JP6202492B2 - Method for producing dinitro compound - Google Patents

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本発明は、ジアミノフェノールとニトロベンゾイルクロリドから、ジニトロ化合物を製造する方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a dinitro compound from diaminophenol and nitrobenzoyl chloride.

半導体は、容量、密度、集積化および表面取り付けにおいて急速に進歩している。その進歩に伴って、半導体機器の製造において多数の問題が発生している。問題の1つは、封止材料が薄くなると、半導体チップに熱または熱応力がかかることである。従って、微細な半導体回路を熱または熱応力から保護する必要がある。一方、半導体上に高密度および高集積の回路を形成するためには、多層配線の技術が不可欠である。これを達成するためには、高耐熱性、高接着性および低比誘電率を有する層間誘電体が必要である。   Semiconductors are making rapid progress in capacity, density, integration and surface mounting. With the progress, many problems have occurred in the manufacture of semiconductor devices. One problem is that heat or thermal stress is applied to the semiconductor chip as the sealing material becomes thinner. Therefore, it is necessary to protect fine semiconductor circuits from heat or thermal stress. On the other hand, in order to form a high-density and highly integrated circuit on a semiconductor, a multilayer wiring technique is indispensable. In order to achieve this, an interlayer dielectric having high heat resistance, high adhesiveness and low dielectric constant is required.

前記問題は芳香族ポリイミドまたはポリベンゾオキサゾールをパッシベーションフィルム、バッファーコートフィルムまたは層間誘電体として使用することにより解決されることが知られている。芳香族ポリイミドおよびポリベンゾオキサゾールは、優れた熱安定性、高い機械的特性、良好な電気特性および優れた耐薬品性を有するポリマーである。ポリベンゾオキサゾールはポリイミドよりも水分取り込みが低いが、シリコンウエハーに対する接着性が乏しく剥離しやすいという問題がある。この問題を解決するために、ポリイミドを導入した、ポリベンゾオキサゾールーポリイミドコポリマーに改良することで接着性を向上することができる。   It is known that the above problems can be solved by using aromatic polyimide or polybenzoxazole as a passivation film, buffer coat film or interlayer dielectric. Aromatic polyimides and polybenzoxazoles are polymers with excellent thermal stability, high mechanical properties, good electrical properties and excellent chemical resistance. Polybenzoxazole has a lower moisture uptake than polyimide, but has a problem that it has poor adhesion to a silicon wafer and is easily peeled off. In order to solve this problem, the adhesiveness can be improved by improving the polybenzoxazole-polyimide copolymer into which polyimide is introduced.

具体例としては下式に示すように、ジアミンとテトラカルボン酸二無水物を重合し、熱処理によりポリ(イミドーベンゾオキサゾール)を得た例が報告されている(特許文献1、2、3参照)。   As a specific example, as shown in the following formula, an example in which diamine and tetracarboxylic dianhydride are polymerized and poly (imide-benzoxazole) is obtained by heat treatment has been reported (see Patent Documents 1, 2, and 3). ).

Figure 0006202492
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この文献ではジアミンは下式に示すようにニトロベンゾイルクロリドとジアミノフェノールの反応において、プロピレンオキシドを酸捕捉剤として使用して合成している。   In this document, diamine is synthesized using propylene oxide as an acid scavenger in the reaction of nitrobenzoyl chloride and diaminophenol as shown in the following formula.

Figure 0006202492
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しかしながら、高価で重合しやすいプロピレンオキシドを使用し、−15℃という低温で反応しているので、大量生産に向いていない。   However, since propylene oxide which is expensive and easily polymerized is used and reacts at a low temperature of -15 ° C, it is not suitable for mass production.

その他、下式に示すようにニトロベンゾイルクロリドとジアミノフェノールの反応において、トリエチルアミンを酸捕捉剤として使用した例も報告されているが再結晶で精製して目的物を単離する必要があった(特許文献4参照)。   In addition, as shown in the following formula, in the reaction of nitrobenzoyl chloride and diaminophenol, an example using triethylamine as an acid scavenger has been reported, but it was necessary to purify by recrystallization to isolate the target product ( (See Patent Document 4).

Figure 0006202492
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その理由として、下式に示すようにトリエチルアミンを酸捕捉剤として用いると、アミノ基だけでなく、フェノール基もベンゾイル化された化合物が優先的に得られるという報告があり、反応の選択性が低く、生成物の純度が低かったことが推定される(特許文献5参照)。   The reason is that when triethylamine is used as an acid scavenger as shown in the following formula, a compound in which not only the amino group but also the phenol group is benzoylated is preferentially obtained, and the selectivity of the reaction is low. It is presumed that the purity of the product was low (see Patent Document 5).

Figure 0006202492
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また、上記文献では、トリエチルアミンを用いない場合の例も報告されているが、選択性が低く、問題は改善されていない。そこで、選択性を出すために、塩化リチウム、塩化カルシウムを添加することで良い結果を得ているが、電子材料用途の場合、リチウム、カルシウムなどの金属が微量残存しても問題となるので好ましくない。   Moreover, although the case where the triethylamine is not used is reported in the above document, the selectivity is low and the problem is not improved. Therefore, good results have been obtained by adding lithium chloride and calcium chloride in order to achieve selectivity. However, in the case of electronic materials, it is preferable because trace amounts of metals such as lithium and calcium may cause a problem. Absent.

以上のように、工業的スケールで安価に、ジアミノフェノールとニトロベンゾイルクロリドを反応して、電子材料用途に使用する、ポリ(イミドーベンゾオキサゾール)の原料となるジニトロ化合物を得る方法は知られていない。   As described above, there is a known method for obtaining a dinitro compound as a raw material of poly (imide-benzoxazole) used for electronic materials by reacting diaminophenol and nitrobenzoyl chloride at an industrial scale at a low cost. Absent.

