JP6161782B2 - 静電容量式インセル型タッチパネル及び表示装置 - Google Patents

Description

本発明の実施例は静電容量式インセル型タッチパネル及び表示装置に関する。

表示技術の急速な発展に伴い、タッチパネル（Ｔｏｕｃｈ Ｓｃｒｅｅｎ Ｐａｎｅｌ）は次第に我々の生活で普及してきた。現在、構造によって、タッチパネルはアドオン型タッチパネル（Ａｄｄ−ｏｎ Ｍｏｄｅ Ｔｏｕｃｈ Ｐａｎｅｌ）と、オンセル型タッチパネル（Ｏｎ−Ｃｅｌｌ Ｔｏｕｃｈ Ｐａｎｅｌ）と、インセル型タッチパネル（Ｉｎ−Ｃｅｌｌ Ｔｏｕｃｈ Ｐａｎｅｌ）と、に分かれる。アドオン型タッチパネルは、タッチパネルを液晶ディスプレイ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ，ＬＣＤ）と別々に生産して貼り合わせることによって得たタッチ機能を有する液晶ディスプレイであり、オンセル型タッチパネルは製造コストが高く、光透過率が低く、モジュールが厚い。静電容量式インセル型タッチパネルにおいて、タッチパネルのタッチ電極が液晶ディスプレイの内部に嵌め込まれ、そのタッチ誘導回路が液晶セル内で実現されるので、他のタッチパネルの実現方法と比べ、モジュールをより薄く、軽くして、コストをより低減させることができる。

また、タッチパネルの開口率を最大限に向上させるために、タッチパネルのＴＦＴアレイ基板における画素構造を設計するときに、デュアルゲートライン（Ｄｕａｌ Ｇａｔｅ Ｌｉｎｅ）の構造を採用することができる。図１に示すように、デュアルゲートラインの構造において、ＴＦＴアレイ基板における隣接する行の画素ユニットの間に、例えばＧａｔｅ１及びＧａｔｅ２、Ｇａｔｅ３及びＧａｔｅ４、Ｇａｔｅ５及びＧａｔｅ６の２つのゲート電極信号ライン（即ち、ゲートライン）があり、隣接する２列の画素ユニットは１組となり、該２列の画素ユニットの間に位置するデータライン（即ち、データライン）Ｄａｔｅ１、Ｄａｔｅ２、Ｄａｔｅ３を共用する。このように、図１の点線で示されたデータラインＳ１、Ｓ２、Ｓ３を形成する必要がなく、つまり、これらの位置にデータラインがない。

通常、前記技術を組合わせて、タッチパネルに交差する単独の駆動ライン及び誘導ラインの配置を実現することにより、タッチ表示の目的を達成する。しかし、生産工程は相対的に複雑であり、形成される駆動ライン又は誘導ラインの抵抗が大きい。ＡＤＳ（Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｓｕｐｅｒ Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ Ｓｗｉｔｃｈ）型タッチパネルにおいても、この課題は同様に存在する。

本発明の実施例において、従来技術であるＡＤＳ型タッチパネル又は表示装置における駆動ライン及び誘導ラインの抵抗が大きいという課題を解決するために、静電容量式インセル型タッチパネル及び表示装置が提供される。

本発明の１つの実施例に静電容量式インセル型タッチパネルが提供され、該静電容量式インセル型タッチパネルはアレイ基板と、対向基板とを備え、前記アレイ基板は複数のゲートライン及び複数のデータラインと、前記複数のゲートライン及び前記複数のデータラインによって画定された複数の画素と、同一金属層に配置された複数の金属ラインと、を備え、各前記画素は対応する共用電極を備え、全ての前記共用電極は行方向に配列された複数の第１の共用電極の組と、列方向に配列された複数の第２の共用電極の組とに分けられ、各第１の共用電極の組と各第２の共用電極の組は相互に絶縁し、全ての前記金属ラインは行方向に配列された複数の第１の金属ラインの組と、列方向に配列された複数の第２の金属ラインの組とに分けられ、各第１の金属ラインの組と各第２の金属ラインの組は相互に絶縁する。同一行方向に位置する各前記第１の金属ラインの組は電気的に接続され、且つ位置が対応する第１の共用電極の組にぞれぞれ電気的に接続されて形成された１つの駆動ラインと、同一列方向に位置する各前記第２の金属ラインの組は電気的に接続され、且つ位置が対応する第２の共用電極の組にぞれぞれ電気的に接続されて形成された１つの誘導ラインと、をさらに備える。

