불소계 계면활성제, 비이온계 계면활성제, 양이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제, 실리콘계 계면활성제 등의 각종 계면활성제를 사용할 수 있다.To the coloring composition of the present invention, various surfactants may be added in order to further improve the applicability. As the surfactant, various surfactants such as a fluorine surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicone surfactant can be used.

예를 들면, 불소계 계면활성제를 함유함으로써, 도포액으로서 조제했을 때의 액 특성(특히, 유동성)이 보다 향상된다. 즉, 불소계 계면활성제를 함유하는 착색 조성물을 이용하여 막 형성하는 경우에 있어서는, 피도포면과 도포액의 계면 장력을 저하시킴으로써, 피도포면에 대한 습윤성이 개선되어, 피도포면에 대한 도포성이 향상된다. 이로 인하여, 소량의 액량으로 수μm 정도의 박막을 형성한 경우이더라도, 두께 편차가 작은 균일한 두께의 막 형성을 보다 적합하게 행할 수 있는 점에서 유효하다.For example, by containing the fluorine-containing surfactant, the liquid property (particularly, fluidity) when prepared as a coating liquid is further improved. That is, when a film is formed using a coloring composition containing a fluorine-containing surfactant, wettability to the surface to be coated is improved by lowering the interfacial tension between the surface to be coated and the coating liquid, and coating property to the surface to be coated is improved . Therefore, even when a thin film of about several micrometers is formed in a small amount of liquid, it is effective in that it is possible to more suitably form a film having a uniform thickness with a small thickness deviation.

불소계 계면활성제 중의 불소 함유율은, 3~40질량%가 적합하고, 보다 바람직하게는 5~30질량%이며, 특히 바람직하게는 7~25질량%이다. 불소 함유율이 이 범위 내인 불소계 계면활성제는, 도포막의 두께의 균일성이나 성액성(省液性)의 점에서 효과적이며, 착색 조성물 중에 있어서의 용해성도 양호하다.The fluorine content in the fluorine surfactant is preferably 3 to 40% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and particularly preferably 7 to 25% by mass. The fluorine-containing surfactant having a fluorine content within this range is effective from the viewpoints of the uniformity of the thickness of the coating film and the liquid-storing property, and the solubility in the coloring composition is also good.

불소계 계면활성제로서는, 예를 들면 메가팍 F171, 동 F172, 동 F173, 동 F176, 동 F177, 동 F141, 동 F142, 동 F143, 동 F144, 동 R30, 동 F437, 동 F475, 동 F479, 동 F482, 동 F554, 동 F780, 동 F781(이상, DIC(주)제), 플루오라드 FC430, 동 FC431, 동 FC171(이상, 스미토모 3M(주)제), 서프론 S-382, 동 SC-101, 동 SC-103, 동 SC-104, 동 SC-105, 동 SC-1068, 동 SC-381, 동 SC-383, 동 S-393, 동 KH-40(이상, 아사히 글라스(주)제), PF636, PF656, PF6320, PF6520, PF7002(OMNOVA사제) 등을 들 수 있다.Examples of the fluorine-based surfactant include Megapak F171, Dong F172, Dong F173, Dong F176, Dong F177, Dong F141, Dong F142, Dong F143, Dong F144, Dong R30, Dong F437, Dong F475, Dong F479, Dong F482 (Manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), Surflon S-382, SC-101, and SC-101 (manufactured by Sumitomo 3M Limited), F554, F780, and F781 (manufactured by DIC Corporation), Fluorad FC430, (Manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), SC-103, SC-104, SC-105, SC-1068, SC-381, PF636, PF656, PF6320, PF6520, PF7002 (manufactured by OMNOVA).

비이온계 계면활성제로서 구체적으로는, 글리세롤, 트라이메틸올프로페인, 트라이메틸올에테인 및 그들의 에톡실레이트 및 프로폭실레이트(예를 들면, 글리세롤프로폭실레이트, 글리세린에톡실레이트 등), 폴리옥시에틸렌라우릴에터, 폴리옥시에틸렌스테아릴에터, 폴리옥시에틸렌올레일에터, 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에터, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에터, 폴리에틸렌글라이콜다이라우레이트, 폴리에틸렌글라이콜다이스테아레이트, 소비탄 지방산 에스터(BASF사제의 플루로닉 L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2, 테트로닉 304, 701, 704, 901, 904, 150R1), 솔스퍼스 20000(니혼 루브리졸(주)) 등을 들 수 있다.Specific examples of the nonionic surfactant include glycerol, trimethylol propane, trimethylol ethane and their ethoxylates and propoxylates (for example, glycerol propoxylate, glycerine ethoxylate and the like), polyoxyethylene Polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, polyethylene glycol diallylate, polyethylene glycol Diisostearate and consumptive fatty acid ester (Pluronic L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2, Tetronic 304, 701, 704, 901, 904 and 150R1 from BASF) Ltd.) and the like.

양이온계 계면활성제로서 구체적으로는, 프탈로사이아닌 유도체(상품명: EFKA-745, 모리시타 산교(주)제), 오가노실록세인 폴리머 KP341(신에쓰 가가쿠 고교(주)제), (메트)아크릴산계 (공)중합체 폴리플로 No. 75, No. 90, No. 95(교에이샤 가가쿠(주)제), W001(유쇼(주)제) 등을 들 수 있다.Specific examples of the cationic surfactant include phthalocyanine derivatives (trade name: EFKA-745, manufactured by Morishita Sangyo Co., Ltd.), organosiloxane polymer KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Acrylic acid-based (co) polymer Polflor No. 75, No. 90, No. 95 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and W001 (manufactured by Yusoh Co., Ltd.).

음이온계 계면활성제로서 구체적으로는, W004, W005, W017(유쇼(주)제) 등을 들 수 있다.Specific examples of the anionic surfactant include W004, W005 and W017 (manufactured by Yusoh Co., Ltd.) and the like.

실리콘계 계면활성제로서는, 예를 들면 도레이·다우코닝(주)제 "도레이 실리콘 DC3PA", "도레이 실리콘 SH7PA", "도레이 실리콘 DC11PA", "도레이 실리콘 SH21PA", "도레이 실리콘 SH28PA", "도레이 실리콘 SH29PA", "도레이 실리콘 SH30PA", "도레이 실리콘 SH8400", 모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈사제 "TSF-4440", "TSF-4300", "TSF-4445", "TSF-4460", "TSF-4452", 신에쓰 실리콘 가부시키가이샤제 "KP341", "KF6001", "KF6002", 빅케미사제 "BYK307", "BYK323", "BYK330" 등을 들 수 있다.Examples of silicon based surfactants include fluororesins such as "TORAY Silicon DC3PA", "TORAY Silicone SH7PA", "TORAY Silicon DC11PA", "TORAY Silicone SH21PA", "TORAY Silicone SH28PA", "DORAY Silicone SH29PA TSF-4440 "," TSF-4445 "," TSF-4460 "," TSF-4452 "," Tory Silicone SH8400 "and" TSF-4440 "manufactured by Momentive Performance Materials "KF341", "KF6001", and "KF6002" manufactured by Shin-Etsu Silicones Co., Ltd., "BYK307", "BYK323", and "BYK330" manufactured by Big Chemie.

본 발명의 착색 조성물에 계면활성제를 함유하는 경우, 계면활성제의 함유량은, 착색 조성물의 전체 질량에 대하여, 0.001~2.0질량%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.005~1.0질량%이다.When the surfactant is contained in the coloring composition of the present invention, the content of the surfactant is preferably 0.001 to 2.0% by mass, more preferably 0.005 to 1.0% by mass, based on the total mass of the coloring composition.

본 발명의 조성물은, 계면활성제를, 1종류만을 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The composition of the present invention may contain only one kind of surfactant or two or more kinds of surfactants. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.

<<<유기 카복실산, 유기 카복실산 무수물>>><<< Organic Carboxylic Acid, Organic Carboxylic Anhydride >>>

본 발명의 착색 조성물은, 유기 카복실산, 및/또는 유기 카복실산 무수물을 함유하고 있어도 된다. 유기 카복실산, 유기 카복실산 무수물의 분자량은, 1000 이하가 바람직하다. 유기 카복실산 및 유기 카복실산 무수물의 구체예로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0338~0340을 참조할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 원용된다.The coloring composition of the present invention may contain an organic carboxylic acid, and / or an organic carboxylic acid anhydride. The molecular weight of the organic carboxylic acid and the organic carboxylic acid anhydride is preferably 1000 or less. As specific examples of the organic carboxylic acid and the organic carboxylic acid anhydride, reference may be made, for example, to Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-29760, paragraphs 0338 to 0340, the contents of which are incorporated herein by reference.

본 발명의 착색 조성물이 유기 카복실산, 및/또는 유기 카복실산 무수물을 함유하는 경우, 유기 카복실산 및/또는 유기 카복실산 무수물의 함유량은, 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여 0.01~10질량%가 바람직하고, 0.03~5질량%가 보다 바람직하며, 0.05~3질량%가 더 바람직하다.When the coloring composition of the present invention contains an organic carboxylic acid and / or an organic carboxylic acid anhydride, the content of the organic carboxylic acid and / or organic carboxylic acid anhydride is preferably 0.01 to 10% by mass, More preferably 5 to 5% by mass, and still more preferably 0.05 to 3% by mass.

본 발명의 착색 조성물은, 유기 카복실산 및/또는 유기 카복실산 무수물을, 각각, 1종류만 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The coloring composition of the present invention may contain only one kind of the organic carboxylic acid and / or the organic carboxylic acid anhydride, respectively, or two or more kinds thereof. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.

본 발명의 착색 조성물에는, 필요에 따라서, 각종 첨가물, 예를 들면 충전제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등을 배합할 수 있다. 이들 첨가물로서는, 일본 공개특허공보 2004-295116호의 단락 0155~0156에 기재된 것을 들 수 있고, 이들 내용은 본원 명세서에 원용된다.In the coloring composition of the present invention, various additives such as fillers, adhesion promoters, antioxidants, ultraviolet absorbers, anti-aggregation agents, and the like can be incorporated, if necessary. Examples of these additives include those described in paragraphs 0155 to 0156 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-295116, the contents of which are incorporated herein by reference.

본 발명의 착색 조성물에 있어서는, 일본 공개특허공보 2004-295116호의 단락 0078에 기재된 증감제나 광안정제, 동 공보의 단락 0081에 기재된 열중합 방지제를 함유할 수 있다.The coloring composition of the present invention may contain a sensitizer or light stabilizer described in paragraph 0078 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-295116 or a thermal polymerization inhibitor described in paragraph 0081 of the same.

<착색 조성물의 조제 방법>&Lt; Preparation method of colored composition >

본 발명의 착색 조성물은, 상술한 성분을 혼합함으로써 조제된다.The coloring composition of the present invention is prepared by mixing the above-described components.

착색 조성물의 조제에 있어서는, 착색 조성물을 구성하는 각 성분을 일괄 배합해도 되고, 각 성분을 용제에 용해·분산한 후에 축차 배합해도 된다. 또, 배합할 때의 투입 순서나 작업 조건은 특별히 제약을 받지 않는다. 예를 들면, 전체 성분을 동시에 용제에 용해·분산하여 조성물을 조제해도 되고, 필요에 따라서는, 각 성분을 적절히 2개 이상의 용액·분산액으로 해 두고, 사용 시(도포 시)에 이들을 혼합하여 조성물로서 조제해도 된다.In the preparation of the coloring composition, each component constituting the coloring composition may be blended at one time, or each component may be dissolved and dispersed in a solvent and then blended continuously. In addition, the order of application and the working conditions at the time of compounding are not particularly limited. For example, the composition may be prepared by dissolving and dispersing the entire components in a solvent at the same time. If necessary, the components may be appropriately mixed into two or more solutions and dispersions, .

본 발명의 착색 조성물은, 이물의 제거나 결함의 저감 등의 목적으로, 필터로 여과하는 것이 바람직하다. 필터로서는, 종래부터 여과 용도 등에 이용되고 있는 것이면 특별히 한정되지 않고 이용할 수 있다. 예를 들면, 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 등의 불소 수지, 나일론-6, 나일론-6,6 등의 폴리아마이드계 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌(PP) 등의 폴리올레핀 수지(고밀도, 초고분자량을 포함함) 등에 의한 필터를 들 수 있다. 이들 소재 중에서도 폴리프로필렌(고밀도 폴리프로필렌을 포함함)이 바람직하다.The coloring composition of the present invention is preferably filtered with a filter for the purpose of eliminating foreign matters or reducing defects. The filter is not particularly limited as long as it is conventionally used for filtration and the like. For example, a fluororesin such as polytetrafluoroethylene (PTFE), a polyamide resin such as nylon-6 or nylon-6,6, a polyolefin resin such as polyethylene or polypropylene (PP) And the like). Of these materials, polypropylene (including high-density polypropylene) is preferable.

필터의 구멍 직경은, 0.01~7.0μm 정도가 적합하고, 바람직하게는 0.01~3.0μm 정도, 더 바람직하게는 0.05~0.5μm 정도이다. 이 범위로 함으로써, 후공정에 있어서 균일 및 평활한 착색 조성물의 조제를 저해하는, 미세한 이물을 확실히 제거하는 것이 가능해진다.The pore diameter of the filter is preferably about 0.01 to 7.0 mu m, preferably about 0.01 to 3.0 mu m, and more preferably about 0.05 to 0.5 mu m. By setting this range, it is possible to reliably remove fine foreign matter which inhibits the preparation of a uniform and smooth colored composition in the subsequent step.

필터를 사용할 때, 상이한 필터를 조합해도 된다. 그때, 제1 필터로의 필터링은, 1회만이어도 되고, 2회 이상 행해도 된다.When using a filter, different filters may be combined. At this time, the filtering with the first filter may be performed once, or may be performed two or more times.

또, 상술한 범위 내에서 상이한 구멍 직경의 제1 필터를 조합해도 된다. 여기에서의 구멍 직경은, 필터 제조사의 공칭값을 참조할 수 있다. 시판 중인 필터로서는, 예를 들면 니혼 폴 가부시키가이샤, 어드밴텍 도요 가부시키가이샤, 니혼 인테그리스 가부시키가이샤(구(舊) 니혼 마이크롤리스 가부시키가이샤) 또는 가부시키가이샤 키츠 마이크로 필터 등이 제공하는 각종 필터 중에서 선택할 수 있다.It is also possible to combine the first filters having different pore sizes within the above-mentioned range. The pore diameter here can refer to the nominal value of the filter manufacturer. Examples of commercially available filters include various filters provided by Nippon Oil Corporation, Advantech Toyobo Co., Ltd., Nippon Integrity Corporation (formerly Nippon Mics Co., Ltd.) or Kitsch Microfilter, Filter.

제2 필터는, 상술한 제1 필터와 동일한 재료 등으로 형성된 것을 사용할 수 있다.The second filter may be formed of the same material as the first filter described above.

예를 들면, 제1 필터로의 필터링은, 분산액만으로 행하고, 다른 성분을 혼합한 후에, 제2 필터링을 행해도 된다.For example, the filtering with the first filter may be performed only with the dispersion, and the second filtering may be performed after mixing the other components.

본 발명의 착색 조성물은, 내광성, 이염성, 평탄성이 양호한 경화막을 형성할 수 있기 때문에, 컬러 필터의 착색층을 형성하기 위하여 적합하게 이용된다. 또, 본 발명의 착색 조성물은, 전하 결합 소자(CCD), 상보형 금속 산화막 반도체(CMOS) 등의 고체 촬상 소자나, 액정 표시 장치 등의 화상 표시 장치에 이용되는 컬러 필터 등의 착색 패턴 형성용으로서 적합하게 이용할 수 있다. 또한, 인쇄 잉크, 잉크젯 잉크 및 도료 등의 제작 용도로서도 적합하게 이용할 수 있다. 그 중에서도, CCD 및 CMOS 등의 고체 촬상 소자용의 컬러 필터의 제조에 적합하게 이용할 수 있다.The coloring composition of the present invention is suitably used for forming a coloring layer of a color filter, because it can form a cured film having good light resistance, flame retardancy and flatness. The coloring composition of the present invention can be used for forming coloring patterns of solid-state image pickup devices such as a charge coupled device (CCD), complementary metal oxide semiconductor (CMOS), and color filters used in image display devices such as liquid crystal display devices Can be suitably used. In addition, it can be suitably used for producing printing ink, inkjet ink, and paint. Among them, it can be suitably used for the production of color filters for solid-state image pickup devices such as CCD and CMOS.

<컬러 필터, 패턴 형성 방법, 컬러 필터의 제조 방법><Color Filter, Pattern Forming Method, and Color Filter Manufacturing Method>

다음으로, 본 발명의 컬러 필터, 패턴 형성 방법 및 컬러 필터에 대하여, 그 제조 방법을 통하여 상세하게 설명한다. 또, 본 발명의 패턴 형성 방법을 이용한 컬러 필터의 제조 방법에 대해서도 설명한다.Next, the color filter, the pattern forming method and the color filter of the present invention will be described in detail with reference to their manufacturing methods. A method of manufacturing a color filter using the pattern forming method of the present invention will also be described.

본 발명의 컬러 필터는, 본 발명의 착색 조성물을 이용하여 이루어지는 것이다.The color filter of the present invention is formed using the coloring composition of the present invention.

