JP6135891B2 - Electronic component mounting method and electronic component mounting line - Google Patents

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Description

本発明は、複数のバンプを有する電子部品を基板に搭載する実装方法および実装ラインに関する。   The present invention relates to a mounting method and a mounting line for mounting an electronic component having a plurality of bumps on a substrate.

電子機器には、様々な電子部品が組み込まれており、これらの電子部品は複数の電極を有する基板の所定の位置に接合された状態で、実装構造体として機器に内蔵されている。近年の電子機器の小型化に伴い、機器に組み込まれる電子部品は小型化が進んでいることから、フリップチップやチップサイズパッケージ(CSP)などの電子部品が基板に搭載されることが多くなってきている。   Various electronic components are incorporated in the electronic device, and these electronic components are incorporated in the device as a mounting structure in a state of being bonded to a predetermined position of a substrate having a plurality of electrodes. As electronic devices have been downsized in recent years, electronic components incorporated in the devices have been downsized, and electronic components such as flip chips and chip size packages (CSP) are often mounted on a substrate. ing.

フリップチップやCSPなどの電子部品は、複数の端子が規則的に配置された主面を有し、各端子にははんだ製のバンプ(電極)が形成されている。そのような電子部品を基板に実装するには、バンプをランドと称される基板電極(接続端子)に着地させて加熱し、溶融(リフロー)させた後、放冷することにより、電子部品と基板との相互接続が行われる。これにより、電子部品の各端子は基板の電極と電気的に導通するとともに、電子部品は、はんだ接合部により基板に保持される。   Electronic components such as flip chip and CSP have a main surface on which a plurality of terminals are regularly arranged, and solder bumps (electrodes) are formed on each terminal. In order to mount such an electronic component on a substrate, the bump is made to land on a substrate electrode (connection terminal) called a land, heated, melted (reflowed), and then allowed to cool, whereby the electronic component and Interconnection with the substrate is made. Thereby, each terminal of the electronic component is electrically connected to the electrode of the substrate, and the electronic component is held on the substrate by the solder joint portion.

上記のような実装工程により得られた基板と電子部品からなる実装構造体に対して、ヒートサイクルによる熱応力や外力を加えると、バンプにより基板に接合されている電子部品では、はんだ接合部の強度が不足する場合がある。そこで、補強用樹脂により、電子部品を基板に接着して、はんだ接合部を補強することが行われている。   When thermal stress or external force due to heat cycle is applied to the mounting structure consisting of the board and electronic parts obtained by the mounting process as described above, the electronic parts that are joined to the board by bumps are The strength may be insufficient. In view of this, it has been practiced to reinforce the solder joint by adhering the electronic component to the substrate with a reinforcing resin.

補強用樹脂により、はんだ接合部を補強する方法としては、電子部品を基板に搭載する前に、予め電子部品を搭載する基板の搭載領域の少なくとも一部に、補強用樹脂として熱硬化性樹脂を供給することが行われている。このような方法によれば、リフロー時に、はんだ接合と同時に熱硬化性樹脂を硬化させることが可能であり、実装工程を簡略化できるメリットがある。   As a method of reinforcing the solder joint portion with the reinforcing resin, before mounting the electronic component on the substrate, a thermosetting resin is used as the reinforcing resin on at least a part of the mounting region of the substrate on which the electronic component is previously mounted. Supply is done. According to such a method, at the time of reflow, it is possible to cure the thermosetting resin simultaneously with the solder joining, and there is an advantage that the mounting process can be simplified.

しかし、電子部品を搭載する前に基板に補強用樹脂が塗布されるため、搭載領域に設けられているランドが補強用樹脂により覆われることとなる。補強用樹脂により覆われたランドに電子部品のバンプを着地させると、バンプとランドとの間に補強用樹脂が介在しているため、リフロー時に溶融したバンプ(はんだ)がランドに十分に濡れ広がらず、はんだ接合部の強度が弱くなりやすい。補強用樹脂にフラックスを混合することにより、このような問題は軽減されるが、フラックスを含む補強用樹脂は粘度変化が大きくなる。従って、補強用樹脂を冷凍保存することが必要であり、かつ解凍後は数時間以内に使い切らなければならず、温度管理が困難である。   However, since the reinforcing resin is applied to the substrate before the electronic component is mounted, the lands provided in the mounting area are covered with the reinforcing resin. When bumps of electronic parts are landed on the land covered with the reinforcing resin, the reinforcing resin is interposed between the bumps and the land, so that the bumps (solder) melted during the reflow are sufficiently wetted and spread on the land. Therefore, the strength of the solder joint tends to be weak. Such a problem can be reduced by mixing the flux with the reinforcing resin, but the viscosity of the reinforcing resin containing the flux increases. Therefore, it is necessary to store the reinforcing resin in a frozen state, and it must be used up within a few hours after thawing, and temperature management is difficult.

一方、予め電子部品のバンプにフラックスを塗布しておき、フラックスが塗布されたバンプにより補強用樹脂を貫通させ、バンプとランドとの間にフラックスを介在させることも行われている。また、フラックスに薄片状の金属粉を混合し、バンプにフラックスを塗布する際に、バンプの表面に金属粉を食い込ませる操作を行い、その後、電子部品を基板に搭載することが提案されている。この場合、リフロー時に溶融したバンプは、金属粉の表面を伝ってランドに濡れ広がることができるため、はんだ接合部の強度を確保することが容易となる(特許文献1参照)。   On the other hand, flux is applied in advance to the bumps of the electronic component, the reinforcing resin is penetrated by the bumps to which the flux is applied, and the flux is interposed between the bumps and the lands. In addition, it is proposed that when flaky metal powder is mixed with the flux and the flux is applied to the bump, the metal powder is inserted into the surface of the bump, and then the electronic component is mounted on the substrate. . In this case, since the bump melted at the time of reflow can be spread on the land through the surface of the metal powder, it is easy to ensure the strength of the solder joint (see Patent Document 1).

特開2006−73976号公報JP 2006-73976 A

上記のように、予め電子部品のバンプにフラックスを塗布しておき、その後、電子部品を基板に搭載する場合、補強用樹脂にフラックスを必要以上に混合する必要がなくなり、補強用樹脂の粘度変化を防止することは可能である。しかし、フラックスの粘度は、通常、補強用樹脂の粘度よりも遥かに低いものである。そのため、図17(a)に示すように、フラックス206が塗布されたバンプ204を、基板101上の補強用樹脂105で覆われたランド102に着地させる際に、フラックス206が補強用樹脂105に引っ張られ、そのほとんどが図17(b)に示すようにバンプ204から拭い取られる場合がある。従って、バンプ204とランド102との間に十分な量のフラックス206を介在させることは困難な場合がある。   As described above, when flux is applied to the bumps of the electronic component in advance and then the electronic component is mounted on the substrate, it is not necessary to mix the flux with the reinforcing resin more than necessary, and the viscosity change of the reinforcing resin It is possible to prevent this. However, the viscosity of the flux is usually much lower than that of the reinforcing resin. Therefore, as shown in FIG. 17A, when the bump 204 coated with the flux 206 is landed on the land 102 covered with the reinforcing resin 105 on the substrate 101, the flux 206 is applied to the reinforcing resin 105. In some cases, most of them are pulled and wiped off from the bumps 204 as shown in FIG. Therefore, it may be difficult to interpose a sufficient amount of flux 206 between the bump 204 and the land 102.

また、特許文献1のように、フラックスに金属粉を含ませると、金属粉の触媒作用によりフラックスの粘度変化が大きくなり、ポットライフが短くなりやすい。また、金属粉の混入により、はんだの金属組成が変化してしまうため、はんだ接合部が脆くなり、接続の信頼性が低下することもある。   Further, as in Patent Document 1, when the metal powder is included in the flux, the viscosity change of the flux is increased by the catalytic action of the metal powder, and the pot life is likely to be shortened. Moreover, since the metal composition of the solder changes due to the mixing of the metal powder, the solder joint becomes fragile, and the connection reliability may be lowered.

本発明は、フラックスや補強用樹脂の保存性を改善するとともに、はんだ接合部の信頼性を確保することが可能となる電子部品の実装方法および実装ラインを提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide an electronic component mounting method and a mounting line that can improve the storage stability of a flux and a reinforcing resin and ensure the reliability of a solder joint.

本発明の一局面は、パッケージの主面に複数のはんだバンプを有する電子部品を、前記複数のはんだバンプに対応する複数のランドが設けられた搭載領域を有する基板に搭載する電子部品実装方法において、前記搭載領域の少なくとも一部に、第1粘度C1を有する第1熱硬化性樹脂を塗布する工程と、前記複数のはんだバンプに、1.5×C1≦C2を満たす第2粘度C2を有するフラックスを塗布する工程と、前記フラックスが塗布された複数のはんだバンプが、それぞれ対応する前記ランドに着地するように、前記電子部品を前記基板に搭載する工程と、前記電子部品を搭載した前記基板を加熱して、前記バンプを溶融させるとともに、前記第1熱硬化性樹脂を硬化させ、放冷することにより、前記電子部品を前記基板に接合する工程と、を含み、前記フラックスは、粒子状であり、かつ前記加熱時に溶融する固体成分を含み、前記固体成分は、活性剤および第2熱硬化性樹脂よりなる群から選択される少なくとも1種であり、前記活性剤が、有機酸、アミン類およびこれらのハロゲン化物よりなる群から選択される少なくとも1種である、電子部品実装方法に関する。 One aspect of the present invention is an electronic component mounting method for mounting an electronic component having a plurality of solder bumps on a main surface of a package on a substrate having a mounting area provided with a plurality of lands corresponding to the plurality of solder bumps. And a step of applying a first thermosetting resin having a first viscosity C1 to at least a part of the mounting region, and a plurality of solder bumps having a second viscosity C2 satisfying 1.5 × C1 ≦ C2. A step of applying a flux; a step of mounting the electronic component on the substrate such that a plurality of solder bumps to which the flux is applied land on the corresponding lands; and the substrate on which the electronic component is mounted The electronic component is bonded to the substrate by melting the bump, curing the first thermosetting resin, and allowing to cool. And the flux includes a solid component that is particulate and melts when heated, and the solid component is at least one selected from the group consisting of an activator and a second thermosetting resin. Further, the present invention relates to an electronic component mounting method, wherein the activator is at least one selected from the group consisting of organic acids, amines, and halides thereof.

本発明の別の一局面は、パッケージの主面に複数のはんだバンプを有する電子部品を、前記複数のはんだバンプに対応する複数のランドが設けられた搭載領域を有する基板に搭載する電子部品実装ラインにおいて、前記基板の前記搭載領域の少なくとも一部に、第1粘度C1を有する第1熱硬化性樹脂を塗布する樹脂塗布装置と、前記複数のはんだバンプに、1.5×C1≦C2を満たす第2粘度C2を有するフラックスを塗布した後、前記複数のはんだバンプが、それぞれ対応する前記ランドに着地するように、前記電子部品を前記基板に搭載する電子部品搭載装置と、前記電子部品を搭載した前記基板を加熱して、前記バンプを溶融させるとともに、前記第1熱硬化性樹脂を硬化させ、放冷することにより、前記電子部品を前記基板に接合するリフロー装置と、を備え、前記フラックスは、粒子状であり、かつ前記加熱時に溶融する固体成分を含み、前記固体成分は、活性剤および第2熱硬化性樹脂よりなる群から選択される少なくとも1種であり、前記活性剤が、有機酸、アミン類およびこれらのハロゲン化物よりなる群から選択される少なくとも1種である、電子部品実装ラインに関する。 Another aspect of the present invention is an electronic component mounting in which an electronic component having a plurality of solder bumps on a main surface of a package is mounted on a substrate having a mounting area provided with a plurality of lands corresponding to the plurality of solder bumps. In the line, 1.5 × C1 ≦ C2 is applied to at least a part of the mounting region of the substrate, a resin coating apparatus that applies a first thermosetting resin having a first viscosity C1, and the plurality of solder bumps. An electronic component mounting apparatus for mounting the electronic component on the substrate so that the plurality of solder bumps land on the corresponding lands, after applying a flux having a second viscosity C2 that satisfies, and the electronic component The mounted substrate is heated to melt the bumps, and the first thermosetting resin is cured and allowed to cool, whereby the electronic component is brought into contact with the substrate. A reflow device that combines, wherein the flux is particulate and includes a solid component that melts upon heating, the solid component selected from the group consisting of an activator and a second thermosetting resin It is related with the electronic component mounting line which is at least 1 sort (s), and the said activator is at least 1 sort (s) selected from the group which consists of organic acid, amines, and these halides.

