JP6146103B2 - Antireflection film, polarizing plate using the same, touch panel substrate, image display device - Google Patents

Antireflection film, polarizing plate using the same, touch panel substrate, image display device Download PDF

Info

Publication number
JP6146103B2
JP6146103B2 JP2013085016A JP2013085016A JP6146103B2 JP 6146103 B2 JP6146103 B2 JP 6146103B2 JP 2013085016 A JP2013085016 A JP 2013085016A JP 2013085016 A JP2013085016 A JP 2013085016A JP 6146103 B2 JP6146103 B2 JP 6146103B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
refractive index
index layer
antireflection film
high refractive
acrylate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2013085016A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2014206688A (en
Inventor
希 大中
希 大中
緒方 啓介
啓介 緒方
靖史 薮原
靖史 薮原
かおり 中島
かおり 中島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Inc filed Critical Toppan Inc
Priority to JP2013085016A priority Critical patent/JP6146103B2/en
Publication of JP2014206688A publication Critical patent/JP2014206688A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6146103B2 publication Critical patent/JP6146103B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明はディスプレイ等の表面に外光が反射することを防止することを目的として設けられる反射防止フィルム、該反射防止フィルムを備える偏光板、タッチパネル基板および画像表示装置に関する。   The present invention relates to an antireflection film provided for the purpose of preventing external light from being reflected on the surface of a display or the like, a polarizing plate provided with the antireflection film, a touch panel substrate, and an image display device.

ディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光等が入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、特に近年モバイル端末の普及が進み、日中の屋外においては、屋内にて使用する場合よりも強い外光にさらされるため、屋外でも視認性を損なわない、低反射率の反射防止フィルムが求められている。   The display is used in an environment where external light or the like enters regardless of whether the display is used indoors or outdoors. Incident light such as external light is specularly reflected on the display surface and the like, and the reflected image thereby mixes with the display image, thereby degrading the screen display quality. Therefore, it is essential to provide an anti-reflection function on the display surface, etc., especially in recent years the spread of mobile terminals, in the daytime outdoors, because it is exposed to strong external light than when used indoors, There is a need for an antireflection film with low reflectance that does not impair visibility even outdoors.

また、定置設置型の画像表示装置に反射防止フィルムを適応する場合、その多くは、固定光源からの反射光を低減することが前提となっている。これは、外光の入射角が変化しないことを意味する。これに対しモバイル端末の場合、屋外での使用や手元での操作があるため、外光の入射が様々な角度から起こり、さらに、視聴者も様々な角度でディスプレイを観察する場合が多くなる。よって、モバイル端末に対して反射防止フィルムを適応しようとした場合、正面からの反射光のみではなく、あらゆる入射角の光源に対しての反射光、特に反射光の色味について検討する必要がある。   Further, when an antireflection film is applied to a stationary installation type image display device, most of them are premised on reducing reflected light from a fixed light source. This means that the incident angle of external light does not change. On the other hand, in the case of a mobile terminal, since it is used outdoors or operated at hand, the incidence of external light occurs from various angles, and the viewer often observes the display from various angles. Therefore, when trying to apply an antireflection film to a mobile terminal, it is necessary to consider not only the reflected light from the front but also the reflected light, especially the color of the reflected light, for the light source of all incident angles. .

これに対し、例えば反射防止フィルムの色付きを抑制する目的で、導電性金属酸化物と屈折率低減化物質、及び紫外線硬化型樹脂よりなる帯電防止層を形成する方法が示されている(例えば特許文献1)。   On the other hand, for example, for the purpose of suppressing coloring of the antireflection film, a method of forming an antistatic layer made of a conductive metal oxide, a refractive index reducing substance, and an ultraviolet curable resin is shown (for example, a patent). Reference 1).

このような反射防止フィルムは、少なくとも最表面に膜厚200nm以下の薄膜層である低屈折率層を設け、その低屈折率層の光学干渉によって反射防止を行う。しかし、最も単純な構成である低屈折率層一層で反射防止を行う一層薄膜干渉型の場合は、反射率1%以下を満足するものがない。さらに、反射率0.5%以下を達成するための、支持体と低屈折率層の間に高屈折率層を形成する二層薄膜干渉型、または、支持体と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層を順次形成する三層薄膜干渉型等、多層の光学干渉によって反射を防止する多層薄膜干渉型反射防止フィルムが知られている。特に、生産性と光学特性を考慮すると、二層薄膜干渉型が望ましい。   Such an antireflection film is provided with a low refractive index layer which is a thin film layer having a film thickness of 200 nm or less on at least the outermost surface, and performs antireflection by optical interference of the low refractive index layer. However, in the case of a one-layer thin film interference type in which reflection is prevented by a single low refractive index layer having the simplest structure, there is nothing that satisfies a reflectance of 1% or less. Furthermore, in order to achieve a reflectance of 0.5% or less, a two-layer thin film interference type in which a high refractive index layer is formed between the support and the low refractive index layer, or between the support and the low refractive index layer. A multilayer thin film interference type antireflection film that prevents reflection by multilayer optical interference, such as a three-layer thin film interference type in which a middle refractive index layer and a high refractive index layer are sequentially formed, is known. In particular, in consideration of productivity and optical characteristics, a two-layer thin film interference type is desirable.

低屈折率層を形成するには、低い屈折率を有する物質として、フッ素含有素材やケイ素含有素材を用いる提案が数多くなされている。   In order to form a low refractive index layer, many proposals have been made to use a fluorine-containing material or a silicon-containing material as a material having a low refractive index.

高屈折率層を形成する際、高い屈折率を有する有機物質を使用すると、屈折率の上限が低く、かつ、可視域での色づきが起こりやすいといった問題がある。高屈折率層を形成するには、通常高い屈折率を有する無機微粒子をより微細に分散し、薄膜の中に導入する。高い屈折率を有する無機微粒子を微細な分散状態を保ったまま、より多く皮膜中に導入することで、より高い屈折率を有する透明な高屈折率層が形成される(例えば、特許文献2〜7参照)。   When an organic material having a high refractive index is used when forming the high refractive index layer, there are problems that the upper limit of the refractive index is low and coloring in the visible range is likely to occur. In order to form a high refractive index layer, inorganic fine particles having a high refractive index are usually finely dispersed and introduced into the thin film. A transparent high refractive index layer having a higher refractive index is formed by introducing more inorganic fine particles having a high refractive index into the film while maintaining a fine dispersion state (for example, Patent Documents 2 to 2). 7).

しかしながら、薄膜層のわずかな厚みムラによって色味が大きく変化し、目視でムラとして検出される、低屈折率層の屈折率と硬度の両立ができず耐擦傷性が弱くなる等の問題があった。
さらに、高屈折率層では、低屈折率層の微小な欠陥、キズ等が発生した時に反射が高くなり目立つという問題があり、また、高屈折率層への粒子の含有率を高くする必要があり、このことによって膜の機械強度、耐久性が低下する場合があるという問題があった。
However, there is a problem that the color changes greatly due to slight thickness unevenness of the thin film layer, which is visually detected as unevenness, and that the refractive index and hardness of the low refractive index layer cannot be compatible and the scratch resistance becomes weak. It was.
Furthermore, in the high refractive index layer, there is a problem that the reflection becomes high and conspicuous when minute defects, scratches, etc. of the low refractive index layer occur, and it is necessary to increase the content ratio of particles in the high refractive index layer. There is a problem in that the mechanical strength and durability of the film may be lowered.

一方、厚さ200nm以下の薄膜において高い耐擦傷性を実現するためには、膜自体の強度の向上が必要である。   On the other hand, in order to realize high scratch resistance in a thin film having a thickness of 200 nm or less, it is necessary to improve the strength of the film itself.

最表面の低屈折率層の膜強度の向上のため、紫外線硬化型樹脂の選定、光重合開始剤の増量、下層への密着性向上のため、シランカップリング剤の添加等、さまざまな手法が用いられている。(例えば特許文献8〜11)   To improve the film strength of the outermost low refractive index layer, various methods such as selection of UV curable resin, increase of photopolymerization initiator, addition of silane coupling agent to improve adhesion to the lower layer, etc. It is used. (For example, Patent Documents 8 to 11)

機械特性は、一般的に最表面の低屈折率層の膜強度に大きく支配されるが、二層目の高屈折率層の機械強度が低いと、傷がつきやすい。そこで、高屈折率層の膜強度を向上させ、反射防止フィルム全体としての機械強度を向上させる必要がある。   In general, the mechanical properties are largely governed by the film strength of the outermost low refractive index layer. However, if the mechanical strength of the second high refractive index layer is low, the mechanical characteristics are easily damaged. Therefore, it is necessary to improve the film strength of the high refractive index layer and improve the mechanical strength of the entire antireflection film.

特開2005−292510号公報JP 2005-292510 A 特開平8−110401号公報JP-A-8-110401 特開平11−153703号公報JP-A-11-153703 特開2001−166102号公報JP 2001-166102 A 特開2001−188104号公報JP 2001-188104 A 特開2002−116323号公報JP 2002-116323 A 特開2002−1565088号公報JP 2002-1565088 A 特開2003−222704号公報JP 2003-222704 A 特開2007−034213号公報JP 2007-034213 A 特許第5049542号公報Japanese Patent No. 5049542 特開2007−229999号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2007-229999

光学特性向上のため、高屈折率層の屈折率を高くするには高屈折率無機微粒子の使用割合を増やすことで対処できるが、高屈折率層の機械特性の低下、塗液の安定性の低下等、課題がある。   Increasing the refractive index of the high refractive index layer to increase the refractive index of the high refractive index layer can be dealt with by increasing the usage ratio of the high refractive index inorganic fine particles. There are problems such as decline.

本発明の目的は、機械特性が良好で、正面からの反射光の色相を低減するとともに、あらゆる角度から入射する外光の反射光に対しても色味が付くことを低減する反射防止フィルム、該反射防止フィルムを備える偏光板、タッチパネル基板および画像表示装置を提供することにある。   An object of the present invention is an antireflection film that has good mechanical properties, reduces the hue of reflected light from the front, and reduces the tint of reflected light of external light incident from all angles, An object of the present invention is to provide a polarizing plate, a touch panel substrate and an image display device provided with the antireflection film.

本発明の目的は、下記反射防止フィルム、該反射防止フィルムを備える偏光板、タッチパネル基板または画像表示装置により達成される。   The object of the present invention is achieved by the following antireflection film, a polarizing plate provided with the antireflection film, a touch panel substrate, or an image display device.