본 발명의 패턴 형성 방법은, 본 발명의 착색 조성물을 지지체 상에 적용하여 착색 조성물층을 형성하고, 불필요한 부분을 제거하여, 착색 패턴을 형성한다.In the pattern forming method of the present invention, the coloring composition of the present invention is applied on a support to form a coloring composition layer, and unnecessary portions are removed to form a coloring pattern.

본 발명의 패턴 형성 방법은, 컬러 필터의 착색 패턴의 형성에 적합하게 적용할 수 있다.The pattern forming method of the present invention can be suitably applied to the formation of a coloring pattern of a color filter.

본 발명의 패턴 형성 방법은, 이른바 포토리소그래피법으로 패턴 형성을 행해도 되고, 드라이 에칭법에 따라 패턴 형성을 행해도 된다.In the pattern forming method of the present invention, the pattern formation may be performed by the so-called photolithography method, or the pattern formation may be performed by the dry etching method.

즉, 본 발명의 컬러 필터의 제조 방법의 제1 양태는, 본 발명의 착색 조성물을 지지체 상에 적용하여 착색 조성물층을 형성하는 공정과, 착색 조성물층을 패턴 형상으로 노광하는 공정과, 미노광부를 현상 제거하여 착색 패턴을 형성하는 공정을 포함한다. 필요에 따라서, 착색 조성물층을 베이크하는 공정(프리베이크 공정), 및 현상된 착색 패턴을 베이크하는 공정(포스트베이크 공정)을 마련해도 된다.That is, the first aspect of the method for producing a color filter of the present invention is characterized in that the step of forming the coloring composition layer by applying the coloring composition of the present invention on a support, the step of exposing the coloring composition layer in a pattern form, To form a colored pattern. If necessary, a step of baking the colored composition layer (pre-baking step) and a step of baking the developed colored pattern (post-baking step) may be provided.

또, 본 발명의 컬러 필터의 제조 방법의 제2 양태는, 본 발명의 착색 조성물을 지지체 상에 적용하여 착색 조성물층을 형성하고, 경화하여 착색층을 형성하는 공정과, 착색층 상에 포토레지스트층을 형성하는 공정과, 노광 및 현상함으로써 포토레지스트층을 패터닝하여 레지스트 패턴을 얻는 공정과, 레지스트 패턴을 에칭 마스크로 하여 착색층을 드라이 에칭하여 착색 패턴을 형성하는 공정을 포함한다.The second aspect of the method for producing a color filter of the present invention is characterized in that the step of applying the coloring composition of the present invention to a support to form a coloring composition layer and curing the coloring composition to form a colored layer, A step of forming a resist pattern by patterning the photoresist layer by exposure and development, and a step of dry-etching the colored layer using the resist pattern as an etching mask to form a colored pattern.

본 발명의 컬러 필터는, 상기 제조 방법에 의하여 적합하게 얻을 수 있다. 이하 이들의 상세를 설명한다.The color filter of the present invention can be suitably obtained by the above production method. The details of these will be described below.

<<착색 조성물층을 형성하는 공정>>&Lt; Step of forming coloring composition layer &gt;

착색 조성물층을 형성하는 공정에서는, 지지체 상에, 본 발명의 착색 조성물을 적용하여 착색 조성물층을 형성한다.In the step of forming the coloring composition layer, the coloring composition of the present invention is applied on a support to form a coloring composition layer.

지지체로서는, 예를 들면 기판(예를 들면, 실리콘 기판) 상에 CCD나 CMOS 등의 고체 촬상 소자(수광 소자)가 마련된 고체 촬상 소자용 기판을 이용할 수 있다.As the support, a substrate for a solid-state imaging element provided with a solid-state imaging element (light-receiving element) such as CCD or CMOS on a substrate (for example, a silicon substrate) can be used.

본 발명에 있어서의 착색 패턴은, 고체 촬상 소자용 기판의 고체 촬상 소자 형성면측(표면)에 형성해도 되고, 고체 촬상 소자 비형성면측(이면)에 형성해도 된다.The coloring pattern in the present invention may be formed on the solid-state imaging element formation surface side (surface) of the substrate for a solid-state imaging element, or on the solid-state imaging element formation surface side (back surface).

지지체 상에는, 필요에 따라, 상부의 층과의 밀착 개량, 물질의 확산 방지 혹은 기판 표면의 평탄화를 위하여 언더코팅층을 마련해도 된다.On the support, if necessary, an undercoat layer may be provided for improving adhesion with the upper layer, preventing diffusion of the substance, or planarizing the surface of the substrate.

지지체 상에 대한 본 발명의 착색 조성물의 적용 방법으로서는, 슬릿 도포, 잉크젯법, 회전 도포, 유연 도포, 롤 도포, 스크린 인쇄법 등의 각종 방법을 이용할 수 있다.As the application method of the coloring composition of the present invention on the support, various methods such as slit coating, inkjet method, spin coating, flex coating, roll coating, screen printing and the like can be used.

지지체 상에 적용된 착색 조성물층의 건조(프리베이크)는, 핫플레이트, 오븐 등으로 50℃~140℃의 온도에서 10초~300초로 행할 수 있다.Drying (prebaking) of the coloring composition layer applied on the support can be performed in a hot plate, an oven or the like at a temperature of 50 ° C to 140 ° C for 10 seconds to 300 seconds.

<<포토리소그래피법으로 패턴 형성하는 경우(제1 양태)>><< When Pattern is Formated by Photolithography (First Embodiment) >>

<<<노광 공정>>><<< Exposure Process >>>

다음으로, 지지체 상에 형성한 착색 조성물층을, 패턴 형상으로 노광한다(노광 공정). 예를 들면, 지지체 상에 형성한 착색 조성물층에 대하여, 스테퍼 등의 노광 장치를 이용하여, 소정의 마스크 패턴을 갖는 마스크를 통하여 노광함으로써, 패턴 노광할 수 있다. 이로써, 노광 부분을 경화할 수 있다.Next, the colored composition layer formed on the support is exposed in a pattern (exposure step). For example, pattern exposure can be performed by exposing a colored composition layer formed on a support through a mask having a predetermined mask pattern by using an exposure apparatus such as a stepper. Thereby, the exposed portion can be cured.

노광 시에 이용할 수 있는 방사선(광)으로서는, g선, i선 등의 자외선이 바람직하게(특히 바람직하게는 i선) 이용된다. 조사량(노광량)은, 예를 들면 30~1500mJ/cm2가 바람직하고, 50~1000mJ/cm2가 보다 바람직하며, 80~500mJ/cm2가 가장 바람직하다.As the radiation (light) usable at the time of exposure, ultraviolet rays such as g-line and i-line are preferably used (particularly preferably i-line). Irradiation dose (exposure dose) of, for example 30 ~ 1500mJ / cm 2 are preferred, and 50 ~ 1000mJ / cm 2 is more preferably, 80 ~ 500mJ / cm 2 is most preferred.

경화막의 막두께는 1.0μm 이하가 바람직하고, 0.1~0.9μm가 보다 바람직하며, 0.2~0.8μm가 더 바람직하다. 막두께를, 1.0μm 이하로 함으로써, 고해상성, 고밀착성이 얻어지기 쉽다.The film thickness of the cured film is preferably 1.0 占 퐉 or less, more preferably 0.1 to 0.9 占 퐉, and still more preferably 0.2 to 0.8 占 퐉. When the film thickness is 1.0 占 퐉 or less, high resolution and high adhesion are likely to be obtained.

<<<패턴 형성 공정>>><<< Pattern formation process >>>

다음으로, 미노광부를 현상 제거하여 착색 패턴을 형성한다(패턴 형성 공정). 미노광부의 현상 제거는, 현상액을 이용하여 행할 수 있다. 이로써, 노광 공정에 있어서의 미노광부의 착색 조성물층이 현상액에 용출되어, 광경화한 부분만이 남는다.Next, the unexposed portion is developed and removed to form a colored pattern (pattern forming step). The development of the unexposed portion can be removed by using a developing solution. As a result, the colored composition layer in the unexposed portion in the exposure process is eluted into the developer, leaving only the photo-cured portion.

현상액으로서는, 하지(下地)의 고체 촬상 소자나 회로 등에 데미지를 일으키지 않는, 유기 알칼리 현상액이 바람직하다.As the developer, an organic alkali developing solution which does not cause damage to the underlying solid-state image sensor or circuit is preferable.

현상액의 온도는, 예를 들면 20~30℃가 바람직하다. 현상 시간은, 20~180초가 바람직하다. 또, 잔사 제거성을 향상시키기 위하여, 현상액을 60초마다 털어내고, 추가로 새로 현상액을 공급하는 공정을 수회 반복해도 된다.The temperature of the developing solution is preferably 20 to 30 占 폚, for example. The development time is preferably 20 to 180 seconds. Further, in order to improve the residue removing property, the step of removing the developing solution every 60 seconds and further supplying the developing solution may be repeated several times.

현상액에 이용하는 알칼리제로서는, 예를 들면 암모니아수, 에틸아민, 다이에틸아민, 다이메틸에탄올아민, 테트라메틸암모늄하이드록사이드, 테트라에틸암모늄하이드록사이드, 테트라프로필암모늄하이드록사이드, 테트라뷰틸암모늄하이드록사이드, 벤질트라이메틸암모늄하이드록사이드, 콜린, 피롤, 피페리딘, 1,8-다이아자바이사이클로-[5,4,0]-7-운데센 등의 유기 알칼리성 화합물을 들 수 있다. 이들 알칼리제를 농도가 0.001~10질량%, 바람직하게는 0.01~1질량%가 되도록 순수로 희석한 알칼리성 수용액이 현상액으로서 바람직하게 사용된다.Examples of the alkali agent used in the developer include aqueous ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide , Benzyltrimethylammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo- [5,4,0] -7-undecene and the like. An alkaline aqueous solution diluted with pure water to a concentration of 0.001 to 10% by mass, preferably 0.01 to 1% by mass, of these alkaline agents is preferably used as the developer.

또, 현상액에는 무기 알칼리를 이용해도 된다. 무기 알칼리로서는, 예를 들면 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 탄산 나트륨, 탄산 수소 나트륨, 규산 나트륨, 메타 규산 나트륨 등이 바람직하다.An inorganic alkali may be used for the developer. As the inorganic alkali, for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, sodium silicate, sodium metasilicate and the like are preferable.

또한, 이와 같은 알칼리성 수용액으로 이루어지는 현상액을 사용한 경우에는, 일반적으로 현상 후 순수로 세정(린스)한다.When a developer comprising such an alkaline aqueous solution is used, it is generally cleaned (rinsed) with purified water after development.

현상 후, 건조를 실시한 후에 가열 처리(포스트베이크)를 행하는 것이 바람직하다. 다색의 착색 패턴을 형성한다면, 색마다 공정을 순차 반복하여 경화막을 제조할 수 있다. 이로써 컬러 필터가 얻어진다.After the development, it is preferable to conduct the heat treatment (post-baking) after drying. If a multicolor colored pattern is formed, a cured film can be produced by sequentially repeating the steps for each color. As a result, a color filter is obtained.

포스트베이크는, 경화를 완전한 것으로 하기 위한 현상 후의 가열 처리이며, 가열 온도는, 예를 들면 100~240℃가 바람직하고, 200~240℃가 보다 바람직하다.Post baking is a post-development heat treatment for making the curing to be complete, and the heating temperature is preferably, for example, 100 to 240 占 폚, more preferably 200 to 240 占 폚.

포스트베이크 처리는, 현상 후의 막을, 상기 조건이 되도록 핫플레이트나 컨벡션 오븐(열풍 순환식 건조기), 고주파 가열기 등의 가열 수단을 이용하여, 연속식 혹은 배치(batch)식으로 행할 수 있다.The post-baking treatment can be carried out continuously or batchwise using a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot-air circulation type drier), or a high-frequency heater so as to satisfy the above conditions.

<<드라이 에칭법으로 패턴 형성하는 경우(제2 양태)>><< In the Case of Pattern Formation by Dry Etching (Second Embodiment) >>

드라이 에칭법으로의 패턴 형성은, 지지체 상에 형성한 착색 조성물층을 경화하여 착색층을 형성하고, 이어서, 얻어진 착색층을, 패터닝된 포토레지스트층을 마스크로 하여 에칭 가스를 이용하여 행할 수 있다.The pattern formation by the dry etching method can be carried out by forming a colored layer by curing the colored composition layer formed on the support and then by using the etching gas using the patterned photoresist layer as a mask .

구체적으로는, 착색층 상에 포지티브형 또는 네거티브형의 감방사선성 조성물을 도포하고, 이를 건조시킴으로써 포토레지스트층을 형성한다. 포토레지스트층의 형성에 있어서는, 추가로 프리베이크 처리를 실시하는 것이 바람직하다. 특히, 포토레지스트층의 형성 프로세스로서는, 노광 후의 가열 처리, 현상 후의 가열 처리(포스트베이크 처리)를 실시하는 형태가 바람직하다.Specifically, a positive or negative radiation-sensitive composition is coated on the colored layer and dried to form a photoresist layer. In forming the photoresist layer, it is preferable to further perform the pre-baking treatment. Particularly, as the formation process of the photoresist layer, it is preferable that a heat treatment after exposure and a heat treatment (post-bak treatment) after development are performed.

포토레지스트층으로서는, 예를 들면 자외선(g선, h선, i선), 엑시머 레이저 등을 포함하는 원자외선, 전자선, 이온빔 및 X선 등의 방사선에 감응하는 포지티브형의 감방사선성 조성물이 바람직하게 이용된다. 방사선 중, g선, h선, i선이 바람직하고, 그 중에서도 i선이 보다 바람직하다.As the photoresist layer, a positive radiation-sensitive composition sensitive to radiation such as deep ultraviolet rays including an ultraviolet ray (g line, h line, i line), an excimer laser, electron beam, ion beam and X ray is preferable . Among the radiation, g line, h line and i line are preferable, and i line is more preferable.

구체적으로는, 포지티브형의 감방사선성 조성물로서, 퀴논다이아자이드 화합물 및 알칼리 가용성 수지를 함유하는 조성물이 바람직하다. 퀴논다이아자이드 화합물 및 알칼리 가용성 수지를 함유하는 포지티브형의 감방사선성 조성물은, 500nm 이하의 파장의 광조사에 의하여 퀴논다이아자이드기가 분해되어 카복실기를 발생하고, 결과적으로 알칼리 불용 상태로부터 알칼리 가용성이 되는 것을 이용하는 것이다. 이 포지티브형 포토레지스트는 해상력이 현저하게 우수하므로, IC(integrated circuit)나 LSI(Large Scale Integration) 등의 집적 회로의 제작에 이용되고 있다. 퀴논다이아자이드 화합물로서는, 나프토퀴논다이아자이드 화합물을 들 수 있다. 시판품으로서는 예를 들면 "FHi622BC"(후지필름 일렉트로닉 머티리얼즈사제) 등을 들 수 있다.Specifically, as the positive radiation sensitive composition, a composition containing a quinone diazide compound and an alkali-soluble resin is preferable. The positive radiation-sensitive composition containing the quinone diazide compound and the alkali-soluble resin has a structure in which a quinone diazide group is decomposed by irradiation with light having a wavelength of 500 nm or less to generate a carboxyl group and, as a result, an alkali- . This positive type photoresist has remarkably excellent resolving power and is used in the manufacture of integrated circuits such as IC (integrated circuit) and LSI (Large Scale Integration). As the quinone diazide compound, a naphthoquinone diazide compound can be mentioned. Commercially available products include, for example, " FHi622BC " (manufactured by FUJIFILM ELECTRONIC MATERIALS).

포토레지스트층의 두께로서는, 0.1~3μm가 바람직하고, 0.2~2.5μm가 보다 바람직하며, 0.3~2μm가 더 바람직하다. 또한, 포지티브형의 감방사선성 조성물의 도포 방법은, 앞서 설명한 착색층에 있어서의 도포 방법을 이용하여 적합하게 행할 수 있다.The thickness of the photoresist layer is preferably 0.1 to 3 占 퐉, more preferably 0.2 to 2.5 占 퐉, and still more preferably 0.3 to 2 占 퐉. The method of applying the positive-type radiation-sensitive composition can be suitably carried out by using the coating method in the above-described coloring layer.

이어서, 포토레지스트층을 노광 및 현상함으로써, 레지스트 관통 구멍군이 마련된 레지스트 패턴(패터닝된 포토레지스트층)을 형성한다. 레지스트 패턴의 형성은, 특별히 제한 없이, 종래 공지의 포트리소그래피의 기술을 적절히 최적화하여 행할 수 있다. 노광 및 현상에 의하여 포토레지스트층에, 레지스트 관통 구멍군이 마련됨으로써, 다음의 에칭에서 이용되는 에칭 마스크로서의 레지스트 패턴이, 착색층 상에 마련된다.Then, the photoresist layer is exposed and developed to form a resist pattern (patterned photoresist layer) provided with a group of resist through holes. The formation of the resist pattern can be performed by suitably optimizing the conventionally known technique of the photolithography without particular limitation. A resist pattern serving as an etching mask used in the next etching is provided on the colored layer by providing a group of resist through holes in the photoresist layer by exposure and development.

