JP6307164B2 - Pigment dispersion, method for producing pigment dispersion, colored composition, cured film, color filter, method for producing color filter, solid-state imaging device, image display device and composition - Google Patents

Pigment dispersion, method for producing pigment dispersion, colored composition, cured film, color filter, method for producing color filter, solid-state imaging device, image display device and composition Download PDF

Info

Publication number
JP6307164B2
JP6307164B2 JP2016545057A JP2016545057A JP6307164B2 JP 6307164 B2 JP6307164 B2 JP 6307164B2 JP 2016545057 A JP2016545057 A JP 2016545057A JP 2016545057 A JP2016545057 A JP 2016545057A JP 6307164 B2 JP6307164 B2 JP 6307164B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
dye
general formula
pigment
dispersant
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016545057A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2016031444A1 (en
Inventor
宏明 出井
宏明 出井
和也 尾田
和也 尾田
賢 鮫島
賢 鮫島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of JPWO2016031444A1 publication Critical patent/JPWO2016031444A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6307164B2 publication Critical patent/JP6307164B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/44Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F265/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00
    • C08F265/04Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00 on to polymers of esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L101/00Compositions of unspecified macromolecular compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D17/00Pigment pastes, e.g. for mixing in paints
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D201/00Coating compositions based on unspecified macromolecular compounds
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Description

本発明は、顔料分散液、顔料分散液の製造方法、着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置および組成物に関する。   The present invention relates to a pigment dispersion, a method for producing a pigment dispersion, a colored composition, a cured film, a color filter, a method for producing a color filter, a solid-state imaging device, an image display device, and a composition.

近年、デジタルカメラ、カメラ付き携帯電話等の普及から、CCD(Charge Coupled Device)イメージセンサーなどの固体撮像素子の需要が大きく伸びている。これらのディスプレイや光学素子のキーデバイスとしてカラーフィルタが使用されており、更なる高感度化・小型化の要求が高まっている。このようなカラーフィルタは、通常、赤(R)、緑(G)、及び青(B)の3原色の着色パターンを備えており、透過光を3原色へ分解する役割を果たしている。   In recent years, the demand for solid-state imaging devices such as CCD (Charge Coupled Device) image sensors has greatly increased due to the spread of digital cameras, camera-equipped mobile phones and the like. Color filters are used as key devices for these displays and optical elements, and there is an increasing demand for higher sensitivity and miniaturization. Such a color filter normally has a coloring pattern of three primary colors of red (R), green (G), and blue (B), and plays a role of separating transmitted light into the three primary colors.

特許文献1には、染料骨格を有する顔料分散剤、顔料、及び溶媒を含有し、染料骨格を有する顔料分散剤の最大吸収波長と顔料の最大吸収波長との差が200nm以下である顔料分散液が記載されている。
特許文献2には、有機色素構造、複素環構造、酸性基、塩基性窒素原子を有する基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、炭素数4以上の炭化水素基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基、および水酸基から選択される部位を少なくとも1種含む1価の有機基を有する高分子化合物が記載されている。
Patent Document 1 discloses a pigment dispersion containing a pigment dispersant having a dye skeleton, a pigment, and a solvent, wherein the difference between the maximum absorption wavelength of the pigment dispersant having the dye skeleton and the maximum absorption wavelength of the pigment is 200 nm or less. Is described.
Patent Document 2 discloses an organic dye structure, a heterocyclic structure, an acidic group, a group having a basic nitrogen atom, a urea group, a urethane group, a group having a coordinating oxygen atom, a hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms, an alkoxy group A polymer compound having a monovalent organic group containing at least one site selected from a silyl group, an epoxy group, an isocyanate group, and a hydroxyl group is described.

特開2011−118060号公報JP 2011-1118060 A 特開2007−277514号公報JP 2007-277514 A

種々の分散剤を用いた着色組成物が検討されているが、近年、カラーフィルタなどに用いる着色組成物においては、色抜け性のさらなる改善が求められている。
本発明はかかる状況に鑑みてなされたものであり、耐色抜け性の高いカラーフィルタ等を提供するための顔料分散液、上記顔料分散液を用いた着色組成物を提供することを目的とする。また、顔料分散液の製造方法、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置および組成物を提供することを目的とする。
Although coloring compositions using various dispersants have been studied, in recent years, further improvements in color loss have been demanded in coloring compositions used for color filters and the like.
The present invention has been made in view of such a situation, and an object thereof is to provide a pigment dispersion for providing a color filter having high color loss resistance and a coloring composition using the pigment dispersion. . Moreover, it aims at providing the manufacturing method of a pigment dispersion liquid, a cured film, a color filter, the manufacturing method of a color filter, a solid-state image sensor, an image display apparatus, and a composition.

本発明者らは詳細に検討した結果、所定の色素構造を有する分散剤を用いることにより、上記課題を解決しうることを見出し、本発明を完成するに至った。
具体的には、下記手段<1>、<17>または<18>により、好ましくは、<2>〜<16>により、上記課題は解決された。
<1>色素構造を有する分散剤、顔料、及び溶媒を含有する顔料分散液であって、
色素構造を有する分散剤がトリアリールメタン色素、キサンテン色素、シアニン色素およびスクアリリウム色素から選択される色素構造を有し、
色素構造を有する分散剤は、色素構造を同一分子内に2個以上有する色素多量体であり、400nm〜800nmでの最大吸収波長における下記式(Aλ)で表される比吸光度が5以上である、顔料分散液;
E=A/(c×l) ・・・(Aλ)
式(Aλ)中、Eは、400nm〜800nmでの最大吸収波長における比吸光度を表し、
Aは、400nm〜800nmでの最大吸収波長における吸光度を表し、
lは、単位がcmで表されるセル長を表し、
cは、単位がmg/mlで表される、溶液中の色素構造を有する分散剤の濃度を表す。<2>色素構造を有する分散剤の色素構造がアニオン部位を含み、アニオン部位が、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオン、テトラアリールボレートアニオン、BF4 -、PF6 -、SbF6 -、下記一般式(A1)で表される構造を含む基、および下記一般式(A2)で表される構造を含む基からなる群から選択される少なくとも1種である、<1>に記載の顔料分散液;
一般式(A1)
一般式(A1)中、R1およびR2はそれぞれ独立して−SO2−または−CO−を表す。
一般式(A2)
一般式(A2)中、R3は、−SO2−または−CO−を表す;R4およびR5はそれぞれ独立して−SO2−、−CO−または−CNを表す。
<3>色素構造を有する分散剤100質量部に対し、顔料を80〜150質量部含む、<1>または<2>に記載の顔料分散液。
<4>色素構造を有する分散剤の重量平均分子量が3000以上、50000以下である、<1>〜<3>のいずれかに記載の顔料分散液。
<5>色素構造を有する分散剤の酸価が27mgKOH/g以上、200mgKOH/g未満である、<1>〜<4>のいずれかに記載の顔料分散液。
<6><1>〜<5>のいずれかに記載の顔料分散液および硬化性化合物を含有する、着色組成物。
<7>光重合開始剤をさらに含有する、<6>に記載の着色組成物。
<8>着色組成物の全固形分のうち、顔料が25質量%以上であり、色素構造を有する分散剤と顔料の合計が60質量%以上である、<6>または<7>に記載の着色組成物。
<9>カラーフィルタ用である、<6>〜<8>のいずれかに記載の着色組成物。
<10><6>〜<9>のいずれかに記載の着色組成物を硬化して得られた硬化膜。
<11><6>〜<9>のいずれかに記載の着色組成物を用いてなるカラーフィルタ。
<12><6>〜<9>のいずれかに記載の着色組成物を支持体上に適用して着色組成物層を形成する工程と、着色組成物層をパターン状に露光する工程と、露光した着色組成物層の未露光部を現像除去して着色パターンを形成する工程と、を含むカラーフィルタの製造方法。
<13><6>〜<9>のいずれかに記載の着色組成物を支持体上に適用して着色組成物層を形成し、硬化して着色層を形成する工程、
着色層上にフォトレジスト層を形成する工程、
フォトレジスト層を露光および現像することによりフォトレジスト層をパターニングしてレジストパターンを得る工程、および
レジストパターンをエッチングマスクとして着色層をドライエッチングする工程を含む、カラーフィルタの製造方法。
<14><11>に記載のカラーフィルタ、または、<12>もしくは<13>に記載のカラーフィルタの製造方法によって製造したカラーフィルタを有する固体撮像素子。
<15><11>に記載のカラーフィルタ、または、<12>もしくは<13>に記載のカラーフィルタの製造方法によって製造したカラーフィルタを有する画像表示装置。
<16>色素構造を有する分散剤の存在下で、顔料を分散させる工程を含み、
色素構造を有する分散剤がトリアリールメタン色素、キサンテン色素、シアニン色素およびスクアリリウム色素から選択される色素構造を有し、
色素構造を有する分散剤は、色素構造を同一分子内に2個以上有する色素多量体であり、400nm〜800nmでの最大吸収波長における下記式(Aλ)で表される比吸光度が5以上である、顔料分散液の製造方法;
E=A/(c×l) ・・・(Aλ)
式(Aλ)中、Eは、400nm〜800nmでの最大吸収波長における比吸光度を表し、
Aは、400nm〜800nmでの最大吸収波長における吸光度を表し、
lは、単位がcmで表されるセル長を表し、
cは、単位がmg/mlで表される、溶液中の色素構造を有する分散剤の濃度を表す。<17>下記一般式(1)で表される樹脂、顔料及び溶媒を含有する組成物であって、
樹脂がトリアリールメタン色素、キサンテン色素、シアニン色素およびスクアリリウム色素から選択される色素構造を有し、
樹脂が、400nm〜800nmでの最大吸収波長における下記式(Aλ)で表される比吸光度が5以上である、組成物;
E=A/(c×l) ・・・(Aλ)
式(Aλ)中、Eは、400nm〜800nmでの最大吸収波長における比吸光度を表し、
Aは、400nm〜800nmでの最大吸収波長における吸光度を表し、
lは、単位がcmで表されるセル長を表し、
cは、単位がmg/mlで表される、溶液中の色素構造を有する樹脂の濃度を表す;一般式(1)
(D−R2n−R1−(L1−P)m ・・・(1)
一般式(1)中、R1は、(m+n)価の連結基を表し、
Pは、繰り返し単位を有する1価の置換基を表し、
Dは、色素構造を表し、
2およびL1は、それぞれ独立に、単結合または2価の連結基を表し、
mは、1〜13の整数を表し、
mが1の場合、Pは繰り返し単位を2個以上有する1価の置換基を表し、
mが2以上の場合、複数のPは互いに異なっていても良く、複数のPを構成する繰り返し単位の個数の平均値が2個以上であり、
nは、2〜14の整数を表し、
nが2以上の場合、複数のDは互いに異なっていても良く、
m+nは、2〜15の整数を表す。
<18>下記一般式(A)で表される繰り返し単位を含む樹脂100質量部に対し、顔料を80〜150質量部、及び溶媒を含有する組成物であって、
樹脂がトリアリールメタン色素、キサンテン色素、シアニン色素およびスクアリリウム色素から選択される色素構造を有し、
樹脂が、400nm〜800nmでの最大吸収波長における下記式(Aλ)で表される比吸光度が5以上である、組成物;
E=A/(c×l) ・・・(Aλ)
式(Aλ)中、Eは、400nm〜800nmでの最大吸収波長における比吸光度を表し、
Aは、400nm〜800nmでの最大吸収波長における吸光度を表し、
lは、単位がcmで表されるセル長を表し、
cは、単位がmg/mlで表される、溶液中の色素構造を有する樹脂の濃度を表す;一般式(A)で表される繰り返し単位;
一般式(A)中、X1は重合によって形成される連結基を表し、L1は単結合または2価の連結基を表す。DyeIは色素構造を表す。
As a result of detailed studies, the present inventors have found that the above problems can be solved by using a dispersant having a predetermined dye structure, and have completed the present invention.
Specifically, the above problem has been solved by the following means <1>, <17> or <18>, preferably <2> to <16>.
<1> A pigment dispersion containing a dispersant having a dye structure, a pigment, and a solvent,
The dispersant having a dye structure has a dye structure selected from a triarylmethane dye, a xanthene dye, a cyanine dye and a squarylium dye;
The dispersant having a dye structure is a dye multimer having two or more dye structures in the same molecule, and the specific absorbance represented by the following formula (Aλ) at the maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm is 5 or more. Pigment dispersions;
E = A / (c × l) (Aλ)
In the formula (Aλ), E represents the specific absorbance at the maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm,
A represents the absorbance at the maximum absorption wavelength between 400 nm and 800 nm,
l represents the cell length in units of cm;
c represents the concentration of a dispersant having a dye structure in a solution, the unit of which is expressed in mg / ml. <2> The dye structure of the dispersant having a dye structure contains an anion moiety, and the anion moiety is a sulfonate anion, a carboxylate anion, a tetraarylborate anion, BF 4 , PF 6 , SbF 6 , The pigment dispersion according to <1>, which is at least one selected from the group consisting of a group including the structure represented by (A1) and a group including a structure represented by the following general formula (A2);
General formula (A1)
In general formula (A1), R 1 and R 2 each independently represent —SO 2 — or —CO—.
General formula (A2)
In general formula (A2), R 3 represents —SO 2 — or —CO—; R 4 and R 5 each independently represents —SO 2 —, —CO— or —CN.
<3> The pigment dispersion according to <1> or <2>, wherein the pigment is contained in an amount of 80 to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the dispersant having a dye structure.
<4> The pigment dispersion according to any one of <1> to <3>, wherein the dispersant having a dye structure has a weight average molecular weight of 3,000 to 50,000.
<5> The pigment dispersion according to any one of <1> to <4>, wherein the acid value of the dispersant having a dye structure is 27 mgKOH / g or more and less than 200 mgKOH / g.
<6> A colored composition comprising the pigment dispersion according to any one of <1> to <5> and a curable compound.
<7> The colored composition according to <6>, further containing a photopolymerization initiator.
<8> The pigment according to <6> or <7>, wherein the pigment is 25% by mass or more of the total solid content of the coloring composition, and the total of the dispersant having a dye structure and the pigment is 60% by mass or more. Coloring composition.
<9> The colored composition according to any one of <6> to <8>, which is for a color filter.
<10> A cured film obtained by curing the colored composition according to any one of <6> to <9>.
<11> A color filter using the colored composition according to any one of <6> to <9>.
<12> A step of applying the colored composition according to any one of <6> to <9> on a support to form a colored composition layer, a step of exposing the colored composition layer in a pattern, And a step of developing and removing an unexposed portion of the exposed colored composition layer to form a colored pattern.
<13> A step of applying the colored composition according to any one of <6> to <9> on a support to form a colored composition layer and curing to form a colored layer;
Forming a photoresist layer on the colored layer;
A method for producing a color filter, comprising: a step of patterning a photoresist layer by exposing and developing the photoresist layer to obtain a resist pattern; and a step of dry etching a colored layer using the resist pattern as an etching mask.
<14> A solid-state imaging device having the color filter according to <11> or the color filter manufactured by the method for manufacturing a color filter according to <12> or <13>.
<15> An image display device having the color filter according to <11> or the color filter manufactured by the method for manufacturing a color filter according to <12> or <13>.
<16> including a step of dispersing the pigment in the presence of a dispersant having a dye structure,
The dispersant having a dye structure has a dye structure selected from a triarylmethane dye, a xanthene dye, a cyanine dye and a squarylium dye;
The dispersant having a dye structure is a dye multimer having two or more dye structures in the same molecule, and the specific absorbance represented by the following formula (Aλ) at the maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm is 5 or more. A method for producing a pigment dispersion;
E = A / (c × l) (Aλ)
In the formula (Aλ), E represents the specific absorbance at the maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm,
A represents the absorbance at the maximum absorption wavelength between 400 nm and 800 nm,
l represents the cell length in units of cm;
c represents the concentration of a dispersant having a dye structure in a solution, the unit of which is expressed in mg / ml. <17> A composition comprising a resin represented by the following general formula (1), a pigment and a solvent,
The resin has a dye structure selected from triarylmethane dyes, xanthene dyes, cyanine dyes and squarylium dyes;
A composition in which the resin has a specific absorbance of 5 or more represented by the following formula (Aλ) at a maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm;
E = A / (c × l) (Aλ)
In the formula (Aλ), E represents the specific absorbance at the maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm,
A represents the absorbance at the maximum absorption wavelength between 400 nm and 800 nm,
l represents the cell length in units of cm;
c represents the concentration of the resin having the dye structure in the solution, expressed in mg / ml; the general formula (1)
(D-R 2) n -R 1 - (L 1 -P) m ··· (1)
In general formula (1), R 1 represents a (m + n) -valent linking group,
P represents a monovalent substituent having a repeating unit;
D represents the dye structure;
R 2 and L 1 each independently represents a single bond or a divalent linking group,
m represents an integer of 1 to 13,
when m is 1, P represents a monovalent substituent having two or more repeating units;
When m is 2 or more, the plurality of Ps may be different from each other, the average value of the number of repeating units constituting the plurality of Ps is 2 or more,
n represents an integer of 2 to 14,
when n is 2 or more, the plurality of D may be different from each other;
m + n represents an integer of 2 to 15.
<18> A composition containing 80 to 150 parts by mass of a pigment and a solvent with respect to 100 parts by mass of a resin including a repeating unit represented by the following general formula (A)
The resin has a dye structure selected from triarylmethane dyes, xanthene dyes, cyanine dyes and squarylium dyes;
A composition in which the resin has a specific absorbance of 5 or more represented by the following formula (Aλ) at a maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm;
E = A / (c × l) (Aλ)
In the formula (Aλ), E represents the specific absorbance at the maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm,
A represents the absorbance at the maximum absorption wavelength between 400 nm and 800 nm,
l represents the cell length in units of cm;
c represents the concentration of the resin having a dye structure in the solution, the unit of which is expressed in mg / ml; the repeating unit represented by the general formula (A);
In general formula (A), X 1 represents a linking group formed by polymerization, and L 1 represents a single bond or a divalent linking group. DyeI represents a dye structure.

本発明によれば、耐色抜け性の高いカラーフィルタ等を提供するための顔料分散液、上記顔料分散液を用いた着色組成物を提供可能になった。また、顔料分散液の製造方法、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置および組成物を提供可能になった。   According to the present invention, it is possible to provide a pigment dispersion for providing a color filter having high color loss resistance, and a coloring composition using the pigment dispersion. In addition, it is possible to provide a method for producing a pigment dispersion, a cured film, a color filter, a method for producing a color filter, a solid-state imaging device, an image display device, and a composition.

以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
本明細書における基(原子団)の表記に於いて、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基(原子団)と共に置換基を有する基(原子団)をも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail.
In the notation of a group (atomic group) in this specification, the notation which does not describe substitution and non-substitution includes a group (atomic group) having a substituent as well as a group (atomic group) having no substituent. To do. For example, the “alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).

本明細書中における「活性光線」または「放射線」とは、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線(EUV(Extreme ultraviolet)光)、X線、電子線等を意味する。また、本発明において光とは、活性光線または放射線を意味する。本明細書中における「露光」とは、特に断らない限り、水銀灯、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、X線、EUV光などによる露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線による描画も露光に含める。   As used herein, “active light” or “radiation” refers to, for example, the emission line spectrum of a mercury lamp, far ultraviolet rays represented by excimer lasers, extreme ultraviolet rays (EUV (Extreme ultraviolet) light), X-rays, electron beams, and the like. means. In the present invention, light means actinic rays or radiation. Unless otherwise specified, “exposure” in this specification is not only exposure with far-ultraviolet rays such as mercury lamps and excimer lasers, X-rays, EUV light, but also drawing with particle beams such as electron beams and ion beams. Are also included in the exposure.

本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本明細書において、全固形分とは、着色組成物の全組成から溶剤を除いた成分の総質量をいう。本発明における固形分および濃度は、25℃におけるものをいう。
In the present specification, a numerical range expressed using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
In this specification, the total solid content refers to the total mass of components excluding the solvent from the total composition of the colored composition. The solid content and concentration in the present invention refer to those at 25 ° C.

本明細書において、“(メタ)アクリレート”はアクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、“(メタ)アクリル”はアクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、“(メタ)アクリロイル”はアクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。   In this specification, “(meth) acrylate” represents both and / or acrylate and methacrylate, “(meth) acryl” represents both and / or acryl, and “(meth) acryloyl” "" Represents both and / or acryloyl and methacryloyl.

本明細書において、“単量体”と“モノマー”とは同義である。本明細書における単量体は、オリゴマーおよびポリマーと区別され、重量平均分子量が2,000以下の化合物をいう。本明細書において、重合性化合物とは、重合性官能基を有する化合物のことをいい、単量体であっても、ポリマーであってもよい。重合性官能基とは、重合反応に関与する基を言う。   In the present specification, “monomer” and “monomer” are synonymous. The monomer in this specification is distinguished from an oligomer and a polymer, and refers to a compound having a weight average molecular weight of 2,000 or less. In the present specification, the polymerizable compound means a compound having a polymerizable functional group, and may be a monomer or a polymer. The polymerizable functional group refers to a group that participates in a polymerization reaction.

本明細書において、化学式中のMeはメチル基を、Etはエチル基を、Prはプロピル基を、Buはブチル基を、Phはフェニル基をそれぞれ示す。   In the present specification, Me in the chemical formula represents a methyl group, Et represents an ethyl group, Pr represents a propyl group, Bu represents a butyl group, and Ph represents a phenyl group.

本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。   In this specification, the term “process” is not limited to an independent process, and is included in the term if the intended action of the process is achieved even when it cannot be clearly distinguished from other processes. .

本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、GPC(Gel Permeation Chromatography)測定によるポリスチレン換算値として定義される。本明細書において、重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、例えば、HLC−8220(東ソー製)を用い、カラムとしてTSKgel Super AWM−H(東ソー製、6.0mmID×15.0cm)を、溶離液として10mmol/L リチウムブロミドNMP(N−メチルピロリジノン)溶液を用いることによって求めることができる。   In this specification, a weight average molecular weight and a number average molecular weight are defined as a polystyrene conversion value by GPC (Gel Permeation Chromatography) measurement. In this specification, the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) are, for example, HLC-8220 (manufactured by Tosoh Corporation) and TSKgel Super AWM-H (manufactured by Tosoh Corporation, 6.0 mm ID × 15.0 cm) as a column. ) Can be determined by using a 10 mmol / L lithium bromide NMP (N-methylpyrrolidinone) solution as the eluent.

<顔料分散液>
本発明の顔料分散液は、色素構造を有する分散剤、顔料、及び溶媒を含有する顔料分散液であって、色素構造を有する分散剤がトリアリールメタン色素、キサンテン色素、シアニン色素およびスクアリリウム色素から選択される色素構造を有し、色素構造を有する分散剤は、色素構造を同一分子内に2個以上有する色素多量体であり、400nm〜800nmでの最大吸収波長における下記式(Aλ)で表される比吸光度が5以上である。
E=A/(c×l) ・・・(Aλ)
式(Aλ)中、Eは、400nm〜800nmでの最大吸収波長における比吸光度を表し、
Aは、400nm〜800nmでの最大吸収波長における吸光度を表し、
lは、単位がcmで表されるセル長を表し、
cは、単位がmg/mlで表される、溶液中の色素構造を有する分散剤の濃度を表す。
ここで、セル長とは、吸光度を測定する際に用いるセルの長さをいう。
本発明における「色素構造を有する分散剤」とは、色素構造を同一分子内に2個以上有する色素多量体のことである。色素多量体が分散剤として有効な理由は定かではないが、色素多量体の2個以上の色素構造部位が顔料に吸着することで、顔料分散プロセスにおいて分散進行を助けていると考えられる。
色素構造を有する分散剤が、同一分子内に有する色素構造の数は、2個以上であり、2〜100個が好ましく、2〜50個がより好ましく、2〜20個がさらに好ましい。
<Pigment dispersion>
The pigment dispersion of the present invention is a pigment dispersion containing a dispersant having a dye structure, a pigment, and a solvent, and the dispersant having a dye structure is composed of a triarylmethane dye, a xanthene dye, a cyanine dye, and a squarylium dye. The dispersant having the selected dye structure and having the dye structure is a dye multimer having two or more dye structures in the same molecule, and is represented by the following formula (Aλ) at the maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm. Specific absorbance is 5 or more.
E = A / (c × l) (Aλ)
In the formula (Aλ), E represents the specific absorbance at the maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm,
A represents the absorbance at the maximum absorption wavelength between 400 nm and 800 nm,
l represents the cell length in units of cm;
c represents the concentration of a dispersant having a dye structure in a solution, the unit of which is expressed in mg / ml.
Here, the cell length refers to the length of the cell used when measuring the absorbance.
The “dispersant having a dye structure” in the present invention is a dye multimer having two or more dye structures in the same molecule. The reason why the dye multimer is effective as a dispersant is not clear, but it is considered that two or more dye structure sites of the dye multimer are adsorbed to the pigment, thereby helping the dispersion progress in the pigment dispersion process.
The dispersant having a dye structure has two or more dye structures in the same molecule, preferably 2 to 100, more preferably 2 to 50, and still more preferably 2 to 20.

上記構成とすることにより、色抜けを抑制できる。このような効果が得られる理由については、未だ明確ではないが、上記分散剤を顔料と併用することにより、分散剤の色素部位に顔料が吸着しやすくなり、色抜け性を抑制できる。
また、上記分散剤と顔料をより多く含有させることが可能になり、硬化膜としたときの耐光性をより向上させることができる。
さらに、上記構成とすることにより、着色組成物としたときの現像残渣をより抑制でき、色むら(ザラ)をより抑制することができる。
By adopting the above configuration, color loss can be suppressed. The reason why such an effect is obtained is not yet clear, but by using the above dispersant in combination with the pigment, the pigment is easily adsorbed on the dye portion of the dispersant, and color loss can be suppressed.
Moreover, it becomes possible to contain more said dispersing agent and a pigment, and the light resistance when it is set as a cured film can be improved more.
Furthermore, by setting it as the said structure, the image development residue when it is set as a coloring composition can be suppressed more, and color nonuniformity (zara) can be suppressed more.

<<色素構造を有する分散剤>>
<<<色素構造>>>
色素構造を有する分散剤は、トリアリールメタン色素、キサンテン色素、シアニン色素およびスクアリリウム色素から選択される色素構造を有する。
これらの色素構造の中でも、トリアリールメタン色素およびキサンテン色素が更に好ましい。
以下、本発明で好ましく用いられる色素構造について具体的に説明する。
<< Dispersant having a dye structure >>
<<< Dye structure >>>
The dispersant having a dye structure has a dye structure selected from triarylmethane dyes, xanthene dyes, cyanine dyes and squarylium dyes.
Of these dye structures, triarylmethane dyes and xanthene dyes are more preferable.
Hereinafter, the dye structure preferably used in the present invention will be described in detail.

<<<<トリアリールメタン色素>>>>
色素構造の態様の一つは、トリアリールメタン色素に由来する部分構造を有するものである。トリアリールメタン色素としては、下記式(TP)で表される構造が例示される。
<<<<< Triarylmethane Dye >>>>
One embodiment of the dye structure is one having a partial structure derived from a triarylmethane dye. Examples of the triarylmethane dye include a structure represented by the following formula (TP).

式(TP)
Formula (TP)

式(TP)中、Rtp1〜Rtp4は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Rtp5は、水素原子、アルキル基、アリール基またはNRtp9Rtp10(Rtp9およびRtp10は水素原子、アルキル基またはアリール基を表す)を表す。Rtp6、Rtp7およびRtp8は、置換基を表す。a、bおよびcは、0〜4の整数を表す。a、bおよびcが2以上の場合、Rtp6、Rtp7およびRtp8は、それぞれ連結して環を形成してもよい。X-はアニオン構造を表す。X-が存在しない場合は、Rtp1〜Rtp7の少なくとも1つがアニオンを含む。
式(TP)中、Rtp1〜Rtp10のいずれか1つを介して、分散剤の他の部位(好ましくは、後述する一般式(1)のR2または一般式(A)のL1)と結合していることが好ましく、より好ましくは、Rtp5を介して、分散剤の他の部位と結合している。
In the formula (TP), Rtp 1 to Rtp 4 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. Rtp 5 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or NRtp 9 Rtp 10 (Rtp 9 and Rtp 10 represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group). Rtp 6 , Rtp 7 and Rtp 8 represent a substituent. a, b, and c represent an integer of 0-4. When a, b and c are 2 or more, Rtp 6 , Rtp 7 and Rtp 8 may be linked to each other to form a ring. X represents an anion structure. When X is not present, at least one of Rtp 1 to Rtp 7 contains an anion.
In the formula (TP), via RTP 1 to Rtp 10 , another part of the dispersant (preferably R 2 in the general formula (1) or L 1 in the general formula (A) described later) It is preferable that it binds to other part of the dispersant via Rtp 5 .

Rtp1〜Rtp6として、水素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基およびフェニル基が好ましい。Rtp5は、水素原子またはNRtp9Rtp10が好ましく、NRtp9Rtp10が特に好ましい。Rtp9およびRtp10は、水素原子、炭素数1〜5の直鎖若しくは分岐のアルキル基またはフェニル基が好ましい。Rtp6、Rtp7およびRtp8が表す置換基は、後述する置換基群Aの項で挙げた置換基を用いることができるが、特に、炭素数1〜5の直鎖若しくは分岐のアルキル基、炭素数1〜5のアルケニル基、炭素数6〜15のアリール基、カルボキシル基またはスルホ基が好ましく、炭素数1〜5の直鎖若しくは分岐のアルキル基、炭素数1〜5のアルケニル基、フェニル基またはカルボキシル基がさらに好ましい。特に、Rtp6、Rtp8は、炭素数1〜5のアルキル基が好ましく、Rtp7は、アルケニル基(特に隣接した2つのアルケニル基が連結したフェニル基が好ましい)、フェニル基またはカルボキシル基が好ましい。
a、bまたはcは、それぞれ独立に0〜4の整数を表す。特にaおよびcは、それぞれ、0または1が好ましく、0がより好ましい。bは0〜2の整数が好ましく、0または2がより好ましい。
Rtp 1 to Rtp 6 are preferably a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and a phenyl group. Rtp 5 is preferably a hydrogen atom or NRtp 9 Rtp 10 , particularly preferably NRtp 9 Rtp 10 . Rtp 9 and Rtp 10 are preferably a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group. As the substituent represented by Rtp 6 , Rtp 7 and Rtp 8 , the substituents mentioned in the section of Substituent Group A described later can be used, and in particular, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, A C1-C5 alkenyl group, a C6-C15 aryl group, a carboxyl group, or a sulfo group is preferable, a C1-C5 linear or branched alkyl group, a C1-C5 alkenyl group, phenyl A group or a carboxyl group is more preferable. In particular, Rtp 6 and Rtp 8 are preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and Rtp 7 is preferably an alkenyl group (especially a phenyl group in which two adjacent alkenyl groups are linked), a phenyl group or a carboxyl group. .
a, b or c each independently represents an integer of 0 to 4; In particular, a and c are each preferably 0 or 1, more preferably 0. b is preferably an integer of 0 to 2, and more preferably 0 or 2.

下記に式(TP)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。下記具体例において、X-はアニオンを表す。
Specific examples of the compound represented by the formula (TP) are shown below, but the present invention is not limited thereto. In the following specific examples, X represents an anion.

<<<<キサンテン色素>>>>
キサンテン色素としては、下記式(J)で表されるキサンテン化合物に由来する部分構造を、色素構造として有するものが例示される。
<<<<< Xanthene Dye >>>>
As the xanthene dye, those having a partial structure derived from a xanthene compound represented by the following formula (J) as the dye structure are exemplified.

式(J)中、R81、R82、R83およびR84は、各々独立に、水素原子または1価の置換基を表し、R85は、各々独立に1価の置換基を表し、mは、0〜5の整数を表す。X-は、アニオン部位を表す。X-が存在しない場合は、R81〜R85の少なくとも1つがアニオンを含む。式(J)中、R81、R82、R83およびR84のいずれか1つを介して、分散剤の他の部位(好ましくは、後述する一般式(1)のR2または一般式(A)のL1)と結合していることが好ましく、より好ましくは、R85を介して、分散剤の他の部位と結合している。In formula (J), R 81 , R 82 , R 83 and R 84 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent, R 85 each independently represents a monovalent substituent, m Represents an integer of 0 to 5. X represents an anion site. When X is not present, at least one of R 81 to R 85 contains an anion. In the formula (J), through one of R 81 , R 82 , R 83 and R 84 , another part of the dispersant (preferably R 2 of the general formula (1) described later or the general formula ( It is preferably bonded to L 1 ) of A), and more preferably bonded to another part of the dispersant via R 85 .

式(J)におけるR81〜R85が取りうる置換基は、後述する置換基群Aの項で挙げた置換基と同様である。The substituents that can be taken by R 81 to R 85 in Formula (J) are the same as the substituents mentioned in the section of Substituent Group A described later.

式(J)中のR81とR82、R83とR84、およびmが2以上の場合のR85同士は、各々独立に、互いに結合して5員、6員若しくは7員の飽和環、または5員、6員若しくは7員の不飽和環を形成していてもよい。形成される5員、6員または7員の環が、さらに置換可能な基である場合には、R81〜R85で説明した置換基で置換されていてもよく、2個以上の置換基で置換されている場合には、それらの置換基は同一であっても異なっていてもよい。
上記式(J)中のR81とR82、R83とR84、およびmが2以上の場合のR85同士は、各々独立に、互いに結合して、置換基を有しない5員、6員並びに7員の飽和環または5員、6員並びに7員の不飽和環を形成する場合、置換基を有しない5員、6員並びに7員の飽和環または5員、6員並びに7員の不飽和環としては、例えば、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピロリジン環、ピペリジン環、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、ベンゼン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環が挙げられ、好ましくは、ベンゼン環、ピリジン環が挙げられる。
R 81 and R 82 in formula (J), R 83 and R 84 , and R 85 in the case where m is 2 or more are each independently bonded to each other to form a 5-membered, 6-membered or 7-membered saturated ring. Or a 5-membered, 6-membered or 7-membered unsaturated ring. 5-membered to be formed, ring 6- or 7 members, in the case of further substitutable groups may be substituted with substituents described in R 81 to R 85, 2 or more substituents In the case where the substituent is substituted, the substituents may be the same or different.
In the above formula (J), R 81 and R 82 , R 83 and R 84 , and R 85 in the case where m is 2 or more are each independently bonded to each other, and have no substituent. 5-membered and 7-membered saturated ring or 5-membered, 6-membered and 7-membered unsaturated ring, when forming 5-membered, 7-membered saturated ring or 5-membered, 6-membered and 7-membered Examples of the unsaturated ring include pyrrole ring, furan ring, thiophene ring, pyrazole ring, imidazole ring, triazole ring, oxazole ring, thiazole ring, pyrrolidine ring, piperidine ring, cyclopentene ring, cyclohexene ring, benzene ring and pyridine ring. , A pyrazine ring and a pyridazine ring, preferably a benzene ring and a pyridine ring.

特に、R82およびR83は水素原子または置換または無置換のアルキル基であり、R81およびR84は置換または無置換のアルキル基またはフェニル基であることが好ましい。また、R85はハロゲン原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、スルホ基、スルホンアミド基、カルボキシル基、アミド基であることが好ましく、スルホ基、スルホンアミド基、カルボキシル基、アミド基であることがさらに好ましい。R85はキサンテン環と連結した炭素の隣接部に結合することが好ましい。R81およびR84のフェニル基が有する置換基は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、スルホ基、スルホンアミド基、カルボキシル基であることが特に好ましい。In particular, R 82 and R 83 are preferably a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, and R 81 and R 84 are preferably a substituted or unsubstituted alkyl group or a phenyl group. R 85 is preferably a halogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a sulfo group, a sulfonamide group, a carboxyl group or an amide group, and a sulfo group, a sulfonamide group, a carboxyl group, More preferred is an amide group. R 85 is preferably bonded to the adjacent part of carbon linked to the xanthene ring. The substituent that the phenyl group of R 81 and R 84 has is particularly preferably a hydrogen atom, a halogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a sulfo group, a sulfonamide group, or a carboxyl group.

式(J)で表されるキサンテン骨格を有する化合物は、文献記載の方法で合成することができる。具体的には、テトラへドロン レターズ、2003年、vol.44,No.23、4355〜4360頁、テトラへドロン、2005年、vol.61,No.12、3097〜3106頁などに記載の方法を適用することができる。   The compound having a xanthene skeleton represented by the formula (J) can be synthesized by a method described in the literature. Specifically, the methods described in Tetrahedron Letters, 2003, vol. 44, No. 23, pages 4355-4360, Tetrahedron, 2005, vol. 61, No. 12, pages 3097-3106, etc. Can be applied.

-が、アニオンを表す場合、後述のアニオン部位が別分子の場合の記載を参酌できる。また、X-が存在せず、R81、R82、R83およびR84の少なくとも1つがアニオンを含む場合、アニオン部位が同一繰り返し単位内にある場合の記載を参酌できる。When X represents an anion, the description in the case where the anion site described later is a different molecule can be considered. In addition, when X is not present and at least one of R 81 , R 82 , R 83 and R 84 contains an anion, the description of the case where the anion portion is in the same repeating unit can be referred to.

以下、式(J)で表される化合物の具体的な態様(第1の態様、第2の態様)について説明する。
(式(J)で表される化合物の第1の態様)
式(J)で表される化合物は、R81およびR83の一方が下記一般式(2)で表される基であり、R81およびR83の他方が水素原子、下記一般式(2)で表される基または一般式(2)で表される基以外のアリール基、アルキル基を表してもよい。また、R82およびR84は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、または、アリール基を表してもよい。
一般式(2)

一般式(2)中、R1およびR2は、それぞれ独立に、炭素数3以上のアルキル基、アリール基、または、ヘテロ環基を表し、X1〜X3は、それぞれ独立に、水素原子または1価の置換基を表す。一般式(1)で表される色素化合物は、分子内および/または分子外にアニオン部位を有する。
Hereinafter, specific modes (first mode and second mode) of the compound represented by formula (J) will be described.
(First embodiment of compound represented by formula (J))
In the compound represented by the formula (J), one of R 81 and R 83 is a group represented by the following general formula (2), the other of R 81 and R 83 is a hydrogen atom, and the following general formula (2) Or an aryl group other than the group represented by the general formula (2) or an alkyl group. R 82 and R 84 may each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group.
General formula (2)

In General Formula (2), R 1 and R 2 each independently represents an alkyl group having 3 or more carbon atoms, an aryl group, or a heterocyclic group, and X 1 to X 3 each independently represent a hydrogen atom. Alternatively, it represents a monovalent substituent. The dye compound represented by the general formula (1) has an anion site inside and / or outside the molecule.

一般式(1)中、R81およびR83の一方は、一般式(2)で表される基であり、R81およびR83の他方は、水素原子、下記一般式(2)で表される基または一般式(2)で表される基以外のアリール基、アルキル基を表し、一般式(2)で表される基または一般式(2)で表される基以外のアリール基であってもよい。また、R81およびR83の両方が一般式(2)で表される基であってもよい。R81およびR83の両方が一般式(2)で表される基である場合、2つの一般式(2)で表される基は同一であっても異なっていても良い。In general formula (1), one of R 81 and R 83 is a group represented by general formula (2), and the other of R 81 and R 83 is a hydrogen atom, represented by the following general formula (2). An aryl group other than the group represented by formula (2) or an alkyl group, and an aryl group other than the group represented by formula (2) or the group represented by formula (2). May be. Further, both of R 81 and R 83 may be a group represented by the general formula (2). When both R 81 and R 83 are groups represented by the general formula (2), the groups represented by the two general formulas (2) may be the same or different.

一般式(2)中、R1およびR2は、それぞれ独立に、炭素数3以上のアルキル基、アリール基、または、ヘテロ環基を表し、炭素数3〜12の2級または3級アルキル基であってもよく、イソプロピル基であってもよい。
炭素数3以上のアルキル基としては、具体的には、直鎖、分岐鎖、又は環状いずれでも良く、炭素数3〜24であってもよく、炭素数3〜18であってもよく、炭素数3〜12であってもよい。具体的には、例えば、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基(例えばt−ブチル基)、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、1−ノルボルニル基、1−アダマンチル基が挙げられ、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ドデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基であってもよく、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基(t−ブチル基)、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基であってもよく、イソプロピル基、t−ブチル基、2−エチルヘキシル基であってもよい。
アリール基としては置換もしくは無置換のアリール基が含まれる。置換もしくは無置換のアリール基としては、炭素数6〜30のアリール基であってもよく、例えば、フェニル基、ナフチル基が挙げられる。置換基の例としては、後述する置換基群Aと同じである。
ヘテロ環基のヘテロ環としては、5員又は6員環であってもよく、それらは更に縮環していてもよいし、縮環していなくてもよい。また、芳香族ヘテロ環であっても非芳香族ヘテロ環であっても良い。例えば、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、キノリン環、イソキノリン環、キナゾリン環、シンノリン環、フタラジン環、キノキサリン環、ピロール環、インドール環、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、ベンズイミダゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、ベンズオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イソチアゾール環、ベンズイソチアゾール環、チアジアゾール環、イソオキサゾール環、ベンズイソオキサゾール環、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、イミダゾリジン環、チアゾリン環などが挙げられる。中では芳香族ヘテロ環であってもよく、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピラゾール環、イミダゾール環、ベンズイミダゾール環、トリアゾール環、ベンズオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イソチアゾール環、ベンズイソチアゾール環、チアジアゾール環が挙げられ、ピラゾール環、イミダゾール環、ベンズオキサゾール環、チアジアゾール環であってもよく、ピラゾール環、チアジアゾール環(1,3,4−チアジアゾール環、1,2,4−チアジアゾール環)であってもよい。それらは置換基を有していても良く、置換基の例としては、後述するアリール基の置換基と同じである。
1およびR2は、炭素数3以上のアルキル基であってもよく、炭素数3〜12のアルキル基であってもよい。
In general formula (2), R 1 and R 2 each independently represents an alkyl group having 3 or more carbon atoms, an aryl group, or a heterocyclic group, and a secondary or tertiary alkyl group having 3 to 12 carbon atoms. Or an isopropyl group.
Specifically, the alkyl group having 3 or more carbon atoms may be linear, branched or cyclic, may have 3 to 24 carbon atoms, may have 3 to 18 carbon atoms, The number 3-12 may be sufficient. Specifically, for example, propyl group, isopropyl group, butyl group (for example, t-butyl group), pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, 2-ethylhexyl group, dodecyl group, hexadecyl group, cyclopropyl group, And cyclopentyl group, cyclohexyl group, 1-norbornyl group, 1-adamantyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, t-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, 2-ethylhexyl group, It may be a dodecyl group, a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group (t-butyl group), a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, or a 2-ethylhexyl group. Isopropyl group, t-butyl group, 2-ethylhexene It may be a le group.
The aryl group includes a substituted or unsubstituted aryl group. The substituted or unsubstituted aryl group may be an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the substituent are the same as those of the substituent group A described later.
The heterocycle of the heterocycle group may be a 5-membered or 6-membered ring, and they may be further condensed or not condensed. Further, it may be an aromatic heterocycle or a non-aromatic heterocycle. For example, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, quinazoline ring, cinnoline ring, phthalazine ring, quinoxaline ring, pyrrole ring, indole ring, furan ring, benzofuran ring, thiophene ring, benzothiophene ring, pyrazole ring , Imidazole ring, benzimidazole ring, triazole ring, oxazole ring, benzoxazole ring, thiazole ring, benzothiazole ring, isothiazole ring, benzisothiazole ring, thiadiazole ring, isoxazole ring, benzisoxazole ring, pyrrolidine ring, piperidine Ring, piperazine ring, imidazolidine ring, thiazoline ring and the like. Among them, it may be an aromatic heterocycle, such as a pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine ring, pyrazole ring, imidazole ring, benzimidazole ring, triazole ring, benzoxazole ring, thiazole ring, benzothiazole ring, isothiazole ring, benzine. Examples include isothiazole ring and thiadiazole ring, and may be pyrazole ring, imidazole ring, benzoxazole ring, thiadiazole ring, pyrazole ring, thiadiazole ring (1,3,4-thiadiazole ring, 1,2,4-thiadiazole) Ring). They may have a substituent, and examples of the substituent are the same as those of the aryl group described later.
R 1 and R 2 may be an alkyl group having 3 or more carbon atoms, or an alkyl group having 3 to 12 carbon atoms.

一般式(2)中、X1〜X3は、それぞれ独立に、水素原子または1価の置換基を表す。置換基としては、後述する置換基群Aが例示される。X1〜X3は、ハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、スルホンアミド基、スルファモイル基であってもよい。In General Formula (2), X 1 to X 3 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent. Examples of the substituent include the substituent group A described later. X 1 to X 3 may be a halogen atom, an alkyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, an acyl group, an acyloxy group, an alkylthio group, a sulfonamide group, or a sulfamoyl group.

一般式(2)で表される基以外のアリール基としては、フェニル基が挙げられる。フェニル基は置換基を有していても良いし、有していなくても良い。置換基としては、後述する置換基群Aが例示され、アルキル基またはアリール基であってもよい。   A phenyl group is mentioned as aryl groups other than the group represented by General formula (2). The phenyl group may or may not have a substituent. Examples of the substituent include substituent group A described later, and may be an alkyl group or an aryl group.

82およびR84は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、または、アリール基を表し、アルキル基およびアリール基は置換基を有していても良いし、有していなくても良い。
置換又は無置換のアルキル基は、炭素原子数が1〜30のアルキル基であってもよい。置換基の例としては、後述する置換基群Aと同じものが挙げられる。アルキル基の例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基(t−ブチル基)、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基を挙げることができる。
置換もしくは無置換のアリール基としては、炭素数6〜30のアリール基であってもよく、例えば、フェニル基、ナフチル基が挙げられる。置換基の例としては、後述する置換基群Aと同じである。
82およびR84は、水素原子またはアルキル基であってもよく、水素原子であってもよい。
R 82 and R 84 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and the alkyl group and the aryl group may or may not have a substituent.
The substituted or unsubstituted alkyl group may be an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms. As an example of a substituent, the same thing as the substituent group A mentioned later is mentioned. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group (t-butyl group), an n-octyl group, and a 2-ethylhexyl group.
The substituted or unsubstituted aryl group may be an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group. Examples of the substituent are the same as those of the substituent group A described later.
R 82 and R 84 may be a hydrogen atom or an alkyl group, and may be a hydrogen atom.

(式(J)で表される化合物の第2の態様)
式(J)で表される化合物は、R81およびR83がそれぞれ独立に、脂肪族炭化水素基であり、R82およびR84がそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基であってもよい。
(Second embodiment of compound represented by formula (J))
In the compound represented by the formula (J), R 81 and R 83 may each independently be an aliphatic hydrocarbon group, and R 82 and R 84 may each independently be an aromatic hydrocarbon group.

81およびR83はそれぞれ独立に、脂肪族炭化水素基が挙げられ、炭素数1〜10のアルキル基であってもよく、炭素数1〜5のアルキル基であってもよく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基であってもよく、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基であってもよい。R81およびR83は異なっていても良いが、同一であってもよい。R81およびR83としてのアルキル基は置換基を有していても良いが、置換基を有していなくてもよい。
82およびR84はそれぞれ独立に芳香族炭化水素基であり、フェニル基であってもよい。R82およびR84としての芳香族炭化水素基は、置換基を有していても良く、後述する置換基群Aから選択され、炭素数1〜5のアルキル基であってもよく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基であってもよく、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基であってもよい。
81およびR83ならびにR82およびR84の少なくとも1つが、下記一般式(A1−1−2)で表されてもよい。
一般式(A1−1−2)

一般式(A1−1−2)において、R23〜R25は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、炭素数1〜12のアルキル基、カルボニル基、カルボニルアミド基、スルホニル基、スルホニルアミド基、ニトロ基、アミノ基、アミノカルボニル基、アミノスルホニル基、スルホニルイミド基またはカルボニルイミド基を表し、R22およびR26は、それぞれ独立に炭素数1〜5のアルキル基を表す。
一般式(A1−1−2)において、R23〜R25は、水素原子またはハロゲン原子であってもよい。
一般式(A1−1−2)において、R22およびR26は、それぞれ独立に炭素数1〜5のアルキル基であってもよい。炭素数1〜5のアルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基であってもよく、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基であってもよい。
85はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボニル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、または、スルホニル基であってもよい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が例示され、フッ素原子または塩素原子であってもよい。脂肪族炭化水素基は、炭素数1〜10の脂肪族炭化水素基であってもよい。また、脂肪族炭化水素基は、アルキル基、アルケニル基が例示され、アルキル基であってもよい。芳香族炭化水素基は、アリール基であってもよく、フェニル基であってもよい。
R 81 and R 83 each independently include an aliphatic hydrocarbon group, which may be an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a methyl group, It may be an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, and may be a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, or an n-butyl group. R 81 and R 83 may be different, but may be the same. The alkyl group as R 81 and R 83 may have a substituent, but may not have a substituent.
R 82 and R 84 are each independently an aromatic hydrocarbon group, and may be a phenyl group. The aromatic hydrocarbon group as R 82 and R 84 may have a substituent, may be selected from the substituent group A described later, and may be an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. , An ethyl group, a propyl group or a butyl group, or a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group or an n-butyl group.
At least one of R 81 and R 83 and R 82 and R 84 may be represented by the following general formula (A1-1-2).
General formula (A1-1-2)

In general formula (A1-1-2), R 23 to R 25 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a carbonyl group, a carbonylamide group, or a sulfonyl group. Represents a group, a sulfonylamide group, a nitro group, an amino group, an aminocarbonyl group, an aminosulfonyl group, a sulfonylimide group or a carbonylimide group, and R 22 and R 26 each independently represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. .
In General Formula (A1-1-2), R 23 to R 25 may be a hydrogen atom or a halogen atom.
In General Formula (A1-1-2), R 22 and R 26 may each independently be an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. The alkyl group having 1 to 5 carbon atoms may be a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, or a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an iso-propyl group, or an n-butyl group. Also good.
Each R 85 may independently be a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a carbonyl group, a nitro group, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, or a sulfonyl group. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom, and may be a fluorine atom or a chlorine atom. The aliphatic hydrocarbon group may be an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. The aliphatic hydrocarbon group is exemplified by an alkyl group and an alkenyl group, and may be an alkyl group. The aromatic hydrocarbon group may be an aryl group or a phenyl group.

