JP6169303B1 - 位置検出システム及び位置検出システムの作動方法 - Google Patents

位置検出システム及び位置検出システムの作動方法 Download PDF

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Abstract

位置検出システムは、交番磁界を発生する磁界発生部と、永久磁石とが設けられる検知体と、交番磁界を検出して複数の検出信号を出力する複数の検出コイルと、複数の検出コイルが配設される所定の面に対して検知体の検出対象領域の反対側に配置され、検知体の誘導用磁界を発生する磁界発生源と、磁界発生源の位置及び姿勢の少なくともいずれかを変化させる駆動機構とを有し、磁界発生源又は駆動機構の少なくとも一部が干渉磁界を発生する導電体からなる誘導用磁界発生装置と、駆動機構の動作を制御する誘導用磁界制御装置と、駆動機構の制御信号に基づいて決定する導電体の位置及び姿勢の少なくともいずれかを用いて検知体の位置及び姿勢の少なくともいずれかを算出する位置検出演算装置と、を備える。

Description

本発明は、被検体内に導入されたカプセル型医療装置の位置及び姿勢を検出する位置検出システム及び位置検出方法に関する。
近年、被検体内に導入され、被検体に関する種々の情報を取得する、或いは被検体に薬剤を投与するカプセル型医療装置が開発されている。一例として、被検体の消化管内に導入可能な大きさに形成されたカプセル型内視鏡が知られている。カプセル型内視鏡は、カプセル形状をなす筐体の内部に撮像機能及び無線通信機能を備えたものであり、被検体に嚥下された後、消化管内を移動しながら撮像を行い、被検体の臓器内部の画像の画像データを順次無線送信する。
このようなカプセル型医療装置を検知体として位置検出を行うシステムも開発されている。例えば特許文献1には、電力を供給することにより位置検出用の磁界を発生する磁界発生コイルを内蔵するカプセル型医療装置と、磁界発生コイルが発生した磁界を被検体外において検出する検出コイルとを備え、検出コイルが検出した磁界の強度に基づいてカプセル型医療装置の位置検出演算を行う位置検出システムが開示されている。
また、被検体内に導入されたカプセル型医療装置を磁界によって誘導するシステムも提案されている。例えば特許文献2には、永久磁石を内蔵したカプセル型医療装置を被検体内に導入すると共に、被検体の外部に磁界発生部を設け、磁界発生部を移動させてカプセル型医療装置内の永久磁石に作用する磁界を変化させることによりカプセル型医療装置を誘導する磁気誘導医療システムが開示されている。
特開2008−132047号公報 特開2006−68501号公報
カプセル型医療装置等の検知体を検知体外部の磁界の変化によって誘導する場合において、誘導用の磁界を発生する磁界発生部が導電体を含むとき、検知体の移動に伴う位置検出用磁界の変化によって導電体に渦電流が流れて干渉磁界が発生する。磁界発生部の位置や姿勢は、検知体を誘導する際に時間とともに変化するので、干渉磁界も時間とともに変化する。そのため、検出コイルが出力した検出信号から干渉磁界の影響を除去することは非常に困難であり、検知体の位置や姿勢を精度良く検出することの妨げとなっていた。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、干渉磁界の発生源の位置や姿勢が変化する場合であっても、検知体が発生する位置検出用磁界に基づき、検知体の位置や姿勢を精度良く検出することができる位置検出システム及び位置検出方法を提供することを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係る位置検出システムは、位置検出用の交番磁界を発生する磁界発生部、及び永久磁石が内部に設けられており、被検体内に導入される検知体と、前記被検体の外部に配設されており、各々が前記交番磁界を検出して検出信号を出力する複数の検出コイルと、前記複数の検出コイルが配設される所定の面に対して前記検知体の検出対象領域の反対側に配置されており、前記検知体を誘導するための誘導用磁界を発生する磁界発生源と、前記磁界発生源の位置及び姿勢の少なくともいずれかを変化させる駆動機構と、を有し、前記磁界発生源又は前記駆動機構の少なくとも一部が前記交番磁界の作用により干渉磁界を発生する導電体からなる誘導用磁界発生装置と、前記駆動機構の動作を制御する誘導用磁界制御装置と、前記複数の検出コイルがそれぞれ出力した複数の前記検出信号と、前記誘導用磁界制御装置から出力される前記駆動機構の制御信号に基づいて決定する前記導電体の位置及び姿勢の少なくともいずれかを用いて前記検知体の位置及び姿勢の少なくともいずれかを算出する位置検出演算装置と、を備えることを特徴とする。
本発明に係る位置検出システムは、上記発明において、前記位置検出演算装置は、前記複数の検出コイルがそれぞれ出力した前記複数の検出信号に基づいて、前記検知体の位置及び姿勢の少なくともいずれかを算出する位置算出部と、前記検知体の位置及び姿勢、並びに前記導電体の位置及び姿勢の少なくともいずれかに応じて定まる補正値であって前記検知体の位置及び姿勢の少なくともいずれかに対する補正値、を関連付けた情報を記憶する記憶部と、当該位置検出演算装置が算出した最新の補正済みの前記検知体の位置及び姿勢の少なくともいずれかと、前記導電体の位置及び姿勢の少なくともいずれかとに基づいて、前記記憶部から前記補正値を取得する補正値取得部と、前記補正値取得部が取得した前記補正値を用いて、前記位置算出部が算出した前記検知体の位置及び姿勢の少なくともいずれかを補正する位置補正部と、を有することを特徴とする。
本発明に係る位置検出システムは、上記発明において、前記記憶部は、前記検知体の位置及び姿勢の少なくともいずれか、並びに前記導電体の位置及び姿勢の少なくともいずれかに応じて定まる前記検知体の位置及び姿勢の少なくともいずれかに対する補正値、を関連付けたルックアップテーブルを記憶し、前記補正値取得部は、前記最新の補正済みの前記検知体の位置及び姿勢の少なくともいずれかと、前記導電体の位置及び姿勢の少なくともいずれかとを入力値として、前記ルックアップテーブルから前記補正値を抽出する、ことを特徴とする。
本発明に係る位置検出システムは、上記発明において、前記記憶部は、前記検知体の位置及び姿勢の少なくともいずれかと、前記導電体の位置及び姿勢の少なくともいずれかとを入力値として、前記検知体と前記導電体との相対的な位置及び姿勢の関係に応じて定まる前記検知体の位置及び姿勢の少なくともいずれかに対する補正値を算出するための関数を記憶し、前記補正値取得部は、前記最新の補正済みの前記検知体の位置及び姿勢の少なくともいずれかと、前記導電体の位置及び姿勢の少なくともいずれかとを入力値として、前記関数を用いて前記補正値を算出する、ことを特徴とする。
本発明に係る位置検出システムは、上記発明において、前記導電体は、前記磁界発生源、又は前記磁界発生源と共に位置及び姿勢を変更可能な部材である、ことを特徴とする。
本発明に係る位置検出システムは、上記発明において、前記磁界発生源は、磁化方向と直交する軸回りに略回転対称な形状をなし、前記補正値取得部は、前記検知体及び前記磁界発生源の鉛直方向の位置に基づいて前記補正値を取得する、ことを特徴とする。
本発明に係る位置検出システムは、上記発明において、前記磁界発生源は、磁化方向と直交する軸回りに略回転対称な形状をなし、前記補正値取得部は、前記検知体が前記被検体内において液体中に浮遊している場合、前記磁界発生源の鉛直方向の位置に基づいて前記補正値を取得する、ことを特徴とする。