포토레지스트층의 노광은, 소정의 마스크 패턴을 통하여, 포지티브형 또는 네거티브형의 감방사선성 조성물에, g선, h선, i선 등, 바람직하게는 i선으로 노광을 실시함으로써 행할 수 있다. 노광 후에는, 현상액으로 현상 처리함으로써, 착색 패턴을 형성하려고 하는 영역에 맞추어 포토레지스트가 제거된다.The exposure of the photoresist layer can be performed by irradiating the positive or negative radiation sensitive composition with g line, h line, i line or the like, preferably i line, through a predetermined mask pattern. After the exposure, the photoresist is removed in accordance with the region where the coloring pattern is to be formed by developing with a developer.

현상액으로서는, 착색층에는 영향을 주지 않고, 포지티브 레지스트의 노광부 및 네거티브 레지스트의 미경화부를 용해하는 것이면 모두 사용 가능하다. 예를 들면, 다양한 용제의 조합이나 알칼리성의 수용액을 이용할 수 있다. 알칼리성의 수용액으로서는, 알칼리성 화합물을 농도가 0.001~10질량%, 바람직하게는 0.01~5질량%가 되도록 용해하여 조제된 알칼리성 수용액이 적합하다. 알칼리성 화합물은, 예를 들면 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 탄산 나트륨, 규산 나트륨, 메타 규산 나트륨, 암모니아수, 에틸아민, 다이에틸아민, 다이메틸에탄올아민, 테트라메틸암모늄하이드록사이드, 테트라에틸암모늄하이드록사이드, 콜린, 피롤, 피페리딘, 1,8-다이아자바이사이클로[5,4,0]-7-운데센 등을 들 수 있다. 또한, 알칼리성 수용액을 이용한 경우는, 일반적으로 현상 후에 물로 세정 처리가 실시된다.Any developer that can dissolve the unexposed portions of the positive resist and the negative resist without affecting the colored layer can be used. For example, a combination of various solvents or an alkaline aqueous solution can be used. As the alkaline aqueous solution, an alkaline aqueous solution prepared by dissolving the alkaline compound in an amount of 0.001 to 10 mass%, preferably 0.01 to 5 mass%, is suitable. The alkaline compound may be, for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, aqueous ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide , Choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7-undecene and the like. In the case of using an alkaline aqueous solution, cleaning treatment is generally performed with water after development.

다음으로, 레지스트 패턴을 에칭 마스크로 하여, 착색층에 관통 구멍군이 형성되도록 드라이 에칭에 의하여 패터닝한다. 이로써, 착색 패턴이 형성된다. 관통 구멍군은, 예를 들면 착색층에, 체커보드 형상으로 마련되어 있는 것이 바람직하다. 따라서, 착색층에 관통 구멍군이 마련되어 이루어지는 제1 착색 패턴은, 복수의 사각 형상의 제1 착색 화소를 체커보드 형상으로 갖고 있다.Next, using the resist pattern as an etching mask, patterning is performed by dry etching so that a group of through holes is formed in the colored layer. Thus, a colored pattern is formed. It is preferable that the group of through holes is provided on the coloring layer, for example, in the form of a checkerboard. Therefore, the first coloring pattern in which the group of through holes is provided in the coloring layer has a plurality of rectangular first colored pixels in the shape of a checkerboard.

드라이 에칭으로서는, 패턴 단면을 보다 직사각형에 가깝게 형성하는 관점이나 지지체로의 데미지를 보다 저감하는 관점에서, 이하의 형태로 행하는 것이 바람직하다.The dry etching is preferably performed in the following manner, from the viewpoint of forming the cross-section of the pattern closer to a rectangle or further reducing the damage to the support.

불소계 가스와 산소 가스(O2)의 혼합 가스를 이용하여 지지체가 노출되지 않는 영역(깊이)까지 에칭을 행하는 제1 단계 에칭과, 이 제1 단계 에칭 후에, 질소 가스(N2)와 산소 가스(O2)의 혼합 가스를 이용하여, 바람직하게는 지지체가 노출되는 영역(깊이) 부근까지 에칭을 행하는 제2 단계 에칭과, 지지체가 노출된 후에 행하는 오버 에칭을 포함하는 형태가 바람직하다. 이하, 드라이 에칭의 구체적 수법과, 제1 단계 에칭, 제2 단계 에칭, 및 오버 에칭에 대하여 설명한다.Fluorine-based gas and the oxygen gas (O 2) after the first step etching and the etching the first step for performing etching using a mixed gas to the region (D) are not the support is exposed to the nitrogen gas (N 2) and oxygen gas It is preferable to use a mixed gas of oxygen (O 2 ), preferably a second-stage etching process for performing etching up to a region (depth) where the substrate is exposed, and an over-etching process performed after the substrate is exposed. Hereinafter, a specific method of dry etching, first-stage etching, second-stage etching, and over-etching will be described.

드라이 에칭은, 하기 수법에 따라 사전에 에칭 조건을 구하여 행한다.Dry etching is performed by obtaining etching conditions in advance according to the following method.

(1) 제1 단계 에칭에 있어서의 에칭 레이트(nm/min)와, 제2 단계 에칭에 있어서의 에칭 레이트(nm/min)를 각각 산출한다.(1) The etching rate (nm / min) in the first-stage etching and the etching rate (nm / min) in the second-stage etching are respectively calculated.

(2) 제1 단계 에칭에서 원하는 두께를 에칭하는 시간과, 제2 단계 에칭에서 원하는 두께를 에칭하는 시간을 각각 산출한다.(2) The time for etching the desired thickness in the first-stage etching and the time for etching the desired thickness in the second-stage etching are respectively calculated.

(3) 상술한 (2)에서 산출한 에칭 시간에 따라 제1 단계 에칭을 실시한다.(3) The first-stage etching is performed according to the etching time calculated in the above-mentioned (2).

(4) 상술한 (2)에서 산출한 에칭 시간에 따라 제2 단계 에칭을 실시한다. 혹은 엔드 포인트 검출로 에칭 시간을 결정하고, 결정한 에칭 시간에 따라 제2 단계 에칭을 실시해도 된다.(4) The second-stage etching is performed according to the etching time calculated in the above-mentioned (2). Alternatively, the etching time may be determined by end point detection, and the second-stage etching may be performed according to the determined etching time.

(5) 상기 (3) 및 (4)의 합계 시간에 대하여 오버 에칭 시간을 산출하여, 오버 에칭을 실시한다.(5) Overetching time is calculated for the total time of (3) and (4), and overetching is performed.

제1 단계 에칭 공정에서 이용하는 혼합 가스로서는, 피에칭막인 유기 재료를 직사각형으로 가공하는 관점에서, 불소계 가스 및 산소 가스(O2)를 포함하는 것이 바람직하다. 또, 제1 단계 에칭 공정은, 지지체가 노출되지 않는 영역까지 에칭하는 형태로 함으로써, 지지체의 데미지를 회피할 수 있다. 또, 제2 단계 에칭 공정 및 오버 에칭 공정은, 제1 단계 에칭 공정에서 불소계 가스 및 산소 가스의 혼합 가스에 의하여 지지체가 노출되지 않는 영역까지 에칭을 실시한 후, 지지체의 데미지 회피의 관점에서, 질소 가스 및 산소 가스의 혼합 가스를 이용하여 에칭 처리를 행하는 것이 바람직하다.As the mixed gas used in the first-stage etching process, it is preferable that the mixed gas includes fluorine-based gas and oxygen gas (O 2 ) from the viewpoint of processing the organic material as the etching film into a rectangular shape. In addition, the first-stage etching step may be performed so as to etch to a region where the support is not exposed, so that damage to the support can be avoided. In the second etching step and the overetching step, etching is performed to a region where the support is not exposed by the mixed gas of the fluorine gas and the oxygen gas in the first etching step, and then, from the viewpoint of damage avoidance of the support, It is preferable to perform the etching treatment using a gas mixture of gas and oxygen gas.

제1 단계 에칭 공정에서의 에칭량과, 제2 단계 에칭 공정에서의 에칭량의 비율은, 제1 단계 에칭 공정에서의 에칭 처리에 의한 직사각형성을 저해하지 않도록 결정하는 것이 중요하다. 또한, 전체 에칭량(제1 단계 에칭 공정에서의 에칭량과 제2 단계 에칭 공정에서의 에칭량의 총합) 중에 있어서의 후자의 비율은, 0%보다 크고 50% 이하인 범위가 바람직하며, 10~20%가 보다 바람직하다. 에칭량이란, 피에칭막의 잔존하는 막두께와 에칭 전의 막두께의 차로부터 산출되는 양을 말한다.It is important that the ratio of the etching amount in the first step etching step to the etching amount in the second step etching step is determined so as not to inhibit the rectangularity by the etching treatment in the first step etching step. The latter ratio in the total etching amount (the sum of the etching amount in the first-stage etching step and the etching amount in the second-step etching step) is preferably in a range of greater than 0% and less than 50% 20% is more preferable. The etching amount refers to an amount calculated from the difference between the remaining film thickness of the etched film and the film thickness before etching.

또, 에칭은, 오버 에칭 처리를 포함하는 것이 바람직하다. 오버 에칭 처리는, 오버 에칭 비율을 설정하여 행하는 것이 바람직하다. 또, 오버 에칭 비율은, 처음에 행하는 에칭 처리 시간으로부터 산출하는 것이 바람직하다. 오버 에칭 비율은 임의로 설정할 수 있지만, 포토레지스트의 에칭 내성과 피에칭 패턴의 직사각형성 유지의 점에서, 에칭 공정에 있어서의 에칭 처리 시간의 30% 이하인 것이 바람직하고, 5~25%인 것이 보다 바람직하며, 10~15%인 것이 특히 바람직하다.It is preferable that the etching includes an overetching treatment. The overetching treatment is preferably performed by setting an overetching ratio. It is preferable that the overetching ratio is calculated from the first etching treatment time. The overetching ratio can be arbitrarily set, but from the viewpoint of the etching resistance of the photoresist and the maintaining of the rectangularity of the etched pattern, it is preferably 30% or less of the etching treatment time in the etching step, more preferably 5 to 25% , And particularly preferably 10 to 15%.

이어서, 에칭 후에 잔존하는 레지스트 패턴(즉 에칭 마스크)을 제거한다. 레지스트 패턴의 제거는, 레지스트 패턴 상에 박리액 또는 용제를 부여하여, 레지스트 패턴을 제거 가능한 상태로 하는 공정과, 레지스트 패턴을 세정수를 이용하여 제거하는 공정을 포함하는 것이 바람직하다.Subsequently, the resist pattern (i.e., etching mask) remaining after etching is removed. The removal of the resist pattern preferably includes a step of applying a removing liquid or a solvent to the resist pattern to bring the resist pattern into a removable state and a step of removing the resist pattern by using washing water.

레지스트 패턴 상에 박리액 또는 용제를 부여하여, 레지스트 패턴을 제거 가능한 상태로 하는 공정으로서는, 예를 들면 박리액 또는 용제를 적어도 레지스트 패턴 상에 부여하고, 소정의 시간 정체시켜 퍼들 현상하는 공정을 들 수 있다. 박리액 또는 용제를 정체시키는 시간으로서는, 특별히 제한은 없지만, 수십 초에서 수 분인 것이 바람직하다.Examples of the step of applying a releasing liquid or a solvent to the resist pattern to remove the resist pattern include a step of applying at least a peeling liquid or a solvent on the resist pattern and performing a puddle development . The time for stucking the peeling liquid or the solvent is not particularly limited, but is preferably several tens of seconds to several minutes.

또, 레지스트 패턴을 세정수를 이용하여 제거하는 공정으로서는, 예를 들면 스프레이식 또는 샤워식의 분사 노즐로부터 레지스트 패턴에 세정수를 분사하여, 레지스트 패턴을 제거하는 공정을 들 수 있다. 세정수로서는, 순수를 바람직하게 이용할 수 있다. 또, 분사 노즐로서는, 그 분사 범위 내에 지지체 전체가 포함되는 분사 노즐이나, 가동식의 분사 노즐로서 그 가동 범위가 지지체 전체를 포함하는 분사 노즐을 들 수 있다. 분사 노즐이 가동식인 경우, 레지스트 패턴을 제거하는 공정 중에 지지체 중심부로부터 지지체 단부까지를 2회 이상 이동하여 세정수를 분사함으로써, 보다 효과적으로 레지스트 패턴을 제거할 수 있다.Examples of the step of removing the resist pattern using the washing water include a step of spraying washing water onto the resist pattern from a spraying nozzle or a shower type spraying nozzle to remove the resist pattern. As the washing water, pure water can be preferably used. As the injection nozzle, there can be mentioned a spray nozzle including the entire support within its spray range, and a spray nozzle having a movable range of its movable range including the entire support. When the spray nozzle is of the movable type, the resist pattern can be more effectively removed by moving the cleaning fluid from the center of the support to the end of the support more than twice during the process of removing the resist pattern.

박리액은, 일반적으로는 유기 용제를 함유하는데, 무기 용매를 더 함유해도 된다. 유기 용제로서는, 예를 들면 1) 탄화 수소계 화합물, 2) 할로젠화 탄화 수소계 화합물, 3) 알코올계 화합물, 4) 에터 또는 아세탈계 화합물, 5) 케톤 또는 알데하이드계 화합물, 6) 에스터계 화합물, 7) 다가 알코올계 화합물, 8) 카복실산 또는 그 산무수물계 화합물, 9) 페놀계 화합물, 10) 함질소 화합물, 11) 함황 화합물, 12) 함불소 화합물을 들 수 있다. 박리액으로서는, 함질소 화합물을 함유하는 것이 바람직하고, 비환상 함질소 화합물과 환상 함질소 화합물을 포함하는 것이 보다 바람직하다.The peeling liquid generally contains an organic solvent, and may further contain an inorganic solvent. Examples of the organic solvent include organic solvents such as 1) hydrocarbon-based compounds, 2) halogenated hydrocarbon-based compounds, 3) alcohol compounds, 4) ether or acetal compounds, 5) ketones or aldehyde compounds, A polyol compound, 7) a polyhydric alcohol compound, 8) a carboxylic acid or an acid anhydride compound, 9) a phenol compound, 10) a nitrogen compound, 11) a sulfur compound, 12) a fluorine compound. The release liquid preferably contains a nitrogen-containing compound, and more preferably includes an uncyclosed nitrogen compound and a cyclic nitrogen compound.

비환상 함질소 화합물로서는, 하이드록실기를 갖는 비환상 함질소 화합물인 것이 바람직하다. 구체적으로는, 예를 들면 모노아이소프로판올아민, 다이아이소프로판올아민, 트라이아이소프로판올아민, N-에틸에탄올아민, N,N-다이뷰틸에탄올아민, N-뷰틸에탄올아민, 모노에탄올아민, 다이에탄올아민, 트라이에탄올아민 등을 들 수 있고, 바람직하게는 모노에탄올아민, 다이에탄올아민, 트라이에탄올아민이며, 보다 바람직하게는 모노에탄올아민(H2NCH2CH2OH)이다. 또, 환상 함질소 화합물로서는, 아이소퀴놀린, 이미다졸, N-에틸모폴린, ε-카프로락탐, 퀴놀린, 1,3-다이메틸-2-이미다졸리딘온, α-피콜린, β-피콜린, γ-피콜린, 2-피페콜린, 3-피페콜린, 4-피페콜린, 피페라진, 피페리딘, 피라진, 피리딘, 피롤리딘, N-메틸-2-피롤리돈, N-페닐모폴린, 2,4-루티딘, 2,6-루티딘 등을 들 수 있고, 바람직하게는, N-메틸-2-피롤리돈, N-에틸모폴린이며, 보다 바람직하게는 N-메틸-2-피롤리돈(NMP)이다.The noncyclic nitrogen compound is preferably a noncyclic nitrogen compound having a hydroxyl group. Specific examples thereof include mono isopropanolamine, diisopropanolamine, triisopropanolamine, N-ethylethanolamine, N, N-dibutylethanolamine, N-butylethanolamine, monoethanolamine, diethanolamine, Triethanolamine and the like. Of these, monoethanolamine, diethanolamine and triethanolamine are preferable, and monoethanolamine (H 2 NCH 2 CH 2 OH) is more preferable. Examples of cyclic nitrogen compounds include isoquinoline, imidazole, N-ethylmorpholine, epsilon -caprolactam, quinoline, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, , pyrrolidine, N-methyl-2-pyrrolidone, N-phenylmorpholine, pyrrolidine, Pyridine, 2,4-lutidine, 2,6-lutidine and the like, preferably N-methyl-2-pyrrolidone and N-ethylmorpholine, 2-pyrrolidone (NMP).

박리액은, 비환상 함질소 화합물과 환상 함질소 화합물을 포함하는 것이 바람직하지만, 그 중에서도, 비환상 함질소 화합물로서, 모노에탄올아민, 다이에탄올아민, 및 트라이에탄올아민으로부터 선택되는 적어도 1종과, 환상 함질소 화합물로서, N-메틸-2-피롤리돈 및 N-에틸모폴린으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 보다 바람직하며, 모노에탄올아민과 N-메틸-2-피롤리돈을 포함하는 것이 더 바람직하다.It is preferable that the exfoliating liquid contains a non-cyclic nitrogen compound and a cyclic nitrogen compound. Among them, as the non-cyclic nitrogen compound, at least one selected from monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine, , And more preferably at least one member selected from N-methyl-2-pyrrolidone and N-ethylmorpholine as the cyclic nitrogen compound, and the monoethanolamine and N-methyl- It is more preferable to include them.