特開平11−199557号公報JP-A-11-199557 特開2009−62398号公報JP 2009-62398 A 特開2001−235860号公報JP 2001-235860 A 特開平7−316294号公報JP 7-316294 A 特開2000−143806号公報JP 2000-143806 A

本発明は、簡便な方法でジアミノフェノールとニトロベンゾイルクロリドを反応して、高純度のジニトロ化合物を製造する方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a method for producing a highly pure dinitro compound by reacting diaminophenol and nitrobenzoyl chloride by a simple method.

本発明により、高純度のジニトロ化合物を極めて簡便な方法で、収率よく得ることができる。   According to the present invention, a highly pure dinitro compound can be obtained in a high yield by a very simple method.

本発明の方法によって製造されるジニトロ化合物を還元することにより、ジアミンが製造され、これをテトラカルボン酸二無水物と重合し、熱処理することで、ポリ(イミドーベンゾオキサゾール)に変換される。   By reducing the dinitro compound produced by the method of the present invention, a diamine is produced, which is polymerized with tetracarboxylic dianhydride and converted to poly (imide-benzoxazole) by heat treatment.

本発明は、一般式   The present invention provides a general formula

Figure 0006202492
Figure 0006202492

(式中、Rは水素原子または炭素数1から3の1価の有機基を表す。)
で表されるニトロベンゾイルクロリドと、一般式
(Wherein R 1 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 3 carbon atoms.)
Nitrobenzoyl chloride represented by the general formula

Figure 0006202492
Figure 0006202492

(式中、Aは、単結合、または、C(CF 表す。)
で表されるジアミノフェノールを含窒素有機溶媒中で反応させて、一般式
(Wherein, A represents a single bond, or represents a C (CF 3) 2.)
Is reacted in a nitrogen-containing organic solvent to give a general formula

Figure 0006202492
Figure 0006202492

(式中、Aは、単結合、または、C(CF 表し、Rは水素原子または炭素数1から3の1価の有機基を表す。)
で表されるジニトロ化合物を製造する方法である。
(In the formula, A represents a single bond or C (CF 3 ) 2 , and R 1 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 3 carbon atoms.)
A dinitro compound represented by the formula:

本発明は、一般式   The present invention provides a general formula

Figure 0006202492
Figure 0006202492

(式中、Rは水素原子または炭素数1から3の1価の有機基を表す。)
で表されるニトロベンゾイルクロリドと、一般式
(Wherein R 1 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 3 carbon atoms.)
Nitrobenzoyl chloride represented by the general formula

Figure 0006202492
Figure 0006202492

(式中、Aは、単結合、または、C(CF 表す。)
で表されるジアミノフェノールを含窒素有機溶媒中で反応させて、一般式
(Wherein, A represents a single bond, or represents a C (CF 3) 2.)
Is reacted in a nitrogen-containing organic solvent to give a general formula

Figure 0006202492
Figure 0006202492

(式中、Aは、単結合、または、C(CF 表し、Rは水素原子または炭素数1から3の1価の有機基を表す。)
で表されるジニトロ化合物を製造する方法である。
(In the formula, A represents a single bond or C (CF 3 ) 2 , and R 1 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 3 carbon atoms.)
A dinitro compound represented by the formula:

一般式   General formula

Figure 0006202492
Figure 0006202492

で表されるニトロベンゾイルクロリドにおいて、Rは、水素原子または炭素数1から3の1価の有機基であり、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基が好ましく、Rは、より好ましくは、水素原子である。 In the nitrobenzoyl chloride represented by R 1 , R 1 is a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 3 carbon atoms, preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a methoxy group or an ethoxy group, R 1 is more preferably a hydrogen atom.

ニトロベンゾイルクロリドの具体的な化合物としては、3−ニトロベンゾイルクロリド、4−ニトロベンゾイルクロリド、2−ニトロベンゾイルクロリドが挙げられ、特に、3−ニトロベンゾイルクロリド、4−ニトロベンゾイルクロリドが好ましい。   Specific compounds of nitrobenzoyl chloride include 3-nitrobenzoyl chloride, 4-nitrobenzoyl chloride, and 2-nitrobenzoyl chloride, and 3-nitrobenzoyl chloride and 4-nitrobenzoyl chloride are particularly preferable.

一般式   General formula

Figure 0006202492
Figure 0006202492

で表されるジアミノフェノールにおけるAは単結合、または、C(CF A in in represented by diaminophenol single bond, or, to display the C (CF 3) 2.

ジアミノフェノールの具体的な化合物としては、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、3,3’−ジヒドロキシベンジジン、3、3’−ジアミノ−4、4’−ジヒドロキシビフェニルなどが挙げられる。ジアミノフェノールは、好ましくは、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、3,3’−ジヒドロキシベンジジンである。 Specific compounds of diaminophenol include 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane, 3,3′-dihydroxybenzidine, 3,3′-diamino-4, 4′-dihydroxy. etc. biphenylene, Le, and the like. Diaminophenol is preferably 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane, 3,3'-dihydroxy Ben Jiji down.

本発明の方法によって製造される一般式   General formula produced by the method of the present invention

Figure 0006202492
Figure 0006202492

で表されるジニトロ化合物は具体的には、例えば、下記構造のものを挙げることができる。 Specific examples of the dinitro compound represented by the formula include those having the following structures.