すなわち、第1の発明は、透明フィルム基材上に、ハードコート層と、屈折率が前記ハードコート層よりも高い高屈折率層と、屈折率が前記ハードコート層よりも低い低屈折率層とを有する反射防止フィルムにおいて、前記高屈折率層が、高屈折率微粒子と無機粒子と第1の紫外線硬化型材料とから形成されており、前記無機粒子の平均粒径が3nm以上20nm以下であり、前記無機粒子の添加量は高屈折率層形成用組成物の固形分に対し、3重量部以上20重量部以下であり、前記低屈折率層が、低屈折率微粒子と第2の紫外線硬化型材料とから形成されており、前記低屈折率微粒子の添加量は低屈折率層形成用組成物の固形分に対し、83重量部以上91重量部以下であることを特徴とする反射防止フィルムである。 That is, the first invention includes a hard coat layer, a high refractive index layer whose refractive index is higher than that of the hard coat layer, and a low refractive index layer whose refractive index is lower than that of the hard coat layer on a transparent film substrate. The high refractive index layer is formed of high refractive index fine particles, inorganic particles, and a first ultraviolet curable material, and the average particle diameter of the inorganic particles is 3 nm or more and 20 nm or less. There, the addition amount of the inorganic particles on the solid content of the high refractive index layer-forming composition state, and are 3 parts by weight or more than 20 parts by weight, the low refractive index layer, the low refractive index particles and the second is formed from an ultraviolet-curable material, the amount of the low refractive index fine particles on the solid content of the low refractive index layer forming composition, and wherein 91 parts by weight or less der Rukoto least 83 parts by weight It is an antireflection film.

第2の発明は、前記第1の発明において、前記反射防止フィルム表面での平均視感反射率が0.5%以下であることを特徴とする反射防止フィルムである。   A second invention is the antireflection film according to the first invention, wherein an average luminous reflectance on the surface of the antireflection film is 0.5% or less.

第3の発明は、前記第1または第2の発明において、前記高屈折率層が前記高屈折率微粒子を固形分中に50質量%以上80質量%以下含有することを特徴とする反射防止フィルムである。   The third invention is the antireflection film according to the first or second invention, wherein the high refractive index layer contains the high refractive index fine particles in a solid content of 50% by mass or more and 80% by mass or less. It is.

第4の発明は、前記第1〜第3のいずれかの発明において、前記高屈折率層の屈折率が1.55から1.75までの範囲内にあり、前記低屈折率層の屈折率が1.25から1.35までの範囲内にあることを特徴とする反射防止フィルムである。   According to a fourth invention, in any one of the first to third inventions, a refractive index of the high refractive index layer is in a range from 1.55 to 1.75, and a refractive index of the low refractive index layer. Is in the range of 1.25 to 1.35.

第5の発明は、前記第1〜第4のいずれかの発明の反射防止フィルムが用いられていることを特徴とする偏光板である。   A fifth invention is a polarizing plate characterized by using the antireflection film of any one of the first to fourth inventions.

第6の発明は、前記第1〜第のいずれかの発明の反射防止フィルムが用いられていることを特徴とするタッチパネル基板である。 A sixth invention is a touch panel substrate in which the antireflection film of any one of the first to fourth inventions is used.

第7の発明は、前記第1〜第のいずれかの発明の反射防止フィルムが用いられていることを特徴とする画像表示装置である。 A seventh invention is an image display device using the antireflection film of any one of the first to fourth inventions.

本発明によれば、上記のような反射防止フィルムを、画像表示装置や液晶表示装置に設置することにより、反射防止フィルム表面での平均視感反射率を0.5%以下の範囲内にすることができ、正面からの反射光の色相を低減するとともに、あらゆる角度から入射する外光の反射光に対しても色味が付くことを低減する、機械強度が良好な反射防止フィルム、該反射防止フィルムを備える偏光板、タッチパネル基板、画像表示装置を得ることができる。   According to the present invention, by installing the antireflection film as described above in an image display device or a liquid crystal display device, the average luminous reflectance on the surface of the antireflection film is within a range of 0.5% or less. Antireflection film with good mechanical strength, which can reduce the hue of reflected light from the front, and reduce the tint of reflected light of external light incident from all angles, the reflection A polarizing plate, a touch panel substrate, and an image display device including a prevention film can be obtained.

本発明の反射防止フィルムの一実施形態の模式断面図である。It is a schematic cross section of one embodiment of the antireflection film of the present invention.

以下、本発明の反射防止フィルムについて詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, although the antireflection film of the present invention will be described in detail, the present invention is not limited thereto.

なお、本発明において「(メタ)アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示している。たとえば、「ウレタン(メタ)アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタアクリレート」の両方を示している。   In the present invention, “(meth) acrylate” refers to both “acrylate” and “methacrylate”. For example, “urethane (meth) acrylate” indicates both “urethane acrylate” and “urethane methacrylate”.

本発明の反射防止フィルムの実施形態は、透明フィルム基材上に、ハードコート層と、屈折率がハードコート層よりも高い高屈折率層と、屈折率がハードコート層よりも低い低屈折率層とを有する反射防止フィルムにおいて、前記高屈折率層が、紫外線硬化型材料と高屈折率微粒子と無無機粒子とから形成されており、前記無機粒子の平均粒径が3nm以上20nm以下であり、また前記無機粒子の添加量は高屈折率層形成用組成物の固形分に対し、3重量部以上20重量部以下であることを特徴とする反射防止フィルムである。   Embodiments of the antireflection film of the present invention include a hard coat layer, a high refractive index layer having a refractive index higher than that of the hard coat layer, and a low refractive index having a refractive index lower than that of the hard coat layer on a transparent film substrate. In the antireflection film having a layer, the high refractive index layer is formed of an ultraviolet curable material, high refractive index fine particles, and non-inorganic particles, and the average particle size of the inorganic particles is 3 nm to 20 nm. The inorganic particles are added in an amount of 3 parts by weight or more and 20 parts by weight or less based on the solid content of the composition for forming a high refractive index layer.

そして、本実施形態の反射防止フィルムは、前記反射防止フィルム表面での平均視感反射率が0.5%以下であることが好ましい。   The antireflection film of this embodiment preferably has an average luminous reflectance on the surface of the antireflection film of 0.5% or less.

平均視感反射率が0.5%以上となると、反射防止効果が不十分で、外光の映り込み等が起こりやすくなってしまう。   When the average luminous reflectance is 0.5% or more, the antireflection effect is insufficient and reflection of external light tends to occur.

そして、本実施形態の反射防止フィルムは、前記高屈折率層が高屈折率微粒子を固形分中に50質量%以上80質量%以下含有することが望ましい。   In the antireflection film of this embodiment, the high refractive index layer preferably contains high refractive index fine particles in a solid content of 50% by mass or more and 80% by mass or less.

高屈折率微粒子の含有率が上記下限値を下回った場合、高屈折率層の屈折率が低くなるため、ハードコート層の屈折率差がほとんどなくなり、高屈折率層としての役割が果たせない。高屈折率微粒子の含有率が上記上限値を上回った場合、高屈折率層形成用塗液中の金属微粒子量が多すぎるため、機械強度が著しく低下してしまう。   When the content of the high refractive index fine particles is below the lower limit, the refractive index of the high refractive index layer is lowered, so that the refractive index difference of the hard coat layer is almost eliminated and the role as the high refractive index layer cannot be achieved. When the content of the high refractive index fine particles exceeds the above upper limit, the amount of the metal fine particles in the coating liquid for forming the high refractive index layer is too large, so that the mechanical strength is significantly lowered.

さらに、本実施形態の反射防止フィルムは、前記高屈折率層の屈折率が1.55から1.75までの範囲内にあり、前記低屈折率層の屈折率が1.25から1.35までの範囲内にあることが好ましい。   Further, in the antireflection film of the present embodiment, the refractive index of the high refractive index layer is in the range from 1.55 to 1.75, and the refractive index of the low refractive index layer is from 1.25 to 1.35. It is preferable that it exists in the range.

反射防止フィルムの層構成に関して詳細に説明する。本発明の反射防止フィルムについて、透明フィルム基材上にハードコート層を塗布した上に高屈折率層と低屈折率層を順次積層した多層構成を使用することができる。このとき、高屈折率層と低屈折率層の層数は問わない。ただし、コストや良品生産率等を考慮した場合、図1のように、本発明の反射防止フィルム(10)は、透明フィルム基材(11)の上にハードコート層(12)を塗布し、さらにハードコート層(12)の上に高屈折率層(13)を塗布し、高屈折率層(13)の上に低屈折率層(14)を積層すると、反射防止フィルムとして好適に使用することができる。   The layer structure of the antireflection film will be described in detail. For the antireflection film of the present invention, a multilayer structure in which a hard coat layer is applied on a transparent film substrate and a high refractive index layer and a low refractive index layer are sequentially laminated can be used. At this time, the number of layers of the high refractive index layer and the low refractive index layer is not limited. However, when considering the cost, good product production rate, etc., as shown in FIG. 1, the antireflection film (10) of the present invention has a hard coat layer (12) applied on the transparent film substrate (11). Furthermore, when a high refractive index layer (13) is applied on the hard coat layer (12) and a low refractive index layer (14) is laminated on the high refractive index layer (13), it is suitably used as an antireflection film. be able to.

このとき、各層の膜厚と屈折率を調整していくことで、反射光の色相パラメータであるa値、b値を目的のものへ合わせ込むことが出来る。 At this time, by adjusting the film thickness and refractive index of each layer, the a * value and b * value, which are hue parameters of the reflected light, can be adjusted to the intended ones.

(高屈折率層)
次に、透明樹脂フィルムよりも屈折率の高い高屈折率層について説明する。本発明でいう高屈折率層とは、透明フィルム基材よりも屈折率が高い層をいう。本発明の高屈折率層の好ましい屈折率としては、23℃、波長550nm測定で、1.5〜2.2の範囲内にあることが好ましい。反射防止フィルムの色付きを抑制する観点からは、1.55〜1.75の範囲内にあることが特に好ましい。高屈折率層の屈折率を調整する手段は、高屈折微粒子の種類、添加量が支配的である。
(High refractive index layer)
Next, the high refractive index layer having a higher refractive index than the transparent resin film will be described. The high refractive index layer in the present invention refers to a layer having a refractive index higher than that of the transparent film substrate. The preferable refractive index of the high refractive index layer of the present invention is preferably in the range of 1.5 to 2.2 when measured at 23 ° C. and a wavelength of 550 nm. From the viewpoint of suppressing coloring of the antireflection film, it is particularly preferably in the range of 1.55 to 1.75. The means for adjusting the refractive index of the high refractive index layer is dominated by the type and addition amount of the high refractive fine particles.

また、高屈折率層の膜厚は、光学干渉層としての特性から、5nm〜1μmの範囲内にあることが好ましく、10nm〜0.3μmの範囲内にあることがさらに好ましく、30nm〜0.2μmの範囲内にあることが最も好ましい。   The film thickness of the high refractive index layer is preferably in the range of 5 nm to 1 μm, more preferably in the range of 10 nm to 0.3 μm, and more preferably in the range of 30 nm to 0. Most preferably, it is in the range of 2 μm.