以下にキサンテン化合物の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。下記具体例において、Xは、アニオンを表す。また、色素構造中のいずれかの水素原子が、ポリマー骨格と結合する。
また、色素構造中、カチオンは、非局在化しているため、例えば以下に示すように、窒素原子またはキサンテン環の炭素原子上に存在してする。
Specific examples of xanthene compounds are shown below, but the present invention is not limited thereto. In the following specific examples, X represents an anion. Also, any hydrogen atom in the dye structure is bonded to the polymer backbone.
Further, since the cation is delocalized in the dye structure, for example, as shown below, the cation exists on a nitrogen atom or a carbon atom of the xanthene ring.

<<<<シアニン色素>>>>
シアニン色素は、下記一般式(PM)で表される化合物(シアニン化合物)に由来する部分構造が好ましい。本発明においてシアニン化合物とは、分子内にシアニン骨格を含む色素部位を有する化合物を総称するものである。
<<<<< Cyanine Dye >>>>
The cyanine dye preferably has a partial structure derived from a compound (cyanine compound) represented by the following general formula (PM). In the present invention, the cyanine compound is a general term for compounds having a dye moiety containing a cyanine skeleton in the molecule.

一般式(PM)中、環Z1及び環Z2は、それぞれ独立に置換基を有してもよい複素環を表す。lは0以上3以下の整数を表す。X-はアニオンを表す。
一般式(PM)の好ましい範囲としては、例えば、特開2013−29760号公報の段落0077〜0084を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。特に、Z1、Z2は、それぞれ独立に、置換基を有する含窒素複素環が好ましく、置換基を有する含窒素縮合複素環がより好ましく、置換基を有するインドール環がより好ましい。lは1が好ましい。
なお、特開2013−29760号公報の段落0077〜0084に記載のシアニン色素の具体例において、シアニン色素構造中のいずれかの水素原子を介して、分散剤の他の部位(好ましくは、後述する一般式(1)のR2または一般式(A)のL1)と結合していることが好ましく、より好ましくは、Z1またはZ2を介して、分散剤の他の部位と結合している。
以下にシアニン色素の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
In general formula (PM), ring Z1 and ring Z2 each independently represent a heterocyclic ring which may have a substituent. l represents an integer of 0 or more and 3 or less. X represents an anion.
As a preferable range of the general formula (PM), for example, paragraphs 0077 to 0084 of JP 2013-29760 A can be referred to, the contents of which are incorporated herein. In particular, Z1 and Z2 are each independently preferably a nitrogen-containing heterocyclic ring having a substituent, more preferably a nitrogen-containing condensed heterocyclic ring having a substituent, and more preferably an indole ring having a substituent. l is preferably 1.
In the specific examples of the cyanine dyes described in paragraphs 0077 to 0084 of JP 2013-29760 A, other sites of the dispersant (preferably described later) via any hydrogen atom in the cyanine dye structure. It is preferably bonded to R 2 of the general formula (1) or L 1 of the general formula (A), and more preferably bonded to another part of the dispersant via Z 1 or Z 2.
Specific examples of the cyanine dye are shown below, but the present invention is not limited thereto.

<<<<スクアリリウム色素>>>>
スクアリリウム色素としては、下記一般式(K)で表される化合物(スクアリリウム化合物)に由来する部分構造が好ましい。本発明においてスクアリリウム化合物とは、分子内にスクアリリウム骨格を含む色素部位を有する化合物を総称するものである。
<<<<< Squarylium dye >>>>
As a squarylium pigment | dye, the partial structure derived from the compound (squarylium compound) represented by the following general formula (K) is preferable. In the present invention, the squarylium compound is a general term for compounds having a dye moiety containing a squarylium skeleton in the molecule.

一般式(K)中、A及びBは、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいヘテロ環基を表す。アリール基としては、好ましくは炭素数6〜48、より好ましくは6〜24のアリール基で、例えば、フェニル、ナフチル等が挙げられる。ヘテロ環基としては五員環又は六員環のへテロ環基が好ましく、例えばピロール、イミダゾール、ピラゾイル、ピリジル、ピリミジル、ピリダジル、トリアゾール−1−イル、チエニル、フリル、チアジアゾール、インドリル等が挙げられ、インドリルが好ましい。
一般式(K)の好ましい範囲としては、例えば、特開2013−29760号公報の段落0088〜0106を参酌することができ、この内容は本願明細書に組み込まれる。
スクアリリウム色素の具体例としては、例えば、以下が挙げられる。また、例えば、特開2013−29760号公報の段落0105を参酌することができる。なお、スクアリリウム色素の具体例において、スクアリリウム色素構造中のいずれかの水素原子を介して、分散剤の他の部位(好ましくは、後述する一般式(1)のR2または一般式(A)のL1)と結合していることが好ましく、より好ましくは、AまたはBを介して、分散剤の他の部位と結合している。
In General Formula (K), A and B each independently represent an aryl group which may have a substituent or a heterocyclic group which may have a substituent. The aryl group is preferably an aryl group having 6 to 48 carbon atoms, more preferably 6 to 24 carbon atoms, and examples thereof include phenyl and naphthyl. The heterocyclic group is preferably a 5-membered or 6-membered heterocyclic group, and examples thereof include pyrrole, imidazole, pyrazoyl, pyridyl, pyrimidyl, pyridazyl, triazol-1-yl, thienyl, furyl, thiadiazole, indolyl and the like. Indolyl is preferred.
As a preferable range of the general formula (K), for example, paragraphs 0088 to 0106 of JP2013-29760A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
Specific examples of the squarylium dye include the following. Further, for example, paragraph 0105 of JP 2013-29760 A can be referred to. In the specific example of the squarylium dye, the other part of the dispersant (preferably R 2 of the general formula (1) described later or the general formula (A) is added via any hydrogen atom in the squarylium dye structure. L 1 ) is preferably bonded, and more preferably, it is bonded to another part of the dispersant via A or B.

本発明に用いられる色素構造を有する分散剤は、色素構造中の水素原子が下記置換基群Aから選択された置換基により置換されていてもよい。
(置換基群A)
置換基としては、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子)、アルキル基(好ましくは炭素数1〜48、より好ましくは炭素数1〜24の、直鎖、分岐鎖、又は環状のアルキル基で、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル基(好ましくは、t−ブチル基)、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、2−エチルヘキシル、ドデシル、ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、1−ノルボルニル、1−アダマンチル)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜48、より好ましくは炭素数2〜18のアルケニル基で、例えば、ビニル、アリル、3−ブテン−1−イル)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8であり、例えばプロパルギル、3−ペンチニル等が挙げられる。)、アリール基(好ましくは炭素数6〜48、より好ましくは炭素数6〜24のアリール基で、例えば、フェニル、ナフチル)、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜18のヘテロ環基で、例えば、2−チエニル、4−ピリジル、2−フリル、2−ピリミジニル、1−ピリジル、2−ベンゾチアゾリル、1−イミダゾリル、1−ピラゾリル、ベンゾトリアゾール−1−イル)、シリル基(好ましくは炭素数3〜38、より好ましくは炭素数3〜18のシリル基で、例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリブチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、t−ヘキシルジメチルシリル)、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜48、より好ましくは炭素数1〜24のアルコキシ基で、例えば、メトキシ、エトキシ、1−ブトキシ、2−ブトキシ、イソプロポキシ、t−ブトキシ、ドデシルオキシ、シクロアルキルオキシ基で、例えば、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜48、より好ましくは炭素数6〜24のアリールオキシ基で、例えば、フェノキシ、1−ナフトキシ)、ヘテロ環オキシ基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜18のヘテロ環オキシ基で、例えば、1−フェニルテトラゾール−5−オキシ、2−テトラヒドロピラニルオキシ)、シリルオキシ基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜18のシリルオキシ基で、例えば、トリメチルシリルオキシ、t−ブチルジメチルシリルオキシ、ジフェニルメチルシリルオキシ)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜48、より好ましくは炭素数2〜24のアシルオキシ基で、例えば、アセトキシ、ピバロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ドデカノイルオキシ)、アルコキシカルボニルオキシ基(好ましくは炭素数2〜48、より好ましくは炭素数2〜24のアルコキシカルボニルオキシ基で、例えば、エトキシカルボニルオキシ、t−ブトキシカルボニルオキシ、シクロアルキルオキシカルボニルオキシ基で、例えば、シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ)、アリールオキシカルボニルオキシ基(好ましくは炭素数7〜32、より好ましくは炭素数7〜24のアリールオキシカルボニルオキシ基で、例えば、フェノキシカルボニルオキシ)、
In the dispersant having a dye structure used in the present invention, a hydrogen atom in the dye structure may be substituted with a substituent selected from the following substituent group A.
(Substituent group A)
Examples of the substituent include a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom), an alkyl group (preferably having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, linear, branched chain, or cyclic). An alkyl group, for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl group (preferably t-butyl group), pentyl, hexyl, heptyl, octyl, 2-ethylhexyl, dodecyl, hexadecyl, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, 1 -Norbornyl, 1-adamantyl), an alkenyl group (preferably an alkenyl group having 2 to 48 carbon atoms, more preferably 2 to 18 carbon atoms, such as vinyl, allyl, 3-buten-1-yl), an alkynyl group ( Preferably 2-20 carbon atoms, more preferably 2-12 carbon atoms, particularly preferably 2-8 carbon atoms. For example, propargyl, 3-pentynyl, etc.), an aryl group (preferably an aryl group having 6 to 48 carbon atoms, more preferably an aryl group having 6 to 24 carbon atoms, for example, phenyl or naphthyl), a heterocyclic group ( Preferably it is C1-C32, More preferably, it is C1-C18 heterocyclic group, for example, 2-thienyl, 4-pyridyl, 2-furyl, 2-pyrimidinyl, 1-pyridyl, 2-benzothiazolyl, 1- Imidazolyl, 1-pyrazolyl, benzotriazol-1-yl), silyl group (preferably a silyl group having 3 to 38 carbon atoms, more preferably 3 to 18 carbon atoms, such as trimethylsilyl, triethylsilyl, tributylsilyl, t- Butyldimethylsilyl, t-hexyldimethylsilyl), hydroxyl group, cyano group, nitro group, alkoxy (Preferably an alkoxy group having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, 1-butoxy, 2-butoxy, isopropoxy, t-butoxy, dodecyloxy, cycloalkyloxy groups. And, for example, cyclopentyloxy, cyclohexyloxy), an aryloxy group (preferably an aryloxy group having 6 to 48 carbon atoms, more preferably an aryloxy group having 6 to 24 carbon atoms, such as phenoxy, 1-naphthoxy), a heterocyclic oxy group (Preferably a heterocyclic oxy group having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 18 carbon atoms, such as 1-phenyltetrazol-5-oxy, 2-tetrahydropyranyloxy), a silyloxy group (preferably having a carbon number) 1 to 32, more preferably a silyloxy group having 1 to 18 carbon atoms. Tilsilyloxy, t-butyldimethylsilyloxy, diphenylmethylsilyloxy), an acyloxy group (preferably an acyloxy group having 2 to 48 carbon atoms, more preferably 2 to 24 carbon atoms, such as acetoxy, pivaloyloxy, benzoyloxy, Dodecanoyloxy), an alkoxycarbonyloxy group (preferably an alkoxycarbonyloxy group having 2 to 48 carbon atoms, more preferably 2 to 24 carbon atoms, such as ethoxycarbonyloxy, t-butoxycarbonyloxy, cycloalkyloxycarbonyloxy A group such as cyclohexyloxycarbonyloxy), an aryloxycarbonyloxy group (preferably an aryloxycarbonyloxy group having 7 to 32 carbon atoms, more preferably 7 to 24 carbon atoms, such as phenoxy Ruboniruokishi),

カルバモイルオキシ基(好ましくは炭素数1〜48、より好ましくは炭素数1〜24のカルバモイルオキシ基で、例えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ、N−ブチルカルバモイルオキシ、N−フェニルカルバモイルオキシ、N−エチル−N−フェニルカルバモイルオキシ)、スルファモイルオキシ基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜24のスルファモイルオキシ基で、例えば、N,N−ジエチルスルファモイルオキシ、N−プロピルスルファモイルオキシ)、アルキルスルホニルオキシ基(好ましくは炭素数1〜38、より好ましくは炭素数1〜24のアルキルスルホニルオキシ基で、例えば、メチルスルホニルオキシ、ヘキサデシルスルホニルオキシ、シクロヘキシルスルホニルオキシ)、アリールスルホニルオキシ基(好ましくは炭素数6〜32、より好ましくは炭素数6〜24のアリールスルホニルオキシ基で、例えば、フェニルスルホニルオキシ)、アシル基(好ましくは炭素数1〜48、より好ましくは炭素数1〜24のアシル基で、例えば、ホルミル、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、テトラデカノイル、シクロヘキサノイル)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜48、より好ましくは炭素数2〜24のアルコキシカルボニル基で、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、オクタデシルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルシクロヘキシルオキシカルボニル)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜32、より好ましくは炭素数7〜24のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜48、より好ましくは炭素数1〜24のカルバモイル基で、例えば、カルバモイル、N,N−ジエチルカルバモイル、Nーエチル−N−オクチルカルバモイル、N,N−ジブチルカルバモイル、N−プロピルカルバモイル、N−フェニルカルバモイル、N−メチル−N−フェニルカルバモイル、N,N−ジシクロへキシルカルバモイル)、アミノ基(好ましくは炭素数32以下、より好ましくは炭素数24以下のアミノ基で、例えば、アミノ、メチルアミノ、N,N−ジブチルアミノ、テトラデシルアミノ、2−エチルへキシルアミノ、シクロヘキシルアミノ)、アニリノ基(好ましくは炭素数6〜32、より好ましくは6〜24のアニリノ基で、例えば、アニリノ、N−メチルアニリノ)、ヘテロ環アミノ基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは1〜18のヘテロ環アミノ基で、例えば、4−ピリジルアミノ)、カルボンアミド基(好ましくは炭素数2〜48、より好ましくは2〜24のカルボンアミド基で、例えば、アセトアミド基、ベンズアミド基、テトラデカンアミド基、ピバロイルアミド基、シクロヘキサンアミド基)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜24のウレイド基で、例えば、ウレイド、N,N−ジメチルウレイド、N−フェニルウレイド)、イミド基(好ましくは炭素数36以下、より好ましくは炭素数24以下のイミド基で、例えば、N−スクシンイミド基、N−フタルイミド基)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜48、より好ましくは炭素数2〜24のアルコキシカルボニルアミノ基で、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、t−ブトキシカルボニルアミノ、オクタデシルオキシカルボニルアミノ、シクロヘキシルオキシカルボニルアミノ)、 A carbamoyloxy group (preferably a carbamoyloxy group having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as N, N-dimethylcarbamoyloxy, N-butylcarbamoyloxy, N-phenylcarbamoyloxy, N- Ethyl-N-phenylcarbamoyloxy), a sulfamoyloxy group (preferably a sulfamoyloxy group having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, for example, N, N-diethylsulfamoyloxy group). N-propylsulfamoyloxy), an alkylsulfonyloxy group (preferably an alkylsulfonyloxy group having 1 to 38 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as methylsulfonyloxy, hexadecylsulfonyloxy, cyclohexyl Sulfonyloxy), arylsulfo A ruoxy group (preferably an arylsulfonyloxy group having 6 to 32 carbon atoms, more preferably an arylsulfonyloxy group having 6 to 24 carbon atoms, such as phenylsulfonyloxy), an acyl group (preferably having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 carbon atom). An acyl group having ˜24, for example, formyl, acetyl, pivaloyl, benzoyl, tetradecanoyl, cyclohexanoyl), an alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 48 carbon atoms, more preferably having 2 to 24 carbon atoms) And, for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, octadecyloxycarbonyl, cyclohexyloxycarbonyl, 2,6-di-tert-butyl-4-methylcyclohexyloxycarbonyl), an aryloxycarbonyl group (preferably having 7 to 32 carbon atoms) Preferably charcoal An aryloxycarbonyl group of 7 to 24, for example, phenoxycarbonyl), a carbamoyl group (preferably a carbamoyl group having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as carbamoyl, N, N-diethyl Carbamoyl, N-ethyl-N-octylcarbamoyl, N, N-dibutylcarbamoyl, N-propylcarbamoyl, N-phenylcarbamoyl, N-methyl-N-phenylcarbamoyl, N, N-dicyclohexylcarbamoyl), amino group (preferably Is an amino group having 32 or less carbon atoms, more preferably 24 or less carbon atoms. For example, amino, methylamino, N, N-dibutylamino, tetradecylamino, 2-ethylhexylamino, cyclohexylamino), anilino group (preferably Is preferably 6 to 32 carbon atoms Is an anilino group having 6 to 24, for example, anilino, N-methylanilino), a heterocyclic amino group (preferably a heterocyclic amino group having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 18 carbon atoms, for example, 4-pyridylamino) A carbonamide group (preferably a carbonamide group having 2 to 48 carbon atoms, more preferably 2 to 24 carbon atoms, such as an acetamido group, a benzamide group, a tetradecanamide group, a pivaloylamide group, a cyclohexaneamide group), a ureido group (preferably A ureido group having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as ureido, N, N-dimethylureido, N-phenylureido), an imide group (preferably having 36 or less carbon atoms, more preferably carbon An imide group having a number of 24 or less, for example, N-succinimide group, N-phthalimide group), alcohol Sicarbonylamino group (preferably an alkoxycarbonylamino group having 2 to 48 carbon atoms, more preferably 2 to 24 carbon atoms, such as methoxycarbonylamino, ethoxycarbonylamino, t-butoxycarbonylamino, octadecyloxycarbonylamino, cyclohexyl Oxycarbonylamino),

アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜32、より好ましくは炭素数7〜24のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えば、フェノキシカルボニルアミノ)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜48、より好ましくは炭素数1〜24のスルホンアミド基で、例えば、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基、ヘキサデカンスルホンアミド基、シクロヘキサンスルホンアミド基)、スルファモイルアミノ基(好ましくは炭素数1〜48、より好ましくは炭素数1〜24のスルファモイルアミノ基で、例えば、N、N−ジプロピルスルファモイルアミノ、N−エチル−N−ドデシルスルファモイルアミノ)、アゾ基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜24のアゾ基で、例えば、フェニルアゾ基、3−ピラゾリルアゾ基)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜48、より好ましくは炭素数1〜24のアルキルチオ基で、例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシルチオ)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜48、より好ましくは炭素数6〜24のアリールチオ基で、例えば、フェニルチオ)、ヘテロ環チオ基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜18のヘテロ環チオ基で、例えば、2−ベンゾチアゾリルチオ、2−ピリジルチオ、1−フェニルテトラゾリルチオ)、アルキルスルフィニル基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜24のアルキルスルフィニル基で、例えば、ドデカンスルフィニル)、アリールスルフィニル基(好ましくは炭素数6〜32、より好ましくは炭素数6〜24のアリールスルフィニル基で、例えば、フェニルスルフィニル)、アルキルスルホニル基(好ましくは炭素数1〜48、より好ましくは炭素数1〜24のアルキルスルホニル基で、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソプロピルスルホニル、2−エチルヘキシルスルホニル、ヘキサデシルスルホニル、オクチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル)、アリールスルホニル基(好ましくは炭素数6〜48、より好ましくは炭素数6〜24のアリールスルホニル基で、例えば、フェニルスルホニル、1−ナフチルスルホニル)、スルファモイル基(好ましくは炭素数32以下、より好ましくは炭素数24以下のスルファモイル基で、例えば、スルファモイル、N,N−ジプロピルスルファモイル、N−エチル−N−ドデシルスルファモイル、N−エチル−N−フェニルスルファモイル、N−シクロヘキシルスルファモイル)、スルホ基、ホスホニル基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜24のホスホニル基で、例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル)、ホスフィノイルアミノ基(好ましくは炭素数1〜32、より好ましくは炭素数1〜24のホスフィノイルアミノ基で、例えば、ジエトキシホスフィノイルアミノ、ジオクチルオキシホスフィノイルアミノ)、アルキルオキシカルボニルオキシ基(好ましくは炭素数5〜30、より好ましくは炭素数5〜10のアルキルオキシカルボニルオキシ基)、チオール基等が挙げられる。
これらの置換基は更に置換されてもよい。また置換基が二つ以上ある場合は、同一でも異なっていても良い。また、可能な場合には互いに連結して環を形成していてもよい。
詳細については、例えば、特開2013−29760号公報の段落0027〜0038を参酌することもでき、この内容は本明細書に組み込まれる。
An aryloxycarbonylamino group (preferably an aryloxycarbonylamino group having 7 to 32 carbon atoms, more preferably an aryloxycarbonylamino group having 7 to 24 carbon atoms, for example, phenoxycarbonylamino), a sulfonamide group (preferably having 1 to 48 carbon atoms, more Preferably it is a C1-C24 sulfonamide group, for example, methanesulfonamide group, butanesulfonamide group, benzenesulfonamide group, hexadecanesulfonamide group, cyclohexanesulfonamide group), sulfamoylamino group (preferably carbon A sulfamoylamino group having 1 to 48, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as N, N-dipropylsulfamoylamino, N-ethyl-N-dodecylsulfamoylamino), an azo group (preferably Has 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 2 carbon atoms. An azo group, for example, a phenylazo group, a 3-pyrazolylazo group), an alkylthio group (preferably an alkylthio group having 1 to 48 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, for example, methylthio, ethylthio, octylthio, cyclohexyl Thio), an arylthio group (preferably an arylthio group having 6 to 48 carbon atoms, more preferably an arylthio group having 6 to 24 carbon atoms, such as phenylthio), a heterocyclic thio group (preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably a carbon number). 1 to 18 heterocyclic thio groups, for example, 2-benzothiazolylthio, 2-pyridylthio, 1-phenyltetrazolylthio), alkylsulfinyl groups (preferably having 1 to 32 carbon atoms, more preferably having 1 to 32 carbon atoms) 24 alkylsulfinyl groups such as dodecanesulfinyl), arylsulfinyl (Preferably an arylsulfinyl group having 6 to 32 carbon atoms, more preferably 6 to 24 carbon atoms, such as phenylsulfinyl), an alkylsulfonyl group (preferably having 1 to 48 carbon atoms, more preferably having 1 to 24 carbon atoms) An alkylsulfonyl group, for example, methylsulfonyl, ethylsulfonyl, propylsulfonyl, butylsulfonyl, isopropylsulfonyl, 2-ethylhexylsulfonyl, hexadecylsulfonyl, octylsulfonyl, cyclohexylsulfonyl), arylsulfonyl group (preferably having 6 to 48 carbon atoms, More preferably, it is an arylsulfonyl group having 6 to 24 carbon atoms, for example, phenylsulfonyl, 1-naphthylsulfonyl), sulfamoyl group (preferably having 32 or less carbon atoms, more preferably 24 or less carbon atoms). Yl group, for example, sulfamoyl, N, N-dipropylsulfamoyl, N-ethyl-N-dodecylsulfamoyl, N-ethyl-N-phenylsulfamoyl, N-cyclohexylsulfamoyl), sulfo group, Phosphonyl group (preferably a phosphonyl group having 1 to 32 carbon atoms, more preferably 1 to 24 carbon atoms, such as phenoxyphosphonyl, octyloxyphosphonyl, phenylphosphonyl), phosphinoylamino group (preferably having a carbon number) 1 to 32, more preferably a phosphinoylamino group having 1 to 24 carbon atoms, such as diethoxyphosphinoylamino, dioctyloxyphosphinoylamino), an alkyloxycarbonyloxy group (preferably having 5 to 30 carbon atoms) And more preferably an alkyloxycarbonyloxy group having 5 to 10 carbon atoms. , Thiol group and the like.
These substituents may be further substituted. When there are two or more substituents, they may be the same or different. If possible, they may be linked to each other to form a ring.
For details, for example, paragraphs 0027 to 0038 of JP2013-29760A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.

<<<アニオン部位>>>
本発明における色素構造は、アニオン部位を含む。
色素構造を有する分散剤の色素構造を構成するアニオン部位は、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオン、テトラアリールボレートアニオン、BF4 -、PF6 -、SbF6 -、下記一般式(A1)で表される構造を含む基および下記一般式(A2)で表される構造を含む基の少なくとも1種であることが好ましく、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、ビス(アルキルスルホニル)イミドアニオン、トリス(アルキルスルホニル)メチドアニオン、テトラアリールボレートアニオン、BF4-、PF6-、およびSbF6-から選択される少なくとも1種であることがより好ましい。
一般式(A1)
一般式(A1)中、R1およびR2はそれぞれ独立して−SO2−または−CO−を表す。
一般式(A2)
一般式(A2)中、R3は、−SO2−または−CO−を表す;R4およびR5はそれぞれ独立して−SO2−、−CO−または−CNを表す。
アニオン部位は、色素構造と共有結合を介して結合していてもよいし、分子外にあってもよい。
<<< Anion site >>>
The dye structure in the present invention includes an anion moiety.
The anion site constituting the dye structure of the dispersant having a dye structure is represented by the following general formula (A1): sulfonate anion, carboxylate anion, tetraarylborate anion, BF 4 , PF 6 , SbF 6 . And at least one of a group containing a structure represented by the following general formula (A2), sulfonate anion, sulfonylimide anion, bis (alkylsulfonyl) imide anion, tris (alkylsulfonyl) ) More preferably, it is at least one selected from a methide anion, a tetraarylborate anion, BF 4− , PF 6− , and SbF 6− .
General formula (A1)
In general formula (A1), R 1 and R 2 each independently represent —SO 2 — or —CO—.
General formula (A2)
In general formula (A2), R 3 represents —SO 2 — or —CO—; R 4 and R 5 each independently represents —SO 2 —, —CO— or —CN.
The anion moiety may be bonded to the dye structure via a covalent bond or may be outside the molecule.

<<<<アニオン部位が分子外にある場合>>>>
アニオン部位が分子外にある場合とは、カチオンとアニオン部位が共有結合を介して結合せず、別分子として存在している場合である。
アニオン部位としては特に制限は無いが、耐熱性の観点で非求核性のアニオンであることが好ましい。非求核性のアニオン部位としては、特開2007−310315号公報の段落番号0075等に記載の公知の非求核性アニオンが好ましい。ここで、非求核性とは、加熱により色素を求核攻撃しない性質を意味する。
アニオン部位としては、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、ビス(アルキルスルホニル)イミドアニオン、トリス(アルキルスルホニル)メチドアニオン、カルボン酸アニオン、テトラアリールボレートアニオン、−CON-CO−、−CON-SO2−、BF4 -、PF6 -、SbF6 -、B-(CN)3OCH3から選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。より好ましくは、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、ビス(アルキルスルホニル)イミドアニオン、トリス(アルキルスルホニル)メチドアニオン、カルボン酸アニオン、テトラアリールボレートアニオン、BF4 -、PF6 -、およびSbF6 -から選ばれる少なくとも一種である。
これらの中でも、アニオン部位としては、下記(AN−1)〜(AN−5)で表される構造を有する非求核性アニオンであることがより好ましい。
<<<< When the anion site is outside the molecule >>>>
The case where the anion moiety is outside the molecule is a case where the cation and the anion moiety are not bonded via a covalent bond but exist as separate molecules.
The anion moiety is not particularly limited, but is preferably a non-nucleophilic anion from the viewpoint of heat resistance. As the non-nucleophilic anion moiety, a known non-nucleophilic anion described in paragraph No. 0075 of JP-A-2007-310315 is preferable. Here, the non-nucleophilic property means a property that does not nucleophilic attack the dye by heating.
Examples of the anion moiety include a sulfonate anion, a carboxylate anion, a sulfonylimide anion, a bis (alkylsulfonyl) imide anion, a tris (alkylsulfonyl) methide anion, a carboxylate anion, a tetraarylborate anion, —CON CO—, —CON −. It is preferably at least one selected from SO 2 −, BF 4 , PF 6 , SbF 6 and B (CN) 3 OCH 3 . More preferably, it is selected from sulfonate anion, sulfonylimide anion, bis (alkylsulfonyl) imide anion, tris (alkylsulfonyl) methide anion, carboxylate anion, tetraarylborate anion, BF 4 , PF 6 , and SbF 6 −. Is at least one kind.
Among these, the anion site is more preferably a non-nucleophilic anion having a structure represented by the following (AN-1) to (AN-5).

式(AN−1)中、X1およびX2は、それぞれ独立に、フッ素原子またはフッ素原子を有する炭素数1〜10のアルキル基を表す。X1およびX2は互いに結合して環を形成しても良い。
1およびX2は、それぞれ独立に、フッ素原子またはフッ素原子を有する炭素数1〜10のアルキル基を表し、フッ素原子またはフッ素原子を有する炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、炭素数1〜10のペルフルオロアルキル基であることがより好ましく、炭素数1〜4のペルフルオロアルキル基であることがさらに好ましく、トリフルオロメチル基が特に好ましい。
In formula (AN-1), X 1 and X 2 each independently represent a fluorine atom or a C 1-10 alkyl group having a fluorine atom. X 1 and X 2 may be bonded to each other to form a ring.
X 1 and X 2 each independently represents a fluorine atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom, preferably a fluorine atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom. 10 to 10 perfluoroalkyl groups, more preferably 1 to 4 carbon perfluoroalkyl groups, and particularly preferably a trifluoromethyl group.

式(AN−2)中、X3、X4およびX5はそれぞれ独立に、フッ素原子または炭素数1〜10のフッ素原子を有するアルキル基を表す。
3、X4およびX5は、それぞれ独立に、X1およびX2と同義であり、好ましい範囲も同義である。
In formula (AN-2), X 3 , X 4 and X 5 each independently represent a fluorine atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
X 3 , X 4 and X 5 are each independently the same as X 1 and X 2 , and the preferred range is also the same.

式(AN−3)中、X6は炭素数1〜10のフッ素原子を有するアルキル基を表す。
6は、炭素数1〜10のペルフルオロアルキル基であることが好ましく、炭素数1〜4のペルフルオロアルキル基であることがさらに好ましい。
In formula (AN-3), X 6 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
X 6 is preferably a C 1-10 perfluoroalkyl group, and more preferably a C 1-4 perfluoroalkyl group.

式(AN−4)中、X7は炭素数1〜10のフッ素原子を有するアルキレン基を表す。
7は、炭素数1〜10のペルフルオロアルキレン基であることが好ましく、炭素数1〜4のペルフルオロアルキレン基であることがさらに好ましい。
In formula (AN-4), X 7 represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms.
X 7 is preferably a C 1-10 perfluoroalkylene group, and more preferably a C 1-4 perfluoroalkylene group.

式(AN−5)中、Ar1、Ar2、Ar3およびAr4は、それぞれ独立に、アリール基を表す。
Ar1、Ar2、Ar3およびAr4は、それぞれ独立に、炭素数6〜20のアリール基が好ましく、炭素数6〜14のアリール基がより好ましく、炭素数6〜10のアリール基がさらに好ましい。
Ar1、Ar2、Ar3およびAr4が表わすアリール基は、置換基を有しても良い。置換基を有する場合、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、カルバモイル基、スルホ基、スルホンアミド基、ニトロ基等が挙げられ、ハロゲン原子およびアルキル基が好ましく、フッ素原子、アルキル基がより好ましく、フッ素原子、炭素数1〜4のペルフルオロアルキル基がさらに好ましい。
Ar1、Ar2、Ar3およびAr4は、それぞれ独立に、ハロゲン原子および/またはハロゲン原子を有するアルキル基を有するフェニル基がより好ましく、フッ素原子および/またはフッ素原子を有するアルキル基を有するフェニル基がさらに好ましい。
In formula (AN-5), Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 and Ar 4 each independently represent an aryl group.
Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 and Ar 4 are each independently preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, more preferably an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, and further an aryl group having 6 to 10 carbon atoms preferable.
The aryl group represented by Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 and Ar 4 may have a substituent. In the case of having a substituent, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, a carbonyl group, a carbonyloxy group, a carbamoyl group, a sulfo group, a sulfonamide group, a nitro group and the like can be mentioned, and a halogen atom and an alkyl group are preferable, A fluorine atom and an alkyl group are more preferable, and a fluorine atom and a perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms are more preferable.
Ar 1 , Ar 2 , Ar 3 and Ar 4 are each independently more preferably a halogen atom and / or a phenyl group having an alkyl group having a halogen atom, and a phenyl group having a fluorine atom and / or an alkyl group having a fluorine atom. More preferred are groups.

非求核性アニオン部位の1分子あたりの質量は、100〜1,000が好ましく、200〜500がより好ましい。   100-1,000 are preferable and, as for the mass per molecule of a non-nucleophilic anion site | part, 200-500 are more preferable.

第二の実施形態のアニオン部位具体例としては、以下が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the anion moiety in the second embodiment include the following, but the present invention is not limited thereto.

<<<<アニオン部位が色素構造と共有結合を介して結合している場合>>>>
次に、アニオン部位が色素構造と共有結合を介して結合している場合について説明する。
この場合のアニオン部位としては、−SO3 -、−COO-、−PO4 -、下記一般式(A1)で表される構造および下記一般式(A2)で表される構造から選択される少なくとも1種が好ましい。
<<<<< when the anion moiety is bonded to the dye structure via a covalent bond >>>>
Next, a case where the anion site is bonded to the dye structure via a covalent bond will be described.
The anion site in this case is at least selected from —SO 3 , —COO , —PO 4 , a structure represented by the following general formula (A1), and a structure represented by the following general formula (A2). One is preferred.

一般式(A1)

(一般式(A1)中、R1およびR2はそれぞれ独立して−SO2−または−CO−を表す。)
一般式(A1)中、R1およびR2の少なくとも1つが−SO2−を表すことが好ましく、R1およびR2の両方が−SO2−を表すことがより好ましい。
General formula (A1)

(In general formula (A1), R 1 and R 2 each independently represent —SO 2 — or —CO—.)
In formula (A1), at least one of R 1 and R 2 -SO 2 - preferably represents an, both R 1 and R 2 are -SO 2 - and more preferably represents.

上記一般式(A1)は、下記一般式(A1−1)で表されることがより好ましい。
一般式(A1−1)

(一般式(A1−1)中、R1およびR2はそれぞれ独立して−SO2−または−CO−を表す。X1およびX2は、それぞれ独立してアルキレン基またはアリーレン基を表す。)
一般式(A1−1)中、R1およびR2は、一般式(A1)中のR1およびR2と同義であり、好ましい範囲も同様である。
1がアルキレン基を表す場合、アルキレン基の炭素数は、1〜8が好ましく、1〜6がより好ましい。X1がアリーレン基を表す場合、アリーレン基の炭素数は、6〜18が好ましく、6〜12がより好ましく、6がさらに好ましい。X1が置換基を有する場合、フッ素原子で置換されていることが好ましい。
2は、アルキレン基またはアリーレン基を表し、アルキレン基が好ましい。アルキレン基の炭素数は、1〜8が好ましく、1〜6がより好ましく、1〜3がさらに好ましく、1が特に好ましい。X2が置換基を有する場合、フッ素原子で置換されていることが好ましい。X1およびX2の一方が、化合物末端となる場合は、アルキレン基またはアリーレン基がアルキル基またはアリール基となる態様が例示される。
The general formula (A1) is more preferably represented by the following general formula (A1-1).
Formula (A1-1)

(In general formula (A1-1), R 1 and R 2 each independently represent —SO 2 — or —CO—, and X 1 and X 2 each independently represent an alkylene group or an arylene group. )
In formula (A1-1), R 1 and R 2 of the general formula (A1) in the same meaning as R 1 and R 2, and preferred ranges are also the same.
When X < 1 > represents an alkylene group, 1-8 are preferable and, as for carbon number of an alkylene group, 1-6 are more preferable. When X < 1 > represents an arylene group, 6-18 are preferable, as for carbon number of an arylene group, 6-12 are more preferable, and 6 is more preferable. When X 1 has a substituent, it is preferably substituted with a fluorine atom.
X 2 represents an alkylene group or an arylene group, and an alkylene group is preferable. 1-8 are preferable, as for carbon number of an alkylene group, 1-6 are more preferable, 1-3 are more preferable, and 1 is especially preferable. When X 2 has a substituent, it is preferably substituted with a fluorine atom. When one of X 1 and X 2 is the compound end, an embodiment in which the alkylene group or arylene group is an alkyl group or an aryl group is exemplified.

一般式(A2)

(一般式(A2)中、R3は、−SO2−または−CO−を表す。R4およびR5はそれぞれ独立して−SO2−、−CO−または−CNを表す。)
一般式(A2)中、R3〜R5の少なくとも1つが−SO2−を表すことが好ましく、R3〜R5の少なくとも2つが−SO2−を表すことがより好ましい。
General formula (A2)

(In the general formula (A2), R 3 represents —SO 2 — or —CO—. R 4 and R 5 each independently represents —SO 2 —, —CO— or —CN).
Preferably representing the at least two R 3 to R 5 is -SO 2 - - In formula (A2), at least one of R 3 to R 5 -SO 2 more preferably represents.

<<<<アニオン部位が多量体である場合>>>>
本発明におけるアニオン部位は、多量体であってもよい。すなわち、本発明で用いる色素構造を有する分散剤が、アニオン部位を含む繰り返し単位を含んでいてもよいし、アニオン部位は別分子であって、多量体であってもよい。アニオン部位が多量体である場合の例としては、後述する色素構造を有する分散剤の第2の実施形態において、多量体を構成する繰り返し単位として組み込むことが好ましく例示される。また、後述する第1の実施形態において、一般式(1)のPを構成する繰り返し単位の1つであってもよい。
アニオン部位を含む繰り返し単位の好ましい例としては、一般式(C)で表される繰り返し単位が例示される。
<<<< When Anion Site is Multimer >>>>
The anion moiety in the present invention may be a multimer. That is, the dispersant having a dye structure used in the present invention may contain a repeating unit containing an anion moiety, or the anion moiety may be a separate molecule and a multimer. As an example of the case where the anion site is a multimer, it is preferably exemplified as a repeating unit constituting the multimer in the second embodiment of the dispersant having a dye structure described later. Moreover, in 1st Embodiment mentioned later, it may be one of the repeating units which comprise P of General formula (1).
Preferable examples of the repeating unit containing an anion moiety include the repeating unit represented by the general formula (C).

一般式(C)

(一般式(C)中、X1は、繰り返し単位の主鎖を表す。L1は単結合または2価の連結基を表す。anionは、上記アニオン部位を表す。)
General formula (C)

(In general formula (C), X 1 represents the main chain of the repeating unit. L 1 represents a single bond or a divalent linking group. Anion represents the anion moiety.)

一般式(C)中、X1は、繰り返し単位の主鎖を表し、通常、重合反応で形成される連結基を表す。なお、2つの*で表された部位が繰り返し単位となる。
1の具体例としては、後述する一般式(A)で表される繰り返し単位におけるX1と同義であり、好ましい範囲も同様である。
In the general formula (C), X 1 represents a main chain of repeating units, usually represents a linking group formed by polymerization reaction. Two sites represented by * are repeating units.
Specific examples of X 1, has the same meaning as X 1 in the repeating unit represented by the general formula (A) described below, a preferred range is also the same.

本実施形態におけるアニオンを含む繰り返し単位の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Although the specific example of the repeating unit containing an anion in this embodiment is shown below, this invention is not limited to these.

以下の具体例は、アニオン構造が解離していない状態を示しているが、アニオン構造が解離している状態も本発明の範囲内であることは言うまでもない。


The following specific examples show a state where the anion structure is not dissociated, but it goes without saying that the state where the anion structure is dissociated is also within the scope of the present invention.



以下に本発明における色素構造を有すする分散剤の好ましい実施形態を説明する。本発明における色素構造を有する分散剤がこれらに限定されるものではないことは言うまでもない。
<<<色素構造を有する分散剤の第1の実施形態>>>
色素構造を有する分散剤の実施形態の一例として、下記一般式(1)で表される構造が挙げられる。
Hereinafter, preferred embodiments of the dispersant having a dye structure in the present invention will be described. Needless to say, the dispersant having a dye structure in the present invention is not limited thereto.
<< First Embodiment of Dispersant Having Dye Structure >>>>
An example of an embodiment of a dispersant having a dye structure is a structure represented by the following general formula (1).

一般式(1)
(D−R2n−R1−(L1−P)m ・・・(1)
一般式(1)中、R1は、(m+n)価の連結基を表し、
Pは、繰り返し単位を有する1価の置換基を表し、
Dは、色素構造を表し、
2およびL1は、それぞれ独立に、単結合または2価の連結基を表し、
mは、1〜13の整数を表し、
mが1の場合、Pは繰り返し単位を2個以上有する1価の置換基を表し、
mが2以上の場合、複数のPは互いに異なっていても良く、複数のPを構成する繰り返し単位の個数の平均値が2個以上であり、
nは、2〜14の整数を表し、
nが2以上の場合、複数のDは互いに異なっていても良く、
m+nは、2〜15の整数を表す。
General formula (1)
(D-R 2) n -R 1 - (L 1 -P) m ··· (1)
In general formula (1), R 1 represents a (m + n) -valent linking group,
P represents a monovalent substituent having a repeating unit;
D represents the dye structure;
R 2 and L 1 each independently represents a single bond or a divalent linking group,
m represents an integer of 1 to 13,
when m is 1, P represents a monovalent substituent having two or more repeating units;
When m is 2 or more, the plurality of Ps may be different from each other, the average value of the number of repeating units constituting the plurality of Ps is 2 or more,
n represents an integer of 2 to 14,
when n is 2 or more, the plurality of D may be different from each other;
m + n represents an integer of 2 to 15.

一般式(1)中、mは1〜13の整数を表す。mとしては、1〜5が好ましく、1〜4がより好ましく、1〜3が特に好ましい。
一般式(1)中、nは2〜14の整数を表す。nとしては、2〜8が好ましく、2〜7がより好ましく、2〜6が特に好ましく、2〜5が一層好ましい。
一般式(1)中、m+nは、2〜15の整数を表すことが好ましい。
In general formula (1), m represents an integer of 1 to 13. As m, 1-5 are preferable, 1-4 are more preferable, and 1-3 are especially preferable.
In general formula (1), n represents an integer of 2 to 14. As n, 2-8 are preferable, 2-7 are more preferable, 2-6 are especially preferable, and 2-5 are still more preferable.
In general formula (1), m + n preferably represents an integer of 2 to 15.

一般式(1)中、R1は、(m+n)価の連結基を表す。m+nは2〜15を満たす。
1で表される(m+n)価の連結基としては、1から100個までの炭素原子、0個から10個までの窒素原子、0個から50個までの酸素原子、1個から200個までの水素原子、および0個から20個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基を更に有していてもよい。
In general formula (1), R 1 represents a (m + n) -valent linking group. m + n satisfies 2-15.
Examples of the (m + n) -valent linking group represented by R 1 include 1 to 100 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, and 1 to 200. Groups consisting of up to 20 hydrogen atoms and 0 to 20 sulfur atoms, which may be unsubstituted or further substituted.

1が表す(m+n)価の連結基は、具体的な例として、下記の構造単位または以下の構造単位が2以上組み合わさって構成される基(環構造を形成していてもよい)を挙げることができる。As a specific example, the (m + n) -valent linking group represented by R 1 includes a group (which may form a ring structure) formed by combining two or more of the following structural units or the following structural units. Can be mentioned.

本発明の着色組成物は、一般式(1)で表される色素構造を有する分散剤として、m、nが異なるものを複数含んでいてもよい。従って、本発明の着色組成物中の、mおよびnの平均値は整数にならない場合がある。   The colored composition of the present invention may contain a plurality of dispersants having different m and n as the dispersant having a dye structure represented by the general formula (1). Therefore, the average value of m and n in the coloring composition of the present invention may not be an integer.

1が表す(m+n)価の連結基としては、1から60個までの炭素原子、0個から10個までの窒素原子、0個から40個までの酸素原子、1個から120個までの水素原子、および0個から10個までの硫黄原子から成り立つ基が好ましい。より好ましくは、1から50個までの炭素原子、0個から10個までの窒素原子、0個から30個までの酸素原子、1個から100個までの水素原子、および0個から7個までの硫黄原子から成り立つ基である。更に好ましくは、1から40個までの炭素原子、0個から8個までの窒素原子、0個から20個までの酸素原子、1個から80個までの水素原子、および0個から5個までの硫黄原子から成り立つ基である。The (m + n) -valent linking group represented by R 1 includes 1 to 60 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 40 oxygen atoms, and 1 to 120 carbon atoms. Groups consisting of hydrogen atoms and from 0 to 10 sulfur atoms are preferred. More preferably, 1 to 50 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 30 oxygen atoms, 1 to 100 hydrogen atoms, and 0 to 7 atoms. It is a group consisting of the sulfur atom. More preferably, 1 to 40 carbon atoms, 0 to 8 nitrogen atoms, 0 to 20 oxygen atoms, 1 to 80 hydrogen atoms, and 0 to 5 atoms. It is a group consisting of the sulfur atom.

1が表す(m+n)価の連結基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数1〜20のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6〜16のアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、N−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数1〜6のアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1〜6のアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基、シアノ基、t−ブチルカーボネート基等の炭酸エステル基、等が挙げられる。The (m + n) -valent linking group represented by R 1 may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group and an ethyl group, an aryl group having 6 to 16 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group, a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, and a sulfonamide group. C1-C6 acyloxy groups such as N-sulfonylamide group and acetoxy group, C1-C6 alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group, halogen atoms such as chlorine and bromine, methoxycarbonyl group and ethoxycarbonyl And a C2-C7 alkoxycarbonyl group such as a cyclohexyloxycarbonyl group, a carbonate group such as a cyano group and a t-butyl carbonate group, and the like.

1で表される(m+n)価の連結基の具体的な例を以下に示す。但し、本発明においては、これらに制限されるものではない。Specific examples of the (m + n) -valent linking group represented by R 1 are shown below. However, the present invention is not limited to these.

(m+n)価の連結基は、上記(1)、(2)、(10)、(11)、(16)〜(20)、(26)〜(29)が好ましい。   The (m + n) -valent linking group is preferably (1), (2), (10), (11), (16) to (20), or (26) to (29).

一般式(1)中、R2およびL1は、それぞれ独立に、単結合または2価の連結基を表す。R2およびL1が複数存在する場合は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
2価の連結基としては、1から100個までの炭素原子、0個から10個までの窒素原子、0個から50個までの酸素原子、1個から200個までの水素原子、および0個から20個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基を更に有していてもよい。
In general formula (1), R 2 and L 1 each independently represents a single bond or a divalent linking group. When a plurality of R 2 and L 1 are present, they may be the same or different.
Divalent linking groups include 1 to 100 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 200 hydrogen atoms, and 0 To 20 sulfur atoms are included, which may be unsubstituted or further substituted.

2価の連結基は、具体的な例として、下記の構造単位または以下の構造単位が2以上組み合わさって構成される基を挙げることができる。   Specific examples of the divalent linking group include a group constituted by combining two or more of the following structural units or the following structural units.

2としては、単結合、あるいは、1から50個までの炭素原子、0個から8個までの窒素原子、0個から25個までの酸素原子、1個から100個までの水素原子、および0個から10個までの硫黄原子から成り立つ2価の連結基が好ましい。より好ましくは、単結合、あるいは、1から30個までの炭素原子、0個から6個までの窒素原子、0個から15個までの酸素原子、1個から50個までの水素原子、および0個から7個までの硫黄原子から成り立つ2価の連結基である。更に好ましくは、単結合、あるいは、1から10個までの炭素原子、0個から5個までの窒素原子、0個から10個までの酸素原子、1個から30個までの水素原子、および0個から5個までの硫黄原子から成り立つ2価の連結基である。R 2 may be a single bond or 1 to 50 carbon atoms, 0 to 8 nitrogen atoms, 0 to 25 oxygen atoms, 1 to 100 hydrogen atoms, and A divalent linking group consisting of 0 to 10 sulfur atoms is preferred. More preferably, a single bond or 1 to 30 carbon atoms, 0 to 6 nitrogen atoms, 0 to 15 oxygen atoms, 1 to 50 hydrogen atoms, and 0 It is a divalent linking group consisting of from 1 to 7 sulfur atoms. More preferably, a single bond or 1 to 10 carbon atoms, 0 to 5 nitrogen atoms, 0 to 10 oxygen atoms, 1 to 30 hydrogen atoms, and 0 It is a divalent linking group consisting of from 1 to 5 sulfur atoms.