例えば、前記データラインは、平行して間隔を空けて配列する第１のデータライン及び第２のデータラインを備え、前記第１のデータラインのみがデータ信号の印加に適し、同一駆動ラインに属する各第１の金属ラインの組は少なくとも１つの前記金属ラインによって接続され、同一誘導ラインに属する各第２の金属ラインの組は前記第２のデータラインによって接続される。又は、同一駆動ラインに属する各第１の金属ラインの組は前記第２のデータラインによって接続され、同一誘導ラインに属する各第２の金属ラインの組は前記金属ラインによって接続される。同一駆動ラインに属する各第１の金属ラインの組は前記第２のデータラインによって接続され、同一誘導ラインに属する各第２の金属ラインは少なくとも１つの前記金属ラインによって接続される。

例えば、同一誘導ラインに属する各第２の金属ラインの組は前記第２のデータラインによって接続される場合、各第２の金属ラインの組の少なくとも１つの金属ライン及び前記第２のデータラインがビアホールを介して接続される。

また、例えば、同一駆動ラインに属する各第１の金属ラインの組は前記第２のデータラインによって接続される場合、各第１の金属ラインの組の少なくとも１つの金属ライン及び前記第２のデータラインがビアホールを介して接続される。

例えば、前記第１のデータラインと前記第２のデータラインとは同一層に配置される。

例えば、同一駆動ラインに属する各第１の共用電極の組における全ての共用電極は相互に接続されて１つの全体となる。

例えば、同一誘導ラインに属する各第２の共用電極の組における全ての共用電極は相互に接続されて１つの全体となる。

例えば、前記金属ラインの一部は前記ゲートラインの位置と対応し、前記金属ラインの他の一部は前記データラインの位置に対応する。

例えば、各画素は画素電極を更に備え、前記画素電極と共用電極とが異なる層に配置される。

例えば、前記金属層は前記ゲートライン及び前記データラインと異なる層に位置する。

例えば、各行の金属ラインは１つの全体となる金属ラインであり、又は各行の金属ラインは少なくとも２つの独立する金属ラインを備える。

例えば、各前記第１の金属ラインの組及び各前記第２の金属ラインの組のそれぞれは、幾つかの交差を形成して配置され、且つ相互に電気的に接続された前記金属ラインを備える。

本発明のもう１つの実施例において、前記何れかのタッチパネルを備える表示装置が提供される。

以下、本発明の実施例の技術案をさらに明確に説明するため、実施例の図面を簡単に説明する。明らかなように、以下の図面は本発明の一部の実施例に関するものに過ぎず、本発明を限定するものではない。

従来の表示パネルにおけるデュアルゲートライン構造の概略図である。 本発明の実施例１におけるタッチパネル構造の概略図である。 本発明の実施例１における第１の共用電極の組及び第２の共用電極の組の概略図である。 本発明の実施例１における第１の金属ラインの組及び第２の金属ラインの組の概略図である。 本発明の実施例１における図２のＡ−Ａ’の断面概略図である。 本発明の実施例１における図２のＢ−Ｂ’の断面概略図である。 本発明の実施例１における図２のＢ−Ｂ’の断面のビアホールの概略図である。 本発明の実施例におけるタッチパネルがタッチ機能を実現する回路の概略図である。 本発明の実施例におけるタッチパネルの作動タイミングの概略図である。