なお、高屈折微粒子の平均粒径にあっては、30nm以上150nm以下の範囲内にあることが好ましい。高屈折微粒子の平均粒径が150nmを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、高低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、高屈折微粒子の平均粒径が30nm未満の場合、導電性の不足や、粒子の凝集による高屈折率層における粒子の凝集等の問題が生じる。   The average particle size of the highly refractive fine particles is preferably in the range of 30 nm to 150 nm. When the average particle diameter of the high refractive fine particles exceeds 150 nm, light is remarkably reflected by Rayleigh scattering, and the high and low refractive index layers tend to be whitened to reduce the transparency of the antireflection film. On the other hand, when the average particle diameter of the highly refractive fine particles is less than 30 nm, problems such as insufficient conductivity and aggregation of particles in the high refractive index layer due to aggregation of particles occur.

平均粒径とは、溶液中の粒子を動的光散乱方法で測定し、粒径分布を累積分布で表したときの50%粒径(d50すなわちメジアン径)を意味する。   The average particle diameter means a 50% particle diameter (d50, that is, a median diameter) when particles in a solution are measured by a dynamic light scattering method and the particle diameter distribution is expressed by a cumulative distribution.

次に、高屈折率層の屈折率を調整するのに用いられる高屈折率微粒子の具体例を示す。高屈折率微粒子の具体例としては、Ti、Zr、Ta、In、Nd、Sn、Sb、Zn、La、W、Ce、Nb、V、Sm、Y等の酸化物または複合酸化物、硫化物を主成分とする粒子が挙げられる。ここで主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量が多い成分をさす。本発明でより好ましい無機微粒子はTi、Zr、Ta、In、Snから選ばれる少なくとも1種の金属元素を含む酸化物もしくは複合酸化物を主成分とする粒子である。   Next, specific examples of high refractive index fine particles used for adjusting the refractive index of the high refractive index layer will be shown. Specific examples of the high refractive index fine particles include oxides or composite oxides such as Ti, Zr, Ta, In, Nd, Sn, Sb, Zn, La, W, Ce, Nb, V, Sm, and Y, and sulfides. The particle | grains which have as a main component are mentioned. Here, the main component refers to a component having the largest content among the components constituting the particles. More preferable inorganic fine particles in the present invention are particles mainly composed of an oxide or composite oxide containing at least one metal element selected from Ti, Zr, Ta, In, and Sn.

前記高屈折率微粒子には、粒子の中に種々の元素が含有されていても構わない(以下、このような元素を含有元素ということがある)。含有元素としては、例えば、Li、Si、Al、B、Ba、Co、Fe、Hg、Ag、Pt、Au、Cr、Bi、P、S等が挙げられる。酸化錫、酸化インジウムにおいては粒子の導電性を高めるために、Sb、Nb、P、B、In、V、ハロゲン等の含有元素を含有させることが好ましく、特に、アンチモンを含有させたものが最も好ましい。   The high refractive index fine particles may contain various elements in the particles (hereinafter, these elements may be referred to as containing elements). Examples of the contained element include Li, Si, Al, B, Ba, Co, Fe, Hg, Ag, Pt, Au, Cr, Bi, P, and S. In order to increase the conductivity of particles in tin oxide and indium oxide, it is preferable to contain contained elements such as Sb, Nb, P, B, In, V, and halogen, and in particular, those containing antimony are the most. preferable.

前記高屈折率微粒子は表面処理してもよい。表面処理とは、無機化合物および/または有機化合物を用いて該粒子表面の改質を実施するもので、これにより無機微粒子表面の濡れ性が調整され有機溶媒中での微粒子化、高屈折率層形成用組成物中での分散性や分散安定性が向上し、好ましい。粒子表面に物理化学的に吸着させる無機化合物としては、例えば、ケイ素を含有する無機化合物(SiO2 等)、アルミニウムを含有する無機化合物[Al23,Al(OH)3 等]、コバルトを含有する無機化合物(CoO2 ,Co3 ,Co34 等)、ジルコニウムを含有する無機化合物[ZrO2 ,Zr(OH)4 等]、鉄を含有する無機化合物(Fe23 等)等が挙げられる。 The high refractive index fine particles may be surface treated. The surface treatment is a modification of the particle surface using an inorganic compound and / or an organic compound, whereby the wettability of the surface of the inorganic fine particles is adjusted to form fine particles in an organic solvent, and a high refractive index layer. The dispersibility and dispersion stability in the forming composition are improved, which is preferable. Examples of inorganic compounds that are physicochemically adsorbed on the particle surfaces include silicon-containing inorganic compounds (SiO 2 and the like), aluminum-containing inorganic compounds [Al 2 O 3 , Al (OH) 3 and the like], and cobalt. Inorganic compounds containing (CoO 2 , Co 2 O 3 , Co 3 O 4 etc.), inorganic compounds containing zirconium [ZrO 2 , Zr (OH) 4 etc.], inorganic compounds containing iron (Fe 2 O 3 etc.) ) And the like.

表面処理に用いる有機化合物の例には、従来公知の金属酸化物や無機顔料等の無機フィラー類の表面改質剤を用いることができる。例えば、「顔料分散安定化と表面処理技術・評価」第一章(技術情報協会、2001年刊行)等に記載されている。   As examples of organic compounds used for the surface treatment, conventionally known surface modifiers of inorganic fillers such as metal oxides and inorganic pigments can be used. For example, it is described in “Pigment Dispersion Stabilization and Surface Treatment Technology / Evaluation”, Chapter 1 (Technical Information Association, published in 2001).

具体的には、無機微粒子表面と親和性を有する極性基を有する有機化合物、カップリング化合物があげられる。無機微粒子表面と親和性を有する極性基としては、カルボキシ基、ホスホノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、環状酸無水物基、アミノ基等があげられ、分子中に少なくとも1種を含有する化合物が好ましい。例えば、長鎖脂肪族カルボン酸(例えばステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸等)、ポリオール類のポリ(メタ)アクリレート化合物(例えばペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ECH(エピクロルヒドリン)変性グリセロールトリ(メタ)アクリレート等)、ホスホノ基含有化合物(例えばEO(エチレンオキサイド)変性リン酸トリ(メタ)アクリレート等)、アルカノールアミン(エチレンジアミンEO付加体(5モル)等)が挙げられる。   Specifically, an organic compound having a polar group having an affinity for the surface of the inorganic fine particles and a coupling compound can be mentioned. Examples of the polar group having affinity with the surface of the inorganic fine particles include a carboxy group, a phosphono group, a hydroxy group, a mercapto group, a cyclic acid anhydride group, an amino group, and the like, and a compound containing at least one kind in the molecule is preferable. . For example, long-chain aliphatic carboxylic acids (eg, stearic acid, lauric acid, oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, etc.), poly (meth) acrylate compounds of polyols (eg, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol pentane) (Meth) acrylate, ECH (epichlorohydrin) modified glycerol tri (meth) acrylate, etc.), phosphono group-containing compound (for example, EO (ethylene oxide) modified tri (meth) acrylate), alkanolamine (ethylenediamine EO adduct (5) Mol)) and the like.

カップリング化合物としては、従来公知の有機金属化合物が挙げられ、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミネートカップリング剤等が含まれる。シランカップリング剤が最も好ましい。具体的には、例えば特開2002−9908号公報、同2001−310423号公報明細書中の段落番号「0011」〜「0015」記載の化合物等が挙げられる。これらの表面処理は、2種類以上を併用することもできる。   As a coupling compound, a conventionally well-known organometallic compound is mentioned, A silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aluminate coupling agent, etc. are contained. Silane coupling agents are most preferred. Specific examples include compounds described in paragraph numbers “0011” to “0015” in JP-A-2002-9908 and 2001-310423. Two or more kinds of these surface treatments can be used in combination.

本発明に用いられる高屈折率微粒子は、これをコアとして他の無機化合物からなるシェルを形成したコア/シェル構造の微粒子であることも好ましい。シェルとしては、Al、Si、Zrから選ばれる少なくとも1種の元素からなる酸化物が好ましい。具体的には、例えば特開2001−166104号公報記載の内容が挙げられる。   The high refractive index fine particles used in the present invention are also preferably fine particles having a core / shell structure in which a shell made of another inorganic compound is formed using this as a core. The shell is preferably an oxide composed of at least one element selected from Al, Si, and Zr. Specifically, for example, the contents described in JP-A-2001-166104 can be mentioned.

本発明で使用される無機微粒子の形状は、特に限定されないが、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状または不定形状が好ましい。本発明における無機微粒子は単独で用いてもよいが、2種類以上を併用して用いることもできる。   The shape of the inorganic fine particles used in the present invention is not particularly limited, but is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape or an indefinite shape. The inorganic fine particles in the present invention may be used alone or in combination of two or more.

本発明では、前記高屈折率層が高屈折率微粒子を固形分中に50重量部以上80重量部以下含有することが望ましい。50重量部未満だと、十分に高い屈折率を得ることが困難となり、80重量部を超えると硬度不足等を引き起こし、粒子の脱落及び塗工中のフィルム表面への付着により、外観故障の原因となり好ましくない。   In the present invention, the high refractive index layer preferably contains 50 to 80 parts by weight of high refractive index fine particles in the solid content. If it is less than 50 parts by weight, it will be difficult to obtain a sufficiently high refractive index, and if it exceeds 80 parts by weight, it will cause insufficient hardness, etc., and it will cause the appearance failure due to dropout of particles and adhesion to the film surface during coating. It is not preferable.

本発明の高屈折率層に添加される無機粒子としては屈折率が1.40以上2.50以下の範囲内にあることを特徴とし、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを用いることができる。その中でも特に二酸化ケイ素が好ましい。   The inorganic particles added to the high refractive index layer of the present invention have a refractive index in the range of 1.40 to 2.50, and are characterized by silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate , Talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate can be used. Of these, silicon dioxide is particularly preferable.

本発明の高屈折率層における無機粒子の平均粒径にあっては、3nm以上20nm以下の範囲内であることを特徴とする。これは無機粒子の平均粒径が3nm未満であると防汚性と機械特性において十分な特性が得られないためであり、また平均粒径が20nmを超える無機粒子を添加すると、表面粗さ、ヘイズや全光線透過率、防汚性や機械特性において劣化が生じるためである。   The average particle size of the inorganic particles in the high refractive index layer of the present invention is characterized by being in the range of 3 nm to 20 nm. This is because if the average particle size of the inorganic particles is less than 3 nm, sufficient properties cannot be obtained in antifouling properties and mechanical properties. If inorganic particles having an average particle size exceeding 20 nm are added, the surface roughness is increased. This is because deterioration occurs in haze, total light transmittance, antifouling property and mechanical properties.

