JP6146616B2 - Dicing substrate film, dicing film, and semiconductor chip manufacturing method - Google Patents

Dicing substrate film, dicing film, and semiconductor chip manufacturing method Download PDF

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Description

本開示は、ダイシング用基体フィルム、ダイシングフィルム、及び半導体チップの製造方法に関する。   The present disclosure relates to a substrate film for dicing, a dicing film, and a method for manufacturing a semiconductor chip.

半導体チップの製造方法としては、半導体ウエハ等の半導体部材を予め大面積で製造した後、チップ状にダイシング(切断分離)し、ダイシングによって個片化されたチップをピックアップする方法が知られている。ダイシング工程において、半導体ウエハを固定するために用いられるのがダイシングフィルムである。   As a method for manufacturing a semiconductor chip, there is known a method in which a semiconductor member such as a semiconductor wafer is manufactured in a large area in advance and then diced (cut and separated) into chips to pick up chips separated by dicing. . In the dicing process, a dicing film is used to fix the semiconductor wafer.

ダイシングフィルムは一般的に、ダイシングブレードによって切り込まれるダイシング用基体フィルムと、半導体ウエハを固定するための粘着剤層とから構成されている。ダイシングフィルムに固定された半導体ウエハは、チップ状にダイシングされ、その後、ダイシングフィルムをエキスパンド(拡張)することでチップ同士が分離され、半導体チップがピックアップされる。   The dicing film is generally composed of a dicing substrate film cut by a dicing blade and an adhesive layer for fixing the semiconductor wafer. The semiconductor wafer fixed to the dicing film is diced into chips, and then the dicing film is expanded (expanded) to separate the chips, and the semiconductor chips are picked up.

ところで、ダイシング工程で発生するダイシングフィルム由来の切削屑(基材屑)は、半導体ウエハを汚染し、半導体チップの歩留まりを低下させるため、切削屑の発生を極力低減する必要がある。また、半導体チップのピッキングの精度を高め、さらに生産性を向上させるため、ダイシングフィルムには、裂けたり切断したりすることなく、均一により広く円滑に拡張できるという特性(以下、エキスパンド性という。)も要求される。また、ダイシングフィルムは、通常ロール状に巻いて製造、保管、運搬等されるが、フィルム同士のブロッキングが生じると品質の低下につながるため、耐ブロッキング性も要求される。   By the way, since the cutting waste (base material waste) derived from the dicing film generated in the dicing process contaminates the semiconductor wafer and reduces the yield of the semiconductor chips, it is necessary to reduce the generation of the cutting waste as much as possible. Further, in order to improve the picking accuracy of the semiconductor chip and further improve the productivity, the dicing film can be uniformly and smoothly expanded without being torn or cut (hereinafter referred to as expandability). Is also required. In addition, the dicing film is usually manufactured, stored, transported and wound in a roll shape. However, when blocking between the films occurs, the quality deteriorates, and thus blocking resistance is also required.

このような要求に対して、様々なダイシングフィルムが提案されている。例えば、特許文献1では、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体の水素添加物:60〜90重量%、及びポリスチレン系樹脂:10〜40重量%を含む樹脂成分から形成される表面層を有するダイシング用基体フィルムを備えたダイシングフィルムが提案されている。   Various dicing films have been proposed for such demands. For example, in Patent Document 1, a surface formed from a resin component containing a vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer hydrogenated product: 60 to 90% by weight and a polystyrene resin: 10 to 40% by weight A dicing film having a substrate film for dicing having a layer has been proposed.

特開2013−55112号公報JP2013-55112A

しかしながら、従来のダイシングフィルムは、切削屑の発生の抑制効果は十分ではなく、未だ改善の余地がある。   However, the conventional dicing film has an insufficient effect of suppressing the generation of cutting waste, and there is still room for improvement.

また、エキスパンド後のダイシングフィルムは、リングカセット内に収納されることになるが、フィルムの収納性を考慮して、リングカセット内に容易に収納できるサイズにまで復元できる特性(以下、復元性という。)を有するダイシングフィルムが望まれている。しかし、従来のダイシングフィルムでは、十分な復元性は得られていない。   In addition, the expanded dicing film is accommodated in the ring cassette. In consideration of the film storability, the dicing film can be restored to a size that can be easily accommodated in the ring cassette (hereinafter referred to as restoration property). )) Is desired. However, the conventional dicing film does not provide sufficient restoration.

そこで、本開示は、一又は複数の実施形態において、エキスパンド性及び復元性に優れ、かつ、ダイシング時の切削屑の発生の抑制効果の高いダイシング用基体フィルム及びダイシングフィルムを提供する。   Therefore, in one or a plurality of embodiments, the present disclosure provides a dicing base film and a dicing film that are excellent in expandability and restoration property and have a high effect of suppressing generation of cutting waste during dicing.

本開示は、一又は複数の実施形態において、基材層と、前記基材層の一主面上に配置された表面層と、を含むダイシング用基体フィルムであって、前記表面層は、ポリスチレン系樹脂と、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体又はその水素添加物と、を含有し、前記表面層における前記ポリスチレン系樹脂の含有量は、50重量%を超える、ダイシング用基体フィルムに関する。   In one or a plurality of embodiments, the present disclosure is a substrate film for dicing that includes a base material layer and a surface layer disposed on one main surface of the base material layer, and the surface layer is made of polystyrene. A base for dicing, comprising: a vinyl resin, a vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer or a hydrogenated product thereof, and the content of the polystyrene resin in the surface layer exceeds 50% by weight Related to film.

本開示は、一又は複数の実施形態において、本開示のダイシング用基体フィルムの表面層側の主面上に、粘着剤層が設けられた、ダイシングフィルムに関する。   In one or a plurality of embodiments, the present disclosure relates to a dicing film in which an adhesive layer is provided on a main surface on the surface layer side of the substrate film for dicing of the present disclosure.

本開示は、一又は複数の実施形態において、本開示のダイシングフィルムと半導体部材とを貼付する貼付工程と、前記半導体部材をダイシングして個片化するダイシング工程と、前記ダイシングフィルムをエキスパンドし、隣り合う前記個片化された半導体部材の間を拡張するエキスパンド工程と、前記個片化された半導体部材をピックアップするピックアップ工程と、を含む半導体チップの製造方法に関する。   In one or a plurality of embodiments, the present disclosure includes an attaching step of attaching the dicing film of the present disclosure and a semiconductor member, a dicing step of dicing the semiconductor member into pieces, and expanding the dicing film, The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor chip, which includes an expanding step of expanding between the separated semiconductor members adjacent to each other and a pickup step of picking up the separated semiconductor members.

本開示によれば、一又は複数の実施形態において、エキスパンド性及び復元性に優れ、かつ、ダイシング時の切削屑の発生の抑制効果の高いダイシング用基体フィルム及びダイシングフィルムを提供できる。   According to the present disclosure, in one or a plurality of embodiments, it is possible to provide a dicing substrate film and a dicing film that are excellent in expandability and recoverability and have a high effect of suppressing generation of cutting waste during dicing.

図1は、本開示のダイシング用基体の一例を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of a dicing substrate according to the present disclosure.

本開示は、ダイシング工程では、半導体部材とともにダイシングフィルムの一部も切断されるため、このダイシングフィルムの一部が摩擦熱により溶融状態となり、切削屑の発生につながる、という知見に基く。さらに、本開示は、基材層上に、ポリスチレン系樹脂とビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体又はその水素添加物とを含有する表面層を設け、ダイシングブレードを表面層のみに切り込ませることにより、切削屑を著しく低減できる、という知見に基く。   The present disclosure is based on the knowledge that in the dicing process, a part of the dicing film is cut together with the semiconductor member, so that a part of the dicing film is melted by frictional heat and leads to generation of cutting chips. Further, the present disclosure provides a surface layer containing a polystyrene-based resin and a vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer or a hydrogenated product thereof on a base material layer, and a dicing blade is provided only on the surface layer. Based on the knowledge that cutting waste can be significantly reduced by cutting.