Figure 0006202492
Figure 0006202492

一般式   General formula

Figure 0006202492
Figure 0006202492

で表されるニトロベンゾイルクロリドは、ジアミノフェノールに対して、2.0〜3.0モル倍用いることが好ましく、2.0〜2.5モル倍用いることがより好ましい。 The nitrobenzoyl chloride represented by is preferably used in an amount of 2.0 to 3.0 moles, more preferably 2.0 to 2.5 moles, relative to diaminophenol.

本発明の製造方法において、反応に含窒素有機溶媒を用いる。具体的には、含窒素有機溶媒は、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、1,3−ジメチル−3,4,5,6−テトラヒドロ−2(1H)−ピリミジノン、N−メチルカプロラクタム、ヘキサメチルリン酸トリアミド、テトラメチル尿素などが好ましく、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、または、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)がより好ましい。含窒素有機溶媒は、単独で使用してもよく、複数種組み合わせて用いてもよい。   In the production method of the present invention, a nitrogen-containing organic solvent is used for the reaction. Specifically, the nitrogen-containing organic solvent is N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), N, N-dimethylacetamide (DMAC), 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, 1,3-dimethyl- 3,4,5,6-tetrahydro-2 (1H) -pyrimidinone, N-methylcaprolactam, hexamethylphosphoric triamide, tetramethylurea, etc. are preferred, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), or N, N-dimethylacetamide (DMAC) is more preferred. A nitrogen-containing organic solvent may be used independently and may be used in combination of multiple types.

含窒素有機溶媒の使用量は一般式   The amount of nitrogen-containing organic solvent used is the general formula

Figure 0006202492
Figure 0006202492

の化合物に対して1から40重量倍用いるのが好ましく、2から20重量倍用いるのがより好ましい。 The compound is preferably used in an amount of 1 to 40 times by weight, more preferably 2 to 20 times by weight based on the above compound.

本発明の製造方法においては、溶媒の含窒素有機溶媒を酸捕捉剤と使用するので、通常、塩基を加えない。本製造方法は、ジアミノフェノールのアミノ基が選択的にニトロベンゾイルクロリドと反応する、塩基を使用せず、溶媒量が少なくて済むので製造コストが安くなるという利点がある。   In the production method of the present invention, since a nitrogen-containing organic solvent as a solvent is used as an acid scavenger, usually no base is added. This production method has an advantage that the production cost is reduced because the amino group of diaminophenol selectively reacts with nitrobenzoyl chloride, does not use a base, and requires only a small amount of solvent.

本発明の製造方法において、最初にジアミノフェノールを含窒素有機溶媒に溶解し、次に、ニトロベンゾイルクロリドを加える事が好ましい。この順序で添加すると、反応液中では常にジアミノフェノールが過剰になるために、ジアミノフェノールのアミノ基が選択的に反応する。   In the production method of the present invention, it is preferable to first dissolve diaminophenol in a nitrogen-containing organic solvent and then add nitrobenzoyl chloride. When added in this order, the diaminophenol always becomes excessive in the reaction solution, so that the amino group of the diaminophenol reacts selectively.

ニトロベンゾイルクロリドは、固体のまま添加しても良いし、融点以上の温度に加熱溶解して添加しても良い。また、ニトロベンゾイルクロリドと反応しない溶媒に溶解した溶液を添加しても良い。   Nitrobenzoyl chloride may be added in the form of a solid, or may be added after being heated and dissolved at a temperature higher than the melting point. A solution dissolved in a solvent that does not react with nitrobenzoyl chloride may be added.

ニトロベンゾイルクロリドと反応しない溶媒とは、含窒素有機溶媒、芳香族炭化水素、エーテル類等が挙げられる。含窒素有機溶媒は、反応で用いる含窒素有機溶媒が好ましく、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、または、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)がより好ましい。芳香族炭化水素は、ベンゼン、トルエン、キシレンが好ましく、トルエンがより好ましい。エーテル類は、テトラヒドロフランが好ましい。ニトロベンゾイルクロリドを溶解する溶媒の使用量は、ニトロベンゾイルクロリドに対して0.1から5重量倍用いるのが好ましく、0.2から1重量倍用いるのがより好ましい。   Examples of the solvent that does not react with nitrobenzoyl chloride include nitrogen-containing organic solvents, aromatic hydrocarbons, ethers, and the like. The nitrogen-containing organic solvent is preferably a nitrogen-containing organic solvent used in the reaction, more preferably N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) or N, N-dimethylacetamide (DMAC). The aromatic hydrocarbon is preferably benzene, toluene or xylene, more preferably toluene. The ether is preferably tetrahydrofuran. The amount of the solvent for dissolving nitrobenzoyl chloride is preferably 0.1 to 5 times by weight, more preferably 0.2 to 1 times by weight based on nitrobenzoyl chloride.

反応温度は−10から100℃の範囲が好ましく、10から50℃の範囲がより好ましい。反応時間は1時間から1週間が好ましく、2時間から1日がより好ましい。反応の雰囲気としては、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気が好ましい。   The reaction temperature is preferably in the range of −10 to 100 ° C., more preferably in the range of 10 to 50 ° C. The reaction time is preferably 1 hour to 1 week, more preferably 2 hours to 1 day. As the reaction atmosphere, an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon is preferable.

本発明のジニトロ化合物の製造方法では、反応終了後、目的の化合物は、抽出、濃縮、晶析、ろ過などの方法で単離精製することができる。目的物の沈殿が発生しているものはろ過を行い、目的のジニトロ化合物を得ることができる。   In the method for producing a dinitro compound of the present invention, after completion of the reaction, the target compound can be isolated and purified by a method such as extraction, concentration, crystallization, or filtration. The target dinitro compound can be obtained by filtering the target product in which precipitation has occurred.