박리액으로 제거할 때에는, 착색 패턴 상에 형성된 레지스트 패턴이 제거되어 있으면 되고, 착색 패턴의 측벽에 에칭 생성물인 퇴적물이 부착되어 있는 경우이더라도, 퇴적물이 완전하게 제거되어 있지 않아도 된다. 퇴적물이란, 에칭 생성물이 착색층의 측벽에 부착되어 퇴적된 것을 말한다.When removing with a peeling liquid, the resist pattern formed on the colored pattern is only required to be removed, and even if a deposit as an etching product adheres to the side wall of the colored pattern, the deposit may not be completely removed. The sediment means that the etching product adheres to the side wall of the colored layer and is deposited.

박리액으로서는, 비환상 함질소 화합물의 함유량이, 박리액 100질량부에 대하여 9질량부 이상 11질량부 이하이고, 환상 함질소 화합물의 함유량이, 박리액 100질량부에 대하여 65질량부 이상 70질량부 이하인 것이 바람직하다. 또, 박리액은, 비환상 함질소 화합물과 환상 함질소 화합물의 혼합물을 순수로 희석한 것이 바람직하다.As the peeling liquid, it is preferable that the content of the non-cyclic nitrogen compound is 9 parts by mass or more and 11 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the peeling liquid, and the content of the cyclic nitrogen compound is 65 parts by mass or more to 70 parts by mass By mass or less. It is preferable that the exfoliating liquid is a mixture of the non-cyclic nitrogen compound and the cyclic nitrogen compound diluted with pure water.

본 발명의 컬러 필터의 제조 방법은, 필요에 따라서, 상기 이외의 공정으로서, 고체 촬상 소자용 컬러 필터의 제조 방법으로서 공지의 공정을 갖고 있어도 된다. 예를 들면, 상술한, 착색 조성물층 형성 공정, 노광 공정 및 패턴 형성 공정을 행한 후에, 필요에 따라, 형성된 착색 패턴을 가열 및/또는 노광에 의하여 경화하는 경화 공정을 포함하고 있어도 된다.The method of manufacturing a color filter of the present invention may have a known process as a manufacturing method of a color filter for a solid-state image pickup device, as the other process, if necessary. For example, the coloring composition layer forming step, the exposing step, and the pattern forming step described above may be performed, and then, if necessary, a curing step of curing the formed coloring pattern by heating and / or exposure may be included.

또, 도포 장치 토출부의 노즐이나 배관부의 막힘, 도포기 내로의 착색 조성물이나 안료의 부착·침강·건조에 의한 오염 등을 효율적으로 세정하기 위해서는, 본 발명의 착색 조성물에 관한 용제를 세정액으로서 이용하는 것이 바람직하다. 또, 일본 공개특허공보 평7-128867호, 일본 공개특허공보 평7-146562호, 일본 공개특허공보 평8-278637호, 일본 공개특허공보 2000-273370호, 일본 공개특허공보 2006-85140호, 일본 공개특허공보 2006-291191호, 일본 공개특허공보 2007-2101호, 일본 공개특허공보 2007-2102호, 일본 공개특허공보 2007-281523호 등에 기재된 세정액을 적합하게 이용할 수 있다.Further, in order to efficiently clean the nozzles of the coating device discharging portion, the clogging of the pipe portion, the staining by the coloring composition or the pigment adhering, settling and drying into the applicator, it is preferable to use a solvent for the coloring composition of the present invention desirable. Also, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 7-128867, 7-146562, 8-278637, 2000-273370, 2006-85140, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2006-291191, 2007-2101, 2007-2102, 2007-281523, etc. can suitably be used.

상기 중, 알킬렌글라이콜모노알킬에터카복실레이트 및 알킬렌글라이콜모노알킬에터가 바람직하다.Among these, alkylene glycol monoalkyl ether carboxylates and alkylene glycol monoalkyl ethers are preferred.

이들 용매는, 단독으로 이용해도 되고 2종 이상을 혼합하여 이용해도 된다. 2종 이상을 혼합하는 경우, 하이드록실기를 갖는 용제와 하이드록실기를 갖지 않는 용제를 혼합하는 것이 바람직하다. 하이드록실기를 갖는 용제와 하이드록실기를 갖지 않는 용제의 질량비는, 1/99~99/1, 바람직하게는 10/90~90/10, 더 바람직하게는 20/80~80/20이다. 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트(PGMEA)와 프로필렌글라이콜모노메틸에터(PGME)의 혼합 용제로, 그 비율이 60/40인 것이 특히 바람직하다. 또한, 오염물에 대한 세정액의 침투성을 향상시키기 위하여, 세정액에는 상술한 본 발명의 착색 조성물에 관한 계면활성제를 첨가해도 된다.These solvents may be used alone or in combination of two or more. When mixing two or more species, it is preferable to mix a solvent having a hydroxyl group and a solvent having no hydroxyl group. The mass ratio of the solvent having a hydroxyl group to the solvent having no hydroxyl group is from 1/99 to 99/1, preferably from 10/90 to 90/10, more preferably from 20/80 to 80/20. It is particularly preferable that the mixed solvent of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) and propylene glycol monomethyl ether (PGME) has a ratio of 60/40. In order to improve the permeability of the cleaning liquid to the contaminants, a surfactant relating to the coloring composition of the present invention described above may be added to the cleaning liquid.

본 발명의 컬러 필터는, 본 발명의 착색 조성물을 이용하고 있기 때문에, 내광성, 이염성, 평탄성이 우수하다.Since the color filter of the present invention is used in the color filter of the present invention, it is excellent in light resistance, flame retardancy, and flatness.

본 발명의 컬러 필터는, CCD, CMOS 등의 고체 촬상 소자에 적합하게 이용할 수 있으며, 특히 100만 화소를 넘는 고해상도의 CCD나 CMOS 등에 적합하다. 본 발명의 고체 촬상 소자용 컬러 필터는, 예를 들면 CCD 또는 CMOS를 구성하는 각 화소의 수광부와, 집광하기 위한 마이크로 렌즈의 사이에 배치되는 컬러 필터로서 이용할 수 있다.The color filter of the present invention can be suitably used for a solid-state image pickup device such as a CCD and a CMOS, and is particularly suitable for a high-resolution CCD or CMOS exceeding one million pixels. The color filter for a solid-state imaging device of the present invention can be used, for example, as a color filter disposed between a light-receiving portion of each pixel constituting a CCD or CMOS and a microlens for condensing.

본 발명의 컬러 필터에 있어서의 착색 패턴(착색 화소)의 막두께는, 2.0μm 이하가 바람직하고, 1.0μm 이하가 보다 바람직하며, 0.7μm 이하가 더 바람직하다.The thickness of the colored pattern (colored pixel) in the color filter of the present invention is preferably 2.0 占 퐉 or less, more preferably 1.0 占 퐉 or less, and even more preferably 0.7 占 퐉 or less.

또, 착색 패턴(착색 화소)의 사이즈(패턴 폭)로서는, 2.5μm 이하가 바람직하고, 2.0μm 이하가 보다 바람직하며, 1.7μm 이하가 특히 바람직하다.The size (pattern width) of the coloring pattern (coloring pixel) is preferably 2.5 占 퐉 or less, more preferably 2.0 占 퐉 or less, and particularly preferably 1.7 占 퐉 or less.

<고체 촬상 소자><Solid-state image sensor>

본 발명의 고체 촬상 소자는, 상술한 본 발명의 컬러 필터를 구비한다. 본 발명의 고체 촬상 소자의 구성으로서는, 본 발명의 컬러 필터를 구비하고, 고체 촬상 소자로서 기능하는 구성이면 특별히 한정은 없지만, 예를 들면 이하와 같은 구성을 들 수 있다.The solid-state image pickup device of the present invention includes the above-described color filter of the present invention. The configuration of the solid-state imaging device of the present invention is not particularly limited as long as it has the color filter of the present invention and functions as a solid-state imaging device.

지지체 상에, 고체 촬상 소자(CCD 이미지 센서, CMOS 이미지 센서 등)의 수광 에어리어를 구성하는 복수의 포토다이오드 및 폴리실리콘 등으로 이루어지는 전송 전극을 갖고, 포토다이오드 및 전송 전극 상에 포토다이오드의 수광부만 개구한 텅스텐 등으로 이루어지는 차광막을 가지며, 차광막 상에 차광막 전체면 및 포토다이오드 수광부를 덮도록 형성된 질화 실리콘 등으로 이루어지는 디바이스 보호막을 갖고, 디바이스 보호막 상에, 본 발명의 고체 촬상 소자용 컬러 필터를 갖는 구성이다.A plurality of photodiodes constituting a light receiving area of a solid-state image sensor (a CCD image sensor, a CMOS image sensor, or the like) and a transfer electrode made of polysilicon or the like are formed on a support, and only a photodiode light- A device shielding film made of silicon nitride or the like formed on the light-shielding film so as to cover the entire surface of the light-shielding film and the photodiode light-receiving portion, and having a color filter for a solid-state imaging device of the present invention .

또한, 디바이스 보호층 상이며 컬러 필터의 아래(지지체에 가까운 쪽)에 집광 수단(예를 들면, 마이크로 렌즈 등. 이하 동일함)을 갖는 구성이나, 컬러 필터 상에 집광 수단을 갖는 구성 등이어도 된다.It is also possible to use a configuration having a condensing means (for example, a microlens or the like hereinafter) on the device protective layer and below the color filter (near the support) or a configuration having a condensing means on the color filter .

<화상 표시 장치><Image Display Device>

본 발명의 컬러 필터는, 액정 표시 장치나 유기 일렉트로 루미네선스 표시 장치 등의, 화상 표시 장치에 이용할 수 있다. 특히 액정 표시 장치의 용도에 적합하다. 본 발명의 컬러 필터를 구비한 액정 표시 장치는, 표시 화상의 색조가 양호하고 표시 특성이 우수한 고화질 화상을 표시할 수 있다.The color filter of the present invention can be used for an image display device such as a liquid crystal display device or an organic electroluminescence display device. And is particularly suitable for use in a liquid crystal display device. The liquid crystal display device provided with the color filter of the present invention is capable of displaying a high-quality image with good display tones and excellent display characteristics.

표시 장치의 정의나 각 표시 장치의 상세에 대해서는, 예를 들면 "전자 디스플레이 디바이스(사사키 아키오 저, (주)고교 초사카이 1990년 발행)", "디스플레이 디바이스(이부키 스미아키 저, 산교 도쇼(주) 헤이세이 원년 발행)" 등에 기재되어 있다. 또, 액정 표시 장치에 대해서는, 예를 들면 "차세대 액정 디스플레이 기술(우치다 다쓰오 편집, (주)고교 초사카이 1994년 발행)"에 기재되어 있다. 본 발명을 적용할 수 있는 액정 표시 장치에 특별히 제한은 없고, 예를 들면 상기의 "차세대 액정 디스플레이 기술"에 기재되어 있는 다양한 방식의 액정 표시 장치에 적용할 수 있다.For the definition of the display device and the details of each display device, refer to, for example, "Electronic display device (Sasaki Akio Kogyo Co., Ltd., Sakai, 1990 issued by Sakai Corporation)", "Display device (Ibukisumi Akira, ) Published in the first year of Heisei) ". The liquid crystal display device is described in, for example, " Next Generation Liquid Crystal Display Technology (edited by Uchida Tatsuo, published by Sakai High School Co., Ltd. in 1994) ". The liquid crystal display device to which the present invention can be applied is not particularly limited. For example, the present invention can be applied to various types of liquid crystal display devices described in the " next generation liquid crystal display technology ".

본 발명의 컬러 필터는, 컬러 TFT(Thin Film Transistor) 방식의 액정 표시 장치에 이용해도 된다. 컬러 TFT 방식의 액정 표시 장치에 대해서는, 예를 들면 "컬러 TFT 액정 디스플레이(교리쓰 슛판(주) 1996년 발행)"에 기재되어 있다. 또한, 본 발명은 IPS 등의 횡전계 구동 방식, MVA 등의 화소 분할 방식 등의 시야각이 확대된 액정 표시 장치나, STN, TN, VA, OCS, FFS, 및 R-OCB 등에도 적용할 수 있다.The color filter of the present invention may be used in a color TFT (Thin Film Transistor) type liquid crystal display device. The color TFT type liquid crystal display device is described in, for example, " Color TFT liquid crystal display (published by Kyoritsu Shootpan Co., Ltd., 1996) ". The present invention can also be applied to a liquid crystal display device such as a transverse electric field driving system such as an IPS or a pixel division system such as an MVA or an STN, TN, VA, OCS, FFS and R-OCB .

또, 본 발명에 있어서의 컬러 필터는, 밝고 고정세(高精細)한 COA(Color-filter On Array) 방식에도 제공하는 것이 가능하다. COA 방식의 액정 표시 장치에 있어서는, 컬러 필터층에 대한 요구 특성은, 상술한 바와 같은 통상의 요구 특성에 더하여, 층간 절연막에 대한 요구 특성, 즉 저유전율 및 박리액 내성이 필요하게 되는 경우가 있다. 본 발명의 컬러 필터는, 내광성 등이 우수하므로, 해상도가 높고 장기 내구성이 우수한 COA 방식의 액정 표시 장치를 제공할 수 있다. 또한, 저유전율의 요구 특성을 만족하기 위해서는, 컬러 필터층 상에 수지 피막을 마련해도 된다.The color filter in the present invention can also be provided in a bright, high definition COA (Color-filter On Array) system. In the COA type liquid crystal display device, the required characteristics for the color filter layer may require the characteristics required for the interlayer insulating film, that is, the low dielectric constant and the peel liquid resistance, in addition to the usual required characteristics as described above. Since the color filter of the present invention is excellent in light resistance and the like, it is possible to provide a COA-type liquid crystal display device having high resolution and excellent long-term durability. Further, in order to satisfy the required characteristics of a low dielectric constant, a resin film may be provided on the color filter layer.

이들 화상 표시 방식에 대해서는, 예를 들면 "EL, PDP, LCD 디스플레이-기술과 시장의 최신 동향-(도레이 리서치 센터 조사 연구 부문 2001년 발행)"의 43페이지 등에 기재되어 있다.These image display methods are described in, for example, page 43 of "EL, PDP, and LCD display technology and the latest trend in the market" (published by Toray Research Center Research Division, 2001).

본 발명에 있어서의 컬러 필터를 구비한 액정 표시 장치는, 본 발명에 있어서의 컬러 필터 이외에, 전극 기판, 편광 필름, 위상차 필름, 백라이트, 스페이서, 시야각 보상 필름 등 다양한 부재로 구성된다. 본 발명의 컬러 필터는, 이들 공지의 부재로 구성되는 액정 표시 장치에 적용할 수 있다. 이들 부재에 대해서는, 예를 들면 "'94 액정 디스플레이 주변 재료·케미컬즈의 시장(시마 켄타로 (주)씨엠씨 1994년 발행)", "2003 액정 관련 시장의 현상(現狀)과 장래 전망(하권)(오모테 료키치 (주)후지 키메라 소켄, 2003년 발행)"에 기재되어 있다.The liquid crystal display device provided with the color filter in the present invention is composed of various members such as an electrode substrate, a polarizing film, a retardation film, a backlight, a spacer, and a viewing angle compensation film in addition to the color filter in the present invention. The color filter of the present invention can be applied to a liquid crystal display device constituted by these known members. These members are described in, for example, "Market for Liquid Crystal Display Materials and Chemicals," issued by Shimadzu Corporation (1994), "2003," Current Status and Future Prospects of Liquid Crystal Related Markets Published by Fuji Chimera Soken Co., Ltd., 2003).

백라이트에 관해서는, SID meeting Digest 1380(2005)(A. Konno et al.)나, 월간 디스플레이 2005년 12월호의 18~24페이지(시마 야스히로), 동 25~30페이지(야기 다카아키) 등에 기재되어 있다.Regarding the backlight, it is described in SID meeting Digest 1380 (2005) (A. Konno et al.), Monthly Display December 2005, pages 18-24 (Yamazaki Shimaya), 25-30 pages (Yagi Takaaki) have.

본 발명에 있어서의 컬러 필터를 액정 표시 장치에 이용하면, 종래 공지의 냉음극관의 삼파장관과 조합했을 때에 높은 콘트라스트를 실현시킬 수 있는데, 또한 적색, 녹색, 청색의 발광 다이오드(LED) 광원을 백라이트로 함으로써 휘도가 높고, 또 색순도가 높은 색재현성의 양호한 액정 표시 장치를 제공할 수 있다.When the color filter of the present invention is used in a liquid crystal display device, high contrast can be realized when combined with a conventionally known three-wavelength tube of a cold cathode tube, and a red, green, and blue light emitting diode (LED) It is possible to provide a liquid crystal display device having high luminance and high color purity and good color reproducibility.