以下、本発明の実施例の目的、技術案及びメリットをさらに明確にするように、図面を参照しながら、本発明の実施例の技術案を明確で完全に説明する。下記の実施例は、当然ながら、本発明の実施例の一部であり、全ての実施例ではない。本発明の実施例に基づき、当業者が創造性のある労働をする必要がない前提で得られる全ての他の実施例は、いずれも本発明の保護範囲に入る。

別途に定義しない限り、ここで使われる技術用語又は科学用語の意味は、本発明の分野で一般的技能を持っている人に理解される通常の意味である。本発明特許出願の明細書及び特許請求の範囲に記載の「第１」、「第２」及びそれに類似する言葉は順番、数量又は重要性を表すものではなく、異なる構成部分を区分しているだけである。同様に、「１つ」又は「１」などの類似する言葉も数量に対する制限ではなく、少なくとも１つが存在することを表す。「備える」又は「含む」及びそれに類似する言葉の意味は、「備えられる」又は「含まれる」の後ろに記載された素子又は部材が「備える」又は「含む」の前に挙げられた素子又は部材及びそれに同等するものを含める意味であり、その他の素子又は部材は排除されていない。「接続」又は「連結」及びそれに類似する言葉は、物理的又は機械的な接続に限定されるわけではなく、直接か間接かにもかかわらず、電気的な接続であってもよい。「上」、「下」、「左」、「右」などは相対的な位置関係を表す用語に過ぎず、説明対象の絶対位置が変化した場合、この相対的な位置関係も対応して変化し、例えば、説明対象が９０°回転した場合、「行」及び「列」は観察者にとって入れ替えられる。

本発明の実施例１においてタッチパネルが提供され、このタッチパネルはアレイ基板と、対向基板とを備え、このアレイ基板と対向基板とは対向して配置され、例えばシール材によって結合して液晶セルを形成し、液晶セルの中に液晶材が充填されている。このタッチパネルはインセル型液晶タッチパネルである。この対向基板は例えばカラーフィルター基板であり、カラーフィルター基板上にアレイ基板における画素に対応するフィルタ、例えば赤緑青（ＲＧＢ）フィルタが形成されている。アレイ基板にフィルタが形成された場合（即ち、このアレイ基板はＣＯＡ基板）、対向基板にフィルタを更に配置する必要がない。

図２に示すように、このタッチパネルのアレイ基板は複数のゲートライン１と、複数のデータライン２とを備え、この複数のゲートライン１と複数のデータライン２とは相互に交差して複数の画素３を画定し、この複数の画素３のうちの各画素３は対応する共用電極４を備える。

図２に示すように、このタッチパネルにデュアルゲートライン構造が採用され、複数のゲートライン１同士は平行して行方向に延び、隣接する行の画素の間に２つのゲートライン１があり、複数のデータライン２同士は平行して列方向に延び、各データライン２は隣接する列の画素の間に挟まれている。

これらの画素３はアレイに配列されており、図２に１６個の画素が示されているが、本発明はこの数に限られない。各画素は、スイッチング素子である薄膜トランジスタと、液晶容量を形成して液晶の配列を制御するための画素電極及び共用電極とを備える。例えば、各画素の薄膜トランジスタのゲート電極と対応するゲートラインとは電気的に接続され、又は一体形成され、ソース電極と対応するデータラインは電気的に接続され、又は一体形成され、ドレイン電極と対応する画素電極は電気的に接続され、又は一体形成される。画素電極及び共用電極は異なる層に位置し、例えば、共用電極は画素電極上にある。また、画素電極及び共用電極は櫛状電極（スリット電極）であってよい。

各薄膜トランジスタが例えばボトムゲート型である場合、このアレイ基板はベース基板（図示していない）において、下から上へゲート電極と、ゲート電極絶縁層と、半導体層と、ソース電極、ドレイン電極とを順に備える。例えば、ゲート電極はゲートライン金属層の中に位置し、ソース電極及びドレイン電極はデータライン金属層の中に位置する（例えば、図５を参照）。パッシベーション層は、薄膜トランジスタを備えるアレイ基板の全体に形成される。