本発明に係る位置検出システムは、上記発明において、前記補正値取得部は、前記検知体及び前記磁界発生源の鉛直方向の位置並びに前記検知体及び前記磁界発生源の姿勢のうち水平面に対する仰角に基づいて前記補正値を取得する、ことを特徴とする。
本発明に係る位置検出システムは、上記発明において、前記補正値取得部は、前記検知体及び前記磁界発生源の姿勢に基づいて前記補正値を取得する、ことを特徴とする。
本発明に係る位置検出システムは、上記発明において、前記導電体は、前記磁界発生源を互いに直交する2つの軸回りに回転可能に支持すると共に、前記磁界発生源と共に3次元空間において並進可能であり、且つ、少なくとも一部が前記磁界発生源と比して前記複数の検出コイルの近くに位置する支持部材であり、前記補正値取得部は、前記導電体の姿勢を前記入力値から除外して前記補正値を取得する、ことを特徴とする。
本発明に係る位置検出システムは、上記発明において、前記導電体は、前記磁界発生源を互いに直交する2つの軸回りに回転可能且つ鉛直方向に移動可能に支持すると共に、前記磁界発生源と共に2次元空間において並進可能であり、且つ、少なくとも一部が前記磁界発生源と比して前記複数の検出コイルの近くに位置する支持部材であり、前記補正値取得部は、前記導電体の姿勢及び鉛直方向における位置を前記入力値から除外して前記補正値を取得する、ことを特徴とする。
本発明に係る位置検出システムは、上記発明において、前記検知体は、前記導電体の2次元平面における並進運動に追従して並進し、前記補正値取得部は、当該位置検出演算装置が直前に算出した補正済みの前記検知体の2次元平面における位置及び前記導電体の2次元平面における位置を前記入力値から除外して前記補正値を取得する、ことを特徴とする。
本発明に係る位置検出システムは、上記発明において、前記検知体は、前記被検体内を撮像することにより画像信号を生成する撮像部を備えるカプセル型内視鏡である、ことを特徴とする。
本発明に係る位置検出方法は、位置検出用の交番磁界を発生する磁界発生部と、永久磁石とが内部に設けられており、被検体内に導入される検知体の位置を検出する位置検出システムが実行する位置検出方法であって、前記位置検出システムは、前記被検体の外部に配設されており、各々が前記交番磁界を検出して検出信号を出力する複数の検出コイルと、前記複数の検出コイルが配設される所定の面に対して前記検知体の検出対象領域の反対側に配置されており、前記検知体を誘導するための誘導用磁界を発生する磁界発生源と、前記磁界発生源の位置及び姿勢の少なくともいずれかを変化させる駆動機構と、を有し、前記磁界発生源又は前記駆動機構の少なくとも一部が前記交番磁界の作用により干渉磁界を発生する導電体からなる誘導用磁界発生装置と、を備え、前記複数の検出コイルがそれぞれ出力した複数の前記検出信号に基づいて前記検知体の位置及び姿勢の少なくともいずれかを算出する検知体算出ステップと、前記駆動機構の制御信号を生成して出力する制御信号生成出力ステップと、前記駆動機構の制御信号に基づいて決定する前記導電体の位置及び姿勢の少なくともいずれかを用いて前記検知体の位置及び姿勢の少なくともいずれかを算出する算出ステップと、を含むことを特徴とする。
本発明によれば、誘導用磁界発生装置の少なくとも一部を導電体によって形成し、該導電体の位置及び姿勢の少なくともいずれかを用いて検知体の位置及び姿勢の少なくともいずれかを算出するので、干渉磁界の発生源の位置や姿勢が変化する場合であっても、検知体が発生する位置検出用磁界に基づいて検知体の位置や姿勢を精度良く検出することが可能となる。
図1は、本発明の実施の形態1に係る位置検出システムの概要を示す模式図である。 図2は、図1に示すカプセル型内視鏡の内部構造の一例を示す模式図である。 図3は、図1に示す位置検出システムの詳細な構成を示す図である。 図4は、図3に示す誘導用磁界発生装置の構成例を示す模式図である。 図5は、図4に示す磁石駆動部の構成例を示すブロック図である。 図6は、本発明の実施の形態1に係る位置検出方法を示すフローチャートである。 図7は、体外永久磁石とカプセル型内視鏡と複数の検出コイルとの位置関係の例を示す模式図である。 図8は、体外永久磁石とカプセル型内視鏡と複数の検出コイルとの位置関係の例を示す模式図である。 図9は、体外永久磁石の鉛直方向における座標を入力値とする補正値を算出するための補正係数の例を示す表である。 図10は、体外永久磁石の鉛直方向における座標と、補正前後のカプセル型内視鏡の各方向における座標との関係を示すグラフである。 図11は、本発明の実施の形態3に係る位置検出システムの一部の構成を示す模式図である。 図12は、本発明の実施の形態4に係る位置検出システムの一部の構成を示す模式図である。
以下に、本発明の実施の形態に係る位置検出システム及び位置検出方法について、図面を参照しながら説明する。なお、以下に説明する実施の形態においては、位置検出システムが位置及び姿勢の検出対象とする検知体の一形態として、被検体内に経口にて導入されて被検体の消化管内を撮像するカプセル型内視鏡を例示するが、これらの実施の形態によって本発明が限定されるものではない。即ち、本発明は、例えば被検体の食道から肛門にかけて管腔内を移動するカプセル型内視鏡や、被検体内に薬剤等を配送するカプセル型医療装置や、被検体内のpHを測定するpHセンサを備えるカプセル型医療装置など、被検体内に導入される種々の装置の位置及び姿勢の検出に適用することが可能である。
また、以下の説明において、各図は本発明の内容を理解でき得る程度に形状、大きさ、及び位置関係を概略的に示してあるに過ぎない。従って、本発明は各図で例示された形状、大きさ、及び位置関係のみに限定されるものではない。なお、図面の記載において、同一部分には同一の符号を付している。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1に係る位置検出システムの概要を示す模式図である。図1に示すように、実施の形態1に係る位置検出システム1は、検知体の一例として、被検体20内に導入されて該被検体20内を撮像するカプセル型内視鏡の位置を検出するシステムである。位置検出システム1は、カプセル型内視鏡10と、被検体20が載置されるベッド21と、カプセル型内視鏡10が発生する位置検出用磁界を検出する磁界検出装置30と、カプセル型内視鏡10を誘導するための磁界を発生する誘導用磁界発生装置40と、誘導用磁界発生装置40の動作を制御する誘導用磁界制御装置50と、磁界検出装置30から出力された位置検出用磁界の検出信号に基づいてカプセル型内視鏡10の位置検出等の演算処理を行う演算装置60(位置検出演算装置)と、カプセル型内視鏡10から無線送信された信号を、被検体20の体表に貼付された受信アンテナ71を介して受信する受信装置70と、演算装置60から出力された画像やカプセル型内視鏡10の位置情報等を表示する表示装置80と、を備える。
図2は、図1に示すカプセル型内視鏡10の内部構造の一例を示す模式図である。図2に示すように、カプセル型内視鏡10は、被検体20内に導入し易い大きさに形成されたカプセル型をなす筐体100と、該筐体100内に収納され、被検体20内を撮像して撮像信号を取得する撮像部11と、撮像部11を含むカプセル型内視鏡10の各部の動作を制御すると共に、撮像部11により取得された撮像信号に対して所定の信号処理を施す制御部12と、信号処理が施された撮像信号を無線送信する送信部13と、当該カプセル型内視鏡10の位置検出用磁界として交番磁界を発生する磁界発生部14と、カプセル型内視鏡10の各部に電力を供給する電源部15と、永久磁石16とを備える。
