KR102003241B1 - Pigment dispersion, process for producing pigment dispersion, colored composition, cured film, color filter, process for producing color filter, solid imaging element, image display device, and composition - Google Patents

Pigment dispersion, process for producing pigment dispersion, colored composition, cured film, color filter, process for producing color filter, solid imaging element, image display device, and composition Download PDF

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Abstract

본 발명은, 내탈색성이 높은 컬러 필터 등을 제공하기 위한 안료 분산액, 상기 안료 분산액을 이용한 착색 조성물, 안료 분산액의 제조 방법, 경화막, 컬러 필터, 컬러 필터의 제조 방법, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치 및 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 안료 분산제는, 색소 구조를 갖는 분산제, 안료, 및 용매를 함유하는 안료 분산액으로서, 색소 구조를 갖는 분산제는, 색소 구조를 동일 분자 내에 2개 이상 갖는 색소 다량체이며, 트라이아릴메테인 색소, 잔텐 색소, 사이아닌 색소 및 스쿠아릴륨 색소로부터 선택되는 색소 구조를 갖고, 색소 구조를 갖는 분산제가, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 하기 식 (Aλ)로 나타나는 비흡광도가 5 이상이다.
E=A/(c×l) …(Aλ)
The present invention relates to a pigment dispersion for providing a color filter or the like having high color fastness to color, a coloring composition using the pigment dispersion, a method for producing a pigment dispersion, a cured film, a color filter, a method for producing a color filter, Display devices and compositions. The pigment dispersant of the present invention is a pigment dispersion containing a dispersant having a pigment structure, a pigment, and a solvent, wherein the dispersant having a pigment structure is a pigment multimer having two or more pigment structures in the same molecule, Wherein the dispersant having a dye structure selected from a dye, a xanthine dye, a xanthine dye, a cyanine dye and a squarylium dye has a non-absorbance represented by the following formula (A?) At a maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm of 5 Or more.
E = A / (cxl) ... (A?)

Description

안료 분산액, 안료 분산액의 제조 방법, 착색 조성물, 경화막, 컬러 필터, 컬러 필터의 제조 방법, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치 및 조성물{PIGMENT DISPERSION, PROCESS FOR PRODUCING PIGMENT DISPERSION, COLORED COMPOSITION, CURED FILM, COLOR FILTER, PROCESS FOR PRODUCING COLOR FILTER, SOLID IMAGING ELEMENT, IMAGE DISPLAY DEVICE, AND COMPOSITION}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a pigment dispersion, a method for producing a pigment dispersion, a coloring composition, a cured film, a color filter, a method for producing a color filter, a solid-state image pickup device, an image display device and a composition FILTER, PROCESS FOR PRODUCING COLOR FILTER, SOLID IMAGING ELEMENT, IMAGE DISPLAY DEVICE, AND COMPOSITION}

본 발명은, 안료 분산액, 안료 분산액의 제조 방법, 착색 조성물, 경화막, 컬러 필터, 컬러 필터의 제조 방법, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치 및 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a pigment dispersion, a method for producing a pigment dispersion, a coloring composition, a cured film, a color filter, a method for producing a color filter, a solid-state image pickup device, an image display device and a composition.

최근, 디지털 카메라, 카메라가 장착된 휴대 전화 등의 보급으로부터, CCD(Charge Coupled Device) 이미지 센서 등의 고체 촬상 소자의 수요가 크게 성장하고 있다. 이들 디스플레이나 광학 소자의 키 디바이스로서 컬러 필터가 사용되고 있으며, 추가적인 고감도화·소형화의 요구가 높아지고 있다. 이와 같은 컬러 필터는, 통상 적색(R), 녹색(G), 및 청색(B)의 3원색의 착색 패턴을 구비하고 있으며, 투과광을 3원색으로 분해하는 역할을 하고 있다.2. Description of the Related Art In recent years, demand for solid-state image pickup devices such as CCD (Charge Coupled Device) image sensors has been greatly increased due to the spread of digital cameras and mobile phones equipped with cameras. Color filters are used as key devices for these displays and optical elements, and further demands for higher sensitivity and miniaturization are increasing. Such a color filter usually has three primary color patterns of red (R), green (G), and blue (B), and serves to decompose the transmitted light into three primary colors.

특허문헌 1에는, 염료 골격을 갖는 안료 분산제, 안료, 및 용매를 함유하고, 염료 골격을 갖는 안료 분산제의 최대 흡수 파장과 안료의 최대 흡수 파장의 차가 200nm 이하인 안료 분산액이 기재되어 있다.Patent Document 1 discloses a pigment dispersion containing a pigment dispersant having a dye skeleton, a pigment, and a solvent, wherein a difference between a maximum absorption wavelength of the pigment dispersant having a dye skeleton and a maximum absorption wavelength of the pigment is 200 nm or less.

특허문헌 2에는, 유기 색소 구조, 복소환 구조, 산성기, 염기성 질소 원자를 갖는 기, 유레아기, 유레테인기, 배위성 산소 원자를 갖는 기, 탄소수 4 이상의 탄화 수소기, 알콕시실릴기, 에폭시기, 아이소사이아네이트기, 및 수산기로부터 선택되는 부위를 적어도 1종 포함하는 1가의 유기기를 갖는 고분자 화합물이 기재되어 있다.In Patent Document 2, there is disclosed an organic dye structure, a heterocyclic structure, an acidic group, a group having a basic nitrogen atom, a urea group, a urethane group, a group having a radial oxygen atom, a hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms, an alkoxysilyl group, , An isocyanate group, and a hydroxyl group is described in JP-A-2001-348209.

특허문헌 1: 일본 공개특허공보 2011-118060호Patent Document 1: Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2011-118060 특허문헌 2: 일본 공개특허공보 2007-277514호Patent Document 2: JP-A-2007-277514

다양한 분산제를 이용한 착색 조성물이 검토되고 있지만, 최근 컬러 필터 등에 이용하는 착색 조성물에 있어서는, 탈색성의 추가적인 개선이 요구되고 있다.Coloring compositions using various dispersants have been studied. However, recently, coloring compositions used for color filters and the like are required to be further improved in decoloring properties.

본 발명은 이러한 상황을 감안하여 이루어진 것이며, 내탈색성이 높은 컬러 필터 등을 제공하기 위한 안료 분산액, 상기 안료 분산액을 이용한 착색 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 안료 분산액의 제조 방법, 경화막, 컬러 필터, 컬러 필터의 제조 방법, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치 및 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a pigment dispersion for providing a color filter or the like having high discoloration resistance, and a coloring composition using the pigment dispersion. It is also an object of the present invention to provide a method of producing a pigment dispersion, a cured film, a color filter, a method of manufacturing a color filter, a solid-state image pickup device, an image display device and a composition.

본 발명자들은 상세하게 검토한 결과, 소정의 색소 구조를 갖는 분산제를 이용함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하여, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.The inventors of the present invention have studied in detail and found that the above problems can be solved by using a dispersant having a predetermined dye structure, and have completed the present invention.

구체적으로는, 하기 수단 <1>, <17> 또는 <18>에 의하여, 바람직하게는 <2> 내지 <16>에 의하여, 상기 과제는 해결되었다.More specifically, the above problems are solved by the following means <1>, <17> or <18>, preferably by <2> to <16>.

<1> 색소 구조를 갖는 분산제, 안료, 및 용매를 함유하는 안료 분산액으로서,<1> A pigment dispersion containing a dispersant having a pigment structure, a pigment, and a solvent,

색소 구조를 갖는 분산제가 트라이아릴메테인 색소, 잔텐 색소, 사이아닌 색소 및 스쿠아릴륨 색소로부터 선택되는 색소 구조를 갖고,Wherein the dispersing agent having a dye structure has a dye structure selected from a triarylmethane dye, a xanthine dye, a cyanine dye and a squarylium dye,

색소 구조를 갖는 분산제는, 색소 구조를 동일 분자 내에 2개 이상 갖는 색소 다량체이며, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 하기 식 (Aλ)로 나타나는 비흡광도가 5 이상인, 안료 분산액;A dispersing agent having a pigment structure is a pigment multimer having two or more pigment structures in the same molecule and has a specific absorption of at least 5 represented by the following formula (A?) At a maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm;

E=A/(c×l) …(Aλ)E = A / (cxl) ... (A?)

식 (Aλ) 중, E는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 비흡광도를 나타내고,In the formula (A?), E represents a non-absorbance at a maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,

A는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 흡광도를 나타내며,A represents the absorbance at the maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,

l은, 단위가 cm로 나타나는 셀 길이를 나타내고,l represents the cell length in cm,

c는, 단위가 mg/ml로 나타나는, 용액 중의 색소 구조를 갖는 분산제의 농도를 나타낸다.c represents the concentration of the dispersant having a pigment structure in the solution, in which the unit is expressed in mg / ml.

<2> 색소 구조를 갖는 분산제의 색소 구조가 음이온 부위를 포함하고, 음이온 부위가, 설폰산 음이온, 카복실산 음이온, 테트라아릴보레이트 음이온, BF4 -, PF6 -, SbF6 -, 하기 일반식 (A1)로 나타나는 구조를 포함하는 기, 및 하기 일반식 (A2)로 나타나는 구조를 포함하는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인, <1>에 기재된 안료 분산액;<2> The dye structure of the dispersant having a dye structure included an anionic portion and the anion portion is, sulfonic acid anion, carboxylic acid anion, tetra aryl anion, BF 4 -, PF 6 - , SbF 6 - to the general formula ( A pigment dispersion liquid according to < 1 &gt;, wherein the pigment dispersion is at least one selected from the group consisting of a group including a structure represented by the formula (A1) and a group including a structure represented by the following formula (A2);

일반식 (A1)In formula (A1)

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112016121945081-pct00001
Figure 112016121945081-pct00001

일반식 (A1) 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로 -SO2- 또는 -CO-를 나타낸다.In the general formula (A1), R 1 and R 2 each independently represent -SO 2 - or -CO-.

일반식 (A2)In general formula (A2)

[화학식 2](2)

Figure 112016121945081-pct00002
Figure 112016121945081-pct00002

일반식 (A2) 중, R3은, -SO2- 또는 -CO-를 나타낸다; R4 및 R5는 각각 독립적으로 -SO2-, -CO- 또는 -CN을 나타낸다.In the general formula (A2), R 3 represents -SO 2 - or -CO-; R 4 and R 5 each independently represent -SO 2 -, -CO- or -CN.

<3> 색소 구조를 갖는 분산제 100질량부에 대하여, 안료를 80~150질량부 포함하는, <1> 또는 <2>에 기재된 안료 분산액.<3> The pigment dispersion according to <1> or <2>, wherein the pigment is contained in an amount of 80 to 150 parts by mass based on 100 parts by mass of the dispersant having a pigment structure.

<4> 색소 구조를 갖는 분산제의 중량 평균 분자량이 3000 이상, 50000 이하인, <1> 내지 <3> 중 어느 하나에 기재된 안료 분산액.<4> The pigment dispersion according to any one of <1> to <3>, wherein the dispersant having a dye structure has a weight average molecular weight of 3000 to 50000.

<5> 색소 구조를 갖는 분산제의 산가가 27mgKOH/g 이상, 200mgKOH/g 미만인, <1> 내지 <4> 중 어느 하나에 기재된 안료 분산액.<5> The pigment dispersion according to any one of <1> to <4>, wherein the dispersant having a dye structure has an acid value of 27 mgKOH / g or more and less than 200 mgKOH / g.

<6> <1> 내지 <5> 중 어느 하나에 기재된 안료 분산액 및 경화성 화합물을 함유하는, 착색 조성물.<6> A coloring composition comprising the pigment dispersion according to any one of <1> to <5> and a curable compound.

<7> 광중합 개시제를 더 함유하는, <6>에 기재된 착색 조성물.&Lt; 7 > The colored composition according to < 6 >, further comprising a photopolymerization initiator.

<8> 착색 조성물의 전체 고형분 중, 안료가 25질량% 이상이며, 색소 구조를 갖는 분산제와 안료의 합계가 60질량% 이상인, <6> 또는 <7>에 기재된 착색 조성물.<8> The coloring composition according to <6> or <7>, wherein the total solid content of the coloring composition is 25% by mass or more and the sum of the dispersing agent having a pigment structure and the pigment is 60% by mass or more.

<9> 컬러 필터용인, <6> 내지 <8> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물.<9> The coloring composition according to any one of <6> to <8>, which is used for a color filter.

<10> <6> 내지 <9> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물을 경화하여 얻어진 경화막.&Lt; 10 > A cured film obtained by curing the coloring composition according to any one of < 6 > to < 9 >.

<11> <6> 내지 <9> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물을 이용하여 이루어지는 컬러 필터.<11> A color filter using the coloring composition according to any one of <6> to <9>.

<12> <6> 내지 <9> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물을 지지체 상에 적용하여 착색 조성물층을 형성하는 공정과, 착색 조성물층을 패턴 형상으로 노광하는 공정과, 노광한 착색 조성물층의 미노광부를 현상 제거하여 착색 패턴을 형성하는 공정을 포함하는 컬러 필터의 제조 방법.&Lt; 12 > A process for producing a colored composition, comprising the steps of applying a coloring composition according to any one of < 6 > to < 9 > onto a support to form a coloring composition layer; exposing the coloring composition layer in a pattern; And removing the unexposed portion to form a colored pattern.

<13> <6> 내지 <9> 중 어느 하나에 기재된 착색 조성물을 지지체 상에 적용하여 착색 조성물층을 형성하고, 경화하여 착색층을 형성하는 공정,&Lt; 13 > A process for producing a colored layer, comprising the steps of applying the coloring composition according to any one of < 6 > to < 9 >

착색층 상에 포토레지스트층을 형성하는 공정,A step of forming a photoresist layer on the colored layer,

포토레지스트층을 노광 및 현상함으로써 포토레지스트층을 패터닝하여 레지스트 패턴을 얻는 공정, 및A step of patterning the photoresist layer by exposure and development of the photoresist layer to obtain a resist pattern, and

레지스트 패턴을 에칭 마스크로 하여 착색층을 드라이 에칭하는 공정을 포함하는, 컬러 필터의 제조 방법.And dry etching the colored layer using the resist pattern as an etching mask.

<14> <11>에 기재된 컬러 필터, 또는 <12> 혹은 <13>에 기재된 컬러 필터의 제조 방법에 의하여 제조한 컬러 필터를 갖는 고체 촬상 소자.&Lt; 14 > A solid-state image pickup device having a color filter according to < 11 >, or a color filter manufactured by the method of < 13 >

<15> <11>에 기재된 컬러 필터, 또는 <12> 혹은 <13>에 기재된 컬러 필터의 제조 방법에 의하여 제조한 컬러 필터를 갖는 화상 표시 장치.<15> An image display device having a color filter according to <11>, or a color filter manufactured by a manufacturing method of a color filter according to <12> or <13>.

<16> 색소 구조를 갖는 분산제의 존재하에서, 안료를 분산시키는 공정을 포함하며,<16> A method for producing a pigment, comprising the step of dispersing a pigment in the presence of a dispersant having a pigment structure,

색소 구조를 갖는 분산제가 트라이아릴메테인 색소, 잔텐 색소, 사이아닌 색소 및 스쿠아릴륨 색소로부터 선택되는 색소 구조를 갖고,Wherein the dispersing agent having a dye structure has a dye structure selected from a triarylmethane dye, a xanthine dye, a cyanine dye and a squarylium dye,

색소 구조를 갖는 분산제는, 색소 구조를 동일 분자 내에 2개 이상 갖는 색소 다량체이며, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 하기 식 (Aλ)로 나타나는 비흡광도가 5 이상인, 안료 분산액의 제조 방법;The dispersant having a pigment structure is a pigment multimer having two or more pigment structures in the same molecule and has a specific absorption of at least 5 represented by the following formula (A?) At a maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm: Way;

E=A/(c×l) …(Aλ)E = A / (cxl) ... (A?)

식 (Aλ) 중, E는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 비흡광도를 나타내고,In the formula (A?), E represents a non-absorbance at a maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,

A는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 흡광도를 나타내며,A represents the absorbance at the maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,

l은, 단위가 cm로 나타나는 셀 길이를 나타내고,l represents the cell length in cm,

c는, 단위가 mg/ml로 나타나는, 용액 중의 색소 구조를 갖는 분산제의 농도를 나타낸다.c represents the concentration of the dispersant having a pigment structure in the solution, in which the unit is expressed in mg / ml.

<17> 하기 일반식 (1)로 나타나는 수지, 안료 및 용매를 함유하는 조성물로서,<17> A composition containing a resin, a pigment and a solvent represented by the following general formula (1)

수지가 트라이아릴메테인 색소, 잔텐 색소, 사이아닌 색소 및 스쿠아릴륨 색소로부터 선택되는 색소 구조를 갖고,Wherein the resin has a dye structure selected from a triarylmethane dye, a xanthine dye, a cyanine dye and a squarylium dye,

수지가, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 하기 식 (Aλ)로 나타나는 비흡광도가 5 이상인, 조성물;Wherein the resin has a specific absorbance of 5 or more represented by the following formula (A?) At a maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm;

E=A/(c×l) …(Aλ)E = A / (cxl) ... (A?)

식 (Aλ) 중, E는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 비흡광도를 나타내고,In the formula (A?), E represents a non-absorbance at a maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,

A는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 흡광도를 나타내며,A represents the absorbance at the maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,

l은, 단위가 cm로 나타나는 셀 길이를 나타내고,l represents the cell length in cm,

c는, 단위가 mg/ml로 나타나는, 용액 중의 색소 구조를 갖는 수지의 농도를 나타낸다;c represents the concentration of the resin having a pigment structure in the solution, in which the unit is expressed in mg / ml;

일반식 (1)In general formula (1)

(D-R2)n-R1-(L1-P)m …(1)(DR 2 ) n -R 1 - (L 1 -P) m - (One)

일반식 (1) 중, R1은, (m+n)가의 연결기를 나타내고,In the general formula (1), R 1 represents a linking group of (m + n)

P는, 반복 단위를 갖는 1가의 치환기를 나타내며,P represents a monovalent substituent having a repeating unit,

D는, 색소 구조를 나타내고,D represents a dye structure,

R2 및 L1은, 각각 독립적으로 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내며,R 2 and L 1 each independently represent a single bond or a divalent linking group,

m은, 1~13의 정수를 나타내고,m represents an integer of 1 to 13,

m이 1인 경우, P는 반복 단위를 2개 이상 갖는 1가의 치환기를 나타내며,When m is 1, P represents a monovalent substituent having two or more repeating units,

m이 2 이상인 경우, 복수의 P는 서로 상이해도 되고, 복수의 P를 구성하는 반복 단위의 개수의 평균값이 2개 이상이며,When m is 2 or more, a plurality of P's may be different from each other, or an average value of the number of repeating units constituting a plurality of P's is 2 or more,

n은, 2~14의 정수를 나타내고,n represents an integer of 2 to 14,

n이 2 이상인 경우, 복수의 D는 서로 상이해도 되며,When n is 2 or more, a plurality of Ds may be different from each other,

m+n은, 2~15의 정수를 나타낸다.m + n represents an integer of 2 to 15;

<18> 하기 일반식 (A)로 나타나는 반복 단위를 포함하는 수지 100질량부에 대하여, 안료를 80~150질량부, 및 용매를 함유하는 조성물로서,<18> A resin composition comprising 80 to 150 parts by mass of a pigment and 100 parts by mass of a resin containing a solvent, based on 100 parts by mass of a resin containing a repeating unit represented by the following general formula (A)

수지가 트라이아릴메테인 색소, 잔텐 색소, 사이아닌 색소 및 스쿠아릴륨 색소로부터 선택되는 색소 구조를 갖고,Wherein the resin has a dye structure selected from a triarylmethane dye, a xanthine dye, a cyanine dye and a squarylium dye,

수지가, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 하기 식 (Aλ)로 나타나는 비흡광도가 5 이상인, 조성물;Wherein the resin has a specific absorbance of 5 or more represented by the following formula (A?) At a maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm;

E=A/(c×l) …(Aλ)E = A / (cxl) ... (A?)

식 (Aλ) 중, E는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 비흡광도를 나타내고,In the formula (A?), E represents a non-absorbance at a maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,

A는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 흡광도를 나타내며,A represents the absorbance at the maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,

l은, 단위가 cm로 나타나는 셀 길이를 나타내고,l represents the cell length in cm,

c는, 단위가 mg/ml로 나타나는, 용액 중의 색소 구조를 갖는 수지의 농도를 나타낸다; 일반식 (A)로 나타나는 반복 단위;c represents the concentration of the resin having a pigment structure in the solution, in which the unit is expressed in mg / ml; A repeating unit represented by the general formula (A);

[화학식 3](3)

Figure 112016121945081-pct00003
Figure 112016121945081-pct00003

일반식 (A) 중, X1은 중합에 의하여 형성되는 연결기를 나타내고, L1은 단결합 또는 2가의 연결기를 나타낸다. DyeI은 색소 구조를 나타낸다.In the general formula (A), X 1 represents a linking group formed by polymerization, and L 1 represents a single bond or a divalent linking group. DyeI represents the pigment structure.

본 발명에 의하면, 내탈색성이 높은 컬러 필터 등을 제공하기 위한 안료 분산액, 상기 안료 분산액을 이용한 착색 조성물을 제공 가능하게 되었다. 또, 안료 분산액의 제조 방법, 경화막, 컬러 필터, 컬러 필터의 제조 방법, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치 및 조성물을 제공 가능하게 되었다.INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a pigment dispersion for providing a color filter or the like having a high discoloration resistance, and a coloring composition using the pigment dispersion. It has also become possible to provide a method for producing a pigment dispersion, a cured film, a color filter, a method for producing a color filter, a solid-state image pickup device, an image display device and a composition.

이하에 있어서, 본 발명의 내용에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail.

본 명세서에 있어서의 기(원자단)의 표기에 있어서, 치환 및 무치환을 기재하지 않은 표기는, 치환기를 갖지 않는 기(원자단)와 함께 치환기를 갖는 기(원자단)도 포함하는 것이다. 예를 들면, "알킬기"란, 치환기를 갖지 않는 알킬기(무치환 알킬기)뿐만 아니라, 치환기를 갖는 알킬기(치환 알킬기)도 포함하는 것이다.In the notation of the group (atomic group) in the present specification, the notation in which substitution and non-substitution are not described includes a group (atomic group) having a substituent group together with a group (atomic group) having no substituent. For example, the "alkyl group" includes not only an alkyl group having no substituent (an unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).

본 명세서 중에 있어서의 "활성광선" 또는 "방사선"이란, 예를 들면 수은등의 휘선 스펙트럼, 엑시머 레이저로 대표되는 원자외선, 극자외선(EUV(Extreme ultraviolet)광), X선, 전자선 등을 의미한다. 또, 본 발명에 있어서 광이란, 활성광선 또는 방사선을 의미한다. 본 명세서 중에 있어서의 "노광"이란, 특별히 설명하지 않는 한, 수은등, 엑시머 레이저로 대표되는 원자외선, X선, EUV광 등에 의한 노광뿐만 아니라, 전자선, 이온빔 등의 입자선에 의한 묘화도 노광에 포함시킨다.The term "actinic ray" or "radiation " in the present specification means, for example, a line spectrum of a mercury lamp, far ultraviolet ray, extreme ultraviolet ray (EUV light) represented by an excimer laser, . In the present invention, light means an actinic ray or radiation. The term "exposure" in this specification refers to not only exposure by deep ultraviolet rays such as mercury lamps and excimer lasers, X-rays, EUV light, etc., but also imaging by particle beams such as electron beams and ion beams, .

본 명세서에 있어서 "~"를 이용하여 나타나는 수치 범위는, "~"의 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 범위를 의미한다.In the present specification, the numerical range indicated by using "~ " means a range including numerical values written before and after" ~ "as a lower limit value and an upper limit value.

본 명세서에 있어서, 전체 고형분이란, 착색 조성물의 전체 조성으로부터 용제를 제외한 성분의 총 질량을 말한다. 본 발명에 있어서의 고형분 및 농도는, 25℃에 있어서의 것을 말한다.In the present specification, the total solid content refers to the total mass of the components excluding the solvent from the total composition of the coloring composition. The solid content and concentration in the present invention refer to those at 25 占 폚.

본 명세서에 있어서, "(메트)아크릴레이트"는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트의 쌍방, 또는 어느 하나를 나타내고, "(메트)아크릴"은 아크릴 및 메타크릴의 쌍방, 또는 어느 하나를 나타내며, "(메트)아크릴로일"은 아크릴로일 및 메타크릴로일의 쌍방, 또는 어느 하나를 나타낸다.As used herein, the term " (meth) acrylate "refers to both or either of acrylate and methacrylate, and" Methacryloyl "refers to both acryloyl and methacryloyl, or either.

본 명세서에 있어서, "단량체"와 "모노머"는 동의이다. 본 명세서에 있어서의 단량체는, 올리고머 및 폴리머와 구별되어, 중량 평균 분자량이 2,000 이하인 화합물을 말한다. 본 명세서에 있어서, 중합성 화합물이란, 중합성 관능기를 갖는 화합물을 말하며, 단량체여도 되고, 폴리머여도 된다. 중합성 관능기란, 중합 반응에 관여하는 기를 말한다.As used herein, "monomer" and "monomer" are synonyms. The monomers in the present specification are distinguished from oligomers and polymers and refer to compounds having a weight average molecular weight of 2,000 or less. In the present specification, the polymerizable compound means a compound having a polymerizable functional group, and may be a monomer or a polymer. The polymerizable functional group refers to a group involved in the polymerization reaction.

본 명세서에 있어서, 화학식 중의 Me는 메틸기를, Et는 에틸기를, Pr은 프로필기를, Bu는 뷰틸기를, Ph는 페닐기를 각각 나타낸다.In the present specification, Me in the formula represents a methyl group, Et represents an ethyl group, Pr indicates a propyl group, Bu indicates a butyl group, and Ph indicates a phenyl group.

본 명세서에 있어서 "공정"이라는 말은, 독립된 공정뿐만 아니라, 다른 공정과 명확하게 구별할 수 없는 경우이더라도 그 공정의 소기의 작용이 달성되면, 본 용어에 포함된다.In the present specification, the term " process "is included in this term, not only in the independent process but also in the case where the desired action of the process is achieved even if it can not be clearly distinguished from other processes.

본 명세서에 있어서, 중량 평균 분자량 및 수평균 분자량은 GPC(Gel Permeation Chromatography) 측정에 의한 폴리스타이렌 환산값으로서 정의된다. 본 명세서에 있어서, 중량 평균 분자량(Mw) 및 수평균 분자량(Mn)은, 예를 들면 HLC-8220(도소제)을 이용하여, 칼럼으로서 TSKgel Super AWM-H(도소제, 6.0mmID×15.0cm)를, 용리액으로서 10mmol/L 리튬 브로마이드 NMP(N-메틸피롤리딘온) 용액을 이용함으로써 구할 수 있다.In the present specification, the weight average molecular weight and the number average molecular weight are defined as polystyrene equivalent values measured by Gel Permeation Chromatography (GPC). In the present specification, the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) can be measured by using TSKgel Super AWM-H (a plasticizer, 6.0 mm ID x 15.0 cm ) Can be obtained by using a 10 mmol / L lithium bromide NMP (N-methylpyrrolidinone) solution as an eluent.

<안료 분산액><Pigment dispersion>

본 발명의 안료 분산액은, 색소 구조를 갖는 분산제, 안료, 및 용매를 함유하는 안료 분산액으로서, 색소 구조를 갖는 분산제가 트라이아릴메테인 색소, 잔텐 색소, 사이아닌 색소 및 스쿠아릴륨 색소로부터 선택되는 색소 구조를 갖고, 색소 구조를 갖는 분산제는, 색소 구조를 동일 분자 내에 2개 이상 갖는 색소 다량체이며, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 하기 식 (Aλ)로 나타나는 비흡광도가 5 이상이다.The pigment dispersion of the present invention is a pigment dispersion containing a dispersant having a pigment structure, a pigment and a solvent, wherein the dispersant having a pigment structure is selected from a triarylmethane dye, a xanthine dye, a cyanine dye and a squarylium dye The dispersant having a pigment structure and having a pigment structure is a pigment-like polymer having two or more pigment structures in the same molecule, and has a specific absorption of at least 5 (represented by the following formula (A?) At a maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm to be.

E=A/(c×l) …(Aλ)E = A / (cxl) ... (A?)

식 (Aλ) 중, E는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 비흡광도를 나타내고,In the formula (A?), E represents a non-absorbance at a maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,

A는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 흡광도를 나타내며,A represents the absorbance at the maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,

l은, 단위가 cm로 나타나는 셀 길이를 나타내고,l represents the cell length in cm,

c는, 단위가 mg/ml로 나타나는, 용액 중의 색소 구조를 갖는 분산제의 농도를 나타낸다.c represents the concentration of the dispersant having a pigment structure in the solution, in which the unit is expressed in mg / ml.

여기에서, 셀 길이란, 흡광도를 측정할 때에 이용하는 셀의 길이를 말한다.Here, the cell length refers to the length of a cell used for measuring the absorbance.

본 발명에 있어서의 "색소 구조를 갖는 분산제"란, 색소 구조를 동일 분자 내에 2개 이상 갖는 색소 다량체이다. 색소 다량체가 분산제로서 유효한 이유는 확실하지 않지만, 색소 다량체의 2개 이상의 색소 구조 부위가 안료에 흡착함으로써, 안료 분산 프로세스에 있어서 분산 진행을 돕고 있다고 생각된다.The "dispersant having a pigment structure" in the present invention is a pigment multimer having two or more pigment structures in the same molecule. The reason why the pigment multimer is effective as a dispersant is not clear, but it is considered that two or more pigment structure sites of the pigment multimer are adsorbed to the pigment, thereby facilitating dispersion progress in the pigment dispersion process.

색소 구조를 갖는 분산제가, 동일 분자 내에 갖는 색소 구조의 수는, 2개 이상이며, 2~100개가 바람직하고, 2~50개가 보다 바람직하며, 2~20개가 더 바람직하다.The number of pigment structures of the dispersant having a pigment structure in the same molecule is 2 or more, preferably 2 to 100, more preferably 2 to 50, and more preferably 2 to 20.

상기 구성으로 함으로써, 탈색을 억제할 수 있다. 이와 같은 효과가 얻어지는 이유에 대해서는, 아직 명확하지는 않지만, 상기 분산제를 안료와 병용함으로써, 분산제의 색소 부위에 안료가 흡착하기 쉬워져, 탈색성을 억제할 수 있다.With the above configuration, decolorization can be suppressed. The reason why such an effect can be obtained is not clarified yet, but when the above-mentioned dispersant is used in combination with the pigment, the pigment is easily adsorbed to the pigment region of the dispersant, and the discoloration can be suppressed.

또, 상기 분산제와 안료를 보다 많이 함유시키는 것이 가능해져, 경화막으로 했을 때의 내광성을 보다 향상시킬 수 있다.Further, it is possible to further contain the dispersant and the pigment, and the light resistance of the cured film can be further improved.

또한, 상기 구성으로 함으로써, 착색 조성물로 했을 때의 현상 잔사를 보다 억제할 수 있어, 색 불균일(거칠기)을 보다 억제할 수 있다.Further, with the above-described constitution, the development residue when the colored composition is formed can be further suppressed, and the color unevenness (roughness) can be further suppressed.

<<색소 구조를 갖는 분산제>><< Dispersing agent with pigment structure >>

<<<색소 구조>>><<< Pigment structure >>>

색소 구조를 갖는 분산제는, 트라이아릴메테인 색소, 잔텐 색소, 사이아닌 색소 및 스쿠아릴륨 색소로부터 선택되는 색소 구조를 갖는다.The dispersant having a pigment structure has a pigment structure selected from a triarylmethane dye, a xanthine dye, a cyanine dye and a squarylium dye.

이들 색소 구조 중에서도, 트라이아릴메테인 색소 및 잔텐 색소가 더 바람직하다.Among these dye structures, a triarylmethane dye and a xanthine dye are more preferable.

이하, 본 발명에서 바람직하게 이용되는 색소 구조에 대하여 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the dye structure preferably used in the present invention will be described in detail.

<<<<트라이아릴메테인 색소>>>><<<< Triaryl Methane Pigment >>>>

색소 구조의 양태의 하나는, 트라이아릴메테인 색소에 유래하는 부분 구조를 갖는 것이다. 트라이아릴메테인 색소로서는, 하기 식 (TP)로 나타나는 구조가 예시된다.One mode of the dye structure is one having a partial structure derived from a triarylmethane dye. As the triarylmethane dye, a structure represented by the following formula (TP) is exemplified.

식 (TP)Equation (TP)

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure 112016121945081-pct00004
Figure 112016121945081-pct00004

식 (TP) 중, Rtp1~Rtp4는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다. Rtp5는, 수소 원자, 알킬기, 아릴기 또는 NRtp9Rtp10(Rtp9 및 Rtp10은 수소 원자, 알킬기 또는 아릴기를 나타냄)을 나타낸다. Rtp6, Rtp7 및 Rtp8은, 치환기를 나타낸다. a, b 및 c는, 0~4의 정수를 나타낸다. a, b 및 c가 2 이상인 경우, Rtp6, Rtp7 및 Rtp8은, 각각 연결하여 환을 형성해도 된다. X-는 음이온 구조를 나타낸다. X-가 존재하지 않는 경우는, Rtp1~Rtp7 중 적어도 하나가 음이온을 포함한다.In the formula (TP), Rtp 1 to Rtp 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. Rtp 5 is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or NRtp 9 Rtp 10 shows the (Rtp 9 and Rtp 10 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group). Rtp 6 , Rtp 7 and Rtp 8 represent a substituent. a, b and c represent an integer of 0 to 4; When a, b and c are two or more, Rtp 6 , Rtp 7 and Rtp 8 may be connected to form a ring. X - represents an anionic structure. When X - is not present, at least one of Rtp 1 to Rtp 7 contains an anion.

식 (TP) 중, Rtp1~Rtp10 중 어느 하나를 통하여, 분산제의 다른 부위(바람직하게는, 후술하는 일반식 (1)의 R2 또는 일반식 (A)의 L1)와 결합하고 있는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 Rtp5를 통하여, 분산제의 다른 부위와 결합하고 있다.Is bonded to another site of the dispersant (preferably, R 2 in the general formula (1) or L 1 in the general formula (A)) through any one of Rtp 1 to Rtp 10 in the formula (TP) , And more preferably through Rtp 5, to other parts of the dispersing agent.

Rtp1~Rtp6으로서, 수소 원자, 탄소수 1~5의 직쇄 또는 분기의 알킬기 및 페닐기가 바람직하다. Rtp5는, 수소 원자 또는 NRtp9Rtp10이 바람직하고, NRtp9Rtp10이 특히 바람직하다. Rtp9 및 Rtp10은, 수소 원자, 탄소수 1~5의 직쇄 혹은 분기의 알킬기 또는 페닐기가 바람직하다. Rtp6, Rtp7 및 Rtp8이 나타내는 치환기는, 후술하는 치환기군 A의 항에서 예로 든 치환기를 이용할 수 있지만, 특히, 탄소수 1~5의 직쇄 혹은 분기의 알킬기, 탄소수 1~5의 알켄일기, 탄소수 6~15의 아릴기, 카복실기 또는 설포기가 바람직하고, 탄소수 1~5의 직쇄 혹은 분기의 알킬기, 탄소수 1~5의 알켄일기, 페닐기 또는 카복실기가 더 바람직하다. 특히, Rtp6, Rtp8은, 탄소수 1~5의 알킬기가 바람직하고, Rtp7은, 알켄일기(특히 인접한 2개의 알켄일기가 연결된 페닐기가 바람직함), 페닐기 또는 카복실기가 바람직하다.As Rtp 1 to Rtp 6 , a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and a phenyl group are preferable. Rtp 5 is a hydrogen atom or NRtp 9 Rtp 10 are preferred, NRtp 9 Rtp 10 is particularly preferred. Rtp 9 and Rtp 10 are preferably a hydrogen atom, a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group. The substituents represented by Rtp 6 , Rtp 7 and Rtp 8 may be substituents exemplified in Substituent Group A to be described later. In particular, the substituent represented by Rtp 6 , Rtp 7 and Rtp 8 may be a straight or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 5 carbon atoms, An aryl group having 6 to 15 carbon atoms, a carboxyl group or a sulfo group is preferable, and a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 5 carbon atoms, a phenyl group or a carboxyl group is more preferable. In particular, Rtp 6 and Rtp 8 are preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and Rtp 7 is preferably an alkenyl group (particularly preferably a phenyl group to which two adjacent alkenyl groups are connected), a phenyl group or a carboxyl group.

a, b 또는 c는, 각각 독립적으로 0~4의 정수를 나타낸다. 특히 a 및 c는, 각각 0 또는 1이 바람직하고, 0이 보다 바람직하다. b는 0~2의 정수가 바람직하고, 0 또는 2가 보다 바람직하다.a, b, or c each independently represent an integer of 0 to 4; In particular, a and c are each preferably 0 or 1, and more preferably 0. b is preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 2.

하기에 식 (TP)로 나타나는 화합물의 구체예를 나타내지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다. 하기 구체예에 있어서, X-는 음이온을 나타낸다.Specific examples of the compound represented by the formula (TP) are shown below, but the present invention is not limited thereto. In the following specific examples, X - represents an anion.

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure 112016121945081-pct00005
Figure 112016121945081-pct00005

[화학식 6][Chemical Formula 6]

Figure 112016121945081-pct00006
Figure 112016121945081-pct00006

[화학식 7](7)

Figure 112016121945081-pct00007
Figure 112016121945081-pct00007

<<<<잔텐 색소>>>><<<< xanthan pigment >>>>

잔텐 색소로서는, 하기 식 (J)로 나타나는 잔텐 화합물에 유래하는 부분 구조를, 색소 구조로서 갖는 것이 예시된다.As the xanthene dye, there is exemplified a dye having a partial structure derived from a xanthene compound represented by the following formula (J) as a dye structure.

[화학식 8][Chemical Formula 8]

Figure 112016121945081-pct00008
Figure 112016121945081-pct00008

식 (J) 중, R81, R82, R83 및 R84는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 1가의 치환기를 나타내고, R85는 각각 독립적으로 1가의 치환기를 나타내며, m은 0~5의 정수를 나타낸다. X-는, 음이온 부위를 나타낸다. X-가 존재하지 않는 경우는, R81~R85 중 적어도 하나가 음이온을 포함한다. 식 (J) 중, R81, R82, R83 및 R84 중 어느 하나를 통하여, 분산제의 다른 부위(바람직하게는, 후술하는 일반식 (1)의 R2 또는 일반식 (A)의 L1)와 결합하고 있는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 R85를 통하여, 분산제의 다른 부위와 결합하고 있다.In the formula (J), R 81 , R 82 , R 83 and R 84 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent, R 85 each independently represents a monovalent substituent, and m represents an integer of 0 to 5 . X - represents an anion site. When X &lt; - & gt ; is absent, at least one of R 81 to R 85 includes an anion. (R 2 in the general formula (1) or L in the general formula (A)) of the dispersing agent through any one of R 81 , R 82 , R 83 and R 84 in the formula (J) 1 ), and more preferably through R 85, to other parts of the dispersing agent.

식 (J)에 있어서의 R81~R85가 취할 수 있는 치환기는, 후술하는 치환기군 A의 항에서 예로 든 치환기와 동일하다.The substituent groups R 81 to R 85 in the formula (J) can take are the same as the substituents exemplified in the group of the substituent group A described later.

식 (J) 중 R81과 R82, R83과 R84, 및 m이 2 이상인 경우의 R85끼리는 각각 독립적으로 서로 결합하여 5원, 6원 혹은 7원의 포화환, 또는 5원, 6원 혹은 7원의 불포화환을 형성하고 있어도 된다. 형성되는 5원, 6원 또는 7원의 환이, 추가로 치환 가능한 기인 경우에는, R81~R85로 설명한 치환기로 치환되어 있어도 되고, 2개 이상의 치환기로 치환되어 있는 경우에는, 그들 치환기는 동일해도 되고 상이해도 된다.In the formula (J), R 81 and R 82 , R 83 and R 84 , and R 85 when m is 2 or more are bonded to each other independently to form a 5-membered, 6-membered or 7-membered ring, Or a 7-membered unsaturated ring may be formed. When the substituent is a 5-membered, 6-membered or 7-membered ring which may be further substituted, it may be substituted with a substituent described for R 81 to R 85. When the substituent is substituted by two or more substituents, May be different or different.

상기 식 (J) 중 R81과 R82, R83과 R84, 및 m이 2 이상인 경우의 R85끼리는 각각 독립적으로 서로 결합하여, 치환기를 갖지 않는 5원, 6원 및 7원의 포화환 또는 5원, 6원 및 7원의 불포화환을 형성하는 경우, 치환기를 갖지 않는 5원, 6원 및 7원의 포화환 또는 5원, 6원 및 7원의 불포화환으로서는, 예를 들면 피롤환, 퓨란환, 싸이오펜환, 피라졸환, 이미다졸환, 트라이아졸환, 옥사졸환, 싸이아졸환, 피롤리딘환, 피페리딘환, 사이클로펜텐환, 사이클로헥센환, 벤젠환, 피리딘환, 피라진환, 피리다진환을 들 수 있으며, 바람직하게는, 벤젠환, 피리딘환을 들 수 있다.In the formula (J), R 81 and R 82 , R 83 and R 84 , and R 85 when m is 2 or more are bonded to each other independently to form a 5-membered, 6-membered and 7-membered ring Or a 5-membered, 6-membered or 7-membered unsaturated ring having 5-membered, 6-membered or 7-membered unsaturated rings, Pyrrole ring, furan ring, thiophen ring, pyrazole ring, imidazole ring, triazole ring, oxazole ring, thiazole ring, pyrrolidine ring, piperidine ring, cyclopentene ring, cyclohexane ring, A cyclopentadienyl group, a cyclopentadienyl group, a cyclopentadienyl group, and a pyridazin ring group.

특히, R82 및 R83은 수소 원자 또는 치환 또는 무치환의 알킬기이며, R81 및 R84는 치환 또는 무치환의 알킬기 또는 페닐기인 것이 바람직하다. 또, R85는 할로젠 원자, 탄소수 1~5의 직쇄 또는 분기의 알킬기, 설포기, 설폰아마이드기, 카복실기, 아마이드기인 것이 바람직하고, 설포기, 설폰아마이드기, 카복실기, 아마이드기인 것이 더 바람직하다. R85는 잔텐환과 연결된 탄소의 인접부에 결합하는 것이 바람직하다. R81 및 R84의 페닐기가 갖는 치환기는, 수소 원자, 할로젠 원자, 탄소수 1~5의 직쇄 또는 분기의 알킬기, 설포기, 설폰아마이드기, 카복실기인 것이 특히 바람직하다.In particular, it is preferable that R 82 and R 83 are a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, and R 81 and R 84 are a substituted or unsubstituted alkyl group or a phenyl group. R 85 is preferably a halogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a sulfo group, a sulfonamido group, a carboxyl group or an amido group, and more preferably a sulfo group, a sulfonamido group, a carboxyl group or an amido group desirable. It is preferred that R 85 is bonded to the adjacent portion of the carbon linked to the residual ring. The substituent of the phenyl group of R 81 and R 84 is particularly preferably a hydrogen atom, a halogen atom, a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a sulfo group, a sulfonamido group or a carboxyl group.

식 (J)로 나타나는 잔텐 골격을 갖는 화합물은, 문헌에 기재된 방법으로 합성할 수 있다. 구체적으로는, 테트라헤드론 레터스, 2003년, vol. 44, No. 23, 4355~4360페이지, 테트라헤드론, 2005년, vol. 61, No. 12, 3097~3106페이지 등에 기재된 방법을 적용할 수 있다.The compound having the xanthane skeleton represented by the formula (J) can be synthesized by a method described in the literature. Specifically, Tetrahedron Letters, 2003, vol. 44, No. 23, pp. 4355-4360, Tetrahedron, 2005, vol. 61, No. 12, pp. 3097-3106, and the like can be applied.

X-가, 음이온을 나타내는 경우, 후술하는 음이온 부위가 별개 분자인 경우의 기재를 참조할 수 있다. 또, X-가 존재하지 않고, R81, R82, R83 및 R84 중 적어도 하나가 음이온을 포함하는 경우, 음이온 부위가 동일 반복 단위 내에 있는 경우의 기재를 참조할 수 있다.When X - represents an anion, reference may be made to the description of the case where the anion site described later is a different molecule. When X - is absent and at least one of R 81 , R 82 , R 83 and R 84 contains an anion, reference may be made to the description of the case where the anion site is present in the same repeating unit.

이하, 식 (J)로 나타나는 화합물의 구체적인 양태(제1 양태, 제2 양태)에 대하여 설명한다.Hereinafter, specific embodiments (first and second aspects) of the compound represented by the formula (J) will be described.

(식 (J)로 나타나는 화합물의 제1 양태)(The first embodiment of the compound represented by the formula (J)

식 (J)로 나타나는 화합물은, R81 및 R83 중 한쪽이 하기 일반식 (2)로 나타나는 기이며, R81 및 R83 중 다른 한쪽이 수소 원자, 하기 일반식 (2)로 나타나는 기 또는 일반식 (2)로 나타나는 기 이외의 아릴기, 알킬기를 나타내도 된다. 또, R82 및 R84는 각각 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 또는 아릴기를 나타내도 된다.The compound represented by the formula (J) is a compound wherein one of R 81 and R 83 is a group represented by the following formula (2), the other of R 81 and R 83 is a hydrogen atom, a group represented by the following formula (2) May represent an aryl group or an alkyl group other than the group represented by the general formula (2). Each of R 82 and R 84 may independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group.

일반식 (2)In general formula (2)

[화학식 9][Chemical Formula 9]

Figure 112016121945081-pct00009
Figure 112016121945081-pct00009

일반식 (2) 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로 탄소수 3 이상의 알킬기, 아릴기, 또는 헤테로환기를 나타내고, X1~X3은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 1가의 치환기를 나타낸다. 일반식 (1)로 나타나는 색소 화합물은, 분자 내 및/또는 분자 외에 음이온 부위를 갖는다.In formula (2), R 1 and R 2 each independently represent an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group having at least 3 carbon atoms, and each of X 1 to X 3 independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent. The dye compound represented by the general formula (1) has an anion site in the molecule and / or in addition to the molecule.

일반식 (1) 중, R81 및 R83 중 한쪽은, 일반식 (2)로 나타나는 기이며, R81 및 R83 중 다른 한쪽은, 수소 원자, 하기 일반식 (2)로 나타나는 기 또는 일반식 (2)로 나타나는 기 이외의 아릴기, 알킬기를 나타내고, 일반식 (2)로 나타나는 기 또는 일반식 (2)로 나타나는 기 이외의 아릴기여도 된다. 또, R81 및 R83의 양쪽 모두가 일반식 (2)로 나타나는 기여도 된다. R81 및 R83의 양쪽 모두가 일반식 (2)로 나타나는 기인 경우, 2개의 일반식 (2)로 나타나는 기는 동일해도 되고 상이해도 된다.In the general formula (1), one of R 81 and R 83 is a group represented by the general formula (2), and the other of R 81 and R 83 is a hydrogen atom, a group represented by the following general formula (2) Represents an aryl group or alkyl group other than the group represented by the formula (2), and may be an aryl group other than the group represented by the formula (2) or the group represented by the formula (2). In addition, both of R 81 and R 83 may be a group represented by the general formula (2). When both R 81 and R 83 are groups represented by the general formula (2), the groups represented by the two general formula (2) may be the same or different.

일반식 (2) 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로 탄소수 3 이상의 알킬기, 아릴기, 또는 헤테로환기를 나타내며, 탄소수 3~12의 2급 또는 3급 알킬기여도 되고, 아이소프로필기여도 된다.In the general formula (2), R 1 and R 2 each independently represent an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group having at least 3 carbon atoms, a secondary or tertiary alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or an isopropyl group.

탄소수 3 이상의 알킬기로서는, 구체적으로는, 직쇄, 분기쇄, 또는 환상 중 어느 것이어도 되며, 탄소수 3~24여도 되고, 탄소수 3~18이어도 되며, 탄소수 3~12여도 된다. 구체적으로는, 예를 들면 프로필기, 아이소프로필기, 뷰틸기(예를 들면 t-뷰틸기), 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 2-에틸헥실기, 도데실기, 헥사데실기, 사이클로프로필기, 사이클로펜틸기, 사이클로헥실기, 1-노보닐기, 1-아다만틸기를 들 수 있으며, 프로필기, 아이소프로필기, 뷰틸기, t-뷰틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 2-에틸헥실기, 도데실기, 사이클로프로필기, 사이클로펜틸기, 사이클로헥실기여도 되고, 프로필기, 아이소프로필기, 뷰틸기(t-뷰틸기), 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 2-에틸헥실기여도 되고, 아이소프로필기, t-뷰틸기, 2-에틸헥실기여도 된다.Specific examples of the alkyl group having 3 or more carbon atoms include linear, branched or cyclic alkyl groups having 3 to 24 carbon atoms, 3 to 18 carbon atoms, and 3 to 12 carbon atoms. Specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group (e.g., t-butyl group), a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, , A cyclopropyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a 1-norbornyl group and a 1-adamantyl group, and examples thereof include a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a t- An ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group (t-butyl group), a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, An octyl group, a 2-ethylhexyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, and a 2-ethylhexyl group.

아릴기로서는 치환 혹은 무치환의 아릴기가 포함된다. 치환 혹은 무치환의 아릴기로서는, 탄소수 6~30의 아릴기여도 되고, 예를 들면 페닐기, 나프틸기를 들 수 있다. 치환기의 예로서는, 후술하는 치환기군 A와 동일하다.The aryl group includes a substituted or unsubstituted aryl group. The substituted or unsubstituted aryl group may be an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the substituent group are the same as the substituent group A described later.

헤테로환기의 헤테로환으로서는, 5원 또는 6원환이어도 되고, 그들은 또한 축환하고 있어도 되고, 축환하고 있지 않아도 된다. 또, 방향족 헤테로환이어도 되고 비방향족 헤테로환이어도 된다. 예를 들면, 피리딘환, 피라진환, 피리다진환, 퀴놀린환, 아이소퀴놀린환, 퀴나졸린환, 신놀린환, 프탈라진환, 퀴녹살린환, 피롤환, 인돌환, 퓨란환, 벤조퓨란환, 싸이오펜환, 벤조싸이오펜환, 피라졸환, 이미다졸환, 벤즈이미다졸환, 트라이아졸환, 옥사졸환, 벤즈옥사졸환, 싸이아졸환, 벤조싸이아졸환, 아이소싸이아졸환, 벤즈아이소싸이아졸환, 싸이아다이아졸환, 아이소옥사졸환, 벤즈아이소옥사졸환, 피롤리딘환, 피페리딘환, 피페라진환, 이미다졸리딘환, 싸이아졸린환 등을 들 수 있다. 그 중에서는 방향족 헤테로환이어도 되고, 피리딘환, 피라진환, 피리다진환, 피라졸환, 이미다졸환, 벤즈이미다졸환, 트라이아졸환, 벤즈옥사졸환, 싸이아졸환, 벤조싸이아졸환, 아이소싸이아졸환, 벤즈아이소싸이아졸환, 싸이아다이아졸환을 들 수 있으며, 피라졸환, 이미다졸환, 벤즈옥사졸환, 싸이아다이아졸환이어도 되고, 피라졸환, 싸이아다이아졸환(1,3,4-싸이아다이아졸환, 1,2,4-싸이아다이아졸환)이어도 된다. 그들은 치환기를 갖고 있어도 되고, 치환기의 예로서는, 후술하는 아릴기의 치환기와 동일하다.The hetero ring of the heterocyclic group may be a 5-membered or 6-membered ring, and they may be ring-opened or not ring-opened. It may be an aromatic hetero ring or a non-aromatic hetero ring. Examples of the substituent include pyridine ring, pyrazine ring, pyridazin ring, quinoline ring, isoquinoline ring, quinazoline ring, cinnoline ring, phthalazine ring, quinoxaline ring, pyrrole ring, indole ring, furan ring, A thiazole ring, a thiazole ring, a thiazole ring, a thiazole ring, a thiazole ring, a benzothiazole ring, an isothiazole ring, a benzoisothiazole ring, A thiazole ring, an isoxazole ring, a benzoisooxazole ring, a pyrrolidine ring, a piperidine ring, a piperazine ring, an imidazolidine ring, a thiazoline ring and the like. Among them, aromatic heterocyclic rings may be used, and examples thereof include pyridine ring, pyrazine ring, pyridazin ring, pyrazole ring, imidazole ring, benzimidazole ring, triazole ring, benzoxazole ring, thiazole ring, benzothiazole ring, A pyrazole ring, an imidazole ring, a benzoxazole ring, a thiadiazole ring, or a pyrazole ring, a thiadiazole ring (1,3,4-thiadiazole ring), a thiazole ring, Thiadiazole ring, 1,2,4-thiadiazole ring). They may have a substituent, and examples of the substituent are the same as those of the aryl group described later.

R1 및 R2는, 탄소수 3 이상의 알킬기여도 되고, 탄소수 3~12의 알킬기여도 된다.R 1 and R 2 may be an alkyl group having 3 or more carbon atoms and an alkyl group having 3 to 12 carbon atoms.

일반식 (2) 중, X1~X3은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 1가의 치환기를 나타낸다. 치환기로서는, 후술하는 치환기군 A가 예시된다. X1~X3은, 할로젠 원자, 알킬기, 하이드록실기, 알콕시기, 아실기, 아실옥시기, 알킬싸이오기, 설폰아마이드기, 설파모일기여도 된다.In the general formula (2), X 1 to X 3 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent. As the substituent, there is exemplified Substituent Group A described later. X 1 to X 3 may be a halogen atom, an alkyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, an acyl group, an acyloxy group, an alkylthio group, a sulfonamide group or a sulfamoyl group.

일반식 (2)로 나타나는 기 이외의 아릴기로서는, 페닐기를 들 수 있다. 페닐기는 치환기를 갖고 있어도 되고, 갖고 있지 않아도 된다. 치환기로서는, 후술하는 치환기군 A가 예시되며, 알킬기 또는 아릴기여도 된다.Examples of the aryl group other than the group represented by the general formula (2) include a phenyl group. The phenyl group may or may not have a substituent. As the substituent, a substituent group A described later is exemplified and may be an alkyl group or an aryl group.

R82 및 R84는 각각 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 또는 아릴기를 나타내며, 알킬기 및 아릴기는 치환기를 갖고 있어도 되고, 갖고 있지 않아도 된다.R 82 and R 84 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and the alkyl group and the aryl group may or may not have a substituent.

치환 또는 무치환의 알킬기는, 탄소 원자수가 1~30인 알킬기여도 된다. 치환기의 예로서는, 후술하는 치환기군 A와 동일한 것을 들 수 있다. 알킬기의 예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 아이소프로필기, 뷰틸기(t-뷰틸기), n-옥틸기, 2-에틸헥실기를 들 수 있다.The substituted or unsubstituted alkyl group may be an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms. Examples of the substituent include the same ones as the Substituent Group A described later. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group (t-butyl group), an n-octyl group and a 2-ethylhexyl group.

치환 혹은 무치환의 아릴기로서는, 탄소수 6~30의 아릴기여도 되고, 예를 들면 페닐기, 나프틸기를 들 수 있다. 치환기의 예로서는, 후술하는 치환기군 A와 동일하다.The substituted or unsubstituted aryl group may be an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the substituent group are the same as the substituent group A described later.

R82 및 R84는, 수소 원자 또는 알킬기여도 되고, 수소 원자여도 된다.R 82 and R 84 may be a hydrogen atom, an alkyl group, or a hydrogen atom.

(식 (J)로 나타나는 화합물의 제2 양태)(The second aspect of the compound represented by the formula (J)).

식 (J)로 나타나는 화합물은, R81 및 R83이 각각 독립적으로 지방족 탄화 수소기이며, R82 및 R84가 각각 독립적으로 방향족 탄화 수소기여도 된다.In the compound represented by the formula (J), R 81 and R 83 are each independently an aliphatic hydrocarbon group, and R 82 and R 84 each independently may be an aromatic hydrocarbon group.

R81 및 R83은 각각 독립적으로 지방족 탄화 수소기를 들 수 있으며, 탄소수 1~10의 알킬기여도 되고, 탄소수 1~5의 알킬기여도 되며, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 뷰틸기여도 되고, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, n-뷰틸기여도 된다. R81 및 R83은 상이해도 되지만, 동일해도 된다. R81 및 R83으로서의 알킬기는 치환기를 갖고 있어도 되지만, 치환기를 갖고 있지 않아도 된다.R 81 and R 83 are each independently an aliphatic hydrocarbon group and may be an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group, n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group. R 81 and R 83 may be the same or different, but may be the same. The alkyl group as R 81 and R 83 may have a substituent, but may not have a substituent.

R82 및 R84는 각각 독립적으로 방향족 탄화 수소기이며, 페닐기여도 된다. R82 및 R84로서의 방향족 탄화 수소기는, 치환기를 갖고 있어도 되고, 후술하는 치환기군 A로부터 선택되며, 탄소수 1~5의 알킬기여도 되고, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 뷰틸기여도 되며, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, n-뷰틸기여도 된다.R 82 and R 84 are each independently an aromatic hydrocarbon group and may be a phenyl group. The aromatic hydrocarbon group as R 82 and R 84 may have a substituent, may be selected from Substituent Group A described later, may be an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, may be a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group, n-propyl group, n-butyl group.