本発明によれば、フラックスの粘度が補強用樹脂の粘度以上に高く設定されているため、図1(a)に示すように、フラックス206が塗布されたバンプ204を、基板101に塗布された補強用樹脂105を介してランド102に着地させる際に、フラックス206が補強用樹脂105に引っ張られにくくなる。従って、図1(b)に示すように、バンプ204とランド102との間に十分な量のフラックス206を介在させることができる。よって、リフロー時には、バンプの表面の酸化物を除去することができ、溶融したバンプを基板のランドに十分に濡れ広がらせることができ、結果として、はんだ接合部の高い信頼性を確保することが可能となる。   According to the present invention, since the viscosity of the flux is set higher than the viscosity of the reinforcing resin, the bump 204 coated with the flux 206 is applied to the substrate 101 as shown in FIG. When landing on the land 102 via the reinforcing resin 105, the flux 206 is less likely to be pulled by the reinforcing resin 105. Therefore, as shown in FIG. 1B, a sufficient amount of flux 206 can be interposed between the bump 204 and the land 102. Therefore, at the time of reflow, the oxide on the surface of the bump can be removed, and the melted bump can be sufficiently wetted and spread on the land of the substrate. As a result, high reliability of the solder joint can be ensured. It becomes possible.

そして、本発明によれば、補強用樹脂にフラックスを混合したり、フラックスに金属粉を混合したりする必要がないため、補強用樹脂およびフラックスの粘度変化が抑制され、保存性が向上する。従って、補強用樹脂およびフラックスの温度管理も容易となる。   And according to this invention, since it is not necessary to mix a flux with reinforcing resin or to mix metal powder with a flux, the viscosity change of reinforcing resin and a flux is suppressed, and preservability improves. Therefore, the temperature management of the reinforcing resin and the flux is facilitated.

本発明の一実施形態に係るフラックスが塗布されたバンプを、補強用樹脂を介してランドに着地させる様子を示す図である。It is a figure which shows a mode that the bump | vamp with which the flux which concerns on one Embodiment of this invention was apply | coated is landed on a land via reinforcement resin. 複数のバンプを有するBGA型電子部品の一例の正面図である。It is a front view of an example of the BGA type electronic component which has a plurality of bumps. 同電子部品の底面図である。It is a bottom view of the electronic component. 電子部品が搭載される前の基板の一例の縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of an example of the board | substrate before an electronic component is mounted. チップ型電子部品の一例の斜視図である。It is a perspective view of an example of a chip type electronic component. BGA型電子部品を基板に搭載する手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the procedure which mounts a BGA type electronic component on a board | substrate. 本発明の一実施形態に係る電子部品実装方法の前半の工程を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the process of the first half of the electronic component mounting method which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る電子部品実装方法の後半の工程を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the process of the second half of the electronic component mounting method which concerns on one Embodiment of this invention. 基板に熱硬化性樹脂を薄く塗布する場合の電子部品実装方法の後半の工程を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the latter half process of the electronic component mounting method in the case of apply | coating a thin thermosetting resin to a board | substrate. フラックスの塗膜を形成する転写ユニットを上方から見た模式図である。It is the schematic diagram which looked at the transfer unit which forms the coating film of a flux from upper direction. 同転写ユニットがフラックスの塗膜を形成する動作を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the operation | movement in which the transfer unit forms the coating film of a flux. 同転写ユニットが形成したフラックスの塗膜にBGA型電子部品のはんだバンプを接触させてフラックスを転写する動作を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the operation | movement which makes a solder bump of a BGA type electronic component contact the coating film of the flux which the same transfer unit formed, and transfers a flux. BGA型電子部品のはんだバンプにフラックスを転写する手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the procedure which transfers a flux to the solder bump of a BGA type | mold electronic component. 本発明の一実施形態に係る電子部品実装ラインの全体構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the whole structure of the electronic component mounting line which concerns on one Embodiment of this invention. 同実施形態に係る電子部品実装ラインの一部分である、樹脂塗布装置とBGA型電子部品搭載装置とを接続した構成を上方から見た構成図である。It is the block diagram which looked at the structure which connected the resin coating apparatus and BGA type | mold electronic component mounting apparatus which are a part of the electronic component mounting line which concerns on the same embodiment from the upper direction. 本発明の他の実施形態に係る電子部品実装ラインの全体構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the whole structure of the electronic component mounting line which concerns on other embodiment of this invention. 同実施形態に係る電子部品実装ラインの一部分である、樹脂塗布装置とBGA型電子部品搭載装置と別の電子部品搭載装置とを一体化したユニット装置の構成を上方から見た構成図である。It is the block diagram which looked at the structure of the unit apparatus which integrated the resin coating device, the BGA type | mold electronic component mounting apparatus, and another electronic component mounting apparatus which are a part of the electronic component mounting line which concerns on the same embodiment from the upper direction. 従来のフラックスが塗布されたバンプを、補強用樹脂を介してランドに着地させる様子を示す図である。It is a figure which shows a mode that the bump by which the conventional flux was apply | coated is landed on a land through resin for reinforcement.

まず、パッケージの主面に複数のはんだバンプを有する電子部品およびこれを搭載する基板の構造について説明する。
図2は、パッケージの主面に複数のはんだバンプを有する電子部品200の一例の正面図である。電子部品200は、複数のバンプ204で基板101の電極(ランド)に接続されるボールグリッドアレイ(BGA)型のパッケージを有する。図3は、電子部品200の底面図である。BGA型電子部品200は、パッケージを構成する薄い部品内基板201と、その上面に実装された半導体素子202と、半導体素子202を被覆する封止樹脂203とを具備する。部品内基板201の下面は、電子部品200の主面201sを構成しており、主面201sには複数の端子が規則的に行列状に配列されている。各々の端子にはバンプ204が設けられている。
First, the structure of an electronic component having a plurality of solder bumps on the main surface of the package and a substrate on which the electronic component is mounted will be described.
FIG. 2 is a front view of an example of an electronic component 200 having a plurality of solder bumps on the main surface of the package. The electronic component 200 has a ball grid array (BGA) type package connected to the electrodes (lands) of the substrate 101 by a plurality of bumps 204. FIG. 3 is a bottom view of the electronic component 200. The BGA type electronic component 200 includes a thin component inner substrate 201 constituting a package, a semiconductor element 202 mounted on the upper surface thereof, and a sealing resin 203 covering the semiconductor element 202. The lower surface of the component inner substrate 201 constitutes a main surface 201s of the electronic component 200, and a plurality of terminals are regularly arranged in a matrix on the main surface 201s. Each terminal is provided with a bump 204.

なお、図2および図3に示す構造は、BGA型電子部品の構造の一例に過ぎず、パッケージの主面に複数のはんだバンプを有する電子部品には、上記以外にも様々な形態のフリップチップやCSPが含まれる。   The structure shown in FIGS. 2 and 3 is only an example of the structure of the BGA type electronic component, and various forms of flip chips other than the above are included in the electronic component having a plurality of solder bumps on the main surface of the package. And CSP.

図4に示すように、基板101は、BGA型電子部品200の複数のバンプ204とそれぞれ接続される第1電極102a(ランド)が設けられた第1搭載領域を有する。第1搭載領域の少なくとも一部には、補強用樹脂として、熱硬化性樹脂が塗布される。また、基板101は、BGA型電子部品200以外の部品を搭載するための領域を有していてもよい。   As shown in FIG. 4, the substrate 101 has a first mounting region in which first electrodes 102 a (lands) connected to the plurality of bumps 204 of the BGA type electronic component 200 are provided. A thermosetting resin is applied as a reinforcing resin to at least a part of the first mounting region. Further, the substrate 101 may have a region for mounting a component other than the BGA type electronic component 200.

図5は、BGA型電子部品200とともに基板101に搭載されることのある小型電子部品210の一例の斜視図である。小型電子部品は、例えば、少なくとも1つの接続用端子211を有するチップ型電子部品である。チップ型電子部品としては、例えばチップ抵抗、チップLED、チップコンデンサなどが挙げられる。チップ型電子部品210が搭載される基板には、図4に示すように、チップ型部品210の接続用端子211と接続される複数の第2電極102bを有する第2搭載領域が設けられている。このような電子部品210は、第2電極102bにスクリーン印刷によりクリームはんだを塗布し、クリームはんだを介して接続用端子211を第2電極102bに着地させることにより、基板101に搭載される。   FIG. 5 is a perspective view of an example of a small electronic component 210 that may be mounted on the substrate 101 together with the BGA type electronic component 200. The small electronic component is, for example, a chip type electronic component having at least one connection terminal 211. Examples of the chip-type electronic component include a chip resistor, a chip LED, and a chip capacitor. As shown in FIG. 4, the substrate on which the chip type electronic component 210 is mounted is provided with a second mounting region having a plurality of second electrodes 102 b connected to the connection terminals 211 of the chip type component 210. . Such an electronic component 210 is mounted on the substrate 101 by applying cream solder to the second electrode 102b by screen printing and landing the connection terminal 211 on the second electrode 102b via the cream solder.

次に、本発明の電子部品実装方法について説明する。
本発明の電子部品実装方法は、パッケージの主面に複数のはんだバンプを有する電子部品(以下、第1電子部品)を準備する工程と、前記複数のはんだバンプに対応する複数のランドが設けられた第1電子部品の搭載領域(以下、第1搭載領域)を有する基板を準備する工程と、前記第1搭載領域の少なくとも一部に、第1粘度C1を有する熱硬化性樹脂を塗布する工程と、前記複数のはんだバンプに、C1≦C2を満たす第2粘度C2を有するフラックスを塗布する工程と、前記フラックスが塗布された複数のはんだバンプが、それぞれ対応する前記ランドに着地するように、前記第1電子部品を前記基板に搭載する工程と、前記第1電子部品を搭載した前記基板を加熱して、前記バンプを溶融させるとともに、前記熱硬化性樹脂を硬化させ、放冷することにより、前記電子部品を前記基板に接合する工程(リフロー工程)と、を含む。
Next, the electronic component mounting method of the present invention will be described.
The electronic component mounting method of the present invention includes a step of preparing an electronic component having a plurality of solder bumps on the main surface of the package (hereinafter referred to as a first electronic component), and a plurality of lands corresponding to the plurality of solder bumps. A step of preparing a substrate having a first electronic component mounting region (hereinafter referred to as a first mounting region), and a step of applying a thermosetting resin having a first viscosity C1 to at least a part of the first mounting region. And applying a flux having a second viscosity C2 that satisfies C1 ≦ C2 to the plurality of solder bumps, and the plurality of solder bumps coated with the flux landing on the corresponding lands, respectively. Mounting the first electronic component on the substrate; heating the substrate on which the first electronic component is mounted to melt the bump; and curing the thermosetting resin. By cooling, including a step (reflow step) of bonding the electronic part to the substrate.

本発明の電子部品実装方法は、さらに、チップ型電子部品のような接続用端子211を有する電子部品210(以下、第2電子部品)を準備し、基板101に設けられた接続用端子211に対応する第2電極に、スクリーン印刷によりクリームはんだを塗布し、接続用端子211がクリームはんだを介して第2電極に着地するように、第2電子部品210を基板101に搭載する工程を含んでもよい。この工程はリフロー工程の前に行われる。   The electronic component mounting method of the present invention further prepares an electronic component 210 (hereinafter referred to as a second electronic component) having a connection terminal 211 such as a chip-type electronic component, and connects the connection terminal 211 provided on the substrate 101 to the connection terminal 211. It may include a step of applying the cream solder to the corresponding second electrode by screen printing and mounting the second electronic component 210 on the substrate 101 so that the connection terminal 211 is landed on the second electrode via the cream solder. Good. This step is performed before the reflow step.