筐体100は、被検体20の臓器内部に導入可能な大きさに形成された外装ケースである。筐体100は、円筒形状をなす筒状筐体101と、ドーム形状をなして筒状筐体101の両側開口端をそれぞれ塞ぐ2つのドーム状筐体102、103とを有する。筒状筐体101は、可視光に対して略不透明な有色の部材によって形成されている。また、撮像部11側に設けられるドーム状筐体102は、可視光等の所定波長帯域の光に対して透明な光学部材によって形成されている。このような筐体100は、撮像部11と、制御部12と、送信部13と、磁界発生部14と、電源部15と、永久磁石16とを液密に内包する。なお、図2においては、一方のドーム状筐体102側にのみ撮像部11を設けているが、ドーム状筐体103側に撮像部11をさらに設けても良い。この場合には、ドーム状筐体103も透明な光学部材によって形成される。
撮像部11は、照明部111と、光学系112と、撮像素子113とを有する。照明部111はLED等の光源を有し、撮像素子113の撮像視野を含む領域に所定の色成分を有する照明光(例えば白色光)を発光して、ドーム状筐体102越しに被検体20内を照明する。光学系112は1又は複数のレンズを有し、被検体20からの光を集光して撮像素子113の受光面に結像させる。撮像素子113はCMOS又はCCD等のイメージセンサを有し、受光面で受光した光を電気信号に変換し、撮像信号として出力する。
制御部12は、所定の撮像周期で撮像部11を動作させると共に、撮像周期と同期して照明部111を発光させる。また、制御部12は、撮像部11が生成した撮像信号に対し、A/D変換等を含む所定の信号処理を施して画像データを生成する。
送信部13は、送信アンテナを備える。送信部13は、制御部12によって信号処理が施された画像データ及び関連情報を順次取得して変調処理を施し、送信アンテナを介して変調処理後の信号を外部へ順次無線送信する。
磁界発生部14は、電流が流れることにより磁界を発生する磁界発生コイル141と、磁界発生コイル141と並列に接続されて磁界発生コイル141と共に共振回路を形成するコンデンサ142とを含む。磁界発生部14は、電源部15からの電力供給を受けて所定の周波数の交番磁界を位置検出用磁界として発生する。
電源部15は、ボタン型電池やキャパシタ等の蓄電部と、磁気スイッチや光スイッチ等のスイッチ部とを有する。電源部15が磁気スイッチを有する構成とした場合、外部から印加された磁界によって電源のオンオフ状態を切り替え、オン状態の場合に蓄電部の電力をカプセル型内視鏡10の各構成部(撮像部11、制御部12、及び送信部13)に適宜供給し、オフ状態の場合は供給を停止する。
永久磁石16は、外部から印加される磁界によるカプセル型内視鏡10の誘導を可能にするために設けられる。永久磁石16は、磁化方向が筐体100の長軸Laと交差するように、筐体100の内部に固定配置されている。図2に示す場合、永久磁石16の磁化方向(図2の矢印M1)は、長軸Laと直交している。
図3は、図1に示す位置検出システム1の詳細な構成を示す図である。図3に示す磁界検出装置30は、複数の検出コイルC1〜C12が配設されたコイルユニット31と、複数の検出コイルC1〜C12からそれぞれ出力された検出信号を処理する信号処理部32とを備える。
検出コイルCn(n=1〜12)は、線材をらせん状に巻回したものであり、そのサイズは、例えば開口径が30〜40mm程度、高さが5mm程度である。検出コイルCnは、樹脂等の非金属材料によって形成された平板状のパネル33の主面上に配設されている。検出コイルCnには、その配設位置における磁界の変化に応じた電流が発生し、信号処理部32に出力される。この意味で、検出コイルCnに発生する電流は検出信号に他ならない。
コイルユニット31における検出コイルの配設位置や個数は、ベッド21上で検査を受ける被検体20内でカプセル型内視鏡10を検出する際の検出対象領域に応じて定められる。検出対象領域は、ベッド21上で受ける被検体20内でカプセル型内視鏡10が移動可能な範囲及びカプセル型内視鏡10が発生する位置検出用磁界の強度等の条件に応じて予め設定される。例えば、図1に示す場合には、ベッド21の上方領域の一部を含む3次元領域として検出対象領域Rが設定されている。
信号処理部32は、複数の検出コイルC1〜C12にそれぞれ対応する複数の信号処理チャネルCh1〜Ch12を備える。信号処理チャネルChnは、検出コイルCnから出力された検出信号を増幅する増幅部321と、増幅された検出信号をディジタル変換するA/D変換部(A/D)322と、ディジタル変換された検出信号に対して高速フーリエ変換処理を施して演算装置60へ出力するFFT処理部(FFT)323とを備える。
誘導用磁界発生装置40は、コイルユニット31に対してカプセル型内視鏡10の検出対象領域Rの反対側即ちコイルユニット31の下方領域側に配置され、ベッド21上で被検体20内に導入されたカプセル型内視鏡10の位置及び姿勢の少なくともいずれかを変化させるための誘導用磁界を発生する。ここで、カプセル型内視鏡10の姿勢は、水平面(XY平面)に対するカプセル型内視鏡10の長軸La(図2参照)の水平面に対する角度である仰角、及び、鉛直方向(Z方向)の軸回りにおける長軸Laの、所定の基準位置からの旋回角(方位角)によって表される。
図4は、誘導用磁界発生装置40の構成例を示す模式図である。図4に示すように、誘導用磁界発生装置40は、カプセル型内視鏡10の誘導用磁界を発生する磁界発生源としての永久磁石(以下、体外永久磁石という)41と、体外永久磁石41を支持する支持部材42と、支持部材42を介して体外永久磁石41の位置及び姿勢の少なくともいずれかを変化させる磁石駆動部43とを備える。
誘導用磁界発生装置40の少なくとも一部は導電体によって形成されている。一般に、誘導用磁界発生装置40が配置される領域には、カプセル型内視鏡10が発生する位置検出用磁界が存在するため、この位置検出用磁界が時間とともに変化することにより、誘導用磁界発生装置40に含まれる導電体に渦電流が流れて新たな磁界(干渉磁界)が発生する。このため、誘導用磁界発生装置40に含まれる導電体は、位置検出用磁界に対する干渉磁界の発生源となる。誘導用磁界発生装置40に含まれる導電体は、誘導用磁界制御装置50の制御の下で移動したり回転したりするため、干渉磁界も時間とともに変化する。
体外永久磁石41は、例えば直方体形状を有する棒磁石によって実現される。この場合、体外永久磁石41は、初期状態において、自身の磁化方向と平行な4つの面の内の1つの面PLが水平面と平行になるように配置される(図4を参照)。体外永久磁石41の材料は特に限定されないが、例えばネオジム磁石等の金属磁石を用いることができる。体外永久磁石41として金属磁石を用いる場合、体外永久磁石41自体が干渉磁界の発生源となる。体外永久磁石41が発生する誘導用磁界は定常的であるため、交番磁界である位置検出用磁界と分離することが可能である。
支持部材42の材料も特に限定されないが、支持部材42を金属等の導電体によって形成する場合、支持部材42も干渉磁界の発生源となり得る。
磁石駆動部43は、支持部材42を介して体外永久磁石41の位置及び姿勢を変化させる駆動機構である。磁石駆動部43は、体外永久磁石41を並進又は回転させるモータ等を含む。一般的なモータにおいては金属部材が用いられているため、磁石駆動部43も位置検出用磁界に対する干渉磁界の発生源となり得る。なお、支持部材42が金属によって形成され、且つ、図3に示すように、全ての検出コイルC1〜C12から見て磁石駆動部43が支持部材42によって覆われている場合には、磁石駆動部43を干渉磁界の発生源として考慮する必要はない。