すなわち、本開示は、一態様において、基材層と、前記基材層の一主面上に配置された表面層と、を含むダイシング用基体フィルムであって、前記表面層は、ポリスチレン系樹脂と、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体又はその水素添加物と、を含有し、前記表面層における前記ポリスチレン系樹脂の含有量は、50重量%を超える、ダイシング用基体フィルムに関する。   That is, in one aspect, the present disclosure is a substrate film for dicing including a base material layer and a surface layer disposed on one main surface of the base material layer, wherein the surface layer is a polystyrene resin. And a vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer or a hydrogenated product thereof, and the content of the polystyrene resin in the surface layer is more than 50% by weight. .

本開示のダイシング用基体フィルムによれば、一又は複数の実施形態において、エキスパンド性及び復元性に優れ、かつ、ダイシング時の切削屑の発生の抑制効果の高いダイシング用基体フィルムを提供できる。   According to the dicing substrate film of the present disclosure, in one or a plurality of embodiments, it is possible to provide a dicing substrate film that is excellent in expandability and recoverability and has a high effect of suppressing generation of cutting waste during dicing.

以下、本開示のダイシング用基体フィルムについて詳細に説明する。   Hereinafter, the dicing substrate film of the present disclosure will be described in detail.

図1は、本開示のダイシング用基体フィルムの構成の一例を示す概略断面図である。図1に示すように、本開示のダイシング用基体フィルム10は、基材層11と、基材層11の一主面上に配置された表面層12とを備えている。このダイシング用基体フィルム10の表面層12上にさらに粘着剤層13を設けることで、ダイシングフィルム20が得られる。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of the configuration of a dicing substrate film of the present disclosure. As shown in FIG. 1, the substrate film for dicing 10 of the present disclosure includes a base material layer 11 and a surface layer 12 disposed on one main surface of the base material layer 11. A dicing film 20 is obtained by further providing a pressure-sensitive adhesive layer 13 on the surface layer 12 of the substrate film 10 for dicing.

以下、本開示のダイシング用基体フィルムを構成する各層について詳細に説明する。   Hereinafter, each layer constituting the dicing substrate film of the present disclosure will be described in detail.

<表面層>
本開示のダイシング用基体フィルムを構成する表面層は、一又は複数の実施形態において、ダイシングブレードによって切り込まれる切込み層である。表面層は、ポリスチレン系樹脂と、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体又はその水素添加物とを含有する。
<Surface layer>
In one or a plurality of embodiments, the surface layer constituting the dicing substrate film of the present disclosure is a cut layer cut by a dicing blade. The surface layer contains a polystyrene resin and a vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer or a hydrogenated product thereof.

[ポリスチレン系樹脂]
ポリスチレン系樹脂としては、特に限定されないが、一又は複数の実施形態において、汎用ポリスチレン樹脂、耐衝撃性ポリスチレン樹脂、又はこれらの混合物等が挙げられる。本開示における「汎用ポリスチレン」とは、通常、スチレンホモポリマーである。また、「耐衝撃性ポリスチレン」とは、通常、汎用ポリスチレンにブタジエン等のゴム成分を加えたものをいい、一又は複数の実施形態において、ポリスチレンのマトリックス中に微細なゴム状粒子がブレンド又はグラフト重合された構造をとっている。
[Polystyrene resin]
Although it does not specifically limit as polystyrene-type resin, In one or some embodiment, general purpose polystyrene resin, impact-resistant polystyrene resin, or a mixture thereof etc. are mentioned. The “universal polystyrene” in the present disclosure is usually a styrene homopolymer. “Impact-resistant polystyrene” generally refers to general-purpose polystyrene added with a rubber component such as butadiene. In one or a plurality of embodiments, fine rubber-like particles are blended or grafted into a polystyrene matrix. It has a polymerized structure.

表面層におけるポリスチレン系樹脂の含有量としては、一又は複数の実施形態において、耐ブロッキング性の向上と、切削屑の発生を抑制できる観点から、50重量%以上を超え、好ましくは60重量%以上である。また、フィルムのエキスパンド性及び復元性を向上できる観点から、好ましくは85重量%以下、より好ましくは80重量%以下である。   The content of the polystyrene-based resin in the surface layer is, in one or more embodiments, more than 50% by weight, preferably 60% by weight or more, from the viewpoint of improving blocking resistance and suppressing generation of cutting waste. It is. Moreover, from a viewpoint which can improve the expandability and restoring property of a film, Preferably it is 85 weight% or less, More preferably, it is 80 weight% or less.

[ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体]
本開示において、ビニル芳香族炭化水素とは、少なくとも1つのビニル基を有する芳香族炭化水素のことをいう。ビニル芳香族炭化水素としては、一又は複数の実施形態において、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、1,1−ジフェニルエチレン、N,N−ジメチル−p−アミノエチルスチレン、N,N−ジエチル−p−アミノエチルスチレン等が挙げられる。これらは1種単独で又は2種以上を混合して使用できる。これらの中でも、スチレンが好ましい。
[Vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer]
In the present disclosure, the vinyl aromatic hydrocarbon refers to an aromatic hydrocarbon having at least one vinyl group. In one or more embodiments, the vinyl aromatic hydrocarbon includes styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, divinylbenzene, 1,1-diphenylethylene, N, N-dimethyl-p-aminoethylstyrene, N, N-diethyl-p-aminoethylstyrene and the like can be mentioned. These can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. Among these, styrene is preferable.

共役ジエン炭化水素とは、一対の共役二重結合を有するジオレフィンのことをいう。共役ジエン炭化水素としては、一又は複数の実施形態において、1,3−ブタジエン、2−メチル−1,3−ブタジエン(イソプレン)、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、2−メチル−1,3−ペンタジエン、1,3−ヘキサジエン等が挙げられる。これらは1種単独で又は2種以上を混合して使用できる。これらの中でも、1,3−ブタジエンが好ましい。   A conjugated diene hydrocarbon refers to a diolefin having a pair of conjugated double bonds. In one or more embodiments, the conjugated diene hydrocarbon includes 1,3-butadiene, 2-methyl-1,3-butadiene (isoprene), 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 1,3- Examples include pentadiene, 2-methyl-1,3-pentadiene, and 1,3-hexadiene. These can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. Among these, 1,3-butadiene is preferable.

ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体は、共役ジエン炭化水素中の二重結合の存在により引き起こされる酸化劣化等を抑制して、フィルムの強度を高める観点から、水素添加物とすることが好ましい。   The vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer is a hydrogenated product from the viewpoint of suppressing the oxidative deterioration caused by the presence of double bonds in the conjugated diene hydrocarbon and increasing the strength of the film. It is preferable.

ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体は、共役ジエン炭化水素に由来の二重結合を、公知の方法により水素添加(例えば、ニッケル触媒等による水素添加)して飽和にしておくことが好ましい。これにより、前述の効果に加えてさらに、耐熱性、耐薬品性、耐久性等に優れたより安定な樹脂にすることができる。   In the vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer, a double bond derived from a conjugated diene hydrocarbon is saturated by hydrogenation (for example, hydrogenation with a nickel catalyst or the like) by a known method. Is preferred. Thereby, in addition to the above-mentioned effects, a more stable resin excellent in heat resistance, chemical resistance, durability and the like can be obtained.

ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体の水素添加物の水添率は、一又は複数の実施形態において、共重合体中の共役ジエン炭化水素に由来する二重結合の85%以上、90%以上、又は95%以上である。水添率は、核磁気共鳴装置(NMR)を用いて測定できる。   In one or a plurality of embodiments, the hydrogenation rate of the vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer hydrogenated product is 85% or more of the double bond derived from the conjugated diene hydrocarbon in the copolymer. , 90% or more, or 95% or more. The hydrogenation rate can be measured using a nuclear magnetic resonance apparatus (NMR).

ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体におけるビニル芳香族炭化水素単位の含有量は、ポリスチレン系樹脂との相溶性を向上でき、フィルムのエキスパンド性を向上できる観点から、一又は複数の実施形態において、10〜50重量%が好ましく、15〜45重量%がより好ましい。また、共役ジエン炭化水素単位の含有量は、フィルムのエキスパンド性、及び、耐ブロッキング性を向上できる観点から、一又は複数の実施形態において、水添前の含有量で、50〜90重量%、又は55〜85重量%である。   The content of the vinyl aromatic hydrocarbon unit in the vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer can improve compatibility with the polystyrene resin, and can improve the expandability of the film. In embodiment, 10 to 50 weight% is preferable and 15 to 45 weight% is more preferable. Moreover, the content of the conjugated diene hydrocarbon unit is 50 to 90% by weight in the content before hydrogenation in one or a plurality of embodiments, from the viewpoint that the expandability of the film and the blocking resistance can be improved. Or it is 55 to 85 weight%.

ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体又はその水素添加物の重量平均分子量(Mw)は、一又は複数の実施形態において、1万〜60万、又は5万〜30万である。重量平均分子量は、市販の標準ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)を用いて測定できる。   In one or more embodiments, the vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer or the hydrogenated product thereof has a weight average molecular weight (Mw) of 10,000 to 600,000, or 50,000 to 300,000. The weight average molecular weight can be measured using commercially available standard gel permeation chromatography (GPC).

表面層を形成する樹脂成分におけるビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体又はその水素添加物の含有量は、一又は複数の実施形態において、フィルムのエキスパンド性及び復元性を向上できる観点から、好ましくは15重量%以上、より好ましくは20重量%以上である。また、耐ブロッキング性を向上でき、切削屑の発生を抑制できる観点から、好ましくは50重量%以下、より好ましくは50重量%未満、さらに好ましくは40重量%以下である。   The content of the vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer or the hydrogenated product thereof in the resin component forming the surface layer is, in one or more embodiments, a viewpoint capable of improving the expandability and restorability of the film. Therefore, it is preferably 15% by weight or more, more preferably 20% by weight or more. Moreover, from a viewpoint which can improve blocking resistance and can suppress generation | occurrence | production of cutting waste, Preferably it is 50 weight% or less, More preferably, it is less than 50 weight%, More preferably, it is 40 weight% or less.

ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体は、スチレン系単量体とジエン系単量体とのランダム共重合体の形態であってもよい。又は、スチレン系単量体とジエン系単量体とのブロック共重合体の形態であってもよい。又は、ランダム共重合体とブロック共重合体の両方を含む形態であってもよい。スチレン系単量体単位の含有量は、紫外分光光度計又は核磁気共鳴装置(NMR)を用いて測定でき、ジエン系単量体単位の含有量は、核磁気共鳴装置(NMR)を用いて測定できる。   The vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer may be in the form of a random copolymer of a styrene monomer and a diene monomer. Or the form of the block copolymer of a styrene-type monomer and a diene-type monomer may be sufficient. Or the form containing both a random copolymer and a block copolymer may be sufficient. The styrene monomer unit content can be measured using an ultraviolet spectrophotometer or a nuclear magnetic resonance apparatus (NMR), and the diene monomer unit content can be measured using a nuclear magnetic resonance apparatus (NMR). It can be measured.

ランダム共重合体及びその水素添加物は、一又は複数の実施形態において、特開2004−59741号公報に記載の方法等によって製造できる。   In one or a plurality of embodiments, the random copolymer and the hydrogenated product thereof can be produced by the method described in JP-A-2004-59741.

ブロック共重合体としては、一又は複数の実施形態において、共重合体の一端又は両末端にビニル芳香族炭化水素由来のブロックセグメントを有し、さらに共役ジエン炭化水素由来のブロックセグメントを有するもの、あるいはこれらをブレンドしたもの等が挙げられる。具体例としては、スチレン−エチレン−ブタジエン−スチレン共重合体(以下、SEBSともいう。)が挙げられる。SEBS中のスチレン構成単位の含有量(以下、St含有量という。)は、ポリスチレン系樹脂との相溶性を向上でき、フィルムの製膜性を向上させる観点から、好ましくは10重量%以上、より好ましくは15重量%以上であり、フィルムのエキスパンド性を向上できる観点から、好ましくは50重量%以下、より好ましくは45重量%以下である。   As a block copolymer, in one or a plurality of embodiments, one having a block segment derived from a vinyl aromatic hydrocarbon at one end or both ends of the copolymer, and further having a block segment derived from a conjugated diene hydrocarbon, Or what blended these etc. are mentioned. Specific examples include a styrene-ethylene-butadiene-styrene copolymer (hereinafter also referred to as SEBS). The content of the styrene structural unit in SEBS (hereinafter referred to as St content) is preferably 10% by weight or more from the viewpoint of improving compatibility with the polystyrene resin and improving the film formability of the film. The content is preferably 15% by weight or more, and preferably 50% by weight or less, more preferably 45% by weight or less, from the viewpoint of improving the expandability of the film.

表面層は、一又は複数の実施形態において、発明の趣旨を損ねない範囲で、帯電防止剤、フィラー等を含有していてもよい。   In one or a plurality of embodiments, the surface layer may contain an antistatic agent, a filler or the like as long as the gist of the invention is not impaired.

表面層の厚みは、切削屑低減の点から、ダイシングブレードによる表面層への切り込みの深さ(以下、切込み量ともいう。)よりも厚いことが好ましい。表面層の厚みは、一又は複数の実施形態において、5〜60μm、又は20〜40μmである。また、表面層の厚みは、一又は複数の実施形態において、ダイシング用基体フィルムの厚みに対し、5〜60%、又は20〜40%である。   The thickness of the surface layer is preferably thicker than the depth of cut into the surface layer by the dicing blade (hereinafter also referred to as the depth of cut) from the viewpoint of reducing cutting waste. The thickness of the surface layer is 5 to 60 μm or 20 to 40 μm in one or more embodiments. Moreover, the thickness of a surface layer is 5 to 60% with respect to the thickness of the base film for dicing in one or some embodiment, or 20 to 40%.

<基材層>
本開示のダイシング用基体フィルムを構成する基材層としては、一又は複数の実施形態において、従来使用され、又は今後開発され得るエキスパンド層を用いることができ、樹脂材料から構成されることが好ましい。樹脂材料としては、一又は複数の実施形態において、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリブタジエン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン系樹脂;エチレン・酢酸ビニル共重合体、アイオノマー、エチレン・(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン・(メタ)アクリル酸エステル共重合体等のオレフィン系共重合体;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリアルキレンテレフタレート系樹脂;スチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマー、ポリビニルイソプレン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂や、これらの熱可塑性樹脂の混合物;等が挙げられる。これらの中でも、ポリプロピレンとエラストマーとの混合物、又はポリエチレンとエラストマーとの混合物が好ましい。このような樹脂材料を用いることにより、優れたエキスパンド性が得られる。
<Base material layer>
As a base material layer constituting the substrate film for dicing of the present disclosure, an expanded layer that can be conventionally used or developed in the future can be used in one or a plurality of embodiments, and is preferably composed of a resin material. . In one or a plurality of embodiments, the resin material includes polyolefin resins such as polyvinyl chloride, polyethylene, polypropylene, polybutene, polybutadiene, and polymethylpentene; ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer, ethylene (meth) acrylic Olefin copolymers such as acid copolymers and ethylene / (meth) acrylic acid ester copolymers; polyalkylene terephthalate resins such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate; styrene thermoplastic elastomers, olefin thermoplastic elastomers, Examples thereof include thermoplastic resins such as polyvinyl isoprene and polycarbonate, and mixtures of these thermoplastic resins. Among these, a mixture of polypropylene and an elastomer or a mixture of polyethylene and an elastomer is preferable. By using such a resin material, excellent expandability can be obtained.

基材層は、一又は複数の実施形態において、フィルムの物性を損ねない範囲で、帯電防止剤、フィラー等を含有していてもよい。   In one or a plurality of embodiments, the base material layer may contain an antistatic agent, a filler, and the like as long as the physical properties of the film are not impaired.

基材層の厚みは、一又は複数の実施形態において、エキスパンド工程においてフィルムを引き延ばしたときにフィルムが破れない程度の強度を確保できる観点から、40〜95μm、又は60〜80μmである。また、基材層の厚みは、一又は複数の実施形態において、ダイシング用基体フィルムの厚みに対し、40〜95%、又は60〜80%である。   In one or a plurality of embodiments, the thickness of the base material layer is 40 to 95 μm or 60 to 80 μm from the viewpoint of securing a strength that does not break the film when the film is stretched in the expanding step. Moreover, the thickness of a base material layer is 40 to 95% or 60 to 80% with respect to the thickness of the base film for dicing in one or some embodiment.

本開示のダイシング用基体フィルムは、生産歩留まりを向上できる観点から、一又は複数の実施形態において、基材層と表面層との間にさらに中間層を有していてもよい。   The dicing substrate film of the present disclosure may further include an intermediate layer between the base material layer and the surface layer in one or a plurality of embodiments from the viewpoint of improving the production yield.