以下、図6のフローチャート、並びに図7Aおよび図7Bの説明図を参照しながら、基板101に第1電子部品200と第2電子部品210とを搭載する場合を例にとって、本発明の電子部品実装方法について説明する。   Hereinafter, with reference to the flowchart of FIG. 6 and the explanatory diagrams of FIGS. 7A and 7B, the case where the first electronic component 200 and the second electronic component 210 are mounted on the substrate 101 will be described as an example. A method will be described.

基板101には、図7A(a)に示すように、第1電子部品200のバンプ204と接続される第1電極102aおよび第2電子部品210の端子211と接続される第2電極102bが設けられている。   As shown in FIG. 7A (a), the substrate 101 is provided with a first electrode 102a connected to the bump 204 of the first electronic component 200 and a second electrode 102b connected to the terminal 211 of the second electronic component 210. It has been.

まず、第1電極102aをマスクで遮蔽するなどして、第2電極102bに、スクリーン印刷などの手法により、図7A(b)に示すように、クリームはんだ103を塗布する(SP11)。ただし、クリームはんだ103がフラックスの機能を有する場合には、第1電極102aと第2電極102bの両方にスクリーン印刷によりクリームはんだを塗布してもよい。   First, as shown in FIG. 7A (b), the cream solder 103 is applied to the second electrode 102b by a technique such as screen printing by shielding the first electrode 102a with a mask (SP11). However, when the cream solder 103 has a flux function, the cream solder may be applied to both the first electrode 102a and the second electrode 102b by screen printing.

次に、図7A(c)に示すように、基板の第1搭載領域の少なくとも一部に、第1粘度C1を有する熱硬化性樹脂105を補強用樹脂として塗布する(SP12)。このとき、複数の第1電極102aの少なくとも一部が熱硬化性樹脂105により覆われ、一局面においては複数の第1電極102aの全部が熱硬化性樹脂105により覆われる。はんだ接合部に対する補強効果を高める観点からは、熱硬化性樹脂105を、搭載領域の面積(第1電子部品200の基板101への投影面積)の80%以上、好ましくは100%(全面)に濡れ広がるように塗布することが好ましい。   Next, as shown in FIG. 7A (c), a thermosetting resin 105 having a first viscosity C1 is applied as a reinforcing resin to at least a part of the first mounting region of the substrate (SP12). At this time, at least a part of the plurality of first electrodes 102 a is covered with the thermosetting resin 105, and in one aspect, all of the plurality of first electrodes 102 a are covered with the thermosetting resin 105. From the viewpoint of enhancing the reinforcing effect on the solder joint portion, the thermosetting resin 105 is made 80% or more, preferably 100% (entire surface) of the area of the mounting region (the projected area of the first electronic component 200 on the substrate 101). It is preferable to apply so that it spreads wet.

熱硬化性樹脂105の塗布方法としては、所定の樹脂塗布装置に設置されている様々な方向に移動可能な塗布ヘッドを利用して、ディスペンス方式で行うことが好ましい。塗布ヘッドは、熱硬化性樹脂105を吐出する塗布ノズル323dを具備する。ただし、塗布方法は特に限定されず、可能な場合には、スクリーン印刷装置により熱硬化性樹脂を第1搭載領域に塗布してもよい。   As a method for applying the thermosetting resin 105, it is preferable to perform the dispensing method using an application head that is installed in a predetermined resin application apparatus and is movable in various directions. The coating head includes a coating nozzle 323 d that discharges the thermosetting resin 105. However, the application method is not particularly limited, and if possible, the thermosetting resin may be applied to the first mounting region by a screen printing apparatus.

熱硬化性樹脂の第1粘度C1は、第1電子部品200のはんだバンプに塗布されるフラックスの粘度C2との関係で相対的に決定されるものであり、その値は特に限定されない。ただし、第1領域への濡れ広がりを促進するとともに、液だれによる過度な濡れ広がりを抑制する観点から、25℃において、コーンプレート型のE型粘度計(コーン角度3°かつ直径28mmのスピンドル使用)を用いて、回転速度5rpmで測定されるときの粘度が、例えば20〜70Pa・sであることが好ましい。   The first viscosity C1 of the thermosetting resin is relatively determined in relation to the viscosity C2 of the flux applied to the solder bump of the first electronic component 200, and the value is not particularly limited. However, from the viewpoint of promoting wetting and spreading to the first region and suppressing excessive wetting and spreading due to dripping, a cone plate type E-type viscometer (a cone angle of 3 ° and a diameter of 28 mm is used at 25 ° C.) ), The viscosity when measured at a rotational speed of 5 rpm is preferably, for example, 20 to 70 Pa · s.

次に、図7B(d)に示すように、第1電子部品200の複数のバンプ204に、第2粘度C2を有するフラックス206を塗布する(SP13)。複数のバンプ204にフラックス206を塗布する方法は、特に限定されないが、スキージを用いて平坦面に形成したフラックス206の塗膜をバンプ204に転写する方式が好ましい。フラックスの塗膜の厚さは、バンプ204の大きさや、バンプ1個あたりの塗布量を考慮して適宜調整すればよい。例えば、所定の転写テーブルにフラックス206の塗膜を形成し、その塗膜に第1電子部品200のバンプ204を接触させ、バンプ204にフラックス206を付着(転写)させる。これにより、フラックス206が第1電子部品200のバンプ204に均等に塗布される。   Next, as shown in FIG. 7B (d), a flux 206 having a second viscosity C2 is applied to the plurality of bumps 204 of the first electronic component 200 (SP13). A method of applying the flux 206 to the plurality of bumps 204 is not particularly limited, but a method of transferring a coating film of the flux 206 formed on a flat surface using a squeegee to the bumps 204 is preferable. The thickness of the coating film of the flux may be appropriately adjusted in consideration of the size of the bump 204 and the coating amount per bump. For example, a coating film of the flux 206 is formed on a predetermined transfer table, the bump 204 of the first electronic component 200 is brought into contact with the coating film, and the flux 206 is attached (transferred) to the bump 204. Thereby, the flux 206 is evenly applied to the bumps 204 of the first electronic component 200.

上記のようなフラックスを転写する操作は、所定の電子部品搭載装置に設置されている様々な方向に移動可能な搭載ヘッドを利用して行うことができる。搭載ヘッドは、例えば、吸引により電子部品をピックアップする吸引ノズル324dを具備する。   The operation of transferring the flux as described above can be performed by using a mounting head that is movable in various directions installed in a predetermined electronic component mounting apparatus. The mounting head includes, for example, a suction nozzle 324d that picks up an electronic component by suction.

フラックスの粘度C2は、第1搭載領域に塗布される熱硬化性樹脂の粘度C1との関係で相対的に決定されるものであり、その値は特に限定されない。ただし、はんだバンプへの転写を容易にする観点から、25℃において、コーンプレート型のE型粘度計(コーン角度3°かつ直径28mmのスピンドル使用)を用いて、回転速度5rpmで測定されるときの粘度が、例えば20〜100Pa・sであることが好ましい。   The flux viscosity C2 is relatively determined in relation to the viscosity C1 of the thermosetting resin applied to the first mounting region, and the value is not particularly limited. However, from the viewpoint of facilitating transfer to the solder bumps, when measured at 25 ° C. using a cone plate type E viscometer (using a spindle with a cone angle of 3 ° and a diameter of 28 mm) at a rotational speed of 5 rpm. The viscosity of is preferably 20 to 100 Pa · s, for example.

次に、図7B(e)に示すように、第1電子部品200を基板101の第1搭載領域に搭載する(SP14)。このとき、第1電子部品200の下面(主面)は補強位置104に塗布された熱硬化性樹脂105と接触する。ここで、フラックス206の粘度C2は、熱硬化性樹脂105の粘度C1以上に高く設定されているため、フラックス206が塗布されたバンプ204を熱硬化性樹脂105に侵入させる際に、フラックス206が熱硬化性樹脂105に引っ張られ、拭い取られる量を小さく抑えることができる。従って、複数のバンプ204は、全てフラックス206を介して、それぞれ対応する第1電極102aに着地することができ、バンプとランドとの間に十分な量のフラックスを介在させることができる。これにより、リフロー時には、全てのバンプ204と第1電極102aがフラックス206で十分に濡れた状態になる。   Next, as shown in FIG. 7B (e), the first electronic component 200 is mounted on the first mounting region of the substrate 101 (SP14). At this time, the lower surface (main surface) of the first electronic component 200 is in contact with the thermosetting resin 105 applied to the reinforcing position 104. Here, since the viscosity C2 of the flux 206 is set to be higher than the viscosity C1 of the thermosetting resin 105, when the bump 204 coated with the flux 206 enters the thermosetting resin 105, the flux 206 is The amount pulled and wiped off by the thermosetting resin 105 can be kept small. Therefore, the plurality of bumps 204 can all land on the corresponding first electrode 102a via the flux 206, and a sufficient amount of flux can be interposed between the bump and the land. Thereby, at the time of reflow, all the bumps 204 and the first electrode 102a are sufficiently wetted by the flux 206.

次に、必要に応じて、図7B(f)に示すように、第2電子部品210が基板101に搭載される(SP15)。ただし、第2電子部品210の搭載は、第1電子部品200の搭載の前後のいずれに行ってもよい。例えば、フラックス206と熱硬化性樹脂105とが接触した後、両者の成分同士が拡散する時間を短くする観点から、第2電子部品210の搭載を、第1電子部品200の搭載の前に行ってもよい。   Next, as necessary, as shown in FIG. 7B (f), the second electronic component 210 is mounted on the substrate 101 (SP15). However, the second electronic component 210 may be mounted either before or after the first electronic component 200 is mounted. For example, after the flux 206 and the thermosetting resin 105 are in contact with each other, the second electronic component 210 is mounted before the first electronic component 200 is mounted from the viewpoint of shortening the time during which both components diffuse. May be.

その後、第1電子部品200および第2電子部品210を搭載した基板101は、リフロー装置で加熱される(SP16)。図7B(g)に示すように、リフロー時には全てのバンプ204と第1電極102aがフラックス206で十分に濡れた状態になるため、バンプ204の表面の酸化物を除去する効果が高められるとともに、溶融したバンプは基板のランド102bに十分に濡れ広がることができる。従って、はんだ接合部における導通と十分な接合強度が確保される。リフロー時には、同時に、クリームはんだ103中のはんだ成分も溶融し、第2電極102bに濡れ広がる。リフロー工程が終了すると、はんだは冷却されて固化し、第1電子部品200および第2電子部品210の各々の端子が基板101の対応する電極に接合される。熱硬化性樹脂105は、硬化して、樹脂補強部105aを形成する。さらに、フラックス206が熱硬化性フラックスである場合は、フラックスの硬化物206aが形成される。   Thereafter, the substrate 101 on which the first electronic component 200 and the second electronic component 210 are mounted is heated by a reflow apparatus (SP16). As shown in FIG. 7B (g), since all the bumps 204 and the first electrode 102a are sufficiently wetted by the flux 206 during reflow, the effect of removing oxide on the surface of the bump 204 is enhanced. The melted bump can be sufficiently wet and spread on the land 102b of the substrate. Therefore, conduction at the solder joint and sufficient joint strength are ensured. At the time of reflow, the solder component in the cream solder 103 is also melted and spreads wet on the second electrode 102b. When the reflow process is completed, the solder is cooled and solidified, and the terminals of the first electronic component 200 and the second electronic component 210 are joined to the corresponding electrodes of the substrate 101. The thermosetting resin 105 is cured to form a resin reinforcing portion 105a. Further, when the flux 206 is a thermosetting flux, a cured product 206a of the flux is formed.

なお、図7A(c)においては、搭載される第1電子部品の主面201sと接触するような厚さになるように熱硬化性樹脂105が塗布されている。従って、はんだ接合部を補強する効果が極めて高くなる。ただし、塗布される熱硬化性樹脂105の厚さは、特に限定されない。   In FIG. 7A (c), the thermosetting resin 105 is applied so as to be in contact with the main surface 201s of the first electronic component to be mounted. Therefore, the effect of reinforcing the solder joint is extremely enhanced. However, the thickness of the applied thermosetting resin 105 is not particularly limited.

