JP6172731B2 - コンデンサ製造装置及び積層コンデンサ製造方法 - Google Patents
コンデンサ製造装置及び積層コンデンサ製造方法 Download PDFInfo
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Description
本発明の一実施形態としての図1に示されているコンデンサ製造装置は、照射装置1と、第1粒子噴射装置21と、第2粒子噴射装置22と、駆動装置3と、制御装置4とを備えている。
まず、基板において左範囲、右範囲及び中間範囲が例えば、基板座標系(x,y)における各範囲の輪郭線を表わす座標値群によって定義される。例えば図3(a)において一点鎖線で囲まれている矩形状の左範囲S1、二点鎖線で囲まれている矩形状の右範囲S2及び実線で囲まれている矩形状の中間範囲S0が定義される。なお、左範囲、右範囲及び中間範囲の形状、サイズ、相対位置及び相対姿勢は任意に変更されてもよい。
第1粒子として平均粒子径約5[μm]の純度99.7%のカーボン粒子が用いられ、第2粒子として平均粒子径約1[μm]の純度99%のBaTiO3粒子が用いられた。0.5MPaのArガスを用いて、内径0.70[mm]のノズルから第1粒子を噴射するように構成されている粒子噴射装置が第1粒子噴射装置21及び第2粒子噴射装置22として用いられた。
本発明のコンデンサ製造装置又は方法によれば、基板において、第1導電体層形成処理の対象となる左範囲S1と、第2導電体層形成処理の対象となる右範囲S2とは、基板表面の垂線方向について部分的に重なり合うように定義されている。さらに、誘電体層形成処理の対象となる中間範囲S0は、左範囲S1及び右範囲S2の重なり部分及び当該重なり部分の左右それぞれに連続する部分において左範囲S1及び右範囲S2のそれぞれに対して部分的に重なり合うように定義されている(図3参照)。
両端を有する線状又は帯状の範囲が隣接しあう第1〜第5範囲に区分され、第1〜第5範囲のそれぞれに対して導電体層形成処理(第1及び第2導電体層形成処理のそれぞれと同内容の処理)及び誘電体層形成処理のそれぞれが区分して実行されてもよい。
Claims (2)
- レーザービームを発生するように構成されている照射装置と、
第1ノズルから黒鉛粒子と金属粒子との混合粒子である第1粒子を噴射するように構成されている第1粒子噴射装置と、
第2ノズルからセラミックス系誘電体粒子である第2粒子を噴射するように構成されている第2粒子噴射装置と、
樹脂製の基板において前記照射装置により発生されたレーザービームが照射される箇所と、前記第1粒子噴射装置により噴射された前記第1粒子の衝突箇所と、前記第2粒子噴射装置により噴射された前記第2粒子の衝突箇所とのそれぞれを変位させるように構成されている駆動装置と、
前記基板における前記レーザービームの照射箇所と、前記第1粒子及び前記第2粒子のそれぞれの衝突箇所とが一致するように前記駆動装置の動作を制御するように構成されている制御装置とを備え、
前記基板において、前記基板の表面の垂線方向について部分的に重なり合う左範囲及び右範囲と、前記左範囲及び前記右範囲の重なり部分及び当該重なり部分の左右それぞれに連続する部分において前記左範囲及び前記右範囲のそれぞれに対して部分的に重なり合う中間範囲とが定義されている状態で、
前記制御装置は、前記基板の前記左範囲に対して前記レーザービームを照射させるとともに前記第1粒子を衝突させることにより当該衝突箇所に第1導電体層を形成する第1導電体層形成処理と、前記基板の前記右範囲に対して前記レーザービームを照射させるとともに前記第1粒子を衝突させることにより第2導電体層を形成する第2導電体層形成処理とを、前記基板の前記中間範囲に対して前記レーザービームを照射させるとともに前記第2粒子を衝突させることにより当該衝突箇所に誘電体層を形成する誘電体層形成処理を間に挟みながら交互に実行するように前記駆動装置の動作を制御することを特徴とするコンデンサ製造装置。 - 樹脂製の基板において、前記基板の表面の垂線方向について部分的に重なり合う左範囲及び右範囲と、前記左範囲及び前記右範囲の重なり部分及び当該重なり部分の左右それぞれに連続する部分において前記左範囲及び前記右範囲のそれぞれに対して部分的に重なり合う中間範囲とを定義し、
前記基板の前記左範囲に対してレーザービームを照射させるとともに、黒鉛粒子と金属粒子との混合粒子である第1粒子を第1粒子噴射装置の第1ノズルから噴射させて衝突させることにより当該衝突箇所に第1導電体層を形成する第1導電体層形成処理と、
前記基板の前記右範囲に対して前記レーザービームを照射させるとともに前記第1粒子を前記第1粒子噴射装置の前記第1ノズルから噴射させて衝突させることにより第2導電体層を形成する第2導電体層形成処理とを、
前記基板の前記中間範囲に対して前記レーザービームを照射させるとともにセラミックス系誘電体粒子である第2粒子を第2粒子噴射装置の第2ノズルから噴射させて衝突させることにより当該衝突箇所に誘電体層を形成する誘電体層形成処理を間に挟みながら交互に実行することを特徴とするコンデンサ製造方法。
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