また、本発明の高屈折率層における無機粒子の割合としては、高屈折率層形成用組成物の固形分に対し3重量部以上20重量部以下の範囲内であることを特徴とする。これは、3重量部未満であると防汚性と機械特性において十分な特性が得られないためであり、また20重量部を超えると十分に高い屈折率が得られず、反射防止フィルムとしての平均視感反射率が0.5%以上となるためである。   Further, the ratio of the inorganic particles in the high refractive index layer of the present invention is characterized by being in the range of 3 parts by weight or more and 20 parts by weight or less with respect to the solid content of the composition for forming a high refractive index layer. This is because if it is less than 3 parts by weight, sufficient antifouling properties and mechanical properties cannot be obtained, and if it exceeds 20 parts by weight, a sufficiently high refractive index cannot be obtained, and as an antireflection film This is because the average luminous reflectance is 0.5% or more.

また、高屈折率層には紫外線硬化型樹脂を、高屈折率微粒子のバインダーとして、塗膜の製膜性や物理特性の向上のために含有させることが出来る。   Further, the high refractive index layer can contain an ultraviolet curable resin as a binder of high refractive index fine particles in order to improve the film formability and physical properties of the coating film.

このような紫外線硬化樹脂としては、アクリル系材料を用いることができる。アクリル系材料としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような単官能、2官能または3官能以上の(メタ)アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン(メタ)アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、紫外線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。   An acrylic material can be used as such an ultraviolet curable resin. Acrylic materials include monofunctional, bifunctional or trifunctional or higher (meth) acrylate compounds such as acrylic acid or methacrylic acid ester of polyhydric alcohol, diisocyanate and polyhydric alcohol, and hydroxyester of acrylic acid or methacrylic acid, etc. A polyfunctional urethane (meth) acrylate compound as synthesized from the above can be used. In addition to these, as the ultraviolet-type material, a polyether resin having an acrylate functional group, a polyester resin, an epoxy resin, an alkyd resin, a spiroacetal resin, a polybutadiene resin, a polythiol polyene resin, or the like can be used.

単官能の(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルフォリン、N−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、3−メトキシブチル(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、リン酸(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸(メタ)アクリレート、フェノキシ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ(メタ)アクリレート、ノニルフェノール(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール(メタ)アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシプロピレングリコール(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル−2−ヒドロキシプロピルフタレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、ヘキサフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される1価のモノ(メタ)アクリレートを有するアダマンチルアクリレート等のアダマンタン誘導体モノ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the monofunctional (meth) acrylate compound include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl ( (Meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, N-vinylpyrrolidone, tetrahydrofurfuryl acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) ) Acrylate, isodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, benzyl (Meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 3-methoxybutyl (meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, phosphoric acid (meth) acrylate, ethylene oxide modified phosphoric acid (meth) acrylate, phenoxy (meta) ) Acrylate, ethylene oxide modified phenoxy (meth) acrylate, propylene oxide modified phenoxy (meth) acrylate, nonylphenol (meth) acrylate, ethylene oxide modified nonylphenol (meth) acrylate, propylene oxide modified nonylphenol (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) Acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, methoxypropylene glycol (meth) acrylate 2- (meth) acryloyloxyethyl-2-hydroxypropyl phthalate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl hydrogen phthalate, 2- (meth) acryloyloxypropyl hydrogen Phthalate, 2- (meth) acryloyloxypropyl hexahydrohydrogen phthalate, 2- (meth) acryloyloxypropyl tetrahydrohydrogen phthalate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate , Hexafluoropropyl (meth) acrylate, octafluoropropyl (meth) acrylate, octafluoropropyl (meth) acrylate, 2 -Adamantane derivative mono (meth) acrylates such as adamantyl acrylate having a monovalent mono (meth) acrylate derived from adamantane and adamantanediol.

前記2官能の(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等のジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the bifunctional (meth) acrylate compound include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, and nonanediol di (meth). ) Acrylate, ethoxylated hexanediol di (meth) acrylate, propoxylated hexanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (Meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethoxylated neopentyl glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol Ruji (meth) acrylate, di (meth) acrylate, such as hydroxypivalic acid neopentyl glycol di (meth) acrylate.

前記3官能以上の(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス2−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート等のトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等の3官能の(メタ)アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ(メタ)アクリレート等の3官能以上の多官能(メタ)アクリレート化合物や、これら(メタ)アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能(メタ)アクリレート化合物等が挙げられる。   Examples of the trifunctional or higher functional (meth) acrylate compound include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and tris 2-hydroxy. Ethyl isocyanurate tri (meth) acrylate, tri (meth) acrylate such as glycerin tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, etc. Trifunctional (meth) acrylate compounds, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol te Trifunctional or higher polyfunctionality such as la (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ditrimethylolpropane hexa (meth) acrylate ( Examples thereof include a (meth) acrylate compound and a polyfunctional (meth) acrylate compound obtained by substituting a part of these (meth) acrylates with an alkyl group or ε-caprolactone.

アクリル系材料の中でも、所望する分子量、分子構造を設計でき、形成されるハードコート層の物性のバランスを容易にとることが可能であるといった理由から、多官能ウレタンアクリレートを好適に用いることができる。ウレタンアクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。具体的には、共栄社化学社製、UA−306H、UA−306T、UA−306l等、日本合成化学社製、UV−1700B、UV−6300B、UV−7600B、UV−7605B、UV−7640B、UV−7650B等、新中村化学社製、U−4HA、U−6HA、UA−100H、U−6LPA、U−15HA、UA−32P、U−324A等、ダイセルユーシービー社製、Ebecryl−1290、Ebecryl−1290K、Ebecryl−5129等、根上工業社製、UN−3220HA、UN−3220HB、UN−3220HC、UN−3220HS等を挙げることができるがこの限りではない。   Among acrylic materials, polyfunctional urethane acrylates can be suitably used because the desired molecular weight and molecular structure can be designed and the physical properties of the formed hard coat layer can be easily balanced. . The urethane acrylate is obtained by reacting a polyhydric alcohol, a polyvalent isocyanate, and a hydroxyl group-containing acrylate. Specifically, Kyoeisha Chemical Co., Ltd., UA-306H, UA-306T, UA-306l, etc., Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., UV-1700B, UV-6300B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7640B, UV -7650B, etc., manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., U-4HA, U-6HA, UA-100H, U-6LPA, U-15HA, UA-32P, U-324A, etc., manufactured by Daicel UCB, Ebecryl-1290, Ebecryl -1290K, Ebecryl-5129, etc., manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd., UN-3220HA, UN-3220HB, UN-3220HC, UN-3220HS, etc. can be mentioned, but not limited thereto.

またこれらの他にも、紫外線硬化型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができ、特にその材料を限定しない。   In addition to these, as an ultraviolet curable material, polyether resins, polyester resins, epoxy resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins having an acrylate functional group can be used. The material is not particularly limited.

本発明では、前記高屈折率層が紫外線硬化型樹脂を固形分中に15重量部以上45重量部以下含有することが望ましい。   In the present invention, the high refractive index layer preferably contains an ultraviolet curable resin in a solid content of 15 parts by weight or more and 45 parts by weight or less.

また、紫外線硬化型材料は紫外線により硬化されるため、ハードコート層形成用塗液には光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、紫外線が照射された際にラジカルを発生するものであれば良く、具体例としては、アセトフェノン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、オキシムエステル系化合物、チオキサンソン系化合物、トリアジン系化合物、ホスフィン系化合物、キノン系化合物、ボレート系化合物、カルバゾール系化合物、イミダゾール系化合物、チタノセン系化合物等が挙げられる。アセトフェノン系化合物としては、4 − フェノキシジクロロアセトフェノン、4−t−ブチル−ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン等が例示できる。また、ベンゾイン系化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール等が例示できる。ベンゾフェノン系化合物としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4 ’−メチルジフェニルサルファイド等が例示できる。オキシムエステル系化合物としては、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]−,1−(0−アセチルオキシム)、1,2−オクタジオン−1−[4−(フェニルチオ)−,2−(O−ベンゾイルオキシム)]等が例示できる。チオキサンソン系化合物としては、チオキサンソン、2−クロルチオキサンソン、2−メチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、2,4−ジイソプロピルチオキサンソン等が例示できる。トリアジン系化合物としては、2,4,6−トリクロロ−s−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ピペニル−4,6−ビス( トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4−ビス( トリクロロメチル)−6−スチリルs−トリアジン、2−( ナフト−1−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシ−ナフト−1−イル)−4 ,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4−トリクロロメチル−(ピペロニル)−6−トリアジン、2,4−トリクロロメチル(4 ’−メトキシスチリル)−6−トリアジン等が例示できる。ホスフィン系化合物としては、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が例示できる。また、キノン系化合物としては、9,10−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等を例示できる。光重合開始剤は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Moreover, since an ultraviolet curable material is hardened | cured by an ultraviolet-ray, a photoinitiator is added to the coating liquid for hard-coat layer formation. The photopolymerization initiator may be any one that generates radicals when irradiated with ultraviolet rays. Specific examples include acetophenone compounds, benzoin compounds, benzophenone compounds, oxime ester compounds, thioxanthone compounds, Examples include triazine compounds, phosphine compounds, quinone compounds, borate compounds, carbazole compounds, imidazole compounds, titanocene compounds, and the like. Examples of acetophenone compounds include 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyl-dichloroacetophenone, diethoxyacetophenone, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, and 1-hydroxy. Cyclohexyl phenyl ketone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane- Examples include 1-one. Examples of benzoin compounds include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzyl dimethyl ketal. Examples of the benzophenone compounds include benzophenone, benzoylbenzoic acid, methyl benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, acrylated benzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, and the like. Examples of oxime ester compounds include etanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl]-, 1- (0-acetyloxime), 1,2-octadione- Examples thereof include 1- [4- (phenylthio)-, 2- (O-benzoyloxime)] and the like. Examples of the thioxanthone compound include thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone and the like. Examples of triazine compounds include 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, and 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis. (Trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-pienyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2 , 4-Bis (trichloromethyl) -6-styryl s-triazine, 2- (naphth-1-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxy-naphth-1) -Yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4-trichloromethyl- (piperonyl) -6-triazine, 2,4-trichloromethyl (4 ' Methoxystyryl) -6-triazine and the like. Examples of the phosphine compound include bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide and 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide. Examples of the quinone compound include 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, and ethylanthraquinone. A photoinitiator may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

光重合開始剤の含有量は、固形分中に0.01〜20重量部、好ましくは0.05〜5重量部で用いることができる。   The content of the photopolymerization initiator can be used in the solid content of 0.01 to 20 parts by weight, preferably 0.05 to 5 parts by weight.

また、高屈折率層形成用塗液にはその他添加剤を加えても良い。添加剤としては、例えば泡消剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤等が挙げられる。   Further, other additives may be added to the coating solution for forming a high refractive index layer. Examples of the additive include a defoaming agent, a leveling agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, and a polymerization inhibitor.