図8(a)および図8(b)は、基板の第1搭載領域の少なくとも一部に、より薄く熱硬化性樹脂105を塗布した場合を示している。例えば、溶融前のはんだバンプ204の高さの90%以下、更には80%以下の部分だけが熱硬化性樹脂105と接触するように、薄く熱硬化性樹脂105を塗布してもよい。このような場合でも、図8(c)に示すように、熱硬化性樹脂105は、表面張力の作用により、はんだバンプ204を伝って第1電子部品200の主面にまで達することができるからである。従って、はんだ接合部を補強する効果も十分に得られる。   FIG. 8A and FIG. 8B show a case where a thinner thermosetting resin 105 is applied to at least a part of the first mounting region of the substrate. For example, the thermosetting resin 105 may be thinly applied so that only 90% or less of the height of the solder bump 204 before melting, or even 80% or less, is in contact with the thermosetting resin 105. Even in such a case, as shown in FIG. 8C, the thermosetting resin 105 can reach the main surface of the first electronic component 200 through the solder bump 204 by the action of surface tension. It is. Therefore, the effect of reinforcing the solder joint can be sufficiently obtained.

溶融前のはんだバンプ204の高さの90%以下の部分だけを熱硬化性樹脂105と接触させる場合、アンダーフィルのように、電子部品と基板との間の空間のほとんどに熱硬化性樹脂が充填されることがない。従って、バンプ間に空隙を形成できるため、はんだフラッシュが発生しにくいという利点がある。また、はんだバンプに付着したフラックスが熱硬化性樹脂を貫通しやすい点でも有利である。更に、電子部品と基板との間に介在する熱硬化性樹脂の量を低減できるため、電子部品を基板から剥がしてリペアする場合にも作業が容易となる。   When only the portion of 90% or less of the height of the solder bump 204 before melting is brought into contact with the thermosetting resin 105, the thermosetting resin is placed in most of the space between the electronic component and the substrate like underfill. It will not be filled. Therefore, since a gap can be formed between the bumps, there is an advantage that solder flash hardly occurs. It is also advantageous in that the flux attached to the solder bumps can easily penetrate the thermosetting resin. Furthermore, since the amount of the thermosetting resin interposed between the electronic component and the substrate can be reduced, the work is facilitated even when the electronic component is removed from the substrate and repaired.

次に、フラックスの塗膜を用いて第1電子部品のはんだバンプにフラックスを転写する方法の一例について説明する。ここでは、フラックスの塗膜を供給する転写ユニットを用いる場合について説明する。   Next, an example of a method for transferring the flux to the solder bumps of the first electronic component using the flux coating film will be described. Here, the case where the transfer unit which supplies the coating film of a flux is used is demonstrated.

図9に示すように、転写ユニット320は、下方に設けられたベーステーブル320aと、ベーステーブル320aの上面に設けられた転写テーブル321と、転写テーブル321の上方に配置されたスキージユニット322とを具備する。スキージユニット322は、転写テーブルの幅とほぼ等しい長さを有する第1スキージ部材322aと第2スキージ部材322bとを備え、これらはそれぞれ一定の間隔をあけて平行に配置されている。各スキージ部材は、スキージユニット322に内蔵された昇降機構によって昇降自在、すなわち転写テーブル321に形成される塗膜に対して進退自在となっている。   As shown in FIG. 9, the transfer unit 320 includes a base table 320 a provided below, a transfer table 321 provided on the upper surface of the base table 320 a, and a squeegee unit 322 disposed above the transfer table 321. It has. The squeegee unit 322 includes a first squeegee member 322a and a second squeegee member 322b having a length substantially equal to the width of the transfer table, and these are arranged in parallel with a predetermined interval therebetween. Each squeegee member can be moved up and down by an elevating mechanism built in the squeegee unit 322, that is, can advance and retreat with respect to the coating film formed on the transfer table 321.

図10に示すように、転写テーブル321に対してスキージユニット322を矢印の方向に相対的に移動させることにより、各スキージ部材で転写テーブル321内のフラックス206が薄く引き延ばされ、フラックス206の塗膜が形成される。   As shown in FIG. 10, by moving the squeegee unit 322 relative to the transfer table 321 in the direction of the arrow, the flux 206 in the transfer table 321 is thinly stretched by each squeegee member. A coating film is formed.

その後、図11に示すように、第1電子部品200のはんだバンプ204をフラックス206の塗膜に接触させ、はんだバンプ204にフラックス206を転写する。
図12は、はんだバンプ204にフラックス206を転写する際のフローチャートである。搭載ヘッド324は、第1電子部品200をピックアップした後(SP21)、転写ユニット320の上方へ移動し(SP22)、図11に示すように、吸引ノズル324dを昇降動作させて第1電子部品200のはんだバンプ204をフラックス206の塗膜に接触させ、はんだバンプ204にフラックス206を転写する(SP23)。このとき、第1電子部品200がフラックス206の塗膜に付着したままの状態で吸引ノズル324dから脱落しないように、フラックスの粘度C2は適度な高さに調整される。その後、搭載ヘッド324は、基板101の第1搭載領域へ移動し(SP24)、複数のはんだバンプ204をそれぞれ対応する第1電極102aに着地させるようにして、第1電子部品200を基板101に搭載する(SP25)。このような搭載ヘッド324の移動は、所定の制御部からの指令により制御される。
After that, as shown in FIG. 11, the solder bump 204 of the first electronic component 200 is brought into contact with the coating film of the flux 206, and the flux 206 is transferred to the solder bump 204.
FIG. 12 is a flowchart when the flux 206 is transferred to the solder bump 204. After the first electronic component 200 is picked up (SP21), the mounting head 324 moves above the transfer unit 320 (SP22), and as shown in FIG. 11, the suction nozzle 324d is moved up and down to move the first electronic component 200. The solder bump 204 is brought into contact with the coating film of the flux 206, and the flux 206 is transferred to the solder bump 204 (SP23). At this time, the viscosity C2 of the flux is adjusted to an appropriate height so that the first electronic component 200 does not fall off from the suction nozzle 324d with the first electronic component 200 still attached to the coating film of the flux 206. Thereafter, the mounting head 324 moves to the first mounting area of the substrate 101 (SP24), and the first electronic component 200 is placed on the substrate 101 so that the plurality of solder bumps 204 are landed on the corresponding first electrodes 102a. Install (SP25). Such movement of the mounting head 324 is controlled by a command from a predetermined control unit.

次に、熱硬化性樹脂の粘度C1とフラックスの粘度C2との関係について、より詳しく説明する。
熱硬化性樹脂の粘度C1とフラックスの粘度C2は、C1≦C2を満たせばよいが、C1に対してC2が大きくなるほど、第1電子部品を第1領域に搭載する際に熱硬化性樹脂に引っ張られて拭い取られるフラックスの量を小さく抑える効果が大きくなる。C1に対してC2を大きくする手法としては、熱硬化性樹脂の粘度C1を低くすることや、フラックスの粘度C2を高くすることが考えられる。ただし、熱硬化性樹脂の粘度C1を低くし過ぎると、液だれにより、熱硬化性樹脂が過度に広がり、第1搭載領域からはみ出たりする可能性もある。一方、フラックスの粘度C2を高くし過ぎると、フラックスをはんだバンプに転写することが困難になる可能性がある。以上より、拭い取られるフラックスの量を小さく抑えるとともに、熱硬化性樹脂の過度な広がりを抑制し、かつフラックスの転写を容易にする観点から、C1とC2は、2×C1≦C2を満たすことが好ましく、1.7×C1≦C2を満たすことがより好ましく、1.5×C1≦C2を満たすことが更に好ましい。
Next, the relationship between the thermosetting resin viscosity C1 and the flux viscosity C2 will be described in more detail.
The viscosity C1 of the thermosetting resin and the viscosity C2 of the flux only need to satisfy C1 ≦ C2. However, as C2 increases with respect to C1, the thermosetting resin is used when the first electronic component is mounted in the first region. The effect of suppressing the amount of the flux that is pulled and wiped down is increased. As a method for increasing C2 with respect to C1, it is conceivable to decrease the viscosity C1 of the thermosetting resin or increase the viscosity C2 of the flux. However, if the viscosity C1 of the thermosetting resin is too low, the thermosetting resin may excessively spread due to dripping, and may protrude from the first mounting region. On the other hand, if the flux viscosity C2 is too high, it may be difficult to transfer the flux to the solder bumps. From the above, C1 and C2 satisfy 2 × C1 ≦ C2 from the viewpoint of suppressing the amount of flux to be wiped down, suppressing excessive spread of the thermosetting resin, and facilitating transfer of the flux. Is preferable, 1.7 × C1 ≦ C2 is more preferable, and 1.5 × C1 ≦ C2 is more preferable.

次に、補強用樹脂となる熱硬化性樹脂(第1熱硬化性樹脂)について説明する。
熱硬化性樹脂には、特に限定されないが、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂などを用いることができる。熱硬化性樹脂は、硬化剤、硬化促進剤などを含んでもよい。硬化剤としては、酸無水物、脂肪族または芳香族アミン、イミダゾールまたはその誘導体などが好ましく用いられ、硬化促進剤としては、ジシアンジアミドなどを例示できる。熱硬化性樹脂には、更に、チキソ性付与剤、顔料、カップリング剤、反応性希釈剤(粘度調整剤)、カーボンブラック、無機セラミックス粒子などの充填剤を含ませてもよい。熱硬化性樹脂の粘度は、例えば、反応性希釈剤や無機セラミックス粒子の含有量を変化させることにより制御できる。
Next, a thermosetting resin (first thermosetting resin) serving as a reinforcing resin will be described.
Although it does not specifically limit to a thermosetting resin, An epoxy resin, a phenol resin, a melamine resin, a urethane resin etc. can be used. The thermosetting resin may contain a curing agent, a curing accelerator, and the like. As the curing agent, an acid anhydride, an aliphatic or aromatic amine, imidazole or a derivative thereof is preferably used, and examples of the curing accelerator include dicyandiamide. The thermosetting resin may further contain a filler such as a thixotropic agent, a pigment, a coupling agent, a reactive diluent (viscosity modifier), carbon black, and inorganic ceramic particles. The viscosity of the thermosetting resin can be controlled, for example, by changing the content of the reactive diluent or inorganic ceramic particles.

熱硬化性樹脂には、フラックスに含ませる活性剤などの成分を含ませてもよい。これにより、熱硬化性樹脂がランドとはんだバンプとの間に侵入しているような場合でも、溶融したバンプとランドとの濡れ性がより確実に確保される。ただし、熱硬化性樹脂にフラックス成分を混合すると、熱硬化性樹脂の粘度変化が大きくなり、熱硬化性樹脂のポットライフが短くなる傾向があるため、ポットライフを損なわない程度で使用するのがよい。本発明においては、予めBGA型電子部品のはんだバンプにフラックスを塗布するため、熱硬化性樹脂にフラックス成分を含める場合でも、その使用量は少量で十分である。従って、熱硬化性樹脂の温度管理が容易である。   Components such as an activator included in the flux may be included in the thermosetting resin. Thereby, even when the thermosetting resin penetrates between the land and the solder bump, the wettability between the melted bump and the land is more reliably ensured. However, when the flux component is mixed with the thermosetting resin, the viscosity change of the thermosetting resin increases, and the pot life of the thermosetting resin tends to be shortened. Good. In the present invention, since the flux is previously applied to the solder bumps of the BGA type electronic component, even if the flux component is included in the thermosetting resin, a small amount is sufficient. Therefore, the temperature control of the thermosetting resin is easy.

次に、フラックスについて説明する。
フラックスは、はんだ接合の際に、ランドの表面およびはんだバンプの表面に存在する酸化物などを除去したり、はんだの表面張力を低減したりする作用を有する材料であればよい。これらの作用(以下、活性作用)により、はんだとランドとの濡れ性が大きくなり、信頼性の高い良好なはんだ接合が可能となる。
Next, the flux will be described.
The flux may be any material that has an action of removing oxides and the like existing on the surface of the land and the surface of the solder bump and reducing the surface tension of the solder during solder joining. By these actions (hereinafter referred to as “active action”), the wettability between the solder and the lands is increased, and good solder bonding with high reliability becomes possible.