<中間層>
中間層は、一又は複数の実施形態において、ダイシングブレードによって切り込まれない層である。
<Intermediate layer>
The intermediate layer is a layer that is not cut by the dicing blade in one or more embodiments.

中間層を形成する樹脂成分としては、一又は複数の実施形態において、フィルムのエキスパンド性を低下させずに、基材層と表面層との接着性を向上できる観点から、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体又はその水素添加物を含有することが好ましい。なお、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体又はその水素添加物としては、前述の表面層と同じものを用いることができ、ここではその詳細な説明を省略する。   In one or a plurality of embodiments, the resin component forming the intermediate layer is a vinyl aromatic hydrocarbon from the viewpoint of improving the adhesion between the base material layer and the surface layer without reducing the expandability of the film. It is preferable to contain a conjugated diene hydrocarbon copolymer or a hydrogenated product thereof. In addition, as a vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer or its hydrogenated substance, the same thing as the above-mentioned surface layer can be used, The detailed description is abbreviate | omitted here.

また、中間層を形成する樹脂成分としては、一又は複数の実施形態において、上記ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体又はその水素添加物以外に、ポリスチレン系樹脂や基材層を構成する樹脂成分等の他の樹脂成分をさらに含有してもよい。なお、ポリスチレン系樹脂としては、前述の表面層と同じものを用いることができ、基材層を構成する樹脂成分については前述したとおりであるため、ここではその詳細な説明を省略する。   Moreover, as a resin component forming the intermediate layer, in one or a plurality of embodiments, in addition to the vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer or a hydrogenated product thereof, a polystyrene-based resin or a base material layer is used. You may further contain other resin components, such as the resin component to comprise. In addition, since the same thing as the above-mentioned surface layer can be used as a polystyrene-type resin, since it is as having mentioned above about the resin component which comprises a base material layer, the detailed description is abbreviate | omitted here.

中間層が、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体又はその水素添加物と、その他の樹脂成分とを含有する場合、フィルムのエキスパンド性の低下を抑制しつつ、基材層と表面層との接着性を向上できる観点から、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体又はその水素添加物の含有割合は、50重量%以上、又は60重量%以上であり、100重量%以下、又は90重量%以下である。   When the intermediate layer contains a vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer or a hydrogenated product thereof and other resin components, the base material layer and the surface are suppressed while suppressing a decrease in the expandability of the film. From the viewpoint of improving the adhesion with the layer, the content of the vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer or the hydrogenated product thereof is 50% by weight or more, or 60% by weight or more, and 100% by weight. Or 90% by weight or less.

中間層の厚みは、一又は複数の実施形態において、5〜60μm、又は20〜40μmである。   The thickness of the intermediate layer is 5 to 60 μm or 20 to 40 μm in one or more embodiments.

本開示のダイシング用基体フィルムの全体の厚みとしては、一又は複数の実施形態において、50〜200μm、又は80〜150μmである。ダイシング基体フィルムの全体の厚みを50μm以上とすることで、ウエハをダイシングする際に衝撃から保護できる。なお、ダイシング用基体フィルムが中間層を有する場合には、一又は複数の実施形態において、表面層の厚みは変更せずに、基材層の厚みを薄くすることで、フィルム全体の厚みが上記数値の範囲内となるよう設定する。   The overall thickness of the dicing substrate film of the present disclosure is 50 to 200 μm or 80 to 150 μm in one or more embodiments. By setting the total thickness of the dicing substrate film to 50 μm or more, the wafer can be protected from impact when dicing. In addition, when the base film for dicing has an intermediate layer, in one or a plurality of embodiments, the thickness of the base layer is reduced without changing the thickness of the surface layer, so that the thickness of the whole film is Set the value within the range.

本開示のダイシング用基体フィルムの製造方法としては、Tダイス又は環状ダイスを使用した押出法やカレンダー法等の公知の方法が挙げられるが、基体フィルムの厚み精度の点から、Tダイスを使用した押出法が好ましい。   Examples of the manufacturing method of the substrate film for dicing according to the present disclosure include known methods such as an extrusion method using a T die or a circular die and a calender method. From the viewpoint of the thickness accuracy of the substrate film, a T die was used. Extrusion is preferred.

以下、Tダイスを使用した押出法について説明する。   Hereinafter, an extrusion method using a T die will be described.

まず、表面層及び基材層を構成する樹脂成分をそれぞれドライブレンド又は溶融混練し、各層形成用樹脂を得る。そして、各層形成用樹脂をスクリュー式押出機に供給し、180〜240℃に調整された多層Tダイからフィルム状に押出し、これを10〜50℃に調整された冷却ロールに通しながら冷却して巻き取る。あるいは、各層形成用樹脂を一旦ペレットとして取得した後、上記のように押出成形してもよい。形成される各層の厚みは、押出機のスクリュー回転数を調整することで、調整できる。   First, the resin component which comprises a surface layer and a base material layer is each dry blended or melt-kneaded, and resin for each layer formation is obtained. And each layer forming resin is supplied to a screw type extruder, extruded from a multilayer T die adjusted to 180 to 240 ° C., and cooled while passing through a cooling roll adjusted to 10 to 50 ° C. Wind up. Alternatively, after each layer forming resin is once obtained as pellets, it may be extruded as described above. The thickness of each layer formed can be adjusted by adjusting the screw speed of the extruder.

上記冷却ロールに通しながら冷却してフィルムを巻き取る工程では、エキスパンド時にフィルムが破れない程度の強度を確保し、エキスパンド後の復元性を向上できる観点から、実質的に無延伸で巻き取りを行うことが好ましい。実質的に無延伸とは、積極的な延伸を行わないことをいい、無延伸、あるいは、ダイシング時のウエハの反りに影響を与えない程度の僅少の延伸を含むものである。通常、フィルムの巻き取りの際に、たるみの生じない程度の引っ張りであればよい。   In the process of winding the film by cooling while passing through the cooling roll, the film is wound substantially unstretched from the viewpoint of securing a strength sufficient to prevent the film from being broken at the time of expansion and improving the restoration property after expansion. It is preferable. Substantially non-stretching means that no positive stretching is performed, and includes non-stretching or slight stretching that does not affect the warpage of the wafer during dicing. Usually, the film may be pulled to such an extent that no sagging occurs when the film is wound.

本開示のダイシング用基体フィルムは、一又は複数の実施形態において、図1に示すように、表面層12上に粘着剤層13を設けることで、本開示のダイシングフィルム20を構成できる。   In one or a plurality of embodiments, the dicing film 20 according to the present disclosure can be configured as the dicing film 20 according to the present disclosure by providing the pressure-sensitive adhesive layer 13 on the surface layer 12 as illustrated in FIG. 1.

<粘着剤層>
粘着剤層としては、半導体部材を貼り付け、かつ、ダイシング後に個片化された半導体部材を好適に剥がすことができるものであれば特に限定されないが、アクリル系粘着剤、紫外線硬化性ウレタンアクリレート樹脂、イソシアネート系架橋剤等を含む樹脂組成物から構成されるものが好ましい。これにより、ダイシング前には半導体部材を十分に保持でき、かつ、個片化された半導体部材をピックアップする前に紫外線照射を行うことで粘着剤の保持力(粘着力)を低下させて、好適にピックアップすることができる。
<Adhesive layer>
The pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited as long as the semiconductor member can be attached and the semiconductor member separated into pieces after dicing can be suitably peeled off, but the acrylic pressure-sensitive adhesive and the ultraviolet curable urethane acrylate resin A resin composition containing an isocyanate-based crosslinking agent or the like is preferable. As a result, the semiconductor member can be sufficiently held before dicing, and the holding force (adhesive force) of the adhesive is reduced by irradiating with ultraviolet rays before picking up the separated semiconductor member. Can be picked up.

粘着剤層の厚みは、一又は複数の実施形態において、半導体部材との密着性を向上できる観点から、好ましくは2μm以上、より好ましくは3μm以上である。また、ダイシング時の加工性を向上できる観点から、好ましくは30μm以下、より好ましくは15μm以下である。   In one or a plurality of embodiments, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 2 μm or more, more preferably 3 μm or more from the viewpoint of improving the adhesion with the semiconductor member. Moreover, from a viewpoint which can improve the workability at the time of dicing, Preferably it is 30 micrometers or less, More preferably, it is 15 micrometers or less.