図5は、磁石駆動部43の構成例を示すブロック図である。磁石駆動部43は、体外永久磁石41を水平面内で並進させる平面位置変更部431と、体外永久磁石41を鉛直方向に並進させる鉛直位置変更部432と、体外永久磁石41の中心を通り、体外永久磁石41の磁化方向と直交し、且つ水平面と平行な軸の回りに体外永久磁石41を回転させることによって体外永久磁石41の仰角を変更させる仰角変更部433と、体外永久磁石41の中心を通る鉛直方向の軸に対して体外永久磁石41を回転させることによって体外永久磁石41の旋回角を変化させる旋回角変更部434と、を有する。以下、仰角変更部433が体外永久磁石41の仰角を変化させる際の回転軸(図4に示す軸a)を中心軸aといい、旋回角変更部434が体外永久磁石41の旋回角を変化させる際の回転軸(図4に示す軸b)を鉛直軸bという。
上述した磁石駆動部43の動作により、体外永久磁石41及び支持部材42は、3次元空間における並進、中心軸a回りの回転、及び鉛直軸b回りの回転の5つの自由度を有する。
誘導用磁界制御装置50は、カプセル型内視鏡10に対するユーザ所望の誘導を実現するために、誘導用磁界発生装置40に対する制御を行う。誘導用磁界制御装置50は、図3に示すように、被検体20内に導入されたカプセル型内視鏡10を誘導する際にユーザが用いる操作入力部51と、操作入力部51に対する操作に基づいて、磁石駆動部43(駆動機構)に対する制御信号を生成する制御信号生成部52と、この制御信号を磁石駆動部43及び演算装置60に出力する制御信号出力部53とを備える。
操作入力部51は、ジョイスティック、各種ボタンやスイッチを備えた操作卓、キーボード等の入力デバイスによって構成され、外部からなされる操作に応じた信号を制御信号生成部52に入力する。具体的には、操作入力部51は、ユーザによりなされる操作に従って、被検体20内に導入されたカプセル型内視鏡10の位置と姿勢との少なくともいずれかを変化させる操作信号を制御信号生成部52に入力する。
制御信号生成部52は、操作入力部51から入力される操作信号に応じて、誘導用磁界発生装置40の磁石駆動部43を制御する制御信号を生成する。
制御信号出力部53は、この制御信号を誘導用磁界発生装置40に出力すると共に、演算装置60に出力する。
カプセル型内視鏡10を誘導する際には、誘導用磁界制御装置50の制御の下で磁石駆動部43を動作させることにより、支持部材42を介して体外永久磁石41を水平面及び鉛直方向においてそれぞれ並進させると共に、仰角と旋回角とを変化させる。カプセル型内視鏡10の位置及び姿勢は、体外永久磁石41の動きに追従して変化する。
演算装置60は、信号処理部32から出力された位置検出用磁界の検出信号に基づき、カプセル型内視鏡10の位置及び姿勢を算出する演算処理や、受信装置70が受信した受信信号に基づき、被検体20内の画像を生成する演算処理を実行する。演算装置60は、図3に示すように、カプセル型内視鏡10が発生した位置検出用磁界に基づいてカプセル型内視鏡10の位置及び姿勢の少なくともいずれかを算出する位置算出部601と、カプセル型内視鏡10の位置及び姿勢の少なくともいずれかを補正するための補正値を取得する補正値取得部602と、位置算出部601が算出したカプセル型内視鏡10の位置及び姿勢の少なくともいずれかを補正する位置補正部603と、当該位置検出システム1において用いられる各種情報を記憶する記憶部604と、受信装置70が受信した受信信号に対して所定の画像処理を施すことにより、カプセル型内視鏡10が撮像した被検体20内の画像の画像データを生成する画像処理部605と、被検体20内の画像やカプセル型内視鏡10の位置及び姿勢等の各種情報を表示装置80に出力する出力部606と、を備える。
位置算出部601は、信号処理部32の複数のチャネル(図3ではCh1〜Ch12)からカプセル型内視鏡10が発生した位置検出用磁界の検出信号をそれぞれ取得し、これらの検出信号に基づいて、カプセル型内視鏡10の位置及び姿勢を算出する。
補正値取得部602は、位置補正部603によって直前に算出されたカプセル型内視鏡10の位置情報を記憶部604から取得すると共に、誘導用磁界発生装置40に対する制御信号を誘導用磁界制御装置50から取得し、これらの位置情報及び制御信号に基づいて、位置算出部601が算出したカプセル型内視鏡10の位置及び姿勢の少なくともいずれかを補正するための補正値を、後述するルックアップテーブル(LUT)から取得する。
位置補正部603は、位置算出部601が算出したカプセル型内視鏡10の位置及び姿勢を、補正値取得部602が取得した補正値を用いて補正することにより、補正済みのカプセル型内視鏡10の位置及び姿勢の少なくともいずれかを算出する。
記憶部604は、位置補正部603が算出した補正済みのカプセル型内視鏡10の位置及び姿勢を表す情報を記憶する位置情報記憶部607と、カプセル型内視鏡10の位置及び姿勢を補正するための補正値に関する情報を格納したルックアップテーブル(LUT)を記憶するLUT記憶部608と、画像処理部605が生成した画像の画像データを記憶する画像データ記憶部609とを備える。以下、カプセル型内視鏡10の位置及び姿勢を表す情報を位置情報ともいう。
LUT記憶部608は、カプセル型内視鏡10の位置及び姿勢の少なくともいずれか、干渉磁界の発生源の位置及び姿勢の少なくともいずれか、並びにカプセル型内視鏡10の位置及び姿勢の少なくともいずれかに対する補正値、を関連付けたルックアップテーブルを記憶している。ここでいう補正値は、カプセル型内視鏡10と干渉磁界の発生源との相対的な位置及び姿勢の関係に応じて発生するカプセル型内視鏡10の位置及び姿勢の誤差に相当する。このルックアップテーブルは、カプセル型内視鏡10の位置及び姿勢と、干渉磁界の発生源の位置及び姿勢とを変化させた場合のカプセル型内視鏡10の位置検出結果を予め実測する又はシミュレーションで測定することによって作成され、LUT記憶部608に格納されている。
記憶部604は、ROMやRAM等を用いて実現される。記憶部604は、演算装置60の各部を制御するための各種制御プログラム及び各種パラメータや、カプセル型内視鏡10の位置検出演算プログラムや、画像処理プログラム等を記憶する。
以上の構成を有する演算装置60は、例えばCPU等の汎用プロセッサ、ROM及びRAM等を備えたパーソナルコンピュータやワークステーション等のコンピュータによって構成される。
受信装置70は、カプセル型内視鏡10による検査を行う際に被検体20の体表に貼付される複数の受信アンテナ71のうち、カプセル型内視鏡10から送信される無線信号に対して最も受信強度の高い受信アンテナ71を選択し、選択した受信アンテナ71を介して受信した無線信号に対して復調処理等を施すことにより、画像信号及び関連情報を取得する。
表示装置80は、液晶や有機EL等の各種ディスプレイを含み、演算装置60において生成された位置情報や画像データに基づき、被検体20の体内画像やカプセル型内視鏡10の位置や姿勢等の情報を画面表示する。
次に、実施の形態1に係る位置検出方法を説明する。図6は、位置検出システム1が行う位置検出方法を示すフローチャートである。また、図7は、図3に示すカプセル型内視鏡10と、複数の検出コイルC1〜C12と、体外永久磁石41との位置関係を示す模式図である。図7の矢印M2は、体外永久磁石41の磁化方向を示す。
以下においては説明を簡単にするため、カプセル型内視鏡10が発生する位置検出用磁界に対する干渉磁界の発生源が体外永久磁石41のみであるとし、支持部材42及び磁石駆動部43の影響は無視できるものとする。また、以下に説明する位置補正方法においては、カプセル型内視鏡10の位置及び姿勢を補正する処理を行うものとする。
まず、ステップS10において、カプセル型内視鏡10の電源をオンにする。これにより、電源部15(図2参照)からカプセル型内視鏡10の各部への電力供給が開始され、撮像部11が撮像を開始すると共に、磁界発生部14が位置検出用磁界の発生を開始する。