図３に示すように、この実施例において、全ての共用電極４は行方向に配列された複数の第１の共用電極の組４１と、列方向に配列された複数の第２の共用電極の組４２とに分けられ、各第１の共用電極の組４１と各第２の共用電極の組４２とは相互に絶縁する。また、図２に示すように、例えばアレイ状に配列された１６個の画素において、例えば、各第１の共用電極の組４１は、隣接する２列における合計８つの画素の共用電極を備え、この８つの共用電極同士は電気的に接続され、各第２の共用電極の組４２は、隣接する２列における合計４つの画素の共用電極を備え、この４つの共用電極同士は電気的に接続され、且つ１列に２つの隣接する第２の共用電極の組４２がある。これにより、第１の共用電極の組４１と第２の共用電極の組４２とは行方向に相互に間隔を空けて配列される。本発明は第１の共用電極の組４１及び第２の共用電極の組４２の構成及び配列方法に限らない。

このタッチパネルのアレイ基板は更に金属層を備え、この金属層は複数の金属ライン５を有する。例えば、金属ライン５の一部はゲートライン１の位置に対応し、ゲートライン１の上方に形成されてゲートライン１と重なる。金属ライン５の他の一部はデータライン２の位置に対応し、データライン２の上方に形成されてデータライン２と重なる。

図４に示すように、全ての金属ライン５は、行方向に配列された複数の第１の金属ラインの組５１と、列方向に配列された複数の第２の金属ラインの組５２とに分けられる。各第１の金属ラインの組５１と各第２の金属ラインの組５２とは、幾つかの交差を形成して配置され、且つ相互に電気的に接続された金属ライン５をそれぞれ備えてよい。また、図２に示すように、例えば、アレイ状に配列された１６個の画素において、各第１の金属ラインの組５１は、隣接する２列における合計８つの隣接する画素に対応し、各第２の金属ラインの組５２は隣接する２列における合計４つの隣接する画素に対応し、且つ１列に２つの隣接する第２の金属ラインの組５２がある。これにより、第１の金属ラインの組５１と第２の金属ラインの組５２とは行方向に相互に間隔を空けて配列され、且つ相互に絶縁する。本発明は第１の金属ラインの組５１及び第２の金属ラインの組５２の構成及び配列方法に限らない。

同一行方向に位置する各第１の金属ラインの組５１は電気的に接続される。図４に示された実施例において、２つの第２の金属ラインの組５２によって隔てられた第１の金属ラインの組５１は、この２つの金属ラインの組５２の間に位置する金属ライン５によって相互に電気的に接続され、且つ位置が対応する第１の共用電極の組４１とそれぞれ電気的に接続されて駆動ライン６を形成する。従って、この実施例において、駆動ライン６は全体的に行方向に延びている。

同一列方向に位置する各第２の金属ラインの組５２は電気的に接続され、且つ位置が対応する第２の共用電極の組４２とそれぞれ電気的に接続されて誘導ライン７を形成する。この実施例において、誘導ライン７は全体的に列方向に延びている。駆動ライン６と誘導ライン７とは相互に交差する。

ここで説明したいのは、本実施例において、金属ライン５が位置する金属層と共用電極４が位置する透明電極層とが相互に隣接する（即ち、２つの層は相互に接触する）場合、金属ライン５と対応する共用電極４はビアホールがなくても直接に電気的に接続できることである。金属ライン５が位置する金属層と共用電極４が位置する透明電極層とが相互に隣接しない場合、例えば、絶縁層によって相互に隔てられたときに、金属ライン５と対応する共用電極４は、この絶縁層に形成されたビアホールを介して電気的に接続できる。

同一駆動ライン６に属する各第１の共用電極の組４１は、備えられた隣接する各共用電極４が１つの全体に接続することができ、同一誘導ライン７に属する各第２の共用電極の組４２は、備えられた隣接する各共用電極４が１つの全体に接続することができる。