高屈折率層を塗布する際に有機溶媒が用いられることが好ましい。有機溶媒としては、例えば、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等)、多価アルコール類(例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等)、多価アルコールエーテル類(例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等)、アミン類(例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、モルホリン、N−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等)、アミド類(例えば、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等)、複素環類(例えば、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、2−オキサゾリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等)、スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシド等)、スルホン類(例えば、スルホラン等)、尿素、アセトニトリル、アセトン等が挙げられるが、特に、アルコール類、多価アルコール類、多価アルコールエーテル類が好ましい。   An organic solvent is preferably used when applying the high refractive index layer. Examples of the organic solvent include alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, secondary butanol, tertiary butanol, pentanol, hexanol, cyclohexanol, benzyl alcohol, etc.), polyhydric alcohols ( For example, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, butylene glycol, hexanediol, pentanediol, glycerin, hexanetriol, thiodiglycol, etc.), polyhydric alcohol ethers ( For example, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene Glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monophenyl ether , Propylene glycol monophenyl ether, etc.), amines (for example, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, morpholine, N-ethylmorpholine, ethylenediamine, diethylenediamine, trie Lentetramine, tetraethylenepentamine, polyethyleneimine, pentamethyldiethylenetriamine, tetramethylpropylenediamine, etc.), amides (eg, formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, etc.), heterocyclics (eg, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, cyclohexyl pyrrolidone, 2-oxazolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, etc.), sulfoxides (eg dimethyl sulfoxide etc.), sulfones (eg sulfolane) Etc.), urea, acetonitrile, acetone and the like, and alcohols, polyhydric alcohols, and polyhydric alcohol ethers are particularly preferable.

高屈折率層は上記組成物をグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、又はスプレー塗布、インクジェット塗布等を用いて透明樹脂フィルム、あるいはハードコート層表面にウェット膜厚0.1〜100μmで塗布し、塗布後、加熱乾燥し、必要に応じて硬化して形成される。硬化工程は、後述する低屈折率層で記載した内容を用いることができる。   The high refractive index layer is obtained by applying the above composition to a transparent resin film or hard coat layer surface using a gravure coater, dip coater, reverse coater, wire bar coater, die coater, spray coating, ink jet coating or the like. It is applied at 1 to 100 μm, and after application, it is heated and dried, and is cured as necessary. The content described in the low refractive index layer described later can be used in the curing step.

また、ドライ膜厚が上記膜厚になるようにするのは塗布組成物の固形分濃度で調整する。   The dry film thickness is adjusted to the above film thickness by adjusting the solid content concentration of the coating composition.

(低屈折率層)
本発明の反射防止フィルムにおける低屈折率層としては、 低屈折粒子としては、LiF、MgF、3NaF・AlFまたはAlF(いずれも、屈折率1.4)、または、Na3AlF6 (氷晶石、屈折率1.33)等の低屈折材料からなる低屈折率微粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有する粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有する粒子にあっては、空隙の部分を空気の屈折率(≒1)とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率微粒子とすることができる。具体的には、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を用いることができる。
(Low refractive index layer)
As a low refractive index layer in the antireflection film of the present invention, as low refractive particles, LiF, MgF, 3NaF.AlF or AlF (all of which have a refractive index of 1.4), or Na 3 AlF 6 (cryolite) In addition, low refractive index fine particles made of a low refractive material such as a refractive index of 1.33) can be used. Moreover, the particle | grains which have a space | gap inside a particle | grain can be used suitably. In the case of particles having voids inside the particles, the voids can be made to have a refractive index of air (≈1), so that the particles can have low refractive index having a very low refractive index. Specifically, low refractive index silica particles having voids inside can be used.

本発明の低屈折率層に用いられる低屈折率微粒子としては、平均粒径が1nm以上100nm以下であることが好ましい。低屈折率微粒子の平均粒径が100nmを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、低屈折率微粒子の平均粒径が1nm未満の場合、粒子の凝集による低屈折率層における粒子の不均一性等の問題が生じる。   The low refractive index fine particles used in the low refractive index layer of the present invention preferably have an average particle diameter of 1 nm to 100 nm. When the average particle diameter of the low refractive index fine particles exceeds 100 nm, light is remarkably reflected by Rayleigh scattering, and the low refractive index layer tends to be whitened to reduce the transparency of the antireflection film. On the other hand, when the average particle diameter of the low refractive index fine particles is less than 1 nm, problems such as non-uniformity of particles in the low refractive index layer due to particle aggregation occur.

低屈折率層を形成するためのバインダマトリックス形成材料としては紫外線硬化型材料を含む。紫外線硬化型材料としては、高屈折率層形成用塗液に含まれる紫外線硬化型材料として例示したアクリル系材料を用いることができる。   The binder matrix forming material for forming the low refractive index layer includes an ultraviolet curable material. As the ultraviolet curable material, an acrylic material exemplified as the ultraviolet curable material contained in the coating liquid for forming a high refractive index layer can be used.

また、紫外線硬化型材料は紫外線により硬化されるため、低屈折率層形成用塗液には光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、高屈折率層形成用塗液に含まれる光重合開始剤として例示したものを用いることができる。また、光重合開始剤の添加量は、紫外線硬化型材料100重量部に対して0.1重量部〜10重量部、好ましくは1重量部〜7重量部、更に好ましくは1重量部〜5重量部である。   Further, since the ultraviolet curable material is cured by ultraviolet rays, a photopolymerization initiator is added to the coating solution for forming the low refractive index layer. As a photoinitiator, what was illustrated as a photoinitiator contained in the coating liquid for high refractive index layer formation can be used. Moreover, the addition amount of a photoinitiator is 0.1 weight part-10 weight part with respect to 100 weight part of ultraviolet curable materials, Preferably it is 1 weight part-7 weight part, More preferably, it is 1 weight part-5 weight. Part.

また、低屈折率層形成用塗液にはその他添加剤を加えても良い。添加剤としては、例えば泡消剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤等が挙げられる。   Further, other additives may be added to the coating solution for forming a low refractive index layer. Examples of the additive include a defoaming agent, a leveling agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, and a polymerization inhibitor.

(ハードコート層)
本発明の反射防止フィルムにおけるハードコート層としては、高屈折率層形成用塗液に含まれる紫外線硬化型材料として例示したアクリル系材料を用いることができる。
(Hard coat layer)
As the hard coat layer in the antireflection film of the present invention, the acrylic material exemplified as the ultraviolet curable material contained in the coating liquid for forming a high refractive index layer can be used.

また、紫外線硬化型材料は紫外線により硬化されるため、ハードコート層形成用塗液には光重合開始剤を添加する。光重合開始剤としては、高屈折率層形成用塗液に含まれる光重合開始剤として例示したものを用いることができる。また、光重合開始剤の添加量は、紫外線硬化型材料100重量部に対して0.1重量部〜10重量部、好ましくは1重量部〜7重量部、更に好ましくは1重量部〜5重量部である。   Moreover, since an ultraviolet curable material is hardened | cured by an ultraviolet-ray, a photoinitiator is added to the coating liquid for hard-coat layer formation. As a photoinitiator, what was illustrated as a photoinitiator contained in the coating liquid for high refractive index layer formation can be used. Moreover, the addition amount of a photoinitiator is 0.1 weight part-10 weight part with respect to 100 weight part of ultraviolet curable materials, Preferably it is 1 weight part-7 weight part, More preferably, it is 1 weight part-5 weight. Part.

さらに、ハードコート層形成用塗液には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素類、n−ヘキサン等の炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸n−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸n−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール類の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、塗液には添加剤として、表面調整剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、硬化剤等を加えることもできる。   Furthermore, a solvent and various additives can be added to the coating liquid for forming a hard coat layer as necessary. Solvents include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, cyclohexane and cyclohexylbenzene, hydrocarbons such as n-hexane, dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, dioxane, dioxolane, and trioxane. , Ethers such as tetrahydrofuran, anisole and phenetole, and ketones such as methyl isobutyl ketone, methyl butyl ketone, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, and methylcyclohexanone , Ethyl formate, propyl formate, n-pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, Coating suitability among esters such as acid n-pentyl and γ-ptyrolactone, cellosolves such as methyl cellosolve, cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate, and alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, etc. Is selected as appropriate. In addition, a surface adjusting agent, a refractive index adjusting agent, an adhesion improver, a curing agent, and the like can be added to the coating liquid as additives.

また、ハードコート層形成用塗液にはその他添加剤を加えても良い。添加剤としては、例えば泡消剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤等が挙げられる。   Moreover, you may add another additive to the coating liquid for hard-coat layer formation. Examples of the additive include a defoaming agent, a leveling agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, and a polymerization inhibitor.

本発明におけるハードコート層及び高屈折率層及び低屈折率層の塗工方法としては、スプレー法、スクリーン印刷法、ドクターブレード法、グラビア印刷法、ダイコート法、インクジェット法等既存の塗布方法が挙げられるが、特に限定しない。   Examples of the coating method of the hard coat layer, the high refractive index layer and the low refractive index layer in the present invention include existing coating methods such as a spray method, a screen printing method, a doctor blade method, a gravure printing method, a die coating method, and an inkjet method. However, it is not particularly limited.

本発明の反射防止フィルムにおける透明フィルム基材としては、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性等の諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、6−ナイロン、6,6−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。中でも、トリアセチルセルロースにあっては、複屈折率が小さく、透明性が良好であることから各種ディスプレイに対し好適に用いることができる。   As the transparent film substrate in the antireflection film of the present invention, polyethylene, polypropylene, etc. in consideration of optical properties such as transparency and refractive index of light, as well as various physical properties such as impact resistance, heat resistance and durability. Polyolefins such as polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, celluloses such as triacetyl cellulose, diacetyl cellulose and cellophane, polyamides such as 6-nylon and 6,6-nylon, acrylics such as polymethyl methacrylate, An organic polymer such as polystyrene, polyvinyl chloride, polyimide, polyvinyl alcohol, polycarbonate, ethylene vinyl alcohol, or the like is used. In particular, polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose, polycarbonate, and polymethyl methacrylate are preferable. Among these, triacetyl cellulose can be suitably used for various displays because of its low birefringence and good transparency.

さらに、これらの有機高分子に公知の添加剤、例えば、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加することにより機能を付加させたものも使用できる。また、透明フィルム基材は上記の有機高分子から選ばれる1種または2種以上の混合物、または重合体からなるものでもよく、複数の層を積層させたものであってもよい。   Furthermore, these organic polymers may be added with known additives such as ultraviolet absorbers, infrared absorbers, plasticizers, lubricants, colorants, antioxidants, flame retardants, etc. Can be used. Further, the transparent film substrate may be composed of one or a mixture of two or more selected from the above organic polymers, or a polymer, or may be a laminate of a plurality of layers.