続くステップS11において、カプセル型内視鏡10を被検体20内に導入し、カプセル型内視鏡10に対する誘導を開始する。詳細には、ユーザが操作入力部51(図3参照)を操作すると、操作入力部51は、入力された操作に応じた操作信号を制御信号生成部52に入力する。制御信号生成部52は、この操作信号に応じて、体外永久磁石41の3次元空間における位置(x,y,z)及び姿勢(仰角φ、旋回角θ)を変化させるための制御信号を生成する。制御信号出力部53は、この制御信号を磁石駆動部43に出力すると共に、演算装置60の補正値取得部602に出力する。
続くステップS12において、位置算出部601は、複数の検出コイルCnからそれぞれ出力された複数の検出信号に基づいて、カプセル型内視鏡10の位置及び姿勢を算出する。具体的には、時刻tiにおけるカプセル型内視鏡10の位置及び姿勢を表す5つの値(xs(ti),ys(ti),zs(ti),φs(ti),θs(ti))を算出する。ここで、時刻tiの添え字iは、位置検出用磁界の検出時刻の順序を表し、i=0、1、2、…である。
続くステップS13において、補正値取得部602は、位置補正部603が直前に算出した最新の補正済みのカプセル型内視鏡10の位置及び姿勢を位置情報記憶部607から取得する。即ち、位置情報記憶部607に記憶されている最新の位置及び姿勢を取得する。具体的には、時刻ti-1における補正済みのカプセル型内視鏡10の位置及び姿勢を表す5つの値(xc(ti-1),yc(ti-1),zc(ti-1),φc(ti-1),θc(ti-1))を算出する。なお、補正済みのカプセル型内視鏡10の位置及び姿勢がまだ算出されていない場合(即ちi=0の場合)、補正値取得部602は、最新の補正済みのカプセル型内視鏡10の位置及び姿勢に相当するデータとして、ステップS12において算出された補正前の位置及び姿勢を取得しても良いし、予め設定されている初期値を記憶部604から取得しても良い。
続くステップS14において、補正値取得部602は、制御信号出力部53から出力された制御信号に基づいて、カプセル型内視鏡10が発生する位置検出用磁界に対する干渉磁界の発生源の現在の位置及び姿勢を取得する。具体的には、時刻tiにおける体外永久磁石41の位置及び姿勢を表す5つの値(xm(ti),ym(ti),zm(ti),φm(ti),θm(ti))を取得する。
続くステップS15において、補正値取得部602は、ステップS13において取得した補正済みのカプセル型内視鏡10の位置及び姿勢と、ステップS14において取得した干渉磁界の発生源の位置及び姿勢とに基づいて、カプセル型内視鏡10の位置及び姿勢に対する補正値を取得する。
詳細には、補正値取得部602は、カプセル型内視鏡10の位置及び姿勢(xc(ti-1),yc(ti-1),zc(ti-1),φc(ti-1),θc(ti-1))と、体外永久磁石41の位置及び姿勢(xm(ti),ym(ti),zm(ti),φm(ti),θm(ti))とを入力値として、LUT記憶部608に記憶されているルックアップテーブルから補正値(Δx,Δy,Δz,Δφ,Δθ)を抽出する。なお、演算装置60がカプセル型内視鏡10の位置及び姿勢のいずれかを補正する場合、補正値取得部602は、そのいずれかの補正値のみを抽出する。
続くステップS16において、位置補正部603は、ステップS12において検出信号から算出されたカプセル型内視鏡10の位置及び姿勢を、ステップS15において取得された補正値を用いて補正する。即ち、次式(1)に示すように、検出信号から算出されたカプセル型内視鏡10の位置及び姿勢を表す各値(xs(ti),ys(ti),zs(ti),φs(ti),θs(ti))から補正値(Δx,Δy,Δz,Δφ,Δθ)を差し引くことにより、時刻tiにおける補正済みのカプセル型内視鏡10の位置及び姿勢(xc(ti),yc(ti),zc(ti),φc(ti),θc(ti))を算出する。
Figure 0006169303
続くステップS17において、位置補正部603は、補正済みのカプセル型内視鏡10の位置及び姿勢を位置情報記憶部607に記憶させる。
続くステップS18において、演算装置60は、カプセル型内視鏡10の位置検出演算を終了するか否かを判断する。具体的には、カプセル型内視鏡10からの無線信号の送信が停止した、カプセル型内視鏡10の電源がオンにされてから所定時間以上経過した、当該演算装置60の動作を終了させる操作がなされたといった場合に、演算装置60は、位置検出演算を終了すると判断する。
位置検出演算を終了しない場合(ステップS18:No)、処理はステップS12に移行する。一方、位置検出演算を終了する場合(ステップS18:Yes)、処理は終了する。
以上説明したように、本発明の実施の形態1によれば、誘導用磁界発生装置40の少なくとも一部を導電体で形成することにより、この導電体を、位置検出用磁界に対する既知の干渉磁界の発生源として扱うことができる。従って、干渉磁界の発生源の位置や姿勢が時間とともに変化する場合であっても、この発生源の位置及び姿勢と、カプセル型内視鏡10の位置及び姿勢とに基づいて、誘導用磁界発生装置40に含まれる導電体が発生する干渉磁界の影響を演算によって除去することにより、カプセル型内視鏡10の位置及び姿勢の検出精度を高めることができる。
(変形例)
次に、本発明の実施の形態1の変形例について説明する。上記実施の形態1においては、補正値取得部602がLUT記憶部608に記憶されたルックアップテーブルを参照して補正値を取得したが、予め作成された関数を用いて補正値を算出することとしても良い。
詳細には、カプセル型内視鏡10の位置及び姿勢並びに干渉磁界の発生源(体外永久磁石41等)の位置及び姿勢を変数(入力値)として、カプセル型内視鏡10の位置及び姿勢の補正値を与える関数を予め作成し、記憶部604に記憶させておく。次式(2)に示すように、補正値(Δx,Δy,Δz,Δφ,Δθ)は、カプセル型内視鏡10の座標(xc,yc,zc)、仰角φc及び旋回角θcと、干渉磁界の発生源の座標(xm,ym,zm)、仰角φm及び旋回角θmとを変数とする関数(fx,fy,fz,fφ,fθ)によってそれぞれ与えられる。
Figure 0006169303
この場合、図6のステップS15において補正値取得部602は、ステップS13において取得された補正済みのカプセル型内視鏡10の位置及び姿勢と、ステップS14において取得された干渉磁界の発生源の位置及び姿勢とを上記関数に代入することにより、カプセル型内視鏡10の位置及び姿勢の補正値を算出して出力する。
(実施の形態2)
次に、本発明の実施の形態2について説明する。図7は、体外永久磁石とカプセル型内視鏡と複数の検出コイルとの位置関係の例を示す模式図である。
本実施の形態2においては、カプセル型内視鏡10と干渉磁界の発生源との相対的な位置関係や、干渉磁界の発生源の形状の対称性を利用することにより、補正値を取得する際の入力値の数を上記実施の形態1と比べて少なくする。
以下、具体的に説明する。例えば、カプセル型内視鏡10が被検体20(図1参照)内において液体中に浮遊している場合、図7に示すように、カプセル型内視鏡10は通常、体外永久磁石41の鉛直上方において誘導用磁界に拘束され、体外永久磁石41の水平面内における並進運動に追従して移動する。つまり、カプセル型内視鏡10の水平面内における座標(xc,yc)は、体外永久磁石41の水平面内における座標(xm,ym)とほぼ等しくなり、水平面内においては干渉磁界の影響による位置の誤差がほとんど発生しない。従って、この場合、カプセル型内視鏡10の座標(xc,yc)及び体外永久磁石41の座標(xm,ym)を、補正値取得部602が補正値を取得する際の入力値から除外することができる。換言すれば、カプセル型内視鏡10の座標(xc,yc)及び体外永久磁石41の座標(xm,ym)を、補正値取得部602が補正値を取得するためのルックアップテーブル又は関数における入力値から除外することができる。