R81 및 R83과 R82 및 R84 중 적어도 하나가, 하기 일반식 (A1-1-2)로 나타나도 된다.At least one of R 81 and R 83 , R 82 and R 84 may be represented by the following general formula (A1-1-2).

일반식 (A1-1-2)In general formula (A1-1-2)

[화학식 10][Chemical formula 10]

Figure 112016121945081-pct00010
Figure 112016121945081-pct00010

일반식 (A1-1-2)에 있어서, R23~R25는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로젠 원자, 수산기, 알콕시기, 탄소수 1~12의 알킬기, 카보닐기, 카보닐아마이드기, 설폰일기, 설폰일아마이드기, 나이트로기, 아미노기, 아미노카보닐기, 아미노설폰일기, 설폰일이미드기 또는 카보닐이미드기를 나타내고, R22 및 R26은 각각 독립적으로 탄소수 1~5의 알킬기를 나타낸다.In the general formula (A1-1-2), R 23 to R 25 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a carbonyl group, a carbonylamido group, , A sulfonylamide group, a nitro group, an amino group, an aminocarbonyl group, an aminosulfonyl group, a sulfonylimide group or a carbonylimide group, and R 22 and R 26 each independently represent an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms .

일반식 (A1-1-2)에 있어서, R23~R25는, 수소 원자 또는 할로젠 원자여도 된다.In the general formula (A1-1-2), R 23 to R 25 may be a hydrogen atom or a halogen atom.

일반식 (A1-1-2)에 있어서, R22 및 R26은 각각 독립적으로 탄소수 1~5의 알킬기여도 된다. 탄소수 1~5의 알킬기는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 뷰틸기여도 되고, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, iso-프로필기, n-뷰틸기여도 된다.In the general formula (A1-1-2), R 22 and R 26 each independently represent an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. The alkyl group having 1 to 5 carbon atoms may be a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, or a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group or an n-butyl group.

R85는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로젠 원자, 알킬기, 아릴기, 카보닐기, 나이트로기, 아미노기, 알킬아미노기, 아릴아미노기, 또는 설폰일기여도 된다. 할로젠 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자가 예시되며, 불소 원자 또는 염소 원자여도 된다. 지방족 탄화 수소기는, 탄소수 1~10의 지방족 탄화 수소기여도 된다. 또, 지방족 탄화 수소기는, 알킬기, 알켄일기가 예시되며, 알킬기여도 된다. 방향족 탄화 수소기는, 아릴기여도 되고, 페닐기여도 된다.R 85 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a carbonyl group, a nitro group, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group or a sulfonyl group. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom, and may be a fluorine atom or a chlorine atom. The aliphatic hydrocarbon group may also be an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. The aliphatic hydrocarbon group is exemplified by an alkyl group and an alkenyl group, and may be an alkyl group. The aromatic hydrocarbon group may be an aryl group or a phenyl group.

이하에 잔텐 화합물의 구체예를 나타내지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다. 하기 구체예에 있어서, X-는, 음이온을 나타낸다. 또, 색소 구조 중 어느 하나의 수소 원자가, 폴리머 골격과 결합한다.Specific examples of the xanthene compound are shown below, but the present invention is not limited thereto. In the following specific examples, X - represents an anion. In addition, any one hydrogen atom of the dye structure bonds with the polymer skeleton.

또, 색소 구조 중, 양이온은, 비국재화하고 있기 때문에, 예를 들면 이하에 나타내는 바와 같이, 질소 원자 또는 잔텐환의 탄소 원자 상에 존재하고 있다.In the dye structure, the cations are not localized, and therefore, they exist on the carbon atom of the nitrogen atom or the nitrogen ring as shown below, for example.

[화학식 11](11)

Figure 112016121945081-pct00011
Figure 112016121945081-pct00011

[화학식 12][Chemical Formula 12]

Figure 112016121945081-pct00012
Figure 112016121945081-pct00012

[화학식 13][Chemical Formula 13]

Figure 112016121945081-pct00013
Figure 112016121945081-pct00013

[화학식 14][Chemical Formula 14]

Figure 112016121945081-pct00014
Figure 112016121945081-pct00014

[화학식 15][Chemical Formula 15]

Figure 112016121945081-pct00015
Figure 112016121945081-pct00015

[화학식 16][Chemical Formula 16]

Figure 112016121945081-pct00016
Figure 112016121945081-pct00016

<<<<사이아닌 색소>>>><<<< Cyanine color >>>>

사이아닌 색소는, 하기 일반식 (PM)으로 나타나는 화합물(사이아닌 화합물)에 유래하는 부분 구조가 바람직하다. 본 발명에 있어서 사이아닌 화합물이란, 분자 내에 사이아닌 골격을 포함하는 색소 부위를 갖는 화합물을 총칭하는 것이다.The cyanine dye is preferably a partial structure derived from a compound (cyanide compound) represented by the following general formula (PM). In the present invention, a cyanide compound refers to a compound having a dye site including a cyanide skeleton in a molecule.

[화학식 17][Chemical Formula 17]

Figure 112016121945081-pct00017
Figure 112016121945081-pct00017

일반식 (PM) 중, 환 Z1 및 환 Z2는 각각 독립적으로 치환기를 가져도 되는 복소환을 나타낸다. l은 0 이상 3 이하의 정수를 나타낸다. X-는 음이온을 나타낸다.In the general formula (PM), ring Z1 and ring Z2 each independently represent a heterocycle which may have a substituent. and l represents an integer of 0 or more and 3 or less. X - represents an anion.

일반식 (PM)의 바람직한 범위로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0077~0084를 참조할 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다. 특히, Z1, Z2는 각각 독립적으로 치환기를 갖는 함질소 복소환이 바람직하고, 치환기를 갖는 함질소 축합 복소환이 보다 바람직하며, 치환기를 갖는 인돌환이 보다 바람직하다. l은 1이 바람직하다.As a preferable range of the general formula (PM), for example, reference can be made to paragraphs 0077 to 0084 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-29760, the contents of which are incorporated herein by reference. In particular, Z1 and Z2 each independently represent a nitrogen-containing heterocycle having a substituent, more preferably a nitrogen-containing condensed heterocycle having a substituent, and more preferably an indole ring having a substituent. l is preferably 1.

또한, 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0077~0084에 기재된 사이아닌 색소의 구체예에 있어서, 사이아닌 색소 구조 중 어느 하나의 수소 원자를 통하여, 분산제의 다른 부위(바람직하게는, 후술하는 일반식 (1)의 R2 또는 일반식 (A)의 L1)와 결합하고 있는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 Z1 또는 Z2를 통하여, 분산제의 다른 부위와 결합하고 있다.Further, in the specific example of the cyanine dye described in paragraphs 0077 to 0084 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-29760, it is preferable to disperse the other part of the dispersant (preferably, It is preferably bonded to R 2 of formula (1) or L 1 of formula (A), more preferably to Z1 or Z2 to bind to another part of the dispersant.

이하에 사이아닌 색소의 구체예를 나타내지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the cyanine dye are shown below, but the present invention is not limited thereto.

[화학식 18][Chemical Formula 18]

Figure 112016121945081-pct00018
Figure 112016121945081-pct00018

<<<<스쿠아릴륨 색소>>>><<<< Squarylium pigment >>>>

스쿠아릴륨 색소로서는, 하기 일반식 (K)로 나타나는 화합물(스쿠아릴륨 화합물)에 유래하는 부분 구조가 바람직하다. 본 발명에 있어서 스쿠아릴륨 화합물이란, 분자 내에 스쿠아릴륨 골격을 포함하는 색소 부위를 갖는 화합물을 총칭하는 것이다.As the squarylium dye, a partial structure derived from a compound represented by the following general formula (K) (squarylium compound) is preferable. In the present invention, the term "squarylium compound" refers to a compound having a dye moiety including a squarylium skeleton in its molecule.

[화학식 19][Chemical Formula 19]

Figure 112016121945081-pct00019
Figure 112016121945081-pct00019

일반식 (K) 중, A 및 B는 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 헤테로환기를 나타낸다. 아릴기로서는, 바람직하게는 탄소수 6~48, 보다 바람직하게는 6~24의 아릴기이고, 예를 들면 페닐, 나프틸 등을 들 수 있다. 헤테로환기로서는 5원환 또는 6원환의 헤테로환기가 바람직하고, 예를 들면 피롤, 이미다졸, 피라조일, 피리딜, 피리미딜, 피리다질, 트라이아졸-1-일, 싸이엔일, 퓨릴, 싸이아다이아졸, 인돌일 등을 들 수 있으며, 인돌일이 바람직하다.In the general formula (K), A and B each independently represent an aryl group which may have a substituent or a heterocyclic group which may have a substituent. The aryl group is preferably an aryl group having 6 to 48 carbon atoms, more preferably 6 to 24 carbon atoms, and examples thereof include phenyl and naphthyl. The heterocyclic group is preferably a 5- or 6-membered heterocyclic group such as pyrrole, imidazole, pyrazolyl, pyridyl, pyrimidyl, pyridazyl, triazol-1-yl, thienyl, furyl, Indolyl, and the like, and indole is preferred.

일반식 (K)의 바람직한 범위로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0088~0106을 참조할 수 있으며, 이 내용은 본원 명세서에 원용된다.As a preferable range of the general formula (K), reference can be made, for example, to paragraphs 0088 to 0106 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-29760, which disclosure is incorporated herein by reference.

스쿠아릴륨 색소의 구체예로서는, 예를 들면 이하를 들 수 있다. 또, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0105를 참조할 수 있다. 또한, 스쿠아릴륨 색소의 구체예에 있어서, 스쿠아릴륨 색소 구조 중 어느 하나의 수소 원자를 통하여, 분산제의 다른 부위(바람직하게는, 후술하는 일반식 (1)의 R2 또는 일반식 (A)의 L1)와 결합하고 있는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 A 또는 B를 통하여, 분산제의 다른 부위와 결합하고 있다.Specific examples of the squarylium dye include, for example, the following. Further, for example, reference can be made to paragraph 0105 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-29760. Further, in a specific example of the squarylium dye, R 2 of the general formula (1) described below or a group represented by the general formula (A) ) is to be preferred, more preferably of bonded and L 1) and, combined with the other parts of the dispersing agent through the a or B.

[화학식 20][Chemical Formula 20]

Figure 112016121945081-pct00020
Figure 112016121945081-pct00020

본 발명에 이용되는 색소 구조를 갖는 분산제는, 색소 구조 중의 수소 원자가 하기 치환기군 A로부터 선택된 치환기에 의하여 치환되어 있어도 된다.In the dispersant having a pigment structure used in the present invention, the hydrogen atoms in the dye structure may be substituted with substituents selected from Substituent Group A below.

(치환기군 A)(Substituent group A)

치환기로서는, 할로젠 원자(예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자), 알킬기(바람직하게는 탄소수 1~48, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의, 직쇄, 분기쇄, 또는 환상의 알킬기이고, 예를 들면 메틸, 에틸, 프로필, 아이소프로필, 뷰틸기(바람직하게는, t-뷰틸기), 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 2-에틸헥실, 도데실, 헥사데실, 사이클로프로필, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 1-노보닐, 1-아다만틸), 알켄일기(바람직하게는 탄소수 2~48, 보다 바람직하게는 탄소수 2~18의 알켄일기이고, 예를 들면 바이닐, 알릴, 3-뷰텐-1-일), 알카인일기(바람직하게는 탄소수 2~20, 보다 바람직하게는 탄소수 2~12, 특히 바람직하게는 탄소수 2~8이며, 예를 들면 프로파길, 3-펜타인일 등을 들 수 있음), 아릴기(바람직하게는 탄소수 6~48, 보다 바람직하게는 탄소수 6~24의 아릴기이고, 예를 들면 페닐, 나프틸), 헤테로환기(바람직하게는 탄소수 1~32, 보다 바람직하게는 탄소수 1~18의 헤테로환기이고, 예를 들면 2-싸이엔일, 4-피리딜, 2-퓨릴, 2-피리미딘일, 1-피리딜, 2-벤조싸이아졸일, 1-이미다졸일, 1-피라졸일, 벤조트라이아졸-1-일), 실릴기(바람직하게는 탄소수 3~38, 보다 바람직하게는 탄소수 3~18의 실릴기이고, 예를 들면 트라이메틸실릴, 트라이에틸실릴, 트라이뷰틸실릴, t-뷰틸다이메틸실릴, t-헥실다이메틸실릴), 하이드록실기, 사이아노기, 나이트로기, 알콕시기(바람직하게는 탄소수 1~48, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 알콕시기이고, 예를 들면 메톡시, 에톡시, 1-뷰톡시, 2-뷰톡시, 아이소프로폭시, t-뷰톡시, 도데실옥시, 사이클로알킬옥시기이며, 예를 들면 사이클로펜틸옥시, 사이클로헥실옥시), 아릴옥시기(바람직하게는 탄소수 6~48, 보다 바람직하게는 탄소수 6~24의 아릴옥시기이고, 예를 들면 페녹시, 1-나프톡시), 헤테로환 옥시기(바람직하게는 탄소수 1~32, 보다 바람직하게는 탄소수 1~18의 헤테로환 옥시기이고, 예를 들면 1-페닐테트라졸-5-옥시, 2-테트라하이드로피란일옥시), 실릴옥시기(바람직하게는 탄소수 1~32, 보다 바람직하게는 탄소수 1~18의 실릴옥시기이고, 예를 들면 트라이메틸실릴옥시, t-뷰틸다이메틸실릴옥시, 다이페닐메틸실릴옥시), 아실옥시기(바람직하게는 탄소수 2~48, 보다 바람직하게는 탄소수 2~24의 아실옥시기이고, 예를 들면 아세톡시, 피발로일옥시, 벤조일옥시, 도데칸오일옥시), 알콕시카보닐옥시기(바람직하게는 탄소수 2~48, 보다 바람직하게는 탄소수 2~24의 알콕시카보닐옥시기이고, 예를 들면 에톡시카보닐옥시, t-뷰톡시카보닐옥시, 사이클로알킬옥시카보닐옥시기이며, 예를 들면 사이클로헥실옥시카보닐옥시), 아릴옥시카보닐옥시기(바람직하게는 탄소수 7~32, 보다 바람직하게는 탄소수 7~24의 아릴옥시카보닐옥시기이고, 예를 들면 페녹시카보닐옥시),Examples of the substituent include a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom), an alkyl group (preferably having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, An alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl (preferably t-butyl), pentyl, hexyl, heptyl, Cyclohexyl, 1-norbornyl, 1-adamantyl), an alkenyl group (preferably an alkenyl group having 2 to 48 carbon atoms, more preferably 2 to 18 carbon atoms such as vinyl, allyl, (Preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, particularly preferably 2 to 8 carbon atoms, such as propargyl, 3-pentanyl, , An aryl group (preferably an aryl group having 6 to 48 carbon atoms, more preferably a carbon number of 6 to 24, 2-thienyl, 4-pyridyl, 2-furyl, 2-thienyl, etc.), a heterocyclic group (preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably a heterocyclic group having 1 to 18 carbon atoms, (Preferably having 3 to 38 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, Is a silyl group having 3 to 18 carbon atoms such as trimethylsilyl, triethylsilyl, tributylsilyl, t-butyldimethylsilyl, t-hexyldimethylsilyl), a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group An alkoxy group (preferably having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, 1-butoxy, 2-butoxy, isopropoxy, t-butoxy, dodecyloxy, cycloalkyloxy groups such as cyclopentyloxy, cyclohexyloxy), aryloxy groups (preferably having 6 to 48 carbon atoms, More preferably an aryloxy group having 6 to 24 carbon atoms, such as phenoxy, 1-naphthoxy), a heterocyclic oxy group (preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably a heterocyclic group having 1 to 18 carbon atoms (Preferably 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 18 carbon atoms, such as a silyloxy group having 1 to 18 carbon atoms, such as 1-phenyltetrazole-5-oxy and 2-tetrahydropyranyloxy) (For example, trimethylsilyloxy, t-butyldimethylsilyloxy, diphenylmethylsilyloxy), an acyloxy group (preferably an acyloxy group having 2 to 48 carbon atoms, more preferably an acyloxy group having 2 to 24 carbon atoms , An alkoxycarbonyloxy group (preferably having 2 to 48 carbon atoms, more preferably an alkoxycarbonyloxy group having 2 to 24 carbon atoms, and examples of the alkoxy group having 3 to 12 carbon atoms, such as acetoxy, pivaloyloxy, benzoyloxy and dodecanoyloxy) For example, ethoxycarbonyloxy, t-butoxycarbonyloxy, cycloalkyloxycarbo (Preferably cyclohexyloxycarbonyloxy), an aryloxycarbonyloxy group (preferably an aryloxycarbonyloxy group having 7 to 32 carbon atoms, more preferably 7 to 24 carbon atoms, such as phenoxy Carbonyloxy),

카바모일옥시기(바람직하게는 탄소수 1~48, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 카바모일옥시기이고, 예를 들면 N,N-다이메틸카바모일옥시, N-뷰틸카바모일옥시, N-페닐카바모일옥시, N-에틸-N-페닐카바모일옥시), 설파모일옥시기(바람직하게는 탄소수 1~32, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 설파모일옥시기이고, 예를 들면 N,N-다이에틸설파모일옥시, N-프로필설파모일옥시), 알킬설폰일옥시기(바람직하게는 탄소수 1~38, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 알킬설폰일옥시기이고, 예를 들면 메틸설폰일옥시, 헥사데실설폰일옥시, 사이클로헥실설폰일옥시), 아릴설폰일옥시기(바람직하게는 탄소수 6~32, 보다 바람직하게는 탄소수 6~24의 아릴설폰일옥시기이고, 예를 들면 페닐설폰일옥시), 아실기(바람직하게는 탄소수 1~48, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 아실기이고, 예를 들면 폼일, 아세틸, 피발로일, 벤조일, 테트라데칸오일, 사이클로헥산오일), 알콕시카보닐기(바람직하게는 탄소수 2~48, 보다 바람직하게는 탄소수 2~24의 알콕시카보닐기이고, 예를 들면 메톡시카보닐, 에톡시카보닐, 옥타데실옥시카보닐, 사이클로헥실옥시카보닐, 2,6-다이-tert-뷰틸-4-메틸사이클로헥실옥시카보닐), 아릴옥시카보닐기(바람직하게는 탄소수 7~32, 보다 바람직하게는 탄소수 7~24의 아릴옥시카보닐기이고, 예를 들면 페녹시카보닐), 카바모일기(바람직하게는 탄소수 1~48, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 카바모일기이고, 예를 들면 카바모일, N,N-다이에틸카바모일, N-에틸-N-옥틸카바모일, N,N-다이뷰틸카바모일, N-프로필카바모일, N-페닐카바모일, N-메틸-N-페닐카바모일, N,N-다이사이클로헥실카바모일), 아미노기(바람직하게는 탄소수 32 이하, 보다 바람직하게는 탄소수 24 이하의 아미노기이고, 예를 들면 아미노, 메틸아미노, N,N-다이뷰틸아미노, 테트라데실아미노, 2-에틸헥실아미노, 사이클로헥실아미노), 아닐리노기(바람직하게는 탄소수 6~32, 보다 바람직하게는 6~24의 아닐리노기이고, 예를 들면 아닐리노, N-메틸아닐리노), 헤테로환 아미노기(바람직하게는 탄소수 1~32, 보다 바람직하게는 1~18의 헤테로환 아미노기이고, 예를 들면 4-피리딜아미노), 카본아마이드기(바람직하게는 탄소수 2~48, 보다 바람직하게는 2~24의 카본아마이드기이고, 예를 들면 아세트아마이드기, 벤즈아마이드기, 테트라데케인아마이드기, 피발로일아마이드기, 사이클로헥세인아마이드기), 유레이도기(바람직하게는 탄소수 1~32, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 유레이도기이고, 예를 들면 유레이도, N,N-다이메틸유레이도, N-페닐유레이도), 이미드기(바람직하게는 탄소수 36 이하, 보다 바람직하게는 탄소수 24 이하의 이미드기이고, 예를 들면 N-석신이미드기, N-프탈이미드기), 알콕시카보닐아미노기(바람직하게는 탄소수 2~48, 보다 바람직하게는 탄소수 2~24의 알콕시카보닐아미노기이고, 예를 들면 메톡시카보닐아미노, 에톡시카보닐아미노, t-뷰톡시카보닐아미노, 옥타데실옥시카보닐아미노, 사이클로헥실옥시카보닐아미노),A carbamoyloxy group (preferably a carbamoyloxy group having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as N, N-dimethylcarbamoyloxy, N-butylcarbamoyloxy, N-ethyl-N-phenylcarbamoyloxy), a sulfamoyloxy group (preferably a sulfamoyloxy group having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as N, N-diethyl Sulfamoyloxy, N-propylsulfamoyloxy), an alkylsulfonyloxy group (preferably an alkylsulfonyloxy group having 1 to 38 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as methylsulfonyloxy, hexadecyl (Preferably an arylsulfonyloxy group having 6 to 32 carbon atoms, more preferably 6 to 24 carbon atoms, such as phenylsulfonyloxy), an arylsulfonyloxy group (e.g., phenylsulfonyloxy), an arylsulfonyloxy group (Preferably an acyl group having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms , An alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 48 carbon atoms, more preferably having 2 to 24 carbon atoms, and examples of such an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, such as formyl, acetyl, pivaloyl, benzoyl, tetradecanyl, cyclohexanoyl) For example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, octadecyloxycarbonyl, cyclohexyloxycarbonyl, 2,6-di-tert-butyl-4-methylcyclohexyloxycarbonyl), aryloxycarbonyl groups Is preferably an aryloxycarbonyl group having 7 to 32 carbon atoms, more preferably 7 to 24 carbon atoms, such as phenoxycarbonyl), a carbamoyl group (preferably having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 48 carbon atoms, N-diethylcarbamoyl, N, N-dibutylcarbamoyl, N-propylcarbamoyl, N-phenylcarbamoyl, Carbamoyl, N-methyl-N-phenylcarbamoyl, N, N-dicyclohexylcarbamoyl), an amino group More preferably an amino group having not more than 24 carbon atoms, such as amino, methylamino, N, N-dibutylamino, tetradecylamino, 2-ethylhexylamino, cyclohexylamino) Is an anilino group having 6 to 32 carbon atoms, more preferably 6 to 24 carbon atoms, such as anilino, N-methylanilino), a heterocyclic amino group (preferably having 1 to 32 carbon atoms, (For example, 4-pyridylamino), a carbonamido group (preferably a carbonamido group having 2 to 48 carbon atoms, more preferably 2 to 24 carbon atoms, such as an acetamido group, (Preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as a ureido group, for example, a ureido group, a ureido group, a thienyl group, N, N-dimethyl N-phenylureido), an imide group (preferably an imide group having not more than 36 carbon atoms, more preferably not more than 24 carbon atoms, such as an N-succinimide group and an N-phthalimide group) An alkoxycarbonylamino group (preferably an alkoxycarbonylamino group having 2 to 48 carbon atoms, more preferably a carbon number of 2 to 24, such as methoxycarbonylamino, ethoxycarbonylamino, t-butoxycarbonylamino , Octadecyloxycarbonylamino, cyclohexyloxycarbonylamino),

아릴옥시카보닐아미노기(바람직하게는 탄소수 7~32, 보다 바람직하게는 탄소수 7~24의 아릴옥시카보닐아미노기이고, 예를 들면 페녹시카보닐아미노), 설폰아마이드기(바람직하게는 탄소수 1~48, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 설폰아마이드기이고, 예를 들면 메테인설폰아마이드기, 뷰테인설폰아마이드기, 벤젠설폰아마이드기, 헥사데케인설폰아마이드기, 사이클로헥세인설폰아마이드기), 설파모일아미노기(바람직하게는 탄소수 1~48, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 설파모일아미노기이고, 예를 들면 N,N-다이프로필설파모일아미노, N-에틸-N-도데실설파모일아미노), 아조기(바람직하게는 탄소수 1~32, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 아조기이고, 예를 들면 페닐아조기, 3-피라졸일아조기), 알킬싸이오기(바람직하게는 탄소수 1~48, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 알킬싸이오기이고, 예를 들면 메틸싸이오, 에틸싸이오, 옥틸싸이오, 사이클로헥실싸이오), 아릴싸이오기(바람직하게는 탄소수 6~48, 보다 바람직하게는 탄소수 6~24의 아릴싸이오기이고, 예를 들면 페닐싸이오), 헤테로환 싸이오기(바람직하게는 탄소수 1~32, 보다 바람직하게는 탄소수 1~18의 헤테로환 싸이오기이고, 예를 들면 2-벤조싸이아졸일싸이오, 2-피리딜싸이오, 1-페닐테트라졸일싸이오), 알킬설핀일기(바람직하게는 탄소수 1~32, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 알킬설핀일기이고, 예를 들면 도데케인설핀일), 아릴설핀일기(바람직하게는 탄소수 6~32, 보다 바람직하게는 탄소수 6~24의 아릴설핀일기이고, 예를 들면 페닐설핀일), 알킬설폰일기(바람직하게는 탄소수 1~48, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 알킬설폰일기이고, 예를 들면 메틸설폰일, 에틸설폰일, 프로필설폰일, 뷰틸설폰일, 아이소프로필설폰일, 2-에틸헥실설폰일, 헥사데실설폰일, 옥틸설폰일, 사이클로헥실설폰일), 아릴설폰일기(바람직하게는 탄소수 6~48, 보다 바람직하게는 탄소수 6~24의 아릴설폰일기이고, 예를 들면 페닐설폰일, 1-나프틸설폰일), 설파모일기(바람직하게는 탄소수 32 이하, 보다 바람직하게는 탄소수 24 이하의 설파모일기이고, 예를 들면 설파모일, N,N-다이프로필설파모일, N-에틸-N-도데실설파모일, N-에틸-N-페닐설파모일, N-사이클로헥실설파모일), 설포기, 포스폰일기(바람직하게는 탄소수 1~32, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 포스폰일기이고, 예를 들면 페녹시포스폰일, 옥틸옥시포스폰일, 페닐포스폰일), 포스피노일아미노기(바람직하게는 탄소수 1~32, 보다 바람직하게는 탄소수 1~24의 포스피노일아미노기이고, 예를 들면 다이에톡시포스피노일아미노, 다이옥틸옥시포스피노일아미노), 알킬옥시카보닐옥시기(바람직하게는 탄소수 5~30, 보다 바람직하게는 탄소수 5~10의 알킬옥시카보닐옥시기), 싸이올기 등을 들 수 있다.An aryloxycarbonylamino group (preferably an aryloxycarbonylamino group having 7 to 32 carbon atoms, more preferably a carbon number 7 to 24, such as phenoxycarbonylamino), a sulfonamido group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, Preferably 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, and examples thereof include a methanesulfonamido group, a butanesulfonamido group, a benzenesulfonamido group, a hexadecanesulfonamido group, a cyclohexanesulfonamido group, , A sulfamoylamino group (preferably a sulfamoylamino group having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as N, N-dipropylsulfamoylamino, N-ethyl-N-dodecylsulfamoyl Amino), an azo group (preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably an azo group having 1 to 24 carbon atoms, such as phenyl azo group and 3-pyrazolyl azo group), an alkyl thio group (preferably having 1 to 48 carbon atoms, More preferably, Alkylthio groups having 1 to 24 carbon atoms, such as methylthio, ethylthio, octylthio, cyclohexylthio), arylthio groups (preferably having 6 to 48 carbon atoms, more preferably 6 to 48 carbon atoms, (Preferably phenylthio), a heterocyclic thio group (preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably a heterocyclic thio group having 1 to 18 carbon atoms, such as 2-benzothiazolyl, (Preferably an alkylsulfinyl group having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, and examples thereof include an alkylsulfinyl group, an alkylsulfinyl group, an alkylsulfinyl group, (Preferably an arylsulfinyl group having 6 to 32 carbon atoms, more preferably 6 to 24 carbon atoms, such as phenylsulfinyl), an alkylsulfonyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, 48, more preferably an alkylsulfonyl group having 1 to 24 carbon atoms, (Preferably having a carbon number of 6 or less, more preferably a carbon number of 1 to 6, and more preferably a carbon number of 1 to 6), a sulfonyl group, a sulfonyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group (Preferably an arylsulfonyl group having from 6 to 24 carbon atoms, more preferably a carbon number of 24 or less, and still more preferably an arylsulfonyl group having from 2 to 48 carbon atoms, more preferably a carbon number of 6 to 24, such as phenylsulfonyl and 1-naphthylsulfonyl) A sulfamoyl group such as sulfamoyl, N, N-dipropylsulfamoyl, N-ethyl-N-dodecylsulfamoyl, N-ethyl-N-phenylsulfamoyl, N-cyclohexylsulfamoyl) (Preferably a phosphonyl group having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as phenoxyphosphonyl, octyloxyphosphonyl, phenylphosphonyl), a phosphinoylamino group (Preferably a phosphinoylamino group having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms (For example, diethoxyphosphinoylamino, dioctyloxyphosphinoylamino), an alkyloxycarbonyloxy group (preferably an alkyloxycarbonyloxy group having 5 to 30 carbon atoms, more preferably 5 to 10 carbon atoms ), Thiol groups, and the like.

이들 치환기는 더 치환되어도 된다. 또 치환기가 2개 이상 있는 경우는, 동일해도 되고 상이해도 된다. 또, 가능한 경우에는 서로 연결되어 환을 형성하고 있어도 된다.These substituents may be further substituted. When two or more substituents are present, they may be the same or different. If possible, they may be connected to form a ring.

상세에 대해서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0027~0038을 참조할 수도 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.For details, see, for example, paragraphs 0027 to 0038 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-29760, the contents of which are incorporated herein by reference.

<<<음이온 부위>>><<< Anion Site >>>

본 발명에 있어서의 색소 구조는, 음이온 부위를 포함한다.The dye structure in the present invention includes an anionic moiety.

색소 구조를 갖는 분산제의 색소 구조를 구성하는 음이온 부위는, 설폰산 음이온, 카복실산 음이온, 테트라아릴보레이트 음이온, BF4 -, PF6 -, SbF6 -, 하기 일반식 (A1)로 나타나는 구조를 포함하는 기 및 하기 일반식 (A2)로 나타나는 구조를 포함하는 기 중 적어도 1종인 것이 바람직하고, 설폰산 음이온, 설폰일이미드 음이온, 비스(알킬설폰일)이미드 음이온, 트리스(알킬설폰일)메타이드 음이온, 테트라아릴보레이트 음이온, BF4 -, PF6 -, 및 SbF6 -로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 보다 바람직하다.The anion moiety constituting the dye structure of the dispersant having the dye structure includes a sulfonic acid anion, a carboxylic acid anion, a tetraarylborate anion, BF 4 - , PF 6 - , SbF 6 - , a structure represented by the following formula (A1) And a group including a structure represented by the following formula (A2), and it is preferably at least one selected from the group consisting of a sulfonic acid anion, a sulfonylimide anion, a bis (alkylsulfonyl) imide anion, a tris (alkylsulfonyl) Methide anion, tetraarylborate anion, BF 4 - , PF 6 - , and SbF 6 - .

일반식 (A1)In formula (A1)

[화학식 21][Chemical Formula 21]

Figure 112016121945081-pct00021
Figure 112016121945081-pct00021

일반식 (A1) 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로 -SO2- 또는 -CO-를 나타낸다.In the general formula (A1), R 1 and R 2 each independently represent -SO 2 - or -CO-.

일반식 (A2)In general formula (A2)

[화학식 22][Chemical Formula 22]

Figure 112016121945081-pct00022
Figure 112016121945081-pct00022

일반식 (A2) 중, R3은, -SO2- 또는 -CO-를 나타낸다; R4 및 R5는 각각 독립적으로 -SO2-, -CO- 또는 -CN을 나타낸다.In the general formula (A2), R 3 represents -SO 2 - or -CO-; R 4 and R 5 each independently represent -SO 2 -, -CO- or -CN.

음이온 부위는, 색소 구조와 공유 결합을 통하여 결합하고 있어도 되고, 분자 밖에 있어도 된다.The anion moiety may be bonded to the dye structure via a covalent bond or may be located outside the molecule.

<<<<음이온 부위가 분자 밖에 있는 경우>>>><<<< If the anion site is outside the molecule >>>>

음이온 부위가 분자 밖에 있는 경우란, 양이온과 음이온 부위가 공유 결합을 통하여 결합하지 않고, 별개 분자로서 존재하고 있는 경우이다.The case where the anion site is located outside the molecule means that the cation and the anion site are not bonded through a covalent bond but exist as a separate molecule.

음이온 부위로서는 특별히 제한은 없지만, 내열성의 관점에서 비구핵성의 음이온인 것이 바람직하다. 비구핵성의 음이온 부위로서는, 일본 공개특허공보 2007-310315호의 단락 번호 0075 등에 기재된 공지의 비구핵성 음이온이 바람직하다. 여기에서, 비구핵성이란, 가열에 의하여 색소를 구핵 공격하지 않는 성질을 의미한다.The anion moiety is not particularly limited, but from the viewpoint of heat resistance, it is preferable that the anion moiety is an anion of nucleus. The non-nucleophilic anion site is preferably a known non-nucleophilic anion described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-310315, paragraph No. 0075. Here, the term &quot; non-nucleophilic &quot; means a property of not attacking the pigment by nucleation.

음이온 부위로서는, 설폰산 음이온, 카복실산 음이온, 설폰일이미드 음이온, 비스(알킬설폰일)이미드 음이온, 트리스(알킬설폰일)메타이드 음이온, 카복실산 음이온, 테트라아릴보레이트 음이온, -CON-CO-, -CON-SO2-, BF4 -, PF6 -, SbF6 -, B-(CN)3OCH3으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는, 설폰산 음이온, 설폰일이미드 음이온, 비스(알킬설폰일)이미드 음이온, 트리스(알킬설폰일)메타이드 음이온, 카복실산 음이온, 테트라아릴보레이트 음이온, BF4 -, PF6 -, 및 SbF6 -로부터 선택되는 적어도 1종이다.As the anionic site, a sulfonic acid anion, carboxylic acid anion, sulfonyl imide anion, bis (alkylsulfonyl) imide anion and tris (alkylsulfonyl) methide anion, carboxylic acid anion, tetra aryl anion, -CON - CO- , -CON - SO 2 -, BF 4 - , PF 6 - , SbF 6 - and B - (CN) 3 OCH 3 . More preferably, a sulfonic acid anion, a sulfonylimide anion, a bis (alkylsulfonyl) imide anion, a tris (alkylsulfonyl) methide anion, a carboxylic acid anion, a tetraarylborate anion, BF 4 - , PF 6 - , And SbF 6 - .

이들 중에서도, 음이온 부위로서는, 하기 (AN-1)~(AN-5)로 나타나는 구조를 갖는 비구핵성 음이온인 것이 보다 바람직하다.Among these, the anion moiety is more preferably an unconjugated anion having a structure represented by the following (AN-1) to (AN-5).

[화학식 23](23)

Figure 112016121945081-pct00023
Figure 112016121945081-pct00023

식 (AN-1) 중, X1 및 X2는 각각 독립적으로 불소 원자 또는 불소 원자를 갖는 탄소수 1~10의 알킬기를 나타낸다. X1 및 X2는 서로 결합하여 환을 형성해도 된다.In the formula (AN-1), X 1 and X 2 each independently represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and having a fluorine atom or a fluorine atom. X 1 and X 2 may be bonded to each other to form a ring.

X1 및 X2는 각각 독립적으로 불소 원자 또는 불소 원자를 갖는 탄소수 1~10의 알킬기를 나타내며, 불소 원자 또는 불소 원자를 갖는 탄소수 1~10의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1~10의 퍼플루오로알킬기인 것이 보다 바람직하며, 탄소수 1~4의 퍼플루오로알킬기인 것이 더 바람직하고, 트라이플루오로메틸기가 특히 바람직하다.X 1 and X 2 each independently represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom or a fluorine atom, preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and having a fluorine atom or a fluorine atom, perfluoro More preferably an alkyl group, more preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and a trifluoromethyl group is particularly preferable.

[화학식 24]&Lt; EMI ID =

Figure 112016121945081-pct00024
Figure 112016121945081-pct00024

식 (AN-2) 중, X3, X4 및 X5는 각각 독립적으로 불소 원자 또는 탄소수 1~10의 불소 원자를 갖는 알킬기를 나타낸다.In the formula (AN-2), X 3 , X 4 and X 5 independently represent a fluorine atom or an alkyl group having a fluorine atom of 1 to 10 carbon atoms.

X3, X4 및 X5는 각각 독립적으로 X1 및 X2와 동의이며, 바람직한 범위도 동의이다.X 3 , X 4 and X 5 each independently are the same as X 1 and X 2 , and the preferred range is also synonymous.

[화학식 25](25)

Figure 112016121945081-pct00025
Figure 112016121945081-pct00025

식 (AN-3) 중, X6은 탄소수 1~10의 불소 원자를 갖는 알킬기를 나타낸다.In the formula (AN-3), X 6 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a fluorine atom.

X6은, 탄소수 1~10의 퍼플루오로알킬기인 것이 바람직하고, 탄소수 1~4의 퍼플루오로알킬기인 것이 더 바람직하다.X 6 is preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

[화학식 26](26)

Figure 112016121945081-pct00026
Figure 112016121945081-pct00026

식 (AN-4) 중, X7은 탄소수 1~10의 불소 원자를 갖는 알킬렌기를 나타낸다.In the formula (AN-4), X 7 represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms and a fluorine atom.

X7은, 탄소수 1~10의 퍼플루오로알킬렌기인 것이 바람직하고, 탄소수 1~4의 퍼플루오로알킬렌기인 것이 더 바람직하다.X 7 is preferably a perfluoroalkylene group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably a perfluoroalkylene group having 1 to 4 carbon atoms.

[화학식 27](27)

Figure 112016121945081-pct00027
Figure 112016121945081-pct00027

식 (AN-5) 중, Ar1, Ar2, Ar3 및 Ar4는 각각 독립적으로 아릴기를 나타낸다.In the formula (AN-5), Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 and Ar 4 each independently represent an aryl group.

Ar1, Ar2, Ar3 및 Ar4는 각각 독립적으로 탄소수 6~20의 아릴기가 바람직하고, 탄소수 6~14의 아릴기가 보다 바람직하며, 탄소수 6~10의 아릴기가 더 바람직하다.Each of Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 and Ar 4 is independently an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, more preferably an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, and more preferably an aryl group having 6 to 10 carbon atoms.

Ar1, Ar2, Ar3 및 Ar4가 나타내는 아릴기는, 치환기를 가져도 된다. 치환기를 갖는 경우, 할로젠 원자, 알킬기, 아릴기, 알콕시기, 카보닐기, 카보닐옥시기, 카바모일기, 설포기, 설폰아마이드기, 나이트로기 등을 들 수 있으며, 할로젠 원자 및 알킬기가 바람직하고, 불소 원자, 알킬기가 보다 바람직하며, 불소 원자, 탄소수 1~4의 퍼플루오로알킬기가 더 바람직하다.The aryl group represented by Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 and Ar 4 may have a substituent. A halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, a carbonyl group, a carbonyloxy group, a carbamoyl group, a sulfo group, a sulfonamido group and a nitro group, More preferably a fluorine atom or an alkyl group, more preferably a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

Ar1, Ar2, Ar3 및 Ar4는 각각 독립적으로 할로젠 원자 및/또는 할로젠 원자를 갖는 알킬기를 갖는 페닐기가 보다 바람직하고, 불소 원자 및/또는 불소 원자를 갖는 알킬기를 갖는 페닐기가 더 바람직하다.Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 and Ar 4 are each independently a phenyl group having an alkyl group having a halogen atom and / or a halogen atom, more preferably a phenyl group having an alkyl group having a fluorine atom and / or a fluorine atom desirable.

비구핵성 음이온 부위의 1분자당 질량은, 100~1,000이 바람직하고, 200~500이 보다 바람직하다.The mass per molecule of the non-nucleophilic anion site is preferably 100 to 1,000, more preferably 200 to 500.

제2 실시형태의 음이온 부위 구체예로서는, 이하를 들 수 있지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the anion site of the second embodiment include the following, but the present invention is not limited thereto.

[화학식 28](28)

Figure 112016121945081-pct00028
Figure 112016121945081-pct00028

[화학식 29][Chemical Formula 29]

Figure 112016121945081-pct00029
Figure 112016121945081-pct00029

[화학식 30](30)

Figure 112016121945081-pct00030
Figure 112016121945081-pct00030

[화학식 31](31)

Figure 112016121945081-pct00031
Figure 112016121945081-pct00031

<<<<음이온 부위가 색소 구조와 공유 결합을 통하여 결합하고 있는 경우>>>><<<< When the anion moiety binds through the dye structure and the covalent bond >>>>

다음으로, 음이온 부위가 색소 구조와 공유 결합을 통하여 결합하고 있는 경우에 대하여 설명한다.Next, a description will be given of the case where the anion site binds through the dye structure and the covalent bond.

이 경우의 음이온 부위로서는, -SO3 -, -COO-, -PO4 -, 하기 일반식 (A1)로 나타나는 구조 및 하기 일반식 (A2)로 나타나는 구조로부터 선택되는 적어도 1종이 바람직하다.As the anion part of the case, -SO 3 -, -COO -, -PO 4 -, it is preferably at least one member selected from the following formula structure represented by the structure and the following general formula (A2) represented by (A1).

일반식 (A1)In formula (A1)

[화학식 32](32)

Figure 112016121945081-pct00032
Figure 112016121945081-pct00032

(일반식 (A1) 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로 -SO2- 또는 -CO-를 나타낸다.)(In the general formula (A1), R 1 and R 2 each independently represent -SO 2 - or -CO-.)

일반식 (A1) 중, R1 및 R2 중 적어도 하나가 -SO2-를 나타내는 것이 바람직하고, R1 및 R2의 양쪽 모두가 -SO2-를 나타내는 것이 보다 바람직하다.In the general formula (A1), at least one of R 1 and R 2 is -SO 2 -, and it is preferable that indicates, both the R 1 and R 2 -SO 2 - and more preferably indicating.

상기 일반식 (A1)은, 하기 일반식 (A1-1)로 나타나는 것이 보다 바람직하다.The above general formula (A1) is more preferably represented by the following general formula (A1-1).

일반식 (A1-1)In general formula (A1-1)

[화학식 33](33)

Figure 112016121945081-pct00033
Figure 112016121945081-pct00033

(일반식 (A1-1) 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로 -SO2- 또는 -CO-를 나타낸다. X1 및 X2는, 각각 독립적으로 알킬렌기 또는 아릴렌기를 나타낸다.)(In the general formula (A1-1), R 1 and R 2 each independently represent -SO 2 - or -CO-, and X 1 and X 2 each independently represent an alkylene group or an arylene group.)

일반식 (A1-1) 중, R1 및 R2는, 일반식 (A1) 중의 R1 및 R2와 동의이며, 바람직한 범위도 동일하다.In the general formula (A1-1), R 1 and R 2 are represented by the general formula (A1), and in R 1 and R 2 and agreement, are also the same preferable range.

X1이 알킬렌기를 나타내는 경우, 알킬렌기의 탄소수는, 1~8이 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하다. X1이 아릴렌기를 나타내는 경우, 아릴렌기의 탄소수는, 6~18이 바람직하고, 6~12가 보다 바람직하며, 6이 더 바람직하다. X1이 치환기를 갖는 경우, 불소 원자로 치환되어 있는 것이 바람직하다.When X 1 represents an alkylene group, the number of carbon atoms of the alkylene group is preferably from 1 to 8, more preferably from 1 to 6. When X 1 represents an arylene group, the number of carbon atoms of the arylene group is preferably 6 to 18, more preferably 6 to 12, and even more preferably 6. When X 1 has a substituent, it is preferably substituted with a fluorine atom.

X2는, 알킬렌기 또는 아릴렌기를 나타내고, 알킬렌기가 바람직하다. 알킬렌기의 탄소수는, 1~8이 바람직하고, 1~6이 보다 바람직하며, 1~3이 더 바람직하고, 1이 특히 바람직하다. X2가 치환기를 갖는 경우, 불소 원자로 치환되어 있는 것이 바람직하다. X1 및 X2 중 한쪽이, 화합물 말단이 되는 경우는, 알킬렌기 또는 아릴렌기가 알킬기 또는 아릴기가 되는 양태가 예시된다.X 2 represents an alkylene group or an arylene group, and an alkylene group is preferable. The number of carbon atoms of the alkylene group is preferably from 1 to 8, more preferably from 1 to 6, still more preferably from 1 to 3, and particularly preferably 1. When X 2 has a substituent, it is preferably substituted with a fluorine atom. When either one of X 1 and X 2 is a compound end, an embodiment in which the alkylene group or arylene group is an alkyl group or an aryl group is exemplified.

일반식 (A2)In general formula (A2)

[화학식 34](34)

Figure 112016121945081-pct00034
Figure 112016121945081-pct00034

(일반식 (A2) 중, R3은, -SO2- 또는 -CO-를 나타낸다. R4 및 R5는 각각 독립적으로 -SO2-, -CO- 또는 -CN을 나타낸다.)(In the general formula (A2), R 3 represents -SO 2 - or -CO-, R 4 and R 5 each independently represent -SO 2 -, -CO- or -CN.)

일반식 (A2) 중, R3~R5 중 적어도 1개가 -SO2-를 나타내는 것이 바람직하고, R3~R5 중 적어도 2개가 -SO2-를 나타내는 것이 보다 바람직하다.In the general formula (A2), R 3 ~ R at least one of 5 -SO 2 -, and it is preferable that indicates, at least two of R 3 ~ R 5 -SO 2 - and more preferably indicating.

<<<<음이온 부위가 다량체인 경우>>>><<<< In case of large amount of negative ions >>>>

본 발명에 있어서의 음이온 부위는, 다량체여도 된다. 즉, 본 발명에서 이용하는 색소 구조를 갖는 분산제가, 음이온 부위를 포함하는 반복 단위를 포함하고 있어도 되고, 음이온 부위는 별개 분자이며, 다량체여도 된다. 음이온 부위가 다량체인 경우의 예로서는, 후술하는 색소 구조를 갖는 분산제의 제2 실시형태에 있어서, 다량체를 구성하는 반복 단위로서 도입하는 것이 바람직하게 예시된다. 또, 후술하는 제1 실시형태에 있어서, 일반식 (1)의 P를 구성하는 반복 단위의 하나여도 된다.The anion site in the present invention may be a multimer. That is, the dispersant having a dye structure used in the present invention may contain a repeating unit containing an anion site, and the anion site may be a separate molecule and may be a polymer. As an example of the case where the number of anion sites is large, it is preferable to introduce it as a repeating unit constituting a multimer in the second embodiment of the dispersant having a dye structure to be described later. In the first embodiment described later, it may be one of repeating units constituting P in the general formula (1).

음이온 부위를 포함하는 반복 단위의 바람직한 예로서는, 일반식 (C)로 나타나는 반복 단위가 예시된다.Preferable examples of the repeating unit containing an anionic site include repeating units represented by formula (C).

일반식 (C)In the general formula (C)

[화학식 35](35)

Figure 112016121945081-pct00035
Figure 112016121945081-pct00035

(일반식 (C) 중, X1은, 반복 단위의 주쇄를 나타낸다. L1은 단결합 또는 2가의 연결기를 나타낸다. anion은, 상기 음이온 부위를 나타낸다.)(In formula (C), X 1 represents a main chain of the repeating unit, L 1 represents a single bond or a divalent linking group, and anion represents the above anion site.)

일반식 (C) 중, X1은, 반복 단위의 주쇄를 나타내고, 통상 중합 반응으로 형성되는 연결기를 나타낸다. 또한, 2개의 *로 나타난 부위가 반복 단위가 된다.In the general formula (C), X 1 represents a main chain of a repeating unit, and usually represents a linking group formed by a polymerization reaction. In addition, the parts indicated by two * are repeated units.

X1의 구체예로서는, 후술하는 일반식 (A)로 나타나는 반복 단위에 있어서의 X1과 동의이며, 바람직한 범위도 동일하다.And X 1 and consent of the repeating unit represented by the general formula (A), specific examples of X 1, described later, are also the same preferable range.

본 실시형태에 있어서의 음이온을 포함하는 반복 단위의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the repeating unit containing an anion in the present embodiment are shown below, but the present invention is not limited thereto.

[화학식 36](36)

Figure 112016121945081-pct00036
Figure 112016121945081-pct00036

이하의 구체예는, 음이온 구조가 해리하고 있지 않은 상태를 나타내고 있지만, 음이온 구조가 해리하고 있는 상태도 본 발명의 범위 내인 것은 말할 필요도 없다.The following specific examples show a state in which the anion structure is not dissociated, but it is needless to say that the state in which the anion structure is dissociated is also within the scope of the present invention.

[화학식 37](37)

Figure 112016121945081-pct00037
Figure 112016121945081-pct00037

[화학식 38](38)

Figure 112016121945081-pct00038
Figure 112016121945081-pct00038

[화학식 39][Chemical Formula 39]

Figure 112016121945081-pct00039
Figure 112016121945081-pct00039

[화학식 40](40)

Figure 112016121945081-pct00040
Figure 112016121945081-pct00040

[화학식 41](41)

Figure 112016121945081-pct00041
Figure 112016121945081-pct00041

이하에 본 발명에 있어서의 색소 구조를 갖는 분산제의 바람직한 실시형태를 설명한다. 본 발명에 있어서의 색소 구조를 갖는 분산제가 이들에 한정되는 것이 아닌 것은 말할 필요도 없다.A preferred embodiment of a dispersant having a pigment structure in the present invention will be described below. It goes without saying that the dispersant having a pigment structure in the present invention is not limited to these.

<<<색소 구조를 갖는 분산제의 제1 실시형태>>><< First Embodiment of Dispersant Having a Pigment Structure >>>

색소 구조를 갖는 분산제의 실시형태의 일례로서, 하기 일반식 (1)로 나타나는 구조를 들 수 있다.As an embodiment of the dispersant having a dye structure, there is a structure represented by the following general formula (1).

일반식 (1)In general formula (1)

(D-R2)n-R1-(L1-P)m …(1)(DR 2 ) n -R 1 - (L 1 -P) m - (One)

일반식 (1) 중, R1은, (m+n)가의 연결기를 나타내고,In the general formula (1), R 1 represents a linking group of (m + n)

P는, 반복 단위를 갖는 1가의 치환기를 나타내며,P represents a monovalent substituent having a repeating unit,

D는, 색소 구조를 나타내고,D represents a dye structure,

R2 및 L1은, 각각 독립적으로 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내며,R 2 and L 1 each independently represent a single bond or a divalent linking group,

m은, 1~13의 정수를 나타내고,m represents an integer of 1 to 13,

m이 1인 경우, P는 반복 단위를 2개 이상 갖는 1가의 치환기를 나타내며,When m is 1, P represents a monovalent substituent having two or more repeating units,

m이 2 이상인 경우, 복수의 P는 서로 상이해도 되고, 복수의 P를 구성하는 반복 단위의 개수의 평균값이 2개 이상이며,When m is 2 or more, a plurality of P's may be different from each other, or an average value of the number of repeating units constituting a plurality of P's is 2 or more,

n은, 2~14의 정수를 나타내고,n represents an integer of 2 to 14,

n이 2 이상인 경우, 복수의 D는 서로 상이해도 되며,When n is 2 or more, a plurality of Ds may be different from each other,

m+n은, 2~15의 정수를 나타낸다.m + n represents an integer of 2 to 15;

일반식 (1) 중, m은 1~13의 정수를 나타낸다. m으로서는, 1~5가 바람직하고, 1~4가 보다 바람직하며, 1~3이 특히 바람직하다.In the general formula (1), m represents an integer of 1 to 13. m is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 4, and particularly preferably 1 to 3.

일반식 (1) 중, n은 2~14의 정수를 나타낸다. n으로서는, 2~8이 바람직하고, 2~7이 보다 바람직하며, 2~6이 특히 바람직하고, 2~5가 더 바람직하다.In the general formula (1), n represents an integer of 2 to 14. n is preferably 2 to 8, more preferably 2 to 7, particularly preferably 2 to 6, and even more preferably 2 to 5.

일반식 (1) 중, m+n은, 2~15의 정수를 나타내는 것이 바람직하다.In the general formula (1), it is preferable that m + n represents an integer of 2 to 15.

일반식 (1) 중, R1은, (m+n)가의 연결기를 나타낸다. m+n은 2~15를 충족시킨다.In the general formula (1), R 1 represents a linking group of (m + n). m + n satisfies 2 to 15.

R1로 나타나는 (m+n)가의 연결기로서는, 1에서 100개까지의 탄소 원자, 0개에서 10개까지의 질소 원자, 0개에서 50개까지의 산소 원자, 1개에서 200개까지의 수소 원자, 및 0개에서 20개까지의 황 원자로 성립되는 기가 포함되며, 무치환이어도 되고 치환기를 더 갖고 있어도 된다.The (m + n) linking group represented by R 1 includes 1 to 100 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 200 hydrogen atoms An atom, and a group consisting of 0 to 20 sulfur atoms, which may be unsubstituted or may further have a substituent.

R1이 나타내는 (m+n)가의 연결기는, 구체적인 예로서, 하기의 구조 단위 또는 이하의 구조 단위가 2 이상 조합되어 구성되는 기(환 구조를 형성하고 있어도 됨)를 들 수 있다.Specific examples of the (m + n) linking group represented by R 1 include a group having the following structural unit or a group formed by combining two or more of the following structural units (may form a ring structure).

본 발명의 착색 조성물은, 일반식 (1)로 나타나는 색소 구조를 갖는 분산제로서, m, n이 상이한 것을 복수 포함하고 있어도 된다. 따라서, 본 발명의 착색 조성물 중의, m 및 n의 평균값은 정수가 되지 않는 경우가 있다.The coloring composition of the present invention may contain a plurality of dispersing agents having a dye structure represented by the general formula (1), wherein m and n are different from each other. Therefore, the average value of m and n in the coloring composition of the present invention may not be an integer.

[화학식 42](42)

Figure 112016121945081-pct00042
Figure 112016121945081-pct00042

R1이 나타내는 (m+n)가의 연결기로서는, 1에서 60개까지의 탄소 원자, 0개에서 10개까지의 질소 원자, 0개에서 40개까지의 산소 원자, 1개에서 120개까지의 수소 원자, 및 0개에서 10개까지의 황 원자로 성립되는 기가 바람직하다. 보다 바람직하게는, 1에서 50개까지의 탄소 원자, 0개에서 10개까지의 질소 원자, 0개에서 30개까지의 산소 원자, 1개에서 100개까지의 수소 원자, 및 0개에서 7개까지의 황 원자로 성립되는 기이다. 더 바람직하게는, 1에서 40개까지의 탄소 원자, 0개에서 8개까지의 질소 원자, 0개에서 20개까지의 산소 원자, 1개에서 80개까지의 수소 원자, 및 0개에서 5개까지의 황 원자로 성립되는 기이다.Examples of the (m + n) linking group represented by R 1 include 1 to 60 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 40 oxygen atoms, 1 to 120 hydrogen atoms Atoms, and groups formed from 0 to 10 sulfur atoms are preferred. More preferably from 1 to 50 carbon atoms, from 0 to 10 nitrogen atoms, from 0 to 30 oxygen atoms, from 1 to 100 hydrogen atoms, and from 0 to 7 Which is a sulfur atom. More preferably from 1 to 40 carbon atoms, from 0 to 8 nitrogen atoms, from 0 to 20 oxygen atoms, from 1 to 80 hydrogen atoms, and from 0 to 5 Which is a sulfur atom.

R1이 나타내는 (m+n)가의 연결기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기 등의 탄소수 1~20의 알킬기, 페닐기, 나프틸기 등의 탄소수 6~16의 아릴기, 수산기, 아미노기, 카복실기, 설폰아마이드기, N-설폰일아마이드기, 아세톡시기 등의 탄소수 1~6의 아실옥시기, 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1~6의 알콕시기, 염소, 브로민 등의 할로젠 원자, 메톡시카보닐기, 에톡시카보닐기, 사이클로헥실옥시카보닐기 등의 탄소수 2~7의 알콕시카보닐기, 사이아노기, t-뷰틸카보네이트기 등의 탄산 에스터기 등을 들 수 있다.The (m + n) linking group represented by R 1 may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group and an ethyl group, an aryl group having 6 to 16 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group, a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a sulfonamide group, An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as methoxy group and ethoxy group, a halogen atom such as chlorine and bromine, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a cyclohexyl group, An alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms such as a hexyloxycarbonyl group, and a carbonic acid ester group such as a cyano group and a t-butylcarbonate group.

R1로 나타나는 (m+n)가의 연결기의 구체적인 예를 이하에 나타낸다. 단, 본 발명에 있어서는, 이들에 제한되는 것은 아니다.Specific examples of (m + n) linking groups represented by R 1 are shown below. However, the present invention is not limited thereto.