2が表す2価の連結基は、置換基を有してもよい。置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数1〜20のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6〜16のアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、N−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数1〜6のアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1から6までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基、シアノ基、t−ブチルカーボネート基等の炭酸エステル基等が挙げられる。The divalent linking group represented by R 2 may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group and an ethyl group, an aryl group having 6 to 16 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group, a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, and a sulfonamide group. C1-C6 acyloxy groups such as N-sulfonylamide group and acetoxy group, C1-C6 alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group, halogen atoms such as chlorine and bromine, methoxycarbonyl group, ethoxy Examples thereof include C2-C7 alkoxycarbonyl groups such as carbonyl group and cyclohexyloxycarbonyl group, and carbonate ester groups such as cyano group and t-butyl carbonate group.

一般式(1)中、Pは、繰り返し単位を2個以上有する1価の置換基を表す。mが2以上の場合、m個のPは、同一であっても、異なっていてもよい。
mが1の場合、Pは、繰り返し単位を2個以上(好ましくは2〜100個、より好ましくは2〜50個、さらに好ましくは2〜20個)有する1価の置換基を表す。また、mが2以上の場合、m個のPの繰り返し単位の個数の平均値は、2個以上(好ましくは2〜100個、より好ましくは2〜50個、さらに好ましくは2〜20個)である。この態様によれば、塗布膜の平坦性が良化する。
mが1の場合における繰り返し単位の数、mが2以上の場合、m個のPの繰り返し単位の個数の平均値は、NMR(Nuclear Magnetic Resonance)により求めることができる。具体的には例えば、R1で表される(m+n)価の連結基と色素構造Dとのピーク面積比からmを求め、繰り返し単位のピーク面積比をmで割ることにより算出することができる。
In general formula (1), P represents a monovalent substituent having two or more repeating units. When m is 2 or more, m Ps may be the same or different.
When m is 1, P represents a monovalent substituent having 2 or more repeating units (preferably 2 to 100, more preferably 2 to 50, still more preferably 2 to 20). When m is 2 or more, the average number of m repeating units of P is 2 or more (preferably 2 to 100, more preferably 2 to 50, and further preferably 2 to 20). It is. According to this aspect, the flatness of the coating film is improved.
The number of repeating units when m is 1, and when m is 2 or more, the average value of the number of m repeating units can be determined by NMR (Nuclear Magnetic Resonance). Specifically, for example, m can be calculated from the peak area ratio between the (m + n) -valent linking group represented by R 1 and the dye structure D, and the peak area ratio of the repeating unit can be calculated by dividing by m. .

Pを構成する繰り返し単位としては、酸基等のアルカリ可溶性基を含む繰り返し単位、重合性基を含む繰り返し単位、マクロモノマーに由来する繰り返し単位等が例示され、酸基等のアルカリ可溶性基を含む繰り返し単位を少なくとも含むことが好ましい。これらの繰り返し単位は、それぞれ、1種類のみ含んでいても良いし、2種類以上含んでいても良い。以下、これらの繰り返し単位について詳細に説明する。   Examples of the repeating unit constituting P include a repeating unit containing an alkali-soluble group such as an acid group, a repeating unit containing a polymerizable group, a repeating unit derived from a macromonomer, etc., and an alkali-soluble group such as an acid group. It is preferable to include at least a repeating unit. Each of these repeating units may contain only one type or two or more types. Hereinafter, these repeating units will be described in detail.

<<<<酸基を含む繰り返し単位>>>>
酸基を含む繰り返し単位の酸基としては、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基が例示される。酸基を含む繰り返し単位に含まれる酸基は1種類のみ含まれていても良いし、2種類以上含まれていても良い。
Pが、酸基を含む繰り返し単位を含有する場合、酸基を有する繰り返し単位を含有する繰り返し単位の割合は、Pを構成する繰り返し単位100モルに対し、10〜80モルが好ましく、10〜65モルがより好ましい。
<<<<< Repeating unit containing an acid group >>>>
Examples of the acid group of the repeating unit containing an acid group include a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group. One type of acid group contained in the repeating unit containing an acid group may be contained, or two or more types may be contained.
When P contains a repeating unit containing an acid group, the ratio of the repeating unit containing a repeating unit having an acid group is preferably 10 to 80 mol with respect to 100 mol of the repeating unit constituting P, and 10 to 65 Mole is more preferred.

<<<<他のアルカリ可溶性基を含む繰り返し単位>>>>
他のアルカリ可溶性基を含む繰り返し単位としては、フェノール性水酸基等を含む繰り返し単位が例示される。
また、Pは、2〜20個の無置換のアルキレンオキシ鎖の繰り返しからなる基を側鎖に有する繰り返し単位(以下、「(b)繰り返し単位」ということがある)を含んでいることも好ましい。
(b)繰り返し単位が有するアルキレンオキシ鎖の繰り返しの数は、2〜10個が好ましく、2〜15個がより好ましく、2〜10個がさらに好ましい。
1つのアルキレンオキシ鎖は、−(CH2nO−で表され、nは整数であるが、nは1〜10が好ましく、1〜5がより好ましく、2または3がさらに好ましい。
2〜20個の無置換のアルキレンオキシ鎖の繰り返しからなる基は、アルキレンオキシ鎖が1種類のみが含まれていても良いし、2種類以上含まれていても良い。
(b)繰り返し単位は、下記一般式で表されることが好ましい。

(式中、X1は重合によって形成される連結基を表し、L1は単結合または2価の連結基を表す。Pはアルキレンオキシ鎖の繰り返しからなる基を含む基を表す。)
一般式(P)におけるX1およびL1はそれぞれ、一般式(A)におけるX1およびL1と同義であり、好ましい範囲も同様である。
Pは、アルキレンオキシ鎖の繰り返しからなる基を含む基を表し、−アルキレンオキシ鎖の繰り返しからなる基−末端原子または末端基からなることがより好ましい。
末端原子または末端基としては、水素原子、アルキル基、アリール基、水酸基が好ましく、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、フェニル基、水酸基がより好ましく、水素原子、メチル基、フェニル基および水酸基がさらに好ましく、水素原子が特に好ましい。
<<<<< Repeating unit containing other alkali-soluble groups >>>>
Examples of the repeating unit containing another alkali-soluble group include a repeating unit containing a phenolic hydroxyl group and the like.
Further, P preferably contains a repeating unit having a group consisting of repeating 2 to 20 unsubstituted alkyleneoxy chains in the side chain (hereinafter sometimes referred to as “(b) repeating unit”). .
(B) The number of repeating alkyleneoxy chains in the repeating unit is preferably 2 to 10, more preferably 2 to 15, and still more preferably 2 to 10.
One alkyleneoxy chain is represented by — (CH 2 ) n O—, and n is an integer, but n is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, and further preferably 2 or 3.
In the group consisting of repeating 2 to 20 unsubstituted alkyleneoxy chains, only one kind of alkyleneoxy chain may be contained, or two or more kinds may be contained.
(B) The repeating unit is preferably represented by the following general formula.

(Wherein X 1 represents a linking group formed by polymerization, L 1 represents a single bond or a divalent linking group, and P represents a group containing a group consisting of repeating alkyleneoxy chains.)
X 1 and L 1 in the general formula (P) have the same meanings as X1 and L1 in the general formula (A), respectively, and preferred ranges thereof are also the same.
P represents a group containing a group consisting of repeating alkyleneoxy chains, more preferably a group consisting of repeating alkyleneoxy chains-terminal atom or terminal group.
The terminal atom or terminal group is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a hydroxyl group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a phenyl group or a hydroxyl group, a hydrogen atom, a methyl group, a phenyl group and A hydroxyl group is more preferred, and a hydrogen atom is particularly preferred.

以下、(b)繰り返し単位の例を示すが、これらに限定されるものではない。

Pが他のアルカリ可溶性基を含む繰り返し単位を含む場合、Pを構成する繰り返し単位100モルに対し、例えば、10〜80モルが好ましく、10〜65モルがより好ましい。
また、酸基または他のアルカリ可溶性基を含む、全アルカリ可溶性基を含む繰り返し単位の割合は、Pを構成する繰り返し単位100モルに対し、例えば、10〜80モルが好ましく、10〜65モルがより好ましい。
Examples of the repeating unit (b) are shown below, but are not limited thereto.

When P includes a repeating unit containing another alkali-soluble group, for example, 10 to 80 mol is preferable and 10 to 65 mol is more preferable with respect to 100 mol of the repeating unit constituting P.
Moreover, the ratio of the repeating unit containing all alkali-soluble groups including an acid group or another alkali-soluble group is preferably, for example, 10 to 80 mol, and 10 to 65 mol with respect to 100 mol of the repeating unit constituting P. More preferred.

<<<<重合性基を含む繰り返し単位>>>>
重合性基を含む繰り返し単位に含まれる重合性基としては、ラジカル、酸、熱により架橋可能な公知の重合性基を用いることができ、例えば、エチレン性不飽和結合を含む基、環状エーテル基(エポキシ基、オキセタン基)、メチロール基等が挙げられるが、特にエチレン性不飽和結合を含む基が好ましく、(メタ)アクリロイル基がさらに好ましく、(メタ)アクリル酸グリシジルおよび3,4−エポキシーシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート由来の(メタ)アクリロイル基がさらに好ましい。
<<<<< Repeating unit containing a polymerizable group >>>>
As the polymerizable group contained in the repeating unit containing a polymerizable group, a known polymerizable group that can be crosslinked by a radical, an acid, or heat can be used. For example, a group containing an ethylenically unsaturated bond, a cyclic ether group (Epoxy group, oxetane group), methylol group and the like are mentioned, but a group containing an ethylenically unsaturated bond is particularly preferable, (meth) acryloyl group is more preferable, glycidyl (meth) acrylate and 3,4-epoxycyclohexyl. A (meth) acryloyl group derived from methyl (meth) acrylate is more preferred.

重合性基の導入方法としては、(1)(a)繰り返し単位等重合性基を導入したい繰り返し単位に重合性基含有化合物で変性して導入する方法、(2)重合性基含有化合物を共重合して導入する方法等がある。   As a method for introducing a polymerizable group, (1) (a) a method in which a polymerizable group such as a repeating unit is introduced by modifying a repeating unit to be introduced with a polymerizable group-containing compound, and (2) a polymerizable group-containing compound is commonly used. There are methods such as polymerization and introduction.

色素構造を有する分散剤に含まれる重合性基量は、含まれる場合、色素構造1gに対し0.1〜2.0mmolであることが好ましく、0.2〜1.5mmolであることがさらに好ましく、0.3〜1.0mmolであることが特に好ましい。
また、Pが重合性基を含む繰り返し単位を含む場合、その量は、Pを構成する全繰り返し単位100モルに対し、例えば、5〜40モルが好ましく、5〜35モルがより好ましい。
When included, the amount of the polymerizable group contained in the dispersant having a dye structure is preferably 0.1 to 2.0 mmol, more preferably 0.2 to 1.5 mmol, relative to 1 g of the dye structure. 0.3 to 1.0 mmol is particularly preferable.
Moreover, when P contains the repeating unit containing a polymeric group, 5-40 mol is preferable with respect to 100 mol of all the repeating units which comprise P, and 5-35 mol is more preferable.

上記重合性基を有する繰り返し単位としては、以下のような具体例が挙げられる。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the repeating unit having a polymerizable group include the following. However, the present invention is not limited to these.


<<<<マクロモノマーに由来する繰り返し単位>>>>
マクロモノマーに由来する繰り返し単位は、エチレン性不飽和単量体に由来する繰り返し単位であることが好ましい。マクロモノマーに由来する繰り返し単位は、1種のみ含まれていても良いし、2種以上含まれていてもよい。
マクロモノマーに由来する繰り返し単位の重量平均分子量は、1,000以上50,000以下が好ましく、1,000以上20,000以下がより好ましく、2,000以上10,000以下がさらに好ましく、2,000以上5,000以下が特に好ましい。
<<<<< Repeating unit derived from macromonomer >>>>
The repeating unit derived from the macromonomer is preferably a repeating unit derived from the ethylenically unsaturated monomer. One type of repeating unit derived from the macromonomer may be included, or two or more types may be included.
The weight average molecular weight of the repeating unit derived from the macromonomer is preferably 1,000 or more and 50,000 or less, more preferably 1,000 or more and 20,000 or less, still more preferably 2,000 or more and 10,000 or less, 000 or more and 5,000 or less are particularly preferable.

マクロモノマーに由来する繰り返し単位としては、柔軟性且つ親溶剤性に優れるポリエステル系マクロモノマー部位を有する繰り返し単位が、顔料の分散性、分散安定性および顔料分散液を用いた着色組成物が示す現像性の観点から好ましい。
マクロモノマーに由来する繰り返し単位は、下記一般式(b−3A)で表されることが好ましく、下記一般式(b−3B)で表されることがより好ましく、下記一般式(b−3C)で表されることがさらに好ましい。
一般式(b−3A)

(一般式(b−3A)中、R3Aは水素原子またはメチル基を表す。L3Aは単結合または2価の連結基を表す。A3Aは(b−3)重量平均分子量が1000以上50000以下の部位を表す。)
一般式(b−3A)中、L3Aが2価の連結基を表す場合、2価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基およびヘテロアリーレン基から選択される少なくとも1種、または、これらの基と−NH−、−CO−、−CONH−、−CO2−、−SO2NH−、−O−、−S−および−SO2−から選択される少なくとも1種の基との組み合わせからなる基が挙げられ、特に、アルキレン基と、−CO2−と、−CO−と、−CONH−との組み合わせからなる基が好ましい。
As a repeating unit derived from a macromonomer, a repeating unit having a polyester-based macromonomer moiety that is excellent in flexibility and solvophilicity is a pigment dispersibility, dispersion stability, and development exhibited by a coloring composition using a pigment dispersion. From the viewpoint of sex.
The repeating unit derived from the macromonomer is preferably represented by the following general formula (b-3A), more preferably represented by the following general formula (b-3B), and the following general formula (b-3C). It is further preferred that
General formula (b-3A)

(In the general formula (b-3A), R 3A represents a hydrogen atom or a methyl group. L 3A represents a single bond or a divalent linking group. A 3A has (b-3) a weight average molecular weight of 1,000 to 50,000. The following parts are represented.)
In the general formula (b-3A), when L 3A represents a divalent linking group, the divalent linking group is at least one selected from an alkylene group, an arylene group, and a heteroarylene group, or these group and -NH -, - CO -, - CONH -, - CO 2 -, - SO 2 NH -, - O -, - a combination of at least one group selected from - S- and -SO 2 comprising group, and particularly, an alkylene group, -CO 2 - and, a -CO-, preferably a group comprising a combination of -CONH-.

一般式(b−3B)

(一般式(b−3B)中、R3Aは水素原子またはメチル基を表す。L3Aは単結合または2価の連結基を表す。R3Bはアルキレン基を表す。R3Cはアルキル基を表す。nは5〜100の整数を表す。)
一般式(b−3B)中、L3Aは、上述した一般式(b−3A)中のL3Aと同義であり、好ましい範囲も同様である。
一般式(b−3B)中、R3Bは炭素数1〜10の直鎖または分岐のアルキレン基が好ましく、炭素数1〜10の直鎖のアルキレン基がより好ましく、無置換の炭素数5〜20の直鎖のアルキレン基がさらに好ましく、−(CH25−が特に好ましい。
一般式(b−3B)中、R3Cは、炭素数5〜20の直鎖または分岐のアルキル基が好ましい。
一般式(b−3B)中、nは5〜100の整数を表し、5〜80の整数が好ましい。
General formula (b-3B)

(In general formula (b-3B), R 3A represents a hydrogen atom or a methyl group, L 3A represents a single bond or a divalent linking group, R 3B represents an alkylene group, and R 3C represents an alkyl group. N represents an integer of 5 to 100.)
In General Formula (b-3B), L 3A has the same meaning as L 3A in General Formula (b-3A) described above, and the preferred range is also the same.
In the general formula (b-3B), R 3B is preferably a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably a linear alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and an unsubstituted 5-carbon group. 20 straight-chain alkylene groups are more preferred, and — (CH 2 ) 5 — is particularly preferred.
In general formula (b-3B), R 3C is preferably a linear or branched alkyl group having 5 to 20 carbon atoms.
In general formula (b-3B), n represents the integer of 5-100, and the integer of 5-80 is preferable.

一般式(b−3C)

(一般式(b−3C)中、R3Aは水素原子またはメチル基を表す。R3Bはアルキレン基を表す。R3Cはアルキル基を表す。nは5〜100の整数を表す。)
一般式(b−3C)中、R3A、R3B、R3Cおよびnは、上述した一般式(b−3B)中のR3A、R3B、R3Cおよびnと同義であり、好ましい範囲も同様である。
マクロモノマーに由来する繰り返し単位の例としては、下記式が挙げられる。下記式において、nは5〜100の整数であり、例えば、n=10、n=30、n=50などが好ましい例として挙げられる。
General formula (b-3C)

(In the general formula (b-3C), R 3A represents a hydrogen atom or a methyl group. R 3B represents an alkylene group. R 3C represents an alkyl group. N represents an integer of 5 to 100.)
In the general formula (b-3C), R 3A , R 3B, R 3C and n, R 3A in general formula (b-3B), R 3B , have the same meaning as R 3C and n, the preferable ranges It is the same.
The following formula is mentioned as an example of the repeating unit derived from a macromonomer. In the following formula, n is an integer of 5 to 100. For example, n = 10, n = 30, n = 50 and the like are preferable examples.

また、市販品のマクロモノマー、例えば、東亜合成製のAA−6由来の繰り返し単位も本発明における好ましいマクロモノマーに由来する繰り返し単位の例に挙げられる。
Pがマクロモノマーに由来する繰り返し単位を含む場合、その割合は、全繰り返し単位100モルに対し、3〜20モルが好ましい。
Commercially available macromonomers, for example, repeating units derived from AA-6 manufactured by Toa Gosei are also examples of preferred repeating units derived from the macromonomer in the present invention.
When P contains a repeating unit derived from a macromonomer, the ratio is preferably 3 to 20 mol with respect to 100 mol of all repeating units.

<<<<他の繰り返し単位>>>>
本発明におけるPは、上述した繰り返し単位以外の繰り返し単位を有していても良い。具体的には、Pに含まれていても良い繰り返し単位としては、ラクトン基、酸無水物基、アミド基、−COCH2CO−、シアノ基等の現像促進基、長鎖および環状アルキル基、アラルキル基、アリール基、ポリアルキレンオキシド基、ヒドロキシル基、マレイミド基、アミノ基等の親疏水性調整基等から選択される少なくとも1種を含む繰り返し単位が例示される。
これらは、1種類のみ含まれていても良いし、2種類以上含まれていても良い。
導入方法として、色素構造にあらかじめ導入しておく方法、および上記の基を有するモノマーを共重合する方法が挙げられる。
Pが他の繰り返し単位を含む場合、その割合は、全繰り返し単位100モルに対し、3〜20モルが好ましい。
<<<<< other repeating unit >>>>
P in the present invention may have a repeating unit other than the repeating units described above. Specifically, the repeating unit that may be contained in P includes a lactone group, an acid anhydride group, an amide group, —COCH 2 CO—, a development promoting group such as a cyano group, a long chain and a cyclic alkyl group, Examples thereof include a repeating unit containing at least one selected from an aralkyl group, an aryl group, a polyalkylene oxide group, a hydroxyl group, a maleimide group, an affinity control group such as an amino group, and the like.
These may be included in only one type, or may be included in two or more types.
Examples of the introduction method include a method in which the dye structure is introduced in advance and a method in which a monomer having the above group is copolymerized.
When P contains another repeating unit, the ratio is preferably 3 to 20 mol with respect to 100 mol of all repeating units.

上述した酸基を含む繰り返し単位等、または、他の繰り返し単位の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。また、後述する実施例で用いる、M−10、O−6、O−7等由来の繰り返し単位も好ましい例として用いられることは言うまでもない。   Although the specific example of the repeating unit containing the acid group mentioned above or other repeating units is shown, this invention is not limited to this. Needless to say, repeating units derived from M-10, O-6, O-7, etc. used in the examples described later are also used as preferred examples.

一般式(I)中、Dは上述した色素構造を表す。好ましい範囲も同義である。   In general formula (I), D represents the dye structure described above. The preferred range is also synonymous.

<<一般式(1)で表される色素構造を有する分散剤の合成方法>>
上記一般式(1)で表される色素構造を有する分散剤は、下記方法などにより合成することができる。
(1)カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基等から選択される官能基を末端に導入したポリマーと、色素構造を有する酸ハライド、色素構造を有するアルキルハライド、あるいは色素構造を有するイソシアネート等と、を高分子反応させる方法。
(2)末端に炭素−炭素二重結合を導入したポリマーと、色素構造を有するメルカプタンと、をマイケル付加反応させる方法。
(3)末端に炭素−炭素二重結合を導入したポリマーと、色素構造を有するメルカプタンと、をラジカル発生剤存在下で反応させる方法。
(4)末端に複数のメルカプタンを導入したポリマーと、炭素−炭素二重結合および色素構造とを有する化合物と、をラジカル発生剤存在下で反応させる方法。
(5)色素構造を有するチオール化合物の存在下で、ビニル化合物をラジカル重合する方法。
上記のうち、合成上の容易さから、(2)〜(5)の合成方法が好ましく、(3)〜(5)の合成方法がより好ましい。
<< Synthesis Method of Dispersant Having Dye Structure Represented by General Formula (1) >>
The dispersant having the dye structure represented by the general formula (1) can be synthesized by the following method.
(1) A polymer in which a functional group selected from a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group or the like is introduced at the end, an acid halide having a dye structure, an alkyl halide having a dye structure, an isocyanate having a dye structure, or the like. Polymer reaction method.
(2) A method in which a polymer having a carbon-carbon double bond introduced at a terminal thereof and a mercaptan having a dye structure are subjected to a Michael addition reaction.
(3) A method of reacting a polymer having a carbon-carbon double bond introduced at the terminal thereof with a mercaptan having a dye structure in the presence of a radical generator.
(4) A method of reacting a polymer having a plurality of mercaptans introduced at its terminal with a compound having a carbon-carbon double bond and a dye structure in the presence of a radical generator.
(5) A method in which a vinyl compound is radically polymerized in the presence of a thiol compound having a dye structure.
Among the above, the synthesis methods (2) to (5) are preferable and the synthesis methods (3) to (5) are more preferable because of ease of synthesis.

上記(5)の合成方法として、より具体的には、下記一般式(3)で表される化合物の存在下でラジカル重合させる方法が好ましい。   More specifically, the synthesis method (5) is preferably a radical polymerization method in the presence of a compound represented by the following general formula (3).

(D−R4−(S)pn−R3−(SH)m ・・・(3)
一般式(3)中、R3は、(m+n)価の連結基を表し、Dは、色素構造を表し、R4は、単結合または2価の連結基を表し、Sは、硫黄原子を表し、SHは、チオール基を表し、mは、1〜13の整数を表し、nは、2〜14の整数を表し、nが2以上の場合、複数のDは互いに異なっていても良く、m+nは、2〜15の整数を表し、pは0または1を表す。
(D-R 4 - (S ) p) n -R 3 - (SH) m ··· (3)
In general formula (3), R 3 represents an (m + n) -valent linking group, D represents a dye structure, R 4 represents a single bond or a divalent linking group, and S represents a sulfur atom. And SH represents a thiol group, m represents an integer of 1 to 13, n represents an integer of 2 to 14, and when n is 2 or more, a plurality of D may be different from each other, m + n represents an integer of 2 to 15, and p represents 0 or 1.

一般式(3)中、Dは、一般式(1)におけるDと同義であり、好ましい態様も同様である。
一般式(3)中、R3は、一般式(1)におけるR1と同義であり、好ましい態様も同様である。
一般式(3)中、R4は、一般式(1)におけるR2と同義であり、好ましい態様も同様である。
一般式(3)中、mおよびnは、それぞれ一般式(1)におけるmおよびnと同義であり、好ましい態様も同様である。
一般式(3)中、pは0または1を表す。
In general formula (3), D is synonymous with D in general formula (1), and its preferable aspect is also the same.
In the general formula (3), R 3 has the same meaning as R 1 in the general formula (1), a preferable embodiment thereof is also the same.
In general formula (3), R 4 has the same meaning as R 2 in general formula (1), and the preferred embodiment is also the same.
In general formula (3), m and n have the same meanings as m and n in general formula (1), respectively, and the preferred embodiments are also the same.
In general formula (3), p represents 0 or 1.

一般式(3)で表される化合物は、以下の方法等で合成することができるが、合成上の容易さから、下記(7)の方法がより好ましい。
(6)色素構造を有するハライド化合物からメルカプタン化合物に変換する方法(チオ尿素と反応させ、加水分解する方法、NaSHと直接反応させる方法、CH3COSNaと反応させ、加水分解させる方法などが挙げられる)
(7)一分子中に2〜15個のメルカプト基を有する化合物に、色素構造を有し、かつメルカプト基と反応可能な官能基を有する化合物を付加反応させる方法
The compound represented by the general formula (3) can be synthesized by the following method or the like, but the following method (7) is more preferable from the viewpoint of ease of synthesis.
(6) A method of converting a halide compound having a dye structure into a mercaptan compound (a method of reacting with thiourea and hydrolyzing, a method of reacting directly with NaSH, a method of reacting with CH 3 COSNa and hydrolyzing, etc.) )
(7) A method in which a compound having a dye structure and a functional group capable of reacting with a mercapto group is added to a compound having 2 to 15 mercapto groups in one molecule.

上記(7)における「メルカプト基と反応可能な官能基」としては、酸ハライド、アルキルハライド、イソシアネート、炭素−炭素二重結合などが好適に挙げられる。
「メルカプト基と反応可能な官能基」が炭素−炭素二重結合であり、付加反応がラジカル付加反応であることが特に好ましい。なお、炭素−炭素二重結合としては、メルカプト基との反応性の点で、1置換もしくは2置換のビニル基がより好ましい。
Suitable examples of the “functional group capable of reacting with a mercapto group” in (7) above include acid halides, alkyl halides, isocyanates, and carbon-carbon double bonds.
It is particularly preferable that the “functional group capable of reacting with a mercapto group” is a carbon-carbon double bond, and the addition reaction is a radical addition reaction. The carbon-carbon double bond is more preferably a mono- or di-substituted vinyl group in terms of reactivity with the mercapto group.

一分子中に2〜15個のメルカプト基を有する化合物の具体的な例としては、以下の化合物が挙げられる。   Specific examples of the compound having 2 to 15 mercapto groups in one molecule include the following compounds.

上記の中でも、原料の入手性、合成の容易さ、各種溶媒への溶解性の観点から、特に好ましい化合物は、(S−1)、(S−2)、(S−10)、(S−11)、(S−16)〜(S−20)、(S−26)〜(S−29)である。   Among the above, from the viewpoints of availability of raw materials, ease of synthesis, and solubility in various solvents, particularly preferred compounds are (S-1), (S-2), (S-10), (S- 11), (S-16) to (S-20), and (S-26) to (S-29).

「一分子中に2〜15個のメルカプト基を有する化合物」と、「色素構造を有し、かつメルカプト基と反応可能な官能基を有する化合物」とのラジカル付加反応生成物は、例えば、上記の「一分子中に2〜15個のメルカプト基を有する化合物」および「色素構造を有し、かつメルカプト基と反応可能な官能基を有する化合物」を適当な溶媒中に溶解し、ここにラジカル発生剤を添加して、約50℃〜100℃で、付加させる方法(チオール−エン反応法)を利用して得られる。   The radical addition reaction product of “a compound having 2 to 15 mercapto groups in one molecule” and “a compound having a dye structure and a functional group capable of reacting with a mercapto group” is, for example, Are dissolved in a suitable solvent, and the radicals are dissolved in a radical solvent. The “compound having 2 to 15 mercapto groups in one molecule” and “the compound having a dye structure and having a functional group capable of reacting with a mercapto group” It is obtained using a method (thiol-ene reaction method) in which a generator is added and added at about 50 to 100 ° C.

チオール−エン反応法で用いられる適当な溶媒の例としては、「一分子中に3〜10個のメルカプト基を有する化合物」、「色素構造を有し、かつメルカプト基と反応可能な官能基を有する化合物」、および「生成するラジカル付加反応生成物」の溶解性に応じて任意に選択できる。
例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メトキシプロピルアセテート、乳酸エチル、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、トルエンが挙げられる。これらの溶媒は、二種以上を混合して使用してもよい。
Examples of suitable solvents used in the thiol-ene reaction method include “a compound having 3 to 10 mercapto groups in one molecule”, “a functional group having a dye structure and capable of reacting with a mercapto group”. It can be arbitrarily selected according to the solubility of the “compound having” and the “radical addition reaction product to be produced”.
For example, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methoxypropyl acetate, ethyl lactate, ethyl acetate, acetonitrile, tetrahydrofuran, dimethyl Examples include formamide, chloroform, and toluene. These solvents may be used as a mixture of two or more.

また、ラジカル発生剤としては、2,2'−アゾビス(イソブチロニトリル)(AIBN)、2,2'−アゾビス−(2,4'−ジメチルバレロニトリル)、2,2'−アゾビスイソ酪酸ジメチルのようなアゾ化合物、ベンゾイルパーオキシドのような過酸化物、および過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムのような過硫酸塩などが利用できる。   In addition, as radical generators, 2,2′-azobis (isobutyronitrile) (AIBN), 2,2′-azobis- (2,4′-dimethylvaleronitrile), dimethyl 2,2′-azobisisobutyrate Azo compounds such as benzoyl peroxide, peroxides such as benzoyl peroxide, and persulfates such as potassium persulfate and ammonium persulfate.

上記(5)の合成方法で用いられるビニル化合物としては、特に制限されないが、例えば、上記一般式(1)のPで表される置換基を得る際に用いられるビニル化合物と同様のものが用いられる。
ビニル化合物は一種のみで重合させてもよいし、二種以上を併用して共重合させてもよい。
また、アルカリ現像処理が必要な光硬化性組成物に適用する場合、1種以上の酸基を有するビニル化合物と、1種以上の酸基を有さないビニル化合物と、を共重合させることがより好ましい。
Although it does not restrict | limit especially as a vinyl compound used with the synthesis method of said (5), For example, the thing similar to the vinyl compound used when obtaining the substituent represented by P of the said General formula (1) is used. It is done.
Only one vinyl compound may be polymerized, or two or more vinyl compounds may be used in combination.
Moreover, when applying to the photocurable composition which needs an alkali image development process, the vinyl compound which has 1 or more types of acid groups, and the vinyl compound which does not have 1 or more types of acid groups may be copolymerized. More preferred.

特に、ビニル化合物と、一般式(3)で表される化合物とを用いて、公知の方法で常法に従って重合させることが好ましい。なお、一般式(3)で表される化合物は、連鎖移動剤として機能するものであり、以下、単に「連鎖移動剤」と称することがある。
例えば、これらのビニル化合物、および連鎖移動剤を適当な溶媒中に溶解し、ここにラジカル重合開始剤を添加して、約50℃〜220℃で、溶液中で重合させる方法(溶液重合法)を利用して得られる。
In particular, it is preferable to perform polymerization according to a conventional method using a vinyl compound and a compound represented by the general formula (3) by a known method. In addition, the compound represented by the general formula (3) functions as a chain transfer agent, and may be simply referred to as “chain transfer agent” hereinafter.
For example, a method in which these vinyl compound and chain transfer agent are dissolved in a suitable solvent, a radical polymerization initiator is added thereto and polymerized in a solution at about 50 ° C. to 220 ° C. (solution polymerization method) Can be obtained using

溶液重合法で用いられる適当な溶媒の例としては、用いるモノマー、および生成する共重合体の溶解性に応じて任意に選択できる。例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メトキシプロピルアセテート、乳酸エチル、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、トルエンが挙げられる。これらの溶媒は、二種以上を混合して使用してもよい。   Examples of suitable solvents used in the solution polymerization method can be arbitrarily selected depending on the monomers used and the solubility of the resulting copolymer. For example, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methoxypropyl acetate, ethyl lactate, ethyl acetate, acetonitrile, tetrahydrofuran, dimethyl Examples include formamide, chloroform, and toluene. These solvents may be used as a mixture of two or more.

また、ラジカル重合開始剤としては、2,2'−アゾビス(イソブチロニトリル)、2,2'−アゾビス−(2,4'−ジメチルバレロニトリル)、2,2'−アゾビスイソ酪酸ジメチルのようなアゾ化合物、ベンゾイルパーオキシドのような過酸化物、および過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムのような過硫酸塩などが利用できる。   Examples of radical polymerization initiators include 2,2′-azobis (isobutyronitrile), 2,2′-azobis- (2,4′-dimethylvaleronitrile), and dimethyl 2,2′-azobisisobutyrate. Other azo compounds, peroxides such as benzoyl peroxide, and persulfates such as potassium persulfate and ammonium persulfate can be used.

<<<色素構造を有する分散剤の第2の実施形態>>>
色素構造を有する分散剤の他の実施形態としては、色素構造を有する繰り返し単位(以下、「(a)繰り返し単位」ということがある)を含む多量体が例示される。
<<< Second Embodiment of Dispersant Having Dye Structure >>>
Another embodiment of the dispersant having a dye structure is exemplified by a multimer containing a repeating unit having a dye structure (hereinafter sometimes referred to as “(a) repeating unit”).

(a)繰り返し単位の骨格構造としては、特に定めるものではないが、特開2013−28764号の段落番号0276〜0304に示される、一般式(A)、一般式(B)、および、一般式(C)で表される繰り返し単位の少なくとも一つを骨格とすることが好ましく、または、一般式(D)で表される多量体であることが好ましい。特開2013−28764号の段落番号0276〜0304の記載は、本明細書に組み込まれる。
色素構造を有する分散剤は、(a)繰り返し単位の骨格構造の中では、下記一般式(A)で表される繰り返し単位を含む多量体を含むことが好ましい。
色素構造を有する繰り返し単位の割合は、上記多量体を構成する全繰り返し単位の10〜35モル%であることが好ましく、15〜30モル%であることがより好ましい。
(A) The skeleton structure of the repeating unit is not particularly defined, but is represented by general formula (A), general formula (B), and general formula shown in paragraph numbers 0276 to 0304 of JP2013-28764A. It is preferable that at least one of the repeating units represented by (C) is a skeleton, or a multimer represented by the general formula (D) is preferable. The description of paragraph numbers 0276 to 0304 of JP2013-28764 is incorporated in the present specification.
The dispersant having a dye structure preferably includes a multimer containing a repeating unit represented by the following general formula (A) in the skeleton structure of the repeating unit (a).
The ratio of the repeating unit having a dye structure is preferably 10 to 35 mol%, more preferably 15 to 30 mol%, based on all repeating units constituting the multimer.

一般式(A)で表される繰り返し単位

(一般式(A)中、X1は重合によって形成される連結基を表し、L1は単結合または2価の連結基を表す。DyeIは色素構造を表す。)
Repeating unit represented by formula (A)

(In general formula (A), X 1 represents a linking group formed by polymerization, L 1 represents a single bond or a divalent linking group, and Dye I represents a dye structure.)

一般式(A)中、X1は重合によって形成される連結基を表す。すなわち重合反応で形成される主鎖に相当する繰り返し単位を形成する部分を指す。なお、2つの*で表された部位が繰り返し単位となる。X1は、−CH2−CH2−または−CH2−C(CH3)−であることが好ましい。L1が2価の連結基を表す場合の2価の連結基としては、炭素数1〜30の置換もしくは無置換のアルキレン基(例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブチレン基など)、炭素数6〜30の置換もしくは無置換のアリーレン基(例えば、フェニレン基、ナフチレン基等)、置換もしくは無置換のヘテロ環連結基、−CH=CH−、−O−、−S−、−C(=O)−、−CO2−、−NR−、−CONR−、−O2C−、−SO−、−SO2−およびこれらを2個以上連結して形成される連結基を表し、−COO−またはフェニレン基を含む連結基であることが好ましい。
1−L1部分の構造としては、特に下記(XX−1)〜(XX−24)で表される連結基が好ましく、(XX−1)および(XX−2)で表される(メタ)アクリル系連結鎖、(XX−10)〜(XX−17)で表されるスチレン系連結鎖、(XX−18)および(XX−19)、並びに、(XX−24)で表されるビニル系連結鎖から選択されることがより好ましく、(XX−1)および(XX−2)で表される(メタ)アクリル系連結鎖、(XX−10)〜(XX−17)で表されるスチレン系連結鎖、(XX−24)で表されるビニル系連結鎖から選択されることがより好ましく、(XX−1)および(XX−2)で表される(メタ)アクリル系連結鎖および(XX−11)で表されるスチレン系連結鎖がより好ましい。
(XX−1)〜(XX−24)中、*で示された部位でL1と連結していることを表す。
Meはメチル基を表す。また、(XX−18)および(XX−19)中のRは、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基またはフェニル基を表す。
In general formula (A), X 1 represents a linking group formed by polymerization. That is, it refers to a portion that forms a repeating unit corresponding to the main chain formed by the polymerization reaction. Two sites represented by * are repeating units. X 1 is preferably —CH 2 —CH 2 — or —CH 2 —C (CH 3 ) —. When L 1 represents a divalent linking group, the divalent linking group may be a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 30 carbon atoms (for example, a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a propylene group, a butylene group). Etc.), a substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 30 carbon atoms (eg, phenylene group, naphthylene group, etc.), substituted or unsubstituted heterocyclic linking group, —CH═CH—, —O—, —S—. , —C (═O) —, —CO 2 —, —NR—, —CONR—, —O 2 C—, —SO—, —SO 2 — and a linking group formed by linking two or more thereof. Represents a linking group containing —COO— or a phenylene group.
The structure of the X 1 -L 1 moiety is particularly preferably a linking group represented by the following (XX-1) to (XX-24), and represented by (XX-1) and (XX-2) (meta ) Acrylic linking chain, styrene linking chains represented by (XX-10) to (XX-17), (XX-18) and (XX-19), and vinyl represented by (XX-24) It is more preferable to be selected from a system linking chain, and it is represented by (XX)-(XX-10) to (XX-17) (meth) acrylic linking chains represented by (XX-1) and (XX-2). More preferably, the styrenic linking chain is selected from vinyl linking chains represented by (XX-24), (meth) acrylic linking chains represented by (XX-1) and (XX-2) and A styrene-based connecting chain represented by (XX-11) is more preferable.
In (XX-1) to (XX-24), it represents that L 1 is linked at the site indicated by *.
Me represents a methyl group. R in (XX-18) and (XX-19) represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a phenyl group.



一般式(A)中、DyeIは上述した色素構造を表す。


In general formula (A), DyeI represents the dye structure described above.

一般式(A)で表される繰り返し単位を含む多量体は、(1)色素構造を有するモノマーを付加重合により合成する方法、(2)イソシアネート基、酸無水物基またはエポキシ基等の高反応性官能基を有するポリマーと、高反応性基と反応可能な官能基(ヒドロキシル基、一級または二級アミノ基、カルボキシル基等)を有する色素とを反応させる方法により合成できる。
付加重合には公知の付加重合(ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合)が適用できるが、このうち、特にラジカル重合により合成することが反応条件を穏和化でき、色素構造を分解させないため好ましい。ラジカル重合には、公知の反応条件を適用することができる。すなわち、本発明で用いる多量体は、付加重合体であることが好ましい。
中でも、本発明における一般式(A)で表される繰り返し単位を有する多量体は、耐熱性の観点から、エチレン性不飽和結合を有する色素単量体を用いてラジカル重合して得られたラジカル重合体であることが好ましい。
The multimer containing the repeating unit represented by the general formula (A) is (1) a method of synthesizing a monomer having a dye structure by addition polymerization, and (2) a high reaction such as an isocyanate group, an acid anhydride group or an epoxy group. It can be synthesized by a method of reacting a polymer having a reactive functional group with a dye having a functional group (hydroxyl group, primary or secondary amino group, carboxyl group, etc.) capable of reacting with a highly reactive group.
Known addition polymerizations (radical polymerization, anionic polymerization, cationic polymerization) can be applied to the addition polymerization, but among these, synthesis by radical polymerization is particularly preferable because the reaction conditions can be moderated and the dye structure is not decomposed. Known reaction conditions can be applied to the radical polymerization. That is, the multimer used in the present invention is preferably an addition polymer.
Among them, the multimer having the repeating unit represented by the general formula (A) in the present invention is a radical obtained by radical polymerization using a dye monomer having an ethylenically unsaturated bond from the viewpoint of heat resistance. A polymer is preferred.

以下に、本発明で好ましく用いられる(a)繰り返し単位の例を示す。本発明はこれらに限定されるものではないことは言うまでもない。X-はアニオン部位を示す。また、一部のX-はアニオン構造が解離していない状態で示されているが、解離している状態も本発明に含まれることは言うまでもない。Examples of the repeating unit (a) preferably used in the present invention are shown below. Needless to say, the present invention is not limited to these examples. X represents an anion site. Further, although some X are shown in a state where the anion structure is not dissociated, it is needless to say that the dissociated state is also included in the present invention.

第2の実施形態における色素構造を有する分散剤は、上述した一般式(A)で表される繰り返し単位等の繰り返し単位(a)に加え、他の繰り返し単位を有していても良く、他の繰り返し単位を有していることが好ましい。
他の繰り返し単位としては、酸基等のアルカリ可溶性基を含む繰り返し単位、重合性基を含む繰り返し単位、マクロモノマーに由来する繰り返し単位等が例示され、酸基等のアルカリ可溶性基を含む繰り返し単位を少なくとも含むことが好ましい。これらの繰り返し単位については、上述の色素構造を有する分散剤の第1の実施形態の所で述べた、各繰り返し単位を採用でき、好ましい範囲も同様である。また、上述した繰り返し単位以外の他の繰り返し単位を含んでいてもよく、他の繰り返し単位についても、上述の色素構造を有する分散剤の第1の実施形態の所で述べた、各繰り返し単位を採用でき、好ましい範囲も同様である。
第2の実施形態における色素構造を有する分散剤が、酸基を含む繰り返し単位を含む場合、その割合は、全繰り返し単位の、10〜80モル%が好ましく、10〜65モル%がより好ましい。
第2の実施形態における色素構造を有する分散剤が、他のアルカリ可溶性基を含む繰り返し単位を含む場合、その割合は、全繰り返し単位の、10〜80モル%が好ましく、10〜65モル%がより好ましい。
第2の実施形態における色素構造を有する分散剤が、酸基または他のアルカリ可溶性基を含む、全アルカリ可溶性基を含む繰り返し単位の割合は、全繰り返し単位の、10〜80モル%が好ましく、10〜65モル%がより好ましい。
第2の実施形態における色素構造を有する分散剤が重合性基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は、全繰り返し単位の、5〜40モル%が好ましく、5〜35モル%がより好ましい。
第2の実施形態における色素構造を有する分散剤がマクロモノマーに由来する繰り返し単位を含む場合、その割合は、全繰り返し単位の3〜20モル%が好ましい。
第2の実施形態における色素構造を有する分散剤が、他の繰り返し単位を含む場合、その割合は、全繰り返し単位100モルに対し、3〜20モルが好ましい。
The dispersant having a dye structure in the second embodiment may have other repeating units in addition to the repeating unit (a) such as the repeating unit represented by the general formula (A). It is preferable to have a repeating unit.
Examples of the other repeating unit include a repeating unit containing an alkali-soluble group such as an acid group, a repeating unit containing a polymerizable group, a repeating unit derived from a macromonomer, and the like, and a repeating unit containing an alkali-soluble group such as an acid group It is preferable to contain at least. With respect to these repeating units, the respective repeating units described in the first embodiment of the dispersant having the above-described dye structure can be adopted, and preferred ranges thereof are also the same. In addition, other repeating units other than the above-described repeating units may be included, and each of the repeating units described in the first embodiment of the dispersant having the dye structure described above may be included in the other repeating units. The preferred range is also the same.
In the case where the dispersant having a dye structure in the second embodiment includes a repeating unit containing an acid group, the ratio is preferably 10 to 80 mol%, more preferably 10 to 65 mol% of all repeating units.
When the dispersing agent having a dye structure in the second embodiment includes a repeating unit containing another alkali-soluble group, the ratio is preferably 10 to 80 mol%, and 10 to 65 mol% of all repeating units. More preferred.
The dispersant having the dye structure in the second embodiment contains an acid group or other alkali-soluble group, and the ratio of the repeating units containing all alkali-soluble groups is preferably 10 to 80 mol% of all repeating units, 10-65 mol% is more preferable.
When the dispersing agent having a dye structure in the second embodiment includes a repeating unit having a polymerizable group, the ratio is preferably 5 to 40 mol%, more preferably 5 to 35 mol%, based on all repeating units.
When the dispersant having a dye structure in the second embodiment includes a repeating unit derived from a macromonomer, the ratio is preferably 3 to 20 mol% of all repeating units.
In the case where the dispersant having a dye structure in the second embodiment includes other repeating units, the ratio is preferably 3 to 20 mol with respect to 100 mol of all repeating units.

<<<色素構造を有する分散剤の諸性質>>>
色素構造を有する分散剤の重量平均分子量は、3000以上が好ましく、4000以上がより好ましく、5000以上がさらに好ましい。また、上限は、50000以下が好ましく、40000以下がより好ましく、30000以下がさらに好ましい。上記範囲を満たすことにより、色移り性がより良好となる。さらには、現像性が向上して、現像残渣をより低減できる。
<<<< Various Properties of Dispersant Having Dye Structure >>>>
The weight average molecular weight of the dispersant having a dye structure is preferably 3000 or more, more preferably 4000 or more, and still more preferably 5000 or more. The upper limit is preferably 50000 or less, more preferably 40000 or less, and further preferably 30000 or less. By satisfy | filling the said range, color transfer property becomes more favorable. Furthermore, developability is improved and development residues can be further reduced.

色素構造を有する分散剤の酸価は、10mgKOH/g以上が好ましく、20mgKOH/g以上がより好ましく、27mgKOH/g以上がさらに好ましく、30mgKOH/g以上が特に好ましい。また、酸価の上限は300mgKOH/g以下が好ましく、200mgKOH/g以下がより好ましく、180mgKOH/g以下がさらに好ましく、130mgKOH/g以下が一層好ましく、120mgKOH/g以下がより一層好ましい。上記範囲を満たすことにより、現像性がより向上して、現像残渣をより低減できる。   The acid value of the dispersant having a dye structure is preferably 10 mgKOH / g or more, more preferably 20 mgKOH / g or more, further preferably 27 mgKOH / g or more, and particularly preferably 30 mgKOH / g or more. The upper limit of the acid value is preferably 300 mgKOH / g or less, more preferably 200 mgKOH / g or less, further preferably 180 mgKOH / g or less, still more preferably 130 mgKOH / g or less, and still more preferably 120 mgKOH / g or less. By satisfy | filling the said range, developability improves more and a development residue can be reduced more.

色素構造を有する分散剤の比吸光度の測定方法は、例えば、色素構造を有する分散剤に対して十分な溶解性を有する溶媒を用いて、400nm〜800nmでの最大吸光度が1.0となるように色素構造を有する分散剤を含む溶液の濃度を調整し、かかる溶液の25℃での吸光度を、光路長1cmのセルを用いて測定する方法などが挙げられる。比吸光度を測定する際の溶媒は、色素構造を有する分散剤に対して十分な溶解性を有するものを適宜利用することができる。好ましい溶媒としては、テトラヒドロフラン、メタノール、イソプロピルアルコール、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、酢酸エチル、ヘキサン、トルエン、水、濃硫酸、メタンスルホン酸等が挙げられる。テトラヒドロフランが十分な溶解性をもつ場合にはテトラヒドロフランを利用する。
400nm〜800nmでの最大吸収波長における、上記式(Aλ)で表される比吸光度は、5以上であり、10以上が好ましく、20以上がより好ましく、25以上が特に好ましい。上限は特に定めるものでは無いが、通常は、99以下である。
The method for measuring the specific absorbance of the dispersant having a dye structure is, for example, that the maximum absorbance at 400 nm to 800 nm is 1.0 using a solvent having sufficient solubility in the dispersant having the dye structure. And a method of adjusting the concentration of a solution containing a dispersant having a dye structure and measuring the absorbance of the solution at 25 ° C. using a cell having an optical path length of 1 cm. As the solvent for measuring the specific absorbance, a solvent having sufficient solubility for the dispersant having a dye structure can be appropriately used. Preferred solvents include tetrahydrofuran, methanol, isopropyl alcohol, dimethyl sulfoxide, acetonitrile, ethyl acetate, hexane, toluene, water, concentrated sulfuric acid, methanesulfonic acid and the like. Tetrahydrofuran is used when tetrahydrofuran has sufficient solubility.
The specific absorbance represented by the above formula (Aλ) at the maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm is 5 or more, preferably 10 or more, more preferably 20 or more, and particularly preferably 25 or more. The upper limit is not particularly defined, but is usually 99 or less.

色素構造を有する分散剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上併用してもよい。   The dispersant having a dye structure may be used alone or in combination of two or more.

<<顔料>>
顔料としては、従来公知の種々の無機顔料または有機顔料を用いることができ、有機顔料を用いることが好ましい。顔料としては、高透過率であることが好ましい。
<< Pigment >>
As the pigment, various conventionally known inorganic pigments or organic pigments can be used, and organic pigments are preferably used. The pigment preferably has a high transmittance.

無機顔料としては、金属酸化物、金属錯塩等で示される金属化合物又はカーボンブラック(C.I.ピグメントブラック7)を挙げることができる。金属化合物としては、具体的には、鉄、コバルト、アルミニウム、カドミウム、鉛、銅、チタン、マグネシウム、クロム、亜鉛、アンチモン等の金属酸化物、及び金属の複合酸化物を挙げることができる。   Examples of inorganic pigments include metal compounds represented by metal oxides, metal complex salts, and the like, or carbon black (CI Pigment Black 7). Specific examples of the metal compound include metal oxides such as iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, zinc, and antimony, and metal composite oxides.