また、この場合、カプセル型内視鏡10は、鉛直軸b回りの体外永久磁石41の回転に追従して回転する。つまり、カプセル型内視鏡10の旋回角θcは、体外永久磁石41の旋回角θmとほぼ等しくなり、干渉磁界の影響による旋回角方向の誤差もほとんど発生しない。従って、カプセル型内視鏡10の旋回角θc及び体外永久磁石41の旋回角θmも、補正値取得部602が補正値を取得する際の入力値から除外することができる。換言すれば、カプセル型内視鏡10の旋回角θc及び体外永久磁石41の旋回角θmも、補正値取得部602が補正値を取得するためのルックアップテーブル又は関数における入力値から除外することができる。
従って、この場合、補正値取得部602は、次式(3a)〜(3e)に示すように、カプセル型内視鏡10及び体外永久磁石41の鉛直方向における座標zc、zm、並びにカプセル型内視鏡10及び体外永久磁石41の仰角φc、φmのみを入力値として、カプセル型内視鏡10の位置及び姿勢の補正値を取得する。
Δx=fx(zc,φc,zm,φm) …(3a)
Δy=fy(zc,φc,zm,φm) …(3b)
Δz=fz(zc,φc,zm,φm) …(3c)
Δφ=fφ(zc,φc,zm,φm) …(3d)
Δθ=fθ(zc,φc,zm,φm) …(3e)
なお、演算装置60がカプセル型内視鏡10の位置及び姿勢のいずれかを補正する場合、補正値取得部602は、そのいずれかの補正値のみを抽出する。
以上説明したように、本発明の実施の形態2によれば、上記実施の形態1と同様の効果に加えて、カプセル型内視鏡10と干渉磁界の発生源との相対的な位置関係や、干渉磁界の発生源の形状の対称性を利用することにより、補正値を取得する際に用いる入力値の数を低減し、演算負荷を軽減することが可能となる。
(変形例)
次に、本発明の実施の形態2の変形例について説明する。図8に示すように、磁化方向と直交する軸回りに回転対称の形状をなす体外永久磁石44を用いる場合を考える。図8においては、体外永久磁石44の形状を円柱状としている。なお、図8の矢印M3は、体外永久磁石44の磁化方向を示す。この場合、体外永久磁石44の形状の対称性から、回転対称の中心軸a回りに体外永久磁石44を回転させたとしても、位置検出用磁界に対する干渉磁界の影響は変化しない。従って、カプセル型内視鏡10の仰角φc及び体外永久磁石44の仰角φmを、補正値取得部602が補正値を取得する際の入力値から除外することができる。換言すれば、カプセル型内視鏡10の仰角φc及び体外永久磁石44の仰角φmも、補正値取得部602が補正値を取得するためのルックアップテーブル又は関数における入力値から除外することができる。
従って、カプセル型内視鏡10及び干渉磁界の発生源との鉛直方向における座標zc、zmのみから、カプセル型内視鏡10の位置の補正値Δzを補正値として取得することができる。さらに、カプセル型内視鏡10が被検体20(図1参照)内において液体中に浮遊している場合、カプセル型内視鏡10の鉛直方向における座標zcは、カプセル型内視鏡10に作用する重力、浮力、及び体外永久磁石44からの距離に応じた磁気引力によって決まる。従って、この場合、補正値取得部602は、次式(4a)〜(4e)に示すように、体外永久磁石44の鉛直方向における座標zmのみを入力値として、カプセル型内視鏡10の位置及び姿勢の補正値を取得する。
Δx=fx(zm) …(4a)
Δy=fy(zm) …(4b)
Δz=fz(zm) …(4c)
Δφ=fφ(zm) …(4d)
Δθ=fθ(zm) …(4e)
一例として、干渉磁界の発生源としての体外永久磁石44の鉛直方向における座標zmを入力値とした場合において、補正値取得部602がカプセル型内視鏡10の位置を補正するときの補正式を次式(5)で示す。
Figure 0006169303
式(5)の左辺は、補正後のカプセル型内視鏡10の3次元空間における位置を示す。式(5)の右辺第1項は、補正前のカプセル型内視鏡10の3次元空間における位置、即ち、複数の検出コイルCnから出力された検出信号から算出された位置を示す。式(5)の右辺第2項は、体外永久磁石44の鉛直方向における座標zmを入力値(変数)とする補正値(Δx,Δy,Δz)を示す。
式(5)の右辺第2項のうち、3行7列の行列は補正係数を表す行列である。この補正係数を表す行列の各要素kxj、kyj、kzj(j=0、1、2、3、4、5、6)の値を図9に示す。図9に示す各値は、シミュレーションにより取得したものである。式(5)の右辺第2項のうち、7行1列の列ベクトルは、座標zmを用いて構成される7次元空間の基底ベクトルである。補正値取得部602は、この列ベクトルに補正係数を表す行列を作用する演算を行うことによってカプセル型内視鏡10の位置の補正値(Δx,Δy,Δz)を算出する。
図10の(a)〜(c)は、体外永久磁石44の鉛直方向における座標zmと、補正前のカプセル型内視鏡10の座標(xs,ys,zs)及び補正後のカプセル型内視鏡10の座標(xc,yc,zc)との関係を、XYZの方向別に示すグラフである。図10の(a)〜(c)に示すように、体外永久磁石44の鉛直方向における座標zmが大きくなるほど、即ち、体外永久磁石44がカプセル型内視鏡10に近づくほど、干渉磁界の影響が大きくなり、補正前におけるカプセル型内視鏡10の位置の誤差が大きくなることがわかる。
(実施の形態3)
次に、本発明の実施の形態3について説明する。図11は、本発明の実施の形態3に係る位置検出システムの一部の構成を示す模式図である。本実施の形態3に係る位置検出システムの構成は、全体として実施の形態1と同様であり(図1〜図3参照)、体外永久磁石41を支持する支持部材の形状が実施の形態1と異なる。
図11に示すように、本実施の形態3における誘導用磁界発生装置40Aは、3次元空間において並進可能であると共に、体外永久磁石41を中心軸a及び鉛直軸b回りに回転可能に支持する支持部材45を備える。なお、図11においては、支持部材45内において体外永久磁石41を回転させる回転機構を省略している。
支持部材45は、円盤状をなす板材451と、該板材451に固定されたフレーム452とを備える。フレーム452は、鉛直方向に沿ってそれぞれ延びる複数(図11においては4つ)の支柱453と、これらの支柱453によって板材451の上方に支持された円環部材454とを有する。これらの板材451及びフレーム452を含む支持部材45全体は、鉛直方向の中心軸に対して回転対称な形状をなしている。図11に示す場合、この中心軸は鉛直軸bと一致している。
板材451及びフレーム452は、金属等の導電体によって形成されている。このため、支持部材45は、干渉磁界の発生源となり得る。
なお、支持部材45の上面及び側面におけるフレーム452は体外永久磁石41の周囲を覆っているわけではないため、体外永久磁石41が発生する誘導用磁界は、支持部材45により遮蔽されることなく、検出対象領域R(図1参照)にも発生する。従って、支持部材45を介して体外永久磁石41を3次元空間において並進させ、また、支持部材45の内側において体外永久磁石41を回転させることで、誘導用磁界によりカプセル型内視鏡10を誘導することができる。