フラックスの組成は、特に限定されないが、例えば、ロジンのようなベース剤、活性剤、溶剤、チキソ性付与剤などを含む。フラックスとして、熱硬化性フラックスを用いてもよい。熱硬化性フラックスを用いる場合、フラックスと熱硬化性樹脂とが接触する場合であっても、熱硬化性樹脂の正常な硬化が阻害されにくくなる。これは、フラックスの有効成分の熱硬化性樹脂への移動が抑制されるためと考えられる。熱硬化性フラックスは、フラックスに熱硬化性樹脂の成分を含ませることにより得ることができる。フラックスに含ませる熱硬化性樹脂成分としては、耐熱性に優れる点などから、例えばエポキシ樹脂が好適である。また、熱硬化性フラックスのポットライフを損なわない程度であれば、熱硬化性フラックスに熱硬化性樹脂成分の硬化剤等を含めてもよい。このような熱硬化性フラックスは、接合材料としても機能する。   The composition of the flux is not particularly limited, and includes, for example, a base agent such as rosin, an activator, a solvent, a thixotropic agent, and the like. A thermosetting flux may be used as the flux. When the thermosetting flux is used, even when the flux and the thermosetting resin are in contact with each other, normal curing of the thermosetting resin is hardly inhibited. This is considered because the movement of the active component of the flux to the thermosetting resin is suppressed. The thermosetting flux can be obtained by including a thermosetting resin component in the flux. As the thermosetting resin component contained in the flux, for example, an epoxy resin is suitable from the viewpoint of excellent heat resistance. Moreover, as long as the pot life of the thermosetting flux is not impaired, a thermosetting resin component curing agent or the like may be included in the thermosetting flux. Such a thermosetting flux also functions as a bonding material.

上記のように、熱硬化性樹脂の粘度C1に対してフラックスの粘度C2を大きくする手法として、フラックスの粘度C2を高くすることが考えられる。ここで、フラックスの粘度C2を高くする方法の一例について説明する。   As described above, as a method of increasing the viscosity C2 of the flux with respect to the viscosity C1 of the thermosetting resin, it is conceivable to increase the viscosity C2 of the flux. Here, an example of a method for increasing the viscosity C2 of the flux will be described.

フラックスの粘度C2は、例えば、フラックスに粒子状の固体成分を含ませることにより高くすることが可能である。固体成分は、フラックスの粘度を上昇させるだけでなく、はんだバンプを基板のランドに着地させる際に、熱硬化性樹脂を貫通してランドに接触しやすい。従って、リフロー時にはんだバンプとランドとが十分に濡れた状態を達成することが、より容易となる。   The viscosity C2 of the flux can be increased, for example, by including a particulate solid component in the flux. The solid component not only increases the viscosity of the flux, but also easily penetrates the thermosetting resin and contacts the land when the solder bump is landed on the land of the substrate. Therefore, it becomes easier to achieve a state in which the solder bump and the land are sufficiently wet during reflow.

固体成分は、フラックスに分散した状態で、例えば50℃以下で固体であればよい。電子部品を基板に搭載する作業は、通常、室温で行われるからである。すなわち、固体成分は、50℃超、更には100℃以上の融点を有することが好ましい。   The solid component may be a solid at 50 ° C. or less, for example, in a state dispersed in the flux. This is because the operation of mounting the electronic component on the substrate is usually performed at room temperature. That is, it is preferable that the solid component has a melting point of more than 50 ° C., more preferably 100 ° C. or more.

フラックスに分散させる固体成分の含有量は、特に限定されないが、例えば5質量%以上であれば十分である。ただし、固体成分の含有量が多すぎるとフラックスの粘度が高くなりすぎることがあるため、固体成分の含有量は、例えば30質量%以下とすることが好ましい。   Although content of the solid component disperse | distributed to a flux is not specifically limited, For example, 5 mass% or more is enough. However, if the content of the solid component is too large, the viscosity of the flux may be too high. Therefore, the content of the solid component is preferably 30% by mass or less, for example.

固体成分の平均粒子径は、特に限定されないが、はんだバンプに対してフラックスの固体成分が大きすぎると、はんだバンプにフラックスを転写する際に、はんだバンプに固体成分を十分に付着させることが困難になる場合がある。従って、固体成分の平均粒子径は、はんだバンプの高さの、例えば1/10以下であることが好ましい。はんだバンプの大きさは様々であるが、通常700μm程度であり、小さいものでも100μm程度である。よって、固体成分の平均粒子径は、例えば50μmであればよく、30μm以下であることが好ましい。また、固体成分の平均粒子径が小さすぎると、フラックスに固体成分を分散させるのに長時間を要したり、粘度が必要以上に上昇したりする場合がある。従って、固体成分の平均粒子径は、例えば0.1μm以上であることが好ましく、1μm以上であることがより好ましい。ただし、これらの平均粒子径の上限と下限は任意に組み合わせ得る。なお、固体成分の平均粒子径は、顕微鏡観察により求められる数値である。例えば、電子顕微鏡で観察される任意の10個の固体成分粒子の最大径の平均値を求めればよい。   The average particle size of the solid component is not particularly limited, but if the solid component of the flux is too large for the solder bump, it is difficult to sufficiently adhere the solid component to the solder bump when transferring the flux to the solder bump. It may become. Therefore, it is preferable that the average particle diameter of the solid component is, for example, 1/10 or less of the height of the solder bump. The size of the solder bump varies, but is usually about 700 μm, and even a small one is about 100 μm. Therefore, the average particle diameter of the solid component may be 50 μm, for example, and is preferably 30 μm or less. If the average particle size of the solid component is too small, it may take a long time to disperse the solid component in the flux, or the viscosity may increase more than necessary. Therefore, the average particle diameter of the solid component is, for example, preferably 0.1 μm or more, and more preferably 1 μm or more. However, the upper limit and the lower limit of these average particle diameters can be arbitrarily combined. In addition, the average particle diameter of a solid component is a numerical value calculated | required by microscope observation. For example, an average value of the maximum diameters of any ten solid component particles observed with an electron microscope may be obtained.

固体成分としては、リフロー時に溶融して、はんだ接合を阻害しない成分が適している。例えば、活性剤および熱硬化性樹脂(第2熱硬化性樹脂)よりなる群から選択される少なくとも1種を用いることが好ましい。これらはリフロー時に溶融しやすく、かつフラックスや熱硬化性フラックスの改質成分として適しているからである。中でも平均粒子径0.1μm〜50μmの活性剤を用いることが好ましい。 As the solid component, a component that melts during reflow and does not hinder solder joints is suitable. For example, it is preferable to use at least one selected from the group consisting of an activator and a thermosetting resin (second thermosetting resin) . This is because they are easily melted during reflow and are suitable as a modifying component for flux and thermosetting flux. Among them, it is preferable to use an activator having an average particle size of 0.1 μm to 50 μm.

固体成分として用い得る熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂およびこれらの硬化剤(硬化促進剤を含む)よりなる群から選択される少なくとも1種を用いることができる。また、活性剤としては、例えば、有機酸、アミン類およびこれらのハロゲン化物よりなる群から選択される少なくとも1種を用いることができる。これらの材料は、1種を単独で用いてもよく、複数種を組み合わせて用いてもよい。ハロゲン化物に含まれるハロゲンとしては、臭素や塩素が挙げられる。また、ホウ素系の活性剤も用いることができる。
As the thermosetting resin that can be used as the solid component, for example, at least one selected from the group consisting of epoxy resins, phenol resins, melamine resins, and these curing agents (including curing accelerators) can be used. Moreover, as an activator, at least 1 sort (s) selected from the group which consists of organic acid, amines, and these halides can be used, for example. These materials may be used individually by 1 type, and may be used in combination of multiple types. Examples of the halogen contained in the halide include bromine and chlorine. Boron based activators can also be used.

エポキシ樹脂としては、特に限定されないが、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、様々な多官能エポキシ樹脂、可撓性エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、高分子型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂などを例示できる。フェノール樹脂としては、特に限定されないが、ノボラック型フェノール樹脂、レゾール型フェノール樹脂などが挙げられる。メラミン樹脂としては、特に限定されないが、メチル化メラミン樹脂、ブチル化メラミン樹脂などが挙げられる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The epoxy resin is not particularly limited, but is bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, various polyfunctional epoxy resins, flexible epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, polymer type epoxy resin, biphenyl type epoxy. Resin etc. can be illustrated. Although it does not specifically limit as a phenol resin, A novolak type phenol resin, a resol type phenol resin, etc. are mentioned. Although it does not specifically limit as a melamine resin, A methylated melamine resin, a butylated melamine resin, etc. are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

これらの樹脂の硬化剤としては、熱硬化性樹脂の硬化剤と同様に、酸無水物、脂肪族アミン、芳香族アミン、イミダゾール、イミダゾール誘導体、ジシアンジアミドなどを用いることができる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   As a curing agent for these resins, an acid anhydride, an aliphatic amine, an aromatic amine, an imidazole, an imidazole derivative, dicyandiamide, and the like can be used as in the case of the curing agent for the thermosetting resin. These may be used alone or in combination of two or more.

固体成分として用い得る活性剤となる有機酸としては、脂肪族カルボン酸、芳香族カルボン酸などが適しており、例えば、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アラキン酸、ベヘニン酸、シュウ酸、マロン酸、琥珀酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フマル酸、マレイ酸、酒石酸、クエン酸、安息香酸、フタル酸、サルチル酸、アニス酸、フェニル酢酸、ジフェニル酢酸、シンナミン酸などが挙げられる。また、アミン類としては、例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ヘキサメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、モルホリン、ヘキシルアミン、オクチルアミン、ブチルアミン、プロピルアミン、アラニン、トルイジンなどが挙げられる。上記のアミンと有機酸との塩(アミン有機酸塩)を用いてもよい。活性剤のハロゲン化物としては、上記のアミンとハロゲン化水素との塩(例えば塩酸塩や臭酸塩)が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Suitable organic acids that can be used as a solid component include aliphatic carboxylic acids and aromatic carboxylic acids. For example, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, arachidic acid, behenic acid, oxalic acid, and malon are suitable. Acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, azelaic acid, sebacic acid, fumaric acid, maleic acid, tartaric acid, citric acid, benzoic acid, phthalic acid, salicylic acid, anisic acid, phenylacetic acid, diphenylacetic acid, cinnamine An acid etc. are mentioned. Examples of amines include monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, hexamethylenediamine, tetramethylenediamine, morpholine, hexylamine, octylamine, butylamine, propylamine, alanine, and toluidine. A salt of an amine and an organic acid (amine organic acid salt) may be used. Examples of the halide of the activator include salts of the above amines and hydrogen halides (for example, hydrochlorides and odorates). These may be used alone or in combination of two or more.

次に、電子部品実装ラインの装置構成の一例について図13を参照して説明する。
電子部品実装ライン300は、複数の装置を基板搬送コンベアで連結したものであり、連結した基板搬送コンベアによって基板を上流から下流へ移動させながら基板へのクリームはんだ印刷、電子部品搭載、リフロー等を順次行うものである。
Next, an example of the device configuration of the electronic component mounting line will be described with reference to FIG.
The electronic component mounting line 300 is formed by connecting a plurality of devices with a substrate transport conveyor, and performs solder paste printing, electronic component mounting, reflow, etc. on the substrate while moving the substrate from upstream to downstream by the connected substrate transport conveyor. It is performed sequentially.