有機顔料としては、例えば、
C.I.ピグメントイエロー11,24,31,53,83,93,99,108,109,110,138,139,147,150,151,154,155,167,180,185,199,;
C.I.ピグメントオレンジ36,38,43,71;
C.I.ピグメントレッド81,105,122,149,150,155,171,175,176,177,179,209,220,224,242,254,255,264,270;
C.I.ピグメントバイオレット19,23,32,39;
C.I.ピグメントブルー1,2,15,15:1,15:3,15:6,16,22,60,66;
C.I.ピグメントグリーン7,36,37,58;
C.I.ピグメントブラウン25,28;
C.I.ピグメントブラック1;等を挙げることができる。
As an organic pigment, for example,
C. I. Pigment yellow 11,24,31,53,83,93,99,108,109,110,138,139,147,150,151,154,155,167,180,185,199;
C. I. Pigment orange 36, 38, 43, 71;
C. I. Pigment red 81,105,122,149,150,155,171,175,176,177,179,209,220,224,242,254,255,264,270;
C. I. Pigment violet 19, 23, 32, 39;
C. I. Pigment Blue 1, 2, 15, 15: 1, 15: 3, 15: 6, 16, 22, 60, 66;
C. I. Pigment green 7, 36, 37, 58;
C. I. Pigment brown 25, 28;
C. I. Pigment black 1; and the like.

本発明において好ましく用いることができる顔料として、以下のものを挙げることができる。但し本発明は、これらに限定されるものではない。
C.I.ピグメントイエロー11,24,108,109,110,138,139,150,151,154,167,180,185,
C.I.ピグメントオレンジ36,71,
C.I.ピグメントレッド122,150,171,175,177,209,224,242,254,255,264,
C.I.ピグメントバイオレット19,23,32,
C.I.ピグメントブルー15:1,15:3,15:6,16,22,60,66,
C.I.ピグメントグリーン7,36,37,58;
C.I.ピグメントブラック1
Examples of the pigment that can be preferably used in the present invention include the following. However, the present invention is not limited to these.
C. I. Pigment Yellow 11, 24, 108, 109, 110, 138, 139, 150, 151, 154, 167, 180, 185
C. I. Pigment orange 36, 71,
C. I. Pigment Red 122, 150, 171, 175, 177, 209, 224, 242, 254, 255, 264
C. I. Pigment violet 19, 23, 32,
C. I. Pigment Blue 15: 1, 15: 3, 15: 6, 16, 22, 60, 66,
C. I. Pigment green 7, 36, 37, 58;
C. I. Pigment Black 1

これら有機顔料は、単独もしくは、分光の調整や色純度を上げるために種々組合せて用いることができる。上記組合せの具体例を以下に示す。例えば、赤の顔料として、アントラキノン系顔料、ペリレン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料単独またはそれらの少なくとも一種と、ジスアゾ系黄色顔料、イソインドリン系黄色顔料、キノフタロン系黄色顔料またはペリレン系赤色顔料との混合などを用いることができる。例えば、アントラキノン系顔料としては、C.I.ピグメントレッド177が挙げられ、ペリレン系顔料としては、C.I.ピグメントレッド155、C.I.ピグメントレッド224が挙げられ、ジケトピロロピロール系顔料としては、C.I.ピグメントレッド254が挙げられ、色分解性の点でC.I.ピグメントイエロー139との混合が好ましい。また、赤色顔料と黄色顔料との質量比は、100:5〜100:50が好ましく、100:10〜100:30の範囲がより好ましい。赤色顔料同士の組み合わせの場合は、求める分光に併せて調整することができる。   These organic pigments can be used alone or in various combinations in order to adjust the spectrum and increase the color purity. Specific examples of the above combinations are shown below. For example, as a red pigment, an anthraquinone pigment, a perylene pigment, a diketopyrrolopyrrole pigment alone or at least one of them, a disazo yellow pigment, an isoindoline yellow pigment, a quinophthalone yellow pigment or a perylene red pigment A mixture of these can be used. For example, as an anthraquinone pigment, C.I. I. Pigment red 177, and perylene pigments include C.I. I. Pigment red 155, C.I. I. Pigment Red 224, and diketopyrrolopyrrole pigments include C.I. I. Pigment Red 254, and C.I. I. Mixing with Pigment Yellow 139 is preferred. The mass ratio of the red pigment to the yellow pigment is preferably 100: 5 to 100: 50, and more preferably in the range of 100: 10 to 100: 30. In the case of a combination of red pigments, it can be adjusted in accordance with the desired spectrum.

また、緑色顔料としては、ハロゲン化フタロシアニン系顔料を単独で、または、これとジスアゾ系黄色顔料、キノフタロン系黄色顔料、アゾメチン系黄色顔料若しくはイソインドリン系黄色顔料との混合を用いることができる。例えば、このような例としては、C.I.ピグメントグリーン7、36、37とC.I.ピグメントイエロー83、C.I.ピグメントイエロー138、C.I.ピグメントイエロー139、C.I.ピグメントイエロー150、C.I.ピグメントイエロー180またはC.I.ピグメントイエロー185との混合が好ましい。緑色顔料と黄色顔料との質量比は、100:5〜100:150が好ましく、100:30〜100:120の範囲がより好ましい。   As the green pigment, a halogenated phthalocyanine pigment can be used alone, or a mixture thereof with a disazo yellow pigment, a quinophthalone yellow pigment, an azomethine yellow pigment or an isoindoline yellow pigment can be used. For example, C.I. I. Pigment Green 7, 36, 37 and C.I. I. Pigment yellow 83, C.I. I. Pigment yellow 138, C.I. I. Pigment yellow 139, C.I. I. Pigment yellow 150, C.I. I. Pigment yellow 180 or C.I. I. Mixing with Pigment Yellow 185 is preferred. The mass ratio of the green pigment to the yellow pigment is preferably 100: 5 to 100: 150, and more preferably 100: 30 to 100: 120.

青色顔料としては、フタロシアニン系顔料を単独で、若しくはこれとジオキサジン系紫色顔料との混合を用いることができる。例えばC.I.ピグメントブルー15:6とC.I.ピグメントバイオレット23との混合が好ましい。青色顔料と紫色顔料との質量比は、100:0〜100:100が好ましい。   As the blue pigment, a phthalocyanine pigment alone or a mixture of this with a dioxazine purple pigment can be used. For example, C.I. I. Pigment blue 15: 6 and C.I. I. Mixing with pigment violet 23 is preferred. The mass ratio of the blue pigment to the violet pigment is preferably 100: 0 to 100: 100.

また、ブラックマトリックス用の顔料としては、カーボン、チタンブラック、酸化鉄、酸化チタン単独または混合が用いられ、カーボンとチタンブラックとの組合せが好ましい。また、カーボンとチタンブラックとの質量比は、100:0〜100:60の範囲が好ましい。   Further, as the pigment for the black matrix, carbon, titanium black, iron oxide, titanium oxide alone or a mixture thereof is used, and a combination of carbon and titanium black is preferable. The mass ratio of carbon to titanium black is preferably in the range of 100: 0 to 100: 60.

顔料の一次粒子径は、カラーフィルタ用として用いる場合には、色ムラやコントラストの観点から、100nm以下であることが好ましく、また、分散安定性の観点から5nm以上であることが好ましい。顔料の一次粒子径としてより好ましくは、5〜75nmであり、さらに好ましくは5〜55nmであり、特に好ましくは5〜35nmである。
顔料の一次粒子径は、動的光散乱法(Microtrac Nanotrac UPA−EX150(日機装社(Nikkiso Co.,Ltd.)製))により測定した値をいう。
中でも、顔料としては、アントラキノン顔料、ジケトピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料、キノフタロン顔料、イソインドリン顔料、アゾメチン顔料、およびジオキサジン顔料から選ばれる顔料であることが好ましい。
特に、C.I.ピグメントレッド177(アントラキノン顔料)、C.I.ピグメントレッド254(ジケトピロロピロール顔料)、C.I.ピグメントグリーン7,36,58、C.I.ピグメントブルー15:6(フタロシアニン顔料)、C.I.ピグメントブルー15:3(フタロシアニン顔料)、C.I.ピグメントイエロー138(キノフタロン顔料)、C.I.ピグメントイエロー139,185(イソインドリン顔料)、C.I.ピグメントイエロー150(アゾメチン顔料)、C.I.ピグメントバイオレット23(ジオキサジン顔料)が好ましく、C.I.ピグメントレッド177、C.I.ピグメントレッド254、C.I.ピグメントブルー15:3およびC.I.ピグメントブルー15:6がより好ましい。
When used for a color filter, the primary particle diameter of the pigment is preferably 100 nm or less from the viewpoint of color unevenness and contrast, and is preferably 5 nm or more from the viewpoint of dispersion stability. The primary particle diameter of the pigment is more preferably 5 to 75 nm, still more preferably 5 to 55 nm, and particularly preferably 5 to 35 nm.
The primary particle diameter of the pigment refers to a value measured by a dynamic light scattering method (Microtrac Nanotrac UPA-EX150 (manufactured by Nikkiso Co., Ltd.)).
Among these, the pigment is preferably a pigment selected from anthraquinone pigments, diketopyrrolopyrrole pigments, phthalocyanine pigments, quinophthalone pigments, isoindoline pigments, azomethine pigments, and dioxazine pigments.
In particular, C.I. I. Pigment red 177 (anthraquinone pigment), C.I. I. Pigment red 254 (diketopyrrolopyrrole pigment), C.I. I. Pigment green 7, 36, 58, C.I. I. Pigment Blue 15: 6 (phthalocyanine pigment), C.I. I. Pigment Blue 15: 3 (phthalocyanine pigment), C.I. I. Pigment yellow 138 (quinophthalone pigment), C.I. I. Pigment yellow 139,185 (isoindoline pigment), C.I. I. Pigment yellow 150 (azomethine pigment), C.I. I. Pigment Violet 23 (dioxazine pigment) is preferred, and C.I. I. Pigment red 177, C.I. I. Pigment red 254, C.I. I. Pigment blue 15: 3 and C.I. I. Pigment Blue 15: 6 is more preferable.

顔料の含有量は、顔料分散液中、1〜50質量%が好ましく、1〜30質量%がより好ましく、1〜15質量%がさらに好ましい。また、色素構造を有する分散剤100質量部に対し、40質量部以上が好ましく、50質量部以上がより好ましく、80質量部以上がさらに好ましく、100質量部以上が特に好ましい。上限値は、色素構造を有する分散剤100質量部に対し、600質量部以下が好ましく、400質量部以下がより好ましく、300質量部以下がさらに好ましく、200質量部以下がよりさらに好ましく、150質量部以下が特に好ましい。特に、80〜150質量部が好ましい。
本発明の顔料分散液は、顔料を、1種類のみを含んでいてもよいし、2種類以上含んでいてもよい。2種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
The content of the pigment is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 1 to 30% by mass, and further preferably 1 to 15% by mass in the pigment dispersion. Moreover, 40 mass parts or more are preferable with respect to 100 mass parts of dispersing agents which have a pigment structure, 50 mass parts or more are more preferable, 80 mass parts or more are more preferable, 100 mass parts or more are especially preferable. The upper limit is preferably 600 parts by mass or less, more preferably 400 parts by mass or less, still more preferably 300 parts by mass or less, still more preferably 200 parts by mass or less, and more preferably 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the dispersant having a dye structure. Part or less is particularly preferable. 80-150 mass parts is especially preferable.
The pigment dispersion of the present invention may contain only one type of pigment or two or more types of pigment. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.

<<溶剤>>
顔料分散液が含有する溶剤は、各成分の溶解性や着色組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はないが、色素構造を有する分散剤等の溶解性、塗布性、安全性を考慮して選ばれることが好ましい。溶剤は有機溶剤が好ましい。
<< Solvent >>
The solvent contained in the pigment dispersion is basically not particularly limited as long as the solubility of each component and the coating property of the coloring composition are satisfied, but the solubility, coating property, and safety of the dispersant having a dye structure are not limited. It is preferable to select in consideration of the properties. The solvent is preferably an organic solvent.

有機溶剤としては、エステル類として、例えば、酢酸エチル、酢酸−n−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸シクロヘキシル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸アルキル(例:オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル(例えば、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル等))、3−オキシプロピオン酸アルキルエステル類(例:3−オキシプロピオン酸メチル、3−オキシプロピオン酸エチル等(例えば、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル等))、2−オキシプロピオン酸アルキルエステル類(例:2−オキシプロピオン酸メチル、2−オキシプロピオン酸エチル、2−オキシプロピオン酸プロピル等(例えば、2−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−エトキシプロピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチル))、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸メチルおよび2−オキシ−2−メチルプロピオン酸エチル(例えば、2−メトキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−エトキシ−2−メチルプロピオン酸エチル等)、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸メチル、2−オキソブタン酸エチル等、並びに、エーテル類として、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート等、並びに、ケトン類として、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等、並びに、芳香族炭化水素類として、例えば、トルエン、キシレン等が好適に挙げられる。   Examples of organic solvents include esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, cyclohexyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, methyl lactate, and ethyl lactate. , Alkyl oxyacetate (eg, methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate (eg, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate)), alkyl 3-oxypropionate Esters (eg, methyl 3-oxypropionate, ethyl 3-oxypropionate, etc. (eg, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, etc.) )), -Oxypropionic acid alkyl esters (eg, methyl 2-oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate, propyl 2-oxypropionate, etc. (eg, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, 2- Propyl methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate)), methyl 2-oxy-2-methylpropionate and ethyl 2-oxy-2-methylpropionate (eg 2-methoxy-2 -Methyl methyl propionate, ethyl 2-ethoxy-2-methylpropionate, etc.), methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methyl 2-oxobutanoate, ethyl 2-oxobutanoate Etc., and ethers For example, diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol methyl Ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether acetate and the like, and ketones, for example, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, cyclopentanone, 2-heptanone, 3-heptanone, and aromatic hydrocarbons, For example , Toluene, xylene and the like are preferable.

これらの有機溶剤は、色素構造を有する分散剤等の溶解性、塗布面状の改良などの観点から、2種以上を混合してもよい。   Two or more of these organic solvents may be mixed from the viewpoints of solubility of a dispersant having a dye structure and the like, and improvement of the coated surface.

溶剤の顔料分散液中における含有量は、塗布性の観点から、顔料分散液の全固形分濃度が5%〜80質量%になる量とすることが好ましく、5〜50質量%になる量がより好ましく、10〜30質量%になる量がさらに好ましい。
顔料分散液は、溶剤を、1種類のみを含んでいてもよいし、2種類以上含んでいてもよい。2種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
The content of the solvent in the pigment dispersion is preferably such that the total solid concentration of the pigment dispersion is 5% to 80% by mass, and 5% to 50% by mass from the viewpoint of applicability. More preferable is an amount of 10 to 30% by mass.
The pigment dispersion may contain only one type of solvent or two or more types of solvents. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.

<顔料分散液の製造方法>
本発明の顔料分散液の製造方法は、色素構造を有する分散剤の存在下で、顔料を分散させる工程を含み、色素構造を有する分散剤がトリアリールメタン色素、キサンテン色素、シアニン色素およびスクアリリウム色素から選択される色素構造を有し、色素構造を有する分散剤は、色素構造を同一分子内に2個以上有する色素多量体であり、400nm〜800nmでの最大吸収波長における下記式(Aλ)で表される比吸光度が5以上である、ことを特徴とする。
E=A/(c×l) ・・・(Aλ)
式(Aλ)中、Eは、400nm〜800nmでの最大吸収波長における比吸光度を表し、
Aは、400nm〜800nmでの最大吸収波長における吸光度を表し、
lは、単位がcmで表されるセル長を表し、
cは、単位がmg/mlで表される、溶液中の色素構造を有する分散剤の濃度を表す。
色素構造を有する分散剤および顔料は、上述した色素構造を有する分散剤および顔料と同義であり、好ましい範囲も同様である。
分散方法としては、例えば、色素構造を有する分散剤と顔料と溶剤とを含む分散液をビーズミルで混合し、分散機を用いて分散処理することが好ましい。
<Method for producing pigment dispersion>
The method for producing a pigment dispersion of the present invention includes a step of dispersing a pigment in the presence of a dispersant having a dye structure, and the dispersant having a dye structure is a triarylmethane dye, a xanthene dye, a cyanine dye, and a squarylium dye. The dispersant having the dye structure selected from the above is a dye multimer having two or more dye structures in the same molecule, and is represented by the following formula (Aλ) at the maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm. The specific absorbance expressed is 5 or more.
E = A / (c × l) (Aλ)
In the formula (Aλ), E represents the specific absorbance at the maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm,
A represents the absorbance at the maximum absorption wavelength between 400 nm and 800 nm,
l represents the cell length in units of cm;
c represents the concentration of a dispersant having a dye structure in a solution, the unit of which is expressed in mg / ml.
The dispersant and pigment having a dye structure are synonymous with the above-described dispersant and pigment having a dye structure, and the preferred range is also the same.
As a dispersion method, for example, it is preferable to mix a dispersion containing a dispersant having a dye structure, a pigment, and a solvent with a bead mill, and to perform dispersion treatment using a disperser.

<組成物>
本発明の組成物は、一般式(1)で表される樹脂100質量部に対し、顔料及び溶媒を含有する組成物であって、
上記樹脂がトリアリールメタン色素、キサンテン色素、シアニン色素およびスクアリリウム色素から選択される色素構造を有し、
上記樹脂が、400nm〜800nmでの最大吸収波長における下記式(Aλ)で表される比吸光度が5以上である、組成物である。
また、本発明の組成物は、一般式(A)で表される繰り返し単位を含む樹脂100質量部に対し、顔料を80〜150質量部、及び溶媒を含有する組成物であって、上記樹脂がトリアリールメタン色素、キサンテン色素、シアニン色素およびスクアリリウム色素から選択される色素構造を有し、
上記樹脂が、400nm〜800nmでの最大吸収波長における下記式(Aλ)で表される比吸光度が5以上である、組成物である。
E=A/(c×l) ・・・(Aλ)
式(Aλ)中、Eは、400nm〜800nmでの最大吸収波長における比吸光度を表し、
Aは、400nm〜800nmでの最大吸収波長における吸光度を表し、
lは、単位がcmで表されるセル長を表し、
cは、単位がmg/mlで表される、溶液中の色素構造を有する樹脂の濃度を表す組成物である。
このような組成物は、本発明の顔料分散液として用いられる。上記組成物の好ましい範囲は、上記対応する顔料分散液の好ましい範囲と同様である。
<Composition>
The composition of the present invention is a composition containing a pigment and a solvent with respect to 100 parts by mass of the resin represented by the general formula (1),
The resin has a dye structure selected from triarylmethane dyes, xanthene dyes, cyanine dyes and squarylium dyes;
The resin is a composition having a specific absorbance of 5 or more represented by the following formula (Aλ) at a maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm.
The composition of the present invention is a composition containing 80 to 150 parts by mass of a pigment and a solvent with respect to 100 parts by mass of the resin including the repeating unit represented by the general formula (A), and the resin Has a dye structure selected from triarylmethane dyes, xanthene dyes, cyanine dyes and squarylium dyes,
The resin is a composition having a specific absorbance of 5 or more represented by the following formula (Aλ) at a maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm.
E = A / (c × l) (Aλ)
In the formula (Aλ), E represents the specific absorbance at the maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm,
A represents the absorbance at the maximum absorption wavelength between 400 nm and 800 nm,
l represents the cell length in units of cm;
c is a composition representing the concentration of a resin having a dye structure in a solution, the unit of which is expressed in mg / ml.
Such a composition is used as the pigment dispersion of the present invention. The preferred range of the composition is the same as the preferred range of the corresponding pigment dispersion.

<着色組成物>
本発明の着色組成物は、上記顔料分散液および硬化性化合物(重合性化合物、熱硬化性化合物、多官能チオール化合物やアルカリ可溶性樹脂等)を含有する。着色組成物中の硬化性化合物の合計含有量は、着色組成物の全固形分に対して、1〜50質量%が好ましく、2〜40質量%がより好ましく、5〜20質量%とすることもできる。
本発明の着色組成物は、重合性化合物を1種類のみを含んでいてもよいし、2種類以上含んでいてもよい。2種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
このような構成とすることにより、カラーフィルタ用の着色組成物として好ましく用いられる。
また、本発明の着色組成物は、光重合開始剤を含むことが好ましい。さらには、上記色素構造を有する分散剤以外の他の分散剤、重合禁止剤および界面活性剤等を含んでいてもよい。
本発明の着色組成物中における顔料分散液の含有量は、後述する顔料などとの含有比率を考慮した上で設定される。
着色組成物中の顔料分散液の含有量は、着色組成物の全固形分に対して、顔料分散液の固形分が10〜80質量%となる量が好ましく、30〜70質量%となる量がより好ましく、40〜60質量%となる量がさらに好ましい。
本発明の着色組成物は、顔料分散液を1種類のみを含んでいてもよいし、2種類以上含んでいてもよい。2種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
着色組成物中の顔料の含有量は、着色組成物の全固形分に対して、25質量%以上が好ましく、30質量%以上がより好ましい。また、上限は50質量%以下が好ましく、40質量%以下がより好ましい。
着色組成物中の色素構造を有する分散剤と顔料の含有量の合計は、着色組成物の全固形分に対して、60質量%以上が好ましく、65質量%以上がより好ましい。また、上限は99質量%以下が好ましく、通常は、90質量%以下である。
<Coloring composition>
The colored composition of the present invention contains the pigment dispersion and a curable compound (polymerizable compound, thermosetting compound, polyfunctional thiol compound, alkali-soluble resin, etc.). The total content of the curable compound in the coloring composition is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 2 to 40% by mass, and 5 to 20% by mass with respect to the total solid content of the coloring composition. You can also.
The coloring composition of this invention may contain only 1 type of polymeric compounds, and may contain 2 or more types. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.
By setting it as such a structure, it is preferably used as a coloring composition for color filters.
Moreover, it is preferable that the coloring composition of this invention contains a photoinitiator. Furthermore, other dispersants other than the dispersant having the dye structure, a polymerization inhibitor, a surfactant, and the like may be included.
The content of the pigment dispersion in the colored composition of the present invention is set in consideration of the content ratio with the pigment described later.
The amount of the pigment dispersion in the coloring composition is preferably such that the solid content of the pigment dispersion is 10 to 80% by mass, and 30 to 70% by mass with respect to the total solid content of the coloring composition. Is more preferable, and the amount of 40 to 60% by mass is even more preferable.
The coloring composition of the present invention may contain only one type of pigment dispersion, or may contain two or more types. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.
25 mass% or more is preferable with respect to the total solid of a coloring composition, and, as for content of the pigment in a coloring composition, 30 mass% or more is more preferable. The upper limit is preferably 50% by mass or less, and more preferably 40% by mass or less.
60 mass% or more is preferable with respect to the total solid of a coloring composition, and, as for the sum total of content of the dispersing agent which has a pigment | dye structure in a coloring composition, and a pigment, 65 mass% or more is more preferable. The upper limit is preferably 99% by mass or less, and usually 90% by mass or less.

<<<重合性化合物>>>
重合性化合物としては、ラジカル、酸、熱により架橋可能な公知の重合性化合物を用いることができる。例えば、エチレン性不飽和結合、環状エーテル(エポキシ、オキセタン)、メチロール等を含む重合性化合物が挙げられる。重合性化合物は、感度の観点から、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から好適に選ばれる。中でも、4官能以上の多官能重合性化合物が好ましく、5官能以上の多官能重合性化合物がさらに好ましい。
<<< polymerizable compound >>>
As the polymerizable compound, a known polymerizable compound that can be crosslinked by a radical, an acid, or heat can be used. For example, polymerizable compounds containing an ethylenically unsaturated bond, cyclic ether (epoxy, oxetane), methylol and the like can be mentioned. The polymerizable compound is suitably selected from compounds having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably two or more, from the viewpoint of sensitivity. Among them, a polyfunctional polymerizable compound having 4 or more functional groups is preferable, and a polyfunctional polymerizable compound having 5 or more functional groups is more preferable.

このような化合物群は広く知られているものであり、本発明においてはこれらを特に限定なく用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマーまたはそれらの混合物並びにそれらの多量体などの化学的形態のいずれであってもよい。本発明における重合性化合物は1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   Such a group of compounds is widely known, and these can be used without any particular limitation in the present invention. These may be in any chemical form such as, for example, monomers, prepolymers, ie dimers, trimers and oligomers or mixtures thereof and multimers thereof. The polymeric compound in this invention may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

モノマー、プレポリマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)やそのエステル類、アミド類、並びにこれらの多量体が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、および不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類、並びにこれらの多量体である。また、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と、単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物や、単官能若しくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と、単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との反応物、ハロゲン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と、単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との反応物も好適である。また、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等のビニルベンゼン誘導体、ビニルエーテル、アリルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
これらの具体的な化合物としては、特開2009−288705号公報の段落番号〔0095〕〜〔0108〕に記載されている化合物を本発明においても好適に用いることができる。
Examples of monomers and prepolymers include unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters, amides, and multimers thereof. Preferred are esters of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyhydric alcohol compounds, amides of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyvalent amine compounds, and multimers thereof. In addition, addition reaction products of monofunctional or polyfunctional isocyanates or epoxies with unsaturated carboxylic acid esters or amides having a nucleophilic substituent such as hydroxyl group, amino group, mercapto group, monofunctional or polyfunctional. A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having electrophilic substituents such as isocyanate groups and epoxy groups with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines and thiols, halogen groups and tosyloxy groups A reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as monofunctional or polyfunctional alcohols, amines or thiols is also suitable. Moreover, it is also possible to use a compound group in which the unsaturated carboxylic acid is replaced with an unsaturated phosphonic acid, a vinylbenzene derivative such as styrene, vinyl ether, allyl ether or the like.
As these specific compounds, the compounds described in paragraphs [0095] to [0108] of JP-A-2009-288705 can also be suitably used in the present invention.

また、重合性化合物としては、少なくとも1個の付加重合可能なエチレン基を有する、常圧下で100℃以上の沸点を持つエチレン性不飽和基を持つ化合物も好ましい。その例としては、例えば、特開2013−29760号公報の段落0227を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。   As the polymerizable compound, a compound having at least one addition-polymerizable ethylene group and having an ethylenically unsaturated group having a boiling point of 100 ° C. or higher under normal pressure is also preferable. As an example, paragraph 0227 of JP 2013-29760 A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.

また、常圧下で100℃以上の沸点を有し、少なくとも1個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を持つ化合物としては、特開2008−292970号公報の段落番号0254〜0257に記載の化合物を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。   Further, as a compound having a boiling point of 100 ° C. or higher under normal pressure and having at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated group, compounds described in paragraph numbers 0254 to 0257 of JP-A-2008-292970 Which is incorporated herein by reference.

中でも、重合性化合物としては、ジペンタエリスリトールトリアクリレート(市販品としてはKAYARAD D−330;日本化薬製)、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート(市販品としてはKAYARAD D−320;日本化薬製)、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート(市販品としてはKAYARAD D−310;日本化薬製)、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート(市販品としてはKAYARAD DPHA;日本化薬製)、エチレンオキシ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(市販品としてはA−DPH−12E;新中村化学製)およびこれらの(メタ)アクリロイル基がエチレングリコール、プロピレングリコール残基を介している構造(例えば、サートマー社から市販されている、SR454、SR494、SR499)が好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。また、SR368(サートマー製)、KAYARAD D−330(日本化薬製)も好ましい。以下に好ましい重合性化合物の態様を示す。   Among them, as a polymerizable compound, dipentaerythritol triacrylate (KAYARAD D-330 as a commercial product; manufactured by Nippon Kayaku), dipentaerythritol tetraacrylate (as a commercial product, KAYARAD D-320; manufactured by Nippon Kayaku), Dipentaerythritol penta (meth) acrylate (as a commercially available product, KAYARAD D-310; manufactured by Nippon Kayaku), dipentaerythritol hexa (meth) acrylate (as a commercially available product, KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku), ethyleneoxy modified di Pentaerythritol hexaacrylate (A-DPH-12E as a commercial product; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and a structure in which these (meth) acryloyl groups are mediated by ethylene glycol and propylene glycol residues (for example, from Sartomer Are, SR454, SR494, SR499) it is preferred. These oligomer types can also be used. SR368 (manufactured by Sartomer) and KAYARAD D-330 (manufactured by Nippon Kayaku) are also preferred. Preferred embodiments of the polymerizable compound are shown below.

重合性化合物は、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。重合性化合物が、未反応のカルボキシル基などを有するものであれば、これをそのまま利用することができるが、必要において、重合性化合物のヒドロキシル基に、非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を導入してもよい。非芳香族カルボン酸無水物の具体例としては、無水テトラヒドロフタル酸、アルキル化無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、アルキル化無水ヘキサヒドロフタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸などが挙げられる。   The polymerizable compound may have an acid group such as a carboxyl group, a sulfonic acid group, or a phosphoric acid group. If the polymerizable compound has an unreacted carboxyl group or the like, it can be used as it is. However, if necessary, a non-aromatic carboxylic acid anhydride is reacted with the hydroxyl group of the polymerizable compound. An acid group may be introduced. Specific examples of non-aromatic carboxylic acid anhydrides include tetrahydrophthalic anhydride, alkylated tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, alkylated hexahydrophthalic anhydride, succinic anhydride, maleic anhydride, and the like. .

酸基を有する重合性化合物としては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルが好ましく、脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応のヒドロキシル基に非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を持たせた重合性化合物がより好ましく、特に好ましくは、このエステルにおいて、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトール及び/又はジペンタエリスリトールであるものである。市販品としては、例えば、東亞合成製の多塩基酸変性アクリルオリゴマーとして、M−510、M−520などが挙げられる。   As the polymerizable compound having an acid group, an ester of an aliphatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid is preferable, and a non-aromatic carboxylic acid anhydride is reacted with an unreacted hydroxyl group of the aliphatic polyhydroxy compound. A polymerizable compound having a group is more preferable, and in this ester, the aliphatic polyhydroxy compound is pentaerythritol and / or dipentaerythritol. Examples of commercially available products include M-510 and M-520 as polybasic acid-modified acrylic oligomers manufactured by Toagosei.

酸基を有する重合性化合物は1種を単独で用いてもよいが、製造上、単一の化合物を用いることは難しいことから、2種以上を混合して用いてもよい。
酸基を有する重合性化合物の好ましい酸価としては、0.1mgKOH/g〜40mgKOH/gであり、特に好ましくは5mgKOH/g〜30mgKOH/gである。多官能モノマーの酸価が0.1mgKOH/g以上であれば、現像溶解特性が良好であり、40mgKOH/g以下であれば、製造や取扱い上、有利である。さらには、光重合性能が良好で、画素の表面平滑性等の硬化性に優れる。従って、異なる酸基の重合性化合物を2種以上併用する場合、或いは酸基を有しない重合性化合物と酸基を有する重合性化合物とを併用する場合、全体の重合性化合物としての酸価が上記範囲に入るように調整することが好ましい。
Although the polymeric compound which has an acid group may be used individually by 1 type, since it is difficult to use a single compound on manufacture, you may mix and use 2 or more types.
A preferable acid value of the polymerizable compound having an acid group is 0.1 mgKOH / g to 40 mgKOH / g, and particularly preferably 5 mgKOH / g to 30 mgKOH / g. When the acid value of the polyfunctional monomer is 0.1 mgKOH / g or more, the development and dissolution characteristics are good, and when it is 40 mgKOH / g or less, it is advantageous in production and handling. Furthermore, the photopolymerization performance is good and the curability such as the surface smoothness of the pixels is excellent. Therefore, when two or more kinds of polymerizable compounds having different acid groups are used in combination, or when a polymerizable compound having no acid group and a polymerizable compound having an acid group are used in combination, the acid value as the entire polymerizable compound is It is preferable to adjust so that it may enter into the said range.

また、重合性化合物として、カプロラクトン構造を有する重合性化合物を含有することも好ましい態様である。
カプロラクトン構造を有する重合性化合物としては、分子内にカプロラクトン構造を有する限り特に限定されるものではないが、例えば、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセロール、トリメチロールメラミン等の多価アルコールと、(メタ)アクリル酸及びε−カプロラクトンをエステル化することにより得られる、ε−カプロラクトン変性多官能(メタ)アクリレートを挙げることができる。なかでも下記一般式(Z−1)で表されるカプロラクトン構造を有する重合性化合物が好ましい。
Moreover, it is also a preferable aspect to contain the polymeric compound which has a caprolactone structure as a polymeric compound.
The polymerizable compound having a caprolactone structure is not particularly limited as long as it has a caprolactone structure in the molecule. For example, trimethylolethane, ditrimethylolethane, trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, pentaerythritol, dipenta Ε-caprolactone-modified polyfunctional (meth) acrylate obtained by esterifying polyhydric alcohol such as erythritol, tripentaerythritol, glycerin, diglycerol, trimethylolmelamine, (meth) acrylic acid and ε-caprolactone Can be mentioned. Among these, a polymerizable compound having a caprolactone structure represented by the following general formula (Z-1) is preferable.

一般式(Z−1)中、6個のRは全てが下記一般式(Z−2)で表される基であるか、又は6個のRのうち1〜5個が下記一般式(Z−2)で表される基であり、残余が下記一般式(Z−3)で表される基である。   In general formula (Z-1), all six R are groups represented by the following general formula (Z-2), or 1 to 5 of the six Rs are represented by the following general formula (Z -2), and the remainder is a group represented by the following general formula (Z-3).

一般式(Z−2)中、R1は水素原子又はメチル基を示し、mは1又は2の整数を示し、「*」は結合手であることを示す。In General Formula (Z-2), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, m represents an integer of 1 or 2, and “*” represents a bond.

一般式(Z−3)中、R1は水素原子又はメチル基を示し、「*」は結合手であることを示す。)In General Formula (Z-3), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and “*” represents a bond. )

カプロラクトン構造を有する重合性化合物は、例えば、日本化薬からKAYARAD DPCAシリーズとして市販されており、DPCA−20(上記式(Z−1)〜(Z−3)においてm=1、式(Z−2)で表される基の数=2、R1が全て水素原子である化合物)、DPCA−30(同式、m=1、式(Z−2)で表される基の数=3、R1が全て水素原子である化合物)、DPCA−60(同式、m=1、式(Z−2)で表される基の数=6、R1が全て水素原子である化合物)、DPCA−120(同式においてm=2、式(Z−2)で表される基の数=6、R1が全て水素原子である化合物)等が挙げられる。
本発明において、カプロラクトン構造を有する重合性化合物は、単独で又は2種以上を混合して使用することができる。
Polymerizable compounds having a caprolactone structure are commercially available, for example, from Nippon Kayaku as the KAYARAD DPCA series, and DPCA-20 (m = 1 in the above formulas (Z-1) to (Z-3), the formula (Z- 2) The number of groups represented by 2 = 2, a compound in which R 1 is all hydrogen atoms), DPCA-30 (same formula, m = 1, the number of groups represented by formula (Z-2) = 3, Compound in which R 1 is all hydrogen atoms), DPCA-60 (formula, m = 1, number of groups represented by formula (Z-2) = 6, compound in which R 1 is all hydrogen atoms), DPCA -120 (a compound in which m = 2 in the formula, the number of groups represented by formula (Z-2) = 6, and all R 1 are hydrogen atoms).
In this invention, the polymeric compound which has a caprolactone structure can be used individually or in mixture of 2 or more types.

また、重合性化合物は、下記一般式(Z−4)又は(Z−5)で表される化合物を用いることもできる。   Moreover, the compound represented by the following general formula (Z-4) or (Z-5) can also be used for the polymerizable compound.

一般式(Z−4)及び(Z−5)中、Eは、各々独立に、−((CH2)yCH2O)−、又は−((CH2)yCH(CH3)O)−を表し、yは、各々独立に0〜10の整数を表し、Xは、各々独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、水素原子、又はカルボキシル基を表す。
一般式(Z−4)中、アクリロイル基及びメタクリロイル基の合計は3個又は4個であり、mは各々独立に0〜10の整数を表し、各mの合計は0〜40の整数である。但し、各mの合計が0の場合、Xのうちいずれか1つはカルボキシル基である。
一般式(Z−5)中、アクリロイル基及びメタクリロイル基の合計は5個又は6個であり、nは各々独立に0〜10の整数を表し、各nの合計は0〜60の整数である。但し、各nの合計が0の場合、Xのうちいずれか1つはカルボキシル基である。
In the formula (Z-4) and (Z-5), E are each independently, - ((CH 2) yCH 2 O) -, or - ((CH 2) yCH ( CH 3) O) - a And y independently represents an integer of 0 to 10, and X independently represents an acryloyl group, a methacryloyl group, a hydrogen atom, or a carboxyl group.
In general formula (Z-4), the sum total of an acryloyl group and a methacryloyl group is 3 or 4, m represents the integer of 0-10 each independently, and the sum of each m is an integer of 0-40. . However, when the total of each m is 0, any one of X is a carboxyl group.
In general formula (Z-5), the sum total of the acryloyl group and the methacryloyl group is 5 or 6, each n independently represents an integer of 0 to 10, and the sum of each n is an integer of 0 to 60. . However, when the total of each n is 0, any one of X is a carboxyl group.

一般式(Z−4)中、mは、0〜6の整数が好ましく、0〜4の整数がより好ましい。
また、各mの合計は、2〜40の整数が好ましく、2〜16の整数がより好ましく、4〜8の整数が特に好ましい。
一般式(Z−5)中、nは、0〜6の整数が好ましく、0〜4の整数がより好ましい。
また、各nの合計は、3〜60の整数が好ましく、3〜24の整数がより好ましく、6〜12の整数が特に好ましい。
また、一般式(Z−4)又は一般式(Z−5)中の−((CH2)yCH2O)−又は−((CH2)yCH(CH3)O)−は、酸素原子側の末端がXに結合する形態が好ましい。
In general formula (Z-4), m is preferably an integer of 0 to 6, and more preferably an integer of 0 to 4.
Moreover, the integer of 2-40 is preferable, the integer of 2-16 is more preferable, and the integer of 4-8 is especially preferable as the sum total of each m.
In general formula (Z-5), n is preferably an integer of 0 to 6, and more preferably an integer of 0 to 4.
Further, the total of each n is preferably an integer of 3 to 60, more preferably an integer of 3 to 24, and particularly preferably an integer of 6 to 12.
In general formula (Z-4) or general formula (Z-5) in the - ((CH 2) yCH 2 O) - or - ((CH 2) yCH ( CH 3) O) - , the oxygen atom side A form in which the terminal of X is bonded to X is preferred.

一般式(Z−4)又は一般式(Z−5)で表される化合物は1種単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。特に、一般式(Z−5)において、6個のX全てがアクリロイル基である形態が好ましい。   The compound represented by general formula (Z-4) or general formula (Z-5) may be used individually by 1 type, and may be used together 2 or more types. In particular, in the general formula (Z-5), a form in which all six Xs are acryloyl groups is preferable.

また、一般式(Z−4)又は一般式(Z−5)で表される化合物の重合性化合物中における全含有量としては、20質量%以上が好ましく、50質量%以上がより好ましい。   Moreover, as a total content in the polymeric compound of the compound represented by general formula (Z-4) or general formula (Z-5), 20 mass% or more is preferable, and 50 mass% or more is more preferable.

一般式(Z−4)又は一般式(Z−5)で表される化合物は、従来公知の工程である、ペンタエリスリト−ル又はジペンタエリスリト−ルにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを開環付加反応により開環骨格を結合する工程と、開環骨格の末端水酸基に、例えば(メタ)アクリロイルクロライドを反応させて(メタ)アクリロイル基を導入する工程と、から合成することができる。各工程は良く知られた工程であり、当業者は容易に一般式(Z−4)又は(Z−5)で表される化合物を合成することができる。   The compound represented by the general formula (Z-4) or the general formula (Z-5) is a ring-opening addition of ethylene oxide or propylene oxide to pentaerythritol or dipentaerythritol, which is a conventionally known process. It can be synthesized from a step of bonding a ring-opening skeleton by a reaction and a step of introducing a (meth) acryloyl group by reacting, for example, (meth) acryloyl chloride with a terminal hydroxyl group of the ring-opening skeleton. Each step is a well-known step, and a person skilled in the art can easily synthesize a compound represented by the general formula (Z-4) or (Z-5).

一般式(Z−4)又は一般式(Z−5)で表される化合物の中でも、ペンタエリスリトール誘導体及び/又はジペンタエリスリトール誘導体がより好ましい。
具体的には、下記式(a)〜(f)で表される化合物(以下、「例示化合物(a)〜(f)」とも称する。)が挙げられ、中でも、例示化合物(a)、(b)、(e)、(f)が好ましい。
Among the compounds represented by the general formula (Z-4) or the general formula (Z-5), a pentaerythritol derivative and / or a dipentaerythritol derivative are more preferable.
Specific examples include compounds represented by the following formulas (a) to (f) (hereinafter also referred to as “exemplary compounds (a) to (f)”), among which exemplary compounds (a) and ( b), (e) and (f) are preferred.

一般式(Z−4)、(Z−5)で表される重合性化合物の市販品としては、例えばサートマー製のエチレンオキシ鎖を4個有する4官能アクリレートであるSR−494、日本化薬製のペンチレンオキシ鎖を6個有する6官能アクリレートであるDPCA−60、イソブチレンオキシ鎖を3個有する3官能アクリレートであるTPA−330などが挙げられる。   Examples of commercially available polymerizable compounds represented by general formulas (Z-4) and (Z-5) include SR-494, which is a tetrafunctional acrylate having four ethyleneoxy chains made by Sartomer, manufactured by Nippon Kayaku. DPCA-60, which is a hexafunctional acrylate having 6 pentyleneoxy chains, and TPA-330, which is a trifunctional acrylate having 3 isobutyleneoxy chains.

また、本発明では、重合性化合物として、エポキシ基を有する化合物を用いることもできる。エポキシ基を有する化合物としては、1分子内にエポキシ基を2つ以上有するものが好ましい。1分子内にエポキシ基を2つ以上有する化合物を用いることにより、本発明の効果をより効果的に達成することができる。エポキシ基は、1分子内に2〜10個が好ましく、2〜5個がより好ましく、3個が特に好ましい。   In the present invention, a compound having an epoxy group can also be used as the polymerizable compound. As the compound having an epoxy group, one having two or more epoxy groups in one molecule is preferable. By using a compound having two or more epoxy groups in one molecule, the effect of the present invention can be achieved more effectively. The number of epoxy groups is preferably 2 to 10, more preferably 2 to 5, and particularly preferably 3 in one molecule.

エポキシ化合物としては、特開2014−153554号公報の段落0091〜0103の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
エポキシ化合物の市販品としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂としては、JER827、JER828、JER834、JER1001、JER1002、JER1003、JER1055、JER1007、JER1009、JER1010(以上、ジャパンエポキシレジン(株)製)、EPICLON860、EPICLON1050、EPICLON1051、EPICLON1055(以上、DIC(株)製)等であり、ビスフェノールF型エポキシ樹脂としては、JER806、JER807、JER4004、JER4005、JER4007、JER4010(以上、ジャパンエポキシレジン(株)製)、EPICLON830、EPICLON835(以上、DIC(株)製)、LCE−21、RE−602S(以上、日本化薬(株)製)等であり、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、JER152、JER154、JER157S70、JER157S65(以上、ジャパンエポキシレジン(株)製)、EPICLON N−740、EPICLON N−770、EPICLON N−775(以上、DIC(株)製)等であり、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、EPICLON N−660、EPICLON N−665、EPICLON N−670、EPICLON N−673、EPICLON N−680、EPICLON N−690、EPICLON N−695(以上、DIC(株)製)、EOCN−1020(以上、日本化薬(株)製)等であり、脂肪族エポキシ樹脂としては、ADEKA RESIN EP−4080S、同EP−4085S、同EP−4088S(以上、(株)ADEKA製)、セロキサイド2021P、セロキサイド2081、セロキサイド2083、セロキサイド2085、EHPE3150、EPOLEAD PB 3600、同PB 4700(以上、ダイセル化学工業(株)製)、デナコール EX−212L、EX−214L、EX−216L、EX−321L、EX−850L(以上、ナガセケムテックス(株)製)等である。その他にも、ADEKA RESIN EP−4000S、同EP−4003S、同EP−4010S、同EP−4011S(以上、(株)ADEKA製)、NC−2000、NC−3000、NC−7300、XD−1000、EPPN−501、EPPN−502(以上、(株)ADEKA製)、JER1031S(ジャパンエポキシレジン(株)製)等が挙げられる。
また、エポキシ基を有する化合物の市販品としては、JER1031S(三菱化学(株)製)、JER1032H60(三菱化学(株)製)、EPICLON HP−4700(DIC(株)社製)、EPICLON N−695(DIC(株)社製)等も好ましく用いることができる。
As the epoxy compound, the description in paragraphs 0091 to 0103 of JP-A No. 2014-153554 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
As a commercial product of an epoxy compound, for example, as a bisphenol A type epoxy resin, JER827, JER828, JER834, JER1001, JER1002, JER1003, JER1055, JER1007, JER1009, JER1010 (above, manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd.), EPICLON860 , EPICLON 1050, EPICLON 1051, EPICLON 1055 (above, manufactured by DIC Corporation), etc., and as bisphenol F type epoxy resin, JER806, JER807, JER4004, JER4005, JER4007, JER4010 (above, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), EPICLON830, EPICLON835 (above, manufactured by DIC Corporation), LCE-21, RE-602 (Nippon Kayaku Co., Ltd.), etc., and phenol novolac type epoxy resins include JER152, JER154, JER157S70, JER157S65 (above, Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), EPICLON N-740, EPICLON N- 770, EPICLON N-775 (manufactured by DIC Corporation) and the like, and cresol novolac type epoxy resins include EPICLON N-660, EPICLON N-665, EPICLON N-670, EPICLON N-673, EPICLON N- 680, EPICLON N-690, EPICLON N-695 (manufactured by DIC Corporation), EOCN-1020 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), etc., and ADEKA RESIN EP- 080S, EP-4085S, EP-4088S (above, manufactured by ADEKA Corporation), Celoxide 2021P, Celoxide 2081, Celoxide 2083, Celoxide 2085, EHPE3150, EPOLEEAD PB 3600, PB 4700 (above, Daicel Chemical Industries, Ltd.) ), Denacol EX-212L, EX-214L, EX-216L, EX-321L, EX-850L (above, manufactured by Nagase ChemteX Corporation). In addition, ADEKA RESIN EP-4000S, EP-4003S, EP-4010S, EP-4010S, EP-4011S (above, manufactured by ADEKA Corporation), NC-2000, NC-3000, NC-7300, XD-1000, EPPN-501, EPPN-502 (above, manufactured by ADEKA Co., Ltd.), JER1031S (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) and the like.
Moreover, as a commercial item of the compound which has an epoxy group, JER1031S (made by Mitsubishi Chemical Corporation), JER1032H60 (made by Mitsubishi Chemical Corporation), EPICLON HP-4700 (made by DIC Corporation), EPICLON N-695. (Made by DIC Corporation) etc. can also be used preferably.

また、本発明では重合性化合物としては、特公昭48−41708号公報、特開昭51−37193号公報、特公平2−32293号公報、特公平2−16765号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号公報、特公昭56−17654号公報、特公昭62−39417号公報、特公昭62−39418号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、重合性化合物として、特開昭63−277653号公報、特開昭63−260909号公報、特開平1−105238号公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによって、非常に感光スピードに優れた着色組成物を得ることができる。
また、本発明では重合性化合物としてオキセタン基を有する化合物を用いることもできる。オキセタン基を有する化合物としては、特開2008−224970号公報の段落0134〜0145記載の化合物が挙げられ、その内容は本明細書に組み込まれる。具体例としては、アロンオキセタンOXT−121、OXT−221、OX−SQ、PNOX(以上、東亞合成製)を用いることができる。
重合性化合物の市販品としては、ウレタンオリゴマーUAS−10、UAB−140(山陽国策パルプ製)、UA−7200(新中村化学製)、DPHA−40H(日本化薬製)、UA−306H、UA−306T、UA−306I、AH−600、T−600、AI−600(共栄製)などが挙げられる。
In the present invention, the polymerizable compound is described in JP-B-48-41708, JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, and JP-B-2-16765. Urethane acrylates and urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, JP-B-62-39417, and JP-B-62-39418 are also suitable. is there. Furthermore, addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 as polymerizable compounds. By using the compounds, it is possible to obtain a colored composition having an extremely excellent photosensitive speed.
In the present invention, a compound having an oxetane group can also be used as the polymerizable compound. Examples of the compound having an oxetane group include the compounds described in paragraphs 0134 to 0145 of JP-A-2008-224970, the contents of which are incorporated herein. As specific examples, Aron oxetane OXT-121, OXT-221, OX-SQ, and PNOX (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) can be used.
Commercially available polymerizable compounds include urethane oligomers UAS-10, UAB-140 (manufactured by Sanyo Kokusaku Pulp), UA-7200 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical), DPHA-40H (manufactured by Nippon Kayaku), UA-306H, UA -306T, UA-306I, AH-600, T-600, AI-600 (manufactured by Kyoei) and the like.