フレーム452の円環部材454は、体外永久磁石41と比して検出コイルCnの近くに位置するように配設されている。そのため、検出コイルCnの位置における位置検出用磁界に対しては、フレーム452による干渉磁界の影響が支配的となる。従って、フレーム452の内側で体外永久磁石41が中心軸a又は鉛直軸b回りに回転したとしても、この体外永久磁石41の回転が検出コイルCnによって出力される検出信号に影響を与えることはほとんどない。この場合、補正値取得部602が補正値を取得する際の入力値から、体外永久磁石41の仰角φm及び旋回角θmを除外することができる。換言すれば、体外永久磁石41の仰角φm及び旋回角θmを、補正値取得部602が補正値を取得するためのルックアップテーブル又は関数における入力値から除外することができる。
その結果、支持部材45を用いる場合、図6のステップS15において補正値取得部602が補正値を取得する際に使用するルックアップテーブル又は関数における入力値を、カプセル型内視鏡10の位置及び姿勢を表す5つの値(xc,yc,zc,φc,θc)、並びに、体外永久磁石41(支持部材45)の位置を表す3つの値(xm,ym,zm)に低減することができる。
以上説明したように、本発明の実施の形態3によれば、体外永久磁石41を支持する支持部材として、干渉磁界の発生源となる導電体によって形成される支持部材45を意図的に配置し、支持部材の内側で体外永久磁石41を回転させるので、補正値を取得する際に用いる入力値の数を低減し、演算負荷を軽減することが可能となる。
(変形例)
次に、本発明の実施の形態3の変形例について説明する。上述したように、カプセル型内視鏡10が被検体20(図1参照)内において液体中に浮遊している場合、カプセル型内視鏡10は通常、体外永久磁石41の鉛直上方において誘導用磁界に拘束され、体外永久磁石41の水平面内における並進運動に追従して移動する。この場合、水平面内においては、カプセル型内視鏡10の座標(xc,yc)と、体外永久磁石41の座標(xm,ym)とがほぼ等しくなり、干渉磁界の影響による位置の誤差はほとんど発生しない。従って、上記実施の形態3に対し、補正値を取得する際の入力値から、体外永久磁石41(支持部材45)の水平面内における座標(xm,ym)をさらに除外することができる。つまり、体外永久磁石41側の入力値を、鉛直方向における座標zmのみとすることができる。
(実施の形態4)
次に、本発明の実施の形態4について説明する。図12は、本発明の実施の形態4に係る位置検出システムの一部の構成を示す模式図である。本実施の形態4に係る位置検出システムの構成は、全体として実施の形態1と同様であり(図1〜図3参照)、体外永久磁石41を支持する支持部材の形状が実施の形態1と異なる。
図12に示すように、本実施の形態4における誘導用磁界発生装置40Bは、水平面内で並進可能であると共に、体外永久磁石41を中心軸a及び鉛直軸b回りに回転可能且つ鉛直方向において並進可能に支持する支持部材46を備える。なお、図12においては、支持部材46内において体外永久磁石41を回転させる回転機構及び鉛直方向に移動させる移動機構を省略している。
支持部材46は、図11に示す支持部材45と同様、円盤状をなす板材461と、該板材461に固定されたフレーム462とを備え、鉛直方向の中心軸に対して回転対称な形状をなしている。図12に示す場合、この中心軸は鉛直軸bと一致している。フレーム462は、鉛直方向に沿ってそれぞれ延びる複数(図12においては4つ)の支柱463と、これらの支柱463によって板材461の上方に支持された円環部材464とを有する。各支柱463の長さは、図11に示す支柱453よりも長く、体外永久磁石41は支柱463の長さの範囲内で鉛直方向に移動することができる。円環部材464は、体外永久磁石41と比して検出コイルCnの近くに位置するように配設されている。
板材461及びフレーム462は金属等の導電体によって形成されている。このため、支持部材46は、干渉磁界の発生源となり得る。
本実施の形態4においては、支持部材46を、鉛直方向における高さを固定したまま、水平面内においてのみ並進させる。それにより、複数の検出コイルCnの位置における位置検出用磁界に対して支配的な影響を及ぼす干渉磁界の発生源である円環部材464の高さが一定となる。従って、支持部材46の内側で体外永久磁石41が鉛直方向に移動し、或いは中心軸a又は鉛直軸b回りに回転したとしても、この体外永久磁石41の移動及び回転が複数の検出コイルCnから出力される検出信号に影響を与えることはほとんどない。この場合、補正値を取得する際の入力値から、補正値取得部602が体外永久磁石41の鉛直方向の座標zm、仰角φm及び旋回角θmを除外することができる。換言すれば、体外永久磁石41の鉛直方向の座標zm、仰角φm及び旋回角θmを、補正値取得部602が補正値を取得するためのルックアップテーブル又は関数の変数から除外することができる。
その結果、支持部材46を用いる場合、図6のステップS15において補正値を取得する際に使用するルックアップテーブル又は関数における入力値を、カプセル型内視鏡10の位置及び姿勢を表す5つの値(xc,yc,zc,φc,θc)、並びに、体外永久磁石41(支持部材46)の水平面内における位置を表す2つの値(xm,ym)に低減することができる。
以上説明したように、本発明の実施の形態4によれば、体外永久磁石41を支持する支持部材として、干渉磁界の発生源となる導電体によって形成される支持部材46を意図的に配置し、支持部材の内側で体外永久磁石41を回転させると共に鉛直方向に移動させることにより、補正値を取得する際に用いる入力値の数をさらに低減して演算負荷を軽減することが可能となる。
(変形例)
次に、本発明の実施の形態4の変形例について説明する。上述したように、カプセル型内視鏡10が被検体20(図1参照)内において液体中に浮遊している場合、カプセル型内視鏡10は通常、体外永久磁石41の鉛直上方において誘導用磁界に拘束され、体外永久磁石41の水平面内における並進運動に追従して移動するため、水平面内においては干渉磁界の影響による位置の誤差はほとんど発生しない。従って、上記実施の形態4に対して、さらに、体外永久磁石41(支持部材46)の水平面内における座標(xm,ym)を、補正値を取得する際の入力値から除外することができる。つまり、カプセル型内視鏡10の位置及び姿勢のみから補正値を取得することが可能となる。
以上説明した本発明の実施の形態1〜4及びこれらの変形例は、本発明を実施するための例にすぎず、本発明はこれらに限定されるものではない。また、本発明は、上記実施の形態1〜4及びこれらの変形例に開示されている複数の構成要素を適宜組み合わせることによって、種々の発明を生成することができる。本発明は、仕様等に応じて種々変形することが可能であり、さらに本発明の範囲内において、他の様々な実施の形態が可能であることは、上記記載から自明である。
1 位置検出システム
10 カプセル型内視鏡
11 撮像部
12 制御部
13 送信部
14 磁界発生部
15 電源部
16 永久磁石
20 被検体
21 ベッド
30 磁界検出装置
31 コイルユニット
32 信号処理部
33 パネル
40、40A、40B 誘導用磁界発生装置
41、44 体外永久磁石
42、45、46 支持部材
43 磁石駆動部
50 誘導用磁界制御装置
51 操作入力部
52 制御信号生成部
53 制御信号出力部
60 演算装置
70 受信装置
71 受信アンテナ
80 表示装置
100 筐体
101 筒状筐体
102、103 ドーム状筐体
111 照明部
112 光学系
113 撮像素子
141 磁界発生コイル
142 コンデンサ
321 増幅部
322 A/D変換部(A/D)
323 FFT処理部(FFT)
431 平面位置変更部
432 鉛直位置変更部
433 仰角変更部
434 旋回角変更部
451、461 板材
452、462 フレーム
453、463 支柱
454、464 円環部材