本開示のダイシングフィルムの製造方法は、一又は複数の実施形態において、粘着剤層を形成する樹脂組成物を適宜溶剤に溶解又は分散させた塗工液を、ダイシング用基体フィルムの表面層上に、ロールコーティングやグラビアコーティング等の公知のコーティング方法によって塗布し乾燥することにより、粘着剤層を形成する方法等が挙げられる。   In one or a plurality of embodiments, the manufacturing method of the dicing film of the present disclosure includes applying a coating liquid in which the resin composition forming the pressure-sensitive adhesive layer is appropriately dissolved or dispersed in a solvent on the surface layer of the substrate film for dicing. Examples thereof include a method of forming a pressure-sensitive adhesive layer by applying and drying by a known coating method such as roll coating or gravure coating.

本開示のダイシングフィルムは、一又は複数の実施形態において、粘着剤層上にさらに保護層を備えていても良い。   In one or a plurality of embodiments, the dicing film of the present disclosure may further include a protective layer on the pressure-sensitive adhesive layer.

<保護層>
保護層としては、ダイシングフィルムの使用時まで粘着剤層を保護し、ダイシングフィルムの使用時に好適に除去できるものであれば特に限定されない。保護層としては、ダイシングフィルムの使用時における作業性を向上できる観点から、一又は複数の実施形態において、ポリエステル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂等で構成されているフィルムが好ましい。
<Protective layer>
The protective layer is not particularly limited as long as it can protect the pressure-sensitive adhesive layer until the dicing film is used and can be suitably removed when the dicing film is used. As a protective layer, from the viewpoint of improving workability when using a dicing film, in one or a plurality of embodiments, a film made of a polyester resin, a polyethylene resin, a polypropylene resin, a polystyrene resin, or the like is used. preferable.

保護層は、一又は複数の実施形態において、粘着剤層に接する面が離型処理されていてもよい。この場合、ダイシングフィルムの使用時に保護層をより好適に除去できる。離型処理する方法としては、一又は複数の実施形態において、シリコン樹脂、アルキッド樹脂等の離型樹脂を塗布する方法が挙げられる。   In one or more embodiments, the surface of the protective layer that contacts the pressure-sensitive adhesive layer may be subjected to a release treatment. In this case, the protective layer can be more suitably removed when the dicing film is used. Examples of the release treatment method include a method of applying a release resin such as silicon resin or alkyd resin in one or a plurality of embodiments.

本開示の半導体チップの製造方法は、一又は複数の実施形態において、本開示のダイシングフィルムと半導体部材とを貼付する貼付工程と、前記半導体部材をダイシングして個片化するダイシング工程と、前記ダイシングフィルムをエキスパンドし、隣り合う前記個片化された半導体部材の間を拡張するエキスパンド工程と、前記個片化された半導体部材をピックアップするピックアップ工程と、を含む方法が挙げられる。   In one or a plurality of embodiments, the manufacturing method of the semiconductor chip of the present disclosure includes a pasting step of pasting the dicing film of the present disclosure and the semiconductor member, a dicing step of dicing the semiconductor member into individual pieces, There is a method including an expanding step of expanding a dicing film and expanding between the separated semiconductor members adjacent to each other, and a pickup step of picking up the separated semiconductor member.

貼付工程では、一又は複数の実施形態において、市販のマウンター等を使用して、ダイシングフィルムの粘着剤層と半導体部材とを貼り付ける。ダイシングフィルムが保護層を有する場合には、保護層を除去しながら、ダイシングフィルムと半導体部材を貼り付けることができる。   In the attaching step, in one or a plurality of embodiments, the adhesive layer of the dicing film and the semiconductor member are attached using a commercially available mounter or the like. When the dicing film has a protective layer, the dicing film and the semiconductor member can be attached while removing the protective layer.

ダイシング工程では、一又は複数の実施形態において、市販のダイサー等を使用して、半導体部材をダイシングして個片化する。   In the dicing step, in one or a plurality of embodiments, a commercially available dicer or the like is used to dice the semiconductor member into individual pieces.

エキスパンド工程では、一又は複数の実施形態において、市販のエキスパンダー装置等を使用して、隣り合う個片化された半導体部材の間を拡張する。これにより、後段のピックアップ工程を好適に実行可能となる。   In the expanding step, in one or a plurality of embodiments, a space between adjacent separated semiconductor members is expanded using a commercially available expander device or the like. As a result, the subsequent pickup process can be suitably executed.

ピックアップ工程では、一又は複数の実施形態において、市販のチップボンダー等を使用して、個片化された半導体部材をピックアップすることで、半導体チップが得られる。   In the pick-up process, in one or a plurality of embodiments, a semiconductor chip is obtained by picking up an individual semiconductor member using a commercially available chip bonder or the like.

本開示の半導体チップの製造方法は、一又は複数の実施形態において、エキスパンド工程の後、個片化された半導体部材をダイシングフィルムを介して、市販の対物顕微鏡等を用いて目視検査する検査工程を含んでいてもよい。これにより、個片化された半導体部材に不良部分があるかどうかを検知できるため、生産性を向上できる。   In one or a plurality of embodiments, the manufacturing method of a semiconductor chip of the present disclosure includes an inspection step of visually inspecting an individualized semiconductor member through a dicing film using a commercially available objective microscope or the like after the expanding step. May be included. Thereby, since it can be detected whether there is a defective part in the separated semiconductor member, productivity can be improved.

本開示の半導体チップの製造方法は、一又は複数の実施形態において、粘着剤層が紫外線硬化性ウレタンアクリレート樹脂等を含む場合、ピックアップ工程の前に紫外線照射工程を含んでいてもよい。これにより、ピックアップ工程の前に紫外線を照射して、粘着剤層の保持力を低下させて、好適にピックアップすることができる。   In one or a plurality of embodiments, the semiconductor chip manufacturing method of the present disclosure may include an ultraviolet irradiation step before the pickup step when the pressure-sensitive adhesive layer includes an ultraviolet curable urethane acrylate resin or the like. Thereby, it can irradiate with an ultraviolet-ray before a pick-up process, can reduce the holding power of an adhesive layer, and can pick up suitably.

本開示は、さらに以下の一又は複数の実施形態に関する。
[1] 基材層と、前記基材層の一主面上に配置された表面層と、を含むダイシング用基体フィルムであって、前記表面層は、ポリスチレン系樹脂と、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体又はその水素添加物と、を含有し、前記表面層における前記ポリスチレン系樹脂の含有量は、50重量%を超える、ダイシング用基体フィルム。
[2] 前記ポリスチレン系樹脂は、汎用ポリスチレン及び耐衝撃性ポリスチレンからなる群から選択される少なくとも1つである、[1]に記載のダイシング用基体フィルム。
[3] 前記ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体は、スチレン−エチレン−ブタジエン−スチレン共重合体である、[1]又は[2]に記載のダイシング用基体フィルム。
[4] 前記ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体中のビニル芳香族炭化水素の含有量は、10重量%以上50重量%以下である、[1]から[3]のいずれかに記載のダイシング用基体フィルム。
[5] 前記表面層における前記ポリスチレン系樹脂の含有量は、50重量%を超えて85重量%以下であり、前記表面層における前記ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体又はその水素添加物の含有量は、15重量%以上50重量%以下、又は15重量%以上50重量%未満である、[1]から[4]のいずれかに記載のダイシング用基体フィルム。
[6] 前記表面層は、ダイシングブレードによって切り込まれる切込み層である、[1]から[5]のいずれかに記載のダイシング用基体フィルム。
[7] 前記基材層と前記表面層との間に、さらに中間層を含む、[1]から[6]のいずれかに記載のダイシング用基体フィルム。
[8] [1]から[7]のいずれかに記載のダイシング用基体フィルムの表面層側の主面上に、粘着剤層が設けられた、ダイシングフィルム。
[9] [8]に記載のダイシングフィルムと半導体部材とを貼付する工程と、前記半導体部材をダイシングして個片化するダイシング工程と、前記ダイシングフィルムをエキスパンドし、隣り合う前記個片化された半導体部材の間を拡張するエキスパンド工程と、前記個片化された半導体部材をピックアップするピックアップ工程と、を含む、半導体チップの製造方法。
The present disclosure further relates to one or more of the following embodiments.
[1] A substrate film for dicing comprising a base material layer and a surface layer disposed on one main surface of the base material layer, wherein the surface layer comprises a polystyrene resin and a vinyl aromatic hydrocarbon A substrate film for dicing comprising a conjugated diene hydrocarbon copolymer or a hydrogenated product thereof, wherein the content of the polystyrene resin in the surface layer exceeds 50% by weight.
[2] The substrate film for dicing according to [1], wherein the polystyrene-based resin is at least one selected from the group consisting of general-purpose polystyrene and impact-resistant polystyrene.
[3] The substrate film for dicing according to [1] or [2], wherein the vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer is a styrene-ethylene-butadiene-styrene copolymer.
[4] The vinyl aromatic hydrocarbon content in the vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer is 10% by weight or more and 50% by weight or less, and any one of [1] to [3] A substrate film for dicing as described in 1.
[5] The content of the polystyrene-based resin in the surface layer is more than 50% by weight and 85% by weight or less, and the vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer or hydrogen thereof in the surface layer. The substrate film for dicing according to any one of [1] to [4], wherein the content of the additive is 15% by weight or more and 50% by weight or less, or 15% by weight or more and less than 50% by weight.
[6] The substrate film for dicing according to any one of [1] to [5], wherein the surface layer is a cut layer cut by a dicing blade.
[7] The substrate film for dicing according to any one of [1] to [6], further including an intermediate layer between the base material layer and the surface layer.
[8] A dicing film in which an adhesive layer is provided on the main surface on the surface layer side of the substrate film for dicing according to any one of [1] to [7].
[9] The step of attaching the dicing film and the semiconductor member according to [8], the dicing step of dicing the semiconductor member into individual pieces, and expanding the dicing film into adjacent pieces. A method for manufacturing a semiconductor chip, comprising: an expanding step for expanding between the semiconductor members; and a pickup step for picking up the separated semiconductor member.