[화학식 43](43)

Figure 112016121945081-pct00043
Figure 112016121945081-pct00043

[화학식 44](44)

Figure 112016121945081-pct00044
Figure 112016121945081-pct00044

[화학식 45][Chemical Formula 45]

Figure 112016121945081-pct00045
Figure 112016121945081-pct00045

[화학식 46](46)

Figure 112016121945081-pct00046
Figure 112016121945081-pct00046

(m+n)가의 연결기는, 상기 (1), (2), (10), (11), (16)~(20), (26)~(29)가 바람직하다.(1), (2), (10), (11), (16) to (20), and (26) to (29) are preferable.

일반식 (1) 중, R2 및 L1은 각각 독립적으로 단결합 또는 2가의 연결기를 나타낸다. R2 및 L1이 복수 존재하는 경우는, 동일해도 되고, 상이해도 된다.In the general formula (1), R 2 and L 1 each independently represent a single bond or a divalent linking group. When a plurality of R 2 and L 1 are present, they may be the same or different.

2가의 연결기로서는, 1에서 100개까지의 탄소 원자, 0개에서 10개까지의 질소 원자, 0개에서 50개까지의 산소 원자, 1개에서 200개까지의 수소 원자, 및 0개에서 20개까지의 황 원자로 성립되는 기가 포함되며, 무치환이어도 되고 치환기를 더 갖고 있어도 된다.The divalent linking groups may include from 1 to 100 carbon atoms, from 0 to 10 nitrogen atoms, from 0 to 50 oxygen atoms, from 1 to 200 hydrogen atoms, and from 0 to 20 A sulfur atom-containing group, which may be unsubstituted or may further have a substituent.

2가의 연결기는, 구체적인 예로서 하기의 구조 단위 또는 이하의 구조 단위가 2 이상 조합되어 구성되는 기를 들 수 있다.Specific examples of the divalent linking group include groups having the following structural units or a combination of two or more of the following structural units.

[화학식 47](47)

Figure 112016121945081-pct00047
Figure 112016121945081-pct00047

R2로서는, 단결합, 혹은 1에서 50개까지의 탄소 원자, 0개에서 8개까지의 질소 원자, 0개에서 25개까지의 산소 원자, 1개에서 100개까지의 수소 원자, 및 0개에서 10개까지의 황 원자로 성립되는 2가의 연결기가 바람직하다. 보다 바람직하게는, 단결합, 혹은 1에서 30개까지의 탄소 원자, 0개에서 6개까지의 질소 원자, 0개에서 15개까지의 산소 원자, 1개에서 50개까지의 수소 원자, 및 0개에서 7개까지의 황 원자로 성립되는 2가의 연결기이다. 더 바람직하게는, 단결합, 혹은 1에서 10개까지의 탄소 원자, 0개에서 5개까지의 질소 원자, 0개에서 10개까지의 산소 원자, 1개에서 30개까지의 수소 원자, 및 0개에서 5개까지의 황 원자로 성립되는 2가의 연결기이다.R 2 is a single bond or an alkylene group having from 1 to 50 carbon atoms, from 0 to 8 nitrogen atoms, from 0 to 25 oxygen atoms, from 1 to 100 hydrogen atoms, and from 0 Lt; / RTI &gt; to 10 sulfur atoms. More preferably from 1 to 30 carbon atoms, from 0 to 6 nitrogen atoms, from 0 to 15 oxygen atoms, from 1 to 50 hydrogen atoms, and from 0 Is a divalent linking group formed by from seven to seven sulfur atoms. More preferably 1 to 10 carbon atoms, 0 to 5 nitrogen atoms, 0 to 10 oxygen atoms, 1 to 30 hydrogen atoms, and 0 Is a divalent linking group formed by five to five sulfur atoms.

R2가 나타내는 2가의 연결기는, 치환기를 가져도 된다. 치환기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기 등의 탄소수 1~20의 알킬기, 페닐기, 나프틸기 등의 탄소수 6~16의 아릴기, 수산기, 아미노기, 카복실기, 설폰아마이드기, N-설폰일아마이드기, 아세톡시기 등의 탄소수 1~6의 아실옥시기, 메톡시기, 에톡시기 등의 탄소수 1에서 6까지의 알콕시기, 염소, 브로민 등의 할로젠 원자, 메톡시카보닐기, 에톡시카보닐기, 사이클로헥실옥시카보닐기 등의 탄소수 2~7의 알콕시카보닐기, 사이아노기, t-뷰틸카보네이트기 등의 탄산 에스터기 등을 들 수 있다.The divalent linking group represented by R 2 may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group and an ethyl group, an aryl group having 6 to 16 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group, a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a sulfonamide group, An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as a methoxy group or an ethoxy group, a halogen atom such as chlorine or bromine, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, An alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms such as a cyclohexyloxycarbonyl group, and a carbonic acid ester group such as a cyano group and a t-butylcarbonate group.

일반식 (1) 중, P는, 반복 단위를 2개 이상 갖는 1가의 치환기를 나타낸다. m이 2 이상인 경우, m개의 P는, 동일해도 되고, 상이해도 된다.In the general formula (1), P represents a monovalent substituent having two or more repeating units. When m is 2 or more, the m number of P may be the same or different.

m이 1인 경우, P는, 반복 단위를 2개 이상(바람직하게는 2~100개, 보다 바람직하게는 2~50개, 더 바람직하게는 2~20개) 갖는 1가의 치환기를 나타낸다. 또, m이 2 이상인 경우, m개의 P의 반복 단위의 개수의 평균값은, 2개 이상(바람직하게는 2~100개, 보다 바람직하게는 2~50개, 더 바람직하게는 2~20개)이다. 이 양태에 의하면, 도포막의 평탄성이 좋아진다.When m is 1, P represents a monovalent substituent having two or more (preferably 2 to 100, more preferably 2 to 50, more preferably 2 to 20) repeating units. When m is 2 or more, the average value of the number of repeating units of m P is 2 or more (preferably 2 to 100, more preferably 2 to 50, and more preferably 2 to 20) to be. According to this embodiment, the flatness of the coated film is improved.

m이 1인 경우에 있어서의 반복 단위의 수, m이 2 이상인 경우, m개의 P의 반복 단위의 개수의 평균값은, NMR(Nuclear Magnetic Resonance)에 의하여 구할 수 있다. 구체적으로는 예를 들면, R1로 나타나는 (m+n)가의 연결기와 색소 구조 D의 피크 면적비로부터 m을 구하고, 반복 단위의 피크 면적비를 m으로 나눔으로써 산출할 수 있다.the number of repeating units when m is 1, and when m is 2 or more, the average value of the number of repeating units of m P can be determined by NMR (Nuclear Magnetic Resonance). Specifically, it can be calculated, for example, by finding m from the peak area ratio of the linking group of (m + n) represented by R 1 and the dye structure D and dividing the peak area ratio of the repeating unit by m.

P를 구성하는 반복 단위로서는, 산기 등의 알칼리 가용성기를 포함하는 반복 단위, 중합성기를 포함하는 반복 단위, 매크로모노머에 유래하는 반복 단위 등이 예시되며, 산기 등의 알칼리 가용성기를 포함하는 반복 단위를 적어도 포함하는 것이 바람직하다. 이들 반복 단위는, 각각 1종류만 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 이하, 이들 반복 단위에 대하여 상세하게 설명한다.Examples of the repeating unit constituting P include a repeating unit containing an alkali-soluble group such as an acid group, a repeating unit containing a polymerizable group, a repeating unit derived from a macromonomer, etc., and a repeating unit containing an alkali- At least. These repeating units may each contain only one kind, or two or more kinds thereof. Hereinafter, these repeating units will be described in detail.

<<<<산기를 포함하는 반복 단위>>>><<<< Repeating unit containing an anagen >>>>

산기를 포함하는 반복 단위의 산기로서는, 카복실산기, 설폰산기, 인산기가 예시된다. 산기를 포함하는 반복 단위에 포함되는 산기는 1종류만 포함되어 있어도 되고, 2종류 이상 포함되어 있어도 된다.Examples of the acid group of the repeating unit including an acid group include a carboxylic acid group, a sulfonic acid group and a phosphoric acid group. The acid group contained in the repeating unit including an acid group may be contained singly or two or more kinds thereof may be contained.

P가, 산기를 포함하는 반복 단위를 함유하는 경우, 산기를 갖는 반복 단위를 함유하는 반복 단위의 비율은, P를 구성하는 반복 단위 100몰에 대하여, 10~80몰이 바람직하고, 10~65몰이 보다 바람직하다.When P contains repeating units containing an acid group, the proportion of repeating units containing repeating units having an acid group is preferably 10 to 80 moles, more preferably 10 to 65 moles, per 100 moles of repeating units constituting P More preferable.

<<<<다른 알칼리 가용성기를 포함하는 반복 단위>>>><<<< Repeating units containing other alkali-soluble groups >>>>

다른 알칼리 가용성기를 포함하는 반복 단위로서는, 페놀성 수산기 등을 포함하는 반복 단위가 예시된다.As the repeating unit containing another alkali-soluble group, a repeating unit containing a phenolic hydroxyl group or the like is exemplified.

또, P는, 2~20개의 무치환의 알킬렌옥시쇄의 반복으로 이루어지는 기를 측쇄에 갖는 반복 단위(이하, "(b) 반복 단위"라고 하는 경우가 있음)를 포함하고 있는 것도 바람직하다.It is also preferable that P contains a repeating unit having a group consisting of repeating of 2 to 20 unsubstituted alkyleneoxy chains in the side chain (hereinafter sometimes referred to as "(b) repeating unit").

(b) 반복 단위가 갖는 알킬렌옥시쇄의 반복의 수는, 2~10개가 바람직하고, 2~15개가 보다 바람직하며, 2~10개가 더 바람직하다.The number of repeating units of the alkyleneoxy group contained in the repeating unit (b) is preferably from 2 to 10, more preferably from 2 to 15, and still more preferably from 2 to 10.

1개의 알킬렌옥시쇄는, -(CH2)nO-로 나타나며, n은 정수이지만, n은 1~10이 바람직하고, 1~5가 보다 바람직하며, 2 또는 3이 더 바람직하다.One alkyleneoxy group is represented by - (CH 2 ) n O-, and n is an integer, but n is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, and still more preferably 2 or 3.

2~20개의 무치환의 알킬렌옥시쇄의 반복으로 이루어지는 기는, 알킬렌옥시쇄가 1종류만 포함되어 있어도 되고, 2종류 이상 포함되어 있어도 된다.The repeating unit of 2 to 20 unsubstituted alkyleneoxy chains may contain only one kind of alkyleneoxy chain or two or more kinds thereof.

(b) 반복 단위는, 하기 일반식으로 나타나는 것이 바람직하다.The repeating unit (b) is preferably represented by the following general formula.

[화학식 48](48)

Figure 112016121945081-pct00048
Figure 112016121945081-pct00048

(식 중, X1은 중합에 의하여 형성되는 연결기를 나타내고, L1은 단결합 또는 2가의 연결기를 나타낸다. P는 알킬렌옥시쇄의 반복으로 이루어지는 기를 포함하는 기를 나타낸다.)(Wherein X 1 represents a linking group formed by polymerization, L 1 represents a single bond or a divalent linking group, and P represents a group containing a group consisting of repeating alkyleneoxy chains.)

일반식 (P)에 있어서의 X1 및 L1은 각각, 일반식 (A)에 있어서의 X1 및 L1과 동의이며, 바람직한 범위도 동일하다.X 1 and L 1 in the general formula (P) are in agreement with X 1 and L 1 in the general formula (A), respectively, and preferable ranges are also the same.

P는, 알킬렌옥시쇄의 반복으로 이루어지는 기를 포함하는 기를 나타내며, -알킬렌옥시쇄의 반복으로 이루어지는 기-말단 원자 또는 말단기로 이루어지는 것이 보다 바람직하다.P represents a group containing a group consisting of repeating alkyleneoxy chains, more preferably consisting of a group-terminal atom or terminal group formed by repetition of -alkyleneoxy chains.

말단 원자 또는 말단기로서는, 수소 원자, 알킬기, 아릴기, 수산기가 바람직하고, 수소 원자, 탄소수 1~5의 알킬기, 페닐기, 수산기가 보다 바람직하며, 수소 원자, 메틸기, 페닐기 및 수산기가 더 바람직하고, 수소 원자가 특히 바람직하다.The terminal atom or the terminal group is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a hydroxyl group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a phenyl group or a hydroxyl group, more preferably a hydrogen atom, , And a hydrogen atom is particularly preferable.

이하, (b) 반복 단위의 예를 나타내지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.Examples of the repeating unit (b) are shown below, but are not limited thereto.

[화학식 49](49)

Figure 112016121945081-pct00049
Figure 112016121945081-pct00049

P가 다른 알칼리 가용성기를 포함하는 반복 단위를 포함하는 경우, P를 구성하는 반복 단위 100몰에 대하여, 예를 들면 10~80몰이 바람직하고, 10~65몰이 보다 바람직하다.When P contains a repeating unit containing another alkali-soluble group, it is preferably 10 to 80 moles, more preferably 10 to 65 moles, per 100 moles of the repeating unit constituting P, for example.

또, 산기 또는 다른 알칼리 가용성기를 포함하는, 전체 알칼리 가용성기를 포함하는 반복 단위의 비율은, P를 구성하는 반복 단위 100몰에 대하여, 예를 들면 10~80몰이 바람직하고, 10~65몰이 보다 바람직하다.The proportion of repeating units containing an alkali-soluble group or an alkali-soluble group is preferably 10 to 80 moles, more preferably 10 to 65 moles, per 100 moles of repeating units constituting P Do.

<<<<중합성기를 포함하는 반복 단위>>>><<<< Repeating units containing polymeric groups >>>>

중합성기를 포함하는 반복 단위에 포함되는 중합성기로서는, 라디칼, 산, 열에 의하여 가교 가능한 공지의 중합성기를 이용할 수 있으며, 예를 들면 에틸렌성 불포화 결합을 포함하는 기, 환상 에터기(에폭시기, 옥세테인기), 메틸올기 등을 들 수 있는데, 특히 에틸렌성 불포화 결합을 포함하는 기가 바람직하고, (메트)아크릴로일기가 더 바람직하며, (메트)아크릴산 글리시딜 및 3,4-에폭시사이클로헥실메틸(메트)아크릴레이트 유래의 (메트)아크릴로일기가 더 바람직하다.As the polymerizable group contained in the repeating unit containing a polymerizable group, a known polymerizable group capable of crosslinking by radicals, acids, and heat can be used, and examples thereof include groups containing an ethylenically unsaturated bond, cyclic ethers (epoxy group, (Meth) acryloyl groups are more preferable, and glycidyl (meth) acrylate and 3,4-epoxycyclohexyl (meth) acryloyl groups are more preferable, and groups containing an ethylenically unsaturated bond are preferable, More preferred is a (meth) acryloyl group derived from methyl (meth) acrylate.

중합성기의 도입 방법으로서는, (1) (a) 반복 단위 등 중합성기를 도입하고자 하는 반복 단위에 중합성기 함유 화합물로 변성하여 도입하는 방법, (2) 중합성기 함유 화합물을 공중합하여 도입하는 방법 등이 있다.Examples of the method of introducing the polymerizable group include: (1) a method of modifying and introducing a polymerizable group-containing compound into a repeating unit into which a polymerizable group is to be introduced, such as (a) a repeating unit, (2) a method of copolymerizing and introducing a polymerizable group- .

색소 구조를 갖는 분산제에 포함되는 중합성기량은, 포함되는 경우, 색소 구조 1g에 대하여 0.1~2.0mmol인 것이 바람직하고, 0.2~1.5mmol인 것이 더 바람직하며, 0.3~1.0mmol인 것이 특히 바람직하다.The amount of the polymerizable group contained in the dispersant having a pigment structure is preferably 0.1 to 2.0 mmol, more preferably 0.2 to 1.5 mmol, and particularly preferably 0.3 to 1.0 mmol based on 1 g of the pigment structure, .

또, P가 중합성기를 포함하는 반복 단위를 포함하는 경우, 그 양은, P를 구성하는 전체 반복 단위 100몰에 대하여, 예를 들면 5~40몰이 바람직하고, 5~35몰이 보다 바람직하다.When P contains a repeating unit containing a polymerizable group, the amount thereof is preferably 5 to 40 moles, more preferably 5 to 35 moles, per 100 moles of all the repeating units constituting P, for example.

상기 중합성기를 갖는 반복 단위로서는, 이하와 같은 구체예를 들 수 있다. 단, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.Examples of the repeating unit having a polymerizable group include the following specific examples. However, the present invention is not limited thereto.

[화학식 50](50)

Figure 112016121945081-pct00050
Figure 112016121945081-pct00050

[화학식 51](51)

Figure 112016121945081-pct00051
Figure 112016121945081-pct00051

[화학식 52](52)

Figure 112016121945081-pct00052
Figure 112016121945081-pct00052

<<<<매크로모노머에 유래하는 반복 단위>>>><<<< Repeating Units Derived from Macromonomers >>>>

매크로모노머에 유래하는 반복 단위는, 에틸렌성 불포화 단량체에 유래하는 반복 단위인 것이 바람직하다. 매크로모노머에 유래하는 반복 단위는, 1종만 포함되어 있어도 되고, 2종 이상 포함되어 있어도 된다.The repeating unit derived from the macromonomer is preferably a repeating unit derived from an ethylenically unsaturated monomer. The repeating unit derived from the macromonomer may be contained only in one kind or in two or more kinds.

매크로모노머에 유래하는 반복 단위의 중량 평균 분자량은, 1,000 이상 50,000 이하가 바람직하고, 1,000 이상 20,000 이하가 보다 바람직하며, 2,000 이상 10,000 이하가 더 바람직하고, 2,000 이상 5,000 이하가 특히 바람직하다.The weight average molecular weight of the repeating unit derived from the macromonomer is preferably 1,000 or more and 50,000 or less, more preferably 1,000 or more and 20,000 or less, still more preferably 2,000 or more and 10,000 or less, particularly preferably 2,000 or more and 5,000 or less.

매크로모노머에 유래하는 반복 단위로서는, 유연성 또한 친용제성이 우수한 폴리에스터계 매크로모노머 부위를 갖는 반복 단위가, 안료의 분산성, 분산 안정성 및 안료 분산액을 이용한 착색 조성물이 나타내는 현상성의 관점에서 바람직하다.The repeating unit derived from the macromonomer is preferably a repeating unit having a polyester macromonomer moiety having flexibility and excellent hydrophilicity from the viewpoint of the dispersibility of the pigment, the dispersion stability, and the developability exhibited by the coloring composition using the pigment dispersion.

매크로모노머에 유래하는 반복 단위는, 하기 일반식 (b-3A)로 나타나는 것이 바람직하고, 하기 일반식 (b-3B)로 나타나는 것이 보다 바람직하며, 하기 일반식 (b-3C)로 나타나는 것이 더 바람직하다.The repeating unit derived from the macromonomer is preferably represented by the following general formula (b-3A), more preferably represented by the following general formula (b-3B), more preferably represented by the following general formula (b-3C) desirable.

일반식 (b-3A)In the general formula (b-3A)

[화학식 53](53)

Figure 112016121945081-pct00053
Figure 112016121945081-pct00053

(일반식 (b-3A) 중, R3A는 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. L3A는 단결합 또는 2가의 연결기를 나타낸다. A3A는 (b-3) 중량 평균 분자량이 1000 이상 50000 이하의 부위를 나타낸다.)(Wherein R 3A represents a hydrogen atom or a methyl group), L 3A represents a single bond or a divalent linking group, and A 3A represents a linking group having a weight average molecular weight of 1000 to 50000 (b-3) Lt; / RTI &gt;

일반식 (b-3A) 중, L3A가 2가의 연결기를 나타내는 경우, 2가의 연결기로서는, 알킬렌기, 아릴렌기 및 헤테로아릴렌기로부터 선택되는 적어도 1종, 또는 이들 기와 -NH-, -CO-, -CONH-, -CO2-, -SO2NH-, -O-, -S- 및 -SO2-로부터 선택되는 적어도 1종의 기와의 조합으로 이루어지는 기를 들 수 있으며, 특히, 알킬렌기와, -CO2-와, -CO-와, -CONH-의 조합으로 이루어지는 기가 바람직하다.In the general formula (b-3A), when L 3A represents a divalent linking group, examples of the divalent linking group include at least one kind selected from an alkylene group, an arylene group and a heteroarylene group, , -CONH-, -CO 2 -, -SO 2 NH-, -O-, -S- and -SO 2 -, and include groups comprising a combination of at least one kind of groups selected from, in particular, an alkylene group , -CO 2 -, -CO- and -CONH-.

일반식 (b-3B)In general formula (b-3B)

[화학식 54](54)

Figure 112016121945081-pct00054
Figure 112016121945081-pct00054

(일반식 (b-3B) 중, R3A는 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. L3A는 단결합 또는 2가의 연결기를 나타낸다. R3B는 알킬렌기를 나타낸다. R3C는 알킬기를 나타낸다. n은 5~100의 정수를 나타낸다.)(Wherein R 3A represents a hydrogen atom or a methyl group, L 3A represents a single bond or a divalent linking group, R 3B represents an alkylene group, R 3C represents an alkyl group, n represents 5 Represents an integer of 1 to 100).

일반식 (b-3B) 중, L3A는, 상술한 일반식 (b-3A) 중의 L3A와 동의이며, 바람직한 범위도 동일하다.In the general formula (b-3B), L 3A is an L 3A and consent of the above-described formula (3A-b), the preferred range is also the same.

일반식 (b-3B) 중, R3B는 탄소수 1~10의 직쇄 또는 분기의 알킬렌기가 바람직하고, 탄소수 1~10의 직쇄의 알킬렌기가 보다 바람직하며, 무치환의 탄소수 5~20의 직쇄의 알킬렌기가 더 바람직하고, -(CH2)5-가 특히 바람직하다.In the general formula (b-3B), R 3B is preferably a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably a linear alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and an unsubstituted linear chain having 5 to 20 carbon atoms Is more preferable, and - (CH 2 ) 5 - is particularly preferable.

일반식 (b-3B) 중, R3C는, 탄소수 5~20의 직쇄 또는 분기의 알킬기가 바람직하다.In the general formula (b-3B), R 3C is preferably a linear or branched alkyl group having 5 to 20 carbon atoms.

일반식 (b-3B) 중, n은 5~100의 정수를 나타내고, 5~80의 정수가 바람직하다.In the general formula (b-3B), n represents an integer of 5 to 100, preferably an integer of 5 to 80.

일반식 (b-3C)The compound represented by the general formula (b-3C)

[화학식 55](55)

Figure 112016121945081-pct00055
Figure 112016121945081-pct00055

(일반식 (b-3C) 중, R3A는 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. R3B는 알킬렌기를 나타낸다. R3C는 알킬기를 나타낸다. n은 5~100의 정수를 나타낸다.)(In the general formula (b-3C), R 3A represents a hydrogen atom or a methyl group, R 3B represents an alkylene group, R 3C represents an alkyl group, and n represents an integer of 5 to 100.

일반식 (b-3C) 중, R3A, R3B, R3C 및 n은, 상술한 일반식 (b-3B) 중 R3A, R3B, R3C 및 n과 동의이며, 바람직한 범위도 동일하다.In the general formula (b-3C), R 3A , R 3B, R 3C and n have the above-described formula (b-3B), and of the R 3A, R 3B, R 3C and n and copper, the preferred range is also the same .

매크로모노머에 유래하는 반복 단위의 예로서는, 하기 식을 들 수 있다. 하기 식에 있어서, n은 5~100의 정수이며, 예를 들면 n=10, n=30, n=50 등을 바람직한 예로서 들 수 있다.Examples of the repeating unit derived from the macromonomer include the following formulas. In the following formulas, n is an integer of 5 to 100, and examples thereof include n = 10, n = 30, n = 50 and the like.

[화학식 56](56)

Figure 112016121945081-pct00056
Figure 112016121945081-pct00056

또, 시판품의 매크로모노머, 예를 들면 도아 고세이제의 AA-6 유래의 반복 단위도 본 발명에 있어서의 바람직한 매크로모노머에 유래하는 반복 단위의 예로 들 수 있다.A commercially available macromonomer, for example, a repeating unit derived from AA-6 from Doogusa Co., is also an example of a repeating unit derived from a preferable macromonomer in the present invention.

P가 매크로모노머에 유래하는 반복 단위를 포함하는 경우, 그 비율은, 전체 반복 단위 100몰에 대하여, 3~20몰이 바람직하다.When P contains a repeating unit derived from a macromonomer, the ratio is preferably 3 to 20 moles per 100 moles of the total repeating units.

<<<<다른 반복 단위>>>><<<< Other Repeat Units >>>>

본 발명에 있어서의 P는, 상술한 반복 단위 이외의 반복 단위를 갖고 있어도 된다. 구체적으로는, P에 포함되어 있어도 되는 반복 단위로서는, 락톤기, 산무수물기, 아마이드기, -COCH2CO-, 사이아노기 등의 현상 촉진기, 장쇄 및 환상 알킬기, 아랄킬기, 아릴기, 폴리알킬렌옥사이드기, 하이드록실기, 말레이미드기, 아미노기 등의 친소수성 조정기 등으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 반복 단위가 예시된다.The P in the present invention may have a repeating unit other than the repeating unit described above. Specific examples of the repeating unit which may be contained in P include a phenol group such as a lactone group, an acid anhydride group, an amide group, -COCH 2 CO-, a development promoter such as a cyano group, a long chain and cyclic alkyl group, an aralkyl group, An alkylene oxide group, a hydrophilic regulator such as a hydroxyl group, a maleimide group and an amino group, and the like.

이들은, 1종류만 포함되어 있어도 되고, 2종류 이상 포함되어 있어도 된다.These may be contained only in one kind or in two or more kinds.

도입 방법으로서, 색소 구조에 미리 도입해 두는 방법, 및 상기의 기를 갖는 모노머를 공중합하는 방법을 들 수 있다.As an introduction method, there may be mentioned a method of introducing into the dye structure in advance, and a method of copolymerizing monomers having the above groups.

P가 다른 반복 단위를 포함하는 경우, 그 비율은, 전체 반복 단위 100몰에 대하여, 3~20몰이 바람직하다.When P contains other repeating units, the ratio is preferably 3 to 20 moles with respect to 100 moles of the total repeating units.

상술한 산기를 포함하는 반복 단위 등, 또는 다른 반복 단위의 구체예를 나타내지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다. 또, 후술하는 실시예에서 이용하는, M-10, O-6, O-7 등 유래의 반복 단위도 바람직한 예로서 이용되는 것은 말할 필요도 없다.Specific examples of the repeating unit including the above-mentioned acid group or other repeating units are shown, but the present invention is not limited thereto. Needless to say, the repeating units derived from M-10, O-6, O-7 and the like used in the examples described later are also used as preferable examples.

[화학식 57](57)

Figure 112016121945081-pct00057
Figure 112016121945081-pct00057

일반식 (1) 중, D는 상술한 색소 구조를 나타낸다. 바람직한 범위도 동의이다.In the general formula (1), D represents the above-described dye structure. The preferred range is also agreement.

<<일반식 (1)로 나타나는 색소 구조를 갖는 분산제의 합성 방법>><< Synthesis Method of Dispersant Having Pigment Structure Represented by General Formula (1) >>

상기 일반식 (1)로 나타나는 색소 구조를 갖는 분산제는, 하기 방법 등에 의하여 합성할 수 있다.The dispersant having a pigment structure represented by the above general formula (1) can be synthesized by the following method or the like.

(1) 카복실기, 하이드록실기, 아미노기 등으로부터 선택되는 관능기를 말단에 도입한 폴리머와, 색소 구조를 갖는 산 할라이드, 색소 구조를 갖는 알킬할라이드, 혹은 색소 구조를 갖는 아이소사이아네이트 등을 고분자 반응시키는 방법.(1) a polymer in which a functional group selected from a carboxyl group, a hydroxyl group and an amino group is introduced at the terminal thereof, an acid halide having a dye structure, an alkyl halide having a dye structure, or an isocyanate having a dye structure, Lt; / RTI &gt;

(2) 말단에 탄소-탄소 이중 결합을 도입한 폴리머와, 색소 구조를 갖는 머캅탄을 마이클 부가 반응시키는 방법.(2) A method in which a polymer having a carbon-carbon double bond introduced at its terminal and a mercaptan having a dye structure are subjected to Michael addition reaction.

(3) 말단에 탄소-탄소 이중 결합을 도입한 폴리머와, 색소 구조를 갖는 머캅탄을 라디칼 발생제 존재하에서 반응시키는 방법.(3) A method in which a polymer having a carbon-carbon double bond introduced at its terminal and a mercaptan having a dye structure are reacted in the presence of a radical generator.

(4) 말단에 복수의 머캅탄을 도입한 폴리머와, 탄소-탄소 이중 결합 및 색소 구조를 갖는 화합물을 라디칼 발생제 존재하에서 반응시키는 방법.(4) A method of reacting a polymer having a plurality of mercaptans introduced at its terminal and a compound having a carbon-carbon double bond and a pigment structure in the presence of a radical generator.

(5) 색소 구조를 갖는 싸이올 화합물의 존재하에서, 바이닐 화합물을 라디칼 중합하는 방법.(5) A method of radical polymerization of a vinyl compound in the presence of a thiol compound having a dye structure.

상기 중, 합성상의 용이성에서, (2)~(5)의 합성 방법이 바람직하고, (3)~(5)의 합성 방법이 보다 바람직하다.From the viewpoint of ease of synthesis, the synthesis method of (2) to (5) is preferable, and the synthesis method of (3) to (5) is more preferable.

상기 (5)의 합성 방법으로서, 보다 구체적으로는, 하기 일반식 (3)으로 나타나는 화합물의 존재하에서 라디칼 중합시키는 방법이 바람직하다.As the synthesis method of the above (5), more specifically, a radical polymerization method in the presence of a compound represented by the following general formula (3) is preferable.

(D-R4-(S)p)n-R3-(SH)m …(3)(DR 4 - (S) p ) n - R 3 - (SH) m - (3)

일반식 (3) 중, R3은, (m+n)가의 연결기를 나타내고, D는, 색소 구조를 나타내며, R4는, 단결합 또는 2가의 연결기를 나타내고, S는, 황 원자를 나타내며, SH는, 싸이올기를 나타내고, m은, 1~13의 정수를 나타내며, n은, 2~14의 정수를 나타내고, n이 2 이상인 경우, 복수의 D는 서로 상이해도 되며, m+n은, 2~15의 정수를 나타내고, p는 0 또는 1을 나타낸다.In the general formula (3), R 3 represents a linking group of (m + n), D represents a dye structure, R 4 represents a single bond or a divalent linking group, S represents a sulfur atom, SH represents a thiol group, m represents an integer of 1 to 13, n represents an integer of 2 to 14, and when n is 2 or more, a plurality of D may be mutually different and m + Represents an integer of 2 to 15, and p represents 0 or 1.

일반식 (3) 중, D는, 일반식 (1)에 있어서의 D와 동의이며, 바람직한 양태도 동일하다.In the general formula (3), D is synonymous with D in the general formula (1), and preferred embodiments are also the same.

일반식 (3) 중, R3은, 일반식 (1)에 있어서의 R1과 동의이며, 바람직한 양태도 동일하다.In the general formula (3), R 3 is synonymous with R 1 in the general formula (1), and preferred embodiments are also the same.

일반식 (3) 중, R4는, 일반식 (1)에 있어서의 R2와 동의이며, 바람직한 양태도 동일하다.In the general formula (3), R 4 is the same as R 2 in the general formula (1), and preferred embodiments are also the same.

일반식 (3) 중, m 및 n은, 각각 일반식 (1)에 있어서의 m 및 n과 동의이며, 바람직한 양태도 동일하다.In the general formula (3), m and n are each the same as m and n in the general formula (1), and preferred embodiments are also the same.

일반식 (3) 중, p는 0 또는 1을 나타낸다.In the general formula (3), p represents 0 or 1.

일반식 (3)으로 나타나는 화합물은, 이하의 방법 등으로 합성할 수 있지만, 합성상의 용이성에서, 하기 (7)의 방법이 보다 바람직하다.The compound represented by the general formula (3) can be synthesized by the following method or the like, but from the viewpoint of ease of synthesis, the following method (7) is more preferable.

(6) 색소 구조를 갖는 할라이드 화합물로부터 머캅탄 화합물로 변환하는 방법(싸이오 요소와 반응시켜, 가수분해하는 방법, NaSH와 직접 반응시키는 방법, CH3COSNa와 반응시켜, 가수분해시키는 방법 등을 들 수 있음)(6) a method of converting a halide compound having a dye structure into a mercaptan compound (a method of reacting with a thioether, a method of hydrolyzing, a method of directly reacting with NaSH, a method of reacting with CH 3 COSNa, .

(7) 1분자 중에 2~15개의 머캅토기를 갖는 화합물에, 색소 구조를 갖고, 또한 머캅토기와 반응 가능한 관능기를 갖는 화합물을 부가 반응시키는 방법(7) a method in which a compound having a dye structure and having a functional group capable of reacting with a mercapto group is additionally reacted with a compound having 2 to 15 mercapto groups in one molecule

상기 (7)에 있어서의 "머캅토기와 반응 가능한 관능기"로서는, 산 할라이드, 알킬할라이드, 아이소사이아네이트, 탄소-탄소 이중 결합 등을 적합하게 들 수 있다.Examples of the "functional group capable of reacting with the mercapto group" in (7) include an acid halide, an alkyl halide, an isocyanate, and a carbon-carbon double bond.

"머캅토기와 반응 가능한 관능기"가 탄소-탄소 이중 결합이며, 부가 반응이 라디칼 부가 반응인 것이 특히 바람직하다. 또한, 탄소-탄소 이중 결합으로서는, 머캅토기와의 반응성의 점에서, 1치환 혹은 2치환의 바이닐기가 보다 바람직하다.It is particularly preferable that the "functional group capable of reacting with the mercapto group" is a carbon-carbon double bond, and the addition reaction is a radical addition reaction. As the carbon-carbon double bond, a monovalent or divalent vinyl group is more preferable in terms of reactivity with a mercapto group.

1분자 중에 2~15개의 머캅토기를 갖는 화합물의 구체적인 예로서는, 이하의 화합물을 들 수 있다.Specific examples of the compound having 2 to 15 mercapto groups in a molecule include the following compounds.

[화학식 58](58)

Figure 112016121945081-pct00058
Figure 112016121945081-pct00058

[화학식 59][Chemical Formula 59]

Figure 112016121945081-pct00059
Figure 112016121945081-pct00059

[화학식 60](60)

Figure 112016121945081-pct00060
Figure 112016121945081-pct00060

상기 중에서도, 원료의 입수성, 합성의 용이성, 각종 용매에 대한 용해성의 관점에서, 특히 바람직한 화합물은, (S-1), (S-2), (S-10), (S-11), (S-16)~(S-20), (S-26)~(S-29)이다.Particularly preferable compounds among the above are (S-1), (S-2), (S-10), (S-11), (S-16) to (S-20), (S-26) to (S-29).

"1분자 중에 2~15개의 머캅토기를 갖는 화합물"과, "색소 구조를 갖고, 또한 머캅토기와 반응 가능한 관능기를 갖는 화합물"의 라디칼 부가 반응 생성물은, 예를 들면 상기의 "1분자 중에 2~15개의 머캅토기를 갖는 화합물" 및 "색소 구조를 갖고, 또한 머캅토기와 반응 가능한 관능기를 갖는 화합물"을 적당한 용매 중에 용해하고, 여기에 라디칼 발생제를 첨가하여, 약 50℃~100℃에서, 부가시키는 방법(싸이올-엔 반응법)을 이용하여 얻어진다.The radical addition reaction product of the "compound having 2 to 15 mercapto groups in one molecule" and the "compound having a pigment structure and having a functional group capable of reacting with a mercapto group" includes, for example, And a compound having a dye structure and having a functional group capable of reacting with a mercapto group "are dissolved in an appropriate solvent, a radical generator is added thereto, and the mixture is heated at about 50 ° C to 100 ° C (Thion-ene reaction method).

싸이올-엔 반응법에서 이용되는 적당한 용매의 예로서는, "1분자 중에 3~10개의 머캅토기를 갖는 화합물", "색소 구조를 갖고, 또한 머캅토기와 반응 가능한 관능기를 갖는 화합물", 및 "생성되는 라디칼 부가 반응 생성물"의 용해성에 따라 임의로 선택할 수 있다.Examples of a suitable solvent to be used in the thiol-ene reaction method include a compound having 3 to 10 mercapto groups in one molecule, a compound having a pigment structure and having a functional group capable of reacting with a mercapto group, Can be arbitrarily selected depending on the solubility of the " radical addition reaction product "

예를 들면, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 아이소프로판올, 1-메톡시-2-프로판올, 1-메톡시-2-프로필아세테이트, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸아이소뷰틸케톤, 메톡시프로필아세테이트, 락트산 에틸, 아세트산 에틸, 아세토나이트릴, 테트라하이드로퓨란, 다이메틸폼아마이드, 클로로폼, 톨루엔을 들 수 있다. 이들 용매는, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.Methoxy-2-propanol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methoxypropyl acetate, ethyl lactate, ethyl lactate, , Ethyl acetate, acetonitrile, tetrahydrofuran, dimethylformamide, chloroform, and toluene. These solvents may be used in combination of two or more kinds.

또, 라디칼 발생제로서는, 2,2'-아조비스(아이소뷰티로나이트릴)(AIBN), 2,2'-아조비스-(2,4'-다이메틸발레로나이트릴), 2,2'-아조비스아이소뷰티르산 다이메틸과 같은 아조 화합물, 벤조일퍼옥사이드와 같은 과산화물, 및 과황산 칼륨, 과황산 암모늄과 같은 과황산염 등을 이용할 수 있다.Examples of the radical generator include 2,2'-azobis (isobutyronitrile) (AIBN), 2,2'-azobis- (2,4'-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis Azo compounds such as azobisisobutyrate, peroxides such as benzoyl peroxide, and persulfates such as potassium persulfate and ammonium persulfate.

상기 (5)의 합성 방법에서 이용되는 바이닐 화합물로서는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면 상기 일반식 (1)의 P로 나타나는 치환기를 얻을 때에 이용되는 바이닐 화합물과 동일한 것이 이용된다.The vinyl compound used in the above synthesis method (5) is not particularly limited, and for example, the same vinyl compound as used for obtaining the substituent represented by P in the general formula (1) is used.

바이닐 화합물은 1종만으로 중합시켜도 되고, 2종 이상을 병용하여 공중합시켜도 된다.The vinyl compound may be polymerized singly or in combination of two or more.

또, 알칼리 현상 처리가 필요한 광경화성 조성물에 적용하는 경우, 1종 이상의 산기를 갖는 바이닐 화합물과, 1종 이상의 산기를 갖지 않는 바이닐 화합물을 공중합시키는 것이 보다 바람직하다.Further, when the composition is applied to a photocurable composition requiring an alkali developing treatment, it is more preferable to copolymerize a vinyl compound having at least one acid group and a vinyl compound having at least one acid group.

특히, 바이닐 화합물과, 일반식 (3)으로 나타나는 화합물을 이용하여, 공지의 방법으로 통상의 방법에 따라 중합시키는 것이 바람직하다. 또한, 일반식 (3)으로 나타나는 화합물은, 연쇄 이동제로서 기능하는 것이며, 이하, 간단히 "연쇄 이동제"라고 칭하는 경우가 있다.Particularly, it is preferable that the vinyl compound and the compound represented by the general formula (3) are used and polymerized by a known method in accordance with a conventional method. The compound represented by the general formula (3) functions as a chain transfer agent, and hereinafter may be simply referred to as a "chain transfer agent ".

예를 들면, 이들 바이닐 화합물, 및 연쇄 이동제를 적당한 용매 중에 용해하고, 여기에 라디칼 중합 개시제를 첨가하여, 약 50℃~220℃에서, 용액 중에서 중합시키는 방법(용액 중합법)을 이용하여 얻어진다.For example, these vinyl compounds and chain transfer agents are dissolved in an appropriate solvent, a radical polymerization initiator is added thereto, and polymerization is carried out in a solution at about 50 ° C to 220 ° C (solution polymerization method) .

용액 중합법에서 이용되는 적당한 용매의 예로서는, 이용하는 모노머, 및 생성하는 공중합체의 용해성에 따라 임의로 선택할 수 있다. 예를 들면, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 아이소프로판올, 1-메톡시-2-프로판올, 1-메톡시-2-프로필아세테이트, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸아이소뷰틸케톤, 메톡시프로필아세테이트, 락트산 에틸, 아세트산 에틸, 아세토나이트릴, 테트라하이드로퓨란, 다이메틸폼아마이드, 클로로폼, 톨루엔을 들 수 있다. 이들 용매는, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of a suitable solvent to be used in the solution polymerization method may be arbitrarily selected depending on the solubility of the monomer to be used and the copolymer to be produced. Methoxy-2-propanol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methoxypropyl acetate, ethyl lactate, ethyl lactate, , Ethyl acetate, acetonitrile, tetrahydrofuran, dimethylformamide, chloroform, and toluene. These solvents may be used in combination of two or more kinds.

또, 라디칼 중합 개시제로서는, 2,2'-아조비스(아이소뷰티로나이트릴), 2,2'-아조비스-(2,4'-다이메틸발레로나이트릴), 2,2'-아조비스아이소뷰티르산 다이메틸과 같은 아조 화합물, 벤조일퍼옥사이드와 같은 과산화물, 및 과황산 칼륨, 과황산 암모늄과 같은 과황산염 등을 이용할 수 있다.Examples of the radical polymerization initiator include 2,2'-azobis (isobutyronitrile), 2,2'-azobis- (2,4'-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azo Azo compounds such as dimethyl bisisobutyrate, peroxides such as benzoyl peroxide, and persulfates such as potassium persulfate and ammonium persulfate.

<<<색소 구조를 갖는 분산제의 제2 실시형태>>><<< Second Embodiment of Dispersant Having a Pigment Structure >>>

색소 구조를 갖는 분산제의 다른 실시형태로서는, 색소 구조를 갖는 반복 단위(이하, "(a) 반복 단위"라고 하는 경우가 있음)를 포함하는 다량체가 예시된다.As another embodiment of the dispersant having a dye structure, a polymer containing a repeating unit having a dye structure (hereinafter may be referred to as "(a) repeating unit") is exemplified.

(a) 반복 단위의 골격 구조로서는, 특별히 정하는 것은 아니지만, 일본 공개특허공보 2013-28764호의 단락 번호 0276~0304에 나타나는, 일반식 (A), 일반식 (B), 및 일반식 (C)로 나타나는 반복 단위 중 적어도 하나를 골격으로 하는 것이 바람직하고, 또는 일반식 (D)로 나타나는 다량체인 것이 바람직하다. 일본 공개특허공보 2013-28764호의 단락 번호 0276~0304의 기재는, 본 명세서에 원용된다.(A), the general formula (B), and the general formula (C) shown in paragraphs 0276 to 0304 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-28764 It is preferable that at least one of the appearing repeating units is a skeleton, or a large amount represented by the formula (D) is preferable. The description of paragraphs 0276 to 0304 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-28764 is hereby incorporated by reference.

색소 구조를 갖는 분산제는, (a) 반복 단위의 골격 구조 중에서는, 하기 일반식 (A)로 나타나는 반복 단위를 포함하는 다량체를 포함하는 것이 바람직하다.The dispersant having a pigment structure preferably contains a multimer containing repeating units represented by the following formula (A) in the skeleton structure of the repeating unit (a).

색소 구조를 갖는 반복 단위의 비율은, 상기 다량체를 구성하는 전체 반복 단위의 10~35몰%인 것이 바람직하고, 15~30몰%인 것이 보다 바람직하다.The proportion of repeating units having a dye structure is preferably 10 to 35 mol%, more preferably 15 to 30 mol%, of the total repeating units constituting the above multimer.

일반식 (A)로 나타나는 반복 단위The repeating unit represented by the general formula (A)

[화학식 61](61)

Figure 112016121945081-pct00061
Figure 112016121945081-pct00061

(일반식 (A) 중, X1은 중합에 의하여 형성되는 연결기를 나타내고, L1은 단결합 또는 2가의 연결기를 나타낸다. DyeI은 색소 구조를 나타낸다.)(In the general formula (A), X 1 represents a linking group formed by polymerization, L 1 represents a single bond or a divalent linking group, and Dye I represents a pigment structure.)

일반식 (A) 중, X1은 중합에 의하여 형성되는 연결기를 나타낸다. 즉 중합 반응으로 형성되는 주쇄에 상당하는 반복 단위를 형성하는 부분을 가리킨다. 또한, 2개의 *로 나타난 부위가 반복 단위가 된다. X1은, -CH2-CH2- 또는 -CH2-C(CH3)-인 것이 바람직하다. L1이 2가의 연결기를 나타내는 경우의 2가의 연결기로서는, 탄소수 1~30의 치환 혹은 무치환의 알킬렌기(예를 들면, 메틸렌기, 에틸렌기, 트라이메틸렌기, 프로필렌기, 뷰틸렌기 등), 탄소수 6~30의 치환 혹은 무치환의 아릴렌기(예를 들면, 페닐렌기, 나프틸렌기 등), 치환 혹은 무치환의 헤테로환 연결기, -CH=CH-, -O-, -S-, -C(=O)-, -CO2-, -NR-, -CONR-, -O2C-, -SO-, -SO2- 및 이들을 2개 이상 연결하여 형성되는 연결기를 나타내고, -COO- 또는 페닐렌기를 포함하는 연결기인 것이 바람직하다.In the general formula (A), X 1 represents a linking group formed by polymerization. That is, a part forming a repeating unit corresponding to a main chain formed by a polymerization reaction. In addition, the parts indicated by two * are repeated units. X 1 is preferably -CH 2 -CH 2 - or -CH 2 -C (CH 3 ) -. Examples of the divalent linking group when L 1 represents a divalent linking group include a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 30 carbon atoms (e.g., a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a propylene group, a butylene group, etc.) A substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 30 carbon atoms (e.g., a phenylene group or a naphthylene group), a substituted or unsubstituted heterocyclic linking group, -CH = CH-, -O-, -S-, C (= O) -, -CO 2 -, -NR-, -CONR-, -O 2 C-, -SO-, -SO 2 - and these represents a linking group formed by linking two or more, -COO- Or a linking group containing a phenylene group.

X1-L1 부분의 구조로서는, 특히 하기 (XX-1)~(XX-24)로 나타나는 연결기가 바람직하고, (XX-1) 및 (XX-2)로 나타나는 (메트)아크릴계 연결쇄, (XX-10)~(XX-17)로 나타나는 스타이렌계 연결쇄, (XX-18) 및 (XX-19)와, (XX-24)로 나타나는 바이닐계 연결쇄로부터 선택되는 것이 보다 바람직하며, (XX-1) 및 (XX-2)로 나타나는 (메트)아크릴계 연결쇄, (XX-10)~(XX-17)로 나타나는 스타이렌계 연결쇄, (XX-24)로 나타나는 바이닐계 연결쇄로부터 선택되는 것이 보다 바람직하고, (XX-1) 및 (XX-2)로 나타나는 (메트)아크릴계 연결쇄 및 (XX-11)로 나타나는 스타이렌계 연결쇄가 보다 바람직하다.As the structure of the X 1 -L 1 moiety, a linking group represented by the following formulas (XX-1) to (XX-24) is preferable and a (meth) acrylic linkage chain represented by (XX- More preferably selected from vinyl-based connecting chains represented by the following formulas (XX-10) to (XX-17), (XX-18), (XX-19) and (XX- Chain linkage chain represented by the following formula (XX-1) and (XX-2), the styrene-based linkage chain represented by (XX-10) And more preferably a styrene linkage chain represented by (meth) acrylic linkage chain and (XX-11) represented by (XX-1) and (XX-2).

(XX-1)~(XX-24) 중, *로 나타난 부위에서 L1과 연결되어 있는 것을 나타낸다.(XX-1) to (XX-24), it is connected to L 1 at the site indicated by *.

Me는 메틸기를 나타낸다. 또, (XX-18) 및 (XX-19) 중 R은, 수소 원자, 탄소수 1~5의 알킬기 또는 페닐기를 나타낸다.Me represents a methyl group. In the formulas (XX-18) and (XX-19), R represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group.

[화학식 62](62)

Figure 112016121945081-pct00062
Figure 112016121945081-pct00062

[화학식 63](63)

Figure 112016121945081-pct00063
Figure 112016121945081-pct00063

일반식 (A) 중, DyeI은 상술한 색소 구조를 나타낸다.In the general formula (A), DyeI represents the above-described dye structure.

일반식 (A)로 나타나는 반복 단위를 포함하는 다량체는, (1) 색소 구조를 갖는 모노머를 부가 중합에 의하여 합성하는 방법, (2) 아이소사이아네이트기, 산무수물기 또는 에폭시기 등의 고반응성 관능기를 갖는 폴리머와, 고반응성기와 반응 가능한 관능기(하이드록실기, 1급 또는 2급 아미노기, 카복실기 등)를 갖는 색소를 반응시키는 방법에 의하여 합성할 수 있다.The multimer containing the repeating unit represented by the general formula (A) is obtained by (1) a method of synthesizing a monomer having a dye structure by addition polymerization, (2) a method of synthesizing a monomer having a dye structure such as an isocyanate group, an acid anhydride group, A method of reacting a polymer having a reactive functional group with a dye having a functional group capable of reacting with a highly reactive group (a hydroxyl group, a primary or secondary amino group, a carboxyl group, or the like).

부가 중합에는 공지의 부가 중합(라디칼 중합, 음이온 중합, 양이온 중합)을 적용할 수 있지만, 이 중, 특히 라디칼 중합에 의하여 합성하는 것이 반응 조건을 온화화(穩和化)할 수 있고, 색소 구조를 분해시키지 않기 때문에 바람직하다. 라디칼 중합에는, 공지의 반응 조건을 적용할 수 있다. 즉, 본 발명에서 이용하는 다량체는, 부가 중합체인 것이 바람직하다.In the addition polymerization, known addition polymerization (radical polymerization, anion polymerization, cation polymerization) can be applied. Among them, the synthesis by radical polymerization in particular makes it possible to temper the reaction conditions, Since it is not decomposed. For the radical polymerization, known reaction conditions can be applied. That is, the multimer used in the present invention is preferably an addition polymer.

그 중에서도, 본 발명에 있어서의 일반식 (A)로 나타나는 반복 단위를 갖는 다량체는, 내열성의 관점에서, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 색소 단량체를 이용하여 라디칼 중합하여 얻어진 라디칼 중합체인 것이 바람직하다.Among them, a multimer having a repeating unit represented by the general formula (A) in the present invention is preferably a radical polymer obtained by radical polymerization using a dye monomer having an ethylenically unsaturated bond from the viewpoint of heat resistance.

이하에, 본 발명에서 바람직하게 이용되는 (a) 반복 단위의 예를 나타낸다. 본 발명은 이들에 한정되는 것이 아닌 것은 말할 필요도 없다. X-는 음이온 부위를 나타낸다. 또, 일부의 X-는 음이온 구조가 해리하고 있지 않은 상태로 나타나 있지만, 해리하고 있는 상태도 본 발명에 포함되는 것은 말할 필요도 없다.Examples of the repeating unit (a) preferably used in the present invention are shown below. It is needless to say that the present invention is not limited to these. X - represents an anionic moiety. In addition, although some of X &lt; - &gt; is shown as a state in which the anion structure is not dissociated, it goes without saying that the dissociation state is also included in the present invention.

[화학식 64]&Lt; EMI ID =

Figure 112016121945081-pct00064
Figure 112016121945081-pct00064

[화학식 65](65)

Figure 112016121945081-pct00065
Figure 112016121945081-pct00065

[화학식 66](66)

Figure 112016121945081-pct00066
Figure 112016121945081-pct00066

[화학식 67](67)

Figure 112016121945081-pct00067
Figure 112016121945081-pct00067

제2 실시형태에 있어서의 색소 구조를 갖는 분산제는, 상술한 일반식 (A)로 나타나는 반복 단위 등의 반복 단위 (a)에 더하여, 다른 반복 단위를 갖고 있어도 되고, 다른 반복 단위를 갖고 있는 것이 바람직하다.The dispersant having a pigment structure in the second embodiment may have another repeating unit in addition to the repeating unit (a) such as the repeating unit represented by the above-mentioned general formula (A) desirable.

다른 반복 단위로서는, 산기 등의 알칼리 가용성기를 포함하는 반복 단위, 중합성기를 포함하는 반복 단위, 매크로모노머에 유래하는 반복 단위 등이 예시되며, 산기 등의 알칼리 가용성기를 포함하는 반복 단위를 적어도 포함하는 것이 바람직하다. 이들 반복 단위에 대해서는, 상술한 색소 구조를 갖는 분산제의 제1 실시형태의 부분에서 설명한, 각 반복 단위를 채용할 수 있으며, 바람직한 범위도 동일하다. 또, 상술한 반복 단위 이외의 다른 반복 단위를 포함하고 있어도 되고, 다른 반복 단위에 대해서도, 상술한 색소 구조를 갖는 분산제의 제1 실시형태의 부분에서 설명한, 각 반복 단위를 채용할 수 있으며, 바람직한 범위도 동일하다.Examples of other repeating units include repeating units containing an alkali-soluble group such as an acid group, repeating units containing a polymerizable group, repeating units derived from a macromonomer, and the like, and include at least a repeating unit containing an alkali- . With regard to these repeating units, each of the repeating units described in the first embodiment of the dispersant having the above-described dye structure can be employed, and the preferable range is also the same. The repeating units other than the above-mentioned repeating units may be contained, and for the other repeating units, the repeating units described in the first embodiment of the dispersing agent having the above-mentioned dye structure may be employed, The range is the same.

제2 실시형태에 있어서의 색소 구조를 갖는 분산제가, 산기를 포함하는 반복 단위를 포함하는 경우, 그 비율은, 전체 반복 단위의, 10~80몰%가 바람직하고, 10~65몰%가 보다 바람직하다.When the dispersant having a dye structure in the second embodiment contains a repeating unit containing an acid group, the proportion thereof is preferably from 10 to 80 mol%, more preferably from 10 to 65 mol% desirable.

제2 실시형태에 있어서의 색소 구조를 갖는 분산제가, 다른 알칼리 가용성기를 포함하는 반복 단위를 포함하는 경우, 그 비율은, 전체 반복 단위의, 10~80몰%가 바람직하고, 10~65몰%가 보다 바람직하다.When the dispersant having a dye structure in the second embodiment contains a repeating unit containing another alkali-soluble group, the proportion thereof is preferably from 10 to 80 mol%, more preferably from 10 to 65 mol% Is more preferable.

제2 실시형태에 있어서의 색소 구조를 갖는 분산제가, 산기 또는 다른 알칼리 가용성기를 포함하는, 전체 알칼리 가용성기를 포함하는 반복 단위의 비율은, 전체 반복 단위의, 10~80몰%가 바람직하고, 10~65몰%가 보다 바람직하다.The proportion of the repeating unit containing the entire alkali-soluble group, in which the dispersant having the dye structure in the second embodiment contains an acid group or other alkali-soluble group, is preferably 10 to 80 mol%, more preferably 10 To 65 mol% is more preferable.

제2 실시형태에 있어서의 색소 구조를 갖는 분산제가 중합성기를 갖는 반복 단위를 포함하는 경우, 그 비율은, 전체 반복 단위의, 5~40몰%가 바람직하고, 5~35몰%가 보다 바람직하다.When the dispersant having a dye structure in the second embodiment contains a repeating unit having a polymerizable group, the proportion thereof is preferably from 5 to 40 mol%, more preferably from 5 to 35 mol%, of the total repeating units Do.

제2 실시형태에 있어서의 색소 구조를 갖는 분산제가 매크로모노머에 유래하는 반복 단위를 포함하는 경우, 그 비율은, 전체 반복 단위의 3~20몰%가 바람직하다.When the dispersant having a dye structure in the second embodiment contains a repeating unit derived from a macromonomer, the proportion thereof is preferably 3 to 20 mol% of the total repeating units.

제2 실시형태에 있어서의 색소 구조를 갖는 분산제가, 다른 반복 단위를 포함하는 경우, 그 비율은, 전체 반복 단위 100몰에 대하여, 3~20몰이 바람직하다.When the dispersant having a pigment structure in the second embodiment contains other repeating units, the proportion thereof is preferably 3 to 20 moles per 100 moles of the total repeating units.

<<<색소 구조를 갖는 분산제의 제성질>>><<< Properties of dispersants having pigment structure >>>

색소 구조를 갖는 분산제의 중량 평균 분자량은, 3000 이상이 바람직하고, 4000 이상이 보다 바람직하며, 5000 이상이 더 바람직하다. 또, 상한은, 50000 이하가 바람직하고, 40000 이하가 보다 바람직하며, 30000 이하가 더 바람직하다. 상기 범위를 충족시킴으로써, 이염성이 보다 양호해진다. 나아가서는, 현상성이 향상되어, 현상 잔사를 보다 저감할 수 있다.The weight average molecular weight of the dispersant having a pigment structure is preferably 3000 or more, more preferably 4000 or more, and still more preferably 5000 or more. The upper limit is preferably 50000 or less, more preferably 40000 or less, and even more preferably 30000 or less. By satisfying the above range, the flammability becomes better. Further, the developability is improved, and the development residue can be further reduced.