601 位置算出部
602 補正値取得部
603 位置補正部
604 記憶部
605 画像処理部
606 出力部
607 位置情報記憶部
608 LUT記憶部
609 画像データ記憶部

Claims (15)

  1. 位置検出用の交番磁界を発生する磁界発生部、及び永久磁石が内部に設けられており、被検体内に導入される検知体と、
    前記被検体の外部に配設されており、前記交番磁界を検出して検出信号をそれぞれ出力する複数の検出コイルと、
    前記検知体を誘導するための誘導磁界を発生する磁界発生源と、前記磁界発生源の位置又は姿勢の少なくともいずれかを変化させる駆動機構と、を有し、少なくとも一部が前記交番磁界の作用により干渉磁界を発生する導電体からなる誘導磁界発生装置と、
    前記駆動機構の動作を制御する誘導磁界制御装置と、
    前記複数の検出コイルがそれぞれ出力した複数の前記検出信号と、前記導電体の位置又は姿勢の少なくともいずれかとを用いて、前記検知体の位置又は姿勢の少なくともいずれかを算出する位置検出装置と、
    を備えることを特徴とする位置検出システム。
  2. 前記位置検出装置は、前記誘導磁界制御装置から出力される前記駆動機構の制御信号に基づいて、前記導電体の位置及び姿勢を決定する、
    ことを特徴とする請求項1に記載の位置検出システム。
  3. 前記位置検出装置は、
    前記複数の検出コイルがそれぞれ出力した複数の前記検出信号に基づいて、前記検知体の位置又は姿勢の少なくともいずれかを算出する位置算出部と、
    前記検知体の位置又は姿勢、並びに前記導電体の位置又は姿勢の少なくともいずれかに応じて定まる補正値であって、前記検知体の位置又は姿勢の少なくともいずれかに対する補正値、を関連付けた情報を記憶する記憶部と、
    当該位置検出装置が算出した最新の補正済みの前記検知体の位置又は姿勢の少なくともいずれかと、前記導電体の位置又は姿勢の少なくともいずれかとに基づいて、前記記憶部から前記補正値を取得する補正値取得部と、
    前記補正値取得部が取得した前記補正値を用いて、前記位置算出部が算出した前記検知体の位置又は姿勢の少なくともいずれかを補正する位置補正部と、
    を有することを特徴とする請求項1に記載の位置検出システム。
  4. 前記記憶部は、前記検知体の位置又は姿勢の少なくともいずれか、並びに前記導電体の位置又は姿勢の少なくともいずれかに応じて定まる前記検知体の位置又は姿勢の少なくともいずれかに対する補正値、を関連付けたルックアップテーブルを記憶し、
    前記補正値取得部は、前記最新の補正済みの前記検知体の位置又は姿勢の少なくともいずれかと、前記導電体の位置又は姿勢の少なくともいずれかとを入力値として、前記ルックアップテーブルから前記補正値を抽出する、
    ことを特徴とする請求項3に記載の位置検出システム。
  5. 前記記憶部は、前記検知体の位置又は姿勢の少なくともいずれかと、前記導電体の位置又は姿勢の少なくともいずれかとを入力値として、前記検知体と前記導電体との相対的な位置又は姿勢の関係に応じて定まる前記検知体の位置又は姿勢の少なくともいずれかに対する補正値を算出するための関数を記憶し、
    前記補正値取得部は、前記最新の補正済みの前記検知体の位置又は姿勢の少なくともいずれかと、前記導電体の位置又は姿勢の少なくともいずれかとを入力値として、前記関数を用いて前記補正値を算出する、
    ことを特徴とする請求項3に記載の位置検出システム。
  6. 前記導電体は、前記磁界発生源、又は前記磁界発生源と共に位置又は姿勢を変更可能な部材である、
    ことを特徴とする請求項3に記載の位置検出システム。
  7. 前記磁界発生源は、磁化方向と直交する軸回りに略回転対称な形状をなし、
    前記補正値取得部は、前記検知体及び前記磁界発生源の鉛直方向の位置に基づいて前記補正値を取得する、
    ことを特徴とする請求項6に記載の位置検出システム。
  8. 前記磁界発生源は、磁化方向と直交する軸回りに略回転対称な形状をなし、
    前記補正値取得部は、前記検知体が前記被検体内において液体中に浮遊している場合、前記磁界発生源の鉛直方向の位置に基づいて前記補正値を取得する、
    ことを特徴とする請求項6に記載の位置検出システム。
  9. 前記補正値取得部は、前記検知体及び前記磁界発生源の鉛直方向の位置並びに前記検知体及び前記磁界発生源の姿勢のうち水平面に対する仰角に基づいて前記補正値を取得する、
    ことを特徴とする請求項6に記載の位置検出システム。
  10. 前記補正値取得部は、前記検知体及び前記磁界発生源の姿勢に基づいて前記補正値を取得する、
    ことを特徴とする請求項6に記載の位置検出システム。
  11. 前記導電体は、前記磁界発生源を互いに直交する2つの軸回りに回転可能に支持すると共に、前記磁界発生源と共に3次元空間において並進可能であり、且つ、少なくとも一部が前記磁界発生源と比して前記複数の検出コイルの近くに位置する支持部材であり、
    前記補正値取得部は、前記導電体の姿勢を前記入力値から除外して前記補正値を取得する、
    ことを特徴とする請求項4に記載の位置検出システム。
  12. 前記導電体は、前記磁界発生源を互いに直交する2つの軸回りに回転可能且つ鉛直方向に移動可能に支持すると共に、前記磁界発生源と共に2次元空間において並進可能であり、且つ、少なくとも一部が前記磁界発生源と比して前記複数の検出コイルの近くに位置する支持部材であり、
    前記補正値取得部は、前記導電体の姿勢及び鉛直方向における位置を前記入力値から除外して前記補正値を取得する、
    ことを特徴とする請求項4に記載の位置検出システム。
  13. 前記検知体は、前記導電体の2次元平面における並進運動に追従して並進し、
    前記補正値取得部は、当該位置検出装置が直前に算出した補正済みの前記検知体の2次元平面における位置及び前記導電体の2次元平面における位置を前記入力値から除外して前記補正値を取得する、
    ことを特徴とする請求項11に記載の位置検出システム。
  14. 前記検知体は、前記被検体内を撮像することにより画像信号を生成する撮像部を備えるカプセル型内視鏡である、ことを特徴とする請求項1に記載の位置検出システム。
  15. 位置検出用の交番磁界を発生する磁界発生部と、永久磁石とが内部に設けられており、被検体内に導入される検知体の位置を検出する位置検出システムの作動方法であって、
    前記位置検出システムは、
    前記被検体の外部に配設されており、前記交番磁界を検出して検出信号をそれぞれ出力する複数の検出コイルと、
    前記検知体を誘導するための誘導磁界を発生する磁界発生源と、前記磁界発生源の位置又は姿勢の少なくともいずれかを変化させる駆動機構と、を有し、少なくとも一部が前記交番磁界の作用により干渉磁界を発生する導電体からなる誘導磁界発生装置と、
    前記検知体の位置又は姿勢の少なくともいずれかを検出する位置検出装置と、
    を備え、
    前記位置検出装置が、前記複数の検出コイルがそれぞれ出力した複数の前記検出信号に基づいて前記検知体の位置又は姿勢の少なくともいずれかを算出する検知体算出ステップと、
    前記位置検出装置が、前記導電体の位置又は姿勢の少なくともいずれかを取得するステップと、
    前記位置検出装置が、前記導電体の位置又は姿勢の少なくともいずれかを用いて補正された、前記検知体の位置又は姿勢の少なくともいずれかを算出する算出ステップと、
    を含むことを特徴とする位置検出システムの作動方法。
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