なお、透明フィルム基材の厚みは20μm以上200μm以下の範囲内にあることが好ましく、さらには、20μm以上80μm以下の範囲内にあることが好ましい。   In addition, it is preferable that the thickness of a transparent film base material exists in the range of 20 micrometers or more and 200 micrometers or less, Furthermore, it is preferable to exist in the range of 20 micrometers or more and 80 micrometers or less.

本発明の反射防止フィルムは、ディスプレイ表面に好適に用いることができる。ディスプレイとしてはLCD、PDP、CRT、プロジェクションディスプレイ、ELディスプレイ等を挙げることができる。また、ディスプレイ内部に用いることもできる。以下に本発明の反射防止フィルムを液晶ディスプレイの部材として用いる場合について説明する。   The antireflection film of the present invention can be suitably used for the display surface. Examples of the display include LCD, PDP, CRT, projection display, EL display and the like. It can also be used inside a display. The case where the antireflection film of the present invention is used as a member of a liquid crystal display is described below.

本発明の反射防止フィルムを用いた反射防止性偏光板、透過型液晶ディスプレイの構成について説明する。   The structure of the antireflection polarizing plate and the transmissive liquid crystal display using the antireflection film of the present invention will be described.

透過型液晶ディスプレイにおいては、本発明の反射防止フィルムを、一方の面に貼り合わせた第1の偏光板を低屈折率層非形成面に備えた反射防止性偏光板、液晶セル、第2の偏光板、バックライトユニットをこの順に備えている。このとき、反射防止フィルム側が観察側すなわちディスプレイ表面となる。   In a transmissive liquid crystal display, an antireflection polarizing plate, a liquid crystal cell, and a second antireflection film provided with a low refractive index layer non-forming surface, the first polarizing plate having the antireflection film of the present invention bonded to one surface. A polarizing plate and a backlight unit are provided in this order. At this time, the antireflection film side becomes the observation side, that is, the display surface.

反射防止フィルムの透明基材と第1の偏光板の透明基材を別々に備える透過型液晶ディスプレイとなっている。   It is a transmissive liquid crystal display provided with a transparent base material for the antireflection film and a transparent base material for the first polarizing plate separately.

バックライトユニットは、光源と光拡散板を備える。液晶セルは、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極及びカラーフィルターを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セルを挟むように設けられる第1、第2の偏光板にあっては、透明基材間に偏光層を挟持した構造となっている。   The backlight unit includes a light source and a light diffusing plate. The liquid crystal cell has a structure in which an electrode is provided on one transparent substrate, an electrode and a color filter are provided on the other transparent substrate, and liquid crystal is sealed between both electrodes. The first and second polarizing plates provided so as to sandwich the liquid crystal cell have a structure in which a polarizing layer is sandwiched between transparent substrates.

また、透明基材の一方の面に低屈折率層を備えた反射防止フィルムと、当該反射防止フィルムの低屈折率層非形成面に、偏光層、透明基材を順に備えて、反射防止性偏光板を形成し、反射防止性偏光板、液晶セル、第2の偏光板、バックライトユニットをこの順に備えている。このとき、反射防止フィルムの低屈折率層側が観察側すなわちディスプレイ表面となる。   In addition, an antireflection film provided with a low refractive index layer on one surface of a transparent base material, and a polarizing layer and a transparent base material are provided in this order on the non-formation surface of the antireflective film. A polarizing plate is formed, and an antireflection polarizing plate, a liquid crystal cell, a second polarizing plate, and a backlight unit are provided in this order. At this time, the low refractive index layer side of the antireflection film becomes the observation side, that is, the display surface.

また、反射防止フィルムの反射防止層非形成面に、第1の偏光板として、偏光層と透明基材を、この順に備えた反射防止性偏光板を備えた透過型液晶ディスプレイとなっている。   Moreover, it is a transmissive liquid crystal display provided with an antireflection polarizing plate provided with a polarizing layer and a transparent substrate in this order as a first polarizing plate on the antireflection layer-free surface of the antireflection film.

バックライトユニットは、光源と光拡散板を備える。液晶セルは、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極及びカラーフィルターを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セルを挟むように設けられる第1、第2の偏光板にあっては、透明基材間に偏光層を挟持した構造となっている。   The backlight unit includes a light source and a light diffusing plate. The liquid crystal cell has a structure in which an electrode is provided on one transparent substrate, an electrode and a color filter are provided on the other transparent substrate, and liquid crystal is sealed between both electrodes. The first and second polarizing plates provided so as to sandwich the liquid crystal cell have a structure in which a polarizing layer is sandwiched between transparent substrates.

また、本発明の透過型液晶ディスプレイにあっては、他の機能性部材を備えても良い。他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルムや、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルムが挙げられるが、本発明の透過型液晶ディスプレイはこれらに限定されるものではない。   Moreover, in the transmissive liquid crystal display of this invention, you may provide another functional member. Other functional members include, for example, a diffusion film, a prism sheet, a brightness enhancement film for effectively using light emitted from a backlight, and a phase difference film for compensating for a phase difference between a liquid crystal cell and a polarizing plate. However, the transmissive liquid crystal display of the present invention is not limited to these.

以上により、本発明の反射防止フィルムを用いた、透過型液晶ディスプレイが製造される。   As described above, a transmissive liquid crystal display using the antireflection film of the present invention is manufactured.

以下、本発明を実施例および比較例によりさらに説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example further demonstrate this invention, this invention is not limited to the following Example.

<調整例1>
(ハードコート層形成用塗液)
ジペンタエリスリトールトリアクリレート25質量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート25質量部、ウレタンアクリレート50質量部、イルガキュア184(BASF社製(光重合開始剤))5質量部を用い、これをメチルエチルケトンに溶解してハードコート層形成塗液、HC1を調整した。
<Adjustment example 1>
(Coating liquid for forming hard coat layer)
25 parts by mass of dipentaerythritol triacrylate, 25 parts by mass of pentaerythritol tetraacrylate, 50 parts by mass of urethane acrylate, 5 parts by mass of Irgacure 184 (manufactured by BASF (photopolymerization initiator)) are dissolved in methyl ethyl ketone and hardened. A coating layer forming coating solution, HC1, was prepared.

<調整例2>
(高屈折率層形成用塗液)
表1に示す組成(質量比)の混合物を、均一になるように攪拌混合した後、1μmのフィルタで濾過して、HR1〜8の高屈折率層形成用塗液をそれぞれ調整した。
<Adjustment example 2>
(Coating liquid for high refractive index layer formation)
A mixture having a composition (mass ratio) shown in Table 1 was stirred and mixed so as to be uniform, and then filtered through a 1 μm filter to prepare coating solutions for forming a high refractive index layer of HR1 to HR8.

Figure 0006146103
Figure 0006146103

表1の組成の具体的内容を以下に示す。
・高屈折率微粒子溶液:
・ATO分散液:固形分20%、溶剤メチルイソブチルケトン
・ZrO2 分散液:固形分50%、溶剤メチルイソブチルケトン
・無機粒子溶液
・SiO2 分散液:固形分20%、溶剤メチルイソブチルケトン
・Al23分散液:固形分20%、溶剤メチルイソブチルケトン
・TiO2 分散液:固形分20%、溶剤メチルイソブチルケトン
・光重合開始剤
・Irg184:BASF社製「イルガキュアー184」
・OXE01:チバ・ジャパン社製「イルガキュアーOXE01」
・Irg907: チバ・ジャパン社製「イルガキュアー907」
・紫外線硬化型樹脂:ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)
・溶剤:メチルイソブチルケトン(MIBK)
The specific contents of the composition in Table 1 are shown below.
・ High refractive index fine particle solution:
- ATO dispersion: 20% solids, solvent methyl isobutyl ketone, ZrO 2 dispersion: 50% solids, solvent methyl isobutyl ketone, inorganic particle solution, SiO 2 dispersion: 20% solids, solvent methyl isobutyl ketone-Al 2 O 3 dispersion: solid content 20%, solvent methyl isobutyl ketone TiO 2 dispersion: solid content 20%, solvent methyl isobutyl ketone Photopolymerization initiator Irg 184: “Irgacure 184” manufactured by BASF
OXE01: “Irgacure OXE01” manufactured by Ciba Japan
・ Irg907: “Irgacure 907” manufactured by Ciba Japan
UV curable resin: Pentaerythritol triacrylate (PETA)
・ Solvent: Methyl isobutyl ketone (MIBK)

<調整例3>
(低屈折率層形成用塗液)
表2に示す組成(質量比)の混合物を、均一になるように攪拌混合した後、1μmのフィルタで濾過して、LR1〜4の低屈折率層形成用塗液をそれぞれ調整した。
<Adjustment example 3>
(Coating liquid for forming low refractive index layer)
A mixture having a composition (mass ratio) shown in Table 2 was stirred and mixed so as to be uniform, and then filtered through a 1 μm filter to prepare low-refractive index layer coating liquids LR1 to LR4.

Figure 0006146103
Figure 0006146103

表2の組成の具体的内容を以下に示す。
・微粒子溶液:多孔質シリカ微粒子分散液(固形分20%、溶剤:メチルイソブチルケトン)
・光重合開始剤:Irg184:チバ・ジャパン社製「イルガキュアー184」
・紫外線硬化型樹脂:ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)
・溶剤:メチルイソブチルケトン(MIBK)
The specific contents of the composition in Table 2 are shown below.
・ Fine particle solution: Porous silica fine particle dispersion (solid content 20%, solvent: methyl isobutyl ketone)
Photopolymerization initiator: Irg 184: “Irgacure 184” manufactured by Ciba Japan
UV curable resin: Pentaerythritol triacrylate (PETA)
・ Solvent: Methyl isobutyl ketone (MIBK)

<実施例1>
(ハードコート層の形成)
トリアセチルセルロースフィルム(富士フイルム製:膜厚40μm)の片面にハードコート層形成用塗液HC1を塗布し、80℃・60秒オーブンで乾燥し、乾燥後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン、光源Hバルブ)を用いて照射線量300mJ/m2 で紫外線照射をおこなうことにより乾燥膜厚5μmの透明なハードコート層を形成させた。ハードコート層の膜厚は5μmであり、波長550nmでの屈折率は1.52であった。
<Example 1>
(Formation of hard coat layer)
A coating liquid HC1 for forming a hard coat layer is applied to one side of a triacetyl cellulose film (manufactured by Fuji Film: film thickness 40 μm), dried in an oven at 80 ° C. for 60 seconds, and after drying, an ultraviolet irradiation device (Fusion UV System Japan, A transparent hard coat layer having a dry film thickness of 5 μm was formed by irradiating ultraviolet rays at an irradiation dose of 300 mJ / m 2 using a light source H bulb. The thickness of the hard coat layer was 5 μm, and the refractive index at a wavelength of 550 nm was 1.52.