本発明のジニトロ化合物の製造方法では、反応終了後、水やアルコール類から選ばれる少なくとも1種類の溶媒を添加するか、反応液を水やアルコール類から選ばれる少なくとも1種類の溶媒に滴下して、生じた沈殿をろ過することにより目的のジニトロ化合物を得ることができる。   In the method for producing a dinitro compound of the present invention, after completion of the reaction, at least one solvent selected from water and alcohols is added, or the reaction solution is dropped into at least one solvent selected from water and alcohols. The desired dinitro compound can be obtained by filtering the resulting precipitate.

また、ろ過した沈殿は、水やアルコール類から選ばれる少なくとも1種類の溶媒で洗浄を行うことが好ましい。水、アルコール類から選ばれる少なくとも1種類の溶媒の使用量は、ニトロベンゾイルクロリドに対して0.1から20重量倍用いるのが好ましく、1から10重量倍用いるのがより好ましい。アルコール類としては、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどが好ましい。反応終了後に添加、洗浄に用いる水、アルコール類から選ばれる少なくとも1種類の溶媒は、単独、または複数組み合わせて用いても良い。   The filtered precipitate is preferably washed with at least one solvent selected from water and alcohols. The use amount of at least one solvent selected from water and alcohols is preferably 0.1 to 20 times by weight, more preferably 1 to 10 times by weight, based on nitrobenzoyl chloride. As alcohols, methanol, ethanol, isopropanol and the like are preferable. At least one solvent selected from water and alcohol used for addition and washing after completion of the reaction may be used singly or in combination.

また、必要により、本発明のジニトロ化合物は、再結晶、再沈、カラムクロマトグラフィーなどの方法により精製することもできる。再結晶する場合は、目的物と反応することがない溶媒を、単独もしくは複数種組み合わせて行うことができる。   If necessary, the dinitro compound of the present invention can be purified by a method such as recrystallization, reprecipitation, column chromatography or the like. In the case of recrystallization, solvents that do not react with the target product can be used alone or in combination of two or more.

このようにして得られたジニトロ化合物を還元することにより、一般式   By reducing the dinitro compound thus obtained, a general formula

Figure 0006202492
Figure 0006202492

(式中、Aは、単結合、または、C(CF 表し、Rは、水素原子または炭素数1から3の1価の有機基を表す。)
で表されるジアミンを得ることができる。
(In the formula, A represents a single bond or C (CF 3 ) 2 , and R 1 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 3 carbon atoms.)
The diamine represented by this can be obtained.

還元方法としては、パラジウム/炭素、ラネーニッケルなどの金属触媒の存在下に水素ガスを作用させる方法、パラジウム/炭素、ラネーニッケルなどの金属触媒の存在下にギ酸アンモニウムを作用させる方法、塩化第一スズと塩酸による方法、鉄と塩酸による方法、ヒドラジンを使用する方法などを用いることができる。   Reduction methods include a method in which hydrogen gas is allowed to act in the presence of a metal catalyst such as palladium / carbon, Raney nickel, a method in which ammonium formate is allowed to act in the presence of a metal catalyst such as palladium / carbon, Raney nickel, and stannous chloride. A method using hydrochloric acid, a method using iron and hydrochloric acid, a method using hydrazine, and the like can be used.

得られたジアミンをモノマーとして重合することにより、ポリ(イミドーベンゾオキサゾール)を得ることができる。   Poly (imide-benzoxazole) can be obtained by polymerizing the obtained diamine as a monomer.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明する。   Below, based on an Example, this invention is demonstrated in detail.

以下の実施例において、測定には下記装置を使用し、原料は試薬メーカー(東京化成工業、和光純薬工業、ナカライテスク)から購入した一般的な試薬を用いた。   In the following examples, the following apparatus was used for the measurement, and general reagents purchased from reagent manufacturers (Tokyo Chemical Industry, Wako Pure Chemical Industries, Nacalai Tesque) were used as raw materials.

IR測定
島津製作所製 IR Prestige−21を使用した。KBrを用いてATR法で測定した。
IR measurement
Shimadzu IR Prestige-21 was used. It measured by ATR method using KBr.

HPLC測定
島津製作所製 LC−10AVPシリーズを使用した。カラムはガスクロ工業製Inertsil ODS 80Aを使用し、面積百%で純度を算出した。
HPLC measurement LC-10AVP series manufactured by Shimadzu Corporation was used. As the column, Inertsil ODS 80A manufactured by Gaschrom Industries was used, and the purity was calculated with an area of 100%.

融点測定
ヤナコ機器開発研究所製 微量融点測定装置 MP−J3を使用した。
Melting | fusing point measurement The trace amount melting | fusing point measuring apparatus MP-J3 made from Yanaco apparatus research laboratory was used.

実施例1
2,2−ビス[3−(3−ニトロベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン
Example 1
2,2-bis [3- (3-nitrobenzamido) -4-hydroxyphenyl] hexafluoropropane

Figure 0006202492
Figure 0006202492

撹拌機、滴下漏斗及び温度計を備えた100mL3つ口フラスコに2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン 10.1g、NMP 37gを仕込み、窒素気流下、40℃で攪拌して溶解した後、30℃以下まで冷却した。3−ニトロベンゾイルクロリド 10.3gをトルエン 5gに溶解した溶液を25−30℃の温度で30分間で滴下した後、25−30℃で3.5時間攪拌した。サンプルの1部を取り、メタノールとトリエチルアミンを加えてHPLC分析した結果、3−ニトロ安息香酸 0.5%、2,2−ビス[3−(3−ニトロベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン 99.1%であった。   A 100 mL three-necked flask equipped with a stirrer, a dropping funnel and a thermometer was charged with 10.2 g of 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane and 37 g of NMP. After dissolving by stirring, it was cooled to 30 ° C. or lower. A solution prepared by dissolving 10.3 g of 3-nitrobenzoyl chloride in 5 g of toluene was added dropwise at a temperature of 25-30 ° C. over 30 minutes, and then stirred at 25-30 ° C. for 3.5 hours. A part of the sample was taken and subjected to HPLC analysis by adding methanol and triethylamine. As a result, 0.5% of 3-nitrobenzoic acid, 2,2-bis [3- (3-nitrobenzamido) -4-hydroxyphenyl] hexafluoro Propane was 99.1%.