本開示を実施例により更に詳細に説明するが、これは単なる例示であり、本開示はこれにより限定されるものではない。   The present disclosure will be described in more detail by way of examples, but this is merely an example, and the present disclosure is not limited thereto.

<原料>
実施例及び比較例のダイシング用基体フィルムの作製に使用した原料は以下の通りである。
・スチレン−ブタジエン共重合体(HIPS):「H9152」(商品名、PSジャパン株式会社製)
・スチレン−エチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体の水素添加物(SEBS、St含量:18重量%):「タフテックH1062」(商品名、旭化成ケミカルズ株式会社製)
・ポリプロピレン(PP):「FS2011DG−2」(商品名、住友化学株式会社製)
・ポリスチレン(PS):「HF77」(商品名、PSジャパン株式会社製)
<Raw material>
The raw materials used for the production of the substrate films for dicing in Examples and Comparative Examples are as follows.
Styrene-butadiene copolymer (HIPS): “H9152” (trade name, manufactured by PS Japan Ltd.)
-Hydrogenated product of styrene-ethylene-butadiene-styrene block copolymer (SEBS, St content: 18% by weight): "Tuftec H1062" (trade name, manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation)
・ Polypropylene (PP): “FS2011DG-2” (trade name, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
Polystyrene (PS): “HF77” (trade name, manufactured by PS Japan Ltd.)

(実施例1)
HIPS:55重量%とSEBS:45重量%とをタンブラーにてドライブレンドし、表面層形成用樹脂を得た。また、PP:60重量%とSEBS:40重量%とをドライブレンドし、基材層形成用樹脂を得た。そして、得られた各層形成用樹脂を、200℃に調整されたそれぞれの押出機に供給し、表面層/基材層の順序になるように、200℃の2層ダイスから押出し、30℃に設定された冷却ロールにて冷却固化して、実質的に無延伸の状態で巻き取り、2層構造のダイシング用基体フィルムを得た。実施例1において、表面層の厚みは40μm、基材層の厚みは60μm、ダイシング用基体フィルム全体の厚みは100μmであった。
Example 1
HIPS: 55% by weight and SEBS: 45% by weight were dry blended with a tumbler to obtain a surface layer forming resin. Further, PP: 60% by weight and SEBS: 40% by weight were dry blended to obtain a base layer forming resin. Then, each obtained layer forming resin is supplied to each extruder adjusted to 200 ° C., and extruded from a two-layer die at 200 ° C. so as to be in the order of surface layer / base material layer. It cooled and solidified with the set cooling roll, wound up in the substantially unstretched state, and obtained the base film for dicing of a 2 layer structure. In Example 1, the thickness of the surface layer was 40 μm, the thickness of the base material layer was 60 μm, and the thickness of the entire substrate film for dicing was 100 μm.

(実施例2)
表面層を形成する樹脂成分について、HIPSの含有量を60重量%とし、SEBSの含有量を40重量%に変更した以外は、実施例1と同様にして、2層構造のダイシング用基体フィルムを作製した。実施例2において、表面層の厚みは40μm、基材層の厚みは60μm、ダイシング用基体フィルム全体の厚みは100μmであった。
(Example 2)
For the resin component forming the surface layer, a dicing substrate film having a two-layer structure was prepared in the same manner as in Example 1 except that the HIPS content was changed to 60% by weight and the SEBS content was changed to 40% by weight. Produced. In Example 2, the thickness of the surface layer was 40 μm, the thickness of the base material layer was 60 μm, and the thickness of the entire substrate film for dicing was 100 μm.

(実施例3)
表面層を形成する樹脂成分について、HIPSの含有量を70重量%とし、SEBSの含有量を30重量%に変更した以外は、実施例1と同様にして、2層構造のダイシング用基体フィルムを作製した。実施例3において、表面層の厚みは40μm、基材層の厚みは60μm、ダイシング用基体フィルム全体の厚みは100μmであった。
(Example 3)
With respect to the resin component forming the surface layer, a dicing substrate film having a two-layer structure was prepared in the same manner as in Example 1 except that the HIPS content was 70% by weight and the SEBS content was changed to 30% by weight. Produced. In Example 3, the thickness of the surface layer was 40 μm, the thickness of the base material layer was 60 μm, and the total thickness of the substrate film for dicing was 100 μm.

(実施例4)
表面層を形成する樹脂成分について、HIPSの含有量を80重量%とし、SEBSの含有量を20重量%に変更した以外は、実施例1と同様にして、2層構造のダイシング用基体フィルムを作製した。実施例4において、表面層の厚みは40μm、基材層の厚みは60μm、ダイシング用基体フィルム全体の厚みは100μmであった。
Example 4
For the resin component forming the surface layer, a dicing substrate film having a two-layer structure was prepared in the same manner as in Example 1 except that the HIPS content was changed to 80% by weight and the SEBS content was changed to 20% by weight. Produced. In Example 4, the thickness of the surface layer was 40 μm, the thickness of the base material layer was 60 μm, and the total thickness of the substrate film for dicing was 100 μm.

(実施例5)
表面層を形成する樹脂成分について、HIPSの含有量を85重量%とし、SEBSの含有量を15重量%に変更した以外は、実施例1と同様にして、2層構造のダイシング用基体フィルムを作製した。実施例5において、表面層の厚みは40μm、基材層の厚みは60μm、ダイシング用基体フィルム全体の厚みは100μmであった。
(Example 5)
For the resin component forming the surface layer, a dicing substrate film having a two-layer structure was prepared in the same manner as in Example 1 except that the HIPS content was 85% by weight and the SEBS content was changed to 15% by weight. Produced. In Example 5, the thickness of the surface layer was 40 μm, the thickness of the base material layer was 60 μm, and the thickness of the entire substrate film for dicing was 100 μm.

(実施例6)
表面層を形成する樹脂成分であるHIPSの代わりに、PSを同量(60重量%)用いたこと以外、実施例2と同様にして、2層構造のダイシング用基体フィルムを作製した。実施例6において、表面層の厚みは40μm、基材層の厚みは60μm、ダイシング用基体フィルム全体の厚みは100μmであった。
(Example 6)
A substrate film for dicing having a two-layer structure was produced in the same manner as in Example 2 except that the same amount (60% by weight) of PS was used instead of HIPS which is a resin component forming the surface layer. In Example 6, the thickness of the surface layer was 40 μm, the thickness of the base material layer was 60 μm, and the thickness of the entire substrate film for dicing was 100 μm.