색소 구조를 갖는 분산제의 산가는, 10mgKOH/g 이상이 바람직하고, 20mgKOH/g 이상이 보다 바람직하며, 27mgKOH/g 이상이 더 바람직하고, 30mgKOH/g 이상이 특히 바람직하다. 또, 산가의 상한은 300mgKOH/g 이하가 바람직하고, 200mgKOH/g 이하가 보다 바람직하며, 180mgKOH/g 이하가 더 바람직하고, 130mgKOH/g 이하가 더욱더 바람직하며, 120mgKOH/g 이하가 보다 더 바람직하다. 상기 범위를 충족시킴으로써, 현상성이 보다 향상되어, 현상 잔사를 보다 저감할 수 있다.The acid value of the dispersant having a pigment structure is preferably 10 mgKOH / g or more, more preferably 20 mgKOH / g or more, even more preferably 27 mgKOH / g or more, and particularly preferably 30 mgKOH / g or more. The upper limit of the acid value is preferably 300 mgKOH / g or less, more preferably 200 mgKOH / g or less, more preferably 180 mgKOH / g or less, still more preferably 130 mgKOH / g or less, and even more preferably 120 mgKOH / g or less . By satisfying the above range, the developability is further improved, and the development residue can be further reduced.

색소 구조를 갖는 분산제의 비흡광도의 측정 방법은, 예를 들면 색소 구조를 갖는 분산제에 대하여 충분한 용해성을 갖는 용매를 이용하여, 400nm~800nm에서의 최대 흡광도가 1.0이 되도록 색소 구조를 갖는 분산제를 포함하는 용액의 농도를 조정하고, 이러한 용액의 25℃에서의 흡광도를, 광로 길이 1cm의 셀을 이용하여 측정하는 방법 등을 들 수 있다. 비흡광도를 측정할 때의 용매는, 색소 구조를 갖는 분산제에 대하여 충분한 용해성을 갖는 것을 적절히 이용할 수 있다. 바람직한 용매로서는, 테트라하이드로퓨란, 메탄올, 아이소프로필알코올, 다이메틸설폭사이드, 아세토나이트릴, 아세트산 에틸, 헥세인, 톨루엔, 물, 농황산, 메테인설폰산 등을 들 수 있다. 테트라하이드로퓨란이 충분한 용해성을 갖는 경우에는 테트라하이드로퓨란을 이용한다.A method of measuring the specific absorption of a dispersant having a pigment structure includes a dispersant having a pigment structure such that the maximum absorbance at 400 nm to 800 nm is 1.0, for example, using a solvent having sufficient solubility for a dispersant having a pigment structure , And measuring the absorbance of this solution at 25 캜 using a cell having an optical path length of 1 cm. As the solvent for measurement of the non-absorbance, those having sufficient solubility in a dispersant having a pigment structure can be suitably used. Preferred examples of the solvent include tetrahydrofuran, methanol, isopropyl alcohol, dimethyl sulfoxide, acetonitrile, ethyl acetate, hexane, toluene, water, concentrated sulfuric acid and methanesulfonic acid. When tetrahydrofuran has sufficient solubility, tetrahydrofuran is used.

400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의, 상기 식 (Aλ)로 나타나는 비흡광도는, 5 이상이며, 10 이상이 바람직하고, 20 이상이 보다 바람직하며, 25 이상이 특히 바람직하다. 상한은 특별히 정하는 것은 아니지만, 통상은, 99 이하이다.The specific absorbance expressed by the formula (A?) At the maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm is 5 or more, preferably 10 or more, more preferably 20 or more, and particularly preferably 25 or more. The upper limit is not specifically defined, but is usually 99 or less.

색소 구조를 갖는 분산제는, 1종 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상 병용해도 된다.The dispersant having a pigment structure may be used alone or in combination of two or more.

<<안료>><< Pigment >>

안료로서는, 종래 공지의 다양한 무기 안료 또는 유기 안료를 이용할 수 있으며, 유기 안료를 이용하는 것이 바람직하다. 안료로서는, 고투과율인 것이 바람직하다.As the pigment, various conventionally known inorganic pigments or organic pigments can be used, and it is preferable to use an organic pigment. As the pigment, a high transmittance is preferable.

무기 안료로서는, 금속 산화물, 금속 착염 등으로 나타나는 금속 화합물 또는 카본 블랙(C. I. 피그먼트 블랙 7)을 들 수 있다. 금속 화합물로서는, 구체적으로는, 철, 코발트, 알루미늄, 카드뮴, 납, 구리, 타이타늄, 마그네슘, 크로뮴, 아연, 안티모니 등의 금속 산화물, 및 금속의 복합 산화물을 들 수 있다.As the inorganic pigment, a metal compound or carbon black (CI Pigment Black 7), which is represented by a metal oxide, a metal complex salt or the like, can be mentioned. Specific examples of the metal compound include metal oxides such as iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, zinc and antimony and complex oxides of metals.

유기 안료로서는, 예를 들면,As the organic pigment, for example,

C. I. 피그먼트 옐로 11, 24, 31, 53, 83, 93, 99, 108, 109, 110, 138, 139, 147, 150, 151, 154, 155, 167, 180, 185, 199;C. I. Pigment Yellow 11, 24, 31, 53, 83, 93, 99, 108, 109, 110, 138, 139, 147, 150, 151, 154, 155, 167, 180, 185, 199;

C. I. 피그먼트 오렌지 36, 38, 43, 71;C. I. Pigment Orange 36, 38, 43, 71;

C. I. 피그먼트 레드 81, 105, 122, 149, 150, 155, 171, 175, 176, 177, 179, 209, 220, 224, 242, 254, 255, 264, 270;C. I. Pigment Red 81, 105, 122, 149, 150, 155, 171, 175, 176, 177, 179, 209, 220, 224, 242, 254, 255, 264, 270;

C. I. 피그먼트 바이올렛 19, 23, 32, 39;C. I. Pigment Violet 19, 23, 32, 39;

C. I. 피그먼트 블루 1, 2, 15, 15:1, 15:3, 15:6, 16, 22, 60, 66;C. I. Pigment Blue 1, 2, 15, 15: 1, 15: 3, 15: 6, 16, 22, 60, 66;

C. I. 피그먼트 그린 7, 36, 37, 58;C. I. Pigment Green 7, 36, 37, 58;

C. I. 피그먼트 브라운 25, 28;C. I. Pigment Brown 25, 28;

C. I. 피그먼트 블랙 1; 등을 들 수 있다.C. I. Pigment Black 1; And the like.

본 발명에 있어서 바람직하게 이용할 수 있는 안료로서, 이하의 것을 들 수 있다. 단 본 발명은, 이들에 한정되는 것은 아니다.Examples of pigments that can be preferably used in the present invention include the following pigments. However, the present invention is not limited thereto.

C. I. 피그먼트 옐로 11, 24, 108, 109, 110, 138, 139, 150, 151, 154, 167, 180, 185,CI Pigment Yellow 11, 24, 108, 109, 110, 138, 139, 150, 151, 154, 167, 180, 185,

C. I. 피그먼트 오렌지 36, 71,C. I. Pigment Orange 36, 71,

C. I. 피그먼트 레드 122, 150, 171, 175, 177, 209, 224, 242, 254, 255, 264,C. I. Pigment Red 122, 150, 171, 175, 177, 209, 224, 242, 254, 255, 264,

C. I. 피그먼트 바이올렛 19, 23, 32,C. I. Pigment Violet 19, 23, 32,

C. I. 피그먼트 블루 15:1, 15:3, 15:6, 16, 22, 60, 66,C. I. Pigment Blue 15: 1, 15: 3, 15: 6, 16, 22, 60, 66,

C. I. 피그먼트 그린 7, 36, 37, 58;C. I. Pigment Green 7, 36, 37, 58;

C. I. 피그먼트 블랙 1C. I. Pigment Black 1

이들 유기 안료는, 단독 혹은, 분광의 조정이나 색순도를 높이기 위하여 다양하게 조합하여 이용할 수 있다. 상기 조합의 구체예를 이하에 나타낸다. 예를 들면, 적색의 안료로서, 안트라퀴논계 안료, 페릴렌계 안료, 다이케토피롤로피롤계 안료 단독 또는 그들 중 적어도 1종과, 디스아조계 황색 안료, 아이소인돌린계 황색 안료, 퀴노프탈론계 황색 안료 또는 페릴렌계 적색 안료와의 혼합 등을 이용할 수 있다. 예를 들면, 안트라퀴논계 안료로서는, C. I. 피그먼트 레드 177을 들 수 있으며, 페릴렌계 안료로서는, C. I. 피그먼트 레드 155, C. I. 피그먼트 레드 224를 들 수 있고, 다이케토피롤로피롤계 안료로서는, C. I. 피그먼트 레드 254를 들 수 있으며, 색분해성의 점에서 C. I. 피그먼트 옐로 139와의 혼합이 바람직하다. 또, 적색 안료와 황색 안료의 질량비는, 100:5~100:50이 바람직하고, 100:10~100:30의 범위가 보다 바람직하다. 적색 안료끼리의 조합의 경우는, 구하는 분광에 맞추어 조정할 수 있다.These organic pigments can be used singly or in various combinations in order to enhance spectral control and color purity. Specific examples of the combination are shown below. For example, as the red pigment, an anthraquinone pigment, a perylene pigment, a diketopyrrolopyrrole pigment alone, or at least one of them, a disazo yellow pigment, an isoindoline yellow pigment, a quinophthalone A yellowish pigment or a mixture with a perylene-based red pigment may be used. Examples of the anthraquinone pigments include CI Pigment Red 177, and the perylene pigments include CI Pigment Red 155 and CI Pigment Red 224. As the diketopyrrolopyrrole pigment, CI Pigment Red 254, and is preferably mixed with CI Pigment Yellow 139 in view of color resolution. The mass ratio of the red pigment to the yellow pigment is preferably from 100: 5 to 100: 50, and more preferably from 100: 10 to 100: 30. In the case of a combination of red pigments, it can be adjusted according to the obtained spectroscopy.

또, 녹색 안료로서는, 할로젠화 프탈로사이아닌계 안료를 단독으로, 또는 이것과 디스아조계 황색 안료, 퀴노프탈론계 황색 안료, 아조메타인계 황색 안료 혹은 아이소인돌린계 황색 안료와의 혼합을 이용할 수 있다. 예를 들면, 이와 같은 예로서는, C. I. 피그먼트 그린 7, 36, 37과, C. I. 피그먼트 옐로 83, C. I. 피그먼트 옐로 138, C. I. 피그먼트 옐로 139, C. I. 피그먼트 옐로 150, C. I. 피그먼트 옐로 180 또는 C. I. 피그먼트 옐로 185와의 혼합이 바람직하다. 녹색 안료와 황색 안료의 질량비는, 100:5~100:150이 바람직하고, 100:30~100:120의 범위가 보다 바람직하다.As the green pigment, it is possible to use a halogenated phthalocyanine pigment alone or in combination with a disazo yellow pigment, a quinophthalone yellow pigment, an azomethan yellow pigment or an isoindoline yellow pigment Can be used. For example, such examples include CI Pigment Green 7, 36 and 37, CI Pigment Yellow 83, CI Pigment Yellow 138, CI Pigment Yellow 139, CI Pigment Yellow 150, CI Pigment Yellow 180, Mixing with Pigment Yellow 185 is preferred. The mass ratio of the green pigment to the yellow pigment is preferably 100: 5 to 100: 150, and more preferably 100: 30 to 100: 120.

청색 안료로서는, 프탈로사이아닌계 안료를 단독으로, 혹은 이것과 다이옥사진계 자색 안료의 혼합을 이용할 수 있다. 예를 들면 C. I. 피그먼트 블루 15:6과 C. I. 피그먼트 바이올렛 23의 혼합이 바람직하다. 청색 안료와 자색 안료의 질량비는, 100:0~100:100이 바람직하다.As the blue pigment, a phthalocyanine-based pigment may be used alone, or a mixture of the phthalocyanine-based pigment and a dioxazine-based purple pigment may be used. For example, a mixture of C. I. Pigment Blue 15: 6 and C. I. Pigment Violet 23 is preferred. The mass ratio of the blue pigment to the purple pigment is preferably 100: 0 to 100: 100.

또, 블랙 매트릭스용 안료로서는, 카본, 타이타늄 블랙, 산화 철, 산화 타이타늄 단독 또는 혼합이 이용되며, 카본과 타이타늄 블랙의 조합이 바람직하다. 또, 카본과 타이타늄 블랙의 질량비는, 100:0~100:60의 범위가 바람직하다.As the pigment for black matrix, carbon, titanium black, iron oxide, titanium oxide alone or a mixture thereof is used, and a combination of carbon and titanium black is preferable. The mass ratio of carbon to titanium black is preferably in the range of 100: 0 to 100: 60.

안료의 1차 입자경은, 컬러 필터용으로서 이용하는 경우에는, 색 불균일이나 콘트라스트의 관점에서, 100nm 이하인 것이 바람직하고, 또 분산 안정성의 관점에서 5nm 이상인 것이 바람직하다. 안료의 1차 입자경으로서 보다 바람직하게는, 5~75nm이고, 더 바람직하게는 5~55nm이며, 특히 바람직하게는 5~35nm이다.When the pigment is used for a color filter, the primary particle size of the pigment is preferably 100 nm or less from the viewpoint of color unevenness or contrast, and is preferably 5 nm or more from the viewpoint of dispersion stability. The primary particle diameter of the pigment is more preferably 5 to 75 nm, further preferably 5 to 55 nm, and particularly preferably 5 to 35 nm.

안료의 1차 입자경은, 동적 광산란법(Microtrac Nanotrac UPA-EX150(닛키소사(Nikkiso Co., Ltd.)제))에 의하여 측정한 값을 말한다.The primary particle diameter of the pigment refers to a value measured by a dynamic light scattering method (Microtrac Nanotrac UPA-EX150 (manufactured by Nikkiso Co., Ltd.)).

그 중에서도, 안료로서는, 안트라퀴논 안료, 다이케토피롤로피롤 안료, 프탈로사이아닌 안료, 퀴노프탈론 안료, 아이소인돌린 안료, 아조메타인 안료, 및 다이옥사진 안료로부터 선택되는 안료인 것이 바람직하다.Among them, the pigment is preferably a pigment selected from anthraquinone pigment, diketopyrrolopyrrole pigment, phthalocyanine pigment, quinophthalone pigment, isoindoline pigment, azomethine pigment, and dioxazine pigment .

특히, C. I. 피그먼트 레드 177(안트라퀴논 안료), C. I. 피그먼트 레드 254(다이케토피롤로피롤 안료), C. I. 피그먼트 그린 7, 36, 58, C. I. 피그먼트 블루 15:6(프탈로사이아닌 안료), C. I. 피그먼트 블루 15:3(프탈로사이아닌 안료), C. I. 피그먼트 옐로 138(퀴노프탈론 안료), C. I. 피그먼트 옐로 139, 185(아이소인돌린 안료), C. I. 피그먼트 옐로 150(아조메타인 안료), C. I. 피그먼트 바이올렛 23(다이옥사진 안료)이 바람직하고, C. I. 피그먼트 레드 177, C. I. 피그먼트 레드 254, C. I. 피그먼트 블루 15:3 및 C. I. 피그먼트 블루 15:6이 보다 바람직하다.In particular, CI Pigment Red 177 (anthraquinone pigment), CI Pigment Red 254 (diketopyrrolopyrrole pigment), CI Pigment Green 7, 36, 58, CI Pigment Blue 15: 6 ), CI Pigment Blue 15: 3 (phthalocyanine pigment), CI Pigment Yellow 138 (quinophthalone pigment), CI Pigment Yellow 139, 185 (isoindoline pigment), CI Pigment Yellow 150 CI Pigment Red 163, CI Pigment Blue 15: 3 and CI Pigment Blue 15: 6 are more preferable, and CI Pigment Red 177, CI Pigment Red 254, CI Pigment Blue 15: 3 and CI Pigment Blue 15: 6 are more preferable .

안료의 함유량은, 안료 분산액 중, 1~50질량%가 바람직하고, 1~30질량%가 보다 바람직하며, 1~15질량%가 더 바람직하다. 또, 색소 구조를 갖는 분산제 100질량부에 대하여, 40질량부 이상이 바람직하고, 50질량부 이상이 보다 바람직하며, 80질량부 이상이 더 바람직하고, 100질량부 이상이 특히 바람직하다. 상한값은, 색소 구조를 갖는 분산제 100질량부에 대하여, 600질량부 이하가 바람직하고, 400질량부 이하가 보다 바람직하며, 300질량부 이하가 더 바람직하고, 200질량부 이하가 보다 더 바람직하며, 150질량부 이하가 특히 바람직하다. 특히, 80~150질량부가 바람직하다.The content of the pigment in the pigment dispersion is preferably from 1 to 50 mass%, more preferably from 1 to 30 mass%, and still more preferably from 1 to 15 mass%. The amount is preferably not less than 40 parts by mass, more preferably not less than 50 parts by mass, more preferably not less than 80 parts by mass, and particularly preferably not less than 100 parts by mass, based on 100 parts by mass of the dispersant having a pigment structure. The upper limit value is preferably 600 parts by mass or less, more preferably 400 parts by mass or less, more preferably 300 parts by mass or less, further preferably 200 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the dispersant having a pigment structure, And particularly preferably 150 parts by mass or less. Particularly, the amount is preferably 80 to 150 parts by mass.

본 발명의 안료 분산액은, 안료를, 1종류만 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The pigment dispersion of the present invention may contain only one kind of pigment, or two or more kinds of pigments. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.

<<용제>><< Solvent >>

안료 분산액이 함유하는 용제는, 각 성분의 용해성이나 착색 조성물의 도포성을 만족하면 기본적으로는 특별히 제한은 없지만, 색소 구조를 갖는 분산제 등의 용해성, 도포성, 안전성을 고려하여 선택되는 것이 바람직하다. 용제는 유기 용제가 바람직하다.The solvent contained in the pigment dispersion is not particularly limited so long as it satisfies solubility of each component and coating property of the coloring composition, but is preferably selected in consideration of solubility, coating ability, and safety of a dispersant having a pigment structure . The solvent is preferably an organic solvent.

유기 용제로서는, 에스터류로서, 예를 들면 아세트산 에틸, 아세트산-n-뷰틸, 아세트산 아이소뷰틸, 아세트산 사이클로헥실, 폼산 아밀, 아세트산 아이소아밀, 프로피온산 뷰틸, 뷰티르산 아이소프로필, 뷰티르산 에틸, 뷰티르산 뷰틸, 락트산 메틸, 락트산 에틸, 옥시아세트산 알킬(예를 들면, 옥시아세트산 메틸, 옥시아세트산 에틸, 옥시아세트산 뷰틸(예를 들면, 메톡시아세트산 메틸, 메톡시아세트산 에틸, 메톡시아세트산 뷰틸, 에톡시아세트산 메틸, 에톡시아세트산 에틸 등)), 3-옥시프로피온산 알킬에스터류(예를 들면, 3-옥시프로피온산 메틸, 3-옥시프로피온산 에틸 등(예를 들면, 3-메톡시프로피온산 메틸, 3-메톡시프로피온산 에틸, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸 등)), 2-옥시프로피온산 알킬에스터류(예를 들면, 2-옥시프로피온산 메틸, 2-옥시프로피온산 에틸, 2-옥시프로피온산 프로필 등(예를 들면, 2-메톡시프로피온산 메틸, 2-메톡시프로피온산 에틸, 2-메톡시프로피온산 프로필, 2-에톡시프로피온산 메틸, 2-에톡시프로피온산 에틸)), 2-옥시-2-메틸프로피온산 메틸 및 2-옥시-2-메틸프로피온산 에틸(예를 들면, 2-메톡시-2-메틸프로피온산 메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산 에틸 등), 피루브산 메틸, 피루브산 에틸, 피루브산 프로필, 아세토아세트산 메틸, 아세토아세트산 에틸, 2-옥소뷰탄산 메틸, 2-옥소뷰탄산 에틸 등, 또한 에터류로서, 예를 들면 다이에틸렌글라이콜다이메틸에터, 테트라하이드로퓨란, 에틸렌글라이콜모노메틸에터, 에틸렌글라이콜모노에틸에터, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 다이에틸렌글라이콜모노메틸에터, 다이에틸렌글라이콜모노에틸에터, 다이에틸렌글라이콜모노뷰틸에터, 프로필렌글라이콜모노메틸에터, 프로필렌글라이콜메틸에터아세테이트, 프로필렌글라이콜에틸에터아세테이트, 프로필렌글라이콜프로필에터아세테이트 등, 또한 케톤류로서, 예를 들면, 메틸에틸케톤, 사이클로헥산온, 사이클로펜탄온, 2-헵탄온, 3-헵탄온 등, 또한 방향족 탄화 수소류로서, 예를 들면 톨루엔, 자일렌 등을 적합하게 들 수 있다.Examples of the organic solvent include esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, cyclohexyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, , Methyl lactate, ethyl lactate, alkyloxyacetate (for example, methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate (for example, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate , Ethoxyacetic acid ethyl and the like), 3-oxypropionic acid alkyl esters (for example, methyl 3-oxypropionate, ethyl 3-oxypropionate (for example, methyl 3-methoxypropionate, 3-methoxypropionate Ethyl, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate and the like), 2-oxypropionic acid alkyl esters (for example, 2-oxypropyl Propyl methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, 2- (2-methoxypropionate), 2- Methyl 2-methylpropionate (for example, methyl 2-methoxy-2-methylpropionate, 2-ethoxy-2-methyl Ethyl propionate and the like), methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methyl 2-oxobutanoate, ethyl 2-oxobutanoate and the like, and ethers such as diethylene glycol Diethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, di Ethylene glycol mono Diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether acetate, etc. , And ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, cyclopentanone, 2-heptanone, 3-heptanone and the like, and aromatic hydrocarbon such as toluene and xylene .

이들 유기 용제는, 색소 구조를 갖는 분산제 등의 용해성, 도포면 형상의 개량 등의 관점에서, 2종 이상을 혼합해도 된다.These organic solvents may be mixed with two or more kinds in view of the solubility of the dispersing agent having a pigment structure or the like and the improvement of the coating surface shape.

용제의 안료 분산액 중에 있어서의 함유량은, 도포성의 관점에서, 안료 분산액의 전체 고형분 농도가 5%~80질량%가 되는 양으로 하는 것이 바람직하고, 5~50질량%가 되는 양이 보다 바람직하며, 10~30질량%가 되는 양이 더 바람직하다.The content of the solvent in the pigment dispersion is preferably such that the total solid content of the pigment dispersion is 5% to 80% by mass, more preferably 5% to 50% by mass, More preferably 10 to 30% by mass.

안료 분산액은, 용제를, 1종류만 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The pigment dispersion may contain only one kind of solvent, or may contain two or more kinds of solvents. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.

<안료 분산액의 제조 방법>&Lt; Production method of pigment dispersion >

본 발명의 안료 분산액의 제조 방법은, 색소 구조를 갖는 분산제의 존재하에서, 안료를 분산시키는 공정을 포함하며, 색소 구조를 갖는 분산제가 트라이아릴메테인 색소, 잔텐 색소, 사이아닌 색소 및 스쿠아릴륨 색소로부터 선택되는 색소 구조를 갖고, 색소 구조를 갖는 분산제는, 색소 구조를 동일 분자 내에 2개 이상 갖는 색소 다량체이며, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 하기 식 (Aλ)로 나타나는 비흡광도가 5 이상인 것을 특징으로 한다.The method for producing a pigment dispersion of the present invention comprises a step of dispersing a pigment in the presence of a dispersant having a pigment structure, wherein the dispersant having a pigment structure is selected from the group consisting of triaryl methane dye, xanthine dye, cyanine dye, and squarylium A dispersant having a pigment structure selected from pigments and having a pigment structure is a pigment-like polymer having two or more pigment structures in the same molecule, and has a ratio (A?) At a maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm And an absorbance of 5 or more.

E=A/(c×l) …(Aλ)E = A / (cxl) ... (A?)

식 (Aλ) 중, E는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 비흡광도를 나타내고,In the formula (A?), E represents a non-absorbance at a maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,

A는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 흡광도를 나타내며,A represents the absorbance at the maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,

l은, 단위가 cm로 나타나는 셀 길이를 나타내고,l represents the cell length in cm,

c는, 단위가 mg/ml로 나타나는, 용액 중의 색소 구조를 갖는 분산제의 농도를 나타낸다.c represents the concentration of the dispersant having a pigment structure in the solution, in which the unit is expressed in mg / ml.

색소 구조를 갖는 분산제 및 안료는, 상술한 색소 구조를 갖는 분산제 및 안료와 동의이며, 바람직한 범위도 동일하다.Dispersants and pigments having a pigment structure are in agreement with the above-described dispersing agents and pigments having a pigment structure, and preferable ranges are also the same.

분산 방법으로서는, 예를 들면 색소 구조를 갖는 분산제와 안료와 용제를 포함하는 분산액을 비즈 밀로 혼합하고, 분산기를 이용하여 분산 처리하는 것이 바람직하다.As the dispersion method, it is preferable to mix the dispersion liquid containing the pigment, the pigment and the solvent with a bead mill, and dispersing the dispersion liquid using a dispersing machine, for example.

<조성물><Composition>

본 발명의 조성물은, 일반식 (1)로 나타나는 수지 100질량부에 대하여, 안료 및 용매를 함유하는 조성물로서,The composition of the present invention is a composition containing a pigment and a solvent, relative to 100 parts by mass of the resin represented by the general formula (1)

상기 수지가 트라이아릴메테인 색소, 잔텐 색소, 사이아닌 색소 및 스쿠아릴륨 색소로부터 선택되는 색소 구조를 갖고,Wherein the resin has a dye structure selected from a triarylmethane dye, a xanthine dye, a cyanine dye and a squarylium dye,

상기 수지가, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 하기 식 (Aλ)로 나타나는 비흡광도가 5 이상인, 조성물이다.Wherein the resin has a specific absorption of 5 or more, expressed by the following formula (A?) At a maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm.

또, 본 발명의 조성물은, 일반식 (A)로 나타나는 반복 단위를 포함하는 수지 100질량부에 대하여, 안료를 80~150질량부, 및 용매를 함유하는 조성물로서, 상기 수지가 트라이아릴메테인 색소, 잔텐 색소, 사이아닌 색소 및 스쿠아릴륨 색소로부터 선택되는 색소 구조를 갖고,The composition of the present invention is a composition containing 80 to 150 parts by mass of a pigment and 100 parts by mass of a resin containing a repeating unit represented by the formula (A) and a solvent, wherein the resin is a triarylmethane A pigment having a pigment structure selected from a coloring matter, a xanthine coloring matter, a cyanine coloring matter and a squarylium coloring matter,

상기 수지가, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 하기 식 (Aλ)로 나타나는 비흡광도가 5 이상인, 조성물이다.Wherein the resin has a specific absorption of 5 or more, expressed by the following formula (A?) At a maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm.

E=A/(c×l) …(Aλ)E = A / (cxl) ... (A?)

식 (Aλ) 중, E는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 비흡광도를 나타내고,In the formula (A?), E represents a non-absorbance at a maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,

A는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 흡광도를 나타내며,A represents the absorbance at the maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,

l은, 단위가 cm로 나타나는 셀 길이를 나타내고,l represents the cell length in cm,

c는, 단위가 mg/ml로 나타나는, 용액 중의 색소 구조를 갖는 수지의 농도를 나타내는 조성물이다.and c is a composition showing the concentration of the resin having the pigment structure in the solution, in which the unit is expressed in mg / ml.

이와 같은 조성물은, 본 발명의 안료 분산액으로서 이용된다. 상기 조성물의 바람직한 범위는, 상기 대응하는 안료 분산액의 바람직한 범위와 동일하다.Such a composition is used as the pigment dispersion of the present invention. The preferred range of the composition is the same as the preferred range of the corresponding pigment dispersion.

<착색 조성물><Coloring composition>

본 발명의 착색 조성물은, 상기 안료 분산액 및 경화성 화합물(중합성 화합물, 열경화성 화합물, 다관능 싸이올 화합물이나 알칼리 가용성 수지 등)을 함유한다. 착색 조성물 중의 경화성 화합물의 합계 함유량은, 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여, 1~50질량%가 바람직하고, 2~40질량%가 보다 바람직하며, 5~20질량%로 할 수도 있다.The coloring composition of the present invention contains the above pigment dispersion and a curable compound (a polymerizable compound, a thermosetting compound, a polyfunctional thiol compound, an alkali-soluble resin, etc.). The total content of the curing compound in the coloring composition is preferably from 1 to 50 mass%, more preferably from 2 to 40 mass%, and still more preferably from 5 to 20 mass%, based on the total solid content of the coloring composition.

본 발명의 착색 조성물은, 중합성 화합물을 1종류만 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The coloring composition of the present invention may contain only one type of polymerizable compound or two or more types of the polymerizable compound. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.

이와 같은 구성으로 함으로써, 컬러 필터용 착색 조성물로서 바람직하게 이용된다.With such a constitution, it is preferably used as a coloring composition for a color filter.

또, 본 발명의 착색 조성물은, 광중합 개시제를 포함하는 것이 바람직하다. 나아가서는, 상기 색소 구조를 갖는 분산제 이외의 다른 분산제, 중합 금지제 및 계면활성제 등을 포함하고 있어도 된다.In addition, the coloring composition of the present invention preferably contains a photopolymerization initiator. Further, it may contain a dispersant other than the dispersant having the dye structure, a polymerization inhibitor, and a surfactant.

본 발명의 착색 조성물 중에 있어서의 안료 분산액의 함유량은, 후술하는 안료 등과의 함유 비율을 고려한 후에 설정된다.The content of the pigment dispersion in the coloring composition of the present invention is set after considering the content ratio with the pigment or the like to be described later.

착색 조성물 중의 안료 분산액의 함유량은, 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여, 안료 분산액의 고형분이 10~80질량%가 되는 양이 바람직하고, 30~70질량%가 되는 양이 보다 바람직하며, 40~60질량%가 되는 양이 더 바람직하다.The content of the pigment dispersion in the coloring composition is preferably such that the solid content of the pigment dispersion is 10 to 80 mass%, more preferably 30 to 70 mass%, and more preferably 40 to 60 mass%, based on the total solid content of the coloring composition. By mass is more preferable.

본 발명의 착색 조성물은, 안료 분산액을 1종류만 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The coloring composition of the present invention may contain only one pigment dispersion or two or more pigment dispersions. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.

착색 조성물 중의 안료의 함유량은, 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여, 25질량% 이상이 바람직하고, 30질량% 이상이 보다 바람직하다. 또, 상한은 50질량% 이하가 바람직하고, 40질량% 이하가 보다 바람직하다.The content of the pigment in the coloring composition is preferably 25 mass% or more, more preferably 30 mass% or more, based on the total solid content of the coloring composition. The upper limit is preferably 50 mass% or less, and more preferably 40 mass% or less.

착색 조성물 중의 색소 구조를 갖는 분산제와 안료의 함유량의 합계는, 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여, 60질량% 이상이 바람직하고, 65질량% 이상이 보다 바람직하다. 또, 상한은 99질량% 이하가 바람직하고, 통상은, 90질량% 이하이다.The total content of the pigment and the dispersant having the pigment structure in the coloring composition is preferably at least 60 mass%, more preferably at least 65 mass%, based on the total solid content of the coloring composition. The upper limit is preferably 99 mass% or less, and usually 90 mass% or less.

<<<중합성 화합물>>><<< Polymerizable compound >>>

중합성 화합물로서는, 라디칼, 산, 열에 의하여 가교 가능한 공지의 중합성 화합물을 이용할 수 있다. 예를 들면, 에틸렌성 불포화 결합, 환상 에터(에폭시, 옥세테인), 메틸올 등을 포함하는 중합성 화합물을 들 수 있다. 중합성 화합물은, 감도의 관점에서, 말단 에틸렌성 불포화 결합을 적어도 1개, 바람직하게는 2개 이상 갖는 화합물로부터 적합하게 선택된다. 그 중에서도, 4관능 이상의 다관능 중합성 화합물이 바람직하고, 5관능 이상의 다관능 중합성 화합물이 더 바람직하다.As the polymerizable compound, known polymerizable compounds capable of crosslinking by radicals, acids, and heat can be used. Examples thereof include polymerizable compounds including ethylenically unsaturated bonds, cyclic ethers (epoxy, oxetane), methylol, and the like. The polymerizable compound is suitably selected from compounds having at least one, and preferably two or more, terminal ethylenic unsaturated bonds from the viewpoint of sensitivity. Of these, polyfunctional polymerizable compounds having four or more functionalities are preferable, and polyfunctional polymerizable compounds having five or more functionalities are more preferable.

이와 같은 화합물군은 널리 알려져 있는 것이며, 본 발명에 있어서는 이들을 특별히 한정 없이 이용할 수 있다. 이들은, 예를 들면 모노머, 프리폴리머, 즉 2량체, 3량체 및 올리고머 또는 그들의 혼합물과 그들의 다량체 등의 화학적 형태 중 어느 것이어도 된다. 본 발명에 있어서의 중합성 화합물은 1종 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.Such a group of compounds is well known and can be used in the present invention without particular limitation. These may be, for example, monomers, prepolymers, that is, any of a dimer, a trimer and an oligomer or a mixture thereof and a chemical form thereof such as a multimer thereof. The polymerizable compounds in the present invention may be used alone or in combination of two or more.

모노머, 프리폴리머의 예로서는, 불포화 카복실산(예를 들면, 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 크로톤산, 아이소크로톤산, 말레산 등)이나 그 에스터류, 아마이드류, 또한 이들의 다량체를 들 수 있으며, 바람직하게는 불포화 카복실산과 지방족 다가 알코올 화합물의 에스터, 및 불포화 카복실산과 지방족 다가 아민 화합물의 아마이드류, 또한 이들의 다량체이다. 또, 하이드록실기, 아미노기, 머캅토기 등의 구핵성 치환기를 갖는 불포화 카복실산 에스터 혹은 아마이드류와, 단관능 혹은 다관능 아이소사이아네이트류 혹은 에폭시류와의 부가 반응물이나, 단관능 혹은 다관능의 카복실산과의 탈수 축합 반응물 등도 적합하게 사용된다. 또, 아이소사이아네이트기, 에폭시기 등의 친전자성 치환기를 갖는 불포화 카복실산 에스터 혹은 아마이드류와, 단관능 혹은 다관능의 알코올류, 아민류, 싸이올류와의 반응물, 할로젠기나 토실옥시기 등의 탈리성 치환기를 갖는 불포화 카복실산 에스터 혹은 아마이드류와, 단관능 혹은 다관능의 알코올류, 아민류, 싸이올류와의 반응물도 적합하다. 또, 상기의 불포화 카복실산 대신에, 불포화 포스폰산, 스타이렌 등의 바이닐벤젠 유도체, 바이닐에터, 알릴에터 등으로 치환한 화합물군을 사용하는 것도 가능하다.Examples of monomers and prepolymers include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters thereof, amides, , Preferably an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, and an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound, as well as oligomers thereof. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group or a mercapto group with a monofunctional or multifunctional isocyanate or an epoxide, or a monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a carboxylic acid, and the like are suitably used. In addition, it is also possible to use an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group, a reaction product of a monofunctional or polyfunctional alcohol, an amine, a thiol, a halogen or a tosyloxy group Also suitable are unsaturated carboxylic acid esters or amides having a cleavable substituent and reacting with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines and thiols. It is also possible to use a group of compounds substituted with an unsaturated phosphonic acid, a vinylbenzene derivative such as styrene, a vinyl ether, an ally ether or the like in place of the above unsaturated carboxylic acid.

이들의 구체적인 화합물로서는, 일본 공개특허공보 2009-288705호의 단락 번호 〔0095〕~〔0108〕에 기재되어 있는 화합물을 본 발명에 있어서도 적합하게 이용할 수 있다.As specific compounds of these compounds, compounds described in paragraphs [0095] to [0108] of JP-A No. 2009-288705 can be suitably used in the present invention.

또, 중합성 화합물로서는, 적어도 하나의 부가 중합 가능한 에틸렌기를 갖는, 상압하에서 100℃ 이상의 비점을 갖는 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물도 바람직하다. 그 예로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0227을 참조할 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.The polymerizable compound is also preferably a compound having an ethylenically unsaturated group having at least one addition-polymerizable ethylene group and a boiling point of at least 100 캜 at normal pressure. As an example thereof, reference can be made, for example, to Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2013-29760, paragraph 0227, which is incorporated herein by reference.

또, 상압하에서 100℃ 이상의 비점을 갖고, 적어도 하나의 부가 중합 가능한 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물로서는, 일본 공개특허공보 2008-292970호의 단락 번호 0254~0257에 기재된 화합물을 참조할 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.As a compound having at least one addition-polymerizable ethylenic unsaturated group having a boiling point of 100 占 폚 or higher under atmospheric pressure, reference may be made to the compounds described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-292970, paragraphs 0254 to 0257, Which is incorporated herein by reference.

그 중에서도, 중합성 화합물로서는, 다이펜타에리트리톨트라이아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD D-330; 닛폰 가야쿠제), 다이펜타에리트리톨테트라아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD D-320; 닛폰 가야쿠제), 다이펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD D-310; 닛폰 가야쿠제), 다이펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트(시판품으로서는 KAYARAD DPHA; 닛폰 가야쿠제), 에틸렌옥시 변성 다이펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(시판품으로서는 A-DPH-12E; 신나카무라 가가쿠제) 및 이들의 (메트)아크릴로일기가 에틸렌글라이콜, 프로필렌글라이콜 잔기를 개재하고 있는 구조(예를 들면, 사토머사로부터 시판되고 있는, SR454, SR494, SR499)가 바람직하다. 이들의 올리고머 타입도 사용할 수 있다. 또, SR368(사토머제), KAYARAD D-330(닛폰 가야쿠제)도 바람직하다. 이하에 바람직한 중합성 화합물의 양태를 나타낸다.Examples of the polymerizable compound include dipentaerythritol triacrylate (KAYARAD D-330, Nippon Kayaku), dipentaerythritol tetraacrylate (KAYARAD D-320, Nippon Kayaku, (KAYARAD D-310; Nippon Kayaku), dipentaerythritol hexa (meth) acrylate (commercially available as KAYARAD DPHA; Nippon Kayaku), ethyleneoxy-modified dipentaerythritol hexa Acrylate (commercially available from A-DPH-12E; Shin Nakamura Kagaku) and a structure in which these (meth) acryloyl groups are interposed between ethylene glycol and propylene glycol moieties (for example, Commercially available, SR454, SR494, SR499) are preferable. These oligomer types can also be used. Also, SR368 (Satoromy) and KAYARAD D-330 (Nippon Kayaku) are also preferable. Preferred embodiments of the polymerizable compound are shown below.

중합성 화합물은, 카복실기, 설폰산기, 인산기 등의 산기를 갖고 있어도 된다. 중합성 화합물이, 미반응의 카복실기 등을 갖는 것이면, 이것을 그대로 이용할 수 있지만, 필요에 따라, 중합성 화합물의 하이드록실기에, 비방향족 카복실산 무수물을 반응시켜 산기를 도입해도 된다. 비방향족 카복실산 무수물의 구체예로서는, 무수 테트라하이드로프탈산, 알킬화 무수 테트라하이드로프탈산, 무수 헥사하이드로프탈산, 알킬화 무수 헥사하이드로프탈산, 무수 석신산, 무수 말레산 등을 들 수 있다.The polymerizable compound may have an acid group such as a carboxyl group, a sulfonic acid group, or a phosphoric acid group. If the polymerizable compound has an unreacted carboxyl group or the like, it can be used as it is. However, if necessary, the acid group may be introduced by reacting the hydroxyl group of the polymerizable compound with a nonaromatic carboxylic acid anhydride. Specific examples of the non-aromatic carboxylic acid anhydrides include anhydrous tetrahydrophthalic acid, alkylated anhydrous tetrahydrophthalic acid, anhydrous hexahydrophthalic acid, alkylated anhydrous hexahydrophthalic acid, succinic anhydride, and maleic anhydride.

산기를 갖는 중합성 화합물로서는, 지방족 폴리하이드록시 화합물과 불포화 카복실산의 에스터가 바람직하고, 지방족 폴리하이드록시 화합물의 미반응의 하이드록실기에 비방향족 카복실산 무수물을 반응시켜 산기를 갖게 한 중합성 화합물이 보다 바람직하며, 특히 바람직하게는, 이 에스터에 있어서, 지방족 폴리하이드록시 화합물이 펜타에리트리톨 및/또는 다이펜타에리트리톨인 것이다. 시판품으로서는, 예를 들면 도아 고세이제의 다염기산 변성 아크릴 올리고머로서, M-510, M-520 등을 들 수 있다.As the polymerizable compound having an acid group, an aliphatic polyhydroxy compound and an ester of an unsaturated carboxylic acid are preferable, and a polymerizable compound having an acid group by reacting an unreacted hydroxyl group of the aliphatic polyhydroxy compound with a nonaromatic carboxylic acid anhydride And particularly preferably, in this ester, the aliphatic polyhydroxy compound is pentaerythritol and / or dipentaerythritol. Examples of commercially available products include M-510 and M-520, which are polybasic acid-modified acrylic oligomers of Doogose Seiyaku Co., Ltd.

산기를 갖는 중합성 화합물은 1종을 단독으로 이용해도 되지만, 제조상, 단일의 화합물을 이용하는 것은 어려운 점에서, 2종 이상을 혼합하여 이용해도 된다.One kind of the polymerizable compound having an acid group may be used alone, but two or more kinds of the polymerizable compounds having an acid group may be used in combination because it is difficult to use a single compound in the production.

산기를 갖는 중합성 화합물의 바람직한 산가로서는, 0.1mgKOH/g~40mgKOH/g이며, 특히 바람직하게는 5mgKOH/g~30mgKOH/g이다. 다관능 모노머의 산가가 0.1mgKOH/g 이상이면, 현상 용해 특성이 양호하고, 40mgKOH/g 이하이면, 제조나 취급상, 유리하다. 나아가서는, 광중합 성능이 양호하고, 화소의 표면 평활성 등의 경화성이 우수하다. 따라서, 다른 산기의 중합성 화합물을 2종 이상 병용하는 경우, 혹은 산기를 갖지 않는 중합성 화합물과 산기를 갖는 중합성 화합물을 병용하는 경우, 전체의 중합성 화합물로서의 산가가 상기 범위에 들어가도록 조정하는 것이 바람직하다.The acid value of the polymerizable compound having an acid group is preferably from 0.1 mg KOH / g to 40 mg KOH / g, particularly preferably from 5 mg KOH / g to 30 mg KOH / g. If the acid value of the polyfunctional monomer is 0.1 mgKOH / g or more, the development and dissolution characteristics are good, and if it is 40 mgKOH / g or less, it is advantageous in terms of production and handling. Further, the photopolymerization performance is good and the curability such as the surface smoothness of the pixel is excellent. Therefore, when two or more kinds of polymerizable compounds having different acid groups are used in combination, or when a polymerizable compound having no acid group and a polymerizable compound having an acid group are used in combination, the acid value as the entire polymerizable compound is adjusted .

또, 중합성 화합물로서, 카프로락톤 구조를 갖는 중합성 화합물을 함유하는 것도 바람직한 양태이다.It is also a preferable embodiment that a polymerizable compound having a caprolactone structure is contained as the polymerizable compound.

카프로락톤 구조를 갖는 중합성 화합물로서는, 분자 내에 카프로락톤 구조를 갖는 한 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 트라이메틸올에테인, 다이트라이메틸올에테인, 트라이메틸올프로페인, 다이트라이메틸올프로페인, 펜타에리트리톨, 다이펜타에리트리톨, 트라이펜타에리트리톨, 글리세린, 다이글리세롤, 트라이메틸올멜라민 등의 다가 알코올과, (메트)아크릴산 및 ε-카프로락톤을 에스터화함으로써 얻어지는, ε-카프로락톤 변성 다관능 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 그 중에서도 하기 일반식 (Z-1)로 나타나는 카프로락톤 구조를 갖는 중합성 화합물이 바람직하다.The polymerizable compound having a caprolactone structure is not particularly limited as long as it has a caprolactone structure in the molecule, and examples thereof include trimethylolethane, ditrimethylolethane, trimethylolpropane, ditrimethylolpropane (Meth) acrylic acid and? -Caprolactone obtained by esterifying polyhydric alcohols such as pentaerythritol, pentaerythritol, dipentaerythritol, tripentaerythritol, glycerin, diglycerol, and trimethylol melamine with And polyfunctional (meth) acrylates. Among them, a polymerizable compound having a caprolactone structure represented by the following general formula (Z-1) is preferable.

[화학식 68](68)

Figure 112016121945081-pct00068
Figure 112016121945081-pct00068

일반식 (Z-1) 중, 6개의 R은 모두가 하기 일반식 (Z-2)로 나타나는 기이거나, 또는 6개의 R 중 1~5개가 하기 일반식 (Z-2)로 나타나는 기이며, 잔여가 하기 일반식 (Z-3)으로 나타나는 기이다.In the general formula (Z-1), all six R's are groups represented by the following general formula (Z-2), or one to five of the six R's are groups represented by the general formula (Z-2) And the remainder is a group represented by the following general formula (Z-3).

[화학식 69](69)

Figure 112016121945081-pct00069
Figure 112016121945081-pct00069

일반식 (Z-2) 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, m은 1 또는 2의 정수를 나타내며, "*"는 결합손인 것을 나타낸다.In the general formula (Z-2), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, m represents an integer of 1 or 2, and "*" represents a bonding bond.

[화학식 70](70)

Figure 112016121945081-pct00070
Figure 112016121945081-pct00070

일반식 (Z-3) 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, "*"는 결합손인 것을 나타낸다.In the general formula (Z-3), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and "*" represents a bonding bond.

카프로락톤 구조를 갖는 중합성 화합물은, 예를 들면 닛폰 가야쿠로부터 KAYARAD DPCA 시리즈로서 시판되고 있으며, DPCA-20(상기 식 (Z-1)~(Z-3)에 있어서 m=1, 식 (Z-2)로 나타나는 기의 수=2, R1이 모두 수소 원자인 화합물), DPCA-30(동일 식, m=1, 식 (Z-2)로 나타나는 기의 수=3, R1이 모두 수소 원자인 화합물), DPCA-60(동일 식, m=1, 식 (Z-2)로 나타나는 기의 수=6, R1이 모두 수소 원자인 화합물), DPCA-120(동일 식에 있어서 m=2, 식 (Z-2)로 나타나는 기의 수=6, R1이 모두 수소 원자인 화합물) 등을 들 수 있다.The polymerizable compound having a caprolactone structure is commercially available, for example, as a KAYARAD DPCA series from Nippon Kayaku. DPCA-20 (in the formulas (Z-1) to (Z-3) both be = 2, R 1 in the group represented by Z-2), this number = 3, R 1 of a group represented by the compound), DPCA-30 (the same formula, m = 1, formula (Z-2) the hydrogen atom DPCA-60 (the compound represented by the formula: m = 1, the number of groups represented by the formula (Z-2) = 6 and R 1 are all hydrogen atoms), DPCA-120 m = 2, the number of groups represented by the formula (Z-2) = 6, and R 1 are all hydrogen atoms).

본 발명에 있어서, 카프로락톤 구조를 갖는 중합성 화합물은, 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In the present invention, the polymerizable compounds having a caprolactone structure may be used alone or in combination of two or more.

또, 중합성 화합물은, 하기 일반식 (Z-4) 또는 (Z-5)로 나타나는 화합물을 이용할 수도 있다.The polymerizable compound may be a compound represented by the following general formula (Z-4) or (Z-5).

[화학식 71](71)

Figure 112016121945081-pct00071
Figure 112016121945081-pct00071

일반식 (Z-4) 및 (Z-5) 중, E는 각각 독립적으로 -((CH2)yCH2O)-, 또는 -((CH2)yCH(CH3)O)-를 나타내고, y는 각각 독립적으로 0~10의 정수를 나타내며, X는 각각 독립적으로 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 수소 원자, 또는 카복실기를 나타낸다.In the general formulas (Z-4) and (Z-5), E independently represents - ((CH 2 ) y CH 2 O) - or - ((CH 2 ) yCH (CH 3 ) y each independently represents an integer of 0 to 10, and each X independently represents an acryloyl group, a methacryloyl group, a hydrogen atom, or a carboxyl group.

일반식 (Z-4) 중, 아크릴로일기 및 메타크릴로일기의 합계는 3개 또는 4개이며, m은 각각 독립적으로 0~10의 정수를 나타내고, 각 m의 합계는 0~40의 정수이다. 단, 각 m의 합계가 0인 경우, X 중 어느 하나는 카복실기이다.In the general formula (Z-4), the sum of the acryloyl group and the methacryloyl group is 3 or 4, m is independently an integer of 0 to 10, and the sum of m is an integer of 0 to 40 to be. Provided that when the sum of each m is 0, any one of X is a carboxyl group.

일반식 (Z-5) 중, 아크릴로일기 및 메타크릴로일기의 합계는 5개 또는 6개이며, n은 각각 독립적으로 0~10의 정수를 나타내고, 각 n의 합계는 0~60의 정수이다. 단, 각 n의 합계가 0인 경우, X 중 어느 하나는 카복실기이다.In the general formula (Z-5), the sum of the acryloyl group and the methacryloyl group is 5 or 6, each n independently represents an integer of 0 to 10, and the sum of n is an integer of 0 to 60 to be. Provided that when the sum of each n is 0, any one of X is a carboxyl group.

일반식 (Z-4) 중, m은 0~6의 정수가 바람직하고, 0~4의 정수가 보다 바람직하다.In the general formula (Z-4), m is preferably an integer of 0 to 6, more preferably an integer of 0 to 4.

또, 각 m의 합계는, 2~40의 정수가 바람직하고, 2~16의 정수가 보다 바람직하며, 4~8의 정수가 특히 바람직하다.The sum of m is preferably an integer of 2 to 40, more preferably an integer of 2 to 16, and an integer of 4 to 8 is particularly preferable.

일반식 (Z-5) 중, n은 0~6의 정수가 바람직하고, 0~4의 정수가 보다 바람직하다.In the general formula (Z-5), n is preferably an integer of 0 to 6, more preferably an integer of 0 to 4.

또, 각 n의 합계는, 3~60의 정수가 바람직하고, 3~24의 정수가 보다 바람직하며, 6~12의 정수가 특히 바람직하다.The sum of each n is preferably an integer of 3 to 60, more preferably an integer of 3 to 24, and particularly preferably an integer of 6 to 12.

또, 일반식 (Z-4) 또는 일반식 (Z-5) 중 -((CH2)yCH2O)- 또는 -((CH2)yCH(CH3)O)-는, 산소 원자측의 말단이 X에 결합하는 형태가 바람직하다.- ((CH 2 ) y CH 2 O) - or - ((CH 2 ) y CH (CH 3 ) O) - in the general formula (Z-4) or the general formula (Z- A form in which the terminal is bonded to X is preferable.

일반식 (Z-4) 또는 일반식 (Z-5)로 나타나는 화합물은 1종 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상 병용해도 된다. 특히, 일반식 (Z-5)에 있어서, 6개의 X 모두가 아크릴로일기인 형태가 바람직하다.The compounds represented by the general formula (Z-4) or (Z-5) may be used singly or in combination of two or more. Particularly, in the general formula (Z-5), all of the six X's are preferably acryloyl groups.

또, 일반식 (Z-4) 또는 일반식 (Z-5)로 나타나는 화합물의 중합성 화합물 중에 있어서의 전체 함유량으로서는, 20질량% 이상이 바람직하고, 50질량% 이상이 보다 바람직하다.The total content of the compound represented by the formula (Z-4) or (Z-5) in the polymerizable compound is preferably 20% by mass or more, and more preferably 50% by mass or more.

일반식 (Z-4) 또는 일반식 (Z-5)로 나타나는 화합물은, 종래 공지의 공정인, 펜타에리트리톨 또는 다이펜타에리트리톨에 에틸렌옥사이드 또는 프로필렌옥사이드를 개환(開環) 부가 반응에 의하여 개환 골격을 결합하는 공정과, 개환 골격의 말단 수산기에, 예를 들면 (메트)아크릴로일 클로라이드를 반응시켜 (메트)아크릴로일기를 도입하는 공정으로 합성할 수 있다. 각 공정은 잘 알려진 공정이며, 당업자는 용이하게 일반식 (Z-4) 또는 (Z-5)로 나타나는 화합물을 합성할 수 있다.The compound represented by the general formula (Z-4) or the general formula (Z-5) can be produced by subjecting pentaerythritol or dipentaerythritol, which is a conventionally known process, to ethylene oxide or propylene oxide by ring opening addition reaction And a step of introducing a (meth) acryloyl group by reacting, for example, (meth) acryloyl chloride on the terminal hydroxyl group of the ring-opening skeleton. Each process is a well-known process, and a person skilled in the art can easily synthesize a compound represented by the general formula (Z-4) or (Z-5).

일반식 (Z-4) 또는 일반식 (Z-5)로 나타나는 화합물 중에서도, 펜타에리트리톨 유도체 및/또는 다이펜타에리트리톨 유도체가 보다 바람직하다.Among the compounds represented by formula (Z-4) or formula (Z-5), pentaerythritol derivatives and / or dipentaerythritol derivatives are more preferable.

구체적으로는, 하기 식 (a)~(f)로 나타나는 화합물(이하, "예시 화합물 (a)~(f)"라고도 칭함)을 들 수 있으며, 그 중에서도, 예시 화합물 (a), (b), (e), (f)가 바람직하다.(A), (b), (f), (f), and (f) of the present invention. Specific examples include the compounds represented by the following formulas , (e) and (f) are preferable.

[화학식 72](72)

Figure 112016121945081-pct00072
Figure 112016121945081-pct00072

[화학식 73](73)

Figure 112016121945081-pct00073
Figure 112016121945081-pct00073

일반식 (Z-4), (Z-5)로 나타나는 중합성 화합물의 시판품으로서는, 예를 들면 사토머제의 에틸렌옥시쇄를 4개 갖는 4관능 아크릴레이트인 SR-494, 닛폰 가야쿠제의 펜틸렌옥시쇄를 6개 갖는 6관능 아크릴레이트인 DPCA-60, 아이소뷰틸렌옥시쇄를 3개 갖는 3관능 아크릴레이트인 TPA-330 등을 들 수 있다.Examples of commercially available products of the polymerizable compounds represented by the general formulas (Z-4) and (Z-5) include SR-494 which is a tetrafunctional acrylate having four ethyleneoxy chains of a saturating agent, pentylene of Nippon Kayaku DPCA-60, which is a hexafunctional acrylate having 6 oxygens, and TPA-330, which is a trifunctional acrylate having 3 isobutyleneoxy chains.

또, 본 발명에서는, 중합성 화합물로서, 에폭시기를 갖는 화합물을 이용할 수도 있다. 에폭시기를 갖는 화합물로서는, 1분자 내에 에폭시기를 2개 이상 갖는 것이 바람직하다. 1분자 내에 에폭시기를 2개 이상 갖는 화합물을 이용함으로써, 본 발명의 효과를 보다 효과적으로 달성할 수 있다. 에폭시기는, 1분자 내에 2~10개가 바람직하고, 2~5개가 보다 바람직하며, 3개가 특히 바람직하다.In the present invention, a compound having an epoxy group may also be used as the polymerizable compound. As the compound having an epoxy group, it is preferable to have two or more epoxy groups in one molecule. By using a compound having two or more epoxy groups in one molecule, the effect of the present invention can be more effectively achieved. The epoxy group is preferably 2 to 10, more preferably 2 to 5, and most preferably 3 in one molecule.

에폭시 화합물로서는, 일본 공개특허공보 2014-153554호의 단락 0091~0103의 기재를 참조할 수 있으며, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.As the epoxy compound, reference can be made to the description of paragraphs 0091 to 0103 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2014-153554, the contents of which are incorporated herein.