(高屈折率層の形成)
上記方法にて形成したハードコート層上に高屈折率層形成用塗液HR1を乾燥後の膜厚が150nmとなるように塗布した。紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン、光源Hバルブ)を用いて照射線量192mJ/m2 で紫外線照射をおこなって硬化させて高屈折率層を形成した。高屈折率層の膜厚は165nmであり、波長550nmでの屈折率は1.58であった。
(Formation of high refractive index layer)
The coating liquid HR1 for forming a high refractive index layer was applied on the hard coat layer formed by the above method so that the film thickness after drying was 150 nm. Using a UV irradiation device (Fusion UV System Japan, light source H bulb), UV irradiation was performed at an irradiation dose of 192 mJ / m 2 and cured to form a high refractive index layer. The film thickness of the high refractive index layer was 165 nm, and the refractive index at a wavelength of 550 nm was 1.58.

(低屈折率層の形成)
上記方法にて形成した高屈折率層上に低屈折率層形成用塗液LR1を乾燥後の膜厚が110nmとなるように塗布した。紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン、光源Hバルブ)を用いて照射線量192mJ/m2 で紫外線照射をおこなって硬化させて低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。低反射層の膜厚は105nmであり、波長550nmでの屈折率は1.27であった。
(Formation of a low refractive index layer)
The coating solution LR1 for forming a low refractive index layer was applied on the high refractive index layer formed by the above method so that the film thickness after drying was 110 nm. Using a UV irradiation device (Fusion UV System Japan, light source H bulb), UV irradiation was performed at an irradiation dose of 192 mJ / m 2 and cured to form a low refractive index layer, thereby preparing an antireflection film. The film thickness of the low reflection layer was 105 nm, and the refractive index at a wavelength of 550 nm was 1.27.

実施例2〜6、比較例1〜5では、表3に示すハードコート層、高屈折率層、低屈折率層を組み合わせて反射防止フィルムを作製した。各層の波長550nmでの屈折率を表3に示した。   In Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 to 5, antireflection films were prepared by combining the hard coat layer, the high refractive index layer, and the low refractive index layer shown in Table 3. The refractive index of each layer at a wavelength of 550 nm is shown in Table 3.

Figure 0006146103
Figure 0006146103

<実施例2>
高屈折率層にHR2を用いた以外は実施例1と同様に反射防止フィルムを作製した例である。
<Example 2>
This is an example in which an antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that HR2 was used for the high refractive index layer.

<実施例3>
高屈折率層にHR3を用いた以外は実施例1と同様に反射防止フィルムを作製した例である。
<Example 3>
This is an example in which an antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that HR3 was used for the high refractive index layer.

<実施例4>
高屈折率層にHR4を用いた以外は実施例1と同様に反射防止フィルムを作製した例である。
<Example 4>
This is an example in which an antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that HR4 was used for the high refractive index layer.

<実施例5>
高屈折率層にHR5を用いた以外は実施例1と同様に反射防止フィルムを作製した例である。
<Example 5>
This is an example in which an antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that HR5 was used for the high refractive index layer.

<実施例6>
低屈折率層にLR2を用いた以外は実施例1と同様に反射防止フィルムを作製した例である。
<Example 6>
This is an example in which an antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that LR2 was used for the low refractive index layer.

<比較例1>
高屈折率層にHR6を用いた以外は実施例1と同様に反射防止フィルムを作製した例である。
<Comparative Example 1>
This is an example in which an antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that HR6 was used for the high refractive index layer.

<比較例2>
高屈折率層にHR7を用いた以外は実施例1と同様に反射防止フィルムを作製した例である。
<Comparative example 2>
This is an example in which an antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that HR7 was used for the high refractive index layer.

<比較例3>
高屈折率層にHR8を用いた以外は実施例1と同様に反射防止フィルムを作製した例である。
<Comparative Example 3>
This is an example in which an antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that HR8 was used for the high refractive index layer.

<比較例4>
低屈折率層にLR3を用いた以外は実施例1と同様に反射防止フィルムを作製した例である。
<Comparative example 4>
This is an example in which an antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that LR3 was used for the low refractive index layer.

<比較例5>
低屈折率層にLR4を用いた以外は実施例1と同様に反射防止フィルムを作製した例である。
<Comparative Example 5>
This is an example in which an antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that LR4 was used for the low refractive index layer.

実施例2〜実施例6及び比較例1〜比較例5において特に説明のない事項については、実施例1での操作・処理に準じるものとする。   Matters that are not particularly described in Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 to 5 conform to the operations and processing in Example 1.

次に、実施例1から実施例6及び比較例1から比較例5で得られた反射防止フィルムについて、以下の方法で評価を行った。   Next, the antireflection films obtained in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 5 were evaluated by the following methods.

(塗布ムラ)
作製した反射防止フィルムに対し、塗布膜の面内均一性を評価した。塗布膜の面内均一性は、作成した反射防止フィルムの低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った後に、目視にて評価を行った。判定基準を以下に示す。
○:ムラなし
×:ムラあり
(Coating unevenness)
The in-plane uniformity of the coating film was evaluated for the produced antireflection film. The in-plane uniformity of the coating film was evaluated by visual inspection after applying a matte black paint on the surface of the prepared antireflection film where the low refractive index layer was not formed and performing antireflection treatment. Judgment criteria are shown below.
○: Unevenness ×: Unevenness

(機械強度)
塗布膜の機械強度は、低屈折率層表面をスチールウール〔ボンスター#0000:日本スチールウール(株)製〕により200g/cm2 で10回擦り、傷の有無を目視評価した(スチールウール試験)。判定基準を以下に示す。
○:傷なし
×:傷あり
(Mechanical strength)
The mechanical strength of the coating film was determined by rubbing the surface of the low refractive index layer 10 times at 200 g / cm 2 with steel wool [Bonster # 0000: manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.] and visually evaluating the presence or absence of scratches (steel wool test). . Judgment criteria are shown below.
○: No scratch ×: Scratch

(反射色相)
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面について、正面及び斜め45°の色相を官能評価により実施した。判定は、
○:正面から45°の色相変化が明るい照明下でじっくりと評価すると分かる程度
×:正面から45°の色相変化が分かる程度
とした。なお、評価の際には透明フィルム基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った。
(Reflective hue)
About the surface of the low-refractive-index layer of the obtained antireflection film, front and diagonal hues of 45 ° were performed by sensory evaluation. Judgment is
◯: The degree of understanding that the hue change of 45 ° from the front can be understood by careful evaluation under bright illumination. X: The degree of the hue change of 45 ° from the front. In the evaluation, a matte black paint was applied to the surface of the triacetylcellulose film, which is a transparent film substrate, on which the low refractive index layer was not formed, and antireflection treatment was performed.

(平均視感反射率)
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面について、自動分光光度計(日立製作所製、U−4100)を用い、入射角5°における分光反射率を測定した。また、得られた分光反射率曲線からJISR3106に従って平均視感反射率を求めた。なお、測定の際には透明フィルム基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置を行った。
(Average luminous reflectance)
About the surface of the low refractive index layer of the obtained antireflection film, the spectral reflectance at an incident angle of 5 ° was measured using an automatic spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., U-4100). The average luminous reflectance was determined from the obtained spectral reflectance curve according to JIS R3106. In the measurement, a matte black paint was applied to the surface of the triacetyl cellulose film, which is a transparent film substrate, on which the low refractive index layer was not formed, and antireflection treatment was performed.

(総合評価)
フィルム特性評価としての塗工ムラ、機械強度評価結果と、光学評価としての反射色相、平均視感反射率評価結果を合わせて、低反射フィルムとしての特性を総合的に判断した。
○:反射防止フィルムとして特性が優れる。
×:反射防止フィルムとして特性が優れない。
(Comprehensive evaluation)
The characteristics as a low reflection film were comprehensively determined by combining the coating unevenness and mechanical strength evaluation results as the film characteristic evaluation with the reflection hue and the average luminous reflectance evaluation result as the optical evaluation.
○: Excellent properties as an antireflection film.
X: The property is not excellent as an antireflection film.

表4に評価結果を示す。   Table 4 shows the evaluation results.

Figure 0006146103
Figure 0006146103

表4の結果より、実施例1〜6の反射防止フィルムは、フィルム特性及び光学特性ともに良好な性能を示した。一方、比較例1の反射防止フィルムでは、高屈折率層形成用塗液における無機粒子のサイズが大きすぎるため、塗工ムラ、及び高屈折率層の屈折率の低下に伴い、平均視感反射率が上昇した。また、比較例2の反射防止フィルムでは、高屈折率層形成用塗液における無機粒子の添加量が多すぎるため、塗工ムラ、耐擦傷性の低下、及び高屈折率層の屈折率の低下に伴う平均視感反射率の上昇が見られた。また、比較例3の反射防止フィルムでは、高屈折率層形成用塗液における無機粒子の添加がないために、耐擦傷性が低下した。比較例4の反射防止フィルムでは、低屈折率層形成塗液における、低屈折率微粒子の添加量が少ないため、平均視感反射率が0.5%以上となった。比較例5の反射防止フィルムでは、低屈折率層形成塗液における、低屈折率微粒子の添加量が多すぎるため、塗工ムラ、耐擦傷性の大幅な低下が発生した。   From the results of Table 4, the antireflection films of Examples 1 to 6 showed good performance in both film properties and optical properties. On the other hand, in the antireflection film of Comparative Example 1, since the size of the inorganic particles in the coating liquid for forming the high refractive index layer is too large, the average luminous reflection is accompanied by coating unevenness and a decrease in the refractive index of the high refractive index layer. The rate has risen. In addition, in the antireflection film of Comparative Example 2, the amount of inorganic particles added in the coating solution for forming a high refractive index layer is too large, so that coating unevenness, a decrease in scratch resistance, and a decrease in the refractive index of the high refractive index layer are achieved. Increased average luminous reflectance was observed. Moreover, in the antireflection film of Comparative Example 3, the scratch resistance was lowered because there was no addition of inorganic particles in the coating solution for forming a high refractive index layer. In the antireflection film of Comparative Example 4, since the addition amount of the low refractive index fine particles in the low refractive index layer forming coating liquid was small, the average luminous reflectance was 0.5% or more. In the antireflection film of Comparative Example 5, since the amount of the low refractive index fine particles added in the coating solution for forming a low refractive index layer was too large, coating unevenness and a significant decrease in scratch resistance occurred.