電子部品実装ライン300は、
(i)第1電子部品200を搭載する第1搭載領域および第2電子部品210を搭載する第2搭載領域を有する基板101を供給する基板供給装置301と、
(ii)基板供給装置301から供給された基板101の第2搭載領域の第2電極102bに、スクリーン印刷によりクリームはんだを塗布するスクリーン印刷装置302と、
(iii)基板101の第1搭載領域の少なくとも一部に、熱硬化性樹脂105を塗布する樹脂塗布装置303と、
(iv)樹脂塗布装置303から搬送された基板101の第1搭載領域に、BGA型の第1電子部品200を搭載する第1電子部品搭載装置304と、
(v)クリームはんだが塗布された第2電極102bに第2電子部品210を搭載する第2電子部品搭載装置305と、
(vi)第1電子部品および第2電子部品を搭載した基板101を加熱してはんだを溶融させることにより第1電子部品200および第2電子部品210を基板101にはんだ接合するリフロー装置306と、
(vii)基板回収装置307と、を具備する。
The electronic component mounting line 300 is
(I) a substrate supply device 301 for supplying a substrate 101 having a first mounting area for mounting the first electronic component 200 and a second mounting area for mounting the second electronic component 210;
(Ii) a screen printing device 302 that applies cream solder to the second electrode 102b in the second mounting region of the substrate 101 supplied from the substrate supply device 301 by screen printing;
(Iii) a resin application device 303 for applying the thermosetting resin 105 to at least a part of the first mounting region of the substrate 101;
(Iv) a first electronic component mounting device 304 for mounting the BGA type first electronic component 200 on the first mounting region of the substrate 101 conveyed from the resin coating device 303;
(V) a second electronic component mounting device 305 for mounting the second electronic component 210 on the second electrode 102b coated with cream solder;
(Vi) a reflow device 306 for soldering the first electronic component 200 and the second electronic component 210 to the substrate 101 by heating the substrate 101 on which the first electronic component and the second electronic component are mounted to melt the solder;
(Vii) a substrate recovery device 307.

ここで、樹脂塗布装置303は、熱硬化性樹脂を第1搭載領域に供給する塗布ヘッドを具備し、第1電子部品搭載装置は、BGA型の第1電子部品を供給する部品供給部と、基板を保持して位置決めする基板保持部と、フラックスの塗膜を供給する転写ユニットと、第1電子部品を移動させる搭載ヘッドとを具備する。搭載ヘッドは、吸引ノズルによって第1電子部品をピックアップし、保持するとともに、吸引を解除してリリースすることが可能であり、かつ部品供給部、基板保持部および転写ユニットの上方を移動可能である。   Here, the resin coating device 303 includes a coating head that supplies thermosetting resin to the first mounting region, and the first electronic component mounting device includes a component supply unit that supplies the BGA type first electronic component, A substrate holding unit that holds and positions the substrate, a transfer unit that supplies a coating film of flux, and a mounting head that moves the first electronic component are provided. The mounting head can pick up and hold the first electronic component by the suction nozzle, release it by releasing the suction, and can move above the component supply unit, the substrate holding unit, and the transfer unit. .

図14は、電子部品実装ライン300の一部分である、樹脂塗布装置303と、第1電子部品搭載装置304と、を接続した構成を上方から見た構成図である。
樹脂塗布装置303と第1電子部品搭載装置304とは、各装置のステージを形成する基台に設けられた基板搬送コンベア309a,309bを連結することで、スクリーン印刷装置302から搬送されてきた基板101を搬送するためのラインを構成している。基板搬送コンベア309a,309bは、各装置において、電子部品の搭載や樹脂の塗布を行う作業位置まで基板を搬送して位置決めするための基板保持部として機能する。
なお、図14中の矢印は、電子部品実装ライン300の上流から下流への進行方向を示す。
FIG. 14 is a configuration diagram of a configuration in which a resin coating device 303 and a first electronic component mounting device 304, which are a part of the electronic component mounting line 300, are connected, as viewed from above.
The resin coating device 303 and the first electronic component mounting device 304 are connected to the substrate transport conveyors 309a and 309b provided on the base forming the stage of each device, so that the substrate transported from the screen printing device 302 is obtained. The line for conveying 101 is comprised. The substrate transport conveyors 309a and 309b function as a substrate holding unit for transporting and positioning the substrate to a working position for mounting electronic components and applying resin in each apparatus.
In addition, the arrow in FIG. 14 shows the advancing direction from the upstream of the electronic component mounting line 300 to the downstream.

樹脂塗布装置303は、中央部に配置された基板搬送コンベア309aと、熱硬化性樹脂105を吐出する塗布ノズル323dを有する塗布ヘッド323を備えている。樹脂塗布装置303は、基板保持部310aに位置決めされた基板101の第1搭載領域の少なくとも一部に、熱硬化性樹脂105を塗布する。塗布ヘッド323はXYZ移動機構(図示せず)に支持されており、所定の制御部によるXYZ移動機構の制御によって、基板搬送コンベア309aの上方空間を、水平方向ならびに上下方向へ移動する。塗布ヘッド323の移動及び塗布ノズル323dからの熱硬化性樹脂105の吐出などの動作は、制御部からの指令により制御される。   The resin coating device 303 includes a substrate transport conveyor 309 a disposed in the center and a coating head 323 having a coating nozzle 323 d that discharges the thermosetting resin 105. The resin coating device 303 applies the thermosetting resin 105 to at least a part of the first mounting region of the substrate 101 positioned on the substrate holding unit 310a. The coating head 323 is supported by an XYZ moving mechanism (not shown), and moves in the horizontal and vertical directions in the upper space of the substrate transport conveyor 309a under the control of the XYZ moving mechanism by a predetermined control unit. Operations such as movement of the coating head 323 and ejection of the thermosetting resin 105 from the coating nozzle 323d are controlled by commands from the control unit.

第1電子部品搭載装置304は、中央部に配置された基板搬送コンベア309bと、第1部品供給部314と、搭載ヘッド324と、図9〜10に示したようなフラックスの塗膜を形成する転写ユニット320とを備える。第1電子部品搭載装置304は、樹脂塗布装置303から搬送され、基板保持部310bに位置決めされた基板101の第1搭載領域に、第1電子部品200を搭載する。第1電子部品搭載装置304は、基板搬送コンベア309bを樹脂塗布装置303の基板搬送コンベア309aに連結した状態で配置、すなわち樹脂塗布装置303の下流に隣接配置されている。このため、樹脂塗布装置303で熱硬化性樹脂の塗布を終えた基板は、直ちに第1電子部品搭載装置へ搬送され、第1電子部品が搭載される。第1部品供給部314はトレイフィーダであり、複数の第1電子部品200を収納したトレイが配置されている。搭載ヘッド324はXY移動機構(図示せず)に支持されており、所定の制御部によるXY移動機構の制御によって、第1部品供給部314から基板搬送コンベア309bの上方空間を移動する。   The first electronic component mounting device 304 forms a substrate film conveyor 309b, a first component supply unit 314, a mounting head 324, and a flux coating film as shown in FIGS. A transfer unit 320. The first electronic component mounting device 304 mounts the first electronic component 200 on the first mounting region of the substrate 101 which is transported from the resin coating device 303 and positioned on the substrate holding portion 310b. The first electronic component mounting device 304 is disposed in a state where the substrate transport conveyor 309 b is connected to the substrate transport conveyor 309 a of the resin coating device 303, that is, adjacent to the downstream of the resin coating device 303. For this reason, the board | substrate which finished application | coating of the thermosetting resin with the resin coating device 303 is immediately conveyed to the 1st electronic component mounting apparatus, and a 1st electronic component is mounted. The first component supply unit 314 is a tray feeder, and a tray in which a plurality of first electronic components 200 are stored is disposed. The mounting head 324 is supported by an XY movement mechanism (not shown), and moves from the first component supply unit 314 to the upper space of the substrate transport conveyor 309b under the control of the XY movement mechanism by a predetermined control unit.

搭載ヘッド324は、内蔵された昇降機構によって昇降動作を行う吸引ノズル324dを備えており、吸引ノズル324dの昇降動作と吸引とによって第1部品供給部314から第1電子部品200をピックアップし、転写ユニット320でフラックスをはんだバンプに転写した後、基板101の第1搭載領域の上方からの昇降動作と吸引解除(真空破壊)によって第1電子部品200を基板101に搭載する。   The mounting head 324 includes a suction nozzle 324d that moves up and down by a built-in lifting mechanism, and picks up the first electronic component 200 from the first component supply unit 314 by the lifting and lowering operation and suction of the suction nozzle 324d, and transfers it. After the flux is transferred to the solder bumps by the unit 320, the first electronic component 200 is mounted on the substrate 101 by lifting and lowering from above the first mounting region of the substrate 101 and suction release (vacuum break).

転写ユニット320は、第1電子部品200のバンプ204に転写するのに適した厚さのフラックスの塗膜を供給できる機構を有する。   The transfer unit 320 has a mechanism capable of supplying a flux coating film having a thickness suitable for transferring to the bumps 204 of the first electronic component 200.

なお、上記各装置の配置は一例に過ぎず、様々な別の配置を有するラインを構成してもよいし、複数の装置の機能を有する複合型の装置を用いてもよい。例えば、第2電子部品搭載装置305は、スクリーン印刷装置302と樹脂塗布装置303との間に配置してもよい。また、樹脂塗布装置303と第1電子部品搭載装置304は、一体化されたユニット装置であってもよい。このようなユニット装置においては、塗布ヘッドと搭載ヘッドとが共通の空間を移動できるように一体化されており、より効率的な実装が可能である。また、第1電子部品搭載装置304と第2電子部品搭載装置305とが一体化されたユニット装置であってもよい。更に、樹脂塗布装置303と第1電子部品搭載装置304と第2電子部品搭載装置305とが一体化されたユニット装置であってもよい。このようなユニット装置においては、塗布ヘッドと搭載ヘッドとが共通の空間を移動できるように一体化されているだけでなく、1つの搭載ヘッドにより、第1電子部品と第2電子部品を基板へ搭載することができる。   Note that the arrangement of each of the above devices is merely an example, and a line having various other arrangements may be configured, or a composite device having a plurality of device functions may be used. For example, the second electronic component mounting device 305 may be disposed between the screen printing device 302 and the resin coating device 303. Further, the resin coating device 303 and the first electronic component mounting device 304 may be an integrated unit device. In such a unit device, the coating head and the mounting head are integrated so as to move in a common space, and more efficient mounting is possible. Moreover, the unit apparatus with which the 1st electronic component mounting apparatus 304 and the 2nd electronic component mounting apparatus 305 were integrated may be sufficient. Furthermore, a unit device in which the resin coating device 303, the first electronic component mounting device 304, and the second electronic component mounting device 305 are integrated may be used. In such a unit device, the coating head and the mounting head are not only integrated so as to move in a common space, but the first electronic component and the second electronic component are transferred to the substrate by one mounting head. Can be installed.

ここで、塗布ヘッドと搭載ヘッドとが移動可能な共通の空間とは、1つ以上の部品供給部や1つ以上の基板保持部が設置される単一のステージを有する基台の上方空間である。塗布ヘッドの移動経路と搭載ヘッドの移動経路は、互いに重複していても重複していなくてもよい。   Here, the common space in which the coating head and the mounting head are movable is the space above the base having a single stage on which one or more component supply units and one or more substrate holding units are installed. is there. The movement path of the coating head and the movement path of the mounting head may or may not overlap each other.

次に、図15および図16を参照しながら、樹脂塗布装置と第1電子部品搭載装置と第2電子部品搭載装置とが一体化されたユニット装置について説明する。なお、図16では、図14と同じ機能を有する要素には同じ符号を付している。
図15は、ユニット装置を具備する電子部品実装ライン300Xの装置構成の一例であり、図16は、ユニット装置304Xの構成を上方から見た構成図である。
Next, a unit device in which the resin coating device, the first electronic component mounting device, and the second electronic component mounting device are integrated will be described with reference to FIGS. 15 and 16. In FIG. 16, elements having the same functions as those in FIG.
FIG. 15 is an example of a device configuration of the electronic component mounting line 300X including the unit device, and FIG. 16 is a configuration diagram of the unit device 304X as viewed from above.

