JP6184561B2 - パターン化されたウェハを取り付けるための取付け装置 - Google Patents
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Description
−取付け部材において吸入面F2で終わる、特に貫通孔として形成された、多数の吸引通路、
−吸引通路の、吸引面F2とは反対側に位置する通路端部に接続された流体室、及び
−制御可能な吸引装置を接続するために、流体室に接して設けられた少なくとも1つの圧力接続部。
2 流体室部材
2w 周壁
2o 上壁
2n シール溝
3 取付け部材
3o 取付け面
3e 突出部
3b 固定側
3n シール溝
4 結合部材
4i 雌ねじ山
4a ねじ取付け部
5 シール
6 流体室
7 吸引通路
7e 端部
8 外側の環状面
9 接続部材
10 基板
10s パターン側
11 パターン
12 コーティング
13 圧力接続部
14 吸引管
15 測定装置
16 ポンプ
17 環状ギャップ
F1 流れ横断面
F2 吸引面(積)
U 周縁部
M 中心
R 環幅
D1 直径
D2 直径
D3 直径
Z 流入面(積)
H 高さ
Claims (11)
- パターン(11)を有する、基板(10)の一方のパターン側(10s)を取り付け且つ保持するための取付け装置であって、前記パターン(11)は、パターンギャップが前記パターン(11)の上面と前記基板(10)の前記パターン側(10s)との間に形成されるように、前記基板(10)の前記パターン側(10s)からずれた上面を有し、前記取付け装置は、
実質的に円形の取付け面(3o)を有する取付け部材(3)を備え、
前記取付け面(3o)は、前記取付け面(3o)を貫通し且つ前記取付け面(3o)の外側の環状面(8)に配置された吸引通路(7)を有し且つ前記パターン側(10s)で前記パターン(11)を支持する平らな取付け面(3o)として形成され、
前記吸引通路(7)は、前記取付け装置によって前記基板(10)が取り付けられ且つ保持されるときに前記パターン(11)が前記取付け面(3o)に接触するように複数の吸引孔で開口し、前記複数の吸引孔は、前記取付け面(3o)の回転中心に対し少なくとも部分的に径方向外側に前記パターン(11)から相対的にずれて配置されており、
前記複数の吸引孔は、前記基板(10)の前記パターン側(10s)と前記複数の吸引孔との間に環状ギャップ(17)が形成されるように、前記基板(10)の前記パターン側(10s)から離れて配置されており、前記環状ギャップ(17)は、連続的な流れが前記環状ギャップ(17)を通過し、前記基板(10)が前記取付け装置によって保持されている間に前記吸引通路(7)が維持されるように、形成されている、ことを特徴とする取付け装置。 - 前記外側の環状面(8)は、前記取付け面(3o)の周縁部(U)から前記取付け面(3o)の回転中心に向かって延在している円環として形成されており、前記外側の環状面(8)は、前記取付け面(3o)の直径(D3)の1/2未満の環幅(R)を有する、請求項1記載の取付け装置。
- 前記連続的な流れは、
前記取付け部材(3)において、前記複数の吸引孔が形成される第1の通路端部をそれぞれが有する複数の貫通開口として形成された複数の吸引通路(7)と、
前記第1の通路端部とはそれぞれ前記貫通開口の反対側の端部である、前記貫通開口の第2の通路端部(7e)の各々において前記複数の吸引通路(7)と接続された流体室(6)と、
該流体室(6)に接続しており、ポンプに接続するように設けられた圧力接続部(13)と、
を有する流れ通路を通過する、請求項1記載の取付け装置。 - 前記複数の吸引孔は、吸引面(F 2 )を形成し、前記吸引面(F2)は、前記吸引通路(7)の一部を少なくとも部分的に閉鎖することにより調節可能である、請求項3記載の取付け装置。
- 前記流体室(6)は、流体室部材(2)と前記取付け部材(3)との間に形成されている、請求項3記載の取付け装置。
- 前記流れ通路は、前記流体室(6)の領域に、前記吸引面(F2)及び/又は前記圧力接続部(13)の流れ横断面(F1)よりも、少なくとも5倍大きな流れ横断面を有している、請求項4記載の取付け装置。
- 前記取付け面(3o)は、前記取付け部材(3)の突出部(3e)に設けられており、前記取付け面(3o)の輪郭は、前記基板(10)の面輪郭に等しい輪郭を有し、前記取付け面(3o)の直径(D3)は、200mm〜450mmである、請求項1記載の取付け装置。
- 前記取付け面(3o)は、弾性的なコーティング(12)で被覆されている、請求項1記載の取付け装置。
- 少なくとも10本の前記吸引通路(7)の第1グループは、前記吸引通路(7)の第1グループが隣接する前記吸引通路(7)と等間隔で相対的に離れるように、前記外側の環状面(8)上の共通の第1の円に沿って位置している、請求項3記載の取付け装置。
- 少なくとも10本の吸引通路(7)の第2グループが、前記第1グループの吸引通路(7)に対して相対的にずらされて配置されており、前記吸引通路(7)の前記第2グループは、前記共通の第1の円よりも小さな半径を備えた、前記外側の環状面(8)の共通の第2の円に沿って位置している、請求項9記載の取付け装置。
- パターン(11)を有する、基板(10)の一方のパターン側(10s)を、取付け装置により取り付け且つ保持するための方法であって、前記パターン(11)は、パターンギャップが前記パターン(11)の上面と前記基板(10)の前記パターン側(10s)との間に形成されるように、前記基板(10)の前記パターン側(10s)からずれた上面を有する、方法において、前記方法は、
前記取付け装置の吸引通路(7)を通る連続的で制御可能な流れを生じさせるステップと、
前記基板(10)を、前記取付け装置の前記吸引通路(7)を通る連続的で制御可能な流れを用いる前記取付け装置に取り付け且つ保持するステップと、を有し、
前記取り付け装置は、実質的に円形の取付け面(3o)を有する取付け部材(3)を有し、
前記吸引通路(7)は、前記取付け面(3o)を貫通して形成され、且つ前記取付け面(3o)の外側の環状面(8)に配置されており、
前記取付け面(3o)は、前記一方のパターン側(10s)上に前記パターン(11)を支持するための平らな取付け面(3o)として形成され、
前記吸引通路(7)は、前記取り付け装置によって前記基板(10)が取り付けられ保持されるときに前記パターン(11)が前記取付け面(3o)に接触するように複数の吸引孔に開口し、前記複数の吸引孔は、前記取付け面(3o)の回転中心に対し少なくとも部分的に半径方向外側に前記パターン(11)から相対的にずれて配置されており、
前記複数の吸引孔は、前記基板(10)の前記パターン側(10s)と前記複数の吸引孔との間に環状ギャップ(17)が形成されるように、前記基板(10)の前記一方のパターン側(10s)からずれており、
前記連続的で制御可能な流れは、前記基板(10)が前記取付け装置によって保持されている間に前記連続的で制御可能な流れが維持されるように、前記環状ギャップ(17)及び前記吸引通路(7)を通過する、ことを特徴とする方法。
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JP3205468B2 (ja) * | 1994-07-25 | 2001-09-04 | 株式会社日立製作所 | ウエハチャックを備えた処理装置および露光装置 |
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2016
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