着色組成物中に重合性化合物を含有する場合、重合性化合物の含有量は、着色組成物の全固形分に対して、1〜30質量%が好ましく、2〜25質量%がより好ましく、5〜20質量%がさらに好ましい。
本発明の着色組成物は、重合性化合物を1種類のみを含んでいてもよいし、2種類以上含んでいてもよい。2種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
When the polymerizable composition contains a polymerizable compound, the content of the polymerizable compound is preferably 1 to 30% by mass, more preferably 2 to 25% by mass, based on the total solid content of the colored composition. -20 mass% is further more preferable.
The coloring composition of this invention may contain only 1 type of polymeric compounds, and may contain 2 or more types. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.

<<多官能チオール化合物>>
本発明の着色組成物は、重合性化合物の反応を促進させることなどを目的として、分子内に2個以上のメルカプト基を有する多官能チオール化合物を含んでいてもよい。多官能チオール化合物は、2級のアルカンチオール類であることが好ましく、特に下記一般式(TI)で表される構造を有する化合物であることが好ましい。
一般式(T1)

(式(T1)中、nは2〜4の整数を表し、Lは2〜4価の連結基を表す。)
<< Polyfunctional thiol compound >>
The coloring composition of the present invention may contain a polyfunctional thiol compound having two or more mercapto groups in the molecule for the purpose of promoting the reaction of the polymerizable compound. The polyfunctional thiol compound is preferably a secondary alkanethiol, and particularly preferably a compound having a structure represented by the following general formula (TI).
General formula (T1)

(In the formula (T1), n represents an integer of 2 to 4, and L represents a 2 to 4 valent linking group.)

上記一般式(T1)において、連結基Lは炭素数2〜12の脂肪族基であることが好ましく、nが2であり、Lが炭素数2〜12のアルキレン基であることが特に好ましい。多官能チオール化合物の具体的な例としては、下記の構造式(T2)〜(T4)で表される化合物が挙げられ、式(T2)で表される化合物が特に好ましい。これらの多官能チオールは1種または複数組み合わせて使用することが可能である。   In the general formula (T1), the linking group L is preferably an aliphatic group having 2 to 12 carbon atoms, particularly preferably n is 2 and L is an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms. Specific examples of the polyfunctional thiol compound include compounds represented by the following structural formulas (T2) to (T4), and a compound represented by the formula (T2) is particularly preferable. These polyfunctional thiols can be used alone or in combination.

本発明の着色組成物が多官能チオール化合物を含有する場合、溶剤を除いた全固形分に対して0.3〜8.9質量%が好ましく、0.8〜6.4質量%がより好ましい。   When the coloring composition of this invention contains a polyfunctional thiol compound, 0.3-8.9 mass% is preferable with respect to the total solid except a solvent, and 0.8-6.4 mass% is more preferable. .

<<光重合開始剤>>
本発明の着色組成物は、さらに光重合開始剤を含有してもよい。
光重合開始剤としては、重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましい。また、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、モノマーの種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。
また、光重合開始剤は、約300nm〜800nm(330nm〜500nmがより好ましい。)の範囲内に少なくとも約50の分子吸光係数を有する化合物を、少なくとも1種含有していることが好ましい。
<< photopolymerization initiator >>
The colored composition of the present invention may further contain a photopolymerization initiator.
The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it has the ability to initiate polymerization of a polymerizable compound, and can be appropriately selected from known photopolymerization initiators. For example, those having photosensitivity to visible light from the ultraviolet region are preferable. Further, it may be an activator that generates some action with a photoexcited sensitizer and generates an active radical, or may be an initiator that initiates cationic polymerization according to the type of monomer.
The photopolymerization initiator preferably contains at least one compound having a molecular extinction coefficient of at least about 50 within a range of about 300 nm to 800 nm (more preferably 330 nm to 500 nm).

光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体(例えば、トリアジン骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するもの、など)、アシルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体等のオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル、アミノアセトフェノン化合物、ヒドロキシアセトフェノンなどが挙げられる。   Examples of the photopolymerization initiator include halogenated hydrocarbon derivatives (for example, those having a triazine skeleton, those having an oxadiazole skeleton, etc.), acylphosphine compounds such as acylphosphine oxide, hexaarylbiimidazole, and oxime derivatives. Oxime compounds such as organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ketoxime ethers, aminoacetophenone compounds, and hydroxyacetophenones.

また、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、フォスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物及びその誘導体、シクロペンタジエン−ベンゼン−鉄錯体及びその塩、ハロメチルオキサジアゾール化合物、3−アリール置換クマリン化合物からなる群より選択される化合物が好ましい。   From the viewpoint of exposure sensitivity, trihalomethyltriazine compounds, benzyldimethylketal compounds, α-hydroxyketone compounds, α-aminoketone compounds, acylphosphine compounds, phosphine oxide compounds, metallocene compounds, oxime compounds, triallylimidazole dimers, oniums Compounds selected from the group consisting of compounds, benzothiazole compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds and derivatives thereof, cyclopentadiene-benzene-iron complexes and salts thereof, halomethyloxadiazole compounds, and 3-aryl substituted coumarin compounds are preferred.

さらに好ましくは、トリハロメチルトリアジン化合物、α−アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、フォスフィンオキサイド化合物、オキシム化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物であり、トリハロメチルトリアジン化合物、α−アミノケトン化合物、オキシム化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、ベンゾフェノン化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物が特に好ましく、オキシム化合物が一層好ましい。   More preferred are trihalomethyltriazine compounds, α-aminoketone compounds, acylphosphine compounds, phosphine oxide compounds, oxime compounds, triallylimidazole dimers, onium compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds, trihalomethyltriazine compounds, α-aminoketones. At least one compound selected from the group consisting of a compound, an oxime compound, a triallylimidazole dimer, and a benzophenone compound is particularly preferable, and an oxime compound is more preferable.

特に、本発明の着色組成物を固体撮像素子のカラーフィルタの作製に使用する場合には、微細なパターンをシャープな形状で形成する必要があるために、硬化性とともに未露光部に残渣がなく現像されることが重要である。このような観点からは、光重合開始剤としてはオキシム化合物を使用することが特に好ましい。特に、固体撮像素子において微細なパターンを形成する場合、硬化用露光にステッパー露光機を用いるが、この露光機はハロゲンにより損傷される場合があり、光重合開始剤の添加量も低く抑える必要があるため、これらの点を考慮すれば、固体撮像素子の如き微細パターンを形成するには光重合開始剤としては、オキシム化合物を用いるのが特に好ましい。また、オキシム化合物を用いることにより、色移り性をより良化できる。
本発明に用いられる光重合開始剤の具体例としては、例えば、特開2013−29760号公報の段落0265〜0268を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
In particular, when the colored composition of the present invention is used for the production of a color filter of a solid-state imaging device, it is necessary to form a fine pattern with a sharp shape. It is important that it be developed. From such a viewpoint, it is particularly preferable to use an oxime compound as the photopolymerization initiator. In particular, when a fine pattern is formed in a solid-state imaging device, a stepper exposure machine is used for curing exposure, but this exposure machine may be damaged by halogen, and the amount of photopolymerization initiator added must be kept low. Therefore, in view of these points, it is particularly preferable to use an oxime compound as a photopolymerization initiator for forming a fine pattern such as a solid-state imaging device. Further, the use of an oxime compound can improve the color transfer.
As specific examples of the photopolymerization initiator used in the present invention, for example, paragraphs 0265 to 0268 of JP2013-29760A can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.

光重合開始剤としては、ヒドロキシアセトフェノン化合物、アミノアセトフェノン化合物、及び、アシルホスフィン化合物も好適に用いることができる。より具体的には、例えば、特開平10−291969号公報に記載のアミノアセトフェノン系開始剤、特許第4225898号公報に記載のアシルホスフィンオキシド系開始剤も用いることができる。
ヒドロキシアセトフェノン系開始剤としては、IRGACURE−184、DAROCUR−1173、IRGACURE−500、IRGACURE−2959,IRGACURE−127(商品名:いずれもBASF製)を用いることができる。アミノアセトフェノン系開始剤としては、市販品であるIRGACURE−907、IRGACURE−369、及び、IRGACURE OXE−379(商品名:いずれもBASF製)を用いることができる。アミノアセトフェノン系開始剤として、365nm又は405nm等の長波光源に吸収波長がマッチングされた特開2009−191179公報に記載の化合物も用いることができる。また、アシルホスフィン系開始剤としては市販品であるIRGACURE−819やDAROCUR−TPO(商品名:いずれもBASF製)を用いることができる。
As the photopolymerization initiator, hydroxyacetophenone compounds, aminoacetophenone compounds, and acylphosphine compounds can also be suitably used. More specifically, for example, aminoacetophenone initiators described in JP-A-10-291969 and acylphosphine oxide initiators described in Japanese Patent No. 4225898 can also be used.
As the hydroxyacetophenone-based initiator, IRGACURE-184, DAROCUR-1173, IRGACURE-500, IRGACURE-2959, IRGACURE-127 (trade names: all manufactured by BASF) can be used. As the aminoacetophenone-based initiator, commercially available products IRGACURE-907, IRGACURE-369, and IRGACURE OXE-379 (trade names: all manufactured by BASF) can be used. As the aminoacetophenone-based initiator, a compound described in JP-A-2009-191179 in which an absorption wavelength is matched with a long wave light source such as 365 nm or 405 nm can also be used. Further, as the acylphosphine-based initiator, commercially available products such as IRGACURE-819 and DAROCUR-TPO (trade names: both manufactured by BASF) can be used.

光重合開始剤として、より好ましくはオキシム化合物が挙げられる。オキシム開始剤の具体例としては、特開2001−233842号公報記載の化合物、特開2000−80068号公報記載の化合物、特開2006−342166号公報記載の化合物を用いることができる。   More preferred examples of the photopolymerization initiator include oxime compounds. Specific examples of the oxime initiator include compounds described in JP-A No. 2001-233842, compounds described in JP-A No. 2000-80068, and compounds described in JP-A No. 2006-342166.

本発明における光重合開始剤として好適に用いられるオキシム誘導体等のオキシム化合物としては、例えば、3−ベンゾイロキシイミノブタン−2−オン、3−アセトキシイミノブタン−2−オン、3−プロピオニルオキシイミノブタン−2−オン、2−アセトキシイミノペンタン−3−オン、2−アセトキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン、2−ベンゾイロキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン、3−(4−トルエンスルホニルオキシ)イミノブタン−2−オン、及び2−エトキシカルボニルオキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オンなどが挙げられる。   Examples of oxime compounds such as oxime derivatives that are suitably used as photopolymerization initiators in the present invention include 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one, and 3-propionyloxyimino. Butan-2-one, 2-acetoxyiminopentan-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3- (4 -Toluenesulfonyloxy) iminobutan-2-one, 2-ethoxycarbonyloxyimino-1-phenylpropan-1-one and the like.

オキシム化合物としては、J.C.S.Perkin II(1979年)pp.1653−1660)、J.C.S.Perkin II(1979年)pp.156−162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995年)pp.202−232、特開2000−66385号公報記載の化合物、特開2000−80068号公報、特表2004−534797号公報、特開2006−342166号公報の各公報に記載の化合物等が挙げられる。
市販品では、例えば、下記に構造を示すIRGACURE−OXE−01(BASF製)、IRGACURE−OXE−02(BASF製)も好適に用いられる。また、TR−PBG−304、TRONLY TR−PBG−309、TRONLY TR−PBG−305(常州強力電子新材料有限公司(CHANGZHOU TRONLY NEW ELECTRONIC MATERIALS CO.,LTD)製)、アデカアークルズNCI−831およびアデカアークルズNCI−930(ADEKA製)も用いることができる。
Examples of oxime compounds include J.M. C. S. Perkin II (1979) pp. 1653-1660), J.M. C. S. Perkin II (1979) pp. 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) pp. 202-232, compounds described in JP-A No. 2000-66385, compounds described in JP-A No. 2000-80068, JP-T 2004-534797, JP-A No. 2006-342166, and the like.
In a commercial item, IRGACURE-OXE-01 (product made from BASF) and IRGACURE-OXE-02 (product made from BASF) which show the structure below are used suitably, for example. Also, TR-PBG-304, TRONLY TR-PBG-309, TRONLY TR-PBG-305 (manufactured by CHANGZHOU TRONLY NEW ELECTRONIC MATERIALS CO., LTD), Adeka Arcles NCI-831 and Adeka Arcles NCI-930 (manufactured by ADEKA) can also be used.

また上記記載以外のオキシム化合物として、カルバゾールN位にオキシムが連結した特表2009−519904号公報に記載の化合物、ベンゾフェノン部位にヘテロ置換基が導入された米国特許第7626957号公報に記載の化合物、色素部位にニトロ基が導入された特開2010−15025号公報及び米国特許公開2009−292039号記載の化合物、国際公開特許2009−131189号公報に記載のケトオキシム化合物、トリアジン骨格とオキシム骨格を同一分子内に含有する米国特許7556910号公報に記載の化合物、405nmに吸収極大を有しg線光源に対して良好な感度を有する特開2009−221114号公報記載の化合物、などを用いてもよい。
好ましくは、例えば、特開2013−29760号公報の段落0274〜0275を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
具体的には、オキシム化合物としては、下記式(OX−1)で表される化合物が好ましい。なお、オキシムのN−O結合が(E)体のオキシム化合物であっても、(Z)体のオキシム化合物であっても、(E)体と(Z)体との混合物であってもよい。
Further, as oxime compounds other than those described above, compounds described in JP-A-2009-519904, in which an oxime is linked to the carbazole N position, compounds described in US Pat. No. 7,626,957 in which a hetero substituent is introduced into the benzophenone moiety, Compounds described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-15025 and US Patent Publication No. 2009-292209, in which a nitro group is introduced into the dye moiety, a ketoxime compound described in International Patent Publication No. 2009-131189, a triazine skeleton and an oxime skeleton in the same molecule A compound described in U.S. Pat. No. 7,556,910, a compound described in JP-A-2009-221114 having an absorption maximum at 405 nm and good sensitivity to a g-line light source, and the like may be used.
Preferably, for example, paragraphs 0274 to 0275 of JP2013-29760A can be referred to, the contents of which are incorporated herein.
Specifically, the oxime compound is preferably a compound represented by the following formula (OX-1). The N—O bond of the oxime may be an (E) oxime compound, a (Z) oxime compound, or a mixture of (E) and (Z) isomers. .

一般式(OX−1)中、RおよびBは各々独立に一価の置換基を表し、Aは二価の有機基を表し、Arはアリール基を表す。
一般式(OX−1)中、Rで表される一価の置換基としては、一価の非金属原子団であることが好ましい。
一価の非金属原子団としては、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環基、アルキルチオカルボニル基、アリールチオカルボニル基等が挙げられる。また、これらの基は、1以上の置換基を有していてもよい。また、前述した置換基は、さらに他の置換基で置換されていてもよい。
置換基としてはハロゲン原子、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基またはアリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル基、アルキル基、アリール基等が挙げられる。
一般式(OX−1)中、Bで表される一価の置換基としては、アリール基、複素環基、アリールカルボニル基、又は、複素環カルボニル基が好ましい。これらの基は1以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。
一般式(OX−1)中、Aで表される二価の有機基としては、炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アルキニレン基が好ましい。これらの基は1以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。
In General Formula (OX-1), R and B each independently represent a monovalent substituent, A represents a divalent organic group, and Ar represents an aryl group.
In General Formula (OX-1), the monovalent substituent represented by R is preferably a monovalent nonmetallic atomic group.
Examples of the monovalent nonmetallic atomic group include an alkyl group, an aryl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a heterocyclic group, an alkylthiocarbonyl group, and an arylthiocarbonyl group. Moreover, these groups may have one or more substituents. Moreover, the substituent mentioned above may be further substituted by another substituent.
Examples of the substituent include a halogen atom, an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group or an aryloxycarbonyl group, an acyloxy group, an acyl group, an alkyl group, and an aryl group.
In General Formula (OX-1), the monovalent substituent represented by B is preferably an aryl group, a heterocyclic group, an arylcarbonyl group, or a heterocyclic carbonyl group. These groups may have one or more substituents. Examples of the substituent include the above-described substituents.
In general formula (OX-1), as a bivalent organic group represented by A, a C1-C12 alkylene group, a cycloalkylene group, and an alkynylene group are preferable. These groups may have one or more substituents. Examples of the substituent include the above-described substituents.

一般式(OX−1)で表される化合物の具体例(C−4)〜(C−13)を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples (C-4) to (C-13) of the compound represented by the general formula (OX-1) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

オキシム化合物は、350nm〜500nmの波長領域に極大吸収波長を有するものであり、360nm〜480nmの波長領域に吸収波長を有するものであることが好ましく、365nm及び405nmの吸光度が高いものが特に好ましい。   The oxime compound has a maximum absorption wavelength in a wavelength region of 350 nm to 500 nm, preferably has an absorption wavelength in a wavelength region of 360 nm to 480 nm, and particularly preferably has a high absorbance at 365 nm and 405 nm.

オキシム化合物は、365nm又は405nmにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、1,000〜300,000であることが好ましく、2,000〜300,000であることがより好ましく、5,000〜200,000であることが特に好ましい。
化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いることができるが、具体的には、例えば、紫外可視分光光度計(Varian製Carry−5 spectrophotometer)にて、酢酸エチル溶媒を用い、0.01g/Lの濃度で測定することが好ましい。
本発明に用いられる光重合開始剤は、必要に応じて2種以上を組み合わせて使用しても良い。
The molar extinction coefficient at 365 nm or 405 nm of the oxime compound is preferably 1,000 to 300,000, more preferably 2,000 to 300,000, more preferably 5,000 to 200, from the viewpoint of sensitivity. Is particularly preferred.
A known method can be used for the molar extinction coefficient of the compound. Specifically, for example, in an ultraviolet-visible spectrophotometer (Varian Carry-5 spectrophotometer), an ethyl acetate solvent is used, and 0.01 g / It is preferable to measure at the concentration of L.
You may use the photoinitiator used for this invention in combination of 2 or more type as needed.

本発明の着色組成物が光重合開始剤を含有する場合、光重合開始剤の含有量は、着色組成物の全固形分に対し0.1〜50質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜30質量%であり、さらに好ましくは1〜20質量%である。
本発明の着色組成物は、光重合開始剤を、1種類のみを含んでいてもよいし、2種類以上含んでいてもよい。2種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
When the coloring composition of this invention contains a photoinitiator, 0.1-50 mass% is preferable with respect to the total solid of a coloring composition, More preferably, it is 0.5. It is -30 mass%, More preferably, it is 1-20 mass%.
The colored composition of the present invention may contain only one type of photopolymerization initiator, or may contain two or more types. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.

<<色素構造を有する分散剤以外の他の分散剤>>
本発明の着色組成物は、さらに、色素構造を有する分散剤以外の他の分散剤を含有してもよい。
他の分散剤としては、高分子分散剤〔例えば、ポリアミドアミンとその塩、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物〕、及び、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルカノールアミン等の界面活性剤、及び、顔料誘導体等を挙げることができる。これらの詳細は、特開2014−130173号公報の段落0045〜0049の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
<< Other dispersant other than the dispersant having a dye structure >>
The coloring composition of the present invention may further contain a dispersant other than the dispersant having a dye structure.
Other dispersants include polymer dispersants [eg, polyamidoamines and salts thereof, polycarboxylic acids and salts thereof, high molecular weight unsaturated acid esters, modified polyurethanes, modified polyesters, modified poly (meth) acrylates, (meth) Acrylic copolymer, naphthalene sulfonic acid formalin condensate], surfactants such as polyoxyethylene alkyl phosphate ester, polyoxyethylene alkyl amine, alkanol amine, and pigment derivatives. Details of these can be referred to the descriptions in paragraphs 0045 to 0049 of JP-A-2014-130173, and the contents thereof are incorporated in the present specification.

着色組成物において、他の分散剤を含有する場合、他の分散剤の総含有量としては、顔料100質量部に対して、1〜80質量部であることが好ましく、5〜70質量部がより好ましく、10〜60質量部であることがさらに好ましい。
本発明では特に、他の分散剤を実質的に含まない構成とすることもできる。実質的に含まない構成とは、顔料分散剤として機能しうるレベルの量を配合されていないことを意味し、例えば、全分散剤の1質量%以下であることをいう。
他の分散剤は、単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。2種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
In a coloring composition, when it contains another dispersing agent, it is preferable that it is 1-80 mass parts with respect to 100 mass parts of pigments as a total content of another dispersing agent, and 5-70 mass parts is. More preferred is 10 to 60 parts by mass.
In the present invention, in particular, it may be configured so as not to contain other dispersants. The composition which does not substantially contain means that an amount of a level capable of functioning as a pigment dispersant is not blended, for example, 1% by mass or less of the total dispersant.
Another dispersing agent may be used independently and may be used in combination of 2 or more type. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.

<<アルカリ可溶性樹脂>>
本発明の着色組成物は、さらに、アルカリ可溶性樹脂を含有してもよい。
アルカリ可溶性樹脂としては、線状有機高分子重合体であって、分子(好ましくは、アクリル系共重合体、スチレン系共重合体を主鎖とする分子)中に少なくとも1つのアルカリ可溶性を促進する基を有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。耐熱性の観点からは、ポリヒドロキシスチレン系樹脂、ポリシロキサン系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルアミド系樹脂、アクリル/アクリルアミド共重合体樹脂が好ましく、現像性制御の観点からは、アクリル系樹脂、アクリルアミド系樹脂、アクリル/アクリルアミド共重合体樹脂が好ましい。
<< Alkali-soluble resin >>
The coloring composition of the present invention may further contain an alkali-soluble resin.
The alkali-soluble resin is a linear organic polymer, and promotes at least one alkali-solubility in a molecule (preferably a molecule having an acrylic copolymer or a styrene copolymer as a main chain). It can be suitably selected from alkali-soluble resins having a group. From the viewpoint of heat resistance, polyhydroxystyrene resins, polysiloxane resins, acrylic resins, acrylamide resins, and acryl / acrylamide copolymer resins are preferable. From the viewpoint of development control, acrylic resins and acrylamide resins are preferable. Resins and acrylic / acrylamide copolymer resins are preferred.

アルカリ可溶性を促進する基(以下、酸基ともいう)としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、フェノール性水酸基などが挙げられるが、有機溶剤に可溶で弱アルカリ水溶液により現像可能なものが好ましく、(メタ)アクリル酸が特に好ましいものとして挙げられる。これら酸基は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。   Examples of the group that promotes alkali solubility (hereinafter also referred to as an acid group) include a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfonic acid group, and a phenolic hydroxyl group. The group is soluble in an organic solvent and developed with a weak alkaline aqueous solution. Possible are preferable, and (meth) acrylic acid is particularly preferable. These acid groups may be used alone or in combination of two or more.

重合後に酸基を付与しうるモノマーとしては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等の水酸基を有するモノマー、グリシジル(メタ)アクリレート等のエポキシ基を有するモノマー、2−イソシアナートエチル(メタ)アクリレート等のイソシアネート基を有するモノマー等が挙げられる。これら酸基を導入するためのモノマーは、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。アルカリ可溶性樹脂に酸基を導入するには、例えば、酸基を有するモノマーおよび/または重合後に酸基を付与しうるモノマーを、モノマー成分として重合するようにすればよい。   Examples of monomers that can impart an acid group after polymerization include, for example, monomers having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, monomers having an epoxy group such as glycidyl (meth) acrylate, and 2-isocyanatoethyl (meth). And monomers having an isocyanate group such as acrylate. Only one type of monomer for introducing these acid groups may be used, or two or more types may be used. In order to introduce an acid group into the alkali-soluble resin, for example, a monomer having an acid group and / or a monomer capable of giving an acid group after polymerization may be polymerized as a monomer component.

アルカリ可溶性樹脂の製造には、例えば、公知のラジカル重合法による方法を適用することができる。ラジカル重合法でアルカリ可溶性樹脂を製造する際の温度、圧力、ラジカル開始剤の種類およびその量、溶媒の種類等々の重合条件は、当業者において容易に設定可能であり、実験的に条件を定めるようにすることもできる。   For production of the alkali-soluble resin, for example, a known radical polymerization method can be applied. Polymerization conditions such as temperature, pressure, type and amount of radical initiator, type of solvent, etc. when producing an alkali-soluble resin by radical polymerization can be easily set by those skilled in the art, and the conditions are determined experimentally. It can also be done.

アルカリ可溶性樹脂として用いられる線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマーが好ましく、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、ノボラック型樹脂などのアルカリ可溶性フェノール樹脂等、並びに側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの挙げられる。特に、(メタ)アクリル酸と、これと共重合可能な他のモノマーとの共重合体が、アルカリ可溶性樹脂として好適である。(メタ)アクリル酸と共重合可能な他のモノマーとしては、アルキル(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。アルキル(メタ)アクリレートおよびアリール(メタ)アクリレートとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、トリル(メタ)アクリレート、ナフチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート等、ビニル化合物としては、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、N−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー等、特開平10−300922号公報に記載のN位置換マレイミドモノマーとして、N―フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等を挙げることができる。なお、これらの(メタ)アクリル酸と共重合可能な他のモノマーは1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。   As the linear organic polymer used as the alkali-soluble resin, a polymer having a carboxylic acid in the side chain is preferable, such as a methacrylic acid copolymer, an acrylic acid copolymer, an itaconic acid copolymer, and a crotonic acid copolymer. , Maleic acid copolymers, partially esterified maleic acid copolymers, alkali-soluble phenolic resins such as novolak resins, etc., acid cellulose derivatives having a carboxylic acid in the side chain, and acid anhydrides added to polymers having a hydroxyl group. Can be mentioned. In particular, a copolymer of (meth) acrylic acid and another monomer copolymerizable therewith is suitable as the alkali-soluble resin. Examples of other monomers copolymerizable with (meth) acrylic acid include alkyl (meth) acrylates, aryl (meth) acrylates, and vinyl compounds. As alkyl (meth) acrylate and aryl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, Examples of vinyl compounds such as hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, tolyl (meth) acrylate, naphthyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, glycidyl methacrylate, acrylonitrile, vinyl acetate, N-vinylpyrrolidone, tetrahydrofurfuryl methacrylate, polystyrene Macromonomer, polymethylmethacrylate macromonomer, as N-position-substituted maleimide monomer described in JP-A-10-300922, may be mentioned N- phenylmaleimide, an N- cyclohexyl maleimide and the like. In addition, only 1 type may be sufficient as the other monomer copolymerizable with these (meth) acrylic acids, and 2 or more types may be sufficient as it.

アルカリ可溶性樹脂としては、下記一般式(ED)で示される化合物および/または下記一般式(ED2)で表される化合物(以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。)を必須とするモノマー成分を重合してなるポリマー(a)を含むことも好ましい。   As the alkali-soluble resin, a compound represented by the following general formula (ED) and / or a compound represented by the following general formula (ED2) (hereinafter, these compounds may be referred to as “ether dimers”) are essential. It is also preferable to include a polymer (a) obtained by polymerizing the monomer component.

一般式(ED)中、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数1〜25の炭化水素基を表す。
一般式(ED2)

一般式(ED2)中、Rは、水素原子または炭素数1〜30の有機基を表す。一般式(ED2)の具体例としては、特開2010−168539号公報の記載を参酌できる。
In General Formula (ED), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent.
General formula (ED2)

In General Formula (ED2), R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms. As a specific example of the general formula (ED2), the description of JP 2010-168539 A can be referred to.

これにより、本発明の着色組成物は、耐熱性とともに透明性にも極めて優れた硬化塗膜を形成しうる。一般式(ED)中、R1およびR2で表される置換基を有していてもよい炭素数1〜25の炭化水素基としては、特に制限はないが、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、tert−アミル、ステアリル、ラウリル、2−エチルヘキシル等の直鎖状または分岐状のアルキル基;フェニル等のアリール基;シクロヘキシル、tert−ブチルシクロヘキシル、ジシクロペンタジエニル、トリシクロデカニル、イソボルニル、アダマンチル、2−メチル−2−アダマンチル等の脂環式基;1−メトキシエチル、1−エトキシエチル等のアルコキシで置換されたアルキル基;ベンジル等のアリール基で置換されたアルキル基;等が挙げられる。これらの中でも特に、メチル、エチル、シクロヘキシル、ベンジル等のような酸や熱で脱離しにくい1級または2級炭素の置換基が耐熱性の点で好ましい。Thereby, the coloring composition of this invention can form the cured coating film which was very excellent also in transparency with heat resistance. In the general formula (ED), the hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent represented by R 1 and R 2 is not particularly limited, but for example, methyl, ethyl, n Linear or branched alkyl groups such as propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, tert-amyl, stearyl, lauryl, 2-ethylhexyl; aryl groups such as phenyl; cyclohexyl, tert-butylcyclohexyl , Alicyclic groups such as dicyclopentadienyl, tricyclodecanyl, isobornyl, adamantyl and 2-methyl-2-adamantyl; alkyl groups substituted with alkoxy such as 1-methoxyethyl and 1-ethoxyethyl; benzyl An alkyl group substituted with an aryl group such as; Among these, an acid such as methyl, ethyl, cyclohexyl, benzyl or the like, or a primary or secondary carbon substituent which is difficult to be removed by heat is preferable from the viewpoint of heat resistance.

エーテルダイマーの具体例としては、例えば、ジメチル−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジエチル−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジ(n−プロピル)−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジ(イソプロピル)−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジ(n−ブチル)−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジ(イソブチル)−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジ(tert−ブチル)−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジ(tert−アミル)−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジ(ステアリル)−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジ(ラウリル)−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジ(2−エチルヘキシル)−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジ(1−メトキシエチル)−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジ(1−エトキシエチル)−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジベンジル−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジフェニル−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジシクロヘキシル−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジ(tert−ブチルシクロヘキシル)−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジ(ジシクロペンタジエニル)−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジ(トリシクロデカニル)−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジ(イソボルニル)−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジアダマンチル−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジ(2−メチル−2−アダマンチル)−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート等が挙げられる。これらの中でも特に、ジメチル−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジエチル−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジシクロヘキシル−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエート、ジベンジル−2,2'−[オキシビス(メチレン)]ビス−2−プロペノエートが好ましい。これらエーテルダイマーは、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。一般式(ED)で示される化合物由来の構造体は、その他のモノマーを共重合させてもよい。   Specific examples of the ether dimer include dimethyl-2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, diethyl-2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di ( n-propyl) -2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (isopropyl) -2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (n-butyl) -2,2 '-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (isobutyl) -2,2'-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (tert-butyl) -2,2 '-[Oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (tert-amyl) -2,2'-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoe Di (stearyl) -2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (lauryl) -2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (2- Ethylhexyl) -2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (1-methoxyethyl) -2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (1-ethoxy) Ethyl) -2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, dibenzyl-2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, diphenyl-2,2 ′-[oxybis (methylene) )] Bis-2-propenoate, dicyclohexyl-2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (tert-butylsilane) Rohexyl) -2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (dicyclopentadienyl) -2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (tricyclo Decanyl) -2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (isobornyl) -2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, diadamantyl-2,2 ′ -[Oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, di (2-methyl-2-adamantyl) -2,2 '-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate and the like. Among these, dimethyl-2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, diethyl-2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate, dicyclohexyl-2,2′- [Oxybis (methylene)] bis-2-propenoate and dibenzyl-2,2 ′-[oxybis (methylene)] bis-2-propenoate are preferred. These ether dimers may be only one kind or two or more kinds. The structure derived from the compound represented by the general formula (ED) may be copolymerized with other monomers.

アルカリ可溶性樹脂は、下記式(X)で示されるエチレン性不飽和化合物に由来する繰り返し単位および/または一般式(ED)で表される化合物由来の繰り返し単位を含んでいてもよい。
一般式(X)

(式(X)において、R1は、水素原子またはメチル基を表し、R2は炭素数2〜10のアルキレン基を表し、R3は、水素原子またはベンゼン環を含んでもよい炭素数1〜20のアルキル基を表す。nは1〜15の整数を表す。)
上記式(X)において、R2のアルキレン基の炭素数は、2〜3が好ましい。また、R3のアルキル基の炭素数は1〜20であるが、好ましくは1〜10であり、R3のアルキル基はベンゼン環を含んでもよい。R3で表されるベンゼン環を含むアルキル基としては、ベンジル基、2−フェニル(イソ)プロピル基等を挙げることができる。
The alkali-soluble resin may contain a repeating unit derived from an ethylenically unsaturated compound represented by the following formula (X) and / or a repeating unit derived from a compound represented by the general formula (ED).
Formula (X)

(In Formula (X), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, and R 3 represents a hydrogen atom or a benzene ring that may contain a benzene ring. Represents an alkyl group of 20. n represents an integer of 1 to 15.)
In the formula (X), the number of carbon atoms of the alkylene group R 2 is preferably 2-3. Although the carbon number of the alkyl group of R 3 is from 1 to 20, preferably from 1 to 10, the alkyl group of R 3 may include a benzene ring. Examples of the alkyl group containing a benzene ring represented by R 3 include a benzyl group and a 2-phenyl (iso) propyl group.

一般式(ED)中、R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数1〜25の炭化水素基を表す。
一般式(ED2)
一般式(ED2)中、Rは、水素原子または炭素数1〜30の有機基を表す。一般式(ED2)の具体例としては、特開2010−168539号公報の記載を参酌できる。
In General Formula (ED), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent.
General formula (ED2)
In General Formula (ED2), R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms. As a specific example of the general formula (ED2), the description of JP 2010-168539 A can be referred to.

また、本発明における着色組成物の架橋効率を向上させるために、重合性基を有したアルカリ可溶性樹脂を使用してもよい。重合性基を有したアルカリ可溶性樹脂としては、アリル基、(メタ)アクリル基、アリルオキシアルキル基等を側鎖に含有したアルカリ可溶性樹脂等が有用である。上述の重合性基を含有するアルカリ可溶性樹脂の例としては、ダイヤナ−ルNRシリーズ(三菱レイヨン製)、Photomer6173(COOH含有 polyurethane acrylic oligomer. Diamond Shamrock Co.Ltd.,製)、ビスコートR−264、KSレジスト106(いずれも大阪有機化学工業製)、サイクロマーPシリーズ、プラクセル CF200シリーズ(いずれもダイセル化学工業製)、Ebecryl3800(ダイセルユーシービー製)などが挙げられる。これら重合性基を含有するアルカリ可溶性樹脂としては、予めイソシアネート基とOH基を反応させ、未反応のイソシアネート基を1つ残し、かつ(メタ)アクリロイル基を含む化合物とカルボキシル基を含むアクリル樹脂との反応によって得られるウレタン変性した重合性二重結合含有アクリル樹脂、カルボキシル基を含むアクリル樹脂と分子内にエポキシ基および重合性二重結合を共に有する化合物との反応によって得られる不飽和基含有アクリル樹脂、酸ペンダント型エポキシアクリレート樹脂、OH基を含むアクリル樹脂と重合性二重結合を有する2塩基酸無水物を反応させた重合性二重結合含有アクリル樹脂、OH基を含むアクリル樹脂とイソシアネートと重合性基を有する化合物を反応させた樹脂、特開2002−229207号公報および特開2003−335814号公報に記載されるα位またはβ位にハロゲン原子或いはスルホネート基などの脱離基を有するエステル基を側鎖に有する樹脂を、塩基性処理することで得られる樹脂などが好ましい。また、アクリキュア−RD−F8(日本触媒製)も好ましい。   Moreover, in order to improve the crosslinking efficiency of the coloring composition in the present invention, an alkali-soluble resin having a polymerizable group may be used. As the alkali-soluble resin having a polymerizable group, an alkali-soluble resin containing an allyl group, a (meth) acryl group, an allyloxyalkyl group or the like in the side chain is useful. Examples of the alkali-soluble resin containing a polymerizable group as described above include a dial NR series (manufactured by Mitsubishi Rayon), a Photomer 6173 (manufactured by COOH-containing polyurethane acrylic oligomer. Diamond Shamrock Co. Ltd.), Biscote R-264, Examples thereof include KS resist 106 (all manufactured by Osaka Organic Chemical Industry), Cyclomer P series, Plaxel CF200 series (all manufactured by Daicel Chemical Industries), and Ebecryl 3800 (manufactured by Daicel UCB). As an alkali-soluble resin containing these polymerizable groups, an isocyanate group and an OH group are reacted in advance to leave one unreacted isocyanate group and a compound containing a (meth) acryloyl group and an acrylic resin containing a carboxyl group; Urethane-modified polymerizable double bond-containing acrylic resin obtained by the above reaction, unsaturated group-containing acrylic obtained by reaction of an acrylic resin containing a carboxyl group and a compound having both an epoxy group and a polymerizable double bond in the molecule Resin, acid pendant type epoxy acrylate resin, OH group-containing acrylic resin and polymerizable double bond-containing acrylic resin obtained by reacting a polymerizable double bond, OH group-containing acrylic resin and isocyanate Resin obtained by reacting compound having polymerizable group, JP 2002-229207 A Resin obtained by basic treatment of a resin having an ester group having a leaving group such as a halogen atom or a sulfonate group at the α-position or β-position described in JP-A-2003-335814 Etc. are preferable. Further, ACRYCURE-RD-F8 (manufactured by Nippon Shokubai) is also preferable.

アルカリ可溶性樹脂としては、特に、(メタ)アクリル酸ベンジル/(メタ)アクリル酸共重合体や(メタ)アクリル酸ベンジル/(メタ)アクリル酸/他のモノマーからなる多元共重合体が好適である。この他、2−ヒドロキシエチルメタクリレートを共重合した(メタ)アクリル酸ベンジル/(メタ)アクリル酸/(メタ)アクリル酸−2−ヒドロキシエチル共重合体、特開平7−140654号公報に記載の2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/メチルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体などが挙げられ、特に好ましくはメタクリル酸ベンジル/メタクリル酸の共重合体等が挙げられる。   As the alkali-soluble resin, in particular, a benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymer or a multi-component copolymer composed of benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / other monomers is suitable. . In addition, benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / (meth) acrylic acid-2-hydroxyethyl copolymer copolymerized with 2-hydroxyethyl methacrylate, 2 described in JP-A-7-140654 -Hydroxypropyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxyethyl Methacrylate / polystyrene macromonomer / methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, etc. Gerare, particularly preferred examples include a copolymer of benzyl methacrylate / methacrylic acid.

アルカリ可溶性樹脂としては、特開2012−208494号公報段落0558〜0571(対応する米国特許出願公開第2012/0235099号明細書の<0685>〜<0700>)以降の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
さらに、特開2012−32767号公報に記載の段落番号0029〜0063に記載の共重合体(B)および実施例で用いられているアルカリ可溶性樹脂、特開2012−208474号公報の段落番号0088〜0098に記載のバインダー樹脂および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開2012−137531号公報の段落番号0022〜0032に記載のバインダー樹脂および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開2013−024934号公報の段落番号0132〜0143に記載のバインダー樹脂および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開2011−242752号公報の段落番号0092〜0098および実施例で用いられているバインダー樹脂、特開2012−032770号公報の段落番号0030〜0072に記載のバインダー樹脂を用いること好ましい。これらの内容は本明細書に組み込まれる。より具体的には、下記の樹脂が好ましい。
As the alkali-soluble resin, paragraphs 0558 to 0571 of JP 2012-208494 A (corresponding to <0685> to <0700> of the corresponding US Patent Application Publication No. 2012/0235099) can be referred to, and the contents thereof can be referred to. Are incorporated herein.
Furthermore, the copolymer (B) described in paragraph Nos. 0029 to 0063 described in JP 2012-32767 A and the alkali-soluble resin used in Examples, paragraph Nos. 0088 of JP 2012-208474 A The binder resin described in 0098 and the binder resin used in Examples, the binder resin described in Paragraph Nos. 0022 to 0032 of JP 2012-137531 B, and the binder resin used in Examples, No. 024934, paragraph numbers 0132 to 0143 described in paragraphs 0132 to 0143 and the binder resins used in the examples, JP 2011-242752A paragraphs 0092 to 0098 and the binder resins used in the examples, Paragraph No. of Kokai 2012-032770 It preferred to use a binder resin according to 030-0072. These contents are incorporated herein. More specifically, the following resins are preferable.


アルカリ可溶性樹脂の酸価は、下限値としては、20mgKOH/g以上が好ましく、30mgKOH/g以上がより好ましく、45mgKOH/g以上がより好ましく、55mgKOH/g以上がより好ましく、80mgKOH/g以上がさらに好ましく、130mgKOH/g以上が一層好ましい。上限値としては、250mgKOH/g以下が好ましく、210mgKOH/g以下がより好ましい。
また、アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量(Mw)としては、2,000〜50,000が好ましく、5,000〜30,000がさらに好ましく、7,000〜20,000が特に好ましい。
The lower limit of the acid value of the alkali-soluble resin is preferably 20 mgKOH / g or more, more preferably 30 mgKOH / g or more, more preferably 45 mgKOH / g or more, more preferably 55 mgKOH / g or more, and more preferably 80 mgKOH / g or more. Preferably, 130 mgKOH / g or more is more preferable. As an upper limit, 250 mgKOH / g or less is preferable and 210 mgKOH / g or less is more preferable.
Further, the weight average molecular weight (Mw) of the alkali-soluble resin is preferably 2,000 to 50,000, more preferably 5,000 to 30,000, and particularly preferably 7,000 to 20,000.

着色組成物中にアルカリ可溶性樹脂を含有する場合、アルカリ可溶性樹脂の含有量としては、着色組成物の全固形分に対して、1〜15質量%が好ましく、より好ましくは、2〜12質量%であり、特に好ましくは、3〜10質量%である。
本発明の着色組成物は、アルカリ可溶性樹脂を、1種類のみを含んでいてもよいし、2種類以上含んでいてもよい。2種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
When the alkali-soluble resin is contained in the coloring composition, the content of the alkali-soluble resin is preferably 1 to 15% by mass, more preferably 2 to 12% by mass with respect to the total solid content of the coloring composition. And particularly preferably 3 to 10% by mass.
The coloring composition of the present invention may contain only one type of alkali-soluble resin, or may contain two or more types. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.

<<<溶剤>>>
溶剤としては、上述した顔料分散液で挙げた溶剤を用いることができる。
着色組成物中における溶剤の含有量は、着色組成物の全固形分濃度が5〜80質量%になる量とすることが好ましく、5〜50質量%になる量がより好ましく、10〜30質量%になる量がさらに好ましい。
着色組成物は、溶剤を、1種類のみを含んでいてもよいし、2種類以上含んでいてもよい。2種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<< Solvent >>>
As the solvent, the solvents mentioned above for the pigment dispersion can be used.
The content of the solvent in the colored composition is preferably such that the total solid concentration of the colored composition is 5 to 80% by mass, more preferably 5 to 50% by mass, and 10 to 30% by mass. % Is more preferred.
The coloring composition may contain only one type of solvent or two or more types of solvents. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.

<<<重合禁止剤>>>
本発明の着色組成物は、着色組成物の製造中又は保存中において、重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために、少量の重合禁止剤を添加することが望ましい。
本発明に用いうる重合禁止剤としては、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4'−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2'−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。
本発明の着色組成物が重合禁止剤を含有する場合、重合禁止剤の含有量は、着色組成物の質量に対して、約0.01〜5質量%が好ましい。
本発明の着色組成物は、重合禁止剤を、1種類のみを含んでいてもよいし、2種類以上含んでいてもよい。2種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<< Polymerization inhibitor >>>
In the colored composition of the present invention, it is desirable to add a small amount of a polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable compound during the production or storage of the colored composition.
Examples of the polymerization inhibitor that can be used in the present invention include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4′-thiobis (3-methyl-6- t-butylphenol), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine primary cerium salt and the like.
When the coloring composition of this invention contains a polymerization inhibitor, about 0.01-5 mass% is preferable with respect to the mass of a coloring composition.
The coloring composition of the present invention may contain only one type of polymerization inhibitor, or may contain two or more types. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.

<<<界面活性剤>>>
本発明の着色組成物には、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。
<<< surfactant >>>
Various surfactants may be added to the colored composition of the present invention from the viewpoint of further improving coatability. As the surfactant, various surfactants such as a fluorine-based surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicone-based surfactant can be used.

特に、本発明の着色組成物は、フッ素系界面活性剤を含有することで、塗布液として調製したときの液特性(特に、流動性)がより向上することから、塗布厚の均一性や省液性をより改善することができる。
即ち、フッ素系界面活性剤を含有する着色組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力を低下させることにより、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、少量の液量で数μm程度の薄膜を形成した場合であっても、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行える点で有効である。
In particular, the coloring composition of the present invention contains a fluorosurfactant, so that liquid properties (particularly fluidity) when prepared as a coating solution are further improved. Liquidity can be further improved.
That is, in the case of forming a film using a coating liquid to which a coloring composition containing a fluorosurfactant is applied, wetting the coated surface by reducing the interfacial tension between the coated surface and the coating liquid. The coating property is improved and the coating property to the coated surface is improved. For this reason, even when a thin film of about several μm is formed with a small amount of liquid, it is effective in that it is possible to more suitably form a film having a uniform thickness with small thickness unevenness.

フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、3〜40質量%が好適であり、より好ましくは5〜30質量%であり、特に好ましくは7〜25質量%である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、着色組成物中における溶解性も良好である。   3-40 mass% is suitable for the fluorine content rate in a fluorine-type surfactant, More preferably, it is 5-30 mass%, Most preferably, it is 7-25 mass%. A fluorine-based surfactant having a fluorine content within this range is effective in terms of uniformity of coating film thickness and liquid-saving properties, and has good solubility in a colored composition.

フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックF171、同F172、同F173、同F176、同F177、同F141、同F142、同F143、同F144、同R30、同F437、同F475、同F479、同F482、同F554、同F780、同F781(以上、DIC製)、フロラードFC430、同FC431、同FC171(以上、住友スリーエム製)、サーフロンS−382、同SC−101、同SC−103、同SC−104、同SC−105、同SC1068、同SC−381、同SC−383、同S393、同KH−40(以上、旭硝子製)、PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(OMNOVA社製)等が挙げられる。   Examples of the fluorosurfactant include Megafac F171, F172, F173, F176, F176, F177, F141, F142, F143, F144, R30, F437, F475, F479, F482, F554, F780, F780, F781 (above DIC), Florard FC430, FC431, FC171 (above, Sumitomo 3M), Surflon S-382, SC-101, SC-103, SC-104, SC-105, SC-1068, SC-381, SC-383, S393, K393, KH-40 (above, manufactured by Asahi Glass), PF636, PF656, PF6320, PF6520, PF7002 (manufactured by OMNOVA) Etc.

ノニオン系界面活性剤として具体的には、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレートおよびプロポキシレート(例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセリンエトキシレート等)、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル(BASF製のプルロニックL10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2、テトロニック304、701、704、901、904、150R1)、ソルスパース20000(日本ルーブリゾール)等が挙げられる。   Specific examples of the nonionic surfactant include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane, and ethoxylates and propoxylates thereof (for example, glycerol propoxylate, glycerol ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene Stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester (Pluronic L10, L31, L61, L62, 10R5 manufactured by BASF) 17R2, 25R2, Tetronic 304, 701, 704, 901, 904, 150R1), SO Sparse 20000 (Lubrizol), and the like.

カチオン系界面活性剤として具体的には、フタロシアニン誘導体(商品名:EFKA−745、森下産業製)、オルガノシロキサンポリマーKP341(信越化学工業製)、(メタ)アクリル酸系(共)重合体ポリフローNo.75、No.90、No.95(共栄社化学製)、W001(裕商製)等が挙げられる。   Specific examples of the cationic surfactant include phthalocyanine derivatives (trade name: EFKA-745, manufactured by Morishita Sangyo), organosiloxane polymer KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), (meth) acrylic acid (co) polymer polyflow No. . 75, no. 90, no. 95 (manufactured by Kyoeisha Chemical), W001 (manufactured by Yusho) and the like.

アニオン系界面活性剤として具体的には、W004、W005、W017(裕商製)等が挙げられる。   Specific examples of the anionic surfactant include W004, W005, W017 (manufactured by Yusho) and the like.

シリコーン系界面活性剤としては、例えば、東レ・ダウコーニング製「トーレシリコーンDC3PA」、「トーレシリコーンSH7PA」、「トーレシリコーンDC11PA」,「トーレシリコーンSH21PA」,「トーレシリコーンSH28PA」、「トーレシリコーンSH29PA」、「トーレシリコーンSH30PA」、「トーレシリコーンSH8400」、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製「TSF−4440」、「TSF−4300」、「TSF−4445」、「TSF−4460」、「TSF−4452」、信越シリコーン製「KP341」、「KF6001」、「KF6002」、ビックケミー製「BYK307」、「BYK323」、「BYK330」等が挙げられる。
本発明の着色組成物に界面活性剤を含有する場合、界面活性剤の添加量は、着色組成物の全質量に対して、0.001〜2.0質量%が好ましく、より好ましくは0.005〜1.0質量%である。
本発明の着色組成物は、界面活性剤を、1種類のみを含んでいてもよいし、2種類以上含んでいてもよい。2種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
Examples of the silicone surfactant include “Toray Silicone DC3PA”, “Toray Silicone SH7PA”, “Tore Silicone DC11PA”, “Tore Silicone SH21PA”, “Tore Silicone SH28PA”, and “Toray Silicone SH29PA” manufactured by Toray Dow Corning. , “Tole Silicone SH30PA”, “Tole Silicone SH8400”, Momentive Performance Materials “TSF-4440”, “TSF-4300”, “TSF-4445”, “TSF-4460”, “TSF-4442”, “KP341”, “KF6001”, “KF6002” manufactured by Shin-Etsu Silicone, “BYK307”, “BYK323”, “BYK330” manufactured by BYK Chemie, and the like.
When the coloring composition of the present invention contains a surfactant, the addition amount of the surfactant is preferably 0.001 to 2.0% by mass, more preferably 0.001%, based on the total mass of the coloring composition. 005 to 1.0% by mass.
The coloring composition of the present invention may contain only one type of surfactant or two or more types of surfactant. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.