ユニット装置304Xは、基台の中央部に配置された基板搬送コンベア309を具備し、基板搬送コンベア309の経路の途中には、塗布ヘッド324の作業対象となる基板101を保持する上流側基板保持部310cと、搭載ヘッド325の作業対象となる基板101を保持する下流側基板保持部310dとが設けられている。   The unit device 304X includes a substrate transfer conveyor 309 disposed in the center of the base, and holds an upstream substrate holding the substrate 101 that is a work target of the coating head 324 in the middle of the path of the substrate transfer conveyor 309. A portion 310c and a downstream substrate holding portion 310d that holds the substrate 101 that is the work target of the mounting head 325 are provided.

塗布ヘッド323は、所定の制御部によるXYZ移動機構の制御によって、上流側基板保持部310cの上方空間を、水平方向ならびに上下方向へ移動する。一方、搭載ヘッド324は、所定の制御部によるXY移動機構の制御によって、第1部品供給部314および第2部品供給部315から下流側基板保持部310dの上方空間を移動する。すなわち、塗布ヘッド323と搭載ヘッド324は、同じユニット装置内の基板搬送コンベア309の上方空間を共有しており、上流側の空間を塗布ヘッド323が移動でき、下流側の空間を搭載ヘッド324が移動できるように構成されている。   The coating head 323 moves in the horizontal direction and the vertical direction in the upper space of the upstream substrate holding part 310c by the control of the XYZ moving mechanism by a predetermined control part. On the other hand, the mounting head 324 moves from the first component supply unit 314 and the second component supply unit 315 to the upper space of the downstream substrate holding unit 310d under the control of the XY movement mechanism by a predetermined control unit. That is, the coating head 323 and the mounting head 324 share the upper space of the substrate transport conveyor 309 in the same unit apparatus, the coating head 323 can move in the upstream space, and the mounting head 324 moves in the downstream space. It is configured to be movable.

上流側基板保持部310cでは、塗布ヘッド323によって基板101の補強位置104に補強用樹脂105が塗布される。上流側基板保持部310cでの作業が終了すると、その後、基板101は、基板搬送コンベア309によって同じユニット装置304X内に設けられている下流側基板保持部310dに搬送される。そして、下流側基板保持部310dに保持された基板101の第1搭載領域および第2搭載領域に、搭載ヘッド324によって第1電子部品200および第2電子部品210が搭載される。   In the upstream substrate holding part 310 c, the reinforcing resin 105 is applied to the reinforcing position 104 of the substrate 101 by the application head 323. When the work in the upstream side substrate holding unit 310c is completed, the substrate 101 is then transferred by the substrate transfer conveyor 309 to the downstream side substrate holding unit 310d provided in the same unit device 304X. Then, the first electronic component 200 and the second electronic component 210 are mounted by the mounting head 324 on the first mounting region and the second mounting region of the substrate 101 held by the downstream substrate holding unit 310d.

ユニット装置304Xにおいては、上流側基板保持部310cに保持された基板101の補強位置104に補強用樹脂105を塗布する間に、下流側基板保持部310dに保持された別の基板101の第1搭載領域および第2搭載領域に第1電子部品200および第2電子部品210を搭載することができるため、実装基板を製造する際の作業効率が向上する。   In the unit device 304X, while the reinforcing resin 105 is applied to the reinforcing position 104 of the substrate 101 held by the upstream substrate holding unit 310c, the first of the other substrate 101 held by the downstream substrate holding unit 310d is applied. Since the first electronic component 200 and the second electronic component 210 can be mounted in the mounting area and the second mounting area, the work efficiency when manufacturing the mounting board is improved.

上記では、上流側基板保持部310cおよび下流側基板保持部310dを有するユニット装置Xについて説明したが、基板保持部は1つだけでもよく、3つ以上でもよい。基板保持部が1つだけの場合、塗布ヘッドの移動経路と搭載ヘッドの移動経路とが互いに重複することとなるが、塗布ヘッドと搭載ヘッドの動作の順序を所定の制御部により制御することで、効率のよい実装作業を実現できる。また、第2部品供給部315は必要に応じてユニット装置に設置されるものであり、ユニット装置Xは第1電子部品200の搭載だけを行う装置であってもよい。
次に、本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
In the above description, the unit device X including the upstream substrate holding unit 310c and the downstream substrate holding unit 310d has been described. However, the number of substrate holding units may be one, or three or more. When there is only one substrate holding unit, the movement path of the coating head and the movement path of the mounting head overlap each other. By controlling the order of operation of the coating head and the mounting head by a predetermined control unit, Efficient mounting work can be realized. The second component supply unit 315 may be installed in the unit device as necessary, and the unit device X may be a device that only mounts the first electronic component 200.
Next, the present invention will be described based on examples, but the present invention is not limited to the following examples.

《実施例1》
まず、FR4基板の所定箇所に、第1電極として所定パターンのランドを形成した。次に、全てのランドが完全に覆われるように、補強用樹脂として下記の熱硬化性樹脂を塗布した。
一方、転写テーブルにスキージを用いて下記フラックスAの塗膜を形成し、その塗膜を第1電子部品であるフリップチップBGA型電子部品(1005チップ)のSn−Ag−Cu系のはんだで構成されたバンプ(融点約220℃)に転写した。その後、バンプが対応するランドに着地するように、BGA型電子部品を基板に搭載した。その際、補強用樹脂がBGA型電子部品の下面の全体に接触するように、熱硬化性樹脂の塗布量を調整した。その後、BGA型電子部品を搭載した基板をリフロー装置で240℃〜250℃で加熱してはんだ接合を行った。
Example 1
First, lands having a predetermined pattern were formed as first electrodes at predetermined locations on the FR4 substrate. Next, the following thermosetting resin was applied as a reinforcing resin so that all the lands were completely covered.
On the other hand, a coating film of the following flux A is formed using a squeegee on a transfer table, and the coating film is composed of a Sn-Ag-Cu solder of a flip chip BGA type electronic component (1005 chip) as the first electronic component. Transferred to the bumps (melting point: about 220 ° C.). Thereafter, BGA type electronic components were mounted on the substrate so that the bumps landed on the corresponding lands. At that time, the application amount of the thermosetting resin was adjusted so that the reinforcing resin was in contact with the entire lower surface of the BGA type electronic component. Then, the board | substrate which mounted the BGA type | mold electronic component was heated by 240 degreeC-250 degreeC with the reflow apparatus, and the solder joint was performed.

次に、はんだ接合を終了したBGA型電子部品を基板から剥がして、ランドにバンプが十分に付着しているかどうかを観察したところ、ランドの全てにバンプの残渣が十分に付着していた。   Next, when the BGA type electronic component that had been soldered was peeled off from the substrate and it was observed whether or not the bumps were sufficiently attached to the lands, the bump residues were sufficiently attached to all of the lands.

<熱硬化性樹脂>
エポキシ樹脂を主成分とする樹脂組成物
25℃における粘度:40Pa・s
<Thermosetting resin>
Resin composition mainly composed of epoxy resin Viscosity at 25 ° C .: 40 Pa · s

<フラックスA>
固体成分を26質量%(内、10質量%は平均粒子径9μmかつ融点223℃の活性剤X)含む熱硬化性フラックス
25℃における粘度:60Pa・s
<Flux A>
Thermosetting flux containing a solid component of 26% by mass (of which 10% by mass is an activator X having an average particle diameter of 9 μm and a melting point of 223 ° C.) Viscosity at 25 ° C .: 60 Pa · s

《実施例2》
BGA型電子部品を基板に搭載したときに、補強用樹脂がBGA型電子部品の下面に接触しないように、バンプの高さの75%の厚さになるように熱硬化性樹脂の塗布量を調整したこと以外、実施例1と同様の操作を行った。その後、BGA型電子部品を搭載した基板をリフロー装置で240℃〜250℃で加熱してはんだ接合を行った。
Example 2
When the BGA type electronic component is mounted on the substrate, the amount of the thermosetting resin applied is adjusted so that the reinforcing resin does not contact the lower surface of the BGA type electronic component so that the thickness is 75% of the bump height. The same operation as Example 1 was performed except having adjusted. Then, the board | substrate which mounted the BGA type | mold electronic component was heated by 240 degreeC-250 degreeC with the reflow apparatus, and the solder joint was performed.

次に、はんだ接合を終了したBGA型電子部品を基板から剥がして、ランドにバンプが十分に付着しているかどうかを観察したところ、ランドの全てにバンプの残渣が十分に付着していた。なお、基板には、バンプを伝って這い上がった熱硬化性樹脂の硬化物が十分に付着していたため、BGA型電子部品を基板から剥がす際の剥離強度は、実施例1には及ばないものの充分な強度であった。   Next, when the BGA type electronic component that had been soldered was peeled off from the substrate and it was observed whether or not the bumps were sufficiently attached to the lands, the bump residues were sufficiently attached to all of the lands. In addition, since the hardened | cured material of the thermosetting resin which scooped up through the bump had adhered to the board | substrate sufficiently, the peeling strength at the time of peeling a BGA type electronic component from a board | substrate does not reach Example 1. The strength was sufficient.

《実施例3》
下記のフラックスBを用いたこと以外、実施例1と同様の操作を行った。その後、BGA型電子部品を搭載した基板をリフロー装置で240℃〜250℃で加熱してはんだ接合を行った。
Example 3
The same operation as in Example 1 was performed except that the following flux B was used. Then, the board | substrate which mounted the BGA type | mold electronic component was heated by 240 degreeC-250 degreeC with the reflow apparatus, and the solder joint was performed.

次に、はんだ接合を終了したBGA型電子部品を基板から剥がして、ランドにバンプが十分に付着しているかどうかを観察したところ、ランドの全てにバンプの残渣が十分に付着していた。   Next, when the BGA type electronic component that had been soldered was peeled off from the substrate and it was observed whether or not the bumps were sufficiently attached to the lands, the bump residues were sufficiently attached to all of the lands.

<フラックスB>
固体成分を23質量%(内、10質量%は平均粒子径9μmかつ融点223℃の活性剤X)含む熱硬化性フラックス
25℃における粘度:40Pa・s
<Flux B>
Thermosetting flux containing a solid component of 23% by mass (of which 10% by mass is an activator X having an average particle size of 9 μm and a melting point of 223 ° C.) Viscosity at 25 ° C .: 40 Pa · s

《比較例1》
下記のフラックスCを用いたこと以外、実施例1と同様の操作を行った。その後、BGA型電子部品を搭載した基板をリフロー装置で240℃〜250℃で加熱してはんだ接合を行った。
<< Comparative Example 1 >>
The same operation as in Example 1 was performed except that the following flux C was used. Then, the board | substrate which mounted the BGA type | mold electronic component was heated by 240 degreeC-250 degreeC with the reflow apparatus, and the solder joint was performed.

次に、はんだ接合を終了したBGA型電子部品を基板から剥がして、ランドにバンプが十分に付着しているかどうかを観察したところ、ランドの一部では、バンプの残渣が十分に付着しておらず、補強用樹脂がバンプとランドとの間に侵入していた。   Next, the BGA type electronic component that has been soldered is peeled off from the substrate, and it is observed whether or not the bumps are sufficiently attached to the lands. However, the reinforcing resin entered between the bump and the land.

<フラックスC>
平均粒子径9μmの融点223℃の活性剤の代わりに、融点−70℃の活性剤Yを溶け込ませた、固体成分を13質量%含む熱硬化性フラックス
25℃における粘度:23Pa・s
<Flux C>
Thermosetting flux containing 13% by mass of a solid component in which an activator Y having a melting point of −70 ° C. was dissolved instead of an activator having an average particle diameter of 9 μm and a melting point of 223 ° C. Viscosity at 25 ° C .: 23 Pa · s

次に、上記と同様の基板とBGA型電子部品からなる試料を48個作製し、電子部品とはんだ接合部と基板電極とを連結(デイジーチェーン)した際の全接続抵抗値を測定し、抵抗値が正常範囲にあるものを良品と判断し、良品率(%)を求めた。   Next, 48 samples made of the same substrate and BGA type electronic component as described above were prepared, and the total connection resistance value when the electronic component, the solder joint, and the substrate electrode were connected (daisy chain) was measured. A product having a value in the normal range was judged as a non-defective product, and a non-defective product rate (%) was determined.