에폭시 화합물의 시판품으로서는, 예를 들면 비스페놀 A형 에폭시 수지로서는, JER827, JER828, JER834, JER1001, JER1002, JER1003, JER1055, JER1007, JER1009, JER1010(이상, 재팬 에폭시 레진(주)제), EPICLON860, EPICLON1050, EPICLON1051, EPICLON1055(이상, DIC(주)제) 등이고, 비스페놀 F형 에폭시 수지로서는, JER806, JER807, JER4004, JER4005, JER4007, JER4010(이상, 재팬 에폭시 레진(주)제), EPICLON830, EPICLON835(이상, DIC(주)제), LCE-21, RE-602S(이상, 닛폰 가야쿠(주)제) 등이며, 페놀 노볼락형 에폭시 수지로서는, JER152, JER154, JER157S70, JER157S65(이상, 재팬 에폭시 레진(주)제), EPICLON N-740, EPICLON N-770, EPICLON N-775(이상, DIC(주)제) 등이고, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지로서는, EPICLON N-660, EPICLON N-665, EPICLON N-670, EPICLON N-673, EPICLON N-680, EPICLON N-690, EPICLON N-695(이상, DIC(주)제), EOCN-1020(이상, 닛폰 가야쿠(주)제) 등이며, 지방족 에폭시 수지로서는, ADEKA RESIN EP-4080S, 동 EP-4085S, 동 EP-4088S(이상, (주)ADEKA제), 셀록사이드 2021P, 셀록사이드 2081, 셀록사이드 2083, 셀록사이드 2085, EHPE3150, EPOLEAD PB 3600, 동 PB 4700(이상, 다이셀 가가쿠 고교(주)제), 데나콜 EX-212L, EX-214L, EX-216L, EX-321L, EX-850L(이상, 나가세 켐텍스(주)제) 등이다. 그 외에도, ADEKA RESIN EP-4000S, 동 EP-4003S, 동 EP-4010S, 동 EP-4011S(이상, (주)ADEKA제), NC-2000, NC-3000, NC-7300, XD-1000, EPPN-501, EPPN-502(이상, (주)ADEKA제), JER1031S(재팬 에폭시 레진(주)제) 등을 들 수 있다.As commercial products of epoxy compounds, for example, bisphenol A type epoxy resins include JER827, JER828, JER834, JER1001, JER1002, JER1003, JER1055, JER1007, JER1009, JER1010 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), EPICLON860, EPICLON1050 (Manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), EPICLON 830, EPICLON 835 (manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd.), and the like, as the bisphenol F type epoxy resin, JER152, JER157S70, JER157S65 (the above, Japan Epoxy Resin Co., Ltd., Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), LCE-21 and RE-602S (manufactured by Nippon Kayaku Co., (EPICLON N-660, EPICLON N-665, EPICLON N-770, and EPICLON N-775 manufactured by DIC Corporation) EPICLON N-690, EPICLON N-690, EPICLON N-690, EPICLON N-690 (manufactured by DIC Corporation) Fat Examples of the epoxy resin include ADEKA RESIN EP-4080S, EP-4085S and EP-4088S (manufactured by ADEKA), Celloxide 2021P, Celloxide 2081, Celloxide 2083, Celloxide 2085, EHPE 3150, EPOLEAD PB 3600 (Manufactured by Nagase ChemteX Corporation), PB 4700 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), Denacol EX-212L, EX-214L, EX-216L, EX-321L and EX- . In addition, ADEKA RESIN EP-4000S, EP-4003S, EP-4010S and EP-4011S (manufactured by ADEKA), NC-2000, NC-3000, NC-7300, XD- -501, EPPN-502 (manufactured by ADEKA Corporation) and JER1031S (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.).

또, 에폭시기를 갖는 화합물의 시판품으로서는, JER1031S(미쓰비시 가가쿠(주)제), JER1032H60(미쓰비시 가가쿠(주)제), EPICLON HP-4700(DIC(주)제), EPICLON N-695(DIC(주)제) 등도 바람직하게 이용할 수 있다.EPICLON HP-4700 (manufactured by DIC Corporation), EPICLON N-695 (manufactured by Mitsubishi Kagaku K.K.), DIC (manufactured by Mitsubishi Kagaku K.K.), and the like are commercially available as commercial products of epoxy group- (Manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) can be preferably used.

또, 본 발명에서는 중합성 화합물로서는, 일본 공고특허공보 소48-41708호, 일본 공개특허공보 소51-37193호, 일본 공고특허공보 평2-32293호, 일본 공고특허공보 평2-16765호에 기재되어 있는 유레테인아크릴레이트류나, 일본 공고특허공보 소58-49860호, 일본 공고특허공보 소56-17654호, 일본 공고특허공보 소62-39417호, 일본 공고특허공보 소62-39418호에 기재된 에틸렌옥사이드계 골격을 갖는 유레테인 화합물류도 적합하다. 또한, 중합성 화합물로서, 일본 공개특허공보 소63-277653호, 일본 공개특허공보 소63-260909호, 일본 공개특허공보 평1-105238호에 기재되는, 분자 내에 아미노 구조나 설파이드 구조를 갖는 부가 중합성 화합물류를 이용함으로써, 매우 감광 스피드가 우수한 착색 조성물을 얻을 수 있다.Further, in the present invention, as polymerizable compounds, there may be mentioned, for example, Japanese Patent Publication Nos. 48-41708, 51-37193, 2-32293, and 2-16765 Japanese Patent Publication No. 58-49860, Japanese Examined Patent Publication No. 56-17654, Japanese Examined Patent Publication No. 62-39417, Japanese Examined Patent Publication No. 62-39418 Also suitable are urethane compounds having the ethylene oxide skeleton described therein. Examples of the polymerizable compound include compounds having an amino or sulfide structure in the molecule, such as those described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909 and JP-A-1-105238 By using the polymerizable compounds, a colored composition having a very high photosensitive speed can be obtained.

또, 본 발명에서는 중합성 화합물로서 옥세테인기를 갖는 화합물을 이용할 수도 있다. 옥세테인기를 갖는 화합물로서는, 일본 공개특허공보 2008-224970호의 단락 0134~0145에 기재된 화합물을 들 수 있으며, 그 내용은 본 명세서에 원용된다. 구체예로서는, 아론 옥세테인 OXT-121, OXT-221, OX-SQ, PNOX(이상, 도아 고세이제)를 이용할 수 있다.In the present invention, a compound having oxetane's popularity may also be used as the polymerizable compound. As a compound having an oxetecyl group, there may be mentioned the compounds described in paragraphs 0134 to 0145 of JP-A No. 2008-224970, the content of which is incorporated herein by reference. As specific examples, Aromaxhene OXT-121, OXT-221, OX-SQ, PNOX (the above, Doogase) can be used.

중합성 화합물의 시판품으로서는, 유레테인 올리고머 UAS-10, UAB-140(산요 고쿠사쿠 펄프제), UA-7200(신나카무라 가가쿠제), DPHA-40H(닛폰 가야쿠제), UA-306H, UA-306T, UA-306I, AH-600, T-600, AI-600(교에이제) 등을 들 수 있다.Examples of commercially available polymerizable compounds include urethane oligomers UAS-10, UAB-140 (manufactured by Sanyo Kogaku Pulp), UA-7200 (Shin Nakamura Kagaku), DPHA-40H (manufactured by Nippon Kayaku), UA- -306T, UA-306I, AH-600, T-600, AI-600 (Kyowa now).

착색 조성물 중에 중합성 화합물을 함유하는 경우, 중합성 화합물의 함유량은, 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여, 1~30질량%가 바람직하고, 2~25질량%가 보다 바람직하며, 5~20질량%가 더 바람직하다.When the polymerizable compound is contained in the coloring composition, the content of the polymerizable compound is preferably from 1 to 30 mass%, more preferably from 2 to 25 mass%, and still more preferably from 5 to 20 mass%, based on the total solid content of the coloring composition. Is more preferable.

본 발명의 착색 조성물은, 중합성 화합물을 1종류만 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The coloring composition of the present invention may contain only one type of polymerizable compound or two or more types of the polymerizable compound. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.

<<다관능 싸이올 화합물>><< Multifunctional Thiol Compounds >>

본 발명의 착색 조성물은, 중합성 화합물의 반응을 촉진시키는 것 등을 목적으로 하여, 분자 내에 2개 이상의 머캅토기를 갖는 다관능 싸이올 화합물을 포함하고 있어도 된다. 다관능 싸이올 화합물은, 2급의 알케인싸이올류인 것이 바람직하고, 특히 하기 일반식 (T1)로 나타나는 구조를 갖는 화합물인 것이 바람직하다.The coloring composition of the present invention may contain a polyfunctional thiol compound having two or more mercapto groups in the molecule for the purpose of promoting the reaction of the polymerizable compound and the like. The polyfunctional thiol compound is preferably a secondary alkene thiol compound, particularly preferably a compound having a structure represented by the following general formula (T1).

일반식 (T1)The general formula (T1)

[화학식 74]&Lt; EMI ID =

Figure 112016121945081-pct00074
Figure 112016121945081-pct00074

(식 (T1) 중, n은 2~4의 정수를 나타내고, L은 2~4가의 연결기를 나타낸다.)(In the formula (T1), n represents an integer of 2 to 4, and L represents a linking group having a valency of 2 to 4.)

상기 일반식 (T1)에 있어서, 연결기 L은 탄소수 2~12의 지방족기인 것이 바람직하고, n이 2이며, L이 탄소수 2~12의 알킬렌기인 것이 특히 바람직하다. 다관능 싸이올 화합물의 구체적인 예로서는, 하기의 구조식 (T2)~(T4)로 나타나는 화합물을 들 수 있으며, 식 (T2)로 나타나는 화합물이 특히 바람직하다. 이들 다관능 싸이올은 1종 또는 복수 조합하여 사용하는 것이 가능하다.In the general formula (T1), the linking group L is preferably an aliphatic group having 2 to 12 carbon atoms, n is 2, and L is particularly preferably an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms. Specific examples of the polyfunctional thiol compound include compounds represented by the following structural formulas (T2) to (T4), and compounds represented by the formula (T2) are particularly preferable. These polyfunctional thiols can be used singly or in combination.

[화학식 75](75)

Figure 112016121945081-pct00075
Figure 112016121945081-pct00075

본 발명의 착색 조성물이 다관능 싸이올 화합물을 함유하는 경우, 용제를 제외한 전체 고형분에 대하여 0.3~8.9질량%가 바람직하고, 0.8~6.4질량%가 보다 바람직하다.When the coloring composition of the present invention contains a polyfunctional thiol compound, it is preferably 0.3 to 8.9% by mass, more preferably 0.8 to 6.4% by mass, based on the total solid content excluding the solvent.

<<광중합 개시제>><< Photopolymerization initiator >>

본 발명의 착색 조성물은, 광중합 개시제를 더 함유해도 된다.The coloring composition of the present invention may further contain a photopolymerization initiator.

광중합 개시제로서는, 중합성 화합물의 중합을 개시하는 능력을 갖는 한, 특별히 제한은 없고, 공지의 광중합 개시제 중에서 적절히 선택할 수 있다. 예를 들면, 자외선 영역으로부터 가시의 광선에 대하여 감광성을 갖는 것이 바람직하다. 또, 광여기된 증감제와 어떠한 작용을 발생시켜, 활성 라디칼을 생성하는 활성제여도 되고, 모노머의 종류에 따라 양이온 중합을 개시시키는 개시제여도 된다.The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it has the ability to initiate polymerization of the polymerizable compound, and can be appropriately selected from known photopolymerization initiators. For example, it is preferable to have photosensitivity to a visible ray from an ultraviolet ray region. In addition, it may be an activator that generates an active radical by generating some action with a photoexcited sensitizer, or may be an initiator that initiates cationic polymerization depending on the type of the monomer.

또, 광중합 개시제는, 약 300nm~800nm(330nm~500nm가 보다 바람직함)의 범위 내에 적어도 약 50의 분자 흡광 계수를 갖는 화합물을, 적어도 1종 함유하고 있는 것이 바람직하다.The photopolymerization initiator preferably contains at least one compound having a molecular extinction coefficient of at least about 50 within a range of about 300 nm to 800 nm (more preferably 330 nm to 500 nm).

광중합 개시제로서는, 예를 들면 할로젠화 탄화 수소 유도체(예를 들면, 트라이아진 골격을 갖는 것, 옥사다이아졸 골격을 갖는 것 등), 아실포스핀옥사이드 등의 아실포스핀 화합물, 헥사아릴바이이미다졸, 옥심 유도체 등의 옥심 화합물, 유기 과산화물, 싸이오 화합물, 케톤 화합물, 방향족 오늄염, 케톡심에터, 아미노아세토페논 화합물, 하이드록시아세토페논 등을 들 수 있다.Examples of the photopolymerization initiator include halogenated hydrocarbon derivatives (for example, those having a triazine skeleton, those having an oxadiazole skeleton, etc.), acylphosphine compounds such as acylphosphine oxide, Organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ketoxime ethers, aminoacetophenone compounds, hydroxyacetophenones, and the like.

또, 노광 감도의 관점에서, 트라이할로메틸트라이아진 화합물, 벤질다이메틸케탈 화합물, α-하이드록시케톤 화합물, α-아미노케톤 화합물, 아실포스핀 화합물, 포스핀옥사이드 화합물, 메탈로센 화합물, 옥심 화합물, 트라이알릴이미다졸 다이머, 오늄 화합물, 벤조싸이아졸 화합물, 벤조페논 화합물, 아세토페논 화합물 및 그 유도체, 사이클로펜타다이엔-벤젠-철 착체 및 그 염, 할로메틸옥사다이아졸 화합물, 3-아릴 치환 쿠마린 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 화합물이 바람직하다.From the viewpoint of exposure sensitivity, it is also possible to use a trihalomethyltriazine compound, a benzyldimethylketal compound, an? -Hydroxyketone compound, an? -Amino ketone compound, an acylphosphine compound, a phosphine oxide compound, Oxime compounds, triallyl imidazole dimers, onium compounds, benzothiazole compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds and derivatives thereof, cyclopentadiene-benzene-iron complexes and salts thereof, halomethyloxadiazole compounds, 3 -Aryl-substituted coumarin compound is preferable.

더 바람직하게는, 트라이할로메틸트라이아진 화합물, α-아미노케톤 화합물, 아실포스핀 화합물, 포스핀옥사이드 화합물, 옥심 화합물, 트라이알릴이미다졸 다이머, 오늄 화합물, 벤조페논 화합물, 아세토페논 화합물이며, 트라이할로메틸트라이아진 화합물, α-아미노케톤 화합물, 옥심 화합물, 트라이알릴이미다졸 다이머, 벤조페논 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물이 특히 바람직하고, 옥심 화합물이 더 바람직하다.More preferably, it is a trihalomethyltriazine compound, an? -Amino ketone compound, an acylphosphine compound, a phosphine oxide compound, an oxime compound, a triallylimidazole dimer, an onium compound, a benzophenone compound or an acetophenone compound , At least one compound selected from the group consisting of a trihalomethyltriazine compound, an? -Amino ketone compound, an oxime compound, a triallylimidazole dimer, and a benzophenone compound is particularly preferable, and an oxime compound is more preferable .

특히, 본 발명의 착색 조성물을 고체 촬상 소자의 컬러 필터의 제작에 사용하는 경우에는, 미세한 패턴을 샤프한 형상으로 형성할 필요가 있기 때문에, 경화성과 함께 미노광부에 잔사가 없이 현상되는 것이 중요하다. 이와 같은 관점에서는, 광중합 개시제로서는 옥심 화합물을 사용하는 것이 특히 바람직하다. 특히, 고체 촬상 소자에 있어서 미세한 패턴을 형성하는 경우, 경화용 노광에 스테퍼 노광기를 이용하는데, 이 노광기는 할로젠에 의하여 손상되는 경우가 있어, 광중합 개시제의 첨가량도 낮게 억제할 필요가 있기 때문에, 이러한 점을 고려하면, 고체 촬상 소자와 같은 미세 패턴을 형성하려면 광중합 개시제로서는, 옥심 화합물을 이용하는 것이 특히 바람직하다. 또, 옥심 화합물을 이용함으로써, 이염성을 보다 양호하게 할 수 있다.Particularly, when the coloring composition of the present invention is used in the production of a color filter of a solid-state imaging device, it is necessary to form a fine pattern in a sharp shape, so that it is important that the coloring composition is developed without residue on the unexposed portion with curing property. From this viewpoint, it is particularly preferable to use an oxime compound as the photopolymerization initiator. Particularly, in the case of forming a fine pattern in the solid-state image pickup device, a stepper exposing machine is used for the curing exposure, and this exposing machine may be damaged by the halogen, and the addition amount of the photopolymerization initiator also needs to be suppressed to a low level, Taking this into consideration, it is particularly preferable to use an oxime compound as a photopolymerization initiator in order to form a fine pattern such as a solid-state imaging element. Further, by using an oxime compound, it is possible to further improve the flammability.

본 발명에 이용되는 광중합 개시제의 구체예로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0265~0268을 참조할 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.As specific examples of the photopolymerization initiator used in the present invention, reference can be made, for example, to paragraphs 0265 to 0268 of JP-A-2013-29760, the contents of which are incorporated herein by reference.

광중합 개시제로서는, 하이드록시아세토페논 화합물, 아미노아세토페논 화합물, 및 아실포스핀 화합물도 적합하게 이용할 수 있다. 보다 구체적으로는, 예를 들면 일본 공개특허공보 평10-291969호에 기재된 아미노아세토페논계 개시제, 일본 특허공보 제4225898호에 기재된 아실포스핀옥사이드계 개시제도 이용할 수 있다.As the photopolymerization initiator, a hydroxyacetophenone compound, an aminoacetophenone compound, and an acylphosphine compound can also be suitably used. More specifically, for example, the aminoacetophenone-based initiator disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-291969 or the acylphosphine oxide-based initiator disclosed in Japanese Patent Publication No. 4225898 can be used.

하이드록시아세토페논계 개시제로서는, IRGACURE-184, DAROCUR-1173, IRGACURE-500, IRGACURE-2959, IRGACURE-127(상품명: 모두 BASF제)을 이용할 수 있다. 아미노아세토페논계 개시제로서는, 시판품인 IRGACURE-907, IRGACURE-369, 및 IRGACURE OXE-379(상품명: 모두 BASF제)를 이용할 수 있다. 아미노아세토페논계 개시제로서, 365nm 또는 405nm 등의 장파 광원에 흡수 파장이 매칭된 일본 공개특허공보 2009-191179에 기재된 화합물도 이용할 수 있다. 또, 아실포스핀계 개시제로서는 시판품인 IRGACURE-819나 DAROCUR-TPO(상품명: 모두 BASF제)를 이용할 수 있다.As the hydroxyacetophenone-based initiator, IRGACURE-184, DAROCUR-1173, IRGACURE-500, IRGACURE-2959 and IRGACURE-127 (all trade names; As the aminoacetophenone-based initiator, commercially available IRGACURE-907, IRGACURE-369, and IRGACURE OXE-379 (all trade names, all of BASF) can be used. As the aminoacetophenone-based initiator, a compound described in JP-A-2009-191179 in which the absorption wavelength is matched to a long-wavelength light source such as 365 nm or 405 nm can be used. As the acylphosphine-based initiator, commercially available products IRGACURE-819 and DAROCUR-TPO (all trade names, all of which are manufactured by BASF) can be used.

광중합 개시제로서, 보다 바람직하게는 옥심 화합물을 들 수 있다. 옥심 개시제의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2001-233842호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2000-80068호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2006-342166호에 기재된 화합물을 이용할 수 있다.The photopolymerization initiator is more preferably an oxime compound. Specific examples of the oxime initiator include compounds described in JP 2001-233842 A, compounds described in JP 2000-80068 A, and compounds described in JP 2006-342166 A.

본 발명에 있어서의 광중합 개시제로서 적합하게 이용되는 옥심 유도체 등의 옥심 화합물로서는, 예를 들면 3-벤조일옥시이미노뷰탄-2-온, 3-아세톡시이미노뷰탄-2-온, 3-프로피온일옥시이미노뷰탄-2-온, 2-아세톡시이미노펜탄-3-온, 2-아세톡시이미노-1-페닐프로판-1-온, 2-벤조일옥시이미노-1-페닐프로판-1-온, 3-(4-톨루엔설폰일옥시)이미노뷰탄-2-온, 및 2-에톡시카보닐옥시이미노-1-페닐프로판-1-온 등을 들 수 있다.Examples of the oxime compounds such as oxime derivatives suitably used as the photopolymerization initiator in the present invention include 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan- 2-acetoxyiminopentan-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino- (4-toluenesulfonyloxy) iminobutan-2-one, and 2-ethoxycarbonyloxyimino-1-phenylpropan-1-one.

옥심 화합물로서는, J. C. S. Perkin II(1979년) pp. 1653-1660, J. C. S. Perkin II(1979년) pp. 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology(1995년) pp. 202-232, 일본 공개특허공보 2000-66385호에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2000-80068호, 일본 공표특허공보 2004-534797호, 일본 공개특허공보 2006-342166호의 각 공보에 기재된 화합물 등을 들 수 있다.As oxime compounds, see J. C. S. Perkin II (1979) pp. Pp. 1653-1660, J. C. S. Perkin II (1979) pp. Pp. 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) pp. 202-232, JP-A 2000-66385, JP-A 2000-80068, JP-A 2004-534797, JP-A 2006-342166, etc. .

시판품으로는, 예를 들면 하기에 구조를 나타내는 IRGACURE-OXE-01(BASF제), IRGACURE-OXE-02(BASF제)도 적합하게 이용된다. 또, TR-PBG-304, TRONLY TR-PBG-309, TRONLY TR-PBG-305(창저우 강력 전자 신재료 유한공사(CHANGZHOU TRONLY NEW ELECTRONIC MATERIALS CO., LTD) 제), 아데카 아클즈 NCI-831 및 아데카 아클즈 NCI-930(ADEKA제)도 이용할 수 있다.As a commercially available product, for example, IRGACURE-OXE-01 (manufactured by BASF) and IRGACURE-OXE-02 (manufactured by BASF) which have the following structures are suitably used. TRONLY TR-PBG-304, TRONLY TR-PBG-309, TRONLY TR-PBG-305 (manufactured by CHANGZHOU TRONLY NEW ELECTRONIC MATERIALS CO., LTD.), Adeka acid NCI- 831 and ADEKA ACKLS NCI-930 (manufactured by ADEKA) can also be used.

[화학식 76][Formula 76]

Figure 112016121945081-pct00076
Figure 112016121945081-pct00076

또 상기에 기재된 것 이외의 옥심 화합물로서, 카바졸 N위에 옥심이 연결된 일본 공표특허공보 2009-519904호에 기재된 화합물, 벤조페논 부위에 헤테로 치환기가 도입된 미국 특허공보 제7626957호에 기재된 화합물, 색소 부위에 나이트로기가 도입된 일본 공개특허공보 2010-15025호 및 미국 특허공개공보 2009-292039호에 기재된 화합물, 국제 공개특허공보 2009-131189호에 기재된 케톡심 화합물, 트라이아진 골격과 옥심 골격을 동일 분자 내에 함유하는 미국 특허공보 7556910호에 기재된 화합물, 405nm에 흡수 극대를 갖고 g선 광원에 대하여 양호한 감도를 갖는 일본 공개특허공보 2009-221114호에 기재된 화합물 등을 이용해도 된다.As oxime compounds other than those described above, compounds described in Japanese Patent Publication No. 2009-519904 in which oxime is linked to carbazole N, compounds described in U.S. Patent No. 7626957 in which a hetero-substituent is introduced at the benzophenone moiety, Compounds disclosed in JP-A-2010-15025 and US-A-2009-292039 wherein a nitro group is introduced at the site, ketoxime compounds described in WO 2009-131189, triazine skeleton and oxime skeleton are the same Compounds described in U.S. Patent Publication No. 7556910 contained in the molecule, compounds described in JP-A-2009-221114 having an absorption maximum at 405 nm and good sensitivity to a g-ray light source, or the like may be used.

바람직하게는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0274~0275를 참조할 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.Preferably, for example, reference is made to paragraphs 0274 to 0275 of JP-A-2013-29760, the contents of which are incorporated herein by reference.

구체적으로는, 옥심 화합물로서는, 하기 식 (OX-1)로 나타나는 화합물이 바람직하다. 또한, 옥심의 N-O 결합이 (E)체의 옥심 화합물이어도 되고, (Z)체의 옥심 화합물이어도 되며, (E)체와 (Z)체의 혼합물이어도 된다.Specifically, the oxime compound is preferably a compound represented by the following formula (OX-1). Further, the N-O bond of the oxime may be an oxime compound of the (E) form, an oxime compound of the (Z) form, or a mixture of the form (E) and the form (Z).

[화학식 77][Formula 77]

Figure 112016121945081-pct00077
Figure 112016121945081-pct00077

일반식 (OX-1) 중, R 및 B는 각각 독립적으로 1가의 치환기를 나타내고, A는 2가의 유기기를 나타내며, Ar은 아릴기를 나타낸다.In the general formula (OX-1), R and B each independently represent a monovalent substituent, A represents a divalent organic group, and Ar represents an aryl group.

일반식 (OX-1) 중, R로 나타나는 1가의 치환기로서는, 1가의 비금속 원자단인 것이 바람직하다.In the general formula (OX-1), the monovalent substituent represented by R is preferably a monovalent non-metallic atomic group.

1가의 비금속 원자단으로서는, 알킬기, 아릴기, 아실기, 알콕시카보닐기, 아릴옥시카보닐기, 복소환기, 알킬싸이오카보닐기, 아릴싸이오카보닐기 등을 들 수 있다. 또, 이들 기는, 1 이상의 치환기를 갖고 있어도 된다. 또, 상술한 치환기는, 다른 치환기로 더 치환되어 있어도 된다.Examples of the monovalent nonmetal atomic group include an alkyl group, an aryl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a heterocyclic group, an alkylthiocarbonyl group, and an arylthiocarbonyl group. These groups may have one or more substituents. The above-mentioned substituent may be further substituted with another substituent.

치환기로서는 할로젠 원자, 아릴옥시기, 알콕시카보닐기 또는 아릴옥시카보닐기, 아실옥시기, 아실기, 알킬기, 아릴기 등을 들 수 있다.Examples of the substituent include a halogen atom, an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group or an aryloxycarbonyl group, an acyloxy group, an acyl group, an alkyl group, and an aryl group.

일반식 (OX-1) 중, B로 나타나는 1가의 치환기로서는, 아릴기, 복소환기, 아릴카보닐기, 또는 복소환 카보닐기가 바람직하다. 이들 기는 1 이상의 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 상술한 치환기를 예시할 수 있다.In the general formula (OX-1), the monovalent substituent represented by B is preferably an aryl group, a heterocyclic group, an arylcarbonyl group or a heterocyclic carbonyl group. These groups may have one or more substituents. As the substituent, the above-mentioned substituent can be exemplified.

일반식 (OX-1) 중, A로 나타나는 2가의 유기기로서는, 탄소수 1~12의 알킬렌기, 사이클로알킬렌기, 알카인일렌기가 바람직하다. 이들 기는 1 이상의 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 상술한 치환기를 예시할 수 있다.In the general formula (OX-1), as the divalent organic group represented by A, an alkylene group, a cycloalkylene group or an alkane-ylene group having 1 to 12 carbon atoms is preferable. These groups may have one or more substituents. As the substituent, the above-mentioned substituent can be exemplified.

일반식 (OX-1)로 나타나는 화합물의 구체예 (C-4)~(C-13)을 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.Specific examples (C-4) to (C-13) of the compound represented by formula (OX-1) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

[화학식 78](78)

Figure 112016121945081-pct00078
Figure 112016121945081-pct00078

옥심 화합물은, 350nm~500nm의 파장 영역에 극대 흡수 파장을 갖는 것이며, 360nm~480nm의 파장 영역에 흡수 파장을 갖는 것이 바람직하고, 365nm 및 405nm의 흡광도가 높은 것이 특히 바람직하다.The oxime compound has a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 350 nm to 500 nm, preferably has an absorption wavelength in a wavelength range of 360 nm to 480 nm, and particularly preferably has a high absorbance at 365 nm and 405 nm.

옥심 화합물은, 365nm 또는 405nm에 있어서의 몰 흡광 계수는, 감도의 관점에서, 1,000~300,000인 것이 바람직하고, 2,000~300,000인 것이 보다 바람직하며, 5,000~200,000인 것이 특히 바람직하다.The molar extinction coefficient of the oxime compound at 365 nm or 405 nm is preferably 1,000 to 300,000, more preferably 2,000 to 300,000, and particularly preferably 5,000 to 200,000 from the viewpoint of sensitivity.

화합물의 몰 흡광 계수는, 공지의 방법을 이용할 수 있는데, 구체적으로는, 예를 들면 자외 가시 분광 광도계(Varian제 Cary-5 spectrophotometer)로, 아세트산 에틸 용매를 이용하여, 0.01g/L의 농도로 측정하는 것이 바람직하다.Specific examples of the molar extinction coefficient of the compound include an ultraviolet visible spectrophotometer (Varian Cary-5 spectrophotometer), an ethyl acetate solvent at a concentration of 0.01 g / L It is preferable to measure it.

본 발명에 이용되는 광중합 개시제는, 필요에 따라 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.The photopolymerization initiator used in the present invention may be used in combination of two or more as necessary.

본 발명의 착색 조성물이 광중합 개시제를 함유하는 경우, 광중합 개시제의 함유량은, 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여 0.1~50질량%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5~30질량%이며, 더 바람직하게는 1~20질량%이다.When the coloring composition of the present invention contains a photopolymerization initiator, the content of the photopolymerization initiator is preferably from 0.1 to 50% by mass, more preferably from 0.5 to 30% by mass, based on the total solid content of the colorant composition, 1 to 20% by mass.

본 발명의 착색 조성물은, 광중합 개시제를, 1종류만 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The coloring composition of the present invention may contain only one type of photopolymerization initiator or two or more types of photopolymerization initiators. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.

<<색소 구조를 갖는 분산제 이외의 다른 분산제>><< Dispersants other than dispersants having a pigment structure >>

본 발명의 착색 조성물은, 색소 구조를 갖는 분산제 이외의 다른 분산제를 더 함유해도 된다.The coloring composition of the present invention may further contain a dispersant other than a dispersant having a pigment structure.

다른 분산제로서는, 고분자 분산제〔예를 들면, 폴리아미도아민과 그 염, 폴리카복실산과 그 염, 고분자량 불포화산 에스터, 변성 폴리유레테인, 변성 폴리에스터, 변성 폴리(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴계 공중합체, 나프탈렌설폰산 포말린 축합물〕, 및 폴리옥시에틸렌알킬 인산 에스터, 폴리옥시에틸렌알킬아민, 알칸올아민 등의 계면활성제, 및 안료 유도체 등을 들 수 있다. 이들의 상세는, 일본 공개특허공보 2014-130173호의 단락 0045~0049의 기재를 참조할 수 있으며, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.Examples of other dispersants include polymer dispersants such as polyamidoamine and salts thereof, polycarboxylic acids and their salts, high molecular weight unsaturated acid esters, modified polyurethane, modified polyester, modified poly (meth) acrylate, ) Acrylic copolymer, a naphthalenesulfonic acid-formalin condensate], and surfactants such as polyoxyethylene alkylphosphoric acid ester, polyoxyethylene alkylamine, and alkanolamine, and pigment derivatives. For details of these, reference may be made to the description of paragraphs 0045 to 0049 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2014-130173, the contents of which are incorporated herein by reference.

착색 조성물에 있어서, 다른 분산제를 함유하는 경우, 다른 분산제의 총 함유량으로서는, 안료 100질량부에 대하여, 1~80질량부인 것이 바람직하고, 5~70질량부가 보다 바람직하며, 10~60질량부인 것이 더 바람직하다.When the coloring composition contains other dispersing agent, the total content of the other dispersing agent is preferably 1 to 80 parts by mass, more preferably 5 to 70 parts by mass, and more preferably 10 to 60 parts by mass relative to 100 parts by mass of the pigment More preferable.

본 발명에서는 특히, 다른 분산제를 실질적으로 포함하지 않는 구성으로 할 수도 있다. 실질적으로 포함하지 않는 구성이란, 안료 분산제로서 기능할 수 있는 레벨의 양이 배합되어 있지 않은 것을 의미하며, 예를 들면 전체 분산제의 1질량% 이하인 것을 말한다.In the present invention, it is also possible to adopt a constitution in which other dispersant is not substantially contained. The phrase "substantially not included" means that the level of the pigment dispersing agent is not mixed with the level, and it means, for example, 1% by mass or less of the total dispersing agent.

다른 분산제는, 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.Other dispersants may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.

<<알칼리 가용성 수지>><< Alkali-soluble resin >>

본 발명의 착색 조성물은, 알칼리 가용성 수지를 더 함유해도 된다.The coloring composition of the present invention may further contain an alkali-soluble resin.

알칼리 가용성 수지로서는, 선상 유기 고분자 중합체로서, 분자(바람직하게는, 아크릴계 공중합체, 스타이렌계 공중합체를 주쇄로 하는 분자) 중에 적어도 하나의 알칼리 가용성을 촉진하는 기를 갖는 알칼리 가용성 수지 중에서 적절히 선택할 수 있다. 내열성의 관점에서는, 폴리하이드록시스타이렌계 수지, 폴리실록세인계 수지, 아크릴계 수지, 아크릴아마이드계 수지, 아크릴/아크릴아마이드 공중합체 수지가 바람직하고, 현상성 제어의 관점에서는, 아크릴계 수지, 아크릴아마이드계 수지, 아크릴/아크릴아마이드 공중합체 수지가 바람직하다.As the alkali-soluble resin, a linear organic polymer can be appropriately selected from an alkali-soluble resin having at least one group capable of promoting alkali solubility in a molecule (preferably an acrylic copolymer, a styrene-based copolymer as a main chain) . From the viewpoint of heat resistance, a polyhydroxystyrene resin, a polysiloxane resin, an acrylic resin, an acrylamide resin and an acryl / acrylamide copolymer resin are preferable. From the viewpoint of development control, an acrylic resin, an acrylamide resin , An acrylic / acrylamide copolymer resin is preferable.

알칼리 가용성을 촉진하는 기(이하, 산기라고도 함)로서는, 예를 들면 카복실기, 인산기, 설폰산기, 페놀성 수산기 등을 들 수 있는데, 유기 용제에 가용이고 약알칼리 수용액에 의하여 현상 가능한 것이 바람직하며, (메트)아크릴산을 특히 바람직한 것으로서 들 수 있다. 이들 산기는, 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 된다.Examples of the group capable of promoting alkali solubility (hereinafter also referred to as an acid group) include a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, a phenolic hydroxyl group, and the like, preferably soluble in an organic solvent and capable of being developed by a weakly alkaline aqueous solution , And (meth) acrylic acid are particularly preferable. These acid groups may be only one kind, or two or more kinds.

중합 후에 산기를 부여할 수 있는 모노머로서는, 예를 들면 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트 등의 수산기를 갖는 모노머, 글리시딜(메트)아크릴레이트 등의 에폭시기를 갖는 모노머, 2-아이소사이아네이토에틸(메트)아크릴레이트 등의 아이소사이아네이트기를 갖는 모노머 등을 들 수 있다. 이들 산기를 도입하기 위한 모노머는, 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 된다. 알칼리 가용성 수지에 산기를 도입하려면, 예를 들면 산기를 갖는 모노머 및/또는 중합 후에 산기를 부여할 수 있는 모노머를, 모노머 성분으로서 중합하도록 하면 된다.Examples of the monomer capable of giving an acid group after polymerization include monomers having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, monomers having an epoxy group such as glycidyl (meth) acrylate, And monoisomers having an isocyanate group such as anisatoethyl (meth) acrylate. The monomers for introducing these acid groups may be one kind or two or more kinds. In order to introduce an acid group into the alkali-soluble resin, for example, a monomer having an acid group and / or a monomer capable of giving an acid group after polymerization may be polymerized as a monomer component.

알칼리 가용성 수지의 제조에는, 예를 들면 공지의 라디칼 중합법에 의한 방법을 적용할 수 있다. 라디칼 중합법으로 알칼리 가용성 수지를 제조할 때의 온도, 압력, 라디칼 개시제의 종류 및 그 양, 용매의 종류 등의 중합 조건은, 당업자가 용이하게 설정 가능하며, 실험적으로 조건을 정하도록 할 수도 있다.For the production of the alkali-soluble resin, for example, a known radical polymerization method can be applied. Polymerization conditions such as the temperature, pressure, kind and amount of the radical initiator and the kind of the solvent when the alkali-soluble resin is produced by the radical polymerization method can be easily set by those skilled in the art and can be determined experimentally .

알칼리 가용성 수지로서 이용되는 선상 유기 고분자 중합체로서는, 측쇄에 카복실산을 갖는 폴리머가 바람직하고, 메타크릴산 공중합체, 아크릴산 공중합체, 이타콘산 공중합체, 크로톤산 공중합체, 말레산 공중합체, 부분 에스터화 말레산 공중합체, 노볼락형 수지 등의 알칼리 가용성 페놀 수지 등, 및 측쇄에 카복실산을 갖는 산성 셀룰로스 유도체, 수산기를 갖는 폴리머에 산무수물을 부가시킨 것을 들 수 있다. 특히, (메트)아크릴산과, 이것과 공중합 가능한 다른 모노머의 공중합체가, 알칼리 가용성 수지로서 적합하다. (메트)아크릴산과 공중합 가능한 다른 모노머로서는, 알킬(메트)아크릴레이트, 아릴(메트)아크릴레이트, 바이닐 화합물 등을 들 수 있다. 알킬(메트)아크릴레이트 및 아릴(메트)아크릴레이트로서는, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, 뷰틸(메트)아크릴레이트, 아이소뷰틸(메트)아크릴레이트, 펜틸(메트)아크릴레이트, 헥실(메트)아크릴레이트, 옥틸(메트)아크릴레이트, 페닐(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 톨릴(메트)아크릴레이트, 나프틸(메트)아크릴레이트, 사이클로헥실(메트)아크릴레이트 등, 바이닐 화합물로서는, 스타이렌, α-메틸스타이렌, 바이닐톨루엔, 글리시딜메타크릴레이트, 아크릴로나이트릴, 바이닐아세테이트, N-바이닐피롤리돈, 테트라하이드로퓨퓨릴메타크릴레이트, 폴리스타이렌 매크로모노머, 폴리메틸메타크릴레이트 매크로모노머 등, 일본 공개특허공보 평10-300922호에 기재된 N위 치환 말레이미드 모노머로서, N-페닐말레이미드, N-사이클로헥실말레이미드 등을 들 수 있다. 또한, 이들 (메트)아크릴산과 공중합 가능한 다른 모노머는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 된다.As the linear organic polymer used as an alkali-soluble resin, a polymer having a carboxylic acid in its side chain is preferable, and a methacrylic acid copolymer, an acrylic acid copolymer, an itaconic acid copolymer, a crotonic acid copolymer, a maleic acid copolymer, Maleic anhydride copolymers, maleic acid copolymers and novolac resins, and acidic cellulose derivatives having a carboxylic acid in the side chain, and acid anhydrides added to the polymer having a hydroxyl group. Particularly, a copolymer of (meth) acrylic acid and other monomer copolymerizable therewith is suitable as an alkali-soluble resin. Examples of other monomers copolymerizable with (meth) acrylic acid include alkyl (meth) acrylate, aryl (meth) acrylate, and vinyl compounds. Examples of the alkyl (meth) acrylate and aryl (meth) acrylate include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (Meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, phenyl , And cyclohexyl (meth) acrylate. Examples of the vinyl compound include styrene,? -Methylstyrene, vinyltoluene, glycidyl methacrylate, acrylonitrile, vinyl acetate, N-vinylpyrrolidone, Furfuryl methacrylate, polystyrene macromonomer, polymethyl methacrylate macromonomer, and the like as the N-substituted maleimide monomer described in JP-A No. 10-300922 , N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide and the like. The other monomers copolymerizable with the (meth) acrylic acid may be one type or two or more types.

알칼리 가용성 수지로서는, 하기 일반식 (ED)로 나타나는 화합물 및/또는 하기 일반식 (ED2)로 나타나는 화합물(이하, 이들 화합물을 "에터 다이머"라고 칭하는 경우도 있음)을 필수로 하는 모노머 성분을 중합하여 이루어지는 폴리머 (a)를 포함하는 것도 바람직하다.As the alkali-soluble resin, a monomer component essentially comprising a compound represented by the following general formula (ED) and / or a compound represented by the following general formula (ED2) (hereinafter, these compounds may also be referred to as " (A).

[화학식 79](79)

Figure 112016121945081-pct00079
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일반식 (ED) 중, R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~25의 탄화 수소기를 나타낸다.In the general formula (ED), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent.

일반식 (ED2)(ED2)

[화학식 80](80)

Figure 112016121945081-pct00080
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일반식 (ED2) 중, R은, 수소 원자 또는 탄소수 1~30의 유기기를 나타낸다. 일반식 (ED2)의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2010-168539호의 기재를 참조할 수 있다.In the general formula (ED2), R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms. As a specific example of the general formula (ED2), reference can be made to the disclosure of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2010-168539.

이로써, 본 발명의 착색 조성물은, 내열성과 함께 투명성도 매우 우수한 경화 도막을 형성할 수 있다. 일반식 (ED) 중, R1 및 R2로 나타나는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~25의 탄화 수소기로서는, 특별히 제한은 없지만, 예를 들면 메틸, 에틸, n-프로필, 아이소프로필, n-뷰틸, 아이소뷰틸, tert-뷰틸, tert-아밀, 스테아릴, 라우릴, 2-에틸헥실 등의 직쇄상 또는 분기상의 알킬기; 페닐 등의 아릴기; 사이클로헥실, tert-뷰틸사이클로헥실, 다이사이클로펜타다이엔일, 트라이사이클로데칸일, 아이소보닐, 아다만틸, 2-메틸-2-아다만틸 등의 지환식기; 1-메톡시에틸, 1-에톡시에틸 등의 알콕시로 치환된 알킬기; 벤질 등의 아릴기로 치환된 알킬기; 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 특히, 메틸, 에틸, 사이클로헥실, 벤질 등과 같은 산이나 열로 탈리하기 어려운 1급 또는 2급 탄소의 치환기가 내열성의 점에서 바람직하다.As a result, the colored composition of the present invention can form a cured coating film having excellent heat resistance as well as transparency. In the general formula (ED), the hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent represented by R 1 and R 2 is not particularly limited, and examples thereof include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n- Butyl, isobutyl, tert-butyl, tert-amyl, stearyl, lauryl, 2-ethylhexyl, and other straight or branched alkyl groups; An aryl group such as phenyl; Alicyclic groups such as cyclohexyl, tert-butylcyclohexyl, dicyclopentadienyl, tricyclodecanyl, isobornyl, adamantyl, 2-methyl-2-adamantyl and the like; An alkyl group substituted by alkoxy such as 1-methoxyethyl or 1-ethoxyethyl; An alkyl group substituted with an aryl group such as benzyl; And the like. Of these, an acid such as methyl, ethyl, cyclohexyl, benzyl and the like and a substituent of a primary or secondary carbon which is difficult to desorb by heat are preferable from the viewpoint of heat resistance.

에터 다이머의 구체예로서는, 예를 들면 다이메틸-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이에틸-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(n-프로필)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(아이소프로필)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(n-뷰틸)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(아이소뷰틸)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(tert-뷰틸)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(tert-아밀)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(스테아릴)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(라우릴)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(2-에틸헥실)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(1-메톡시에틸)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(1-에톡시에틸)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이벤질-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이페닐-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이사이클로헥실-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(tert-뷰틸사이클로헥실)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(다이사이클로펜타다이엔일)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(트라이사이클로데칸일)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(아이소보닐)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이아다만틸-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이(2-메틸-2-아다만틸)-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 특히, 다이메틸-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이에틸-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이사이클로헥실-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트, 다이벤질-2,2'-[옥시비스(메틸렌)]비스-2-프로페노에이트가 바람직하다. 이들 에터 다이머는, 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 된다. 일반식 (ED)로 나타나는 화합물 유래의 구조체는, 그 외의 모노머를 공중합시켜도 된다.Specific examples of the ether dimer include dimethyl-2,2'- [oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, diethyl-2,2 '- [oxybis (methylene)] bis- (Isopropyl) -2,2 '- [oxybis (methylene)] - propenoate, di (n-propyl) -2,2' - [oxybis Di (isobutyl) -2,2 '- [oxybis (2-methoxyphenyl) -2,2'- Methylene)] bis-2-propenoate, di (tert-butyl) -2,2 '- [oxybis Di (lauryl) -2,2 '- [oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (lauryl) Bis (2-ethylhexyl) -2,2 '- [oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di Methoxyethyl) -2,2 '- [oxybis (meth) 2-propenoate, dibenzyl-2, 2 '- [oxy (2-methoxyphenyl) Bis (methylene)] bis-2-propenoate, diphenyl-2,2 '- [oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, dicyclohexyl- )] Bis-2-propenoate, dicyclohexylcyclohexyl) -2,2 '- [oxybis (methylene)] bis- , 2 '- [oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (tricyclodecanyl) -2,2' Bis (2-propenyl) -2,2'- [oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, diadamantyl- 2-methyl-2-adamantyl) -2,2 '- [oxybis (methylene)] bis-2-propenoate. Among these, dimethyl-2,2'- [oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, diethyl-2,2 '- [oxybis (methylene)] bis- Propylene glycol dicyclohexyl-2,2 '- [oxybis (methylene)] bis-2-propenoate and dibenzyl-2,2' - [oxybis (methylene)] bis-2-propenoate. These ether dimers may be either one kind or two or more kinds. The structure derived from the compound represented by the general formula (ED) may be copolymerized with other monomers.

알칼리 가용성 수지는, 하기 식 (X)로 나타나는 에틸렌성 불포화 화합물에 유래하는 반복 단위 및/또는 일반식 (ED)로 나타나는 화합물 유래의 반복 단위를 포함하고 있어도 된다.The alkali-soluble resin may contain a repeating unit derived from an ethylenically unsaturated compound represented by the following formula (X) and / or a repeating unit derived from a compound represented by the formula (ED).

일반식 (X)In general formula (X)

[화학식 81][Formula 81]

Figure 112016121945081-pct00081
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(식 (X)에 있어서, R1은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R2는 탄소수 2~10의 알킬렌기를 나타내며, R3은, 수소 원자 또는 벤젠환을 포함해도 되는 탄소수 1~20의 알킬기를 나타낸다. n은 1~15의 정수를 나타낸다.)(In the formula (X), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, R 3 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a hydrogen atom or a benzene ring And n represents an integer of 1 to 15.)

상기 식 (X)에 있어서, R2의 알킬렌기의 탄소수는, 2~3이 바람직하다. 또, R3의 알킬기의 탄소수는 1~20인데, 바람직하게는 1~10이며, R3의 알킬기는 벤젠환을 포함해도 된다. R3으로 나타나는 벤젠환을 포함하는 알킬기로서는, 벤질기, 2-페닐(아이소)프로필기 등을 들 수 있다.In the formula (X), the number of carbon atoms of the alkylene group of R 2 is preferably 2 to 3. The number of carbon atoms of the alkyl group of R 3 is 1 to 20, preferably 1 to 10, and the alkyl group of R 3 may include a benzene ring. Examples of the alkyl group containing a benzene ring represented by R 3 include a benzyl group and a 2-phenyl (isopropyl) group.

일반식 (ED) 중, R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~25의 탄화 수소기를 나타낸다.In the general formula (ED), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent.

일반식 (ED2)(ED2)

[화학식 82](82)

Figure 112016121945081-pct00082
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일반식 (ED2) 중, R은, 수소 원자 또는 탄소수 1~30의 유기기를 나타낸다. 일반식 (ED2)의 구체예로서는, 일본 공개특허공보 2010-168539호의 기재를 참조할 수 있다.In the general formula (ED2), R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms. As a specific example of the general formula (ED2), reference can be made to the disclosure of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2010-168539.

또, 본 발명에 있어서의 착색 조성물의 가교 효율을 향상시키기 위하여, 중합성기를 가진 알칼리 가용성 수지를 사용해도 된다. 중합성기를 가진 알칼리 가용성 수지로서는, 알릴기, (메트)아크릴기, 알릴옥시알킬기 등을 측쇄에 함유한 알칼리 가용성 수지 등이 유용하다. 상술한 중합성기를 함유하는 알칼리 가용성 수지의 예로서는, 다이아날 NR 시리즈(미쓰비시 레이온제), Photomer 6173(COOH 함유 polyurethane acrylic oligomer. Diamond Shamrock Co., Ltd.제), 비스코트 R-264, KS 레지스트 106(모두 오사카 유키 가가쿠 고교제), 사이클로머 P 시리즈, 플락셀 CF200 시리즈(모두 다이셀 가가쿠 고교제), Ebecryl 3800(다이셀 유시비제) 등을 들 수 있다. 이들 중합성기를 함유하는 알칼리 가용성 수지로서는, 미리 아이소사이아네이트기와 OH기를 반응시켜, 미반응의 아이소사이아네이트기를 1개 남기고, 또한 (메트)아크릴로일기를 포함하는 화합물과 카복실기를 포함하는 아크릴 수지의 반응에 의하여 얻어지는 유레테인 변성한 중합성 이중 결합 함유 아크릴 수지, 카복실기를 포함하는 아크릴 수지와 분자 내에 에폭시기 및 중합성 이중 결합을 모두 갖는 화합물과의 반응에 의하여 얻어지는 불포화기 함유 아크릴 수지, 산펜던트형 에폭시아크릴레이트 수지, OH기를 포함하는 아크릴 수지와 중합성 이중 결합을 갖는 2염기산 무수물을 반응시킨 중합성 이중 결합 함유 아크릴 수지, OH기를 포함하는 아크릴 수지와 아이소사이아네이트와 중합성기를 갖는 화합물을 반응시킨 수지, 일본 공개특허공보 2002-229207호 및 일본 공개특허공보 2003-335814호에 기재되는 α위 또는 β위에 할로젠 원자 혹은 설포네이트기 등의 탈리기를 갖는 에스터기를 측쇄에 갖는 수지를, 염기성 처리함으로써 얻어지는 수지 등이 바람직하다. 또, 아크리큐어 RD-F8(닛폰 쇼쿠바이제)도 바람직하다.In order to improve the crosslinking efficiency of the coloring composition of the present invention, an alkali-soluble resin having a polymerizable group may be used. As the alkali-soluble resin having a polymerizable group, an alkali-soluble resin containing an allyl group, a (meth) acryl group, an allyloxyalkyl group or the like in the side chain is useful. Examples of the above-mentioned alkali-soluble resin containing a polymerizable group include a dianal NR series (manufactured by Mitsubishi Rayon), Photomer 6173 (a polyurethane acrylic oligomer containing COOH, manufactured by Diamond Shamrock Co., Ltd.) 106 (both manufactured by Osaka Yuki Kagaku Kogyo Co., Ltd.), Cyclomer P series, Plackac CF200 series (all available from Daicel Chemical Industries, Ltd.) and Ebecryl 3800 (Dacelle Yucca). As the alkali-soluble resin containing these polymerizable groups, it is preferable that an isocyanate group and an OH group are previously reacted to leave an unreacted isocyanate group, and a compound containing a (meth) acryloyl group and a Containing unsaturated group-containing acrylic resin obtained by the reaction of an acrylic resin with an unsaturated group-containing acrylic resin obtained by a reaction between an acrylic resin containing a carboxyl group and a compound having both an epoxy group and a polymerizable double bond in the molecule , Acid pendant epoxy acrylate resin, polymerizable double bond-containing acrylic resin obtained by reacting an acrylic resin containing an OH group with a dibasic acid anhydride having a polymerizable double bond, an acrylic resin containing an OH group and an isocyanate A resin obtained by reacting a compound having a maleic anhydride group, 229207 and Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2003-335814, resins obtained by basic treatment of a resin having on its side chain an ester group having a leaving group such as a halogen atom or a sulfonate group on? In addition, ARC Liqueur RD-F8 (Nippon Shokubai) is also preferable.

알칼리 가용성 수지로서는, 특히, (메트)아크릴산 벤질/(메트)아크릴산 공중합체나 (메트)아크릴산 벤질/(메트)아크릴산/다른 모노머로 이루어지는 다원 공중합체가 적합하다. 이 외에, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트를 공중합한 (메트)아크릴산 벤질/(메트)아크릴산/(메트)아크릴산-2-하이드록시에틸 공중합체, 일본 공개특허공보 평7-140654호에 기재된 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트/폴리스타이렌 매크로모노머/벤질메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체, 2-하이드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 매크로모노머/벤질메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트/폴리스타이렌 매크로모노머/메틸메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트/폴리스타이렌 매크로모노머/벤질메타크릴레이트/메타크릴산 공중합체 등을 들 수 있으며, 특히 바람직하게는 메타크릴산 벤질/메타크릴산의 공중합체 등을 들 수 있다.As the alkali-soluble resin, a multi-component copolymer composed of a (meth) acrylic acid benzyl / (meth) acrylic acid copolymer and a (meth) benzyl acrylate / (meth) acrylic acid / other monomer is suitable. (Meth) acrylic acid benzylate / (meth) acrylic acid / (meth) acrylic acid-2-hydroxyethyl copolymer copolymerized with 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 7-140654 (Meth) acrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer / benzyl methacrylate / Methacrylic acid copolymer, 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer / methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / meta Acrylic acid copolymers, and particularly preferable examples thereof include copolymers of benzyl methacrylate / methacrylic acid and the like.

알칼리 가용성 수지로서는, 일본 공개특허공보 2012-208494호 단락 0558~0571(대응하는 미국 특허출원 공개공보 제2012/0235099호의 <0685>~<0700>) 이후의 기재를 참조할 수 있으며, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.As the alkali-soluble resin, reference may be made to the description after Japanese Patent Application Laid-Open No. 20-204949, paragraphs 0558 to 0571 (corresponding to US Patent Application Publication No. 2012/0235099, <0685> to <0700>), Which is incorporated herein by reference.

또한, 일본 공개특허공보 2012-32767호에 기재된 단락 번호 0029~0063에 기재된 공중합체 (B) 및 실시예에서 이용되고 있는 알칼리 가용성 수지, 일본 공개특허공보 2012-208474호의 단락 번호 0088~0098에 기재된 바인더 수지 및 실시예에서 이용되고 있는 바인더 수지, 일본 공개특허공보 2012-137531호의 단락 번호 0022~0032에 기재된 바인더 수지 및 실시예에서 이용되고 있는 바인더 수지, 일본 공개특허공보 2013-024934호의 단락 번호 0132~0143에 기재된 바인더 수지 및 실시예에서 이용되고 있는 바인더 수지, 일본 공개특허공보 2011-242752호의 단락 번호 0092~0098 및 실시예에서 이용되고 있는 바인더 수지, 일본 공개특허공보 2012-032770호의 단락 번호 0030~0072에 기재된 바인더 수지를 이용하는 것이 바람직하다. 이들 내용은 본 명세서에 원용된다. 보다 구체적으로는, 하기의 수지가 바람직하다.In addition, the copolymer (B) described in paragraphs Nos. 0029 to 0063 described in JP-A-2012-32767 and the alkali-soluble resin used in the examples, and the copolymer described in paragraphs 0088 to 0098 of JP-A- The binder resin used in the examples, the binder resin described in paragraphs 0022 to 0032 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2012-137531 and the binder resin used in the examples, and the binder resin used in the examples of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2013-024934 To 0143 and binder resins used in the examples, paragraphs 0092 to 0098 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2011-242752 and binder resins used in the examples, and Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2012-032770, paragraph No. 0030 It is preferable to use the binder resin as described in [0072]. The contents of which are incorporated herein by reference. More specifically, the following resins are preferable.

[화학식 83](83)

Figure 112016121945081-pct00083
Figure 112016121945081-pct00083

[화학식 84](84)

Figure 112016121945081-pct00084
Figure 112016121945081-pct00084

알칼리 가용성 수지의 산가는, 하한값으로서는, 20mgKOH/g 이상이 바람직하고, 30mgKOH/g 이상이 보다 바람직하며, 45mgKOH/g 이상이 보다 바람직하고, 55mgKOH/g 이상이 보다 바람직하며, 80mgKOH/g 이상이 더 바람직하고, 130mgKOH/g 이상이 더 바람직하다. 상한값으로서는, 250mgKOH/g 이하가 바람직하고, 210mgKOH/g 이하가 보다 바람직하다.The acid value of the alkali-soluble resin is preferably 20 mgKOH / g or more, more preferably 30 mgKOH / g or more, more preferably 45 mgKOH / g or more, still more preferably 55 mgKOH / g or more, More preferably 130 mgKOH / g or more. The upper limit value is preferably 250 mgKOH / g or less, more preferably 210 mgKOH / g or less.

또, 알칼리 가용성 수지의 중량 평균 분자량(Mw)으로서는, 2,000~50,000이 바람직하고, 5,000~30,000이 더 바람직하며, 7,000~20,000이 특히 바람직하다.The weight average molecular weight (Mw) of the alkali-soluble resin is preferably 2,000 to 50,000, more preferably 5,000 to 30,000, and particularly preferably 7,000 to 20,000.

착색 조성물 중에 알칼리 가용성 수지를 함유하는 경우, 알칼리 가용성 수지의 함유량으로서는, 착색 조성물의 전체 고형분에 대하여, 1~15질량%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 2~12질량%이며, 특히 바람직하게는, 3~10질량%이다.When the alkali-soluble resin is contained in the coloring composition, the content of the alkali-soluble resin is preferably from 1 to 15% by mass, more preferably from 2 to 12% by mass based on the total solid content of the coloring composition, , And 3 to 10 mass%.

본 발명의 착색 조성물은, 알칼리 가용성 수지를, 1종류만 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The coloring composition of the present invention may contain only one alkali-soluble resin, or may contain two or more kinds of alkali-soluble resins. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.

<<<용제>>><<< solvent >>>

용제로서는, 상술한 안료 분산액에서 예로 든 용제를 이용할 수 있다.As the solvent, a solvent exemplified in the above-mentioned pigment dispersion can be used.

착색 조성물 중에 있어서의 용제의 함유량은, 착색 조성물의 전체 고형분 농도가 5~80질량%가 되는 양으로 하는 것이 바람직하고, 5~50질량%가 되는 양이 보다 바람직하며, 10~30질량%가 되는 양이 더 바람직하다.The content of the solvent in the coloring composition is preferably such that the total solid content of the coloring composition is 5 to 80 mass%, more preferably 5 to 50 mass%, and more preferably 10 to 30 mass% Is more preferable.