<<他の成分>>
本発明の着色組成物は、上述の各成分に加えて、本発明の効果を損なわない範囲で、さらに、染料、架橋剤、有機カルボン酸、有機カルボン酸無水物などの他の成分を含んでいてもよい。
<< other ingredients >>
The colored composition of the present invention further contains other components such as a dye, a crosslinking agent, an organic carboxylic acid, and an organic carboxylic acid anhydride as long as the effects of the present invention are not impaired in addition to the above-described components. May be.

<<染料>>
本発明の着色組成物は、公知の染料を含んでいてもよい。例えば特開昭64−90403号公報、特開昭64−91102号公報、特開平1−94301号公報、特開平6−11614号公報、特登2592207号、米国特許4808501号明細書、米国特許5667920号明細書、米国特許505950号明細書、米国特許5667920号明細書、特開平5−333207号公報、特開平6−35183号公報、特開平6−51115号公報、特開平6−194828号公報等に開示されている色素を使用できる。化学構造としては、ピラゾールアゾ系、ピロメテン系、アニリノアゾ系、トリアリールメタン系、アントラキノン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系等の染料を使用できる。また、染料としては色素多量体を用いてもよい。色素多量体としては、特開2011−213925号公報、特開2013−041097号公報に記載されている化合物が挙げられる。
<< Dye >>
The coloring composition of the present invention may contain a known dye. For example, JP-A 64-90403, JP-A-64-91102, JP-A-1-94301, JP-A-6-11614, Toho 2592207, U.S. Pat. No. 4,808,501, U.S. Pat. No., U.S. Pat. No. 505950, U.S. Pat. No. 5,667,920, JP-A-5-333207, JP-A-6-35183, JP-A-6-51115, JP-A-6-194828, etc. Can be used. The chemical structure includes pyrazole azo, pyromethene, anilinoazo, triarylmethane, anthraquinone, benzylidene, oxonol, pyrazolotriazole azo, pyridone azo, cyanine, phenothiazine, pyrrolopyrazole azomethine, etc. Dyes can be used. A dye multimer may be used as the dye. Examples of the dye multimer include compounds described in JP2011-213925A and JP2013-041097A.

<<<架橋剤>>>
本発明の着色組成物に架橋剤を含有させてもよい。架橋剤を含有させることにより、得られる硬化膜の硬度をより高めることもできる。
架橋剤としては、架橋反応により膜硬化を行なえるものであれば、特に限定はなく、例えば、(a)エポキシ樹脂、(b)メチロール基、アルコキシメチル基、及びアシロキシメチル基から選ばれる少なくとも1つの置換基で置換された、メラミン化合物、グアナミン化合物、グリコールウリル化合物又はウレア化合物、(c)メチロール基、アルコキシメチル基、及びアシロキシメチル基から選ばれる少なくとも1つの置換基で置換された、フェノール化合物、ナフトール化合物又はヒドロキシアントラセン化合物、が挙げられる。中でも、多官能エポキシ樹脂が好ましい。
架橋剤の具体例などの詳細については、特開2004−295116号公報の段落0134〜0147の記載を参照することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
本発明の着色組成物中に架橋剤を含有する場合、架橋剤の含有量は、特に定めるものではないが、組成物の全固形分の2〜30質量%が好ましく、3〜20質量%がより好ましい。
本発明の着色組成物は、架橋剤を、1種類のみを含んでいてもよいし、2種類以上含んでいてもよい。2種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<< crosslinking agent >>>
You may make the coloring composition of this invention contain a crosslinking agent. By containing a crosslinking agent, the hardness of the cured film obtained can be further increased.
The crosslinking agent is not particularly limited as long as the film can be cured by a crosslinking reaction. For example, at least selected from (a) an epoxy resin, (b) a methylol group, an alkoxymethyl group, and an acyloxymethyl group. Substituted with at least one substituent selected from a melamine compound, a guanamine compound, a glycoluril compound or a urea compound, (c) a methylol group, an alkoxymethyl group, and an acyloxymethyl group, substituted with one substituent, Phenol compounds, naphthol compounds or hydroxyanthracene compounds are mentioned. Of these, polyfunctional epoxy resins are preferred.
For details such as specific examples of the crosslinking agent, reference can be made to the descriptions in paragraphs 0134 to 0147 of JP-A No. 2004-295116, the contents of which are incorporated herein.
When the coloring composition of the present invention contains a crosslinking agent, the content of the crosslinking agent is not particularly defined, but is preferably 2 to 30% by mass, and 3 to 20% by mass of the total solid content of the composition. More preferred.
The coloring composition of the present invention may contain only one type of cross-linking agent, or may contain two or more types. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.

<<<有機カルボン酸、有機カルボン酸無水物>>>
本発明の着色組成物は、分子量1000以下の有機カルボン酸、及び/又は有機カルボン酸無水物を含有していてもよい。有機カルボン酸及び有機カルボン酸無水物の具体例としては、例えば、特開2013−29760号公報の段落0338〜0340を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
本発明の着色組成物に有機カルボン酸、有機カルボン酸無水物を含有する場合、有機カルボン酸および/または有機カルボン酸無水物の添加量は、通常、全固形分中0.01〜10重量%、好ましくは0.03〜5重量%、より好ましくは0.05〜3重量%の範囲である。
本発明の着色組成物は、有機カルボン酸および/または有機カルボン酸無水物を、それぞれ、1種類のみを含んでいてもよいし、2種類以上含んでいてもよい。2種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
<<< Organic carboxylic acid, organic carboxylic acid anhydride >>>
The coloring composition of the present invention may contain an organic carboxylic acid having a molecular weight of 1000 or less and / or an organic carboxylic acid anhydride. As specific examples of the organic carboxylic acid and the organic carboxylic acid anhydride, for example, paragraphs 0338 to 0340 of JP 2013-29760 A can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
When the colored composition of the present invention contains an organic carboxylic acid or an organic carboxylic acid anhydride, the amount of the organic carboxylic acid and / or organic carboxylic acid anhydride is usually 0.01 to 10% by weight in the total solid content. , Preferably 0.03 to 5% by weight, more preferably 0.05 to 3% by weight.
The coloring composition of the present invention may contain only one type or two or more types of organic carboxylic acids and / or organic carboxylic anhydrides. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.

上記のほか、着色組成物には、必要に応じて、各種添加物、例えば、充填剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤等を配合することができる。これらの添加物としては、特開2004−295116号公報の段落0155〜0156に記載のものを挙げることができ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
本発明の着色組成物においては、特開2004−295116号公報の段落0078に記載の増感剤や光安定剤、同公報の段落0081に記載の熱重合防止剤を含有することができる。
In addition to the above, various additives such as fillers, adhesion promoters, antioxidants, ultraviolet absorbers, anti-aggregation agents and the like can be blended with the coloring composition as necessary. Examples of these additives include those described in paragraphs 0155 to 0156 of JP-A No. 2004-295116, the contents of which are incorporated herein.
The coloring composition of the present invention can contain a sensitizer and a light stabilizer described in paragraph 0078 of JP-A No. 2004-295116, and a thermal polymerization inhibitor described in paragraph 0081 of the publication.

<着色組成物の調製方法>
本発明の着色組成物は、前述の成分を混合することで調製される。
なお、着色組成物の調製に際しては、着色組成物を構成する各成分を一括配合してもよいし、各成分を溶剤に溶解・分散した後に逐次配合してもよい。また、配合する際の投入順序や作業条件は特に制約を受けない。例えば、全成分を同時に溶剤に溶解・分散して組成物を調製してもよいし、必要に応じては、各成分を適宜2つ以上の溶液・分散液としておいて、使用時(塗布時)にこれらを混合して組成物として調製してもよい。
本発明の着色組成物は、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、フィルタで濾過することが好ましい。従来からろ過用途等に用いられているものであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)等のフッ素樹脂、ナイロン−6、ナイロン−6,6等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン(PP)等のポリオレフィン樹脂(高密度、超高分子量を含む)等によるフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン(高密度ポリプロピレンを含む)が好ましい。
フィルタの孔径は、0.01〜7.0μm程度が適しており、好ましくは0.01〜3.0μm程度、さらに好ましくは0.05〜0.5μm程度である。この範囲とすることにより、後工程において均一及び平滑な着色組成物の調製を阻害する、微細な異物を確実に除去することが可能となる。
<Method for preparing colored composition>
The coloring composition of the present invention is prepared by mixing the aforementioned components.
In preparing the colored composition, the components constituting the colored composition may be mixed together, or may be sequentially added after each component is dissolved and dispersed in a solvent. In addition, there are no particular restrictions on the charging order and working conditions when blending. For example, the composition may be prepared by dissolving and dispersing all components in a solvent at the same time. If necessary, each component may be suitably used as two or more solutions / dispersions at the time of use (at the time of application). ) May be mixed to prepare a composition.
The colored composition of the present invention is preferably filtered with a filter for the purpose of removing foreign substances or reducing defects. If it is conventionally used for the filtration use etc., it can use without being specifically limited. For example, fluorine resins such as PTFE (polytetrafluoroethylene), polyamide resins such as nylon-6 and nylon-6,6, polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene (PP) (including high density and ultra high molecular weight), etc. Filter. Among these materials, polypropylene (including high density polypropylene) is preferable.
The filter has a pore diameter of about 0.01 to 7.0 μm, preferably about 0.01 to 3.0 μm, and more preferably about 0.05 to 0.5 μm. By setting it as this range, it becomes possible to remove reliably the fine foreign material which inhibits preparation of the uniform and smooth coloring composition in a post process.

フィルタを使用する際、異なるフィルタを組み合わせてもよい。その際、第1のフィルタでのフィルタリングは、1回のみでもよいし、2回以上行ってもよい。
また、上述した範囲内で異なる孔径の第1のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社(旧日本マイクロリス株式会社)又は株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。
第2のフィルタは、上述した第1のフィルタと同様の材料等で形成されたものを使用することができる。
例えば、第1のフィルタでのフィルタリングは、分散液のみで行い、他の成分を混合した後で、第2のフィルタリングを行ってもよい。
When using filters, different filters may be combined. At that time, the filtering by the first filter may be performed only once or may be performed twice or more.
Moreover, you may combine the 1st filter of a different hole diameter within the range mentioned above. The pore diameter here can refer to the nominal value of the filter manufacturer. As a commercially available filter, for example, it can be selected from various filters provided by Nippon Pole Co., Ltd., Advantech Toyo Co., Ltd., Japan Entegris Co., Ltd. (formerly Japan Microlith Co., Ltd.) or KITZ Micro Filter Co. .
As the second filter, a filter formed of the same material as the first filter described above can be used.
For example, the filtering by the first filter may be performed only with the dispersion, and the second filtering may be performed after mixing other components.

本発明の着色組成物は、耐光性、色移り性、平坦性が良好な硬化膜を形成することができるため、カラーフィルタの着色層を形成するために好適に用いられる。また、本発明の着色組成物は、固体撮像素子(例えば、CCD、CMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor)等)や、液晶表示装置(LCD)などの画像表示装置に用いられるカラーフィルタなどの着色パターン形成用として好適に用いることができる。さらに、印刷インキ、インクジェットインキ及び塗料などの作製用途としても好適に用いることができる。なかでも、CCD及びCMOS等の固体撮像素子用のカラーフィルタの製造に好適に用いることができる。   The colored composition of the present invention can be suitably used for forming a colored layer of a color filter because it can form a cured film having good light resistance, color transfer and flatness. Further, the colored composition of the present invention is a colored pattern such as a color filter used in a solid-state imaging device (for example, CCD, CMOS (Complementary Metal-Oxide Semiconductor), etc.) or an image display device such as a liquid crystal display device (LCD). It can be suitably used for forming. Furthermore, it can be suitably used as a production application for printing ink, inkjet ink, paint, and the like. Especially, it can use suitably for manufacture of the color filter for solid-state image sensors, such as CCD and CMOS.

<硬化膜、カラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法>
次に、本発明における硬化膜、カラーフィルタについて、その製造方法を通じて詳述する。また、本発明のカラーフィルタの製造方法についても説明する。
本発明の硬化膜は、本発明の着色組成物を硬化して得られる。かかる硬化膜はカラーフィルタに好ましく用いられる。すなわち、本発明のカラーフィルタは、着色組成物を用いてなる。
<Curing Film, Color Filter, and Color Filter Manufacturing Method>
Next, the cured film and the color filter in the present invention will be described in detail through the manufacturing method. A method for producing the color filter of the present invention will also be described.
The cured film of the present invention is obtained by curing the colored composition of the present invention. Such a cured film is preferably used for a color filter. That is, the color filter of the present invention uses a colored composition.

本発明のカラーフィルタの製造方法の第一の態様は、本発明の着色組成物を支持体上に適用して着色組成物層を形成する工程と、着色組成物層をパターン状に露光する工程と、露光した着色組成物層の未露光部を現像除去して着色パターンを形成する工程と、を含む。さらに、必要に応じて、着色組成物層をベークする工程(プリベーク工程)、および、現像された着色パターンをベークする工程(ポストベーク工程)を設けてもよい。以下、これらの工程をあわせて、パターン形成工程ということがある。
また、本発明のカラーフィルタの製造方法の第二の態様は、本発明の着色組成物を支持体上に適用して着色組成物層を形成し、硬化して着色層を形成する工程、着色層上にフォトレジスト層を形成する工程、フォトレジスト層を露光および現像することによりフォトレジスト層をパターニングしてレジストパターンを得る工程、およびレジストパターンをエッチングマスクとして着色層をドライエッチングする工程を含む。
本発明のカラーフィルタは、上記製造方法により好適に得ることができる。以下これらの詳細を述べる。
The first aspect of the method for producing a color filter of the present invention includes a step of applying the colored composition of the present invention on a support to form a colored composition layer, and a step of exposing the colored composition layer in a pattern. And a step of developing and removing an unexposed portion of the exposed colored composition layer to form a colored pattern. Furthermore, you may provide the process (prebaking process) of baking a colored composition layer, and the process (post-baking process) of baking the developed coloring pattern as needed. Hereinafter, these steps may be collectively referred to as a pattern forming step.
The second aspect of the method for producing a color filter of the present invention is a step of applying a colored composition of the present invention on a support to form a colored composition layer and curing to form a colored layer, coloring Forming a photoresist layer on the layer, patterning the photoresist layer by exposing and developing the photoresist layer to obtain a resist pattern, and dry etching the colored layer using the resist pattern as an etching mask .
The color filter of the present invention can be suitably obtained by the above production method. These details are described below.

<<着色組成物層を形成する工程>>
着色組成物層を形成する工程では、支持体上に、本発明の着色組成物を適用して着色組成物層を形成する。
<< Step of Forming Colored Composition Layer >>
In the step of forming the colored composition layer, the colored composition layer is formed by applying the colored composition of the present invention on the support.

本工程に用いうる支持体としては、例えば、基板(例えば、シリコン基板)上にCCDやCMOS等の撮像素子(受光素子)が設けられた固体撮像素子用基板を用いることができる。
本発明における着色パターンは、固体撮像素子用基板の撮像素子形成面側(おもて面)に形成されてもよいし、撮像素子非形成面側(裏面)に形成されてもよい。
固体撮像素子における着色パターンの間や、固体撮像素子用基板の裏面には、遮光膜が設けられていてもよい。
また、支持体上には、必要により、上部の層との密着改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。
As a support that can be used in this step, for example, a solid-state imaging element substrate in which an imaging element (light receiving element) such as a CCD or CMOS is provided on a substrate (for example, a silicon substrate) can be used.
The colored pattern in the present invention may be formed on the imaging element forming surface side (front surface) of the solid-state imaging element substrate, or may be formed on the imaging element non-forming surface side (back surface).
A light shielding film may be provided between the colored patterns in the solid-state image sensor or on the back surface of the substrate for the solid-state image sensor.
Further, if necessary, an undercoat layer may be provided on the support for improving adhesion with the upper layer, preventing diffusion of substances, or flattening the substrate surface.

支持体上への本発明の着色組成物の付与方法としては、スリット塗布、インクジェット法、回転塗布、流延塗布、ロール塗布、スクリーン印刷法等の各種の塗布方法を適用することができる。   As a method for applying the colored composition of the present invention on the support, various coating methods such as slit coating, ink jet method, spin coating, cast coating, roll coating, and screen printing can be applied.

支持体上に塗布された着色組成物層の乾燥(プリベーク)は、ホットプレート、オーブン等で50℃〜140℃の温度で10秒〜300秒で行うことができる。   The coloring composition layer coated on the support can be dried (prebaked) at a temperature of 50 ° C. to 140 ° C. for 10 seconds to 300 seconds using a hot plate, oven, or the like.

<<フォトリソグラフィ法でパターン形成する場合>>
<<<露光工程>>>
露光工程では、着色組成物層形成工程において形成された着色組成物層を、例えば、ステッパー等の露光装置を用い、所定のマスクパターンを有するマスクを介してパターン露光する。これにより、硬化膜が得られる。
露光に際して用いることができる放射線(光)としては、特に、g線、i線等の紫外線が好ましく(特に好ましくはi線)用いられる。照射量(露光量)は30mJ/cm2〜1500mJ/cm2が好ましく、50mJ/cm2〜1000mJ/cm2がより好ましく、80mJ/cm2〜500mJ/cm2が最も好ましい。
<< When pattern is formed by photolithography >>
<<< Exposure process >>>
In the exposure step, the colored composition layer formed in the colored composition layer forming step is subjected to pattern exposure through a mask having a predetermined mask pattern, for example, using an exposure apparatus such as a stepper. Thereby, a cured film is obtained.
As radiation (light) that can be used for exposure, ultraviolet rays such as g-line and i-line are particularly preferable (particularly preferably i-line). Irradiation dose (exposure dose) is preferably 30mJ / cm 2 ~1500mJ / cm 2 , more preferably 50mJ / cm 2 ~1000mJ / cm 2 , 80mJ / cm 2 ~500mJ / cm 2 being most preferred.

硬化膜の膜厚は1.0μm以下であることが好ましく、0.1μm〜0.9μmであることがより好ましく、0.2μm〜0.8μmであることがさらに好ましい。
膜厚を、1.0μm以下とすることにより、高解像性、高密着性を得られるため、好ましい。
また、本工程においては、0.7μm以下の薄い膜厚を有する硬化膜も好適に形成することができ、得られた硬化膜を、後述するパターン形成工程にて現像処理することで、薄膜でありながらも、現像性、表面荒れ抑制、およびパターン形状に優れた着色パターンを得ることができる。
The thickness of the cured film is preferably 1.0 μm or less, more preferably 0.1 μm to 0.9 μm, and still more preferably 0.2 μm to 0.8 μm.
It is preferable to set the film thickness to 1.0 μm or less because high resolution and high adhesion can be obtained.
In addition, in this step, a cured film having a thin film thickness of 0.7 μm or less can also be suitably formed, and the obtained cured film is developed in a pattern forming process described later, thereby forming a thin film. Although it exists, the coloring pattern excellent in developability, surface roughness suppression, and pattern shape can be obtained.

<<<パターン形成工程>>>
次いでアルカリ現像処理を行うことにより、露光工程における光未照射部分の着色組成物層がアルカリ水溶液に溶出し、光硬化した部分だけが残る。
現像液としては、下地の撮像素子や回路などにダメージを起さない、有機アルカリ現像液が望ましい。現像温度としては通常20℃〜30℃であり、現像時間は、従来20秒〜90秒であった。より残渣を除去するため、近年では120秒〜180秒実施する場合もある。さらには、より残渣除去性を向上するため、現像液を60秒ごとに振り切り、さらに新たに現像液を供給する工程を数回繰り返す場合もある。
<<< Pattern formation process >>>
Next, by performing an alkali development treatment, the colored composition layer of the light non-irradiated portion in the exposure step is eluted in the alkaline aqueous solution, and only the photocured portion remains.
The developer is preferably an organic alkali developer that does not cause damage to the underlying image sensor or circuit. The development temperature is usually 20 ° C. to 30 ° C., and the development time is conventionally 20 seconds to 90 seconds. In order to remove the residue more, in recent years, it may be carried out for 120 seconds to 180 seconds. Furthermore, in order to further improve residue removability, the process of shaking off the developer every 60 seconds and further supplying a new developer may be repeated several times.

現像液に用いるアルカリ剤としては、例えば、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、1,8−ジアザビシクロ−[5、4、0]−7−ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物が挙げられ、これらのアルカリ剤を濃度が0.001質量%〜10質量%、好ましくは0.01質量%〜1質量%となるように純水で希釈したアルカリ性水溶液が現像液として好ましく使用される。
なお、現像液には無機アルカリを用いてもよく、無機アルカリとしては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウムなどが好ましい。
なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、一般に現像後純水で洗浄(リンス)する。
Examples of the alkaline agent used in the developer include ammonia water, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, benzyltrimethylammonium hydroxide. And organic alkaline compounds such as choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo- [5,4,0] -7-undecene, and the concentration of these alkaline agents is 0.001% by mass to 10% by mass, An alkaline aqueous solution diluted with pure water so as to be preferably 0.01% by mass to 1% by mass is preferably used as the developer.
In addition, an inorganic alkali may be used for the developer, and as the inorganic alkali, for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, sodium oxalate, sodium metasuccinate and the like are preferable.
In the case where a developer composed of such an alkaline aqueous solution is used, it is generally washed (rinsed) with pure water after development.

次いで、乾燥を施した後に加熱処理(ポストベーク)を行うことが好ましい。多色の着色パターンを形成するのであれば、色ごとに工程を順次繰り返して硬化皮膜を製造することができる。これによりカラーフィルタが得られる。
ポストベークは、硬化を完全なものとするための現像後の加熱処理であり、通常100℃〜240℃、好ましくは200℃〜240℃の熱硬化処理を行う。
このポストベーク処理は、現像後の塗布膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン(熱風循環式乾燥機)、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。
Next, it is preferable to perform heat treatment (post-bake) after drying. If a multicolor coloring pattern is formed, a cured film can be produced by sequentially repeating the process for each color. Thereby, a color filter is obtained.
Post-baking is a heat treatment after development for complete curing, and a heat curing treatment is usually performed at 100 ° C. to 240 ° C., preferably 200 ° C. to 240 ° C.
This post-bake treatment is performed continuously or batchwise using a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot air circulation dryer), a high-frequency heater, or the like so that the coating film after development is in the above-described condition. be able to.

<<ドライエッチング法でパターン形成する場合>>
ドライエッチングは、着色層を、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとしてエッチングガスを用いて行うことができる。具体的には、着色層上にポジ型またはネガ型の感放射線性組成物を塗布し、これを乾燥させることによりフォトレジスト層を形成する。フォトレジスト層の形成においては、さらにプリベーク処理を施すことが好ましい。特に、フォトレジスト層の形成プロセスとしては、露光後の加熱処理、現像後の加熱処理(ポストベーク処理)を実施する形態が望ましい。
<< When pattern is formed by dry etching method >>
Dry etching can be performed by using an etching gas for the colored layer with the patterned photoresist layer as a mask. Specifically, a positive or negative radiation sensitive composition is applied onto the colored layer and dried to form a photoresist layer. In the formation of the photoresist layer, it is preferable to further perform a pre-bake treatment. In particular, as a process for forming the photoresist layer, a mode in which heat treatment after exposure and heat treatment after development (post-bake treatment) are desirable.

フォトレジストとしては、例えば、ポジ型の感放射線性組成物が用いられる。このポジ型の感放射線性組成物としては、紫外線(g線、h線、i線)、エキシマレーザー等を含む遠紫外線、電子線、イオンビームおよびX線等の放射線に感応するポジ型フォトレジスト用に好適なポジ型レジスト組成物が使用できる。放射線のうち、g線、h線、i線が好ましく、中でもi線が好ましい。
具体的には、ポジ型の感放射線性組成物として、キノンジアジド化合物およびアルカリ可溶性樹脂を含有する組成物が好ましい。キノンジアジド化合物およびアルカリ可溶性樹脂を含有するポジ型の感放射線性組成物は、500nm以下の波長の光照射によりキノンジアジド基が分解してカルボキシル基を生じ、結果としてアルカリ不溶状態からアルカリ可溶性になることを利用するものである。このポジ型フォトレジストは解像力が著しく優れているので、IC(Integrated Circuit)やLSI(Large Scale Integration)等の集積回路の作製に用いられている。キノンジアジド化合物としては、ナフトキノンジアジド化合物が挙げられる。市販品としては例えば「FHi622BC」(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ製)などが挙げられる。
As the photoresist, for example, a positive type radiation sensitive composition is used. The positive type radiation sensitive composition includes a positive type photoresist which is sensitive to radiation such as ultraviolet rays (g rays, h rays, i rays), deep ultraviolet rays including excimer laser, electron beams, ion beams and X rays. A positive resist composition suitable for use can be used. Of the radiation, g-line, h-line and i-line are preferable, and i-line is particularly preferable.
Specifically, as the positive radiation sensitive composition, a composition containing a quinonediazide compound and an alkali-soluble resin is preferable. A positive radiation-sensitive composition containing a quinonediazide compound and an alkali-soluble resin indicates that a quinonediazide group is decomposed by irradiation with light having a wavelength of 500 nm or less to produce a carboxyl group, resulting in alkali-solubility from an alkali-insoluble state. It is what you use. Since this positive photoresist has remarkably excellent resolving power, it is used for manufacturing integrated circuits such as IC (Integrated Circuit) and LSI (Large Scale Integration). Examples of the quinonediazide compound include a naphthoquinonediazide compound. Examples of commercially available products include “FHi622BC” (manufactured by FUJIFILM Electronics Materials).

フォトレジスト層の厚みとしては、0.1〜3μmが好ましく、0.2〜2.5μmが好ましく、0.3〜2μmがさらに好ましい。なお、フォトレジスト層の塗布は、既述の着色層における塗布方法を用いて好適に行なえる。   The thickness of the photoresist layer is preferably 0.1 to 3 μm, preferably 0.2 to 2.5 μm, and more preferably 0.3 to 2 μm. In addition, the application of the photoresist layer can be suitably performed using the above-described application method in the colored layer.

次いで、フォトレジスト層を露光、現像することにより、レジスト貫通孔群が設けられたレジストパターン(パターニングされたフォトレジスト層)を形成する。レジストパターンの形成は、特に制限なく、従来公知のフォトリソグラフィの技術を適宜最適化して行なうことができる。露光、現像によりフォトレジスト層に、レジスト貫通孔群が設けられることによって、次のエッチングで用いられるエッチングマスクとしてのレジストパターンが、着色層上に設けられる。   Next, by exposing and developing the photoresist layer, a resist pattern (patterned photoresist layer) provided with a group of resist through holes is formed. The formation of the resist pattern is not particularly limited, and can be performed by appropriately optimizing a conventionally known photolithography technique. By providing a resist through hole group in the photoresist layer by exposure and development, a resist pattern as an etching mask used in the next etching is provided on the colored layer.

フォトレジスト層の露光は、所定のマスクパターンを介して、ポジ型またはネガ型の感放射線性組成物に、g線、h線、i線等、好ましくはi線で露光を施すことにより行なうことができる。露光後は、現像液で現像処理することにより、着色パターンを形成しようとする領域に合わせてフォトレジストが除去される。   The exposure of the photoresist layer is performed by exposing the positive-type or negative-type radiation-sensitive composition with g-line, h-line, i-line, etc., preferably i-line, through a predetermined mask pattern. Can do. After the exposure, the photoresist is removed in accordance with a region where a colored pattern is to be formed by developing with a developer.

現像液としては、着色剤を含む着色層には影響を与えず、ポジレジストの露光部およびネガレジストの未硬化部を溶解するものであればいずれも使用可能である。例えば、種々の有機溶剤の組み合わせやアルカリ性の水溶液を用いることができる。アルカリ性の水溶液としては、アルカリ性化合物を濃度が0.001〜10質量%、好ましくは0.01〜5質量%となるように溶解して調製されたアルカリ性水溶液が好適である。アルカリ性化合物は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム,硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等が挙げられる。尚、アルカリ性水溶液を現像液として用いた場合は、一般に現像後に水で洗浄処理が施される。   Any developer can be used as long as it does not affect the colored layer containing the colorant and dissolves the exposed portion of the positive resist and the uncured portion of the negative resist. For example, a combination of various organic solvents or an alkaline aqueous solution can be used. As the alkaline aqueous solution, an alkaline aqueous solution prepared by dissolving an alkaline compound so as to have a concentration of 0.001 to 10% by mass, preferably 0.01 to 5% by mass is suitable. Examples of alkaline compounds include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium oxalate, sodium metasuccinate, aqueous ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, choline, Examples include pyrrole, piperidine, and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene. In addition, when alkaline aqueous solution is used as a developing solution, generally a washing process is performed with water after development.

次に、レジストパターンをエッチングマスクとして、着色層に貫通孔群が形成されるようにドライエッチングによりパターニングする。これにより、着色パターンが形成される。貫通孔群は、着色層に、市松状に設けられている。よって、着色層に貫通孔群が設けられてなる第1着色パターンは、複数の四角形状の第1着色画素を市松状に有している。   Next, using the resist pattern as an etching mask, patterning is performed by dry etching so that the through hole group is formed in the colored layer. Thereby, a colored pattern is formed. The through hole group is provided in a checkered pattern in the colored layer. Therefore, the first colored pattern in which the through hole group is provided in the colored layer has a plurality of square-shaped first colored pixels in a checkered pattern.

ドライエッチングとしては、パターン断面をより矩形に近く形成する観点や支持体へのダメージをより低減する観点から、以下の形態で行なうのが好ましい。
フッ素系ガスと酸素ガス(O2)との混合ガスを用い、支持体が露出しない領域(深さ)までエッチングを行なう第1段階のエッチングと、この第1段階のエッチングの後に、窒素ガス(N2)と酸素ガス(O2)との混合ガスを用い、好ましくは支持体が露出する領域(深さ)付近までエッチングを行なう第2段階のエッチングと、支持体が露出した後に行なうオーバーエッチングとを含む形態が好ましい。以下、ドライエッチングの具体的手法、並びに第1段階のエッチング、第2段階のエッチング、およびオーバーエッチングについて説明する。
Dry etching is preferably performed in the following manner from the viewpoint of forming a pattern cross section closer to a rectangle and reducing damage to the support.
Using a mixed gas of fluorine-based gas and oxygen gas (O 2 ), the first stage etching is performed up to a region (depth) where the support is not exposed, and after this first stage etching, nitrogen gas ( N 2 ) and oxygen gas (O 2 ), and a second stage etching is preferably performed to the vicinity of the region (depth) where the support is exposed, and over-etching is performed after the support is exposed. The form containing these is preferable. Hereinafter, a specific method of dry etching and the first stage etching, second stage etching, and over-etching will be described.

ドライエッチングは、下記手法により事前にエッチング条件を求めて行なう。
(1)第1段階のエッチングにおけるエッチングレート(nm/min)と、第2段階のエッチングにおけるエッチングレート(nm/min)とをそれぞれ算出する。
(2)第1段階のエッチングで所望の厚さをエッチングする時間と、第2段階のエッチングで所望の厚さをエッチングする時間とをそれぞれ算出する。
(3)上述した(2)で算出したエッチング時間に従って第1段階のエッチングを実施する。
(4)上述した(2)で算出したエッチング時間に従って第2段階のエッチングを実施する。あるいはエンドポイント検出でエッチング時間を決定し、決定したエッチング時間に従って第2段階のエッチングを実施してもよい。
(5)上述した(3)および(4)の合計時間に対してオーバーエッチング時間を算出し、オーバーエッチングを実施する。
Dry etching is performed by obtaining etching conditions in advance by the following method.
(1) The etching rate (nm / min) in the first stage etching and the etching rate (nm / min) in the second stage etching are calculated respectively.
(2) The time for etching the desired thickness in the first stage etching and the time for etching the desired thickness in the second stage etching are respectively calculated.
(3) The first-stage etching is performed according to the etching time calculated in (2) above.
(4) The second-stage etching is performed according to the etching time calculated in (2) above. Alternatively, the etching time may be determined by endpoint detection, and the second stage etching may be performed according to the determined etching time.
(5) The overetching time is calculated with respect to the total time of (3) and (4) described above, and overetching is performed.

第1段階のエッチング工程で用いる混合ガスとしては、被エッチング膜である有機材料を矩形に加工する観点から、フッ素系ガスおよび酸素ガス(O2)を含むことが好ましい。また、第1段階のエッチング工程は、支持体が露出しない領域までエッチングする形態にすることで、支持体のダメージを回避することができる。また、第2段階のエッチング工程およびオーバーエッチング工程は、第1段階のエッチング工程でフッ素系ガスおよび酸素ガスの混合ガスにより支持体が露出しない領域までエッチングを実施した後、支持体のダメージ回避の観点から、窒素ガスおよび酸素ガスの混合ガスを用いてエッチング処理を行なうのが好ましい。The mixed gas used in the first-stage etching process preferably contains a fluorine-based gas and an oxygen gas (O 2 ) from the viewpoint of processing the organic material that is the film to be etched into a rectangular shape. In addition, the first stage etching process can avoid damage to the support body by etching to a region where the support body is not exposed. Further, in the second stage etching process and the over etching process, after the etching is performed up to the region where the support is not exposed by the mixed gas of fluorine-based gas and oxygen gas in the first stage etching process, damage to the support is avoided. From the viewpoint, it is preferable to perform the etching process using a mixed gas of nitrogen gas and oxygen gas.

第1段階のエッチング工程でのエッチング量と、第2段階のエッチング工程でのエッチング量との比率は、第1段階のエッチング工程でのエッチング処理による矩形性を損なわないように決定することが重要である。なお、全エッチング量(第1段階のエッチング工程でのエッチング量と第2段階のエッチング工程でのエッチング量との総和)中における後者の比率は、0%より大きく50%以下である範囲が好ましく、10〜20%がより好ましい。エッチング量とは、被エッチング膜の残存する膜厚とエッチング前の膜厚との差から算出される量のことをいう。   It is important to determine the ratio between the etching amount in the first stage etching process and the etching amount in the second stage etching process so as not to impair the rectangularity due to the etching process in the first stage etching process. It is. The latter ratio in the total etching amount (the sum of the etching amount in the first-stage etching process and the etching amount in the second-stage etching process) is preferably in the range of more than 0% and not more than 50%. 10 to 20% is more preferable. The etching amount is an amount calculated from the difference between the remaining film thickness to be etched and the film thickness before etching.

また、エッチングは、オーバーエッチング処理を含むことが好ましい。オーバーエッチング処理は、オーバーエッチング比率を設定して行なうことが好ましい。また、オーバーエッチング比率は、初めに行なうエッチング処理時間より算出することが好ましい。オーバーエッチング比率は任意に設定できるが、フォトレジストのエッチング耐性と被エッチングパターンの矩形性維持の点で、エッチング工程におけるエッチング処理時間の30%以下であることが好ましく、5〜25%であることがより好ましく、10〜15%であることが特に好ましい。   Etching preferably includes an over-etching process. The overetching process is preferably performed by setting an overetching ratio. Moreover, it is preferable to calculate the overetching ratio from the etching process time to be performed first. The over-etching ratio can be arbitrarily set, but it is preferably 30% or less of the etching processing time in the etching process, and 5 to 25% in terms of maintaining the etching resistance of the photoresist and the rectangularity of the pattern to be etched. Is more preferable, and 10 to 15% is particularly preferable.

次いで、エッチング後に残存するレジストパターン(すなわちエッチングマスク)を除去する。レジストパターンの除去は、レジストパターン上に剥離液または溶剤を付与して、レジストパターンを除去可能な状態にする工程と、レジストパターンを洗浄水を用いて除去する工程とを含むことが好ましい。   Next, the resist pattern (that is, the etching mask) remaining after the etching is removed. The removal of the resist pattern preferably includes a step of applying a stripping solution or a solvent on the resist pattern so that the resist pattern can be removed, and a step of removing the resist pattern using cleaning water.

レジストパターン上に剥離液または溶剤を付与し、レジストパターンを除去可能な状態にする工程としては、例えば、剥離液または溶剤を少なくともレジストパターン上に付与し、所定の時間停滞させてパドル現像する工程を挙げることができる。剥離液または溶剤を停滞させる時間としては、特に制限はないが、数十秒から数分であることが好ましい。   Examples of the step of applying a stripping solution or solvent on the resist pattern so that the resist pattern can be removed include, for example, a step of applying a stripping solution or solvent on at least the resist pattern and stagnating for a predetermined time to perform paddle development Can be mentioned. Although there is no restriction | limiting in particular as time to make stripping solution or a solvent stagnant, It is preferable that it is several dozen seconds to several minutes.

また、レジストパターンを洗浄水を用いて除去する工程としては、例えば、スプレー式またはシャワー式の噴射ノズルからレジストパターンに洗浄水を噴射して、レジストパターンを除去する工程を挙げることができる。洗浄水としては、純水を好ましく用いることができる。また、噴射ノズルとしては、その噴射範囲内に支持体全体が包含される噴射ノズルや、可動式の噴射ノズルであってその可動範囲が支持体全体を包含する噴射ノズルを挙げることができる。噴射ノズルが可動式の場合、レジストパターンを除去する工程中に支持体中心部から支持体端部までを2回以上移動して洗浄水を噴射することで、より効果的にレジストパターンを除去することができる。   Examples of the process of removing the resist pattern using the cleaning water include a process of removing the resist pattern by spraying the cleaning water onto the resist pattern from a spray type or shower type spray nozzle. As the washing water, pure water can be preferably used. Further, examples of the injection nozzle include an injection nozzle in which the entire support is included in the injection range, and an injection nozzle that is a movable injection nozzle and in which the movable range includes the entire support. When the spray nozzle is movable, the resist pattern is more effectively removed by moving the support pattern from the center of the support to the end of the support more than twice during the process of removing the resist pattern and spraying the cleaning water. be able to.

剥離液は、一般には有機溶剤を含有するが、無機溶媒をさらに含有してもよい。有機溶剤としては、例えば、1)炭化水素系化合物、2)ハロゲン化炭化水素系化合物、3)アルコール系化合物、4)エーテルまたはアセタール系化合物、5)ケトンまたはアルデヒド系化合物、6)エステル系化合物、7)多価アルコール系化合物、8)カルボン酸またはその酸無水物系化合物、9)フェノール系化合物、10)含窒素化合物、11)含硫黄化合物、12)含フッ素化合物が挙げられる。剥離液としては、含窒素化合物を含有することが好ましく、非環状含窒素化合物と環状含窒素化合物とを含むことがより好ましい。   The stripping solution generally contains an organic solvent, but may further contain an inorganic solvent. Examples of organic solvents include 1) hydrocarbon compounds, 2) halogenated hydrocarbon compounds, 3) alcohol compounds, 4) ether or acetal compounds, 5) ketones or aldehyde compounds, and 6) ester compounds. 7) polyhydric alcohol compounds, 8) carboxylic acids or acid anhydride compounds thereof, 9) phenol compounds, 10) nitrogen compounds, 11) sulfur compounds, and 12) fluorine compounds. The stripping solution preferably contains a nitrogen-containing compound, and more preferably contains an acyclic nitrogen-containing compound and a cyclic nitrogen-containing compound.

非環状含窒素化合物としては、水酸基を有する非環状含窒素化合物であることが好ましい。具体的には、例えば、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、N−エチルエタノールアミン、N,N−ジブチルエタノールアミン、N−ブチルエタノールアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどが挙げられ、好ましくはモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンであり、より好ましくはモノエタノールアミン(H2NCH2CH2OH)である。また、環状含窒素化合物としては、イソキノリン、イミダゾール、N−エチルモルホリン、ε−カプロラクタム、キノリン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、α−ピコリン、β−ピコリン、γ−ピコリン、2−ピペコリン、3−ピペコリン、4−ピペコリン、ピペラジン、ピペリジン、ピラジン、ピリジン、ピロリジン、N−メチル−2−ピロリドン、N−フェニルモルホリン、2,4−ルチジン、2,6−ルチジンなどが挙げられ、好ましくは、N−メチル−2−ピロリドン、N−エチルモルホリンであり、より好ましくはN−メチル−2−ピロリドン(NMP)である。The acyclic nitrogen-containing compound is preferably an acyclic nitrogen-containing compound having a hydroxyl group. Specifically, for example, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, triisopropanolamine, N-ethylethanolamine, N, N-dibutylethanolamine, N-butylethanolamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, etc. Preferred are monoethanolamine, diethanolamine and triethanolamine, and more preferred is monoethanolamine (H 2 NCH 2 CH 2 OH). Examples of the cyclic nitrogen-containing compound include isoquinoline, imidazole, N-ethylmorpholine, ε-caprolactam, quinoline, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, α-picoline, β-picoline, γ-picoline, 2- Preferred examples include pipecoline, 3-pipecoline, 4-pipecoline, piperazine, piperidine, pyrazine, pyridine, pyrrolidine, N-methyl-2-pyrrolidone, N-phenylmorpholine, 2,4-lutidine, 2,6-lutidine and the like. Are N-methyl-2-pyrrolidone and N-ethylmorpholine, more preferably N-methyl-2-pyrrolidone (NMP).

剥離液は、非環状含窒素化合物と環状含窒素化合物とを含むことが好ましいが、中でも、非環状含窒素化合物として、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、およびトリエタノールアミンから選ばれる少なくとも1種と、環状含窒素化合物として、N−メチル−2−ピロリドンおよびN−エチルモルホリンから選ばれる少なくとも1種とを含むことがより好ましく、モノエタノールアミンとN−メチル−2−ピロリドンとを含むことがさらに好ましい。   The stripping solution preferably contains an acyclic nitrogen-containing compound and a cyclic nitrogen-containing compound. Among these, as the acyclic nitrogen-containing compound, at least one selected from monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine, and cyclic The nitrogen-containing compound preferably contains at least one selected from N-methyl-2-pyrrolidone and N-ethylmorpholine, and more preferably contains monoethanolamine and N-methyl-2-pyrrolidone.

剥離液で除去するときには、着色パターンの上に形成されたレジストパターンが除去されていればよく、着色パターンの側壁にエッチング生成物であるデポ物が付着している場合でも、デポ物が完全に除去されていなくてもよい。デポ物とは、エッチング生成物が着色層の側壁に付着し堆積したものをいう。   When removing with a stripping solution, it is sufficient that the resist pattern formed on the colored pattern has been removed, and even when the deposit is an etching product on the side wall of the colored pattern, the deposit is completely removed. It may not be removed. A deposit means an etching product deposited and deposited on the side wall of a colored layer.

剥離液としては、非環状含窒素化合物の含有量が、剥離液100質量部に対して9質量部以上11質量部以下であって、環状含窒素化合物の含有量が、剥離液100質量部に対して65質量部以上70質量部以下であるものが望ましい。また、剥離液は、非環状含窒素化合物と環状含窒素化合物との混合物を純水で希釈したものが好ましい。   As the stripping solution, the content of the non-cyclic nitrogen-containing compound is 9 parts by weight or more and 11 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the stripping solution, and the content of the cyclic nitrogen-containing compound is 100 parts by weight of the stripping solution. On the other hand, what is 65 to 70 mass parts is desirable. Further, the stripping solution is preferably obtained by diluting a mixture of an acyclic nitrogen-containing compound and a cyclic nitrogen-containing compound with pure water.

本発明のカラーフィルタの製造方法は、必要に応じ、上記以外の工程として、固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法として公知の工程を有していてもよい。例えば、上述した、着色組成物層形成工程、露光工程およびパターン形成工程を行った後に、必要により、形成された着色パターンを加熱および/または露光により硬化する硬化工程を含んでいてもよい。   The manufacturing method of the color filter of this invention may have a well-known process as a manufacturing method of the color filter for solid-state image sensors as a process other than the above as needed. For example, after performing the coloring composition layer forming step, the exposure step, and the pattern forming step described above, a curing step of curing the formed colored pattern by heating and / or exposure may be included as necessary.

また、塗布装置吐出部のノズルや配管部の目詰まり、塗布機内への着色組成物や顔料の付着・沈降・乾燥による汚染等を効率よく洗浄するためには、本発明の着色組成物に関する溶剤を洗浄液として用いることが好ましい。また、特開平7−128867号公報、特開平7−146562号公報、特開平8−278637号公報、特開2000−273370号公報、特開2006−85140号公報、特開2006−291191号公報、特開2007−2101号公報、特開2007−2102号公報、特開2007−281523号公報などに記載の洗浄液を好適に用いることができる。
上記のうち、アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレートおよびアルキレングリコールモノアルキルエーテルが好ましい。
これら溶媒は、単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。2種以上を混合する場合、水酸基を有する溶剤と水酸基を有しない溶剤とを混合することが好ましい。水酸基を有する溶剤と水酸基を有しない溶剤との質量比は、1/99〜99/1、好ましくは10/90〜90/10、さらに好ましくは20/80〜80/20である。プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)とプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)の混合溶剤で、その比率が60/40であることが特に好ましい。なお、汚染物に対する洗浄液の浸透性を向上させるために、洗浄液には上述した本発明の着色組成物に関する界面活性剤を添加してもよい。
In addition, the solvent for the colored composition of the present invention is used to efficiently clean the nozzles and pipes of the discharge unit of the coating apparatus, contamination due to adhesion, sedimentation, and drying of the colored composition and pigment in the coating machine. Is preferably used as the cleaning liquid. JP-A-7-128867, JP-A-7-146562, JP-A-8-278737, JP-A-2000-273370, JP-A-2006-85140, JP-A-2006-291191, The cleaning liquids described in JP2007-2101A, JP2007-2102A, JP2007-281523A, and the like can be suitably used.
Of the above, alkylene glycol monoalkyl ether carboxylates and alkylene glycol monoalkyl ethers are preferred.
These solvents may be used alone or in combination of two or more. When mixing 2 or more types, it is preferable to mix the solvent which has a hydroxyl group, and the solvent which does not have a hydroxyl group. The mass ratio of the solvent having a hydroxyl group and the solvent having no hydroxyl group is from 1/99 to 99/1, preferably from 10/90 to 90/10, and more preferably from 20/80 to 80/20. In a mixed solvent of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) and propylene glycol monomethyl ether (PGME), the ratio is particularly preferably 60/40. In addition, in order to improve the permeability of the cleaning liquid to contaminants, the above-described surfactant relating to the colored composition of the present invention may be added to the cleaning liquid.

本発明のカラーフィルタは、本発明の着色組成物を用いているため、耐光性、色移り性、平坦性に優れている。
本発明のカラーフィルタは、CCD、CMOS等の固体撮像素子に好適に用いることができ、特に100万画素を超えるような高解像度のCCDやCMOS等に好適である。本発明の固体撮像素子用カラーフィルタは、例えば、CCDまたはCMOSを構成する各画素の受光部と、集光するためのマイクロレンズと、の間に配置されるカラーフィルタとして用いることができる。
Since the color filter of the present invention uses the colored composition of the present invention, the color filter is excellent in light resistance, color transfer and flatness.
The color filter of the present invention can be suitably used for a solid-state imaging device such as a CCD or CMOS, and is particularly suitable for a CCD or CMOS having a high resolution exceeding 1 million pixels. The color filter for a solid-state imaging device of the present invention can be used as a color filter disposed between, for example, a light receiving portion of each pixel constituting a CCD or CMOS and a microlens for condensing light.

本発明のカラーフィルタにおける着色パターン(着色画素)の膜厚としては、2.0μm以下が好ましく、1.0μm以下がより好ましく、0.7μm以下がさらに好ましい。
また、着色パターン(着色画素)のサイズ(パターン幅)としては、2.5μm以下が好ましく、2.0μm以下がより好ましく、1.7μm以下が特に好ましい。
The film thickness of the colored pattern (colored pixel) in the color filter of the present invention is preferably 2.0 μm or less, more preferably 1.0 μm or less, and even more preferably 0.7 μm or less.
Further, the size (pattern width) of the colored pattern (colored pixel) is preferably 2.5 μm or less, more preferably 2.0 μm or less, and particularly preferably 1.7 μm or less.

<固体撮像素子>
本発明の固体撮像素子は、既述の本発明のカラーフィルタ、または、本発明のカラーフィルタの製造方法によって製造したカラーフィルタを備える。本発明の固体撮像素子の構成としては、本発明におけるカラーフィルタが備えられた構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はないが、例えば、以下のような構成が挙げられる。
<Solid-state imaging device>
The solid-state imaging device of the present invention includes the color filter of the present invention described above or the color filter manufactured by the method for manufacturing the color filter of the present invention. The configuration of the solid-state imaging device of the present invention is a configuration provided with the color filter in the present invention, and is not particularly limited as long as it is a configuration that functions as a solid-state imaging device. .