撹拌機、還流冷却器、滴下漏斗及び温度計を備えた300mL4つ口フラスコにメタノール 150gを仕込み、窒素気流下、45℃に加熱した。ここに、先の反応溶液を、40−45℃の温度で30分間で滴下した。1時間で室温まで冷却してから析出した沈殿をろ過し、メタノール 26gで洗浄、乾燥し、2,2−ビス[3−(3−ニトロベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパンを18g得た。HPLC分析した結果、純度は99.8%であった。   A 300 mL four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer was charged with 150 g of methanol and heated to 45 ° C. under a nitrogen stream. The previous reaction solution was added dropwise at a temperature of 40 to 45 ° C. over 30 minutes. After cooling to room temperature in 1 hour, the deposited precipitate was filtered, washed with 26 g of methanol and dried to obtain 18 g of 2,2-bis [3- (3-nitrobenzamido) -4-hydroxyphenyl] hexafluoropropane. It was. As a result of HPLC analysis, the purity was 99.8%.

IR(ATR)cm−1:3414、3181、1655、1537,1352,1252
mp:300℃以上 。
IR (ATR) cm −1 : 3414, 3181, 1655, 1537, 1352, 1252
mp: 300 ° C. or higher.

実施例2
2,2−ビス[3−(3−ニトロベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン
撹拌機、滴下漏斗及び温度計を備えた300mL4つ口フラスコに2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン 10.1g、NMP 45gを仕込み、窒素気流下、40℃で攪拌して溶解した。3−ニトロベンゾイルクロリド 10.4gをNMP 5gに溶解した溶液を40℃で30分間で滴下した後、40℃で3時間攪拌した。サンプルの1部を取り、メタノールとトリエチルアミンを加えてHPLC分析した結果、3−ニトロ安息香酸 0.8%、2,2−ビス[3−(3−ニトロベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン 98.9%であった。
Example 2
2,2 -bis (3-amino-4) was added to a 300 mL four-necked flask equipped with 2,2-bis [3- (3-nitrobenzamido) -4-hydroxyphenyl] hexafluoropropane stirrer, dropping funnel and thermometer. -Hydroxyphenyl) hexafluoropropane 10.1 g and NMP 45 g were charged and dissolved by stirring at 40 ° C. in a nitrogen stream. A solution prepared by dissolving 10.4 g of 3-nitrobenzoyl chloride in 5 g of NMP was added dropwise at 40 ° C. over 30 minutes, and then stirred at 40 ° C. for 3 hours. A part of the sample was taken and subjected to HPLC analysis with methanol and triethylamine added. As a result, 0.8% 3-nitrobenzoic acid, 2,2-bis [3- (3-nitrobenzamido) -4-hydroxyphenyl] hexafluoro Propane was 98.9%.

反応溶液を60℃に昇温し、メタノール 100gを1時間で滴下し、室温まで冷却してから析出した沈殿をろ過し、メタノール 18gで洗浄、乾燥し、2,2−ビス[3−(3−ニトロベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパンを16.2g得た。HPLC分析した結果、純度は99.6%であった。   The reaction solution was heated to 60 ° C., 100 g of methanol was added dropwise over 1 hour, and after cooling to room temperature, the deposited precipitate was filtered, washed with 18 g of methanol, dried, and 2,2-bis [3- (3 16.2 g of (nitrobenzamido) -4-hydroxyphenyl] hexafluoropropane was obtained. As a result of HPLC analysis, the purity was 99.6%.

実施例3
2,2−ビス[3−(3−ニトロベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン
実施例1において、メタノールの代わりにイソプロパノールを用いた以外は実施例1と同様にして2,2−ビス[3−(3−ニトロベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパンを得た。HPLC分析した結果、純度は99.6%であった。
Example 3
2,2-bis [3- (3-nitrobenzamido) -4-hydroxyphenyl] hexafluoropropane In Example 1, except that isopropanol was used instead of methanol, 2,2-bis [3- (3-Nitrobenzamido) -4-hydroxyphenyl] hexafluoropropane was obtained. As a result of HPLC analysis, the purity was 99.6%.

実施例4
2,2−ビス[3−(4−ニトロベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン
Example 4
2,2-bis [3- (4-nitrobenzamido) -4-hydroxyphenyl] hexafluoropropane