실시예Example

이하, 본 발명을 실시예에 따라 더 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 그 취지를 넘지 않는 한 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 특별히 설명하지 않는 한, "%" 및 "부"는 질량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be described more concretely with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples unless it is beyond the scope of the present invention. Unless otherwise stated, "% " and " part " are based on mass.

<잔텐 화합물 (A-xt-1)의 합성>&Lt; Synthesis of xanthene compound (A-xt-1) >

[화학식 58](58)

Figure pat00058
Figure pat00058

<<중간체 1의 합성>>&Lt; Synthesis of intermediate 1 &gt;

3,6-다이클로로설포플루오란(DCSF)(주가이 가세이제) 31부, 2,6-다이아이소프로필아닐린 67부, 염화 아연 17부, 설포레인 120부를 플라스크에 넣고 외온 200도에서 8시간 교반했다. 그 후, 실온까지 방랭하고, 이 반응액을 2N 염산수 600부에 적하하여, 석출된 결정을 여과 분리했다. 결정을, 40도의 아세토나이트릴 600부로 분산 세정하여, 여과 채취하고, 송풍 건조 10시간을 하여, 중간체 1을 42.5부(수율: 82%) 얻었다.31 parts of 3,6-dichlorosulfofluorane (DCSF) (Zukai Kasei), 67 parts of 2,6-diisopropylaniline, 17 parts of zinc chloride and 120 parts of sulfolane were placed in a flask, Lt; / RTI &gt; Thereafter, the reaction mixture was cooled to room temperature, and the reaction solution was added dropwise to 600 parts of 2N hydrochloric acid, and the precipitated crystals were separated by filtration. The crystals were dispersed and washed with 600 parts of acetonitrile at 40 degrees, filtered, and air-dried for 10 hours to obtain 42.5 parts (yield: 82%) of Intermediate 1.

<<중간체 2의 합성>>&Lt; Synthesis of intermediate 2 &gt;

중간체 1을 11부 및 옥시염화 인 50부를 플라스크에 넣고 60℃에서 4시간 교반했다. 실온까지 방랭하고, 이 반응액을 빙수 150부에 적하하여, 30분 교반했다. 얻어진 결정을 여과 분리하고, 물 20부로 세정했다. 그 후, 얻어진 결정을 클로로폼 150부에 용해시키고, 셀라이트 여과를 행했다. 여과액을 5% 식염수 100부, 15% 식염수 100부로 분액 세정했다. 이 여과액을 황산 나트륨 건조한 후, 감압 농축하여, 중간체 2를 12.1부(수율: 91%) 얻었다.11 parts of intermediate 1 and 50 parts of phosphorus oxychloride were placed in a flask and stirred at 60 占 폚 for 4 hours. The mixture was cooled to room temperature, the reaction solution was added dropwise to 150 parts of ice water, and the mixture was stirred for 30 minutes. The obtained crystals were separated by filtration and washed with 20 parts of water. Thereafter, the obtained crystals were dissolved in 150 parts of chloroform and subjected to Celite filtration. The filtrate was washed with 100 parts of 5% saline solution and 100 parts of 15% saline solution. The filtrate was dried over sodium sulfate, and then concentrated under reduced pressure to obtain 12.1 parts (yield: 91%) of Intermediate 2.

<<중간체 3의 합성>>&Lt; Synthesis of intermediate 3 &gt;

펜타플루오로벤젠설폰일 클로라이드 15부, 테트라하이드로퓨란(THF) 300부를 플라스크에 넣고, 내온을 -10℃로 냉각했다. 거기에 28% 암모니아수 6.8부를, 반응액이 0℃ 이하를 유지하도록 적하했다. 적하 후 1시간 0℃에서 교반한 후, 반응액을 여과했다. 얻어진 여과액을 감압 농축하여, THF를 제거한 후, 물 100부를 첨가하고, 교반했다. 얻어진 고체를 여과하고, 수세한 후에 송풍 건조 10시간을 행하여, 중간체 3을 11.7부(수율: 84%) 얻었다.15 parts of pentafluorobenzenesulfonyl chloride and 300 parts of tetrahydrofuran (THF) were placed in a flask, and the internal temperature was cooled to -10 占 폚. Thereafter, 6.8 parts of 28% aqueous ammonia was added dropwise to maintain the reaction solution at 0 캜 or lower. After the dropwise addition, the mixture was stirred at 0 ° C for 1 hour, and then the reaction solution was filtered. The obtained filtrate was concentrated under reduced pressure to remove THF, and then 100 parts of water was added and stirred. The obtained solid was filtered, washed with water and blow-dried for 10 hours to obtain 11.7 parts (yield: 84%) of Intermediate 3.

<<중간체 4의 합성>>&Lt; Synthesis of intermediate 4 &gt;

중간체 3을 15부, 2-머캅토에탄올 4.9부, 메탄올 100부를 플라스크에 첨가하고, 실온 교반했다. 거기에 트라이에틸아민 6.5부를, 반응액의 온도가 30℃을 넘지 않도록 적하했다. 이 반응액을 실온에서 1시간 교반하고, 감압 농축한 후, 이것에 아세트산 에틸 90부, 포화 식염수 80부, 포화 중조수 10부를 첨가하여, 분액 조작을 행했다. 수층을 아세트산 에틸 90부로 추출한 후, 얻어진 유기층에 황산마그네슘을 첨가했다. 여과한 후, 여과액을 감압 농축하고, 송풍 건조 10시간을 행하여, 중간체 4를 17부(수율: 92%) 얻었다.15 parts of the intermediate 3, 4.9 parts of 2-mercaptoethanol, and 100 parts of methanol were added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature. 6.5 parts of triethylamine was added dropwise thereto so that the temperature of the reaction solution did not exceed 30 占 폚. The reaction solution was stirred at room temperature for 1 hour, concentrated under reduced pressure, and then 90 parts of ethyl acetate, 80 parts of saturated brine, and 10 parts of saturated aqueous sodium bicarbonate were added thereto, and liquid separation operations were carried out. The aqueous layer was extracted with 90 parts of ethyl acetate, and then magnesium sulfate was added to the obtained organic layer. After filtration, the filtrate was concentrated under reduced pressure and blow-dried for 10 hours to obtain 17 parts (yield: 92%) of Intermediate 4.

<<중간체 5의 합성>><< Synthesis of intermediate 5 >>

중간체 4를 49부, 2-아이소사이아네이토에틸아크릴레이트(AOI, 쇼와 덴코제) 25부, 다이뷰틸하이드록시톨루엔(BHT) 0.2부, 다이메틸아세트아마이드 95부, 네오스탄 U-600(닛토 가세이제) 0.1부를 첨가하고, 85℃ 1시간 교반했다. 계속해서, 이것에 아세트산 에틸 500부, 포화 식염수 500부를 첨가하여 분액 조작을 행했다. 얻어진 유기층에 황산 나트륨을 첨가한 후, 여과 분리하여, 여과액을 감압 농축했다. 얻어진 고체를 클로로폼 170부로 현탁 세정한 후, 여과하고, 송풍 건조를 행함으로써, 중간체 5를 60부(수율: 84%) 얻었다.49 parts of the intermediate 4, 25 parts of 2-isocyanatoethyl acrylate (AOI, Showa Denko Co.), 0.2 part of dibutylhydroxytoluene (BHT), 95 parts of dimethylacetamide, Neostan U-600 Nittogase Co., Ltd.) was added, and the mixture was stirred at 85 占 폚 for 1 hour. Subsequently, 500 parts of ethyl acetate and 500 parts of saturated saline solution were added to the solution, and liquid separation operation was carried out. Sodium sulfate was added to the obtained organic layer, followed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The resulting solid was suspended and washed with 170 parts of chloroform, filtered and air-dried to obtain 60 parts (yield: 84%) of Intermediate 5.

<<잔텐 화합물 (A-xt-1)의 합성>>&Lt; Synthesis of xanthine compound (A-xt-1) &gt;

중간체 5를 5부, 염화 메틸렌을 50부, 트라이에틸아민 3.4부를 플라스크에 첨가하고, 실온에서 교반했다. 거기에 중간체 2를 10.8부 첨가하고, 실온에서 2시간 교반했다. 반응 종료 후, 클로로폼 200부, 순수 500부, 포화 식염수 200부를 첨가하여, 분액 조작을 행했다. 얻어진 유기층에 황산 나트륨을 첨가하고, 탈수한 후에, 여과 분리하여, 여과액을 감압 농축했다. 얻어진 고체를 클로로폼에 용해하고, 클로로폼/아세트산 에틸 용매를 이용하여 칼럼 크로마토그래피에 의하여 정제함으로써, A-xt-1을 12.5부(수율: 86%) 얻었다.5 parts of intermediate 5, 50 parts of methylene chloride and 3.4 parts of triethylamine were added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature. 10.8 parts of Intermediate 2 was added thereto, followed by stirring at room temperature for 2 hours. After completion of the reaction, 200 parts of chloroform, 500 parts of pure water and 200 parts of saturated saline solution were added to carry out the liquid separation operation. Sodium sulfate was added to the obtained organic layer, followed by dehydration, followed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The resulting solid was dissolved in chloroform and purified by column chromatography using a chloroform / ethyl acetate solvent to obtain 12.5 parts (yield: 86%) of A-xt-1.

<잔텐 화합물 (A-xt-2), (A-xt-4), (A-xt-6), (A-xt-7), (A-xt-9), (A-xt-12), (A-xt-15)의 합성예>(A-xt-2), (A-xt-4), (A-xt-6) , (A-xt-15)

잔텐 화합물 (A-xt-2), (A-xt-4), (A-xt-6), (A-xt-7), (A-xt-9), (A-xt-12), (A-xt-15)를, 상기 잔텐 화합물 (A-xt-1)과 같이 합성했다.(A-xt-2), (A-xt-4), (A-xt-6), (A-xt-15) was synthesized in the same manner as the xanthene compound (A-xt-1).

<일반식 (1)로 나타나는 색소 다량체의 합성>&Lt; Synthesis of dye multimer represented by general formula (1) >

[색소 다량체 S-1의 합성][Synthesis of pigment multimer S-1]

[화학식 59][Chemical Formula 59]

Figure pat00059
Figure pat00059

다관능 싸이올(상기 (SH-1)의 구조의 화합물, SC 유키 가가쿠 고교(주)제) 1.0부, 잔텐 화합물 (A-xt-1) 13.7부, 메타크릴산(MAA) 2.1부, 및 사이클로헥산온 9.0부의 혼합 용액을 질소 기류하, 80℃로 가열했다. 이것에 2,2'-아조비스(아이소뷰티르산)다이메틸〔V-601; 와코 준야쿠제〕을 0.254부 첨가한 후, 80℃에서 2시간 가열 교반했다. 또한 V-601을 0.254부 첨가한 후, 80℃에서 2시간 가열 교반하고, 추가로 90℃에서 2시간 가열 교반했다. 실온까지 냉각한 후, 사이클로헥산온 30.7부, 테트라뷰틸암모늄 브로마이드(TBAB) 0.32부, 메타크릴산 글리시딜(GMA) 1.8부를 첨가하고, 80℃ 18시간 가열 교반했다. 실온까지 냉각한 후, 헥세인 250부, 아세트산 에틸 250부의 혼합 용매에 반응 용액을 적하하고 재침하여, 색소 다량체 S-1을 얻었다., 1.0 part of a polyfunctional thiol (a compound having the structure of the above (SH-1), manufactured by SC Yuki Kagaku Kogyo Co., Ltd.), 13.7 parts of a xanthene compound (A-xt-1), 2.1 parts of methacrylic acid (MAA) And 9.0 parts of cyclohexanone was heated to 80 占 폚 under a nitrogen stream. To this was added 2,2'-azobis (isobutyrate) dimethyl [V-601; Manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added, and the mixture was heated and stirred at 80 占 폚 for 2 hours. Further, 0.254 parts of V-601 was added, and the mixture was heated and stirred at 80 DEG C for 2 hours, and further heated and stirred at 90 DEG C for 2 hours. After cooling to room temperature, 30.7 parts of cyclohexanone, 0.32 parts of tetrabutylammonium bromide (TBAB) and 1.8 parts of glycidyl methacrylate (GMA) were added and the mixture was heated and stirred at 80 占 폚 for 18 hours. After cooling to room temperature, the reaction solution was added dropwise to a mixed solvent of 250 parts of hexane and 250 parts of ethyl acetate, followed by re-precipitation to obtain a colorant oligomer S-1.

색소 다량체 S-1의 중량 평균 분자량(폴리스타이렌 환산값)은 14500이며, 0.1N 수산화 나트륨 수용액을 이용한 적정에 의하여, 산가는 40mgKOH/g였다.The weight average molecular weight (in terms of polystyrene) of the pigment oligomer S-1 was 14500, and the acid value was 40 mgKOH / g by titration using a 0.1 N aqueous sodium hydroxide solution.

또, NMR(핵자기 공명) 측정에서의 폴리머쇄 Q의 색소 구조를 갖는 반복 단위의 수는, 평균 4.5로 계산되었다. 또, 테트라하이드로퓨란(THF)에 용해시켜 색소 다량체 S-1을 0.01mg/ml 포함하는 용액을 조제하고(최대 흡광도가 1.0이 되도록 조절한 농도), 이러한 용액의 25℃에서의 흡광도를, 광로 길이 1cm의 셀을 이용하여 측정한바, 최대 흡수 파장(λmax)은 535nm이고, 최대 흡수 파장(λmax)의 비흡광도는 44였다.The number of repeating units having a dye structure of the polymer chain Q in NMR (nuclear magnetic resonance) measurement was calculated as 4.5 on average. Further, a solution containing 0.01 mg / ml of the colorant oligomer S-1 dissolved in tetrahydrofuran (THF) (concentration adjusted to a maximum absorbance of 1.0) was prepared, and the absorbance of this solution at 25 캜 was measured, The maximum absorption wavelength (? Max) was 535 nm and the specific absorption of the maximum absorption wavelength (? Max) was 44 as measured using a cell having an optical path length of 1 cm.

[색소 다량체 S-2~52의 합성][Synthesis of pigment multimer S-2 to 52]

다관능 싸이올, 각종 모노머의 종류 및 양, V-601의 양, GMA의 양, TBAB의 양을 하기 표로 변경한 것 이외에는, 색소 다량체 S-1의 합성 방법과 같이 하여, 색소 다량체 S-2~S-52를 얻었다.Was prepared in the same manner as in the synthesis of the colorant oligomer S-1, except that the amount and type of the polyfunctional thiol, various monomers, the amount of V-601, the amount of GMA, and the amount of TBAB were changed to the following table, -2 to S-52.

<비흡광도의 측정>&Lt; Measurement of specific absorbance &

각 색소 다량체를 테트라하이드로퓨란(THF)에 용해시켜, 파장 400nm~800nm에서의 최대 흡광도가 1.0이 되는 농도로 조정하고, 이러한 용액의 25℃에서의 흡광도를, 광로 길이 1cm의 셀을 이용하여, 하기 식 (Aλ)에 근거하여 산출했다.Each of the colorant oligomers was dissolved in tetrahydrofuran (THF), adjusted to a concentration at which the maximum absorbance at a wavelength of 400 nm to 800 nm was 1.0, and the absorbance of this solution at 25 캜 was measured using a cell having an optical path length of 1 cm , And the following formula (A?).

E=A/(c×l) …(Aλ)E = A / (cxl) ... (A?)

식 (Aλ) 중, E는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 비흡광도를 나타내고,In the formula (A?), E represents a non-absorbance at a maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,

A는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 흡광도를 나타내며,A represents the absorbance at the maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,

l은, 단위가 cm로 나타나는 셀 길이를 나타내고,l represents the cell length in cm,

c는, 단위가 mg/ml로 나타나는, 용액 중의 색소 다량체의 농도를 나타낸다.c represents the concentration of the pigment multimer in the solution in units of mg / ml.

[표 1][Table 1]

Figure pat00060
Figure pat00060

표에 기재된 모노머의 종류를 이하에 나타낸다.The types of monomers listed in the table are shown below.

[화학식 60](60)

Figure pat00061
Figure pat00061

[화학식 61](61)

Figure pat00062
Figure pat00062

[화학식 62](62)

Figure pat00063
Figure pat00063

[화학식 63](63)

Figure pat00064
Figure pat00064

비교 색소 (S'-1), (S'-2), (S'-3): 하기 구조Comparative Samples (S'-1), (S'-2), (S'-3)

[화학식 64]&Lt; EMI ID =

Figure pat00065
Figure pat00065

(비교 색소 (S'-3)의 합성)(Synthesis of comparative dye (S'-3)

[화학식 65](65)

Figure pat00066
Figure pat00066

일본 공개특허공보 2000-162429호에 기재된 방법에 준하여 트라이아릴메테인 화합물 (A-tp-101)을 합성했다.A triarylmethane compound (A-tp-101) was synthesized according to the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-162429.

트라이아릴메테인 화합물 (A-tp-101)(15g), 하이드록시에틸메타크릴레이트(10g), 메타크릴산(5.5g), 및 아조비스아이소뷰티로나이트릴(5g)을, N-에틸피롤리돈(70g)에 첨가하여, 실온에서 30분 교반하고 용해시켰다(적하용 중합 용액).15 g of triarylmethane compound (A-tp-101), 10 g of hydroxyethyl methacrylate, 5.5 g of methacrylic acid and 5 g of azobisisobutyronitrile were added to a solution of N- ethyl Pyrrolidone (70 g), and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and dissolved (dropping polymerization solution).