支持体上に、固体撮像素子(CCDイメージセンサー、CMOSイメージセンサー、等)の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本発明の固体撮像素子用カラーフィルタを有する構成である。
さらに、デバイス保護層上であってカラーフィルタの下(支持体に近い側)に集光手段(例えば、マイクロレンズ等。以下同じ)を有する構成や、カラーフィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。
On the support, there are a plurality of photodiodes constituting a light receiving area of a solid-state imaging device (CCD image sensor, CMOS image sensor, etc.) and a transfer electrode made of polysilicon, etc., and the photodiode is placed on the transfer electrode. A light-shielding film made of tungsten or the like that is open only in the light-receiving part, and a device protective film made of silicon nitride or the like formed on the light-shielding film so as to cover the entire surface of the light-shielding film and the photodiode light-receiving part. Further, the color filter for a solid-state image sensor according to the present invention is provided.
Further, a configuration having a light condensing means (for example, a microlens, etc., the same applies hereinafter) on the device protection layer and under the color filter (on the side close to the support), a structure having the light condensing means on the color filter, etc. It may be.

<画像表示装置>
既述の本発明のカラーフィルタ、または、本発明のカラーフィルタの製造方法によって製造したカラーフィルタは、固体撮像素子のみならず、液晶表示装置や有機EL(Electro-Luminescence)表示装置などの、画像表示装置に用いることができ、特に液晶表示装置の用途に好適である。本発明のカラーフィルタを備えた液晶表示装置は、表示画像の色合いが良好で表示特性に優れた高画質画像を表示することができる。
<Image display device>
The color filter of the present invention described above or the color filter manufactured by the method of manufacturing the color filter of the present invention is not limited to a solid-state image sensor, but an image such as a liquid crystal display device or an organic EL (Electro-Luminescence) display device. It can be used for a display device and is particularly suitable for a liquid crystal display device. The liquid crystal display device provided with the color filter of the present invention can display a high-quality image with a good display image color and excellent display characteristics.

表示装置の定義や各表示装置の詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス(佐々木 昭夫著、工業調査会 1990年発行)」、「ディスプレイデバイス(伊吹 順章著、産業図書平成元年発行)」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術(内田 龍男編集、工業調査会 1994年発行)」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。   For the definition of display devices and details of each display device, for example, “Electronic display devices (Akio Sasaki, published by the Industrial Research Council 1990)”, “Display devices (written by Junaki Ibuki, published in 1989, Industrial Books)”, etc. It is described in. The liquid crystal display device is described in, for example, “Next-generation liquid crystal display technology (edited by Tatsuo Uchida, published by the Industrial Research Committee 1994)”. The liquid crystal display device to which the present invention can be applied is not particularly limited, and can be applied to, for example, various types of liquid crystal display devices described in the “next generation liquid crystal display technology”.

本発明のカラーフィルタは、カラーTFT(Thin Film Transistor)方式の液晶表示装置に用いてもよい。カラーTFT方式の液晶表示装置については、例えば「カラーTFT液晶ディスプレイ(共立出版1996年発行)」に記載されている。さらに、本発明はIPS(In Plane Switching)などの横電界駆動方式、MVA(Multi-domain vertical alignment)などの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置や、STN(Super-twisted nematic)、TN(Twisted Nematic)、VA(Vertically Aligned)、OCS(Optically Compensated Splay)、FFS(Fringe Field Switching)、およびR−OCB(Optically Compensated Bend)等にも適用できる。
また、本発明におけるカラーフィルタは、明るく高精細なCOA(Color-filter On Array)方式にも供することが可能である。COA方式の液晶表示装置にあっては、カラーフィルタ層に対する要求特性は、前述のような通常の要求特性に加えて、層間絶縁膜に対する要求特性、すなわち低誘電率および剥離液耐性が必要とされることがある。本発明のカラーフィルタにおいては、色相に優れた色素を用いることから、色純度、光透過性などが良好で着色パターン(画素)の色合いに優れるので、解像度が高く長期耐久性に優れたCOA方式の液晶表示装置を提供することができる。なお、低誘電率の要求特性を満足するためには、カラーフィルタ層の上に樹脂被膜を設けてもよい。
これらの画像表示方式については、例えば、「EL、PDP(Plasma Display Panel)、LCDディスプレイ−技術と市場の最新動向−(東レリサーチセンター調査研究部門 2001年発行)」の43ページなどに記載されている。
The color filter of the present invention may be used in a color TFT (Thin Film Transistor) type liquid crystal display device. The color TFT liquid crystal display device is described in, for example, “Color TFT liquid crystal display (issued in Kyoritsu Publishing 1996)”. Furthermore, the present invention relates to a liquid crystal display device with a wide viewing angle, such as a horizontal electric field driving method such as IPS (In Plane Switching), a pixel division method such as MVA (Multi-domain vertical alignment), and a STN (Super-twisted nematic). ), TN (Twisted Nematic), VA (Vertically Aligned), OCS (Optically Compensated Splay), FFS (Fringe Field Switching), and R-OCB (Optically Compensated Bend).
In addition, the color filter in the present invention can be used for a bright and high-definition COA (Color-filter On Array) system. In the case of a COA type liquid crystal display device, the required characteristics for the color filter layer require the required characteristics for the interlayer insulating film, that is, the low dielectric constant and the resistance to the stripping solution, in addition to the normal required characteristics as described above. Sometimes. In the color filter of the present invention, since a dye having excellent hue is used, the color purity, light transmittance, etc. are good and the color of the colored pattern (pixel) is excellent. Therefore, the COA method has high resolution and excellent long-term durability. A liquid crystal display device can be provided. In order to satisfy the required characteristics of a low dielectric constant, a resin film may be provided on the color filter layer.
These image display methods are described, for example, on page 43 of "EL, PDP (Plasma Display Panel), LCD Display-Latest Technology and Market Trends-(Toray Research Center Research and Research Division 2001 Issue)" Yes.

本発明におけるカラーフィルタを備えた液晶表示装置は、本発明におけるカラーフィルタ以外に、電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサ、視野角保障フィルムなど様々な部材から構成される。本発明のカラーフィルタは、これらの公知の部材で構成される液晶表示装置に適用することができる。これらの部材については、例えば、「'94液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場(島 健太郎 シーエムシー 1994年発行)」、「2003液晶関連市場の現状と将来展望(下巻)(表良吉富士キメラ総研、2003年発行)」に記載されている。
バックライトに関しては、SID meeting Digest 1380(2005)(A.Konno et.al)や、月刊ディスプレイ 2005年12月号の18〜24ページ(島 康裕)、同25〜30ページ(八木隆明)などに記載されている。
また、本発明では、マイクロオーレッド方式(マイクロOLED(Organic light-emitting diodes)のディスプレイにも好ましく用いることができる。これらの画像表示方式については、例えば、「EL、PDP、LCDディスプレイ−技術と市場の最新動向−(東レリサーチセンター調査研究部門 2001年発行)」の43ページなどに記載されている。
In addition to the color filter of the present invention, the liquid crystal display device provided with the color filter of the present invention includes various members such as an electrode substrate, a polarizing film, a retardation film, a backlight, a spacer, and a viewing angle guarantee film. The color filter of the present invention can be applied to a liquid crystal display device composed of these known members. As for these members, for example, “'94 Liquid Crystal Display Peripheral Materials / Chemicals Market (Kentaro Shima CMC 1994)”, “2003 Liquid Crystal Related Markets Current Status and Future Prospects (Volume 2)” (Omoyoshi Yoshi Fuji Chimera Research Institute, Issued in 2003) ”.
Regarding backlighting, SID meeting Digest 1380 (2005) (A. Konno et.al), Monthly Display December 2005, pages 18-24 (Yasuhiro Shima), pages 25-30 (Yukiaki Yagi), etc. Have been described.
Further, in the present invention, it can be preferably used for a display of micro O red type (micro OLED (Organic light-emitting diodes). For example, “EL, PDP, LCD display technology and market”. Page 43, etc. of “Latest Trends in Toray Research Center (issued in 2001)”.

本発明におけるカラーフィルタを液晶表示装置に用いると、従来公知の冷陰極管の三波長管と組み合わせたときに高いコントラストを実現できるが、さらに、赤、緑、青のLED光源(RGB(Red Green Blue)−LED)をバックライトとすることによって輝度が高く、また、色純度の高い色再現性の良好な液晶表示装置を提供することができる。   When the color filter according to the present invention is used in a liquid crystal display device, high contrast can be realized when combined with a conventionally known three-wavelength tube of a cold cathode tube, but further, red, green, and blue LED light sources (RGB (Red Green By using Blue) -LED) as a backlight, it is possible to provide a liquid crystal display device having high luminance and high color purity and good color reproducibility.

以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はその趣旨を越えない限り以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「%」および「部」は質量基準である。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist. Unless otherwise specified, “%” and “parts” are based on mass.

<重量平均分子量の測定方法>
重量平均分子量は、GPC(Gel Permeation Chromatography)測定によるポリスチレン換算値にて測定した。具体的には、HLC−8220(東ソー製)を用い、カラムとしてTSKgel Super AWM−H(東ソー製、6.0mmID×15.0cm)を、溶離液として10mmol/L リチウムブロミドNMP(N−メチルピロリジノン)溶液を用いることによって求めた。
<Measurement method of weight average molecular weight>
The weight average molecular weight was measured in terms of polystyrene by GPC (Gel Permeation Chromatography) measurement. Specifically, HLC-8220 (manufactured by Tosoh) was used, TSKgel Super AWM-H (manufactured by Tosoh, 6.0 mm ID × 15.0 cm) was used as a column, and 10 mmol / L lithium bromide NMP (N-methylpyrrolidinone) was used as an eluent. ) By using the solution.

<酸価の測定方法>
酸価は、固形分1gあたりの酸性成分を中和するのに要する水酸化カリウムの重量を表わしたものである。具体的には、測定サンプルをテトラヒドロフラン/水=9/1混合溶媒に溶解し、電位差滴定装置(商品名:AT−510、京都電子工業製)を用いて、得られた溶液を25℃において、0.1M水酸化ナトリウム水溶液で中和滴定した。滴定pH曲線の変曲点を滴定終点として、次式により酸価を算出した。
A=56.11×Vs×0.1×f/w
A:酸価(mgKOH/g)
Vs:滴定に要した0.1M水酸化ナトリウム水溶液の使用量(mL)
f:0.1M水酸化ナトリウム水溶液の力価
w:測定サンプル重量(g)(固形分換算)
<Method for measuring acid value>
The acid value represents the weight of potassium hydroxide required to neutralize acidic components per gram of solid content. Specifically, the measurement sample was dissolved in a tetrahydrofuran / water = 9/1 mixed solvent, and the obtained solution was used at 25 ° C. using a potentiometric titrator (trade name: AT-510, manufactured by Kyoto Electronics Industry). Neutralization titration with 0.1M aqueous sodium hydroxide was performed. The acid value was calculated by the following formula using the inflection point of the titration pH curve as the titration end point.
A = 56.11 × Vs × 0.1 × f / w
A: Acid value (mgKOH / g)
Vs: Amount of 0.1 M sodium hydroxide aqueous solution required for titration (mL)
f: Potency of 0.1 M aqueous sodium hydroxide solution w: Weight of measurement sample (g) (converted to solid content)

<吸光度の測定>
25℃での吸光度を、光路長1cmのセルを用い、UV−Vis−NIR分光光度計(商品名:Cary5000、アジレント・テクノロジー株式会社製)にて測定した。
<Measurement of absorbance>
Absorbance at 25 ° C. was measured with a UV-Vis-NIR spectrophotometer (trade name: Cary 5000, manufactured by Agilent Technologies, Inc.) using a cell having an optical path length of 1 cm.

<トリアリールメタン色素(A−tp−1)、(A−tp−3)、(A−tp−5)、(A−tp−8)の合成例>
特開2000−162429号公報の段落0112〜0114に記載(実施例4(化合物式2))の方法と同様にして、トリアリールメタン色素(A−tp−1)、(A−tp−3)、(A−tp−5)、(A−tp−8)を合成した。
<Synthesis Example of Triarylmethane Dye (A-tp-1), (A-tp-3), (A-tp-5), (A-tp-8)>
Triarylmethane dyes (A-tp-1) and (A-tp-3) in the same manner as described in paragraphs 0112 to 0114 of JP-A No. 2000-162429 (Example 4 (Compound Formula 2)) , (A-tp-5) and (A-tp-8) were synthesized.

<キサンテン化合物(A−xt−104)の合成例>
<Synthesis Example of Xanthene Compound (A-xt-104)>

<<中間体1の合成>>
DCSF(Spiro[3H-2,1-benzoxathiole-3,9'-[9H]xanthene], 3',6'-dichloro-, 1,1-dioxide、中外化成製)31部、2,6−ジイソプロピルアニリン67部、塩化亜鉛17部、スルホラン120部をフラスコへ入れ外温200度にて8時間攪拌した。その後、室温まで放冷し、2N塩酸水600部へ反応液を滴下し、析出した結晶をろ別した。結晶を、40度のアセトニトリル600部で分散洗浄した後、ろ取し、送風乾燥を10時間行い、中間体1を42.5部(収率:82%)得た。
<< Synthesis of Intermediate 1 >>
DCSF (Spiro [3H-2,1-benzoxathiole-3,9 '-[9H] xanthene], 3', 6'-dichloro-, 1,1-dioxide, manufactured by Chugai Kasei) 31 parts, 2,6-diisopropyl 67 parts of aniline, 17 parts of zinc chloride and 120 parts of sulfolane were placed in a flask and stirred at an external temperature of 200 ° C. for 8 hours. Thereafter, the mixture was allowed to cool to room temperature, the reaction solution was added dropwise to 600 parts of 2N aqueous hydrochloric acid, and the precipitated crystals were filtered off. The crystals were dispersed and washed with 600 parts of acetonitrile at 40 degrees, and then collected by filtration and air-dried for 10 hours to obtain 42.5 parts of intermediate 1 (yield: 82%).

<<中間体2の合成>>
中間体1を11部およびオキシ塩化リン(POCl3)50部をフラスコへ入れ60℃で4時間攪拌した。その後室温まで放冷し、氷水150部へ反応液を滴下し、30分攪拌した。得られた結晶をろ別し、水20部で洗浄した後、得られた結晶をクロロホルム150部に溶かし、セライトろ過を行った。ろ液を5%ブライン100部、15%ブライン100部で分液洗浄した。硫酸ナトリウム乾燥の後、減圧濃縮し、中間体2を12.1部(収率:91%)得た。
<< Synthesis of Intermediate 2 >>
11 parts of Intermediate 1 and 50 parts of phosphorus oxychloride (POCl 3 ) were placed in a flask and stirred at 60 ° C. for 4 hours. Thereafter, the mixture was allowed to cool to room temperature, and the reaction solution was added dropwise to 150 parts of ice water and stirred for 30 minutes. The obtained crystals were separated by filtration and washed with 20 parts of water, and then the obtained crystals were dissolved in 150 parts of chloroform and filtered through celite. The filtrate was separated and washed with 100 parts of 5% brine and 100 parts of 15% brine. After drying sodium sulfate, the solution was concentrated under reduced pressure to obtain 12.1 parts of intermediate 2 (yield: 91%).

<<中間体3の合成>>
ペンタフルオロベンゼンスルホニルクロリド15部、テトラヒドロフラン(THF)300部をフラスコに入れ、内温を−10℃に冷却した。そこに28%アンモニア水(NH3aq)6.8部を、反応液が0℃以下を維持するように滴下した。滴下後1時間0℃で攪拌したのち、反応液をろ過した。得られたろ液を減圧濃縮し、THFを除いた後、水100部を添加し、攪拌した。得られた固体をろ過し、水洗した後に送風乾燥を10時間行い、中間体3を11.7部(収率:84%)得た。
<< Synthesis of Intermediate 3 >>
15 parts of pentafluorobenzenesulfonyl chloride and 300 parts of tetrahydrofuran (THF) were placed in a flask, and the internal temperature was cooled to -10 ° C. Thereto, 6.8 parts of 28% aqueous ammonia (NH 3 aq) was added dropwise so that the reaction solution maintained at 0 ° C. or lower. After dropping, the reaction solution was filtered after stirring at 0 ° C. for 1 hour. The obtained filtrate was concentrated under reduced pressure to remove THF, and then 100 parts of water was added and stirred. The obtained solid was filtered, washed with water, and then air-dried for 10 hours to obtain 11.7 parts of intermediate 3 (yield: 84%).

<<中間体4の合成>>
中間体3を15部、2−メルカプトエタノール4.9部、メタノール100部をフラスコに加え、室温攪拌した。そこにトリエチルアミン(TEA)6.5部を、反応液の温度が30℃を超えないように滴下した。室温で1時間攪拌し、減圧濃縮した後、酢酸エチル90部、飽和食塩水80部、飽和重曹水10部を加え、分液操作を行った。水層を酢酸エチル90部で抽出した後、得られた有機層に硫酸マグネシウムを加えた。ろ過した後、ろ液を減圧濃縮し、送風乾燥を10時間行い、中間体4を17部(収率:92%)得た。
<< Synthesis of Intermediate 4 >>
15 parts of Intermediate 3, 4.9 parts of 2-mercaptoethanol, and 100 parts of methanol were added to the flask and stirred at room temperature. Thereto, 6.5 parts of triethylamine (TEA) was added dropwise so that the temperature of the reaction solution did not exceed 30 ° C. After stirring at room temperature for 1 hour and concentrating under reduced pressure, 90 parts of ethyl acetate, 80 parts of saturated brine, and 10 parts of saturated aqueous sodium bicarbonate were added to carry out a liquid separation operation. After extracting the aqueous layer with 90 parts of ethyl acetate, magnesium sulfate was added to the obtained organic layer. After filtration, the filtrate was concentrated under reduced pressure and air-dried for 10 hours to obtain 17 parts of intermediate 4 (yield: 92%).

<<中間体5の合成>>
中間体4を49部、2-イソシアナトエチルアクリレート(AOI、昭和電工製)25部、ジブチルヒドロキシトルエン(BHT)0.2部、ジメチルアセトアミド(DMAc)95部、ネオスタンU−600(日東化成製)0.1部をフラスコに添加し、85℃1時間攪拌した。続いて、酢酸エチル500部、飽和食塩水500部を添加し分液操作を行った。得られた有機層に硫酸ナトリウムを加えた後、ろ別し、ろ液を減圧濃縮した。得られた固体をクロロホルム170部で懸濁洗浄した後、ろ過し、送風乾燥を行うことで、中間体5を60部(収率:84%)得た。
<< Synthesis of Intermediate 5 >>
49 parts of Intermediate 4 25 parts of 2-isocyanatoethyl acrylate (AOI, Showa Denko), 0.2 parts of dibutylhydroxytoluene (BHT), 95 parts of dimethylacetamide (DMAc), Neostan U-600 (manufactured by Nitto Kasei) ) 0.1 part was added to the flask and stirred at 85 ° C. for 1 hour. Subsequently, 500 parts of ethyl acetate and 500 parts of saturated brine were added to carry out a liquid separation operation. Sodium sulfate was added to the obtained organic layer, followed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The obtained solid was suspended and washed with 170 parts of chloroform, filtered, and blown and dried to obtain 60 parts of intermediate 5 (yield: 84%).

<<キサンテン化合物(A−xt−104)の合成>>
中間体5を5部、塩化メチレンを50部、トリエチルアミン(TEA)3.4部をフラスコに加え、室温で攪拌した。そこに中間体2を10.8部加え、室温で2時間攪拌した。反応終了後、クロロホルム200部、純水500部、飽和食塩水200部を加え、分液操作を行った。得られた有機層に硫酸ナトリウムを加え、脱水した後に、ろ別し、ろ液を減圧濃縮した。得られた固体をクロロホルムに溶解し、クロロホルム/酢酸エチル溶媒を用いてカラムクロマトグラフィーにより精製することで、A−xt−104を12.5部(収率:86%)得た。
<< Synthesis of Xanthene Compound (A-xt-104) >>
5 parts of Intermediate 5, 50 parts of methylene chloride and 3.4 parts of triethylamine (TEA) were added to the flask and stirred at room temperature. Thereto was added 10.8 parts of Intermediate 2 and stirred at room temperature for 2 hours. After completion of the reaction, 200 parts of chloroform, 500 parts of pure water and 200 parts of saturated saline were added to carry out a liquid separation operation. Sodium sulfate was added to the obtained organic layer and dehydrated, followed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The obtained solid was dissolved in chloroform and purified by column chromatography using a chloroform / ethyl acetate solvent to obtain 12.5 parts (yield: 86%) of A-xt-104.

<キサンテン化合物(A−xt−101)、(A−xt−110)、(A−xt−117)、(A−xt−118)の合成例>
キサンテン化合物(A−xt−101)、(A−xt−110)、(A−xt−117)、(A−xt−118)を、上記キサンテン化合物(A−xt−104)と同様に合成した。
<Synthesis Example of Xanthene Compounds (A-xt-101), (A-xt-110), (A-xt-117), (A-xt-118)>
Xanthene compounds (A-xt-101), (A-xt-110), (A-xt-117), and (A-xt-118) were synthesized in the same manner as the xanthene compound (A-xt-104). .

<チオール化合物の合成例>
以下に示すように、チオール化合物B−1〜B−12を合成した。
<Synthesis example of thiol compound>
As shown below, thiol compounds B-1 to B-12 were synthesized.

[合成例B−1]
ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトプロピオネート)〔DPMP;SC有機化学工業製〕2.0部、及び、トリアリールメタン色素(A−tp−1)12.0部、トリエチルアミン1.68部を、N−メチルピロリジノン(NMP)50.0部に溶解させ50℃12時間加熱した。室温まで冷却した後、ヘキサン250部、酢酸エチル250部の混合溶媒に反応溶液を滴下して再沈し、以下に示すチオール化合物(B−1)12.5部を得た。NMR測定でのR3部位に対する色素部位の比率が5であることを確認した。
[Synthesis Example B-1]
Dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate) [DPMP; manufactured by SC Organic Chemical Industry] 2.0 parts, 12.0 parts of triarylmethane dye (A-tp-1), 1.68 parts of triethylamine Was dissolved in 50.0 parts of N-methylpyrrolidinone (NMP) and heated at 50 ° C. for 12 hours. After cooling to room temperature, the reaction solution was dropped into a mixed solvent of 250 parts of hexane and 250 parts of ethyl acetate and reprecipitated to obtain 12.5 parts of a thiol compound (B-1) shown below. It was confirmed that the ratio of the dye moiety to the R 3 moiety in the NMR measurement was 5.

[合成例B−2]
合成例B−1における、トリアリールメタン色素(A−tp−1)12.0部およびトリエチルアミン1.68部を、トリアリールメタン色素(A−tp−1)9.6部、およびトリエチルアミン1.34部に変更した以外は、合成例B−1と同様にして、チオール化合物(B−2)10.5部を得た。NMR測定でのR3部位に対する色素部位の比率が4であることを確認した。
[Synthesis Example B-2]
In Synthesis Example B-1, 12.0 parts of triarylmethane dye (A-tp-1) and 1.68 parts of triethylamine, 9.6 parts of triarylmethane dye (A-tp-1), and 1. 10.5 parts of thiol compound (B-2) were obtained like synthesis example B-1 except having changed to 34 parts. It was confirmed that the ratio of the dye moiety to the R 3 moiety in the NMR measurement was 4.

[合成例B−3]
合成例B−1における、トリアリールメタン色素(A−tp−1)12.0部およびトリエチルアミン1.68部を、トリアリールメタン色素(A−tp−1)7.2部、およびトリエチルアミン1.01部に変更した以外は、合成例B−1と同様にして、チオール化合物(B−3)8.3部を得た。NMR測定でのR3部位に対する色素部位の比率が3であることを確認した。
[Synthesis Example B-3]
In Synthesis Example B-1, 12.0 parts of triarylmethane dye (A-tp-1) and 1.68 parts of triethylamine, 7.2 parts of triarylmethane dye (A-tp-1), and 1. 8.3 parts of thiol compound (B-3) was obtained in the same manner as in Synthesis Example B-1, except that the amount was changed to 01 parts. It was confirmed that the ratio of the dye moiety to the R 3 moiety in the NMR measurement was 3.

[合成例B−4]
合成例B−1における、トリアリールメタン色素(A−tp−1)12.0部およびトリエチルアミン1.68部を、トリアリールメタン色素(A−tp−1)4.8部、およびトリエチルアミン0.67部に変更した以外は、合成例B−1と同様にして、チオール化合物(B−4)6.0部を得た。NMR測定でのR3部位に対する色素部位の比率が2であることを確認した。
[Synthesis Example B-4]
In Synthesis Example B-1, 12.0 parts of triarylmethane dye (A-tp-1) and 1.68 parts of triethylamine, 4.8 parts of triarylmethane dye (A-tp-1), and 0. Except having changed to 67 parts, it carried out similarly to the synthesis example B-1, and obtained 6.0 parts of thiol compounds (B-4). It was confirmed that the ratio of the dye moiety to the R 3 moiety in the NMR measurement was 2.

[合成例B−5]
ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトプロピオネート)〔DPMP;SC有機化学工業製〕2.0部、及びトリアリールメタン色素(A−tp−3)11.6部、トリエチルアミン0.21部を、N−メチルピロリジノン(NMP)50.0部に溶解させ50℃12時間加熱した。室温まで冷却した後、ヘキサン250部、酢酸エチル250部の混合溶媒に反応溶液を滴下して再沈し、チオール化合物(B−5)12.3部を得た。
[Synthesis Example B-5]
Dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate) [DPMP; manufactured by SC Organic Chemical Industry] 2.0 parts, triarylmethane dye (A-tp-3) 11.6 parts, triethylamine 0.21 parts , Dissolved in 50.0 parts of N-methylpyrrolidinone (NMP) and heated at 50 ° C. for 12 hours. After cooling to room temperature, the reaction solution was dropped into a mixed solvent of 250 parts of hexane and 250 parts of ethyl acetate and reprecipitated to obtain 12.3 parts of a thiol compound (B-5).

[合成例B−6]
ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトプロピオネート)〔DPMP;SC有機化学工業製〕2.0部、及びトリアリールメタン色素(A−tp−8)9.4部を、N−メチルピロリジノン(NMP)50.0部に溶解させ窒素雰囲気下80℃に加熱した。2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル〔V−601;和光純薬製〕を0.13部添加した後、80℃で2時間加熱攪拌した。さらにV−601を0.13部添加した後、80℃で2時間加熱攪拌した後、室温まで冷却した。ヘキサン250部、酢酸エチル250部の混合溶媒に反応溶液を滴下して再沈し、チオール化合物(B−6)10.2部を得た。
[Synthesis Example B-6]
2.0 parts of dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate) [DPMP; manufactured by SC Organic Chemical Industry] and 9.4 parts of triarylmethane dye (A-tp-8) were mixed with N-methylpyrrolidinone ( NMP) was dissolved in 50.0 parts and heated to 80 ° C. in a nitrogen atmosphere. After adding 0.13 part of 2,2′-azobis (isobutyric acid) dimethyl [V-601; manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.], the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 2 hours. Further, 0.13 part of V-601 was added, and the mixture was stirred with heating at 80 ° C. for 2 hours, and then cooled to room temperature. The reaction solution was dropped into a mixed solvent of 250 parts of hexane and 250 parts of ethyl acetate and reprecipitated to obtain 10.2 parts of a thiol compound (B-6).

[合成例B−7]
合成例B−1におけるジペンタエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトプロピオネート)〔DPMP;SC有機化学工業製〕2.0部、トリアリールメタン色素(A−tp−1)12.0部、トリエチルアミン1.68部を、ペンタエリスリトールテトラ(3−メルカプトプロピオネート)〔PEMP;SC有機化学工業製〕2.0部、キサンテン化合物(A−xt−101)9.9部、トリエチルアミン1.62部に変更した以外は、合成例B−1と同様にして、チオール化合物(B−7)10.7部を得た。
[Synthesis Example B-7]
Dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate) [DPMP; manufactured by SC Organic Chemical Industry] in Synthesis Example B-1 2.0 parts, 12.0 parts of triarylmethane dye (A-tp-1), triethylamine 1.68 parts, pentaerythritol tetra (3-mercaptopropionate) [PEMP; manufactured by SC Organic Chemical Industry] 2.0 parts, xanthene compound (A-xt-101) 9.9 parts, triethylamine 1.62 parts 10.7 parts of a thiol compound (B-7) was obtained in the same manner as in Synthesis Example B-1, except that it was changed to.

[合成例B−8]
合成例B−5における、トリアリールメタン色素(A−tp−3)11.6部およびトリエチルアミン0.21部を、キサンテン化合物(A−xt−104)14.2部、およびトリエチルアミン0.26部に変更した以外は、合成例B−5と同様にして、チオール化合物(B−8)14.4部を得た。
[Synthesis Example B-8]
In Synthesis Example B-5, 11.6 parts of triarylmethane dye (A-tp-3) and 0.21 part of triethylamine, 14.2 parts of xanthene compound (A-xt-104), and 0.26 part of triethylamine 14.4 parts of thiol compound (B-8) was obtained in the same manner as in Synthesis Example B-5, except that

[合成例B−9]
合成例B−5における、トリアリールメタン色素(A−tp−3)11.6部およびトリエチルアミン0.21部を、キサンテン化合物(A−xt−104)11.4部、およびトリエチルアミン0.21部に変更した以外は、合成例B−5と同様にして、チオール化合物(B−9)12.1部を得た。
[Synthesis Example B-9]
In Synthesis Example B-5, 11.6 parts of triarylmethane dye (A-tp-3) and 0.21 part of triethylamine, 11.4 parts of xanthene compound (A-xt-104), and 0.21 part of triethylamine Except for changing to, 12.1 parts of thiol compound (B-9) was obtained in the same manner as in Synthesis Example B-5.

[合成例B−10]
合成例B−5における、トリアリールメタン色素(A−tp−3)11.6部およびトリエチルアミン0.21部を、キサンテン化合物(A−xt−104)8.6部、およびトリエチルアミン0.16部に変更した以外は、合成例B−5と同様にして、チオール化合物(B−10)9.5部を得た。
[Synthesis Example B-10]
In Synthesis Example B-5, 11.6 parts of triarylmethane dye (A-tp-3) and 0.21 part of triethylamine, 8.6 parts of xanthene compound (A-xt-104), and 0.16 part of triethylamine 9.5 parts of thiol compound (B-10) was obtained in the same manner as in Synthesis Example B-5 except that the thiol compound (B-10) was changed.

[合成例B−11]
合成例B−6における、トリアリールメタン色素(A−tp−8)9.4部を、スクアリリウム化合物(A−k−1)4.2部に変更した以外は、合成例B−6と同様にして、チオール化合物(B−11)5.6部を得た。
[Synthesis Example B-11]
The same as Synthesis Example B-6, except that 9.4 parts of triarylmethane dye (A-tp-8) in Synthesis Example B-6 was changed to 4.2 parts of squarylium compound (Ak-1). As a result, 5.6 parts of a thiol compound (B-11) was obtained.

[合成例B−12]
合成例B−6における、トリアリールメタン色素(A−tp−8)9.4部を、シアニン化合物(A−pm−1)4.2部に変更した以外は、合成例B−6と同様にして、チオール化合物(B−12)5.6部を得た。
[Synthesis Example B-12]
The same as Synthesis Example B-6 except that 9.4 parts of triarylmethane dye (A-tp-8) in Synthesis Example B-6 was changed to 4.2 parts of cyanine compound (A-pm-1) Thus, 5.6 parts of a thiol compound (B-12) was obtained.

<色素構造を有する分散剤の合成>
[合成例C−1]
合成例B−1で得たチオール化合物(B−1)5.0部、メタクリル酸(MAA)0.96部、およびシクロヘキサノン9.0部の混合溶液を窒素気流下、80℃に加熱した。これに2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル〔V−601;和光純薬製〕を0.077部添加した後、80℃で2時間加熱攪拌した。さらにV−601を0.077部添加した後、80℃で2時間加熱攪拌し、さらに90℃で2時間加熱攪拌した。室温まで冷却した後、シクロヘキサノン30.7部、テトラブチルアンモニウムブロミド(TBAB)0.14部、メタクリル酸グリシジル(GMA)0.79部を添加し、80℃18時間加熱攪拌した。室温まで冷却した後、ヘキサン250部、酢酸エチル250部の混合溶媒に反応溶液を滴下して再沈し、以下に示す色素構造を有する分散剤(C−1)を得た。色素構造を有する分散剤(C−1)の重量平均分子量(ポリスチレン換算値)は11600であり、0.1N水酸化ナトリウム水溶液を用いた滴定により、酸価は46mgKOH/gであった。また、NMRより、色素構造/MAA/MAAとGMAの付加体のモル比率は、5/6/6であり、P部の繰り返し数は平均12と計算された。また、テトラヒドロフラン(THF)に溶解させて色素構造を有する分散剤(C−1)を0.01mg/ml含む溶液を調製し(最大吸光度が1.0になるように調節した濃度)、かかる溶液の25℃での吸光度を、光路長1cmのセルを用いて測定したところ、最大吸収波長(λmax)は615nmで、最大吸収波長(λmax)の比吸光度は60であった。
<Synthesis of a dispersant having a dye structure>
[Synthesis Example C-1]
A mixed solution of 5.0 parts of the thiol compound (B-1) obtained in Synthesis Example B-1, 0.96 parts of methacrylic acid (MAA), and 9.0 parts of cyclohexanone was heated to 80 ° C. in a nitrogen stream. 0.077 part of 2,2′-azobis (isobutyric acid) dimethyl [V-601; manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was added thereto, and the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 2 hours. Further, 0.077 part of V-601 was added, and the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 2 hours, and further stirred at 90 ° C. for 2 hours. After cooling to room temperature, 30.7 parts of cyclohexanone, 0.14 part of tetrabutylammonium bromide (TBAB) and 0.79 part of glycidyl methacrylate (GMA) were added and stirred with heating at 80 ° C. for 18 hours. After cooling to room temperature, the reaction solution was dropped into a mixed solvent of 250 parts of hexane and 250 parts of ethyl acetate and reprecipitated to obtain a dispersant (C-1) having the following dye structure. The weight average molecular weight (polystyrene conversion value) of the dispersant (C-1) having a dye structure was 11600, and the acid value was 46 mgKOH / g by titration with a 0.1N sodium hydroxide aqueous solution. From the NMR, the molar ratio of the adduct of dye structure / MAA / MAA and GMA was calculated to be 5/6/6, and the average number of repetitions of the P part was 12. Further, a solution containing 0.01 mg / ml of the dispersant (C-1) having a dye structure dissolved in tetrahydrofuran (THF) is prepared (concentration adjusted so that the maximum absorbance is 1.0), and the solution The absorbance at 25 ° C. was measured using a cell having an optical path length of 1 cm. As a result, the maximum absorption wavelength (λmax) was 615 nm, and the specific absorbance at the maximum absorption wavelength (λmax) was 60.

[合成例C−2〜12]
チオール化合物、重合性モノマーの量、V−601の量、グリシジルメタクリレートの量、テトラブチルアンモニウムブロミドの量を下記表1に変更した以外は、合成例C−1と同様にして、色素構造を有する分散剤(C−2)〜(C−12)を得た。
[Synthesis Examples C-2 to 12]
It has a dye structure in the same manner as in Synthesis Example C-1, except that the amount of thiol compound, polymerizable monomer, amount of V-601, amount of glycidyl methacrylate, and amount of tetrabutylammonium bromide are changed to Table 1 below. Dispersants (C-2) to (C-12) were obtained.

<比吸光度の測定>
各色素をテトラヒドロフラン(THF)に溶解させて、波長400nm〜800nmでの最大吸光度が1.0となる濃度に調整し、かかる溶液の25℃での吸光度を、光路長1cmのセルを用い、下記式(Aλ)に基づき算出した。
E=A/(c×l) ・・・(Aλ)
式(Aλ)中、Eは、400nm〜800nmでの最大吸収波長における比吸光度を表し、
Aは、400nm〜800nmでの最大吸収波長における吸光度を表し、
lは、単位がcmで表されるセル長を表し、
cは、単位がmg/mlで表される、溶液中の色素の濃度を表す。
<Measurement of specific absorbance>
Each dye is dissolved in tetrahydrofuran (THF) to adjust the concentration so that the maximum absorbance at a wavelength of 400 nm to 800 nm is 1.0, and the absorbance at 25 ° C. of the solution is as follows using a cell having an optical path length of 1 cm. Calculation was performed based on the formula (Aλ).
E = A / (c × l) (Aλ)
In the formula (Aλ), E represents the specific absorbance at the maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm,
A represents the absorbance at the maximum absorption wavelength between 400 nm and 800 nm,
l represents the cell length in units of cm;
c represents the concentration of the dye in the solution expressed in mg / ml.

[合成例C−13]
合成例B−1で得たチオール化合物(B−1)5.0部、メタクリル酸(MAA)0.96部、メタクリル酸メチル10.0部およびN−エチルピロリドン19.5部の混合溶液を窒素気流下、90℃に加熱した。これに2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル〔V−601;和光純薬製〕0.77部添加した後、90℃で1.5時間加熱攪拌した。さらにV−601を0.77部添加した後、90℃で1.5時間加熱攪拌し、さらに90℃で2時間加熱攪拌した。室温まで冷却した後、ヘキサン500mL、酢酸エチル500mLの混合溶媒に反応溶液を滴下して再沈し、以下に示す色素構造を有する分散剤(C−13)を得た。色素構造を有する分散剤(C−13)の重量平均分子量(ポリスチレン換算値)は27500であり、0.1N水酸化ナトリウム水溶液を用いた滴定により、酸価は39mgKOH/gであった。また、NMRより、色素構造/MAA/MMAのモル比率は、5/12/108であった。また、テトラヒドロフラン(THF)に溶解させて色素(C−45)を0.01mg/ml含む溶液を調製し、かかる溶液の25℃での吸光度を、光路長1cmのセルを用いて測定したところ、最大吸収波長(λmax)は615nmで、最大吸収波長(λmax)の比吸光度は25であった。
[Synthesis Example C-13]
A mixed solution of 5.0 parts of the thiol compound (B-1) obtained in Synthesis Example B-1, 0.96 parts of methacrylic acid (MAA), 10.0 parts of methyl methacrylate and 19.5 parts of N-ethylpyrrolidone. It heated at 90 degreeC under nitrogen stream. To this was added 0.77 part of 2,2′-azobis (isobutyric acid) dimethyl [V-601; manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.], and the mixture was heated and stirred at 90 ° C. for 1.5 hours. Further, 0.77 part of V-601 was added, followed by heating and stirring at 90 ° C. for 1.5 hours, and further heating and stirring at 90 ° C. for 2 hours. After cooling to room temperature, the reaction solution was dropped into a mixed solvent of 500 mL of hexane and 500 mL of ethyl acetate and reprecipitated to obtain a dispersant (C-13) having the following dye structure. The weight average molecular weight (polystyrene conversion value) of the dispersant (C-13) having a dye structure was 27500, and the acid value was 39 mgKOH / g by titration with a 0.1N sodium hydroxide aqueous solution. From the NMR, the molar ratio of dye structure / MAA / MMA was 5/12/108. Further, a solution containing 0.01 mg / ml of the dye (C-45) was prepared by dissolving in tetrahydrofuran (THF), and the absorbance of the solution at 25 ° C. was measured using a cell having an optical path length of 1 cm. The maximum absorption wavelength (λmax) was 615 nm, and the specific absorbance at the maximum absorption wavelength (λmax) was 25.

[合成例C−14〜24]
チオール化合物、重合性モノマーの量、光重合開始剤の量を下記表2に記載の内容に変更した以外は、合成例C−13と同様にして、色素構造を有する分散剤C−14〜C−24を得た。
[Synthesis Examples C-14 to 24]
Dispersants C-14 to C having a dye structure in the same manner as in Synthesis Example C-13, except that the amount of the thiol compound, the polymerizable monomer, and the amount of the photopolymerization initiator are changed to those described in Table 2 below. -24 was obtained.

表1、2に記載の重合性モノマーの種類を以下に示す。
The types of polymerizable monomers described in Tables 1 and 2 are shown below.

色素としてトリアリールメタン色素(A−tp−1)を用い、下記で示される構造の色素構造を有する分散剤D−1を合成した。以下、詳細な操作を説明する。   Using a triarylmethane dye (A-tp-1) as a dye, a dispersant D-1 having a dye structure having the structure shown below was synthesized. Detailed operations will be described below.

<マクロモノマー(N−1)の合成>
窒素雰囲気下、2−エチルヘキサノール35.0g(0.27mol)、ε−カプロラクトン307.1g(2.70mol)及びモノブチル錫オキシド0.20gを90℃で5時間、続いて110℃で10時間加熱し、ポリエステルモノヒドロキシ体を得た。反応の終了はε−カプロラクトンの消失をNMRで測定することで確認した。80℃に冷却後、2,6−ジターシャリーブチル−4−メチルフェノールを0.071g、2−メタクリロイロキシエチルイソシアネート42.3g(0.27mol)を加え、80℃で3時間反応し、マクロモノマーN−1を得た。反応の終了は2−メタクリロイロキシエチルイソシアネートの消失をNMRで測定することで確認した。マクロモノマーN−1のGPC測定による重量平均分子量は2200であった。
[合成例D−1]
<Synthesis of Macromonomer (N-1)>
Under a nitrogen atmosphere, 35.0 g (0.27 mol) of 2-ethylhexanol, 307.1 g (2.70 mol) of ε-caprolactone and 0.20 g of monobutyltin oxide were heated at 90 ° C. for 5 hours and subsequently at 110 ° C. for 10 hours. A polyester monohydroxy product was obtained. The completion of the reaction was confirmed by measuring the disappearance of ε-caprolactone by NMR. After cooling to 80 ° C., 0.071 g of 2,6-ditertiarybutyl-4-methylphenol and 42.3 g (0.27 mol) of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate were added, and the reaction was performed at 80 ° C. for 3 hours. Monomer N-1 was obtained. The completion of the reaction was confirmed by measuring the disappearance of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate by NMR. The weight average molecular weight of the macromonomer N-1 determined by GPC was 2200.
[Synthesis Example D-1]

特開2000−162429号公報に記載の方法に準じてトリアリールメタン色素(A−tp−101)を合成した。
トリアリールメタン色素(A−tp−101)(15g)、マクロモノマーN−1(12g)、メタクリル酸(3.5g)を、ドデカンチオール(0.75g)に溶解させ、80℃で攪拌した。2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル〔V−601;和光純薬製〕1.70部添加した後、80℃で2時間加熱攪拌した。さらにV−601を1.70部添加した後、80℃で2時間加熱攪拌し、さらに90℃で2時間加熱攪拌した。室温まで冷却後、ヘキサン500mL、酢酸エチル500mLの混合溶媒に反応溶液を滴下して再沈し、色素構造を有する分散剤(D−1)を得た。色素構造を有する分散剤(D−1)の重量平均分子量(ポリスチレン換算値)は7400であり、0.1N水酸化ナトリウム水溶液を用いた滴定により、酸価は110mgKOH/gであった。また、NMRより、色素構造/N−1/MMAのモル比率は、10/74/16であった。また、テトラヒドロフラン(THF)に溶解させて色素(D−1)を0.01mg/ml含む溶液を調製し、かかる溶液の25℃での吸光度を、光路長1cmのセルを用いて測定したところ、最大吸収波長(λmax)は615nmで、最大吸収波長(λmax)の比吸光度は20であった。
A triarylmethane dye (A-tp-101) was synthesized according to the method described in JP-A No. 2000-162429.
Triarylmethane dye (A-tp-101) (15 g), macromonomer N-1 (12 g), and methacrylic acid (3.5 g) were dissolved in dodecanethiol (0.75 g) and stirred at 80 ° C. After adding 1.70 parts of 2,2′-azobis (isobutyric acid) dimethyl [V-601; manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.], the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 2 hours. Further, 1.70 parts of V-601 were added, and then heated and stirred at 80 ° C. for 2 hours, and further heated and stirred at 90 ° C. for 2 hours. After cooling to room temperature, the reaction solution was dropped into a mixed solvent of 500 mL of hexane and 500 mL of ethyl acetate and reprecipitated to obtain a dispersant (D-1) having a dye structure. The weight average molecular weight (polystyrene conversion value) of the dispersant (D-1) having a dye structure was 7400, and the acid value was 110 mgKOH / g by titration with a 0.1N sodium hydroxide aqueous solution. From the NMR, the molar ratio of the dye structure / N-1 / MMA was 10/74/16. Further, a solution containing 0.01 mg / ml of the dye (D-1) was prepared by dissolving in tetrahydrofuran (THF), and the absorbance of the solution at 25 ° C. was measured using a cell having an optical path length of 1 cm. The maximum absorption wavelength (λmax) was 615 nm, and the specific absorbance at the maximum absorption wavelength (λmax) was 20.

[合成例D−2〜16]
染料モノマー、その他の重合性モノマー、V−601の量およびドデカンチオールの量を下記表3の内容に変更した以外は、合成例D−1と同様にして、色素構造を有する分散剤D−2〜D−16を得た。なお、N−2は、AA−6(東亜合成製のマクロモノマー)である。また、A−pm−2、A−k−2は下記構造の化合物を表す。
[Synthesis Examples D-2 to 16]
Dispersant D-2 having a dye structure in the same manner as in Synthesis Example D-1, except that the amount of the dye monomer, other polymerizable monomer, V-601 and the amount of dodecanethiol were changed to those shown in Table 3 below. ~ D-16 was obtained. N-2 is AA-6 (macromonomer manufactured by Toa Gosei). A-pm-2 and Ak-2 represent compounds having the following structures.

比較色素1:トリアリールメタン色素(A−tp−1):下記構造比較色素2:キサンテン化合物(A−xt−105):下記構造
Comparative dye 1: Triarylmethane dye (A-tp-1): The following structure comparison dye 2: Xanthene compound (A-xt-105): The following structure

(比較分散剤4〜6の合成)
特開2007−277514号公報の段落番号0272〜0326に記載の方法で、下に示す構造式の比較色素4〜6を合成した。比較分散剤4:下記構造(特開2007−277514号公報の合成例C−9)
式中、m=1、n=5比較分散剤5 下記構造(特開2007−277514号公報の合成例C−25)
式中、m=1、n=3比較分散剤6 下記構造(特開2007−277514号公報の合成例C−4)
式中、m=1、n=5比較分散剤4
比較分散剤5
比較分散剤6
(Synthesis of Comparative Dispersants 4-6)
Comparative dyes 4 to 6 having the structural formula shown below were synthesized by the method described in paragraph Nos. 0272 to 0326 of JP-A-2007-277514. Comparative dispersant 4: the following structure (Synthesis Example C-9 of JP-A-2007-277514)
In the formula, m = 1, n = 5 Comparative dispersant 5 The following structure (Synthesis Example C-25 of JP 2007-277514 A)
In the formula, m = 1, n = 3 Comparative dispersant 6 The following structure (Synthesis Example C-4 of JP 2007-277514 A)
In the formula, m = 1, n = 5 Comparative dispersant 4
Comparative dispersant 5
Comparative dispersant 6

(比較分散剤7の合成)
特開2011−118060号公報の段落番号0136に記載の方法で、下に示す構造式の比較色素7を合成した。すなわち、メタクリル酸2g、マクロモノマー(東亜合成製、AA−6)8.3g、ジピロメテン染料骨格を有するモノマーa(下記構造)2.6g、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート30g、及び1−ドデカンチオール0.2gを窒素下で撹拌し、75℃に保持した。次に、光重合開始剤(V−601、和光純薬製)を0.06部添加し、2時間撹拌した。90℃にて、2時間撹拌した。室温まで冷却し、色素構造を有する分散剤(比較色素7)を得た。比較色素7の重量平均分子量(ポリスチレン換算値)は12000であり、0.1N水酸化ナトリウム水溶液を用いた滴定により、酸価は100mgKOH/gであった。また、テトラヒドロフラン(THF)に溶解させて色素(D−1)を0.01mg/ml含む溶液を調製し、かかる溶液の25℃での吸光度を、光路長1cmのセルを用いて測定したところ、最大吸収波長(λmax)は550nmで、最大吸収波長(λmax)の比吸光度は18であった。
ジピロメテン染料骨格を有するモノマーa
(Synthesis of Comparative Dispersant 7)
Comparative dye 7 having the structural formula shown below was synthesized by the method described in paragraph No. 0136 of JP2011-1118060A. That is, 2 g of methacrylic acid, 8.3 g of a macromonomer (manufactured by Toagosei Co., Ltd., AA-6), 2.6 g of a monomer a having the dipyrromethene dye skeleton (the following structure), 30 g of propylene glycol methyl ether acetate, and 1-dodecanethiol 2 g was stirred under nitrogen and kept at 75 ° C. Next, 0.06 part of photopolymerization initiator (V-601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added and stirred for 2 hours. Stir at 90 ° C. for 2 hours. After cooling to room temperature, a dispersant having a dye structure (Comparative Dye 7) was obtained. The weight average molecular weight (polystyrene conversion value) of the comparative dye 7 was 12000, and the acid value was 100 mgKOH / g by titration with a 0.1N sodium hydroxide aqueous solution. Further, a solution containing 0.01 mg / ml of the dye (D-1) was prepared by dissolving in tetrahydrofuran (THF), and the absorbance of the solution at 25 ° C. was measured using a cell having an optical path length of 1 cm. The maximum absorption wavelength (λmax) was 550 nm, and the specific absorbance at the maximum absorption wavelength (λmax) was 18.
Monomer a having a dipyrromethene dye skeleton

<実施例1>
1.レジスト液の調製
下記組成の成分を混合して溶解し、下塗り層用レジスト液を調製した。
下塗り層用レジスト液の組成
・溶剤:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 19.20部
・溶剤:乳酸エチル 36.67部
・アルカリ可溶性樹脂:メタクリル酸ベンジル/メタクリル酸/メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル共重合体(モル比=60/22/18、重量平均分子量15,000、数平均分子量9,000)の40%PGMEA溶液 30.51部
・エチレン性不飽和二重結合含有化合物:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、KAYARAD DPHA(日本化薬製) 12.20部
・重合禁止剤:p−メトキシフェノール 0.0061部
・フッ素系界面活性剤:F−475、DIC製 0.83部
・光重合開始剤:トリハロメチルトリアジン系の光重合開始剤 0.586部
(TAZ−107、みどり化学製)
<Example 1>
1. Preparation of resist solution Components of the following composition were mixed and dissolved to prepare an undercoat layer resist solution.
Composition of resist solution for undercoat layer: Solvent: propylene glycol monomethyl ether acetate 19.20 parts Solvent: ethyl lactate 36.67 parts Alkali-soluble resin: benzyl methacrylate / methacrylic acid / -2-hydroxyethyl methacrylate copolymer (Molar ratio = 60/22/18, weight average molecular weight 15,000, number average molecular weight 9,000) 40% PGMEA solution 30.51 parts ethylenically unsaturated double bond-containing compound: dipentaerythritol hexaacrylate, KAYARAD DPHA (Nippon Kayaku Co., Ltd.) 12.20 parts ・ Polymerization inhibitor: p-methoxyphenol 0.0061 parts ・ Fluorosurfactant: F-475, DIC 0.83 parts ・ Photopolymerization initiator: Trihalomethyl Triazine-based photopolymerization initiator 0.586 parts (TAZ-107, Midori Made Manabu)

2.下塗り層付シリコンウエハ基板の作製
6インチシリコンウエハをオーブン中で200℃のもと30分加熱処理した。次いで、このシリコンウエハ上に、下塗り層用レジスト液を乾燥膜厚が1.5μmになるように塗布し、更に220℃のオーブン中で1時間加熱乾燥させて下塗り層を形成し、下塗り層付シリコンウエハ基板を得た。
2. Production of silicon wafer substrate with undercoat layer A 6-inch silicon wafer was heat-treated in an oven at 200 ° C. for 30 minutes. Next, an undercoat layer resist solution is applied onto the silicon wafer so as to have a dry film thickness of 1.5 μm, and further heated and dried in an oven at 220 ° C. for 1 hour to form an undercoat layer. A silicon wafer substrate was obtained.