Figure 0006202492
Figure 0006202492

実施例1において、3−ニトロベンゾイルクロリドの代わりに4−ニトロベンゾイルクロリドを用いた以外は、実施例1と同様にして、2,2−ビス[3−(4−ニトロベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパンを得た。HPLC分析した結果、純度は99.5%であった。
実施例5
2,2−ビス[3−(3−ニトロベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン
撹拌機、滴下漏斗及び温度計を備えた100mL3つ口フラスコに2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン 12.5g、DMAC 37.6gを仕込み、窒素気流下、30℃で攪拌し、3−ニトロベンゾイルクロリド 12.7gをDMAC 3.8gに溶解した溶液を30分間で滴下した後、30℃で2時間攪拌した。サンプルの1部を取り、メタノールとトリエチルアミンを加えてHPLC分析した結果、3−ニトロ安息香酸 0.8%、2,2−ビス[3−(3−ニトロベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン 98.8%であった。これにメタノール12.3gを加え、生じた沈殿を溶解した。
In Example 1, 2,2-bis [3- (4-nitrobenzamido) -4-hydroxy was used in the same manner as in Example 1, except that 4-nitrobenzoyl chloride was used instead of 3-nitrobenzoyl chloride. Phenyl] hexafluoropropane was obtained. As a result of HPLC analysis, the purity was 99.5%.
Example 5
2,2 -bis (3-amino-4) was added to a 100 mL three-necked flask equipped with a 2,2-bis [3- (3-nitrobenzamido) -4-hydroxyphenyl] hexafluoropropane stirrer, a dropping funnel and a thermometer. -Hydroxyphenyl) hexafluoropropane (12.5 g) and DMAC (37.6 g) were charged, stirred at 30 ° C. in a nitrogen stream, and a solution of 3-nitrobenzoyl chloride (12.7 g) dissolved in DMAC (3.8 g) was added dropwise over 30 minutes. Then, the mixture was stirred at 30 ° C. for 2 hours. A part of the sample was taken and subjected to HPLC analysis with methanol and triethylamine added. As a result, 0.8% 3-nitrobenzoic acid, 2,2-bis [3- (3-nitrobenzamido) -4-hydroxyphenyl] hexafluoro Propane was 98.8%. To this, 12.3 g of methanol was added, and the resulting precipitate was dissolved.

撹拌機、滴下漏斗及び温度計を備えた300mL4つ口フラスコにメタノール 125gを仕込み、窒素気流下、30℃に加熱した。ここに、先の反応溶液を、滴下ロートから30分間で滴下した。氷水浴につけて10℃以下まで冷却し、析出した沈殿をろ過し、メタノール 25gで洗浄、乾燥し、2,2−ビス[3−(3−ニトロベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパンを21.5g得た。HPLC分析した結果、純度は99.9%であった。   A 300 mL four-necked flask equipped with a stirrer, a dropping funnel and a thermometer was charged with 125 g of methanol and heated to 30 ° C. under a nitrogen stream. The previous reaction solution was added dropwise from the dropping funnel over 30 minutes. Cool in an ice-water bath and cool to 10 ° C. or lower. The deposited precipitate is filtered, washed with 25 g of methanol and dried to give 2,2-bis [3- (3-nitrobenzamido) -4-hydroxyphenyl] hexafluoropropane. 21.5 g was obtained. As a result of HPLC analysis, the purity was 99.9%.

実施例6
2,2−ビス[3−(3−ニトロベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン
撹拌機、滴下漏斗及び温度計を備えた100mL3つ口フラスコに2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン 7.9g、DMAC 21.4gを仕込み、窒素気流下、35℃で攪拌し、3−ニトロベンゾイルクロリド 8.0gをTHF 5.3gに溶解した溶液を15分間で滴下した後、30−35℃で2時間攪拌した。サンプルの1部を取り、メタノールとトリエチルアミンを加えてHPLC分析した結果、3−ニトロ安息香酸 1.0%、2,2−ビス[3−(3−ニトロベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン 98.8%であった。これにメタノール8.0gを加え、生じた沈殿を溶解した。
Example 6
2,2 -bis (3-amino-4) was added to a 100 mL three-necked flask equipped with a 2,2-bis [3- (3-nitrobenzamido) -4-hydroxyphenyl] hexafluoropropane stirrer, a dropping funnel and a thermometer. -Hydroxyphenyl) hexafluoropropane 7.9 g and DMAC 21.4 g were charged, stirred at 35 ° C. under a nitrogen stream, and a solution of 8.0 g of 3-nitrobenzoyl chloride dissolved in 5.3 g of THF was added dropwise over 15 minutes. Then, the mixture was stirred at 30-35 ° C. for 2 hours. A part of the sample was taken and subjected to HPLC analysis with methanol and triethylamine added. As a result, 1.0% of 3-nitrobenzoic acid, 2,2-bis [3- (3-nitrobenzamido) -4-hydroxyphenyl] hexafluoro Propane was 98.8%. To this, 8.0 g of methanol was added, and the resulting precipitate was dissolved.

撹拌機、滴下漏斗及び温度計を備えた300mL4つ口フラスコにメタノール 73gを仕込み、窒素気流下、室温で攪拌した。ここに、先の反応溶液を15分間で滴下した。室温で1時間攪拌し、析出した沈殿をろ過し、メタノール 33gで洗浄、乾燥し、2,2−ビス[3−(3−ニトロベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパンを13.9g得た。HPLC分析した結果、純度は99.6%であった。   A 300 mL four-necked flask equipped with a stirrer, a dropping funnel and a thermometer was charged with 73 g of methanol and stirred at room temperature under a nitrogen stream. The previous reaction solution was added dropwise over 15 minutes. The mixture was stirred at room temperature for 1 hour, and the deposited precipitate was filtered, washed with 33 g of methanol and dried to obtain 13.9 g of 2,2-bis [3- (3-nitrobenzamido) -4-hydroxyphenyl] hexafluoropropane. It was. As a result of HPLC analysis, the purity was 99.6%.