<実施例7>
(反射防止フィルム付き偏光板の作製)
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。鹸化処理済みの本発明の実施例1の反射防止フィルムに、ポリビニルアルコール接着剤を用いて、反射防止フィルムの透明フィルム側(トリアセチルセルロース)が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。光学補償層を有する視野角拡大フィルム(ワイビューフィルムSA12B、富士写真フイルム(株)製)を鹸化処理し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜のもう一方の側に貼り付けた。このようにして偏光板を作製した。この偏光板状態で(反射色相評価)に準じた評価を行った結果、実施例1の反射防止フィルムを用いた偏光板は、外観不良もなく、反射率が低く抑えられていることが判った。
<Example 7>
(Preparation of polarizing plate with antireflection film)
A polarizing film was prepared by adsorbing iodine to a stretched polyvinyl alcohol film. The antireflective film of Example 1 of the present invention that has been saponified is attached to one side of the polarizing film using a polyvinyl alcohol adhesive so that the transparent film side (triacetylcellulose) of the antireflective film is the polarizing film side. I attached. A viewing angle widening film (Wi-View film SA12B, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having an optical compensation layer was saponified and attached to the other side of the polarizing film using a polyvinyl alcohol adhesive. In this way, a polarizing plate was produced. As a result of evaluation in accordance with (Reflection Hue Evaluation) in this polarizing plate state, it was found that the polarizing plate using the antireflection film of Example 1 had no poor appearance and had low reflectance. .

<実施例8>
さらに、実施例1の試料を、有機EL表示装置の表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせたところ、ガラス表面での反射が抑えられ、視認性の高い表示装置が得られた。さらに、これらの表示装置に対して(反射色相評価)に準じた評価を行った結果、本発明の反射防止フィルムを搭載した表示装置は、比較例の反射防止フィルムを搭載した表示装置に比較して、外観不良もなく反射率が低く抑えられていることが判った。
<Example 8>
Furthermore, when the sample of Example 1 was bonded to the glass plate on the surface of the organic EL display device via an adhesive, reflection on the glass surface was suppressed, and a display device with high visibility was obtained. Furthermore, as a result of performing an evaluation according to (reflection hue evaluation) for these display devices, the display device equipped with the antireflection film of the present invention is compared with the display device equipped with the antireflection film of the comparative example. As a result, it was found that the reflectance was kept low without an appearance defect.

<実施例9>
実施例1の試料を、有機EL表示装置の表面、及びタッチパネル表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせ、更にそれらを粘着剤を介して試料の側を貼り合わせたところ、ガラス表面での反射が抑えられ、視認性の高いタッチパネルが得られた。さらに、これらのタッチパネルに対して(反射色相評価)に準じた評価を行った結果、本発明の反射防止フィルムを搭載したタッチパネルは、外観不良もなく反射率が低く抑えられていることが判った。
<Example 9>
When the sample of Example 1 was bonded to the surface of the organic EL display device and the glass plate on the touch panel surface via an adhesive, and further bonded to the side of the sample via the adhesive, Reflection was suppressed and a highly visible touch panel was obtained. Furthermore, as a result of evaluating these touch panels in accordance with (Reflection Hue Evaluation), it was found that the touch panel equipped with the antireflection film of the present invention had a low reflectance and no poor appearance. .

本発明は、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ、CRT、プロジェクションディスプレイ、ELディスプレイ等の画像表示装置や、タッチパネルを搭載した画像表示装置等に適用可能である。   The present invention can be applied to an image display device such as a liquid crystal display, a plasma display, a CRT, a projection display, and an EL display, an image display device equipped with a touch panel, and the like.

10…反射防止フィルム
11…透明フィルム基材
12…ハードコート層
13…高屈折率層
14…低屈折率層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Antireflection film 11 ... Transparent film base material 12 ... Hard-coat layer 13 ... High refractive index layer 14 ... Low refractive index layer

Claims (7)

透明フィルム基材上に、ハードコート層と、屈折率が前記ハードコート層よりも高い高屈折率層と、屈折率が前記ハードコート層よりも低い低屈折率層とを有する反射防止フィルムにおいて、
前記高屈折率層が、高屈折率微粒子と無機粒子と第1の紫外線硬化型材料とから形成されており、
前記無機粒子の平均粒径が3nm以上20nm以下であり、前記無機粒子の添加量は高屈折率層形成用組成物の固形分に対し、3重量部以上20重量部以下であり、
前記低屈折率層が、低屈折率微粒子と第2の紫外線硬化型材料とから形成されており、
前記低屈折率微粒子の添加量は低屈折率層形成用組成物の固形分に対し、83重量部以上91重量部以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
In the antireflection film having a hard coat layer, a high refractive index layer having a refractive index higher than that of the hard coat layer, and a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the hard coat layer on the transparent film substrate,
The high refractive index layer is formed of high refractive index fine particles, inorganic particles, and a first ultraviolet curable material,
The average particle diameter of the inorganic particles is at 3nm or 20nm or less, the added amount of the inorganic particles on the solid content of the high refractive index layer-forming composition state, and are less than 20 parts by weight or more and 3 parts by weight,
The low refractive index layer is formed of low refractive index fine particles and a second ultraviolet curable material;
The antireflection film amount of the low refractive index fine particles on the solid content of the low refractive index layer-forming composition, characterized by der Rukoto below 91 parts by weight or more 83 parts by weight.
前記反射防止フィルム表面での平均視感反射率が0.5%以下であることを特徴とする請求項1に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 1, wherein an average luminous reflectance on the surface of the antireflection film is 0.5% or less. 前記高屈折率層が前記高屈折率微粒子を固形分中に50重量部以上80重量部以下含有することを特徴とする請求項1または2に記載の反射防止フィルム。   The antireflective film according to claim 1 or 2, wherein the high refractive index layer contains the high refractive index fine particles in a solid content of 50 parts by weight or more and 80 parts by weight or less. 前記高屈折率層の屈折率が1.55から1.75までの範囲内にあり、前記低屈折率層の屈折率が1.25から1.35までの範囲内にあることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の反射防止フィルム。   The high refractive index layer has a refractive index in the range of 1.55 to 1.75, and the low refractive index layer has a refractive index in the range of 1.25 to 1.35. The antireflection film according to any one of claims 1 to 3. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の反射防止フィルムが用いられていることを特徴とする偏光板。   The antireflection film of any one of Claims 1-4 is used, The polarizing plate characterized by the above-mentioned. 請求項1〜のいずれか1項に記載の反射防止フィルムが用いられていることを特徴とするタッチパネル基板。 The touchscreen board | substrate characterized by using the antireflection film of any one of Claims 1-4 . 請求項1〜のいずれか1項に記載の反射防止フィルムが用いられていることを特徴とする画像表示装置。 An image display device using the antireflection film according to any one of claims 1 to 4 .
JP2013085016A 2013-04-15 2013-04-15 Antireflection film, polarizing plate using the same, touch panel substrate, image display device Active JP6146103B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013085016A JP6146103B2 (en) 2013-04-15 2013-04-15 Antireflection film, polarizing plate using the same, touch panel substrate, image display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013085016A JP6146103B2 (en) 2013-04-15 2013-04-15 Antireflection film, polarizing plate using the same, touch panel substrate, image display device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014206688A JP2014206688A (en) 2014-10-30
JP6146103B2 true JP6146103B2 (en) 2017-06-14

Family

ID=52120252

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013085016A Active JP6146103B2 (en) 2013-04-15 2013-04-15 Antireflection film, polarizing plate using the same, touch panel substrate, image display device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6146103B2 (en)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6561520B2 (en) * 2015-03-20 2019-08-21 大日本印刷株式会社 Antireflection film, display device using the antireflection film, and method for selecting antireflection film
JP6558007B2 (en) * 2015-03-20 2019-08-14 大日本印刷株式会社 Antireflection film, display device using the antireflection film, and method for selecting antireflection film
JP6561519B2 (en) * 2015-03-20 2019-08-21 大日本印刷株式会社 Antireflection film, display device using the antireflection film, and method for selecting antireflection film
KR102467683B1 (en) 2015-03-20 2022-11-17 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 Antireflection film, display device using the antireflection film, and method for selecting the antireflection film
KR102126058B1 (en) * 2017-12-28 2020-06-23 삼성에스디아이 주식회사 Polarizing plate and optical display apparatus comprising the same
JP7433779B2 (en) * 2019-05-21 2024-02-20 日本ペイント・オートモーティブコーティングス株式会社 Coated member and method for manufacturing coated member

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4913365B2 (en) * 2005-06-14 2012-04-11 リケンテクノス株式会社 Antireflection film and antireflection film
JP5049574B2 (en) * 2006-12-14 2012-10-17 富士フイルム株式会社 Optical film, polarizing plate, image display device, and optical film manufacturing method
JP5108417B2 (en) * 2007-08-24 2012-12-26 パナソニック株式会社 Base material with antireflection film
WO2009081596A1 (en) * 2007-12-20 2009-07-02 Toppan Printing Co., Ltd. Antireflection film
JP2010059339A (en) * 2008-09-05 2010-03-18 Toyo Ink Mfg Co Ltd Antistatic curable composition, cured film and laminated article

Also Published As

Publication number Publication date
JP2014206688A (en) 2014-10-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6146103B2 (en) Antireflection film, polarizing plate using the same, touch panel substrate, image display device
US6949284B2 (en) Coating composition, it&#39;s coating layer, antireflection coating, antireflection film, image display and intermediate product
KR101727702B1 (en) Anti-glare coating composition for improved contrast ratio and anti-glare film having improved contrast ratio using the same
JP6233298B2 (en) Antireflection film
JP4923345B2 (en) Coating composition, coating film thereof, antireflection film, and antireflection film
KR101463949B1 (en) Anti-Glare Film Having Improved Contrast Ratio and Preparation Method of the Same
EP2878607A1 (en) Photosensitive resin composition and antireflection film
JP4712236B2 (en) Antireflection film, antireflection film, image display device, and manufacturing method thereof
JP2013097356A (en) Antireflection film manufacturing method, antireflection film, polarizing plate, and display device
JP6354124B2 (en) Antireflection film
JP4899263B2 (en) Coating composition and coating film thereof
JP6155850B2 (en) Antireflection film
JP2013076969A (en) Antireflection film, antireflective polarizing plate and transmissive liquid crystal display
JP2013104959A (en) Antireflection film
JP2014126662A (en) Antireflection film, polarizing plate having antireflection film, and transmission-type liquid crystal display
JP6641105B2 (en) Optical film, polarizing plate using the same, touch panel, display member, and display device
JP2014102377A (en) Antireflection film, and polarizing plate, image display device, liquid crystal display device, and touch panel using the same
JP6492412B2 (en) Antireflection film, polarizing plate using the same, image display device, liquid crystal display device, and touch panel
JP2015084029A (en) Antireflection film, polarizing plate, touch panel substrate, and image display device
JP2013190561A (en) Antireflection film and manufacturing method thereof, polarizer, transmission type liquid crystal display
US8345202B2 (en) Antiglare film, manufacturing method thereof, and transmissive liquid crystal display
JP5245774B2 (en) Antireflection film
JP2014092616A (en) Anti-reflection film
JP2011028074A (en) Antireflection film
JP2014106240A (en) Anti-reflection film

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160318

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20161213

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20161220

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170220

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170418

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170501

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6146103

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250