例えば、金属ライン５は、ゲートライン１及びデータライン２と異なる層に位置し、例えば、絶縁層によって隔てられる。例えば、各行の金属ラインは１つの全体とする金属ライン５であり、又は各行の金属ラインは少なくとも２つの独立する金属ライン５を有する。

本発明の実施例において、デュアルゲートライン駆動構造に用いられるデータライン２は、平行して間隔を空けて配列された第１のデータライン２１と第２のデータライン２２とを備える。第１のデータライン２１だけがデータ信号を印加又は伝送する。第１のデータライン２１と第２のデータライン２２とは同一層に配置され、即ち同一導電層によって形成される。

本実施例のＡＤＳ型タッチパネルにおいて、デュアルゲートライン（Ｄｕａｌ Ｇａｔｅ Ｌｉｎｅ）構造が採用されたため、第１のデータライン２１のみがデータ信号の伝送に用いられ、隣接する２列の画素毎が１組となり、この２列の画素ユニットの間に位置するデータライン２１を共用する。隣接する第２のデータライン２２は空いている。一部の金属ライン５はデータライン２（第１のデータライン２１と第２のデータライン２２が含まれる）と対向して配置され、且つデータライン２と異なる層に位置するため、空いている第２のデータライン２２を隣接しない第１の金属ラインの組５１、或いは隣接しない第２の金属ラインの組５２を接続する導線とすることができる。この接続構造は例えば下記の通りである。

図２、４の実施例に示すように、同一駆動ライン６に備えられた各第１の金属ラインの組５１は少なくとも１つの金属ライン５によって接続され、同一誘導ライン７に備えられた各第２の金属ラインの組５２は第２のデータライン２２によって接続される。又は、もう１つの実施例において、同一駆動ライン６に備えられた各第１の金属ラインの組５１は第２のデータライン２２によって接続され、同一誘導ライン７に備えられた各第２の金属ラインの組５２は少なくとも１つの金属ライン５によって接続される。

例えば、同一誘導ライン７に備えられた第２の金属ラインの組５２は対応する第２のデータライン２２によって接続された場合、各第２の金属ラインの組５２における、第２のデータライン２２の位置に対応する金属ライン５は第２のデータライン２２とビアホール８とを介して接続される。このように、この第２のデータライン２２は列方向に隣接する第２の金属ラインの組５２を接続する。

また、例えば、もう１つの実施例において、同一駆動ライン６に備えられた第１の金属ラインの組５１は対応する第２のデータライン２２によって接続された場合、各第１の金属ラインの組５１における、第２のデータライン２２の位置に対応する金属ライン５は第２のデータライン２２とビアホール８とを介して接続される。このように、この第２のデータライン２２は列方向に隣接する第１の金属ラインの組５１を接続する。

本発明の実施例により、タッチパネルの駆動ライン６及び誘導ライン７は例えば下記２種の構造を有することができる。

１、同一駆動ライン６に属する各第１の共用電極の組４１は接続されておらず、この駆動ライン６の各第１の金属ラインの組５１は少なくとも１つの金属ライン５によって接続される。同一誘導ライン７に属する各第２の金属ラインの組５２は対応する第２のデータライン２２によって接続される。

２、同一駆動ライン６に属する各第１の金属ラインの組５１は少なくとも１つの金属ライン５によって接続され、同一誘導ライン７に属する各第２の金属ラインの組５２は対応する第２のデータライン２２によって接続される。第１の構造との区別は、この駆動ライン６の各第１の共用電極の組４１は共用電極ライン（例えば、共用電極を製造するための透明導電材、例えばＩＴＯで形成される）によって接続されたことにある。

図５は図２のＡ−Ａ’の断面図である。第１の構造は、ゲートライン金属層３１（ここではゲートライン１に対応する）と、ゲート電極絶縁層３２と、データライン金属層３４（ここではデータライン２２に対応する）と、パッシベーション層３６と、金属層３７（ここでは金属ライン５に対応する）と、共用電極層３８とを備え、この共用電極層３８は切断位置における画素の共用電極に対応する。金属層３７と共用電極層３８とは直接に接触する。