3.着色組成物の調製
3−1.青色顔料分散液の調製
<顔料分散液P−1(C.I.Pigment Blue15:6分散液)の調製>
以下のようにして、顔料分散液P−1(C.I.Pigment Blue15:6分散液)を調製した。
即ち、C.I.Pigment Blue15:6(青色顔料;以下、「PB15:6」とも称する)を19.4質量部(平均一次粒子径55nm)、及び色素構造を有する分散剤C−1を20.95質量部、PGMEA275質量部からなる混合液を、ビーズミル(ジルコニアビーズ0.3mm径)により3時間混合・分散した。その後、さらに、減圧機構付き高圧分散機NANO−3000−10(日本ビーイーイー製)を用いて、2000kg/cm3の圧力下で流量500g/minとして分散処理を行なった。この分散処理を10回繰り返し、顔料分散液として、C.I.Pigment Blue15:6分散液を得た。得られたC.I.Pigment Blue15:6分散液について、顔料の平均一次粒子径を動的光散乱法(Microtrac Nanotrac UPA−EX150(日機装社(Nikkiso Co.,Ltd.)製))により測定したところ、28nmであった。
3. Preparation of coloring composition 3-1. Preparation of Blue Pigment Dispersion <Preparation of Pigment Dispersion P-1 (CI Pigment Blue 15: 6 Dispersion)>
A pigment dispersion P-1 (CI Pigment Blue 15: 6 dispersion) was prepared as follows.
That is, C.I. I. Pigment Blue 15: 6 (blue pigment; hereinafter also referred to as “PB15: 6”) 19.4 parts by mass (average primary particle diameter 55 nm), Dispersant C-1 having a dye structure 20.95 parts by mass, PGMEA275 The mixed liquid consisting of parts by mass was mixed and dispersed for 3 hours by a bead mill (zirconia beads 0.3 mm diameter). Thereafter, the dispersion treatment was further performed at a flow rate of 500 g / min under a pressure of 2000 kg / cm 3 using a high-pressure disperser NANO-3000-10 (manufactured by Nippon BEE Co., Ltd.) with a decompression mechanism. This dispersion treatment was repeated 10 times to obtain C.I. I. Pigment Blue 15: 6 dispersion was obtained. The obtained C.I. I. With respect to Pigment Blue 15: 6 dispersion, the average primary particle diameter of the pigment was measured by a dynamic light scattering method (Microtrac Nanotrac UPA-EX150 (manufactured by Nikkiso Co., Ltd.)) and found to be 28 nm.

<顔料分散液P−2〜P−42、比較分散液P−1〜P−7の調製>
顔料分散液P−1の調製において、顔料および色素構造を有する分散剤または比較色素として、下表4のものを用いる以外は同様の操作により顔料分散液P−2〜P−42、比較分散液P−1〜P−7を調製した。
PRはC.I.ピグメントレッドを意味し、PGはC.I.ピグメントグリーンを意味する。
尚、比較分散液P−3は、色素構造を有する分散剤および比較色素を配合していない。
<Preparation of Pigment Dispersions P-2 to P-42 and Comparative Dispersions P-1 to P-7>
In the preparation of pigment dispersion P-1, pigment dispersions P-2 to P-42 and comparative dispersions were prepared in the same manner except that the dispersants or pigments having a pigment and a dye structure were used as shown in Table 4 below. P-1 to P-7 were prepared.
PR is C.I. I. Pigment Red, PG is C.I. I. It means pigment green.
The comparative dispersion P-3 does not contain a dispersant having a dye structure and a comparative dye.

<顔料分散液P−43の調製>
以下のようにして、顔料分散液P−43(C.I.Pigment Blue15:6分散液)を調製した。
即ち、C.I.Pigment Blue15:6(青色顔料;以下、「PB15:6」とも称する)を24.56質量部(平均一次粒子径55nm)、及び色素構造を有する分散剤C−1を12.28質量部、色素構造を有さない顔料分散剤BY−161(BYK社製)3.51部、PGMEA275質量部からなる混合液を、ビーズミル(ジルコニアビーズ0.3mm径)により3時間混合・分散した。その後、さらに、減圧機構付き高圧分散機NANO−3000−10(日本ビーイーイー製)を用いて、2000kg/cm3の圧力下で流量500g/minとして分散処理を行なった。この分散処理を10回繰り返し、顔料分散液として、C.I.Pigment Blue15:6分散液を得た。得られたC.I.Pigment Blue15:6分散液について、顔料の平均一次粒子径を動的光散乱法(Microtrac Nanotrac UPA−EX150(日機装社(Nikkiso Co.,Ltd.)製))により測定したところ、32nmであった。
<Preparation of Pigment Dispersion Liquid P-43>
A pigment dispersion P-43 (CI Pigment Blue 15: 6 dispersion) was prepared as follows.
That is, C.I. I. Pigment Blue 15: 6 (blue pigment; hereinafter also referred to as “PB15: 6”) 24.56 parts by mass (average primary particle diameter 55 nm), and Dispersant C-1 having a dye structure 12.28 parts by mass, dye A mixed liquid consisting of 3.51 parts of pigment dispersant BY-161 (manufactured by BYK) having no structure and 275 parts by mass of PGMEA was mixed and dispersed by a bead mill (zirconia beads 0.3 mm diameter) for 3 hours. Thereafter, the dispersion treatment was further performed at a flow rate of 500 g / min under a pressure of 2000 kg / cm 3 using a high-pressure disperser NANO-3000-10 (manufactured by Nippon BEE Co., Ltd.) with a decompression mechanism. This dispersion treatment was repeated 10 times to obtain C.I. I. Pigment Blue 15: 6 dispersion was obtained. The obtained C.I. I. With respect to Pigment Blue 15: 6 dispersion, the average primary particle diameter of the pigment was measured by a dynamic light scattering method (Microtrac Nanotrac UPA-EX150 (manufactured by Nikkiso Co., Ltd.)) and found to be 32 nm.

<顔料分散液P−44の調製>
顔料分散液P−43の調製において、色素構造を有する分散剤をD−8に、色素構造を有さない顔料分散剤をE1(下記構造)に変更する以外は同様の操作により顔料分散液P−44を調製した。

Mw=20000、x/y=50/50(質量比)、n=20、酸価=100mgKOH/g
<Preparation of pigment dispersion P-44>
In the preparation of Pigment Dispersion Liquid P-43, Pigment Dispersion Liquid P was prepared in the same manner except that the dispersant having the dye structure was changed to D-8 and the pigment dispersant not having the dye structure was changed to E1 (the following structure). -44 was prepared.

Mw = 20000, x / y = 50/50 (mass ratio), n = 20, acid value = 100 mgKOH / g

3−2.着色組成物の調製
下記の各成分を混合して分散、溶解し、0.45μmのナイロンフィルタでろ過し、着色組成物を得た。固形分中における顔料の割合(単位)は33%、分散剤の割合は36%である。
・有機溶剤(シクロヘキサノン):17.12部
・アルカリ可溶性樹脂1(下記J1):1.23部(固形分0.37部、固形分濃度30%)
・アルカリ可溶性樹脂2(アクリキュア−RD−F8(日本触媒製)):0.23部
・光重合開始剤I−2(IRGACURE OXE−02):0.975部
・顔料分散液P−1(C.I.Pigment Blue15:6および分散剤C−1による分散液、PGMEA溶液、固形分濃度12.8%):61.50部
・重合性化合物Z−1(エチレンオキシ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、NKエステル A−DPH−12E(新中村化学製)):1.96部
・重合禁止剤(p−メトキシフェノール):0.0007部
・フッ素系界面活性剤(DIC製F475、1%PGMEA溶液):2.50部
3-2. Preparation of colored composition The following components were mixed, dispersed and dissolved, and filtered through a 0.45 µm nylon filter to obtain a colored composition. The ratio (unit) of the pigment in the solid content is 33%, and the ratio of the dispersant is 36%.
Organic solvent (cyclohexanone): 17.12 parts Alkali-soluble resin 1 (J1 below): 1.23 parts (solid content 0.37 parts, solid content concentration 30%)
Alkali-soluble resin 2 (Acryl Cure-RD-F8 (manufactured by Nippon Shokubai)): 0.23 part Photopolymerization initiator I-2 (IRGACURE OXE-02): 0.975 part Pigment dispersion P-1 (C Pigment Blue 15: 6 and Dispersant C-1 dispersion, PGMEA solution, solid concentration 12.8%): 61.50 parts Polymerizable compound Z-1 (ethyleneoxy-modified dipentaerythritol hexaacrylate, NK Ester A-DPH-12E (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)): 1.96 parts ・ Polymerization inhibitor (p-methoxyphenol): 0.0007 parts ・ Fluorosurfactant (DIC F475, 1% PGMEA solution) : 2.50 parts

アルカリ可溶性樹脂J1
Alkali-soluble resin J1

4.カラーフィルタ(着色パターン)の作製
4−1:フォトリソグラフィ法による着色組成物を用いたカラーフィルタの作製
上記で調製された着色組成物を、上記で作製された下塗り層付シリコンウエハの下塗り層上に塗布し、着色層(塗布膜)を形成した。そして、この塗布膜の乾燥膜厚が1μmになるように、100℃のホットプレートを用いて120秒間加熱処理(プリベーク)を行なった。
次いで、i線ステッパー露光装置FPA−3000i5+(Canon製)を使用して365nmの波長でパターンが1.0μm四方のアイランドパターンマスクを通して50〜1200mJ/cm2の露光量で露光した。
その後、照射された塗布膜が形成されているシリコンウエハ基板をスピン・シャワー現像機(DW−30型、ケミトロニクス製)の水平回転テーブル上に載置し、CD−2000(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ製)を用いて23℃で60秒間パドル現像を行ない、下塗り層付シリコンウエハの下塗り層上に着色パターンを形成した。
着色パターンが形成されたシリコンウエハを、真空チャック方式で水平回転テーブルに固定し、回転装置によってシリコンウエハを回転数50rpmで回転させつつ、その回転中心の上方より純水を噴出ノズルからシャワー状に供給してリンス処理を行ない、その後スプレー乾燥し、200℃で300秒間、ホットプレートでポストベークを行い、シリコンウエハ上の膜厚1μmの着色パターン(カラーフィルタ)を得た。
以上により、下塗り層付シリコンウエハの下塗り層上に着色パターン(カラーフィルタ)が設けられた構成の着色パターン付シリコンウエハを得た。
その後、測長SEM「S−9260A」(日立ハイテクノロジーズ製)を用いて、着色パターンのサイズを測定した。
パターンサイズが1.0μmとなる露光量の着色パターンを用い、現像残渣の評価を行った。
4). Production of color filter (colored pattern) 4-1: Production of color filter using colored composition by photolithography method The colored composition prepared above is applied to the undercoat layer of the silicon wafer with an undercoat layer prepared above. To form a colored layer (coating film). Then, heat treatment (pre-baking) was performed for 120 seconds using a hot plate at 100 ° C. so that the dry film thickness of the coating film became 1 μm.
Next, using an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5 + (manufactured by Canon), exposure was performed at an exposure dose of 50 to 1200 mJ / cm 2 through an island pattern mask having a pattern of 1.0 μm square at a wavelength of 365 nm.
Thereafter, the silicon wafer substrate on which the irradiated coating film is formed is placed on a horizontal rotary table of a spin shower developing machine (DW-30 type, manufactured by Chemitronics), and CD-2000 (Fuji Film Electronics Materials). Was used for 60 seconds at 23 ° C. to form a colored pattern on the undercoat layer of the silicon wafer with the undercoat layer.
The silicon wafer on which the colored pattern is formed is fixed to a horizontal rotary table by a vacuum chuck method, and pure water is sprayed from the jet nozzle from above the rotation center while rotating the silicon wafer at a rotation speed of 50 rpm by a rotating device. After being supplied and rinsed, it was spray-dried and post-baked with a hot plate at 200 ° C. for 300 seconds to obtain a colored pattern (color filter) having a thickness of 1 μm on the silicon wafer.
As described above, a silicon wafer with a colored pattern having a structure in which a colored pattern (color filter) was provided on the undercoat layer of the silicon wafer with an undercoat layer was obtained.
Thereafter, the size of the colored pattern was measured using a length measuring SEM “S-9260A” (manufactured by Hitachi High-Technologies).
The development residue was evaluated using a colored pattern having an exposure amount of 1.0 μm in pattern size.

<現像残渣の評価>
シリコンウエハにおける着色パターンの形成領域外(未露光部)を走査式電子顕微鏡を用いて、倍率30000倍にて観察し、下記評価基準に従って評価した。
A良好:着色パターン形成領域外(未露光部)には残渣が全く確認されなかった。
Bやや良好:着色パターン形成領域外(未露光部)に、残渣がわずかに確認されたが、実用上問題のない程度であった。
C十分:着色パターン形成領域外(未露光部)に残渣が確認された。現像条件を23℃で60秒間パドル現像から23℃で180秒間パドル現像に変更することで、実用上問題のない程度となった。
D不十分:着色パターン形成領域外(未露光部)に残渣が著しく確認された。また、現像条件を23℃で60秒間パドル現像から23℃で180秒間パドル現像に変更しても残渣が確認され、実用上問題のある程度であった。
<Evaluation of development residue>
The outside of the colored pattern formation region (unexposed portion) on the silicon wafer was observed at a magnification of 30000 using a scanning electron microscope, and evaluated according to the following evaluation criteria.
A Good: No residue was observed outside the colored pattern forming area (unexposed area).
B Slightly good: Although a slight residue was observed outside the colored pattern formation region (unexposed area), there was no practical problem.
C sufficient: Residue was confirmed outside the colored pattern formation region (unexposed portion). By changing the development condition from paddle development at 23 ° C. for 60 seconds to paddle development at 23 ° C. for 180 seconds, there was no practical problem.
D insufficient: Residue was remarkably confirmed outside the colored pattern formation region (unexposed portion). Further, even if the development condition was changed from paddle development at 23 ° C. for 60 seconds to paddle development at 23 ° C. for 180 seconds, residues were confirmed, and there was a practical problem.

<耐色抜け>
ガラス基板上に、着色組成物を膜厚が0.6μmになるようにスピンコーターを用いて塗布し、100℃のホットプレートを用いて120秒間加熱処理(プリベーク)を行った。次いで、220℃のホットプレートを用いて300秒間加熱処理(ポストベーク)を行い、硬化膜を作製した。
このようにして得られたカラーフィルタを、紫外可視近赤外分光光度計UV3600(島津製作所製)の分光光度計(レファレンス:ガラス基板)で300nm〜800nmの波長域で透過率を測定した。また、OLYMPUS製光学顕微鏡 BX60を用いて、反射観測(倍率50倍)にて微分干渉像を観察した。
次いで、アルカリ現像液FHD−5(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ製)の中に5分間浸漬し、乾燥させた後に再度分光測定を実施し、溶剤浸漬前後の透過率変動(溶剤浸漬前の上記透過率をT0、溶剤浸漬後の上記透過率をT1とした場合に、式|T0−T1|で表される値)と膜面異常とを評価し、以下の基準で評価した。
<<評価基準>>
A:良好 300nm〜800nmの全領域において、溶剤浸漬前後の透過率変動が2%未満
B:やや良好 300nm〜800nmの全領域において、溶剤浸漬前後の透過率変動が2%以上5%未満
C:十分 300nm〜800nmの全領域において、溶剤浸漬前後の透過率変動が5%以上10%未満
D:不十分 300nm〜800nmの全領域において、溶剤浸漬前後の透過率変動が10%以上
<Color loss>
On the glass substrate, the coloring composition was applied using a spin coater so as to have a film thickness of 0.6 μm, and heat-treated (prebaked) for 120 seconds using a hot plate at 100 ° C. Next, heat treatment (post-bake) was performed for 300 seconds using a 220 ° C. hot plate to prepare a cured film.
The transmittance of the color filter thus obtained was measured in a wavelength region of 300 nm to 800 nm with a spectrophotometer (reference: glass substrate) of an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer UV3600 (manufactured by Shimadzu Corporation). Moreover, the differential interference image was observed by reflection observation (50-times multiplication factor) using OLYMPUS optical microscope BX60.
Next, the specimen was immersed in an alkali developer FHD-5 (manufactured by Fuji Film Electronics Materials) for 5 minutes, dried, and then subjected to spectroscopic measurement again. The transmittance fluctuation before and after the solvent immersion (the above-mentioned transmittance before the solvent immersion). Is T0, and the transmittance after immersion in the solvent is T1, the value represented by the expression | T0-T1 |) and the film surface abnormality were evaluated, and evaluated according to the following criteria.
<< Evaluation criteria >>
A: Good The transmittance variation before and after immersion in the solvent is less than 2% in the entire region of 300 nm to 800 nm. B: Slightly good In the entire region of 300 nm to 800 nm, the transmittance variation before and after the solvent immersion is 2% or more and less than 5%. Sufficient fluctuation in transmittance before and after solvent immersion in the entire region of 300 nm to 800 nm is 5% or more and less than 10% D: Inadequate transmittance fluctuation in the entire region of 300 nm to 800 nm is 10% or more

<耐光性>
上記で調製された着色組成物をガラス基板にスピンコーター(ミカサ製)を用いて塗布し、塗膜を形成した。そして、この塗膜の乾燥膜厚が0.6μmになるように、100℃のホットプレートを用いて120秒間加熱処理(プリベーク)を行った。次いで200℃で5分間の加熱を行い、塗布膜の硬化を行って着色層を形成した。
着色層を形成したガラス基板を、耐光試験装置(スガ試験機製SX−75)を用いてブラックパネル温度63℃、石英インナーフィルター、275nmカットアウターフィルター、照度75mw/m(300〜400nm)、湿度50%の条件下で10時間加熱した。
加熱前後の色差(ΔE*ab)を分光光度計MCPD−3000(大塚電子製)で測定した。測定された色差(ΔE*ab)に基づき、下記評価基準に従って耐光性を評価した。この数値が小さいほど、耐光性が良好であるといえる。評価結果を下記表に示す。AおよびBが実際の使用に問題のないレベルである。
<Light resistance>
The colored composition prepared above was applied to a glass substrate using a spin coater (manufactured by Mikasa) to form a coating film. And heat processing (prebaking) was performed for 120 second using a 100 degreeC hotplate so that the dry film thickness of this coating film might be set to 0.6 micrometer. Next, heating was performed at 200 ° C. for 5 minutes, and the coating film was cured to form a colored layer.
Using a light resistance test apparatus (SX-75 manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), the glass substrate on which the colored layer was formed was black panel temperature 63 ° C., quartz inner filter, 275 nm cut outer filter, illuminance 75 mw / m 2 (300 to 400 nm), humidity Heated for 10 hours under 50% condition.
The color difference (ΔE * ab) before and after heating was measured with a spectrophotometer MCPD-3000 (manufactured by Otsuka Electronics). Based on the measured color difference (ΔE * ab), light resistance was evaluated according to the following evaluation criteria. It can be said that the smaller this value, the better the light resistance. The evaluation results are shown in the following table. A and B are levels at which there is no problem in actual use.

<<評価基準>>
A良好:ΔE*abが3以下
Bやや良好:ΔE*abが3より大きく5以下
C十分:ΔE*abが5より大きく10以下
D不十分:ΔE*abが10より大きい
<< Evaluation criteria >>
A Good: ΔE * ab is 3 or less B Good: ΔE * ab is greater than 3 and 5 or less C Sufficient: ΔE * ab is greater than 5 and 10 or less D Insufficient: ΔE * ab is greater than 10

<ザラ(色ムラ)>
得られた単色のカラーフィルタ(着色パターン)を光学顕微鏡の観測レンズと光源との間に設置して光を観測レンズに向けて照射し、その透過光状態を倍率が1000倍のデジタルカメラが設置された光学顕微鏡によって観察した。光学顕微鏡に設置されたデジタルカメラには128万画素のCCDが搭載されており、透過光状態にある被膜表面を撮影した。撮影画像は8ビットのビットマップ形式でデジタル変換したデータ(デジタル画像)として保存した。
なお、着色パターンの被膜表面の撮影は任意に選択した20の領域に対して行った。また、デジタル変換したデータは、撮影画像をBの色の輝度を0〜255までの256階調の濃度分布として数値化して保存した。
次いで、保存されたデジタル画像について、1つの格子サイズが実基板上の2μm四方に相当するように、格子状に区分し、一つの区画内での輝度を平均化した。本実施例においては、128万画素のデジタルカメラで光学1000倍の画像を撮影したため、実基板上の2μmは撮影画像上の2mmとなり、ディスプレイ上における画像サイズが452mm×352mmであったことから、一つの領域における総区画数は39776個であった。
各領域の全区画について、任意の1区画とそれに隣接する全ての隣接区画の平均輝度とを計測した。隣接区画の平均輝度との差が5以上の区画を有意差区画と認定し、全領域の有意差区画の平均総数と、全領域の有意差区画の平均総数が各領域の全区画数(39776個)に対して占める割合(以下、単に「割合」ともいう)と、を算出した。この数値は、小さいほど色ムラ(ザラ)が少ないと判断する。有意差区画数が800以下、割合が3%以下で実用上問題のないレベルと判断する。
<Zara (color unevenness)>
The obtained monochromatic color filter (colored pattern) is placed between the observation lens and the light source of the optical microscope to irradiate the light toward the observation lens, and a digital camera with a magnification of 1000 times installs the transmitted light state. Was observed with an optical microscope. A digital camera installed in the optical microscope is equipped with a CCD with 1.28 million pixels, and the surface of the coating film in a transmitted light state was photographed. The photographed image was stored as digitally converted data (digital image) in an 8-bit bitmap format.
In addition, imaging | photography of the coating surface of a coloring pattern was performed with respect to 20 area | regions selected arbitrarily. In addition, the digitally converted data was obtained by digitizing and storing the captured image as a density distribution of 256 gradations in which the brightness of the B color is 0 to 255.
Next, the stored digital image was divided into a lattice shape so that one lattice size corresponds to 2 μm square on the actual substrate, and the luminance in one partition was averaged. In this example, since an image of 1000 times optical was captured with a 1.28 million pixel digital camera, 2 μm on the actual substrate was 2 mm on the captured image, and the image size on the display was 452 mm × 352 mm. The total number of sections in one area was 39976.
For all the sections in each region, an arbitrary luminance and the average luminance of all adjacent sections adjacent to it were measured. A partition having a difference of 5 or more from the average brightness of adjacent partitions is recognized as a significant difference partition, and the average total number of significant difference partitions in all regions and the average total number of significant difference partitions in all regions are the total number of partitions in each region (39976). The ratio (hereinafter, also simply referred to as “ratio”) to the total number was calculated. It is determined that the smaller this value is, the less color unevenness (zara) is. The number of significant difference sections is 800 or less, and the ratio is 3% or less.

<<評価基準>>
A:有意差区画数が500未満、かつ割合が2%未満であり優れているレベル
B:有意差区画数が800以下、かつ割合が3%以下であり(但し、上記Aに該当する場合を除く)、実用上問題のないレベル
C:有意差区画数800超及び割合3%超の少なくとも一方に該当し、実用上問題となるレベル、および、上記AおよびBに該当しないもの。
<< Evaluation criteria >>
A: The number of significant difference sections is less than 500 and the ratio is less than 2%, and is excellent. Level B: The number of significant difference sections is 800 or less, and the ratio is 3% or less. Excluded) Level C with no practical problems: Levels that are at least one of the number of significant difference divisions of more than 800 and more than 3%, and levels that are practically problematic, and those that do not fall under A and B above.

<実施例2〜49、比較例1〜7> <Examples 2-49 and Comparative Examples 1-7>

実施例1における「3−2.着色組成物の調製」において、顔料分散液P−1、光重合開始剤I−2、アルカリ可溶性樹脂J1、重合性化合物Z−1を下記表のように変更したこと以外は、実施例1と同様にして、着色組成物を調製し、実施例1と同様にして、現像残渣、耐色抜け、耐光性、ザラを評価した。   In “3-2. Preparation of colored composition” in Example 1, pigment dispersion P-1, photopolymerization initiator I-2, alkali-soluble resin J1, and polymerizable compound Z-1 were changed as shown in the following table. Except for this, a colored composition was prepared in the same manner as in Example 1, and the development residue, color loss, light resistance, and roughness were evaluated in the same manner as in Example 1.

光重合開始剤:下記構造
Photopolymerization initiator: Structure below

アルカリ可溶性樹脂J2〜J4:下記構造

J1酸価:195mgKOH/g、J2酸価:51mgKOH/g、J3酸価:49mgKOH/g、J4酸価:34mgKOH/g、
Alkali-soluble resins J2 to J4: the following structures

J1 acid value: 195 mgKOH / g, J2 acid value: 51 mgKOH / g, J3 acid value: 49 mgKOH / g, J4 acid value: 34 mgKOH / g,

重合性化合物
Z−1:エチレンオキシ変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、NKエステル
A−DPH−12E(新中村化学製)
Z−2:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、KAYARAD DPHA(日本化薬製)
Z−3:エトキシ化(4)ペンタエリスリトールテトラアクリレート、SR494(サートマー製)
Z−4:エトキシ化(3)トリメチロールプロパントリアクリレート、SR454(サートマー製)
Z−5:エトキシ化(6)トリメチロールプロパントリアクリレート、SR499(サートマー製)
Z−6:KAYARAD DPCA−60(日本化薬製)
Z−7:トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリアクリレート、SR368(サートマー製)
Polymerizable compound Z-1: ethyleneoxy-modified dipentaerythritol hexaacrylate, NK ester A-DPH-12E (manufactured by Shin-Nakamura Chemical)
Z-2: Dipentaerythritol hexaacrylate, KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku)
Z-3: Ethoxylation (4) Pentaerythritol tetraacrylate, SR494 (manufactured by Sartomer)
Z-4: Ethoxylation (3) Trimethylolpropane triacrylate, SR454 (Sartomer)
Z-5: Ethoxylation (6) Trimethylolpropane triacrylate, SR499 (manufactured by Sartomer)
Z-6: KAYARAD DPCA-60 (Nippon Kayaku)
Z-7: Tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate, SR368 (manufactured by Sartomer)

上記表から、実施例の顔料分散液を用いた場合、色抜けを抑制でき、耐光性を向上できることがわかった。また、現像残渣およびザラをより低減できることがわかった。
一方、比較例の顔料分散液を用いた場合、色抜けの抑制および耐光性の向上を両立させることが困難であることがわかった。
From the said table | surface, when the pigment dispersion liquid of the Example was used, it turned out that color loss can be suppressed and light resistance can be improved. It was also found that development residue and roughness can be further reduced.
On the other hand, it was found that when the pigment dispersion of the comparative example was used, it was difficult to achieve both suppression of color loss and improvement of light resistance.

4−2:ドライエッチング工程によるカラーフィルタの作製および評価
(ドライエッチング用着色組成物の調製)
下記の各成分を混合して分散、溶解し、着色組成物を得た。
・有機溶剤(シクロヘキサノン):17.12部
・エポキシ樹脂JER1031S(三菱化学(株)製、エポキシ当量:180−220(g/eq.)):4.395部
・顔料分散液P1(C.I.Pigment Blue15:6分散液、PGMEA溶液、固形分濃度12.8%):75.97部
・重合禁止剤(p−メトキシフェノール):0.0007部
・フッ素系界面活性剤(DIC製、F475、1%PGMEA溶液):2.50部
4-2: Preparation and evaluation of color filter by dry etching process (Preparation of coloring composition for dry etching)
The following components were mixed and dispersed and dissolved to obtain a colored composition.
Organic solvent (cyclohexanone): 17.12 parts Epoxy resin JER1031S (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, epoxy equivalent: 180-220 (g / eq.)): 4.395 parts Pigment dispersion P1 (CI Pigment Blue 15: 6 dispersion, PGMEA solution, solid content concentration 12.8%): 75.97 parts Polymerization inhibitor (p-methoxyphenol): 0.0007 parts Fluorosurfactant (manufactured by DIC, F475) 1% PGMEA solution): 2.50 parts

(ドライエッチング法による着色硬化性組成物を用いたカラーフィルタの作製)
上記で得られたドライエッチング用着色組成物を、7.5cm×7.5cmのガラス基板上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレートを使用して、200℃で5分間、加熱を行い、塗布膜の硬化を行って着色層を作製した。この着色層の膜厚は、0.5μmであった。
次いで、ポジ型フォトレジスト「FHi622BC」(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製)を塗布し、90℃で1分間、プリベーク処理を実施し、膜厚0.8μmのフォトレジスト層を形成した。
続いて、フォトレジスト層を、i線ステッパー(キヤノン(株)製)を用い、350mJ/cm2の露光量でパターン露光し、フォトレジスト層の温度又は雰囲気温度が90℃となる温度で1分間、加熱処理を行なった。その後、現像液「FHD−5」(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製)で1分間の現像処理を行ない、さらに110℃で1分間のポストベーク処理を実施して、レジストパターンを形成した。このレジストパターンのサイズは、エッチング変換差(エッチングによるパターン幅の縮小)を考慮して、一辺1.0μmで形成した。
次に、得られたガラス基板を8インチシリコンウェハに貼り付け、ドライエッチング装置(U−621、日立ハイテクノロジーズ社製)にて、RF(Radio Frequency)パワー:800W、アンテナバイアス:400W、ウエハバイアス:200W、チャンバーの内部圧力:4.0Pa、基板温度:50℃、混合ガスのガス種及び流量をCF4:80mL/分、O2:40mL/分、Ar:800mL/min.として、80秒の第1段階のエッチング処理を実施した。
次いで、同一のエッチングチャンバーにて、RFパワー:600W、アンテナバイアス:100W、ウエハバイアス:250W、チャンバーの内部圧力:2.0Pa、基板温度:50℃、混合ガスのガス種及び流量をN2:500mL/分、O2:50mL/分、Ar:500mL/分とし(N2/O2/Ar=10/1/10)、28秒の第2段階エッチング処理、オーバーエッチング処理を実施した。
上記条件でドライエッチングを行った後、フォトレジスト剥離液「MS230C」(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製)を使用して、50℃で120秒間、剥離処理を実施してレジストを除去し、青色着色パターンを形成した。更に純水による洗浄、スピン乾燥を実施し、その後、100℃で2分間の脱水ベーク処理を行った。以上により、カラーフィルタを得た。
(Preparation of color filter using colored curable composition by dry etching method)
The coloring composition for dry etching obtained above was applied on a 7.5 cm × 7.5 cm glass substrate using a spin coater, heated at 200 ° C. for 5 minutes using a hot plate, The coating film was cured to prepare a colored layer. The thickness of this colored layer was 0.5 μm.
Next, a positive photoresist “FHi622BC” (manufactured by FUJIFILM Electronics Materials) was applied and prebaked at 90 ° C. for 1 minute to form a 0.8 μm-thick photoresist layer.
Subsequently, the photoresist layer was subjected to pattern exposure using an i-line stepper (manufactured by Canon Inc.) at an exposure amount of 350 mJ / cm 2 , and the photoresist layer temperature or ambient temperature was 90 ° C. for 1 minute. The heat treatment was performed. Thereafter, development processing was performed with a developer “FHD-5” (manufactured by FUJIFILM Electronics Materials) for 1 minute, and further post-baking processing was performed at 110 ° C. for 1 minute to form a resist pattern. The resist pattern was formed with a side of 1.0 μm in consideration of etching conversion difference (pattern width reduction by etching).
Next, the obtained glass substrate was attached to an 8-inch silicon wafer, and RF (Radio Frequency) power: 800 W, antenna bias: 400 W, wafer bias using a dry etching apparatus (U-621, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation). : 200 W, internal pressure of the chamber: 4.0 Pa, substrate temperature: 50 ° C., gas species and flow rate of the mixed gas are CF 4 : 80 mL / min, O 2 : 40 mL / min, Ar: 800 mL / min. As a result, the first stage etching process of 80 seconds was performed.
Next, in the same etching chamber, RF power: 600 W, antenna bias: 100 W, wafer bias: 250 W, chamber internal pressure: 2.0 Pa, substrate temperature: 50 ° C., gas mixture type and flow rate of N 2 : 500 mL / min, O 2 : 50 mL / min, Ar: 500 mL / min (N 2 / O 2 / Ar = 10/1/10), and the second-stage etching treatment and over-etching treatment for 28 seconds were performed.
After performing dry etching under the above conditions, a photoresist stripping solution “MS230C” (manufactured by FUJIFILM Electronics Materials Co., Ltd.) is used to perform a stripping process at 50 ° C. for 120 seconds to remove the resist, and it is colored blue A pattern was formed. Further, washing with pure water and spin drying were performed, and then a dehydration baking process was performed at 100 ° C. for 2 minutes. As a result, a color filter was obtained.

<現像残渣の評価>
シリコンウエハにおける着色パターンの形成領域外(未露光部)を走査式電子顕微鏡を用いて、倍率30000倍にて観察し、下記評価基準に従って評価した。その結果、着色パターン形成領域外(未露光部)には残渣が全く確認されず良好であった。
<Evaluation of development residue>
The outside of the colored pattern formation region (unexposed portion) on the silicon wafer was observed at a magnification of 30000 using a scanning electron microscope, and evaluated according to the following evaluation criteria. As a result, no residue was observed outside the colored pattern formation region (unexposed portion), which was good.

<耐色抜けの評価>
上記フォトリソグラフィ法による着色組成物を用いたカラーフィルタの作製と同様にして耐色抜けの評価を行った。結果、300nm〜800nmの全領域において、溶剤浸漬前後の透過率変動が2%未満であり良好であった。
<Evaluation of anti-color loss>
Color loss resistance was evaluated in the same manner as in the production of a color filter using a colored composition by the photolithography method. As a result, in the entire region of 300 nm to 800 nm, the transmittance fluctuation before and after immersion in the solvent was less than 2%, which was good.

<耐光性の評価>
上記フォトリソグラフィ法による着色組成物を用いたカラーフィルタの作製と同様にして耐光性の評価を行った。結果、ΔE*abが3以下であり良好であった。
<Evaluation of light resistance>
The light resistance was evaluated in the same manner as in the production of a color filter using the colored composition by the photolithography method. As a result, ΔE * ab was 3 or less, which was good.

<ザラ(色ムラ)の評価>
上記フォトリソグラフィ法による着色組成物を用いたカラーフィルタの作製と同様にしてザラ(色ムラ)の評価を行った。結果、有意差区画数が500未満、かつ割合が2%未満であり優れているレベルであった。
<Evaluation of zara (color unevenness)>
The roughness (color unevenness) was evaluated in the same manner as in the production of the color filter using the colored composition by the photolithography method. As a result, the number of significant difference sections was less than 500, and the ratio was less than 2%, which was an excellent level.

Claims (9)

色素構造を有する分散剤の存在下で、顔料を分散させる工程を含み、
前記色素構造を有する分散剤がトリアリールメタン色素、キサンテン色素、シアニン色素およびスクアリリウム色素から選択される色素構造を有し、
前記色素構造を有する分散剤は、前記色素構造を同一分子内に2個以上有する色素多量体であり、400nm〜800nmでの最大吸収波長における下記式(Aλ)で表される比吸光度が5以上である、顔料分散液の製造方法;
E=A/(c×l) ・・・(Aλ)
式(Aλ)中、Eは、400nm〜800nmでの最大吸収波長における比吸光度を表し、
Aは、400nm〜800nmでの最大吸収波長における吸光度を表し、
lは、単位がcmで表されるセル長を表し、
cは、単位がmg/mlで表される、溶液中の色素構造を有する分散剤の濃度を表す。
Including dispersing the pigment in the presence of a dispersant having a dye structure;
The dispersant having the dye structure has a dye structure selected from a triarylmethane dye, a xanthene dye, a cyanine dye and a squarylium dye;
The dispersant having the dye structure is a dye multimer having two or more of the dye structures in the same molecule, and the specific absorbance represented by the following formula (Aλ) at the maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm is 5 or more. A method for producing a pigment dispersion;
E = A / (c × l) (Aλ)
In the formula (Aλ), E represents the specific absorbance at the maximum absorption wavelength at 400 nm to 800 nm,
A represents the absorbance at the maximum absorption wavelength between 400 nm and 800 nm,
l represents the cell length in units of cm;
c represents the concentration of a dispersant having a dye structure in a solution, the unit of which is expressed in mg / ml.
前記色素構造を有する分散剤の色素構造がアニオン部位を含み、該アニオン部位が、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオン、テトラアリールボレートアニオン、BF 4 - 、PF 6 - 、SbF 6 - 、下記一般式(A1)で表される構造を含む基、および下記一般式(A2)で表される構造を含む基からなる群から選択される少なくとも1種である、請求項1に記載の顔料分散液の製造方法;
一般式(A1)
一般式(A1)中、R 1 およびR 2 はそれぞれ独立して−SO 2 −または−CO−を表す;
一般式(A2)
一般式(A2)中、R 3 は、−SO 2 −または−CO−を表す;R 4 およびR 5 はそれぞれ独立して−SO 2 −、−CO−または−CNを表す。
The dye structure of the dispersant having the dye structure includes an anion moiety, and the anion moiety is a sulfonate anion, a carboxylate anion, a tetraarylborate anion, BF 4 , PF 6 , SbF 6 , and the following general formula ( The production of a pigment dispersion according to claim 1, which is at least one selected from the group consisting of a group containing a structure represented by A1) and a group containing a structure represented by the following general formula (A2). Method;
General formula (A1)
In general formula (A1), R 1 and R 2 each independently represent —SO 2 — or —CO—;
General formula (A2)
In general formula (A2), R 3 represents —SO 2 — or —CO—; R 4 and R 5 each independently represents —SO 2 —, —CO— or —CN.
前記色素構造を有する分散剤100質量部に対し、顔料を80〜150質量部用いる、請求項1または2に記載の顔料分散液の製造方法。The manufacturing method of the pigment dispersion liquid of Claim 1 or 2 which uses 80-150 mass parts of pigments with respect to 100 mass parts of dispersing agents which have the said pigment | dye structure. 前記色素構造を有する分散剤の重量平均分子量が3000以上、50000以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の顔料分散液の製造方法。The manufacturing method of the pigment dispersion liquid of any one of Claims 1-3 whose weight average molecular weights of the dispersing agent which has the said pigment | dye structure are 3000 or more and 50000 or less. 前記色素構造を有する分散剤の酸価が27mgKOH/g以上、200mgKOH/g未満である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の顔料分散液の製造方法。The manufacturing method of the pigment dispersion liquid of any one of Claims 1-4 whose acid value of the dispersing agent which has the said pigment | dye structure is 27 mgKOH / g or more and less than 200 mgKOH / g. 前記色素構造を有する分散剤は、下記一般式(1)で表される構造の分散剤である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の顔料分散液の製造方法;The method for producing a pigment dispersion according to any one of claims 1 to 5, wherein the dispersant having a dye structure is a dispersant having a structure represented by the following general formula (1);
(D−R  (D-R 22 ) nn −R-R 11 −(L-(L 11 −P)-P) mm ・・・(1)            ... (1)
一般式(1)中、R  In general formula (1), R 11 は、(m+n)価の連結基を表し、Represents an (m + n) -valent linking group,
Pは、繰り返し単位を有する1価の置換基を表し、  P represents a monovalent substituent having a repeating unit;
Dは、トリアリールメタン色素、キサンテン色素、シアニン色素およびスクアリリウム色素から選択される色素構造を表し、  D represents a dye structure selected from triarylmethane dyes, xanthene dyes, cyanine dyes and squarylium dyes;
  R 22 およびLAnd L 11 は、それぞれ独立に、単結合または2価の連結基を表し、Each independently represents a single bond or a divalent linking group,
mは、1〜13の整数を表し、  m represents an integer of 1 to 13,
mが1の場合、Pは繰り返し単位を2個以上有する1価の置換基を表し、  when m is 1, P represents a monovalent substituent having two or more repeating units;
mが2以上の場合、複数のPは互いに異なっていても良く、複数のPを構成する繰り返し単位の個数の平均値が2個以上であり、  When m is 2 or more, the plurality of Ps may be different from each other, the average value of the number of repeating units constituting the plurality of Ps is 2 or more,
nは、2〜14の整数を表し、  n represents an integer of 2 to 14,
nが2以上の場合、複数のDは互いに異なっていても良く、  when n is 2 or more, the plurality of D may be different from each other;
m+nは、3〜15の整数を表す。  m + n represents an integer of 3 to 15.
前記色素構造を有する分散剤は、下記一般式(A)で表される繰り返し単位を含む多量体である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の顔料分散液の製造方法;  The method for producing a pigment dispersion according to any one of claims 1 to 5, wherein the dispersant having a dye structure is a multimer containing a repeating unit represented by the following general formula (A);
一般式(A)中、XIn general formula (A), X 11 は重合によって形成される連結基を表し、LRepresents a linking group formed by polymerization, and L 11 は単結合または2価の連結基を表す。DyeIはトリアリールメタン色素、キサンテン色素、シアニン色素およびスクアリリウム色素から選択される色素構造を表す。Represents a single bond or a divalent linking group. DyeI represents a dye structure selected from triarylmethane dyes, xanthene dyes, cyanine dyes and squarylium dyes.
請求項1〜7のいずれか1項に記載の顔料分散液の製造方法により顔料分散液を製造し、A pigment dispersion is produced by the method for producing a pigment dispersion according to any one of claims 1 to 7,
得られた顔料分散液と、硬化性化合物とを混合する、着色組成物の製造方法。  The manufacturing method of a coloring composition which mixes the obtained pigment dispersion liquid and a curable compound.
更に、光重合開始剤を混合する、請求項8に記載の着色組成物の製造方法。Furthermore, the manufacturing method of the coloring composition of Claim 8 which mixes a photoinitiator.
JP2016545057A 2014-08-29 2015-07-23 Pigment dispersion, method for producing pigment dispersion, colored composition, cured film, color filter, method for producing color filter, solid-state imaging device, image display device and composition Active JP6307164B2 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014176037 2014-08-29
JP2014176037 2014-08-29
PCT/JP2015/070898 WO2016031444A1 (en) 2014-08-29 2015-07-23 Pigment dispersion, process for producing pigment dispersion, colored composition, cured film, color filter, process for producing color filter, solid imaging element, image display device, and composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2016031444A1 JPWO2016031444A1 (en) 2017-07-20
JP6307164B2 true JP6307164B2 (en) 2018-04-04

Family

ID=55399345

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016545057A Active JP6307164B2 (en) 2014-08-29 2015-07-23 Pigment dispersion, method for producing pigment dispersion, colored composition, cured film, color filter, method for producing color filter, solid-state imaging device, image display device and composition

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6307164B2 (en)
KR (1) KR102003241B1 (en)
TW (1) TWI672342B (en)
WO (1) WO2016031444A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021060338A1 (en) * 2019-09-26 2021-04-01 富士フイルム株式会社 Optically alignable polymer, optical alignment film, and optical multilayer body

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI756347B (en) * 2017-01-30 2022-03-01 日商富士軟片股份有限公司 Composition, film, infrared transmission filter, solid-state imaging device, image display device, and infrared sensor
JP6893236B2 (en) 2017-03-07 2021-06-23 富士フイルム株式会社 Compositions, membranes, photosensors and dispersants
CN109467955A (en) * 2018-10-19 2019-03-15 深圳市华星光电技术有限公司 Dye composition and filter sheet structure
JP7143804B2 (en) * 2019-04-02 2022-09-29 東洋インキScホールディングス株式会社 Coloring composition for color filter and color filter
JP7354496B2 (en) * 2019-08-30 2023-10-03 サカタインクス株式会社 Pigment dispersion composition for black matrix and pigment dispersion resist composition for black matrix containing the same
JP7415020B2 (en) * 2020-08-31 2024-01-16 富士フイルム株式会社 Colored composition, optical filter manufacturing method, and solid-state imaging device manufacturing method
JPWO2022091711A1 (en) * 2020-10-27 2022-05-05

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56147866A (en) * 1980-04-17 1981-11-17 Canon Inc Recording solution
JPH0665521A (en) * 1992-08-19 1994-03-08 Dainippon Ink & Chem Inc Pigment dispersant, pigment composition, and pigment dispersion
JP3397015B2 (en) * 1995-09-11 2003-04-14 東洋インキ製造株式会社 Method for producing pigment dispersant
JPH1081849A (en) * 1996-04-30 1998-03-31 Nippon Paint Co Ltd Color coating material composition, pigment-dispersed paste composition and method for forming coating film
JPH11293164A (en) * 1998-04-08 1999-10-26 Ricoh Co Ltd Water-based ink
JP3736221B2 (en) * 1998-08-28 2006-01-18 凸版印刷株式会社 Color filter and liquid crystal display device having the same
CN101410468B (en) * 2006-01-31 2012-04-11 卡伯特公司 Inkjet ink compositions comprising polymeric dispersants having attached chromophore groups
JP5171005B2 (en) * 2006-03-17 2013-03-27 富士フイルム株式会社 Polymer compound, method for producing the same, and pigment dispersant
JP2011118060A (en) 2009-12-01 2011-06-16 Fujifilm Corp Pigment dispersion, coloring curable composition, color filter, method of manufacturing color filter, and solid state image sensor
JP5698093B2 (en) * 2011-08-26 2015-04-08 富士フイルム株式会社 Color filter coloring composition and method for producing the same, color filter and method for producing the same, and solid-state imaging device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021060338A1 (en) * 2019-09-26 2021-04-01 富士フイルム株式会社 Optically alignable polymer, optical alignment film, and optical multilayer body

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2016031444A1 (en) 2017-07-20
KR102003241B1 (en) 2019-07-24
KR20170008785A (en) 2017-01-24
TW201607994A (en) 2016-03-01
TWI672342B (en) 2019-09-21
WO2016031444A1 (en) 2016-03-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6162165B2 (en) Colored composition, cured film, color filter, method for producing color filter, solid-state imaging device, image display device, organic electroluminescence device, pigment and method for producing pigment
JP6374172B2 (en) Colored composition, cured film using the same, color filter, pattern forming method, color filter manufacturing method, solid-state imaging device, image display device, and dye multimer
JP6339208B2 (en) Coloring composition, cured film, color filter, method for producing color filter, solid-state imaging device, and image display device
JP6307164B2 (en) Pigment dispersion, method for producing pigment dispersion, colored composition, cured film, color filter, method for producing color filter, solid-state imaging device, image display device and composition
JP6336092B2 (en) Composition, cured film, pattern forming method, color filter, color filter manufacturing method, solid-state imaging device, and image display device
JP6159309B2 (en) Coloring composition, cured film, color filter, method for producing color filter, solid-state imaging device, and image display device
JP6691134B2 (en) Curable composition, optical filter, color filter, pattern forming method, solid-state image sensor and image display device
JP6279745B2 (en) COLORING COMPOSITION, COLOR FILTER, PATTERN FORMING METHOD, COLOR FILTER MANUFACTURING METHOD, SOLID-STATE IMAGING DEVICE, IMAGE DISPLAY DEVICE, AND DYE MULTIMER MANUFACTURING METHOD
KR102152047B1 (en) Coloring composition, color filter, pattern formation method, solid-state imaging device, image display device, and dye multimer
WO2015115416A1 (en) Coloring composition, cured film, manufacturing method for color filter, color filter, solid state imaging element, and image display device
WO2015115413A1 (en) Coloring composition, pattern formation method, color filter manufacturing method, color filter, solid-state imaging element, image display device, and method for manufacturing coloring composition

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170227

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180116

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180226

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180306

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180309

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6307164

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250