착색 조성물은, 용제를, 1종류만 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The coloring composition may contain only one kind of solvent, or may contain two or more kinds of solvents. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.

<<<중합 금지제>>><<< polymerization inhibitor >>>

본 발명의 착색 조성물은, 착색 조성물의 제조 중 또는 보존 중에 있어서, 중합성 화합물의 불필요한 열중합을 저지하기 위하여, 소량의 중합 금지제를 첨가하는 것이 바람직하다.The coloring composition of the present invention preferably contains a small amount of a polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable compound during or during the production of the coloring composition.

본 발명에 이용할 수 있는 중합 금지제로서는, 하이드로퀴논, p-메톡시페놀, 다이-t-뷰틸-p-크레졸, 파이로갈롤, t-뷰틸카테콜, 벤조퀴논, 4,4'-싸이오비스(3-메틸-6-t-뷰틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-뷰틸페놀), N-나이트로소페닐하이드록실아민 제1 세륨염 등을 들 수 있다.Examples of the polymerization inhibitor that can be used in the present invention include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'- (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) and N-nitrosophenylhydroxylamine have.

본 발명의 착색 조성물이 중합 금지제를 함유하는 경우, 중합 금지제의 함유량은, 착색 조성물의 질량에 대하여, 약 0.01~5질량%가 바람직하다.When the coloring composition of the present invention contains a polymerization inhibitor, the content of the polymerization inhibitor is preferably about 0.01 to 5% by mass with respect to the mass of the coloring composition.

본 발명의 착색 조성물은, 중합 금지제를, 1종류만 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The coloring composition of the present invention may contain only one kind of polymerization inhibitor or two or more kinds thereof. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.

<<<계면활성제>>><<< Surfactant >>>

본 발명의 착색 조성물에는, 도포성을 보다 향상시키는 관점에서, 각종 계면활성제를 첨가해도 된다. 계면활성제로서는, 불소계 계면활성제, 비이온계 계면활성제, 양이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제, 실리콘계 계면활성제 등의 각종 계면활성제를 사용할 수 있다.To the coloring composition of the present invention, various surfactants may be added in order to further improve the applicability. As the surfactant, various surfactants such as a fluorine surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicone surfactant can be used.

특히, 본 발명의 착색 조성물은, 불소계 계면활성제를 함유함으로써, 도포액으로서 조제했을 때의 액특성(특히, 유동성)이 보다 향상되는 점에서, 도포 두께의 균일성이나 성액성(省液性)을 보다 개선할 수 있다.Particularly, since the coloring composition of the present invention contains the fluorine-containing surfactant, the uniformity of the coating thickness and the liquid-repellency (liquid-repellency) can be improved in that the liquid property (particularly, fluidity) Can be further improved.

즉, 불소계 계면활성제를 함유하는 착색 조성물을 적용한 도포액을 이용하여 막형성하는 경우에 있어서는, 피도포면과 도포액의 계면 장력을 저하시킴으로써, 피도포면에 대한 습윤성이 개선되어, 피도포면에 대한 도포성이 향상된다. 이로 인하여, 소량의 액량으로 수 μm 정도의 박막을 형성한 경우이더라도, 두께 편차가 작은 균일 두께의 막형성을 보다 적합하게 행할 수 있는 점에서 유효하다.That is, in the case of forming a film using a coating liquid to which a coloring composition containing a fluorine-containing surfactant is applied, the wettability of the surface to be coated is improved by lowering the interfacial tension between the surface to be coated and the coating liquid, Thereby improving the stability. Thus, even when a thin film of about several micrometers is formed in a small amount of liquid, it is effective in that it is possible to more appropriately form a film having a uniform thickness with a small thickness deviation.

불소계 계면활성제 중의 불소 함유율은, 3~40질량%가 적합하며, 보다 바람직하게는 5~30질량%이고, 특히 바람직하게는 7~25질량%이다. 불소 함유율이 이 범위 내인 불소계 계면활성제는, 도포막의 두께의 균일성이나 성액성의 점에서 효과적이며, 착색 조성물 중에 있어서의 용해성도 양호하다.The fluorine content in the fluorine surfactant is preferably 3 to 40% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and particularly preferably 7 to 25% by mass. The fluorine-containing surfactant having a fluorine content within this range is effective from the viewpoints of the uniformity of the thickness of the coating film and the liquid-repellency, and the solubility in the coloring composition is also good.

불소계 계면활성제로서는, 예를 들면 메가팍 F171, 동 F172, 동 F173, 동 F176, 동 F177, 동 F141, 동 F142, 동 F143, 동 F144, 동 R30, 동 F437, 동 F475, 동 F479, 동 F482, 동 F554, 동 F780, 동 F781(이상, DIC제), 플루오라드 FC430, 동 FC431, 동 FC171(이상, 스미토모 3M제), 서프론 S-382, 동 SC-101, 동 SC-103, 동 SC-104, 동 SC-105, 동 SC-1068, 동 SC-381, 동 SC-383, 동 S-393, 동 KH-40(이상, 아사히 글라스제), PF636, PF656, PF6320, PF6520, PF7002(OMNOVA사제) 등을 들 수 있다.Examples of the fluorine-based surfactant include Megapak F171, Dong F172, Dong F173, Dong F176, Dong F177, Dong F141, Dong F142, Dong F143, Dong F144, Dong R30, Dong F437, Dong F475, Dong F479, Dong F482 (Manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), Surflon S-382, SC-101, SC-103, and SC-103 (manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), F554, F780, and F781 (Manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), PF636, PF656, PF6320, PF6520 and PF7002 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), SC-104, SC-105, SC-1068, SC- (Manufactured by OMNOVA).

비이온계 계면활성제로서 구체적으로는, 글리세롤, 트라이메틸올프로페인, 트라이메틸올에테인 또한 그들의 에톡실레이트 및 프로폭실레이트(예를 들면, 글리세롤프로폭실레이트, 글리세린에톡실레이트 등), 폴리옥시에틸렌라우릴에터, 폴리옥시에틸렌스테아릴에터, 폴리옥시에틸렌올레일에터, 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에터, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에터, 폴리에틸렌글라이콜다이라우레이트, 폴리에틸렌글라이콜다이스테아레이트, 소비탄 지방산 에스터(BASF제의 플루로닉 L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2, 테트로닉 304, 701, 704, 901, 904, 150R1), 솔스퍼스 20000(니혼 루브리졸) 등을 들 수 있다.Specific examples of the nonionic surfactants include glycerol, trimethylol propane, trimethylol ethane, and their ethoxylates and propoxylates (for example, glycerol propoxylate, glycerin ethoxylate and the like), polyoxyethylene Polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, polyethylene glycol diallylate, polyethylene glycol Lactic acid esters such as di-stearate and sorbitan fatty acid esters (Pluronic L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2, Tetronic 304, 701, 704, 901, 904 and 150R1 from BASF) Bridol), and the like.

양이온계 계면활성제로서 구체적으로는, 프탈로사이아닌 유도체(상품명: EFKA-745, 모리시타 산교제), 오가노실록세인 폴리머 KP341(신에쓰 가가쿠 고교제), (메트)아크릴산계 (공)중합체 폴리플로 No. 75, No. 90, No. 95(교에이샤 가가쿠제), W001(유쇼제) 등을 들 수 있다.Specific examples of the cationic surfactant include a phthalocyanine derivative (trade name: EFKA-745, manufactured by Morishita Chemical Co., Ltd.), an organosiloxane polymer KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Polflor No. 75, No. 90, No. 95 (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), and W001 (Yuzo Co., Ltd.).

음이온계 계면활성제로서 구체적으로는, W004, W005, W017(유쇼제) 등을 들 수 있다.Specific examples of the anionic surfactant include W004, W005 and W017 (Yusoh).

실리콘계 계면활성제로서는, 예를 들면 도레이·다우코닝제 "도레이 실리콘 DC3PA", "도레이 실리콘 SH7PA", "도레이 실리콘 DC11PA", "도레이 실리콘 SH21PA", "도레이 실리콘 SH28PA", "도레이 실리콘 SH29PA", "도레이 실리콘 SH30PA", "도레이 실리콘 SH8400", 모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈제 "TSF-4440", "TSF-4300", "TSF-4445", "TSF-4460", "TSF-4452", 신에쓰 실리콘제 "KP341", "KF6001", "KF6002", 빅케미제 "BYK307", "BYK323", "BYK330" 등을 들 수 있다.Examples of silicon based surfactants include fluorine-based surfactants such as TORAY Silicon DC3PA, TORAY Silicone SH7PA, TORAY Silicon DC11PA, TORAY Silicone SH21PA, TORAY Silicone SH28PA, TORAY Silicone SH29PA, TSF-4440 "," TSF-4445 "," TSF-4460 "," TSF-4452 ", and Shin-Etsu are trademarks of Toshiba Corporation. Silicone "KP341", "KF6001", "KF6002", big chemistry "BYK307", "BYK323", and "BYK330".

본 발명의 착색 조성물에 계면활성제를 함유시키는 경우, 계면활성제의 첨가량은, 착색 조성물의 전체 질량에 대하여, 0.001~2.0질량%가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.005~1.0질량%이다.When the surfactant is contained in the coloring composition of the present invention, the amount of the surfactant to be added is preferably 0.001 to 2.0% by mass, more preferably 0.005 to 1.0% by mass, based on the total mass of the coloring composition.

본 발명의 착색 조성물은, 계면활성제를, 1종류만 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The coloring composition of the present invention may contain only one type of surfactant or two or more types of surfactants. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.

<<다른 성분>><< Other Ingredients >>

본 발명의 착색 조성물은, 상술한 각 성분에 더하여, 본 발명의 효과를 해치지 않는 범위에서, 추가로 염료, 가교제, 유기 카복실산, 유기 카복실산 무수물 등의 다른 성분을 포함하고 있어도 된다.The coloring composition of the present invention may further contain other components such as a dye, a cross-linking agent, an organic carboxylic acid, and an organic carboxylic acid anhydride in addition to the above-mentioned respective components as long as the effect of the present invention is not impaired.

<<염료>><< Dye >>

본 발명의 착색 조성물은, 공지의 염료를 포함하고 있어도 된다. 예를 들면 일본 공개특허공보 소64-90403호, 일본 공개특허공보 소64-91102호, 일본 공개특허공보 평1-94301호, 일본 공개특허공보 평6-11614호, 일본 특허 2592207호, 미국 특허공보 4808501호, 미국 특허공보 5667920호, 미국 특허공보 505950호, 일본 공개특허공보 평5-333207호, 일본 공개특허공보 평6-35183호, 일본 공개특허공보 평6-51115호, 일본 공개특허공보 평6-194828호 등에 개시되어 있는 색소를 사용할 수 있다. 화학 구조로서는, 피라졸아조계, 피로메텐계, 아닐리노아조계, 트라이아릴메테인계, 안트라퀴논계, 벤질리덴계, 옥소놀계, 피라졸로트라이아졸아조계, 피리돈아조계, 사이아닌계, 페노싸이아진계, 피롤로피라졸아조메타인계 등의 염료를 사용할 수 있다. 또, 염료로서는 색소 다량체를 이용해도 된다. 색소 다량체로서는, 일본 공개특허공보 2011-213925호, 일본 공개특허공보 2013-041097호에 기재되어 있는 화합물을 들 수 있다.The coloring composition of the present invention may contain a known dye. For example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 64-90403, 64-91102, 1-94301, 6-11614, 2592207, 4808501, US 5667920, US 505950, JP 5-333207, JP 6-35183, JP-A 6-51115, JP-A-6-51115 6-194828 and the like can be used. Examples of the chemical structure include pyrazolone group, pyromethene group, anilino group, triarylmethane group, anthraquinone group, benzylidene group, oxolin group, pyrazolotriazoazo group, pyridazoazo group, And pyrrolopyrazole azo methane phosphoric acid, can be used. As the dye, a dye multimer may be used. Examples of the pigment multimer include the compounds described in JP-A-2011-213925 and JP-A-2013-041097.

<<<가교제>>><<< Crosslinking agent >>>

본 발명의 착색 조성물에 가교제를 함유시켜도 된다. 가교제를 함유시킴으로써, 얻어지는 경화막의 경도를 보다 높일 수도 있다.A crosslinking agent may be contained in the coloring composition of the present invention. By containing a crosslinking agent, the hardness of the resulting cured film can be further increased.

가교제로서는, 가교 반응에 의하여 막 경화를 행할 수 있는 것이면, 특별히 한정은 없으며, 예를 들면 (a) 에폭시 수지, (b) 메틸올기, 알콕시메틸기, 및 아실옥시메틸기로부터 선택되는 적어도 하나의 치환기로 치환된, 멜라민 화합물, 구아나민 화합물, 글라이콜우릴 화합물 또는 유레아 화합물, (c) 메틸올기, 알콕시메틸기, 및 아실옥시메틸기로부터 선택되는 적어도 하나의 치환기로 치환된, 페놀 화합물, 나프톨 화합물 또는 하이드록시안트라센 화합물을 들 수 있다. 그 중에서도, 다관능 에폭시 수지가 바람직하다.The crosslinking agent is not particularly limited as long as it can perform film curing by a crosslinking reaction. Examples of the crosslinking agent include (a) an epoxy resin, (b) at least one substituent selected from methylol group, alkoxymethyl group and acyloxymethyl group A phenol compound, a naphthol compound or a hydrolyzate substituted with at least one substituent selected from a methylol group, an alkoxymethyl group, and an acyloxymethyl group; (c) And a hydroxyanthracene compound. Among them, a polyfunctional epoxy resin is preferable.

가교제의 구체예 등의 상세에 대해서는, 일본 공개특허공보 2004-295116호의 단락 0134~0147의 기재를 참조할 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.For details of specific examples of the crosslinking agent and the like, reference can be made to the description in paragraphs 0134 to 0147 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2004-295116, which is incorporated herein by reference.

본 발명의 착색 조성물 중에 가교제를 함유하는 경우, 가교제의 함유량은, 특별히 정하는 것은 아니지만, 조성물의 전체 고형분의 2~30질량%가 바람직하고, 3~20질량%가 보다 바람직하다.When the crosslinking agent is contained in the coloring composition of the present invention, the content of the crosslinking agent is not particularly limited, but is preferably from 2 to 30 mass%, more preferably from 3 to 20 mass%, of the total solid content of the composition.

본 발명의 착색 조성물은, 가교제를, 1종류만 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The coloring composition of the present invention may contain only one type of crosslinking agent or two or more types of crosslinking agents. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.

<<<유기 카복실산, 유기 카복실산 무수물>>><<< Organic Carboxylic Acid, Organic Carboxylic Anhydride >>>

본 발명의 착색 조성물은, 분자량 1000 이하의 유기 카복실산, 및/또는 유기 카복실산 무수물을 함유하고 있어도 된다. 유기 카복실산 및 유기 카복실산 무수물의 구체예로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-29760호의 단락 0338~0340을 참조할 수 있으며, 이 내용은 본 명세서에 원용된다.The coloring composition of the present invention may contain an organic carboxylic acid having a molecular weight of 1,000 or less and / or an organic carboxylic acid anhydride. As specific examples of the organic carboxylic acid and the organic carboxylic acid anhydride, reference may be made, for example, to Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-29760, paragraphs 0338 to 0340, the contents of which are incorporated herein by reference.

본 발명의 착색 조성물에 유기 카복실산, 유기 카복실산 무수물을 함유하는 경우, 유기 카복실산 및/또는 유기 카복실산 무수물의 첨가량은, 통상 전체 고형분 중 0.01~10중량%, 바람직하게는 0.03~5중량%, 보다 바람직하게는 0.05~3중량%의 범위이다.When the coloring composition of the present invention contains an organic carboxylic acid or an organic carboxylic acid anhydride, the addition amount of the organic carboxylic acid and / or organic carboxylic acid anhydride is usually 0.01 to 10% by weight, preferably 0.03 to 5% by weight, Is in the range of 0.05 to 3% by weight.

본 발명의 착색 조성물은, 유기 카복실산 및/또는 유기 카복실산 무수물을, 각각 1종류만 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 2종류 이상 포함하는 경우는, 그 합계량이 상기 범위가 되는 것이 바람직하다.The coloring composition of the present invention may contain only one kind of the organic carboxylic acid and / or the organic carboxylic acid anhydride, respectively, or two or more kinds thereof. When two or more kinds are included, the total amount is preferably in the above range.

상기 외에, 착색 조성물에는, 필요에 따라, 각종 첨가물, 예를 들면 충전제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등을 배합할 수 있다. 이들 첨가물로서는, 일본 공개특허공보 2004-295116호의 단락 0155~0156에 기재된 것을 들 수 있으며, 이들 내용은 본 명세서에 원용된다.In addition to the above, various additives such as fillers, adhesion promoters, antioxidants, ultraviolet absorbers, anti-aggregation agents and the like can be added to the coloring composition, if necessary. Examples of these additives include those described in paragraphs 0155 to 0156 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-295116, the contents of which are incorporated herein by reference.

본 발명의 착색 조성물에 있어서는, 일본 공개특허공보 2004-295116호의 단락 0078에 기재된 증감제나 광안정제, 동 공보의 단락 0081에 기재된 열중합 방지제를 함유할 수 있다.The coloring composition of the present invention may contain a sensitizer or light stabilizer described in paragraph 0078 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-295116 or a thermal polymerization inhibitor described in paragraph 0081 of the same.

<착색 조성물의 조제 방법>&Lt; Preparation method of colored composition >

본 발명의 착색 조성물은, 상술한 성분을 혼합함으로써 조제된다.The coloring composition of the present invention is prepared by mixing the above-described components.

또한, 착색 조성물의 조제 시에는, 착색 조성물을 구성하는 각 성분을 일괄 배합해도 되고, 각 성분을 용제에 용해·분산시킨 후에 축차 배합해도 된다. 또, 배합할 때의 투입 순서나 작업 조건은 특별히 제약을 받지 않는다. 예를 들면, 전체 성분을 동시에 용제에 용해·분산시켜 조성물을 조제해도 되며, 필요에 따라서는, 각 성분을 적절히 2개 이상의 용액·분산액으로 해 두고, 사용 시(도포 시)에 이들을 혼합하여 조성물로서 조제해도 된다.Further, at the time of preparing the coloring composition, each component constituting the coloring composition may be blended at one time, or each component may be dissolved and dispersed in a solvent and then blended continuously. In addition, the order of application and the working conditions at the time of compounding are not particularly limited. For example, the composition may be prepared by dissolving and dispersing the entire components in a solvent at the same time. If necessary, the components may be appropriately mixed into two or more solutions and dispersions, .

본 발명의 착색 조성물은, 이물의 제거나 결함의 저감 등의 목적으로, 필터로 여과하는 것이 바람직하다. 종래부터 여과 용도 등에 이용되고 있는 것이면 특별히 한정되지 않고 이용할 수 있다. 예를 들면, PTFE(폴리테트라플루오로에틸렌) 등의 불소 수지, 나일론-6, 나일론-6,6 등의 폴리아마이드계 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌(PP) 등의 폴리올레핀 수지(고밀도, 초고분자량을 포함함) 등에 의한 필터를 들 수 있다. 이들 소재 중에서도 폴리프로필렌(고밀도 폴리프로필렌을 포함함)이 바람직하다.The coloring composition of the present invention is preferably filtered with a filter for the purpose of eliminating foreign matters or reducing defects. So long as it is conventionally used for filtration applications and the like. For example, a fluororesin such as PTFE (polytetrafluoroethylene), a polyamide resin such as nylon-6 or nylon-6,6, a polyolefin resin such as polyethylene or polypropylene (PP) And the like). Of these materials, polypropylene (including high-density polypropylene) is preferable.

필터의 구멍 직경은, 0.01~7.0μm 정도가 적합하며, 바람직하게는 0.01~3.0μm 정도, 더 바람직하게는 0.05~0.5μm 정도이다. 이 범위로 함으로써, 후공정에 있어서 균일 및 평활한 착색 조성물의 조제를 저해하는, 미세한 이물을 확실하게 제거하는 것이 가능해진다.The pore diameter of the filter is preferably about 0.01 to 7.0 mu m, preferably about 0.01 to 3.0 mu m, more preferably about 0.05 to 0.5 mu m. By setting this range, it is possible to reliably remove fine foreign matter which inhibits the preparation of a uniform and smooth colored composition in a subsequent step.

필터를 사용할 때, 다른 필터를 조합해도 된다. 그때, 제1 필터로의 필터링은, 1회만이어도 되고, 2회 이상 행해도 된다.When using a filter, other filters may be combined. At this time, the filtering with the first filter may be performed once, or may be performed two or more times.

또, 상술한 범위 내에서 상이한 구멍 직경의 제1 필터를 조합해도 된다. 여기에서의 구멍 직경은, 필터 메이커의 공칭값을 참조할 수 있다. 시판 중인 필터로서는, 예를 들면 니혼 폴 가부시키가이샤, 어드밴텍 도요 가부시키가이샤, 니혼 인테그리스 가부시키가이샤(구 니혼 마이크롤리스 가부시키가이샤) 또는 가부시키가이샤 키츠 마이크로 필터 등이 제공하는 각종 필터 중에서 선택할 수 있다.It is also possible to combine the first filters having different pore sizes within the above-mentioned range. Here, the hole diameter can refer to the nominal value of the filter maker. As a commercially available filter, there may be selected, for example, various filters provided by Nippon Oil Corporation, Advantech Toyokawa Co., Ltd., Nippon Integrity Corporation (formerly Nihon Micro-Roller Corporation) or Kitsch Microfilter .

제2 필터는, 상술한 제1 필터와 동일한 재료 등으로 형성된 것을 사용할 수 있다.The second filter may be formed of the same material as the first filter described above.

예를 들면, 제1 필터로의 필터링은, 분산액만으로 행하고, 다른 성분을 혼합한 후에, 제2 필터링을 행해도 된다.For example, the filtering with the first filter may be performed only with the dispersion, and the second filtering may be performed after mixing the other components.

본 발명의 착색 조성물은, 내광성, 이염성, 평탄성이 양호한 경화막을 형성할 수 있기 때문에, 컬러 필터의 착색층을 형성하기 위하여 적합하게 이용된다. 또, 본 발명의 착색 조성물은, 고체 촬상 소자(예를 들면, CCD, CMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor) 등)나, 액정 표시 장치(LCD) 등의 화상 표시 장치에 이용되는 컬러 필터 등의 착색 패턴 형성용으로서 적합하게 이용할 수 있다. 또한, 인쇄 잉크, 잉크젯 잉크 및 도료 등의 제작 용도로서도 적합하게 이용할 수 있다. 그 중에서도, CCD 및 CMOS 등의 고체 촬상 소자용 컬러 필터의 제조에 적합하게 이용할 수 있다.The coloring composition of the present invention is suitably used for forming a coloring layer of a color filter, because it can form a cured film having good light resistance, flame retardancy and flatness. The coloring composition of the present invention can be used for coloring a color filter used for a solid-state image pickup device (for example, a CCD, a Complementary Metal-Oxide Semiconductor (CMOS), or the like), an image display device such as a liquid crystal display And can be suitably used for pattern formation. In addition, it can be suitably used for producing printing ink, inkjet ink, and paint. Among them, it can be suitably used for the production of color filters for solid-state image pickup devices such as CCD and CMOS.

<경화막, 컬러 필터 및 컬러 필터의 제조 방법>&Lt; Cured Film, Color Filter and Method of Manufacturing Color Filter >

다음으로, 본 발명에 있어서의 경화막, 컬러 필터에 대하여, 그 제조 방법을 통하여 상세하게 설명한다. 또, 본 발명의 컬러 필터의 제조 방법에 대해서도 설명한다.Next, the cured film and the color filter in the present invention will be described in detail with reference to the production method thereof. A method of manufacturing the color filter of the present invention will be described.

본 발명의 경화막은, 본 발명의 착색 조성물을 경화하여 얻어진다. 이러한 경화막은 컬러 필터에 바람직하게 이용된다. 즉, 본 발명의 컬러 필터는, 착색 조성물을 이용하여 이루어진다.The cured film of the present invention is obtained by curing the coloring composition of the present invention. Such a cured film is preferably used for a color filter. That is, the color filter of the present invention is formed using a coloring composition.

본 발명의 컬러 필터의 제조 방법의 제1 양태는, 본 발명의 착색 조성물을 지지체 상에 적용하여 착색 조성물층을 형성하는 공정과, 착색 조성물층을 패턴 형상으로 노광하는 공정과, 노광한 착색 조성물층의 미노광부를 현상 제거하여 착색 패턴을 형성하는 공정을 포함한다. 또한, 필요에 따라, 착색 조성물층을 베이크하는 공정(프리베이크 공정), 및 현상된 착색 패턴을 베이크하는 공정(포스트베이크 공정)을 마련해도 된다. 이하, 이들 공정을 아울러, 패턴 형성 공정이라고 하는 경우가 있다.A first aspect of a method of manufacturing a color filter of the present invention is a method of manufacturing a color filter comprising the steps of forming a coloring composition layer by applying the coloring composition of the present invention on a support, And removing the unexposed portion of the layer by development to form a colored pattern. If necessary, a step of baking the coloring composition layer (pre-baking step) and a step of baking the developed colored pattern (post-baking step) may be provided. Hereinafter, these steps may be referred to as a pattern forming step.

또, 본 발명의 컬러 필터의 제조 방법의 제2 양태는, 본 발명의 착색 조성물을 지지체 상에 적용하여 착색 조성물층을 형성하고, 경화하여 착색층을 형성하는 공정, 착색층 상에 포토레지스트층을 형성하는 공정, 포토레지스트층을 노광 및 현상함으로써 포토레지스트층을 패터닝하여 레지스트 패턴을 얻는 공정, 및 레지스트 패턴을 에칭 마스크로 하여 착색층을 드라이 에칭하는 공정을 포함한다.A second aspect of the method for producing a color filter of the present invention is a method for manufacturing a color filter comprising the steps of applying a coloring composition of the present invention on a support to form a colored composition layer and curing to form a colored layer, A step of forming a resist pattern by patterning the photoresist layer by exposing and developing the photoresist layer, and a step of dry-etching the colored layer using the resist pattern as an etching mask.

본 발명의 컬러 필터는, 상기 제조 방법에 의하여 적합하게 얻을 수 있다. 이하 이들의 상세를 설명한다.The color filter of the present invention can be suitably obtained by the above production method. The details of these will be described below.

<<착색 조성물층을 형성하는 공정>>&Lt; Step of forming coloring composition layer &gt;

착색 조성물층을 형성하는 공정에서는, 지지체 상에, 본 발명의 착색 조성물을 적용하여 착색 조성물층을 형성한다.In the step of forming the coloring composition layer, the coloring composition of the present invention is applied on a support to form a coloring composition layer.

본 공정에 이용할 수 있는 지지체로서는, 예를 들면 기판(예를 들면, 실리콘 기판) 상에 CCD나 CMOS 등의 촬상 소자(수광 소자)가 마련된 고체 촬상 소자용 기판을 이용할 수 있다.As a support which can be used in the present step, for example, a substrate for a solid-state imaging element provided with an imaging element (light-receiving element) such as CCD or CMOS on a substrate (for example, a silicon substrate) can be used.

본 발명에 있어서의 착색 패턴은, 고체 촬상 소자용 기판의 촬상 소자 형성면측(표면)에 형성되어도 되고, 촬상 소자 비형성면측(이면)에 형성되어도 된다.The coloring pattern in the present invention may be formed on the imaging element formation surface side (surface) of the substrate for the solid-state imaging element, or on the imaging element formation surface side (back surface).

고체 촬상 소자에 있어서의 착색 패턴의 사이나, 고체 촬상 소자용 기판의 이면에는, 차광막이 마련되어 있어도 된다.The color pattern of the solid-state imaging element or the back surface of the substrate for a solid-state imaging element may be provided with a light-shielding film.

또, 지지체 상에는, 필요에 따라, 상부의 층과의 밀착 개량, 물질의 확산 방지 혹은 기판 표면의 평탄화를 위하여 언더코팅층을 마련해도 된다.If necessary, an undercoat layer may be provided on the support for improving adhesion with the upper layer, preventing diffusion of substances, or planarizing the surface of the substrate.

지지체 상에 대한 본 발명의 착색 조성물의 부여 방법으로서는, 슬릿 도포, 잉크젯법, 회전 도포, 유연 도포, 롤 도포, 스크린 인쇄법 등의 각종 도포 방법을 적용할 수 있다.As a method of applying the coloring composition of the present invention on a support, various coating methods such as slit coating, inkjet coating, spin coating, flex coating, roll coating, screen printing and the like can be applied.

지지체 상에 도포된 착색 조성물층의 건조(프리베이크)는, 핫플레이트, 오븐 등으로 50℃~140℃의 온도에서 10초~300초로 행할 수 있다.Drying (prebaking) of the coloring composition layer applied on the support can be performed at a temperature of 50 ° C to 140 ° C for 10 seconds to 300 seconds in a hot plate, an oven or the like.

<<포토리소그래피법으로 패턴 형성하는 경우>><< When pattern formation is performed by photolithography method >>

<<<노광 공정>>><<< Exposure Process >>>

노광 공정에서는, 착색 조성물층 형성 공정에 있어서 형성된 착색 조성물층을, 예를 들면 스테퍼 등의 노광 장치를 이용하여, 소정의 마스크 패턴을 갖는 마스크를 통하여 패턴 노광한다. 이로써, 경화막이 얻어진다.In the exposure step, the coloring composition layer formed in the step of forming the coloring composition layer is subjected to pattern exposure through a mask having a predetermined mask pattern using, for example, an exposure apparatus such as a stepper. Thus, a cured film is obtained.

노광 시에 이용할 수 있는 방사선(광)으로서는, 특히, g선, i선 등의 자외선이 바람직하게(특히 바람직하게는 i선) 이용된다. 조사량(노광량)은 30mJ/cm2~1500mJ/cm2가 바람직하고, 50mJ/cm2~1000mJ/cm2가 보다 바람직하며, 80mJ/cm2~500mJ/cm2가 가장 바람직하다.As the radiation (light) usable at the time of exposure, ultraviolet rays such as g-line and i-line are preferably used (particularly preferably i-line). Irradiation dose (exposure dose) is most preferably 30mJ / cm 2 ~ 1500mJ / cm 2 are preferred, and 50mJ / cm 2 ~ 1000mJ / cm 2 are more preferred, 80mJ / cm 2 ~ 500mJ / cm 2 (a)

경화막의 막두께는 1.0μm 이하인 것이 바람직하고, 0.1μm~0.9μm인 것이 보다 바람직하며, 0.2μm~0.8μm인 것이 더 바람직하다.The thickness of the cured film is preferably 1.0 占 퐉 or less, more preferably 0.1 占 퐉 to 0.9 占 퐉, and further preferably 0.2 占 퐉 to 0.8 占 퐉.

막두께를, 1.0μm 이하로 함으로써, 고해상성, 고밀착성을 얻을 수 있기 때문에, 바람직하다.By setting the film thickness to 1.0 m or less, high resolution and high adhesion can be obtained, which is preferable.

또, 본 공정에 있어서는, 0.7μm 이하의 얇은 막두께를 갖는 경화막도 적합하게 형성할 수 있으며, 얻어진 경화막을, 후술하는 패턴 형성 공정에서 현상 처리함으로써, 박막이면서도, 현상성, 표면 거칠어짐 억제, 및 패턴 형상이 우수한 착색 패턴을 얻을 수 있다.In this step, a cured film having a thin film thickness of 0.7 m or less can be suitably formed, and the cured film thus obtained is subjected to development processing in a pattern forming step described later, whereby the cured film can be formed into a thin film, , And a colored pattern excellent in the pattern shape can be obtained.

<<<패턴 형성 공정>>><<< Pattern formation process >>>

이어서 알칼리 현상 처리를 행함으로써, 노광 공정에 있어서의 광미조사 부분의 착색 조성물층이 알칼리 수용액에 용출하여, 광경화한 부분만이 남는다.Subsequently, the alkali developing process is carried out so that the coloring composition layer in the tailing part in the exposure step is eluted into the aqueous alkaline solution, leaving only the photo-cured part.

현상액으로서는, 하지(下地)의 촬상 소자나 회로 등에 데미지를 일으키지 않는, 유기 알칼리 현상액이 바람직하다. 현상 온도로서는 통상 20℃~30℃이며, 현상 시간은, 종래 20초~90초였다. 보다 잔사를 제거하기 위하여, 최근에는 120초~180초 실시하는 경우도 있다. 나아가서는, 보다 잔사 제거성을 향상시키기 위하여, 현상액을 60초마다 털어내고, 또한 새롭게 현상액을 공급하는 공정을 수회 반복하는 경우도 있다.As the developing solution, an organic alkali developing solution which does not cause damage to the imaging element, circuit, etc. on the ground (base) is preferable. The developing temperature is usually 20 to 30 DEG C, and the developing time is conventionally 20 to 90 seconds. In order to remove the residues, it is sometimes carried out 120 to 180 seconds in recent years. Further, in order to further improve the removability of the residue, the step of removing the developing solution every 60 seconds and newly supplying the developing solution may be repeated several times.

현상액에 이용하는 알칼리제로서는, 예를 들면 암모니아수, 에틸아민, 다이에틸아민, 다이메틸에탄올아민, 테트라메틸암모늄하이드록사이드, 테트라에틸암모늄하이드록사이드, 테트라프로필암모늄하이드록사이드, 테트라뷰틸암모늄하이드록사이드, 벤질트라이메틸암모늄하이드록사이드, 콜린, 피롤, 피페리딘, 1,8-다이아자바이사이클로[5,4,0]-7-운데센 등의 유기 알칼리성 화합물을 들 수 있으며, 이들 알칼리제를 농도가 0.001질량%~10질량%, 바람직하게는 0.01질량%~1질량%가 되도록 순수로 희석한 알칼리성 수용액이 현상액으로서 바람직하게 사용된다.Examples of the alkali agent used in the developer include aqueous ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide , Benzyltrimethylammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine, and 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7-undecene. These alkaline compounds may be used in concentrations Is preferably 0.001% by mass to 10% by mass, and more preferably 0.01% by mass to 1% by mass, based on the total amount of the aqueous alkaline solution.

또한, 현상액에는 무기 알칼리를 이용해도 되고, 무기 알칼리로서는, 예를 들면 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 탄산 나트륨, 탄산 수소 나트륨, 규산 나트륨, 메타규산 나트륨 등이 바람직하다.As the developing solution, an inorganic alkali may be used. As the inorganic alkali, for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate and the like are preferable.

또한, 이와 같은 알칼리성 수용액으로 이루어지는 현상액을 사용한 경우에는, 일반적으로 현상 후 순수로 세정(린스)한다.When a developer comprising such an alkaline aqueous solution is used, it is generally cleaned (rinsed) with purified water after development.

이어서, 건조를 실시한 후에 가열 처리(포스트베이크)를 행하는 것이 바람직하다. 다색의 착색 패턴을 형성한다면, 색마다 공정을 순차 반복하여 경화 피막을 제조할 수 있다. 이로써 컬러 필터가 얻어진다.Subsequently, it is preferable to carry out a heat treatment (post-baking) after drying. If a multicolor colored pattern is formed, a cured film can be produced by sequentially repeating the process for each color. As a result, a color filter is obtained.

포스트베이크는, 경화를 완전한 것으로 하기 위한 현상 후의 가열 처리이며, 통상 100℃~240℃, 바람직하게는 200℃~240℃의 열경화 처리를 행한다.The post-baking is a post-development heat treatment for making the curing to be complete, and is generally subjected to a heat curing treatment at 100 캜 to 240 캜, preferably at 200 캜 to 240 캜.

이 포스트베이크 처리는, 현상 후의 도포막을, 상기 조건이 되도록 핫플레이트나 컨벡션 오븐(열풍 순환식 건조기), 고주파 가열기 등의 가열 수단을 이용하여, 연속식 혹은 배치(batch)식으로 행할 수 있다.The post-baking treatment can be carried out continuously or batchwise using a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot-air circulation type drier), or a high-frequency heater so as to satisfy the above conditions.

<<드라이 에칭법으로 패턴 형성하는 경우>><< When pattern is formed by dry etching >>

드라이 에칭은, 착색층에, 패터닝된 포토레지스트층을 마스크로 하고 에칭 가스를 이용하여 행할 수 있다. 구체적으로는, 착색층 상에 포지티브형 또는 네거티브형의 감방사선성 조성물을 도포하고, 이것을 건조시킴으로써 포토레지스트층을 형성한다. 포토레지스트층의 형성에 있어서는, 또한 프리베이크 처리를 실시하는 것이 바람직하다. 특히, 포토레지스트층의 형성 프로세스로서는, 노광 후의 가열 처리, 현상 후의 가열 처리(포스트베이크 처리)를 실시하는 형태가 바람직하다.The dry etching can be performed using an etching gas with the patterned photoresist layer as a mask in the colored layer. Specifically, a positive or negative radiation-sensitive composition is coated on the colored layer and dried to form a photoresist layer. In the formation of the photoresist layer, it is also preferable to perform the prebaking treatment. Particularly, as the formation process of the photoresist layer, it is preferable that a heat treatment after exposure and a heat treatment (post-bak treatment) after development are performed.

포토레지스트로서는, 예를 들면 포지티브형의 감방사선성 조성물이 이용된다. 이 포지티브형의 감방사선성 조성물로서는, 자외선(g선, h선, i선), 엑시머 레이저 등을 포함하는 원자외선, 전자선, 이온빔 및 X선 등의 방사선에 감응하는 포지티브형 포토레지스트용에 적합한 포지티브형 레지스트 조성물을 사용할 수 있다. 방사선 중, g선, h선, i선이 바람직하고, 그 중에서도 i선이 바람직하다.As the photoresist, for example, a positive radiation-sensitive composition is used. Examples of the positive radiation sensitive composition include those suitable for positive photoresists sensitive to radiation such as deep ultraviolet rays including ultraviolet rays (g line, h line, i line), excimer laser, electron beam, ion beam and X ray A positive resist composition can be used. Among the radiation, g line, h line and i line are preferable, and among them, i line is preferable.

구체적으로는, 포지티브형의 감방사선성 조성물로서, 퀴논다이아자이드 화합물 및 알칼리 가용성 수지를 함유하는 조성물이 바람직하다. 퀴논다이아자이드 화합물 및 알칼리 가용성 수지를 함유하는 포지티브형의 감방사선성 조성물은, 500nm 이하의 파장의 광조사에 의하여 퀴논다이아지도기가 분해되어 카복실기를 발생시키고, 결과적으로 알칼리 불용 상태로부터 알칼리 가용성이 되는 것을 이용하는 것이다. 이 포지티브형 포토레지스트는 해상력이 현저하게 우수하기 때문에, IC(Integrated Circuit)나 LSI(Large Scale Integration) 등의 집적 회로의 제작에 이용되고 있다. 퀴논다이아자이드 화합물로서는, 나프토퀴논다이아자이드 화합물을 들 수 있다. 시판품으로서는 예를 들면 "FHi622BC"(후지필름 일렉트로닉 머티리얼즈제) 등을 들 수 있다.Specifically, as the positive radiation sensitive composition, a composition containing a quinone diazide compound and an alkali-soluble resin is preferable. A positive radiation-sensitive composition containing a quinone diazide compound and an alkali-soluble resin is obtained by decomposing a quinone diazide group by irradiation with light having a wavelength of 500 nm or less to generate a carboxyl group and consequently becoming alkali-soluble from an alkali- . This positive type photoresist is used for the production of integrated circuits such as IC (Integrated Circuit) and LSI (Large Scale Integration) because the resolution is remarkably excellent. As the quinone diazide compound, a naphthoquinone diazide compound can be mentioned. Commercially available products include, for example, "FHi622BC" (FUJIFILM ELECTRONIC MATERIALS).

포토레지스트층의 두께로서는, 0.1~3μm가 바람직하고, 0.2~2.5μm가 바람직하며, 0.3~2μm가 더 바람직하다. 또한, 포토레지스트층의 도포는, 앞서 설명한 착색층에 있어서의 도포 방법을 이용하여 적합하게 행할 수 있다.The thickness of the photoresist layer is preferably 0.1 to 3 占 퐉, more preferably 0.2 to 2.5 占 퐉, and still more preferably 0.3 to 2 占 퐉. The coating of the photoresist layer can be suitably performed by using the coating method in the above-described colored layer.

이어서, 포토레지스트층을 노광, 현상함으로써, 레지스트 관통 구멍군이 마련된 레지스트 패턴(패터닝된 포토레지스트층)을 형성한다. 레지스트 패턴의 형성은, 특별히 제한 없고, 종래 공지의 포토리소그래피의 기술을 적절히 최적화하여 행할 수 있다. 노광, 현상에 의하여 포토레지스트층에, 레지스트 관통 구멍군이 마련됨으로써, 다음의 에칭에서 이용되는 에칭 마스크로서의 레지스트 패턴이, 착색층 상에 마련된다.Subsequently, the photoresist layer is exposed and developed to form a resist pattern (patterned photoresist layer) provided with a group of resist through holes. The formation of the resist pattern is not particularly limited and can be carried out by suitably optimizing the conventionally known photolithography technique. A resist pattern serving as an etching mask used in the next etching is provided on the colored layer by providing the resist through hole group in the photoresist layer by exposure and development.

포토레지스트층의 노광은, 소정의 마스크 패턴을 통하여, 포지티브형 또는 네거티브형의 감방사선성 조성물에, g선, h선, i선 등, 바람직하게는 i선으로 노광을 실시함으로써 행할 수 있다. 노광 후는, 현상액으로 현상 처리함으로써, 착색 패턴을 형성하고자 하는 영역에 맞추어 포토레지스트가 제거된다.The exposure of the photoresist layer can be performed by irradiating the positive or negative radiation sensitive composition with g line, h line, i line or the like, preferably i line, through a predetermined mask pattern. After the exposure, the photoresist is removed in accordance with the region where the colored pattern is to be formed by developing with a developer.

현상액으로서는, 착색제를 포함하는 착색층에는 영향을 주지 않고, 포지티브 레지스트의 노광부 및 네거티브 레지스트의 미경화부를 용해하는 것이면 모두 사용 가능하다. 예를 들면, 다양한 유기 용제의 조합이나 알칼리성의 수용액을 이용할 수 있다. 알칼리성의 수용액으로서는, 알칼리성 화합물을 농도가 0.001~10질량%, 바람직하게는 0.01~5질량%가 되도록 용해하여 조제된 알칼리성 수용액이 적합하다. 알칼리성 화합물은, 예를 들면 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 탄산 나트륨, 규산 나트륨, 메타규산 나트륨, 암모니아수, 에틸아민, 다이에틸아민, 다이메틸에탄올아민, 테트라메틸암모늄하이드록사이드, 테트라에틸암모늄하이드록사이드, 콜린, 피롤, 피페리딘, 1,8-다이아자바이사이클로[5.4.0]-7-운데센 등을 들 수 있다. 또한, 알칼리성 수용액을 현상액으로서 이용한 경우는, 일반적으로 현상 후에 물로 세정 처리가 실시된다.As the developing solution, any solution can be used as long as it does not affect the coloring layer containing the colorant and dissolves the unexposed portions of the positive resist and the negative resist. For example, a combination of various organic solvents or an alkaline aqueous solution can be used. As the alkaline aqueous solution, an alkaline aqueous solution prepared by dissolving the alkaline compound in an amount of 0.001 to 10 mass%, preferably 0.01 to 5 mass%, is suitable. The alkaline compound may be, for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, aqueous ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide , Choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene, and the like. When an alkaline aqueous solution is used as a developing solution, cleaning treatment is generally performed with water after development.

다음으로, 레지스트 패턴을 에칭 마스크로 하여, 착색층에 관통 구멍군이 형성되도록 드라이 에칭에 의하여 패터닝한다. 이로써, 착색 패턴이 형성된다. 관통 구멍군은, 착색층에, 체커보드 형상으로 마련되어 있다. 따라서, 착색층에 관통 구멍군이 마련되어 이루어지는 제1 착색 패턴은, 복수의 사각 형상의 제1 착색 화소를 체커보드 형상으로 갖고 있다.Next, using the resist pattern as an etching mask, patterning is performed by dry etching so that a group of through holes is formed in the colored layer. Thus, a colored pattern is formed. The group of through holes is provided on the colored layer in the form of a checkerboard. Therefore, the first coloring pattern in which the group of through holes is provided in the coloring layer has a plurality of rectangular first colored pixels in the shape of a checkerboard.

드라이 에칭으로서는, 패턴 단면을 보다 직사각형에 가깝게 형성하는 관점이나 지지체에 대한 데미지를 보다 저감하는 관점에서, 이하의 형태로 행하는 것이 바람직하다.The dry etching is preferably carried out in the following manner, from the viewpoint of forming the cross-section of the pattern closer to a rectangle or further reducing the damage to the support.

불소계 가스와 산소 가스(O2)의 혼합 가스를 이용하여, 지지체가 노출되지 않는 영역(깊이)까지 에칭을 행하는 제1 단계의 에칭과, 이 제1 단계의 에칭 후에, 질소 가스(N2)와 산소 가스(O2)의 혼합 가스를 이용하여, 바람직하게는 지지체가 노출되는 영역(깊이) 부근까지 에칭을 행하는 제2 단계의 에칭과, 지지체가 노출된 후에 행하는 오버 에칭을 포함하는 형태가 바람직하다. 이하, 드라이 에칭의 구체적 수법과, 제1 단계의 에칭, 제2 단계의 에칭, 및 오버 에칭에 대하여 설명한다.A first step of etching using a mixed gas of a fluorine-based gas and an oxygen gas (O 2 ) to a region (depth) where the support is not exposed, and a second step of etching with nitrogen gas (N 2 ) and using a mixed gas of oxygen gas (O 2), preferably in the form including the over-etching is performed after the substrate is etched in the second step for performing etching up to the vicinity of areas (D) are exposed and the support is exposed desirable. Hereinafter, a specific method of dry etching, etching in the first step, etching in the second step, and overetching will be described.

드라이 에칭은, 하기 수법에 의하여 사전에 에칭 조건을 구하여 행한다.Dry etching is performed by obtaining etching conditions in advance by the following method.

(1) 제1 단계의 에칭에 있어서의 에칭 레이트(nm/min)와, 제2 단계의 에칭에 있어서의 에칭 레이트(nm/min)를 각각 산출한다.(1) The etching rate (nm / min) in the first etching step and the etching rate (nm / min) in the second etching step are respectively calculated.

(2) 제1 단계의 에칭으로 원하는 두께를 에칭하는 시간과, 제2 단계의 에칭으로 원하는 두께를 에칭하는 시간을 각각 산출한다.(2) The time for etching the desired thickness by the etching of the first step and the time for etching the desired thickness by the etching of the second step are respectively calculated.

(3) 상술한 (2)에서 산출한 에칭 시간에 따라 제1 단계의 에칭을 실시한다.(3) The etching of the first step is carried out in accordance with the etching time calculated in the above-mentioned (2).

(4) 상술한 (2)에서 산출한 에칭 시간에 따라 제2 단계의 에칭을 실시한다. 혹은 엔드 포인트 검출로 에칭 시간을 결정하고, 결정한 에칭 시간에 따라 제2 단계의 에칭을 실시해도 된다.(4) The etching of the second step is carried out in accordance with the etching time calculated in the above-mentioned (2). Alternatively, the etching time may be determined by end point detection, and the etching of the second step may be performed according to the determined etching time.

(5) 상술한 (3) 및 (4)의 합계 시간에 대하여 오버 에칭 시간을 산출하여, 오버 에칭을 실시한다.(5) Overetching time is calculated for the total time of (3) and (4) described above, and overetching is performed.

제1 단계의 에칭 공정에서 이용하는 혼합 가스로서는, 피에칭막인 유기 재료를 직사각형으로 가공하는 관점에서, 불소계 가스 및 산소 가스(O2)를 포함하는 것이 바람직하다. 또, 제1 단계의 에칭 공정은, 지지체가 노출되지 않는 영역까지 에칭하는 형태로 함으로써, 지지체의 데미지를 회피할 수 있다. 또, 제2 단계의 에칭 공정 및 오버 에칭 공정은, 제1 단계의 에칭 공정에서 불소계 가스 및 산소 가스의 혼합 가스에 의하여 지지체가 노출되지 않는 영역까지 에칭을 실시한 후, 지지체의 데미지 회피의 관점에서, 질소 가스 및 산소 가스의 혼합 가스를 이용하여 에칭 처리를 행하는 것이 바람직하다.As the mixed gas used in the etching process in the first step, fluorine-based gas and oxygen gas (O 2 ) are preferably included from the viewpoint of processing the organic material as the etching film into a rectangular shape. The etching process in the first step is performed by etching to a region where the support is not exposed, so that damage to the support can be avoided. The etching step and the overetching step in the second step are carried out in such a manner that after the etching is carried out up to the region where the support is not exposed by the mixed gas of the fluorine gas and the oxygen gas in the etching step of the first step, , A mixed gas of nitrogen gas and oxygen gas is preferably used for the etching treatment.

제1 단계의 에칭 공정에서의 에칭량과, 제2 단계의 에칭 공정에서의 에칭량의 비율은, 제1 단계의 에칭 공정에서의 에칭 처리에 의한 직사각형성을 해치지 않도록 결정하는 것이 중요하다. 또한, 전체 에칭량(제1 단계의 에칭 공정에서의 에칭량과 제2 단계의 에칭 공정에서의 에칭량의 총합) 중에 있어서의 후자의 비율은, 0%보다 크고 50% 이하인 범위가 바람직하고, 10~20%가 보다 바람직하다. 에칭량이란, 피에칭막의 잔존하는 막두께와 에칭 전의 막두께의 차로부터 산출되는 양을 말한다.It is important to determine the ratio of the amount of etching in the first etching step to the amount of etching in the second etching step so as not to damage the rectangularity due to the etching treatment in the first etching step. The latter ratio in the total etching amount (the sum of the etching amount in the first etching step and the etching amount in the second etching step) is preferably in a range of more than 0% and not more than 50% And more preferably 10 to 20%. The etching amount refers to an amount calculated from the difference between the remaining film thickness of the etched film and the film thickness before etching.

또, 에칭은, 오버 에칭 처리를 포함하는 것이 바람직하다. 오버 에칭 처리는, 오버 에칭 비율을 설정하여 행하는 것이 바람직하다. 또, 오버 에칭 비율은, 처음에 행하는 에칭 처리 시간으로부터 산출하는 것이 바람직하다. 오버 에칭 비율은 임의로 설정할 수 있지만, 포토레지스트의 에칭 내성과 피에칭 패턴의 직사각형성 유지의 점에서, 에칭 공정에 있어서의 에칭 처리 시간의 30% 이하인 것이 바람직하고, 5~25%인 것이 보다 바람직하며, 10~15%인 것이 특히 바람직하다.It is preferable that the etching includes an overetching treatment. The overetching treatment is preferably performed by setting an overetching ratio. It is preferable that the overetching ratio is calculated from the first etching treatment time. The overetching ratio can be arbitrarily set, but from the viewpoint of the etching resistance of the photoresist and the maintaining of the rectangularity of the etched pattern, it is preferably 30% or less of the etching treatment time in the etching step, more preferably 5 to 25% , And particularly preferably 10 to 15%.

이어서, 에칭 후에 잔존하는 레지스트 패턴(즉 에칭 마스크)을 제거한다. 레지스트 패턴의 제거는, 레지스트 패턴 상에 박리액 또는 용제를 부여하여, 레지스트 패턴을 제거 가능한 상태로 하는 공정과, 레지스트 패턴을 세정수를 이용하여 제거하는 공정을 포함하는 것이 바람직하다.Subsequently, the resist pattern (i.e., etching mask) remaining after etching is removed. The removal of the resist pattern preferably includes a step of applying a removing liquid or a solvent to the resist pattern to bring the resist pattern into a removable state and a step of removing the resist pattern by using washing water.

레지스트 패턴 상에 박리액 또는 용제를 부여하여, 레지스트 패턴을 제거 가능한 상태로 하는 공정으로서는, 예를 들면 박리액 또는 용제를 적어도 레지스트 패턴 상에 부여하고, 소정의 시간 정체시켜 퍼들 현상하는 공정을 들 수 있다. 박리액 또는 용제를 정체시키는 시간으로서는, 특별히 제한은 없지만, 수십 초부터 수분인 것이 바람직하다.Examples of the step of applying a releasing liquid or a solvent to the resist pattern to remove the resist pattern include a step of applying at least a peeling liquid or a solvent on the resist pattern and performing a puddle development . The time for stagnating the peeling liquid or the solvent is not particularly limited, but is preferably several tens seconds to several minutes.

또, 레지스트 패턴을 세정수를 이용하여 제거하는 공정으로서는, 예를 들면 스프레이식 또는 샤워식의 분사 노즐로부터 레지스트 패턴에 세정수를 분사하여, 레지스트 패턴을 제거하는 공정을 들 수 있다. 세정수로서는, 순수를 바람직하게 이용할 수 있다. 또, 분사 노즐로서는, 그 분사 범위 내에 지지체 전체가 포함되는 분사 노즐이나, 가동식의 분사 노즐로서 그 가동 범위가 지지체 전체를 포함하는 분사 노즐을 들 수 있다. 분사 노즐이 가동식인 경우, 레지스트 패턴을 제거하는 공정 중에 지지체 중심부로부터 지지체 단부까지를 2회 이상 이동하여 세정수를 분사함으로써, 보다 효과적으로 레지스트 패턴을 제거할 수 있다.Examples of the step of removing the resist pattern using the washing water include a step of spraying washing water onto the resist pattern from a spraying nozzle or a shower type spraying nozzle to remove the resist pattern. As the washing water, pure water can be preferably used. As the injection nozzle, there can be mentioned a spray nozzle including the entire support within its spray range, and a spray nozzle having a movable range of its movable range including the entire support. When the spray nozzle is of the movable type, the resist pattern can be more effectively removed by moving the cleaning fluid from the center of the support to the end of the support more than twice during the process of removing the resist pattern.

박리액은, 일반적으로는 유기 용제를 함유하는데, 무기 용매를 더 함유해도 된다. 유기 용제로서는, 예를 들면 1) 탄화 수소계 화합물, 2) 할로젠화 탄화 수소계 화합물, 3) 알코올계 화합물, 4) 에터 또는 아세탈계 화합물, 5) 케톤 또는 알데하이드계 화합물, 6) 에스터계 화합물, 7) 다가 알코올계 화합물, 8) 카복실산 또는 그 산무수물계 화합물, 9) 페놀계 화합물, 10) 함질소 화합물, 11) 함황 화합물, 12) 함불소 화합물을 들 수 있다. 박리액으로서는, 함질소 화합물을 함유하는 것이 바람직하고, 비환상 함질소 화합물과 환상 함질소 화합물을 포함하는 것이 보다 바람직하다.The peeling liquid generally contains an organic solvent, and may further contain an inorganic solvent. Examples of the organic solvent include organic solvents such as 1) hydrocarbon-based compounds, 2) halogenated hydrocarbon-based compounds, 3) alcohol compounds, 4) ether or acetal compounds, 5) ketones or aldehyde compounds, A polyol compound, 7) a polyhydric alcohol compound, 8) a carboxylic acid or an acid anhydride compound, 9) a phenol compound, 10) a nitrogen compound, 11) a sulfur compound, 12) a fluorine compound. The release liquid preferably contains a nitrogen-containing compound, and more preferably includes an uncyclosed nitrogen compound and a cyclic nitrogen compound.

비환상 함질소 화합물로서는, 수산기를 갖는 비환상 함질소 화합물인 것이 바람직하다. 구체적으로는, 예를 들면 모노아이소프로판올아민, 다이아이소프로판올아민, 트라이아이소프로판올아민, N-에틸에탄올아민, N,N-다이뷰틸에탄올아민, N-뷰틸에탄올아민, 모노에탄올아민, 다이에탄올아민, 트라이에탄올아민 등을 들 수 있으며, 바람직하게는 모노에탄올아민, 다이에탄올아민, 트라이에탄올아민이고, 보다 바람직하게는 모노에탄올아민(H2NCH2CH2OH)이다. 또, 환상 함질소 화합물로서는, 아이소퀴놀린, 이미다졸, N-에틸모폴린, ε-카프로락탐, 퀴놀린, 1,3-다이메틸-2-이미다졸리딘온, α-피콜린, β-피콜린, γ-피콜린, 2-피페콜린, 3-피페콜린, 4-피페콜린, 피페라진, 피페리딘, 피라진, 피리딘, 피롤리딘, N-메틸-2-피롤리돈, N-페닐모폴린, 2,4-루티딘, 2,6-루티딘 등을 들 수 있으며, 바람직하게는, N-메틸-2-피롤리돈, N-에틸모폴린이고, 보다 바람직하게는 N-메틸-2-피롤리돈(NMP)이다.The non-cyclic nitrogen compound is preferably a non-cyclic nitrogen compound having a hydroxyl group. Specific examples thereof include mono isopropanolamine, diisopropanolamine, triisopropanolamine, N-ethylethanolamine, N, N-dibutylethanolamine, N-butylethanolamine, monoethanolamine, diethanolamine, Triethanolamine, and the like. Monoethanolamine, diethanolamine and triethanolamine are preferable, and monoethanolamine (H 2 NCH 2 CH 2 OH) is more preferable. Examples of cyclic nitrogen compounds include isoquinoline, imidazole, N-ethylmorpholine, epsilon -caprolactam, quinoline, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, , pyrrolidine, N-methyl-2-pyrrolidone, N-phenylmorpholine, pyrrolidine, Pyridine, 2,4-lutidine, 2,6-lutidine and the like, preferably N-methyl-2-pyrrolidone and N-ethylmorpholine, 2-pyrrolidone (NMP).