図６は図２のＢ−Ｂ’の断面図であり、ゲートライン金属層３１（ここではゲートライン１に対応する）と、ゲート電極絶縁層３２と、データライン金属層３４（ここではデータライン２２に対応する）と、パッシベーション層３６と、金属層３７（ここでは金属ライン５に対応する）と、共用電極層３８とを備え、さらに図７に示されたビアホール８を備え、このビアホール８はパッシベーション層３６に形成され、第２の金属ラインの組５２における金属ラインを第２のデータライン２２と接続させる。

第２の構造は第１の構造と類似するから、ここでは贅言しないようにする。

図８は本発明の実施例におけるタッチパネルのタッチ機能を実現する回路の概略図である。図８に示すように、複数の信号ラインＴ（例えば駆動ライン６）は行方向に延び、複数の信号ライン（例えば誘導ライン７）は列方向に延び、両者は相互に交差し、交差箇所で重なるため、タッチパネルの全体に大量の相互容量が形成される。指又は導体がタッチパネルに接触すると、水平の金属ライン及び垂直の金属ラインの誘導容量が変更する。信号ラインＴｘによって信号を発信し、信号ラインＲｘによって誘導信号を受信する。両者の相互容量が指又は導体とタッチパネルの接触によって変更するときに、信号ラインＲｘは変更した信号を受信でき、その後、制御チップでの検出、計算によってタッチ位置を得る。

図９は本発明の実施例におけるタッチパネルの作動タイミングの概略図である。例えば、１フレームを表示する時間において、タッチパネルに先の約３／４フレームの時間内で正常な表示操作を行わせ、その後の約１／４フレームの時間内でタッチ検出操作を行わせる。タッチパネルがタッチ検出の時間内で作動する場合、各画素は状態を維持する段階で作動するから、タッチパネルを正常に表示させるとともに、タッチ機能も実現できる。図９に示すように、１フレーム（例えば、６０Ｈｚに対応する）の時間において、最初の１２．６７ｍｓ内に、タッチパネルは正常な表示状態にあり、Ｖｃｏｍ／Ｔｘは直流信号を維持する。タッチ機能がオンにされていないから、Ｒｘ信号ラインにおける信号は変更しない。その後の４．０ｍｓの時間内に、Ｃｏｍ／Ｔｘ信号ラインはそれに高周波信号を印加し、異なるＲｘ信号ラインで誘導の高周波信号が受信される。タッチがあると、各対応するＲｘラインにおける高周波信号の振幅が変更するから、タッチの位置が見つかる。在タッチパネルのタッチ機能がオンにされた後、タッチパネルの各画素のゲートラインは全てオフ状態にあり、各画素の電位は維持状態にある。

本発明の実施例において、ＡＤＳ型タッチパネルは金属層を別途に備え、この金属層内に複数の金属ラインが配置される。例えば、一部の金属ラインはゲートラインの位置に対応し、残りの金属ラインはデータラインの位置に対応する。このＡＤＳ型タッチパネルにおける駆動ライン及び誘導ラインのそれぞれは組に分けられた幾つかの共用電極を備える他に、共用電極と電気的に接続された金属ラインをさらに備え、これによって駆動ライン及び誘導ラインの抵抗を減少させる。

本発明の実施例２において表示装置が提供され、この表示装置は実施例１に記載のタッチパネルを備える。この表示装置は例えばＡＤＳモードの液晶ディスプレイのような液晶ディスプレイである。