별도로, 트라이아릴메테인 화합물 (A-tp-101)(15g), 하이드록시에틸메타크릴레이트(10g), 및 메타크릴산(5.5g)를 용기에 넣고 용해시키고, 80℃에서 교반했다. 거기에 조제한 적하용 중합 용액을 3시간 동안 적하하고, 1시간 교반한 후, 아조아이소뷰티로나이트릴(2.5g)을 첨가하여, 추가로 2시간 반응시키고 정지했다. 실온까지 냉각 후, 용매를 증류 제거하고, 비교 색소 3을 얻었다. 비교 색소 3의 중량 평균 분자량(Mw)은 18000, 0.1N 수산화 나트륨 수용액을 이용한 적정에 의하여, 산가는 1.81mgKOH/g였다.Separately, 15 g of triarylmethane compound (A-tp-101), 10 g of hydroxyethyl methacrylate and 5.5 g of methacrylic acid were dissolved in a vessel and stirred at 80 ° C. The prepared polymerization solution for dropwise addition was added dropwise over 3 hours, and after stirring for 1 hour, azoisobutyronitrile (2.5 g) was added and the reaction was further terminated for 2 hours. After cooling to room temperature, the solvent was distilled off to obtain a comparative dye 3. The weight average molecular weight (Mw) of the comparative dye 3 was 18000, and the acid value was 1.81 mgKOH / g by titration using a 0.1 N aqueous sodium hydroxide solution.

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

1. 레지스트액의 조제1. Preparation of resist solution

하기 조성의 성분을 혼합하여 용해한 후, 0.45μm 나일론 필터로 여과함으로써 언더코팅층용 레지스트액을 조제했다.The components of the following composition were mixed and dissolved, followed by filtration with a 0.45 μm nylon filter to prepare a resist solution for the undercoat layer.

언더코팅층용 레지스트액의 조성Composition of resist solution for undercoat layer

·용제: 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트 19.20부Solvent: propylene glycol monomethyl ether acetate Section 19.20

·용제: 락트산 에틸 36.67부Solvent: Ethyl lactate 36.67 parts

·알칼리 가용성 수지: 메타크릴산 벤질/메타크릴산/메타크릴산-2-하이드록시에틸 공중합체(몰비=60/22/18, 중량 평균 분자량 15,000, 수평균 분자량 9,000)의 40% PGMEA 용액 30.51부40% PGMEA solution of alkali soluble resin: benzyl methacrylate / methacrylic acid / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer (molar ratio = 60/22/18, weight average molecular weight 15,000, number average molecular weight 9,000) 30.51 part

·중합성 화합물: 다이펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(KAYARAD DPHA(닛폰 가야쿠사제)) 12.20부Polymerizable compound: dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 12.20 part

·중합 금지제: p-메톡시페놀 0.0061부Polymerization inhibitor: p-methoxyphenol 0.0061 part

·불소계 계면활성제: F-475, DIC(주)제 0.83부· Fluorochemical surfactant: F-475, manufactured by DIC Co., Ltd. 0.83 part

·광중합 개시제: 트라이할로메틸트라이아진계의 광중합 개시제(TAZ-107, 미도리 가가쿠사제) 0.586부Photopolymerization initiator: A trihalomethyltriazine-based photopolymerization initiator (TAZ-107, manufactured by Midori Kagaku Co., Ltd.) 0.586 part

2. 언더코팅층 부착 실리콘 웨이퍼 기판의 제작2. Fabrication of silicon wafer substrate with undercoat layer

6인치(inch) 실리콘 웨이퍼를 오븐 중에서 200℃하 30분 가열 처리했다. 이어서, 이 실리콘 웨이퍼 상에, 언더코팅층용 레지스트액을 건조 막두께가 1.5μm가 되도록 도포하고, 추가로 220℃의 오븐 중에서 1시간 가열 건조시켜 언더코팅층을 형성하여, 언더코팅층 부착 실리콘 웨이퍼 기판을 얻었다.A 6 inch silicon wafer was heat treated in an oven at 200 캜 for 30 minutes. Subsequently, a resist solution for the undercoat layer was applied on the silicon wafer so that the dry film thickness became 1.5 占 퐉 and further heated and dried in an oven at 220 占 폚 for 1 hour to form an undercoat layer, .

3. 착색 조성물의 조제3. Preparation of coloring composition

3-1. 청색 안료 분산액의 조제(안료 분산액 P1(C. I. Pigment Blue 15:6 분산액)의 조제)3-1. Preparation of Blue Pigment Dispersion (Preparation of Pigment Dispersion P1 (C.I. Pigment Blue 15: 6 Dispersion)

이하와 같이 하여, 안료 분산액 P1(C. I. Pigment Blue 15:6 분산액)을 조제했다.A pigment dispersion P1 (C.I. Pigment Blue 15: 6 dispersion) was prepared in the following manner.

즉, C. I. Pigment Blue 15:6(청색 안료; 이하, "PB 15:6"이라고도 칭함)을 19.4질량부(평균 1차 입자경 55nm), 및 분산 수지 BY-161(BYK사제)을 2.95질량부, 알칼리 가용성 수지 J1(메타크릴산 벤질/메타크릴산의 공중합체, 30% PGMEA 용액)을 고형분 환산으로 2.95질량부(용액 9.93질량부), PGMEA를 165.3질량부 혼합한 혼합액을, 비즈 밀(beads mill)(지르코니아 비즈 0.3mm 직경)에 의하여 3시간 혼합·분산했다. 그 후, 추가로, 감압 기구 장착 고압 분산기 NANO-3000-10(닛폰 비이이(주)제)을 이용하여, 2000kg/cm3의 압력하에서 유량 500g/min로서 분산 처리를 행했다. 이 분산 처리를 10회 반복하여, 안료 분산액으로서, C. I. Pigment Blue 15:6 분산액을 얻었다. 얻어진 C. I. Pigment Blue 15:6 분산액에 대하여, 안료의 평균 1차 입자경을 동적 광산란법(Microtrac Nanotrac UPA-EX150(닛키소사(Nikkiso Co., Ltd.)제))에 의하여 측정한바, 24nm였다.19.4 parts by mass (average primary particle size: 55 nm) of CI Pigment Blue 15: 6 (hereinafter, also referred to as "PB 15: 6") and 2.95 parts by mass of dispersion resin BY- 2.95 parts by mass (9.93 parts by mass of the solution) of an alkali-soluble resin J1 (copolymer of methacrylic acid benzyl / methacrylic acid, 30% PGMEA solution) and 165.3 parts by mass of PGMEA were mixed with beads mill) (zirconia beads 0.3 mm in diameter) for 3 hours. Thereafter, dispersion treatment was further carried out at a flow rate of 500 g / min under a pressure of 2000 kg / cm 3 using a high-pressure disperser NANO-3000-10 (manufactured by NIPPON BIO INC.) Equipped with a pressure reducing mechanism. This dispersion treatment was repeated 10 times to obtain a CI Pigment Blue 15: 6 dispersion as a pigment dispersion. The average primary particle diameter of the pigment was measured by a dynamic light scattering method (Microtrac Nanotrac UPA-EX150 (Nikkiso Co., Ltd.)) relative to the obtained CI Pigment Blue 15: 6 dispersion.

알칼리 가용성 수지 J1Alkali-soluble resin J1

[화학식 66](66)

Figure pat00067
Figure pat00067

3-2. 착색 조성물의 조제3-2. Preparation of coloring composition

하기의 각 성분을 혼합하여 분산, 용해하고, 0.45μm 나일론 필터로 여과함으로써 착색 조성물을 얻었다.The following components were mixed, dispersed and dissolved, and filtered through a 0.45 mu m nylon filter to obtain a colored composition.

·유기 용제(사이클로헥산온): 17.12부Organic solvent (cyclohexanone): 17.12 parts

·알칼리 가용성 수지 1(하기 J1): 1.23부(고형분 0.37부, 고형분 농도 30%)Alkali-soluble resin 1 (the following J1): 1.23 parts (solid content 0.37 part, solid content concentration 30%)

·알칼리 가용성 수지 2(아크리큐어 RD-F8(닛폰 쇼쿠바이사제)): 0.23부Alkali-soluble resin 2 (ARCICURE RD-F8 (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.)): 0.23 parts

·광중합 개시제 I-2(IRGACURE OXE-02): 0.975부Photopolymerization initiator I-2 (IRGACURE OXE-02): 0.975 parts

·색소 다량체의 사이클로헥산온 용액(고형분 농도 12.3%): 24.57부· Cyclohexanone solution of the colorant multimer (solid content concentration 12.3%): 24.57 parts

·안료 분산액 P1(C. I. Pigment Blue 15:6 분산액, PGMEA 용액, 고형분 농도 12.8%): 51.40부Pigment dispersion P1 (C.I. Pigment Blue 15: 6 dispersion, PGMEA solution, solid concentration 12.8%): 51.40 parts

·중합성 화합물 Z-1(에틸렌옥시 변성 다이펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, NK 에스터 A-DPH-12E(신나카무라 가가쿠사제)): 1.96부Polymerizable compound Z-1 (ethyleneoxy-modified dipentaerythritol hexaacrylate, NK ester A-DPH-12E (Shin-Nakamura Kagaku)): 1.96 parts

·중합 금지제(p-메톡시페놀): 0.0007부Polymerization inhibitor (p-methoxyphenol): 0.0007 part

·불소계 계면활성제(DIC사제 F475, 1% PGMEA 용액): 2.50부Fluorine-based surfactant (F475, 1% PGMEA solution, manufactured by DIC): 2.50 parts

4. 컬러 필터(착색 패턴)의 제작4. Fabrication of color filter (coloring pattern)

4-1: 포토리소그래피법에 의한 착색 조성물을 이용한 컬러 필터의 제작4-1: Fabrication of color filter using coloring composition by photolithography

상기에서 조제된 착색 조성물을, 상기에서 제작된 언더코팅층 부착 실리콘 웨이퍼의 언더코팅층 상에 도포하여, 착색층(도포막)을 형성했다. 그리고, 이 도포막의 건조 막두께가 1μm가 되도록, 100℃의 핫플레이트를 이용하여 120초간 가열 처리(프리베이크)를 행했다.The coloring composition prepared above was applied on the undercoat layer of the silicon wafer with the undercoat layer prepared above to form a colored layer (coating film). Then, a heat treatment (prebaking) was performed for 120 seconds using a hot plate at 100 캜 so that the dried film thickness of the coated film became 1 탆.

이어서, i선 스테퍼 노광 장치 FPA-3000i5+(Canon(주)제)를 사용하여 365nm의 파장에서 패턴이 평방 1.0μm인 Island 패턴 마스크를 통과시켜 50~1200mJ/cm2의 노광량으로 노광했다.Subsequently, an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5 + (manufactured by Canon Inc.) was used to expose the pattern at an exposure dose of 50 to 1200 mJ / cm 2 through an Island pattern mask having a wavelength of 365 nm and a square of 1.0 μm.

그 후, 조사된 도포막이 형성되어 있는 실리콘 웨이퍼 기판을 스핀·샤워 현상기(DW-30형, (주)케미트로닉스제)의 수평 회전 테이블 상에 재치하고, CD-2000(후지필름 일렉트로닉 머티리얼즈(주)제)을 이용하여 23℃에서 60초간 퍼들 현상을 행하여, 언더코팅층 부착 실리콘 웨이퍼의 언더코팅층 상에 착색 패턴을 형성했다.Thereafter, the silicon wafer substrate on which the irradiated coated film was formed was placed on a horizontal rotary table of a spin shower developing machine (DW-30 type, manufactured by KEMITRONICS Co., Ltd.), and CD-2000 (manufactured by FUJIFILM ELECTRONIC MATERIALS Ltd.) for 60 seconds at 23 ° C to form a colored pattern on the undercoat layer of the silicon wafer with the undercoat layer.

착색 패턴이 형성된 실리콘 웨이퍼를, 진공 척 방식으로 수평 회전 테이블에 고정하고, 회전 장치에 의하여 실리콘 웨이퍼를 회전수 50rpm로 회전시키면서, 그 회전 중심의 상방에서 순수를 분출 노즐로부터 샤워 형상으로 공급하여 린스 처리를 행했다. 그 후 스프레이 건조하고, 200℃에서 300초간, 핫플레이트에서 포스트베이크를 행하여, 실리콘 웨이퍼 상의 막두께 1μm의 착색 패턴(컬러 필터)을 얻었다.The silicon wafer on which the colored pattern was formed was fixed to a horizontal rotary table by a vacuum chucking method and pure water was supplied from the spray nozzle in a shower shape while rotating the silicon wafer at a rotation speed of 50 rpm by a rotary device, Treatment. Thereafter, spray drying was performed and post baking was performed on a hot plate at 200 占 폚 for 300 seconds to obtain a coloring pattern (color filter) having a film thickness of 1 占 퐉 on a silicon wafer.

이상에 의하여, 언더코팅층 부착 실리콘 웨이퍼의 언더코팅층 상에 착색 패턴(컬러 필터)이 마련된 구성의 착색 패턴이 형성된 실리콘 웨이퍼를 얻었다.Thus, a silicon wafer on which a colored pattern having a coloring pattern (color filter) was formed on an undercoat layer of a silicon wafer with an undercoat layer was obtained.

그 후, 측장 SEM "S-9260A"(히타치 하이테크놀로지즈(주)제)를 이용하여, 착색 패턴의 사이즈를 측정했다.Thereafter, the size of the colored pattern was measured using a measurement SEM "S-9260A" (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation).

패턴 사이즈가 1.0μm가 되는 노광량의 착색 패턴을 이용하여 현상 잔사의 평가를 행했다.The development residue was evaluated using a coloring pattern having an exposure amount of 1.0 mu m in pattern size.

<<현상 잔사의 평가>><< Evaluation of Development Residues >>

실리콘 웨이퍼에 있어서의 착색 패턴의 형성 영역 외(미노광부)를 주사식 전자 현미경을 이용하여, 배율 30000배로 관찰하고, 하기 평가 기준에 따라 평가했다.The outside of the formation area (unexposed area) of the colored pattern in the silicon wafer was observed at a magnification of 30,000 times using a scanning electron microscope and evaluated according to the following evaluation criteria.

A: 착색 패턴 형성 영역 외(미노광부)에는 잔사가 전혀 확인되지 않았다.A: Residues were not observed at all outside the coloring pattern forming area (unexposed area).

B: 착색 패턴 형성 영역 외(미노광부)에, 잔사가 약간 확인되었지만, 실용상 문제가 없는 정도였다.B: Residues were slightly observed outside the coloring pattern forming area (unexposed area), but there was no problem in practical use.

C: 착색 패턴 형성 영역 외(미노광부)에 잔사가 확인되었다. 현상 조건을 23℃에서 60초간 퍼들 현상으로부터 23℃에서 180초간 퍼들 현상으로 변경함으로써, 실용상 문제가 없는 정도가 되었다.C: Residues were observed outside the coloring pattern forming area (unexposed area). The development condition was changed from a puddle development at 23 DEG C for 60 seconds to a puddle development at 23 DEG C for 180 seconds, and there was no practical problem.

D: 착색 패턴 형성 영역 외(미노광부)에 잔사가 현저하게 확인되었다.D: Residues were remarkably confirmed outside the coloring pattern forming area (unexposed area).

<<이염성 평가>><< Evaluation of Dyeability >>

각 컬러 필터에 있어서의 착색 패턴의 흡광도를, MCPD-3000(오쓰카 덴시(주)제)으로 측정했다(흡광도 A).The absorbance of the colored pattern in each color filter was measured by MCPD-3000 (manufactured by Otsuka Denshi Co., Ltd.) (absorptivity A).

컬러 필터의 착색 패턴 형성면에, 건조 막두께가 1μm가 되도록 CT-2000L 용액(후지필름 일렉트로닉 머티리얼즈(주)제; 투명 하지제)을 도포하고, 건조시켜, 투명막을 형성한 후, 280℃에서 5분간 가열 처리를 행했다.A CT-2000L solution (manufactured by FUJIFILM ELECTRONICS, INC., Made by Clearfactory Co., Ltd.) was applied on the colored pattern formation side of the color filter so as to have a dry film thickness of 1 mu m and dried to form a transparent film, For 5 minutes.

가열 종료 후, 착색 패턴에 인접하는 투명막의 흡광도를, MCPD-3000(오쓰카 덴시(주)제)으로 측정했다(흡광도 B).After completion of the heating, the absorbance of the transparent film adjacent to the colored pattern was measured with MCPD-3000 (manufactured by Otsuka Denshi Co., Ltd.) (absorbance B).

얻어진 투명막의 흡광도 B의 값에 대하여, 가열 전에 측정한 착색 패턴의 흡광도 A의 값에 대한 비율[%]을 산출했다 〔하기 (식 A)〕. 이를 인접 픽셀로의 이염을 평가하는 지표로 했다.The ratio [%] of the absorbance A to the value of the absorbance A of the coloring pattern measured before heating was calculated with respect to the absorbance B of the obtained transparent film (the following formula (A)). This was used as an index for evaluating the migration to adjacent pixels.