(実施例7)
表面層を形成する樹脂成分であるHIPSの代わりに、PSを同量(80重量%)用いたこと以外、実施例4と同様にして、2層構造のダイシング用基体フィルムを作製した。実施例7において、表面層の厚みは40μm、基材層の厚みは60μm、ダイシング用基体フィルム全体の厚みは100μmであった。
(Example 7)
A substrate film for dicing having a two-layer structure was produced in the same manner as in Example 4 except that the same amount (80% by weight) of PS was used instead of HIPS which is a resin component forming the surface layer. In Example 7, the thickness of the surface layer was 40 μm, the thickness of the base material layer was 60 μm, and the total thickness of the substrate film for dicing was 100 μm.

(比較例1)
表面層を形成する樹脂成分について、HIPSの含有量を40重量%とし、SEBSの含有量を60重量%に変更した以外は、実施例1と同様にして、2層構造のダイシング用基体フィルムを作製した。比較例1において、表面層の厚みは40μm、基材層の厚みは60μm、ダイシング用基体フィルム全体の厚みは100μmであった。
(Comparative Example 1)
For the resin component forming the surface layer, a dicing substrate film having a two-layer structure was prepared in the same manner as in Example 1 except that the HIPS content was 40% by weight and the SEBS content was changed to 60% by weight. Produced. In Comparative Example 1, the thickness of the surface layer was 40 μm, the thickness of the base material layer was 60 μm, and the thickness of the entire substrate film for dicing was 100 μm.

(比較例2)
表面層を形成する樹脂成分について、HIPSのみ(含有量:100重量%)に変更した以外は、実施例1と同様にして、2層構造のダイシング用基体フィルムを作製した。比較例2において、表面層の厚みは40μm、基材層の厚みは60μm、ダイシング用基体フィルム全体の厚みは100μmであった。
(Comparative Example 2)
A dicing substrate film having a two-layer structure was produced in the same manner as in Example 1 except that the resin component forming the surface layer was changed to only HIPS (content: 100% by weight). In Comparative Example 2, the thickness of the surface layer was 40 μm, the thickness of the base material layer was 60 μm, and the thickness of the entire substrate film for dicing was 100 μm.

(比較例3)
HIPS:80重量%とSEBS:20重量%とをタンブラーにてドライブレンドし、樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物を、200℃に調整された押出機に供給し、200℃に調整された単層ダイスから押出し、30℃の冷却ロールにて冷却固化して、実質的に無延伸の状態で巻き取り、単層構造のダイシング用基体フィルムを得た。
(Comparative Example 3)
HIPS: 80 wt% and SEBS: 20 wt% were dry blended with a tumbler to obtain a resin composition. The obtained resin composition was supplied to an extruder adjusted to 200 ° C., extruded from a single-layer die adjusted to 200 ° C., cooled and solidified with a 30 ° C. cooling roll, and substantially unstretched. The film was wound in a state to obtain a substrate film for dicing having a single layer structure.

以上のようにして作製した実施例1〜7及び比較例1〜3の各ダイシング用基体フィルムの表面層上に粘着剤層を設け、ダイシングフィルムを得た。具体的には、まず、2−エチルヘキシルアクリレート:30重量%、酢酸ビニル:70重量%及び2−ヒドロキシエチルメタクリレート:1重量%をトルエン溶媒中にて混合し、重量平均分子量150,000のベース樹脂を得た。そして、このベース樹脂:100重量部と、架橋剤としてトリレンジイソシアネートの多価アルコール付加体(商品名「コロネートL」、日本ポリウレタン社製):10重量部とを酢酸エチルに溶解した後、乾燥後の厚さが10μmになるようにダイシング用基体フィルムの表面層上にバーコード塗工した後、80℃で5分間乾燥してダイシングフィルムを得た。   A pressure-sensitive adhesive layer was provided on the surface layer of each of the substrate films for dicing of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 3 produced as described above to obtain dicing films. Specifically, first, 2-ethylhexyl acrylate: 30% by weight, vinyl acetate: 70% by weight, and 2-hydroxyethyl methacrylate: 1% by weight are mixed in a toluene solvent to obtain a base resin having a weight average molecular weight of 150,000. Got. Then, 100 parts by weight of this base resin and a polyhydric alcohol adduct of tolylene diisocyanate as a crosslinking agent (trade name “Coronate L”, manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.): 10 parts by weight are dissolved in ethyl acetate, and then dried. After barcode coating was performed on the surface layer of the substrate film for dicing so that the subsequent thickness became 10 μm, it was dried at 80 ° C. for 5 minutes to obtain a dicing film.

得られたダイシングフィルムについて、下記のとおり、切削屑特性、エキスパンド性、及び復元性の評価を行い、その結果を表1に示した。また、表1には、実施例1〜7及び比較例1〜3のダイシングフィルムを構成する粘着剤層の厚み、表面層を形成する樹脂成分の含有量、表面層の厚み、基材層を形成する樹脂成分の含有量、基材層の厚み、及び、ダイシング用基体フィルム全体の厚みについても併せて示した。   The obtained dicing film was evaluated for cutting waste properties, expandability, and restorability as follows, and the results are shown in Table 1. Moreover, in Table 1, the thickness of the adhesive layer which comprises the dicing film of Examples 1-7 and Comparative Examples 1-3, content of the resin component which forms a surface layer, the thickness of a surface layer, and a base material layer are shown. The content of the resin component to be formed, the thickness of the base material layer, and the thickness of the entire substrate film for dicing are also shown.

(切削屑特性)
切削屑特性は、次のようにして評価した。まず、ダイシングフィルムに、シリコンウエハ(厚み:0.2mm)を貼り付け、下記条件でダイシングを実施し、カットラインの観察を行い、カットラインから出てくる長さ100μm以上の切削屑の数をカウントし、切削屑特性を評価し、評価結果を表1に示した。ここでは、切削屑の数が0〜5本の場合は、切削屑特性に優れていると評価し、表1では「A」と表記した。切削屑の数が6〜10本の場合は、切削屑特性が良好であると評価し、表1では「B」と表記した。切削屑の数が11本以上の場合は、切削屑特性が良好でないと評価し、表1では「C」と表記した。
(Cutting properties)
The cutting waste characteristics were evaluated as follows. First, a silicon wafer (thickness: 0.2 mm) is attached to the dicing film, dicing is performed under the following conditions, the cut line is observed, and the number of cutting scraps having a length of 100 μm or more coming out of the cut line is determined. Counting was performed to evaluate cutting waste characteristics, and the evaluation results are shown in Table 1. Here, when the number of cutting wastes was 0 to 5, it was evaluated that the cutting waste characteristics were excellent, and in Table 1, “A” was written. When the number of cutting wastes was 6 to 10, it was evaluated that cutting waste characteristics were good, and in Table 1, “B” was indicated. When the number of cutting wastes was 11 or more, it was evaluated that the cutting waste characteristics were not good, and in Table 1, “C” was indicated.

[ダイシング条件]
ダイシング装置:「DAD―3350」(商品名、DISCO社製)
ダイシングブレード:「ZH205O 27HEDD」(商品名、DISCO社製)
ブレード回転数:45000rpm
カット速度:50mm/sec
切込み:ダイシングフィルム表面から40μm(表面層に対する切込み量は30μm)
カットサイズ:10mm×10mm
ブレードクーラー:2L/min
[Dicing condition]
Dicing machine: “DAD-3350” (trade name, manufactured by DISCO)
Dicing blade: “ZH205O 27HEDD” (trade name, manufactured by DISCO)
Blade rotation speed: 45000rpm
Cutting speed: 50mm / sec
Cutting: 40 μm from the surface of the dicing film (the cutting depth for the surface layer is 30 μm)
Cut size: 10mm x 10mm
Blade cooler: 2L / min

(エキスパンド性及び復元性)
エキスパンド性及び復元性については、次のようにして評価した。まず、上記切削屑特性の評価と同様して、ダイシングフィルムにシリコンウエハを貼り付け、ダイシングを実施し、ダイシングによって個片化されたウエハが貼り付けられた状態のダイシングフィルムをウエハエキスパンダー装置(商品名「HS1010」、ヒューグル社製)に設置し、引落し量6mmにてエキスパンドを行った。
(Expanding and restoring properties)
The expandability and restorability were evaluated as follows. First, in the same manner as the evaluation of the cutting waste characteristics, a silicon wafer is attached to a dicing film, dicing is performed, and the dicing film in a state where a wafer separated by dicing is attached is a wafer expander apparatus (product). Name “HS1010” (manufactured by Hugle Co., Ltd.) and expanded with a withdrawal amount of 6 mm.