実施例7
4,4’−ビス(4−ニトロベンズアミド)−3,3’−ジヒドロキシビフェニル
Example 7
4,4'-bis (4-nitrobenzamide) -3,3'-dihydroxybiphenyl

Figure 0006202492
Figure 0006202492

実施例1において、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンの代わりに3,3’−ジヒドロキシベンジジンを用いた以外は、実施例1と同様にして、4,4’−ビス(4−ニトロベンズアミド)−3,3’−ジヒドロキシビフェニルを得た。HPLC分析した結果、純度は99.0%であった
IR(ATR)cm−1:3320、1650,1520
参考例1
2,2−ビス[3−(3−アミノベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン
撹拌機、還流冷却器及び温度計を備えた200mL3つ口フラスコに実施例1で得られた2,2−ビス[3−(3−ニトロベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン 17.2g、N、N−ジメチルホルムアミド 144g、イソプロパノール 17gを仕込み窒素置換し、5%パラジウム/炭素 0.69gを加えて激しく攪拌させた。ここに水素を風船で導入して、70℃で5時間攪拌し風船がこれ以上しぼまなくなることを確認して還元反応を終了させた。サンプルの1部を取り、HPLC分析した結果、3−アミノ安息香酸 0.1%、2,2−ビス[3−(3−アミノベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン 97.3%であった。冷却後、触媒をろ過し、ろ液を濃縮して、濃縮液を 31g得た。
In the same manner as in Example 1 except that 3,3′-dihydroxybenzidine was used instead of 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane in Example 1, 4,4 '-Bis (4-nitrobenzamide) -3,3'-dihydroxybiphenyl was obtained. As a result of HPLC analysis, the purity was 99.0% IR (ATR) cm −1 : 3320, 1650, 1520
Reference example 1
The 2,2-bis [3- (3-aminobenzamido) -4-hydroxyphenyl] hexafluoropropane stirrer, reflux condenser and thermometer equipped with 2,2-bis [3- (3-aminobenzamido) -4-hydroxyphenyl] -Bis [3- (3-nitrobenzamido) -4-hydroxyphenyl] hexafluoropropane 17.2 g, N, N-dimethylformamide 144 g, and isopropanol 17 g were charged with nitrogen, and 5% palladium / carbon 0.69 g was added. And stirred vigorously. Hydrogen was introduced here with a balloon, and the mixture was stirred at 70 ° C. for 5 hours, and it was confirmed that the balloon no longer deflated. A part of the sample was taken and analyzed by HPLC. As a result, 3-aminobenzoic acid was 0.1% and 2,2-bis [3- (3-aminobenzamido) -4-hydroxyphenyl] hexafluoropropane was 97.3%. there were. After cooling, the catalyst was filtered and the filtrate was concentrated to obtain 31 g of a concentrated solution.

撹拌機、還流冷却管、滴下ロート及び温度計を備えた300mL4つ口フラスコに水 105gを仕込み、窒素気流下45℃まで加熱した。濃縮液を滴下ロートから30分間で滴下し、室温まで冷却した後、生じた沈殿をろ過し、沈殿を水で洗浄、乾燥し、2,2−ビス[3−(3−アミノベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパンを7.9g得た。HPLC分析した結果、純度は99.4%であった。
mp:300℃以上
比較例1
有機塩基のイミダゾールを酸捕捉剤として使用した例
2,2 −ビス[3−(3−ニトロベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン
温度計、攪拌機、滴下ロートを備えた100mLの3つ口フラスコに2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン 6.0g、NMP 24g、イミダゾール 2.6gを仕込み、窒素気流下、60℃で、NMP 10gと3−ニトロベンゾイルクロリド 6.2gの混合溶液を1時間で滴下した後、4時間60℃で熟成した。サンプルの1部を取り、メタノール/トリエチルアミンを加えて未反応の3−ニトロベンゾイルクロリドをメチルエステル化して、HPLCで分析した結果、3−ニトロ安息香酸 1.3%、3−ニトロ安息香酸メチル 7.4%、2−[3−(3−ニトロベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]−2−(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン 11.8%、2,2−ビス[3−(3−ニトロベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン 77.1%であり、反応が未完結であった。
A 300 mL four-necked flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer was charged with 105 g of water and heated to 45 ° C. under a nitrogen stream. The concentrated solution was dropped from the dropping funnel in 30 minutes and cooled to room temperature, and then the resulting precipitate was filtered, washed with water and dried, and 2,2-bis [3- (3-aminobenzamide) -4 7.9 g of -hydroxyphenyl] hexafluoropropane was obtained. As a result of HPLC analysis, the purity was 99.4%.
mp: 300 ° C. or higher Comparative Example 1
Example of using organic base imidazole as acid scavenger
2,2-Bis [3- (3-nitrobenzamido) -4-hydroxyphenyl] hexafluoropropane thermometer, stirrer, and dropping funnel were added to a 100 mL three-necked flask with 2,2-bis (3-amino- 4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane (6.0 g), NMP (24 g), and imidazole (2.6 g) were charged, and a mixed solution of NMP (10 g) and 3-nitrobenzoyl chloride (6.2 g) was added dropwise over 1 hour at 60 ° C. in a nitrogen stream. Thereafter, aging was performed at 60 ° C. for 4 hours. A part of the sample was taken, and methanol / triethylamine was added to unesterify 3-nitrobenzoyl chloride to be methyl esterified and analyzed by HPLC. As a result, 1.3-nitrobenzoic acid 1.3%, methyl 3-nitrobenzoate 7 4%, 2- [3- (3-nitrobenzamido) -4-hydroxyphenyl] -2- (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane 11.8%, 2,2-bis [3- (3-Nitrobenzamide) -4-hydroxyphenyl] hexafluoropropane was 77.1%, and the reaction was incomplete.