(식 A) 이염(%)=(흡광도 B/흡광도 A)×100(Formula A) diatom (%) = (absorbance B / absorbance A) x 100

A: 1% 미만A: less than 1%

B: 1% 이상 3% 미만B: 1% or more and less than 3%

C: 3% 이상 10% 미만C: 3% to less than 10%

D: 10% 이상D: 10% or more

<<내광성 평가>><< Light fastness evaluation >>

상기에서 조제된 착색 감광성 조성물을 유리 기판에 스핀 코터(미카사(주)제)를 이용하여 도포하여, 도막을 형성했다. 그리고, 이 도막의 건조 막두께가 0.6μm가 되도록, 100℃의 핫플레이트를 이용하여 120초간 가열 처리(프리베이크)를 행했다. 이어서 200℃에서 5분간의 가열을 행하고, 도포막의 경화를 행하여 착색층을 형성했다.The thus-prepared colored photosensitive composition was applied to a glass substrate using a spin coater (manufactured by MICA INC.) To form a coated film. Then, a heat treatment (prebaking) was performed for 120 seconds using a hot plate at 100 캜 so that the dried film thickness of this coating film was 0.6 탆. Subsequently, heating was performed at 200 DEG C for 5 minutes to cure the coating film to form a colored layer.

착색층을 형성한 유리 기판을, 내광 시험 장치(수가 시켄키사제 SX-75)를 이용하여 블랙 패널 온도 63℃, 석영 이너 필터, 275nm 컷 아우터 필터, 조도 75 mw/m2(300~400nm), 습도 50%의 조건하에서 10시간, 내광성 시험을 실시했다.A quartz inner filter, a 275 nm cut outer filter, an illuminance of 75 mw / m 2 (300 to 400 nm), a black panel temperature of 63 캜, and a color filter layer were formed using a light resistance tester (SX- , And a humidity of 50% for 10 hours.

내광성 시험 전후의 색차(ΔE*ab)를 분광 광도계 MCPD-3000(오쓰카 덴시(주)제)으로 측정했다. 측정된 색차(ΔE*ab)에 근거하여, 하기 평가 기준에 따라 내광성을 평가했다. 이 수치가 작을수록, 내광성이 양호하다고 할 수 있다. 평가 결과를 하기 표에 나타낸다. A 및 B가 실제 사용에 문제가 없는 레벨이다.The color difference (? E * ab) before and after the light resistance test was measured by a spectrophotometer MCPD-3000 (manufactured by Otsuka Denshi Co., Ltd.). Based on the measured color difference (? E * ab), the light resistance was evaluated according to the following evaluation criteria. The smaller this value is, the better the light resistance is. The evaluation results are shown in the following table. A and B are levels at which there is no problem in actual use.

<평가 기준><Evaluation Criteria>

A: ΔE*ab가 3 이하A:? E * ab is 3 or less

B: ΔE*ab가 3보다 크고 5 이하B:? E * ab is larger than 3 and not larger than 5

C: ΔE*ab가 5보다 크고 10 이하C:? E * ab is greater than 5 and less than 10

D: ΔE*ab가 10보다 크다D:? E * ab is greater than 10

<<평탄성의 평가>><< Evaluation of flatness >>

상기에서 조제된 착색 조성물 1.0mL를 4인치 실리콘 웨이퍼에 스핀 코터(미카사(주)제)를 이용하여 도포하여, 도막을 형성했다. 그리고, 이 도막의 중심부의 건조 막두께가 0.60μm가 되도록, 100℃의 핫플레이트를 이용하여 120초간 가열 처리(프리베이크)를 행하여 착색층을 형성했다.1.0 mL of the coloring composition prepared above was applied to a 4-inch silicon wafer using a spin coater (manufactured by MICA INC.) To form a coating film. Then, a heat treatment (prebaking) was performed for 120 seconds using a hot plate at 100 占 폚 so that the dry film thickness of the center portion of this coating film was 0.60 占 퐉 to form a colored layer.

광학식 막두께계(필름매트릭스(주) F20)를 이용하여 착색층의 막두께를 측정했다. 막두께가 가장 얇은 부분(중심부)과 가장 두꺼운 부분(주변부)의 차가 작을수록 양호하다고 할 수 있다. 평가 결과를 하기 표에 나타낸다. A 및 B가 실제 사용에 문제가 없는 레벨이다.The film thickness of the colored layer was measured using an optical film thickness meter (Film Matrix Co., Ltd. F20). The smaller the difference between the thinnest portion (central portion) and the thickest portion (peripheral portion), the better. The evaluation results are shown in the following table. A and B are levels at which there is no problem in actual use.

<평가 기준><Evaluation Criteria>

A: 막두께의 차가 0.02μm 이하이다A: The difference in film thickness is 0.02 占 퐉 or less

B: 막두께의 차가 0.02μm보다 크고 0.05μm 이하이다B: The difference in film thickness is larger than 0.02 μm and smaller than or equal to 0.05 μm

C: 막두께의 차가 0.05μm보다 크다.C: The difference in film thickness is larger than 0.05 占 퐉.

<실시예 2~52, 비교예 1~3>&Lt; Examples 2 to 52 and Comparative Examples 1 to 3 >

실시예 1에 있어서의 "3-2. 착색 조성물의 조제"에 있어서, 안료 분산액, 색소 다량체(색소), 광중합 개시제, 알칼리 가용성 수지, 중합성 화합물을 하기 표와 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 착색 조성물을 조제하고, 실시예 1과 동일하게 하여, 현상 잔사, 이염성, 내광성, 평탄성을 평가했다.Except that the pigment dispersion, the pigment oligomer (dye), the photopolymerization initiator, the alkali-soluble resin and the polymerizable compound were changed as shown in the following table in "3-2 Preparation of a colored composition" in Example 1 A coloring composition was prepared in the same manner as in Example 1, and the development residue, flame retardancy, light resistance and flatness were evaluated in the same manner as in Example 1.

또한, 비교예 1~3은, 색소 다량체로서, 상술한 비교 색소 S'-1~S'-3을 사용했다.In Comparative Examples 1 to 3, the above-described comparative colorants S'-1 to S'-3 were used as colorant oligomers.

[표 2][Table 2]

Figure pat00068
Figure pat00068

상기 결과로부터, 실시예 1~52의 착색 조성물은, 이염성, 내광성, 평탄성이 우수한 것이었다. 나아가서는, 현상 잔사가 매우 적어, 현상성이 우수한 것이었다.From the above results, the coloring compositions of Examples 1 to 52 were excellent in flame retardancy, light resistance, and flatness. Further, the development residue was very small and the developability was excellent.

한편, 비교예 1~3은, 이염성 또는 평탄성 중 어느 하나가 뒤떨어지는 것이었다.On the other hand, in Comparative Examples 1 to 3, either of the flame retardancy or the flatness was poor.

<실시예 53, 54>&Lt; Examples 53 and 54 >

하기의 각 성분을 혼합하여 분산, 용해하고, 0.45μm 나일론 필터로 여과함으로써 착색 조성물을 얻었다.The following components were mixed, dispersed and dissolved, and filtered through a 0.45 mu m nylon filter to obtain a colored composition.

다음으로, 얻어진 착색 조성물을, 7.5cm×7.5cm의 유리 기판 상에 막두께가 0.5μm가 되도록 스핀 코터를 이용하여 도포하고, 핫플레이트를 사용하여, 200℃에서 5분간, 가열을 행하여, 도포막의 경화를 행하여 착색층을 제작했다. 이 착색층의 막두께는, 0.5μm였다.Next, the obtained color composition was coated on a glass substrate of 7.5 cm x 7.5 cm using a spin coater so that the film thickness became 0.5 m, and heated at 200 캜 for 5 minutes using a hot plate, The film was cured to prepare a colored layer. The film thickness of this colored layer was 0.5 mu m.

이어서, 포지티브형 포토레지스트 "FHi622BC"(후지필름 일렉트로닉 머티리얼즈사제)를 도포하고, 90℃에서 1분간, 프리베이크 처리를 실시하여, 막두께 0.8μm의 포토레지스트층을 형성했다.Subsequently, a positive type photoresist " FHi622BC " (manufactured by Fuji Film Electronics Materials Co., Ltd.) was applied and prebaked at 90 DEG C for 1 minute to form a photoresist layer having a thickness of 0.8 mu m.

계속해서, 포토레지스트층을, i선 스테퍼(Canon(주)제)를 이용하여 350mJ/cm2의 노광량으로 패턴 노광하고, 포토레지스트층의 온도 또는 분위기 온도가 90℃가 되는 온도에서 1분간, 가열 처리를 행했다. 그 후, 현상액 "FHD-5"(후지필름 일렉트로닉 머티리얼즈사제)로 1분간의 현상 처리를 행하고, 추가로 110℃에서 1분간의 포스트베이크 처리를 실시하여, 레지스트 패턴을 형성했다. 이 레지스트 패턴의 사이즈는, 에칭 변환차(에칭에 의한 패턴 폭의 축소)를 고려하여, 한 변 1.0μm로 형성했다.Subsequently, the photoresist layer was subjected to pattern exposure at an exposure dose of 350 mJ / cm 2 using an i-line stepper (manufactured by Canon), and the photoresist layer was exposed at a temperature of 90 ° C for 1 minute, Heat treatment was carried out. Thereafter, development processing was performed for one minute with a developing solution " FHD-5 " (manufactured by FUJIFILM ELECTRONIC MATERIALS), and post baking treatment was further performed at 110 DEG C for one minute to form a resist pattern. The size of the resist pattern was formed to be 1.0 μm on one side in consideration of the etching conversion difference (reduction in pattern width due to etching).

다음으로, 포토레지스트층을 형성한 유리 기판을 8inch 실리콘 웨이퍼에 첩부하고, 드라이 에칭 장치(U-621, 히타치 하이테크놀로지즈사제)로, RF 파워: 800W, 안테나 바이어스: 400W, 웨이퍼 바이어스: 200W, 챔버의 내부 압력: 4.0Pa, 기판 온도: 50℃, 혼합 가스의 가스종 및 유량을 CF4: 80mL/분, O2: 40mL/분, Ar: 800mL/min.로 하여, 80초의 제1 단계 에칭 처리를 실시했다.Next, the glass substrate on which the photoresist layer was formed was attached to an 8-inch silicon wafer, and the wafer was irradiated with an RF power of 800 W, an antenna bias of 400 W, a wafer bias of 200 W, the internal pressure of the chamber: 4.0Pa, substrate temperature: 50 ℃, the gas species and flow rates of mixed gases CF 4: 80mL / min., O 2: 40mL / min, Ar:. to a 800mL / min, 80 seconds of the first step Etching treatment was performed.

이어서, 동일한 에칭 챔버에서, RF 파워: 600W, 안테나 바이어스: 100W, 웨이퍼 바이어스: 250W, 챔버의 내부 압력: 2.0Pa, 기판 온도: 50℃, 혼합 가스의 가스종 및 유량을 N2: 500mL/분, O2: 50mL/분, Ar: 500mL/분으로 하여(N2/O2/Ar=10/1/10), 28초의 제2 단계 에칭 처리를 실시했다.Then, in the same etching chamber, the gas species and the flow rate of the mixed gas were set to 500 mL / min (N 2) in an RF power of 600 W, an antenna bias of 100 W, a wafer bias of 250 W, an inner pressure of the chamber of 2.0 Pa, (N 2 / O 2 / Ar = 10/1/10), O 2 was 50 mL / min, and Ar was 500 mL / min.

상기 조건에서 드라이 에칭을 행한 후, 포토레지스트 박리액 "MS230C"(후지필름 일렉트로닉 머티리얼즈사제)를 사용하여, 50℃에서 120초간, 박리 처리를 실시하여 레지스트를 제거하고, 착색 패턴을 형성했다. 또한 순수에 의한 세정, 스핀 건조를 실시하고, 그 후, 100℃에서 2분간의 탈수 베이크 처리를 행했다. 이상에 의하여, 컬러 필터를 얻었다.After performing the dry etching under the above conditions, the resist was removed using a photoresist stripping liquid "MS230C" (manufactured by FUJIFILM ELECTRONICS MATERIALS CO., LTD.) At 50 ° C for 120 seconds to remove the resist to form a coloring pattern. Further, washing with pure water and spin drying were performed, and dehydration baking treatment was then performed at 100 ° C for 2 minutes. Thus, a color filter was obtained.

얻어진 컬러 필터에 대하여, 실시예 1과 동일하게 하여 이염성, 내광성, 평탄성을 평가했다.The obtained color filter was evaluated for flame resistance, light resistance and flatness in the same manner as in Example 1. [

<착색 조성물의 조성>&Lt; Composition of coloring composition >

·유기 용제(사이클로헥산온): 17.12부Organic solvent (cyclohexanone): 17.12 parts

·에폭시 수지 JER1031S(미쓰비시 가가쿠(주)제, 에폭시 당량: 180-220(g/eq.)): 4.395부Epoxy resin JER1031S (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, epoxy equivalent: 180-220 (g / eq.)): 4.395 parts

·색소 다량체의 사이클로헥산온 용액(고형분 농도 12.3%): 24.57부· Cyclohexanone solution of the colorant multimer (solid content concentration 12.3%): 24.57 parts

·안료 분산액(하기 표 참조): 51.40부Pigment dispersion (see table below): 51.40 parts

·중합 금지제(p-메톡시페놀): 0.0007부Polymerization inhibitor (p-methoxyphenol): 0.0007 part

·불소계 계면활성제(DIC사제 F475, 1% PGMEA 용액): 2.50부Fluorine-based surfactant (F475, 1% PGMEA solution, manufactured by DIC): 2.50 parts

[표 3][Table 3]

Figure pat00069
Figure pat00069

상기 결과로부터, 실시예 53, 54의 착색 조성물은, 이염성, 내광성, 평탄성이 우수한 것이었다.From the above results, the coloring compositions of Examples 53 and 54 were excellent in flame retardancy, light resistance, and flatness.

표에 기재된 화합물의 약칭은 이하이다.The abbreviations of the compounds listed in the Tables are as follows.

광중합 개시제: 하기 구조Photopolymerization initiator:

[화학식 67](67)

Figure pat00070
Figure pat00070

알칼리 가용성 수지: 하기 구조Alkali-soluble resin: The following structure

[화학식 68](68)

Figure pat00071
Figure pat00071

중합성 화합물Polymerizable compound

Z-1: 에틸렌옥시 변성 다이펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, NK 에스터 A-DPH-12E(신나카무라 가가쿠사제)Z-1: Ethyleneoxy-modified dipentaerythritol hexaacrylate, NK ester A-DPH-12E (manufactured by Shin Nakamura Kagaku)

Z-2: 다이펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, KAYARAD DPHA(닛폰 가야쿠사제)Z-2: dipentaerythritol hexaacrylate, KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

Z-3: 에톡시화(4) 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, SR494(사토머사제)Z-3: Ethoxylated (4) pentaerythritol tetraacrylate, SR494 (manufactured by Satomar)

Z-4: 에톡시화(3) 트라이메틸올프로페인트라이아크릴레이트, SR454(사토머사제)Z-4: ethoxylated (3) trimethylol propyl acrylate, SR454 (manufactured by Satoromer)

Z-5: 에톡시화(6) 트라이메틸올프로페인트라이아크릴레이트, SR499(사토머사제)Z-5: ethoxylated (6) trimethylolpropane acrylate, SR499 (manufactured by Satoromer)

Z-6: KAYARAD DPCA-60(닛폰 가야쿠사제)Z-6: KAYARAD DPCA-60 (manufactured by Nippon Kayaku Co.)

Z-7: 트리스(2-하이드록시에틸)아이소사이아누레이트트라이아크릴레이트, SR368(사토머사제)Z-7: tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate, SR368 (manufactured by Satoromer)

안료 분산액Pigment dispersion

안료 분산액 P2(C. I. Pigment Blue 15:6 분산액):Pigment dispersion P2 (C.I. Pigment Blue 15: 6 dispersion):

안료 분산액 P1의 조제에 있어서, 분산 수지 BY-161 대신에, 하기 분산 수지 D1을 이용하는 것 이외에는 동일한 조작에 의하여 안료 분산액 P2를 조제했다.A pigment dispersion P2 was prepared in the same manner as in the preparation of the pigment dispersion P1 except that the following dispersion resin D1 was used instead of the dispersion resin BY-161.

[화학식 69](69)

Figure pat00072
Figure pat00072

Mw=20000, x/y=50/50(질량비), n=20, 산가=100mgKOH/gMw = 20000, x / y = 50/50 (mass ratio), n = 20, acid value = 100 mgKOH / g

안료 분산액 P3(C. I. Pigment Blue 15:6 분산액):Pigment dispersion P3 (C.I. Pigment Blue 15: 6 dispersion):

안료 분산액 P1의 조제에 있어서, 분산 수지 BY-161 대신에, 하기 분산 수지 D2를 이용하는 것 이외에는 동일한 조작에 의하여 안료 분산액 P3을 조제했다.A pigment dispersion P3 was prepared in the same manner as in the preparation of the pigment dispersion P1 except that the following dispersion resin D2 was used instead of the dispersion resin BY-161.