本発明の実施例３において、実施例１のタッチパネルを製造する方法が提供され、この方法は以下のようなステップを備える。
ステップ１：基板を提供し、ゲート電極と、デュアルゲートラインの構造に対応して配置された幾つかゲートラインを備えるゲートライン金属層とのパターンを形成する。
ステップ２：上記パターンが形成された基板に、ゲート電極絶縁層のパターンを形成する。
ステップ３：上記パターンが形成された基板に、活性層のパターンを形成する。
ステップ４：上記パターンが形成された基板に、複数のデータラインを備えたデータライン金属層と、ソース・ドレイン電極とのパターンとを形成する。データラインは第１のデータライン及び第２のデータラインを備え、第１のデータライン及び第２のデータラインは間隔を空けて配列され、第１のデータラインのみがデータ信号の伝送に用いられ、第２のデータラインは接続用導体として用いられる。
ステップ５：上記パターンが形成された基板に、画素電極のパターンを形成する。
ステップ６：上記パターンが形成された基板に、幾つかのビアホールを備えたパッシベーション層のパターンを形成する。
ステップ７：上記パターンが形成された基板に、複数の金属ラインを備えた金属層を形成する。例えば、一部の金属ラインはゲートラインの位置に対応し、残りの金属ラインはデータラインの位置に対応し、全ての金属ラインは行方向に配列された複数の第１の金属ラインの組と、列方向に配列された複数の第２の金属ラインの組とに分けられ、且つ各第１の金属ラインの組と各第２の金属ラインの組とは相互に絶縁する。各第１の金属ラインの組と各第２の金属ラインの組とはそれぞれ幾つかの交差を形成して配置され、相互に電気的に接続された金属ラインを備える。
ステップ８：上記パターンが形成された基板に、画素に対応する共用電極が配置された共用電極層を形成する。全ての共用電極は行方向に配列された複数の第１の共用電極の組と、列方向に配列された複数の第２の共用電極の組とに分けられ、且つ各第１の共用電極の組と各第２の共用電極の組とは相互に絶縁する。

ステップ８が完成した後、例えば、同一行方向に位置する各第１の金属ラインの組は電気的に接続され、且つそれぞれ位置が対応する第１の共用電極の組と電気的に接続され、１つの駆動ラインを形成する。例えば、同一列方向に位置する各第２の金属ラインの組は電気的に接続され、且つそれぞれ位置が対応する第２の共用電極の組と電気的に接続され、１つの誘導ラインを形成する。

本発明の実施例のＡＤＳ型タッチパネルは、金属層が別途配置され、この金属層内に複数の金属ラインが配置される。一部の金属ラインはゲートラインの位置に対応し、残りの金属ラインはデータラインの位置に対応する。従って、このＡＤＳ型タッチパネルにおいて、駆動ライン及び誘導ラインのそれぞれは組に分けられた幾つかの共用電極と、対応する共用電極と電気的に接続された金属ラインを備え、これによって駆動ライン及び誘導ラインの抵抗を減少させることができる。また、この製造方法は、以前の製造工程に加え金属層の形成工程だけを増加することで、簡単に実現できる。

以上は本発明の例示的な実施例のみであり、本発明の保護範囲を限定するものではない。本発明の保護範囲は特許請求の範囲により決められる。

１ ゲートライン
２ データライン
２１ 第１のデータライン
２２ 第２のデータライン
４ 共用電極
４１ 第１の共用電極の組
４２ 第２の共用電極の組
５ 金属ライン
５１ 第１の金属ラインの組
５２ 第２の金属ラインの組
６ 駆動ライン
７ 誘導ライン
８ ビアホール
３１ ゲートライン金属層
３２ ゲート電極絶縁層
３４ データライン金属層
３６ パッシベーション層
３７ 金属層
３８ 共用電極層
４１ 第１の共用電極の組
４２ 第２の共用電極の組
Ｔ、Ｔｘ、Ｒｘ 信号ライン

Claims (12)