박리액은, 비환상 함질소 화합물과 환상 함질소 화합물을 포함하는 것이 바람직하지만, 그 중에서도, 비환상 함질소 화합물로서, 모노에탄올아민, 다이에탄올아민, 및 트라이에탄올아민으로부터 선택되는 적어도 1종과, 환상 함질소 화합물로서, N-메틸-2-피롤리돈 및 N-에틸모폴린으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 보다 바람직하고, 모노에탄올아민과 N-메틸-2-피롤리돈을 포함하는 것이 더 바람직하다.It is preferable that the exfoliating liquid contains a non-cyclic nitrogen compound and a cyclic nitrogen compound. Among them, as the non-cyclic nitrogen compound, at least one selected from monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine, , And as the cyclic nitrogen compound, at least one selected from N-methyl-2-pyrrolidone and N-ethylmorpholine is more preferable, and monoethanolamine and N-methyl- It is more preferable to include them.

박리액으로 제거할 때에는, 착색 패턴 위에 형성된 레지스트 패턴이 제거되어 있으면 되고, 착색 패턴의 측벽에 에칭 생성물인 퇴적물이 부착되어 있는 경우에도, 퇴적물이 완전히 제거되어 있지 않아도 된다. 퇴적물이란, 에칭 생성물이 착색층의 측벽에 부착되어 퇴적된 것을 말한다.When removing with a peeling liquid, the resist pattern formed on the colored pattern is only required to be removed, and even if a deposit as an etching product adheres to the side wall of the colored pattern, the deposit may not be completely removed. The sediment means that the etching product adheres to the side wall of the colored layer and is deposited.

박리액으로서는, 비환상 함질소 화합물의 함유량이, 박리액 100질량부에 대하여 9질량부 이상 11질량부 이하이며, 환상 함질소 화합물의 함유량이, 박리액 100질량부에 대하여 65질량부 이상 70질량부 이하인 것이 바람직하다. 또, 박리액은, 비환상 함질소 화합물과 환상 함질소 화합물의 혼합물을 순수로 희석한 것이 바람직하다.As for the exfoliation liquid, the content of the non-cyclic nitrogen compound is 9 parts by mass or more and 11 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the exfoliant, and the content of the cyclic nitrogen compound is not less than 65 parts by mass and not less than 70 parts by mass By mass or less. It is preferable that the exfoliating liquid is a mixture of the non-cyclic nitrogen compound and the cyclic nitrogen compound diluted with pure water.

본 발명의 컬러 필터의 제조 방법은, 필요에 따라 상기 이외의 공정으로서, 고체 촬상 소자용 컬러 필터의 제조 방법으로서 공지의 공정을 갖고 있어도 된다. 예를 들면, 상술한, 착색 조성물층 형성 공정, 노광 공정 및 패턴 형성 공정을 행한 후에, 필요에 따라, 형성된 착색 패턴을 가열 및/또는 노광에 의하여 경화하는 경화 공정을 포함하고 있어도 된다.The method of manufacturing a color filter of the present invention may have a known process as a manufacturing method of a color filter for a solid-state image pickup device, if necessary, as a process other than the above. For example, the coloring composition layer forming step, the exposing step, and the pattern forming step described above may be performed, and then, if necessary, a curing step of curing the formed coloring pattern by heating and / or exposure may be included.

또, 도포 장치 토출부의 노즐이나 배관부의 막힘, 도포기 내로의 착색 조성물이나 안료의 부착·침강·건조에 의한 오염 등을 효율적으로 세정하기 위해서는, 본 발명의 착색 조성물에 관한 용제를 세정액으로서 이용하는 것이 바람직하다. 또, 일본 공개특허공보 평7-128867호, 일본 공개특허공보 평7-146562호, 일본 공개특허공보 평8-278637호, 일본 공개특허공보 2000-273370호, 일본 공개특허공보 2006-85140호, 일본 공개특허공보 2006-291191호, 일본 공개특허공보 2007-2101호, 일본 공개특허공보 2007-2102호, 일본 공개특허공보 2007-281523호 등에 기재된 세정액을 적합하게 이용할 수 있다.Further, in order to efficiently clean the nozzles of the coating device discharging portion, the clogging of the pipe portion, the staining by the coloring composition or the pigment adhering, settling and drying into the applicator, it is preferable to use a solvent for the coloring composition of the present invention desirable. Also, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 7-128867, 7-146562, 8-278637, 2000-273370, 2006-85140, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2006-291191, 2007-2101, 2007-2102, 2007-281523, etc. can suitably be used.

상기 중, 알킬렌글라이콜모노알킬에터카복실레이트 및 알킬렌글라이콜모노알킬에터가 바람직하다.Among these, alkylene glycol monoalkyl ether carboxylates and alkylene glycol monoalkyl ethers are preferred.

이들 용매는, 단독으로 이용해도 되고 2종 이상을 혼합하여 이용해도 된다. 2종 이상을 혼합하는 경우, 수산기를 갖는 용제와 수산기를 갖지 않는 용제를 혼합하는 것이 바람직하다. 수산기를 갖는 용제와 수산기를 갖지 않는 용제의 질량비는, 1/99~99/1, 바람직하게는 10/90~90/10, 더 바람직하게는 20/80~80/20이다. 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트(PGMEA)와 프로필렌글라이콜모노메틸에터(PGME)의 혼합 용제로, 그 비율이 60/40인 것이 특히 바람직하다. 또한, 오염물에 대한 세정액의 침투성을 향상시키기 위하여, 세정액에는 상술한 본 발명의 착색 조성물에 관한 계면활성제를 첨가해도 된다.These solvents may be used alone or in combination of two or more. When mixing two or more species, it is preferable to mix a solvent having a hydroxyl group with a solvent having no hydroxyl group. The mass ratio of the solvent having a hydroxyl group to the solvent having no hydroxyl group is from 1/99 to 99/1, preferably from 10/90 to 90/10, more preferably from 20/80 to 80/20. It is particularly preferable that the mixed solvent of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) and propylene glycol monomethyl ether (PGME) has a ratio of 60/40. In order to improve the permeability of the cleaning liquid to the contaminants, a surfactant relating to the coloring composition of the present invention described above may be added to the cleaning liquid.

본 발명의 컬러 필터는, 본 발명의 착색 조성물을 이용하고 있기 때문에, 내광성, 이염성, 평탄성이 우수하다.Since the color filter of the present invention is used in the color filter of the present invention, it is excellent in light resistance, flame retardancy, and flatness.

본 발명의 컬러 필터는, CCD, CMOS 등의 고체 촬상 소자에 적합하게 이용할 수 있으며, 특히 100만 화소를 넘는 고해상도의 CCD나 CMOS 등에 적합하다. 본 발명의 고체 촬상 소자용 컬러 필터는, 예를 들면 CCD 또는 CMOS를 구성하는 각 화소의 수광부와, 집광하기 위한 마이크로 렌즈의 사이에 배치되는 컬러 필터로서 이용할 수 있다.The color filter of the present invention can be suitably used for a solid-state image pickup device such as a CCD and a CMOS, and is particularly suitable for a high-resolution CCD or CMOS exceeding one million pixels. The color filter for a solid-state imaging device of the present invention can be used, for example, as a color filter disposed between a light-receiving portion of each pixel constituting a CCD or CMOS and a microlens for condensing.

본 발명의 컬러 필터에 있어서의 착색 패턴(착색 화소)의 막두께로서는, 2.0μm 이하가 바람직하고, 1.0μm 이하가 보다 바람직하며, 0.7μm 이하가 더 바람직하다.The thickness of the colored pattern (colored pixel) in the color filter of the present invention is preferably 2.0 占 퐉 or less, more preferably 1.0 占 퐉 or less, and even more preferably 0.7 占 퐉 or less.

또, 착색 패턴(착색 화소)의 사이즈(패턴 폭)로서는, 2.5μm 이하가 바람직하고, 2.0μm 이하가 보다 바람직하며, 1.7μm 이하가 특히 바람직하다.The size (pattern width) of the coloring pattern (coloring pixel) is preferably 2.5 占 퐉 or less, more preferably 2.0 占 퐉 or less, and particularly preferably 1.7 占 퐉 or less.

<고체 촬상 소자><Solid-state image sensor>

본 발명의 고체 촬상 소자는, 앞서 설명한 본 발명의 컬러 필터, 또는 본 발명의 컬러 필터의 제조 방법에 의하여 제조한 컬러 필터를 구비한다. 본 발명의 고체 촬상 소자의 구성으로서는, 본 발명에 있어서의 컬러 필터가 구비된 구성이며, 고체 촬상 소자로서 기능하는 구성이면 특별히 한정은 없지만, 예를 들면 이하와 같은 구성을 들 수 있다.The solid-state image pickup device of the present invention includes the above-described color filter of the present invention or the color filter manufactured by the method of manufacturing the color filter of the present invention. The configuration of the solid-state imaging device of the present invention is not particularly limited as long as it has the color filter according to the present invention and functions as a solid-state imaging device.

지지체 상에, 고체 촬상 소자(CCD 이미지 센서, CMOS 이미지 센서 등)의 수광 에어리어를 구성하는 복수의 포토다이오드 및 폴리실리콘 등으로 이루어지는 전송 전극을 갖고, 포토다이오드 및 전송 전극 상에 포토다이오드의 수광부만 개구한 텅스텐 등으로 이루어지는 차광막을 가지며, 차광막 상에 차광막 전체면 및 포토다이오드 수광부를 덮도록 형성된 질화 실리콘 등으로 이루어지는 디바이스 보호막을 갖고, 디바이스 보호막 상에, 본 발명의 고체 촬상 소자용 컬러 필터를 갖는 구성이다.A plurality of photodiodes constituting a light receiving area of a solid-state image sensor (a CCD image sensor, a CMOS image sensor, or the like) and a transfer electrode made of polysilicon or the like are formed on a support, and only a photodiode light- A device shielding film made of silicon nitride or the like formed on the light-shielding film so as to cover the entire surface of the light-shielding film and the photodiode light-receiving portion, and having a color filter for a solid-state imaging device of the present invention .

또한, 디바이스 보호층 상이며 컬러 필터 아래(지지체에 가까운 쪽)에 집광 수단(예를 들면, 마이크로 렌즈 등. 이하 동일)을 갖는 구성이나, 컬러 필터 상에 집광 수단을 갖는 구성 등이어도 된다.Further, it may be a structure having a light-converging means (for example, a microlens or the like hereinafter) on the device protective layer and below the color filter (near the support) or a structure having a condensing means on the color filter.

<화상 표시 장치><Image Display Device>

앞서 설명한 본 발명의 컬러 필터, 또는 본 발명의 컬러 필터의 제조 방법에 의하여 제조한 컬러 필터는, 고체 촬상 소자뿐만 아니라, 액정 표시 장치나 유기 EL(Electro-Luminescence) 표시 장치 등의, 화상 표시 장치에 이용할 수 있으며, 특히 액정 표시 장치의 용도에 적합하다. 본 발명의 컬러 필터를 구비한 액정 표시 장치는, 표시 화상의 색조가 양호하고 표시 특성이 우수한 고화질 화상을 표시할 수 있다.The above-described color filter of the present invention or the color filter manufactured by the method of manufacturing a color filter of the present invention can be applied not only to solid-state image pickup devices but also to image display devices such as liquid crystal display devices and organic EL (Electro-Luminescence) And is particularly suitable for use in a liquid crystal display device. The liquid crystal display device provided with the color filter of the present invention is capable of displaying a high-quality image with good display tones and excellent display characteristics.

표시 장치의 정의나 각 표시 장치의 상세에 대해서는, 예를 들면 "전자 디스플레이 디바이스(사사키 아키오 저, 고교 초사카이 1990년 발행)", "디스플레이 디바이스(이부키 스미아키 저, 산교 도쇼 헤이세이 원년 발행)" 등에 기재되어 있다. 또, 액정 표시 장치에 대해서는, 예를 들면 "차세대 액정 디스플레이 기술(우치다 다쓰오 편집, 고교 초사카이 1994년 발행)"에 기재되어 있다. 본 발명을 적용할 수 있는 액정 표시 장치에 특별히 제한은 없으며, 예를 들면 상기의 "차세대 액정 디스플레이 기술"에 기재되어 있는 다양한 방식의 액정 표시 장치에 적용할 수 있다.For example, "electronic display device (Sasaki Akio, issued by Sakai High School 1990, published in 1990)", "display device (issued by Ibukisumi Akira, published in 1972) " The liquid crystal display device is described in, for example, "Next Generation Liquid Crystal Display Technology (edited by Uchida Tatsuo, issued by Sakai High School Sakai 1994) ". The liquid crystal display device to which the present invention can be applied is not particularly limited. For example, the present invention can be applied to various types of liquid crystal display devices described in the "next generation liquid crystal display technology ".

본 발명의 컬러 필터는, 컬러 TFT(Thin Film Transistor) 방식의 액정 표시 장치에 이용해도 된다. 컬러 TFT 방식의 액정 표시 장치에 대해서는, 예를 들면 "컬러 TFT 액정 디스플레이(교리쓰 슛판 1996년 발행)"에 기재되어 있다. 또한, 본 발명은 IPS(In Plane Switching) 등의 횡전계 구동 방식, MVA(Multi-domain vertical alignment) 등의 화소 분할 방식 등의 시야각이 확대된 액정 표시 장치나, STN(Super-twisted nematic), TN(Twisted Nematic), VA(Vertically Aligned), OCS(Optically Compensated Splay), FFS(Fringe Field Switching), 및 R-OCB(Optically Compensated Bend) 등에도 적용할 수 있다.The color filter of the present invention may be used in a color TFT (Thin Film Transistor) type liquid crystal display device. The color TFT type liquid crystal display device is described in, for example, "Color TFT liquid crystal display (published by Kiyoshi Shootpan 1996) ". The present invention can also be applied to a liquid crystal display device such as a liquid crystal display device such as a transverse electric field driving method such as IPS (In-Plane Switching) or a pixel division method such as MVA (Multi-domain vertical alignment), a STN (Super-twisted nematic) (Twisted Nematic), VA (Vertically Aligned), OCS (Optically Compensated Splay), FFS (Fringe Field Switching), and R-OCB (Optically Compensated Bend).

또, 본 발명에 있어서의 컬러 필터는, 밝고 고정세(高精細)한 COA(Color-filter On Array) 방식에도 제공하는 것이 가능하다. COA 방식의 액정 표시 장치에 있어서는, 컬러 필터층에 대한 요구 특성은, 상술과 같은 통상의 요구 특성에 더하여, 층간 절연막에 대한 요구 특성, 즉 저유전율 및 박리액 내성이 필요해지는 경우가 있다. 본 발명의 컬러 필터에 있어서는, 색상이 우수한 색소를 이용하는 점에서, 색순도, 광투과성 등이 양호하여 착색 패턴(화소)의 색조가 우수하므로, 해상도가 높고 장기 내구성이 우수한 COA 방식의 액정 표시 장치를 제공할 수 있다. 또한, 저유전율의 요구 특성을 만족시키기 위해서는, 컬러 필터층 상에 수지 피막을 마련해도 된다.The color filter in the present invention can also be provided in a bright, high definition COA (Color-filter On Array) system. In the COA type liquid crystal display device, the required characteristics for the color filter layer may require the characteristics required for the interlayer insulating film, that is, the low dielectric constant and the peel liquid resistance, in addition to the above-mentioned usual required characteristics. In the color filter of the present invention, since a color pigment having excellent color is good, color purity, light transmittance and the like are good and coloring pattern (pixel) is excellent in color tone, a COA type liquid crystal display device having high resolution and long- . Further, in order to satisfy the required characteristics of a low dielectric constant, a resin film may be provided on the color filter layer.

이들 화상 표시 방식에 대해서는, 예를 들면 "EL, PDP(Plasma Display Panel), LCD 디스플레이 -기술과 시장의 최신 동향-(도레이 리서치 센터 조사 연구 부문 2001년 발행)"의 43페이지 등에 기재되어 있다.These image display methods are described in, for example, page 43 of "EL, PDP (Plasma Display Panel), LCD display technology and the latest trend in the market "

본 발명에 있어서의 컬러 필터를 구비한 액정 표시 장치는, 본 발명에 있어서의 컬러 필터 이외에, 전극 기판, 편광 필름, 위상차 필름, 백라이트, 스페이서, 시야각 보상 필름 등 다양한 부재로 구성된다. 본 발명의 컬러 필터는, 이들 공지의 부재로 구성되는 액정 표시 장치에 적용할 수 있다. 이들 부재에 대해서는, 예를 들면 "'94 액정 디스플레이 주변 재료·케미컬즈의 시장(시마 겐타로 씨엠씨 1994년 발행)", "2003 액정 관련 시장의 현상(現狀)과 장래 전망(하권)(오모테 료키치 후지 키메라 소켄, 2003년 발행)"에 기재되어 있다.The liquid crystal display device provided with the color filter in the present invention is composed of various members such as an electrode substrate, a polarizing film, a retardation film, a backlight, a spacer, and a viewing angle compensation film in addition to the color filter in the present invention. The color filter of the present invention can be applied to a liquid crystal display device constituted by these known members. As for these members, for example, "Market of Liquid Crystal Display Materials and Chemicals around 1994 (published by Shimadaro Corporation in 1994)", "2003 Present condition and future prospect of liquid crystal related market" Fuji Chimera Soken, published in 2003 ").

백라이트에 관해서는, SID meeting Digest 1380(2005)(A. Konno et al.)이나, 월간 디스플레이 2005년 12월호의 18~24페이지(시마 야스히로), 동 25~30페이지(야기 다카아키) 등에 기재되어 있다.Regarding the backlight, it is described in SID meeting Digest 1380 (2005) (A. Konno et al.), Monthly Display December 2005 to 18-24 (Yamazaki Shimaya), 25-30 pages (Yagi Takaaki) have.

또, 본 발명에서는, 마이크로 올레드 방식(마이크로 OLED(Organic light-emitting diodes)의 디스플레이에도 바람직하게 이용할 수 있다. 이들 화상 표시 방식에 대해서는, 예를 들면 "EL, PDP, LCD 디스플레이 -기술과 시장의 최신 동향-(도레이 리서치 센터 조사 연구 부문 2001년 발행)"의 43페이지 등에 기재되어 있다.In addition, the present invention can be suitably used for display of micro-OLED (organic light-emitting diodes). For these image display methods, for example, "EL, PDP, &Quot; published by Toray Research Center Research Institute, 2001, "

본 발명에 있어서의 컬러 필터를 액정 표시 장치에 이용하면, 종래 공지의 냉음극관의 3파장관과 조합했을 때에 높은 콘트라스트를 실현할 수 있는데, 또한 적색, 녹색, 청색의 LED 광원(RGB(Red Green Blue)-LED)을 백라이트로 함으로써 휘도가 높고, 또 색순도가 높은 색재현성이 양호한 액정 표시 장치를 제공할 수 있다.When the color filter according to the present invention is used for a liquid crystal display device, high contrast can be realized when combined with a conventional three-wavelength tube of a cold cathode tube. In addition, a red LED, a green LED, ) -LED) as a backlight, it is possible to provide a liquid crystal display device having high luminance and high color purity and good color reproducibility.

실시예Example

이하, 본 발명을 실시예에 의하여 보다 더 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 그 취지를 넘지 않는 한, 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 특별히 설명하지 않는 한, "%" 및 "부"는 질량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the object thereof. Unless otherwise stated, "%" and "part" are based on mass.

<중량 평균 분자량의 측정 방법>&Lt; Measurement method of weight average molecular weight >

중량 평균 분자량은 GPC(Gel Permeation Chromatography) 측정에 의한 폴리스타이렌 환산값으로 측정했다. 구체적으로는, HLC-8220(도소제)을 이용하고, 칼럼으로서 TSKgel Super AWM-H(도소제, 6.0mmID×15.0cm)를, 용리액으로서 10mmol/L 리튬 브로마이드 NMP(N-메틸피롤리딘온) 용액을 이용함으로써 구했다.The weight average molecular weight was measured by polystyrene conversion value measured by Gel Permeation Chromatography (GPC). Specifically, TSKgel Super AWM-H (a plasticizer, 6.0 mm ID × 15.0 cm) was used as a column and 10 mmol / L lithium bromide NMP (N-methylpyrrolidinone) was used as an eluent, using HLC-8220 Solution.

<산가의 측정 방법>&Lt; Measurement method of acid value >

산가는, 고형분 1g당 산성 성분을 중화하는 데에 필요한 수산화 칼륨의 중량을 나타낸 것이다. 구체적으로는, 측정 샘플을 테트라하이드로퓨란/물=9/1 혼합 용매에 용해하여, 전위차 적정(滴定) 장치(상품명: AT-510, 교토 덴시 고교제)를 이용하여, 얻어진 용액을 25℃에 있어서, 0.1M 수산화 나트륨 수용액으로 중화 적정했다. 적정 pH 곡선의 변곡점을 적정 종점으로 하여, 다음 식에 의하여 산가를 산출했다.Acid value represents the weight of potassium hydroxide necessary to neutralize the acidic component per 1 g of solid content. Concretely, the measurement sample was dissolved in tetrahydrofuran / water = 9/1 mixed solvent and the obtained solution was stirred at 25 ° C using a potentiometric titration apparatus (trade name: AT-510, manufactured by Kyoto Denshi Kogyo) , And neutralized with a 0.1 M aqueous sodium hydroxide solution. Using the inflection point of the appropriate pH curve as an appropriate end point, the acid value was calculated by the following formula.

A=56.11×Vs×0.1×f/wA = 56.11 x Vs x 0.1 x f / w

A: 산가(mgKOH/g)A: acid value (mgKOH / g)

Vs: 적정에 필요한 0.1M 수산화 나트륨 수용액의 사용량(mL)Vs: Amount of 0.1 M sodium hydroxide aqueous solution required for titration (mL)

f: 0.1M 수산화 나트륨 수용액의 역가(力價)f: Potency of aqueous 0.1M sodium hydroxide solution

w: 측정 샘플 중량(g)(고형분 환산)w: Weight of the sample to be measured (g) (in terms of solid content)

<흡광도의 측정>&Lt; Measurement of absorbance &

25℃에서의 흡광도를, 광로 길이 1cm의 셀을 이용하여, UV-Vis-NIR 분광 광도계(상품명: Cary5000, 애질런트·테크놀로지 가부시키가이샤제)로 측정했다.The absorbance at 25 캜 was measured with a UV-Vis-NIR spectrophotometer (trade name: Cary 5000, manufactured by Agilent Technologies, Inc.) using a cell having an optical path length of 1 cm.

<트라이아릴메테인 색소 (A-tp-1), (A-tp-3), (A-tp-5), (A-tp-8)의 합성예><Synthesis Examples of Trialaryl Methane Dyes (A-tp-1), (A-tp-3), (A-tp-5) and (A-

일본 공개특허공보 2000-162429호의 단락 0112~0114에 기재(실시예 4(화합물식 2)) 방법과 동일하게 하여, 트라이아릴메테인 색소 (A-tp-1), (A-tp-3), (A-tp-5), (A-tp-8)을 합성했다.(A-tp-1) and (A-tp-3) were prepared in the same manner as in the method described in paragraphs 0112 to 0114 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-162429 (Example 4 , (A-tp-5) and (A-tp-8) were synthesized.

[화학식 85](85)

Figure 112016121945081-pct00085
Figure 112016121945081-pct00085

<잔텐 화합물 (A-xt-104)의 합성예>&Lt; Synthesis Example of Xanthene Compound (A-xt-104) >

[화학식 86]&Lt; EMI ID =

Figure 112016121945081-pct00086
Figure 112016121945081-pct00086

<<중간체 1의 합성>>&Lt; Synthesis of intermediate 1 &gt;

DCSF(Spiro[3H-2,1-benzoxathiole-3,9'-[9H]xanthene], 3',6'-dichloro-, 1,1-dioxide, 주가이 가세이제) 31부, 2,6-다이아이소프로필아닐린 67부, 염화 아연 17부, 설포레인 120부를 플라스크에 넣고 외온(外溫) 200도에서 8시간 교반했다. 그 후, 실온까지 방랭하고, 2N 염산수 600부에 반응액을 적하하여, 석출한 결정을 여과 분리했다. 결정을, 40도의 아세토나이트릴 600부로 분산 세정한 후, 여과 채취하고, 송풍 건조를 10시간 행하여, 중간체 1을 42.5부(수율: 82%) 얻었다.31 parts of DCSF (Spiro [3H-2,1-benzoxathiole-3,9 '- [9H] xanthene], 3', 6'- dichloro- 1,1- 67 parts of isopropylaniline, 17 parts of zinc chloride and 120 parts of sulfolane were placed in a flask and stirred at 200 ° C for 8 hours. Thereafter, the reaction mixture was cooled to room temperature, and the reaction solution was added dropwise to 600 parts of 2N hydrochloric acid, and the precipitated crystals were separated by filtration. The crystals were dispersed and washed with 600 parts of acetonitrile at 40 degrees, then filtered and air-dried for 10 hours to obtain 42.5 parts (yield: 82%) of intermediate 1.

<<중간체 2의 합성>>&Lt; Synthesis of intermediate 2 &gt;

중간체 1을 11부 및 옥시 염화 인(POCl3) 50부를 플라스크에 넣고 60℃에서 4시간 교반했다. 그 후 실온까지 방랭하고, 빙수 150부에 반응액을 적하하여, 30분 교반했다. 얻어진 결정을 여과 분리하고, 물 20부로 세정한 후, 얻어진 결정을 클로로폼 150부에 용해시켜, 셀라이트 여과를 행했다. 여과액을 5% 브라인 100부, 15% 브라인 100부로 분액 세정했다. 황산 나트륨 건조 후, 감압 농축하여, 중간체 2를 12.1부(수율: 91%) 얻었다.11 parts of the intermediate 1 and 50 parts of phosphorus oxychloride (POCl 3 ) were placed in a flask and stirred at 60 ° C for 4 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, the reaction solution was dropped into 150 parts of ice water, and the mixture was stirred for 30 minutes. The obtained crystals were separated by filtration, washed with 20 parts of water, and then the obtained crystals were dissolved in 150 parts of chloroform and subjected to Celite filtration. The filtrate was separated into 100 parts of 5% brine and 100 parts of 15% brine. After drying with sodium sulfate, the mixture was concentrated under reduced pressure to obtain 12.1 parts (yield: 91%) of Intermediate 2.

<<중간체 3의 합성>>&Lt; Synthesis of intermediate 3 &gt;

펜타플루오로벤젠설폰일 클로라이드 15부, 테트라하이드로퓨란(THF) 300부를 플라스크에 넣고, 내온(內溫)을 -10℃로 냉각했다. 거기에 28% 암모니아수(NH3aq) 6.8부를, 반응액이 0℃ 이하를 유지하도록 적하했다. 적하 후 1시간 0℃에서 교반한 후, 반응액을 여과했다. 얻어진 여과액을 감압 농축하여, THF를 제거한 후, 물 100부를 첨가하고, 교반했다. 얻어진 고체를 여과하고, 수세한 후에 송풍 건조를 10시간 행하여, 중간체 3을 11.7부(수율: 84%) 얻었다.15 parts of pentafluorobenzenesulfonyl chloride and 300 parts of tetrahydrofuran (THF) were placed in a flask, and the internal temperature was cooled to -10 占 폚. Thereafter, 6.8 parts of 28% ammonia water (NH 3 aq) was added dropwise so as to keep the reaction solution at 0 캜 or lower. After the dropwise addition, the mixture was stirred at 0 ° C for 1 hour, and then the reaction solution was filtered. The obtained filtrate was concentrated under reduced pressure to remove THF, and then 100 parts of water was added and stirred. The resulting solid was filtered, washed with water and blow-dried for 10 hours to obtain 11.7 parts (yield: 84%) of Intermediate 3.

<<중간체 4의 합성>>&Lt; Synthesis of intermediate 4 &gt;

중간체 3을 15부, 2-머캅토에탄올 4.9부, 메탄올 100부를 플라스크에 첨가하고, 실온 교반했다. 거기에 트라이에틸아민(TEA) 6.5부를, 반응액의 온도가 30℃를 넘지 않도록 적하했다. 실온에서 1시간 교반하고, 감압 농축한 후, 아세트산 에틸 90부, 포화 식염수 80부, 포화 중조수 10부를 첨가하여, 분액 조작을 행했다. 수층을 아세트산 에틸 90부로 추출한 후, 얻어진 유기층에 황산 마그네슘을 첨가했다. 여과한 후, 여과액을 감압 농축하고, 송풍 건조를 10시간 행하여, 중간체 4를 17부(수율: 92%) 얻었다.15 parts of the intermediate 3, 4.9 parts of 2-mercaptoethanol, and 100 parts of methanol were added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature. 6.5 parts of triethylamine (TEA) was added dropwise thereto so that the temperature of the reaction solution did not exceed 30 占 폚. After stirring at room temperature for 1 hour and concentration under reduced pressure, ethyl acetate (90 parts), saturated brine (80 parts) and saturated aqueous sodium hydrogencarbonate (10 parts) were added. The aqueous layer was extracted with 90 parts of ethyl acetate, and then magnesium sulfate was added to the obtained organic layer. After filtration, the filtrate was concentrated under reduced pressure and air-dried for 10 hours to obtain 17 parts (yield: 92%) of Intermediate 4.

<<중간체 5의 합성>><< Synthesis of intermediate 5 >>

중간체 4를 49부, 2-아이소사이아네이토에틸아크릴레이트(AOI, 쇼와 덴코제) 25부, 다이뷰틸하이드록시톨루엔(BHT) 0.2부, 다이메틸아세트아마이드(DMAc) 95부, 네오스탄 U-600(닛토 가세이제) 0.1부를 플라스크에 첨가하고, 85℃ 1시간 교반했다. 이어서, 아세트산 에틸 500부, 포화 식염수 500부를 첨가하고 분액 조작을 행했다. 얻어진 유기층에 황산 나트륨을 첨가한 후, 여과 분리하여, 여과액을 감압 농축했다. 얻어진 고체를 클로로폼 170부로 현탁 세정한 후, 여과하고, 송풍 건조를 행함으로써, 중간체 5를 60부(수율: 84%) 얻었다.49 parts of the intermediate 4, 25 parts of 2-isocyanatoethyl acrylate (AOI, Showa Denko Co.), 0.2 part of dibutylhydroxytoluene (BHT), 95 parts of dimethylacetamide (DMAc) -600 (Nitto Chemical Co., Ltd.) was added to the flask, and the mixture was stirred at 85 占 폚 for 1 hour. Subsequently, 500 parts of ethyl acetate and 500 parts of saturated saline were added to carry out the liquid separation operation. Sodium sulfate was added to the obtained organic layer, followed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The resulting solid was suspended and washed with 170 parts of chloroform, filtered and air-dried to obtain 60 parts (yield: 84%) of Intermediate 5.

<<잔텐 화합물 (A-xt-104)의 합성>><< Synthesis of Xanthene Compound (A-xt-104) >>

중간체 5를 5부, 염화 메틸렌을 50부, 트라이에틸아민(TEA) 3.4부를 플라스크에 첨가하고, 실온에서 교반했다. 거기에 중간체 2를 10.8부 첨가하고, 실온에서 2시간 교반했다. 반응 종료 후, 클로로폼 200부, 순수 500부, 포화 식염수 200부를 첨가하여, 분액 조작을 행했다. 얻어진 유기층에 황산 나트륨을 첨가하고, 탈수한 후에, 여과 분리하여, 여과액을 감압 농축했다. 얻어진 고체를 클로로폼에 용해하고, 클로로폼/아세트산 에틸 용매를 이용하여 칼럼 크로마토그래피에 의하여 정제함으로써, A-xt-104를 12.5부(수율: 86%) 얻었다.5 parts of intermediate 5, 50 parts of methylene chloride and 3.4 parts of triethylamine (TEA) were added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature. 10.8 parts of Intermediate 2 was added thereto, followed by stirring at room temperature for 2 hours. After completion of the reaction, 200 parts of chloroform, 500 parts of pure water and 200 parts of saturated saline solution were added to carry out the liquid separation operation. Sodium sulfate was added to the obtained organic layer, followed by dehydration, followed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The resulting solid was dissolved in chloroform and purified by column chromatography using a chloroform / ethyl acetate solvent to obtain 12.5 parts (yield: 86%) of A-xt-104.

<잔텐 화합물 (A-xt-101), (A-xt-110), (A-xt-117), (A-xt-118)의 합성예>Synthesis Example of Xanthene Compounds (A-xt-101), (A-xt-110), (A-xt-117) and (A-

잔텐 화합물 (A-xt-101), (A-xt-110), (A-xt-117), (A-xt-118)을, 상기 잔텐 화합물 (A-xt-104)와 동일하게 합성했다.The xanthene compounds (A-xt-101), (A-xt-110), (A-xt-117) and .

[화학식 87][Chemical Formula 87]

Figure 112016121945081-pct00087
Figure 112016121945081-pct00087

<싸이올 화합물의 합성예>&Lt; Synthesis Example of Thiol Compound >

이하에 나타내는 바와 같이, 싸이올 화합물 B-1~B-12를 합성했다.As shown below, thiol compounds B-1 to B-12 were synthesized.

[합성예 B-1][Synthesis Example B-1]

다이펜타에리트리톨헥사키스(3-머캅토프로피오네이트)〔DPMP; SC 유키 가가쿠 고교제〕 2.0부, 및 트라이아릴메테인 색소 (A-tp-1) 12.0부, 트라이에틸아민 1.68부를, N-메틸피롤리딘온(NMP) 50.0부에 용해시키고 50℃ 12시간 가열했다. 실온까지 냉각한 후, 헥세인 250부, 아세트산 에틸 250부의 혼합 용매에 반응 용액을 적하하고 재침하여, 이하에 나타내는 싸이올 화합물 (B-1) 12.5부를 얻었다. NMR 측정에서의 R3 부위에 대한 색소 부위의 비율이 5인 것을 확인했다.Dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate) (DPMP; , 12.0 parts of triarylmethane dye (A-tp-1) and 1.68 parts of triethylamine were dissolved in 50.0 parts of N-methylpyrrolidinone (NMP) And heated. After cooling to room temperature, the reaction solution was added dropwise to a mixed solvent of 250 parts of hexane and 250 parts of ethyl acetate, followed by re-precipitation to obtain 12.5 parts of the thiol compound (B-1) shown below. It was confirmed that the proportion of the dye portion to the R 3 portion in the NMR measurement was 5.

[화학식 88][Formula 88]

Figure 112016121945081-pct00088
Figure 112016121945081-pct00088

[합성예 B-2][Synthesis Example B-2]

합성예 B-1에 있어서의, 트라이아릴메테인 색소 (A-tp-1) 12.0부 및 트라이에틸아민 1.68부를, 트라이아릴메테인 색소 (A-tp-1) 9.6부, 및 트라이에틸아민 1.34부로 변경한 것 이외에는, 합성예 B-1과 동일하게 하여, 싸이올 화합물 (B-2) 10.5부를 얻었다. NMR 측정에서의 R3 부위에 대한 색소 부위의 비율이 4인 것을 확인했다.12.0 parts of the triarylmethane dye (A-tp-1) and 1.68 parts of triethylamine in Synthesis Example B-1, 9.6 parts of the triarylmethane dye (A-tp-1) and 1.61 parts of triethylamine 1.34 10.5 parts of the thiol compound (B-2) was obtained in the same manner as in the above Synthesis Example B-1, except that the thiol compound It was confirmed by NMR measurement that the ratio of the dye moiety to the R 3 moiety was 4.

[합성예 B-3][Synthesis Example B-3]

합성예 B-1에 있어서의, 트라이아릴메테인 색소 (A-tp-1) 12.0부 및 트라이에틸아민 1.68부를, 트라이아릴메테인 색소 (A-tp-1) 7.2부, 및 트라이에틸아민 1.01부로 변경한 것 이외에는, 합성예 B-1과 동일하게 하여, 싸이올 화합물 (B-3) 8.3부를 얻었다. NMR 측정에서의 R3 부위에 대한 색소 부위의 비율이 3인 것을 확인했다.12.0 parts of triarylmethane dye (A-tp-1) and 1.68 parts of triethylamine in Synthesis Example B-1, 7.2 parts of triarylmethane dye (A-tp-1) and 1.01 part of triethylamine 8.3 parts of the thiol compound (B-3) was obtained in the same manner as in the above Synthesis Example B-1, except that the thiol compound (B-3) It was confirmed by NMR measurement that the ratio of the dye moiety to the R 3 moiety was 3.

[합성예 B-4][Synthesis Example B-4]

합성예 B-1에 있어서의, 트라이아릴메테인 색소 (A-tp-1) 12.0부 및 트라이에틸아민 1.68부를, 트라이아릴메테인 색소 (A-tp-1) 4.8부, 및 트라이에틸아민 0.67부로 변경한 것 이외에는, 합성예 B-1과 동일하게 하여, 싸이올 화합물 (B-4) 6.0부를 얻었다. NMR 측정에서의 R3 부위에 대한 색소 부위의 비율이 2인 것을 확인했다.12.0 parts of triarylmethane dye (A-tp-1) and 1.68 parts of triethylamine in Synthesis Example B-1, 4.8 parts of triarylmethane dye (A-tp-1) and 0.48 part of triethylamine 6.0 parts of thiol compound (B-4) was obtained in the same manner as in Synthesis Example B-1, except that the compound It was confirmed by NMR measurement that the ratio of the dye moiety to the R 3 moiety was 2.

[합성예 B-5][Synthesis Example B-5]

다이펜타에리트리톨헥사키스(3-머캅토프로피오네이트)〔DPMP; SC 유키 가가쿠 고교제〕 2.0부, 및 트라이아릴메테인 색소 (A-tp-3) 11.6부, 트라이에틸아민 0.21부를, N-메틸피롤리딘온(NMP) 50.0부에 용해시키고 50℃ 12시간 가열했다. 실온까지 냉각한 후, 헥세인 250부, 아세트산 에틸 250부의 혼합 용매에 반응 용액을 적하하고 재침하여, 싸이올 화합물 (B-5) 12.3부를 얻었다.Dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate) (DPMP; 2.0 parts of triethylammonium dye (A-tp-3) and 0.21 part of triethylamine were dissolved in 50.0 parts of N-methylpyrrolidinone (NMP) And heated. After cooling to room temperature, the reaction solution was added dropwise to a mixed solvent of 250 parts of hexane and 250 parts of ethyl acetate and the mixture was re-dissolved to obtain 12.3 parts of the thiol compound (B-5).

[화학식 89](89)

Figure 112016121945081-pct00089
Figure 112016121945081-pct00089

[합성예 B-6][Synthesis Example B-6]

다이펜타에리트리톨헥사키스(3-머캅토프로피오네이트)〔DPMP; SC 유키 가가쿠 고교제〕 2.0부, 및 트라이아릴메테인 색소 (A-tp-8) 9.4부를, N-메틸피롤리딘온(NMP) 50.0부에 용해시키고 질소 분위기하 80℃로 가열했다. 2,2'-아조비스(아이소뷰티르산)다이메틸〔V-601; 와코 준야쿠제〕을 0.13부 첨가한 후, 80℃에서 2시간 가열 교반했다. 또한 V-601을 0.13부 첨가한 후, 80℃에서 2시간 가열 교반한 후, 실온까지 냉각했다. 헥세인 250부, 아세트산 에틸 250부의 혼합 용매에 반응 용액을 적하하고 재침하여, 싸이올 화합물 (B-6) 10.2부를 얻었다.Dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate) (DPMP; (Manufactured by SC Yuki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) and 9.4 parts of a triarylmethane dye (A-tp-8) were dissolved in 50.0 parts of N-methylpyrrolidinone (NMP) and heated to 80 ° C under a nitrogen atmosphere. 2,2'-azobis (isobutyrate) dimethyl [V-601; Manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and the mixture was heated and stirred at 80 占 폚 for 2 hours. After adding 0.13 parts of V-601, the mixture was heated and stirred at 80 DEG C for 2 hours, and then cooled to room temperature. The reaction solution was added dropwise to a mixed solvent of 250 parts of hexane and 250 parts of ethyl acetate and re-dissolved to obtain 10.2 parts of the thiol compound (B-6).

[화학식 90](90)

Figure 112016121945081-pct00090
Figure 112016121945081-pct00090

[합성예 B-7][Synthesis Example B-7]

합성예 B-1에 있어서의 다이펜타에리트리톨헥사키스(3-머캅토프로피오네이트)〔DPMP; SC 유키 가가쿠 고교제〕 2.0부, 트라이아릴메테인 색소 (A-tp-1) 12.0부, 트라이에틸아민 1.68부를, 펜타에리트리톨테트라(3-머캅토프로피오네이트)〔PEMP; SC 유키 가가쿠 고교제〕 2.0부, 잔텐 화합물 (A-xt-101) 9.9부, 트라이에틸아민 1.62부로 변경한 것 이외에는, 합성예 B-1과 동일하게 하여, 싸이올 화합물 (B-7) 10.7부를 얻었다.Dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate) in Synthesis Example B-1 (DPMP; (Trade name, product of SC Yuki Kagaku Kogyo Co., Ltd.), 12.0 parts of triarylmethane dye (A-tp-1) and 1.68 parts of triethylamine, pentaerythritol tetra (3-mercaptopropionate) (B-7) was obtained in the same manner as in the above Synthesis Example B-1, except that 2.0 parts of the above-mentioned compound (A-xt-101) and 9.9 parts of triethylamine 10.7 parts were obtained.

[화학식 91][Formula 91]

Figure 112016121945081-pct00091
Figure 112016121945081-pct00091

[합성예 B-8][Synthesis Example B-8]

합성예 B-5에 있어서의, 트라이아릴메테인 색소 (A-tp-3) 11.6부 및 트라이에틸아민 0.21부를, 잔텐 화합물 (A-xt-104) 14.2부, 및 트라이에틸아민 0.26부로 변경한 것 이외에는, 합성예 B-5와 동일하게 하여, 싸이올 화합물 (B-8) 14.4부를 얻었다.11.6 parts of the triarylmethane dye (A-tp-3) and 0.21 part of triethylamine in Synthesis Example B-5 were changed to 14.2 parts of the xanthene compound (A-xt-104) and 0.26 part of triethylamine , 14.4 parts of the thiol compound (B-8) was obtained in the same manner as in the above Synthesis Example B-5.

[화학식 92]&Lt; EMI ID =

Figure 112016121945081-pct00092
Figure 112016121945081-pct00092

[합성예 B-9][Synthesis Example B-9]

합성예 B-5에 있어서의, 트라이아릴메테인 색소 (A-tp-3) 11.6부 및 트라이에틸아민 0.21부를, 잔텐 화합물 (A-xt-104) 11.4부, 및 트라이에틸아민 0.21부로 변경한 것 이외에는, 합성예 B-5와 동일하게 하여, 싸이올 화합물 (B-9) 12.1부를 얻었다.11.6 parts of the triarylmethane dye (A-tp-3) and 0.21 part of triethylamine in Synthesis Example B-5 were changed to 11.4 parts of the xanthene compound (A-xt-104) and 0.21 part of triethylamine , 12.1 parts of the thiol compound (B-9) was obtained in the same manner as in the above Synthesis Example B-5.

[합성예 B-10][Synthesis Example B-10]

합성예 B-5에 있어서의, 트라이아릴메테인 색소 (A-tp-3) 11.6부 및 트라이에틸아민 0.21부를, 잔텐 화합물 (A-xt-104) 8.6부, 및 트라이에틸아민 0.16부로 변경한 것 이외에는, 합성예 B-5와 동일하게 하여, 싸이올 화합물 (B-10) 9.5부를 얻었다.11.6 parts of the triarylmethane dye (A-tp-3) and 0.21 part of triethylamine in Synthesis Example B-5 were changed to 8.6 parts of the xanthene compound (A-xt-104) and 0.16 part of triethylamine , 9.5 parts of the thiol compound (B-10) was obtained in the same manner as in Synthesis Example B-5.

[합성예 B-11][Synthesis Example B-11]

합성예 B-6에 있어서의, 트라이아릴메테인 색소 (A-tp-8) 9.4부를, 스쿠아릴륨 화합물 (A-k-1) 4.2부로 변경한 것 이외에는, 합성예 B-6과 동일하게 하여, 싸이올 화합물 (B-11) 5.6부를 얻었다.Except that 9.4 parts of the triarylmethane dye (A-tp-8) and 4.2 parts of the squarylium compound (Ak-1) in Synthesis Example B-6 were used in place of Synthesis Example B- To obtain 5.6 parts of a thiol compound (B-11).

[화학식 93]&Lt; EMI ID =

Figure 112016121945081-pct00093
Figure 112016121945081-pct00093

[합성예 B-12][Synthesis Example B-12]

합성예 B-6에 있어서의, 트라이아릴메테인 색소 (A-tp-8) 9.4부를, 사이아닌 화합물 (A-pm-1) 4.2부로 변경한 것 이외에는, 합성예 B-6과 동일하게 하여, 싸이올 화합물 (B-12) 5.6부를 얻었다.The procedure of Synthesis Example B-6 was repeated except that 9.4 parts of the triarylmethane dye (A-tp-8) in Synthesis Example B-6 was changed to 4.2 parts of the cyanide (A-pm-1) , And 5.6 parts of thiol compound (B-12).

[화학식 94](94)

Figure 112016121945081-pct00094
Figure 112016121945081-pct00094

<색소 구조를 갖는 분산제의 합성><Synthesis of Dispersant Having Pigment Structure>

[합성예 C-1][Synthesis Example C-1]

합성예 B-1에서 얻은 싸이올 화합물 (B-1) 5.0부, 메타크릴산(MAA) 0.96부, 및 사이클로헥산온 9.0부의 혼합 용액을 질소 기류하, 80℃로 가열했다. 이것에 2,2'-아조비스(아이소뷰티르산)다이메틸〔V-601; 와코 준야쿠제〕을 0.077부 첨가한 후, 80℃에서 2시간 가열 교반했다. 또한 V-601을 0.077부 첨가한 후, 80℃에서 2시간 가열 교반하고, 추가로 90℃에서 2시간 가열 교반했다. 실온까지 냉각한 후, 사이클로헥산온 30.7부, 테트라뷰틸암모늄 브로마이드(TBAB) 0.14부, 메타크릴산 글리시딜(GMA) 0.79부를 첨가하고, 80℃ 18시간 가열 교반했다. 실온까지 냉각한 후, 헥세인 250부, 아세트산 에틸 250부의 혼합 용매에 반응 용액을 적하하고 재침하여, 이하에 나타내는 색소 구조를 갖는 분산제 (C-1)을 얻었다. 색소 구조를 갖는 분산제 (C-1)의 중량 평균 분자량(폴리스타이렌 환산값)은 11600이며, 0.1N 수산화 나트륨 수용액을 이용한 적정에 의하여, 산가는 46mgKOH/g이었다. 또, NMR로, 색소 구조/MAA/MAA와 GMA의 부가체의 몰비율은, 5/6/6이며, P부의 반복수는 평균 12로 계산되었다. 또, 테트라하이드로퓨란(THF)에 용해시켜 색소 구조를 갖는 분산제 (C-1)을 0.01mg/ml 포함하는 용액을 조제하고(최대 흡광도가 1.0이 되도록 조절한 농도), 이러한 용액의 25℃에서의 흡광도를, 광로 길이 1cm의 셀을 이용하여 측정한바, 최대 흡수 파장(λmax)은 615nm이며, 최대 흡수 파장(λmax)의 비흡광도는 60이었다.5.0 parts of the thiol compound (B-1) obtained in Synthesis Example B-1, 0.96 part of methacrylic acid (MAA), and 9.0 parts of cyclohexanone was heated to 80 占 폚 in a nitrogen stream. To this was added 2,2'-azobis (isobutyrate) dimethyl [V-601; Wako Junyaku Co., Ltd.] was added, and the mixture was heated and stirred at 80 占 폚 for 2 hours. After 0.077 parts of V-601 was added, the mixture was heated and stirred at 80 占 폚 for 2 hours and further stirred at 90 占 폚 for 2 hours. After cooling to room temperature, 30.7 parts of cyclohexanone, 0.14 parts of tetrabutylammonium bromide (TBAB) and 0.79 parts of glycidyl methacrylate (GMA) were added and the mixture was heated and stirred at 80 占 폚 for 18 hours. After cooling to room temperature, the reaction solution was added dropwise to a mixed solvent of 250 parts of hexane and 250 parts of ethyl acetate and re-dissolved to obtain a dispersant (C-1) having the following dye structure. The weight average molecular weight (polystyrene reduced value) of the dispersant (C-1) having a pigment structure was 11600, and the acid value was found to be 46 mgKOH / g by titration using a 0.1 N aqueous sodium hydroxide solution. By NMR, the molar ratio of the dye structure / MAA / MAA to the adduct of GMA was 5/6/6, and the number of repetitions of the P moiety was calculated as 12 on average. Further, a solution containing 0.01 mg / ml of a dispersant (C-1) having a pigment structure dissolved in tetrahydrofuran (THF) (concentration adjusted to a maximum absorbance of 1.0) Was measured using a cell having an optical path length of 1 cm, the maximum absorption wavelength (? Max) was 615 nm, and the specific absorption of the maximum absorption wavelength (? Max) was 60.

[화학식 95]&Lt; EMI ID =

Figure 112016121945081-pct00095
Figure 112016121945081-pct00095

[합성예 C-2~12][Synthesis Examples C-2 to C-12]

싸이올 화합물, 중합성 모노머의 양, V-601의 양, 글리시딜메타크릴레이트의 양, 테트라뷰틸암모늄 브로마이드의 양을 하기 표 1로 변경한 것 이외에는, 합성예 C-1과 동일하게 하여, 색소 구조를 갖는 분산제 (C-2)~(C-12)를 얻었다.Except that the amounts of the thiol compound, the polymerizable monomer, the amount of V-601, the amount of glycidyl methacrylate, and the amount of tetrabutylammonium bromide were changed to the following Table 1, , And dispersing agents (C-2) to (C-12) having a pigment structure were obtained.

<비흡광도의 측정>&Lt; Measurement of specific absorbance &

각 색소를 테트라하이드로퓨란(THF)에 용해시켜, 파장 400nm~800nm에서의 최대 흡광도가 1.0이 되는 농도로 조정하고, 이러한 용액의 25℃에서의 흡광도를, 광로 길이 1cm의 셀을 이용하여, 하기 식 (Aλ)에 근거하여 산출했다.Each dye was dissolved in tetrahydrofuran (THF), adjusted to a concentration at which the maximum absorbance at a wavelength of 400 nm to 800 nm was 1.0, and the absorbance of this solution at 25 캜 was measured using a cell having an optical path length of 1 cm Based on the formula (A?).

E=A/(c×l) …(Aλ)E = A / (cxl) ... (A?)

식 (Aλ) 중, E는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 비흡광도를 나타내고,In the formula (A?), E represents a non-absorbance at a maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,

A는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 흡광도를 나타내며,A represents the absorbance at the maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,

l은, 단위가 cm로 나타나는 셀 길이를 나타내고,l represents the cell length in cm,

c는, 단위가 mg/ml로 나타나는, 용액 중의 색소의 농도를 나타낸다.c represents the concentration of the pigment in the solution, in which the unit is expressed in mg / ml.

[표 1][Table 1]

Figure 112016121945081-pct00096
Figure 112016121945081-pct00096

[합성예 C-13][Synthesis Example C-13]

합성예 B-1에서 얻은 싸이올 화합물 (B-1) 5.0부, 메타크릴산(MAA) 0.96부, 메타크릴산 메틸 10.0부 및 N-에틸피롤리돈 19.5부의 혼합 용액을 질소 기류하, 90℃로 가열했다. 이것에 2,2'-아조비스(아이소뷰티르산)다이메틸〔V-601; 와코 준야쿠제〕 0.77부 첨가한 후, 90℃에서 1.5시간 가열 교반했다. 또한 V-601을 0.77부 첨가한 후, 90℃에서 1.5시간 가열 교반하고, 추가로 90℃에서 2시간 가열 교반했다. 실온까지 냉각한 후, 헥세인 500mL, 아세트산 에틸 500mL의 혼합 용매에 반응 용액을 적하하고 재침하여, 이하에 나타내는 색소 구조를 갖는 분산제 (C-13)을 얻었다. 색소 구조를 갖는 분산제 (C-13)의 중량 평균 분자량(폴리스타이렌 환산값)은 27500이며, 0.1N 수산화 나트륨 수용액을 이용한 적정에 의하여, 산가는 39mgKOH/g이었다. 또, NMR로, 색소 구조/MAA/MMA의 몰비율은, 5/12/108이었다. 또, 테트라하이드로퓨란(THF)에 용해시켜 색소 (C-45)를 0.01mg/ml 포함하는 용액을 조제하고, 이러한 용액의 25℃에서의 흡광도를, 광로 길이 1cm의 셀을 이용하여 측정한바, 최대 흡수 파장(λmax)은 615nm이며, 최대 흡수 파장(λmax)의 비흡광도는 25였다.5.0 parts of the thiol compound (B-1) obtained in Synthesis Example B-1, 0.96 part of methacrylic acid (MAA), 10.0 parts of methyl methacrylate and 19.5 parts of N-ethylpyrrolidone was introduced into a 90 Lt; 0 &gt; C. To this was added 2,2'-azobis (isobutyrate) dimethyl [V-601; Wako Junyaku Co., Ltd.), and the mixture was heated and stirred at 90 占 폚 for 1.5 hours. After 0.77 parts of V-601 was added, the mixture was heated and stirred at 90 占 폚 for 1.5 hours, and further heated and stirred at 90 占 폚 for 2 hours. After cooling to room temperature, the reaction solution was added dropwise to a mixed solvent of 500 mL of hexane and 500 mL of ethyl acetate and re-coated to obtain a dispersant (C-13) having the following dye structure. The weight average molecular weight (polystyrene reduced value) of the dispersant (C-13) having a pigment structure was 27,500, and the acid value was 39 mgKOH / g by titration using a 0.1 N aqueous sodium hydroxide solution. By NMR, the molar ratio of the dye structure / MAA / MMA was 5/12/108. Further, a solution containing 0.01 mg / ml of the dye (C-45) dissolved in tetrahydrofuran (THF) was prepared. The absorbance of this solution at 25 캜 was measured using a cell having an optical path length of 1 cm, The maximum absorption wavelength (? Max) was 615 nm and the specific absorption maximum of the maximum absorption wavelength (? Max) was 25.

[화학식 96]&Lt; EMI ID =

Figure 112016121945081-pct00097
Figure 112016121945081-pct00097

[합성예 C-14~24][Synthesis Examples C-14 to 24]

싸이올 화합물, 중합성 모노머의 양, 광중합 개시제의 양을 하기 표 2에 기재된 내용으로 변경한 것 이외에는, 합성예 C-13과 동일하게 하여, 색소 구조를 갖는 분산제 C-14~C-24를 얻었다.Dispersants C-14 to C-24 having a pigment structure were obtained in the same manner as in Synthesis Example C-13, except that the amount of the thiol compound, the amount of the polymerizable monomer, and the amount of the photopolymerization initiator were changed to those shown in Table 2 below. .

[표 2][Table 2]

Figure 112016121945081-pct00098
Figure 112016121945081-pct00098

표 1, 2에 기재된 중합성 모노머의 종류를 이하에 나타낸다.The types of the polymerizable monomers listed in Tables 1 and 2 are shown below.

[화학식 97][Formula 97]

Figure 112016121945081-pct00099
Figure 112016121945081-pct00099

색소로서 트라이아릴메테인 색소 (A-tp-1)을 이용하여, 하기에서 나타나는 구조의 색소 구조를 갖는 분산제 D-1을 합성했다. 이하, 상세한 조작을 설명한다.Dispersant D-1 having a dye structure of the structure shown below was synthesized using a triarylmethane dye (A-tp-1) as a dye. The detailed operation will be described below.

<매크로모노머 (N-1)의 합성>&Lt; Synthesis of macromonomer (N-1) >

질소 분위기하, 2-에틸 헥산올 35.0g(0.27mol), ε-카프로락톤 307.1g(2.70mol) 및 모노뷰틸 주석 옥사이드 0.20g을 90℃에서 5시간, 이어서 110℃에서 10시간 가열하여, 폴리에스터모노하이드록시체를 얻었다. 반응의 종료는 ε-카프로락톤의 소실을 NMR로 측정함으로써 확인했다. 80℃로 냉각 후, 2,6-다이터셔리뷰틸-4-메틸페놀을 0.071g, 2-메타크릴로일옥시에틸아이소사이아네이트 42.3g(0.27mol)을 첨가하고, 80℃에서 3시간 반응하여, 매크로모노머 N-1을 얻었다. 반응의 종료는 2-메타크릴로일옥시에틸아이소사이아네이트의 소실을 NMR로 측정함으로써 확인했다. 매크로모노머 N-1의 GPC 측정에 의한 중량 평균 분자량은 2200이었다.35.0 g (0.27 mol) of 2-ethylhexanol, 307.1 g (2.70 mol) of? -Caprolactone and 0.20 g of monobutyltin oxide were heated at 90 占 폚 for 5 hours and then at 110 占 폚 for 10 hours in a nitrogen atmosphere to obtain poly Ester monohydroxy compound was obtained. The termination of the reaction was confirmed by measuring the disappearance of epsilon -caprolactone by NMR. After cooling to 80 ° C, 0.071 g of 2,6-ditertiarybutyl-4-methylphenol and 42.3 g (0.27 mol) of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate were added and the mixture was stirred at 80 ° C. for 3 The reaction was carried out for a time to obtain a macromonomer N-1. The termination of the reaction was confirmed by measuring the disappearance of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate by NMR. The weight average molecular weight of the macromonomer N-1 as determined by GPC was 2200.