また、BGA型電子部品の良品に対して落下試験を実施し、はんだ接合部の抵抗値が初期値から20%以上低下するまでの落下回数を計測した。   In addition, a drop test was performed on a non-defective BGA type electronic component, and the number of drops until the resistance value of the solder joint decreased by 20% or more from the initial value was measured.

上記実施例および比較例で用いた熱硬化性樹脂およびフラックスの組成を表1に示す。表1中、固体または液体の表示はその成分の室温における性状を示す。欄内の数値の単位は質量%である。   Table 1 shows the compositions of the thermosetting resin and the flux used in the above examples and comparative examples. In Table 1, the indication of solid or liquid indicates the properties of the component at room temperature. The unit of the numerical values in the column is mass%.

また、評価項目と評価結果を表2にまとめて示す。◎は優秀、○は合格、×は不合格を意味する。   Table 2 summarizes the evaluation items and the evaluation results. ◎ means excellent, ○ means pass, × means fail.

Figure 0006135891
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Figure 0006135891
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以上の実施例1〜3および比較例1の結果から、本発明によれば、フラックスが塗布されたはんだバンプを熱硬化性樹脂が塗布された基板に搭載する際にも、熱硬化性樹脂によりフラックスが拭い取られることを抑制できることが理解できる。このことは、リフロー時に溶融したバンプで基板のランドが十分に濡れやすく、はんだ接合部の信頼性を確保しやすくなることを示している。   From the results of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 described above, according to the present invention, when the solder bumps coated with the flux are mounted on the substrate coated with the thermosetting resin, the thermosetting resin is used. It can be understood that the flux can be suppressed from being wiped off. This indicates that the bumps melted at the time of reflow can easily wet the land of the substrate and ensure the reliability of the solder joint.

本発明の電子部品実装方法および電子部品実装ラインでは、パッケージの主面に複数のバンプを有する電子部品を基板に接合する場合に、保存性に優れたフラックスや補強用樹脂を用いることができ、かつ確実な電気的導通と十分な接合強度の確保を可能とするものである。従って、本発明は、BGA型電子部品の表面実装の分野において極めて有用である。   In the electronic component mounting method and the electronic component mounting line of the present invention, when an electronic component having a plurality of bumps on the main surface of the package is bonded to the substrate, a flux or a reinforcing resin excellent in storage stability can be used. In addition, reliable electrical continuity and sufficient bonding strength can be ensured. Therefore, the present invention is extremely useful in the field of surface mounting of BGA type electronic components.

101・・・基板、102a・・・第1電極、102b・・・第2電極、103・・・クリームはんだ、104・・・補強位置、105・・・熱硬化性樹脂(補強用樹脂)、105a・・・樹脂補強部(熱硬化性樹脂の硬化物)、200・・・第1電子部品(BGA型電子部品)、201・・・部品内基板、201s・・・主面、202・・・半導体素子、203・・・封止樹脂、204・・・バンプ、206・・・フラックス、206a・・・フラックスの硬化物、210・・・第2電子部品、211・・・接続用端子、300,300X・・・電子部品実装システム、301・・・基板供給装置、302・・・スクリーン印刷装置、303・・・樹脂塗布装置、304・・・第1電子部品搭載装置、304X・・・ユニット装置、305・・・第2電子部品搭載装置、306・・・リフロー装置、307・・・基板回収装置、309,309a,309b・・・基板搬送コンベア、310a〜d・・・基板保持部、314・・・第1部品供給部、315・・・第2部品供給部、320・・・転写ユニット、320a・・・ベーステーブル、321・・・転写テーブル、322・・・スキージユニット、322a・・・第1スキージ部材、322b・・・第2スキージ部材、323・・・塗布ヘッド、323d・・・塗布ノズル、324・・・搭載ヘッド、324d・・・吸引ノズル   DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 ... Board | substrate, 102a ... 1st electrode, 102b ... 2nd electrode, 103 ... Cream solder, 104 ... Reinforcement position, 105 ... Thermosetting resin (resin for reinforcement), 105a: Resin reinforcement (cured product of thermosetting resin), 200: First electronic component (BGA type electronic component), 201: In-component substrate, 201s: Main surface, 202. -Semiconductor element 203 ... Sealing resin, 204 ... Bump, 206 ... Flux, 206a ... Hardened product of flux, 210 ... Second electronic component, 211 ... Terminal for connection, 300, 300X ... electronic component mounting system, 301 ... substrate supply device, 302 ... screen printing device, 303 ... resin coating device, 304 ... first electronic component mounting device, 304X ... Unit device, 305 ..Second electronic component mounting device, 306... Reflow device, 307 .. substrate recovery device, 309, 309a, 309b .. substrate transfer conveyor, 310a-d. First component supply unit, 315, second component supply unit, 320, transfer unit, 320a, base table, 321, transfer table, 322, squeegee unit, 322a, first Squeegee member, 322b ... second squeegee member, 323 ... coating head, 323d ... coating nozzle, 324 ... mounting head, 324d ... suction nozzle

Claims (9)

パッケージの主面に複数のはんだバンプを有する電子部品を、前記複数のはんだバンプに対応する複数のランドが設けられた搭載領域を有する基板に搭載する電子部品実装方法において、
前記搭載領域の少なくとも一部に、第1粘度C1を有する第1熱硬化性樹脂を塗布する工程と、
前記複数のはんだバンプに、1.5×C1≦C2を満たす第2粘度C2を有するフラックスを塗布する工程と、
前記フラックスが塗布された複数のはんだバンプが、それぞれ対応する前記ランドに着地するように、前記電子部品を前記基板に搭載する工程と、
前記電子部品を搭載した前記基板を加熱して、前記バンプを溶融させるとともに、前記第1熱硬化性樹脂を硬化させ、放冷することにより、前記電子部品を前記基板に接合する工程と、を含み、
前記フラックスが、粒子状であり、かつ前記加熱時に溶融する固体成分を含み、
前記固体成分が、活性剤および第2熱硬化性樹脂よりなる群から選択される少なくとも1種であり、
前記活性剤が、有機酸、アミン類およびこれらのハロゲン化物よりなる群から選択される少なくとも1種である、電子部品実装方法。
In an electronic component mounting method for mounting an electronic component having a plurality of solder bumps on a main surface of a package on a substrate having a mounting region provided with a plurality of lands corresponding to the plurality of solder bumps,
Applying a first thermosetting resin having a first viscosity C1 to at least a part of the mounting region;
Applying a flux having a second viscosity C2 that satisfies 1.5 × C1 ≦ C2 to the plurality of solder bumps;
Mounting the electronic component on the substrate such that a plurality of solder bumps coated with the flux land on the corresponding lands, respectively.
Heating the substrate on which the electronic component is mounted, melting the bump, curing the first thermosetting resin, and allowing to cool, thereby bonding the electronic component to the substrate; Including
The flux includes a solid component that is particulate and melts upon heating;
The solid component is at least one selected from the group consisting of an activator and a second thermosetting resin;
The electronic component mounting method, wherein the activator is at least one selected from the group consisting of organic acids, amines, and halides thereof.
前記固体成分の平均粒子径が、0.1〜50μmである、請求項1記載の電子部品実装方法。   The electronic component mounting method according to claim 1, wherein an average particle diameter of the solid component is 0.1 to 50 μm. 前記第1熱硬化性樹脂を、前記搭載領域の80%以上に濡れ広がるように塗布する、請求項1または2に記載の電子部品実装方法。   The electronic component mounting method according to claim 1, wherein the first thermosetting resin is applied so as to spread over 80% or more of the mounting region. 前記第1熱硬化性樹脂を、前記複数のはんだバンプの溶融前の高さの90%以下の部分が前記第1熱硬化性樹脂と接触するような厚さに塗布する、請求項3記載の電子部品実装方法。   The first thermosetting resin is applied to a thickness such that a portion of 90% or less of the height before melting of the plurality of solder bumps is in contact with the first thermosetting resin. Electronic component mounting method. 前記第2熱硬化性樹脂が、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂およびこれらの硬化剤よりなる群から選択される少なくとも1種である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の電子部品実装方法。   5. The electronic component according to claim 1, wherein the second thermosetting resin is at least one selected from the group consisting of an epoxy resin, a phenol resin, a melamine resin, and a curing agent thereof. Implementation method. 前記フラックスにおける前記固体成分の含有量が、5質量%以上、30質量%以下である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の電子部品実装方法。  The electronic component mounting method according to claim 1, wherein a content of the solid component in the flux is 5% by mass or more and 30% by mass or less. パッケージの主面に複数のはんだバンプを有する電子部品を、前記複数のはんだバンプに対応する複数のランドが設けられた搭載領域を有する基板に搭載する電子部品実装ラインにおいて、
前記基板の前記搭載領域の少なくとも一部に、第1粘度C1を有する第1熱硬化性樹脂を塗布する樹脂塗布装置と、
前記複数のはんだバンプに、1.5×C1≦C2を満たす第2粘度C2を有するフラックスを塗布した後、前記複数のはんだバンプが、それぞれ対応する前記ランドに着地するように、前記電子部品を前記基板に搭載する電子部品搭載装置と、
前記電子部品を搭載した前記基板を加熱して、前記バンプを溶融させるとともに、前記第1熱硬化性樹脂を硬化させ、放冷することにより、前記電子部品を前記基板に接合するリフロー装置と、を備え、
前記フラックスが、粒子状であり、かつ前記加熱時に溶融する固体成分を含み、
前記固体成分が、活性剤および第2熱硬化性樹脂よりなる群から選択される少なくとも1種であり、
前記活性剤が、有機酸、アミン類およびこれらのハロゲン化物よりなる群から選択される少なくとも1種である、電子部品実装ライン。
In an electronic component mounting line for mounting an electronic component having a plurality of solder bumps on a main surface of a package on a substrate having a mounting region provided with a plurality of lands corresponding to the plurality of solder bumps,
A resin coating device that applies a first thermosetting resin having a first viscosity C1 to at least a part of the mounting region of the substrate;
After the flux having the second viscosity C2 satisfying 1.5 × C1 ≦ C2 is applied to the plurality of solder bumps, the electronic component is mounted so that the plurality of solder bumps land on the corresponding lands, respectively. An electronic component mounting apparatus mounted on the substrate;
A reflow device that heats the substrate on which the electronic component is mounted, melts the bump, cures the first thermosetting resin, and cools, thereby bonding the electronic component to the substrate; With
The flux includes a solid component that is particulate and melts upon heating;
The solid component is at least one selected from the group consisting of an activator and a second thermosetting resin;
The electronic component mounting line, wherein the activator is at least one selected from the group consisting of organic acids, amines, and halides thereof.
前記樹脂塗布装置が、
前記第1熱硬化性樹脂を前記搭載領域に供給する塗布ヘッドを具備し、
前記電子部品搭載装置が、
前記電子部品を供給する部品供給部と、
前記基板を保持して位置決めする基板保持部と、
前記フラックスの塗膜を供給する転写ユニットと、
前記電子部品を保持およびリリース可能であり、かつ前記部品供給部、前記基板保持部および前記転写ユニットの上方を移動可能な搭載ヘッドと、を具備し、
前記樹脂塗布装置と前記電子部品搭載装置は、前記塗布ヘッドと前記搭載ヘッドとが共通の空間を移動できるように一体化されている、請求項記載の電子部品実装ライン。
The resin coating device is
An application head for supplying the first thermosetting resin to the mounting region;
The electronic component mounting device is
A component supply unit for supplying the electronic component;
A substrate holding unit for holding and positioning the substrate;
A transfer unit for supplying the coating film of the flux;
A mounting head capable of holding and releasing the electronic component and movable above the component supply unit, the substrate holding unit, and the transfer unit;
The electronic component mounting line according to claim 7 , wherein the resin coating device and the electronic component mounting device are integrated so that the coating head and the mounting head can move in a common space.
前記フラックスにおける前記固体成分の含有量が、5質量%以上、30質量%以下である、請求項7または8に記載の電子部品実装ライン。  The electronic component mounting line according to claim 7 or 8, wherein a content of the solid component in the flux is 5% by mass or more and 30% by mass or less.
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