1. アレイ基板と、対向基板とを備える静電容量式インセル型タッチパネルであって、前記アレイ基板が、
   複数のゲートライン及び複数のデータラインと、
   前記複数のゲートラインと前記複数のデータラインとによって画定された複数の画素と、
   同一金属層に配置された複数の金属ラインと、を備え、
   各前記画素が対応する共用電極を備え、全ての前記共用電極が行方向に配列された複数の第１の共用電極の組と、列方向に配列された複数の第２の共用電極の組とに分けられ、各第１の共用電極の組と各第２の共用電極の組とが相互に絶縁し、
   全ての前記金属ラインが行方向に配列された複数の第１の金属ラインの組と、列方向に配列された複数の第２の金属ラインの組とに分けられ、各第１の金属ラインの組と各第２の金属ラインの組とが相互に絶縁し、
   同一行方向に位置する各前記第１の金属ラインの組が電気的に接続され、且つ位置が対応する第１の共用電極の組にぞれぞれ電気的に接続されて形成された１つの駆動ラインと、
   同一列方向に位置する各前記第２の金属ラインの組が電気的に接続され、且つ位置が対応する第２の共用電極の組にぞれぞれ電気的に接続されて形成された１つの誘導ラインと、
   をさらに備え、
   前記データラインが、平行して間隔を空けて配列する第１のデータライン及び第２のデータラインを備え、前記第１のデータラインのみがデータ信号の印加に適し、
   同一駆動ラインに属する各第１の金属ラインの組が少なくとも１つの前記金属ラインによって接続され、同一誘導ラインに属する各第２の金属ラインの組が前記第２のデータラインによって接続され、又は、
   同一駆動ラインに属する各第１の金属ラインの組が前記第２のデータラインによって接続され、同一誘導ラインに属する各第２の金属ラインの組が少なくとも１つの前記金属ラインによって接続されることを特徴とする、静電容量式インセル型タッチパネル。
2. 同一誘導ラインに属する各第２の金属ラインの組が前記第２のデータラインによって接続される場合、各第２の金属ラインの組の少なくとも１つの金属ラインと前記第２のデータラインとがビアホールを介して接続されることを特徴とする、請求項１に記載のタッチパネル。
3. 同一駆動ラインに属する各第１の金属ラインの組が前記第２のデータラインによって接続される場合、各第１の金属ラインの組の少なくとも１つの金属ラインと前記第２のデータラインとがビアホールを介して接続されることを特徴とする、請求項１に記載のタッチパネル。
4. 前記第１のデータライン及び前記第２のデータラインが同一層に配置されることを特徴とする、請求項１〜３の何れか１項に記載のタッチパネル。
5. 同一駆動ラインに属する各第１の共用電極の組における全ての共用電極が相互に接続されて１つの全体となることを特徴とする、請求項１〜４の何れか１項に記載のタッチパネル。
6. 同一誘導ラインに属する各第２の共用電極の組における全ての共用電極が相互に接続されて１つの全体となることを特徴とする、請求項１〜５の何れか１項に記載のタッチパネル。
7. 前記金属ラインの一部が前記ゲートラインの位置と対応し、前記金属ラインの他の一部は前記データラインの位置に対応することを特徴とする、請求項１〜６の何れか１項に記載のタッチパネル。
8. 各画素が画素電極を更に備え、前記画素電極及び共用電極が異なる層に配置されることを特徴とする、請求項１〜７の何れか１項に記載のタッチパネル。
9. 前記金属層が前記ゲートライン及び前記データラインと異なる層に位置することを特徴とする、請求項１〜８の何れか１項に記載のタッチパネル。
10. 各行の金属ラインが１つの全体となる金属ラインであり、又は各行の金属ラインが少なくとも２つの独立する金属ラインを備えることを特徴とする、請求項１〜９の何れか１項に記載のタッチパネル。
11. 各前記第１の金属ラインの組及び各前記第２の金属ラインの組のそれぞれが、幾つかの交差を形成して配置され、且つ相互に電気的に接続された前記金属ラインを備えることを特徴とする、請求項１〜１０の何れか１項に記載のタッチパネル。
12. 請求項１〜１０の何れか１項に記載のタッチパネルを備えることを特徴とする、表示装置。