[합성예 D-1][Synthesis Example D-1]

[화학식 98](98)

Figure 112016121945081-pct00100
Figure 112016121945081-pct00100

일본 공개특허공보 2000-162429호에 기재된 방법에 준하여 트라이아릴메테인 색소 (A-tp-101)을 합성했다.A triarylmethane dye (A-tp-101) was synthesized according to the method described in Japanese Patent Laid-Open No. 2000-162429.

트라이아릴메테인 색소 (A-tp-101)(15g), 매크로모노머 N-1(12g), 메타크릴산(3.5g)을, 도데케인싸이올(0.75g)에 용해시키고, 80℃에서 교반했다. 2,2'-아조비스(아이소뷰티르산)다이메틸〔V-601; 와코 준야쿠제〕 1.70부 첨가한 후, 80℃에서 2시간 가열 교반했다. 또한 V-601을 1.70부 첨가한 후, 80℃에서 2시간 가열 교반하고, 추가로 90℃에서 2시간 가열 교반했다. 실온까지 냉각 후, 헥세인 500mL, 아세트산 에틸 500mL의 혼합 용매에 반응 용액을 적하하고 재침하여, 색소 구조를 갖는 분산제 (D-1)을 얻었다. 색소 구조를 갖는 분산제 (D-1)의 중량 평균 분자량(폴리스타이렌 환산값)은 7400이며, 0.1N 수산화 나트륨 수용액을 이용한 적정에 의하여, 산가는 110mgKOH/g이었다. 또, NMR로, 색소 구조/N-1/MMA의 몰비율은, 10/74/16이었다. 또, 테트라하이드로퓨란(THF)에 용해시켜 색소 (D-1)을 0.01mg/ml 포함하는 용액을 조제하고, 이러한 용액의 25℃에서의 흡광도를, 광로 길이 1cm의 셀을 이용하여 측정한바, 최대 흡수 파장(λmax)은 615nm이며, 최대 흡수 파장(λmax)의 비흡광도는 20이었다.15 g of triarylmethane dye (A-tp-101), 12 g of macromonomer N-1 and 3.5 g of methacrylic acid were dissolved in 0.75 g of dodecane thiol, did. 2,2'-azobis (isobutyrate) dimethyl [V-601; Wako Junyaku Co., Ltd.), and the mixture was heated and stirred at 80 占 폚 for 2 hours. After addition of 1.70 parts of V-601, the mixture was heated and stirred at 80 占 폚 for 2 hours and further stirred at 90 占 폚 for 2 hours. After cooling to room temperature, the reaction solution was added dropwise to a mixed solvent of 500 mL of hexane and 500 mL of ethyl acetate, and the mixture was re-dissolved to obtain a dispersant (D-1) having a pigment structure. The dispersant (D-1) having a pigment structure had a weight average molecular weight (in terms of polystyrene) of 7400 and an acid value of 110 mgKOH / g by titration using a 0.1 N aqueous sodium hydroxide solution. By NMR, the molar ratio of the dye structure / N-1 / MMA was 10/74/16. Further, a solution containing 0.01 mg / ml of the dye (D-1) dissolved in tetrahydrofuran (THF) was prepared. The absorbance of this solution at 25 캜 was measured using a cell having an optical path length of 1 cm, The maximum absorption wavelength (? Max) was 615 nm and the specific absorption maximum of the maximum absorption wavelength (? Max) was 20.

[합성예 D-2~16][Synthesis Examples D-2 to 16]

염료 모노머, 그 외의 중합성 모노머, V-601의 양 및 도데케인싸이올의 양을 하기 표 3의 내용으로 변경한 것 이외에는, 합성예 D-1과 동일하게 하여, 색소 구조를 갖는 분산제 D-2~D-16을 얻었다. 또한, N-2는, AA-6(도아 고세이제의 매크로모노머)이다. 또, A-pm-2, A-k-2는 하기 구조의 화합물을 나타낸다.Except that the amounts of the dye monomer, the other polymerizable monomer, the amount of V-601, and the amount of the dodecaine thiol were changed to the contents shown in the following Table 3, the dispersant D- 2 to D-16 were obtained. Further, N-2 is AA-6 (Macro monomer of Toagosei Co., Ltd.). A-pm-2 and A-k-2 represent compounds of the following structures.

[화학식 99][Formula 99]

Figure 112016121945081-pct00101
Figure 112016121945081-pct00101

비교 색소 1: 트라이아릴메테인 색소 (A-tp-1): 하기 구조 Comparative dye 1: Triarylmethane dye (A-tp-1): The following structure

비교 색소 2: 잔텐 화합물 (A-xt-105): 하기 구조Comparative dye 2: xanthene compound (A-xt-105): The following structure

[화학식 100](100)

Figure 112016121945081-pct00102
Figure 112016121945081-pct00102

(비교 분산제 4~6의 합성)(Synthesis of comparative dispersing agents 4 to 6)

일본 공개특허공보 2007-277514호의 단락 번호 0272~0326에 기재된 방법으로, 아래에 나타내는 구조식의 비교 색소 4~6을 합성했다. 비교 분산제 4: 하기 구조(일본 공개특허공보 2007-277514호의 합성예 C-9)Comparative Dyes 4 to 6 having the following structural formulas were synthesized by the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-277514, paragraphs 0272 to 0326. Comparative Dispersant 4: The following structure (Synthesis Example C-9 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-277514)

식 중, m=1, n=5 비교 분산제 5 하기 구조(일본 공개특허공보 2007-277514호의 합성예 C-25)M = 1, n = 5 Comparative Dispersing Agent 5 The following structure (Synthesis Example C-25 of JP-A No. 2007-277514)

식 중, m=1, n=3 비교 분산제 6 하기 구조(일본 공개특허공보 2007-277514호의 합성예 C-4)M = 1, n = 3 Comparative Dispersing Agent 6 The following structure (Synthesis Example C-4 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-277514)

식 중, m=1, n=5 비교 분산제 4In the formula, m = 1, n = 5 Comparative dispersant 4

[화학식 101](101)

Figure 112016121945081-pct00103
Figure 112016121945081-pct00103

비교 분산제 5Comparative Dispersant 5

[화학식 102]&Lt; EMI ID =

Figure 112016121945081-pct00104
Figure 112016121945081-pct00104

비교 분산제 6Comparative Dispersant 6

[화학식 103]&Lt; EMI ID =

Figure 112016121945081-pct00105
Figure 112016121945081-pct00105

(비교 분산제 7의 합성)(Synthesis of Comparative Dispersant 7)

일본 공개특허공보 2011-118060호의 단락 번호 0136에 기재된 방법으로, 아래에 나타내는 구조식의 비교 색소 7을 합성했다. 즉, 메타크릴산 2g, 매크로모노머(도아 고세이제, AA-6) 8.3g, 다이피로메텐 염료 골격을 갖는 모노머 a(하기 구조) 2.6g, 프로필렌글라이콜메틸에터아세테이트 30g, 및 1-도데케인싸이올 0.2g을 질소하에서 교반하고, 75℃로 유지했다. 다음으로, 광중합 개시제(V-601, 와코 준야쿠제)를 0.06부 첨가하고, 2시간 교반했다. 90℃에서, 2시간 교반했다. 실온까지 냉각하여, 색소 구조를 갖는 분산제(비교 색소 7)를 얻었다. 비교 색소 7의 중량 평균 분자량(폴리스타이렌 환산값)은 12000이며, 0.1N 수산화 나트륨 수용액을 이용한 적정에 의하여, 산가는 100mgKOH/g이었다. 또, 테트라하이드로퓨란(THF)에 용해시켜 색소 (D-1)을 0.01mg/ml 포함하는 용액을 조제하고, 이러한 용액의 25℃에서의 흡광도를, 광로 길이 1cm의 셀을 이용하여 측정한바, 최대 흡수 파장(λmax)은 550nm이며, 최대 흡수 파장(λmax)의 비흡광도는 18이었다.A comparative dye 7 having the following structural formula was synthesized by the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-118060, Paragraph No. 0136. That is, 8 g of methacrylic acid, 8.3 g of macromonomer (DOA Gosei, AA-6), 2.6 g of monomer a (the following structure) having a dipyrammethene dye skeleton, 30 g of propylene glycol methyl ether acetate, 0.2 g of dodecane thiol was stirred under nitrogen and maintained at 75 占 폚. Then, 0.06 part of a photopolymerization initiator (V-601, Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added and stirred for 2 hours. Followed by stirring at 90 占 폚 for 2 hours. And cooled to room temperature to obtain a dispersant having a pigment structure (comparative dye 7). The weight average molecular weight (in terms of polystyrene) of the comparative dye 7 was 12,000, and the acid value was 100 mgKOH / g by titration using a 0.1 N aqueous sodium hydroxide solution. Further, a solution containing 0.01 mg / ml of the dye (D-1) dissolved in tetrahydrofuran (THF) was prepared. The absorbance of this solution at 25 캜 was measured using a cell having an optical path length of 1 cm, The maximum absorption wavelength (max) was 550 nm, and the maximum absorption wavelength (max) was 18.

다이피로메텐 염료 골격을 갖는 모노머 aA monomer having a dipyrammethene dye skeleton a

[화학식 104]&Lt; EMI ID =

Figure 112016121945081-pct00106
Figure 112016121945081-pct00106

[표 3][Table 3]

Figure 112016121945081-pct00107
Figure 112016121945081-pct00107

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

1. 레지스트액의 조제1. Preparation of resist solution

하기 조성의 성분을 혼합하고 용해하여, 언더코팅층용 레지스트액을 조제했다.The following composition was mixed and dissolved to prepare a resist solution for the undercoat layer.

언더코팅층용 레지스트액의 조성Composition of resist solution for undercoat layer

·용제: 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트 19.20부Solvent: propylene glycol monomethyl ether acetate 19.20 parts

·용제: 락트산 에틸 36.67부Solvent: Ethyl lactate 36.67 parts

·알칼리 가용성 수지: 메타크릴산 벤질/메타크릴산/메타크릴산-2-하이드록시에틸 공중합체(몰비=60/22/18, 중량 평균 분자량 15,000, 수평균 분자량 9,000)의 40% PGMEA 용액 30.51부40% PGMEA solution of alkali soluble resin: benzyl methacrylate / methacrylic acid / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer (molar ratio = 60/22/18, weight average molecular weight 15,000, number average molecular weight 9,000) 30.51 part

·에틸렌성 불포화 이중 결합 함유 화합물: 다이펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, KAYARAD DPHA(닛폰 가야쿠제) 12.20부占 ethylenically unsaturated double bond-containing compound: dipentaerythritol hexaacrylate, KAYARAD DPHA (Nippon Kayaku) 12.20 parts

·중합 금지제: p-메톡시페놀 0.0061부Polymerization inhibitor: 0.0061 part of p-methoxyphenol

·불소계 계면활성제: F-475, DIC제 0.83부Fluorine-based surfactant: F-475, DIC 0.83 part

·광중합 개시제: 트라이할로메틸트라이아진계의 광중합 개시제(TAZ-107, 미도리 가가쿠제) 0.586부Photopolymerization initiator: 0.586 part of a trihalomethyltriazine based photopolymerization initiator (TAZ-107, Midori Kagaku)

2. 언더코팅층 부착 실리콘 웨이퍼 기판의 제작2. Fabrication of silicon wafer substrate with undercoat layer

6인치 실리콘 웨이퍼를 오븐 중에서 200℃하 30분 가열 처리했다. 이어서, 이 실리콘 웨이퍼 상에, 언더코팅층용 레지스트액을 건조 막두께가 1.5μm가 되도록 도포하고, 추가로 220℃의 오븐 중에서 1시간 가열 건조시켜 언더코팅층을 형성하여, 언더코팅층 부착 실리콘 웨이퍼 기판을 얻었다.The 6-inch silicon wafer was heated in an oven at 200 캜 for 30 minutes. Subsequently, a resist solution for the undercoat layer was applied on the silicon wafer so that the dry film thickness became 1.5 占 퐉 and further heated and dried in an oven at 220 占 폚 for 1 hour to form an undercoat layer, .

3. 착색 조성물의 조제3. Preparation of coloring composition

3-1. 청색 안료 분산액의 조제3-1. Preparation of blue pigment dispersion

<안료 분산액 P-1(C. I. Pigment Blue 15:6 분산액)의 조제>&Lt; Preparation of Pigment Dispersion P-1 (C.I. Pigment Blue 15: 6 Dispersion)

이하와 같이 하여, 안료 분산액 P-1(C. I. Pigment Blue 15:6 분산액)을 조제했다.Pigment dispersion P-1 (C dispersion of Pigment Blue 15: 6) was prepared in the following manner.

즉, C. I. Pigment Blue 15:6(청색 안료; 이하, "PB 15:6"이라고도 칭함)을 19.4질량부(평균 1차 입자경 55nm), 및 색소 구조를 갖는 분산제 C-1을 20.95질량부, PGMEA 275질량부로 이루어지는 혼합액을, 비즈 밀(지르코니아 비즈 0.3mm 직경)에 의하여 3시간 혼합·분산했다. 그 후, 추가로 감압 기구가 장착된 고압 분산기 NANO-3000-10(닛폰 비이이제)을 이용하여, 2000kg/cm3의 압력하에서 유량 500g/min으로 하여 분산 처리를 행했다. 이 분산 처리를 10회 반복하여, 안료 분산액으로서 C. I. Pigment Blue 15:6 분산액을 얻었다. 얻어진 C. I. Pigment Blue 15:6 분산액에 대하여, 안료의 평균 1차 입자경을 동적 광산란법(Microtrac Nanotrac UPA-EX150(닛키소사(Nikkiso Co., Ltd.)제))에 의하여 측정한바, 28nm였다.19.4 parts by mass (average primary particle diameter: 55 nm) of CI Pigment Blue 15: 6 (hereinafter, also referred to as "PB 15: 6") and 20.95 parts by mass of dispersant C- And 275 parts by mass were mixed and dispersed for 3 hours by means of a bead mill (zirconia beads having a diameter of 0.3 mm). Thereafter, dispersion treatment was carried out at a flow rate of 500 g / min under a pressure of 2000 kg / cm 3 by using a high-pressure disperser NANO-3000-10 (Nippon Bionish) equipped with a further pressure reducing mechanism. This dispersion treatment was repeated ten times to obtain a CI Pigment Blue 15: 6 dispersion as a pigment dispersion. The average primary particle diameter of the pigment was measured by a dynamic light scattering method (Microtrac Nanotrac UPA-EX150 (Nikkiso Co., Ltd.)) with respect to the obtained CI Pigment Blue 15: 6 dispersion.

<안료 분산액 P-2~P-42, 비교 분산액 P-1~P-7의 조제><Preparation of Pigment Dispersion P-2 to P-42, Comparative Dispersions P-1 to P-7>

안료 분산액 P-1의 조제에 있어서, 안료 및 색소 구조를 갖는 분산제 또는 비교 색소로서, 하기 표 4의 것을 이용하는 것 이외에는 동일한 조작에 의하여 안료 분산액 P-2~P-42, 비교 분산액 P-1~P-7을 조제했다.Pigment dispersions P-2 to P-42, comparative dispersions P-1 to P-1 were prepared in the same manner as in the preparation of pigment dispersion P-1, P-7 was prepared.

PR은 C. I. 피그먼트 레드를 의미하고, PG는 C. I. 피그먼트 그린을 의미한다.PR means C. I. Pigment Red, and PG means C. I. Pigment Green.

또한, 비교 분산액 P-3은, 색소 구조를 갖는 분산제 및 비교 색소를 배합하고 있지 않다.Further, Comparative Dispersion P-3 does not contain a dispersant having a pigment structure and a comparative colorant.

[표 4][Table 4]

Figure 112016121945081-pct00108
Figure 112016121945081-pct00108

<안료 분산액 P-43의 조제>&Lt; Preparation of Pigment Dispersion P-43 >

이하와 같이 하여, 안료 분산액 P-43(C. I. Pigment Blue 15:6 분산액)을 조제했다.Pigment dispersion P-43 (a dispersion of CI Pigment Blue 15: 6) was prepared as follows.

즉, C. I. Pigment Blue 15:6(청색 안료; 이하, "PB 15:6"이라고도 칭함)을 24.56질량부(평균 1차 입자경 55nm), 및 색소 구조를 갖는 분산제 C-1을 12.28질량부, 색소 구조를 갖지 않는 안료 분산제 BY-161(BYK사제) 3.51부, PGMEA 275질량부로 이루어지는 혼합액을, 비즈 밀(지르코니아 비즈 0.3mm 직경)에 의하여 3시간 혼합·분산했다. 그 후, 추가로 감압 기구가 장착된 고압 분산기 NANO-3000-10(닛폰 비이이제)을 이용하여, 2000kg/cm3의 압력하에서 유량 500g/min으로 하여 분산 처리를 행했다. 이 분산 처리를 10회 반복하여, 안료 분산액으로서 C. I. Pigment Blue 15:6 분산액을 얻었다. 얻어진 C. I. Pigment Blue 15:6 분산액에 대하여, 안료의 평균 1차 입자경을 동적 광산란법(Microtrac Nanotrac UPA-EX150(닛키소사(Nikkiso Co., Ltd.)제))에 의하여 측정한바, 32nm였다.Namely, 24.56 parts by mass (average primary particle diameter: 55 nm) of CI Pigment Blue 15: 6 (hereinafter also referred to as "PB 15: 6") and 12.28 parts by mass of dispersant C- 3.51 parts of a pigment dispersant BY-161 having no structure (manufactured by BYK) and 275 parts of PGMEA was mixed and dispersed for 3 hours by a bead mill (zirconia beads 0.3 mm in diameter) for 3 hours. Thereafter, dispersion treatment was carried out at a flow rate of 500 g / min under a pressure of 2000 kg / cm 3 by using a high-pressure disperser NANO-3000-10 (Nippon Bionish) equipped with a further pressure reducing mechanism. This dispersion treatment was repeated ten times to obtain a CI Pigment Blue 15: 6 dispersion as a pigment dispersion. The average primary particle diameter of the pigment was measured by a dynamic light scattering method (Microtrac Nanotrac UPA-EX150 (Nikkiso Co., Ltd.)) relative to the obtained CI Pigment Blue 15: 6 dispersion.

<안료 분산액 P-44의 조제>&Lt; Preparation of Pigment Dispersion P-44 >

안료 분산액 P-43의 조제에 있어서, 색소 구조를 갖는 분산제를 D-8로, 색소 구조를 갖지 않는 안료 분산제를 E1(하기 구조)로 변경하는 것 이외에는 동일한 조작에 의하여 안료 분산액 P-44를 조제했다.Pigment dispersion P-44 was prepared in the same manner as in the preparation of pigment dispersion P-43 except that the dispersant having a pigment structure was changed to D-8 and the pigment dispersant having no pigment structure was changed to E1 (the following structure) did.

[화학식 105]&Lt; EMI ID =

Figure 112016121945081-pct00109
Figure 112016121945081-pct00109

Mw=20000, x/y=50/50(질량비), n=20, 산가=100mgKOH/gMw = 20000, x / y = 50/50 (mass ratio), n = 20, acid value = 100 mgKOH / g

3-2. 착색 조성물의 조제3-2. Preparation of coloring composition

하기의 각 성분을 혼합하고 분산, 용해하여, 0.45μm의 나일론 필터로 여과하여, 착색 조성물을 얻었다. 고형분 중에 있어서의 안료의 비율(단위)은 33%, 분산제의 비율은 36%이다.The following components were mixed, dispersed and dissolved, and filtered through a 0.45 占 퐉 nylon filter to obtain a colored composition. The proportion (unit) of the pigment in the solid content is 33% and the proportion of the dispersing agent is 36%.

·유기 용제(사이클로헥산온): 17.12부Organic solvent (cyclohexanone): 17.12 parts

·알칼리 가용성 수지 1(하기 J1): 1.23부(고형분 0.37부, 고형분 농도 30%)Alkali-soluble resin 1 (the following J1): 1.23 parts (solid content 0.37 part, solid content concentration 30%)

·알칼리 가용성 수지 2(아크리큐어 RD-F8(닛폰 쇼쿠바이제)): 0.23부Alkali-soluble resin 2 (ARC Liqueur RD-F8 (Nippon Shokubai)): 0.23 parts

·광중합 개시제 I-2(IRGACURE OXE-02): 0.975부Photopolymerization initiator I-2 (IRGACURE OXE-02): 0.975 parts

·안료 분산액 P-1(C. I. Pigment Blue 15:6 및 분산제 C-1에 의한 분산액, PGMEA 용액, 고형분 농도 12.8%): 61.50부Pigment Dispersion P-1 (dispersion by C I. Pigment Blue 15: 6 and dispersant C-1, PGMEA solution, solid concentration 12.8%): 61.50 parts

·중합성 화합물 Z-1(에틸렌옥시 변성 다이펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, NK 에스터 A-DPH-12E(신나카무라 가가쿠제)): 1.96부Polymerizable compound Z-1 (ethyleneoxy-modified dipentaerythritol hexaacrylate, NK ester A-DPH-12E (Shin Nakamura Kagaku)): 1.96 parts

·중합 금지제(p-메톡시페놀): 0.0007부Polymerization inhibitor (p-methoxyphenol): 0.0007 part

·불소계 계면활성제(DIC제 F475, 1% PGMEA 용액): 2.50부Fluorine-based surfactant (DIC F475, 1% PGMEA solution): 2.50 parts

알칼리 가용성 수지 J1Alkali-soluble resin J1

[화학식 106]&Lt; EMI ID =

Figure 112016121945081-pct00110
Figure 112016121945081-pct00110

4. 컬러 필터(착색 패턴)의 제작4. Fabrication of color filter (coloring pattern)

4-1: 포토리소그래피법에 의한 착색 조성물을 이용한 컬러 필터의 제작4-1: Fabrication of color filter using coloring composition by photolithography

상기에서 조제된 착색 조성물을, 상기에서 제작된 언더코팅층 부착 실리콘 웨이퍼의 언더코팅층 상에 도포하고, 착색층(도포막)을 형성했다. 그리고, 이 도포막의 건조 막두께가 1μm가 되도록, 100℃의 핫플레이트를 이용하여 120초간 가열 처리(프리베이크)를 행했다.The coloring composition prepared above was applied on the undercoat layer of the silicon wafer with the undercoat layer prepared above to form a colored layer (coating film). Then, a heat treatment (prebaking) was performed for 120 seconds using a hot plate at 100 캜 so that the dried film thickness of the coated film became 1 탆.

이어서, i선 스테퍼 노광 장치 FPA-3000i5+(Canon제)를 사용하여 365nm의 파장으로 패턴이 평방 1.0μm의 아일랜드 패턴 마스크를 통과시켜 50~1200mJ/cm2의 노광량으로 노광했다.Subsequently, the pattern was passed through an island pattern mask having a square of 1.0 m at a wavelength of 365 nm and exposed at an exposure dose of 50 to 1200 mJ / cm 2 using an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5 + (manufactured by Canon).

그 후, 조사된 도포막이 형성되어 있는 실리콘 웨이퍼 기판을 스핀·샤워 현상기(DW-30형, 케미트로닉스제)의 수평 회전 테이블 상에 재치하고, CD-2000(후지필름 일렉트로닉 머티리얼즈제)을 이용하여 23℃에서 60초간 퍼들 현상을 행하고, 언더코팅층 부착 실리콘 웨이퍼의 언더코팅층 상에 착색 패턴을 형성했다.Thereafter, the silicon wafer substrate on which the coated film was irradiated was placed on a horizontal rotary table of a spin shower developing machine (DW-30 type, made by Chemtronics), and using CD-2000 (Fuji Film Electronic Materials Co., Ltd.) Followed by puddle development at 23 DEG C for 60 seconds to form a colored pattern on the undercoat layer of the silicon wafer with the undercoat layer.

착색 패턴이 형성된 실리콘 웨이퍼를, 진공 척 방식으로 수평 회전 테이블에 고정하고, 회전 장치에 의하여 실리콘 웨이퍼를 회전수 50rpm으로 회전시키면서, 그 회전 중심의 상방으로부터 순수를 분출 노즐로부터 샤워 형상으로 공급하여 린스 처리를 행하고, 그 후 스프레이 건조하며, 200℃에서 300초간, 핫플레이트로 포스트베이크를 행하여, 실리콘 웨이퍼 상의 막두께 1μm의 착색 패턴(컬러 필터)을 얻었다.The silicon wafer on which the coloring pattern was formed was fixed to a horizontal rotary table by a vacuum chucking method and purified water was supplied from a spray nozzle through a nozzle in a shower shape while rotating the silicon wafer at a rotation speed of 50 rpm by a rotary device, Followed by spray drying, and post baking was performed with a hot plate at 200 占 폚 for 300 seconds to obtain a coloring pattern (color filter) having a film thickness of 1 占 퐉 on a silicon wafer.

이상에 의하여, 언더코팅층 부착 실리콘 웨이퍼의 언더코팅층 상에 착색 패턴(컬러 필터)이 마련된 구성의 착색 패턴이 형성된 실리콘 웨이퍼를 얻었다.Thus, a silicon wafer on which a colored pattern having a coloring pattern (color filter) was formed on an undercoat layer of a silicon wafer with an undercoat layer was obtained.

그 후, 측장 SEM "S-9260A"(히타치 하이테크놀로지즈제)를 이용하여, 착색 패턴의 사이즈를 측정했다.Thereafter, the size of the colored pattern was measured using a measurement SEM "S-9260A" (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation).

패턴 사이즈가 1.0μm가 되는 노광량의 착색 패턴을 이용하여, 현상 잔사의 평가를 행했다.The development residue was evaluated using an exposure amount of the coloring pattern having a pattern size of 1.0 mu m.

<현상 잔사의 평가>&Lt; Evaluation of development residue &

실리콘 웨이퍼에 있어서의 착색 패턴의 형성 영역 외(미노광부)를 주사식 전자 현미경을 이용하여, 배율 30000배로 관찰하고, 하기 평가 기준에 따라 평가했다.The outside of the formation area (unexposed area) of the colored pattern in the silicon wafer was observed at a magnification of 30,000 times using a scanning electron microscope and evaluated according to the following evaluation criteria.

A 양호: 착색 패턴 형성 영역 외(미노광부)에는 잔사가 전혀 확인되지 않았다.A Good: No residue was observed at any portion outside the coloring pattern forming region (unexposed portion).

B 약간 양호: 착색 패턴 형성 영역 외(미노광부)에, 잔사가 조금 확인되었지만, 실용상 문제가 없는 정도였다.B Slightly fine: Residues were slightly confirmed outside the coloring pattern forming area (unexposed area), but there was no problem in practical use.

C 충분: 착색 패턴 형성 영역 외(미노광부)에 잔사가 확인되었다. 현상 조건을 23℃에서 60초간 퍼들 현상으로부터 23℃에서 180초간 퍼들 현상으로 변경함으로써, 실용상 문제가 없는 정도가 되었다.C Sufficient: Residues were observed outside the coloring pattern forming area (unexposed area). The development condition was changed from a puddle development at 23 DEG C for 60 seconds to a puddle development at 23 DEG C for 180 seconds, and there was no practical problem.

D 불충분: 착색 패턴 형성 영역 외(미노광부)에 잔사가 두드러지게 확인되었다. 또, 현상 조건을 23℃에서 60초간 퍼들 현상으로부터 23℃에서 180초간 퍼들 현상으로 변경해도 잔사가 확인되어, 실용상 문제가 있는 정도였다.D insufficient: Residues were confirmed to be prominent outside the coloring pattern forming region (unexposed portion). Also, even if the developing conditions were changed from 23 ° C for 60 seconds to 23 ° C for 180 seconds and then to a puddle development at 23 ° C from the puddle development, the residue was confirmed to be a problem in practical use.

<내탈색><My discoloration>

유리 기판 상에, 착색 조성물을 막두께가 0.6μm가 되도록 스핀 코터를 이용하여 도포하고, 100℃의 핫플레이트를 이용하여 120초간 가열 처리(프리베이크)를 행했다. 이어서, 220℃의 핫플레이트를 이용하여 300초간 가열 처리(포스트베이크)를 행하여, 경화막을 제작했다.The coloring composition was coated on a glass substrate using a spin coater so as to have a film thickness of 0.6 mu m and subjected to a heat treatment (prebaking) for 120 seconds using a hot plate at 100 deg. Subsequently, a heat treatment (post-baking) was performed using a hot plate at 220 캜 for 300 seconds to produce a cured film.

이와 같이 하여 얻어진 컬러 필터를, 자외 가시 근적외 분광 광도계 UV3600(시마즈 세이사쿠쇼제)의 분광 광도계(레퍼런스: 유리 기판)로 300nm~800nm의 파장역으로 투과율을 측정했다. 또, OLYMPUS제 광학 현미경 BX60을 이용하여, 반사 관측(배율 50배)으로 미분 간섭상을 관찰했다.The color filter thus obtained was measured for its transmittance in a wavelength range of 300 nm to 800 nm with a spectrophotometer (reference: glass substrate) of ultraviolet visible infrared spectrophotometer UV3600 (Shimadzu Corporation). Further, differential interference images were observed on a reflection observation (magnification: 50 times) using an OLYMPUS optical microscope BX60.

이어서, 알칼리 현상액 FHD-5(후지필름 일렉트로닉 머티리얼즈제) 중에 5분간 침지하고, 건조시킨 후에 재차 분광 측정을 실시하여, 용제 침지 전후의 투과율 변동(용제 침지 전의 상기 투과율을 T0, 용제 침지 후의 상기 투과율을 T1로 한 경우에, 식 |T0-T1|로 나타나는 값)과 막면 이상을 평가하고, 이하의 기준으로 평가했다.Subsequently, the film was immersed in an alkali developing solution FHD-5 (FUJIFILM ELECTRONIC MATERIALS) for 5 minutes, dried and then again subjected to spectroscopic measurement to determine the transmittance variation before and after the solvent immersion (the transmittance before solvent immersion was T0, T1 &lt; / RTI &gt; &lt; RTI ID = 0.0 &gt; T1), &lt; / RTI &gt;

<<평가 기준>><< Evaluation Criteria >>

A: 양호 300nm~800nm의 전체 영역에 있어서, 용제 침지 전후의 투과율 변동이 2% 미만A: Good When the transmittance variation before and after solvent immersion in the entire region of 300 nm to 800 nm is less than 2%

B: 약간 양호 300nm~800nm의 전체 영역에 있어서, 용제 침지 전후의 투과율 변동이 2% 이상 5% 미만B: slightly good The transmittance variation before and after solvent immersion in the entire region of 300 nm to 800 nm is 2% or more and less than 5%

C: 충분 300nm~800nm의 전체 영역에 있어서, 용제 침지 전후의 투과율 변동이 5% 이상 10% 미만C: sufficient transmittance variation before and after solvent immersion in the entire region of 300 nm to 800 nm is 5% or more and less than 10%

D: 불충분 300nm~800nm의 전체 영역에 있어서, 용제 침지 전후의 투과율 변동이 10% 이상D: insufficient change in transmittance before and after solvent immersion in the entire region of 300 nm to 800 nm is 10% or more

<내광성><Light resistance>

상기에서 조제된 착색 조성물을 유리 기판에 스핀 코터(미카사제)를 이용하여 도포하여, 도막을 형성했다. 그리고, 이 도막의 건조 막두께가 0.6μm가 되도록, 100℃의 핫플레이트를 이용하여 120초간 가열 처리(프리베이크)를 행했다. 이어서 200℃에서 5분간의 가열을 행하고, 도포막의 경화를 행하여 착색층을 형성했다.The coloring composition prepared above was applied to a glass substrate using a spin coater (manufactured by Mikasa) to form a coating film. Then, a heat treatment (prebaking) was performed for 120 seconds using a hot plate at 100 캜 so that the dried film thickness of this coating film was 0.6 탆. Subsequently, heating was performed at 200 DEG C for 5 minutes to cure the coating film to form a colored layer.

착색층을 형성한 유리 기판을, 내광 시험 장치(스가 시켄키제 SX-75)를 이용하여 블랙 패널 온도 63℃, 석영 이너 필터, 275nm 컷 아우터 필터, 조도(照度) 75mw/m2(300~400nm), 습도 50%의 조건하에서 10시간 가열했다.A quartz inner filter, a 275 nm cut outer filter, an illuminance of 75 mw / m 2 (300 to 400 nm), a black panel temperature of 63 캜, and a cut outer filter using a light resistance tester (Suga Shikenki SX- ) And a humidity of 50% for 10 hours.

가열 전후의 색차(ΔE*ab)를 분광 광도계 MCPD-3000(오쓰카 덴시제)으로 측정했다. 측정된 색차(ΔE*ab)에 근거하여, 하기 평가 기준에 따라 내광성을 평가했다. 이 수치가 작을수록, 내광성이 양호하다고 할 수 있다. 평가 결과를 하기 표에 나타낸다. A 및 B가 실제 사용에 문제가 없는 레벨이다.The color difference (? E * ab) before and after heating was measured by a spectrophotometer MCPD-3000 (manufactured by Otsuka Denka Co., Ltd.). Based on the measured color difference (? E * ab), the light resistance was evaluated according to the following evaluation criteria. The smaller this value is, the better the light resistance is. The evaluation results are shown in the following table. A and B are levels at which there is no problem in actual use.

<<평가 기준>><< Evaluation Criteria >>

A 양호: ΔE*ab가 3 이하A Good: ΔE * ab is 3 or less

B 약간 양호: ΔE*ab가 3보다 크고 5 이하B slightly better:? E * ab is greater than 3 and less than 5

C 충분: ΔE*ab가 5보다 크고 10 이하C Sufficient: ΔE * ab greater than 5 and less than 10

D 불충분: ΔE*ab가 10보다 큼D insufficient: ΔE * ab is greater than 10

<거칠기(색 불균일)>&Lt; Roughness (color unevenness) >

얻어진 단색의 컬러 필터(착색 패턴)를 광학 현미경의 관측 렌즈와 광원의 사이에 설치하여 광을 관측 렌즈를 향하여 조사하고, 그 투과광 상태를 배율이 1000배의 디지털 카메라가 설치된 광학 현미경에 의하여 관찰했다. 광학 현미경에 설치된 디지털 카메라에는 128만 화소의 CCD가 탑재되어 있으며, 투과광 상태에 있는 피막 표면을 촬영했다. 촬영 화상은 8비트의 비트맵 형식으로 디지털 변환한 데이터(디지털 화상)로 하여 보존했다.The obtained monochromatic color filter (coloring pattern) was provided between the observation lens of the optical microscope and the light source, the light was irradiated toward the observation lens, and the state of the transmitted light was observed by an optical microscope equipped with a digital camera with a magnification of 1000 times . The digital camera installed in the optical microscope is equipped with a CCD of 128 megapixels, and the film surface in the transmitted light state is photographed. The photographed image was saved as data (digital image) digitally converted into an 8-bit bitmap format.

또한, 착색 패턴의 피막 표면의 촬영은 임의로 선택한 20의 영역에 대하여 행했다. 또, 디지털 변환한 데이터는, 촬영 화상을 B의 색의 휘도를 0~255까지의 256 계조(階調)의 농도 분포로서 수치화하여 보존했다.In addition, the photographing of the surface of the coating film of the colored pattern was carried out for arbitrarily selected 20 regions. The digitally converted data was obtained by digitizing the photographed image as the density distribution of 256 gradations (gradation) ranging from 0 to 255 in the luminance of the B color.

이어서, 보존된 디지털 화상에 대하여, 하나의 격자 사이즈가 실기판 상의 평방 2μm에 상당하도록, 격자 형상으로 구분하고, 하나의 구획 내에서의 휘도를 평균화했다. 본 실시예에 있어서는, 128만 화소의 디지털 카메라로 광학 1000배의 화상을 촬영했기 때문에, 실기판 상의 2μm는 촬영 화상 상의 2mm가 되며, 디스플레이 상에 있어서의 화상 사이즈가 452mm×352mm인 점에서, 하나의 영역에 있어서의 총 구획수는 39776개였다.Subsequently, for the stored digital images, one grid size was divided into grid shapes so as to correspond to a square of 2 mu m on the actual plate, and the luminance in one segment was averaged. In this embodiment, since an optical image of 1000 times magnification is photographed with a digital camera of 128 million pixels, 2 mu m on the actual plate becomes 2 mm on the photographed image, and the image size on the display is 452 mm x 352 mm, The total number of compartments in one area was 39776.

각 영역의 전체 구획에 대하여, 임의의 1구획과 그것에 인접하는 모든 인접 구획의 평균 휘도를 계측했다. 인접 구획의 평균 휘도와의 차가 5 이상인 구획을 유의차 구획이라고 인정하고, 전체 영역의 유의차 구획의 평균 총수와, 전체 영역의 유의차 구획의 평균 총수가 각 영역의 전체 구획수(39776개)에 대하여 차지하는 비율(이하, 간단히 "비율"이라고도 함)을 산출했다. 이 수치는, 작을수록 색 불균일(거칠기)이 적다고 판단한다. 유의차 구획수가 800 이하, 비율이 3% 이하로 실용상 문제가 없는 레벨이라고 판단한다.The average luminance of one arbitrary section and all adjacent sections adjacent thereto was measured with respect to the whole section of each area. The average number of significant subdivisions of the total area and the average total number of the significant subdivisions of the total area are 39957 total areas (39776) in each area, (Hereinafter, simply referred to as "ratio"). The smaller the value, the less the color unevenness (roughness) is judged. It is judged that the number of significant subdivisions is 800 or less and the ratio is 3% or less and there is no problem in practical use.

<<평가 기준>><< Evaluation Criteria >>

A: 유의차 구획수가 500 미만이고, 또한 비율이 2% 미만이며 우수한 레벨A: The number of significant subdivisions is less than 500, the ratio is less than 2%

B: 유의차 구획수가 800 이하이고, 또한 비율이 3% 이하이며(단, 상기 A에 해당하는 경우를 제외함), 실용상 문제가 없는 레벨B: The number of significant subdivisions is 800 or less and the ratio is 3% or less (except for the case of A)

C: 유의차 구획수 800 초과 및 비율 3% 초과 중 적어도 한쪽에 해당하며, 실용상 문제가 되는 레벨, 및 상기 A 및 B에 해당하지 않는 것.C: a level that is at least one of a significant number of divisions greater than 800 and a ratio exceeding 3%, which is a practical problem, and which does not correspond to A and B above.

<실시예 2~49, 비교예 1~7>&Lt; Examples 2 to 49 and Comparative Examples 1 to 7 >

실시예 1에 있어서의 "3-2. 착색 조성물의 조제"에 있어서, 안료 분산액 P-1, 광중합 개시제 I-2, 알칼리 가용성 수지 J1, 중합성 화합물 Z-1을 하기 표와 같이 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여, 착색 조성물을 조제하고, 실시예 1과 동일하게 하여, 현상 잔사, 내탈색, 내광성, 거칠기를 평가했다.The pigment dispersion P-1, the photopolymerization initiator I-2, the alkali-soluble resin J1 and the polymerizable compound Z-1 were changed as shown in the following table in "3-2 Preparation of a colored composition" in Example 1 A coloring composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the development residue, the discoloration resistance, the light resistance and the roughness were evaluated in the same manner as in Example 1.

광중합 개시제: 하기 구조Photopolymerization initiator:

[화학식 107]&Lt; EMI ID =

Figure 112016121945081-pct00111
Figure 112016121945081-pct00111

알칼리 가용성 수지 J2~J4: 하기 구조Alkali-soluble resins J2 to J4:

[화학식 108](108)

Figure 112016121945081-pct00112
Figure 112016121945081-pct00112

J1 산가: 195mgKOH/g, J2 산가: 51mgKOH/g, J3 산가: 49mgKOH/g, J4 산가: 34mgKOH/g,J1 acid value: 195 mg KOH / g, J2 acid value: 51 mg KOH / g, J3 acid value: 49 mg KOH / g, J4 acid value:

중합성 화합물Polymerizable compound

Z-1: 에틸렌옥시 변성 다이펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, NK 에스터Z-1: Ethyleneoxy-modified dipentaerythritol hexaacrylate, NK ester

A-DPH-12E(신나카무라 가가쿠제)A-DPH-12E (Shin Nakamura Kagaku Co.)

Z-2: 다이펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, KAYARAD DPHA(닛폰 가야쿠제)Z-2: dipentaerythritol hexaacrylate, KAYARAD DPHA (Nippon Kayaku)

Z-3: 에톡시화 (4) 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, SR494(사토머제)Z-3: Ethoxylated (4) pentaerythritol tetraacrylate, SR494 (Sartomer)

Z-4: 에톡시화 (3) 트라이메틸올프로페인트라이아크릴레이트, SR454(사토머제)Z-4: Ethoxylated (3) trimethylolpropane acrylate, SR454 (Sartomer)

Z-5: 에톡시화 (6) 트라이메틸올프로페인트라이아크릴레이트, SR499(사토머제)Z-5: Ethoxylated (6) trimethylolpropane acrylate, SR499 (Sartomer)

Z-6: KAYARAD DPCA-60(닛폰 가야쿠제)Z-6: KAYARAD DPCA-60 (Nippon Kayaku)

Z-7: 트리스(2-하이드록시에틸)아이소사이아누레이트트라이아크릴레이트, SR368(사토머제)Z-7: Tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate, SR368 (Sartomer)

[표 5][Table 5]

Figure 112016121945081-pct00113
Figure 112016121945081-pct00113

[표 6][Table 6]

Figure 112016121945081-pct00114
Figure 112016121945081-pct00114

상기 표로부터, 실시예의 안료 분산액을 이용한 경우, 탈색을 억제할 수 있으며, 내광성을 향상시킬 수 있는 것을 알 수 있었다. 또, 현상 잔사 및 거칠기를 보다 저감할 수 있는 것을 알 수 있었다.From the above table, it was found that the discoloration can be suppressed and the light resistance can be improved when the pigment dispersion of Examples is used. Further, it was found that the development residue and the roughness can be further reduced.

한편, 비교예의 안료 분산액을 이용한 경우, 탈색의 억제 및 내광성의 향상을 양립시키는 것이 어렵다는 것을 알 수 있었다.On the other hand, it was found that, in the case of using the pigment dispersion of the comparative example, it is difficult to achieve both suppression of discoloration and improvement in light resistance.

4-2: 드라이 에칭 공정에 의한 컬러 필터의 제작 및 평가4-2: Fabrication and evaluation of color filters by dry etching process

(드라이 에칭용 착색 조성물의 조제)(Preparation of colored composition for dry etching)

하기의 각 성분을 혼합하고 분산, 용해하여, 착색 조성물을 얻었다.The following components were mixed, dispersed and dissolved to obtain a colored composition.

·유기 용제(사이클로헥산온): 17.12부Organic solvent (cyclohexanone): 17.12 parts

·에폭시 수지 JER1031S(미쓰비시 가가쿠(주)제, 에폭시 당량: 180-220(g/eq.)): 4.395부Epoxy resin JER1031S (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, epoxy equivalent: 180-220 (g / eq.)): 4.395 parts

·안료 분산액 P1(C. I. Pigment Blue 15:6 분산액, PGMEA 용액, 고형분 농도 12.8%): 75.97부Pigment dispersion P1 (C.I. Pigment Blue 15: 6 dispersion, PGMEA solution, solid concentration 12.8%): 75.97 parts

·중합 금지제(p-메톡시페놀): 0.0007부Polymerization inhibitor (p-methoxyphenol): 0.0007 part

·불소계 계면활성제(DIC제, F475, 1% PGMEA 용액): 2.50부Fluorine-based surfactant (DIC agent, F475, 1% PGMEA solution): 2.50 parts

(드라이 에칭법에 의한 착색 경화성 조성물을 이용한 컬러 필터의 제작)(Fabrication of color filter using color curable composition by dry etching)

상기에서 얻어진 드라이 에칭용 착색 조성물을, 7.5cm×7.5cm의 유리 기판 상에 스핀 코터를 이용하여 도포하고, 핫플레이트를 사용하여, 200℃에서 5분간, 가열을 행하고, 도포막의 경화를 행하여 착색층을 제작했다. 이 착색층의 막두께는, 0.5μm였다.The colored composition for dry etching obtained above was applied onto a glass substrate of 7.5 cm x 7.5 cm using a spin coater and heated at 200 캜 for 5 minutes using a hot plate to cure the coated film, Layer. The film thickness of this colored layer was 0.5 mu m.

이어서, 포지티브형 포토레지스트 "FHi622BC"(후지필름 일렉트로닉 머티리얼즈사제)를 도포하고, 90℃에서 1분간, 프리베이크 처리를 실시하여, 막두께 0.8μm의 포토레지스트층을 형성했다.Subsequently, a positive type photoresist "FHi622BC" (manufactured by Fuji Film Electronics Materials Co., Ltd.) was applied and prebaked at 90 DEG C for 1 minute to form a photoresist layer having a thickness of 0.8 mu m.

이어서, 포토레지스트층을, i선 스테퍼(캐논(주)제)를 이용하여 350mJ/cm2의 노광량으로 패턴 노광하고, 포토레지스트층의 온도 또는 분위기 온도가 90℃가 되는 온도에서 1분간, 가열 처리를 행했다. 그 후, 현상액 "FHD-5"(후지필름 일렉트로닉 머티리얼즈사제)로 1분간의 현상 처리를 행하고, 또한 110℃에서 1분간의 포스트베이크 처리를 실시하여, 레지스트 패턴을 형성했다. 이 레지스트 패턴의 사이즈는, 에칭 변환차(에칭에 의한 패턴 폭의 축소)를 고려하여, 한 변 1.0μm로 형성했다.Then, the photoresist layer was subjected to pattern exposure at an exposure dose of 350 mJ / cm 2 using an i-line stepper (manufactured by Canon Inc.), and the resist layer was heated for 1 minute at a temperature at which the temperature of the photoresist layer or the ambient temperature reached 90 占 폚 Treatment. Thereafter, development processing was performed for one minute with a developing solution "FHD-5" (manufactured by FUJIFILM ELECTRONIC MATERIALS), and further post-baked at 110 DEG C for one minute to form a resist pattern. The size of the resist pattern was formed to be 1.0 μm on one side in consideration of the etching conversion difference (reduction in pattern width due to etching).

다음으로, 얻어진 유리 기판을 8인치 실리콘 웨이퍼에 첩부하여, 드라이 에칭 장치(U-621, 히타치 하이테크놀로지즈사제)로, RF(Radio Frequency) 파워: 800W, 안테나 바이어스: 400W, 웨이퍼 바이어스: 200W, 챔버의 내부 압력: 4.0Pa, 기판 온도: 50℃, 혼합 가스의 가스종 및 유량을 CF4: 80mL/분, O2: 40mL/분, Ar: 800mL/min.으로 하여, 80초의 제1 단계의 에칭 처리를 실시했다.Next, the obtained glass substrate was attached to an 8-inch silicon wafer and RF (Radio Frequency) power: 800 W, antenna bias: 400 W, wafer bias: 200 W, The internal pressure of the chamber was 4.0 Pa, the substrate temperature was 50 DEG C, and the gas species and flow rate of the mixed gas were 80 mL / min. For CF 4 , 40 mL / min for O 2 and 800 mL / Was subjected to an etching treatment.

이어서, 동일한 에칭 챔버에서, RF 파워: 600W, 안테나 바이어스: 100W, 웨이퍼 바이어스: 250W, 챔버의 내부 압력: 2.0Pa, 기판 온도: 50℃, 혼합 가스의 가스종 및 유량을 N2: 500mL/분, O2: 50mL/분, Ar: 500mL/분으로 하여 (N2/O2/Ar=10/1/10), 28초의 제2 단계 에칭 처리, 오버 에칭 처리를 실시했다.Then, in the same etching chamber, the gas species and the flow rate of the mixed gas were set to 500 mL / min (N 2) in an RF power of 600 W, an antenna bias of 100 W, a wafer bias of 250 W, an inner pressure of the chamber of 2.0 Pa, (N 2 / O 2 / Ar = 10/1/10), O 2 was 50 mL / min, and Ar was 500 mL / min, and the second stage etching treatment and overetching treatment were performed for 28 seconds.

상기 조건으로 드라이 에칭을 행한 후, 포토레지스트 박리액 "MS230C"(후지필름 일렉트로닉 머티리얼즈사제)를 사용하여, 50℃에서 120초간, 박리 처리를 실시하여 레지스트를 제거하여, 청색 착색 패턴을 형성했다. 또한 순수에 의한 세정, 스핀 건조를 실시하고, 그 후, 100℃에서 2분간의 탈수 베이크 처리를 행했다. 이상에 의하여, 컬러 필터를 얻었다.After performing the dry etching under the above conditions, the resist was peeled off at 50 DEG C for 120 seconds using a photoresist peeling solution "MS230C" (manufactured by FUJIFILM ELECTRONICS MATERIALS CO., LTD.) To form a blue coloring pattern . Further, washing with pure water and spin drying were performed, and dehydration baking treatment was then performed at 100 ° C for 2 minutes. Thus, a color filter was obtained.

<현상 잔사의 평가>&Lt; Evaluation of development residue &

실리콘 웨이퍼에 있어서의 착색 패턴의 형성 영역 외(미노광부)를 주사식 전자 현미경을 이용하여, 배율 30000배로 관찰하고, 하기 평가 기준에 따라 평가했다. 그 결과, 착색 패턴 형성 영역 외(미노광부)에는 잔사가 전혀 확인되지 않아 양호했다.The outside of the formation area (unexposed area) of the colored pattern in the silicon wafer was observed with a scanning electron microscope at a magnification of 30,000 times and evaluated according to the following evaluation criteria. As a result, residues were not observed at all outside the coloring pattern forming area (unexposed area).

<내탈색의 평가>&Lt; Evaluation of discoloration >

상기 포토리소그래피법에 의한 착색 조성물을 이용한 컬러 필터의 제작과 동일하게 하여 내탈색의 평가를 행했다. 결과, 300nm~800nm의 전체 영역에 있어서, 용제 침지 전후의 투과율 변동이 2% 미만이며 양호했다.Evaluation of discoloration in the interior was carried out in the same manner as in the production of the color filter using the color composition by the photolithography method. As a result, the transmittance variation before and after immersion in the solvent was less than 2% in the entire region of 300 nm to 800 nm.

<내광성의 평가>&Lt; Evaluation of light resistance &

상기 포토리소그래피법에 의한 착색 조성물을 이용한 컬러 필터의 제작과 동일하게 하여 내광성의 평가를 행했다. 결과, ΔE*ab가 3 이하이며 양호했다.The light resistance was evaluated in the same manner as in the production of the color filter using the color composition by the photolithography method. As a result,? E * ab was 3 or less and was good.

<거칠기(색 불균일)의 평가>&Lt; Evaluation of roughness (color unevenness) >

상기 포토리소그래피법에 의한 착색 조성물을 이용한 컬러 필터의 제작과 동일하게 하여 거칠기(색 불균일)의 평가를 행했다. 결과, 유의차 구획수가 500 미만이고, 또한 비율이 2% 미만이며 우수한 레벨이었다.(Color heterogeneity) was evaluated in the same manner as in the production of the color filter using the color composition by the photolithography method. As a result, the number of significant subdivisions was less than 500, and the ratio was less than 2%, which was an excellent level.

Claims (24)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 색소 구조를 갖는 분산제, 안료, 및 용제를 함유하는 안료 분산액의 제조 방법으로서,
색소 구조를 갖는 분산제 및 용제의 존재하에서, 안료를 분산시키는 공정을 포함하며,
상기 색소 구조를 갖는 분산제가 트라이아릴메테인 색소, 잔텐 색소, 사이아닌 색소 및 스쿠아릴륨 색소로부터 선택되는 색소 구조를 갖고,
상기 색소 구조를 갖는 분산제는, 상기 색소 구조를 동일 분자 내에 2개 이상 갖는 색소 다량체이며, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 하기 식 (Aλ)로 나타나는 비흡광도가 5 이상이고,
상기 용제의 함유량이, 상기 안료 분산액의 전체 질량에 대하여, 50~95질량%인, 안료 분산액의 제조 방법;
E=A/(c×l) …(Aλ)
식 (Aλ) 중, E는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 비흡광도를 나타내고,
A는, 400nm~800nm에서의 최대 흡수 파장에 있어서의 흡광도를 나타내며,
l은, 단위가 cm로 나타나는 셀 길이를 나타내고,
c는, 단위가 mg/ml로 나타나는, 용액 중의 색소 구조를 갖는 분산제의 농도를 나타낸다.
A method for producing a pigment dispersion containing a dispersant having a pigment structure, a pigment, and a solvent,
And dispersing the pigment in the presence of a dispersant and a solvent having a pigment structure,
Wherein the dispersant having the dye structure has a dye structure selected from a triarylmethane dye, a xanthine dye, a cyanine dye and a squarylium dye,
The dispersing agent having the dye structure is a pigment multimer having two or more of the dye structures in the same molecule and has a specific absorption of 5 or more at a maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm represented by the following formula (A?),
Wherein the content of the solvent is 50 to 95% by mass with respect to the total mass of the pigment dispersion liquid;
E = A / (cxl) ... (A?)
In the formula (A?), E represents a non-absorbance at a maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,
A represents the absorbance at the maximum absorption wavelength in the range of 400 nm to 800 nm,
l represents the cell length in cm,
c represents the concentration of the dispersant having a pigment structure in the solution, in which the unit is expressed in mg / ml.
삭제delete 삭제delete 청구항 16에 있어서,
상기 색소 구조를 갖는 분산제의 색소 구조가 음이온 부위를 포함하고, 상기 음이온 부위가, 설폰산 음이온, 카복실산 음이온, 테트라아릴보레이트 음이온, BF4 -, PF6 -, SbF6 -, 하기 일반식 (A1)로 나타나는 구조를 포함하는 기, 및 하기 일반식 (A2)로 나타나는 구조를 포함하는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인, 안료 분산액의 제조 방법;
일반식 (A1)
[화학식 1]
Figure 112018102110817-pct00118

일반식 (A1) 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로 -SO2- 또는 -CO-를 나타낸다;
일반식 (A2)
[화학식 2]
Figure 112018102110817-pct00119

일반식 (A2) 중, R3은, -SO2- 또는 -CO-를 나타낸다; R4 및 R5는 각각 독립적으로 -SO2-, -CO- 또는 -CN을 나타낸다.
18. The method of claim 16,
Wherein the dye structure of the dispersing agent having the dye structure comprises an anion site and the anion site is selected from the group consisting of a sulfonic acid anion, a carboxylic acid anion, a tetraarylborate anion, BF 4 - , PF 6 - , SbF 6 - A group containing a structure represented by the following formula (A2), and a group including a structure represented by the following formula (A2);
In formula (A1)
[Chemical Formula 1]
Figure 112018102110817-pct00118

In the general formula (A1), R 1 and R 2 each independently represent -SO 2 - or -CO-;
In general formula (A2)
(2)
Figure 112018102110817-pct00119

In the general formula (A2), R 3 represents -SO 2 - or -CO-; R 4 and R 5 each independently represent -SO 2 -, -CO- or -CN.
청구항 16 또는 청구항 19에 있어서,
상기 색소 구조를 갖는 분산제 100질량부에 대하여, 안료를 80~150질량부 포함하는, 안료 분산액의 제조 방법.
The method according to claim 16 or 19,
Wherein the pigment is contained in an amount of 80 to 150 parts by mass based on 100 parts by mass of the dispersant having the pigment structure.
청구항 16 또는 청구항 19에 있어서,
상기 색소 구조를 갖는 분산제의 중량 평균 분자량이 3000 이상, 50000 이하인, 안료 분산액의 제조 방법.
The method according to claim 16 or 19,
Wherein the weight average molecular weight of the dispersant having the dye structure is not less than 3000 and not more than 50000.
청구항 16 또는 청구항 19에 있어서,
상기 색소 구조를 갖는 분산제의 산가가 27mgKOH/g 이상, 200mgKOH/g 미만인, 안료 분산액의 제조 방법.
The method according to claim 16 or 19,
Wherein the dispersant having the dye structure has an acid value of 27 mgKOH / g or more and less than 200 mgKOH / g.
청구항 16 또는 청구항 19에 기재된 안료 분산액의 제조 방법에 의해 안료 분산액을 제조하고, 얻어진 상기 안료 분산액과 경화성 화합물을 혼합하는, 착색 조성물의 제조 방법.A process for producing a colored composition, comprising the steps of: preparing a pigment dispersion by the process for producing a pigment dispersion according to claim 16 or 19; and mixing the obtained pigment dispersion with the curable compound. 청구항 23에 있어서,
광중합 개시제를 더 혼합하는, 착색 조성물의 제조 방법.
24. The method of claim 23,
And the photopolymerization initiator is further mixed.
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