エキスパンド性に関しては、エキスパンドの開始から10分経過後にダイシングフィルムが破断したかどうかを評価し、評価結果を表1に示した。ここでは、フィルムが破断しなかった場合、エキスパンド性は良好であると評価し、表1では「A」と表記した。フィルムが破断した場合、エキスパンド性は良好ではないと評価し、表1では、「B」と表記した。   Regarding the expandability, whether or not the dicing film broke after 10 minutes from the start of the expansion was evaluated, and the evaluation results are shown in Table 1. Here, when the film did not break, it was evaluated that the expandability was good, and “A” was shown in Table 1. When the film broke, it was evaluated that the expandability was not good, and in Table 1, “B” was indicated.

復元性に関しては、エキスパンドの開始から10分経過後にエキスパンドをやめて、その後10分間放置した後のフィルムのたるみ量を測定し、測定値に基づいて評価し、評価結果を表1に示した。ここでは、フィルムのたるみ量が5mm以下の場合、復元性に優れていると評価し、表1では「A」と表記した。フィルムのたるみ量が5mmを超え9mm未満の場合、復元性は良好であると評価し、表1では「B」と表記した。フィルムのたるみ量が9mm以上の場合、復元性は良好ではないと評価し、表1では「C」と表記した。   Regarding the recoverability, the expansion was stopped after 10 minutes from the start of the expansion, and the amount of sagging of the film after being allowed to stand for 10 minutes was measured and evaluated based on the measured values. The evaluation results are shown in Table 1. Here, when the amount of sag of the film was 5 mm or less, it was evaluated that the film had excellent resilience. When the amount of sagging of the film was more than 5 mm and less than 9 mm, the restorability was evaluated as good, and “B” was shown in Table 1. When the amount of sag of the film was 9 mm or more, it was evaluated that the restorability was not good, and “C” was shown in Table 1.

Figure 0006146616
Figure 0006146616

表1に示すように、実施例1〜7のダイシングフィルムは、比較例1〜3のダイシングフィルムに比べて、切削屑の発生の抑制効果が高く、また、エキスパンド性及び復元性に優れていることが分かった。また、表面層におけるHIPS含有量が50重量%を超える実施例1は、表面層中のHIPS含有量が50重量%以下の比較例1に比べて、切削屑の発生を大幅に低減できていたことから、切削屑の発生の抑制にはHIPSの含有量が50重量%を超えることが重要であることが分かった。また、SEBSを含有しない比較例2は、復元性が良好ではなかったことから、十分な復元性を得るためには、SEBSが重要であることが分かった。単層構造の比較例3は、エキスパンドしたときに破断してしまったことから、十分なエキスパンド性を得るためには、ダイシング用基体フィルムを二層構造とすることが重要であることが分かった。   As shown in Table 1, the dicing films of Examples 1 to 7 have a higher effect of suppressing the generation of cutting waste than the dicing films of Comparative Examples 1 to 3, and are excellent in expandability and restorability. I understood that. In addition, Example 1 in which the HIPS content in the surface layer exceeds 50% by weight was able to significantly reduce the generation of cutting scraps compared to Comparative Example 1 in which the HIPS content in the surface layer was 50% by weight or less. Therefore, it was found that it is important that the content of HIPS exceeds 50% by weight for the suppression of the generation of cutting waste. Moreover, since the comparative example 2 which does not contain SEBS was not good in the restoring property, in order to obtain sufficient restoring property, it turned out that SEBS is important. Since Comparative Example 3 having a single-layer structure was broken when expanded, it was found that it is important to make the substrate film for dicing into a two-layer structure in order to obtain sufficient expandability. .

本開示のダイシングフィルムは、エキスパンド性及び復元性に優れ、かつ、ダイシング時の切削屑の発生の抑制効果が高いため、半導体装置を製造する際、ダイシング工程において半導体部材固定用フィルムとして好適に用いられる。   Since the dicing film of the present disclosure is excellent in expandability and restoration property and has a high effect of suppressing the generation of cutting waste during dicing, it is suitably used as a semiconductor member fixing film in a dicing process when manufacturing a semiconductor device. It is done.

10 ダイシング用基体フィルム
11 基材層
12 表面層
13 粘着剤層
20 ダイシングフィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Base film for dicing 11 Base material layer 12 Surface layer 13 Adhesive layer 20 Dicing film

Claims (8)

基材層と、前記基材層の一主面上に配置された表面層と、を含むダイシング用基体フィルムであって、
前記表面層は、ポリスチレン系樹脂と、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体又はその水素添加物と、を含有し、
前記表面層における前記ポリスチレン系樹脂の含有量は、50重量%を超え、
前記ポリスチレン系樹脂は、スチレンホモポリマーである汎用ポリスチレン、及びスチレン―ブタジエン共重合体である耐衝撃性ポリスチレンからなる群から選択される少なくとも1つであり、
前記ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体が、スチレン−エチレン−ブタジエン−スチレン共重合体である、ダイシング用基体フィルム。
A substrate film for dicing comprising a substrate layer and a surface layer disposed on one principal surface of the substrate layer,
The surface layer contains a polystyrene resin and a vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer or a hydrogenated product thereof,
The content of the polystyrene-based resin in the surface layer, exceed 50% by weight,
The polystyrene resin is at least one selected from the group consisting of general-purpose polystyrene that is a styrene homopolymer and impact-resistant polystyrene that is a styrene-butadiene copolymer,
A substrate film for dicing, wherein the vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer is a styrene-ethylene-butadiene-styrene copolymer .
前記耐衝撃性ポリスチレンは、汎用ポリスチレンにゴム成分をブレンド又はグラフト重合した構造である、請求項1に記載のダイシング用基体フィルム。 The substrate film for dicing according to claim 1, wherein the impact-resistant polystyrene has a structure in which a rubber component is blended or graft-polymerized with general-purpose polystyrene . 前記ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体中のビニル芳香族炭化水素の含有量は、10重量%以上50重量%以下である、請求項1又は2に記載のダイシング用基体フィルム。 The substrate film for dicing according to claim 1 or 2, wherein a content of the vinyl aromatic hydrocarbon in the vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer is 10 wt% or more and 50 wt% or less. 前記表面層における前記ポリスチレン系樹脂の含有量は、50重量%を超えて85重量%以下であり、
前記表面層における前記ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体又はその水素添加物の含有量は、15重量%以上50重量%以下である、請求項1からのいずれかに記載のダイシング用基体フィルム。
The content of the polystyrene resin in the surface layer is more than 50% by weight and 85% by weight or less,
The content of the vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer or a hydrogenated product thereof in the surface layer is 15 wt% or more and 50 wt% or less, according to any one of claims 1 to 3 . Base film for dicing.
前記表面層は、ダイシングブレードによって切り込まれる切込み層である、請求項1からのいずれかに記載のダイシング用基体フィルム。 The dicing substrate film according to any one of claims 1 to 4 , wherein the surface layer is a cut layer cut by a dicing blade. 前記基材層と前記表面層との間に、さらに中間層を含む、請求項1からのいずれかに記載のダイシング用基体フィルム。 The base film for dicing according to any one of claims 1 to 5 , further comprising an intermediate layer between the base material layer and the surface layer. 請求項1からのいずれかに記載のダイシング用基体フィルムの表面層側の主面上に、粘着剤層が設けられた、ダイシングフィルム。 On the main surface of the surface layer side of the dicing substrate film according to any one of claims 1 to 6, the adhesive layer is provided, the dicing film. 請求項に記載のダイシングフィルムと半導体部材とを貼付する貼付工程と、
前記半導体部材をダイシングして個片化するダイシング工程と、
前記ダイシングフィルムをエキスパンドし、隣り合う前記個片化された半導体部材の間を拡張するエキスパンド工程と、
前記個片化された半導体部材をピックアップするピックアップ工程と、を含む、半導体チップの製造方法。


A pasting step for pasting the dicing film according to claim 7 and the semiconductor member;
A dicing step of dicing the semiconductor member into individual pieces;
Expanding the dicing film and expanding between the adjacent singulated semiconductor members; and
And a pick-up step for picking up the separated semiconductor member.


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