比較例2
溶媒にテトラヒドロフランを使用し、有機塩基のイミダゾールを酸捕捉剤として使用した例
2,2 −ビス[3−(3−ニトロベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン
温度計、攪拌機、滴下ロートを備えた100mLの3つ口フラスコに2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン 6.0g、テトラヒドロフラン 47g、イミダゾール 2.5gを仕込み、窒素気流下、水浴につけて攪拌した。THF 13gと3−ニトロベンゾイルクロリド 6.0gの混合溶液を1時間で10−15℃で滴下した後、終夜室温で攪拌した。サンプルの1部を取り、メタノール/トリエチルアミンを加えて未反応の3−ニトロベンゾイルクロリドをメチルエステル化して、HPLCで分析した結果、2,2−ビス[3−(3−ニトロベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパンの純度は26.3%であった。その他、ニトロベンゾイルクロリドが1つ置換した化合物、3つ置換した化合物、4つ置換した化合物、3−ニトロ安息香酸、3−ニトロ安息香酸メチルなど多数のピークが検出され、反応に選択性は無かった。
Comparative Example 2
Example using tetrahydrofuran as solvent and imidazole organic base as acid scavenger
2,2-Bis [3- (3-nitrobenzamido) -4-hydroxyphenyl] hexafluoropropane thermometer, stirrer, and dropping funnel were added to a 100 mL three-necked flask with 2,2-bis (3-amino- 4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane (6.0 g), tetrahydrofuran (47 g), and imidazole (2.5 g) were charged, and the mixture was stirred in a water bath under a nitrogen stream. A mixed solution of 13 g of THF and 6.0 g of 3-nitrobenzoyl chloride was added dropwise at 10-15 ° C. over 1 hour, followed by stirring overnight at room temperature. A part of the sample was taken, and methanol / triethylamine was added to unesterify 3-nitrobenzoyl chloride to methyl ester. As a result of HPLC analysis, 2,2-bis [3- (3-nitrobenzamide) -4- The purity of hydroxyphenyl] hexafluoropropane was 26.3%. In addition, a number of peaks such as compounds substituted with one nitrobenzoyl chloride, compounds substituted with three, compounds substituted with four, 3-nitrobenzoic acid, methyl 3-nitrobenzoate were detected, and there was no selectivity in the reaction. It was.

比較例3
溶媒にアセトンを使用し、有機塩基のイミダゾールを酸捕捉剤として使用した例
2,2−ビス[3−(3−ニトロベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパン
比較例2において、溶媒としてTHFの代わりにアセトンを用いる以外は比較例2と同様にして反応した。サンプルの1部を取り、メタノール/トリエチルアミンを加えて未反応の3−ニトロベンゾイルクロリドをメチルエステル化して、HPLCで分析した結果、2,2−ビス[3−(3−ニトロベンズアミド)−4−ヒドロキシフェニル]ヘキサフルオロプロパンの純度は14.0%であった。その他、ニトロベンゾイルクロリドが1つ置換した化合物、3つ置換した化合物、4つ置換した化合物、3−ニトロ安息香酸、3−ニトロ安息香酸メチルなど多数のピークが検出され、反応に選択性は無かった。
Comparative Example 3
Example using acetone as solvent and imidazole organic base as acid scavenger
In 2,2-bis [3- (3-nitrobenzamido) -4-hydroxyphenyl] hexafluoropropane Comparative Example 2, the reaction was performed in the same manner as Comparative Example 2 except that acetone was used instead of THF as a solvent. A part of the sample was taken, and methanol / triethylamine was added to unesterify 3-nitrobenzoyl chloride to methyl ester. As a result of HPLC analysis, 2,2-bis [3- (3-nitrobenzamide) -4- The purity of hydroxyphenyl] hexafluoropropane was 14.0%. In addition, a number of peaks such as compounds substituted with one nitrobenzoyl chloride, compounds substituted with three, compounds substituted with four, 3-nitrobenzoic acid, methyl 3-nitrobenzoate were detected, and there was no selectivity in the reaction. It was.

Claims (4)

一般式
Figure 0006202492
(式中、Rは、水素原子または炭素数1から3の1価の有機基を表す。)
で表されるニトロベンゾイルクロリドと、一般式
Figure 0006202492
(式中、Aは、単結合、または、C(CF 表す。)
で表されるジアミノフェノールを含窒素有機溶媒中で反応させて、一般式
Figure 0006202492
(式中、Aは、単結合、または、C(CF 表し、R1は、水素原子または炭素数1から3の1価の有機基を表す。)
で表されるジニトロ化合物を製造する方法。
General formula
Figure 0006202492
(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 3 carbon atoms.)
Nitrobenzoyl chloride represented by the general formula
Figure 0006202492
(Wherein, A represents a single bond, or represents a C (CF 3) 2.)
Is reacted in a nitrogen-containing organic solvent to give a general formula
Figure 0006202492
(In the formula, A represents a single bond or C (CF 3 ) 2 , and R 1 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1 to 3 carbon atoms.)
A method for producing a dinitro compound represented by the formula:
が水素原子である請求項1に記載のジニトロ化合物の製造方法。 The method for producing a dinitro compound according to claim 1 , wherein R 1 is a hydrogen atom. 含窒素有機溶媒が、N−メチル−2−ピロリドン、または、N,N−ジメチルアセトアミドである請求項1または2に記載のジニトロ化合物の製造方法。 The method for producing a dinitro compound according to claim 1 or 2 , wherein the nitrogen-containing organic solvent is N-methyl-2-pyrrolidone or N, N-dimethylacetamide. 塩基を加えない請求項1〜のいずれかに記載のジニトロ化合物の製造方法 The manufacturing method of the dinitro compound in any one of Claims 1-3 which does not add a base.
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