[화학식 70](70)

Figure pat00073
Figure pat00073

Mw=20000, x/y=15/85(질량비), n=20, 산가=100mgKOH/gMw = 20000, x / y = 15/85 (mass ratio), n = 20, acid value = 100 mgKOH / g

안료 분산액 P4(C. I. Pigment Violet 23 분산액):Pigment dispersion P4 (C.I. Pigment Violet 23 dispersion):

안료 분산액 P1의 조제에 있어서, 안료로서 PB 15:6 대신에, C. I. Pigment Violet 23을 사용하는 것 이외에는 안료 분산액 P1의 조제와 동일하게 하여 안료 분산액 P4를 조제했다.A pigment dispersion P4 was prepared in the same manner as the preparation of the pigment dispersion P1 except that C. I. Pigment Violet 23 was used instead of PB 15: 6 as the pigment in the preparation of the pigment dispersion P1.

안료 분산액 P5(C. I. Pigment Red 254 분산액):Pigment dispersion P5 (C.I. Pigment Red 254 dispersion):

안료 분산액 P1의 조제에 있어서, 안료로서 PB 15:6 대신에, C. I. Pigment Red 254를 사용하는 것 이외에는 안료 분산액 P1의 조제와 동일하게 하여 안료 분산액 P5를 조제했다.A pigment dispersion P5 was prepared in the same manner as the preparation of the pigment dispersion P1 except that C.I. Pigment Red 254 was used instead of PB 15: 6 as the pigment in the preparation of the pigment dispersion P1.

안료 분산액 P6(C. I. Pigment Green 58 분산액):Pigment dispersion P6 (C.I. Pigment Green 58 dispersion):

안료 분산액 P1의 조제에 있어서, 안료로서 PB 15:6 대신에, C. I. Pigment Green 58을 사용하는 것 이외에는 안료 분산액 P1의 조제와 동일하게 하여 안료 분산액 P6을 조제했다.A pigment dispersion P6 was prepared in the same manner as the preparation of the pigment dispersion P1 except that C. I. Pigment Green 58 was used instead of PB 15: 6 as the pigment in the preparation of the pigment dispersion P1.

안료 분산액 P7(C. I. Pigment Yellow 139 분산액):Pigment dispersion P7 (C.I. Pigment Yellow 139 dispersion):

안료 분산액 P1의 조제에 있어서, 안료로서 PB 15:6 대신에, C. I. Pigment Yellow 139를 사용하는 것 이외에는 안료 분산액 P1의 조제와 동일하게 하여 안료 분산액 P7을 조제했다.A pigment dispersion P7 was prepared in the same manner as in the preparation of the pigment dispersion P1 except that C.I. Pigment Yellow 139 was used instead of PB 15: 6 as the pigment in the preparation of the pigment dispersion P1.

Claims (18)

일반식 (2)로 나타나는 색소 다량체와, 중합성 화합물을 포함하는 착색 조성물;
Figure pat00074

일반식 (2) 중, A1은 n가의 연결기로서, 주쇄에 산소 원자를 가져도 되는 지방족 탄화수소기, 방향족환기 및 복소환기로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 조합으로 이루어지는 기를 나타내고,
B1은 단결합, -O-, -S-, -CO-, -NR-, -O2C-, -CO2-, -NROC-, 또는 -CONR-을 나타내며, R은, 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기를 나타내고,
C1은, 단결합, 알킬렌기, 아릴렌기, 또는 옥시알킬렌기를 나타내며,
S는, 황 원자를 나타내고,
Q는 일반식 (a1-1)로 나타나는 반복 단위를 갖는 폴리머쇄를 나타내며, n개의 Q의, 일반식 (a1-1)로 나타나는 반복 단위의 개수의 평균값이 2개 이상이고,
n은 3~10의 정수를 나타내고,
Figure pat00075

일반식 (a1-1) 중, Q1은, 중합에 의하여 형성되는 3가의 연결기를 나타내고,
L1은, 단결합 혹은 탄소수 1~30의 알킬렌기, 탄소수 6~30의 아릴렌기, 복소환기, -CH=CH-, -O-, -S-, -C(=O)-, -CO2-, -NR-, -CONR-, -O2C-, -SO-, -SO2- 및 이들을 2개 이상 연결하여 형성되는 기 중에서 선택되는 2가의 연결기를 나타내고, R은 수소 원자, 알킬기, 아릴기, 또는 헤테로아릴기를 나타내고,
D1은 트라이아릴메테인 색소, 잔텐 색소, 안트라퀴논 색소, 사이아닌 색소, 스쿠아릴륨 색소, 퀴노프탈론 색소, 프탈로사이아닌 색소, 서브프탈로사이아닌 색소, 아조 색소 및 다이피로메텐 색소로부터 선택되는 색소에 유래하는 색소 구조를 나타내고,
"*"는 주쇄와의 결합손을 나타낸다.
A coloring composition comprising a pigment multimer represented by the general formula (2) and a polymerizable compound;
Figure pat00074

In the general formula (2), A 1 represents an n-valent linking group, a group consisting of one or more kinds selected from an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic ring group and a heterocyclic group which may have an oxygen atom in its main chain,
B 1 represents a single bond, -O-, -S-, -CO-, -NR-, -O 2 C-, -CO 2 -, -NROC- or -CONR-, R represents a hydrogen atom, An alkyl group or an aryl group,
C 1 represents a single bond, an alkylene group, an arylene group, or an oxyalkylene group,
S represents a sulfur atom,
Q represents a polymer chain having a repeating unit represented by the general formula (a1-1), wherein the average value of the number of repeating units represented by the general formula (a1-1) of n Q is 2 or more,
n represents an integer of 3 to 10,
Figure pat00075

In the general formula (a1-1), Q 1 represents a trivalent linking group formed by polymerization,
L 1 represents a single bond or an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, an arylene group having 6 to 30 carbon atoms, a heterocyclic group, -CH═CH-, -O-, -S-, -C (═O) 2 -, -NR-, -CONR-, -O 2 C-, -SO-, -SO 2 - and them represents a divalent linking group selected from a group formed by connecting 2 or more, R is a hydrogen atom, an alkyl group , An aryl group, or a heteroaryl group,
D 1 is at least one selected from the group consisting of triarylmethane dyes, xanthine dyes, anthraquinone dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, quinophthalone dyes, phthalocyanine dyes, subphthalocyanine dyes, azo dyes and dipyramethane dyes And a dye structure derived from a dye selected from the group consisting of
"*" Indicates the hand joined with the main chain.
일반식 (1)로 나타나는 색소 다량체와, 중합성 화합물을 포함하는 착색 조성물;
P-(Q)n …(1)
일반식 (1) 중, P는 n가의 연결기로서, 다가 싸이올로부터 유도되는 연결기를 나타내고,
Q는 일반식 (a1-1)로 나타나는 반복 단위를 갖는 폴리머쇄를 나타내며, n개의 Q의, 일반식 (a1-1)로 나타나는 반복 단위의 개수의 평균값이 2개 이상이고,
n은 3~10의 정수를 나타내고,
Figure pat00076

일반식 (a1-1) 중, Q1은, 중합에 의하여 형성되는 3가의 연결기를 나타내고,
L1은, 단결합 혹은 탄소수 1~30의 알킬렌기, 탄소수 6~30의 아릴렌기, 복소환기, -CH=CH-, -O-, -S-, -C(=O)-, -CO2-, -NR-, -CONR-, -O2C-, -SO-, -SO2- 및 이들을 2개 이상 연결하여 형성되는 기 중에서 선택되는 2가의 연결기를 나타내고, R은 수소 원자, 알킬기, 아릴기, 또는 헤테로아릴기를 나타내고,
D1은 트라이아릴메테인 색소, 잔텐 색소, 안트라퀴논 색소, 사이아닌 색소, 스쿠아릴륨 색소, 퀴노프탈론 색소, 프탈로사이아닌 색소, 서브프탈로사이아닌 색소, 아조 색소 및 다이피로메텐 색소로부터 선택되는 색소에 유래하는 색소 구조를 나타내고,
"*"는 주쇄와의 결합손을 나타낸다.
A coloring composition comprising a pigment multimer represented by the general formula (1) and a polymerizable compound;
P- (Q) n ... (One)
In the general formula (1), P represents a linking group derived from a polyhydric thiol as a linking group of n,
Q represents a polymer chain having a repeating unit represented by the general formula (a1-1), wherein the average value of the number of repeating units represented by the general formula (a1-1) of n Q is 2 or more,
n represents an integer of 3 to 10,
Figure pat00076

In the general formula (a1-1), Q 1 represents a trivalent linking group formed by polymerization,
L 1 represents a single bond or an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, an arylene group having 6 to 30 carbon atoms, a heterocyclic group, -CH═CH-, -O-, -S-, -C (═O) 2 -, -NR-, -CONR-, -O 2 C-, -SO-, -SO 2 - and them represents a divalent linking group selected from a group formed by connecting 2 or more, R is a hydrogen atom, an alkyl group , An aryl group, or a heteroaryl group,
D 1 is at least one selected from the group consisting of triarylmethane dyes, xanthine dyes, anthraquinone dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, quinophthalone dyes, phthalocyanine dyes, subphthalocyanine dyes, azo dyes and dipyramethane dyes And a dye structure derived from a dye selected from the group consisting of
"*" Indicates the hand joined with the main chain.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 색소 다량체는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의, 하기 식 (Aλ)로 나타나는 비흡광도가 5 이상인, 착색 조성물;
E=A/(c×l) …(Aλ)
식 (Aλ) 중, E는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 비흡광도를 나타내고,
A는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 흡광도를 나타내며,
l은, 단위가 cm로 나타나는 셀 길이를 나타내고,
c는, 단위가 mg/ml로 나타나는, 용액 중의 색소 다량체의 농도를 나타낸다.
The method according to claim 1 or 2,
Wherein said dye multimer has a specific absorption at a maximum absorption wavelength of 400 nm to 800 nm represented by the following formula (A?) Of 5 or more;
E = A / (cxl) ... (A?)
In the formula (A?), E represents a non-absorbance at a maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,
A represents the absorbance at the maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,
l represents the cell length in cm,
c represents the concentration of the pigment multimer in the solution in units of mg / ml.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여, 상기 색소 다량체를 1~50질량% 함유하는, 착색 조성물.
The method according to claim 1 or 2,
Wherein the colorant composition contains 1 to 50 mass% of the colorant multimer relative to the total solid content of the colorant composition.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 색소 다량체는, 일반식 (3)으로 나타나는 화합물과, 트라이아릴메테인 색소, 잔텐 색소, 안트라퀴논 색소, 사이아닌 색소, 스쿠아릴륨 색소, 퀴노프탈론 색소, 프탈로사이아닌 색소, 서브프탈로사이아닌 색소, 아조 색소 및 다이피로메텐 색소로부터 선택되는 색소에 유래하는 색소 구조 및 라디칼 중합성기를 갖는 화합물을 라디칼 중합하여 얻어진 것인, 착색 조성물.
P0-(SH)n …(3)
일반식 (3) 중, P0은 1개에서 100개까지의 탄소 원자, 0개에서 10개까지의 질소 원자, 0개에서 50개까지의 산소 원자, 1개에서 200개까지의 수소 원자, 및 0개에서 20개까지의 황 원자로 이루어지는 n가의 연결기로서, 다가 알코올로부터 유도되는 연결기를 나타내며,
SH는 싸이올기를 나타내고,
n은 3~10의 정수를 나타낸다.
The method according to claim 1 or 2,
The dye multimer can be obtained by reacting a compound represented by the general formula (3) with a compound selected from the group consisting of a triarylmethane dye, a zanthone dye, an anthraquinone dye, a cyanine dye, a squarylium dye, a quinophthalone dye, Wherein the coloring composition is obtained by radical polymerization of a compound having a pigment structure and a radical polymerizable group derived from a pigment selected from phthalocyanine coloring matter, azo coloring matter and dipyramethine coloring matter.
P 0 - (SH) n ... (3)
In the general formula (3), P 0 is an alkyl group having 1 to 100 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 200 hydrogen atoms, And an n-linking group consisting of 0 to 20 sulfur atoms, which is a linking group derived from a polyhydric alcohol,
SH represents a thiol group,
n represents an integer of 3 to 10;
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 색소 다량체 이외의 색소를 더 포함하는 착색 조성물.
The method according to claim 1 or 2,
And a colorant other than the colorant multimer.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
광중합 개시제를 더 포함하는 착색 조성물.
The method according to claim 1 or 2,
And a photopolymerization initiator.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 Q는, 산기를 갖는 반복 단위 및 중합성기를 갖는 반복 단위로부터 선택되는 1종 이상을 더 갖는, 착색 조성물.
The method according to claim 1 or 2,
And Q has at least one kind selected from repeating units having an acid group and repeating units having a polymerizable group.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 Q는, (메트)아크릴계 수지, 스타이렌계 수지, 및 (메트)아크릴/스타이렌계 수지로부터 선택되는 1종인, 착색 조성물.
The method according to claim 1 or 2,
Wherein Q is one kind selected from a (meth) acrylic resin, a styrene resin, and a (meth) acrylic / styrene resin.
청구항 2에 있어서,
P가 나타내는 n가의 연결기가, 식(P-1)∼(P-32) 중 어느 하나로 나타나는, 착색 조성물.
Figure pat00077

Figure pat00078

Figure pat00079

식(P-32) 중, n은 각각 독립적으로 0 이상의 정수를 나타낸다.
The method of claim 2,
The connecting group of n in the formula (P) is represented by any one of formulas (P-1) to (P-32).
Figure pat00077

Figure pat00078

Figure pat00079

In the formula (P-32), each n independently represents an integer of 0 or more.
청구항 1 또는 청구항 2에 기재된 착색 조성물을 이용하여 이루어지는 컬러 필터.A color filter comprising the coloring composition according to claim 1 or 2. 청구항 1 또는 청구항 2에 기재된 착색 조성물을 지지체 상에 적용하여 착색 조성물층을 형성하는 공정과,
상기 착색 조성물층을 패턴 형상으로 노광하는 공정과,
패턴 형상으로 노광된 상기 착색 조성물층의 미노광부를 현상 제거하여 착색 패턴을 형성하는 공정
을 포함하는 패턴 형성 방법.
A step of applying the coloring composition according to claim 1 or 2 on a support to form a coloring composition layer,
A step of exposing the colored composition layer in a pattern shape,
A step of developing and removing the unexposed portion of the colored composition layer exposed in a pattern shape to form a colored pattern
&Lt; / RTI &gt;
청구항 1 또는 청구항 2에 기재된 착색 조성물을 지지체 상에 적용하여 착색 조성물층을 형성하고, 경화하여 착색층을 형성하는 공정과,
상기 착색층 상에 포토레지스트층을 형성하는 공정과,
노광 및 현상함으로써 상기 포토레지스트층을 패터닝하여 레지스트 패턴을 얻는 공정과,
상기 레지스트 패턴을 에칭 마스크로 하여 상기 착색층을 드라이 에칭하여 착색 패턴을 형성하는 공정
을 포함하는, 패턴 형성 방법.
A step of applying the coloring composition according to claim 1 or 2 on a support to form a coloring composition layer and curing to form a colored layer,
A step of forming a photoresist layer on the colored layer,
Patterning the photoresist layer by exposure and development to obtain a resist pattern;
A step of dry-etching the colored layer using the resist pattern as an etching mask to form a colored pattern
/ RTI &gt;
청구항 12에 기재된 패턴 형성 방법을 포함하는, 컬러 필터의 제조 방법.A manufacturing method of a color filter, comprising the pattern forming method according to claim 12. 청구항 13에 기재된 패턴 형성 방법을 포함하는, 컬러 필터의 제조 방법.A method of manufacturing a color filter, comprising the pattern forming method according to claim 13. 청구항 11에 기재된 컬러 필터를 갖는 고체 촬상 소자.A solid-state imaging device having the color filter according to claim 11. 청구항 11에 기재된 컬러 필터를 갖는 화상 표시 장치.An image display apparatus having the color filter according to claim 11. 일반식 (4)로 나타나는 화합물과, 색소 구조 및 라디칼 중합성기를 갖는 화합물을 라디칼 중합하는 것을 포함하는, 색소 다량체의 제조 방법.
A0-(B0-C0-SH)n …(4)
일반식 (4) 중, A0은 n가의 연결기를 나타내고,
B0은 단결합, -O-, -S-, -CO-, -NR-, -O2C-, -CO2-, -NROC-, 또는 -CONR-을 나타내며,
R은, 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기를 나타내고,
C0은, 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내며,
SH는 싸이올기를 나타내고,
n은 3~10의 정수를 나타낸다.
A process for producing a pigment multimer comprising radical polymerization of a compound represented by the general formula (4) and a compound having a pigment structure and a radically polymerizable group.
A 0 - (B 0 -C 0 -SH) n - (4)
In the general formula (4), A 0 represents a linking group of n,
B 0 represents a single bond, -O-, -S-, -CO-, -NR-, -O 2 C-, -CO 2 -, -NROC- or -CONR-,
R represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group,
C 0 represents a single bond or a divalent linking group,
SH represents a thiol group,
n represents an integer of 3 to 10;
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